JP2012228858A - Stainless steel foil with film and method for manufacturing the same - Google Patents

Stainless steel foil with film and method for manufacturing the same Download PDF

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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide stainless steel foil exhibiting heat resistance at 300 to 600°C as a film, having a film thickness of 3 to 10 μm and a resistance of 1×10Ωcmor higher, and a method for manufacturing the same.SOLUTION: The method includes steps of: applying liquid mixed with a siloxane polymer, a metal alkoxide, water and a chemical modifier to a stainless steel film; and after dried, placing it in an oxygen presence atmosphere at temperatures of 260 to 340°C for 0.5 to 2.5 hours and also placing it in an atmosphere containing at least one of argon and nitrogen at temperatures of 360 to 500°C for 0.5 to 2.5 hours, or placing it in an atmosphere containing at least one of argon and nitrogen at temperatures of 360 to 500°C for 0.5 to 2.5 hours after dried.

Description

本発明は、被膜付きステンレス箔に関する。本発明の被膜付きステンレス箔は、例えば、IC基板、センサー基板、太陽電池基板、電極基板等に好適に使用可能である。   The present invention relates to a coated stainless steel foil. The coated stainless steel foil of the present invention can be suitably used for, for example, an IC substrate, a sensor substrate, a solar cell substrate, an electrode substrate, and the like.

電気絶縁性基板材料は、IC基板、センサー基板、太陽電池基板、電極基板等に使用され、電子・電気産業に欠かせない材料である。近年、最終製品の小型化・軽量化に伴って、薄く、軽く、加工性の良い電気絶縁性基板材料が求められるようになっている。   Electrically insulating substrate materials are used for IC substrates, sensor substrates, solar cell substrates, electrode substrates, and the like, and are indispensable materials for the electronic and electrical industries. In recent years, with the reduction in size and weight of final products, there has been a demand for electrically insulating substrate materials that are thin, light, and have good workability.

本発明の被膜付きステンレス箔は、各種の電気絶縁性基板材料として特に制限なく適用可能であるが、説明の便宜上、以下では、「太陽電池のセル」に使用する態様を例にとって説明する。   The coated stainless steel foil of the present invention can be applied without particular limitation as various electrically insulating substrate materials, but for the sake of convenience of explanation, in the following, an embodiment used for a “solar cell” will be described as an example.

太陽電池のセルを集積して各ユニットセルを直列接続するには、一般的に、ステンレス箔上に平滑なあるいは凹凸のある絶縁膜を形成し、その上に下部電極を成膜して、Cu−In−Ga−Se系等の半導体膜を積層することが、行われている。   In order to integrate the cells of a solar battery and connect the unit cells in series, generally, a smooth or uneven insulating film is formed on a stainless steel foil, and a lower electrode is formed thereon, and Cu Lamination of semiconductor films such as -In-Ga-Se series has been performed.

上記製造プロセスに関連する要請から、シリコン系の可撓性のある薄膜太陽電池では、耐熱性が高く、しかも熱膨張係数が小さい絶縁材料で被覆した皮膜を有するステンレス箔が望まれている。   Due to the demands related to the above manufacturing process, a stainless steel foil having a coating film coated with an insulating material having high heat resistance and a low thermal expansion coefficient is desired for a silicon-based flexible thin film solar cell.

ここで求められる絶縁膜の特性に関しては、半導体膜の作製時には600℃程度迄に基板温度を上げて蒸着をしたり、スパッタ後に600℃程度で熱処理を行ったりする必要があるので、これらに適した高耐熱性が必要である。   With respect to the characteristics of the insulating film required here, it is necessary to raise the substrate temperature to about 600 ° C. during vapor deposition or to perform heat treatment at about 600 ° C. after sputtering. High heat resistance is required.

有機修飾シリカ膜は、シリカに有機基を導入したものであり、無機の耐熱性と有機の柔軟性を兼ね備えた材料である。このような特徴に基づき、有機修飾シリカ膜は、上記したようなステンレス箔上に絶縁性を有する皮膜を製膜する材料として、近年、注目されている。   The organic modified silica film is obtained by introducing an organic group into silica, and is a material having both inorganic heat resistance and organic flexibility. Based on such characteristics, the organically modified silica film has recently attracted attention as a material for forming an insulating film on the stainless steel foil as described above.

有機修飾シリカ膜をステンレス箔上に製膜したものの例としては、例えば、特開2004−291453号公報には、SiOの皮膜が形成されたステンレス箔が開示されている。 As an example of an organically modified silica film formed on a stainless steel foil, for example, Japanese Patent Application Laid-Open No. 2004-291453 discloses a stainless steel foil on which a SiO 2 film is formed.

特開2004−291453号公報JP 2004-291453 A

しかしながら、従来技術におけるSiOの皮膜が形成されたステンレス箔には以下のような問題がある。 However, the stainless steel foil on which the SiO 2 film in the prior art is formed has the following problems.

例えば、基材たるステンレス箔表面には、通常、疵や介在物による突起などがあるため、0.2〜0.3μmの膜厚のSiOでは絶縁性を確保することが極めて困難であり、他方、ステンレス箔を電子ペーパーや有機EL基板に用いるためには、通常、膜厚3〜10μm程度の絶縁膜が必要とされている。SiOの皮膜が形成されたステンレス箔は300℃〜600℃の温度に耐えることができるが、0.2〜0.3μm程度の膜厚しか実現できず、3〜10μmの厚みを要求する電子ペーパーや有機ELディスプレイ向けフレキシブル基盤には不向きである。 For example, since the surface of the stainless steel foil as a base material usually has protrusions due to wrinkles and inclusions, it is extremely difficult to ensure insulation with SiO 2 having a thickness of 0.2 to 0.3 μm. On the other hand, in order to use a stainless steel foil for electronic paper or an organic EL substrate, an insulating film having a thickness of about 3 to 10 μm is usually required. The stainless steel foil on which the SiO 2 film is formed can withstand temperatures of 300 ° C. to 600 ° C., but can only achieve a film thickness of about 0.2 to 0.3 μm, and requires an electronic thickness of 3 to 10 μm. It is not suitable for flexible substrates for paper and organic EL displays.

ポリジメチルシロキサンは有名なシリコーン材料であり、これをもちいて様々な用途の皮膜をつくる研究がおこなわれてきた。しかしながら、ポリジメチルシロキサンを如何なる条件で用いれば(例えば、どの程度の分子量を有するポリジメチルシロキサンに、どのような架橋剤を用いるか)、好適な物性(例えば、300℃〜600℃における耐熱性を有し、3〜10μmの膜厚を有し、かつ、1×10Ωcm以上の抵抗)を有する皮膜を、ステンレス箔の上に構築できるのかについては、先行技術文献には何ら開示されていない。 Polydimethylsiloxane is a well-known silicone material, and research has been conducted on the use of it to make films for various purposes. However, if polydimethylsiloxane is used under any conditions (for example, what kind of crosslinking agent is used for polydimethylsiloxane having a molecular weight), suitable physical properties (for example, heat resistance at 300 ° C. to 600 ° C.) No prior art document discloses whether a film having a thickness of 3 to 10 μm and a resistance of 1 × 10 9 Ωcm 2 or more can be constructed on a stainless steel foil. Absent.

本発明の目的は、電気絶縁性基板材料として好適な物性を有する皮膜付きステンレス箔を提供することにある。   An object of the present invention is to provide a coated stainless steel foil having physical properties suitable as an electrically insulating substrate material.

本発明の更に具体的な目的は、有機系皮膜を膜厚として3〜10μm有し、300℃〜600℃の耐熱性を有し、かつ、1×10Ωcm以上の抵抗を有する皮膜付きステンレス箔を提供することにある。 A more specific object of the present invention is to provide a film having an organic film thickness of 3 to 10 μm, heat resistance of 300 ° C. to 600 ° C., and resistance of 1 × 10 9 Ωcm 2 or more. It is to provide a stainless steel foil.

本発明者は鋭意研究の結果、特定の厚さのステンレス箔上に、特定種類の金属と、特定のアルコキシ基から構成される金属アルコキシドにより架橋されたシロキサンポリマー皮膜を特定の膜厚で設けることが、上記目的の達成に極めて効果的であることを見出した。   As a result of diligent research, the present inventor provided a specific thickness of a siloxane polymer film crosslinked with a specific type of metal and a metal alkoxide composed of a specific alkoxy group on a stainless steel foil having a specific thickness. Has been found to be extremely effective in achieving the above objective.

本発明の皮膜付きステンレス箔は上記知見に基づくものであり、より詳しくは、厚さ20〜200μmのステンレス箔と、該ステンレス箔上に配置された、厚さ3〜10μmのシロキサンポリマー皮膜とを含む皮膜付きステンレス箔であって;且つ、前記シロキサンポリマー皮膜が、Mg、Ca、Y、Al、Si、Sn、Ti、Zr、Nb、Ta、Wの中から選ばれた1つの金属と、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、ブトキシ基等のアルコキシ基の中から重複を許して選ばれた4つの基から構成される金属アルコキシドにより架橋された、シロキサンポリマー皮膜であり;**(皮膜付きステンレス箔「全体」の物性として)**300℃〜600℃の耐熱性を有し、かつ、1×10Ωcm以上の抵抗を有することを特徴とするものである。 The coated stainless steel foil of the present invention is based on the above knowledge. More specifically, a stainless steel foil having a thickness of 20 to 200 μm and a siloxane polymer film having a thickness of 3 to 10 μm disposed on the stainless steel foil are provided. A coated stainless steel foil; and the siloxane polymer film is formed of one metal selected from Mg, Ca, Y, Al, Si, Sn, Ti, Zr, Nb, Ta, and W, and methoxy. Siloxane polymer film cross-linked with a metal alkoxide composed of four groups selected from among alkoxy groups such as ethoxy, ethoxy, propoxy, butoxy, etc., allowing duplication; ** (stainless steel with film) having physical properties as) ** 300 ℃ ~600 ℃ heat resistance foil "whole", and characterized by having a 1 × 10 9 Ωcm 2 or more resistors Than is.

本発明において、上述した効果が得られる理由は、本発明者の知見によれば、以下のように推定される。   In the present invention, the reason why the above-described effect is obtained is estimated as follows according to the knowledge of the present inventor.

すなわち、ポリジメチルシロキサン、ポリジフェニルシロキサン、ポリジメチルジフェニルシロキサンに代表されるシロキサンポリマーは、水溶液中においては直鎖状の構造をとり、その両端にはOH基を有している(図6)。   That is, a siloxane polymer represented by polydimethylsiloxane, polydiphenylsiloxane, and polydimethyldiphenylsiloxane has a linear structure in an aqueous solution and has OH groups at both ends (FIG. 6).

一方、金属アルコキシドは、配位する金属Mとアルコキシ基ORとから構成され、M(OR)nと記載される物質である。水溶液中において、金属アルコキシドのアルコキシ基ORは加水分解されヒドロキシル基OHとなる。   On the other hand, a metal alkoxide is a substance which is composed of a coordinated metal M and an alkoxy group OR and is described as M (OR) n. In the aqueous solution, the alkoxy group OR of the metal alkoxide is hydrolyzed to a hydroxyl group OH.

本発明者らは鋭意研究開発の結果、以下のような知見を得た。   As a result of earnest research and development, the present inventors have obtained the following knowledge.

