JP2012198235A - 高繰返し率ガス放電レーザ用の改良されたスペクトル測定 - Google Patents

高繰返し率ガス放電レーザ用の改良されたスペクトル測定 Download PDF

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Abstract

【課題】高繰返し率ガス放電レーザ用の改良されたスペクトル測定を提供する。
【解決手段】レーザから射出された光の帯域幅を示す第1のパラメータを表す第1の出力と、レーザから射出された光の帯域幅を示す第2のパラメータを表す第2の出力とを提供する光帯域幅モニタと、光帯域幅モニタに固有の所定の較正変数を用いる多変数方程式の一部として第1の出力及び第2の出力を用いて実帯域幅パラメータを計算する実帯域幅計算装置と、を含むことができ、多変数方程式は対称性に敏感な項を含む、レーザから射出され、帯域幅計測器に入力される光のスペクトルの帯域幅を測定するための帯域幅計測器の装置及び方法が開示される。
【選択図】図3

Description

本発明は、2005年6月27日に出願された、米国特許出願第11/169,202号に基づく優先権を主張するものであり、例えば、半導体マイクロリソグラフィ用途の、例えば高繰返し率ガス放電レーザに用いられる、オンボードのスペクトル幅測定機構に関する。
(関連出願)
本出願は、代理人番号第2003−0107−01号の、2004年2月27日に出願された「IMPROVED BANDWIDTH ESTIMATION」という名称の米国特許出願第10/789328号に関連し、これは、代理人番号第2003−0004−01号の、発明者Rafacによる、「OPTICAL BANDWIDTH METER FOR LASER LIGHT」という名称の、2003年7月7日に出願された出願番号第10/615,321号の部分継続出願であり、本出願は、更に、同じく発明者としてRafacによる、代理人番号第2003−0056−01号の、「METHOD AND APPARATUS FOR MEASUING BAND WIDTH OF AN OPTICAL OUTPUT OF A LASER」という名称の、2003年6月26日に出願された出願番号第10/109,223号に関連し、更に、代理人番号第2003−0002−01号の、2003年9月30日に出願された「GAS DISCHARGE MOPA LASER SPECTRAL ANALYSIS MODULE」という名称の、出願番号第10/676,175号に関連し、全てが本出願の譲渡人に譲渡され、これらの各々の開示は、引用により本明細書に組み入れられる。
例えば半導体フォトリソグラフィのために用いられる、例えばエキシマ及び分子フッ素ガス放電レーザ・システムといった、ガス放電レーザ・システムに対する要件が、例えば、フォトレジストをもつウェーハ上にマスク・パターンを露光するときの所望の限界寸法等を得るためといった、次世代のリソグラフィ・ツールの使用のために、例えば0.12pmのFWHM及び0.25E95%(E95)に向かうように、更により厳しくなるにつれて、スペクトルの対称性の変化が、例えば経験的又は半経験的な帯域幅の推定モデルを用いたレーザ帯域幅測定装置(波長計)を「だまして」、例えば、位置及び縞の強度測定並びにスペクトル幅の強度測定のための線形フォトダイオード・アレイ(PDA)に適用された、例えばエタロン分光計の縞の幅から正しくないE95帯域幅を予測させる可能性があることが明らかとなった。
本出願人は、この問題に対処するための方法及び装置を開発した。
レーザから射出された光の帯域幅を示す第1のパラメータを表す第1の出力と、レーザから射出された光の帯域幅を示す第2のパラメータを表す第2の出力とを提供する光帯域幅モニタと、光帯域幅モニタに固有の所定の較正変数を用いる多変数方程式の一部として第1の出力及び第2の出力を用いて実帯域幅パラメータを計算する実帯域幅計算装置と、を含むことができ、多変数方程式はレーザから射出された光のスペクトルの対称性に敏感な項を含む、レーザから射出され、帯域幅計測器に入力される光のスペクトルの帯域幅を測定するための帯域幅計測器の装置及び方法が開示される。実帯域幅パラメータは、レーザから射出された光のスペクトルの全幅内の最大値のある百分率におけるスペクトル全幅(「FWXM」)又はレーザから射出された光のスペクトルの全スペクトルのエネルギーのある百分率を含むスペクトルのコンテンツを定めるスペクトル上の2点間の幅(「EX」)を含むことができる。帯域幅モニタは、エタロン分光計を含み、第1の出力は、FWXMにおけるエタロンの光出力の縞の幅、又はレーザから射出された光の全スペクトルのエネルギーのある百分率を含むスペクトル上の2点間の幅(「EX’」)のうちの少なくとも一方を表し、第2の出力は、X≠X’’及びX’≠X’’’であるときに、第2のFWX’’M又はEX’’’のうちの少なくとも一方を表す。測定されたパラメータと出力パラメータとの間の関係の関数形及びこの関数の一部である予め計算された較正変数は、信頼できる基準を用いて、較正スペクトルに対する第1及び第2の出力の発生と相関のある、実帯域幅パラメータの値の測定から導出することができる。実帯域幅パラメータの値は、例えば、次式から計算することができ、
推定実BWパラメータ=A*1+L*2+M
から計算され、ここで、w1=FWXM又はEX’を表す第1の測定出力、及びw2は、FWX’’M又はEX’’’を表す第2の測定出力であり、A、B及びCは、較正中に見出される調節可能なパラメータであり、Mは、デバイスによってインターロゲートされるスペクトルの対称性に敏感な項である。対称性に敏感な項は、レーザから射出された光のスペクトルの非対称性における変化に起因する実帯域幅パラメータの誤差に対する修正を含むことができ、ピーク強度の異なる端数又はしきい値において取られた、エタロン分光計の縞にわたる2つの間隔の、波長空間における中点の位置間の差を含むことができる。2つのしきい値は、第1のパラメータ及び第2のパラメータを測定するために用いられる縞パターンにおける小さな非対称性に十分敏感であるのに十分なだけ遠く離れるように選択することができる。