JP2012109027A - 電子線ディスプレイ - Google Patents
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- 238000010894 electron beam technology Methods 0.000 title claims abstract description 94
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 claims abstract description 238
- 238000002834 transmittance Methods 0.000 claims description 82
- 230000001629 suppression Effects 0.000 claims description 72
- 230000008859 change Effects 0.000 claims description 36
- 238000009826 distribution Methods 0.000 claims description 29
- OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N Phosphorus Chemical compound [P] OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 19
- 238000009434 installation Methods 0.000 claims description 2
- 239000007921 spray Substances 0.000 claims 2
- 238000000034 method Methods 0.000 description 34
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 12
- 230000014509 gene expression Effects 0.000 description 12
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 11
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 10
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 10
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 9
- 230000008569 process Effects 0.000 description 9
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 7
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 6
- 230000035699 permeability Effects 0.000 description 6
- 239000000463 material Substances 0.000 description 5
- 230000001133 acceleration Effects 0.000 description 4
- 239000003086 colorant Substances 0.000 description 4
- 239000010408 film Substances 0.000 description 4
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 4
- 238000007650 screen-printing Methods 0.000 description 4
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000006229 carbon black Substances 0.000 description 3
- 230000003247 decreasing effect Effects 0.000 description 3
- 239000006185 dispersion Substances 0.000 description 3
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 3
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 3
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 description 3
- 238000000206 photolithography Methods 0.000 description 3
- 230000002265 prevention Effects 0.000 description 3
- 238000007639 printing Methods 0.000 description 3
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 3
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 3
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000008602 contraction Effects 0.000 description 2
- 230000001276 controlling effect Effects 0.000 description 2
- 238000010304 firing Methods 0.000 description 2
- 239000011159 matrix material Substances 0.000 description 2
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 2
- 238000002844 melting Methods 0.000 description 2
- 230000008018 melting Effects 0.000 description 2
- 239000000049 pigment Substances 0.000 description 2
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 2
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 2
- 239000005361 soda-lime glass Substances 0.000 description 2
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 2
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000009471 action Effects 0.000 description 1
- 239000002041 carbon nanotube Substances 0.000 description 1
- 229910021393 carbon nanotube Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 1
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 1
- 239000002772 conduction electron Substances 0.000 description 1
- 238000012790 confirmation Methods 0.000 description 1
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000001514 detection method Methods 0.000 description 1
- 238000011161 development Methods 0.000 description 1
- 230000004069 differentiation Effects 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 230000005684 electric field Effects 0.000 description 1
- 230000005284 excitation Effects 0.000 description 1
- 239000005357 flat glass Substances 0.000 description 1
- 238000003384 imaging method Methods 0.000 description 1
- 230000001771 impaired effect Effects 0.000 description 1
- 230000006872 improvement Effects 0.000 description 1
- 239000004615 ingredient Substances 0.000 description 1
- 239000011229 interlayer Substances 0.000 description 1
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 description 1
- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 description 1
- 238000004020 luminiscence type Methods 0.000 description 1
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 1
- 238000001579 optical reflectometry Methods 0.000 description 1
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 1
- 239000003504 photosensitizing agent Substances 0.000 description 1
- 230000001105 regulatory effect Effects 0.000 description 1
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000012546 transfer Methods 0.000 description 1
- 238000001771 vacuum deposition Methods 0.000 description 1
