JP2012086475A - Thin-film transfer material, method for manufacturing the same, molding with thin film, and method for manufacturing the same - Google Patents
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- 239000010409 thin film Substances 0.000 title claims abstract description 193
- 238000012546 transfer Methods 0.000 title claims abstract description 134
- 239000000463 material Substances 0.000 title claims abstract description 130
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 81
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 52
- 238000000465 moulding Methods 0.000 title abstract 2
- 239000010419 fine particle Substances 0.000 claims abstract description 420
- 239000010408 film Substances 0.000 claims abstract description 279
- 239000011164 primary particle Substances 0.000 claims abstract description 35
- 239000011347 resin Substances 0.000 claims description 114
- 229920005989 resin Polymers 0.000 claims description 114
- -1 and at the same time Substances 0.000 claims description 76
- 239000006185 dispersion Substances 0.000 claims description 68
- 229920001296 polysiloxane Polymers 0.000 claims description 51
- 239000005518 polymer electrolyte Substances 0.000 claims description 41
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 claims description 31
- 238000003475 lamination Methods 0.000 claims description 21
- 125000000524 functional group Chemical group 0.000 claims description 13
- 239000005001 laminate film Substances 0.000 claims description 13
- 239000012528 membrane Substances 0.000 claims description 13
- 238000002156 mixing Methods 0.000 claims description 13
- 230000008569 process Effects 0.000 claims description 13
- 229920001187 thermosetting polymer Polymers 0.000 claims description 10
- 239000011800 void material Substances 0.000 claims description 7
- 229910052809 inorganic oxide Inorganic materials 0.000 claims description 6
- 229920005992 thermoplastic resin Polymers 0.000 claims description 6
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 claims description 5
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 238000002347 injection Methods 0.000 claims description 4
- 239000007924 injection Substances 0.000 claims description 4
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 239000010703 silicon Substances 0.000 claims description 4
- 229910052684 Cerium Inorganic materials 0.000 claims description 3
- FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N Magnesium Chemical compound [Mg] FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N Tin Chemical compound [Sn] ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N Zinc Chemical compound [Zn] HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- QCWXUUIWCKQGHC-UHFFFAOYSA-N Zirconium Chemical compound [Zr] QCWXUUIWCKQGHC-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 claims description 3
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 238000007598 dipping method Methods 0.000 claims description 3
- 229910052749 magnesium Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 239000011777 magnesium Substances 0.000 claims description 3
- 239000011859 microparticle Substances 0.000 claims description 3
- 239000012768 molten material Substances 0.000 claims description 3
- 229910052758 niobium Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 239000010955 niobium Substances 0.000 claims description 3
- GUCVJGMIXFAOAE-UHFFFAOYSA-N niobium atom Chemical compound [Nb] GUCVJGMIXFAOAE-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 229910052718 tin Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 239000011135 tin Substances 0.000 claims description 3
- 239000010936 titanium Substances 0.000 claims description 3
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 229910052725 zinc Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 239000011701 zinc Substances 0.000 claims description 3
- 229910052726 zirconium Inorganic materials 0.000 claims description 3
- GWXLDORMOJMVQZ-UHFFFAOYSA-N cerium Chemical compound [Ce] GWXLDORMOJMVQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 239000002023 wood Substances 0.000 claims 1
- 238000010030 laminating Methods 0.000 abstract description 6
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 150
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 50
- 229910000077 silane Inorganic materials 0.000 description 31
- 239000000178 monomer Substances 0.000 description 28
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 22
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 22
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 21
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 19
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 19
- 239000000047 product Substances 0.000 description 18
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 18
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 17
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 17
- 229920000371 poly(diallyldimethylammonium chloride) polymer Polymers 0.000 description 16
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 16
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 15
- SOLUNJPVPZJLOM-UHFFFAOYSA-N trizinc;distiborate Chemical compound [Zn+2].[Zn+2].[Zn+2].[O-][Sb]([O-])([O-])=O.[O-][Sb]([O-])([O-])=O SOLUNJPVPZJLOM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 15
- 239000011882 ultra-fine particle Substances 0.000 description 15
- 229920003023 plastic Polymers 0.000 description 14
- 229920002799 BoPET Polymers 0.000 description 13
- ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 2-Butanone Chemical compound CCC(C)=O ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 12
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 12
- 239000004033 plastic Substances 0.000 description 11
- 238000004438 BET method Methods 0.000 description 10
- 229910000831 Steel Inorganic materials 0.000 description 10
- 125000003647 acryloyl group Chemical group O=C([*])C([H])=C([H])[H] 0.000 description 10
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 10
- 239000010959 steel Substances 0.000 description 10
- 210000002268 wool Anatomy 0.000 description 10
- QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N Acetic acid Chemical compound CC(O)=O QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N Zinc monoxide Chemical compound [Zn]=O XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 239000002585 base Substances 0.000 description 9
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 9
- 125000005372 silanol group Chemical group 0.000 description 9
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 9
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M Acrylate Chemical compound [O-]C(=O)C=C NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 8
- MCMNRKCIXSYSNV-UHFFFAOYSA-N Zirconium dioxide Chemical compound O=[Zr]=O MCMNRKCIXSYSNV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 description 8
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 8
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 8
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 8
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 8
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 7
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 7
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 7
- 239000003999 initiator Substances 0.000 description 7
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 description 7
- 239000004926 polymethyl methacrylate Substances 0.000 description 7
- 238000002834 transmittance Methods 0.000 description 7
- CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N Acetone Chemical compound CC(C)=O CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N Ethyl acetate Chemical compound CCOC(C)=O XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N Isopropanol Chemical compound CC(C)O KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N N,N-Dimethylformamide Chemical compound CN(C)C=O ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N Phosphoric acid Chemical compound OP(O)(O)=O NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N Sulfuric acid Chemical compound OS(O)(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 230000001588 bifunctional effect Effects 0.000 description 6
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 6
- 229920003229 poly(methyl methacrylate) Polymers 0.000 description 6
- 229920000447 polyanionic polymer Polymers 0.000 description 6
- 239000008279 sol Substances 0.000 description 6
- NTIZESTWPVYFNL-UHFFFAOYSA-N Methyl isobutyl ketone Chemical compound CC(C)CC(C)=O NTIZESTWPVYFNL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- UIHCLUNTQKBZGK-UHFFFAOYSA-N Methyl isobutyl ketone Natural products CCC(C)C(C)=O UIHCLUNTQKBZGK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 229920002873 Polyethylenimine Polymers 0.000 description 5
- 238000000862 absorption spectrum Methods 0.000 description 5
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N acrylic acid group Chemical group C(C=C)(=O)O NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 125000002252 acyl group Chemical group 0.000 description 5
- 125000003545 alkoxy group Chemical group 0.000 description 5
- 229910052736 halogen Inorganic materials 0.000 description 5
- 150000002367 halogens Chemical class 0.000 description 5
- 238000007654 immersion Methods 0.000 description 5
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 5
- 239000003505 polymerization initiator Substances 0.000 description 5
- 238000005507 spraying Methods 0.000 description 5
- TXBCBTDQIULDIA-UHFFFAOYSA-N 2-[[3-hydroxy-2,2-bis(hydroxymethyl)propoxy]methyl]-2-(hydroxymethyl)propane-1,3-diol Chemical compound OCC(CO)(CO)COCC(CO)(CO)CO TXBCBTDQIULDIA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N Ethylene glycol Chemical compound OCCO LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000004698 Polyethylene Substances 0.000 description 4
- 239000002202 Polyethylene glycol Substances 0.000 description 4
- 239000004743 Polypropylene Substances 0.000 description 4
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 4
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 description 4
- 239000011230 binding agent Substances 0.000 description 4
- IISBACLAFKSPIT-UHFFFAOYSA-N bisphenol A Chemical compound C=1C=C(O)C=CC=1C(C)(C)C1=CC=C(O)C=C1 IISBACLAFKSPIT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 4
- 238000005229 chemical vapour deposition Methods 0.000 description 4
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 4
- 239000000470 constituent Substances 0.000 description 4
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 4
- 125000000816 ethylene group Chemical group [H]C([H])([*:1])C([H])([H])[*:2] 0.000 description 4
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 4
- 230000007062 hydrolysis Effects 0.000 description 4
- 238000006460 hydrolysis reaction Methods 0.000 description 4
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 4
- 229920000172 poly(styrenesulfonic acid) Polymers 0.000 description 4
- 229920000573 polyethylene Polymers 0.000 description 4
- 229920001223 polyethylene glycol Polymers 0.000 description 4
- 229920001155 polypropylene Polymers 0.000 description 4
- 229940005642 polystyrene sulfonic acid Drugs 0.000 description 4
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 4
- 125000004805 propylene group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([*:1])C([H])([H])[*:2] 0.000 description 4
- RMAQACBXLXPBSY-UHFFFAOYSA-N silicic acid Chemical compound O[Si](O)(O)O RMAQACBXLXPBSY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 4
- 239000004094 surface-active agent Substances 0.000 description 4
- 238000000411 transmission spectrum Methods 0.000 description 4
- OWOMRZKBDFBMHP-UHFFFAOYSA-N zinc antimony(3+) oxygen(2-) Chemical compound [O--].[Zn++].[Sb+3] OWOMRZKBDFBMHP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000011787 zinc oxide Substances 0.000 description 4
- SMZOUWXMTYCWNB-UHFFFAOYSA-N 2-(2-methoxy-5-methylphenyl)ethanamine Chemical compound COC1=CC=C(C)C=C1CCN SMZOUWXMTYCWNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- GOXQRTZXKQZDDN-UHFFFAOYSA-N 2-Ethylhexyl acrylate Chemical compound CCCCC(CC)COC(=O)C=C GOXQRTZXKQZDDN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- OMIGHNLMNHATMP-UHFFFAOYSA-N 2-hydroxyethyl prop-2-enoate Chemical compound OCCOC(=O)C=C OMIGHNLMNHATMP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- XDLMVUHYZWKMMD-UHFFFAOYSA-N 3-trimethoxysilylpropyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCOC(=O)C(C)=C XDLMVUHYZWKMMD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M Potassium hydroxide Chemical compound [OH-].[K+] KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M Sodium hydroxide Chemical compound [OH-].[Na+] HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N Styrene Chemical compound C=CC1=CC=CC=C1 PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N Titan oxide Chemical compound O=[Ti]=O GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- GUCYFKSBFREPBC-UHFFFAOYSA-N [phenyl-(2,4,6-trimethylbenzoyl)phosphoryl]-(2,4,6-trimethylphenyl)methanone Chemical compound CC1=CC(C)=CC(C)=C1C(=O)P(=O)(C=1C=CC=CC=1)C(=O)C1=C(C)C=C(C)C=C1C GUCYFKSBFREPBC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 3
- 150000001252 acrylic acid derivatives Chemical class 0.000 description 3
- 239000005456 alcohol based solvent Substances 0.000 description 3
- 125000002947 alkylene group Chemical group 0.000 description 3
- 229910000147 aluminium phosphate Inorganic materials 0.000 description 3
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 description 3
- 239000012298 atmosphere Substances 0.000 description 3
- MQDJYUACMFCOFT-UHFFFAOYSA-N bis[2-(1-hydroxycyclohexyl)phenyl]methanone Chemical compound C=1C=CC=C(C(=O)C=2C(=CC=CC=2)C2(O)CCCCC2)C=1C1(O)CCCCC1 MQDJYUACMFCOFT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 3
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 description 3
- 239000002131 composite material Substances 0.000 description 3
- 125000004386 diacrylate group Chemical group 0.000 description 3
- MTHSVFCYNBDYFN-UHFFFAOYSA-N diethylene glycol Chemical compound OCCOCCO MTHSVFCYNBDYFN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000000113 differential scanning calorimetry Methods 0.000 description 3
- 230000008034 disappearance Effects 0.000 description 3
- 239000002612 dispersion medium Substances 0.000 description 3
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 3
- 229910010272 inorganic material Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000011147 inorganic material Substances 0.000 description 3
- NLYAJNPCOHFWQQ-UHFFFAOYSA-N kaolin Chemical compound O.O.O=[Al]O[Si](=O)O[Si](=O)O[Al]=O NLYAJNPCOHFWQQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000005453 ketone based solvent Substances 0.000 description 3
- 229910001512 metal fluoride Inorganic materials 0.000 description 3
- 229910044991 metal oxide Inorganic materials 0.000 description 3
- 150000004706 metal oxides Chemical class 0.000 description 3
- 125000000962 organic group Chemical group 0.000 description 3
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 3
- 229920000867 polyelectrolyte Polymers 0.000 description 3
- 229920000139 polyethylene terephthalate Polymers 0.000 description 3
- 239000005020 polyethylene terephthalate Substances 0.000 description 3
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 3
- 150000004756 silanes Chemical class 0.000 description 3
- 238000001228 spectrum Methods 0.000 description 3
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 3
- 238000004381 surface treatment Methods 0.000 description 3
- 238000012719 thermal polymerization Methods 0.000 description 3
- 229920002554 vinyl polymer Polymers 0.000 description 3
- ODNRTOSCFYDTKF-UHFFFAOYSA-N 1,3,5-trimethylcyclohexane Chemical compound CC1CC(C)CC(C)C1 ODNRTOSCFYDTKF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WAGRIKSHWXFXHV-UHFFFAOYSA-N 1-hydroxybutyl prop-2-enoate Chemical compound CCCC(O)OC(=O)C=C WAGRIKSHWXFXHV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000012956 1-hydroxycyclohexylphenyl-ketone Substances 0.000 description 2
- TUAJZTAVXLCEGA-UHFFFAOYSA-N 1-hydroxyethyl prop-2-enoate Chemical compound CC(O)OC(=O)C=C TUAJZTAVXLCEGA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CPWXVNZFDXZIMS-UHFFFAOYSA-N 1-hydroxypropyl prop-2-enoate Chemical compound CCC(O)OC(=O)C=C CPWXVNZFDXZIMS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- OZAIFHULBGXAKX-UHFFFAOYSA-N 2-(2-cyanopropan-2-yldiazenyl)-2-methylpropanenitrile Chemical compound N#CC(C)(C)N=NC(C)(C)C#N OZAIFHULBGXAKX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LEJBBGNFPAFPKQ-UHFFFAOYSA-N 2-(2-prop-2-enoyloxyethoxy)ethyl prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCCOCCOC(=O)C=C LEJBBGNFPAFPKQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XNWFRZJHXBZDAG-UHFFFAOYSA-N 2-METHOXYETHANOL Chemical compound COCCO XNWFRZJHXBZDAG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XFCMNSHQOZQILR-UHFFFAOYSA-N 2-[2-(2-methylprop-2-enoyloxy)ethoxy]ethyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCCOCCOC(=O)C(C)=C XFCMNSHQOZQILR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- HCLJOFJIQIJXHS-UHFFFAOYSA-N 2-[2-[2-(2-prop-2-enoyloxyethoxy)ethoxy]ethoxy]ethyl prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCCOCCOCCOCCOC(=O)C=C HCLJOFJIQIJXHS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XMLYCEVDHLAQEL-UHFFFAOYSA-N 2-hydroxy-2-methyl-1-phenylpropan-1-one Chemical compound CC(C)(O)C(=O)C1=CC=CC=C1 XMLYCEVDHLAQEL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NJRHMGPRPPEGQL-UHFFFAOYSA-N 2-hydroxybutyl prop-2-enoate Chemical compound CCC(O)COC(=O)C=C NJRHMGPRPPEGQL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- GWZMWHWAWHPNHN-UHFFFAOYSA-N 2-hydroxypropyl prop-2-enoate Chemical compound CC(O)COC(=O)C=C GWZMWHWAWHPNHN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- JRCGLALFKDKSAN-UHFFFAOYSA-N 3-hydroxybutyl prop-2-enoate Chemical compound CC(O)CCOC(=O)C=C JRCGLALFKDKSAN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QZPSOSOOLFHYRR-UHFFFAOYSA-N 3-hydroxypropyl prop-2-enoate Chemical compound OCCCOC(=O)C=C QZPSOSOOLFHYRR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KBQVDAIIQCXKPI-UHFFFAOYSA-N 3-trimethoxysilylpropyl prop-2-enoate Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCOC(=O)C=C KBQVDAIIQCXKPI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VVBLNCFGVYUYGU-UHFFFAOYSA-N 4,4'-Bis(dimethylamino)benzophenone Chemical compound C1=CC(N(C)C)=CC=C1C(=O)C1=CC=C(N(C)C)C=C1 VVBLNCFGVYUYGU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NDWUBGAGUCISDV-UHFFFAOYSA-N 4-hydroxybutyl prop-2-enoate Chemical compound OCCCCOC(=O)C=C NDWUBGAGUCISDV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- DXPPIEDUBFUSEZ-UHFFFAOYSA-N 6-methylheptyl prop-2-enoate Chemical compound CC(C)CCCCCOC(=O)C=C DXPPIEDUBFUSEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N Ammonia Chemical compound N QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NLXLAEXVIDQMFP-UHFFFAOYSA-N Ammonia chloride Chemical compound [NH4+].[Cl-] NLXLAEXVIDQMFP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LSNNMFCWUKXFEE-UHFFFAOYSA-M Bisulfite Chemical compound OS([O-])=O LSNNMFCWUKXFEE-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N Bromine atom Chemical compound [Br] WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- SOGAXMICEFXMKE-UHFFFAOYSA-N Butylmethacrylate Chemical compound CCCCOC(=O)C(C)=C SOGAXMICEFXMKE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N Chlorine atom Chemical compound [Cl] ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-N Fluorane Chemical compound F KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-M Methacrylate Chemical compound CC(=C)C([O-])=O CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- UFWIBTONFRDIAS-UHFFFAOYSA-N Naphthalene Chemical compound C1=CC=CC2=CC=CC=C21 UFWIBTONFRDIAS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N O-Xylene Chemical compound CC1=CC=CC=C1C CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920002845 Poly(methacrylic acid) Polymers 0.000 description 2
- 229920002518 Polyallylamine hydrochloride Polymers 0.000 description 2
- 239000004952 Polyamide Substances 0.000 description 2
- 239000004695 Polyether sulfone Substances 0.000 description 2
- 239000004642 Polyimide Substances 0.000 description 2
- 229910008051 Si-OH Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910004298 SiO 2 Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910006358 Si—OH Inorganic materials 0.000 description 2
- BOTDANWDWHJENH-UHFFFAOYSA-N Tetraethyl orthosilicate Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)OCC BOTDANWDWHJENH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000007983 Tris buffer Substances 0.000 description 2
- DHKHKXVYLBGOIT-UHFFFAOYSA-N acetaldehyde Diethyl Acetal Natural products CCOC(C)OCC DHKHKXVYLBGOIT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000001241 acetals Chemical class 0.000 description 2
- 239000002390 adhesive tape Substances 0.000 description 2
- 150000001408 amides Chemical class 0.000 description 2
- 239000003945 anionic surfactant Substances 0.000 description 2
- 150000004945 aromatic hydrocarbons Chemical class 0.000 description 2
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RWCCWEUUXYIKHB-UHFFFAOYSA-N benzophenone Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(=O)C1=CC=CC=C1 RWCCWEUUXYIKHB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000012965 benzophenone Substances 0.000 description 2
- 230000000903 blocking effect Effects 0.000 description 2
- GDTBXPJZTBHREO-UHFFFAOYSA-N bromine Substances BrBr GDTBXPJZTBHREO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052794 bromium Inorganic materials 0.000 description 2
- CQEYYJKEWSMYFG-UHFFFAOYSA-N butyl acrylate Chemical compound CCCCOC(=O)C=C CQEYYJKEWSMYFG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KVNRLNFWIYMESJ-UHFFFAOYSA-N butyronitrile Chemical compound CCCC#N KVNRLNFWIYMESJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CETPSERCERDGAM-UHFFFAOYSA-N ceric oxide Chemical compound O=[Ce]=O CETPSERCERDGAM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ZMIGMASIKSOYAM-UHFFFAOYSA-N cerium Chemical compound [Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce] ZMIGMASIKSOYAM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910000422 cerium(IV) oxide Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000007795 chemical reaction product Substances 0.000 description 2
- 239000000460 chlorine Substances 0.000 description 2
- 229910052801 chlorine Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000003431 cross linking reagent Substances 0.000 description 2
- 238000000151 deposition Methods 0.000 description 2
- 238000003618 dip coating Methods 0.000 description 2
- VFHVQBAGLAREND-UHFFFAOYSA-N diphenylphosphoryl-(2,4,6-trimethylphenyl)methanone Chemical compound CC1=CC(C)=CC(C)=C1C(=O)P(=O)(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 VFHVQBAGLAREND-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000004210 ether based solvent Substances 0.000 description 2
- JBTWLSYIZRCDFO-UHFFFAOYSA-N ethyl methyl carbonate Chemical compound CCOC(=O)OC JBTWLSYIZRCDFO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- STVZJERGLQHEKB-UHFFFAOYSA-N ethylene glycol dimethacrylate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCCOC(=O)C(C)=C STVZJERGLQHEKB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000005357 flat glass Substances 0.000 description 2
- 238000005227 gel permeation chromatography Methods 0.000 description 2
- WGCNASOHLSPBMP-UHFFFAOYSA-N hydroxyacetaldehyde Natural products OCC=O WGCNASOHLSPBMP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 description 2
- ZFSLODLOARCGLH-UHFFFAOYSA-N isocyanuric acid Chemical compound OC1=NC(O)=NC(O)=N1 ZFSLODLOARCGLH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 description 2
- BDAGIHXWWSANSR-UHFFFAOYSA-N methanoic acid Natural products OC=O BDAGIHXWWSANSR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000011259 mixed solution Substances 0.000 description 2
- 239000003607 modifier Substances 0.000 description 2
- 150000002825 nitriles Chemical class 0.000 description 2
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000002736 nonionic surfactant Substances 0.000 description 2
- ANISOHQJBAQUQP-UHFFFAOYSA-N octyl prop-2-enoate Chemical compound CCCCCCCCOC(=O)C=C ANISOHQJBAQUQP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000011941 photocatalyst Substances 0.000 description 2
- XNGIFLGASWRNHJ-UHFFFAOYSA-N phthalic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=CC=C1C(O)=O XNGIFLGASWRNHJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000000704 physical effect Effects 0.000 description 2
- 238000005240 physical vapour deposition Methods 0.000 description 2
- 238000005268 plasma chemical vapour deposition Methods 0.000 description 2
- 238000009832 plasma treatment Methods 0.000 description 2
- 238000007747 plating Methods 0.000 description 2
- 229920002647 polyamide Polymers 0.000 description 2
- 239000004417 polycarbonate Substances 0.000 description 2
- 238000006068 polycondensation reaction Methods 0.000 description 2
- 229920000728 polyester Polymers 0.000 description 2
- 229920006393 polyether sulfone Polymers 0.000 description 2
- 229920001721 polyimide Polymers 0.000 description 2
- 239000004814 polyurethane Substances 0.000 description 2
- 229920002635 polyurethane Polymers 0.000 description 2
- 229920000915 polyvinyl chloride Polymers 0.000 description 2
- 239000004800 polyvinyl chloride Substances 0.000 description 2
- 229920002717 polyvinylpyridine Polymers 0.000 description 2
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 2
- 239000002243 precursor Substances 0.000 description 2
- 238000003825 pressing Methods 0.000 description 2
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 2
- 230000009257 reactivity Effects 0.000 description 2
- 230000002940 repellent Effects 0.000 description 2
- 239000005871 repellent Substances 0.000 description 2
- 229920002379 silicone rubber Polymers 0.000 description 2
- 239000002356 single layer Substances 0.000 description 2
- 238000003980 solgel method Methods 0.000 description 2
- 238000001179 sorption measurement Methods 0.000 description 2
- 238000003860 storage Methods 0.000 description 2
- 239000002344 surface layer Substances 0.000 description 2
- VZGDMQKNWNREIO-UHFFFAOYSA-N tetrachloromethane Chemical compound ClC(Cl)(Cl)Cl VZGDMQKNWNREIO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LFQCEHFDDXELDD-UHFFFAOYSA-N tetramethyl orthosilicate Chemical compound CO[Si](OC)(OC)OC LFQCEHFDDXELDD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910021642 ultra pure water Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000012498 ultrapure water Substances 0.000 description 2
- 238000001771 vacuum deposition Methods 0.000 description 2
- 239000008096 xylene Substances 0.000 description 2
