JP2012237864A - Novel black photosensitive resin composition and use of the same - Google Patents

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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a black photosensitive resin composition which has excellent tack-free properties after drying of a coated film, enables microfabrication because of its photosensitivity, can obtain a cured film excellent in flexibility, fire retardancy and electrical insulation reliability, and has little warpage of a substrate after curing; a resin film; an insulator film; and a printed wiring board with an insulator film.SOLUTION: A black photosensitive resin composition contains at least (A) binder polymer, (B) crosslinked polymer particles, (C) thermosetting resin, (D) photopolymerization initiator, (E) phosphorus-based flame retardant, and (F) black colorant.

Description

この発明は、塗膜乾燥後のタックフリー性に優れ、感光性を有するため微細加工が可能であり、得られる硬化膜が柔軟性、難燃性、電気絶縁信頼性に優れ、硬化後の基板の反りが小さい黒色感光性樹脂組成物、樹脂フィルム、絶縁膜、絶縁膜付きプリント配線板に関するものである。   This invention is excellent in tack-free property after drying of the coating film and has photosensitivity so that it can be finely processed. The resulting cured film is excellent in flexibility, flame retardancy and electrical insulation reliability, and is a substrate after curing. The present invention relates to a black photosensitive resin composition, a resin film, an insulating film, and a printed wiring board with an insulating film.

ポリイミド樹脂は、耐熱性、電気絶縁信頼性や耐薬品性、機械特性に優れることから電気・電子用途に広く使用されている。例えば、半導体デバイス上への絶縁フィルムや保護コーティング剤、フレキシブル回路基板や集積回路等の基材材料や表面保護材料、更には、微細な回路の層間絶縁膜や保護膜を形成させる場合に用いられる。   Polyimide resins are widely used in electrical and electronic applications because of their excellent heat resistance, electrical insulation reliability, chemical resistance, and mechanical properties. For example, it is used to form insulating films and protective coatings on semiconductor devices, base materials such as flexible circuit boards and integrated circuits, surface protective materials, and further, interlayer insulating films and protective films for fine circuits. .

特に、フレキシブル回路基板用の表面保護材料として用いる場合には、ポリイミドフィルム等の成形体に接着剤を塗布して得られるカバーレイフィルムが用いられてきた。このカバーレイフィルムをフレキシブル回路基板上に接着する場合、回路の端子部や部品との接合部に予めパンチングなどの方法により開口部を設け、位置合わせをした後に熱プレス等で熱圧着する方法が一般的である。   In particular, when used as a surface protection material for a flexible circuit board, a coverlay film obtained by applying an adhesive to a molded body such as a polyimide film has been used. When bonding this coverlay film on a flexible circuit board, there is a method in which an opening is provided in advance by a method such as punching in a terminal portion of a circuit or a joint portion with a component, and after aligning, a method of thermocompression bonding by a hot press or the like is used. It is common.

しかし、薄いカバーレイフィルムに高精度な開口部を設けることは困難であり、また、張り合わせ時の位置合わせは手作業で行われる場合が多いため、位置精度が悪く、張り合わせの作業性も悪く、コスト高となっていた。   However, it is difficult to provide a high-accuracy opening in a thin coverlay film, and since the alignment at the time of lamination is often performed manually, the positional accuracy is poor and the workability of the lamination is also poor. The cost was high.

一方、回路基板用の表面保護材料としては、ソルダーレジストなどが用いられる場合もあり、特に感光性機能を有するソルダーレジストは、微細な加工が必要な場合には好ましく用いられている。この感光性ソルダーレジストとしては、酸変性エポキシアクリレートやエポキシ樹脂等を主体とした感光性樹脂組成物が用いられるが、この感光性ソルダーレジストは、絶縁材料としては電気絶縁信頼性に優れるが、屈曲性等の機械特性が悪く、硬化収縮が大きいためフレキシブル回路基板などの薄くて柔軟性に富む回路基板に積層した場合、基板の反りが大きくなり、フレキシブル回路基板用に用いるのは難しかった。また、難燃性にも乏しく、難燃性を付与する目的で難燃剤を添加した場合に、物性低下や硬化膜から難燃剤がしみ出すブリードアウトによる接点障害や工程汚染が問題であった。   On the other hand, a solder resist or the like may be used as a surface protection material for a circuit board. In particular, a solder resist having a photosensitive function is preferably used when fine processing is required. As this photosensitive solder resist, a photosensitive resin composition mainly composed of acid-modified epoxy acrylate, epoxy resin, or the like is used. This photosensitive solder resist is excellent in electrical insulation reliability as an insulating material, but is bent. Therefore, when it is laminated on a thin and flexible circuit board such as a flexible circuit board, the warpage of the board becomes large and it is difficult to use it for a flexible circuit board. Further, the flame retardancy is poor, and when a flame retardant is added for the purpose of imparting flame retardancy, there are problems such as deterioration in physical properties and contact failure due to bleeding out from the cured film and process contamination.

近年、回路基板の絶縁保護膜であるカバーレイフィルムや感光性ソルダーレジストを黒色に着色して隠蔽性を付与することにより回路パターンを隠蔽し、回路パターンに含まれる機密情報保護をしようとする試みがなされている。   In recent years, a coverlay film or photosensitive solder resist, which is an insulating protective film on a circuit board, is colored black to conceal the circuit pattern, thereby attempting to protect confidential information contained in the circuit pattern. Has been made.

特に感光性ソルダーレジストにおいては、感光性、柔軟性、耐熱性、めっき耐性と黒色度や隠蔽性を両立させることが重要となり、これら特性を発現することができる種々の提案がなされている。   Particularly in the case of a photosensitive solder resist, it is important to make the photosensitivity, flexibility, heat resistance, plating resistance, blackness and hiding properties compatible, and various proposals that can manifest these characteristics have been made.

例えば、充分な黒色度を有しつつ解像性にも優れる黒色フォトソルダーレジストが提案されている(例えば、特許文献1参照。)。   For example, a black photo solder resist that has sufficient blackness and excellent resolution is proposed (see, for example, Patent Document 1).

また、高感度、且つ、めっき性、折り曲げ性(可とう性)及び耐熱性、低タックに優れた感光性樹脂組成物及びこれを用いた感光性フィルムが提案されている(例えば、特許文献2参照。)。   In addition, a photosensitive resin composition excellent in high sensitivity, plating properties, bendability (flexibility), heat resistance, and low tack and a photosensitive film using the same have been proposed (for example, Patent Document 2). reference.).

一方、感光性ソルダーレジスト加工を行う際の重要な特性の一つに、塗膜を塗布し溶媒を乾燥させた後の塗膜表面ベタツキの少なさ(タックフリー性)が挙げられる。これは微細パターン形成のために必要なフォトマスクを塗膜表面にのせて紫外線を照射する際、フォトマスクが塗膜に貼り付いて汚染されることを防ぎ、また紫外線照射前の塗膜付き回路基板を重ねた時に回路基板同士が貼り付く事を防ぐ為に重要な特性である。   On the other hand, one of the important characteristics when carrying out the photosensitive solder resist processing is that the coating film surface is less sticky (tack-free) after the coating film is applied and the solvent is dried. This prevents the photomask from sticking to the coating film when it is irradiated with UV light by placing a photomask necessary for fine pattern formation on the surface of the coating film. This is an important characteristic for preventing the circuit boards from sticking to each other when the boards are stacked.

この感光性ソルダーレジストの塗膜乾燥後のタックフリー性を向上させる方法として、無機フィラーを添加して塗膜表面に凹凸を設ける手法が用いられるが、無機フィラーが硬質であるため硬化膜が脆くなり、クラックの発生や基材からの剥離といった問題があった。   As a method of improving the tack-free property after drying the coating film of this photosensitive solder resist, a technique of adding an inorganic filler to provide unevenness on the coating film surface is used, but the cured film is brittle because the inorganic filler is hard. Thus, there were problems such as generation of cracks and peeling from the substrate.

そこで、高感度で塗膜のタックフリー性や現像性に優れ、クラックの発生や体積収縮による密着性の低下あるいは剥離が起こり得ない高性能な光硬化性液状ソルダーレジスト用インキ組成物が提案されている(例えば、特許文献3参照。)。   Therefore, a high-performance photocurable liquid solder resist ink composition has been proposed that is highly sensitive and excellent in tack-free and developability of the coating film, and does not cause adhesion degradation or peeling due to cracking or volume shrinkage. (For example, refer to Patent Document 3).

特開2008−257045号公報JP 2008-257045 A 特開2010−282002号公報JP 2010-282002 A 特開平9−137109号公報Japanese Patent Laid-Open No. 9-137109

上記特許文献では、感光性ソルダーレジストの課題を解決する種々の方法が提案されている。しかし、特許文献1に記載されている黒色感光性樹脂組成物は、複数の黒色着色剤を含有するため感度、解像性、黒色度、耐熱性、金めっき耐性に優れるものの、耐折れ性、難燃性に乏しく硬化後の反りが大きいという問題があった。特許文献2に記載されている感光性樹脂組成物は、柔軟性に優れるポリウレタン化合物及びカルボキシル基を有するバインダーポリマーを含有するため感度、解像性、耐折れ性、金めっき耐性に優れるものの、電気絶縁信頼性、塗膜乾燥後のタックフリー性、難燃性に劣るという問題があった。特許文献3に記載されているソルダーレジスト用インキ組成物は、ガラス転移温度が20℃以下のポリマー微粒子が分散しているため、塗膜のタックフリー性に優れ、クラックの発生や体積収縮による密着性の低下あるいは剥離が抑制されているものの、フレキシブルプリント配線板の絶縁保護膜として利用した場合、耐折れ性、難燃性に乏しく反りが大きいという問題があった。   In the above-mentioned patent documents, various methods for solving the problems of the photosensitive solder resist are proposed. However, since the black photosensitive resin composition described in Patent Document 1 contains a plurality of black colorants, it has excellent sensitivity, resolution, blackness, heat resistance, gold plating resistance, There was a problem that the warpage after curing was large due to poor flame retardancy. Although the photosensitive resin composition described in Patent Document 2 contains a polyurethane compound having excellent flexibility and a binder polymer having a carboxyl group, it has excellent sensitivity, resolution, folding resistance, and resistance to gold plating. There were problems of poor insulation reliability, tack-free properties after drying the coating film, and flame retardancy. The ink composition for solder resist described in Patent Document 3 is excellent in tack-free property of the coating film due to dispersion of polymer fine particles having a glass transition temperature of 20 ° C. or less, and adhesion due to generation of cracks and volume shrinkage. However, when used as an insulating protective film of a flexible printed wiring board, there is a problem that bending resistance and flame retardancy are poor and warpage is large.

本発明者らは上記課題を解決すべく鋭意研究した結果、少なくとも(A)バインダーポリマー、(B)架橋ポリマー粒子、(C)熱硬化性樹脂、(D)光重合開始剤、(E)リン系難燃剤、(F)黒色着色剤を含有することを特徴とする黒色感光性樹脂組成物から、塗膜乾燥後のタックフリー性に優れ、感光性を有するため微細加工が可能であり、得られる硬化膜が柔軟性、難燃性、電気絶縁信頼性に優れ、硬化後の基板の反りが小さい黒色感光性樹脂組成物、樹脂フィルム、絶縁膜、絶縁膜付きプリント配線板が得られる知見を得、これらの知見に基づいて、本発明に達したものである。本願発明は以下の新規な構成の黒色感光性樹脂組成物により上記課題を解決しうる。   As a result of diligent research to solve the above problems, the present inventors have at least (A) a binder polymer, (B) a crosslinked polymer particle, (C) a thermosetting resin, (D) a photopolymerization initiator, (E) phosphorus. A black photosensitive resin composition characterized by containing a flame retardant, (F) a black colorant, has excellent tack-free properties after drying of the coating film, and has photosensitivity so that it can be finely processed. To obtain black photosensitive resin compositions, resin films, insulating films, and printed wiring boards with insulating films that have excellent flexibility, flame retardancy, electrical insulation reliability, and low warpage of the cured substrate. Based on these findings, the present invention has been achieved. This invention can solve the said subject with the black photosensitive resin composition of the following novel structures.

すなわち、本願発明は、少なくとも(A)バインダーポリマー、(B)架橋ポリマー粒子、(C)熱硬化性樹脂、(D)光重合開始剤、(E)リン系難燃剤、(F)黒色着色剤を含有することを特徴とする黒色感光性樹脂組成物である。   That is, the present invention includes at least (A) a binder polymer, (B) a crosslinked polymer particle, (C) a thermosetting resin, (D) a photopolymerization initiator, (E) a phosphorus flame retardant, and (F) a black colorant. It is a black photosensitive resin composition characterized by containing.

また、本願発明にかかる黒色感光性樹脂組成物では、前記(A)バインダーポリマーが、分子内にウレタン結合を含有する樹脂であることが好ましい。   Moreover, in the black photosensitive resin composition concerning this invention, it is preferable that the said (A) binder polymer is resin which contains a urethane bond in a molecule | numerator.

また、本願発明にかかる黒色感光性樹脂組成物では、前記分子内にウレタン結合を含有する樹脂が、更に(a1)(メタ)アクリロイル基、(a2)カルボキシル基、(a3)イミド基からなる群から選ばれる少なくとも1種の有機基を含有することが好ましい。   In the black photosensitive resin composition according to the present invention, the resin containing a urethane bond in the molecule further comprises (a1) a (meth) acryloyl group, (a2) a carboxyl group, and (a3) an imide group. It is preferable to contain at least one organic group selected from

また、本願発明にかかる黒色感光性樹脂組成物では、前記(B)架橋ポリマー粒子が、分子内にウレタン結合を含有する架橋ポリマー粒子であることが好ましい。   Moreover, in the black photosensitive resin composition concerning this invention, it is preferable that the said (B) crosslinked polymer particle is a crosslinked polymer particle which contains a urethane bond in a molecule | numerator.

また、本願発明にかかる黒色感光性樹脂組成物では、前記(C)熱硬化性樹脂が、多官能エポキシ樹脂であることが好ましい。   Moreover, in the black photosensitive resin composition concerning this invention, it is preferable that the said (C) thermosetting resin is a polyfunctional epoxy resin.

また、本願発明にかかる黒色感光性樹脂組成物では、前記(D)光重合開始剤が、オキシムエステル系光重合開始剤であることが好ましい。   Moreover, in the black photosensitive resin composition concerning this invention, it is preferable that the said (D) photoinitiator is an oxime ester type photoinitiator.

また、本願発明にかかる黒色感光性樹脂組成物では、前記(E)リン系難燃剤が、ホスフィン酸塩であることが好ましい。   Moreover, in the black photosensitive resin composition concerning this invention, it is preferable that the said (E) phosphorus flame retardant is a phosphinic acid salt.

また、本願発明にかかる黒色感光性樹脂組成物では、前記(F)黒色着色剤が、カーボンブラックであることが好ましい。   Moreover, in the black photosensitive resin composition concerning this invention, it is preferable that the said (F) black coloring agent is carbon black.

また、本願発明にかかる黒色感光性樹脂組成物では、前記(B)架橋ポリマー粒子の配合量が、(A)バインダーポリマー100重量部に対して30〜100重量部であることが好ましい。   Moreover, in the black photosensitive resin composition concerning this invention, it is preferable that the compounding quantity of the said (B) crosslinked polymer particle is 30-100 weight part with respect to 100 weight part of (A) binder polymer.

また、本願発明にかかる黒色感光性樹脂組成物では、前記(E)リン系難燃剤の配合量が、(A)バインダーポリマー100重量部に対して5〜100重量部であることが好ましい。   Moreover, in the black photosensitive resin composition concerning this invention, it is preferable that the compounding quantity of the said (E) phosphorus flame retardant is 5-100 weight part with respect to 100 weight part of (A) binder polymer.

また、本願発明にかかる樹脂フィルムは、上記黒色感光性樹脂組成物を基材表面に塗布した後、乾燥して得られるものである。   Moreover, the resin film concerning this invention is obtained by drying, after apply | coating the said black photosensitive resin composition to the base-material surface.

また、本願発明にかかる絶縁膜は、上記樹脂フィルムを硬化させて得られるものである。   The insulating film according to the present invention is obtained by curing the resin film.

また、本願発明にかかる絶縁膜付きプリント配線板は、上記絶縁膜がプリント配線板に被覆されてなるものである。   The printed wiring board with an insulating film according to the present invention is formed by coating the insulating film on the printed wiring board.

本願発明の黒色感光性樹脂組成物は、以上のように、少なくとも(A)バインダーポリマー、(B)架橋ポリマー粒子、(C)熱硬化性樹脂、(D)光重合開始剤、(E)リン系難燃剤、(F)黒色着色剤を含有する構成を備えているので、本願発明の黒色感光性樹脂組成物は、隠蔽性に優れるとともに、塗膜乾燥後のタックフリー性に優れ、感光性を有するため微細加工が可能であり、得られる硬化膜が柔軟性、難燃性、電気絶縁信頼性に優れ、硬化後の基板の反りが小さい。従って、本願発明の黒色感光性樹脂組成物は、種々の回路基板の保護膜等に使用でき、優れた効果を奏するものである。   As described above, the black photosensitive resin composition of the present invention comprises at least (A) a binder polymer, (B) crosslinked polymer particles, (C) a thermosetting resin, (D) a photopolymerization initiator, and (E) phosphorus. Since the composition containing a flame retardant, (F) a black colorant, the black photosensitive resin composition of the present invention is excellent in concealing property, excellent in tack-free properties after drying the coating film, and photosensitive. Therefore, the cured film obtained is excellent in flexibility, flame retardancy, and electrical insulation reliability, and the warpage of the substrate after curing is small. Therefore, the black photosensitive resin composition of the present invention can be used for protective films of various circuit boards and exhibits excellent effects.

フィルムの反り量を測定している模式図である。It is the schematic diagram which has measured the curvature amount of the film.

以下本願発明について、(I)黒色感光性樹脂組成物、(II)黒色感光性樹脂組成物の使用方法の順に詳細に説明する。   Hereinafter, the present invention will be described in detail in the order of (I) a black photosensitive resin composition and (II) a method of using a black photosensitive resin composition.

(I)黒色感光性樹脂組成物
本願発明の黒色感光性樹脂組成物とは、少なくとも(A)バインダーポリマー、(B)架橋ポリマー粒子、(C)熱硬化性樹脂、(D)光重合開始剤、(E)リン系難燃剤、(F)黒色着色剤を含有すればよい。
(I) Black photosensitive resin composition The black photosensitive resin composition of the present invention is at least (A) a binder polymer, (B) crosslinked polymer particles, (C) a thermosetting resin, and (D) a photopolymerization initiator. (E) A phosphorus flame retardant and (F) a black colorant may be contained.

ここで、本願発明の黒色感光性樹脂組成物は、各種特性に優れる事を、本発明者らは見出したが、これは、以下の理由によるのではないかと推測している。つまり、(B)成分である架橋ポリマー粒子は、塗膜表面に凹凸を設ける役割を果たすため塗膜乾燥後のタックフリー性に優れ、塗膜を艶消しにすることができ、ポリマー粒子が軟質であるため硬化膜の柔軟性低下を招かない。更に、ポリマー粒子が架橋構造を有するため耐熱性や耐薬品性に優れる。更に、驚くべきことに、一般的にはフィラー成分を高充填すると繰り返し折り曲げに耐える柔軟性が低下するが、(A)成分及び(B)成分を組み合わせることにより、塗膜が非常に柔らかく耐折れ性に優れるものになる。これは、(B)成分に硬化膜のマトリクスを構成する(A)成分が内部に染み込むため、(A)成分と(B)成分との界面で強固な接着性が得られるためではないかと推測している。更に、(F)成分のような黒色着色剤を用いた場合でも、(B)成分と組み合わされることで(B)成分が硬化膜中で応力緩和効果を発揮し、硬化膜が繰り返し折り曲げに耐えうる耐折れ性を発現することが可能となる。   Here, although the present inventors discovered that the black photosensitive resin composition of this invention was excellent in various characteristics, it estimates that this may be based on the following reasons. In other words, the crosslinked polymer particles as the component (B) have the function of providing irregularities on the coating film surface, so that they are excellent in tack-free properties after drying the coating film, can make the coating film matt, and the polymer particles are soft. Therefore, the flexibility of the cured film is not reduced. Furthermore, since the polymer particles have a crosslinked structure, they are excellent in heat resistance and chemical resistance. Furthermore, surprisingly, in general, when the filler component is highly filled, the flexibility to withstand repeated bending is lowered. However, the combination of the component (A) and the component (B) makes the coating film very soft and resistant to bending. It will be excellent. This is presumed that the (A) component constituting the cured film matrix penetrates into the (B) component so that strong adhesiveness can be obtained at the interface between the (A) component and the (B) component. doing. Further, even when a black colorant such as component (F) is used, when combined with component (B), component (B) exhibits a stress relaxation effect in the cured film, and the cured film withstands repeated bending. It is possible to develop a good folding resistance.

以下(A)バインダーポリマー、(B)架橋ポリマー粒子、(C)熱硬化性樹脂、(D)光重合開始剤、(E)リン系難燃剤、(F)黒色着色剤、その他の成分、及び、黒色感光性樹脂組成物の混合方法について説明する。   (A) binder polymer, (B) crosslinked polymer particles, (C) thermosetting resin, (D) photopolymerization initiator, (E) phosphorus flame retardant, (F) black colorant, other components, and The method for mixing the black photosensitive resin composition will be described.

<(A)バインダーポリマー>
本願発明の(A)バインダーポリマーとは、有機溶媒に対して可溶性であり、重量平均分子量が、ポリエチレングリコール換算で1,000以上、1,000,000以下のポリマーである。
<(A) Binder polymer>
The (A) binder polymer of the present invention is a polymer that is soluble in an organic solvent and has a weight average molecular weight of 1,000 or more and 1,000,000 or less in terms of polyethylene glycol.

