JP2012208384A - Lithographic printing plate precursor and photosensitive composition using the same - Google Patents

Lithographic printing plate precursor and photosensitive composition using the same Download PDF

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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a lithographic printing plate precursor being excellent in chemical resistance, having high printing durability even in the case of using UV ink, and giving a lithographic printing plate without development scum adhesion in developing.SOLUTION: A lithographic printing plate precursor has a recording function layer composed of at least one layer on a substrate and has an alkali-soluble resin, an infrared absorbent and a basic compound on a layer which is the same as or different from the layer composing the recording function layer, where the basic compound has an acidic functional group with a pKa of 3 to 14 and a basic functional group forming a conjugate acid with a pKa of 11 to 18.

Description

本発明は平版印刷版原版とそれに用いる感光性組成物に関する。   The present invention relates to a lithographic printing plate precursor and a photosensitive composition used therefor.

従来、種々の感光性組成物が可視画像形成や平版印刷版材料として使用されている。特に、平版印刷における近年のレーザ露光・現像に関する技術の発展は目ざましい。特に近赤外から赤外に発光領域を持つ固体レーザ・半導体レーザは高出力かつ小型の物が容易に入手できるようになっている。コンピュータ等のディジタルデータから直接製版する際の露光光源として、これらのレーザは非常に有用であり、これに対応する平版印刷原版の開発が極めて重要である。
赤外線レーザ用ポジ型平版印刷版原版は、アルカリ可溶性のバインダー樹脂と、光を吸収し熱を発生するIR染料等とを必須成分とする。このIR染料等が、未露光部(画像部)では、バインダー樹脂との相互作用によりバインダー樹脂の現像液に対する溶解性を実質的に低下させる現像抑制剤として働く。一方、露光部(非画像部)では、発生した熱によりIR染料等とバインダー樹脂との相互作用が弱まり、アルカリ現像液に溶解して平版印刷版を形成する。
Conventionally, various photosensitive compositions have been used as visible image forming and lithographic printing plate materials. In particular, the development of technology related to laser exposure and development in lithographic printing in recent years is remarkable. In particular, a solid-state laser / semiconductor laser having a light emitting region from the near infrared to the infrared can easily be obtained with a high output and a small size. These lasers are very useful as exposure light sources when directly making a plate from digital data such as a computer, and the development of a lithographic printing plate corresponding to this laser is extremely important.
The positive type lithographic printing plate precursor for an infrared laser contains an alkali-soluble binder resin and an IR dye that absorbs light and generates heat as essential components. The IR dye or the like functions as a development inhibitor that substantially lowers the solubility of the binder resin in the developer by interaction with the binder resin in the unexposed area (image area). On the other hand, in the exposed area (non-image area), the interaction between the IR dye and the binder resin is weakened by the generated heat and dissolves in an alkaline developer to form a lithographic printing plate.

この赤外線レーザ用ポジ型平版印刷版としての重要な性能の1つにUVインキおよび印刷周辺薬品に対する耐性が挙げられる。UVインキは通常のインキと異なり、溶媒を含まず、高粘度でタック性が高く、また、通常のインキよりも極性が高い。このため、画像部を侵しやすく、通常のインキの場合より耐刷性が一般に低くなる。したがって、UVインキ使用時の耐刷性(UVインキ耐刷性)の向上は大きな課題である。
この課題を解決するために、特定の官能基を有する構造単位を含むポリマーを使用した感光性組成物や平版印刷版原版が提案されており(例えば、特許文献1、2参照)、耐薬品性が改良されたことが報告されている。しかしながら、これらポリマーを使用した感光性組成物を添加した平版印刷版では、現像時に該感光性組成物の凝集物が付着する(現像カス付着)という問題が生じている。
One of the important performances as a positive lithographic printing plate for infrared laser is resistance to UV ink and printing peripheral chemicals. Unlike normal ink, UV ink does not contain a solvent, has high viscosity and high tackiness, and has higher polarity than normal ink. For this reason, the image area is easily affected, and the printing durability is generally lower than that in the case of normal ink. Therefore, improvement of printing durability when using UV ink (UV ink printing durability) is a major issue.
In order to solve this problem, a photosensitive composition and a lithographic printing plate precursor using a polymer containing a structural unit having a specific functional group have been proposed (see, for example, Patent Documents 1 and 2), and have chemical resistance. Has been reported to be improved. However, a lithographic printing plate to which a photosensitive composition using these polymers is added has a problem that aggregates of the photosensitive composition adhere during development (development residue adhesion).

米国特許第6,475,692号明細書US Pat. No. 6,475,692 欧州特許公開第1738900号公報European Patent Publication No. 1738900

本発明の目的は、耐薬品性に優れ、UVインキを用いた場合でも耐刷力が大きく、さらに現像時に現像カス付着がない平版印刷版を与える平版印刷版原版及びそれに用いる感光性組成物を提供することである。   An object of the present invention is to provide a lithographic printing plate precursor which gives a lithographic printing plate having excellent chemical resistance, high printing durability even when UV ink is used, and no development residue adhesion during development, and a photosensitive composition used therefor Is to provide.

本発明の上記課題は、以下に示す本発明の手段により解決された。
(1)支持体上に少なくとも1層の層からなる記録機能層を有し、前記記録機能層をなす層の同じ層もしくは異なる層に、アルカリ可溶性樹脂と、赤外線吸収剤と、塩基性化合物とを有する平版印刷版原版であって、
前記塩基性化合物が、pKa3〜14の酸性官能基と、pKa11〜18の共役酸をなす塩基性官能基とを有することを特徴とする平版印刷版原版。
(2)前記塩基性化合物が下記一般式(I)で表されることを特徴とする(1)に記載の平版印刷用原版。

Figure 2012208384
(上記式(I)中、L〜Lは、それぞれ独立に、炭素数1〜10の2価のアルキレン基、あるいは炭素数6〜20の2価のアリーレン基、酸素原子、窒素原子を含む連結基、硫黄原子、単結合、またはそれらの組合せによる連結基を表す。A〜Aは、それぞれ独立に、酸性基、あるいは水素原子、炭素数1〜20のアルキル基、又は炭素数6〜20のアリール基を表し、A〜Aの少なくとも1つの基が酸性基とする。) The above-mentioned problems of the present invention have been solved by the following means of the present invention.
(1) It has a recording functional layer comprising at least one layer on a support, and an alkali-soluble resin, an infrared absorber, a basic compound, and the like are formed on the same layer or different layers of the recording functional layer. A lithographic printing plate precursor having
The lithographic printing plate precursor, wherein the basic compound has an acidic functional group having a pKa of 3 to 14 and a basic functional group forming a conjugate acid of a pKa of 11 to 18.
(2) The lithographic printing plate precursor as described in (1), wherein the basic compound is represented by the following general formula (I):
Figure 2012208384
(In the above formula (I), L 1 to L 4 each independently represents a divalent alkylene group having 1 to 10 carbon atoms, or a divalent arylene group having 6 to 20 carbon atoms, an oxygen atom, or a nitrogen atom. A 1 to A 4 each independently represent an acidic group, a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, or a carbon number. Represents an aryl group of 6 to 20, and at least one group of A 1 to A 4 is an acidic group.)

(3)前記塩基性化合物が下記一般式(II)〜(V)のいずれかで表されることを特徴とする(1)又は(2)に記載の平版印刷用原版。

Figure 2012208384
(上記式(II)中、R〜Rはそれぞれ独立に、水素原子、炭素数1〜20のアルキル基、又は炭素数6〜20のアリール基を表す。Lは、炭素数1〜10の2価のアルキレン基又は炭素数6〜20の2価のアリーレン基、酸素原子、窒素原子を含む連結基、またはそれらの組合せによる連結基を表す。Aは、酸性基を表す。) (3) The lithographic printing plate precursor as described in (1) or (2), wherein the basic compound is represented by any one of the following general formulas (II) to (V).
Figure 2012208384
(In the formula (II), in each of R 1 to R 4 independently represent a hydrogen atom, the .L 5 represents an alkyl group, or an aryl group having 6 to 20 carbon atoms having 1 to 20 carbon atoms, 1 to carbon atoms 10 represents a divalent alkylene group, a divalent arylene group having 6 to 20 carbon atoms, a linking group containing an oxygen atom or a nitrogen atom, or a combination thereof, and A 5 represents an acidic group.)

Figure 2012208384
(上記式(III)中、R〜Rはそれぞれ独立に、水素原子、炭素数1〜20のアルキル基、又は炭素数6〜20のアリール基を表す。Lは、炭素数1〜10の2価のアルキレン基又は炭素数6〜20の2価のアリーレン基、またはそれらの組合せによる連結基を表す。Aは、酸性基を表す。)
Figure 2012208384
(In the above formula (III), R 5 to R 7 each independently represents a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, or an aryl group having 6 to 20 carbon atoms. L 6 represents 1 to 1 carbon atoms. 10 represents a linking group formed of a divalent alkylene group having 10 carbon atoms, a divalent arylene group having 6 to 20 carbon atoms, or a combination thereof, and A 6 represents an acidic group.)

Figure 2012208384
(上記式(IV)中、R8〜R10はそれぞれ独立に、水素原子、炭素数1〜20のアルキル基、又は炭素数6〜20のアリール基を表す。LとLとはそれぞれ独立に、炭素数1〜10の2価のアルキレン基、炭素数6〜20の2価のアリーレン基、酸素原子、窒素原子を含む連結基、またはそれらの組合せによる連結基を表し、互いに環を形成してもよい。A、Aは、酸性基を表す。)
Figure 2012208384
(In the above formula (IV), R 8 to R 10 each independently represents a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, or an aryl group having 6 to 20 carbon atoms. L 7 and L 8 each represent Independently, it represents a divalent alkylene group having 1 to 10 carbon atoms, a divalent arylene group having 6 to 20 carbon atoms, a linking group containing an oxygen atom or a nitrogen atom, or a linking group thereof in combination. (A 7 and A 8 may represent an acidic group.)

Figure 2012208384
(上記式(V)中、R11〜R13はそれぞれ独立に、水素原子、炭素数1〜20のアルキル基、又は炭素数6〜20のアリール基を表す。Lは、炭素数1〜10の2価のアルキレン基、炭素数6〜20の2価のアリーレン基、酸素原子、窒素原子を含む連結基、またはそれらの組合せによる連結基を表す。Aは、酸性基を表す。)
Figure 2012208384
(In the above formula (V), R 11 to R 13 each independently represents a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, or an aryl group having 6 to 20 carbon atoms. L 9 represents 1 to 1 carbon atoms. 10 represents a divalent alkylene group having 10 carbon atoms, a divalent arylene group having 6 to 20 carbon atoms, a linking group containing an oxygen atom or a nitrogen atom, or a combination thereof, and A 9 represents an acidic group.)

(4)前記酸性官能基がスルホンアミド基、置換スルホンアミド基、フェノール性ヒドロキシル基、チオフェノール性チオール基及びカルボキシル基からなる群から選ばれることを特徴とする(1)〜(3)のいずれか1項に記載の平版印刷版原版。
(5)前記アルカリ可溶性樹脂がポリウレタン、アクリル樹脂、又はアセタール樹脂である(1)〜(4)のいずれか1項に記載の平版印刷版原版。
(6)前記記録機能性が、上層、下層、及び下塗り層からなることを特徴とする(1)〜(5)のいずれか1項に記載の平版印刷版原版。
(7)前記上層に赤外線吸収剤を含有することを特徴とする(1)〜(6)のいずれか1項に記載の平版印刷版原版。
(8)前記下層にアルカリ可溶性樹脂を含有することを特徴とする(1)〜(7)のいずれか1項に記載の平版印刷版原版。
(9)平版印刷版原版の支持体上に配設する記録機能層をなす感光性組成物であって、
少なくとも塩基性化合物を含有し、前記塩基性化合物が、pKa3〜14の酸性官能基と、pKa11〜18の共役酸をなす塩基性官能基とを有することを特徴とする感光性組成物。
(10)前記塩基性化合物が下記一般式(I)で表されることを特徴とする請求項9に記載の感光性組成物。

Figure 2012208384
(上記式(I)中、L〜Lは、それぞれ独立に、炭素数1〜10の2価のアルキレン基、あるいは炭素数6〜20の2価のアリーレン基、酸素原子、窒素原子を含む連結基、硫黄原子、単結合、またはそれらの組合せによる連結基を表す。A〜Aは、それぞれ独立に、酸性基、あるいは水素原子、炭素数1〜20のアルキル基、又は炭素数6〜20のアリール基を表し、A〜Aの少なくとも1つの基が酸性基とする。) (4) Any of (1) to (3), wherein the acidic functional group is selected from the group consisting of a sulfonamide group, a substituted sulfonamide group, a phenolic hydroxyl group, a thiophenolic thiol group, and a carboxyl group The lithographic printing plate precursor as described in 1 above.
(5) The lithographic printing plate precursor as described in any one of (1) to (4), wherein the alkali-soluble resin is polyurethane, acrylic resin, or acetal resin.
(6) The lithographic printing plate precursor as described in any one of (1) to (5), wherein the recording functionality comprises an upper layer, a lower layer, and an undercoat layer.
(7) The lithographic printing plate precursor as described in any one of (1) to (6), wherein the upper layer contains an infrared absorber.
(8) The lithographic printing plate precursor as described in any one of (1) to (7), wherein the lower layer contains an alkali-soluble resin.
(9) A photosensitive composition forming a recording functional layer disposed on a support of a lithographic printing plate precursor,
A photosensitive composition comprising at least a basic compound, wherein the basic compound has an acidic functional group having a pKa of 3 to 14 and a basic functional group forming a conjugate acid of a pKa of 11 to 18.
(10) The photosensitive composition according to claim 9, wherein the basic compound is represented by the following general formula (I).
Figure 2012208384
(In the above formula (I), L 1 to L 4 each independently represents a divalent alkylene group having 1 to 10 carbon atoms, or a divalent arylene group having 6 to 20 carbon atoms, an oxygen atom, or a nitrogen atom. A 1 to A 4 each independently represent an acidic group, a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, or a carbon number. Represents an aryl group of 6 to 20, and at least one group of A 1 to A 4 is an acidic group.)

(11)前記塩基性化合物が下記一般式(II)〜(V)のいずれかで表されることを特徴とする(9)に記載の感光性組成物。

Figure 2012208384
(上記式(II)中、R〜Rはそれぞれ独立に、水素原子、炭素数1〜20のアルキル基、又は炭素数6〜20のアリール基を表す。Lは、炭素数1〜10の2価のアルキレン基又は炭素数6〜20の2価のアリーレン基、酸素原子、窒素原子を含む連結基、またはそれらの組合せによる連結基を表す。Aは、酸性基を表す。) (11) The photosensitive composition as described in (9), wherein the basic compound is represented by any one of the following general formulas (II) to (V).
Figure 2012208384
(In the formula (II), in each of R 1 to R 4 independently represent a hydrogen atom, the .L 5 represents an alkyl group, or an aryl group having 6 to 20 carbon atoms having 1 to 20 carbon atoms, 1 to carbon atoms 10 represents a divalent alkylene group, a divalent arylene group having 6 to 20 carbon atoms, a linking group containing an oxygen atom or a nitrogen atom, or a combination thereof, and A 5 represents an acidic group.)

Figure 2012208384
(上記式(III)中、R〜Rはそれぞれ独立に、水素原子、炭素数1〜20のアルキル基、又は炭素数6〜20のアリール基を表す。Lは、炭素数1〜10の2価のアルキレン基又は炭素数6〜20の2価のアリーレン基、またはそれらの組合せによる連結基を表す。Aは、酸性基を表す。)
Figure 2012208384
(In the above formula (III), R 5 to R 7 each independently represents a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, or an aryl group having 6 to 20 carbon atoms. L 6 represents 1 to 1 carbon atoms. 10 represents a linking group formed of a divalent alkylene group having 10 carbon atoms, a divalent arylene group having 6 to 20 carbon atoms, or a combination thereof, and A 6 represents an acidic group.)

Figure 2012208384
(上記式(IV)中、R8〜R10はそれぞれ独立に、水素原子、炭素数1〜20のアルキル基、又は炭素数6〜20のアリール基を表す。LとLとはそれぞれ独立に、炭素数1〜10の2価のアルキレン基、炭素数6〜20の2価のアリーレン基、酸素原子、窒素原子を含む連結基、またはそれらの組合せによる連結基を表し、互いに環を形成してもよい。A、Aは、酸性基を表す。)
Figure 2012208384
(In the above formula (IV), R 8 to R 10 each independently represents a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, or an aryl group having 6 to 20 carbon atoms. L 7 and L 8 each represent Independently, it represents a divalent alkylene group having 1 to 10 carbon atoms, a divalent arylene group having 6 to 20 carbon atoms, a linking group containing an oxygen atom or a nitrogen atom, or a linking group thereof in combination. (A 7 and A 8 may represent an acidic group.)

Figure 2012208384
(上記式(V)中、R11〜R13はそれぞれ独立に、水素原子、炭素数1〜20のアルキル基、又は炭素数6〜20のアリール基を表す。Lは、炭素数1〜10の2価のアルキレン基、炭素数6〜20の2価のアリーレン基、酸素原子、窒素原子を含む連結基、またはそれらの組合せによる連結基を表す。Aは、酸性基を表す。)
Figure 2012208384
(In the above formula (V), R 11 to R 13 each independently represents a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, or an aryl group having 6 to 20 carbon atoms. L 9 represents 1 to 1 carbon atoms. 10 represents a divalent alkylene group having 10 carbon atoms, a divalent arylene group having 6 to 20 carbon atoms, a linking group containing an oxygen atom or a nitrogen atom, or a combination thereof, and A 9 represents an acidic group.)

本明細書において、記録機能層とは画像記録層及びその他の層(代表的には下塗り層)を含む意味である。具体例で示すと、図1における画像記録層1と下塗り層3とを含むものとして記録機能層Aを示すことができる。   In this specification, the recording function layer means an image recording layer and other layers (typically, an undercoat layer). As a specific example, the recording function layer A can be shown as including the image recording layer 1 and the undercoat layer 3 in FIG.

本発明によれば、耐摩耗性及び耐薬品性に優れ、UVインキを用いた場合でも耐刷力が大きく、さらに印刷時に汚れを生じない平版印刷版を与える平版印刷版原版を提供することができる。 According to the present invention, it is possible to provide a lithographic printing plate precursor which is excellent in abrasion resistance and chemical resistance, has a large printing durability even when UV ink is used, and gives a lithographic printing plate which does not cause stains during printing. it can.

本発明の平版印刷版原版の単層構成の一実施態様を模式的に示す断面図である。It is sectional drawing which shows typically one embodiment of the single layer structure of the lithographic printing plate precursor of this invention. 本発明の平版印刷版原版の重層構成の一実施態様を模式的に示す断面図である。It is sectional drawing which shows typically one embodiment of the multilayer structure of the lithographic printing plate precursor of this invention.

以下、本発明を詳細に説明する。
本発明の平版印刷版原版は、支持体上に少なくとも1層の層からなる記録機能層を有し、前記記録機能層をなす層の同じ層もしくは異なる層に、アルカリ可溶性樹脂と、赤外線吸収剤と、塩基性化合物とを含有する。そして、前記塩基性化合物が、pKa3〜14の酸性官能基と、pKa10〜18の共役酸をなす塩基性官能基とを有する。
Hereinafter, the present invention will be described in detail.
The lithographic printing plate precursor of the present invention has a recording functional layer comprising at least one layer on a support, and an alkali-soluble resin and an infrared absorber in the same layer or different layers constituting the recording functional layer And a basic compound. And the said basic compound has the acidic functional group of pKa3-14, and the basic functional group which makes the conjugate acid of pKa10-18.

本発明においては、この種の印刷版原版において適用されてこなかった上記塩基性化合物をその記録機能層に含有させることを特徴とする。この塩基性化合物には、相対的に酸性の官能基と塩基性の官能基とが共存し、その作用により、耐摩耗性、耐薬品性、耐刷力、印刷時に汚れの抑制とを同時に満足し、特に耐刷性についてはUVインキに対しても高い効果を発揮したもと考えられる。その理由は定かではないが、推定を含めていうと、以下のとおりである。
すなわち、上記の酸性基を有する塩基性化合物は高無機性(炭素原子以外の原子を多く含むことを意味する。)であり、アルカリ可溶性樹脂(バインダーポリマー)に添加することで、組成物全体の有機性が低下する。結果として、UVインキおよび有機溶剤を含有する印刷周辺薬品に対する耐久性が向上したと考えられる。さらに、酸性基が存在することで、単に塩基性基が存在する化合物の適用に比し、アルカリ現像液に対する溶解性も同時に向上しており、現像カスの付着を効果的に防ぐことができたと考えられる。一方で、画像部のアルカリ現像液に対する耐久性(耐刷性)に関しては、上記塩基性化合物の適用により現像性が向上し、その相互作用として、例えばアルカリ可溶性樹脂として凝集性の強いアクリル樹脂や、ブチラール樹脂、ポリウレタン等を適用することを可能とし、現像性と耐刷性との高いレベルでの両立を図ることができる。以下、本発明について、その好ましい実施態様に基づき、詳細に説明する。
The present invention is characterized in that the recording functional layer contains the basic compound that has not been applied to this type of printing plate precursor. This basic compound coexists with a relatively acidic functional group and a basic functional group, and its action simultaneously satisfies wear resistance, chemical resistance, printing durability, and suppression of stains during printing. In particular, the printing durability is considered to be highly effective for UV ink. The reason is not clear, but it is as follows when including the estimation.
That is, the above basic compound having an acidic group is highly inorganic (meaning that it contains a lot of atoms other than carbon atoms), and added to an alkali-soluble resin (binder polymer). Organicity decreases. As a result, it is considered that the durability against printing peripheral chemicals containing UV ink and organic solvent was improved. Furthermore, due to the presence of acidic groups, the solubility in an alkaline developer has also been improved at the same time as compared to the application of a compound having a basic group. Conceivable. On the other hand, with respect to the durability (printing durability) of the image portion with respect to an alkaline developer, the developability is improved by application of the basic compound. However, it is possible to apply butyral resin, polyurethane and the like, and to achieve both high developability and printing durability. Hereinafter, the present invention will be described in detail based on preferred embodiments thereof.

