JP2012103507A - Polarizing plate protective film for flat panel display and retardation film for flat panel display, and method of using the same - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は、フラットパネルディスプレイ用偏光板保護フィルム及びフラットパネルディスプレイ用位相差フィルム、並びに、これらの使用方法に関する。 The present invention relates to a polarizing plate protective film for a flat panel display, a retardation film for a flat panel display, and methods for using them.
偏光板は、液晶表示装置等のフラットパネルディスプレイにおいて、偏光機能を発現する部材として用いられ、例えば、延伸配向したポリビニルアルコール中にヨウ素又は二色性色素が配向して保持されたもの、などが挙げられる。一般に、これらの偏光機能を有する部材は、耐擦傷性、機械的強度、耐久性等の点で、実用上問題が生じる場合があるため、これらの片面又は両面に保護フィルムが、接着剤又は粘着剤を介して、設けられているのが通常である。 The polarizing plate is used as a member exhibiting a polarizing function in a flat panel display such as a liquid crystal display device, for example, a material in which iodine or a dichroic dye is oriented and held in stretched and oriented polyvinyl alcohol. Can be mentioned. In general, these polarizing members may have practical problems in terms of scratch resistance, mechanical strength, durability, etc., so that a protective film is formed on one or both sides of the adhesive or adhesive. It is usually provided via an agent.
液晶表示装置等のフラットパネルディスプレイにおいて広く用いられている偏光板保護フィルムとしては、例えば、トリアセチルセルロースフィルム（ＴＡＣ）が挙げられる。 Examples of the polarizing plate protective film widely used in flat panel displays such as liquid crystal display devices include a triacetyl cellulose film (TAC).
前記偏光板保護フィルムに要求される特性としては、例えば、湿熱耐久性が高いこと、透明性が高いこと、複屈折度が低いこと、水蒸気透過率が高いこと、生産性（加工性）が高いこと、などが挙げられる。 The properties required for the polarizing plate protective film include, for example, high wet heat durability, high transparency, low birefringence, high water vapor permeability, and high productivity (workability). And so on.
また、前記偏光板保護フィルムは、視野角特性の要求の高度化に伴い、偏光板の視野角特性が問題になる場合があるため、特に、透明性が高く、三次元的な屈折率異方性が小さい（複屈折度が低い）ことが好ましい。 In addition, the polarizing plate protective film is particularly high in transparency and has a three-dimensional refractive index anisotropy because the viewing angle characteristics of the polarizing plate may become a problem as the demand for viewing angle characteristics increases. It is preferable that the property is small (low birefringence).
前記偏光板保護フィルムとして広く用いられているトリアセチルセルロースフィルムは、偏光板保護フィルムの保護対象である偏光素子との接着性が低い、押出ではフィルム成形できない、などの問題がある。
また、環状ポリオレフィンからなるフィルムが提案されているが、水蒸気透過率が低く気泡の発生及び偏光フィルムがカール、反りなどの変形が発生する問題があった。
The triacetyl cellulose film widely used as the polarizing plate protective film has problems such as low adhesiveness with a polarizing element to be protected by the polarizing plate protective film, and film formation by extrusion.
Further, although a film made of cyclic polyolefin has been proposed, there are problems that the water vapor transmission rate is low and bubbles are generated and the polarizing film is deformed such as curling and warping.
斯かる問題を有するトリアセチルセルロースフィルムに対して、ポリカーボネート樹脂（例えば、特許文献１参照）を用いたフィルムも提案されているが、三次元の屈折率異方性が大きい（複屈折度が大きい）という問題がある。 In contrast to the triacetyl cellulose film having such a problem, a film using a polycarbonate resin (see, for example, Patent Document 1) has also been proposed, but the three-dimensional refractive index anisotropy is large (the birefringence is large). ) Problem.
三次元の屈折率異方性が大きい（複屈折度が大きい）ことは、通常、膜厚方向の屈折率が、面内方向の屈折率と大きく異なっていることによるものであり、これは、例えば、フィルム溶融成形時の流動配向や、溶液キャスト製膜であれば、キャスト直後の溶媒蒸発時の流動配向やその後の工程である乾燥工程で、フィルムのしわ等を無くすために、フィルムに張力をかけざるを得ないこと等が主な原因となっている。これらの製膜工程を改善して、光学異方性を低減するには限界があり、他の特性、例えば、表面平坦性や膜厚むら、光学的なむら等の両立が難しいといった問題や極端に生産性が悪くなるという問題がある。 The large three-dimensional refractive index anisotropy (high birefringence) is usually due to the fact that the refractive index in the film thickness direction is significantly different from the refractive index in the in-plane direction. For example, in the case of film formation by film melt molding or solution casting, tension is applied to the film in order to eliminate wrinkling of the film in the flow alignment at the time of solvent evaporation immediately after casting and the subsequent drying process. The main cause is that it has to be applied. There are limits to improving these film-forming processes and reducing optical anisotropy, and other characteristics such as surface flatness, film thickness unevenness, and optical unevenness are difficult to achieve. There is a problem that productivity becomes worse.
また、従来より、特殊なポリカーボネート樹脂が開発されているが（特許文献２及び３参照）、このポリカーボネート樹脂をフラットパネルディスプレイ用偏光板保護フィルム又はフラットパネルディスプレイ用位相差フィルムとして用いることについては、全く検討されていなかった。 In addition, special polycarbonate resins have been developed conventionally (see Patent Documents 2 and 3), but for using this polycarbonate resin as a polarizing plate protective film for flat panel displays or a retardation film for flat panel displays, It was not considered at all.
本発明は、複屈折度が低く、水分透過率が高く、生産性を向上させることが可能なフラットパネルディスプレイ用偏光板保護フィルム及びフラットパネルディスプレイ用位相差フィルム、並びに、これらの使用方法を提供することを目的とする。 The present invention provides a polarizing plate protective film for a flat panel display, a retardation film for a flat panel display, and a method of using these, which have a low birefringence, a high water permeability, and can improve productivity. The purpose is to do.
本発明者は、前記目的を達成するために鋭意研究を重ねた結果、所定のポリカーボネート樹脂を含有するフィルムがフラットパネルディスプレイにおける偏光板保護フィルム又は位相差フィルムとして特に適していることを見出した。本発明は、かかる知見に基づいて完成したものである。 As a result of intensive studies to achieve the above object, the present inventor has found that a film containing a predetermined polycarbonate resin is particularly suitable as a polarizing plate protective film or a retardation film in a flat panel display. The present invention has been completed based on such findings.
すなわち、本発明のフラットパネルディスプレイ用偏光板保護フィルムは、一般式（１）で表される化合物９９モル％〜５モル％と、ジヒドロキシ化合物１モル％〜９５モル％との２種の成分を、炭酸ジエステルによりカーボネート結合させてなるポリカーボネート樹脂を含むことを特徴とする。
前記一般式（１）で表される化合物は、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、９，９−ビス（４−（２−ヒドロキシエトキシ）フェニル）フルオレンである（前記一般式（１）において、Ｒ1及びＲ2が水素原子であり、Ｘがエチレン基である）ことが望ましい。 The compound represented by the general formula (1) is not particularly limited and may be appropriately selected depending on the purpose, and is 9,9-bis (4- (2-hydroxyethoxy) phenyl) fluorene ( In the general formula (1), R 1 and R 2 are preferably a hydrogen atom, and X is an ethylene group.
前記ジヒドロキシ化合物は、構造式（１）で表される化合物（ビスフェノールＡ）であってもよく、一般式（２）で表される化合物であってもよい。
前記一般式（２）で表される化合物は、トリシクロ［５．２．１．０2,6］デカンジメタノール、シクロヘキサン−１，４−ジメタノール、及びペンタシクロペンタデカンジメタノールから選ばれる少なくとも１つであることが望ましく、トリシクロ［５．２．１．０2,6］デカンジメタノールであることがより望ましい。
The dihydroxy compound may be a compound represented by the structural formula (1) (bisphenol A) or a compound represented by the general formula (2).
The compound represented by the general formula (2) is at least one selected from tricyclo [5.2.1.0 2,6 ] decane dimethanol, cyclohexane-1,4-dimethanol, and pentacyclopentadecane dimethanol. And more preferably tricyclo [5.2.1.0 2,6 ] decanedimethanol.
本発明のフラットパネルディスプレイ用偏光板保護フィルムのリタデーションは、全可視光領域で、１０ｎｍ以下が望ましい。 The retardation of the polarizing plate protective film for a flat panel display of the present invention is preferably 10 nm or less in the entire visible light region.
本発明のフラットパネルディスプレイ用偏光板保護フィルムの水蒸気透過率が、１５ｇ／ｍ２／ｄａｙ〜６００ｇ／ｍ２／ｄａｙであることが望ましい。 Water vapor transmission rate of a flat panel polarizing plate protective film for display of the present invention, it is desirable that the 15g / m 2 / day~600g / m 2 / day.
本発明のフラットパネルディスプレイ用偏光板保護フィルムの光弾性係数は、５０×１０−１２ｍ２／Ｎ以下が望ましく、４０×１０−１２ｍ２／Ｎ以下がより望ましい。 The photoelastic coefficient of the polarizing plate protective film for a flat panel display of the present invention is preferably 50 × 10 −12 m 2 / N or less, and more preferably 40 × 10 −12 m 2 / N or less.
本発明のフラットパネルディスプレイ用偏光板保護フィルムの波長６００ｎｍにおけるリタデーションが２０ｎｍ以下であることが望ましい。 It is desirable that the retardation at a wavelength of 600 nm of the polarizing plate protective film for a flat panel display of the present invention is 20 nm or less.
本発明のフラットパネルディスプレイ用偏光板保護フィルムは、延伸速度０．０００１ｍ／ｓｅｃ〜１０ｍ／ｓｅｃ、かつ、面積延伸倍率１．０５倍〜４．０倍で少なくとも１方向に延伸されていてもよい。 The polarizing plate protective film for a flat panel display of the present invention may be stretched in at least one direction at a stretching speed of 0.0001 m / sec to 10 m / sec and an area stretching ratio of 1.05 to 4.0 times. .
本発明のフラットパネルディスプレイ用位相差フィルムは、一般式（１）で表される化合物９９モル％〜５モル％と、ジヒドロキシ化合物１モル％〜９５モル％との２種の成分を、炭酸ジエステルによりカーボネート結合させてなるポリカーボネート樹脂を含むことを特徴とする。
本発明のフラットパネルディスプレイ用位相差フィルムのリタデーションは、全可視光領域で、２０ｎｍ以下が望ましい。 The retardation of the retardation film for a flat panel display of the present invention is preferably 20 nm or less in the entire visible light region.
本発明のフラットパネルディスプレイ用位相差フィルムの水蒸気透過率が、１５ｇ／ｍ２／ｄａｙ〜６００ｇ／ｍ２／ｄａｙであることが望ましい。 Water vapor transmission rate of the phase difference film for a flat panel display of the present invention, it is desirable that the 15g / m 2 / day~600g / m 2 / day.
