JP2012159808A - Lithographic printing plate - Google Patents

Lithographic printing plate Download PDF

Info

Publication number
JP2012159808A
JP2012159808A JP2011021347A JP2011021347A JP2012159808A JP 2012159808 A JP2012159808 A JP 2012159808A JP 2011021347 A JP2011021347 A JP 2011021347A JP 2011021347 A JP2011021347 A JP 2011021347A JP 2012159808 A JP2012159808 A JP 2012159808A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
group
polymer
vinyl
water
photosensitive
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Withdrawn
Application number
JP2011021347A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Hideo Seiyama
日出男 清山
Yukio Okamoto
幸男 岡本
Satoshi Shimonodan
智 下之段
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Mitsubishi Paper Mills Ltd
Original Assignee
Mitsubishi Paper Mills Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Mitsubishi Paper Mills Ltd filed Critical Mitsubishi Paper Mills Ltd
Priority to JP2011021347A priority Critical patent/JP2012159808A/en
Publication of JP2012159808A publication Critical patent/JP2012159808A/en
Withdrawn legal-status Critical Current

Links

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a lithographic printing plate that has excellent printing resistance, and is free from the occurrence of stains during printing.SOLUTION: A lithographic printing plate is formed by laminating a hydrophilic layer and an image forming layer in this order on a support. The hydrophilic layer contains a titanium dioxide dispersing element obtained by dispersing titanium dioxide in the presence of colloidal silica in a condition where the mixture ratio of titanium dioxide to colloidal silica is 1.5:1 to 4:1.

Description

本発明は支持体上に、親水性層、画像形成層を少なくともこの順に有する平版印刷版に関する。   The present invention relates to a lithographic printing plate having a hydrophilic layer and an image forming layer in this order on a support.

近年、コンピューター上で作製したデジタルデータをもとにフィルム上に出力せずに直接印刷版上に出力するコンピューター・トゥー・プレート(CTP)技術が開発され、出力機として種々のレーザーを搭載した各種プレートセッターとこれらに適合する感光性平版印刷版の開発が盛んに行われている。このような感光性平版印刷版の支持体としてプラスチックフィルム支持体を用いるとプレートセッター内にコンパクトに収納できるという利点がある。更に感光性層の代わりに感熱性の熱溶融層を用いたシステムも検討されており、このシステムにおいては、明室での未処理版の取り扱いが可能で、印刷機上で現像を行うことができる。   In recent years, computer-to-plate (CTP) technology has been developed to output directly on a printing plate without outputting it on film based on digital data produced on a computer, and various types equipped with various lasers as output machines. Plate setters and photosensitive lithographic printing plates compatible with these have been actively developed. When a plastic film support is used as a support for such a photosensitive lithographic printing plate, there is an advantage that it can be stored compactly in a plate setter. Furthermore, a system using a heat-sensitive hot melt layer instead of the photosensitive layer has been studied. In this system, an unprocessed plate can be handled in a bright room, and development can be performed on a printing press. it can.

これらのシステムにおいては、親水性層の上部に予め画像形成層である感光層または感熱層を設けることが必要である。あるいは感熱タイプにおいては親水性層中に熱溶融性化合物を予め一緒に含有する場合がある。   In these systems, it is necessary to previously provide a photosensitive layer or heat-sensitive layer as an image forming layer on the hydrophilic layer. Alternatively, in the heat-sensitive type, a hot-melt compound may be previously contained in the hydrophilic layer.

前者の場合、画像部に露光するかまたは画像部を加熱するかして、インキ受容部分を固定しておき、それ以外の部分を除去することになるが、非画像部になる部分の親水性層上に設けた感光層もしくは感熱層の除去が不完全であると、非画像部の親水性層の親水性が不十分となり、結果として印刷汚れ(地汚れ)の原因となっていた。   In the former case, the ink receiving part is fixed by exposing the image part or heating the image part, and the other part is removed, but the hydrophilicity of the part that becomes the non-image part If the removal of the photosensitive layer or the heat-sensitive layer provided on the layer is incomplete, the hydrophilicity of the hydrophilic layer in the non-image area becomes insufficient, resulting in printing stains (background stains).

逆に、非画像部での感光層、感熱層の除去を完全にすると、画像部の親水性層との接着性が弱くなる。その結果、耐汚れ性は良好であるが耐刷性が問題となり、耐汚れ性と耐刷性の両方が改善されることが求められていた。   On the contrary, if the photosensitive layer and the heat-sensitive layer are completely removed in the non-image area, the adhesion between the image area and the hydrophilic layer is weakened. As a result, the stain resistance is good, but the printing durability becomes a problem, and both the stain resistance and the printing durability are required to be improved.

親水性層の親水化技術として、特開2008−265297号公報(特許文献1)には、支持体上に水溶性ポリマーと該水溶性ポリマーを架橋する架橋剤とコロイダルシリカを含有し、該水溶性ポリマーとコロイダルシリカの比率を特定した親水性層を有するネガ型感光性平版印刷版が開示され、更に特開2009−226596号公報(特許文献2)には、親水性層が少なくとも水溶性ポリマー及び無機微粒子を含有し、該親水性層の膜面pH値を7.0以上としたネガ型感光性平版印刷版が開示されている。このようなネガ型感光性平版印刷版により水等での現像が可能であり、耐刷性と耐汚れ性が改善されるものの十分ではなく、更なる改良が求められていた。   As a technique for hydrophilizing the hydrophilic layer, Japanese Patent Application Laid-Open No. 2008-265297 (Patent Document 1) contains a water-soluble polymer, a cross-linking agent that cross-links the water-soluble polymer, and colloidal silica on a support. JP-A-2009-226596 (Patent Document 2) discloses a negative photosensitive lithographic printing plate having a hydrophilic layer in which the ratio of the functional polymer and colloidal silica is specified. And a negative photosensitive lithographic printing plate containing inorganic fine particles and having a film surface pH value of the hydrophilic layer of 7.0 or more. Development with water or the like is possible with such a negative photosensitive lithographic printing plate, and although printing durability and stain resistance are improved, it is not sufficient, and further improvement has been demanded.

ネガ型感光性平版印刷版の耐汚れ性を改善する手段として、支持体と親水性層との間に中間層を設けることが従来から知られており、例えば特開2010−237559号公報(特許文献3)には、ゼラチン、尿素、及びビニルスルホン系架橋剤を含有する中間層を設けたネガ型感光性平版印刷版が開示され、特開2010−231133号公報(特許文献4)には、カルシウムイオン濃度が特定の値以下に調整されたゼラチンを含有する中間層を設けたネガ型感光性平版印刷版が開示され、特開2010−224188号公報(特許文献5)には、ゼラチンもしくはポリアクリル酸と架橋剤を含有する中間層を設けたネガ型感光性平版印刷版等が開示されているが、耐汚れ性については十分満足できるものではなかった。   As a means for improving the stain resistance of a negative photosensitive lithographic printing plate, it is conventionally known to provide an intermediate layer between a support and a hydrophilic layer. For example, JP 2010-237559 A (Patent) Document 3) discloses a negative photosensitive lithographic printing plate provided with an intermediate layer containing gelatin, urea, and a vinyl sulfone-based crosslinking agent, and JP 2010-231133 A (Patent Document 4) A negative photosensitive lithographic printing plate provided with an intermediate layer containing gelatin having a calcium ion concentration adjusted to a specific value or less is disclosed. Japanese Patent Application Laid-Open No. 2010-224188 (Patent Document 5) discloses gelatin or poly Although a negative photosensitive lithographic printing plate provided with an intermediate layer containing acrylic acid and a crosslinking agent has been disclosed, the stain resistance was not fully satisfactory.

また、親水性層に、ネックレス状コロイダルシリカ及びアナターゼ型二酸化チタンを含む方法が特開2001−138652号公報(特許文献6)に記載されているが、耐刷性は良好なものの十分な耐汚れ性を得ることができなかった。   Further, although a method in which a hydrophilic layer contains necklace-like colloidal silica and anatase-type titanium dioxide is described in Japanese Patent Application Laid-Open No. 2001-138852 (Patent Document 6), it has good printing durability but has sufficient stain resistance. I could not get sex.

特開2008−265297号公報JP 2008-265297 A 特開2009−226596号公報JP 2009-226596 A 特開2010−237559号公報JP 2010-237559 A 特開2010−231133号公報JP 2010-231133 A 特開2010−224188号公報JP 2010-224188 A 特開2001−138652号公報Japanese Patent Laid-Open No. 2001-138852

本発明の目的は、耐汚れ性及び耐刷性に優れた平版印刷版を提供することにある。   An object of the present invention is to provide a lithographic printing plate excellent in stain resistance and printing durability.

本発明は以下の発明により達成された。
支持体上に親水性層と画像形成層をこの順に積層した平版印刷版において、二酸化チタンをコロイダルシリカの存在下で分散してなる二酸化チタン分散体であって、二酸化チタンとコロイダルシリカの混合比率がチタン:コロイダルシリカ=1.5:1〜4:1である条件下で分散してなる分散体を親水性層に含有することを特徴とする平版印刷版。
The present invention has been achieved by the following invention.
A lithographic printing plate in which a hydrophilic layer and an image forming layer are laminated in this order on a support, a titanium dioxide dispersion in which titanium dioxide is dispersed in the presence of colloidal silica, the mixing ratio of titanium dioxide and colloidal silica A lithographic printing plate characterized in that the hydrophilic layer contains a dispersion formed by dispersing under a condition that is titanium: colloidal silica = 1.5: 1 to 4: 1.

本発明によれば、耐刷性に優れ、印刷汚れの発生が改善された感光性平版印刷版を提供することができる。   According to the present invention, it is possible to provide a photosensitive lithographic printing plate having excellent printing durability and improved generation of printing stains.

以下本発明を詳細に説明する。   The present invention will be described in detail below.

[親水性層]
本発明の平版印刷版は支持体上に親水性層を有する。親水性層は1層でも2層以上の多層構成でも良い。
[Hydrophilic layer]
The lithographic printing plate of the present invention has a hydrophilic layer on a support. The hydrophilic layer may be a single layer or a multilayer structure including two or more layers.

本発明の親水性層は、水溶性ポリマーと架橋剤を含むことが好ましく、このような構成とすることで画像形成層を除去して露出した親水性層は、印刷時に非画像部として作用する。かかる水溶性ポリマーとしては特に限定されず、例えばポリアクリル酸、ポリメタクリル酸、ポリビニルアルコール等のポリマーを用いることができる。特に本発明では下記の一般式Iに示される非感光性の水溶性ポリマーがより好ましく使用される。   The hydrophilic layer of the present invention preferably contains a water-soluble polymer and a crosslinking agent, and the hydrophilic layer exposed by removing the image forming layer with such a structure acts as a non-image part during printing. . Such a water-soluble polymer is not particularly limited, and for example, polymers such as polyacrylic acid, polymethacrylic acid, and polyvinyl alcohol can be used. In particular, in the present invention, a non-photosensitive water-soluble polymer represented by the following general formula I is more preferably used.

Figure 2012159808
Figure 2012159808

上式において、Xは共重合体組成中に占める繰り返し単位の質量%を表し、1から40までの任意の数値を表す。繰り返し単位Aは反応性基としてカルボキシル基、アミノ基、水酸基、アセトアセトキシ基から選ばれる基を有する繰り返し単位である。繰り返し単位Bは共重合体を水溶性にするために必要な親水性基を有する繰り返し単位である。   In the above formula, X represents mass% of the repeating unit in the copolymer composition, and represents any numerical value from 1 to 40. The repeating unit A is a repeating unit having a group selected from a carboxyl group, an amino group, a hydroxyl group, and an acetoacetoxy group as a reactive group. The repeating unit B is a repeating unit having a hydrophilic group necessary for making the copolymer water-soluble.

上記一般式Iで示される水溶性ポリマーは後述する架橋剤との間で効率的に架橋反応が進行するための反応性基を分子内に含むことが必要である。こうした反応性基として、カルボキシル基、アミノ基、水酸基、アセトアセトキシ基を有する。これらの反応性基を分子内に有する水溶性ポリマーを得るには、反応性基を有する各種モノマーを共重合する形で組み込むことが好ましく行われる。一般式Iで示す繰り返し単位Aに対応するモノマーとしては、アクリル酸、メタクリル酸、2−カルボキシエチルアクリレート、2−カルボキシエチルメタクリレート、イタコン酸、クロトン酸、マレイン酸、フマル酸、桂皮酸、マレイン酸モノアルキルエステル、フマル酸モノアルキルエステル、4−カルボキシスチレン、アクリルアミド−N−グリコール酸等のカルボキシル基含有モノマー及びこれらの塩、アリルアミン、ジアリルアミン、2−ジメチルアミノエチルアクリレート、2−ジメチルアミノエチルメタクリレート、2−ジエチルアミノエチルアクリレート、2−ジエチルアミノエチルメタクリレート、3−ジメチルアミノプロピルアクリルアミド、3−ジメチルアミノプロピルメタクリルアミド、4−アミノスチレン、4−アミノメチルスチレン、N,N−ジメチル−N−(4−ビニルベンジル)アミン、N,N−ジエチル−N−(4−ビニルベンジル)アミン等のアミノ基含有モノマー、4−ビニルピリジン、2−ビニルピリジン、N−ビニルイミダゾール等の含窒素複素環含有モノマー、N−メチロールアクリルアミド、4−ヒドロキシフェニルアクリルアミド等の(メタ)アクリルアミド類、2−ヒドロキシエチルアクリレート、2−ヒドロキシエチルメタクリレート、2−ヒドロキシプロピルアクリレート、2−ヒドロキシプロピルメタクリレート、グリセロールモノメタクリレート等のヒドロキシアルキル(メタ)アクリレート類及びアセトアセトキシメタクリレート等が挙げられるが、これらの例に限定されるものではない。   The water-soluble polymer represented by the above general formula I needs to contain a reactive group in the molecule for allowing a crosslinking reaction to proceed efficiently with a crosslinking agent described later. Such reactive groups include a carboxyl group, an amino group, a hydroxyl group, and an acetoacetoxy group. In order to obtain a water-soluble polymer having such a reactive group in the molecule, it is preferable to incorporate various monomers having a reactive group in a copolymerized form. As monomers corresponding to the repeating unit A represented by the general formula I, acrylic acid, methacrylic acid, 2-carboxyethyl acrylate, 2-carboxyethyl methacrylate, itaconic acid, crotonic acid, maleic acid, fumaric acid, cinnamic acid, maleic acid Monoalkyl esters, monoalkyl esters of fumaric acid, 4-carboxystyrene, carboxyl-containing monomers such as acrylamide-N-glycolic acid and their salts, allylamine, diallylamine, 2-dimethylaminoethyl acrylate, 2-dimethylaminoethyl methacrylate, 2-diethylaminoethyl acrylate, 2-diethylaminoethyl methacrylate, 3-dimethylaminopropyl acrylamide, 3-dimethylaminopropyl methacrylamide, 4-aminostyrene, 4- Amino group-containing monomers such as minomethylstyrene, N, N-dimethyl-N- (4-vinylbenzyl) amine, N, N-diethyl-N- (4-vinylbenzyl) amine, 4-vinylpyridine, 2-vinyl Nitrogen-containing heterocycle-containing monomers such as pyridine and N-vinylimidazole, (meth) acrylamides such as N-methylolacrylamide and 4-hydroxyphenylacrylamide, 2-hydroxyethyl acrylate, 2-hydroxyethyl methacrylate, 2-hydroxypropyl acrylate , Hydroxyalkyl (meth) acrylates such as 2-hydroxypropyl methacrylate and glycerol monomethacrylate, acetoacetoxy methacrylate, and the like, but are not limited to these examples.

上記一般式Iにおいて、繰り返し単位Aの共重合体中における割合であるXは1から40までの範囲にあることが好ましく、この範囲未満では架橋反応が進行しても耐水性が発揮できない場合があり、この範囲を超えれば、下記の水溶性を付与するための繰り返し単位Bの導入による効果が薄れ、親水性層の水に対する親和性が低下する場合がある。   In the above general formula I, X, which is the ratio of the repeating unit A in the copolymer, is preferably in the range of 1 to 40, and if it is less than this range, the water resistance may not be exhibited even if the crosslinking reaction proceeds. If this range is exceeded, the effect of introducing the repeating unit B for imparting water solubility described below may be reduced, and the affinity of the hydrophilic layer for water may be reduced.

更に、一般式Iにおける繰り返し単位Bを与えるためのモノマーとしては、ビニルスルホン酸、アリルスルホン酸、メタリルスルホン酸、スチレンスルホン酸、2−スルホエチルメタクリレート、3−スルホプロピルメタクリレート、2−アクリルアミド−2−メチルプロパンスルホン酸等のスルホ基含有モノマー及びこれらの塩、ビニルホスホン酸等のリン酸基含有モノマー及びこれらの塩、塩化ジメチルジアリルアンモニウム、塩化2−トリメチルアンモニウムエチルアクリレート、塩化2−トリメチルアンモニウムエチルメタクリレート、塩化2−トリエチルアンモニウムエチルアクリレート、塩化2−トリエチルアンモニウムエチルメタクリレート、塩化3−トリメチルアンモニウムプロピルアクリルアミド、3−ジメチルアミノプロピルメタクリルアミド、塩化N,N,N−トリメチル−N−(4−ビニルベンジル)アンモニウム等の4級アンモニウム塩、アクリルアミド、メタクリルアミド、N,N−ジメチルアクリルアミド、N,N−ジメチルメタクリルアミド、N,N−ジエチルアクリルアミド、N−イソプロピルメタクリルアミド等の(メタ)アクリルアミド類、メタクリル酸メトキシジエチレングリコールモノエステル、メタクリル酸メトキシポリエチレングリコールモノエステル、メタクリル酸ポリプロピレングリコールモノエステル等のアルキレンオキシ基含有(メタ)アクリレート類、N−ビニルピロリドン、N−ビニルカプロラクタム等が挙げられるがこれらに限定されるものではない。これら水溶性モノマーは繰り返し単位Bを構成するために1種で用いても良いし、任意の2種類以上を用いても良い。本発明の親水性層が含有する好ましい水溶性ポリマーの例を下記に示す。   Furthermore, as the monomer for giving the repeating unit B in the general formula I, vinyl sulfonic acid, allyl sulfonic acid, methallyl sulfonic acid, styrene sulfonic acid, 2-sulfoethyl methacrylate, 3-sulfopropyl methacrylate, 2-acrylamide- Sulfo group-containing monomers such as 2-methylpropanesulfonic acid and salts thereof, phosphate group-containing monomers such as vinylphosphonic acid and salts thereof, dimethyldiallylammonium chloride, 2-trimethylammonium chloride, 2-trimethylammonium chloride Ethyl methacrylate, 2-triethylammonium ethyl acrylate chloride, 2-triethylammonium ethyl methacrylate chloride, 3-trimethylammonium propylacrylamide chloride, 3-dimethylaminopropyl Pyrmethacrylamide, quaternary ammonium salts such as N, N, N-trimethyl-N- (4-vinylbenzyl) ammonium chloride, acrylamide, methacrylamide, N, N-dimethylacrylamide, N, N-dimethylmethacrylamide, N (Meth) acrylamides such as N, diethylacrylamide, N-isopropylmethacrylamide, methacrylic acid methoxydiethylene glycol monoester, methacrylic acid methoxypolyethylene glycol monoester, methacrylic acid polypropylene glycol monoester , N-vinyl pyrrolidone, N-vinyl caprolactam and the like, but are not limited thereto. These water-soluble monomers may be used alone to constitute the repeating unit B, or any two or more of them may be used. The example of the preferable water-soluble polymer which the hydrophilic layer of this invention contains is shown below.

