JP2012210311A - Ornament and method of manufacturing the same - Google Patents

Ornament and method of manufacturing the same Download PDF

Info

Publication number
JP2012210311A
JP2012210311A JP2011077216A JP2011077216A JP2012210311A JP 2012210311 A JP2012210311 A JP 2012210311A JP 2011077216 A JP2011077216 A JP 2011077216A JP 2011077216 A JP2011077216 A JP 2011077216A JP 2012210311 A JP2012210311 A JP 2012210311A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
particle
silicon dioxide
resin
decorative article
dispersion
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP2011077216A
Other languages
Japanese (ja)
Other versions
JP5721503B2 (en
Inventor
Yoshiya Tsutsui
義也 筒井
Yuichi Nishigaki
雄一 西垣
Masaharu Takiyama
正晴 滝山
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Kyocera Corp
Original Assignee
Kyocera Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Kyocera Corp filed Critical Kyocera Corp
Priority to JP2011077216A priority Critical patent/JP5721503B2/en
Publication of JP2012210311A publication Critical patent/JP2012210311A/en
Application granted granted Critical
Publication of JP5721503B2 publication Critical patent/JP5721503B2/en
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Landscapes

  • Adornments (AREA)

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an ornament having a high-quality colloid crystal with suppressed arrangement turbulence in a short time, with suppressed contraction of a surface and exhibiting a clear structure color.SOLUTION: The method of manufacturing the ornament includes: a first step of applying a dispersion liquid (A) containing a silica dioxide colloid to a substrate whose surface is coated with a metal-containing material, and drying the substrate to obtain a particle arrangement body in which a silica dioxide particle in the silica dioxide colloid is arranged; a second step of applying a dispersion liquid (B) containing resin and water or an organic solvent to the particle arrangement body, and drying the liquid to obtain a particle embedding body in which the particle arrangement body is embedded with the resin; and a third step of peeling the particle embedded body off the substrate to obtain the ornament made of the particle embedded body.

Description

本発明は、装飾品とその製造方法に関する。   The present invention relates to a decorative article and a manufacturing method thereof.

規則的に配列させることによってブラッグ反射が得られるコロイド結晶を、フォトニック部材、反射板などとして使用することが知られており、このようなコロイド結晶を得る研究がされている(例えば特許文献1参照)。   It is known to use colloidal crystals that can obtain Bragg reflection by regularly arranging them as photonic members, reflectors, and the like, and research on obtaining such colloidal crystals has been made (for example, Patent Document 1). reference).

また、特許文献2、特許文献3に開示されるように、仮固定用モノマーおよび本固定用モノマーを含有する液状媒体を用いて単分散の粒子を配列させて、構造色を発現するコロイド結晶を形成させた後、仮固定用モノマーを重合させる工程と、本固定用モノマーを重合させる工程とを順に行う製造方法がある。   In addition, as disclosed in Patent Document 2 and Patent Document 3, colloidal crystals that express structural colors are obtained by arranging monodisperse particles using a liquid medium containing a temporary fixing monomer and a main fixing monomer. There is a manufacturing method in which after the formation, the step of polymerizing the temporarily fixing monomer and the step of polymerizing the main fixing monomer are sequentially performed.

また、特許文献4に開示されるように、体積分率による粒子濃度が5〜70%の間にあり、コロイド結晶状態をとっている単分散粒子溶液にせん断流動を与え、これに引き続き、単分散粒子溶液を平行に相対する二つの平滑な基板面に挟まれた空間内で基板面に平行に一軸方向に流動させた後、静止させ、三次元的な均一性に優れた組織を有するコロイド結晶を形成させる製造方法がある。   Further, as disclosed in Patent Document 4, the particle concentration based on the volume fraction is between 5 and 70%, and the monodisperse particle solution in a colloidal crystal state is given a shear flow. A colloid having a tissue with excellent three-dimensional uniformity after the dispersed particle solution is flowed in a uniaxial direction parallel to the substrate surface in a space between two parallel substrate surfaces facing in parallel. There are manufacturing methods for forming crystals.

特開2005−279633号公報JP 2005-279633 A 特開2010−138303号公報JP 2010-138303 A 特開2010−138304号公報JP 2010-138304 A 特開2002−028471号公報JP 2002-028471 A

しかしながら、特許文献1に記載の発明では、コロイド結晶を作製する工数が多く生産性が悪い場合があった。   However, in the invention described in Patent Document 1, the man-hour for producing the colloidal crystal is large and the productivity is sometimes low.

また、特許文献2および特許文献3に記載の発明では、コロイド粒子の配列と共に親水性モノマーのゲル化工程、溶媒と親水化モノマーの置換工程、さらに親水化モノマーの重合工程があり、粒子配列に乱れを生じ易く、また工数が多く生産性が悪い場合があった。   In the inventions described in Patent Document 2 and Patent Document 3, there are a hydrophilic monomer gelation step, a solvent and hydrophilization monomer substitution step, and a hydrophilic monomer polymerization step along with the colloidal particle arrangement. Disturbances are likely to occur, and there are cases where man-hours are large and productivity is poor.

また、特許文献4に記載の発明は、セル内でせん断流動を発生させて取り出すため、工程に時間を要するため、生産性が悪い場合があった。   Moreover, since the invention described in Patent Document 4 generates shear flow in the cell and takes it out, it takes time for the process, resulting in poor productivity.

そして、特許文献1〜4のいずれにおいても粒子配列が乱れ易く、二酸化珪素粒子と樹脂とが互いに接着している状態、あるいは、二酸化珪素粒子同士が溶融接着している状態にならず、脆くなる場合や、構造色を呈さない場合があった。   In any of Patent Documents 1 to 4, the particle arrangement is easily disturbed, and the silicon dioxide particles and the resin are not bonded to each other, or the silicon dioxide particles are not melt-bonded to each other and become brittle. In some cases, structural colors were not exhibited.

上記課題に鑑みて本発明は、表面に金属含有材料をコーティングした基板上に、二酸化珪素コロイドを含む分散液(A)を塗布し、乾燥することにより、前記二酸化珪素コロイド中の二酸化珪素粒子が配列した粒子配列体を得る第1工程と、前記粒子配列体上に、樹脂と水または有機溶媒とを含む分散液(B)を塗布し、乾燥することにより、前記粒子配
列体を前記樹脂で包埋した粒子包埋体を得る第2工程と、前記粒子包埋体を前記基板上から剥離することにより、前記粒子包埋体からなる装飾品を得る第3工程とを有する。
In view of the above problems, the present invention applies the dispersion liquid (A) containing a silicon dioxide colloid on a substrate coated with a metal-containing material on the surface, and dries the silicon dioxide particles in the silicon dioxide colloid. A first step of obtaining an array of particle arrays, and a dispersion (B) containing a resin and water or an organic solvent is applied onto the particle array and dried, whereby the particle array is made of the resin. A second step of obtaining an embedded particle embedded body, and a third step of obtaining an ornament made of the particle embedded body by peeling the particle embedded body from the substrate.