本発明のフラットパネルディスプレイ用位相差フィルムの光弾性係数は、５０×１０−１２ｍ２／Ｎ以下が望ましく、４０×１０−１２ｍ２／Ｎ以下がより望ましい。 The photoelastic coefficient of the retardation film for a flat panel display of the present invention is preferably 50 × 10 −12 m 2 / N or less, and more preferably 40 × 10 −12 m 2 / N or less.
本発明のフラットパネルディスプレイ用位相差フィルムの波長６００ｎｍにおけるリタデーションが２５ｎｍ以下であることが望ましい。 The retardation at a wavelength of 600 nm of the retardation film for a flat panel display of the present invention is preferably 25 nm or less.
本発明のフラットパネルディスプレイ用位相差フィルムは、延伸速度０．０００１ｍ／ｓｅｃ〜１０ｍ／ｓｅｃ、かつ、面積延伸倍率１．０５倍〜４．０倍で少なくとも１方向に延伸されていてもよい。 The retardation film for flat panel displays of the present invention may be stretched in at least one direction at a stretching speed of 0.0001 m / sec to 10 m / sec and an area stretch ratio of 1.05 to 4.0.
本発明の使用方法は、一般式（１）で表される化合物９９モル％〜５モル％と、ジヒドロキシ化合物１モル％〜９５モル％との２種の成分を、炭酸ジエステルによりカーボネート結合させてなるポリカーボネート樹脂を含むフィルムをフラットパネルディスプレイ用偏光板保護フィルムとして使用することを特徴とする。
本発明の使用方法は、一般式（１）で表される化合物９９モル％〜５モル％と、ジヒドロキシ化合物１モル％〜９５モル％との２種の成分を、炭酸ジエステルによりカーボネート結合させてなるポリカーボネート樹脂を含むフィルムをフラットパネルディスプレイ用位相差フィルムとして使用することを特徴とする。
本発明によれば、複屈折度が低く、水分透過率が高く、生産性を向上させることが可能なフラットパネルディスプレイ用偏光板保護フィルム及びフラットパネルディスプレイ用位相差フィルム、並びに、これらの使用方法を提供することができる。 According to the present invention, a polarizing plate protective film for a flat panel display, a retardation film for a flat panel display, and a method of using these, having a low birefringence, a high moisture permeability, and capable of improving productivity Can be provided.
以下、本発明について、必要に応じて図面を参照しつつ具体的に説明する。 Hereinafter, the present invention will be specifically described with reference to the drawings as necessary.
（フラットパネルディスプレイ用偏光板保護フィルム及びその使用方法）
本発明のフラットパネルディスプレイ用偏光板保護フィルムは、少なくとも、所定のポリカーボネート樹脂を含有してなり、さらに必要に応じて、その他の成分を含有してなる。
(Polarizing plate protective film for flat panel display and its usage)
The polarizing plate protective film for a flat panel display of the present invention contains at least a predetermined polycarbonate resin, and further contains other components as necessary.
本発明のフラットパネルディスプレイ用偏光板保護フィルムのリタデーションは、全可視光領域で、１０ｎｍ以下が好ましい。
前記リタデーションが１０ｎｍを超えると、偏光子の偏光度を低下させ、フラットパネルディスプレイの視認性が低下することがある。
なお、前記リタデーションは、例えば、エリプソメ−ター（商品名：Ｍ２２０、日本分光製）を用いて測定することができる。
The retardation of the polarizing plate protective film for a flat panel display of the present invention is preferably 10 nm or less in the entire visible light region.
When the retardation exceeds 10 nm, the degree of polarization of the polarizer may be lowered, and the visibility of the flat panel display may be lowered.
The retardation can be measured using, for example, an ellipsometer (trade name: M220, manufactured by JASCO).
本発明のフラットパネルディスプレイ用偏光板保護フィルムの水蒸気透過率としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、１５ｇ／ｍ２／ｄａｙ〜６００ｇ／ｍ２／ｄａｙが好ましく、２０ｇ／ｍ２／ｄａｙ〜６００ｇ／ｍ２／ｄａｙがより好ましく、３０ｇ／ｍ２／ｄａｙ〜４００ｇ／ｍ２／ｄａｙが特に好ましい。
前記水蒸気透過率が、１５ｇ／ｍ２／ｄａｙ未満であると、カール、反り等の変形や気泡が発生することがあり、６００ｇ／ｍ２／ｄａｙを超えると、高温高湿での耐久性が低下することがある。
なお、前記水蒸気透過率は、例えば、Ｌ８０−４０００Ｌ（ＬＹＳＳＹ ＡＧ ＺＬＬＩＫＯＮ社製）を使用して、４０℃／９０％ＲＨ条件で、ＪＩＳ−Ｋ７２０９のＡ法に準じて測定することができる。
The water vapor permeability of the flat panel polarizing plate protective film for display of the present invention is not particularly limited and may be appropriately selected depending on the intended purpose, is preferably 15g / m 2 / day~600g / m 2 / day , more preferably 20g / m 2 / day~600g / m 2 / day, 30g / m 2 / day~400g / m 2 / day is especially preferred.
When the water vapor transmission rate is less than 15 g / m 2 / day, deformation such as curling and warping or bubbles may occur. When the water vapor transmission rate exceeds 600 g / m 2 / day, durability at high temperature and high humidity is obtained. May decrease.
In addition, the said water-vapor-permeation rate can be measured according to A method of JIS-K7209 on 40 degreeC / 90% RH conditions, for example using L80-4000L (made by LYSSY AG ZLLIKON).
本発明のフラットパネルディスプレイ用偏光板保護フィルムの光弾性係数としては、５０×１０−１２ｍ２／Ｎ以下が好ましく、４０×１０−１２ｍ２／Ｎ以下がより好ましい。
前記光弾性係数が、５０×１０−１２ｍ２／Ｎを超えると、リタデーションが大きくなってしまうことがある。一方、前記光弾性係数が、より好ましい範囲内であると、リタデーションを小さくすることができる点で有利である。
なお、前記光弾性係数は、例えば、エリプソメーター（商品名：Ｍ２２０、日本分光製
）を用いて、厚さ１００μｍのキャストフィルムに、波長６３３ｎｍのレーザー光線を照射し、フィルムにかけた荷重の変化に対する複屈折の変化を測定し算出することにより測定することができる。
As a photoelastic coefficient of the polarizing plate protective film for flat panel displays of this invention, 50 * 10 < -12 > m < 2 > / N or less is preferable and 40 * 10 < -12 > m < 2 > / N or less is more preferable.
When the photoelastic coefficient exceeds 50 × 10 −12 m 2 / N, retardation may increase. On the other hand, when the photoelastic coefficient is within a more preferable range, it is advantageous in that the retardation can be reduced.
The photoelastic coefficient can be determined by, for example, using an ellipsometer (trade name: M220, manufactured by JASCO Corporation) to irradiate a cast film having a thickness of 100 μm with a laser beam having a wavelength of 633 nm and applying a compound to changes in load applied to the film. It can be measured by measuring and calculating the change in refraction.
本発明のフラットパネルディスプレイ用偏光板保護フィルムの波長６００ｎｍにおけるリタデーションとしては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、２０ｎｍ以下が好ましく、１０ｎｍ以下がより好ましい。
前記リタデーションが、２０ｎｍを超えると、保護対象である偏光フィルム（偏光子）の偏光度を低下させることがある。一方、前記リタデーションが、より好ましい範囲内であると、保護フィルムの張り合わせの角度の自由度を拡大し、着色等を防止することができる点で有利である。
なお、前記リタデーションは、例えば、エリプソメーター（商品名：Ｍ２２０、日本分光製）を用いて測定することができる。
また、偏光板保護フィルムに位相差フィルムの機能をもたせる際には、リタデーションを液晶にあわせて発現させてもよい。
There is no restriction | limiting in particular as retardation in the wavelength 600nm of the polarizing plate protective film for flat panel displays of this invention, Although it can select suitably according to the objective, 20 nm or less is preferable and 10 nm or less is more preferable.
If the retardation exceeds 20 nm, the degree of polarization of the polarizing film (polarizer) to be protected may be lowered. On the other hand, when the retardation is in a more preferable range, it is advantageous in that the degree of freedom of the bonding angle of the protective film can be expanded and coloring and the like can be prevented.
The retardation can be measured using, for example, an ellipsometer (trade name: M220, manufactured by JASCO Corporation).
Moreover, when giving the function of a retardation film to the polarizing plate protective film, retardation may be expressed in accordance with the liquid crystal.
本発明のフラットパネルディスプレイ用偏光板保護フィルムの厚みとしては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、５μｍ〜５００μｍが好ましく、 １０μｍ〜１５０μｍがより好ましい。
前記厚みが、５μｍ未満であると、強度が低下することがあり、５００μｍを超えると、透明性が低下し、リタデーションが高くなり、外観が悪くなることがある。一方、前記厚みが、より好ましい範囲内であると、強度を保ちつつ、外観が良好となる点で有利である。
なお、前記厚みは、例えば、電子マイクロ膜厚計（商品名：ＫＬ１３００Ｂ、アンリツ社製）を用いて、測定することができる。
There is no restriction | limiting in particular as thickness of the polarizing plate protective film for flat panel displays of this invention, Although it can select suitably according to the objective, 5 micrometers-500 micrometers are preferable, and 10 micrometers-150 micrometers are more preferable.
If the thickness is less than 5 μm, the strength may decrease, and if it exceeds 500 μm, the transparency may decrease, the retardation may increase, and the appearance may deteriorate. On the other hand, when the thickness is within a more preferable range, it is advantageous in that the appearance is improved while maintaining the strength.
The thickness can be measured using, for example, an electronic micro film thickness meter (trade name: KL1300B, manufactured by Anritsu Corporation).
本発明のフラットパネルディスプレイ用偏光板保護フィルムの引張強度としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、６０ＭＰａ以上が好ましく、７０ＭＰａ以上がより好ましい。
前記引張強度が、６０ＭＰａ未満であると、強度不足となることがある。
なお、前記引張強度は、例えば、引っ張り試験機（商品名：オートグラフＡＧＳ-100Ｇ、島津製作所製）を用いて、ＡＳＴＭ Ｄ８８２−６１Ｔに基づき測定することができる。
There is no restriction | limiting in particular as tensile strength of the polarizing plate protective film for flat panel displays of this invention, Although it can select suitably according to the objective, 60 MPa or more is preferable and 70 MPa or more is more preferable.
If the tensile strength is less than 60 MPa, the strength may be insufficient.
The tensile strength can be measured based on ASTM D882-61T using, for example, a tensile tester (trade name: Autograph AGS-100G, manufactured by Shimadzu Corporation).