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 description 1
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- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J29/00—Details of cathode-ray tubes or of electron-beam tubes of the types covered by group H01J31/00
- H01J29/02—Electrodes; Screens; Mounting, supporting, spacing or insulating thereof
- H01J29/10—Screens on or from which an image or pattern is formed, picked up, converted or stored
- H01J29/18—Luminescent screens
- H01J29/187—Luminescent screens screens with more than one luminescent material (as mixtures for the treatment of the screens)
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- H01J29/00—Details of cathode-ray tubes or of electron-beam tubes of the types covered by group H01J31/00
- H01J29/02—Electrodes; Screens; Mounting, supporting, spacing or insulating thereof
- H01J29/10—Screens on or from which an image or pattern is formed, picked up, converted or stored
- H01J29/18—Luminescent screens
- H01J29/34—Luminescent screens provided with permanent marks or references
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- H01J31/00—Cathode ray tubes; Electron beam tubes
- H01J31/08—Cathode ray tubes; Electron beam tubes having a screen on or from which an image or pattern is formed, picked up, converted, or stored
- H01J31/10—Image or pattern display tubes, i.e. having electrical input and optical output; Flying-spot tubes for scanning purposes
- H01J31/12—Image or pattern display tubes, i.e. having electrical input and optical output; Flying-spot tubes for scanning purposes with luminescent screen
- H01J31/123—Flat display tubes
- H01J31/125—Flat display tubes provided with control means permitting the electron beam to reach selected parts of the screen, e.g. digital selection
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Abstract
【課題】電子放出素子10が、対応する画素7の電子線5の照射面における電流密度が不均一な電子線5を照射する電子線ディスプレイにおける輝度むらを、画面の明るさを維持したまま改善できるようにする。
【解決手段】前記電子放出素子10から前記対応する画素7へ電子線5を照射した時に電流密度が最も高くなるべき前記電子線5の照射面の位置に対応して、光を取り出すために各画素7毎に設けられた透光性の開口部8を覆って、該開口部8の面積の10%から28%の面積で光透過抑制部12を設ける。
【選択図】図1
【解決手段】前記電子放出素子10から前記対応する画素7へ電子線5を照射した時に電流密度が最も高くなるべき前記電子線5の照射面の位置に対応して、光を取り出すために各画素7毎に設けられた透光性の開口部8を覆って、該開口部8の面積の10%から28%の面積で光透過抑制部12を設ける。
【選択図】図1
Description
本発明は、電子線ディスプレイ、特に発光部を有するフェースプレートの構成に関する。
従来、特許文献1に示されるように、カラーフィルターの印刷において、印刷版の開口サイズと、印刷回数を制御することにより、画素全体に分布するカラーフィルターの厚みの分布を制御する方法が知られている。
また、特許文献2に示されるように、画素の内部に遮蔽領域を設けることでブラックマトリックスの占有率を高め、コントラストを向上させる技術も知られている。
ところで、電子線ディスプレイの場合、通常、画素へ照射される電子線の電流密度が均一ではなく、しかも電子線の照射位置にずれを生じやすいことに起因する輝度むらを生じる問題がある。
特許文献1に示されるようなカラーフィルターの分布制御は、液晶ディスプレイのように、発光が画素内で均一になるものに対し、画素内輝度を均一化するには有効である。
しかしながら、電子線ディスプレイの場合、通常、画素へ照射される電子線の電流密度が均一ではなく、しかもその照射位置にずれを生じることが輝度むらの原因となっている。このため、特許文献1の技術を応用して、仮に画素全体に分布する蛍光体の厚み分布を制御したとしても、輝度むらを大きく改善することができない。
また、特許文献2は、コントラストの向上に関するもので、輝度むら防止に関するものではなく、これをそのまま輝度むら防止に転用することができるものではない。また、特許文献2では、蛍光体の発光により生じた光を取り出すための開口部の30%以上の大きさの遮蔽領域を設けており、画面が暗くなってしまうという問題もある。
本発明は、上記従来の問題点に鑑みてなされたもので、電子線ディスプレイにおける輝度むらを、画面の明るさを維持したまま改善できるようにすることを目的とする。
上記目的のために、本発明は、それぞれ電子線の照射により発光する蛍光体を有する複数の画素及び前記蛍光体の発光による光を取り出すために各画素毎に設けられた透光性の開口部を有するフェースプレートと、前記各画素に対応して設けられ、それぞれ対応する画素に電子線を照射する複数の電子放出素子を有するリアプレートとを備え、しかも前記電子放出素子が、前記対応する画素の電子線の照射面における電流密度が不均一な電子線を照射する電子線ディスプレイにおいて、
前記電子放出素子から前記対応する画素へ電子線を照射した時に電流密度が最も高くなるべき前記電子線の照射面の位置に対応する前記開口部の位置を覆って、前記開口部の面積の10%から28%の面積で光透過抑制部が設けられていることを特徴とする電子線ディスプレイを提供するものである。
前記電子放出素子から前記対応する画素へ電子線を照射した時に電流密度が最も高くなるべき前記電子線の照射面の位置に対応する前記開口部の位置を覆って、前記開口部の面積の10%から28%の面積で光透過抑制部が設けられていることを特徴とする電子線ディスプレイを提供するものである。
本発明によれば、電子線の照射位置がずれた時に最も輝度変化に影響を与える、電子線の電流密度が最も高い領域を中心にした領域に光透過抑制部がもうけられる。そして、これによって、電流密度に分布を有する電子線の照射位置が多少ずれても、大きな輝度むらを生じることが防止される。また、本発明における光透過抑制部は、開口部の面積の10%から28%の面積であることから、各画素の輝度を大きく損なうことが無く、明るい画面を維持することができる。
本発明の電子線ディスプレイは、複数の画素を有し、各画素に電子源を設けた電界放出型電子線ディスプレイ(FED)、表面伝導型電子放出ディスプレイ(SED)、陰極線ディスプレイ(CRT)などを包含している。特に、FEDや、SEDは、電子ビームを所望の箇所に照射する(電子ビームを収束する)ことが容易であるという点から、本発明を適用するのに好ましい形態である。なお、FEDに用いられている電子放出源としては、スピント型、MIM型、カーボンナノチューブ型、弾道電子面放出(BSD)型などが挙げられる。
本発明の実施の形態について、一般的な電子源を用いて作成された電子線ディスプレイを例に挙げて説明する。
図1(a)は、本発明に係る電子線ディスプレイのフェースプレート1が発光している様子を表す模式的な平面図である。また、図1(b)は本発明に係る電子線ディスプレイにおけるフェースプレート1の断面で、電子ビーム5軌道をも示している。図1において、1はフェースプレート、2は蛍光体、3は黒色部材、4はメタルバック、5は電子ビーム、6は主発光領域、7は画素、8は開口部、9はリアプレート、10は電子放出素子、11はY方向画素ピッチ、12は光透過抑制部、14は基板である。
なお、図中、フェースプレート1の平面において、画素7の短辺方向(順次色が入れ替わって並ぶ方向)をX方向,画素7の長辺方向(同一色が並ぶ方向)をY方向としたXY座標をフェースプレート面内に設ける。また、電子放出素子10が設けられたリアプレート9とのギャップ方向(フェースプレート1とリアプレート9の対向方向)をZ方向とする。
基板14には、電子ビーム5(電子線)5が照射されることで発光する蛍光体2と、黒色部材3と、メタルバック4が設けられている。基板14の材料としては、蛍光体2の発光を透過して観察するため、透明の絶縁性基板が好適に用いられ、ソーダライムガラスなどの板ガラスが好適に用いられている。その他に、PDP(Plasma Display Panel)の分野で用いられる高ひずみ点ガラスなども好適に用いられる。
蛍光体2は、電子ビーム5の照射により発光して画像を形成する材料であり、複数の蛍光体2が開口部8を覆う形で敷き詰められている。開口部8は、蛍光体2の発光による光を取り出すために各画素7毎に設けられた透光性の窓部分である。蛍光体2としては、CRTで用いられるP22蛍光体2をはじめとする電子線励起で発光する粉状の蛍光体2が好適に用いられる。また、材料としては同様のものではあるが、基板14に直接成膜をおこなって作成する薄膜蛍光体2も好適に用いられる。また、蛍光体2はスクリーン印刷法、フォトリソグラフィー法、インクジェット法、蒸着法などで形成される。
