JP2012214610A - Curable resin composition, film, laminate, and cured product - Google Patents

Curable resin composition, film, laminate, and cured product Download PDF

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JP2012214610A JP2011080622A JP2011080622A JP2012214610A JP 2012214610 A JP2012214610 A JP 2012214610A JP 2011080622 A JP2011080622 A JP 2011080622A JP 2011080622 A JP2011080622 A JP 2011080622A JP 2012214610 A JP2012214610 A JP 2012214610A
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resin composition
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Yohei Tateishi
洋平 立石
Shigeru Fujita
茂 藤田
Takashi Iga
隆志 伊賀
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Zeon Corp
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Nippon Zeon Co Ltd
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a curable resin composition giving a cured product that excels in an electrical property, water resistance, heat resistance, and insulation reliability.SOLUTION: The curable resin composition includes: an alicyclic olefin polymer having at least one kind of a functional group chosen from the group consisting of a carboxyl group, a carboxylic acid anhydride group, and a hydroxyphenyl group (A); an epoxy compound having at least two epoxy groups condensed with a ring (B); and a photoacid generator (C).

Description

本発明は、硬化性樹脂組成物、フィルム、積層体、及び硬化物に関する。   The present invention relates to a curable resin composition, a film, a laminate, and a cured product.

有機EL素子や液晶表示素子などの各種表示素子、集積回路素子、固体撮像素子などの半導体素子には、劣化や損傷を防止するための保護膜、素子表面や配線を平坦化するための平坦化膜、層状に配置されている各配線の間の電気絶縁性を保つための層間絶縁膜など、機能性の樹脂膜が設けられている。   Various display elements such as organic EL elements and liquid crystal display elements, semiconductor elements such as integrated circuit elements and solid-state imaging elements, protective films for preventing deterioration and damage, flattening for flattening the element surface and wiring A functional resin film such as an interlayer insulating film for maintaining electrical insulation between the films and the wirings arranged in layers is provided.

従来、これらの膜を形成するための樹脂材料として、耐熱性に優れ、また電気特性や機械的特性に優れているという点より、ポリイミド樹脂などの熱硬化性樹脂が用いられている。   Conventionally, thermosetting resins such as polyimide resins have been used as resin materials for forming these films because of their excellent heat resistance and excellent electrical and mechanical properties.

しかしながら、ポリイミド樹脂を用いた場合には、得られる樹脂膜に、マイグレーションが発生してしまうため、絶縁信頼性が十分でないという問題があった。また、ポリイミド樹脂は、硬化温度が300℃以上と高く、硬化反応の際に、配線金属が酸化されてしまうという問題もあった。   However, when a polyimide resin is used, there is a problem that insulation reliability is not sufficient because migration occurs in the obtained resin film. Further, the polyimide resin has a high curing temperature of 300 ° C. or higher, and there is a problem that the wiring metal is oxidized during the curing reaction.

また、近年、半導体素子の高集積化、多層化による高密度化にともない、配線での信号遅延や消費電力の増大に対応して、樹脂材料には誘電特性に優れること、特に低誘電率であることが求められている。そして、このような低誘電率を達成する材料として、脂環式オレフィン重合体が検討されている。   In recent years, resin materials have excellent dielectric properties, especially low dielectric constants, in response to increased signal delay and increased power consumption due to higher integration and higher density of semiconductor elements. There is a need to be. As a material for achieving such a low dielectric constant, an alicyclic olefin polymer has been studied.

たとえば、特許文献1には、加工性、低応力性、低吸水性、及び電気絶縁性に優れた樹脂層を与える材料として、酸性基を有する環状オレフィン系樹脂と、光酸発生剤と、130℃以上の温度で酸性基を有する環状オレフィン系樹脂の酸性基と結合しうる反応基を有する化合物とからなる樹脂組成物が開示されている。   For example, in Patent Document 1, as a material for providing a resin layer excellent in processability, low stress property, low water absorption, and electrical insulation, a cyclic olefin resin having an acidic group, a photoacid generator, and 130 A resin composition comprising a compound having a reactive group capable of binding to an acidic group of a cyclic olefin-based resin having an acidic group at a temperature of 0 ° C. or higher is disclosed.

特開2006−98807号公報JP 2006-98807 A

しかしながら、本発明者らが検討したところ、上述の特許文献1の樹脂組成物を用いて、半導体素子の樹脂層を形成した場合、積層基板の変形が大きくなってしまうという問題や、耐熱性などの信頼性が不十分であるという問題があることが明らかになった。   However, when the present inventors examined, when the resin layer of a semiconductor element was formed using the resin composition of the above-mentioned patent document 1, the problem that a deformation | transformation of a laminated substrate will become large, heat resistance, etc. It became clear that there was a problem that the reliability of was insufficient.

本発明の目的は、電気特性、耐水性、耐熱性及び絶縁信頼性に優れた硬化物を与える硬化性樹脂組成物、並びに、これを用いて得られるフィルム、硬化物、及び積層体を提供することである。   The objective of this invention provides the curable resin composition which gives the hardened | cured material excellent in the electrical property, water resistance, heat resistance, and insulation reliability, and the film, hardened | cured material, and laminated body obtained using this. That is.

本発明者らは、上記目的を達成するために鋭意研究した結果、特定の官能基を有する脂環式オレフィン重合体、特定のエポキシ化合物、光酸発生剤、及び無機充填剤を含有してなる硬化性樹脂組成物が、電気特性、耐水性、耐熱性及び絶縁信頼性に優れた硬化物を与えることができることを見出し、本発明を完成させるに至った。   As a result of diligent research to achieve the above object, the present inventors contain an alicyclic olefin polymer having a specific functional group, a specific epoxy compound, a photoacid generator, and an inorganic filler. The present inventors have found that the curable resin composition can give a cured product excellent in electrical characteristics, water resistance, heat resistance and insulation reliability, and completed the present invention.

すなわち、本発明によれば、
〔1〕カルボキシル基、カルボン酸無水物基、及びヒドロキシフェニル基からなる群より選ばれる少なくとも1種の官能基を有する脂環式オレフィン重合体(A)、環に縮合したエポキシ基を2つ以上含有するエポキシ化合物(B)、及び光酸発生剤(C)を含有してなる硬化性樹脂組成物、
〔2〕無機充填剤(D)をさらに含有する前記〔1〕に記載の硬化性樹脂組成物、
〔3〕前記エポキシ化合物(B)が、エステル結合を含有しないものである前記〔1〕又は〔2〕に記載の硬化性樹脂組成物、
〔4〕前記〔1〕〜〔3〕のいずれかに記載の硬化性樹脂組成物からなるフィルム、
〔5〕前記〔1〕〜〔3〕のいずれかに記載の硬化性樹脂組成物、又は前記〔4〕に記載のフィルムを硬化してなる硬化物、
〔6〕前記〔4〕に記載のフィルムを基材に積層してなる積層体、
〔7〕ガラス基板又はシリコンウェハー基板と、前記〔5〕に記載の硬化物とからなる積層体、並びに、
〔8〕前記硬化物の表面に、金属めっき層を形成してなる前記〔7〕に記載の積層体、
が提供される。
That is, according to the present invention,
[1] An alicyclic olefin polymer (A) having at least one functional group selected from the group consisting of a carboxyl group, a carboxylic acid anhydride group, and a hydroxyphenyl group, two or more epoxy groups condensed to a ring A curable resin composition comprising an epoxy compound (B) and a photoacid generator (C),
[2] The curable resin composition according to [1], further including an inorganic filler (D),
[3] The curable resin composition according to the above [1] or [2], wherein the epoxy compound (B) does not contain an ester bond,
[4] A film comprising the curable resin composition according to any one of [1] to [3],
[5] The curable resin composition according to any one of [1] to [3], or a cured product obtained by curing the film according to [4],
[6] A laminate formed by laminating the film according to [4] on a base material,
[7] A laminate comprising a glass substrate or a silicon wafer substrate and the cured product according to [5], and
[8] The laminate according to [7], wherein a metal plating layer is formed on the surface of the cured product,
Is provided.

本発明によれば、電気特性、耐水性、耐熱性及び絶縁信頼性に優れた硬化物を与えるこができる硬化性樹脂組成物、及び、このような硬化性樹脂組成物を用いて得られ、電気特性、耐水性、耐熱性及び絶縁信頼性に優れた硬化物、及び積層体を提供することができる。   According to the present invention, a curable resin composition capable of giving a cured product excellent in electrical characteristics, water resistance, heat resistance and insulation reliability, and such a curable resin composition can be obtained, A cured product and a laminate excellent in electrical characteristics, water resistance, heat resistance, and insulation reliability can be provided.

本発明の硬化性樹脂組成物は、カルボキシル基、カルボン酸無水物基、及びヒドロキシフェニル基からなる群より選ばれる少なくとも1種の官能基を有する脂環式オレフィン重合体(A)、環に縮合したエポキシ基を2つ以上含有するエポキシ化合物(B)、及び光酸発生剤(C)を含有してなる。   The curable resin composition of the present invention is an alicyclic olefin polymer (A) having at least one functional group selected from the group consisting of a carboxyl group, a carboxylic acid anhydride group, and a hydroxyphenyl group, condensed to a ring An epoxy compound (B) containing two or more epoxy groups and a photoacid generator (C).

(脂環式オレフィン重合体(A))
本発明で用いるカルボキシル基、カルボン酸無水物基、及びヒドロキシフェニル基からなる群より選ばれる少なくとも1種の官能基を有する脂環式オレフィン重合体(A)(以下、適宜、「脂環式オレフィン重合体(A)」と略記する。)を構成する脂環構造としては、シクロアルカン構造やシクロアルケン構造などが挙げられるが、機械的強度や耐熱性などの観点から、シクロアルカン構造が好ましい。また、脂環式構造としては、単環、多環、縮合多環、橋架け環や、これらを組み合わせてなる多環などが挙げられる。脂環式構造を構成する炭素原子数は、特に限定されないが、通常4〜30個、好ましくは5〜20個、より好ましくは5〜15個の範囲であり、環式構造を構成する炭素原子数がこの範囲にある場合に、機械的強度、耐熱性、及び成形性の諸特性が高度にバランスされ好適である。また、脂環式オレフィン重合体(A)は、通常、熱可塑性のものである。
(Alicyclic olefin polymer (A))
The alicyclic olefin polymer (A) having at least one functional group selected from the group consisting of a carboxyl group, a carboxylic acid anhydride group, and a hydroxyphenyl group used in the present invention (hereinafter referred to as “alicyclic olefin” as appropriate). Examples of the alicyclic structure constituting the polymer (A) ”include a cycloalkane structure and a cycloalkene structure, and a cycloalkane structure is preferable from the viewpoint of mechanical strength and heat resistance. Examples of the alicyclic structure include monocycles, polycycles, condensed polycycles, bridged rings, and polycycles formed by combining these. The number of carbon atoms constituting the alicyclic structure is not particularly limited, but is usually in the range of 4 to 30, preferably 5 to 20, more preferably 5 to 15, and the carbon atoms constituting the cyclic structure. When the number is in this range, the mechanical strength, heat resistance, and moldability are highly balanced and suitable. The alicyclic olefin polymer (A) is usually thermoplastic.

また、本発明で用いる脂環式オレフィン重合体(A)は、カルボキシル基、カルボン酸無水物基、及びヒドロキシフェニル基のいずれを有するものでもよいが、本発明の効果がより一層顕著になるという点より、カルボン酸無水物基を有するものが特に好ましい。   In addition, the alicyclic olefin polymer (A) used in the present invention may have any of a carboxyl group, a carboxylic anhydride group, and a hydroxyphenyl group, but the effect of the present invention becomes more remarkable. From the standpoint, those having a carboxylic anhydride group are particularly preferred.

脂環式オレフィン重合体(A)中の脂環式オレフィン由来の繰り返し単位の割合は、特に限定されないが、通常30〜100重量%、好ましくは50〜100重量%、より好ましくは70〜100重量%である。脂環式オレフィン由来の繰り返し単位の割合が過度に少ないと、耐熱性に劣り好ましくない。脂環式オレフィン由来の繰り返し単位以外の繰り返し単位としては、格別な限定はなく、目的に応じて適宜選択される。   The ratio of the repeating unit derived from the alicyclic olefin in the alicyclic olefin polymer (A) is not particularly limited, but is usually 30 to 100% by weight, preferably 50 to 100% by weight, more preferably 70 to 100% by weight. %. When the ratio of the repeating unit derived from the alicyclic olefin is excessively small, the heat resistance is inferior, which is not preferable. The repeating unit other than the repeating unit derived from the alicyclic olefin is not particularly limited and is appropriately selected depending on the purpose.

脂環式オレフィン重合体(A)に含有されるカルボキシル基、カルボン酸無水物基、及びヒドロキシフェニル基からなる群より選ばれる少なくとも1種の官能基(以下、適宜、「特定官能基」とする。)は、重合体の主鎖を構成する原子に直接結合していても、メチレン基、オキシ基、オキシカルボニルオキシアルキレン基、フェニレン基などの他の二価の基を介して結合していてもよい。脂環式オレフィン重合体(A)中の特定官能基の含有率は、特に制限されないが、脂環式オレフィン重合体(A)を構成する全繰り返し単位のモル数に対して、通常5〜60モル%、好ましくは10〜50モル%である。   At least one functional group selected from the group consisting of a carboxyl group, a carboxylic anhydride group and a hydroxyphenyl group contained in the alicyclic olefin polymer (A) (hereinafter referred to as “specific functional group” as appropriate). .) Is directly bonded to the atoms constituting the main chain of the polymer, but is bonded via another divalent group such as a methylene group, an oxy group, an oxycarbonyloxyalkylene group or a phenylene group. Also good. The content of the specific functional group in the alicyclic olefin polymer (A) is not particularly limited, but is usually 5 to 60 with respect to the number of moles of all repeating units constituting the alicyclic olefin polymer (A). It is mol%, preferably 10 to 50 mol%.

本発明で用いる脂環式オレフィン重合体(A)は、たとえば、以下の方法により得ることができる。すなわち、(1)特定官能基を有する脂環式オレフィンを、必要に応じて他の単量体を加えて、重合する方法、(2)特定官能基を有しない脂環式オレフィンを、特定官能基を有する単量体と共重合する方法、(3)特定官能基を有する芳香族オレフィンを、必要に応じて他の単量体を加えて、重合し、これにより得られる重合体の芳香環部分を水素化する方法、(4)特定官能基を有しない芳香族オレフィンを、特定官能基を有する単量体と共重合し、これにより得られる重合体の芳香環部分を水素化する方法、又は、(5)特定官能基を有しない脂環式オレフィン重合体に特定官能基を有する化合物を変性反応により導入する方法、もしくは(6)前述の(1)〜(5)のようにして得られるカルボン酸エステル基を有する脂環式オレフィン重合体のカルボン酸エステル基を、例えば加水分解することなどによりカルボキシル基に変換する方法などにより得ることができる。これらのなかでも、前述の(1)の方法によって得られる重合体が好適である。
本発明で用いる脂環式オレフィン重合体(A)を得る重合法は開環重合や付加重合が用いられるが、開環重合の場合には得られた開環重合体を水素添加することが好ましい。
The alicyclic olefin polymer (A) used in the present invention can be obtained, for example, by the following method. That is, (1) a method of polymerizing an alicyclic olefin having a specific functional group by adding another monomer as necessary, and (2) an alicyclic olefin having no specific functional group A method of copolymerizing with a monomer having a group; (3) an aromatic olefin having a specific functional group is polymerized by adding another monomer as required, and the aromatic ring of the polymer obtained thereby A method of hydrogenating a portion, (4) a method of copolymerizing an aromatic olefin having no specific functional group with a monomer having a specific functional group, and hydrogenating an aromatic ring portion of a polymer obtained thereby, Or (5) a method of introducing a compound having a specific functional group into an alicyclic olefin polymer having no specific functional group by a modification reaction, or (6) obtained as described in (1) to (5) above. Alicyclic olefins having carboxylic acid ester groups The carboxylic acid ester group of the down polymer can be obtained by a method of converting the carboxyl group by, for example, hydrolysis. Among these, a polymer obtained by the method (1) described above is preferable.
As the polymerization method for obtaining the alicyclic olefin polymer (A) used in the present invention, ring-opening polymerization or addition polymerization is used. In the case of ring-opening polymerization, it is preferable to hydrogenate the obtained ring-opening polymer. .

