JP2012140609A - Protection film for optical member - Google Patents

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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a protection film for an optical member, which includes a base material layer containing components having few foreign matters (fisheyes), being transparent and having a low birefringence (low retardation) with no need for orientation control of the molecular chain, and an adhesive layer having a proper peeling strength, and which is good in the thickness precision of the base material layer, and is good in hit-markability.SOLUTION: The protection film for an optical member includes the base material layer and the adhesive layer, wherein the base material layer contains mixed components (I) of specific block copolymers (α) and (β); the number of fisheyes of ≥0.1 mm and ≤0.5 mm in the mixed components (I) is ≤100 fisheyes/1.2-m; the retardation of the base material layer is 0.1 nm to 50 nm; the total light tranmittance of the base material layer is ≥90%; the internal haze of the base material layer is ≤3.0%; and the peeling strength of the adhesive layer is 0.03 to 0.5 N/25-mm.

Description

本発明は、偏光板等の加工および実装時における保護用に使用される光学部材用保護フィルムに関する。   The present invention relates to a protective film for an optical member used for protecting a polarizing plate or the like during processing and mounting.

一般的な偏光板等の光学部材の加工および実装において、当該光学部材の傷や汚染を防止するために保護フィルムが使用されている。   In processing and mounting of an optical member such as a general polarizing plate, a protective film is used to prevent scratches and contamination of the optical member.

このような保護フィルムの基材層には、例えば、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリエステルおよびポリイミド等を原料とするフィルムが用いられるが、中でも透明性を考慮し、二軸延伸したポリエチレンテレフタレートが使用されている。   For the base material layer of such a protective film, for example, a film made of polyethylene, polypropylene, polyester, polyimide, or the like is used. Among them, biaxially stretched polyethylene terephthalate is used in consideration of transparency. .

特許文献1には、電子部品の静電気による破壊を極力防ぎ、なおかつ透視性を損なうことがなく、しかも、粘着剤を帯電防止化するにあたり透視性を維持し、表面保護フィルムの特性上必要不可欠な透視性を損なわずに外観検査が出来る表面保護フィルムが開示されている。   In Patent Document 1, electronic parts are prevented from being destroyed by static electricity as much as possible, and the transparency is not impaired. In addition, the transparency is maintained when the adhesive is made antistatic, and it is indispensable for the characteristics of the surface protective film. A surface protective film capable of visual inspection without impairing the transparency is disclosed.

特許文献2には、液晶ディスプレイ(LCD)やプラズマディスプレイ(PDP)などのフラットパネルディスプレイ(FPD)等の光学異方性を有する部材に関し、基材の両面に粘着層を備えた両面粘着フィルムおよびその製造方法が開示されている。   Patent Document 2 relates to a member having optical anisotropy such as a flat panel display (FPD) such as a liquid crystal display (LCD) or a plasma display (PDP), and a double-sided adhesive film having an adhesive layer on both sides of a base material. The manufacturing method is disclosed.

特許文献3には、透明性、色相および耐衝撃性が良好で、複屈折の小さいスチレン−ブタジエン系ブロック共重合体を用いた光学用成形体が開示されている。   Patent Document 3 discloses an optical molded body using a styrene-butadiene block copolymer having good transparency, hue and impact resistance and low birefringence.

特許文献4には、成形後の複屈折が小さく、透明性および耐衝撃性に優れた特定のビニル芳香族炭化水素と共役ジエンとからなるブロック共重合体を含有するスチレン系組成物から構成される光学成形品が開示されている。   Patent Document 4 is composed of a styrenic composition containing a block copolymer composed of a specific vinyl aromatic hydrocarbon and a conjugated diene, which has a small birefringence after molding and is excellent in transparency and impact resistance. An optical molded product is disclosed.

特開2004−287199号公報JP 2004-287199 A 特開2007−119562号公報JP 2007-119562 A 特開2007−224255号公報JP 2007-224255 A 特開2008−121002号公報JP 2008-121022 A

しかしながら、上述したような従来開示されている基材層は、分子鎖の配向を調整する必要があること、また、充分な透明性を得ることができない等の問題を有している。したがって、このような基材層を有する光学部材用保護フィルムは、充分な特性を有しておらず、未だ改良の余地がある。   However, the conventionally disclosed base material layer as described above has problems that it is necessary to adjust the orientation of the molecular chain and that sufficient transparency cannot be obtained. Therefore, the protective film for optical members having such a base material layer does not have sufficient characteristics, and there is still room for improvement.

そこで、本発明は、異物(フィッシュアイ)が少ない成分を含有し、かつ透明で分子鎖の配向調整が不要な低複屈折(低リタデーション)の基材層と、適度な剥離強度の粘着層とを含み、基材層の厚み精度が良好で、打痕性が良好な光学部材用保護フィルムの提供を目的とする。   Therefore, the present invention comprises a low birefringence (low retardation) base material layer that contains a component with little foreign matter (fish eye) and is transparent and does not require molecular chain orientation adjustment, and an adhesive layer with an appropriate peel strength. It is an object of the present invention to provide a protective film for an optical member that has good thickness accuracy of a base material layer and good dentability.

本発明者らは、上述したような光学部材用保護フィルムに関する従来技術の課題を解決するために鋭意検討を重ねた結果、特定のビニル芳香族炭化水素と共役ジエンとからなる2種のブロック共重合体の混合成分を含み、かつ特定の物性を有する基材層と、特定の剥離強度を有する粘着層とを適用することにより、充分な特性を有する光学部材用保護フィルムが得られることを見出し、本発明を完成するに至った。   As a result of intensive studies in order to solve the problems of the prior art relating to the protective film for an optical member as described above, the present inventors have found that two types of block copolymers composed of a specific vinyl aromatic hydrocarbon and a conjugated diene. It has been found that a protective film for an optical member having sufficient characteristics can be obtained by applying a base material layer containing a mixed component of a polymer and having specific physical properties and an adhesive layer having specific peel strength. The present invention has been completed.

即ち、本発明は下記の通りである。   That is, the present invention is as follows.

[1]
基材層および粘着層を含む光学部材用保護フィルムであって、
前記基材層が、ビニル芳香族炭化水素20質量%以上75質量%以下と共役ジエン25質量%以上80質量%以下とからなるブロック共重合体(α)と、ビニル芳香族炭化水素85質量%を超え95質量%以下と共役ジエン5質量%以上15質量%未満とからなるブロック共重合体(β)との混合成分(I)を含み、
該混合成分(I)における0.1mm以上0.5mm以下のフィッシュアイ個数が100個/1.2m2以下であり、
前記基材層のリタデーションが0.1nm〜50nmであり、
前記基材層の全光線透過率が90%以上であり、
前記基材層の内部ヘーズが3.0%以下であり、
保護フィルムにおける粘着層の剥離強度(JIS Z−0237(粘着テープ試験法)に準拠)が、0.03〜0.5N/25mmである光学部材用保護フィルム。
[1]
A protective film for an optical member including a base material layer and an adhesive layer,
The base material layer comprises a block copolymer (α) comprising 20% by mass to 75% by mass of vinyl aromatic hydrocarbon and 25% by mass to 80% by mass of conjugated diene, and 85% by mass of vinyl aromatic hydrocarbon. A mixed component (I) with a block copolymer (β) consisting of more than 95% by mass and less than 5% by mass and less than 15% by mass,
The number of fish eyes of 0.1 mm to 0.5 mm in the mixed component (I) is 100 / 1.2 m 2 or less,
The retardation of the base material layer is 0.1 nm to 50 nm,
The total light transmittance of the base material layer is 90% or more,
The internal haze of the base material layer is 3.0% or less,
The protective film for optical members whose peel strength of the adhesive layer in the protective film (based on JIS Z-0237 (adhesive tape test method)) is 0.03 to 0.5 N / 25 mm.

[2]
前記光学部材用保護フィルムにおける基材層と粘着層との層比(基材層の厚さ/粘着層の厚さ)が50/50〜95/5である、[1]に記載の光学部材用保護フィルム。
[2]
The optical member according to [1], wherein a layer ratio of the base material layer to the adhesive layer (the thickness of the base material layer / the thickness of the adhesive layer) in the protective film for an optical member is 50/50 to 95/5. Protective film.

[3]
前記混合成分(I)における0.1mm以上0.5mm以下のフィッシュアイ個数が50個/1.2m2以下である、[1]または[2]に記載の光学部材用保護フィルム。
[3]
The protective film for an optical member according to [1] or [2], wherein the number of fish eyes of 0.1 mm to 0.5 mm in the mixed component (I) is 50 / 1.2 m 2 or less.

[4]
前記基材層が、さらに下記成分(II)を含む、[1]〜[3]のいずれかに記載の光学部材用保護フィルム;
(II):(i)ビニル芳香族炭化水素重合体、(ii)ビニル芳香族炭化水素と脂肪族不飽和カルボン酸系誘導体とからなる共重合体、および(iii)ゴム変性スチレン系重合体からなる群より選ばれた少なくとも一種の重合体。
[4]
The protective film for optical members according to any one of [1] to [3], wherein the base material layer further contains the following component (II);
(II): (i) a vinyl aromatic hydrocarbon polymer, (ii) a copolymer comprising a vinyl aromatic hydrocarbon and an aliphatic unsaturated carboxylic acid derivative, and (iii) a rubber-modified styrene polymer. At least one polymer selected from the group consisting of:

[5]
前記基材層における前記混合成分(I)と前記成分(II)との質量比(ブロック共重合体(I)/成分(II))が、30/70〜99.9/0.1である、[4]に記載の光学部材用保護フィルム。
[5]
The mass ratio of the mixed component (I) and the component (II) (block copolymer (I) / component (II)) in the base material layer is 30/70 to 99.9 / 0.1. [4] The protective film for optical members according to [4].

[6]
前記粘着層がアクリル系粘着剤を含有する、[1]〜[5]のいずれかに記載の光学部材用保護フィルム。
[6]
The protective film for optical members according to any one of [1] to [5], wherein the adhesive layer contains an acrylic adhesive.

[7]
前記粘着層が導電性付与剤を含有する、[1]〜[6]のいずれかに記載の光学部材用保護フィルム。
[7]
The protective film for optical members according to any one of [1] to [6], wherein the adhesive layer contains a conductivity-imparting agent.

[8]
前記基材層がインフレーション法により形成される、[1]〜[7]のいずれかに記載の光学部材用保護フィルム。
[8]
The protective film for optical members according to any one of [1] to [7], wherein the base material layer is formed by an inflation method.

本発明によれば、異物(フィッシュアイ)が少ない成分を含有し、かつ透明で分子鎖の配向調整が不要な低複屈折(低リタデーション)の基材層と、特定の剥離強度の粘着層とを含み、基材層の厚み精度が良好で、打痕性が良好な光学部材用保護フィルムが得られる。また、当該光学部材用保護フィルムは、光学部材の実装外観検査における保護フィルムに適している。   According to the present invention, a low birefringence (low retardation) base material layer that contains a component with little foreign matter (fish eye) and is transparent and does not require molecular chain orientation adjustment; and an adhesive layer with a specific peel strength; In this way, a protective film for an optical member having good thickness accuracy of the base material layer and good dentability can be obtained. Moreover, the said protective film for optical members is suitable for the protective film in the mounting visual inspection of an optical member.

以下、本発明を実施するための形態(以下、「本実施の形態」という)について詳細に説明する。   Hereinafter, a mode for carrying out the present invention (hereinafter referred to as “the present embodiment”) will be described in detail.

本発明は、以下の本実施の形態に限定されるものではなく、その要旨の範囲内で種々変形して実施できる。   The present invention is not limited to the following embodiment, and can be implemented with various modifications within the scope of the gist.

本実施の形態の光学部材用保護フィルムは、基材層および粘着層を含む光学部材用保護フィルムであって、前記基材層が、ビニル芳香族炭化水素20質量%以上75質量%以下と共役ジエン25質量%以上80質量%以下とからなるブロック共重合体(α)と、ビニル芳香族炭化水素85質量%を超え95質量%以下と共役ジエン5質量%以上15質量%未満とからなるブロック共重合体(β)との混合成分(I)を含み、該混合成分(I)における0.1mm以上0.5mm以下のフィッシュアイ個数が100個/1.2m2以下であり、前記基材層のリタデーションが0.1nm〜50nmであり、前記基材層の全光線透過率が90%以上であり、前記基材層の内部ヘーズが3.0%以下であり、保護フィルムにおける粘着層の剥離強度(JIS Z−0237(粘着テープ試験法)に準拠)が、0.03〜0.5N/25mmである。 The protective film for an optical member of the present embodiment is a protective film for an optical member including a base material layer and an adhesive layer, and the base material layer is conjugated with 20% by mass to 75% by mass of a vinyl aromatic hydrocarbon. A block copolymer (α) comprising 25% by weight to 80% by weight of a diene, and a block comprising 85% by weight to 95% by weight of a vinyl aromatic hydrocarbon and 5% by weight to less than 15% by weight of a conjugated diene. A mixture component (I) with a copolymer (β), wherein the number of fish eyes of 0.1 mm to 0.5 mm in the mixture component (I) is 100 / 1.2 m 2 or less; The retardation of the layer is 0.1 nm to 50 nm, the total light transmittance of the base material layer is 90% or more, the internal haze of the base material layer is 3.0% or less, and the adhesive layer in the protective film Peel strength ( Conform to IS Z-0237 (adhesive tape test method)) is 0.03~0.5N / 25mm.

