JP2012140693A - Baffle plate for gas wiping device and gas wiping method - Google Patents

Baffle plate for gas wiping device and gas wiping method Download PDF

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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To suppress the yield of a splash by forming a baffle plate or a body of the baffle plate with SiN, and to uniform a plating mass of deposit per unit area to both sides of a steel strip.SOLUTION: The baffle plate for a gas wiping device and a gas wiping method are characterized as follows. The baffle plate is used by the gas wiping device (1) to regulate the mass of deposit per unit area of a plating liquid which adheres to both sides of a plated steel strip (5) which runs up through a plating tank (4), wherein a body (20) of the baffle plate is formed with SiN.

Description

本発明は、ガスワイピング装置用バッフルプレート及びガスワイピング方法に関し、特に、バッフルプレート本体をSi3N4で形成することにより、スプラッシュの発生量を抑え、鋼帯の両面に対するめっき付着量を均一化するための新規な改良に関する。   The present invention relates to a baffle plate for a gas wiping apparatus and a gas wiping method, and in particular, by forming a baffle plate body from Si3N4, the amount of splash is suppressed and the amount of plating adhered to both surfaces of a steel strip is made uniform. Regarding new improvements.

従来、用いられていたガスワイピング装置としては、例えば、特許文献1に開示された装置構成を図8に概略図として開示することができる。
すなわち、図8において符号1で示されるものはガスワイピング装置であり、このガスワイピング装置1には互いに対向配置される第1、第2ワイピングノズル2,3が互いに離間して配設されている。
As a conventional gas wiping device, for example, the device configuration disclosed in Patent Document 1 can be disclosed as a schematic diagram in FIG.
That is, what is denoted by reference numeral 1 in FIG. 8 is a gas wiping device, and the first and second wiping nozzles 2 and 3 disposed opposite to each other are disposed apart from each other. .

前記ガスワイピング装置1の下方位置には、めっき槽4が配設され、このめっき槽4中を経て連続して上方へ走行するめっき鋼帯5は、その両面にめっき6が付着された状態で上方へ巻き取られる構成であり、各ワイピングノズル2,3からの噴出ガスの量によってめっき6の付着量を制御していた。   A plating tank 4 is disposed at a lower position of the gas wiping device 1, and a plated steel strip 5 that continuously travels upward through the plating tank 4 has plating 6 attached to both surfaces thereof. In this configuration, the amount of deposition of the plating 6 is controlled by the amount of gas ejected from the wiping nozzles 2 and 3.

前述の場合、各ワイピングノズルの幅は、一般的にめっき鋼帯幅W(図9)より広く、その全幅からガスを噴出するように構成されている。
前述の図8の構成を平面的に示すと、図9のようになり、めっき鋼帯5のめっき鋼帯幅方向Waにおける前記めっき鋼帯5の両端部5a,5bから外れた位置A,Bにおいて矢印Gで示されるように、ワイピングガスの噴流の衝突が発生する。
In the case described above, the width of each wiping nozzle is generally wider than the plated steel strip width W (FIG. 9), and gas is ejected from the entire width.
When the configuration of FIG. 8 is shown in plan, it is as shown in FIG. 9, and positions A and B deviated from both end portions 5 a and 5 b of the plated steel strip 5 in the plated steel strip width direction Wa of the plated steel strip 5. As shown by the arrow G, a jet collision of the wiping gas occurs.

前述の図9の前記位置A,Bにおける噴流は、若干外向きの衝突乱流となるため、前記両端部5a,5bのめっきの溶融金属がめっき鋼帯5の両端部5a,5bから引き剥がされて飛散(スプラッシュと云う)され、この飛散した溶融金属は雰囲気ガスによって表面が酸化されたり、冷却により部分的に凝固してしまうなど、その物性が変化するため、めっき鋼帯5の品質低下の要因となっていた。
その発生量は、めっき鋼帯5の通過速度が上がるほど増加し、ワイピングガスの圧力が高いほど増加する。
また、衝突噴流により大きい騒音が発生し、めっき処理工程の現場では、その周囲環境が大変悪い状態となっていた。
Since the jets at the positions A and B in FIG. 9 described above become a slightly outward collision turbulent flow, the molten metal of the plating on the both ends 5a and 5b is peeled off from the both ends 5a and 5b of the plated steel strip 5. Since the surface of the molten metal that has been scattered is oxidized by the atmospheric gas or partially solidified by cooling, the quality of the plated steel strip 5 deteriorates. It was a factor.
The generation amount increases as the passing speed of the plated steel strip 5 increases, and increases as the pressure of the wiping gas increases.
In addition, a larger noise was generated in the impinging jet, and the surrounding environment was very bad at the site of the plating process.