装置及び方法は、レーザ光源のエネルギーの波長分布に従ってレーザ光源の出力を含むエネルギーを空間的又は時間的領域内に分散させる光学的分散機器と、分散させられたエネルギーの空間的又は時間的変動をそれぞれ記録し、記録された空間的又は時間的変動に基づいて出力信号を提供する検出器と、それぞれ検出器によって記録された分散させられたエネルギー空間的又は時間的変動に基づいて、それぞれ空間又は時間領域において、エネルギーの波長分布の幅を計算し、分散機器の光学的特性に従って空間的又は時間的分布を波長領域にそれぞれ変換する第1の計算装置と、光源、分散機器、検出器、及び引数とみなされる少なくとも1つの幅に固有の所定の較正変数を有する多変数方程式の引数として少なくとも1つの幅を適用することによって、第1の計算装置により計算された、波長領域におけるエネルギーの波長分布の少なくとも1つの幅を用いる第2の計算装置と、を含むことができ、多変数方程式は、対称項を含む。第1の計算装置及び第2の計算装置は、同じ計算装置を含むことができる。X≠X’及びX’’≠X’’’であるときに、少なくとも1つの幅は、光源から射出された光のスペクトルの全幅内の最大値のある百分率におけるスペクトル全幅(「FWXM」)及び(「FWX’M」)と、光源から射出された光のスペクトルの全スペクトルのエネルギーのある百分率を含むスペクトルのコンテンツを定めるスペクトル上の2点間の幅(「EX’’」)及び(「EX’’’」)とを含む群から選択される少なくとも2つの幅を含むことができる。多変数方程式の値を評価して、群FWX*M、EX**から選択された光源によるエネルギー出力のスペクトル分布を記述する実帯域幅パラメータを計算することができる。X*がX又はX’のいずれかに等しいとすることができ、X**がX’’又はX’’’のいずれかに等しいとすることができるときに、多変数方程式の値を評価して、群FWX*M、EX**から選択された光源によるエネルギー出力のスペクトル分布を記述する実帯域幅パラメータを計算することができる。多変数方程式は、E95〜=A(x,y)*FWx%+B(x,y)*FWy%+C(A,B,C;x,y)*(中点(x%)−中点(y%))+Dを含むことができる。
分光計は、縞の検出のための線形フォトダイオード・アレイを用いた、高精度でパルス間の波長を測定するためのオンボードの高繰返し率ガス放電レーザ・システムに用いることができ、縞パターンを線形フォトダイオード・アレイに提供するエタロンと、測定される縞次数をフォトダイオード・アレイ上のより好ましい位置に移動させる縞次数位置決め機構を含むことができる。縞次数位置決め機構は、線形アレイ上の局所的なピクセル分散(dλ/dR)が十分に小さい、より浅い角度に縞次数を位置決めすることができる。帯域幅測定コンピュータからの信号は、好ましくない縞次数の局所的なピクセル分散を検出したときに生成されることができる。
半導体フォトリソグラフィ用の光源におけるプロセス測定のためによく使用される平面エタロン分光計は、規則的に離間されたピクセルの線形アレイ又はグリッドからなる検出器上に干渉パターンを画像形成することによって入力光の空間的分散を利用する。θが、光が波長λにおけるm番目の次数についてのエタロンから出ていく傾斜角であり、dが、平面エタロンの反射面間の光路長であるときに、このような分光計による入力光の角分散を管理する式は、θ=cos-1(mλ/2d)である。この式を用いて、検出器の単一ピクセルにわたる波長の変化を求めることができ、すなわち、fがデバイスの画像形成焦点距離であり、Rがθ=0位置に対する検出器上の位置である場合には、R/f<<1について、dλ=λ/ftan(R/f)dR≒(λR/f)dRである。したがって、(例えば、間隔dRを有する)ピクセルの均一なアレイによる波長内のサンプリング分解能は、画像が検出器に当たる位置Rの関数として概ね線形に減少する。検出器の選択によって固定される所与のピクセル間隔について利用可能なサンプリング分解能を最大化するために、Rをできるだけ小さくするようにθを変更することができる。このことは、異なる次数mを選択すること、入力波長λを異なる値に同調させること、又は光路長dを調整することによって行うことができる。
本発明の実施形態の態様によれば、測定を行うためにdλ/dRが最小にされるようにmを選択することができる。本発明は、縞次数及び動作波長λの特定の選択のためにdλ/dRが最小にされるように光路長dを調整することを更に含むことができる。
本発明の実施形態の態様による、対称補正なしのレーザ出力スペクトルの帯域幅を表すパラメータの模擬測定のプロットを示す。 本発明の実施形態の態様による、対称補正ありのレーザ出力スペクトルの帯域幅を表すパラメータの模擬測定のプロットを示す。 本発明の実施形態の態様による、帯域幅計測器の概略的なブロック図の例証である。
例えば2段階の縞幅のE95帯域幅推定モデルについての堅牢性を向上させるために、例えば先に引用された同時係属中の特許出願の1つ又はそれ以上のものにおいて開示された波長計を有する、出願人の譲渡人のレーザ・システムによって以前使用された波長計からのスペクトル出力の対称性が完全には十分に制約されていないことが、出願人の目に留まった。
代理人番号第2003−0107−01号の、2004年2月27日に出願された「IMPROVED BANDWIDTH ESTIMATION」という名称の、先に引用された出願番号第10/789328号において開示された、以前提案された2段階の半経験的なE95推定モデルを修正することによって、出願人は、ある改善点を提案する。引用された出願番号第10/789328号において提案された波長計は、縞上の2つの異なる高さにおいて測定されたエタロン分光計の縞の全幅(FW)(Xは、例えば25%とすることができ、Yは、例えば75%とすることができる場合に、強度分率、例えば、最大「FWXM」のx%における全幅及び最大「FWYM」のy%における全幅)を入力とすることができる。この場合、波長計は、デバイスを照射するスペクトルの、例えばE95帯域幅(この場合、スペクトル・エネルギーの95%といった、ある百分率のx%、すなわちEXのEX%が存在するスペクトルのピークのいずれかの側のスペクトルの部分)を推定するための平面モデルにおいて、例えば先に引用された出願において説明され、より詳細に後述される、例えばPDA40といった、フォトダイオード・アレイ(PDA)における、例えばピクセルの強度レベルから計算されるこれらの値を使用することができる。エタロンは、オンボードの高繰返し率の波長及び帯域幅検出について当該技術分野において公知のこれらのような波長計に便利に使用されている(実際は、例えばエタロンのような縞パターン発生器における測定行為からの推定は、後述のコンピュータ60のような、スペクトル分析コンピュータによって、推定帯域幅を計算する際に減少させられるか又は補償され得るが、特に本発明が用いられることになる形式のレーザ・システムについての費用対効果の高く、高速のオンボードの波長計においては、事実上完全には解消され得ない帯域幅の実際の検出における誤差を誘起させる)。
