JP2009109617A - Method for manufacturing positive planographic printing plate material - Google Patents

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Tatsuichi Maehashi
達一 前橋
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a method for manufacturing a positive planographic printing plate material for providing high productivity without producing scratches in an image forming layer. <P>SOLUTION: The method for manufacturing a positive planographic printing plate includes steps of applying and drying an image forming layer on an aluminum support in a roll state and having a roughened surface, cutting the support into sheets and stacking, and is characterized in that: a slip sheet is placed between the planographic printing plate materials cut into sheets; the coefficient of static friction (μ1) between the surface of the slip sheet and the image forming layer of the planographic printing plate material is higher by 0.05 to 0.3 than the coefficient of dynamic friction (μ2) between the back surface of the slip sheet and the back face of the aluminum support of the plate material; and the planographic printing plate materials (cut into sheets with a slip sheet placed between the plate materials) are mounted on an inclined mount. <P>COPYRIGHT: (C)2009,JPO&INPIT

Description

本発明は、いわゆるコンピューター・トゥ・プレート(computer−to−plate:以下において、「CTP」という)システムに用いられるポジ型の画像形成層を有する平版印刷版材料の製造方法に関し、更に詳しくは画像形成面に傷を発生させることなく、高生産性を実現することのできるポジ型の平版印刷版材料の製造方法に関する。   The present invention relates to a method for producing a lithographic printing plate material having a positive type image forming layer used in a so-called computer-to-plate (hereinafter referred to as “CTP”) system. The present invention relates to a method for producing a positive planographic printing plate material capable of realizing high productivity without causing scratches on a forming surface.

活性光の照射によって、露光部が現像液に可溶化するポジ型の組成物を使用した平版印刷版材料としては、熱酸発生剤と酸分解性化合物とを含有する画像形成層(「感光性層」ともいう。)を有する画像形成材料が知られている。例えば、オルトカルボン酸又はカルボン酸アミドアセタール基を有する化合物を含有する技術(例えば、特許文献1参照。)、主鎖にアセタールを有する化合物を含有する技術(例えば、特許文献2参照。)、及びシリルエーテル基を有する化合物を含有する技術(例えば、特許文献3参照。)等が特許文献等に開示されている。   As a lithographic printing plate material using a positive composition in which an exposed portion is solubilized in a developer upon irradiation with actinic light, an image forming layer containing a thermal acid generator and an acid-decomposable compound (“photosensitive An image forming material having a layer is also known. For example, a technique containing a compound having an orthocarboxylic acid or carboxylic acid amide acetal group (for example, see Patent Document 1), a technique containing a compound having an acetal in the main chain (for example, see Patent Document 2), and A technique containing a compound having a silyl ether group (see, for example, Patent Document 3) is disclosed in Patent Document.

別の例としては、フェノール性水酸基を含有する樹脂と、光熱変換剤とを含有し、露光部で発生した熱によりフェノール性水酸基を含有する樹脂のアルカリ溶解性を増大せしめて画像形成する技術も知られている。   As another example, there is also a technique for forming an image by containing a resin containing a phenolic hydroxyl group and a photothermal conversion agent, and increasing the alkali solubility of the resin containing the phenolic hydroxyl group by heat generated in an exposed area. Are known.

近年、製版データのデジタル化にともない、デジタルデータを直接レーザ信号に変調し、平版印刷版材料を露光するいわゆるCTPシステムが普及している。近年におけるレーザの発展は目ざましく、特に近赤外から赤外に発光領域を持つ固体レーザ・半導体レーザは高出力かつ小型のものが容易に入手できる様になっている。コンピュータ等のデジタルデータから直接製版する際の露光光源として、これらのレーザは非常に有用である。   In recent years, with the digitization of plate making data, a so-called CTP system that modulates digital data directly into a laser signal and exposes a lithographic printing plate material has become widespread. In recent years, the development of lasers has been remarkable. In particular, solid-state lasers and semiconductor lasers having a light emitting region from near infrared to infrared can be easily obtained with high output and small size. These lasers are very useful as an exposure light source when directly making a plate from digital data such as a computer.

前述のポジ型の感光材料に、近赤外線吸収剤を光熱変換剤として含有せしめることで、赤外線吸収剤の発生した熱で露光部のアルカリ溶解性を増大せしめ、画像形成することで近赤外のレーザに感度を有する組成物を得ることが可能であり、この技術を利用した平版印刷版材料が実用化されている(例えば、特許文献4、5参照)。   By adding a near-infrared absorber as a photothermal conversion agent to the positive photosensitive material described above, the alkali solubility of the exposed area is increased by the heat generated by the infrared absorber, and the near-infrared ray is formed by forming an image. A composition having sensitivity to laser can be obtained, and a lithographic printing plate material using this technique has been put into practical use (for example, see Patent Documents 4 and 5).

ポジ型の平版印刷版材料は、その画像形成原理から、現像前に画像形成面に圧力が加わったり、表面に傷が付いたりすると、その部分が現像処理により深い傷として顕在化し、問題になることがあった。特に生産速度を上げると、ライン上で画像形成層に加わる圧力が強くなり、傷発生に不利になる。   Positive type lithographic printing plate materials have a problem in that if the pressure is applied to the image forming surface before development or the surface is scratched due to the principle of image formation, the portion becomes apparent as a deep scratch by the development process. There was a thing. In particular, when the production speed is increased, the pressure applied to the image forming layer on the line is increased, which is disadvantageous for the generation of scratches.

製造時、あるいは取り扱い時の傷発生を防止するために、画像形成層の機械強度を高める工夫も提案されているが、その場合には画像形成感度の劣化が大きく、製版時の生産性を著しく低下させてしまい実用的でない。   In order to prevent scratches during manufacturing or handling, a device for increasing the mechanical strength of the image forming layer has also been proposed. In that case, however, the image forming sensitivity is greatly deteriorated and the productivity during plate making is remarkably increased. It is lowered and is not practical.

ポジ型の平版印刷版材料は、原理上、製造直後(塗布・乾燥直後)に画像形成層の溶解抑制機能が不十分であり、弱い衝撃に対しても傷付き易いため、製造時のポジ型の平版印刷版材料に対しては極めて慎重な取り扱いが必要であった。
米国特許第3,779,779号明細書 特開昭53−133429号公報 特開昭60−37549号公報 特開2000−3031号公報 特開平10−55067号公報
Positive type lithographic printing plate materials, in principle, have insufficient functions to suppress dissolution of the image forming layer immediately after production (immediately after coating and drying), and are easily damaged by weak impacts. The lithographic printing plate material required extremely careful handling.
US Pat. No. 3,779,779 JP-A-53-133429 JP-A-60-37549 JP 2000-3031 A Japanese Patent Laid-Open No. 10-55067

本発明は、上記課題に鑑みなされたものであり、本発明の目的は、画像形成層に傷の発生することなく、高い生産性が得られるポジ型の平版印刷版材料の製造方法を提供することにある。   The present invention has been made in view of the above problems, and an object of the present invention is to provide a method for producing a positive lithographic printing plate material that can achieve high productivity without causing scratches on the image forming layer. There is.

本発明の上記目的は、下記の構成により達成される。   The above object of the present invention can be achieved by the following constitution.

1.粗面化されたロール状のアルミニウム支持体に、画像形成層が塗布・乾燥された後、枚葉状に切断、積載する工程を有するポジ型の平版印刷版材料の製造方法において、枚葉状に切断された各平版印刷版材料の間に合紙が設置されており、前記合紙の表面と前記平版印刷版材料の画像形成層との静止摩擦係数(μ1)が、前記合紙の裏面と前記平版印刷版材料のアルミ支持体の裏面との動摩擦係数(μ2)よりも0.05〜0.3大きく、かつ平版印刷版材料を傾斜された架台の上に(枚葉状に切断された各平版印刷版材料の間に合紙が設置されて)積載することを特徴とするポジ型の平版印刷版材料の製造方法。   1. After the image forming layer is applied and dried to a roughened roll-shaped aluminum support, it is cut into sheets in a method for producing a positive-type planographic printing plate material having a process of cutting and stacking into sheets. A slip sheet is placed between each of the lithographic printing plate materials, and a static friction coefficient (μ1) between the surface of the slip sheet and the image forming layer of the lithographic printing plate material is such that the back surface of the slip sheet and the The lithographic printing plate material is 0.05 to 0.3 larger than the dynamic friction coefficient (μ2) of the lithographic printing plate material with the back surface of the aluminum support, and the lithographic printing plate material is placed on a tilted base (each lithographic plate cut into sheets) A method for producing a positive planographic printing plate material, wherein a slip sheet is installed between the printing plate materials).

2.前記合紙の表面と前記平版印刷版材料の画像形成層との静止摩擦係数(μ1)が0.4〜0.8、かつ前記合紙の裏面と前記平版印刷版材料のアルミ支持体の裏面との動摩擦係数(μ2)が0.3〜0.6の範囲にあることを特徴とする1に記載のポジ型の平版印刷版材料の製造方法。   2. The static friction coefficient (μ1) between the surface of the slip sheet and the image forming layer of the lithographic printing plate material is 0.4 to 0.8, and the back surface of the slip sheet and the back surface of the aluminum support of the lithographic printing plate material 2. The method for producing a positive planographic printing plate material according to 1, wherein the coefficient of dynamic friction (μ2) is in the range of 0.3 to 0.6.

3.前記枚葉状に断裁された平版印刷版材料の移動方向前方端面のバリが、画像形成層側に0〜50μm、または、裏面側に0〜−50μmの範囲であることを特徴とする1または2に記載のポジ型の平版印刷版材料の製造方法。   3. The burrs on the front end surface in the moving direction of the lithographic printing plate material cut into a sheet are in the range of 0 to 50 μm on the image forming layer side, or 0 to −50 μm on the back side. A method for producing a positive planographic printing plate material as described in 1 above.

4.前記画像形成層がフェノール性水酸基を有する樹脂、及び赤外線を吸収して熱に変換する色素を含有していることを特徴とする1〜3のいずれか1項に記載のポジ型の平版印刷版材料の製造方法。   4). The positive lithographic printing plate according to any one of 1 to 3, wherein the image forming layer contains a resin having a phenolic hydroxyl group and a dye that absorbs infrared rays and converts it into heat. Material manufacturing method.

本発明によれば、画像形成層に傷の発生することなく、高い生産性が得られるポジ型の平版印刷版材料の製造方法を提供することができる。   ADVANTAGE OF THE INVENTION According to this invention, the manufacturing method of the positive type lithographic printing plate material which can obtain high productivity, without generating a damage | wound in an image forming layer can be provided.

以下、本発明を実施するための最良の形態について説明するが、本発明はこれらに限定されない。   Hereinafter, although the best mode for carrying out the present invention will be described, the present invention is not limited to these.

本発明のポジ型の平版印刷版材料の製造方法は、粗面化されたロール状のアルミニウム支持体に、画像形成層が塗布・乾燥された後、枚葉状に切断、積載する工程を有するポジ型の平版印刷版材料の製造方法において、枚葉状に切断された各平版印刷版材料の間に合紙が設置されており、前記合紙の表面と前記平版印刷版材料の画像形成層との静止摩擦係数(μ1)が、前記合紙の裏面と前記平版印刷版材料のアルミ支持体の裏面との動摩擦係数(μ2)よりも0.05〜0.3、かつ平版印刷版材料を傾斜された架台の上に(枚葉状に切断された各平版印刷版材料の間に合紙が設置されて)積載することを特徴とする。   The method for producing a positive planographic printing plate material according to the present invention comprises a step of cutting and stacking into a sheet after an image forming layer is applied and dried on a roughened aluminum support in a roll shape. In the method for producing a lithographic printing plate material of a mold, a slip sheet is installed between each lithographic printing plate material cut into sheets, and the surface of the slip sheet and the image forming layer of the lithographic printing plate material The static friction coefficient (μ1) is 0.05 to 0.3 than the dynamic friction coefficient (μ2) between the back surface of the slip sheet and the back surface of the aluminum support of the lithographic printing plate material, and the lithographic printing plate material is inclined. It is characterized in that it is stacked on a pedestal (with a slip sheet installed between each lithographic printing plate material cut into sheets).

以下、本発明を詳しく説明する。   The present invention will be described in detail below.

《1.支持体》
本発明に係る平版印刷版材料に用いることができる支持体(粗面化されたロール状のアルミニウム支持体)は、アルミニウム板が好ましく使用され、この場合、純アルミニウム板及びアルミニウム合金板等であってもかまわない。
<< 1. Support
As the support (roughened roll-shaped aluminum support) that can be used for the lithographic printing plate material according to the present invention, an aluminum plate is preferably used. In this case, a pure aluminum plate, an aluminum alloy plate, or the like is used. It doesn't matter.

支持体のアルミニウム合金としては、種々のものが使用でき、例えば、珪素、銅、マンガン、マグネシウム、クロム、亜鉛、鉛、ビスマス、ニッケル、チタン、ナトリウム、鉄等の金属とアルミニウムの合金が用いられ、各種圧延方法により製造されたアルミニウム板が使用できる。また、近年普及しつつあるスクラップ材およびリサイクル材などの再生アルミニウム地金を圧延した再生アルミニウム板も使用できる。   Various aluminum alloys can be used as the support, such as alloys of aluminum and metals such as silicon, copper, manganese, magnesium, chromium, zinc, lead, bismuth, nickel, titanium, sodium, iron, etc. Aluminum plates manufactured by various rolling methods can be used. In addition, a recycled aluminum plate obtained by rolling recycled aluminum ingots such as scrap materials and recycled materials that are becoming popular in recent years can also be used.

本発明の平版印刷版材料に用いることができる支持体は、粗面化(砂目立て処理)するに先立って表面の圧延油を除去するために脱脂処理を施すことが好ましい。脱脂処理としては、トリクレン、シンナー等の溶剤を用いる脱脂処理、ケシロン、トリエタノール等のエマルジョンを用いたエマルジョン脱脂処理等が用いられる。又、脱脂処理には、苛性ソーダ等のアルカリの水溶液を用いることもできる。脱脂処理に苛性ソーダ等のアルカリ水溶液を用いた場合、上記脱脂処理のみでは除去できない汚れや酸化皮膜も除去することができる。脱脂処理に苛性ソーダ等のアルカリ水溶液を用いた場合、支持体の表面にはスマットが生成するので、この場合には、燐酸、硝酸、硫酸、クロム酸等の酸、或いはそれらの混酸に浸漬しデスマット処理を施すことが好ましい。   The support that can be used for the lithographic printing plate material of the present invention is preferably subjected to a degreasing treatment in order to remove rolling oil on the surface prior to roughening (graining treatment). As the degreasing treatment, a degreasing treatment using a solvent such as trichlene or thinner, an emulsion degreasing treatment using an emulsion such as kesilon or triethanol, or the like is used. In addition, an alkaline aqueous solution such as caustic soda can be used for the degreasing treatment. When an alkaline aqueous solution such as caustic soda is used for the degreasing treatment, dirt and oxide film that cannot be removed only by the degreasing treatment can be removed. When an alkaline aqueous solution such as caustic soda is used for the degreasing treatment, smut is generated on the surface of the support. In this case, the substrate is immersed in an acid such as phosphoric acid, nitric acid, sulfuric acid, chromic acid, or a mixed acid thereof and desmutted. It is preferable to perform the treatment.

粗面化の方法としては、例えば、機械的方法、電解によりエッチングする方法が挙げられる。   Examples of the roughening method include a mechanical method and a method of etching by electrolysis.

用いられる機械的粗面化法は特に限定されるものではないが、ブラシ研磨法、ホーニング研磨法が好ましい。ブラシ研磨法による粗面化は、例えば、直径0.2〜0.8mmのブラシ毛を使用した回転ブラシを回転し、支持体表面に、例えば、粒径10〜100μmの火山灰の粒子を水に均一に分散させたスラリーを供給しながら、ブラシを押し付けて行うことができる。ホーニング研磨による粗面化は、例えば、粒径10〜100μmの火山灰の粒子を水に均一に分散させ、ノズルより圧力をかけ射出し、支持体表面に斜めから衝突させて粗面化を行うことができる。又、例えば、支持体表面に、粒径10〜100μmの研磨剤粒子を、100〜200μmの間隔で、2.5×103〜10×103個/cm2の密度で存在するように塗布したシートを張り合わせ、圧力をかけてシートの粗面パターンを転写することにより粗面化を行うこともできる。 The mechanical roughening method used is not particularly limited, but a brush polishing method and a honing polishing method are preferable. The roughening by the brush polishing method is, for example, by rotating a rotating brush using a bristle having a diameter of 0.2 to 0.8 mm, and for example, volcanic ash particles having a particle size of 10 to 100 μm on water. While supplying the uniformly dispersed slurry, the brush can be pressed. The roughening by honing polishing is performed by, for example, uniformly dispersing volcanic ash particles having a particle size of 10 to 100 μm in water, injecting pressure from a nozzle, and causing the surface to collide obliquely with the support surface. Can do. Further, for example, abrasive particles having a particle size of 10 to 100 μm are applied to the support surface so as to be present at a density of 2.5 × 10 3 to 10 × 10 3 particles / cm 2 at intervals of 100 to 200 μm. Roughening can also be performed by laminating the sheets and applying a pressure to transfer the rough surface pattern of the sheet.

上記の機械的粗面化法で粗面化した後、支持体の表面に食い込んだ研磨剤、形成されたアルミニウム屑等を取り除くため、酸又はアルカリの水溶液に浸漬することが好ましい。酸としては、例えば、硫酸、過硫酸、弗酸、燐酸、硝酸、塩酸等が用いられ、塩基としては、例えば水酸化ナトリウム、水酸化カリウム等が用いられる。これらの中でも、水酸化ナトリウム等のアルカリ水溶液を用いるのが好ましい。表面のアルミニウムの溶解量としては、0.5〜5g/m2が好ましい。アルカリ水溶液で浸漬処理を行った後、燐酸、硝酸、硫酸、クロム酸等の酸或いはそれらの混酸に浸漬し中和処理を施すことが好ましい。 After the surface is roughened by the mechanical surface roughening method, it is preferable to immerse in an aqueous solution of acid or alkali in order to remove the abrasive that has digged into the surface of the support, formed aluminum scraps, and the like. Examples of the acid include sulfuric acid, persulfuric acid, hydrofluoric acid, phosphoric acid, nitric acid, hydrochloric acid, and the like. Examples of the base include sodium hydroxide and potassium hydroxide. Among these, it is preferable to use an aqueous alkali solution such as sodium hydroxide. The dissolution amount of aluminum in the support surface, 0.5 to 5 g / m 2 is preferred. After the immersion treatment with an alkaline aqueous solution, it is preferable to carry out a neutralization treatment by immersion in an acid such as phosphoric acid, nitric acid, sulfuric acid, chromic acid or a mixed acid thereof.

電気化学的粗面化法も特に限定されるものではないが、酸性電解液中で電気化学的に粗面化を行う方法が好ましい。酸性電解液は、電気化学的粗面化法に通常用いられる酸性電解液を使用することができるが、塩酸系または硝酸系電解液を用いるのが好ましい。電気化学的粗面化方法については、例えば、特公昭48−28123号、英国特許第896,563号、特開昭53−67507号に記載されている方法を用いることができる。この粗面化法は、一般には、1〜50ボルトの範囲の電圧を印加することによって行うことができるが、10〜30ボルトの範囲から選ぶのが好ましい。電流密度は、10〜200A/dm2の範囲を用いることができるが、50〜150A/dm2の範囲から選ぶのが好ましい。電気量は、100〜5000c/dm2の範囲を用いることができるが、100〜2000c/dm2の範囲から選ぶのが好ましい。この粗面化法を行う温度は、10〜50℃の範囲を用いることができるが、15〜45℃の範囲から選ぶのが好ましい。 The electrochemical surface roughening method is not particularly limited, but a method of electrochemical surface roughening in an acidic electrolyte is preferable. As the acidic electrolytic solution, an acidic electrolytic solution usually used in an electrochemical surface roughening method can be used, but a hydrochloric acid-based or nitric acid-based electrolytic solution is preferably used. As the electrochemical surface roughening method, for example, methods described in Japanese Patent Publication No. 48-28123, British Patent No. 896,563 and Japanese Patent Laid-Open No. 53-67507 can be used. This roughening method can be generally performed by applying a voltage in the range of 1 to 50 volts, but is preferably selected from the range of 10 to 30 volts. Current density may be in the range of 10 to 200 A / dm 2, preferably selected from the range of 50 to 150 A / dm 2. The quantity of electricity, may be in the range of 5000 C / dm 2, preferably selected from the range of 100~2000c / dm 2. The temperature at which the roughening method is performed can be in the range of 10 to 50 ° C, but is preferably selected from the range of 15 to 45 ° C.

電解液として硝酸系電解液を用いて電気化学的粗面化を行う場合、一般には、1〜50ボルトの範囲の電圧を印加することによって行うことができるが、10〜30ボルトの範囲から選ぶのが好ましい。電流密度は、10〜200A/dm2の範囲を用いることができるが、20〜100A/dm2の範囲から選ぶのが好ましい。電気量は、100〜5000c/dm2の範囲を用いることができるが、100〜2000c/dm2の範囲から選ぶのが好ましい。電気化学的粗面化法を行う温度は、10〜50℃の範囲を用いることができるが、15〜45℃の範囲から選ぶのが好ましい。電解液における硝酸濃度は0.1〜5質量%が好ましい。電解液には、必要に応じて、硝酸塩、塩化物、アミン類、アルデヒド類、燐酸、クロム酸、ホウ酸、酢酸、しゅう酸等を加えることができる。 When electrochemical surface roughening is performed using a nitric acid-based electrolyte as the electrolyte, it can be generally performed by applying a voltage in the range of 1 to 50 volts, but is selected from the range of 10 to 30 volts. Is preferred. Current density may be in the range of 10 to 200 A / dm 2, preferably selected from the range of 20 to 100 A / dm 2. The quantity of electricity, may be in the range of 5000 C / dm 2, preferably selected from the range of 100~2000c / dm 2. The temperature at which the electrochemical roughening method is performed can be in the range of 10 to 50 ° C, but is preferably selected from the range of 15 to 45 ° C. The concentration of nitric acid in the electrolytic solution is preferably 0.1 to 5% by mass. If necessary, nitrates, chlorides, amines, aldehydes, phosphoric acid, chromic acid, boric acid, acetic acid, oxalic acid, and the like can be added to the electrolytic solution.