黒色部材3はブラックマトリックス、ブラックストライプなどとも呼ばれ、発光色の混色を防いだり、外光を吸収し、明所コントラストを上げたりする目的で用いられる。黒色部材3には、複数の開口部8が形成されている。黒色部材3としては、カーボンブラック、黒色顔料および低融点がガラスフリットを含有したペースト、CoおよびMn系の薄膜が用いられる。また、黒色部材3は、スクリーン印刷法、スパッタリング法、フォトリソグラフィー法などで形成される。
混色を防止するためには、黒色部材3の占有率を大きくする、すなわち開口率を小さくすることが必要である。ただし、単に開口率を小さくすると、画素7毎のビームの位置のばらつきに由来する発光位置のばらつきがあるため、黒色部材3によるビーム欠けが生じ、画素7毎の輝度が異なってくる。
メタルバック4は、リアプレート9からの電子を加速するための加速電圧を印加するために設けられている。更に、蛍光体2からの発光のうち、リアプレート9の方向に出た光を基板14側に反射させるために設けられている。メタルバック4は、加速された電子ビーム5のエネルギー損失を極力小さくしつつ、光の反射率を向上する必要があるため、薄膜状の金属が好適に用いられる。メタルバック4としては、アルミニウムが特に好適に用いられる。また、メタルバック4としては、CRTで公知のフィルミング法、転写法などを用いて形成される。
本発明の特徴である光透過抑制部12は、任意の画素7間の輝度ばらつきを低減させる目的で用いられる。光透過抑制部12は、開口部内に形成されている。光透過抑制部12は、黒色部材3と同様、カーボンブラック、黒色顔料および低融点がガラスフリットを含有したペースト、CoおよびMn系の薄膜等が用いられる。また、光透過抑制部12は、スクリーン印刷法、スパッタリング法、フォトリソグラフィー法、インクジェット法などで形成される。光透過抑制部12は、黒色部材3と同時プロセスで作成する場合もある。特に、光透過抑制部12を透過率がない領域として設定する場合、その光の透過率をおよそ5%以下となるように、厚みや、組成の工夫を行う。
フェースプレート1と対向して配置されたリアプレート9上には電子放出素子(電子源)10が設けられている。
ここで図2を用いて、発光プロファイル13について説明する。
電子放出素子10から放出された、電流密度が不均一な電子ビーム5は、図1(b)のようにリアプレート9より飛翔し、フェースプレート1上の蛍光体2に照射され、図2(a)に示すように、電子ビーム5の電流密度分布に対応した発光分布が発生する。これを発光プロファイル13とする。電子線ディスプレイにおいて、電子ビーム5の電流密度分布は、一般的にガウシアン分布に近い形状となる。図2(b)に示すように、発光プロファイル13のうち一番発光が大きい位置を発光ピーク17と呼ぶ。また、主発光領域6とは発光プロファイル13の発光ピーク17の強度を1に規格化した場合の、発光プロファイル13の強度が1/2となる等高線で囲まれた領域を示す。一般的に、発光プロファイル13は、図2(a),(b)に示すように、主発光領域6の外側になだらかな強度変化の裾を有している。
後述するように発光プロファイル13が分かれば、それに応じて、最適な光透過抑制部12を決定できる。そのため、発光プロファイル13の形状を取得する必要がある。一般的には、基板14側からCCDカメラ等で計測することで発光プロファイル13を取得出来る。但し、発光プロファイル13が基板14側から観察しにくい場合がある。その際には、次に示すような手法で発光プロファイル13を取得することができる。
手法(1)
開口部8が大きい、もしくは黒色部材3乃至光透過抑制部12がないフェースプレート1を用いて発光プロファイル13を測定する。具体的な測定には二次元輝度計とマクロレンズの併用により、XYステージで移動させながら発光プロファイル13を撮像する。撮像ピッチは、発光プロファイル13の概形が判別可能な程度の分解能が必要で主発光領域6の1/5程度以下のサイズでの分解能を要する。撮像した輝度値を各ドットの発光量とする。加速電圧などを可変して発光プロファイル13を特定することができる。
開口部8が大きい、もしくは黒色部材3乃至光透過抑制部12がないフェースプレート1を用いて発光プロファイル13を測定する。具体的な測定には二次元輝度計とマクロレンズの併用により、XYステージで移動させながら発光プロファイル13を撮像する。撮像ピッチは、発光プロファイル13の概形が判別可能な程度の分解能が必要で主発光領域6の1/5程度以下のサイズでの分解能を要する。撮像した輝度値を各ドットの発光量とする。加速電圧などを可変して発光プロファイル13を特定することができる。
手法(2)
電子放出素子10の形状、リアプレート9の形状、加速電圧などから電界計算、電子軌道計算を用いて、電子ビーム5の予測プロファイルを導出する。次に、蛍光体飽和特性を考慮し、発光プロファイル13を算出する。そして、各、電子放出素子10、リアプレート9の形状のばらつきから、電子ビーム5の位置ばらつきを見積り、発光プロファイル13の位置ばらつきを算出する。
電子放出素子10の形状、リアプレート9の形状、加速電圧などから電界計算、電子軌道計算を用いて、電子ビーム5の予測プロファイルを導出する。次に、蛍光体飽和特性を考慮し、発光プロファイル13を算出する。そして、各、電子放出素子10、リアプレート9の形状のばらつきから、電子ビーム5の位置ばらつきを見積り、発光プロファイル13の位置ばらつきを算出する。
電子ビーム5による発光プロファイル13の位置は、電子放出素子10の作成プロセスのばらつきや、フェースプレート1やリアプレート9のプロセス上の伸縮ばらつきの影響等を受けて、ある範囲でばらつきを持つ。この発光位置ばらつきについて図3を用いて説明する。図3(a)は発光ピーク17が理想的な位置に来た場合の発光プロファイル13と開口部8の位置関係を示す図である。図3(b)はその際の発光プロファイル13の断面図である。図3(c)は別のある画素7で理想的な位置から発光位置ばらつき16だけずれた場合の発光プロファイル13の断面図である。図3(d)は発光位置が最もずれた場合の発光プロファイル13の断面図である。図3はいずれもX方向を例にとって説明してある。発光位置ばらつき16は、発光ピーク17を基準に求める。発光位置の最大ばらつき29は、図3(d)のように最も発光位置がずれたときの発光位置ばらつき16とする。また、発光位置の最大ばらつき29は、ばらつきの標準偏差を取り2σや、3σなどとする場合もある。
この発光ピーク17の位置は発光強度を最大にする目的で、一般的に開口部8の中央になるように設計される。但し、発光プロファイル13が左右非対称である場合は、開口部8の中央から、XY方向に一定量ずれた位置が最適となる場合もある。この発光位置ばらつき16の量は、混色を防止する観点から、Y方向画素ピッチ11及びX方向画素ピッチ21(図1参照)に対して十分小さく、前述の主発光領域6が開口部8の中に収まることが望ましい。およその目安として、発光位置の最大ばらつき29の量は主発光領域6の大きさの3割以下であることが望ましい。発光位置ばらつき16により、発光プロファイル13の裾の部分の遮光量が画素7によって異なるため、画素7毎の輝度差、つまり輝度ばらつきが発生する。一般に、輝度ばらつきの許容限界は輝度差2%程度とされ、検知限界は1%程度であることが知られている。本発明はこの発光位置ばらつき16によって発生する輝度ばらつきを低減し、許容限界以下にする方法を提示する。
積分した発光プロファイル15について図4を用いて説明する。まず、図4(a)のように開口部8や、光透過抑制部12がない場合の発光プロファイル13において、X=xの直線に沿った発光プロファイル13の変化曲線を取り出す〔図4(b)〕。この変化曲線を積分することで、発光プロファイル13のY方向断面の積分値19が、X座標ごとに決まる〔図4(c)〕。これが、Y方向に積分した発光プロファイル15となる。以下の説明では、Y方向に積分した発光プロファイル15をX座標の関数を用いて、LY(x)と表す。また、LY′(x)はX=xにおける傾きを示す。すなわち、LY(x)のxでの微分値を示す。また、LY′′(x)は曲率を示す。すなわちLY′(x)のxでの微分値を示す。
前記のように、電子ビーム5による発光プロファイル13の位置は、電子放出素子10の作成プロセスのばらつきや、フェースプレート1やリアプレート9のプロセス上の伸縮ばらつきの影響等を受けて、ある範囲でばらつきを持つ。例えば、フェースプレート1とリアプレート9の熱履歴が同じ場合、中央の画素7において電流密度の最も高い箇所が画素7の中央に来るように設計すれば、周辺部の画素7においても、電流密度の最も高い箇所が画素7の中央に来やすい。しかし、リアプレート9の熱履歴に対してフェースプレート1の熱履歴が大きい場合、仮に両者の大きさが同じだとすると、リアプレート9よりフェースプレート1が小さくなってしまうことが生じる。このため、パネルの中央部の画素7において、電子ビーム5の電流密度が最も高い箇所が画素7の中央に来るように設計しても、パネルの周辺部の画素7では、電子ビーム5の電流密度が最も高い照射位置が画素7の端部へ片寄ることになる。
上記のような位置ずれは、上記熱履歴による場合、パネルの中央部で位置合わせをした場合、パネルの中央部から周辺部へ行くに従って大きくなる。つまり、原因にもよるが、ずれはランダムに生じるのではなく、通常一定の領域ごとの特性を持って生じることが多い。このため、本発明による光透過抑制部12の形成は次のようにして行うことが好ましい。すなわち、電子放出素子10を、リアプレート9への設置位置に応じて複数のグループに分け、電子放出素子が属するグループ毎に、対応する画素へ電子線を照射した時に電流密度が最も高くなるべき電子線の照射面の位置を定めて行うことが好ましい。
次に、光透過抑制部12の第一の実施形態について図13を用いて説明する。図13中、図1、図4、図5と同じ符号のものは説明を省略する。25は積分した発光プロファイル15のうち、X方向の発光位置の最大ばらつき29により開口部8の外へ出る発光、26は開口部8の内側へ入る発光を示す。27はX方向の発光位置の最大ばらつき29により光透過抑制部12から出る発光、28は光透過抑制部12に入る発光を示す。図13(a)は光透過抑制部12をもつフェースプレート1の光透過抑制部12と、黒色部材3の断面図である。図13(b)はY方向に積分した発光プロファイル15の発光ピーク17が、開口部8の中心に来た場合を示した図である。図13(c)はX方向の発光位置の最大ばらつき29だけ、Y方向に積分した発光プロファイル15が右にシフトした場合の図である。
まず、光透過抑制部12が無い場合を考える。右方向にX方向の発光位置の最大ばらつき29に対応した積分した発光プロファイル15のずれがあると、図13(c)のように、発光ピーク17も右にずれる。これにより開口部8の外へ出る発光25と、開口部8の内へ入る発光26が発生する。この差分が開口部8内の発光の変化量となる。発光プロファイル13が発光量最大の位置からずれる場合は、この発光の変化量は常に減少する。
これに対し、光透過抑制部12がある場合には、光透過抑制部12から出る発光27と光透過抑制部12に入る発光28が発生する。この差分は、発光プロファイル13が発光量最大の位置からずれる場合は、開口内の発光の変化量を常に増加させる。つまり、開口部8で遮られる発光と光透過抑制部12で遮られる発光量を相殺させることができ、輝度ばらつきを抑えられる。