本実施の形態の光学部材用保護フィルムは、例えば、基材層の一側面に粘着層を介して剥離フィルムを貼着しており、実装に際しては剥離フィルムを剥がした後、偏向板およびディスプレイ等に接着させて使用する。この偏光板およびディスプレイ等の物品に貼り付けた保護フィルムが、前記偏光板およびディスプレイ等の物品の製造工程中に付く傷や汚れを防止する等の役目を終了した時点で、偏光板およびディスプレイ等の表面(剥離表面)から剥がされる。   The protective film for an optical member of the present embodiment has, for example, a release film attached to one side surface of the base material layer via an adhesive layer, and after mounting the release film is peeled off for mounting, a deflection plate, a display, etc. Adhere to and use. When the protective film affixed to the article such as the polarizing plate and the display ends the role of preventing scratches and dirt attached during the manufacturing process of the article such as the polarizing plate and the display, the polarizing plate and the display, etc. It peels from the surface (peeling surface).

[基材層]
〈混合成分(I)〉
本実施の形態に用いる基材層は、ビニル芳香族炭化水素20質量%以上75質量%以下と共役ジエン25質量%以上80質量%以下とからなるブロック共重合体(α)と、ビニル芳香族炭化水素85質量%を超え95質量%以下と共役ジエン5質量%以上15質量%未満とからなるブロック共重合体(β)との混合成分(I)を含む。ブロック共重合体(α)において、ビニル芳香族炭化水素の含有量は、20質量%以上70質量%未満であることが好ましい。ブロック共重合体(β)において、ビニル芳香族炭化水素の含有量は、87質量%を超え93質量%以下であることがより好ましい。このような混合成分(I)を含ませることにより、透明で分子鎖の配向調整が不要な低複屈折(低リタデーション)の基材層を得ることができる。特に、ビニル芳香族炭化水素含有量の異なる2種のブロック共重合体(α)および(β)の混合成分(I)とすることによって、基材層の厚み精度が向上する。
[Base material layer]
<Mixed component (I)>
The base material layer used in this embodiment is composed of a block copolymer (α) composed of 20% by mass to 75% by mass of vinyl aromatic hydrocarbon and 25% by mass to 80% by mass of conjugated diene, and vinyl aromatic. It contains a mixed component (I) of a block copolymer (β) composed of more than 85% by mass of hydrocarbon and 95% by mass or less and conjugated diene of 5% by mass to less than 15% by mass. In the block copolymer (α), the content of the vinyl aromatic hydrocarbon is preferably 20% by mass or more and less than 70% by mass. In the block copolymer (β), the vinyl aromatic hydrocarbon content is more preferably more than 87 mass% and not more than 93 mass%. By including such a mixed component (I), it is possible to obtain a base layer having low birefringence (low retardation) that is transparent and does not require molecular chain orientation adjustment. In particular, the thickness accuracy of the base material layer is improved by using the mixed component (I) of two types of block copolymers (α) and (β) having different vinyl aromatic hydrocarbon contents.

前記ブロック共重合体(α)および(β)中のビニル芳香族炭化水素の含有量、および共役ジエンの含有量は、紫外線分光光度計を用い、所定の波長の光に対する吸収光度を測定することにより得られる。   The vinyl aromatic hydrocarbon content and the conjugated diene content in the block copolymers (α) and (β) are measured using an ultraviolet spectrophotometer to measure the absorption light intensity with respect to light of a predetermined wavelength. Is obtained.

前記ブロック共重合体(α)および(β)は、「ビニル芳香族炭化水素単独重合体」および/または「ビニル芳香族炭化水素と共役ジエンとからなる共重合体」から構成されるセグメントを少なくとも1つと、「共役ジエン単独重合体」および/または「ビニル芳香族炭化水素と共役ジエンとからなる共重合体」から構成されるセグメントを少なくとも1つ有する。   The block copolymers (α) and (β) include at least a segment composed of “a vinyl aromatic hydrocarbon homopolymer” and / or “a copolymer composed of a vinyl aromatic hydrocarbon and a conjugated diene”. And at least one segment composed of “a conjugated diene homopolymer” and / or “a copolymer of a vinyl aromatic hydrocarbon and a conjugated diene”.

前記ブロック共重合体(α)および(β)のポリマー構造は、特に制限は無いが、例えば下記一般式で表される線状ブロック共重合体やラジアルブロック共重合体等のポリマー構造が挙げられ、これらのポリマー構造を任意に混合したポリマー構造であってもよい。   The polymer structure of the block copolymers (α) and (β) is not particularly limited, and examples thereof include polymer structures such as linear block copolymers and radial block copolymers represented by the following general formula. A polymer structure obtained by arbitrarily mixing these polymer structures may be used.

また、下記一般式で表されるラジアルブロック共重合体において、さらにAおよび/またはBが少なくとも一つXに結合していてもよい。   Further, in the radial block copolymer represented by the following general formula, at least one A and / or B may be bonded to X.

(A−B)n、A−(B−A)n、B−(A−B)n+1
[(A−B)k]m+1−X、[(A−B)k−A]m+1−X
[(B−A)k]m+1−X、[(B−A)k−B]m+1−X
上記各一般式において、セグメントAは「ビニル芳香族炭化水素単独重合体」および/または「ビニル芳香族炭化水素と共役ジエンとからなる共重合体」から構成され、セグメントBは「共役ジエン単独重合体」および/または「ビニル芳香族炭化水素と共役ジエンとからなる共重合体」から構成されるものである。
(AB) n , A- (BA) n , B- (AB) n + 1
[(A−B) k] m + 1 −X, [(A−B) k−A] m + 1 −X
[(B−A) k] m + 1 −X, [(B−A) k−B] m + 1 −X
In each of the above general formulas, the segment A is composed of “vinyl aromatic hydrocarbon homopolymer” and / or “copolymer composed of vinyl aromatic hydrocarbon and conjugated diene”, and segment B is composed of “conjugated diene homopolymer”. The polymer "and / or" the copolymer comprising a vinyl aromatic hydrocarbon and a conjugated diene ".

好ましいセグメントA中のビニル芳香族炭化水素含有量は50質量%以上であり、好ましいセグメントB中のビニル芳香族炭化水素含有量は50質量%未満である。   The preferred vinyl aromatic hydrocarbon content in segment A is 50% by mass or more, and the preferred vinyl aromatic hydrocarbon content in segment B is less than 50% by mass.

上記一般式中、Xは、例えば四塩化ケイ素、四塩化スズ、1,3ビス(N,N−グリシジルアミノメチル)シクロヘキサン、エポキシ化大豆油等のカップリング剤の残基、または多官能有機リチウム化合物等の開始剤の残基を示す。   In the above general formula, X is a residue of a coupling agent such as silicon tetrachloride, tin tetrachloride, 1,3 bis (N, N-glycidylaminomethyl) cyclohexane, epoxidized soybean oil, or polyfunctional organolithium Indicates the residue of an initiator such as a compound.

n、kおよびmは、それぞれ独立に1以上の整数、一般的には1〜5の整数である。   n, k and m are each independently an integer of 1 or more, generally an integer of 1 to 5.

また、Xに複数結合しているポリマー鎖の構造は同一でも、異なっていてもよい。   Moreover, the structure of the polymer chain bonded to X may be the same or different.

ブロック共重合体(α)および(β)を構成するセグメントA、セグメントBにおけるビニル芳香族炭化水素と共役ジエンとの共重合体中のビニル芳香族炭化水素は均一に分布していても、テーパー(漸減)状に分布していてもよい。   Even if the vinyl aromatic hydrocarbons in the copolymer of vinyl aromatic hydrocarbon and conjugated diene in the segments A and B constituting the block copolymers (α) and (β) are uniformly distributed, they are tapered. It may be distributed in the form of (gradual decrease).

また当該ブロック共重合体(α)および(β)中には、ビニル芳香族炭化水素が均一に分布している部分および/またはテーパー状に分布している部分がセグメント中にそれぞれ複数個共存してもよい。   Further, in the block copolymers (α) and (β), a plurality of portions where vinyl aromatic hydrocarbons are uniformly distributed and / or a portion where they are distributed in a tapered shape coexist in the segment. May be.

セグメントA中のビニル芳香族炭化水素含有量({セグメントA中のビニル芳香族炭化水素/(セグメントA中のビニル芳香族炭化水素+共役ジエン)}×100)と、セグメントB中のビニル芳香族炭化水素含有量({セグメントB中のビニル芳香族炭化水素/(セグメントB中のビニル芳香族炭化水素+共役ジエン)}×100)との関係は、セグメントAにおけるビニル芳香族炭化水素含有量の方が、セグメントBにおけるビニル芳香族炭化水素含有量より大である。   Vinyl aromatic hydrocarbon content in segment A ({vinyl aromatic hydrocarbon in segment A / (vinyl aromatic hydrocarbon in segment A + conjugated diene)} × 100) and vinyl aromatic in segment B The relationship between the hydrocarbon content ({vinyl aromatic hydrocarbon in segment B / (vinyl aromatic hydrocarbon in segment B + conjugated diene)} × 100) Is greater than the vinyl aromatic hydrocarbon content in segment B.

セグメントAとセグメントBとのビニル芳香族炭化水素含有量の差は、5質量%以上であることが好ましい。   The difference in vinyl aromatic hydrocarbon content between segment A and segment B is preferably 5% by mass or more.

前記混合成分(I)におけるブロック共重合体(α)および(β)の質量比((α)/(β))は、90/10〜10/90であることが好ましく、80/20〜20/80であることがより好ましく、70/30〜30/70であることがさらに好ましい。   The mass ratio ((α) / (β)) of the block copolymers (α) and (β) in the mixed component (I) is preferably 90/10 to 10/90, and 80/20 to 20 / 80 is more preferable, and 70/30 to 30/70 is even more preferable.

前記ブロック共重合体(α)および(β)は、炭化水素溶媒中、重合開始剤存在下、ビニル芳香族炭化水素および共役ジエンを重合することにより得ることができる。   The block copolymers (α) and (β) can be obtained by polymerizing a vinyl aromatic hydrocarbon and a conjugated diene in a hydrocarbon solvent in the presence of a polymerization initiator.

ビニル芳香族炭化水素としては、例えば、スチレン、o−メチルスチレン、p−メチルスチレン、p−tert−ブチルスチレン、1,3−ジメチルスチレン、α−メチルスチレン、ビニルナフタレン、ビニルアントラセン、1,1−ジフェニルエチレン、N,N−ジメチル−p−アミノエチルスチレン、N,N−ジエチル−p−アミノエチルスチレン等が挙げられるが、特に一般的なものとしてはスチレンが挙げられる。これらは1種を単独で使用してもよく、2種以上を併用してもよい。   Examples of the vinyl aromatic hydrocarbon include styrene, o-methylstyrene, p-methylstyrene, p-tert-butylstyrene, 1,3-dimethylstyrene, α-methylstyrene, vinylnaphthalene, vinylanthracene, 1,1. -Diphenylethylene, N, N-dimethyl-p-aminoethylstyrene, N, N-diethyl-p-aminoethylstyrene and the like can be mentioned, and styrene is particularly common. These may be used alone or in combination of two or more.

共役ジエンとしては、1対の共役二重結合を有するジオレフィンであり、例えば、1,3−ブタジエン、2−メチル−1,3−ブタジエン(イソプレン)、2,3−ジメチル−1,3−ブタジエン、1,3−ペンタジエン、1,3−ヘキサジエン等が挙げられるが、特に一般的なものとしては1,3−ブタジエン、イソプレン等が挙げられる。これらは1種を単独で使用してもよく、2種以上を併用してもよい。   The conjugated diene is a diolefin having a pair of conjugated double bonds. For example, 1,3-butadiene, 2-methyl-1,3-butadiene (isoprene), 2,3-dimethyl-1,3- Butadiene, 1,3-pentadiene, 1,3-hexadiene and the like can be mentioned, and particularly common ones include 1,3-butadiene, isoprene and the like. These may be used alone or in combination of two or more.

炭化水素溶媒としては、例えば、n−ブタン、イソブタン、n−ペンタン、n−ヘキサン、n−ヘプタン、n−オクタン等の脂肪族炭化水素類;シクロペンタン、メチルシクロペンタン、シクロヘキサン、メチルシクロヘキサン、シクロヘプタン、メチルシクロヘプタン等の脂環式炭化水素類;また、ベンゼン、トルエン、キシレン、エチルベンゼン等の芳香族炭化水素等が使用できる。これらは1種を単独で使用してもよく、2種以上を併用してもよい。   Examples of the hydrocarbon solvent include aliphatic hydrocarbons such as n-butane, isobutane, n-pentane, n-hexane, n-heptane, and n-octane; cyclopentane, methylcyclopentane, cyclohexane, methylcyclohexane, cyclohexane Alicyclic hydrocarbons such as heptane and methylcycloheptane; and aromatic hydrocarbons such as benzene, toluene, xylene and ethylbenzene can be used. These may be used alone or in combination of two or more.

