JP2012172170A - Method for producing metal particles - Google Patents

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Kazumasa Okada
一誠 岡田
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a method for producing metal particles, by which the formation of metal particles having an average diameter of 50 nm or more is restrained.SOLUTION: An acidic reaction solution containing metal ions, a titanium trichloride as a reducing agent, a complexing agent, and a dispersing agent is adjusted to have alkaline, and the resulting reaction solution is stirred to precipitate metal particles. As the complexing agent, at least one of malic acid, a malate, gluconic acid, and a gluconate is used.

Description

本発明は、金属イオンを三塩化チタンにより還元することにより金属粒子を析出させる金属粒子の製造方法に関する。   The present invention relates to a method for producing metal particles in which metal particles are precipitated by reducing metal ions with titanium trichloride.

金属粒子を製造する方法として、以下に示す特許文献に示されるものが知られている。特許文献1の技術では、水酸化ニッケルをヒドラジンにより還元してニッケル粒子を形成する。特許文献2の技術では、カルボン酸類を含む溶液中でニッケルイオンをポリオールにより還元してニッケル粒子を形成する。   As a method for producing metal particles, those shown in the following patent documents are known. In the technique of Patent Document 1, nickel particles are formed by reducing nickel hydroxide with hydrazine. In the technique of Patent Document 2, nickel particles are formed by reducing nickel ions with a polyol in a solution containing carboxylic acids.

特許文献1には、平均粒径が300μm以上である金属粒子の製造条件が挙げられている。一方、特許文献2には、平均粒径が50nm以上の金属粒子の製造条件が挙げられている。   Patent Document 1 lists production conditions for metal particles having an average particle size of 300 μm or more. On the other hand, Patent Document 2 lists production conditions for metal particles having an average particle diameter of 50 nm or more.

特開平5−51610号公報JP-A-5-51610 特開2007−9275号公報JP 2007-9275 A

ところで、近年のコンデンサ等の電子部品の小型化の要求とともに、その材料となる金属粒子のさらなる微粒子化の要求が高まっている。その目安として、平均粒径で50nm以下の金属粒子の要求がある。しかし、上記に挙げた製造方法では、製造過程において金属粒子の成長を制限することができず、金属粒子の大きさが平均粒径で50nm以上になる。   By the way, along with the recent demand for miniaturization of electronic components such as capacitors, there has been an increasing demand for further miniaturization of metal particles as the material. As a guide, there is a demand for metal particles having an average particle diameter of 50 nm or less. However, in the manufacturing methods listed above, the growth of metal particles cannot be restricted in the manufacturing process, and the size of the metal particles is 50 nm or more in terms of average particle size.

本発明はこのような実情に鑑みてなされたものであり、その目的は平均粒径で50nm以上となることを抑制することのできる金属粒子の製造方法を提供することにある。   This invention is made | formed in view of such a situation, The objective is to provide the manufacturing method of the metal particle which can suppress that an average particle diameter becomes 50 nm or more.

以下、上記目的を達成するための手段およびその作用効果について記載する。
(1)請求項1に記載の発明は、金属イオンと、前記金属イオンを還元する還元剤としての三塩化チタンと、前記金属イオンおよび前記三塩化チタンのチタンイオンを溶液中で安定化させる錯化剤と、還元反応により析出する金属粒子を溶液中で分散させる分散剤と、を含む酸性水溶液を反応溶液として、前記反応溶液とpH調整剤とを混合して前記反応溶液をアルカリ性に調整し、この反応溶液を撹拌して金属粒子を析出させる金属粒子の製造方法であって、前記錯化剤としてリンゴ酸およびリンゴ酸塩およびグルコン酸およびグルコン酸塩の少なくとも一つを用いることを要旨とする。
In the following, means for achieving the above object and its effects are described.
(1) The invention described in claim 1 is directed to a metal ion, titanium trichloride as a reducing agent for reducing the metal ion, and a complex for stabilizing the metal ion and the titanium ion of the titanium trichloride in a solution. The reaction solution is adjusted to be alkaline by mixing the reaction solution with a pH adjuster using an acidic aqueous solution containing a oxidant and a dispersant that disperses the metal particles precipitated by the reduction reaction in the solution. A method for producing metal particles in which the reaction solution is stirred to precipitate metal particles, wherein the complexing agent includes at least one of malic acid, malate, gluconic acid, and gluconate. To do.

ところで、溶液中で金属イオンを3価のチタンにより還元し金属粒子を析出させる方法が知られている。この方法では、溶液中で、金属イオンおよび3価のチタンを安定化させるために錯化剤を用いる。   By the way, a method of reducing metal ions with trivalent titanium in a solution to deposit metal particles is known. In this method, a complexing agent is used to stabilize metal ions and trivalent titanium in solution.

しかし、平均粒径が50nm以下の金属粒子を形成することが困難であった。そこで、本発明者は鋭意研究し、その結果、錯化剤としてリンゴ酸またはグルコン酸またはこれらの塩を用いると平均粒径が50nm以下の金属粒子が形成されることを見出した。   However, it has been difficult to form metal particles having an average particle size of 50 nm or less. Therefore, the present inventor has intensively studied, and as a result, has found that when malic acid or gluconic acid or a salt thereof is used as a complexing agent, metal particles having an average particle diameter of 50 nm or less are formed.

リンゴ酸またはグルコン酸またはこれらの塩は、他の錯化剤に比べて、3価のチタンイオンと金属イオンとの反応速度をより低下させると考えられる。金属イオンの還元反応の速度を低下させて金属の成長を遅くすることにより、金属粒子が50nmを超える前に分散剤を当該金属粒子に吸着させ、その成長を停止させる。これにより、金属粒子が平均粒径で50nm以上となることを抑制することができる。   Malic acid or gluconic acid or a salt thereof is considered to further reduce the reaction rate of trivalent titanium ions and metal ions as compared with other complexing agents. By slowing down the metal growth by reducing the speed of the metal ion reduction reaction, the dispersant is adsorbed on the metal particles before the metal particles exceed 50 nm, and the growth is stopped. Thereby, it can suppress that a metal particle becomes 50 nm or more by an average particle diameter.

(2)請求項2に記載の発明は、前記分散剤は、分子量が10000〜50000のマレイン酸系の共重合体の塩であることを要旨とする。
分散剤は、析出した金属粒子が互いに凝集することを抑制する。特に、上記構成の分散剤を用いることにより、金属粒子が、平均粒径で50nm以上になることを抑制することが見出された。すなわち、本発明によれば、上記構成の分散剤を用いることにより、金属粒子が、平均粒径で50nm以上の大きさになることを抑制することができる。
(2) The invention according to claim 2 is characterized in that the dispersant is a salt of a maleic acid copolymer having a molecular weight of 10,000 to 50,000.
The dispersant prevents the deposited metal particles from aggregating with each other. In particular, it has been found that the use of a dispersant having the above configuration suppresses the metal particles from having an average particle diameter of 50 nm or more. That is, according to the present invention, it is possible to suppress the metal particles from having an average particle size of 50 nm or more by using the dispersant having the above-described configuration.

(3)請求項3に記載の発明は、請求項1または2に記載の金属粒子の製造方法において、前記分散剤の単位体積あたりの質量は単位容積当たりの金属析出量に対して0.3倍以上であることを要旨とする。   (3) The invention according to claim 3 is the method for producing metal particles according to claim 1 or 2, wherein the mass per unit volume of the dispersant is 0.3 with respect to the amount of deposited metal per unit volume. The gist is that it is twice or more.

分散剤の濃度を低くすると金属粒子が大きくなる傾向がある。この点、本発明では、金属析出量に対して分散剤の濃度の下限を規定するため、金属粒子が大きくなることを抑制することができる。   When the concentration of the dispersant is lowered, the metal particles tend to be larger. In this respect, in the present invention, since the lower limit of the concentration of the dispersant is defined with respect to the metal deposition amount, it is possible to suppress the metal particles from becoming large.

(4)請求項4に記載の発明は、請求項1〜3のいずれか一項に記載の金属粒子の製造方法において、前記錯化剤のモル濃度は前記チタンイオンのモル濃度に対して0.5〜5.0倍であるであることを要旨とする。   (4) The invention according to claim 4 is the method for producing metal particles according to any one of claims 1 to 3, wherein the molar concentration of the complexing agent is 0 with respect to the molar concentration of the titanium ions. The gist is that it is 5 to 5.0 times.

チタンイオンのモル濃度に対する錯化剤のモル濃度の比が0.5未満であるとき、水酸化チタンが生じるおそれがある。一方、チタンイオンのモル濃度に対する錯化剤のモル濃度の比が5.0を超えるとき、pH調整剤等の溶解性が低下する。このため、錯化剤のモル濃度を上記範囲に設定することが好ましい。   When the ratio of the molar concentration of the complexing agent to the molar concentration of titanium ions is less than 0.5, titanium hydroxide may be generated. On the other hand, when the ratio of the molar concentration of the complexing agent to the molar concentration of titanium ions exceeds 5.0, the solubility of the pH adjusting agent or the like decreases. For this reason, it is preferable to set the molar concentration of the complexing agent within the above range.