例えば、空気雰囲気の場合には、その温度が200℃〜340℃の場合には、ポリジメチルシロキサンのOH基と金属アルコキシドのOH基とが脱水縮合反応を起こし、ポリジメチルシロキサンは金属アルコキシドにより架橋(以下、「ポリジメチルシロキサンと金属アルコキシドとの架橋反応」という。)されるが、空気雰囲気の温度が340℃超ではポリジメチルシロキサンと金属アルコキシドとの架橋反応以外に、ポリジメチルシロキサンが分解してシロキサンオリゴマーを発生するという反応(以下、「シロキサンオリゴマー発生反応」という。)が生じ、更に、ポリジメチルシロキサンの側鎖である、メチル基の分解に伴うポリジメチルシロキサン鎖同士の架橋反応を起こし、これが被膜の硬化を引き起こす。   For example, in the case of an air atmosphere, when the temperature is 200 ° C. to 340 ° C., the OH group of polydimethylsiloxane and the OH group of metal alkoxide undergo a dehydration condensation reaction, and polydimethylsiloxane is crosslinked by metal alkoxide. (Hereinafter referred to as “cross-linking reaction between polydimethylsiloxane and metal alkoxide”). However, when the temperature of the air atmosphere exceeds 340 ° C., polydimethylsiloxane decomposes in addition to the cross-linking reaction between polydimethylsiloxane and metal alkoxide. Reaction to generate siloxane oligomer (hereinafter referred to as “siloxane oligomer generation reaction”), and further, a cross-linking reaction between polydimethylsiloxane chains accompanying the decomposition of methyl groups, which is a side chain of polydimethylsiloxane, occurs. This causes the coating to harden.

温度が高くなるにつれてシロキサンオリゴマー発生反応が支配的になること、及び、ステンレス箔に構築された皮膜が架橋により硬化してクラックを生じることを、本発明者は発見した。   The present inventor has discovered that the siloxane oligomer generation reaction becomes dominant as the temperature rises, and that the film constructed on the stainless steel foil is cured by crosslinking to cause cracks.

また、アルゴン等の不活性雰囲気の場合には、その温度が200℃〜360℃の場合には、ポリジメチルシロキサンと金属アルコキシドとの架橋反応が発生するが、不活性雰囲気の温度が360℃超ではポリジメチルシロキサンと金属アルコキシドとの架橋反応以外に、シロキサンオリゴマー発生反応が生じ、温度が高くなるにつれてシロキサンオリゴマー発生反応が支配的になること、及び、ステンレス箔に構築された被膜中のポリジメチルシロキサン鎖同士の架橋による硬化は生じず、結果としてクラックを生じないことを、本発明者は発見した。   In the case of an inert atmosphere such as argon, when the temperature is 200 ° C. to 360 ° C., a crosslinking reaction of polydimethylsiloxane and metal alkoxide occurs, but the temperature of the inert atmosphere exceeds 360 ° C. In addition to the cross-linking reaction between polydimethylsiloxane and metal alkoxide, a siloxane oligomer generation reaction occurs, and the siloxane oligomer generation reaction becomes dominant as the temperature rises. The inventor has discovered that curing due to cross-linking of siloxane chains does not occur, and as a result, no cracks occur.

本発明者らは、上記知見に基づき更に研究を進めた結果、不活性雰囲気内のみを利用して、あるいは、空気雰囲気と不活性雰囲気を併用することでポリジメチルシロキサンと金属アルコキシドとの架橋反応により、3〜10μmの膜厚を構成できることを発見した。   As a result of further research based on the above findings, the present inventors have made a cross-linking reaction between polydimethylsiloxane and a metal alkoxide by using only an inert atmosphere or by using an air atmosphere and an inert atmosphere in combination. Thus, it was discovered that a film thickness of 3 to 10 μm can be configured.

更に、本発明者らは、金属アルコキシドで架橋されたポリジメチルシロキサンの皮膜から皮膜構成に使用されなかったポリジメチルシロキサンをシロキサンオリゴマーとして離脱させることで、回路に対する悪影響を取り除き、かつ、ポリジメチルシロキサンの鎖を短くすることができ、皮膜の耐熱性が向上することを発見した。   Furthermore, the present inventors have removed polydimethylsiloxane that has not been used in the film construction from a polydimethylsiloxane film crosslinked with a metal alkoxide as a siloxane oligomer, thereby eliminating adverse effects on the circuit and polydimethylsiloxane. It was found that the chain of the film can be shortened and the heat resistance of the film is improved.

上述した知見に基づき、本発明者は、ステンレス上に金属アルコキシドで架橋されたポリジメチルシロキサンの3〜10μmの膜厚を実現するとともに、皮膜構成に使用されなかったポリジメチルシロキサンを皮膜から除去することに成功して、300℃〜600℃耐熱性に優れた皮膜付きステンレス箔とその製造方法を見出した。   Based on the knowledge described above, the present inventor realizes a film thickness of 3 to 10 μm of polydimethylsiloxane crosslinked with metal alkoxide on stainless steel, and removes polydimethylsiloxane that has not been used in the coating composition from the coating. In particular, the present inventors have found a coated stainless steel foil excellent in heat resistance at 300 ° C. to 600 ° C. and a method for producing the same.

本発明において、「耐熱性」とは、300℃〜600℃でシロキサンオリゴマーを発生しないことをいう。このように300℃〜600℃でシロキサンオリゴマーを発生しないことを確認するにあたっては、Ar,N等の不活性雰囲気中300〜600℃における「熱重量変化が5%以下」であることを基準としている。 In the present invention, “heat resistance” means that a siloxane oligomer is not generated at 300 ° C. to 600 ° C. Thus, in confirming that a siloxane oligomer is not generated at 300 ° C. to 600 ° C., it is a standard that “thermogravimetric change is 5% or less” at 300 to 600 ° C. in an inert atmosphere of Ar, N 2 or the like. It is said.

また、本発明者らは、ポリジメチルシロキサンのみならず、ポリジフェニルシロキサン、等のシロキサンポリマーであって、水等に溶解した場合にOH基をその両端に持つものであれば、更に、その分子量が3×10〜3×10Mw(望ましくは、8×10〜1×10Mwの分子量)を有するものは、同様の性質を有することを見出した。以下、本明細書においては、その分子量が3×10〜3×10Mw(望ましくは、8×10〜1×10Mw)の分子量を有するシロキサンポリマーを、「シロキサンポリマー」と称することとする。なお、分子量分布は日本ウォーターズ製Alliance HPLCシステムを使用し、示差屈折計を用いてゲル浸透クロマトグラフィ(GPC)により測定し、スチレン換算の分子量を算出する。 Further, the present inventors have not only polydimethylsiloxane but also siloxane polymers such as polydiphenylsiloxane, which have OH groups at both ends when dissolved in water or the like. It has been found that those having a 3 × 10 2 to 3 × 10 4 Mw (desirably a molecular weight of 8 × 10 2 to 1 × 10 4 Mw) have similar properties. Hereinafter, in this specification, a siloxane polymer having a molecular weight of 3 × 10 2 to 3 × 10 4 Mw (preferably 8 × 10 2 to 1 × 10 4 Mw) is referred to as a “siloxane polymer”. I will do it. The molecular weight distribution is measured by gel permeation chromatography (GPC) using a differential refractometer using an Alliance HPLC system manufactured by Japan Waters, and the molecular weight in terms of styrene is calculated.

本発明において、シロキサンポリマーが、水等に溶解した場合にOH基をその両端に持つものをいうものに限られる理由は、該シロキサンポリマーに金属アルコキシドのヒドロキシ基と縮合反応を生じさせるためである(すなわち、水等に溶解した場合にOH基をその両端に持たない場合には、シロキサンポリマーの縮合反応が生じない)。   In the present invention, the reason that the siloxane polymer is limited to those having OH groups at both ends when dissolved in water or the like is to cause the siloxane polymer to undergo a condensation reaction with the hydroxy group of the metal alkoxide. (That is, when the OH group is not dissolved at both ends when dissolved in water or the like, the condensation reaction of the siloxane polymer does not occur).

更に本発明者らは、金属アルコキシドの金属Mとしては、Mg、Ca、Y、Al、Si、Sn、Ti、Zr、Nb、Ta、W等が、アルコキシ基ORとしては、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基等が使用できる。加えて、金属がSiの場合には、アルコキシ基のうちの1つが有機基R’に置換したSi(OR)R’を金属アルコキシドの代わりに使うことも可能であることを発見した。 Further, the present inventors have described that the metal M of the metal alkoxide is Mg, Ca, Y, Al, Si, Sn, Ti, Zr, Nb, Ta, W, etc., and the alkoxy group OR is a methoxy group, an ethoxy group. , Propoxy groups and the like can be used. In addition, it has been discovered that when the metal is Si, Si (OR) 3 R ′ in which one of the alkoxy groups is substituted with an organic group R ′ can be used in place of the metal alkoxide.

加えて、金属がSiの場合には、アルコキシ基のうちの1つが有機基R’に置換したSi(OR)R’を金属アルコキシドの代わりに使うことも可能であることを発見した。 In addition, it has been discovered that when the metal is Si, Si (OR) 3 R ′ in which one of the alkoxy groups is substituted with an organic group R ′ can be used in place of the metal alkoxide.

なお、金属アルコキシドは反応性が高いため、化学改質剤として、3−オキソブタン酸エチルを加えることが必要である。3−オキソサンブタンサンエチルを加えないと均一に反応が進まず塗布液が合成出来ないためである。   Since metal alkoxide has high reactivity, it is necessary to add ethyl 3-oxobutanoate as a chemical modifier. This is because the reaction does not proceed uniformly unless 3-oxosanbutanesanethyl is added, and the coating solution cannot be synthesized.

本発明の第1の態様は、厚さ20〜200μmステンレス箔に、金属アルコキシドM(OR)nにより架橋されたシロキサンポリマー皮膜を膜厚として3〜10μmを有し、300℃〜600℃の耐熱性を有し、かつ、1×10Ωcm以上の抵抗を有することを特徴とする皮膜付きステンレス箔である。 The first aspect of the present invention has a siloxane polymer film cross-linked with a metal alkoxide M (OR) n on a 20 to 200 μm thick stainless steel foil, and has a film thickness of 3 to 10 μm, and has a heat resistance of 300 ° C. to 600 ° C. And a coated stainless steel foil characterized by having a resistance of 1 × 10 9 Ωcm 2 or more.

本発明の第2の態様は、本発明の第1の態様に記載されるシロキサンポリマーがポリジメチルシロキサンであることを特徴とする皮膜付きステンレス箔である。   A second aspect of the present invention is a coated stainless steel foil, wherein the siloxane polymer described in the first aspect of the present invention is polydimethylsiloxane.

本発明の第3の態様は、本発明の第1の態様に記載されるシロキサンポリマーがポリジフェニルシロキサンであることを特徴とする皮膜付きステンレス箔である。   A third aspect of the present invention is a coated stainless steel foil, wherein the siloxane polymer described in the first aspect of the present invention is polydiphenylsiloxane.

