JP2012109186A - Power supply unit and x-ray device - Google Patents
Power supply unit and x-ray device Download PDFInfo
- Publication number
- JP2012109186A JP2012109186A JP2010258953A JP2010258953A JP2012109186A JP 2012109186 A JP2012109186 A JP 2012109186A JP 2010258953 A JP2010258953 A JP 2010258953A JP 2010258953 A JP2010258953 A JP 2010258953A JP 2012109186 A JP2012109186 A JP 2012109186A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- source
- electrode
- power supply
- electron
- supply unit
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Withdrawn
Links
Images
Landscapes
- X-Ray Techniques (AREA)
Abstract
Description
本発明の実施形態は、電源ユニット及び電源ユニットを備えたX線装置に関する。 Embodiments described herein relate generally to a power supply unit and an X-ray apparatus including the power supply unit.
一般的な微小焦点を有するX線源は、マイクロフォーカスX線源として既に製品化がなされており、対象物の微小領域を高分解能で検査する非破壊検査装置などに広く利用されている。このX線源は、カソードから放出される電子ビームを電界または磁界レンズなどの電子光学径により集束させ、ターゲット表面のμmオーダ、またはそれ以下の狭い領域に焦点を形成し、その焦点から放出されるX線をターゲットを透過させて放出させている。 A general X-ray source having a micro focus has already been commercialized as a micro focus X-ray source, and is widely used in a non-destructive inspection apparatus for inspecting a micro area of an object with high resolution. This X-ray source focuses an electron beam emitted from a cathode by an electron optical diameter such as an electric field or a magnetic lens, forms a focal point in a narrow region on the order of μm or less, and is emitted from the focal point. X-rays transmitted through the target are emitted.
ここで、微小な対象物を検査するためには、ターゲットに形成する電子ビームの焦点を微小にする必要があるため、X線発生源である金属製のターゲットに電子ビームを微小口径に集束する必要がある。このため、X線源は、高真空で維持された真空容器内に、電子源、電子をビーム流量にする高電圧を印加した引出電極、電子ビームにエネルギを加える高電圧を印加した加速電極及び電子ビームを微小口径に集束させる高電圧を印加したレンズ電極等が設けられている。 Here, in order to inspect a minute object, it is necessary to make the focal point of the electron beam formed on the target minute, so that the electron beam is focused on a minute aperture on a metal target that is an X-ray generation source. There is a need. For this reason, the X-ray source includes an electron source, an extraction electrode to which a high voltage for making electrons flow into a beam, an acceleration electrode to which a high voltage for applying energy to the electron beam is applied, and a vacuum vessel maintained at a high vacuum A lens electrode or the like to which a high voltage for converging the electron beam to a small aperture is applied.
X線源が所定のX線を発生させるためには、電子源を高温に加熱して、熱電子を生じさせ、電子ビームをターゲットに微小口径で集束させて照射させる必要がある。つまり、加熱した電子源と、熱電子を電子ビームとして引き出すための引出電極と、引き出した電子ビームを加速する加速電極と、加速した電子ビームを集束させるレンズ電極にそれぞれ所定の直流高電圧を印加する必要がある。また、熱電子の中央部のみを電子ビームとして形成させるために、電子源の近傍に抑制電極を設置し、ターゲットに不要な電子ビームが照射されるのを妨げるアパーチャ電極を配して、それらには所定の直流高電圧が印加されている。 In order for the X-ray source to generate predetermined X-rays, it is necessary to heat the electron source to a high temperature to generate thermoelectrons, and focus and irradiate the electron beam with a small aperture on the target. That is, a predetermined high DC voltage is applied to the heated electron source, the extraction electrode for extracting the thermionic electrons as an electron beam, the acceleration electrode for accelerating the extracted electron beam, and the lens electrode for focusing the accelerated electron beam. There is a need to. In addition, in order to form only the central part of the thermoelectrons as an electron beam, a suppression electrode is installed in the vicinity of the electron source, and an aperture electrode that prevents the target from being irradiated with an unnecessary electron beam is disposed on them. A predetermined high DC voltage is applied.
