JP2012092219A - ガスハイドレート製造装置及びガスハイドレート製造方法 - Google Patents

Abstract

【課題】
封液が不要であり、脱圧装置内を加圧するためのエネルギーを低減し、且つ脱圧装置内を加圧する速度を上昇したガスハイドレート製造装置及びガスハイドレート製造方法を提供する。
【解決手段】
ガスハイドレート製造装置１において、脱圧装置２が、高圧側からガスハイドレートを受け取る脱圧槽３と、脱圧槽３と複数のラインを接続したリザーバタンク４と、コンプレッサ５を有しており、更に、脱圧槽３とリザーバタンク４を連通する均圧ライン７と、脱圧槽３内のガスを、コンプレッサ５を介してリザーバタンク４に送る脱圧ライン８と、リザーバタンク４内のガスを、コンプレッサ５を介して脱圧槽３に送る加圧ライン９を有する。
【選択図】図１

Description

本発明は、メタン、プロパン等のガスハイドレートを製造するガスハイドレート製造装置及びガスハイドレート製造方法に関するものである。

近年、天然ガスやメタンなどの安全かつ経済的な輸送及び貯蔵手段として、それら原料ガスの固体状の水和物であるガスハイドレートを用いる方法が注目されている。このガスハイドレートを製造するガスハイドレート製造装置は、生成装置、成型装置、冷却装置、脱圧装置、貯蔵庫等を有している。そして、ガスハイドレートは一般に高圧で低温下（例えば、６．０ＭＰａＧ、４℃）で生成され、大気圧のもとで貯蔵される。そのため、脱圧装置は、高圧（例えば６．０ＭＰａＧ）から大気圧（０．０ＭＰａＧ）まで、ガスハイドレートを脱圧する機能を有している。この脱圧装置は、回転式の脱圧装置等が利用されている（例えば特許文献１参照）。

図６に、ガスハイドレート製造装置１Ｘを示す。ガスハイドレート製造装置１Ｘは、生成装置３０で生成したガスハイドレートを封液Ｌ中で冷却する冷却装置３１Ｘと、回転式の脱圧装置２Ｘと、運搬装置３２と、貯蔵庫３３を有している。この脱圧装置２Ｘは、球状のケーシング内に回転自在に設置した弁室を有している。この脱圧装置２Ｘは、封液Ｌを伴うガスハイドレートを高圧側（冷却装置３１Ｘ）から弁室に移動させ、弁室を回転して、低圧側（運搬装置３２側）に排出して、ガスハイドレートの脱圧を行っている。ガスハイドレートを排出した後は、弁室内に封液Ｌを供給して加圧を行っている。この構成により、弁室内の加圧に大きな動力が不要となっている。

しかしながら、上記の脱圧装置は、ガスハイドレート事業の大型化を考えた場合、いくつかの問題点を有している。第１に、ガスハイドレートが封液と共に移動するように構成しているため、大量の封液が必要となるという問題を有している。特に、ガスハイドレートの製造を、例えば海上掘削リグ上で行うことを考えた場合、大量の封液を海洋掘削リグまで搬送することが困難となる場合がある。また、たとえ封液を搬送できたとしても、このために多大なコストが必要となるという問題を有している。更に、限られた空間内で、封液を維持管理しなくてはならないという問題を有している。なお、封液Ｌは、液体プロパン等が利用されている。

第２に、封液を利用しない場合は、脱圧装置内をコンプレッサ等で加圧する必要があり、この加圧工程に多大なエネルギーが必要となるという問題を有している。特に、ガスハイドレートを大量に生産する場合は、膨大なエネルギーが必要となる。

第３に、脱圧装置内の圧力を上昇させるために、時間がかかるという問題を有している。このため、ガスハイドレートを大量に生産する場合は、この生産量を十分に向上することが困難となる。

特開２０１０−１１６２６３号公報

本発明は、上記の問題を鑑みてなされたものであり、その目的は、ガスハイドレートを
製造する製造装置及びガスハイドレート製造方法であって、封液が不要であり、脱圧装置内を加圧するためのエネルギーを低減し、且つガスハイドレートに同伴するガスの損失を防止することができるガスハイドレート製造装置及びガスハイドレート製造方法を提供することにある。