(5)請求項5に記載の発明は、請求項1〜4のいずれか一項に記載の金属粒子の製造方法において、前記反応溶液は、前記金属イオンとして、少なくともニッケルイオンを含むことを要旨とする。この発明によれば、反応溶液中のニッケルイオンが3価のチタンイオンに還元されるため、ニッケルを含む金属粒子を形成することができる。   (5) The invention according to claim 5 is the method for producing metal particles according to any one of claims 1 to 4, wherein the reaction solution contains at least nickel ions as the metal ions. And According to this invention, since nickel ions in the reaction solution are reduced to trivalent titanium ions, metal particles containing nickel can be formed.

(6)請求項6に記載の発明は、請求項1〜4のいずれか一項に記載の金属粒子の製造方法において、前記反応溶液は、複数種類の金属イオンを含み、各金属イオンのモル濃度を各金属の析出比に基づいて調整することを要旨とする。   (6) The invention according to claim 6 is the method for producing metal particles according to any one of claims 1 to 4, wherein the reaction solution contains a plurality of types of metal ions, and the molarity of each metal ion. The gist is to adjust the concentration based on the deposition ratio of each metal.

3価のチタンにより金属イオンを還元する方法によれば、一定条件下で、金属イオンの析出比は一定となる。このため、各金属の析出比に応じて、溶液中の各金属イオンのモル濃度を調整することにより、目的組成の金属粒子を形成することができる。   According to the method of reducing metal ions with trivalent titanium, the deposition ratio of metal ions is constant under certain conditions. For this reason, the metal particle of a target composition can be formed by adjusting the molar concentration of each metal ion in a solution according to the deposition ratio of each metal.

(7)請求項7に記載の発明は、請求項6に記載の金属粒子の製造方法において、前記金属イオンは、タングステン、タンタル、レニウム、鉄、コバルト、ニッケル、銅、銀、金、白金の各イオンにより構成される群から選択される少なくとも2種類であることを要旨とする。   (7) The invention according to claim 7 is the method for producing metal particles according to claim 6, wherein the metal ions are tungsten, tantalum, rhenium, iron, cobalt, nickel, copper, silver, gold, or platinum. The gist is that there are at least two types selected from the group consisting of each ion.

タングステン、タンタル、レニウム、鉄、コバルト、ニッケル、銅、銀、金、白金の金属イオンは、3価のチタンイオンにより還元される。反応溶液に、これら金属のうち2種以上の金属を存在させるため、少なくとも2種以上の金属を含む金属粒子を形成することができる。   Metal ions of tungsten, tantalum, rhenium, iron, cobalt, nickel, copper, silver, gold, and platinum are reduced by trivalent titanium ions. Since two or more kinds of these metals are present in the reaction solution, metal particles containing at least two kinds of metals can be formed.

本発明によれば、平均粒径で50nm以上となることを抑制することのできる金属粒子の製造方法を提供することができる。   ADVANTAGE OF THE INVENTION According to this invention, the manufacturing method of the metal particle which can suppress that it becomes 50 nm or more by an average particle diameter can be provided.

実施例および比較例の製造条件を示すテーブル。The table which shows the manufacturing conditions of an Example and a comparative example. 各実施例について、第1金属塩および第2金属塩および三塩化チタンの総濃度と錯化剤の濃度との比を示すテーブル。The table which shows ratio of the total density | concentration of 1st metal salt, 2nd metal salt, and titanium trichloride, and the density | concentration of a complexing agent about each Example. 各実施例について、溶液ニッケル比率と金属粒子中のニッケルの比率との関係を示すテーブル。The table which shows the relationship between a solution nickel ratio and the ratio of nickel in a metal particle about each Example.

以下、本実施形態にかかるニッケル粒子の製造方法について説明する。なお、ニッケル粒子は、例えば、積層セラミックコンデンサの電極の形成に用いられる。以降では、ニッケル粒子とは、ニッケルが50原子%以上含む金属粒子をいう。金属粒子を構成する各金属についてニッケルとニッケル以外の金属とを区別するため、ニッケルを第1金属とし、ニッケル以外の金属を第2金属とする。これらの塩をそれぞれ第1金属塩、第2金属塩とする。第1金属のイオンを第1金属イオンとし、第2金属のイオンを第2金属イオンとする。   Hereinafter, the manufacturing method of the nickel particle concerning this embodiment is demonstrated. The nickel particles are used, for example, for forming an electrode of a multilayer ceramic capacitor. Hereinafter, nickel particles refer to metal particles that contain 50 atomic% or more of nickel. In order to distinguish between nickel and a metal other than nickel for each metal constituting the metal particles, nickel is a first metal and a metal other than nickel is a second metal. These salts are referred to as a first metal salt and a second metal salt, respectively. The first metal ion is the first metal ion, and the second metal ion is the second metal ion.

ニッケル粒子は、金属イオン還元法により形成される。
まず、析出させる金属の金属イオンと還元剤とを含む反応溶液を形成する。次に、反応溶液のpHを調整して、アルカリ性にすることにより、金属イオンと還元剤との酸化還元反応を開始させて、金属粒子を析出させる。以下、各工程について説明する。
The nickel particles are formed by a metal ion reduction method.
First, a reaction solution containing metal ions to be deposited and a reducing agent is formed. Next, by adjusting the pH of the reaction solution to make it alkaline, the oxidation-reduction reaction between the metal ions and the reducing agent is started to deposit metal particles. Hereinafter, each step will be described.

<還元剤の形成>
還元剤としては、三塩化チタンを使用する。上記反応溶液を調整するときは三塩化チタンの塩酸溶液を用いる。三塩化チタンの塩酸溶液は、電解還元法により、四塩化チタンの塩酸溶液を還元することにより形成される。具体的には、電解槽の陰極室に、四塩化チタンの20%塩酸水溶液を入れる。電解槽の陽極室に、塩化アンモニウム溶液を入れる。陰極室と陽極室とは、塩素イオンを透過するイオン交換膜により仕切る。三塩化チタンは、空気中の酸素と反応して酸化するため、電解は、アルゴン雰囲気下で行う。この方法によれば、4価のチタンイオンを略100%3価のチタンイオンに還元することができる。
<Formation of reducing agent>
Titanium trichloride is used as the reducing agent. When preparing the reaction solution, a hydrochloric acid solution of titanium trichloride is used. A hydrochloric acid solution of titanium trichloride is formed by reducing a hydrochloric acid solution of titanium tetrachloride by an electrolytic reduction method. Specifically, a 20% hydrochloric acid aqueous solution of titanium tetrachloride is placed in the cathode chamber of the electrolytic cell. An ammonium chloride solution is placed in the anode chamber of the electrolytic cell. The cathode chamber and the anode chamber are partitioned by an ion exchange membrane that transmits chlorine ions. Since titanium trichloride reacts with oxygen in the air and oxidizes, electrolysis is performed in an argon atmosphere. According to this method, tetravalent titanium ions can be reduced to substantially 100% trivalent titanium ions.

<反応溶液>
金属粒子を形成するための反応溶液は、金属粒子を形成する金属イオンと、還元剤としての三塩化チタンと、金属イオンおよび3価のチタンイオンを溶液中で安定化させる錯化剤と、析出する金属粒子が凝集することを抑制する分散剤とを含む。反応溶液は、三塩化チタンの塩酸溶液に、金属イオンの元となる金属化合物、錯化剤および分散剤を溶解することにより、得られる。
<Reaction solution>
The reaction solution for forming metal particles includes metal ions that form metal particles, titanium trichloride as a reducing agent, a complexing agent that stabilizes metal ions and trivalent titanium ions in the solution, and precipitation. And a dispersing agent that suppresses aggregation of metal particles to be aggregated. The reaction solution is obtained by dissolving a metal compound, a complexing agent, and a dispersing agent that are the source of metal ions in a hydrochloric acid solution of titanium trichloride.

金属イオンとしては、例えば、Pt、Au、Ag、Cu、Co、Ni、Fe、Re、Ta、W等が挙げられる。これらは、いずれも、3価のチタンイオンにより還元される金属種である。3価のチタンイオンは還元性が高く、殆どの金属イオンを還元する。   Examples of the metal ion include Pt, Au, Ag, Cu, Co, Ni, Fe, Re, Ta, and W. These are all metal species reduced by trivalent titanium ions. Trivalent titanium ions are highly reducible and reduce most metal ions.

反応溶液中の三塩化チタンは、三塩化チタンの塩酸溶液を用いて調整される。三塩化チタンの塩酸溶液としては、20%塩酸水溶液で三塩化チタン濃度が0.21mol/Lとされた溶液が用いられる。なお、三塩化チタンの塩酸溶液は上記製法により調整することができるが、ここで用いられる三塩化チタンの塩酸溶液は、上記製法により調整されるものに限定されない。   Titanium trichloride in the reaction solution is adjusted using a hydrochloric acid solution of titanium trichloride. As the hydrochloric acid solution of titanium trichloride, a 20% aqueous hydrochloric acid solution having a titanium trichloride concentration of 0.21 mol / L is used. In addition, although the hydrochloric acid solution of titanium trichloride can be adjusted by the said manufacturing method, the hydrochloric acid solution of titanium trichloride used here is not limited to what is adjusted by the said manufacturing method.