<酸性基を有する塩基性化合物>
本発明に用いられる塩基性化合物は、pKaが3〜14と見積もられる酸性官能基と、共役酸としてpKaが11〜18と見積もられる塩基性官能基とを有する。
酸性官能基のpKaは、置換基の結合手にpKaに実質的に関与しない所定の原子ないし原子群(典型的には水素原子)が導入された化合物におけるpKaと定義する。酸性官能基のpKaは相対的に後記塩基性官能基との関係により定められればよく、後者よりpKaにおいて3〜15低いことが好ましく、4〜14低いことがより好ましい。酸性官能基のpKaの範囲は3〜14であるが、4〜13であることが好ましく、4〜11であることがより好ましい。ここでのpKaは、特に断らない限り、ACD/ChemSketchによる計算値とする。あるいは、日本化学会編「改定5版 化学便覧 基礎編」に掲載の値を参照してもよい。
塩基性官能基の共役酸のpKaは、その定義は上記のとおりであり、pKaの範囲は11〜18であるが、12〜17であることが好ましく、12〜16であることがより好ましい。
<Basic compound having an acidic group>
The basic compound used in the present invention has an acidic functional group whose pKa is estimated to be 3 to 14, and a basic functional group whose pKa is estimated to be 11 to 18 as a conjugate acid.
The pKa of the acidic functional group is defined as pKa in a compound in which a predetermined atom or atomic group (typically a hydrogen atom) that does not substantially participate in pKa is introduced into the bond of the substituent. The pKa of the acidic functional group may be relatively determined by the relationship with the basic functional group described later, and is preferably 3-15 lower than the latter, more preferably 4-14 lower than the latter. The pKa range of the acidic functional group is 3 to 14, but is preferably 4 to 13, and more preferably 4 to 11. The pKa here is a value calculated by ACD / ChemSketch unless otherwise specified. Or you may refer to the value published in the “Chemical Handbook for Revision 5” edited by the Chemical Society of Japan.
The definition of pKa of the conjugate acid of the basic functional group is as described above, and the range of pKa is 11 to 18, but is preferably 12 to 17, and more preferably 12 to 16.

本発明で用いる酸性基を有する塩基性化合物は下記一般式(I)で表されるものであることが好ましい。   The basic compound having an acidic group used in the present invention is preferably one represented by the following general formula (I).

Figure 2012208384
Figure 2012208384

上記式(I)中、L〜Lは、それぞれ独立に、炭素数1〜10(炭素数1〜8が好ましく、炭素数2〜6がより好ましい。)の2価のアルキレン基、炭素数6〜20(炭素数6〜15が好ましく、炭素数6〜10がより好ましい。)の2価のアリーレン基、酸素原子、窒素原子を含む連結基、硫黄原子、単結合、またはそれらの組合せによる連結基を表す。窒素原子を含む連結基は特に限定されないが、−NR−で表すことができ、Rは水素原子、炭素数1〜10のアルキレン基、炭素数6〜20のアリーレン基等が好ましい。A〜Aは、それぞれ独立に、酸性基、あるいは水素原子、炭素数1〜20(炭素数2〜10が好ましく、炭素数3〜7がより好ましい。)のアルキル基、又は炭素数6〜20(炭素数6〜15が好ましく、炭素数6〜10がより好ましい。)のアリール基を表し、A〜Aの少なくとも1つの基が酸性基とする。酸性基は、スルホンアミド基(pKa:10.9)、アセチル置換スルホンアミド基(pKa:4.8)、フェノール性ヒドロキシル基(pKa:10.2)、チオフェノール性チオール基(pKa:6.8)、カルボキシル基(pKa:4.8)のいずれかであることが好ましい。上記酸性官能基のうち、スルホンアミド基とフェノール性ヒドロキシル基が、現像性と耐久性の両立という観点から、より好ましい。
一般式(I)で表される化合物における酸性官能基については、そのpKaの見積もりの前提となる化合物としてA−B(B:所定原子もしくは原子群)が定義され、そのBをメチル基とした具体例におけるpKaを上述した。塩基性官能基については、グアニジン骨格がその基にあたり、このpKaの見積もりのための化合物としてB(B)−N−(C=N−B)−N−(B)Bが想定される。このB及びBがHであるときその化合物はグアニジンであり、その共役酸のpKaは13.3である。BがCH、BがHであるときその化合物は1,2,3−トリメチルグアニジンであり、その共役酸のpKaは13.9である。
In formula (I), L 1 to L 4 are each independently a divalent alkylene group having 1 to 10 carbon atoms (preferably 1 to 8 carbon atoms, more preferably 2 to 6 carbon atoms), carbon A divalent arylene group having 6 to 20 carbon atoms (preferably 6 to 15 carbon atoms, more preferably 6 to 10 carbon atoms), an oxygen atom, a linking group containing a nitrogen atom, a sulfur atom, a single bond, or a combination thereof Represents a linking group. Although the connecting group containing a nitrogen atom is not particularly limited, it can be represented by -NR-, and R is preferably a hydrogen atom, an alkylene group having 1 to 10 carbon atoms, an arylene group having 6 to 20 carbon atoms, or the like. A 1 to A 4 are each independently an acidic group, a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms (preferably 2 to 10 carbon atoms, more preferably 3 to 7 carbon atoms), or 6 carbon atoms. Represents an aryl group having 20 to 20 carbon atoms (preferably 6 to 15 carbon atoms, more preferably 6 to 10 carbon atoms), and at least one group of A 1 to A 4 is an acidic group. The acidic group includes a sulfonamide group (pKa: 10.9), an acetyl-substituted sulfonamide group (pKa: 4.8), a phenolic hydroxyl group (pKa: 10.2), and a thiophenolic thiol group (pKa: 6. 8) or a carboxyl group (pKa: 4.8). Of the acidic functional groups, a sulfonamide group and a phenolic hydroxyl group are more preferable from the viewpoint of achieving both developability and durability.
As for the acidic functional group in the compound represented by the general formula (I), A 1 -B (B: a predetermined atom or atomic group) is defined as a compound which is a premise for the estimation of the pKa, and B is defined as a methyl group. The pKa in the specific examples described above was described above. As for the basic functional group, the guanidine skeleton is the group, and B 1 (B 2 ) —N— (C═N—B 1 ) —N— (B 2 ) B 1 is used as a compound for estimating this pKa. is assumed. When B 1 and B 2 are H, the compound is guanidine and the conjugate acid has a pKa of 13.3. When B 1 is CH 3 and B 2 is H, the compound is 1,2,3-trimethylguanidine and the conjugate acid has a pKa of 13.9.

さらに、本発明で用いる酸性基を有する塩基性化合物は下記一般式(II)〜(V)のいずれかで表されるものであることがより好ましい。   Furthermore, the basic compound having an acidic group used in the present invention is more preferably one represented by any one of the following general formulas (II) to (V).

Figure 2012208384
Figure 2012208384

上記式(II)中、R〜Rはそれぞれ独立に、水素原子、炭素数1〜20(炭素数2〜10が好ましく、炭素数3〜7がより好ましい。)のアルキル基、炭素数6〜20(炭素数6〜15が好ましく、炭素数6〜10がより好ましい。)のアリール基を表す。炭素数1〜20のアルキル基の中では、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、t−ブチル基、シクロヘキシル基が好ましい。炭素数6〜20のアリール基の中では、フェニル基、p−トリル基、1−ナフチル基、2−ナフチル基が好ましい。なお、R及びRは水素原子(解離性プロトン)、R及びRは有機基(非解離性基)が好ましい。
は、炭素数1〜10(炭素数1〜8が好ましく、炭素数2〜6がより好ましい。)の2価のアルキレン基、炭素数6〜20(炭素数6〜15が好ましく、炭素数6〜10がより好ましい。)の2価のアリーレン基、酸素原子、窒素原子を含む連結基、またはそれらの組合せによる連結基を表す。なかでも、メチレン基、エチレン基、フェニレン基が好ましい。
は、酸性基を表す。好ましい基は上記Aと同様である。
In the above formula (II), R 1 to R 4 are each independently a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms (preferably 2 to 10 carbon atoms, more preferably 3 to 7 carbon atoms), and the carbon number. Represents an aryl group having 6 to 20 carbon atoms (preferably 6 to 15 carbon atoms, more preferably 6 to 10 carbon atoms). Among the alkyl groups having 1 to 20 carbon atoms, a methyl group, an ethyl group, a propyl group, an isopropyl group, a t-butyl group, and a cyclohexyl group are preferable. Among the aryl groups having 6 to 20 carbon atoms, a phenyl group, a p-tolyl group, a 1-naphthyl group, and a 2-naphthyl group are preferable. R 2 and R 3 are preferably hydrogen atoms (dissociable protons), and R 3 and R 4 are preferably organic groups (non-dissociable groups).
L 5 is a divalent alkylene group having 1 to 10 carbon atoms (preferably 1 to 8 carbon atoms, more preferably 2 to 6 carbon atoms), 6 to 20 carbon atoms (preferably 6 to 15 carbon atoms, carbon A divalent arylene group, an oxygen atom, a linking group containing a nitrogen atom, or a linking group thereof in combination. Of these, a methylene group, an ethylene group, and a phenylene group are preferable.
A 5 represents, represents an acidic group. Preferred groups are the same as the A 1.

Figure 2012208384
Figure 2012208384

上記式(III)中、R〜Rはそれぞれ独立に、水素原子、炭素数1〜20(炭素数2〜10が好ましく、炭素数3〜7がより好ましい。)のアルキル基、炭素数6〜20(炭素数6〜15が好ましく、炭素数6〜10がより好ましい。)のアリール基を表す。炭素数1〜20のアルキル基の中では、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、t−ブチル基、シクロヘキシル基が好ましい。炭素数6〜20のアリール基の中では、フェニル基、p−トリル基、1−ナフチル基、2−ナフチル基が好ましい。なお、Rは水素原子(解離性プロトン)、R及びRは有機基(非解離性基)が好ましい。
は、炭素数1〜10(炭素数1〜8が好ましく、炭素数2〜6がより好ましい。)の2価のアルキレン基、炭素数6〜20(炭素数6〜15が好ましく、炭素数6〜10がより好ましい。)の2価のアリーレン基またはそれらの組合せによる連結基を表す。なかでも、メチレン基、エチレン基、フェニレン基が好ましい。
は、酸性基を表す。好ましい基は上記Aと同様である。
塩基性官能基については、イソウレア骨格がその基にあたり、このpKaの見積もりのための化合物としてB−N=(C−O−B)−N−(B)Bが想定される。このB及びBがHであるときその化合物はイソウレアであり、その共役酸のpKaは17.3である。BがCH、BがHであるときその化合物は1,2,3−トリメチルイソウレアであり、その共役酸のpKaは11.7である。
In the above formula (III), R 5 to R 7 are each independently a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms (preferably 2 to 10 carbon atoms, more preferably 3 to 7 carbon atoms), and the carbon number. Represents an aryl group having 6 to 20 carbon atoms (preferably 6 to 15 carbon atoms, more preferably 6 to 10 carbon atoms). Among the alkyl groups having 1 to 20 carbon atoms, a methyl group, an ethyl group, a propyl group, an isopropyl group, a t-butyl group, and a cyclohexyl group are preferable. Among the aryl groups having 6 to 20 carbon atoms, a phenyl group, a p-tolyl group, a 1-naphthyl group, and a 2-naphthyl group are preferable. R 6 is preferably a hydrogen atom (dissociable proton), and R 5 and R 7 are preferably organic groups (non-dissociable groups).
L 6 is a divalent alkylene group having 1 to 10 carbon atoms (preferably 1 to 8 carbon atoms, more preferably 2 to 6 carbon atoms), 6 to 20 carbon atoms (preferably 6 to 15 carbon atoms, carbon The linking group is preferably a divalent arylene group or a combination thereof. Of these, a methylene group, an ethylene group, and a phenylene group are preferable.
A 6 represents an acidic group. Preferred groups are the same as the A 1.
As for the basic functional group, the isourea skeleton is the group, and B 1 -N = (C—O—B 1 ) —N— (B 2 ) B 1 is assumed as a compound for estimating this pKa. When B 1 and B 2 are H, the compound is isourea and the pKa of the conjugate acid is 17.3. When B 1 is CH 3 and B 2 is H, the compound is 1,2,3-trimethylisourea and the conjugate acid has a pKa of 11.7.

Figure 2012208384
Figure 2012208384

上記式(IV)中、R8〜R10はそれぞれ独立に、水素原子、炭素数1〜20(炭素数2〜10が好ましく、炭素数3〜7がより好ましい。)のアルキル基、炭素数6〜20(炭素数6〜15が好ましく、炭素数6〜10がより好ましい。)のアリール基を表す。炭素数1〜20のアルキル基の中では、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、t−ブチル基、シクロヘキシル基が好ましい。炭素数6〜20のアリール基の中では、フェニル基、p−トリル基、1−ナフチル基、2−ナフチル基が好ましい。なお、Rは水素原子(解離性プロトン)、R及びR10は有機基(非解離性基)が好ましい。
とLは、互いに環を形成してもよく、炭素数1〜10(炭素数1〜8が好ましく、炭素数2〜6がより好ましい。)の2価のアルキレン基、炭素数6〜20(炭素数6〜15が好ましく、炭素数6〜10がより好ましい。)の2価のアリーレン基、酸素原子、窒素原子を含む連結基、またはそれらの組合せによる連結基を表す。
、Aは、酸性基を表す。好ましい基は上記Aと同様である。
塩基性官能基については、グアニジン骨格がその基にあたり、このpKaの見積もりのための化合物としてのグアニジン、1,2,3−トリメチルグアニジンの共役酸のpKaは一般式(I)における説明と同様である。
In the above formula (IV), R 8 to R 10 are each independently a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms (preferably 2 to 10 carbon atoms, more preferably 3 to 7 carbon atoms), and carbon number. Represents an aryl group having 6 to 20 carbon atoms (preferably 6 to 15 carbon atoms, more preferably 6 to 10 carbon atoms). Among the alkyl groups having 1 to 20 carbon atoms, a methyl group, an ethyl group, a propyl group, an isopropyl group, a t-butyl group, and a cyclohexyl group are preferable. Among the aryl groups having 6 to 20 carbon atoms, a phenyl group, a p-tolyl group, a 1-naphthyl group, and a 2-naphthyl group are preferable. R 9 is preferably a hydrogen atom (dissociable proton), and R 8 and R 10 are preferably organic groups (non-dissociable groups).
L 7 and L 8 may form a ring with each other, a divalent alkylene group having 1 to 10 carbon atoms (preferably 1 to 8 carbon atoms, more preferably 2 to 6 carbon atoms), and 6 carbon atoms. Represents a linking group having a divalent arylene group of 20 to 20 carbon atoms (preferably 6 to 15 carbon atoms, more preferably 6 to 10 carbon atoms), a linking group containing an oxygen atom or a nitrogen atom, or a combination thereof.
A 7 and A 8 represent an acidic group. Preferred groups are the same as the A 1.
As for the basic functional group, the guanidine skeleton corresponds to the group, and the pKa of the conjugate acid of guanidine and 1,2,3-trimethylguanidine as the compound for estimating this pKa is the same as described in the general formula (I). is there.

Figure 2012208384
Figure 2012208384

上記式(V)中、R11〜R13はそれぞれ独立に、水素原子、炭素数1〜20(炭素数2〜10が好ましく、炭素数3〜7がより好ましい。)のアルキル基、炭素数6〜20(炭素数6〜15が好ましく、炭素数6〜10がより好ましい。)のアリール基を表す。炭素数1〜20のアルキル基の中では、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、t−ブチル基、シクロヘキシル基が好ましい。炭素数6〜20のアリール基の中では、フェニル基、p−トリル基、1−ナフチル基、2−ナフチル基が好ましい。なお、R13は水素原子(解離性プロトン)、R11及びR12は有機基(非解離性基)が好ましい。
は、炭素数1〜10(炭素数1〜8が好ましく、炭素数2〜6がより好ましい。)の2価のアルキレン基、炭素数6〜20(炭素数6〜15が好ましく、炭素数6〜10がより好ましい。)の2価のアリーレン基、酸素原子、窒素原子を含む連結基、またはそれらの組合せによる連結基を表す。なかでも、メチレン基、エチレン基、フェニレン基が好ましい。
は、酸性基を表す。好ましい基は上記Aと同様である。
塩基性官能基については、イミノメチルアミノ骨格がその基にあたり、このpKaの見積もりのための化合物としてB−N=(C−B)−N−(B)Bが想定される。このB及びBがHであるときその化合物はアミジンであり、その共役酸のpKaは11.3である。BがCH、BがHであるときその化合物はジメチルアミジノメタンであり、その共役酸のpKaは12.8である。
In the above formula (V), R 11 to R 13 are each independently a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms (preferably 2 to 10 carbon atoms, more preferably 3 to 7 carbon atoms), and carbon number. Represents an aryl group having 6 to 20 carbon atoms (preferably 6 to 15 carbon atoms, more preferably 6 to 10 carbon atoms). Among the alkyl groups having 1 to 20 carbon atoms, a methyl group, an ethyl group, a propyl group, an isopropyl group, a t-butyl group, and a cyclohexyl group are preferable. Among the aryl groups having 6 to 20 carbon atoms, a phenyl group, a p-tolyl group, a 1-naphthyl group, and a 2-naphthyl group are preferable. R 13 is preferably a hydrogen atom (dissociable proton), and R 11 and R 12 are preferably organic groups (non-dissociable group).
L 9 is a divalent alkylene group having 1 to 10 carbon atoms (preferably 1 to 8 carbon atoms, more preferably 2 to 6 carbon atoms), 6 to 20 carbon atoms (preferably 6 to 15 carbon atoms, carbon A divalent arylene group, an oxygen atom, a linking group containing a nitrogen atom, or a linking group thereof in combination. Of these, a methylene group, an ethylene group, and a phenylene group are preferable.
A 9 represents an acidic group. Preferred groups are the same as the A 1.
For the basic functional group, the iminomethylamino skeleton corresponds to the group, and B 1 -N = (C—B 1 ) —N— (B 2 ) B 1 is assumed as a compound for the estimation of this pKa. When B 1 and B 2 are H, the compound is amidine and the pKa of the conjugate acid is 11.3. When B 1 is CH 3 and B 2 is H, the compound is dimethylamidinomethane, and the conjugate acid has a pKa of 12.8.

なお、本明細書において置換基に関してxxx基というときには、そのxxx基に任意の置換基を有していてもよい。また、同一の符合で示された基が複数ある場合は、互いに異なっていても同じであってもよい。複数の基が連結して環を形成するときには、その複数の基のすべてが連結していても、その一部が連結していてもよい。
以下に本発明に用いられる一般式(I)〜(V)で表される塩基性化合物の好ましい態様を示すが、本発明はこれに限定されるものではない。

Figure 2012208384
In the present specification, when an xxx group is referred to with respect to a substituent, the xxx group may have an arbitrary substituent. In addition, when there are a plurality of groups indicated by the same symbol, they may be different or the same. When a plurality of groups are connected to form a ring, all of the plurality of groups may be connected or a part thereof may be connected.
Although the preferable aspect of the basic compound represented by general formula (I)-(V) used for this invention below is shown, this invention is not limited to this.
Figure 2012208384

Figure 2012208384
Figure 2012208384

Figure 2012208384
Figure 2012208384

Figure 2012208384
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Figure 2012208384
Figure 2012208384

Figure 2012208384
Figure 2012208384

本発明で用いる酸性基を有する塩基性化合物は、一般式(I)で表されるものであることが好ましい。
酸性基を有する塩基性化合物の添加量としては、記録機能層の固形分の総量に対し、0.01〜50質量%であることが好ましく、0.1〜40質量%であることがより好ましい。上記下限値以上とすることで、十分な耐薬品性が得られ、上記上限値以下とすることで良好に現像を行うことができる。
同様の観点から、酸性基を有する塩基性化合物の含有量は、記録機能層全体のアルカリ可溶性樹脂100質量部に対して、0.1〜75質量%含有させるのが好ましく、1〜50質量%がさらに好ましい。
なお、本明細書において***化合物とは、当該化合物そのものに加え、その塩、そのイオン等を含む意味に用いる。典型的には、当該化合物及び/又はその塩を意味する。
前記特定塩基性化合物の塩に関しては、その対イオンとして、ハロゲン化物イオン、テトラフルオロボレートイオン、ヘキサフルオロホスフェートイオン、カルボン酸イオン、スルホン酸イオン、硝酸イオン、炭酸イオンなどが好適なものとして用いられる。
The basic compound having an acidic group used in the present invention is preferably one represented by the general formula (I).
The addition amount of the basic compound having an acidic group is preferably 0.01 to 50% by mass and more preferably 0.1 to 40% by mass with respect to the total solid content of the recording functional layer. . By setting it to the above lower limit or higher, sufficient chemical resistance can be obtained, and by setting it to the upper limit or lower, it is possible to develop well.
From the same viewpoint, the content of the basic compound having an acidic group is preferably 0.1 to 75% by mass, and 1 to 50% by mass with respect to 100 parts by mass of the alkali-soluble resin of the entire recording functional layer. Is more preferable.
In the present specification, the *** compound is used to mean a salt thereof, an ion thereof, and the like in addition to the compound itself. Typically, it means the compound and / or its salt.
Regarding the salt of the specific basic compound, halide ions, tetrafluoroborate ions, hexafluorophosphate ions, carboxylate ions, sulfonate ions, nitrate ions, carbonate ions, etc. are preferably used as counter ions. .