先に引用された同時係属中の先行特許出願において開示された元のモデルは、次式のとおりであった。
E95〜=A(x,y)*FWx%+B(x,y)*FWy%+C
ここで、A、B及びCは、縞が測定される高さx、yに依存する定数である。A、B及びCは、予め開示されたように、測定によって実験的に求める(較正する)ことができる。
出願人は、このモデルが、例えば、照射スペクトルの対称性の変動の存在下では、常に良好に作動することができるとは限らないことを確認した。このことは、図1に示されるプロットにおいて示され、これは、例えばCymer XLA105主発振器電力増幅器(MOPA)レーザ・システム上で測定された実際のレーザ・スペクトルに適用された上式を用い、PDAのピクセル上に画像形成されたエタロン縞の幅を表す、E95モデリングのシミュレーションを示すものである。図1において、右側の点12の集団がパリティ線14付近により大きな分散を有することを確認することができ、すなわち、この線は、波長計の縞強度出力が計算された帯域幅の結果が、例えばLTBグレーティング分光計といった、より高価でより大きいが、より高精度な分光計と同じスペクトル測定に正確に等しい線である。このより大きな逸脱は、より大きな誤差に相当する。これらの点は、対称性測定基準(色値)にマッピングされる。
これらのプロットにおける対称性測定基準(色値)は、スペクトル・エネルギーの中央からのスペクトル・ピーク逸脱に比例する。これらは、プロットの左側部分においてはプロットされた値について2−8あたりで変化し、2−4あたりの値が一般的にはパリティ線の下方にあり、7−8あたりの値が一般的にはパリティ線の上方に分布し、5−6あたりの値がパリティ線の両側に分布される。11−14あたりの値は、図1のプロットの右側部分においてパリティ線の上方に分布するように示され、より高い値は一般的にはパリティ線から遠くで群化され、4−6あたりはプロットの右側部分におけるパリティ線の下方に分布され、より低い値はパリティ線から遠くで群化され、7−10あたりからの値はパリティ線の両側に分布される。
有害点12がそれらの対称性に従って等しくなくパリティ線14付近に分布することが認められ、出願人はそのように判断した。誤差の総計とスペクトルの非対称性パラメータのサイズとの間の確認された相関関係は、帯域幅検出器40が較正された、例えばE95といった測定された帯域幅パラメータにおいてより大きな誤差が存在することを示し、また対称的に関係する。
したがって、出願人は、例えば、このあいまい性を補償するために、上記のE95モデルの式に対する対称性に敏感である付加的な項S(A,B,C;x,y)を追加することを提案する。
この項Sは、例えば、スペクトル又は縞の左半分及び右半分の積分間の差といった、多くの形態をとることができるが、それらが例えばエタロン縞における小さな非対称性に敏感であるのに十分に遠く離れているという条件では、特に好都合な定式化は、ちょうど2つの幅のセグメントx、yの(波長空間における)中点の位置の差である。70%のしきい値が縞を遮る点がa(70)及びb(70)である場合には、FW70=(b(70)−a(70)及びM(70)=(a(70)+b(70))/2である。同様に、FW20=(b(20)−a(20))及びM(20)=(a(20)+b(20))/2である。非対称性測定基準は、この場合、例えば2つの中点の位置間の間隔、すなわちM(70)−M(20)である。
E95〜=A(x,y)*FWx%+B(x,y)*FWy%+C+D(A,B,C;x,y)*(中点(x%)−中点(y%))
ここで、先に引用された同時係属中の出願において既述され、以下に繰り返されるように、A(x,y)及びB(x,y)は、較正プロセスにおいて予め計算され、較正プロセスにおいて使用されるスペクトル幅測定に関連する定数であり、Cは、A、B並びにx及びyの関数である同様に計算された較正定数であり、x及びyは、例えば最小2乗逸脱の最小化によるといった、モデルとスペクトルの実験的に測定された集団についての信頼できる基準との間の誤差の最小化による較正プロセスにおいて計算される。Dは、既に使用された式における定数Cに関して後述される、較正プロセスにおいて同様に計算される定数である。
図2は、改善されたモデルを用いた同じシミュレーションを示す。
図2におけるプロットの右側及び左側にある両方の群における有害点は、改善されたモデルによってパリティ線付近により均一に分布し、よって、対称性の変化からの系統誤差が抑制されている。プロットの右部分のデータ点についての性能は、意味深いものであるが、多少劇的さが少ない。
本発明の実施形態の態様によれば、例えば、エタロン分光計40は、十分敏感な対称性測定を行うのに必要な程度に十分な分解能を有することができ、例えば、ノイズの存在下におけるサンプリング分解能は、例えばM70−M20間の差が意味のある数であるということで、例えば、十分とすることができ、すなわち、当業者であれば理解するように、有用であるのに十分な精度で測定することができる。例えば、測定された値がほとんどノイズである場合には、モデルに追加される全ては、ほとんど「測定パラメータ」の形でモデル化される「実帯域幅パラメータ」を表すノイズである。
固定スペーサの画像形成形式のものである、図3に概略的に示されるエタロン分光計40の使用に関しては、これらのデバイスは、たとえ波長がフレーム毎に同調させられても、少なくとも1つの自由なスペクトル範囲(2つの隣接する縞次数)を線形検出器アレイ、例えばPDA50上に画像形成することができる限り、それらを用いて、光の中心波長に関係なくスペクトル情報を単一フレームの画像に取り込むことができるという利点を有する。しかしながら、それらは、大きな半径の次数が所与のフレームにおいて見えている唯一のものである場合には、検出器の局所的な波長分解能(dλ/dR)は、小さな半径において可能な最適条件より低いという欠点を有する。本発明の実施形態の態様によれば、出願人は、エタロン反射器間の光路長を調整する手段を提供して、より狭い角度における可視次数を提示するための装置を連続的に調整することによって可能になる検出器の線形分解能のより良好な使用を提案する。本発明の実施形態の別な態様によれば、出願人は、多数の次数が検出器上に画像形成される場合には、より狭い角度で既に見えている次数を測定するように選択することによって可能になる検出器の線形分解能のより良好な使用を提案する。