- FVQMJJQUGGVLEP-UHFFFAOYSA-N (2-methylpropan-2-yl)oxy 2-ethylhexaneperoxoate Chemical compound CCCCC(CC)C(=O)OOOC(C)(C)C FVQMJJQUGGVLEP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LGPAKRMZNPYPMG-UHFFFAOYSA-N (3-hydroxy-2-prop-2-enoyloxypropyl) prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OC(CO)COC(=O)C=C LGPAKRMZNPYPMG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MYWOJODOMFBVCB-UHFFFAOYSA-N 1,2,6-trimethylphenanthrene Chemical compound CC1=CC=C2C3=CC(C)=CC=C3C=CC2=C1C MYWOJODOMFBVCB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VDYWHVQKENANGY-UHFFFAOYSA-N 1,3-Butyleneglycol dimethacrylate Chemical compound CC(=C)C(=O)OC(C)CCOC(=O)C(C)=C VDYWHVQKENANGY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CVIBWHGVWHCIHZ-UHFFFAOYSA-N 1-[diacetyl(methyl)silyl]ethanone Chemical compound CC(=O)[Si](C)(C(C)=O)C(C)=O CVIBWHGVWHCIHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KWVGIHKZDCUPEU-UHFFFAOYSA-N 2,2-dimethoxy-2-phenylacetophenone Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(OC)(OC)C(=O)C1=CC=CC=C1 KWVGIHKZDCUPEU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LCZVSXRMYJUNFX-UHFFFAOYSA-N 2-[2-(2-hydroxypropoxy)propoxy]propan-1-ol Chemical compound CC(O)COC(C)COC(C)CO LCZVSXRMYJUNFX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LTHJXDSHSVNJKG-UHFFFAOYSA-N 2-[2-[2-[2-(2-methylprop-2-enoyloxy)ethoxy]ethoxy]ethoxy]ethyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCCOCCOCCOCCOC(=O)C(C)=C LTHJXDSHSVNJKG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FDSUVTROAWLVJA-UHFFFAOYSA-N 2-[[3-hydroxy-2,2-bis(hydroxymethyl)propoxy]methyl]-2-(hydroxymethyl)propane-1,3-diol;prop-2-enoic acid Chemical compound OC(=O)C=C.OC(=O)C=C.OC(=O)C=C.OC(=O)C=C.OC(=O)C=C.OCC(CO)(CO)COCC(CO)(CO)CO FDSUVTROAWLVJA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WDQMWEYDKDCEHT-UHFFFAOYSA-N 2-ethylhexyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CCCCC(CC)COC(=O)C(C)=C WDQMWEYDKDCEHT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LZMNXXQIQIHFGC-UHFFFAOYSA-N 3-[dimethoxy(methyl)silyl]propyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CO[Si](C)(OC)CCCOC(=O)C(C)=C LZMNXXQIQIHFGC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MCDBEBOBROAQSH-UHFFFAOYSA-N 3-[dimethoxy(methyl)silyl]propyl prop-2-enoate Chemical compound CO[Si](C)(OC)CCCOC(=O)C=C MCDBEBOBROAQSH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JBDMKOVTOUIKFI-UHFFFAOYSA-N 3-[methoxy(dimethyl)silyl]propyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CO[Si](C)(C)CCCOC(=O)C(C)=C JBDMKOVTOUIKFI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SLDXSSRFNABVCN-UHFFFAOYSA-N 3-diethoxysilylpropyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CCO[SiH](OCC)CCCOC(=O)C(C)=C SLDXSSRFNABVCN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BZCWFJMZVXHYQA-UHFFFAOYSA-N 3-dimethoxysilylpropyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CO[SiH](OC)CCCOC(=O)C(C)=C BZCWFJMZVXHYQA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FQMIAEWUVYWVNB-UHFFFAOYSA-N 3-prop-2-enoyloxybutyl prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OC(C)CCOC(=O)C=C FQMIAEWUVYWVNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- URDOJQUSEUXVRP-UHFFFAOYSA-N 3-triethoxysilylpropyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)CCCOC(=O)C(C)=C URDOJQUSEUXVRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XOJWAAUYNWGQAU-UHFFFAOYSA-N 4-(2-methylprop-2-enoyloxy)butyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCCCCOC(=O)C(C)=C XOJWAAUYNWGQAU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OSWFIVFLDKOXQC-UHFFFAOYSA-N 4-(3-methoxyphenyl)aniline Chemical compound COC1=CC=CC(C=2C=CC(N)=CC=2)=C1 OSWFIVFLDKOXQC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JHWGFJBTMHEZME-UHFFFAOYSA-N 4-prop-2-enoyloxybutyl prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCCCCOC(=O)C=C JHWGFJBTMHEZME-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SQDAZGGFXASXDW-UHFFFAOYSA-N 5-bromo-2-(trifluoromethoxy)pyridine Chemical compound FC(F)(F)OC1=CC=C(Br)C=N1 SQDAZGGFXASXDW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JTHZUSWLNCPZLX-UHFFFAOYSA-N 6-fluoro-3-methyl-2h-indazole Chemical compound FC1=CC=C2C(C)=NNC2=C1 JTHZUSWLNCPZLX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NQSLZEHVGKWKAY-UHFFFAOYSA-N 6-methylheptyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(C)CCCCCOC(=O)C(C)=C NQSLZEHVGKWKAY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004925 Acrylic resin Substances 0.000 description 1
- 229920000178 Acrylic resin Polymers 0.000 description 1
- 229920006353 Acrylite® Polymers 0.000 description 1
- 229910018072 Al 2 O 3 Inorganic materials 0.000 description 1
- KLZUFWVZNOTSEM-UHFFFAOYSA-K Aluminium flouride Chemical compound F[Al](F)F KLZUFWVZNOTSEM-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- 239000004342 Benzoyl peroxide Substances 0.000 description 1
- OMPJBNCRMGITSC-UHFFFAOYSA-N Benzoylperoxide Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(=O)OOC(=O)C1=CC=CC=C1 OMPJBNCRMGITSC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910015902 Bi 2 O 3 Inorganic materials 0.000 description 1
- BDJFYLJUHFIMMF-UHFFFAOYSA-N C(CCCC)[PH2]=O Chemical compound C(CCCC)[PH2]=O BDJFYLJUHFIMMF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920002284 Cellulose triacetate Polymers 0.000 description 1
- 229920001287 Chondroitin sulfate Polymers 0.000 description 1
- 229920002307 Dextran Polymers 0.000 description 1
- BRLQWZUYTZBJKN-UHFFFAOYSA-N Epichlorohydrin Chemical compound ClCC1CO1 BRLQWZUYTZBJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JOYRKODLDBILNP-UHFFFAOYSA-N Ethyl urethane Chemical compound CCOC(N)=O JOYRKODLDBILNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YIVJZNGAASQVEM-UHFFFAOYSA-N Lauroyl peroxide Chemical compound CCCCCCCCCCCC(=O)OOC(=O)CCCCCCCCCCC YIVJZNGAASQVEM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LSDPWZHWYPCBBB-UHFFFAOYSA-N Methanethiol Chemical class SC LSDPWZHWYPCBBB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VVQNEPGJFQJSBK-UHFFFAOYSA-N Methyl methacrylate Chemical compound COC(=O)C(C)=C VVQNEPGJFQJSBK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N Nitric acid Chemical compound O[N+]([O-])=O GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 241000238633 Odonata Species 0.000 description 1
- 229920002319 Poly(methyl acrylate) Polymers 0.000 description 1
- 108010039918 Polylysine Proteins 0.000 description 1
- 239000004721 Polyphenylene oxide Substances 0.000 description 1
- 239000004793 Polystyrene Substances 0.000 description 1
- 239000004372 Polyvinyl alcohol Chemical class 0.000 description 1
- 229920001328 Polyvinylidene chloride Polymers 0.000 description 1
- OFOBLEOULBTSOW-UHFFFAOYSA-N Propanedioic acid Natural products OC(=O)CC(O)=O OFOBLEOULBTSOW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920000297 Rayon Polymers 0.000 description 1
- 229910004283 SiO 4 Inorganic materials 0.000 description 1
- BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N Silane Chemical compound [SiH4] BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910006404 SnO 2 Inorganic materials 0.000 description 1
- 229920002125 Sokalan® Polymers 0.000 description 1
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-L Sulfate Chemical compound [O-]S([O-])(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- DAKWPKUUDNSNPN-UHFFFAOYSA-N Trimethylolpropane triacrylate Chemical compound C=CC(=O)OCC(CC)(COC(=O)C=C)COC(=O)C=C DAKWPKUUDNSNPN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OKKRPWIIYQTPQF-UHFFFAOYSA-N Trimethylolpropane trimethacrylate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCC(CC)(COC(=O)C(C)=C)COC(=O)C(C)=C OKKRPWIIYQTPQF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000006750 UV protection Effects 0.000 description 1
- LFOXEOLGJPJZAA-UHFFFAOYSA-N [(2,6-dimethoxybenzoyl)-(2,4,4-trimethylpentyl)phosphoryl]-(2,6-dimethoxyphenyl)methanone Chemical compound COC1=CC=CC(OC)=C1C(=O)P(=O)(CC(C)CC(C)(C)C)C(=O)C1=C(OC)C=CC=C1OC LFOXEOLGJPJZAA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NNLVGZFZQQXQNW-ADJNRHBOSA-N [(2r,3r,4s,5r,6s)-4,5-diacetyloxy-3-[(2s,3r,4s,5r,6r)-3,4,5-triacetyloxy-6-(acetyloxymethyl)oxan-2-yl]oxy-6-[(2r,3r,4s,5r,6s)-4,5,6-triacetyloxy-2-(acetyloxymethyl)oxan-3-yl]oxyoxan-2-yl]methyl acetate Chemical compound O([C@@H]1O[C@@H]([C@H]([C@H](OC(C)=O)[C@H]1OC(C)=O)O[C@H]1[C@@H]([C@@H](OC(C)=O)[C@H](OC(C)=O)[C@@H](COC(C)=O)O1)OC(C)=O)COC(=O)C)[C@@H]1[C@@H](COC(C)=O)O[C@@H](OC(C)=O)[C@H](OC(C)=O)[C@H]1OC(C)=O NNLVGZFZQQXQNW-ADJNRHBOSA-N 0.000 description 1
- ULQMPOIOSDXIGC-UHFFFAOYSA-N [2,2-dimethyl-3-(2-methylprop-2-enoyloxy)propyl] 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCC(C)(C)COC(=O)C(C)=C ULQMPOIOSDXIGC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JUDXBRVLWDGRBC-UHFFFAOYSA-N [2-(hydroxymethyl)-3-(2-methylprop-2-enoyloxy)-2-(2-methylprop-2-enoyloxymethyl)propyl] 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCC(CO)(COC(=O)C(C)=C)COC(=O)C(C)=C JUDXBRVLWDGRBC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HVVWZTWDBSEWIH-UHFFFAOYSA-N [2-(hydroxymethyl)-3-prop-2-enoyloxy-2-(prop-2-enoyloxymethyl)propyl] prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCC(CO)(COC(=O)C=C)COC(=O)C=C HVVWZTWDBSEWIH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UKMBKKFLJMFCSA-UHFFFAOYSA-N [3-hydroxy-2-(2-methylprop-2-enoyloxy)propyl] 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCC(CO)OC(=O)C(C)=C UKMBKKFLJMFCSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MPIAGWXWVAHQBB-UHFFFAOYSA-N [3-prop-2-enoyloxy-2-[[3-prop-2-enoyloxy-2,2-bis(prop-2-enoyloxymethyl)propoxy]methyl]-2-(prop-2-enoyloxymethyl)propyl] prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCC(COC(=O)C=C)(COC(=O)C=C)COCC(COC(=O)C=C)(COC(=O)C=C)COC(=O)C=C MPIAGWXWVAHQBB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FHLPGTXWCFQMIU-UHFFFAOYSA-N [4-[2-(4-prop-2-enoyloxyphenyl)propan-2-yl]phenyl] prop-2-enoate Chemical compound C=1C=C(OC(=O)C=C)C=CC=1C(C)(C)C1=CC=C(OC(=O)C=C)C=C1 FHLPGTXWCFQMIU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RQVFGTYFBUVGOP-UHFFFAOYSA-N [acetyloxy(dimethyl)silyl] acetate Chemical compound CC(=O)O[Si](C)(C)OC(C)=O RQVFGTYFBUVGOP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NOZAQBYNLKNDRT-UHFFFAOYSA-N [diacetyloxy(ethenyl)silyl] acetate Chemical compound CC(=O)O[Si](OC(C)=O)(OC(C)=O)C=C NOZAQBYNLKNDRT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000005299 abrasion Methods 0.000 description 1
- UGZICOVULPINFH-UHFFFAOYSA-N acetic acid;butanoic acid Chemical compound CC(O)=O.CCCC(O)=O UGZICOVULPINFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000003668 acetyloxy group Chemical group [H]C([H])([H])C(=O)O[*] 0.000 description 1
- 229920000122 acrylonitrile butadiene styrene Polymers 0.000 description 1
- 239000003513 alkali Substances 0.000 description 1
- 150000004703 alkoxides Chemical class 0.000 description 1
- 125000003277 amino group Chemical group 0.000 description 1
- 229910021529 ammonia Inorganic materials 0.000 description 1
- 235000019270 ammonium chloride Nutrition 0.000 description 1
- ROOXNKNUYICQNP-UHFFFAOYSA-N ammonium peroxydisulfate Substances [NH4+].[NH4+].[O-]S(=O)(=O)OOS([O-])(=O)=O ROOXNKNUYICQNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VAZSKTXWXKYQJF-UHFFFAOYSA-N ammonium persulfate Chemical compound [NH4+].[NH4+].[O-]S(=O)OOS([O-])=O VAZSKTXWXKYQJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910001870 ammonium persulfate Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000000129 anionic group Chemical group 0.000 description 1
- 150000001450 anions Chemical class 0.000 description 1
- 230000000844 anti-bacterial effect Effects 0.000 description 1
- 230000003373 anti-fouling effect Effects 0.000 description 1
- 239000006117 anti-reflective coating Substances 0.000 description 1
- 239000002473 artificial blood Substances 0.000 description 1
- 238000004380 ashing Methods 0.000 description 1
- 230000004888 barrier function Effects 0.000 description 1
- 235000019400 benzoyl peroxide Nutrition 0.000 description 1
- 229910000416 bismuth oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- QUZSUMLPWDHKCJ-UHFFFAOYSA-N bisphenol A dimethacrylate Chemical compound C1=CC(OC(=O)C(=C)C)=CC=C1C(C)(C)C1=CC=C(OC(=O)C(C)=C)C=C1 QUZSUMLPWDHKCJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 210000004204 blood vessel Anatomy 0.000 description 1
- 210000000988 bone and bone Anatomy 0.000 description 1
- 125000004106 butoxy group Chemical group [*]OC([H])([H])C([H])([H])C(C([H])([H])[H])([H])[H] 0.000 description 1
- 125000000484 butyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 238000011088 calibration curve Methods 0.000 description 1
- 150000001732 carboxylic acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- 238000005266 casting Methods 0.000 description 1
- 125000002091 cationic group Chemical group 0.000 description 1
- 239000003093 cationic surfactant Substances 0.000 description 1
- 150000001768 cations Chemical class 0.000 description 1
- 229920002678 cellulose Polymers 0.000 description 1
- 239000001913 cellulose Substances 0.000 description 1
- 229920002301 cellulose acetate Polymers 0.000 description 1
- 239000007810 chemical reaction solvent Substances 0.000 description 1
- 239000003638 chemical reducing agent Substances 0.000 description 1
- 229940059329 chondroitin sulfate Drugs 0.000 description 1
- 238000009833 condensation Methods 0.000 description 1
- 230000005494 condensation Effects 0.000 description 1
- 238000006482 condensation reaction Methods 0.000 description 1
- 229920001577 copolymer Polymers 0.000 description 1
- 238000003851 corona treatment Methods 0.000 description 1
- 239000007822 coupling agent Substances 0.000 description 1
- 238000005520 cutting process Methods 0.000 description 1
- 238000000354 decomposition reaction Methods 0.000 description 1
- KQAHMVLQCSALSX-UHFFFAOYSA-N decyl(trimethoxy)silane Chemical compound CCCCCCCCCC[Si](OC)(OC)OC KQAHMVLQCSALSX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002781 deodorant agent Substances 0.000 description 1
- 230000008021 deposition Effects 0.000 description 1
- 229920005994 diacetyl cellulose Polymers 0.000 description 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
- 229910003460 diamond Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010432 diamond Substances 0.000 description 1
- TYIXMATWDRGMPF-UHFFFAOYSA-N dibismuth;oxygen(2-) Chemical compound [O-2].[O-2].[O-2].[Bi+3].[Bi+3] TYIXMATWDRGMPF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000007607 die coating method Methods 0.000 description 1
- 235000014113 dietary fatty acids Nutrition 0.000 description 1
- JJQZDUKDJDQPMQ-UHFFFAOYSA-N dimethoxy(dimethyl)silane Chemical compound CO[Si](C)(C)OC JJQZDUKDJDQPMQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YYLGKUPAFFKGRQ-UHFFFAOYSA-N dimethyldiethoxysilane Chemical compound CCO[Si](C)(C)OCC YYLGKUPAFFKGRQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SZXQTJUDPRGNJN-UHFFFAOYSA-N dipropylene glycol Chemical compound OCCCOCCCO SZXQTJUDPRGNJN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CIKJANOSDPPCAU-UHFFFAOYSA-N ditert-butyl cyclohexane-1,4-dicarboperoxoate Chemical compound CC(C)(C)OOC(=O)C1CCC(C(=O)OOC(C)(C)C)CC1 CIKJANOSDPPCAU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GMSCBRSQMRDRCD-UHFFFAOYSA-N dodecyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CCCCCCCCCCCCOC(=O)C(C)=C GMSCBRSQMRDRCD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000010894 electron beam technology Methods 0.000 description 1
- 230000007613 environmental effect Effects 0.000 description 1
- 150000002148 esters Chemical class 0.000 description 1
- MASNVFNHVJIXLL-UHFFFAOYSA-N ethenyl(ethoxy)silicon Chemical compound CCO[Si]C=C MASNVFNHVJIXLL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NKSJNEHGWDZZQF-UHFFFAOYSA-N ethenyl(trimethoxy)silane Chemical compound CO[Si](OC)(OC)C=C NKSJNEHGWDZZQF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MBGQQKKTDDNCSG-UHFFFAOYSA-N ethenyl-diethoxy-methylsilane Chemical compound CCO[Si](C)(C=C)OCC MBGQQKKTDDNCSG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZLNAFSPCNATQPQ-UHFFFAOYSA-N ethenyl-dimethoxy-methylsilane Chemical compound CO[Si](C)(OC)C=C ZLNAFSPCNATQPQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MABAWBWRUSBLKQ-UHFFFAOYSA-N ethenyl-tri(propan-2-yloxy)silane Chemical compound CC(C)O[Si](OC(C)C)(OC(C)C)C=C MABAWBWRUSBLKQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001301 ethoxy group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])O* 0.000 description 1
- RSIHJDGMBDPTIM-UHFFFAOYSA-N ethoxy(trimethyl)silane Chemical compound CCO[Si](C)(C)C RSIHJDGMBDPTIM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SUPCQIBBMFXVTL-UHFFFAOYSA-N ethyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CCOC(=O)C(C)=C SUPCQIBBMFXVTL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 239000000194 fatty acid Substances 0.000 description 1
- 229930195729 fatty acid Natural products 0.000 description 1
- 150000004665 fatty acids Chemical class 0.000 description 1
- 235000019253 formic acid Nutrition 0.000 description 1
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 1
- 238000007756 gravure coating Methods 0.000 description 1
- 230000020169 heat generation Effects 0.000 description 1
- XXMIOPMDWAUFGU-UHFFFAOYSA-N hexane-1,6-diol Chemical compound OCCCCCCO XXMIOPMDWAUFGU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LNCPIMCVTKXXOY-UHFFFAOYSA-N hexyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CCCCCCOC(=O)C(C)=C LNCPIMCVTKXXOY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LNMQRPPRQDGUDR-UHFFFAOYSA-N hexyl prop-2-enoate Chemical compound CCCCCCOC(=O)C=C LNMQRPPRQDGUDR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 description 1
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000003301 hydrolyzing effect Effects 0.000 description 1
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-M hydroxide Chemical compound [OH-] XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 150000002466 imines Chemical class 0.000 description 1
- AMGQUBHHOARCQH-UHFFFAOYSA-N indium;oxotin Chemical compound [In].[Sn]=O AMGQUBHHOARCQH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000001746 injection moulding Methods 0.000 description 1
- 229910001506 inorganic fluoride Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000009413 insulation Methods 0.000 description 1
- PBOSTUDLECTMNL-UHFFFAOYSA-N lauryl acrylate Chemical compound CCCCCCCCCCCCOC(=O)C=C PBOSTUDLECTMNL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CDOSHBSSFJOMGT-UHFFFAOYSA-N linalool Chemical compound CC(C)=CCCC(C)(O)C=C CDOSHBSSFJOMGT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000011344 liquid material Substances 0.000 description 1
- 239000007791 liquid phase Substances 0.000 description 1
- PQXKHYXIUOZZFA-UHFFFAOYSA-M lithium fluoride Chemical compound [Li+].[F-] PQXKHYXIUOZZFA-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- ORUIBWPALBXDOA-UHFFFAOYSA-L magnesium fluoride Chemical compound [F-].[F-].[Mg+2] ORUIBWPALBXDOA-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- VZCYOOQTPOCHFL-UPHRSURJSA-N maleic acid Chemical compound OC(=O)\C=C/C(O)=O VZCYOOQTPOCHFL-UPHRSURJSA-N 0.000 description 1
- 239000011976 maleic acid Substances 0.000 description 1
- 238000000691 measurement method Methods 0.000 description 1
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 1
- 125000000956 methoxy group Chemical group [H]C([H])([H])O* 0.000 description 1
- POPACFLNWGUDSR-UHFFFAOYSA-N methoxy(trimethyl)silane Chemical compound CO[Si](C)(C)C POPACFLNWGUDSR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YDKNBNOOCSNPNS-UHFFFAOYSA-N methyl 1,3-benzoxazole-2-carboxylate Chemical compound C1=CC=C2OC(C(=O)OC)=NC2=C1 YDKNBNOOCSNPNS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 1
- BFXIKLCIZHOAAZ-UHFFFAOYSA-N methyltrimethoxysilane Chemical compound CO[Si](C)(OC)OC BFXIKLCIZHOAAZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000007522 mineralic acids Chemical class 0.000 description 1
- 239000012046 mixed solvent Substances 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- URLJKFSTXLNXLG-UHFFFAOYSA-N niobium(5+);oxygen(2-) Chemical compound [O-2].[O-2].[O-2].[O-2].[O-2].[Nb+5].[Nb+5] URLJKFSTXLNXLG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910017604 nitric acid Inorganic materials 0.000 description 1
- HMZGPNHSPWNGEP-UHFFFAOYSA-N octadecyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCCCCOC(=O)C(C)=C HMZGPNHSPWNGEP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NZIDBRBFGPQCRY-UHFFFAOYSA-N octyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CCCCCCCCOC(=O)C(C)=C NZIDBRBFGPQCRY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 210000000056 organ Anatomy 0.000 description 1
- 150000007524 organic acids Chemical class 0.000 description 1
- 239000011368 organic material Substances 0.000 description 1
- 150000001451 organic peroxides Chemical class 0.000 description 1
- 229920000620 organic polymer Polymers 0.000 description 1
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 1
- TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N oxo(oxoalumanyloxy)alumane Chemical compound O=[Al]O[Al]=O TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SIWVEOZUMHYXCS-UHFFFAOYSA-N oxo(oxoyttriooxy)yttrium Chemical compound O=[Y]O[Y]=O SIWVEOZUMHYXCS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001820 oxy group Chemical group [*:1]O[*:2] 0.000 description 1
- 238000010979 pH adjustment Methods 0.000 description 1
- 230000035515 penetration Effects 0.000 description 1
- GYDSPAVLTMAXHT-UHFFFAOYSA-N pentyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CCCCCOC(=O)C(C)=C GYDSPAVLTMAXHT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ULDDEWDFUNBUCM-UHFFFAOYSA-N pentyl prop-2-enoate Chemical compound CCCCCOC(=O)C=C ULDDEWDFUNBUCM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000035699 permeability Effects 0.000 description 1
- 150000002978 peroxides Chemical class 0.000 description 1
- JRKICGRDRMAZLK-UHFFFAOYSA-L persulfate group Chemical group S(=O)(=O)([O-])OOS(=O)(=O)[O-] JRKICGRDRMAZLK-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 description 1
- 239000003504 photosensitizing agent Substances 0.000 description 1
- 239000002985 plastic film Substances 0.000 description 1
- 229920001643 poly(ether ketone) Polymers 0.000 description 1
- 229920002492 poly(sulfone) Polymers 0.000 description 1
- 229920001748 polybutylene Polymers 0.000 description 1
- 229920000515 polycarbonate Polymers 0.000 description 1
- 229920005668 polycarbonate resin Polymers 0.000 description 1
- 239000004431 polycarbonate resin Substances 0.000 description 1
- 229920001692 polycarbonate urethane Polymers 0.000 description 1
- 229920006267 polyester film Polymers 0.000 description 1
- 229920000656 polylysine Polymers 0.000 description 1
- 229920001444 polymaleic acid Polymers 0.000 description 1
- 229920000306 polymethylpentene Polymers 0.000 description 1
- 239000011116 polymethylpentene Substances 0.000 description 1
- 229920005672 polyolefin resin Polymers 0.000 description 1
- 229920006380 polyphenylene oxide Polymers 0.000 description 1
- 229920001451 polypropylene glycol Polymers 0.000 description 1
- 229920005650 polypropylene glycol diacrylate Polymers 0.000 description 1
- 229920001709 polysilazane Polymers 0.000 description 1
- 229920002223 polystyrene Polymers 0.000 description 1
- 229920002451 polyvinyl alcohol Chemical class 0.000 description 1
- 239000005033 polyvinylidene chloride Substances 0.000 description 1
- USHAGKDGDHPEEY-UHFFFAOYSA-L potassium persulfate Chemical compound [K+].[K+].[O-]S(=O)(=O)OOS([O-])(=O)=O USHAGKDGDHPEEY-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 238000001556 precipitation Methods 0.000 description 1
- 230000002265 prevention Effects 0.000 description 1
- 238000007639 printing Methods 0.000 description 1
- 230000001737 promoting effect Effects 0.000 description 1
- FZYCEURIEDTWNS-UHFFFAOYSA-N prop-1-en-2-ylbenzene Chemical compound CC(=C)C1=CC=CC=C1.CC(=C)C1=CC=CC=C1 FZYCEURIEDTWNS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000002572 propoxy group Chemical group [*]OC([H])([H])C(C([H])([H])[H])([H])[H] 0.000 description 1
- 125000001436 propyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 125000001453 quaternary ammonium group Chemical group 0.000 description 1
- 238000010526 radical polymerization reaction Methods 0.000 description 1
- 238000007348 radical reaction Methods 0.000 description 1
- 238000000985 reflectance spectrum Methods 0.000 description 1
- 239000011342 resin composition Substances 0.000 description 1
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 1
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 1
- 230000035945 sensitivity Effects 0.000 description 1
- SCPYDCQAZCOKTP-UHFFFAOYSA-N silanol Chemical compound [SiH3]O SCPYDCQAZCOKTP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000009751 slip forming Methods 0.000 description 1
- PUZPDOWCWNUUKD-UHFFFAOYSA-M sodium fluoride Chemical compound [F-].[Na+] PUZPDOWCWNUUKD-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 239000012265 solid product Substances 0.000 description 1
- 238000004528 spin coating Methods 0.000 description 1
- 239000007921 spray Substances 0.000 description 1
- 238000003892 spreading Methods 0.000 description 1
- 230000007480 spreading Effects 0.000 description 1
- 239000007785 strong electrolyte Substances 0.000 description 1
- 230000002194 synthesizing effect Effects 0.000 description 1
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 1
- UQMOLLPKNHFRAC-UHFFFAOYSA-N tetrabutyl silicate Chemical compound CCCCO[Si](OCCCC)(OCCCC)OCCCC UQMOLLPKNHFRAC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000002076 thermal analysis method Methods 0.000 description 1
- 238000002230 thermal chemical vapour deposition Methods 0.000 description 1
- 238000007751 thermal spraying Methods 0.000 description 1
- XOLBLPGZBRYERU-UHFFFAOYSA-N tin dioxide Chemical compound O=[Sn]=O XOLBLPGZBRYERU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910001887 tin oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- VZCYOOQTPOCHFL-UHFFFAOYSA-N trans-butenedioic acid Natural products OC(=O)C=CC(O)=O VZCYOOQTPOCHFL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000012780 transparent material Substances 0.000 description 1
- GQIUQDDJKHLHTB-UHFFFAOYSA-N trichloro(ethenyl)silane Chemical compound Cl[Si](Cl)(Cl)C=C GQIUQDDJKHLHTB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WUMSTCDLAYQDNO-UHFFFAOYSA-N triethoxy(hexyl)silane Chemical compound CCCCCC[Si](OCC)(OCC)OCC WUMSTCDLAYQDNO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CPUDPFPXCZDNGI-UHFFFAOYSA-N triethoxy(methyl)silane Chemical compound CCO[Si](C)(OCC)OCC CPUDPFPXCZDNGI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JCVQKRGIASEUKR-UHFFFAOYSA-N triethoxy(phenyl)silane Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)C1=CC=CC=C1 JCVQKRGIASEUKR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZIBGPFATKBEMQZ-UHFFFAOYSA-N triethylene glycol Chemical compound OCCOCCOCCO ZIBGPFATKBEMQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZNOCGWVLWPVKAO-UHFFFAOYSA-N trimethoxy(phenyl)silane Chemical compound CO[Si](OC)(OC)C1=CC=CC=C1 ZNOCGWVLWPVKAO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GETQZCLCWQTVFV-UHFFFAOYSA-N trimethylamine Chemical compound CN(C)C GETQZCLCWQTVFV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QHUNJMXHQHHWQP-UHFFFAOYSA-N trimethylsilyl acetate Chemical compound CC(=O)O[Si](C)(C)C QHUNJMXHQHHWQP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 description 1
- 239000012808 vapor phase Substances 0.000 description 1
- 125000000391 vinyl group Chemical group [H]C([*])=C([H])[H] 0.000 description 1
- 239000005050 vinyl trichlorosilane Substances 0.000 description 1
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 1
- 239000002888 zwitterionic surfactant Substances 0.000 description 1
- 229910000859 α-Fe Inorganic materials 0.000 description 1
- DGVVWUTYPXICAM-UHFFFAOYSA-N β‐Mercaptoethanol Chemical compound OCCS DGVVWUTYPXICAM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
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- Application Of Or Painting With Fluid Materials (AREA)
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Abstract
Description
本発明は、薄膜転写材とその製造方法及びこの薄膜転写材を用いた薄膜付き成形体並びにその製造方法に関し、更に詳しくは、プラスチック製、ガラス製等の成形体に薄膜を形成することのできる薄膜転写材とその製造方法並びに薄膜付き成形体及びその製造方法に関するものである。 The present invention relates to a thin film transfer material, a manufacturing method thereof, a molded body with a thin film using the thin film transfer material, and a manufacturing method thereof, and more specifically, a thin film can be formed on a molded body made of plastic or glass. The present invention relates to a thin film transfer material, a manufacturing method thereof, a molded body with a thin film, and a manufacturing method thereof.
