JP2012079934A - Flexible printed circuit board - Google Patents

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Osamu Ohama
理 大濱
Shinko Yamakawa
真弘 山川
Shigemitsu Kusachi
重光 草地
Atsushi Kimura
淳 木村
Michihiro Kimura
道廣 木村
Hiroyuki Uchida
博之 内田
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Sumitomo Electric Industries Ltd
Sumitomo Electric Printed Circuits Inc
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a flexible printed circuit board in which connection strength of an anisotropic conductive material can be stably ensured.SOLUTION: In the flexible printed circuit board, organic layers having a circuit formed therebetween are bonded together with the anisotropic conductive material. The organic layers are made of polyimide, and a surface roughness of surfaces to be bonded of the polyimide is 8 nm or more.

Description

この発明は、フレキシブルプリント基板に関し、より特定的には、回路が形成された有機物層間を異方性導電材により接着したフレキシブルプリント基板に関するものである。   The present invention relates to a flexible printed circuit board, and more particularly to a flexible printed circuit board in which organic layers on which circuits are formed are bonded with an anisotropic conductive material.

従来、異方性導電膜(ACF)によるフレキシブルプリント基板の接続構造は、たとえば特開平11−121892号公報(特許文献1)、特開平4−352486号公報(特許文献2)、特開2008−166401号公報(特許文献3)および特開2003−46231号公報(特許文献4)に開示されている。   Conventionally, flexible printed circuit board connection structures using an anisotropic conductive film (ACF) are disclosed in, for example, Japanese Patent Application Laid-Open Nos. 11-121899 (Patent Document 1), Japanese Patent Application Laid-Open No. 4-352486 (Patent Document 2), and Japanese Patent Application Laid-Open No. 2008-. No. 166401 (Patent Document 3) and Japanese Patent Application Laid-Open No. 2003-46231 (Patent Document 4).

特開平11−121892号公報Japanese Patent Laid-Open No. 11-121892 特開平4−352486号公報JP-A-4-352486 特開2008−166401号公報JP 2008-166401 A 特開2003−46231号公報JP 2003-46231 A

特許文献1では、異方導電性接着剤の接続強度を向上する端子の構造が開示されている。端子パターンに接着剤収容凹部が設けられる。   Patent Document 1 discloses a terminal structure that improves the connection strength of an anisotropic conductive adhesive. An adhesive accommodating recess is provided in the terminal pattern.

特許文献2では、接続信頼性の高いFPC(フレキシブルプリント回路)の異方性導電膜による接続構造が開示されている。   Patent Document 2 discloses a connection structure using an anisotropic conductive film of FPC (flexible printed circuit) with high connection reliability.

特許文献3では、異方導電性接着剤による密着強度を向上する端子の構造として、端子表面に溝部を設けることが開示されている。   Patent Document 3 discloses that a groove portion is provided on the terminal surface as a structure of a terminal that improves the adhesion strength by the anisotropic conductive adhesive.

特許文献4では、薄膜化できる異方性導電層の接続構造が開示されており、端子間の樹脂露出部をエッチング等で掘り下げてから異方性導電層を接続することが開示されている。   Patent Document 4 discloses a connection structure of anisotropic conductive layers that can be thinned, and discloses that an anisotropic conductive layer is connected after a resin exposed portion between terminals is dug down by etching or the like.

上記文献に記載された技術では、異方性導電層による必要な接着強度が安定的に確保できないという問題があった。   The technique described in the above document has a problem that the required adhesive strength by the anisotropic conductive layer cannot be secured stably.

そこで、この発明は、上述のような問題点を解決するためになされたものであり、異方性導電材による接続強度を安定的に確保することが可能なフレキシブルプリント基板を提供する。   Accordingly, the present invention has been made to solve the above-described problems, and provides a flexible printed board capable of stably securing the connection strength by an anisotropic conductive material.

この発明に従ったフレキシブルプリント基板は、回路が形成される有機物層間を異方性導電材により接着するフレキシブルプリント基板であって、前記有機物層はポリイミドからなり、該ポリイミドの被接着面の表面粗さは8nm以上であり、好ましくは、8nm以上30nm以下である。本発明者は、有機物層の表面粗さが8nm以上なければ、異方性導電材により必要な接着強度を安定的に確保できないことを見出した。表面粗さが大きくなり過ぎると、イオンマイグレーション性の低下を招き、さらに有機物層の表面粗さと関係する回路面の凹凸は屈曲耐性、配線密着性などに影響を与えるため、有機物層の表面粗さは30nm以下であることが好ましい。   A flexible printed circuit board according to the present invention is a flexible printed circuit board in which an organic material layer on which a circuit is formed is bonded with an anisotropic conductive material, and the organic material layer is made of polyimide, and the surface roughness of the adherend surface of the polyimide is The thickness is 8 nm or more, and preferably 8 nm or more and 30 nm or less. The present inventor has found that the adhesive strength required by the anisotropic conductive material cannot be stably secured unless the surface roughness of the organic layer is 8 nm or more. If the surface roughness becomes too large, the ion migration property will be reduced, and the unevenness of the circuit surface related to the surface roughness of the organic layer will affect the bending resistance, wiring adhesion, etc., so the surface roughness of the organic layer Is preferably 30 nm or less.