本発明の実施形態の態様によれば、出願人は、縞の検出のために線形フォトダイオード・アレイを用いた、高精度でパルス間の波長を測定するためのオンボードの高繰返し率ガス放電レーザ・システムに用いるための走査及び一定ギャップのエタロンの両方の分光計の形態を組み合わせることを提案し、ここでは、十分高い分解能のための十分なピクセル密度を有することが問題である。このデバイスは、依然としてずっと一定ギャップ方式で使用することができる。しかしながら、照射光の中心波長が変化させられると、次数が、PDA検出器上で動くことになる。完全に見えている次数のみが十分に大きな角度で発生しているような波長の変化である場合には、1つの検出器要素にわたる局所的な線形分散dλ=λ/ftan(R/f)dRもまた、かなり大きいものである。出願人は、1つの検出器のピクセルにわたる分散dλがそれに対応して小さくなる、θ=R/fのより小さい値にこの次数を動的に戻すためのシステム及び方法を提案する。
エタロン反射器間の光路長dが変化させられる場合には、次数は、異なる角度で現れることになる。遅いサーボ機構を用いて、検出器のフォトダイオード・アレイの空間的な分解能を最も効率的に使用することができる所望の角度にこの次数を「向ける」ことができる。例えば、10pmFSRを有するエタロン分光計においては、d(=1.87μm)におけるおよそ0.1μmのシフトが、θ=3mradにおける2つの次数の位置を交換するのに必要であることが見出された。このことは、1fmより少ない分だけFSRをシフトすることになり、よって、計器の機能に対する影響は無視できるものである。
本発明の実施形態の態様によれば、例えば、図3に概略的に示されるこの波長計40を使用する目的では、更なる例として、画像形成システム及び検出器は、有効角度がθ=3mradからθ=11mradまでの範囲に及ぶように選択することができる。θ=3mradにおいては、当業者によって理解されるように、縞が、用途に応じて、所望のサンプリング分解能を得るのに十分なピクセル数により良好に特徴付けられるような線形分散である。シータ=11mradにおいては、θ=3mrad位置についてカバーされたピクセル数の〜27%のみにわたって位置する状態で、縞が極めて狭いような線形分散である。したがって、狭い角度で正確な測定を行うのに十分なサンプリング分解能を有するデバイスは、〜4xのオーバーヘッドが設計に組み込まれていない場合には、大きな角度では十分なサンプリング分解能をもたない。
出願人は、例えばプログラム化されたコンピュータ又は適切にプログラム化されたマイクロコントローラのマイクロコンピュータとすることができる、波長計計算コンピュータ60内の検出器によって記録された縞の画像を分析すること等によって、この状況を認識するためのソフトウェア修正を提案する。このコンピュータにより、検出器の分解能が正確な測定を可能にするのに十分な位置(例えば、角度θにある)に縞があるかを決定することができ、多数の縞が画像内に存在する場合には、最大のサンプリング分解能が利用可能である検出器上のその位置にあるその縞を優先的に分析することを決定できることを、出願人は提案する。出願人は、より詳細に後述される、多数のエタロン42コントローラの1つを設けて、例えば、光路長dを調整することによって、最適位置に又はその付近に縞をゆっくりと向けることを提案する。レーザ波長が頻繁には大きな度合い(<数pm)で同調させられない場合には、この方法により、波長計40が十分なピクセル分解能のオーバーヘッドを有する領域内で波長計40を実行させ続けることができる。そのことが、上述の特定の技術及び他のものを実用化することになる。
当業者であれば、本発明の実施形態の態様によって、縞読取り区域にかかわらずスペクトルの非対称性測定/補償の有効な実施を可能にする、波長計の線形フォトダイオード・アレイ50における不十分なピクセル・サンプリング分解能の問題は、検出器50上の局所的なピクセル分散(dλ/dR)が少ない、より狭い角度に縞次数を移動させることによって単純かつ容易に解決される。それは、画像形成分光計40の高速波長可変能力を保持するが、幾つかの測定ウィンドウ内では、縞を小さな半径の状況に戻すことができ、PDA50によって見られる縞の範囲にわたって照射されるピクセルにおいては、例えば約3倍の増加の可能性がある。<1の自由スペクトル範囲だけ次数の位置を変化させるようにdを調整しても、自由スペクトル範囲自体に対する影響は無視できるものであり、よって、波長計が較正される。例えば、機械的な作動装置によって押圧されたエタロンを収容する密閉されたハウジング上の金属ダイヤフラムによってといった、温度又は圧力によってこれを実行することができる。
ここで、図3を参照すると、エタロン42を収容し、当該技術分野において公知のビーム・スプリッタ22によって波長計40内に反射される出力レーザ・ビーム20の一部30を受け入れるこうした波長計40の例が示されている。分割された部分30は、エタロン42に入ることができ、このエタロンが、フォトダイオード・アレイ50上に画像形成される縞パターン44を形成することができ、例えば線形アレイ状に配置された複数のフォトダイオードの各々で見られる強度を中心波長/帯域幅検出コンピュータ60に提供することができる。例えばコンピュータの制御下でガス供給線62を介したエタロン・ハウジング43に圧力を印加すること、エタロン・ハウジング43を加圧するために、ソレノイド68を有するソレノイド弁64を作動すること、又は例えばコンピュータ60の制御下で再度機械的アクチュエータ(ステッピング・モーター、リニア・モーター等)(図示せず)によって、例えばハウジング上のダイヤフラムに圧力を印加すること等によって、上述のように、縞パターンは、適切なピクセル分解能のオーバーヘッドにおいて十分に分散されるアレイ50上の適切な場所に向けることができる。代替的に、ヒーター・コントローラ72の制御下のヒーター70は、コンピュータ60によって生成される制御信号に応答してエタロン・ハウジング43内の温度を修正することができる。同様に、エタロンの入射角は、例えば、コンピュータ60の制御下とすることもできる、アクチュエータ(図示せず)を有する回転する取付けプレート76上にエタロン・ハウジングを取り付けることによって、わずかに修正することができる。