本発明の第4の態様は、Mg、Ca、Y、Al、Si、Sn、Ti、Zr、Nb、Ta、Wの中から選んだ1つの金属とメトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、ブトキシ基等のアルコキシ基の中から重複を許して選んだ4つの基から構成される金属アルコキシドのモル数をM、分子量が3×10〜3×10Mwであるシロキサンポリマーのモル数をS、水のモル数をW、β−ジケトン(RCOCHCOR)ないしβ−ケトエステル(RCOCHCOOR)の化学改質剤(R、Rはアルキル基を示す)のモル数をXとし、/は除算を表すときに、
S/M=0.05〜1.5 …(式1)
W/(S+M)=0.1〜10.0 …(式2)
X/M=1.5〜2.5 …(式3)
を満足するように混合して生成した塗布液を、以下の「Aプロセス」および「プロセス」を、
(1)Aプロセス実施後にBプロセスを1回以上実施する;あるいは、
(2)Aプロセスを実施せずに、Bプロセスを1回以上実施する、ことを特徴とする皮膜付きステンレス箔の製造方法である;
「Aプロセス」:
厚さ20〜200μmステンレス箔に塗布した後に200℃の大気中で20分間乾燥させ、
260℃〜340℃(望ましくは280℃〜320℃)の温度を有する酸素存在雰囲気内に0.5時間〜2.5時間置く工程を実施するプロセス;
「Bプロセス」:
360℃〜500℃(望ましくは380℃〜450℃)の温度を有するアルゴンあるいは窒素の少なくとも一方を含む雰囲気内に0.5時間〜2.5時間置く工程を実施するプロセス。
The fourth aspect of the present invention is a metal selected from Mg, Ca, Y, Al, Si, Sn, Ti, Zr, Nb, Ta, and W, a methoxy group, an ethoxy group, a propoxy group, and a butoxy group. M is the number of moles of a metal alkoxide composed of four groups selected by allowing duplication from among alkoxy groups such as S, and the number of moles of a siloxane polymer having a molecular weight of 3 × 10 2 to 3 × 10 4 Mw, S The number of moles of water is W, the number of moles of chemical modifier (R 1 , R 2 represents an alkyl group) of β-diketone (R 1 COCH 2 COR 2 ) to β-ketoester (R 1 COCH 2 COOR 2 ) Is X, and / represents division,
S / M = 0.05 to 1.5 (Formula 1)
W / (S + M) = 0.1 to 10.0 (Formula 2)
X / M = 1.5 to 2.5 (Formula 3)
The coating solution produced by mixing so as to satisfy the following “A process” and “process”:
(1) After process A is performed, process B is performed one or more times; or
(2) A process for producing a coated stainless steel foil, wherein the B process is performed at least once without performing the A process;
“A Process”:
After being applied to a 20-200 μm thick stainless steel foil, it was dried in the atmosphere at 200 ° C. for 20 minutes,
A process of performing a step of placing in an oxygen-existing atmosphere having a temperature of 260 ° C. to 340 ° C. (preferably 280 ° C. to 320 ° C.) for 0.5 to 2.5 hours;
“B Process”:
A process of performing a step of placing in an atmosphere containing at least one of argon and nitrogen having a temperature of 360 ° C. to 500 ° C. (preferably 380 ° C. to 450 ° C.) for 0.5 hour to 2.5 hours.

本発明の第5の態様は、本発明の第4の態様に記載される化学改質剤が3−オキソブタン酸エチルであることを特徴とする皮膜付きステンレス箔の製造方法である。   A fifth aspect of the present invention is a method for producing a coated stainless steel foil, wherein the chemical modifier described in the fourth aspect of the present invention is ethyl 3-oxobutanoate.

本発明の第6の態様は、本発明の第4の態様に記載されるシロキサンポリマーがポリジメチルシロキサンであることを特徴とする皮膜付きステンレス箔の製造方法である。   A sixth aspect of the present invention is a method for producing a coated stainless steel foil, wherein the siloxane polymer described in the fourth aspect of the present invention is polydimethylsiloxane.

本発明の第7の態様は、本発明の第4の態様に記載されるシロキサンポリマーがポリジフェニルシロキサンであることを特徴とする皮膜付きステンレス箔の製造方法である。     A seventh aspect of the present invention is a method for producing a coated stainless steel foil, wherein the siloxane polymer described in the fourth aspect of the present invention is polydiphenylsiloxane.

本発明の第1ないし第3の態様である「皮膜付きステンレス箔」は、膜厚が3〜10μmであり、300〜600℃の高温で処理した場合に、回路に有害なシロキサンオリゴマーを発生しないという顕著な効果を有し、かつ、1×10Ωcm以上の抵抗を有する皮膜付きステンレス箔である。したがって、製造された皮膜付きステンレス箔は、太陽電池のセル等に好適に使用可能であるという顕著な効果を奏する。なお、膜の絶縁抵抗は、絶縁膜上に1mmφのPt電極をイオンスパッタで形成し、基板とPt電極間に電圧10〜100Vで印加したときの電流値から求める。 The “coated stainless steel foil” according to the first to third aspects of the present invention has a film thickness of 3 to 10 μm and does not generate siloxane oligomers harmful to the circuit when treated at a high temperature of 300 to 600 ° C. And a coated stainless steel foil having a resistance of 1 × 10 9 Ωcm 2 or more. Therefore, the manufactured stainless steel foil with a film has a remarkable effect that it can be suitably used for a cell of a solar battery. The insulation resistance of the film is obtained from the current value when a 1 mmφ Pt electrode is formed on the insulating film by ion sputtering and applied at a voltage of 10 to 100 V between the substrate and the Pt electrode.

本発明の第4ないし第7の態様である皮膜付きステンレス箔の製造方法は、膜厚が3〜10μmであり、300〜600℃の高温で処理した場合に、回路に有害なシロキサンオリゴマーを発生せず、かつ、1×10Ωcm以上の抵抗を有する皮膜付きステンレス箔を製造できるという顕著な効果を奏する。 The method for producing a coated stainless steel foil according to the fourth to seventh aspects of the present invention has a film thickness of 3 to 10 μm and generates siloxane oligomers that are harmful to the circuit when processed at a high temperature of 300 to 600 ° C. In addition, there is a remarkable effect that a coated stainless steel foil having a resistance of 1 × 10 9 Ωcm 2 or more can be produced.

本発明の第1の実施形態に従う被覆付きステンレス箔の一例を示す模式斜視図である。It is a model perspective view which shows an example of the coated stainless steel foil according to the 1st Embodiment of this invention. 本発明の第2の実施形態に沿った温度処理パターンの一例を示すグラフである。It is a graph which shows an example of the temperature processing pattern along the 2nd Embodiment of this invention. 本発明の第3の実施形態に沿った温度処理パターンの一例を示すグラフである。It is a graph which shows an example of the temperature processing pattern along the 3rd Embodiment of this invention. 本発明の第4の実施形態に沿った温度処理パターンの一例を示すグラフである。It is a graph which shows an example of the temperature processing pattern along the 4th Embodiment of this invention. 本発明における処理温度と皮膜の絶縁抵抗との関係の一例を示すグラフである。It is a graph which shows an example of the relationship between the process temperature in this invention, and the insulation resistance of a membrane | film | coat. 本発明におけるシロキサンポリマーと金属アルコキシドの関係の一例を示す模式図である。It is a schematic diagram which shows an example of the relationship between the siloxane polymer and metal alkoxide in this invention. 本発明におけるポロジメチルシロキサンとTiアルコキシドの関係の一例を示す模式図である。It is a schematic diagram which shows an example of the relationship between the polydimethylsiloxane and Ti alkoxide in this invention. 本発明における金属アルコキシドにポリジメチルシロキサンが架橋される(推定)メカニズムの一例を示す模式図である。It is a schematic diagram which shows an example of the (presumed) mechanism by which polydimethylsiloxane is bridge | crosslinked by the metal alkoxide in this invention. 本発明におけるポリジメチルシロキサンと金属アルコキシドとの(推定)反応メカニズムの一例を示す模式図である。It is a schematic diagram which shows an example of the (presumed) reaction mechanism of the polydimethylsiloxane and metal alkoxide in this invention.

(第1の実施形態)
厚さ20〜200μm、望ましくは厚さ50〜100μmを有するステンレス箔の上に、金属アルコキシドM(OR)由来のM−O−により架橋されたシロキサンポリマーの皮膜を膜厚として3〜10μmを有し、300〜600℃においてシロキサンのオリゴマーを発生せず、かつ、1×10Ωcm以上の抵抗を有する皮膜付きステンレス箔である。
(First embodiment)
On the stainless steel foil having a thickness of 20 to 200 μm, desirably 50 to 100 μm, the film thickness of 3 to 10 μm is formed with a film of a siloxane polymer crosslinked with M—O— derived from metal alkoxide M (OR) n. It is a stainless steel foil with a film that does not generate an oligomer of siloxane at 300 to 600 ° C. and has a resistance of 1 × 10 9 Ωcm 2 or more.

シロキサンポリマーの具体例として、ポリジメチルシロキサン、ポリジフェニルシロキサンが使用可能である。   As specific examples of the siloxane polymer, polydimethylsiloxane and polydiphenylsiloxane can be used.

第1の実施形態の例を具体的に図示したものが、図1の模式断面図である。   FIG. 1 is a schematic cross-sectional view specifically showing an example of the first embodiment.

(第2の実施形態) (Second Embodiment)

第2の実施形態においては、Mg、Ca、Y、Al、Si、Sn、Ti、Zr、Nb、Ta、Wの中から選んだ1つの金属とメトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、ブトキシ基等のアルコキシ基の中から重複を許して選んだ4つの基から構成される金属アルコキシドのモル数をM、分子量が3×10〜3×10Mwであるシロキサンポリマーのモル数をS、水のモル数をW、化学改質剤のモル数をXで表示し、/は除算を意味する。 In the second embodiment, one metal selected from Mg, Ca, Y, Al, Si, Sn, Ti, Zr, Nb, Ta, W and a methoxy group, an ethoxy group, a propoxy group, a butoxy group, etc. M is the number of moles of metal alkoxide composed of four groups selected to allow duplication from among the alkoxy groups of S, S is the number of moles of siloxane polymer having a molecular weight of 3 × 10 2 to 3 × 10 4 Mw. The number of moles of is represented by W, the number of moles of the chemical modifier is represented by X, and / means division.

このような第2の実施形態において、第1処理として、好ましくは、20℃〜25℃において金属アルコキシド、分子量が3×10〜3×10Mwであるシロキサンポリマー、水及び化学改質剤を、下記の(式1)〜(式3)を満足するように混合して塗布液を作製する。
S/M=0.05〜1.5 …(式1)
W/(S+M)=0.1〜10.0 …(式2)
X/M=1.5〜2.5 …(式3)
In the second embodiment, the first treatment is preferably a metal alkoxide at 20 to 25 ° C., a siloxane polymer having a molecular weight of 3 × 10 2 to 3 × 10 4 Mw, water, and a chemical modifier. Are mixed so as to satisfy the following (formula 1) to (formula 3) to prepare a coating solution.
S / M = 0.05 to 1.5 (Formula 1)
W / (S + M) = 0.1 to 10.0 (Formula 2)
X / M = 1.5 to 2.5 (Formula 3)

その後、前記塗布液を塗布液を20〜200μmの厚さを有するステンレス箔の上に塗布したもの(以下、「塗布処理後のステンレス箔」という。)を200℃の大気中に20分置くことで塗布液を乾燥させる。この後、20℃程度になるまで冷却する。   Thereafter, the coating solution is applied on a stainless foil having a thickness of 20 to 200 μm (hereinafter referred to as “stained stainless steel foil after coating”) for 20 minutes in an atmosphere of 200 ° C. To dry the coating solution. Then, it is cooled to about 20 ° C.

第1処理により、シロキサンポリマーと金属アルコキシドが加水分解反応を起こしてOH基を備えるために必須であった水と、加水分解により生成したアルコールを塗布後に取り除く。   By the first treatment, water that is essential for the hydrolysis reaction of the siloxane polymer and the metal alkoxide to have OH groups and the alcohol generated by the hydrolysis are removed after coating.

(式1)にて、S/M=0.05〜1.5としたのは、0.05未満では2μm以上の膜厚を実現することがやや困難であり、1.5超では膜厚が不均一となる傾向があるからである。 In (Equation 1), S / M = 0.05 to 1.5 is slightly difficult to achieve a film thickness of 2 μm or more if it is less than 0.05, and film thickness is more than 1.5. This is because tends to be non-uniform.