特定官能基を有する単量体として用いられ得る、特定官能基を有する脂環式オレフィンの具体例としては、5−ヒドロキシカルボニルビシクロ[2.2.1]ヘプト−2−エン、5−メチル−5−ヒドロキシカルボニルビシクロ[2.2.1]ヘプト−2−エン、5−カルボキシメチル−5−ヒドロキシカルボニルビシクロ[2.2.1]ヘプト−2−エン、9−ヒドロキシカルボニルテトラシクロ[6.2.1.13,6.02,7]ドデカ−4−エン、9−メチル−9−ヒドロキシカルボニルテトラシクロ[6.2.1.13,6.02,7]ドデカ−4−エン、9−カルボキシメチル−9−ヒドロキシカルボニルテトラシクロ[6.2.1.13,6.02,7]ドデカ−4−エン、5−エキソ−6−エンド−ジヒドロキシカルボニルビシクロ[2.2.1]ヘプト−2−エン、9−エキソ−10−エンド−ジヒドロキシカルボニルテトラシクロ[6.2.1.13,6.02,7]ドデカ−4−エン、などのカルボキシル基を有する脂環式オレフィン;ビシクロ[2.2.1]ヘプト−2−エン−5,6−ジカルボン酸無水物、テトラシクロ[6.2.1.13,6.02,7]ドデカ−4−エン−9,10−ジカルボン酸無水物、ヘキサシクロ[10.2.1.13,10.15,8.02,11.04,9]ヘプタデカ−6−エン−13,14−ジカルボン酸無水物などのカルボン酸無水物基を有する脂環式オレフィン;5−(4−ヒドロキシフェニル)ビシクロ[2.2.1]ヘプト−2−エン、9−(4−ヒドロキシフェニル)テトラシクロ[6.2.1.13,6.02,7]ドデカ−4−エン、N−(4−ヒドロキシフェニル)ビシクロ[2.2.1]ヘプト−5−エン−2,3−ジカルボキシイミドなどのヒドロキシフェニル基を有する脂環式オレフィン;などが挙げられる。これらは1種を単独で用いてもよいし、2種以上を併用してもよい。 Specific examples of the alicyclic olefin having a specific functional group that can be used as a monomer having a specific functional group include 5-hydroxycarbonylbicyclo [2.2.1] hept-2-ene, 5-methyl- 5-hydroxycarbonylbicyclo [2.2.1] hept-2-ene, 5-carboxymethyl-5-hydroxycarbonylbicyclo [2.2.1] hept-2-ene, 9-hydroxycarbonyltetracyclo [6. 2.1.1 3,6 . 0 2,7 ] dodec-4-ene, 9-methyl-9-hydroxycarbonyltetracyclo [6.2.1.1 3,6 . 0 2,7 ] dodec-4-ene, 9-carboxymethyl-9-hydroxycarbonyltetracyclo [6.2.1.1 3,6 . 0 2,7 ] dodec-4-ene, 5-exo-6-endo-dihydroxycarbonylbicyclo [2.2.1] hept-2-ene, 9-exo-10-endo-dihydroxycarbonyltetracyclo [6. 2.1.1 3,6 . Alicyclic olefin having a carboxyl group such as 0 2,7 ] dodec-4-ene; bicyclo [2.2.1] hept-2-ene-5,6-dicarboxylic anhydride, tetracyclo [6.2 1.1 3, 6 . 0 2,7] dodeca-4-ene-9,10-dicarboxylic anhydride, hexacyclo [10.2.1.1 3, 10. 1 5,8 . 0 2,11 . Alicyclic olefins having a carboxylic anhydride group such as 0 4,9 ] heptadeca-6-ene-13,14-dicarboxylic anhydride; 5- (4-hydroxyphenyl) bicyclo [2.2.1] hept 2-ene, 9- (4-hydroxyphenyl) tetracyclo [6.2.13, 6.02,7] dodec-4-ene, N- (4-hydroxyphenyl) bicyclo [2.2.1 ] An alicyclic olefin having a hydroxyphenyl group such as hept-5-ene-2,3-dicarboximide; These may be used individually by 1 type and may use 2 or more types together.

また、カルボン酸エステル基を有する脂環式オレフィンとしては、9−メチル−9−メトキシカルボニルテトラシクロ[6.2.1.13,6.02,7]ドデカ−4−エン、5−メトキシカルボニル−ビシクロ[2.2.1]ヘプト−2−エン、5−メチル−5−メトキシカルボニル−ビシクロ[2.2.1]ヘプト−2−エンなどが挙げられる。 In addition, examples of the alicyclic olefin having a carboxylic acid ester group include 9-methyl-9-methoxycarbonyltetracyclo [6.2.1.1 3,6 . 0 2,7 ] dodec-4-ene, 5-methoxycarbonyl-bicyclo [2.2.1] hept-2-ene, 5-methyl-5-methoxycarbonyl-bicyclo [2.2.1] hept-2 -Ene and the like.

特定官能基を有しない脂環式オレフィンの具体例としては、ビシクロ[2.2.1]ヘプト−2−エン(慣用名:ノルボルネン)、5−エチル−ビシクロ[2.2.1]ヘプト−2−エン、5−ブチル−ビシクロ[2.2.1]ヘプト−2−エン、5−エチリデン−ビシクロ[2.2.1]ヘプト−2−エン、5−メチリデン−ビシクロ[2.2.1]ヘプト−2−エン、5−ビニル−ビシクロ[2.2.1]ヘプト−2−エン、トリシクロ[5.2.1.02,6]デカ−3,8−ジエン(慣用名:ジシクロペンタジエン)、テトラシクロ〔6.2.1.13,6.02,7〕ドデカ−4−エン(慣用名:テトラシクロドデセン)、9−メチル−テトラシクロ〔6.2.1.13,6.02,7〕ドデカ−4−エン、9−エチル−テトラシクロ〔6.2.1.13,6.02,7〕ドデカ−4−エン、9−メチリデン−テトラシクロ〔6.2.1.13,6.02,7〕ドデカ−4−エン、9−エチリデン−テトラシクロ〔6.2.1.13,6.02,7〕ドデカ−4−エン、9−メトキシカルボニル−テトラシクロ〔6.2.1.13,6.02,7〕ドデカ−4−エン、9−ビニル−テトラシクロ〔6.2.1.13,6.02,7〕ドデカ−4−エン、9−プロペニル−テトラシクロ〔6.2.1.13,6.02,7〕ドデカ−4−エン、9−フェニル−テトラシクロ〔6.2.1.13,6.02,7〕ドデカ−4−エン、テトラシクロ[9.2.1.02,10.03,8]テトラデカ−3,5,7,12−テトラエン、シクロペンテン、シクロペンタジエンなどが挙げられる。これらは1種を単独で用いてもよいし2種以上を併用してもよい。 Specific examples of the alicyclic olefin having no specific functional group include bicyclo [2.2.1] hept-2-ene (common name: norbornene), 5-ethyl-bicyclo [2.2.1] hept- 2-ene, 5-butyl-bicyclo [2.2.1] hept-2-ene, 5-ethylidene-bicyclo [2.2.1] hept-2-ene, 5-methylidene-bicyclo [2.2. 1] Hept-2-ene, 5-vinyl-bicyclo [2.2.1] hept-2-ene, tricyclo [5.2.1.0 2,6 ] deca-3,8-diene (common name: Dicyclopentadiene), tetracyclo [6.2.1.1 3,6 . 0 2,7 ] dodec-4-ene (common name: tetracyclododecene), 9-methyl-tetracyclo [6.2.1.1 3,6 . 0 2,7 ] dodec-4-ene, 9-ethyl-tetracyclo [6.2.1.1 3,6 . 0 2,7 ] dodec-4-ene, 9-methylidene-tetracyclo [6.2.1.1 3,6 . 0 2,7 ] dodec-4-ene, 9-ethylidene-tetracyclo [6.2.1.1 3,6 . 0 2,7 ] dodec-4-ene, 9-methoxycarbonyl-tetracyclo [6.2.1.1 3,6 . 0 2,7 ] dodec-4-ene, 9-vinyl-tetracyclo [6.2.1.1 3,6 . 0 2,7 ] dodec-4-ene, 9-propenyl-tetracyclo [6.2.1.1 3,6 . 0 2,7 ] dodec-4-ene, 9-phenyl-tetracyclo [6.2.1.1 3,6 . 0 2,7] dodeca-4-ene, tetracyclo [9.2.1.0 2,10. 0 3,8 ] tetradeca-3,5,7,12-tetraene, cyclopentene, cyclopentadiene and the like. These may be used alone or in combination of two or more.

特定官能基を有しない芳香族オレフィンの例としては、スチレン、α−メチルスチレン、ジビニルベンゼンなどが挙げられる。これらは1種を単独で用いてもよいし2種以上を併用してもよい。   Examples of the aromatic olefin having no specific functional group include styrene, α-methylstyrene, divinylbenzene and the like. These may be used alone or in combination of two or more.

脂環式オレフィンや芳香族オレフィンと共重合することができる、特定官能基を有する脂環式オレフィン以外の、特定官能基を有する単量体としては、特定官能基を有するエチレン性不飽和化合物が挙げられ、その具体例としては、アクリル酸、メタクリル酸、α−エチルアクリル酸、2−ヒドロキシエチル(メタ)アクリル酸、マレイン酸、フマール酸、イタコン酸などの不飽和カルボン酸化合物;無水マレイン酸、ブテニル無水コハク酸、テトラヒドロ無水フタル酸、無水シトラコン酸などの不飽和カルボン酸無水物;などが挙げられる。これらは1種を単独で用いてもよいし2種以上を併用してもよい。   As a monomer having a specific functional group other than an alicyclic olefin having a specific functional group that can be copolymerized with an alicyclic olefin or an aromatic olefin, an ethylenically unsaturated compound having a specific functional group may be used. Specific examples thereof include acrylic acid, methacrylic acid, α-ethylacrylic acid, 2-hydroxyethyl (meth) acrylic acid, maleic acid, fumaric acid, itaconic acid and other unsaturated carboxylic acid compounds; maleic anhydride And unsaturated carboxylic acid anhydrides such as butenyl succinic anhydride, tetrahydrophthalic anhydride, citraconic anhydride; and the like. These may be used alone or in combination of two or more.

脂環式オレフィンや芳香族オレフィンと共重合することができる、脂環式オレフィン以外の、特定官能基を有しない単量体としては、特定官能基を有しないエチレン性不飽和化合物が挙げられ、その具体例としては、エチレン、プロピレン、1−ブテン、1−ペンテン、1−ヘキセン、3−メチル−1−ブテン、3−メチル−1−ペンテン、3−エチル−1−ペンテン、4−メチル−1−ペンテン、4−メチル−1−ヘキセン、4,4−ジメチル−1−ヘキセン、4,4−ジメチル−1−ペンテン、4−エチル−1−ヘキセン、3−エチル−1−ヘキセン、1−オクテン、1−デセン、1−ドデセン、1−テトラデセン、1−ヘキサデセン、1−オクタデセン、1−エイコセンなどの炭素数2〜20のエチレン又はα−オレフィン;1,4−ヘキサジエン、4−メチル−1,4−ヘキサジエン、5−メチル−1,4−ヘキサジエン、1,7−オクタジエンなどの非共役ジエン;などが挙げられる。これらは1種を単独で用いてもよいし2種以上を併用してもよい。   Examples of the monomer having no specific functional group other than the alicyclic olefin that can be copolymerized with the alicyclic olefin or aromatic olefin include ethylenically unsaturated compounds having no specific functional group, Specific examples thereof include ethylene, propylene, 1-butene, 1-pentene, 1-hexene, 3-methyl-1-butene, 3-methyl-1-pentene, 3-ethyl-1-pentene, 4-methyl- 1-pentene, 4-methyl-1-hexene, 4,4-dimethyl-1-hexene, 4,4-dimethyl-1-pentene, 4-ethyl-1-hexene, 3-ethyl-1-hexene, 1- Ethylene or α-olefin having 2 to 20 carbon atoms such as octene, 1-decene, 1-dodecene, 1-tetradecene, 1-hexadecene, 1-octadecene, 1-eicocene; And the like; hexadiene, 4-methyl-1,4-hexadiene, 5-methyl-1,4-hexadiene, 1,7-octadiene nonconjugated dienes such. These may be used alone or in combination of two or more.

本発明で用いる脂環式オレフィン重合体(A)の分子量は、特に限定されないが、テトロヒドロフランを溶媒として用いたゲルパーミエーションクロマトグラフィにより測定されるポリスチレン換算の重量平均分子量が、500〜1,000,000の範囲であることが好ましく、1,000〜500,000の範囲であることがより好ましく、特に好ましくは、5,000〜300,000の範囲である。重量平均分子量が小さすぎると硬化性樹脂組成物を硬化して得られる硬化物の機械的強度が低下し、大きすぎるとシート状又はフィルム状に成形して成形体とする際に作業性が悪化する傾向にある。   The molecular weight of the alicyclic olefin polymer (A) used in the present invention is not particularly limited, but the weight average molecular weight in terms of polystyrene measured by gel permeation chromatography using tetrohydrofuran as a solvent is 500 to 1, The range is preferably in the range of 1,000,000, more preferably in the range of 1,000 to 500,000, and particularly preferably in the range of 5,000 to 300,000. If the weight average molecular weight is too small, the mechanical strength of the cured product obtained by curing the curable resin composition is lowered, and if it is too large, workability deteriorates when molded into a sheet or film to form a molded product. Tend to.

本発明で用いる脂環式オレフィン重合体(A)を、開環重合法により得る場合の重合触媒としては、従来公知のメタセシス重合触媒を用いることができる。メタセシス重合触媒としては、Mo,W,Nb,Ta,Ruなどの原子を含有してなる遷移金属化合物が例示され、なかでも、Mo,W又はRuを含有する化合物は重合活性が高くて好ましい。特に好ましいメタセシス重合触媒の具体的な例としては、(1)ハロゲン基、イミド基、アルコキシ基、アリロキシ基又はカルボニル基を配位子として有する、モリブデンあるいはタングステン化合物を主触媒とし、有機金属化合物を第二成分とする触媒や、(2)Ruを中心金属とする金属カルベン錯体触媒を挙げることができる。   A conventionally known metathesis polymerization catalyst can be used as the polymerization catalyst when the alicyclic olefin polymer (A) used in the present invention is obtained by a ring-opening polymerization method. Examples of the metathesis polymerization catalyst include transition metal compounds containing atoms such as Mo, W, Nb, Ta, and Ru. Among them, compounds containing Mo, W, or Ru are preferable because of high polymerization activity. Specific examples of particularly preferred metathesis polymerization catalysts include: (1) Molybdenum or tungsten compounds having a halogen group, an imide group, an alkoxy group, an allyloxy group or a carbonyl group as a ligand as a main catalyst, and an organometallic compound. Examples thereof include a catalyst as a second component and (2) a metal carbene complex catalyst having Ru as a central metal.

