JP2012222188A - Solar cell module with protective film and manufacturing method therefor - Google Patents

Solar cell module with protective film and manufacturing method therefor Download PDF

Info

Publication number
JP2012222188A
JP2012222188A JP2011087104A JP2011087104A JP2012222188A JP 2012222188 A JP2012222188 A JP 2012222188A JP 2011087104 A JP2011087104 A JP 2011087104A JP 2011087104 A JP2011087104 A JP 2011087104A JP 2012222188 A JP2012222188 A JP 2012222188A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
layer
solar cell
protective film
cell module
wear
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Withdrawn
Application number
JP2011087104A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Koji Ichikawa
浩二 市川
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Toppan Inc
Original Assignee
Toppan Printing Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Toppan Printing Co Ltd filed Critical Toppan Printing Co Ltd
Priority to JP2011087104A priority Critical patent/JP2012222188A/en
Publication of JP2012222188A publication Critical patent/JP2012222188A/en
Withdrawn legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y02TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
    • Y02EREDUCTION OF GREENHOUSE GAS [GHG] EMISSIONS, RELATED TO ENERGY GENERATION, TRANSMISSION OR DISTRIBUTION
    • Y02E10/00Energy generation through renewable energy sources
    • Y02E10/50Photovoltaic [PV] energy

Landscapes

  • Photovoltaic Devices (AREA)

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a protective film having wear resistance, steam barrier property and high light transmissivity, as the surface protective member of a solar cell, inexpensively.SOLUTION: In the solar cell module having a protective film on the surface, the protective film is formed by laminating a hard coat layer and an abrasion resistance layer on one side of a substrate in this order, and has a barrier layer on the side of the substrate opposite from the side where the abrasion resistance layer is formed. Resin is used in the substrate, both the abrasion resistance layer and the barrier layer contain silicon, oxygen, and nitrogen, and the content of oxygen in the abrasion resistance layer is higher than that in the barrier layer.

Description

本発明は、受光面側表面に用いられフレキシブル化に対応可能となる保護フィルムを有した太陽電池モジュールに関する。   The present invention relates to a solar cell module having a protective film that is used on a light-receiving surface side surface and can be made flexible.

現在、太陽電池は結晶型太陽電池の他、薄膜シリコン型、球状シリコン型、有機化合物型、CdTe型、CIGS型、色素増感型、有機薄膜型などといった多種多様の太陽電池が開発されている。また近年、環境への意識が向上したこと、また、各国での政府の補助などにより普及が進んでいる。   At present, a wide variety of solar cells such as a thin film silicon type, a spherical silicon type, an organic compound type, a CdTe type, a CIGS type, a dye sensitized type, and an organic thin film type have been developed in addition to a crystalline solar cell. . In recent years, environmental awareness has been improved, and governments have been spreading in various countries.

これら太陽電池モジュールの部品である表面保護部材としては透光性と硬さ、水蒸気バリア性のいずれも満たすことの出来るガラス基板が良く用いられている。
しかし、ガラスは重く、結晶系シリコン型太陽電池における重量比は全モジュールの70%程を占める。
As a surface protection member that is a component of these solar cell modules, a glass substrate that can satisfy all of translucency, hardness, and water vapor barrier properties is often used.
However, glass is heavy, and the weight ratio in a crystalline silicon solar cell accounts for about 70% of all modules.

さらに、表面保護部材がガラスである場合には一度作成したモジュールを曲げることは出来ない。そのため、曲面を有する構造体を作成するには、予め曲面になるようにガラスを成形する必要がある。よって、曲面を有する太陽電池を作成することは難しかった。
ところが、近年、薄膜太陽電池などでフレキシブル化可能なフィルム型の太陽電池が出てきた。
Furthermore, when the surface protection member is glass, the module once created cannot be bent. Therefore, in order to create a structure having a curved surface, it is necessary to shape the glass so as to be a curved surface in advance. Therefore, it was difficult to create a solar cell having a curved surface.
However, in recent years, a film type solar cell that can be made flexible by a thin film solar cell or the like has come out.

フィルム型の太陽電池はモジュール形成後において曲げることが可能であるため、携帯用充電器の他、曲面を有する建材に用いることが可能となった。
このことにより、太陽電池モジュールの設置可能な箇所が増えた結果、建材一体型太陽電池モジュール(BIPV:BUILDING INTEGRATED PHOTOVOLTAIC MODULE)用途などで実用化が進んでいる。
Since the film-type solar cell can be bent after the module is formed, it can be used for a building material having a curved surface in addition to a portable charger.
As a result, the number of places where the solar cell module can be installed has increased, and as a result, it has been put into practical use in applications such as building material integrated solar cell modules (BIPV).

しかし、このフィルム型太陽電池に用いられている保護フィルムとしては主にフッ素系の樹脂が用いられているため、樹脂単体を保護フィルムとして用いた場合においては引っかきなどの傷に弱い。また、水蒸気バリア性が、フッ素系の樹脂フィルム単独では、数g/(m・day)であるため、太陽電池に求められる1g/(m・day)以下の水蒸気バリア性が得られないという問題がある。 However, since a fluorine-based resin is mainly used as the protective film used in the film type solar cell, when the resin alone is used as the protective film, it is vulnerable to scratches such as scratches. Moreover, since the water vapor barrier property is several g / (m 2 · day) with a fluorine-based resin film alone, the water vapor barrier property of 1 g / (m 2 · day) or less required for solar cells cannot be obtained. There is a problem.

このことに対応するために、フッ素系樹脂において例えば、特許文献1のようにフッ素系樹脂シ−トと無機酸化物の蒸着薄膜を有する樹脂フィルムとを積層し、更に、この積層体のいずれか一方の面あるいは両面に、防汚層または紫外線吸収剤層を設けたことを特徴とする太陽電池モジュ−ル用表面保護シ−トが考えられている。
また特許文献2のように、耐候性のあるフィルムと無機酸化物がコーティングされたフィルムとを接着剤を介して貼り合せることで、耐候性と水蒸気バリア性を有する保護フィルムが考えられている。
In order to cope with this, in the fluororesin, for example, as in Patent Document 1, a fluororesin sheet and a resin film having a vapor-deposited thin film of an inorganic oxide are laminated, and any one of the laminates is further provided. A surface protection sheet for a solar cell module, which is provided with an antifouling layer or an ultraviolet absorber layer on one side or both sides, has been considered.
Moreover, like patent document 2, the protective film which has a weather resistance and water vapor | steam barrier property is considered by bonding together a film with a weather resistance and the film coated with the inorganic oxide through the adhesive agent.

このように透光性と耐摩耗性、水蒸気バリア性を満たすフィルムを作成するためには、耐候性のある基材に耐摩耗や防汚性を持たせる膜が必要であり、さらに水蒸気バリア性を有する別のフィルムを積層させる必要があった。   Thus, in order to create a film that satisfies translucency, abrasion resistance, and water vapor barrier properties, a film that provides abrasion resistance and antifouling properties to a weather resistant substrate is required, and further, water vapor barrier properties. It was necessary to laminate another film having

特開2000−208797号公報JP 2000-208797 A 特許第3978912号公報Japanese Patent No. 3978912

しかしながら、保護フィルムとしてはフィルムが2枚以上必要であり、かつ材料も異なるものを使用するために、工程も多くなり、その結果高価なものとなっていた。   However, since two or more films are necessary as the protective film and different materials are used, the number of processes is increased, resulting in an expensive film.