錯化剤としては、金属イオンとチタンイオンとのいずれとも錯体を形成し、酸性溶液中で各金属イオンを独立に存在させるものが用いられる。例えば、チタンイオンは、塩酸溶液中で水と反応して水酸化物を形成するため、この形成を抑制する目的で、錯化剤が用いられる。   As the complexing agent, one that forms a complex with any of metal ions and titanium ions and allows each metal ion to exist independently in an acidic solution is used. For example, since titanium ions react with water in a hydrochloric acid solution to form hydroxides, a complexing agent is used for the purpose of suppressing this formation.

また、錯化剤としては、金属イオンとチタンイオンとの酸化還元反応速度、すなわち金属析出速度を、従来の錯化剤に比べて、小さくするものが採用される。具体的には、平均粒径で50nmよりも大きい金属粒子を形成するときに用いられている錯化剤よりも、金属イオンとチタンイオンとの酸化還元反応速度を低下させるものが採用される。なお、平均粒径とは、粒径の積算分布における積算値50%の値(D50)を示す。積算分布は、走査型電子顕微鏡(SEM)により観察した500個の粒子の画像解析により測定した円半径から体積換算して求めた値に基づいて作成される。   Further, as the complexing agent, one that reduces the oxidation-reduction reaction rate between metal ions and titanium ions, that is, the metal deposition rate, as compared with conventional complexing agents is employed. Specifically, what reduces the oxidation-reduction reaction rate of a metal ion and a titanium ion is employ | adopted rather than the complexing agent used when forming a metal particle with an average particle diameter larger than 50 nm. In addition, an average particle diameter shows the value (D50) of the integrated value 50% in the integrated distribution of a particle size. The integrated distribution is created based on a value obtained by volume conversion from a circle radius measured by image analysis of 500 particles observed with a scanning electron microscope (SEM).

錯化剤の例として、リンゴ酸、グルコン酸、またはこれらのアルカリ金属塩またはこれらのアルカリ土類金属塩が挙げられる。アルカリ金属塩としては、例えば、グルコン酸ナトリウム、リンゴ酸ナトリウムが挙げられる。   Examples of complexing agents include malic acid, gluconic acid, or their alkali metal salts or their alkaline earth metal salts. Examples of the alkali metal salt include sodium gluconate and sodium malate.

分散剤としては、反応溶液中に析出される金属粒子の凝集を抑制するものであって、金属粒子の大きさを平均粒径で50nm以下にするように、金属粒子の成長を抑制するものが用いられる。すなわち、直径50nmを超えるまでに金属粒子に吸着し、金属粒子の成長を抑制するとともに、金属粒子同士の結合を抑制するものが用いられる。   The dispersant is one that suppresses the aggregation of metal particles deposited in the reaction solution, and suppresses the growth of metal particles so that the average particle size is 50 nm or less. Used. That is, a material that adsorbs to metal particles by a diameter exceeding 50 nm, suppresses the growth of metal particles, and suppresses bonding between metal particles is used.

このような分散剤としては、カルボキシルアニオン性の界面活性剤が用いられる。特に、マレイン酸系の界面活性剤が好ましい。また、マレイン酸系の界面活性剤のうちでも、スチレンマレイン酸共重合体の塩またはオレフィンマレイン酸共重合体の塩であって、分子量が10,000〜50,000にあるものが好ましい。   As such a dispersant, a carboxyl anionic surfactant is used. In particular, maleic acid surfactants are preferred. Among the maleic acid-based surfactants, styrene maleic acid copolymer salts or olefin maleic acid copolymer salts having a molecular weight of 10,000 to 50,000 are preferred.

<金属粒子の形成>
金属粒子を形成するとき、反応温度に維持した上記反応溶液に、pH調整剤を溶解することによりpH8.0〜10.0に調整し、さらに、500rpmで数十分〜数時間、撹拌を続けることにより、金属粒子を析出させる。なお、調整剤としては、炭酸ナトリウム、25%のアンモニア水溶液、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸アンモニウム等が用いられる。
<Formation of metal particles>
When forming metal particles, the pH is adjusted to 8.0 to 10.0 by dissolving a pH adjuster in the reaction solution maintained at the reaction temperature, and stirring is continued for several tens of minutes to several hours at 500 rpm. As a result, metal particles are deposited. As the adjuster, sodium carbonate, 25% ammonia aqueous solution, sodium hydroxide, potassium hydroxide, ammonium carbonate, or the like is used.

その後、反応溶液を入れた容器を静置して、金属粒子を沈降させる。そして、遠心分離機により溶液と金属粒子とを分離し、純水で洗浄する。遠心分離と洗浄とを数回繰り返して、不純物を除去する。そして、水を分散媒として用いて、金属粒子を分散させた金属分散液を形成する。さらに、金属分散液を80℃の真空乾燥機で乾燥させる。これにより金属粒子が得られる。   Thereafter, the container containing the reaction solution is allowed to stand to precipitate the metal particles. And a solution and a metal particle are isolate | separated with a centrifuge, and it wash | cleans with a pure water. Impurities are removed by repeating the centrifugation and washing several times. Then, a metal dispersion liquid in which metal particles are dispersed is formed using water as a dispersion medium. Further, the metal dispersion is dried with an 80 ° C. vacuum dryer. Thereby, metal particles are obtained.

以下、図1〜図3を参照して、実施例および比較例について説明する。図1に、実施例および比較例の製造条件を示している。図2に、第1金属塩および第2金属塩および三塩化チタンの総濃度と錯化剤の濃度との比を示す。   Hereinafter, examples and comparative examples will be described with reference to FIGS. FIG. 1 shows the manufacturing conditions of the examples and comparative examples. FIG. 2 shows the ratio of the total concentration of the first metal salt, the second metal salt, and titanium trichloride to the concentration of the complexing agent.

<実施例1>
本実施例では、ニッケルとタングステンとを含む金属粒子を形成した。
金属イオンの金属種として、塩化ニッケル六水和物(第1金属塩)とタングステン酸ナトリウム二水和物(第2金属塩)を用いた。塩化ニッケル六水和物の濃度を0.042mol/Lとし、タングステン酸ナトリウム二水和物の濃度を0.050とした。錯化剤として、グルコン酸ナトリウムを用いた。図2に示すように、錯化剤の濃度をチタンイオン(三塩化チタン)のモル濃度に対して1.44倍とした。さらに、錯化剤の濃度を、塩化ニッケル六水和物およびタングステン酸ナトリウム二水和物および三塩化チタンの総濃度(モル濃度)に対して1.0倍の濃度とした。具体的には、錯化剤の濃度を0.3molとした。分散剤としては、分子量が30,000のスチレンマレイン酸共重合体のアンモニウム塩を用いた。分散剤の濃度は、2g/Lとした。これは、析出される析出金属量5.5g/Lに対し0.36倍の値である。析出金属量は、本実施例の金属粒子の製造に先立って行った金属粒子の製造により求めた値である。三塩化チタンの濃度は、第1金属イオンの濃度および第2金属イオンの濃度の総和に対して過剰となるように調整した。具体的には、三塩化チタンの濃度を0.21mol/Lとした。
<Example 1>
In this example, metal particles containing nickel and tungsten were formed.
Nickel chloride hexahydrate (first metal salt) and sodium tungstate dihydrate (second metal salt) were used as metal species of metal ions. The concentration of nickel chloride hexahydrate was 0.042 mol / L, and the concentration of sodium tungstate dihydrate was 0.050. Sodium gluconate was used as a complexing agent. As shown in FIG. 2, the concentration of the complexing agent was 1.44 times the molar concentration of titanium ions (titanium trichloride). Further, the concentration of the complexing agent was 1.0 times the total concentration (molar concentration) of nickel chloride hexahydrate, sodium tungstate dihydrate and titanium trichloride. Specifically, the concentration of the complexing agent was 0.3 mol. As the dispersant, an ammonium salt of a styrene maleic acid copolymer having a molecular weight of 30,000 was used. The concentration of the dispersing agent was 2 g / L. This is 0.36 times the amount of the deposited metal amount of 5.5 g / L. The amount of deposited metal is a value determined by the production of metal particles performed prior to the production of the metal particles of this example. The concentration of titanium trichloride was adjusted to be excessive with respect to the sum of the concentration of the first metal ion and the concentration of the second metal ion. Specifically, the concentration of titanium trichloride was 0.21 mol / L.