光透過抑制部12は、開口部8の面積の10%から28%の面積であることが必要である。光透過抑制部12の面積が開口部8の面積の10%未満では輝度のバラツキ抑制が不十分になり、28%を超えると画面が暗くなる。
また、光透過抑制部12の位置は、以下の関係を満たすことが好ましい。まず、光透過抑制部12が、全画素7の発光ピーク17の平均位置を覆う必要がある。発光ピーク17と光透過抑制部12の位置関係の模式図を図14に示す。図14(a)は発光ピーク17を覆って光透過抑制部12がある場合、図14(b)は発光ピーク17を覆わずに、光透過抑制部12がある場合を示す。図中、図1及び図4、図5と同じ符号は説明を省略する。光透過抑制部12が発光ピーク17を覆っている場合、積分した発光プロファイル15が発光位置ばらつき16だけいずれの方向にずれても、光透過抑制部12から開口部8に入る発光総量は増加する。つまり、開口部8で遮られて減少する発光と相殺させることができる。
しかし、光透過抑制部12が発光ピーク17を覆っていない場合、発光位置ばらつき16だけX軸方向マイナス側にずれた場合は光透過抑制部12に遮られている発光は減少する。つまり、開口部8で遮られて減少する発光と相殺させることができない。光透過抑制部12は、発光ピーク17が発光位置の最大ばらつき29の範囲でずれた場合でも、常に発光ピーク17は光透過抑制部12で覆われている。
同様の理由で、開口部8の大きさは、発光位置の最大ばらつき29より大きいこと、1つの発光ピーク17に対して1つの光透過抑制部12が対応していることが必要である。これらを満たさないと、急激な輝度変化が生じ、輝度ばらつきが増加してしまう。光透過抑制部12の大きさは、画素内発光を大きく取り出す観点から発光位置ばらつき16の量の120〜200%程度のサイズが好ましい。ここで、画素内発光は、開口部8内の発光で、光透過抑制部12で遮られた分を除いた発光総量である。
次に第二の実施形態について説明を行う。ここでは、第一の実施形態に対して、より詳細に光透過抑制部12を規定している。本実施形態では、光透過抑制部12は透過率がない特性を有する。透過率がないとは、前述のように透過率5%以下であることを示す。図15は光透過抑制部12の第二の実施形態の説明図である。図15(a)は黒色部材3と光透過抑制部12のX方向の断面図である。図15(b)は発光プロファイル13をY方向に積分した発光プロファイル15である。図15(c)は発光位置の最大ばらつき29だけずれた場合のY方向に積分した発光プロファイル15を示す。図中の符号は、図13と同様なので説明を省略する。
以下に、発光量の変化を示す式を示す。式(1−a)は発光25、式(1−b)は発光26、式(1−c)は発光27、式(1−d)は発光28、式(1−e)はそれらの和である。開口部8の両端におけるX座標をa、dとし、光透過抑制部12の両端のX座標をb、cとし、d<c<b<aとする。また、全画素における発光プロファイルのX方向の最大ばらつきをΔx、前記光透過抑制部で遮られた部分を除く開口部8内の発光総量を画素内発光量とする。ここで、開口部8の端部とは、黒色部材3の開口部8の端において開口部8内の最大透過率の50%の透過率の位置を指す。また、光透過抑制部12の端部とは、光透過抑制部12の端において、開口部8内の最大透過率をT1,光透過抑制部の最低透過率をT2とすると、0.8×T1+0.2×T2の透過率の位置を指す。
光透過抑制部12がない場合は{LY(d)−LY(a)}Δxの発光の変化が生じる。この値は第一実施形態で説明したように、ゼロにすることができない。しかし、光透過抑制部12を設けると、{LY(b)−LY(c)}Δxが{LY(d)−LY(a)}Δxとは逆符号の発光変化を生じさせることができる。すなわちLY(a)+LY(c)とLY(b)+LY(d)がほぼ等しくすることができる。この際の“ほぼ等しい”とは、おおよそ、許容限界に近い値になっていることが望ましい。つまり、LY(a)+LY(c)とLY(b)+LY(d)との差の絶対値が、画素内発光量をΔxで割った値の0.02倍以下になっていることが好ましい。また、前述の0次近似が成り立つ為には、発光位置の最大ばらつき29のΔxが積分した発光プロファイル15の変化量に対して十分小さい場合にのみ適用され、およそ積分した発光プロファイル15の半値幅の2割以下の場合に適用される。
上記の関係がX方向だけでなくY方向にも成り立っている場合、X方向のばらつきに対してのみではなく、Y方向のばらつきに対しても、輝度ばらつきを低下させることができるので好適である。つまり、光透過抑制部12の透過率が5%以下とする。光透過抑制部12が無い状態での発光プロファイル13について、任意のY座標値をyとし、Y=yの直線に沿った前記発光プロファイル13の変化曲線の積分値をY座標の関数LX(y)で表す。開口部8の両端におけるY座標をe、hとし、光透過抑制部12の両端におけるY座標をf、gとし、全画素における発光プロファイル13のY方向の最大ばらつきをΔyとする。そして、h<g<f<eであるとき、LX(e)+LX(f)とLX(g)+LX(h)との差の絶対値が、画素内発光量を前記Δyで割った値の0.02倍以下になっていることが好ましい。
発光プロファイル13が発光ピーク17に対して左右の対称性が良い場合は、以下の関係となる。以下に示す式を用いて説明する。数2は、図13に記載の変化する発光量を定量的に示している。開口部8の端のX座標を±aとして、光透過抑制部12の端のX座標を±bとする。
X方向の開口部8内へ入る発光26は、式で表現すると、1次近似に相当する台形の面積計算より式(2−a)のように記述できる。LY(−x)=−LY(x)として、式変形を施すと式(2−b)、式(2−c)のような記述ができる。同様に、式(2−d)は、開口部8外へ出る発光25、式(2−e)は光透過抑制部12から出る発光27、式(2−f)は光透過抑制部12に入る発光28となる。これらの合計が変化量と成る為、Δxだけ右に動いた場合の発光の変化量(合計)は式(2−g)のように記載できる。これを、輝度ばらつきの許容限界以下である、画素内発光の2%以下とするためには、式(2−h)のように記載することができる。さらに、これを変形すると式(2−i)のようになる。
式(2−i)から分かるように、最適な光透過抑制部12の配置位置は、黒色部材3と光透過抑制部12のそれぞれの端部での積分した発光プロファイル15の傾きがほぼ同じになるように配置することが好ましい。
すなわち、前記開口部8の両端におけるX座標を±aとし、前記光透過抑制部12の両端におけるX座標を±bとすると、−a<−b<b<aとなる。そして、関数LY(x)におけるx=a、x=bでの傾きをLY′(a)、LY′(b)、とし、全画素における発光プロファイル13のX方向の最大ばらつきをΔx、光透過抑制部12で遮られた部分を除く開口部8内の発光総量を画素内発光量とする。この時、|LY′(b)−LY′(a)|<(0.02×画素内発光量)/(Δx)2を満たすことが好ましい。
上記の関係がX方向だけでなくY方向にも成り立っている場合、X方向のばらつきに対してのみではなく、Y方向のばらつきに対しても、輝度ばらつきを低下させることができるので好適である。つまり、Y=yの直線に沿った発光プロファイル13の変化曲線の積分値をY座標の関数LX(y)で表し、開口部8の両端におけるY座標を±eとし、光透過抑制部12の両端におけるY座標を±fとすると、−e<−f<f<eとなる。そして、関数LX(y)におけるy=e、y=fでの傾きをLX′(e)、LX′(f)とし、全画素における発光プロファイル13のY方向の最大ばらつきをΔy、光透過抑制部12で遮られた部分を除く開口部8内の発光総量を画素内発光量とする。この時、|LX′(f)−LY′(e)|<(0.02×画素内発光量)/(Δy)2を満たすことが好ましい。
画素7内発光の発光プロファイル13からの概算方法としては、開口部8端の座標a、光透過抑制部12端の座標bとして、LY(x)をaからbの範囲で積分して、左右に同等の領域があることを考慮して2倍にすることで得られる。また、1次近似として、下記式(3−a),(3−b)のようにして計算することも可能である。なお、対称性が良いとは、任意のxにおける|LY(−x)−LY(x)|/LY(x)が10%以下の場合を言う。
XY両方向に対して光透過抑制部12があることが好ましい。その例を図6に示す。
次に第三の実施形態について説明を行う。
第二の実施形態とは光透過抑制部12に光透過率を有する点が異なる。この場合の模式図を図7に示す。図7(a)は、Z方向からみた、画素7に対する光透過抑制部18を示す図である。この図で示す光透過抑制部18は透過率Tを有する。図7(b)は、d−d′間の透過率を示す。本実施形態において、光透過抑制部18の透過率はほぼ一定である。ここで、透過率がほぼ一定とは、光透過抑制部18の透過率の変動が±5%以内であることを言う。この場合の良好な点として、第二実施形態である透過率が無い場合に比べ、輝度(画素内発光)を大きく出来る点が挙げられる。
発光プロファイル13と光透過抑制部18の関係を以下に示す。これを、図16と、数4を用いて説明する。図16中、図15と同じ符号のものは説明を省略する。図16中、19は光透過抑制部の内側の発光であり、33は光透過抑制部18から出射する発光のうちの減少する成分、34は光透過抑制部18から出射する発光のうちの増加する成分である。光透過抑制部18が透過率Tをもつ場合、X方向の発光位置の最大ばらつき29により、光透過抑制部18から開口部8に出る発光27は光透過抑制部18から出る前に透過率T分だけ発光に寄与する。これが光透過抑制部18から出射する発光のうちの減少する成分33である。また、X方向の発光位置の最大ばらつきに29より、開口部8から光透過抑制部18に入る発光28は、光透過抑制部18に入った後も、透過率T倍となり光透過抑制部の内側の発光19分だけ取り出され、発光に寄与する。これが、光透過抑制部18から出射する発光のうちの増加する成分34である。そのため、数4のように表すことができる。
つまり、LY(a)+LY(c)(1−T)とLY(b)×(1−T)+LY(d)がほぼ等しいとき、式(4−e)の式の括弧内はほぼ0に成り、好適な組み合わせとなる。具体的には、LY(a)+LY(c)×(1−T)とLY(b)×(1−T)+LY(d)との差の絶対値が、画素内発光量をΔxで割った値の0.02倍以下になっていることが好ましい。
上記の関係がX方向だけでなくY方向にも成り立っている場合、X方向のばらつきに対してのみではなく、Y方向のばらつきに対しても、輝度ばらつきを低下させることができるので好適である。つまり、光透過抑制部が無い状態での発光プロファイル13について、任意のY座標値をyとし、Y=yの直線に沿った発光プロファイル13の変化曲線の積分値をY座標の関数LX(y)で表す。開口部8の両端におけるY座標をe、hとし、前記光透過抑制部の両端におけるY座標をf、gとし、h<g<f<eであるとする。この時、LX(e)+LX(g)×(1−T)とLX(f)×(1−T)+LX(h)との差の絶対値が、画素内発光量を前記Δyで割った値の0.02倍以下になっていることが好ましい。