このように、X線源は、直流高電圧を印加する必要がある電極を複数備え、その電圧値は複雑であり、電圧値の安定性が電子ビームに強度、集束性能に大きく影響するため、X線の発生源口径(焦点サイズ)や強度に大きな影響を与える。このため、各電極の電源を計算機やシーケンサによってフィードバック制御をさせる必要がある。 As described above, the X-ray source includes a plurality of electrodes that need to be applied with a DC high voltage, the voltage value is complicated, and the stability of the voltage value greatly affects the intensity and focusing performance of the electron beam. This greatly affects the source diameter (focus size) and intensity of X-rays. For this reason, it is necessary to feedback-control the power supply of each electrode by a computer or a sequencer.
しかし、各電極には直流高電圧が印加されるため、真空容器内に発生したガス等で、異常な放電が発生する場合があり、この異常な放電は制御用計算機やシーケンサを動作不良にさせている。各電極への電圧の印加が遮断されるため、急激に零電圧となる。 However, since a high DC voltage is applied to each electrode, abnormal discharge may occur due to gas generated in the vacuum vessel. This abnormal discharge causes the control computer or sequencer to malfunction. ing. Since the application of voltage to each electrode is cut off, the voltage suddenly becomes zero.
この電圧の印加の停止は、電子源(熱陰極)の加熱を急激に停止することになり、微小口径の電子源の表面に設置した液体ジルコニウムが急激に冷却され、固化時に収縮してひび割れや、脱落等が発生する恐れがある。なお、液体ジルコニウムは、1000℃以上での熱電子の発生効率を上げるために設置されている。正常な熱電子を発生させるためには、電子源の表面に均一にジルコニウムが存在する必要があり、電子源が急激に冷却されると、X線源はX線を正常に放射することが不可能になる。 This stop of the voltage application suddenly stops the heating of the electron source (hot cathode), and the liquid zirconium installed on the surface of the electron source with a small diameter is rapidly cooled and contracts at the time of solidification to cause cracks and There is a risk of dropping off. Liquid zirconium is installed to increase the generation efficiency of thermoelectrons at 1000 ° C. or higher. In order to generate normal thermionic electrons, zirconium must be uniformly present on the surface of the electron source. When the electron source is rapidly cooled, the X-ray source may not normally emit X-rays. It becomes possible.
この発明は以上の点に鑑みなされたもので、その目的は、X線源が正常なX線を放射することができるようにX線源に電源を与える電源ユニット及び上記電源ユニットを備えたX線装置を提供することにある。 The present invention has been made in view of the above points, and an object of the present invention is to provide a power supply unit that supplies power to the X-ray source so that the X-ray source can emit normal X-rays, and an X including the power supply unit. It is to provide a wire device.
一実施形態に係る電源ユニットは、
電子を放出する電子源と、前記電子源からの電子放出量を抑制する抑制電極と、前記抑制電極により抑制された電子を電子ビームとして引出す引出電極と、前記引出電極により引出された電子ビームを加速させる加速電極と、前記加速電極により加速された電子ビームを集束する電子光学系と、前記電子光学系により集束された電子ビームが入射されることでX線を放射する透過型のターゲットと、前記ターゲットが設けられ、前記ターゲットから放射されるX線を透過させるX線透過窓を有し、前記電子源、抑制電極、引出電極、加速電極及び電子光学系を収容した真空容器と、を備えたX線源に電源を与える電源ユニットにおいて、
前記電子源を加熱する第1電源と、
前記第1電源とは独立して前記電子源を加熱する第2電源と、を備えていることを特徴としている。
The power supply unit according to an embodiment is:
An electron source that emits electrons, a suppression electrode that suppresses the amount of electron emission from the electron source, an extraction electrode that extracts electrons suppressed by the suppression electrode as an electron beam, and an electron beam extracted by the extraction electrode An accelerating electrode that accelerates, an electron optical system that focuses an electron beam accelerated by the accelerating electrode, and a transmissive target that emits X-rays when the electron beam focused by the electron optical system is incident; A vacuum vessel provided with the target, having an X-ray transmission window that transmits X-rays emitted from the target, and containing the electron source, suppression electrode, extraction electrode, acceleration electrode, and electron optical system; In a power supply unit that supplies power to
A first power source for heating the electron source;
And a second power source that heats the electron source independently of the first power source.