プラスチックに代表される有機材料は、無機材料と比べて成形性・量産性・柔軟性・軽量などの長所があるため、日用雑貨から産業分野まで幅広く大量に使用されている。しかし、プラスチックでも、機械的強度、光学特性、耐熱性・寸法精度・物質透過性などが改善できれば、さらにその価値が増し、また、無機材料に置き換えて使用できる。近年、プラスチック材料は、これを無機材料と複合化することによりプラスチック材料単体では不可能な用途に応用することができるようになるが、その複合化技術として、無機薄膜をプラスチック成形体表面に形成する技術が進歩してきた。 Organic materials typified by plastics have advantages such as moldability, mass productivity, flexibility and light weight compared to inorganic materials, so they are widely used in a wide range from daily goods to industrial fields. However, even with plastic, if the mechanical strength, optical characteristics, heat resistance, dimensional accuracy, substance permeability, etc. can be improved, its value will be further increased, and it can be used in place of inorganic materials. In recent years, plastic materials can be applied to applications that are impossible with plastic materials alone by combining them with inorganic materials, but as a composite technology, an inorganic thin film is formed on the surface of a plastic molded body. Technology to make progress.
従来の無機薄膜形成技術は、ドライプロセスを利用したものが主たる薄膜形成方法であった。その例としては、化学的気相成長法(CVD)、熱CVD、プラズマCVD(PCVD)、光CVD、CVDの無機薄膜応用例、物理的気相成長法(PVD)、真空蒸着、スパッタリング、イオンプレーティングなどが挙げられる。 Conventional inorganic thin film forming techniques are mainly thin film forming methods utilizing a dry process. Examples include chemical vapor deposition (CVD), thermal CVD, plasma CVD (PCVD), photo CVD, CVD inorganic thin film applications, physical vapor deposition (PVD), vacuum deposition, sputtering, ions For example, plating.
一方、ウエットプロセスを利用した無機薄膜形成法も提案されてきている。そのような例としては、塗布方法を利用した薄膜形成方法があり、スプレー法、吹きつけ法、溶射法、ウエット・オン・ウエット法、液相析出法、メッキ法、ゾルゲル法、LB法、微粒子利用法、塗布方法などが挙げられる。 On the other hand, an inorganic thin film forming method using a wet process has been proposed. Examples of such methods include thin film formation methods using coating methods, spraying methods, spraying methods, thermal spraying methods, wet-on-wet methods, liquid phase deposition methods, plating methods, sol-gel methods, LB methods, fine particles. The usage method, the coating method, etc. are mentioned.
このような無機薄膜の用途、応用分野は、産業用だけでなく、医療用などにも広がっている。なかでも、フラットパネル型ディスプレイ用の反射防止膜が注目される。 Uses and application fields of such inorganic thin films are spreading not only for industrial use but also for medical use. Among these, antireflection films for flat panel displays are attracting attention.
例えば、現在一般的に行われている反射防止膜の製造方法は、真空蒸着やスパッタ法のようなドライ法、あるいはゾルゲル法や塗布法のようなウエット法である。近年、価格面の要求からドライ法に代わるウエット法の反射防止処理が主流となっている。 For example, a method of manufacturing an antireflection film that is generally used at present is a dry method such as vacuum deposition or sputtering, or a wet method such as a sol-gel method or a coating method. In recent years, the wet method of antireflection treatment, which replaces the dry method, has become the mainstream due to the demand of price.
一方、ウエット法でありながら、ナノメータースケールの薄膜を形成する方法として、交互積層法が提案されている。交互積層法は、G.Decherらによって1992年に発表された有機薄膜を形成する方法であり、正電荷を有するポリマー電解質(ポリカチオン)と負電荷を有するポリマー電解質(ポリアニオン)の水溶液に、基材を交互に浸漬することで基板上に静電的引力によって吸着したポリカチオンとポリアニオンの組が積層して複合膜(交互積層膜)が得られるものである。 On the other hand, an alternate lamination method has been proposed as a method for forming a nanometer-scale thin film, although it is a wet method. The alternate lamination method is described in G.H. This is a method for forming an organic thin film published in 1992 by Decher et al., In which a substrate is alternately immersed in an aqueous solution of a polymer electrolyte having a positive charge (polycation) and a polymer electrolyte having a negative charge (polyanion). Thus, a combination of polycation and polyanion adsorbed by electrostatic attraction on the substrate is laminated to obtain a composite film (alternate laminated film).
この交互積層法を利用した無機薄膜の製造法として、Y.Lvovらは、シリカやチタニア、セリアの各微粒子分散液を用いて、微粒子の表面電荷と反対電荷を有するポリマー電解質を交互積層法で積層する方法を報告している(非特許文献1参照)。この報告によると、負の表面電荷を有するシリカの微粒子とその反対電荷を持つポリカチオンであるポリジアリルジメチルアンモニウムクロライド(PDDA)またはポリエチレンイミン(PEI)などとを交互に積層することで、シリカ微粒子とポリマー電解質が交互に積層された微粒子積層薄膜を形成することが可能である。 As a method for producing an inorganic thin film using this alternate lamination method, Y. Lvov et al. Have reported a method of laminating a polymer electrolyte having a charge opposite to the surface charge of fine particles by using a fine particle dispersion of silica, titania, and ceria (see Non-Patent Document 1). According to this report, silica particles having negative surface charges and polydiallyldimethylammonium chloride (PDDA) or polyethyleneimine (PEI), which are polycations having opposite charges, are alternately laminated to form silica particles. It is possible to form a fine-particle laminated thin film in which polymer electrolytes are alternately laminated.
このような交互積層法を用いて形成された無機薄膜からなる反射防止膜が提案されているが、膜の強度が弱いために、物理的な摩擦などによる膜の損傷、剥離が容易に起こり、ディスプレイなどの最表面への適用には適さなかった。 Although an antireflection film composed of an inorganic thin film formed using such an alternate lamination method has been proposed, the film is weak, and damage to the film due to physical friction, peeling easily occurs, It was not suitable for application to the outermost surface of a display or the like.
そこで、交互積層法で形成した単層の微粒子膜(無機膜)を、粘着性の透明樹脂に付着させる、または溶融性のある透明樹脂と融着させ、接着させる方法(特許文献1参照)、または、基材上に交互積層法で形成した微粒子積層膜の上面に透明基板を付着させて、基材を取り除くことで、微粒子積層膜を転写することで光学機能材を作製する方法が提案されている。(特許文献2参照)
一方、微粒子を用いた膜強度の高い反射防止膜を得る方法として、まず離型フィルムに機能性微粒子層を形成し、最終的に反射防止膜を形成する透明プラスチック基材に、硬化前のハードコート樹脂層を形成して、機能性微粒子層とハードコート樹脂層の双方が面するように圧着し、機能性微粒子層をハードコート樹脂層に埋没させて、ハードコート樹脂層を硬化(活性光線などにより)させ、離型フィルムを剥がすことによって、膜強度の高い反射防止膜を得る方法(特許文献3参照)、また、機能性超微粒子層、例えば、低屈折率超微粒子層又は高屈折率超微粒子層を、ハードコート層に埋没させて透明機能性膜を得る方法(特許文献4及び特許文献5参照)が提案されている。
Therefore, a method of adhering a single-layer fine particle film (inorganic film) formed by an alternating lamination method to an adhesive transparent resin or by adhering it to a meltable transparent resin (see Patent Document 1), Alternatively, a method for producing an optical functional material by transferring a fine particle laminated film by attaching a transparent substrate to the upper surface of the fine particle laminated film formed by alternating lamination method on the base material and removing the base material has been proposed. ing. (See Patent Document 2)
On the other hand, as a method of obtaining an antireflection film having high film strength using fine particles, a functional fine particle layer is first formed on a release film, and finally a hard plastic before curing is formed on a transparent plastic substrate on which the antireflection film is formed. A coat resin layer is formed and pressed so that both the functional fine particle layer and the hard coat resin layer face each other, the functional fine particle layer is embedded in the hard coat resin layer, and the hard coat resin layer is cured (active light beam). Etc.) and peeling off the release film to obtain an antireflection film with high film strength (see Patent Document 3), or a functional ultrafine particle layer such as a low refractive index ultrafine particle layer or a high refractive index. A method of obtaining a transparent functional film by burying an ultrafine particle layer in a hard coat layer (see
しかし、特許文献1や特許文献2の発明は機能性微粒子膜の片方の面が、透明樹脂層に完全に埋没されておらず、十分な膜強度を得ることは困難であった。また、表面の微粒子と微粒子との空間に脂などが入り込むと、屈折率が変化して、光学機能が劣化するという課題があった。
However, in the inventions of
また、特許文献3や特許文献4の方法では、機能性超微粒子層(例えば、低屈折率超微粒子層、高屈折率超微粒子層)の形成方法は、超微粒子の分散液自体、又は、超微粒子にバインダー樹脂と混ぜた超微粒子の分散液を塗布する方法により、超微粒子膜を形成する方法であったため、十分な膜強度を得ることは困難であった。バインダー樹脂と混ぜた超微粒子層は、また、微粒子と微粒子の間に空隙を有しておらず、超微粒子層の超微粒子間の間隙にハードコート樹脂層の樹脂が入り込むように超微粒子層を埋没させることは困難であり、十分な膜強度を得ることは難しいという問題がある。また、超微粒子に混ぜて塗布するバインダー樹脂自体が、ハードコート樹脂と同じ素材の場合でも、界面が発生するためにその密着強度を得るために、表面処理などの工程が必要となることがある。
In addition, in the methods of Patent Document 3 and
特許文献5の方法では、微粒子と微粒子の間に形成される空隙量が高いため、膜強度を向上させることが可能であるが、微粒子膜の形成されていないハードコート樹脂と比較すると機械強度が著しく劣ることがある。
In the method of
本発明は、上記の問題に鑑みなされたもので、成形体の表面に微粒子層を埋没、転写させることにより十分な膜強度が得られる微粒子膜を形成することができる薄膜転写材及びその製造方法並びにこの薄膜付き成形体及びその製造方法を提供するものである。 The present invention has been made in view of the above problems, and a thin film transfer material capable of forming a fine particle film capable of obtaining sufficient film strength by burying and transferring a fine particle layer on the surface of a molded body, and a method for producing the same The present invention also provides a molded body with a thin film and a method for producing the same.
本発明は、次のものに関する。 The present invention relates to the following.
(1)仮支持体と、前記仮支持体の少なくとも一つの表面に形成されている微粒子積層膜とを備える薄膜転写材であって、
(1)前記積層膜は、微粒子を含む微粒子層の1層又は2層以上の積層であり、各微粒子層の少なくとも一箇所の微粒子間に空隙を有し、
(2)前記積層膜は、屈折率及び微粒子の平均一次粒子径の少なくともいずれかが異なる二種類以上の微粒子層の積層であるか、または一種類の微粒子層の1層又は2層以上であり、
(3)前記積層膜の前記仮支持体側から一種類目の1層以上の微粒子層を構成する微粒子の平均一次粒子径が、70〜500nmの範囲内であることを特徴とする薄膜転写材。
(1) A thin film transfer material comprising a temporary support and a fine particle laminate film formed on at least one surface of the temporary support,
(1) The laminated film is a laminate of one or more fine particle layers containing fine particles, and has a void between at least one fine particle of each fine particle layer,
(2) The laminated film is a laminate of two or more kinds of fine particle layers different in at least one of the refractive index and the average primary particle diameter of the fine particles, or one or two or more of one kind of fine particle layer. ,
(3) The thin film transfer material, wherein an average primary particle diameter of fine particles constituting one or more fine particle layers of the first kind from the temporary support side of the laminated film is in a range of 70 to 500 nm.
(2) 前記微粒子が、無機酸化物である前記(1)に記載の薄膜転写材。 (2) The thin film transfer material according to (1), wherein the fine particles are inorganic oxides.
(3) 前記無機酸化物が、ケイ素、アルミニウム、ジルコニウム、チタン、ニオブ、亜鉛、錫、セリウム及びマグネシウムからなる群より選択される少なくとも一種の元素を含む酸化物からなるものである前記(2)記載の薄膜転写材。 (3) The above (2), wherein the inorganic oxide is composed of an oxide containing at least one element selected from the group consisting of silicon, aluminum, zirconium, titanium, niobium, zinc, tin, cerium and magnesium. The thin film transfer material described.
(4) 前記微粒子が、表面または内部に中空または多孔質構造を有するものである前記(1)〜(3)のいずれかに記載の薄膜転写材。 (4) The thin film transfer material according to any one of (1) to (3), wherein the fine particles have a hollow or porous structure on the surface or inside thereof.
(5) 前記微粒子層が、微粒子と高分子電解質との積層であるか、または微粒子に高分子電解質を混合した層である前記(1)〜(4)のいずれかに記載の薄膜転写材。 (5) The thin film transfer material according to any one of (1) to (4), wherein the fine particle layer is a laminate of fine particles and a polymer electrolyte, or is a layer in which a polymer electrolyte is mixed with the fine particles.
(6) 前記微粒子積層膜が反射防止膜である前記(1)〜(5)のいずれかに記載の薄膜転写材。 (6) The thin film transfer material according to any one of (1) to (5), wherein the fine particle multilayer film is an antireflection film.
(7) 前記微粒子積層膜に、重合性不飽和二重結合を有するシリコーンオリゴマーが付着している前記(1)〜(6)のいずれかに記載の薄膜転写材。 (7) The thin film transfer material according to any one of (1) to (6), wherein a silicone oligomer having a polymerizable unsaturated double bond is attached to the fine particle laminated film.
(8) 仮支持体を、(1)イオン性の表面電荷を有する微粒子の分散液と、前記微粒子の表面電荷と反対符号の電荷を有する高分子電解質溶液とに交互に一度以上浸漬する工程、または(2)高分子電解質溶液と、前記高分子電解質の電荷と反対符号の表面電荷を有する微粒子の分散液に交互に一度以上浸漬する工程、のいずれか一方を
行う微粒子積層膜形成工程を含み、
前記微粒子積層膜形成工程において、少なくとも最初に浸漬する微粒子の分散液の微粒子は、平均一次粒子径が、70〜500nmの範囲内であり、
前記微粒子積層膜形成工程により、仮支持体上に少なくとも一箇所の微粒子間に空隙を有する微粒子積層膜を形成することを特徴とする薄膜転写材の製造方法。
(8) A step of immersing the temporary support alternately in one or more times in (1) a dispersion of fine particles having an ionic surface charge and a polymer electrolyte solution having a charge opposite to the surface charge of the fine particles, Or (2) a fine particle laminated film forming step for performing either one of a polymer electrolyte solution and a step of alternately immersing in a dispersion of fine particles having a surface charge opposite in sign to the charge of the polymer electrolyte. ,
In the fine particle laminated film forming step, at least the fine particles of the fine particle dispersion to be immersed first have an average primary particle diameter in the range of 70 to 500 nm,
A method for producing a thin film transfer material, wherein a fine particle laminated film having a gap between at least one fine particle is formed on a temporary support by the fine particle laminated film forming step.
(9) 浸漬する各工程の後、かつ次の工程の前に、リンスする工程を含む前記(8)記載の薄膜転写材の製造方法。 (9) The method for producing a thin film transfer material according to (8), including a rinsing step after each dipping step and before the next step.
(10) 仮支持体に、微粒子の分散液を一度以上塗布する微粒子積層膜形成工程を含み、少なくとも最初に塗布する微粒子の分散液の微粒子は、平均一次粒子径が、70〜500nmの範囲内であり、前記形成工程により仮支持体上に少なくとも一箇所の微粒子間に空隙を有する微粒子積層膜を形成することを特徴とする薄膜転写材の製造方法。 (10) A fine particle laminated film forming step in which a fine particle dispersion is applied to a temporary support at least once. The fine particles of the fine particle dispersion to be applied at least first have an average primary particle diameter in the range of 70 to 500 nm. A method for producing a thin film transfer material, comprising forming a fine particle laminated film having a void between at least one fine particle on the temporary support by the forming step.
(11) 仮支持体に、微粒子の分散液と、高分子電解質溶液とに交互に一度以上塗布する微粒子積層膜形成工程を含み、
微粒子積層膜形成工程において、少なくとも最初に塗布する微粒子の分散液の微粒子は、平均一次粒子径が、70〜500nmの範囲内であり、
前記微粒子積層膜形成工程により仮支持体上に少なくとも一箇所の微粒子間に空隙を有する微粒子積層膜が形成されることを特徴とする薄膜転写材の製造方法。
(11) including a fine particle layered film forming step in which the temporary support is alternately applied to the fine particle dispersion and the polymer electrolyte solution at least once;
In the fine particle laminated film forming step, at least the fine particles of the fine particle dispersion to be applied first have an average primary particle diameter in the range of 70 to 500 nm,
A method for producing a thin film transfer material, wherein a fine particle laminated film having a gap between at least one fine particle is formed on a temporary support by the fine particle laminated film forming step.
(12) さらに、ロール状に巻き取られたシート状の仮支持体を引き出す工程を含み、
前記微粒子積層膜形成工程を連続的に行う前記(8)〜(11)のいずれかに記載の薄膜転写材の製造方法。
(12) The method further includes a step of pulling out the sheet-like temporary support wound in a roll shape,
The method for producing a thin film transfer material according to any one of (8) to (11), wherein the fine particle multilayer film forming step is continuously performed.
(13) 仮支持体上に形成された微粒子積層膜の微粒子に、分子内に水酸基と反応する官能基一つ以上と重合性不飽和二重結合一つ以上を有するシリコーンオリゴマーを付着させる工程を含む前記(8)〜(12)のいずれかに記載の薄膜転写材の製造方法。 (13) A step of attaching a silicone oligomer having one or more functional groups that react with a hydroxyl group and one or more polymerizable unsaturated double bonds in the molecule to the fine particles of the fine particle laminated film formed on the temporary support. The manufacturing method of the thin film transfer material in any one of said (8)-(12) containing.
(14) 成形体の表面に前記(1)〜(7)のいずれかに記載の薄膜転写材の微粒子積層膜が、転写により埋没固定化されている薄膜付き成形体。 (14) A molded body with a thin film in which the fine particle laminated film of the thin film transfer material according to any one of (1) to (7) is embedded and fixed on the surface of the molded body by transfer.
(15) 成形体が、その表面に永久支持層を有するものである前記(14)記載の薄膜付き成形体。 (15) The molded body with a thin film according to (14), wherein the molded body has a permanent support layer on the surface thereof.
(16) 前記永久支持層が、熱可塑性樹脂、熱硬化樹脂または活性エネルギー線硬化樹脂のいずれかを少なくとも含むものである前記(15)記載の薄膜付き成形体。 (16) The molded article with a thin film according to (15), wherein the permanent support layer contains at least one of a thermoplastic resin, a thermosetting resin, or an active energy ray curable resin.
(17) 成形体の未硬化のまたは軟化した表面に前記(1)〜(7)のいずれかに記載の薄膜転写材の微粒子積層膜を転写することにより、前記成形体表面に前記微粒子積層膜を埋没させることを特徴とする薄膜付き成形体の製造方法。 (17) The fine particle laminate film is transferred onto the surface of the compact by transferring the fine particle laminate film of the thin film transfer material according to any one of (1) to (7) to an uncured or softened surface of the compact. A method for producing a molded article with a thin film, characterized in that the film is buried.
(18) 成形体が、その表面に永久支持層を有するものである前記(17)記載の薄膜付き成形体の製造方法。 (18) The method for producing a molded body with a thin film according to (17), wherein the molded body has a permanent support layer on the surface thereof.
(19) 永久支持層が、熱可塑性樹脂、熱硬化樹脂または活性エネルギー線硬化樹脂のいずれかを少なくとも含むものである前記(18)記載の薄膜付き成形体の製造方法。 (19) The method for producing a molded article with a thin film according to (18), wherein the permanent support layer contains at least one of a thermoplastic resin, a thermosetting resin, or an active energy ray curable resin.
(20) 薄膜転写材を射出成形金型内に挟み込む工程、前記薄膜転写材の微粒子積層膜側に溶融材料を射出することにより成形体を形成すると同時に、前記成形体の表面に前記薄膜転写材の微粒子積層膜を埋没させる工程、その後、仮支持体を剥離する工程を含む前記(17)記載の薄膜付き成形体の製造方法。 (20) A step of sandwiching a thin film transfer material in an injection mold, and forming a molded body by injecting a molten material to the fine particle laminated film side of the thin film transfer material, and simultaneously, the thin film transfer material on the surface of the molded body The method for producing a molded article with a thin film according to (17), comprising a step of burying the fine particle laminated film, and a step of peeling the temporary support.
(21) 薄膜転写材の微粒子積層膜側を成形体に重ねて熱圧着することにより、未硬化のまたは軟化した成形体の表面に前記薄膜転写材の微粒子積層膜を埋没させる工程、その後、仮支持体を剥離する工程を含む前記(17)記載の薄膜付き成形体の製造方法。 (21) A step of burying the fine particle laminated film of the thin film transfer material on the surface of the uncured or softened molded product by thermocompression bonding the fine particle laminated film side of the thin film transfer material on the molded product, The manufacturing method of the molded object with a thin film of the said (17) description including the process of peeling a support body.
(22) 永久支持層が表面に形成された成形体を用い、薄膜転写材の微粒子積層膜側を前記永久支持層に重ねて、熱圧着又は活性光線の照射を行う工程により、前記永久支持層の未硬化のまたは軟化した表面に前記薄膜転写材の微粒子積層膜を埋没させる前記(19)に記載の薄膜付き成形体の製造方法。 (22) The permanent support layer is formed by using a molded body having a permanent support layer formed on the surface thereof, superposing the fine particle laminated film side of the thin film transfer material on the permanent support layer, and performing thermocompression bonding or actinic ray irradiation. The manufacturing method of the molded object with a thin film as described in said (19) which embeds the fine particle laminated film of the said thin film transfer material in the uncured or softened surface of this.
本発明の薄膜転写材の、薄膜を構成する微粒子積層膜は微粒子と微粒子との間に大きな空隙を有しているため、成形体表面への転写により、成形体表面材料が微粒子積層膜に入り込みやすくなり、成形体の最表面層における成形体表面材料の微粒子に対する割合を多くすることが可能となる。その結果、成形体表面材料と同程度の高い膜強度を有する薄膜付き成形体を得ることができる。また、各種成形体の表面に、加工コスト、生産性に優れ、光学特性、外観性、耐久性にも優れた薄膜を形成することができる。 In the thin film transfer material of the present invention, since the fine particle laminated film constituting the thin film has a large gap between the fine particles, the surface material of the molded body enters the fine particle laminated film by transfer to the surface of the molded object. It becomes easy and it becomes possible to increase the ratio with respect to the microparticles | fine-particles of the molded object surface material in the outermost surface layer of a molded object. As a result, it is possible to obtain a molded body with a thin film having a film strength as high as that of the surface material of the molded body. In addition, a thin film having excellent processing cost and productivity, and excellent optical characteristics, appearance, and durability can be formed on the surface of various molded articles.
本発明の薄膜は、ハードコート膜、ガスバリア膜、透明蒸着、ハイブリッド膜、光反射膜、光反射防止膜、導電膜、帯電防止膜、制電膜、透明導電膜、電磁波遮蔽膜、印刷用紙用薄膜、磁気テープ用フェライト膜、光触媒・親水・防汚・防曇・撥水膜、光触媒膜、親水親油性膜、撥水性膜、農業用防曇膜、遮断膜、近赤外線遮断膜、紫外線防御膜、透明断熱膜、抗菌・防臭膜等の機能を有する膜、炭素系薄膜、ダイヤモンド薄膜、ダイヤモンド状炭素膜等の素材膜、医療用膜生体骨用膜、人工血管膜、人工臓器用膜などの医療用途膜、多孔質膜などに応用される。 The thin film of the present invention is a hard coat film, gas barrier film, transparent deposition, hybrid film, light reflection film, light reflection prevention film, conductive film, antistatic film, antistatic film, transparent conductive film, electromagnetic wave shielding film, and printing paper Thin film, ferrite film for magnetic tape, photocatalyst / hydrophilic / antifouling / antifogging / water repellent film, photocatalyst film, hydrophilic / lipophilic film, water repellent film, agricultural antifogging film, blocking film, near infrared blocking film, UV protection Membranes, transparent thermal insulation membranes, membranes with antibacterial / deodorant membranes, carbon-based thin films, diamond thin films, diamond-like carbon membranes, medical membranes, biological bone membranes, artificial blood vessel membranes, artificial organ membranes, etc. It is applied to medical use membranes and porous membranes.
また、適応される工業製品の分野としては、センサ、記録・記憶、光ディスク、光磁気ディスク、磁気テープ、光テープ、記録紙、太陽電池、ディスプレイ、フィルムLCD、PDP、タッチパネル、反射防止フィルム、光学部品、透明光学部品、光導波路部材、機械部材、粘着ラベルなどが挙げられる。 Applicable industrial products include sensors, recording / storage, optical discs, magneto-optical discs, magnetic tapes, optical tapes, recording paper, solar cells, displays, film LCDs, PDPs, touch panels, antireflection films, optics Examples include parts, transparent optical parts, optical waveguide members, mechanical members, and adhesive labels.
中でも、近年、ブラウン管(Cathode−Ray Tube:CRT)をはじめ、液晶ディスプレイ(Liquid Crystal Display:LCD)、プラズマディスプレイパネル(PlasmaDisplay Panel:PDP)、エレクトロルミネッセンスディスプレイパネル(Electroluminescent Display Panel:ELP)、エレクトロクロミックディスプレイ(Electrochemical Chromic Display:ECD)等、ディスプレイ分野、特にフラットパネル型ディスプレイの分野の進歩は目ざましく、これらは屋内のみならず携帯電話、携帯用情報端末等の移動端末の普及に伴い、屋外でも使用されるようになってきた。 Among them, in recent years, a cathode-ray tube (CRT), a liquid crystal display (LCD), a plasma display panel (PDP), an electroluminescent display panel, and an electroluminescent display panel (CRT). Advances in the display field, especially in the field of flat panel displays, such as displays (Electro-Chemical Display: ECD), are remarkable. These are not only indoors, but also outdoors, as mobile terminals such as mobile phones and portable information terminals spread. Has come to be used.
これらのディスプレイにおいては、特に屋外で使用する場合の表示画面の視認性を高めるために、反射防止膜が必須となっており、従来よりもさらに優れた反射防止効果を持ち、耐久性にも優れた光学薄膜を各種ディスプレイの表面に設けることが必要とされている。本発明における薄膜は、このような反射防止膜として特に有用である。 In these displays, an anti-reflective coating is indispensable in order to improve the visibility of the display screen, especially when used outdoors. It is necessary to provide an optical thin film on the surface of various displays. The thin film in the present invention is particularly useful as such an antireflection film.
本発明の薄膜転写材における微粒子積層膜は、微粒子を含み、少なくとも一箇所の微粒子間に空隙が形成されている。さらに仮支持体表面付近の微粒子積層膜中の微粒子間には大きな空隙が形成されているのが好ましい。前記薄膜転写材を成形体表面に転写することにより、成形体表面材料が微粒子積層膜の前記空隙に入り込み、成形体の最表面層(薄膜転写材における仮支持体側に最も近い側)における成形体表面材料の微粒子に対する割合を多くすることが可能となる。その結果、機械特性、膜強度に優れる薄膜を有する成形体を得ることができる。 The fine particle laminated film in the thin film transfer material of the present invention contains fine particles, and a void is formed between at least one fine particle. Further, it is preferable that large voids are formed between the fine particles in the fine particle laminated film near the surface of the temporary support. By transferring the thin film transfer material to the surface of the molded body, the molded body surface material enters the voids of the fine particle laminated film, and the molded body in the outermost surface layer of the molded body (the side closest to the temporary support side in the thin film transfer material) The ratio of the surface material to the fine particles can be increased. As a result, a molded body having a thin film having excellent mechanical properties and film strength can be obtained.
薄膜転写材を構成する仮支持体は、その材料は特に限定されるものではないが、変形又は屈曲可能なプラスチックによるフィルムが適当である。例えば、ポリエステル、セルロースアセテート、ポリプロピレン、ポリエチレン、ポリアミド、ポリイミド、ポリエーテルスルホン、ポリスルホン、ポリビニルアセタール、ポリエーテルケトン、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリアクリル酸メチル、ポリメタクリル酸メチル、ポリカーボネート、ポリウレタン等の延伸又は未延伸の透明プラスチックフィルム等が挙げられる。 The material of the temporary support constituting the thin film transfer material is not particularly limited, but a film made of plastic that can be deformed or bent is suitable. For example, polyester, cellulose acetate, polypropylene, polyethylene, polyamide, polyimide, polyether sulfone, polysulfone, polyvinyl acetal, polyether ketone, polyvinyl chloride, polyvinylidene chloride, polymethyl acrylate, polymethyl methacrylate, polycarbonate, polyurethane, etc. Stretched or unstretched transparent plastic film.
