JP2012128457A - Aperture optical element for camera and manufacturing method thereof - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は、液晶表示素子またはエレクトロクロミック表示素子を用いるカメラ用絞り光学素子及びその製造方法に関するものである。 The present invention relates to a diaphragm optical element for a camera using a liquid crystal display element or an electrochromic display element, and a method for manufacturing the same.
従来、カメラの感光部に当たる光の量を制御して、光の量の調節とピントの調節とを行う絞り機構が知られており、例えば、開口部の大きさを機械的に拡縮するものがある。しかし、開口部の大きさを機械的に拡縮する絞り機構では、駆動源としてモータを必要とするので、装置が大型化することが避けられない上、振動があるという問題がある。また、前記絞り機構では、段階的な調整になるために、撮影時にノイズが入ったり切替時に明るさが急激に変化して、信頼性に劣るという問題もある。 Conventionally, there has been known an aperture mechanism that controls the amount of light that strikes the photosensitive portion of a camera to adjust the amount of light and adjust the focus.For example, a mechanism that mechanically expands or contracts the size of the opening is known. is there. However, a diaphragm mechanism that mechanically expands / contracts the size of the opening requires a motor as a drive source, and thus there is a problem that the apparatus cannot be increased in size and that there is vibration. In addition, since the aperture mechanism is a stepwise adjustment, there is a problem that noise occurs at the time of shooting or the brightness changes abruptly at the time of switching, resulting in poor reliability.
前記問題を解決するために、円形の開口パターンからなる透明電極層を備えた透過型の液晶パネルまたはエレクトロクロミック・パネルを電気的に制御して開口パターンを可変とする絞り機構が提案されている(特許文献1参照)。 In order to solve the above problems, a diaphragm mechanism has been proposed in which a transmissive liquid crystal panel or electrochromic panel having a transparent electrode layer having a circular opening pattern is electrically controlled to change the opening pattern. (See Patent Document 1).
前記絞り機構は、前記液晶パネルの場合には、該液晶パネルの全面を1/4波長板とするか、該開口パターン部分のみを1/4波長板とするように用途によって切り替えるものである。また、前記エレクトロクロミック・パネルの場合には、該エレクトロクロミック・パネルの全面を透明とするか、該開口パターン部分のみを透明とするように用途によって切り替えるものである。 In the case of the liquid crystal panel, the diaphragm mechanism is switched depending on the application so that the entire surface of the liquid crystal panel is a quarter wavelength plate or only the opening pattern portion is a quarter wavelength plate. In the case of the electrochromic panel, the entire surface of the electrochromic panel is made transparent or only the opening pattern portion is changed depending on the application.
前記絞り機構は、前記液晶パネルまたはエレクトロクロミック・パネルを電気的に制御するものであるので、装置の小型化が可能であり、振動もなく、明るさを連続的に調整することができる。 Since the diaphragm mechanism electrically controls the liquid crystal panel or the electrochromic panel, the apparatus can be downsized, and the brightness can be continuously adjusted without vibration.
しかしながら、前記絞り機構では、パネル全面か、円形の開口パターン部分のみかの2段階の切替しかできず、ピントの調整を十分に行うことができないという不都合がある。 However, the diaphragm mechanism can only be switched in two stages, that is, the entire panel surface or only the circular opening pattern portion, and there is a disadvantage that the focus cannot be adjusted sufficiently.
本発明は、かかる不都合を解消して、カメラの感光部に当たる光の量の調節を連続的に行うことができ、しかもピントの調節を行うことができるカメラ用絞り光学素子及びその製造方法を提供することを目的とする。 The present invention provides a diaphragm optical element for a camera that can eliminate such inconvenience, can continuously adjust the amount of light hitting the photosensitive part of the camera, and can adjust the focus, and a method for manufacturing the same. The purpose is to do.
本発明は、一方の表面に、所定のパターンを備える透明電極層及び該透明電極層上に形成されたエレクトロクロミック膜層を備える第1のガラス基板と、一方の表面に、所定のパターンを備える透明電極層を備え、該透明電極層が第1のガラス基板のエレクトロクロミック膜層に対向配置された第2のガラス基板と、両ガラス基板間に配設された電解質層とを備えるカメラ用絞り光学素子において、該透明電極層は、該ガラス基板上に中心の円とそれを取り囲む同心円状に配置された複数の部分を備え、該エレクトロクロミック膜層は、該第1のガラス基板の該透明電極層の複数の部分のそれぞれの上に設けられ、該透明電極層の複数の部分の間で該透明電極層の側壁が露出されていることを特徴とする。 The present invention includes a first glass substrate including a transparent electrode layer having a predetermined pattern on one surface and an electrochromic film layer formed on the transparent electrode layer, and a predetermined pattern on one surface. A diaphragm for a camera comprising a transparent electrode layer, the second electrode substrate disposed opposite to the electrochromic film layer of the first glass substrate, and an electrolyte layer disposed between the two glass substrates. In the optical element, the transparent electrode layer includes a central circle on the glass substrate and a plurality of portions arranged concentrically surrounding the central circle, and the electrochromic film layer is formed on the transparent glass layer of the first glass substrate. It is provided on each of the plurality of portions of the electrode layer, and the side wall of the transparent electrode layer is exposed between the plurality of portions of the transparent electrode layer.
前記構成を備えるカメラ用絞り光学素子によれば、電圧を印加しない状態では透明であるが、電圧を印加すると前記電解質層から前記エレクトロクロミック膜層に陽イオンが注入されて該エレクトロクロミック膜層が着色し、印加電圧の上昇に伴って着色が次第に大きくなる。 According to the diaphragm optical element for a camera having the above configuration, it is transparent when no voltage is applied, but when a voltage is applied, cations are injected from the electrolyte layer into the electrochromic film layer, and the electrochromic film layer is formed. Colored and colored gradually increases with increasing applied voltage.
このとき、前記透明電極層は、同心円状に配置された複数の部分からなるので、電圧を印加しない状態で開口部が最大であり、同心円状に配置された複数の部分の外方から内方に向かって、電圧を印加する部分を増加させることにより、着色部分を増大させて開口部を縮小することができる。 At this time, since the transparent electrode layer is composed of a plurality of portions arranged concentrically, the opening is maximum when no voltage is applied, and from the outside to the inside of the plurality of portions arranged concentrically. By increasing the portion to which the voltage is applied, the colored portion can be increased and the opening can be reduced.