また、一実施形態に係るX線装置は、
電子を放出する電子源と、前記電子源からの電子放出量を抑制する抑制電極と、前記抑制電極により抑制された電子を電子ビームとして引出す引出電極と、前記引出電極により引出された電子ビームを加速させる加速電極と、前記加速電極により加速された電子ビームを集束する電子光学系と、前記電子光学系により集束された電子ビームが入射されることでX線を放射する透過型のターゲットと、前記ターゲットが設けられ、前記ターゲットから放射されるX線を透過させるX線透過窓を有し、前記電子源、抑制電極、引出電極、加速電極及び電子光学系を収容した真空容器と、を備えたX線源と、
前記電子源を加熱する第1電源と、前記第1電源とは独立して前記電子源を加熱する第2電源と、を備え、前記X線源に電源を与える電源ユニットと、を備えていることを特徴としている。
An X-ray apparatus according to an embodiment
An electron source that emits electrons, a suppression electrode that suppresses the amount of electron emission from the electron source, an extraction electrode that extracts electrons suppressed by the suppression electrode as an electron beam, and an electron beam extracted by the extraction electrode An accelerating electrode that accelerates, an electron optical system that focuses an electron beam accelerated by the accelerating electrode, and a transmissive target that emits X-rays when the electron beam focused by the electron optical system is incident; A vacuum vessel provided with the target, having an X-ray transmission window that transmits X-rays emitted from the target, and containing the electron source, suppression electrode, extraction electrode, acceleration electrode, and electron optical system; X-ray source,
A first power source that heats the electron source; and a second power source that heats the electron source independently of the first power source; and a power supply unit that supplies power to the X-ray source. It is characterized by that.
以下、図面を参照しながら一実施形態に係るX線装置について詳細に説明する。
図1に示すように、X線装置は、軟X線装置である。X線装置は、X線源10及び電源ユニット50を備えている。
Hereinafter, an X-ray apparatus according to an embodiment will be described in detail with reference to the drawings.
As shown in FIG. 1, the X-ray apparatus is a soft X-ray apparatus. The X-ray apparatus includes an
X線源10は、形状が微小でかつX線透過率が相対的に大きい樹脂等の低エネルギX線(軟X線)で測定する必要がある物質測定用、例えばX線断層撮影装置としてのX線CT(Computed Tomography)装置を有する立体透視画像構成装置に用いることができる。
The
X線源10は、電子源(熱陰極)16と、抑制電極17と、引出電極21と、加速電極25と、電子光学系としてのガンレンズであるレンズ電極29と、アパーチャ電極30と、ターゲット13と、真空容器11と、を備えている。