有機物層に対するピール強度は例えば4N/cm以上であり、好ましくは4N/cm以上20N/cm以下である。   The peel strength with respect to the organic layer is, for example, 4 N / cm or more, preferably 4 N / cm or more and 20 N / cm or less.

この発明に従えば、接合強度を向上させることが可能な異方性導電層の接続構造を提供することができる。   According to this invention, it is possible to provide a connection structure of anisotropic conductive layers capable of improving the bonding strength.

この発明の実施の形態1に従った多層フレキシブルプリント基板の接続構造を示す断面図である。It is sectional drawing which shows the connection structure of the multilayer flexible printed circuit board according to Embodiment 1 of this invention. 異方性導電材により形成された異方性導電層内における電気的な接続を得るための構成を詳細に示す断面図であり、図1中のIIで囲んだ部分の断面図である。It is sectional drawing which shows the structure for obtaining the electrical connection in the anisotropic conductive layer formed of the anisotropic conductive material in detail, and is sectional drawing of the part enclosed by II in FIG. この発明に従ったフレキシブルプリント基板の配線パターンの一例を示す図である。It is a figure which shows an example of the wiring pattern of the flexible printed circuit board according to this invention. 異方性導電層としてソニーケミカルインフォメーションデバイス社製CP8016(商品名)を用い、有機物層としてポリイミドを用いた場合の、ポリイミドの被接着面における面粗さとピール強度との関係を示すグラフである。It is a graph which shows the relationship between the surface roughness and peel strength in the to-be-adhered surface of a polyimide at the time of using CP8016 (brand name) by Sony Chemical Information Device company as an anisotropic conductive layer, and using a polyimide as an organic substance layer. この発明に従った方法でピール強度を測定する工程において用いたカンチレバーを示す図である。It is a figure which shows the cantilever used in the process of measuring peel strength with the method according to this invention. 図5で示すカンチレバーの先端部分だけを拡大して示す斜視図である。It is a perspective view which expands and shows only the front-end | tip part of the cantilever shown in FIG.

以下、この発明の実施の形態について、図面を参照して説明する。なお、以下の実施の形態では、同一または相当する部分については同一の参照符号を付し、その説明については繰返さない。   Embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings. In the following embodiments, the same or corresponding parts are denoted by the same reference numerals, and description thereof will not be repeated.

(実施の形態1)
図1は、この発明の実施の形態1に従った多層フレキシブルプリント基板の接続構造を示す断面図である。図1を参照して、この発明の実施の形態1に従った異方性導電層の接続構造5では、有機物層10上に層間接着層20が設けられている。有機物層10はポリイミドからなる。層間接着層20は有機物層10と接続している。層間接着層20上に有機物層40が設けられている。有機物層40と接触するように層間接着層20内に導電層30が設けられている。導電層30は銅からなる配線層である。
(Embodiment 1)
1 is a sectional view showing a connection structure of a multilayer flexible printed circuit board according to Embodiment 1 of the present invention. Referring to FIG. 1, in anisotropic conductive layer connection structure 5 according to the first embodiment of the present invention, interlayer adhesive layer 20 is provided on organic material layer 10. The organic layer 10 is made of polyimide. The interlayer adhesive layer 20 is connected to the organic material layer 10. An organic layer 40 is provided on the interlayer adhesive layer 20. A conductive layer 30 is provided in the interlayer adhesive layer 20 so as to be in contact with the organic material layer 40. The conductive layer 30 is a wiring layer made of copper.

層間接着層20上に有機物層40が設けられる。有機物層40上には、異方性導電層50が配置されている。有機物層40と接触するように異方性導電層50内に導電層60が配置されている。また、導電層60と反対側に導電層70が異方性導電層50内に設けられている。異方性導電層50は有機物層80と接触している。有機物層80は層間接着層90により、ポリイミドからなる層間接着層110と接続されている。有機物層100は、層間接着層110と、層間接着層110内に設けられて有機物層100と接触する導電層120が設けられている。層間接着層110上に有機物層130が配置されている。   An organic layer 40 is provided on the interlayer adhesive layer 20. An anisotropic conductive layer 50 is disposed on the organic material layer 40. A conductive layer 60 is disposed in the anisotropic conductive layer 50 so as to be in contact with the organic material layer 40. A conductive layer 70 is provided in the anisotropic conductive layer 50 on the side opposite to the conductive layer 60. The anisotropic conductive layer 50 is in contact with the organic material layer 80. The organic layer 80 is connected to the interlayer adhesive layer 110 made of polyimide by the interlayer adhesive layer 90. The organic layer 100 includes an interlayer adhesive layer 110 and a conductive layer 120 provided in the interlayer adhesive layer 110 and in contact with the organic layer 100. An organic layer 130 is disposed on the interlayer adhesive layer 110.