(アルカリ可溶性樹脂(バインダーポリマー))
本発明の平版印刷版原版では、アルカリ可溶性樹脂を含有することで、赤外線吸収剤とアルカリ可溶性樹脂が有する極性基との間に相互作用が形成され、ポジ型の感光性を有する層が形成される。
アルカリ可溶性樹脂としては、例えば、ポリアミド樹脂、エポキシ樹脂、ポリアセタール樹脂、アクリル樹脂、メタクリル樹脂、ポリスチレン系樹脂、ノボラック型フェノール系樹脂等を好ましく挙げることができる。また、ポリウレタン、ポリビニルアルコール、ポリビニルホルマール、ポリアミド、ポリエステル、エポキシ樹脂などもあげることができる。
上記酸性基を有する塩基性化合物と共存させる場合のアルカリ可溶性樹脂は、上記のうち、酸性基を有する塩基性化合物によって中和され得るカルボン酸基を有するものがより好適である。このようなアルカリ可溶性樹脂の主骨格としては、アクリル樹脂、ポリウレタン、ポリビニルアルコール、アセタール樹脂、ポリビニルホルマール、ポリアミド、ポリエステル、エポキシ樹脂などが用いられる。特に、画像形成性、耐刷性、製造適性の観点から、アクリル樹脂、アセタール樹脂、ポリウレタンが好ましい。その中でも、耐刷性、製造適性の観点から、アセタール樹脂、ポリウレタンがより好ましく、ポリウレタンが最も好ましい。
本発明において、「アクリル樹脂」とは、(メタ)アクリル酸、(メタ)アクリル酸エステル(アルキルエステル、アリールエステル、アリルエステル、など)、(メタ)アクリルアミド、及び(メタ)アクリルアミド誘導体などの(メタ)アクリル酸誘導体を重合成分として有する共重合体のことを言う。カルボン酸基を含有するモノマー単位としては、特に限定されないが、特開2002−40652号公報、特開2005−300650号公報の〔0059〕〜〔0075〕に記載の構造が好ましく用いられる。(メタ)アクリル酸アミドに由来するモノマー単位としては、特開2007−272134号公報の〔0061〕〜〔0084〕に記載の(メタ)アクリル酸アミドに由来するモノマー単位が好ましく用いられる。米国特許6,358,669号明細書に記載のN−フェニルマレイミド及びメタクリルアミドをモノマー単位として含有する共重合体も好ましく用いられる。
以下に本発明に用いられる、酸性基を有する塩基性基と同一層で共存させるアクリル樹脂の好ましい態様を示すが、本発明はこれに限定されるものではない。
(Alkali-soluble resin (binder polymer))
In the lithographic printing plate precursor according to the invention, by containing an alkali-soluble resin, an interaction is formed between the infrared absorber and the polar group of the alkali-soluble resin, and a positive photosensitive layer is formed. The
Preferred examples of the alkali-soluble resin include polyamide resins, epoxy resins, polyacetal resins, acrylic resins, methacrylic resins, polystyrene resins, and novolac phenol resins. In addition, polyurethane, polyvinyl alcohol, polyvinyl formal, polyamide, polyester, epoxy resin, and the like can be given.
As the alkali-soluble resin when coexisting with the basic compound having an acidic group, those having a carboxylic acid group that can be neutralized by the basic compound having an acidic group are more preferable. As the main skeleton of such an alkali-soluble resin, acrylic resin, polyurethane, polyvinyl alcohol, acetal resin, polyvinyl formal, polyamide, polyester, epoxy resin and the like are used. In particular, an acrylic resin, an acetal resin, and a polyurethane are preferable from the viewpoints of image formability, printing durability, and production suitability. Among these, from the viewpoint of printing durability and production suitability, an acetal resin and polyurethane are more preferable, and polyurethane is most preferable.
In the present invention, the “acrylic resin” means (meth) acrylic acid, (meth) acrylic acid ester (alkyl ester, aryl ester, allyl ester, etc.), (meth) acrylamide, and (meth) acrylamide derivatives ( A copolymer having a (meth) acrylic acid derivative as a polymerization component. Although it does not specifically limit as a monomer unit containing a carboxylic acid group, The structure as described in [0059]-[0075] of Unexamined-Japanese-Patent No. 2002-40652 and Unexamined-Japanese-Patent No. 2005-300650 is used preferably. As the monomer unit derived from (meth) acrylic acid amide, the monomer unit derived from (meth) acrylic acid amide described in [0061] to [0084] of JP-A-2007-272134 is preferably used. A copolymer containing N-phenylmaleimide and methacrylamide as monomer units described in US Pat. No. 6,358,669 is also preferably used.
Although the preferable aspect of the acrylic resin used by this invention to coexist in the same layer with the basic group which has an acidic group is shown below, this invention is not limited to this.

Figure 2012208384

なお、( )の右下の数字はモル比である。
Figure 2012208384

The number on the lower right of () is the molar ratio.

上記化合物の中でも(PA−8)〜(PA−10)が特に好ましい。
本発明において、「ポリウレタン」とは、イソシアネート基を2つ以上有する化合物とヒドロキシル基を2つ以上有する化合物の縮合反応により生成されるポリマーのことをいう。
本発明において、酸性基を有する塩基性化合物と同一層で共存させるアルカリ可溶性樹脂としては、カルボン酸基を有するポリウレタンであれば特に限定されないが、特開2003−177533号公報、特開2004−170525号公報、特開2004−239951号公報、特開2004−157459号公報、特開2005−250158号公報記載の構造のポリウレタンが好ましく用いられる。
以下に本発明に用いられる酸性基を有する塩基性化合物と同一層で共存させるポリウレタンの好ましい態様について、ポリウレタンの原料として好適なポリオール成分であるマクロモノマーの具体例〔例示化合物(MM−1)〜(MM−24)〕を、作製に用いた連鎖移動剤、原料モノマーとその添加量(モル%)及び分子量を表示することにより例示するが、本発明はこれに制限されない。
Among the above compounds, (PA-8) to (PA-10) are particularly preferable.
In the present invention, “polyurethane” refers to a polymer produced by a condensation reaction of a compound having two or more isocyanate groups and a compound having two or more hydroxyl groups.
In the present invention, the alkali-soluble resin that coexists in the same layer as the basic compound having an acidic group is not particularly limited as long as it is a polyurethane having a carboxylic acid group, but JP-A-2003-177533 and JP-A-2004-170525. Polyurethanes having a structure described in JP-A No. 2004-239951, JP-A No. 2004-157459 and JP-A No. 2005-250158 are preferably used.
Specific examples of a macromonomer that is a polyol component suitable as a raw material for polyurethane, with respect to a preferred embodiment of the polyurethane coexisting in the same layer as the basic compound having an acidic group used in the present invention [Exemplary Compound (MM-1) to (MM-24)] is exemplified by displaying the chain transfer agent used in the production, the raw material monomer, and its addition amount (mol%) and molecular weight, but the present invention is not limited thereto.

Figure 2012208384
Figure 2012208384

Figure 2012208384
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本発明に用いることができる酸性基を有する塩基性化合物と同一層で共存させるポリウレタンの好ましい具体例として、PU−1〜PU−42を、その原料モノマーと使用したモル比及び得られた特定ポリウレタンの質量平均分子量(Mw)により示すが、前記ポリウレタン樹脂はこれらに限定されないことは言うまでもない。なお、下記の各モノマー名の下に記載の数字は、使用した各モノマーのモル比を表す。   As a preferred specific example of the polyurethane coexisting in the same layer with the basic compound having an acidic group that can be used in the present invention, the molar ratio using PU-1 to PU-42 with the raw material monomer and the obtained specific polyurethane Of course, the polyurethane resin is not limited thereto. In addition, the number described under each following monomer name represents the molar ratio of each used monomer.

Figure 2012208384
Figure 2012208384

Figure 2012208384
Figure 2012208384

「アセタール樹脂」とは、ポリ酢酸ビニルを一部又は全てを鹸化して得られるポリビニルアルコールとアルデヒド化合物を酸性条件下で反応(アセタール化反応)させて合成されるポリマーのことを言い、さらに、残存したヒドロキシ基と酸無水物等を有する化合物を反応させる方法等により、カルボン酸基等を導入したポリマーも含まれる。酸性基を有する塩基性化合物と同一層で共存させるものとして、より好ましい態様としては、下記のようなカルボン酸基を導入したポリビニルブチラール樹脂である。   “Acetal resin” refers to a polymer synthesized by reacting polyvinyl alcohol obtained by saponifying part or all of polyvinyl acetate with an aldehyde compound under an acidic condition (acetalization reaction). A polymer having a carboxylic acid group or the like introduced by a method of reacting a compound having a remaining hydroxy group with an acid anhydride or the like is also included. As a more preferable embodiment, the polyvinyl butyral resin into which the following carboxylic acid group is introduced is used as the coexisting compound in the same layer as the basic compound having an acidic group.

Figure 2012208384
Figure 2012208384

一般式(V)において、各繰り返し単位の好ましい比率は、p/q/r/s=50-78モル%/1-5モル%/5-28モル%/5-20モル%の範囲である。R,R,R,R,R,Rはそれぞれ独立に置換基を有してもよい一価の置換基あるいは単結合であり、mは0〜1の整数である。R,R,R,R,R,Rの好ましい置換基としては、水素原子、置換基を有してもよいアルキル基、ハロゲン原子、置換基を有してもよいアリール基が挙げられる。更に好ましくは、水素原子、メチル基、エチル基、プロピル基などの直鎖アルキル基、カルボン酸が置換したアルキル基、ハロゲン原子、フェニル基、カルボン酸が置換したフェニル基が挙げられる。RおよびR、RおよびRはそれぞれ環構造を形成することができる。RとRの結合する炭素原子およびRとRの結合する炭素原子間の結合は、単結合または二重結合または芳香族性二重結合であり、二重結合または芳香族性二重結合の場合、R−R、R−R、R−R、またはR−Rはそれぞれ結合して単結合を形成する。
上記カルボン酸基含有単位の好ましい具体例としては、下記の例が挙げられる。
In general formula (V), the preferred ratio of each repeating unit is in the range of p / q / r / s = 50-78 mol% / 1-5 mol% / 5-28 mol% / 5-20 mol%. . R a , R b , R c , R d , R e and R f are each independently a monovalent substituent or a single bond which may have a substituent, and m is an integer of 0 to 1. Preferred substituents for R a , R b , R c , R d , R e , and R f include a hydrogen atom, an alkyl group that may have a substituent, a halogen atom, and an aryl that may have a substituent. Groups. More preferably, a straight-chain alkyl group such as a hydrogen atom, a methyl group, an ethyl group or a propyl group, an alkyl group substituted with a carboxylic acid, a halogen atom, a phenyl group or a phenyl group substituted with a carboxylic acid can be mentioned. R c and R d , R e and R f can each form a ring structure. The bond between the carbon atom to which R c and R e are bonded and the carbon atom to which R d and R f are bonded is a single bond, a double bond or an aromatic double bond, and a double bond or an aromatic two bond. In the case of a double bond, R c —R d , R e —R f , R c —R f , or R e —R d are each bonded to form a single bond.
Preferable specific examples of the carboxylic acid group-containing unit include the following examples.

Figure 2012208384
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以下に本発明に用いられる酸性基を有する塩基性化合物と同一層で共存させるアセタール樹脂の好ましい態様を示すが、本発明はこれに限定されるものではない。   Although the preferable aspect of the acetal resin made to coexist in the same layer as the basic compound which has an acidic group used for this invention below is shown, this invention is not limited to this.

Figure 2012208384

なお、( )の右下の数字はモル比である。
Figure 2012208384

The number on the lower right of () is the molar ratio.

中和され得るカルボン酸基を有するアルカリ可溶性樹脂の分子量(質量平均分子量)としては、現像性と耐刷性の観点から、5,000〜500,000のものが好ましく、10,000〜200,000のものがより好ましく、15,000〜100,000のものが最も好ましい。
中和され得るカルボン酸基を有するアルカリ可溶性樹脂の酸価としては、現像性と耐刷性の観点から、0.30mmol/g〜5.00mmol/gであることが好ましく、0.80mmol/g〜4.00mmol/gであることがより好ましく、1.50mmol/g〜3.00mmol/gであることが最も好ましい。
酸性基を有する塩基性化合物の、カルボン酸基を有するアルカリ可溶性樹脂に対する添加量(中和量)は、層間混合抑制、現像性、耐刷性の観点から、カルボン酸基100mol%に対し、10mol%〜100mol%であることが好ましく、15mol%〜80mol%であることがより好ましく、20mol%〜60mol%であることが最も好ましい。
The molecular weight (mass average molecular weight) of the alkali-soluble resin having a carboxylic acid group that can be neutralized is preferably 5,000 to 500,000 from the viewpoint of developability and printing durability, and is preferably 10,000 to 200,000. 000 is more preferable, and 15,000 to 100,000 is most preferable.
The acid value of the alkali-soluble resin having a carboxylic acid group that can be neutralized is preferably 0.30 mmol / g to 5.00 mmol / g from the viewpoint of developability and printing durability, and is 0.80 mmol / g. It is more preferably ˜4.00 mmol / g, and most preferably 1.50 mmol / g to 3.00 mmol / g.
The addition amount (neutralization amount) of the basic compound having an acidic group to the alkali-soluble resin having a carboxylic acid group is 10 mol with respect to 100 mol% of the carboxylic acid group from the viewpoint of interlayer mixing suppression, developability, and printing durability. % To 100 mol% is preferable, 15 mol% to 80 mol% is more preferable, and 20 mol% to 60 mol% is most preferable.

アルカリ可溶性樹脂の添加量としては、記録機能層の固形分の総量に対し、1〜90質量%であることが好ましく、5〜85質量%であることがより好ましい。上記下限値以上とすることで、良好に現像することができ、上記上限値以下とすることで十分な耐溶剤性を得ることができる。   The addition amount of the alkali-soluble resin is preferably 1 to 90% by mass and more preferably 5 to 85% by mass with respect to the total solid content of the recording functional layer. By setting it as the said lower limit or more, it can develop favorable, and sufficient solvent resistance can be obtained by setting it as the said upper limit or less.

本発明において、分子量というとき特に断らない限り質量平均分子量を意味し、分子量及び分散度は下記の測定方法で測定した値をいう。
[分子量・分散度の測定方法]
分子量及び分散度は特に断らない限りGPC(ゲルろ過クロマトグラフィー)法を用いて測定した値とし、分子量はポリスチレン換算の質量平均分子量とする。GPC法に用いるカラムに充填されているゲルは芳香族化合物を繰り返し単位に持つゲルが好ましく、例えばスチレン−ジビニルベンゼン共重合体からなるゲルが挙げられる。カラムは2〜6本連結させて用いることが好ましい。用いる溶媒は、テトラヒドロフラン等のエーテル系溶媒、N−メチルピロリジノン等のアミド系溶媒が挙げられるが、N−メチルピロリジノン等のアミド系溶媒が好ましい。測定は、溶媒の流速が0.1〜2mL/minの範囲で行うことが好ましく、0.5〜1.5mL/minの範囲で行うことが最も好ましい。この範囲内で測定を行うことで、装置に負荷がかからず、さらに効率的に測定ができる。測定温度は10〜50℃で行うことが好ましく、20〜40℃で行うことが最も好ましい。なお、使用するカラム及びキャリアは測定対象となる高分子化合物の物性に応じて適宜選定することができる。
In the present invention, the term “molecular weight” means a mass average molecular weight unless otherwise specified, and the molecular weight and the degree of dispersion are values measured by the following measuring methods.
[Measurement method of molecular weight and dispersity]
Unless otherwise specified, the molecular weight and the degree of dispersion are values measured using a GPC (gel filtration chromatography) method, and the molecular weight is a weight average molecular weight in terms of polystyrene. The gel packed in the column used in the GPC method is preferably a gel having an aromatic compound as a repeating unit, and examples thereof include a gel made of a styrene-divinylbenzene copolymer. It is preferable to use 2 to 6 columns connected together. Examples of the solvent used include ether solvents such as tetrahydrofuran and amide solvents such as N-methylpyrrolidinone, but amide solvents such as N-methylpyrrolidinone are preferred. The measurement is preferably performed at a solvent flow rate in the range of 0.1 to 2 mL / min, and most preferably in the range of 0.5 to 1.5 mL / min. By performing the measurement within this range, the apparatus is not loaded and the measurement can be performed more efficiently. The measurement temperature is preferably 10 to 50 ° C, most preferably 20 to 40 ° C. The column and carrier to be used can be appropriately selected according to the physical properties of the polymer compound to be measured.

(赤外線吸収剤)
赤外線吸収剤としては、赤外光を吸収し熱を発生する染料であれば特に制限はなく、赤外線吸収剤として知られる種々の染料を用いることができる。
本発明に用いることができる赤外線吸収剤としては、市販の染料及び文献(例えば「染料便覧」有機合成化学協会編集、昭和45年刊)に記載されている公知のものが利用できる。具体的には、アゾ染料、金属錯塩アゾ染料、ピラゾロンアゾ染料、アントラキノン染料、フタロシアニン染料、カルボニウム染料、キノンイミン染料、メチン染料、シアニン染料などの染料が挙げられる。本発明において、これらの染料のうち、赤外光又は近赤外光を少なくとも吸収するものが、赤外光又は近赤外光を発光するレーザでの利用に適する点で好ましく、シアニン染料が特に好ましい。
(Infrared absorber)
The infrared absorber is not particularly limited as long as it is a dye that absorbs infrared light and generates heat, and various dyes known as infrared absorbers can be used.
As the infrared absorber that can be used in the present invention, commercially available dyes and known ones described in literature (for example, “Dye Handbook” edited by Organic Synthetic Chemistry Association, published in 1970) can be used. Specific examples include azo dyes, metal complex azo dyes, pyrazolone azo dyes, anthraquinone dyes, phthalocyanine dyes, carbonium dyes, quinoneimine dyes, methine dyes, and cyanine dyes. In the present invention, among these dyes, those that absorb at least infrared light or near-infrared light are preferable because they are suitable for use in lasers that emit infrared light or near-infrared light, and cyanine dyes are particularly preferred. preferable.

そのような赤外光又は近赤外光を少なくとも吸収する染料としては、例えば、特開昭58−125246号、特開昭59−84356号、特開昭59−202829号、特開昭60−78787号等の各公報に記載されているシアニン染料、特開昭58−173696号、特開昭58−181690号、特開昭58−194595号等の各公報に記載されているメチン染料、特開昭58−112793号、特開昭58−224793号、特開昭59−48187号、特開昭59−73996号、特開昭60−52940号、特開昭60−63744号等の各公報に記載されているナフトキノン染料、特開昭58−112792号公報等に記載されているスクワリリウム色素、英国特許434,875号明細書記載のシアニン染料等を挙げることができる。
また、染料として米国特許第5,156,938号明細書記載の近赤外吸収増感剤も好適に用いられ、また、米国特許第3,881,924号明細書記載の置換されたアリールベンゾ(チオ)ピリリウム塩、特開昭57−142645号公報(米国特許第4,327,169号明細書)記載のトリメチンチアピリリウム塩、特開昭58−181051号、同58−220143号、同59−41363号、同59−84248号、同59−84249号、同59−146063号、同59−146061号の各公報に記載されているピリリウム系化合物、特開昭59−216146号公報記載のシアニン色素、米国特許第4,283,475号明細書に記載のペンタメチンチオピリリウム塩等や特公平5−13514号、同5−19702号公報に開示されているピリリウム化合物等が、市販品としては、エポリン社製のEpolight III−178、Epolight III−130、Epolight III−125等が特に好ましく用いられる。
また、染料として特に好ましい別の例として米国特許第4,756,993号明細書中に式(I)、(II)として記載されている近赤外吸収染料を挙げることができる。
Examples of the dye that absorbs at least infrared light or near infrared light include, for example, JP-A-58-125246, JP-A-59-84356, JP-A-59-202829, JP-A-60-. Cyanine dyes described in each publication such as 78787, methine dyes described in each publication such as JP-A-58-173696, JP-A-58-181690, JP-A-58-194595, Japanese Laid-Open Patent Publication Nos. 58-112793, 58-224793, 59-48187, 59-73996, 60-52940, 60-63744, etc. Naphthoquinone dyes described in JP-A-58-112792, squarylium dyes described in JP-A-58-112792, cyanine dyes described in British Patent 434,875, etc. Can.
Further, near-infrared absorption sensitizers described in US Pat. No. 5,156,938 are also preferably used as dyes, and substituted arylbenzoates described in US Pat. No. 3,881,924 are also preferred. (Thio) pyrylium salt, trimethine thiapyrylium salt described in JP-A-57-142645 (U.S. Pat. No. 4,327,169), JP-A-58-181051, JP-A-58-2220143, 59-41363, 59-84248, 59-84249, 59-146063, 59-146061, and pyrium compounds described in JP-A-59-216146. Cyanine dye, pentamethine thiopyrylium salt described in U.S. Pat. No. 4,283,475, etc., and Japanese Patent Publication Nos. 5-13514 and 5-19702 Pyrylium compounds disclosed in distribution is, as commercially available products, Epolight III-178 of Eporin Co., Epolight III-130, Epolight III-125 and the like are particularly preferably used.
Another particularly preferable example of the dye is a near-infrared absorbing dye described as formulas (I) and (II) in US Pat. No. 4,756,993.

これらの染料のうち特に好ましいものとしては、シアニン色素、フタロシアニン染料、オキソノール染料、スクアリリウム色素、ピリリウム塩、チオピリリウム染料、ニッケルチオレート錯体が挙げられる。さらに、下記一般式(a)で示されるシアニン色素は、本発明における上層に使用した場合に、高い重合活性を与え、且つ、安定性、経済性に優れるため最も好ましい。   Particularly preferred among these dyes are cyanine dyes, phthalocyanine dyes, oxonol dyes, squarylium dyes, pyrylium salts, thiopyrylium dyes, and nickel thiolate complexes. Furthermore, the cyanine dye represented by the following general formula (a) is most preferable because it gives high polymerization activity and is excellent in stability and economy when used in the upper layer in the present invention.

Figure 2012208384
Figure 2012208384

一般式(a)中、Xは、水素原子、ハロゲン原子、−NPh、X−L又は以下に示す基を表す。Xは、酸素原子又は硫黄原子を示す。Lは、炭素原子数1〜12の炭化水素基、ヘテロ原子を有する芳香族環、又はヘテロ原子を含む炭素原子数1〜12の炭化水素基を示す。なお、ここでヘテロ原子とは、N、S、O、ハロゲン原子、Seを示す。 In general formula (a), X 1 represents a hydrogen atom, a halogen atom, —NPh 2 , X 2 -L 1 or a group shown below. X 2 represents an oxygen atom or a sulfur atom. L 1 represents a hydrocarbon group having 1 to 12 carbon atoms, an aromatic ring having a hetero atom, or a hydrocarbon group having 1 to 12 carbon atoms including a hetero atom. In addition, a hetero atom here shows N, S, O, a halogen atom, and Se.