上記(1)の触媒で主触媒として用いられる化合物の例としては、MoCl、MoBrなどのハロゲン化モリブデン化合物やWCl、WOCl、タングステン(フェニルイミド)テトラクロリド・ジエチルエーテルなどのハロゲン化タングステン化合物が挙げられる。また、上記(1)の触媒で、第二成分として用いられる有機金属化合物としては、周期表第1族、2族、12族、13族又は14族の有機金属化合物を挙げることができる。なかでも、有機リチウム化合物、有機マグネシウム化合物、有機亜鉛化合物、有機アルミニウム化合物、有機スズ化合物が好ましく、有機リチウム化合物、有機アルミニウム化合物、有機スズ化合物が特に好ましい。有機リチウム化合物としては、n−ブチルリチウム、メチルリチウム、フェニルリチウム、ネオペンチルリチウム、ネオフィルリチウムなどを挙げることができる。有機マグネシウムとしては、ブチルエチルマグネシウム、ブチルオクチルマグネシウム、ジヘキシルマグネシウム、エチルマグネシウムクロリド、n−ブチルマグネシウムクロリド、アリルマグネシウムブロミド、ネオペンチルマグネシウムクロリド、ネオフィルマグネシウムクロリドなどを挙げることができる。有機亜鉛化合物としては、ジメチル亜鉛、ジエチル亜鉛、ジフェニル亜鉛などを挙げることができる。有機アルミニウム化合物としては、トリメチルアルミニウム、トリエチルアルミニウム、トリイソブチルアルミニウム、ジエチルアルミニウムクロリド、エチルアルミニウムセスキクロリド、エチルアルミニウムジクロリド、ジエチルアルミニウムエトキシド、エチルアルミニウムジエトキシドなどを挙げることができ、さらに、これらの有機アルミニウム化合物と水との反応によって得られるアルミノキサン化合物も用いることができる。有機スズ化合物としては、テトラメチルスズ、テトラ(n−ブチル)スズ、テトラフェニルスズなどを挙げることができる。これらの有機金属化合物の量は、用いる有機金属化合物によって異なるが、主触媒の中心金属に対して、モル比で、0.1〜10,000倍が好ましく、0.2〜5,000倍がより好ましく、0.5〜2,000倍が特に好ましい。 Examples of compounds used as the main catalyst in the catalyst of (1) above are halogenated molybdenum compounds such as MoCl 5 and MoBr 5, and halogenated compounds such as WCl 6 , WOCl 4 , tungsten (phenylimide) tetrachloride / diethyl ether, etc. A tungsten compound is mentioned. Examples of the organometallic compound used as the second component in the catalyst of (1) above include organometallic compounds of Group 1, Group 2, Group 12, Group 13 or Group 14 of the periodic table. Of these, organolithium compounds, organomagnesium compounds, organozinc compounds, organoaluminum compounds, and organotin compounds are preferred, and organolithium compounds, organoaluminum compounds, and organotin compounds are particularly preferred. Examples of the organic lithium compound include n-butyllithium, methyllithium, phenyllithium, neopentyllithium, neophyllithium, and the like. Examples of the organic magnesium include butylethylmagnesium, butyloctylmagnesium, dihexylmagnesium, ethylmagnesium chloride, n-butylmagnesium chloride, allylmagnesium bromide, neopentylmagnesium chloride, neophyllmagnesium chloride and the like. Examples of the organic zinc compound include dimethyl zinc, diethyl zinc, and diphenyl zinc. Examples of organoaluminum compounds include trimethylaluminum, triethylaluminum, triisobutylaluminum, diethylaluminum chloride, ethylaluminum sesquichloride, ethylaluminum dichloride, diethylaluminum ethoxide, ethylaluminum diethoxide, and the like. An aluminoxane compound obtained by a reaction between an organoaluminum compound and water can also be used. Examples of the organic tin compound include tetramethyltin, tetra (n-butyl) tin, and tetraphenyltin. The amount of these organometallic compounds varies depending on the organometallic compound used, but is preferably 0.1 to 10,000 times, preferably 0.2 to 5,000 times in terms of molar ratio to the central metal of the main catalyst. More preferably, 0.5 to 2,000 times is particularly preferable.

また、上記(2)のRuを中心金属とする金属カルベン錯体触媒としては、(1,3−ジメシチル−イミダゾリジン−2−イリデン)(トリシクロヘキシルホスフィン)ベンジリデンルテニウムジクロリド、ビス(トリシクロヘキシルホスフィン)ベンジリデンルテニウムジクロリド、トリシクロヘキシルホスフィン−〔1,3−ビス(2,4,6−トリメチルフェニル)−4,5−ジブロモイミダゾール−2−イリデン〕−〔ベンジリデン〕ルテニウムジクロリド、4−アセトキシベンジリデン(ジクロロ)(4,5−ジブロモ−1,3−ジメシチル−4−イミダゾリン−2−イリデン)(トリシクロヘキシルホスフィン)ルテニウムなどが挙げられる。   The metal carbene complex catalyst (2) having Ru as a central metal includes (1,3-dimesityl-imidazolidine-2-ylidene) (tricyclohexylphosphine) benzylidene ruthenium dichloride, bis (tricyclohexylphosphine) benzylidene. Ruthenium dichloride, tricyclohexylphosphine- [1,3-bis (2,4,6-trimethylphenyl) -4,5-dibromoimidazol-2-ylidene]-[benzylidene] ruthenium dichloride, 4-acetoxybenzylidene (dichloro) ( 4,5-dibromo-1,3-dimesityl-4-imidazoline-2-ylidene) (tricyclohexylphosphine) ruthenium and the like.

メタセシス重合触媒の使用割合は、重合に用いる単量体に対して、(メタセシス重合触媒中の遷移金属:単量体)のモル比で、通常1:100〜1:2,000,000の範囲であり、好ましくは1:200〜1:1,000,000の範囲である。触媒量が多すぎると触媒除去や重合制御が困難となり、少なすぎると十分な重合活性が得られないおそれがある。   The use ratio of the metathesis polymerization catalyst is usually in the range of 1: 100 to 1: 2,000,000 in terms of the molar ratio of (transition metal in the metathesis polymerization catalyst: monomer) to the monomer used for the polymerization. Preferably, it is the range of 1: 200-1: 1,000,000. If the amount of catalyst is too large, catalyst removal and polymerization control become difficult, and if it is too small, sufficient polymerization activity may not be obtained.

重合反応は、通常、有機溶媒中で行なう。用いられる有機溶媒は、重合体が所定の条件で溶解又は分散し、重合に影響しないものであれば、特に限定されないが、工業的に汎用されているものが好ましい。有機溶媒の具体例としては、ペンタン、ヘキサン、ヘプタンなどの脂肪族炭化水素;シクロペンタン、シクロヘキサン、メチルシクロヘキサン、ジメチルシクロヘキサン、トリメチルシクロヘキサン、エチルシクロヘキサン、ジエチルシクロヘキサン、デカヒドロナフタレン、ビシクロヘプタン、トリシクロデカン、ヘキサヒドロインデンシクロヘキサン、シクロオクタンなどの脂環族炭化水素;ベンゼン、トルエン、キシレンなどの芳香族炭化水素;ジクロロメタン、クロロホルム、1,2−ジクロロエタンなどのハロゲン系脂肪族炭化水素;クロロベンゼン、ジクロロベンゼンなどのハロゲン系芳香族炭化水素;ニトロメタン、ニトロベンゼン、アセトニトリルなどの含窒素炭化水素系溶媒;ジエチルエ−テル、テトラヒドロフランなどのエ−テル系溶媒;アニソール、フェネトールなどの芳香族エーテル系溶媒;などを挙げることができる。これらの中でも、工業的に汎用されている芳香族炭化水素系溶媒や脂肪族炭化水素系溶媒、脂環族炭化水素系溶媒、エーテル系溶剤、芳香族エーテル系溶媒が好ましい。   The polymerization reaction is usually performed in an organic solvent. The organic solvent to be used is not particularly limited as long as the polymer is dissolved or dispersed under predetermined conditions and does not affect the polymerization, but industrially used solvents are preferable. Specific examples of the organic solvent include aliphatic hydrocarbons such as pentane, hexane, and heptane; cyclopentane, cyclohexane, methylcyclohexane, dimethylcyclohexane, trimethylcyclohexane, ethylcyclohexane, diethylcyclohexane, decahydronaphthalene, bicycloheptane, and tricyclodecane. , Hexahydroindenecyclohexane, cyclooctane and other alicyclic hydrocarbons; benzene, toluene, xylene and other aromatic hydrocarbons; dichloromethane, chloroform, 1,2-dichloroethane and other halogenated aliphatic hydrocarbons; chlorobenzene, dichlorobenzene Halogenated aromatic hydrocarbons such as: Nitrogen-containing hydrocarbon solvents such as nitromethane, nitrobenzene, and acetonitrile; Diethyl ether, tetrahydrofuran, etc. Et - ether solvents; and the like; anisole, aromatic ether solvents such as phenetole. Among these, an aromatic hydrocarbon solvent, an aliphatic hydrocarbon solvent, an alicyclic hydrocarbon solvent, an ether solvent, and an aromatic ether solvent that are widely used industrially are preferable.

有機溶媒の使用量は、重合溶液中の単量体の濃度が、1〜50重量%となる量であることが好ましく、2〜45重量%となる量であることがより好ましく、3〜40重量%となる量であることが特に好ましい。単量体の濃度が1重量%未満の場合は生産性が悪くなり、50重量%を超えると、重合後の溶液粘度が高すぎて、その後の水素添加反応が困難となる場合がある。   The amount of the organic solvent used is preferably such that the monomer concentration in the polymerization solution is 1 to 50% by weight, more preferably 2 to 45% by weight, and 3 to 40%. It is particularly preferable that the amount be% by weight. When the concentration of the monomer is less than 1% by weight, the productivity is deteriorated, and when it exceeds 50% by weight, the solution viscosity after polymerization is too high, and the subsequent hydrogenation reaction may be difficult.

重合反応は、重合に用いる単量体とメタセシス重合触媒とを混合することにより開始される。これらを混合する方法としては、単量体溶液にメタセシス重合触媒溶液を加えてもよいし、その逆でもよい。用いるメタセシス重合触媒が、主触媒である遷移金属化合物と第二成分である有機金属化合物とからなる混合触媒である場合には、単量体溶液に混合触媒の反応液を加えてもよいし、その逆でもよい。また、単量体と有機金属化合物との混合溶液に遷移金属化合物溶液を加えてもよいし、その逆でもよい。さらに、単量体と遷移金属化合物の混合溶液に有機金属化合物を加えてもよいし、その逆でもよい。   The polymerization reaction is started by mixing a monomer used for polymerization and a metathesis polymerization catalyst. As a method of mixing these, the metathesis polymerization catalyst solution may be added to the monomer solution, or vice versa. When the metathesis polymerization catalyst to be used is a mixed catalyst composed of a transition metal compound as a main catalyst and an organometallic compound as a second component, the reaction solution of the mixed catalyst may be added to the monomer solution, The reverse is also possible. Further, the transition metal compound solution may be added to the mixed solution of the monomer and the organometallic compound, or vice versa. Furthermore, the organometallic compound may be added to the mixed solution of the monomer and the transition metal compound, or vice versa.

重合温度は特に制限はないが、通常、−30℃〜200℃、好ましくは0℃〜180℃である。重合時間は、特に制限はないが、通常、1分間〜100時間である。   Although there is no restriction | limiting in particular in superposition | polymerization temperature, Usually, -30 degreeC-200 degreeC, Preferably it is 0 degreeC-180 degreeC. The polymerization time is not particularly limited, but is usually 1 minute to 100 hours.

得られる脂環式オレフィン重合体の分子量を調整する方法としては、ビニル化合物又はジエン化合物を適当量添加する方法を挙げることができる。分子量調整に用いるビニル化合物は、ビニル基を有する有機化合物であれば特に限定されないが、1−ブテン、1−ペンテン、1−ヘキセン、1−オクテンなどのα−オレフィン類;スチレン、ビニルトルエンなどのスチレン類;エチルビニルエーテル、i−ブチルビニルエーテル、アリルグリシジルエーテルなどのエーテル類;アリルクロライドなどのハロゲン含有ビニル化合物;酢酸アリル、アリルアルコール、グリシジルメタクリレートなど酸素含有ビニル化合物、アクリルアミドなどの窒素含有ビニル化合物などを挙げることができる。分子量調整に用いるジエン化合物としては、1,4−ペンタジエン、1,4−ヘキサジエン、1,5−ヘキサジエン、1,6−ヘプタジエン、2−メチル−1,4−ペンタジエン、2,5−ジメチル−1,5−ヘキサジエンなどの非共役ジエン、又は、1,3−ブタジエン、2−メチル−1,3−ブタジエン、2,3−ジメチル−1,3−ブタジエン、1,3−ペンタジエン、1,3−ヘキサジエンなどの共役ジエンを挙げることができる。ビニル化合物又はジエン化合物の添加量は、目的とする分子量に応じて、重合に用いる単量体に対して、0.1〜10モル%の間で任意に選択することができる。   Examples of a method for adjusting the molecular weight of the obtained alicyclic olefin polymer include a method of adding an appropriate amount of a vinyl compound or a diene compound. The vinyl compound used for molecular weight adjustment is not particularly limited as long as it is an organic compound having a vinyl group, but α-olefins such as 1-butene, 1-pentene, 1-hexene and 1-octene; styrene, vinyltoluene and the like Styrenes; Ethers such as ethyl vinyl ether, i-butyl vinyl ether, and allyl glycidyl ether; Halogen-containing vinyl compounds such as allyl chloride; Oxygen-containing vinyl compounds such as allyl acetate, allyl alcohol, and glycidyl methacrylate; Nitrogen-containing vinyl compounds such as acrylamide Can be mentioned. Diene compounds used for molecular weight adjustment include 1,4-pentadiene, 1,4-hexadiene, 1,5-hexadiene, 1,6-heptadiene, 2-methyl-1,4-pentadiene, 2,5-dimethyl-1 Non-conjugated dienes such as 1,5-hexadiene, or 1,3-butadiene, 2-methyl-1,3-butadiene, 2,3-dimethyl-1,3-butadiene, 1,3-pentadiene, 1,3- Mention may be made of conjugated dienes such as hexadiene. The addition amount of a vinyl compound or a diene compound can be arbitrarily selected between 0.1 and 10 mol% with respect to the monomer used for polymerization according to the target molecular weight.