本発明のフラットパネルディスプレイ用偏光板保護フィルムの形成方法としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、溶融押出法、キャスト法、などが挙げられる。これらの中でも、溶融押出法が、生産性の点で、好ましい。
溶融押出法における条件としては、特に制限はなく、Ｔダイを用いた方法、インフレーション法など、目的に応じて適宜選択することができるが、厚さムラが小さく、厚さ１５μｍ〜５００μｍに加工しやすいＴダイを用いる方法が好ましい。
There is no restriction | limiting in particular as a formation method of the polarizing plate protective film for flat panel displays of this invention, According to the objective, it can select suitably, For example, the melt extrusion method, the casting method, etc. are mentioned. Among these, the melt extrusion method is preferable in terms of productivity.
The conditions in the melt extrusion method are not particularly limited, and can be appropriately selected according to the purpose, such as a method using a T-die or an inflation method, but the thickness unevenness is small, and the thickness is processed to 15 μm to 500 μm. A method using an easy T-die is preferred.
本発明のフラットパネルディスプレイ用偏光板保護フィルムは、少なくとも１方向に延伸されていてもよい。
前記延伸としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、一軸延伸及び二軸延伸のいずれであってもよい。前記二軸延伸の場合は、逐次延伸及び同時延伸のいずれであってもよい。
The polarizing plate protective film for a flat panel display of the present invention may be stretched in at least one direction.
There is no restriction | limiting in particular as said extending | stretching, According to the objective, it can select suitably, Either uniaxial stretching and biaxial stretching may be sufficient. In the case of the biaxial stretching, either sequential stretching or simultaneous stretching may be used.
前記延伸における延伸速度としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、０．０００１ｍ／ｓｅｃ〜１０ｍ／ｓｅｃが好ましい。
前記延伸速度が、０．０００１ｍ／ｓｅｃ未満であると、生産性が悪いことがあり、１０ｍ／ｓｅｃを超えると、フィルムが破断しやすく歩留まりが低下することがある。
There is no restriction | limiting in particular as an extending | stretching speed | rate in the said extending | stretching, Although it can select suitably according to the objective, 0.0001 m / sec-10 m / sec are preferable.
If the stretching speed is less than 0.0001 m / sec, the productivity may be poor, and if it exceeds 10 m / sec, the film may be easily broken and the yield may be reduced.
前記延伸における面積延伸倍率としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、１．０５倍〜４．０倍が好ましく、１．０５倍〜３．０倍がより好ましい。
前記面積延伸倍率が、１．０５倍未満であると、リタデーションの制御が難しいことがあり、４．０倍を超えると、破断しやすく歩留まりが低下することがある。
前記面積延伸倍率は、生産性に応じて選択できる。
There is no restriction | limiting in particular as an area draw ratio in the said extending | stretching, Although it can select suitably according to the objective, 1.05 times-4.0 times are preferable, 1.05 times-3.0 times are more preferable. .
When the area stretch ratio is less than 1.05 times, it may be difficult to control the retardation, and when it exceeds 4.0 times, it may be easily broken and the yield may be lowered.
The area stretch ratio can be selected according to productivity.
前記延伸における延伸温度としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、ガラス転移点（Ｔｇ）−３０℃〜ガラス転移点（Ｔｇ）＋５０℃が好ましく、Ｔｇ−２０℃〜Ｔｇ＋３０℃がより好ましい。
前記延伸温度が、Ｔｇ−３０℃未満であると、破断することがあり、Ｔｇ＋５０℃を超えると、形状を保てないことがある。一方、前記延伸温度が、より好ましい範囲内であると、リタデーションの制御の点で有利である。
There is no restriction | limiting in particular as extending | stretching temperature in the said extending | stretching, Although it can select suitably according to the objective, Glass transition point (Tg) -30 degreeC-Glass transition point (Tg) +50 degreeC are preferable, Tg-20 degreeC -Tg + 30 degreeC is more preferable.
If the stretching temperature is less than Tg-30 ° C, the film may break, and if it exceeds Tg + 50 ° C, the shape may not be maintained. On the other hand, when the stretching temperature is in a more preferable range, it is advantageous in terms of retardation control.
＜フラットパネルディスプレイ＞
前記フラットパネルディスプレイとしては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、液晶表示装置、などが挙げられる。
例えば、図１に示すように、液晶表示装置１は、２枚の保護フィルム２，３により介装された偏光フィルム４を有する２つの偏光板５，６と、２つの偏光板５，６間に配設された液晶セル７とを備える。
<Flat panel display>
There is no restriction | limiting in particular as said flat panel display, According to the objective, it can select suitably, For example, a liquid crystal display device etc. are mentioned.
For example, as shown in FIG. 1, the liquid crystal display device 1 includes two
−偏光板−
前記偏光板は、偏光フィルムの片面又は両面に保護フィルムを貼り合わせることによって製造されるが、偏光フィルムの両面に貼り合わせることが好ましい。
ここで、貼り合わせには、透明度が高く、経時的に着色しにくく、耐熱性に優れた接着剤を用いるのが好ましい。前記接着剤としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、アクリル系接着剤、エポキシ系接着剤、ウレタン系接着剤が好ましい。
-Polarizing plate-
Although the said polarizing plate is manufactured by bonding a protective film on the single side | surface or both surfaces of a polarizing film, it is preferable to bond on both surfaces of a polarizing film.
Here, for the bonding, it is preferable to use an adhesive that has high transparency, is difficult to be colored with time, and has excellent heat resistance. There is no restriction | limiting in particular as said adhesive agent, Although it can select suitably according to the objective, Acrylic adhesive agent, an epoxy-type adhesive agent, and a urethane type adhesive agent are preferable.
−−偏光フィルム−−
前記偏光フィルムとしては、偏光機能を有する薄膜である限り、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、ポリビニルアルコール系フィルムにヨウ素又は２色性色素を吸着させて延伸配向させたフィルム、などが挙げられる。
前記偏光フィルムの製造方法としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、ヨウ素又は２色性色素を溶解させた１０℃〜５０℃の水溶液に高分子フィルムを浸漬し、ヨウ素又は２色性色素を吸着させた後、該フィルムを金属イオン、ホウ酸などの添加剤を溶解した１０℃〜８０℃の水溶液中に浸漬した状態で、１方向に２．５倍〜８倍に延伸する方法、などが挙げられる。
前記偏光フィルムの厚みとしては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、強度と外観のバランスの点から、１μｍ〜２００μｍが好ましく、１０μｍ〜１５０μｍがより好ましく、１５μｍ〜１００μmが特に好ましい。
--- Polarizing film--
The polarizing film is not particularly limited as long as it is a thin film having a polarizing function, and can be appropriately selected according to the purpose. For example, iodine or dichroic dye is adsorbed on a polyvinyl alcohol film and stretched. And the like.
There is no restriction | limiting in particular as a manufacturing method of the said polarizing film, According to the objective, it can select suitably, For example, a polymer film is immersed in the aqueous solution of 10 to 50 degreeC which melt | dissolved the iodine or dichroic dye. After adsorbing iodine or dichroic dye, the film was immersed in an aqueous solution at 10 ° C. to 80 ° C. in which additives such as metal ions and boric acid were dissolved, and 2.5 times in one direction. The method of extending | stretching to 8 times etc. are mentioned.
There is no restriction | limiting in particular as thickness of the said polarizing film, Although it can select suitably according to the objective, 1 micrometer-200 micrometers are preferable from the point of the balance of intensity | strength and an external appearance, 10 micrometers-150 micrometers are more preferable, 15 micrometers-100 micrometers Is particularly preferred.
＜ポリカーボネート樹脂＞
前記ポリカーボネート樹脂は、一般式（１）で表される化合物と、ジヒドロキシ化合物とを反応させたものである限り、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができる。
The polycarbonate resin is not particularly limited as long as it is a compound obtained by reacting the compound represented by the general formula (1) with a dihydroxy compound, and can be appropriately selected according to the purpose.
前記ポリカーボネート樹脂のポリスチレン換算重量平均分子量（Ｍｗ）としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、２０，０００〜３００，０００が好ましく、３５，０００〜１２０，０００がより好ましい。前記ポリカーボネート樹脂のポリスチレン換算重量平均分子量（Ｍｗ）が、２０，０００未満であると、フィルムが脆くなることがあり、３００，０００を超えると、溶融粘度が高くなるため、製造後の樹脂の抜き取りが困難となり、また、溶剤への溶解性が悪くなってキャスト法でのシート成形が困難となり、溶融粘度が高くなるため押し出し成形が困難となる、などの問題が生じることがある。
なお、前記ポリスチレン換算重量平均分子量は、ＧＰＣ（商品名：ＧＰＣ Ｓｙｓｔｅｍ−２１Ｈ、昭和電工（株）製）を用い、クロロホルムを展開溶媒として、既知の分子量（分子量分布＝１）の標準ポリスチレンを用いて作成した検量線に基づいて、ＧＰＣのリテンションタイムから算出することができる。
There is no restriction | limiting in particular as a polystyrene conversion weight average molecular weight (Mw) of the said polycarbonate resin, Although it can select suitably according to the objective, 20,000-300,000 are preferable and 35,000-120,000 are. More preferred. If the polycarbonate resin has a polystyrene-equivalent weight average molecular weight (Mw) of less than 20,000, the film may become brittle, and if it exceeds 300,000, the melt viscosity becomes high. In addition, it may be difficult to form a sheet by the casting method due to poor solubility in a solvent, and extrusion molding may be difficult due to an increase in melt viscosity.
The polystyrene-equivalent weight average molecular weight is GPC (trade name: GPC System-21H, manufactured by Showa Denko KK), chloroform is used as a developing solvent, and standard polystyrene having a known molecular weight (molecular weight distribution = 1) is used. It can be calculated from the retention time of GPC based on the calibration curve created in this way.
前記ポリカーボネート樹脂の構造としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、ランダム構造、ブロック構造、交互共重合構造、などが挙げられる。 There is no restriction | limiting in particular as a structure of the said polycarbonate resin, According to the objective, it can select suitably, For example, a random structure, a block structure, an alternating copolymer structure, etc. are mentioned.
前記ポリカーボネート樹脂のガラス転移温度（Ｔｇ）としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、９０℃〜１８０℃が好ましく、１００℃〜１７０℃がより好ましい。前記ガラス転移温度（Ｔｇ）が９０℃未満であると、使用温度範囲が狭くなることがあり、１８０℃を超えると、押し出し成形を行う際の成形条件が厳しくなることがある。
なお、前記ガラス転移温度（Ｔｇ）は、示差走査熱量分析計（ＤＳＣ）（セイコーインスツルメンツ（株）製）を用いて測定することができる。
There is no restriction | limiting in particular as glass transition temperature (Tg) of the said polycarbonate resin, Although it can select suitably according to the objective, 90 to 180 degreeC is preferable and 100 to 170 degreeC is more preferable. When the glass transition temperature (Tg) is less than 90 ° C., the use temperature range may be narrowed, and when it exceeds 180 ° C., the molding conditions for extrusion molding may be severe.
The glass transition temperature (Tg) can be measured using a differential scanning calorimeter (DSC) (manufactured by Seiko Instruments Inc.).