仮支持体自体は、微粒子積層膜を仮支持体から剥離した際に仮支持体に微粒子積層膜が全く残らないような離型性を有しているか、離型性が付与されたものであれば、仮支持体として使用することができる。離型性が付与されたものは、例えば、ワックス類、高級脂肪酸の塩又はエステル類、フッ化アルキル化化合物、ポリビニルアルコール、低分子量ポリエチレン等の離型剤が添加される等である。カップリング剤などの表面改質剤を用いても良い。 The temporary support itself has releasability such that the fine particle laminated film does not remain on the temporary support when the fine particle laminated film is peeled off from the temporary support, or is provided with releasability. For example, it can be used as a temporary support. For example, a release agent such as a wax, a salt or ester of a higher fatty acid, a fluorinated alkylated compound, polyvinyl alcohol, or low molecular weight polyethylene is added. A surface modifier such as a coupling agent may be used.
仮支持体の厚さは、特に限定されるものではないが、通常4〜150μmの範囲、好ましくは12〜100μmの範囲、さらに好ましくは20〜50μmの範囲のものを用いるのが、しわや亀裂などのない薄膜転写材の製造が容易となる点から好ましい。 The thickness of the temporary support is not particularly limited, but it is usually in the range of 4 to 150 μm, preferably in the range of 12 to 100 μm, more preferably in the range of 20 to 50 μm. It is preferable from the viewpoint of easy production of a thin film transfer material free of the above.
上記仮支持体の少なくとも一方の表面に形成される微粒子積層膜の膜厚は特に限定しないが、光学薄膜として利用する場合には、50〜150nmが好ましい。また、微粒子積層膜の屈折率は、1.12〜2.00が好ましい。例えば、屈折率が異なる微粒子積層膜が複数種積層された場合は、反射防止膜や反射膜、光学フィルター、半透過半反射膜として利用できる。 The film thickness of the fine particle laminated film formed on at least one surface of the temporary support is not particularly limited, but is preferably 50 to 150 nm when used as an optical thin film. The refractive index of the fine particle laminated film is preferably 1.12 to 2.00. For example, when a plurality of kinds of fine particle laminated films having different refractive indexes are laminated, they can be used as an antireflection film, a reflective film, an optical filter, or a semi-transmissive / semi-reflective film.
微粒子積層膜中に含まれる微粒子としては、無機微粒子が好ましく、無機酸化物、無機フッ化物がより好ましく、特に金属酸化物、金属フッ化物等の金属含有微粒子が好ましい。具体的には、フッ化マグネシウム(MgF2)、フッ化アルミニウム(AlF3)、フッ化リチウム(LiF)、フッ化ナトリウム(NaF)、シリカ(SiO2)、酸化アルミニウム(Al2O3)、酸化ジルコニア(ZrO2)、酸化チタン(TiO2)、酸化ニオブ(Nb2O5)、インジウムスズ酸化物(ITO)、酸化亜鉛(ZnO)、酸化スズ(SnO2)、セリア(CeO2)、酸化イットリウム(Y2O3)、酸化ビスマス(Bi2O3)などが挙げられる。これらの微粒子から選択された1種類もしくは、2種以上の金属酸化物微粒子の混合物を組み合わせて用いることができる。 The fine particles contained in the fine particle laminated film are preferably inorganic fine particles, more preferably inorganic oxides and inorganic fluorides, and particularly metal-containing fine particles such as metal oxides and metal fluorides. Specifically, magnesium fluoride (MgF 2 ), aluminum fluoride (AlF 3 ), lithium fluoride (LiF), sodium fluoride (NaF), silica (SiO 2 ), aluminum oxide (Al 2 O 3 ), Zirconia oxide (ZrO 2 ), titanium oxide (TiO 2 ), niobium oxide (Nb 2 O 5 ), indium tin oxide (ITO), zinc oxide (ZnO), tin oxide (SnO 2 ), ceria (CeO 2 ), Examples thereof include yttrium oxide (Y 2 O 3 ) and bismuth oxide (Bi 2 O 3 ). One kind selected from these fine particles or a mixture of two or more kinds of metal oxide fine particles can be used in combination.
透明な薄膜を得るためには、ケイ素、アルミニウム、ジルコニウム、チタン、ニオブ、亜鉛、錫、セリウム及びマグネシウムからなる群より選択される少なくとも一種の元素を含む酸化物を用いると好ましい。 In order to obtain a transparent thin film, it is preferable to use an oxide containing at least one element selected from the group consisting of silicon, aluminum, zirconium, titanium, niobium, zinc, tin, cerium and magnesium.
仮支持体上に形成された微粒子が積み重なってなる微粒子積層膜には、微粒子と微粒子の間に空隙が存在する。ここで述べる空隙とは、転写する過程で、未硬化のまたは軟化した成形体または後述する永久支持層の構成材料が入り込むことができる空間のことである。隣り合う微粒子同士は接触している部分があっても無くてもよい。成形体表面に上記の微粒子積層膜からなる薄膜が、その空隙に成形体の一部または成形体の表面に形成された永久支持層の一部が入り込むようにして、薄膜が成形体表面に埋没して、成形体と一体化することにより、薄膜という観点からは、その密着性や耐擦傷性など機械的特性が向上する。この空隙の大きさが大きいほど、成形体表面材料が入り込みやすくなり、薄膜付き成形体の強度は高くなる。 In the fine particle laminated film in which the fine particles formed on the temporary support are stacked, there are voids between the fine particles. The void described here is a space in which a constituent material of an uncured or softened molded body or a permanent support layer described later can enter during the transfer process. Adjacent fine particles may or may not be in contact with each other. The thin film consisting of the above-mentioned fine particle laminated film is embedded on the surface of the molded body so that a part of the molded body or a part of the permanent support layer formed on the surface of the molded body enters the gap. And by integrating with a molded object, from a viewpoint of a thin film, mechanical characteristics, such as the adhesiveness and abrasion resistance, improve. The larger the size of the voids, the easier it is for the surface material of the molded body to enter, and the strength of the molded body with a thin film increases.
1次粒子がつながった形状の粒子を用いるよりも、粒子径の大きな微粒子を使用することが、容易に空隙を大きくすることができるため、好ましい。 It is preferable to use fine particles having a large particle size, rather than using particles having a shape in which primary particles are connected, because the voids can be easily enlarged.
空隙率が小さすぎると、空隙への上記入り込みが不十分になる傾向があり、粒子間の結着が不十分になる傾向がある。また、空隙率が大きすぎると、微粒子積層膜としての形状を留めておくことが困難となる傾向がある。 When the porosity is too small, the above penetration into the voids tends to be insufficient, and the binding between particles tends to be insufficient. Moreover, when the porosity is too large, it tends to be difficult to keep the shape of the fine particle laminated film.
微粒子が、表面または内部に、中空または多孔質構造を有することは、空隙が多くなるため、特に低屈性率の薄膜を作製する上で好ましい。成形体の一部または成形体の表面に形成された永久支持層が微粒子積層膜の粒子間の空隙に十分入り込んで、微粒子との密着性や耐擦傷性などの機械的特性を向上させながら、微粒子自体の内部の空隙によって、低屈折率化された薄膜が形成できる。 It is preferable that the fine particles have a hollow or porous structure on the surface or in the inside thereof, since the number of voids increases, and particularly when a thin film having a low refractive index is produced. While the permanent support layer formed on a part of the molded body or the surface of the molded body sufficiently enters the voids between the particles of the fine particle laminate film, while improving mechanical properties such as adhesion to fine particles and scratch resistance, A thin film with a reduced refractive index can be formed by voids inside the fine particles themselves.
微粒子積層膜は、前記積層膜は、微粒子を含む微粒子層の1層又は2層以上の積層であり、各微粒子層の少なくとも一箇所の微粒子間に空隙を有する。 In the fine particle laminated film, the laminated film is a fine particle layer or a laminate of two or more fine particle layers, and has a void between at least one fine particle in each fine particle layer.
また、前記積層膜は、屈折率及び微粒子の平均一次粒子径の少なくともいずれかが異なる二種類以上の微粒子層の積層であるか、または一種類(同種類)の微粒子層の1層又は2層以上である。二種類以上の場合、微粒子積層膜内の各種類の微粒子層は、1層のみでも2層以上の積層でもよい。すなわち、同じ種類の微粒子層のみの積層膜であってもよいし、その上に、さらに前記微粒子層と種類が異なる別の微粒子層からなる積層膜が形成されていてもよい。 Further, the laminated film is a laminate of two or more kinds of fine particle layers different in at least one of the refractive index and the average primary particle diameter of fine particles, or one or two layers of one kind (same kind) of fine particle layers. That's it. In the case of two or more types, each type of fine particle layer in the fine particle laminated film may be a single layer or a laminate of two or more layers. That is, it may be a laminated film having only the same kind of fine particle layer, or a laminated film made of another fine particle layer having a different type from the fine particle layer may be formed thereon.
なお、「一種類」の微粒子層の積層膜とは、一種類の微粒子のみからなる微粒子層の積層膜だけでなく、異なる微粒子の混合物の微粒子層からなる積層膜全体で積層方向に局在化せず均等に分散している場合や、微粒子と後述する高分子とからなる微粒子層が積層している場合も含む。 Note that “one type” of the layered film of the fine particle layer is localized not only in the layered film of the fine particle layer consisting of only one type of fine particles but also in the whole of the multilayered film consisting of the fine particle layer of a mixture of different fine particles. It includes the case where the particles are evenly dispersed and the case where a fine particle layer composed of fine particles and a polymer described later is laminated.
積層膜が二種類以上の場合、本発明において、仮支持体に近い種類から順に「一種類目」「二種類目」・・・とする。転写後は成形体の表面に位置するのは一種類目の微粒子層であるため、例えば一種類目の微粒子層は屈折率を所定の値とし、二種類目の微粒子積層膜は成形体表面材料に埋没しやすいよう所定の平均一次粒子径の微粒子を用いることにより、多機能の微粒子積層膜を得ることができる。これら二種類以上の微粒子層は、屈折率、微粒子の平均1次粒子径の少なくともいずれかが異なるものである。複数種類の微粒子層の物性の違いは、さらに、微粒子の元素成分、微粒子同士の混合比等でも調整できる。三種類目以降の微粒子層も同様である。 When there are two or more types of laminated films, in the present invention, the first type, the second type,. Since the first type of fine particle layer is located on the surface of the molded body after the transfer, for example, the first type of fine particle layer has a predetermined refractive index, and the second type of fine particle laminated film is a surface material of the molded body. By using fine particles having a predetermined average primary particle size so as to be easily buried in the film, a multifunctional fine particle laminated film can be obtained. These two or more types of fine particle layers differ in at least one of the refractive index and the average primary particle diameter of the fine particles. Differences in the physical properties of the plural types of fine particle layers can be further adjusted by the elemental component of the fine particles, the mixing ratio of the fine particles, and the like. The same applies to the third and subsequent fine particle layers.
本発明では、前記前記仮支持体側から一種類目の1層以上の微粒子層(以下、一種類目の層ともいう。)を構成する微粒子の平均一次粒子径が、70〜500nmの範囲内である必要がある。その理由は、微粒子の平均1次粒子径が小さすぎると、微粒子と微粒子の空隙の大きさが小さくなり、成形体表面に転写する際に、微粒子が成形体表面材料に埋没することが困難になるためである。この層は成形体と一体化したときに表面になるので、空隙率が大きいことが好ましい。 In the present invention, the average primary particle diameter of the fine particles constituting one or more fine particle layers (hereinafter also referred to as the first type layer) from the temporary support side is within a range of 70 to 500 nm. There must be. The reason for this is that if the average primary particle diameter of the fine particles is too small, the size of the voids between the fine particles and the fine particles becomes small, making it difficult for the fine particles to be embedded in the surface of the molded product when transferred to the surface of the molded product. Because it becomes. Since this layer becomes the surface when it is integrated with the molded body, it is preferable that the porosity is large.
好ましい下限は微粒子と微粒子との間の上記空隙の大きさの理由により、70nmであり、より好ましい下限は80nmである。また、好ましい上限は、微粒子積層膜表面の凹凸を低減する理由により、150nmであり、より好ましい上限は120nmである。なお、本発明において、微粒子の平均一次粒子径は、特記しない限りBET法で測定した値である。 A preferred lower limit is 70 nm because of the size of the voids between the fine particles, and a more preferred lower limit is 80 nm. Moreover, a preferable upper limit is 150 nm for the reason of reducing the unevenness | corrugation of the fine particle laminated film surface, and a more preferable upper limit is 120 nm. In the present invention, the average primary particle diameter of the fine particles is a value measured by the BET method unless otherwise specified.
前記一種類目の層の微粒子には、屈折率を調整して光学的な機能を高めるために、平均1次粒子径が70〜500nmとなる範囲内で、粒子径や元素成分の異なる微粒子を混合しても良い。1次粒子径の異なる微粒子を混合する場合には、微粒子間の空隙を著しく小さくするような粒子径、混合量は好ましくない。具体的には、1次粒子径は、10〜500nmが好ましく、さらに好ましくは20〜50nmである。混合量は、10〜50重量%が好ましく、さらに好ましくは20〜30重量%である。混合量が多すぎると大きな空隙を埋めてしまい、少なすぎると光学的な機能向上が得られないからである。 In order to adjust the refractive index and enhance the optical function, the first kind of fine particles includes fine particles having different particle diameters and elemental components within an average primary particle diameter of 70 to 500 nm. You may mix. In the case of mixing fine particles having different primary particle diameters, particle diameters and mixing amounts that significantly reduce the voids between the fine particles are not preferable. Specifically, the primary particle size is preferably 10 to 500 nm, more preferably 20 to 50 nm. The mixing amount is preferably 10 to 50% by weight, more preferably 20 to 30% by weight. This is because if the mixing amount is too large, the large voids are filled, and if the mixing amount is too small, the optical function cannot be improved.
仮支持体上に形成する二種類目以降の層を構成する微粒子は、粒子の形状は特に限定されないが、平均1次粒子径は、10〜500nmが好ましく、さらに好ましくは15〜50nmである。その理由は、微粒子の平均1次粒子径が小さすぎると、微粒子と微粒子の空隙の大きさが小さくなり、成形体表面に転写する際に、微粒子が成形体表面材料に埋没することが困難になるためであり、500nm以上の粒子は、水分散が困難であるため、コーティング中に沈殿しやすい傾向がある。また、微粒子の平均1次粒子径が50nmより大きいと、ミー散乱のため膜の白化が起こる傾向があるので透明な光学薄膜用途には不向きであるためである。 The fine particles constituting the second and subsequent layers formed on the temporary support are not particularly limited in the shape of the particles, but the average primary particle size is preferably 10 to 500 nm, more preferably 15 to 50 nm. The reason for this is that if the average primary particle diameter of the fine particles is too small, the size of the voids between the fine particles and the fine particles becomes small, making it difficult for the fine particles to be embedded in the surface of the molded product when transferred to the surface of the molded product. This is because particles having a diameter of 500 nm or more tend to precipitate during coating because water dispersion is difficult. Further, if the average primary particle diameter of the fine particles is larger than 50 nm, the film tends to be whitened due to Mie scattering, so that it is not suitable for transparent optical thin film applications.
なお、特許文献3に開示されるように、微粒子分散液とバインダー樹脂を混ぜて仮支持体に塗布して形成される微粒子層の薄膜を転写する方法では、硬化性樹脂が入り込むために十分な隙間を、微粒子層に形成することができないために、微粒子間を結着することが困難であった。 In addition, as disclosed in Patent Document 3, the method of transferring the thin film of the fine particle layer formed by mixing the fine particle dispersion and the binder resin and applying the mixture to the temporary support is sufficient to allow the curable resin to enter. Since the gap cannot be formed in the fine particle layer, it is difficult to bind the fine particles.
本発明における微粒子積層膜は、微粒子分散液を仮支持体に直接塗布する方法、交互積層法などによって作製することができる。交互積層法によると、pH調整(pHを3〜9に調整すると空隙率は比較的大きく、それ以外の範囲では空隙率が比較的小さくなるように制御される)等、微粒子の表面電位を調整することができるので、形成される微粒子積層膜の空隙率を制御しやすい。 The fine particle laminated film in the present invention can be produced by a method of directly applying a fine particle dispersion to a temporary support, an alternating lamination method, or the like. According to the alternating lamination method, the surface potential of fine particles is adjusted, such as pH adjustment (the porosity is controlled to be relatively large when the pH is adjusted to 3 to 9, and the porosity is controlled to be relatively small in other ranges). Therefore, it is easy to control the porosity of the formed fine particle laminated film.
交互積層法によれば、仮支持体を高分子電解質溶液(ポリカチオンまたはポリアニオン)と微粒子分散液に交互に浸し、微粒子積層膜を仮支持体に作製する。このように、交互積層法の場合、形成される微粒子層は高分子電解質と微粒子とが積層されているが、微粒子積層膜の中に含まれる高分子電解質の比率は、1重量%以下であり、微粒子間の空隙を全て埋めるものではない。 According to the alternating lamination method, the temporary support is immersed alternately in a polymer electrolyte solution (polycation or polyanion) and a fine particle dispersion to produce a fine particle laminated film on the temporary support. As described above, in the case of the alternating lamination method, the formed fine particle layer is formed by laminating the polymer electrolyte and the fine particles, but the ratio of the polymer electrolyte contained in the fine particle laminated film is 1% by weight or less. Not all the voids between the fine particles are filled.
まず、仮支持体は、そのまま用いるか、または離型処理を行って用いる。また、高分子電解質や微粒子を仮支持体表面に吸着させるために、仮支持体表面に表面電荷を効率よく導入する方法としては、強電解質高分子であるポリジアリルジメチルアンモニウムクロリド(PDDA)又はポリエチレンイミン(PEI)とポリスチレンスルホン酸(PSS)の交互積層膜をあらかじめ仮支持体に形成する方法がある。 First, the temporary support is used as it is or after being subjected to a release treatment. Moreover, in order to adsorb the polymer electrolyte and fine particles onto the temporary support surface, as a method for efficiently introducing surface charges onto the temporary support surface, polydiallyldimethylammonium chloride (PDDA) or polyethylene, which is a strong electrolyte polymer, is used. There is a method in which an alternate laminated film of imine (PEI) and polystyrene sulfonic acid (PSS) is previously formed on a temporary support.
仮支持体の表面電荷がマイナスであれば、はじめにカチオン性の溶液または分散液に浸漬する。逆に、仮支持体の表面電荷がプラスであれば、はじめにアニオン性の溶液または分散液に浸漬する。すなわち、仮支持体を、(1)イオン性の表面電荷を有する微粒子の分散液と、前記微粒子の表面電荷と反対符号の電荷を有する高分子電解質溶液とに交互に一度以上浸漬する工程、または(2)高分子電解質溶液と、前記高分子電解質の電荷と反対符号の表面電荷を有する微粒子の分散液に交互に一度以上浸漬する工程、のいずれか一方を行う微粒子積層膜形成工程である。 If the surface charge of the temporary support is negative, it is first immersed in a cationic solution or dispersion. Conversely, if the surface charge of the temporary support is positive, it is first immersed in an anionic solution or dispersion. That is, (1) a step of alternately immersing a temporary support in a dispersion of fine particles having an ionic surface charge and a polymer electrolyte solution having a charge opposite in sign to the surface charge of the fine particles, or (2) A fine particle laminated film forming step for performing either one of a polymer electrolyte solution and a step of alternately immersing in a dispersion of fine particles having a surface charge opposite to the charge of the polymer electrolyte at least once.
仮支持体に少なくとも最初に塗布または浸漬する微粒子の分散液が微粒子積層膜における前記一種類目の層になるので、平均一次粒子径が、70〜500nmの範囲内である。微粒子積層膜の二種類目以降の層を積層する場合は、引き続き二種類目の微粒子分散液および/または高分子電解質溶液を使用する。 Since the dispersion liquid of the fine particles applied or immersed at least first on the temporary support becomes the first type layer in the fine particle laminated film, the average primary particle diameter is in the range of 70 to 500 nm. When the second and subsequent layers of the fine particle laminated film are laminated, the second type fine particle dispersion and / or the polymer electrolyte solution are subsequently used.
浸漬時間は高分子電解質や微粒子、積層したい膜厚によって適宜調整する。例えば光学薄膜の場合は、50〜150nmが好ましい。微粒子積層膜が、適当な膜厚になるまで、高分子電解質溶液と微粒子分散液への浸漬を交互に繰り返す。 The immersion time is appropriately adjusted according to the polymer electrolyte, fine particles, and the film thickness to be laminated. For example, in the case of an optical thin film, 50 to 150 nm is preferable. The immersion in the polymer electrolyte solution and the fine particle dispersion is alternately repeated until the fine particle laminated film has an appropriate film thickness.
各浸漬工程の後、次の反対電荷を有する溶液又は分散液に浸漬する工程の前に溶媒または分散媒のみによる洗浄によって余剰分を洗い流す工程(リンス工程)を経ることが好ましい。また、積層された高分子電解質や微粒子が膜を形成しているが、互いに静電的に吸着しているために、このリンス工程で剥離することはない。また、反対電荷の溶液に、静電的に吸着していない高分子電解質または微粒子、言い換えれば、分子間力などの弱い結合によって吸着しており脱離しやすいもの、を次の作業又は工程に持ち込むことを防ぐために、リンス工程は、行った方が好ましい。反対電荷を有する物質を次の作業又は工程に持ち込むことによって溶液内でカチオン、アニオンが混ざり、沈殿を起こすことがある。高分子電解質溶液への浸漬後にリンス工程を行うことによって、微粒子の間に入り込んだ余分の高分子電解質を取り除く効果がある。 After each immersion step, it is preferable to pass through a step (rinsing step) of rinsing excess by washing with only the solvent or dispersion medium before the step of immersing in the next solution or dispersion having the opposite charge. Further, although the laminated polymer electrolyte and fine particles form a film, they are not separated in this rinsing step because they are electrostatically adsorbed to each other. In addition, a polyelectrolyte or fine particle that is not electrostatically adsorbed in an oppositely charged solution, in other words, a substance that is adsorbed by a weak bond such as intermolecular force and easily desorbed is brought into the next operation or process. In order to prevent this, the rinsing step is preferably performed. When a substance having an opposite charge is brought into the next operation or process, cations and anions may be mixed in the solution to cause precipitation. By rinsing after immersion in the polymer electrolyte solution, there is an effect of removing excess polymer electrolyte that has entered between the fine particles.
高分子電解質の濃度は、溶媒に対する高分子電解質の溶解度及びによって適宜決定されるが、適正な濃度よりも高濃度であると、リンス工程で余剰の溶液を洗い流しにくくなるために、空隙を埋めてしまう。また低濃度すぎると、吸着する仮支持体の面積に対して、溶質である高分子電解質の量が十分でないため、交互積層による膜形成ができない。 The concentration of the polyelectrolyte is appropriately determined depending on the solubility of the polyelectrolyte in the solvent and the concentration, but if it is higher than the appropriate concentration, it is difficult to wash away excess solution in the rinsing step. End up. On the other hand, if the concentration is too low, the amount of polymer electrolyte as a solute is not sufficient with respect to the area of the temporary support to be adsorbed, so that film formation by alternating lamination cannot be performed.
高分子電解質の濃度及び微粒子の濃度は、それぞれ、0.00001重量%以上30重量%以下の範囲から適宜選択することが好ましく、0.001重量%以上20重量%以下がさらに好ましく、0.01重量%以上10重量%以下が特に好ましい。高分子電解質溶液及び微粒子分散液による浸漬時間は、それぞれ、1秒間以上120分間以下の間で適宜選択することが好ましく、10秒間以上300秒間以下の範囲であることがより好ましい。 The concentration of the polymer electrolyte and the concentration of the fine particles are each suitably selected from the range of 0.00001 wt% to 30 wt%, more preferably 0.001 wt% to 20 wt%, The weight percentage is particularly preferably 10% by weight or more. The immersion time with the polymer electrolyte solution and the fine particle dispersion is preferably appropriately selected from 1 second to 120 minutes, and more preferably from 10 seconds to 300 seconds.
上記の交互積層法において、高分子電解質又は微粒子の層の形成は、これらを含む溶液又は分散液の仮支持体への浸漬により行う場合を説明したが、このような場合に限らず、上記の溶液又は分散液が、仮支持体に接触して膜を形成することができる方法であればよい。具体的には、スプレー法、キャスト法、バーコート法、ダイコート法、グラビアコート法、ロールコート法などを用いて、仮支持体上に微粒子の分散液と高分子電解質溶液とを交互に直接塗布し、乾燥することにより微粒子積層膜を形成することができる。この場合、仮支持体の表面電荷に応じた塗布の順番は特に限定されない。 In the above alternate lamination method, the formation of the polymer electrolyte or fine particle layer has been described by immersing the solution or dispersion containing them in a temporary support. However, the present invention is not limited to such a case. Any method may be used as long as the solution or the dispersion liquid can form a film in contact with the temporary support. Specifically, a dispersion of fine particles and a polymer electrolyte solution are applied directly and alternately on a temporary support using spraying, casting, bar coating, die coating, gravure coating, roll coating, etc. Then, a fine particle laminated film can be formed by drying. In this case, the order of application according to the surface charge of the temporary support is not particularly limited.
なお、微粒子分散液は、水やアルコールに分散させたゾル状微粒子分散液を用いるのが好ましい。微粒子分散液の分散媒としては、メタノール、エタノールなどのアルコール系溶剤、エチレングリコールモノメチルエーテルなどのエーテル系溶剤、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトンなどのケトン系溶剤、N,N−ジメチルホルムアミドなどのアミド系溶剤、トルエン、キシレンなどの芳香族炭化水素系溶剤、酢酸エチルなどのエステル系溶剤、ブチロニトリルなどのニトリル系溶剤、水等が挙げられ、2種類以上を混合した分散媒を用いても良い。 The fine particle dispersion is preferably a sol fine particle dispersion dispersed in water or alcohol. The dispersion medium of the fine particle dispersion includes alcohol solvents such as methanol and ethanol, ether solvents such as ethylene glycol monomethyl ether, ketone solvents such as acetone, methyl ethyl ketone and methyl isobutyl ketone, and amides such as N, N-dimethylformamide. Examples thereof include an aromatic hydrocarbon solvent such as toluene and xylene, an ester solvent such as ethyl acetate, a nitrile solvent such as butyronitrile, water, and the like, and a dispersion medium in which two or more kinds are mixed may be used.
さらに仮支持体との濡れを良くするために、微粒子分散性を悪化させない程度に界面活性剤を加えても良い。界面活性剤は、非イオン性界面活性剤、アニオン性界面活性剤、カチオン性界面活性剤、双性界面活性剤等が挙げられるが、非イオン性界面活性剤やアニオン性界面活性剤が好適である。界面活性剤の濃度は、0.001重量%以上5重量%以下の範囲から適宜選択することが好ましく、0.01重量%以上0.5重量%以下がさらに好ましい。 Furthermore, in order to improve the wettability with the temporary support, a surfactant may be added to such an extent that the fine particle dispersibility is not deteriorated. Examples of the surfactant include nonionic surfactants, anionic surfactants, cationic surfactants, and zwitterionic surfactants. Nonionic surfactants and anionic surfactants are preferable. is there. The concentration of the surfactant is preferably appropriately selected from the range of 0.001% by weight to 5% by weight, and more preferably 0.01% by weight to 0.5% by weight.