The
電子源16は、導電材料でコーン状に形成され、電子源16の先端部は針状に形成されている。電子源16の表面には、液体ジルコニウムが設置されている。電子源16にはフィラメントが設置されている。電子源16には、電子源16を加熱するヒータ44、45が接続されている。ヒータ44、45には電源ユニット50(直流安定化電源)が接続されている。電子源16は、ヒータ44、45により加熱され、電源ユニット50により電圧が与えられることにより電子(熱電子)を放出する。
The
抑制電極17は、導電材料で桶状に形成され、電子源16の電子放出側の先端部が挿入された又は上記先端部から放出された電子が通過する貫通孔17hを有している。貫通孔17hは、抑制電極17の底壁を貫通して形成されている。貫通孔17hは円形である。抑制電極17には電子源16に対して負の電圧が与えられる。抑制電極17は、電子源16の先端部以外の周辺部分から放出される電子量を抑制する。
The suppression electrode 17 is formed in a bowl shape with a conductive material, and has a through
引出電極21は、抑制電極17に所定の間隔を置いて対向配置され、導電材料で形成されている。引出電極21は、板状、詳しくは円盤状に形成されている。引出電極21は、貫通孔17hに対向した貫通孔21hを有している。貫通孔21hは円形である。この実施形態において、引出電極21は、貫通孔21hの中心軸の延長線と貫通孔17hの中心軸の延長線とが一致するよう位置している。引出電極21には、正の電圧が与えられる。引出電極21は、抑制電極17により抑制された電子を電子ビーム15として引出す。
The
加速電極25は、引出電極21に対して抑制電極17の反対側に位置し、引出電極21に所定の間隔を置いて配置され、導電材料で形成されている。加速電極25は、円盤状に形成されている。加速電極25は、貫通孔21hに対向した貫通孔25hを有している。貫通孔25hは円形である。貫通孔25hの中心軸に沿った方向において、加速電極25は、貫通孔25hが貫通孔21hに重なるよう位置している。なお、加速電極25は、貫通孔25hの中心軸の延長線と貫通孔21hの中心軸の延長線とが一致するよう位置していた方が好ましい。加速電極25には、引出電極21よりもさらに大きい正の電圧が与えられる。加速電極25は、引出電極21により引出された電子ビーム15を加速させる。
The
レンズ電極29は、加速電極25に対して引出電極21の反対側に位置し、加速電極25に所定の間隔を置いて配置され、導電材料で形成されている。レンズ電極29は、加速電極25の貫通孔25hからターゲット13に向かう電子ビーム15の軌道を取り囲むように設けられている。レンズ電極29は、貫通孔25hに対向した貫通孔29hを有している。貫通孔29hは円形である。なお、レンズ電極29は、レンズ電極29の中心軸の延長線が貫通孔25hの中心軸の延長線と一致するよう位置している。レンズ電極29には、正の電圧が与えられる。レンズ電極29は、加速電極25により加速された電子ビーム15を集束する。
The
アパーチャ電極30は、レンズ電極29及びターゲット13間に位置している。アパーチャ電極30は、貫通孔29hに対向した貫通孔30hを有している。貫通孔29hは円形であり、その口径は1mm以下に設定されている。アパーチャ電極30は、レンズ電極29により集束された電子ビーム15の不要な成分を除去してターゲット13に電子ビーム15を入射させる。これにより、不要な電子ビームによるターゲット13の過熱を防止することができる。
The
ターゲット13は、アパーチャ電極30に対してレンズ電極29の反対側に位置し、レンズ電極29に所定の間隔を置いて配置されている。ターゲット13は、例えばタングステンで形成されている。ターゲット13は、電子ビーム15の入射によって発生したX線37を減衰させることなく、外部に放出させるために非常に薄く形成されている。この実施形態において、ターゲット13の形状は、円形である。ターゲット13は、後述するX線透過窓14に密着され、X線透過窓14と一体化されている。ターゲット13は、接地電位に設定されている。ターゲット13は、X線透過型のターゲットであり、貫通孔30hを通過した電子ビームが入射されることでX線透過窓14側にX線を放射するものである。
The target 13 is located on the opposite side of the