Figure 2012159808
Figure 2012159808

Figure 2012159808
Figure 2012159808

これら水溶性ポリマーの重量平均分子量は5000〜50万が好ましく、更に、1万〜20万がより好ましい。これより分子量が低い場合、親水性層が水と接触すると溶解したり、剥がれたりする場合がある。またこの範囲を超えると、塗液の粘度が高くなり、均一な塗布が不可能になる場合がある。またこれら水溶性ポリマーの塗布量としては、0.1〜5g/mとすることが好ましく、0.2〜3g/mであることがより好ましい。 These water-soluble polymers preferably have a weight average molecular weight of 5,000 to 500,000, more preferably 10,000 to 200,000. When the molecular weight is lower than this, the hydrophilic layer may dissolve or peel off when it comes into contact with water. On the other hand, if it exceeds this range, the viscosity of the coating liquid becomes high and uniform coating may not be possible. The coating amount of these water-soluble polymers, preferably to 0.1-5 g / m 2, and more preferably 0.2 to 3 g / m 2.

本発明の親水性層が含有する架橋剤としては、エポキシ化合物、オキサゾリン基を有する化合物、イソシアネート基を有する化合物、ヒドラジド化合物等が挙げられる。本発明に用いられるエポキシ化合物は、水またはメタノールやエタノールに可溶なものであり、分子内に親水性基と2個以上のエポキシ基を有するものが好ましい。以下にエポキシ化合物の好ましい例を挙げる。   Examples of the crosslinking agent contained in the hydrophilic layer of the present invention include an epoxy compound, a compound having an oxazoline group, a compound having an isocyanate group, and a hydrazide compound. The epoxy compound used in the present invention is soluble in water, methanol or ethanol, and preferably has a hydrophilic group and two or more epoxy groups in the molecule. Preferred examples of the epoxy compound are given below.

Figure 2012159808
Figure 2012159808

これらの化合物は例えばナガセケムテックス(株)より「デナコール」の商品名で販売されており、容易に入手できる。   These compounds are sold, for example, by Nagase ChemteX Corporation under the trade name “Denacol” and can be easily obtained.

上記のようなエポキシ化合物と水溶性ポリマーとの間で効率的に架橋反応が進行するためには、水溶性ポリマー中に含まれる反応性基としては、カルボキシル基やアミノ基が特に好ましい。   In order for the crosslinking reaction to proceed efficiently between the epoxy compound and the water-soluble polymer as described above, the reactive group contained in the water-soluble polymer is particularly preferably a carboxyl group or an amino group.

オキサゾリン化合物としては、置換基として下記で示す基を分子内に2個以上含む化合物が好ましく、市販される各種化合物として例えば、(株)日本触媒から「エポクロス」の商品名で提供される各種グレードの化合物が好ましく使用される。こうしたオキサゾリン化合物と水溶性ポリマーとの間で効率的に架橋反応が進行するためには、水溶性ポリマー中に含まれる反応性基としては、カルボキシル基が特に好ましい。   As the oxazoline compound, a compound containing two or more groups shown below as substituents in the molecule is preferable, and various grades provided under the trade name “Epocross” from Nippon Shokubai Co., Ltd. as commercially available various compounds. These compounds are preferably used. In order for the crosslinking reaction to proceed efficiently between the oxazoline compound and the water-soluble polymer, a carboxyl group is particularly preferred as the reactive group contained in the water-soluble polymer.

Figure 2012159808
Figure 2012159808

イソシアネート化合物としては、水中で安定である化合物が好ましく、いわゆる自己乳化性イソシアネート化合物や、ブロックイソシアネート化合物が好ましく使用される。自己乳化性イソシアネート化合物としては、例えば、特公昭55−7472号公報(米国特許第3,996,154号明細書)、特開平5−222150号公報(米国特許第5,252,696号明細書)、特開平9−71720号公報、特開平9−328654号公報、特開平10−60073号公報等に記載されるような自己乳化性イソシアネートを指す。具体的には、例えば、脂肪族あるいは脂環族ジイソシアネートから形成される環状三量体骨格のイソシアヌレート構造を分子内に有するポリイソシアネートや、ビュレット構造、ウレタン構造等を分子内に有するポリイソシアネートをベースポリイソシアネートとし、これに片末端エーテル化したポリエチレングリコール等をポリイソシアネート基のうち一部のみに付加させて得られる構造のポリイソシアネート化合物が極めて好ましい例として挙げられる。こうした構造のイソシアネート化合物の合成法については上記の明細書中に記載されている。こうしたイソシアネート化合物の具体的な例としては、ヘキサメチレンジイソシアネート等を出発原料とした環状三量化によるポリイソシアネートをベースポリイソシアネートとしたものが市販されており、例えば、旭化成工業(株)からデュラネートWB40あるいはWX1741等の名称で入手可能である。ブロックイソシアネート化合物としては、例えば特開平4−184335号公報、特開平6−175252号公報等に見られるように、重亜硫酸塩、アルコール類、ラクタム類、オキシム類、活性メチレン類等でブロックされたブロックイソシアネートが好ましく用いられる。こうしたイソシアネート化合物と水溶性ポリマーとの間で効率的に架橋反応が進行するためには、水溶性ポリマー中に含まれる反応性基としては、水酸基やアミノ基が特に好ましい。   As the isocyanate compound, a compound that is stable in water is preferable, and a so-called self-emulsifiable isocyanate compound or a blocked isocyanate compound is preferably used. Examples of the self-emulsifying isocyanate compound include Japanese Patent Publication No. 55-7472 (U.S. Pat. No. 3,996,154) and Japanese Patent Laid-Open No. 5-222150 (U.S. Pat. No. 5,252,696). ), Self-emulsifiable isocyanate as described in JP-A-9-71720, JP-A-9-328654, JP-A-10-60073, and the like. Specifically, for example, a polyisocyanate having an isocyanurate structure of a cyclic trimer skeleton formed from an aliphatic or alicyclic diisocyanate in a molecule, or a polyisocyanate having a burette structure, a urethane structure or the like in the molecule. A highly preferred example is a polyisocyanate compound having a structure obtained by adding a polyethylene glycol or the like having one terminal etherification to only one part of the polyisocyanate group as a base polyisocyanate. A method for synthesizing an isocyanate compound having such a structure is described in the above specification. As a specific example of such an isocyanate compound, a polyisocyanate based on cyclic trimerization using hexamethylene diisocyanate or the like as a starting material is commercially available. For example, Duranate WB40 or Asahi Kasei Kogyo Co., Ltd. It is available under names such as WX1741. The blocked isocyanate compound is blocked with bisulfite, alcohols, lactams, oximes, active methylenes, etc. as seen in, for example, JP-A-4-184335 and JP-A-6-175252. Blocked isocyanate is preferably used. In order for the crosslinking reaction to proceed efficiently between the isocyanate compound and the water-soluble polymer, the reactive group contained in the water-soluble polymer is particularly preferably a hydroxyl group or an amino group.

ヒドラジド化合物として好ましく使用できる化合物の例を下記に示す。こうしたヒドラジド化合物と水溶性ポリマーとの間で効率的に架橋反応が進行するためには、水溶性ポリマー中に含まれる反応性基としては、アセトアセトキシ基のような活性メチレン基が特に好ましい。   Examples of compounds that can be preferably used as hydrazide compounds are shown below. In order for the crosslinking reaction to proceed efficiently between the hydrazide compound and the water-soluble polymer, an active methylene group such as an acetoacetoxy group is particularly preferable as the reactive group contained in the water-soluble polymer.

Figure 2012159808
Figure 2012159808

上記のような種々の架橋剤と水溶性ポリマーとの比率に関しては好ましい範囲が存在する。水溶性ポリマー100質量部に対して架橋剤は1〜40質量部の範囲で用いることが好ましく、1質量部未満では架橋耐水化が不十分であり、印刷中に親水性層の剥離が生じる場合がある。逆に40質量部を超えて用いた場合には、親水性層の水に対する親和性が低下し、印刷汚れの原因となる場合がある。   There is a preferred range for the ratio of the various crosslinking agents and water-soluble polymers as described above. The crosslinking agent is preferably used in the range of 1 to 40 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the water-soluble polymer. If the amount is less than 1 part by mass, the water resistance of the crosslinking is insufficient, and peeling of the hydrophilic layer occurs during printing. There is. On the contrary, when it is used in excess of 40 parts by mass, the affinity of the hydrophilic layer for water is lowered, which may cause printing stains.

本発明に用いる親水性層は、画像部の接着性を良好にし、かつ非画像部の親水性をより高くするために、コロイダルシリカの存在下で分散してなる二酸化チタンの分散体を含有する。   The hydrophilic layer used in the present invention contains a dispersion of titanium dioxide that is dispersed in the presence of colloidal silica in order to improve the adhesiveness of the image area and to increase the hydrophilicity of the non-image area. .

本発明に用いる二酸化チタンは、アナターゼ、ルチル、ブルカイトのいずれの結晶構造を有するものでも構わない。また、製造方法についても塩素法、硫酸法のどちらを用いても良い。更に、アルミ、珪素などの原子が含まれていても良い。平均粒径としては、0.01〜0.5μmが好ましく、0.1〜0.3μmがより好ましい。   The titanium dioxide used in the present invention may have any crystal structure of anatase, rutile and brookite. In addition, either a chlorine method or a sulfuric acid method may be used as a manufacturing method. Furthermore, atoms such as aluminum and silicon may be contained. As an average particle diameter, 0.01-0.5 micrometer is preferable and 0.1-0.3 micrometer is more preferable.

本発明に用いられる二酸化チタンとしては、例えば石原産業(株)製の「CR−50」、「CR−50−2」、「CR−60」のような塩素法のルチル型二酸化チタン、堺化学工業(株)製の「SR−1」、「R−42」、「R−45M」、石原産業(株)製の「R−550」、「R−630」、「R−660」のような硫酸法のルチル型二酸化チタン、あるいは堺化学工業(株)製の「A110」、「A190」、「A197」や、石原産業(株)製の「MC−50」「MC−90」「MC−150」のようなアナターゼ型二酸化チタンが挙げられる。   Examples of the titanium dioxide used in the present invention include chlorine-based rutile titanium dioxide such as “CR-50”, “CR-50-2”, and “CR-60” manufactured by Ishihara Sangyo Co., Ltd. "SR-1", "R-42", "R-45M" manufactured by Kogyo Co., Ltd., "R-550", "R-630", "R-660" manufactured by Ishihara Sangyo Co., Ltd. Rutile type titanium dioxide of sulfuric acid method or “A110”, “A190”, “A197” manufactured by Sakai Chemical Industry Co., Ltd., “MC-50” “MC-90” “MC” manufactured by Ishihara Sangyo Co., Ltd. Anatase type titanium dioxide such as “−150”.

本発明のチタンの分散の際に添加するコロイダルシリカとしては、形状は球形でも鎖状、あるいは球形粒子が10〜20個程度連なった形状のものでも良い。球形のコロイダルシリカの平均粒径は5〜50nmのものが好ましく、10〜20nmのものが更に好ましい。二酸化チタンとコロイダルシリカの混合比率は固形分質量比で二酸化チタン:コロイダルシリカ=1.5:1〜4:1であり、更に2.0:1〜3:1が好ましい。   The colloidal silica added during the dispersion of titanium of the present invention may have a spherical shape or a chain shape, or a shape in which about 10 to 20 spherical particles are connected. The average particle size of the spherical colloidal silica is preferably 5 to 50 nm, and more preferably 10 to 20 nm. The mixing ratio of titanium dioxide and colloidal silica is titanium dioxide: colloidal silica = 1.5: 1 to 4: 1 as solids mass ratio, and more preferably 2.0: 1 to 3: 1.

コロイダルシリカはSiO単体から構成されるものでも良いが、シリカの分散性のpH依存性を変えるためにAl等で表面を若干修飾したものを用いても良い。また、親水性層の塗液のpHによって、コロイダルシリカのアルカリ分散液、酸性分散液を選択して用いることができる。 The colloidal silica may be composed of a simple substance of SiO 2 , but it is also possible to use a silica whose surface is slightly modified with Al 2 O 3 or the like in order to change the pH dependence of the dispersibility of silica. Further, an alkali dispersion or an acidic dispersion of colloidal silica can be selected and used depending on the pH of the coating liquid for the hydrophilic layer.

球状のシリカとしては、例えば日産化学工業(株)製の「スノーテックスXS」、「スノーテックスS」、「スノーテックス20」、「MP−2040」、「MP−1040」、「スノーテックスZL」等が挙げられる。これらのコロイダルシリカはpHが9以上であるが、酸性の塗液を作製する場合には、Naイオンを脱塩して酸性にした「スノーテックスO」、「スノーテックスOL」等を用いることもできる。鎖状シリカとしては日産化学工業(株)製の「スノーテックスUP」、ネックレス状シリカとしては「スノーテックスPS−S」、「スノーテックスPS−M」が挙げられる。   Examples of the spherical silica include “Snowtex XS”, “Snowtex S”, “Snowtex 20”, “MP-2040”, “MP-1040”, and “Snowtex ZL” manufactured by Nissan Chemical Industries, Ltd. Etc. These colloidal silicas have a pH of 9 or more, but when preparing an acidic coating solution, it is possible to use “Snowtex O”, “Snowtex OL”, etc., which are made by demineralizing Na ions to make them acidic. it can. Examples of the chain silica include “Snowtex UP” manufactured by Nissan Chemical Industries, Ltd., and examples of the necklace-like silica include “Snowtex PS-S” and “Snowtex PS-M”.

コロイダルシリカは単一の種類を添加しても良いし、2種以上を混合して添加しても良い。混合する場合はコロイダルシリカの全固形分量と二酸化チタンとの混合比率を上記混合比率にする。   A single kind of colloidal silica may be added, or two or more kinds may be mixed and added. When mixing, the mixing ratio of the total solid content of colloidal silica and titanium dioxide is set to the above mixing ratio.

本発明の二酸化チタン分散体を作成する際に、分散媒としては水を用いることが好ましく、二酸化チタンと水とコロイダルシリカの溶液を直接同時に混合しても良いし、二酸化チタンを水に投入した後、コロイダルシリカを投入しても良い。   When preparing the titanium dioxide dispersion of the present invention, it is preferable to use water as a dispersion medium, and a solution of titanium dioxide, water and colloidal silica may be directly mixed simultaneously, or titanium dioxide is added to water. Later, colloidal silica may be added.

本発明の二酸化チタン分散体を含む分散液は、ホモミキサーまたは、ホモジナイザーを用いて分散することが好ましい。ホモジナイザーで分散する場合、1000〜12000rpmで3〜20分間分散することが好ましい。   The dispersion containing the titanium dioxide dispersion of the present invention is preferably dispersed using a homomixer or a homogenizer. When dispersing with a homogenizer, it is preferable to disperse at 1000-12000 rpm for 3-20 minutes.

本発明における親水性層において、二酸化チタン分散体の添加量は、親水性層の全固形分に対して二酸化チタン分散体の固形分の割合が25〜70質量%になるようにするのが好ましく、30〜60質量%がより好ましい。水溶性ポリマーに対する二酸化チタン分散体の量が少なすぎると耐刷性が悪くなり、逆に二酸化チタン分散体の量が多すぎると耐汚れ性が悪くなる。   In the hydrophilic layer in the present invention, the amount of titanium dioxide dispersion added is preferably such that the solid content of the titanium dioxide dispersion is 25 to 70% by mass with respect to the total solid content of the hydrophilic layer. 30 to 60% by mass is more preferable. If the amount of the titanium dioxide dispersion relative to the water-soluble polymer is too small, the printing durability is deteriorated. Conversely, if the amount of the titanium dioxide dispersion is too large, the stain resistance is deteriorated.

本発明における親水性層は、平均粒子径が3.4〜9.0μm、かつ細孔容積が0.62ml/g未満のシリカ粒子を含有しても良く、無機微粒子やアクリルやウレタン等の有機微粒子を添加することで表面に凹凸を作り、画像部の密着性を向上させて耐刷性を改善することができる。   The hydrophilic layer in the present invention may contain silica particles having an average particle size of 3.4 to 9.0 μm and a pore volume of less than 0.62 ml / g. By adding fine particles, irregularities can be formed on the surface, the adhesion of the image area can be improved, and the printing durability can be improved.

本発明の親水性層はアクリルポリオール樹脂を含有することが好ましい。かかる樹脂としてはアクリルポリオール樹脂の水分散物を利用することが望ましい。水分散性のアクリルポリオール樹脂としては、例えばDIC株式会社からWE−301、WE−300として市販されている樹脂が例示される。アクリルポリオール樹脂を含有することで、優れた膜強度と耐刷性が得られる。親水性層におけるアクリルポリオール樹脂の使用量は、前記水溶性ポリマー1質量部に対して0.1〜0.4質量部の範囲とすることが好ましい。   The hydrophilic layer of the present invention preferably contains an acrylic polyol resin. As such a resin, it is desirable to use an aqueous dispersion of an acrylic polyol resin. Examples of the water-dispersible acrylic polyol resin include resins commercially available from DIC Corporation as WE-301 and WE-300. By containing the acrylic polyol resin, excellent film strength and printing durability can be obtained. The amount of acrylic polyol resin used in the hydrophilic layer is preferably in the range of 0.1 to 0.4 parts by mass with respect to 1 part by mass of the water-soluble polymer.

親水性層を十分に架橋させるため、感光層を塗布する前に30〜100℃、好ましくは40〜80℃の温度下の条件で12時間〜1週間、好ましくは1日〜5日間保管することが好ましい。   In order to sufficiently crosslink the hydrophilic layer, it should be stored at a temperature of 30 to 100 ° C., preferably 40 to 80 ° C., for 12 hours to 1 week, preferably 1 to 5 days before applying the photosensitive layer. Is preferred.

[支持体]
本発明のネガ型感光性平版印刷版の支持体としては、紙、または合成もしくは半合成高分子フィルム、アルミニウム、鉄等の金属板等で平版印刷に耐えるものであれば使用することができる。支持体の表面を一層またはそれ以上の高分子フィルム、または金属薄膜で、片面もしくは両面を被覆することもできる。これらの支持体の表面を塗布層との接着を良くするために表面処理することも可能である。
[Support]
As a support for the negative photosensitive lithographic printing plate of the present invention, paper, a synthetic or semi-synthetic polymer film, a metal plate such as aluminum or iron and the like which can withstand lithographic printing can be used. The surface of the support may be coated on one or both sides with one or more polymer films or metal thin films. The surface of these supports can be surface-treated in order to improve the adhesion with the coating layer.