本発明の装飾品の製造方法によれば、短時間で配列の乱れが抑制された良質なコロイド結晶を有し、表面の縮みが抑制された鮮明な構造色が発現された装飾品を提供できる。   According to the method for producing a decorative article of the present invention, it is possible to provide a decorative article having a high quality colloidal crystal in which disorder of arrangement is suppressed in a short time, and a clear structural color in which surface shrinkage is suppressed. .

よって、ロールツーロール方式や枚葉式の塗布方法を活用することができ、粒子配列の乱れを抑え、高い生産性で装飾品を作製できる。   Therefore, a roll-to-roll method or a single-wafer coating method can be utilized, and the disorder of the particle arrangement can be suppressed and a decorative product can be produced with high productivity.

これにより、二酸化珪素からなる粒子配列体を樹脂で包埋した光輝性を示す粒子包埋体の装飾品を作製でき、さらに400〜1000℃で焼成すれば、樹脂分を熱分解して、二酸化珪素のみからなる装飾品を作製できる。   As a result, it is possible to produce a decorative article having a glittering particle embedding body in which a particle array made of silicon dioxide is embedded with a resin, and if further baked at 400 to 1000 ° C., the resin component is thermally decomposed to produce carbon dioxide. An ornament made only of silicon can be produced.

本発明の一実施形態における実施例1における粒子包埋体を上面からSEM観察した写真代用図である。It is the photograph substitute figure which observed the particle | grain embedding body in Example 1 in one Embodiment of this invention from the upper surface by SEM. 本発明の一実施形態における実施例2における粒子配列体を上面からSEM観察した写真代用図である。It is the photograph substitute figure which carried out the SEM observation of the particle array in Example 2 in one Embodiment of this invention from the upper surface. 本発明の一実施形態における実施例3における粒子配列体を上面からSEM観察した写真代用図である。It is the photograph substitute figure which carried out the SEM observation of the particle array in Example 3 in one Embodiment of this invention from the upper surface. 本発明の一実施形態における実施例4における粒子配列体を上面からSEM観察した写真代用図である。It is the photograph substitute figure which carried out the SEM observation of the particle array in Example 4 in one Embodiment of this invention from the upper surface. 本発明の一実施形態における実施例5における粒子配列体を上面からSEM観察した写真代用図である。It is the photograph substitute figure which carried out the SEM observation of the particle array in Example 5 in one Embodiment of this invention from the upper surface. 比較例1における粒子配列体を上面からSEM観察した写真代用図である。FIG. 5 is a photo-substituting diagram in which the particle array in Comparative Example 1 is observed from the upper surface by SEM. 比較例2における粒子配列体を上面からSEM観察した写真代用図である。FIG. 5 is a photograph substitute diagram in which the particle array in Comparative Example 2 is observed by SEM from the upper surface. 比較例3における粒子配列体を上面からSEM観察した写真代用図である。FIG. 5 is a photograph substitute diagram in which the particle array in Comparative Example 3 is observed by SEM from the upper surface. 本発明における実施例、比較例の装飾品を変角測色計で反射色調を測定したグラフである。It is the graph which measured the reflective color tone for the ornament of the Example in this invention, and the comparative example with the angle-change colorimeter. 本発明の一実施形態における粒子包埋体の模式図である。It is a schematic diagram of the particle embedding body in one Embodiment of this invention. 本発明の一実施形態における粒子配列体の模式図である。It is a schematic diagram of the particle array in one embodiment of the present invention. 本発明の一実施形態における粒子配列体の模式図である。It is a schematic diagram of the particle array in one embodiment of the present invention.

以下、本発明の一実施形態について具体的に説明する。   Hereinafter, an embodiment of the present invention will be specifically described.

本実施形態の装飾品の製造方法は、表面に金属含有材料をコーティングした基板上に、二酸化珪素コロイドを含む分散液(A)を塗布し、乾燥することにより、二酸化珪素コロイド中の二酸化珪素粒子が配列した粒子配列体を得る第1工程と、粒子配列体上に、樹脂と水または有機溶媒とを含む分散液(B)を塗布し、乾燥することにより、粒子配列体を樹脂で包埋した粒子包埋体を得る第2工程と、粒子包埋体を基板上から剥離することにより、粒子包埋体からなる装飾品を得る第3工程とを有する。   In the method for producing a decorative article of this embodiment, a dispersion liquid (A) containing a silicon dioxide colloid is applied to a substrate having a surface coated with a metal-containing material, and dried, whereby silicon dioxide particles in the silicon dioxide colloid are obtained. A first step of obtaining a particle array in which particles are arranged, and a dispersion (B) containing a resin and water or an organic solvent is applied on the particle array and dried to embed the particle array in the resin The second step of obtaining the particle embedding body and the third step of obtaining the decorative article made of the particle embedding body by peeling the particle embedding body from the substrate.

基板は樹脂フィルムなどが好適に用いられる。金属含有材料として、アルミニウム、銅、ステンレス、クロムおよびニッケルの少なくともいずれか1種を含有する材料を用いる。   A resin film or the like is preferably used as the substrate. As the metal-containing material, a material containing at least one of aluminum, copper, stainless steel, chromium, and nickel is used.

例えば、金属含有材料をコーティングした基板は、樹脂フィルム上に金属含有材料の箔を貼り付けるか、または、樹脂フィルム上に金属含有材料を蒸着することによって形成さ
れる。金属箔の厚みは0.1〜100μmで、スパッタリング等の場合は0.1〜1μmの厚さで蒸着される。
For example, a substrate coated with a metal-containing material is formed by sticking a metal-containing material foil on a resin film or depositing a metal-containing material on a resin film. The thickness of the metal foil is 0.1 to 100 μm. In the case of sputtering or the like, the metal foil is deposited with a thickness of 0.1 to 1 μm.

また例えば、金属含有材料は、二酸化珪素、酸化アルミニウムの少なくともいずれかを樹脂フィルム上に蒸着することで形成され、スパッタリング等を用いて0.1〜1μmの厚さで蒸着したものでも良い。   Further, for example, the metal-containing material may be formed by vapor-depositing at least one of silicon dioxide and aluminum oxide on a resin film, and may be vapor-deposited with a thickness of 0.1 to 1 μm using sputtering or the like.

第1工程において分散液(A)の溶媒として、水、メチルアルコール、エチルアルコール、n-プロパノール、iso-プロパノール、テルピネオール等のアルコール類、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン等のケトン類、酢酸エチル、酢酸ブチル等の酢酸エステル類、ジエチルエーテル、ジメチルエーテル等のエーテル類、エチルカルビトール、メチルカルビトール等の1種ないしは複数の混合物を選択して使用できる。   In the first step, as the solvent of the dispersion liquid (A), water, alcohols such as methyl alcohol, ethyl alcohol, n-propanol, iso-propanol, terpineol, ketones such as acetone, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, ethyl acetate, One or more mixtures of acetates such as butyl acetate, ethers such as diethyl ether and dimethyl ether, ethyl carbitol and methyl carbitol can be selected and used.