ところで、耐摩耗性を付与するためには、硬い材料を用いること、水蒸気バリア性のフィルムを形成するためには、緻密な欠陥のない膜を得ること、防汚性能を得るためには自己浄化作用が働くようその表面に親水性を持たせることが必要であることが一般に言われている。
そして、耐摩耗性、水蒸気バリア性、防汚性能を持たせるために用いられる材料としては無機物が多く用いられており、実際、現状では透明性の保護材料としてガラスが用いられていることは上述したとおりである。
By the way, in order to provide wear resistance, a hard material is used. In order to form a water vapor barrier film, a film having a dense defect is obtained. It is generally said that it is necessary to make the surface hydrophilic so that the action can work.
And, as a material used to give wear resistance, water vapor barrier properties, and antifouling performance, many inorganic materials are used, and in fact, glass is used as a transparent protective material in the present situation. Just as you did.

本発明は上記の課題に鑑みてなされたものであって、耐摩耗性と水蒸気バリア性を有し、且つ光透過率の高い保護フィルムを安価に提供することを目的とする。   This invention is made | formed in view of said subject, Comprising: It aims at providing cheaply the protective film which has abrasion resistance and water vapor | steam barrier property, and high light transmittance.

上記の課題を解決するための手段として、請求項1に記載の発明は、表面に保護フィルムを有した太陽電池モジュールにおいて、保護フィルムが、基材の片方の側にハードコート層および耐摩耗層がこの順で積層されると共に、基材の耐摩耗層が施される側とは反対の側にバリア層を有するフィルムであり、基材が樹脂を用いており、且つ耐摩耗層及びバリア層は共にケイ素及び、酸素、窒素を含んでいると共に、耐摩耗層に含まれる酸素の含有量はバリア層よりも多いことを特徴とする保護フィルムを有した太陽電池モジュールとしたものである。   As a means for solving the above-mentioned problems, the invention according to claim 1 is directed to a solar cell module having a protective film on the surface, wherein the protective film has a hard coat layer and an abrasion-resistant layer on one side of the substrate. Are laminated in this order, and a film having a barrier layer on the side opposite to the side on which the wear-resistant layer of the substrate is applied, the substrate uses a resin, and the wear-resistant layer and the barrier layer The solar cell module has a protective film characterized in that both contain silicon, oxygen, and nitrogen, and the content of oxygen contained in the wear-resistant layer is higher than that of the barrier layer.

また、請求項2に記載の発明は、請求項1に記載の保護フィルムを有した太陽電池モジュールにおいてハードコート層が凹凸形状をしており、耐摩耗層がこの凹凸形状に沿って、凹部における耐摩耗層の膜厚がハードコート層の凹凸の差より薄いことを特徴とする保護フィルムを有した太陽電池モジュールとしたものである。   Further, in the invention according to claim 2, the hard coat layer has an uneven shape in the solar cell module having the protective film according to claim 1, and the wear-resistant layer is in the recess along the uneven shape. A solar cell module having a protective film characterized in that the wear-resistant layer is thinner than the unevenness of the hard coat layer.

また、請求項3に記載の発明は、請求項1及び2に記載の保護フィルムにおいて、耐摩耗層と水との接触角はバリア層と水との接触角よりも小さいことを特徴とする保護フィルムを有した太陽電池モジュールとしたものである。   The invention according to claim 3 is the protective film according to claim 1 or 2, wherein the contact angle between the wear-resistant layer and water is smaller than the contact angle between the barrier layer and water. This is a solar cell module having a film.

また、請求項4に記載の発明は、請求項1から3に記載のハードコート層が電離放射線硬化性樹脂であることを特徴とする保護フィルムを有した太陽電池モジュールとしたものである。   The invention described in claim 4 is a solar cell module having a protective film, wherein the hard coat layer described in claims 1 to 3 is an ionizing radiation curable resin.

また、請求項1から4に記載の保護フィルムを有した太陽電池モジュールの製造方法として、その耐摩耗層とバリア層は、ハードコート層と基材層が一体となった基板に対してポリシラザン溶液による塗布を行なった後、ポリシラザン溶液中の溶剤を乾燥させ、バリア層となる側のみプラズマ処理を行った後、該フィルムを水、もしくは水蒸気雰囲気下でエージング処理を行うことを特徴とする保護フィルムを有した太陽電池モジュールの製造方法である。   Moreover, as a manufacturing method of the solar cell module which has the protective film of Claim 1 to 4, the abrasion-resistant layer and the barrier layer are a polysilazane solution with respect to the board | substrate with which the hard-coat layer and the base material layer were united. The protective film is characterized by drying the solvent in the polysilazane solution after the coating by the above, performing the plasma treatment only on the side that becomes the barrier layer, and then subjecting the film to an aging treatment in a water or water vapor atmosphere. It is a manufacturing method of the solar cell module which has.

本発明を用いることで、1枚のフィルムに対して耐摩耗性と水蒸気バリア性を有した保護フィルムを使用した太陽電池モジュールを作成することが可能となる。また、ハードコート層に賦形を施すことにより、透過率の高いフィルムを使用することが可能となる。さらには、耐摩耗層とバリア層の2つの層についての出発材料が同じであることから、材料を共用できるため、コストダウンを図ることが可能となる。   By using the present invention, it becomes possible to create a solar cell module using a protective film having wear resistance and water vapor barrier properties for one film. Moreover, it becomes possible to use a film with a high transmittance | permeability by shaping a hard-coat layer. Furthermore, since the starting materials for the two layers of the wear-resistant layer and the barrier layer are the same, the materials can be shared, so that the cost can be reduced.

本実施の形態に係る太陽電池全体構成の一例を示す断面図(a)と、その太陽電池における保護フィルム構成の一例を示す断面図(b)である。It is sectional drawing (a) which shows an example of the whole solar cell structure concerning this Embodiment, and sectional drawing (b) which shows an example of the protective film structure in the solar cell. 本実施の保護フィルムのハードコート層を作成するための版作成の概略図である。It is the schematic of plate | board creation for creating the hard-coat layer of the protective film of this implementation.

以下、本発明の保護フィルムを使用した太陽電池モジュールの実施形態について、図面に基づいて詳細に説明する。   Hereinafter, an embodiment of a solar cell module using the protective film of the present invention will be described in detail based on the drawings.

図1は、(a)に保護フィルムを用いた太陽電池モジュールの断面図を示した。また、(b)に実施形態の太陽電池における表面の保護フィルム断面図(b)である。図1の(b)に示すように、太陽電池モジュールにおける表面の保護フィルム100は、受光面側より耐摩耗層1、ハードコート層2、基材層3、バリア層4とからなる。   FIG. 1 shows a sectional view of a solar cell module using a protective film in (a). Moreover, (b) is a cross-sectional view (b) of the protective film on the surface of the solar cell of the embodiment. As shown in FIG. 1B, the protective film 100 on the surface of the solar cell module includes an abrasion-resistant layer 1, a hard coat layer 2, a base material layer 3, and a barrier layer 4 from the light receiving surface side.

耐摩耗層1は、太陽電池モジュールの受光面側の最前面に配置されて、表面に光線が入射するものである。この耐摩耗層1は、ポリシラザン溶液を塗布させた後に、水、もしくは水蒸気雰囲気下で処理を行うことで形成した層である。
なお、ポリシラザンとは、珪素−窒素結合を持つポリマーで、Si−N、Si−H、N−H等からなるSiO、Si、及び両方の中間固溶体SiOxNy等のセラミック前駆体無機ポリマーである。
The wear-resistant layer 1 is disposed on the foremost surface on the light receiving surface side of the solar cell module, and light is incident on the surface. The abrasion resistant layer 1 is a layer formed by applying a polysilazane solution and then performing a treatment in a water or water vapor atmosphere.
Polysilazane is a polymer having a silicon-nitrogen bond, and is a ceramic precursor inorganic polymer such as SiO 2 , Si 3 N 4 made of Si—N, Si—H, N—H or the like, and both intermediate solid solutions SiOxNy. It is.