特に好ましく用いられる支持体は、両面もしくは片面をポリオレフィン重合体で被覆した紙、ポリエステルフィルム、表面を親水化処理したポリエステルフィルム、表面処理を行ったアルミニウム板等である。これらの支持体にはハレーション防止のための顔料や表面物性改良のために固形微粒子を含んでいても良い。また支持体は裏面露光が可能なように光透過性があっても良い。また支持体は下引き層を有していても良く、その場合、例えば特開昭60−213942号公報に記載されるエポキシ化合物を含有する水性下引き組成物が例示される。   Particularly preferably used supports are paper coated with a polyolefin polymer on both sides or one side, a polyester film, a polyester film whose surface is hydrophilized, an aluminum plate subjected to a surface treatment, and the like. These supports may contain pigments for preventing halation and solid fine particles for improving surface properties. The support may be light transmissive so that backside exposure is possible. Further, the support may have an undercoat layer. In that case, for example, an aqueous undercoat composition containing an epoxy compound described in JP-A-60-213942 is exemplified.

本発明の平版印刷版においては、支持体の上に親水性層、画像形成層が塗布されており、この画像形成層については、熱溶融性の化合物を用いたものでも良く光重合性の感光層でも良い。熱溶融性の画像形成層としては、例えば特開2001−138652号公報記載のものを用いても良い。光重合性の感光層として好ましいものを以下に説明する。   In the lithographic printing plate of the present invention, a hydrophilic layer and an image forming layer are coated on a support, and the image forming layer may be a photopolymerizable photosensitive layer which may be a heat-melting compound. It may be a layer. As the heat-meltable image forming layer, for example, those described in JP-A-2001-138665 may be used. Preferred examples of the photopolymerizable photosensitive layer will be described below.

[光重合性の感光層]
本発明の画像形成層として好ましい感光層が含有する感光性ポリマーとしては、重合性二重結合を有するモノマーを共重合成分として含むポリマーであることが好ましく、このようなモノマーとしては例えばアリルアクリレート、アリルメタクリレート、ビニルアクリレート、ビニルメタクリレート、1−プロペニルアクリレート、1−プロペニルメタクリレート、β−フェニルビニルメタクリレート、β−フェニルビニルアクリレート、ビニルメタクリルアミド、ビニルアクリルアミド、α−クロロビニルメタクリレート、α−クロロビニルアクリレート、β−メトキシビニルメタクリレート、β−メトキシビニルアクリレート、ビニルチオアクリレート、ビニルチオメタクリレート等を挙げることができる。
[Photopolymerizable photosensitive layer]
The photosensitive polymer contained in the photosensitive layer preferable as the image forming layer of the present invention is preferably a polymer containing a monomer having a polymerizable double bond as a copolymerization component. Examples of such a monomer include allyl acrylate, Allyl methacrylate, vinyl acrylate, vinyl methacrylate, 1-propenyl acrylate, 1-propenyl methacrylate, β-phenyl vinyl methacrylate, β-phenyl vinyl acrylate, vinyl methacrylamide, vinyl acrylamide, α-chlorovinyl methacrylate, α-chlorovinyl acrylate, Examples thereof include β-methoxyvinyl methacrylate, β-methoxyvinyl acrylate, vinyl thioacrylate, vinyl thiomethacrylate, and the like.

上記のポリマーの好ましい態様として、重合性二重結合を有するモノマーと水溶性基含有モノマー(例えばアクリル酸、メタクリル酸、マレイン酸、フマル酸、マレイン酸モノアルキルエステル、フマル酸モノアルキルエステル、4−カルボキシスチレン、4−スルホスチレン、アクリロニトリル等)を共重合成分として含む側鎖に重合性二重結合と水溶性基を有する共重合ポリマーがある。ポリマー構造中に水溶性基を含むことで、アルカリ現像液での良好な現像性が促進される。   As a preferable embodiment of the above polymer, a monomer having a polymerizable double bond and a water-soluble group-containing monomer (for example, acrylic acid, methacrylic acid, maleic acid, fumaric acid, maleic acid monoalkyl ester, fumaric acid monoalkyl ester, 4- There is a copolymer having a polymerizable double bond and a water-soluble group in a side chain containing carboxystyrene, 4-sulfostyrene, acrylonitrile, etc.) as a copolymerization component. By including a water-soluble group in the polymer structure, good developability with an alkaline developer is promoted.

共重合ポリマーのより好ましい態様として、重合性二重結合を有するモノマーとしてビニル基が置換したフェニル基を有するモノマーと、水溶性基含有モノマーとして構造中にカルボキシ基を有するモノマー(例えばアクリル酸、メタクリル酸、4−カルボキシスチレン、カルボキシエチルアクリレート等)を共重合成分として含む、側鎖にビニル基が置換したフェニル基とカルボキシ基を有する共重合ポリマー(以降、カルボン酸型ポリマーと称する)が挙げられる。このカルボン酸型ポリマーは構造中に有するカルボキシ基が、現像処理時に現像液に含有するアルカリ性物質(例えば水酸化ナトリウム、炭酸ナトリウム、トリエチルアミン等)と塩を形成し、未露光部の光重合性の感光層の現像が行われる。従って、カルボン酸型ポリマーを用いる場合は、現像処理において後述するアルカリ性現像液を用いる方法(以降、アルカリ現像と称する)が好ましく、アルカリ性現像液のpH値は10.0以上である。なお、ビニル基が置換したフェニル基を有するモノマーとは、後述する側鎖に重合性二重結合を有するカチオン性水溶性重合体、または側鎖に重合性二重結合を有しかつスルホン酸基及びスルホン酸塩基から選ばれる基を有する水溶性重合体が側鎖に好ましく有するビニル基が置換したフェニル基と同義である。   As a more preferred embodiment of the copolymer, a monomer having a phenyl group substituted with a vinyl group as a monomer having a polymerizable double bond and a monomer having a carboxy group in the structure as a water-soluble group-containing monomer (for example, acrylic acid, methacrylic acid) Acid, 4-carboxystyrene, carboxyethyl acrylate, etc.) as a copolymerization component, and a copolymer having a phenyl group substituted with a vinyl group in the side chain and a carboxy group (hereinafter referred to as a carboxylic acid type polymer). . In this carboxylic acid type polymer, the carboxy group in the structure forms a salt with an alkaline substance (for example, sodium hydroxide, sodium carbonate, triethylamine, etc.) contained in the developer during the development processing, and the photopolymerizable polymer in the unexposed area. Development of the photosensitive layer is performed. Therefore, when a carboxylic acid type polymer is used, a method using an alkaline developer described later in the development process (hereinafter referred to as alkali development) is preferable, and the pH value of the alkaline developer is 10.0 or more. The monomer having a phenyl group substituted with a vinyl group is a cationic water-soluble polymer having a polymerizable double bond in the side chain described later, or a sulfonic acid group having a polymerizable double bond in the side chain. And a water-soluble polymer having a group selected from sulfonate groups is synonymous with a phenyl group substituted with a vinyl group that is preferably present in the side chain.

また本発明の感光層において、実質的にアルカリ剤を含有しないケミカルレス現像による現像が可能であることがより好ましく、このような感光性ポリマーとしてはイオン性の親水性基を有する感光性ポリマーが好ましく用いられる。しかしイオン性の親水性基を有する感光性ポリマーはケミカルレス現像において良好な現像性が得られる反面、該感光性ポリマーは上記したカルボン酸型ポリマー等により得られた画像よりも親油性が低い傾向にあり、印刷の際に十分な画像濃度を得ようと印刷機でインキ送り量を増やした場合、シャドー部の汚れがとりわけ生じやすい。従ってこのような系においては親水性層により高い保水性を付与することが求められ、本発明はこのような系において、とりわけ好適に用いることができる。   Further, in the photosensitive layer of the present invention, it is more preferable that development by chemicalless development containing substantially no alkali agent is possible. As such a photosensitive polymer, a photosensitive polymer having an ionic hydrophilic group is used. Preferably used. However, a photosensitive polymer having an ionic hydrophilic group can provide good developability in chemicalless development, but the photosensitive polymer tends to be less oleophilic than an image obtained by the carboxylic acid type polymer described above. In particular, when the ink feed amount is increased by a printing machine so as to obtain a sufficient image density during printing, the shadow of the shadow portion is particularly likely to occur. Therefore, in such a system, it is required to impart high water retention to the hydrophilic layer, and the present invention can be used particularly suitably in such a system.

イオン性の親水性基を有する感光性ポリマーとして側鎖に重合性二重結合を有するカチオン性水溶性重合体(以降、重合体Aと称す)または側鎖に重合性二重結合を有しかつスルホン酸基及びスルホン酸塩基から選ばれる基を有する水溶性重合体(以下、重合体Bと称す)が挙げられる。   A cationic water-soluble polymer having a polymerizable double bond in the side chain (hereinafter referred to as polymer A) or a polymerizable double bond in the side chain as a photosensitive polymer having an ionic hydrophilic group; And a water-soluble polymer having a group selected from a sulfonic acid group and a sulfonic acid group (hereinafter referred to as polymer B).

本発明に用いられる重合体Aとは、カチオン性基を有する水溶性ポリマー中の側鎖に重合性二重結合が導入されている重合体を表す。以下に重合体Aについて詳細に説明する。   The polymer A used in the present invention represents a polymer in which a polymerizable double bond is introduced into a side chain in a water-soluble polymer having a cationic group. Hereinafter, the polymer A will be described in detail.

重合体Aにおけるカチオン性基とは、アンモニウム基、スルホニウム基、ホスホニウム基、ヨードニウム基、オキソニウム基等の有機オニウム基から選ばれる基であり、これらのうち4級アンモニウム基が最も好ましい。   The cationic group in the polymer A is a group selected from organic onium groups such as an ammonium group, a sulfonium group, a phosphonium group, an iodonium group, and an oxonium group, and among these, a quaternary ammonium group is most preferable.

上述した有機オニウム基を導入した重合体は、特公昭55−13020号公報、特開昭55−22766号公報、特開平11−153859号公報、特開2000−103179号公報、米国特許第4,693,958号明細書、米国特許第5,512,418号明細書に記載されている従来公知の化学反応を用いて合成することができる。即ち、所望の有機オニウム基を含有するモノマーを重合反応させたり、重合体を構成するポリマー鎖上に導入された三価のN原子、二価のS原子あるいは三価のP原子等を、通常のアルキル化反応によって、有機オニウム基に変換する方法が挙げられる。更にはアミン類、スルフィド類、ホスフィン類のような求核試薬とポリマー鎖上の脱離基(例えば、スルホン酸エステル類やハロゲン化物)との求核置換反応により、ポリマー主鎖または側鎖に有機オニウム基を導入する方法も挙げられる。   The above-mentioned polymer having an organic onium group introduced therein is disclosed in JP-B-55-13020, JP-A-55-22766, JP-A-11-153589, JP-A-2000-103179, US Pat. 693,958 and US Pat. No. 5,512,418, and can be synthesized using a conventionally known chemical reaction. That is, a monomer containing a desired organic onium group is subjected to a polymerization reaction, or a trivalent N atom, a divalent S atom or a trivalent P atom introduced on a polymer chain constituting the polymer is usually used. The method of converting into an organic onium group is mentioned by the alkylation reaction. Furthermore, the nucleophilic substitution reaction between a nucleophilic reagent such as amines, sulfides and phosphines and a leaving group on the polymer chain (for example, sulfonic acid esters or halides) causes a polymer main chain or side chain to be formed. A method of introducing an organic onium group is also mentioned.

感光性ポリマーの側鎖に重合性二重結合を導入する場合のモノマーとしては、アリルアクリレート、アリルメタクリレート、ビニルアクリレート、ビニルメタクリレート、1−プロペニルアクリレート、1−プロペニルメタクリレート、β−フェニルビニルメタクリレート、β−フェニルビニルアクリレート、ビニルメタクリルアミド、ビニルアクリルアミド、α−クロロビニルメタクリレート、α−クロロビニルアクリレート、β−メトキシビニルメタクリレート、β−メトキシビニルアクリレート、ビニルチオアクリレート、ビニルチオメタクリレート等が挙げられる。   Monomers for introducing a polymerizable double bond into the side chain of the photosensitive polymer include allyl acrylate, allyl methacrylate, vinyl acrylate, vinyl methacrylate, 1-propenyl acrylate, 1-propenyl methacrylate, β-phenyl vinyl methacrylate, β -Phenyl vinyl acrylate, vinyl methacrylamide, vinyl acrylamide, α-chloro vinyl methacrylate, α-chloro vinyl acrylate, β-methoxy vinyl methacrylate, β-methoxy vinyl acrylate, vinyl thioacrylate, vinyl thiomethacrylate and the like.

重合体Aにおいて、光重合後の画像形成部と親水性層との接着性が良好な、ビニル基が置換したフェニル基を側鎖に有する重合体が特に好ましい。本発明においてビニル基が置換したフェニル基は、適当な連結基を介して重合体中に導入されている場合が好ましい。この場合の連結基としては特に限定されず、任意の基、原子またはそれらの複合した基が挙げられる。更に該ビニル基及び該フェニル基は置換基を有していても良い。ビニル基が置換したフェニル基を導入した重合体としては、更に詳細には下記一般式IIで表される基を側鎖に有するものである。   In the polymer A, a polymer having a phenyl group substituted with a vinyl group in the side chain, which has good adhesion between the image-formed portion after photopolymerization and the hydrophilic layer, is particularly preferable. In the present invention, the phenyl group substituted with a vinyl group is preferably introduced into the polymer via an appropriate linking group. In this case, the linking group is not particularly limited, and includes an arbitrary group, an atom, or a complex group thereof. Further, the vinyl group and the phenyl group may have a substituent. More specifically, the polymer introduced with a phenyl group substituted with a vinyl group has a group represented by the following general formula II in the side chain.

Figure 2012159808
Figure 2012159808

式中、R、R及びRは、同じであっても異なっていても良く、それぞれ水素原子、ハロゲン原子、カルボキシル基、スルホ基、ニトロ基、シアノ基、アミド基、アミノ基、アルキル基、アリール基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アルキルチオ基、アリールチオ基、アルキルアミノ基、アリールアミノ基、アシル基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基から選ばれる基を表し、これらの基を構成するアルキル基及びアリール基は、ハロゲン原子、カルボキシル基、スルホ基、ニトロ基、シアノ基、アミド基、アミノ基、アルキル基、アリール基、アルケニル基、ヒドロキシ基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アルキルチオ基、アリールチオ基、アルキルアミノ基、アリールアミノ基、アシル基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基等で置換されていても良い。これらの基の中でも、Rが水素原子もしくは炭素数4以下の低級アルキル基(例えばメチル基、エチル基等)であり、R、Rが水素原子であるものが特に好ましい。 In the formula, R 1 , R 2 and R 3 may be the same or different, and each is a hydrogen atom, halogen atom, carboxyl group, sulfo group, nitro group, cyano group, amide group, amino group, alkyl group. A group selected from a group, an aryl group, an alkoxy group, an aryloxy group, an alkylthio group, an arylthio group, an alkylamino group, an arylamino group, an acyl group, an alkoxycarbonyl group, an aryloxycarbonyl group, an alkylsulfonyl group, and an arylsulfonyl group The alkyl group and aryl group constituting these groups are a halogen atom, carboxyl group, sulfo group, nitro group, cyano group, amide group, amino group, alkyl group, aryl group, alkenyl group, hydroxy group, alkoxy group , Aryloxy group, alkylthio group, arylthio group, alkyla It may be substituted with a mino group, arylamino group, acyl group, alkoxycarbonyl group, aryloxycarbonyl group, alkylsulfonyl group, arylsulfonyl group or the like. Among these groups, those in which R 1 is a hydrogen atom or a lower alkyl group having 4 or less carbon atoms (for example, a methyl group, an ethyl group, etc.) and R 2 and R 3 are hydrogen atoms are particularly preferable.

式中、Rは水素原子、ハロゲン原子、カルボキシル基、ニトロ基、シアノ基、アミド基、アミノ基、アルキル基、アリール基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アルキルチオ基、アリールチオ基、アルキルアミノ基、アリールアミノ基、アシル基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基から選ばれる基を表し、これらの基を構成するアルキル基及びアリール基は、ハロゲン原子、カルボキシル基、スルホ基、ニトロ基、シアノ基、アミド基、アミノ基、アルキル基、アリール基、アルケニル基、アルキニル基、ヒドロキシ基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アルキルチオ基、アリールチオ基、アルキルアミノ基、アリールアミノ基、アシル基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基等で置換されていても良い。 In the formula, R 4 is hydrogen atom, halogen atom, carboxyl group, nitro group, cyano group, amide group, amino group, alkyl group, aryl group, alkoxy group, aryloxy group, alkylthio group, arylthio group, alkylamino group, Represents a group selected from an arylamino group, an acyl group, an alkoxycarbonyl group, an aryloxycarbonyl group, an alkylsulfonyl group and an arylsulfonyl group. The alkyl group and aryl group constituting these groups are a halogen atom, a carboxyl group, a sulfo group. Group, nitro group, cyano group, amide group, amino group, alkyl group, aryl group, alkenyl group, alkynyl group, hydroxy group, alkoxy group, aryloxy group, alkylthio group, arylthio group, alkylamino group, arylamino group, Acyl group, alkoxycarbonyl Group, aryloxycarbonyl group, alkylsulfonyl group, arylsulfonyl group and the like.

式中、mは1〜4の整数を表し、pは0または1の整数を表し、qは1〜4の整数を表す。 In the formula, m 1 represents an integer of 1 to 4, p represents an integer of 0 or 1, and q 1 represents an integer of 1 to 4.

式中、Lは炭素原子、窒素原子、酸素原子、硫黄原子から選ばれる原子、または水素原子、炭素原子、窒素原子、酸素原子、硫黄原子から選ばれる原子群からなる多価の連結基を表す。具体的には下記に例示される構造単位より構成される基及び下記に示す複素環基が挙げられる。これらの基は単独でも任意の2つ以上が組み合わされていても良い。 In the formula, L 1 represents an atom selected from a carbon atom, a nitrogen atom, an oxygen atom and a sulfur atom, or a polyvalent linking group consisting of an atom group selected from a hydrogen atom, a carbon atom, a nitrogen atom, an oxygen atom and a sulfur atom. To express. Specific examples include groups composed of the structural units exemplified below and the heterocyclic groups shown below. These groups may be used alone or in any combination of two or more.

Figure 2012159808
Figure 2012159808

を構成する複素環の例としては、ピロール環、ピラゾール環、イミダゾール環、トリアゾール環、テトラゾール環、イソオキサゾール環、オキサゾール環、オキサジアゾール環、イソチアゾール環、チアゾール環、チアジアゾール環、チアトリアゾール環、インドール環、インダゾール環、ベンズイミダゾール環、ベンゾトリアゾール環、ベンズオキサゾール環、ベンズチアゾール環、ベンズセレナゾール環、ベンゾチアジアゾール環、ピリジン環、ピリダジン環、ピリミジン環、ピラジン環、トリアジン環、キノリン環、キノキサリン環等の含窒素複素環、フラン環、チオフェン環等が挙げられ、これらの複素環は置換基を有していても良い。 Examples of the heterocyclic ring constituting L 1 include pyrrole ring, pyrazole ring, imidazole ring, triazole ring, tetrazole ring, isoxazole ring, oxazole ring, oxadiazole ring, isothiazole ring, thiazole ring, thiadiazole ring, thia Triazole ring, indole ring, indazole ring, benzimidazole ring, benzotriazole ring, benzoxazole ring, benzthiazole ring, benzselenazole ring, benzothiadiazole ring, pyridine ring, pyridazine ring, pyrimidine ring, pyrazine ring, triazine ring, quinoline And a nitrogen-containing heterocycle such as a ring and a quinoxaline ring, a furan ring, a thiophene ring, and the like. These heterocycles may have a substituent.