次に、反応溶液に、pHが8.5になるまで炭酸ナトリウムを溶解した。さらに、反応温度を35℃に維持して、120分間撹拌を続けた。その後、沈殿物を遠心分離機による溶媒と金属粒子と分離、および洗浄を繰り返し、金属粒子を得た。このとき、溶液中には、タングステンイオンの一部が析出せずに残っていた。一方、ニッケルイオンは殆ど残っていなかった。金属粒子の組成は、図3に示すように、ニッケルが70原子%、タングステンが30原子%であった。金属粒子の平均粒径は20nmであった。   Next, sodium carbonate was dissolved in the reaction solution until the pH reached 8.5. Further, the reaction temperature was maintained at 35 ° C., and stirring was continued for 120 minutes. Thereafter, the precipitate was repeatedly separated from the solvent and the metal particles by a centrifugal separator and washed to obtain metal particles. At this time, some tungsten ions remained in the solution without being precipitated. On the other hand, almost no nickel ions remained. As shown in FIG. 3, the composition of the metal particles was 70 atomic% for nickel and 30 atomic% for tungsten. The average particle size of the metal particles was 20 nm.

<実施例2>
本実施例では、ニッケルとタングステンとを含む金属粒子を形成した。
金属粒子の製造条件は、実施例1に対して、タングステン酸ナトリウム二水和物(第2金属塩)の濃度と、分散剤の濃度とが異なるのみで、これら以外の条件は実施例1と同じとした。タングステン酸ナトリウム二水和物の濃度は0.030とした。分散剤の濃度は、5.5g/Lとした。これは、析出金属量5.5g/Lに対し1.0倍の値である。なお、錯化剤の濃度は、反応溶液に対する濃度を実施例1と同様としているが、塩化ニッケル六水和物およびタングステン酸ナトリウム二水和物および三塩化チタンの総濃度に対する錯化剤の濃度の比は、タングステン酸ナトリウム二水和物の量が減っている分、大きくなり、1.07となっている(図2参照)。
<Example 2>
In this example, metal particles containing nickel and tungsten were formed.
The production conditions of the metal particles are different from Example 1 only in the concentration of sodium tungstate dihydrate (second metal salt) and the concentration of the dispersant. Same as above. The concentration of sodium tungstate dihydrate was 0.030. The concentration of the dispersant was 5.5 g / L. This is a value that is 1.0 times the amount of precipitated metal of 5.5 g / L. The concentration of the complexing agent is the same as that of Example 1 with respect to the reaction solution, but the concentration of the complexing agent with respect to the total concentration of nickel chloride hexahydrate, sodium tungstate dihydrate, and titanium trichloride. The ratio increases to 1.07 as the amount of sodium tungstate dihydrate decreases (see FIG. 2).

金属粒子の析出方法は、実施例1と同様の方法とした。金属粒子の組成は、ニッケルが90原子%、タングステンが10原子%であった(図3参照)。金属粒子の平均粒径は30nmであった。   The metal particles were deposited in the same manner as in Example 1. The composition of the metal particles was 90 atomic% for nickel and 10 atomic% for tungsten (see FIG. 3). The average particle diameter of the metal particles was 30 nm.

<比較例1>
本比較例は次の点で実施例2と異なる。すなわち、実施例2では、錯化剤としてグルコン酸ナトリウムを用いていたが、本比較例では、錯化剤としてクエン酸三ナトリウム二水和物を用いた。クエン酸三ナトリウム二水和物の濃度を0.031mol/Lとした。この場合、金属粒子の組成は、ニッケルが90原子%、タングステンが10原子%であった。金属粒子の平均粒径は150nmであった。
<Comparative Example 1>
This comparative example differs from Example 2 in the following points. That is, in Example 2, sodium gluconate was used as the complexing agent, but in this comparative example, trisodium citrate dihydrate was used as the complexing agent. The concentration of trisodium citrate dihydrate was 0.031 mol / L. In this case, the composition of the metal particles was 90 atomic% for nickel and 10 atomic% for tungsten. The average particle size of the metal particles was 150 nm.

<評価>
実施例1および2と比較例1とを比較し、金属粒子の製造条件の相違による平均粒径の変化について評価する。
<Evaluation>
Examples 1 and 2 and Comparative Example 1 are compared, and the change in the average particle diameter due to the difference in the production conditions of the metal particles is evaluated.

実施例1および2では、錯化剤としてグルコン酸ナトリウムを用いた。また、分散剤の濃度を析出金属量に対して0.3倍以上とし、分散剤の分子量を10,000〜50,000とした。この条件下において、平均粒径は、50nm以下のものとすることができた。   In Examples 1 and 2, sodium gluconate was used as a complexing agent. Further, the concentration of the dispersant was set to 0.3 times or more with respect to the amount of deposited metal, and the molecular weight of the dispersant was set to 10,000 to 50,000. Under these conditions, the average particle size could be 50 nm or less.

一方、比較例1では、実施例2と錯化剤のみ異なる条件で金属粒子を析出させたが、平均粒径は50nmを超えた。以上のことから、錯化剤としてグルコン酸ナトリウムを用いると、平均粒径が50nm以下である金属粒子を形成することができるが、クエン酸三ナトリウム二水和物では50nm以下である金属粒子を形成することは困難であることが分かる。すなわち、グルコン酸ナトリウムは、金属粒子が平均粒径で50nmよりも大きくなることを抑制する。   On the other hand, in Comparative Example 1, metal particles were precipitated under conditions different from Example 2 only in the complexing agent, but the average particle size exceeded 50 nm. From the above, when sodium gluconate is used as a complexing agent, metal particles having an average particle diameter of 50 nm or less can be formed, but in the case of trisodium citrate dihydrate, metal particles having a particle diameter of 50 nm or less are formed. It turns out that it is difficult to form. That is, sodium gluconate suppresses the metal particles from becoming larger than 50 nm in average particle size.

<実施例3>
本実施例では、ニッケルとコバルトとを含む金属粒子を形成した。
金属イオンの金属種として、塩化ニッケル六水和物(第1金属塩)と塩化コバルト六水和物(第2金属塩)を用いた。反応溶液の塩化ニッケル六水和物の濃度を0.042mol/Lとし、塩化コバルト六水和物の濃度を0.020mol/Lとした。錯化剤として、リンゴ酸ナトリウムを用いた。図2に示すように、錯化剤の濃度をチタンイオン(三塩化チタン)のモル濃度に対して1.44倍とした。さらに、錯化剤の濃度を、塩化ニッケル六水和物および塩化コバルト六水和物および三塩化チタンの総濃度に対して1.11倍の濃度とした。具体的には、錯化剤の濃度を0.3molとした。分散剤としては、分子量が20,000のオレフィンマレイン酸共重合体のナトリウム塩を用いた。分散剤の濃度を5g/Lとした。これは、析出される析出金属量3.5g/Lに対し1.4倍の値である。三塩化チタンの濃度は、0.21mol/Lとした。
<Example 3>
In this example, metal particles containing nickel and cobalt were formed.
Nickel chloride hexahydrate (first metal salt) and cobalt chloride hexahydrate (second metal salt) were used as metal species of metal ions. The concentration of nickel chloride hexahydrate in the reaction solution was 0.042 mol / L, and the concentration of cobalt chloride hexahydrate was 0.020 mol / L. Sodium malate was used as a complexing agent. As shown in FIG. 2, the concentration of the complexing agent was 1.44 times the molar concentration of titanium ions (titanium trichloride). Further, the concentration of the complexing agent was 1.11 times the total concentration of nickel chloride hexahydrate, cobalt chloride hexahydrate and titanium trichloride. Specifically, the concentration of the complexing agent was 0.3 mol. As the dispersant, a sodium salt of an olefin maleic acid copolymer having a molecular weight of 20,000 was used. The concentration of the dispersant was 5 g / L. This is a value 1.4 times as large as the amount of deposited metal of 3.5 g / L. The concentration of titanium trichloride was 0.21 mol / L.

金属粒子の析出方法は、実施例1と同様の方法とした。金属粒子の組成は、ニッケルが67原子%、コバルトが33原子%であった(図3参照)。金属粒子の平均粒径は40nmであった。   The metal particles were deposited in the same manner as in Example 1. The composition of the metal particles was 67 atomic% for nickel and 33 atomic% for cobalt (see FIG. 3). The average particle diameter of the metal particles was 40 nm.

<実施例4>
本実施例では、ニッケルとコバルトとを含む金属粒子を形成した。
金属粒子の製造条件は、実施例3に対して、コバルト六水和物(第2金属塩)の濃度と、分散剤の種類とが異なるのみで、これら以外の条件は実施例3と同じとした。コバルト六水和物の濃度は0.00042mol/Lとした。分散剤として、分子量が25,000であるスチレンマレイン酸共重合体のナトリウム塩を用いた。分散剤の濃度を5g/Lとした。なお、錯化剤の濃度は、反応溶液に対する濃度を実施例3と同様としているが、塩化ニッケル六水和物および塩化コバルト六水和物および三塩化チタンの総濃度に対する錯化剤の濃度の比は、コバルトイオンの量が減っている分、大きくなり、1.20となっている(図2参照)。
<Example 4>
In this example, metal particles containing nickel and cobalt were formed.
The production conditions of the metal particles are different from Example 3 only in the concentration of cobalt hexahydrate (second metal salt) and the type of dispersant, and the other conditions are the same as in Example 3. did. The concentration of cobalt hexahydrate was 0.00042 mol / L. As the dispersant, a sodium salt of a styrene maleic acid copolymer having a molecular weight of 25,000 was used. The concentration of the dispersant was 5 g / L. The concentration of the complexing agent is the same as that in Example 3 with respect to the reaction solution, but the concentration of the complexing agent with respect to the total concentration of nickel chloride hexahydrate, cobalt chloride hexahydrate, and titanium trichloride is The ratio increases as the amount of cobalt ions decreases, and is 1.20 (see FIG. 2).