(式2)にて、W/(S+M)=0.1〜10.0としたのは、0.1未満では加水分解が十分におこない可能性があり、金属アルコキシド由来のM−O−によりによりシロキサンポリマーが十分に架橋されず、10.0超では膜厚の均一性が保ちにくい傾向があるからである。 In (Formula 2), W / (S + M) is set to 0.1 to 10.0. If it is less than 0.1, hydrolysis may occur sufficiently. This is because the siloxane polymer is not sufficiently crosslinked due to the above, and if it exceeds 10.0, the film thickness tends to be difficult to maintain.

(式3)にて、X/M=1.5〜2.5としたのは、金属アルコキシドは反応性が高いため、β−ジケトン(RCOCHCOR)ないしβ−ケトエステル(RCOCHCOOR)の化学改質剤(R、Rはアルキル基を示す)として、例えば、3−オキソブタン酸エチルを加えることが好ましい。X/Mが1.5未満の場合、及び2.5超の場合は、金属アルコキシドの反応性を十分に改質することができない可能性があるからである。 The reason why X / M = 1.5 to 2.5 in (Formula 3) is that the metal alkoxide has high reactivity, and therefore β-diketone (R 1 COCH 2 COR 2 ) or β-keto ester (R 1 For example, ethyl 3-oxobutanoate is preferably added as a chemical modifier for COCH 2 COOR 2 ) (R 1 and R 2 represent an alkyl group). This is because if X / M is less than 1.5 or more than 2.5, the reactivity of the metal alkoxide may not be sufficiently modified.

X/Mの範囲は、望ましくは1.8〜2.2、更に望ましくは1.9〜2.1である。   The range of X / M is desirably 1.8 to 2.2, and more desirably 1.9 to 2.1.

第2処理として、好ましくは、第1処理で得られた塗布処理後のステンレス箔をアルゴンあるいは窒素のうち少なくとも一つ以上からなる不活性雰囲気内に置き、当該雰囲気を1〜5℃/分の速度で上昇させ、360℃〜500℃(望ましくは、380℃〜450℃)の範囲内の温度に至ったところで加熱をやめて360℃〜500℃(望ましくは、380℃〜450℃)の範囲の一定の温度を0.5時間から2.5時間保った後、当該雰囲気を360℃〜500℃(望ましくは、380℃〜450℃)の温度から1〜5℃/分の速度で下降させて、常温とする。   As a 2nd process, Preferably, the stainless steel foil after the coating process obtained by the 1st process is set | placed in the inert atmosphere which consists of at least 1 or more among argon or nitrogen, The said atmosphere is 1-5 degrees C / min. When the temperature reaches a temperature within the range of 360 ° C. to 500 ° C. (preferably 380 ° C. to 450 ° C.), the heating is stopped and the range of 360 ° C. to 500 ° C. (preferably 380 ° C. to 450 ° C.) is reached. After maintaining a constant temperature for 0.5 to 2.5 hours, the atmosphere is lowered from a temperature of 360 ° C. to 500 ° C. (preferably 380 ° C. to 450 ° C.) at a rate of 1 to 5 ° C./min. Let it be at room temperature.

360℃〜500℃(望ましくは380℃〜450℃)の範囲内の温度では、金属アルコキシドにより架橋されたシロキサンポリマー皮膜が生成する反応と皮膜構成に使用されなかったシロキサンポリマーが分解して、シロキサンのオリゴマーが雰囲気中に揮発する反応と皮膜中のポリジメチルシロキサン鎖同士の架橋が並行して起こっていると推定される。   At a temperature in the range of 360 ° C. to 500 ° C. (preferably 380 ° C. to 450 ° C.), a siloxane polymer film cross-linked with a metal alkoxide is formed, and a siloxane polymer that has not been used in the film structure decomposes to form a siloxane It is presumed that the reaction of volatilizing the oligomers in the atmosphere and the cross-linking of polydimethylsiloxane chains in the film occur in parallel.

(温度の上下限)
本発明の第1および第2の実施形態における、温度の上下限について説明する。
(Upper and lower temperature limits)
The upper and lower limits of temperature in the first and second embodiments of the present invention will be described.

まず、温度の下限値について述べる。   First, the lower limit of temperature will be described.

温度が360℃未満だと皮膜構成に使用されなかったシロキサンポリマーの分解反応が起こらないので、当該皮膜付きステンレス箔を後に300℃〜600℃にまで昇温したときに、皮膜構成に使用されなかったシロキサンポリマーが分解してシロキサンのオリゴマーが雰囲気中に揮発し回路等に悪影響を与える可能性があるため、300℃〜600℃の耐熱性を満足しない恐れがある。   If the temperature is less than 360 ° C., the decomposition reaction of the siloxane polymer that was not used in the coating composition does not occur. Therefore, when the temperature of the stainless steel foil with the coating is later raised to 300 ° C. to 600 ° C., it is not used in the coating composition. Since the siloxane polymer is decomposed and the siloxane oligomer volatilizes in the atmosphere and may adversely affect the circuit and the like, the heat resistance of 300 ° C. to 600 ° C. may not be satisfied.

このことを考慮すると、温度の下限値望ましくはシロキサンの分解反応が促進されるは360℃である。皮膜構成に使用されなかったシロキサンの分解反応が十分におこることを考慮するならば、望ましくは、下限は380℃である。   In consideration of this, the lower limit of the temperature, preferably 360 ° C., promotes the decomposition reaction of siloxane. The lower limit is preferably 380 ° C., considering that the decomposition reaction of siloxane that has not been used for the film formation sufficiently occurs.

次に、温度の上限値について述べる。   Next, the upper limit value of the temperature will be described.

図5のグラフに示すように、温度が500℃以上だと、抵抗値が1×10Ωcmに到達せず皮膜付きステンレス箔が使用に適さない可能性があるので、好ましい上限は、500℃である。 As shown in the graph of FIG. 5, when the temperature is 500 ° C. or higher, the resistance value does not reach 1 × 10 9 Ωcm 2 and the coated stainless steel foil may not be suitable for use. ° C.

しかし、余裕をみるならば、450℃が望ましい上限値である。   However, if an allowance is considered, 450 degreeC is a desirable upper limit.

具体的なグラフとして、図2には、第2の実施態様の第2処理の温度の推移の一例を具体的に描いた。   As a specific graph, FIG. 2 specifically shows an example of the transition of the temperature of the second process of the second embodiment.

第2処理として、好ましくは、第1処理で得られた塗布処理後のステンレス箔を20℃の酸素存在雰囲気内に置き、当該雰囲気を3℃/分の速度で2.0時間上昇させ、380℃に至ったところで加熱をやめて380℃で0.5時間保った後、当該雰囲気を380℃の温度から3℃/分の速度で2.0時間下降させて20℃とする。   As the second treatment, preferably, the stainless steel foil after the coating treatment obtained in the first treatment is placed in an atmosphere containing oxygen at 20 ° C., and the atmosphere is increased at a rate of 3 ° C./min for 2.0 hours. When the temperature reaches 0 ° C., the heating is stopped and the temperature is maintained at 380 ° C. for 0.5 hours, and then the atmosphere is lowered from the temperature of 380 ° C. at a rate of 3 ° C./min for 2.0 hours to 20 ° C.

(第3の実施形態) (Third embodiment)

第3の実施形態においては、Mg、Ca、Y、Al、Si、Sn、Ti、Zr、Nb、Ta、Wの中から選んだ1つの金属とメトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、ブトキシ基等のアルコキシ基の中から重複を許して選んだ4つの基から構成される金属アルコキシドのモル数をM、分子量が3×10〜3×10Mwであるシロキサンポリマーのモル数をS、水のモル数をW、化学改質剤のモル数をXで表示し、記号「/」は除算を意味する。 In the third embodiment, one metal selected from Mg, Ca, Y, Al, Si, Sn, Ti, Zr, Nb, Ta, W and a methoxy group, an ethoxy group, a propoxy group, a butoxy group, etc. M is the number of moles of metal alkoxide composed of four groups selected to allow duplication from among the alkoxy groups of S, S is the number of moles of siloxane polymer having a molecular weight of 3 × 10 2 to 3 × 10 4 Mw. Is represented by W, and the number of moles of the chemical modifier is represented by X, and the symbol “/” means division.

第1処理として、好ましくは、20℃〜25℃において金属アルコキシド、分子量が3×10〜3×10Mwであるシロキサンポリマー、水及び化学改質剤を、下記(式1)〜(式3)を満足するように混合して塗布液を合成する。
S/M=0.05〜1.5 …
W/(S+M)=0.1〜10.0 …(式2)
X/M=1.5〜2.5 …(式3)
As the first treatment, preferably, a metal alkoxide, a siloxane polymer having a molecular weight of 3 × 10 2 to 3 × 10 4 Mw at 20 ° C. to 25 ° C., water, and a chemical modifier are represented by the following (formula 1) to (formula A coating solution is synthesized by mixing so as to satisfy 3).
S / M = 0.05-1.5 ...
W / (S + M) = 0.1 to 10.0 (Formula 2)
X / M = 1.5 to 2.5 (Formula 3)

その後、前記塗布液を塗布液を20〜200μmの厚さを有するステンレス箔の上に塗布したもの(以下、「塗布処理後のステンレス箔」という。)を200℃の大気中に20分置くことで塗布液を乾燥させる。この後、20℃程度になるまで冷却する。   Thereafter, the coating solution is applied on a stainless foil having a thickness of 20 to 200 μm (hereinafter referred to as “stained stainless steel foil after coating”) for 20 minutes in an atmosphere of 200 ° C. To dry the coating solution. Then, it is cooled to about 20 ° C.

第1処理により、シロキサンポリマーと金属アルコキシドが加水分解反応を起こしてOH基を備えるために必須あった水と加水分解により生成したアルコールを塗布後に取り除く。   By the first treatment, the water required for the hydrolysis of the siloxane polymer and the metal alkoxide to have OH groups and the alcohol generated by the hydrolysis are removed after coating.

(式1)にて、S/M=0.05〜1.5としたのは、0.05未満では2μm以上の膜厚が実現できない可能性があり、1.5超では膜厚が不均一となる可能性があるからである。   In (Equation 1), S / M = 0.05 to 1.5 is that if it is less than 0.05, a film thickness of 2 μm or more may not be realized. This is because it may be uniform.

(式2)にて、W/(S+M)=0.1〜10.0としたのは、0.1未満では加水分解が十分におこらない可能性があり、金属アルコキシド由来のM−O−によりによりシロキサンポリマーが十分に架橋されない可能性があり、10.0超では膜厚の均一性が保ちにくい傾向があるからである。   In (Formula 2), W / (S + M) is set to 0.1 to 10.0. If it is less than 0.1, there is a possibility that hydrolysis does not occur sufficiently, and M—O— derived from metal alkoxide. This is because the siloxane polymer may not be sufficiently crosslinked due to the above, and if it exceeds 10.0, the film thickness tends to be difficult to maintain.