−一般式（１）で表される化合物−
前記一般式（１）で表される化合物としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、９，９−ビス（４−（２−ヒドロキシエトキシ）フェニル）フルオレン（前記一般式（１）で表される化合物において、Ｒ1及びＲ2が水素原子であり、Ｘがエチレン基である）、９，９−ビス（４−（２−ヒドロキシエトキシ）−３−メチルフェニル）フルオレン、９，９−ビス（４−（２−ヒドロキシエトキシ）−３，５−ジメチルフェニル）フルオレン、９，９−ビス（４−（２−ヒドロキシエトキシ）−３−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）フルオレン、９，９−ビス（４−（２−ヒドロキシエトキシ）−３−イソプロピルフェニル）フルオレン、９，９−ビス（４−（２−ヒドロキシエトキシ）−３−シクロヘキシルフェニル）フルオレン、などが挙げられる。これらは、１種単独で使用してもよいし、２種以上を併用してもよい。
これらの中でも、９，９−ビス（４−（２−ヒドロキシエトキシ）フェニル）フルオレン（前記一般式（１）において、Ｒ1及びＲ2が水素原子であり、Ｘがエチレン基である）が、樹脂の物性バランスの点で、好ましい。
-Compound represented by the general formula (1)-
There is no restriction | limiting in particular as a compound represented by the said General formula (1), According to the objective, it can select suitably, For example, 9,9-bis (4- (2-hydroxyethoxy) phenyl) fluorene ( In the compound represented by the general formula (1), R 1 and R 2 are hydrogen atoms and X is an ethylene group), 9,9-bis (4- (2-hydroxyethoxy) -3-methyl Phenyl) fluorene, 9,9-bis (4- (2-hydroxyethoxy) -3,5-dimethylphenyl) fluorene, 9,9-bis (4- (2-hydroxyethoxy) -3-tert-butylphenyl) Fluorene, 9,9-bis (4- (2-hydroxyethoxy) -3-isopropylphenyl) fluorene, 9,9-bis (4- (2-hydroxyethoxy) -3-cyclohexylpheny E) fluorene. These may be used individually by 1 type and may use 2 or more types together.
Among these, 9,9-bis (4- (2-hydroxyethoxy) phenyl) fluorene (in the general formula (1), R 1 and R 2 are hydrogen atoms and X is an ethylene group), It is preferable in terms of balance of physical properties of the resin.
前記一般式（１）で表される化合物の仕込み量としては、前記一般式（１）で表される化合物と前記ジヒドロ化合物との合計に対して、５モル％〜９９モル％である限り、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、６５モル％〜９５モル％が好ましく、８０モル％〜９５モル％がより好ましい。
前記一般式（１）で表される化合物の仕込み量が、５モル％未満となる、又は、９９モル％を超えると、ポリカーボネート樹脂の複屈折が大きくなる。一方、前記一般式（１）で表される化合物の仕込み量が前記好ましい範囲内であると、ポリカーボネート樹脂の複屈折が小さくなる点で有利である。
As the amount of the compound represented by the general formula (1), as long as it is 5 mol% to 99 mol% with respect to the total of the compound represented by the general formula (1) and the dihydro compound, There is no restriction | limiting in particular, Although it can select suitably according to the objective, 65 mol%-95 mol% are preferable and 80 mol%-95 mol% are more preferable.
When the amount of the compound represented by the general formula (1) is less than 5 mol% or exceeds 99 mol%, the birefringence of the polycarbonate resin is increased. On the other hand, when the amount of the compound represented by the general formula (1) is within the preferable range, it is advantageous in that the birefringence of the polycarbonate resin is reduced.
−ジヒドロキシ化合物−
前記ジヒドロキシ化合物としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、構造式（１）で表される化合物（ビスフェノールＡ）、トリシクロ［５．２．１．０2,6］デカンジメタノール、シクロヘキサン−１，４−ジメタノール、デカリン−２，６−ジメタノール、ノルボルナンジメタノール、ペンタシクロペンタデカンジメタノール、シクロペンタン−１，３−ジメタノール、１，４−ブタンジオール、１，６−ヘキサンジオール等の、一般式（２）で表される化合物などが挙げられる。これらは、１種単独で使用してもよいし、２種以上を併用してもよい。
There is no restriction | limiting in particular as said dihydroxy compound, According to the objective, it can select suitably, For example, the compound (bisphenol A) represented by Structural formula (1), tricyclo [5.2.1.0 2, 6 ] decanedimethanol, cyclohexane-1,4-dimethanol, decalin-2,6-dimethanol, norbornane dimethanol, pentacyclopentadecanedimethanol, cyclopentane-1,3-dimethanol, 1,4-butanediol And a compound represented by the general formula (2) such as 1,6-hexanediol. These may be used individually by 1 type and may use 2 or more types together.
これらの中でも、ビスフェノールＡ、トリシクロ［５．２．１．０2,6］デカンジメタノール、シクロヘキサン−１，４−ジメタノール、及びペンタシクロペンタデカンジメタノールが好ましく、ビスフェノールＡ及びトリシクロ［５．２．１．０2,6］デカンジメタノールがより好ましく、ビスフェノールＡが特に好ましい。 Among these, bisphenol A, tricyclo [5.2.1.0 2,6 ] decanedimethanol, cyclohexane-1,4-dimethanol, and pentacyclopentadecanedimethanol are preferable, and bisphenol A and tricyclo [5.2 .1.0 2,6] decanedimethanol is more preferable, and bisphenol A is particularly preferred.
前記ジヒドロキシ化合物の仕込み量としては、前記一般式（１）で表される化合物と前記ジヒドロ化合物との合計に対して、１モル％〜９５モル％である限り、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、５モル％〜３５モル％が好ましく、５モル％〜２０モル％がより好ましい。
前記ジヒドロキシ化合物の仕込み量が、１モル％未満である、又は、９５モル％を超えると、ポリカーボネート樹脂の複屈折が大きくなる。一方、前記ジヒドロキシ化合物の仕込み量が前記好ましい範囲内であると、ポリカーボネート樹脂の複屈折が小さくなる点で有利である。
The amount of the dihydroxy compound charged is not particularly limited as long as it is 1 mol% to 95 mol% with respect to the total of the compound represented by the general formula (1) and the dihydro compound, depending on the purpose. However, 5 mol% to 35 mol% is preferable, and 5 mol% to 20 mol% is more preferable.
When the charged amount of the dihydroxy compound is less than 1 mol% or exceeds 95 mol%, the birefringence of the polycarbonate resin increases. On the other hand, when the charged amount of the dihydroxy compound is within the preferable range, it is advantageous in that the birefringence of the polycarbonate resin is reduced.
−ポリカーボネート樹脂の製造方法−
前記ポリカーボネート樹脂の製造方法としては、炭酸ジエステルによりカーボネート結合させてなるものである限り、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、ジヒドロキシ化合物と炭酸ジエステルとを、塩基性化合物触媒、重金属系のエステル交換触媒、又は、その双方からなる混合触媒の存在下反応させる溶融重縮合法が好ましい。
-Manufacturing method of polycarbonate resin-
The method for producing the polycarbonate resin is not particularly limited as long as it is carbonate-bonded with a carbonic acid diester, and can be appropriately selected according to the purpose. A dihydroxy compound and a carbonic acid diester can be selected as a basic compound. A melt polycondensation method in which a reaction is performed in the presence of a catalyst, a heavy metal transesterification catalyst, or a mixed catalyst composed of both is preferred.
−−炭酸ジエステル−−
前記炭酸ジエステルとしては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、ジフェニルカーボネート、ジトリールカーボネート、ビス（クロロフェニル）カーボネート、ｍ−クレジルカーボネート、ジメチルカーボネート、ジエチルカーボネート、ジブチルカーボネート、ジシクロヘキシルカーボネート、などが挙げられる。これらは、１種単独で使用してもよいし、２種以上を併用してもよい。
これらの中でも、ジフェニルカーボネートが、入手しやすい点で、好ましい。
-Carbonic acid diester-
There is no restriction | limiting in particular as said carbonic acid diester, According to the objective, it can select suitably, For example, diphenyl carbonate, ditolyl carbonate, bis (chlorophenyl) carbonate, m-cresyl carbonate, dimethyl carbonate, diethyl carbonate, dibutyl And carbonate, dicyclohexyl carbonate, and the like. These may be used individually by 1 type and may use 2 or more types together.
Among these, diphenyl carbonate is preferable because it is easily available.
前記炭酸ジエステルの仕込み量としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、前記一般式（１）で表される化合物及び前記ジヒドロキシ化合物との合計１モルに対して、０．９７モル〜１．２０モルが好ましく、０．９８モル〜１．１０モルがより好ましい。
前記炭酸ジエステルの仕込み量が、０．９７モル未満である、又は、１．２０モルを超えると、高分子量の樹脂が得られないことがある。
There is no restriction | limiting in particular as the preparation amount of the said carbonic acid diester, Although it can select suitably according to the objective, With respect to 1 mol in total with the compound represented by the said General formula (1), and the said dihydroxy compound, 0.97 mol to 1.20 mol is preferable, and 0.98 mol to 1.10 mol is more preferable.
When the charged amount of the carbonic acid diester is less than 0.97 mol or exceeds 1.20 mol, a high molecular weight resin may not be obtained.
−−塩基性化合物触媒−−
前記塩基性化合物触媒としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、アルカリ金属化合物、アルカリ土類金属化合物、含窒素化合物、などが挙げられる。これらは、１種単独で使用してもよいし、２種以上を併用してもよい。
これらの中でも、アルカリ金属化合物又はアルカリ土類金属化合物の有機酸塩、無機塩、酸化物、水酸化物、水素化物、アルコキシド、４級アンモニウムヒドロキシド、それらの塩、及びアミン類が、好ましい。
--Basic compound catalyst--
There is no restriction | limiting in particular as said basic compound catalyst, According to the objective, it can select suitably, For example, an alkali metal compound, an alkaline-earth metal compound, a nitrogen-containing compound etc. are mentioned. These may be used individually by 1 type and may use 2 or more types together.
Among these, organic acid salts, inorganic salts, oxides, hydroxides, hydrides, alkoxides, quaternary ammonium hydroxides, salts thereof, and amines of alkali metal compounds or alkaline earth metal compounds are preferable.