電解液として塩酸系電解液を用いる場合、一般には、1〜50ボルトの範囲の電圧を印加することによって行うことができるが、2〜30ボルトの範囲から選ぶのが好ましい。電流密度は、10〜200A/dm2の範囲を用いることができるが、50〜150A/dm2の範囲から選ぶのが好ましい。電気量は、100〜5000c/dm2の範囲を用いることができるが、好ましくは100〜2000c/dm2、更には200〜1000c/dm2の範囲から選ぶのがより好ましい。電気化学的粗面化法を行う温度は、10〜50℃の範囲を用いることができるが、15〜45℃の範囲から選ぶのが好ましい。電解液における塩酸濃度は0.1〜5質量%が好ましい。電解液には、必要に応じて、硝酸塩、塩化物、アミン類、アルデヒド類、燐酸、クロム酸、ホウ酸、酢酸、しゅう酸等を加えることができる。 When a hydrochloric acid-based electrolyte is used as the electrolyte, it can be generally applied by applying a voltage in the range of 1 to 50 volts, but is preferably selected from the range of 2 to 30 volts. Current density may be in the range of 10 to 200 A / dm 2, preferably selected from the range of 50 to 150 A / dm 2. The quantity of electricity, may be in the range of 5000 C / dm 2, preferably 100~2000c / dm 2, and more and more preferably selected from the range of 200~1000c / dm 2. The temperature at which the electrochemical roughening method is performed can be in the range of 10 to 50 ° C, but is preferably selected from the range of 15 to 45 ° C. The concentration of hydrochloric acid in the electrolytic solution is preferably 0.1 to 5% by mass. If necessary, nitrates, chlorides, amines, aldehydes, phosphoric acid, chromic acid, boric acid, acetic acid, oxalic acid, and the like can be added to the electrolytic solution.

上記の電気化学的粗面化法で粗面化した後、表面のアルミニウム屑等を取り除くため、酸又はアルカリの水溶液に浸漬することが好ましい。酸としては、例えば、硫酸、過硫酸、弗酸、燐酸、硝酸、塩酸等が用いられ、塩基としては、例えば、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム等が用いられる。これらの中でもアルカリの水溶液を用いるのが好ましい。表面のアルミニウムの溶解量としては、0.5〜5g/m2が好ましい。又、アルカリの水溶液で浸漬処理を行った後、燐酸、硝酸、硫酸、クロム酸等の酸或いはそれらの混酸に浸漬し中和処理を施すことが好ましい。 After the surface is roughened by the electrochemical surface roughening method, it is preferably immersed in an acid or alkali aqueous solution in order to remove aluminum scraps on the surface. Examples of the acid include sulfuric acid, persulfuric acid, hydrofluoric acid, phosphoric acid, nitric acid, hydrochloric acid, and the like. Examples of the base include sodium hydroxide and potassium hydroxide. Among these, it is preferable to use an alkaline aqueous solution. The dissolution amount of aluminum in the support surface, 0.5 to 5 g / m 2 is preferred. In addition, it is preferable that after the immersion treatment with an alkaline aqueous solution, neutralization treatment is performed by immersion in an acid such as phosphoric acid, nitric acid, sulfuric acid, chromic acid or a mixed acid thereof.

機械的粗面化法、電気化学的粗面化法はそれぞれ単独で用いて粗面化してもよいし、又、機械的粗面化処理法に次いで電気化学的粗面化法を行って粗面化してもよい。   The mechanical surface roughening method and the electrochemical surface roughening method may each be used alone for roughening, or the mechanical surface roughening treatment method followed by the electrochemical surface roughening method may be used for roughening. You may face it.

粗面化処理の次には、陽極酸化処理を行うことができる。本発明において用いることができる陽極酸化処理の方法には特に制限はなく、公知の方法を用いることができる。陽極酸化処理を行うことにより、支持体上には酸化皮膜が形成される。該陽極酸化処理には、硫酸及び/又は燐酸等を10〜50%の濃度で含む水溶液を電解液として、電流密度1〜10A/dm2で電解する方法が好ましく用いられるが、他に、米国特許第1,412,768号に記載されている硫酸中で高電流密度で電解する方法や、同3,511,661号公報に記載されている燐酸を用いて電解する方法、クロム酸、シュウ酸、マロン酸等を一種又は二種以上含む溶液を用いる方法等が挙げられる。形成された陽極酸化被覆量は、1〜50mg/dm2が適当であり、好ましくは10〜40mg/dm2である。陽極酸化被覆量は、例えばアルミニウム板を燐酸クロム酸溶液(燐酸85%液:35ml、酸化クロム(IV):20gを1Lの水に溶解して作製)に浸積し、酸化被膜を溶解し、板の被覆溶解前後の質量変化測定等から求められる。 Following the roughening treatment, an anodic oxidation treatment can be performed. There is no restriction | limiting in particular in the method of the anodizing process which can be used in this invention, A well-known method can be used. By performing the anodizing treatment, an oxide film is formed on the support. For the anodizing treatment, a method of electrolyzing an aqueous solution containing sulfuric acid and / or phosphoric acid at a concentration of 10 to 50% as an electrolytic solution at a current density of 1 to 10 A / dm 2 is preferably used. The method of electrolyzing at high current density in sulfuric acid described in Japanese Patent No. 1,412,768, the method of electrolyzing using phosphoric acid described in Japanese Patent No. 3,511,661, chromic acid, Examples thereof include a method using a solution containing one or more acids, malonic acids and the like. The formed anodic oxidation coating amount is suitably 1 to 50 mg / dm 2 , preferably 10 to 40 mg / dm 2 . The anodized coating amount is obtained by, for example, immersing an aluminum plate in a chromic phosphate solution (85% phosphoric acid solution: 35 ml, prepared by dissolving 20 g of chromium (IV) oxide in 1 L of water) to dissolve the oxide film, It is obtained from mass change measurement before and after dissolution of the coating on the plate.

陽極酸化処理された支持体は、必要に応じ封孔処理を施してもよい。これら封孔処理は、熱水処理、沸騰水処理、水蒸気処理、珪酸ソーダ処理、重クロム酸塩水溶液処理、亜硝酸塩処理、酢酸アンモニウム処理等公知の方法を用いて行うことができる。更に、本発明では、これらの処理を行った後に、ポリビニルホスホン酸で支持体表面を被覆する処理を行うことができる。被覆処理としては、塗布式、スプレー式、ディップ式等限定されないが、設備を安価にするにはディップ式が好適である。   The anodized support may be sealed as necessary. These sealing treatments can be performed using known methods such as hot water treatment, boiling water treatment, water vapor treatment, sodium silicate treatment, dichromate aqueous solution treatment, nitrite treatment, and ammonium acetate treatment. Furthermore, in this invention, after performing these processes, the process which coat | covers a support body surface with polyvinylphosphonic acid can be performed. The coating treatment is not limited to a coating method, a spray method, a dip method, or the like, but a dip method is suitable for making the equipment inexpensive.

ディップ式の場合には、ポリビニルホスホン酸を0.01〜35%の水溶液で処理することが好ましく、0.1〜5%水溶液が特に好ましい。処理温度は20℃以上90℃以下が好ましく、40℃以上80℃以下がより好ましい。20℃未満では印刷汚れが悪く、90℃より高いと耐刷性が悪くなる。   In the case of a dip type, it is preferable to treat polyvinylphosphonic acid with a 0.01 to 35% aqueous solution, and a 0.1 to 5% aqueous solution is particularly preferable. The treatment temperature is preferably 20 ° C. or higher and 90 ° C. or lower, and more preferably 40 ° C. or higher and 80 ° C. or lower. If it is lower than 20 ° C., printing stains are bad, and if it is higher than 90 ° C., printing durability is deteriorated.

処理時間は10〜180秒が好ましい。処理後、過剰に積層したポリビニルホスホン酸を除去するため、スキージ処理または水洗処理を行うことが好ましい。更に乾燥処理を行うことが好ましい。乾燥温度としては、20〜95℃が好ましい。   The treatment time is preferably 10 to 180 seconds. After the treatment, it is preferable to perform a squeegee treatment or a water washing treatment in order to remove the excessively laminated polyvinylphosphonic acid. Furthermore, it is preferable to perform a drying process. As a drying temperature, 20-95 degreeC is preferable.

アルミニウム支持体表面のポリビニルホスホン酸の付量は3〜20mg/m2が好ましい。特に、4〜15mg/m2が好ましい。3mg/m2未満だと非画像部の印刷汚れが発生し、20mgより多いと耐刷性が劣化する。 The applied amount of polyvinylphosphonic acid on the surface of the aluminum support is preferably 3 to 20 mg / m2. Particularly, 4 to 15 mg / m 2 is preferable. If it is less than 3 mg / m 2 , printing stains in the non-image area will occur, and if it exceeds 20 mg, the printing durability will deteriorate.

ポリビニルホスホン酸水溶液濃度、処理温度、処理時間を種々組み合わせ、所望の被覆量を得ることが出来る。   Various concentrations of polyvinylphosphonic acid aqueous solution concentration, treatment temperature, and treatment time can be combined to obtain a desired coating amount.

アルミニウム支持体表面にポリビニルスルホン酸が被覆した状態における、表面のリン原子濃度(atm%)は、3〜15atm%が好ましい。特に好ましくは、5〜9atm%である。   The surface phosphorus atom concentration (atm%) in a state where the surface of the aluminum support is coated with polyvinyl sulfonic acid is preferably 3 to 15 atm%. Especially preferably, it is 5-9 atm%.

親水性支持体の厚みは、100〜350μmが好まく、より好ましくは150〜300μmである。又親水性支持体の感光層を塗工する表面の粗さ(Ra)は、0.30〜0.70μmが好ましく、より好ましくは0.35〜0.60μmである。   The thickness of the hydrophilic support is preferably from 100 to 350 μm, more preferably from 150 to 300 μm. The surface roughness (Ra) on which the photosensitive layer of the hydrophilic support is applied is preferably from 0.30 to 0.70 [mu] m, more preferably from 0.35 to 0.60 [mu] m.

《2.画像形成層》
(フェノール性水酸基を有する樹脂)
本発明に係る平版印刷版材料の画像形成層には、フェノール性水酸基を有する樹脂を含有していることが好ましい。
<< 2. Image forming layer >>
(Resin having a phenolic hydroxyl group)
The image forming layer of the lithographic printing plate material according to the present invention preferably contains a resin having a phenolic hydroxyl group.

本発明で使用できるフェノール水酸基を有する樹脂としては、フェノール類をアルデヒド類で縮合してなるノボラック樹脂が挙げられる。フェノール類としては、フェノール、m−クレゾール、p−クレゾール、m−/p−混合クレゾール、フェノールとクレゾール(m−、p−、またはm−/p−混合のいずれでもよい)、ピロガロール、フェノール基を有するアクリルアミド、メタクリルアミド、アクリル酸エステル、メタクリル酸エステル、またはヒドロキシスチレン等が挙げられる。また置換フェノール類であるイソプロピルフェノール、t−ブチルフェノール、t−アミルフェノール、ヘキシルフェノール、シクロヘキシルフェノール、3−メチル−4−クロロ−6−t−ブチルフェノール、イソプロピルクレゾール、t−ブチルクレゾール、t−アミルクレゾールが挙げられる。好ましくは、t−ブチルフェノール、t−ブチルクレゾールも使用できる。一方、アルデヒド類の例としては、ホルムアルデヒド、アセトアルデヒド、アクロレイン、クロトンアルデヒド等の脂肪族及び芳香族アルデヒドが挙げられる。好ましくは、ホルムアルデヒド又はアセトアルデヒドであり、特にホルムアルデヒドであることが最も好ましい。   Examples of the resin having a phenolic hydroxyl group that can be used in the present invention include novolak resins obtained by condensing phenols with aldehydes. Phenols include phenol, m-cresol, p-cresol, m- / p-mixed cresol, phenol and cresol (any of m-, p-, or m- / p-mixed), pyrogallol, phenol group Acrylamide, methacrylamide, acrylic acid ester, methacrylic acid ester, hydroxystyrene, etc. having In addition, substituted phenols such as isopropylphenol, t-butylphenol, t-amylphenol, hexylphenol, cyclohexylphenol, 3-methyl-4-chloro-6-t-butylphenol, isopropylcresol, t-butylcresol, and t-amylresole. Is mentioned. Preferably, t-butylphenol and t-butylcresol can also be used. On the other hand, examples of aldehydes include aliphatic and aromatic aldehydes such as formaldehyde, acetaldehyde, acrolein, and crotonaldehyde. Preferred is formaldehyde or acetaldehyde, and most preferred is formaldehyde.

上記組み合わせの中で好ましくは、フェノール−ホルムアルデヒド、m−クレゾール−ホルムアルデヒド、p−クレゾール−ホルムアルデヒド、m−/p−混合クレゾール−ホルムアルデヒド、フェノール/クレゾール(m−、p−、o−、m−/p−混合、m−/o−混合およびo−/p−混合のいずれでもよい。)混合−ホルムアルデヒドである。特にクレゾール(m−、p−混合)−ホルムアルデヒドであることが好ましい。   Among the above combinations, preferably phenol-formaldehyde, m-cresol-formaldehyde, p-cresol-formaldehyde, m- / p-mixed cresol-formaldehyde, phenol / cresol (m-, p-, o-, m- / Any of p-mixing, m- / o-mixing and o- / p-mixing.) Mixed-formaldehyde. Particularly preferred is cresol (m-, p-mixed) -formaldehyde.

これらのノボラック樹脂としては、重量平均分子量は1,000以上、数平均分子量が200以上のものが好ましい。更に好ましくは、重量平均分子量が1500〜300,000で、数平均分子量が300〜250,000であり、分散度(重量平均分子量/数平均分子量)が1.1〜10のものである。特に好ましくは、重量平均分子量が8000〜15,000で、数平均分子量が1,000〜10,000であり、分散度(重量平均分子量/数平均分子量)が1.1〜5のものである。更に重量平均分子量が500以下の成分が全体の0.01以上、5質量%以下であることが好ましい。上記範囲にすることで、ノボラック樹脂の膜強度、アルカリ溶解性、薬品に対する溶解性、光熱変換物質との相互作用性等を適度に調節でき、本発明の効果が得られやすくなる。なお、本発明における重量平均分子量は、ノボラック樹脂の単分散ポリスチレンを標準とするゲルパーミエーションクロマトグラフ(GPC)法により求めたポリスチレン換算の値を採用している。   These novolak resins preferably have a weight average molecular weight of 1,000 or more and a number average molecular weight of 200 or more. More preferably, the weight average molecular weight is 1500 to 300,000, the number average molecular weight is 300 to 250,000, and the dispersity (weight average molecular weight / number average molecular weight) is 1.1 to 10. Particularly preferably, the weight average molecular weight is 8000 to 15,000, the number average molecular weight is 1,000 to 10,000, and the dispersity (weight average molecular weight / number average molecular weight) is 1.1 to 5. . Furthermore, it is preferable that the component having a weight average molecular weight of 500 or less is 0.01 to 5% by mass of the whole. By setting it as the above range, the film strength, alkali solubility, chemical solubility, interaction property with the photothermal conversion substance, etc. of the novolak resin can be appropriately adjusted, and the effects of the present invention can be easily obtained. In addition, the weight average molecular weight in this invention employ | adopts the value of polystyrene conversion calculated | required by the gel permeation chromatograph (GPC) method which uses the monodispersed polystyrene of novolak resin as a standard.

本発明に係るノボラック樹脂の製造方法としては、例えば、「新実験化学講座[19] 高分子化学[I]」(1993年、丸善出版)、第300項に記載の如く、フェノール及び置換フェノール類(例えば、キシレノール、クレゾール類など)を溶媒中、酸を触媒として、ホルムアルデヒド水溶液と共に反応させて、フェノールと、置換フェノール成分におけるo−位またはp−位と、ホルムアルデヒドとを、脱水縮合する。こうして得たノボラック樹脂を有機極性溶媒に溶解させたのち、無極性溶媒を適量加え、数時間放置すると、ノボラック樹脂溶液は2層に分離する。分離した溶液の下層のみを濃縮することにより分子量が集約したノボラック樹脂が製造できる。   Examples of the method for producing the novolak resin according to the present invention include phenols and substituted phenols as described in “New Experimental Chemistry Course [19] Polymer Chemistry [I]” (1993, Maruzen Publishing), Item 300. (For example, xylenol, cresols, etc.) are reacted with an aqueous formaldehyde solution in a solvent using an acid as a catalyst to dehydrate and condense phenol, the o-position or p-position of the substituted phenol component, and formaldehyde. After dissolving the novolak resin thus obtained in an organic polar solvent, an appropriate amount of a nonpolar solvent is added and left for several hours, whereby the novolak resin solution is separated into two layers. By concentrating only the lower layer of the separated solution, a novolak resin with a concentrated molecular weight can be produced.

用いられる有機極性溶媒としては、アセトン、メチルアルコール、エチルアルコール等が挙げられる。無極性溶媒としては、ヘキサン、石油エーテル等が挙げられる。また、上記に記載の製造方法に限らず、例えば、特表2001−506294号公報に記載の如く、ノボラック樹脂を水溶性有機極性溶媒に溶解したのち、水を添加して沈殿を形成させることで、ノボラック樹脂画分を得ることもできる。更に、分散度の小さいノボラック樹脂を得るためには、フェノール誘導体同士の脱水縮合で得たノボラック樹脂を有機極性溶媒で溶解したのち、分子量分画用シリカゲルにかける方法をとることも可能である。   Examples of the organic polar solvent used include acetone, methyl alcohol, and ethyl alcohol. Examples of the nonpolar solvent include hexane and petroleum ether. In addition to the production method described above, for example, as described in JP-T-2001-506294, a novolak resin is dissolved in a water-soluble organic polar solvent, and then water is added to form a precipitate. A novolak resin fraction can also be obtained. Further, in order to obtain a novolak resin having a low degree of dispersion, it is possible to use a method in which a novolak resin obtained by dehydration condensation of phenol derivatives is dissolved in an organic polar solvent and then applied to a silica gel for molecular weight fractionation.

フェノール及び置換フェノール成分のo−位またはp−位と、ホルムアルデヒドとの脱水縮合は、フェノール及び置換フェノール成分の総質量として、これを濃度60〜90質量%、好ましくは70〜80質量%になるよう溶媒溶液に、ホルムアルデヒドをフェノール及び置換フェノール成分の総モル数に対するモル比率が0.2〜2.0、好ましくは0.4〜1.4、特に好ましくは0.6〜1.2になるよう加え、更に、酸触媒をフェノール及び置換フェノール成分の総モル数に対するモル比率が0.01〜0.1、好ましくは0.02〜0.05になるように10℃〜150℃の範囲の温度条件下で加え、その温度範囲に維持しながら数時間攪拌することにより行うことができる。なお、反応温度は、70℃〜150℃の範囲であることが好ましく、90℃〜140℃の範囲であることがより好ましい。   The dehydration condensation between the o-position or p-position of the phenol and the substituted phenol component and formaldehyde gives a concentration of 60 to 90% by mass, preferably 70 to 80% by mass as the total mass of the phenol and the substituted phenol component. In the solvent solution, the molar ratio of formaldehyde to the total number of moles of phenol and substituted phenol components is 0.2 to 2.0, preferably 0.4 to 1.4, particularly preferably 0.6 to 1.2. In addition, the acid catalyst has a molar ratio with respect to the total number of moles of phenol and substituted phenol components of 0.01 to 0.1, preferably 0.02 to 0.05. It can be performed by adding under temperature conditions and stirring for several hours while maintaining the temperature range. In addition, it is preferable that reaction temperature is the range of 70 to 150 degreeC, and it is more preferable that it is the range of 90 to 140 degreeC.

用いられる溶媒としては、例えば、水、酢酸、メタノール、エタノール、2−プロパノール、2−メトキシエタノール、エチルプロピオネート、エトキシエチルプロピオネート、4−メチル−2−ペンタノン、ジオキサン、キシレン、ベンゼン等が挙げられる。 また、上記酸触媒としては、塩酸、硫酸、p−トルエンスルホン酸、リン酸、シュウ酸、酒石酸、クエン酸、酢酸亜鉛、酢酸マンガン、酢酸コバルト、メチルスルホン酸マグネシウム、塩化アルミニウム、酸化亜鉛等を挙げることができる。合成したフェノール樹脂の残存モノマー及びダイマーは蒸留により除去することが好ましい。   Examples of the solvent used include water, acetic acid, methanol, ethanol, 2-propanol, 2-methoxyethanol, ethylpropionate, ethoxyethylpropionate, 4-methyl-2-pentanone, dioxane, xylene, benzene and the like. Is mentioned. Examples of the acid catalyst include hydrochloric acid, sulfuric acid, p-toluenesulfonic acid, phosphoric acid, oxalic acid, tartaric acid, citric acid, zinc acetate, manganese acetate, cobalt acetate, magnesium methylsulfonate, aluminum chloride, and zinc oxide. Can be mentioned. The residual monomer and dimer of the synthesized phenol resin are preferably removed by distillation.

ここでは、一般的な分子量分布の調整法を挙げたが、本発明に好適な物性を有するノボラック樹脂の調整方法はこれに制限されず、例えば、特殊な酸触媒や溶媒を用いることにより分子量分布を調製するなど、公知の方法を適宜、適用可能であることは言うまでもない。   Here, a general method for adjusting the molecular weight distribution has been described, but the method for adjusting the novolak resin having physical properties suitable for the present invention is not limited thereto, and for example, the molecular weight distribution can be obtained by using a special acid catalyst or solvent. Needless to say, a known method such as preparing the above can be appropriately applied.

本発明に係るノボラック樹脂は単独で使用してもよく、2種以上を併用してもよい。2種以上組み合わせることにより、膜強度、アルカリ溶解性、薬品に対する溶解性、光熱変換物質との相互作用性等の異なる特性を有効利用することができるので好ましい。画像記録層中に2種以上のノボラック樹脂を併用する場合、重量平均分子量、m/p比等可能な限り差があるものを組み合わせた方が好ましい。例えば、重量平均分子量では1000以上差があることが好ましく、更に好ましくは2000以上である。m/p比では0.2以上差があることが好ましく、更に好ましくは0.3以上である。   The novolak resin according to the present invention may be used alone or in combination of two or more. By combining two or more kinds, it is possible to effectively use different characteristics such as film strength, alkali solubility, solubility in chemicals, and interaction with a photothermal conversion substance, which is preferable. When two or more kinds of novolak resins are used in combination in the image recording layer, it is preferable to combine those having as much difference as possible, such as weight average molecular weight and m / p ratio. For example, the difference in weight average molecular weight is preferably 1000 or more, and more preferably 2000 or more. The m / p ratio preferably has a difference of 0.2 or more, more preferably 0.3 or more.