上述した多価の連結基が置換基を有する場合、置換基としては、ハロゲン原子、カルボキシル基、スルホ基、ニトロ基、シアノ基、アミド基、アミノ基、アルキル基、アリール基、アルケニル基、アルキニル基、ヒドロキシ基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アルキルチオ基、アリールチオ基、アルキルアミノ基、アリールアミノ基、アシル基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基等が挙げられる。   When the polyvalent linking group described above has a substituent, examples of the substituent include a halogen atom, a carboxyl group, a sulfo group, a nitro group, a cyano group, an amide group, an amino group, an alkyl group, an aryl group, an alkenyl group, and an alkynyl group. Group, hydroxy group, alkoxy group, aryloxy group, alkylthio group, arylthio group, alkylamino group, arylamino group, acyl group, alkoxycarbonyl group, aryloxycarbonyl group, alkylsulfonyl group, arylsulfonyl group and the like.

連結基Lを構成する任意の原子団において、この中にカチオン性基を形成する4級アンモニウム基等の有機オニウム基が含まれている場合が特に好ましく利用される。連結基中に、こうした有機オニウム基が含まれない場合においては主鎖を構成する繰り返し単位中に、別途有機オニウム基を有する繰り返し単位を含むことが必要である。 In any atom group constituting a linking group L 1, if it contains an organic onium group such as quaternary ammonium groups which form a cationic group therein is particularly preferably used. In the case where such an organic onium group is not contained in the linking group, it is necessary that a repeating unit having an organic onium group is separately contained in the repeating unit constituting the main chain.

重合体中にビニル基が置換したフェニル基を導入する方法については特に制限はなく、例えば特公昭49−34041号公報、特公平6−105353号公報、特開2000−181062号公報、特開2000−187322号公報等に示されるようないずれの方法を用いても良い。これらの場合には予め前駆体であるポリマーを合成する際に、有機オニウム基を有する繰り返し単位を共重合体の形で導入しておくか、前駆体ポリマーに重合性不飽和結合基を導入した形で、上述した方法等により、有機オニウム基を形成することが必要である。   The method for introducing a phenyl group substituted with a vinyl group into the polymer is not particularly limited. For example, Japanese Patent Publication No. 49-34041, Japanese Patent Publication No. 6-105353, Japanese Unexamined Patent Publication No. 2000-181062, Japanese Unexamined Patent Publication No. 2000-2000. Any method as disclosed in JP-A-187322 and the like may be used. In these cases, when a polymer as a precursor is synthesized in advance, a repeating unit having an organic onium group is introduced in the form of a copolymer, or a polymerizable unsaturated bonding group is introduced into the precursor polymer. In form, it is necessary to form an organic onium group, such as by the method described above.

重合体Aを構成することができるモノマーの具体例としては、アリルアミン、ジアリルアミン、2−ジメチルアミノエチルアクリレート、2−ジメチルアミノエチルメタクリレート、2−ジエチルアミノエチルメタクリレート、2−ジメチルアミノプロピルアクリルアミド、3−ジメチルアミノプロピルアクリルアミド、3−ジメチルアミノプロピルメタクリルアミド、4−アミノスチレン、N,N−ジメチル−N−(4−ビニルベンジル)アミン、N,N−ジエチル−N−(4−ビニルベンジル)アミン等のアミノ基含有モノマー及びこれらの4級アンモニウム塩、4−ビニルピリジン、2−ビニルピリジン、N−ビニルイミダゾール、N−ビニルカルバゾール等の含窒素複素環含有モノマー及びこれらの4級アンモニウム塩、(4−ビニルベンジル)トリメチルホスホニウムブロマイド等の4級ホスホニウム塩モノマー、ジメチル−2−メタクリロイルオキシエチルスルホニウムメトスルフェート等の3級スルホニウム塩モノマー、2−クロロメチルスチレン、4−クロロメチルスチレン、4−ブロモメチルスチレン、2−クロロエチルアクリレート、2−クロロエチルメタクリレート等のハロゲン化アルキル基含有モノマー等が挙げられるがこれらに限定されるものではない。   Specific examples of monomers that can constitute the polymer A include allylamine, diallylamine, 2-dimethylaminoethyl acrylate, 2-dimethylaminoethyl methacrylate, 2-diethylaminoethyl methacrylate, 2-dimethylaminopropylacrylamide, 3-dimethyl. Aminopropylacrylamide, 3-dimethylaminopropylmethacrylamide, 4-aminostyrene, N, N-dimethyl-N- (4-vinylbenzyl) amine, N, N-diethyl-N- (4-vinylbenzyl) amine, etc. Amino group-containing monomers and quaternary ammonium salts thereof, nitrogen-containing heterocyclic ring-containing monomers such as 4-vinylpyridine, 2-vinylpyridine, N-vinylimidazole, N-vinylcarbazole and the quaternary ammonium salts thereof (4- Bini Benzyl) quaternary phosphonium salt monomers such as trimethylphosphonium bromide, tertiary sulfonium salt monomers such as dimethyl-2-methacryloyloxyethylsulfonium methosulfate, 2-chloromethylstyrene, 4-chloromethylstyrene, 4-bromomethylstyrene, Examples thereof include, but are not limited to, halogenated alkyl group-containing monomers such as 2-chloroethyl acrylate and 2-chloroethyl methacrylate.

また、重合体Aは、任意の他のモノマーとの共重合体を構成していても良く、これら共重合体を構成するモノマーは水溶性であっても非水溶性であっても良い。水溶性モノマーの具体例としては、アクリル酸、メタクリル酸、2−カルボキシエチルアクリレート、2−カルボキシエチルメタクリレート、イタコン酸、クロトン酸、マレイン酸、フマル酸、桂皮酸、マレイン酸モノアルキルエステル、フマル酸モノアルキルエステル、4−カルボキシスチレン、アクリルアミド−N−グリコール酸等のカルボキシル基含有モノマー及びこれらの塩、ビニルホスホン酸等のリン酸基含有モノマー及びこれらの塩、アリルアミン、ジアリルアミン、2−ジメチルアミノエチルアクリレート、2−ジメチルアミノエチルメタクリレート、2−ジエチルアミノエチルアクリレート、2−ジエチルアミノエチルメタクリレート、3−ジメチルアミノプロピルアクリルアミド、3−ジメチルアミノプロピルメタクリルアミド、4−アミノスチレン、4−アミノメチルスチレン、N,N−ジメチル−N−(4−ビニルベンジル)アミン、N,N−ジエチル−N−(4−ビニルベンジル)アミン等のアミノ基含有モノマー及びこれらの4級アンモニウム塩、4−ビニルピリジン、2−ビニルピリジン、N−ビニルイミダゾール、N−ビニルカルバゾール等の含窒素複素環含有モノマー及びこれらの4級アンモニウム塩、アクリルアミド、メタクリルアミド、N,N−ジメチルアクリルアミド、N,N−ジメチルメタクリルアミド、N,N−ジエチルアクリルアミド、N−イソプロピルメタクリルアミド、ジアセトンアクリルアミド、N−メチロールアクリルアミド等の(メタ)アクリルアミド類、2−ヒドロキシエチルメタクリレート、2−ヒドロキシプロピルアクリレート、2−ヒドロキシプロピルメタクリレート、グリセロールモノメタクリレート等のヒドロキシアルキル(メタ)アクリレート類、メタクリル酸等のアルキレンオキシ基含有(メタ)アクリレート類、N−ビニルピロリドン、N−ビニルカプロラクタム等が挙げられるがこれらに限定されるものではない。これら水溶性モノマーは1種で用いても良いし、任意の2種類以上を用いても良い。   In addition, the polymer A may constitute a copolymer with any other monomer, and the monomer constituting the copolymer may be water-soluble or water-insoluble. Specific examples of water-soluble monomers include acrylic acid, methacrylic acid, 2-carboxyethyl acrylate, 2-carboxyethyl methacrylate, itaconic acid, crotonic acid, maleic acid, fumaric acid, cinnamic acid, maleic acid monoalkyl ester, fumaric acid Carboxyl group-containing monomers such as monoalkyl esters, 4-carboxystyrene, acrylamide-N-glycolic acid and their salts, phosphoric acid group-containing monomers such as vinylphosphonic acid and their salts, allylamine, diallylamine, 2-dimethylaminoethyl Acrylate, 2-dimethylaminoethyl methacrylate, 2-diethylaminoethyl acrylate, 2-diethylaminoethyl methacrylate, 3-dimethylaminopropyl acrylamide, 3-dimethylaminopropyl methacryl Amino group-containing monomers such as amide, 4-aminostyrene, 4-aminomethylstyrene, N, N-dimethyl-N- (4-vinylbenzyl) amine, N, N-diethyl-N- (4-vinylbenzyl) amine And quaternary ammonium salts thereof, nitrogen-containing heterocycle-containing monomers such as 4-vinylpyridine, 2-vinylpyridine, N-vinylimidazole and N-vinylcarbazole, and quaternary ammonium salts thereof, acrylamide, methacrylamide, N, (Meth) acrylamides such as N-dimethylacrylamide, N, N-dimethylmethacrylamide, N, N-diethylacrylamide, N-isopropylmethacrylamide, diacetoneacrylamide, N-methylolacrylamide, 2-hydroxyethyl methacrylate, 2- Hydroxypropyl Examples thereof include hydroxyalkyl (meth) acrylates such as acrylate, 2-hydroxypropyl methacrylate and glycerol monomethacrylate, alkyleneoxy group-containing (meth) acrylates such as methacrylic acid, N-vinylpyrrolidone and N-vinylcaprolactam. It is not limited to. These water-soluble monomers may be used alone or in combination of any two or more.

また、ケミカルレス現像での現像性を最適化し、画像部の強度を向上させるために、非水溶性の任意のモノマーとの共重合体を形成することも好ましく行われ、これらの例としては、スチレン、4−メチルスチレン、4−ヒドロキシスチレン、4−アセトキシスチレン、4−クロロメチルスチレン、4−メトキシスチレン等のスチレン誘導体、メチルアクリレート、メチルメタクリレート、エチルアクリレート、エチルメタクリレート、n−ブチルメタクリレート、n−ヘキシルメタクリレート、2−エチルヘキシルメタクリレート、シクロヘキシルアクリレート、ドデシルメタクリレート等のアルキル(メタ)アクリレート類、フェニルメタクリレート、ベンジルメタクリレート等のアリール(メタ)アクリレート類またはアリールアルキル(メタ)アクリレート類、アクリロニトリル、メタクリロニトリル、フェニルマレイミド、酢酸ビニル、クロロ酢酸ビニル、プロピオン酸ビニル、酪酸ビニル、ステアリン酸ビニル、安息香酸ビニル等のビニルエステル類、メチルビニルエーテル、ブチルビニルエーテル等のビニルエーテル類、その他、アクリロイルモルホリン、テトラヒドロフルフリルメタクリレート、塩化ビニル、塩化ビニリデン、アリルアルコール、ビニルトリメトキシシラン、グリシジルメタクリレート等各種モノマーを挙げることができる。これらの任意の組み合わせで構成される共重合体を重合体Aとして使用することができる。   In addition, in order to optimize the developability in chemicalless development and improve the strength of the image area, it is also preferable to form a copolymer with any water-insoluble monomer. Styrene derivatives such as styrene, 4-methylstyrene, 4-hydroxystyrene, 4-acetoxystyrene, 4-chloromethylstyrene, 4-methoxystyrene, methyl acrylate, methyl methacrylate, ethyl acrylate, ethyl methacrylate, n-butyl methacrylate, n -Hexyl methacrylate, 2-ethylhexyl methacrylate, cyclohexyl acrylate, alkyl (meth) acrylates such as dodecyl methacrylate, aryl (meth) acrylates such as phenyl methacrylate, benzyl methacrylate or arylalkyl (Meth) acrylates, acrylonitrile, methacrylonitrile, phenylmaleimide, vinyl acetate, vinyl chloroacetate, vinyl propionate, vinyl butyrate, vinyl stearate, vinyl benzoate and other vinyl esters, methyl vinyl ether, butyl vinyl ether and other vinyl ethers And other monomers such as acryloylmorpholine, tetrahydrofurfuryl methacrylate, vinyl chloride, vinylidene chloride, allyl alcohol, vinyltrimethoxysilane, and glycidyl methacrylate. A copolymer composed of any combination of these can be used as the polymer A.

ビニル基が置換したフェニル基を主鎖に結合するための連結基を構成する任意の原子団において、この中にカチオン性基を形成する4級アンモニウム基等の有機オニウム基が含まれている場合が最も好ましい。この場合においては、重合体中に含まれるビニル基が置換したフェニル基の数と有機オニウム基の数が正比例するため、感度を向上させるために重合体中に含まれるビニル基が置換したフェニル基が多いほど好ましい。上述したようなビニル基が置換したフェニル基がカチオン性基を介して主鎖と結合している場合の重合体の単位構造は、具体的には下記一般式IIIで表すことができる。   In any atomic group constituting a linking group for bonding a phenyl group substituted with a vinyl group to the main chain, an organic onium group such as a quaternary ammonium group that forms a cationic group is included in this group Is most preferred. In this case, since the number of phenyl groups substituted with vinyl groups contained in the polymer is directly proportional to the number of organic onium groups, the phenyl groups substituted with vinyl groups contained in the polymer to improve sensitivity. Is more preferable. The unit structure of the polymer when the phenyl group substituted with the vinyl group as described above is bonded to the main chain via a cationic group can be specifically represented by the following general formula III.

Figure 2012159808
Figure 2012159808

式中、A はアンモニウム基、スルホニウム基、ホスホニウム基、ヨードニウム基、オキソニウム基等の有機オニウム基から選ばれる有機オニウム基を表し、n及びnはそれぞれ0または1を表す。A がヨードニウム基の場合はn=n=0であり、A がスルホニウム基の場合はn=1かつn=0であり、A がアンモニウム基またはホスホニウム基の場合はn=n=1である。 In the formula, A 1 + represents an organic onium group selected from organic onium groups such as an ammonium group, a sulfonium group, a phosphonium group, an iodonium group, and an oxonium group, and n 1 and n 2 each represents 0 or 1. When A 1 + is an iodonium group, n 1 = n 2 = 0, and when A 1 + is a sulfonium group, n 1 = 1 and n 2 = 0, and A 1 + is an ammonium group or a phosphonium group In this case, n 1 = n 2 = 1.

式中、R及びRは、同じであっても異なっていても良く、それぞれアルキル基(例えばメチル基、エチル基、イソプロピル基、シクロヘキシル基、ベンジル基等)、またはアリール基(例えばフェニル基、1−ナフチル基等)を表しこれらの基は置換されていても良く、この場合の置換基の例としては、ハロゲン原子、カルボキシル基、スルホ基、ニトロ基、シアノ基、アミド基、アミノ基、アルキル基、アリール基、アルケニル基、アルキニル基、ヒドロキシ基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アルキルチオ基、アリールチオ基、アルキルアミノ基、アリールアミノ基、アシル基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基等が挙げられる。更にR及びRは、上記一般式IIで表されるビニル基が置換したフェニル基を含有する基であっても良い。 In the formula, R 5 and R 6 may be the same or different, and are each an alkyl group (for example, a methyl group, an ethyl group, an isopropyl group, a cyclohexyl group, a benzyl group, etc.) or an aryl group (for example, a phenyl group). , 1-naphthyl group, etc.) and these groups may be substituted, and examples of the substituent in this case include halogen atom, carboxyl group, sulfo group, nitro group, cyano group, amide group, amino group , Alkyl group, aryl group, alkenyl group, alkynyl group, hydroxy group, alkoxy group, aryloxy group, alkylthio group, arylthio group, alkylamino group, arylamino group, acyl group, alkoxycarbonyl group, aryloxycarbonyl group, alkyl A sulfonyl group, an arylsulfonyl group, etc. are mentioned. Further, R 5 and R 6 may be a group containing a phenyl group substituted by a vinyl group represented by the above general formula II.

式中、R、R及びRは、同じであっても異なっていても良く、それぞれ前記一般式IIにおけるR、R及びRと同義である。これらの基の中でもRが水素原子もしくは炭素数4以下の低級アルキル基(例えばメチル基、エチル基等)であり、R及びRが水素原子であるものが特に好ましい。R10は、前記一般式IIにおけるRと同義である。L及びLは、それぞれ独立に炭素原子、窒素原子、酸素原子、硫黄原子から選ばれる原子、または水素原子、炭素原子、窒素原子、酸素原子、硫黄原子から選ばれる原子群からなる多価の連結基を表し、具体的には前記一般式IIにおけるLと同義である。mは0〜4の整数を表し、pは0または1の整数を表し、qは1〜4の整数を表す。 In the formula, R 7 , R 8 and R 9 may be the same or different and have the same meanings as R 1 , R 2 and R 3 in the general formula II, respectively. Among these groups, those in which R 7 is a hydrogen atom or a lower alkyl group having 4 or less carbon atoms (for example, a methyl group, an ethyl group, etc.) and R 8 and R 9 are hydrogen atoms are particularly preferable. R 10 has the same meaning as R 4 in formula II. L 2 and L 3 are each independently an atom selected from a carbon atom, a nitrogen atom, an oxygen atom and a sulfur atom, or a polyvalent group consisting of an atom group selected from a hydrogen atom, a carbon atom, a nitrogen atom, an oxygen atom and a sulfur atom. And specifically has the same meaning as L 1 in formula II. m 2 represents an integer of 0 to 4, p 2 represents an integer of 0 or 1, and q 2 represents an integer of 1 to 4.

また、A で表される有機オニウム基を形成するN原子、S原子及びP原子等と、R、RあるいはL、Lから任意に選ばれる基とが組み合わさって環構造(例えば、ピリジニウム環、2−キノリウム環、モルホニウム環、ピペリジニウム環、ピロリジニウム環、テトラヒドロチオフェニウム環等)を形成していても良い。これら環構造は、ハロゲン原子、カルボキシル基、スルホ基、ニトロ基、シアノ基、アミド基、アミノ基、アルキル基、アリール基、アルケニル基、アルキニル基、ヒドロキシ基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アルキルチオ基、アリールチオ基、アルキルアミノ基、アリールアミノ基、アシル基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基等で置換されていても良い。 In addition, a ring structure in which an N atom, an S atom, a P atom, and the like forming an organic onium group represented by A 1 + are combined with a group arbitrarily selected from R 5 , R 6, L 2 , and L 3 (For example, a pyridinium ring, 2-quinolium ring, morphonium ring, piperidinium ring, pyrrolidinium ring, tetrahydrothiophenium ring, etc.) may be formed. These ring structures are halogen atoms, carboxyl groups, sulfo groups, nitro groups, cyano groups, amide groups, amino groups, alkyl groups, aryl groups, alkenyl groups, alkynyl groups, hydroxy groups, alkoxy groups, aryloxy groups, alkylthio groups. , Arylthio group, alkylamino group, arylamino group, acyl group, alkoxycarbonyl group, aryloxycarbonyl group, alkylsulfonyl group, arylsulfonyl group and the like.