(式3)にて、X/M=1.5〜2.5としたのは、金属アルコキシドは反応性が高いため、β−ジケトン(RCOCHCOR)ないしβ−ケトエステル(RCOCHCOOR)の化学改質剤(R、Rはアルキル基を示す)として例えば、3−オキソブタン酸エチルを加えることが好ましい。「X/M」が1.5未満の場合は金属アルコキシドの化学改質が十分でない可能性があり、2.5超の場合は、皮膜が均一に製造できなくなる可能性があるからである。X/Mの範囲は、望ましくは1.8〜2.2、更に望ましくは1.9〜2.1である。 The reason why X / M = 1.5 to 2.5 in (Formula 3) is that the metal alkoxide has high reactivity, and therefore β-diketone (R 1 COCH 2 COR 2 ) or β-keto ester (R 1 For example, ethyl 3-oxobutanoate is preferably added as a chemical modifier for COCH 2 COOR 2 ) (R 1 and R 2 represent an alkyl group). This is because when “X / M” is less than 1.5, the chemical modification of the metal alkoxide may not be sufficient, and when it exceeds 2.5, there is a possibility that the film cannot be produced uniformly. The range of X / M is desirably 1.8 to 2.2, and more desirably 1.9 to 2.1.

第2処理として、好ましくは、第1処理で得られた塗布処理後のステンレス箔を酸素存在雰囲気内に置き、当該雰囲気を1〜5℃/分の速度で上昇させ、260℃〜340℃(望ましくは、280℃〜320℃)の範囲内の温度に至ったところで加熱をやめて260℃〜340℃(望ましくは、280℃〜320℃)の範囲の一定の温度を50分〜70分程度保った後、当該雰囲気を260℃〜340℃の温度から1〜5℃/分の速度で下降させて、常温とする。   As a 2nd process, Preferably, the stainless steel foil after the application | coating process obtained by the 1st process is set | placed in oxygen presence atmosphere, the said atmosphere is raised at a speed | rate of 1-5 degree-C / min, 260 degreeC-340 degreeC ( Desirably, when the temperature reaches within the range of 280 ° C. to 320 ° C., the heating is stopped and a constant temperature in the range of 260 ° C. to 340 ° C. (desirably 280 ° C. to 320 ° C.) is maintained for about 50 minutes to 70 minutes. After that, the atmosphere is lowered from a temperature of 260 ° C. to 340 ° C. at a rate of 1 to 5 ° C./minute to obtain a normal temperature.

260℃〜340℃(望ましくは、280℃〜320℃)の範囲内の温度でシロキサンポリマーが金属アルコキシド由来のM−O−によりにより架橋される反応を起こさせるためである。   This is to cause a reaction in which the siloxane polymer is cross-linked by M—O— derived from a metal alkoxide at a temperature within a range of 260 ° C. to 340 ° C. (desirably, 280 ° C. to 320 ° C.).

(温度の上下限値)
本発明の第3の実施形態における、酸素雰囲気内の温度の上下限値について説明する。
(Temperature upper and lower limits)
The upper and lower limit values of the temperature in the oxygen atmosphere in the third embodiment of the present invention will be described.

まず、温度の下限値について説明する。   First, the lower limit value of temperature will be described.

260℃未満であるとシロキサンポリマーが金属アルコキシド由来のM−O−によりにより十分に架橋されないことから下限値を260℃とした。余裕をみるならば、280℃が望ましい下限値である。   Since the siloxane polymer is not sufficiently crosslinked by M—O— derived from metal alkoxide when the temperature is less than 260 ° C., the lower limit is set to 260 ° C. If a margin is considered, 280 ° C. is a desirable lower limit value.

次に、温度の上限値について説明する。   Next, the upper limit value of the temperature will be described.

酸素雰囲気が340℃超の場合、被膜中のポリジメチルシロキサン鎖同士の架橋による皮膜の硬化が進んで、皮膜にクラックが入ってしまう可能性がある。そこで、340℃を上限値とした。余裕をみるならば、望ましくは、320℃が上限値である。   When the oxygen atmosphere is higher than 340 ° C., the film is hardened due to cross-linking of polydimethylsiloxane chains in the film, which may cause cracks in the film. Therefore, 340 ° C. was set as the upper limit. If an allowance is considered, desirably, the upper limit is 320 ° C.

第3処理として、好ましくは、第2処理で得られた塗布処理後のステンレス箔をアルゴンあるいは窒素の少なくとも一方を含む不活性雰囲気内に置き、当該雰囲気を1〜5℃/分の速度で上昇させ、360℃〜500℃(望ましくは380℃〜450℃)の範囲内の温度に至ってから当該温度を20〜40分保ち、360℃〜500℃(望ましくは380℃〜450℃)の範囲内の温度から当該雰囲気を1〜5℃/秒の速度で下降させて、常温とする。   As the third treatment, preferably, the coated stainless steel foil obtained in the second treatment is placed in an inert atmosphere containing at least one of argon and nitrogen, and the atmosphere is increased at a rate of 1 to 5 ° C./min. The temperature is maintained for 20 to 40 minutes after reaching a temperature within the range of 360 ° C. to 500 ° C. (preferably 380 ° C. to 450 ° C.), and within the range of 360 ° C. to 500 ° C. (preferably 380 ° C. to 450 ° C.). The atmosphere is lowered from the temperature of 1 at a rate of 1 to 5 ° C./second to obtain room temperature.

不活性雰囲気の温度の上下限について説明する。   The upper and lower limits of the temperature of the inert atmosphere will be described.

まず、下限値について説明する。   First, the lower limit value will be described.

360℃〜500℃(望ましくは380℃〜450℃)の範囲内の温度では、皮膜構成に使用されなかったシロキサンポリマーが分解して、シロキサンのオリゴマーが雰囲気中に揮発する。温度が360℃未満だと皮膜構成に使用されなかったシロキサンポリマーの分解が不十分なため、後で昇温したときに、皮膜構成に使用されなかったポリジメチルシロキサンが分解してシロキサンのオリゴマーが雰囲気中に揮発し回路等に悪影響を与える。   At a temperature in the range of 360 ° C. to 500 ° C. (preferably 380 ° C. to 450 ° C.), the siloxane polymer that has not been used for the film formation is decomposed and the siloxane oligomer volatilizes in the atmosphere. If the temperature is less than 360 ° C., decomposition of the siloxane polymer that was not used in the film structure is insufficient, so when the temperature is raised later, polydimethylsiloxane that was not used in the film structure is decomposed and siloxane oligomers are formed. Volatilizes in the atmosphere and adversely affects circuits.

余裕をみるならば、望ましくは380℃が下限温度である。   If a margin is considered, 380 ° C. is desirably the lower limit temperature.

次に、上限値について説明する。   Next, the upper limit value will be described.

しかしながら、皮膜構成に使用されなかったシロキサンポリマーの分解が適切に起こり得る温度を考慮すると、500℃が適切であり、余裕をみるならば、450℃が望ましい。したがって、500℃が上限であり、望ましくは450℃である。   However, considering the temperature at which decomposition of the siloxane polymer that was not used in the coating composition can occur properly, 500 ° C. is appropriate, and 450 ° C. is desirable if there is a margin. Therefore, the upper limit is 500 ° C., desirably 450 ° C.

図3に、第3の実施態様の第2処理、第3処理の温度の推移の一例を具体的に描いたグラフを示す。   FIG. 3 shows a graph specifically illustrating an example of the transition of the temperature of the second process and the third process of the third embodiment.

第2処理として、好ましくは、第1処理で得られた塗布処理後のステンレス箔を20℃の酸素存在雰囲気内に置き、当該雰囲気を3℃/分の速度で1.5時間上昇させ、290℃に至ったところで加熱をやめて290℃温度で60分保った後、当該雰囲気を290℃の温度から3℃/分の速度で1.5時間下降させて20℃とする。   As the second treatment, preferably, the stainless steel foil after the coating treatment obtained in the first treatment is placed in an oxygen-existing atmosphere at 20 ° C., and the atmosphere is increased at a rate of 3 ° C./min for 1.5 hours. When the temperature reaches 0 ° C., the heating is stopped and the temperature is kept at 290 ° C. for 60 minutes, and then the atmosphere is lowered from the temperature of 290 ° C. at a rate of 3 ° C./minute for 1.5 hours to 20 ° C.

第3処理として、好ましくは、第2処理で得られた塗布処理後のステンレス箔をArあるいはNの少なくとも一方を含む20℃の不活性雰囲気内に置き、当該雰囲気を3℃/分の速度で2時間上昇させ、380℃に至ってから当該温度を30分保ち、380℃の温度から当該雰囲気を3℃/秒の速度で2時間下降させて20℃とする。 As the third treatment, preferably, the stainless steel foil after the coating treatment obtained in the second treatment is placed in an inert atmosphere of 20 ° C. containing at least one of Ar or N 2 , and the atmosphere is set at a rate of 3 ° C./min. The temperature is increased for 2 hours, and after reaching 380 ° C., the temperature is maintained for 30 minutes, and the temperature is decreased from 380 ° C. at a rate of 3 ° C./second for 2 hours to 20 ° C.

本発明者らの知見によれば、第3の実施形態の方法が、もっとも厚膜化が可能である。   According to the knowledge of the present inventors, the method of the third embodiment can make the film thickest.

これは、第3の実施形態においては、酸素存在雰囲気内で処理されたのちに、ArあるいはNの少なくとも一方を含む不活性雰囲気内において処理されているためである。 This is because in the third embodiment, after being processed in an oxygen-existing atmosphere, the processing is performed in an inert atmosphere containing at least one of Ar and N 2 .

(第4の実施形態) (Fourth embodiment)

第4の実施形態においては、Mg、Ca、Y、Al、Si、Sn、Ti、Zr、Nb、Ta、Wの中から選んだ1つの金属とメトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、ブトキシ基等のアルコキシ基の中から重複を許して選んだ4つの基から構成される金属アルコキシドのモル数をM、分子量が3×10〜3×10Mwであるシロキサンポリマーのモル数をS、水のモル数をW、化学改質剤のモル数をXで表示し、記号「/」は除算を意味する。 In the fourth embodiment, one metal selected from Mg, Ca, Y, Al, Si, Sn, Ti, Zr, Nb, Ta, W and a methoxy group, an ethoxy group, a propoxy group, a butoxy group, etc. M is the number of moles of metal alkoxide composed of four groups selected to allow duplication from among the alkoxy groups of S, S is the number of moles of siloxane polymer having a molecular weight of 3 × 10 2 to 3 × 10 4 Mw. Is represented by W, and the number of moles of the chemical modifier is represented by X, and the symbol “/” means division.

第1処理として、好ましくは、20℃〜25℃において金属アルコキシド、分子量が3×10〜3×10Mwであるシロキサンポリマー、水及び化学改質剤を、下記の(式1)〜(式3)を満足するように混合して塗布液を作製する。
S/M=0.05〜1.5 …(式1)
W/(S+M)=0.1〜10.0 …(式2)
X/M=1.5〜2.5 …(式3)
As the first treatment, preferably, a metal alkoxide, a siloxane polymer having a molecular weight of 3 × 10 2 to 3 × 10 4 Mw at 20 ° C. to 25 ° C., water, and a chemical modifier are represented by the following (formula 1) to ( A coating solution is prepared by mixing so as to satisfy Equation (3).
S / M = 0.05 to 1.5 (Formula 1)
W / (S + M) = 0.1 to 10.0 (Formula 2)
X / M = 1.5 to 2.5 (Formula 3)

その後、前記塗布液を塗布液を20〜200μmの厚さを有するステンレス箔の上に塗布したもの(以下、「塗布処理後のステンレス箔」という。)を200℃の大気中に20分置くことで塗布液を乾燥させる。この後、20℃程度になるまで冷却する。   Thereafter, the coating solution is applied on a stainless foil having a thickness of 20 to 200 μm (hereinafter referred to as “stained stainless steel foil after coating”) for 20 minutes in an atmosphere of 200 ° C. To dry the coating solution. Then, it is cooled to about 20 ° C.