本発明の平版印刷版材料における感光層(画像記録層)中の全固形分に対するフェノール水酸基を有する樹脂の添加量は、上層は耐薬品性や耐刷性等の観点から30〜99質量%であることが好ましく、45〜95質量%であることがさらに好ましく、60〜90質量%の範囲であることが最も好ましい。   The addition amount of the resin having a phenolic hydroxyl group with respect to the total solid content in the photosensitive layer (image recording layer) in the lithographic printing plate material of the present invention is 30 to 99% by mass from the viewpoint of chemical resistance and printing durability. It is preferably 45 to 95% by mass, and most preferably in the range of 60 to 90% by mass.

本発明では、フェノール性水酸基を有する樹脂を1種又は2種以上混合して使用することができるが、本発明の目的効果の観点から、フェノール性水酸基を有する樹脂がノボラック樹脂を主成分とする樹脂であることが好ましい。   In the present invention, a resin having a phenolic hydroxyl group can be used alone or in combination of two or more. From the viewpoint of the object effect of the present invention, the resin having a phenolic hydroxyl group is mainly composed of a novolac resin. A resin is preferred.

(アルカリ可溶性アクリル樹脂)
本発明に係る平版印刷版材料の画像形成層には、アルカリ可溶性アクリル樹脂を含有することができる。
(Alkali-soluble acrylic resin)
The image forming layer of the lithographic printing plate material according to the present invention can contain an alkali-soluble acrylic resin.

本発明で使用できるアルカリ可溶性アクリル樹脂は、下記の構成単位を含む共重合体であることが好ましい。好適に用いられる他の構成単位としては、例えば、アクリル酸エステル類、メタクリル酸エステル類、アクリルアミド類、メタクリルアミド類、ビニルエステル類、スチレン類、アクリル酸、メタクリル酸、アクリロニトリル、無水マレイン酸、マレイン酸イミド、ラクトン類、等が挙げられる。   The alkali-soluble acrylic resin that can be used in the present invention is preferably a copolymer containing the following structural units. Other structural units that can be suitably used include, for example, acrylic esters, methacrylic esters, acrylamides, methacrylamides, vinyl esters, styrenes, acrylic acid, methacrylic acid, acrylonitrile, maleic anhydride, maleic Examples include acid imides and lactones.

用いることのできるアクリル酸エステル類の具体例としては、メチルアクリレート、エチルアクリレート、(n−またはi−)プロピルアクリレート、(n−、i−、sec−またはt−)ブチルアクリレート、アミルアクリレート、2−エチルヘキシルアクリレート、ドデシルアクリレート、クロロエチルアクリレート、2−ヒドロキシエチルアクリレート、2−ヒドロキシプロピルアクリレート、5−ヒドロキシペンチルアクリレート、シクロヘキシルアクリレート、アリルアクリレート、トリメチロールプロパンモノアクリレ
ート、ペンタエリスリトールモノアクリレート、グリシジルアクリレート、ベンジルアクリレート、メトキシベンジルアクリレート、クロロベンジルアクリレート、2−(p−ヒドロキシフェニル)エチルアクリレート、フルフリルアクリレート、テトラヒドロフルフリルアクリレート、フェニルアクリレート、クロロフェニルアクリレート、スルファモイルフェニルアクリレート、が挙げられる。
Specific examples of acrylates that can be used include methyl acrylate, ethyl acrylate, (n- or i-) propyl acrylate, (n-, i-, sec- or t-) butyl acrylate, amyl acrylate, 2 -Ethylhexyl acrylate, dodecyl acrylate, chloroethyl acrylate, 2-hydroxyethyl acrylate, 2-hydroxypropyl acrylate, 5-hydroxypentyl acrylate, cyclohexyl acrylate, allyl acrylate, trimethylolpropane monoacrylate, pentaerythritol monoacrylate, glycidyl acrylate, benzyl Acrylate, methoxybenzyl acrylate, chlorobenzyl acrylate, 2- (p-hydroxyphenyl) ethyl acetate Rate, furfuryl acrylate, tetrahydrofurfuryl acrylate, phenyl acrylate, chlorophenyl acrylate, sulfamoyl phenyl acrylate, and the like.

メタクリル酸エステル類の具体例としては、メチルメタクリレート、エチルメタクリレート、(n−またはi−)プロピルメタクリレート、(n−、i−、sec−またはt−)ブチルメタクリレート、アミルメタクリレート、2−エチルヘキシルメタクリレート、ドデシルメタクリレート、クロロエチルメタクリレート、2−ヒドロキシエチルメタクリレート、2−ヒドロキシプロピルメタクリレート、5−ヒドロキシペンチルメタクリレート、シクロヘキシルメタクリレート、アリルメタクリレート、トリメチロールプロパンモノメタクリレート、ペンタエリスリトールモノメタクリレート、グリシジルメタクリレート、メトキシベンジルメタクリレート、クロロベンジルメタクリレート、2−(p−ヒドロキシフェニル)エチルメタクリレート、フルフリルメタクリレート、テトラヒドロフルフリルメタクリレート、フェニルメタクリレート、クロロフェニルメタクリレート、スルファモイルフェニルメタクリレート等が挙げられる。   Specific examples of methacrylic acid esters include methyl methacrylate, ethyl methacrylate, (n- or i-) propyl methacrylate, (n-, i-, sec- or t-) butyl methacrylate, amyl methacrylate, 2-ethylhexyl methacrylate, Dodecyl methacrylate, chloroethyl methacrylate, 2-hydroxyethyl methacrylate, 2-hydroxypropyl methacrylate, 5-hydroxypentyl methacrylate, cyclohexyl methacrylate, allyl methacrylate, trimethylolpropane monomethacrylate, pentaerythritol monomethacrylate, glycidyl methacrylate, methoxybenzyl methacrylate, chloro Benzyl methacrylate, 2- (p-hydroxyphenyl) ethyl methacrylate Rate, furfuryl methacrylate, tetrahydrofurfuryl methacrylate, phenyl methacrylate, chlorophenyl methacrylate, sulfamoylphenyl methacrylate and the like.

アクリルアミド類の具体例としては、アクリルアミド、N−メチルアクリルアミド、N−エチルアクリルアミド、N−プロピルアクリルアミド、N−ブチルアクリルアミド、N−ベンジルアクリルアミド、N−ヒドロキシエチルアクリルアミド、N−フェニルアクリルアミド、N−トリルアクリルアミド、N−(p−ヒドロキシフェニル)アクリルアミド、N−(スルファモイルフェニル)アクリルアミド、N−(フェニルスルホニル)アクリルアミド、N−(トリルスルホニル)アクリルアミド、N,N−ジメチルアクリルアミド、N−メチル−N−フェニルアクリルアミド、N−ヒドロキシエチル−N−メチルアクリルアミド,N−(p−トルエンスルホニル)アクリルアミド等が挙げられる。   Specific examples of acrylamides include acrylamide, N-methylacrylamide, N-ethylacrylamide, N-propylacrylamide, N-butylacrylamide, N-benzylacrylamide, N-hydroxyethylacrylamide, N-phenylacrylamide, and N-tolylacrylamide. N- (p-hydroxyphenyl) acrylamide, N- (sulfamoylphenyl) acrylamide, N- (phenylsulfonyl) acrylamide, N- (tolylsulfonyl) acrylamide, N, N-dimethylacrylamide, N-methyl-N- Examples include phenylacrylamide, N-hydroxyethyl-N-methylacrylamide, N- (p-toluenesulfonyl) acrylamide and the like.

メタクリルアミド類の具体例としては、メタクリルアミド、N−メチルメタクリルアミド、N−エチルメタクリルアミド、N−プロピルメタクリルアミド、N−ブチルメタクリルアミド、N−ベンジルメタクリルアミド、N−ヒドロキシエチルメタクリルアミド、N−フェニルメタクリルアミド、N−トリルメタクリルアミド、N−(p−ヒドロキシフェニル)メタクリルアミド、N−(スルファモイルフェニル)メタクリルアミド、N−(フェニルスルホニル)メタクリルアミド、N−(トリルスルホニル)メタクリルアミド、N,N−ジメチルメタクリルアミド、N−メチル−N−フェニルメタクリルアミド、N−(p−トルエンスルホニル)メタクリルアミド、N−ヒドロキシエチル−N−メチルメタクリルアミド等が挙げられる。   Specific examples of methacrylamides include methacrylamide, N-methylmethacrylamide, N-ethylmethacrylamide, N-propylmethacrylamide, N-butylmethacrylamide, N-benzylmethacrylamide, N-hydroxyethylmethacrylamide, N -Phenylmethacrylamide, N-tolylmethacrylamide, N- (p-hydroxyphenyl) methacrylamide, N- (sulfamoylphenyl) methacrylamide, N- (phenylsulfonyl) methacrylamide, N- (tolylsulfonyl) methacrylamide N, N-dimethylmethacrylamide, N-methyl-N-phenylmethacrylamide, N- (p-toluenesulfonyl) methacrylamide, N-hydroxyethyl-N-methylmethacrylamide and the like.

ラクトン類の具体例としては,パントイルラクトン(メタ)アクリレート、α−(メタ)アクリロイル−γ−ブチロラクトン、β−(メタ)アクリロイル−γ−ブチロラクトンが挙げられる。   Specific examples of lactones include pantoyl lactone (meth) acrylate, α- (meth) acryloyl-γ-butyrolactone, and β- (meth) acryloyl-γ-butyrolactone.

マレイン酸イミド類の具体例としては、ヒドロキシフェニルマレイミド、N−アクリロイルアクリルアミド、N−アセチルメタクリルアミド、N−プロピオニルメタクリルアミド、N−(p−クロロベンゾイル)メタクリルアミド等が挙げられる。   Specific examples of maleic imides include hydroxyphenylmaleimide, N-acryloylacrylamide, N-acetylmethacrylamide, N-propionylmethacrylamide, N- (p-chlorobenzoyl) methacrylamide and the like.

ビニルエステル類の具体例としては、ビニルアセテート、ビニルブチレート、ビニルベンゾエート等が挙げられる。   Specific examples of vinyl esters include vinyl acetate, vinyl butyrate, vinyl benzoate and the like.

スチレン類の具体例としては、スチレン、メチルスチレン、ジメチルスチレン、トリメチルスチレン、エチルスチレン、プロピルスチレン、シクロヘキシルスチレン、クロロメチルスチレン、トリフルオロメチルスチレン、エトキシメチルスチレン、アセトキシメチルスチレン、メトキシスチレン、ジメトキシスチレン、クロロスチレン、ジクロロスチレン、ブロモスチレン、ヨードスチレン、フルオロスチレン、カルボキシスチレン等が挙げられる。   Specific examples of styrenes include styrene, methyl styrene, dimethyl styrene, trimethyl styrene, ethyl styrene, propyl styrene, cyclohexyl styrene, chloromethyl styrene, trifluoromethyl styrene, ethoxymethyl styrene, acetoxymethyl styrene, methoxy styrene, dimethoxy styrene. Chlorostyrene, dichlorostyrene, bromostyrene, iodostyrene, fluorostyrene, carboxystyrene and the like.

アクリルニトリル類の具体例としては、アクリロニトリル、メタクリロニトリル等が挙げられる。   Specific examples of acrylonitriles include acrylonitrile and methacrylonitrile.

これらのモノマーのうち特に好適に使用されるのは、炭素数20以下のアクリル酸エステル類、メタクリル酸エステル類、アクリルアミド類、メタクリルアミド類、アクリル酸、メタクリル酸、アクリロニトリル類,マレイン酸イミド類である。   Among these monomers, acrylic acid esters, methacrylic acid esters, acrylamides, methacrylamides, acrylic acid, methacrylic acid, acrylonitriles, maleic imides having 20 or less carbon atoms are particularly preferably used. is there.

これらを用いた共重合体の分子量は好ましくは重量平均分子量(Mw)で2000以上であり、更に好ましくは0.5万〜10万の範囲であり,特に好ましくは1万〜5万である。上記範囲にすることで膜強度、アルカリ溶解性、薬品に対する溶解性等を調整でき、本発明の効果を得やすくなる。一方、本発明に用いることができるアルカリ可溶性アクリル樹脂の重合形態は、ランダムポリマー、ブロックポリマー、グラフトポリマー等いずれでもよいが、現像液の溶解性等を制御できる点で、親水性基と疎水性基を相分離可能なブロックポリマーであることが好ましい。   The molecular weight of the copolymer using these is preferably 2000 or more in terms of weight average molecular weight (Mw), more preferably in the range of 50,000 to 100,000, and particularly preferably in the range of 10,000 to 50,000. By making it into the above range, the film strength, alkali solubility, solubility in chemicals, etc. can be adjusted, and the effects of the present invention can be easily obtained. On the other hand, the polymerization form of the alkali-soluble acrylic resin that can be used in the present invention may be a random polymer, a block polymer, a graft polymer, or the like. However, the hydrophilic group and hydrophobicity can be controlled in that the solubility of the developer can be controlled. The block polymer is preferably a block polymer capable of phase separation.

本発明で使用できるアルカリ可溶性アクリル樹脂は、単独で用いてもあるいは2種類以上を混合して用いてもよい。   The alkali-soluble acrylic resin that can be used in the present invention may be used alone or in combination of two or more.

(赤外線吸収色素)
本発明に係る平版印刷版材料の画像形成層には、赤外線を吸収して熱に変換する色素を含有していることが好ましい。用いられる750から1100nmの近赤外線を吸収して熱に変換する機能を有する色素(赤外線吸収色素ともいう。)は、700以上、好ましくは750〜1100nmの赤外域に光吸収域があり、この波長域の光を吸収し熱を発生する種々の顔料もしくは染料を用いる事ができる。
(Infrared absorbing dye)
The image forming layer of the lithographic printing plate material according to the present invention preferably contains a dye that absorbs infrared rays and converts it into heat. A dye having a function of absorbing near-infrared rays of 750 to 1100 nm and converting it into heat (also referred to as infrared absorbing dye) has a light absorption range of 700 or more, preferably 750 to 1100 nm, and has this wavelength. Various pigments or dyes that absorb light in the region and generate heat can be used.

(顔料)
顔料としては、市販の顔料およびカラーインデックス(CI)便覧、「最新顔料便覧」(日本顔料技術協会編、1977年刊)、「最新顔料応用技術」(CMC出版、1986年刊)、「印刷インキ技術」CMC出版、1984年刊)に記載されている顔料が利用できる。
(Pigment)
Examples of pigments include commercially available pigment and color index (CI) manuals, “Latest Pigment Handbook” (edited by the Japan Pigment Technology Association, published in 1977), “Latest Pigment Applied Technology” (published by CMC, published in 1986), and “Printing Ink Technology”. CMC Publishing, 1984) can be used.

顔料の種類としては、黒色顔料、黄色顔料、オレンジ色顔料、褐色顔料、赤色顔料、紫色顔料、青色顔料、緑色顔料、蛍光顔料、金属粉顔料、その他、ポリマー結合色素が挙げられる。具体的には、不溶性アゾ顔料、アゾレーキ顔料、縮合アゾ顔料、キレートアゾ顔料、フタロシアニン系顔料、アントラキノン系顔料、ペリレンおよびペリノン系顔料、チオインジゴ系顔料、キナクリドン系顔料、ジオキサジン系顔料、イソインドリノン系顔料、キノフタロン系顔料、染付けレーキ顔料、アジン顔料、ニトロソ顔料、ニトロ顔料、天然顔料、蛍光顔料、無機顔料、カーボンブラック等が使用できる。   Examples of the pigment include black pigments, yellow pigments, orange pigments, brown pigments, red pigments, purple pigments, blue pigments, green pigments, fluorescent pigments, metal powder pigments, and other polymer-bonded dyes. Specifically, insoluble azo pigments, azo lake pigments, condensed azo pigments, chelate azo pigments, phthalocyanine pigments, anthraquinone pigments, perylene and perinone pigments, thioindigo pigments, quinacridone pigments, dioxazine pigments, isoindolinone pigments In addition, quinophthalone pigments, dyed lake pigments, azine pigments, nitroso pigments, nitro pigments, natural pigments, fluorescent pigments, inorganic pigments, carbon black, and the like can be used.

顔料の粒径は0.1μm〜10μmの範囲にあることが好ましく、0.05μm〜1μmの範囲にあることがさらに好ましく、特に0.1μm〜1μmの範囲にあることが好ましい。顔料の粒径が0.0.1μm未満のときは分散物の感光層塗布液中での安定性の点で好ましくなく、また、10μmを越えると感光層の均一性の点で好ましくない。顔料を分散する方法としては、インク製造やトナー製造等に用いられる公知の分散技術が使用できる。分散機としては、超音波分散器、サンドミル、アトライター、パールミル、スーパーミル、ボールミル、インペラー、ディスパーザー、KDミル、コロイドミル、ダイナトロン、3本ロールミル、加圧ニーダー等が挙げられる。詳細は、「最新顔料応用技術」(CMC出版、1986年刊)に記載がある。   The particle size of the pigment is preferably in the range of 0.1 μm to 10 μm, more preferably in the range of 0.05 μm to 1 μm, and particularly preferably in the range of 0.1 μm to 1 μm. When the particle diameter of the pigment is less than 0.01 μm, it is not preferable from the viewpoint of stability of the dispersion in the photosensitive layer coating solution, and when it exceeds 10 μm, it is not preferable from the viewpoint of uniformity of the photosensitive layer. As a method for dispersing the pigment, a known dispersion technique used in ink production, toner production, or the like can be used. Examples of the disperser include an ultrasonic disperser, a sand mill, an attritor, a pearl mill, a super mill, a ball mill, an impeller, a disperser, a KD mill, a colloid mill, a dynatron, a three-roll mill, and a pressure kneader. Details are described in "Latest Pigment Applied Technology" (CMC Publishing, 1986).

顔料は、感度、感光層の均一性及び耐久性の観点から、感光層を構成する全固形分に対し0.01〜10質量%、好ましくは0.1〜5質量%の割合で添加することができる。   The pigment is added in a proportion of 0.01 to 10% by mass, preferably 0.1 to 5% by mass, based on the total solid content constituting the photosensitive layer, from the viewpoints of sensitivity, uniformity of the photosensitive layer and durability. Can do.

(染料)
染料としては、市販の染料および文献(例えば「染料便覧」有機合成化学協会編集、昭和45年刊)に記載されている公知のものが利用できる。具体的には、アゾ染料、金属錯塩アゾ染料、ピラゾロンアゾ染料、アントラキノン染料、フタロシアニン染料、カルボニウム染料、キノンイミン染料、メチン染料、シアニン染料などの染料が挙げられる。本発明において、これらの顔料、もしくは染料のうち赤外光、もしくは近赤外光を吸収するものが、赤外光もしくは近赤外光を発光するレーザでの利用に適する点で特に好ましい。
(dye)
As the dye, commercially available dyes and known dyes described in the literature (for example, “Dye Handbook” edited by Organic Synthetic Chemical Society, published in 1970) can be used. Specific examples include azo dyes, metal complex azo dyes, pyrazolone azo dyes, anthraquinone dyes, phthalocyanine dyes, carbonium dyes, quinoneimine dyes, methine dyes, and cyanine dyes. In the present invention, among these pigments or dyes, those that absorb infrared light or near infrared light are particularly preferred because they are suitable for use in lasers that emit infrared light or near infrared light.

そのような赤外光、もしくは近赤外光を吸収する染料としては例えば特開昭58−125246号、特開昭59−84356号、特開昭59−20.2829号、特開昭60−78787号等に記載されているシアニン染料、特開昭58−173696号、特開昭58−181690号、特開昭58−194595号等に記載されているメチン染料、特開昭58−112793号、特開昭58−224793号、特開昭59−48187号、特開昭59−73996号、特開昭60−52940号、特開昭60.−63744号等に記載されているナフトキノン染料、特開昭58−112792号等に記載されているスクワリリウム色素、英国特許434,875号記載のシアニン染料等を挙げることができる。また、染料として米国特許第5,156,938号記載の近赤外吸収増感剤も好適に用いられ、また、米国特許第3,881,924号記載の置換されたアリールベンゾ(チオ)ピリリウム塩、特開昭57−142645号(米国特許第4,327,169号)記載のトリメチンチアピリリウム塩、特開昭58−181051号、同58−220143号、同59−41363号、同59−84248号、同59−84249号、同59−146063号、同59−146061号に記載されているピリリウム系化合物、特開昭59−216146号記載のシアニン色素、米国特許第4,283,475号に記載のペンタメチンチオピリリウム塩等や特公平5−13514号、同5−1970.2号公報に開示されているピリリウム化合物、Epolight III−178、Epolight III−130、Epolight III−125等は特に好ましく用いられる。   Examples of dyes that absorb such infrared light or near-infrared light are, for example, JP-A-58-125246, JP-A-59-84356, JP-A-59-20.2829, JP-A-60-. Cyanine dyes described in JP-A-78787, methine dyes described in JP-A-58-173696, JP-A-58-181690, JP-A-58-194595, etc., JP-A-58-112793 JP, 58-224793, JP 59-48187, JP 59-73996, JP 60-52940, JP 60. Naphthoquinone dyes described in No. 63744, etc., squarylium dyes described in JP-A No. 58-112792, etc., cyanine dyes described in British Patent No. 434,875, and the like. Further, near-infrared absorption sensitizers described in US Pat. No. 5,156,938 are also preferably used as dyes, and substituted arylbenzo (thio) pyrylium described in US Pat. No. 3,881,924. Salts, trimethine thiapyrylium salts described in JP-A-57-142645 (US Pat. No. 4,327,169), JP-A-58-181051, 58-220143, 59-41363, 59 -84248, 59-84249, 59-146063, 59-146061, pyrylium compounds described in JP-A-59-216146, cyanine dyes, U.S. Pat. No. 4,283,475 The pentamethine thiopyrylium salt described in No. 5, JP-B-5-13514, and the pyrium compound disclosed in JP-A-5-1970.2, polight III-178, Epolight III-130, Epolight III-125 and the like are particularly preferably used.