そしてこのような分散液(A)中の二酸化珪素コロイドは、市販品のものを用いればよく、またその濃度としては、0.1〜20質量%とすることが適当である。   A commercially available product may be used as the silicon dioxide colloid in such a dispersion (A), and the concentration is suitably 0.1 to 20% by mass.

分散液(B)中の樹脂はアクリル樹脂、ポリエステル樹脂、ニトロセルロース、エチルセルロース、ポリビニルブチラール等から選択して使用することが可能である。   The resin in the dispersion (B) can be selected from acrylic resin, polyester resin, nitrocellulose, ethylcellulose, polyvinyl butyral, and the like.

これらの材料を用いれば、装飾品1の保形性が良くなる点で好ましい。   Use of these materials is preferable in that the shape retention of the decorative article 1 is improved.

重量平均分子量が1000〜1000万のものが好ましい。重量平均分子量が1000以上であれば、オリゴマーに近づき粒子配列体の配列が崩れることを低減できる。一方で重量平均分子量が数百万以下であれば、分子量が高くなり溶剤への溶解が難しくなることを低減できる。   Those having a weight average molecular weight of 1,000 to 10,000,000 are preferable. If a weight average molecular weight is 1000 or more, it can reduce that the arrangement | sequence of a particle array approaching an oligomer collapses. On the other hand, if the weight average molecular weight is several million or less, it can be reduced that the molecular weight becomes high and the dissolution in a solvent becomes difficult.

分散液(B)の有機溶媒としては、水、メチルアルコール、エチルアルコール、n-プロパノール、iso-プロパノール、テルピネオール等のアルコール類、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン等のケトン類、酢酸エチル、酢酸ブチル等の酢酸エステル類、ジエチルエーテル、ジメチルエーテル等のエーテル類、エチルカルビトール、メチルカルビトール等の1種ないしは複数の混合物を選択して使用することができる。   Examples of the organic solvent for the dispersion (B) include water, alcohols such as methyl alcohol, ethyl alcohol, n-propanol, iso-propanol, and terpineol, ketones such as acetone, methyl ethyl ketone, and methyl isobutyl ketone, ethyl acetate, and butyl acetate. One kind or a mixture of a plurality of acetate esters such as diethyl ether and dimethyl ether, ethyl carbitol, methyl carbitol and the like can be selected and used.

そしてこのような分散液(B)中の樹脂の濃度としては、0.1〜20質量%とすることが適当である。   And as a density | concentration of resin in such a dispersion liquid (B), it is appropriate to set it as 0.1-20 mass%.

分散液(A)および分散液(B)の塗布方法としては、バーコート、ドクターブレード、ダイコート、カーテンコート、グラビアコート、スプレー、スピンコート、ディップコート、スクリーン印刷、グラビア印刷、フレキソ印刷等から用途によって、任意に選択することができる。   Application methods of dispersion liquid (A) and dispersion liquid (B) include bar coating, doctor blade, die coating, curtain coating, gravure coating, spray, spin coating, dip coating, screen printing, gravure printing, flexographic printing, etc. Can be arbitrarily selected.

分散液(A)の乾燥条件としては、基板にも依るが、二酸化珪素コロイドの配列の点から、20〜200℃の範囲が好ましい。20℃以上であれば、乾燥が十分になり、粒子配列の乱れを低減できる。一方で200℃以下であれば、基板の耐久性不足による粒子配列の乱れを低減できる。   The drying condition of the dispersion (A) depends on the substrate, but is preferably in the range of 20 to 200 ° C. from the viewpoint of the arrangement of the silicon dioxide colloid. If it is 20 degreeC or more, drying will become enough and disturbance of a particle arrangement | sequence can be reduced. On the other hand, if it is 200 degrees C or less, the disorder | damage | failure of the particle | grain arrangement | sequence by insufficient durability of a board | substrate can be reduced.

分散液(B)の乾燥条件としては、溶剤種類にも依るが、20〜200℃の範囲が好ましい。20℃以上であれば、乾燥が十分になり、表面のべたつきの発生を低減できる。一方で200℃以下であれば、溶剤の突沸の発生による粒子配列の乱れを低減できる。   The drying conditions for the dispersion (B) are preferably in the range of 20 to 200 ° C., although depending on the type of solvent. If it is 20 degreeC or more, drying will become enough and generation | occurrence | production of the stickiness of the surface can be reduced. On the other hand, if it is 200 degrees C or less, the disorder | damage | failure of the particle | grain arrangement | sequence by generation | occurrence | production of bumping of a solvent can be reduced.

また乾燥時には膜面に直接熱風を与えない乾燥方法が好ましい。   A drying method in which hot air is not directly applied to the film surface during drying is preferable.

基板については、表面に金属箔を形成、または、金属が蒸着された樹脂フィルム上での分散液Aの接触角が90°以下のものが好ましい。接触角が90°以下であれば、基板に対しての液はじきを低減し、平滑な塗布面を得易くなる。   As for the substrate, it is preferable that the contact angle of the dispersion A on the resin film on which the metal foil is formed or the metal is deposited is 90 ° or less. If the contact angle is 90 ° or less, liquid repellency to the substrate is reduced, and a smooth coated surface is easily obtained.

分散液Bの樹脂の屈折率(N1)は、粒子包埋体3においては、二酸化珪素の屈折率(N2)とすると、N1はN2−0.01以下もしはN2+0.01を超える値を示す樹脂が好ましい。屈折率がN2−0.01〜N2+0.01の範囲でなければ、二酸化珪素粒子の屈折率と樹脂の屈折率を離すことができるので、構造色を示し易くなる。   When the refractive index (N1) of the resin of the dispersion B is the refractive index of silicon dioxide (N2) in the particle embedding body 3, N1 is N2-0.01 or less or a value exceeding N2 + 0.01. Resins are preferred. If the refractive index is not in the range of N2-0.01 to N2 + 0.01, the refractive index of the silicon dioxide particles and the refractive index of the resin can be separated, so that the structural color is easily shown.

なお、400〜1000℃で焼成を行い、樹脂を焼成で除去する場合においては、粒子配列体2のみになるため問題ない。   In addition, when baking at 400-1000 degreeC and removing resin by baking, since it becomes only the particle array 2, there is no problem.

さらに本実施形態の装飾品の製造方法では、分散液(A)中の二酸化珪素の粒子径を0.01〜10μmの範囲内に制御する。   Furthermore, in the method for manufacturing a decorative article of the present embodiment, the particle diameter of silicon dioxide in the dispersion (A) is controlled within a range of 0.01 to 10 μm.

特に粒子径は0.05〜0.5μmが好ましい。0.01μm以上であれば近紫外〜可視〜近赤外域で構造色を示すものが得易くなり、一方で10μm以下であれば可視域の光散乱が小さくなり、装飾品1の白濁を低減できる。   In particular, the particle diameter is preferably 0.05 to 0.5 μm. If it is 0.01 μm or more, it becomes easy to obtain a structural color in the near ultraviolet to visible to near infrared region, while if it is 10 μm or less, light scattering in the visible region is reduced, and the white turbidity of the decorative article 1 can be reduced. .