また、微粒子分散液を直接塗布する方法は、スプレー法、キャスト法、バーコート法、ダイコート法、グラビアコート法、ロールコート法等により、仮支持体に微粒子分散液を直接塗布し、乾燥することを必要に応じて繰り返して、所望の厚さの微粒子積層膜を得ることができる。ゾル状微粒子分散液の分散溶媒としては、上述と同じ溶剤、水等が挙げられ、2種類以上の溶媒の混合溶媒を用いても良い。また、微粒子分散液には、同様に界面活性剤を加えても良い。 In addition, the method of directly applying the fine particle dispersion is to apply the fine particle dispersion directly to the temporary support by a spray method, a cast method, a bar coat method, a die coat method, a gravure coat method, a roll coat method, etc., and then dry. Can be repeated as necessary to obtain a fine particle laminated film having a desired thickness. Examples of the dispersion solvent for the sol-shaped fine particle dispersion include the same solvent as described above, water, and the like, and a mixed solvent of two or more kinds of solvents may be used. In addition, a surfactant may be added to the fine particle dispersion.
また、シート状の仮支持体がロール状に巻き取られているものを引き出し、前記いずれかの微粒子積層膜形成工程を、好ましくは各浸漬に次いでリンスする工程を含めて、連続的に行う交互積層法によっても薄膜転写材を製造することができる。この方法は、長尺のフィルム基材を仮支持体とする場合には好適に用いることができる。 Also, the sheet-like temporary support is drawn out in a roll shape, and one of the fine particle laminated film forming steps is preferably performed continuously, including the step of rinsing after each dipping. A thin film transfer material can also be manufactured by a lamination method. This method can be suitably used when a long film substrate is used as a temporary support.
上記高分子電解質(ポリアニオン又はポリカチオン)としては、電荷を有する官能基を主鎖または側鎖に持つ高分子を用いることができる。この場合、ポリアニオンとしては、一般的に、スルホン酸、硫酸、カルボン酸など負電荷を帯びることのできる官能基を有するものであり、たとえば、ポリスチレンスルホン酸(PSS)、ポリビニル硫酸(PVS)、デキストラン硫酸、コンドロイチン硫酸、ポリアクリル酸(PAA)、ポリメタクリル酸(PMA)、ポリマレイン酸、ポリフマル酸などが用いられる。また、ポリカチオンとしては、一般に、4級アンモニウム基、アミノ基などの正電荷を帯びることのできる官能基を有するもの、たとえば、ポリエチレンイミン(PEI)、ポリアリルアミン塩酸塩(PAH)、ポリジアリルジメチルアンモニウムクロリド(PDDA)、ポリビニルピリジン(PVP)、ポリリジンなどを用いることができる。これらの有機高分子イオンは、いずれも水溶性あるいは水と有機溶媒との混合液に可溶なものである。 As the polymer electrolyte (polyanion or polycation), a polymer having a functional group having a charge in the main chain or side chain can be used. In this case, the polyanion generally has a negatively charged functional group such as sulfonic acid, sulfuric acid, and carboxylic acid. For example, polystyrene sulfonic acid (PSS), polyvinyl sulfate (PVS), dextran, and the like. Sulfuric acid, chondroitin sulfate, polyacrylic acid (PAA), polymethacrylic acid (PMA), polymaleic acid, polyfumaric acid and the like are used. The polycation generally has a positively charged functional group such as a quaternary ammonium group or an amino group, such as polyethyleneimine (PEI), polyallylamine hydrochloride (PAH), polydiallyldimethyl. Ammonium chloride (PDDA), polyvinyl pyridine (PVP), polylysine and the like can be used. Any of these organic polymer ions is water-soluble or soluble in a mixed solution of water and an organic solvent.
前記の微粒子積層膜は、微粒子同士または微粒子とポリカチオン又はポリアニオンの間に作用する分子間力、水素結合、共有結合、イオン結合などにより、微粒子同士、微粒子と仮支持体とが吸着若しくは結合している。仮支持体との間の接着力は、転写に際し、剥離を妨げない程度のものである。仮支持体に対するピール強度が、0.1N/10mm以上10N/10mm以下の範囲の粘着力を有する粘着テープで容易に剥がせることが望ましい。転写する工程で、仮支持体から容易に剥がすことができ、硬化性樹脂に埋没させやすいからである。 The fine particle laminated film is formed by adsorbing or binding fine particles, fine particles, and temporary support by intermolecular force acting between fine particles or between fine particles and polycation or polyanion, hydrogen bond, covalent bond, ionic bond, etc. ing. The adhesive force between the temporary support and the temporary support is such that it does not hinder peeling during transfer. It is desirable that the peel strength with respect to the temporary support can be easily peeled off with an adhesive tape having an adhesive strength in the range of 0.1 N / 10 mm to 10 N / 10 mm. This is because it can be easily peeled off from the temporary support in the transferring step and is easily buried in the curable resin.
前記微粒子積層膜には、イオン性、または反応性の官能基を付加しても良い。反応性の基を付加することにより、薄膜転写材を構成する微粒子積層膜と薄膜付き成形体を構成する樹脂とを化学的に結合させることができ、機械特性、膜強度に優れる薄膜付き成形体を得ることができる。 An ionic or reactive functional group may be added to the fine particle laminated film. By adding a reactive group, it is possible to chemically bond the fine particle laminate film constituting the thin film transfer material and the resin constituting the thin film molded article, and the molded article with a thin film having excellent mechanical properties and film strength. Can be obtained.
前記微粒子積層膜に、イオン性、または反応性の官能基を付与する方法としては、微粒子にシリコーンオリゴマーを付着する方法が挙げられる。このシリコーンオリゴマーとしては、分子中に水酸基と反応する官能基一つ以上と重合性不飽和二重結合一つ以上を有していれば、その分子量や構造等に特に制限はない。 Examples of a method of imparting an ionic or reactive functional group to the fine particle laminated film include a method of attaching a silicone oligomer to the fine particles. The silicone oligomer is not particularly limited in molecular weight or structure as long as it has at least one functional group that reacts with a hydroxyl group and at least one polymerizable unsaturated double bond in the molecule.
シリコーンオリゴマーを付着する場合、微粒子の表面に水酸基を有することが好ましい。それが金属酸化物を含むものであれば、雰囲気から水分子の吸着により表面水酸基が存在する(「ぬれ技術ハンドブック」、株式会社テクノシステム、2005年12月20日、p.81参照)。金属フッ化物も同様に表面水酸基を有する。また、表面に水酸基をより多く導入するための表面処理を微粒子に施しても良い。表面処理の方法としては、酸素プラズマ処理、コロナ処理、プラズマアッシング処理などのドライプロセスによる、表面改質処理によって、酸化物の表面に、水酸基を多く生成させる方法や、水酸化ナトリウムや水酸化カリウムを含む、強アルカリ性の水溶液、またはアルコール溶液、あるいは水とアルコールの混合溶液に接触させることよって、水酸化物イオンが、表面酸化物と反応して、水酸基を多く生成させる方法がある。 When the silicone oligomer is attached, it is preferable to have a hydroxyl group on the surface of the fine particles. If it contains a metal oxide, surface hydroxyl groups exist due to adsorption of water molecules from the atmosphere (see “Wet Technology Handbook”, Techno System, Inc., December 20, 2005, p. 81). Similarly, metal fluorides have surface hydroxyl groups. Further, the fine particles may be subjected to a surface treatment for introducing more hydroxyl groups on the surface. As the surface treatment method, a method of generating a large amount of hydroxyl groups on the surface of the oxide by surface modification treatment by a dry process such as oxygen plasma treatment, corona treatment, plasma ashing treatment, or sodium hydroxide or potassium hydroxide. There is a method in which a hydroxide ion reacts with a surface oxide to generate a large amount of hydroxyl groups by contacting with a strongly alkaline aqueous solution, an alcohol solution, or a mixed solution of water and alcohol.
金属フッ化物も、酸素プラズマ処理により、高エネルギーの酸素ラジカルが、金属元素と反応して、表面に酸化物を形成し、その後、雰囲気からの水分の吸着により、表面水酸基が生成する。 Also in the metal fluoride, oxygen plasma treatment causes high energy oxygen radicals to react with metal elements to form oxides on the surface, and then surface hydroxyl groups are generated by moisture adsorption from the atmosphere.
さらに、微粒子の表面水酸基の存在密度を高める方法としては、金属アルコキシド、代表的には、テトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン、ポリシラザン、及びそれらを、加水分解させた、シラノール基(Si−OH)を分子内に複数有する重合物と微粒子を接触させて、重合物に含まれる水酸基の一部が微粒子と化学結合し、一部の水酸基を表面水酸基として残留させる方法もある。なお、シリコーンオリゴマーで処理した後、微粒子の表面の水酸基や、水酸基と反応性の基が一部残っていても良い。 Furthermore, as a method of increasing the density of surface hydroxyl groups in the fine particles, metal alkoxides, typically tetramethoxysilane, tetraethoxysilane, polysilazane, and hydrolyzed silanol groups (Si—OH) are used. There is also a method in which a plurality of polymers in the molecule and fine particles are brought into contact with each other so that some of the hydroxyl groups contained in the polymer are chemically bonded to the fine particles, and some of the hydroxyl groups remain as surface hydroxyl groups. In addition, after processing with a silicone oligomer, the hydroxyl group of the surface of microparticles | fine-particles and a group reactive with a hydroxyl group may remain partially.
シリコーンオリゴマーが有する水酸基と反応する官能基としては、ハロゲン、アルコキシル基、アシル基、シラノール基等が好ましい。ハロゲン、アルコキシル基、アシル基等は、Siに結合している基で、加水分解により、シラノール基を生成する基である。 As the functional group that reacts with the hydroxyl group of the silicone oligomer, a halogen, an alkoxyl group, an acyl group, a silanol group, or the like is preferable. A halogen, an alkoxyl group, an acyl group, or the like is a group bonded to Si and is a group that generates a silanol group by hydrolysis.
また、本発明におけるシリコーンオリゴマーは、1官能性シロキサン単位(R3SiO1/2)、2官能性シロキサン単位(R2SiO2/2)及び3官能性シロキサン単位(RSiO3/2)から選ばれる少なくとも1種類のシロキサン単位を含有するものであり、2官能性シロキサン単位(R2SiO2/2)及び3官能性シロキサン単位(RSiO3/2)から選ばれる少なくとも1種類のシロキサン単位を分子中に少なくとも1個有するものが好ましい(なお、上記いずれの式においても、Rは有機基、水酸基、ハロゲン等であり、複数のR基又はシリコーンオリゴマー中の複数のR基は互いに同一であってもよいし、異なっていてもよい)。本発明におけるシリコーンオリゴマーには、4官能性シロキサン単位(SiO4/2)が含まれていてもよい。 The silicone oligomer in the present invention is selected from monofunctional siloxane units (R 3 SiO 1/2 ), bifunctional siloxane units (R 2 SiO 2/2 ), and trifunctional siloxane units (RSiO 3/2 ). And at least one siloxane unit selected from a bifunctional siloxane unit (R 2 SiO 2/2 ) and a trifunctional siloxane unit (RSiO 3/2 ). (In any of the above formulas, R is an organic group, a hydroxyl group, a halogen, etc., and a plurality of R groups or a plurality of R groups in a silicone oligomer are the same as each other) Or it may be different). The silicone oligomer in the present invention may contain a tetrafunctional siloxane unit (SiO 4/2 ).
また、シリコーンオリゴマーの重合度は、2〜30のものが好ましく、より好ましくは3〜10である。シリコーンオリゴマーの重合度が大きすぎると、微粒子積層膜の微粒子間の空隙にシリコーンオリゴマーが入りにくくなり、仮支持体表面付近の微粒子とシリコーンオリゴマーとの反応が不十分となり、膜強度の向上効果が低下する傾向がある。ここで、重合度は、その重合体の分子量(低重合度の場合)又はゲルパーミエーションクロマトグラフィーにより標準ポリスチレン若しくはポリエチレングリコールの検量線を利用して測定した数平均分子量から算出したものである。 The degree of polymerization of the silicone oligomer is preferably 2 to 30, more preferably 3 to 10. If the degree of polymerization of the silicone oligomer is too large, it will be difficult for the silicone oligomer to enter the voids between the fine particles of the fine particle laminated film, and the reaction between the fine particles near the surface of the temporary support and the silicone oligomer will be insufficient, improving the film strength. There is a tendency to decrease. Here, the degree of polymerization is calculated from the molecular weight of the polymer (in the case of a low degree of polymerization) or the number average molecular weight measured by gel permeation chromatography using a standard polystyrene or polyethylene glycol calibration curve.
前記したシロキサン単位におけるRは、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、ブトキシ基等のアルコキシ基、アセチルオキシ基等のアシル基、水酸基などの水酸基と反応性の基、ビニル基、メタクリロイルオキシ基、アクリロイルオキシ基等の重合性不飽和二重結合を有する基、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基等のアルキル基、フェニル基等のアリール基、塩素、臭素等のハロゲン、その他の基であり、本発明におけるシリコーンオリゴマーは、その分子中に、水酸基と反応性の基及び重合性不飽和二重結合を有する基をそれぞれ1個以上有するものである。 R in the above siloxane unit is an alkoxy group such as a methoxy group, an ethoxy group, a propoxy group or a butoxy group, an acyl group such as an acetyloxy group, a hydroxyl group-reactive group, a vinyl group, a methacryloyloxy group, an acryloyl group. A group having a polymerizable unsaturated double bond such as an oxy group, an alkyl group such as a methyl group, an ethyl group, a propyl group and a butyl group, an aryl group such as a phenyl group, a halogen such as chlorine and bromine, and other groups. The silicone oligomer in the present invention has one or more groups each having a hydroxyl group-reactive group and a polymerizable unsaturated double bond in the molecule.
本発明のシリコーンオリゴマーは、分子中に含まれる水酸基と反応性の基の少なくとも一部と、微粒子表面の水酸基の一部とが反応することにより、強固に微粒子と結合し、さらに、その分子中の重合性不飽和二重結合を硬化性樹脂と反応させることにより、微粒子積層膜と硬化性樹脂とを強固に結合させる役目をする。 The silicone oligomer of the present invention reacts with at least a part of the hydroxyl group and reactive group contained in the molecule and a part of the hydroxyl group on the surface of the fine particle, so that the silicone oligomer is firmly bonded to the fine particle. By reacting the polymerizable unsaturated double bond with the curable resin, the fine particle laminated film and the curable resin are firmly bonded.
反応の進行は、膜の赤外吸収スペクトルを測定することにより確認できる。具体的には、それぞれ、シラノール基のSi−OHの赤外吸収スペクトルのピーク波長、例えば波数3500〜3800cm−1帯の吸収の減少または消失、及び重合性不飽和結合の赤外吸収スペクトルのピーク波長、例えば955〜985cm−1帯、915〜905cm−1帯の吸収の減少または消失により、確認することができる。 The progress of the reaction can be confirmed by measuring the infrared absorption spectrum of the film. Specifically, the peak wavelength of the infrared absorption spectrum of Si-OH having a silanol group, for example, the decrease or disappearance of absorption in the band of 3500-3800 cm −1 and the peak of the infrared absorption spectrum of the polymerizable unsaturated bond, respectively. It can be confirmed by the decrease or disappearance of absorption at wavelengths such as 955 to 985 cm −1 band, 915 to 905 cm −1 band.
本発明におけるシリコーンオリゴマーは、シラン化合物を加水分解、重縮合させて得ることができる。 The silicone oligomer in the present invention can be obtained by hydrolyzing and polycondensing a silane compound.
このシラン化合物は、例えば、一般式(I)
[化1]
R′nSiX4−n (I)
(式中Xは、加水分解してOH基を生成する基であり、例えば、塩素、臭素等のハロゲン又は−OR″を示し、ここで、R″は炭素数1〜4のアルキル基又は炭素数1〜4のアシル基を示し、R′は重合性不飽和二重結合を含有する基、炭素数1〜4のアルキル基、アリール基等の有機基その他の基を示し、nは0又は1〜3の整数を意味する)で表される化合物である。
This silane compound is, for example, the general formula (I)
[Chemical 1]
R ′ n SiX 4-n (I)
(In the formula, X is a group that hydrolyzes to generate an OH group, and represents, for example, halogen such as chlorine and bromine, or —OR ″, where R ″ is an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms or carbon.
一般式(I)で表されるシラン化合物のうち、nが1、2又は3の化合物(順次、3官能性シラン化合物、2官能性シラン化合物及び1官能性シラン化合物という)のうち、少なくとも1種類を必須成分として用いることが好ましく、特に、3官能性シラン化合物又は2官能性シラン化合物を必須成分として用いることが好ましい。4官能性シラン化合物(一般式(I)でnが0である化合物)を、一部使用しても良い。 Among the silane compounds represented by the general formula (I), at least one of the compounds in which n is 1, 2 or 3 (referred to as a trifunctional silane compound, a bifunctional silane compound and a monofunctional silane compound sequentially). The type is preferably used as an essential component, and in particular, a trifunctional silane compound or a bifunctional silane compound is preferably used as an essential component. A tetrafunctional silane compound (a compound in which n is 0 in the general formula (I)) may be partially used.
上記シラン化合物(原料モノマー)を加水分解した時点で、OH基(シラノール基)が導入され、これが縮合することにより、オリゴマー化される。このとき、残存するOH基又は原料モノマー中のアルコキシ基又はアシル基(−OR″)が残存している場合、これらの残存基が水酸基と反応性の基(シリコーンオリゴマー分子内に存在する)となる。これらの残存量は、加水分解時の水の量や縮合度を調整することにより調整することができる。 When the silane compound (raw material monomer) is hydrolyzed, an OH group (silanol group) is introduced and condensed to be oligomerized. At this time, when the remaining OH group or the alkoxy group or acyl group (—OR ″) in the raw material monomer remains, these remaining groups are reactive with a hydroxyl group (present in the silicone oligomer molecule). These remaining amounts can be adjusted by adjusting the amount of water and the degree of condensation during hydrolysis.
本発明におけるシリコーンオリゴマーは、分子中に重合性二重結合を有する。このために、上記のシラン化合物として、R′(R′が複数個ある時は少なくとも1個のR′)が重合性不飽和二重結合を含有する基である1〜3官能性シラン化合物(好ましくは、2又は3官能性シラン化合物)が必須成分として用いられる。 The silicone oligomer in the present invention has a polymerizable double bond in the molecule. For this reason, as the silane compound, a 1-3 functional silane compound in which R ′ (at least one R ′ when there are a plurality of R ′) is a group containing a polymerizable unsaturated double bond ( Preferably, a bi- or trifunctional silane compound) is used as an essential component.
また、本発明におけるシリコーンオリゴマーが、分子中に上記R′として、アルキル基、アリール基等の非反応性の有機基を含有していると、それが付着されている微粒子積層膜が親油化され、該微粒子積層膜が埋設されるべき硬化性樹脂との親和性を向上させることができる。 In addition, when the silicone oligomer in the present invention contains a non-reactive organic group such as an alkyl group or an aryl group as the R ′ in the molecule, the fine particle laminated film to which it is attached becomes oleophilic. Thus, the affinity with the curable resin in which the fine particle laminated film is to be embedded can be improved.
前記3官能性シラン化合物は、具体的には、重合性不飽和二重結合を含有するシラン化合物として、ビニルトリクロルシラン、ビニルトリメトキシシラン、ビニルエトキシシラン、ビニルトリアセトキシシラン、ビニルトリイソプロポキシシラン、3−メタクリロイルオキシプロピルトリメトキシシラン、3−メタクリロイルオキシプロピルトリエトキシシラン、3−メタクリロイルオキシプロピルジメトキシシラン、3−メタクリロイルオキシプロピルジエトキシシラン、3−アクリロイルオキシプロピルトリメトキシシラン等があり、重合性不飽和二重結合を含有していないシラン化合物として、メチルトリメトキシシラン、フェニルトリメトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、フェニルトリエトキシシラン、ヘキシルトリメトキシシラン、ヘキシルトリエトキシシラン、デシルトリメトキシシラン、メチルトリアセチルオキシシラン等を挙げることができる。 Specifically, the trifunctional silane compound is, as a silane compound containing a polymerizable unsaturated double bond, vinyltrichlorosilane, vinyltrimethoxysilane, vinylethoxysilane, vinyltriacetoxysilane, vinyltriisopropoxysilane. , 3-methacryloyloxypropyltrimethoxysilane, 3-methacryloyloxypropyltriethoxysilane, 3-methacryloyloxypropyldimethoxysilane, 3-methacryloyloxypropyldiethoxysilane, 3-acryloyloxypropyltrimethoxysilane, and the like. Silane compounds that do not contain unsaturated double bonds include methyltrimethoxysilane, phenyltrimethoxysilane, methyltriethoxysilane, phenyltriethoxysilane, hexyltrimethoxy. Silane, hexyl triethoxysilane, decyl trimethoxysilane, methyl triacetyl silane and the like.
前記2官能性シラン化合物は、具体的には、重合性不飽和二重結合を含有するシラン化合物として、3−メタクリロイルオキシプロピルメチルジメトキシシラン、3−アクリロイルオキシプロピルメチルジメトキシシラン、ビニルメチルジメトキシシラン、ビニルメチルジエトキシシラン等があり、重合性不飽和二重結合を含有しないシラン化合物として、ジメチルジメトキシシラン、ジメチルジエトキシシラン、ジフェニジメトキシシラン、ジフェニジエトキシシラン、ジメチルジアセチルオキシシラン等がある。 Specifically, the bifunctional silane compound includes, as a silane compound containing a polymerizable unsaturated double bond, 3-methacryloyloxypropylmethyldimethoxysilane, 3-acryloyloxypropylmethyldimethoxysilane, vinylmethyldimethoxysilane, Examples of silane compounds that include vinylmethyldiethoxysilane and that do not contain polymerizable unsaturated double bonds include dimethyldimethoxysilane, dimethyldiethoxysilane, diphenidimethoxysilane, diphenidiethoxysilane, and dimethyldiacetyloxysilane. .
前記1官能性シラン化合物としては、3−メタクリロイルオキシプロピルジメチルメトキシシラン、トリメチルモノメトキシシラン、トリメチルモノエトキシシラン、トリメチルモノアセチルオキシシラン等がある。 Examples of the monofunctional silane compound include 3-methacryloyloxypropyldimethylmethoxysilane, trimethylmonomethoxysilane, trimethylmonoethoxysilane, and trimethylmonoacetyloxysilane.
前記4官能性シラン化合物としては、テトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン、テトラブトキシシラン、テトラアセチルオキシシラン等がある。 Examples of the tetrafunctional silane compound include tetramethoxysilane, tetraethoxysilane, tetrabutoxysilane, and tetraacetyloxysilane.
シラン化合物の好ましい使用量は次のとおりである。重合性不飽和二重結合を含有する基を有するシラン化合物が、シラン化合物全体に対して50〜100モル%、特に70〜100モル%、その他のシラン化合物が、0〜50モル%、特に0〜30モル%の割合で使用され、また、2官能シラン化合物又は3官能シラン化合物が50〜100モル%、4官能性シラン化合物及び1官能性シラン化合物は、それぞれ、0〜50モル%、特に0〜30モル%であって、全体が100モル%となるような割合で使用される。 A preferred amount of the silane compound is as follows. The silane compound having a group containing a polymerizable unsaturated double bond is 50 to 100 mol%, particularly 70 to 100 mol%, and the other silane compound is 0 to 50 mol%, particularly 0, relative to the entire silane compound. Used in a proportion of ˜30 mol%, and the bifunctional silane compound or the trifunctional silane compound is 50 to 100 mol%, the tetrafunctional silane compound and the monofunctional silane compound are each 0 to 50 mol%, particularly It is used in such a proportion that it is 0 to 30 mol% and the whole is 100 mol%.
本発明におけるシリコーンオリゴマーは、前記したシラン化合物を加水分解、重縮合して製造されるが、このとき、触媒としては、塩酸、硫酸、リン酸、硝酸、フッ酸等の無機酸、酢酸、シュウ酸、マレイン酸、スルホン酸、ギ酸等の有機酸を使用することが好ましく、アンモニア、トリメチルアンモニウムなどの塩基性触媒を用いることもできる。これら触媒は、一般式(I)で表されるシラン化合物の量に応じて適当量用いられるが、好適には一般式(I)で表されるシラン化合物1モルに対し0.001〜0.5モルの範囲で用いられる。 The silicone oligomer in the present invention is produced by hydrolysis and polycondensation of the aforementioned silane compound. At this time, the catalyst includes inorganic acids such as hydrochloric acid, sulfuric acid, phosphoric acid, nitric acid and hydrofluoric acid, acetic acid, It is preferable to use an organic acid such as acid, maleic acid, sulfonic acid or formic acid, and a basic catalyst such as ammonia or trimethylammonium can also be used. These catalysts are used in an appropriate amount depending on the amount of the silane compound represented by the general formula (I), but preferably 0.001 to 0.003 per mole of the silane compound represented by the general formula (I). It is used in the range of 5 moles.
また、上記の加水分解・重縮合は、メタノール、エタノールなどのアルコール系溶剤、エチレングリコールモノメチルエーテルなどのエーテル系溶剤、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトンなどのケトン系溶剤、N,N−ジメチルホルムアミドなどのアミド系溶剤、トルエン、キシレンなどの芳香族炭化水素系溶剤、酢酸エチルなどのエステル系溶剤、ブチロニトリルなどのニトリル系溶剤等の溶媒中で行うことが好ましい。 In addition, the hydrolysis and polycondensation include alcohol solvents such as methanol and ethanol, ether solvents such as ethylene glycol monomethyl ether, ketone solvents such as acetone, methyl ethyl ketone, and methyl isobutyl ketone, N, N-dimethylformamide, and the like. It is preferably carried out in a solvent such as an amide solvent, an aromatic hydrocarbon solvent such as toluene or xylene, an ester solvent such as ethyl acetate, or a nitrile solvent such as butyronitrile.
また、この反応に際して、水が存在させられる。水の量も適宜決められるが、多すぎる場合には塗布液の保存安定性が低下するなどの問題があるので、水の量は、一般式(I)で表されるシラン化合物1モルに対して、0〜5モル%が好ましく、0.5〜4モルの範囲とすることがより好ましい。 Also, water is present during this reaction. The amount of water can also be determined as appropriate, but if the amount is too large, the storage stability of the coating solution is reduced, so the amount of water is 1 mol of the silane compound represented by the general formula (I). 0 to 5 mol% is preferable, and a range of 0.5 to 4 mol is more preferable.
シリコーンオリゴマーの製造は、上記の条件、配合を調整してゲル化しないように行われる。 The production of the silicone oligomer is carried out so as not to gel by adjusting the above conditions and blending.
シリコーンオリゴマーは、上記の反応溶媒と同じ溶媒に溶解して使用することが作業性の点で好ましい。このためには、上記の反応生成溶液をそのまま使用してもよく、反応生成溶液からシリコーンオリゴマーを分離し、改めて上記溶媒に溶解してもよい。 It is preferable from the viewpoint of workability that the silicone oligomer is used by dissolving in the same solvent as the reaction solvent. For this purpose, the reaction product solution may be used as it is, or the silicone oligomer may be separated from the reaction product solution and dissolved in the solvent again.
微粒子表面の水酸基と反応する、シリコーンオリゴマーの分子内に存在するシラノール基は、オリゴマーを合成する過程で発生した、縮合反応に寄与しなかった、シラノール残基を用いる。さらに、反応性を高めるために、溶媒に溶解した、シリコーンオリゴマー溶液に、前記の酸または、アルカリ触媒及び水を添加して、オリゴマー分子内に残った、下垂文化により水酸基を生成する基の加水分解反応(例えば、アルコキシ基の脱アルコール反応)を促進することにより、増やすこともできる。シラノールの導入時期は、微粒子と接触させる直前であることが好ましい。反応性が高いために、オリゴマー同士の自己重合が進み、溶液がゲル化するおそれがあるからである。 For the silanol group present in the molecule of the silicone oligomer that reacts with the hydroxyl group on the surface of the fine particles, a silanol residue generated in the process of synthesizing the oligomer and not contributing to the condensation reaction is used. Further, in order to enhance the reactivity, the above-mentioned acid or alkali catalyst and water are added to a silicone oligomer solution dissolved in a solvent, and the remaining hydroxyl group is hydrolyzed in the oligomer molecule. It can also be increased by promoting a decomposition reaction (for example, a dealcoholization reaction of an alkoxy group). It is preferable that the silanol is introduced immediately before contact with the fine particles. This is because the reactivity is so high that self-polymerization of oligomers proceeds and the solution may gel.