これらの染料のうち特に好ましいものとしては、シアニン色素、フタロシアニン染料、オキソノ−ル染料、スクアリリウム色素、ピリリウム塩、チオピリリウム染料、ニッケルチオレ−ト錯体が挙げられる。さらに、下記一般式(a)で示されるシアニン色素は、本発明の平版印刷版材料で使用した場合に、アルカリ溶解性樹脂との高い相互作用を与え、且つ、安定性、経済性に優れるため最も好ましい。   Particularly preferred among these dyes are cyanine dyes, phthalocyanine dyes, oxonol dyes, squarylium dyes, pyrylium salts, thiopyrylium dyes, and nickel thiolate complexes. Furthermore, the cyanine dye represented by the following general formula (a) gives high interaction with the alkali-soluble resin when used in the lithographic printing plate material of the present invention, and is excellent in stability and economy. Most preferred.

Figure 2009109617
Figure 2009109617

一般式(a)中、X1は、水素原子、ハロゲン原子、−NPh2、X2−L1又は以下に示す基を表す。ここで、X2は酸素原子又は、硫黄原子を示し、L1は、炭素原子数1〜12の炭化水素基、ヘテロ原子を有する芳香族環、ヘテロ原子を含む炭素原子数1〜12の炭化水素基を示す。なお、ここでヘテロ原子とは、N、S、O、ハロゲン原子、Seを示す。 In general formula (a), X 1 represents a hydrogen atom, a halogen atom, —NPh 2 , X 2 -L 1 or a group shown below. Here, X 2 represents an oxygen atom or a sulfur atom, and L 1 represents a hydrocarbon group having 1 to 12 carbon atoms, an aromatic ring having a hetero atom, or a carbon atom having 1 to 12 carbon atoms including a hetero atom. Indicates a hydrogen group. In addition, a hetero atom here shows N, S, O, a halogen atom, and Se.

Figure 2009109617
Figure 2009109617

上記式中、Xa-は、後述するZa-と同様に定義され、Raは、水素原子、アルキル基、アリ−ル基、置換又は無置換のアミノ基、ハロゲン原子より選択される置換基を表す。R1及びR2は、それぞれ独立に、炭素原子数1〜12の炭化水素基を示す。記録層塗布液の保存安定性から、R1及びR2は、炭素原子数2個以上の炭化水素基であることが好ましく、さらに、R1とR2とは互いに結合し、5員環又は6員環を形成していることが特に好ましい。 In the above formula, Xa - has Za described later - is defined as for, Ra represents a hydrogen atom, an alkyl group, ant - represents a group, a substituted or unsubstituted amino group, substituted or unsubstituted amino group and a halogen atom . R 1 and R 2 each independently represents a hydrocarbon group having 1 to 12 carbon atoms. From the storage stability of the recording layer coating solution, R 1 and R 2 are preferably hydrocarbon groups having 2 or more carbon atoms, and R 1 and R 2 are bonded to each other to form a 5-membered ring or It is particularly preferable that a 6-membered ring is formed.

Ar1、Ar2は、それぞれ同じでも異なっていてもよく、置換基を有していてもよい芳香族炭化水素基を示す。好ましい芳香族炭化水素基としては、ベンゼン環及びナフタレン環が挙げられる。また、好ましい置換基としては、炭素原子数12個以下の炭化水素基、ハロゲン原子、炭素原子数12個以下のアルコキシ基が挙げられる。Y1、Y2は、それぞれ同じでも異なっていてもよく、硫黄原子又は炭素原子数12個以下のジアルキルメチレン基を示す。R3、R4は、それぞれ同じでも異なっていてもよく、置換基を有していてもよい炭素原子数20.個以下の炭化水素基を示す。好ましい置換基としては、炭素原子数12個以下のアルコキシ基、カルボキシル基、スルホ基が挙げられる。R5、R6、R7及びR8は、それぞれ同じでも異なっていてもよく、水素原子又は炭素原子数12個以下の炭化水素基を示す。原料の入手性から、好ましくは水素原子である。また、Za-は、対アニオンを示す。但し、一般式(a)で示されるシアニン色素が、その構造内にアニオン性の置換基を有し、電荷の中和が必要ない場合にはZa-は必要ない。好ましいZa-は、記録層塗布液の保存安定性から、ハロゲンイオン、過塩素酸イオン、テトラフルオロボレ−トイオン、ヘキサフルオロホスフェ−トイオン、及びスルホン酸イオンであり、特に好ましくは、過塩素酸イオン、ヘキサフルオロフォスフェ−トイオン、及びアリ−ルスルホン酸イオンである。 Ar 1 and Ar 2 may be the same or different and each represents an aromatic hydrocarbon group which may have a substituent. Preferred aromatic hydrocarbon groups include a benzene ring and a naphthalene ring. Moreover, as a preferable substituent, a C12 or less hydrocarbon group, a halogen atom, and a C12 or less alkoxy group are mentioned. Y 1 and Y 2 may be the same or different and each represents a sulfur atom or a dialkylmethylene group having 12 or less carbon atoms. R 3 and R 4 may be the same or different from each other, and may have a substituent. Or less hydrocarbon group. Preferred substituents include alkoxy groups having 12 or less carbon atoms, carboxyl groups, and sulfo groups. R 5 , R 6 , R 7 and R 8 may be the same or different and each represents a hydrogen atom or a hydrocarbon group having 12 or less carbon atoms. From the availability of raw materials, a hydrogen atom is preferred. Za represents a counter anion. However, Za is not necessary when the cyanine dye represented by formula (a) has an anionic substituent in its structure and neutralization of charge is not necessary. Preferred Za is halogen ion, perchlorate ion, tetrafluoroborate ion, hexafluorophosphate ion, and sulfonate ion, particularly preferably perchloric acid, from the storage stability of the recording layer coating solution. Ions, hexafluorophosphate ions, and aryl sulfonate ions.

本発明において、好適に用いることのできる一般式(a)で示されるシアニン色素の具体例としては、以下に例示するものの他、特開2001−133969号公報の段落番号[0017]〜[0019]、特開2002−40638号公報の段落番号[0012]〜[0038]、特開2002−23360号公報の段落番号[0012]〜[0023]に記載されたものを挙げることができる。  Specific examples of the cyanine dye represented by formula (a) that can be preferably used in the present invention include those exemplified below, and paragraph numbers [0017] to [0019] of JP-A No. 2001-133969. And those described in paragraph numbers [0012] to [0038] of JP-A No. 2002-40638 and paragraph numbers [0012] to [0023] of JP-A No. 2002-23360.

本発明に係る赤外線吸収色素は、感度、耐薬品性,耐刷性の観点から、感光層を構成する全固形分に対し0.0.1〜30質量%、好ましくは0.1〜10質量%、特に好ましくは0.1〜5質量%の割合で添加することができる。   The infrared absorbing dye according to the present invention is from 0.1 to 30% by mass, preferably from 0.1 to 10% by mass, based on the total solid content constituting the photosensitive layer, from the viewpoints of sensitivity, chemical resistance and printing durability. %, Particularly preferably 0.1 to 5% by mass.

以下に本発明に係る赤外線吸収色素の好ましい具体例を示す。   Preferred specific examples of the infrared absorbing dye according to the present invention are shown below.

Figure 2009109617
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Figure 2009109617
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Figure 2009109617
Figure 2009109617

(酸分解性化合物)
本発明に係る平版印刷版材料の画像形成層には、酸分解性化合物を含有することができる。
(Acid-decomposable compound)
The image forming layer of the lithographic printing plate material according to the present invention can contain an acid-decomposable compound.

本発明に用いられる酸分解性化合物としては、酸で分解し得る結合を少なくとも1つ有する化合物(以下「本発明に係る酸分解性化合物」という。)であり、具体的には、特開昭48−89003号、同51−120714号、同53−133429号、同55−12995号、同55−126236号、同56−17345号の明細書中に記載されているC−O−C結合を有する化合物、特開昭60−37549号、同60−121446号の明細書中に記載されているSi−O−C結合を有する化合物、特開昭60−3625号、同60−10.247号の明細書中に記載されているその他の酸分解性化合物。さらにまた特開昭62−222246号の明細書中に記載されているSi−N結合を有する化合物、特開昭62−251743号の明細書中に記載されている炭酸エステル、特開昭62−20.9451号の明細書中に記載されているオルト炭酸エステル、特開昭62−280841号の明細書中に記載されているオルトチタン酸エステル、特開昭62−280842号の明細書中に記載されているオルトケイ酸エステル、特開昭63−10153号の明細書中に記載されているアセタール及びケタール、特開昭62−244038号の明細書中に記載されているC−S結合を有する化合物などを用いることができる。   The acid-decomposable compound used in the present invention is a compound having at least one bond that can be decomposed by an acid (hereinafter referred to as “acid-decomposable compound according to the present invention”). 48-89003, 51-120714, 53-133429, 55-12995, 55-126236, 56-17345 and the C—O—C bond described in the specification. Compounds having Si—O—C bonds described in the specifications of JP-A-60-37549 and JP-A-60-112446, JP-A-60-3625, JP-A-60-10247 Other acid-decomposable compounds described in the specification. Furthermore, compounds having a Si—N bond described in the specification of JP-A-62-222246, carbonate esters described in the specification of JP-A-62-251743, and JP-A-62-2 In the ortho carbonate ester described in the specification of 20.9451, the ortho titanate ester described in the specification of JP-A-62-280841, in the specification of JP-A-62-280842 Orthosilicates described, acetals and ketals described in the specification of JP-A 63-10153, C—S bonds described in the specification of JP-A 62-244038 A compound or the like can be used.

上記のうち、前記特開昭53−133429号、同56−17345号、同60−121446号、同60−37549号各公報及び特開昭62−20.9451号、同63−10153号各明細書に記載されているC−O−C結合を有する化合物、Si−O−C結合を有する化合物、オルト炭酸エステル、アセタール類、ケタール類及びシリルエーテル類が好ましい。   Of the above, JP-A-53-133429, JP-A-56-17345, JP-A-60-121446, JP-A-60-37549 and JP-A-62-20.9451, JP-A-63-10153 Compounds having C—O—C bonds, Si—O—C bonds, orthocarbonates, acetals, ketals and silyl ethers described in the document are preferred.

それらの中でも、特開昭53−133429号公報に記載された主鎖中に繰り返しアセタール又はケタール部分を有し、現像液中でのその溶解度が酸の作用によって上昇する有機重合化合物、及び特開昭63−10153号公報に記載の化合物が特に好ましい。   Among them, an organic polymerization compound having a repeating acetal or ketal moiety in the main chain described in JP-A-53-133429, and whose solubility in a developer is increased by the action of an acid, and JP-A The compounds described in JP-A 63-10153 are particularly preferred.

本発明に係る酸分解性化合物の好ましい化合物としては下記一般式(ADCー1)で表される酸分解性化合物を挙げることができる。   Preferred examples of the acid-decomposable compound according to the present invention include acid-decomposable compounds represented by the following general formula (ADC-1).

Figure 2009109617
Figure 2009109617

(式中、R1、R2、R3、R4は各々独立に、水素原子、アルキル基、シクロアルキル基、またはアリール基を表し、で互いに結合して環状となっていてもよい。)
更に好ましいものとしては、下記一般式(ADCー2)で表される酸分解性の化合物がある。
(Wherein R 1 , R 2 , R 3 and R 4 each independently represents a hydrogen atom, an alkyl group, a cycloalkyl group or an aryl group, and may be bonded to each other to form a ring)
More preferred is an acid-decomposable compound represented by the following general formula (ADC-2).

Figure 2009109617
Figure 2009109617

(式中、R5、R6は各々独立に、水素原子、アルキル基、シクロアルキル基、またはアリール基を表し、で互いに結合して環状となっていてもよい。また、R7はアルキレン基、シクロアルキレン基、またはアリーレン基を表し、n,mは1以上の整数である。)
本発明に係る酸分解性化合物の含有量は、画像形成層を形成する組成物の全固形分に対し、0.5〜30質量%が好ましく、特に好ましくは1〜20質量%である。本発明の酸分解性化合物は1種を単独で用いてもよいし、2種以上を混合して用いてもよい。
(Wherein R 5 and R 6 each independently represents a hydrogen atom, an alkyl group, a cycloalkyl group, or an aryl group, and may be bonded to each other to form a ring. R 7 represents an alkylene group. Represents a cycloalkylene group or an arylene group, and n and m are integers of 1 or more.)
The content of the acid-decomposable compound according to the present invention is preferably 0.5 to 30% by mass, particularly preferably 1 to 20% by mass, based on the total solid content of the composition forming the image forming layer. The acid-decomposable compound of the present invention may be used alone or in combination of two or more.

以下に酸分解性化合物の好ましい具体例を示す。   Preferred specific examples of the acid-decomposable compound are shown below.

Figure 2009109617
Figure 2009109617

(熱酸発生剤)
本発明に係る平版印刷版材料の画像形成層には、熱酸発生剤を含有することができる。
(Thermal acid generator)
The image forming layer of the lithographic printing plate material according to the present invention may contain a thermal acid generator.

本発明に用いられる熱酸発生剤としては、例えば、アンモニウム塩、ホスホニウム塩、ヨードニウム塩、スルホニウム塩等の公知のオニウム塩、有機ハロゲン化合物等が挙げられる。特に、高い感度が得られる点で、トリハロアルキル化合物およびジアゾニウム塩化合物が好適に用いられる。また、必要に応じて、2種以上の熱により酸を発生する化合物を併用してもよい。   Examples of the thermal acid generator used in the present invention include known onium salts such as ammonium salts, phosphonium salts, iodonium salts, sulfonium salts, and organic halogen compounds. In particular, trihaloalkyl compounds and diazonium salt compounds are preferably used in that high sensitivity can be obtained. Moreover, you may use together the compound which generate | occur | produces an acid with two or more types of heat as needed.

トリハロアルキル化合物としては、例えば、米国特許第4239850号明細書に記載されているトリハロメチル−s−トリアジン系化合物、オキサジアゾール系化合物、トリブロモメチルスルホニル化合物などが好ましい。   As the trihaloalkyl compound, for example, trihalomethyl-s-triazine compounds, oxadiazole compounds, tribromomethylsulfonyl compounds and the like described in US Pat. No. 4,239,850 are preferable.

本発明において、熱酸発生剤として有機ハロゲン化合物が赤外線露光による画像形成における感度及び平版印刷版材料の保存性の面から好ましい。該有機ハロゲン化合物としては、ハロゲン置換アルキル基を有するトリアジン類及びハロゲン置換アルキル基を有するオキサジアゾール類が好ましく、ハロゲン置換アルキル基を有するs−トリアジン類が特に好ましい。ハロゲン置換アルキル基を有するオキサジアゾール類の具体例としては、特開昭54−74728号、特開昭55−24113号、特開昭55−77742号、特開昭60−3626号及び特開昭60−138539号各公報に記載の2−ハロメチル−1,3,4−オキサジアゾール系化合物が挙げられる。2−ハロメチル−1,3,4−オキサジアゾール系酸発生剤の好ましい化合物例を下記に挙げる。   In the present invention, an organic halogen compound is preferable as a thermal acid generator from the viewpoints of sensitivity in image formation by infrared exposure and storage stability of a lithographic printing plate material. As the organic halogen compound, triazines having a halogen-substituted alkyl group and oxadiazoles having a halogen-substituted alkyl group are preferable, and s-triazines having a halogen-substituted alkyl group are particularly preferable. Specific examples of oxadiazoles having a halogen-substituted alkyl group include JP 54-74728, JP 55-24113, JP 55-77742, JP 60-3626 and JP 60-3626. Examples include 2-halomethyl-1,3,4-oxadiazole compounds described in JP-A-60-138539. Preferred examples of the 2-halomethyl-1,3,4-oxadiazole acid generator are given below.

Figure 2009109617
Figure 2009109617

上記ハロゲン置換アルキル基を有するs−トリアジン類としては、下記一般式(TZN)で表される化合物が好ましい。   As the s-triazines having a halogen-substituted alkyl group, compounds represented by the following general formula (TZN) are preferable.

Figure 2009109617
Figure 2009109617

一般式(TZN)において、Rはアルキル基、ハロゲン置換アルキル基、アルコキシ基で置換されていてもよいフェニルビニレン基又はアリール基(例えばフェニル基、ナフチル基等)若しくはその置換体を表し、Xはハロゲン原子を表す。   In the general formula (TZN), R represents an alkyl group, a halogen-substituted alkyl group, a phenyl vinylene group or an aryl group (for example, a phenyl group or a naphthyl group) which may be substituted with an alkoxy group, or a substituted product thereof, and X represents Represents a halogen atom.

一般式(TZN)で表されるs−トリアジン系酸発生剤の化合物例を次に示す。   Examples of the s-triazine acid generator represented by the general formula (TZN) are shown below.

Figure 2009109617
Figure 2009109617

Figure 2009109617
Figure 2009109617

熱により酸を発生する化合物の添加量は、感光層の固形分に対して0.1〜10質量%の範囲が好ましく、0.3〜5質量%の範囲が特に好ましい。熱により酸を発生する化合物の使用量が0.01質量%以上であることで、酸により分解する化合物を分解するために必要な十分な酸の発生が期待できる点で好ましく、10質量%以下であることで、保存性、セーフライト性の点で好ましい。   The addition amount of the compound that generates an acid by heat is preferably in the range of 0.1 to 10% by mass, particularly preferably in the range of 0.3 to 5% by mass with respect to the solid content of the photosensitive layer. Preferably, the amount of the compound that generates an acid by heat is 0.01% by mass or more, so that generation of sufficient acid necessary for decomposing the compound that decomposes by the acid can be expected. It is preferable in terms of storage stability and safe light property.

(添加剤)
本発明の画像形成層を構成する組成物には、前記共重合体のほか、更に必要に応じて、種々の添加剤を添加することができる。例えば、オニウム塩、o−キノンジアジド化合物、芳香族スルホン化合物、芳香族スルホン酸エステル化合物等の熱分解性であり、分解しない状態ではアルカリ水可溶性高分子化合物の溶解性を実質的に低下させる物質を併用することは、画像部の現像液への溶解阻止性の向上を図る点では、好ましい。オニウム塩としてはジアゾニウム塩、アンモニウム塩、ホスホニウム塩、ヨードニウム塩、スルホニウム塩、セレノニウム塩、アルソニウム塩等を挙げる事ができる。本発明において、ジアゾニウム塩が特に好ましい。また、特に好適なジアゾニウム塩としては特開平5−158230号公報記載のものがあげられる。
(Additive)
In addition to the copolymer, various additives can be added to the composition constituting the image forming layer of the present invention as required. For example, a substance that is thermally decomposable, such as an onium salt, an o-quinonediazide compound, an aromatic sulfone compound, and an aromatic sulfonic acid ester compound, and that substantially reduces the solubility of the alkaline water-soluble polymer compound without being decomposed. Use in combination is preferable in terms of improving the dissolution inhibition of the image area in the developer. Examples of onium salts include diazonium salts, ammonium salts, phosphonium salts, iodonium salts, sulfonium salts, selenonium salts, and arsonium salts. In the present invention, a diazonium salt is particularly preferable. Particularly suitable diazonium salts include those described in JP-A-5-158230.

好適なキノンジアジド類としてはo−キノンジアジド化合物を挙げることができる。本発明に用いられるo−キノンジアジド化合物は、少なくとも1個のo−キノンジアジド基を有する化合物で、熱分解によりアルカリ可溶性を増すものであり、種々の構造の化合物を用いることができる。つまり、o−キノンジアジドは熱分解により結着剤の溶解抑制能を失うことと、o−キノンジアジド自身がアルカリ可溶性の物質に変化することの両方の効果により感材系の溶解性を助ける。本発明に用いられるo−キノンジアジド化合物としては、例えば、J.コーサー著「ライト−センシティブ・システムズ」(John Wiley &amp; Sons. Inc.)第339〜352頁に記載の化合物が使用できるが、特に種々の芳香族ポリヒドロキシ化合物あるいは芳香族アミノ化合物と反応させたo−キノンジアジドのスルホン酸エステルまたはスルホン酸アミドが好適である。また、特公昭43−28403 号公報に記載されているようなベンゾキノン(1,2)−ジアジドスルホン酸クロライドまたはナフトキノン−(1,2)−ジアジド−5−スルホン酸クロライドとピロガロール−アセトン樹脂とのエステル、米国特許第3,046,120 号および同第3,188,210 号に記載されているベンゾキノン−(1,2)−ジアジドスルホン酸クロライドまたはナフトキノン−(1,2)−ジアジド−5−スルホン酸クロライドとフェノール−ホルムアルデヒド樹脂とのエステルも好適に使用される。   Suitable quinonediazides include o-quinonediazide compounds. The o-quinonediazide compound used in the present invention is a compound having at least one o-quinonediazide group, which increases alkali solubility by thermal decomposition, and compounds having various structures can be used. That is, o-quinonediazide helps the solubility of the sensitive material system by both the effect of losing the ability to suppress the dissolution of the binder due to thermal decomposition and the change of o-quinonediazide itself into an alkali-soluble substance. Examples of the o-quinonediazide compound used in the present invention include J. The compounds described in “Light-Sensitive Systems” (John Wiley &Amp; Sons. Inc.) pp. 339 to 352 can be used, but they have been reacted with various aromatic polyhydroxy compounds or aromatic amino compounds. O-quinonediazide sulfonic acid esters or sulfonic acid amides are preferred. Further, benzoquinone (1,2) -diazide sulfonic acid chloride or naphthoquinone- (1,2) -diazide-5-sulfonic acid chloride and pyrogallol-acetone resin as described in JP-B-43-28403. Esters of benzoquinone- (1,2) -diazide sulfonic acid chloride or naphthoquinone- (1,2) -diazide- described in US Pat. Nos. 3,046,120 and 3,188,210 Esters of 5-sulfonic acid chloride and phenol-formaldehyde resin are also preferably used.