Figure 2012208384
Figure 2012208384

上記式中、Xaは後述するZaと同様に定義され、Rは、水素原子、アルキル基、アリール基、置換または無置換のアミノ基、ハロゲン原子より選択される置換基を表す。 In the above formula, Xa - has Za described later - has the same definition as, R a represents a hydrogen atom, an alkyl group, an aryl group, a substituted or unsubstituted amino group, substituted or unsubstituted amino group and a halogen atom.

21及びR22は、それぞれ独立に、炭素原子数1〜12の炭化水素基を示す。感光層塗布液の保存安定性から、R21及びR22は、炭素原子数2個以上の炭化水素基であることが好ましく、さらに、R21とR22とは互いに結合し、5員環又は6員環を形成していることが特に好ましい。 R 21 and R 22 each independently represent a hydrocarbon group having 1 to 12 carbon atoms. In view of storage stability of the photosensitive layer coating solution, R 21 and R 22 are preferably hydrocarbon groups having 2 or more carbon atoms, and R 21 and R 22 are bonded to each other to form a 5-membered ring or It is particularly preferable that a 6-membered ring is formed.

Ar、Arは、それぞれ同じでも異なっていてもよく、置換基を有していてもよい芳香族炭化水素基を示す。好ましい芳香族炭化水素基としては、ベンゼン環及びナフタレン環が挙げられる。また、好ましい置換基としては、炭素原子数12個以下の炭化水素基、ハロゲン原子、炭素原子数12個以下のアルコキシ基が挙げられる。
、Yは、それぞれ同じでも異なっていてもよく、硫黄原子又は炭素原子数12個以下のジアルキルメチレン基を示す。R及びRは、それぞれ同じでも異なっていてもよく、置換基を有していてもよい炭素原子数20個以下の炭化水素基を示す。好ましい置換基としては、炭素原子数12個以下のアルコキシ基、カルボキシル基、スルホ基が挙げられる。
25、R26、R27及びR28は、それぞれ同じでも異なっていてもよく、水素原子又は炭素原子数12個以下の炭化水素基を示す。原料の入手性から、好ましくは水素原子である。また、Zaは、対アニオンを示す。但し、一般式(a)で示されるシアニン色素がその構造内にアニオン性の置換基を有し、電荷の中和が必要ない場合は、Za-は必要ない。好ましいZaは、感光層塗布液の保存安定性から、ハロゲンイオン、過塩素酸イオン、テトラフルオロボレートイオン、ヘキサフルオロホスフェートイオン、及びスルホン酸イオンであり、特に好ましくは、過塩素酸イオン、ヘキサフルオロホスフェートイオン、及びアリールスルホン酸イオンである。
Ar 1 and Ar 2 may be the same or different and each represents an aromatic hydrocarbon group which may have a substituent. Preferred aromatic hydrocarbon groups include a benzene ring and a naphthalene ring. Moreover, as a preferable substituent, a C12 or less hydrocarbon group, a halogen atom, and a C12 or less alkoxy group are mentioned.
Y 1 and Y 2 may be the same or different and each represents a sulfur atom or a dialkylmethylene group having 12 or less carbon atoms. R 3 and R 4 may be the same or different and each represents a hydrocarbon group having 20 or less carbon atoms which may have a substituent. Preferred substituents include alkoxy groups having 12 or less carbon atoms, carboxyl groups, and sulfo groups.
R 25 , R 26 , R 27 and R 28 may be the same or different and each represents a hydrogen atom or a hydrocarbon group having 12 or less carbon atoms. From the availability of raw materials, a hydrogen atom is preferred. Furthermore, Za - represents a counter anion. However, Za is not necessary when the cyanine dye represented by formula (a) has an anionic substituent in its structure and charge neutralization is not necessary. Preferred Za is a halogen ion, a perchlorate ion, a tetrafluoroborate ion, a hexafluorophosphate ion, and a sulfonate ion, particularly preferably a perchlorate ion, a hexagonal salt, in view of the storage stability of the photosensitive layer coating solution. Fluorophosphate ion and aryl sulfonate ion.

好適に用いることのできる一般式(a)で示されるシアニン色素の具体例としては、特開2001−133969号公報の段落番号[0017]〜[0019]、特開2002−40638号公報の段落番号[0012]〜[0038]、特開2002−23360号公報の段落番号[0012]〜[0023]に記載されたものを挙げることができる。
赤外線吸収剤として特に好ましくは、以下に示すシアニン染料Aである。
Specific examples of the cyanine dye represented by the general formula (a) that can be suitably used include paragraph numbers [0017] to [0019] of JP-A No. 2001-133969 and paragraph numbers of JP-A No. 2002-40638. [0012] to [0038] and paragraphs [0012] to [0023] described in JP-A No. 2002-23360.
The cyanine dye A shown below is particularly preferable as the infrared absorber.

Figure 2012208384
Figure 2012208384

赤外線吸収剤を添加する際の添加量としては、層全固形分に対し、0.01〜50質量%であることが好ましく、0.1〜30質量%であることがより好ましく、1.0〜30質量%であることが特に好ましい。添加量が0.01質量%以上であると、高感度となり、また、50質量%以下であると、層の均一性が良好であり、層の耐久性に優れる。   The addition amount when the infrared absorber is added is preferably 0.01 to 50% by mass, more preferably 0.1 to 30% by mass, based on the total solid content of the layer. It is especially preferable that it is -30 mass%. When the addition amount is 0.01% by mass or more, high sensitivity is obtained, and when it is 50% by mass or less, the uniformity of the layer is good and the durability of the layer is excellent.

赤外線吸収剤は、他の成分と同一の層に添加してもよいし、別の層に添加してもよい。他の成分とは別の層に添加する場合には、熱分解性でありかつ分解しない状態では結着樹脂の溶解性を実質的に低下させる物質を含む層と隣接している層中に添加するのが好ましい。また、赤外線吸収剤はバインダー樹脂と同一の層中に含まれるのが好ましいが、別の層に含まれていてもよい。   The infrared absorber may be added to the same layer as other components or may be added to another layer. When added to a layer different from other components, it is added to the layer adjacent to the layer containing a substance that is thermally decomposable and substantially reduces the solubility of the binder resin when not decomposed. It is preferable to do this. The infrared absorber is preferably contained in the same layer as the binder resin, but may be contained in another layer.

(その他の成分)
画像記録層には、目的に応じてその他の添加剤を含有させることができる。
その他の成分としては、酸発生剤、酸増殖剤、現像促進剤、界面活性剤など、以下に述べる成分を用いることができる。
・酸発生剤
画像記録層には、感度向上の観点から、酸発生剤を含有することが好ましい。
本発明において酸発生剤とは、光又は熱により酸を発生する化合物であり、赤外線の照射や、100℃以上の加熱によって分解し酸を発生する化合物を指す。発生する酸としては、スルホン酸、塩酸等のpKaが2以下の強酸であることが好ましい。この酸発生剤から発生した酸が触媒として機能し、前記酸分解性基における化学結合が開裂して酸基となり、上層のアルカリ水溶液に対する溶解性がより向上するものである。
(Other ingredients)
The image recording layer may contain other additives depending on the purpose.
As other components, the following components such as an acid generator, an acid proliferation agent, a development accelerator, and a surfactant can be used.
Acid generator The image recording layer preferably contains an acid generator from the viewpoint of improving sensitivity.
In this invention, an acid generator is a compound which generate | occur | produces an acid with light or a heat | fever, and points out the compound which decomposes | disassembles and generate | occur | produces an acid by infrared irradiation or a heating of 100 degreeC or more. The acid generated is preferably a strong acid having a pKa of 2 or less, such as sulfonic acid and hydrochloric acid. The acid generated from the acid generator functions as a catalyst, the chemical bond in the acid-decomposable group is cleaved to become an acid group, and the solubility in the upper alkaline aqueous solution is further improved.

本発明において好適に用いられる酸発生剤としては、ヨードニウム塩、スルホニウム塩、ホスホニウム塩、ジアゾニウム塩等のオニウム塩が挙げられる。具体的には、US4,708,925号や特開平7−20629号に記載されている化合物を挙げることができる。特に、スルホン酸イオンを対イオンとするヨードニウム塩、スルホニウム塩、ジアゾニウム塩が好ましい。ジアゾニウム塩としては、米国特許第3,867,147号記載のジアゾニウム化合物、米国特許第2,632,703号明細書記載のジアゾニウム化合物や特開平1−102456号及び特開平1−102457号の各公報に記載されているジアゾ樹脂も好ましい。また、米国特許第5,135,838号や米国特許第5,200,544号に記載されているベンジルスルホナート類も好ましい。さらに、特開平2−100054号、特開平2−100055号及び特願平8−9444号に記載されている活性スルホン酸エステルやジスルホニル化合物類も好ましい。他にも、特開平7−271029号に記載されている、ハロアルキル置換されたS−トリアジン類も好ましい。
さらに、前記特開平8−220752号公報において、「酸前駆体」として記載されている化合物、或いは、特開平9−171254号号公報において「(a)活性光線の照射により酸を発生し得る化合物」として記載されている化合物なども本発明の酸発生剤として適用しうる。
なかでも、感度と安定性の観点から、酸発生剤としてオニウム塩化合物を用いることが好ましい。以下、オニウム塩化合物について説明する。
本発明において好適に用い得るオニウム塩化合物としては、赤外線露光、及び、露光により赤外線吸収剤から発生する熱エネルギーにより分解して酸を発生する化合物として知られる化合物を挙げることができる。本発明に好適なオニウム塩化合物としては、感度の観点から、公知の熱重合開始剤や結合解離エネルギーの小さな結合を有する、以下に述べるオニウム塩構造を有するものを挙げることができる。
本発明において好適に用いられるオニウム塩としては、公知のジアゾニウム塩、ヨードニウム塩、スルホニウム塩、アンモニウム塩、ピリジニウム塩、アジニウム塩等が挙げられ、なかでも、トリアリールスルホニウム、又は、ジアリールヨードニウムのスルホン酸塩、カルボン酸塩、BF4 -、PF6 -、ClO4 -などが好ましい。
また、特開2008−195018公報の段落番号〔0036〕〜〔0045〕において、ラジカル重合開始剤の例として記載の化合物を、本発明における酸発生剤として好適に用いることができる。
アジニウム塩化合物の具体例としては、特開2008−195018公報の段落番号〔0047〕〜〔0056〕に記載の化合物を挙げることができる。
また、特開昭63−138345号、特開昭63−142345号、特開昭63−142346号、特開昭63−143537号ならびに特公昭46−42363号の各公報に記載のN−O結合を有する化合物群もまた、本発明における酸発生剤として好適に用いられる。
酸発生剤を上層に添加する場合の、好ましい添加量は、上層の全固形分に対し0.01〜50質量%、好ましくは0.1〜40質量%、より好ましくは0.5〜30質量%の範囲である。添加量が上記範囲において、酸発生剤添加の効果である感度の向上が見られるとともに、非画像部における残膜の発生が抑制される。
Examples of the acid generator suitably used in the present invention include onium salts such as iodonium salts, sulfonium salts, phosphonium salts, and diazonium salts. Specific examples include compounds described in US Pat. No. 4,708,925 and JP-A-7-20629. In particular, iodonium salts, sulfonium salts, and diazonium salts having a sulfonate ion as a counter ion are preferable. Examples of the diazonium salt include diazonium compounds described in U.S. Pat. No. 3,867,147, diazonium compounds described in U.S. Pat. No. 2,632,703, and JP-A-1-102456 and JP-A-1-102457. The diazo resin described in the publication is also preferable. Also preferred are benzyl sulfonates described in US Pat. No. 5,135,838 and US Pat. No. 5,200,544. Furthermore, active sulfonic acid esters and disulfonyl compounds described in JP-A-2-100054, JP-A-2-100055 and Japanese Patent Application No. 8-9444 are also preferable. In addition, haloalkyl-substituted S-triazines described in JP-A-7-271029 are also preferable.
Further, the compound described as “acid precursor” in JP-A-8-220552 or “(a) a compound capable of generating an acid upon irradiation with active light” in JP-A-9-171254 And the like can be applied as the acid generator of the present invention.
Among these, from the viewpoint of sensitivity and stability, it is preferable to use an onium salt compound as the acid generator. Hereinafter, the onium salt compound will be described.
Examples of the onium salt compound that can be suitably used in the present invention include compounds known as compounds that generate an acid by being decomposed by thermal energy generated from an infrared absorber upon exposure to infrared light. Examples of the onium salt compound suitable for the present invention include known thermal polymerization initiators and compounds having an onium salt structure described below having a bond with small bond dissociation energy from the viewpoint of sensitivity.
Examples of the onium salt suitably used in the present invention include known diazonium salts, iodonium salts, sulfonium salts, ammonium salts, pyridinium salts, azinium salts, and the like. Among them, triarylsulfonium or diaryliodonium sulfonic acid Salt, carboxylate, BF 4 , PF 6 , ClO 4 − and the like are preferable.
In addition, compounds described as examples of radical polymerization initiators in paragraphs [0036] to [0045] of JP-A-2008-195018 can be suitably used as the acid generator in the present invention.
Specific examples of the azinium salt compound include compounds described in paragraph numbers [0047] to [0056] of JP-A-2008-195018.
The N—O bond described in JP-A-63-138345, JP-A-63-142345, JP-A-63-142346, JP-A-63-143537, and JP-B-46-42363 is also disclosed. A group of compounds having the above is also suitably used as the acid generator in the present invention.
When the acid generator is added to the upper layer, the preferable addition amount is 0.01 to 50% by mass, preferably 0.1 to 40% by mass, more preferably 0.5 to 30% by mass with respect to the total solid content of the upper layer. % Range. When the addition amount is in the above range, an improvement in sensitivity, which is an effect of addition of an acid generator, is observed, and generation of a residual film in a non-image area is suppressed.

・酸増殖剤
その他の成分として、酸増殖剤を添加してもよい。
本発明における酸増殖剤とは、比較的に強い酸の残基で置換された化合物であって、酸触媒の存在下で容易に脱離して新たに酸を発生する化合物である。すなわち、酸触媒反応によって分解し,再び酸(以下、一般式でZOHと記す)を発生する。1反応で1つ以上の酸が増えており、反応の進行に伴って加速的に酸濃度が増加することにより、飛躍的に感度が向上する。この発生する酸の強度は,酸解離定数(pKa)として3以下であり、さらに2以下であることが好ましい。これよりも弱い酸であると,酸触媒による脱離反応を引き起こすことができない。
このような酸触媒に使用される酸としては、ジクロロ酢酸、トリクロロ酢酸、メタンスルホン酸、エタンスルホン酸、ベンゼンスルホン酸、p−トルエンスルホン酸、ナフタレンスルホン酸、フェニルスルホン酸等が挙げられる。
-Acid proliferating agent As another component, an acid proliferating agent may be added.
The acid proliferating agent in the present invention is a compound substituted with a relatively strong acid residue, and is a compound that is easily eliminated in the presence of an acid catalyst to newly generate an acid. That is, it decomposes by an acid catalyst reaction and generates an acid (hereinafter referred to as ZOH in the general formula) again. One or more acids are increased in one reaction, and the sensitivity is dramatically improved by increasing the acid concentration at an accelerated rate as the reaction proceeds. The strength of the generated acid is 3 or less as an acid dissociation constant (pKa), and preferably 2 or less. If the acid is weaker than this, an acid-catalyzed elimination reaction cannot be caused.
Examples of the acid used for such an acid catalyst include dichloroacetic acid, trichloroacetic acid, methanesulfonic acid, ethanesulfonic acid, benzenesulfonic acid, p-toluenesulfonic acid, naphthalenesulfonic acid, and phenylsulfonic acid.

酸増殖剤は、WO95/29968号、WO98/24000号、特開平8−305262号、特開平9−34106号、特開平8−248561号、特表平8−503082号、米国特許第5,445,917号、特表平8−503081号、米国特許第5,534,393号、米国特許第5,395,736号、米国特許第5,741,630号、米国特許第5,334,489号、米国特許第5,582,956号、米国特許第5,578,424号、米国特許第5,453,345号、米国特許第5,445,917号、欧州特許第665,960号、欧州特許第757,628号、欧州特許第665,961号、米国特許第5,667,943号、特開平10−1598号等に記載の酸増殖剤を1種、或いは2種以上組み合わせて用いることができる。   Examples of the acid proliferating agent include WO95 / 29968, WO98 / 24000, JP-A-8-305262, JP-A-9-34106, JP-A-8-248561, JP-A-8-503082, and US Pat. No. 5,445. No. 9,917, JP-A-8-503081, US Pat. No. 5,534,393, US Pat. No. 5,395,736, US Pat. No. 5,741,630, US Pat. No. 5,334,489 , U.S. Patent No. 5,582,956, U.S. Patent No. 5,578,424, U.S. Patent No. 5,453,345, U.S. Patent No. 5,445,917, European Patent No. 665,960, EP 757,628, EP 665,961, U.S. Pat. No. 5,667,943, JP-A-10-1598, etc. It is possible to have.

本発明における酸増殖剤の好ましい具体例としては、例えば、特開2001−66765公報段落番号〔0056〕〜〔0067〕に記載される化合物を挙げることができる。   Preferable specific examples of the acid proliferating agent in the present invention include, for example, compounds described in paragraph numbers [0056] to [0067] of JP-A No. 2001-66765.

これらの酸増殖剤を画像記録層中に添加する場合の添加量としては、固形分換算で、0.01〜20質量%,好ましくは0.01〜10質量%、より好ましくは0.1〜5質量%の範囲である。酸増殖剤の添加量が上記範囲において、酸増殖剤を添加する効果が充分に得られ、感度向上が達成されるとともに、画像部の膜強度低下が抑制され、特定ポリウレタンに起因する優れた膜強度が維持される。   The amount of these acid proliferating agents added to the image recording layer is 0.01 to 20% by mass, preferably 0.01 to 10% by mass, more preferably 0.1 to 10% by mass in terms of solid content. It is in the range of 5% by mass. When the amount of the acid proliferating agent is within the above range, the effect of adding the acid proliferating agent is sufficiently obtained, the sensitivity is improved, the decrease in the film strength of the image area is suppressed, and the excellent film resulting from the specific polyurethane Strength is maintained.

・現像促進剤
画像記録層には、感度を向上させる目的で、酸無水物類、フェノール類、有機酸類を添加してもよい。
酸無水物類としては環状酸無水物が好ましく、具体的に環状酸無水物としては、米国特許第4,115,128号明細書に記載されている無水フタル酸、テトラヒドロ無水フタル酸、ヘキサヒドロ無水フタル酸、3,6−エンドオキシテトラヒドロ無水フタル酸、テトラクロロ無水フタル酸、無水マレイン酸、クロロ無水マレイン酸、α−フェニル無水マレイン酸、無水コハク酸、無水ピロメリット酸などが使用できる。非環状の酸無水物としては、無水酢酸などが挙げられる。
フェノール類としては、ビスフェノールA、2,2’−ビスヒドロキシスルホン、p−ニトロフェノール、p−エトキシフェノール、2,4,4’−トリヒドロキシベンゾフェノン、2,3,4−トリヒドロキシベンゾフェノン、4−ヒドロキシベンゾフェノン、4,4’,4”−トリヒドロキシトリフェニルメタン、4,4’,3”,4”−テトラヒドロキシ−3,5,3’,5’−テトラメチルトリフェニルメタンなどが挙げられる。
有機酸類としては、特開昭60−88942号公報、特開平2−96755号公報などに記載されており、具体的には、p−トルエンスルホン酸、ドデシルベンゼンスルホン酸、p−トルエンスルフィン酸、エチル硫酸、フェニルホスホン酸、フェニルホスフィン酸、リン酸フェニル、リン酸ジフェニル、安息香酸、イソフタル酸、アジピン酸、p−トルイル酸、3,4−ジメトキシ安息香酸、フタル酸、テレフタル酸、4−シクロヘキセン−1,2−ジカルボン酸、エルカ酸、ラウリン酸、n−ウンデカン酸、アスコルビン酸などが挙げられる。
上記の酸無水物、フェノール類及び有機酸類の下層又は上層の全固形分に占める割合は、0.05〜20質量%が好ましく、0.1〜15質量%がより好ましく、0.1〜10質量%が特に好ましい。
-Development accelerator For the purpose of improving the sensitivity, acid anhydrides, phenols, and organic acids may be added to the image recording layer.
As the acid anhydrides, cyclic acid anhydrides are preferable. Specific examples of the cyclic acid anhydrides include phthalic anhydride, tetrahydrophthalic anhydride, and hexahydro anhydride described in US Pat. No. 4,115,128. Phthalic acid, 3,6-endooxytetrahydrophthalic anhydride, tetrachlorophthalic anhydride, maleic anhydride, chloromaleic anhydride, α-phenylmaleic anhydride, succinic anhydride, pyromellitic anhydride and the like can be used. Examples of acyclic acid anhydrides include acetic anhydride.
Examples of phenols include bisphenol A, 2,2′-bishydroxysulfone, p-nitrophenol, p-ethoxyphenol, 2,4,4′-trihydroxybenzophenone, 2,3,4-trihydroxybenzophenone, 4- Examples include hydroxybenzophenone, 4,4 ′, 4 ″ -trihydroxytriphenylmethane, 4,4 ′, 3 ″, 4 ″ -tetrahydroxy-3,5,3 ′, 5′-tetramethyltriphenylmethane. .
Examples of the organic acids are described in JP-A-60-88942, JP-A-2-96755, and the like. Specifically, p-toluenesulfonic acid, dodecylbenzenesulfonic acid, p-toluenesulfinic acid, Ethyl sulfuric acid, phenylphosphonic acid, phenylphosphinic acid, phenyl phosphate, diphenyl phosphate, benzoic acid, isophthalic acid, adipic acid, p-toluic acid, 3,4-dimethoxybenzoic acid, phthalic acid, terephthalic acid, 4-cyclohexene Examples include -1,2-dicarboxylic acid, erucic acid, lauric acid, n-undecanoic acid, ascorbic acid and the like.
The proportion of the acid anhydride, phenols and organic acids in the total solid content of the lower or upper layer is preferably 0.05 to 20% by mass, more preferably 0.1 to 15% by mass, and 0.1 to 10%. Mass% is particularly preferred.