上記の目的を達成するための本発明に係るガスハイドレート製造装置は、少なくとも生成装置と、脱圧装置と、貯蔵庫を有するガスハイドレート製造装置において、前記脱圧装置が、高圧側からガスハイドレートを受け取る脱圧槽と、前記脱圧槽と複数のラインで接続したリザーバタンクと、コンプレッサを有しており、更に、前記脱圧槽と前記リザーバタンクを連通する均圧ラインと、前記脱圧槽内のガスを、前記コンプレッサを介して前記リザーバタンクに送る脱圧ラインと、前記リザーバタンク内のガスを、前記コンプレッサを介して前記脱圧槽に送る加圧ラインを有していることを特徴とする。

この構成により、封液が不要であり、脱圧装置内を加圧するためのエネルギーを低減したガスハイドレート製造装置を提供することができる。つまり、脱圧槽とリザーバタンクの間で均圧を行った後に、脱圧槽を加圧又は脱圧する作業を行うため、この加圧又は脱圧に必要となるエネルギーを抑制することができる。また、脱圧槽を加圧又は脱圧するための時間を短縮することができる。例えば、脱圧槽を加圧する場合、大気圧よりも高い圧力から加圧が開始されるため、加圧時間を短縮することができる。

上記のガスハイドレート製造装置において、前記脱圧装置が、複数の脱圧槽と、前記脱圧槽の数と同じ又は少ない数のリザーバタンクを有することを特徴とする。この構成により、複数の脱圧装置を使用してガスハイドレート製造装置の大規模化を容易且つ低コストで行うことができる。これは、脱圧装置において動力が必要となるものがコンプレッサのみであり、このコンプレッサ以外は、圧力容器及び配管で構成できるからである。

上記のガスハイドレート製造装置において、前記均圧ラインと前記加圧ラインにそれぞれ熱交換器を設置し、前記熱交換器を冷媒循環路で連結したことを特徴とする。この構成により、均圧ラインで発生する冷熱で、加圧ラインを冷却することができる。つまり、脱圧槽を低温に保つために必要な冷熱量を少なくすることができ、ガスハイドレートの製造効率を向上することができる。

上記の目的を達成するための本発明に係るガスハイドレート製造方法は、少なくとも生成装置と、脱圧装置と、貯蔵庫を有するガスハイドレート製造装置で、前記脱圧装置が、高圧側からガスハイドレートを受け取る脱圧槽と、前記脱圧槽と複数のラインで接続したリザーバタンクと、コンプレッサを有しており、更に、前記脱圧槽と前記リザーバタンクを連通する均圧ラインと、前記脱圧槽内のガスを、前記コンプレッサを介して前記リザーバタンクに送る脱圧ラインと、前記リザーバタンク内のガスを、前記コンプレッサを介して前記脱圧槽に送る加圧ラインを有しているガスハイドレート製造装置によるガスハイドレート製造方法であって、ガスハイドレートを前記脱圧槽に搬入する搬入ステップと、前記脱圧槽と前記リザーバタンクを連結する均圧ラインを開放し、前記脱圧槽と前記リザーバタンクを均圧する第１均圧ステップと、前記脱圧槽内のガスを、前記コンプレッサを有する前記脱圧ラインを介して、前記リザーバタンクに送る脱圧ステップと、前記脱圧槽内のガスハイドレートを排出し、次工程に送る排出ステップと、前記脱圧槽と前記リザーバタンクを連結する均圧ラインを開放し、前記脱圧槽と前記リザーバタンクを均圧する第２均圧ステップと、前記リザーバタンク内のガスを、前記コンプレッサを有する前記加圧ラインを介して、前記脱圧槽に送る加圧ステップを有することを特徴とする。この構成により、前述と同様の作用効果を得ることができる。

本発明に係るガスハイドレート製造装置及びガスハイドレート製造方法によれば、封液が不要であり、脱圧装置内を加圧するためのエネルギーを低減し、且つガスハイドレートに同伴するガスの損失を防止することができるガスハイドレート製造装置及びガスハイドレート製造方法を提供することができる。更に、ガスハイドレートを大量生産することのできるガスハイドレート製造装置及びガスハイドレート製造方法を提供することができる。

本発明に係る実施の形態のガスハイドレート製造装置の脱圧装置を示した概略図である。 本発明に係る実施の形態の製造装置の脱圧槽における圧力変化を示した図である。 本発明に係る実施の形態の製造装置の脱圧槽における圧力変化を示した図である。 本発明に係る実施の形態の製造装置のリザーバタンクにおける圧力変化を示した図である。 本発明に係る実施の形態の製造装置のリザーバタンクにおける圧力変化を示した図である。 従来のガスハイドレート製造の脱圧装置を示した概略図である。