二酸化珪素コロイドの粒度分布を表すCV値は10%以下であることが好ましく、より好ましくは5%以下、特に好ましくは3%以下である。   The CV value representing the particle size distribution of the silicon dioxide colloid is preferably 10% or less, more preferably 5% or less, and particularly preferably 3% or less.

ここでCV値は、個数基準の粒度分布における標準偏差および上記の平均粒径の値を用いて、CV値(%)=((標準偏差)/(平均粒径))×100より算出されるものである。   Here, the CV value is calculated from CV value (%) = ((standard deviation) / (average particle size)) × 100 using the standard deviation in the number-based particle size distribution and the value of the above average particle size. Is.

平均粒径は図1〜9に示すように、二酸化珪素のコロイド粒子5(以下、単に二酸化珪素粒子5ともいう)について走査型電子顕微鏡(日本電子社製)を用いて50,000倍の写真を2枚撮影し、この2枚の写真画像における二酸化珪素粒子5の100個ずつについて、それぞれ最大長を測定し、その個数平均値を算出することにより、得られるものである。   As shown in FIGS. 1 to 9, the average particle diameter is 50,000 times as large as a photo of silicon dioxide colloidal particles 5 (hereinafter also simply referred to as silicon dioxide particles 5) using a scanning electron microscope (manufactured by JEOL Ltd.). Is obtained by measuring the maximum length of each of the 100 silicon dioxide particles 5 in the two photographic images and calculating the number average value.

ここに、「最大長」とは、二酸化珪素粒子5の周上の任意の2点による2点間距離のうち、最大のものをいう。なお、二酸化珪素粒子5が凝集体として撮影される場合には、凝集体を形成する一次粒子の最大長を測定するものとする。   Here, the “maximum length” refers to the maximum distance between two points between two arbitrary points on the circumference of the silicon dioxide particles 5. When the silicon dioxide particles 5 are photographed as aggregates, the maximum length of primary particles forming the aggregates is measured.

第2工程後、図1に示すような粒子包埋体3が得られ、第3工程においては、例えば粒子包埋体3を基板からブラシにより剥離する等の方法が用いられる。   After the second step, the particle embedding body 3 as shown in FIG. 1 is obtained. In the third step, for example, a method such as peeling the particle embedding body 3 from the substrate with a brush is used.

さらに本実施形態の装飾品の製造方法は、第3工程の後に、基板上から剥離した粒子包埋体を400〜1000℃で焼成する第4工程を含む。   Furthermore, the method for manufacturing a decorative article according to the present embodiment includes a fourth step in which the particle embedded body peeled off from the substrate is baked at 400 to 1000 ° C. after the third step.

この際の焼成条件は大気にて4〜8時間温度を保持して行われる。   The firing conditions at this time are carried out by maintaining the temperature in the atmosphere for 4 to 8 hours.

(装飾品)
本実施形態の装飾品は、二酸化珪素粒子と樹脂とが互いに接着しているものである。
(Decoration)
In the decorative article of the present embodiment, silicon dioxide particles and a resin are bonded to each other.

例えば図11のように二酸化珪素粒子の互いに接触している部分だけで樹脂により接着したものであるので、ブラッグ回折を維持して優れた構造色とすることができる。   For example, as shown in FIG. 11, since the silicon dioxide particles are bonded by resin only at the portions in contact with each other, the Bragg diffraction can be maintained and an excellent structural color can be obtained.

さらに本実施形態の装飾品は、二酸化珪素粒子同士が溶融接着しているものである。   Furthermore, the decorative article of this embodiment is one in which silicon dioxide particles are melt bonded.

例えば図12のように二酸化珪素粒子が互いに接触している部分だけで溶融により接着したものであるので、ブラッグ回折を維持して優れた構造色とすることができる。   For example, as shown in FIG. 12, since the silicon dioxide particles are bonded by melting only at the portions where they are in contact with each other, the Bragg diffraction can be maintained and an excellent structural color can be obtained.

粒子包埋体3(図10参照)は、具体的には、面方向および厚み方向に規則的に形成された粒子間に樹脂が充填されたものであり、光が入射する方向に対して一方向に規則的に粒子が配列された構成を有している。これを400〜1000℃で焼成すれば、図11、さらには、図12のように樹脂のない状態の装飾品となる。   Specifically, the particle embedding body 3 (see FIG. 10) is one in which a resin is filled between particles regularly formed in the surface direction and the thickness direction, and is one in the direction in which light is incident. It has a configuration in which particles are regularly arranged in the direction. If this is fired at 400 to 1000 ° C., it becomes a decorative article without resin as shown in FIG. 11 and FIG.

本発明の装飾品において発現される構造色は、当該粒子配列体2の観察角に基づいて規定されて選択的に反射される光によって発現される。   The structural color expressed in the decorative article of the present invention is expressed by light that is defined and selectively reflected based on the observation angle of the particle array 2.

粒子配列体2において選択的に反射される光は、ブラッグの法則、スネルの法則より、式(1)としてλ=2nD(sinθ)で表される波長の光とされる。   The light selectively reflected in the particle array 2 is light having a wavelength represented by λ = 2nD (sin θ) as Equation (1) based on Bragg's law and Snell's law.

式(1)において、λは構造色のピーク波長、nは下記式(2)で表される粒子配列体2の屈折率、Dは二酸化珪素粒子の垂線方向における間隔、θは表示部材の垂線との観察角である。   In the formula (1), λ is the peak wavelength of the structural color, n is the refractive index of the particle array 2 represented by the following formula (2), D is the interval in the perpendicular direction of the silicon dioxide particles, and θ is the perpendicular of the display member. And the observation angle.

粒子配列体2の屈折率nは、式(2)としてn={na・c}+{nb・(1−c)}であり、naは二酸化珪素粒子5の屈折率、nbはマトリックスの屈折率、cは粒子配列体2におけるに二酸化珪素粒子5の体積率である。ここで、構造色のピーク波長λは、変角測色計「カラーロボIII」(カラーテクノシステム社製)を用いて測定されるものである。   The refractive index n of the particle array 2 is n = {na · c} + {nb · (1-c)} in the formula (2), where na is the refractive index of the silicon dioxide particles 5 and nb is the refraction of the matrix. The ratio c is the volume ratio of the silicon dioxide particles 5 in the particle array 2. Here, the peak wavelength λ of the structural color is measured using a variable angle colorimeter “Color Robo III” (manufactured by Color Techno System).

粒子配列体2の厚みは、例えば0.01〜30μmであることが好ましい。厚みが0.1μm以上であれば、反射される光の強度を大きくでき、50μm以下であれば塗布途中にて基板からの剥離を低減できる。   The thickness of the particle array 2 is preferably 0.01 to 30 μm, for example. If the thickness is 0.1 μm or more, the intensity of the reflected light can be increased, and if it is 50 μm or less, peeling from the substrate can be reduced during coating.

なお、式(1)および式(2)は近似式であり、実際上はこれらの計算値に完全には合致しない場合もある。   In addition, Formula (1) and Formula (2) are approximate formulas, and in practice, they may not completely match these calculated values.