真空容器11は、X線透過窓14を有し、電子源16、抑制電極17、引出電極21、加速電極25、レンズ電極29、アパーチャ電極30、ターゲット13及びヒータ44、45を収容している。真空容器11の内部は、真空状態に保持されている。X線透過窓14は、導電性を有するX線37の減衰の小さい金属材料として、例えばベリリウムで形成されている。上記のように、X線透過窓14にターゲット13が設けられ、X線透過窓14は、ターゲット13から放射されるX線を透過させるものである。
上記のようにX線源10が形成されている。
The vacuum vessel 11 has an
The
電源ユニット50は、制御電源60と、制御部としての制御計算機70と、第1電源Ef1と、第2電源Ef2と、切替えモジュール90とを備えている。切替えモジュール90は、第1スイッチSW1及び第2スイッチSW2を有している。制御電源60は、駆動部としての計算機61と、電極電源ユニット62とを有している。電極電源ユニット62は、電源63、64、65、66を有している。
The
電源63は、第1スイッチSW1及び抑制電極17間に接続されている。電源64は、第1スイッチSW1及び引出電極21間に接続されている。電源65は、第1スイッチSW1及びレンズ電極29間に接続されている。電源66は、第1スイッチSW1並びに加速電極25、アパーチャ電極30及びX線透過窓14間に接続されている。加速電極25、アパーチャ電極30及びX線透過窓14は、接地電位に設定されている。
The
電源63は、抑制電極17に電圧Esup及び電流Isupを与える。電源64は、引出電極21に電圧Eext及び電流Iextを与える。電源65は、レンズ電極29に電圧Egl及び電流Iglを与える。電源66は、加速電極25、アパーチャ電極30及びX線透過窓14に電圧Eacc及び電流Iaccを与える。計算機61は、電極電源ユニット62の動作を制御する。すなわち、電源63乃至66は、計算機61によって制御され駆動される。
The
第1スイッチSW1において、一方はヒータ44に接続され、他方は第1電源Ef1又は第2電源Ef2に接続可能である。第2スイッチSW2において、一方はヒータ45に接続され、他方は第1電源Ef1又は第2電源Ef2に接続可能である。
In the first switch SW1, one is connected to the heater 44, and the other is connectable to the first power supply Ef1 or the second power supply Ef2. In the second switch SW2, one is connected to the
上記のように、切替えモジュール90は、第1電源Ef1及び第2電源Ef2、並びに電子源16間に接続され、第1電源Ef1及び第2電源Ef2、並びに電子源16間の接続状態を切替え、切替えた接続状態を保持可能である。
As described above, the switching
計算機61は、切替えモジュール90に接続され、電子源16に流れる電流(フィラメント電流)の情報を取得し、上記情報に基づいて切替えモジュール90の切替え動作を制御する。計算機61は、第1電源Ef1及び第2電源Ef2の一方を動作させる。第1電源Ef1は、ヒータ44、45とともに電子源16を加熱する。第2電源Ef2は、第1電源Ef1とは独立して電子源16を加熱する。
The computer 61 is connected to the
上記のように、電子源16、抑制電極17、引出電極21、加速電極25、レンズ電極29、アパーチャ電極30、ターゲット13及びX線透過窓14は、それぞれ独立した直流電源に接続され、フィードバック安定制御されている。電源63乃至66及び第2電源Ef2は、制御計算機70で入力された時間シーケンスパターンのデータにより、制御電源60内の計算機61で制御されている。第2電源Ef2は制御電源60で制御される直流電源であるが、第1電源Ef1は、制御計算機70で切替え可能な切替えモジュール90で接続された制御電源60で制御されない別の直流電源である。
As described above, the
次に、上記一実施形態に係るX線装置の作用を説明する。
抑制電極17により放出量を抑制されつつ電子源16から発生した電子は、引出電極21により電子ビーム15として引出されるとともに加速電極25により加速される。そして、この電子ビーム15が、レンズ電極29によって微小口径に集束されてアパーチャ電極30の貫通孔を通過しターゲット13に照射されると、ターゲット13からX線37が放射される。
Next, the operation of the X-ray apparatus according to the one embodiment will be described.