前述の従来構成の課題を克服するために、例えば、特許文献2等に開示されている図11の概略図の構成を挙げることができる。
すなわち、前記めっき鋼帯5の両端部5a,5bの外側には、前記めっき鋼帯5と同一面となるように配設された第1、第2バッフルプレート10,11が設けられており、各バッフルプレート10,11によりワイピングガス噴流の衝突を防止し、めっき鋼帯5の外側のワイピングガスの噴流状態をめっき鋼帯5におけるワイピングガスの噴流状態に近づけることができた。
In order to overcome the above-described problems of the conventional configuration, for example, the configuration of the schematic diagram of FIG. 11 disclosed in Patent Document 2 can be given.
That is, first and second baffle plates 10 and 11 are provided outside the both ends 5a and 5b of the plated steel strip 5 so as to be flush with the plated steel strip 5; The collision of the wiping gas jet was prevented by the baffle plates 10 and 11, and the jet state of the wiping gas outside the plated steel strip 5 could be brought close to the jet state of the wiping gas in the plated steel strip 5.

特開昭60−82652号公報JP 60-82652 A 特開平1−208441号公報JP-A-1-208441

従来のガスワイピング装置用バッフルプレートは、以上のように構成されていたため、次のような課題が存在していた。
すなわち、図12に示されるように、前記めっき鋼帯5とバッフルプレート11を近づけると、各ワイピングノズル2,3からのワイピングガスの噴流の衝突を防止する効果は大きくなるが、この状態では、図12に示されるように、前記めっき鋼帯5とバッフルプレート11間の衝突噴流によるスプラッシュがバッフルプレート11に固着金属12として付着し、そのまま固着する場合があった。
Since the conventional baffle plate for a gas wiping apparatus is configured as described above, the following problems exist.
That is, as shown in FIG. 12, when the plated steel strip 5 and the baffle plate 11 are brought close to each other, the effect of preventing the collision of the wiping gas jets from the wiping nozzles 2 and 3 is increased. As shown in FIG. 12, the splash due to the collision jet between the plated steel strip 5 and the baffle plate 11 may adhere to the baffle plate 11 as the fixed metal 12 and may be fixed as it is.

前述のスプラッシュによる溶融金属の固着からなる固着金属12の状態が進行すると、ワイピングガスの噴流に大きい乱流成分C(図12)が発生することになり、各ワイピングノズル2,3にめっきの溶融亜鉛が飛散して付着し、ワイピングガス圧が部分的に低下することによって、めっき鋼帯5のめっき付着にバラツキが生じ、溶融めっきの部分的なオーバーコートが発生していた。
また、このバッフルプレート10,11へのスプラッシュの固着を防止するには、バッフルプレート11をめっき鋼帯5から離間させればよいが、前述のように、スプラッシュの発生量の増大につながるため、相反する課題となっていた。また、前記バッフルプレート11を一般的なセラミックとする案も提供されているが、濡れ性が良いため、前述と同様の課題が発生していた。
When the state of the fixed metal 12 made of the above-described molten metal fixed by the splash proceeds, a large turbulent flow component C (FIG. 12) is generated in the wiping gas jet, and the wiping nozzles 2 and 3 are melted by plating. Zinc scatters and adheres, and the wiping gas pressure partially decreases, resulting in variations in the plating adhesion of the plated steel strip 5 and partial overcoat of hot dip plating.
Further, in order to prevent the splash from adhering to the baffle plates 10 and 11, the baffle plate 11 may be separated from the plated steel strip 5, but as described above, the amount of splash generated increases. It was a conflicting issue. Moreover, although the proposal which uses the said baffle plate 11 as a general ceramic is provided, since the wettability was good, the subject similar to the above-mentioned occurred.