上記有機溶媒とは、特に限定されないが、例えば、ジメチルスルホキシド、ジエチルスルホキシドなどのスルホキシド系溶媒、N,N−ジメチルホルムアミド、N,N−ジエチルホルムアミドなどのホルムアミド系溶媒、N,N−ジメチルアセトアミド、N,N−ジエチルアセトアミドなどのアセトアミド系溶媒、N−メチル−2−ピロリドン、N−ビニル−2−ピロリドンなどのピロリドン系溶媒、あるいはヘキサメチルホスホルアミド、γ−ブチロラクトンなどを挙げることができる。さらに必要に応じて、これらの有機極性溶媒とキシレンあるいはトルエンなどの芳香族炭化水素とを組み合わせて用いることもできる。   Examples of the organic solvent include, but are not limited to, sulfoxide solvents such as dimethyl sulfoxide and diethyl sulfoxide, N, N-dimethylformamide, formamide solvents such as N, N-diethylformamide, N, N-dimethylacetamide, Examples thereof include acetamide solvents such as N, N-diethylacetamide, pyrrolidone solvents such as N-methyl-2-pyrrolidone and N-vinyl-2-pyrrolidone, hexamethylphosphoramide, and γ-butyrolactone. Further, if necessary, these organic polar solvents can be used in combination with an aromatic hydrocarbon such as xylene or toluene.

更に、例えばメチルモノグライム(1,2-ジメトキシエタン)、メチルジグライム(ビス(2-メトキシエテル)エーテル)、メチルトリグライム(1,2-ビス(2-メトキシエトキシ)エタン)、メチルテトラグライム(ビス[2-(2-メトキシエトキシエチル)]エーテル)、エチルモノグライム(1,2-ジエトキシエタン)、エチルジグライム(ビス(2-エトキシエチル)エーテル)、ブチルジグライム(ビス(2-ブトキシエチル)エーテル)等の対称グリコールジエーテル類、メチルアセテート、エチルアセテート、イソプロピルアセテート、n―プロピルアセテート、ブチルアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、エチレングリコールモノブチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノエチルエーテルアセテート(別名、カルビトールアセテート、酢酸2-(2-ブトキシエトキシ)エチル))、ジエチレングリコールモノブチルエーテルアセテート、3−メトキシブチルアセテート、エチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、エチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、ジプロピレングリコールメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールジアセテート、1,3―ブチレングリコールジアセテート等のアセテート類や、ジプロピレングリコールメチルエーテル、トリプロピレングリコールメチルエーテル、プロピレングリコールn−プロピルエーテル、ジプロピレングリコールn−プロピルエーテル、プロピレングリコールn−ブチルエーテル、ジプロピレングリコールn−ブチルエーテル、トリピレングリコールn−プロピルエーテル、プロピレングリコールフェニルエーテル、ジプロピレングリコールジメチルエーテル、1,3―ジオキソラン、エチレングリコールモノブチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールモノブチルエーテル、エチレングリコールものエチルエーテル等のエーテル類の溶剤が挙げられる。   Furthermore, for example, methyl monoglyme (1,2-dimethoxyethane), methyldiglyme (bis (2-methoxyether) ether), methyltriglyme (1,2-bis (2-methoxyethoxy) ethane), methyltetraglyme (Bis [2- (2-methoxyethoxyethyl)] ether), ethyl monoglyme (1,2-diethoxyethane), ethyldiglyme (bis (2-ethoxyethyl) ether), butyldiglyme (bis (2 Symmetric glycol diethers such as -butoxyethyl) ether), methyl acetate, ethyl acetate, isopropyl acetate, n-propyl acetate, butyl acetate, propylene glycol monomethyl ether acetate, ethylene glycol monobutyl ether acetate, diethylene glycol monoethyl ether Cetate (aka carbitol acetate, 2- (2-butoxyethoxy) ethyl acetate)), diethylene glycol monobutyl ether acetate, 3-methoxybutyl acetate, ethylene glycol monomethyl ether acetate, ethylene glycol monoethyl ether acetate, dipropylene glycol methyl ether Acetates such as acetate, propylene glycol diacetate, 1,3-butylene glycol diacetate, dipropylene glycol methyl ether, tripropylene glycol methyl ether, propylene glycol n-propyl ether, dipropylene glycol n-propyl ether, propylene glycol n-butyl ether, dipropylene glycol n-butyl ether, tripylene glycol n Propyl ether, propylene glycol phenyl ether, dipropylene glycol dimethyl ether, 1,3-dioxolane, ethylene glycol monobutyl ether, diethylene glycol monoethyl ether, diethylene glycol monobutyl ether, ethers such solvents such as ethyl ether also ethylene glycol.

有機溶媒に対して可溶性となる指標である有機溶媒溶解性は、有機溶媒100重量部に対して溶解するベースポリマーの重量部として測定することが可能であり、有機溶媒100重量部に対して溶解するベースポリマーの重量部が5重量部以上であれば有機溶媒に対して可溶性とすることができる。有機溶媒溶解性測定方法は、特に限定されないが、例えば、有機溶媒100重量部に対してベースポリマーを5重量部添加し、40℃で1時間攪拌後、室温まで冷却して24時間以上放置し、不溶解物や析出物の発生なく均一な溶液であることを確認する方法で測定することができる。   The solubility of the organic solvent, which is an index that becomes soluble in the organic solvent, can be measured as parts by weight of the base polymer dissolved in 100 parts by weight of the organic solvent, and is soluble in 100 parts by weight of the organic solvent. If the weight part of the base polymer is 5 parts by weight or more, it can be made soluble in an organic solvent. The organic solvent solubility measurement method is not particularly limited. For example, 5 parts by weight of the base polymer is added to 100 parts by weight of the organic solvent, stirred at 40 ° C. for 1 hour, cooled to room temperature, and left for 24 hours or longer. It can be measured by a method for confirming that the solution is uniform without generation of insoluble matter or precipitates.

本願発明の(A)成分の重量平均分子量は、例えば、以下の方法で測定することができる。   The weight average molecular weight of the component (A) of the present invention can be measured, for example, by the following method.

(重量平均分子量測定)
使用装置:東ソーHLC−8220GPC相当品
カラム :東ソー TSK gel Super AWM−H(6.0mmI.D.×15cm)×2本
ガードカラム:東ソー TSK guard column Super AW−H
溶離液:30mM LiBr+20mM H3PO4 in DMF
流速:0.6mL/min
カラム温度:40℃
検出条件:RI:ポラリティ(+)、レスポンス(0.5sec)
試料濃度:約5mg/mL
標準品:PEG(ポリエチレングリコール)
(Weight average molecular weight measurement)
Equipment used: Tosoh HLC-8220GPC equivalent column: Tosoh TSK gel Super AWM-H (6.0 mm ID x 15 cm) x 2 guard columns: Tosoh TSK guard column Super AW-H
Eluent: 30 mM LiBr + 20 mM H3PO4 in DMF
Flow rate: 0.6 mL / min
Column temperature: 40 ° C
Detection conditions: RI: Polarity (+), response (0.5 sec)
Sample concentration: about 5 mg / mL
Standard product: PEG (polyethylene glycol)

上記範囲内に重量平均分子量を制御することにより、得られる硬化膜の柔軟性、耐薬品性が優れるため好ましい。重量平均分子量が1,000以下の場合は、柔軟性や耐薬品性が低下する場合があり、重量平均分子量が1,000,000以上の場合は黒色感光性樹脂組成物の粘度が高くなる場合がある。   Controlling the weight average molecular weight within the above range is preferable because the resulting cured film has excellent flexibility and chemical resistance. When the weight average molecular weight is 1,000 or less, the flexibility and chemical resistance may be lowered. When the weight average molecular weight is 1,000,000 or more, the viscosity of the black photosensitive resin composition is increased. There is.

本願発明の(A)成分は、特に限定されないが、例えば、ポリウレタン系樹脂、ポリ(メタ)アクリル系樹脂、ポリビニル系樹脂、ポリスチレン系樹脂、ポリエチレン系樹脂、ポリプロピレン系樹脂、ポリイミド系樹脂、ポリアミド系樹脂、ポリアセタール系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、ポリエステル系樹脂、ポリフェニレンエーテル系樹脂、ポリフェニレンスルフィド系樹脂、ポリエーテルスルホン系樹脂、ポリエーテルエーテルケトン系樹脂等が挙げられ、これらを単独で又は2種類以上を組み合わせて使用できる。中でも分子内にウレタン結合を含有する樹脂であるポリウレタン系樹脂やポリ(メタ)アクリル系樹脂を用いた場合、(A)成分が吸油性を持つ(B)成分の内部に染み込み易くなるため、(A)成分と(B)成分との界面で強固な接着性が得られ、(A)成分及び(B)成分を含む黒色感光性樹脂組成物を硬化させることにより得られる硬化膜の柔軟性、耐折れ性が向上し、硬化膜の反りが小さくなるため好ましい。   The component (A) of the present invention is not particularly limited. For example, polyurethane resin, poly (meth) acrylic resin, polyvinyl resin, polystyrene resin, polyethylene resin, polypropylene resin, polyimide resin, polyamide resin, for example. Resin, polyacetal resin, polycarbonate resin, polyester resin, polyphenylene ether resin, polyphenylene sulfide resin, polyether sulfone resin, polyether ether ketone resin, and the like. These may be used alone or in combination of two or more. Can be used in combination. In particular, when a polyurethane-based resin or a poly (meth) acrylic resin, which is a resin containing a urethane bond in the molecule, is used, the (A) component easily penetrates into the oil-absorbing (B) component. Strong adhesiveness is obtained at the interface between the component (A) and the component (B), and the flexibility of the cured film obtained by curing the black photosensitive resin composition containing the component (A) and the component (B). This is preferable because the folding resistance is improved and the warp of the cured film is reduced.

本願発明の分子内にウレタン結合を含有する樹脂とは、有機溶媒に対して可溶性であり、分子内に少なくとも1つのウレタン結合を含有する繰り返し単位を含有している、重量平均分子量が、ポリエチレングリコール換算で1,000以上、1,000,000以下のポリマーである。   The resin containing a urethane bond in the molecule of the present invention is soluble in an organic solvent, contains a repeating unit containing at least one urethane bond in the molecule, and has a weight average molecular weight of polyethylene glycol It is a polymer of 1,000 to 1,000,000 in terms of conversion.

本願発明の分子内にウレタン結合を含有する樹脂は、任意の反応により得ることが可能であるが、例えば、下記一般式(1)   Although the resin containing a urethane bond in the molecule of the present invention can be obtained by any reaction, for example, the following general formula (1)

Figure 2012237864
Figure 2012237864

(式中、Rは2価の有機基を示す)
で示されるジオール化合物と、下記一般式(2)
(Wherein R 1 represents a divalent organic group)
A diol compound represented by the following general formula (2)

Figure 2012237864
Figure 2012237864

(式中、Xは2価の有機基を示す)
で示されるジイソシアネート化合物を反応させることにより、下記一般式(3)
(Wherein X 1 represents a divalent organic group)
By reacting the diisocyanate compound represented by the following general formula (3)

Figure 2012237864
Figure 2012237864

(式中、R及びXはそれぞれ独立に2価の有機基を示し、nは1以上の整数を示す)
で示されるウレタン結合を含有する繰り返し単位を含有する構造として得られる。
(Wherein R 1 and X 1 each independently represent a divalent organic group, and n represents an integer of 1 or more)
It is obtained as a structure containing a repeating unit containing a urethane bond represented by

本願発明のジオール化合物は、上記構造であれば特に限定はされないが、例えば、エチレングリコール、ジエチレングリコール、プロピレングリコール、1,3−ブタンジオール、1,4−ブタンジオール、1,5−ペンタンジオール、ネオペンチルグリコール、3−メチル−1,5−ペンタンジオール、1,6−ヘキサンジオール、1,8−オクタンジオール、2−メチル1,8−オクタンジオール、1,9−ノナンジオール、1,10−デカンジオール、1,4−シクロヘキサンジオール、1,4−シクロヘキサンジメタノール等のアルキレンジオール、ポリエチレングリコール、ポリプロピレングリコール、ポリテトラメチレングリコール、テトラメチレングリコールとネオペンチルグリコールとのランダム共重合体等のポリオキシアルキレンジオール、多価アルコールと多塩基酸とを反応させて得られるポリエステルジオール、カーボネート骨格を有するポリカーボネートジオール、γ−ブチルラクトン、ε−カプロラクトン、δ−バレロラクトン等のラクトン類を開環付加反応させて得られるポリカプロラクトンジオール、ビスフェノールA、ビスフェノールAのエチレンオキサイド付加物、ビスフェノールAのプロピレンオキサイド付加物、水添ビスフェノールA、水添ビスフェノールAのエチレンオキサイド付加物、水添ビスフェノールAのプロピレンオキサイド付加物等が挙げられ、これらを単独で又は2種類以上を組み合わせて使用できる。   The diol compound of the present invention is not particularly limited as long as it has the above structure. For example, ethylene glycol, diethylene glycol, propylene glycol, 1,3-butanediol, 1,4-butanediol, 1,5-pentanediol, neo Pentyl glycol, 3-methyl-1,5-pentanediol, 1,6-hexanediol, 1,8-octanediol, 2-methyl-1,8-octanediol, 1,9-nonanediol, 1,10-decane Polyoxya such as diol, alkylene diol such as 1,4-cyclohexanediol, 1,4-cyclohexanedimethanol, polyethylene glycol, polypropylene glycol, polytetramethylene glycol, and a random copolymer of tetramethylene glycol and neopentyl glycol Ring-opening addition reaction of lactones such as xylene diol, polyester diol obtained by reacting polyhydric alcohol and polybasic acid, polycarbonate diol having carbonate skeleton, γ-butyllactone, ε-caprolactone, δ-valerolactone Polycaprolactone diol, bisphenol A, ethylene oxide adduct of bisphenol A, propylene oxide adduct of bisphenol A, hydrogenated bisphenol A, ethylene oxide adduct of hydrogenated bisphenol A, propylene oxide addition of hydrogenated bisphenol A The thing etc. are mentioned, These can be used individually or in combination of 2 or more types.

特に、ポリエチレングリコール、ポリプロピレングリコール、ポリテトラメチレングリコール、ポリオキシアルキレンジオール、ポリエステルジオール、ポリカーボネートジオール、ポリカプロラクトンジオール等の長鎖ジオールを用いた場合、黒色感光性樹脂組成物を硬化させることにより得られる硬化膜の弾性率を低下させ、屈曲性、低反りに優れる点で好ましい。   In particular, when a long-chain diol such as polyethylene glycol, polypropylene glycol, polytetramethylene glycol, polyoxyalkylene diol, polyester diol, polycarbonate diol, or polycaprolactone diol is used, it is obtained by curing the black photosensitive resin composition. It is preferable in that the elastic modulus of the cured film is lowered and the flexibility and low warpage are excellent.

本願発明のジイソシアネート化合物は、上記構造であれば特に限定はされないが、例えば、ジフェニルメタン−2,4′−ジイソシアネート、3,2′−又は3,3′−又は4,2′−又は4,3′−又は5,2′−又は5,3′−又は6,2′−又は6,3′−ジメチルジフェニルメタン−2,4′−ジイソシアネート、3,2′−又は3,3′−又は4,2′−又は4,3′−又は5,2′−又は5,3′−又は6,2′−又は6,3′−ジエチルジフェニルメタン−2,4′−ジイソシアネート、3,2′−又は3,3′−又は4,2′−又は4,3′−又は5,2′−又は5,3′−又は6,2′−又は6,3′−ジメトキシジフェニルメタン−2,4′−ジイソシアネート、ジフェニルメタン−4,4′−ジイソシアネート、ジフェニルメタン−3,3′−ジイソシアネート、ジフェニルメタン−3,4′−ジイソシアネート、ジフェニルエーテル−4,4′−ジイソシアネート、ベンゾフェノン−4,4′−ジイソシアネート、ジフェニルスルホン−4,4′−ジイソシアネート、トリレン−2,4−ジイソシアネート、トリレン−2,6−ジイソシアネート、m−キシリレンジイソシアネート、p−キシリレンジイソシアネート、ナフタレン−2,6−ジイソシアネート、4,4′−[2,2−ビス(4−フェノキシフェニル)プロパン]ジイソシアネートなどの芳香族ジイソシアネート化合物、水添ジフェニルメタンジイソシアネート、水添キシリレンジイソシアネート、イソホロンジイソシアネート、ノルボルネンジイソシアネート等の脂環族ジイソシアネート化合物、ヘキサメチレンジイソシアネート、トリメチルヘキサメチレンジイソシアネート、リジンジイソシアネート等の脂肪族ジイソシアネート化合物等が挙げられ、これらを単独で又は2種類以上を組み合わせて使用できる。   The diisocyanate compound of the present invention is not particularly limited as long as it has the above structure. For example, diphenylmethane-2,4'-diisocyanate, 3,2'- or 3,3'- or 4,2'- or 4,3 '-Or 5,2'- or 5,3'- or 6,2'- or 6,3'-dimethyldiphenylmethane-2,4'-diisocyanate, 3,2'- or 3,3'- or 4, 2'- or 4,3'- or 5,2'- or 5,3'- or 6,2'- or 6,3'-diethyldiphenylmethane-2,4'-diisocyanate, 3,2'- or 3 , 3'- or 4,2'- or 4,3'- or 5,2'- or 5,3'- or 6,2'- or 6,3'-dimethoxydiphenylmethane-2,4'-diisocyanate, Diphenylmethane-4,4'-diisocyanate, diph Nylmethane-3,3'-diisocyanate, diphenylmethane-3,4'-diisocyanate, diphenylether-4,4'-diisocyanate, benzophenone-4,4'-diisocyanate, diphenylsulfone-4,4'-diisocyanate, tolylene-2, 4-diisocyanate, tolylene-2,6-diisocyanate, m-xylylene diisocyanate, p-xylylene diisocyanate, naphthalene-2,6-diisocyanate, 4,4 '-[2,2-bis (4-phenoxyphenyl) propane Aromatic diisocyanates such as diisocyanates, hydrogenated diphenylmethane diisocyanate, hydrogenated xylylene diisocyanate, isophorone diisocyanate, norbornene diisocyanate Compounds, hexamethylene diisocyanate, trimethylhexamethylene diisocyanate, aliphatic diisocyanate compounds such lysine diisocyanate, etc. These can be used alone or in combinations of two or more.

特に、脂環族ジイソシアネート及び脂肪族ジイソシアネート化合物を用いた場合、黒色感光性樹脂組成物の感光性に優れる点で好ましい。   In particular, when an alicyclic diisocyanate and an aliphatic diisocyanate compound are used, it is preferable in terms of excellent photosensitivity of the black photosensitive resin composition.

本願発明の分子内にウレタン結合を含有する樹脂の合成方法は、ジオール化合物とジイソシアネート化合物との配合量を、水酸基数とイソシアネート基数との比率が、イソシアネート基/水酸基=0.5以上2.0以下になるように配合し、無溶媒あるいは有機溶媒中で反応させることで得られる。   In the method of synthesizing a resin containing a urethane bond in the molecule of the present invention, the blending amount of the diol compound and the diisocyanate compound is such that the ratio of the number of hydroxyl groups to the number of isocyanate groups is isocyanate group / hydroxyl group = 0.5 or more and 2.0. It mix | blends so that it may become the following, and it is obtained by making it react in a solvent-free or organic solvent.

また、2種類以上のジオール化合物を用いる場合、ジイソシアネート化合物との反応は、2種類以上のジオール化合物を混合した後に行ってもよいし、それぞれのジオール化合物とジイソシアネート化合物とを別個に反応させてもよい。また、ジオール化合物とジイソシアネート化合物とを反応させた後に、得られた末端イソシアネート化合物をさらに他のジオール化合物と反応させ、さらにこれをジイソシアネート化合物と反応させてもよい。また、2種類以上のジイソシアネート化合物を用いる場合も同様である。このようにして、所望の分子内にウレタン結合を含有する樹脂を製造することができる。   Moreover, when using 2 or more types of diol compounds, reaction with a diisocyanate compound may be performed after mixing 2 or more types of diol compounds, or each diol compound and diisocyanate compound may be made to react separately. Good. Moreover, after making a diol compound and a diisocyanate compound react, you may make the obtained terminal isocyanate compound react with another diol compound, and also make this react with a diisocyanate compound. The same applies when two or more types of diisocyanate compounds are used. In this way, a resin containing a urethane bond in a desired molecule can be produced.

ジオール化合物とジイソシアネート化合物との反応温度は、40〜160℃とすることが好ましく、60〜150℃とすることがより好ましい。40℃未満では反応時間が長くなり過ぎ、160℃を超えると反応中に三次元化反応が生じてゲル化が起こり易い。反応時間は、バッチの規模、採用される反応条件により適宜選択することができる。また、必要に応じて、三級アミン類、アルカリ金属、アルカリ土類金属、錫、亜鉛、チタニウム、コバルト等の金属又は半金属化合物等の触媒存在下に反応を行っても良い。   The reaction temperature between the diol compound and the diisocyanate compound is preferably 40 to 160 ° C, and more preferably 60 to 150 ° C. If it is less than 40 ° C., the reaction time becomes too long. If it exceeds 160 ° C., a three-dimensional reaction occurs during the reaction and gelation tends to occur. The reaction time can be appropriately selected depending on the scale of the batch and the reaction conditions employed. If necessary, the reaction may be performed in the presence of a catalyst such as a tertiary amine, an alkali metal, an alkaline earth metal, a metal such as tin, zinc, titanium, cobalt, or a metalloid compound.

上記反応は、無溶媒で反応させることもできるが、反応を制御する為には、有機溶媒系で反応させることが望ましい。ここで用いられる有機溶媒は、特に限定されないが、例えば、上記例示されたものを用いることができる。   The above reaction can be carried out without solvent, but it is desirable to carry out the reaction in an organic solvent system in order to control the reaction. Although the organic solvent used here is not specifically limited, For example, what was illustrated above can be used.