前記ブロック共重合体(α)および(β)の重合を行う際の重合開始剤としては、一般的に、共役ジエンおよびビニル芳香族化合物に対し、アニオン重合活性があることが知られている脂肪族炭化水素アルカリ金属化合物、芳香族炭化水素アルカリ金属化合物、有機アミノアルカリ金属化合物等を用いることができる。   As a polymerization initiator for the polymerization of the block copolymers (α) and (β), it is generally known that the conjugated diene and the vinyl aromatic compound have anionic polymerization activity. An aromatic hydrocarbon alkali metal compound, an aromatic hydrocarbon alkali metal compound, an organic aminoalkali metal compound, or the like can be used.

これらを構成するアルカリ金属としては、リチウム、ナトリウム、カリウム等が挙げられ、好適な有機アルカリ金属化合物としては、炭素数1〜20の脂肪族および芳香族炭化水素リチウム化合物であって、1分子中に1個のリチウムを含む化合物や1分子中に複数のリチウムを含むジリチウム化合物、トリリチウム化合物、テトラリチウム化合物が挙げられる。   Examples of the alkali metal constituting these include lithium, sodium, potassium, and the like, and preferable organic alkali metal compounds are aliphatic and aromatic hydrocarbon lithium compounds having 1 to 20 carbon atoms, in one molecule. Examples thereof include a compound containing one lithium, a dilithium compound containing a plurality of lithium in one molecule, a trilithium compound, and a tetralithium compound.

具体的には、n−プロピルリチウム、n−ブチルリチウム、sec−ブチルリチウム、tert−ブチルリチウム、ヘキサメチレンジリチウム、ブタジエニルジリチウム、イソプレニルジリチウム、ジイソプロペニルベンゼンとsec−ブチルリチウムの反応生成物、さらにジビニルベンゼンとsec−ブチルリチウムと少量の1,3−ブタジエンとの反応生成物等が挙げられる。   Specifically, n-propyl lithium, n-butyl lithium, sec-butyl lithium, tert-butyl lithium, hexamethylene dilithium, butadienyl dilithium, isoprenyl dilithium, diisopropenylbenzene and sec-butyl lithium In addition, a reaction product of divinylbenzene, sec-butyllithium and a small amount of 1,3-butadiene can be used.

またさらに、米国特許第5,708,092号明細書、英国特許第2,241,239号明細書、米国特許第5,527,753号明細書等に開示されている有機アルカリ金属化合物も使用することができる。   Furthermore, organic alkali metal compounds disclosed in US Pat. No. 5,708,092, British Patent 2,241,239, US Pat. No. 5,527,753, etc. are also used. can do.

これらの重合開始剤は1種を単独で使用してもよく、2種以上を併用してもよい。   These polymerization initiators may be used alone or in combination of two or more.

前記ブロック共重合体(α)および(β)を製造する際の重合温度は、一般的に−10℃〜150℃、好ましくは40℃〜120℃である。   The polymerization temperature for producing the block copolymers (α) and (β) is generally −10 ° C. to 150 ° C., preferably 40 ° C. to 120 ° C.

重合に要する時間は、条件によって異なるが、通常は10時間以内であり、特に好適には0.5〜5時間である。   The time required for the polymerization varies depending on conditions, but is usually within 10 hours, particularly preferably 0.5 to 5 hours.

また、重合系の雰囲気は、窒素ガス等の不活性ガス等をもって置換することが好ましい。   The polymerization atmosphere is preferably replaced with an inert gas such as nitrogen gas.

重合圧力は、上記重合温度範囲でモノマーおよび溶媒を液層に維持するのに充分な圧力の範囲であればよく、特に制限されるものではない。   The polymerization pressure is not particularly limited as long as it is in a range sufficient to maintain the monomer and solvent in the liquid layer within the above polymerization temperature range.

さらに、重合系内には、触媒およびリビングポリマーを不活性化させるような不純物、例えば水、酸素、炭酸ガス等が混入しないよう留意することが好ましい。   Furthermore, it is preferable to take care not to mix impurities, such as water, oxygen, carbon dioxide gas, etc., which inactivate the catalyst and living polymer into the polymerization system.

前記混合成分(I)における0.1mm以上0.5mm以下のフィッシュアイ個数は100個/1.2m2以下であり、好ましくは50個/1.2m2以下であり、さらに好ましくは30個/1.2m2以下である。0.1mm以上0.5mm以下のフィッシュアイ個数が前記範囲内であると、保護フィルムを偏光板等の光学用シートに貼付した際に、フィシュアイ起因による光学用シートの表面の凹凸発生が防止できる。そして、光学検査の不具合の原因となるフィッシュアイが減少することにより、光学検査の精度向上に寄与する。0.1mm以上0.5mm以下のフィッシュアイ個数を前記範囲内とするには従来公知の方法を使用してもよく、例えば特開2000−351808号公報、特開2009−126945号公報等に記載されたブロック共重合体の製造方法が挙げられる。これらの製造方法において、使用するフィルターの目開き寸法は40μm以下が好ましい。 The number of fish eyes of 0.1 mm to 0.5 mm in the mixed component (I) is 100 / 1.2 m 2 or less, preferably 50 / 1.2 m 2 or less, more preferably 30 / 1.2 m 2 or less. When the number of fish eyes of 0.1 mm or more and 0.5 mm or less is within the above range, when the protective film is attached to an optical sheet such as a polarizing plate, unevenness of the surface of the optical sheet due to the fish eye is prevented. it can. And the fish eye which causes the malfunction of an optical test | inspection reduces, It contributes to the precision improvement of an optical test | inspection. In order to make the number of fish eyes of 0.1 mm or more and 0.5 mm or less within the above range, a conventionally known method may be used, for example, as described in JP-A Nos. 2000-351808 and 2009-126945. The manufacturing method of the made block copolymer is mentioned. In these manufacturing methods, the aperture size of the filter used is preferably 40 μm or less.

なお、混合成分(I)における0.1mm以上0.5mm以下のフィッシュアイ個数は後述の実施例に記載の方法により測定することができる。   In addition, the number of fish eyes of 0.1 mm or more and 0.5 mm or less in the mixed component (I) can be measured by the method described in Examples described later.

上述した混合成分(I)は、1種を単独で使用してもよく、2種以上を併用してもよい。   The above-mentioned mixed component (I) may be used alone or in combination of two or more.

〈成分(II)〉
本実施の形態に用いる基材層は、さらに下記成分(II)を含んでいてもよい。
(II):(i)ビニル芳香族炭化水素重合体、(ii)ビニル芳香族炭化水素と脂肪族不飽和カルボン酸系誘導体とからなる共重合体、および(iii)ゴム変性スチレン系重合体からなる群より選ばれた少なくとも一種の重合体。
<Ingredient (II)>
The base material layer used in the present embodiment may further contain the following component (II).
(II): (i) a vinyl aromatic hydrocarbon polymer, (ii) a copolymer comprising a vinyl aromatic hydrocarbon and an aliphatic unsaturated carboxylic acid derivative, and (iii) a rubber-modified styrene polymer. At least one polymer selected from the group consisting of:

〔成分(i)〕
本実施の形態に用いる前記成分(II)のうちの(i)ビニル芳香族炭化水素重合体(以後、成分(i)と記載する場合もある)は、ビニル芳香族炭化水素単独重合体、またはビニル芳香族炭化水素と、該ビニル芳香族炭化水素と共重合可能なモノマーとの共重合体(但し、後述の成分(ii)を除く)である。ビニル芳香族系炭化水素とは主としてスチレン系の単量体のことをいい、具体的にはスチレン、α−アルキル置換スチレン、例えばα−メチルスチレン類、各アルキル置換スチレン類、各ハロゲン置換スチレン類等から選ばれたもので、目的により適当なものを少なくとも一種選べばよい。ビニル芳香族炭化水素と共重合可能なモノマーとしては、アクリロニトリル、無水マレイン酸等が挙げられる。
[Component (i)]
Of the component (II) used in the present embodiment, (i) vinyl aromatic hydrocarbon polymer (hereinafter sometimes referred to as component (i)) is a vinyl aromatic hydrocarbon homopolymer, or A copolymer of a vinyl aromatic hydrocarbon and a monomer copolymerizable with the vinyl aromatic hydrocarbon (excluding the component (ii) described later). Vinyl aromatic hydrocarbons mainly refer to styrene monomers, specifically styrene, α-alkyl-substituted styrenes such as α-methylstyrenes, alkyl-substituted styrenes, halogen-substituted styrenes. What is necessary is just to select at least 1 type suitable for the purpose. Examples of the monomer copolymerizable with the vinyl aromatic hydrocarbon include acrylonitrile and maleic anhydride.

成分(i)としては、ポリスチレン、スチレン−α−メチルスチレン共重合体、アクリロニトリル−スチレン共重合体、スチレン−無水マレイン酸共重合体等が挙げられるが、特に好ましい成分(i)としてはポリスチレンが挙げられる。   Examples of the component (i) include polystyrene, styrene-α-methylstyrene copolymer, acrylonitrile-styrene copolymer, and styrene-maleic anhydride copolymer. Particularly preferable component (i) is polystyrene. Can be mentioned.

成分(i)の重量平均分子量は、50000〜500000であることが好ましい。なお、本実施の形態において、重量平均分子量は、ゲルパーミエーションクロマトグラフィー(GPC)測定による重量平均分子量(ポリスチレン換算分子量)である。   The weight average molecular weight of component (i) is preferably 50,000 to 500,000. In the present embodiment, the weight average molecular weight is a weight average molecular weight (polystyrene equivalent molecular weight) measured by gel permeation chromatography (GPC).

上述した成分(i)は、1種を単独で使用してもよく、2種以上を併用してもよい。   As the component (i) described above, one type may be used alone, or two or more types may be used in combination.

〔成分(ii)〕
本実施の形態に用いる前記成分(II)のうちの(ii)ビニル芳香族炭化水素と脂肪族不飽和カルボン酸系誘導体とからなる共重合体(以後、成分(ii)と記載する場合もある)において、ビニル芳香族系炭化水素とは成分(i)の項で前記したスチレン系の単量体のことをいう。
[Component (ii)]
Of the component (II) used in the present embodiment, (ii) a copolymer comprising a vinyl aromatic hydrocarbon and an aliphatic unsaturated carboxylic acid derivative (hereinafter sometimes referred to as component (ii)). ), The vinyl aromatic hydrocarbon means the styrene monomer described in the section of component (i).

また、成分(ii)において、脂肪族不飽和カルボン酸系誘導体としては、例えば、炭素数C1〜C12好ましくはC2〜C12のアルコールとアクリル酸とのエステル誘導体(アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、アクリル酸プロピル、アクリル酸ブチル、アクリル酸ペンチル、アクリル酸ヘキシル等);または
炭素数C1〜C12好ましくはC2〜C12、より好ましくはC3〜C12のアルコールとメタクリル酸とのエステル誘導体;または
α、β不飽和ジカルボン酸、例えばフマル酸、イタコン酸、マレイン酸等、もしくはこれらジカルボン酸とC2〜C12のアルコールとのモノもしくはジエステル誘導体等が挙げられる。これらは1種を単独で使用してもよく、2種以上を併用してもよい。
In addition, in the component (ii), examples of the aliphatic unsaturated carboxylic acid derivatives include ester derivatives (methyl acrylate, ethyl acrylate, acrylic) of an alcohol and acrylic acid having C1 to C12, preferably C2 to C12, for example. Propyl acrylate, butyl acrylate, pentyl acrylate, hexyl acrylate, etc.); or ester derivatives of C1-C12, preferably C2-C12, more preferably C3-C12 alcohols and methacrylic acid; Saturated dicarboxylic acids such as fumaric acid, itaconic acid, maleic acid and the like, or mono- or diester derivatives of these dicarboxylic acids with C2 to C12 alcohols, and the like can be mentioned. These may be used alone or in combination of two or more.

これらは一般に上記エステル誘導体を主体としたものが好ましく、エステル誘導体の量が好ましくは50モル%以上、より好ましくは70モル%以上のものである。   In general, these are mainly composed of the above ester derivatives, and the amount of the ester derivatives is preferably 50 mol% or more, more preferably 70 mol% or more.

また、上記エステル誘導体の種類は、アクリル酸エチル、アクリル酸プロピル、アクリル酸ブチル、アクリル酸ヘキシル、アクリル酸オクチル等が好ましい。   In addition, the type of the ester derivative is preferably ethyl acrylate, propyl acrylate, butyl acrylate, hexyl acrylate, octyl acrylate, or the like.

成分(ii)の製造方法は、スチレン系樹脂を製造する公知の方法、例えば、塊状重合法、溶液重合法、懸濁重合法、乳化重合法等を用いることができる。成分(ii)の重量平均分子量は、50000〜500000であることが好ましい。   As a method for producing component (ii), a known method for producing a styrene resin, for example, a bulk polymerization method, a solution polymerization method, a suspension polymerization method, an emulsion polymerization method or the like can be used. The weight average molecular weight of component (ii) is preferably 50,000 to 500,000.