−−−アルカリ金属化合物−−−
前記アルカリ金属化合物としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化セシウム、水酸化リチウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸セシウム、炭酸リチウム、酢酸ナトリウム、酢酸カリウム、酢酸セシウム、酢酸リチウム、ステアリン酸ナトリウム、ステアリン酸カリウム、ステアリン酸セシウム、ステアリン酸リチウム、水素化ホウ素ナトリウム、フェニル化ホウ素ナトリウム、安息香酸ナトリウム、安息香酸カリウム、安息香酸セシウム、安息香酸リチウム、リン酸水素２ナトリウム、リン酸水素２カリウム、リン酸水素２リチウム、フェニルリン酸２ナトリウム、ビスフェノールＡの２ナトリウム塩、２カリウム塩、２セシウム塩、２リチウム塩、フェノールのナトリウム塩、カリウム塩、セシウム塩、リチウム塩、などが挙げられる。これらは、１種単独で使用してもよいし、２種以上を併用してもよい。
--- Alkali metal compound ---
There is no restriction | limiting in particular as said alkali metal compound, According to the objective, it can select suitably, For example, sodium hydroxide, potassium hydroxide, cesium hydroxide, lithium hydroxide, sodium hydrogencarbonate, sodium carbonate, potassium carbonate , Cesium carbonate, lithium carbonate, sodium acetate, potassium acetate, cesium acetate, lithium acetate, sodium stearate, potassium stearate, cesium stearate, lithium stearate, sodium borohydride, sodium phenyl borohydride, sodium benzoate, benzoic acid Potassium phosphate, cesium benzoate, lithium benzoate, disodium hydrogen phosphate, dipotassium hydrogen phosphate, dilithium hydrogen phosphate, disodium phenylphosphate, disodium salt of bisphenol A, 2 potassium salt, 2 cesium salt 2 the lithium salt, the sodium salt of phenol, potassium salt, cesium salt, lithium salt, and the like. These may be used individually by 1 type and may use 2 or more types together.
−−−アルカリ土類金属化合物−−−
前記アルカリ土類金属化合物としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、水酸化マグネシウム、水酸化カルシウム、水酸化ストロンチウム、水酸化バリウム、炭酸水素マグネシウム、炭酸水素カルシウム、炭酸水素ストロンチウム、炭酸水素バリウム、炭酸マグネシウム、炭酸カルシウム、炭酸ストロンチウム、炭酸バリウム、酢酸マグネシウム、酢酸カルシウム、酢酸ストロンチウム、酢酸バリウム、ステアリン酸マグネシウム、ステアリン酸カルシウム、安息香酸カルシウム、フェニルリン酸マグネシウム、などが挙げられる。これらは、１種単独で使用してもよいし、２種以上を併用してもよい。
--- Alkaline earth metal compounds ---
The alkaline earth metal compound is not particularly limited and may be appropriately selected depending on the intended purpose. For example, magnesium hydroxide, calcium hydroxide, strontium hydroxide, barium hydroxide, magnesium hydrogen carbonate, calcium hydrogen carbonate , Strontium hydrogen carbonate, barium hydrogen carbonate, magnesium carbonate, calcium carbonate, strontium carbonate, barium carbonate, magnesium acetate, calcium acetate, strontium acetate, barium acetate, magnesium stearate, calcium stearate, calcium benzoate, magnesium phenyl phosphate, etc. Is mentioned. These may be used individually by 1 type and may use 2 or more types together.
−−−含窒素化合物−−−
前記含窒素化合物としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、テトラメチルアンモニウムヒドロキシド、テトラエチルアンモニウムヒドロキシド、テトラプロピルアンモニウムヒドロキシド、テトラブチルアンモニウムヒドロキシド、トリメチルベンジルアンモニウムヒドロキシド等のアルキル基、アリール基等を有する４級アンモニウムヒドロキシド類；トリエチルアミン、ジメチルベンジルアミン、トリフェニルアミン等の３級アミン類；ジエチルアミン、ジブチルアミン等の２級アミン類；プロピルアミン、ブチルアミン等の１級アミン類；２−メチルイミダゾール、２−フェニルイミダゾール、ベンゾイミダゾール等のイミダゾール類；アンモニア、テトラメチルアンモニウムボロハイドライド、テトラブチルアンモニウムボロハイドライド、テトラブチルアンモニウムテトラフェニルボレート、テトラフェニルアンモニウムテトラフェニルボレート等の塩基又は塩基性塩；などが挙げられる。これらは、１種単独で使用してもよいし、２種以上を併用してもよい。
--- Nitrogen compounds ---
The nitrogen-containing compound is not particularly limited and may be appropriately selected depending on the intended purpose. Examples thereof include tetramethylammonium hydroxide, tetraethylammonium hydroxide, tetrapropylammonium hydroxide, tetrabutylammonium hydroxide, trimethylbenzyl. Quaternary ammonium hydroxides having an alkyl group such as ammonium hydroxide, aryl groups, etc .; Tertiary amines such as triethylamine, dimethylbenzylamine and triphenylamine; Secondary amines such as diethylamine and dibutylamine; Propylamine, Primary amines such as butylamine; imidazoles such as 2-methylimidazole, 2-phenylimidazole and benzimidazole; ammonia, tetramethylammonium borohydride, Tetrabutylammonium borohydride, tetrabutylammonium tetraphenylborate, bases or basic salts such as tetraphenyl ammonium tetraphenylborate; and the like. These may be used individually by 1 type and may use 2 or more types together.
−−エステル交換触媒−−
前記エステル交換触媒としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、亜鉛、スズ、ジルコニウム、鉛の塩、などが挙げられる。これらは、１種単独で使用してもよいし、２種以上を併用してもよい。
--Transesterification catalyst--
There is no restriction | limiting in particular as said transesterification catalyst, According to the objective, it can select suitably, For example, zinc, tin, a zirconium, lead salt, etc. are mentioned. These may be used individually by 1 type and may use 2 or more types together.
前記エステル交換触媒の具体例としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、酢酸亜鉛、安息香酸亜鉛、２−エチルヘキサン酸亜鉛、塩化スズ（ＩＩ）、塩化スズ（ＩＶ）、酢酸スズ（ＩＩ）、酢酸スズ（ＩＶ）、ジブチルスズジラウレート、ジブチルスズオキサイド、ジブチルスズジメトキシド、ジルコニウムアセチルアセトナート、オキシ酢酸ジルコニウム、ジルコニウムテトラブトキシド、酢酸鉛（ＩＩ）、酢酸鉛（ＩＶ）、などが挙げられる。 Specific examples of the transesterification catalyst are not particularly limited and may be appropriately selected depending on the intended purpose. Examples thereof include zinc acetate, zinc benzoate, zinc 2-ethylhexanoate, tin (II) chloride, and tin chloride. (IV), tin acetate (II), tin acetate (IV), dibutyltin dilaurate, dibutyltin oxide, dibutyltin dimethoxide, zirconium acetylacetonate, zirconium oxyacetate, zirconium tetrabutoxide, lead (II) acetate, lead (IV) acetate , Etc.
前記エステル交換触媒の仕込み量としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、前記一般式（１）で表される化合物及び前記ジヒドロキシ化合物との合計１モルに対して、１０-9モル〜１０-3モルが好ましく、１０-7モル〜１０-4モルがより好ましい。
前記エステル交換触媒の仕込み量が、１０-9モル未満であると、重合活性が不十分となることがあり、１０-3モルを超えると、樹脂の着色原因となる等、樹脂が不安定となることがある。
There is no restriction | limiting in particular as the preparation amount of the said transesterification catalyst, Although it can select suitably according to the objective, With respect to 1 mol in total with the compound represented by the said General formula (1), and the said dihydroxy compound. 10 −9 mol to 10 −3 mol are preferable, and 10 −7 mol to 10 −4 mol are more preferable.
When the charged amount of the transesterification catalyst is less than 10 −9 mol, the polymerization activity may be insufficient, and when it exceeds 10 −3 mol, the resin is unstable, such as causing coloring of the resin. May be.
−−溶融重縮合法−−
前記溶融重縮合法は、前記の原料及び触媒を用いて、加熱下に、常圧又は減圧下にエステル交換反応により副生成物を除去しながら溶融重縮合を行うものである。反応は、一般には、二段以上の多段行程で実施される。
-Melt polycondensation method-
In the melt polycondensation method, melt polycondensation is carried out using the raw materials and catalyst while removing a by-product by transesterification under heating at normal pressure or under reduced pressure. The reaction is generally carried out in a multistage process of two or more stages.
具体的には、第一段目の反応を、１２０℃〜２６０℃、好ましくは、１８０℃〜２４０℃の温度で、０．１時間〜５時間、好ましくは、０．５時間〜３時間反応させる。次いで、反応系の減圧度を上げながら、反応温度を高めてジヒドロキシ化合物と炭酸ジエステルとの反応を行い、最終的には、１ｍｍＨｇ以下の減圧下、２００℃〜３５０℃の温度で、０．３時間〜１０時間重縮合反応を行う。このような反応は、連続式で行ってもよく、また、バッチ式で行ってもよい。上記の反応を行うに際して用いられる反応装置は、錨型攪拌翼、マックスブレンド攪拌翼、ヘリカルリボン型攪拌翼等を装備した縦型であっても、パドル翼、格子翼、メガネ翼等を装備した横型であっても、スクリューを装備した押出機型であってもよく、また、これらを重合物の粘度を勘案して、適宜組み合わせた反応装置を使用することが好ましい。 Specifically, the first stage reaction is performed at a temperature of 120 ° C. to 260 ° C., preferably 180 ° C. to 240 ° C., for 0.1 hour to 5 hours, preferably 0.5 hour to 3 hours. Let Next, the reaction temperature is increased while raising the degree of vacuum of the reaction system to carry out the reaction between the dihydroxy compound and the carbonic acid diester. Finally, the reaction is performed at a temperature of 200 ° C. to 350 ° C. under a reduced pressure of 1 mmHg or less. The polycondensation reaction is performed for 10 hours. Such a reaction may be carried out continuously or batchwise. The reaction apparatus used for carrying out the above reaction is equipped with paddle blades, lattice blades, glasses blades, etc. even with vertical types equipped with vertical stirring blades, Max blend stirring blades, helical ribbon stirring blades, etc. It may be a horizontal type or an extruder type equipped with a screw, and it is preferable to use a reactor in which these are appropriately combined in consideration of the viscosity of the polymer.
前記ポリカーボネート樹脂は、重合反応終了後、熱安定性および加水分解安定性を保持するために、触媒を除去又は失活させる。一般的には、公知の酸性物質の添加による触媒の失活を行う方法が好ましい。 The polycarbonate resin removes or deactivates the catalyst after the polymerization reaction in order to maintain thermal stability and hydrolysis stability. In general, a method of deactivating the catalyst by adding a known acidic substance is preferable.