・界面活性剤
画像記録層には、塗布性を良化するため、また、現像条件に対する処理の安定性を広げるため、特開昭62−251740号公報や特開平3−208514号公報に記載されているような非イオン界面活性剤、特開昭59−121044号公報、特開平4−13149号公報に記載されているような両性界面活性剤、特開昭62−170950号公報、特開平11−288093号公報、特開2003−57820号公報に記載されているようなフッ素含有のモノマー共重合体を添加することができる。
非イオン界面活性剤の具体例としては、ソルビタントリステアレート、ソルビタンモノパルミテート、ソルビタントリオレート、ステアリン酸モノグリセリド、ポリオキシエチレンノニルフェニルエーテル等が挙げられる。
両性活性剤の具体例としては、アルキルジ(アミノエチル)グリシン、アルキルポリアミノエチルグリシン塩酸塩、2−アルキル−N−カルボキシエチル−N−ヒドロキシエチルイミダゾリニウムベタインやN−テトラデシル−N,N−ベタイン型(例えば、商品名「アモーゲンK」:第一工業製薬(株)製)等が挙げられる。
界面活性剤の画像記録層の全固形分に占める割合は、0.01〜15質量%が好ましく、0.01〜5質量%がより好ましく、0.05〜2.0質量%が更に好ましい。
Surfactant The image recording layer is described in Japanese Patent Application Laid-Open No. 62-251740 and Japanese Patent Application Laid-Open No. 3-208514 in order to improve the coating property and to expand the processing stability against the development conditions. Nonionic surfactants such as those described above, amphoteric surfactants such as those described in JP-A-59-121044 and JP-A-4-13149, JP-A-62-170950, JP-A-11 A fluorine-containing monomer copolymer as described in JP-A No. 288093 and JP-A No. 2003-57820 can be added.
Specific examples of the nonionic surfactant include sorbitan tristearate, sorbitan monopalmitate, sorbitan trioleate, stearic acid monoglyceride, polyoxyethylene nonylphenyl ether and the like.
Specific examples of amphoteric activators include alkyldi (aminoethyl) glycine, alkylpolyaminoethylglycine hydrochloride, 2-alkyl-N-carboxyethyl-N-hydroxyethylimidazolinium betaine and N-tetradecyl-N, N-betaine. Type (for example, trade name “Amorgen K” manufactured by Daiichi Kogyo Seiyaku Co., Ltd.).
The proportion of the surfactant in the total solid content of the image recording layer is preferably 0.01 to 15% by mass, more preferably 0.01 to 5% by mass, and still more preferably 0.05 to 2.0% by mass.

・焼出し剤/着色剤
画像記録層には、露光による加熱後直ちに可視像を得るための焼き出し剤や、画像着色剤としての染料や顔料を加えることができる。
焼出し剤及び着色剤としては、例えば、特開2009−229917号公報の段落番号〔0122〕〜〔0123〕に詳細に記載され、ここに記載の化合物を本発明にも適用しうる。
これらの染料は、画像記録層の全固形分に対し、0.01〜10質量%の割合で添加することが好ましく、0.1〜3質量%の割合で添加することがより好ましい。
Print-out agent / colorant A print-out agent for obtaining a visible image immediately after heating by exposure or a dye or pigment as an image colorant can be added to the image recording layer.
As a printing-out agent and a coloring agent, it describes in detail in paragraph number [0122]-[0123] of Unexamined-Japanese-Patent No. 2009-229917, for example, The compound described here is applicable also to this invention.
These dyes are preferably added at a rate of 0.01 to 10% by mass, more preferably at a rate of 0.1 to 3% by mass, based on the total solid content of the image recording layer.

・可塑剤
画像記録層には、塗膜の柔軟性等を付与するために可塑剤を添加してもよい。例えば、ブチルフタリル、ポリエチレングリコール、クエン酸トリブチル、フタル酸ジエチル、フタル酸ジブチル、フタル酸ジヘキシル、フタル酸ジオクチル、リン酸トリクレジル、リン酸トリブチル、リン酸トリオクチル、オレイン酸テトラヒドロフルフリル、アクリル酸又はメタクリル酸のオリゴマー及びポリマー等が用いられる。
これらの可塑剤は、画像記録層の全固形分に対し、0.5〜10質量%の割合で添加することが好ましく、1.0〜5質量%の割合で添加することがより好ましい。
-Plasticizer A plasticizer may be added to the image recording layer in order to impart flexibility and the like of the coating film. For example, butylphthalyl, polyethylene glycol, tributyl citrate, diethyl phthalate, dibutyl phthalate, dihexyl phthalate, dioctyl phthalate, tricresyl phosphate, tributyl phosphate, trioctyl phosphate, tetrahydrofurfuryl oleate, acrylic acid or methacrylic acid These oligomers and polymers are used.
These plasticizers are preferably added at a rate of 0.5 to 10% by mass, and more preferably at a rate of 1.0 to 5% by mass, based on the total solid content of the image recording layer.

・ワックス剤
画像記録層層には、キズに対する抵抗性を付与する目的で、表面の静摩擦係数を低下させる化合物を添加することもできる。具体的には、米国特許第6,117,913号明細書、特開2003−149799号公報、特開2003−302750号公報、又は、特開2004−12770号公報に記載されているような、長鎖アルキルカルボン酸のエステルを有する化合物などを挙げることができる。
添加量として好ましいのは、画像記録層層中に占める割合が0.1〜10質量%であることが好ましく、0.5〜5質量%であることがより好ましい。
-Wax agent A compound that lowers the static friction coefficient of the surface can be added to the image recording layer layer for the purpose of imparting resistance to scratches. Specifically, as described in US Pat. No. 6,117,913, JP-A No. 2003-149799, JP-A No. 2003-302750, or JP-A No. 2004-12770, A compound having an ester of a long-chain alkyl carboxylic acid can be exemplified.
The addition amount is preferably 0.1 to 10% by mass and more preferably 0.5 to 5% by mass in the image recording layer.

<平版印刷版原版の形成>
本発明の平版印刷版原版は、前記各成分を溶媒に溶解させて調製した感光性組成物(画像記録層塗布液)を、後述する支持体上に塗布することで形成される。必要に応じ支持体と画像記録層の間に後述する下塗層を塗布して設けてもよい。なお、本明細書において「組成物」というとき、複数の成分が実質的に均一に混合されたものであれば液状組成物に限定されず、ペースト状組成物、粉末状組成物を含む意味であり、広義には成形後の記録機能層ないしそれを構成する層を含む意味である。
ここで使用する溶剤としては、エチレンジクロライド、シクロヘキサノン、メチルエチルケトン、メタノール、エタノール、プロパノール、エチレングリコールモノメチルエーテル、1−メトキシ−2−プロパノール、2−メトキシエチルアセテート、1−メトキシ−2−プロピルアセテート、ジメトキシエタン、乳酸メチル、乳酸エチル、N,N−ジメチルアセトアミド、N,N−ジメチルホルムアミド、テトラメチルウレア、N−メチルピロリドン、ジメチルスルホキシド、スルホラン、γ−ブチロラクトン、トルエン等を挙げることができるが、これに限定されるものではない。これらの溶剤は、単独又は混合して使用される。
この塗布液のうち、上記酸性基を有する塩基性化合物を含有するものを本発明の感光性組成物とする。本発明の感光性組成物の固形分に対する酸性基を有する塩基性化合物の添加量は、0.01〜50質量%が好ましく、0.01〜40質量%がより好ましく、0.05〜40質量%が更に好ましい。上記下限値以上とすることで、十分な耐薬品性を得ることができ、上記上限値以下とすることで良好に現像することができる。
画像記録層塗布液の各成分(添加剤を含む全固形分)の前記溶媒中の濃度としては1〜50質量%が好ましい。また塗布、乾燥後に得られる支持体上の画像記録層の塗布量(固形分)は用途によって異なるが、一般的に、0.5〜5.0g/mが好ましい。塗布量が少なくなるにつれて、見かけの感度は大になるが、画像記録層の皮膜特性は低下する。
<Formation of planographic printing plate precursor>
The lithographic printing plate precursor according to the invention is formed by applying a photosensitive composition (image recording layer coating solution) prepared by dissolving the above components in a solvent onto a support described later. If necessary, an undercoat layer described later may be applied between the support and the image recording layer. In the present specification, the term “composition” is not limited to a liquid composition as long as a plurality of components are substantially uniformly mixed, and includes a paste-like composition and a powder-like composition. In a broad sense, it means to include a recording functional layer after molding or a layer constituting the recording functional layer.
Solvents used here include ethylene dichloride, cyclohexanone, methyl ethyl ketone, methanol, ethanol, propanol, ethylene glycol monomethyl ether, 1-methoxy-2-propanol, 2-methoxyethyl acetate, 1-methoxy-2-propyl acetate, dimethoxy Examples include ethane, methyl lactate, ethyl lactate, N, N-dimethylacetamide, N, N-dimethylformamide, tetramethylurea, N-methylpyrrolidone, dimethyl sulfoxide, sulfolane, γ-butyrolactone, and toluene. It is not limited to. These solvents are used alone or in combination.
Among these coating liquids, a composition containing the basic compound having an acidic group is used as the photosensitive composition of the present invention. 0.01-50 mass% is preferable, as for the addition amount of the basic compound which has an acidic group with respect to solid content of the photosensitive composition of this invention, 0.01-40 mass% is more preferable, 0.05-40 mass % Is more preferable. By setting it to the lower limit value or more, sufficient chemical resistance can be obtained, and by setting the upper limit value or less, it is possible to develop well.
The concentration of each component (total solid content including additives) of the image recording layer coating solution in the solvent is preferably 1 to 50% by mass. Further, the coating amount (solid content) of the image recording layer on the support obtained after coating and drying varies depending on the application, but generally 0.5 to 5.0 g / m 2 is preferable. As the coating amount decreases, the apparent sensitivity increases, but the film characteristics of the image recording layer decrease.

なお、本発明に係る平版印刷版原版においては、上記単層構造の画像記録層のみならず、重層構造の画像記録層の態様をとってもよい。単層構造と重層構造の平版印刷版平版の層構成を模式的に示した断面図を図1、図2に示した。図1に示す単層構造では、下塗層3を有する支持体4上に画像記録層1を有する。一方、重層構造をとる場合、図2に示すように下塗層3を有する支持体4上に下層(下部画像記録層)12、上層(上部画像記録層)11をこの順に有する。下層12として、赤外線吸収剤とバインダー樹脂とを含有する画像記録層を設け、その表面に上層11を設けることが好ましい。上層11としては、ポジ型の感光性を有する画像記録層であっても、感光性を有しない層であってもよく、ポジ型感光性の画像記録層である場合、アルカリ可溶性樹脂として上記バインダー樹脂を用いることが好ましい。
本発明に係る平版印刷版原版の画像記録層が重層構造をとる場合、その塗布量としては、支持体に近い側に設けられる下層の乾燥後の塗付量は、耐刷性確保と現像時における残膜発生抑制の観点から、0.5〜1.5g/mの範囲にあることが好ましく、さらに好ましくは0.7〜1.2g/mの範囲である。また上層の乾燥後の塗布量は0.05〜1.0g/mの範囲にあることが好ましく、さらに好ましくは0.07〜0.7g/mの範囲である。
The lithographic printing plate precursor according to the invention may take the form of an image recording layer having not only a single layer structure but also a multilayer structure. 1 and 2 are cross-sectional views schematically showing the layer structure of a lithographic printing plate having a single layer structure and a multilayer structure. In the single-layer structure shown in FIG. 1, the image recording layer 1 is provided on a support 4 having an undercoat layer 3. On the other hand, when taking a multi-layer structure, a lower layer (lower image recording layer) 12 and an upper layer (upper image recording layer) 11 are provided in this order on a support 4 having an undercoat layer 3 as shown in FIG. As the lower layer 12, an image recording layer containing an infrared absorber and a binder resin is preferably provided, and the upper layer 11 is preferably provided on the surface thereof. The upper layer 11 may be a positive photosensitive image recording layer or a non-photosensitive layer. In the case of a positive photosensitive image recording layer, the binder may be used as an alkali-soluble resin. It is preferable to use a resin.
When the image recording layer of the lithographic printing plate precursor according to the present invention has a multi-layer structure, the coating amount is the coating amount after drying of the lower layer provided on the side close to the support at the time of securing printing durability and development. From the viewpoint of suppressing the occurrence of residual film in the layer, it is preferably in the range of 0.5 to 1.5 g / m 2 , more preferably 0.7 to 1.2 g / m 2 . The coating amount after the upper layer of the drying is preferably in a range of 0.05 to 1.0 g / m 2, more preferably in the range of 0.07~0.7g / m 2.

前記塗布の方法としては、特に制限はなく、公知の塗布方法、例えば、バーコーター塗布、回転塗布、スプレー塗布、カーテン塗布、ディップ塗布、エアーナイフ塗布、ブレード塗布、ロール塗布等があげられる。   The coating method is not particularly limited, and examples thereof include known coating methods such as bar coater coating, spin coating, spray coating, curtain coating, dip coating, air knife coating, blade coating, and roll coating.

(支持体)
本発明の平版印刷版原版に使用される支持体としては、ポリエステルフィルム又はアルミニウム板が好ましく、その中でも寸度安定性がよく、比較的安価であるアルミニウム板は特に好ましい。好適なアルミニウム板は、純アルミニウム板及びアルミニウムを主成分とし、微量の異元素を含む合金板であり、更にアルミニウムがラミネート又は蒸着されたプラスチックフィルムでもよい。アルミニウム合金に含まれる異元素には、ケイ素、鉄、マンガン、銅、マグネシウム、クロム、亜鉛、ビスマス、ニッケル、チタンなどがある。合金中の異元素の含有量は10質量%以下であることが好ましい。
本発明において特に好適なアルミニウムは、純アルミニウムであるが、完全に純粋なアルミニウムは精錬技術上製造が困難であるので、僅かに異元素を含有するものでもよい。
このように本発明に適用されるアルミニウム板は、その組成が特定されるものではなく、従来より公知公用の素材のアルミニウム板を適宜に利用することができる。本発明で用いられるアルミニウム板の厚みは、0.1〜0.6mmであることが好ましく、0.15〜0.4mmであることがより好ましく、0.2〜0.3mmであることが特に好ましい。
(Support)
As the support used in the lithographic printing plate precursor according to the present invention, a polyester film or an aluminum plate is preferable, and among them, an aluminum plate having particularly good dimensional stability and relatively low cost is particularly preferable. A suitable aluminum plate is a pure aluminum plate or an alloy plate containing aluminum as a main component and containing a trace amount of foreign elements, and may be a plastic film on which aluminum is laminated or vapor-deposited. Examples of foreign elements contained in the aluminum alloy include silicon, iron, manganese, copper, magnesium, chromium, zinc, bismuth, nickel, and titanium. The content of foreign elements in the alloy is preferably 10% by mass or less.
Particularly suitable aluminum in the present invention is pure aluminum, but completely pure aluminum is difficult to produce in the refining technique, and may contain slightly different elements.
Thus, the composition of the aluminum plate applied to the present invention is not specified, and an aluminum plate made of a publicly known material can be appropriately used. The thickness of the aluminum plate used in the present invention is preferably 0.1 to 0.6 mm, more preferably 0.15 to 0.4 mm, and particularly preferably 0.2 to 0.3 mm. preferable.

このようなアルミニウム板には、必要に応じて粗面化処理、陽極酸化処理などの表面処理を行ってもよい。アルミニウム支持体の表面処理については、例えば、特開2009−175195号公報の〔0167〕〜〔0169〕に詳細に記載されるような、界面活性剤、有機溶剤又はアルカリ性水溶液などによる脱脂処理、表面の粗面化処理、陽極酸化処理などが適宜、施される。
陽極酸化処理を施されたアルミニウム表面は、必要により親水化処理が施される。
親水化処理としては、2009−175195号公報の〔0169〕に開示されている如き、アルカリ金属シリケート(例えばケイ酸ナトリウム水溶液)法、フッ化ジルコン酸カリウム或いは、ポリビニルホスホン酸で処理する方法などが用いられる。
Such an aluminum plate may be subjected to a surface treatment such as a roughening treatment or an anodizing treatment as necessary. As for the surface treatment of the aluminum support, for example, a degreasing treatment with a surfactant, an organic solvent, an alkaline aqueous solution, or the like, as described in detail in [0167] to [0169] of JP2009-175195A, surface A surface roughening treatment, an anodizing treatment, or the like is appropriately performed.
The anodized aluminum surface is subjected to a hydrophilic treatment as necessary.
Examples of the hydrophilization treatment include an alkali metal silicate (for example, sodium silicate aqueous solution) method, a method of treating with potassium zirconate fluoride or polyvinylphosphonic acid as disclosed in [0169] of 2009-175195. Used.

(下塗層)
本発明においては、必要に応じて支持体と画像形成層との間に下塗層を設けることができる。下塗層に上記酸性基を有する塩基性化合物を含有させてもよい。
下塗層成分としては、種々の有機化合物が用いられ、例えば、カルボキシメチルセルロース、デキストリン等のアミノ基を有するホスホン酸類、有機ホスホン酸、有機リン酸、有機ホスフィン酸、アミノ酸類、並びに、ヒドロキシ基を有するアミンの塩酸塩等が好ましく挙げられる。また、これら下塗層成分は、1種単独で用いても、2種以上混合して用いてもよい。下塗層に使用される化合物の詳細、下塗層の形成方法は、特開2009−175195号公報の段落番号〔0171〕〜〔0172〕に記載され、これらの記載は本発明にも適用される。
有機下塗層の被覆量は、2〜200mg/mであることが好ましく、5〜100mg/mであることがより好ましい。被覆量が上記範囲であると、十分な耐刷性能が得られる。
(Undercoat layer)
In the present invention, an undercoat layer can be provided between the support and the image forming layer as necessary. The undercoat layer may contain a basic compound having the acidic group.
As an undercoat layer component, various organic compounds are used. For example, phosphonic acids having amino groups such as carboxymethylcellulose and dextrin, organic phosphonic acids, organic phosphoric acids, organic phosphinic acids, amino acids, and hydroxy groups. Preferred examples thereof include hydrochlorides of amines and the like. These undercoat layer components may be used singly or in combination of two or more. Details of the compounds used for the undercoat layer and the method for forming the undercoat layer are described in paragraphs [0171] to [0172] of JP2009-175195A, and these descriptions are also applied to the present invention. The
The coverage of the organic undercoat layer is preferably 2 to 200 mg / m 2, and more preferably 5 to 100 mg / m 2. When the coating amount is in the above range, sufficient printing durability can be obtained.

(バックコート層)
本発明の平版印刷版原版の支持体裏面には、必要に応じてバックコート層が設けられる。かかるバックコート層としては、特開平5−45885号公報記載の有機高分子化合物及び特開平6−35174号公報記載の有機又は無機金属化合物を加水分解及び重縮合させて得られる金属酸化物からなる被覆層が好ましく用いられる。これらの被覆層のうち、Si(OCH、Si(OC、Si(OC、Si(OCなどのケイ素のアルコキシ化合物が安価で入手し易く、それから得られる金属酸化物の被覆層が耐現像液に優れており特に好ましい。
(Back coat layer)
A back coat layer is provided on the back surface of the support of the lithographic printing plate precursor according to the invention, if necessary. Such a back coat layer comprises a metal oxide obtained by hydrolysis and polycondensation of an organic polymer compound described in JP-A-5-45885 and an organic or inorganic metal compound described in JP-A-6-35174. A coating layer is preferably used. Among these coating layers, silicon alkoxy compounds such as Si (OCH 3 ) 4 , Si (OC 2 H 5 ) 4 , Si (OC 3 H 7 ) 4 , Si (OC 4 H 9 ) 4 are available at a low price. The coating layer of the metal oxide obtained therefrom is particularly preferable because of its excellent developer resistance.

<平版印刷版の製版方法>
上記のようにして作製された平版印刷版原版は、画像様に露光され、その後、現像処理を施されて平版印刷版が作製される。すなわち、所望の画像様に露光された平版印刷版原版では、露光領域のアルカリ現像液に対する溶解性が向上し、現像により除去されて非画像部を形成し、残存した未露光部の画像記録層が平版印刷版の画像部となる。
<Plate making method of lithographic printing plate>
The lithographic printing plate precursor produced as described above is exposed imagewise and then subjected to development treatment to produce a lithographic printing plate. That is, in a lithographic printing plate precursor exposed to a desired image quality, the solubility of an exposed area in an alkaline developer is improved, and is removed by development to form a non-image area, and the remaining unexposed area image recording layer Is the image part of a lithographic printing plate.

<露光工程>
平版印刷版の製版方法は、本発明の赤外線感応性ポジ型平版印刷版原版を画像様に露光する露光工程を含む。
本発明の平版印刷版原版の画像露光に用いられる活性光線の光源としては、近赤外から赤外領域に発光波長を持つ光源が好ましく、固体レーザ、半導体レーザがより好ましい。中でも、波長750〜1,400nmの赤外線を放射する固体レーザ又は半導体レーザにより画像露光されることが特に好ましい。
レーザの出力は、100mW以上が好ましく、露光時間を短縮するため、マルチビームレーザデバイスを用いることが好ましい。また、1画素あたりの露光時間は20μ秒以内であることが好ましい。
平版印刷版原版に照射されるエネルギーは、10〜300mJ/cmであることが好
ましい。上記範囲であると、硬化が十分に進行し、また、レーザーアブレーションを抑制し、画像が損傷を防ぐことができる。
<Exposure process>
The plate making method of a lithographic printing plate includes an exposure step of exposing the infrared sensitive positive lithographic printing plate precursor of the present invention imagewise.
The actinic ray light source used for image exposure of the lithographic printing plate precursor according to the invention is preferably a light source having an emission wavelength in the near infrared to infrared region, and more preferably a solid laser or a semiconductor laser. Among these, it is particularly preferable that the image exposure is performed by a solid laser or a semiconductor laser that emits infrared light having a wavelength of 750 to 1,400 nm.
The laser output is preferably 100 mW or more, and a multi-beam laser device is preferably used in order to shorten the exposure time. The exposure time per pixel is preferably within 20 μsec.
The energy applied to the planographic printing plate precursor is preferably 10 to 300 mJ / cm 2 . When it is in the above range, curing can proceed sufficiently, laser ablation can be suppressed, and damage to the image can be prevented.