本発明によるガスワイピング装置用バッフルプレートは、めっき槽中を経て連続して上方へ走行するめっき鋼帯の両面に付着しためっき液の付着量を調整するためのガスワイピング装置で用いるバッフルプレート本体からなるガスワイピング装置用バッフルプレートにおいて、前記バッフルプレート本体はSi3N4で形成されている構成であり、また、前記バッフルプレート本体は、金属板に取付けられている構成であり、また、前記金属板は、前記バッフルプレート本体を接続するための接続部と、前記金属板の一側に一体又は別体で設けられ前記バッフルプレート本体を保持するための保持溝部と、からなる構成であり、また、前記接続部は、複数の長手接続板又は一枚の接続板からなり、前記各長手接続板又は一枚の接続板及びボルトによって前記金属板とバッフルプレート本体は接続されている構成であり、また、前記保持溝部の先端部は、前記バッフルプレート本体の外側曲折部の形状に沿って曲折する曲折溝部を有し、前記バッフルプレート本体の一側の直線部及び前記直線部に続く外側曲折部が前記曲折溝部に挿入されている構成であり、また、前記金属板は、ステンレスからなる構成であり、また、請求項1ないし6の何れかに記載のガスワイピング装置用バッフルプレートを用いる方法である。   The baffle plate for a gas wiping apparatus according to the present invention is a baffle plate used in a gas wiping apparatus for adjusting the amount of plating solution adhering to both surfaces of a plating steel strip that continuously travels upward through a plating tank. In the gas wiping apparatus baffle plate, the baffle plate main body is formed of Si3N4, the baffle plate main body is mounted on a metal plate, and the metal plate is The connection part for connecting the baffle plate main body, and a holding groove part for holding the baffle plate main body provided integrally or separately on one side of the metal plate, and the connection The portion includes a plurality of longitudinal connection plates or a single connection plate, and each of the longitudinal connection plates or the single connection plate and the bolt. The metal plate and the baffle plate main body are connected to each other, and the front end of the holding groove has a bent groove that bends along the shape of the outer bent portion of the baffle plate main body. A straight part on one side of the plate main body and an outer bent part following the straight part are inserted into the bent groove part, and the metal plate is made of stainless steel. 6. A method using the baffle plate for a gas wiping device according to any one of 6 above.