第1処理により、シロキサンポリマーと金属アルコキシドが加水分解反応を起こしてOH基を備えるために必須あった水と、加水分解により生成したアルコールを塗布後に取り除く。   By the first treatment, the water required for causing the siloxane polymer and the metal alkoxide to undergo a hydrolysis reaction to have OH groups and the alcohol produced by the hydrolysis are removed after coating.

(式1)にて、S/M=0.05〜1.5としたのは、0.05未満では2μm以上の膜厚が実現できない可能性があり、1.5超では膜厚が不均一となる可能性があるからである。 In (Equation 1), S / M = 0.05 to 1.5 is that if it is less than 0.05, a film thickness of 2 μm or more may not be realized. This is because it may be uniform.

(式2)にて、W/(S+M)=0.1〜10.0としたのは、0.1未満では加水分解が十分におこらない可能性があり、金属アルコキシド由来のM−O−によりによりシロキサンポリマーが十分に架橋されない可能性があり、10.0超では膜厚の均一性が保ちにくい傾向があるからである。 In (Formula 2), W / (S + M) is set to 0.1 to 10.0. If it is less than 0.1, there is a possibility that hydrolysis does not occur sufficiently, and M—O— derived from metal alkoxide. This is because the siloxane polymer may not be sufficiently crosslinked due to the above, and if it exceeds 10.0, the film thickness tends to be difficult to maintain.

(式3)にて、X/M=1.5〜2.5としたのは、金属アルコキシドは反応性が高いため、β−ジケトン(RCOCHCOR)ないしβ−ケトエステル(RCOCHCOOR)の化学改質剤(R、Rはアルキル基を示す)として例えば、3−オキソブタン酸エチルを加えることが好ましい。「X/M」が1.5未満の場合及び2.5超の場合は、金属アルコキシドの反応性を十分に改質することができない傾向があるからである。 The reason why X / M = 1.5 to 2.5 in (Formula 3) is that the metal alkoxide has high reactivity, and therefore β-diketone (R 1 COCH 2 COR 2 ) or β-keto ester (R 1 For example, ethyl 3-oxobutanoate is preferably added as a chemical modifier for COCH 2 COOR 2 ) (R 1 and R 2 represent an alkyl group). This is because when “X / M” is less than 1.5 or more than 2.5, the reactivity of the metal alkoxide tends to be insufficiently modified.

X/Mの範囲は、望ましくは1.8〜2.2、更に望ましくは1.9〜2.1である。   The range of X / M is desirably 1.8 to 2.2, and more desirably 1.9 to 2.1.

第2処理として、好ましくは、第1処理で得られた塗布処理後のステンレス箔をアルゴンあるいは窒素の少なくとも一方からなる不活性雰囲気内に置き、当該雰囲気を1〜5℃/秒の速度で上昇させ、260℃〜360℃(望ましくは、280℃〜340℃)の範囲内の温度に至ったところで加熱をやめて50〜70分当該温度を保つ。   As the second treatment, preferably, the coated stainless steel foil obtained in the first treatment is placed in an inert atmosphere composed of at least one of argon and nitrogen, and the atmosphere is increased at a rate of 1 to 5 ° C./second. When the temperature reaches a temperature within the range of 260 ° C. to 360 ° C. (desirably 280 ° C. to 340 ° C.), the heating is stopped and the temperature is maintained for 50 to 70 minutes.

260℃〜360℃(望ましくは、280℃〜340℃)の範囲内の温度では、ポリジメチルシロキサンが金属アルコキシド由来のM−O−により架橋される反応がおこっている。   At a temperature in the range of 260 ° C. to 360 ° C. (desirably 280 ° C. to 340 ° C.), a reaction occurs in which polydimethylsiloxane is crosslinked with M—O— derived from metal alkoxide.

第3処理として、好ましくは、260℃〜320℃(望ましくは、280℃〜300℃)の温度から当該雰囲気を1〜5℃/秒の速度で上昇させ360℃〜500℃の範囲内の温度に至ってから当該温度を20〜40分保つ。   As the third treatment, preferably, the atmosphere is raised from a temperature of 260 ° C. to 320 ° C. (desirably 280 ° C. to 300 ° C.) at a rate of 1 to 5 ° C./second, and a temperature within a range of 360 ° C. to 500 ° C. The temperature is kept for 20 to 40 minutes after reaching the temperature.

360℃〜500℃(望ましくは、380℃〜450℃)の範囲内の温度では、皮膜構成に使用されなかったポリジメチルシロキサンが分解してジメチルシロキサンのオリゴマーが雰囲気中に揮発する。度が380℃未満だと皮膜構成に使用されなかったポリジメチルシロキサンの分解が不十分な可能性があるため、後で昇温したときに、皮膜構成に使用されなかったポリジメチルシロキサンが分解してジメチルシロキサンのオリゴマーが雰囲気中に揮発し回路等に悪影響を与える傾向があるからである。   At a temperature in the range of 360 ° C. to 500 ° C. (desirably, 380 ° C. to 450 ° C.), polydimethylsiloxane that has not been used in the coating composition decomposes and dimethylsiloxane oligomers volatilize in the atmosphere. If the temperature is less than 380 ° C., polydimethylsiloxane that was not used in the coating composition may not be sufficiently decomposed. This is because the oligomer of dimethylsiloxane tends to volatilize in the atmosphere and adversely affect the circuit and the like.

また、360℃〜500℃(望ましくは、380℃〜450℃)の範囲内の温度では、ポリジメチルシロキサンが金属アルコキシドにより架橋される反応もArあるいはNの少なくとも一方を含む不活性雰囲気内では並行しておこっている。 Further, at a temperature in the range of 360 ° C. to 500 ° C. (desirably, 380 ° C. to 450 ° C.), the reaction in which polydimethylsiloxane is crosslinked with a metal alkoxide is also performed in an inert atmosphere containing at least one of Ar and N 2. It happens in parallel.

第4処理として、好ましくは、360℃〜500℃(望ましくは、380℃〜450℃)の範囲内の温度から1〜5℃/秒の速度で雰囲気温度を降下させる。   As the fourth treatment, the ambient temperature is preferably lowered from a temperature within the range of 360 ° C. to 500 ° C. (desirably 380 ° C. to 450 ° C.) at a rate of 1 to 5 ° C./second.

図4は、第2の実施態様の第2処理〜第4処理の温度の推移を具体的に描いた一例を示すグラフである。   FIG. 4 is a graph showing an example in which the temperature transition of the second process to the fourth process of the second embodiment is specifically depicted.

第2処理として、好ましくは、第1処理で得られた塗布処理後のステンレス箔をArあるいはNの少なくとも一方を含む20℃の不活性雰囲気内に置き当該雰囲気を3℃/分の速度で1.5時間上昇させ、290℃に至ったところで加熱をやめて290℃温度で60分保つ。 As the second treatment, preferably, the stainless steel foil after the coating treatment obtained in the first treatment is placed in an inert atmosphere of 20 ° C. containing at least one of Ar or N 2 , and the atmosphere is set at a rate of 3 ° C./min. The temperature is raised for 1.5 hours, and when the temperature reaches 290 ° C., the heating is stopped and the temperature is kept at 290 ° C. for 60 minutes.

第3処理として、好ましくは、更に当該雰囲気を3℃/分の速度で0.5時間上昇させ、380℃に至ってから当該温度を30分保つ。   As the third treatment, preferably, the atmosphere is further increased at a rate of 3 ° C./min for 0.5 hours, and after reaching 380 ° C., the temperature is maintained for 30 minutes.

第4処理として、好ましくは、380℃の温度から当該雰囲気を3℃/秒の速度で2時間下降させて20℃とする。   As the fourth treatment, the atmosphere is preferably lowered to 20 ° C. from a temperature of 380 ° C. for 2 hours at a rate of 3 ° C./second.

第2の実施形態によりステンレス箔に皮膜を付した実施例について、後述する表1に記す。   Examples in which a film is applied to the stainless steel foil according to the second embodiment are shown in Table 1 described later.

第2の実施形態においては、Mg、Ca、Y、Al、Si、Sn、Ti、Zr、Nb、Ta、Wの中から選んだ1つの金属とトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、ブトキシ基中等のアルコキシ基から重複を許して選んだ4つの基から構成される金属アルコキシドとしては、Tiを金属として、アルコキシ基4つから構成されるTiアルコキシドであるチタニウムテトライソプロポキシド使用する。   In the second embodiment, one metal selected from Mg, Ca, Y, Al, Si, Sn, Ti, Zr, Nb, Ta, and W, and a toxi group, an ethoxy group, a propoxy group, a butoxy group, etc. As a metal alkoxide composed of four groups selected by allowing duplication from the alkoxy group, Ti tetraisopropoxide, which is a Ti alkoxide composed of four alkoxy groups, is used with Ti as a metal.

シロキサンポリマーとしては、分子量が3×10〜3×10Mwであるポリジメチルシロキサンを使用する。 As the siloxane polymer, polydimethylsiloxane having a molecular weight of 3 × 10 2 to 3 × 10 4 Mw is used.

チタニウムテトライソプロポキシドのモル数をM、分子量が3×10〜3×10Mwであるポリジメチルシロキサンのモル数をS、水のモル数をW、3−オキソブタン酸エチルのモル数をXで表示し、記号「/」は除算を意味する。 The number of moles of titanium tetraisopropoxide is M, the number of moles of polydimethylsiloxane having a molecular weight of 3 × 10 2 to 3 × 10 4 Mw is S, the number of moles of water is W, the number of moles of ethyl 3-oxobutanoate is It is indicated by X, and the symbol “/” means division.

第1処理として、20℃においてチタニウムテトライソプロポキシド、分子量が3×10〜3×10Mwであるポリジメチルシロキサン、水及び3−オキソブタン酸エチルを、下記の(式4)〜(式6)を満足するように混合して製造された塗布液を100μmの厚さを有するステンレス箔の上に塗布したもの(以下、「塗布処理後のステンレス箔」という。)を200℃の大気中に20分置くことで塗布液を乾燥させる。この後、20℃程度になるまで冷却する。 As a first treatment, titanium tetraisopropoxide at 20 ° C., polydimethylsiloxane having a molecular weight of 3 × 10 2 to 3 × 10 4 Mw, water, and ethyl 3-oxobutanoate are represented by the following (formula 4) to (formula A coating solution prepared by mixing so as to satisfy 6) is applied onto a stainless steel foil having a thickness of 100 μm (hereinafter referred to as “stainless steel foil after coating treatment”) in the atmosphere at 200 ° C. For 20 minutes to dry the coating solution. Then, it is cooled to about 20 ° C.

S/M=1.0 …(式4)
W/(S+M)=5.0 …(式5)
X/M=2.0 …(式6)
S / M = 1.0 (Formula 4)
W / (S + M) = 5.0 (Formula 5)
X / M = 2.0 (Formula 6)

第2処理として、第1処理で得られた塗布処理後のステンレス箔をアルゴンあるいは窒素のうち少なくとも一つ以上からなる不活性雰囲気内に置き、当該雰囲気を3℃/分の速度で上昇させ、360℃〜500℃の範囲内の温度に至ったところで加熱をやめて360℃〜500℃の範囲の一定の温度を0.5時間保った後、当該雰囲気を360℃〜500℃の温度から3℃/分の速度で下降させて、常温とする。   As the second treatment, the stainless steel foil after the coating treatment obtained in the first treatment is placed in an inert atmosphere composed of at least one of argon and nitrogen, and the atmosphere is increased at a rate of 3 ° C./min. After reaching a temperature in the range of 360 ° C. to 500 ° C., heating is stopped and a constant temperature in the range of 360 ° C. to 500 ° C. is maintained for 0.5 hour, and then the atmosphere is changed from a temperature of 360 ° C. to 500 ° C. to 3 ° C. Decrease at a speed of / min.