また、本発明の重合体Aの中には、上記したようなビニル基が置換したフェニル基がカチオン性基を介して主鎖と結合した繰り返し単位を有する重合体の他に、ビニル基が置換したフェニル基が直接もしくはカチオン性基を含まない連結基を介して主鎖に結合した繰り返し単位とカチオン性基を有する繰り返し単位とを有する重合体も用いることができる。   Further, in the polymer A of the present invention, in addition to the polymer having a repeating unit in which a phenyl group substituted with a vinyl group as described above is bonded to the main chain through a cationic group, a vinyl group is substituted. A polymer having a repeating unit in which the phenyl group is bonded to the main chain directly or via a linking group containing no cationic group and a repeating unit having a cationic group can also be used.

本発明の感光性の画像形成層における重合体Aの例を以下に示すが、本発明はこれらの例に限定されるものではない。例示された構造式の中の数字は共重合体トータル組成100質量%中における各繰り返し単位の質量%を表す。   Examples of the polymer A in the photosensitive image forming layer of the present invention are shown below, but the present invention is not limited to these examples. The numbers in the exemplified structural formulas represent the mass% of each repeating unit in the copolymer total composition of 100 mass%.

Figure 2012159808
Figure 2012159808

Figure 2012159808
Figure 2012159808

Figure 2012159808
Figure 2012159808

Figure 2012159808
Figure 2012159808

重合体Aを構成する各繰り返し単位が、全重合体中に占める割合については好ましい範囲が存在する。上述したように側鎖に重合性二重結合がカチオン性基を介して主鎖と結合している場合には、その繰り返し単位が重合体トータル組成の10質量%から80質量%の範囲にあることが特に好ましい。   There exists a preferable range about the ratio for which each repeating unit which comprises the polymer A accounts in the whole polymer. As described above, when a polymerizable double bond is bonded to the main chain via a cationic group on the side chain, the repeating unit is in the range of 10% to 80% by weight of the total polymer composition. It is particularly preferred.

また、重合性二重結合が直接もしくはカチオン性基を含まない連結基を介して主鎖に結合した繰り返し単位とカチオン性基を有する繰り返し単位とからなる重合体の場合には、重合性二重結合を有する繰り返し単位が5質量%から50質量%の範囲にあることが特に好ましい。そして、カチオン性基を有する繰り返し単位が占める割合は、30質量%から95質量%の範囲にあることが好ましく、50質量%から90質量%の範囲にあることが特に好ましい。   In the case of a polymer comprising a repeating unit in which a polymerizable double bond is bonded directly or via a linking group containing no cationic group to a main chain and a repeating unit having a cationic group, the polymerizable double bond is It is particularly preferable that the repeating unit having a bond is in the range of 5% by mass to 50% by mass. The proportion of the repeating unit having a cationic group is preferably in the range of 30% by mass to 95% by mass, particularly preferably in the range of 50% by mass to 90% by mass.

重合体Aの分子量については好ましい範囲が存在し、重量平均分子量で1000から100万の範囲であることが好ましく、更に1万から30万の範囲にあることが特に好ましい。本発明における重合体Aは、1種のみの単独で用いても良いし、任意の2種以上を混合して用いても良い。   There is a preferred range for the molecular weight of the polymer A, the weight average molecular weight is preferably in the range of 1,000 to 1,000,000, and more preferably in the range of 10,000 to 300,000. The polymer A in this invention may be used individually by 1 type, and may mix and use arbitrary 2 or more types.

次に、側鎖に重合性二重結合を有しかつスルホン酸基及びスルホン酸塩基から選ばれる基を有する水溶性重合体(重合体B)について詳細に説明する。   Next, the water-soluble polymer (polymer B) having a polymerizable double bond in the side chain and having a group selected from a sulfonic acid group and a sulfonic acid group will be described in detail.

重合体Bは、側鎖に重合性二重結合及び、スルホン酸基及びスルホン酸塩基から選ばれる基がそれぞれ直接もしくは任意の連結基を介して主鎖と結合した重合体である。これらの連結基としては特に限定されず、任意の基、原子またはそれらの複合した基が挙げられる。重合性二重結合及びスルホン酸基及びスルホン酸塩基から選ばれる基は、それぞれ独立して主鎖に結合していても良いし、あるいは重合性二重結合とスルホン酸基及びスルホン酸塩基から選ばれる基が連結基の一部または全部を共有する形で結合していても良い。   The polymer B is a polymer in which a group selected from a polymerizable double bond and a sulfonic acid group and a sulfonate group is bonded to the main chain either directly or via an arbitrary linking group. These linking groups are not particularly limited, and include any group, atom, or a combination thereof. The group selected from a polymerizable double bond and a sulfonic acid group and a sulfonate group may be independently bonded to the main chain, or may be selected from a polymerizable double bond, a sulfonic acid group, and a sulfonate group. The groups to be bonded may share a part or all of the linking group.

感光性ポリマーの側鎖に重合性二重結合を導入する場合のモノマーとしては、アリルアクリレート、アリルメタクリレート、ビニルアクリレート、ビニルメタクリレート、1−プロペニルアクリレート、1−プロペニルメタクリレート、β−フェニルビニルメタクリレート、β−フェニルビニルアクリレート、ビニルメタクリルアミド、ビニルアクリルアミド、α−クロロビニルメタクリレート、α−クロロビニルアクリレート、β−メトキシビニルメタクリレート、β−メトキシビニルアクリレート、ビニルチオアクリレート、ビニルチオメタクリレート等が挙げられる。   Monomers for introducing a polymerizable double bond into the side chain of the photosensitive polymer include allyl acrylate, allyl methacrylate, vinyl acrylate, vinyl methacrylate, 1-propenyl acrylate, 1-propenyl methacrylate, β-phenyl vinyl methacrylate, β -Phenyl vinyl acrylate, vinyl methacrylamide, vinyl acrylamide, α-chloro vinyl methacrylate, α-chloro vinyl acrylate, β-methoxy vinyl methacrylate, β-methoxy vinyl acrylate, vinyl thioacrylate, vinyl thiomethacrylate and the like.

重合体Bにおいても重合体Aと同様に、光重合後の画像形成部と親水性層との接着性が良好な、ビニル基が置換したフェニル基を有する重合体が特に好ましい。ビニル基が置換したフェニル基は、適当な連結基を介して重合体中に導入されている場合が好ましい。この場合の連結基としては特に限定されず、任意の基、原子またはそれらの複合した基が挙げられる。更に該ビニル基及び該フェニル基は、置換基を有していても良い。かかる置換基としてはハロゲン原子、カルボキシル基、スルホ基、ニトロ基、シアノ基、アミド基、アミノ基、アルキル基、アリール基、アルコキシ基、アリールオキシ基等が挙げられる。   Also in the polymer B, like the polymer A, a polymer having a phenyl group substituted with a vinyl group and having good adhesion between the image-formed portion after photopolymerization and the hydrophilic layer is particularly preferable. The phenyl group substituted with a vinyl group is preferably introduced into the polymer via an appropriate linking group. In this case, the linking group is not particularly limited, and includes an arbitrary group, an atom, or a complex group thereof. Further, the vinyl group and the phenyl group may have a substituent. Examples of the substituent include a halogen atom, a carboxyl group, a sulfo group, a nitro group, a cyano group, an amide group, an amino group, an alkyl group, an aryl group, an alkoxy group, and an aryloxy group.

重合体Bは、更に詳細には、下記一般式IV及びVで表される基を側鎖に有するものである。   More specifically, the polymer B has groups represented by the following general formulas IV and V in the side chain.

Figure 2012159808
Figure 2012159808

式中、R11、R12及びR13は、同じであっても異なっていても良く、それぞれ前記一般式IIにおけるR、R及びRと同義であり、R14は前記一般式IIのRと同義である。Lは、炭素原子、窒素原子、酸素原子、硫黄原子から選ばれる原子、または水素原子、炭素原子、窒素原子、酸素原子、硫黄原子群からなる多価の連結基を表し、具体的には前記一般式IIにおけるLと同義である。mは0〜4の整数を表し、pは0または1の整数を表し、qは1〜4の整数を表す。 In the formula, R 11 , R 12 and R 13 may be the same or different, and each has the same meaning as R 1 , R 2 and R 3 in the general formula II, and R 14 represents the general formula II. Is synonymous with R 4 of L 4 represents an atom selected from a carbon atom, a nitrogen atom, an oxygen atom and a sulfur atom, or a polyvalent linking group consisting of a hydrogen atom, a carbon atom, a nitrogen atom, an oxygen atom and a sulfur atom group, specifically the same meaning as L 1 in formula II. m 3 represents an integer of 0 to 4, p 3 represents an integer of 0 or 1, and q 3 represents an integer of 1 to 4.

上記一般式で表される基の中でも、R11が水素原子もしくは炭素数4以下の低級アルキル基(メチル基、エチル基等)であり、かつR12及びR13が水素原子であるものが好ましい。また、連結基Lとしては複素環を含むものが好ましく、qは1または2であるものが好ましい。 Among the groups represented by the above general formula, those in which R 11 is a hydrogen atom or a lower alkyl group having 4 or less carbon atoms (methyl group, ethyl group, etc.) and R 12 and R 13 are hydrogen atoms are preferred. . The linking group L 4 preferably includes a heterocyclic ring, and q 3 is preferably 1 or 2.

Figure 2012159808
Figure 2012159808

式中、Lは、炭素原子、窒素原子、酸素原子、硫黄原子から選ばれる原子、または水素原子、炭素原子、窒素原子、酸素原子、硫黄原子群からなる多価の連結基を表し、具体的には前記一般式IIにおけるLと同義である。更にLは前記一般式IVのLの一部または全部を共有しても良い。 In the formula, L 5 represents an atom selected from a carbon atom, a nitrogen atom, an oxygen atom and a sulfur atom, or a polyvalent linking group consisting of a hydrogen atom, a carbon atom, a nitrogen atom, an oxygen atom and a sulfur atom group. Specifically, it is synonymous with L 1 in the general formula II. Further, L 5 may share part or all of L 4 in the general formula IV.

式中、Xはスルホアニオンを中和するのに必要な電荷を持つカチオンを表す。このようなカチオンの具体例としては、アルカリ金属イオン、アルカリ土類金属イオン、遷移金属イオン等の無機イオン(例えばナトリウム、カリウム、カルシウム、マグネシウム、バリウム、亜鉛等)、有機アンモニウムイオン(例えばアンモニウム、トリエチルアンモニウム、ピリジニウム、テトラ−n−ブチルアンモニウム等)、ヨードニウムイオン(例えばフェニルヨードニウム等)、スルホニウムイオン(例えばトリフェニルスルホニウム等)ジアゾニウムイオン等が挙げられ、これらの中でもアルカリ金属イオンまたは有機アンモニウムイオンが特に好ましい。 In the formula, X + represents a cation having a charge necessary for neutralizing the sulfoanion. Specific examples of such cations include inorganic ions such as alkali metal ions, alkaline earth metal ions and transition metal ions (for example, sodium, potassium, calcium, magnesium, barium and zinc), organic ammonium ions (for example, ammonium, Triethylammonium, pyridinium, tetra-n-butylammonium, etc.), iodonium ions (eg, phenyliodonium, etc.), sulfonium ions (eg, triphenylsulfonium, etc.), diazonium ions, etc. Among these, alkali metal ions or organic ammonium ions are included. Particularly preferred.

重合体中にビニル基が置換したフェニル基を導入する方法については特に制限はないが、該ビニル基が置換したフェニル基を有するモノマーを重合させた場合には、該ビニル基も反応し、ゲル化を起こしてしまうことが予想され好ましくない。このため、ビニル基が置換したフェニル基を有さない前駆体ポリマーを合成しておき、しかる後、従来公知の高分子反応により該ビニル基が置換したフェニル基を導入する方法が特に好ましい。   The method for introducing a phenyl group substituted with a vinyl group in the polymer is not particularly limited. However, when a monomer having a phenyl group substituted with a vinyl group is polymerized, the vinyl group also reacts to form a gel. This is not preferable because it is expected to occur. Therefore, it is particularly preferable to synthesize a precursor polymer having no phenyl group substituted with a vinyl group, and then introduce a phenyl group substituted with the vinyl group by a conventionally known polymer reaction.

重合体中にスルホン酸基及びスルホン酸塩基から選ばれる基を導入する方法については特に制限はなく、該スルホン酸基及びスルホン酸塩基から選ばれる基を有するモノマーを共重合させても良いし、スルホン酸基及びスルホン酸塩基から選ばれる基を有さない前駆体ポリマーを合成しておき、しかる後、従来公知の高分子反応により該スルホン酸基及びスルホン酸塩基から選ばれる基を導入しても良い。
The method for introducing a group selected from a sulfonic acid group and a sulfonic acid group into the polymer is not particularly limited, and a monomer having a group selected from the sulfonic acid group and the sulfonic acid group may be copolymerized, A precursor polymer having no group selected from a sulfonic acid group and a sulfonate group is synthesized, and then a group selected from the sulfonic acid group and the sulfonate group is introduced by a conventionally known polymer reaction. Also good.

本発明の感光性の画像形成層における重合体Bは、上述した側鎖に重合性二重結合を有する繰り返し単位、及びスルホン酸基及びスルホン酸塩基から選ばれる基を有する繰り返し単位からのみなる重合体であっても良いし、あるいは本発明の効果を妨げない限り、更に他の繰り返し単位を導入した重合体であっても良い。また更に、他のモノマーとの共重合体であっても良く、このようなモノマーの具体例としては、重合体Aで例示した全ての水溶性モノマー及び非水溶性モノマーが挙げられ、これらモノマーは1種で用いても良いし、任意の2種類以上を用いても良い。   The polymer B in the photosensitive image forming layer of the present invention comprises a repeating unit having a polymerizable double bond in the side chain and a repeating unit having a group selected from a sulfonate group and a sulfonate group. The polymer may be a polymer, or may be a polymer into which another repeating unit is introduced as long as the effect of the present invention is not hindered. Furthermore, it may be a copolymer with another monomer, and specific examples of such a monomer include all the water-soluble monomers and water-insoluble monomers exemplified in the polymer A. One type may be used, or two or more types may be used.

本発明の感光性の画像形成層における重合体Bの例を以下に示すが、本発明はこれらの例に限定されるものではない。例示された構造式の中の数字は共重合体トータル組成100質量%中における各繰り返し単位の質量%を表す。   Examples of the polymer B in the photosensitive image forming layer of the present invention are shown below, but the present invention is not limited to these examples. The numbers in the exemplified structural formulas represent the mass% of each repeating unit in the copolymer total composition of 100 mass%.

Figure 2012159808
Figure 2012159808

Figure 2012159808
Figure 2012159808

Figure 2012159808
Figure 2012159808

Figure 2012159808
Figure 2012159808

Figure 2012159808
Figure 2012159808

本発明の感光性の画像形成層における重合体Bの重量平均分子量は、1000から100万の範囲であることが好ましく、更に1万から30万の範囲にあることが特に好ましい。本発明における重合体Bは1種のみの単独で用いても良いし、任意の2種以上を混合して用いても良い。   The weight average molecular weight of the polymer B in the photosensitive image forming layer of the present invention is preferably in the range of 1,000 to 1,000,000, and more preferably in the range of 10,000 to 300,000. The polymer B in this invention may be used individually by 1 type, and may mix and use arbitrary 2 or more types.

前述した重合体A及びBの水に対する溶解性については好ましい範囲が存在する。即ち、25℃のイオン交換水100mlに対して前記重合体は0.5g以上溶解することが好ましく、更に2.0g以上溶解することが特に好ましい。   There is a preferred range for the solubility of the polymers A and B in water. That is, the polymer is preferably dissolved in an amount of 0.5 g or more with respect to 100 ml of ion-exchanged water at 25 ° C., more preferably 2.0 g or more.

本発明の感光性の画像形成層は上述した重合体AもしくはBの他に、任意の公知の各種バインダー樹脂を混合して用いることもできる。この場合のバインダー樹脂は特に制限されず、具体的には、上記で例示したモノマーから任意に構成される重合体や、ポリビニルフェノール、フェノール樹脂、ポリヒドロキシベンザール、ゼラチン、ポリビニルアルコール、カルボキシメチルセルロース等のセルロース樹脂、ポリイミド樹脂等を挙げることができる。これらバインダー樹脂としては水溶性であることが好ましく、上記で例示したような水溶性モノマーを少なくとも1種以上用いた水溶性バインダー樹脂やゼラチン、ポリビニルアルコール、カルボキシメチルセルロース等の水溶性バインダー樹脂であることが好ましい。   The photosensitive image forming layer of the present invention may be used by mixing any known various binder resins in addition to the polymer A or B described above. The binder resin in this case is not particularly limited, and specifically, a polymer arbitrarily constituted from the monomers exemplified above, polyvinylphenol, phenol resin, polyhydroxybenzal, gelatin, polyvinyl alcohol, carboxymethylcellulose, etc. Cellulose resin, polyimide resin, and the like. These binder resins are preferably water-soluble, and are water-soluble binder resins using at least one or more water-soluble monomers as exemplified above, and water-soluble binder resins such as gelatin, polyvinyl alcohol, and carboxymethyl cellulose. Is preferred.

本発明の感光性の画像形成層による平版印刷版の感光層は上記した感光性ポリマーと併せて、光重合開始剤または光酸発生剤を含有することが好ましい。本発明に用いられる光重合開始剤としては、光または電子線の照射によりラジカルを発生しうる化合物であれば任意の化合物を用いることができる。   The photosensitive layer of the lithographic printing plate comprising the photosensitive image forming layer of the present invention preferably contains a photopolymerization initiator or a photoacid generator in addition to the above-described photosensitive polymer. As a photoinitiator used for this invention, arbitrary compounds can be used if it is a compound which can generate | occur | produce a radical by irradiation of light or an electron beam.

本発明の感光性の画像形成層に用いることのできる光重合開始剤の例としては(a)芳香族ケトン類、(b)芳香族オニウム化合物、(c)有機過酸化物、(d)ヘキサアリールビイミダゾール化合物、(e)ケトオキシムエステル化合物、(f)アジニウム化合物、(g)活性エステル化合物、(h)メタロセン化合物、(i)トリハロアルキル置換化合物、(j)有機ホウ素化合物等が挙げられる。   Examples of the photopolymerization initiator that can be used in the photosensitive image forming layer of the present invention include (a) aromatic ketones, (b) aromatic onium compounds, (c) organic peroxides, and (d) hexa Arylbiimidazole compounds, (e) ketoxime ester compounds, (f) azinium compounds, (g) active ester compounds, (h) metallocene compounds, (i) trihaloalkyl-substituted compounds, (j) organoboron compounds, and the like. .