上記のシリコーンオリゴマーで微粒子積層膜を処理する方法は、特に制限されないが、ディップコートやスプレーコート等が好適に用いられる。シリコーンオリゴマーの微粒子積層膜への付着量は、0.01〜5重量%の範囲が好ましく、より好ましくは、0.05〜2重量%である。付着量が0.01重量%未満では機械強度の向上効果は得にくく、5重量%を超えると、転写する過程で硬化性樹脂が微粒子積層膜の空隙に入りにくくなる恐れがある。 The method for treating the fine particle laminated film with the silicone oligomer is not particularly limited, but dip coating, spray coating, and the like are preferably used. The adhesion amount of the silicone oligomer to the fine particle laminated film is preferably in the range of 0.01 to 5% by weight, and more preferably 0.05 to 2% by weight. If the adhesion amount is less than 0.01% by weight, the effect of improving the mechanical strength is difficult to obtain, and if it exceeds 5% by weight, the curable resin may not easily enter the voids of the fine particle multilayer film during the transfer process.
シリコーンオリゴマーを用いて微粒子積層膜を処理する際のシリコーンオリゴマーの処理液や処理条件は、特に制限されないが、シリコーンオリゴマーを溶剤に溶解した溶液中に浸漬した後、又は、該溶液をスプレーした後、乾燥のため、また、微粒子表面の水酸基とシリコーンオリゴマーの官能基(必要なら加水分解する)とを縮合させて結合させるために、50〜200℃、好ましくは80〜150℃に加熱することが好ましく、このときの加熱時間は、5分から60分間、より好ましくは10分〜30分間が好適である。溶剤を使用する場合、その使用量は特に制限されないが、シリコーンオリゴマーの固形分濃度が0.01〜10重量%、より好ましくは0.05〜5重量%となる量が好適である。溶剤としては、特に制限はなく、例えばメタノール、エタノール等のアルコール系溶剤、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン等のケトン系溶剤が好適に用いられる。 The treatment liquid and treatment conditions of the silicone oligomer when the fine particle laminated film is treated with the silicone oligomer are not particularly limited, but after being immersed in a solution in which the silicone oligomer is dissolved in a solvent or after spraying the solution In order to condense and bond the hydroxyl group on the surface of the fine particles and the functional group of the silicone oligomer (hydrolyzed if necessary) for drying, heating to 50 to 200 ° C., preferably 80 to 150 ° C. The heating time at this time is preferably 5 to 60 minutes, more preferably 10 to 30 minutes. When the solvent is used, the amount used is not particularly limited, but the amount that the solid content concentration of the silicone oligomer is 0.01 to 10% by weight, more preferably 0.05 to 5% by weight is suitable. The solvent is not particularly limited, and for example, alcohol solvents such as methanol and ethanol, and ketone solvents such as methyl ethyl ketone and methyl isobutyl ketone are preferably used.
前記微粒子積層膜をシリコーンオリゴマーで処理することにより、微粒子積層膜に重合性不飽和二重結合を付与することができ、これを成形体に転写した後、熱ラジカル反応、電子線の照射等によって、硬化性樹脂と化学的に結合させることができるため、成形体の表面強度を向上させることができる。 By treating the fine particle laminate film with a silicone oligomer, a polymerizable unsaturated double bond can be imparted to the fine particle laminate film, and after transferring this to a molded body, a thermal radical reaction, electron beam irradiation, etc. Since it can be chemically bonded to the curable resin, the surface strength of the molded body can be improved.
本発明の薄膜転写材を用いて、表面に薄膜が形成される成形体としては、硬化性樹脂のフィルム又はシートその他の成形体、下地成形体を硬化性樹脂で被覆してなる成形体などがある。上記の硬化性樹脂としては、ハードコート膜用樹脂等の被覆用樹脂、アクリルフィルム若しくはシート用樹脂などがある。 Examples of the molded body in which a thin film is formed on the surface using the thin film transfer material of the present invention include a curable resin film or sheet, other molded bodies, and a molded body obtained by coating an underlying molded body with a curable resin. is there. Examples of the curable resin include a coating resin such as a hard coat film resin, an acrylic film or a sheet resin.
上記下地成形体としては、樹脂、ガラス、シリコンなどの半導体、金属、無機酸化物等からなる全ての固体品が包含される。形状はフィルム、シート、板、曲面を有する形状、筒状、糸状、などである。フィルム状又はシート状の材料としては、ポリエチレンテレフタレート等のポリエステル、トリアセチルセルロース、ジアセチルセルロース、アセテートブチレートセルロース、ポリエーテルサルフォン、ポリアミド、ポリイミド、ポリプロピレン、ポリメチルペンテン、ポリ塩化ビニル、ポリビニルアセタール、ポリメタクリル酸メチル、ポリカーボネート、ポリウレタンなどの熱可塑性樹脂や、ガラス基板などがある。表面に樹脂膜や無機膜がコートされているものも含まれる。例えば、片面に易接着処理をされたポリエステルフィルム、特に、易接着ポリエチレンテレフタレート(易接着PET)フィルムが好適に使用できる。 Examples of the base molded body include all solid products made of semiconductors such as resin, glass, and silicon, metals, inorganic oxides, and the like. The shape includes a film, a sheet, a plate, a curved shape, a cylindrical shape, a thread shape, and the like. Examples of the film-like or sheet-like material include polyesters such as polyethylene terephthalate, triacetyl cellulose, diacetyl cellulose, acetate butyrate cellulose, polyether sulfone, polyamide, polyimide, polypropylene, polymethylpentene, polyvinyl chloride, polyvinyl acetal, There are thermoplastic resins such as polymethyl methacrylate, polycarbonate, and polyurethane, and glass substrates. Those having a resin film or an inorganic film coated on the surface are also included. For example, a polyester film subjected to an easy adhesion treatment on one side, particularly an easily adhesive polyethylene terephthalate (adhesive PET) film can be preferably used.
下地成形体としては、射出成形体を用いることができる。このための樹脂としては、導光板の表面、光学レンズ、各種計器の表示部、自動車、電車等の窓ガラス等を構成し得るものであれば、その材料は特に限定されるものではなく、例えば、アクリル系樹脂、スチレン系樹脂(ABS樹脂、AS樹脂、ポリフェニレンオキシドスチレン共重合体等)、ポリオレフィン系樹脂(ポリエチレン、ポリプロピレン等)、ポリカーボネート樹脂等が挙げられる。 As the base molded body, an injection molded body can be used. As the resin for this, the material is not particularly limited as long as it can constitute the surface of the light guide plate, the optical lens, the display unit of various instruments, the window glass of automobiles, trains, etc. , Acrylic resins, styrene resins (ABS resins, AS resins, polyphenylene oxide styrene copolymers, etc.), polyolefin resins (polyethylene, polypropylene, etc.), polycarbonate resins, and the like.
薄膜が反射防止膜である場合、成形体として透明なものを用い、この表面に薄膜を形成したものは、それ自体、反射防止材料として、応用範囲が広い。また、LCDディスプレイに用いる偏光板に反射防止機能を有する薄膜を形成してもよい。例えば、ワープロ、コンピュータ、テレビ、ディスプレイパネル、携帯電話等の各種のディスプレイの前面板、液晶表示装置等に用いる導光板の表面、透明プラスチック類からなるサングラスレンズ、度付きめがねレンズ、カメラのファインダーレンズ等の光学レンズ、各種計器の表示部、自動車、電車等の窓ガラス等が挙げられる。なお、これらの成形体は、樹脂以外の材料、例えば、ガラス等により形成されている場合であっても、樹脂と同様の効果を発揮することができる。 When the thin film is an antireflection film, a transparent material is used as the molded body, and the thin film formed on the surface itself has a wide range of applications as an antireflection material. Further, a thin film having an antireflection function may be formed on a polarizing plate used for an LCD display. For example, the front plate of various displays such as word processors, computers, TVs, display panels, mobile phones, the surface of the light guide plate used for liquid crystal display devices, sunglasses lenses made of transparent plastics, prescription glasses lenses, camera finder lenses Such as optical lenses, display portions of various instruments, window glass of automobiles, trains, and the like. In addition, even if these molded objects are the cases where they are formed with materials other than resin, for example, glass etc., the effect similar to resin can be exhibited.
薄膜転写材の微粒子積層膜側を成形体に重ねて熱圧着することにより、成形体の表面に前記薄膜転写材の微粒子積層膜を埋没させ、その後仮支持体を剥離すると、薄膜転写材の薄膜(微粒子積層膜)は、成形体表面に転写される。このためには、薄膜転写材の薄膜(微粒子積層膜)が成形体(硬化性樹脂)表面に接する時には、薄膜の微粒子間空隙中に硬化性樹脂が入り込むことができる程度に硬化性樹脂が未硬化であるかまたは軟化していて流動性を有していることが必要である。さらに、この硬化性樹脂は、薄膜が硬化性樹脂に埋め込まれた後、硬化できるものである。また、成形体がその表面に、機械的強度や耐環境性付与のための永久支持層を有していてもよく、このように永久支持層が表面に形成された成形体を用い、薄膜転写材の微粒子積層膜側を前記永久支持層に重ねて、熱圧着又は活性光線の照射を行うことにより、前記永久支持層の未硬化のまたは軟化した表面に前記薄膜転写材の微粒子積層膜を埋没させることができる。この場合は前記微粒子間空隙中に永久支持層の樹脂が入り込む。 The thin film transfer material is laminated on the surface of the thin film transfer material by thermocompression bonding, so that the thin film transfer material fine particle film is embedded in the surface of the formed material, and then the temporary support is peeled off. The (fine particle laminated film) is transferred to the surface of the molded body. For this purpose, when the thin film (fine particle laminate film) of the thin film transfer material is in contact with the surface of the molded body (curable resin), the curable resin is not so large that the curable resin can enter the voids between the fine particles of the thin film. It must be hardened or softened and have fluidity. Further, the curable resin can be cured after the thin film is embedded in the curable resin. Further, the molded body may have a permanent support layer for imparting mechanical strength and environmental resistance on its surface, and using such a molded body having a permanent support layer formed on its surface, thin film transfer The thin film transfer material fine particle laminated film is buried in the uncured or softened surface of the permanent support layer by superimposing the fine particle laminated film side of the material on the permanent support layer and performing thermocompression bonding or actinic ray irradiation. Can be made. In this case, the resin of the permanent support layer enters the voids between the fine particles.
交互積層法で形成された微粒子積層膜は、どちらかといえば微粒子に対する空隙の割合が高い方であるため、ある程度粘度の高い表面であっても、微粒子を埋没させやすい。 Since the fine particle laminated film formed by the alternating lamination method has a higher ratio of voids to fine particles, it is easy to embed fine particles even on a surface having a certain degree of viscosity.
硬化性樹脂表面の薄膜(微粒子積層膜)が転写される面は、それが固体状であっても、加熱や加圧により、流動、変形することで、微粒子積層膜が埋没することができればよい。硬化性樹脂表面の薄膜(微粒子積層膜)が転写される面は、転写する温度での粘度が、1mP・s以上500,000mP・s以下の範囲であることが好ましい。 Even if the surface to which the thin film (fine particle laminated film) on the surface of the curable resin is transferred is solid, it is only necessary that the fine particle laminated film can be buried by flowing or deforming by heating or pressing. . The surface to which the thin film (fine particle laminated film) on the surface of the curable resin is transferred preferably has a viscosity at a transfer temperature in the range of 1 mP · s to 500,000 mP · s.
この反射防止膜形成用などの薄膜転写材料を成形体の表面に転写すると、この成形体の表面に優れた反射防止膜等の機能膜を形成することができる。さらに、本発明の薄膜転写材料を使用すれば、機能膜を、蒸着法やスパッタ法などの気相法ではなく、転写による簡便な方法で形成することが可能となる。 When a thin film transfer material for forming the antireflection film is transferred to the surface of the molded body, an excellent functional film such as an antireflection film can be formed on the surface of the molded body. Furthermore, if the thin film transfer material of the present invention is used, the functional film can be formed by a simple method by transfer, not by a vapor phase method such as vapor deposition or sputtering.
前記硬化性樹脂のうち、例えば永久支持層としては、熱可塑性樹脂、熱硬化樹脂または活性エネルギー線硬化樹脂の少なくともいずれかを含むことが好ましい。また、例えば、ハードコート層用樹脂として有用なものとしては、熱硬化性モノマー若しくは光硬化性モノマー又はそれらのオリゴマー若しくはポリマーと熱硬化性モノマー若しくは光硬化性モノマーとの混合物に熱重合開始剤または光重合開始剤等を配合してなる液状物等が挙げられる。 Among the curable resins, for example, the permanent support layer preferably includes at least one of a thermoplastic resin, a thermosetting resin, or an active energy ray curable resin. Further, for example, useful as a resin for a hard coat layer includes a thermosetting monomer or a photocurable monomer, or an oligomer or polymer thereof and a mixture of a thermosetting monomer or a photocurable monomer, or a thermal polymerization initiator or Examples thereof include liquid substances obtained by blending a photopolymerization initiator and the like.
ハードコート層用樹脂としては、特に、紫外線硬化性モノマーやそのオリゴマー、ポリマーと該モノマーとの混合物に光重合開始剤等を配合してなる液状物が好適に挙げられる。さらに、架橋剤成分が含まれていてもよい。 As the resin for the hard coat layer, in particular, a liquid material obtained by blending a photopolymerization initiator or the like with an ultraviolet curable monomer, an oligomer thereof, a mixture of a polymer and the monomer, or the like can be suitably exemplified. Furthermore, a crosslinking agent component may be included.
上記の熱硬化性モノマーまたは光硬化性モノマーとしては、(メタ)アクリレート系モノマーが好ましく、更に、短時間で光硬化できる点から、アクリレート系モノマーを含むことがより好ましい。そのようなアクリレート系モノマーの例としては、n−ブチルアクリレート、n−ペンチルアクリレート、n−ヘキシルアクリレート、n−オクチルアクリレート、イソオクチルアクリレート、2−エチルヘキシルアクリレート、ドデシルアクリレート、ステアリルアクリレート等が挙げられるが、n−ブチルアクリレート、イソオクチルアクリレート、2−エチルヘキシルアクリレート、n−オクチルアクリレートが好ましく、2−エチルヘキシルアクリレートが特に好ましい。メタクリレート系モノマーとしては、メチルメタクリレート、エチルメタクリレート、n−ブチルメタクリレート、n−ペンチルメタクリレート、n−ヘキシルメタクリレート、n−オクチルメタクリレート、イソオクチルメタクリレート、2−エチルヘキシルメタクリレート、ドデシルメタクリレート、ステアリルメタクリレート等がまた、これらの(メタ)アクリレート系モノマーは2種類以上を組み合わせて使用しても良い。 As said thermosetting monomer or photocurable monomer, a (meth) acrylate-type monomer is preferable, and it is more preferable that an acrylate-type monomer is included from the point which can be photocured in a short time. Examples of such acrylate monomers include n-butyl acrylate, n-pentyl acrylate, n-hexyl acrylate, n-octyl acrylate, isooctyl acrylate, 2-ethylhexyl acrylate, dodecyl acrylate, stearyl acrylate, and the like. , N-butyl acrylate, isooctyl acrylate, 2-ethylhexyl acrylate and n-octyl acrylate are preferable, and 2-ethylhexyl acrylate is particularly preferable. Examples of methacrylate monomers include methyl methacrylate, ethyl methacrylate, n-butyl methacrylate, n-pentyl methacrylate, n-hexyl methacrylate, n-octyl methacrylate, isooctyl methacrylate, 2-ethylhexyl methacrylate, dodecyl methacrylate, stearyl methacrylate, and the like. These (meth) acrylate monomers may be used in combination of two or more.
これらの(メタ)アクリレート系モノマーに加えて、極性基を有する(メタ)アクリレート系モノマーを適宜使用することにより吸湿時の白濁を抑制することができる。このための極性基を有する(メタ)アクリレート系モノマーとしては、2−ヒドロキシエチルアクリレート、1−ヒドロキシエチルアクリレート、2−ヒドロキシプロピルアクリレート、3−ヒドロキシプロピルアクリレート、1−ヒドロキシプロピルアクリレート、4−ヒドロキシブチルアクリレート、3−ヒドロキシブチルアクリレート、2−ヒドロキシブチルアクリレート、1−ヒドロキシブチルアクリレート等の水酸基含有アクリレート、ジエチレングリコールやトリエチレングリコール等のポリエチレングリコールモノアクリレート、ジプロピレングリコールやトリプロピレングリコール等のポリプロピレングリコールモノアクリレート、ジブチレングリコールやトリブチレングリコール等のポリブチレングリコールモノアクリレート等のアクリレート系モノマー、これらのモノマーのアクリロイル基をメタクリロイル基に換えたメタクリレート系モノマーなどが挙げられる。これらのうち、アクリレート系モノマーが好ましく、さらに、2−ヒドロキシエチルアクリレート、1−ヒドロキシエチルアクリレート、2−ヒドロキシプロピルアクリレート、3−ヒドロキシプロピルアクリレート、1−ヒドロキシプロピルアクリレート、4−ヒドロキシブチルアクリレート、3−ヒドロキシブチルアクリレート、2−ヒドロキシブチルアクリレート、1−ヒドロキシブチルアクリレートがより好ましく、2−ヒドロキシエチルアクリレートが特に好ましい。また、これらの(メタ)アクリレートは系モノマー2種類以上を組み合わせて使用しても良い。 In addition to these (meth) acrylate monomers, white turbidity at the time of moisture absorption can be suppressed by appropriately using a (meth) acrylate monomer having a polar group. As the (meth) acrylate monomer having a polar group for this purpose, 2-hydroxyethyl acrylate, 1-hydroxyethyl acrylate, 2-hydroxypropyl acrylate, 3-hydroxypropyl acrylate, 1-hydroxypropyl acrylate, 4-hydroxybutyl Hydroxyl group-containing acrylates such as acrylate, 3-hydroxybutyl acrylate, 2-hydroxybutyl acrylate, 1-hydroxybutyl acrylate, polyethylene glycol monoacrylates such as diethylene glycol and triethylene glycol, polypropylene glycol monoacrylates such as dipropylene glycol and tripropylene glycol , Polybutylene glycol monoacrylates such as dibutylene glycol and butylene glycol Acrylate monomers bets such as the acryloyl groups of these monomers, such as methacrylate-based monomer was changed to methacryloyl group. Of these, acrylate monomers are preferred, and 2-hydroxyethyl acrylate, 1-hydroxyethyl acrylate, 2-hydroxypropyl acrylate, 3-hydroxypropyl acrylate, 1-hydroxypropyl acrylate, 4-hydroxybutyl acrylate, 3- Hydroxybutyl acrylate, 2-hydroxybutyl acrylate, and 1-hydroxybutyl acrylate are more preferable, and 2-hydroxyethyl acrylate is particularly preferable. Further, these (meth) acrylates may be used in combination of two or more kinds of system monomers.
架橋剤成分として重合性不飽和結合を分子内に2個以上有する化合物を使用することができる。このような化合物としては、ビスフェノールAジメタクリレート、1,4−ブタンジオールジメタクリレート、1,3−ブチレングリコールジメタクリレート、ジエチレングリコールジメタクリレート、グリセロールジメタクリレート、ネオペンチルグリコールジメタクリレート、ポリエチレングリコールジメタクリレート、ポリプロピレングリコールジメタクリレート、テトラエチレングリコールジメタクリレート、トリメチロールプロパントリメタクリレート、ペンタエリスリトールトリメタクリレート、トリス(メタクリロキシエチル)イソシアヌレート、ペンタエリスリトールテトラメタクリレート、ジペンタエリスリトールテトラメタクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサメタクリレート、ジペンタエリスリトールペンタメタクリレート、ビスフェノールAジアクリレート、1,4−ブタンジオールジアクリエレート、1,3−ブチレングリコールジアクリレート、ジエチレングリコールジアクリレート、グリセロールジアクリレート、ネオペンチルグリコールジアクリレート、ポリエチレングリコールジアクリレート、ポリプロピレングリコールジアクリレート、テトラエチレングリコールジアクリレート、トリメチロールプロパントリアクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、トリス(アクリロキシエチル)イソシアヌレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ジペンタエリスリトールテトラアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、ジペンタエリスリトールペンタアクリレート等が挙げられる。 As the crosslinking agent component, a compound having two or more polymerizable unsaturated bonds in the molecule can be used. Such compounds include bisphenol A dimethacrylate, 1,4-butanediol dimethacrylate, 1,3-butylene glycol dimethacrylate, diethylene glycol dimethacrylate, glycerol dimethacrylate, neopentyl glycol dimethacrylate, polyethylene glycol dimethacrylate, polypropylene. Glycol dimethacrylate, tetraethylene glycol dimethacrylate, trimethylolpropane trimethacrylate, pentaerythritol trimethacrylate, tris (methacryloxyethyl) isocyanurate, pentaerythritol tetramethacrylate, dipentaerythritol tetramethacrylate, dipentaerythritol hexamethacrylate, dipentaerythritol Pentame Acrylate, bisphenol A diacrylate, 1,4-butanediol diacrylate, 1,3-butylene glycol diacrylate, diethylene glycol diacrylate, glycerol diacrylate, neopentyl glycol diacrylate, polyethylene glycol diacrylate, polypropylene glycol diacrylate, Tetraethylene glycol diacrylate, trimethylolpropane triacrylate, pentaerythritol triacrylate, tris (acryloxyethyl) isocyanurate, pentaerythritol tetraacrylate, dipentaerythritol tetraacrylate, dipentaerythritol hexaacrylate, dipentaerythritol pentaacrylate, etc. Can be mentioned.
重合性不飽和結合を分子内に2個以上有する化合物としては、さらに、次に掲げるものなどが使用できる。これらのモノマーは、単独で又は2種以上を組み合わせて用いることができる。 As the compound having two or more polymerizable unsaturated bonds in the molecule, the following can be used. These monomers can be used alone or in combination of two or more.
一般式(a)
(ただし、式中、Rはエチレン基又はプロピレン基を示し、m及びnはそれぞれ独立に、1〜20の整数を示す。)で示されるビスフェノールAのアルキレンオキシド付加物のジアクリレート化合物、これらのアクリロイル基をメタクリロイル基に換えた化合物。 (In the formula, R represents an ethylene group or a propylene group, and m and n each independently represents an integer of 1 to 20.) Diacrylate compounds of an alkylene oxide adduct of bisphenol A, A compound in which the acryloyl group is replaced with a methacryloyl group.
一般式(b)
(ただし、式中、m及びnはそれぞれ独立に、1〜10の整数を示す。)で示されるビスフェノールAのエピクロルヒドリン変性物とアクリル酸の付加エステル化物、これらのアクリロイル基をメタクリロイル基にかえた化合物。 (In the formula, m and n each independently represents an integer of 1 to 10.) An epichlorohydrin modified product of bisphenol A and an addition esterified product of acrylic acid, and these acryloyl groups were changed to methacryloyl groups. Compound.
一般式(c)
(ただし、式中、Rはエチレン基又はプロピレン基を示し、m及びnはそれぞれ独立に、1〜20の整数を示す。)で示されるリン酸のアルキレンオキシド付加物のジアクリレート化合物、これらのアクリロイル基をメタクリロイル基にかえた化合物。 (In the formula, R represents an ethylene group or a propylene group, and m and n each independently represents an integer of 1 to 20.) Diacrylate compounds of an alkylene oxide adduct of phosphoric acid represented by these, A compound in which an acryloyl group is replaced with a methacryloyl group.
一般式(d)
(ただし、式中、m及びnはそれぞれ独立に、1〜10の整数を示す。)で示されるフタル酸のエピクロリン変性物とアクリル酸の付加エステル化物、これらのアクリロイル基をメタクリロイル基にかえた化合物。 (In the formula, m and n each independently represent an integer of 1 to 10.) An epichlorine modified product of phthalic acid and an addition esterified product of acrylic acid, and these acryloyl groups were replaced with methacryloyl groups. Compound.
一般式(e)
(ただし、式中、m及びnはそれぞれ独立に、1〜20の整数を示す。)で示される1,6−ヘキサンジオールのエピクロリン変性物とアクリル酸の付加エステル化物(アクリロイル基を一分子中に2個有するもの)、これらのアクリロイル基をメタクリロイル基にかえた化合物。 (In the formula, m and n each independently represents an integer of 1 to 20.) 1,6-hexanediol epichlorine-modified product and acrylic acid addition esterified product (acryloyl group in one molecule) 2), a compound obtained by replacing these acryloyl groups with methacryloyl groups.
一般式(f)
(ただし、式中、Rはエチレン基又はプロピレン基を示し、3個のmはそれぞれ独立に、1〜20の整数を示す。)で示されるリン酸のアルキレンオキシド付加物のトリアクリレート化合物、これらのアクリロイル基をメタクリロイル基にかえた化合物。 (Wherein, R represents an ethylene group or a propylene group, and three m's each independently represents an integer of 1 to 20). Triacrylate compounds of alkylene oxide adducts of phosphoric acid represented by these, A compound in which the acryloyl group is replaced with a methacryloyl group.
一般式(g)
(ただし、式中、Rはエチレン基又はプロピレン基を示し、m、m′及びm″はそれぞれ独立に、1〜20の整数を示す。)で示されるトリメチロールプロパンのアルキレンオキシド付加物のトリアクリレート化合物、これらのアクリロイル基をメタクリロイル基にかえた化合物。 (In the formula, R represents an ethylene group or a propylene group, and m, m ′ and m ″ each independently represents an integer of 1 to 20.) Trimethylolpropane alkylene oxide adduct tri Acrylate compounds, compounds obtained by replacing these acryloyl groups with methacryloyl groups.
上記の熱または光硬化性モノマーと共に使用される重合開始剤としては、熱重合開始剤、レドックス触媒、光重合開始剤等、通常のラジカル重合に使用できるものはいずれも使用することができる。重合開始剤は、単量体の総量に対して0.01〜10重量%の範囲で使用されることが好ましい。 As the polymerization initiator used together with the heat or photocurable monomer, any of those that can be used for normal radical polymerization, such as a thermal polymerization initiator, a redox catalyst, and a photopolymerization initiator, can be used. The polymerization initiator is preferably used in the range of 0.01 to 10% by weight based on the total amount of monomers.
熱重合開始剤としては、過酸化ベンゾイル、過酸化ラウロイル、ジ−t−ブチルパーオキシヘキサヒドロテレフタレート、t−ブチルパーオキシ−2−エチルヘキサノエート、1,1−t−ブチルパーオキシ−3,3,5−トリメチルシクロヘキサン等の有機過酸化物、アゾビスイソブチロニトリル、アゾビス−4−メトキシ−2,4−ジメチルバレロニトリル、アゾビスシクロヘキサノン−1−カルボニトリル、アゾジベンゾイル等のアゾ化合物などがあり、レドックス触媒としては、過硫酸カリウム、過硫酸アンモニウム等の水溶性触媒及び過酸化物あるいは過硫酸塩と還元剤の組み合わせがある。 As the thermal polymerization initiator, benzoyl peroxide, lauroyl peroxide, di-t-butylperoxyhexahydroterephthalate, t-butylperoxy-2-ethylhexanoate, 1,1-t-butylperoxy-3 Organic peroxides such as 1,3,5-trimethylcyclohexane, azo such as azobisisobutyronitrile, azobis-4-methoxy-2,4-dimethylvaleronitrile, azobiscyclohexanone-1-carbonitrile, azodibenzoyl Examples of redox catalysts include water-soluble catalysts such as potassium persulfate and ammonium persulfate, and peroxides or combinations of persulfates and reducing agents.