さらにナフトキノン−(1,2)−ジアジド−4−スルホン酸クロライドとフェノールホルムアルデヒド樹脂あるいはクレゾール−ホルムアルデヒド樹脂とのエステル、ナフトキノン−(1,2)−ジアジド−4−スルホン酸クロライドとピロガロール−アセトン樹脂とのエステルも同様に好適に使用される。   Further, an ester of naphthoquinone- (1,2) -diazido-4-sulfonic acid chloride and phenol formaldehyde resin or cresol-formaldehyde resin, naphthoquinone- (1,2) -diazido-4-sulfonic acid chloride and pyrogallol-acetone resin Similarly, the esters are also preferably used.

o−キノンジアジド化合物の添加量は好ましくは印刷版材料全固形分に対し、1〜50質量%、更に好ましくは5〜30質量%、特に好ましくは10〜30質量%の範囲である。これらの化合物は単一で使用できるが、数種の混合物として使用してもよい。   The addition amount of the o-quinonediazide compound is preferably in the range of 1 to 50% by mass, more preferably 5 to 30% by mass, and particularly preferably 10 to 30% by mass with respect to the total solid content of the printing plate material. These compounds can be used alone, but may be used as a mixture of several kinds.

オニウム塩の対イオンとしては、四フッ化ホウ酸、六フッ化リン酸、トリイソプロピルナフタレンスルホン酸、5−ニトロ−o−トルエンスルホン酸、5−スルホサリチル酸、2,5−ジメチルベンゼンスルホン酸、2,4,6−トリメチルベンゼンスルホン酸、2−ニトロベンゼンスルホン酸、3−クロロベンゼンスルホン酸、3−ブロモベンゼンスルホン酸、2−フルオロカプリルナフタレンスルホン酸、ドデシルベンゼンスルホン酸、1−ナフトール−5−スルホン酸、2−メトキシ−4−ヒドロキシ−5−ベンゾイル−ベンゼンスルホン酸、及びパラトルエンスルホン酸等を挙げることができる。これらの中でも特に六フッ化リン酸、トリイソプロピルナフタレンスルホン酸や2,5−ジメチルベンゼンスルホン酸のごときアルキル芳香族スルホン酸が好適である。   The counter ion of the onium salt includes tetrafluoroboric acid, hexafluorophosphoric acid, triisopropylnaphthalenesulfonic acid, 5-nitro-o-toluenesulfonic acid, 5-sulfosalicylic acid, 2,5-dimethylbenzenesulfonic acid, 2,4,6-trimethylbenzenesulfonic acid, 2-nitrobenzenesulfonic acid, 3-chlorobenzenesulfonic acid, 3-bromobenzenesulfonic acid, 2-fluorocaprylnaphthalenesulfonic acid, dodecylbenzenesulfonic acid, 1-naphthol-5-sulfone Examples include acid, 2-methoxy-4-hydroxy-5-benzoyl-benzenesulfonic acid, and paratoluenesulfonic acid. Of these, particularly preferred are alkyl aromatic sulfonic acids such as hexafluorophosphoric acid, triisopropylnaphthalenesulfonic acid and 2,5-dimethylbenzenesulfonic acid.

o−キノンジアジド化合物以外の添加剤の添加量は、好ましくは1〜50質量%、更に好ましくは5〜30質量%、特に好ましくは10〜30質量%である。   The amount of additives other than the o-quinonediazide compound is preferably 1 to 50% by mass, more preferably 5 to 30% by mass, and particularly preferably 10 to 30% by mass.

また、更に感度を向上させる目的で、環状酸無水物類、フェノール類、有機酸類を併用することもできる。環状酸無水物としては米国特許第4,115,128 号明細書に記載されている無水フタル酸、テトラヒドロ無水フタル酸、ヘキサヒドロ無水フタル酸、3,6−エンドオキシ−Δ4 −テトラヒドロ無水フタル酸、テトラクロル無水フタル酸、無水マレイン酸、クロル無水マレイン酸、α−フェニル無水マレイン酸、無水コハク酸、無水ピロメリット酸などが使用できる。フェノール類としては、ビスフェノールA、p−ニトロフェノール、p−エトキシフェノール、2,4,4′−トリヒドロキシベンゾフェノン、2,3,4−トリヒドロキシベンゾフェノン、4−ヒドロキシベンゾフェノン、4,4′,4″−トリヒドロキシトリフェニルメタン、4,4′,3″,4″−テトラヒドロキシ−3,5,3′,5′−テトラメチルトリフェニルメタンなどが挙げられる。更に、有機酸類としては、特開昭60−88942 号、特開平2−96755 号公報などに記載されている、スルホン酸類、スルフィン酸類、アルキル硫酸類、ホスホン酸類、リン酸エステル類およびカルボン酸類などがあり、具体的には、p−トルエンスルホン酸、ドデシルベンゼンスルホン酸、p−トルエンスルフィン酸、エチル硫酸、フェニルホスホン酸、フェニルホスフィン酸、リン酸フェニル、リン酸ジフェニル、安息香酸、イソフタル酸、アジピン酸、p−トルイル酸、3,4−ジメトキシ安息香酸、フタル酸、テレフタル酸、4−シクロヘキセン−1,2−ジカルボン酸、エルカ酸、ラウリン酸、n−ウンデカン酸、アスコルビン酸などが挙げられる。上記の環状酸無水物、フェノール類および有機酸類の(A)層構成材料中に占める割合は、0.05〜20質量%が好ましく、より好ましくは0.1〜15質量%、特に好ましくは0.1〜10質量%である。   Further, for the purpose of further improving sensitivity, cyclic acid anhydrides, phenols, and organic acids can be used in combination. Examples of cyclic acid anhydrides include phthalic anhydride, tetrahydrophthalic anhydride, hexahydrophthalic anhydride, 3,6-endooxy-Δ4-tetrahydrophthalic anhydride described in US Pat. No. 4,115,128, Tetrachlorophthalic anhydride, maleic anhydride, chloromaleic anhydride, α-phenylmaleic anhydride, succinic anhydride, pyromellitic anhydride and the like can be used. As phenols, bisphenol A, p-nitrophenol, p-ethoxyphenol, 2,4,4'-trihydroxybenzophenone, 2,3,4-trihydroxybenzophenone, 4-hydroxybenzophenone, 4,4 ', 4 ″ -Trihydroxytriphenylmethane, 4,4 ′, 3 ″, 4 ″ -tetrahydroxy-3,5,3 ′, 5′-tetramethyltriphenylmethane and the like. There are sulfonic acids, sulfinic acids, alkylsulfuric acids, phosphonic acids, phosphoric esters, carboxylic acids and the like, which are described in, for example, Kokai 60-88942 and JP-A-2-96755. p-toluenesulfonic acid, dodecylbenzenesulfonic acid, p-toluenesulfinic acid, ethylsulfuric acid , Phenylphosphonic acid, phenylphosphinic acid, phenyl phosphate, diphenyl phosphate, benzoic acid, isophthalic acid, adipic acid, p-toluic acid, 3,4-dimethoxybenzoic acid, phthalic acid, terephthalic acid, 4-cyclohexene-1 , 2-dicarboxylic acid, erucic acid, lauric acid, n-undecanoic acid, ascorbic acid, etc. The proportion of the cyclic acid anhydrides, phenols and organic acids in the (A) layer constituting material is 0. 0.05 to 20% by mass is preferable, more preferably 0.1 to 15% by mass, and particularly preferably 0.1 to 10% by mass.

本発明において、画像形成層には、現像前の安定性を向上させるために、いわゆるワックスと呼ばれる炭素数の大きな脂肪酸またはその誘導体を添加することができる。炭素数6〜32のアルキル基またはアルケニル基(例えば、n−ヘキシル基、n−ヘプチル基、n−オクチル基、n−ノニル基、n−デシル基、n−ウンデシル基等の直鎖アルキル基、14−メチルペンタデシル基、16−メチルヘプタデシル基等の分岐を有するアルキル基、1−ヘキセニル基、1−ヘプテニル基、1−オクテニル基、2−メチル−1−ヘプテニル基等のアルケニル基)を有する脂肪酸、脂肪酸エステル等が好ましく、この中でも、塗布溶剤に対する溶解性の点で、炭素数25以下のアルキル基、アルケニル基を有するもの好ましい。用いうる化合物の具体例を挙げると、脂肪酸としては、エナント酸、カプリル酸、ペラルゴン酸、カプリン酸、ウンデシル酸、ラウリン酸、トリデシル酸、ミリスチン酸、ペンタデシル酸、パルミチン酸、ヘプタデシル酸、ステアリン酸、ノナデカン酸、アラキン酸、ベヘン酸、リグノセリン酸、セロチン酸、ヘプタコサン酸、モンタン酸、メリシン酸、ラクセル酸、ウンデシレン酸、オレイン酸、エライジン酸、セトレイン酸、エルカ酸、ブラシジン酸等が挙げられる。脂肪酸エステルとしては、これらの脂肪酸のメチルエステル、エチルエステル、プロピルエステル、ブチルエステル、ドデシルエステル、フェニルエステル、ナフチルエステルが挙げられる。チオ脂肪酸エステルとしては、これらの脂肪酸のメチルチオエステル、エチルチオエステル、プロピルチオエステル、ブチルチオエステル、ベンジルチオエステルが挙げられる。脂肪酸アミドとしては、これらの脂肪酸のアミド、メチルアミド、エチルアミド等が挙げられる。   In the present invention, a fatty acid having a large carbon number called a wax or a derivative thereof can be added to the image forming layer in order to improve the stability before development. C6-C32 alkyl group or alkenyl group (for example, linear alkyl group such as n-hexyl group, n-heptyl group, n-octyl group, n-nonyl group, n-decyl group, n-undecyl group, 14-methylpentadecyl group, branched alkyl group such as 16-methylheptadecyl group, 1-hexenyl group, 1-heptenyl group, 1-octenyl group, alkenyl group such as 2-methyl-1-heptenyl group) Fatty acids, fatty acid esters, and the like are preferable, and among them, those having an alkyl group or alkenyl group having 25 or less carbon atoms are preferable from the viewpoint of solubility in a coating solvent. Specific examples of compounds that can be used include enanthic acid, caprylic acid, pelargonic acid, capric acid, undecylic acid, lauric acid, tridecylic acid, myristic acid, pentadecylic acid, palmitic acid, heptadecylic acid, stearic acid, Nonadecanoic acid, arachidic acid, behenic acid, lignoceric acid, serotic acid, heptacosanoic acid, montanic acid, mellicic acid, lacteric acid, undecylenic acid, oleic acid, elaidic acid, cetoleic acid, erucic acid, brassic acid and the like can be mentioned. Examples of fatty acid esters include methyl esters, ethyl esters, propyl esters, butyl esters, dodecyl esters, phenyl esters, and naphthyl esters of these fatty acids. Examples of the thio fatty acid ester include methyl thioester, ethyl thioester, propyl thioester, butyl thioester, and benzyl thioester of these fatty acids. Examples of fatty acid amides include amides, methyl amides, and ethyl amides of these fatty acids.

これらの化合物は、それぞれ1種類あるいは2種類以上を組み合わせて使用してもよく、全印刷版材料固形分中、0.02〜10質量%、好ましくは0.2〜10質量%、特に好ましくは2〜10質量%の添加量で用いられる。   Each of these compounds may be used alone or in combination of two or more, and is 0.02 to 10% by mass, preferably 0.2 to 10% by mass, particularly preferably in the total solid content of the printing plate material. It is used in an addition amount of 2 to 10% by mass.

また、画像形成層構成材料中には、現像条件に対する処理の安定性を広げるため、特開昭62−251740号公報や特開平3−208514号公報に記載されているような非イオン界面活性剤、特開昭59−121044号公報、特開平4−13149 号公報に記載されているような両性界面活性剤を添加することができる。非イオン界面活性剤の具体例としては、ソルビタントリステアレート、ソルビタンモノパルミテート、ソルビタントリオレート、ステアリン酸モノグリセリド、ポリオキシエチレンノニルフェニルエーテル等が挙げられる。両面活性剤の具体例としては、アルキルジ(アミノエチル)グリシン、アルキルポリアミノエチルグリシン塩酸塩、2−アルキル−N−カルボキシエチル−N−ヒドロキシエチルイミダゾリニウムベタインやN−テトラデシル−N,N−ベタイン型(例えば、商品名「アモーゲンK」:第一工業(株)製)等が挙げられる。上記非イオン界面活性剤および両性界面活性剤の画像形成層構成材料中に占める割合は、0.05〜15質量%が好ましく、より好ましくは0.1〜5質量%である。   Further, in the image forming layer constituting material, a nonionic surfactant as described in JP-A-62-251740 and JP-A-3-208514 is used in order to broaden the stability of the processing with respect to the developing conditions. , Amphoteric surfactants as described in JP-A-59-121044 and JP-A-4-13149 can be added. Specific examples of the nonionic surfactant include sorbitan tristearate, sorbitan monopalmitate, sorbitan trioleate, stearic acid monoglyceride, polyoxyethylene nonylphenyl ether and the like. Specific examples of the double-sided activator include alkyldi (aminoethyl) glycine, alkylpolyaminoethylglycine hydrochloride, 2-alkyl-N-carboxyethyl-N-hydroxyethylimidazolinium betaine and N-tetradecyl-N, N-betaine. Type (for example, trade name “Amorgen K” manufactured by Daiichi Kogyo Co., Ltd.). The proportion of the nonionic surfactant and the amphoteric surfactant in the image forming layer constituting material is preferably 0.05 to 15% by mass, more preferably 0.1 to 5% by mass.

本発明における画像形成層構材料中には、露光による加熱後直ちに可視像を得るための焼き出し剤や、画像着色剤としての染料や顔料を加えることができる。焼き出し剤としては、露光による加熱によって酸を放出する化合物(光酸放出剤)と塩を形成し得る有機染料の組合せを代表として挙げることができる。具体的には、特開昭50−36209 号、同53−8128号の各公報に記載されているo−ナフトキノンジアジド−4−スルホン酸ハロゲニドと塩形成性有機染料の組合せや、特開昭53−36223 号、同54−74728 号、同60−3626号、同61−143748号、同61−151644号および同63−58440 号の各公報に記載されているトリハロメチル化合物と塩形成性有機染料の組合せを挙げることができる。かかるトリハロメチル化合物としては、オキサゾール系化合物とトリアジン系化合物とがあり、どちらも経時安定性に優れ、明瞭な焼き出し画像を与える。   In the image forming layer constituting material in the present invention, a printing-out agent for obtaining a visible image immediately after heating by exposure, or a dye or pigment as an image coloring agent can be added. Typical examples of the printing-out agent include a combination of a compound that releases an acid by heating by exposure (photoacid releasing agent) and an organic dye that can form a salt. Specifically, combinations of o-naphthoquinonediazide-4-sulfonic acid halides and salt-forming organic dyes described in JP-A-50-36209 and JP-A-53-8128, No. -36223, 54-74728, 60-3626, 61-143748, 61-151644 and 63-58440, and trihalomethyl compounds and salt-forming organic dyes Can be mentioned. Such trihalomethyl compounds include oxazole-based compounds and triazine-based compounds, both of which have excellent temporal stability and give clear printout images.

画像の着色剤としては、前述の塩形成性有機染料以外に他の染料を用いることができる。塩形成性有機染料を含めて、好適な染料として油溶性染料と塩基性染料をあげることができる。具体的にはオイルイエロー#101、オイルイエロー#103、オイルピンク#312、オイルグリーンBG、オイルブルーBOS、オイルブルー#603、オイルブラックBY、オイルブラックBS、オイルブラックT−505(以上オリエント化学工業(株)製)、ビクトリアピュアブルー、クリスタルバイオレット(CI42555)、メチルバイオレット(CI42535)、エチルバイオレット、ローダミンB(CI145170B)、マラカイトグリーン(CI42000)、メチレンブルー(CI52015)などを挙げることができる。また、特開昭62−293247号公報に記載されている染料は特に好ましい。これらの染料は、画像形成層構成材料全固形分に対し、0.01〜10質量%、好ましくは0.1〜3質量%の割合で添加することができる。   As the image colorant, other dyes can be used in addition to the above-mentioned salt-forming organic dyes. Examples of suitable dyes including salt-forming organic dyes include oil-soluble dyes and basic dyes. Specifically, Oil Yellow # 101, Oil Yellow # 103, Oil Pink # 312, Oil Green BG, Oil Blue BOS, Oil Blue # 603, Oil Black BY, Oil Black BS, Oil Black T-505 (oriental chemical industry) Manufactured by Co., Ltd.), Victoria Pure Blue, Crystal Violet (CI42555), Methyl Violet (CI42535), Ethyl Violet, Rhodamine B (CI145170B), Malachite Green (CI42000), Methylene Blue (CI522015), and the like. The dyes described in JP-A-62-293247 are particularly preferred. These dyes can be added in an amount of 0.01 to 10% by mass, preferably 0.1 to 3% by mass, based on the total solid content of the image forming layer constituting material.

更にこの画像形成層構成材料中には必要に応じ、塗膜の柔軟性等を付与するために可塑剤が加えることができる。例えば、ブチルフタリル、ポリエチレングリコール、クエン酸トリブチル、フタル酸ジエチル、フタル酸ジブチル、フタル酸ジヘキシル、フタル酸ジオクチル、リン酸トリクレジル、リン酸トリブチル、リン酸トリオクチル、オレイン酸テトラヒドロフルフリル、アクリル酸またはメタクリル酸のオリゴマーおよびポリマー等が用いられる。さらに、膜強度向上のため、長鎖脂肪酸エステル、長鎖脂肪酸アミド等を添加してもよい。   Further, a plasticizer can be added to the image forming layer constituting material, if necessary, in order to impart flexibility of the coating film. For example, butylphthalyl, polyethylene glycol, tributyl citrate, diethyl phthalate, dibutyl phthalate, dihexyl phthalate, dioctyl phthalate, tricresyl phosphate, tributyl phosphate, trioctyl phosphate, tetrahydrofurfuryl oleate, acrylic acid or methacrylic acid These oligomers and polymers are used. Furthermore, long chain fatty acid esters, long chain fatty acid amides, and the like may be added to improve film strength.

本発明における層構成材料中には、塗布性を良化するための界面活性剤、例えば特開昭62−170950号公報に記載されているようなフッ素系界面活性剤を添加することができる。好ましい添加量は、全層構成材料の0.01〜1質量%さらに好ましくは0.05〜0.5質量%である。   In the layer constituting material in the present invention, a surfactant for improving the coating property, for example, a fluorosurfactant described in JP-A-62-170950 can be added. A preferable addition amount is 0.01 to 1% by mass, more preferably 0.05 to 0.5% by mass of the total layer constituting material.

(塗布溶剤)
本発明に係る平版印刷版材料の画像形成層は、通常上記各成分を溶媒に溶かして、前述の親水性支持体上に塗布乾燥することにより形成することができる。ここで使用する溶媒としては下記の塗布溶剤が使用できる。これらの溶媒は単独あるいは混合して使用される。
(Coating solvent)
The image forming layer of the lithographic printing plate material according to the present invention can be usually formed by dissolving the above-described components in a solvent and coating and drying on the above-mentioned hydrophilic support. As the solvent used here, the following coating solvents can be used. These solvents are used alone or in combination.

例えばn−プロパノール、イソプロピルアルコール、n−ブタノール、sec−ブタノール、イソブタノール、2−メチル−1−ブタノール、3−メチル−1−ブタノール、2−メチル−2−ブタノール、2−エチル−1−ブタノール、1−ペンタノール、2−ペンタノール、3−ペンタノール、n−ヘキサノール、2−ヘキサノール、シクロヘキサノール、メチルシクロヘキサノール、1−ヘプタノール、2−ヘプタノール、3−ヘプタノール、1−オクタノール、4−メチル−2−ペンタノール、2−ヘキシルアルコール、ベンジルアルコール、エチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、テトラエチレングリコール、1,3−プロパンジオール、1,5−ペンタングリコール、ジメチルトリグリコール、フリフリルアルコール、ヘキシレングリコール、ヘキシルエーテル、3−メトキシ−1−ブタノール、3−メトキシ−3−メチルブタノール、ブチルフェニルエーテル、エチレングリコールモノアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノプロピルエーテル、プロピレングリコールモノブチルエーテル、プロピレングリコールフェニルエーテル、ジプロピレングリコールモノメチルエーテル、ジプロピレングリコールモノエチルエーテル、ジプロピレングリコールモノプロピルエーテル、ジプロピレングリコールモノブチルエーテル、トリプロピレングリコールモノメチルエーテル、メチルカルビトール、エチルカルビトール、エチルカルビトールアセテート、ブチルカルビトール、トリエチレングリコールモノメチルエーテル、トリエチレングリコールモノエチルエーテル、テトラエチレングリコールジメチルエーテル、ジアセトンアルコール、アセトフェノン、シクロヘキサノン、メチルシクロヘキサノン、アセトニルアセトン、イソホロン、乳酸メチル、乳酸エチル、乳酸ブチル、炭酸プロピレン、酢酸フェニル、酢酸−sec−ブチル、酢酸シクロヘキシル、シュウ酸ジエチル、安息香酸メチル、安息香酸エチル、γ−ブチルラクトン、3−メトキシ−1−ブタノール、4−メトキシ−1−ブタノール、3−エトキシ−1−ブタノール、3−メトキシ−3−メチル−1−ブタノール、3−メトキシ−3−エチル−1−ペンタノール、4−エトキシ−1−ペンタノール、5−メトキシ−1−ヘキサノール、3−ヒドロキシ−2−ブタノン、4−ヒドロキシ−2−ブタノン、4−ヒドロキシ−2−ペンタノン、5−ヒドロキシ−2−ペンタノン、4−ヒドロキシ−3−ペンタノン、6−ヒドロキシ−2−ペンタノン、4−ヒドロキシ−3−ペンタノン、6−ヒロドキシ−2−ヘキサノン、3−メチル−3−ヒドロキシ−2−ペンタノン、メチルセルソルブ(MC)、エチルセルソルブ(EC)等が挙げられる。   For example, n-propanol, isopropyl alcohol, n-butanol, sec-butanol, isobutanol, 2-methyl-1-butanol, 3-methyl-1-butanol, 2-methyl-2-butanol, 2-ethyl-1-butanol 1-pentanol, 2-pentanol, 3-pentanol, n-hexanol, 2-hexanol, cyclohexanol, methylcyclohexanol, 1-heptanol, 2-heptanol, 3-heptanol, 1-octanol, 4-methyl 2-pentanol, 2-hexyl alcohol, benzyl alcohol, ethylene glycol, diethylene glycol, triethylene glycol, tetraethylene glycol, 1,3-propanediol, 1,5-pentane glycol, dimethyltriglycol, fluoro Furyl alcohol, hexylene glycol, hexyl ether, 3-methoxy-1-butanol, 3-methoxy-3-methylbutanol, butylphenyl ether, ethylene glycol monoacetate, propylene glycol monomethyl ether, propylene glycol monoethyl ether, propylene glycol mono Propyl ether, propylene glycol monobutyl ether, propylene glycol phenyl ether, dipropylene glycol monomethyl ether, dipropylene glycol monoethyl ether, dipropylene glycol monopropyl ether, dipropylene glycol monobutyl ether, tripropylene glycol monomethyl ether, methyl carbitol, ethyl Carbitol, ethyl carbitol acetate Butyl carbitol, triethylene glycol monomethyl ether, triethylene glycol monoethyl ether, tetraethylene glycol dimethyl ether, diacetone alcohol, acetophenone, cyclohexanone, methylcyclohexanone, acetonyl acetone, isophorone, methyl lactate, ethyl lactate, butyl lactate, propylene carbonate , Phenyl acetate, acetic acid-sec-butyl, cyclohexyl acetate, diethyl oxalate, methyl benzoate, ethyl benzoate, γ-butyllactone, 3-methoxy-1-butanol, 4-methoxy-1-butanol, 3-ethoxy- 1-butanol, 3-methoxy-3-methyl-1-butanol, 3-methoxy-3-ethyl-1-pentanol, 4-ethoxy-1-pentanol, 5-methoxy-1-hex Nord, 3-hydroxy-2-butanone, 4-hydroxy-2-butanone, 4-hydroxy-2-pentanone, 5-hydroxy-2-pentanone, 4-hydroxy-3-pentanone, 6-hydroxy-2-pentanone, Examples include 4-hydroxy-3-pentanone, 6-hydroxy-2-hexanone, 3-methyl-3-hydroxy-2-pentanone, methyl cellosolve (MC), and ethyl cellosolve (EC).