ポリシラザンは、   Polysilazane

但し、式中のR1、R2、R3のそれぞれは、水素原子、アルキル基、アルケニル(ALKENYL)基、シクロアルキル基、アリール基、アルキルシリル基、アルキルアミノ基、アルコキシ基などであって、本発明において、得られるガスバリア膜としての緻密性からはR1、R2及びR3のすべてが水素原子であるパーヒドロポリシラザンが特に好ましい。 However, each of R1, R2, and R3 in the formula is a hydrogen atom, an alkyl group, an alkenyl (ALKENYL) group, a cycloalkyl group, an aryl group, an alkylsilyl group, an alkylamino group, an alkoxy group, etc. In particular, perhydropolysilazane in which all of R 1, R 2 and R 3 are hydrogen atoms is particularly preferred from the viewpoint of the denseness as a gas barrier film to be obtained.

パーヒドロポリシラザンは、直鎖構造と6及び8員環を中心とする環構造が存在した構造と推定されている。その分子量は数平均分子量(Mn)で約600〜2000程度(ポリスチレン換算)であり、分子量によって液体または固体の物質になる。これらは有機溶媒に溶解した溶液状態で市販されており、市販品をそのままポリシラザン含有塗布液として使用することができる。
なお、ポリシラザンを含有する液体を調製する有機溶媒として、ポリシラザンと容易に反応してしまうようなアルコール系や水分を含有するものを用いることは好ましくない。具体的には、脂肪族炭化水素、脂環式炭化水素、芳香族炭化水素等の炭化水素溶媒、ハロゲン化炭化水素溶媒、脂肪族エーテル、脂環式エーテル等のエーテル類が使用できる。
Perhydropolysilazane is presumed to have a linear structure and a ring structure centered on 6- and 8-membered rings. The molecular weight is about 600 to 2000 (polystyrene conversion) in terms of number average molecular weight (Mn), and becomes a liquid or solid substance depending on the molecular weight. These are marketed in a solution state dissolved in an organic solvent, and the commercially available product can be used as it is as a polysilazane-containing coating solution.
In addition, it is not preferable to use an organic solvent or water-containing one that easily reacts with polysilazane as an organic solvent for preparing a liquid containing polysilazane. Specifically, hydrocarbon solvents such as aliphatic hydrocarbons, alicyclic hydrocarbons and aromatic hydrocarbons, ethers such as halogenated hydrocarbon solvents, aliphatic ethers and alicyclic ethers can be used.

使用する有機溶剤として、具体的には、ペンタン、ヘキサン、シクロヘキサン、トルエン、キシレン、ソルベッソ、ターペン等の炭化水素、塩化メチレン、クロロホルム等のハロゲン化炭化水素、ジブチルエーテル、ジオキサン、テトラヒドロフラン等のエーテル類
等がある。これらの溶剤は、ポリシラザンの溶解度や溶剤の蒸発速度等、目的に合わせて選択し、複数の溶剤を混合してもよい。
Specific examples of organic solvents to be used include hydrocarbons such as pentane, hexane, cyclohexane, toluene, xylene, solvesso and terpene, halogenated hydrocarbons such as methylene chloride and chloroform, and ethers such as dibutyl ether, dioxane and tetrahydrofuran. Etc. These solvents may be selected according to purposes such as the solubility of polysilazane and the evaporation rate of the solvent, and a plurality of solvents may be mixed.

ポリシラザン含有溶液中のポリシラザン濃度は、目的とするシリカ膜厚や塗布液のポットライフによっても異なるが、0.2〜35質量%程度である。   The polysilazane concentration in the polysilazane-containing solution is about 0.2 to 35% by mass, although it varies depending on the target silica film thickness and the pot life of the coating solution.

酸化珪素化合物への転化を促進するために、アミンや金属の触媒を添加することもできる。これらについては、市販品として入手することが可能であり、具体的にはAZエレクトロニックマテリアルズ(株)製 アクアミカ NAX120、NN110、NN120、NN310、NN320、NL110A、NL120A、NP110、NP140、NP344、SP140などが挙げられる。   In order to promote the conversion to a silicon oxide compound, an amine or metal catalyst may be added. About these, it is possible to obtain as a commercial item, specifically, AZ Electronic Materials Co., Ltd. product Aquamica NAX120, NN110, NN120, NN310, NN320, NL110A, NL120A, NP110, NP140, NP344, SP140, etc. Is mentioned.

耐摩耗層とバリア層それぞれに含まれる酸素の含有量を測定する方法としてはフーリエ変換赤外吸収法(FTIR)や、X線電子分光分析法(XPS)を用いて測定する方法がある。
FTIRを用いて測定を行う際には、耐摩耗層とバリア層についてそれぞれ、Siと帰属される840〜950cm−1の振動とSiOと帰属される1080cm−1の振動のピーク面積を両者で比較することで大小について判断できる。また、XPSを用いて測定する場合には、Siと帰属される101〜102eV(電子ボルト:ELECTRONVOLT)のピーク面積とSiOと帰属される103〜104eVのピーク面積を耐摩耗層、バリア層についてそれぞれ比較するとよい。
As a method for measuring the content of oxygen contained in each of the wear-resistant layer and the barrier layer, there is a method using a Fourier transform infrared absorption method (FTIR) or an X-ray electron spectroscopy (XPS).
When the measurement is conducted by the FTIR, the peak area of the vibration of 1080 cm -1 respectively, for the wear layer and the barrier layer, which is attributed to the vibration and the SiO 2 of 840~950Cm -1 attributed the Si 3 N 4 By comparing the two, the size can be determined. Further, when measuring using XPS, the peak area of 101 to 102 eV (electron volt: ELECTRONVOLT) attributed to Si 3 N 4 and the peak area of 103 to 104 eV attributed to SiO 2 are represented as an abrasion resistant layer, Each barrier layer may be compared.

耐摩耗層は、受光面側最表面に存在するため耐摩耗性の他、防汚性能が有ることが望ましい。耐摩耗層はSiO皮膜となっているため、Si皮膜の水との接触角が60°程度であるのに対し、SiOでは20〜30°と小さくなる。このように、耐摩耗層と水との接触角をバリア層と水との接触角よりも小さくする事で、水で濡れた時に、汚れを浮かして除去するセルフクリーニング効果が期待できる。 Since the wear-resistant layer is present on the outermost surface on the light-receiving surface side, it is desirable to have antifouling performance in addition to wear resistance. Since the wear-resistant layer is a SiO 2 film, the contact angle of the Si 3 N 4 film with water is about 60 °, whereas in SiO 2 it is as small as 20-30 °. Thus, by making the contact angle between the wear-resistant layer and water smaller than the contact angle between the barrier layer and water, a self-cleaning effect can be expected that floats and removes dirt when wet.

ハードコート層2は電離放射線による硬化性樹脂からなる。ここで言う電離放射線とは、例えば、紫外線、可視光、赤外線、電子線であるが、その内でも、生産しやすい紫外線硬化型樹脂で構成されることが望ましい。
これらハードコート層2の材料としては、ウレタンアクリレート、ポリエーテルアクリレート、ポリエステルアクリレート、エポキシアクリレート、アクリルアクリレート、これらを水に分散したもの、エポキシド、光重合性不飽和結合を有する反応性モノマー及びこれらの混合物が用いられる。
The hard coat layer 2 is made of a curable resin by ionizing radiation. The ionizing radiation referred to here is, for example, ultraviolet light, visible light, infrared light, or electron beam. Among them, it is desirable that the ionizing radiation is made of an ultraviolet curable resin that is easy to produce.
As materials of these hard coat layers 2, urethane acrylate, polyether acrylate, polyester acrylate, epoxy acrylate, acrylic acrylate, those dispersed in water, epoxide, reactive monomer having a photopolymerizable unsaturated bond, and these A mixture is used.