(a)芳香族ケトン類の好ましい例としては、”RADIATION CURING IN POLYMER SCIENCE AND TECHNOLOGY”J.P.FOUASSIER,J.F.RABEK(1993)、P.77〜P.177に記載のベンゾフェノン骨格、あるいはチオキサントン骨格を有する化合物、特公昭47−6416号公報に記載のα−チオベンゾフェノン化合物、特公昭47−3981号公報に記載のベンゾインエーテル化合物、特公昭47−22326号公報に記載のα−置換ベンゾイン化合物、特公昭47−23664号公報に記載のベンゾイン誘導体、特開昭57−30704号公報に記載のアロイルホスホン酸エステル、特公昭60−26483号公報に記載のジアルコキシベンゾフェノン類、特公昭60−26403号公報、特開昭62−81345号公報に記載のベンゾインエーテル類、特開平2−211452号公報に記載のp−ジ(ジメチルアミノベンゾイル)ベンゼン、特開昭61−194062号公報に記載のチオ置換芳香族ケトン、特公平2−9597号公報に記載のアシルホスフィンスルフィド、特公平2−9596号公報に記載のアシルホスフィン類、特公昭63−61950号公報に記載のチオキサントン類、特公昭59−42864号公報に記載のクマリン類を挙げることができる。   (A) Preferred examples of aromatic ketones include compounds having a benzophenone skeleton or a thioxanthone skeleton described in “RADIATION CURING IN POLYMER SCIENCE AND TECHNOLOGY” JPFOUASSIER, JFRABEK (1993), P. 77 to P. 177. Α-thiobenzophenone compounds described in JP-B-47-6416, benzoin ether compounds described in JP-B-47-3981, α-substituted benzoin compounds described in JP-B-47-22326, and JP-B-47. Benzoin derivatives described in JP-A-236364, aroylphosphonic acid esters described in JP-A-57-30704, dialkoxybenzophenones described in JP-B-60-26483, JP-B-60-26403, Benzoin ethers described in JP-A No. 62-81345 and JP-A No. 2-211452 P-di (dimethylaminobenzoyl) benzene described in JP-A-61-194062, a thio-substituted aromatic ketone described in JP-A-61-194062, an acylphosphine sulfide described in JP-B-2-9597, and JP-B-2-9596 Examples thereof include acylphosphines described in JP-A No. 63-61950, thioxanthones described in JP-B No. 63-61950, and coumarins described in JP-B No. 59-42864.

(b)芳香族オニウム塩の例としては、N、P、As、Sb、Bi、O、S、Se、TeまたはIの芳香族オニウム塩が含まれる。このような芳香族オニウム塩は、特公昭52−14277号公報、特公昭52−14278号公報、特公昭52−14279号公報等に例示されている化合物を挙げることができる。   (B) Examples of aromatic onium salts include N, P, As, Sb, Bi, O, S, Se, Te, or I aromatic onium salts. Examples of such aromatic onium salts include compounds exemplified in Japanese Patent Publication No. 52-14277, Japanese Patent Publication No. 52-14278, Japanese Patent Publication No. 52-14279, and the like.

(c)有機過酸化物の例としては、分子中に酸素−酸素結合を一個以上有する有機化合物のほとんど全てが含まれるが、例えば、3,3′,4,4′−テトラ(tert−ブチルパーオキシカルボニル)ベンゾフェノン、3,3′,4,4′−テトラ(tert−アミルパーオキシカルボニル)ベンゾフェノン、3,3′,4,4′−テトラ(tert−ヘキシルパーオキシカルボニル)ベンゾフェノン、3,3′,4,4′−テトラ(tert−オクチルパーオキシカルボニル)ベンゾフェノン、3,3′,4,4′−テトラ(クミルパーオキシカルボニル)ベンゾフェノン、3,3′,4,4′−テトラ(p−イソプロピルクミルパーオキシカルボニル)ベンゾフェノン、ジ−tert−ブチルジパーオキシイソフタレート等の過酸化エステル系が好ましい。   (C) Examples of organic peroxides include almost all organic compounds having one or more oxygen-oxygen bonds in the molecule. For example, 3,3 ′, 4,4′-tetra (tert-butyl) Peroxycarbonyl) benzophenone, 3,3 ′, 4,4′-tetra (tert-amylperoxycarbonyl) benzophenone, 3,3 ′, 4,4′-tetra (tert-hexylperoxycarbonyl) benzophenone, 3, 3 ', 4,4'-tetra (tert-octylperoxycarbonyl) benzophenone, 3,3', 4,4'-tetra (cumylperoxycarbonyl) benzophenone, 3,3 ', 4,4'-tetra ( p-Isopropylcumylperoxycarbonyl) benzophenone, di-tert-butyldiperoxyisophthalate, etc. Tel systems are preferred.

(d)ヘキサアリールビイミダゾールの例としては、特公昭45−37377号公報、特公昭44−86516号公報に記載のロフィンダイマー類、例えば、2,2′−ビス(o−クロロフェニル)−4,4′,5,5′−テトラフェニルビイミダゾール、2,2′−ビス(o−ブロモフェニル)−4,4′,5,5′−テトラフェニルビイミダゾール、2,2′−ビス(o,p−ジクロロフェニル)−4,4′,5,5′−テトラフェニルビイミダゾール、2,2′−ビス(o−クロロフェニル)−4,4′,5,5′−テトラ(m−メトキシフェニル)ビイミダゾール、2,2′−ビス(o,o′−ジクロロフェニル)−4,4′,5,5′−テトラフェニルビイミダゾール、2,2′−ビス(o−ニトロフェニル)−4,4′,5,5′−テトラフェニルビイミダゾール、2,2′−ビス(o−メチルフェニル)−4,4′,5,5′−テトラフェニルビイミダゾール、2,2′−ビス(o−トリフルオロメチルフェニル)−4,4′,5,5′−テトラフェニルビイミダゾール等が挙げられる。   (D) Examples of hexaarylbiimidazole include lophine dimers described in JP-B Nos. 45-37377 and 44-86516, such as 2,2′-bis (o-chlorophenyl) -4, 4 ', 5,5'-tetraphenylbiimidazole, 2,2'-bis (o-bromophenyl) -4,4', 5,5'-tetraphenylbiimidazole, 2,2'-bis (o, p-dichlorophenyl) -4,4 ', 5,5'-tetraphenylbiimidazole, 2,2'-bis (o-chlorophenyl) -4,4', 5,5'-tetra (m-methoxyphenyl) bi Imidazole, 2,2'-bis (o, o'-dichlorophenyl) -4,4 ', 5,5'-tetraphenylbiimidazole, 2,2'-bis (o-nitrophenyl) -4,4', 5,5 -Tetraphenylbiimidazole, 2,2'-bis (o-methylphenyl) -4,4 ', 5,5'-tetraphenylbiimidazole, 2,2'-bis (o-trifluoromethylphenyl) -4 4,4 ', 5,5'-tetraphenylbiimidazole and the like.

(e)ケトオキシムエステルの例としては、3−ベンゾイロキシイミノブタン−2−オン、3−アセトキシイミノブタン−2−オン、3−プロピオニルオキシイミノブタン−2−オン、2−アセトキシイミノペンタン−3−オン、2−アセトキシイミノ−1−フェニルプロパン−1−オン、2−ベンゾイロキシイミノ−1−フェニルプロパン−1−オン、3−p−トルエンスルホニルオキシイミノブタン−2−オン、2−エトキシカルボニルオキシイミノ−1−フェニルプロパン−1−オン等が挙げられる。   (E) Examples of ketoxime esters include 3-benzoyloxyiminobutan-2-one, 3-acetoxyiminobutan-2-one, 3-propionyloxyiminobutan-2-one, 2-acetoxyiminopentane- 3-one, 2-acetoxyimino-1-phenylpropan-1-one, 2-benzoyloxyimino-1-phenylpropan-1-one, 3-p-toluenesulfonyloxyiminobutan-2-one, 2- And ethoxycarbonyloxyimino-1-phenylpropan-1-one.

(f)アジニウム塩化合物の例としては、特開昭63−138345号公報、特開昭63−142345号公報、特開昭63−142346号公報、特開昭63−143537号公報、特公昭46−42363号公報等に記載のN−O結合を有する化合物群を挙げることができる。   Examples of (f) azinium salt compounds include JP-A-63-138345, JP-A-63-142345, JP-A-63-142346, JP-A-63-143537, JP-B-46. The compound group which has NO bond as described in -42363 gazette etc. can be mentioned.

(g)活性エステル化合物の例としては、特公昭62−6223号公報等に記載のイミドスルホネート化合物、特公昭63−14340号公報、特開昭59−174831号公報等に記載の活性スルホネート類を挙げることができる。   (G) Examples of active ester compounds include imide sulfonate compounds described in JP-B-62-2223 and the like, and active sulfonates described in JP-B-63-14340, JP-A-59-174831, and the like. Can be mentioned.

(h)メタロセン化合物の例としては、特開昭59−152396号公報、特開昭61−151197号公報、特開昭63−41484号公報、特開平2−249号公報、特開平2−4705号公報等に記載のチタノセン化合物、並びに特開平1−304453号公報、特開平1−152109号公報等に記載の鉄−アレーン錯体等を挙げることができる。   (H) Examples of metallocene compounds include JP-A-59-152396, JP-A-61-151197, JP-A-63-41484, JP-A-2-249, and JP-A-2-4705. And titanocene compounds described in JP-A-1-304453, and iron-arene complexes described in JP-A-1-152109 and the like.

(i)トリハロアルキル置換化合物の例としては、具体的にはトリクロロメチル基、トリブロモメチル基等のトリハロアルキル基を分子内に少なくとも一個以上有する化合物であり、米国特許第3,954,475号明細書、米国特許第3,987,037号明細書、米国特許第4,189,323号明細書、特開昭61−151644号公報、特開昭63−298339号公報、特開平4−69661号公報、特開平11−153859号公報等に記載のトリハロメチル−s−トリアジン化合物、特開昭54−74728号公報、特開昭55−77742号公報、特開昭60−138539号公報、特開昭61−143748号公報、特開平4−362644号公報、特開平11−84649号公報等に記載の2−トリハロメチル−1,3,4−オキサジアゾール誘導体等が挙げられる。また、該トリハロアルキル基がスルホニル基を介して芳香族環あるいは含窒素複素環に結合した、特開2001−290271号公報等に記載のトリハロアルキルスルホニル化合物が挙げられる。   (I) Specific examples of the trihaloalkyl-substituted compound include compounds having at least one trihaloalkyl group such as a trichloromethyl group and a tribromomethyl group in the molecule. US Pat. No. 3,954,475 Specification, U.S. Pat. No. 3,987,037, U.S. Pat. No. 4,189,323, JP-A-61-151644, JP-A-63-298339, JP-A-4-69661 And trihalomethyl-s-triazine compounds described in JP-A-11-153859, JP-A-54-74728, JP-A-55-77742, JP-A-60-138539, 2-Trihalomethyl-1,3 described in JP-A-61-143748, JP-A-4-362644, JP-A-11-84649, etc. 4- oxadiazole derivatives. Moreover, the trihaloalkyl sulfonyl compound as described in Unexamined-Japanese-Patent No. 2001-290271 etc. which this trihaloalkyl group couple | bonded with the aromatic ring or the nitrogen-containing heterocyclic ring through the sulfonyl group is mentioned.

(j)有機ホウ素塩化合物の例としては、特開平8−217813号公報、特開平9−106242号公報、特開平9−188685号公報、特開平9−188686号公報、特開平9−188710号公報等に記載の有機ホウ素アンモニウム化合物、特開平6−175561号公報、特開平6−175564号公報、特開平6−157623号公報等に記載の有機ホウ素スルホニウム化合物及び有機ホウ素オキソスルホニウム化合物、特開平6−175553号公報、特開平6−175554号公報等に記載の有機ホウ素ヨードニウム化合物、特開平9−188710号公報等に記載の有機ホウ素ホスホニウム化合物、特開平6−348011号公報、特開平7−128785号公報、特開平7−140589号公報、特開平7−292014号公報、特開平7−306527号公報等に記載の有機ホウ素遷移金属配位錯体化合物等が挙げられる。また、特開昭62−143044号公報、特開平5−194619号公報等に記載の対アニオンとして有機ホウ素アニオンを含有するカチオン性色素が挙げられる。   (J) Examples of the organic boron salt compound include JP-A-8-217813, JP-A-9-106242, JP-A-9-18885, JP-A-9-188686, JP-A-9-188710. Organoboron ammonium compounds described in JP-A-6-175561, JP-A-6-175564, JP-A-6-157623, and the like. Organoboron iodonium compounds described in JP-A-6-175553, JP-A-6-175554, etc., Organoboron phosphonium compounds described in JP-A-9-188710, JP-A-6-348011, JP-A-7- 128785, JP-A-7-140589, JP-A-7-2920 4 JP, organic boron transition metal coordination complex compound described in JP-A-7-306527 Patent Publication, and the like. Examples of the counter anion described in JP-A-62-143044 and JP-A-5-194619 include cationic dyes containing an organic boron anion.

本発明の感光性の画像形成層に関わる光重合開始剤については特に有機ホウ素塩が好ましく用いられる。更に好ましくは、有機ホウ素塩とトリハロアルキル置換化合物(例えばトリハロアルキル置換された含窒素複素環化合物としてs−トリアジン化合物及びオキサジアゾール誘導体、トリハロアルキルスルホニル化合物)を組み合わせて用いることである。   As the photopolymerization initiator relating to the photosensitive image forming layer of the present invention, an organic boron salt is particularly preferably used. More preferably, an organic boron salt and a trihaloalkyl-substituted compound (for example, an s-triazine compound, an oxadiazole derivative or a trihaloalkylsulfonyl compound as a trihaloalkyl-substituted nitrogen-containing heterocyclic compound) are used in combination.

有機ホウ素塩を構成する有機ホウ素アニオンは、下記一般式VIで表される。   The organoboron anion constituting the organoboron salt is represented by the following general formula VI.

Figure 2012159808
Figure 2012159808

式中、R15、R16、R17及びR18は各々同じであっても異なっていても良く、アルキル基、アリール基、アラルキル基、アルケニル基、アルキニル基、シクロアルキル基、複素環基を表す。これらのうちで、R15、R16、R17及びR18のうちの一つがアルキル基であり、他の置換基がアリール基である場合が特に好ましい。 In the formula, each of R 15 , R 16 , R 17 and R 18 may be the same or different, and represents an alkyl group, an aryl group, an aralkyl group, an alkenyl group, an alkynyl group, a cycloalkyl group, or a heterocyclic group. To express. Of these, it is particularly preferred that one of R 15 , R 16 , R 17 and R 18 is an alkyl group and the other substituent is an aryl group.

上記の有機ホウ素アニオンは、これと塩を形成するカチオンが同時に存在する。この場合のカチオンとしては、アルカリ金属イオン、オニウムイオン及びカチオン性増感色素が挙げられる。オニウム塩としては、アンモニウム、スルホニウム、ヨードニウム及びホスホニウム化合物が挙げられる。アルカリ金属イオンまたはオニウム化合物と有機ホウ素アニオンとの塩を用いる場合には、別に増感色素を添加することで色素が吸収する光の波長範囲での感光性を付与することが行われる。また、カチオン性増感色素の対アニオンとして有機ホウ素アニオンを含有する場合は、該増感色素の吸収波長に応じて感光性が付与される。しかし、後者の場合は更にアルカリ金属もしくはオニウム塩の対アニオンとして有機ホウ素アニオンを併せて含有するのが好ましい。   In the above-mentioned organoboron anion, a cation that forms a salt is simultaneously present. Examples of the cation in this case include alkali metal ions, onium ions, and cationic sensitizing dyes. Examples of onium salts include ammonium, sulfonium, iodonium and phosphonium compounds. When a salt of an alkali metal ion or onium compound and an organic boron anion is used, photosensitivity in the wavelength range of light absorbed by the dye is imparted by adding a sensitizing dye separately. Further, when an organic boron anion is contained as a counter anion of the cationic sensitizing dye, photosensitivity is imparted according to the absorption wavelength of the sensitizing dye. However, in the latter case, it is preferable to further contain an organic boron anion as a counter anion of the alkali metal or onium salt.

本発明の感光性の画像形成層に用いられる有機ホウ素塩としては、先に示した一般式VIで表される有機ホウ素アニオンを含む塩であり、塩を形成するカチオンとしてはアルカリ金属イオン及びオニウム化合物が好ましく使用される。特に好ましい例は、有機ホウ素アニオンとのオニウム塩として、テトラアルキルアンモニウム塩等のアンモニウム塩、トリアリールスルホニウム塩等のスルホニウム塩、トリアリールアルキルホスホニウム塩等のホスホニウム塩が挙げられる。特に好ましい有機ホウ素塩の例を下記に示す。   The organic boron salt used in the photosensitive image forming layer of the present invention is a salt containing the organic boron anion represented by the general formula VI described above, and the cation forming the salt includes alkali metal ions and onium. Compounds are preferably used. Particularly preferable examples of the onium salt with an organic boron anion include ammonium salts such as tetraalkylammonium salts, sulfonium salts such as triarylsulfonium salts, and phosphonium salts such as triarylalkylphosphonium salts. Examples of particularly preferred organic boron salts are shown below.

Figure 2012159808
Figure 2012159808

Figure 2012159808
Figure 2012159808

本発明の感光性の画像形成層に用いられる光酸発生剤としては、光または電子線の照射により分解し、塩酸、スルホン酸等の強酸やルイス酸の如き酸を発生しうる化合物であれば任意の化合物を用いることができる。本発明に用いることのできる光酸発生剤の例としては、(k)芳香族ジアゾニウム塩化合物、(l)ピバリン酸−o−ニトロベンジルエステル、ベンゼンスルホン酸−o−ニトロベンジルエステル等のo−ニトロベンジルエステル類、(m)9,10−ジメトキシアントラセン−2−スルホン酸−4−ニトロベンジルエステル、ピロガロールトリスメタンスルホネート、ナフトキノンジアジド−4−スルホン酸エステル類等のスルホン酸エステル誘導体、(n)ジベンジルスルホン、4−クロロフェニル−4′−メトキシフェニルジスルホン等のスルホン類、(o)リン酸エステル誘導体及び(p)米国特許第3,332,936号明細書、特開平2−83638号公報、特開平11−322707号公報、特開2000−1469号公報等に記載のスルホニルジアゾメタン化合物等を挙げることができる。   The photoacid generator used in the photosensitive image-forming layer of the present invention is a compound that can be decomposed by irradiation with light or electron beam to generate a strong acid such as hydrochloric acid or sulfonic acid or an acid such as a Lewis acid. Any compound can be used. Examples of photoacid generators that can be used in the present invention include (k) aromatic diazonium salt compounds, (l) p-valic acid-o-nitrobenzyl ester, benzenesulfonic acid-o-nitrobenzyl ester, o- Sulfonic acid ester derivatives such as nitrobenzyl esters, (m) 9,10-dimethoxyanthracene-2-sulfonic acid-4-nitrobenzyl ester, pyrogallol trismethanesulfonate, naphthoquinonediazide-4-sulfonic acid esters, (n) Sulfones such as dibenzylsulfone and 4-chlorophenyl-4'-methoxyphenyldisulfone, (o) phosphate ester derivatives and (p) U.S. Pat. No. 3,332,936, JP-A-2-83638, JP 11-322707 A, JP 2000-1469 A, etc. And the like sulfonyl diazomethane compounds described.

本発明の感光性の画像形成層において、有機ホウ素塩と共に用いることで更に高感度化、硬調化が具現される光重合開始剤としてトリハロアルキル置換化合物が挙げられる。上記トリハロアルキル置換化合物とは、具体的にはトリクロロメチル基、トリブロモメチル基等のトリハロアルキル基を分子内に少なくとも一個以上有する化合物であり、好ましい例としては、該トリハロアルキル基が含窒素複素環基に結合した化合物としてs−トリアジン誘導体及びオキサジアゾール誘導体が挙げられ、あるいは、該トリハロアルキル基がスルホニル基を介して芳香族環あるいは含窒素複素環に結合したトリハロアルキルスルホニル化合物が挙げられる。   In the photosensitive image-forming layer of the present invention, a trihaloalkyl-substituted compound can be used as a photopolymerization initiator that can be further enhanced in sensitivity and contrast when used with an organic boron salt. Specifically, the trihaloalkyl-substituted compound is a compound having at least one trihaloalkyl group such as a trichloromethyl group or a tribromomethyl group in the molecule. As a preferable example, the trihaloalkyl group is a nitrogen-containing complex. Examples of the compound bonded to the ring group include s-triazine derivatives and oxadiazole derivatives, or trihaloalkylsulfonyl compounds in which the trihaloalkyl group is bonded to an aromatic ring or a nitrogen-containing heterocycle via a sulfonyl group. .