以下、本発明に係る実施の形態のガスハイドレート製造装置について、図面を参照しながら説明する。図１に、ガスハイドレート製造装置１（図示しない）を構成する脱圧装置２の概略を示す。この脱圧装置２は、脱圧槽３（第１脱圧槽３ａ及び第２脱圧槽３ｂ）と、リザーバタンク４（第１リザーバタンク４ａ及び第２リザーバタンク４ｂ）と、コンプレッサ５を有している。ここで、脱圧装置２は、少なくとも１つ脱圧槽３と、この脱圧槽３を上回らない数のリザーバタンク４を有している。

この脱圧槽３とリザーバタンク４を、均圧ライン７（第１均圧ライン７ａ及び第２均圧ライン７ｂ）、脱圧ライン８（第１脱圧ライン８ａ及び第２脱圧ライン８ｂ）及び加圧ライン９（第１加圧ライン９ａ及び第２加圧ライン９ｂ）でそれぞれ連結している。均圧ライン７は、脱圧槽３とリザーバタンク４を直接連結している。この均圧ライン７は、途中部分に均圧バルブ１７（第１均圧バルブ１７ａ及び第２均圧バルブ１７ｂ）を有している。脱圧ライン８は、脱圧槽３からコンプレッサ５を介してリザーバタンク４に連結している。脱圧ライン８は、途中部分に脱圧バルブ１８（第１脱圧バルブ１８ａ及び第２脱圧バルブ１８ｂ）を有している。加圧ライン９は、リザーバタンク４からコンプレッサ５を介して脱圧槽３に連結している。この加圧ライン９は、途中部分に加圧バルブ１９を有している。また、脱圧槽３は、排出口６（第１排出口６ａ及び第２排出口６ｂ）を有している。更に、バルブ２１ａ、２１ｂは、それぞれリザーバタンク４ａ、４ｂの圧力を制御するために使用する。通常時は、閉止している。

なお、図１には、簡単のため、均圧ライン、脱圧ライン及び加圧ラインを独立した３つの管路として記載しているが、これらは、バルブ等を介して、一部を共通とする管路として形成することもできる。

次に、脱圧装置２の動作について説明する。特に、脱圧装置２が、２つの脱圧槽３ａ、３ｂ及び２つのリザーバタンク４ａ、４ｂを有する場合の動作について説明する。なお、脱圧装置２は、少なくとも１つの脱圧槽３を有しており、且つ、この脱圧槽３の数と同じ又は少ない数のリザーバタンク４を有するように構成することが望ましい。また、リザー
バタンク４は、−１０〜−３０℃の低温で保冷することが望ましい。

まず、ガスハイドレートを押し固めて成型したガスハイドレートペレット（以下、ペレットという）が、脱圧工程の前工程（例えば冷却装置３１）から、第１脱圧槽３ａに運搬される（搬入ステップａ）。また、脱圧槽３ａの内部は、高圧（例えば６．０ＭＰａＧ）で低温（例えば−１０〜−３０℃）である。

第１脱圧槽３ａ内にペレットの搬送が完了したら、第１搬送バルブ１６ａを閉止し、均圧ライン７ａの均圧バルブ１７ａを開放する（第１均圧ステップｂ）。これにより、高圧（例えば６．０ＭＰａＧ）である第１脱圧槽３ａと低圧（例えば大気圧、即ちゲージ圧で０．０ＭＰａＧ）が連通し、第１脱圧槽３ａとリザーバタンク４ａの圧力が均等となる。このときの圧力は、脱圧槽３及びリザーバタンク４の容積により異なるが、例えば、０．３ＭＰａＧ程度とする。また、均圧バルブ１７ａの開放速度を制御して、ペレットにかかる圧力変化による衝撃を緩和してもよい。

その後、均圧ライン７ａを閉止し、脱圧ライン８ａの脱圧バルブ１８ａを開放する。また、コンプレッサ５を作動させる。このコンプレッサ５の作動により、脱圧槽３ａ内のガス（同伴ガス）を、リザーバタンク４ａに移動させる（脱圧ステップｃ）。これにより、脱圧槽３ａは、大気圧（ゲージ圧で０．０ＭＰａＧ）まで脱圧される。