光重合性不飽和結合を分子内に1個以上有するアクリレートモノマーとしては、メチルアクリレート、エチルアクリレート、n−プロピルアクリレート、イソプロピルアクリレート、n−ブチルアクリレート、イソブチルアクリレート、tert−ブチルアクリレート、n−ペンチルアクリレート、n−ヘキシルアクリレート、2−エチルヘキシルアクリレート、n−オクチルアクリレート、n−デシルアクリレート、ヒドロキシエチルアクリレート、ヒドロキシプロピルアクリレート、アリルアクリレート、ベンジルアクリレート、ブトキシエチルアクリレート、ブトキシエチレングリコールアクリレート、シクロヘキシルアクリレート、ジシクロペンタニルアクリレート、2−エチルヘキシルアクリレート、グリセロールアクリレート、グリシジルアクリレート、2−ヒドロキシエチルアクリレート、2−ヒドロキシプロピルアクリレート、イソボルニルアクリレート、イソデキシルアクリレート、イソオクチルアクリレート、ラウリルアクリレート、2−メトキシエチルアクリレート、メトキシエチレングリコールアクリレート、フェノキシエチルアクリレート、ステアリルアクリレート、エチレングリコールジアクリレート、ジエチレングリコールジアクリレート、1,4−ブタンジオールジアクリレート、1,5−ペンタンジオールジアクリレート、1,6−ヘキサジオールジアクリレート、1,3−プロパンジオールアクリレート、1,4−シクロヘキサンジオールジアクリレート、2,2−ジメチロールプロパンジアクリレート、グリセロールジアクリレート、トリプロピレングリコールジアクリレート、グリセロールトリアクリレート、トリメチロールプロパントリアクリレート、ポリオキシエチレントリメチロールプロパントリアクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、エチレンオキサイド変性ペンタエリスリトールトリアクリレート、エチレンオキサイド変性ペンタエリスリトールテトラアクリレート、プロピオンオキサイド変性ペンタエリスリトールトリアクリレート、プロピオンオキサイド変性ペンタエリスリトールテトラアクリレート、トリエチレングリコールジアクリレート、ポリオキシプロピルトリメチロールプロパントリアクリレート、ブチレングリコールジアクリレート、1,2,4−ブタントリオールトリアクリレート、2,2,4−トリメチル−1,3−ペンタジオールジアクリレート、ジアリルフマレート、1,10−デカンジオールジメチルアクリレート、ペンタエリスリトールヘキサアクリレート、及び、上記のアクリレートをメタクリレートに換えたもの、γ−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、1−ビニル−2−ピロリドン等が挙げられる。   Examples of the acrylate monomer having at least one photopolymerizable unsaturated bond in the molecule include methyl acrylate, ethyl acrylate, n-propyl acrylate, isopropyl acrylate, n-butyl acrylate, isobutyl acrylate, tert-butyl acrylate, and n-pentyl acrylate. , N-hexyl acrylate, 2-ethylhexyl acrylate, n-octyl acrylate, n-decyl acrylate, hydroxyethyl acrylate, hydroxypropyl acrylate, allyl acrylate, benzyl acrylate, butoxyethyl acrylate, butoxyethylene glycol acrylate, cyclohexyl acrylate, dicyclopenta Nyl acrylate, 2-ethylhexyl acrylate, glycerol acrylate, Lysidyl acrylate, 2-hydroxyethyl acrylate, 2-hydroxypropyl acrylate, isobornyl acrylate, isodexyl acrylate, isooctyl acrylate, lauryl acrylate, 2-methoxyethyl acrylate, methoxyethylene glycol acrylate, phenoxyethyl acrylate, stearyl acrylate , Ethylene glycol diacrylate, diethylene glycol diacrylate, 1,4-butanediol diacrylate, 1,5-pentanediol diacrylate, 1,6-hexadiol diacrylate, 1,3-propanediol acrylate, 1,4-cyclohexane Diol diacrylate, 2,2-dimethylolpropane diacrylate, glycerol diacrylate, tri Lopylene glycol diacrylate, glycerol triacrylate, trimethylolpropane triacrylate, polyoxyethylene trimethylolpropane triacrylate, pentaerythritol triacrylate, pentaerythritol tetraacrylate, ethylene oxide modified pentaerythritol triacrylate, ethylene oxide modified pentaerythritol tetraacrylate, Propion oxide modified pentaerythritol triacrylate, propion oxide modified pentaerythritol tetraacrylate, triethylene glycol diacrylate, polyoxypropyltrimethylolpropane triacrylate, butylene glycol diacrylate, 1,2,4-butanetriol triacrylate, 2 , 2,4-trimethyl-1,3-pentadiol diacrylate, diallyl fumarate, 1,10-decane diol dimethyl acrylate, pentaerythritol hexaacrylate, and the above acrylate replaced with methacrylate, γ-methacryloxy Examples thereof include propyltrimethoxysilane and 1-vinyl-2-pyrrolidone.

ハードコート層2については、平滑な層でも良い(図示せず)が、その形状をプリズム形状とすることで、光の利用効率を上昇させることができる。この場合には頂角が小さいほど望ましいが、加工時にハードコート層の凸部分の折れなどの問題があるため、具体的には30°から150°の間、さらには60°から90°の間が望ましい。   The hard coat layer 2 may be a smooth layer (not shown), but the light utilization efficiency can be increased by making the shape into a prism shape. In this case, it is desirable that the apex angle is small. However, since there is a problem such as bending of the convex portion of the hard coat layer during processing, specifically, it is between 30 ° and 150 °, and further between 60 ° and 90 °. Is desirable.

耐摩耗層がハードコート層の凹凸の差より薄い状態とは、耐摩耗層がハードコート層の凹凸における段差よりも薄い膜厚を有するということである。なお、この場合耐摩耗層は、膜厚が均一であることが望ましいが、ハードコート層の凹凸形状の影響を受けて、例えば凹部の耐摩耗層の厚みが凸部より厚い場合も含む。   The state in which the wear-resistant layer is thinner than the difference in unevenness of the hard coat layer means that the wear-resistant layer has a film thickness thinner than the step in the unevenness of the hard coat layer. In this case, it is desirable that the wear-resistant layer has a uniform film thickness, but it includes the case where the thickness of the wear-resistant layer in the concave portion is larger than that of the convex portion due to the influence of the uneven shape of the hard coat layer.

ハードコート層2は、フィルムの上に積層することで基材より硬度を大きくする効果がある。例えば、耐摩耗層1があることで、スチールウールの耐性を得ることが可能であるが、例えば引っかきなどに対する耐性については耐摩耗層が薄いために、その下にある基材の影響を受けてしまい、その結果引っかきの耐性が所望の通りには得られないことがある。そのためハードコート層を設ける必要がある。ハードコート層2自体の硬さとしては鉛筆硬度で2H以上が望ましい。   The hard coat layer 2 has an effect of making the hardness larger than that of the base material by being laminated on the film. For example, the presence of the wear-resistant layer 1 makes it possible to obtain the resistance of steel wool, but the resistance to scratches, for example, is influenced by the underlying substrate because the wear-resistant layer is thin. As a result, scratch resistance may not be obtained as desired. Therefore, it is necessary to provide a hard coat layer. The hardness of the hard coat layer 2 itself is preferably 2H or more in terms of pencil hardness.