反応の際に用いられる有機溶媒量は、反応溶液中の溶質重量濃度すなわち溶液濃度が5重量%以上90重量%以下となるような量とすることが望ましい。反応溶液中の溶質重量濃度は、更に好ましくは、10重量%以上80重量%以下となることが望ましい。溶液濃度が5%以下の場合には、重合反応が起こりにくく反応速度が低下すると共に、所望の構造物質が得られない場合があるので好ましくない。   The amount of the organic solvent used in the reaction is desirably such that the solute weight concentration in the reaction solution, that is, the solution concentration is 5% by weight or more and 90% by weight or less. The solute weight concentration in the reaction solution is more preferably 10 wt% or more and 80 wt% or less. When the solution concentration is 5% or less, the polymerization reaction is difficult to occur, the reaction rate is lowered, and a desired structural substance may not be obtained.

本願発明の分子内にウレタン結合を含有する樹脂は、更に(a1)(メタ)アクリロイル基、(a2)カルボキシル基、(a3)イミド基からなる群から選ばれる少なくとも1種の有機基を含有することが好ましい。(a1)(メタ)アクリロイル基とは、アクリロイル基及び/又はメタクリロイル基のことであり、(a1)(メタ)アクリロイル基を含有する場合は黒色感光性樹脂組成物の感光性が向上するため短時間での紫外線照射で硬化させることが可能となる。また、(a2)カルボキシル基を含有する場合は黒色感光性樹脂組成物の希アルカリ水溶液の現像液への溶解性が向上するため短時間での現像で微細パターン形成が可能となる。また、(a3)イミド基を含有する場合は黒色感光性樹脂組成物の耐熱性や高温高湿条件下での電気絶縁信頼性が向上するため、プリント配線板の被覆材として用いた場合、信頼性に優れるプリント配線板が得られる。   The resin containing a urethane bond in the molecule of the present invention further contains at least one organic group selected from the group consisting of (a1) (meth) acryloyl group, (a2) carboxyl group, and (a3) imide group. It is preferable. (A1) The (meth) acryloyl group is an acryloyl group and / or a methacryloyl group. When the (a1) (meth) acryloyl group is contained, the photosensitivity of the black photosensitive resin composition is improved. It can be cured by ultraviolet irradiation over time. In addition, when (a2) a carboxyl group is contained, the solubility of the black photosensitive resin composition in a developing solution of a dilute alkaline aqueous solution is improved, so that a fine pattern can be formed by developing in a short time. In addition, when it contains (a3) an imide group, the heat resistance of the black photosensitive resin composition and the electrical insulation reliability under high temperature and high humidity conditions are improved. A printed wiring board having excellent properties can be obtained.

ここで、(a1)(メタ)アクリロイル基を含有する分子内にウレタン結合を含有する樹脂は、任意の反応により得ることが可能であるが、例えば、上記ジオール化合物、上記ジイソシアネート化合物に加えて、下記一般式(4)   Here, (a1) a resin containing a urethane bond in the molecule containing a (meth) acryloyl group can be obtained by any reaction. For example, in addition to the diol compound and the diisocyanate compound, The following general formula (4)

Figure 2012237864
Figure 2012237864

(式中、Rはm+1価の有機基を示し、Rは水素又はアルキル基を示す。mは1〜3の整数を示す)
で示される水酸基及び少なくとも1つの(メタ)アクリロイル基を含有する化合物及び/又は下記一般式(5)
(In the formula, R 2 represents an m + 1 valent organic group, R 3 represents hydrogen or an alkyl group, and m represents an integer of 1 to 3)
And / or a compound containing at least one (meth) acryloyl group and / or the following general formula (5)

Figure 2012237864
Figure 2012237864

(式中、Xはl+1価の有機基を示し、Xは水素又はアルキル基を示す。lは1〜3の整数を示す)
で示されるイソシアネート基及び少なくとも1つの(メタ)アクリロイル基を含有する化合物を反応させることにより得られる。
(Wherein X 2 represents an l + 1 valent organic group, X 3 represents hydrogen or an alkyl group, and l represents an integer of 1 to 3)
It is obtained by reacting a compound containing an isocyanate group represented by the formula (1) and at least one (meth) acryloyl group.

本願発明の水酸基及び少なくとも一つの(メタ)アクリロイル基を含有する化合物は、上記構造であれば特に限定はされないが、例えば、2−ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシブチル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシ−3−フェノキシプロピル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシ−1−アクリロキシ−3−メタクリロキシプロパン、o−フェニルフェノールグリシジルエーテル(メタ)アクリレート、ポリエチレングリコールモノ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、トリス(2−ヒドロキシエチル)イソシアヌレートジ(メタ)アクリレート、1,4−シクロヘキサンジメタノールモノ(メタ)アクリレート、4−ヒドロキシフェニル(メタ)アクリレート、2−(4−ヒドロキシフェニル)エチル(メタ)アクリレート、N−メチロールアクリルアミド、3,5−ジメチル−4−ヒドロキシベンジルアクリルアミド等が挙げられ、これらを単独で又は2種類以上を組み合わせて使用できる。   The compound containing a hydroxyl group and at least one (meth) acryloyl group of the present invention is not particularly limited as long as it has the above structure. For example, 2-hydroxyethyl (meth) acrylate, 2-hydroxypropyl (meth) acrylate, 2-hydroxybutyl (meth) acrylate, 2-hydroxy-3-phenoxypropyl (meth) acrylate, 2-hydroxy-1-acryloxy-3-methacryloxypropane, o-phenylphenol glycidyl ether (meth) acrylate, polyethylene glycol mono (Meth) acrylate, pentaerythritol tri (meth) acrylate, tris (2-hydroxyethyl) isocyanurate di (meth) acrylate, 1,4-cyclohexanedimethanol mono (meth) acrylate, 4-hy Roxyphenyl (meth) acrylate, 2- (4-hydroxyphenyl) ethyl (meth) acrylate, N-methylol acrylamide, 3,5-dimethyl-4-hydroxybenzyl acrylamide, etc. may be mentioned, and these may be used alone or in combination of two or more. Can be used in combination.

本願発明のイソシアネート基及び少なくとも一つの(メタ)アクリロイル基を含有する化合物は、上記構造であれば特に限定はされないが、例えば、2−(メタ)アクリロイルオキシエチルイソシアネート、1,1−(ビスアクリロイルオキシメチル)エチルイソシアネート、2−(2−メタクリロイルオキシエチルオキシ)エチルイソシアネート等が挙げられ、これらを単独で又は2種類以上を組み合わせて使用できる。   The compound containing an isocyanate group and at least one (meth) acryloyl group of the present invention is not particularly limited as long as it has the above structure. For example, 2- (meth) acryloyloxyethyl isocyanate, 1,1- (bisacryloyl) And oxymethyl) ethyl isocyanate, 2- (2-methacryloyloxyethyloxy) ethyl isocyanate, and the like. These can be used alone or in combination of two or more.

また、(a2)カルボキシル基を含有する分子内にウレタン結合を含有する樹脂は、任意の反応により得ることが可能であるが、例えば、上記ジオール化合物、上記ジイソシアネート化合物に加えて、下記一般式(6)   Further, (a2) a resin containing a urethane bond in a molecule containing a carboxyl group can be obtained by any reaction. For example, in addition to the diol compound and the diisocyanate compound, the following general formula ( 6)

Figure 2012237864
Figure 2012237864

(式中、Rは3価の有機基を示す)
で示される2つの水酸基及び1つのカルボキシル基を含有する化合物を反応させることにより得られる。
(Wherein R 4 represents a trivalent organic group)
It can be obtained by reacting a compound containing two hydroxyl groups and one carboxyl group.

本願発明の2つの水酸基及び1つのカルボキシル基を含有する化合物は、上記構造であれば特に限定はされないが、例えば、2,2−ビス(ヒドロキシメチル)プロピオン酸、2,2−ビス(2−ヒドロキシエチル)プロピオン酸、2,2−ビス(3−ヒドロキシメプロピル)プロピオン酸、2,3−ジヒドロキシ−2−メチルプロピオン酸、2,2−ビス(ヒドロキシメチル)ブタン酸、2,2−ビス(2−ヒドロキシエチル)ブタン酸、2,2−ビス(3−ヒドロキシプロピル)ブタン酸、2,3−ジヒドロキシブタン酸、2,4−ジヒドロキシ−3,3−ジメチルブタン酸、2,3−ジヒドロキシヘキサデカン酸、2,3−ジヒドロキシ安息香酸、2,4−ジヒドロキシ安息香酸、2,5−ジヒドロキシ安息香酸、2,6−ジヒドロキシ安息香酸、3,4−ジヒドロキシ安息香酸、3,5−ジヒドロキシ安息香酸等が挙げられ、これらを単独で又は2種類以上を組み合わせて使用できる。   The compound containing two hydroxyl groups and one carboxyl group of the present invention is not particularly limited as long as it has the above structure. For example, 2,2-bis (hydroxymethyl) propionic acid, 2,2-bis (2- Hydroxyethyl) propionic acid, 2,2-bis (3-hydroxymepropyl) propionic acid, 2,3-dihydroxy-2-methylpropionic acid, 2,2-bis (hydroxymethyl) butanoic acid, 2,2-bis (2-hydroxyethyl) butanoic acid, 2,2-bis (3-hydroxypropyl) butanoic acid, 2,3-dihydroxybutanoic acid, 2,4-dihydroxy-3,3-dimethylbutanoic acid, 2,3-dihydroxy Hexadecanoic acid, 2,3-dihydroxybenzoic acid, 2,4-dihydroxybenzoic acid, 2,5-dihydroxybenzoic acid, 2,6-dihydroxy Benzoic acid, 3,4-dihydroxybenzoic acid, 3,5-dihydroxybenzoic acid, etc. These can be used alone or in combinations of two or more.

特に、脂肪族系の2つの水酸基及び1つのカルボキシル基を含有する化合物を用いた場合、黒色感光性樹脂組成物の感光性に優れる点で好ましい。   In particular, when a compound containing two aliphatic hydroxyl groups and one carboxyl group is used, it is preferable in terms of excellent photosensitivity of the black photosensitive resin composition.

また、(a3)イミド基を含有する分子内にウレタン結合を含有する樹脂は、任意の反応により得ることが可能であるが、例えば、上記ジオール化合物、上記ジイソシアネート化合物に加えて、下記一般式(7)   In addition, (a3) a resin containing a urethane bond in the molecule containing an imide group can be obtained by any reaction. For example, in addition to the diol compound and the diisocyanate compound, the following general formula ( 7)

Figure 2012237864
Figure 2012237864

(式中、Yは4価の有機基を示す)
で示されるテトラカルボン酸二無水物を反応させることにより得られる。
(Wherein Y represents a tetravalent organic group)
It is obtained by reacting a tetracarboxylic dianhydride represented by

本願発明のテトラカルボン酸二無水物は、上記構造であれば特に限定はされないが、例えば、3,3’,4,4’―ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物、ピロメリット酸二無水物、3,3’,4,4’―オキシジフタル酸二無水物、2,2−ビス[4−(3,4−ジカルボキシフェノキシ)フェニル]プロパン二無水物、2,2−ビス(4−ヒドロキシフェニル)プロパンジベンゾエート−3,3´,4,4´−テトラカルボン酸二無水物、3,3’,4,4’―ジフェニルスルホンテトラカルボン酸二無水物、3,3’,4,4’―ビフェニルテトラカルボン酸二無水物、2,3,3’,4―ビフェニルテトラカルボン酸二無水物、5−(2,5−ジオキソテトラヒドロ−3−フラニル)−3−メチル−3−シクロヘキセン−1,2−ジカルボン酸無水物等のテトラカルボン酸二無水物等が挙げられ、これらを単独で又は2種類以上を組み合わせて使用できる。   The tetracarboxylic dianhydride of the present invention is not particularly limited as long as it has the above structure. For example, 3,3 ′, 4,4′-benzophenonetetracarboxylic dianhydride, pyromellitic dianhydride, 3 , 3 ′, 4,4′-oxydiphthalic dianhydride, 2,2-bis [4- (3,4-dicarboxyphenoxy) phenyl] propane dianhydride, 2,2-bis (4-hydroxyphenyl) Propane dibenzoate-3,3 ′, 4,4′-tetracarboxylic dianhydride, 3,3 ′, 4,4′-diphenylsulfone tetracarboxylic dianhydride, 3,3 ′, 4,4′- Biphenyltetracarboxylic dianhydride, 2,3,3 ′, 4-biphenyltetracarboxylic dianhydride, 5- (2,5-dioxotetrahydro-3-furanyl) -3-methyl-3-cyclohexene-1 , 2-Dicarboxylic Tetracarboxylic acid dianhydride anhydrides, etc. These can be used alone or in combinations of two or more.

本願発明のポリ(メタ)アクリル系樹脂とは、有機溶媒に対して可溶性であり、(メタ)アクリル酸及び/又は(メタ)アクリル酸エステル誘導体を共重合させることにより得られる繰り返し単位を含有している、重量平均分子量が、ポリエチレングリコール換算で1,000以上、1,000,000以下のポリマーである。ここで、(メタ)アクリルとはメタクリル及び/又はアクリルのことである。   The poly (meth) acrylic resin of the present invention is soluble in an organic solvent and contains repeating units obtained by copolymerizing (meth) acrylic acid and / or (meth) acrylic acid ester derivatives. The polymer has a weight average molecular weight of 1,000 or more and 1,000,000 or less in terms of polyethylene glycol. Here, (meth) acryl is methacryl and / or acrylic.

本願発明のポリ(メタ)アクリル系樹脂は、任意の反応により得ることが可能であるが、例えば、(メタ)アクリル酸及び/又は(メタ)アクリル酸エステル誘導体を溶媒中、ラジカル重合開始剤存在下で反応させることにより得られる。   The poly (meth) acrylic resin of the present invention can be obtained by any reaction. For example, a (meth) acrylic acid and / or a (meth) acrylic ester derivative is present in a solvent in the presence of a radical polymerization initiator. Obtained by reacting under

本願発明の(メタ)アクリル酸エステル誘導体は、特に限定はされないが、例えば、(メタ)アクリル酸メチル、(メタ)アクリル酸エチル、(メタ)アクリル酸ブチル、(メタ)アクリル酸イソブチル、(メタ)アクリル酸ターシャリーブチル、(メタ)アクリル酸ヘキシル、(メタ)アクリル酸2−エチルヘキシル、(メタ)アクリル酸オクチル、(メタ)アクリル酸ノニル、(メタ)アクリル酸デシル、(メタ)アクリル酸ドデシル、(メタ)アクリル酸ステアリル、(メタ)アクリル酸ベンジル等が挙げられ、これらを単独で又は2種類以上を組み合わせて使用できる。これら(メタ)アクリル酸エステル誘導体の中でも、特に(メタ)アクリル酸メチル、(メタ)アクリル酸エチル、(メタ)アクリル酸ブチルを用いることが、黒色感光性樹脂組成物の硬化膜の柔軟性と耐薬品性の観点から好ましい。   The (meth) acrylic acid ester derivative of the present invention is not particularly limited. For example, methyl (meth) acrylate, ethyl (meth) acrylate, butyl (meth) acrylate, isobutyl (meth) acrylate, (meth ) Tertiary butyl acrylate, hexyl (meth) acrylate, 2-ethylhexyl (meth) acrylate, octyl (meth) acrylate, nonyl (meth) acrylate, decyl (meth) acrylate, dodecyl (meth) acrylate , Stearyl (meth) acrylate, benzyl (meth) acrylate, and the like, and these can be used alone or in combination of two or more. Among these (meth) acrylic acid ester derivatives, in particular, the use of methyl (meth) acrylate, ethyl (meth) acrylate, and butyl (meth) acrylate is the flexibility of the cured film of the black photosensitive resin composition. It is preferable from the viewpoint of chemical resistance.

上記、ラジカル重合開始剤としては、例えば、アゾビスイソブチロニトリル、アゾビス(2−メチルブチロニトリル)、2,2’−アゾビス−2,4−ジメチルバレロニトリルなどのアゾ系化合物、t−ブチルハイドロパーオキサイド、クメンハイドロパーオキサイド、ベンゾイルパーオキサイド、ジクミルパーオキサイド、ジ−t−ブチルパーオキサイドなどの有機過酸化物、過硫酸カリウム、過硫酸ナトリウム、過硫酸アンモニウムなどの過硫酸塩、過酸価水素等が挙げられ、これらを単独で又は2種類以上を組み合わせて使用できる。   Examples of the radical polymerization initiator include azo compounds such as azobisisobutyronitrile, azobis (2-methylbutyronitrile), 2,2′-azobis-2,4-dimethylvaleronitrile, t- Organic peroxides such as butyl hydroperoxide, cumene hydroperoxide, benzoyl peroxide, dicumyl peroxide, di-t-butyl peroxide, persulfates such as potassium persulfate, sodium persulfate, ammonium persulfate, Acid value hydrogen etc. are mentioned, These can be used individually or in combination of 2 or more types.

上記、ラジカル重合開始剤の使用量は、使用するモノマー100重量部に対して0.001〜5重量部とすることが好ましく、0.01〜1重量部とすることがより好ましい。0.001重量部より少ない場合では反応が進行しにくく、5重量部より多い場合では分子量が低下する場合がある。   The amount of the radical polymerization initiator used is preferably 0.001 to 5 parts by weight and more preferably 0.01 to 1 part by weight with respect to 100 parts by weight of the monomer used. When the amount is less than 0.001 part by weight, the reaction hardly proceeds, and when the amount is more than 5 parts by weight, the molecular weight may be lowered.

上記反応の際に用いられる溶媒量は、反応溶液中の溶質重量濃度すなわち溶液濃度が5重量%以上90重量%以下となるような量とすることが好ましく、20重量%以上70重量%以下とすることがより好ましい。溶液濃度が5%より少ない場合では重合反応が起こりにくく反応速度が低下すると共に、所望の構造物質が得られない場合があり、また、溶液濃度が90重量%より多い場合では反応溶液が高粘度となり反応が不均一となる場合がある。   The amount of solvent used in the above reaction is preferably such that the solute weight concentration in the reaction solution, that is, the solution concentration is 5 wt% or more and 90 wt% or less, and is 20 wt% or more and 70 wt% or less. More preferably. When the solution concentration is less than 5%, the polymerization reaction is difficult to occur and the reaction rate is lowered, and a desired structural substance may not be obtained. When the solution concentration is more than 90% by weight, the reaction solution has a high viscosity. And the reaction may be non-uniform.

上記反応温度は、20〜120℃とすることが好ましく、50〜100℃とすることがより好ましい。20℃より低い温度の場合では反応時間が長くなり過ぎ、120℃を超えると急激な反応の進行や副反応に伴う三次元架橋によるゲル化を招く恐れがある。反応時間は、バッチの規模、採用される反応条件により適宜選択することができる。   The reaction temperature is preferably 20 to 120 ° C, and more preferably 50 to 100 ° C. When the temperature is lower than 20 ° C., the reaction time becomes too long, and when it exceeds 120 ° C., gelation due to rapid progress of reaction or three-dimensional crosslinking accompanying side reaction may be caused. The reaction time can be appropriately selected depending on the scale of the batch and the reaction conditions employed.

<(B)架橋ポリマー粒子>
本願発明の(B)架橋ポリマー粒子とは、分子内に架橋構造を有している、平均粒子径が1〜100μmの球状ポリマーである。平均粒子径が1μm以下の場合は、黒色感光性樹脂組成物の粘度やチクソ性が高くなり、塗工時の塗膜の発泡やレベリング不足による外観不良が発生する場合があり、平均粒子径が100μm以上の場合は微細パターン形成時の開口部に粒子が露出し、解像性不良になる場合がある。ここで、球状とは、真球状であってもよいし、楕円状であってもよい。
<(B) Crosslinked polymer particles>
The (B) crosslinked polymer particle of the present invention is a spherical polymer having a crosslinked structure in the molecule and an average particle diameter of 1 to 100 μm. When the average particle diameter is 1 μm or less, the viscosity and thixotropy of the black photosensitive resin composition are increased, and appearance defects may occur due to foaming of the coating film during coating or insufficient leveling. In the case of 100 μm or more, there are cases where particles are exposed to the opening when forming a fine pattern, resulting in poor resolution. Here, the spherical shape may be a true spherical shape or an elliptical shape.

本願発明の(B)成分の平均粒子径は、好ましくは1〜50μm、より好ましくは1〜10μmとすることにより、微細パターンの解像性、得られる硬化膜の柔軟性、耐薬品性が優れるため好ましい。   The average particle size of the component (B) of the present invention is preferably 1 to 50 μm, more preferably 1 to 10 μm, so that the resolution of the fine pattern, the flexibility of the resulting cured film, and the chemical resistance are excellent. Therefore, it is preferable.

本願発明の(B)成分の平均粒子径は、例えば、以下の方法で体積基準のメジアン径(積算分布値50%に対する粒子径)として測定することができる。   The average particle diameter of the component (B) of the present invention can be measured, for example, as a volume-based median diameter (particle diameter with respect to an integrated distribution value of 50%) by the following method.

(平均粒子径測定)
使用装置:株式会社堀場製作所製LA−950V2相当品
測定方式:レーザー回折/散乱式
(Average particle size measurement)
Equipment used: LA-950V2 or equivalent manufactured by Horiba, Ltd. Measurement method: Laser diffraction / scattering method

本願発明の(B)成分の含有量は、好ましくは(A)成分100重量部に対して30〜100重量部、より好ましくは40〜80重量部とすることにより、得られる硬化膜表面に効果的に凹凸を形成することが可能となりタックフリー性に優れ、(B)成分による充填硬化が得られるため硬化膜の反りが低下し、応力緩和効果や破壊靱性の向上により繰り返し折り曲げに耐え得る柔軟性が向上する。(B)成分が30重量部より少ない場合はタックフリー性や繰り返し折り曲げに耐え得る柔軟性に劣る場合があり、100重量部より多い場合は難燃性や黒色感光性樹脂組成物溶液を塗工する際の塗工性が悪化し、塗工時の塗膜の発泡やレベリング不足による外観不良が発生する場合がある。   The content of the component (B) of the present invention is preferably 30 to 100 parts by weight, more preferably 40 to 80 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the component (A), and the effect on the surface of the obtained cured film. It is possible to form irregularities on the surface and is excellent in tack-free properties. Since the filling and curing by the component (B) is obtained, the warpage of the cured film is reduced, and the flexibility that can withstand repeated bending by improving the stress relaxation effect and fracture toughness. Improves. When component (B) is less than 30 parts by weight, it may be inferior in tack-free properties and flexibility to withstand repeated bending, and when it is more than 100 parts by weight, it is applied with flame retardant or black photosensitive resin composition solution. The coating properties at the time of application may deteriorate, and appearance defects may occur due to foaming of the coating film during coating or insufficient leveling.