露光は、光源の光ビームをオーバーラップさせて露光することができる。オーバーラップとは、副走査ピッチ幅がビーム径より小さいことをいう。オーバーラップは、例えば、ビーム径をビーム強度の半値幅(FWHM)で表したとき、FWHM/副走査ピッチ幅(オーバーラップ係数)で定量的に表現することができる。このオーバーラップ係数が、0.1以上であることが好ましい。   The exposure can be performed by overlapping the light beams of the light sources. Overlap means that the sub-scanning pitch width is smaller than the beam diameter. The overlap can be expressed quantitatively by FWHM / sub-scanning pitch width (overlap coefficient), for example, when the beam diameter is expressed by the full width at half maximum (FWHM) of the beam intensity. The overlap coefficient is preferably 0.1 or more.

露光装置の光源の走査方式は、特に限定はなく、円筒外面走査方式、円筒内面走査方式、平面走査方式などを用いることができる。また、光源のチャンネルは単チャンネルでもマルチチャンネルでもよいが、円筒外面方式の場合にはマルチチャンネルが好ましく用いられる。   The scanning method of the light source of the exposure apparatus is not particularly limited, and a cylindrical outer surface scanning method, a cylindrical inner surface scanning method, a planar scanning method, or the like can be used. The channel of the light source may be a single channel or a multi-channel, but in the case of a cylindrical outer surface system, a multi-channel is preferably used.

<現像工程>
・現像液
本発明の平版印刷版原版を用いた平版印刷版の製版方法はアルカリ水溶液を用いて現像する現像工程を含む。現像工程に使用されるアルカリ水溶液(以下、「現像液」ともいう。)は、pH8.5〜10.8のアルカリ水溶液であることが好ましく、pH9.0〜10.0であることがより好ましい。また、前記現像液は、界面活性剤を含むことが好ましく、アニオン性界面活性剤又はノニオン性界面活性剤を少なくとも含むことがより好ましい。界面活性剤は処理性の向上に寄与する。
前記現像液に用いられる界面活性剤は、アニオン性、ノニオン性、カチオン性、及び、両性の界面活性剤のいずれも用いることができるが、既述のように、アニオン性、ノニオン性の界面活性剤が好ましい。
本発明の現像液に用いられるアニオン系界面活性剤としては、特に限定されないが、脂肪酸塩類、アビエチン酸塩類、ヒドロキシアルカンスルホン酸塩類、アルカンスルホン酸塩類、ジアルキルスルホコハク酸塩類、直鎖アルキルベンゼンスルホン酸塩類、分岐鎖アルキルベンゼンスルホン酸塩類、アルキルナフタレンスルホン酸塩類、アルキルジフェニルエーテル(ジ)スルホン酸塩類、アルキルフェノキシポリオキシエチレンプロピルスルホン酸塩類、ポリオキシエチレンアルキルスルホフェニルエーテル塩類、N−メチル−N−オレイルタウリンナトリウム類、N−アルキルスルホコハク酸モノアミド二ナトリウム塩類、石油スルホン酸塩類、硫酸化ヒマシ油、硫酸化牛脂油、脂肪酸アルキルエステルの硫酸エステル塩類、アルキル硫酸エステル塩類、ポリオキシエチレンアルキルエーテル硫酸エステル塩類、脂肪酸モノグリセリド硫酸エステル塩類、ポリオキシエチレンアルキルフェニルエーテル硫酸エステル塩類、ポリオキシエチレンスチリルフェニルエーテル硫酸エステル塩類、アルキル燐酸エステル塩類、ポリオキシエチレンアルキルエーテル燐酸エステル塩類、ポリオキシエチレンアルキルフェニルエーテル燐酸エステル塩類、スチレン−無水マレイン酸共重合物の部分けん化物類、オレフィン−無水マレイン酸共重合物の部分けん化物類、ナフタレンスルホン酸塩ホルマリン縮合物類等が挙げられる。これらの中でも、アルキルベンゼンスルホン酸塩類、アルキルナフタレンスルホン酸塩類、アルキルジフェニルエーテル(ジ)スルホン酸塩類が特に好ましく用いられる。
<Development process>
-Developer The plate making method of a lithographic printing plate using the lithographic printing plate precursor according to the invention includes a developing step of developing using an alkaline aqueous solution. The alkaline aqueous solution (hereinafter also referred to as “developer”) used in the development step is preferably an alkaline aqueous solution having a pH of 8.5 to 10.8, and more preferably pH 9.0 to 10.0. . The developer preferably contains a surfactant, and more preferably contains at least an anionic surfactant or a nonionic surfactant. Surfactant contributes to the improvement of processability.
As the surfactant used in the developer, any of anionic, nonionic, cationic and amphoteric surfactants can be used. As described above, anionic and nonionic surfactants are used. Agents are preferred.
The anionic surfactant used in the developer of the present invention is not particularly limited, but fatty acid salts, abietic acid salts, hydroxyalkanesulfonic acid salts, alkanesulfonic acid salts, dialkylsulfosuccinic acid salts, linear alkylbenzenesulfonic acid salts. Branched alkylbenzene sulfonates, alkyl naphthalene sulfonates, alkyl diphenyl ether (di) sulfonates, alkylphenoxy polyoxyethylene propyl sulfonates, polyoxyethylene alkyl sulfophenyl ether salts, N-methyl-N-oleyl taurine Sodium, N-alkylsulfosuccinic acid monoamide disodium salt, petroleum sulfonates, sulfated castor oil, sulfated beef tallow oil, sulfate esters of fatty acid alkyl esters, alkyl sulfates Ester salts, polyoxyethylene alkyl ether sulfates, fatty acid monoglyceride sulfates, polyoxyethylene alkylphenyl ether sulfates, polyoxyethylene styrylphenyl ether sulfates, alkyl phosphate esters, polyoxyethylene alkyl ether phosphates Salt, polyoxyethylene alkylphenyl ether phosphate ester salt, styrene-maleic anhydride copolymer partial saponification products, olefin-maleic anhydride copolymer partial saponification products, naphthalene sulfonate formalin condensates, etc. Can be mentioned. Among these, alkylbenzene sulfonates, alkyl naphthalene sulfonates, and alkyl diphenyl ether (di) sulfonates are particularly preferably used.

現像液に用いられるカチオン系界面活性剤としては、特に限定されず、従来公知のものを用いることができる。例えば、アルキルアミン塩類、第四級アンモニウム塩類、ポリオキシエチレンアルキルアミン塩類、ポリエチレンポリアミン誘導体が挙げられる。   The cationic surfactant used in the developer is not particularly limited, and conventionally known cationic surfactants can be used. Examples thereof include alkylamine salts, quaternary ammonium salts, polyoxyethylene alkylamine salts, and polyethylene polyamine derivatives.

現像液に用いられるノニオン系界面活性剤としては、特に限定されないが、ポリエチレングリコール型の高級アルコールエチレンオキサイド付加物、アルキルフェノールエチレンオキサイド付加物、アルキルナフトールエチレンオキサイド付加物、フェノールエチレンオキサイド付加物、ナフトールエチレンオキサイド付加物、脂肪酸エチレンオキサイド付加物、多価アルコール脂肪酸エステルエチレンオキサイド付加物、高級アルキルアミンエチレンオキサイド付加物、脂肪酸アミドエチレンオキサイド付加物、油脂のエチレンオキサイド付加物、ポリプロピレングリコールエチレンオキサイド付加物、ジメチルシロキサン−エチレンオキサイドブロックコポリマー、ジメチルシロキサン−(プロピレンオキサイド−エチレンオキサイド)ブロックコポリマー等や、多価アルコール型のグリセロールの脂肪酸エステル、ペンタエリスリトールの脂肪酸エステル、ソルビトールおよびソルビタンの脂肪酸エステル、ショ糖の脂肪酸エステル、多価アルコールのアルキルエーテル、アルカノールアミン類の脂肪酸アミド等が挙げられる。この中でも、芳香環とエチレンオキサイド鎖を有するものが好ましく、アルキル置換又は無置換のフェノールエチレンオキサイド付加物又は、アルキル置換又は無置換のナフトールエチレンオキサイド付加物がより好ましい。   The nonionic surfactant used in the developer is not particularly limited, but a polyethylene glycol type higher alcohol ethylene oxide adduct, alkylphenol ethylene oxide adduct, alkyl naphthol ethylene oxide adduct, phenol ethylene oxide adduct, naphthol ethylene Oxide adduct, fatty acid ethylene oxide adduct, polyhydric alcohol fatty acid ester ethylene oxide adduct, higher alkylamine ethylene oxide adduct, fatty acid amide ethylene oxide adduct, fat and oil ethylene oxide adduct, polypropylene glycol ethylene oxide adduct, dimethyl Siloxane-ethylene oxide block copolymer, dimethylsiloxane- (propylene oxide-ethylene oxide) Examples include lock copolymers, fatty acid esters of polyhydric alcohol glycerol, fatty acid esters of pentaerythritol, fatty acid esters of sorbitol and sorbitan, fatty acid esters of sucrose, alkyl ethers of polyhydric alcohols, fatty acid amides of alkanolamines, etc. It is done. Among these, those having an aromatic ring and an ethylene oxide chain are preferable, and an alkyl-substituted or unsubstituted phenol ethylene oxide adduct or an alkyl-substituted or unsubstituted naphthol ethylene oxide adduct is more preferable.

現像液に用いられる両性イオン系界面活性剤としては、特に限定されないが、アルキルジメチルアミンオキシドなどのアミンオキシド系、アルキルベタインなどのベタイン系、アルキルアミノ脂肪酸ナトリウムなどのアミノ酸系が挙げられる。特に、置換基を有してもよいアルキルジメチルアミンオキシド、置換基を有してもよいアルキルカルボキシベタイン、置換基を有してもよいアルキルスルホベタインが好ましく用いられる。これらの具体例は、特開2008−203359〔0255〕〜〔0278〕、特開2008−276166〔0028〕〜〔0052〕等に記載されているものを用いることができる。   The zwitterionic surfactant used in the developer is not particularly limited, and examples thereof include amine oxides such as alkyldimethylamine oxide, betaines such as alkylbetaine, and amino acids such as alkylamino fatty acid sodium. In particular, alkyldimethylamine oxide which may have a substituent, alkylcarboxybetaine which may have a substituent, and alkylsulfobetaine which may have a substituent are preferably used. Specific examples of these include those described in JP-A-2008-203359 [0255] to [0278], JP-A-2008-276166 [0028] to [0052], and the like.

また、水に対する安定な溶解性あるいは混濁性の観点から、HLB値が、6以上であることが好ましく、8以上であることがより好ましい。   Moreover, from the viewpoint of stable solubility or turbidity in water, the HLB value is preferably 6 or more, and more preferably 8 or more.

前記現像液に用いられる界面活性剤としては、アニオン性界面活性剤及びノニオン界面活性剤が好ましく、スルホン酸又はスルホン酸塩を含有するアニオン性界面活性剤及び、芳香環とエチレンオキサイド鎖を有するノニオン界面活性剤が特に好ましい。
界面活性剤は、単独又は組み合わせて使用することができる。
界面活性剤の現像液中における含有量は、0.01〜10質量%が好ましく、0.01〜5質量%がより好ましい。
As the surfactant used in the developer, anionic surfactants and nonionic surfactants are preferable, anionic surfactants containing sulfonic acid or sulfonates, and nonions having an aromatic ring and an ethylene oxide chain Surfactants are particularly preferred.
Surfactants can be used alone or in combination.
The content of the surfactant in the developer is preferably from 0.01 to 10% by mass, and more preferably from 0.01 to 5% by mass.

前記現像液をpH6〜13.5に保つためには、緩衝剤として炭酸イオン、炭酸水素イオンが存在することで、現像液を長期間使用してもpHの変動を抑制でき、pHの変動による現像性低下、現像カス発生等を抑制できる。炭酸イオン、炭酸水素イオンを現像液中に存在させるには、炭酸塩と炭酸水素塩を現像液に加えてもよいし、炭酸塩又は炭酸水素塩を加えた後にpHを調整することで、炭酸イオンと炭酸水素イオンを発生させてもよい。炭酸塩及び炭酸水素塩は、特に限定されないが、アルカリ金属塩であることが好ましい。アルカリ金属としては、リチウム、ナトリウム、カリウムが挙げられ、ナトリウムが特に好ましい。これらは単独でも、二種以上を組み合わせて用いてもよい。   In order to maintain the developer at pH 6 to 13.5, the presence of carbonate ions and hydrogen carbonate ions as buffering agents can suppress pH fluctuations even when the developer is used for a long period of time. It is possible to suppress development deterioration and development residue generation. In order to allow carbonate ions and hydrogen carbonate ions to be present in the developer, carbonate and hydrogen carbonate may be added to the developer, or by adjusting the pH after adding carbonate or bicarbonate, Ions and bicarbonate ions may be generated. The carbonate and bicarbonate are not particularly limited, but are preferably alkali metal salts. Examples of the alkali metal include lithium, sodium, and potassium, and sodium is particularly preferable. These may be used alone or in combination of two or more.

炭酸塩及び炭酸水素塩の総量は、現像液の全質量に対して、0.3〜20質量%が好ましく、0.5〜10質量%がより好ましく、1〜5質量%が特に好ましい。総量が0.3質量%以上であると現像性、処理能力が低下せず、20質量%以下であると沈殿や結晶を生成し難くなり、さらに現像液の廃液処理時、中和の際にゲル化し難くなり、廃液処理に支障をきたさない。   The total amount of carbonate and bicarbonate is preferably 0.3 to 20% by mass, more preferably 0.5 to 10% by mass, and particularly preferably 1 to 5% by mass with respect to the total mass of the developer. When the total amount is 0.3% by mass or more, developability and processing capacity do not decrease, and when it is 20% by mass or less, it becomes difficult to form precipitates and crystals. It becomes difficult to gel and does not interfere with waste liquid treatment.

また、アルカリ濃度の微少な調整、非画像部感光層の溶解を補助する目的で、補足的に他のアルカリ剤、例えば有機アルカリ剤を併用してもよい。有機アルカリ剤としては、モノメチルアミン、ジメチルアミン、トリメチルアミン、モノエチルアミン、ジエチルアミン、トリエチルアミン、モノイソプロピルアミン、ジイソプロピルアミン、トリイソプロピルアミン、n−ブチルアミン、モノエタノールアミン、ジエタノールアミン、トリエタ
ノールアミン、モノイソプロパノールアミン、ジイソプロパノールアミン、エチレンイミン、エチレンジアミン、ピリジン、テトラメチルアンモニウムヒドロキシド等を挙げることができる。これらの他のアルカリ剤は、単独又は2種以上を組み合わせて用いられる。
前記現像液には上記の他に、湿潤剤、防腐剤、キレート化合物、消泡剤、有機酸、有機溶剤、無機酸、無機塩などを含有することができる。ただし、水溶性高分子化合物を添加すると、特に現像液が疲労した際に版面がベトツキやすくなるため、添加しないことが好ましい。
Further, for the purpose of assisting the fine adjustment of the alkali concentration and the dissolution of the non-image area photosensitive layer, another alkali agent such as an organic alkali agent may be supplementarily used together. Examples of the organic alkali agent include monomethylamine, dimethylamine, trimethylamine, monoethylamine, diethylamine, triethylamine, monoisopropylamine, diisopropylamine, triisopropylamine, n-butylamine, monoethanolamine, diethanolamine, triethanolamine, monoisopropanolamine, Examples thereof include diisopropanolamine, ethyleneimine, ethylenediamine, pyridine, tetramethylammonium hydroxide and the like. These other alkaline agents are used alone or in combination of two or more.
In addition to the above, the developer may contain a wetting agent, preservative, chelate compound, antifoaming agent, organic acid, organic solvent, inorganic acid, inorganic salt, and the like. However, when a water-soluble polymer compound is added, the plate surface tends to become sticky especially when the developer is fatigued, so it is preferable not to add it.

湿潤剤としては、エチレングリコール、プロピレングリコール、トリエチレングリコール、ブチレングリコール、ヘキシレングリコール、ジエチレングリコール、ジプロピレングリコール、グリセリン、トリメチロールプロパン、ジグリセリン等が好適に用いられる。湿潤剤は単独で用いてもよいが、2種以上併用してもよい。湿潤剤は、現像剤の全重量に対し、0.1〜5質量%の量で使用されることが好ましい。   As the wetting agent, ethylene glycol, propylene glycol, triethylene glycol, butylene glycol, hexylene glycol, diethylene glycol, dipropylene glycol, glycerin, trimethylolpropane, diglycerin and the like are preferably used. The wetting agent may be used alone or in combination of two or more. The wetting agent is preferably used in an amount of 0.1 to 5% by mass relative to the total weight of the developer.

防腐剤としては、フェノール又はその誘導体、ホルマリン、イミダゾール誘導体、デヒドロ酢酸ナトリウム、4−イソチアゾリン−3−オン誘導体、ベンゾイソチアゾリン−3−オン、2−メチル−4−イソチアゾリン−3−オン、ベンズトリアゾール誘導体、アミジングアニジン誘導体、第四級アンモニウム塩類、ピリジン、キノリン、グアニジン等の誘導体、ダイアジン、トリアゾール誘導体、オキサゾール、オキサジン誘導体、ニトロブロモアルコール系の2−ブロモ−2−ニトロプロパン−1,3ジオール、1,1−ジブロモ−1−ニトロ−2−エタノール、1,1−ジブロモ−1−ニトロ−2−プロパノール等が好ましく使用できる。種々のカビ、殺菌に対して効力のあるように2種以上の防腐剤を併用することが好ましい。防腐剤の添加量は、細菌、カビ、酵母等に対して、安定に効力を発揮する量であって、細菌、カビ、酵母の種類によっても異なるが、現像液の全重量に対して、0.01〜4質量%の範囲が好ましい。   Preservatives include phenol or derivatives thereof, formalin, imidazole derivatives, sodium dehydroacetate, 4-isothiazolin-3-one derivatives, benzoisothiazolin-3-one, 2-methyl-4-isothiazolin-3-one, benztriazole derivatives Amiding anidine derivatives, quaternary ammonium salts, pyridine, quinoline, guanidine and other derivatives, diazines, triazole derivatives, oxazoles, oxazine derivatives, nitrobromoalcohol-based 2-bromo-2-nitropropane-1,3diols, 1 1,1-dibromo-1-nitro-2-ethanol, 1,1-dibromo-1-nitro-2-propanol and the like can be preferably used. It is preferable to use two or more kinds of preservatives in combination so as to be effective against various molds and sterilization. The addition amount of the preservative is an amount that exhibits a stable effect on bacteria, molds, yeasts, etc., and varies depending on the types of bacteria, molds, yeasts, but is 0% relative to the total weight of the developer. The range of 0.01 to 4% by mass is preferable.

キレート化合物としては、例えば、エチレンジアミンテトラ酢酸、そのカリウム塩、そのナトリウム塩;ジエチレントリアミンペンタ酢酸、そのカリウム塩、そのナトリウム塩;トリエチレンテトラミンヘキサ酢酸、そのカリウム塩、そのナトリウム塩、ヒドロキシエチルエチレンジアミントリ酢酸、そのカリウム塩、そのナトリウム塩;ニトリロトリ酢酸、そのナトリウム塩;1−ヒドロキシエタン−1,1−ジホスホン酸、そのカリウム塩、そのナトリウム塩;アミノトリ(メチレンホスホン酸)、そのカリウム塩、そのナトリウム塩などのような有機ホスホン酸類又はホスホノアルカントリカルボン酸類を挙げることができる。上記キレート剤のナトリウム塩、カリウム塩の代わりに有機アミンの塩も有効である。キレート剤は現像液組成中に安定に存在し、印刷性を阻害しないものが選ばれる。添加量は、現像液の全重量に対して、0.001〜1.0質量%が好適である。   Examples of the chelate compound include ethylenediaminetetraacetic acid, potassium salt thereof, sodium salt thereof; diethylenetriaminepentaacetic acid, potassium salt thereof, sodium salt thereof; triethylenetetraminehexaacetic acid, potassium salt thereof, sodium salt thereof, hydroxyethylethylenediaminetriacetic acid Nitrilotriacetic acid, sodium salt; 1-hydroxyethane-1,1-diphosphonic acid, potassium salt, sodium salt; aminotri (methylenephosphonic acid), potassium salt, sodium salt And organic phosphonic acids such as phosphonoalkanetricarboxylic acids. An organic amine salt is also effective in place of the sodium salt and potassium salt of the chelating agent. A chelating agent is selected that is stably present in the developer composition and does not impair the printability. The addition amount is preferably 0.001 to 1.0% by mass with respect to the total weight of the developer.

消泡剤としては、一般的なシリコーン系の自己乳化タイプ、乳化タイプ、ノニオン系の化合物を使用することができ、HLB値が5以下の化合物であることが好ましい。シリコーン消泡剤が好ましい。その中で乳化分散型及び可溶化等がいずれも使用できる。消泡剤の含有量は、現像液の全重量に対して、0.001〜1.0質量%の範囲が好適である。   As the antifoaming agent, a general silicone-based self-emulsifying type, emulsifying type, or nonionic compound can be used, and a compound having an HLB value of 5 or less is preferable. Silicone defoamers are preferred. Among them, emulsification dispersion type and solubilization can be used. The content of the antifoaming agent is preferably in the range of 0.001 to 1.0% by mass with respect to the total weight of the developer.