前記酸性物質としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、安息香酸ブチル等のエステル類；ｐ−トルエンスルホン酸等の芳香族スルホン酸類；ｐ−トルエンスルホン酸ブチル、ｐ−トルエンスルホン酸ヘキシル等の芳香族スルホン酸エステル類；亜リン酸、リン酸、ホスホン酸等のリン酸類；亜リン酸トリフェニル、亜リン酸モノフェニル、亜リン酸ジフェニル、亜リン酸ジエチル、亜リン酸ジｎ−プロピル、亜リン酸ジｎ−ブチル、亜リン酸ジｎ−ヘキシル、亜リン酸ジオクチル、亜リン酸モノオクチル等の亜リン酸エステル類；リン酸トリフェニル、リン酸ジフェニル、リン酸モノフェニル、リン酸ジブチル、リン酸ジオクチル、リン酸モノオクチル等のリン酸エステル類；ジフェニルホスホン酸、ジオクチルホスホン酸、ジブチルホスホン酸等のホスホン酸類；フェニルホスホン酸ジエチル等のホスホン酸エステル類；トリフェニルホスフィン、ビス（ジフェニルホスフィノ）エタン等のホスフィン類；ホウ酸、フェニルホウ酸等のホウ酸類；ドデシルベンゼンスルホン酸テトラブチルホスホニウム塩等の芳香族スルホン酸塩類；ステアリン酸クロライド、塩化ベンゾイル、ｐ−トルエンスルホン酸クロライド等の有機ハロゲン化物；ジメチル硫酸等のアルキル硫酸；塩化ベンジル等の有機ハロゲン化物；などが挙げられる。 The acidic substance is not particularly limited and may be appropriately selected depending on the intended purpose. Examples thereof include esters such as butyl benzoate; aromatic sulfonic acids such as p-toluenesulfonic acid; butyl p-toluenesulfonate. , Aromatic sulfonic acid esters such as p-toluenesulfonic acid hexyl; phosphoric acids such as phosphorous acid, phosphoric acid, phosphonic acid; triphenyl phosphite, monophenyl phosphite, diphenyl phosphite, phosphorous acid Phosphorous esters such as diethyl, di-n-propyl phosphite, di-n-butyl phosphite, di-n-hexyl phosphite, dioctyl phosphite, monooctyl phosphite; triphenyl phosphate, phosphorus Phosphate esters such as diphenyl acid, monophenyl phosphate, dibutyl phosphate, dioctyl phosphate, monooctyl phosphate; diphenylphosphonic acid, geo Phosphonic acids such as tilphosphonic acid and dibutylphosphonic acid; Phosphonic acid esters such as diethyl phenylphosphonate; Phosphines such as triphenylphosphine and bis (diphenylphosphino) ethane; Boric acids such as boric acid and phenylboric acid; Dodecylbenzene Aromatic sulfonates such as tetrabutylphosphonium sulfonate; organic halides such as stearic acid chloride, benzoyl chloride, p-toluenesulfonic acid chloride; alkyl sulfuric acids such as dimethyl sulfate; organic halides such as benzyl chloride; Can be mentioned.
触媒失活後、ポリマー中の低沸点化合物を０．１ｍｍＨｇ〜１ｍｍＨｇの圧力、２００℃〜３５０℃の温度で脱揮除去する工程を設けてもよく、このためには、パドル翼、格子翼、メガネ翼等、表面更新能の優れた攪拌翼を備えた横型装置、又は薄膜蒸発器が好適に用いられる。 After deactivation of the catalyst, a step of devolatilizing and removing the low-boiling compound in the polymer at a pressure of 0.1 mmHg to 1 mmHg and a temperature of 200 ° C to 350 ° C may be provided. A horizontal apparatus equipped with a stirring blade having excellent surface renewability, such as a glasses blade, or a thin film evaporator is preferably used.
＜その他の成分＞
前記その他の成分としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、酸化防止剤、離型剤、紫外線吸収剤、流動性改質剤、結晶核剤、強化剤、染料、帯電防止剤、抗菌剤、などが挙げられる。これらは、１種単独で使用してもよいし、２種以上を併用してもよい。
<Other ingredients>
The other components are not particularly limited and may be appropriately selected depending on the purpose. For example, antioxidants, mold release agents, ultraviolet absorbers, fluidity modifiers, crystal nucleating agents, reinforcing agents, Examples include dyes, antistatic agents, and antibacterial agents. These may be used individually by 1 type and may use 2 or more types together.
（フラットパネルディスプレイ用位相差フィルム及びその使用方法）
本発明のフラットパネルディスプレイ用位相差フィルムは、少なくとも、前記所定のポリカーボネート樹脂を含有してなり、さらに必要に応じて、その他の成分を含有してなる。
(Retardation film for flat panel display and method of use thereof)
The retardation film for a flat panel display of the present invention contains at least the predetermined polycarbonate resin, and further contains other components as necessary.
本発明のフラットパネルディスプレイ用位相差フィルムのリタデーションとしては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、全可視光領域で、２０ｎｍ以下が好ましい。
前記リタデーションが、２０ｎｍを超えると、フラットパネルディスプレイの視認性が低下してしまうことがある。
なお、液晶の種類に応じて、リタデーションが選択される。
There is no restriction | limiting in particular as retardation of the retardation film for flat panel displays of this invention, Although it can select suitably according to the objective, 20 nm or less is preferable in a total visible region.
If the retardation exceeds 20 nm, the visibility of the flat panel display may be lowered.
The retardation is selected according to the type of liquid crystal.
本発明のフラットパネルディスプレイ用偏光板位相差フィルムの水蒸気透過率としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、１５ｇ／ｍ２／ｄａｙ〜６００ｇ／ｍ２／ｄａｙが好ましく、２５ｇ／ｍ２／ｄａｙ〜５００ｇ／ｍ２／ｄａｙがより好ましい。
前記水蒸気透過率が、１５ｇ／ｍ２／ｄａｙ未満であると、カール、反り等の変形や気泡が発生することがあり、６００ｇ／ｍ２／ｄａｙを超えると、高温高湿での耐久性が低下することがある。一方、前記水蒸気透過率が、より好ましい範囲内であると、位相差フィルムと偏光フィルムとの接着性をより向上させることができる点で有利である。
The water vapor permeability of the flat panel polarizer retardation film for display of the present invention is not particularly limited and may be appropriately selected depending on the intended purpose, is 15g / m 2 / day~600g / m 2 / day preferably, 25g / m 2 / day~500g / m 2 / day being more preferred.
When the water vapor transmission rate is less than 15 g / m 2 / day, deformation such as curling and warping or bubbles may occur. When the water vapor transmission rate exceeds 600 g / m 2 / day, durability at high temperature and high humidity is obtained. May decrease. On the other hand, when the water vapor transmission rate is within a more preferable range, it is advantageous in that the adhesiveness between the retardation film and the polarizing film can be further improved.
本発明のフラットパネルディスプレイ用偏光板位相差フィルムの光弾性係数としては、５０×１０−１２ｍ２／Ｎ以下が好ましく、４０×１０−１２ｍ２／Ｎ以下がより好ましい。 As a photoelastic coefficient of the polarizing plate phase difference film for flat panel displays of the present invention, 50 × 10 −12 m 2 / N or less is preferable, and 40 × 10 −12 m 2 / N or less is more preferable.
本発明のフラットパネルディスプレイ用偏光板位相差フィルムの波長６００ｎｍにおけるリタデーションとしては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、２５ｎｍ以下が好ましく、２０ｎｍ以下がより好ましく、１０ｎｍ以下が特に好ましい。 There is no restriction | limiting in particular as retardation in wavelength 600nm of the polarizing plate retardation film for flat panel displays of this invention, Although it can select suitably according to the objective, 25 nm or less is preferable, 20 nm or less is more preferable, 10 nm or less Is particularly preferred.
本発明のフラットパネルディスプレイ用位相差フィルムの厚みとしては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、強度と外観のバランスの点から、１μｍ〜２００μｍが好ましく、１０μｍ〜１５０μｍがより好ましく、１５μm〜１００μmが特に好ましい。 There is no restriction | limiting in particular as thickness of the retardation film for flat panel displays of this invention, Although it can select suitably according to the objective, 1 micrometer-200 micrometers are preferable from the point of the balance of intensity | strength and external appearance, and 10 micrometers-150 micrometers. Is more preferable, and 15 μm to 100 μm is particularly preferable.
本発明のフラットパネルディスプレイ用位相差フィルムの引張強度としては、６０ＭＰａ以上が好ましく、７０ＭＰａ以上がより好ましい。
前記引張強度が、６０ＭＰａ未満であると、強度不足となることがある。
As tensile strength of the retardation film for flat panel displays of this invention, 60 MPa or more is preferable and 70 MPa or more is more preferable.
If the tensile strength is less than 60 MPa, the strength may be insufficient.
本発明のフラットパネルディスプレイ用位相差フィルムの形成方法としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、溶融押出法、キャスト法、などが挙げられる。これらの中でも、溶融押出法が、生産性の点で、好ましい。 There is no restriction | limiting in particular as a formation method of the phase difference film for flat panel displays of this invention, According to the objective, it can select suitably, For example, the melt extrusion method, the casting method, etc. are mentioned. Among these, the melt extrusion method is preferable in terms of productivity.
本発明のフラットパネルディスプレイ用位相差フィルムは、少なくとも１方向に延伸されていてもよい。
前記延伸としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、一軸延伸及び二軸延伸のいずれであってもよい。前記二軸延伸の場合は、逐次延伸及び同時延伸のいずれであってもよい。
The retardation film for flat panel displays of the present invention may be stretched in at least one direction.
There is no restriction | limiting in particular as said extending | stretching, According to the objective, it can select suitably, Either uniaxial stretching and biaxial stretching may be sufficient. In the case of the biaxial stretching, either sequential stretching or simultaneous stretching may be used.
前記延伸における延伸速度としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、０．０００１ｍ／ｓｅｃ〜１０ｍ／ｓｅｃが好ましい。
前記延伸速度が、０．０００１ｍ／ｓｅｃ未満であると、生産性が悪いことがあり、１０ｍ／ｓｅｃを超えると、フィルムが破断しやすく、歩留まりが低下することがある。
There is no restriction | limiting in particular as an extending | stretching speed | rate in the said extending | stretching, Although it can select suitably according to the objective, 0.0001 m / sec-10 m / sec are preferable.
If the stretching speed is less than 0.0001 m / sec, the productivity may be poor, and if it exceeds 10 m / sec, the film may be easily broken and the yield may be reduced.
前記延伸における面積延伸倍率としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、１．０５倍〜４．０倍が好ましく、１．０５倍〜３倍がより好ましい。
前記面積延伸倍率が、１．０５倍未満であると、リタデーションの制御が難しいことがあり、４．０倍を超えると、破断しやすく歩留まりが低下することがある。
There is no restriction | limiting in particular as an area draw ratio in the said extending | stretching, Although it can select suitably according to the objective, 1.05-times-4.0 times are preferable and 1.05-times-3 times are more preferable.
When the area stretch ratio is less than 1.05 times, it may be difficult to control the retardation, and when it exceeds 4.0 times, it may be easily broken and the yield may be lowered.
前記延伸における延伸温度としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、ガラス転移点（Ｔｇ）に対してＴｇ−３０℃〜Ｔｇ＋５０℃が好ましく、Ｔｇ−２０℃〜Ｔｇ＋３０℃がより好ましい。
前記延伸温度が、Ｔｇ−３０℃未満であると、破断することがあり、Ｔｇ＋５０℃を超えると、形状を保てないことがある。一方、前記延伸温度が、より好ましい範囲内であると、リタデーションの制御の点で有利である。
There is no restriction | limiting in particular as extending | stretching temperature in the said extending | stretching, Although it can select suitably according to the objective, Tg-30 degreeC-Tg + 50 degreeC is preferable with respect to a glass transition point (Tg), Tg-20 degreeC-Tg + 30. ° C is more preferred.