金属粒子の析出方法は、実施例1と同様の方法とした。金属粒子の組成は、ニッケルが99原子%、コバルトが1原子%であった(図3参照)。金属粒子の平均粒径は、20nmであった。   The metal particles were deposited in the same manner as in Example 1. The composition of the metal particles was 99 atomic% for nickel and 1 atomic% for cobalt (see FIG. 3). The average particle diameter of the metal particles was 20 nm.

<比較例2>
本比較例は次の点で実施例4と異なる。すなわち、実施例4では、錯化剤としてリンゴ酸ナトリウムを用いたが、本比較例では、錯化剤として酒石酸カリウム・ナトリウム四水和物を用いた。酒石酸カリウム・ナトリウム四水和物の濃度を0.030mol/Lとした。この場合、金属粒子の組成は、ニッケルが99原子%、コバルトが1原子%であった。金属粒子の平均粒径は250nmであった。
<Comparative Example 2>
This comparative example differs from Example 4 in the following points. That is, in Example 4, sodium malate was used as the complexing agent, but in this comparative example, potassium tartrate / sodium tartrate tetrahydrate was used as the complexing agent. The concentration of potassium tartrate / sodium tetrahydrate was 0.030 mol / L. In this case, the composition of the metal particles was 99 atomic% for nickel and 1 atomic% for cobalt. The average particle size of the metal particles was 250 nm.

<評価>
実施例3および4と比較例2とを比較し、金属粒子の製造条件の相違による平均粒径の変化について評価する。
<Evaluation>
Examples 3 and 4 and Comparative Example 2 are compared, and the change in the average particle diameter due to the difference in the production conditions of the metal particles is evaluated.

実施例3および4では、錯化剤としてリンゴ酸ナトリウムを用いた。また、分散剤の濃度を金属析出量に対して0.3倍以上とし、分散剤の分子量を10,000〜50,000とした。この条件下において、平均粒径は、50nm以下のものとすることができた。   In Examples 3 and 4, sodium malate was used as the complexing agent. Moreover, the density | concentration of the dispersing agent was 0.3 times or more with respect to the metal precipitation amount, and the molecular weight of the dispersing agent was 10,000-50,000. Under these conditions, the average particle size could be 50 nm or less.

一方、比較例2では、実施例4と錯化剤のみ異なる条件で金属粒子を析出させたが、平均粒径は50nmを超えた。以上のことから、錯化剤としてリンゴ酸ナトリウムを用いると、平均粒径が50nm以下である金属粒子を形成することができるが、酒石酸カリウム・ナトリウム四水和物では50nm以下である金属粒子を形成することは困難であることが分かる。すなわち、リンゴ酸ナトリウムは、金属粒子が平均粒径で50nmよりも大きくなることを抑制する。   On the other hand, in Comparative Example 2, metal particles were deposited under conditions different from Example 4 only in the complexing agent, but the average particle size exceeded 50 nm. From the above, when sodium malate is used as the complexing agent, metal particles having an average particle size of 50 nm or less can be formed, but in the case of potassium tartrate / sodium tetrahydrate, metal particles having a particle size of 50 nm or less are used. It turns out that it is difficult to form. That is, sodium malate suppresses the metal particles from becoming larger than 50 nm in average particle size.

<実施例5>
本実施例では、ニッケルと銀とを含む金属粒子を形成した。
金属イオンの金属種として、塩化ニッケル六水和物(第1金属塩)と硝酸銀(第2金属塩)を用いた。塩化ニッケル六水和物の濃度を0.042mol/Lとし、硝酸銀の濃度を0.010とした。錯化剤として、リンゴ酸を用いた。図2に示すように、錯化剤の濃度をチタンイオン(三塩化チタン)のモル濃度に対して1.44倍とした。さらに、錯化剤の濃度を、塩化ニッケル六水和物および硝酸銀および三塩化チタンの総濃度に対して1.15倍の濃度とした。具体的には、錯化剤の濃度を0.3molとした。分散剤としては、分子量が30,000のスチレンマレイン酸共重合体のアンモニウム塩を用いた。分散剤の濃度を10g/Lとした。これは、析出金属量3.4g/Lに対し2.9倍の値である。三塩化チタンの濃度は、0.21mol/Lとした。
<Example 5>
In this example, metal particles containing nickel and silver were formed.
Nickel chloride hexahydrate (first metal salt) and silver nitrate (second metal salt) were used as metal species of metal ions. The concentration of nickel chloride hexahydrate was 0.042 mol / L, and the concentration of silver nitrate was 0.010. Malic acid was used as a complexing agent. As shown in FIG. 2, the concentration of the complexing agent was 1.44 times the molar concentration of titanium ions (titanium trichloride). Further, the concentration of the complexing agent was 1.15 times the total concentration of nickel chloride hexahydrate, silver nitrate and titanium trichloride. Specifically, the concentration of the complexing agent was 0.3 mol. As the dispersant, an ammonium salt of a styrene maleic acid copolymer having a molecular weight of 30,000 was used. The concentration of the dispersant was 10 g / L. This is a value of 2.9 times the amount of precipitated metal of 3.4 g / L. The concentration of titanium trichloride was 0.21 mol / L.

金属粒子の析出方法は、実施例1と略同様であるが、pH調整剤は25%のアンモニア水を用い、pHを9.0に調整した点で、実施例1と異なる。この場合、金属粒子の組成は、ニッケルが80原子%、銀が20原子%であった(図3参照)。金属粒子の平均粒径は25nmであった。   The deposition method of the metal particles is substantially the same as in Example 1, but the pH adjuster is different from Example 1 in that 25% ammonia water is used and the pH is adjusted to 9.0. In this case, the composition of the metal particles was 80 atomic% for nickel and 20 atomic% for silver (see FIG. 3). The average particle diameter of the metal particles was 25 nm.

<評価>
実施例1〜5と比較例1および2とを比較し、金属粒子の製造条件の相違による平均粒径の変化について評価する。
<Evaluation>
Examples 1 to 5 and Comparative Examples 1 and 2 are compared, and the change in the average particle diameter due to the difference in the production conditions of the metal particles is evaluated.

グルコン酸、リンゴ酸、またはこれらの塩(以下、「特定錯化剤」)は、クエン酸三ナトリウムまたは酒石酸カリウム・ナトリウムよりも、平均粒径の小さい金属粒子を形成することができる錯化剤である。また、特定錯化剤は、他の錯化剤に比べて、金属イオンと還元剤である3価のチタンイオンの酸化還元反応の反応速度を小さくすると考えられる。   Gluconic acid, malic acid, or a salt thereof (hereinafter referred to as “specific complexing agent”) can form metal particles having an average particle size smaller than that of trisodium citrate or potassium sodium tartrate. It is. The specific complexing agent is considered to reduce the reaction rate of the oxidation-reduction reaction between the metal ion and the trivalent titanium ion that is the reducing agent, as compared with other complexing agents.

特定錯化剤は、金属種によらずに、金属粒子が平均粒径で50nmよりも大きくなることを抑制する。これは、実施例の結果に基づく。すなわち、上記各実施例では、析出させる金属種に関わらず、金属粒子の平均粒径を小さくすることから、金属種の影響はないと考えられる。   The specific complexing agent suppresses the metal particles from becoming larger than 50 nm in average particle diameter regardless of the metal species. This is based on the results of the examples. That is, in each of the above-described examples, the average particle diameter of the metal particles is reduced regardless of the metal species to be precipitated, so that it is considered that there is no influence of the metal species.

<比較例3>
本比較例は次の点で実施例5と異なる。本比較例では、分散剤の濃度を、実施例5の分散剤の濃度に対して100分の3の濃度にした。具体的には、分散剤の濃度を0.3g/Lとした。これは析出金属量3.4g/Lに対し0.1倍の値である。この場合、金属粒子の組成は実施例5と同じとなった。金属粒子の平均粒径は80nmであった。
<Comparative Example 3>
This comparative example differs from Example 5 in the following points. In this comparative example, the concentration of the dispersant was set to 3/100 of the concentration of the dispersant of Example 5. Specifically, the concentration of the dispersant was set to 0.3 g / L. This is a value that is 0.1 times the amount of precipitated metal of 3.4 g / L. In this case, the composition of the metal particles was the same as in Example 5. The average particle diameter of the metal particles was 80 nm.