Electrons generated from the
X線37による透過撮影を行うとき、X線源10を小口径とした方が撮影分解能力が高いため、集束照射する電子ビーム15の口径を小さくすることが望まれて、レンズ電極29で集束している。
When transmission imaging with X-rays 37 is performed, the
このように、複数の電極が必要なX線源10の起動は、図2に示す様に時間的に最適な値で運転する必要があり、そのため、電源63乃至66及び第2電源Ef2は、計算機61を内蔵した制御電源60と操作員との情報交換を行う制御計算機70を用いて、高精度に制御する必要がある。
As described above, the activation of the
電子源16の制御であるが、図3に示すように、室温から、所定の温度まで、定めた電流変化でフィラメント電流Ifを制御し、所定の電流値で安定制御させる必要がある。また、停止時は図4に示すように、フィラメント電流Ifを運転状態の電流値から低下させ、所定の期間で電子源16の温度を低下させる必要がある。このように、各電極の電流値、電圧値は計算機61等で制御させる必要がある。
As shown in FIG. 3, it is necessary to control the filament current If with a predetermined current change from room temperature to a predetermined temperature, and to stably control the
しかし、フィラメント電流Ifを定格に制御した後、引出電極21、加速電極25及びレンズ電極29に高電圧を印加して電子ビーム15を発生させる操作を行うが、電子ビーム15の発生により、電極等の構造物から水素や酸素等のガスが発生して、高圧印加した電極間で大電流の放電(過電流)が発生する場合がある。この過電流は制御電源60内の計算機61を停止させる。このため、抑制電極17、引出電極21、加速電極25、レンズ電極29、アパーチャ電極30、X線透過窓14及び第2電源Ef2への電圧及び電流の供給が停止する。この停止によって、電子源16の温度も急激に低下する。
However, after the filament current If is controlled to the rated value, an operation is performed in which a high voltage is applied to the
そこで、X線源10の運転開始や運転停止以外、一定値で制御されるフィラメント電流Ifは制御電源60内の計算機61で制御しない第1電源Ef1から与えられ、フィラメント電流Ifが一定制御になった場合は、切替えモジュール90で第1電源Ef1及び第2電源Ef2を切替える。すなわち、第1スイッチSW1及び第2スイッチSW2は、第2電源Ef2に接続された状態から第1電源Ef1に接続された状態に切替えられる。
Therefore, the filament current If controlled at a constant value other than the start or stop of the operation of the
このように、制御電源60内の計算機61で制御しない第1電源Ef1で電子源16を動作させた後に、各電極に直流高電圧を印加するようにする。上記のことから、過電流の発生時も電子源16の急激な温度低下を防止することができる。そして、過電流の発生によって制御電源60内の計算機61が停止しても、電子源16の温度を一定に維持可能となる。
Thus, after operating the
以上のように構成された一実施形態に係るX線装置によれば、X線装置は、X線源10と、X線源10に電源を与える電源ユニット50とを備えている。電源ユニット50は、電子源16を加熱する第1電源Ef1と、第1電源Ef1とは独立して電子源16を加熱する第2電源Ef2と、を備えている。X線源10の運転開始期間や運転停止期間では、フィラメント電流Ifを第2電源Ef2が電子源16に与える。X線源10の運転開始期間や運転停止期間以外では、一定値で制御されるフィラメント電流Ifを第1電源Ef1が電子源16に与える。
According to the X-ray apparatus according to the embodiment configured as described above, the X-ray apparatus includes the
このため、X線源10の電極間に大電流の放電(過電流)が発生し、計算機61が停止しても、電子源16には、第1電源Ef1からフィラメント電流Ifが与えられる。これにより、電子源16の急激な温度低下を防止することができる。
上記のことから、X線源10が正常なX線37を放射することができるようにX線源10に電源を与える電源ユニット50及び電源ユニット50を備えたX線装置を得ることができる。
Therefore, even if a large current discharge (overcurrent) occurs between the electrodes of the
From the above, it is possible to obtain a
なお、この発明は上記実施の形態そのままに限定されるものではなく、実施段階ではその要旨を逸脱しない範囲で構成要素を変形して具体化可能である。また、上記実施の形態に開示されている複数の構成要素の適宜な組み合わせにより、種々の発明を形成できる。例えば、実施形態に示される全構成要素から幾つかの構成要素を削除してもよい。 Note that the present invention is not limited to the above-described embodiment as it is, and can be embodied by modifying the components without departing from the scope of the invention in the implementation stage. Various inventions can be formed by appropriately combining a plurality of constituent elements disclosed in the embodiments. For example, some components may be deleted from all the components shown in the embodiment.