If the stretching temperature is less than Tg-30 ° C, the film may break, and if it exceeds Tg + 50 ° C, the shape may not be maintained. On the other hand, when the stretching temperature is in a more preferable range, it is advantageous in terms of retardation control.
本発明のフラットパネルディスプレイ用位相差フィルムの配設方法としては、位相差フィルムの位相差値が液晶セルにおける液晶層の位相差と合わせこまれて、楕円偏光が直線偏光に近い状態に変換することが可能な配置である限り、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、図１において、位相差フィルムが、液晶セル７側に配設された保護フィルム３として配設され、フィルム枚数が低減されてもよく、保護フィルム３と液晶セル７との間に配設されてもよい。
位相差フィルムが保護フィルム３と液晶セル７との間に配設される場合の配設方法としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、図２（ａ）に示す片側１枚型、図２（ｂ）に示す片側２枚型、図２（ｃ）に示す両側各１枚型、などが挙げられる。なお、図２において、２０が位相差フィルムを表す。
As a method for arranging the retardation film for a flat panel display of the present invention, the retardation value of the retardation film is combined with the retardation of the liquid crystal layer in the liquid crystal cell, so that the elliptically polarized light is converted to a state close to linearly polarized light. As long as the arrangement is possible, there is no particular limitation and it can be appropriately selected according to the purpose. For example, in FIG. 1, the retardation film is arranged as the protective film 3 disposed on the
The arrangement method when the retardation film is arranged between the protective film 3 and the
以下、本発明について、実施例に基づき具体的に説明するが、本発明はこれら実施例に限定されるものではない。 EXAMPLES Hereinafter, although this invention is demonstrated concretely based on an Example, this invention is not limited to these Examples.
（実施例１：フィルムＡの作製）
９，９−ビス（４−（２−ヒドロキシエトキシ）フェニル）フルオレン２１．９５ｋｇ（５０．０モル）、トリシクロ［５．２．１．０2,6］デカンジメタノール９．８０ｋｇ（５０．０モル）、ジフェニルカーボネート２１．８５ｋｇ（５２．０モル）、及び炭酸水素ナトリウム２．５×１０−３ｇ（３×１０−５モル）を攪拌機及び留出装置付きの５０Ｌ反応器に入れ、窒素雰囲気７６０Ｔｏｒｒで、１時間かけて２１５℃まで加熱し、攪拌した。
その後、１５分間かけて、減圧度を１５０Ｔｏｒｒに調整し、２１５℃、１５０Ｔｏｒｒの条件下で２０分間保持し、エステル交換反応を行った。さらに、３７．５℃／ｈｒの速度で２４０℃まで昇温し、２４０℃、１５０Ｔｏｒｒの条件下で１０分間保持した。その後、１０分間かけて１２０Ｔｏｒｒに調整し、２４０℃、１２０Ｔｏｒｒの条件下で７０分間保持した。その後、１０分間かけて１００Ｔｏｒｒに調整し、２４０℃、１００Ｔｏｒｒの条件下で１０分間保持した。さらに、４０分間かけて１Ｔｏｒｒ以下とし、２４０℃、１Ｔｏｒｒ以下の条件下で、１０分間撹拌下重合反応を行った。反応終了後、反応器内に窒素を吹き込み加圧にし、生成したポリカーボネート樹脂をペレタイズしながら抜き出した。得られたポリカーボネート樹脂は、分子量（Ｍｗ）が６４５００であり、ガラス転移温度（Ｔｇ）が１２５℃であった。このポリカーボネート樹脂１０．０ｋｇを１００℃で２４時間真空乾燥し、樹脂に対して、高分子量酸化防止剤（商品名：ＩＲＧＡＮＯＸ１０１０、チバスペシャリティケミカルズ製）１０００ｐｐｍを添加し、リン系酸化防止剤（アデカスタブＰＥＰ−３６、旭電化工業（株）製）５００ｐｐｍを添加して、押出機により２５０℃で混練して、ペレタイズし、ペレット（ＥＰ４０００、三菱瓦斯化学社製）を得た。このペレットの分子量（Ｍｗ）が６３５００であった。
該ペレットを１００℃で２４時間真空乾燥した後、シリンダー温度２５０℃、ダイ温度２５０℃で、ロール温度１５５℃でフィルム成形し、厚みが１００μｍのフィルムＡを得た。
得られたフィルムＡは、光弾性係数が２７×１０−１２ｍ２／Ｎであり、波長６００ｎｍにおけるリタデーションが１．６ｎｍであり、水蒸気透過率が４０ｇ／ｍ２／ｄａｙであった。
なお、分子量（Ｍｗ）、ガラス転移温度（Ｔｇ）、厚み、光弾性係数、波長６００ｎｍにおけるリタデーション、及び水蒸気透過率は、以下のように測定し、以下の実施例及び比較例でも同様とした。
(Example 1: Production of film A)
9,9-bis (4- (2-hydroxyethoxy) phenyl) fluorene 21.95 kg (50.0 mol), tricyclo [5.2.1.0 2,6 ] decanedimethanol 9.80 kg (50.0 Mol), 21.85 kg (52.0 mol) of diphenyl carbonate, and 2.5 × 10 −3 g (3 × 10 −5 mol) of sodium hydrogen carbonate into a 50 L reactor equipped with a stirrer and a distillation apparatus, In an atmosphere of 760 Torr, the mixture was heated to 215 ° C. over 1 hour and stirred.
Thereafter, the degree of vacuum was adjusted to 150 Torr over 15 minutes, and the mixture was held at 215 ° C. and 150 Torr for 20 minutes to conduct a transesterification reaction. Further, the temperature was raised to 240 ° C. at a rate of 37.5 ° C./hr, and held for 10 minutes under the conditions of 240 ° C. and 150 Torr. Thereafter, the pressure was adjusted to 120 Torr over 10 minutes, and maintained at 240 ° C. and 120 Torr for 70 minutes. Thereafter, the pressure was adjusted to 100 Torr over 10 minutes, and kept at 240 ° C. and 100 Torr for 10 minutes. Further, the polymerization reaction was carried out with stirring for 10 minutes under the conditions of 1 Torr or less over 240 minutes and 240 ° C. under 1 Torr. After completion of the reaction, nitrogen was blown into the reactor to increase the pressure, and the produced polycarbonate resin was extracted while being pelletized. The obtained polycarbonate resin had a molecular weight (Mw) of 64500 and a glass transition temperature (Tg) of 125 ° C. 10.0 kg of this polycarbonate resin was vacuum-dried at 100 ° C. for 24 hours, 1000 ppm of high molecular weight antioxidant (trade name: IRGANOX 1010, manufactured by Ciba Specialty Chemicals) was added to the resin, and phosphorus antioxidant (ADK STAB PEP) was added. -36, manufactured by Asahi Denka Kogyo Co., Ltd.) 500 ppm was added, and the mixture was kneaded at 250 ° C. with an extruder and pelletized to obtain pellets (EP4000, manufactured by Mitsubishi Gas Chemical Company). The molecular weight (Mw) of this pellet was 63500.
The pellets were vacuum-dried at 100 ° C. for 24 hours, and then film-formed at a cylinder temperature of 250 ° C., a die temperature of 250 ° C., and a roll temperature of 155 ° C. to obtain a film A having a thickness of 100 μm.
The obtained film A had a photoelastic coefficient of 27 × 10 −12 m 2 / N, a retardation at a wavelength of 600 nm of 1.6 nm, and a water vapor transmission rate of 40 g / m 2 / day.
The molecular weight (Mw), glass transition temperature (Tg), thickness, photoelastic coefficient, retardation at a wavelength of 600 nm, and water vapor transmission rate were measured as follows, and the same was applied to the following examples and comparative examples.
＜分子量（Ｍｗ）の測定方法＞
前記分子量（Ｍｗ）は、ＧＰＣ（商品名：ＧＰＣ Ｓｙｓｔｅｍ−２１Ｈ、昭和電工（株）製）を用い、クロロホルムを展開溶媒として、既知の分子量（分子量分布＝１）の標準ポリスチレンを用いて作成した検量線に基づいて、ＧＰＣのリテンションタイムから算出した。
<Measurement method of molecular weight (Mw)>
The molecular weight (Mw) was prepared using GPC (trade name: GPC System-21H, Showa Denko Co., Ltd.), chloroform as a developing solvent, and standard polystyrene having a known molecular weight (molecular weight distribution = 1). Based on the calibration curve, it was calculated from the retention time of GPC.
＜ガラス転移温度（Ｔｇ）の測定方法＞
前記ガラス転移温度（Ｔｇ）は、示差走査熱量分析計（ＤＳＣ）（セイコーインスツルメンツ（株）製）を用いて測定した。
<Measuring method of glass transition temperature (Tg)>
The glass transition temperature (Tg) was measured using a differential scanning calorimeter (DSC) (manufactured by Seiko Instruments Inc.).
＜厚みの測定方法＞
前記厚みは、ダイヤル式厚さゲージ（商品名：ダイヤルスイフトゲージＱ−１、尾崎製作所製）を用いて、測定した。
<Method for measuring thickness>
The thickness was measured using a dial-type thickness gauge (trade name: Dial Swift Gauge Q-1, manufactured by Ozaki Seisakusho).
＜光弾性係数の測定方法＞
前記光弾性係数は、エリプソメーター（商品名：Ｍ２２０、日本分光製）を用いて、厚さ１００μｍのキャストフィルムに、波長６３３ｎｍのレーザー光線を照射し、フィルムにかけた荷重の変化に対する複屈折の変化を測定し算出することにより測定した。
<Measuring method of photoelastic coefficient>
The photoelastic coefficient is obtained by irradiating a cast film having a thickness of 100 μm with a laser beam having a wavelength of 633 nm using an ellipsometer (trade name: M220, manufactured by JASCO Corporation), and changing the birefringence with respect to a change in the load applied to the film. It was measured by measuring and calculating.
＜波長６００ｎｍにおけるリタデーションの測定方法＞
前記波長６００ｎｍにおけるリタデーションは、エリプソメーター（商品名：Ｍ２２０、日本分光製）を用いて、フィルムをセットしてスキャンすることにより測定した。
<Measurement method of retardation at wavelength 600 nm>
The retardation at the wavelength of 600 nm was measured by setting and scanning a film using an ellipsometer (trade name: M220, manufactured by JASCO Corporation).