上記の光重合開始剤としては、例えば、紫外線等の光線に感度を有するものが使用される。例えば、ベンゾフェノン、N,N′−テトラメチル−4,4′−ジアミノベンゾフェノン(ミヒラーケトン)、2,2−ジメトキシ―1,2−ジフェニルエタン―1−オン、2−ヒドロキシ−2−メチル−1−フェニルプロパン−1−オン、1―ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、ビス(2,4,6−トリメチルベンゾイル)−フェニルフォスフィンオキサイド、オリゴ(2−ヒドロキシ−2−メチル−1−(4−(1−メチルビニル)フェニル)プロパノン)等が挙げられるが、樹脂組成物を着色させないものとしては1―ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、2−ヒドロキシ−2−メチル−1−フェニル−プロパン−1−オン、1−[4−(2−ヒドロキシエトキシ)−フェニル]−2−ヒドロキシ−2−メチル−1−プロパン−1−オン等のα−ヒドロキシアルキルフェノン系化合物、ビス(2,4,6−トリメチルベンゾイル)−フェニルフォスフィンオキサイド、ビス(2,6−ジメトキシベンゾイル)−2,4,4−トリメチル−ペンチルフォスフィンオキサイド、2,4,6−トリメチルベンゾイル−ジフェニルフォスフィンオキサイド等のアシルフォスフィンオキサイド系化合物、オリゴ(2−ヒドロキシ−2−メチル−1−(4−(1−メチルビニル)フェニル)プロパノン)及びこれらを組み合わせたものが好ましい。また特に厚いシートを作製するためにはビス(2,4,6−トリメチルベンゾイル)−フェニルフォスフィンオキサイド、ビス(2,6−ジメトキシベンゾイル)−2,4,4−トリメチル−ペンチルフォスフィンオキサイド、2,4,6−トリメチルベンゾイル−ジフェニルフォスフィンオキサイド等のアシルフォスフィンオキサイド系化合物を含む光重合開始剤が好ましい。また、シートの臭気を減らすためにはオリゴ(2−ヒドロキシ−2−メチル−1−(4−(1−メチルビニル)フェニル)プロパノン)が好ましい。これらの光重合開始剤の好ましい配合量は、単量体の総量に対して0.5〜2重量%であり、複数を組み合わせて使用しても良い。さらに、光重合開始剤を用いるときには、ベンゾフェノンやナフタレン等の光増感剤を必要に応じて添加することができる。さらに、分子量調整剤として、メルカプタン系化合物、チオグリコール、四塩化炭素、α−メチルスチレンダイマー等を必要に応じて添加することができる。 As said photoinitiator, what has a sensitivity to light rays, such as an ultraviolet-ray, is used, for example. For example, benzophenone, N, N′-tetramethyl-4,4′-diaminobenzophenone (Michler's ketone), 2,2-dimethoxy-1,2-diphenylethane-1-one, 2-hydroxy-2-methyl-1- Phenylpropan-1-one, 1-hydroxycyclohexyl phenyl ketone, bis (2,4,6-trimethylbenzoyl) -phenylphosphine oxide, oligo (2-hydroxy-2-methyl-1- (4- (1-methyl Vinyl) phenyl) propanone) and the like, but those that do not color the resin composition are 1-hydroxycyclohexyl phenyl ketone, 2-hydroxy-2-methyl-1-phenyl-propan-1-one, 1- [4 -(2-Hydroxyethoxy) -phenyl] -2-hydroxy-2-methyl-1-propyl Α-hydroxyalkylphenone compounds such as pan-1-one, bis (2,4,6-trimethylbenzoyl) -phenylphosphine oxide, bis (2,6-dimethoxybenzoyl) -2,4,4-trimethyl- Acylphosphine oxide compounds such as pentylphosphine oxide and 2,4,6-trimethylbenzoyl-diphenylphosphine oxide, oligo (2-hydroxy-2-methyl-1- (4- (1-methylvinyl) phenyl) Propanone) and combinations thereof are preferred. In order to produce a particularly thick sheet, bis (2,4,6-trimethylbenzoyl) -phenylphosphine oxide, bis (2,6-dimethoxybenzoyl) -2,4,4-trimethyl-pentylphosphine oxide, A photopolymerization initiator containing an acylphosphine oxide compound such as 2,4,6-trimethylbenzoyl-diphenylphosphine oxide is preferred. In order to reduce the odor of the sheet, oligo (2-hydroxy-2-methyl-1- (4- (1-methylvinyl) phenyl) propanone) is preferable. A preferable blending amount of these photopolymerization initiators is 0.5 to 2% by weight with respect to the total amount of monomers, and a plurality thereof may be used in combination. Furthermore, when using a photopolymerization initiator, a photosensitizer such as benzophenone or naphthalene can be added as necessary. Furthermore, mercaptan compounds, thioglycol, carbon tetrachloride, α-methylstyrene dimer, etc. can be added as necessary as molecular weight modifiers.
このような硬化性樹脂は、特に、ハードコート剤としては、下地成形体上に、例えば0.5〜5.0μm程度塗布されることが好ましい。塗布方法としては、ロールコート、スピンコート、ディップコートなどの公知の方法を採用することができる。 Such a curable resin is particularly preferably applied as a hard coat agent on the base molded body, for example, about 0.5 to 5.0 μm. As a coating method, a known method such as roll coating, spin coating, dip coating or the like can be employed.
アクリルフィルム又はシート用の硬化性樹脂も上記と同様の組成を有するものを使用することができる。 As the curable resin for the acrylic film or sheet, those having the same composition as described above can be used.
硬化性樹脂の膜(又は層)は、上記したように、下地成形体上に塗布する方法により、形成することができる。また、下地成形体の代わりに、樹脂フィルム、ガラス、金属等から成るからなる剥離性の基材の上に、硬化性樹脂の膜を塗布等により形成してもよい。このとき、薄膜をその表面に転写後、剥離性基材は剥離され、下地成形体のない成形体が得られる。 As described above, the film (or layer) of the curable resin can be formed by a method of coating on the base molded body. Further, instead of the base molded body, a curable resin film may be formed by coating or the like on a peelable substrate made of a resin film, glass, metal or the like. At this time, after the thin film is transferred to the surface, the peelable substrate is peeled off, and a molded body without a base molded body is obtained.
また、硬化性樹脂の膜(又は層)は、連続式キャスト製板法により得ることもできる。例えば、所定の間隔をもって対向して走行する一対のエンドレスベルトの対向面と、前記エンドレスベルトの走行に追随して走行する二つのガスケットとから形成される空間部に、本発明の薄膜転写材を繰り出すと共に硬化性樹脂を注入し、薄膜転写材の微粒子積層膜を埋没させ、硬化性樹脂を硬化させる。その後、エンドレスベルトから仮支持体2の付いた成形体を取り出し、仮支持材を剥離することにより、薄膜付き成形体が得られる。
Moreover, the film | membrane (or layer) of curable resin can also be obtained by the continuous cast board manufacturing method. For example, the thin film transfer material of the present invention is formed in a space formed by the opposed surfaces of a pair of endless belts that run facing each other at a predetermined interval, and two gaskets that run following the running of the endless belt. In addition, the curable resin is injected and the fine particle laminated film of the thin film transfer material is buried to cure the curable resin. Thereafter, the molded body with the
また、射出成形法では、薄膜転写材を射出成形金型内に挟み込み、次に前記薄膜転写材の微粒子積層膜側に溶融材料を射出することにより成形体を形成すると同時に、前記成形体の表面に前記薄膜転写材の微粒子積層膜を埋没させる。その後、仮支持体を剥離することにより薄膜付き成形体が得られる。 In addition, in the injection molding method, a thin film transfer material is sandwiched in an injection mold, and then a molded material is formed by injecting a molten material onto the fine particle laminated film side of the thin film transfer material. Then, the fine particle laminated film of the thin film transfer material is buried. Then, a molded object with a thin film is obtained by peeling a temporary support body.
次に、図面を用いて、本発明を説明する。 Next, the present invention will be described with reference to the drawings.
図1は、本発明の薄膜転写材の一例を模式的に示す断面図である。薄膜転写材1は、仮支持体2の表面上に微粒子積層膜3が形成された構造を有する。微粒子積層膜3は、微粒子と高分子電解質を含み、微粒子は層をなしており、このような微粒子層が複数積層されており(図面では3層として表示)、各層間に高分子電解質が存在する。
FIG. 1 is a cross-sectional view schematically showing an example of the thin film transfer material of the present invention. The thin
微粒子積層膜3の微粒子の間には、空隙があり、この空隙に入り込むようにしてシリコーンオリゴマーが付着している(図示せず)。 There are voids between the fine particles of the fine particle laminated film 3, and a silicone oligomer is attached so as to enter the voids (not shown).
図2は、本発明の薄膜付き成形体の一例を示す断面図であり、この薄膜付き成形体4は、成形体の構成材料であるプラスチック5の表面付近に上記の微粒子積層膜(薄膜)3を埋没させて微粒子転写層6を形成したものである。この微粒子転写層6の微粒子間空隙には、成形体の構成材料5であるプラスチックが入り込んでおり、表面は、上記微粒子積層膜3と構成材料5が一体となって複合化していると言ってよい。この微粒子積層膜3内の微粒子と構成材料5の間にシリコーンオリゴマーが介在している(図示せず)。
FIG. 2 is a cross-sectional view showing an example of a molded body with a thin film according to the present invention. Are embedded to form the fine particle transfer layer 6. The space between the fine particles of the fine particle transfer layer 6 is filled with plastic, which is the
図3は、薄膜付き成形体の製造方法の一例を示す断面図である。薄膜転写材1と成形体7を準備する(図3(a))。薄膜転写材1は、仮支持体2上にシリコーンオリゴマーが付着している微粒子積層膜3を積層したものである。成形体7は、樹脂成形体(下地成形体)8の表面に硬化性樹脂層(ただし、未硬化の前駆体である。)9が積層されている。硬化性樹脂層9は、加熱又は活性光線の照射により硬化可能な樹脂からなる。ついで、薄膜転写材1と成形体7とを微粒子積層膜3と硬化性樹脂層9とが接するようにして重ねる。この重ねた状態で、仮支持体3側から圧力をかけ、さらに加熱及び/又は活性光線の照射を行う。この時、硬化を完全に行っても、部分的に行っても良い。この時点で、部分的に又は完全に硬化された硬化性樹脂層9に微粒子積層膜3が埋没された状態で、微粒子転写層6が形成されている(図3(b))。その後、仮支持体3を剥離する。先に、部分的に硬化された硬化性樹脂層9は、ついで、必要に応じて、さらに硬化を進める。このようにして、薄膜付き成形体が得られる(図3(c))。
FIG. 3 is a cross-sectional view showing an example of a method for producing a molded body with a thin film. A thin
上記における硬化の程度は、仮支持体3が容易に剥離でき、且つ剥離した際に薄膜や硬化性樹脂層9が仮支持体3に残らない条件とすることが好ましい。
The degree of curing in the above is preferably such that the temporary support 3 can be easily peeled off and the thin film or the
なお、上記において、樹脂成形体(下地成形体)8の代わりに剥離性基材を用いてもよい。 In the above, a peelable substrate may be used instead of the resin molded body (base molded body) 8.
硬化性樹脂層の硬化度(硬化率)は、加熱及び/又は活性光線の照射に伴って、硬化反応を起こす官能基が、反応によって消失する様子を赤外吸収スペクトルによって観察することで測定できる。 The degree of cure (curing rate) of the curable resin layer can be measured by observing, with an infrared absorption spectrum, a functional group that causes a curing reaction upon heating and / or irradiation with actinic rays and disappears due to the reaction. .
例えば、重合性不飽和結合を含むモノマーである場合は、赤外線吸収スペクトルにおける、波数1630cm−1付近に観察される、エチレン性二重結合の吸収を観察することで算出できる。その強度の初期値と消失後の値を100と0に規格化することで、硬化途中の硬化率(部分硬化の硬化度)を算出することができる(「樹脂の硬化度・硬化挙動の測定と評価方法」サイエンスアンドテクノロジー社、2007年7月13日発刊)。 For example, in the case of a monomer containing a polymerizable unsaturated bond, it can be calculated by observing the absorption of ethylenic double bonds observed in the vicinity of a wave number of 1630 cm −1 in the infrared absorption spectrum. By normalizing the initial value of the strength and the value after disappearance to 100 and 0, it is possible to calculate the curing rate during curing (the degree of curing of partial curing) (“Measurement of the degree of curing / curing behavior of the resin”) And Evaluation Method ”Science and Technology, published July 13, 2007).
また、熱硬化型の場合は、DSC(示差走査熱分析)を用いて測定することができる。DSC(示差走査熱量測定法)は、測定温度範囲内で、発熱、吸熱の無い標準試料との温度差をたえず打ち消すように熱量を供給または除去するゼロ位法を測定原理とするものであり、測定装置が市販されておりそれを用いて測定できる。熱硬化型接着剤の反応は、発熱反応であり、一定の昇温速度で試料を昇温していくと、試料が反応し熱量が発生する。その発熱量をチャートに出力し、ベースラインを基準として発熱曲線とベースラインで囲まれた面積を求め、これを発熱量とする。室温から200℃まで5〜10℃/分の昇温速度で測定し、上記した発熱量を求める。これらは、全自動で行なうものもあり、それを使用すると容易に行なうことができる。つぎに、支持体に永久支持層を塗布し、乾燥して得た発熱量は、つぎのようにして求める。まず、25℃で真空乾燥器を用いて溶剤を乾燥させた未架橋・未硬化の永久支持層の全発熱量を測定し、これをA(J/g)とする。つぎに、塗工、乾燥した永久支持層の発熱量を測定し、これをBとする。永久支持層の硬化率C(%)(加熱、乾燥により発熱を終えた状態)は、つぎの数式(I)で与えられる。 Moreover, in the case of a thermosetting type, it can measure using DSC (differential scanning thermal analysis). DSC (Differential Scanning Calorimetry) is based on the zero level method in which the amount of heat is supplied or removed so as to constantly cancel out the temperature difference from a standard sample that does not generate heat or endotherm within the measurement temperature range. A measuring device is commercially available and can be measured using it. The reaction of the thermosetting adhesive is an exothermic reaction, and when the temperature of the sample is increased at a constant temperature increase rate, the sample reacts to generate heat. The calorific value is output to a chart, the area surrounded by the calorific curve and the base line is obtained with the baseline as a reference, and this is defined as the calorific value. Measurement is performed at a temperature increase rate of 5 to 10 ° C./min from room temperature to 200 ° C., and the above calorific value is obtained. Some of these are performed automatically, and can be easily performed by using them. Next, the calorific value obtained by applying a permanent support layer to the support and drying it is determined as follows. First, the total calorific value of the uncrosslinked / uncured permanent support layer obtained by drying the solvent using a vacuum dryer at 25 ° C. is measured, and this is defined as A (J / g). Next, the calorific value of the coated and dried permanent support layer is measured. The curing rate C (%) of the permanent support layer (the state in which heat generation is completed by heating and drying) is given by the following mathematical formula (I).
数式(I)
[数1]
C(%)={(A−B/A)}×100 ・・・(I)
このようにして、樹脂成形体の表面に薄膜を付与することができる。仮支持体上からの加圧及び加熱は、例えば、シリコンゴムロールを用いて行うことができる。この場合、シリコンゴムロール表面は15℃以上250℃以下程度の温度、1kg/cm2以上20kg/cm2以下程度の圧力が適当である。
Formula (I)
[Equation 1]
C (%) = {(A−B / A)} × 100 (I)
In this way, a thin film can be applied to the surface of the resin molded body. The pressurization and heating from the temporary support can be performed using a silicon rubber roll, for example. In this case, the surface of the silicon rubber roll is suitably at a temperature of about 15 ° C. or more and 250 ° C. or less and a pressure of about 1 kg / cm 2 or more and 20 kg / cm 2 or less.
長尺のフィルム基材を仮支持体として該仮支持体上にシリコーンオリゴマーが付着した微粒子積層膜が形成されロール状に巻かれてなる薄膜転写材を用いた、両面に薄膜が付いている薄膜付き成形体の連続的製法の一実施例について図4を用いて説明する。 A thin film with a thin film on both sides, using a thin film transfer material in which a fine film laminated film with a silicone oligomer attached is formed on the temporary support as a temporary support, and is wound into a roll. An example of the continuous manufacturing method of the attached molded body will be described with reference to FIG.
図4において、樹脂製のシート401は連続的に成形された成形体であり、コーティングヘッド411、412により樹脂製シート401両面に硬化性樹脂層402(未硬化)がコーティングされる。さらにこのコーティング後の樹脂製シート401を、両面から薄膜転写材421、422と接合し、プレスロール431、432によりプレス圧力を調整することで膜厚をコントロールしながら硬化性樹脂層402と薄膜転写材421、422とが接するようにして重ねる。前記硬化性樹脂層402は、活性光線の照射により硬化可能な樹脂からなり、薄膜転写材421、422は、仮支持体451、452の硬化性樹脂層402と接する面にシリコーンオリゴマーが付着した微粒子積層膜が形成されている。薄膜転写材421、422が重ねられた樹脂製シート401へ活性光線照射装置441、442により、活性光線の照射を行う。活性光線の照射量は、仮支持体451、452が容易に剥離でき、且つ剥離した際に薄膜や硬化性樹脂層402が仮支持体451,452に残らない条件とする。
In FIG. 4, a
次いで、活性光線が照射された樹脂製シート401から、プレスロール461、462を通じ、仮支持体451、452を剥離する。この剥離で得られた、薄膜付き成形体403に、活性光線照射装置471、472を用いて活性光線の照射を行い、硬化性樹脂層402の硬化度をすすめる。照射終了の時点で、硬化性樹脂層402の硬化率が74%以上になっていることが好ましい。
Next, the
このようにして、加工コストや生産性に優れた薄膜付き成形体を得ることができる。なお、硬化性樹脂層402は、加熱により硬化可能な樹脂でも良く、このとき、硬化性樹脂層402の硬化は加熱によって行なわれる。また、薄膜を形成する面が片面で良い場合は、片面にのみ硬化性樹脂層をコーティングして薄膜を形成しても良い。
In this manner, a molded body with a thin film having excellent processing cost and productivity can be obtained. The
以下、実施例により本発明を説明する。本発明はこれらの実施例により限定されるものではない。 Hereinafter, the present invention will be described by way of examples. The present invention is not limited to these examples.
1.仮支持体
片面に易接着層とよばれる極性基を付与された樹脂層があるPETフィルム(A4100、東洋紡績(株)製、150mm×150mm×125μm厚)を用いた。
1. Temporary support A PET film (A4100, manufactured by Toyobo Co., Ltd., 150 mm × 150 mm × 125 μm thickness) having a resin layer provided with a polar group called an easy adhesion layer on one side was used.
2.無機薄膜転写材の作製(仮支持体上への微粒子積層膜の形成)
微粒子水分散液として、BET法で測定した平均一次粒子径が85nmの球状シリカ微粒子が分散したシリカ水分散液1重量%(スノーテックス(ST)ZL、日産化学工業(株)製、シリカゾル)及び、BET法で測定した平均一次粒子径が15nmの導電性アンチモン酸亜鉛微粒子が分散したアンチモン酸亜鉛水分散液1重量%(セルナックスCXZ330H−F2、日産化学工業(株)製、酸化亜鉛ゾル)を用意した。これらの微粒子分散液のpHは未調整とした。高分子電解質として、PDDA水溶液0.3重量%を用意し、pHは9に調製した。
2. Preparation of inorganic thin film transfer material (formation of fine particle laminated film on temporary support)
As a fine particle aqueous dispersion, 1% by weight of silica water dispersion (Snowtex (ST) ZL, manufactured by Nissan Chemical Industries, silica sol) in which spherical silica fine particles having an average primary particle diameter of 85 nm measured by BET method are dispersed, and 1 wt% of zinc antimonate aqueous dispersion in which conductive zinc antimonate fine particles having an average primary particle diameter of 15 nm measured by the BET method are dispersed (CELNAX CXZ330H-F2, manufactured by Nissan Chemical Industries, Ltd., zinc oxide sol) Prepared. The pH of these fine particle dispersions was not adjusted. As the polymer electrolyte, a PDDA aqueous solution of 0.3% by weight was prepared, and the pH was adjusted to 9.
まず、上記のPETフィルム(仮支持体)を、PDDA水溶液に1分間浸漬し、リンス用の超純水に3分間浸漬する工程(ア)、シリカ水分散液に1分間浸漬した後、リンス用の超純水に3分間浸漬する工程(イ)をこの順に施した。この工程(ア)1回と工程(イ)1回を順に行うのを1サイクルとし、このサイクルを4回(微粒子交互積層回数)行い、仮支持体表面にシリカ微粒子積層膜(一種類目)を作製した。引き続き、上記アンチモン酸亜鉛水分散液とPDDA水溶液を用い、前記シリカ微粒子積層膜の作製方法に準じて、交互積層回数を5回としてシリカ微粒子積層膜上にアンチモン酸化亜鉛微粒子積層膜(二種類目)を形成して、2種類の微粒子積層膜を有する仮支持体(無機薄膜転写材)を得た。 First, the above PET film (temporary support) is immersed in an aqueous PDDA solution for 1 minute, immersed in ultrapure water for rinsing for 3 minutes (a), immersed in an aqueous silica dispersion for 1 minute, and then rinsed. Step (a) of immersing in ultrapure water for 3 minutes was performed in this order. This step (a) once and step (b) once are sequentially performed as one cycle, and this cycle is repeated four times (the number of fine particles alternately laminated), and the silica fine particle laminated film (first type) is formed on the temporary support surface. Was made. Subsequently, the zinc antimonate aqueous dispersion and the PDDA aqueous solution were used, and the antimony zinc oxide fine particle laminated film (second type) was formed on the silica fine particle laminated film in accordance with the method for producing the silica fine particle laminated film with the number of alternate laminations being five. ) To obtain a temporary support (inorganic thin film transfer material) having two kinds of fine particle laminated films.
3.未硬化の塗膜を有する下地成形体(硬化性樹脂層)
下地成形体として、ポリメタクリル酸メチル(PMMA、三菱レイヨン(株)製、アクリライトL、屈折率1.49、150mm×150mm×1mm厚)を用いた。PMMAは、永久支持層との密着性を強化するために、プライマー処理を実施した。プライマー剤としてメチルエチルケトンで1.0重量%に希釈したウレタン系コーティング剤(三洋化成工業(株)製、コートロンMW−060)を用いた。プライマー剤は、アプリケータを用いて厚さ30μmに成形体に塗工し、乾燥後に80℃で30分間熱処理を行った。
3. Undermolded body with an uncured coating film (curable resin layer)
Polymethyl methacrylate (PMMA, manufactured by Mitsubishi Rayon Co., Ltd., Acrylite L, refractive index 1.49, 150 mm × 150 mm × 1 mm thickness) was used as the base molded body. PMMA was subjected to a primer treatment in order to enhance the adhesion with the permanent support layer. As a primer agent, a urethane coating agent diluted with 1.0% by weight of methyl ethyl ketone (Cortron MW-060, manufactured by Sanyo Chemical Industries, Ltd.) was used. The primer agent was applied to a molded body with a thickness of 30 μm using an applicator, and heat-treated at 80 ° C. for 30 minutes after drying.
また、硬化性樹脂として、光硬化性のハードコート樹脂(日立化成工業(株)製、ヒタロイド7902)97重量部と光重合開始剤(1−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニル−ケトン)3重量部とを混ぜた光硬化性樹脂を用いた。この光硬化性樹脂を上記下地成形体のプライマー処理を施した面上にアプリケータを用いて厚さ30μmに塗工した。光硬化性樹脂は未硬化状態であった。 In addition, as a curable resin, 97 parts by weight of a photocurable hard coat resin (Hitaroid 7902, manufactured by Hitachi Chemical Co., Ltd.) and 3 parts by weight of a photopolymerization initiator (1-hydroxy-cyclohexyl-phenyl-ketone) A mixed photocurable resin was used. This photocurable resin was applied to a thickness of 30 μm using an applicator on the primer-treated surface of the base molded body. The photocurable resin was in an uncured state.
4.微粒子積層膜が転写された成形体の作製
上記3.で作製した未硬化の光硬化性樹脂の塗膜を有する下地成形体と前記2.の薄膜転写材とを光硬化性樹脂の塗膜面と易接着層のない面上に形成された微粒子積層膜とが向かい合わせになるように配置して、貼り合わせた。貼り合わせはロールラミネータ(日立化成工業(株)製、HLM−1500)を用いて、ロール荷重3kg/cm2、送り速度2m/min、温度25℃の条件で行った。この温度における、上記の光硬化性樹脂の粘度は、9,000mP・sであった(粘度は、E形粘度計(たとえば、東京計器(株)製TV−33が使用できる)により測定した、温度25℃における粘度。以下同様)。以上の工程は、紫外線が遮断された雰囲気下に行った。
4). 2. Fabrication of molded body to which fine particle laminated film is transferred 1. An undermolded body having a coating film of an uncured photocurable resin prepared in 1. The thin film transfer material was placed so that the coating surface of the photocurable resin and the fine particle laminated film formed on the surface without the easy adhesion layer face each other. Bonding was performed using a roll laminator (HLM-1500, manufactured by Hitachi Chemical Co., Ltd.) under conditions of a roll load of 3 kg / cm 2 , a feed rate of 2 m / min, and a temperature of 25 ° C. The viscosity of the above-mentioned photocurable resin at this temperature was 9,000 mP · s (the viscosity was measured with an E-type viscometer (for example, TV-33 manufactured by Tokyo Keiki Co., Ltd. can be used) Viscosity at a temperature of 25 ° C. The same applies hereinafter. The above steps were performed in an atmosphere where ultraviolet rays were blocked.
この貼り合わせ物に紫外線露光装置(大日本スクリーン製造(株)、MAP−1200)を用いて2000mJ/cm2の紫外線を薄膜転写材側から照射して光硬化性樹脂層を部分硬化させた。 This bonded product was irradiated with 2000 mJ / cm 2 of ultraviolet light from the thin film transfer material side using an ultraviolet exposure device (Dainippon Screen Mfg. Co., Ltd., MAP-1200) to partially cure the photocurable resin layer.
次いで、仮支持体であるPETフィルムを成形体から剥離した。PETフィルムから微粒子積層膜が剥離していることを確認した。すなわち、微粒子積層膜は、成形体上の部分硬化した光硬化性樹脂層(ハードコート層)に転写されていた。光硬化性樹脂層(ハードコート層)の硬化率を高めるために、追加で3000mJ/cm2の紫外線を微粒子積層膜側から照射した。 Subsequently, the PET film which is a temporary support was peeled from the molded body. It was confirmed that the fine particle laminated film was peeled off from the PET film. That is, the fine particle laminated film was transferred to a partially cured photocurable resin layer (hard coat layer) on the molded body. In order to increase the curing rate of the photocurable resin layer (hard coat layer), 3000 mJ / cm 2 of ultraviolet rays were additionally irradiated from the fine particle laminated film side.
このようにして、微粒子積層膜が転写された成形体を作製した。 In this manner, a molded body to which the fine particle laminated film was transferred was produced.
この成形体において、微粒子積層膜が転写されて形成された層(以下、「微粒子転写層」という)は、ハードコート層の最表面に位置し、微粒子積層膜はハードコート層に埋没している。この微粒子転写層を含むハードコート層全体の厚みは20μmであった。 In this molded body, a layer formed by transferring the fine particle laminate film (hereinafter referred to as “fine particle transfer layer”) is located on the outermost surface of the hard coat layer, and the fine particle laminate film is buried in the hard coat layer. . The total thickness of the hard coat layer including the fine particle transfer layer was 20 μm.
5.硬度、透過率、表面反射率の測定
微粒子積層膜が転写された成形体の微粒子転写層の鉛筆硬度は4Hであり、耐スチールウール性は500gの荷重では傷がつかず、600gで傷がついた。
5. Measurement of hardness, transmittance, and surface reflectance The pencil hardness of the fine particle transfer layer of the molded body onto which the fine particle laminated film was transferred is 4H, and the steel wool resistance is not damaged at a load of 500 g, and is scratched at 600 g. It was.
微粒子積層膜が転写された成形体(PMMA)の透過スペクトルを可視紫外分光光度計(日本分光(株)製、V−570)にて測定したところ、波長400〜800nmでの最大の透過率は92.5%であった。 When the transmission spectrum of the molded product (PMMA) onto which the fine particle laminated film was transferred was measured with a visible ultraviolet spectrophotometer (manufactured by JASCO Corporation, V-570), the maximum transmittance at a wavelength of 400 to 800 nm was It was 92.5%.