大気圧まで脱圧された脱圧槽３ａの排出口６ａを開放し、ペレットを次工程の運搬装置３２側に移動させる（排出ステップｄ）。このペレットの排出が完了した後、排出口６ａを閉止し、均圧ライン７ａを再び開放する（第２均圧ステップｅ）。これにより、脱圧槽３ａは、大気圧から一定の圧力まで昇圧される。その後、均圧ライン７ａを閉止し、加圧ライン９ａの加圧バルブ１９ａを開放する。また、コンプレッサ５を作動させる。この制御で、脱圧槽３ａを前工程（冷却工程）と同じ圧力まで昇圧する（加圧ステップｆ）。以上のステップを繰り返して、ペレットを大気圧まで脱圧し、貯蔵していく。なお、各バルブは、図示しない制御装置に接続し、この制御装置により開閉を制御するように構成することが望ましい。

上記の構成により、以下の作用効果を得ることができる。第１に、封液が不要であり、且つ、脱圧装置内を加圧するエネルギーを抑制した脱圧装置を提供することができる。これは、脱圧槽とリザーバタンクの間で均圧を行った後に、脱圧槽を加圧又は脱圧する作業を行うため、この加圧又は脱圧に必要となるエネルギーを抑制することができる。特に、大容量の脱圧槽を使用する場合に、高いエネルギー抑制効果を得ることができる。

第２に、脱圧槽を加圧又は脱圧するための時間を短縮することができる。例えば、脱圧槽を加圧する場合、大気圧よりも高い圧力から加圧が開始されるため、加圧時間を短縮することができる。そのため、この脱圧装置は、ガスハイドレートの大量生産に対応することができる。

第３に、複数の脱圧装置を使用してガスハイドレート製造装置の大規模化を容易且つ低コストで行うことができる。これは、リザーバタンクを使用する構成により、ガスロスを無くし、またガス圧力の利用により圧縮機（コンプレッサ）に要する圧縮段数を減らすことができる。これにより、消費動力を削減することができる。

なお、均圧ライン７で発生する冷熱を利用し、加圧ライン９の冷却を行うように構成してもよい。具体的には、均圧ライン７及び加圧ライン９にそれぞれ熱交換器を設置し、この熱交換器を冷媒循環路で連結する。均圧ライン７では、第１均圧ステップｂの際に、温度が−６０℃程度まで急激に下がる。この冷熱を、加圧ステップｆの際に加圧ライン９で
発生する発熱の冷却に使用することができる。

また、排出ステップｄで、排出口６ａを開放する前に、脱圧槽３ａと運搬装置３２を結ぶ第１開放ライン１０ａの開放バルブ２０ａを開放するように構成してもよい。この開放バルブ２０ａの開閉制御により、ペレットが、排出口の開放に伴う圧力変化の衝撃に曝される可能性を低減することができる。

図２及び３に、脱圧槽３の圧力（ゲージ圧）が変化する様子の１例を示す。縦軸をゲージ圧（ＭＰａＧ）、横軸を経過時間（ｍｉｎｕｔｅｓ）としている。なお、脱圧装置２の規模等により、圧力が変化する範囲や時間等は異なる。図２に、脱圧槽３の搬入ステップａにおける圧力の状態を示す。脱圧槽３は、前工程の高圧部分と連通しているため、高圧（例えば６．０ＭＰａＧ）で、一定である。この間、脱圧槽３内は、冷却装置３１等からペレットが移動し、堆積しつつある状態である。また、脱圧槽３は、受入れたペレットと同体積のガス（同伴ガス）を外部に排出して、圧力を一定に保っている。

図３に、脱圧槽３の第１均圧ステップｂから加圧ステップｆまでの圧力変化を示す。第１均圧ステップｂでは、脱圧槽３とリザーバタンク４を連通し、脱圧槽３の圧力は６．０ＭＰａＧから０．３ＭＰａＧまで低下する。なお、均圧時の圧力は、脱圧槽３とリザーバタンク４の容量により異なる値となる。

脱圧ステップｃでは、脱圧槽３内のガス（同伴ガス、原料ガス）を、コンプレッサ５でリザーバタンク４に移動させる。そのため、脱圧槽３内の圧力は、大気圧（ゲージ圧で０．０ＭＰａＧ）まで低下する。排出ステップｄでは、脱圧槽３の排出口６を開放して、ペレットを脱圧槽３外に排出する。第２均圧ステップｅでは、脱圧槽３とリザーバタンクを連通し、脱圧槽３の圧力は０．０ＭＰａＧから０．３ＭＰａＧまで上昇する。なお、前述と同様、この均圧時の圧力は、脱圧槽３等の容量により異なる値となる。