また、発光プロファイル13が発光ピーク17に対して対称性が良い場合には、光透過抑制部18に透過率がない場合と同様の計算により、次の場合が好適な範囲となる。発光プロファイル13について、任意のX座標値をxとし、X=xの直線に沿った発光プロファイル13の変化曲線の積分値をX座標の関数LY(x)で表す。開口部8の中心のX座標を0、開口部8の両端におけるX座標をpと−p、光透過制御部材18のX方向長さをvとし、前記関数LY(x)におけるx=pでの傾きをLY′(p)、x=v/2での傾きをLY′(v/2)とする。この時、光透過抑制部18が、|LY′(p)−{1−T}×LY′(v/2)|<画素内発光量/(Δx)2×0.02となるTとvの関係を満たすものであることが好ましい。このようなvとTをもつ光透過抑制部18を持つことが、画素7毎輝度ばらつきが許容限界である2%以下の範囲となる。
上記の関係はX方向だけでなくY方向にもいえる。つまり、発光プロファイル13について、任意のY座標値をyとし、Y=yの直線に沿った発光プロファイル13の変化曲線の積分値をY座標の関数LX(y)で表す。開口部8の中心のY座標を0、開口部8の両端におけるY座標をqと−q、光透過制御部材18のY方向長さをwとし、関数LX(y)におけるy=qでの傾きをLY′(q)、x=w/2での傾きをLX′(w/2)とする。更に、全画素における発光プロファイル13のY方向の最大ばらつきをΔy、光透過抑制部18で遮られた部分を除く開口部8内の発光総量を画素内発光量とする。この時、光透過抑制部18が、|LX′(q)−{1−T}×LX′(w/2)|<画素内発光量/(Δy)2×0.02となるTとwの関係を満たすものであることが好ましい。
更に光透過抑制部18の位置のばらつきに対して、安定して輝度ばらつき2%を下回るためには、|LY′(p)−{1−T}×LY′(v0)|がv0に対して安定していればよい。すなわち|LY′(p)−{1−T}×LY′(v0)|をv0で微分して0であり、微分を行うと、LY′′(v0)=0(すなわちLYの曲率が0)となる。この場合(極値となるため)、安定していることとなる。なお、v0は光透過制御部材18のX方向長さvの全画素の平均値である。LYの曲率の好適範囲について、図9で説明する。横軸に光透過抑制部18の端の座標v、左縦軸は透過率を最適にした場合の輝度ばらつきを示す。右は、その際の光透過抑制部18の端の座標における発光プロファイルLYの曲率をとってある。曲率としては、−0.08〜0.13の範囲で輝度ばらつきを許容限以下とすることができる。透過率Tとしては、上記の曲率となるvを用いて、|LY′(a)−{1−T}×LY′(v0)|<(画素内発光)/(Δx)2×0.01を満たした5%〜95%の範囲の値が好ましい。
光透過制御部材のX方向長さvの全画素の平均値をv0、LY(x)最大値が1になるように規格化した発光プロファイルの変化曲線をLY1(x)で表す。また、該LY1(x)を積分した発光プロファイルの変化曲線の曲率をLY′′1(x)とした時、前記光透過制御部材が−0.08<LY′′1(v0)・(Δx)2<0.13となるv0を有することが好ましい。そして、|LY′(p)−{1―T}×LY′(v0)|<画素内発光量/(Δx)2×0.01を満たすことが好ましい。上記の関係はX方向だけでなくY方向にもいえる。つまり、光透過制御部材のY方向長さwの全画素の平均値をw0、LX(y)の最大値が1になるように規格化した発光プロファイルの変化曲線をLX1(y)で表す。また、該LX1(y)を積分した発光プロファイルの変化曲線をの曲率をLX′′1(y)とした時、前記光透過制御部材が、−0.08<LX′′1(w0)・(Δy)2<0.13となるw0を有することが好ましい。そして、|LX′(q)−{1―T}×LX′(w0)|<画素内発光量/(Δy)2×0.01を満たすことが好ましい。
ここで、第二実施形態と第三実施形態における光透過抑制部12及び18の寸法許容ばらつき幅の比較例を図8に示す。図8は横軸に光透過抑制部12及び18の端の座標b、縦軸に、各画素の平均輝度に対する輝度差を規格化した値である輝度ばらつきを示す。図中、黒点は第二実施形態である透過率が0%の場合であり、白点は第三実施形態である透過率が40%の場合の図である。LY′′(b0)=0を満たすb0は28μmとなる。また、発光プロファイル13は半値幅が56μmの正規分布で発光位置の最大ばらつき29が15μmとした。このように、透過率がある光透過抑制部18がある場合、最適なb0を選ぶことで、光透過抑制部18寸法の許容ばらつき幅を拡大することができる。
次に第四の実施形態について説明を行う。第三の実施形態と異なる点は、光透過抑制部20の透過率が分布を持っている点である。透過率分布は、光透過抑制部20中央に向かって透過率が低くなることが好ましい。この例を図12に示す。図12(a)は、Z方向からみた、画素7に設けられた透過率をもつ光透過抑制部20の模式図である。図12(b)は、d−d′間の透過率を示す。本形態では、第三の実施形態以上に光透過抑制部20の幅の許容幅を拡大することが出来る。
光透過抑制部20の作用について、図17を用いて説明する。図17(a)の光透過抑制部18及び光透過抑制部20の周辺の透過率〔図7(b)及び図12(b)の一部〕である。図中、点線は光透過抑制部18、実線は光透過抑制部20の場合である。図17(b)は発光位置ばらつき16がある場合の発光プロファイル13である。発光プロファイル13は、発光ピーク17に対して左右対称であり、ばらつき0である場合は、発光ピーク17と光透過抑制部18及び20の中心位置が一致しているとする。
表1は光透過抑制部18及び20と発光位置ばらつき16の組み合わせの各場合の発光量の差異を示している。光透過抑制部18が発光位置ばらつき0である場合の発光量をaとする。このとき、発光位置ばらつき16がΔxだけずれた場合はbだけ発光量が減少する。次に、光透過抑制部20が発光位置ばらつき0である場合の発光量をcとする。発光位置ばらつき16Δxだけずれた場合、発光ピーク17は透過率が高い方に移動することになり、透過率一定の場合より+dだけ変化量が小さくなる。そのため、輝度ばらつきは、光透過抑制部が透過率一定であるより透過率分布がある方が、広範囲で小さくすることができる。
本形態では、特にLY(a)+LY(c)(1−T)とLY(b)×(1−T)+LY(d)がほぼ等しいことを満たした上で、光透過抑制部20の端の位置での、(発光輝度の傾き/発光輝度)と、(透過率の傾き/透過率)が等しい場合、より効果的に輝度ばらつきを低減できる。具体的に、数5を用いて説明する。
透過率分布が有る場合には、前述のように光透過抑制部20に位置する発光プロファイル13も画素内発光に寄与する。この場合、前記式(2−e)を変形して、式(5−a)のように書ける。Δx2の項が、透過率分布の影響項となる。式(5−b)に、光透過抑制部20端の座標bの場合を示す。こちらは、発光位置ばらつき16がΔxだけ動いた場合に、開口部8内の画素内発光が減少する成分となる。式(5−c)は、LY(a)+LY(c)(1−T)とLY(b)×(1−T)+LY(d)がほぼ等しいことを満たしている場合の、開口部8内の発光の合計を示す。式(5−a)、(5−b)の第一項は消えて、第二項の差のみ残る。解釈を簡単にするため、式(5−d)のように、光透過抑制部20の端部の透過率の絶対値、透過率の傾きは両端でそれぞれ等しいとする。式(5−c)に式(5−d)の制約を加えたものが式(5−e)となる。これがΔx2の項となる。すなわち、Δxの変化が大きくなればなるほど、誤差が大きくなる。すなわち、この項を小さくすることで、発光位置ばらつき16であるΔxが大きくなる場合に安定的に、輝度差を低減できる。Δxが一定以上増えない場合は、光透過抑制部20の端の座標のばらつきに対し、許容限界を満たす許容範囲が広がる。式(5−e)を0として式を変形すると、式(5−f)となる。これは、LY,|LY′|について、bとcの平均値を採用するとして、LY(c)=LY(b)、LY′(c)=−LY′(b)とすると、式(5−g)と書ける。
すなわち、光透過抑制部20の端の位置での、(発光強度の傾き/発光強度)と、(透過率の傾き/透過率)がほぼ等しくなる場合に式(5−c)が小さくなる。また、面内方向の光透過率分布の傾きがX方向に単調増加とすることで、開口部端で傾きの絶対値が一番高くなるため、開口部8内の透過率分布の影響は小さく、開口部8の端部の影響だけ考えればよい。なお、ここで言う、(発光強度の傾き/発光強度)と、(透過率の傾き/透過率)がほぼ等しいとは、式(5−e)の括弧内の項が発光位置ばらつき16であるΔxより十分小さい場合をさす。なお、1画素に発光ピーク17が複数ある場合は、全ての発光ピーク17を覆う1つの光透過抑制部12を設けるか、より好ましくは各発光ピーク17に対してそれぞれ光透過抑制部12を設ける。
以下、具体的な実施例を挙げて、本発明を詳しく説明する。
<実施例1>
本実施例では、図1に示される光透過抑制部12を具備した電子線ディスプレイを製造した。まず、本発明の特徴を示すフェースプレート1の作製方法について説明する。
本実施例では、図1に示される光透過抑制部12を具備した電子線ディスプレイを製造した。まず、本発明の特徴を示すフェースプレート1の作製方法について説明する。
[工程1:基板前処理]
ソーダライムガラスの基板を、アニール処理を行うとともに、洗浄した。
ソーダライムガラスの基板を、アニール処理を行うとともに、洗浄した。
[工程2:黒色部材の形成]
黒色部材3となる黒色ペーストを厚さ5μmとなるよう前面に塗布した。黒色ペーストとして感光剤を混合したカーボンブラックを用いた。塗布後、図1(a)に示すようなサブピクセルあたりの複数の開口部8を有するような形状になるように露光をおこない、現像して所望のパターンを得た。なお、X方向の画素のピッチ21が210μm、Y方向の画素ピッチ11が630umとした。まず、発光プロファイル13を取得するため、開口部8のサイズは、X方向150μm、Y方向500μmとした。開口部8は1電子線ディスプレイあたり、X方向に5760個、Y方向あたり1080個配置した。その後450度で焼成をおこなった。
黒色部材3となる黒色ペーストを厚さ5μmとなるよう前面に塗布した。黒色ペーストとして感光剤を混合したカーボンブラックを用いた。塗布後、図1(a)に示すようなサブピクセルあたりの複数の開口部8を有するような形状になるように露光をおこない、現像して所望のパターンを得た。なお、X方向の画素のピッチ21が210μm、Y方向の画素ピッチ11が630umとした。まず、発光プロファイル13を取得するため、開口部8のサイズは、X方向150μm、Y方向500μmとした。開口部8は1電子線ディスプレイあたり、X方向に5760個、Y方向あたり1080個配置した。その後450度で焼成をおこなった。
[工程3:蛍光体の形成]
次に、RGBの蛍光体2をスクリーン印刷法により形成した。使用した蛍光体2は、化成オプト社製のP22蛍光体であり、赤:P22RE3(Y2O2S)、緑:P22GN4(ZnS:Cu、Al)、青:P22B2(ZnS:Ag,Cl)を用いた。それぞれの蛍光体2の平均粒径は1μmであり、平均膜厚が4μmになるように形成した。その後450℃で焼成を行った。
次に、RGBの蛍光体2をスクリーン印刷法により形成した。使用した蛍光体2は、化成オプト社製のP22蛍光体であり、赤:P22RE3(Y2O2S)、緑:P22GN4(ZnS:Cu、Al)、青:P22B2(ZnS:Ag,Cl)を用いた。それぞれの蛍光体2の平均粒径は1μmであり、平均膜厚が4μmになるように形成した。その後450℃で焼成を行った。