ハードコート層には、基材層の劣化原因になる紫外線が到達しないように紫外線吸収剤が配合されてもよい。
その場合、紫外線吸収剤の例としては、紫外線吸収剤であれば特に限定されるものではなく、サリシレート系、ベンゾフェノン系、及びベンゾトリアゾール系などの紫外線吸収剤が一般に知られている。
The hard coat layer may be blended with an ultraviolet absorber so that ultraviolet rays that cause deterioration of the base material layer do not reach.
In this case, the ultraviolet absorber is not particularly limited as long as it is an ultraviolet absorber, and salicylate-based, benzophenone-based, and benzotriazole-based ultraviolet absorbers are generally known.

サリシレート系紫外線吸収剤としては、フェニルサリシリシレート、4−t−ブチルフェニルサリシレート、及び4−tert−オクチルフェニルサリシレートなどが一般的に知られている。   As salicylate ultraviolet absorbers, phenyl salicylate, 4-tert-butylphenyl salicylate, 4-tert-octylphenyl salicylate and the like are generally known.

ベンゾフェノン系紫外線吸収剤としては2,4−ジヒドロキシベンゾフェノン、2−ヒドロキシ−4−メトキシベンゾフェノン、2−ヒドロキシ−4−メトキシベンゾフェノン−5−スルホン酸、2−ヒドロキシ−4−n−オクトオキシベンゾフェノン、2−ヒドロキシ−4−n−ドデシル−オキシベンゾフェノン、2−ヒドロキシ−4−ベンジルオキシ−ベンゾフェノン、ビス(5−ベンゾイル−4−ヒドロキシ−2−メトキシフェニル)メタン、2,2´−ジヒドロキシ−4−メトキシベンゾフェノン、2,2´−ジヒドロキシ−4,4´−ジメトキシベンゾフェノン、2,2´−ジヒドロキシ−4,4´−ジメトキ
シベンゾフェノンと他の4置換ベンゾフェノンの混合品(例えば、商品名「UVINUL490」BASF社製)、2,2´,4,4´−テトラヒドロキシベンゾフェノン、及び2−ヒドロキシ−4−メトキシ−2´−カルボキシルベンゾフェノンなどが一般的に知られている。
Examples of benzophenone ultraviolet absorbers include 2,4-dihydroxybenzophenone, 2-hydroxy-4-methoxybenzophenone, 2-hydroxy-4-methoxybenzophenone-5-sulfonic acid, 2-hydroxy-4-n-octoxybenzophenone, 2 -Hydroxy-4-n-dodecyl-oxybenzophenone, 2-hydroxy-4-benzyloxy-benzophenone, bis (5-benzoyl-4-hydroxy-2-methoxyphenyl) methane, 2,2'-dihydroxy-4-methoxy Benzophenone, 2,2′-dihydroxy-4,4′-dimethoxybenzophenone, a mixture of 2,2′-dihydroxy-4,4′-dimethoxybenzophenone and other 4-substituted benzophenones (for example, trade name “UVINUL490” BASF 2,2 '4,4'-tetrahydroxy benzophenone, and the like 2-hydroxy-4-methoxy-2'-carboxy benzophenone is generally known.

ベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤としては、2−(2´−ヒドロキシ−5´−メチルフェニル)ベンゾトリアゾール、2−〔2´−ヒドロキシ−3´,5´−ビス(α,α−ジメチルベンジル)フェニル〕−ベンゾトリアゾール、2−(2´−ヒドロキシ−3´,5´−ジ−t−ブチル−フェニル)−ベンゾトリアゾール、2−(2´−ヒドロキシ−3´−tert−ブチル−5´−メチルフェニル)−5−クロロベンゾトリアゾール、2−(2´−ヒドロキシ−3´,5´−ジ−tert−ブチルフェニル)−5−クロロベンゾトリアゾール、2−(2´−ヒドロキシ−3´,5´−ジ−t−アミル−ベンゾトリアゾール、2−(2´−ヒドロキシ−5´−t−オクチルフェニル)ベンゾトリアゾール、及び2,2´−メチレンビス〔4−(1,1,3,3−テトラメチルブチル)−6−(2N−ベンゾトリアゾール−2−イル)フェノール〕などが一般的に知られている。   Examples of benzotriazole ultraviolet absorbers include 2- (2′-hydroxy-5′-methylphenyl) benzotriazole and 2- [2′-hydroxy-3 ′, 5′-bis (α, α-dimethylbenzyl) phenyl. ] -Benzotriazole, 2- (2'-hydroxy-3 ', 5'-di-t-butyl-phenyl) -benzotriazole, 2- (2'-hydroxy-3'-tert-butyl-5'-methyl) Phenyl) -5-chlorobenzotriazole, 2- (2'-hydroxy-3 ', 5'-di-tert-butylphenyl) -5-chlorobenzotriazole, 2- (2'-hydroxy-3', 5 ' -Di-t-amyl-benzotriazole, 2- (2'-hydroxy-5'-t-octylphenyl) benzotriazole, and 2,2'-methylenebis [4- (1,1,3 3-tetramethylbutyl)-6-(2N-benzotriazol-2-yl) phenol], etc. are generally known.

ハードコート層の厚みについては紫外線を吸収させる機能を付与するためにハードコート層における一番薄くなる部分の膜厚となる基材と凹部までの厚みは3μm以上あることが望ましい。一方、ハードコート層はあまり厚くするとハードコート層の作成時における硬化収縮により、基材層3とハードコート層2との間で密着性に問題が生じるのでハードコート層の最大の厚み、即ち基材から凸部分までの厚みは100μm以下であることが望ましい。   Regarding the thickness of the hard coat layer, in order to provide a function of absorbing ultraviolet rays, it is desirable that the thickness between the base material and the concave portion, which is the thinnest part of the hard coat layer, is 3 μm or more. On the other hand, if the hard coat layer is too thick, there is a problem in adhesion between the base material layer 3 and the hard coat layer 2 due to curing shrinkage at the time of forming the hard coat layer. The thickness from the material to the convex portion is desirably 100 μm or less.

ハードコート層2における凹凸を形成するための方法としては、基材3にハードコート層を形成するための樹脂を塗布したものを、予め凹凸が形成されている金型と密着させ、基材側から電離放射線を照射させ、樹脂を硬化させることにより凹凸を形成することが出来る。   As a method for forming irregularities in the hard coat layer 2, a substrate 3 coated with a resin for forming a hard coat layer is brought into close contact with a mold on which irregularities are formed in advance. Irregularities can be formed by irradiating with ionizing radiation and curing the resin.

金型としては、例えば図2に示すようなロール状基材5を回転させながら、ダイヤモンドバイト6を移動させるか、または、ロールを移動させながら、バイトで押圧することにより、凹凸形状を形成する。   As a mold, for example, a diamond bit 6 is moved while rotating a roll-shaped substrate 5 as shown in FIG. 2, or an uneven shape is formed by pressing with a bit while moving a roll. .

転写原型の材質は金属、セラミック、樹脂等限定されないが、好ましくは寸法安定性、導電性に優れるステンレス等の鉄合金、さらに加工性に優れた銅、あるいはニッケルが積層されたものを用いることが好ましい。
転写原型表面は機械研磨、エッチング、洗浄等を施し、均一な表面にして用いる。
表面に凹凸形状を形成する方法として、レーザー加工、スパッタ、エッチング、フォトリソグラフィ等が挙げられる。生産性に優れ、所望の表面凹凸を効率的に得る方法として、転写原型表面にダイヤモンドバイト等を用いて機械加工を行う方法が好ましい。
The material of the transfer master is not limited to metal, ceramic, resin, etc., but preferably an iron alloy such as stainless steel having excellent dimensional stability and conductivity, and copper or nickel laminated with excellent workability are preferably used. preferable.
The surface of the transfer master is subjected to mechanical polishing, etching, cleaning, and the like to make a uniform surface.
Laser processing, sputtering, etching, photolithography, and the like can be used as a method for forming a concavo-convex shape on the surface. As a method for obtaining the desired surface irregularities with excellent productivity, a method of performing machining using a diamond tool or the like on the surface of the transfer master is preferable.