例えば、電源ユニット50は、2個の制御電源を備えていてもよい。例えば、電源ユニット50は、第1電源Ef1及び第2電源Ef2の一方を動作させる第1制御電源と、第1電源Ef1及び第2電源Ef2の他方を動作させる第2制御電源と、を備えていてもよい。
For example, the
X線源10や電源ユニット50の構成は、上記実施形態に限定されるものではなく、種々変形可能である。
この発明は、上記電源ユニット50及びX線装置に限らず、各種電源ユニット50及び各種X線装置に適用可能である。
The configurations of the
The present invention is not limited to the
10…X線源、11…真空容器、13…ターゲット、13…レンズ電極、14…X線透過窓、16…電子源、17…抑制電極、21…引出電極、25…加速電極、29…レンズ電極、30…アパーチャ電極、44,45…ヒータ、50…電源ユニット、60…制御電源、61…計算機、62…電極電源ユニット、63,64,65,66…電源、70…制御計算機、90…切替えモジュール、Ef1…第1電源、Ef2…第2電源、SW1…第1スイッチ、SW2…第2スイッチ、If…フィラメント電流。
DESCRIPTION OF
Claims (7)
前記電子源を加熱する第1電源と、
前記第1電源とは独立して前記電子源を加熱する第2電源と、を備えていることを特徴とする電源ユニット。 An electron source that emits electrons, a suppression electrode that suppresses the amount of electron emission from the electron source, an extraction electrode that extracts electrons suppressed by the suppression electrode as an electron beam, and an electron beam extracted by the extraction electrode An accelerating electrode that accelerates, an electron optical system that focuses an electron beam accelerated by the accelerating electrode, and a transmissive target that emits X-rays when the electron beam focused by the electron optical system is incident; A vacuum vessel provided with the target, having an X-ray transmission window that transmits X-rays emitted from the target, and containing the electron source, suppression electrode, extraction electrode, acceleration electrode, and electron optical system; In the power supply unit that supplies power to the X-ray source
A first power source for heating the electron source;
And a second power source for heating the electron source independently of the first power source.
前記駆動部は、前記電極電源ユニットの動作を制御することを特徴とする請求項3又は4に記載の電源ユニット。 The control power supply further comprises an electrode power supply unit connected to the suppression electrode, extraction electrode, acceleration electrode, and electron optical system,
The power supply unit according to claim 3 or 4, wherein the driving unit controls the operation of the electrode power supply unit.
前記第1電源及び第2電源の他方を動作させる第2制御電源と、をさらに備えていることを特徴とする請求項1に記載の電源ユニット。 A first control power source for operating one of the first power source and the second power source;
The power supply unit according to claim 1, further comprising a second control power supply that operates the other of the first power supply and the second power supply.