[工程4:メタルバックの形成]
次に、CRTの分野で公知であるフィルミング法を用いてメタルバック4を作成した。樹脂中間膜を形成した後、真空蒸着法によりアルミニウムを厚さ100nmで形成した。その後、450℃で焼成を行い、樹脂中間膜を除去した。
次に、CRTの分野で公知であるフィルミング法を用いてメタルバック4を作成した。樹脂中間膜を形成した後、真空蒸着法によりアルミニウムを厚さ100nmで形成した。その後、450℃で焼成を行い、樹脂中間膜を除去した。
[工程5:真空容器の形成]
以上の工程を経てフェースプレート1を作成し、リアプレート9と組み合わせて真空容器を形成し、電子線ディスプレイとして動作を確認した。なおリアプレート9及び電子放出素子10の作成方法については説明を省略する。
以上の工程を経てフェースプレート1を作成し、リアプレート9と組み合わせて真空容器を形成し、電子線ディスプレイとして動作を確認した。なおリアプレート9及び電子放出素子10の作成方法については説明を省略する。
電子放出素子10と配線(図不示)との距離はいずれの方向でも左右ほぼ等しくした。また、フェースプレート1とリアプレート9の距離は2mmとした。作成した画像表示パネルを素子駆動電圧16V,加速電圧10kVで駆動した際の電子ビームによる主発光領域6は図1(a)に示す状態となった。
[工程6:発光プロファイルと輝度ピーク位置ずれ量の確認]
この電子線ディスプレイを駆動させて、発光画像を二次元輝度計(コニカミノルタCA2000)で撮像することにより、積分した発光プロファイル15と、発光位置ばらつき16を取得した。この際、発光プロファイル13は全画素の画素位置に対する発光プロファイルの平均プロファイルを、代表的な発光プロファイルとして算出した。発光プロファイル13はほぼ正規分布形状となり、半値幅が56μmとなった。また、全発光プロファイルの、中心値のX方向の発光位置ばらつきΔxは、X方向に最大15μmとなり、15/56=26%となり、3割以下のばらつきを満たす、電子線ディスプレイの実用に耐えうる発光ばらつきとなった。
この電子線ディスプレイを駆動させて、発光画像を二次元輝度計(コニカミノルタCA2000)で撮像することにより、積分した発光プロファイル15と、発光位置ばらつき16を取得した。この際、発光プロファイル13は全画素の画素位置に対する発光プロファイルの平均プロファイルを、代表的な発光プロファイルとして算出した。発光プロファイル13はほぼ正規分布形状となり、半値幅が56μmとなった。また、全発光プロファイルの、中心値のX方向の発光位置ばらつきΔxは、X方向に最大15μmとなり、15/56=26%となり、3割以下のばらつきを満たす、電子線ディスプレイの実用に耐えうる発光ばらつきとなった。
[工程7:開口部寸法の決定]
次に、混色の防止を考慮して開口部8の寸法を決定した。X方向100μm、Y方向250μmとした。開口部8のみを配置して、光透過抑制部12を配置しない場合のパネルは約600cd/m2となった。
次に、混色の防止を考慮して開口部8の寸法を決定した。X方向100μm、Y方向250μmとした。開口部8のみを配置して、光透過抑制部12を配置しない場合のパネルは約600cd/m2となった。
[工程8:光透過抑制部の寸法の決定]
発光位置のばらつきΔxがX方向15umであり、開口部8サイズが100um(片側50μm)より、光透過抑制部12を中心対称に±15um、±20umに端をもつ光透過抑制部12を作成した。
発光位置のばらつきΔxがX方向15umであり、開口部8サイズが100um(片側50μm)より、光透過抑制部12を中心対称に±15um、±20umに端をもつ光透過抑制部12を作成した。
[工程9:光透過抑制部を伴う電子線ディスプレイの形成]
工程7〜9で決定した開口部8及び光透過抑制部12の寸法を元に、上記の工程1〜5を再度実施することで本実施例の電子線ディスプレイを作成した。つまり、開口部8は工程7で決定したX方向100μm、Y方向250μmとし、光透過抑制部12は工程8で決定した寸法とした。また、光透過抑制部12の材料は工程2に記載の黒色部材3と同一の材料を用いた。
工程7〜9で決定した開口部8及び光透過抑制部12の寸法を元に、上記の工程1〜5を再度実施することで本実施例の電子線ディスプレイを作成した。つまり、開口部8は工程7で決定したX方向100μm、Y方向250μmとし、光透過抑制部12は工程8で決定した寸法とした。また、光透過抑制部12の材料は工程2に記載の黒色部材3と同一の材料を用いた。
以上のように製造された図1に示す電子源ディスプレイの画素間の輝度ばらつきは、光透過抑制部12が±15umの場合、最大1.5%、±20μmの場合、最大4.4%となった。結果を表2に示す。
また、光透過抑制部12の面積を開口部8の面積の10%、18%、28%としたところ、いずれも場合も輝度むらは認識されず、明るい画面が得られた。
<比較例1>
実施例1と同様に作成した電子線ディスプレイを作成した。但し、光透過抑制部12は配置していない。この場合、画素間の輝度ばらつきは、最大4.6%となった。また、発光ピークを覆わない形として、光透過抑制部16の端の座標が開口部中心に対して、0μmと30μmに両端を持つように配置して作成した。この場合、画素間の輝度ばらつきは最大28%となった。結果を表2に示す。
実施例1と同様に作成した電子線ディスプレイを作成した。但し、光透過抑制部12は配置していない。この場合、画素間の輝度ばらつきは、最大4.6%となった。また、発光ピークを覆わない形として、光透過抑制部16の端の座標が開口部中心に対して、0μmと30μmに両端を持つように配置して作成した。この場合、画素間の輝度ばらつきは最大28%となった。結果を表2に示す。
また、光透過抑制部12の面積を開口部8の面積の5%と30%とした他は実施例1と同様の電子源ディスプレイとしたところ、いずれの場合も輝度むらが認識され、30%の面積とした電子源ディスプレイでは実施例の電子源ディスプレイに比して画面の暗くなった。
<実施例2>
以下に実施例1と異なる工程のみを示す。
以下に実施例1と異なる工程のみを示す。
[工程5]
電子放出素子10と配線との距離を変更し、非対称なビームを形成した。
電子放出素子10と配線との距離を変更し、非対称なビームを形成した。
[工程6]
このように作製した電子線ディスプレイの発光プロファイルを撮影すると、発光プロファイルは非対称となり、X方向の半値幅は平均56μm、画素に対する発光中心のX座標は−10μmとなった。図5に発光プロファイルを示す。測定の結果、中心位置のX方向の発光位置ばらつきΔxはX方向に最大15μmであった。15/56=26%となり3割以下のばらつきを満たす、電子線ディスプレイの実用に耐えうる発光ばらつきとなった。
このように作製した電子線ディスプレイの発光プロファイルを撮影すると、発光プロファイルは非対称となり、X方向の半値幅は平均56μm、画素に対する発光中心のX座標は−10μmとなった。図5に発光プロファイルを示す。測定の結果、中心位置のX方向の発光位置ばらつきΔxはX方向に最大15μmであった。15/56=26%となり3割以下のばらつきを満たす、電子線ディスプレイの実用に耐えうる発光ばらつきとなった。
[工程7]
混色を考慮して開口部8は100μmとした。開口部8のみを配置して、光透過抑制部12を配置しない場合のパネルは約600cd/m2であった。
混色を考慮して開口部8は100μmとした。開口部8のみを配置して、光透過抑制部12を配置しない場合のパネルは約600cd/m2であった。
[工程8]
ここで光透過抑制部12について、LY(a)+LY(c)とLY(b)+LY(d)がほぼ等しくなるように光透過抑制部12の端の座標を決定した。開口端が図5の±50μmの位置になることより、a=50,d=−50となる。その際のLY(a)とLY(d)を図5から読み取りそれに対応したbとcの座標を決定できる。
ここで光透過抑制部12について、LY(a)+LY(c)とLY(b)+LY(d)がほぼ等しくなるように光透過抑制部12の端の座標を決定した。開口端が図5の±50μmの位置になることより、a=50,d=−50となる。その際のLY(a)とLY(d)を図5から読み取りそれに対応したbとcの座標を決定できる。
代表的に(c=−28.5,b=20)としたものと、(c=−23.5,b=10)としたものの2種類を作製して評価をした。この際のLY(a)+LY(c)とLY(b)+LY(d)の差は0.06(cd/m)以下となった。
本例の画素内発光とΔxの値から、〔LY(a)+LY(c)〕−〔LY(b)+LY(d)〕の好適な範囲は約0.0667(cd/m)以下となり、3種類とも表2に示すようにほぼ等しい範囲となった。
[工程9]
工程7〜9で決定した開口部8及び光透過抑制部12の寸法を元に、工程1〜5を再度実施することで本実施例の電子線ディスプレイを作成した。このようにして作製したディスプレイについて任意の画素の間の輝度差を測定した。この際の任意の画素間の輝度ばらつきは、それぞれ、最大4.6%、2.9%となった。
工程7〜9で決定した開口部8及び光透過抑制部12の寸法を元に、工程1〜5を再度実施することで本実施例の電子線ディスプレイを作成した。このようにして作製したディスプレイについて任意の画素の間の輝度差を測定した。この際の任意の画素間の輝度ばらつきは、それぞれ、最大4.6%、2.9%となった。
<比較例2>
実施例2の場合で光透過抑制部12を配置しない場合の任意の画素間の輝度ばらつきは、6.4%となった。また、もうひとつの比較例として、(c=−25,b=−15)の光透過抑制部12を有する電子線ディスプレイを作成した。この際のLY(a)+LY(c)とLY(b)+LY(d)の差は0.173[cd/m]となり、任意の画素間の輝度ばらつきは最大7.2%となった。
実施例2の場合で光透過抑制部12を配置しない場合の任意の画素間の輝度ばらつきは、6.4%となった。また、もうひとつの比較例として、(c=−25,b=−15)の光透過抑制部12を有する電子線ディスプレイを作成した。この際のLY(a)+LY(c)とLY(b)+LY(d)の差は0.173[cd/m]となり、任意の画素間の輝度ばらつきは最大7.2%となった。
実施例2及び比較例2の結果を表3に示す。
<実施例3>
以下に実施例1と異なる工程のみを示す。
以下に実施例1と異なる工程のみを示す。
[工程8]
光透過抑制部12端部の座標は開口中心を0として、±15μmの場所とした。この際の開口部8端部におけるX方向に積分した発光プロファイル15の傾きと、光透過抑制部12の端部におけるX方向に積分した発光プロファイル15の傾きとの差は2600(cd/m2)となった。本測定における0.02×画素内発光/(Δx)2は、約4400(cd/m2)となり、それを十分下回る値となった。このようにして作成した電子線ディスプレイの任意の画素の輝度ばらつきの最大値は1.9%となった。
光透過抑制部12端部の座標は開口中心を0として、±15μmの場所とした。この際の開口部8端部におけるX方向に積分した発光プロファイル15の傾きと、光透過抑制部12の端部におけるX方向に積分した発光プロファイル15の傾きとの差は2600(cd/m2)となった。本測定における0.02×画素内発光/(Δx)2は、約4400(cd/m2)となり、それを十分下回る値となった。このようにして作成した電子線ディスプレイの任意の画素の輝度ばらつきの最大値は1.9%となった。