基材層3は屋外に設置されることを鑑み、水、紫外線などに対する耐候性を有しているものが望ましく、例えばポリエチレンテレフタレート樹脂(PET樹脂)、ポリエチレンナフタレート(PEN樹脂)等のポリエステル系樹脂、ポリエチレン樹脂、ポリプロピレン系樹脂、メタクリル系樹脂、ポリ乳酸系樹脂、ポリメチルペンテン系樹脂、環状ポリオレフィン系樹脂、ポリスチレン系樹脂、アクリロニトリル−(ポリ)スチレン共重合体(AS樹脂)、アクリロニトリル−ブタジエン−スチレン共重合体(ABS樹脂)、ポリ塩化ビニル系樹脂、ポリ(メタ)アクリル系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、ポリエステル系樹脂、ポリアミド系樹脂、ポリイミド系樹脂、ポリアミドイミド系樹脂、ポリアリールフタレート系樹脂、シリコーン系樹脂、ポリスルホン系樹脂、ポリフェニレンスルフィド系樹脂、ポリエーテルスルホン系樹脂、ポリエーテルイミド系樹脂、エポキシ系樹脂、ポリウレタン系樹脂、アセタール系樹脂、セルロース系樹脂等が挙げられる。   In consideration of being installed outdoors, the base material layer 3 is preferably one having weather resistance against water, ultraviolet rays, and the like. For example, a polyester type such as polyethylene terephthalate resin (PET resin) or polyethylene naphthalate (PEN resin). Resin, polyethylene resin, polypropylene resin, methacrylic resin, polylactic acid resin, polymethylpentene resin, cyclic polyolefin resin, polystyrene resin, acrylonitrile- (poly) styrene copolymer (AS resin), acrylonitrile-butadiene -Styrene copolymer (ABS resin), polyvinyl chloride resin, poly (meth) acrylic resin, polycarbonate resin, polyester resin, polyamide resin, polyimide resin, polyamideimide resin, polyaryl phthalate resin ,silicone Resins, polysulfone resins, polyphenylene sulfide resins, polyether sulfone resins, polyether imide resins, epoxy resins, polyurethane resins, acetal resins, cellulose resins and the like.

上述の樹脂の中でも、高い耐熱性、強度、耐候性、耐久性、水蒸気バリア性等をバランス良く有したものとして、ポリエステル系樹脂、環状ポリオレフィン系樹脂が挙げられ、これらを使用することが好ましい。また、光を透過させる必要があるため、基材単体の透過率はJISK7361に規定された全光線透過率において80%以上あることが望ましく、特に90%以上あることが望ましい。   Among the above-mentioned resins, polyester resins and cyclic polyolefin resins are preferably used as those having a good balance of high heat resistance, strength, weather resistance, durability, water vapor barrier properties, and the like. Further, since it is necessary to transmit light, the transmittance of the base material alone is desirably 80% or more, particularly desirably 90% or more, in the total light transmittance defined in JIS K7361.

上述のポリエステル系樹脂としては、例えばポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート等が挙げられる。これらのポリエステル系樹脂の中でも、耐熱性、耐候性等の諸機能面及び価格面のバランスが良好なポリエチレンテレフタレートが特に好ましい。   Examples of the polyester-based resin include polyethylene terephthalate and polyethylene naphthalate. Among these polyester-based resins, polyethylene terephthalate is particularly preferable because it has a good balance between various functions such as heat resistance and weather resistance, and price.

上述の環状ポリオレフィン系樹脂としては、例えば、シクロペンタジエン(及びその誘導体)、ジシクロペンタジエン(及びその誘導体)、シクロヘキサジエン(及びその誘導体)、ノルボルナジエン(及びその誘導体)等の環状ジエンを重合させてなるポリマー、また当該環状ジエンとエチレン、プロピレン、4−メチル−1−ペンテン、スチレン、ブタジエン、イソプレン等のオレフィン系モノマーの1種又は2種以上とを共重合させてなるコポリマー等が挙げられる。これらの環状ポリオレフィン系樹脂の中でも、強度、耐熱性、耐候性等に優れるシクロペンタジエン(及びその誘導体)、ジシクロペンタジエン(及びその誘導体)又はノルボルナジエン(及びその誘導体)等の環状ジエンのポリマーが特に好ましい。   Examples of the cyclic polyolefin-based resin described above include polymerization of cyclic dienes such as cyclopentadiene (and derivatives thereof), dicyclopentadiene (and derivatives thereof), cyclohexadiene (and derivatives thereof), norbornadiene (and derivatives thereof), and the like. And a copolymer obtained by copolymerizing the cyclic diene with one or more olefinic monomers such as ethylene, propylene, 4-methyl-1-pentene, styrene, butadiene, and isoprene. Among these cyclic polyolefin resins, cyclopentadiene (and derivatives thereof), dicyclopentadiene (and derivatives thereof) or norbornadiene (and derivatives thereof) such as polymers having excellent strength, heat resistance, and weather resistance are particularly preferred. preferable.

なお、基材3の形成材料としては、上述の合成樹脂を1種又は2種以上混合して使用することができる。また、基材3の形成材料中には、加工性、耐熱性、耐候性、機械的性質、寸法安定性等を改良、改質する目的で、種々の添加剤等を混合することができる。この添加剤としては、例えば滑剤、架橋剤、酸化防止剤、紫外線吸収剤、光安定化剤、充填剤、強化繊維、補強剤、帯電防止剤、難燃剤、耐炎剤、発泡剤、防カビ剤、顔料等が挙げられる。なお、基材3は、延伸されていてもされていなくとも良い。   In addition, as a forming material of the base material 3, the above-mentioned synthetic resins can be used alone or in combination. In addition, various additives and the like can be mixed in the forming material of the base material 3 for the purpose of improving and modifying processability, heat resistance, weather resistance, mechanical properties, dimensional stability, and the like. Examples of the additive include a lubricant, a crosslinking agent, an antioxidant, an ultraviolet absorber, a light stabilizer, a filler, a reinforcing fiber, a reinforcing agent, an antistatic agent, a flame retardant, a flame retardant, a foaming agent, and an antifungal agent. And pigments. The base material 3 may or may not be stretched.

バリア層4については耐摩耗層1と同様ポリシラザン溶液を塗布した後に乾燥後、プラズマ処理を行うことで窒化ケイ素を主とする皮膜を形成する。
バリア層4については基材に対して直接ポリシラザンを塗布しても良いが、基材自体が有する凹凸を埋めるためのアンカー層を予め設けてからバリア層4を作成するためのポリシラザンを塗布しても良い。
The barrier layer 4 is coated with a polysilazane solution in the same manner as the wear-resistant layer 1, dried and then plasma treated to form a film mainly composed of silicon nitride.
For the barrier layer 4, polysilazane may be applied directly to the base material, but after providing an anchor layer for filling the unevenness of the base material itself, the polysilazane for creating the barrier layer 4 is applied. Also good.

バリア層4は無機質であり、膜厚を厚くするとクラックが入り、バリア層として機能しなくなることから膜厚としては2μm以下が望ましい。また膜厚が薄い場合には、基材自体の凹凸に起因するピンホールの影響が無視できなくなるため0.01μm以上が望ましい。   The barrier layer 4 is inorganic, and when the film thickness is increased, cracks occur and the barrier layer 4 does not function as a barrier layer, so the film thickness is preferably 2 μm or less. When the film thickness is thin, the influence of pinholes due to the unevenness of the substrate itself cannot be ignored, so that the thickness is preferably 0.01 μm or more.