本願発明の(B)成分は、特に限定はされないが、例えば、ポリメタクリル酸メチル系架橋ポリマー粒子としては、ガンツ化成株式会社製の製品名ガンツパールGM−0600、GM−0600W、架橋ポリメタクリル酸メチル系架橋ポリマー粒子としては、ガンツ化成株式会社製の製品名ガンツパールGM−0105、GM−0205S、GM−0401S、GM−0407S、GM−0449S、GM−0630H、GM−0801S、GM−0807S、GM−0849SGM−1001、GM−1001−S、GM−1007S、GM−1407S、GM−1505S−S、GM−2001、GM−2003S−S、GM−2007S、GM−2801、GM−4003、GM−5003、GM−9005、GMX−0610、GMX−0810、GMP−0800、GMDM−050M、GMDM−080M、GMDM−100M、GMDM−150M、積水化成品工業株式会社製の製品名テクポリマーMBX−5、MBX−8、MBX−12、架橋ポリメタクリル酸ブチル系架橋ポリマー粒子としては、ガンツ化成株式会社製の製品名ガンツパールGB−05S、GB−08S、GB−10S、GB−15S、積水化成品工業株式会社製の製品名テクポリマーBM30X−5、BM30X−8、架橋アクリル系架橋ポリマー粒子としては、ガンツ化成株式会社製の製品名ガンツパールGMP−0820、アクリルコポリマー系架橋ポリマー粒子としては、ガンツ化成株式会社製の製品名ガンツパールGBM−55COS、架橋スチレン系架橋ポリマー粒子としては、ガンツ化成株式会社製の製品名ガンツパールGS−0605、GS−1105、積水化成品工業株式会社製の製品名テクポリマーSBX−6、SBX−8、架橋ポリアクリル酸エステル系架橋ポリマー粒子としては、積水化成品工業株式会社製の製品名テクポリマーABX−8、AF10X−8、AFX−15、ARX−15、ナイロン系架橋ポリマー粒子としては、ガンツ化成株式会社製の製品名ガンツパールGPA−550、シリコーン系架橋ポリマー粒子としては、ガンツ化成株式会社製の製品名ガンツパールSI−020、SI−030、SI−045、架橋シリコーン系架橋ポリマー粒子としては、ガンツ化成株式会社製の製品名ガンツパールSIG−070、架橋ウレタン系架橋ポリマー粒子としては、大日精化工業株式会社製の商品名ダイミックビーズUCN−8070CMクリヤー、UCN−8150CMクリヤー、UCN−5070Dクリヤー、UCN−5150Dクリヤー、根上工業株式会社製の商品名アートパールC−100透明、C−200透明、C−300透明、C−300WA、C−400透明、C−400WA、C−600透明、C−800透明、C−800WA、P−400T、P−800T、U−600T、CF−600T、JB−400T、JB−800T、CE−400T、CE−800T等が挙げられ、これらを単独で又は2種類以上を組み合わせて使用できる。   The component (B) of the present invention is not particularly limited. For example, as polymethyl methacrylate-based crosslinked polymer particles, product names Gantz Pearl GM-0600, GM-0600W, and crosslinked polymethacrylic acid manufactured by Gantz Kasei Co., Ltd. As methyl-based crosslinked polymer particles, product names Gantz Pearl GM-0105, GM-0205S, GM-0401S, GM-0407S, GM-0449S, GM-0630H, GM-0801S, GM-0807S, manufactured by Gantz Kasei Co., Ltd. GM-0849SGM-1001, GM-1001-S, GM-1007S, GM-1407S, GM-1505S-S, GM-2001, GM-2003S-S, GM-2007S, GM-2801, GM-4003, GM- 5003, GM-9005, GMX-0610, GM -0810, GMP-0800, GMDM-050M, GMDM-080M, GMDM-100M, GMDM-150M, product names manufactured by Sekisui Plastics Co., Ltd. Techpolymer MBX-5, MBX-8, MBX-12, crosslinked polymethacryl Examples of acid butyl-based crosslinked polymer particles include Gantz Pearl GB-05S, GB-08S, GB-10S, GB-15S, and Sakusui Chemicals Co., Ltd. , BM30X-8, the cross-linked acrylic cross-linked polymer particles are manufactured by Gantz Kasei Co., Ltd. product name Gantz Pearl GMP-0820, and the acrylic copolymer cross-linked polymer particles are manufactured by Gantz Kasei Co., Ltd. As crosslinked styrene-based crosslinked polymer particles, As product names GANTZPARL GS-0605, GS-1105 manufactured by Tsusei Corporation, product names Techpolymer SBX-6, SBX-8, and crosslinked polyacrylate ester-based crosslinked polymer particles manufactured by Sekisui Chemicals Co., Ltd. Product names manufactured by Sekisui Plastics Co., Ltd. Techpolymer ABX-8, AF10X-8, AFX-15, ARX-15, and nylon-based crosslinked polymer particles include product names Gantz Pearl GPA-550, manufactured by Gantz Kasei Co., Ltd. As the silicone-based crosslinked polymer particles, the product names Gantz Pearl SI-020, SI-030, SI-045 manufactured by Gantz Kasei Co., Ltd. As the crosslinked silicone-based crosslinked polymer particles, the product name Gantz Pearl SIG manufactured by Gantz Chemical Co., Ltd. -070, a crosslinked urethane-based crosslinked polymer particle is a product of Dainichi Seika Kogyo Co., Ltd. Product Name Dymic Beads UCN-8070CM Clear, UCN-8150CM Clear, UCN-5070D Clear, UCN-5150D Clear, Trade Names Art Pearl C-100 Transparent, C-200 Transparent, C-300 Transparent, C -300WA, C-400 transparent, C-400WA, C-600 transparent, C-800 transparent, C-800WA, P-400T, P-800T, U-600T, CF-600T, JB-400T, JB-800T, CE-400T, CE-800T etc. are mentioned, These can be used individually or in combination of 2 or more types.

本願発明の(B)成分は、上記架橋ポリマー粒子の中でも、特に分子内にウレタン結合を含有する架橋ポリマー粒子を用いることが、硬化膜の反り低下、繰り返し折り曲げに耐え得る柔軟性の向上のために好ましい。   The component (B) of the present invention uses a crosslinked polymer particle that contains a urethane bond in the molecule among the crosslinked polymer particles, in order to improve the flexibility of the cured film to reduce warpage and to withstand repeated bending. Is preferred.

<(C)熱硬化性樹脂>
本願発明の(C)熱硬化性樹脂とは、分子内に少なくとも1つの熱硬化性の有機基を含有する化合物である。
<(C) Thermosetting resin>
The (C) thermosetting resin of the present invention is a compound containing at least one thermosetting organic group in the molecule.

本願発明の(C)成分は、上記構造であれば特に限定はされないが、例えば、エポキシ樹脂、オキセタン樹脂、フェノール樹脂、イソシアネート樹脂、ブロックイソシアネート樹脂、ビスマレイミド樹脂、ビスアリルナジイミド樹脂、ポリエステル樹脂(例えば不飽和ポリエステル樹脂等)、ジアリルフタレート樹脂、珪素樹脂、ビニルエステル樹脂、メラミン樹脂、ポリビスマレイミドトリアジン樹脂(BT樹脂)、シアネート樹脂(例えばシアネートエステル樹脂等)、ユリア樹脂、グアナミン樹脂、スルホアミド樹脂、アニリン樹脂、ポリウレア樹脂、チオウレタン樹脂、ポリアゾメチン樹脂、エピスルフィド樹脂、エン−チオール樹脂、ベンゾオキサジン樹脂、これらの共重合体樹脂、これら樹脂を変性させた変性樹脂、又はこれらの樹脂同士もしくは他の樹脂類との混合物等が挙げられる。   (C) component of this invention will not be specifically limited if it is the said structure, For example, an epoxy resin, an oxetane resin, a phenol resin, an isocyanate resin, a block isocyanate resin, a bismaleimide resin, a bisallyl nadiimide resin, a polyester resin (For example, unsaturated polyester resin), diallyl phthalate resin, silicon resin, vinyl ester resin, melamine resin, polybismaleimide triazine resin (BT resin), cyanate resin (for example, cyanate ester resin), urea resin, guanamine resin, sulfoamide Resins, aniline resins, polyurea resins, thiourethane resins, polyazomethine resins, episulfide resins, ene-thiol resins, benzoxazine resins, copolymer resins thereof, modified resins obtained by modifying these resins, or these Mixtures of resins with each other or other resins and the like.

本願発明の(C)成分は、上記熱硬化性樹脂の中でも、特に多官能エポキシ樹脂を用いることが、黒色感光性樹脂組成物を硬化させて得られる硬化膜に対して耐熱性を付与できると共に、金属箔等の導体や回路基板に対する接着性を付与することができるため好ましい。   As the component (C) of the present invention, among the above thermosetting resins, the use of a polyfunctional epoxy resin can impart heat resistance to a cured film obtained by curing a black photosensitive resin composition. It is preferable because adhesion to a conductor such as a metal foil or a circuit board can be imparted.

上記多官能エポキシ樹脂とは、分子内に少なくとも2つのエポキシ基を含有する化合物であり、例えば、ビスフェノールA型エポキシ樹脂としては、ジャパンエポキシレジン株式会社製の商品名jER828、jER1001、jER1002、株式会社ADEKA製の商品名アデカレジンEP−4100E、アデカレジンEP−4300E、日本化薬株式会社製の商品名RE−310S、RE−410S、DIC株式会社製の商品名エピクロン840S、エピクロン850S、エピクロン1050、エピクロン7050、東都化成株式会社製の商品名エポトートYD−115、エポトートYD−127、エポトートYD−128、ビスフェノールF型エポキシ樹脂としては、ジャパンエポキシレジン株式会社製の商品名jER806、jER807、株式会社ADEKA製の商品名アデカレジンEP−4901E、アデカレジンEP−4930、アデカレジンEP−4950、日本化薬株式会社製の商品名RE−303S、RE−304S、RE−403S,RE−404S、DIC株式会社製の商品名エピクロン830、エピクロン835、東都化成株式会社製の商品名エポトートYDF−170、エポトートYDF−175S、エポトートYDF−2001、ビスフェノールS型エポキシ樹脂としては、DIC株式会社製の商品名エピクロンEXA−1514、水添ビスフェノールA型エポキシ樹脂としては、ジャパンエポキシレジン株式会社製の商品名jERYX8000、jERYX8034,jERYL7170、株式会社ADEKA製の商品名アデカレジンEP−4080E、DIC株式会社製の商品名エピクロンEXA−7015、東都化成株式会社製の商品名エポトートYD−3000、エポトートYD−4000D、ビフェニル型エポキシ樹脂としては、ジャパンエポキシレジン株式会社製の商品名jERYX4000、jERYL6121H、jERYL6640、jERYL6677、日本化薬株式会社製の商品名NC−3000、NC−3000H、フェノキシ型エポキシ樹脂としては、ジャパンエポキシレジン株式会社製の商品名jER1256、jER4250、jER4275、ナフタレン型エポキシ樹脂としては、DIC株式会社製の商品名エピクロンHP−4032、エピクロンHP−4700、エピクロンHP−4200、日本化薬株式会社製の商品名NC−7000L、フェノールノボラック型エポキシ樹脂としては、ジャパンエポキシレジン株式会社製の商品名jER152、jER154、日本化薬株式会社製の商品名EPPN−201−L、DIC株式会社製の商品名エピクロンN−740、エピクロンN−770、東都化成株式会社製の商品名エポトートYDPN−638、クレゾールノボラック型エポキシ樹脂としては、日本化薬株式会社製の商品名EOCN−1020、EOCN−102S、EOCN−103S、EOCN−104S、DIC株式会社製の商品名エピクロンN−660、エピクロンN−670、エピクロンN−680、エピクロンN−695、トリスフェノールメタン型エポキシ樹脂としては、日本化薬株式会社製の商品名EPPN−501H、EPPN−501HY、EPPN−502H、ジシクロペンタジエン型エポキシ樹脂としては、日本化薬株式会社製の商品名XD−1000、DIC株式会社製の商品名エピクロンHP−7200、アミン型エポキシ樹脂としては、ジャパンエポキシレジン株式会社製の商品名jER604、jER630、東都化成株式会社の商品名エポトートYH−434、エポトートYH−434L、三菱ガス化学株式会社製の商品名TETRAD−X、TERRAD−C、可とう性エポキシ樹脂としては、ジャパンエポキシレジン株式会社製の商品名jER871、jER872、jERYL7175、jERYL7217、DIC株式会社製の商品名エピクロンEXA−4850、ウレタン変性エポキシ樹脂としては、株式会社ADEKA製の商品名アデカレジンEPU−6、アデカレジンEPU−73、アデカレジンEPU−78−11、ゴム変性エポキシ樹脂としては、株式会社ADEKA製の商品名アデカレジンEPR−4023、アデカレジンEPR−4026、アデカレジンEPR−1309、キレート変性エポキシ樹脂としては、株式会社ADEKA製の商品名アデカレジンEP−49−10、アデカレジンEP−49−20、複素環含有エポキシ樹脂としては、日産化学株式会社製の商品名TEPIC等が挙げられる。   The polyfunctional epoxy resin is a compound containing at least two epoxy groups in the molecule. For example, as the bisphenol A type epoxy resin, trade names jER828, jER1001, jER1002, and Japan Corporation made by Japan Epoxy Resin Co., Ltd. ADEKA brand name Adeka Resin EP-4100E, Adeka Resin EP-4300E, Nippon Kayaku Co., Ltd. trade names RE-310S, RE-410S, DIC Corporation trade names Epicron 840S, Epicron 850S, Epicron 1050, Epicron 7050 Toto Kasei Co., Ltd. trade names Epototo YD-115, Epototo YD-127, Epototo YD-128, Bisphenol F type epoxy resin, trade names jER806, jE made by Japan Epoxy Resin Co., Ltd. 807, trade names Adeka Resin EP-4901E, Adeka Resin EP-4930, Adeka Resin EP-4950, manufactured by Adeka Co., Ltd., trade names RE-303S, RE-304S, RE-403S, RE-404S, DIC manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd. Product names Epicron 830 and Epicron 835 manufactured by Co., Ltd. Product names Epototo YDF-170, Epototo YDF-175S, Epototo YDF-2001, and Bisphenol S type epoxy resin manufactured by Toto Kasei Co., Ltd. As Epiklon EXA-1514 and hydrogenated bisphenol A type epoxy resin, trade names jERYX8000, jERYX8034, jERYL7170, manufactured by Japan Epoxy Resin Co., Ltd., and Adeka Resin EP-4 manufactured by ADEKA Co., Ltd. 80E, DIC Corporation trade name Epicron EXA-7015, Toto Kasei Co., Ltd. trade name Epototo YD-3000, Epototo YD-4000D, biphenyl type epoxy resin, Japan Epoxy Resin Corporation trade name jERYX4000, jERYL6121H, jERYL6640, jERYL6667, Nippon Kayaku Co., Ltd. trade name NC-3000, NC-3000H, phenoxy type epoxy resin, Japan Epoxy Resin Co., Ltd. trade name jER1256, jER4250, jER4275, naphthalene type epoxy resin Are DIC Corporation's trade names Epicron HP-4032, Epicron HP-4700, Epicron HP-4200, Nippon Kayaku Co., Ltd. trade names NC-7000L, Phenoh As the lenovolac type epoxy resin, trade names jER152 and jER154 manufactured by Japan Epoxy Resin Co., Ltd., trade names EPPN-201-L manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd., trade names Epicron N-740 manufactured by DIC Corporation, and Epicron N- 770, product names Epototo YDPN-638 manufactured by Tohto Kasei Co., Ltd., and cresol novolak type epoxy resins include product names EOCN-1020, EOCN-102S, EOCN-103S, EOCN-104S, DIC shares manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd. Brand names EPIKRON N-660, Epicron N-670, Epicron N-680, Epicron N-695, and trisphenol methane type epoxy resins manufactured by the company include trade names EPPN-501H and EPPN-501HY manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd. EPPN-502 As a dicyclopentadiene type epoxy resin, trade name XD-1000 manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd., as trade name Epicron HP-7200 manufactured by DIC Corporation, and as an amine type epoxy resin, a product manufactured by Japan Epoxy Resin Co., Ltd. Names jER604, jER630, Toto Kasei Co., Ltd. trade names Epototo YH-434, Epototo YH-434L, Mitsubishi Gas Chemical Co., Ltd. trade names TETRAD-X, TERRAD-C, and flexible epoxy resins include Japan Epoxy Resin Trade names jER871, jER872, jERYL7175, jERYL7217, DIC Corporation's trade name Epicron EXA-4850, and urethane-modified epoxy resins include ADEKA Corporation's trade names Adeka Resin EPU-6, Adeka Resin Examples of PU-73, Adeka Resin EPU-78-11, and rubber-modified epoxy resins include Adeka Resin EPR-4023, Adeka Resin EPR-4026, Adeka Resin EPR-1309, and Adeka Resin EPR-1309. Examples of the product names Adeka Resin EP-49-10, Adeka Resin EP-49-20, and heterocyclic-containing epoxy resins include the product names TEPIC manufactured by Nissan Chemical Co., Ltd.

本願発明の黒色感光性樹脂組成物には、上記熱硬化性樹脂の硬化剤として、特に限定されないが、例えば、フェノールノボラック樹脂、クレゾールノボラック樹脂、ナフタレン型フェノール樹脂等のフェノール樹脂、アミノ樹脂、ユリア樹脂、メラミン、ジシアンジアミド等が挙げられ、これらを単独で又は2種類以上を組み合わせて使用できる。   The black photosensitive resin composition of the present invention is not particularly limited as a curing agent for the thermosetting resin. For example, phenol novolak resin, cresol novolak resin, phenol resin such as naphthalene type phenol resin, amino resin, urea Resins, melamine, dicyandiamide and the like can be mentioned, and these can be used alone or in combination of two or more.

また、硬化促進剤としては、特に限定されないが、例えば、トリフェニルホスフィン等のホスフィン系化合物;3級アミン系、トリメタノールアミン、トリエタノールアミン、テトラエタノールアミン等のアミン系化合物;1,8−ジアザ−ビシクロ[5,4,0]−7−ウンデセニウムテトラフェニルボレート等のボレート系化合物等、イミダゾール、2−エチルイミダゾール、2−エチル−4−メチルイミダゾール、2−フェニルイミダゾール、2−ウンデシルイミダゾール、1−ベンジル−2−メチルイミダゾール、2−ヘプタデシルイミダゾール、2−イソプロピルイミダゾール、2,4−ジメチルイミダゾール、2−フェニル−4−メチルイミダゾール等のイミダゾール類;2−メチルイミダゾリン、2−エチルイミダゾリン、2−イソプロピルイミダゾリン、2−フェニルイミダゾリン、2−ウンデシルイミダゾリン、2,4−ジメチルイミダゾリン、2−フェニル−4−メチルイミダゾリン等のイミダゾリン類;2,4−ジアミノ−6−[2’−メチルイミダゾリル−(1’)]−エチル−s−トリアジン、2,4−ジアミノ−6−[2’−ウンデシルイミダゾリル−(1’)]−エチル−s−トリアジン、2,4−ジアミノ−6−[2’−エチル−4’−メチルイミダゾリル−(1’)]−エチル−s−トリアジン等のアジン系イミダゾール類等が挙げられ、これらを単独で又は2種類以上を組み合わせて使用できる。   Further, the curing accelerator is not particularly limited, but for example, phosphine compounds such as triphenylphosphine; amine compounds such as tertiary amine, trimethanolamine, triethanolamine and tetraethanolamine; 1,8- Borate compounds such as diaza-bicyclo [5,4,0] -7-undecenium tetraphenylborate, imidazole, 2-ethylimidazole, 2-ethyl-4-methylimidazole, 2-phenylimidazole, 2-un Imidazoles such as decylimidazole, 1-benzyl-2-methylimidazole, 2-heptadecylimidazole, 2-isopropylimidazole, 2,4-dimethylimidazole, 2-phenyl-4-methylimidazole; 2-methylimidazoline, 2- Ethyl imidazoline, 2 Imidazolines such as isopropylimidazoline, 2-phenylimidazoline, 2-undecylimidazoline, 2,4-dimethylimidazoline, 2-phenyl-4-methylimidazoline; 2,4-diamino-6- [2′-methylimidazolyl- ( 1 ′)]-ethyl-s-triazine, 2,4-diamino-6- [2′-undecylimidazolyl- (1 ′)]-ethyl-s-triazine, 2,4-diamino-6- [2 ′ Examples include azine-based imidazoles such as -ethyl-4'-methylimidazolyl- (1 ')]-ethyl-s-triazine, and these can be used alone or in combination of two or more.

<(D)光重合開始剤>
本願発明の(D)光重合開始剤とは、UVなどのエネルギーによって活性化し、ラジカル重合性基の反応を開始・促進させる化合物である。
<(D) Photopolymerization initiator>
The (D) photopolymerization initiator of the present invention is a compound that is activated by energy such as UV and initiates / promotes a reaction of a radical polymerizable group.