前記電子源を加熱する第1電源と、前記第1電源とは独立して前記電子源を加熱する第2電源と、を備え、前記X線源に電源を与える電源ユニットと、を備えていることを特徴とするX線装置。 An electron source that emits electrons, a suppression electrode that suppresses the amount of electron emission from the electron source, an extraction electrode that extracts electrons suppressed by the suppression electrode as an electron beam, and an electron beam extracted by the extraction electrode An accelerating electrode that accelerates, an electron optical system that focuses an electron beam accelerated by the accelerating electrode, and a transmissive target that emits X-rays when the electron beam focused by the electron optical system is incident; A vacuum vessel provided with the target, having an X-ray transmission window that transmits X-rays emitted from the target, and containing the electron source, suppression electrode, extraction electrode, acceleration electrode, and electron optical system; X-ray source,
A first power source that heats the electron source; and a second power source that heats the electron source independently of the first power source; and a power supply unit that supplies power to the X-ray source. An X-ray apparatus characterized by that.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2010258953A JP2012109186A (en) | 2010-11-19 | 2010-11-19 | Power supply unit and x-ray device |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2010258953A JP2012109186A (en) | 2010-11-19 | 2010-11-19 | Power supply unit and x-ray device |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2012109186A true JP2012109186A (en) | 2012-06-07 |
Family
ID=46494566
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2010258953A Withdrawn JP2012109186A (en) | 2010-11-19 | 2010-11-19 | Power supply unit and x-ray device |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2012109186A (en) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2014130732A (en) * | 2012-12-28 | 2014-07-10 | Canon Inc | Radiation generating unit and radiation photographing system |
EP3734637A4 (en) * | 2018-01-31 | 2021-10-13 | Nano-X Imaging Ltd | Cold cathode x-ray tube and control method therefor |
-
2010
- 2010-11-19 JP JP2010258953A patent/JP2012109186A/en not_active Withdrawn
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2014130732A (en) * | 2012-12-28 | 2014-07-10 | Canon Inc | Radiation generating unit and radiation photographing system |
EP3734637A4 (en) * | 2018-01-31 | 2021-10-13 | Nano-X Imaging Ltd | Cold cathode x-ray tube and control method therefor |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US9142382B2 (en) | X-ray source with an immersion lens | |
US9208987B2 (en) | Radioactive ray generating apparatus and radioactive ray imaging system | |
JP5525104B2 (en) | Electron gun and electron beam device | |
WO2013168468A1 (en) | X-ray generation device and x-ray generation method | |
JP2007265981A (en) | Multi x-ray generator | |
WO2011145645A1 (en) | Electron microscope | |
US9431206B2 (en) | X-ray generation tube, X-ray generation device including the X-ray generation tube, and X-ray imaging system | |
JP2010186694A (en) | X-ray source, x-ray generation method, and method for manufacturing x-ray source | |
US10614994B2 (en) | Electron microscope | |
JP2012109186A (en) | Power supply unit and x-ray device | |
JP7161052B2 (en) | Electron beam device | |
JP6695011B1 (en) | X-ray generator and X-ray imaging system | |
JP2019003863A (en) | Electron beam apparatus, x-ray generating apparatus including the same, and scanning electron microscope | |
WO2008062666A1 (en) | Electron beam irradiation device | |
JP6002989B2 (en) | Electron gun | |
JP2011216303A (en) | X-ray source and method for manufacturing x-ray source | |
JP2003115398A (en) | X-ray equipment | |
KR20180046959A (en) | Electron generating device having heating means | |
JP2013004246A (en) | X-ray source | |
Choi et al. | Development of new X-ray source based on carbon nanotube field emission and application to the non destructive imaging technology | |
US20190189384A1 (en) | Bipolar grid for controlling an electron beam in an x-ray tube | |
JP2013093161A (en) | X-ray apparatus | |
JP5709922B2 (en) | Electron gun and electron beam device | |
JP2005190757A (en) | X-ray generator | |
JP2012033505A (en) | Multi-x-ray generator |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
RD02 | Notification of acceptance of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7422 Effective date: 20130826 |
|
A300 | Withdrawal of application because of no request for examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A300 Effective date: 20140204 |
|
RD07 | Notification of extinguishment of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7427 Effective date: 20140319 |