<比較例4>
本比較例は次の点で実施例5と異なる。すなわち、実施例5では、分散剤として、分子量30,000のスチレンマレイン酸重合体のアンモニウム塩を用いたが、本比較例では、実施例5で使用されたものよりも低分子量である分散剤、すなわち分子量8,000のスチレンマレイン酸重合体のナトリウム塩を用いた。この場合、金属粒子の組成は実施例5と同じとなった。金属粒子の平均粒径は90nmであった。
<Comparative Example 4>
This comparative example differs from Example 5 in the following points. That is, in Example 5, an ammonium salt of a styrene maleic acid polymer having a molecular weight of 30,000 was used as the dispersant. In this comparative example, the dispersant has a lower molecular weight than that used in Example 5. That is, a sodium salt of a styrene maleic acid polymer having a molecular weight of 8,000 was used. In this case, the composition of the metal particles was the same as in Example 5. The average particle diameter of the metal particles was 90 nm.

<比較例5>
本比較例は次の点で実施例5と異なる。すなわち、実施例5では、分散剤として、分子量30,000のスチレンマレイン酸重合体のアンモニウム塩を用いたが、本比較例では、実施例5で使用されたものよりも高分子量の分散剤、すなわち分子量60,000のスチレンマレイン酸重合体のナトリウム塩を用いた。この場合、金属粒子の組成は、金属粒子の組成は実施例5と同じとなった。金属粒子の平均粒径は、80nmであった。
<Comparative Example 5>
This comparative example differs from Example 5 in the following points. That is, in Example 5, an ammonium salt of a styrene maleic acid polymer having a molecular weight of 30,000 was used as the dispersant, but in this comparative example, a dispersant having a higher molecular weight than that used in Example 5, That is, a sodium salt of a styrene maleic acid polymer having a molecular weight of 60,000 was used. In this case, the composition of the metal particles was the same as that of Example 5. The average particle diameter of the metal particles was 80 nm.

<比較例6>
本比較例は次の点で実施例5と異なる。すなわち、実施例5では、分散剤として、分子量30,000のスチレンマレイン酸重合体のアンモニウム塩を用いたが、本比較例では、分子量30,000のポリエチレンイミンエトキシレートを用いた。この場合、金属粒子の組成は実施例5と同じとなった。金属粒子の平均粒径は400nmであった。
<Comparative Example 6>
This comparative example differs from Example 5 in the following points. That is, in Example 5, an ammonium salt of a styrene maleic acid polymer having a molecular weight of 30,000 was used as a dispersant, but in this comparative example, polyethyleneimine ethoxylate having a molecular weight of 30,000 was used. In this case, the composition of the metal particles was the same as in Example 5. The average particle diameter of the metal particles was 400 nm.

<評価>
実施例1〜5と比較例3〜6とを比較し、金属粒子の製造条件の相違による平均粒径の変化について評価する。
<Evaluation>
Examples 1-5 and Comparative Examples 3-6 are compared and the change of the average particle diameter by the difference in the manufacturing conditions of a metal particle is evaluated.

実施例1〜5では、分散剤の濃度を析出金属量に対して0.3倍以上とした。この場合、金属粒子の平均粒径は50nm以下になった。一方、比較例3では、分散剤の濃度を析出金属量に対して0.1倍とした。この場合、金属粒子の平均粒径は80nmとなった。すなわち、分散剤の濃度により、析出させる金属粒子の大きさを調整することができる。金属粒子の平均粒径を50nm以下にするためには、マレイン酸系の共重合体を用いるとともに、分散剤の濃度を、析出金属量に対して0.3倍以上とすることが好ましい。   In Examples 1-5, the density | concentration of the dispersing agent was 0.3 times or more with respect to the amount of deposit metal. In this case, the average particle diameter of the metal particles was 50 nm or less. On the other hand, in Comparative Example 3, the concentration of the dispersant was set to 0.1 times the amount of deposited metal. In this case, the average particle diameter of the metal particles was 80 nm. That is, the size of the metal particles to be deposited can be adjusted by the concentration of the dispersant. In order to make the average particle size of the metal particles 50 nm or less, it is preferable to use a maleic acid copolymer and make the concentration of the dispersant 0.3 times or more with respect to the amount of deposited metal.

実施例1〜5では、分子量10,000〜50,000のマレイン酸系の界面活性剤を用いている。この場合、金属粒子の平均粒径は50nm以下になった。一方、比較例4では、分子量8,000のマレイン酸系の界面活性剤を用いている。この場合、金属粒子の平均粒径は90nmとなった。また、比較例5では、分子量60,000のマレイン酸系の界面活性剤を用いている。この場合、金属粒子の平均粒径は80nmとなった。すなわち、分散剤の分子量により、析出させる金属粒子の大きさを調整することができる。金属粒子の平均粒径を50nm以下にするためには、分子量が10,000〜50,000であるマレイン酸系の共重合体を用いることが好ましい。   In Examples 1 to 5, a maleic acid surfactant having a molecular weight of 10,000 to 50,000 is used. In this case, the average particle diameter of the metal particles was 50 nm or less. On the other hand, in Comparative Example 4, a maleic acid surfactant having a molecular weight of 8,000 is used. In this case, the average particle diameter of the metal particles was 90 nm. In Comparative Example 5, a maleic acid surfactant having a molecular weight of 60,000 is used. In this case, the average particle diameter of the metal particles was 80 nm. That is, the size of the metal particles to be deposited can be adjusted by the molecular weight of the dispersant. In order to make the average particle size of the metal particles 50 nm or less, it is preferable to use a maleic acid copolymer having a molecular weight of 10,000 to 50,000.

実施例1〜5では、分散剤としてマレイン酸系の界面活性剤を用いている。一方、比較例6では、分散剤として分子量30,000のポリエチレンイミンエトキシレートを用いた。この場合、金属粒子の平均粒径は400nmとなった。すなわち、金属粒子の平均粒径を50nm以下とするためには、マレイン酸系の界面活性剤を用いることが好ましい。   In Examples 1 to 5, a maleic acid surfactant is used as a dispersant. On the other hand, in Comparative Example 6, polyethyleneimine ethoxylate having a molecular weight of 30,000 was used as a dispersant. In this case, the average particle diameter of the metal particles was 400 nm. That is, in order to make the average particle diameter of the metal particles 50 nm or less, it is preferable to use a maleic acid-based surfactant.

図3を参照して、第1金属塩(塩化ニッケル塩)および第2金属塩の総濃度に対する第1金属塩(塩化ニッケル塩)の割合と、金属粒子におけるニッケル(第1金属)の割合との関係について説明する。   Referring to FIG. 3, the ratio of the first metal salt (nickel chloride salt) to the total concentration of the first metal salt (nickel chloride salt) and the second metal salt, and the ratio of nickel (first metal) in the metal particles The relationship will be described.

同図には、実施例1〜5について、第1金属塩(塩化ニッケル塩六水和物)の濃度と、第2金属塩の濃度と、これらの総濃度と、この総濃度に対する第1金属塩の濃度比(以下、「溶液ニッケル比率」)と、金属粒子中のニッケルの比率(原子%)と、金属粒子中の第2金属比率(原子%)とを示す。さらに、溶液ニッケル比率に対する金属粒子中のニッケル比率の比(以下、「析出比」)を示す。   In the same figure, about Examples 1-5, the density | concentration of 1st metal salt (nickel chloride hexahydrate), the density | concentration of 2nd metal salt, these total density | concentrations, and 1st metal with respect to this total density | concentration A salt concentration ratio (hereinafter, “solution nickel ratio”), a nickel ratio (atomic%) in the metal particles, and a second metal ratio (atomic%) in the metal particles are shown. Furthermore, the ratio of the nickel ratio in the metal particles to the solution nickel ratio (hereinafter, “precipitation ratio”) is shown.

同図に示されるように、上記金属粒子の製造方法によれば、第2金属の種類によって、析出比が一定の値をとる。例えば、第2金属がタングステンのように、ニッケルよりも還元されにくい金属の場合、溶液中のニッケルイオンとタングステンイオンの濃度が同じであれば、タングステンよりもニッケルの析出量が多くなる。すなわち、第1金属イオンと第2金属イオンの総量に対するニッケルイオンの比率よりも、金属粒子中におけるニッケルの含有率が高くなる。本実施例では、析出比は1.5となる。なお、析出比は、反応溶液中のタングステンの濃度に関わらず一定である。   As shown in the figure, according to the method for producing metal particles, the deposition ratio takes a constant value depending on the type of the second metal. For example, when the second metal is a metal that is less likely to be reduced than nickel, such as tungsten, if the concentration of nickel ions and tungsten ions in the solution is the same, the amount of nickel deposited is greater than that of tungsten. That is, the content of nickel in the metal particles is higher than the ratio of nickel ions to the total amount of first metal ions and second metal ions. In this example, the deposition ratio is 1.5. The deposition ratio is constant regardless of the concentration of tungsten in the reaction solution.