本発明で用いる脂環式オレフィン重合体(A)を、付加重合法により得る場合の重合触媒としては、たとえば、チタン、ジルコニウム又はバナジウム化合物と有機アルミニウム化合物とからなる触媒が好適に用いられる。これらの重合触媒は、それぞれ単独で又は2種以上を組み合わせて用いることができる。重合触媒の量は、重合触媒中の金属化合物:重合に用いる単量体のモル比で、通常、1:100〜1:2,000,000の範囲である。   As a polymerization catalyst for obtaining the alicyclic olefin polymer (A) used in the present invention by an addition polymerization method, for example, a catalyst comprising a titanium, zirconium or vanadium compound and an organoaluminum compound is preferably used. These polymerization catalysts can be used alone or in combination of two or more. The amount of the polymerization catalyst is a molar ratio of the metal compound in the polymerization catalyst to the monomer used for the polymerization, and is usually in the range of 1: 100 to 1: 2,000,000.

本発明で用いる脂環式オレフィン重合体(A)として、開環重合体の水素添加物を用いる場合の、開環重合体に対する水素添加は、通常、水素添加触媒を用いて行われる。水素添加触媒は特に限定されず、オレフィン化合物の水素添加に際して一般的に使用されているものを適宜採用すればよい。水素添加触媒の具体例としては、たとえば、酢酸コバルトとトリエチルアルミニウム、ニッケルアセチルアセトナートとトリイソブチルアルミニウム、チタノセンジクロリドとn−ブチルリチウム、ジルコノセンジクロリドとsec−ブチルリチウム、テトラブトキシチタネートとジメチルマグネシウムのような遷移金属化合物とアルカリ金属化合物との組み合わせからなるチーグラー系触媒;ジクロロトリス(トリフェニルホスフィン)ロジウム、特開平7−2929号公報、特開平7−149823号公報、特開平11−209460号公報、特開平11−158256号公報、特開平11−193323号公報、特開平11−209460号公報などに記載されている、たとえば、ビス(トリシクロヘキシルホスフィン)ベンジリジンルテニウム(IV)ジクロリドなどのルテニウム化合物からなる貴金属錯体触媒;などの均一系触媒が挙げられる。また、ニッケル、パラジウム、白金、ロジウム、ルテニウムなどの金属を、カーボン、シリカ、ケイソウ土、アルミナ、酸化チタンなどの担体に担持させた不均一触媒、たとえば、ニッケル/シリカ、ニッケル/ケイソウ土、ニッケル/アルミナ、パラジウム/カーボン、パラジウム/シリカ、パラジウム/ケイソウ土、パラジウム/アルミナなどを用いることもできる。また、上述したメタセシス重合触媒をそのまま、水素添加触媒として用いることも可能である。   As the alicyclic olefin polymer (A) used in the present invention, hydrogenation of the ring-opening polymer in the case of using a hydrogenated product of the ring-opening polymer is usually performed using a hydrogenation catalyst. The hydrogenation catalyst is not particularly limited, and a catalyst generally used for hydrogenation of an olefin compound may be appropriately employed. Specific examples of the hydrogenation catalyst include cobalt acetate and triethylaluminum, nickel acetylacetonate and triisobutylaluminum, titanocene dichloride and n-butyllithium, zirconocene dichloride and sec-butyllithium, tetrabutoxytitanate and dimethylmagnesium. Ziegler catalyst comprising a combination of a transition metal compound and an alkali metal compound; dichlorotris (triphenylphosphine) rhodium, JP-A-7-2929, JP-A-7-149823, JP-A-11-209460, For example, bis (tricyclohexylphosphine) benzylidine described in JP-A-11-158256, JP-A-11-193323, JP-A-11-209460, etc. Noble metal complex catalyst comprising a ruthenium compound such as ruthenium (IV) dichloride; include homogeneous catalysts such as. Also, heterogeneous catalysts in which metals such as nickel, palladium, platinum, rhodium, ruthenium are supported on a carrier such as carbon, silica, diatomaceous earth, alumina, titanium oxide, such as nickel / silica, nickel / diatomaceous earth, nickel / Alumina, palladium / carbon, palladium / silica, palladium / diatomaceous earth, palladium / alumina, and the like can also be used. Further, the above-described metathesis polymerization catalyst can be used as it is as a hydrogenation catalyst.

水素添加反応は、通常、有機溶媒中で行う。有機溶媒は生成する水素添加物の溶解性により適宜選択することができ、上述した重合反応に用いる有機溶媒と同様の有機溶媒を使用することができる。したがって、重合反応後、有機溶媒を入れ替えることなく、そのまま水素添加触媒を添加して反応させることもできる。さらに、上述した重合反応に用いる有機溶媒の中でも、水素添加反応に際して反応しないという観点から、芳香族炭化水素系溶媒や脂肪族炭化水素系溶媒、脂環族炭化水素系溶媒、エーテル系溶媒、芳香族エーテル系溶媒が好ましく、芳香族エーテル系溶媒がより好ましい。   The hydrogenation reaction is usually performed in an organic solvent. The organic solvent can be appropriately selected depending on the solubility of the generated hydrogenated product, and the same organic solvent as the organic solvent used in the polymerization reaction described above can be used. Therefore, after the polymerization reaction, the hydrogenation catalyst can be added and reacted as it is without replacing the organic solvent. Furthermore, among the organic solvents used in the polymerization reaction described above, from the viewpoint of not reacting during the hydrogenation reaction, an aromatic hydrocarbon solvent, an aliphatic hydrocarbon solvent, an alicyclic hydrocarbon solvent, an ether solvent, an aromatic solvent Aromatic ether solvents are preferred, and aromatic ether solvents are more preferred.

水素添加反応条件は、使用する水素添加触媒の種類に応じて適宜選択すればよい。反応温度は、通常、−20〜250℃、好ましくは−10〜220℃、より好ましくは0〜200℃である。−20℃未満では反応速度が遅くなり、逆に250℃を超えると副反応が起こりやすくなる。水素の圧力は、通常、0.01〜10.0MPa、好ましくは0.05〜8.0MPaである。水素圧力が0.01MPa未満では水素添加速度が遅くなり、10.0MPaを超えると高耐圧反応装置が必要となる。   The hydrogenation reaction conditions may be appropriately selected according to the type of hydrogenation catalyst used. The reaction temperature is usually -20 to 250 ° C, preferably -10 to 220 ° C, more preferably 0 to 200 ° C. If it is less than −20 ° C., the reaction rate is slow, and if it exceeds 250 ° C., side reactions tend to occur. The pressure of hydrogen is usually 0.01 to 10.0 MPa, preferably 0.05 to 8.0 MPa. When the hydrogen pressure is less than 0.01 MPa, the hydrogen addition rate is slow, and when it exceeds 10.0 MPa, a high pressure reactor is required.

水素添加反応の時間は、水素添加率をコントロールするために適宜選択される。反応時間は、通常、0.1〜50時間の範囲であり、重合体中の主鎖の炭素−炭素二重結合のうち50%以上、好ましくは70%以上、より好ましくは80%以上、特に好ましくは90%以上を水素添加することができる。   The time for the hydrogenation reaction is appropriately selected in order to control the hydrogenation rate. The reaction time is usually in the range of 0.1 to 50 hours, and 50% or more, preferably 70% or more, more preferably 80% or more, in particular, of the carbon-carbon double bonds of the main chain in the polymer. Preferably 90% or more can be hydrogenated.

水素添加反応を行った後、水素添加反応に用いた触媒を除去する処理を行ってもよい。触媒の除去方法は特に制限されず、遠心分離、濾過などの方法が挙げられる。さらに、水やアルコールなどの触媒不活性化剤を添加したり、また活性白土、アルミナ、珪素土などの吸着剤を添加したりして、触媒の除去を促進させることができる。
本発明で用いられる脂環式オレフィン重合体(A)は、重合や水素添加反応後の重合体溶液として使用しても、溶媒を除去した後に使用してもどちらでもよいが、樹脂組成物を調製する際に添加剤の溶解や分散が良好になるとともに、工程が簡素化できるため、重合体溶液として使用するのが好ましい。
After the hydrogenation reaction, a treatment for removing the catalyst used in the hydrogenation reaction may be performed. The method for removing the catalyst is not particularly limited, and examples thereof include centrifugation and filtration. Furthermore, the catalyst removal can be promoted by adding a catalyst deactivator such as water or alcohol, or by adding an adsorbent such as activated clay, alumina, or silicon earth.
The alicyclic olefin polymer (A) used in the present invention may be used as a polymer solution after polymerization or hydrogenation reaction, or may be used after removing the solvent. It is preferable to use it as a polymer solution since the dissolution and dispersion of the additive are improved during preparation and the process can be simplified.

(エポキシ化合物(B))
本発明で用いられる、環に縮合したエポキシ基を2つ以上含有するエポキシ化合物(B)(以下、適宜、「エポキシ化合物(B)」と略記する。)は、シクロアルカン環上に存在するエポキシ基を分子中に2個含有する脂環式エポキシ化合物であり、本発明では、シクロアルカン環上に存在するエポキシ基を分子中に2個含有し、かつ、エステル結合を含有しないものが好ましく、また、エポキシ基以外に、窒素原子、酸素原子、硫黄原子などのヘテロ原子を有する官能基を含有しないものであることがより好ましい。
(Epoxy compound (B))
The epoxy compound (B) (hereinafter abbreviated as “epoxy compound (B)” as appropriate) containing two or more epoxy groups condensed to a ring, used in the present invention, is an epoxy existing on a cycloalkane ring. It is an alicyclic epoxy compound containing two groups in the molecule, and in the present invention, one containing two epoxy groups present on the cycloalkane ring in the molecule and not containing an ester bond is preferable. Moreover, it is more preferable that it does not contain the functional group which has hetero atoms, such as a nitrogen atom, an oxygen atom, and a sulfur atom other than an epoxy group.

エポキシ化合物(B)の具体例としては、下記一般式(1)〜(3)で表される化合物のいずれかが好ましい。

Figure 2012214610
(上記一般式(1)中、R〜R12は、互いに独立して、水素原子、ハロゲン原子、又は炭素数1〜20の炭化水素基を表す。)
Figure 2012214610
(上記一般式(2)中、R13〜R30は、互いに独立して、水素原子;ハロゲン原子;酸素原子もしくはハロゲン原子を含んでもよい、炭素数1〜20の炭化水素基;又は置換基を有してもよい炭素数1〜20のアルコキシ基を表す。)
Figure 2012214610
(上記一般式(3)中、R31〜R41は、互いに独立して、水素原子、ハロゲン原子、又は炭素数1〜20の炭化水素基を表す。) As specific examples of the epoxy compound (B), any of the compounds represented by the following general formulas (1) to (3) is preferable.
Figure 2012214610
(In the general formula (1), R 1 to R 12 each independently represent a hydrogen atom, a halogen atom, or a hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms.)
Figure 2012214610
(In the general formula (2), R 13 to R 30 are each independently a hydrogen atom; a halogen atom; a hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms which may contain an oxygen atom or a halogen atom; or a substituent. Represents an alkoxy group having 1 to 20 carbon atoms which may have
Figure 2012214610
(In the general formula (3), R 31 to R 41 independently of one another, represent a hydrogen atom, a halogen atom, or a hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms.)

上記一般式(1)〜(3)中、R〜R41を構成するハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子等が挙げられる。
〜R12、R31〜R41を構成する炭素数1〜20の炭化水素基、及びR13〜R30を構成する酸素原子もしくはハロゲン原子を含んでもよい、炭素数1〜20の炭化水素基としては、メチル基、エチル基、プロピル基等のアルキル基;シクロペンチル基、シクロヘキシル基等のシクロアルキル基;フェニル基、ナフチル基、アントラセニル基等の芳香族基等が挙げられる。なお、R13〜R30においては、これら炭化水素基は、酸素原子又はハロゲン原子を含んでもよい。
In formula (1) to (3), the halogen atom constituting R 1 to R 41, a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom, and an iodine atom.
R 1 to R 12 , R 31 to R 41 , a C 1-20 hydrocarbon group, and R 13 to R 30 , an oxygen atom or a halogen atom, which may contain a C 1-20 carbonization Examples of the hydrogen group include alkyl groups such as methyl group, ethyl group, and propyl group; cycloalkyl groups such as cyclopentyl group and cyclohexyl group; aromatic groups such as phenyl group, naphthyl group, and anthracenyl group. In R 13 to R 30 , these hydrocarbon groups may contain an oxygen atom or a halogen atom.

13〜R30を構成する置換基を有していてもよい炭素数1〜20のアルコキシ基の、炭素数1〜20のアルコキシ基としては、メトキシ基、エトキシ基、n−プロポキシ基、イソプロポキシ基、n−ブトキシ基、s−ブトキシ基、t−ブトキシ基、n−ペンチルオキシ基、n−オクチルオキシ基等が挙げられる。その置換基としては、塩素原子、臭素原子等のハロゲン原子;メトキシ基、エトキシ基等のアルコキシ基;等が挙げられる。 Examples of the alkoxy group having 1 to 20 carbon atoms that may have a substituent constituting R 13 to R 30 include a methoxy group, an ethoxy group, an n-propoxy group, an iso group. A propoxy group, n-butoxy group, s-butoxy group, t-butoxy group, n-pentyloxy group, n-octyloxy group and the like can be mentioned. Examples of the substituent include halogen atoms such as chlorine atom and bromine atom; alkoxy groups such as methoxy group and ethoxy group;

これらのなかでも、エポキシ化合物(B)としては、本発明の効果がより一層顕著なものとなることから、分子量が300以下のものが好ましく、分子量が100〜300であるものがより好ましい。また、温度25℃において液体であるものが好ましい。さらに、エポキシ化合物(B)としては、得られる硬化物の電気特性及び耐水性を向上させることができるという点より、エポキシ基以外の極性基を有しないものが好ましい。   Among these, the epoxy compound (B) preferably has a molecular weight of 300 or less, more preferably a molecular weight of 100 to 300, since the effects of the present invention become more remarkable. Moreover, what is a liquid at the temperature of 25 degreeC is preferable. Furthermore, as an epoxy compound (B), what does not have polar groups other than an epoxy group from the point that the electrical property and water resistance of the hardened | cured material obtained can be improved.

エポキシ化合物(B)としては、特に、下記式(4)で表される化合物(テトラヒドロインデンジエポキシド)、下記式(5)で表される化合物((3,3’,4,4’−ジエポキシ)ビシクロヘキシル)又は下記式(6)で表される化合物(ジシクロペンタジエンジエポキシド)が好ましく、下記式(5)で表される化合物が反応性の観点から、また液体であることからより好ましい。

Figure 2012214610
Figure 2012214610
Figure 2012214610
As the epoxy compound (B), in particular, a compound represented by the following formula (4) (tetrahydroindene diepoxide), a compound represented by the following formula (5) ((3,3 ′, 4,4′-diepoxy) ) Bicyclohexyl) or a compound represented by the following formula (6) (dicyclopentadiene diepoxide) is preferable, and a compound represented by the following formula (5) is more preferable from the viewpoint of reactivity and liquid. .
Figure 2012214610
Figure 2012214610
Figure 2012214610

なお、エポキシ化合物(B)としては、上記式(4)〜(6)で表される化合物以外にも、たとえば、対応するオレフィンの炭素−炭素二重結合をエポキシ化する方法等の公知の方法により製造し、入手することができる(例えば、特開2002−145872号公報、特開2008−189698号公報、特開2008−189709号公報等参照。)。また、市販品をそのまま使用することもできる。   As the epoxy compound (B), in addition to the compounds represented by the above formulas (4) to (6), for example, known methods such as a method of epoxidizing the carbon-carbon double bond of the corresponding olefin (See, for example, Japanese Patent Application Laid-Open Nos. 2002-145872, 2008-189698, and 2008-189709). Moreover, a commercial item can also be used as it is.