従って、前記カメラ用絞り光学素子によれば、同心円状に配置された複数の透明電極層のうち、どの部分に電圧を印加するかによって、開口部の大きさを選択することができ、ピントの調節を行うことができる。また、前記カメラ用絞り光学素子によれば、電圧が印加されている部分では、電圧を増減して透過率または反射率を変化させることにより、光の量を調節することができる。 Therefore, according to the diaphragm optical element for a camera, the size of the opening can be selected depending on which part of the plurality of transparent electrode layers arranged concentrically to which the voltage is applied. Adjustments can be made. Further, according to the camera aperture optical element, the amount of light can be adjusted by changing the transmittance or the reflectance by increasing or decreasing the voltage in the portion where the voltage is applied.
前記カメラ用絞り光学素子において、前記エレクトロクロミック膜層は、例えば、三酸化タングステン膜とすることができる。この場合、前記エレクトロクロミック膜層は、電圧の印加により前記電解質層から陽イオンが注入されると青色に着色する。 In the camera aperture optical element, the electrochromic film layer may be a tungsten trioxide film, for example. In this case, the electrochromic film layer is colored blue when cations are injected from the electrolyte layer by applying a voltage.
本発明のカメラ用絞り光学素子の製造方法は、1対のガラス基板上の全面に透明電極層を形成する工程と、第1のガラス基板上に形成された該透明電極層上の全面にエレクトロクロミック膜層を形成する工程と、第1のガラス基板の該透明電極層と該エレクトロクロミック膜層とが形成された面にレーザを照射して、該レーザが照射された部分の透明電極層とエレクトロクロミック膜層とを、該透明電極層の側壁及び該第1のガラス基板が露出されるまで同時に除去すると共に、第2のガラス基板の該透明電極層が形成された面にレーザを照射して、該レーザが照射された部分の該透明電極層を、該第2のガラス基板が露出されるまで除去し、各ガラス基板上に中心の円とそれを取り囲む同心円状に配置された複数の部分を備える透明電極層を形成し、かつ、第1のガラス基板の該透明電極層の複数の部分のそれぞれの上に、互いに分離されたエレクトロクロミック膜層を形成する工程と、前記第1のガラス基板と前記第2のガラス基板を、各ガラス基板上の前記円の中心点が重なるように重ね合わせる工程とを備えることを特徴とする。 The method of manufacturing a diaphragm optical element for a camera according to the present invention includes a step of forming a transparent electrode layer on the entire surface of a pair of glass substrates, and an electrolysis on the entire surface of the transparent electrode layer formed on the first glass substrate. Forming a chromic film layer; irradiating a surface of the first glass substrate on which the transparent electrode layer and the electrochromic film layer are formed with a laser; and a portion of the transparent electrode layer irradiated with the laser; The electrochromic film layer is simultaneously removed until the side wall of the transparent electrode layer and the first glass substrate are exposed, and the surface of the second glass substrate on which the transparent electrode layer is formed is irradiated with a laser. Then, the transparent electrode layer in the portion irradiated with the laser is removed until the second glass substrate is exposed, and a central circle and a plurality of concentric circles surrounding the circle are disposed on each glass substrate. Transparent electrode layer with part Forming and forming electrochromic film layers separated from each other on each of the plurality of portions of the transparent electrode layer of the first glass substrate, and the first glass substrate and the second glass substrate. And a step of superimposing glass substrates so that the center points of the circles on the glass substrates overlap each other.
前記製造方法では、まず、それ自体公知の方法により、1対のガラス基板上の全面に透明電極層を形成する。ここで、前記ガラス基板上の全面に透明電極層を形成する代わりに、全面に透明電極層が形成された市販のガラス基板を用いてもよい。 In the manufacturing method, first, a transparent electrode layer is formed on the entire surface of a pair of glass substrates by a method known per se. Here, instead of forming a transparent electrode layer on the entire surface of the glass substrate, a commercially available glass substrate having a transparent electrode layer formed on the entire surface may be used.
次に、第1のガラス基板上に形成された該透明電極層上の全面にエレクトロクロミック膜層を形成する。このとき、前記エレクトロクロミック膜層は、第2のガラス基板上の前記透明電極層上には形成しない。 Next, an electrochromic film layer is formed on the entire surface of the transparent electrode layer formed on the first glass substrate. At this time, the electrochromic film layer is not formed on the transparent electrode layer on the second glass substrate.
次に、前記第1のガラス基板の前記透明電極層と前記エレクトロクロミック膜層とが形成された面にレーザを照射し、該レーザが照射された部分の該透明電極層と該エレクトロクロミック膜層とを、該透明電極層の側壁及び該第1のガラス基板が露出されるまで同時に除去する。また、前記第2のガラス基板の前記透明電極層が形成された面にレーザを照射し、該レーザが照射された部分の該透明電極層を、該第2のガラス基板が露出されるまで除去する。この結果、前記製造方法によれば、各ガラス基板上に同心円状に配置された複数の部分を備える透明電極層を精度良く形成することができる。 Next, the surface of the first glass substrate on which the transparent electrode layer and the electrochromic film layer are formed is irradiated with a laser, and the transparent electrode layer and the electrochromic film layer in a portion irradiated with the laser Are simultaneously removed until the side wall of the transparent electrode layer and the first glass substrate are exposed. Further, the surface of the second glass substrate on which the transparent electrode layer is formed is irradiated with laser, and the transparent electrode layer in the portion irradiated with the laser is removed until the second glass substrate is exposed. To do. As a result, according to the said manufacturing method, a transparent electrode layer provided with the some part arrange | positioned concentrically on each glass substrate can be formed accurately.
このとき、前記製造方法では、レーザの種類、照射条件等を適切に設定することにより、前記ガラス基板を損傷することなく、主としてレーザのアブレーションにより前記透明電極層と前記エレクトロクロミック膜層とを、または前記透明電極層のみを、原子レベルで分解して、該ガラス基板上から除去することができる。 At this time, in the manufacturing method, by appropriately setting the type of laser, irradiation conditions, etc., without damaging the glass substrate, the transparent electrode layer and the electrochromic film layer mainly by laser ablation, Alternatively, only the transparent electrode layer can be decomposed at the atomic level and removed from the glass substrate.