本発明によるガスワイピング装置用バッフルプレート及びこれを用いたガスワイピング方法は、以上のように構成されていたため、次のような効果を得ることができる。
すなわち、めっき槽中を経て連続して上方へ走行するめっき鋼帯の両面に付着しためっき液の付着量を調整するためのガスワイピング装置で用いるバッフルプレート本体からなるガスワイピング装置用バッフルプレートにおいて、前記バッフルプレート本体はSi3N4で形成されていることにより、濡れ性が低く、一般のセラミックよりもスプラッシュによる溶融金属の金属密着性が大幅に低減し、周囲環境であるワイピングガス圧及びバッフルプレート自身の振動によりスプラッシュによる溶融金属が落下するため、溶融めっき鋼帯の品質に影響を及ぼすことなく、スプラッシュの低減を図ることができる。
また、前記バッフルプレート本体は、金属板に取付けられていることにより、全体を高価なSi3N4で作らなくて済み、コストダウンとなり、強度も向上し、装置への取付けも容易となる。
また、前記金属板は、前記バッフルプレート本体を接続するための接続部と、前記金属板の一側に一体又は別体で設けられ前記バッフルプレート本体を保持するための保持溝部と、からなることにより、バッフルプレート本体を金属板の保持溝部に挿入係合させて保持できるため、金属板とバッフルプレート本体を簡単かつ確実に保持して接続させることができる。
また、前記接続部は、複数の長手接続板又は一枚の接続板からなり、前記各長手接続板又は一枚の接続板及びボルトによって前記金属板とバッフルプレート本体は接続されていることにより、万一の交換時においても、バッフルプレート本体の交換が容易である。
また、前記保持溝部の先端部は、前記バッフルプレート本体の外側曲折部の形状に沿って曲折する曲折溝部を有し、前記バッフルプレート本体の一側の直線部及び前記直線部に続く外側曲折部が前記曲折溝部に挿入されていることにより、破損しやすいSi3N4の衝撃による破損を防止し、耐久性のあるバッフルプレートとして用いることができる。
また、前記金属板は、ステンレスからなることにより、耐久性に優れたバッフルプレートを用いることができる。
請求項1ないし6の何れかに記載のガスワイピング装置用バッフルプレートを用いることにより、スプラッシュの少ない安定したガスワイピングを行うことができる。
Since the baffle plate for a gas wiping apparatus and the gas wiping method using the same according to the present invention are configured as described above, the following effects can be obtained.
That is, in the baffle plate for a gas wiping device comprising a baffle plate main body used in a gas wiping device for adjusting the amount of plating solution adhered to both surfaces of the plating steel strip that continuously travels upward through the plating tank, Since the baffle plate body is made of Si3N4, the wettability is low, and the metal adhesion of the molten metal due to splash is greatly reduced compared to general ceramics. The surrounding wiping gas pressure and the baffle plate itself Since the molten metal falls due to the vibration due to the vibration, the splash can be reduced without affecting the quality of the hot-dip steel strip.
Further, since the baffle plate main body is attached to the metal plate, the entire body does not need to be made of expensive Si3N4, the cost is reduced, the strength is improved, and the attachment to the apparatus is facilitated.
The metal plate includes a connection portion for connecting the baffle plate main body, and a holding groove portion for holding the baffle plate main body provided integrally or separately on one side of the metal plate. Thus, the baffle plate main body can be inserted and engaged with the holding groove portion of the metal plate, so that the metal plate and the baffle plate main body can be easily and reliably held and connected.
Further, the connection portion is composed of a plurality of longitudinal connection plates or one connection plate, and the metal plate and the baffle plate body are connected by the respective longitudinal connection plates or one connection plate and a bolt, In the unlikely event of replacement, it is easy to replace the baffle plate body.
Moreover, the front-end | tip part of the said holding groove part has the bending groove part bent along the shape of the outer side bending part of the said baffle plate main body, and the outer side bending part which follows the linear part of the one side of the said baffle plate main body, and the said linear part Can be used as a durable baffle plate by preventing damage due to the impact of Si3N4 which is easily damaged.
Moreover, the said metal plate can use the baffle plate excellent in durability by comprising stainless steel.
By using the baffle plate for a gas wiping device according to any one of claims 1 to 6, stable gas wiping with less splash can be performed.

本発明によるガスワイピング装置用バッフルプレートの要部の平面図である。It is a top view of the principal part of the baffle plate for gas wiping apparatuses by this invention. 図1の要部を示す側面図である。It is a side view which shows the principal part of FIG. 図1のバッフルプレートの他の形態の平面図である。It is a top view of the other form of the baffle plate of FIG. 図3の他の形態を示す平面図である。It is a top view which shows the other form of FIG. 図4のバッフルプレート本体を示す平面図である。It is a top view which shows the baffle plate main body of FIG. 図4の要部を示す側面図である。It is a side view which shows the principal part of FIG. 図4の金属板を示す平面図である。It is a top view which shows the metal plate of FIG. 従来のワイピングノズル装置を示す正面図である。It is a front view which shows the conventional wiping nozzle apparatus. 図8の平面図である。It is a top view of FIG. 図1の要部の斜視構成図である。It is a perspective block diagram of the principal part of FIG. 図10の構成にバッフルプレートを設けた従来構成である。It is the conventional structure which provided the baffle plate in the structure of FIG. 図11の従来構成でバッフルプレートに固着金属が付着した状態を示す拡大平面図である。FIG. 12 is an enlarged plan view showing a state in which a fixed metal is attached to a baffle plate in the conventional configuration of FIG.

本発明は、バッフルプレートをSi3N4で形成することにより、スプラッシュの発生量を抑え、めっき付着量を均一的にするようにしたガスワイピング装置用バッフルプレート及びガスワイピング方法を提供することを目的とする。   It is an object of the present invention to provide a baffle plate for a gas wiping apparatus and a gas wiping method in which a baffle plate is formed of Si3N4 to suppress the generation of splash and make a plating adhesion amount uniform. .