本願発明の(D)成分は、上記構造であれば特に限定はされないが、例えば、ミヒラ−ズケトン、4,4’−ビス(ジエチルアミノ)ベンゾフェノン、4,4’,4’’−トリス(ジメチルアミノ)トリフェニルメタン、2,2’−ビス(2−クロロフェニル)−4,4’,5,5’−テトラフェニル−1,2’−ジイミダゾール、アセトフェノン、ベンゾイン、2−メチルベンゾイン、ベンゾインメチルエ−テル、ベンゾインエチルエ−テル、ベンゾインイソプロピルエ−テル、ベンゾインイソブチルエ−テル、2−t−ブチルアントラキノン、1,2−ベンゾ−9,10−アントラキノン、メチルアントラキノン、チオキサントン、2,4−ジエチルチオキサントン、2−イソプロピルチオキサントン、1−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、ジアセチルベンジル、ベンジルジメチルケタ−ル、ベンジルジエチルケタ−ル、2(2’−フリルエチリデン)−4,6−ビス(トリクロロメチル)−S−トリアジン、2[2’(5’’−メチルフリル)エチリデン]−4,6−ビス(トリクロロメチル)−S−トリアジン、2(p−メトキシフェニル)−4,6−ビス(トリクロロメチル)−S−トリアジン、2,6−ジ(p−アジドベンザル)−4−メチルシクロヘキサノン、4,4’−ジアジドカルコン、ジ(テトラアルキルアンモニウム)−4,4’−ジアジドスチルベン−2,2’−ジスルフォネ−ト、2,2−ジメトキシ−1,2−ジフェニルエタン−1−オン、1−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニル−ケトン、2−ヒドロキシ−2−メチル−1−フェニル−プロパン−1−オン、1−[4−(2−ヒドロキシエトキシ)−フェニル]−2−ヒドロキシ−2−メチル−1−プロパン−1−オン、2−メチル−1−[4−(メチルチオ)フェニル]−2−モルフォリノプロパン−1−オン、2−ベンジル−2−ジメチルアミノ−1−(4−モルフォリノフェニル)−ブタン−1、ビス(2,4,6−トリメチルベンゾイル)−フェニルフォスフィンオキサイド、ビス(2,6−ジメトキシベンゾイル)−2,4,4−トリメチル−ペンチルフォスフィンオキサイド、2,4,6−トリメチルベンゾイル−ジフェニル−フォスフィンオキサイド、2−ヒドロキシ−2−メチル−1−フェニル−プロパン−1−ケトン、ビス(n5−2,4−シクロペンタジエン−1−イル)−ビス(2,6−ジフルオロ−3−(1H−ピロール−1−イル)−フェニル)チタニウム、1,2−オクタンジオン,1−[4−(フェニルチオ)−,2−(O−ベンゾイルオキシム)]、ヨード二ウム,(4−メチルフェニル)[4−(2−メチルプロピル)フェニル]−ヘキサフルオロフォスフェート(1−)、エチル−4−ジメチルアミノベンゾエート、2−エチルヘキシル−4−ジメチルアミノベンゾエート、エタノン,1−[9−エチル−6−(2−メチルベンゾイル)−9H−カルバゾール−3−イル]−,1−(O−アセチルオキシオム)等が挙げられ、これらを単独で又は2種類以上を組み合わせて使用できる。   The component (D) of the present invention is not particularly limited as long as it has the above structure. For example, Michler's ketone, 4,4′-bis (diethylamino) benzophenone, 4,4 ′, 4 ″ -tris (dimethylamino) ) Triphenylmethane, 2,2′-bis (2-chlorophenyl) -4,4 ′, 5,5′-tetraphenyl-1,2′-diimidazole, acetophenone, benzoin, 2-methylbenzoin, benzoinmethyl ester -Tell, benzoin ethyl ether, benzoin isopropyl ether, benzoin isobutyl ether, 2-t-butylanthraquinone, 1,2-benzo-9,10-anthraquinone, methylanthraquinone, thioxanthone, 2,4-diethyl Thioxanthone, 2-isopropylthioxanthone, 1-hydroxycyclohexyl phenyl keto , Diacetylbenzyl, benzyldimethylketal, benzyldiethylketal, 2 (2′-furylethylidene) -4,6-bis (trichloromethyl) -S-triazine, 2 [2 ′ (5 ″ -methyl) Furyl) ethylidene] -4,6-bis (trichloromethyl) -S-triazine, 2 (p-methoxyphenyl) -4,6-bis (trichloromethyl) -S-triazine, 2,6-di (p-azidobenzal) ) -4-methylcyclohexanone, 4,4'-diazidochalcone, di (tetraalkylammonium) -4,4'-diazidostilbene-2,2'-disulfonate, 2,2-dimethoxy-1,2 -Diphenylethane-1-one, 1-hydroxy-cyclohexyl-phenyl-ketone, 2-hydroxy-2-methyl-1-phenyl-propane 1-one, 1- [4- (2-hydroxyethoxy) -phenyl] -2-hydroxy-2-methyl-1-propan-1-one, 2-methyl-1- [4- (methylthio) phenyl]- 2-morpholinopropan-1-one, 2-benzyl-2-dimethylamino-1- (4-morpholinophenyl) -butane-1, bis (2,4,6-trimethylbenzoyl) -phenylphosphine oxide, Bis (2,6-dimethoxybenzoyl) -2,4,4-trimethyl-pentylphosphine oxide, 2,4,6-trimethylbenzoyl-diphenyl-phosphine oxide, 2-hydroxy-2-methyl-1-phenyl- Propane-1-ketone, bis (n5-2,4-cyclopentadien-1-yl) -bis (2,6-difluoro-3- (1H-pi 1-yl) -phenyl) titanium, 1,2-octanedione, 1- [4- (phenylthio)-, 2- (O-benzoyloxime)], iododium, (4-methylphenyl) [ 4- (2-methylpropyl) phenyl] -hexafluorophosphate (1-), ethyl-4-dimethylaminobenzoate, 2-ethylhexyl-4-dimethylaminobenzoate, ethanone, 1- [9-ethyl-6- ( 2-methylbenzoyl) -9H-carbazol-3-yl]-, 1- (O-acetyloxyome) and the like, and these can be used alone or in combination of two or more.

本願発明の(D)成分は、上記光重合開始剤の中でも、特にオキシムエステル系光重合開始剤である1,2−オクタンジオン,1−[4−(フェニルチオ)−,2−(O−ベンゾイルオキシム)]、エタノン,1−[9−エチル−6−(2−メチルベンゾイル)−9H−カルバゾール−3−イル]−,1−(O−アセチルオキシオム)を用いることが、黒色感光性樹脂組成物の感光性、感度、解像性の向上のために好ましい。   The component (D) of the present invention includes 1,2-octanedione, 1- [4- (phenylthio)-, 2- (O-benzoyl), which is an oxime ester photopolymerization initiator, among the photopolymerization initiators. Oxime)], ethanone, 1- [9-ethyl-6- (2-methylbenzoyl) -9H-carbazol-3-yl]-, 1- (O-acetyloxyome) is used as a black photosensitive resin It is preferable for improving the photosensitivity, sensitivity and resolution of the composition.

<(E)リン系難燃剤>
本願発明の(E)リン系難燃剤とは、分子内に少なくとも1つのリン元素を含有し、有機物の燃焼を抑制する効果を有する化合物である。
<(E) Phosphorus flame retardant>
The (E) phosphorus flame retardant of the present invention is a compound that contains at least one phosphorus element in the molecule and has an effect of suppressing the combustion of organic matter.

本願発明の(E)成分は、上記構造であれば特に限定はされないが、例えば、赤リン、縮合リン酸エステル系化合物、環状有機リン系化合物、ホスファゼン系化合物、リン含有(メタ)アクリレート系化合物、リン含有エポキシ系化合物、リン含有ポリオール系化合物、リン含有アミン系化合物、ポリリン酸アンモニウム、メラミンリン酸塩、ホスフィン酸塩、等が挙げられ、これらを単独で又は2種類以上を組み合わせて使用できる。   The component (E) of the present invention is not particularly limited as long as it has the above structure. For example, red phosphorus, condensed phosphate ester compounds, cyclic organic phosphorus compounds, phosphazene compounds, phosphorus-containing (meth) acrylate compounds , Phosphorus-containing epoxy compounds, phosphorus-containing polyol compounds, phosphorus-containing amine compounds, ammonium polyphosphate, melamine phosphate, phosphinate, and the like, and these can be used alone or in combination of two or more. .

本願発明の(E)成分は、上記リン系難燃剤の中でも、特にホスフィン酸塩を用いることが、黒色感光性樹脂組成物を硬化させて得られる硬化膜に対して優れた難燃性を付与できると共に、硬化膜からの難燃剤のブリードアウトが少ないため、接点障害や工程汚染を抑制することができるため好ましい。   Among the phosphorus-based flame retardants, component (E) of the present invention uses phosphinates in particular, and imparts excellent flame retardancy to a cured film obtained by curing a black photosensitive resin composition. In addition, since the bleed-out of the flame retardant from the cured film is small, contact failure and process contamination can be suppressed, which is preferable.

本願発明のホスフィン酸塩とは、下記一般式(8)で示される化合物である。   The phosphinic acid salt of the present invention is a compound represented by the following general formula (8).

Figure 2012237864
Figure 2012237864

(式中、R及びRは、それぞれ独立に直鎖状または枝分かれした炭素数1〜6のアルキル基またはアリール基を示し、Mは、Mg、Ca、Al、Sb、Sn、Ge、Ti、Fe、Zr、Zn、Ce、Bi、Sr、Mn、Li、Na及びKからなる群の少なくとも1種より選択される金属類を示し、tは1〜4の整数である。) (In the formula, R 5 and R 6 each independently represent a linear or branched alkyl group having 1 to 6 carbon atoms or an aryl group, and M represents Mg, Ca, Al, Sb, Sn, Ge, Ti. , Fe, Zr, Zn, Ce, Bi, Sr, Mn, Li, Na, and K represent metals selected from the group consisting of at least one of t.

本願発明のホスフィン酸塩は、上記構造であれば特に限定はされないが、例えば、トリスジエチルホスフィン酸アルミニウム、トリスメチルエチルホスフィン酸アルミニウム、トリスジフェニルホスフィン酸アルミニウム、ビスジエチルホスフィン酸亜鉛、ビスメチルエチルホスフィン酸亜鉛、ビスジフェニルホスフィン酸亜鉛、ビスジエチルホスフィン酸チタニル、ビスメチルエチルホスフィン酸チタニル、ビスジフェニルホスフィン酸チタニル等を挙げることができ、これらは単独であるいは2種類以上を組み合わせて用いることができる。中でも特にトリスジエチルホスフィン酸アルミニウム、トリスメチルエチルホスフィン酸アルミニウムを用いた場合、高い難燃性が得られるため好ましい。   The phosphinic acid salt of the present invention is not particularly limited as long as it has the above structure. For example, aluminum trisdiethylphosphinate, aluminum trismethylethylphosphinate, aluminum trisdiphenylphosphinate, zinc bisdiethylphosphinate, bismethylethylphosphine Examples thereof include zinc oxide, zinc bisdiphenylphosphinate, titanyl bisdiethylphosphinate, titanyl bismethylethylphosphinate, titanyl bisdiphenylphosphinate, and the like. These can be used alone or in combination of two or more. Of these, aluminum trisdiethylphosphinate and aluminum trismethylethylphosphinate are particularly preferable because high flame retardancy can be obtained.

本願発明の(E)成分の含有量は、好ましくは(A)成分100重量部に対して5〜100重量部、より好ましくは10〜50重量部とすることにより、得られる硬化膜の難燃性、電気絶縁信頼性に優れる。(E)成分が5重量部より少ない場合は難燃性に劣る場合があり、100重量部より多い場合は耐折れ性が劣る場合や、黒色感光性樹脂組成物溶液を塗工する際の塗工性が悪化し、塗工時の塗膜の発泡やレベリング不足による外観不良が発生する場合がある。   The content of the component (E) of the present invention is preferably 5 to 100 parts by weight, more preferably 10 to 50 parts by weight, with respect to 100 parts by weight of the component (A). Excellent in electrical insulation reliability. When the amount of the component (E) is less than 5 parts by weight, the flame retardancy may be inferior. When the amount is more than 100 parts by weight, the crease resistance may be inferior, or when the black photosensitive resin composition solution is applied. Workability deteriorates and appearance defects may occur due to foaming of the coating film during coating or insufficient leveling.

<(F)黒色着色剤>
本願発明の(F)黒色着色剤とは、黒色染料、黒色顔料などの他の物質を黒色に着色する効果を有する物質であり、着色性、耐熱性の観点より黒色顔料が好ましい。上記黒色顔料は、特に限定はされないが、例えば、カーボンブラック、ランプブラック、チタンブラック、グラファイト、酸化鉄、酸化銅、酸化コバルト、酸化ニッケル、鉄・マンガン複合酸化物、鉄・コバルト・クロム複合酸化物、鉄・クロム・マンガン複合酸化物、銅・クロム複合酸化物、銅・クロム・マンガン複合酸化物、アニリン系化合物、アンスラキノン系化合物、ペリレン系化合等を挙げることができ、これらは単独であるいは2種類以上を組み合わせて用いることができる。中でも特にカーボンブラックを用いた場合、高い着色性、隠蔽性が得られるため好ましい。
<(F) Black colorant>
The (F) black colorant of the present invention is a substance having an effect of coloring other substances such as black dyes and black pigments black, and a black pigment is preferable from the viewpoint of colorability and heat resistance. The black pigment is not particularly limited. For example, carbon black, lamp black, titanium black, graphite, iron oxide, copper oxide, cobalt oxide, nickel oxide, iron-manganese composite oxide, iron-cobalt-chromium composite oxide Products, iron-chromium-manganese composite oxides, copper-chromium composite oxides, copper-chromium-manganese composite oxides, aniline compounds, anthraquinone compounds, perylene compounds, etc. Alternatively, two or more types can be used in combination. Among these, carbon black is particularly preferable because high colorability and concealability can be obtained.

本願発明の(F)成分の含有量は、好ましくは(A)成分100重量部に対して0.1〜20重量部、より好ましくは1〜10重量部とすることにより、得られる硬化膜の黒色度、隠蔽性に優れる。(E)成分が0.1重量部より少ない場合は黒色度、隠蔽性に劣る場合があり、20重量部より多い場合は黒色感光性樹脂組成物溶液の透過率が低下するため、感光性が低下する場合がある。   The content of the component (F) of the present invention is preferably 0.1 to 20 parts by weight, more preferably 1 to 10 parts by weight, with respect to 100 parts by weight of the component (A). Excellent blackness and concealment. When the component (E) is less than 0.1 parts by weight, the blackness and the hiding property may be inferior. When the component is more than 20 parts by weight, the transmittance of the black photosensitive resin composition solution is lowered, and thus the photosensitivity is low. May decrease.

<その他成分>
本願発明の黒色感光性樹脂組成物には、さらに必要に応じてラジカル重合性化合物、充填剤、接着助剤、消泡剤、レベリング剤、他の着色剤、重合禁止剤等の各種添加剤を加えることができる。
<Other ingredients>
The black photosensitive resin composition of the present invention further includes various additives such as a radical polymerizable compound, a filler, an adhesion aid, an antifoaming agent, a leveling agent, other colorants, and a polymerization inhibitor as necessary. Can be added.

上記ラジカル重合性化合物とは、ラジカル重合開始剤により重合反応が進行するラジカル重合性基を分子内に含有する化合物である。その中でも分子内に不飽和二重結合を少なくとも1つ有する樹脂であることが好ましい。さらには、上記不飽和二重結合は、(メタ)アクリロイル基、もしくはビニル基であることが好ましい。   The said radically polymerizable compound is a compound which contains the radically polymerizable group which a polymerization reaction advances with a radical polymerization initiator in a molecule | numerator. Among these, a resin having at least one unsaturated double bond in the molecule is preferable. Furthermore, the unsaturated double bond is preferably a (meth) acryloyl group or a vinyl group.

上記ラジカル重合性化合物は、(A)成分が(メタ)アクリロイル基を含有していない場合は用いられることが好ましい。また、(A)成分が(メタ)アクリロイル基を含有していたとしても用いてもよい。   The radical polymerizable compound is preferably used when the component (A) does not contain a (meth) acryloyl group. Further, the component (A) may be used even if it contains a (meth) acryloyl group.

上記ラジカル重合性化合物としては、例えばビスフェノールF EO変性(n=2〜50)ジアクリレート、ビスフェノールA EO変性(n=2〜50)ジアクリレート、ビスフェノールS EO変性(n=2〜50)ジアクリレート、ビスフェノールF EO変性(n=2〜50)ジメタクリレート、ビスフェノールA EO変性(n=2〜50)ジメタクリレート、ビスフェノールS EO変性(n=2〜50)ジメタクリレート、1,6−ヘキサンジオールジアクリレート、ネオペンチルグリコールジアクリレート、エチレングリコールジアクリレート、ペンタエリスリトールジアクリレート、トリメチロールプロパントリアクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、テトラメチロールプロパンテトラアクリレート、テトラエチレングリコールジアクリレート、1,6−ヘキサンジオールジメタクリレート、ネオペンチルグリコールジメタクリレート、エチレングリコールジメタクリレート、ペンタエリスリトールジメタクリレート、トリメチロールプロパントリメタクリレート、ペンタエリスリトールトリメタクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサメタクリレート、テトラメチロールプロパンテトラメタクリレート、テトラエチレングリコールジメタクリレート、メトキシジエチレングリコールメタクリレート、メトキシポリエチレングリコールメタクリレート、β−メタクリロイルオキシエチルハイドロジェンフタレート、β−メタクリロイルオキシエチルハイドロジェンサクシネート、3−クロロ−2−ヒドロキシプロピルメタクリレート、ステアリルメタクリレート、フェノキシエチルアクリレート、フェノキシジエチレングリコールアクリレート、フェノキシポリエチレングリコールアクリレート、β−アクリロイルオキシエチルハイドロジェンサクシネート、ラウリルアクリレート、エチレングリコールジメタクリレート、ジエチレングリコールジメタクリレート、トリエチレングリコールジメタクリレート、ポリエチレングリコールジメタクリレート、1,3−ブチレングリコールジメタクリレート、1,6−ヘキサンジオールジメタクリレート、ネオペンチルグリコールジメタクリレート、ポリプロピレングリコールジメタクリレート、2−ヒドロキシ−1,3−ジメタクリロキシプロパン、2,2−ビス[4−(メタクリロキシエトキシ)フェニル]プロパン、2,2−ビス[4−(メタクリロキシ・ジエトキシ)フェニル]プロパン、2,2−ビス[4−(メタクリロキシ・ポリエトキシ)フェニル]プロパン、ポリエチレングリコールジアクリレート、トリプロピレングリコールジアクリレート、ポリプロピレングリコールジアクリレート、2,2−ビス[4−(アクリロキシ・ジエトキシ)フェニル]プロパン、2,2−ビス[4−(アクリロキシ・ポリエトキシ)フェニル]プロパン、2−ヒドロキシ−1−アクリロキシ−3−メタクリロキシプロパン、トリメチロールプロパントリメタクリレート、テトラメチロールメタントリアクリレート、テトラメチロールメタンテトラアクリレート、メトキシジプロピレングリコールメタクリレート、メトキシトリエチレングリコールアクリレート、ノニルフェノキシポリエチレングリコールアクリレート、ノニルフェノキシポリプロピレングリコールアクリレート、1 − アクリロイルオキシプロピル−2−フタレート、イソステアリルアクリレート、ポリオキシエチレンアルキルエーテルアクリレート、ノニルフェノキシエチレングリコールアクリレート、ポリプロピレングリコールジメタクリレート、1,4−ブタンジオールジメタクリレート、3−メチル−1,5−ペンタンジオールジメタクリレート、1,6−メキサンジオールジメタクリレート、1,9−ノナンジオールメタクリレート、2,4−ジエチル−1,5−ペンタンジオールジメタクリレート、1,4−シクロヘキサンジメタノールジメタクリレート、ジプロピレングリコールジアクリレート、トリシクロデカンジメタノールジアクリレート、2,2−水添ビス[4−(アクリロキシ・ポリエトキシ)フェニル]プロパン、2,2−ビス[4−(アクリロキシ・ポリプロポキシ)フェニル]プロパン、2,4−ジエチル−1,5−ペンタンジオールジアクリレート、エトキシ化トチメチロールプロパントリアクリレート、プロポキシ化トチメチロールプロパントリアクリレート、イソシアヌル酸トリ(エタンアクリレート)、ペンタスリトールテトラアクリレート、エトキシ化ペンタスリトールテトラアクリレート、プロポキシ化ペンタスリトールテトラアクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラアクリレート、ジペンタエリスリトールポリアクリレート、イソシアヌル酸トリアリル、グリシジルメタクリレート、グリシジルアリルエーテル、1,3,5−トリアクリロイルヘキサヒドロ−s−トリアジン、トリアリル1,3,5−ベンゼンカルボキシレート、トリアリルアミン、トリアリルシトレート、トリアリルフォスフェート、アロバービタル、ジアリルアミン、ジアリルジメチルシラン、ジアリルジスルフィド、ジアリルエーテル、ザリルシアルレート、ジアリルイソフタレート、ジアリルテレフタレート、1,3−ジアリロキシ−2−プロパノール、ジアリルスルフィドジアリルマレエート、4,4’−イソプロピリデンジフェノールジメタクリレート、4,4’−イソプロピリデンジフェノールジアクリレート等を挙げることができ、これらは単独であるいは2種類以上を組み合わせて用いることができる。特に、ジアクリレートあるいはジメタクリレートの一分子中に含まれるEO(エチレンオキサイド)の繰り返し単位が2〜50モル含有されるものを用いた場合、黒色感光性樹脂組成物のアルカリ水溶液に代表される水系現像液への溶解性が向上し、現像時間が短縮されるので好ましい。   Examples of the radical polymerizable compound include bisphenol F EO modified (n = 2 to 50) diacrylate, bisphenol A EO modified (n = 2 to 50) diacrylate, and bisphenol S EO modified (n = 2 to 50) diacrylate. Bisphenol F EO modified (n = 2-50) dimethacrylate, bisphenol A EO modified (n = 2-50) dimethacrylate, bisphenol S EO modified (n = 2-50) dimethacrylate, 1,6-hexanediol dimethacrylate Acrylate, neopentyl glycol diacrylate, ethylene glycol diacrylate, pentaerythritol diacrylate, trimethylolpropane triacrylate, pentaerythritol triacrylate, dipentaerythritol hexaacrylate, tetramethyl Roll propane tetraacrylate, tetraethylene glycol diacrylate, 1,6-hexanediol dimethacrylate, neopentyl glycol dimethacrylate, ethylene glycol dimethacrylate, pentaerythritol dimethacrylate, trimethylolpropane trimethacrylate, pentaerythritol trimethacrylate, dipentaerythritol Hexamethacrylate, tetramethylolpropane tetramethacrylate, tetraethylene glycol dimethacrylate, methoxydiethylene glycol methacrylate, methoxypolyethylene glycol methacrylate, β-methacryloyloxyethyl hydrogen phthalate, β-methacryloyloxyethyl hydrogen succinate, 3-chloro-2-hy Roxypropyl methacrylate, stearyl methacrylate, phenoxyethyl acrylate, phenoxydiethylene glycol acrylate, phenoxy polyethylene glycol acrylate, β-acryloyloxyethyl hydrogen succinate, lauryl acrylate, ethylene glycol dimethacrylate, diethylene glycol dimethacrylate, triethylene glycol dimethacrylate, polyethylene glycol Dimethacrylate, 1,3-butylene glycol dimethacrylate, 1,6-hexanediol dimethacrylate, neopentyl glycol dimethacrylate, polypropylene glycol dimethacrylate, 2-hydroxy-1,3-dimethacryloxypropane, 2,2-bis [4- (Methacryloxytoki Si) phenyl] propane, 2,2-bis [4- (methacryloxy-diethoxy) phenyl] propane, 2,2-bis [4- (methacryloxy-polyethoxy) phenyl] propane, polyethylene glycol diacrylate, tripropylene glycol diacrylate , Polypropylene glycol diacrylate, 2,2-bis [4- (acryloxydiethoxy) phenyl] propane, 2,2-bis [4- (acryloxypolyethoxy) phenyl] propane, 2-hydroxy-1-acryloxy-3- Methacryloxypropane, trimethylolpropane trimethacrylate, tetramethylolmethane triacrylate, tetramethylolmethane tetraacrylate, methoxydipropylene glycol methacrylate, methoxytriethylene Recall acrylate, nonylphenoxypolyethylene glycol acrylate, nonylphenoxypolypropylene glycol acrylate, 1-acryloyloxypropyl-2-phthalate, isostearyl acrylate, polyoxyethylene alkyl ether acrylate, nonylphenoxyethylene glycol acrylate, polypropylene glycol dimethacrylate, 1,4 -Butanediol dimethacrylate, 3-methyl-1,5-pentanediol dimethacrylate, 1,6-mexanediol dimethacrylate, 1,9-nonanediol methacrylate, 2,4-diethyl-1,5-pentanediol di Methacrylate, 1,4-cyclohexanedimethanol dimethacrylate, dipropylene glycol diacrylate , Tricyclodecane dimethanol diacrylate, 2,2-hydrogenated bis [4- (acryloxy polyethoxy) phenyl] propane, 2,2-bis [4- (acryloxy polypropoxy) phenyl] propane, 2,4- Diethyl-1,5-pentanediol diacrylate, ethoxylated tomethylolpropane triacrylate, propoxylated tomethylolpropane triacrylate, isocyanuric acid tri (ethane acrylate), pentathritol tetraacrylate, ethoxylated pentathritol tetraacrylate, propoxy Pentathritol tetraacrylate, ditrimethylolpropane tetraacrylate, dipentaerythritol polyacrylate, triallyl isocyanurate, glycidyl methacrylate, glycidyl Ryl ether, 1,3,5-triacryloylhexahydro-s-triazine, triallyl 1,3,5-benzenecarboxylate, triallylamine, triallyl citrate, triallyl phosphate, arobarbital, diallylamine, diallyldimethylsilane, diallyl Disulfide, diallyl ether, zalyl sialate, diallyl isophthalate, diallyl terephthalate, 1,3-dialyloxy-2-propanol, diallyl sulfide diallyl maleate, 4,4′-isopropylidene diphenol dimethacrylate, 4,4′-isopropyl Examples thereof include redene diphenol diacrylate, and these can be used alone or in combination of two or more. In particular, when one containing 2 to 50 mol of EO (ethylene oxide) repeating units contained in one molecule of diacrylate or dimethacrylate is used, an aqueous system represented by an alkaline aqueous solution of a black photosensitive resin composition This is preferable because the solubility in the developer is improved and the development time is shortened.