《3.塗布乾燥》
調製された画像形成層の塗布組成物(画像形成層塗布液)は、従来公知の方法で支持体上に塗布し、乾燥し、平版印刷版材料を作製することができる。塗布液の塗布方法としては、例えばエアドクタコータ法、ブレードコータ法、ワイヤバー法、ナイフコータ法、ディップコータ法、リバースロールコータ法、グラビヤコータ法、キャストコーティング法、カーテンコータ法及び押し出しコータ法等を挙げることができる。
<< 3. Application drying >>
The prepared coating composition for the image forming layer (image forming layer coating solution) can be coated on a support by a conventionally known method and dried to prepare a lithographic printing plate material. Examples of coating methods for the coating liquid include air doctor coater method, blade coater method, wire bar method, knife coater method, dip coater method, reverse roll coater method, gravure coater method, cast coating method, curtain coater method and extrusion coater method. Can be mentioned.

画像形成層の乾燥温度は、60〜160℃の範囲が好ましく、より好ましくは80〜140℃、特に好ましくは90〜120℃の範囲である。また乾燥装置に赤外線放射装置を設置し乾燥効率の向上を図ることもできる。   The drying temperature of the image forming layer is preferably in the range of 60 to 160 ° C, more preferably in the range of 80 to 140 ° C, and particularly preferably in the range of 90 to 120 ° C. Further, an infrared radiation device can be installed in the drying device to improve the drying efficiency.

(エージング)
本発明の製造方法においては、前記支持体上に前記感光層を塗布、乾燥した後、性能を安定させるためにエージング処理を行っても良い。エージング処理は、乾燥ゾーンと連続して実施されてもよく、分けて実施されてもよい。
(aging)
In the production method of the present invention, after the photosensitive layer is coated on the support and dried, an aging treatment may be performed to stabilize the performance. The aging treatment may be performed continuously with the drying zone or may be performed separately.

《4.裁断、積載》
本発明の平版印刷版材料の製造方法においては、上記のようにして、粗面化されたロール状のアルミニウム支持体に、画像形成層が塗布・乾燥された後、平版印刷版材料は、枚葉状に切断された各平版印刷版材料の間に合紙が設置されており、前記合紙の表面と前記平版印刷版材料の画像形成層との静止摩擦係数(μ1)が、前記合紙の裏面と前記平版印刷版材料のアルミ支持体の裏面との動摩擦係数(μ2)よりも0.05〜3.0大きく、かつ平版印刷版材料を傾斜された架台の上に(枚葉状に切断された各平版印刷版材料の間に合紙が設置されて)積載することを特徴とする。
<< 4. Cutting and loading >>
In the method for producing a lithographic printing plate material of the present invention, after the image forming layer is applied and dried on the roughened roll-shaped aluminum support as described above, the lithographic printing plate material is A slip sheet is installed between the lithographic printing plate materials cut into leaves, and a static friction coefficient (μ1) between the surface of the slip sheet and the image forming layer of the planographic printing plate material is It is 0.05 to 3.0 larger than the dynamic friction coefficient (μ2) between the back surface and the back surface of the aluminum support of the lithographic printing plate material, and the lithographic printing plate material is cut on a tilted pedestal (sheet-fed) In addition, a slip sheet is installed between the planographic printing plate materials).

尚、本発明における、
合紙の表面と前記平版印刷版材料の画像形成層との静止摩擦係数(μ1)、
合紙の裏面と前記平版印刷版材料のアルミ支持体の裏面との動摩擦係数(μ2)、
は、下記のごとくして測定されるものである。
In the present invention,
Coefficient of static friction (μ1) between the surface of the slip sheet and the image forming layer of the planographic printing plate material,
Coefficient of dynamic friction (μ2) between the back surface of the slip sheet and the back surface of the aluminum support of the lithographic printing plate material,
Is measured as follows.

<摩擦係数の測定>
裁断、積載された平版印刷版材料試料について、ASTMD1894に準拠した摩擦係数測定装置(新東科学株式会社製、HEIDON 14FW)を用いて、移動速度152mm/minで、平版印刷版材料表面(画像形成層面)と合紙表面の静摩擦係数(μ1)、と、平版印刷版材料裏面(アルミ面)と合紙裏面の動摩擦係数(μ2)、とを測定する。
<Measurement of friction coefficient>
The lithographic printing plate material sample that was cut and loaded was measured using a friction coefficient measuring device (made by Shinto Kagaku Co., Ltd., HEIDON 14FW) compliant with ASTM D1894 at a moving speed of 152 mm / min (image formation) The static friction coefficient (μ1) of the layer surface) and the interleaf paper surface, and the dynamic friction coefficient (μ2) of the lithographic printing plate material back surface (aluminum surface) and interleaf paper back surface are measured.

本発明の平版印刷版材料の製造方法(平版印刷版材料を裁断、積載する方法)について、本発明の平版印刷版材料の製造方法(平版印刷版材料を裁断、積載する方法)を例示する図1を用いて説明する。   The figure which illustrates the manufacturing method (the method of cutting and loading a planographic printing plate material) of the present invention about the manufacturing method of the planographic printing plate material of the present invention (method of cutting and stacking the planographic printing plate material) 1 will be used for explanation.

図1において、上記のごとくして、塗布乾燥した平版印刷版材料は、図1の左から流れてくる。平版印刷版材料の表面(画像形成層側の面)2には繰り出した合紙4が合紙の表面で重なる合わせられる。合紙と平版印刷版材料を付着させるための帯電装置5によりよく付着させられたのち、クロスカッター(断裁部)6で所定のサイズに断裁された後、コンベア7により、積載台8に積載される。尚、積載台8は受け台部が傾斜しており、積載量に応じて上下に移動する。積載された平版印刷版材料は合紙と交互に積載されている。合紙は平版印刷版材料と同じ幅か又は若干小さいことが好ましい。   In FIG. 1, the lithographic printing plate material coated and dried as described above flows from the left in FIG. The slip sheet 4 fed out overlaps the surface (surface on the image forming layer side) 2 of the planographic printing plate material so as to overlap the surface of the slip sheet. After being attached well by the charging device 5 for attaching the interleaving paper and the planographic printing plate material, the paper is cut to a predetermined size by a cross cutter (cutting section) 6 and then loaded on a loading table 8 by a conveyor 7. The The loading table 8 is inclined at the receiving table and moves up and down according to the loading amount. The loaded lithographic printing plate materials are alternately stacked with slip sheets. The slip sheet is preferably the same width as the planographic printing plate material or slightly smaller.

本発明においては、枚葉状に断裁した平版印刷版材料を流れ方向に対して傾斜させた積載部に堆積することを特徴とする。積載台をこのような傾斜構造にすることで、積載時に版同士の接触を最小限に抑えることが可能になる。積載台の角度は、版厚み、版サイズ、ライン速度、に応じて適宜設定されるが、通常は5〜45度の範囲で設定される。   The present invention is characterized in that the lithographic printing plate material cut into sheets is deposited on a stacking portion inclined with respect to the flow direction. By adopting such a tilting structure for the loading table, it is possible to minimize the contact between the plates during loading. The angle of the loading table is appropriately set according to the plate thickness, plate size, and line speed, but is usually set in the range of 5 to 45 degrees.

積載台は積載量に応じて積載面の位置を調整し、断裁された平版印刷版材料が積載時に最小限の上下動で積載面に落下するように設定することが好ましい態様である。   It is preferable that the loading table is set so that the position of the loading surface is adjusted in accordance with the loading amount, and the cut lithographic printing plate material is dropped on the loading surface with a minimum vertical movement during loading.

このような積載方法を使用することで、生産性の早いラインでも積載時に版同士が擦れることによる傷の発生を防止することができる。   By using such a stacking method, it is possible to prevent the occurrence of scratches caused by the plates rubbing at the time of stacking even in a highly productive line.

(摩擦係数の制御)
本発明においては、合紙表面と前記平版印刷版材料の画像形成層との静止摩擦係数(μ1)が、合紙裏面と前記平版印刷のアルミ支持体裏面との動摩擦係数(μ2)よりも0.05以上大きいことが必要である。
(Control of friction coefficient)
In the present invention, the static friction coefficient (μ1) between the surface of the slip sheet and the image forming layer of the lithographic printing plate material is 0 than the dynamic friction coefficient (μ2) between the back surface of the slip sheet and the back surface of the planographic printing aluminum support. .05 or larger is required.

下記諸条件を調整することにより、上記条件を満たすことで、積載時に合紙位置がずれたり、それ以降の取り扱いで平版印刷版材料面と合紙表面の滑りに起因する擦れ傷が発生することを防止することができる。   By adjusting the following conditions, by satisfying the above conditions, the slip sheet position may shift when loaded, or scratches caused by slippage between the planographic printing plate material surface and the slip sheet surface may occur during subsequent handling. Can be prevented.

(1)合紙の表面粗さ
(2)画像形成層中の滑材成分量
(3)合紙を平版印刷版材料と重ね合わせるときの帯電量
(バリ方向の制御)
図2に平版印刷版材料の裁断の好ましい一例を示す。図2に示す如くに、搬送方向の平版印刷版材料後端部を刃面で切断するように構成することで、平版印刷版材料の版進行方向前方が上バリ、版後端が下バリになり、積載時に下の版面上に上版のバリが接触することなく、傷の発生を防ぐことができる。
(1) Surface roughness of interleaf paper (2) Lubricant component amount in image forming layer (3) Charge amount when interleaving interleaf paper with lithographic printing plate material (control of burr direction)
FIG. 2 shows a preferred example of cutting a lithographic printing plate material. As shown in FIG. 2, by configuring the trailing end of the planographic printing plate material in the conveying direction to be cut with a blade surface, the front of the planographic printing plate material in the plate traveling direction is an upper burr and the rear end of the plate is a lower burr. Thus, the burrs of the upper plate do not come into contact with the lower plate surface during loading, and the generation of scratches can be prevented.

《5.露光》
上記のようにして作製された画像記録材料は、平版印刷版材料として用いられることが好ましく、通常、像露光、現像処理を施され、平版印刷版として用いられる。
<< 5. exposure"
The image recording material produced as described above is preferably used as a lithographic printing plate material, and is usually subjected to image exposure and development treatment and used as a lithographic printing plate.

像露光に用いられる光線の光源としては、近赤外から赤外領域に発光波長を持つ光源が好ましく、固体レーザ、半導体レーザが特に好ましい。像露光は市販のCTP用セッターを用い、デジタル変換されたデータに基づいて、赤外線レーザ(830nm)で露光した後、現像等の処理をすることにより、アルミニウム板支持体表面に画像を形成し、平版印刷版として供することができる。   As the light source of the light beam used for image exposure, a light source having an emission wavelength in the near infrared to infrared region is preferable, and a solid laser or a semiconductor laser is particularly preferable. Image exposure uses a commercially available CTP setter, and after exposure with an infrared laser (830 nm) based on digitally converted data, an image is formed on the surface of the aluminum plate support by processing such as development. Can be provided as a lithographic printing plate.

製版方法に用いられる露光装置としてはレーザビーム方式であれば特に限定されず、円筒外面(アウタードラム)走査方式、円筒内面(インナードラム)走査方式、平面(フラットベッド)走査方式の何れも用いることができるが、低照度長時間露光による生産性を上げるためにマルチビーム化しやすいアウタードラム方式が好ましく用いられ、特にGLV変調素子を備えたアウタードラム方式の露光装置が好ましい。   The exposure apparatus used in the plate making method is not particularly limited as long as it is a laser beam method, and any of a cylindrical outer surface (outer drum) scanning method, a cylindrical inner surface (inner drum) scanning method, and a flat (flat bed) scanning method may be used. However, in order to increase productivity by low-illumination long-time exposure, an outer drum type that is easy to be multi-beamed is preferably used, and an outer drum type exposure apparatus including a GLV modulation element is particularly preferable.

レーザビーム画素滞留時間とはレーザビームが1画素(ワンドット)を通過する時間、即ち1画素当たりの露光時間を意味する。レーザビーム画素滞留時間を2.0〜20μ秒、好ましくは2.5〜15μ秒とする。また、レーザビームが1画素を通過する時間におけるレーザビーム印加量は、10〜300mJ/cm2が好ましく、30〜180mJ/cm2が更に好ましい。 The laser beam pixel residence time means the time for which the laser beam passes one pixel (one dot), that is, the exposure time per pixel. The laser beam pixel residence time is set to 2.0 to 20 μsec, preferably 2.5 to 15 μsec. The laser beam applied amount of time the laser beam passes through the 1 pixel is preferably 10 to 300 mJ / cm 2, more preferably 30~180mJ / cm 2.

露光工程において、GLV変調素子を備えたレーザ露光記録装置を用いてマルチチャンネル化することが平版印刷版の生産性を向上させる上で好ましい。GLV変調素子としては、レーザビームを200チャンネル以上に分割できるものが好ましく、500チャンネル以上に分割できるものが更に好ましい。また、レーザビーム径は、15μm以下が好ましく、10μm以下が更に好ましい。レーザ出力は10〜100Wが好ましく、20〜80Wが更に好ましい。ドラム回転数は、20〜300rpmが好ましく、30〜200rpmが更に好ましい。   In the exposure process, it is preferable to use a laser exposure recording apparatus equipped with a GLV modulation element to make a multi-channel in order to improve the productivity of the lithographic printing plate. As the GLV modulation element, one that can divide the laser beam into 200 channels or more is preferable, and one that can divide the laser beam into 500 channels or more is more preferable. The laser beam diameter is preferably 15 μm or less, more preferably 10 μm or less. The laser output is preferably 10 to 100 W, more preferably 20 to 80 W. The drum rotation speed is preferably 20 to 300 rpm, more preferably 30 to 200 rpm.

《6.現像》
本発明に係る平版印刷版材料に適用できる現像液及び補充液は、pHが9.0〜14.0の範囲、好ましくは12.0〜13.5の範囲にあるものである。現像液(以下、補充液も含めて現像液と呼ぶ)には、公知のアルカリ水溶液が使用できる。例えば、塩基としては水酸化ナトリウム、同アンモニウム、同カリウム及び同リチウムが好適に用いられる。これらのアルカリ剤は、単独もしくは二種以上を組み合わせて用いられる。その他として、例えば、珪酸カリウム、珪酸ナトリウム、珪酸リチウム、珪酸アンモニウム、メタ珪酸カリウム、メタ珪酸ナトリウム、メタ珪酸リチウム、メタ珪酸アンモニウム、燐酸三カリウム、燐酸三ナトリウム、燐酸三リチウム、燐酸三アンモニウム、燐酸二カリウム、燐酸二ナトリウム、燐酸二リチウム、燐酸二アンモニウム、炭酸カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸リチウム、炭酸アンモニウム、炭酸水素カリウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素リチウム、炭酸水素アンモニウム、硼酸カリウム、硼酸ナトリウム、硼酸リチウム、硼酸アンモニウム等があげられ、予め形成された塩の形で加えられてもよい。この場合も、水酸化ナトリウム、同アンモニウム、同カリウム及び同リチウムをpH調整に加えることができる。また、モノメチルアミン、ジメチルアミン、トリメチルアミン、モノエチルアミン、ジエチルアミン、トリエチルアミン、モノイソプロピルアミン、ジイソプロピルアミン、トリイソプロピルアミン、n−ブチルアミン、モノエタノールアミン、ジエタノールアミン、トリエタノールアミン、モノイソプロパノールアミン、ジイソプロパノールアミン、エチレンイミン、エチレンジアミン、ピリジンなどの有機アルカリ剤も組み合わせて用いられる。もっとも好ましいものとして珪酸カリウム及び珪酸ナトリウムがあげられる。珪酸塩の濃度は、SiO2濃度換算で2〜4質量%である。また、SiO2とアルカリ金属Mのmol比(SiO2/M)が、0.25〜2の範囲であることがより好ましい。
<< 6. developing"
The developer and replenisher that can be applied to the lithographic printing plate material according to the present invention have a pH in the range of 9.0 to 14.0, preferably in the range of 12.0 to 13.5. A known alkaline aqueous solution can be used as the developer (hereinafter referred to as a developer including a replenisher). For example, sodium hydroxide, ammonium, potassium and lithium are preferably used as the base. These alkali agents are used alone or in combination of two or more. Other examples include potassium silicate, sodium silicate, lithium silicate, ammonium silicate, potassium metasilicate, sodium metasilicate, lithium metasilicate, ammonium metasilicate, tripotassium phosphate, trisodium phosphate, trilithium phosphate, triammonium phosphate, phosphoric acid. Dipotassium, disodium phosphate, dilithium phosphate, diammonium phosphate, potassium carbonate, sodium carbonate, lithium carbonate, ammonium carbonate, potassium bicarbonate, sodium bicarbonate, lithium bicarbonate, ammonium bicarbonate, potassium borate, sodium borate, boric acid Lithium, ammonium borate and the like can be mentioned and may be added in the form of a preformed salt. Again, sodium hydroxide, ammonium, potassium and lithium can be added to the pH adjustment. Moreover, monomethylamine, dimethylamine, trimethylamine, monoethylamine, diethylamine, triethylamine, monoisopropylamine, diisopropylamine, triisopropylamine, n-butylamine, monoethanolamine, diethanolamine, triethanolamine, monoisopropanolamine, diisopropanolamine, Organic alkali agents such as ethyleneimine, ethylenediamine, and pyridine are also used in combination. Most preferred are potassium silicate and sodium silicate. The concentration of silicate is 2 to 4% by mass in terms of SiO 2 concentration. Further, the molar ratio of SiO 2 to alkali metal M (SiO 2 / M) is more preferably in the range of 0.25 to 2 .

尚、本発明で言う現像液とは、現像のスタート時に使用される未使用の液だけでなく、赤外レーザ感熱性平版印刷版材料の処理によって低下する液の活性度を補正するために補充液が補充され、活性度が保たれた液(いわゆるランニング液)を含む。   The developer referred to in the present invention is not only an unused solution used at the start of development, but also replenished to correct the activity of the solution that decreases due to processing of the infrared laser-sensitive lithographic printing plate material. The liquid is replenished and the liquid whose activity is maintained (so-called running liquid) is included.