比較例については、温度のみ340℃、510℃の場合を検討する。

Figure 2012228858
As for the comparative example, the case where only the temperature is 340 ° C. and 510 ° C. is examined.
Figure 2012228858

耐熱試験結果の表記における記号「○」、「×」の意味は、以下の通りである。
なお、膜の耐熱性については、基板から被膜を剥がして回収した粉末をTG−DTA(理学電気(株)Thermo plus TG8120)により、N雰囲気中で600℃まで昇温速度10℃/minで熱したときの重量変化により評価する。
The meanings of the symbols “◯” and “x” in the notation of the heat test result are as follows.
Regarding the heat resistance of the film, the powder recovered by peeling off the film from the substrate was TG-DTA (Rigaku Electric Co., Thermo plus TG8120) and heated at a rate of 10 ° C./min up to 600 ° C. in an N 2 atmosphere. Evaluation is based on weight change when heated.

○: 300〜600℃においてクラックの発生がなく、Ar、N等の不活性雰囲気中300〜600℃における熱重量変化が5%以下である。
×: 300〜600℃においてクラックが発生するか、Ar、N等の不活性雰囲気中300〜600℃における熱重量変化が5%以下である。
○: No cracking occurred at 300 to 600 ° C., and the thermogravimetric change at 300 to 600 ° C. in an inert atmosphere of Ar, N 2 or the like is 5% or less.
×: 300 to 600 or cracks in ° C. occurs, Ar, thermogravimetric change in 300 to 600 ° C. in an inert atmosphere such as N 2 is 5% or less.

抵抗値試験件の表記における記号「○」、「×」の意味は、以下の通りである。   The meanings of the symbols “◯” and “x” in the notation of the resistance value test are as follows.

○: 1×10Ωcm以上である。
×: 1×10Ωcm未満である。
○: 1 × 10 9 Ωcm 2 or more.
×: Less than 1 × 10 9 Ωcm 2 .

第3の実施形態によりステンレス箔を皮膜に付した実施例について表2に記す。   Table 2 shows examples in which a stainless steel foil is applied to the film according to the third embodiment.

第3の実施形態においては、Mg、Ca、Y、Al、Si、Sn、Ti、Zr、Nb、Ta、Wの中から選んだ1つの金属とトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、ブトキシ基中等のアルコキシ基から重複を許して選んだ4つの基から構成される金属アルコキシドとしては、Tiを金属として、アルコキシ基4つから構成されるTiアルコキシドであるチタニウムテトライソプロポキシド使用する。   In the third embodiment, one metal selected from Mg, Ca, Y, Al, Si, Sn, Ti, Zr, Nb, Ta, and W, and a toxi group, an ethoxy group, a propoxy group, a butoxy group, etc. As a metal alkoxide composed of four groups selected by allowing duplication from the alkoxy group, Ti tetraisopropoxide, which is a Ti alkoxide composed of four alkoxy groups, is used with Ti as a metal.

シロキサンポリマーとしては、分子量が3×10〜3×10Mwであるポリジメチルシロキサンを使用する。 As the siloxane polymer, polydimethylsiloxane having a molecular weight of 3 × 10 2 to 3 × 10 4 Mw is used.

チタニウムテトライソプロポキシドのモル数をM、分子量が3×10〜3×10Mwであるポリジメチルシロキサンのモル数をS、水のモル数をW、3−オキソブタン酸エチルのモル数をXで表示し、記号「/」は除算を意味する。 The number of moles of titanium tetraisopropoxide is M, the number of moles of polydimethylsiloxane having a molecular weight of 3 × 10 2 to 3 × 10 4 Mw is S, the number of moles of water is W, the number of moles of ethyl 3-oxobutanoate is It is indicated by X, and the symbol “/” means division.

第1処理として、好ましくは、20℃においてチタニウムテトライソプロポキシド、分子量が3×10〜3×10Mwであるポリジメチルシロキサン、水及び3−オキソブタン酸エチルを、下記の(式4)〜(式6)を満足するように混合して製造された塗布液を100μmの厚さを有するステンレス箔の上に塗布したもの(以下、「塗布処理後のステンレス箔」という。)を200℃の大気中に20分置くことで塗布液を乾燥させる。この後、20℃程度になるまで冷却する。 As the first treatment, preferably, titanium tetraisopropoxide at 20 ° C., polydimethylsiloxane having a molecular weight of 3 × 10 2 to 3 × 10 4 Mw, water, and ethyl 3-oxobutanoate are represented by the following (formula 4): A coating solution prepared by mixing so as to satisfy (Equation 6) and coated on a stainless steel foil having a thickness of 100 μm (hereinafter referred to as “stainless steel foil after coating treatment”) is 200 ° C. The coating solution is dried by placing it in the atmosphere for 20 minutes. Then, it is cooled to about 20 ° C.

S/M=1.0 …(式4)
W/(S+M)=5.0 …(式5)
X/M=2.0 …(式6)
S / M = 1.0 (Formula 4)
W / (S + M) = 5.0 (Formula 5)
X / M = 2.0 (Formula 6)

第2処理として、第1処理で得られた塗布処理後のステンレス箔を酸素存在雰囲気内に置き、当該雰囲気を1〜5℃/分の速度で上昇させ、260℃〜340℃の範囲内の温度に至ったところで加熱をやめて260℃〜340℃の範囲の一定の温度を0.5時間保った後、当該雰囲気を260℃〜340℃の温度から3℃/分の速度で下降させて、常温とする。   As a 2nd process, the stainless steel foil after the application | coating process obtained by the 1st process is set | placed in oxygen presence atmosphere, the said atmosphere is raised at a speed | rate of 1-5 degree-C / min, and it exists in the range of 260-340 degreeC When the temperature is reached, the heating is stopped and a constant temperature in the range of 260 ° C. to 340 ° C. is maintained for 0.5 hour, and then the atmosphere is lowered from the temperature of 260 ° C. to 340 ° C. at a rate of 3 ° C./min. Set to room temperature.

比較例については、温度のみ320℃、330℃としてものを検討する。   About a comparative example, what considers only temperature as 320 degreeC and 330 degreeC.

第3処理として、第2処理で得られた塗布処理後のステンレス箔をアルゴンあるいは窒素の少なくとも一方を含む不活性雰囲気内に置き、当該雰囲気を3℃/分の速度で上昇させ、360℃〜500℃の範囲内の温度に至ってから当該温度を0.5時間保ち、360℃〜500℃の範囲内の温度から当該雰囲気を3℃/秒の速度で下降させて、常温とする。

Figure 2012228858
As the third treatment, the stainless steel foil after the coating treatment obtained in the second treatment is placed in an inert atmosphere containing at least one of argon and nitrogen, and the atmosphere is increased at a rate of 3 ° C./min. After reaching the temperature within the range of 500 ° C., the temperature is maintained for 0.5 hours, and the atmosphere is lowered from the temperature within the range of 360 ° C. to 500 ° C. at a rate of 3 ° C./second to obtain room temperature.
Figure 2012228858

表2中、耐熱試験結果の表記における記号「○」、「×」の基準は、以下の通りである。   In Table 2, the criteria for the symbols “◯” and “x” in the notation of the heat test results are as follows.

○: 300〜600℃においてクラックの発生がなく、かつAr、N等の不活性雰囲気中300〜600℃における熱重量変化が5%以下である。
×: 300〜600℃においてクラックが発生するか、Ar、N等の不活性雰囲気中300〜600℃における熱重量変化が5%以上である。
◯: There is no occurrence of cracks at 300 to 600 ° C., and the thermogravimetric change at 300 to 600 ° C. in an inert atmosphere such as Ar or N 2 is 5% or less.
×: 300 to 600 or cracks in ° C. occurs, Ar, thermogravimetric change in 300 to 600 ° C. in an inert atmosphere such as N 2 is 5% or more.

表2の抵抗値試験結果の表記における記号「○」、「×」の基準は、以下の通りである。 The criteria for the symbols “◯” and “x” in the notation of the resistance value test results in Table 2 are as follows.

○: 1×10Ωcm以上である。
×: 1×10Ωcm未満である。
○: 1 × 10 9 Ωcm 2 or more.
×: Less than 1 × 10 9 Ωcm 2 .

実施例23〜28、31〜36、39〜44、47〜52に記載されるように、本発明の方法によりステンレス箔に付した皮膜は4〜5μmの厚みを有する堅牢なものであった。   As described in Examples 23 to 28, 31 to 36, 39 to 44, and 47 to 52, the coating applied to the stainless steel foil by the method of the present invention was a robust one having a thickness of 4 to 5 μm.

比較例22、30、38、46のように不活性雰囲気において350℃で処理された場合には、シロキサンオリゴマーの離脱が十分でなく、300℃〜600℃に再度加熱された場合には、シロキサンオリゴマーを発生してしまう。   When treated at 350 ° C. in an inert atmosphere as in Comparative Examples 22, 30, 38, and 46, the siloxane oligomer is not sufficiently detached, and when heated to 300 ° C. to 600 ° C. again, the siloxane Oligomer is generated.

比較例29、37、45、52のように、500℃を超えた510℃の不活性雰囲気に置かれた場合には抵抗値が1×10Ωcm以下となってしまう。 As in Comparative Examples 29, 37, 45, and 52, when placed in an inert atmosphere at 510 ° C. exceeding 500 ° C., the resistance value becomes 1 × 10 9 Ωcm 2 or less.

比較例54のように、ドライエアー温度が350℃のように高い場合には、第2処理の段階で皮膜にクラックが入ってしまう。   When the dry air temperature is as high as 350 ° C. as in the comparative example 54, the film is cracked at the stage of the second treatment.

第4の実施形態によりステンレス箔に皮膜を付したものについて表3に記す。   Table 3 shows the stainless steel foil coated with a film according to the fourth embodiment.

第4の実施形態においては、Mg、Ca、Y、Al、Si、Sn、Ti、Zr、Nb、Ta、Wの中から選んだ1つの金属とメトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、ブトキシ基等のアルコキシ基の中から重複を許して選んだ4つの基から構成される金属アルコキシドのモル数をM、分子量が3×10〜3×10Mwであるシロキサンポリマーのモル数をS、水のモル数をWで表示し、記号「/」は除算を意味する。 In the fourth embodiment, one metal selected from Mg, Ca, Y, Al, Si, Sn, Ti, Zr, Nb, Ta, W and a methoxy group, an ethoxy group, a propoxy group, a butoxy group, etc. M is the number of moles of metal alkoxide composed of four groups selected to allow duplication from among the alkoxy groups of S, S is the number of moles of siloxane polymer having a molecular weight of 3 × 10 2 to 3 × 10 4 Mw. The number of moles is represented by W, and the symbol “/” means division.

第1処理として、好ましくは、20℃〜25℃において金属アルコキシド、分子量が3×10〜3×10Mwであるシロキサンポリマー、水及び3−オキソブタン酸エチルを、下記の(式4)〜(式6)を満足するように混合した液体を100μmの厚さを有するステンレス箔の上に塗布したもの(以下、「塗布処理後のステンレス箔」という。)を200℃の大気中に20分置くことで塗布液を乾燥させる。この後、20℃程度になるまで冷却する。 As the first treatment, preferably, a metal alkoxide at 20 ° C. to 25 ° C., a siloxane polymer having a molecular weight of 3 × 10 2 to 3 × 10 4 Mw, water, and ethyl 3-oxobutanoate are represented by the following (formula 4) to A liquid mixed so as to satisfy (Equation 6) applied on a stainless steel foil having a thickness of 100 μm (hereinafter referred to as “stainless steel foil after application treatment”) in an atmosphere of 200 ° C. for 20 minutes. The coating solution is dried by placing. Then, it is cooled to about 20 ° C.