粒子配列体2の粒子層の周期数は、少なくとも1以上である必要があり、好ましくは5〜200である。周期数がこの範囲であれば、粒子配列体2が構造色を示すことができる。   The period number of the particle layer of the particle array 2 needs to be at least 1 or more, preferably 5 to 200. If the number of periods is within this range, the particle array 2 can exhibit a structural color.

粒子包埋体3や粒子配列体2において発現される構造色は、可視域にピーク波長を有する色に限らず、紫外域または赤外域にピーク波長を有する色(光)であってもよい。   The structural color expressed in the particle embedding body 3 and the particle array 2 is not limited to a color having a peak wavelength in the visible region, but may be a color (light) having a peak wavelength in the ultraviolet region or the infrared region.

(評価方法)
粒子配列を確認する方法としては、以下に記載する方法でそれぞれ試料を作製し、それぞれのSEM観察結果(日本電子製)を実施した結果を図1〜図8に示す。
(Evaluation method)
As a method for confirming the particle arrangement, samples are prepared by the methods described below, and the results of the respective SEM observation results (manufactured by JEOL) are shown in FIGS.

反射色調測定としては、それぞれ試料についてカラーロボIII(カラーテクノシステム製)で、測定条件は入射角度30°、D65光源、10度視野、試料台として黒色画用紙を使用した結果を図9に示す。図9において縦軸aおよび横軸bは、L*a*b表色系におけるa値、b値のことであり、日本工業規格では、JIS Z 8729に規定されているものである。   As the reflection color tone measurement, FIG. 9 shows the result of using a color robot III (manufactured by Color Techno System) for each sample, and the measurement conditions are an incident angle of 30 °, a D65 light source, a 10 ° field of view, and a black drawing paper as a sample stage. In FIG. 9, the vertical axis a and the horizontal axis b are a value and b value in the L * a * b color system, and are defined in JIS Z 8729 in the Japanese Industrial Standard.

(試料作製)
以下、本発明の具体的な実施例について説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。
(Sample preparation)
Hereinafter, specific examples of the present invention will be described, but the present invention is not limited thereto.

<実施例1>
分散液(A)として粒子径270nm(CV値2%)の二酸化珪素粒子水分散液(30質量%)をバーコータによって100mm/秒でAl蒸着PETフィルム上にウエット膜厚25μmで塗布し、熱風循環式乾燥機により100℃、10分で乾燥し、室温まで冷却した。
<Example 1>
As a dispersion (A), an aqueous dispersion of silicon dioxide particles (30% by mass) having a particle size of 270 nm (CV value 2%) was applied to an Al-deposited PET film at a thickness of 25 μm by a bar coater at 100 mm / second, and hot air circulation was performed. The sample was dried at 100 ° C. for 10 minutes by a type dryer and cooled to room temperature.

次に、分散液(B)としてエチルセルロース(4質量%)テルピネオール液をバーコータによって100mm/秒でウエット膜厚25μm塗布し、熱風循環式乾燥機によって100℃、10分乾燥した。   Next, an ethyl cellulose (4% by mass) terpineol solution as a dispersion (B) was applied at a wet film thickness of 25 μm at 100 mm / second by a bar coater, and dried at 100 ° C. for 10 minutes by a hot air circulation dryer.

その膜面をブラシでこすることにより塗膜を剥離して試料を得た。   By rubbing the film surface with a brush, the coating film was peeled off to obtain a sample.

<実施例2>
分散液(A)として粒子径270nm(CV値2%)の二酸化珪素粒子水分散液(30質量%)をバーコータによって100mm/秒でAl蒸着PETフィルム上にウエット膜厚25μmで塗布し、熱風循環式乾燥機により100℃、10分で乾燥し、室温まで冷却した。
<Example 2>
As a dispersion (A), an aqueous dispersion of silicon dioxide particles (30% by mass) having a particle size of 270 nm (CV value 2%) was applied to an Al-deposited PET film at a thickness of 25 μm by a bar coater at 100 mm / second, and hot air circulation was performed. The sample was dried at 100 ° C. for 10 minutes by a type dryer and cooled to room temperature.

次に、分散液(B)としてエチルセルロース(4質量%)テルピネオール液をバーコータによって100mm/秒でウエット膜厚25μm塗布し、熱風循環式乾燥機によって100℃、10分乾燥した。   Next, an ethyl cellulose (4% by mass) terpineol solution as a dispersion (B) was applied at a wet film thickness of 25 μm at 100 mm / second by a bar coater, and dried at 100 ° C. for 10 minutes by a hot air circulation dryer.

その膜面をブラシでこすることにより塗膜を剥離し、さらにその粒子包埋体をムライト坩堝にいれ760℃で6時間焼成して試料を得た。   By rubbing the film surface with a brush, the coating film was peeled off, and the particle embedding body was put in a mullite crucible and fired at 760 ° C. for 6 hours to obtain a sample.

<実施例3>
分散液(A)として粒子径270nm(CV値2%)の二酸化珪素粒子水分散液(30質量%)をバーコータによって100mm/秒でSiO2蒸着PETフィルム上にウエット膜厚25μmで塗布し、熱風循環式乾燥機により100℃、10分で乾燥し、室温まで冷却した。
<Example 3>
As a dispersion (A), an aqueous dispersion of silicon dioxide particles (30% by mass) having a particle size of 270 nm (CV value 2%) was applied onto a SiO2 vapor-deposited PET film at a thickness of 25 μm by a bar coater at a rate of 100 mm / sec. The sample was dried at 100 ° C. for 10 minutes by a type dryer and cooled to room temperature.

次に、分散液(B)としてエチルセルロース(4質量%)テルピネオール液をバーコータによって100mm/秒でウエット膜厚25μm塗布し、熱風循環式乾燥機によって100℃、10分乾燥した。   Next, an ethyl cellulose (4% by mass) terpineol solution as a dispersion (B) was applied at a wet film thickness of 25 μm at 100 mm / second by a bar coater, and dried at 100 ° C. for 10 minutes by a hot air circulation dryer.

その膜面をブラシでこすることにより塗膜を剥離し、さらにその粒子包埋体をムライト坩堝にいれ760℃で6時間焼成して試料を得た。   By rubbing the film surface with a brush, the coating film was peeled off, and the particle embedding body was put in a mullite crucible and fired at 760 ° C. for 6 hours to obtain a sample.

<実施例4>
分散液(A)として粒子径270nm(CV値2%)の二酸化珪素粒子水分散液(30質量%)をバーコータによって100mm/秒でSiO2蒸着PETフィルム上にウエット膜厚25μmで塗布し、熱風循環式乾燥機により100℃、10分で乾燥し、室温まで冷却した。
<Example 4>
As a dispersion (A), an aqueous dispersion of silicon dioxide particles (30% by mass) having a particle size of 270 nm (CV value 2%) was applied onto a SiO2 vapor-deposited PET film at a thickness of 25 μm by a bar coater at a rate of 100 mm / sec. The sample was dried at 100 ° C. for 10 minutes by a type dryer and cooled to room temperature.