以下、図面と共に本発明によるガスワイピング装置用バッフルプレート及びガスワイピング方法の好適な実施の形態について説明する。
尚、従来例と同一又は同等部分には、同一符号を付して説明すると共に、図10及び図11の従来構成についても本発明の構成に援用するものとする。
図1において符号1で示されるものはガスワイピング装置であり、このガスワイピング装置1に設けられ互いに対向しかつ離間した一対のワイピングノズル2,3間には、図8のめっき槽4中を経て連続して上方へ走行するめっき鋼帯5が通過するように構成され、前記各ワイピングノズル2,3からのワイピングガス2a,3aが前記めっき鋼帯5に吹付けられることにより、このめっき鋼帯5に付着するめっき付着量すなわち厚さを一定とするように調整する構成である。
Hereinafter, preferred embodiments of a baffle plate for a gas wiping apparatus and a gas wiping method according to the present invention will be described with reference to the drawings.
Note that the same or equivalent parts as those in the conventional example are described with the same reference numerals, and the conventional configurations of FIGS. 10 and 11 are also incorporated in the configuration of the present invention.
1 is a gas wiping device, and a gap between a pair of wiping nozzles 2 and 3 which are provided in the gas wiping device 1 and which are opposed to each other and separated is passed through the plating tank 4 of FIG. The plated steel strip 5 is configured to pass continuously, and the wiping gases 2a and 3a from the wiping nozzles 2 and 3 are sprayed onto the plated steel strip 5, whereby the plated steel strip 5 In this configuration, the amount of plating attached to 5, that is, the thickness is adjusted to be constant.

前記ガスワイピング装置1のめっき鋼帯5の両端部5a,5b(図11で示す)には一対のバッフルプレート10,11が設けられているが、図1で図示を省略して一方のバッフルプレート11のみを示している。
前記バッフルプレート11は、バッフルプレート本体20のみで構成される場合もあるが、このバッフルプレート本体20はSi3N4で形成されているため、金属板と比較すると衝撃で破損する場合があるため、図2及び図3で示されるように、バッフルプレート本体20受けとしてのステンレス等からなる金属板21に接続部22Aをなす接続板22を介してめっき鋼帯5側に位置しSi3N4からなるバッフルプレート本体20をボルト23によって接続して構成されている。すなわち、金属板21をバッフルプレート本体20の補強材として使用し、耐衝撃性が大きくなるように構成している。
A pair of baffle plates 10 and 11 are provided at both ends 5a and 5b (shown in FIG. 11) of the plated steel strip 5 of the gas wiping apparatus 1, but one baffle plate is omitted in FIG. Only 11 is shown.
The baffle plate 11 may be composed of only the baffle plate main body 20. However, since the baffle plate main body 20 is formed of Si3N4, the baffle plate main body 20 may be damaged by an impact as compared with a metal plate. As shown in FIG. 3, the baffle plate main body 20 made of Si3N4 is located on the plated steel strip 5 side via a connection plate 22 that forms a connection portion 22 </ b> A with a metal plate 21 made of stainless steel or the like as a receiver for the baffle plate main body 20. Are connected by bolts 23. That is, the metal plate 21 is used as a reinforcing material for the baffle plate body 20 so that the impact resistance is increased.

前記金属板21は、前記バッフルプレート本体20を接続するための前記接続板22と、前記金属板21の一側に一体又は別体で設けられ前記バッフルプレート本体20を保持するための保持溝部24とからなり、前記保持溝部24は、前記金属板21のL字型に形成された先端部25に直線状に形成されている。
尚、前記保持溝部24は直線状に形成され、前記バッフルプレート本体20は直線部分で組み合わされたほぼ長方形状で形成されている。
The metal plate 21 is provided with the connection plate 22 for connecting the baffle plate main body 20 and a holding groove portion 24 for holding the baffle plate main body 20 provided integrally or separately on one side of the metal plate 21. The holding groove portion 24 is formed in a straight line at a tip portion 25 formed in an L shape of the metal plate 21.
The holding groove portion 24 is formed in a straight line shape, and the baffle plate body 20 is formed in a substantially rectangular shape combined with a straight line portion.

図4から図7で示される図3のバッフルプレート11の他の形態においては、前記バッフルプレート本体20の一側に直線部30及びこの直線部30に連続する外側曲折部31が形成されている。
前記金属板21の一側の先端部25側には、直線状の前記保持溝部24に連続して曲折溝部32が形成されている。
In the other form of the baffle plate 11 shown in FIGS. 4 to 7 shown in FIGS. 4 to 7, a straight portion 30 and an outer bent portion 31 continuous to the straight portion 30 are formed on one side of the baffle plate main body 20. .
A bent groove portion 32 is formed on the one end portion 25 side of the metal plate 21 so as to be continuous with the linear holding groove portion 24.