現像液及び補充液には、現像性の促進や現像カスの分散及び印刷版画像部の親インキ性を高める目的で必要に応じて種々界面活性剤や有機溶剤を添加できる。好ましい界面活性剤としては、アニオン系、カチオン系、ノニオン系及び両性界面活性剤が挙げられる。界面活性剤の好ましい例としては、ポリオキシエチレンアルキルエーテル類、ポリオキシエチレンアルキルフェニルエーテル類、ポリオキシエチレンポリスチリルフェニルエーテル類、ポリオキシエチレンポリオキシプロピレンアルキルエーテル類、グリセリン脂肪酸部分エステル類、ソルビタン脂肪酸部分エステル類、ペンタエリスリトール脂肪酸部分エステル類、プロピレングリコールモノ脂肪酸エステル類、蔗糖脂肪酸部分エステル類、ポリオキシエチレンソルビタン脂肪酸部分エステル類、ポリオキシエチレンソルビトール脂肪酸部分エステル類、ポリエチレングリコール脂肪酸エステル類、ポリグリセリン脂肪酸部分エステル類、ポリオキシエチレン化ひまし油類、ポリオキシエチレングリセリン脂肪酸部分エステル類、ポリオキシエチレン−ポリオキシプロピレンブロック共重合体、エチレンジアミンのポリオキシエチレン−ポリオキシプロピレンブロック共重合体付加物、脂肪酸ジエタノールアミド類、N,N−ビス−2−ヒドロキシアルキルアミン類、ポリオキシエチレンアルキルアミン、トリエタノールアミン脂肪酸エステル、トリアルキルアミンオキシドなどの非イオン性界面活性剤、脂肪酸塩類、アビエチン酸塩類、ヒドロキシアルカンスルホン酸塩類、アルカンスルホン酸塩類、ジアルキルスルホ琥珀酸エステル塩類、直鎖アルキルベンゼンスルホン酸塩類、分岐鎖アルキルベンゼンスルホン酸塩類、アルキルナフタレンスルホン酸塩類、アルキルジフェニルエーテルスルホン酸塩類、アルキルフェノキシポリオキシエチレンプロピルスルホン酸塩類、ポリオキシエチレンアルキルスルホフェニルエーテル塩類、N−メチル−N−オレイルタウリンナトリウム塩、N−アルキルスルホ琥珀酸モノアミド二ナトリウム塩、石油スルホン酸塩類、硫酸化牛脂油、脂肪酸アルキルエステルの硫酸エステル塩類、アルキル硫酸エステル塩類、ポリオキシエチレンアルキルエーテル硫酸エステル塩類、脂肪酸モノグリセリド硫酸エステル塩類、ポリオキシエチレンアルキルフェニルエーテル硫酸エステル塩類、ポリオキシエチレンスチリルフェニルエーテル硫酸エステル塩類、アルキルリン酸エステル塩類、ポリオキシエチレンアルキルエーテルリン酸エステル塩類、ポリオキシエチレンアルキルフェニルエーテルリン酸エステル塩類、スチレン/無水マレイン酸共重合物の部分鹸化物類、オレフィン/無水マレイン酸共重合物の部分鹸化物類、ナフタレンスルホン酸塩ホルマリン縮合物類などのアニオン界面活性剤、アルキルアミン塩類、テトラブチルアンモニウムブロミド等の第四級アンモニウム塩類、ポリオキシエチレンアルキルアミン塩類、ポリエチレンポリアミン誘導体などのカチオン性界面活性剤、カルボキシベタイン類、アミノカルボン酸類、スルホベタイン類、アミノ硫酸エステル類、イミダゾリン類などの両性界面活性剤が挙げられる。以上に記載の各界面活性剤の中で、ポリオキシエチレンとは、ポリオキシメチレン、ポリオキシプロピレン、ポリオキシブチレンなどのポリオキシアルキレンに読み替えることもでき、それらの界面活性剤もまた包含される。更に好ましい界面活性剤は、分子内にパーフルオロアルキル基を含有するフッ素系の界面活性剤である。この様なフッ素系界面活性剤としては、例えば、パーフルオロアルキルカルボン酸塩、パーフルオロアルキルスルホン酸塩、パーフルオロアルキルリン酸エステルなどのアニオン型、パーフルオロアルキルベタインなどの両性型、パーフルオロアルキルトリメチルアンモニウム塩などのカチオン型及びパーフルオロアルキルアミンオキサイド、パーフルオロアルキルエチレンオキシド付加物、パーフルオロアルキル基及び親水性基含有オリゴマー、パーフルオロアルキル基及び親油性基含有オリゴマー、パーフルオロアルキル基、親水性基及び親油性基含有オリゴマー、パーフルオロアルキル基及び親油性基含有ウレタンなどの非イオン型が挙げられる。上記の界面活性剤は、単独もしくは2種以上を組み合わせて使用することができ、現像液中に0.001〜10質量%、より好ましくは0.01〜5質量%の範囲で添加される。   Various surfactants and organic solvents can be added to the developer and the replenisher as necessary for the purpose of promoting developability, dispersing development residue, and improving ink affinity of the printing plate image area. Preferred surfactants include anionic, cationic, nonionic and amphoteric surfactants. Preferred examples of the surfactant include polyoxyethylene alkyl ethers, polyoxyethylene alkyl phenyl ethers, polyoxyethylene polystyryl phenyl ethers, polyoxyethylene polyoxypropylene alkyl ethers, glycerin fatty acid partial esters, sorbitan Fatty acid partial esters, pentaerythritol fatty acid partial esters, propylene glycol mono fatty acid esters, sucrose fatty acid partial esters, polyoxyethylene sorbitan fatty acid partial esters, polyoxyethylene sorbitol fatty acid partial esters, polyethylene glycol fatty acid esters, poly Glycerin fatty acid partial esters, polyoxyethylenated castor oil, polyoxyethylene glycerin fatty acid partial esters, polyoxy Ethylene-polyoxypropylene block copolymer, ethylenediamine polyoxyethylene-polyoxypropylene block copolymer adduct, fatty acid diethanolamides, N, N-bis-2-hydroxyalkylamines, polyoxyethylene alkylamine, Nonionic surfactants such as triethanolamine fatty acid esters and trialkylamine oxides, fatty acid salts, abietic acid salts, hydroxyalkane sulfonic acid salts, alkane sulfonic acid salts, dialkyl sulfosuccinic acid ester salts, linear alkylbenzene sulfonic acid salts Branched alkylbenzene sulfonates, alkyl naphthalene sulfonates, alkyl diphenyl ether sulfonates, alkylphenoxy polyoxyethylene propyl sulfonates, Oxyethylene alkyl sulfophenyl ether salts, N-methyl-N-oleyl taurine sodium salt, N-alkyl sulfosuccinic acid monoamide disodium salt, petroleum sulfonates, sulfated beef oil, sulfate esters of fatty acid alkyl esters, alkyl sulfates Ester salts, polyoxyethylene alkyl ether sulfates, fatty acid monoglyceride sulfates, polyoxyethylene alkyl phenyl ether sulfates, polyoxyethylene styryl phenyl ether sulfates, alkyl phosphate esters, polyoxyethylene alkyl ether phosphorus Acid ester salts, polyoxyethylene alkylphenyl ether phosphate ester salts, partially saponified styrene / maleic anhydride copolymers, olefins / anhydrides Partially saponified products of maleic acid copolymer, anionic surfactants such as naphthalenesulfonate formalin condensates, alkylamine salts, quaternary ammonium salts such as tetrabutylammonium bromide, polyoxyethylene alkylamine salts, polyethylene Examples include cationic surfactants such as polyamine derivatives, and amphoteric surfactants such as carboxybetaines, aminocarboxylic acids, sulfobetaines, aminosulfuric esters, and imidazolines. Among the surfactants described above, polyoxyethylene can be read as polyoxyalkylene such as polyoxymethylene, polyoxypropylene, and polyoxybutylene, and these surfactants are also included. . A more preferred surfactant is a fluorosurfactant containing a perfluoroalkyl group in the molecule. Examples of such fluorosurfactants include perfluoroalkyl carboxylates, perfluoroalkyl sulfonates, anionic types such as perfluoroalkyl phosphate esters, amphoteric types such as perfluoroalkyl betaines, and perfluoroalkyls. Cation type and perfluoroalkylamine oxide such as trimethylammonium salt, perfluoroalkylethylene oxide adduct, perfluoroalkyl group and hydrophilic group-containing oligomer, perfluoroalkyl group and lipophilic group-containing oligomer, perfluoroalkyl group, hydrophilic Nonionic types such as group- and lipophilic group-containing oligomers, perfluoroalkyl groups and lipophilic group-containing urethanes. Said surfactant can be used individually or in combination of 2 or more types, and is added in 0.001-10 mass% in a developing solution, More preferably, it is added in 0.01-5 mass%.

現像液及び補充液には、必要に応じて、種々現像安定化剤を用いることができる。それらの好ましい例として、特開平6−282079号公報記載の糖アルコールのポリエチレングリコール付加物、テトラブチルアンモニウムヒドロキシドなどのテトラアルキルアンモニウム塩、テトラブチルホスホニウムブロマイドなどのホスホニウム塩及びジフェニルヨードニウムクロライドなどのヨードニウム塩等が挙げられる。更には、特開昭50−51324号公報記載のアニオン界面活性剤または両性界面活性剤、また特開昭55−95946号公報記載の水溶性カチオニックポリマー、特開昭56−142528号公報に記載されている水溶性の両性高分子電解質がある。更に、特開昭59−84241号公報のアルキレングリコールが付加された有機ホウ素化合物、特開昭60−111246号公報記載のポリオキシエチレン・ポリオキシプロピレンブロック重合型の水溶性界面活性剤、特開昭60−129750号公報のポリオキシエチレン・ポリオキシプロピレンを置換したアルキレンジアミン化合物、特開昭61−215554号公報記載の質量平均分子量300以上のポリエチレングリコール、特開昭63−175858号公報のカチオン性基を有する含フッ素界面活性剤、特開平2−39157号公報の酸またはアルコールに4モル以上のエチレンオキシドを付加して得られる水溶性エチレンオキシド付加化合物と、水溶性ポリアルキレン化合物などが挙げられる。   Various development stabilizers can be used in the developer and the replenisher as necessary. Preferred examples thereof include polyethylene glycol adducts of sugar alcohols described in JP-A-6-282079, tetraalkylammonium salts such as tetrabutylammonium hydroxide, phosphonium salts such as tetrabutylphosphonium bromide, and iodonium such as diphenyliodonium chloride. Examples include salts. Further, anionic surfactants or amphoteric surfactants described in JP-A-50-51324, water-soluble cationic polymers described in JP-A-55-95946, and JP-A-56-142528 are described. There are water-soluble amphoteric polyelectrolytes that have been described. Furthermore, an organic boron compound to which an alkylene glycol is added as described in JP-A-59-84241, a polyoxyethylene / polyoxypropylene block polymerization type water-soluble surfactant as described in JP-A-60-111246, An alkylenediamine compound substituted with polyoxyethylene / polyoxypropylene disclosed in JP-A-60-129750, a polyethylene glycol having a mass average molecular weight of 300 or more described in JP-A-61-215554, and a cation described in JP-A-63-175858 And a water-soluble ethylene oxide addition compound obtained by adding 4 mol or more of ethylene oxide to an acid or alcohol disclosed in JP-A-2-39157, a water-soluble polyalkylene compound, and the like.

現像液及び現像補充液には、更に必要により有機溶剤を用いることができる。本発明で用いることのできる有機溶剤としては、水に対する溶解度が約10質量%以下のものが適しており、好ましくは5質量%以下のものから選ばれる。例えば、1−フェニルエタノール、2−フェニルエタノール、3−フェニル−1−プロパノール、4−フェニル−1−ブタノール、4−フェニル−2−ブタノール、2−フェニル−1−ブタノール、2−フェノキシエタノール、2−ベンジルオキシエタノール、o−メトキシベンジルアルコール、m−メトキシベンジルアルコール、p−メトキシベンジルアルコール、ベンジルアルコール、シクロヘキサノール、2−メチルシクロヘキサノール、3−メチルシクロヘキサノール及び4−メチルシクロヘキサノール、N−フェニルエタノールアミン及びN−フェニルジエタノールアミンなどを挙げることができる。ただし、有機溶剤の含有量は、使用液の総質量に対して0.1〜5質量%であるが、実質的に含まれないことが好ましく、全く含まれないことが特に好ましい。ここで実質的に含まれないとは1質量%以下であることを示す。   If necessary, an organic solvent can be used for the developer and the development replenisher. As the organic solvent that can be used in the present invention, those having a solubility in water of about 10% by mass or less are suitable, and preferably selected from those having 5% by mass or less. For example, 1-phenylethanol, 2-phenylethanol, 3-phenyl-1-propanol, 4-phenyl-1-butanol, 4-phenyl-2-butanol, 2-phenyl-1-butanol, 2-phenoxyethanol, 2- Benzyloxyethanol, o-methoxybenzyl alcohol, m-methoxybenzyl alcohol, p-methoxybenzyl alcohol, benzyl alcohol, cyclohexanol, 2-methylcyclohexanol, 3-methylcyclohexanol and 4-methylcyclohexanol, N-phenylethanol Examples include amines and N-phenyldiethanolamine. However, the content of the organic solvent is 0.1 to 5% by mass with respect to the total mass of the used liquid, but it is preferable that the content is not substantially included, and it is particularly preferable that it is not included at all. Here, “substantially not contained” means 1% by mass or less.

現像液及び補充液には、必要に応じて更に有機カルボン酸を加えることもできる。好ましい有機カルボン酸は、炭素原子数6〜20の脂肪族カルボン酸及び芳香族カルボン酸である。脂肪族カルボン酸の具体的な例としては、カプロン酸、エナンチル酸、カプリル酸、ラウリン酸、ミリスチン酸、パルミチン酸及びステアリン酸などがあり、特に好ましいのは炭素数8〜12のアルカン酸である。また、炭素鎖中に二重結合を有する不飽和脂肪酸でも、分岐した炭素鎖のものでもよい。芳香族カルボン酸としては、ベンゼン環、ナフタレン環、アントラセン環などにカルボキシル基が置換された化合物で、具体的には、o−クロロ安息香酸、p−クロロ安息香酸、o−ヒドロキシ安息香酸、p−ヒドロキシ安息香酸、o−アミノ安息香酸、p−アミノ安息香酸、2,4−ジヒドロキシ安息香酸、2,5−ジヒドロキシ安息香酸、2,6−ジヒドロキシ安息香酸、2,3−ジヒドロキシ安息香酸、3,5−ジヒドロキシ安息香酸、没食子酸、1−ヒドロキシ−2−ナフトエ酸、3−ヒドロキシ−2−ナフトエ酸、2−ヒドロキシ−1−ナフトエ酸、1−ナフトエ酸、2−ナフトエ酸などがあるがヒドロキシナフトエ酸は特に有効である。上記脂肪族及び芳香族カルボン酸は水溶性を高めるためにナトリウム塩やカリウム塩またはアンモニウム塩として用いるのが好ましい。本発明で用いる現像液の有機カルボン酸の含有量は格別な制限はないが、0.1質量%より低いと効果が十分でなく、また10質量%以上ではそれ以上の効果の改善が計れないばかりか、別の添加剤を併用する時に溶解を妨げることがある。従って、好ましい添加量は使用時の現像液に対して0.1〜10質量%であり、よりこのましくは0.5〜4質量%である。   If necessary, an organic carboxylic acid can be further added to the developer and the replenisher. Preferred organic carboxylic acids are aliphatic carboxylic acids and aromatic carboxylic acids having 6 to 20 carbon atoms. Specific examples of the aliphatic carboxylic acid include caproic acid, enanthylic acid, caprylic acid, lauric acid, myristic acid, palmitic acid and stearic acid, and particularly preferred are alkanoic acids having 8 to 12 carbon atoms. . Further, it may be an unsaturated fatty acid having a double bond in the carbon chain or a branched carbon chain. The aromatic carboxylic acid is a compound in which a carboxyl group is substituted on a benzene ring, naphthalene ring, anthracene ring, etc., specifically, o-chlorobenzoic acid, p-chlorobenzoic acid, o-hydroxybenzoic acid, p -Hydroxybenzoic acid, o-aminobenzoic acid, p-aminobenzoic acid, 2,4-dihydroxybenzoic acid, 2,5-dihydroxybenzoic acid, 2,6-dihydroxybenzoic acid, 2,3-dihydroxybenzoic acid, 3 , 5-dihydroxybenzoic acid, gallic acid, 1-hydroxy-2-naphthoic acid, 3-hydroxy-2-naphthoic acid, 2-hydroxy-1-naphthoic acid, 1-naphthoic acid, 2-naphthoic acid, etc. Hydroxynaphthoic acid is particularly effective. The aliphatic and aromatic carboxylic acids are preferably used as sodium salts, potassium salts or ammonium salts in order to enhance water solubility. The content of the organic carboxylic acid in the developer used in the present invention is not particularly limited, but if it is less than 0.1% by mass, the effect is not sufficient, and if it is 10% by mass or more, the effect cannot be further improved. In addition, dissolution may be hindered when other additives are used in combination. Therefore, the preferable addition amount is 0.1 to 10% by mass, more preferably 0.5 to 4% by mass with respect to the developing solution at the time of use.

現像液及び補充液には、現像性を高めるために前記の他に以下のような添加剤を加えることができ、例えば、特開昭58−75152号公報記載のNaCl、KCl、KBr等の中性塩、特開昭59−121336号公報記載の[Co(NH3)]6Cl3等の錯体、特開昭56−142258号公報記載のビニルベンジルトリメチルアンモニウムクロライドとアクリル酸ナトリウムの共重合体等の両性高分子電解質、特開昭59−75255号公報記載のSi、Ti等を含む有機金属界面活性剤、特開昭59−84241号公報記載の有機硼素化合物等が挙げられる。   In addition to the above, the following additives can be added to the developer and replenisher, such as NaCl, KCl, KBr, etc. described in JP-A-58-75152. Amphoteric, such as a complex salt, a complex such as [Co (NH3)] 6Cl3 described in JP-A-59-121336, and a copolymer of vinylbenzyltrimethylammonium chloride and sodium acrylate described in JP-A-56-142258 Examples thereof include polymer electrolytes, organometallic surfactants containing Si, Ti and the like described in JP-A-59-75255, organoboron compounds described in JP-A-59-84241, and the like.

現像液及び補充液には、更に必要に応じて防腐剤、着色剤、増粘剤、消泡剤及び硬水軟化剤などを含有させることもできる。消泡剤としては、例えば、特開平2−244143号公報記載の鉱物油、植物油、アルコール、界面活性剤、シリコーン等が挙げられる。硬水軟化剤としては、例えば、ポリ燐酸及びそのナトリウム塩、カリウム塩及びアンモニウム塩、エチレンジアミンテトラ酢酸、ジエチレントリアミンペンタ酢酸、トリエチレンテトラミンヘキサ酢酸、ヒドロキシエチルエチレンジアミントリ酢酸、ニトリロトリ酢酸、1,2−ジアミノシクロヘキサンテトラ酢酸及び1,3−ジアミノ−2−プロパノールテトラ酢酸などのアミノポリカルボン酸及びそれらのナトリウム塩、カリウム塩及びアンモニウム塩、アミノトリ(メチレンホスホン酸)、エチレンジアミンテトラ(メチレンホスホン酸)、ジエチレントリアミンペンタ(メチレンホスホン酸)、トリエチレンテトラミンヘキサ(メチレンホスホン酸)、ヒドロキシエチルエチレンジアミントリ(メチレンホスホン酸)及び1−ヒドロキシエタン−1,1−ジホスホン酸やそれらのナトリウム塩、カリウム塩及びアンモニウム塩を挙げることができる。このような硬水軟化剤は
そのキレート化力と使用される硬水の硬度及び硬水の量によって最適値が変化するが、一般的な使用量を示せば、使用時の現像液に0.01〜5質量%、より好ましくは0.01〜0.5質量%の範囲である。この範囲より少ない添加量では所期の目的が十分に達成されず、添加量がこの範囲より多い場合は、色抜けなど、画像部への悪影響がでてくる。現
像液及び補充液の残余の成分は水である。
The developer and replenisher may further contain a preservative, a colorant, a thickener, an antifoaming agent, a hard water softening agent, and the like as necessary. Examples of the antifoaming agent include mineral oil, vegetable oil, alcohol, surfactant, silicone and the like described in JP-A-2-244143. Examples of the water softener include polyphosphoric acid and its sodium salt, potassium salt and ammonium salt, ethylenediaminetetraacetic acid, diethylenetriaminepentaacetic acid, triethylenetetraminehexaacetic acid, hydroxyethylethylenediaminetriacetic acid, nitrilotriacetic acid, 1,2-diaminocyclohexane. Aminopolycarboxylic acids such as tetraacetic acid and 1,3-diamino-2-propanoltetraacetic acid and their sodium, potassium and ammonium salts, aminotri (methylenephosphonic acid), ethylenediaminetetra (methylenephosphonic acid), diethylenetriaminepenta ( Methylenephosphonic acid), triethylenetetramine hexa (methylenephosphonic acid), hydroxyethylethylenediaminetri (methylenephosphonic acid) and 1-hydro Shietan 1,1-diphosphonic acid and their sodium salts, potassium salts and ammonium salts. The optimum value of such a hard water softening agent varies depending on its chelating power, the hardness of the hard water used and the amount of hard water. % By mass, more preferably in the range of 0.01 to 0.5% by mass. If the addition amount is less than this range, the intended purpose is not sufficiently achieved. If the addition amount is more than this range, adverse effects on the image area such as color loss will occur. The remaining component of the developer and replenisher is water.

また、現像液及び補充液は、使用時よりも水の含有量を少なくした濃縮液としておき、使用時に水で希釈するようにしておくことが運搬上有利である。この場合の濃縮度は、各成分が分離や析出を起こさない程度が適当であるが、必要により可溶化剤を加えることが好ましい。可溶化剤としては、特開平6−32081号公報記載のトルエンスルホン酸、キシレンスルホン酸及びそれらのアルカリ金属塩等のいわゆるヒドロトロープ剤が好ましく用いられる。   In addition, it is advantageous in terms of transportation that the developer and the replenisher are concentrated solutions having a water content less than that in use and are diluted with water during use. The degree of concentration in this case is suitably such that each component does not separate or precipitate, but it is preferable to add a solubilizer if necessary. As the solubilizer, so-called hydrotropes such as toluene sulfonic acid, xylene sulfonic acid and alkali metal salts thereof described in JP-A-6-32081 are preferably used.

平版印刷版の作製において、自動現像機を用いることが好ましい。本発明で用いる自動現像機は、好ましくは現像浴に自動的に補充液を必要量補充する機構が付与されており、好ましくは一定量を超える現像液は、排出する機構が付与されており、好ましくは現像浴に自動的に水を必要量補充する機構が付与されており、好ましくは、通版を検知する機構が付与されており、好ましくは通版の検知をもとに版の処理面積を推定する機構が付与されており、好ましくは通版の検知及び/または処理面積の推定をもとに補充しようとする補充液及び/または水の補充量及び/または補充タイミングを制御する機構が付与されており、好ましくは現像液の温度を制御する機構が付与されており、好ましくは現像液のpH及び/または電導度を検知する機構が付与されており、好ましくは現像液のpH及び/または電導度をもとに補充しようとする補充液及び/または水の補充量及び/または補充タイミングを制御する機構が付与されている。   In preparing a lithographic printing plate, it is preferable to use an automatic processor. The automatic processor used in the present invention is preferably provided with a mechanism for automatically replenishing a replenisher with a required amount in a developing bath, and preferably provided with a mechanism for discharging a developer exceeding a certain amount, Preferably, a mechanism for automatically replenishing a required amount of water to the developing bath is provided, preferably a mechanism for detecting plate passing is provided, and preferably the processing area of the plate based on detection of plate passing A mechanism for controlling the replenishment amount and / or replenishment timing of the replenisher and / or water to be replenished preferably based on detection of the plate and / or estimation of the processing area is provided. A mechanism for controlling the temperature of the developer, preferably a mechanism for detecting the pH and / or conductivity of the developer, preferably a pH and / or developer. Or electric Mechanism for controlling the replenishment amount and / or replenishment timing of replenishment solution and / or water tries to refill the original is given in degrees.

自動現像機は、現像工程の前に前処理液に版を浸漬させる前処理部を有してもよい。この前処理部は、好ましくは版面に前処理液をスプレーする機構が付与されており、好ましくは前処理液の温度を25℃〜55℃の任意の温度に制御する機構が付与されており、好ましくは版面をローラー状のブラシにより擦る機構が付与されている。またこの前処理液としては、水などが用いられる。   The automatic processor may have a pretreatment unit that immerses the plate in the pretreatment liquid before the development step. The pretreatment unit is preferably provided with a mechanism for spraying the pretreatment liquid onto the plate surface, and preferably provided with a mechanism for controlling the temperature of the pretreatment liquid to an arbitrary temperature of 25 ° C to 55 ° C. Preferably, a mechanism for rubbing the plate surface with a roller-like brush is provided. Moreover, water etc. are used as this pretreatment liquid.