コンピュータは、例えば、当該技術分野において公知の、例えば線狭幅化ユニット内で、レーザ光の波面を修正するために、帯域幅コントローラ(図示せず)に中央帯域幅のフィードバック情報を提供することもでき、帯域幅の修正の別の方法は、当該技術分野において公知であるように、分子フッ素ガス放電レーザのパルス・エキシマを生成して、レージング媒体を生成するために用いられる、例えば、放電パルスをレーザ内の電極に供給する回路における、例えば、圧縮ヘッド内のインダクタンスを変化させることによるものとすることができる。更なる帯域幅の能動的な補正法は、例えば、マルチチャンバ・レーザ・システムにおいて、システムのMO及びPA部分におけるレージングのタイミングを調整するための、例えば、主発振器(シード・レーザ)電力増幅器(「MOPA」)の線狭幅化レーザ・システムとすることができる。このように、PAセクションにおいて増幅されるようにMOセクションからの出力レーザ・パルスの一部を選択することができる。MOセクションからの出力レーザ・パルスの異なる部分は、例えば、幾度となく線狭幅化ユニットを移動させたので、帯域幅においてより狭幅化されたため、異なる帯域幅を有することがある。MOセクション及びPAセクションにおいてレージングの発生間のタイミングを調整することによって、PAセクションにおいて増幅されるようにMOセクション出力の一部を選択的に選ぶことができるので、受け取られたフィードバックに従って帯域幅を上下に選択することができる。例えば、主発振器電力発振器(MOPO)の、マルチチャンバ・レーザ・システムの他の形態を用いることができ、dtMOPAという用語は、所望の最大出力のレーザ・パルス帯域幅を選択する必要性に応じてシード・レーザ・パルスの一部を選択的に増幅するための、如何なるこうした2つのマルチチャンバ線狭幅化レーザ・システム間のレージングのそれぞれの発生の選択をも意味することを考慮し、そうするために用いられる。
当業者であれば、上述の本発明の実施形態の態様は、好ましい実施形態のみであることが意図され、多少なりとも、本発明の開示を限定することが意図されるものではなく、特に特定の好ましい実施形態だけに限定することが意図されるものではないことを理解するであろう。多くの変更及び修正を、当業者が理解し、認識するであろう開示された本発明の実施形態の開示された態様に加えることができる。添付された特許請求の範囲は、範囲及び意味において、本発明の実施形態の開示された態様ばかりではなく、こうした均等技術並びに当業者には明らかであろう他の修正及び変更に及ぶことが意図される。上述の本発明の実施形態の開示され、請求された態様への変更及び修正に加えて、他のものを実施することができる。

Claims (10)

  1. 縞の検出のための線形フォトダイオード・アレイを用いたパルス間の波長を測定するためのオンボードの高繰返し率ガス放電レーザ・システムに用いるための分光計であって、 縞パターンを前記フォトダイオード・アレイに提供するエタロンと、
    測定される縞次数を前記フォトダイオード・アレイ上のより好ましい位置に移動させる縞次数位置決め機構と、
    を備えることを特徴とする分光計。
  2. 前記縞次数位置決め機構は、前記線形アレイ上の局所的な線形分散(dλ/dR)が十分に小さい、より浅い角度に縞次数を位置決めすることを特徴とする請求項1に記載の分光計。
  3. 前記縞次数位置決め機構は、帯域幅測定コンピュータからの信号に応答して動作することを特徴とする請求項1に記載の分光計。
  4. 前記帯域幅測定コンピュータからの前記信号は、好ましくない縞次数の局所的な線形分散の検出により生成されることを特徴とする請求項3に記載の分光計。
  5. 前記エタロンを収容する密閉されたハウジングを更に備える請求項1に記載の分光計。
  6. 前記縞次数位置決め機構は、前記ハウジングに圧力を印加する加圧手段を備える、請求項5に記載の分光計。
  7. 前記縞次数位置決め機構は、前記ハウジング内の温度を変化させる温度制御手段を備える、請求項5に記載の分光計。
  8. 前記縞次数位置決め機構は、その上に前記ハウジングを取り付けてエタロンの入射角を変化させる取付け部を備える、請求項5に記載の分光計。
  9. 前記縞次数位置決め機構は、エタロンの光路長を調整する装置を備える、請求項1に記載の分光計。
  10. さらにコンピュータを備え、当該コンピュータは、
    線形フォトダイオード・アレイからの画像を分析し、
    解像度が、前記線形フォトダイオード・アレイにおいて正確な測定を行うのに十分かどうかを決定し、
    前記決定に基づいて縞次数位置決め機構を調整する、
    ことを特徴とする請求項1に記載の分光計。
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Families Citing this family (14)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US7852889B2 (en) 2006-02-17 2010-12-14 Cymer, Inc. Active spectral control of DUV light source
US7822084B2 (en) * 2006-02-17 2010-10-26 Cymer, Inc. Method and apparatus for stabilizing and tuning the bandwidth of laser light
US7659529B2 (en) * 2007-04-13 2010-02-09 Cymer, Inc. Method and apparatus for vibration reduction in laser system line narrowing unit wavelength selection optical element
US8520186B2 (en) * 2009-08-25 2013-08-27 Cymer, Llc Active spectral control of optical source
US8837536B2 (en) 2010-04-07 2014-09-16 Cymer, Llc Method and apparatus for controlling light bandwidth
US8599381B2 (en) 2011-01-19 2013-12-03 Massachusetts Institute Of Technology Gas detector for atmospheric species detection
US9207119B2 (en) 2012-04-27 2015-12-08 Cymer, Llc Active spectral control during spectrum synthesis
US9715180B2 (en) 2013-06-11 2017-07-25 Cymer, Llc Wafer-based light source parameter control