次に、分散液(B)として水系ポリエステル樹脂(30質量%)をバーコータによって
100mm/秒でウエット膜厚25μm塗布し、熱風循環式乾燥機によって100℃、10分乾燥した。
Next, a water-based polyester resin (30% by mass) was applied as a dispersion liquid (B) at a wet film thickness of 25 μm at 100 mm / second by a bar coater, and dried at 100 ° C. for 10 minutes by a hot air circulation dryer.

その膜面をブラシでこすることにより塗膜を剥離し、さらにその粒子包埋体をムライト坩堝にいれ、760℃で6時間焼成することによって試料を得た。   By rubbing the film surface with a brush, the coating film was peeled off, and the particle embedding body was put in a mullite crucible and fired at 760 ° C. for 6 hours to obtain a sample.

<実施例5>
分散液(A)として粒子径225nm(CV値2%)の二酸化珪素粒子水分散液(30質量%)をバーコータによって100mm/秒でSiO2蒸着PETフィルム上にウエット膜厚25μmで塗布し、熱風循環式乾燥機によって100℃、10分で乾燥し、室温まで冷却した。
<Example 5>
As a dispersion liquid (A), a silicon dioxide particle aqueous dispersion liquid (30 mass%) having a particle diameter of 225 nm (CV value 2%) was applied with a bar coater at 100 mm / second onto a SiO2 vapor-deposited PET film with a wet film thickness of 25 μm and hot air circulation. It dried at 100 degreeC with the type dryer for 10 minutes, and cooled to room temperature.

次に、分散液(B)としてエチルセルロース(4質量%)テルピネオール液をバーコータによって100mm/秒でウエット膜厚25μm塗布し、熱風循環式乾燥機によって100℃、10分乾燥した。   Next, an ethyl cellulose (4% by mass) terpineol solution as a dispersion (B) was applied at a wet film thickness of 25 μm at 100 mm / second by a bar coater, and dried at 100 ° C. for 10 minutes by a hot air circulation dryer.

その膜面をブラシでこすることにより塗膜を剥離し、さらにその粒子包埋体をムライト坩堝にいれ、760℃で6時間焼成することによって試料を得た。   By rubbing the film surface with a brush, the coating film was peeled off, and the particle embedding body was put in a mullite crucible and fired at 760 ° C. for 6 hours to obtain a sample.

<比較例1>
分散液(A)として粒子径270nm(CV値2%)の二酸化珪素粒子水分散液(30質量%)をバーコータによって100mm/秒で撥水性シリコンを塗布したPETフィルム上にウエット膜厚25μmで塗布し、熱風循環式乾燥機によって100℃、10分乾燥し、室温まで冷却した。
<Comparative Example 1>
As a dispersion (A), an aqueous dispersion of silicon dioxide particles (30% by mass) having a particle size of 270 nm (CV value 2%) was applied with a wet film thickness of 25 μm onto a PET film coated with water-repellent silicon at 100 mm / second by a bar coater. Then, it was dried at 100 ° C. for 10 minutes by a hot air circulation dryer and cooled to room temperature.

次に、分散液(B)としてエチルセルロース(4質量%)テルピネオール液をバーコータによって100mm/秒でウエット膜厚25μm塗布し、熱風循環式乾燥機によって100℃、10分乾燥した。   Next, an ethyl cellulose (4% by mass) terpineol solution as a dispersion (B) was applied at a wet film thickness of 25 μm at 100 mm / second by a bar coater, and dried at 100 ° C. for 10 minutes by a hot air circulation dryer.

その膜面をブラシでこすることにより塗膜を剥離し、さらにその粒子包埋体をムライト坩堝にいれ、760℃で6時間焼成することによって試料を得た。   By rubbing the film surface with a brush, the coating film was peeled off, and the particle embedding body was put in a mullite crucible and fired at 760 ° C. for 6 hours to obtain a sample.

<比較例2>
分散液(A)として粒子径270nm(CV2%)の二酸化珪素粒子水分散液(30質量%)に水系ポリエステル樹脂(30質量%)を5質量%添加した液をバーコータによって100mm/秒でAl蒸着PETフィルム上にウエット膜厚25μm塗布し、熱風循環式乾燥機によって100℃、10分乾燥し、室温まで冷却した。
<Comparative example 2>
As a dispersion (A), a solution obtained by adding 5% by mass of a water-based polyester resin (30% by mass) to an aqueous dispersion (30% by mass) of silicon dioxide particles having a particle size of 270 nm (CV 2%) is deposited with Al at 100 mm / second by a bar coater. A wet film thickness of 25 μm was applied onto a PET film, dried at 100 ° C. for 10 minutes with a hot air circulating dryer, and cooled to room temperature.

次に、分散液(B)としてエチルセルロース(4質量%)テルピネオール液をバーコータによって100mm/秒でウエット膜厚25μm塗布し、熱風循環式乾燥機によって100℃、10分乾燥した。   Next, an ethyl cellulose (4% by mass) terpineol solution as a dispersion (B) was applied at a wet film thickness of 25 μm at 100 mm / second by a bar coater, and dried at 100 ° C. for 10 minutes by a hot air circulation dryer.

その膜面をブラシでこすることにより塗膜を剥離し、さらにその粒子包埋体をムライト坩堝にいれ、760℃で6時間焼成することによって試料を得た。   By rubbing the film surface with a brush, the coating film was peeled off, and the particle embedding body was put in a mullite crucible and fired at 760 ° C. for 6 hours to obtain a sample.

<比較例3>
分散液(A)として粒子径270nm(CV値2%)の二酸化珪素粒子水分散液(30質量%)をバーコータによって100mm/秒で直接PETフィルム上にウエット膜厚25μmで塗布し、熱風循環式乾燥機によって100℃、10分乾燥し、その膜面をブラシでこすることにより、塗膜を剥離し、さらにムライト坩堝にいれ、760℃で6時間焼成
することによって、粒子配列体を得た。
<Comparative Example 3>
As a dispersion liquid (A), a silicon dioxide particle aqueous dispersion liquid (30% by mass) having a particle diameter of 270 nm (CV value 2%) was directly applied onto a PET film at a wet film thickness of 25 μm by a bar coater at 100 mm / sec. Drying at 100 ° C. for 10 minutes with a drier, rubbing the film surface with a brush, peeling the coating film, placing it in a mullite crucible, and baking at 760 ° C. for 6 hours gave a particle array. .

(評価結果)
実施例1は図1に見られるように、粒子配列がなされているのと同時に樹脂が隙間を埋めており、安定した構造になっていることがわかり、図9に見られるように反射色調が角度によって変化し、主に緑〜青緑色に変化していることが確認できた。
(Evaluation results)
In Example 1, as shown in FIG. 1, it can be seen that the resin is filling the gap at the same time as the particle arrangement is made, and the structure is stable. As shown in FIG. It was confirmed that it changed depending on the angle and mainly changed from green to blue-green.