上記充填剤としては、シリカ、マイカ、タルク、硫酸バリウム、ワラストナイト、炭酸カルシウムなどの微細な無機充填剤が挙げられる。   Examples of the filler include fine inorganic fillers such as silica, mica, talc, barium sulfate, wollastonite, and calcium carbonate.

上記消泡剤としては、例えば、アクリル系化合物、ビニル系化合物、ブタジエン系化合物等が挙げられる。   Examples of the antifoaming agent include acrylic compounds, vinyl compounds, butadiene compounds, and the like.

上記レベリング剤としては、例えば、アクリル系化合物、ビニル系化合物等が挙げられる。   Examples of the leveling agent include acrylic compounds and vinyl compounds.

上記他の着色剤としては、例えば、フタロシアニン系化合物、アゾ系化合物等が挙げられる。   Examples of the other colorant include phthalocyanine compounds and azo compounds.

上記接着助剤(密着性付与剤ともいう。)としては、シランカップリング剤、トリアゾール系化合物、テトラゾール系化合物、トリアジン系化合物等が挙げられる。   Examples of the adhesion assistant (also referred to as adhesion-imparting agent) include silane coupling agents, triazole compounds, tetrazole compounds, and triazine compounds.

上記重合禁止剤としては、例えば、ハイドロキノン、ハイドロキノンモノメチルエーテル等が挙げられる。   Examples of the polymerization inhibitor include hydroquinone and hydroquinone monomethyl ether.

本願発明の黒色感光性樹脂組成物は、(E)成分を含むため難燃性に優れているが、より高い難燃効果を得るために他の難燃剤を加えてもよい。難燃剤としては、例えば、含ハロゲン系化合物、金属水酸化物、メラミン系化合物等を添加することができる。上記各種添加剤は、単独で又は2種類以上を組み合わせて使用できる。   The black photosensitive resin composition of the present invention is excellent in flame retardancy because it contains the component (E), but another flame retardant may be added to obtain a higher flame retardant effect. As the flame retardant, for example, a halogen-containing compound, a metal hydroxide, a melamine compound, or the like can be added. The above various additives can be used alone or in combination of two or more.

<黒色感光性樹脂組成物の混合方法>
本願発明の黒色感光性樹脂組成物は、上記(A)〜(F)成分及びその他成分を粉砕・分散させて混合し、得られることができる。粉砕・分散方法としては、特に限定されるものではないが、例えばビーズミル、ボールミル、3本ロール等の一般的な混練装置を用いて行われる。黒色感光性樹脂組成物に含まれる粒子の粒子径はJIS K 5600−2−5で規定されたゲージを用いる方法で測定することができる。また粒度分布測定装置を使用すれば、平均粒子径、粒子径、粒度分布を測定することができる。
<Mixing method of black photosensitive resin composition>
The black photosensitive resin composition of the present invention can be obtained by pulverizing and dispersing the above components (A) to (F) and other components and mixing them. The pulverizing / dispersing method is not particularly limited, and for example, it is performed using a general kneading apparatus such as a bead mill, a ball mill, or a three roll. The particle diameter of the particles contained in the black photosensitive resin composition can be measured by a method using a gauge defined in JIS K 5600-2-5. Moreover, if a particle size distribution measuring apparatus is used, an average particle diameter, a particle diameter, and a particle size distribution can be measured.

(II)黒色感光性樹脂組成物の使用方法
本願発明の黒色感光性樹脂組成物を直接に用いて、又は、黒色感光性樹脂組成物溶液を調製した後に、以下のようにして硬化膜又はレリーフパターンを形成することができる。先ず、上記黒色感光性樹脂組成物、又は、黒色感光性樹脂組成物溶液を基板に塗布し、乾燥して有機溶媒を除去する。基板への塗布はスクリ−ン印刷、カ−テンロ−ル、リバ−スロ−ル、スプレーコーティング、スピンナーを利用した回転塗布等により行うことができる。塗布膜(好ましくは厚み:5〜100μm、特に10〜100μm)の乾燥は120℃以下、好ましくは40〜100℃で行う。
(II) Method for Using Black Photosensitive Resin Composition Using the black photosensitive resin composition of the present invention directly or after preparing a black photosensitive resin composition solution, a cured film or a relief is as follows. A pattern can be formed. First, the black photosensitive resin composition or the black photosensitive resin composition solution is applied to a substrate and dried to remove the organic solvent. The substrate can be applied by screen printing, curtain roll, river roll, spray coating, spin coating using a spinner, or the like. Drying of the coating film (preferably thickness: 5 to 100 μm, particularly 10 to 100 μm) is performed at 120 ° C. or less, preferably 40 to 100 ° C.

次いで、乾燥後、乾燥塗布膜にネガ型のフォトマスクを置き、紫外線、可視光線、電子線などの活性光線を照射する。次いで、未露光部分をシャワー、パドル、浸漬または超音波等の各種方式を用い、現像液で洗い出すことによりレリ−フパタ−ンを得ることができる。なお、現像装置の噴霧圧力や流速、エッチング液の温度によりパターンが露出するまでの時間が異なる為、適宜最適な装置条件を見出すことが望ましい。   Next, after drying, a negative photomask is placed on the dried coating film and irradiated with actinic rays such as ultraviolet rays, visible rays, and electron beams. Next, the relief pattern can be obtained by washing out the unexposed portion with a developer using various methods such as shower, paddle, immersion, or ultrasonic wave. Since the time until the pattern is exposed varies depending on the spraying pressure and flow rate of the developing device and the temperature of the etching solution, it is desirable to find the optimum device conditions as appropriate.

上記現像液としては、アルカリ水溶液を使用することが好ましい。この現像液には、メタノ−ル、エタノ−ル、n−プロパノ−ル、イソプロパノ−ル、N−メチル−2−ピロリドン等の水溶性有機溶媒が含有されていてもよい。上記のアルカリ水溶液を与えるアルカリ性化合物としては、例えば、アルカリ金属、アルカリ土類金属またはアンモニウムイオンの、水酸化物または炭酸塩や炭酸水素塩、アミン化合物などが挙げられ、具体的には水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化アンモニウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸アンモニウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム、炭酸水素アンモニウム、テトラメチルアンモニウムヒドロキシド、テトラエチルアンモニウムヒドロキシド、テトラプロピルアンモニウムヒドロキシド、テトライソプロピルアンモニウムヒドロキシド、N−メチルジエタノ−ルアミン、N−エチルジエタノ−ルアミン、N,N−ジメチルエタノ−ルアミン、トリエタノ−ルアミン、トリイソプロパノ−ルアミン、トリイソプロピルアミンなどを挙げることができ、水溶液が塩基性を呈するものであればこれ以外の化合物も当然使用することができる。本願発明の黒色感光性樹脂組成物の現像工程に好適に用いることのできる、アルカリ性化合物の濃度は、0.01〜20重量%、特に好ましくは、0.02〜10重量%とすることが好ましい。また、現像液の温度は黒色感光性樹脂組成物の組成や、アルカリ現像液の組成に依存しており、一般的には0℃以上80℃以下、より一般的には、10℃以上60℃以下で使用することが好ましい。   As the developer, an alkaline aqueous solution is preferably used. This developer may contain a water-soluble organic solvent such as methanol, ethanol, n-propanol, isopropanol, or N-methyl-2-pyrrolidone. Examples of the alkaline compound that gives the alkaline aqueous solution include hydroxides, carbonates, hydrogen carbonates, amine compounds, and the like of alkali metals, alkaline earth metals, or ammonium ions, and specifically sodium hydroxide. , Potassium hydroxide, ammonium hydroxide, sodium carbonate, potassium carbonate, ammonium carbonate, sodium bicarbonate, potassium bicarbonate, ammonium bicarbonate, tetramethylammonium hydroxide, tetraethylammonium hydroxide, tetrapropylammonium hydroxide, tetraisopropylammonium Hydroxide, N-methyldiethanolamine, N-ethyldiethanolamine, N, N-dimethylethanolamine, triethanolamine, triisopropanolamine, triiso Etc. can be mentioned Ropiruamin, aqueous solution with compounds of other long as it exhibits basicity can also be naturally used. The concentration of the alkaline compound that can be suitably used in the development step of the black photosensitive resin composition of the present invention is 0.01 to 20% by weight, particularly preferably 0.02 to 10% by weight. . Further, the temperature of the developer depends on the composition of the black photosensitive resin composition and the composition of the alkali developer, and is generally 0 ° C. or higher and 80 ° C. or lower, more generally 10 ° C. or higher and 60 ° C. or lower. It is preferably used in the following.

上記現像工程によって形成したレリ−フパタ−ンは、リンスして不用な残分を除去する。リンス液としては、水、酸性水溶液などが挙げられる。   The relief pattern formed by the development process is rinsed to remove unnecessary residues. Examples of the rinsing liquid include water and acidic aqueous solutions.

次いで、上記得られたレリ−フパタ−ンの加熱処理を行う。加熱処理を行って、分子構造中に残存する反応性基を反応させることにより、耐熱性に富む硬化膜を得ることができる。硬化膜の厚みは、配線厚み等を考慮して決定されるが、2〜50μm程度であることが好ましい。このときの最終硬化温度は配線等の酸化を防ぎ、配線と基材との密着性を低下させないことを目的として低温で加熱して硬化できることが望まれている。   Next, heat treatment is performed on the obtained relief pattern. By carrying out heat treatment to react the reactive groups remaining in the molecular structure, a cured film having high heat resistance can be obtained. The thickness of the cured film is determined in consideration of the wiring thickness and the like, but is preferably about 2 to 50 μm. The final curing temperature at this time is desired to be able to be cured by heating at a low temperature for the purpose of preventing oxidation of the wiring and the like and not reducing the adhesion between the wiring and the substrate.

この時の硬化温度は100℃以上250℃以下であることが好ましく、更に好ましくは120℃以上200℃以下であり、特に好ましくは130℃以上180℃以下である。最終加熱温度が高くなると配線の酸化劣化が進むので望ましくない。   The curing temperature at this time is preferably 100 ° C. or higher and 250 ° C. or lower, more preferably 120 ° C. or higher and 200 ° C. or lower, and particularly preferably 130 ° C. or higher and 180 ° C. or lower. If the final heating temperature is high, the wiring is oxidatively deteriorated, which is not desirable.

本願発明の黒色感光性樹脂組成物から形成した硬化膜は、隠蔽性に優れるとともに、柔軟性、難燃性、電気絶縁信頼性に優れ、硬化後の基板の反りが小さい。   The cured film formed from the black photosensitive resin composition of the present invention is excellent in concealment, excellent in flexibility, flame retardancy, and electrical insulation reliability, and has little warpage of the substrate after curing.

また、例えば、黒色感光性樹脂組成物から得られる絶縁膜は、好適には厚さ2〜50μm程度の膜厚で光硬化後少なくとも10μmまでの解像力、特に10〜1000μm程度の解像力のものである。このため黒色感光性樹脂組成物から得られる絶縁膜は、フレキシブル基板の絶縁材料として特に適しているのである。また更には、光硬化型の各種配線被覆保護剤、感光性の耐熱性接着剤、電線・ケーブル絶縁被膜、等に用いられる。   Further, for example, the insulating film obtained from the black photosensitive resin composition preferably has a thickness of about 2 to 50 μm and a resolution of at least 10 μm after photocuring, particularly a resolution of about 10 to 1000 μm. . For this reason, the insulating film obtained from a black photosensitive resin composition is especially suitable as an insulating material of a flexible substrate. Furthermore, it is used for various photo-curing wiring coating protective agents, photosensitive heat-resistant adhesives, electric wire / cable insulation coatings, and the like.

尚、本願発明は上記黒色感光性樹脂組成物、又は、黒色感光性樹脂組成物溶液を基材表面に塗布し乾燥して得られた樹脂フィルムを用いても同様の絶縁材料を提供することができる。   In addition, this invention can provide the same insulating material even if it uses the resin film obtained by apply | coating the said black photosensitive resin composition or the black photosensitive resin composition solution to the base-material surface, and drying. it can.

以下本発明を実施例により具体的に説明するが本発明はこれらの実施例により限定されるものではない。   EXAMPLES Hereinafter, the present invention will be specifically described with reference to examples, but the present invention is not limited to these examples.

(合成例1)
<(A)バインダーポリマー1>
攪拌機、温度計、滴下漏斗、及び窒素導入管を備えた反応容器に、重合用溶媒としてメチルトリグライム(=1,2−ビス(2−メトキシエトキシ)エタン)100.0gを仕込み、窒素気流下で攪拌しながら80℃まで昇温した。これに、室温で予め混合しておいた、メタクリル酸12.0g(0.14モル)、メタクリル酸ベンジル28.0g(0.16モル)、メタクリル酸ブチル60.0g(0.42モル)、ラジカル重合開始剤としてアゾビスイソブチロニトリル0.5gを80℃に保温した状態で3時間かけて滴下漏斗から滴下した。滴下終了後、反応溶液を攪拌しながら90℃まで昇温し、反応溶液の温度を90℃に保ちながら更に2時間攪拌を行い反応させた。上記反応を行うことで分子内にカルボキシル基を含有するアクリル系樹脂溶液を得た。得られた樹脂溶液の固形分濃度は50%、重量平均分子量は48,000、固形分の酸価は78mgKOH/gであった。尚、固形分濃度、重量平均分子量、酸価は下記の方法で測定した。
(Synthesis Example 1)
<(A) Binder polymer 1>
A reaction vessel equipped with a stirrer, a thermometer, a dropping funnel, and a nitrogen inlet tube was charged with 100.0 g of methyltriglyme (= 1,2-bis (2-methoxyethoxy) ethane) as a solvent for polymerization, and under a nitrogen stream. The temperature was raised to 80 ° C. with stirring. To this, 12.0 g (0.14 mol) of methacrylic acid, 28.0 g (0.16 mol) of benzyl methacrylate, 60.0 g (0.42 mol) of butyl methacrylate, previously mixed at room temperature, As a radical polymerization initiator, 0.5 g of azobisisobutyronitrile was added dropwise from a dropping funnel over 3 hours while keeping the temperature at 80 ° C. After completion of the dropwise addition, the reaction solution was heated to 90 ° C. while stirring, and the reaction solution was further stirred for 2 hours while maintaining the temperature of the reaction solution at 90 ° C. for reaction. By carrying out the above reaction, an acrylic resin solution containing a carboxyl group in the molecule was obtained. The resulting resin solution had a solid content concentration of 50%, a weight average molecular weight of 48,000, and a solid content acid value of 78 mgKOH / g. The solid content concentration, weight average molecular weight, and acid value were measured by the following methods.

<固形分濃度>
JIS K 5601−1−2に従って測定を行った。尚、乾燥条件は170℃×1時間の条件を選択した。
<Concentration of solid content>
The measurement was performed according to JIS K 5601-1-2. The drying conditions were 170 ° C. × 1 hour.

<重量平均分子量>
下記条件で測定を行った。
使用装置:東ソーHLC−8220GPC相当品
カラム :東ソー TSK gel Super AWM−H(6.0mmI.D.×15cm)×2本
ガードカラム:東ソー TSK guard column Super AW−H
溶離液:30mM LiBr+20mM H3PO4 in DMF
流速:0.6mL/min
カラム温度:40℃
検出条件:RI:ポラリティ(+)、レスポンス(0.5sec)
試料濃度:約5mg/mL
標準品:PEG(ポリエチレングリコール)
<Weight average molecular weight>
Measurement was performed under the following conditions.
Equipment used: Tosoh HLC-8220GPC equivalent column: Tosoh TSK gel Super AWM-H (6.0 mm ID x 15 cm) x 2 guard columns: Tosoh TSK guard column Super AW-H
Eluent: 30 mM LiBr + 20 mM H3PO4 in DMF
Flow rate: 0.6 mL / min
Column temperature: 40 ° C
Detection conditions: RI: Polarity (+), response (0.5 sec)
Sample concentration: about 5 mg / mL
Standard product: PEG (polyethylene glycol)

<酸価>
JIS K 5601−2−1に従って測定を行った。
<Acid value>
Measurement was performed according to JIS K 5601-2-1.

(合成例2)
<(A)バインダーポリマー2>
攪拌機、温度計、及び窒素導入管を備えた反応容器に、重合用溶媒としてメチルトリグライム(=1,2-ビス(2-メトキシエトキシ)エタン)30.00gを仕込み、これに、ノルボルネンジイソシアネート10.31g(0.050モル)を仕込み、窒素気流下で攪拌しながら80℃に加温して溶解させた。この溶液に、ポリカーボネートジオール50.00g(0.025モル)(旭化成株式会社製、製品名PCDL T5652、重量平均分子量2000)及び2−ヒドロキシエチルメタクリレート6.51g(0.050モル)をメチルトリグライム30.00gに溶解した溶液を1時間かけて添加した。この溶液を5時間80℃で加熱攪拌を行い反応させた。上記反応を行うことで分子内にウレタン結合及びメタクリロイル基を含有する樹脂溶液を得た。得られた樹脂溶液の固形分濃度は53%、重量平均分子量は5,200であった。尚、固形分濃度、重量平均分子量は合成例1と同様の方法で測定した。
(Synthesis Example 2)
<(A) Binder polymer 2>
Into a reaction vessel equipped with a stirrer, a thermometer, and a nitrogen introduction tube, 30.00 g of methyltriglyme (= 1,2-bis (2-methoxyethoxy) ethane) was charged as a polymerization solvent, and this was mixed with norbornene diisocyanate 10 .31 g (0.050 mol) was charged and dissolved by heating to 80 ° C. with stirring under a nitrogen stream. To this solution, 50.00 g (0.025 mol) of polycarbonate diol (manufactured by Asahi Kasei Corporation, product name PCDL T5652, weight average molecular weight 2000) and 6.51 g (0.050 mol) of 2-hydroxyethyl methacrylate were added to methyltriglyme. A solution dissolved in 30.00 g was added over 1 hour. This solution was reacted by heating and stirring at 80 ° C. for 5 hours. By performing the above reaction, a resin solution containing a urethane bond and a methacryloyl group in the molecule was obtained. The resulting resin solution had a solid content concentration of 53% and a weight average molecular weight of 5,200. The solid content concentration and the weight average molecular weight were measured in the same manner as in Synthesis Example 1.