また、第2金属がコバルトのように、還元性がニッケルと同等である金属の場合は、溶液中のニッケルイオンとコバルトイオンの濃度が同じであれば、ニッケルの析出量とコバルトとの析出量とが同じ程度となる。すなわち、第1金属イオンと第2金属イオンの総量に対するニッケルイオンの比率と、金属粒子中におけるニッケルの含有率とが略同じなる。本実施例では、析出比は1.0となる。また、第2金属が銀の場合、コバルトと同様の結果となる。すなわち、析出比は1.0となる。   In addition, when the second metal is a metal whose reducibility is equivalent to nickel, such as cobalt, if the concentration of nickel ions and cobalt ions in the solution is the same, the amount of nickel deposited and the amount of cobalt deposited And the same level. That is, the ratio of nickel ions to the total amount of first metal ions and second metal ions is substantially the same as the content of nickel in the metal particles. In this example, the deposition ratio is 1.0. Further, when the second metal is silver, the result is the same as that of cobalt. That is, the precipitation ratio is 1.0.

このように、ニッケルの析出比は、第2金属種の種類によって一定となるため、この析出比を予め求めておくことにより、所望の組成の金属粒子を形成することができる。また、析出比について、実施例では、ニッケルとその他の金属との組み合わせで求めているが、これを、ニッケル以外の金属にも展開することができ、同様に求めることができる。   Thus, since the precipitation ratio of nickel becomes constant depending on the type of the second metal type, metal particles having a desired composition can be formed by obtaining this precipitation ratio in advance. Moreover, although the precipitation ratio is calculated | required by the combination of nickel and another metal in an Example, this can be expand | deployed also to metals other than nickel and can be calculated | required similarly.

本実施形態によれば以下の作用効果を奏することができる。
(1)本実施形態では、金属イオンと、還元剤としての三塩化チタンと、錯化剤と、分散剤とを含む酸性の反応溶液をアルカリ性に調整し、この反応溶液を撹拌することにより、金属粒子を析出させる。錯化剤としては、リンゴ酸、グルコン酸またはこれらの塩を用いる。この方法によれば、金属粒子が平均粒径で50nm以上となることを抑制することができる。
According to this embodiment, the following effects can be obtained.
(1) In the present embodiment, an acidic reaction solution containing metal ions, titanium trichloride as a reducing agent, a complexing agent, and a dispersant is adjusted to be alkaline, and the reaction solution is stirred, Deposit metal particles. As the complexing agent, malic acid, gluconic acid or a salt thereof is used. According to this method, the metal particles can be prevented from having an average particle diameter of 50 nm or more.

(2)本実施形態では、分散剤として、分子量が10,000〜50,000のマレイン酸系の共重合体の塩を用いる。これにより、金属粒子が平均粒径で50nmよりも大きくなることを抑制することができる。   (2) In this embodiment, a maleic acid copolymer salt having a molecular weight of 10,000 to 50,000 is used as the dispersant. Thereby, it can suppress that a metal particle becomes larger than 50 nm by an average particle diameter.

(3)本実施形態では、分散剤の濃度を単位容積当たりの金属析出量に対して0.3倍以上とする。このように金属析出量に対して分散剤の濃度の下限を規定するため、金属粒子が大きくなることを抑制することができる。   (3) In the present embodiment, the concentration of the dispersant is set to 0.3 times or more with respect to the amount of deposited metal per unit volume. Thus, since the minimum of the density | concentration of a dispersing agent is prescribed | regulated with respect to the metal precipitation amount, it can suppress that a metal particle becomes large.

(4)本実施形態では、錯化剤のモル濃度を、チタンイオンのモル濃度に対して0.5〜5.0倍とする。これにより、水酸化チタンが形成されること、およびpH調整等の溶解性が低下することを抑制することができる。   (4) In this embodiment, the molar concentration of the complexing agent is 0.5 to 5.0 times the molar concentration of titanium ions. Thereby, it is possible to suppress the formation of titanium hydroxide and the decrease in solubility such as pH adjustment.

(5)本実施形態では、金属イオンとして、少なくともニッケルイオンを含む反応溶液を用いている。ニッケルイオンが3価のチタンイオンに還元されるため、ニッケルを含む金属粒子を形成することができる。   (5) In this embodiment, a reaction solution containing at least nickel ions is used as the metal ions. Since nickel ions are reduced to trivalent titanium ions, metal particles containing nickel can be formed.

(6)本実施形態では、金属粒子中のニッケル比(原子%)が50原子%となるように第2金属塩の濃度を調整している。なお、第2金属塩の濃度設定は、各金属イオンのモル濃度を各金属の析出比に基づいて調整することができる。   (6) In this embodiment, the concentration of the second metal salt is adjusted so that the nickel ratio (atomic%) in the metal particles is 50 atomic%. The concentration of the second metal salt can be adjusted by adjusting the molar concentration of each metal ion based on the deposition ratio of each metal.

(7)本実施形態では、析出させる金属イオンとして、タングステン、タンタル、レニウム、鉄、コバルト、ニッケル、銅、銀、金、白金の各イオンにより構成される群から選択される少なくとも2種を選択する。これにより、2種以上の金属を含む金属粒子を形成することができる。   (7) In this embodiment, as the metal ions to be deposited, at least two types selected from the group consisting of ions of tungsten, tantalum, rhenium, iron, cobalt, nickel, copper, silver, gold, and platinum are selected. To do. Thereby, the metal particle containing 2 or more types of metals can be formed.

(その他の実施形態)
なお、本発明の実施態様は上記実施例にて示した態様に限られるものではなく、これを例えば以下に示すように変更して実施することもできる。また以下の各変形例は、上記各実施例についてのみ適用されるものではなく、異なる変形例同士を互いに組み合わせて実施することもできる。
(Other embodiments)
In addition, the embodiment of the present invention is not limited to the embodiment shown in the above-described embodiment, and the embodiment can be modified as shown below, for example. Further, the following modifications are not applied only to the above-described embodiments, and different modifications can be combined with each other.

・上記実施形態では、2種類の金属を含む金属粒子の製造方法を示しているが、単一金属からなる金属粒子についても上記製造方法により、平均粒径を50nm以下とする金属粒子を形成することができる。例えば、実施例4の条件と同様の条件により、ニッケルの含有率が略100%の金属粒子を形成することができる。   -In the above-mentioned embodiment, although the manufacturing method of the metal particle containing two types of metals is shown, the metal particle which makes an average particle diameter 50 nm or less is formed with the above-mentioned manufacturing method also about the metal particle which consists of a single metal. be able to. For example, metal particles having a nickel content of approximately 100% can be formed under the same conditions as in Example 4.

・上記実施形態では、第2金属として、タングステン、タンタル、レニウム、鉄、コバルト、銅、銀、金、白金を挙げているが、3価のチタンにより還元されるものであれば、第2金属として用いることができる。   -In the said embodiment, tungsten, tantalum, rhenium, iron, cobalt, copper, silver, gold | metal | money, platinum is mentioned as a 2nd metal, but if it is reduce | restored by trivalent titanium, a 2nd metal Can be used as

・上記実施形態では、平均粒径が50nm以下の金属粒子を形成することを可能とする製造方法を示しているが、上記方法は、50nm以上の金属粒子を形成する場合にも適用することができる。すなわち、比較例に示したように、分散剤の濃度、分散剤の分子量を変更することによって、金属粒子の平均粒径を調整し、所望の大きさの金属粒子を形成することができる。   In the above embodiment, a manufacturing method that enables formation of metal particles having an average particle diameter of 50 nm or less is shown, but the above method may be applied to the case of forming metal particles of 50 nm or more. it can. That is, as shown in the comparative example, by changing the concentration of the dispersant and the molecular weight of the dispersant, the average particle size of the metal particles can be adjusted to form metal particles having a desired size.

・上記実施形態では、金属粒子を製造する際一種類の錯化剤を用いているが、上記に挙げた特定錯化剤のうち2種以上を組み合わせて用いることもできる。なお、本発明は、特定錯化剤のほか、他の錯化剤を混合することを制限するものではない。目的のする金属粒子の大きさを鑑みて、適宜他の錯化剤を組み合わせてもよい。   -In the said embodiment, although one type of complexing agent is used when manufacturing a metal particle, it can also be used in combination of 2 or more types among the specific complexing agents mentioned above. In addition, this invention does not restrict | limit mixing other complexing agents besides a specific complexing agent. In view of the size of the target metal particles, other complexing agents may be appropriately combined.

・上記実施形態では、金属粒子を析出させるとき、反応溶液の温度を35℃としている。しかし、金属粒子を析出させる工程の温度はこの値に限定されない。金属が析出する温度範囲は5℃〜60℃であるため、この範囲で、反応溶液の温度を設定することができる。   -In the said embodiment, when depositing a metal particle, the temperature of the reaction solution is 35 degreeC. However, the temperature of the process of depositing metal particles is not limited to this value. Since the temperature range in which the metal precipitates is 5 ° C. to 60 ° C., the temperature of the reaction solution can be set within this range.