図1に示すカメラ用絞り光学素子1aは、透明な板ガラスからなるガラス基板2,3と、ガラス基板2,3間に配設された液晶層4とを備え、液晶層4はガラス基板2,3の外縁に形成されたシール剤層5により封止されている。ガラス基板2は、ガラス基板3に対向する面に透明電極層6a,6b,6c,6dを備えており、ガラス基板3は、ガラス基板2に対向する面に透明電極層7a,7b,7c,7dを備えている。透明電極層6a,6b,6c,6d,7a,7b,7c,7dは、例えば、ITOにより形成されている。そして、透明電極層6a,6b,6c,6d,7a,7b,7c,7d上には、それぞれ液晶配向膜層8が形成されている。
A diaphragm optical element 1a for a camera shown in FIG. 1 includes
ガラス基板2に形成されている透明電極層6a,6b,6c,6dは、図2(a)に示すように、円形の透明電極層6aを中心として、その周囲に互いに間隔を存して、ドーナツ形状の透明電極層6b,6c,6dが形成された同心円状のパターン形状を形成している。透明電極層6a,6b,6c,6dは、実用的サイズとしての最大径(透明電極層6dの外径に相当する)が4〜10mmの範囲となっており、例えば、開口部の面積の比率を100%、50%、25%、12.5%の4段階で変化させることができるようにされている。そこで、例えば、透明電極層6dの外径が6mmの場合、透明電極層の6cの外径は4.2mm、透明電極層6bの外径は3.0mm、透明電極層6aの直径は2.1mmとされており、各透明電極層6a,6b,6c,6dの間隔は60μmとされている。各透明電極層6a,6b,6c,6dは、各透明電極層6a,6b,6c,6dと同一材料からなる接続部9により相互に接続されており、接続部9を介して外部電源に接続自在とされ、同時にオン/オフできるようにされている。
As shown in FIG. 2 (a), the
一方、ガラス基板3に形成されている透明電極層7a,7b,7c,7dは、図2(b)に示すように、円形の透明電極層7aを中心として、その周囲に互いに間隔を存して、ドーナツ形状の透明電極層7b,7c,7dが形成された同心円状のパターン形状を形成している。透明電極層7d,7c,7bの外径は透明電極層6d,6c,6bの外径と同一となっており、透明電極層7aの直径は透明電極層6aの直径と同一となっている。また、各透明電極層7a,7b,7c,7dの間隔は、各透明電極層6a,6b,6c,6dの間隔と同一になっている。各透明電極層7a,7b,7c,7dは、透明電極層7b,7c,7dの一部を削除して形成されている接続部10a,10b,10c,10dを介してそれぞれ独立に外部電源に接続自在とされ、それぞれ独立にオン/オフできるようにされている。接続部10a,10b,10c,10dは、各透明電極層7a,7b,7c,7dと同一材料により形成されている。
On the other hand, the
液晶配向膜層8は、垂直配向膜からなるものでも水平配向膜からなるものでもよいが、低電圧で高い透過率を得ることができる点で垂直配向膜からなることが好ましい。
The liquid crystal
また、液晶層4は、二色性色素とカイラル剤とを含む液晶により構成されている。前記二色性色素は、少なくとも3種の色素を混合して用いることが好ましく、通常は3〜7種の色素、例えば5種の色素を混合して用いる。また、前記カイラル剤はd/pが0.5〜1の範囲となるように添加されていることが好ましい。
The
本態様のカメラ用絞り光学素子1aは、例えば、次のようにして製造することができる。 The camera aperture optical element 1a of this aspect can be manufactured as follows, for example.
まず、ITOからなる透明電極層が全面に形成された1対のガラス基板2,3を用意する。ガラス基板2,3は、厚さ0.7mmの透明な青板ガラスからなり、透明電極層は2000オングストロームの厚さに形成されている。
First, a pair of
次に、ガラス基板2,3の透明電極層上に、それぞれ液晶配向膜層として垂直配向膜を形成する。
Next, a vertical alignment film is formed as a liquid crystal alignment film layer on each of the transparent electrode layers of the
次に、ガラス基板2,3の前記透明電極層と前記液晶配向膜層とが形成された面に、YVOレーザまたはYAGレーザ、例えば出力10W、波長1064nmのYVOレーザ(YVO社製)を照射し、不要部分の前記透明電極層と前記液晶配向膜層とを除去して、図2(a)、図2(b)に示すパターン形状を形成する。前記レーザの照射は、LDパワーを1〜100%の範囲とし、Qスイッチを10〜100kHzの範囲とし、移動速度を1〜1500mm/秒の範囲として行うことが好ましく、例えば、LDパワー85%、Qスイッチ40kHz、移動速度300mm/秒で行う。
Next, the surface of the
この結果、ガラス基板2上には、透明電極層6a,6b,6c,6dと、接続部9と、透明電極層6a,6b,6c,6d、接続部9上に形成された液晶配向膜層8とが得られる。また、ガラス基板3上には、透明電極層7a,7b,7c,7dと、接続部10a,10b,10c,10dと、透明電極層7a,7b,7c,7d、接続部10a,10b,10c,10d上に形成された液晶配向膜層8とが得られる。
As a result, on the
前記レーザが照射された部分を顕微鏡観察したところ、前記透明電極層と前記液晶配向膜層とが完全に除去されて、ガラス基板2,3の表面が露出していた。ガラス基板2,3の表面は、120オングストローム程度の表面粗さがあるが、該表面粗さは透明電極層6a,6b,6c,6d,7a,7b,7c,7dの表面と同程度であり、ディスプレイ用基板の表面状態としては十分な平滑性を備えている。
When the portion irradiated with the laser was observed with a microscope, the transparent electrode layer and the liquid crystal alignment film layer were completely removed, and the surfaces of the
前記YVOレーザは、前記透明電極層を形成するITOには吸収されるが、ガラス基板2,3には吸収されずにそのまま透過されており、また前記1064nmという波長の点でも殆ど熱を発生しないためと考えられる。従って、前記レーザの照射によれば、主にアブレーションにより、前記透明電極層を形成するITOと前記液晶配向膜層とを原子レベルで分解して除去しており、ガラス基板2,3には殆ど損傷を与えず、ガラス基板2,3の表面に前記平滑性が得られるものと考えられる。
The YVO laser is absorbed by ITO forming the transparent electrode layer, but is transmitted as it is without being absorbed by the