特に好ましい成分(ii)は、スチレンとアクリル酸n-ブチルとを主体とする共重合体であり、アクリル酸n-ブチルとスチレンとの合計量が50質量%以上、さらに好ましくはアクリル酸n−ブチルとスチレンとの合計量が60質量%以上からなる脂肪族不飽和カルボン酸エステル−スチレン共重合体である。すなわち、アクリル酸n−ブチルとスチレンとを主体とする脂肪族不飽和カルボン酸エステル-スチレン共重合体である。   Particularly preferred component (ii) is a copolymer mainly composed of styrene and n-butyl acrylate, and the total amount of n-butyl acrylate and styrene is 50% by mass or more, more preferably n-acrylate. It is an aliphatic unsaturated carboxylic acid ester-styrene copolymer in which the total amount of butyl and styrene is 60% by mass or more. That is, it is an aliphatic unsaturated carboxylic acid ester-styrene copolymer mainly composed of n-butyl acrylate and styrene.

上述した成分(ii)は、1種を単独で使用してもよく、2種以上を併用してもよい。   Component (ii) described above may be used alone or in combination of two or more.

〔成分(iii)〕
本実施の形態に用いる前記成分(II)のうちの(iii)ゴム変性スチレン系重合体(以後、成分(iii)と記載する場合もある)としては、例えば、ビニル芳香族炭化水素と、ビニル芳香族炭化水素と共重合可能なモノマーと、エラストマーとの混合物を重合することによって得られるもの等が挙げられる。当該重合方法としては、懸濁重合、乳化重合、塊状重合、塊状−懸濁重合等が挙げられる。ビニル芳香族系炭化水素とは成分(i)の項で前記したスチレン系の単量体のことをいう。ビニル芳香族炭化水素と共重合可能なモノマーとしてはα−メチルスチレン、アクリロニトリル、アクリル酸エステル、メタクリル酸エステル、無水マレイン酸等が挙げられる。また、共重合可能なエラストマーとしては天然ゴム、合成イソプレンゴム、ブタジエンゴム、スチレン-ブタジエンゴム、ハイスチレンゴム等が使用される。
[Component (iii)]
Of the component (II) used in the present embodiment, (iii) rubber-modified styrenic polymer (hereinafter sometimes referred to as component (iii)) includes, for example, vinyl aromatic hydrocarbons and vinyl Examples thereof include those obtained by polymerizing a mixture of a monomer copolymerizable with an aromatic hydrocarbon and an elastomer. Examples of the polymerization method include suspension polymerization, emulsion polymerization, bulk polymerization, and bulk-suspension polymerization. The vinyl aromatic hydrocarbon refers to the styrene monomer described in the section of component (i). Examples of the monomer copolymerizable with the vinyl aromatic hydrocarbon include α-methylstyrene, acrylonitrile, acrylic ester, methacrylic ester, maleic anhydride and the like. As the copolymerizable elastomer, natural rubber, synthetic isoprene rubber, butadiene rubber, styrene-butadiene rubber, high styrene rubber or the like is used.

これらのエラストマーの配合割合は、「ビニル芳香族炭化水素100質量部」に対して、または「ビニル芳香族炭化水素と、ビニル芳香族炭化水素と共重合可能なモノマーとの合計100質量部」に対して、3〜50質量部であることが好ましい。   The blending ratio of these elastomers is “100 parts by mass of vinyl aromatic hydrocarbon” or “total 100 parts by mass of vinyl aromatic hydrocarbon and monomers copolymerizable with vinyl aromatic hydrocarbon”. On the other hand, it is preferable that it is 3-50 mass parts.

上述のエラストマーは、上述のモノマーに溶解して或いはラテックス状で乳化重合、塊状重合、塊状−懸濁重合等に共される。   The above-mentioned elastomer is dissolved in the above-mentioned monomer or in a latex form, and is used for emulsion polymerization, bulk polymerization, bulk-suspension polymerization, and the like.

特に好ましい成分(iii)としては、耐衝撃性ゴム変性スチレン系重合体(HIPS)が挙げられる。成分(iii)は剛性、耐衝撃性および滑り性の改良剤として利用できる。成分(iii)の重量平均分子量は、50000〜500000であることが好ましい。成分(iii)の含有量は、透明性維持を考慮すると、前記混合成分(I)と成分(II)との合計100質量部に対して、20質量部以下であることが好ましく、0.1〜10質量部であることが特に好ましい。   Particularly preferred component (iii) includes impact-resistant rubber-modified styrene polymer (HIPS). Component (iii) can be used as an agent for improving rigidity, impact resistance and slipperiness. The weight average molecular weight of component (iii) is preferably 50,000 to 500,000. The content of component (iii) is preferably 20 parts by mass or less with respect to a total of 100 parts by mass of the mixed component (I) and component (II) in consideration of maintaining transparency. It is particularly preferably 10 to 10 parts by mass.

上述した成分(iii)は、1種を単独で使用してもよく、2種以上を併用してもよい。   As the component (iii) described above, one type may be used alone, or two or more types may be used in combination.

本実施の形態に用いる前記成分(II)における成分(i)〜(iii)のMFR(G条件で温度200℃、荷重5kg)は、成形加工の点から0.1〜100g/10minであることが好ましく、0.5〜50g/10minであることがより好ましく、1〜30g/10minであることがさらに好ましい。   The MFR (temperature 200 ° C., load 5 kg under G condition) of the components (i) to (iii) in the component (II) used in the present embodiment is 0.1 to 100 g / 10 min from the point of molding. Is preferably 0.5 to 50 g / 10 min, and more preferably 1 to 30 g / 10 min.

本実施の形態に用いる基材層の前記ブロック共重合体組成物において、前記混合成分(I)と、前記成分(II)との質量比(混合成分(I)/成分(II))は、好ましくは30/70〜99.9/0.1、さらに好ましくは35/65〜99.5/0.5、さらに一層好ましくは40/60〜99/1である。かかる質量比で混合成分(I)と成分(II)とを組み合わせることで、剛性が向上した光学部材用保護フィルムを得ることができる。   In the block copolymer composition of the base material layer used in the present embodiment, the mass ratio of the mixed component (I) and the component (II) (mixed component (I) / component (II)) is: The ratio is preferably 30/70 to 99.9 / 0.1, more preferably 35/65 to 99.5 / 0.5, and still more preferably 40/60 to 99/1. By combining the mixed component (I) and the component (II) at such a mass ratio, a protective film for an optical member having improved rigidity can be obtained.

〈基材層の特性〉
本実施の形態に用いる基材層のリタデーションは、0.1nm〜50nmであり、好ましくは0.1nm〜40nmであり、さらに好ましくは0.1nm〜30nmである。
<Characteristics of base material layer>
The retardation of the base material layer used in the present embodiment is 0.1 nm to 50 nm, preferably 0.1 nm to 40 nm, and more preferably 0.1 nm to 30 nm.

基材層が前記混合成分(I)を含み、リタデーションが前記範囲内であると、光学異方性が小さくなるため、該基材層を有する保護フィルムを、偏光板およびディスプレイ等の物品に貼り付けた状態での外観検査が可能となる。   When the base material layer contains the mixed component (I) and the retardation is within the above range, the optical anisotropy becomes small. Therefore, the protective film having the base material layer is attached to an article such as a polarizing plate and a display. Appearance inspection in the attached state becomes possible.

基材層のリタデーションの測定は、例えば王子計測機器(株)社製KOBRA−WRを使用して平行ニコル回転法により測定することができる。詳細には後述の実施例に記載の方法により測定することができる。   The retardation of the base material layer can be measured by, for example, a parallel Nicol rotation method using KOBRA-WR manufactured by Oji Scientific Instruments. In detail, it can measure by the method as described in the below-mentioned Example.

複屈折の絶対値(|Δn|)とリタデーション(Re)とは以下の関係にある。   The absolute value (| Δn |) of birefringence and retardation (Re) have the following relationship.

Re=|Δn|×d
(|Δn|:複屈折の絶対値、Re:リタデーション、d:サンプルの厚み(nm))
また、複屈折の絶対値(|Δn|)は以下に示す値である。
Re = | Δn | × d
(| Δn |: absolute value of birefringence, Re: retardation, d: thickness of sample (nm))
The absolute value (| Δn |) of birefringence is a value shown below.

|Δn|=|nx−ny|
(nx:延伸方向の屈折率、ny:面内で延伸方向と垂直な屈折率)
リタデーションは基材層を構成するブロック共重合体(α)および(β)のビニル芳香族炭化水素含有量を本実施の形態に規定する範囲内に調整するか、或は基材層の延伸倍率とリタデーションとの関係を測定して調整することが可能である。延伸倍率とリタデーションとの関係については、延伸倍率を小さくすることでリタデーションを小さくすることができる。
| Δn | = | nx−ny |
(Nx: refractive index in the stretching direction, ny: refractive index perpendicular to the stretching direction in the plane)
In the retardation, the vinyl aromatic hydrocarbon content of the block copolymers (α) and (β) constituting the base layer is adjusted within the range specified in the present embodiment, or the stretch ratio of the base layer It is possible to measure and adjust the relationship between retardation and retardation. About the relationship between a draw ratio and retardation, a retardation can be made small by making a draw ratio small.

本実施の形態に用いる基材層の全光線透過率は、90%以上であり、好ましくは92%以上である。基材層の全光線透過率の上限は、特に限定されないが、例えば100%である。本実施の形態に用いる基材層の内部ヘーズ(以下、単に「ヘーズ」とも記す。)は、3.0%以下であり、好ましくは2.0%以下である。基材層の内部ヘーズの下限は、特に限定されないが、例えば0%である。全光線透過率および内部ヘーズが前記範囲内であると、該基材層を有する保護フィルムを、偏光板およびディスプレイ等の物品に貼り付けた状態で、透視性を損なわずに外観検査が可能となる。なお、本実施の形態において、全光線透過率および内部ヘーズは、ASTM D1003に準拠(試験片厚さ100μmのフィルムに流動パラフィンを塗布)して測定することができる。   The total light transmittance of the base material layer used in the present embodiment is 90% or more, and preferably 92% or more. Although the upper limit of the total light transmittance of a base material layer is not specifically limited, For example, it is 100%. The internal haze (hereinafter also simply referred to as “haze”) of the base material layer used in the present embodiment is 3.0% or less, preferably 2.0% or less. Although the minimum of the internal haze of a base material layer is not specifically limited, For example, it is 0%. When the total light transmittance and internal haze are within the above ranges, appearance inspection is possible without impairing transparency in a state where the protective film having the base material layer is attached to an article such as a polarizing plate and a display. Become. In the present embodiment, the total light transmittance and the internal haze can be measured in accordance with ASTM D1003 (liquid paraffin is applied to a film having a test piece thickness of 100 μm).

〈基材層の成形方法〉
本実施の形態に用いる基材層の成形方法は、押出法、インフレーション法、溶液のキャスト法などが挙げられる。光学的な異方性を生じさせないためには溶液のキャスト法が一般的であるが、本実施の形態に用いる基材層は、上記混合成分(I)を含み、分子鎖の配向調整が不要な低複屈折(低リタデーション)という特性を有するため、安価なインフレーション法により形成されることが好ましい。
<Method for forming base material layer>
Examples of the method for forming the base material layer used in this embodiment include an extrusion method, an inflation method, and a solution casting method. In order to prevent optical anisotropy, a solution casting method is generally used, but the base material layer used in the present embodiment includes the above-mentioned mixed component (I) and does not require alignment adjustment of molecular chains. Since it has a characteristic of low birefringence (low retardation), it is preferably formed by an inexpensive inflation method.

[粘着層]
本実施の形態に係る光学部材用保護フィルムは粘着層を含む。本実施の形態に係る光学部材用保護フィルムにおいて、粘着層は、上述した基材層上に積層されるが、粘着層と基材層との間に他の層を含んでいてもよい。このような他の層としては、例えば、帯電防止剤を含む層等が挙げられる。
[Adhesive layer]
The protective film for optical members according to the present embodiment includes an adhesive layer. In the protective film for an optical member according to the present embodiment, the pressure-sensitive adhesive layer is laminated on the base material layer described above, but another layer may be included between the pressure-sensitive adhesive layer and the base material layer. Examples of such other layers include a layer containing an antistatic agent.

本実施の形態に用いる粘着層を構成する粘着剤としては、例えばアクリル系、ウレタン系、ゴム系あるいはシリコーン系粘着剤を使用することができる。粘着剤は透明性の高いものが好ましく、粘着特性の調整の容易さからアクリル系粘着剤が好ましい。粘着剤は、適度な粘着性を付与するために、粘着付与剤等を含有してもよい。粘着付与剤としては、例えばロジン系、テルペン系、クマロン系、フェノール系、スチレン系あるいは石油系樹脂が挙げられる。   As the pressure-sensitive adhesive constituting the pressure-sensitive adhesive layer used in the present embodiment, for example, an acrylic-based, urethane-based, rubber-based, or silicone-based pressure-sensitive adhesive can be used. The pressure-sensitive adhesive is preferably highly transparent, and an acrylic pressure-sensitive adhesive is preferable because of easy adjustment of the adhesive properties. The pressure-sensitive adhesive may contain a tackifier or the like in order to impart moderate tackiness. Examples of the tackifier include rosin, terpene, coumarone, phenol, styrene, and petroleum resins.