実施例2〜4は図2〜4に見られるように、粒子配列がなされていると同時に、はしかけ構造に焼結が進んでいることが確認された。図9に見られるように反射色調が角度によって変化し、主に緑〜青緑色に変化していることが確認できた。   In Examples 2 to 4, as shown in FIGS. 2 to 4, it was confirmed that the particles were arranged and at the same time the sintering proceeded to the hanging structure. As shown in FIG. 9, it was confirmed that the reflection color tone changed depending on the angle and changed mainly from green to blue-green.

実施例5は図5に見られるように、実施例1〜4よりも初期の粒子径が小さいが、焼成しても粒子径がほぼ変わっていないことが確認できた。また、粒子配列がなされていると同時に、はしかけ構造に焼結が進んでいることが確認された。図9に見られるように反射色調が角度によって変化し、主に青色を中心に変化していることが確認できた。   As seen in FIG. 5, Example 5 has an initial particle size smaller than those of Examples 1 to 4, but it was confirmed that the particle size was not substantially changed even after firing. In addition, it was confirmed that sintering was progressing to the hanging structure at the same time as the particle arrangement was made. As can be seen in FIG. 9, it was confirmed that the reflection color tone changed depending on the angle and mainly changed around blue.

比較例1では、塗布時に基板表面にて分散液(A)のはじきが発生して液滴となり、乾燥することによって白い粉状になるため、図6のように粒子が乱れた配列になって構造色を示さなかった。   In Comparative Example 1, the dispersion liquid (A) is repelled on the substrate surface during coating to form liquid droplets and becomes a white powder when dried, resulting in an array in which the particles are disordered as shown in FIG. No structural color was shown.

比較例2では、自己組織化で集合する粒子間を樹脂が阻害するため、図7に見られるように緻密な配列がとれなくなり、結果として弱い色調しか示さなかった。   In Comparative Example 2, since the resin inhibits the particles assembled by self-organization, a dense arrangement cannot be obtained as shown in FIG. 7, and as a result, only a weak color tone was shown.

比較例3では、粒子配列は揃うものの、ブラシでこすって剥離する際にせん断がかかりコロイド結晶状態を破壊してしまうため、図8のように焼成有無に係わらず白粉になってしまい構造色を示さなかった。   In Comparative Example 3, although the particle arrangement is uniform, the colloidal crystal state is broken when it is peeled off by rubbing with a brush, and therefore, the colloidal crystal state is destroyed as shown in FIG. Not shown.

なお、実施例1の試料作製方法に則り、金属含有材料と樹脂シートとの各種組み合わせと、遊色性との関係の評価結果について、表1にまとめて示した。   In addition, according to the sample preparation method of Example 1, the evaluation result of the relationship between various combinations of a metal containing material and a resin sheet and playability is shown in Table 1.

○は遊色性が確認できたもの、×は部分的に白濁し、遊色性が確認できないもの、××はシワ等が発生し、遊色性が確認できないものである。   ○ indicates that the color playability can be confirmed, × indicates the part that is partially cloudy and the color playability cannot be confirmed, and xx indicates that wrinkle is generated and the color playability cannot be confirmed.

このように樹脂フィルムの材質の依存性は殆ど見られないが、金属含有材料については構造色(遊色性)に大きく影響している。なお、表1におけるその他の実施例および比較例については、金属含有材料と基板とを表1のように組み合わせ、実施例1の条件に従って行った結果を示している。   Thus, although the dependence of the material of the resin film is hardly seen, the metal-containing material has a great influence on the structural color (playability). In addition, about the other Example and comparative example in Table 1, the result containing having combined a metal containing material and a board | substrate like Table 1 according to the conditions of Example 1 is shown.

1:装飾品
2:粒子配列体
3:粒子包埋体
4:樹脂
5:二酸化珪素粒子
1: Decoration 2: Particle array 3: Particle embedding 4: Resin 5: Silicon dioxide particles

Claims (7)

表面に金属含有材料をコーティングした基板上に、二酸化珪素コロイドを含む分散液(A)を塗布し、乾燥することにより、前記二酸化珪素コロイド中の二酸化珪素粒子が配列した粒子配列体を得る第1工程と、
前記粒子配列体上に、樹脂と水または有機溶媒とを含む分散液(B)を塗布し、乾燥することにより、前記粒子配列体を前記樹脂で包埋した粒子包埋体を得る第2工程と、
前記粒子包埋体を前記基板上から剥離することにより、前記粒子包埋体からなる装飾品を得る第3工程と
を有する装飾品の製造方法。
First, a dispersion (A) containing silicon dioxide colloid is applied onto a substrate coated with a metal-containing material on the surface and dried to obtain a first particle array in which silicon dioxide particles in the silicon dioxide colloid are arranged. Process,
A second step of obtaining a particle embedding body in which the particle array is embedded with the resin by applying a dispersion (B) containing a resin and water or an organic solvent on the particle array and drying the dispersion. When,
And a third step of obtaining a decorative article made of the particle embedded body by peeling the particle embedded body from the substrate.
前記金属含有材料として、アルミニウム、銅、ステンレス、クロムおよびニッケルの少なくともいずれか1種を含有する材料を用いる請求項1に記載の装飾品の製造方法。   The method for manufacturing a decorative article according to claim 1, wherein a material containing at least one of aluminum, copper, stainless steel, chromium, and nickel is used as the metal-containing material. 前記分散液(A)中の二酸化珪素の粒子径を0.01〜10μmの範囲内に制御する請求項1または2に記載の装飾品の製造方法。   The method for producing a decorative article according to claim 1 or 2, wherein a particle diameter of silicon dioxide in the dispersion (A) is controlled within a range of 0.01 to 10 µm. 前記分散液(B)中の樹脂として、アクリル樹脂、ポリエステル樹脂、ニトロセルロース、エチルセルロースおよびポリビニルブチラールの少なくとも1種を用いる請求項1〜3のいずれかに記載の装飾品の製造方法。   The method for producing a decorative article according to any one of claims 1 to 3, wherein at least one of acrylic resin, polyester resin, nitrocellulose, ethylcellulose, and polyvinyl butyral is used as the resin in the dispersion (B). 前記第3工程の後に、前記基板上から剥離した前記粒子包埋体を400〜1000℃で焼成する第4工程を含む請求項1〜4のいずれかに記載の装飾品の製造方法。   The manufacturing method of the ornament in any one of Claims 1-4 including the 4th process of baking the said particle | grain embedding body peeled from the said board | substrate at 400-1000 degreeC after the said 3rd process. 請求項1〜5のいずれかに記載の装飾品の製造方法により作製された装飾品であって、前記二酸化珪素粒子と前記樹脂とが互いに接着している装飾品。   A decorative article manufactured by the method for manufacturing a decorative article according to any one of claims 1 to 5, wherein the silicon dioxide particles and the resin are bonded to each other. 請求項5に記載の装飾品の製造方法により作製された装飾品であって、
前記二酸化珪素粒子同士が溶融接着している装飾品。
A decorative article produced by the method of manufacturing a decorative article according to claim 5,
A decorative article in which the silicon dioxide particles are melt bonded.
JP2011077216A 2011-03-31 2011-03-31 Decorative product and manufacturing method thereof Active JP5721503B2 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2011077216A JP5721503B2 (en) 2011-03-31 2011-03-31 Decorative product and manufacturing method thereof