トリハロアルキル置換した含窒素複素環化合物やトリハロアルキルスルホニル化合物の特に好ましい例を下記に示す。   Particularly preferred examples of trihaloalkyl-substituted nitrogen-containing heterocyclic compounds and trihaloalkylsulfonyl compounds are shown below.

Figure 2012159808
Figure 2012159808

Figure 2012159808
Figure 2012159808

上記光重合開始剤及び光酸発生剤は単独で用いても良いし、任意の2種以上の組み合わせで用いても良い。また、任意の光重合開始剤と任意の光酸発生剤を組み合わせて用いることもできる。光重合開始剤及び光酸発生剤の含有量は、感光性ポリマーのいずれかの量に対して、1〜100質量%の範囲が好ましく、更に1〜40質量%の範囲が特に好ましい。   The photopolymerization initiator and photoacid generator may be used alone or in any combination of two or more. Further, any photopolymerization initiator and any photoacid generator can be used in combination. The content of the photopolymerization initiator and the photoacid generator is preferably in the range of 1 to 100% by mass and more preferably in the range of 1 to 40% by mass with respect to any amount of the photosensitive polymer.

本発明の感光性の画像形成層を構成する他の好ましい要素として、分子内に重合性不飽和結合基を有する重合性モノマーを挙げることができる。重合性不飽和結合基とは、光重合開始剤または光酸発生剤の作用により、光重合反応あるいは光架橋反応に寄与しうるエチレン性不飽和二重結合基を表す。特に、分子内に重合性不飽和結合基を2つ以上有する多官能重合性モノマーを使用することが好ましい。このような重合性モノマーの例としては、1,4−ブタンジオールジアクリレート、1,6−ヘキサンジオールジアクリレート、ネオペンチルグリコールジアクリレート、テトラエチレングリコールジアクリレート、トリスアクリロイルオキシエチルイソシアヌレート、トリプロピレングリコールジアクリレート、エチレングリコールグリセロールトリアクリレート、グリセロールエポキシトリアクリレート、トリメチロールプロパントリアクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート等の多官能アクリレート系モノマー、これら例示化合物のアクリレートをメタクリレートに代えた多官能メタクリレート系モノマー、同様にイタコン酸エステル系モノマー、クロトン酸エステル系モノマー、マレイン酸エステル系モノマー等が挙げられる。   As another preferable element constituting the photosensitive image forming layer of the present invention, a polymerizable monomer having a polymerizable unsaturated bond group in the molecule can be exemplified. The polymerizable unsaturated bond group represents an ethylenically unsaturated double bond group that can contribute to a photopolymerization reaction or a photocrosslinking reaction by the action of a photopolymerization initiator or a photoacid generator. In particular, it is preferable to use a polyfunctional polymerizable monomer having two or more polymerizable unsaturated bond groups in the molecule. Examples of such polymerizable monomers include 1,4-butanediol diacrylate, 1,6-hexanediol diacrylate, neopentyl glycol diacrylate, tetraethylene glycol diacrylate, trisacryloyloxyethyl isocyanurate, tripropylene. Polyfunctional acrylate monomers such as glycol diacrylate, ethylene glycol glycerol triacrylate, glycerol epoxy triacrylate, trimethylol propane triacrylate, pentaerythritol triacrylate, pentaerythritol tetraacrylate, etc. Methacrylate monomers, as well as itaconic acid monomers, crotonic acid monomers , Maleic acid ester monomers.

他の重合性モノマーの例としては、スチレン誘導体が挙げられる。このスチレン誘導体としては、分子内に2つ以上のビニルフェニル基を有する化合物が好ましい。例えば、1,4−ジビニルベンゼン、1,4−ジイソプロペニルベンゼン、1,4−ビス(4−ビニルベンジルオキシ)ベンゼン、1,2,3−トリス(4−ビニルベンジルオキシ)ベンゼン、1,3,5−トリス(4−ビニルベンジルオキシ)ベンゼン、2,2−ビス[4−(4−ビニルベンジルオキシ)フェニル]プロパン、1,1,2,2−テトラキス[4−(4−ビニルベンジルオキシ)フェニル]エタン、α,α,α′,α′−テトラキス[4−(4−ビニルベンジルオキシ)]p−キシレン、1,2−ビス(4−ビニルベンジルチオ)エタン、1,4−ビス(4−ビニルベンジルチオ)ブタン、ビス[2−(4−ビニルベンジルチオ)エチル]エーテル、2,5−ビス(4−ビニルベンジルチオ)−1,3,4−チアジアゾール、2,4,6−トリス(4−ビニルベンジルチオ)−1,3,5−トリアジン、N,N−ビス(4−ビニルベンジル)−N−メチルアミン、N,N,N′,N′−テトラキス(4−ビニルベンジル)−1,2−ジアミノエタン、N,N,N′,N′−テトラキス(4−ビニルベンジル)p−フェニレンジアミン、マレイン酸ビス(4−ビニルベンジル)エステル等が挙げられる。   Examples of other polymerizable monomers include styrene derivatives. The styrene derivative is preferably a compound having two or more vinylphenyl groups in the molecule. For example, 1,4-divinylbenzene, 1,4-diisopropenylbenzene, 1,4-bis (4-vinylbenzyloxy) benzene, 1,2,3-tris (4-vinylbenzyloxy) benzene, 3,5-tris (4-vinylbenzyloxy) benzene, 2,2-bis [4- (4-vinylbenzyloxy) phenyl] propane, 1,1,2,2-tetrakis [4- (4-vinylbenzyl) Oxy) phenyl] ethane, α, α, α ′, α′-tetrakis [4- (4-vinylbenzyloxy)] p-xylene, 1,2-bis (4-vinylbenzylthio) ethane, 1,4- Bis (4-vinylbenzylthio) butane, bis [2- (4-vinylbenzylthio) ethyl] ether, 2,5-bis (4-vinylbenzylthio) -1,3,4-thiadiazole, , 4,6-Tris (4-vinylbenzylthio) -1,3,5-triazine, N, N-bis (4-vinylbenzyl) -N-methylamine, N, N, N ′, N′-tetrakis (4-vinylbenzyl) -1,2-diaminoethane, N, N, N ′, N′-tetrakis (4-vinylbenzyl) p-phenylenediamine, maleic acid bis (4-vinylbenzyl) ester and the like. .

あるいは、上記の重合性モノマーに代えてラジカル重合性を有する重合性オリゴマーも好ましく用いることができる。例えば、アクリロイル基、メタクリロイル基を導入した各種オリゴマーとしてポリエステル(メタ)アクリレート、ウレタン(メタ)アクリレート、エポキシ(メタ)アクリレート等を重合性モノマーと同様に用いることができる。   Alternatively, a polymerizable oligomer having radical polymerizability can be preferably used instead of the above polymerizable monomer. For example, polyester (meth) acrylate, urethane (meth) acrylate, epoxy (meth) acrylate and the like can be used in the same manner as the polymerizable monomer as various oligomers into which acryloyl group and methacryloyl group are introduced.

上述した感光性ポリマーを用いた感光層の中で、特に、重合体Bを用いた感光層が、画像部の強度が特に優れている点で好ましい。重合体Bからなる感光層を平版印刷版として使用した場合には、現像処理を行わずに印刷機に装着して印刷するのに特に好適であり、かつ耐刷性に優れたネガ型感光性平版印刷版を得ることができる。   Among the photosensitive layers using the above-described photosensitive polymer, the photosensitive layer using the polymer B is particularly preferable because the strength of the image area is particularly excellent. When the photosensitive layer made of the polymer B is used as a lithographic printing plate, it is particularly suitable for printing on a printing press without carrying out development processing, and negative photosensitive property with excellent printing durability. A lithographic printing plate can be obtained.

本発明の感光性の画像形成層は、可視光から赤外光の領域に吸収を有し、前述の光重合開始剤または光酸発生剤を増感する増感剤を併せて含有することが好ましい。増感剤としては、各種増感色素が好ましく用いられる。このような増感色素として、シアニン、フタロシアニン、メロシアニン、ポルフィリン、スピロ化合物、フェロセン、フルオレン、フルギド、イミダゾール、ペリレン、フェナジン、フェノチアジン、ポリエン、アゾ化合物、ジフェニルメタン、トリフェニルメタン、トリメチンアクリジン、クマリン、ケトクマリン、キナクリドン、インジゴ、スチリル、スクアリリウム化合物、ピリリウム化合物、チオピリリウム化合物が挙げられ、更に欧州特許第0,568,993号明細書、米国特許第4,508,811号明細書、米国特許第5,227,227号明細書等に記載の化合物も用いることができる。   The photosensitive image-forming layer of the present invention may contain a sensitizer that has absorption in the visible light to infrared light region and sensitizes the aforementioned photopolymerization initiator or photoacid generator. preferable. As the sensitizer, various sensitizing dyes are preferably used. Such sensitizing dyes include cyanine, phthalocyanine, merocyanine, porphyrin, spiro compound, ferrocene, fluorene, fulgide, imidazole, perylene, phenazine, phenothiazine, polyene, azo compound, diphenylmethane, triphenylmethane, trimethine acridine, coumarin, Examples include ketocoumarin, quinacridone, indigo, styryl, squarylium compound, pyrylium compound, thiopyrylium compound, and further EP 0,568,993, U.S. Pat. No. 4,508,811, U.S. Pat. The compounds described in 227,227, etc. can also be used.

近年、400〜430nmに発信波長を有する青色半導体レーザーを搭載した出力機が開発されている。この出力機は最大エネルギー量が数百μJ/cm程度で、用いられる感光材料も高感度が要求される。本発明の平版印刷版において、下記の増感色素を組み合わせることでこの出力機に対応した平版印刷版を用いることができる。 In recent years, an output machine equipped with a blue semiconductor laser having a transmission wavelength of 400 to 430 nm has been developed. This output machine has a maximum energy amount of about several hundred μJ / cm 2 , and the photosensitive material used is required to have high sensitivity. In the lithographic printing plate of the present invention, a lithographic printing plate corresponding to this output machine can be used by combining the following sensitizing dyes.

Figure 2012159808
Figure 2012159808

Figure 2012159808
Figure 2012159808

Figure 2012159808
Figure 2012159808

700〜900nmにおける増感色素として、シアニン、フタロシアニン、メロシアニン、クマリン、ポリフィリン、スピロ化合物、フェロセン、フルオレン、フルギド、イミダゾール、ペリレン、フェナジン、フェノチアジン、ポリエン、アゾ化合物、ジフェニルメタン、トリフェニルメタン、ポリメチンアクリジン、クマリン、ケトクマリン、キナクリドン、インジゴ、スチリル、スクアリリウム化合物、ピリリウム化合物が挙げられ、更に、欧州特許第0,568,993号明細書、米国特許第4,508,811号明細書、米国特許第5,227,227号明細書に記載の化合物も用いることができる。   As sensitizing dyes at 700 to 900 nm, cyanine, phthalocyanine, merocyanine, coumarin, porphyrin, spiro compound, ferrocene, fluorene, fulgide, imidazole, perylene, phenazine, phenothiazine, polyene, azo compound, diphenylmethane, triphenylmethane, polymethine acridine, Coumarin, ketocoumarin, quinacridone, indigo, styryl, squarylium compound, pyrylium compound, and further, European Patent No. 0,568,993, US Pat. No. 4,508,811, US Pat. No. 5, The compounds described in 227,227 can also be used.

700〜900nm付近の近赤外光に対応する増感色素を下記に示す。   Sensitizing dyes corresponding to near-infrared light in the vicinity of 700 to 900 nm are shown below.

Figure 2012159808
Figure 2012159808

Figure 2012159808
Figure 2012159808

上記のような増感色素の含有量には好ましい範囲が存在し、感光層1平方メートル当たり1〜300mgの範囲で添加することが好ましく、更に、感光層平方メートル当たり5〜200mgの範囲で添加することが特に好ましい。   There is a preferable range for the content of the sensitizing dye as described above, and it is preferably added in the range of 1 to 300 mg per square meter of the photosensitive layer, and further added in the range of 5 to 200 mg per square meter of the photosensitive layer. Is particularly preferred.

本発明の感光性の画像形成層は、上述した成分以外にも種々の目的で他の成分を添加することも好ましく行われる。特に、重合性不飽和結合基の熱重合あるいは熱架橋を防止し、長期にわたる保存性を向上させる目的で、種々の重合禁止剤を添加することが好ましく行われる。この場合の重合禁止剤としては、ハイドロキノン類、カテコール類、ナフトール類、クレゾール類等の各種フェノール性水酸基を有する化合物やキノン類化合物等が好ましく使用され、特にハイドロキノンが好ましく使用される。この場合の重合禁止剤の添加量としては、感光性ポリマー100質量部に対して0.1質量部から10質量部の範囲で使用することが好ましい。   In the photosensitive image forming layer of the present invention, it is also preferable to add other components for various purposes in addition to the components described above. In particular, it is preferable to add various polymerization inhibitors for the purpose of preventing thermal polymerization or thermal crosslinking of the polymerizable unsaturated bonding group and improving the long-term storage stability. As the polymerization inhibitor in this case, compounds having various phenolic hydroxyl groups such as hydroquinones, catechols, naphthols, and cresols, quinone compounds, and the like are preferably used, and hydroquinone is particularly preferably used. In this case, the polymerization inhibitor is preferably added in an amount of 0.1 to 10 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the photosensitive polymer.

その他の要素として、着色剤の添加も好ましく行うことができる。着色剤としては、露光及び現像処理後において、画像部の視認性を高める目的で使用されるものであり、カーボンブラック、フタロシアニン系色素、トリアリールメタン系色素、アントラキノン系色素、アゾ系色素等の各種の色素及び顔料を使用することができ、感光性ポリマー1質量部に対して0.005質量部から0.5質量部の範囲で使用することが好ましい。   As other elements, a colorant can also be preferably added. As the colorant, it is used for the purpose of enhancing the visibility of the image area after exposure and development processing, such as carbon black, phthalocyanine dye, triarylmethane dye, anthraquinone dye, azo dye, etc. Various dyes and pigments can be used, and it is preferably used in the range of 0.005 parts by mass to 0.5 parts by mass with respect to 1 part by mass of the photosensitive polymer.

感光層を塗布する場合は、上述した要素から構成される組成物の塗液を、親水性層上に塗布、乾燥して作製される。塗布方法としては、公知の種々の方法を用いることができ、例えば、バーコーター塗布、カーテン塗布、ブレード塗布、エアーナイフ塗布、ロール塗布、回転塗布、ディップ塗布等を挙げることができる。   When the photosensitive layer is applied, it is prepared by applying and drying a coating liquid of a composition composed of the above-described elements on the hydrophilic layer. Various known methods can be used as the coating method, and examples thereof include bar coater coating, curtain coating, blade coating, air knife coating, roll coating, spin coating, and dip coating.

[オーバー層]
本発明の感光性の画像形成層上には、オーバー層を設けることが好ましい。オーバー層は水溶性のポリマーを含有することが好ましく、かかる水溶性のポリマーとしては、酸素を遮断する水溶性ポリマーが好ましく、水溶性ビニルポリマーがその代表例であり、中でもポリビニルアルコールが好ましく用いられる。特に、完全鹸化型のポリビニルアルコールを用いることは感度及び保存性の観点から好ましい。
[Over layer]
It is preferable to provide an over layer on the photosensitive image forming layer of the present invention. The over layer preferably contains a water-soluble polymer, and as such a water-soluble polymer, a water-soluble polymer that blocks oxygen is preferable, and a water-soluble vinyl polymer is a typical example, and among them, polyvinyl alcohol is preferably used. . In particular, it is preferable to use completely saponified polyvinyl alcohol from the viewpoints of sensitivity and storage stability.

本発明の感光性の画像形成層の平版印刷版のオーバー層としては、上記ポリマーの他に、感光層が空気との接触、特に酸素の接触をできるだけ防ぐために膜形成性が良好で、しかも現像時に未露光部の感光層と共に除去できるものが好ましい。このような化合物として、水溶性アクリル樹脂、ポリビニルピロリドン、ゼラチン、アラビアゴム等が挙げられる。   As the overlayer of the lithographic printing plate of the photosensitive image-forming layer of the present invention, in addition to the above-mentioned polymer, the photosensitive layer has good film-forming properties in order to prevent contact with air as much as possible, particularly oxygen, and development. Those which are sometimes removable together with the unexposed photosensitive layer are preferred. Examples of such compounds include water-soluble acrylic resins, polyvinyl pyrrolidone, gelatin, and gum arabic.

オーバー層に用いるポリビニルアルコールは、必要な水溶性の発現に必要な実質的量の未置換ビニルアルコール単位を含有してさえいれば、一部がエステル、エーテル、及びアセタールで置換されていても良い。また、同様に一部が他の共重合成分を含有しても良い。ポリビニルアルコールの具体例としては、71〜100%加水分解され、重合度が300〜2400の範囲のものが挙げられる。具体的には(株)クラレ製、PVA−105、PVA−110、PVA−117、PVA−117H、PVA−120、PVA−124、PVA−124H、PVA−CS、PVA−CST、PVA−HC、PVA−203、PVA−204、PVA−205、PVA−210、PVA−217、PVA−220、PVA−224、PVA−217EE、PVA−217E、PVA−220E、PVA−405、PVA−420、PVA−613等が挙げられる。上記の共重合体としては88〜100%加水分解されたポリビニルアセテートクロロアセテートまたはプロピオネート、ポリビニルホルマール及びポリビニルアセタール及びそれらの共重合体が挙げられる。   The polyvinyl alcohol used for the over layer may be partially substituted with an ester, an ether, and an acetal as long as it contains a substantial amount of unsubstituted vinyl alcohol units necessary for the development of the required water solubility. . Similarly, a part may contain other copolymerization components. Specific examples of the polyvinyl alcohol include those having a hydrolysis degree of 71 to 100% and a polymerization degree of 300 to 2400. Specifically, Kuraray Co., Ltd., PVA-105, PVA-110, PVA-117, PVA-117H, PVA-120, PVA-124, PVA-124H, PVA-CS, PVA-CST, PVA-HC, PVA-203, PVA-204, PVA-205, PVA-210, PVA-217, PVA-220, PVA-224, PVA-217EE, PVA-217E, PVA-220E, PVA-405, PVA-420, PVA- 613 etc. are mentioned. Examples of the copolymer include 88-100% hydrolyzed polyvinyl acetate chloroacetate or propionate, polyvinyl formal, polyvinyl acetal, and copolymers thereof.

オーバー層を塗布する際用いる溶媒としては水が好ましいが、メタノール、エタノール等のアルコール類、アセトン、メチルエチルケトン等のケトンを水と混合しても良い。塗布液中の固形分濃度は1〜20質量%が適当である。   Water is preferable as a solvent used when the over layer is applied, but alcohols such as methanol and ethanol, and ketones such as acetone and methyl ethyl ketone may be mixed with water. The solid content concentration in the coating solution is suitably 1 to 20% by mass.