また、微粒子積層膜が転写された成形体(PETフィルム)のハードコート層を形成していない面に、裏面の反射を無視できるよう黒い粘着テープ(ニチバン(株)製、VT−196)を気泡が残らないように貼り付け、ハードコート層表面の表面反射率のスペクトルを瞬間測光分光光度計(フィルメトリクス(株)製、F20)にて測定した。波長400〜800nmでの最小の表面反射率は2.7%であった。 Also, black adhesive tape (VT-196, manufactured by Nichiban Co., Ltd.) is bubbled on the surface of the molded body (PET film) to which the fine particle laminated film is transferred, on which the hard coat layer is not formed, so that reflection on the back surface can be ignored. The surface reflectance spectrum of the hard coat layer surface was measured with an instantaneous photometric spectrophotometer (F20, manufactured by Filmetrics Co., Ltd.). The minimum surface reflectance at a wavelength of 400 to 800 nm was 2.7%.
微粒子積層膜が転写されていないハードコート層のみを形成した成形体の透過率は92.0%、表面反射率は4.3%であることから、上記微粒子転写層は反射防止膜として機能することがわかった。 Since the transmittance of the molded body in which only the hard coat layer to which the fine particle laminated film is not transferred is formed is 92.0% and the surface reflectance is 4.3%, the fine particle transfer layer functions as an antireflection film. I understood it.
片面に易接着層とよばれる極性基を付与された樹脂層があるPETフィルム(A4100、東洋紡績(株)製、150mm×150mm×125μm厚)を用いた。 A PET film (A4100, manufactured by Toyobo Co., Ltd., 150 mm × 150 mm × 125 μm thickness) having a resin layer provided with a polar group called an easy adhesion layer on one side was used.
微粒子として、BET法で測定した平均一次粒子径が85nmの球状シリカ微粒子をイソプロパノール(IPA)に分散させたシリカ分散液(IPA−ST−ZL、日産化学工業(株)製、シリカゾル)を用意した。微粒子分散液としては1.0重量%の微粒子分散液を調製した。この微粒子分散液を上記PETフィルムの易接着層がない面上にアプリケータを用いて乾燥膜厚0.1μmとなるように塗工することで、シリカ微粒子積層膜を作製した。塗膜の乾燥は、乾燥機(ヤマト科学製、80℃、10分間)を用いた。次いで、BET法で測定した平均一次粒子径が20nmの球状ジルコニア微粒子をIPAに分散させたジルコニア分散液(ELCOM HK−1002ZRV、日揮触媒化成(株)、ジルコニアゾル)を用意した。微粒子分散液としては1.0重量%の微粒子分散液を調製した。前記シリカ微粒子積層膜上にアプリケータを用いて乾燥膜厚0.1μmとなるように塗工することで、薄膜転写材を作製した。塗膜の乾燥は、乾燥機(ヤマト科学製、80℃、10分間)を用いた。 As fine particles, a silica dispersion (IPA-ST-ZL, manufactured by Nissan Chemical Industries, Ltd., silica sol) in which spherical silica fine particles having an average primary particle diameter of 85 nm measured by the BET method were dispersed in isopropanol (IPA) was prepared. . As the fine particle dispersion, a 1.0% by weight fine particle dispersion was prepared. The fine particle dispersion was coated on a surface of the PET film without an easy-adhesion layer using an applicator so as to have a dry film thickness of 0.1 μm, thereby preparing a silica fine particle laminated film. A drying machine (manufactured by Yamato Kagaku, 80 ° C., 10 minutes) was used for drying the coating film. Next, a zirconia dispersion (ELCOM HK-1002ZRV, JGC Catalysts and Chemicals, zirconia sol) in which spherical zirconia fine particles having an average primary particle diameter of 20 nm measured by the BET method were dispersed in IPA was prepared. As the fine particle dispersion, a 1.0% by weight fine particle dispersion was prepared. A thin film transfer material was prepared by coating the silica fine particle laminated film with an applicator so as to have a dry film thickness of 0.1 μm. A drying machine (manufactured by Yamato Kagaku, 80 ° C., 10 minutes) was used for drying the coating film.
この薄膜転写材を使用すること以外は、実施例1に準じて、微粒子積層膜が転写された成形体を作製した。 Except for using this thin film transfer material, a molded body to which the fine particle laminated film was transferred was prepared according to Example 1.
微粒子積層膜が転写された成形体の微粒子転写層の鉛筆硬度は4Hであり、耐スチールウール性は500gの荷重では傷がつかず、600gで傷がついた。 The pencil hardness of the fine particle transfer layer of the molded product to which the fine particle laminated film was transferred was 4H, and the steel wool resistance was not damaged at a load of 500 g, and was damaged at 600 g.
微粒子積層膜が転写された成形体の透過スペクトルを実施例1と同様に測定したところ、波長400〜800nmでの最大の透過率は92.7%であった。実施例1と同様にハードコート層表面の表面反射スペクトルを測定したところ、最小の表面反射率は2.4%であることから、上記微粒子転写層は反射防止膜として機能することがわかった。 When the transmission spectrum of the molded body to which the fine particle laminated film was transferred was measured in the same manner as in Example 1, the maximum transmittance at a wavelength of 400 to 800 nm was 92.7%. When the surface reflection spectrum on the surface of the hard coat layer was measured in the same manner as in Example 1, the minimum surface reflectance was 2.4%, and it was found that the fine particle transfer layer functions as an antireflection film.
1.2種類の微粒子積層膜を有する仮支持体の作製
片面に易接着層とよばれる極性基を付与された樹脂層があるPETフィルム(A4100、東洋紡績(株)製、150mm×150mm×125μm厚)を用いた。
1.2 Production of Temporary Support Having Fine Particle Laminate Film PET Film (A4100, manufactured by Toyobo Co., Ltd., 150 mm × 150 mm × 125 μm) having a resin layer provided with a polar group called an easy adhesion layer on one side Thickness) was used.
実施例1の薄膜転写材の作製法に準じて、上記PETフィルムの易接着層がない面上に、シリカ微粒子の積層膜及びアンチモン酸化亜鉛微粒子の積層膜の、2種類の微粒子積層膜を有する仮支持体を得た。 In accordance with the method for producing the thin film transfer material of Example 1, two types of fine particle laminated films, that is, a laminated film of silica fine particles and a laminated film of antimony zinc oxide fine particles are provided on the surface of the PET film without the easy adhesion layer. A temporary support was obtained.
2.シリコーンオリゴマーの作製
攪拌装置、温度計を備えたガラスフラスコに、3−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン(KBM−503、信越化学工業(株)製)30g及びメタノール30gを配合した溶液を入れ、次いで、酢酸0.23g及び純水6.5gを添加し、室温(25℃)で1時間攪拌した。得られたシリコーンオリゴマーは、シロキサン単位の重合度が3(GPCによる重量平均分子量から換算、以下同じ)であり、水酸基と反応する末端官能基としてシラノール基を有するものである。得られたシリコーンオリゴマー溶液にメチルイソブチルケトンを加えて、固形分1重量%に希釈して、シリコーンオリゴマー処理液を作製した。
2. Preparation of silicone oligomer A glass flask equipped with a stirrer and a thermometer was charged with a solution containing 30 g of 3-methacryloxypropyltrimethoxysilane (KBM-503, manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.) and 30 g of methanol, Acetic acid 0.23g and pure water 6.5g were added, and it stirred at room temperature (25 degreeC) for 1 hour. The obtained silicone oligomer has a degree of polymerization of siloxane units of 3 (converted from a weight average molecular weight by GPC, the same shall apply hereinafter), and has a silanol group as a terminal functional group that reacts with a hydroxyl group. Methyl isobutyl ketone was added to the obtained silicone oligomer solution and diluted to a solid content of 1% by weight to prepare a silicone oligomer treatment liquid.
3.薄膜転写材の作製
上記シリコーンオリゴマー処理液に前記で得た微粒子積層膜を有する仮支持体を30秒浸漬し、2mm/秒で引き上げ、100℃で30分乾燥して薄膜転写材を得た。
3. Production of Thin Film Transfer Material The temporary support having the fine particle laminated film obtained above was immersed in the silicone oligomer treatment liquid for 30 seconds, pulled up at 2 mm / second, and dried at 100 ° C. for 30 minutes to obtain a thin film transfer material.
4.微粒子積層膜が転写された成形体の作製〔成形体(硬化性樹脂層)への微粒子積層膜の転写〕及び物性測定
前記薄膜転写材を使用すること以外は、実施例1に準じて、微粒子積層膜が転写された成形体を作製した。
4). Preparation of molded body to which fine particle laminated film was transferred [transfer of fine particle laminated film to molded body (curable resin layer)] and measurement of physical properties According to Example 1, except that the thin film transfer material was used. A molded body to which the laminated film was transferred was produced.
微粒子積層膜が転写された成形体の微粒子転写層の鉛筆硬度は4Hであり、耐スチールウール性は700gの荷重では傷がつかず、800gで傷がついた。 The pencil hardness of the fine particle transfer layer of the molded body to which the fine particle laminated film was transferred was 4H, and the steel wool resistance was not damaged at a load of 700 g, and was damaged at 800 g.
微粒子積層膜が転写された成形体の透過スペクトルを実施例1と同様に測定したところ、波長400〜800nmでの最大の透過率は93.9%であった。実施例1と同様にハードコート層表面の表面反射スペクトルを測定したところ、最小の表面反射率は1.2%であることから、上記微粒子転写層は反射防止膜として機能することがわかった。 When the transmission spectrum of the molded body to which the fine particle laminated film was transferred was measured in the same manner as in Example 1, the maximum transmittance at a wavelength of 400 to 800 nm was 93.9%. When the surface reflection spectrum on the surface of the hard coat layer was measured in the same manner as in Example 1, the minimum surface reflectance was 1.2%, and it was found that the fine particle transfer layer functions as an antireflection film.
実施例3と同様の装置を用い、3−アクリロキシプロピルトリメトキシシラン(KBM−5103、信越化学工業(株)製)30g及びメタノール30gを配合した溶液に、酢酸0.23g及び純水6.9gを添加し、室温(25℃)で1時間攪拌した。得られたシリコーンオリゴマーは、シロキサン単位の重合度が4であり、水酸基と反応する末端官能基としてシラノール基を有するものである。得られたシリコーンオリゴマー溶液にメチルイソブチルケトンを加えて、固形分1重量%に希釈してシリコーンオリゴマー処理液を作製した。 Using the same apparatus as in Example 3, 0.23 g of acetic acid and pure water 6. were added to a solution prepared by mixing 30 g of 3-acryloxypropyltrimethoxysilane (KBM-5103, manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.) and 30 g of methanol. 9g was added and it stirred at room temperature (25 degreeC) for 1 hour. The obtained silicone oligomer has a siloxane unit polymerization degree of 4 and has a silanol group as a terminal functional group that reacts with a hydroxyl group. Methyl isobutyl ketone was added to the obtained silicone oligomer solution and diluted to 1% by weight of solid content to prepare a silicone oligomer treatment liquid.
このシリコーンオリゴマー処理液を使用すること以外は、実施例3に準じて、薄膜転写材を作製し、さらに、この薄膜転写材を用いたこと以外は、実施例1に準じて、微粒子積層膜が転写された成形体を作製した。 A thin film transfer material was prepared according to Example 3 except that this silicone oligomer treatment liquid was used. Further, except that this thin film transfer material was used, a fine particle laminated film was prepared according to Example 1. A transferred molded body was produced.
微粒子積層膜が転写された成形体の微粒子転写層の鉛筆硬度は4Hであり、耐スチールウール性は700gの荷重では傷がつかず、800gで傷がついた。 The pencil hardness of the fine particle transfer layer of the molded body to which the fine particle laminated film was transferred was 4H, and the steel wool resistance was not damaged at a load of 700 g, and was damaged at 800 g.
微粒子積層膜が転写された成形体の透過スペクトルを実施例1と同様に測定したところ、波長400〜800nmでの最大の透過率は94.2%であった。実施例1と同様にハードコート層表面の表面反射スペクトルを測定したところ、最小の表面反射率は1.2%であることから、上記微粒子転写層は反射防止膜として機能することがわかった。 When the transmission spectrum of the molded body to which the fine particle laminated film was transferred was measured in the same manner as in Example 1, the maximum transmittance at a wavelength of 400 to 800 nm was 94.2%. When the surface reflection spectrum on the surface of the hard coat layer was measured in the same manner as in Example 1, the minimum surface reflectance was 1.2%, and it was found that the fine particle transfer layer functions as an antireflection film.
(比較例1)
(アンチモン酸亜鉛微粒子が転写された成形体の作製)
微粒子水分散液として、BET法で測定した平均一次粒子径が15nmの導電性アンチモン酸亜鉛微粒子が分散したアンチモン酸亜鉛水分散液1重量%(セルナックスCXZ330H−F2、日産化学工業(株)製、酸化亜鉛ゾル)を用意した。この微粒子分散液のpHは未調整とした。高分子電解質として、PDDA水溶液0.3重量%を用意し、pHは9に調製した。
(Comparative Example 1)
(Preparation of molded product with zinc antimonate fine particles transferred)
As a fine particle aqueous dispersion, 1% by weight of a zinc antimonate aqueous dispersion in which conductive zinc antimonate fine particles having an average primary particle diameter of 15 nm measured by the BET method are dispersed (CELNAX CXZ330H-F2, manufactured by Nissan Chemical Industries, Ltd.) Zinc oxide sol) was prepared. The pH of the fine particle dispersion was not adjusted. As the polymer electrolyte, a PDDA aqueous solution of 0.3% by weight was prepared, and the pH was adjusted to 9.
まず、前記したアンチモン酸亜鉛水分散液とPDDA水溶液を用い、実施例1の薄膜転写材の作製法に準じて、交互積層回数を5回としてPETフィルム(仮支持体)上にアンチモン酸亜鉛微粒子積層膜を作製した。 First, using the zinc antimonate aqueous dispersion and the PDDA aqueous solution, zinc antimonate fine particles on a PET film (temporary support) with the number of alternate laminations set to 5 according to the method for producing the thin film transfer material of Example 1 A laminated film was produced.
このアンチモン酸亜鉛微粒子積層膜を形成した仮支持体を使用すること以外は、実施例1に準じて、微粒子積層膜が転写された成形体を作製した。 Except for using the temporary support on which the zinc antimonate fine particle laminated film was formed, a molded body to which the fine particle laminated film was transferred was produced in the same manner as in Example 1.
微粒子積層膜が転写された成形体の微粒子転写層の鉛筆硬度は4Hであり、耐スチールウール性は200gの荷重では傷がつかず、300gで傷がついた。 The pencil hardness of the fine particle transfer layer of the molded body to which the fine particle laminated film was transferred was 4H, and the steel wool resistance was not damaged at a load of 200 g, and was damaged at 300 g.
(比較例2)
微粒子水分散液として、BET法で測定した平均一次粒子径が50nmの球状シリカ微粒子が分散したシリカ水分散液0.5重量%(スノーテックス(ST)XL、日産化学工業(株)製、シリカゾル)及び、BET法で測定した平均一次粒子径が15nmの導電性アンチモン酸亜鉛微粒子が分散したアンチモン酸亜鉛水分散液1重量%(セルナックスCXZ330H−F2、日産化学工業(株)製、酸化亜鉛ゾル)を用意した。これらの微粒子分散液のpHは未調整とした。高分子電解質として、PDDA水溶液0.3重量%を用意し、pHは9に調製した。
(Comparative Example 2)
As a fine particle aqueous dispersion, 0.5% by weight of silica water dispersion in which spherical silica fine particles having an average primary particle diameter of 50 nm measured by the BET method are dispersed (Snowtex (ST) XL, manufactured by Nissan Chemical Industries, Ltd., silica sol ) And 1% by weight of zinc antimonate aqueous dispersion in which conductive zinc antimonate fine particles having an average primary particle diameter of 15 nm measured by BET method are dispersed (CELNAX CXZ330H-F2, manufactured by Nissan Chemical Industries, Ltd., zinc oxide) Sol) was prepared. The pH of these fine particle dispersions was not adjusted. As the polymer electrolyte, a PDDA aqueous solution of 0.3% by weight was prepared, and the pH was adjusted to 9.
まず、前記したシリカ水分散液とPDDA水溶液を用い、実施例1の薄膜転写材の作製法に準じて、交互積層回数を3回としてPETフィルム(仮支持体)上にシリカ微粒子積層膜を作製した。引き続き、上記アンチモン酸亜鉛水分散液とPDDA水溶液を用い、前記シリカ微粒子積層膜の作製方法に準じて、交互積層回数を5回としてシリカ微粒子積層膜上にアンチモン酸化亜鉛微粒子積層膜を形成し、2種類の微粒子積層膜を有する仮支持体(薄膜転写材)を得た。 First, using the silica aqueous dispersion and the PDDA aqueous solution, a silica fine particle laminated film is produced on a PET film (temporary support) with the number of alternate laminations three times according to the method for producing the thin film transfer material of Example 1. did. Subsequently, using the zinc antimonate aqueous dispersion and the PDDA aqueous solution, an antimony zinc oxide fine particle laminated film is formed on the silica fine particle laminated film with an alternate lamination number of 5 according to the method for producing the silica fine particle laminated film, A temporary support (thin film transfer material) having two kinds of fine particle laminated films was obtained.
この薄膜転写材を使用すること以外は、実施例1に準じて、微粒子積層膜が転写された成形体を作製した。 Except for using this thin film transfer material, a molded body to which the fine particle laminated film was transferred was prepared according to Example 1.
微粒子積層膜が転写された成形体の微粒子転写層の鉛筆硬度は4Hであり、耐スチールウール性は100gの荷重では傷がつかず、200gで傷がついた。 The pencil hardness of the fine particle transfer layer of the molded body onto which the fine particle laminated film was transferred was 4H, and the steel wool resistance was not damaged at a load of 100 g, and was damaged at 200 g.
(比較例3)
微粒子水分散液として、BET法で測定した平均一次粒子径が15nmの球状シリカ微粒子が分散したシリカ水分散液0.5重量%(スノーテックス(ST)20、日産化学工業(株)製、シリカゾル)及び、BET法で測定した平均一次粒子径が15nmの導電性アンチモン酸亜鉛微粒子が分散したアンチモン酸亜鉛水分散液1重量%(セルナックスCXZ330H−F2、日産化学工業(株)製、酸化亜鉛ゾル)を用意した。これらの微粒子分散液のpHは未調整とした。高分子電解質として、PDDA水溶液0.3重量%を用意し、pHは9に調製した。
(Comparative Example 3)
As a fine particle aqueous dispersion, 0.5% by weight of silica water dispersion in which spherical silica fine particles having an average primary particle diameter of 15 nm measured by the BET method are dispersed (Snowtex (ST) 20, manufactured by Nissan Chemical Industries, Ltd., silica sol ) And 1% by weight of zinc antimonate aqueous dispersion in which conductive zinc antimonate fine particles having an average primary particle diameter of 15 nm measured by BET method are dispersed (CELNAX CXZ330H-F2, manufactured by Nissan Chemical Industries, Ltd., zinc oxide) Sol) was prepared. The pH of these fine particle dispersions was not adjusted. As the polymer electrolyte, a PDDA aqueous solution of 0.3% by weight was prepared, and the pH was adjusted to 9.
まず、前記したシリカ水分散液とPDDA水溶液を用い、実施例1の薄膜転写材の作製法に準じて、交互積層回数を3回としてPETフィルム(仮支持体)上にシリカ微粒子積層膜を作製した。引き続き、上記アンチモン酸亜鉛水分散液とPDDA水溶液を用い、前記シリカ微粒子積層膜の作製方法に準じて、交互積層回数を5回としてシリカ微粒子積層膜上にアンチモン酸化亜鉛微粒子積層膜を形成し、2種類の微粒子積層膜を有する仮支持体(薄膜転写材)を得た。 First, using the silica aqueous dispersion and the PDDA aqueous solution, a silica fine particle laminated film is produced on a PET film (temporary support) with the number of alternate laminations three times according to the method for producing the thin film transfer material of Example 1. did. Subsequently, using the zinc antimonate aqueous dispersion and the PDDA aqueous solution, an antimony zinc oxide fine particle laminated film is formed on the silica fine particle laminated film with an alternate lamination number of 5 according to the method for producing the silica fine particle laminated film, A temporary support (thin film transfer material) having two kinds of fine particle laminated films was obtained.
この薄膜転写材を使用すること以外は、実施例1に準じて、微粒子積層膜が転写された成形体を作製した。微粒子積層膜が転写された成形体の微粒子転写層の鉛筆硬度は4Hであり、耐スチールウール性は100gで傷がついた。 Except for using this thin film transfer material, a molded body to which the fine particle laminated film was transferred was prepared according to Example 1. The pencil hardness of the fine particle transfer layer of the molded body to which the fine particle laminated film was transferred was 4H, and the steel wool resistance was 100 g and was damaged.
実施例および比較例の組成及び評価を表1にまとめて示す。
実施例1で前記した透過率と表面反射率以外の測定法及び評価法を次に示す。 Measurement methods and evaluation methods other than the transmittance and surface reflectance described in Example 1 will be described below.
(鉛筆硬度の測定)
鉛筆硬度は、JIS規格(JIS−K−5400−1990)に準拠して次のように測定した。
(Measurement of pencil hardness)
The pencil hardness was measured as follows according to JIS standards (JIS-K-5400-1990).
まず、試料に対して45°の角度で固定された鉛筆に、試料を押し付けた。鉛筆が試料に加える荷重は1.00±0.05kgとした。試料に付着した鉛筆の粉をエアーブローし、残った鉛筆の粉はプラスチック消しゴム(PE01、トンボ鉛筆製)を押し付けて取り除いた。膜表面にわずかに食い込むような傷が見えたときに、「擦り傷が付いた」と判別した。5回の試験で2回以上膜に擦り傷が認められた時の鉛筆の濃度記号を、その試料の鉛筆硬度とした。例えば、2Hの鉛筆で擦り傷が2回つき、Hの鉛筆で擦り傷が1回つく試料の鉛筆硬度はHである。 First, the sample was pressed against a pencil fixed at an angle of 45 ° with respect to the sample. The load applied by the pencil to the sample was 1.00 ± 0.05 kg. The pencil powder adhering to the sample was blown with air, and the remaining pencil powder was removed by pressing a plastic eraser (PE01, manufactured by dragonfly pencil). When scratches that slightly bite on the surface of the film were seen, it was determined that “scratched”. The pencil hardness symbol of the sample was the pencil density symbol when the film was scratched twice or more in five tests. For example, the pencil hardness of a sample in which a 2H pencil scratches twice and an H pencil scratches once is H.
(耐スチールウール性の評価)
微粒子積層膜が転写された成形体(PETフィルム)のハードコート層表面をスチールウール(日本スチールウール社製、#0000)に荷重をかけて、ストローク幅25mm、速度25mm/secで10回往復摩擦したあとの表面を目視で傷の有無を評価した。なお、スチールウールは約10mmφにまとめ、表面が均一になるように切断、摩擦して表面状態が均一になったものを使用し、荷重は100〜800gの範囲で100g単位に荷重を変更して行った。なお、表中では傷がつかなかった荷重で示す。
(Evaluation of steel wool resistance)
The hard coat layer surface of the molded product (PET film) onto which the fine particle laminated film has been transferred is loaded with steel wool (manufactured by Nippon Steel Wool Co., Ltd., # 0000), and 10 times reciprocating friction at a stroke width of 25 mm and a speed of 25 mm / sec The surface after the treatment was visually evaluated for scratches. Steel wool is gathered to about 10mmφ, and the surface is made uniform by cutting and rubbing so that the surface is uniform. The load is in the range of 100 to 800g, and the load is changed in units of 100g. went. In the table, it is indicated by the load that was not damaged.
1:薄膜転写材
2:仮支持体
3:微粒子積層膜
4:薄膜付き成形体
5:プラスチック
6:微粒子転写層
7:成形体前駆体
8:樹脂成形体
9:硬化性樹脂層
401:連続的に成形された樹脂製シート
402:硬化性樹脂層
403:薄膜付き成形体
411、412:コーティングヘッド
421、422:薄膜転写材
431、432、461、462:プレスロール
441、442、471、472:活性光線照射装置
451、452:剥離した仮支持体
1: Thin film transfer material 2: Temporary support 3: Fine particle laminated film 4: Molded
Claims (22)
(1)前記積層膜は、微粒子を含む微粒子層の1層又は2層以上の積層であり、各微粒子層の少なくとも一箇所の微粒子間に空隙を有し、
(2)前記積層膜は、屈折率及び微粒子の平均一次粒子径の少なくともいずれかが異なる二種類以上の微粒子層の積層であるか、または一種類の微粒子層の1層又は2層以上であり、
(3)前記積層膜の前記仮支持体側から一種類目の1層以上の微粒子層を構成する微粒子の平均一次粒子径が、70〜500nmの範囲内であることを特徴とする薄膜転写材。 A thin film transfer material comprising a temporary support and a fine particle laminated film formed on at least one surface of the temporary support,
(1) The laminate film is a laminate of one or two or more fine particle layers containing fine particles, and has a void between at least one fine particle of each fine particle layer,
(2) The laminated film is a laminate of two or more kinds of fine particle layers different in at least one of the refractive index and the average primary particle diameter of the fine particles, or one or two or more of one kind of fine particle layer. ,
(3) The thin film transfer material, wherein an average primary particle diameter of fine particles constituting one or more fine particle layers of the first kind from the temporary support side of the laminated film is in a range of 70 to 500 nm.
行う微粒子積層膜形成工程を含み、
前記微粒子積層膜形成工程において、少なくとも最初に浸漬する微粒子の分散液の微粒子は、平均一次粒子径が、70〜500nmの範囲内であり、
前記微粒子積層膜形成工程により、仮支持体上に少なくとも一箇所の微粒子間に空隙を有する微粒子積層膜を形成することを特徴とする薄膜転写材の製造方法。 (1) a step of alternately immersing the temporary support in a dispersion of fine particles having an ionic surface charge and a polymer electrolyte solution having a charge opposite in sign to the surface charge of the fine particles, or (2 ) Including a fine particle laminate film forming step of performing either one of a polymer electrolyte solution and a step of alternately immersing at least once in a dispersion of fine particles having a surface charge opposite in sign to the charge of the polymer electrolyte;
In the fine particle laminated film forming step, at least the fine particles of the fine particle dispersion to be immersed first have an average primary particle diameter in the range of 70 to 500 nm,
A method for producing a thin film transfer material, wherein a fine particle laminated film having a gap between at least one fine particle is formed on a temporary support by the fine particle laminated film forming step.
微粒子積層膜形成工程において、少なくとも最初に塗布する微粒子の分散液の微粒子は、平均一次粒子径が、70〜500nmの範囲内であり、
前記微粒子積層膜形成工程により仮支持体上に少なくとも一箇所の微粒子間に空隙を有する微粒子積層膜が形成されることを特徴とする薄膜転写材の製造方法。 Including a fine particle multilayer film forming step in which the temporary support is alternately applied to the fine particle dispersion and the polymer electrolyte solution at least once;
In the fine particle laminated film forming step, at least the fine particles of the fine particle dispersion to be applied first have an average primary particle diameter in the range of 70 to 500 nm,
A method for producing a thin film transfer material, wherein a fine particle laminated film having a gap between at least one fine particle is formed on a temporary support by the fine particle laminated film forming step.
前記微粒子積層膜形成工程を連続的に行う請求項8〜11のいずれかに記載の薄膜転写材の製造方法。 Furthermore, it includes a step of pulling out the sheet-like temporary support wound up in a roll shape,
The manufacturing method of the thin film transfer material in any one of Claims 8-11 which perform the said microparticle laminated film formation process continuously.
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JP2012086475A true JP2012086475A (en) | 2012-05-10 |
Family
ID=46258626
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
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JP2010235820A Pending JP2012086475A (en) | 2010-10-20 | 2010-10-20 | Thin-film transfer material, method for manufacturing the same, molding with thin film, and method for manufacturing the same |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2012086475A (en) |
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