次に、下基板であるガラス基板3上に、ギャップコントロール剤を2〜5重量%の範囲で、例えば3重量%含むメインシール剤(三井化学株式会社製、商品名:ES−7500)を塗布し、シール剤層5を形成する。前記ギャップコントロール剤は、液晶層4の厚さに合わせ、3〜15μmの範囲の直径を備えるものを用いることができ、例えば、グラスファイバー製の直径5μmのものを用いる。前記メインシール剤の塗布は、例えば、スクリーン印刷またはディスペンサーにより行うことができる。
Next, a main sealant (product name: ES-7500, manufactured by Mitsui Chemicals, Inc.) containing 3% by weight of a gap control agent in the range of 2 to 5% by weight, for example, is applied onto the
次に、上基板であるガラス基板2上に、例えば、直径5μmのプラスチックボールからなるギャップコントロール剤を散布する。前記ギャップコントロール剤の散布は、例えば乾式のギャップ散布機を用いて行うことができる。
Next, a gap control agent made of, for example, a plastic ball having a diameter of 5 μm is sprayed on the
次に、ガラス基板2,3を、透明電極層6a,7aの中心点が重なるようにして重ね合わせてセルを形成し、該セルにゲストホスト型液晶を真空注入して、液晶層4を形成する。ホスト液晶としてはΔεが負の液晶を用いることができ、該液晶には二色性色素が2〜15重量%の範囲で添加されている。前記二色性色素は、少なくとも3種の色素を混合して用いることが好ましく、通常は3〜7種の色素、例えば5種の色素を混合して用いる。前記二色性色素は、黒色の色素(例えば、三井化学株式会社製、商品名:S−428)を用いてもよい。また、前記液晶には、カイラル剤(メルク社製、商品名:S−811)が、d/pが0.5〜1の範囲となるように、例えばd/p=0.75となるように添加されている。
Next, the
次に、前記ゲストホスト型液晶の注入口にエンドシール剤を塗布して封止することにより、カメラ用絞り光学素子1aが完成する。 Next, an end sealant is applied to the injection port of the guest-host type liquid crystal and sealed, thereby completing the camera diaphragm optical element 1a.
本態様のカメラ用絞り光学素子1aは、次のように作動する。 The diaphragm optical element 1a for the camera according to this aspect operates as follows.
まず、電圧が印加されていない状態では、互いに対向配置されている透明電極層6a,6b,6c,6dと透明電極層7a,7b,7c,7dとの間の液晶層4で、液晶分子と二色性色素とがガラス基板2,3に対して垂直方向に配向されており、ほぼ透明になっている。この状態で、カメラ用絞りとしての開口部の面積の比率は100%となっている。
First, in a state in which no voltage is applied, the
次に、透明電極層6a,6b,6c,6dと透明電極層7a,7b,7c,7dとの間に電圧を印加すると、液晶分子と二色性色素とがガラス基板2,3に対して斜めになって二色性色素の色が見える着色状態となり、電圧の増加に伴って着色が大になる。このときのスペクトル特性を図3(a)に示す。図3(a)から、透明電極層6a,6b,6c,6dと透明電極層7a,7b,7c,7dとの間の液晶層4では、電圧が増加するに従って、着色が大になり、透過率が減少することが明らかである。
Next, when a voltage is applied between the
一方、透明電極層6a,6b,6c,6d、接続部9と、透明電極層7a,7b,7c,7d、接続部10a,10b,10c,10dとが形成されていない部分では、液晶配向膜層も形成されていない。従って、前記部分では、液晶分子と二色性色素とはガラス基板2,3に対して水平(平行)に並んでいる状態(アモルファス配向)となっており、初めから二色性色素の色が見える着色状態となっている。このときのスペクトル特性を図3(b)に示す。図3(b)から、前記部分では、透明電極層6a,6b,6c,6dと透明電極層7a,7b,7c,7dとの間に高電圧を印加した場合(図3(a)に示す10Vの場合)と、良く似た状態となっている。
On the other hand, in the portion where the
そこで、カメラ用絞り光学素子1aによれば、透明電極層6dと透明電極層7dとの間にのみ電圧を印加し、透明電極層6a,6b,6cと透明電極層7a,7b,7cとの間に電圧を印加しない状態とすれば、透明電極層6d,7dの部分のみが着色状態となり、他の部分が透明となる。この状態で、カメラ用絞りとしての開口部の面積の比率は50%となっている。
Therefore, according to the diaphragm optical element 1a for a camera, a voltage is applied only between the
また、透明電極層6d,6cと透明電極層7d,7cとの間にのみ電圧を印加し、透明電極層6a,6bと透明電極層7a,7bとの間に電圧を印加しない状態とすれば、透明電極層6d,6cと透明電極層7d,7cとの部分のみが着色状態となり、他の部分が透明となる。この状態で、カメラ用絞りとしての開口部の面積の比率は25%となっている。
In addition, a voltage is applied only between the
さらに、透明電極層6d,6c,6bと透明電極層7d,7c,7bとの間にのみ電圧を印加し、透明電極層6aと透明電極層7aとの間に電圧を印加しない状態とすれば、透明電極層6d,6c,6bと透明電極層7d,7c,7bとの部分のみが着色状態となり、他の部分が透明となる。この状態で、カメラ用絞りとしての開口部の面積の比率は12.5%となっている。
Furthermore, a voltage is applied only between the
従って、透明電極層6a,6b,6c,6dと透明電極層7a,7b,7c,7dとに選択的に電圧を印加することにより、透明となる部分の大きさを多段階(上述の場合では4段階)に調節することができ、ピントの調節を行うことができる。
Therefore, by selectively applying a voltage to the
また、着色状態となる部分では、印加電圧を調整することにより、着色の程度を調整することができるので、光の量の調節を連続的に行うことができる。 Further, in the portion that is in a colored state, the degree of coloring can be adjusted by adjusting the applied voltage, so that the amount of light can be continuously adjusted.