本発明の硬化性樹脂組成物中における、エポキシ化合物(B)の配合割合は、「脂環式オレフィン重合体(A)/エポキシ化合物(B)」の重量比で、好ましくは1/99〜50/50の範囲、より好ましくは10/90〜40/60の範囲、さらに好ましくは20/80〜40/60の範囲である。エポキシ化合物(B)の配合割合が少なすぎると、硬化が不十分となり、得られる硬化物の機械的強度が悪化するおそれがある。一方、エポキシ化合物(B)の配合割合が多すぎると、脆くなるおそれがある。   The blending ratio of the epoxy compound (B) in the curable resin composition of the present invention is a weight ratio of “alicyclic olefin polymer (A) / epoxy compound (B)”, preferably 1/99 to 50. / 50, more preferably in the range of 10/90 to 40/60, still more preferably in the range of 20/80 to 40/60. When there are too few compounding ratios of an epoxy compound (B), hardening will become inadequate and there exists a possibility that the mechanical strength of the hardened | cured material obtained may deteriorate. On the other hand, when there are too many compounding ratios of an epoxy compound (B), there exists a possibility that it may become weak.

(光酸発生剤(C))
本発明で用いられる光酸発生剤(C)は、光に感応してブレンステッド酸又はルイス酸を生成する物質であり、硬化剤として作用する。光酸発生剤(C)としては、例えば、オニウム塩、ハロゲン化有機化合物、α,α−ビス(スルホニル)ジアゾメタン化合物、α−カルボニル−α−スルホニル−ジアゾメタン化合物、スルホン化合物、有機酸エステル化合物、有機酸アミド化合物、及び有機酸イミド化合物などの中から選ばれる。中でも、オニウム塩が好ましい。
(Photoacid generator (C))
The photoacid generator (C) used in the present invention is a substance that generates Bronsted acid or Lewis acid in response to light and acts as a curing agent. Examples of the photoacid generator (C) include onium salts, halogenated organic compounds, α, α-bis (sulfonyl) diazomethane compounds, α-carbonyl-α-sulfonyl-diazomethane compounds, sulfone compounds, organic acid ester compounds, It is selected from organic acid amide compounds and organic acid imide compounds. Of these, onium salts are preferred.

オニウム塩の具体例としては、スルホニウム塩、ジアゾニウム塩、アンモニウム塩、ヨードニウム塩、ホスホニウム塩、アルソニウム塩、オキソニウム塩等でアルキル基、アルケニル基、アラルキル基、芳香族基、ヘテロ環状基を有するものが挙げられ、特にスルホニウム塩が好ましい。これらオニウム塩の対アニオンは、特に限定されず、例えば、アンチモン酸、硼素酸、砒素酸、燐酸、スルホン酸、カルボン酸、あるいはこれらのハロゲン化物が挙げられ、特にアンチモン酸が好ましい。具体例としては、トリアリールスルホニウムヘキサフルオロアンチモネート等が挙げられる。   Specific examples of onium salts include sulfonium salts, diazonium salts, ammonium salts, iodonium salts, phosphonium salts, arsonium salts, oxonium salts, etc. having alkyl groups, alkenyl groups, aralkyl groups, aromatic groups, and heterocyclic groups. In particular, a sulfonium salt is preferable. The counter anion of these onium salts is not particularly limited, and examples thereof include antimonic acid, boric acid, arsenic acid, phosphoric acid, sulfonic acid, carboxylic acid, and halides thereof, and antimonic acid is particularly preferable. Specific examples include triarylsulfonium hexafluoroantimonate.


本発明で用いられる光酸発生剤(C)としては、例えば、アリールスルホニウム塩誘導体〔例えば、ダウ・ケミカル社製のサイラキュア(登録商標、以下、同じ。)UVI−6990、サイラキュアUVI−6992、サイラキュアUVI−6974;ADEKA社製のアデカオプトマー(登録商標、以下、同じ。)SP−150、アデカオプトマーSP−152、アデカオプトマーSP−170、アデカオプトマーSP−172〕、アリルヨードニウム塩誘導体(例えば、ローディア社製のPI−2074)、アレン−イオン錯体誘導体(例えば、チバガイギー社製のイルガキュア(登録商標)261)、ジアゾニウム塩誘導体、トリアジン系開始剤及びその他のハロゲン化物等の酸発生剤が挙げられる。

Examples of the photoacid generator (C) used in the present invention include arylsulfonium salt derivatives (for example, Cyracure (registered trademark, the same applies hereinafter) manufactured by Dow Chemical Co., Ltd., UVI-6990, Cyracure UVI-6992, and Cyracure. UVI-6974: ADEKA Adekaoptomer (registered trademark, hereinafter the same) SP-150, Adekaoptomer SP-152, Adekaoptomer SP-170, Adekaoptomer SP-172], allyl iodonium salt derivative (For example, PI-2074 manufactured by Rhodia), allene-ion complex derivatives (for example, Irgacure (registered trademark) 261 manufactured by Ciba Geigy), acid generators such as diazonium salt derivatives, triazine-based initiators and other halides Is mentioned.

本発明の硬化性樹脂組成物中における、光酸発生剤(C)の配合量は、脂環式オレフィン重合体(A)及びエポキシ化合物(B)の合計100重量部に対して、好ましくは、0.1〜10重量部、より好ましくは0.5〜5重量部、さらに好ましくは1〜4重量部である。光酸発生剤(C)の配合量が少なすぎると、硬化が不十分になるおそれがあり、一方、多すぎると、信頼性が悪化するおそれがある。   The blending amount of the photoacid generator (C) in the curable resin composition of the present invention is preferably based on 100 parts by weight of the total of the alicyclic olefin polymer (A) and the epoxy compound (B), It is 0.1-10 weight part, More preferably, it is 0.5-5 weight part, More preferably, it is 1-4 weight part. If the blending amount of the photoacid generator (C) is too small, curing may be insufficient. On the other hand, if it is too large, reliability may be deteriorated.

(無機充填材(D))
また、本発明の硬化性樹脂組成物には、上述した脂環式オレフィン重合体(A)、エポキシ化合物(B)及び光酸発生剤(C)に加えて、無機充填材(D)を配合することが好ましい。無機充填材(D)としては、工業的に一般に使用されるものであれば特に限定されず、たとえば、炭酸カルシウム、炭酸マグネシウム、炭酸バリウム、酸化亜鉛、酸化チタン、酸化マグネシウム、ケイ酸マグネシウム、ケイ酸カルシウム、ケイ酸ジルコニウム、水和アルミナ、水酸化マグネシウム、水酸化アルミニウム、硫酸バリウム、シリカ、タルク、クレーなどを挙げることができる。無機充填材を配合することで、得られる硬化物の線膨張を低くすることができる。
(Inorganic filler (D))
In addition to the above-described alicyclic olefin polymer (A), epoxy compound (B) and photoacid generator (C), the curable resin composition of the present invention contains an inorganic filler (D). It is preferable to do. The inorganic filler (D) is not particularly limited as long as it is generally used industrially. For example, calcium carbonate, magnesium carbonate, barium carbonate, zinc oxide, titanium oxide, magnesium oxide, magnesium silicate, silica Calcium acid, zirconium silicate, hydrated alumina, magnesium hydroxide, aluminum hydroxide, barium sulfate, silica, talc, clay and the like can be mentioned. By blending the inorganic filler, the linear expansion of the obtained cured product can be lowered.

上述した無機充填材(D)の中でも、耐熱性、低吸水率、誘電特性、低不純物性、放熱性等に優れるという点より、シリカが好ましく、特に、その表面をシランカップリング剤で処理してなるシリカがより好ましい。なお、シランカップリング剤としては、特に限定されず、公知のものを使用することができる。   Among the inorganic fillers (D) described above, silica is preferable because it is excellent in heat resistance, low water absorption, dielectric properties, low impurity properties, heat dissipation, and the like. In particular, the surface is treated with a silane coupling agent. Silica is more preferable. In addition, it does not specifically limit as a silane coupling agent, A well-known thing can be used.

本発明で用いられる無機充填材(D)は、平均粒子径が、好ましくは0.05〜1.5μmであり、より好ましくは0.1〜1μmである。無機充填材(D)の平均粒子径が小さすぎると、溶融粘度が高くなり埋め込み平坦性が確保できなくなる場合があり、一方、大きすぎると、微細な配線パターンを埋め込んだときに配線間のショートを引き起こす場合がある。なお、平均粒子径は、粒度分布測定装置により測定することができる。   The average particle diameter of the inorganic filler (D) used in the present invention is preferably 0.05 to 1.5 μm, more preferably 0.1 to 1 μm. If the average particle size of the inorganic filler (D) is too small, the melt viscosity becomes high and the embedding flatness may not be ensured. On the other hand, if the average particle size is too large, a short circuit between wirings occurs when a fine wiring pattern is embedded. May cause. The average particle diameter can be measured with a particle size distribution measuring device.

本発明の硬化性樹脂組成物中における、無機充填材(D)の配合割合は、30〜90重量%であり、好ましくは40〜80重量%、より好ましくは50〜70重量%である。無機充填材(D)の配合割合が低すぎると、無機充填材(D)を配合した効果が得難くなり、一方、配合割合が高すぎると、硬化性組成物からなるフィルムや硬化物が脆くなるおそれがある。   The compounding ratio of the inorganic filler (D) in the curable resin composition of the present invention is 30 to 90% by weight, preferably 40 to 80% by weight, more preferably 50 to 70% by weight. If the blending ratio of the inorganic filler (D) is too low, it is difficult to obtain the effect of blending the inorganic filler (D). On the other hand, if the blending ratio is too high, the film or cured product made of the curable composition is brittle. There is a risk.

(その他の成分)
また、本発明の硬化性樹脂組成物には、必要に応じて、光増感剤を配合してもよい。光増感剤(g)としては、チオキサントン、チオキサントンの誘導体、アントラキノン、アントラキノンの誘導体、アントラセン、アントラセンの誘導体、ペリレン、ペリレンの誘導体、ベンゾフェノン、及びベンゾインイソプロピルエーテルなどの光増感剤などを挙げることができる。光増感剤は硬化性樹脂組成物を100重量部とした場合に0. 1〜20重量部含有することで効果が増し、有効である。光増感剤を使用することで、光硬化性、光反応性が向上し、接着強度を向上させることができる。
また、本発明の硬化性樹脂組成物には、必要に応じて、溶剤を配合してもよい。溶剤を配合することにより、本発明の硬化性樹脂組成物を調製した際における、硬化反応の進行を抑制することができ、これにより、安定した組成物を得ることができるとともに、フィルム状に成形する際における、成形性を向上させることができる。なお、溶剤は、本発明の硬化性樹脂組成物をフィルム状に成形し、フィルム化する際に、加熱等により揮発除去されることとなる。
(Other ingredients)
Moreover, you may mix | blend a photosensitizer with the curable resin composition of this invention as needed. Examples of the photosensitizer (g) include photosensitizers such as thioxanthone, thioxanthone derivatives, anthraquinone, anthraquinone derivatives, anthracene, anthracene derivatives, perylene, perylene derivatives, benzophenone, and benzoin isopropyl ether. Can do. The effect of the photosensitizer is increased by containing 0.1 to 20 parts by weight when the curable resin composition is 100 parts by weight. By using a photosensitizer, photocurability and photoreactivity can be improved, and adhesive strength can be improved.
Moreover, you may mix | blend a solvent with the curable resin composition of this invention as needed. By blending a solvent, it is possible to suppress the progress of the curing reaction when the curable resin composition of the present invention is prepared. Thereby, a stable composition can be obtained and molded into a film shape. It is possible to improve the moldability in the process. The solvent is volatilized and removed by heating or the like when the curable resin composition of the present invention is formed into a film and formed into a film.

溶剤としては、フィルム状に成形する際に、加熱等により揮発除去させるという観点から、その沸点が30〜250℃のものが好ましく、50〜200℃のものがより好ましい。このような溶剤の具体例としては、トルエン、キシレン、エチルベンゼン、トリメチルベンゼン、及びアニソールなどの芳香族炭化水素;n−ペンタン、n−ヘキサン、n−ヘプタン、メチルエチルケトン、及びメチルイソブチルケトンなどの脂肪族炭化水素;シクロペンタンやシクロヘキサン、シクロペンタノン、及びシクロヘキサノンなどの脂環式炭化水素;クロロベンゼン、ジクロロベンゼン、及びトリクロロベンゼンなどのハロゲン化炭化水素;などが挙げられる。これらのなかでも、本発明の硬化性樹脂組成物を構成する各成分との相溶性の観点より、環式オレフィン重合体(A)を重合体溶液の形態で用いる場合には、該重合体溶液に使用する溶剤と同様のものを用いることが好ましい。   The solvent preferably has a boiling point of 30 to 250 ° C, more preferably 50 to 200 ° C, from the viewpoint of volatilization and removal by heating or the like when forming into a film. Specific examples of such solvents include aromatic hydrocarbons such as toluene, xylene, ethylbenzene, trimethylbenzene, and anisole; aliphatics such as n-pentane, n-hexane, n-heptane, methyl ethyl ketone, and methyl isobutyl ketone. Hydrocarbons; cycloaliphatic hydrocarbons such as cyclopentane, cyclohexane, cyclopentanone, and cyclohexanone; halogenated hydrocarbons such as chlorobenzene, dichlorobenzene, and trichlorobenzene. Among these, from the viewpoint of compatibility with each component constituting the curable resin composition of the present invention, when the cyclic olefin polymer (A) is used in the form of a polymer solution, the polymer solution It is preferable to use the same solvent as used in the above.

本発明の硬化性樹脂組成物中における、溶剤の配合割合は、好ましくは90重量%以下、より好ましくは80重量%以下、さらに好ましくは70重量%以下である。   The mixing ratio of the solvent in the curable resin composition of the present invention is preferably 90% by weight or less, more preferably 80% by weight or less, and further preferably 70% by weight or less.

さらに、本発明の硬化性樹脂組成物には、必要に応じて、ゴム質重合体や、上記した脂環式オレフィン重合体(A)以外のその他の熱可塑性樹脂を配合することができる。ゴム質重合体としては、常温(25℃)以下のガラス転移温度を持つ重合体であり、一般的なゴム状重合体及び熱可塑性エラストマーが含まれる。   Furthermore, in the curable resin composition of the present invention, a rubbery polymer and other thermoplastic resins other than the alicyclic olefin polymer (A) can be blended as necessary. The rubbery polymer is a polymer having a glass transition temperature of room temperature (25 ° C.) or lower, and includes general rubbery polymers and thermoplastic elastomers.

ゴム状重合体やその他の熱可塑性樹脂の配合量は、本発明の目的を損なわない範囲で適宜選択されるが、脂環式オレフィン重合体(A)及びエポキシ化合物(B)の合計100重量部に対して、30重量部以下の配合量とすることが好ましい。   The blending amount of the rubber-like polymer and other thermoplastic resins is appropriately selected within a range not impairing the object of the present invention, but a total of 100 parts by weight of the alicyclic olefin polymer (A) and the epoxy compound (B). On the other hand, the blending amount is preferably 30 parts by weight or less.