(合成例3)
<(A)バインダーポリマー3>
攪拌機、温度計、及び窒素導入管を備えた反応容器に、重合用溶媒としてメチルトリグライム(=1,2-ビス(2-メトキシエトキシ)エタン)30.00gを仕込み、これに、ノルボルネンジイソシアネート10.31g(0.050モル)を仕込み、窒素気流下で攪拌しながら80℃に加温して溶解させた。この溶液に、ポリカーボネートジオール50.00g(0.025モル)(旭化成株式会社製、製品名PCDL T5652、重量平均分子量2000)及び2,2−ビス(ヒドロキシメチル)ブタン酸3.70g(0.025モル)をメチルトリグライム30.00gに溶解した溶液を1時間かけて添加した。この溶液を5時間80℃で加熱攪拌を行い反応させた。上記反応を行うことで分子内にウレタン結合及びカルボキシル基を含有する樹脂溶液を得た。得られた樹脂溶液の固形分濃度は52%、重量平均分子量は5,600、固形分の酸価は22mgKOH/gであった。尚、固形分濃度、重量平均分子量、酸価は合成例1と同様の方法で測定した。
(Synthesis Example 3)
<(A) Binder polymer 3>
Into a reaction vessel equipped with a stirrer, a thermometer, and a nitrogen introduction tube, 30.00 g of methyltriglyme (= 1,2-bis (2-methoxyethoxy) ethane) was charged as a polymerization solvent, and this was mixed with norbornene diisocyanate 10 .31 g (0.050 mol) was charged and dissolved by heating to 80 ° C. with stirring under a nitrogen stream. To this solution, polycarbonate diol 50.00 g (0.025 mol) (manufactured by Asahi Kasei Corporation, product name PCDL T5652, weight average molecular weight 2000) and 2,2-bis (hydroxymethyl) butanoic acid 3.70 g (0.025 Mol) in 30.00 g of methyltriglyme was added over 1 hour. This solution was reacted by heating and stirring at 80 ° C. for 5 hours. By performing the above reaction, a resin solution containing a urethane bond and a carboxyl group in the molecule was obtained. The obtained resin solution had a solid content concentration of 52%, a weight average molecular weight of 5,600, and a solid content acid value of 22 mgKOH / g. The solid content concentration, weight average molecular weight, and acid value were measured in the same manner as in Synthesis Example 1.

(合成例4)
<(A)バインダーポリマー4>
攪拌機、温度計、及び窒素導入管を備えた反応容器に、重合用溶媒としてメチルトリグライム(=1,2-ビス(2-メトキシエトキシ)エタン)40.00gを仕込み、これに、ノルボルネンジイソシアネート20.62g(0.100モル)を仕込み、窒素気流下で攪拌しながら80℃に加温して溶解させた。この溶液に、ポリカーボネートジオール50.00g(0.025モル)(旭化成株式会社製、製品名PCDL T5652、重量平均分子量2000)、2,2−ビス(ヒドロキシメチル)ブタン酸3.70g(0.025モル)及び2−ヒドロキシエチルメタクリレート13.02g(0.100モル)をメチルトリグライム40.00gに溶解した溶液を1時間かけて添加した。この溶液を5時間80℃で加熱攪拌を行い反応させた。上記反応を行うことで分子内にウレタン結合、カルボキシル基及び(メタ)アクリロイル基を含有する樹脂溶液を得た。得られた樹脂溶液の固形分濃度は52%、重量平均分子量は8,600、固形分の酸価は18mgKOH/gであった。尚、固形分濃度、重量平均分子量、酸価は合成例1と同様の方法で測定した。
(Synthesis Example 4)
<(A) Binder polymer 4>
Into a reaction vessel equipped with a stirrer, a thermometer, and a nitrogen introduction tube, 40.00 g of methyltriglyme (= 1,2-bis (2-methoxyethoxy) ethane) was charged as a polymerization solvent, and this was mixed with norbornene diisocyanate 20 .62 g (0.100 mol) was charged and dissolved by heating to 80 ° C. with stirring under a nitrogen stream. To this solution, 50.00 g (0.025 mol) of polycarbonate diol (manufactured by Asahi Kasei Co., Ltd., product name PCDL T5652, weight average molecular weight 2000), 3.70 g (0.025) of 2,2-bis (hydroxymethyl) butanoic acid Mol) and a solution prepared by dissolving 13.02 g (0.100 mol) of 2-hydroxyethyl methacrylate in 40.00 g of methyltriglyme was added over 1 hour. This solution was reacted by heating and stirring at 80 ° C. for 5 hours. By performing the above reaction, a resin solution containing a urethane bond, a carboxyl group, and a (meth) acryloyl group in the molecule was obtained. The obtained resin solution had a solid content concentration of 52%, a weight average molecular weight of 8,600, and a solid content acid value of 18 mgKOH / g. The solid content concentration, weight average molecular weight, and acid value were measured in the same manner as in Synthesis Example 1.

(合成例5)
<(A)バインダーポリマー5>
攪拌機、温度計、及び窒素導入管を備えた反応容器に、重合用溶媒としてメチルトリグライム(=1,2-ビス(2-メトキシエトキシ)エタン)35.00gを仕込み、これに、ノルボルネンジイソシアネート10.31g(0.050モル)を仕込み、窒素気流下で攪拌しながら80℃に加温して溶解させた。この溶液に、ポリカーボネートジオール50.00g(0.025モル)(旭化成株式会社製、製品名PCDL T5652、重量平均分子量2000)をメチルトリグライム35.00gに溶解した溶液を1時間かけて添加した。この溶液を2時間80℃で加熱攪拌を行った。反応終了後、3,3’,4,4’−オキシジフタル酸二無水物(以下、ODPA)15.51g(0.050モル)を前述の反応溶液に添加した。添加後に190℃に加温して1時間反応させた。この溶液を80℃まで冷却し純水3.60g(0.200モル)を添加した。添加後に110℃まで昇温し5時間加熱還流した。上記反応を行うことで分子内にウレタン結合、カルボキシル基及びイミド基を含有する樹脂溶液を得た。得られた樹脂溶液の固形分濃度は53%、重量平均分子量は9,200、固形分の酸価は86mgKOH/gであった。尚、固形分濃度、重量平均分子量、酸価は合成例1と同様の方法で測定した。
(Synthesis Example 5)
<(A) Binder polymer 5>
Into a reaction vessel equipped with a stirrer, a thermometer, and a nitrogen introduction tube, 35.00 g of methyltriglyme (= 1,2-bis (2-methoxyethoxy) ethane) was charged as a polymerization solvent, and this was mixed with norbornene diisocyanate 10 .31 g (0.050 mol) was charged and dissolved by heating to 80 ° C. with stirring under a nitrogen stream. A solution obtained by dissolving 50.00 g (0.025 mol) of polycarbonate diol (product name: PCDL T5652; weight average molecular weight 2000) in 35.00 g of methyltriglyme was added to this solution over 1 hour. This solution was heated and stirred at 80 ° C. for 2 hours. After completion of the reaction, 15.51 g (0.050 mol) of 3,3 ′, 4,4′-oxydiphthalic dianhydride (hereinafter referred to as ODPA) was added to the above reaction solution. After the addition, the mixture was heated to 190 ° C. and reacted for 1 hour. The solution was cooled to 80 ° C. and 3.60 g (0.200 mol) of pure water was added. After the addition, the temperature was raised to 110 ° C. and heated to reflux for 5 hours. By performing the above reaction, a resin solution containing a urethane bond, a carboxyl group and an imide group in the molecule was obtained. The obtained resin solution had a solid content concentration of 53%, a weight average molecular weight of 9,200, and a solid content acid value of 86 mgKOH / g. The solid content concentration, weight average molecular weight, and acid value were measured in the same manner as in Synthesis Example 1.

(実施例1〜6)
<黒色感光性樹脂組成物の調製>
合成例で得られた(A)バインダーポリマー、(B)架橋ポリマー粒子、(C)熱硬化性樹脂、(D)光重合開始剤、(E)リン系難燃剤、(F)黒色着色剤、その他成分、及び有機溶媒を添加して黒色感光性樹脂組成物を作製した。それぞれの構成原料の樹脂固形分での配合量及び原料の種類を表1に記載する。なお、表中の溶媒である1,2-ビス(2-メトキシエトキシ)エタンは上記合成した樹脂溶液に含まれる溶剤も含めた全溶剤量である。黒色感光性樹脂組成物ははじめに一般的な攪拌翼のついた攪拌装置で混合し、その後3本ロールミルで2回パスし均一な溶液とした。グラインドメーターにて粒子径を測定したところ、いずれも10μm以下であった。混合溶液を脱泡装置で溶液中の泡を完全に脱泡して下記評価を実施した。
(Examples 1-6)
<Preparation of black photosensitive resin composition>
(A) Binder polymer, (B) Crosslinked polymer particles, (C) Thermosetting resin, (D) Photopolymerization initiator, (E) Phosphorous flame retardant, (F) Black colorant, obtained in Synthesis Example Other components and an organic solvent were added to prepare a black photosensitive resin composition. Table 1 shows the blending amount of each constituent raw material in the resin solid content and the kind of the raw material. In addition, 1,2-bis (2-methoxyethoxy) ethane which is a solvent in the table is the total amount of the solvent including the solvent contained in the synthesized resin solution. The black photosensitive resin composition was first mixed with a general stirrer equipped with a stirring blade, and then passed twice with a three-roll mill to obtain a uniform solution. When the particle diameter was measured with a grindometer, all were 10 μm or less. The following evaluation was carried out by completely defoaming the foam in the solution with a defoaming device.

Figure 2012237864
Figure 2012237864

<1>大日精化工業株式会社製 分子内にウレタン結合を含有する架橋ポリマー粒子の製品名、平均粒子径7μm
<2>ガンツ化成株式会社製 架橋ポリメタクリル酸ブチル系架橋ポリマー粒子の製品名、平均粒子径5μm
<3>日産化学株式会社製 多官能エポキシ樹脂(トリグリシジルイソシアヌレート)の製品名
<4>BASFジャパン株式会社製 オキシムエステル系光重合開始剤の製品名
<5>クラリアントジャパン株式会社製 リン系難燃剤(ジエチルホスフィン酸アルミニウム塩)の製品名、平均粒子径2.5μm
<6>三菱化学株式会社製 黒色着色剤(カーボンブラック)の製品名
<7>日立化成工業株式会社製 EO変性ビスフェノールAジメタクリレートの製品名
<8>共栄社化学株式会社製 ブタジエン系消泡剤の製品名
<1> manufactured by Dainichi Seika Kogyo Co., Ltd. Product name of crosslinked polymer particles containing urethane bonds in the molecule, average particle diameter of 7 μm
<2> Product name of cross-linked polybutyl methacrylate-based cross-linked polymer particles manufactured by Ganz Kasei Co., Ltd., average particle diameter of 5 μm
<3> Product name of polyfunctional epoxy resin (triglycidyl isocyanurate) manufactured by Nissan Chemical Co., Ltd. <4> Product name of oxime ester photopolymerization initiator manufactured by BASF Japan Co., Ltd. <5> Phosphorus-based difficulty manufactured by Clariant Japan Product name of flame retardant (diethylphosphinic acid aluminum salt), average particle size 2.5μm
<6> Product name of black colorant (carbon black) manufactured by Mitsubishi Chemical Co., Ltd. <7> Product name of EO-modified bisphenol A dimethacrylate manufactured by Hitachi Chemical Co., Ltd. <8> Product of butadiene type antifoaming agent manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd. product name

<ポリイミドフィルム上への塗膜の作製>
上記黒色感光性樹脂組成物を、ベーカー式アプリケーターを用いて、25μmのポリイミドフィルム(株式会社カネカ製:商品名25NPI)に最終乾燥厚みが20μmになるように100mm×100mmの面積に流延・塗布し、80℃で20分乾燥した後、300mJ/cmの積算露光量の紫外線を照射して露光した。次いで、1.0重量%の炭酸ナトリウム水溶液を30℃に加熱した溶液を用いて、1.0kgf/mmの吐出圧で90秒スプレー現像を行った。現像後、純水で十分洗浄した後、150℃のオーブン中で30分加熱硬化させてポリイミドフィルム上に黒色感光性樹脂組成物の硬化膜を作製した。
<Preparation of coating film on polyimide film>
Using a Baker applicator, the black photosensitive resin composition was cast and applied to a 25 μm polyimide film (manufactured by Kaneka Co., Ltd .: trade name 25 NPI) to an area of 100 mm × 100 mm so that the final dry thickness was 20 μm. Then, after drying at 80 ° C. for 20 minutes, exposure was performed by irradiating with an ultraviolet ray having an accumulated exposure amount of 300 mJ / cm 2 . Subsequently, spray development was performed for 90 seconds at a discharge pressure of 1.0 kgf / mm 2 using a solution obtained by heating a 1.0 wt% sodium carbonate aqueous solution to 30 ° C. After development, the film was sufficiently washed with pure water, and then cured by heating in an oven at 150 ° C. for 30 minutes to prepare a cured film of a black photosensitive resin composition on the polyimide film.

<硬化膜の評価>
以下の項目につき評価を行った。評価結果を表2に記載する。
<Evaluation of cured film>
The following items were evaluated. The evaluation results are shown in Table 2.

(i)感光性
上記<ポリイミドフィルム上への塗膜の作製>の項目と同様の方法で得られた硬化膜の表面観察を行い判定した。ただし、露光は、ライン幅/スペース幅=100μm/100μmのネガ型フォトマスクを置いて露光した。
〇:ポリイミドフィルム表面に顕著な線太りや現像残渣無くライン幅/スペース幅=100/100μmの感光パターンが描けているもの。
×:ポリイミドフィルム表面にライン幅/スペース幅=100/100μmの感光パターンが描けていないもの。
(I) Photosensitivity The surface of the cured film obtained by the same method as the above item <Preparation of coating film on polyimide film> was observed and determined. However, the exposure was performed by placing a negative photomask of line width / space width = 100 μm / 100 μm.
◯: A photosensitive pattern having a line width / space width = 100/100 μm can be drawn on the polyimide film surface without noticeable line thickness or development residue.
X: A line width / space width = 100/100 μm photosensitive pattern is not drawn on the polyimide film surface.

(ii)タックフリー性
上記黒色感光性樹脂組成物を、ベーカー式アプリケーターを用いて、25μmのポリイミドフィルム(株式会社カネカ製:商品名25NPI)に最終乾燥厚みが20μmになるように100mm×100mmの面積に流延・塗布し、80℃で20分乾燥して溶媒乾燥後の塗膜を作製した。塗膜のタックフリー性の評価方法は、作製した溶媒乾燥後の塗膜付きフィルムを50mm×30mmの短冊に切り出して、塗膜を内側にして塗膜面同士を重ね合わせ、重ね合わせた部分に300gの荷重を3秒間のせた後、荷重を取り除き、塗膜面を引き剥がした時の状態を観察した。
○:塗膜同士の貼り付きがなく、塗膜に貼り付き跡も残っていない。
△:塗膜同士が少し貼り付き、塗膜に貼り付き跡が残っている。
×:塗膜同士が完全に貼り付いて引き剥がせない。
(Ii) Tack-free property Using the Baker type applicator, the black photosensitive resin composition is 100 mm × 100 mm so that the final dry thickness is 20 μm on a 25 μm polyimide film (manufactured by Kaneka Corporation: trade name 25 NPI). The film was cast and applied to the area and dried at 80 ° C. for 20 minutes to prepare a coating film after drying the solvent. The method for evaluating the tack-free property of the coating film is to cut out the film with the coating film after drying the solvent into 50 mm x 30 mm strips, and the coating film surfaces overlap each other with the coating film on the inside. After applying a load of 300 g for 3 seconds, the load was removed and the state when the coating film surface was peeled off was observed.
○: There is no sticking between the coating films, and no sticking marks remain on the coating film.
(Triangle | delta): The coating films stick a little and the sticking trace remains in the coating film.
X: The coating films adhered completely and cannot be peeled off.

(iii)耐折れ性
上記<ポリイミドフィルム上への塗膜の作製>の項目と同様の方法で、25μm厚みのポリイミドフィルム(株式会社カネカ製アピカル25NPI)表面に20μm厚みの黒色感光性樹脂組成物の硬化膜積層フィルムを作製した。硬化膜積層フィルムの耐折れ性の評価方法は、硬化膜積層フィルムを50mm×10mmの短冊に切り出して、硬化膜を外側にして25mmのところで180°に折り曲げ、折り曲げ部に5kgの荷重を3秒間のせた後、荷重を取り除き、折り曲げ部の頂点を顕微鏡で観察した。顕微鏡観察後、折り曲げ部を開いて、再度5kgの荷重を3秒間乗せた後、荷重を取り除き完全に硬化膜積層フィルムを開いた。上記操作を繰り返し、折り曲げ部にクラックが発生する回数を折り曲げ回数とした。
○:折り曲げ回数5回で硬化膜にクラックが無いもの。
△:折り曲げ回数3回で硬化膜にクラックが無いもの。
×:折り曲げ1回目に硬化膜にクラックが発生するもの。
(Iii) Folding resistance Black photosensitive resin composition having a thickness of 20 μm on the surface of a polyimide film having a thickness of 25 μm (Apical 25NPI manufactured by Kaneka Corporation) in the same manner as in the above item <Preparation of coating film on polyimide film>. A cured film laminated film was prepared. The evaluation method of the bending resistance of the cured film laminated film is that the cured film laminated film is cut into 50 mm × 10 mm strips, bent at 180 ° at 25 mm with the cured film on the outside, and a load of 5 kg is applied to the bent portion for 3 seconds. After loading, the load was removed, and the apex of the bent portion was observed with a microscope. After microscopic observation, the bent portion was opened, and a 5 kg load was again applied for 3 seconds, and then the load was removed to completely open the cured film laminated film. The above operation was repeated, and the number of occurrences of cracks in the bent portion was defined as the number of bending times.
A: The cured film has no cracks after being bent five times.
Δ: The cured film has no cracks after being bent three times.
X: A crack occurs in the cured film at the first folding.

(iv)電気絶縁信頼性
フレキシブル銅貼り積層板(電解銅箔の厚み12μm、ポリイミドフィルムは株式会社カネカ製アピカル25NPI、ポリイミド系接着剤で銅箔を接着している)上にライン幅/スペース幅=100μm/100μmの櫛形パターンを作製し、10容量%の硫酸水溶液中に1分間浸漬した後、純水で洗浄し銅箔の表面処理を行った。その後、上記<ポリイミドフィルム上への塗膜の作製>の項目と同様の方法で櫛形パターン上に20μm厚みの黒色感光性樹脂組成物の硬化膜を作製し試験片の作製を行った。85℃、85%RHの環境試験機中で試験片の両端子部分に100Vの直流電流を印加し、絶縁抵抗値の変化やマイグレーションの発生などを観察した。
○:試験開始後、1000時間で10の8乗以上の抵抗値を示し、マイグレーション、デンドライトなどの発生が無いもの。
×:試験開始後、1000時間でマイグレーション、デンドライトなどの発生があるもの。
(Iv) Electrical insulation reliability Line width / space width on a flexible copper-clad laminate (electrolytic copper foil thickness 12 μm, polyimide film is made of Kaneka Corporation's Apical 25 NPI, polyimide adhesive bonded with copper foil) = 100 μm / 100 μm comb-shaped pattern was prepared, immersed in a 10% by volume sulfuric acid aqueous solution for 1 minute, washed with pure water, and subjected to a copper foil surface treatment. Thereafter, a cured film of a black photosensitive resin composition having a thickness of 20 μm was prepared on a comb pattern by the same method as in the above item <Preparation of coating film on polyimide film>, and a test piece was prepared. A 100 V direct current was applied to both terminals of the test piece in an environmental test machine at 85 ° C. and 85% RH, and changes in the insulation resistance value and occurrence of migration were observed.
○: A resistance value of 10 8 or more in 1000 hours after the start of the test, and no occurrence of migration or dendrite.
X: Migration, dendrite, etc. occurred in 1000 hours after the start of the test.

(v)半田耐熱性
上記<ポリイミドフィルム上への塗膜の作製>の項目と同様の方法で、75μm厚みのポリイミドフィルム(株式会社カネカ製アピカル75NPI)表面に20μm厚みの黒色感光性樹脂組成物の硬化膜積層フィルムを作製した。
得られた硬化膜積層フィルムを260℃で完全に溶解してある半田浴に黒色感光性樹脂組成物の硬化膜が塗工してある面が接する様に浮かべて10秒後に引き上げた。その操作を3回行い、フィルム表面の状態を観察した。
○:塗膜に異常がない。
×:塗膜に膨れや剥がれなどの異常が発生する。
(V) Solder heat resistance A black photosensitive resin composition having a thickness of 20 μm on the surface of a 75 μm-thick polyimide film (Apical 75NPI manufactured by Kaneka Corporation) in the same manner as in the above item <Preparation of coating film on polyimide film>. A cured film laminated film was prepared.
The obtained cured film laminated film was floated so that the surface coated with the cured film of the black photosensitive resin composition was in contact with a solder bath completely dissolved at 260 ° C., and then pulled up 10 seconds later. The operation was performed three times, and the state of the film surface was observed.
○: There is no abnormality in the coating film.
X: Abnormality such as swelling or peeling occurs in the coating film.