上述の組成からなる現像液で現像処理された赤外レーザ感熱性平版印刷版材料は水洗水、界面活性剤等を含有するリンス液、アラビアガムや澱粉誘導体等を主成分とするフィニッシャーや保護ガム液で後処理を施される。本発明に係る赤外レーザ感熱性平版印刷版材料の後処理には、これらの処理を種々組み合わせて用いることができ、例えば、現像後−水洗−界面活性剤を含有するリンス液処理や現像−水洗−フィニッシャー液による処理が、リンス液やフィニッシャー液の疲労が少なく好ましい。更に、リンス液やフィニッシャー液を用いた多段向流処理も好ましい態様である。これらの後処理は、一般に現像部と後処理部とからなる自動現像機を用いて行われる。後処理液は、スプレーノズルから吹き付ける方法、処理液が満たされた処理槽中を浸漬搬送する方法が用いられる。また、現像後一定量の少量の水洗水を版面に供給して水洗し、その廃液を現像液原液の希釈水として再利用する方法も知られている。このような自動処理においては、各処理液に処理量や稼働時間等に応じてそれぞれの補充液を補充しながら処理することができる。また、実質的に未使用の後処理液で処理する、いわゆる使い捨て処理方式も適用できる。このような処理によって得られた赤外レーザ感熱性平版印刷版材料は、オフセット印刷機に掛けられ、多数枚の印刷に用いられる。   Infrared laser heat-sensitive lithographic printing plate material developed with the developer having the above composition is rinse water containing rinse water, surfactant, etc., finisher or protective gum mainly composed of gum arabic or starch derivatives, etc. After-treatment with liquid. In the post-treatment of the infrared laser heat-sensitive lithographic printing plate material according to the present invention, these treatments can be used in various combinations, for example, after development-washing-rinsing solution containing a surfactant or development- Washing with a water-finisher solution is preferable because there is little fatigue of the rinsing liquid or the finisher liquid. Furthermore, a multi-stage countercurrent process using a rinse liquid or a finisher liquid is also a preferred embodiment. These post-processing are generally performed using an automatic developing machine including a developing unit and a post-processing unit. As the post-treatment liquid, a method of spraying from a spray nozzle or a method of immersing and conveying in a treatment tank filled with the treatment liquid is used. A method is also known in which a certain amount of a small amount of washing water is supplied to the plate surface after the development to wash it, and the waste solution is reused as dilution water for the developer stock solution. In such automatic processing, processing can be performed while each replenisher is replenished with each replenisher according to the processing amount, operating time, and the like. In addition, a so-called disposable treatment method in which treatment is performed with a substantially unused post-treatment liquid is also applicable. The infrared laser heat-sensitive lithographic printing plate material obtained by such treatment is applied to an offset printing machine and used for printing a large number of sheets.

以下、実施例を挙げて本発明を詳細に説明するが、本発明はこれらに限定されない。
尚、特に断りない限り、実施例中の「部」は「質量部」を示す。
EXAMPLES Hereinafter, although an Example is given and this invention is demonstrated in detail, this invention is not limited to these.
In addition, unless otherwise indicated, "part" in an Example shows a "mass part".

実施例1
《支持体の作製》
厚さ0.3mmのアルミニウム板(材質1050、調質H16)を65℃に保たれた5質量%水酸化ナトリウム水溶液に浸漬し、1分間の脱脂処理を行った後、水洗した。この脱脂アルミニウム板を、25℃に保たれた10質量%硫酸水溶液中に1分間浸漬して中和した後、水洗した。次いで、このアルミニウム板を、塩酸濃度11g/L、25℃、周波数50Hz、50A/dm2の交流電流において20秒間電解粗面化処理を行った。電解粗面化を行った後、水洗し、50℃に保たれた1質量%水酸化ナトリウム水溶液中で10秒間のデスマット処理を行い、水洗し、50℃に保たれた30質量%硫酸中で30秒間中和処理を行い、水洗した。次いで、30質量%硫酸溶液中で、25℃、電流密度30A/dm2、電圧25Vの条件下に30秒間陽極酸化処理を行い、脱イオン水で水洗した。さらに、0.44質量%のポリビニルホスホン酸水溶液に、75℃、30秒間ディップ処理を行い、次いで脱イオン水で水洗し、25℃の冷風で乾燥し、親水性化処理された支持体を得た。この支持体の表面の中心線平均粗さ(Ra)は0.50μmであった。
Example 1
<Production of support>
An aluminum plate (material 1050, tempered H16) having a thickness of 0.3 mm was immersed in a 5% by mass aqueous sodium hydroxide solution maintained at 65 ° C., degreased for 1 minute, and then washed with water. This degreased aluminum plate was neutralized by dipping in a 10% by mass sulfuric acid aqueous solution maintained at 25 ° C. for 1 minute, and then washed with water. Next, this aluminum plate was subjected to an electrolytic surface roughening treatment for 20 seconds in an alternating current having a hydrochloric acid concentration of 11 g / L, 25 ° C., a frequency of 50 Hz, and 50 A / dm 2 . After electrolytic surface roughening, it was washed with water, desmutted for 10 seconds in a 1% by mass aqueous sodium hydroxide solution maintained at 50 ° C., washed with water, and in 30% by mass sulfuric acid maintained at 50 ° C. The mixture was neutralized for 30 seconds and washed with water. Next, anodization was performed for 30 seconds in a 30% by mass sulfuric acid solution under the conditions of 25 ° C., current density of 30 A / dm 2 , and voltage of 25 V, and washed with deionized water. Further, a 0.44 mass% polyvinylphosphonic acid aqueous solution was dipped at 75 ° C. for 30 seconds, then washed with deionized water and dried with cold air at 25 ° C. to obtain a hydrophilically treated support. It was. The center line average roughness (Ra) of the surface of this support was 0.50 μm.

《平版印刷版材料の作製》
上記支持体上に、下記組成物から成る画像形成層塗布液(A)、(B)、(C)または(D)を、ワイヤバーを用いて乾燥膜厚2.0g/m2になるように塗布した。塗布溶剤は、125℃の遠赤外線ヒーター中に20秒間、続いて115℃の温風循環型ドライヤー中に60秒間保持して乾燥させ、平版印刷版材料1〜4、1′、2′、2″を表1記載の如くにそれぞれ作製した。
<< Preparation of lithographic printing plate material >>
On the support, an image forming layer coating solution (A), (B), (C) or (D) comprising the following composition is dried to a dry film thickness of 2.0 g / m 2 using a wire bar. Applied. The coating solvent was dried by holding it in a far-infrared heater at 125 ° C. for 20 seconds and then in a hot air circulation dryer at 115 ° C. for 60 seconds to dry the lithographic printing plate materials 1-4, 1 ′, 2 ′, 2 ″ Was prepared as shown in Table 1.

〈画像形成層塗布液(A)〉
ノボラック樹脂(*1) 60質量部
*1:o−,p−混合クレゾールとホルムアルデヒドとの共縮合化合物、重量平均分子量3100、重量平均分子量9800、o−,p−クレゾールのモル比が、40:60、重量平均分子量500以下の比率が1.8%
アクリル樹脂1(*2) 23質量部
*2:N−(p−ヒドロキシフェニル)マレイミド、アクリロニトリル、メチルメタクリレートとの三元共重合化合物(重量平均分子量35000、モル比20:70:10)
ポリエチレングリコール(PEG#4000(日本油脂社製)) 2質量部
ソルビタンラウレート 1質量部
無水フタル酸 3質量部
酸分解性化合物(例示化合物の酸分解性化合物A) 2質量部
酸発生剤(例示化合物の(12)) 1質量部
赤外線吸収色素A(下記) 2質量部
可視画染料(オリエント化学工業製 OIL BLUE 613) 2質量部
アセトン 150質量部
メチルエチルケトン 100質量部
プロピレングリコールモノメチルエーテル 500質量部
シクロヘキサノン 150質量部
γ−ブチロラクトン 100質量部
<Image forming layer coating solution (A)>
60 parts by mass of novolak resin (* 1) * 1: co-condensation compound of o-, p-mixed cresol and formaldehyde, weight average molecular weight 3100, weight average molecular weight 9800, molar ratio of o-, p-cresol is 40: 60, ratio of weight average molecular weight of 500 or less is 1.8%
Acrylic resin 1 (* 2) 23 parts by mass * 2: Ternary copolymer compound with N- (p-hydroxyphenyl) maleimide, acrylonitrile, methyl methacrylate (weight average molecular weight 35000, molar ratio 20:70:10)
Polyethylene glycol (PEG # 4000 (manufactured by NOF Corporation)) 2 parts by mass Sorbitan laurate 1 part by mass Phthalic anhydride 3 parts by mass Acid-decomposable compound (acid-decomposable compound A of the exemplified compound) 2 parts by mass Acid generator (exemplary) Compound (12)) 1 part by weight Infrared absorbing dye A (below) 2 parts by weight Visible dye (OIL BLUE 613 manufactured by Orient Chemical Industries) 2 parts by weight Acetone 150 parts by weight Methyl ethyl ketone 100 parts by weight Propylene glycol monomethyl ether 500 parts by weight Cyclohexanone 150 parts by mass γ-butyrolactone 100 parts by mass

Figure 2009109617
Figure 2009109617

〈画像形成層塗布液(B)〉
画像形成層塗布液(A)について、更に以下を添加した。
<Image forming layer coating solution (B)>
The following was further added to the image forming layer coating solution (A).

フルオロアルキル基含有オリゴマー(オムノバ社製、Polyfox 6520)
0.03質量部
〈画像形成層塗布液(C)〉
画像形成層塗布液(A)に更に以下を添加した。
Fluoroalkyl group-containing oligomer (Omnova's Polyfox 6520)
0.03 part by mass <Image forming layer coating solution (C)>
The following was further added to the image forming layer coating solution (A).

フルオロアルキル基含有オリゴマー(オムノバ社製、Polyfox 6520)
0.1質量部
〈画像形成層塗布液(D)〉
画像形成層塗布液(A)について、更に以下を添加した。
Fluoroalkyl group-containing oligomer (Omnova's Polyfox 6520)
0.1 parts by mass <Image forming layer coating solution (D)>
The following was further added to the image forming layer coating solution (A).

フルオロアルキル基含有オリゴマー(オムノバ社製、Polyfox 6520)
0.5質量部
〈画像形成層塗布液(A′)〉
画像形成層塗布液(A)について、更に以下を添加した。
Fluoroalkyl group-containing oligomer (Omnova's Polyfox 6520)
0.5 parts by mass <Image forming layer coating solution (A ′)>
The following was further added to the image forming layer coating solution (A).

フルオロアルキル基含有オリゴマー(オムノバ社製、Polyfox 6520)
0.05質量部
〈画像形成層塗布液(B′)〉
画像形成層塗布液(A)について、その組成物のうち、下記の組成物の量を下記のように変更した。
Fluoroalkyl group-containing oligomer (Omnova's Polyfox 6520)
0.05 parts by mass <Image forming layer coating solution (B ′)>
About the image formation layer coating liquid (A), the amount of the following composition among the compositions was changed as follows.

ノボラック樹脂(*1) 61質量部
ポリエチレングリコール(PEG#4000(日本油脂社製)) 1質量部
〈画像形成層塗布液(B″)〉
画像形成層塗布液(A)について、その組成物のうち、下記の組成物の量を下記のように変更した。
Novolac resin (* 1) 61 parts by mass Polyethylene glycol (PEG # 4000 (manufactured by NOF Corporation)) 1 part by mass <Image forming layer coating solution (B ″)>
About the image formation layer coating liquid (A), the amount of the following composition among the compositions was changed as follows.

ノボラック樹脂 62質量部
ポリエチレングリコール(PEG#4000) 0.5質量部
ソルビタンラウレート 0.5質量部
得られた平版印刷版材料(1,140mm×850mmに裁断した。)を、図1記載の「平版印刷版材料を裁断、積載する方法」(但し、図1のクロスカッター(断裁部)6の断裁部については、図2記載の断裁刃22に変更した。)を用いて、表1記載のライン速度、積載台角度、にて、23℃50%RHの雰囲気で合紙と重ね合わせて100枚作製し、それらを積み重ねた状態で55℃の雰囲気で30時間熱処理をして、裁断、積載された平版印刷版材料試料101〜126を表1記載のように作製した。
Novolak resin 62 parts by mass Polyethylene glycol (PEG # 4000) 0.5 part by mass Sorbitan laurate 0.5 part by mass The obtained lithographic printing plate material (cut to 1,140 mm × 850 mm) was used as shown in “ Using the method of cutting and stacking a lithographic printing plate material ”(however, the cutting part of the cross cutter (cutting part) 6 in FIG. 1 was changed to the cutting blade 22 shown in FIG. 2) 100 sheets were produced by overlaying with interleaving paper in an atmosphere of 23 ° C and 50% RH at the line speed and the loading platform angle, and the sheets were stacked and heat-treated in an atmosphere of 55 ° C for 30 hours, and then cut and loaded The lithographic printing plate material samples 101 to 126 thus prepared were prepared as shown in Table 1.

合紙は、米国Shilmany社製の#25White MG Medical(坪量:40g/m2)を使用した。 As the interleaving paper, # 25 White MG Medical (basis weight: 40 g / m 2 ) manufactured by Shimney USA was used.

《評価方法》
<摩擦係数の測定>
裁断、積載された平版印刷版材料試料について、ASTMD1894に準拠した摩擦係数測定装置を用いて、移動速度152mm/minで、平版印刷版材料表面(画像形成層面)と合紙表面の静摩擦係数(μ1)、と、平版印刷版材料裏面(アルミ面)と合紙裏面の動摩擦係数(μ2)、とを測定した。
"Evaluation methods"
<Measurement of friction coefficient>
About the lithographic printing plate material sample cut and stacked, the coefficient of static friction (μ1) between the surface of the lithographic printing plate material (image forming layer surface) and the surface of the interleaf paper is measured at a moving speed of 152 mm / min using a friction coefficient measuring device conforming to ASTM D1894. ), And the dynamic friction coefficient (μ2) of the lithographic printing plate material back surface (aluminum surface) and interleaf back surface.

<断裁バリ量(先頭バリ量)>
断裁バリ量としては先頭バリ量について、裁断、積載された平版印刷版材料試料について、発生した先頭バリ量を測定し、最大の大きさのものを先頭バリ量として表1に示す。尚、先頭バリ量は、クロスカッターユニットを前後反対にして変化させた。先頭バリ量は、図2における版進行方向前方のバリ(先頭バリ量)が、上バリの場合を−の値、下バリの場合を+の値、にて先頭バリ量として表1に示す。
<Cutting burr amount (first burr amount)>
As the cutting burr amount, with respect to the top burr amount, the generated front burr amount was measured for the lithographic printing plate material sample cut and stacked, and the maximum burr amount is shown in Table 1 as the top burr amount. The amount of head burr was changed with the cross cutter unit reversed in the front-rear direction. The leading burr amount is shown in Table 1 as a leading burr amount in which the burr ahead in the plate traveling direction (lead burr amount) in FIG.

<傷発生数の評価>
傷発生数は、裁断、積載された平版印刷版材料試料各100枚について、未露光のまま、自動現像機(Raptor 85 Thermal GLUNZ & JENSEN社製)を使用し、下記現像液を用いて、30℃/30秒間の現像処理を行った後、版面上に目視で判別できる傷(250μm以上)の個数を計測し、1枚当たりに換算する。
<Evaluation of the number of scratches>
The number of scratches generated was determined by using an automatic developing machine (manufactured by Raptor 85 Thermal GLUNZ & JENSEN) for each of 100 lithographic printing plate material samples that were cut and stacked, and using an undeveloping solution below. After developing at 30 ° C./30 seconds, the number of scratches (250 μm or more) that can be visually discriminated on the plate surface is measured and converted per sheet.

<現像液>
A珪酸カリ(40%水溶液)日本化学(社)製 87.8g
苛性カリ(50%水溶液)東邦化学(社)製 61.1g
Trilon M Liquid(40%水溶液)BASF(社)製 1.4g
純水 896.0g
結果を併せて、表1に示す。
<Developer>
A Potassium silicate (40% aqueous solution) 87.8 g, manufactured by Nippon Kagaku Co., Ltd.
Caustic potash (50% aqueous solution) 61.1 g, manufactured by Toho Chemical Co., Ltd.
1.4 g of Trilon M Liquid (40% aqueous solution) BASF
896.0 g of pure water
The results are also shown in Table 1.

Figure 2009109617
Figure 2009109617

※:先頭バリ量については、画像形成層側への先頭バリ量は+、裏面側への先頭バリ量は−、で表した。   *: The leading burr amount on the image forming layer side is represented by +, and the leading burr amount on the back side is represented by-.

**:堆積時に合紙がズレて堆積された。   **: The slip sheet was misaligned during deposition.

表1から明らかなように、本発明の場合には、画像形成層に傷の発生することなく、高い生産性が得られることがわかる。   As can be seen from Table 1, in the case of the present invention, it is understood that high productivity can be obtained without causing scratches on the image forming layer.

本発明により、画像形成層に傷の発生することなく、高い生産性が得られるポジ型の平版印刷版材料の製造方法を提供することができることがわかる。   According to the present invention, it can be seen that it is possible to provide a method for producing a positive planographic printing plate material capable of obtaining high productivity without causing scratches on the image forming layer.

本発明の平版印刷版材料の製造方法(平版印刷版材料を裁断、積載する方法)の一例を示す図である。It is a figure which shows an example of the manufacturing method (The method of cutting and loading a lithographic printing plate material) of the lithographic printing plate material of this invention. 平版印刷版材料の裁断の好ましい一例を示す図である。It is a figure which shows a preferable example of the cutting of a lithographic printing plate material.

符号の説明Explanation of symbols

1 合紙
2 平版印刷版材料の表面(画像形成層側の面)
3 平版印刷版材料の裏面(アルミ面)
4 繰り出した合紙
5 帯電装置(合紙と平版印刷版材料を付着させる)
6 クロスカッター(断裁部)
7 コンベア
8 積載台(受け台部が傾斜しており、積載量に応じて上下に移動する)
9 積載された平版印刷版材料と合紙
10 平版印刷版材料と合紙の重なっている様子(合紙は平版印刷版材料と同じ幅か又は若干小さい)
21 押さえロール
22 断裁刃
1 Interleaving paper 2 Planographic printing plate surface (image forming layer side)
3 Back side of lithographic printing plate material (aluminum side)
4 Rolled out interleaving paper 5 Charging device (attaches interleaving paper and planographic printing plate material)
6 Cross cutter (cutting part)
7 Conveyor 8 Loading platform (The receiving platform is tilted and moves up and down according to the loading capacity)
9 Stacked planographic printing plate material and slip sheet 10 Overlap of planographic printing plate material and slip sheet (the slip sheet is the same width or slightly smaller than the planographic printing plate material)
21 Pressing roll 22 Cutting blade

Claims (4)

粗面化されたロール状のアルミニウム支持体に、画像形成層が塗布・乾燥された後、枚葉状に切断、積載する工程を有するポジ型の平版印刷版材料の製造方法において、枚葉状に切断された各平版印刷版材料の間に合紙が設置されており、前記合紙の表面と前記平版印刷版材料の画像形成層との静止摩擦係数(μ1)が、前記合紙の裏面と前記平版印刷版材料のアルミ支持体の裏面との動摩擦係数(μ2)よりも0.05〜0.3大きく、かつ平版印刷版材料を傾斜された架台の上に(枚葉状に切断された各平版印刷版材料の間に合紙が設置されて)積載することを特徴とするポジ型の平版印刷版材料の製造方法。 After the image forming layer is applied and dried to a roughened roll-shaped aluminum support, it is cut into sheets in a method for producing a positive-type planographic printing plate material having a process of cutting and stacking into sheets. A slip sheet is placed between each of the lithographic printing plate materials, and a static friction coefficient (μ1) between the surface of the slip sheet and the image forming layer of the lithographic printing plate material is such that the back surface of the slip sheet and the The lithographic printing plate material is 0.05 to 0.3 larger than the dynamic friction coefficient (μ2) of the lithographic printing plate material with the back surface of the aluminum support, and the lithographic printing plate material is placed on a tilted base (each lithographic plate cut into sheets) A method for producing a positive planographic printing plate material, wherein a slip sheet is installed between the printing plate materials). 前記合紙の表面と前記平版印刷版材料の画像形成層との静止摩擦係数(μ1)が0.4〜0.8、かつ前記合紙の裏面と前記平版印刷版材料のアルミ支持体の裏面との動摩擦係数(μ2)が0.3〜0.6の範囲にあることを特徴とする請求項1に記載のポジ型の平版印刷版材料の製造方法。 The static friction coefficient (μ1) between the surface of the slip sheet and the image forming layer of the lithographic printing plate material is 0.4 to 0.8, and the back surface of the slip sheet and the back surface of the aluminum support of the lithographic printing plate material The method of producing a positive planographic printing plate material according to claim 1, wherein the coefficient of dynamic friction (μ2) is in the range of 0.3 to 0.6. 前記枚葉状に断裁された平版印刷版材料の移動方向前方端面のバリが、画像形成層側に0〜50μm、または、裏面側に0〜−50μmの範囲であることを特徴とする請求項1または2に記載のポジ型の平版印刷版材料の製造方法。 2. The burr on the front end face in the moving direction of the lithographic printing plate material cut into a sheet is in the range of 0 to 50 μm on the image forming layer side, or 0 to −50 μm on the back side. Or a method of producing a positive planographic printing plate material described in 2. 前記画像形成層がフェノール性水酸基を有する樹脂、及び赤外線を吸収して熱に変換する色素を含有していることを特徴とする請求項1〜3のいずれか1項に記載のポジ型の平版印刷版材料の製造方法。 The positive lithographic plate according to any one of claims 1 to 3, wherein the image forming layer contains a resin having a phenolic hydroxyl group and a dye that absorbs infrared rays and converts the infrared rays into heat. A method for producing a printing plate material.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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CN106079914A (en) * 2016-06-23 2016-11-09 成都新图新材料股份有限公司 Galley coating layer processing system based on aluminum plate foundation

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