本発明の硬化性樹脂組成物には、硬化物とした際における難燃性を向上させる目的で、例えば、ハロゲン系難燃剤やリン酸エステル系難燃剤などの一般の電気絶縁膜形成用の硬化性樹脂組成物に配合される難燃剤を配合してもよい。本発明の硬化性樹脂組成物に難燃剤を配合する場合の配合量は、脂環式オレフィン重合体100重量部に対して、好ましくは100重量部以下であり、より好ましくは60重量部以下である。   In the curable resin composition of the present invention, for the purpose of improving flame retardancy when cured, for example, curing for forming a general electric insulation film such as a halogen-based flame retardant or a phosphate ester-based flame retardant. You may mix | blend the flame retardant mix | blended with an adhesive resin composition. When the flame retardant is blended in the curable resin composition of the present invention, the blending amount is preferably 100 parts by weight or less, more preferably 60 parts by weight or less, with respect to 100 parts by weight of the alicyclic olefin polymer. is there.

また、本発明の硬化性樹脂組成物には、さらに必要に応じて、難燃助剤、耐熱安定剤、耐候安定剤、老化防止剤、紫外線吸収剤(レーザー加工性向上剤)、レベリング剤、帯電防止剤、スリップ剤、アンチブロッキング剤、防曇剤、滑剤、染料、天然油、合成油、ワックス、乳剤、磁性体、誘電特性調整剤、靭性剤などの任意成分を配合してもよい。これらの任意成分の配合割合は、本発明の目的を損なわない範囲で適宜選択すればよい。   Further, the curable resin composition of the present invention further includes a flame retardant aid, a heat resistance stabilizer, a weather resistance stabilizer, an anti-aging agent, an ultraviolet absorber (laser processability improver), a leveling agent, if necessary. You may mix | blend arbitrary components, such as an antistatic agent, a slip agent, an antiblocking agent, an antifogging agent, a lubricant, a dye, a natural oil, a synthetic oil, a wax, an emulsion, a magnetic body, a dielectric property modifier, and a toughening agent. What is necessary is just to select suitably the mixture ratio of these arbitrary components in the range which does not impair the objective of this invention.

本発明の硬化性樹脂組成物の製造方法としては、特に限定されるものではなく、上記各成分を混合することにより製造することができる。また、溶剤を用いる場合には、上記各成分の一部を溶剤に溶解もしくは分散させた状態の組成物を調製し、当該組成物に残りの成分を混合してもよい。   It does not specifically limit as a manufacturing method of the curable resin composition of this invention, It can manufacture by mixing said each component. Moreover, when using a solvent, you may prepare the composition of the state which melt | dissolved or disperse | distributed a part of said each component in a solvent, and may mix the remaining components with the said composition.

(フィルム)
本発明のフィルムは、上述した本発明の硬化性樹脂組成物をシート状又はフィルム状に成形してなる成形体である。
(the film)
The film of this invention is a molded object formed by shape | molding the curable resin composition of this invention mentioned above in a sheet form or a film form.

本発明の硬化性樹脂組成物を、シート状又はフィルム状に成形して成形体とする際には、本発明の硬化性樹脂組成物を、必要に応じて有機溶剤を添加して、支持体に塗布、散布又は流延し、次いで乾燥することより得ることが好ましい。   When the curable resin composition of the present invention is molded into a sheet shape or a film shape to obtain a molded body, the curable resin composition of the present invention is added to an organic solvent as necessary, and a support. It is preferably obtained by applying, spraying or casting to the substrate and then drying.

この際に用いる支持体としては、樹脂フィルムや金属箔などが挙げられる。樹脂フィルムとしては、ポリエチレンテレフタレートフィルム、ポリプロピレンフィルム、ポリエチレンフィルム、ポリカーボネートフィルム、ポリエチレンナフタレートフィルム、ポリアリレートフィルム、ナイロンフィルムなどが挙げられる。これらのフィルムのうち、耐熱性、耐薬品性、剥離性などの観点からポリエチレンテレフタレートフィルム又はポリエチレンナフタレートフィルムが好ましい。金属箔としては、銅箔、アルミ箔、ニッケル箔、クロム箔、金箔、銀箔などが挙げられる。   Examples of the support used in this case include a resin film and a metal foil. Examples of the resin film include polyethylene terephthalate film, polypropylene film, polyethylene film, polycarbonate film, polyethylene naphthalate film, polyarylate film, and nylon film. Among these films, a polyethylene terephthalate film or a polyethylene naphthalate film is preferable from the viewpoint of heat resistance, chemical resistance, peelability, and the like. Examples of the metal foil include copper foil, aluminum foil, nickel foil, chrome foil, gold foil, and silver foil.

シート状又はフィルム状の成形体の厚さは、特に限定されないが、作業性などの観点から、通常、1〜150μm、好ましくは2〜100μm、より好ましくは5〜80μmである。また、支持体の表面平均粗さRaは、通常、300nm以下、好ましくは150nm以下、より好ましくは100nm以下である。   The thickness of the sheet-like or film-like molded body is not particularly limited, but is usually 1 to 150 μm, preferably 2 to 100 μm, more preferably 5 to 80 μm from the viewpoint of workability and the like. The surface average roughness Ra of the support is usually 300 nm or less, preferably 150 nm or less, more preferably 100 nm or less.

本発明の硬化性樹脂組成物を塗布する方法としては、ディップコート、ロールコート、カーテンコート、ダイコート、スリットコート、グラビアコートなどが挙げられる。   Examples of the method for applying the curable resin composition of the present invention include dip coating, roll coating, curtain coating, die coating, slit coating, and gravure coating.

なお、本発明の成形体においては、本発明の硬化性樹脂組成物が未硬化又は半硬化の状態であることが好ましい。ここで未硬化とは、成形体を、脂環式オレフィン重合体(A)を溶解可能な溶剤に漬けたときに、実質的に脂環式オレフィン重合体(A)の全部が溶解する状態をいう。また、半硬化とは、加熱すれば更に硬化しうる程度に途中まで硬化された状態であり、好ましくは、脂環式オレフィン重合体(A)を溶解可能な溶剤に脂環式オレフィン重合体(A)の一部(具体的には7重量%以上)が溶解する状態であるか、あるいは、溶剤中に成形体を24時間浸漬した後の体積が、浸漬前の体積の200%以上(膨潤率)である状態をいう。   In the molded article of the present invention, the curable resin composition of the present invention is preferably in an uncured or semi-cured state. Here, uncured means a state where substantially all of the alicyclic olefin polymer (A) is dissolved when the molded body is immersed in a solvent capable of dissolving the alicyclic olefin polymer (A). Say. Semi-cured is a state where the resin is cured to the middle so that it can be further cured by heating. Preferably, the alicyclic olefin polymer (A) is dissolved in a solvent capable of dissolving the alicyclic olefin polymer (A). A part of A) (specifically, 7% by weight or more) is in a dissolved state, or the volume after the molded body is immersed in the solvent for 24 hours is 200% or more of the volume before the immersion (swelling) Rate).

また、本発明の硬化性樹脂組成物を、支持体上に塗布した後、必要に応じて、乾燥を行ってもよい。乾燥温度は、本発明の硬化性樹脂組成物が硬化しない程度の温度とすることが好ましく、通常、20〜150℃、好ましくは30〜100℃である。乾燥温度が高すぎると、硬化反応が進行しすぎて、得られる成形体が未硬化又は半硬化の状態とならなくなるおそれがある。また、乾燥時間は、通常、30秒間〜1時間、好ましくは1分間〜30分間である。   Moreover, after apply | coating the curable resin composition of this invention on a support body, you may dry as needed. The drying temperature is preferably a temperature at which the curable resin composition of the present invention is not cured, and is usually 20 to 150 ° C, preferably 30 to 100 ° C. If the drying temperature is too high, the curing reaction proceeds too much, and the resulting molded article may not be in an uncured or semi-cured state. The drying time is usually 30 seconds to 1 hour, preferably 1 minute to 30 minutes.

そして、このようにして得られる本発明のフィルムは、支持体上に付着させた状態で、又は支持体からはがして、使用される。   And the film of this invention obtained in this way is used in the state made to adhere on a support body, or peeling from a support body.

シート状又はフィルム状の複合成形体の厚さは、特に限定されないが、作業性などの観点から、通常、1〜150μm、好ましくは2〜100μm、より好ましくは5〜80μmである。また、複合成形体中の繊維基材の量は、通常、20〜90重量%、好ましくは30〜85重量%である。   The thickness of the sheet-like or film-like composite molded body is not particularly limited, but is usually 1 to 150 μm, preferably 2 to 100 μm, and more preferably 5 to 80 μm from the viewpoint of workability. The amount of the fiber base in the composite molded body is usually 20 to 90% by weight, preferably 30 to 85% by weight.

そして、このようにして得られる本発明のフィルムは、活性放射線を照射し、これにより、光酸発生剤(C)を活性化させ、硬化反応を起こさせることにより硬化物とすることができる。   And the film of this invention obtained in this way can be made into hardened | cured material by irradiating actinic radiation, thereby activating a photo-acid generator (C) and causing hardening reaction.

活性放射線としては、光酸発生剤(C)を活性化させ、硬化反応を起こさせることができるものであれば特に限定されない。具体的には、紫外線、g線やi線等の単一波長の紫外線、KrFエキシマレーザー光、ArFエキシマレーザー光等の光線;電子線のような粒子線;等を用いることができる。活性放射線として光線を用いる場合は、単一波長光であっても、混合波長光であってもよい。   The actinic radiation is not particularly limited as long as it can activate the photoacid generator (C) to cause a curing reaction. Specifically, ultraviolet rays, ultraviolet rays having a single wavelength such as g-line or i-line, light rays such as KrF excimer laser light and ArF excimer laser light; particle beams such as electron beams; When light is used as the active radiation, it may be single wavelength light or mixed wavelength light.

活性放射線の照射条件は、使用する活性放射線に応じて適宜選択されるが、例えば、波長200〜450nmの光線を使用する場合、照射量は、通常10〜10,000mJ/cm、好ましくは50〜5,000mJ/cmの範囲であり、照射時間と照度に応じて決まる。このようにして活性放射線を照射した後、必要に応じて、フィルム状の硬化物を加熱処理する。加熱方法としては、例えば、フィルム状の硬化物をホットプレートやオーブン内で加熱する方法が挙げられる。温度は、通常、100〜300℃、好ましくは120〜200℃の範囲である。 The irradiation condition of the active radiation is appropriately selected according to the active radiation to be used. For example, when using a light beam having a wavelength of 200 to 450 nm, the irradiation amount is usually 10 to 10,000 mJ / cm 2 , preferably 50. It is in the range of ˜5,000 mJ / cm 2 and is determined according to the irradiation time and illuminance. Thus, after irradiating actinic radiation, a film-shaped hardened material is heat-processed as needed. Examples of the heating method include a method of heating a film-like cured product in a hot plate or an oven. The temperature is usually in the range of 100 to 300 ° C, preferably 120 to 200 ° C.

(積層体)
本発明の積層体は、上述した本発明のフィルムを積層してなるものである。本発明の積層体としては、少なくとも、上述した本発明のフィルムを積層してなるものであればよいが、ガラス基板又はシリコーンウェハー基板と、上述した本発明のフィルムとを積層してなるものが好ましい。
(Laminate)
The laminate of the present invention is formed by laminating the above-described film of the present invention. The laminate of the present invention may be at least a laminate of the above-described film of the present invention, but a laminate of the glass substrate or silicone wafer substrate and the above-described film of the present invention. preferable.

本発明の積層体は、通常、表面に導体層を有する基板上に、上述した本発明のフィルム(すなわち、本発明の硬化性樹脂組成物を、シート状又はフィルム状に成形してなる成形体、又は本発明の硬化性樹脂組成物を、繊維基材に含浸させてなる複合成形体)を加熱圧着することにより、製造することができる。   The laminate of the present invention is usually a molded product obtained by molding the above-described film of the present invention (that is, the curable resin composition of the present invention into a sheet or film) on a substrate having a conductor layer on the surface. Or a composite molded article obtained by impregnating a fiber base material with the curable resin composition of the present invention can be produced by thermocompression bonding.

加熱圧着の方法としては、支持体付きの成形体又は複合成形体を、上述した基板に接するように重ね合わせ、加圧ラミネータ、プレス、真空ラミネータ、真空プレス、ロールラミネータなどの加圧機を使用して加熱圧着(ラミネーション)する方法が挙げられる。加熱加圧することにより、基板表面と成形体又は複合成形体との界面に空隙が実質的に存在しないように結合させることができる。   As a method of thermocompression bonding, a molded body with a support or a composite molded body is overlapped so as to be in contact with the substrate described above, and a pressure laminator, press, vacuum laminator, vacuum press, roll laminator or the like is used. And thermocompression bonding (lamination). By heating and pressurizing, bonding can be performed so that there is substantially no void at the interface between the substrate surface and the molded body or composite molded body.

加熱圧着操作の温度は、通常、30〜150℃、好ましくは70〜120℃であり、加える圧力は、通常、10kPa〜20MPa、好ましくは100kPa〜10MPaであり、時間は、通常、30秒〜1時間、好ましくは1分〜30分である。また、加熱圧着は、配線パターンの埋め込み性を向上させ、気泡の発生を抑えるために減圧下で行うのが好ましい。加熱圧着を行う減圧下の圧力は、通常100kPa〜1Pa、好ましくは40kPa〜10Paである。   The temperature of the thermocompression bonding operation is usually 30 to 150 ° C., preferably 70 to 120 ° C., the pressure applied is usually 10 kPa to 20 MPa, preferably 100 kPa to 10 MPa, and the time is usually 30 seconds to 1 Time, preferably 1 to 30 minutes. The thermocompression bonding is preferably performed under reduced pressure in order to improve the embedding property of the wiring pattern and suppress the generation of bubbles. The pressure under reduced pressure at which thermocompression bonding is performed is usually 100 kPa to 1 Pa, preferably 40 kPa to 10 Pa.

また、このようにして得られる積層体について、活性放射線を照射し、さらに必要に応じて積層体を加熱処理して、本発明のフィルムを硬化する処理を行なうことで、硬化物とすることができる。この場合における、活性放射線の照射条件は、上記と同様とすればよい。さらに、本発明においては、活性放射線を照射して、本発明のフィルムを硬化することにより形成された硬化物の表面に、金属めっき層を形成してもよい。   Moreover, about the laminated body obtained in this way, it can be set as hardened | cured material by irradiating actinic radiation, and also heat-processing a laminated body as needed, and performing the process which hardens the film of this invention. it can. In this case, the irradiation conditions of the active radiation may be the same as described above. Furthermore, in this invention, you may form a metal plating layer on the surface of the hardened | cured material formed by irradiating actinic radiation and hardening the film of this invention.