アクリル系粘着剤としては、アクリル酸アルキルエステルを主成分とし、これに極性単量体成分を共重合して得たアクリル系ポリマーからなるアクリル系粘着剤が挙げられる。
上記アクリル酸アルキルエステルとは、アクリル酸またはメタクリル酸のアルキルエステルであって、特に限定されるものではないが、例えば、アクリル酸エチル、アクリル酸イソプロピル、アクリル酸n−ブチル、アクリル酸イソブチル、(メタ)アクリル酸ペンチル、(メタ)アクリル酸2−エチルヘキシル、(メタ)アクリル酸イソオクチル、(メタ)アクリル酸イソノニル、(メタ)アクリル酸デシル、(メタ)アクリル酸ラウリル等が挙げられる。
Examples of the acrylic pressure-sensitive adhesive include an acrylic pressure-sensitive adhesive composed of an acrylic polymer obtained by copolymerizing an alkyl acrylate ester as a main component and a polar monomer component thereto.
The acrylic acid alkyl ester is an alkyl ester of acrylic acid or methacrylic acid, and is not particularly limited. For example, ethyl acrylate, isopropyl acrylate, n-butyl acrylate, isobutyl acrylate, ( Examples thereof include pentyl (meth) acrylate, 2-ethylhexyl (meth) acrylate, isooctyl (meth) acrylate, isononyl (meth) acrylate, decyl (meth) acrylate, and lauryl (meth) acrylate.

上記極性単量体成分としては、アクリル酸、無水マレイン酸、2−ヒドロキシエチル(メタ)アクリレートなどの、カルボキシル基あるいは水酸基などを有する単量体が挙げられる。これら極性単量体はアクリル系ポリマー中の官能基となる。   Examples of the polar monomer component include monomers having a carboxyl group or a hydroxyl group, such as acrylic acid, maleic anhydride, and 2-hydroxyethyl (meth) acrylate. These polar monomers become functional groups in the acrylic polymer.

アクリル系粘着剤は、アクリル系ポリマーを架橋し得る架橋剤を配合してアクリ系粘着剤組成物としてもよい。架橋剤としては、例えば、脂肪族系ジイソシアネート、芳香族系ジイソシアネートあるいは芳香族系トリイソシアネートのようなポリイソシアネート系化合物などが用いられる。さらに、架橋反応が遅いものに対しては有機金属化合物等からなる架橋促進剤を添加することができる。   The acrylic pressure-sensitive adhesive may be an acrylic pressure-sensitive adhesive composition by blending a crosslinking agent capable of crosslinking the acrylic polymer. As the crosslinking agent, for example, a polyisocyanate compound such as aliphatic diisocyanate, aromatic diisocyanate, or aromatic triisocyanate is used. Furthermore, a crosslinking accelerator composed of an organometallic compound or the like can be added to those having a slow crosslinking reaction.

本実施の形態に用いる粘着剤には可塑剤を添加することができる。可塑剤としては、例えばアジピン酸エステル系、グリコールエステル系、セバシン酸エステル系、トリメリット酸エステル系、ピロメリット酸エステル系、フタル酸エステル系あるいはリン酸エステル系可塑剤が挙げられる。上記アクリル系粘着剤に対して使用する場合は、フタル酸エステル系可塑剤が好ましいが、それに限定されるものではない。   A plasticizer can be added to the pressure-sensitive adhesive used in this embodiment. Examples of the plasticizer include adipic acid ester type, glycol ester type, sebacic acid ester type, trimellitic acid ester type, pyromellitic acid ester type, phthalic acid ester type and phosphoric acid ester type plasticizer. When used for the acrylic pressure-sensitive adhesive, a phthalate ester plasticizer is preferred, but it is not limited thereto.

また、本実施の形態に用いる粘着層は、導電性付与剤を含有してもよい。粘着層における導電性付与剤の含有量は、粘着剤に対して2質量%〜30質量%の混合比が好ましい。   Moreover, the adhesion layer used for this Embodiment may contain an electroconductivity imparting agent. The content of the conductivity imparting agent in the adhesive layer is preferably a mixing ratio of 2% by mass to 30% by mass with respect to the adhesive.

粘着層に含有させる好ましい導電性付与剤としては、芳香族炭化水素系、エステル系、ケトン系等の有機溶剤に溶解する導電性付与剤で、官能基に水酸基(−OH)を持つイオン導電性ポリマーが挙げられる。   A preferable conductivity imparting agent to be included in the adhesive layer is a conductivity imparting agent that dissolves in an organic solvent such as an aromatic hydrocarbon, ester, or ketone, and has an ion conductivity having a hydroxyl group (—OH) as a functional group. Polymers.

粘着層に導電付与剤を含有することで、剥離時に発生する光学部材表面の静電気を低下させることができる。   By containing a conductivity-imparting agent in the adhesive layer, static electricity on the surface of the optical member generated at the time of peeling can be reduced.

本実施の形態に係る光学部材用保護フィルムにおける粘着層の剥離強度(粘着力)は、0.03〜0.5N/25mmであり、好ましくは0.05〜0.45N/25mmである。剥離強度が前記範囲内であると、保護フィルムにおける粘着層を被着体表面に充分接着させることができ、保護の機能終了後の保護フィルムの除去作業が容易となる。剥離強度は、粘着剤の種類および粘着剤の塗工量で調整できる。なお、本実施の形態において、剥離強度は、JIS Z−0237(粘着テープ試験法)に定められた測定方法で得られた、ステンレス製被着板に対する剥離抵抗値とする。   The peel strength (adhesive strength) of the adhesive layer in the protective film for optical members according to the present embodiment is 0.03 to 0.5 N / 25 mm, and preferably 0.05 to 0.45 N / 25 mm. When the peel strength is within the above range, the pressure-sensitive adhesive layer in the protective film can be sufficiently adhered to the surface of the adherend, and the protective film can be easily removed after the protection function is completed. The peel strength can be adjusted by the type of adhesive and the coating amount of the adhesive. In the present embodiment, the peel strength is defined as a peel resistance value with respect to the stainless steel adherend obtained by a measurement method defined in JIS Z-0237 (adhesive tape test method).

[剥離フィルム]
本実施の形態に係る光学部材用保護フィルムは、剥離フィルムを含んでいてもよい。本実施の形態に係る光学部材用保護フィルムにおいて、剥離フィルムは、上述した粘着層上に積層されることが好ましい。粘着層と剥離フィルムとの間に他の層を含んでいてもよい。このような他の層としては、例えば、シリコーン系に代表される剥離層等が挙げられる。
[Peeling film]
The protective film for optical members according to the present embodiment may include a release film. In the protective film for an optical member according to the present embodiment, the release film is preferably laminated on the above-described adhesive layer. Another layer may be included between the adhesive layer and the release film. Examples of such other layers include a release layer typified by silicone.

本実施の形態に用いる剥離フィルムを構成する基材フィルムとしては、ポリエステルフィルム、エチレン酢酸ビニル共重合体フィルム、ポリエチレンフィルム等の熱可塑性樹脂からなるフィルムを挙げることができる。中でも、好ましくはポリエチレンテレフタレートフィルムが挙げられる。   As a base film which comprises the peeling film used for this Embodiment, the film which consists of thermoplastic resins, such as a polyester film, an ethylene vinyl acetate copolymer film, a polyethylene film, can be mentioned. Among them, a polyethylene terephthalate film is preferable.

剥離フィルムの厚みは、特に制限はないが、好ましくは100μm以下であり、さらに好ましくは50μm以下である。   Although there is no restriction | limiting in particular in the thickness of a peeling film, Preferably it is 100 micrometers or less, More preferably, it is 50 micrometers or less.

[光学部材用保護フィルムの製造方法および特性]
本実施の形態の光学部材用保護フィルムは、通常用いられている粘着剤付きフィルムの製造方法を使用して製造することができる。例えば、上記基材層または剥離フィルム上に溶媒で希釈した粘着剤を塗布し、乾燥して溶媒を除去することにより粘着層を形成し、次いで、当該粘着層上に、公知の方法、例えばロ−ル貼合装置を用いて、剥離フィルムまたは基材層を積層する方法が挙げられる。ここで、溶媒としては、トルエンおよびメチルエチルケトンの混合溶媒が挙げられる。
[Production method and characteristics of protective film for optical member]
The protective film for optical members of this Embodiment can be manufactured using the manufacturing method of the film with an adhesive normally used. For example, a pressure-sensitive adhesive diluted with a solvent is applied onto the base material layer or the release film, dried to remove the solvent, and then the pressure-sensitive adhesive layer is formed on the pressure-sensitive adhesive layer. -The method of laminating | stacking a peeling film or a base material layer using a glue bonding apparatus is mentioned. Here, examples of the solvent include a mixed solvent of toluene and methyl ethyl ketone.

本実施の形態の光学部材用保護フィルムの厚みは、基材層、粘着層および剥離フィルムを含む場合、好ましくは200μm以下であり、より好ましくは150μm以下である。   The thickness of the protective film for an optical member of the present embodiment is preferably 200 μm or less, more preferably 150 μm or less when including the base material layer, the adhesive layer, and the release film.

光学部材用保護フィルムにおいて、基材層の好ましい厚みは5〜100μmであり、粘着層の好ましい厚みは5〜50μmである。また、光学部材用保護フィルムにおいて、基材層と粘着層との層比(基材層の厚さ/粘着層の厚さ)は、50/50〜95/5であることが好ましい。基材層と粘着層との層比が前記範囲内であると、光学部材用保護フィルムの透明性を維持する上で好ましい。   In the protective film for an optical member, the preferable thickness of the base material layer is 5 to 100 μm, and the preferable thickness of the adhesive layer is 5 to 50 μm. In the protective film for an optical member, the layer ratio of the base material layer to the adhesive layer (the thickness of the base material layer / the thickness of the adhesive layer) is preferably 50/50 to 95/5. It is preferable for maintaining the transparency of the protective film for an optical member that the layer ratio between the base material layer and the adhesive layer is within the above range.

本実施の形態に係る光学部材用保護フィルムにおいて、剥離フィルムを含む場合、剥離フィルムに用いる基材フィルムの好ましい厚みは5〜50μmである。   In the protective film for optical members according to the present embodiment, when a release film is included, a preferable thickness of the base film used for the release film is 5 to 50 μm.

本実施の形態に係る光学部材用保護フィルムは、基材層と粘着層との間、または粘着層と剥離フィルムとの間に他の層を含む場合、他の層の厚みは、0.1〜20μmであることが好ましく、0.1〜15μmであることがより好ましく、0.1〜10μmであることがさらに好ましい。   When the protective film for an optical member according to the present embodiment includes another layer between the base material layer and the adhesive layer or between the adhesive layer and the release film, the thickness of the other layer is 0.1. It is preferably ˜20 μm, more preferably 0.1 to 15 μm, and further preferably 0.1 to 10 μm.

本実施の形態に係る光学部材用保護フィルムは、貼付後の貼付対象物表面において、打痕性に優れ、液晶ディスプレイ(LCD)やプラズマディスプレイ(PDP)などのフラットパネルディスプレイ(FPD)等の光学部材の保護フィルムとして好適に利用できる。また、本実施の形態に係る光学部材用保護フィルムは、リタデーションが小さく透明性に優れ、厚み精度が良好な基材層を有することから、特に光学部材の外観検査における表面保護フィルムとして好適に利用できる。   The protective film for an optical member according to the present embodiment has excellent dent characteristics on the surface of an object to be pasted after being pasted, and is optical such as a flat panel display (FPD) such as a liquid crystal display (LCD) or a plasma display (PDP). It can be suitably used as a protective film for members. In addition, the protective film for optical members according to the present embodiment has a base layer having small retardation, excellent transparency, and good thickness accuracy, and thus is suitably used as a surface protective film particularly in optical member visual inspection. it can.

以下、本発明を実施例により具体的に説明する。本発明は、後述する実施例により制限されるものではない。   Hereinafter, the present invention will be specifically described by way of examples. This invention is not restrict | limited by the Example mentioned later.

<ブロック共重合体(以下「成分(a)」とも記す。)の製造例>
(ブロック共重合体A−1)
攪拌機を備えたオートクレーブを用い、窒素ガス雰囲気下で、スチレン15質量部を含むシクロヘキサン溶液に、n−ブチルリチウムを0.105質量部、テトラメチルエチレンジアミンをn−ブチルリチウムに対して0.1倍モル添加し、70℃で20分間連続供給して重合を行った。
<Example of production of block copolymer (hereinafter also referred to as “component (a)”)>
(Block copolymer A-1)
Using an autoclave equipped with a stirrer, in a nitrogen gas atmosphere, in a cyclohexane solution containing 15 parts by mass of styrene, 0.105 parts by mass of n-butyllithium and 0.1 times that of tetramethylethylenediamine with respect to n-butyllithium Mole was added and polymerization was carried out by continuously feeding at 70 ° C. for 20 minutes.

次に、スチレン2質量部と1,3−ブタジエン70質量部とを含むシクロヘキサン溶液を、70℃で80分間連続供給して重合を行った。   Next, polymerization was performed by continuously supplying a cyclohexane solution containing 2 parts by mass of styrene and 70 parts by mass of 1,3-butadiene at 70 ° C. for 80 minutes.

次に、スチレン13質量部を含むシクロヘキサン溶液を、70℃で20分間連続供給して重合を行った。   Next, a cyclohexane solution containing 13 parts by mass of styrene was continuously supplied at 70 ° C. for 20 minutes for polymerization.