加圧ステップｆでは、リザーバタンク４内のガスを、コンプレッサ５で脱圧槽３に移動させる。そして、脱圧槽３内の圧力を、高圧（例えば６．０ＭＰａＧ）まで上昇させる。

図４及び５に、リザーバタンク４の圧力（ゲージ圧）が変化する様子の１例を示す。縦軸を前述とは異なるレンジのゲージ圧（ＭＰａＧ）、横軸を経過時間（ｍｉｎｕｔｅｓ）としている。なお、脱圧装置２の規模等により、圧力が変化する範囲や時間等は異なる。図４に、リザーバタンク４の搬入ステップａにおける圧力の状態を示す。リザーバタンク４は、初期状態が大気圧（０．０ＭＰａＧ）であり、時間と共に圧力が例えば０．３６ＭＰａＧまで上昇する。これは、脱圧槽３でペレット搬入に伴い排出される脱圧槽３内のガス（同伴ガス）を、リザーバタンク４に送っているためである。つまり、脱圧槽３に搬入したペレットの容積と同体積のガスが、リザーバタンク４に送られる。このときのガスの移動は、均圧ライン７及び均圧バルブ１７を介して行うことが望ましい。更に、均圧バルブ１７が逆止弁を有するように構成することが望ましい。このとき、リザーバタンク４は待機状態である。

図５に、リザーバタンク４の第１均圧ステップｂから加圧ステップｆまでの圧力変化を示す。第１均圧ステップｂでは、リザーバタンク４と脱圧槽３を連通し、リザーバタンク４の圧力は０．３６ＭＰａＧから０．４５ＭＰａＧまで上昇する。なお、均圧時の圧力は、脱圧槽３とリザーバタンク４の容量により異なる値となる。

脱圧ステップｃでは、脱圧槽３内のガス（同伴ガス）を、コンプレッサ５でリザーバタンク４に移動させる。そのため、リザーバタンク４内の圧力は、０．５ＭＰａＧまで上昇する。排出ステップｄでは、リザーバタンク４は待機状態となる。第２均圧ステップｅで
は、リザーバタンク４と脱圧槽３を連通し、リザーバタンク４の圧力が０．５ＭＰａＧから０．３ＭＰａＧまで低下する。

加圧ステップｆでは、リザーバタンク４内のガスを、コンプレッサ５で脱圧槽３に移動させる。そして、リザーバタンク４内の圧力を低圧（例えば０．０ＭＰａＧ）まで低下させる。なお、搬入ステップａにおけるリザーバタンク内の初期状態の圧力は、大気圧に限られず、任意に設定することができる。

上記の脱圧装置２における搬入ステップａから加圧ステップｆの制御により、ペレットの脱圧を行うことができる。次に、この制御を、複数の脱圧槽３で重複的に行う制御（並列処理）について説明する。例えば、第１脱圧槽３ａとリザーバタンク４ａで構成する第１系統と、第２脱圧槽３ｂとリザーバタンク４ｂで構成する第２系統と、１台のコンプレッサ５で構成した脱圧装置（図１参照）２について説明する。

それぞれの脱圧槽３ａ、３ｂに対して、リザーバタンク４ａ、４ｂが対応するように連結している。第１系統及び第２系統でコンプレッサ５を共有している。コンプレッサ５が動作する時間は、脱圧ステップｃと加圧ステップｆのみである。そのため、動作時間が重ならないように、第１系統と第２系統の制御を行う。この構成により、１台のコンプレッサ５に対して、３系統程度の脱圧槽３等を連結することができる。この脱圧装置は、１台のコンプレッサ５に対して、複数の脱圧槽３を設置することができるため、低コストで大規模化を実現することができる。