前記バッフルプレート本体20は、前記直線部30が前記保持溝部24内に挿入されて嵌合し、前記外側曲折部31が前記曲折溝部32内に挿入されて嵌合することにより、前記バッフルプレート本体20は前記金属板21と接続されてバッフルプレート11が形成される。
さらに、前記バッフルプレート本体20と金属板21とは、前記金属板21に設けられた接続部22Aとしての複数の長手接続板35がバッフルプレート本体20の取付孔36に設けられるボルト37を介してバッフルプレート本体20に取付けられることにより、互いに強固に一体接続されている。
尚、図4においてノズル高さHとして表示されている位置は、前述の図1における各ワイピングノズル2,3からのワイピングガスを噴射するノズル位置を示している。
また、図7は、金属板21からバッフルプレート本体20を除去し、バッフルプレート本体20を新品と交換する又は取付前のような場合を示している。
The baffle plate main body 20 has the linear portion 30 inserted into the holding groove portion 24 and fitted therein, and the outer bent portion 31 is inserted into and fitted into the bent groove portion 32, whereby the baffle plate main body 20 is inserted. 20 is connected to the metal plate 21 to form the baffle plate 11.
Further, the baffle plate main body 20 and the metal plate 21 are connected to each other through bolts 37 in which a plurality of longitudinal connection plates 35 as connecting portions 22A provided on the metal plate 21 are provided in the mounting holes 36 of the baffle plate main body 20. By being attached to the baffle plate body 20, they are firmly connected to each other.
Note that the position displayed as the nozzle height H in FIG. 4 indicates the nozzle position for injecting the wiping gas from each of the wiping nozzles 2 and 3 in FIG.
FIG. 7 shows a case where the baffle plate body 20 is removed from the metal plate 21 and the baffle plate body 20 is replaced with a new one or before attachment.

前記バッフルプレート本体20は、前述のように、窒化珪素(Si3N4)で構成されたファインセラミックよりなるセラミック板であり、一般のセラミックスと比較して耐熱衝撃性、耐化学薬品性に優れ、熱膨張率が低く、高温まで高強度であるという特性を有しており、めっき槽4のめっき液に対して十分な濡れ性を有している。
従って、金属が付着する際の400〜700度程度の急激な温度変化に耐えることができ、金属との熱膨張率の差が大きいため、金属(溶融めっき液)とSi3N4との界面が容易に乖離し、Si3N4の焼結組織が密な部分が表面となるように、Ai3N4のバッフルプレート本体20は表面研磨を行った後に用いた方が金属密着性が小さくなる。
As described above, the baffle plate main body 20 is a ceramic plate made of a fine ceramic made of silicon nitride (Si3N4), and has superior thermal shock resistance and chemical resistance compared to general ceramics, and has a thermal expansion. The rate is low and the strength is high up to a high temperature, and it has sufficient wettability with respect to the plating solution in the plating tank 4.
Therefore, it can withstand a rapid temperature change of about 400 to 700 degrees when the metal adheres, and since the difference in thermal expansion coefficient from the metal is large, the interface between the metal (hot dip plating solution) and Si3N4 is easy. The metal adhesion becomes smaller when the baffle plate body 20 of Ai3N4 is used after surface polishing so that the part where the sintered structure of Si3N4 is dense becomes the surface.

本発明によるガスワイピング装置用バッフルプレート及びそのガスワイピング方法は、めっき鋼帯に対するめっき付着制御に限ることなく、食品や薬品等の製造ラインにも適用できる。   The baffle plate for a gas wiping apparatus and the gas wiping method according to the present invention are not limited to plating adhesion control to a plated steel strip, but can be applied to a production line for food, medicine, and the like.