尚、本態様では、前記液晶配向膜層にラビング処理を施していないが、前記液晶配向膜層は、ラビング処理を施してもよい。ラビング処理を施す場合は、ガラス基板2,3間の配向方向が90〜360°の範囲となるように行うことが好ましい。
In this embodiment, the liquid crystal alignment film layer is not rubbed, but the liquid crystal alignment film layer may be rubbed. When the rubbing treatment is performed, it is preferable that the orientation direction between the
次に、図4を参照して、本発明の実施形態のカメラ用絞り光学素子1bは、透明な板ガラスからなるガラス基板2,3と、ガラス基板2,3間に配設された電解質層11とを備え、電解質層11はガラス基板2,3の外縁に形成されたシール剤層5により封止されている。ガラス基板2は、ガラス基板3に対向する面に透明電極層6a,6b,6c,6dを備えており、ガラス基板3は、ガラス基板2に対向する面に透明電極層7a,7b,7c,7dを備えている。透明電極層6a,6b,6c,6d,7a,7b,7c,7dは、例えば、ITOにより形成されている。そして、ガラス基板3の透明電極層7a,7b,7c,7d上には、エレクトロクロミック膜層12が形成されている。
Next, referring to FIG. 4, the camera aperture optical element 1 b according to the embodiment of the present invention includes
ガラス基板2に形成されている透明電極層6a,6b,6c,6dは、カメラ用絞り光学素子1aと同一の同心円状のパターン形状を形成している。即ち、透明電極層6a,6b,6c,6dは、実用的サイズとしての最大径(透明電極層6dの外径に相当する)が4〜10mmの範囲となっており、例えば、開口部の面積の比率を100%、50%、25%、12.5%の4段階で変化させることができるようにされている。そこで、例えば、透明電極層6dの外径が6mmの場合、透明電極層の6cの外径は4.2mm、透明電極層6bの外径は3.0mm、透明電極層6aの直径は2.1mmとされており、各透明電極層6a,6b,6c,6dの間隔は60μmとされている。各透明電極層6a,6b,6c,6dは、カメラ用絞り光学素子1aと同一にして、接続部9を介して外部電源に接続自在とされ、同時にオン/オフできるようにされている。
The
一方、ガラス基板3に形成されている透明電極層7a,7b,7c,7dは、カメラ用絞り光学素子1aと同一の同心円状のパターン形状を形成している。即ち、透明電極層7d,7c,7bの外径は透明電極層6d,6c,6bの外径と同一となっており、透明電極層7aの直径は透明電極層6aの直径と同一となっている。また、各透明電極層7a,7b,7c,7dの間隔は、各透明電極層6a,6b,6c,6dの間隔と同一になっている。各透明電極層7a,7b,7c,7dは、カメラ用絞り光学素子1aと同一にして、接続部10a,10b,10c,10dを介してそれぞれ独立に外部電源に接続自在とされ、それぞれ独立にオン/オフできるようにされている。
On the other hand, the
エレクトロクロミック膜層12は、界面膜の透明状態と着色状態とを切り替える型のエレクトロクロミック膜であればどのような材料からなるものであってもよい。このようなエレクトロクロミック膜として、三酸化タングステン(WO3)、酸化モリブデン、酸化タングステン−モリブデン複合膜、酸化バナジウム、酸化イリジウム、二酸化マンガン、酸化ニッケル等の金属酸化物や、ビオロゲン化合物、スチリル系化合物等の有機系材料等からなるものを挙げることができ、例えば、三酸化タングステンからなるエレクトロクロミック膜層12を用いることができる。
The
前記エレクトロクロミック膜層12は、真空蒸着法、RFマグネトロンスパッタ法等のスパッタ法、メッキ法、LB法、スクリーン印刷、スピンコート、ダイコート等の各種印刷法により形成することができ、例えば、真空蒸着法により形成することができる。
The
前記エレクトロクロミック膜層12は、緻密な膜構造であることは好ましくなく、アモルファスで多くの隙間を有する構造であることが好ましい。前記エレクトロクロミック膜層12は、前記隙間を有する構造とするために、積極的に微小な粒子を分散させてもよい。
The
本態様のカメラ用絞り光学素子1bは、例えば、次のようにして製造することができる。 The aperture optical element 1b for a camera according to this aspect can be manufactured as follows, for example.
まず、ITOからなる透明電極層が全面に形成された1対のガラス基板2,3を用意する。ガラス基板2,3は、厚さ0.4mmの透明な青板ガラスからなり、透明電極層は800オングストロームの厚さに形成されている。
First, a pair of
次に、ガラス基板3の透明電極層上に、真空蒸着法により三酸化タングステン層を形成し、300〜550℃の範囲の温度で20〜60分間、例えば350℃で30分間熱処理を行うことによりエレクトロクロミック膜層を形成する。
Next, a tungsten trioxide layer is formed on the transparent electrode layer of the
次に、ガラス基板2の前記透明電極層が形成された面に、YVOレーザまたはYAGレーザ、例えば出力10W、波長1064nmのYVOレーザ(YVO社製)を照射し、不要部分の前記透明電極層を除去して、図2(a)に示すパターン形状を形成する。また、ガラス基板3の前記透明電極層と前記エレクトロクロミック膜層とが形成された面に、YVOレーザまたはYAGレーザ、例えば出力10W、波長1064nmのYVOレーザ(YVO社製)を照射し、不要部分の前記透明電極層を除去して、図2(b)に示すパターン形状を形成する。
Next, the surface of the
前記レーザの照射は、LDパワーを1〜100%の範囲とし、Qスイッチを10〜100kHzの範囲とし、移動速度を1〜1500mm/秒の範囲として行うことが好ましく、例えば、LDパワー75%、Qスイッチ50kHz、移動速度500mm/秒で行う。 The laser irradiation is preferably performed with an LD power in the range of 1 to 100%, a Q switch in the range of 10 to 100 kHz, and a moving speed in the range of 1 to 1500 mm / sec. The Q switch is 50 kHz and the moving speed is 500 mm / sec.