有機酸としては、クエン酸、酢酸、蓚酸、マロン酸、サリチル酸、カプリル酸、酒石酸、リンゴ酸、乳酸、レブリン酸、p−トルエンスルホン酸、キシレンスルホン酸、フィチン酸、有機ホスホン酸などが挙げられる。有機酸は、そのアルカリ金属塩又はアンモニウム塩の形で用いることもできる。有機酸の含有量は、現像液の全重量に対して、0.01〜0.5質量%が好ましい。   Examples of organic acids include citric acid, acetic acid, succinic acid, malonic acid, salicylic acid, caprylic acid, tartaric acid, malic acid, lactic acid, levulinic acid, p-toluenesulfonic acid, xylenesulfonic acid, phytic acid, and organic phosphonic acid. . The organic acid can also be used in the form of its alkali metal salt or ammonium salt. The content of the organic acid is preferably 0.01 to 0.5% by mass with respect to the total weight of the developer.

有機溶剤としては、例えば、脂肪族炭化水素類(ヘキサン、ヘプタン、“アイソパーE、H、G”(商品名、エッソ化学(株)製)、ガソリン、若しくは、灯油等)、芳香族炭化水素類(トルエン、キシレン等)、又は、ハロゲン化炭化水素(メチレンジクロライド、エチレンジクロライド、トリクレン、モノクロルベンゼン等)や、極性溶剤が挙げられる。   Examples of the organic solvent include aliphatic hydrocarbons (hexane, heptane, “Isopar E, H, G” (trade name, manufactured by Esso Chemical Co., Ltd.), gasoline, kerosene, etc.), aromatic hydrocarbons, and the like. (Toluene, xylene, etc.), halogenated hydrocarbons (methylene dichloride, ethylene dichloride, trichlene, monochlorobenzene, etc.) and polar solvents.

極性溶剤としては、アルコール類(メタノール、エタノール、プロパノール、イソプロパノール、ベンジルアルコール、エチレングリコールモノメチルエーテル、2−エトキシエタノール等)、ケトン類(メチルエチルケトン、シクロヘキサノン等)、エステル類(酢酸エチル、乳酸メチル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート等)、その他(トリエチルフォスフェート、トリクレジルフォスフェート、N−フェニルエタノールアミン、N−フェニルジエタノールアミン等)等が挙げられる。   Polar solvents include alcohols (methanol, ethanol, propanol, isopropanol, benzyl alcohol, ethylene glycol monomethyl ether, 2-ethoxyethanol, etc.), ketones (methyl ethyl ketone, cyclohexanone, etc.), esters (ethyl acetate, methyl lactate, propylene) Glycol monomethyl ether acetate, etc.) and others (triethyl phosphate, tricresyl phosphate, N-phenylethanolamine, N-phenyldiethanolamine, etc.).

また、上記有機溶剤が水に不溶な場合は、界面活性剤等を用いて水に可溶化して使用することも可能である。現像液が有機溶剤を含有する場合は、安全性、引火性の観点から、溶剤の濃度は40質量%未満が好ましい。   When the organic solvent is insoluble in water, it can be used after being solubilized in water using a surfactant or the like. When the developer contains an organic solvent, the concentration of the solvent is preferably less than 40% by mass from the viewpoint of safety and flammability.

無機酸及び無機塩としては、リン酸、メタリン酸、第一リン酸アンモニウム、第二リン酸アンモニウム、第一リン酸ナトリウム、第二リン酸ナトリウム、第一リン酸カリウム、第二リン酸カリウム、トリポリリン酸ナトリウム、ピロリン酸カリウム、ヘキサメタリン酸ナトリウム、硝酸マグネシウム、硝酸ナトリウム、硝酸カリウム、硝酸アンモニウム、硫酸ナトリウム、硫酸カリウム、硫酸アンモニウム、亜硫酸ナトリウム、亜硫酸アンモニウム、硫酸水素ナトリウム、硫酸ニッケルなどが挙げられる。無機塩の含有量は、現像液の全重量に対し、0.01〜0.5質量%が好ましい。   Examples of inorganic acids and inorganic salts include phosphoric acid, metaphosphoric acid, primary ammonium phosphate, secondary ammonium phosphate, primary sodium phosphate, secondary sodium phosphate, primary potassium phosphate, secondary potassium phosphate, Examples include sodium tripolyphosphate, potassium pyrophosphate, sodium hexametaphosphate, magnesium nitrate, sodium nitrate, potassium nitrate, ammonium nitrate, sodium sulfate, potassium sulfate, ammonium sulfate, sodium sulfite, ammonium sulfite, sodium hydrogen sulfate, nickel sulfate and the like. The content of the inorganic salt is preferably 0.01 to 0.5% by mass with respect to the total weight of the developer.

・現像処理
現像の温度は、現像可能であれば特に制限はないが、60℃以下であることが好ましく、15〜40℃であることがより好ましい。自動現像機を用いる現像処理においては、処理量に応じて現像液が疲労してくることがあるので、補充液又は新鮮な現像液を用いて処理能力を回復させてもよい。現像及び現像後の処理の一例としては、アルカリ現像を行い、後水洗工程でアルカリを除去し、ガム引き工程でガム処理を行い、乾燥工程で乾燥する方法が例示できる。また、他の例としては、炭酸イオン、炭酸水素イオン及び界面活性剤を含有する水溶液を用いることにより、前水洗、現像及びガム引きを同時に行う方法が好ましく例示できる。よって、前水洗工程は特に行わなくともよく、一液を用いるだけで、更には一浴で前水洗、現像及びガム引きを行ったのち、乾燥工程を行うことが好ましい。現像の後は、スクイズローラ等を用いて余剰の現像液を除去してから乾燥を行うことが好ましい。
-Development processing Although there will be no restriction | limiting in particular if the temperature of image development is developable, It is preferable that it is 60 degrees C or less, and it is more preferable that it is 15-40 degreeC. In the development processing using an automatic developing machine, the developing solution may be fatigued depending on the processing amount. Therefore, the processing capability may be restored using a replenishing solution or a fresh developing solution. An example of development and post-development processing is a method in which alkali development is performed, alkali is removed in a post-water washing step, gumming is performed in a gumming step, and drying is performed in a drying step. As another example, a method in which pre-water washing, development and gumming are simultaneously performed by using an aqueous solution containing carbonate ions, hydrogen carbonate ions and a surfactant can be preferably exemplified. Therefore, the pre-water washing step is not particularly required, and it is preferable to perform the drying step after performing pre-water washing, development and gumming in one bath only by using one liquid. After development, it is preferable to dry after removing excess developer using a squeeze roller or the like.

現像工程は、擦り部材を備えた自動処理機により好適に実施することができる。自動処理機としては、例えば、画像露光後の平版印刷版原版を搬送しながら擦り処理を行う、特開平2−220061号公報、特開昭60−59351号公報に記載の自動処理機や、シリンダー上にセットされた画像露光後の平版印刷版原版を、シリンダーを回転させながら擦り処理を行う、米国特許5148746号、同5568768号、英国特許2297719号に記載の自動処理機等が挙げられる。中でも、擦り部材として、回転ブラシロールを用いる自動処理機が特に好ましい。   The development process can be preferably carried out by an automatic processor equipped with a rubbing member. As an automatic processor, for example, an automatic processor described in JP-A-2-220061 and JP-A-60-59351, which performs a rubbing process while conveying a lithographic printing plate precursor after image exposure, or a cylinder Examples thereof include an automatic processor described in US Pat. Nos. 5,148,746 and 5,568,768 and British Patent No. 2,297,719, which rubs the lithographic printing plate precursor after image exposure set above while rotating a cylinder. Among these, an automatic processor using a rotating brush roll as the rubbing member is particularly preferable.

回転ブラシロールは、画像部の傷つき難さ、さらには、平版印刷版原版の支持体における腰の強さ等を考慮して適宜選択することができる。回転ブラシロールとしては、ブラシ素材をプラスチック又は金属のロールに植え付けて形成された公知のものが使用できる。例えば、特開昭58−159533号公報、特開平3−100554号公報に記載のものや、実公昭62−167253号公報に記載されているような、ブラシ素材を列状に植え込んだ金属又はプラスチックの溝型材を芯となるプラスチック又は金属のロールに隙間なく放射状に巻き付けたブラシロールが使用できる。
ブラシ素材としては、プラスチック繊維(例えば、ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート等のポリエステル系、ナイロン6.6、ナイロン6.10等のポリアミド系、ポリアクリロニトリル、ポリ(メタ)アクリル酸アルキル等のポリアクリル系、ポリプロピレン、ポリスチレン等のポリオレフィン系の合成繊維)を使用することができ、例えば、繊維の毛の直径は20〜400μm、毛の長さは5〜30mmのものが好適に使用できる。
回転ブラシロールの外径は30〜200mmが好ましく、版面を擦るブラシの先端の周速は0.1〜5m/secが好ましい。回転ブラシロールは、複数本用いることが好ましい。
The rotating brush roll can be appropriately selected in consideration of the difficulty of scratching the image portion and the strength of the waist of the lithographic printing plate precursor. As the rotating brush roll, a known one formed by planting a brush material on a plastic or metal roll can be used. For example, a metal or plastic in which brush materials are implanted in a row, as described in JP-A-58-159533, JP-A-3-100554, or JP-A-62-167253 A brush roll in which the groove mold material is radially wound around a plastic or metal roll as a core without any gap can be used.
Examples of brush materials include plastic fibers (for example, polyesters such as polyethylene terephthalate and polybutylene terephthalate, polyamides such as nylon 6.6 and nylon 6.10, polyacrylics such as polyacrylonitrile and poly (meth) acrylate). , Polyolefin synthetic fibers such as polypropylene and polystyrene). For example, fibers having a hair diameter of 20 to 400 μm and a hair length of 5 to 30 mm can be preferably used.
The outer diameter of the rotating brush roll is preferably 30 to 200 mm, and the peripheral speed at the tip of the brush rubbing the plate surface is preferably 0.1 to 5 m / sec. It is preferable to use a plurality of rotating brush rolls.

回転ブラシロールの回転方向は、平版印刷版原版の搬送方向に対し、同一方向であっても、逆方向であってもよいが、2本以上の回転ブラシロールを使用する場合は、少なくとも1本の回転ブラシロールが同一方向に回転し、少なくとも1本の回転ブラシロールが逆方向に回転することが好ましい。これにより、非画像部の感光層の除去がさらに確実となる。更に、回転ブラシロールをブラシロールの回転軸方向に揺動させることも効果的である。   The rotating direction of the rotating brush roll may be the same or opposite to the conveying direction of the lithographic printing plate precursor. However, when two or more rotating brush rolls are used, at least one rotating brush roll is used. It is preferred that the rotating brush rolls rotate in the same direction and at least one rotating brush roll rotates in the opposite direction. This further ensures the removal of the photosensitive layer in the non-image area. It is also effective to swing the rotating brush roll in the direction of the rotation axis of the brush roll.

現像工程の後、連続的又は不連続的に乾燥工程を設けることが好ましい。乾燥は熱風、赤外線、遠赤外線等によって行う。
本発明の平版印刷版原版を用いた平版印刷版の作製において好適に用いられる自動処理機としては、現像部と乾燥部とを有する装置が用いられ、平版印刷版原版に対して、現像槽で、現像とガム引きとが行なわれ、その後、乾燥部で乾燥されて平版印刷版が得られる。
It is preferable to provide a drying step continuously or discontinuously after the development step. Drying is performed by hot air, infrared rays, far infrared rays, or the like.
As an automatic processor suitably used in the production of a lithographic printing plate using the lithographic printing plate precursor according to the present invention, an apparatus having a developing unit and a drying unit is used. Then, development and gumming are carried out, and then dried in a drying section to obtain a lithographic printing plate.

また、耐刷性等の向上を目的として、現像後の印刷版を非常に強い条件で加熱することもできる。加熱温度は、通常200〜500℃の範囲である。温度が低いと十分な画像強化作用が得られず、高すぎる場合には支持体の劣化、画像部の熱分解といった問題を生じる恐れがある。
このようにして得られた平版印刷版はオフセット印刷機に掛けられ、多数枚の印刷に好適に用いられる。
Further, for the purpose of improving printing durability, the developed printing plate can be heated under very strong conditions. The heating temperature is usually in the range of 200 to 500 ° C. If the temperature is low, sufficient image reinforcing action cannot be obtained. If the temperature is too high, problems such as deterioration of the support and thermal decomposition of the image area may occur.
The lithographic printing plate obtained in this way is applied to an offset printing machine and is suitably used for printing a large number of sheets.

以下、実施例を挙げて本発明を詳細に説明するが、本発明は以下の実施例に制限されるものではない。
<酸性基を有する塩基性化合物の合成>
(合成例1:II-9)
イソプロピルアルコール13.2gにジイソプロピルカルボジイミド6.31gを加え、4-(2-アミノエチル)ベンゼンスルホンアミド10.0gを5分間かけて添加した。該懸濁液を80℃で3時間撹拌した。室温に冷却後、ジイソプロピルエーテル30gを加え、ろ過によって、生成した白色固体(II-9)が得られた。真空乾燥(40℃、1時間)を行ったのち、得られたII-9は15.8gであった(収率97%)。
(合成例2:II-10)
イソプロピルアルコール13.2gにジイソプロピルカルボジイミド6.31gを加え、2-(4-ヒドロキシフェニル)エチルアミン6.90gを5分間かけて添加した。該懸濁液を80℃で3時間撹拌した。室温に冷却後、ジイソプロピルエーテル30gを加え、ろ過によって、生成した白色固体(II-10)をろ取した。真空乾燥(40℃、1時間)を行ったのち、得られたII-10は11.5gであった(収率88%)。
EXAMPLES Hereinafter, although an Example is given and this invention is demonstrated in detail, this invention is not restrict | limited to a following example.
<Synthesis of a basic compound having an acidic group>
(Synthesis Example 1: II-9)
6.31 g of diisopropylcarbodiimide was added to 13.2 g of isopropyl alcohol, and 10.0 g of 4- (2-aminoethyl) benzenesulfonamide was added over 5 minutes. The suspension was stirred at 80 ° C. for 3 hours. After cooling to room temperature, 30 g of diisopropyl ether was added, and the resulting white solid (II-9) was obtained by filtration. After vacuum drying (40 ° C., 1 hour), II-9 obtained was 15.8 g (yield 97%).
(Synthesis Example 2: II-10)
6.31 g of diisopropylcarbodiimide was added to 13.2 g of isopropyl alcohol, and 6.90 g of 2- (4-hydroxyphenyl) ethylamine was added over 5 minutes. The suspension was stirred at 80 ° C. for 3 hours. After cooling to room temperature, 30 g of diisopropyl ether was added, and the resulting white solid (II-10) was collected by filtration. After vacuum drying (40 ° C., 1 hour), II-10 obtained was 11.5 g (yield 88%).

<実施例1、比較例1>
〔支持体の作製〕
厚さ0.3mmのJIS A 1050アルミニウム板をパミス−水懸濁液を研磨剤として回転ナイロンブラシで表面を砂目立てした。このときの表面粗さ(中心線平均粗さ)は0.5μmであった。水洗後、10%苛性ソーダ水溶液を70℃に温めた溶液中に浸漬して、アルミニウムの溶解量が6g/m3になるようにエッチングした。水洗後、30%硝酸水溶液に1分間浸漬して中和し、十分水洗した。その後に、0.7%硝酸水溶液中で、陽極時電圧13ボルト、陰極時電圧6ボルトの矩形波交番波形電圧を用いて20秒間電解粗面化を行い、20%硫酸の50℃溶液中に浸漬して表面を洗浄した後、水洗した。粗面化後のアルミニウムシートに、20%
硫酸水溶液中で直流を用いて多孔性陽極酸化皮膜形成処理を行った。電流密度5A/dm2で電解を行い、電解時間を調節して、表面に質量4.0g/m2の陽極酸化皮膜を有する基板を作製した。この基板を100℃1気圧において飽和した蒸気チャンバーの中で10秒間処理して封孔率60%の基板(a)を作成した。基板(a)をケイ酸ナトリウム2.5質量%
水溶液で30℃10秒間処理して表面親水化を行った後、下記下塗り液1を塗布し、塗膜を80℃で15秒間乾燥し平版印刷版用支持体〔A〕を得た。乾燥後の塗膜の被覆量は15mg/m2であった。
<Example 1, comparative example 1>
(Production of support)
A JIS A 1050 aluminum plate having a thickness of 0.3 mm was grained with a rotating nylon brush using a pumice-water suspension as an abrasive. The surface roughness (centerline average roughness) at this time was 0.5 μm. After washing with water, a 10% sodium hydroxide aqueous solution was immersed in a solution warmed to 70 ° C., and etching was performed so that the amount of aluminum dissolved was 6 g / m 3 . After washing with water, it was neutralized by immersing in a 30% nitric acid aqueous solution for 1 minute and thoroughly washed with water. Then, electrolytic surface roughening was performed in a 0.7% nitric acid aqueous solution for 20 seconds using a rectangular wave alternating waveform voltage having an anode voltage of 13 volts and a cathode voltage of 6 volts. After dipping to wash the surface, it was washed with water. 20% on the roughened aluminum sheet
A porous anodized film was formed using direct current in a sulfuric acid aqueous solution. Electrolysis was performed at a current density of 5 A / dm 2 , and the electrolysis time was adjusted to prepare a substrate having an anodic oxide film with a mass of 4.0 g / m 2 on the surface. This substrate was treated for 10 seconds in a vapor chamber saturated at 100 ° C. and 1 atm to prepare a substrate (a) having a sealing rate of 60%. Substrate (a) is 2.5 mass% sodium silicate
After surface hydrophilization by treatment with an aqueous solution at 30 ° C. for 10 seconds, the following undercoat liquid 1 was applied, and the coating film was dried at 80 ° C. for 15 seconds to obtain a lithographic printing plate support [A]. The coating amount of the coating film after drying was 15 mg / m 2 .

〔下塗り液1〕
・分子量2.8万の下記共重合体 0.3g
・メタノール 100g
・水 1g
[Undercoat liquid 1]
-0.3 g of the following copolymer having a molecular weight of 28,000
・ Methanol 100g
・ Water 1g

Figure 2012208384
Figure 2012208384

〔記録層の形成〕
得られた下塗り済の支持体〔A〕に、下記組成の感光液Iを、ワイヤーバーで塗布したのち、150℃の乾燥オーブンで40秒間乾燥して塗布量を1.3g/mとなるようにし、下層を設けた。下層を設けた後、下記組成の塗布液IIをワイヤーバーで塗布し上層を設けた。塗布後150℃40秒間の乾燥を行い、下層と上層を合わせた塗布量が1.7g/mとなる赤外線レーザ用感光性平版印刷版原版を得た。
(感光液I)
・表1記載のバインダーポリマー 3.5g
・表1記載の酸性基を有する塩基性化合物 表1記載の添加量
・エチルバイオレットの対アニオンを
6−ヒドロキシ−β−ナフタレンスルホン酸にした染料 0.15g
・ビスフェノールスルホン 0.3g
・テトラヒドロフタル酸 0.4g
・フッ素系界面活性剤(メガファックF−780、商品名、
大日本インキ化学工業(株)製) 0.02g
・メチルエチルケトン 30g
・プロピレングリコールモノメチルエーテル 15g
・γ−ブチロラクトン 15g
[Formation of recording layer]
After applying the photosensitive solution I having the following composition to the obtained undercoated support [A] with a wire bar, it is dried in a drying oven at 150 ° C. for 40 seconds to obtain a coating amount of 1.3 g / m 2. Thus, a lower layer was provided. After providing the lower layer, the coating liquid II having the following composition was applied with a wire bar to provide the upper layer. After coating, drying was performed at 150 ° C. for 40 seconds to obtain a photosensitive lithographic printing plate precursor for infrared laser in which the total coating amount of the lower layer and the upper layer was 1.7 g / m 2 .
(Photosensitive solution I)
・ 3.5g binder polymer listed in Table 1
-Basic compound having acidic group described in Table 1 Addition amount described in Table 1-Dye with 6-hydroxy-β-naphthalenesulfonic acid as the counter anion of ethyl violet 0.15 g
・ Bisphenolsulfone 0.3g
・ Tetrahydrophthalic acid 0.4g
・ Fluorine surfactant (Megafac F-780, trade name,
Dainippon Ink & Chemicals, Inc.) 0.02g
・ Methyl ethyl ketone 30g
・ Propylene glycol monomethyl ether 15g
・ Γ-Butyrolactone 15g

(感光液II)
・ノボラック樹脂 0.68g
(m−クレゾール/p−クレゾール/フェノール=3/2/5、Mw8,000)
・赤外線吸収剤(上記シアニン染料A) 0.045g
・フッ素系界面活性剤(メガファックF−780、商品名、
大日本インキ化学工業(株)製) 0.03g
・メチルエチルケトン 15.0g
・1−メトキシ−2−プロパノール 30.0g
(Photosensitive solution II)
・ Novolak resin 0.68g
(M-cresol / p-cresol / phenol = 3/2/5, Mw 8,000)
・ Infrared absorber (cyanine dye A) 0.045g
・ Fluorine surfactant (Megafac F-780, trade name,
Dainippon Ink & Chemicals, Inc.) 0.03g
・ Methyl ethyl ketone 15.0g
-1-methoxy-2-propanol 30.0g

[耐刷性の評価]
平版印刷版原版をCreo社製Trendsetter(商品名)にて、ビーム強度9w、ドラム回転速度150rpmで、テストパターンを画像状に描き込みを行った。その後、富士フイルム(株)製現像液DT−2(商品名)(希釈して、電導度43mS/cmとしたもの)を仕込んだ富士フイルム(株)製PSプロセッサーLP940H(商品名)を用い、現像温度30℃、現像時間12秒で現像を行った。これを、小森コーポレーション(株)製印刷機リスロン(商品名)を用いて連続して印刷した。この際、どれだけの枚数が充分なインキ濃度を保って印刷できるかを目視にて測定し、耐刷性を評価した。なお、耐刷性は、比較例(試料101)の耐刷数を1.0とした際の相対値として示した。テストパターンとしては、2cm×2cmのベタ画像(全面画像部)を用いた。印刷物の目視評価により、印刷部にカスレやヌケが発生した枚数を刷了枚数とした。
[Evaluation of printing durability]
A test pattern was drawn on the lithographic printing plate precursor in the form of an image with a Trend setter (trade name) manufactured by Creo at a beam intensity of 9 w and a drum rotation speed of 150 rpm. Thereafter, a PS processor LP940H (trade name) manufactured by Fuji Film Co., Ltd. charged with a developer DT-2 (trade name) manufactured by Fuji Film Co., Ltd. (diluted to a conductivity of 43 mS / cm) was used. Development was performed at a development temperature of 30 ° C. and a development time of 12 seconds. This was continuously printed using a printing press Lislon (trade name) manufactured by Komori Corporation. At this time, the number of sheets that can be printed while maintaining a sufficient ink density was measured visually to evaluate the printing durability. The printing durability was shown as a relative value when the printing durability of the comparative example (sample 101) was 1.0. As the test pattern, a solid image (entire image portion) of 2 cm × 2 cm was used. According to the visual evaluation of the printed matter, the number of scumming or missing in the printing portion was determined as the number of finished prints.