その後、重合器にメタノールをn−ブチルリチウムに対して当モル添加し、安定剤として2−〔1−(2−ヒドロキシ−3,5−ジ−t−ペンチルフェニル)エチル〕−4,6−ジ−t−ペンチルフェニルアクリレートを、ブロック共重合体100質量部に対して、0.4質量部を加えた。その後、脱溶媒してブロック共重合体A−1を得た。   Thereafter, methanol is added in an equimolar amount to n-butyllithium, and 2- [1- (2-hydroxy-3,5-di-t-pentylphenyl) ethyl] -4,6- 0.4 parts by mass of di-t-pentylphenyl acrylate was added to 100 parts by mass of the block copolymer. Thereafter, the solvent was removed to obtain a block copolymer A-1.

(ブロック共重合体A−2)
攪拌機を備えたオートクレーブを用い、窒素ガス雰囲気下で、スチレン20質量部を含むシクロヘキサン溶液に、n−ブチルリチウムを0.100質量部、テトラメチルエチレンジアミンをn−ブチルリチウムに対して0.1倍モル添加し、70℃で25分間連続供給して重合を行った。
(Block copolymer A-2)
Using an autoclave equipped with a stirrer, in a nitrogen gas atmosphere, in a cyclohexane solution containing 20 parts by mass of styrene, 0.100 parts by mass of n-butyllithium and 0.1 times that of tetramethylethylenediamine with respect to n-butyllithium Mole was added and polymerization was carried out by continuously feeding at 70 ° C. for 25 minutes.

次に、スチレン4質量部と1,3−ブタジエン58質量部とを含むシクロヘキサン溶液を、70℃で65分間連続供給して重合を行った。   Next, polymerization was carried out by continuously supplying a cyclohexane solution containing 4 parts by mass of styrene and 58 parts by mass of 1,3-butadiene at 70 ° C. for 65 minutes.

次に、スチレン18質量部を含むシクロヘキサン溶液を、70℃で25分間連続供給して重合を行った。   Next, polymerization was carried out by continuously supplying a cyclohexane solution containing 18 parts by mass of styrene at 70 ° C. for 25 minutes.

その後、重合器にメタノールをn−ブチルリチウムに対して当モル添加し、安定剤として2−〔1−(2−ヒドロキシ−3,5−ジ−t−ペンチルフェニル)エチル〕−4,6−ジ−t−ペンチルフェニルアクリレートを、ブロック共重合体100質量部に対して、0.3質量部を加えた。その後、脱溶媒してブロック共重合体A−2を得た。   Thereafter, methanol is added in an equimolar amount to n-butyllithium, and 2- [1- (2-hydroxy-3,5-di-t-pentylphenyl) ethyl] -4,6- is used as a stabilizer. 0.3 parts by mass of di-t-pentylphenyl acrylate was added to 100 parts by mass of the block copolymer. Thereafter, the solvent was removed to obtain a block copolymer A-2.

(ブロック共重合体A−3)
攪拌機を備えたオートクレーブを用い、窒素ガス雰囲気下で、スチレン25質量部を含むシクロヘキサン溶液に、n−ブチルリチウムを0.092質量部、テトラメチルエチレンジアミンをn−ブチルリチウムに対して0.1倍モル添加し、70℃で30分間連続供給して重合を行った。
(Block copolymer A-3)
Using an autoclave equipped with a stirrer, in a nitrogen gas atmosphere, in a cyclohexane solution containing 25 parts by mass of styrene, 0.092 parts by mass of n-butyllithium and 0.1 times that of tetramethylethylenediamine with respect to n-butyllithium Mole was added and polymerization was carried out by continuously feeding at 70 ° C. for 30 minutes.

次に、スチレン2質量部と1,3−ブタジエン20質量部とを含むシクロヘキサン溶液を、70℃で25分間連続供給して重合を行った。   Next, polymerization was performed by continuously supplying a cyclohexane solution containing 2 parts by mass of styrene and 20 parts by mass of 1,3-butadiene at 70 ° C. for 25 minutes.

次に、スチレン4質量部と1,3−ブタジエン24質量部とを含むシクロヘキサン溶液を、70℃で35分間連続供給して重合を行った。   Next, polymerization was performed by continuously supplying a cyclohexane solution containing 4 parts by mass of styrene and 24 parts by mass of 1,3-butadiene at 70 ° C. for 35 minutes.

次に、スチレン25質量部を含むシクロヘキサン溶液を、70℃で30分間連続供給して重合を行った。   Next, polymerization was carried out by continuously supplying a cyclohexane solution containing 25 parts by mass of styrene at 70 ° C. for 30 minutes.

その後、重合器にメタノールをn−ブチルリチウムに対して当モル添加し、安定剤として2−〔1−(2−ヒドロキシ−3,5−ジ−t−ペンチルフェニル)エチル〕−4,6−ジ−t−ペンチルフェニルアクリレートを、ブロック共重合体100質量部に対して、0.3質量部を加えた。その後、脱溶媒してブロック共重合体A−3を得た。   Thereafter, methanol is added in an equimolar amount to n-butyllithium, and 2- [1- (2-hydroxy-3,5-di-t-pentylphenyl) ethyl] -4,6- is used as a stabilizer. 0.3 parts by mass of di-t-pentylphenyl acrylate was added to 100 parts by mass of the block copolymer. Thereafter, the solvent was removed to obtain a block copolymer A-3.

(ブロック共重合体A−4)
攪拌機を備えたオートクレーブを用い、窒素ガス雰囲気下で、スチレン30質量部を含むシクロヘキサン溶液に、n−ブチルリチウムを0.088質量部、テトラメチルエチレンジアミンをn−ブチルリチウムに対して0.1倍モル添加し、70℃で35分間連続供給して重合を行った。
(Block copolymer A-4)
Using an autoclave equipped with a stirrer, in a nitrogen gas atmosphere, in a cyclohexane solution containing 30 parts by mass of styrene, 0.088 parts by mass of n-butyllithium and 0.1 times that of tetramethylethylenediamine with respect to n-butyllithium Mole was added and polymerization was carried out by continuously feeding at 70 ° C. for 35 minutes.

次に、スチレン3質量部と1,3−ブタジエン15質量部とを含むシクロヘキサン溶液を、70℃で25分間連続供給して重合を行った。   Next, polymerization was carried out by continuously supplying a cyclohexane solution containing 3 parts by mass of styrene and 15 parts by mass of 1,3-butadiene at 70 ° C. for 25 minutes.

次に、スチレン4質量部と1,3−ブタジエン19質量部とを含むシクロヘキサン溶液を、70℃で30分間連続供給して重合を行った。   Next, polymerization was performed by continuously supplying a cyclohexane solution containing 4 parts by mass of styrene and 19 parts by mass of 1,3-butadiene at 70 ° C. for 30 minutes.

次に、スチレン29質量部を含むシクロヘキサン溶液を、70℃で35分間連続供給して重合を行った。   Next, a cyclohexane solution containing 29 parts by mass of styrene was continuously supplied at 70 ° C. for 35 minutes for polymerization.

その後、重合器にメタノールをn−ブチルリチウムに対して当モル添加し、安定剤として2−〔1−(2−ヒドロキシ−3,5−ジ−t−ペンチルフェニル)エチル〕−4,6−ジ−t−ペンチルフェニルアクリレートを、ブロック共重合体100質量部に対して、0.3質量部を加えた。その後、脱溶媒してブロック共重合体A−4を得た。   Thereafter, methanol is added in an equimolar amount to n-butyllithium, and 2- [1- (2-hydroxy-3,5-di-t-pentylphenyl) ethyl] -4,6- is used as a stabilizer. 0.3 parts by mass of di-t-pentylphenyl acrylate was added to 100 parts by mass of the block copolymer. Thereafter, the solvent was removed to obtain a block copolymer A-4.

(ブロック共重合体A−5)
攪拌機を備えたオートクレーブを用い、窒素ガス雰囲気下で、スチレン26質量部を含むシクロヘキサン溶液に、n−ブチルリチウムを0.052質量部、テトラメチルエチレンジアミンをn−ブチルリチウムに対して0.3倍モル添加し、70℃で35分間連続供給して重合を行った。
(Block copolymer A-5)
Using an autoclave equipped with a stirrer, in a nitrogen gas atmosphere, in a cyclohexane solution containing 26 parts by mass of styrene, 0.052 parts by mass of n-butyllithium and tetramethylethylenediamine 0.3 times that of n-butyllithium Mole was added and polymerization was carried out by continuously feeding at 70 ° C. for 35 minutes.

次に、スチレン30質量部と1,3−ブタジエン6.5質量部とを含むシクロヘキサン溶液を、70℃で45分間連続供給して重合を行った。   Next, polymerization was carried out by continuously supplying a cyclohexane solution containing 30 parts by mass of styrene and 6.5 parts by mass of 1,3-butadiene at 70 ° C. for 45 minutes.

次に、スチレン10質量部と1,3−ブタジエン1.5質量部とを含むシクロヘキサン溶液を、70℃で15分間連続供給して重合を行った。   Next, polymerization was performed by continuously supplying a cyclohexane solution containing 10 parts by mass of styrene and 1.5 parts by mass of 1,3-butadiene at 70 ° C. for 15 minutes.

次に、スチレン26質量部を含むシクロヘキサン溶液を、70℃で30分間連続供給して重合を行った。   Next, a cyclohexane solution containing 26 parts by mass of styrene was continuously supplied at 70 ° C. for 30 minutes for polymerization.

その後、重合器にメタノールをn−ブチルリチウムに対して当モル添加し、安定剤として2−〔1−(2−ヒドロキシ−3,5−ジ−t−ペンチルフェニル)エチル〕−4,6−ジ−t−ペンチルフェニルアクリレートを、ブロック共重合体100質量部に対して0.3質量部を加えた。その後、脱溶媒してブロック共重合体A−5を得た。   Thereafter, methanol is added in an equimolar amount to n-butyllithium, and 2- [1- (2-hydroxy-3,5-di-t-pentylphenyl) ethyl] -4,6- is used as a stabilizer. 0.3 parts by mass of di-t-pentylphenyl acrylate was added to 100 parts by mass of the block copolymer. Thereafter, the solvent was removed to obtain a block copolymer A-5.

(ブロック共重合体A−6)
攪拌機を備えたオートクレーブを用い、窒素ガス雰囲気下で、スチレン36質量部を含むシクロヘキサン溶液に、n−ブチルリチウムを0.054質量部、テトラメチルエチレンジアミンをn−ブチルリチウムに対して0.3倍モル添加し、70℃で45分間連続供給して重合を行った。
(Block copolymer A-6)
Using an autoclave equipped with a stirrer, in a nitrogen gas atmosphere, in a cyclohexane solution containing 36 parts by mass of styrene, 0.054 parts by mass of n-butyllithium and tetramethylethylenediamine 0.3 times that of n-butyllithium Mole was added and polymerization was carried out by continuously feeding at 70 ° C. for 45 minutes.

次に、スチレン15質量部と1,3−ブタジエン12質量部とを含むシクロヘキサン溶液を、70℃で35分間連続供給して重合を行った。   Next, polymerization was performed by continuously supplying a cyclohexane solution containing 15 parts by mass of styrene and 12 parts by mass of 1,3-butadiene at 70 ° C. for 35 minutes.

次に、スチレン37質量部を含むシクロヘキサン溶液を、70℃で45分間連続供給して重合を行った。   Next, polymerization was carried out by continuously supplying a cyclohexane solution containing 37 parts by mass of styrene at 70 ° C. for 45 minutes.

その後、重合器にメタノールをn−ブチルリチウムに対して当モル添加し、安定剤として2−〔1−(2−ヒドロキシ−3,5−ジ−t−ペンチルフェニル)エチル〕−4,6−ジ−t−ペンチルフェニルアクリレートを、ブロック共重合体100質量部に対して、0.3質量部を加えた。その後、脱溶媒してブロック共重合体A−6を得た。   Thereafter, methanol is added in an equimolar amount to n-butyllithium, and 2- [1- (2-hydroxy-3,5-di-t-pentylphenyl) ethyl] -4,6- is used as a stabilizer. 0.3 parts by mass of di-t-pentylphenyl acrylate was added to 100 parts by mass of the block copolymer. Thereafter, the solvent was removed to obtain a block copolymer A-6.

(ブロック共重合体A−7)
攪拌機を備えたオートクレーブを用い、窒素ガス雰囲気下で、スチレン37質量部を含むシクロヘキサン溶液に、n−ブチルリチウムを0.061質量部、テトラメチルエチレンジアミンをn−ブチルリチウムに対して0.3倍モル添加し、70℃で45分間連続供給して重合を行った。
(Block copolymer A-7)
Using an autoclave equipped with a stirrer, in a nitrogen gas atmosphere, in a cyclohexane solution containing 37 parts by mass of styrene, 0.061 parts by mass of n-butyllithium and 0.3 times that of tetramethylethylenediamine with respect to n-butyllithium Mole was added and polymerization was carried out by continuously feeding at 70 ° C. for 45 minutes.

次に、スチレン7質量部と1,3−ブタジエン19質量部とを含むシクロヘキサン溶液を、70℃で30分間連続供給して重合を行った。   Next, polymerization was performed by continuously supplying a cyclohexane solution containing 7 parts by mass of styrene and 19 parts by mass of 1,3-butadiene at 70 ° C. for 30 minutes.