耐摩耗層1及びバリア層4についての塗工方式としては、 塗布方法としては任意の適切な方法が採用され得る。具体例としては、グラビアコート、マイクログラビアコート、リバースグラビアコート、コンマコート、バーコート、スピンコート、ロールコート、フローコート、インクジェット、スプレーコート、ディップコートなどにより塗工を行なうことが可能である。   As a coating method for the wear-resistant layer 1 and the barrier layer 4, any appropriate method can be adopted as a coating method. As specific examples, coating can be performed by gravure coating, micro gravure coating, reverse gravure coating, comma coating, bar coating, spin coating, roll coating, flow coating, ink jet, spray coating, dip coating, and the like.

図1に実施例1として本発明の太陽電池モジュールにおける保護フィルムについて説明する。   The protective film in the solar cell module of the present invention will be described as Example 1 in FIG.

保護フィルムの作成
まず、基材である耐候性PET(HB、帝人デュポンフィルム(株))50μmの表面に、粘度が1500mPa・Sとなるように、1,6−へキサンジオールジアクリレートで希釈し、さらに紫外線吸収剤(UVINUL490、BASF)を全量に対して2%重量部だけ添加した紫外線硬化樹脂(EBECRYL 800 ダイセル・サイテック(株))を塗工した。その後紫外線硬化樹脂が塗工してある側に頂角が60°、50μmピッチとなるような版を線圧0.4kgf/cmで押し当てながら、UVランプを用いて1000mJ/cmで露光を行い、60°のプリズム形状を有する賦形を作成した。
次いで、耐摩耗層及び、バリア層の前躯体となるポリシラザン溶液(NAX120−20
AZエレクトロニクス(株))を基板両面に対してディップ(引き上げ速度 0.5m/min)により0.4μmとなるように塗布し、50℃で1分間加熱乾燥した。その後、バリア層側については、大気圧プラズマを用い、窒素流量400L/min、酸素流量1.69×10−1Pa・m/sec(100SCCM)の混合ガスを使用し、基板と電極間距離を3mmとし、30秒間の処理を行った。
Preparation of protective film First, dilute with 1,6-hexanediol diacrylate so that the viscosity is 1500 mPa · S on the surface of 50 μm of weather resistant PET (HB, Teijin DuPont Films) which is the base material. Further, an ultraviolet curable resin (EBECRYL 800 Daicel Cytec Co., Ltd.) to which only 2% by weight of an ultraviolet absorber (UVINUL490, BASF) was added was applied. Thereafter, exposure is performed at 1000 mJ / cm 2 using a UV lamp while pressing a plate having an apex angle of 60 ° and a pitch of 50 μm on the side coated with the UV curable resin at a linear pressure of 0.4 kgf / cm. To create a 60 [deg.] Prism shape.
Next, a polysilazane solution (NAX120-20) that serves as a precursor for the wear-resistant layer and the barrier layer.
AZ Electronics Co., Ltd.) was applied to both surfaces of the substrate by dipping (pulling speed 0.5 m / min) so as to be 0.4 μm, and dried by heating at 50 ° C. for 1 minute. Thereafter, on the barrier layer side, atmospheric pressure plasma is used, a mixed gas having a nitrogen flow rate of 400 L / min and an oxygen flow rate of 1.69 × 10 −1 Pa · m 3 / sec (100 SCCM) is used, and the distance between the substrate and the electrode Was 3 mm, and the treatment was performed for 30 seconds.

ついで、プラズマ処理が施された基材についてはその後、60℃90%で3時間の加湿処理を行った。   Subsequently, the substrate subjected to the plasma treatment was then humidified at 60 ° C. and 90% for 3 hours.

実施例1におけるポリシラザン溶液の塗布から加湿処理までを2回行なった他は実施例1と同様にして該フィルムを得た。   The film was obtained in the same manner as in Example 1 except that the process from application of the polysilazane solution to humidification in Example 1 was performed twice.

実施例1における加湿処理を水蒸気処理から蒸留水へ5分間浸漬を行う処理とした他は同様にして行なった。   The humidification treatment in Example 1 was carried out in the same manner except that the treatment was performed by dipping from distilled water to distilled water for 5 minutes.

実施例3におけるポリシラザン溶液の塗布から蒸留水への浸漬処理までの工程を2回行なった他は実施例3と同様にして行なった。   The same procedure as in Example 3 was performed, except that the steps from application of the polysilazane solution in Example 3 to immersion treatment in distilled water were performed twice.

<比較例1>
比較例1として、実施例1のポリシラザン溶液のバリア層に対するプラズマ処理を行わなかったものを作成した。
<Comparative Example 1>
As Comparative Example 1, a polysilazane solution of Example 1 that was not subjected to plasma treatment on the barrier layer was prepared.

<比較例2>
比較例2として、実施例1のポリシラザン溶液の加湿処理を行なわなかったものを作成した。
<Comparative example 2>
As Comparative Example 2, a polysilazane solution of Example 1 that was not humidified was prepared.

作成した保護シートにおいて、水蒸気バリア試験、耐摩耗性試験を行った。また、作成したフィルムについて発電効率の比較を行なった。その結果を表1に示した。   The prepared protective sheet was subjected to a water vapor barrier test and an abrasion resistance test. In addition, the power generation efficiency of the prepared films was compared. The results are shown in Table 1.

水蒸気バリア試験として、水蒸気透過率を測定した。測定方法としてはJIS規格のK7129B法(等圧法、温度40℃、湿度90%RH)及びASTM D3985−81に示された測定方法に準じたモコン法(クーロメトリック法)を用い、測定はMOCON社製PERMATRAN―W3/33を用いて測定した。測定された水蒸気透過率は、ポリシラザン溶液のプラズマ処理をしたものは、いずれも1g/(m・day)未満であり、防湿膜として十分に機能していることがわかった。比較例1のポリシラザン溶液によるプラズマ処理をしなかったものは、1g/(m2/day)以上の水蒸気透過があり、
防湿膜としての機能を有していなかった。
As a water vapor barrier test, the water vapor transmission rate was measured. As a measuring method, a JIS standard K7129B method (isobaric method, temperature 40 ° C., humidity 90% RH) and a Mocon method (coulometric method) according to the measuring method shown in ASTM D3985-81 are used. The measurement was performed using PERMATRAN-W3 / 33 manufactured by the company. The measured water vapor permeability was less than 1 g / (m 2 · day) for the plasma treated polysilazane solution, indicating that it sufficiently functions as a moisture-proof film. What was not plasma-treated with the polysilazane solution of Comparative Example 1 had water vapor transmission of 1 g / (m 2 / day) or more,
It did not have a function as a moisture-proof film.

スチールウール試験として、#0000番のスチールウールで、500g/cmの荷重をかけながら、速度50mm/secで10往復摩擦させ、その後のフィルムの状態について目視で観察した。耐摩耗層処理として、ポリシラザン溶液の加湿処理をした実施例1〜4と、比較例1は、傷がつかず、表面の耐摩耗性は充分にあるが、ポリシラザン溶液の加湿処理をしなかった比較例2は容易に傷が付き、適性に問題がある。 As a steel wool test, # 0000 steel wool was subjected to 10 reciprocating frictions at a speed of 50 mm / sec while applying a load of 500 g / cm 2 , and the state of the film thereafter was visually observed. In Examples 1 to 4 and Comparative Example 1 in which the polysilazane solution was humidified as the abrasion-resistant layer treatment, the surface was sufficiently scratch-resistant, but the polysilazane solution was not humidified. Comparative Example 2 is easily scratched and has a problem with suitability.