(vi)反り
上記<ポリイミドフィルム上への塗膜の作製>の項目と同様の方法で、25μm厚みのポリイミドフィルム(株式会社カネカ製アピカル25NPI)表面に20μm厚みの黒色感光性樹脂組成物の硬化膜積層フィルムを作製した。
得られた硬化膜積層フィルムを50mm×50mmの面積に切り出して平滑な台の上に塗布膜が上面になるように置き、フィルム端部の反り高さを測定した。測定部位の模式図を図1に示す。ポリイミドフィルム表面での反り量が少ない程、プリント配線板表面での応力が小さくなり、プリント配線板の反り量も低下することになる。反り量は5mm以下であることが好ましい。尚、筒状に丸まる場合は×とした。
(Vi) Warpage Curing of a black photosensitive resin composition having a thickness of 20 μm on the surface of a polyimide film having a thickness of 25 μm (Apical 25NPI manufactured by Kaneka Corporation) in the same manner as the above item <Preparation of a coating film on a polyimide film> A film laminated film was produced.
The obtained cured film laminated film was cut into an area of 50 mm × 50 mm and placed on a smooth table so that the coating film was on the upper surface, and the warp height of the film edge was measured. A schematic diagram of the measurement site is shown in FIG. The smaller the amount of warpage on the polyimide film surface, the smaller the stress on the surface of the printed wiring board and the lower the amount of warping of the printed wiring board. The warp amount is preferably 5 mm or less. In addition, when rounding cylindrically, it was set as x.

(vii)難燃性
プラスチック材料の燃焼性試験規格UL94VTMに従い、以下のように燃焼性試験を行った。上記<ポリイミドフィルム上への塗膜の作製>の項目と同様の方法で、25μm厚みのポリイミドフィルム(株式会社カネカ製:商品名アピカル25NPI)両面に20μm厚みの黒色感光性樹脂組成物硬化膜積層フィルムを作製した。 上記作製したサンプルを寸法:50mm幅×200mm長さ×75μm 厚み(ポリイミドフィルムの厚みを含む)に切り出し、125mmの部分に標線を入れ、直径約13mmの筒状に丸め、標線よりも上の重ね合わせ部分(75mmの箇所)、及び、上部に隙間がないようにPIテープを貼り、燃焼性試験用の筒を20本用意した。そのうち10本は(1)23℃/50%相対湿度/48時間で処理し、残りの10本は(2)70℃で168時間処理後無水塩化カルシウム入りデシケーターで4時間以上冷却した。これらのサンプルの上部をクランプで止めて垂直に固定し、サンプル下部にバーナーの炎を3秒間近づけて着火する。3秒間経過したらバーナーの炎を遠ざけて、サンプルの炎や燃焼が何秒後に消えるか測定する。
○:各条件((1)、(2))につき、サンプルからバーナーの炎を遠ざけてから平均(10本の平均)で10秒以内、最高で10秒以内に炎や燃焼が停止し自己消火し、かつ、評線まで燃焼が達していないもの。
×:1本でも10秒以内に消火しないサンプルがあったり、炎が評線以上のところまで上昇して燃焼するもの。
(Vii) Flame retardancy In accordance with the flammability test standard UL94VTM of plastic materials, the flammability test was performed as follows. In the same manner as in the above item <Preparation of coating film on polyimide film>, a cured film of black photosensitive resin composition having a thickness of 20 μm on both sides of a polyimide film having a thickness of 25 μm (manufactured by Kaneka Corporation: Apical 25 NPI). A film was prepared. Cut out the sample prepared above into dimensions: 50 mm width x 200 mm length x 75 μm thickness (including the thickness of the polyimide film), put a marked line in the 125 mm part, round it into a cylinder with a diameter of about 13 mm, and above the marked line PI tape was affixed so that there was no gap in the overlapping part (75 mm) and the upper part, and 20 cylinders for flammability test were prepared. Of these, 10 were treated at (1) 23 ° C./50% relative humidity / 48 hours, and the remaining 10 were treated at (2) 70 ° C. for 168 hours and then cooled in a desiccator containing anhydrous calcium chloride for 4 hours or more. The upper part of these samples is clamped and fixed vertically, and a burner flame is brought close to the lower part of the sample for 3 seconds to ignite. After 3 seconds, move the burner flame away and measure how many seconds after the sample flame or burning disappears.
○: For each condition ((1), (2)), the flame and combustion stopped within 10 seconds on average (average of 10) after the flame of the burner was moved away from the sample, and self-extinguishment within 10 seconds at maximum However, it has not burned to the rating line.
×: Even one sample does not extinguish within 10 seconds, or the flame rises above the rating line and burns.

(viii)隠蔽性
1mm角のマス目を有する方眼紙の上に上記(vi)反りの項目で得られた試験片を置き、目視にて試験片の上からマス目を確認する方法で隠蔽性の評価を行った。
○:マス目が見えないもの。
×:マス目が見えるもの。
(Viii) Concealing property The test piece obtained in the item (vi) warping is placed on a graph paper having a 1 mm square cell, and the cell is visually concealed by checking the cell from above the test piece. Was evaluated.
○: Invisible cells.
X: What can see a grid.

Figure 2012237864
Figure 2012237864

(比較例1)
攪拌機、温度計、冷却管及び空気導入管付き反応容器に空気を導入させた後、クレゾールノボラック型エポキシ樹脂(DIC株式会社製、製品名エピクロンN−680、エポキシ当量210)210.0g、カルビトールアセテート96.4gを仕込み、加熱溶解した。次いで、重合禁止剤としてハイドロキノン0.46g、反応触媒としてトリフェニルホスフィン1.38gを仕込み、空気気流下で95℃まで均一撹拌しながら昇温した。次いで、滴下容器にアクリル酸72.0gを仕込み、95〜105℃に加熱しながら反応容器にアクリル酸を滴下し、滴下終了後、酸価が3.0KOHmg/g以下になるまで約16時間反応させた。次いで、反応溶液を80〜90℃まで冷却し、テトラヒドロフタル酸無水物76.0gを仕込み、8時間反応させ樹脂溶液を得た。上記反応を行うことで光硬化性樹脂を含有する樹脂溶液を得た。得られた樹脂溶液の固形分濃度は65%、酸価は78KOHmg/gであった。尚、固形分濃度、酸価は合成例1と同様の方法で測定した。得られた樹脂溶液を154g(固形分として100g)、ラジカル重合性化合物としてジペンタエリスリトールヘキサアクリレート18g、光重合開始剤として2−メチル−1−[4−(メチルチオ)フェニル]−2−モルフォリノ−プロパン−1−オン(BASFジャパン株式会社製、製品名イルガキュア907)15g、2,4−ジエチルチオキサントン1g、及び4,4’−ビス(ジメチルアミノ)ベンゾフェノン0.1g、多官能エポキシ樹脂としてビスフェノールAジグリシジルエーテル25g及びトリグリシジルイソシアヌレート15g、カーボンブラック(三菱化学株式会社製、製品名カーボンブラックM−50)2.2g、硬化触媒としてメラミン5g、シリコーン系消泡剤3g、有機ベントナイト3g、硫酸バリウム140g、及びジエチレングリコールモノエチルエーテルアセテート18gを配合・攪拌して3本ロールミルにて分散させて黒色感光性樹脂組成物とした。この黒色感光性樹脂組成物を実施例1と同様の方法で物性評価を行った。その結果を表2に記載する。尚、上記黒色感光性樹脂組成物には、(B)成分、(E)成分が含まれない。
(Comparative Example 1)
After introducing air into a reaction vessel equipped with a stirrer, thermometer, cooling pipe and air introduction pipe, 210.0 g of cresol novolac type epoxy resin (manufactured by DIC Corporation, product name Epicron N-680, epoxy equivalent 210), carbitol 96.4 g of acetate was charged and dissolved by heating. Next, 0.46 g of hydroquinone as a polymerization inhibitor and 1.38 g of triphenylphosphine as a reaction catalyst were charged, and the temperature was raised to 95 ° C. with uniform stirring under an air stream. Next, 72.0 g of acrylic acid was charged into the dropping container, and acrylic acid was dropped into the reaction container while heating to 95 to 105 ° C. After the dropping was completed, the reaction was continued for about 16 hours until the acid value reached 3.0 KOHmg / g or less. I let you. Next, the reaction solution was cooled to 80 to 90 ° C., charged with 76.0 g of tetrahydrophthalic anhydride and reacted for 8 hours to obtain a resin solution. By performing the above reaction, a resin solution containing a photocurable resin was obtained. The resulting resin solution had a solid content concentration of 65% and an acid value of 78 KOH mg / g. The solid content concentration and the acid value were measured in the same manner as in Synthesis Example 1. 154 g (100 g as a solid content) of the obtained resin solution, 18 g of dipentaerythritol hexaacrylate as a radical polymerizable compound, 2-methyl-1- [4- (methylthio) phenyl] -2-morpholino- as a photopolymerization initiator 15 g Propan-1-one (manufactured by BASF Japan, product name Irgacure 907), 1 g 2,4-diethylthioxanthone, and 0.1 g 4,4′-bis (dimethylamino) benzophenone, bisphenol A as a polyfunctional epoxy resin 25 g of diglycidyl ether and 15 g of triglycidyl isocyanurate, 2.2 g of carbon black (product name: Carbon Black M-50, manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation), 5 g of melamine as a curing catalyst, 3 g of silicone-based antifoaming agent, 3 g of organic bentonite, sulfuric acid Barium 140 g and 18 g of diethylene glycol monoethyl ether acetate were mixed and stirred and dispersed by a three roll mill to obtain a black photosensitive resin composition. The physical properties of this black photosensitive resin composition were evaluated in the same manner as in Example 1. The results are listed in Table 2. In addition, (B) component and (E) component are not contained in the said black photosensitive resin composition.

(比較例2)
バインダーポリマーとしてメタクリル酸、メタクリル酸メチル及びアクリル酸ブチルを重量比17:62:21の割合で共重合させた樹脂溶液(重量平均分子量110,000、固形分の酸価110mgKOH/g、メチルセルソルブ/トルエン=6/4(重量比)に固形分濃度40%になるように溶解させた溶液)を150g(固形分として60g)、ウレタン結合を含有する樹脂としてウレタン変性エポキシアクリレート樹脂(日本化薬株式会社製、製品名KAYARAD UXE−3024、固形分濃度65%、重量平均分子量10,000、固形分の酸価60mgKOH/g)を15.4g(固形分として10g)及びウレタン・不飽和オリゴマー(末端にヒドロキシル基を有するポリカーボネート化合物3モルと、イソホロンジイソシアネート4モルと、2−ヒドロキシエチルアクリレート2モルを反応させて得られた光重合化合物)を固形分として45g、黒色顔料としてカーボンブラックを1.5g、ラジカル重合性化合物としてビスフェノールA骨格エチレンオキサイド変性ジメタクリレートを30g、光重合開始剤として2−ベンジル−2−ジメチルアミノ−1−(4−モルフォリノフェニル)−ブタノン−1(BASFジャパン株式会社製、製品名イルガキュア369)を2.5g、熱硬化性樹脂としてメラミン誘導体を17g、その他成分としてメチルエチルケトン45g、トルエン20gを配合・攪拌して3本ロールミルにて分散させて黒色感光性樹脂組成物とした。この黒色感光性樹脂組成物を実施例1と同様の方法で物性評価を行った。その結果を表2に記載する。尚、上記黒色感光性樹脂組成物には、(B)成分、(E)成分が含まれない。
(Comparative Example 2)
A resin solution obtained by copolymerizing methacrylic acid, methyl methacrylate and butyl acrylate as a binder polymer in a weight ratio of 17:62:21 (weight average molecular weight 110,000, solid acid value 110 mg KOH / g, methyl cellosolve) 150 g (solution dissolved to a solid content concentration of 40% / toluene = 6/4 (weight ratio)) (60 g as solid content), urethane-modified epoxy acrylate resin (Nippon Kayaku Co., Ltd.) containing a urethane bond Product name KAYARAD UXE-3024, solid content concentration 65%, weight average molecular weight 10,000, solid content acid value 60 mgKOH / g) 15.4 g (10 g as solid content) and urethane / unsaturated oligomer ( 3 mol of a polycarbonate compound having a hydroxyl group at the end, and isophorone diiso Photopolymerization compound obtained by reacting 4 moles of cyanate with 2 moles of 2-hydroxyethyl acrylate) 45 g as a solid content, 1.5 g of carbon black as a black pigment, and bisphenol A skeleton ethylene oxide modification as a radical polymerizable compound 30 g of dimethacrylate, 2.5 g of 2-benzyl-2-dimethylamino-1- (4-morpholinophenyl) -butanone-1 (manufactured by BASF Japan Ltd., product name Irgacure 369) as a photopolymerization initiator, heat A black photosensitive resin composition was prepared by blending and stirring 17 g of melamine derivative as a curable resin and 45 g of methyl ethyl ketone and 20 g of toluene as other components and dispersing them with a three-roll mill. The physical properties of this black photosensitive resin composition were evaluated in the same manner as in Example 1. The results are listed in Table 2. In addition, (B) component and (E) component are not contained in the said black photosensitive resin composition.

(比較例3)
クレゾールノボラック型エポキシ樹脂YDCN−703(東都化成株式会社製、エポキシ当量200)100.00gに、カルビトールアセテート80.00gを加え、撹拌下120℃で加熱溶解させた。60℃まで冷却した後、(メタ)アクリル酸エステル系ポリマー微粒子のエマルション(ガラス転移温度−8℃、固形分46.0%)43.48g(固形分として20.00g)を加え、撹拌下で130℃まで昇温し、水を完全に除去した。次いで、アクリル酸36.90g、塩化第二クロム六水和物0.14gおよびメチルハイドロキノン0.11gを加え、110℃で3時間反応させた。反応物の酸価が3.0mgKOH/gになり、アクリロイル基の導入が確認された。次に、テトラヒドロ無水フタル酸45.60g、エチルカルビトールアセテート29.00gおよび無水塩化リチウム0.14gを加え、100℃で3時間反応させて、(メタ)アクリル酸エステル系ポリマー微粒子を6.4%と、酸価90mgKOH/gの光硬化性樹脂を58.6%含むエチルカルビトールアセテートとの混合樹脂溶液を得た。得られた樹脂溶液を90g (固形分としてポリマー微粒子5.8g、光硬化性樹脂52.7g)、多官能モノマーとしてペンタエリスリトールテトラアクリレート15.0g、希釈剤としてエチルカルビトールアセテート20.0g、光重合開始剤としてイルガキュア907(BASFジャパン株式会社製の製品名)を8.0g、熱硬化性樹脂としてフェノールノボラック型エポキシ樹脂20.0g、エポキシ硬化剤としてジシアンジアミド2.0g、充填剤として硫酸バリウム30.0g、消泡剤として共栄社化学株式会社製の製品名フローレンAC300を1.2g、顔料としてフタロシアニングリーン0.6gを配合・攪拌して3本ロールにて分散させて感光性樹脂組成物とした。この感光性樹脂組成物を実施例1と同様の方法で物性評価を行った。その結果を表2に記載する。尚、上記感光性樹脂組成物には、(E)成分、(F)成分が含まれない。
(Comparative Example 3)
80.00 g of carbitol acetate was added to 100.00 g of a cresol novolac-type epoxy resin YDCN-703 (Epto equivalent 200, manufactured by Tohto Kasei Co., Ltd.), and heated and dissolved at 120 ° C. with stirring. After cooling to 60 ° C., 43.48 g (20.00 g as a solid content) of an emulsion of (meth) acrylic acid ester polymer fine particles (glass transition temperature—8 ° C., solid content: 46.0%) was added and stirred. The temperature was raised to 130 ° C. to completely remove water. Next, 36.90 g of acrylic acid, 0.14 g of chromic chloride hexahydrate and 0.11 g of methylhydroquinone were added and reacted at 110 ° C. for 3 hours. The acid value of the reaction product was 3.0 mgKOH / g, and the introduction of an acryloyl group was confirmed. Next, 45.60 g of tetrahydrophthalic anhydride, 29.00 g of ethyl carbitol acetate and 0.14 g of anhydrous lithium chloride are added and reacted at 100 ° C. for 3 hours to obtain 6.4 (meth) acrylic acid ester polymer fine particles. % And a mixed resin solution of ethyl carbitol acetate containing 58.6% of a photocurable resin having an acid value of 90 mgKOH / g. 90 g of the obtained resin solution (5.8 g of polymer fine particles as solid content, 52.7 g of photocurable resin), 15.0 g of pentaerythritol tetraacrylate as a polyfunctional monomer, 20.0 g of ethyl carbitol acetate as a diluent, light 8.0 g of Irgacure 907 (product name manufactured by BASF Japan Ltd.) as the polymerization initiator, 20.0 g of phenol novolac type epoxy resin as the thermosetting resin, 2.0 g of dicyandiamide as the epoxy curing agent, and barium sulfate 30 as the filler 1.0 g, 1.2 g of product name Floren AC300 manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd. as an antifoaming agent, and 0.6 g of phthalocyanine green as a pigment were mixed and stirred and dispersed with a three roll to obtain a photosensitive resin composition. . The physical properties of this photosensitive resin composition were evaluated in the same manner as in Example 1. The results are listed in Table 2. In addition, (E) component and (F) component are not contained in the said photosensitive resin composition.

1 黒色感光性樹脂組成物を積層したポリイミドフィルム
2 反り量
3 平滑な台
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Polyimide film which laminated | stacked black photosensitive resin composition 2 Warpage amount 3 Smooth stand

Claims (13)

少なくとも
(A)バインダーポリマー、
(B)架橋ポリマー粒子、
(C)熱硬化性樹脂、
(D)光重合開始剤、
(E)リン系難燃剤、
(F)黒色着色剤
を含有することを特徴とする黒色感光性樹脂組成物。
At least (A) a binder polymer,
(B) crosslinked polymer particles,
(C) thermosetting resin,
(D) a photopolymerization initiator,
(E) phosphorus flame retardant,
(F) A black photosensitive resin composition containing a black colorant.
前記(A)バインダーポリマーが、分子内にウレタン結合を含有する樹脂であることを特徴とする請求項1に記載の黒色感光性樹脂組成物。   The black photosensitive resin composition according to claim 1, wherein the (A) binder polymer is a resin containing a urethane bond in the molecule. 前記分子内にウレタン結合を含有する樹脂が、更に下記(a1)〜(a3)からなる群から選ばれる少なくとも1種の有機基を含有することを特徴とする請求項2に記載の黒色感光性樹脂組成物。
(a1)(メタ)アクリロイル基
(a2)カルボキシル基
(a3)イミド基
The black photosensitive material according to claim 2, wherein the resin containing a urethane bond in the molecule further contains at least one organic group selected from the group consisting of the following (a1) to (a3). Resin composition.
(A1) (meth) acryloyl group (a2) carboxyl group (a3) imide group
前記(B)架橋ポリマー粒子が、分子内にウレタン結合を含有する架橋ポリマー粒子であることを特徴とする請求項1〜3のいずれか1項に記載の黒色感光性樹脂組成物。   The black photosensitive resin composition according to any one of claims 1 to 3, wherein the (B) crosslinked polymer particles are crosslinked polymer particles containing a urethane bond in the molecule. 前記(C)熱硬化性樹脂が、多官能エポキシ樹脂であることを特徴とする請求項1〜4のいずれか1項に記載の黒色感光性樹脂組成物。   The black photosensitive resin composition according to claim 1, wherein the (C) thermosetting resin is a polyfunctional epoxy resin. 前記(D)光重合開始剤が、オキシムエステル系光重合開始剤であることを特徴とする請求項1〜5のいずれか1項に記載の黒色感光性樹脂組成物。   The black photosensitive resin composition according to claim 1, wherein the (D) photopolymerization initiator is an oxime ester photopolymerization initiator. 前記(E)リン系難燃剤が、ホスフィン酸塩であることを特徴とする請求項1〜6のいずれか1項に記載の黒色感光性樹脂組成物。   The black photosensitive resin composition according to claim 1, wherein the (E) phosphorus flame retardant is a phosphinate. 前記(F)黒色着色剤が、カーボンブラックであることを特徴とする請求項1〜7のいずれか1項に記載の黒色感光性樹脂組成物。   The black photosensitive resin composition according to any one of claims 1 to 7, wherein the (F) black colorant is carbon black. 前記(B)架橋ポリマー粒子の配合量が、(A)バインダーポリマー100重量部に対して30〜100重量部であることを特徴とする請求項1〜8のいずれか1項に記載の黒色感光性樹脂組成物。   The black photosensitive composition according to any one of claims 1 to 8, wherein the blending amount of the (B) crosslinked polymer particles is 30 to 100 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the (A) binder polymer. Resin composition. 前記(E)リン系難燃剤の配合量が、(A)バインダーポリマー100重量部に対して5〜100重量部であることを特徴とする請求項1〜9のいずれか1項に記載の黒色感光性樹脂組成物。   The amount of the (E) phosphorus flame retardant is 5 to 100 parts by weight based on 100 parts by weight of the (A) binder polymer. Photosensitive resin composition. 少なくとも請求項1〜10のいずれか1項に記載の黒色感光性樹脂組成物を基材表面に塗布した後、乾燥して得られた樹脂フィルム。   The resin film obtained by apply | coating at least the black photosensitive resin composition of any one of Claims 1-10 to the base-material surface, and drying. 請求項11に記載の樹脂フィルムを硬化させて得られる絶縁膜。   An insulating film obtained by curing the resin film according to claim 11. 請求項12に記載の絶縁膜がプリント配線板に被覆された絶縁膜付きプリント配線板。   A printed wiring board with an insulating film, wherein the insulating film according to claim 12 is coated on the printed wiring board.
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