次に、スチレン37質量部を含むシクロヘキサン溶液を、70℃で45分間連続供給して重合を行った。   Next, polymerization was carried out by continuously supplying a cyclohexane solution containing 37 parts by mass of styrene at 70 ° C. for 45 minutes.

その後、重合器にメタノールをn−ブチルリチウムに対して当モル添加し、安定剤として2−〔1−(2−ヒドロキシ−3,5−ジ−t−ペンチルフェニル)エチル〕−4,6−ジ−t−ペンチルフェニルアクリレートを、ブロック共重合体100質量部に対して、0.3質量部を加えた。その後、脱溶媒してブロック共重合体A−7を得た。   Thereafter, methanol is added in an equimolar amount to n-butyllithium, and 2- [1- (2-hydroxy-3,5-di-t-pentylphenyl) ethyl] -4,6- is used as a stabilizer. 0.3 parts by mass of di-t-pentylphenyl acrylate was added to 100 parts by mass of the block copolymer. Thereafter, the solvent was removed to obtain a block copolymer A-7.

(ブロック共重合体A−8)
攪拌機を備えたオートクレーブを用い、窒素ガス雰囲気下で、スチレン25質量部を含むシクロヘキサン溶液に、n−ブチルリチウムを0.087質量部、テトラメチルエチレンジアミンをn−ブチルリチウムに対して0.1倍モル添加し、70℃で30分間連続供給して重合を行った。
(Block copolymer A-8)
Using an autoclave equipped with a stirrer, in a nitrogen gas atmosphere, in a cyclohexane solution containing 25 parts by mass of styrene, 0.087 parts by mass of n-butyllithium and 0.1 times that of tetramethylethylenediamine with respect to n-butyllithium Mole was added and polymerization was carried out by continuously feeding at 70 ° C. for 30 minutes.

次に、スチレン22質量部と1,3−ブタジエン24質量部とを含むシクロヘキサン溶液を、70℃で60分間連続供給して重合を行った。   Next, polymerization was performed by continuously supplying a cyclohexane solution containing 22 parts by mass of styrene and 24 parts by mass of 1,3-butadiene at 70 ° C. for 60 minutes.

次に、スチレン29質量部を含むシクロヘキサン溶液を、70℃で35分間連続供給して重合を行った。   Next, a cyclohexane solution containing 29 parts by mass of styrene was continuously supplied at 70 ° C. for 35 minutes for polymerization.

その後、重合器にメタノールをn−ブチルリチウムに対して当モル添加し、安定剤として2−〔1−(2−ヒドロキシ−3,5−ジ−t−ペンチルフェニル)エチル〕−4,6−ジ−t−ペンチルフェニルアクリレートを、ブロック共重合体100質量部に対して、0.3質量部を加えた。その後、脱溶媒してブロック共重合体A−8を得た。   Thereafter, methanol is added in an equimolar amount to n-butyllithium, and 2- [1- (2-hydroxy-3,5-di-t-pentylphenyl) ethyl] -4,6- is used as a stabilizer. 0.3 parts by mass of di-t-pentylphenyl acrylate was added to 100 parts by mass of the block copolymer. Thereafter, the solvent was removed to obtain a block copolymer A-8.

(ブロック共重合体A−9)
攪拌機を備えたオートクレーブを用い、窒素ガス雰囲気下で、スチレン32質量部を含むシクロヘキサン溶液に、n−ブチルリチウムを0.086質量部、テトラメチルエチレンジアミンをn−ブチルリチウムに対して0.1倍モル添加し、70℃で35分間連続供給して重合を行った。
(Block copolymer A-9)
Using an autoclave equipped with a stirrer, in a nitrogen gas atmosphere, in a cyclohexane solution containing 32 parts by mass of styrene, 0.086 parts by mass of n-butyllithium and 0.1 times that of tetramethylethylenediamine with respect to n-butyllithium Mole was added and polymerization was carried out by continuously feeding at 70 ° C. for 35 minutes.

次に、スチレン5質量部と1,3−ブタジエン13質量部とを含むシクロヘキサン溶液を、70℃で25分間連続供給して重合を行った。   Next, polymerization was performed by continuously supplying a cyclohexane solution containing 5 parts by mass of styrene and 13 parts by mass of 1,3-butadiene at 70 ° C. for 25 minutes.

次に、スチレン6質量部と1,3−ブタジエン15質量部とを含むシクロヘキサン溶液を、70℃で30分間連続供給して重合を行った。   Next, polymerization was performed by continuously supplying a cyclohexane solution containing 6 parts by mass of styrene and 15 parts by mass of 1,3-butadiene at 70 ° C. for 30 minutes.

次に、スチレン29質量部を含むシクロヘキサン溶液を、70℃で35分間連続供給して重合を行った。   Next, a cyclohexane solution containing 29 parts by mass of styrene was continuously supplied at 70 ° C. for 35 minutes for polymerization.

その後、重合器にメタノールをn−ブチルリチウムに対して当モル添加し、安定剤として2−〔1−(2−ヒドロキシ−3,5−ジ−t−ペンチルフェニル)エチル〕−4,6−ジ−t−ペンチルフェニルアクリレートを、ブロック共重合体100質量部に対して、0.3質量部を加えた。その後、脱溶媒してブロック共重合体A−4を得た。   Thereafter, methanol is added in an equimolar amount to n-butyllithium, and 2- [1- (2-hydroxy-3,5-di-t-pentylphenyl) ethyl] -4,6- is used as a stabilizer. 0.3 parts by mass of di-t-pentylphenyl acrylate was added to 100 parts by mass of the block copolymer. Thereafter, the solvent was removed to obtain a block copolymer A-4.

ブロック共重合体A−1〜A−9の構造、スチレン含量(質量%)を表1に示した。   Table 1 shows the structures and styrene contents (% by mass) of the block copolymers A-1 to A-9.

<成分(II)>
(重合体B−1)
成分(II)における成分(ii)としてスチレン−アクリル酸n-ブチル共重合体を用いた。
<Ingredient (II)>
(Polymer B-1)
A styrene-n-butyl acrylate copolymer was used as component (ii) in component (II).

(重合体B−2)
成分(II)における成分(ii)としてスチレン−アクリル酸n-ブチル共重合体を用いた。
(Polymer B-2)
A styrene-n-butyl acrylate copolymer was used as component (ii) in component (II).

(重合体B−3)
成分(II)における成分(i)としてゼネラルパーパスポリスチレン(GPPS)(PSジャパン株式会社製、PSJポリスチレン685)を用いた。
(Polymer B-3)
As component (i) in component (II), general purpose polystyrene (GPPS) (manufactured by PS Japan Co., Ltd., PSJ polystyrene 685) was used.

(重合体B−4)
成分(II)における成分(iii)として耐衝撃性ゴム変性スチレン系重合体(HIPS)(PSジャパン株式会社製、PSJポリスチレン475D)を用いた。
(Polymer B-4)
As the component (iii) in the component (II), an impact-resistant rubber-modified styrene polymer (HIPS) (manufactured by PS Japan Co., Ltd., PSJ polystyrene 475D) was used.

上記重合体B−1〜B−4について表2に示した。   The polymers B-1 to B-4 are shown in Table 2.

次に、上記ブロック共重合体、ならびに実施例および比較例において適用した特性の測定方法および評価方法について説明する。 Next, the method for measuring and evaluating the properties applied in the block copolymer and the examples and comparative examples will be described.

(1)スチレン含量
紫外線分光光度計(日立UV200)を用いて、262nmの吸収強度より算出した。
(1) Styrene content It calculated from the absorption intensity of 262 nm using the ultraviolet spectrophotometer (Hitachi UV200).

(2)フィッシュアイ個数
ブロック共重合体または該ブロック共重合体の混合成分を、20mmシート押出機を用いて厚さ100μmのシートに成形し、当該シート面積1.2m2中の0.1mm以上0.5mm以下のフィッシュアイ個数をCCDカメラにより測定した。
(2) Number of fish eyes A block copolymer or a mixed component of the block copolymer is formed into a sheet having a thickness of 100 μm using a 20 mm sheet extruder, and 0.1 mm or more in a sheet area of 1.2 m 2. The number of fish eyes of 0.5 mm or less was measured with a CCD camera.

(3)リタデーション
表3に示したとおり各成分を配合し、インフレーション法で製膜した厚み100μmの基材層のフィルムについて、王子計測機器(株)社製KOBRA−WRを用いて、平行ニコル回転法により入射角0度、波長587nmでリタデーションの値を測定した。
(3) Retardation Each component was blended as shown in Table 3, and the film of the substrate layer having a thickness of 100 μm formed by the inflation method was rotated in parallel Nicols using KOBRA-WR manufactured by Oji Scientific Instruments Co., Ltd. The retardation value was measured by the method at an incident angle of 0 degree and a wavelength of 587 nm.

(4)全光線透過率およびヘーズ
表3に示したとおり各成分を配合し、インフレーション法で製膜した厚み100μmの基材層のフィルムに流動パラフィンを塗布したものを試験片とした。該試験片の全光線透過率およびヘーズを、ASTM D1003に準拠して測定した。
(4) Total light transmittance and haze Each component was blended as shown in Table 3, and a test piece was prepared by applying liquid paraffin to a film of a substrate layer having a thickness of 100 μm formed by an inflation method. The total light transmittance and haze of the test piece were measured according to ASTM D1003.

(5)剥離強度
実施例および比較例で得られた光学部材用保護フィルムにおける粘着層の剥離強度は、JIS Z−0237(粘着テープ試験法)に定められた測定方法で得られた。ステンレス製被着板に対する剥離抵抗値とした。
(5) Peel strength The peel strength of the adhesive layer in the protective film for optical members obtained in Examples and Comparative Examples was obtained by the measurement method defined in JIS Z-0237 (adhesive tape test method). It was set as the peeling resistance value with respect to the stainless steel adherend plate.

(6)厚み精度
表3に示したとおり各成分を配合し、インフレーション法で製膜した厚み100μmの基材層のフィルムについて、ダイヤルゲージを用いてフィルムの全幅(ヨコ)方向に等間隔で最低15点、および機械(タテ)方向に最低15点の合計30点以上の厚みを測定し、その平均値を算出した。次に、前記厚みの測定値における最大値と最小値との差の1/2の値を、先に算出した平均値に対する百分率で表し、これに±の符号を付けて、基材層の厚み精度として表示した。当該厚み精度の評価基準は以下のとおりとした。
(6) Thickness accuracy As shown in Table 3, for the film of the base layer having a thickness of 100 μm blended with the respective components and formed by the inflation method, the minimum at equal intervals in the full width (horizontal) direction of the film using a dial gauge A total of 30 or more thicknesses of 15 points and a minimum of 15 points in the machine (vertical) direction were measured, and the average value was calculated. Next, the value of ½ of the difference between the maximum value and the minimum value in the measured thickness value is expressed as a percentage of the previously calculated average value, and a sign of ± is added to the thickness of the base material layer. Displayed as accuracy. The evaluation criteria for the thickness accuracy were as follows.

(評価基準)
○ : 基材層の厚み精度が±10%以内であった。
× : 基材層の厚み精度が±10%を超えた。
(Evaluation criteria)
○: The thickness accuracy of the base material layer was within ± 10%.
X: The thickness accuracy of the base material layer exceeded ± 10%.

(7)打痕性
実施例および比較例で得られた光学部材用保護フィルムから剥離フィルムを剥がし、該保護フィルム(粘着層側)を、二軸延伸ポリエチレンテレフタレートフィルム(面積は0.1m2)にフィルムを貼付し、1週間後に保護フィルムを剥がした際の二軸延伸ポリエチレンテレフタレートフィルムの表面状態を目視観察した。下記基準により打痕性を評価した。
(7) Scratch property The release film is peeled off from the protective film for optical members obtained in Examples and Comparative Examples, and the protective film (adhesive layer side) is biaxially stretched polyethylene terephthalate film (area is 0.1 m 2 ). The surface state of the biaxially stretched polyethylene terephthalate film when the protective film was peeled off after 1 week was visually observed. The dentability was evaluated according to the following criteria.

(基準)
○ : 打痕数が2個以内であった。
× : 打痕数が2個を超えた。
(Standard)
○: The number of dents was 2 or less.
X: The number of dents exceeded two.

〔実施例1〜7および比較例1〜6〕
〈基材層〉
表3に示したとおり各成分を配合し、10μmサイズ(目開き寸法)の焼結フィルターを装着した40mm2軸押出機で溶融混練してペレット化した。その後、得られたペレットを、インフレーション製膜(40mm押出機、ダイ径200mm、ダイ温度200℃、ブロー比1.5)して厚さ30μmの基材層のフィルムを作成して使用した。
[Examples 1-7 and Comparative Examples 1-6]
<Base material layer>
Each component was blended as shown in Table 3, and melt kneaded and pelletized with a 40 mm twin screw extruder equipped with a 10 μm size (opening size) sintered filter. Then, the obtained pellet was used for inflation film formation (40 mm extruder, die diameter 200 mm, die temperature 200 ° C., blow ratio 1.5) to prepare a film of a substrate layer having a thickness of 30 μm.