この結果、ガラス基板2上には、透明電極層6a,6b,6c,6dと、接続部9とが得られる。また、ガラス基板3上には、透明電極層7a,7b,7c,7dと、接続部10a,10b,10c,10dと、透明電極層7a,7b,7c,7d、接続部10a,10b,10c,10d上に形成されたエレクトロクロミック膜層12とが得られる。
As a result, the
前記レーザが照射された部分を顕微鏡観察したところ、ガラス基板2では前記透明電極層が完全に除去されて、ガラス基板2の表面が露出しており、ガラス基板3では前記透明電極層と前記エレクトロクロミック膜層とが完全に除去されて、ガラス基板3の表面が露出していた。ガラス基板2,3の表面は、80オングストローム程度の表面粗さがあるが、該表面粗さは透明電極層6a,6b,6c,6d,7a,7b,7c,7dの表面と同程度であり、十分な平滑性を備えている。
When the portion irradiated with the laser was observed with a microscope, the transparent electrode layer was completely removed on the
前記YVOレーザは、前記透明電極層を形成するITOには吸収されるが、ガラス基板2,3には吸収されずにそのまま透過されており、また前記1064nmという波長の点でも殆ど熱を発生しないためと考えられる。従って、前記レーザの照射によれば、主にアブレーションにより、前記透明電極層を形成するITOと前記エレクトロクロミック膜層とを原子レベルで分解して除去しており、ガラス基板2,3には殆ど損傷を与えず、ガラス基板2,3の表面に前記平滑性が得られるものと考えられる。
The YVO laser is absorbed by ITO forming the transparent electrode layer, but is transmitted as it is without being absorbed by the
次に、上基板であるガラス基板2上に、ギャップコントロール剤を2〜5重量%の範囲で、例えば5重量%含むメインシール剤(三井化学株式会社製、商品名:ES−7500)を塗布し、シール剤層5を形成する。前記ギャップコントロール剤は、電解質層11の厚さに合わせ、50〜200μmの範囲の直径を備えるものを用いることができ、例えば、直径75μmのプラスチックボールを用いる。前記メインシール剤の塗布は、例えば、スクリーン印刷またはディスペンサーにより行うことができる。
Next, a main sealant (product name: ES-7500, manufactured by Mitsui Chemicals, Inc.) containing a gap control agent in the range of 2 to 5% by weight, for example, 5% by weight, is applied on the
次に、ガラス基板2,3を、透明電極層6a,7aの中心点が重なるようにして重ね合わせてセルを形成し、該セルに電解液を真空注入して、電解質層11を形成する。前記電解液としては、NaOH溶液、各種液体塩、アセトニトリル等の溶媒を挙げることができ、例えばNaOH溶液を用いることができる。
Next, the
次に、前記電解液の注入口にエンドシール剤を塗布して封止することにより、カメラ用絞り光学素子1bが完成する。 Next, an end sealing agent is applied to the electrolyte solution inlet and sealed to complete the diaphragm optical element 1b for the camera.
図4のカメラ用絞り光学素子1bは、次のように作動する。 The camera aperture optical element 1b shown in FIG. 4 operates as follows.
まず、電圧が印加されていない状態では、互いに対向配置されている透明電極層6a,6b,6c,6dと透明電極層7a,7b,7c,7dとが存在する部分は、ほぼ透明になっている。この状態で、カメラ用絞りとしての開口部の面積の比率は100%となっている。
First, in a state where no voltage is applied, the portions where the
次に、透明電極層6a,6b,6c,6dと透明電極層7a,7b,7c,7dとの間に電圧を印加すると、電解質層11からエレクトロクロミック膜層12に陽イオンが注入され、エレクトロクロミック膜層12が着色状態となり、電圧の増加に伴って着色が大になる。このときのスペクトル特性を図5に示す。図5から、エレクトロクロミック膜層12では、電圧が増加するに従って、着色が大になり、透過率が減少することが明らかである。
Next, when a voltage is applied between the
そこで、カメラ用絞り光学素子1bによれば、透明電極層6dと透明電極層7dとの間にのみ電圧を印加し、透明電極層6a,6b,6cと透明電極層7a,7b,7cとの間に電圧を印加しない状態とすれば、透明電極層6d,7dの部分のみが着色状態となり、他の部分が透明となる。この状態で、カメラ用絞りとしての開口部の面積の比率は50%となっている。
Therefore, according to the diaphragm optical element 1b for a camera, a voltage is applied only between the
また、透明電極層6d,6cと透明電極層7d,7cとの間にのみ電圧を印加し、透明電極層6a,6bと透明電極層7a,7bとの間に電圧を印加しない状態とすれば、透明電極層6d,6cと透明電極層7d,7cとの部分のみが着色状態となり、他の部分が透明となる。この状態で、カメラ用絞りとしての開口部の面積の比率は25%となっている。
In addition, a voltage is applied only between the
さらに、透明電極層6d,6c,6bと透明電極層7d,7c,7bとの間にのみ電圧を印加し、透明電極層6aと透明電極層7aとの間に電圧を印加しない状態とすれば、透明電極層6d,6c,6bと透明電極層7d,7c,7bとの部分のみが着色状態となり、他の部分が透明となる。この状態で、カメラ用絞りとしての開口部の面積の比率は12.5%となっている。
Furthermore, a voltage is applied only between the
従って、透明電極層6a,6b,6c,6dと透明電極層7a,7b,7c,7dとに選択的に電圧を印加することにより、透明となる部分の大きさを多段階(上述の場合では4段階)に調節することができ、ピントの調節を行うことができる。
Therefore, by selectively applying a voltage to the
このとき、図1のカメラ用絞り光学素子1aでは、透明電極層6a,6b,6c,6d、接続部9と、透明電極層7a,7b,7c,7d、接続部10a,10b,10c,10dとが形成されていない部分では、エレクトクロミック膜層も形成されていない。従って、電圧が印加された透明電極以外の透明電極の部分での着色、いわゆるクロストークを確実に防止することができる。
At this time, in the diaphragm optical element 1a for the camera in FIG. 1, the
また、着色状態となる部分では、印加電圧を調整することにより、着色の程度を調整することができるので、光の量の調節を連続的に行うことができる。 Further, in the portion that is in a colored state, the degree of coloring can be adjusted by adjusting the applied voltage, so that the amount of light can be continuously adjusted.