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2011077216A JP5721503B2 (en) 2011-03-31 2011-03-31 Decorative product and manufacturing method thereof

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2012210311A true JP2012210311A (en) 2012-11-01
JP5721503B2 JP5721503B2 (en) 2015-05-20

Family

ID=47264815

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2011077216A Active JP5721503B2 (en) 2011-03-31 2011-03-31 Decorative product and manufacturing method thereof

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP5721503B2 (en)

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2015020067A1 (en) * 2013-08-06 2015-02-12 富士化学株式会社 Sheet of colloidal crystals immobilized in resin, method for displaying structural color using same, method for detecting unevenness distribution or hardness distribution of subject using same, and structural color sheet
WO2015020066A1 (en) * 2013-08-06 2015-02-12 富士化学株式会社 Sheet of colloidal crystals immobilized in resin, method for displaying structural color using same, method for detecting unevenness distribution or hardness distribution of subject using same, and structural color sheet
JPWO2016039335A1 (en) * 2014-09-08 2017-07-13 太田 貴之 Molding
JPWO2020017397A1 (en) * 2018-07-17 2021-08-02 京セラ株式会社 Jewelery material

Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2003073170A (en) * 2001-08-30 2003-03-12 Kyocera Corp Jewelry
JP2004043291A (en) * 2002-05-24 2004-02-12 Nippon Sheet Glass Co Ltd Flaky particles, and cosmetic, coating material composition, resin composition and ink composition each blended with the same
JP2007169347A (en) * 2005-12-19 2007-07-05 Shiga Pref Gov Inorganic oxide structure and method of manufacturing the same

Patent Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2003073170A (en) * 2001-08-30 2003-03-12 Kyocera Corp Jewelry
JP2004043291A (en) * 2002-05-24 2004-02-12 Nippon Sheet Glass Co Ltd Flaky particles, and cosmetic, coating material composition, resin composition and ink composition each blended with the same
JP2007169347A (en) * 2005-12-19 2007-07-05 Shiga Pref Gov Inorganic oxide structure and method of manufacturing the same

Cited By (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2015020067A1 (en) * 2013-08-06 2015-02-12 富士化学株式会社 Sheet of colloidal crystals immobilized in resin, method for displaying structural color using same, method for detecting unevenness distribution or hardness distribution of subject using same, and structural color sheet
WO2015020066A1 (en) * 2013-08-06 2015-02-12 富士化学株式会社 Sheet of colloidal crystals immobilized in resin, method for displaying structural color using same, method for detecting unevenness distribution or hardness distribution of subject using same, and structural color sheet
CN105452912A (en) * 2013-08-06 2016-03-30 富士化学株式会社 Sheet of colloidal crystals immobilized in resin, method for displaying structural color using same, method for detecting unevenness distribution or hardness distribution of subject using same, and structural color sheet
JP6086513B2 (en) * 2013-08-06 2017-03-01 富士化学株式会社 Resin-fixed colloidal crystal sheet, method of displaying structural color using the same, method of detecting unevenness distribution or hardness distribution of specimen using the same, and structural color sheet
JPWO2015020067A1 (en) * 2013-08-06 2017-03-02 富士化学株式会社 Resin-fixed colloidal crystal sheet, method of displaying structural color using the same, method of detecting unevenness distribution or hardness distribution of specimen using the same, and structural color sheet
JPWO2015020066A1 (en) * 2013-08-06 2017-03-02 富士化学株式会社 Resin-fixed colloidal crystal sheet, method of displaying structural color using the same, method of detecting unevenness distribution or hardness distribution of specimen using the same, and structural color sheet
US9970850B2 (en) 2013-08-06 2018-05-15 National Institute For Materials Science Sheet of colloidal crystals immobilized in resin, method of displaying structural color using same, method for detecting unevenness distribution or hardness distribution of subject using same, and structural color sheet
US9970749B2 (en) 2013-08-06 2018-05-15 Fuji Kagaku Corporation Sheet of colloidal crystals immobilized in resin, method of displaying structural color using same, method for detecting unevenness distribution or hardness distribution of subject using same, and structural color sheet
JPWO2016039335A1 (en) * 2014-09-08 2017-07-13 太田 貴之 Molding
JPWO2020017397A1 (en) * 2018-07-17 2021-08-02 京セラ株式会社 Jewelery material
JP7029534B2 (en) 2018-07-17 2022-03-03 京セラ株式会社 Jewelery materials

Also Published As

Publication number Publication date
JP5721503B2 (en) 2015-05-20

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP5187495B2 (en) Antireflection film, production method of antireflection film, antireflection film mold, antireflection film obtained using antireflection film mold and antireflection film obtained using replica film
Han et al. Antireflective surface inspired from biology: a review
Saito Material design and structural color inspired by biomimetic approach
US10723899B2 (en) Film comprising core-shell particles and product comprising the film
US5648165A (en) Hot stamp article for applying optically variable coating to substrates
Liu et al. Replication of homologous optical and hydrophobic features by templating wings of butterflies Morpho menelaus
JP5721503B2 (en) Decorative product and manufacturing method thereof
JP2009237551A (en) Anti-reflection coating and its production method
Ye et al. Enhanced localized surface plasmon resonance sensing on three-dimensional gold nanoparticles assemblies
KR101229673B1 (en) Substrate having low reflection and high contact angle and method for manufacturing of the same
Bae et al. Fabrication of moth-eye structure on glass by ultraviolet imprinting process with polymer template
CN107290813A (en) Infrared double-layer nanometer metal grating and preparation method thereof in one kind
Jin et al. Self-templated fabrication of robust moth-eye-like nanostructures with broadband and quasi-omnidirectional antireflection properties
JP2011085779A (en) Structural light emitting uneven film, structural coloration uneven film and structural coloration coating film
Askar et al. Rapid electrostatics-assisted layer-by-layer assembly of near-infrared-active colloidal photonic crystals
Wang et al. Generation of Complex Tunable Multispectral Signatures with Reconfigurable Protein‐Based, Plasmonic‐Photonic Crystal Hybrid Nanostructures
Chan et al. Self-assembled free-standing colloidal crystals
Rombaut et al. Nanostructured hybrid-material transparent surface with antireflection properties and a facile fabrication process
CN108645836A (en) Stacked in parallel double-level-metal optical grating construction surface enhanced Raman substrate and preparation method thereof
JP2011102216A (en) Color-developing flake material and method for producing the same
US20180237957A1 (en) Method for preparing inverse opal colloidal crystal fibers
US10094952B2 (en) Anti-reflection film, method of producing the film and display device
JP6528408B2 (en) Antireflection film and method of manufacturing the same
Li et al. Efficient fabrication of large, robust films of 3D-ordered polystyrene latex
Lalanne et al. Minireview on Disordered Optical Metasurfaces

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20140210

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20141126

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20141202

A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20150202

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20150224

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20150324

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Ref document number: 5721503

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150