〈剥離フィルム〉
剥離フィルムとしては、片面にシリコーン処理された厚さ20μmの二軸延伸ポリエチレンテレフタレートフィルムを用いた。
<Release film>
As the release film, a biaxially stretched polyethylene terephthalate film having a thickness of 20 μm and treated with silicone on one side was used.

〈粘着層〉
粘着層は、以下のとおり形成した。アクリル系粘着剤(綜研化学株式会社製バイロン200)をトルエン/メチルエチルケトン=1/1の溶液で固形分が25%になるまで希釈した粘着剤溶液を、上記シリコーン処理された面の剥離フィルムに固形分濃度10g/m2の量で均一に塗工し、100℃で2分間乾燥させて粘着層を形成した。
<Adhesive layer>
The adhesive layer was formed as follows. A pressure-sensitive adhesive solution obtained by diluting an acrylic pressure-sensitive adhesive (Byron 200 manufactured by Soken Chemical Co., Ltd.) with a solution of toluene / methyl ethyl ketone = 1/1 until the solid content becomes 25% is solidified on the release film on the silicone-treated surface. A uniform concentration was applied in an amount of 10 g / m 2 and dried at 100 ° C. for 2 minutes to form an adhesive layer.

粘着層を形成した剥離フィルムの粘着層側を上記基材層と接着させて光学部材用保護フィルムを得た。基材層と粘着層との層比(基材層の厚さ/粘着層の厚さ)は70/30であった。また、当該光学部材用保護フィルムにおける基材層と粘着層との合計の厚みは、43μmであった。   The adhesive layer side of the release film on which the adhesive layer was formed was adhered to the base material layer to obtain a protective film for an optical member. The layer ratio of the base material layer to the adhesive layer (the thickness of the base material layer / the thickness of the adhesive layer) was 70/30. Moreover, the total thickness of the base material layer and the adhesive layer in the protective film for an optical member was 43 μm.

成分(I)のフィッシュアイの個数、基材層のリタデーション、基材層の全光線透過率、基材層のヘーズ、基材層の厚み精度、粘着層の剥離強度および光学部材用保護フィルムの打痕性を上記のとおり測定した。測定結果を表3に示す。   Number of fish eyes of component (I), retardation of substrate layer, total light transmittance of substrate layer, haze of substrate layer, thickness accuracy of substrate layer, peel strength of adhesive layer, and protective film for optical member Scratchability was measured as described above. Table 3 shows the measurement results.

〔比較例7〕
粘着剤溶液を、上記シリコーン処理された面の剥離フィルムに固形分濃度1g/m2の量で塗工した以外は実施例1と同様の方法で光学部材用保護フィルムを得た。当該光学部材用保護フィルムの基材層と粘着層との層比(基材層の厚さ/粘着層の厚さ)は97/3であった。また、当該光学部材用保護フィルムにおける基材層と粘着層との合計の厚みは、31μmであった。
[Comparative Example 7]
A protective film for an optical member was obtained in the same manner as in Example 1, except that the pressure-sensitive adhesive solution was applied to the release film on the silicone-treated surface in a solid content concentration of 1 g / m 2 . The layer ratio of the base material layer to the adhesive layer (the thickness of the base material layer / the thickness of the adhesive layer) of the protective film for optical members was 97/3. Moreover, the total thickness of the base material layer and the adhesive layer in the protective film for optical members was 31 μm.

成分(I)のフィッシュアイの個数、基材層のリタデーション、基材層の全光線透過率、基材層のヘーズ、基材層の厚み精度、粘着層の剥離強度および光学部材用保護フィルムの打痕性を上記のとおり測定した。測定結果を表3に示す。   Number of fish eyes of component (I), retardation of substrate layer, total light transmittance of substrate layer, haze of substrate layer, thickness accuracy of substrate layer, peel strength of adhesive layer, and protective film for optical member Scratchability was measured as described above. Table 3 shows the measurement results.

〔比較例8〕
表3に示すとおり各成分を配合し、ペレット化する際に、100メッシュサイズ(目開き寸法:149μm)のフィルターを使用する以外は、実施例1と同様にして光学部材用保護フィルムを得た。基材層と粘着層との層比(基材層の厚さ/粘着層の厚さ)は70/30であった。また、当該光学部材用保護フィルムにおける基材層と粘着層との合計の厚みは、43μmであった。
[Comparative Example 8]
When each component was blended and pelletized as shown in Table 3, a protective film for an optical member was obtained in the same manner as in Example 1 except that a 100 mesh size (aperture size: 149 μm) filter was used. . The layer ratio of the base material layer to the adhesive layer (the thickness of the base material layer / the thickness of the adhesive layer) was 70/30. Moreover, the total thickness of the base material layer and the adhesive layer in the protective film for an optical member was 43 μm.

成分(I)のフィッシュアイの個数、基材層のリタデーション、基材層の全光線透過率、基材層のヘーズ、基材層の厚み精度、粘着層の剥離強度および光学部材用保護フィルムの打痕性を上記のとおり測定した。測定結果を表3に示す。   Number of fish eyes of component (I), retardation of substrate layer, total light transmittance of substrate layer, haze of substrate layer, thickness accuracy of substrate layer, peel strength of adhesive layer, and protective film for optical member Scratchability was measured as described above. Table 3 shows the measurement results.

比較例8のように、フィッシュアイを多く含む混合成分(I)からなる基材層を用いた場合は、打痕性に劣る結果であった。   When the base material layer which consists of mixed component (I) which contains many fish eyes like the comparative example 8, it was a result inferior to dent property.

表3に示すとおり、本実施の形態の光学部材用保護フィルム(実施例1〜7)は、厚み精度が良好でリタデーションが小さく透明性に優れた基材層を有し、適度な剥離強度の粘着層を有し、しかも貼付後の貼付対象物表面において、打痕性に優れ、粘着剤の付着がなく、光学部材用保護フィルムとして好適であることがわかった。 As shown in Table 3, the protective film for optical members of the present embodiment (Examples 1 to 7) has a base layer having good thickness accuracy, small retardation and excellent transparency, and has an appropriate peel strength. It has been found that it has an adhesive layer and is excellent in dentability on the surface of an object to be applied after application, and has no adhesion of an adhesive, and is suitable as a protective film for optical members.

本発明の光学部材用保護フィルムは、異物(フィッシュアイ)が少ない混合成分(I)を含有し、また、厚み精度が良好で透明で分子鎖の配向調整が不要な低複屈折(低リタデーション)の基材層と、適度な剥離強度の粘着層とを含むため、液晶ディスプレイ(LCD)やプラズマディスプレイ(PDP)などのフラットパネルディスプレイ(FPD)等の光学異方性を有する部材の保護フィルムとして好適に利用できる。本発明の光学部材用保護フィルムは、特に光学部材の外観検査における保護フィルムとして好適に利用できる。   The protective film for an optical member of the present invention contains a mixed component (I) with little foreign matter (fish eye), and has a low thickness birefringence (low retardation) that has a good thickness accuracy and is transparent and does not require molecular chain orientation adjustment. As a protective film for members having optical anisotropy such as flat panel displays (FPD) such as liquid crystal displays (LCDs) and plasma displays (PDPs) It can be suitably used. The protective film for optical members of the present invention can be suitably used as a protective film particularly for visual inspection of optical members.

Claims (8)

基材層および粘着層を含む光学部材用保護フィルムであって、
前記基材層が、ビニル芳香族炭化水素20質量%以上75質量%以下と共役ジエン25質量%以上80質量%以下とからなるブロック共重合体(α)と、ビニル芳香族炭化水素85質量%を超え95質量%以下と共役ジエン5質量%以上15質量%未満とからなるブロック共重合体(β)との混合成分(I)を含み、
該混合成分(I)における0.1mm以上0.5mm以下のフィッシュアイ個数が100個/1.2m2以下であり、
前記基材層のリタデーションが0.1nm〜50nmであり、
前記基材層の全光線透過率が90%以上であり、
前記基材層の内部ヘーズが3.0%以下であり、
保護フィルムにおける粘着層の剥離強度(JIS Z−0237(粘着テープ試験法)に準拠)が、0.03〜0.5N/25mmである光学部材用保護フィルム。
A protective film for an optical member including a base material layer and an adhesive layer,
The base material layer comprises a block copolymer (α) comprising 20% by mass to 75% by mass of vinyl aromatic hydrocarbon and 25% by mass to 80% by mass of conjugated diene, and 85% by mass of vinyl aromatic hydrocarbon. A mixed component (I) with a block copolymer (β) consisting of more than 95% by mass and less than 5% by mass and less than 15% by mass,
The number of fish eyes of 0.1 mm to 0.5 mm in the mixed component (I) is 100 / 1.2 m 2 or less,
The retardation of the base material layer is 0.1 nm to 50 nm,
The total light transmittance of the base material layer is 90% or more,
The internal haze of the base material layer is 3.0% or less,
The protective film for optical members whose peel strength of the adhesive layer in the protective film (based on JIS Z-0237 (adhesive tape test method)) is 0.03 to 0.5 N / 25 mm.
前記光学部材用保護フィルムにおける基材層と粘着層との層比(基材層の厚さ/粘着層の厚さ)が50/50〜95/5である、請求項1に記載の光学部材用保護フィルム。   2. The optical member according to claim 1, wherein the ratio of the base material layer to the adhesive layer (the thickness of the base material layer / the thickness of the adhesive layer) in the protective film for an optical member is 50/50 to 95/5. Protective film. 前記混合成分(I)における0.1mm以上0.5mm以下のフィッシュアイ個数が50個/1.2m2以下である、請求項1または2に記載の光学部材用保護フィルム。 The protective film for optical members according to claim 1 or 2, wherein the number of fish eyes of 0.1 mm to 0.5 mm in the mixed component (I) is 50 / 1.2 m 2 or less. 前記基材層が、さらに下記成分(II)を含む、請求項1〜3のいずれか一項に記載の光学部材用保護フィルム;
(II):(i)ビニル芳香族炭化水素重合体、(ii)ビニル芳香族炭化水素と脂肪族不飽和カルボン酸系誘導体とからなる共重合体、および(iii)ゴム変性スチレン系重合体からなる群より選ばれた少なくとも一種の重合体。
The protective film for optical members according to any one of claims 1 to 3, wherein the base material layer further contains the following component (II):
(II): (i) a vinyl aromatic hydrocarbon polymer, (ii) a copolymer comprising a vinyl aromatic hydrocarbon and an aliphatic unsaturated carboxylic acid derivative, and (iii) a rubber-modified styrene polymer. At least one polymer selected from the group consisting of:
前記基材層における前記混合成分(I)と前記成分(II)との質量比(ブロック共重合体(I)/成分(II))が、30/70〜99.9/0.1である、請求項4に記載の光学部材用保護フィルム。   The mass ratio of the mixed component (I) and the component (II) (block copolymer (I) / component (II)) in the base material layer is 30/70 to 99.9 / 0.1. The protective film for optical members according to claim 4. 前記粘着層がアクリル系粘着剤を含有する、請求項1〜5のいずれか一項に記載の光学部材用保護フィルム。   The protective film for optical members according to claim 1, wherein the adhesive layer contains an acrylic adhesive. 前記粘着層が導電性付与剤を含有する、請求項1〜6のいずれか一項に記載の光学部材用保護フィルム。   The protective film for optical members according to any one of claims 1 to 6, wherein the adhesive layer contains a conductivity-imparting agent. 前記基材層がインフレーション法により形成される、請求項1〜7のいずれか一項に記載の光学部材用保護フィルム。   The protective film for optical members according to claim 1, wherein the base material layer is formed by an inflation method.
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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2017210586A (en) * 2016-05-27 2017-11-30 デンカ株式会社 Molded body

Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS61252265A (en) * 1985-05-02 1986-11-10 Asahi Chem Ind Co Ltd Block copolymer composition
WO2003029347A1 (en) * 2001-09-27 2003-04-10 Teijin Limited Hydrogenated styrene polymer resin composition and optical elements
JP2004287199A (en) * 2003-03-24 2004-10-14 Sun A Kaken Co Ltd Surface protection film
JP2008121002A (en) * 2006-10-18 2008-05-29 Asahi Kasei Chemicals Corp Molded article for optical use
WO2010001959A1 (en) * 2008-07-03 2010-01-07 電気化学工業株式会社 Pressure-sensitive adhesive film, laminate using the pressure-sensitive adhesive film and method for protecting molded article

Patent Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS61252265A (en) * 1985-05-02 1986-11-10 Asahi Chem Ind Co Ltd Block copolymer composition
WO2003029347A1 (en) * 2001-09-27 2003-04-10 Teijin Limited Hydrogenated styrene polymer resin composition and optical elements
JP2004287199A (en) * 2003-03-24 2004-10-14 Sun A Kaken Co Ltd Surface protection film
JP2008121002A (en) * 2006-10-18 2008-05-29 Asahi Kasei Chemicals Corp Molded article for optical use
WO2010001959A1 (en) * 2008-07-03 2010-01-07 電気化学工業株式会社 Pressure-sensitive adhesive film, laminate using the pressure-sensitive adhesive film and method for protecting molded article

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
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JP2017210586A (en) * 2016-05-27 2017-11-30 デンカ株式会社 Molded body

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