本実施形態のカメラ用絞り光学素子1bでは、エレクトクロミック膜層が形成されていないガラス基板2側の透明電極6a,6b,6c,6dは何も処理が施されていないが、透明電極6a,6b,6c,6d上に電子供与膜を形成するようにしてもよい。
In the camera aperture optical element 1b of the present embodiment, the
上記のカメラ用絞り光学素子1a,1bによれば、透明電極層6a,6b,6c,6dのいずれかと、これに対応する透明電極層7a,7b,7c,7dのいずれかとに選択的に電圧を印加すると共に、印加する電圧を調節することにより、各透明電極6a,6b,6c,6d,7a,7b,7c,7dが存在する部分の光透過率を自由に制御することができる。従って、様々な光透過状態を実現することができ、カメラにおける様々な撮影シーン、撮影環境等に応じて撮影性能を自由に選択することができる。
According to the above-mentioned camera stop optical elements 1a and 1b, a voltage is selectively applied to any one of the
例えば、外光が強い状況下で背景を含めた全体がきれいに映るように撮影したい場合には、透明電極6a,6b,6c,6dと、透明電極7a,7b,7c,7dとの全てに電圧を印加してカメラの感光部に当たる光の量を少なくしてやればよい。また、外光が強い状況下で近くの被写体に焦点を合わせて強調したい場合には、中央の透明電極6aと、透明電極7aとを除く他の全ての透明電極6b,6c,6dと、透明電極7b,7c,7dとに電圧を印加してピント調整を行うことができる。
For example, when it is desired to take a picture so that the whole image including the background is clearly displayed under a strong external light condition, voltage is applied to all of the
上記のカメラ用絞り光学素子は、例えば、デジタルスチルカメラ全般、ビデオカメラ、防犯カメラ、車載カメラ等の動画撮影用カメラ全般、カメラ付き携帯電話、PDA、パソコン等に適用することができる。 The above-described aperture optical element for a camera can be applied to, for example, a digital still camera in general, a video camera, a security camera, an in-vehicle camera in general, a camera-equipped mobile phone, a PDA, a personal computer, and the like.
1a,1b…カメラ用絞り光学素子、 2,3…ガラス基板、 4…液晶層、 6a,6b,6c,6d…透明電極層、 7a,7b,7c,7d…透明電極層、 8…液晶配向膜層、 11…電解質層、 12…エレクトロクロミック膜層。
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1a, 1b ... Diaphragm optical element for cameras, 2,3 ... Glass substrate, 4 ... Liquid crystal layer, 6a, 6b, 6c, 6d ... Transparent electrode layer, 7a, 7b, 7c, 7d ... Transparent electrode layer, 8 ... Liquid crystal orientation Membrane layer, 11 ... electrolyte layer, 12 ... electrochromic membrane layer.
Claims (3)
一方の表面に、所定のパターンを備える透明電極層を有し、該透明電極層が第1のガラス基板のエレクトロクロミック膜層に対向して配置された第2のガラス基板と、
両ガラス基板間に配設された電解質層とを備えるカメラ用絞り光学素子において、
該透明電極層は、該ガラス基板上に中心の円とそれを取り囲む同心円状に配置された複数の部分を備え、
該エレクトロクロミック膜層は、該第1のガラス基板の該透明電極層の複数の部分のそれぞれの上に設けられ、該透明電極層の複数の部分の間で該透明電極層の側壁が露出されていることを特徴とするカメラ用絞り光学素子。 A first glass substrate having a transparent electrode layer having a predetermined pattern on one surface and an electrochromic film layer formed on the transparent electrode layer;
A second glass substrate having a transparent electrode layer having a predetermined pattern on one surface, the transparent electrode layer being disposed opposite to the electrochromic film layer of the first glass substrate;
In an aperture optical element for a camera comprising an electrolyte layer disposed between both glass substrates,
The transparent electrode layer includes a central circle on the glass substrate and a plurality of portions arranged concentrically surrounding the circle.
The electrochromic film layer is provided on each of the plurality of portions of the transparent electrode layer of the first glass substrate, and a side wall of the transparent electrode layer is exposed between the plurality of portions of the transparent electrode layer. A diaphragm optical element for a camera.
第1のガラス基板上に形成された該透明電極層上の全面にエレクトロクロミック膜層を形成する工程と、
第1のガラス基板の該透明電極層と該エレクトロクロミック膜層とが形成された面にレーザを照射して、該レーザが照射された部分の透明電極層とエレクトロクロミック膜層とを、該透明電極層の側壁及び該第1のガラス基板が露出されるまで同時に除去すると共に、第2のガラス基板の該透明電極層が形成された面にレーザを照射して、該レーザが照射された部分の該透明電極層を、該第2のガラス基板が露出されるまで除去し、各ガラス基板上に中心の円とそれを取り囲む同心円状に配置された複数の部分を備える透明電極層を形成し、かつ、第1のガラス基板の該透明電極層の複数の部分のそれぞれの上に、互いに分離されたエレクトロクロミック膜層を形成する工程と、
前記第1のガラス基板と前記第2のガラス基板を、各ガラス基板上の前記円の中心点が重なるように重ね合わせる工程と
を備えることを特徴とするカメラ用絞り光学素子の製造方法。 Forming a transparent electrode layer on the entire surface of a pair of glass substrates;
Forming an electrochromic film layer on the entire surface of the transparent electrode layer formed on the first glass substrate;
The surface of the first glass substrate on which the transparent electrode layer and the electrochromic film layer are formed is irradiated with a laser, and the transparent electrode layer and the electrochromic film layer of the portion irradiated with the laser are irradiated with the transparent A portion where the side wall of the electrode layer and the first glass substrate are simultaneously removed and the surface of the second glass substrate on which the transparent electrode layer is formed is irradiated with a laser, and the laser irradiated portion The transparent electrode layer is removed until the second glass substrate is exposed to form a transparent electrode layer having a central circle and a plurality of concentrically arranged portions surrounding each of the glass substrates. And forming an electrochromic film layer separated from each other on each of the plurality of portions of the transparent electrode layer of the first glass substrate;
And a step of superimposing the first glass substrate and the second glass substrate so that the center points of the circles on the glass substrates overlap each other.