US9065248B2 (en) * 2013-11-20 2015-06-23 Cymer, Llc Systems and methods to more accurately estimate a fluorine concentration in a source laser
CN104316185B (zh) * 2014-10-29 2017-12-19 中国科学院光电研究院 一种同时监测激光光谱及光谱能量分布的方法和装置
US10288483B2 (en) 2017-04-09 2019-05-14 Cymer, Llc Recovering spectral shape from spatial output
JP6983633B2 (ja) * 2017-11-24 2021-12-17 浜松ホトニクス株式会社 ウェハの検査方法、及びウェハ
JP7244436B2 (ja) * 2017-12-05 2023-03-22 ギガフォトン株式会社 エキシマレーザ装置、及び電子デバイスの製造方法
CN111175424B (zh) * 2020-02-24 2022-04-08 大连依利特分析仪器有限公司 一种基于多级信号校准的二极管阵列检测器及校准方法

Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2002148121A (ja) * 2000-11-09 2002-05-22 Mitsubishi Electric Corp 波長モニタ装置及びこれを用いた波長安定化光源並びに波長検出方法
JP2003511688A (ja) * 1999-10-12 2003-03-25 ランブダ フィジク アクチェンゲゼルシャフト 波長計の温度補償方法
JP2003214958A (ja) * 2002-01-21 2003-07-30 Gigaphoton Inc 波長検出装置、レーザ装置及び波長検出方法
JP2004528701A (ja) * 2000-10-10 2004-09-16 チュナブル フォトニクス コーポレイション Tunableetalon(チューナブルエタロン)を利用する高密度波長分割マルチプレクサにおけるレーザ用の搬送波長をロッキングする方法およびシステム
WO2005033626A1 (en) * 2003-09-30 2005-04-14 Cymer, Inc. Gas discharge mopa laser spectral analysis module

Family Cites Families (59)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4223279A (en) 1977-07-18 1980-09-16 Mathematical Sciences Northwest, Inc. Pulsed electric discharge laser utilizing water dielectric blumlein transmission line
US4455658A (en) 1982-04-20 1984-06-19 Sutter Jr Leroy V Coupling circuit for use with a transversely excited gas laser
US5189678A (en) 1986-09-29 1993-02-23 The United States Of America As Represented By The United States Department Of Energy Coupling apparatus for a metal vapor laser
US5315611A (en) 1986-09-25 1994-05-24 The United States Of America As Represented By The United States Department Of Energy High average power magnetic modulator for metal vapor lasers
WO1989000779A1 (en) * 1987-07-17 1989-01-26 Kabushiki Kaisha Komatsu Seisakusho Apparatus for controlling laser wavelength
US5023884A (en) 1988-01-15 1991-06-11 Cymer Laser Technologies Compact excimer laser
US4959840A (en) 1988-01-15 1990-09-25 Cymer Laser Technologies Compact excimer laser including an electrode mounted in insulating relationship to wall of the laser
US5025446A (en) 1988-04-01 1991-06-18 Laserscope Intra-cavity beam relay for optical harmonic generation
US5025445A (en) 1989-11-22 1991-06-18 Cymer Laser Technologies System for, and method of, regulating the wavelength of a light beam
US5471965A (en) 1990-12-24 1995-12-05 Kapich; Davorin D. Very high speed radial inflow hydraulic turbine
US5359620A (en) 1992-11-12 1994-10-25 Cymer Laser Technologies Apparatus for, and method of, maintaining a clean window in a laser
US5313481A (en) 1993-09-29 1994-05-17 The United States Of America As Represented By The United States Department Of Energy Copper laser modulator driving assembly including a magnetic compression laser