[UVインキ耐刷性の評価]
平版印刷版原版をCreo社製Trendsetter(商品名)にて、ビーム強度9w、ドラム回転速度150rpmで、テストパターンを画像状に描き込みを行った。その後、富士フイルム(株)製現像液DT−2(商品名)(希釈して、電導度43mS/cmとしたもの)を仕込んだ富士フイルム(株)製PSプロセッサーLP940H(商品名)を用い、現像温度30℃、現像時間12秒で現像を行った。これを、印刷機(三菱ダイヤ社製、1F-2(商品名))により、UVインキ(ベストキュア161 商品名、東華色素(株)製)を用いて連続して印刷した。この際、UVインキ耐刷性の評価方法は、上記の耐刷性評価と同様に行った。
[Evaluation of UV ink printing durability]
A test pattern was drawn on the lithographic printing plate precursor in the form of an image with a Trend setter (trade name) manufactured by Creo at a beam intensity of 9 w and a drum rotation speed of 150 rpm. Thereafter, a PS processor LP940H (trade name) manufactured by Fuji Film Co., Ltd. charged with developer DT-2 (trade name) manufactured by Fuji Film Co., Ltd. (diluted to a conductivity of 43 mS / cm) was used. Development was performed at a development temperature of 30 ° C. and a development time of 12 seconds. This was continuously printed using a UV ink (Best Cure 161, trade name, manufactured by Toka Dye Co., Ltd.) with a printing press (Mitsubishi Dia, 1F-2 (trade name)). At this time, the UV ink printing durability was evaluated in the same manner as the printing durability evaluation described above.

[現像カスの評価]
上記耐刷性の評価と同様の手法で、露光・現像し得られた平版印刷版を、更に蒸留水を仕込んだ現像浴に20秒間浸漬し、該平版印刷版の版面を目視で観察した。付着物が全くなく、現像浴中にもカスが浮いていないものを「◎」、付着物はないが、現像浴中に細かな現像カスが見られるものを「○」、付着物はないが、現像浴中に大きな現像カスが見られるものを「△」、明らかに着色成分(現像カス)が付着しているものを「×」として評価した。
[Development residue evaluation]
The lithographic printing plate obtained by exposure and development in the same manner as in the evaluation of printing durability was further immersed in a developing bath charged with distilled water for 20 seconds, and the plate surface of the lithographic printing plate was visually observed. "◎" if there is no deposit and no residue in the developing bath, "○" if there is no deposit, but if there is a fine development residue in the developing bath, there is no deposit The case where a large development residue was observed in the developing bath was evaluated as “Δ”, and the case where a colored component (development residue) was clearly attached was evaluated as “×”.

[耐薬品性の評価]
実施例の平版印刷版原版を、上記耐刷性の評価と同様にして露光・現像および印刷を行った。この際、5,000枚印刷する毎に、クリーナー(富士フイルム社製、マルチクリーナー)で版面を拭く工程を加え、耐薬品性を評価した。この時の耐刷性が、前述の耐刷枚数の95%〜100%であるものを◎、80%〜95%であるものを○、60〜80%であるものを△、60%以下を×とした。クリーナーで版面を拭く工程を加えた場合であっても、耐刷枚数に変化が少ないほど耐薬品性に優れるものと評価する。
結果を以下の表1に示す。
[Evaluation of chemical resistance]
The lithographic printing plate precursors of the examples were exposed, developed and printed in the same manner as in the evaluation of printing durability. At this time, every time 5,000 sheets were printed, a process of wiping the printing plate with a cleaner (manufactured by Fujifilm, multi-cleaner) was added to evaluate chemical resistance. When the printing durability at this time is 95% to 100% of the above-mentioned printing number, 枚 数 is 80% to 95%, △ is 60 to 80%, and 60% or less. X. Even when a process of wiping the printing plate with a cleaner is added, the smaller the change in the number of printing sheets, the better the chemical resistance.
The results are shown in Table 1 below.

Figure 2012208384
Figure 2012208384

比較例の試料c104〜c113で用いた比較塩基性化合物は、下記構造の化合物であり、表2に示すpKaの酸性官能基と塩基性官能基を有する。

Figure 2012208384
The comparative basic compound used in the samples c104 to c113 of the comparative examples is a compound having the following structure, and has an acidic functional group and basic functional group of pKa shown in Table 2.
Figure 2012208384

Figure 2012208384
Figure 2012208384

表1の結果から明らかなように、酸性基を有する塩基性化合物を用いた本発明に係る実施例では、UVインキ耐刷性、現像カス、そして耐薬品性が両立して向上していることが分かる。 As is apparent from the results of Table 1, in the examples according to the present invention using the basic compound having an acidic group, UV ink printing durability, development residue, and chemical resistance are improved at the same time. I understand.

<実施例2、比較例2>
〔支持体の作製〕
実施例1と同様にして、下塗り液1の代わりに、下塗り液2を用い、支持体〔C〕を作製した。
〔下塗り液2〕
・分子量2.8万の下記共重合体 0.3g
・表3記載の酸性基を有する塩基性化合物 表3記載の添加量
・メタノール 100g
・水 1g
<Example 2, comparative example 2>
(Production of support)
In the same manner as in Example 1, the undercoat liquid 2 was used instead of the undercoat liquid 1 to prepare a support [C].
[Undercoat liquid 2]
-0.3 g of the following copolymer having a molecular weight of 28,000
-Basic compounds having acidic groups listed in Table 3 Addition amounts listed in Table 3-Methanol 100 g
・ Water 1g

Figure 2012208384
Figure 2012208384

〔記録層の形成〕
得られた下塗り済の支持体〔C〕を用いて、実施例1と同様にして、下記感光液IおよびIIを用いて赤外線レーザ用感光性平版印刷版原版を得た。

(感光液I)
・表3記載のバインダーポリマー 3.5g
・エチルバイオレットの対アニオンを
6−ヒドロキシ−β−ナフタレンスルホン酸にした染料 0.15g
・ビスフェノールスルホン 0.3g
・テトラヒドロフタル酸 0.4g
・フッ素系界面活性剤(メガファックF−780、商品名、
大日本インキ化学工業(株)製) 0.02g
・メチルエチルケトン 30g
・プロピレングリコールモノメチルエーテル 15g
・γ−ブチロラクトン 15g
[Formation of recording layer]
Using the obtained undercoated support [C], a photosensitive lithographic printing plate precursor for infrared laser was obtained using the following photosensitizers I and II in the same manner as in Example 1.

(Photosensitive solution I)
・ 3.5g binder polymer listed in Table 3
0.15 g of a dye in which the counter anion of ethyl violet is 6-hydroxy-β-naphthalenesulfonic acid
・ Bisphenolsulfone 0.3g
・ Tetrahydrophthalic acid 0.4g
・ Fluorine surfactant (Megafac F-780, trade name,
Dainippon Ink & Chemicals, Inc.) 0.02g
・ Methyl ethyl ketone 30g
・ Propylene glycol monomethyl ether 15g
・ Γ-Butyrolactone 15g

(感光液II)
・ノボラック樹脂 0.68g
(m−クレゾール/p−クレゾール/フェノール=3/2/5、Mw8,000)
・赤外線吸収剤(上記シアニン染料A) 0.045g
・フッ素系界面活性剤(メガファックF−780、商品名、
大日本インキ化学工業(株)製) 0.03g
・メチルエチルケトン 15.0g
・1−メトキシ−2−プロパノール 30.0g
(Photosensitive solution II)
・ Novolak resin 0.68g
(M-cresol / p-cresol / phenol = 3/2/5, Mw 8,000)
・ Infrared absorber (cyanine dye A) 0.045g
・ Fluorine surfactant (Megafac F-780, trade name,
Dainippon Ink & Chemicals, Inc.) 0.03g
・ Methyl ethyl ketone 15.0g
-1-methoxy-2-propanol 30.0g

得られた各平版印刷版原版に対して、実施例1と同様の条件で評価を行った結果を下記表3に示す   Table 3 below shows the results obtained by evaluating the obtained lithographic printing plate precursors under the same conditions as in Example 1.

Figure 2012208384
Figure 2012208384

表3の結果から明らかなように、酸性基を有する塩基性化合物を下塗り層に添加した本発明に係る実施例でも、UVインキ耐刷性、現像カス、そして耐薬品性が両立して向上していることが分かる。 As is apparent from the results in Table 3, UV ink printing durability, development residue, and chemical resistance are also improved in an embodiment according to the present invention in which a basic compound having an acidic group is added to the undercoat layer. I understand that

1 画像記録層
3 下塗層
4 支持体
11 上層
12 下層
10、20 平版印刷版原版
A 記録機能層
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Image recording layer 3 Undercoat layer 4 Support body 11 Upper layer 12 Lower layer 10, 20 Planographic printing plate precursor A Recording functional layer

Claims (11)

支持体上に少なくとも1層の層からなる記録機能層を有し、前記記録機能層をなす層の同じ層もしくは異なる層に、アルカリ可溶性樹脂と、赤外線吸収剤と、塩基性化合物とを有する平版印刷版原版であって、
前記塩基性化合物が、pKa3〜14の酸性官能基と、pKa11〜18の共役酸をなす塩基性官能基とを有することを特徴とする平版印刷版原版。
A lithographic plate having a recording functional layer comprising at least one layer on a support, and having an alkali-soluble resin, an infrared absorber, and a basic compound in the same layer or different layers of the recording functional layer A printing plate precursor,
The lithographic printing plate precursor, wherein the basic compound has an acidic functional group having a pKa of 3 to 14 and a basic functional group forming a conjugate acid of a pKa of 11 to 18.
前記塩基性化合物が下記一般式(I)で表されることを特徴とする請求項1に記載の平版印刷用原版。
Figure 2012208384
(上記式(I)中、L〜Lは、それぞれ独立に、炭素数1〜10の2価のアルキレン基、あるいは炭素数6〜20の2価のアリーレン基、酸素原子、窒素原子を含む連結基、硫黄原子、単結合、またはそれらの組合せによる連結基を表す。A〜Aは、それぞれ独立に、酸性基、あるいは水素原子、炭素数1〜20のアルキル基、又は炭素数6〜20のアリール基を表し、A〜Aの少なくとも1つの基が酸性基とする。)
The lithographic printing plate precursor according to claim 1, wherein the basic compound is represented by the following general formula (I).
Figure 2012208384
(In the above formula (I), L 1 to L 4 each independently represents a divalent alkylene group having 1 to 10 carbon atoms, or a divalent arylene group having 6 to 20 carbon atoms, an oxygen atom, or a nitrogen atom. A 1 to A 4 each independently represent an acidic group, a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, or a carbon number. Represents an aryl group of 6 to 20, and at least one group of A 1 to A 4 is an acidic group.)
前記塩基性化合物が下記一般式(II)〜(V)のいずれかで表されることを特徴とする請求項1又は2に記載の平版印刷用原版。
Figure 2012208384
(上記式(II)中、R〜Rはそれぞれ独立に、水素原子、炭素数1〜20のアルキル基、又は炭素数6〜20のアリール基を表す。Lは、炭素数1〜10の2価のアルキレン基又は炭素数6〜20の2価のアリーレン基、酸素原子、窒素原子を含む連結基、またはそれらの組合せによる連結基を表す。Aは、酸性基を表す。)
Figure 2012208384
(上記式(III)中、R〜Rはそれぞれ独立に、水素原子、炭素数1〜20のアルキル基、又は炭素数6〜20のアリール基を表す。Lは、炭素数1〜10の2価のアルキレン基又は炭素数6〜20の2価のアリーレン基、またはそれらの組合せによる連結基を表す。Aは、酸性基を表す。)
Figure 2012208384
(上記式(IV)中、R8〜R10はそれぞれ独立に、水素原子、炭素数1〜20のアルキル基、又は炭素数6〜20のアリール基を表す。LとLとはそれぞれ独立に、炭素数1〜10の2価のアルキレン基、炭素数6〜20の2価のアリーレン基、酸素原子、窒素原子を含む連結基、またはそれらの組合せによる連結基を表し、互いに環を形成してもよい。A、Aは、酸性基を表す。)
Figure 2012208384
(上記式(V)中、R11〜R13はそれぞれ独立に、水素原子、炭素数1〜20のアルキル基、又は炭素数6〜20のアリール基を表す。Lは、炭素数1〜10の2価のアルキレン基、炭素数6〜20の2価のアリーレン基、酸素原子、窒素原子を含む連結基、またはそれらの組合せによる連結基を表す。Aは、酸性基を表す。)
The lithographic printing plate precursor as claimed in claim 1 or 2, wherein the basic compound is represented by any one of the following formulas (II) to (V).
Figure 2012208384
(In the formula (II), in each of R 1 to R 4 independently represent a hydrogen atom, the .L 5 represents an alkyl group, or an aryl group having 6 to 20 carbon atoms having 1 to 20 carbon atoms, 1 to carbon atoms 10 represents a divalent alkylene group, a divalent arylene group having 6 to 20 carbon atoms, a linking group containing an oxygen atom or a nitrogen atom, or a combination thereof, and A 5 represents an acidic group.)
Figure 2012208384
(In the above formula (III), R 5 to R 7 each independently represents a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, or an aryl group having 6 to 20 carbon atoms. L 6 represents 1 to 1 carbon atoms. 10 represents a linking group formed of a divalent alkylene group having 10 carbon atoms, a divalent arylene group having 6 to 20 carbon atoms, or a combination thereof, and A 6 represents an acidic group.)
Figure 2012208384
(In the above formula (IV), R 8 to R 10 each independently represents a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, or an aryl group having 6 to 20 carbon atoms. L 7 and L 8 each represent Independently, it represents a divalent alkylene group having 1 to 10 carbon atoms, a divalent arylene group having 6 to 20 carbon atoms, a linking group containing an oxygen atom or a nitrogen atom, or a linking group thereof in combination. (A 7 and A 8 may represent an acidic group.)
Figure 2012208384
(In the above formula (V), R 11 to R 13 each independently represents a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, or an aryl group having 6 to 20 carbon atoms. L 9 represents 1 to 1 carbon atoms. 10 represents a divalent alkylene group having 10 carbon atoms, a divalent arylene group having 6 to 20 carbon atoms, a linking group containing an oxygen atom or a nitrogen atom, or a combination thereof, and A 9 represents an acidic group.)
前記酸性官能基がスルホンアミド基、置換スルホンアミド基、フェノール性ヒドロキシル基、チオフェノール性チオール基及びカルボキシル基からなる群から選ばれることを特徴とする請求項1〜3のいずれか1項に記載の平版印刷版原版。   The acidic functional group is selected from the group consisting of a sulfonamido group, a substituted sulfonamido group, a phenolic hydroxyl group, a thiophenolic thiol group, and a carboxyl group. Lithographic printing plate precursor. 前記アルカリ可溶性樹脂がポリウレタン、アクリル樹脂、又はアセタール樹脂である請求項1〜4のいずれか1項に記載の平版印刷版原版。   The lithographic printing plate precursor as claimed in any one of claims 1 to 4, wherein the alkali-soluble resin is polyurethane, acrylic resin, or acetal resin. 前記記録機能性が、上層、下層、及び下塗り層からなることを特徴とする請求項1〜5のいずれか1項に記載の平版印刷版原版。   6. The lithographic printing plate precursor as claimed in claim 1, wherein the recording functionality comprises an upper layer, a lower layer, and an undercoat layer. 前記上層に赤外線吸収剤を含有することを特徴とする請求項1〜6のいずれか1項に記載の平版印刷版原版。   The lithographic printing plate precursor as claimed in any one of claims 1 to 6, wherein the upper layer contains an infrared absorber. 前記下層にアルカリ可溶性樹脂を含有することを特徴とする請求項1〜7のいずれか1項に記載の平版印刷版原版。   The lithographic printing plate precursor as claimed in any one of claims 1 to 7, wherein the lower layer contains an alkali-soluble resin. 平版印刷版原版の支持体上に配設する記録機能層をなす感光性組成物であって、
少なくとも塩基性化合物を含有し、前記塩基性化合物が、pKa3〜14の酸性官能基と、pKa11〜18の共役酸をなす塩基性官能基とを有することを特徴とする感光性組成物。
A photosensitive composition forming a recording functional layer disposed on a lithographic printing plate precursor support,
A photosensitive composition comprising at least a basic compound, wherein the basic compound has an acidic functional group having a pKa of 3 to 14 and a basic functional group forming a conjugate acid of a pKa of 11 to 18.
前記塩基性化合物が下記一般式(I)で表されることを特徴とする請求項9に記載の感光性組成物。
Figure 2012208384
(上記式(I)中、L〜Lは、それぞれ独立に、炭素数1〜10の2価のアルキレン基、あるいは炭素数6〜20の2価のアリーレン基、酸素原子、窒素原子を含む連結基、硫黄原子、単結合、またはそれらの組合せによる連結基を表す。A〜Aは、それぞれ独立に、酸性基、あるいは水素原子、炭素数1〜20のアルキル基、又は炭素数6〜20のアリール基を表し、A〜Aの少なくとも1つの基が酸性基とする。)
The photosensitive composition according to claim 9, wherein the basic compound is represented by the following general formula (I).
Figure 2012208384
(In the above formula (I), L 1 to L 4 each independently represents a divalent alkylene group having 1 to 10 carbon atoms, or a divalent arylene group having 6 to 20 carbon atoms, an oxygen atom, or a nitrogen atom. A 1 to A 4 each independently represent an acidic group, a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, or a carbon number. Represents an aryl group of 6 to 20, and at least one group of A 1 to A 4 is an acidic group.)
前記塩基性化合物が下記一般式(II)〜(V)のいずれかで表されることを特徴とする請求項9に記載の感光性組成物。
Figure 2012208384
(上記式(II)中、R〜Rはそれぞれ独立に、水素原子、炭素数1〜20のアルキル基、又は炭素数6〜20のアリール基を表す。Lは、炭素数1〜10の2価のアルキレン基又は炭素数6〜20の2価のアリーレン基、酸素原子、窒素原子を含む連結基、またはそれらの組合せによる連結基を表す。Aは、酸性基を表す。)
Figure 2012208384
(上記式(III)中、R〜Rはそれぞれ独立に、水素原子、炭素数1〜20のアルキル基、又は炭素数6〜20のアリール基を表す。Lは、炭素数1〜10の2価のアルキレン基又は炭素数6〜20の2価のアリーレン基、またはそれらの組合せによる連結基を表す。Aは、酸性基を表す。)
Figure 2012208384
(上記式(IV)中、R8〜R10はそれぞれ独立に、水素原子、炭素数1〜20のアルキル基、又は炭素数6〜20のアリール基を表す。LとLとはそれぞれ独立に、炭素数1〜10の2価のアルキレン基、炭素数6〜20の2価のアリーレン基、酸素原子、窒素原子を含む連結基、またはそれらの組合せによる連結基を表し、互いに環を形成してもよい。A、Aは、酸性基を表す。)
Figure 2012208384
(上記式(V)中、R11〜R13はそれぞれ独立に、水素原子、炭素数1〜20のアルキル基、又は炭素数6〜20のアリール基を表す。Lは、炭素数1〜10の2価のアルキレン基、炭素数6〜20の2価のアリーレン基、酸素原子、窒素原子を含む連結基、単結合、またはそれらの組合せによる連結基を表す。Aは、酸性基を表す。)
The photosensitive composition according to claim 9, wherein the basic compound is represented by any one of the following general formulas (II) to (V).
Figure 2012208384
(In the formula (II), in each of R 1 to R 4 independently represent a hydrogen atom, the .L 5 represents an alkyl group, or an aryl group having 6 to 20 carbon atoms having 1 to 20 carbon atoms, 1 to carbon atoms 10 represents a divalent alkylene group, a divalent arylene group having 6 to 20 carbon atoms, a linking group containing an oxygen atom or a nitrogen atom, or a combination thereof, and A 5 represents an acidic group.)
Figure 2012208384
(In the above formula (III), R 5 to R 7 each independently represents a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, or an aryl group having 6 to 20 carbon atoms. L 6 represents 1 to 1 carbon atoms. 10 represents a linking group formed of a divalent alkylene group having 10 carbon atoms, a divalent arylene group having 6 to 20 carbon atoms, or a combination thereof, and A 6 represents an acidic group.)
Figure 2012208384
(In the above formula (IV), R 8 to R 10 each independently represents a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, or an aryl group having 6 to 20 carbon atoms. L 7 and L 8 each represent Independently, it represents a divalent alkylene group having 1 to 10 carbon atoms, a divalent arylene group having 6 to 20 carbon atoms, a linking group containing an oxygen atom or a nitrogen atom, or a linking group thereof in combination. (A 7 and A 8 may represent an acidic group.)
Figure 2012208384
(In the above formula (V), R 11 to R 13 each independently represents a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, or an aryl group having 6 to 20 carbon atoms. L 9 represents 1 to 1 carbon atoms. 10 represents a divalent alkylene group having 10 carbon atoms, a divalent arylene group having 6 to 20 carbon atoms, a linking group containing an oxygen atom or a nitrogen atom, a single bond, or a combination thereof, and A 9 represents an acidic group. To express.)
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