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Cited By (13)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2018525226A (en) * | 2015-06-19 | 2018-09-06 | ジェンテックス コーポレイション | Laser ablation of the second surface |
CN108628051A (en) * | 2017-03-22 | 2018-10-09 | 斯坦雷电气株式会社 | Optical element |
CN109634002A (en) * | 2019-02-22 | 2019-04-16 | 京东方科技集团股份有限公司 | A kind of mechanism of diaphragm, its driving method and compound eye imaging system |
CN110543055A (en) * | 2019-09-27 | 2019-12-06 | Oppo广东移动通信有限公司 | Electronic equipment, camera module, electrochromic element and preparation method thereof |
WO2020012016A1 (en) * | 2018-07-13 | 2020-01-16 | Technische Universität Kaiserslautern | Device for changing an optical property in areas and method for providing the same |
CN110873989A (en) * | 2019-11-29 | 2020-03-10 | 深圳市光羿科技有限公司 | Electrochromic diaphragm, preparation method thereof and lens module comprising electrochromic diaphragm |
JP2020098245A (en) * | 2018-12-17 | 2020-06-25 | 株式会社ジャパンディスプレイ | Electronic apparatus |
WO2021029133A1 (en) * | 2019-08-09 | 2021-02-18 | 株式会社ジャパンディスプレイ | Electronic device |
WO2021029134A1 (en) * | 2019-08-09 | 2021-02-18 | 株式会社ジャパンディスプレイ | Electronic device |
US11009760B2 (en) | 2017-05-05 | 2021-05-18 | Gentex Corporation | Interleaving laser ablation |
WO2021152994A1 (en) * | 2020-01-28 | 2021-08-05 | 株式会社ジャパンディスプレイ | Electronic device |
US11130195B2 (en) | 2014-07-29 | 2021-09-28 | Gentex Corporation | Laser ablation with reduced visual effects |
CN113949793A (en) * | 2020-07-17 | 2022-01-18 | 深圳市万普拉斯科技有限公司 | Flash lamp, light effect improving method thereof and electronic equipment |
Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS6360430A (en) * | 1986-08-30 | 1988-03-16 | Hitachi Maxell Ltd | Electrochromic display element |
JPH10274790A (en) * | 1997-01-31 | 1998-10-13 | Sony Corp | Optical device and its manufacture |
JP2003315869A (en) * | 2002-04-19 | 2003-11-06 | Fuji Photo Film Co Ltd | Electrochromic diaphragm unit and film unit with lens using the same |
JP2004153171A (en) * | 2002-10-31 | 2004-05-27 | Sony Corp | Method for patterning transparent conductive film |
JP2004519739A (en) * | 2001-04-04 | 2004-07-02 | コーニンクレッカ フィリップス エレクトロニクス エヌ ヴィ | Acoustic and visual systems |
-
2012
- 2012-03-23 JP JP2012067063A patent/JP2012128457A/en active Pending
Patent Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS6360430A (en) * | 1986-08-30 | 1988-03-16 | Hitachi Maxell Ltd | Electrochromic display element |
JPH10274790A (en) * | 1997-01-31 | 1998-10-13 | Sony Corp | Optical device and its manufacture |
JP2004519739A (en) * | 2001-04-04 | 2004-07-02 | コーニンクレッカ フィリップス エレクトロニクス エヌ ヴィ | Acoustic and visual systems |
JP2003315869A (en) * | 2002-04-19 | 2003-11-06 | Fuji Photo Film Co Ltd | Electrochromic diaphragm unit and film unit with lens using the same |
JP2004153171A (en) * | 2002-10-31 | 2004-05-27 | Sony Corp | Method for patterning transparent conductive film |
Cited By (23)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US11130195B2 (en) | 2014-07-29 | 2021-09-28 | Gentex Corporation | Laser ablation with reduced visual effects |
US11275285B2 (en) | 2015-06-19 | 2022-03-15 | Gentex Corporation | Second surface laser ablation |
JP2018525226A (en) * | 2015-06-19 | 2018-09-06 | ジェンテックス コーポレイション | Laser ablation of the second surface |
CN108628051A (en) * | 2017-03-22 | 2018-10-09 | 斯坦雷电气株式会社 | Optical element |
CN108628051B (en) * | 2017-03-22 | 2022-08-19 | 斯坦雷电气株式会社 | Optical element |
US11009760B2 (en) | 2017-05-05 | 2021-05-18 | Gentex Corporation | Interleaving laser ablation |
WO2020012016A1 (en) * | 2018-07-13 | 2020-01-16 | Technische Universität Kaiserslautern | Device for changing an optical property in areas and method for providing the same |
JP7191670B2 (en) | 2018-12-17 | 2022-12-19 | 株式会社ジャパンディスプレイ | Electronics |
JP2020098245A (en) * | 2018-12-17 | 2020-06-25 | 株式会社ジャパンディスプレイ | Electronic apparatus |
CN109634002B (en) * | 2019-02-22 | 2022-01-11 | 京东方科技集团股份有限公司 | Diaphragm structure, driving method thereof and compound eye imaging system |
CN109634002A (en) * | 2019-02-22 | 2019-04-16 | 京东方科技集团股份有限公司 | A kind of mechanism of diaphragm, its driving method and compound eye imaging system |
WO2021029134A1 (en) * | 2019-08-09 | 2021-02-18 | 株式会社ジャパンディスプレイ | Electronic device |
JP2021028691A (en) * | 2019-08-09 | 2021-02-25 | 株式会社ジャパンディスプレイ | Electronic apparatus |
CN113892054A (en) * | 2019-08-09 | 2022-01-04 | 株式会社日本显示器 | Electronic device |
WO2021029133A1 (en) * | 2019-08-09 | 2021-02-18 | 株式会社ジャパンディスプレイ | Electronic device |
JP7271364B2 (en) | 2019-08-09 | 2023-05-11 | 株式会社ジャパンディスプレイ | Electronics |
CN113892054B (en) * | 2019-08-09 | 2024-04-09 | 株式会社日本显示器 | Electronic equipment |
CN110543055A (en) * | 2019-09-27 | 2019-12-06 | Oppo广东移动通信有限公司 | Electronic equipment, camera module, electrochromic element and preparation method thereof |
CN110873989B (en) * | 2019-11-29 | 2021-08-10 | 深圳市光羿科技有限公司 | Electrochromic diaphragm, preparation method thereof and lens module comprising electrochromic diaphragm |
CN110873989A (en) * | 2019-11-29 | 2020-03-10 | 深圳市光羿科技有限公司 | Electrochromic diaphragm, preparation method thereof and lens module comprising electrochromic diaphragm |
WO2021152994A1 (en) * | 2020-01-28 | 2021-08-05 | 株式会社ジャパンディスプレイ | Electronic device |
JP7479858B2 (en) | 2020-01-28 | 2024-05-09 | 株式会社ジャパンディスプレイ | Electronics |
CN113949793A (en) * | 2020-07-17 | 2022-01-18 | 深圳市万普拉斯科技有限公司 | Flash lamp, light effect improving method thereof and electronic equipment |
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Legal Events
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A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20140325 |