＜水蒸気透過率の測定方法＞
なお、前記水蒸気透過率は、Ｌ８０−４０００Ｌ（ＬＹＳＳＹ ＡＧ ＺＬＬＩＫＯＮ社製）を使用して、４０℃／９０％ＲＨ条件で、ＪＩＳ−Ｋ７２０９のＡ法に準じて測定した。
<Measurement method of water vapor transmission rate>
In addition, the said water-vapor-permeation rate was measured according to A method of JIS-K7209 using L80-4000L (made by LYSSY AG ZLLIKON) on 40 degreeC / 90% RH conditions.
（実施例２：フィルムＡ２の作製）
実施例１のフィルムＡを一軸延伸機にて、１２７℃、延伸速度１５ｍｍ／分、面積延伸倍率１．１倍で延伸して、フィルムＡ２を作製した。
作製したフィルムＡ２は、光弾性係数が２７×１０−１２ｍ２／Ｎであり、波長６００ｎｍにおけるリタデーションが１５５．０ｎｍであり、水蒸気透過率が４０ｇ／ｍ２／ｄａｙであった。
(Example 2: Production of film A2)
The film A of Example 1 was stretched by a uniaxial stretching machine at 127 ° C., a stretching speed of 15 mm / min, and an area stretching ratio of 1.1 times to produce a film A2.
The produced film A2 had a photoelastic coefficient of 27 × 10 −12 m 2 / N, a retardation at a wavelength of 600 nm of 155.0 nm, and a water vapor transmission rate of 40 g / m 2 / day.
（実施例３：フィルムＢの作製）
９，９−ビス（４−（２−ヒドロキシエトキシ）フェニル）フルオレン１５．４６ｋｇ（３５．２６モル）、ビスフェノールＡ１．２０３ｋｇ（５．２６９モル）、ジフェニルカーボネート８．８６９ｋｇ（５２．６６モル）、及び炭酸水素ナトリウム０．０２６０２ｇ（３．０９７×１０−４モル）を、攪拌機及び留出装置付きの５０Ｌ反応器に入れ、窒素雰囲気７６０Ｔｏｒｒの条件下で１時間かけて２１５℃に加熱し撹拌した。
その後、１５分間かけて減圧度を１５０Ｔｏｒｒに調整し、２１５℃、１５０Ｔｏｒｒの条件下で２０分間保持しエステル交換反応を行った。さらに、３７．５℃／ｈｒの速度で２４０℃まで昇温し、２４０℃、１５０Ｔｏｒｒの条件下で１０分間保持した。その後、１０分間かけて１２０Ｔｏｒｒに調整し、２４０℃、１２０Ｔｏｒｒの条件下で７０分間保持した。その後、１０分間かけて１００Ｔｏｒｒに調整し、２４０℃、１００Ｔｏｒｒの条件下で１０分間保持した。さらに、４０分間かけて１Ｔｏｒｒ以下とし、２４０℃、１Ｔｏｒｒ以下の条件下で１０分間撹拌下重合反応を行った。反応終了後、反応器内に窒素を吹き込み加圧にし、生成したポリカーボネート樹脂をペレタイズしながら抜き出した。得られたポリカーボネート樹脂のＭｗ＝５６９００、Ｔｇ＝１４５℃であった。このポリカーボネート樹脂１０．０ｋｇを１００℃で２４時間真空乾燥し、樹脂に対して、高分子量酸化防止剤（商品名：ＩＲＧＡＮＯＸ１０１０、チバスペシャリティケミカルズ製）１０００ｐｐｍを添加し、リン系酸化防止剤（アデカスタブＰＥＰ−３６、旭電化工業（株）製）５００ｐｐｍを添加して、押出機により２５０℃で混練して、ペレタイズし、ペレット（ＥＰ５０００、三菱瓦斯化学社製）を得た。このペレットの分子量（Ｍｗ）が５６１００であった。
該ペレットを１００℃で２４時間真空乾燥した後、シリンダー温度２５０℃、ダイ温度２５０℃で、ロール温度１５５℃でフィルム成形し、厚みが１００μｍのフィルムＢを得た。
得られたフィルムＢは、光弾性係数が３７×１０−１２ｍ２／Ｎであり、リタデーションが１．２ｎｍであり、水蒸気透過率が５０ｇ／ｍ２／ｄａｙであった。
(Example 3: Production of film B)
9,9-bis (4- (2-hydroxyethoxy) phenyl) fluorene 15.46 kg (35.26 mol), bisphenol A 1.203 kg (5.269 mol), diphenyl carbonate 8.869 kg (52.66 mol), And 0.02602 g (3.097 × 10 −4 mol) of sodium hydrogen carbonate were placed in a 50 L reactor equipped with a stirrer and a distiller, and heated to 215 ° C. over 1 hour under a nitrogen atmosphere of 760 Torr and stirred. .
Thereafter, the degree of vacuum was adjusted to 150 Torr over 15 minutes, and the transesterification reaction was carried out by maintaining for 20 minutes under the conditions of 215 ° C. and 150 Torr. Further, the temperature was raised to 240 ° C. at a rate of 37.5 ° C./hr, and held for 10 minutes under the conditions of 240 ° C. and 150 Torr. Thereafter, the pressure was adjusted to 120 Torr over 10 minutes, and maintained at 240 ° C. and 120 Torr for 70 minutes. Thereafter, the pressure was adjusted to 100 Torr over 10 minutes, and kept at 240 ° C. and 100 Torr for 10 minutes. Further, the polymerization reaction was carried out with stirring for 10 minutes under the conditions of 240 ° C. and 1 Torr or less under 1 Torr or less over 40 minutes. After completion of the reaction, nitrogen was blown into the reactor to increase the pressure, and the produced polycarbonate resin was extracted while being pelletized. Mw = 56900 of the obtained polycarbonate resin and Tg = 145 ° C. 10.0 kg of this polycarbonate resin is vacuum-dried at 100 ° C. for 24 hours, and 1000 ppm of a high molecular weight antioxidant (trade name: IRGANOX1010, manufactured by Ciba Specialty Chemicals) is added to the resin, and a phosphorus antioxidant (ADK STAB PEP) is added. -36, manufactured by Asahi Denka Kogyo Co., Ltd.) 500 ppm was added, and the mixture was kneaded at 250 ° C. with an extruder and pelletized to obtain pellets (EP5000, manufactured by Mitsubishi Gas Chemical Company). The molecular weight (Mw) of this pellet was 56100.
The pellets were vacuum-dried at 100 ° C. for 24 hours, and then film-formed at a cylinder temperature of 250 ° C., a die temperature of 250 ° C., and a roll temperature of 155 ° C. to obtain a film B having a thickness of 100 μm.
The obtained film B had a photoelastic coefficient of 37 × 10 −12 m 2 / N, a retardation of 1.2 nm, and a water vapor transmission rate of 50 g / m 2 / day.
（実施例４：フィルムＢ２の作製）
実施例３のフィルムＢを一軸延伸機にて、１４７℃、延伸速度１５ｍｍ／分、面積延伸倍率１．１倍で延伸して、フィルムＢ２を作製した。
作製したフィルムＡ２は、光弾性係数が３７×１０−１２ｍ２／Ｎであり、波長６００ｎｍにおけるリタデーションが１４９．０ｎｍであり、水蒸気透過率が５０ｇ／ｍ２／ｄａｙであった。
(Example 4: Production of film B2)
Film B of Example 3 was stretched by a uniaxial stretching machine at 147 ° C., a stretching speed of 15 mm / min, and an area stretching ratio of 1.1 times to produce a film B2.
The produced film A2 had a photoelastic coefficient of 37 × 10 −12 m 2 / N, a retardation at a wavelength of 600 nm of 149.0 nm, and a water vapor transmission rate of 50 g / m 2 / day.
（比較例１：フィルムＣの物性値測定）
ビスフェノールＡポリカーボネート（ＢＰＡＰＣ）フィルムとしてのフィルムＣ（商品名：ユーピロンＥ２０００、三菱エンジニアリングプラスチック製）の物性値を測定した結果、分子量６３１００、ガラス転移温度１４５℃、光弾性係数が８３×１０−１２ｍ２／Ｎであり、リタデーションが１８５．２ｎｍであり、水蒸気透過率が６０ｇ／ｍ２／ｄａｙであり、厚み１００μｍであった。
(Comparative Example 1: Measurement of physical properties of film C)
As a result of measuring physical properties of film C (trade name: Iupilon E2000, manufactured by Mitsubishi Engineering Plastics) as a bisphenol A polycarbonate (BPAPC) film, the molecular weight was 63100, the glass transition temperature was 145 ° C., and the photoelastic coefficient was 83 × 10 −12 m. 2 / N, retardation was 185.2 nm, water vapor transmission rate was 60 g / m 2 / day, and thickness was 100 μm.
（比較例２：フィルムＤの物性値測定）
環状ポリオレフィンフィルムとしてのフィルムＤ（商品名：ゼオノア１４２０Ｒ、日本ゼオン製）の物性値を測定した結果、ガラス転移温度１３９℃、光弾性係数が３×１０−１２ｍ２／Ｎであり、リタデーションが３７．１ｎｍであり、水蒸気透過率が１０ｇ／ｍ２／ｄａｙであり、厚み１００μｍであった。
(Comparative Example 2: Measurement of physical properties of film D)
As a result of measuring physical properties of film D (trade name: ZEONOR 1420R, manufactured by Nippon Zeon) as a cyclic polyolefin film, the glass transition temperature was 139 ° C., the photoelastic coefficient was 3 × 10 −12 m 2 / N, and the retardation was It was 37.1 nm, the water vapor transmission rate was 10 g / m 2 / day, and the thickness was 100 μm.
表１より、本発明（実施例１及び３）のフィルムは、光弾性係数が２７×１０−１２ｍ２／Ｎ〜３７×１０−１２ｍ２／Ｎ、リタデーション１．２ｎｍ〜１．６ｎｍ、水蒸気透過率が４０ｇ／ｍ２／ｄａｙ〜５０ｇ／ｍ２／ｄａｙであることから、偏光板保護フィルムとして使用した場合、カール、反り等の変形、及び気泡の発生を防止することができ、また、張り合わせの角度の自由度を拡大し、リタデーションが原因の着色等を防止することが分かる。
また、フィルムを延伸することにより、リタデーションを適宜調整することができることが分かる。
From Table 1, the film of the present invention (Examples 1 and 3), photoelastic coefficient of 27 × 10 -12 m 2 / N~37 × 10 -12 m 2 / N, the retardation 1.2Nm～1.6Nm, since water vapor transmission rate of 40g / m 2 / day~50g / m 2 / day, when used as a polarizing plate protective film, it is possible to prevent curling, deformation such as warpage, and generation of air bubbles, also It can be seen that the degree of freedom of the bonding angle is expanded and coloring due to retardation is prevented.
Moreover, it turns out that a retardation can be adjusted suitably by extending | stretching a film.
１ 液晶表示装置
２ 保護フィルム
３ 保護フィルム
４ 偏光フィルム
５ 偏光板
６ 偏光板
７ 液晶セル
２０ 位相差フィルム
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Liquid crystal display device 2 Protective film 3 Protective film 4
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