本発明の積層体の一態様としてはウェハー・レベル・パッケージ構造の半導体装置が挙げられる。当該半導体装置は、半導体素子と、半導体素子の表面の電極に接続された外部接続用端子と、外部接続用端子を除く半導体素子の表面を覆うフィルムから構成されている。かかるフィルムは、本発明のフィルムからなり、絶縁樹脂層として機能する。当該半導体装置の製造方法としては、半導体ウェハーの表面を覆うようにして本発明のフィルムを接着する工程、前記フィルムを硬化させた後、硬化フィルムに、半導体素子の電極位置となる部分に開口を形成する工程、この開口を介して硬化フィルムの表面に導電配線を形成する工程、及び前記3つの工程を適宜繰り返すことにより、前記半導体素子の電極と外部接続用端子を接続する工程からなる。このようにして得られたウェハーを個々の素子に切断することにより、ウェハー・レベル・パッケージ構造の半導体装置が得られる。   One embodiment of the laminate of the present invention is a semiconductor device having a wafer level package structure. The semiconductor device includes a semiconductor element, an external connection terminal connected to an electrode on the surface of the semiconductor element, and a film that covers the surface of the semiconductor element excluding the external connection terminal. Such a film is made of the film of the present invention and functions as an insulating resin layer. As a method for manufacturing the semiconductor device, the step of adhering the film of the present invention so as to cover the surface of the semiconductor wafer, after the film is cured, an opening is formed in a portion of the cured film where the electrode position of the semiconductor element is located. The step of forming, the step of forming a conductive wiring on the surface of the cured film through the opening, and the step of connecting the electrodes of the semiconductor element and the external connection terminals by appropriately repeating the three steps. By cutting the wafer thus obtained into individual elements, a semiconductor device having a wafer level package structure can be obtained.

以下に実施例及び比較例を挙げて、本発明についてより具体的に説明する。なお、各例中の部及び%は、特に断りのない限り、重量基準である。各種の物性については、以下の方法に従って評価した。   Hereinafter, the present invention will be described more specifically with reference to examples and comparative examples. In addition, the part and% in each example are a basis of weight unless there is particular notice. Various physical properties were evaluated according to the following methods.

(1)脂環式オレフィン重合体の数平均分子量(Mn)、重量平均分子量(Mw)及び分子量分布(Mw/Mn)
テトラヒドロフランを展開溶媒として、ゲル・パーミエーション・クロマトグラフィー(GPC)により測定し、ポリスチレン換算値として求めた。
(1) Number average molecular weight (Mn), weight average molecular weight (Mw) and molecular weight distribution (Mw / Mn) of alicyclic olefin polymer
It was measured by gel permeation chromatography (GPC) using tetrahydrofuran as a developing solvent, and was determined as a polystyrene equivalent value.

(2)脂環式オレフィン重合体の水素添加率
水素添加前における脂環式オレフィン重合体中の不飽和結合のモル数に対する水素添加された不飽和結合のモル数の比率を、400MHzのH−NMRスペクトル測定により求め、これを水素添加率とした。
(2) Hydrogenation rate of alicyclic olefin polymer The ratio of the number of moles of unsaturated bonds hydrogenated to the number of moles of unsaturated bonds in the alicyclic olefin polymer before hydrogenation was determined as 1 H of 400 MHz. -It calculated | required by NMR spectrum measurement and made this hydrogenation rate.

(3)脂環式オレフィン重合体のカルボン酸無水物基を有する繰り返し単位の含有率
脂環式オレフィン重合体中の総単量体単位モル数に対するカルボン酸無水物基を有する繰り返し単位のモル数の割合を、400MHzのH−NMRスペクトル測定により求めた。
(3) Content of repeating unit having carboxylic acid anhydride group of alicyclic olefin polymer Number of moles of repeating unit having carboxylic acid anhydride group with respect to the total number of moles of monomer units in alicyclic olefin polymer Was determined by 400 MHz 1 H-NMR spectrum measurement.

(4)吸水率(重量変化率)
硬化フィルムについて、温度100℃の沸騰水の中に1時間浸漬して、その前後の重量変化率を測定することで、吸水率の評価を行った。なお、重量変化率は、「重量変化率(%)={(沸騰水浸漬後の重量−沸騰水浸漬前の重量)/沸騰水浸漬前の重量}×100」に従って求め、以下の基準に従って、吸水率を評価した。なお、重量変化率が小さいほど、吸水率が低く、耐水性に優れていると判断できるため、好ましい。
A:重量変化率が0.5%未満
B:重量変化率が0.5%以上、1%未満
C:重量変化率が1%以上
(4) Water absorption rate (weight change rate)
The cured film was immersed in boiling water at a temperature of 100 ° C. for 1 hour, and the water absorption rate was evaluated by measuring the weight change rate before and after that. The weight change rate is determined according to “weight change rate (%) = {(weight after immersion in boiling water−weight before immersion in boiling water) / weight before immersion in boiling water} × 100”, according to the following criteria: The water absorption was evaluated. In addition, since a water absorption rate is low and it can be judged that it is excellent in water resistance, the weight change rate is preferable.
A: Weight change rate is less than 0.5% B: Weight change rate is 0.5% or more and less than 1% C: Weight change rate is 1% or more

(5)比誘電率
硬化フィルムから幅2.6mm、長さ80mm、厚さ20μmの小片を切り出し、空洞共振器摂動法誘電率測定装置を用いて10GHzにおける比誘電率の測定を行なった。
A:比誘電率が3.0未満
C:比誘電率が3.0以上、
(5) Relative permittivity A small piece having a width of 2.6 mm, a length of 80 mm, and a thickness of 20 μm was cut out from the cured film, and the relative permittivity at 10 GHz was measured using a cavity resonator perturbation method permittivity measuring apparatus.
A: The relative dielectric constant is less than 3.0 C: The relative dielectric constant is 3.0 or more,

(6)誘電正接
硬化フィルムから幅2.6mm、長さ80mm、厚さ20μmの小片を切り出し、空洞共振器摂動法誘電率測定装置を用いて10GHzにおける誘電正接の測定を行なった。
A:誘電正接が0.02未満
C:誘電正接が0.02以上、
(6) Dielectric loss tangent A small piece having a width of 2.6 mm, a length of 80 mm, and a thickness of 20 μm was cut out from the cured film, and the dielectric loss tangent at 10 GHz was measured using a cavity resonator perturbation method dielectric constant measuring apparatus.
A: Dielectric loss tangent is less than 0.02 C: Dielectric loss tangent is 0.02 or more,

(7)線膨張係数
硬化フィルムから幅5.95mm、長さ15.4mm、厚さ20μmの小片を切り出し、支点間距離10mm、昇温速度10℃/分の条件で、熱機械分析装置(TMA/SDTA840:メトラー・トレド社製)により、30℃〜150℃の線膨張係数の測定を行い、以下の基準で評価した。
A:線膨張係数の値が、40ppm/℃未満
B:線膨張係数の値が、40ppm/℃以上、50ppm/℃未満
C:線膨張係数の値が、50ppm/℃以上
(7) Linear expansion coefficient A piece having a width of 5.95 mm, a length of 15.4 mm, and a thickness of 20 μm was cut out from the cured film, and was subjected to a thermomechanical analyzer (TMA) under the conditions of a distance between supporting points of 10 mm and a heating rate of 10 ° C./min. / SDTA840: manufactured by METTLER TOLEDO), the linear expansion coefficient was measured at 30 ° C. to 150 ° C. and evaluated according to the following criteria.
A: The value of the linear expansion coefficient is less than 40 ppm / ° C. B: The value of the linear expansion coefficient is 40 ppm / ° C. or more and less than 50 ppm / ° C. C: The value of the linear expansion coefficient is 50 ppm / ° C. or more.

(8)絶縁信頼性
多層積層基板を、130℃、85%RH、印加電圧5Vの条件下で200時間処理した。次いで、200時間の処理後の多層積層基板の電気絶縁層間の絶縁抵抗を測定し、以下の基準で絶縁信頼性を評価した。
A:1.0×10Ω以上
C:1.0×10Ω未満
(8) Insulation reliability The multilayer laminated substrate was treated for 200 hours under conditions of 130 ° C., 85% RH, and applied voltage of 5V. Subsequently, the insulation resistance between the electrical insulation layers of the multilayer laminated substrate after the treatment for 200 hours was measured, and the insulation reliability was evaluated according to the following criteria.
A: 1.0 × 10 7 Ω or more C: Less than 1.0 × 10 7 Ω

製造例1
テトラシクロ[9.2.1.02,10.03,8]テトラデカ−3,5,7,12−テトラエン70モル部、ビシクロ[2.2.1]ヘプト−2−エン−5,6−ジカルボン酸無水物30モル部、1−ヘキセン0.9モル部、アニソール590モル部及びルテニウム系重合触媒として4−アセトキシベンジリデン(ジクロロ)(4,5−ジブロモ−1,3−ジメシチル−4−イミダゾリン−2−イリデン)(トリシクロヘキシルホスフィン)ルテニウム(和光純薬社製)0.015モル部を、窒素置換した耐圧ガラス反応器に入れ、攪拌下に80℃で1時間の重合反応を行って開環重合体の溶液を得た。次いで、窒素置換した攪拌機付きオートクレーブに、得られた開環重合体の溶液を入れ、150℃、水素圧7MPaで、5時間攪拌させて水素添加反応を行って、脂環式オレフィン重合体(A1)の溶液を得た。得られた脂環式オレフィン重合体(A1)の重量平均分子量は50,000、数平均分子量は26,000、分子量分布は1.9であった。また、水素添加率は97%であり、カルボン酸無水物基を有する繰り返し単位の含有率は30モル%であった。脂環式オレフィン重合体(A1)の溶液の固形分濃度は25%であった。
Production Example 1
Tetracyclo [9.2.1.0 2,10. 0 3,8 ] tetradeca-3,5,7,12-tetraene 70 mol parts, bicyclo [2.2.1] hept-2-ene-5,6-dicarboxylic anhydride 30 mol parts, 1-hexene 0 .9 mol part, 590 mol part of anisole and 4-acetoxybenzylidene (dichloro) (4,5-dibromo-1,3-dimesityl-4-imidazoline-2-ylidene) (tricyclohexylphosphine) ruthenium (ruthenium) 0.015 mol part (manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd.) was put into a pressure-resistant glass reactor substituted with nitrogen, and a polymerization reaction was carried out at 80 ° C. for 1 hour with stirring to obtain a ring-opening polymer solution. Subsequently, the solution of the obtained ring-opening polymer was put into an autoclave equipped with a stirrer purged with nitrogen, and the mixture was stirred at 150 ° C. and a hydrogen pressure of 7 MPa for 5 hours to conduct a hydrogenation reaction, whereby an alicyclic olefin polymer (A1 ) Was obtained. The resulting alicyclic olefin polymer (A1) had a weight average molecular weight of 50,000, a number average molecular weight of 26,000, and a molecular weight distribution of 1.9. The hydrogenation rate was 97%, and the content of repeating units having a carboxylic anhydride group was 30 mol%. The solid content concentration of the alicyclic olefin polymer (A1) solution was 25%.

実施例1
(硬化性樹脂組成物)
上記合成例1で得られた脂環式オレフィン重合体(A1)のアニソール溶液40部(重合体として10部)、エポキシ化合物(B)としての(3,3’,4,4’−ジエポキシ)ビシクロヘキシル(B1)90部、光酸発生剤(C)としてのアリールスルホニウム塩誘導体(C1)(アデカオプトマー(登録商標)SP172、ADEKA社製)2部、及び光増感剤としての9,10-ジブトキシアントラセン0.5部を、アニソールに混合して、配合剤濃度が60%になるように混合することで、硬化性樹脂組成物を得た。
Example 1
(Curable resin composition)
40 parts of anisole solution (10 parts as a polymer) of the alicyclic olefin polymer (A1) obtained in Synthesis Example 1 above (3,3 ′, 4,4′-diepoxy) as an epoxy compound (B) 90 parts of bicyclohexyl (B1), 2 parts of arylsulfonium salt derivative (C1) (Adekaoptomer (registered trademark) SP172, manufactured by ADEKA) as a photoacid generator (C), and 9, as a photosensitizer A curable resin composition was obtained by mixing 0.5 parts of 10-dibutoxyanthracene with anisole and mixing so that the concentration of the compounding agent was 60%.

(フィルム成形体)
次いで、上記にて得られた硬化性樹脂組成物を、ダイコーターを用いて、厚さが38μm、表面平均粗さRaが0.08μmのポリエチレンテレフタレートフィルム(支持体:ルミラー(登録商標)T60 東レ社製)上に塗工し、次いで、窒素雰囲気下、80℃で10分間乾燥し、支持体上に厚さ20μmの硬化性樹脂組成物のフィルム成形体を得た。
(Film molded product)
Next, using a die coater, the curable resin composition obtained above was a polyethylene terephthalate film having a thickness of 38 μm and a surface average roughness Ra of 0.08 μm (support: Lumirror (registered trademark) T60 Toray. And then dried at 80 ° C. for 10 minutes in a nitrogen atmosphere to obtain a film molded body of a curable resin composition having a thickness of 20 μm on the support.

(硬化フィルム)
得られた硬化性樹脂組成物のフィルム成形体を、基板上に載せた厚さが9μmの銅箔上に硬化性樹脂組成物面が内層基板側となるようにして貼り合わせた後、一次プレスを行った。一次プレスは、耐熱ゴム製プレス板を上下に備えた真空ラミネータにて、200Paの減圧下で温度60℃、圧力0.1MPaで90秒間の加熱圧着により行なった。さらに、金属製プレス板を上下に備えた油圧プレス装置を用いて、圧着温度60℃、1MPaで90秒間、加熱圧着した。次いで、支持体を剥がすことにより、硬化性樹脂組成物層と銅箔との積層体を得て、得られた積層体の硬化性樹脂組成物面に、365nmにおける光強度が3.57mW/cmである紫外線を、400秒間、空気中で照射した。その後、180℃で60分間空気中で加熱処理することにより、銅箔上に厚さ20μmのフィルム成形体の硬化物を得た。そして、得られた銅箔付きフィルム成形体の硬化物の銅箔を1モル/リットルの過硫酸アンモニウム水溶液にて溶解し、これを減圧乾燥することで、硬化フィルム(フィルム状の硬化物)を得た。
(Cured film)
The film molded body of the obtained curable resin composition was bonded onto a 9 μm thick copper foil placed on a substrate so that the surface of the curable resin composition was on the inner layer substrate side, and then a primary press Went. The primary press was performed by thermocompression bonding at a temperature of 60 ° C. and a pressure of 0.1 MPa for 90 seconds under a reduced pressure of 200 Pa using a vacuum laminator equipped with heat-resistant rubber press plates at the top and bottom. Furthermore, using a hydraulic press apparatus provided with metal press plates at the top and bottom, thermocompression bonding was performed for 90 seconds at a pressure bonding temperature of 60 ° C. and 1 MPa. Next, by peeling off the support, a laminate of the curable resin composition layer and the copper foil was obtained, and the light intensity at 365 nm was 3.57 mW / cm on the curable resin composition surface of the obtained laminate. 2 was irradiated in the air for 400 seconds. Then, the hardened | cured material of the 20-micrometer-thick film molded object was obtained on copper foil by heat-processing in the air for 60 minutes at 180 degreeC. And the copper foil of the hardened | cured material of the obtained film forming body with a copper foil is melt | dissolved in 1 mol / liter ammonium persulfate aqueous solution, This is dried under reduced pressure, A cured film (film-like hardened | cured material) is obtained. It was.

(多層積層基板)
次いで、厚みが18μmの銅が貼られたエポキシ両面銅張板の表面を、有機酸との接触させることによってマイクロエッチング処理された銅表面を有する内層基板を得た。
(Multilayer laminated board)
Subsequently, the inner layer board | substrate which has the copper surface by which the surface of the epoxy double-sided copper clad board with which the thickness of 18 micrometers was stuck was made to contact with an organic acid was microetched was obtained.