また、オーバー層には更に塗布性を向上させるための界面活性剤、皮膜の物性を改良するための水溶性の可塑剤等の添加剤を加えても良い。水溶性の可塑剤としては例えばプロピオンアミド、シクロヘキサンジオール、グリセリン、ソルビトール等がある。   Further, an additive such as a surfactant for improving the coating property and a water-soluble plasticizer for improving the physical properties of the film may be added to the over layer. Examples of the water-soluble plasticizer include propionamide, cyclohexanediol, glycerin, sorbitol and the like.

[製版方法]
本発明の感光性の画像形成層における平版印刷版は、密着露光あるいはレーザー走査露光を行った後、アルカリ性現像液やケミカルレス現像液により未露光部を除去することでパターン形成が行われる。露光された部分は架橋することでアルカリ性現像液あるいはケミカルレス現像液に対する溶解性が低下し、画像部が形成される。
[Plate making method]
The lithographic printing plate in the photosensitive image forming layer of the present invention is subjected to contact exposure or laser scanning exposure and then subjected to pattern formation by removing unexposed portions with an alkaline developer or a chemicalless developer. The exposed portion is cross-linked, so that the solubility in an alkaline developer or a chemicalless developer is lowered, and an image portion is formed.

本発明の感光性の画像形成層における平版印刷版の製版方法としては、ケミカルレス現像液による現像を行うことが好ましい。ケミカルレス現像液は、従来から一般に用いられているアルカリ剤を多量に含有する強アルカリの現像液(通常pH10を超える)とは異なり、実質的にアルカリ剤は含まない。従って、本発明の水現像に用いられる現像液のpHは10以下であり、好ましくはpH9.5以下であり、より好ましくはpH9以下である。pHの下限は3程度である。ここで実質的にアルカリ剤を含まないとは、現像液の全質量に対してアルカリ剤が1質量%以下、より好ましくは0.1質量%以下であることを意味する。本発明のケミカルレス現像、あるいは水現像に用いられる現像液は、水が現像液全体の70質量%以上、更には80質量%以上を占めるものであり、他に添加剤として、エタノール、イソプロパノール、n−ブチルセルソルブ、エチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、グリセリン、ベンジルアルコール等の各種有機溶剤、あるいは、アニオン系、カチオン系、ノニオン系等の界面活性剤等を添加することもできる。   As a plate making method of a lithographic printing plate in the photosensitive image forming layer of the present invention, development with a chemicalless developer is preferably performed. Unlike a strong alkali developer (usually exceeding pH 10) that contains a large amount of an alkali agent that has been generally used, the chemical-less developer is substantially free of an alkali agent. Therefore, the pH of the developer used in the water development of the present invention is 10 or less, preferably pH 9.5 or less, and more preferably pH 9 or less. The lower limit of pH is about 3. Here, the phrase “substantially free of alkali agent” means that the alkali agent is 1% by mass or less, more preferably 0.1% by mass or less, based on the total mass of the developer. The developer used in the chemicalless development or water development of the present invention is such that water accounts for 70% by mass or more, more preferably 80% by mass or more of the entire developer, and other additives include ethanol, isopropanol, Various organic solvents such as n-butyl cellosolve, ethylene glycol, diethylene glycol, triethylene glycol, glycerin, and benzyl alcohol, or anionic, cationic, and nonionic surfactants can be added.

[ネガ型感光性平版印刷版の作製] [Preparation of negative photosensitive lithographic printing plate]

二酸化チタンとコロイダルシリカと水を、下記組成のように混合して、ホモミキサーにて8000rpmで10分間分散を行った。使用した二酸化チタンとコロイダルシリカ及び、その添加量は表1の通りとした。また、コロイダルシリカを全く添加しないで二酸化チタンを10質量部水に添加してホモミキサーで分散を行ったが分散できなかったので、アロンT50(東亞合成(株)製ポリアクリル酸分散剤)を0.1質量部添加して水で50質量部に合わせて分散し、分散液を作製した。この二酸化チタン分散体を比較例4の親水性層塗液に使用した。   Titanium dioxide, colloidal silica, and water were mixed as in the following composition, and dispersed with a homomixer at 8000 rpm for 10 minutes. Table 1 shows the titanium dioxide and colloidal silica used and the amounts added. In addition, titanium dioxide was added to 10 parts by mass of water without adding colloidal silica, and dispersion was performed with a homomixer. However, Aron T50 (a polyacrylic acid dispersant manufactured by Toagosei Co., Ltd.) was added. 0.1 part by mass was added and dispersed to 50 parts by mass with water to prepare a dispersion. This titanium dioxide dispersion was used in the hydrophilic layer coating liquid of Comparative Example 4.

<二酸化チタン分散体を含む分散液>
二酸化チタン 10質量部(固形分)
コロイダルシリカA X質量部(固形分)
コロイダルシリカB Y質量部(固形分)
水で50質量部に合わせた。
<Dispersion containing titanium dioxide dispersion>
Titanium dioxide 10 parts by mass (solid content)
Colloidal silica A X parts by mass (solid content)
Colloidal silica BY parts by mass (solid content)
Adjusted to 50 parts by weight with water.

<親水性層>
厚みが0.20mmの、ポリエチレンテレフタレート支持体上に特開昭60−213942号公報の実施例4に示されるエポキシ化合物を含有した下引き組成物で水性下引き加工を行ったものに対して、下記組成の親水性層塗液1をワイヤーバーにて、水溶性ポリマー(A−5)の乾燥固形分量が0.8g/mになるよう塗布し、ドライヤーを用いて乾燥した。また、別に、上記の比較例4に用いた二酸化チタン分散体とコロイダルシリカを、表1に記載する添加量で親水性層塗液に直接添加したものを同様の手順で作製し、これを比較例5の親水性層とした。その後、40℃の保管庫で1週間加温し、架橋レベルを高めた。
<Hydrophilic layer>
With respect to what was subjected to aqueous subbing with a subbing composition containing an epoxy compound shown in Example 4 of JP-A-60-213942 on a polyethylene terephthalate support having a thickness of 0.20 mm, The hydrophilic layer coating liquid 1 having the following composition was applied with a wire bar so that the dry solid content of the water-soluble polymer (A-5) was 0.8 g / m 2 and dried using a drier. Separately, the titanium dioxide dispersion and colloidal silica used in Comparative Example 4 above were directly added to the hydrophilic layer coating liquid in the addition amounts shown in Table 1, and the same procedure was followed. The hydrophilic layer of Example 5 was obtained. Then, it warmed for 1 week in a 40 degreeC storage, and raised the bridge | crosslinking level.

<親水性層塗液>
水溶性ポリマー(A−5:重量平均分子量10万) 1.0質量部(固形分)
架橋剤(E−11) 0.2質量部(固形分)
二酸化チタン分散体 2.0質量部(固形分)
シリカ粒子 0.2質量部(固形分)
(グレイスデビソン社製サイロブロックS500、平均粒子径5.1μm、細孔容積0.40ml/g)
アクリルポリオール樹脂(DIC株式会社製WE301)0.24質量部(固形分)
エタノール 5.0質量部
1Nの水酸化ナトリウムを用いてpHを7.0に調整し、水で48質量部に合わせた。
<Hydrophilic layer coating solution>
Water-soluble polymer (A-5: weight average molecular weight 100,000) 1.0 part by mass (solid content)
Cross-linking agent (E-11) 0.2 parts by mass (solid content)
Titanium dioxide dispersion 2.0 parts by mass (solid content)
Silica particles 0.2 parts by mass (solid content)
(Grace Devison Silo Block S500, average particle size 5.1 μm, pore volume 0.40 ml / g)
Acrylic polyol resin (WE301 manufactured by DIC Corporation) 0.24 parts by mass (solid content)
Ethanol 5.0 parts by mass The pH was adjusted to 7.0 using 1N sodium hydroxide and adjusted to 48 parts by mass with water.

<光重合性の感光層/オーバー層>
上記のようにして得られた親水性層上に、下記の光重合性の感光層塗液を20g/m(湿分塗布量)、オーバー層塗液を30g/m(湿分塗布量)になるよう連続塗布機にてこの順に重層塗布を行い、50℃の乾燥ゾーンにて7分間乾燥を行った。乾燥ゾーン終端での塗布物の表面温度は50℃であった。その後、乾燥ゾーン終端に直に隣接した調湿ゾーンを経て、調湿ゾーンに直に隣接した巻き取り室で巻き取った。その後、巻き取った塗布物を加温庫で24時間加温し、ネガ型感光性平版印刷版1を得た。なお調湿ゾーン、巻き取り室、及び加温庫の環境は40℃40%RHである。
<Photopolymerizable photosensitive layer / over layer>
The above manner resulting hydrophilic layer, a photopolymerizable photosensitive layer coating solution 20 g / m 2 (wet coating amount) below, the over layer coating solution 30 g / m 2 (wet coating amount ) Was applied in this order with a continuous coater, and dried in a drying zone at 50 ° C. for 7 minutes. The surface temperature of the coated product at the end of the drying zone was 50 ° C. Then, it wound up in the winding chamber immediately adjacent to the humidity control zone through the humidity control zone immediately adjacent to the end of the drying zone. Thereafter, the wound-up coating was heated in a heating cabinet for 24 hours to obtain a negative photosensitive lithographic printing plate 1. The environment of the humidity control zone, the winding chamber, and the heating chamber is 40 ° C. and 40% RH.

<光重合性の感光層塗液>
重合体B SP−1 1.1質量部(固形分)
光重合開始剤 BC−6 0.2質量部(固形分)
光重合開始剤 T−9 0.05質量部(固形分)
増感色素 VS−8 0.08質量部(固形分)
青色顔料 0.25質量部(固形分)
1,3−ジオキソラン 10ml
これを1,3−ジオキソランで20質量部に合わせた。
<Photopolymerizable photosensitive layer coating solution>
Polymer B SP-1 1.1 parts by mass (solid content)
Photopolymerization initiator BC-6 0.2 parts by mass (solid content)
Photopolymerization initiator T-9 0.05 parts by mass (solid content)
Sensitizing dye VS-8 0.08 parts by mass (solid content)
0.25 parts by mass of blue pigment (solid content)
1,3-dioxolane 10ml
This was adjusted to 20 parts by mass with 1,3-dioxolane.

<オーバー層>
PVA105(クラレ(株)製:ポリビニルアルコール) 2.2質量部(固形分)
界面活性剤 0.5質量部
水で30質量部に合わせた。
<Over layer>
PVA105 (manufactured by Kuraray Co., Ltd .: polyvinyl alcohol) 2.2 parts by mass (solid content)
Surfactant 0.5 parts by weight The amount was adjusted to 30 parts by weight with water.

得られたネガ型感光性平版印刷版(比較例1〜5、本発明1〜8)に対し、405nmバイオレットレーザーを搭載したプレートセッター(三菱製紙(株)製VIPLAS)を使用して、1500dpi150線の画像を、露光量100μJ/cmで露光した。 For the obtained negative photosensitive lithographic printing plate (Comparative Examples 1 to 5, Inventions 1 to 8), using a plate setter (VIPLAS, manufactured by Mitsubishi Paper Industries Co., Ltd.) equipped with a 405 nm violet laser, 1500 dpi 150 lines Were exposed at an exposure dose of 100 μJ / cm 2 .

<ケミカルレス現像処理>
上記露光済み版を25℃の水に30秒浸漬してセルローススポンジで感光層を有する側の面を軽く擦って現像し製版を行い、印刷用のプレートを得た。
<Chemical-less development processing>
The exposed plate was immersed in water at 25 ° C. for 30 seconds, and the surface having the photosensitive layer was lightly rubbed with a cellulose sponge to develop the plate, thereby obtaining a printing plate.

<耐刷性印刷試験方法>
上記現像処理で得られた各々のプレートを、印刷機リョービ560に装着し、給湿液として10質量%イソプロピルアルコール水溶液、インキとして大日本インキ化学工業(株)製Fグロス墨(ハードタイプ)を用いて印刷を行い、100枚目及び1000枚目より1000枚毎に3万枚目までの印刷物をサンプリングした。印刷時の条件は室内温度が23℃、室内湿度が55%RHであった。
<Printing durability test method>
Each plate obtained by the above development processing is mounted on a printing machine Ryobi 560, 10% by mass isopropyl alcohol aqueous solution as a moisturizing liquid, and F Nippon Gloss ink (hard type) manufactured by Dainippon Ink & Chemicals, Inc. as ink. Printing was performed using the 100th and 1000th sheets, and samples up to 30,000th were sampled every 1000 sheets. The conditions during printing were an indoor temperature of 23 ° C. and an indoor humidity of 55% RH.

<耐刷性評価基準>
上記の1000枚目から3万枚目の印刷物(1000枚毎)において、画像部に欠損がないか、目視にて観察し、耐刷性を以下の基準で評価した。結果を表1に示す。なお、評価基準の数値が大きいほど耐刷性は良い。
5:3万枚目でも画像部に欠損が見られない
4:2万1000枚目〜2万9000枚目の間に画像部に欠損が発生する
3:1万1000枚目〜2万枚目の間に画像部に欠損が発生する
2:2000枚目〜1万枚目の間に画像部に欠損が発生する
1:1000枚目で画像部に欠損がある
<Evaluation criteria for printing durability>
In the above 1000th to 30,000th printed matter (every 1000th printed matter), the image portion was visually observed for defects, and the printing durability was evaluated according to the following criteria. The results are shown in Table 1. In addition, printing durability is so good that the numerical value of evaluation criteria is large.
5: No defect in the image area even at the 30,000th image 4: Defect occurs in the image area between the 21,000th image and the 299000th image: The 31,000th image to the 20,000th image A defect occurs in the image area during the period 2: A defect occurs in the image area between the 2000th sheet and the 10,000th sheet.

<印刷汚れ評価方法>
上記現像処理で得られた各々のプレートを、印刷機リョービ660に装着し、給湿液としてSLM−OD50(三菱製紙(株)製)の2質量%液、インキとしてDIC製Fグロス紫(ソフトタイプ)を用いて印刷を行い、1000枚目より1000枚毎に1万5000枚目までの印刷物をサンプリングした。印刷時の条件は室内温度が23℃、室内湿度が55%RHであった。
<Print stain evaluation method>
Each plate obtained by the above development processing is mounted on a printing press Ryobi 660, 2% by mass solution of SLM-OD50 (Mitsubishi Paper Co., Ltd.) as a moisturizing liquid, and DIC F gloss purple (soft) as ink. Type) was printed, and samples from the 1000th sheet to the 15,000th sheet were sampled every 1000 sheets. The conditions during printing were an indoor temperature of 23 ° C. and an indoor humidity of 55% RH.

<印刷汚れ評価基準>
上記の1000枚目から1万5000枚目の印刷物(1000枚毎)において、非画像部の印刷汚れを目視にて以下の基準で評価した。結果を表1に示す。なお、評価基準の数値が大きいほど耐汚れ性に優れる。
5:1万5000枚目で非画像部に地汚れが見られない
4:1万枚目〜1万4000枚目の間に非画像部に地汚れが発生する
3:6000枚目〜9000枚目の間に非画像部に地汚れが発生する
2:3000枚目〜5000枚目の間に非画像部に地汚れが発生する
1:2000枚目以下で非画像部に地汚れが発生する
<Print stain evaluation criteria>
In the printed materials (every 1000 sheets) from the 1000th sheet to the 15,000th sheet, the print stain on the non-image area was visually evaluated according to the following criteria. The results are shown in Table 1. In addition, it is excellent in dirt resistance, so that the numerical value of evaluation criteria is large.
5: No smudges are seen in the non-image area at the 15,000th sheet. The smudges occur in the non-image area between the 4th 10,000th sheet and the 14,000th sheet. Stain occurs in the non-image area between the eyes 2: Stain occurs in the non-image area between the 3000th sheet and the 5000th sheet. Stain occurs in the non-image area after the 1: 2000th sheet.

Figure 2012159808
Figure 2012159808

表1から判るように本発明により、耐刷性に優れ、かつ印刷汚れの発生が改善されたネガ型感光性平版印刷版が得られることが判る。   As can be seen from Table 1, according to the present invention, it is understood that a negative photosensitive lithographic printing plate having excellent printing durability and improved generation of printing stains can be obtained.

Claims (1)

支持体上に親水性層と画像形成層をこの順に積層した平版印刷版において、二酸化チタンをコロイダルシリカの存在下で分散してなる二酸化チタン分散体であって、二酸化チタンとコロイダルシリカの混合比率がチタン:コロイダルシリカ=1.5:1〜4:1である条件下で分散してなる分散体を親水性層に含有することを特徴とする平版印刷版。   A lithographic printing plate in which a hydrophilic layer and an image forming layer are laminated in this order on a support, a titanium dioxide dispersion in which titanium dioxide is dispersed in the presence of colloidal silica, the mixing ratio of titanium dioxide and colloidal silica A lithographic printing plate characterized in that the hydrophilic layer contains a dispersion formed by dispersing under a condition that is titanium: colloidal silica = 1.5: 1 to 4: 1.
JP2011021347A 2011-02-03 2011-02-03 Lithographic printing plate Withdrawn JP2012159808A (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2011021347A JP2012159808A (en) 2011-02-03 2011-02-03 Lithographic printing plate

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2011021347A JP2012159808A (en) 2011-02-03 2011-02-03 Lithographic printing plate

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JP2012159808A true JP2012159808A (en) 2012-08-23

Family

ID=46840355

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2011021347A Withdrawn JP2012159808A (en) 2011-02-03 2011-02-03 Lithographic printing plate

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP2012159808A (en)

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP4393408B2 (en) Negative type planographic printing plate precursor
JP5238292B2 (en) Water-developable photosensitive lithographic printing plate material
JP5255221B2 (en) Processless photosensitive lithographic printing plate
JP4982223B2 (en) Processless photosensitive lithographic printing plate
JP2010237560A (en) Photosensitive negative lithographic printing plate
JP5238279B2 (en) Processless planographic printing plate
JP2012208152A (en) Negative type photosensitive lithographic printing plate
JP2012159808A (en) Lithographic printing plate
JP5627517B2 (en) Photosensitive planographic printing plate
JP2009241300A (en) Process-less photosensitive lithographic printing plate
JP4851979B2 (en) Water-developable photosensitive lithographic printing plate material
JP4593390B2 (en) Negative image forming material
JP2012123036A (en) Negative photosensitive lithographic printing plate
JP2011197109A (en) Negative photosensitive lithographic printing plate
JP2011215233A (en) Method for manufacturing negative photosensitive planographic printing plate
JP2012181472A (en) Negative type photosensitive lithographic printing plate
JP2008233820A (en) Support for lithographic printing plate, manufacturing method of lithographic printing plate, and photosensitive lithographic printing plate material
JP2011100047A (en) Photosensitive negative lithographic printing plate
JP2011209381A (en) Photosensitive negative lithographic printing plate
JP2010237561A (en) Photosensitive negative type lithographic printing plate
JP2011186338A (en) Photosensitive negative-working lithographic printing plate
JP2010224187A (en) Planographic printing plate
JP5281445B2 (en) Photosensitive lithographic printing plate material
JP2012208332A (en) Photosensitive lithographic printing plate
JP2010197650A (en) Photosensitive lithographic printing plate material

Legal Events

Date Code Title Description
A300 Withdrawal of application because of no request for examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A300

Effective date: 20140513