<比較例3>
実施例1の工程1〜5を実施することで電子線ディスプレイを作成した。但しこの際、工程2は、黒色部材3を形成するのと同時に、光透過抑制部12の端の座標が開口中心から19μm、49μmの光透過抑制部18を形成した。この際の開口部8端部におけるX方向に積分した発光プロファイル15の傾きと、光透過抑制部12の端部におけるX方向に積分した発光プロファイル15の傾きとの差は4800(cd/m2)となった。開口寸法は実施例1と同手順で決定したX方向100μm、Y方向250μmとした。以上のように作成した電子線ディスプレイの画素毎の輝度ばらつきはの最大値は3.8%であった。また、同様の作成方法にて光透過抑制部12がない場合のディスプレイを作成したところ、輝度ばらつきの最大値は4%であった。
実施例1の工程1〜5を実施することで電子線ディスプレイを作成した。但しこの際、工程2は、黒色部材3を形成するのと同時に、光透過抑制部12の端の座標が開口中心から19μm、49μmの光透過抑制部18を形成した。この際の開口部8端部におけるX方向に積分した発光プロファイル15の傾きと、光透過抑制部12の端部におけるX方向に積分した発光プロファイル15の傾きとの差は4800(cd/m2)となった。開口寸法は実施例1と同手順で決定したX方向100μm、Y方向250μmとした。以上のように作成した電子線ディスプレイの画素毎の輝度ばらつきはの最大値は3.8%であった。また、同様の作成方法にて光透過抑制部12がない場合のディスプレイを作成したところ、輝度ばらつきの最大値は4%であった。
実施例3、比較例3の結果を表4に示す。
<実施例4>
以下に実施例2と異なる工程のみを示す。本実施例では、図7に示すように、光透過抑制部12に透過率を与えた。図7に示す透過率分布を有する光透過抑制部12を符号18で示す。
以下に実施例2と異なる工程のみを示す。本実施例では、図7に示すように、光透過抑制部12に透過率を与えた。図7に示す透過率分布を有する光透過抑制部12を符号18で示す。
[工程8]
本実施例では、図7に示すように光透過抑制部18は透過率を有する。光透過抑制部18は、第三の実施形態である図16及び数4に基づいて、LY(a)+LY(c)(1−T)とLY(b)+LY(d)(1−T)とがほぼ等しくなるように配置した。
本実施例では、図7に示すように光透過抑制部18は透過率を有する。光透過抑制部18は、第三の実施形態である図16及び数4に基づいて、LY(a)+LY(c)(1−T)とLY(b)+LY(d)(1−T)とがほぼ等しくなるように配置した。
開口部8の中心を0とすると、a=50、d=−50である。透過率Tとして20%と40%とし、図5の発光プロファイルに対して、(T=20%,c=−28.5,b=20)の組合せと、(T=40%,c=−27,b=20)の組み合わせと決定した。なお、座標の単位はμmである。
[工程9]
光透過抑制部18は、開口部8と別工程で作成した。光透過抑制部18は、スパッタリング法で成膜して、厚みで透過率を調整し、フォトプロセスでパターンを形成した。
光透過抑制部18は、開口部8と別工程で作成した。光透過抑制部18は、スパッタリング法で成膜して、厚みで透過率を調整し、フォトプロセスでパターンを形成した。
本発明の電子線ディスプレイの任意の画素間の輝度ばらつきの最大値と輝度値(画素内発光)を、実施例2の値と共に表5に示す。輝度ばらつきは5%程度と、光透過抑制部16がない場合の6.4%をいずれも下回る。一方、輝度値は実施例2の場合が155cd/m2であるのに対し、本実施例は224.3〜298.2cd/m2であった。
<実施例5>
以下に実施例4と異なる工程のみを示す。
以下に実施例4と異なる工程のみを示す。
[工程8]
積分した発光プロファイル15より、光透過抑制部18の端部の平均座標v0が左端−30μm、右端30μmの時、曲率LY’’(v0)が0となった。また、LY’(v0)は、0.022となった。またLY’(a)は実施例1と同様0.013となった。光透過抑制部18の透過率Tは、|LY’(a)−{1―T}LY’(b)|=0が最適であるため、T=1−LY’(a)/LY’(b)=41%とした。
積分した発光プロファイル15より、光透過抑制部18の端部の平均座標v0が左端−30μm、右端30μmの時、曲率LY’’(v0)が0となった。また、LY’(v0)は、0.022となった。またLY’(a)は実施例1と同様0.013となった。光透過抑制部18の透過率Tは、|LY’(a)−{1―T}LY’(b)|=0が最適であるため、T=1−LY’(a)/LY’(b)=41%とした。
こうして作成した電子線ディスプレイにおいて、面内輝度ばらつきは0.31%となった。また、面内輝度ばらつきが2%以下となる光透過抑制部18の端のX座標(すなわちbの座標)の許容公差は±13μmとなった。実施例1の場合の面内輝度ばらつきが2%以下となる光透過抑制部18の端のX座標(すなわちbの座標)の許容公差は±4μmであり、本実施例において光透過抑制部18の端のX座標の許容公差が拡大された。
<実施例6>
以下に実施例4と異なる工程のみを示す。本実施例では、図12に示すように、光透過抑制部12に透過率分布を与えた。図12に示す透過率分布を有する光透過抑制部12を符号20で示す。
以下に実施例4と異なる工程のみを示す。本実施例では、図12に示すように、光透過抑制部12に透過率分布を与えた。図12に示す透過率分布を有する光透過抑制部12を符号20で示す。
[工程8]
ここで光透過抑制部20について、LY(a)+LY(c)(1−T)とLY(b)+LY(d)(1−T)がほぼ等しくなるように光透過抑制部20の端の座標を選び、透過率の最低値が74%のものを作成した。この際のc,bの座標が(c=−24μm,b=24μm)となる。この際に、光透過抑制部20の端の座標において(発光強度の傾き/発光強度)と、(透過率の傾き/透過率)とがほぼ等しくなるようにした。また、中心が最低透過率となる二次曲線形状とし、光透過抑制部20の端の透過率を92%とし、中央の透過率を74%とした。この際のX方向の透過率分布を図10に示す。
ここで光透過抑制部20について、LY(a)+LY(c)(1−T)とLY(b)+LY(d)(1−T)がほぼ等しくなるように光透過抑制部20の端の座標を選び、透過率の最低値が74%のものを作成した。この際のc,bの座標が(c=−24μm,b=24μm)となる。この際に、光透過抑制部20の端の座標において(発光強度の傾き/発光強度)と、(透過率の傾き/透過率)とがほぼ等しくなるようにした。また、中心が最低透過率となる二次曲線形状とし、光透過抑制部20の端の透過率を92%とし、中央の透過率を74%とした。この際のX方向の透過率分布を図10に示す。
[工程9]
光透過抑制部20の形成工程のみ、開口と別工程にて実施した。インクジェット法で成膜して、厚み分布で透過率分布を調整し、フォトプロセスにより、寸法を規定した。こうして出来上がった電子線ディスプレイにおいて、図11(a)のように、輝度ばらつき1%を下回り1%を下回る光透過抑制部20の許容ばらつき幅は35μmとなった。
光透過抑制部20の形成工程のみ、開口と別工程にて実施した。インクジェット法で成膜して、厚み分布で透過率分布を調整し、フォトプロセスにより、寸法を規定した。こうして出来上がった電子線ディスプレイにおいて、図11(a)のように、輝度ばらつき1%を下回り1%を下回る光透過抑制部20の許容ばらつき幅は35μmとなった。
<比較例6>
実施例6と同様に作成し、光透過抑制部20の透過率を74%で固定し均一に作成した。こうして出来上がった電子線ディスプレイにおいて、図11(b)のように、輝度ばらつき1%を下回り1%を下回る光透過抑制部20の許容ばらつき幅は29μmとなった。
実施例6と同様に作成し、光透過抑制部20の透過率を74%で固定し均一に作成した。こうして出来上がった電子線ディスプレイにおいて、図11(b)のように、輝度ばらつき1%を下回り1%を下回る光透過抑制部20の許容ばらつき幅は29μmとなった。
1:フェースプレート、2:蛍光体、3:黒色部材、4:メタルバック、5:電子ビーム、6:主発光領域、7:画素、8:開口部、9:リアプレート、10:電子放出素子、11:Y方向画素ピッチ、12:光透過抑制部、13:発光プロファイル、14:基板、15:積分した発光プロファイル、16:発光位置ばらつき、17:発光ピーク、18:図7の透過率を有する光透過抑制部、19:光透過抑制部の内側の発光、20:図12の透過率分布を有する光透過抑制部、21:X方向画素ピッチ、25:開口外へ出る発光、26:開口内へ入る発光、27:光透過抑制部から出る発光、28:光透過抑制部に入る発光、29:発光位置の最大ばらつき、32:画素内発光、33:透過率のある光透過抑制部から減る発光、34:透過率のある光透過抑制部内で増える発光
Claims (13)
- それぞれ電子線の照射により発光する蛍光体を有する複数の画素及び前記蛍光体の発光による光を取り出すために各画素毎に設けられた透光性の開口部を有するフェースプレートと、前記各画素に対応して設けられ、それぞれ対応する画素に電子線を照射する複数の電子放出素子を有するリアプレートとを備え、しかも前記電子放出素子が、前記対応する画素の電子線の照射面における電流密度が不均一な電子線を照射する電子線ディスプレイにおいて、
前記電子放出素子から前記対応する画素へ電子線を照射した時に電流密度が最も高くなるべき前記電子線の照射面の位置に対応する前記開口部の位置を覆って、前記開口部の面積の10%から28%の面積で光透過抑制部が設けられていることを特徴とする電子線ディスプレイ。 - 前記電子放出素子が、前記リアプレートへの設置位置に応じて複数のグループに分けられており、前記電子放出素子が属するグループ毎に、対応する画素へ電子線を照射した時に電流密度が最も高くなるべき前記電子線の照射面の位置が定められていることを特徴とする請求項1に記載の電子線ディスプレイ。
- 前記光透過抑制部の透過率が5%以下の場合において、
フェースプレート面内にXY座標を設け、前記光透過抑制部が無い状態での発光プロファイルについて、任意のX座標値をxとし、X=xの直線に沿った前記発光プロファイルの変化曲線の積分値をX座標の関数LY(x)で表し、前記開口部の両端におけるX座標をa、dとし、前記光透過抑制部の両端におけるX座標をb、cとし、d<c<b<aであるとき、LY(a)+LY(c)とLY(b)+LY(d)との差の絶対値が、全画素における発光プロファイルのX方向の最大ばらつきをΔx、前記光透過抑制部で遮られた部分を除く前記開口部内の発光総量を画素内発光量とした時に、該画素内発光量を前記Δxで割った値の0.02倍以下になっていることを特徴とする請求項1又は2に記載の電子線ディスプレイ。 - 前記光透過抑制部の透過率が5%以下の場合において、