US5448580A (en) 1994-07-05 1995-09-05 The United States Of America As Represented By The United States Department Of Energy Air and water cooled modulator
US5863017A (en) 1996-01-05 1999-01-26 Cymer, Inc. Stabilized laser platform and module interface
JP3385898B2 (ja) 1997-03-24 2003-03-10 安藤電気株式会社 可変波長半導体レーザ光源
US5982800A (en) 1997-04-23 1999-11-09 Cymer, Inc. Narrow band excimer laser
US5991324A (en) 1998-03-11 1999-11-23 Cymer, Inc. Reliable. modular, production quality narrow-band KRF excimer laser
US6128323A (en) 1997-04-23 2000-10-03 Cymer, Inc. Reliable modular production quality narrow-band high REP rate excimer laser
DE69706827T2 (de) 1997-05-02 2002-03-28 Agilent Technologies Inc., A Delaware Corp. Wellenlängenmessgerät und eine Einrichtung zur Regelung der Wellenlänge einer Lichtquelle
US6192064B1 (en) 1997-07-01 2001-02-20 Cymer, Inc. Narrow band laser with fine wavelength control
US6094448A (en) 1997-07-01 2000-07-25 Cymer, Inc. Grating assembly with bi-directional bandwidth control
US6330261B1 (en) 1997-07-18 2001-12-11 Cymer, Inc. Reliable, modular, production quality narrow-band high rep rate ArF excimer laser
US6018537A (en) 1997-07-18 2000-01-25 Cymer, Inc. Reliable, modular, production quality narrow-band high rep rate F2 laser
US5852621A (en) 1997-07-21 1998-12-22 Cymer, Inc. Pulse laser with pulse energy trimmer
US6757316B2 (en) 1999-12-27 2004-06-29 Cymer, Inc. Four KHz gas discharge laser
US6671294B2 (en) 1997-07-22 2003-12-30 Cymer, Inc. Laser spectral engineering for lithographic process
US5953360A (en) 1997-10-24 1999-09-14 Synrad, Inc. All metal electrode sealed gas laser
US6240117B1 (en) 1998-01-30 2001-05-29 Cymer, Inc. Fluorine control system with fluorine monitor
US5978406A (en) 1998-01-30 1999-11-02 Cymer, Inc. Fluorine control system for excimer lasers
US6151349A (en) 1998-03-04 2000-11-21 Cymer, Inc. Automatic fluorine control system
US6016325A (en) 1998-04-27 2000-01-18 Cymer, Inc. Magnetic modulator voltage and temperature timing compensation circuit
US6580517B2 (en) 2000-03-01 2003-06-17 Lambda Physik Ag Absolute wavelength calibration of lithography laser using multiple element or tandem see through hollow cathode lamp
US6477193B2 (en) 1998-07-18 2002-11-05 Cymer, Inc. Extreme repetition rate gas discharge laser with improved blower motor
US6208675B1 (en) 1998-08-27 2001-03-27 Cymer, Inc. Blower assembly for a pulsed laser system incorporating ceramic bearings
US6067311A (en) 1998-09-04 2000-05-23 Cymer, Inc. Excimer laser with pulse multiplier
US6208674B1 (en) 1998-09-18 2001-03-27 Cymer, Inc. Laser chamber with fully integrated electrode feedthrough main insulator
US6539046B2 (en) 1998-10-02 2003-03-25 Cymer, Inc. Wavemeter for gas discharge laser
US6320663B1 (en) * 1999-01-22 2001-11-20 Cymer, Inc. Method and device for spectral measurements of laser beam
US6359693B2 (en) 1999-02-04 2002-03-19 Cymer, Inc. Double pass double etalon spectrometer