発電効率の比較については、6インチの太陽電池セルに対し、実施例及び比較例で準備したフィルムに対しグリセリンを介して貼り合せた上、ソーラーシミュレーターを用い効率測定を行い、問題はでなかった。   Regarding the comparison of power generation efficiency, for the 6-inch solar cells, the films prepared in Examples and Comparative Examples were bonded to each other via glycerin, and then the efficiency was measured using a solar simulator, and there was no problem. .

以上のように、本発明の保護フィルムを有する太陽電池モジュールは、長期にその性能を維持できる。   As described above, the solar cell module having the protective film of the present invention can maintain its performance for a long time.

1・・・・耐摩耗層
2・・・・ハードコート層
3・・・・基材層
4・・・・バリア層
5・・・・ロール状基材
6・・・・ダイヤモンドバイト
11・・・封止樹脂層
12・・・タブ線
13・・・太陽電池セル
14・・・バックシート
100・・・太陽電池モジュールの表面保護フィルム
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Wear-resistant layer 2 ... Hard coat layer 3 ... Base material layer 4 ... Barrier layer 5 ... Roll-shaped base material 6 ... Diamond bit 11 ... -Sealing resin layer 12 ... Tab wire 13 ... Solar cell 14 ... Back sheet 100 ... Surface protection film of solar cell module

Claims (5)

表面に保護フィルムを有した太陽電池モジュールにおいて、保護フィルムが、基材の片方の側にハードコート層および耐摩耗層がこの順で積層され、基材の耐摩耗層が施される側とは反対の側にバリア層を有し、基材が樹脂を用いており、且つ耐摩耗層及びバリア層は共に珪素及び、酸素、窒素を含んでおり、耐摩耗層に含まれる酸素の含有量はバリア層よりも多いことを特徴とする保護フィルムを有した太陽電池モジュール。   In the solar cell module having a protective film on the surface, the protective film is formed by laminating a hard coat layer and an abrasion resistant layer in this order on one side of the substrate, and the side on which the abrasion resistant layer of the substrate is applied It has a barrier layer on the opposite side, the substrate is made of resin, and both the wear resistant layer and the barrier layer contain silicon, oxygen, and nitrogen, and the oxygen content in the wear resistant layer is The solar cell module which has the protective film characterized by having more than a barrier layer. ハードコート層が凹凸形状をしており、耐摩耗層がこの凹凸形状に沿って、凹部における耐摩耗層の膜厚がハードコート層の凹凸の差より薄いことを特徴とする請求項1記載の保護フィルムを有した太陽電池モジュール。   The hard coat layer has a concavo-convex shape, and the wear-resistant layer is formed along the concavo-convex shape, and the film thickness of the wear-resistant layer in the concave portion is thinner than the difference in the concavo-convex shape of the hard coat layer. A solar cell module having a protective film. 耐摩耗層と水との接触角はバリア層と水との接触角よりも小さいことを特徴とする請求項1または2に記載の保護フィルムを有した太陽電池モジュール。   The solar cell module having a protective film according to claim 1 or 2, wherein a contact angle between the wear-resistant layer and water is smaller than a contact angle between the barrier layer and water. ハードコート層は電離放射線硬化性樹脂であることを特徴とする請求項1から3のいずれかに記載の保護フィルムを有した太陽電池モジュール。   The solar cell module having a protective film according to any one of claims 1 to 3, wherein the hard coat layer is an ionizing radiation curable resin. 請求項1から4のいずれかに記載の保護フィルムを有した太陽電池モジュールの製造方法において、その耐摩耗層とバリア層は、ハードコート層と基材層が一体となった基板に対してポリシラザン溶液による塗布を行なった後、ポリシラザン溶液中の溶剤を乾燥させ、バリア層となる側のみプラズマ処理を行った後、該フィルムを水、もしくは水蒸気雰囲気下でエージング処理を行うことを特徴とする保護フィルムを有した太陽電池モジュールの製造方法。   5. The method for producing a solar cell module having the protective film according to claim 1, wherein the wear-resistant layer and the barrier layer are formed of a polysilazane with respect to a substrate in which the hard coat layer and the base material layer are integrated. After the application with the solution, the solvent in the polysilazane solution is dried, the plasma treatment is performed only on the side that becomes the barrier layer, and then the film is subjected to an aging treatment in a water or water vapor atmosphere. A method for producing a solar cell module having a film.
JP2011087104A 2011-04-11 2011-04-11 Solar cell module with protective film and manufacturing method therefor Withdrawn JP2012222188A (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2011087104A JP2012222188A (en) 2011-04-11 2011-04-11 Solar cell module with protective film and manufacturing method therefor

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2011087104A JP2012222188A (en) 2011-04-11 2011-04-11 Solar cell module with protective film and manufacturing method therefor

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JP2012222188A true JP2012222188A (en) 2012-11-12

Family

ID=47273370

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2011087104A Withdrawn JP2012222188A (en) 2011-04-11 2011-04-11 Solar cell module with protective film and manufacturing method therefor

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP2012222188A (en)

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20160032797A (en) * 2014-09-16 2016-03-25 삼성디스플레이 주식회사 Protective sheet and organic light emitting display apparatus comprising the same
JP2019064110A (en) * 2017-09-29 2019-04-25 富士フイルム株式会社 Front sheet for solar cell and solar cell module
CN110739363A (en) * 2018-07-18 2020-01-31 李武 solar power generation road surface assembly
CN117384413A (en) * 2023-12-11 2024-01-12 海阳市凌晖包装有限公司 Protective film for aluminum plate and preparation method thereof

Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20160032797A (en) * 2014-09-16 2016-03-25 삼성디스플레이 주식회사 Protective sheet and organic light emitting display apparatus comprising the same
KR102210988B1 (en) 2014-09-16 2021-02-03 삼성디스플레이 주식회사 Protective sheet and organic light emitting display apparatus comprising the same
JP2019064110A (en) * 2017-09-29 2019-04-25 富士フイルム株式会社 Front sheet for solar cell and solar cell module
CN110739363A (en) * 2018-07-18 2020-01-31 李武 solar power generation road surface assembly
CN117384413A (en) * 2023-12-11 2024-01-12 海阳市凌晖包装有限公司 Protective film for aluminum plate and preparation method thereof

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CN108093628B (en) Polymer substrate with hard coating layer and method for producing same
JP5895687B2 (en) Gas barrier film
WO2010038482A1 (en) Solar battery module
JP5394867B2 (en) Gas barrier film and gas barrier film
US8563129B2 (en) Polysilazane-containing coatings for increasing the conversion efficiency of encapsulated solar cells
KR102070632B1 (en) Method for preparing a barrier film
JP5115777B2 (en) Surface protection sheet for solar cell module
JP2018171929A (en) Gass barrier laminate, member for electronic device, and electronic device
CN103079818A (en) Barrier assembly
WO2015041015A1 (en) Composite film and film mirror for solar light reflection
JP5983454B2 (en) Gas barrier film
TW201620712A (en) Laminated film and flexible electronic device
JP2012222188A (en) Solar cell module with protective film and manufacturing method therefor
CN105229391A (en) For hydridization multilayer solar selective coating and the preparation technology thereof of high-temperature solar application
JP2010092899A (en) Solar battery module
JP2013252689A (en) Laminate
JP2023073287A (en) Optical diffusive barrier film
JP5446318B2 (en) Solar cell module and light source module
JP2016137666A (en) Light reflection film, and light reflector and light reflection device using the same
JPWO2014103756A1 (en) Gas barrier film
JP2012129296A (en) Cover film for solar cell module and solar cell module
WO2014097997A1 (en) Electronic device
JP2020037248A (en) Laminate, and production method thereof
JP2005171304A (en) Method of producing barrier film
JP6354302B2 (en) Gas barrier film

Legal Events

Date Code Title Description
A300 Application deemed to be withdrawn because no request for examination was validly filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A300

Effective date: 20140701