また、別の実施の形態として、第１脱圧槽３ａ及び第２脱圧槽３ｂと、１台のコンプレッサ５及び１台のリザーバタンク４で構成した脱圧装置について説明する。この脱圧装置は、第１脱圧槽３ａが、第１均圧ステップｂから加圧ステップｆまでの制御を行っている間、第２脱圧槽３ｂが搬送ステップａの制御を行う。そして、第１脱圧槽３ａの加圧ステップｆが完了し、再び搬送ステップａの制御を開始したとき、第２脱圧槽３ｂが、第１均圧ステップｂから加圧ステップｆまでの制御を行う。つまり、リザーバタンク４は、第１均圧ステップｂから加圧ステップｆまでの制御を繰り返す。このとき、第１均圧ステップｂでは、リザーバタンク４内の圧力は、０．０ＭＰａＧから０．４５ＭＰａＧまで上昇するように構成することができる。上記の構成により、ガスハイドレート製造装置の小規模化が実現でき、ガスハイドレート製造装置のコストを低減することができる。

なお、前述のように、脱圧槽３及びリザーバタンク４の圧力変化について具体的な圧力の値をあげて説明したが、本発明はこの圧力の値に限定されることなく、任意に設定することができる。

１ ガスハイドレート製造装置
２ 脱圧装置
３ 脱圧槽（３ａ 第１脱圧槽、３ｂ 第２脱圧槽）
４ リザーバタンク（４ａ 第１リザーバタンク、４ｂ 第２リザーバタンク）
５ コンプレッサ
６ 排出口（６ａ 第１排出口、６ｂ第２排出口）
７ 均圧ライン（７ａ 第１均圧ライン、７ｂ 第２均圧ライン）
８ 脱圧ライン（８ａ 第１脱圧ライン、８ｂ 第２脱圧ライン）
９ 加圧ライン（９ａ 第１加圧ライン、９ｂ 第２加圧ライン）
３０ 生成装置
３１ 冷却装置
３２ 運搬装置
３３ 貯蔵庫
Ｌ 封液

Claims (4)

1. 少なくとも生成装置と、脱圧装置と、貯蔵庫を有するガスハイドレート製造装置において、
   前記脱圧装置が、高圧側からガスハイドレートを受け取る脱圧槽と、前記脱圧槽と複数のラインで接続したリザーバタンクと、コンプレッサを有しており、
   更に、前記脱圧槽と前記リザーバタンクを連通する均圧ラインと、
   前記脱圧槽内のガスを、前記コンプレッサを介して前記リザーバタンクに送る脱圧ラインと、
   前記リザーバタンク内のガスを、前記コンプレッサを介して前記脱圧槽に送る加圧ラインを有していることを特徴とするガスハイドレート製造装置。
2. 前記脱圧装置が、複数の脱圧槽と、前記脱圧槽の数と同じ又は少ない数のリザーバタンクを有することを特徴とする請求項１に記載のガスハイドレート製造装置。
3. 前記均圧ラインと前記加圧ラインにそれぞれ熱交換器を設置し、前記熱交換器を冷媒循環路で連結したことを特徴とする請求項１又は２に記載のガスハイドレート製造装置。
4. 少なくとも生成装置と、脱圧装置と、貯蔵庫を有するガスハイドレート製造装置で、
   前記脱圧装置が、高圧側からガスハイドレートを受け取る脱圧槽と、前記脱圧槽と複数のラインで接続したリザーバタンクと、コンプレッサを有しており、更に、前記脱圧槽と前記リザーバタンクを連通する均圧ラインと、前記脱圧槽内のガスを、前記コンプレッサを介して前記リザーバタンクに送る脱圧ラインと、前記リザーバタンク内のガスを、前記コンプレッサを介して前記脱圧槽に送る加圧ラインを有しているガスハイドレート製造装置によるガスハイドレート製造方法であって、
   ガスハイドレートを前記脱圧槽に搬入する搬入ステップと、
   前記脱圧槽と前記リザーバタンクを連結する均圧ラインを開放し、前記脱圧槽と前記リザーバタンクを均圧する第１均圧ステップと、
   前記脱圧槽内のガスを、前記コンプレッサを有する前記脱圧ラインを介して、前記リザーバタンクに送る脱圧ステップと、
   前記脱圧槽内のガスハイドレートを排出し、次工程に送る排出ステップと、
   前記脱圧槽と前記リザーバタンクを連結する均圧ラインを開放し、前記脱圧槽と前記リザーバタンクを均圧する第２均圧ステップと、
   前記リザーバタンク内のガスを、前記コンプレッサを有する前記加圧ラインを介して、前記脱圧槽に送る加圧ステップを有することを特徴とするガスハイドレート製造方法。

Images