フェースプレート面内にXY座標を設け、前記光透過抑制部が無い状態での発光プロファイルについて、任意のY座標値をyとし、Y=yの直線に沿った前記発光プロファイルの変化曲線の積分値をY座標の関数LX(y)で表し、前記開口部の両端におけるY座標をe、hとし、前記光透過抑制部の両端におけるY座標をf、gとし、h<g<f<eであるとき、LX(e)+LX(f)とLX(g)+LX(h)との差の絶対値が、全画素における発光プロファイルのY方向の最大ばらつきをΔy、前記光透過抑制部で遮られた部分を除く前記開口部内の発光総量を画素内発光量とした時に、該画素内発光量を前記Δyで割った値の0.02倍以下になっていることを特徴とする請求項1又は2に記載の電子線ディスプレイ。 - 前記光透過抑制部の透過率が5%以下の場合において、
フェースプレート面内にXY座標を設け、前記光透過抑制部が無い状態での発光プロファイルについて、任意のX座標値をxとし、X=xの直線に沿った前記発光プロファイルの変化曲線の積分値をX座標の関数LY(x)で表し、前記開口部の両端におけるX座標を±aとし、前記光透過抑制部の両端におけるX座標を±bとし、−a<−b<b<aであるとき、関数LY(x)におけるx=a、x=bでの傾きをLY′(a)、LY′(b)、とし、全画素における発光プロファイルのX方向の最大ばらつきをΔx、前記光透過抑制部で遮られた部分を除く前記開口部内の発光総量を画素内発光量とした時に、
|LY′(b)−LY′(a)|<(0.02×画素内発光量)/(Δx)2
を満たすことを特徴とする請求項1又は2に記載の電子線ディスプレイ。 - 前記光透過抑制部の透過率が5%以下の場合において、
フェースプレート面内にXY座標を設け、前記光透過抑制部が無い状態での発光プロファイルについて、任意のY座標値をyとし、Y=yの直線に沿った前記発光プロファイルの変化曲線の積分値をY座標の関数LX(y)で表し、前記開口部の両端におけるY座標を±eとし、前記光透過抑制部の両端におけるY座標を±fとし、−e<−f<f<eであるとき、関数LX(y)におけるy=e、y=fでの傾きをLX′(e)、LX′(f)とし、全画素における発光プロファイルのY方向の最大ばらつきをΔy、前記光透過抑制部で遮られた部分を除く前記開口部内の発光総量を画素内発光量とした時に、
|LX′(f)−LY′(e)|<(0.02×画素内発光量)/(Δx)2
を満たすことを特徴とする請求項1又は2に記載の電子線ディスプレイ。 - 前記光透過抑制部が透過率Tを有する場合において、
フェースプレート面内にXY座標を設け、前記光透過抑制部が無い状態での発光プロファイルについて、任意のX座標値をxとし、X=xの直線に沿った前記発光プロファイルの変化曲線の積分値をX座標の関数LY(x)で表し、前記開口部の両端におけるX座標をa、dとし、前記光透過抑制部の両端におけるX座標をb、cとし、d<c<b<aであるとき、LY(a)+LY(c)×(1−T)とLY(b)×(1−T)+LY(d)との差の絶対値が、全画素における発光プロファイルのX方向の最大ばらつきをΔx、前記光透過抑制部で遮られた部分を除く前記開口部内の発光総量を画素内発光量とした時に、該画素内発光量を前記Δxで割った値の0.02倍以下になっていることを特徴とする請求項1又は2に記載の電子線ディスプレイ。 - 前記光透過抑制部が5%を越える透過率Tを有する場合において、
フェースプレート面内にXY座標を設け、前記光透過抑制部が無い状態での発光プロファイルについて、任意のY座標値をyとし、Y=yの直線に沿った前記発光プロファイルの変化曲線の積分値をY座標の関数LX(y)で表し、前記開口部の両端におけるY座標をe、hとし、前記光透過抑制部の両端におけるY座標をf、gとし、h<g<f<eであるとき、LX(e)+LX(g)×(1−T)とLX(f)×(1−T)+LX(h)との差の絶対値が、全画素における発光プロファイルのY方向の最大ばらつきをΔy、前記光透過抑制部で遮られた部分を除く前記開口部内の発光総量を画素内発光量とした時に、該画素内発光量を前記Δyで割った値の0.02倍以下になっていることを特徴とする請求項1又は2に記載の電子線ディスプレイ。 - 前記光透過抑制部が透過率Tを有する場合において、
フェースプレート面内にXY座標を設け、前記光透過抑制部が無い状態での発光プロファイルについて、任意のX座標値をxとし、X=xの直線に沿った前記発光プロファイルの変化曲線の積分値をX座標の関数LY(x)で表し、前記開口部の中心のX座標を0、前記開口部の両端におけるX座標をpと−p、前記光透過制御部材のX方向長さをvとし、前記関数LY(x)におけるx=pでの傾きをLY′(p)、x=v/2での傾きをLY′(v/2)とし、全画素における発光プロファイルのX方向の最大ばらつきをΔx、前記光透過抑制部で遮られた部分を除く前記開口部内の発光総量を画素内発光量とした時に、前記光透過抑制部が、
|LY′(p)−{1−T}×LY′(v/2)|<画素内発光量/(Δx)2×0.02
となるTとvの関係を満たすものであることを特徴とする電子線ディスプレイ。 - 前記光透過抑制部が透過率Tを有する場合において、
フェースプレート面内にXY座標を設け、前記光透過抑制部が無い状態での発光プロファイルについて、任意のY座標値をyとし、Y=yの直線に沿った前記発光プロファイルの変化曲線の積分値をY座標の関数LX(y)で表し、前記開口部の中心のY座標を0、前記開口部の両端におけるY座標をqと−q、前記光透過制御部材のY方向長さをwとし、前記関数LX(y)におけるy=qでの傾きをLY′(q)、x=w/2での傾きをLX′(w/2)とし、全画素における発光プロファイルのY方向の最大ばらつきをΔy、前記光透過抑制部で遮られた部分を除く前記開口部内の発光総量を画素内発光量とした時に、前記光透過抑制部が、
|LX′(q)−{1−T}×LX′(w/2)|<画素内発光量/(Δy)2×0.02
となるTとwの関係を満たすものであることを特徴とする電子線ディスプレイ。 - 前記光透過制御部材のX方向長さvの全画素の平均値をv0、前記LY(x)の最大値が1になるように規格化した発光プロファイルの変化曲線をLY1(x)で表し、該LY1(x)を積分した発光プロファイルの変化曲線をの曲率をLY′′1(x)とした時、前記光透過制御部材が、
−0.08<LY′′1(v0)・(Δx)2<0.13
となるv0を有し、
|LY′(p)−{1−T}×LY′(v0)|<画素内発光量/(Δx2)×0.01
を満たすことを特徴とする請求項9に記載の電子線ディスプレイ。 - 前記光透過制御部材のY方向長さwの全画素の平均値をw0、前記LX(y)の最大値が1になるように規格化した発光プロファイルの変化曲線をLX1(y)で表し、該LX1(y)を積分した発光プロファイルの変化曲線をの曲率をLX′′1(y)とした時、前記光透過制御部材が、
−0.08<LX′′1(w0)・(Δx)2<0.13
となるw0を有し、
|LX′(q)−{1−T}×LX′(w0)|<画素内発光量/(Δx)2×0.01
を満たすことを特徴とする請求項10に記載の電子線ディスプレイ。 - 請求項1又は2に記載の電子線ディスプレイであって、前記光透過抑制部が分布を有する光透過率を有し、該光透過率は、前記光透過抑制部の端部が一番高く、しかも前記光透過抑制部の面内方向の光透過率分布の傾きは単調増加となっていることを特徴とする電子線ディスプレイ。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2010248316A JP2012109027A (ja) | 2010-10-18 | 2010-11-05 | 電子線ディスプレイ |
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2010233368 | 2010-10-18 | ||
JP2010233368 | 2010-10-18 | ||
JP2010248316A JP2012109027A (ja) | 2010-10-18 | 2010-11-05 | 電子線ディスプレイ |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2012109027A true JP2012109027A (ja) | 2012-06-07 |
Family
ID=45933539
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2010248316A Withdrawn JP2012109027A (ja) | 2010-10-18 | 2010-11-05 | 電子線ディスプレイ |
Country Status (3)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US20120091878A1 (ja) |
JP (1) | JP2012109027A (ja) |
CN (1) | CN102456526A (ja) |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US10269279B2 (en) * | 2017-03-24 | 2019-04-23 | Misapplied Sciences, Inc. | Display system and method for delivering multi-view content |
Family Cites Families (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2009543118A (ja) * | 2006-06-28 | 2009-12-03 | トムソン ライセンシング | フィルタ材料を有する発光表示装置 |
KR100818258B1 (ko) * | 2006-10-10 | 2008-03-31 | 삼성에스디아이 주식회사 | 전계방출소자용 애노드패널 및 이를 구비한 전계방출소자 |
JP2008123956A (ja) * | 2006-11-15 | 2008-05-29 | Canon Inc | 画像表示装置 |
US7843120B2 (en) * | 2007-11-15 | 2010-11-30 | Canon Kabushiki Kaisha | Screen structure, display panel and electronic equipment using the same, and method of manufacturing the same |
-
2010
- 2010-11-05 JP JP2010248316A patent/JP2012109027A/ja not_active Withdrawn
-
2011
- 2011-09-29 US US13/248,373 patent/US20120091878A1/en not_active Abandoned
- 2011-10-18 CN CN2011103192550A patent/CN102456526A/zh not_active Withdrawn
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US20120091878A1 (en) | 2012-04-19 |
CN102456526A (zh) | 2012-05-16 |
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