1 ガスワイピング装置
2 ワイピングノズル
2a ワイピングガス
3 ワイピングノズル
3a ワイピングガス
4 めっき槽
5 めっき鋼帯
6 めっき
11 バッフルプレート
20 バッフルプレート本体
21 金属板
22 接続板
22A 接続部
24 保持溝部
25 先端部
30 直線部
31 外側曲折部
32 曲折溝部
35 長手接続板
36 取付孔
37 ボルト
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Gas wiping apparatus 2 Wiping nozzle 2a Wiping gas 3 Wiping nozzle 3a Wiping gas 4 Plating tank 5 Plating steel strip 6 Plating 11 Baffle plate 20 Baffle plate main body 21 Metal plate 22 Connection plate 22A Connection portion 24 Holding groove portion 25 Tip portion 30 Straight portion 31 Outer bending portion 32 Bending groove portion 35 Longitudinal connection plate 36 Mounting hole 37 Bolt

Claims (7)

めっき槽(4)中を経て連続して上方へ走行するめっき鋼帯(5)の両面に付着しためっき液の付着量を調整するためのガスワイピング装置(1)で用いるバッフルプレート本体(20)からなるガスワイピング装置用バッフルプレートにおいて、
前記バッフルプレート本体(20)はSi3N4で形成されていることを特徴とするガスワイピング装置用バッフルプレート。
The baffle plate body (20) used in the gas wiping device (1) for adjusting the amount of plating solution adhering to both sides of the plating steel strip (5) that travels continuously upward through the plating tank (4) In the baffle plate for a gas wiping apparatus consisting of
The baffle plate for a gas wiping apparatus, wherein the baffle plate body (20) is made of Si3N4.
前記バッフルプレート本体(20)は、金属板(21)に取付けられていることを特徴とする請求項1記載のガスワイピング装置用バッフルプレート。   The baffle plate for a gas wiping apparatus according to claim 1, wherein the baffle plate body (20) is attached to a metal plate (21). 前記金属板(21)は、前記バッフルプレート本体(20)を接続するための接続部(22A)と、前記金属板(21)の一側に一体又は別体で設けられ前記バッフルプレート本体(20)を保持するための保持溝部(24)と、からなることを特徴とする請求項2記載のガスワイピング装置用バッフルプレート。   The metal plate (21) is provided integrally or separately on one side of the metal plate (21) and a connecting portion (22A) for connecting the baffle plate main body (20), and the baffle plate main body (20 3. A baffle plate for a gas wiping apparatus according to claim 2, further comprising: a holding groove portion (24) for holding a gas wiping device. 前記接続部(22A)は、複数の長手接続板(35)又は一枚の接続板(22)からなり、前記各長手接続板(35)又は一枚の接続板(22)及びボルト(23)によって前記金属板(21)とバッフルプレート本体(20)は接続されていることを特徴とする請求項3記載のガスワイピング装置用バッフルプレート。   The connection portion (22A) is composed of a plurality of longitudinal connection plates (35) or one connection plate (22), and each of the longitudinal connection plates (35) or one connection plate (22) and a bolt (23). The baffle plate for a gas wiping apparatus according to claim 3, wherein the metal plate (21) and the baffle plate main body (20) are connected to each other. 前記保持溝部(24)の先端部(25)は、前記バッフルプレート本体(20)の外側曲折部(31)の形状に沿って曲折する曲折溝部(32)を有し、前記バッフルプレート本体(20)の一側の直線部(30)及び前記直線部(30)に続く外側曲折部(31)が前記曲折溝部(32)に挿入されていることを特徴とする請求項3又は4記載のガスワイピング装置用バッフルプレート。   The front end portion (25) of the holding groove portion (24) has a bent groove portion (32) bent along the shape of the outer bent portion (31) of the baffle plate main body (20), and the baffle plate main body (20 The gas according to claim 3 or 4, characterized in that a linear portion (30) on one side and an outer bent portion (31) following the straight portion (30) are inserted into the bent groove portion (32). Baffle plate for wiping equipment. 前記金属板(21)は、ステンレスからなることを特徴とする請求項2ないし5の何れかに記載のガスワイピング装置用バッフルプレート。   The baffle plate for a gas wiping apparatus according to any one of claims 2 to 5, wherein the metal plate (21) is made of stainless steel. 請求項1ないし6の何れかに記載のガスワイピング装置用バッフルプレートを用いることを特徴とするガスワイピング方法。   A gas wiping method using the baffle plate for a gas wiping apparatus according to any one of claims 1 to 6.
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