この内層基板の片面に、上記にて得られたフィルム成形体を、硬化性樹脂組成物面が内層基板側となるようにして貼り合わせた後、一次プレスを行った。一次プレスは、耐熱ゴム製プレス板を上下に備えた真空ラミネータを用いて、200Paの減圧下で、温度50℃、圧力0.1MPaで60秒間の条件で、圧着することにより行なった。さらに、金属製プレス板を上下に備えた油圧プレス装置を用いて、圧着温度50℃、0.5MPaの条件で60秒間、圧着した。次いで支持体を剥がすことにより、硬化性樹脂組成物層と内層基板との積層体を得た。得られた積層体の硬化性樹脂組成物面に、365nmにおける光強度が3.57mW/cmである紫外線を、400秒間、空気中で照射、さらに180℃で60分間空気中で加熱処理することにより硬化性樹脂組成物層を硬化させて内層基板上に電気絶縁層を形成した。 The film molded body obtained above was bonded to one surface of the inner layer substrate so that the curable resin composition surface was on the inner layer substrate side, and then primary press was performed. The primary press was performed by using a vacuum laminator equipped with heat-resistant rubber press plates at the top and bottom, under a reduced pressure of 200 Pa, under conditions of a temperature of 50 ° C. and a pressure of 0.1 MPa for 60 seconds. Furthermore, it crimped | bonded for 60 second on the conditions of crimping | compression-bonding temperature 50 degreeC and 0.5 MPa using the hydraulic press apparatus provided with the metal press board up and down. Next, the support was peeled off to obtain a laminate of the curable resin composition layer and the inner layer substrate. The surface of the curable resin composition of the obtained laminate is irradiated with ultraviolet rays having a light intensity at 365 nm of 3.57 mW / cm 2 in the air for 400 seconds and further heat-treated in the air at 180 ° C. for 60 minutes. Thus, the curable resin composition layer was cured to form an electrically insulating layer on the inner layer substrate.

次いで、得られた積層体を無電解銅めっき処理して積層体表面に金属薄膜層を形成し、空気雰囲気下において150℃で30分間アニール処理を行った。   Next, the obtained laminate was subjected to electroless copper plating to form a metal thin film layer on the surface of the laminate, and annealed at 150 ° C. for 30 minutes in an air atmosphere.

そして、アニール処理が施された積層体に、市販の感光性レジストを用いてレジストパターンを得た。そして、レジスト非形成部分に電解銅めっきを施し、厚さ18μmの電解銅めっき膜を形成させた。その後、積層体上のレジストパターンを、剥離液を用いて除去し、塩化第二銅と塩酸混合溶液によりレジスト除去した部分の銅エッチング処理を行った。次いで、エッチング処理を行った積層体を180℃で60分間加熱処理することにより、積層体上に金属薄膜層及び電解銅めっき膜からなる導体層で回路を形成した配線パターン付き多層積層基板を得た。   And the resist pattern was obtained using the commercially available photosensitive resist for the laminated body to which the annealing process was given. And the electrolytic copper plating was given to the resist non-formation part, and the electrolytic copper plating film | membrane with a thickness of 18 micrometers was formed. Thereafter, the resist pattern on the laminate was removed using a stripping solution, and a copper etching process was performed on the portion where the resist was removed with a mixed solution of cupric chloride and hydrochloric acid. Next, a multilayer laminated substrate with a wiring pattern in which a circuit is formed by a conductor layer made of a metal thin film layer and an electrolytic copper plating film on the laminated body is obtained by heating the laminated body subjected to the etching treatment at 180 ° C. for 60 minutes. It was.

そして、上記のようにして得られた硬化フィルム及び多層積層基板を用いて、上記方法に従い、吸水率、比誘電率、誘電正接、線膨張係数、及び絶縁信頼性の各測定・評価を行った。結果を表1に示す。   Then, using the cured film and multilayer laminated substrate obtained as described above, according to the above method, each measurement / evaluation of water absorption, relative dielectric constant, dielectric loss tangent, linear expansion coefficient, and insulation reliability was performed. . The results are shown in Table 1.

実施例2
脂環式オレフィン重合体(A1)のアニソール溶液の配合量を40部から120部(重合体として30部)に、エポキシ化合物(B)としての(3,3’,4,4’−ジエポキシ)ビシクロヘキシル(B1)の配合量を90部から70部に、それぞれ変更した以外は、実施例1と同様にして、硬化性樹脂組成物、フィルム成形体、硬化フィルム、及び多層積層基板を得て、同様に評価を行った。結果を表1に示す。
Example 2
The amount of the anisole solution of the alicyclic olefin polymer (A1) is changed from 40 parts to 120 parts (30 parts as the polymer), and (3,3 ′, 4,4′-diepoxy) as the epoxy compound (B). A curable resin composition, a film molded body, a cured film, and a multilayer laminated substrate were obtained in the same manner as in Example 1, except that the amount of bicyclohexyl (B1) was changed from 90 parts to 70 parts. The same evaluation was performed. The results are shown in Table 1.

実施例3
無機充填材(D)としてのシランカップリング剤処理シリカ(D1)(商品名「アドマファインシリカSC2500−SXJ」、アドマテックス社製)198部をさらに配合した以外は、実施例2と同様にして、硬化性樹脂組成物、フィルム成形体、硬化フィルム、及び多層積層基板を得て、同様に評価を行った。結果を表1に示す。
Example 3
Silane coupling agent-treated silica (D1) as an inorganic filler (D) (trade name “Admafine Silica SC2500-SXJ”, manufactured by Admatechs) 198 parts was added in the same manner as in Example 2 except that 198 parts were further added. A curable resin composition, a film molded body, a cured film, and a multilayer laminated substrate were obtained and evaluated in the same manner. The results are shown in Table 1.

実施例4
脂環式オレフィン重合体(A1)のアニソール溶液の配合量を40部から80部(重合体として20部)に変更するとともに、エポキシ化合物(B)として、(3,3’,4,4’−ジエポキシ)ビシクロヘキシル(B1)の代わりに、ジシクロペンタジエンジエポキシド(B2)80部を使用した以外は、実施例1と同様にして、硬化性樹脂組成物、フィルム成形体、硬化フィルム、及び多層積層基板を得て、同様に評価を行った。結果を表1に示す。
Example 4
The amount of the anisole solution of the alicyclic olefin polymer (A1) was changed from 40 parts to 80 parts (20 parts as a polymer), and as the epoxy compound (B), (3, 3 ′, 4, 4 ′ -Diepoxy) A curable resin composition, a film molded product, a cured film, and the same as in Example 1 except that 80 parts of dicyclopentadiene diepoxide (B2) was used instead of bicyclohexyl (B1), and A multilayer laminated substrate was obtained and evaluated in the same manner. The results are shown in Table 1.

実施例5
脂環式オレフィン重合体(A1)のアニソール溶液の配合量を40部から60部(重合体として15部)に変更するとともに、エポキシ化合物(B)として、(3,3’,4,4’−ジエポキシ)ビシクロヘキシル(B1)の代わりに、テトラヒドロインデンジエポキシド(B2)85部を使用した以外は、実施例1と同様にして、硬化性樹脂組成物、フィルム成形体、硬化フィルム、及び多層積層基板を得て、同様に評価を行った。結果を表1に示す。
Example 5
While changing the compounding quantity of the anisole solution of an alicyclic olefin polymer (A1) from 40 parts to 60 parts (15 parts as a polymer), as an epoxy compound (B), (3,3 ', 4,4' -Diepoxy) Curable resin composition, film molded article, cured film, and multilayer as in Example 1 except that 85 parts of tetrahydroindene diepoxide (B2) was used instead of bicyclohexyl (B1) A laminated substrate was obtained and evaluated in the same manner. The results are shown in Table 1.

比較例1
脂環式オレフィン重合体(A1)を配合せず、エポキシ化合物(B)としての(3,3’,4,4’−ジエポキシ)ビシクロヘキシル(B1)の配合量を90部から100部に変更した以外は、実施例1と同様にして、硬化性樹脂組成物、フィルム成形体、硬化フィルム、及び多層積層基板を得て、同様に評価を行った。結果を表1に示す。
Comparative Example 1
The blending amount of (3,3 ′, 4,4′-diepoxy) bicyclohexyl (B1) as the epoxy compound (B) was changed from 90 parts to 100 parts without blending the alicyclic olefin polymer (A1). Except having done, it carried out similarly to Example 1, obtained the curable resin composition, the film molded object, the cured film, and the multilayer laminated substrate, and evaluated similarly. The results are shown in Table 1.

比較例2
エポキシ化合物(B)としての(3,3’,4,4’−ジエポキシ)ビシクロヘキシル(B1)の代わりに、1,2:8,9ジエポキシリモネン90部を使用した以外は、実施例1と同様にして、硬化性樹脂組成物、フィルム成形体、硬化フィルム、及び多層積層基板を得て、同様に評価を行った。結果を表1に示す。
Comparative Example 2
Example 1 except that 90 parts of 1,2: 8,9 diepoxy limonene was used instead of (3,3 ′, 4,4′-diepoxy) bicyclohexyl (B1) as the epoxy compound (B). In the same manner as above, a curable resin composition, a film molded body, a cured film, and a multilayer laminated substrate were obtained and evaluated in the same manner. The results are shown in Table 1.

比較例3
エポキシ化合物(B)としての(3,3’,4,4’−ジエポキシ)ビシクロヘキシル(B1)の代わりに、ビスフェノールA型エポキシ樹脂(jER828EL、三菱化学社製)90部を使用した以外は、実施例1と同様にして、硬化性樹脂組成物、フィルム成形体、硬化フィルム、及び多層積層基板を得て、同様に評価を行った。結果を表1に示す。
Comparative Example 3
Except for using 90 parts of bisphenol A type epoxy resin (jER828EL, manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation) instead of (3,3 ′, 4,4′-diepoxy) bicyclohexyl (B1) as the epoxy compound (B), In the same manner as in Example 1, a curable resin composition, a film molded body, a cured film, and a multilayer laminated substrate were obtained and evaluated in the same manner. The results are shown in Table 1.

比較例4
光酸発生剤(C)としてのアリールスルホニウム塩誘導体(C1)の代わりに、イミダゾール系硬化剤としての2−フェニル−4−メチルイミダゾールの70%アニソール溶液1.4部を使用した以外は、比較例3と同様にして、硬化性樹脂組成物、フィルム成形体、硬化フィルム、及び多層積層基板を得て、同様に評価を行った。結果を表1に示す。
Comparative Example 4
A comparison was made except that instead of the arylsulfonium salt derivative (C1) as the photoacid generator (C), 1.4 parts of a 70% anisole solution of 2-phenyl-4-methylimidazole as the imidazole curing agent was used. In the same manner as in Example 3, a curable resin composition, a film molded body, a cured film, and a multilayer laminated substrate were obtained and evaluated in the same manner. The results are shown in Table 1.

Figure 2012214610
Figure 2012214610

表1に示すように、脂環式オレフィン重合体(A)、環に縮合したエポキシ基を2つ以上含有するエポキシ化合物(B)、及び光酸発生剤(C)を含有する硬化性樹脂組成物は、耐水性(低吸水率)、電気特性(低誘電率及び低誘電正接)、耐熱性(低線膨張率)、及び絶縁信頼性に優れた硬化物を与えることが可能であることが分かる(実施例1〜5)。
一方、脂環式オレフィン重合体(A)を配合しない場合には、良好なフィルムを得ることができず、また、得られる硬化物は、吸水率、線膨張係数、及び絶縁信頼性が悪化する結果となった(比較例1)。
環に縮合したエポキシ基を2つ以上含有するエポキシ化合物(B)の代わりに、1,2:8,9ジエポキシリモネンを用いた場合には、吸水率、及び線膨張係数、が悪化する結果となった(比較例2)。
また、環に縮合したエポキシ基を2つ以上含有するエポキシ化合物(B)の代わりに、ビスフェノールA型エポキシ樹脂を用いた場合には、硬化が不十分であり、線膨張係数及びガラス転移温度の測定ができるような試料を得ることができなかった(比較例3)。
さらに、環に縮合したエポキシ基を2つ以上含有するエポキシ化合物(B)の代わりに、ビスフェノールA型エポキシ樹脂を用いるとともに、光酸発生剤(C)の代わりに、アミン系硬化剤を用いた場合には、絶縁信頼性が劣る結果となった(比較例4)。
As shown in Table 1, a curable resin composition containing an alicyclic olefin polymer (A), an epoxy compound (B) containing two or more epoxy groups condensed to a ring, and a photoacid generator (C). The product may be able to give a cured product excellent in water resistance (low water absorption), electrical characteristics (low dielectric constant and low dielectric loss tangent), heat resistance (low linear expansion coefficient), and insulation reliability. As can be seen (Examples 1-5).
On the other hand, when the alicyclic olefin polymer (A) is not blended, a good film cannot be obtained, and the obtained cured product has poor water absorption, linear expansion coefficient, and insulation reliability. Results were obtained (Comparative Example 1).
When 1,2: 8,9 diepoxy limonene is used instead of the epoxy compound (B) containing two or more epoxy groups condensed on the ring, the water absorption rate and the linear expansion coefficient are deteriorated. (Comparative Example 2).
In addition, when a bisphenol A type epoxy resin is used instead of the epoxy compound (B) containing two or more epoxy groups condensed on the ring, the curing is insufficient and the linear expansion coefficient and the glass transition temperature are low. A sample that could be measured could not be obtained (Comparative Example 3).
Furthermore, a bisphenol A type epoxy resin was used in place of the epoxy compound (B) containing two or more epoxy groups condensed on the ring, and an amine curing agent was used in place of the photoacid generator (C). In this case, the insulation reliability was inferior (Comparative Example 4).

Claims (8)

カルボキシル基、カルボン酸無水物基、及びヒドロキシフェニル基からなる群より選ばれる少なくとも1種の官能基を有する脂環式オレフィン重合体(A)、環に縮合したエポキシ基を2つ以上含有するエポキシ化合物(B)、及び光酸発生剤(C)を含有してなる硬化性樹脂組成物。   An alicyclic olefin polymer (A) having at least one functional group selected from the group consisting of a carboxyl group, a carboxylic acid anhydride group, and a hydroxyphenyl group, an epoxy containing two or more epoxy groups condensed to a ring A curable resin composition comprising a compound (B) and a photoacid generator (C). 無機充填剤(D)をさらに含有する請求項1に記載の硬化性樹脂組成物。   The curable resin composition according to claim 1, further comprising an inorganic filler (D). 前記エポキシ化合物(B)が、エステル結合を含有しないものである請求項1又は2に記載の硬化性樹脂組成物。   The curable resin composition according to claim 1 or 2, wherein the epoxy compound (B) does not contain an ester bond. 請求項1〜3のいずれかに記載の硬化性樹脂組成物からなるフィルム。   The film which consists of a curable resin composition in any one of Claims 1-3. 請求項1〜3のいずれかに記載の硬化性樹脂組成物、又は請求項4に記載のフィルムを硬化してなる硬化物。   Hardened | cured material formed by hardening | curing the curable resin composition in any one of Claims 1-3, or the film of Claim 4. 請求項4に記載のフィルムを基材に積層してなる積層体。   The laminated body formed by laminating | stacking the film of Claim 4 on a base material. ガラス基板又はシリコンウェハー基板と、請求項5に記載の硬化物とからなる積層体。   A laminate comprising a glass substrate or a silicon wafer substrate and the cured product according to claim 5. 前記硬化物の表面に、金属めっき層を形成してなる請求項7に記載の積層体。   The laminate according to claim 7, wherein a metal plating layer is formed on the surface of the cured product.
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