・上記実施形態では、ニッケル粒子についての製造方法を示したが、他の金属を主成分とする金属粒子についても、上記製造方法により、平均粒径で50nm以下となる金属粒子を形成することができる。   In the above embodiment, the manufacturing method for nickel particles has been described. However, metal particles having an average particle diameter of 50 nm or less can be formed by using the above manufacturing method for metal particles mainly composed of other metals. it can.

・上記実施形態では、金属粒子の用途として、積層セラミックコンデンサの電極の材料を挙げている。しかし、上記製造方法による金属粒子の用途はこれに限定されない。例えば、表面に導電層が形成されたプリント配線板用の基板の導電層の材料として、本実施形態の金属粒子を用いることができる。また、インク用としても用いることができる。さらに、プリント配線板のビアホールの充填剤としても用いることができる。   -In the said embodiment, the material of the electrode of a multilayer ceramic capacitor is mentioned as a use of a metal particle. However, the use of the metal particles by the manufacturing method is not limited to this. For example, the metal particles of the present embodiment can be used as a material for the conductive layer of a printed wiring board substrate having a conductive layer formed on the surface. It can also be used for ink. Furthermore, it can also be used as a filler for via holes in printed wiring boards.

Claims (7)

金属イオンと、前記金属イオンを還元する還元剤としての三塩化チタンと、前記金属イオンおよび前記三塩化チタンのチタンイオンを溶液中で安定化させる錯化剤と、還元反応により析出する金属粒子を溶液中で分散させる分散剤と、を含む酸性水溶液を反応溶液として、前記反応溶液とpH調整剤とを混合して前記反応溶液をアルカリ性に調整し、この反応溶液を撹拌して金属粒子を析出させる金属粒子の製造方法であって、
前記錯化剤としてリンゴ酸およびリンゴ酸塩およびグルコン酸およびグルコン酸塩の少なくとも一つを用いる
ことを特徴とする金属粒子の製造方法。
Metal ions, titanium trichloride as a reducing agent for reducing the metal ions, a complexing agent for stabilizing the metal ions and titanium ions of the titanium trichloride in a solution, and metal particles precipitated by a reduction reaction. An acidic aqueous solution containing a dispersant dispersed in the solution is used as a reaction solution, the reaction solution and the pH adjuster are mixed to adjust the reaction solution to be alkaline, and the reaction solution is stirred to deposit metal particles. A method for producing metal particles, comprising:
As the complexing agent, at least one of malic acid, malate, gluconic acid and gluconate is used.
請求項1に記載の金属粒子の製造方法において、
前記分散剤は、分子量が10000〜50000のマレイン酸系の共重合体の塩である
ことを特徴とする金属粒子の製造方法。
In the manufacturing method of the metal particle of Claim 1,
The dispersant is a salt of a maleic acid copolymer having a molecular weight of 10,000 to 50,000.
請求項1または2に記載の金属粒子の製造方法において、
前記分散剤の単位体積あたりの質量は単位容積当たりの金属析出量に対して0.3倍以上である
ことを特徴とする金属粒子の製造方法。
In the manufacturing method of the metal particle of Claim 1 or 2,
The method for producing metal particles, wherein the mass per unit volume of the dispersing agent is 0.3 times or more the metal deposition amount per unit volume.
請求項1〜3のいずれか一項に記載の金属粒子の製造方法において、
前記錯化剤のモル濃度は前記チタンイオンのモル濃度に対して0.5〜5.0倍である
ことを特徴とする金属粒子の製造方法。
In the manufacturing method of the metal particle as described in any one of Claims 1-3,
The method for producing metal particles, wherein the molar concentration of the complexing agent is 0.5 to 5.0 times the molar concentration of the titanium ions.
請求項1〜4のいずれか一項に記載の金属粒子の製造方法において、
前記反応溶液は、前記金属イオンとして、少なくともニッケルイオンを含む
ことを特徴とする金属粒子の製造方法。
In the manufacturing method of the metal particle as described in any one of Claims 1-4,
The reaction solution contains at least nickel ions as the metal ions.
請求項1〜4のいずれか一項に記載の金属粒子の製造方法において、
前記反応溶液は、複数種類の金属イオンを含み、
各金属イオンのモル濃度を各金属の析出比に基づいて調整する
ことを特徴とする金属粒子の製造方法。
In the manufacturing method of the metal particle as described in any one of Claims 1-4,
The reaction solution contains a plurality of types of metal ions,
A method for producing metal particles, wherein the molar concentration of each metal ion is adjusted based on the deposition ratio of each metal.
請求項6に記載の金属粒子の製造方法において、
前記金属イオンは、タングステン、タンタル、レニウム、鉄、コバルト、ニッケル、銅、銀、金、白金の各イオンにより構成される群から選択される少なくとも2種類である
ことを特徴とする金属粒子の製造方法。
In the manufacturing method of the metal particle of Claim 6,
The metal ions are at least two kinds selected from the group consisting of tungsten, tantalum, rhenium, iron, cobalt, nickel, copper, silver, gold, and platinum ions. Method.
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Cited By (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN103231071A (en) * 2013-04-09 2013-08-07 昆明理工大学 Method for preparing superfine copper powder through multiple complexing
JP2014162994A (en) * 2013-02-24 2014-09-08 Rohm & Haas Electronic Materials Llc Plating catalyst and method
WO2016121749A1 (en) * 2015-01-30 2016-08-04 住友電気工業株式会社 Metal powder, ink, sintered compact, and substrate for printed wiring board, and method for manufacturing metal powder
WO2017057341A1 (en) * 2015-09-30 2017-04-06 住友電気工業株式会社 Powder for conductive material, ink for conductive material, conductive paste, and method of preparing powder for conductive material
CN110315090A (en) * 2019-06-14 2019-10-11 北京氦舶科技有限责任公司 A kind of high temperature sintering type electrocondution slurry bronze and preparation method thereof
CN112719286A (en) * 2020-12-22 2021-04-30 任沁锋 Preparation method of copper nanoparticles
CN115609000A (en) * 2020-12-24 2023-01-17 赵伟 Preparation method of high-dispersion nickel nano dispersion liquid

Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2006183092A (en) * 2004-12-27 2006-07-13 Sumitomo Electric Ind Ltd Method for producing alloy particulate, alloy particulate produced by the method, and metal colloidal solution
JP2009067849A (en) * 2007-09-11 2009-04-02 Sumitomo Electric Ind Ltd Antimicrobial coated film, cooking vessel having the same and antimicrobial coating agent
JP2010242143A (en) * 2009-04-02 2010-10-28 Sumitomo Electric Ind Ltd Metallic powder and method for manufacturing the same, conductive paste, and laminated ceramic capacitor

Patent Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2006183092A (en) * 2004-12-27 2006-07-13 Sumitomo Electric Ind Ltd Method for producing alloy particulate, alloy particulate produced by the method, and metal colloidal solution
JP2009067849A (en) * 2007-09-11 2009-04-02 Sumitomo Electric Ind Ltd Antimicrobial coated film, cooking vessel having the same and antimicrobial coating agent
JP2010242143A (en) * 2009-04-02 2010-10-28 Sumitomo Electric Ind Ltd Metallic powder and method for manufacturing the same, conductive paste, and laminated ceramic capacitor

Cited By (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2014162994A (en) * 2013-02-24 2014-09-08 Rohm & Haas Electronic Materials Llc Plating catalyst and method
CN103231071A (en) * 2013-04-09 2013-08-07 昆明理工大学 Method for preparing superfine copper powder through multiple complexing
WO2016121749A1 (en) * 2015-01-30 2016-08-04 住友電気工業株式会社 Metal powder, ink, sintered compact, and substrate for printed wiring board, and method for manufacturing metal powder
JPWO2016121749A1 (en) * 2015-01-30 2017-11-09 住友電気工業株式会社 Metal powder, ink, sintered body, substrate for printed wiring board, and method for producing metal powder
WO2017057341A1 (en) * 2015-09-30 2017-04-06 住友電気工業株式会社 Powder for conductive material, ink for conductive material, conductive paste, and method of preparing powder for conductive material
CN108025358A (en) * 2015-09-30 2018-05-11 住友电气工业株式会社 Conductive material powder, conductive material ink, the manufacture method of conductive paste and conductive material powder
CN108025358B (en) * 2015-09-30 2020-04-24 住友电气工业株式会社 Powder for conductive material, ink for conductive material, conductive paste, and method for producing powder for conductive material
CN110315090A (en) * 2019-06-14 2019-10-11 北京氦舶科技有限责任公司 A kind of high temperature sintering type electrocondution slurry bronze and preparation method thereof
CN112719286A (en) * 2020-12-22 2021-04-30 任沁锋 Preparation method of copper nanoparticles
CN115609000A (en) * 2020-12-24 2023-01-17 赵伟 Preparation method of high-dispersion nickel nano dispersion liquid

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