S/M=1.0 …(式4)
W/(S+M)=5.0 …(式5)
X/M=2.0 …(式6)
S / M = 1.0 (Formula 4)
W / (S + M) = 5.0 (Formula 5)
X / M = 2.0 (Formula 6)

第2処理として、第1処理で得られた塗布処理後のステンレス箔をアルゴンあるいは窒素の少なくとも一方からなる不活性雰囲気内に置き、当該雰囲気を3℃/秒の速度で上昇させ、260℃〜320℃の範囲内の温度に至ったところで加熱をやめて50〜70分当該温度を保つ。   As the second treatment, the stainless steel foil after the coating treatment obtained in the first treatment is placed in an inert atmosphere composed of at least one of argon and nitrogen, and the atmosphere is increased at a rate of 3 ° C./second. When the temperature reaches within the range of 320 ° C., the heating is stopped and the temperature is maintained for 50 to 70 minutes.

第3処理として、260℃〜320℃の温度から当該雰囲気を1〜5℃/秒の速度で上昇させ360℃〜420℃の範囲内の温度に至ってから当該温度を20〜40分保つ。   As the third treatment, the atmosphere is increased from a temperature of 260 ° C. to 320 ° C. at a rate of 1 to 5 ° C./second, and after reaching a temperature in the range of 360 ° C. to 420 ° C., the temperature is maintained for 20 to 40 minutes.

第4処理として、360℃〜500℃の範囲内の温度から1〜5℃/秒の速度で雰囲気温度を降下させる。   As the fourth treatment, the ambient temperature is decreased from a temperature in the range of 360 ° C. to 500 ° C. at a rate of 1 to 5 ° C./second.

図4は、第2の実施態様の第2処理〜第4処理の温度の推移を具体的に描いた一例を示すグラフである。   FIG. 4 is a graph showing an example in which the temperature transition of the second process to the fourth process of the second embodiment is specifically depicted.

第2処理として、第1処理で得られた塗布処理後のステンレス箔をArあるいはNの少なくとも一方を含む20℃の不活性雰囲気内に置き当該雰囲気を3℃/分の速度で1.5時間上昇させ、290℃に至ったところで加熱をやめて290℃温度で60分保つ。 As the second treatment, the coated stainless steel foil obtained in the first treatment is placed in an inert atmosphere at 20 ° C. containing at least one of Ar and N 2 , and the atmosphere is 1.5 ° C./minute. The temperature is increased, and when the temperature reaches 290 ° C., the heating is stopped and the temperature is kept at 290 ° C. for 60 minutes.

第3処理として、更に当該雰囲気を3℃/分の速度で0.5時間上昇させ、380℃に至ってから当該温度を30分保つ。   As the third treatment, the atmosphere is further increased at a rate of 3 ° C./min for 0.5 hours, and after reaching 380 ° C., the temperature is maintained for 30 minutes.

第4処理として、380℃の温度から当該雰囲気を3℃/秒の速度で2時間下降させて20℃とする。   As a fourth treatment, the atmosphere is lowered from a temperature of 380 ° C. at a rate of 3 ° C./second for 2 hours to 20 ° C.

Figure 2012228858
Figure 2012228858

表3中、耐熱試験結果の表記における記号「○」、「×」の基準は、以下の通りである。   In Table 3, the criteria for the symbols “◯” and “x” in the notation of the heat test results are as follows.

○: 300〜600℃においてクラックの発生がなく、Ar、N等の不活性雰囲気中300〜600℃における熱重量変化が5%以下である。
×: 300〜600℃においてクラックが発生するか、Ar、N等の不活性雰囲気中300〜600℃における熱重量変化が5%以下である。
○: No cracking occurred at 300 to 600 ° C., and the thermogravimetric change at 300 to 600 ° C. in an inert atmosphere of Ar, N 2 or the like is 5% or less.
×: 300 to 600 or cracks in ° C. occurs, Ar, thermogravimetric change in 300 to 600 ° C. in an inert atmosphere such as N 2 is 5% or less.

表3中、抵抗値試験結果の表記における記号「○」、「×」の基準は、以下の通りであるる。   In Table 3, the criteria for the symbols “◯” and “x” in the notation of the resistance value test results are as follows.

○: 1×10Ωcm以上である。
×: 1×10Ωcm未満である。
○: 1 × 10 9 Ωcm 2 or more.
×: Less than 1 × 10 9 Ωcm 2 .

実施例56〜61、64〜69、72〜77、80〜85に記載されるように、本発明の方法によりステンレス箔に付した皮膜は4〜5μmの厚みを有する堅牢なものであった。   As described in Examples 56 to 61, 64 to 69, 72 to 77, and 80 to 85, the coating applied to the stainless steel foil by the method of the present invention was a robust one having a thickness of 4 to 5 μm.

比較例55、63、71、79のように不活性雰囲気において350℃で処理された場合には、シロキサンオリゴマーの離脱が十分でなく、300℃〜600℃に再度加熱された場合には、シロキサンオリゴマーを発生してしまう。   When treated at 350 ° C. in an inert atmosphere as in Comparative Examples 55, 63, 71, and 79, the siloxane oligomer is not sufficiently detached, and when heated to 300 ° C. to 600 ° C. again, the siloxane Oligomer is generated.

比較例62、70、78、86のように、500℃を超えた510℃の不活性雰囲気に置かれた場合には抵抗値が1×10Ωcm以下となってしまう。 As in Comparative Examples 62, 70, 78, and 86, when placed in an inert atmosphere at 510 ° C. exceeding 500 ° C., the resistance value is 1 × 10 9 Ωcm 2 or less.

1 皮膜
2 ステンレス箔
1 coating 2 stainless steel foil

Claims (7)

厚さ20〜200μmのステンレス箔と、該ステンレス箔上に配置された、厚さ3〜10μmのシロキサンポリマー皮膜とを含む皮膜付きステンレス箔であって;且つ、
前記シロキサンポリマー皮膜が、Mg、Ca、Y、Al、Si、Sn、Ti、Zr、Nb、Ta、Wの中から選ばれた1つの金属と、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、ブトキシ基等のアルコキシ基の中から重複を許して選ばれた4つの基から構成される金属アルコキシドにより架橋された、シロキサンポリマー皮膜であり;
300℃〜600℃の耐熱性を有し、かつ、1×10Ωcm以上の抵抗を有することを特徴とする皮膜付きステンレス箔。
A coated stainless steel foil comprising a stainless steel foil having a thickness of 20 to 200 μm and a siloxane polymer film having a thickness of 3 to 10 μm disposed on the stainless steel foil; and
The siloxane polymer film is composed of one metal selected from Mg, Ca, Y, Al, Si, Sn, Ti, Zr, Nb, Ta, W, methoxy group, ethoxy group, propoxy group, butoxy group, etc. A siloxane polymer film crosslinked with a metal alkoxide composed of four groups selected to allow duplication among the alkoxy groups of
A coated stainless steel foil characterized by having heat resistance of 300 ° C. to 600 ° C. and having a resistance of 1 × 10 9 Ωcm 2 or more.
前記シロキサンポリマーが、ポリジメチルシロキサンであることを特徴とする皮膜付きステンレス箔。   A stainless steel foil with a coating, wherein the siloxane polymer is polydimethylsiloxane. 前記シロキサンポリマーが、ポリジフェニルシロキサンであることを特徴とする皮膜付きステンレス箔。   The coated stainless steel foil, wherein the siloxane polymer is polydiphenylsiloxane. Mg、Ca、Y、Al、Si、Sn、Ti、Zr、Nb、Ta、Wの中から選んだ1つの金属とメトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、ブトキシ基等のアルコキシ基の中から重複を許して選んだ4つの基から構成される金属アルコキシドのモル数をM、分子量が3×10〜3×10Mwであるシロキサンポリマーのモル数をS、水のモル数をW、β−ジケトン(RCOCHCOR)ないしβ−ケトエステル(RCOCHCOOR)の化学改質剤(R、Rはアルキル基を示す)のモル数をXとし、/は除算を表すときに、
S/M=0.05〜1.5 …(式1)
W/(S+M)=0.1〜10.0 …(式2)
X/M=1.5〜2.5 …(式3)
を満足するように混合して生成した塗布液を、以下の「Aプロセス」および「プロセス」を、
(1)Aプロセス実施後にBプロセスを1回以上実施する;あるいは、
(2)Aプロセスを実施せずに、Bプロセスを1回以上実施する、ことを特徴とする皮膜付きステンレス箔の製造方法;
「Aプロセス」:
厚さ20〜200μmステンレス箔に塗布した後に200℃の大気中で20分間乾燥させ、260℃〜340℃(望ましくは280℃〜320℃)の温度を有する酸素存在雰囲気内に0.5時間〜2.5時間置く工程を実施するプロセス;
「Bプロセス」:
360℃〜500℃(望ましくは380℃〜450℃)の温度を有するアルゴンあるいは窒素の少なくとも一方を含む雰囲気内に0.5時間〜2.5時間置く工程を実施するプロセス。
Overlapping one metal selected from Mg, Ca, Y, Al, Si, Sn, Ti, Zr, Nb, Ta, W and alkoxy groups such as methoxy group, ethoxy group, propoxy group, butoxy group The number of moles of a metal alkoxide composed of four groups selected with permission is M, the number of moles of a siloxane polymer having a molecular weight of 3 × 10 2 to 3 × 10 4 Mw is S, the number of moles of water is W, β- X represents the number of moles of a chemical modifier (R 1 , R 2 represents an alkyl group) of a diketone (R 1 COCH 2 COR 2 ) or β-ketoester (R 1 COCH 2 COOR 2 ), and / represents division. sometimes,
S / M = 0.05 to 1.5 (Formula 1)
W / (S + M) = 0.1 to 10.0 (Formula 2)
X / M = 1.5 to 2.5 (Formula 3)
The coating solution produced by mixing so as to satisfy the following “A process” and “process”:
(1) After process A is performed, process B is performed one or more times; or
(2) A process for producing a coated stainless steel foil, wherein the B process is performed at least once without performing the A process;
“A Process”:
After being applied to a stainless steel foil having a thickness of 20 to 200 μm, it is dried in an atmosphere of 200 ° C. for 20 minutes, and 0.5 hours to 260 ° C. to 340 ° C. (preferably 280 ° C. to 320 ° C.) The process of carrying out the step of placing for 2.5 hours;
“B Process”:
A process of performing a step of placing in an atmosphere containing at least one of argon and nitrogen having a temperature of 360 ° C. to 500 ° C. (preferably 380 ° C. to 450 ° C.) for 0.5 hour to 2.5 hours.
前記化学改質剤が3−オキソブタン酸エチルであることを特徴とする請求項4に記載の皮膜付きステンレス箔の製造方法。   The method for producing a coated stainless steel foil according to claim 4, wherein the chemical modifier is ethyl 3-oxobutanoate. 前記シロキサンポリマーがポリジメチルシロキサンであることを特徴とする請求項4または5に記載の皮膜付きステンレス箔の製造方法。   The method for producing a coated stainless steel foil according to claim 4 or 5, wherein the siloxane polymer is polydimethylsiloxane. 前記シロキサンポリマーがポリジフェニルシロキサンであることを特徴とする請求項4または5に記載の皮膜付きステンレス箔の製造方法。   The method for producing a coated stainless steel foil according to claim 4 or 5, wherein the siloxane polymer is polydiphenylsiloxane.
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