US6219368B1 (en) 1999-02-12 2001-04-17 Lambda Physik Gmbh Beam delivery system for molecular fluorine (F2) laser
US6104735A (en) 1999-04-13 2000-08-15 Cymer, Inc. Gas discharge laser with magnetic bearings and magnetic reluctance centering for fan drive assembly
US6164116A (en) 1999-05-06 2000-12-26 Cymer, Inc. Gas module valve automated test fixture
US6865210B2 (en) 2001-05-03 2005-03-08 Cymer, Inc. Timing control for two-chamber gas discharge laser system
US6625191B2 (en) 1999-12-10 2003-09-23 Cymer, Inc. Very narrow band, two chamber, high rep rate gas discharge laser system
US6801560B2 (en) 1999-05-10 2004-10-05 Cymer, Inc. Line selected F2 two chamber laser system
US6882674B2 (en) 1999-12-27 2005-04-19 Cymer, Inc. Four KHz gas discharge laser system
US6414979B2 (en) 2000-06-09 2002-07-02 Cymer, Inc. Gas discharge laser with blade-dielectric electrode
US6317448B1 (en) 1999-09-23 2001-11-13 Cymer, Inc. Bandwidth estimating technique for narrow band laser
US6532247B2 (en) 2000-02-09 2003-03-11 Cymer, Inc. Laser wavelength control unit with piezoelectric driver
US6480275B2 (en) 2001-01-29 2002-11-12 Cymer, Inc. High resolution etalon-grating monochromator
US6693939B2 (en) 2001-01-29 2004-02-17 Cymer, Inc. Laser lithography light source with beam delivery
US6914919B2 (en) 2000-06-19 2005-07-05 Cymer, Inc. Six to ten KHz, or greater gas discharge laser system
US6538737B2 (en) 2001-01-29 2003-03-25 Cymer, Inc. High resolution etalon-grating spectrometer
US6690704B2 (en) 2001-04-09 2004-02-10 Cymer, Inc. Control system for a two chamber gas discharge laser
US6621580B2 (en) 2001-05-08 2003-09-16 Precision Photonics Corporation Single etalon wavelength locker
US6798812B2 (en) 2002-01-23 2004-09-28 Cymer, Inc. Two chamber F2 laser system with F2 pressure based line selection
US7304748B2 (en) * 2003-06-26 2007-12-04 Cymer, Inc. Method and apparatus for bandwidth measurement and bandwidth parameter calculation for laser light
US6952267B2 (en) 2003-07-07 2005-10-04 Cymer, Inc. Method and apparatus for measuring bandwidth of a laser output
TWI263412B (en) 2003-06-26 2006-10-01 Cymer Inc Improved bandwidth estimation

Patent Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2003511688A (ja) * 1999-10-12 2003-03-25 ランブダ フィジク アクチェンゲゼルシャフト 波長計の温度補償方法
JP2004528701A (ja) * 2000-10-10 2004-09-16 チュナブル フォトニクス コーポレイション Tunableetalon(チューナブルエタロン)を利用する高密度波長分割マルチプレクサにおけるレーザ用の搬送波長をロッキングする方法およびシステム
JP2002148121A (ja) * 2000-11-09 2002-05-22 Mitsubishi Electric Corp 波長モニタ装置及びこれを用いた波長安定化光源並びに波長検出方法
JP2003214958A (ja) * 2002-01-21 2003-07-30 Gigaphoton Inc 波長検出装置、レーザ装置及び波長検出方法
WO2005033626A1 (en) * 2003-09-30 2005-04-14 Cymer, Inc. Gas discharge mopa laser spectral analysis module

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EP1946054A2 (en) 2008-07-23
KR20080081890A (ko) 2008-09-10

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