有機物層40と異方性導電層50との界面41において、有機物層40の表面粗さは8nm以上30nm以下とされる。   At the interface 41 between the organic material layer 40 and the anisotropic conductive layer 50, the surface roughness of the organic material layer 40 is 8 nm or more and 30 nm or less.

異方性導電層50と有機物層80との間の界面81においても、有機物層80表面の表面粗さは8nm以上30nm以下とされる。   Also at the interface 81 between the anisotropic conductive layer 50 and the organic material layer 80, the surface roughness of the surface of the organic material layer 80 is 8 nm or more and 30 nm or less.

有機物層40,80はポリイミドから構成される。
図2は、異方性導電層内における電気的な接続を得るための構成を詳細に示す断面図であり、図1中のIIで囲んだ部分の断面図である。図2を参照して、導電層60と導電層70との間には、ニッケル粒子51が介在している。このニッケル粒子51により、導電層60と導電層70との間の導通が図られる。
The organic layers 40 and 80 are made of polyimide.
FIG. 2 is a cross-sectional view showing in detail a configuration for obtaining electrical connection in the anisotropic conductive layer, and is a cross-sectional view of a portion surrounded by II in FIG. Referring to FIG. 2, nickel particles 51 are interposed between conductive layer 60 and conductive layer 70. Conduction between the conductive layer 60 and the conductive layer 70 is achieved by the nickel particles 51.

ニッケル粒子51の全体がニッケルである必要はなく、中央部が樹脂で、その外周にニッケル層が設けられていればよい。   The entire nickel particles 51 do not have to be nickel, and the central portion is made of resin, and a nickel layer may be provided on the outer periphery thereof.

さらに、ニッケル層表面が別の導電性材料で覆われていてもよい。
図3は、この発明に従った異方性導電層の接続構造が用いられるフレキシブルプリント基板を示す図である。図3を参照して、フレキシブルプリント基板1には複数の配線2が設けられる。各々配線2は、図1の断面における導電層30、60、70および120で構成される。これらの配線が厚み方向に重なった領域において、それらの配線間に図2で示すように異方性導電層が配置される。そして配線に何らかの力が加わった場合に配線間の導通が図られる。
Furthermore, the nickel layer surface may be covered with another conductive material.
FIG. 3 is a view showing a flexible printed board in which the connection structure of anisotropic conductive layers according to the present invention is used. With reference to FIG. 3, the flexible printed circuit board 1 is provided with a plurality of wirings 2. Each wiring 2 is composed of conductive layers 30, 60, 70 and 120 in the cross section of FIG. In a region where these wirings overlap in the thickness direction, an anisotropic conductive layer is disposed between the wirings as shown in FIG. Then, when some force is applied to the wiring, conduction between the wiring is achieved.

図4は、異方性導電層としてソニーケミカルインフォメーションデバイス社製CP−8016K(商品名)を用い、有機物層としてポリイミドを用いた場合の、ポリイミドの面粗さと異方性導電層のピール強度との関係を示すグラフである。図4は、異方性導電層と有機物層とを接触させた初期のピール強度を示し、未使用の状態に対応する。   FIG. 4 shows the surface roughness of polyimide and the peel strength of the anisotropic conductive layer when CP-8016K (trade name) manufactured by Sony Chemical Information Device Co. is used as the anisotropic conductive layer and polyimide is used as the organic layer. It is a graph which shows the relationship. FIG. 4 shows the initial peel strength when the anisotropic conductive layer and the organic layer are brought into contact with each other, and corresponds to the unused state.

図4より、平均面粗さが8nm以上30nm以下であれば好ましいピール強度であることがわかる。   FIG. 4 shows that the peel strength is preferable when the average surface roughness is 8 nm or more and 30 nm or less.

好ましいピール強度とは4N/cm以上20Ncm以下であることをいう。
なお、「平均面粗さ」とは、1辺が1μm×1μmの領域における平均面粗さ(Ra)をいい、JIS B 0601によって規定されるものである。具体的には、1辺が1μmの正方形領域の対角線上における平均粗さRaを「平均面粗さ」とした。
The preferable peel strength is 4 N / cm or more and 20 Ncm or less.
The “average surface roughness” refers to the average surface roughness (Ra) in a region having one side of 1 μm × 1 μm, and is defined by JIS B 0601. Specifically, the average roughness Ra on the diagonal line of a square region having one side of 1 μm was defined as “average surface roughness”.

このピール強度は以下の方法により測定した。
図5は、この発明に従った方法でピール強度を測定する工程において用いたカンチレバーを示す図である。図6は、図5で示すカンチレバーの先端部分だけを拡大して示す斜視図である。図5および図6を参照して、カンチレバー200は、本体部210、本体部210に接続されたアーム部220、および、アーム部220に取り付けられた針部230を有する。カンチレバー200において、先端半径Rは10nm以上30nm以下とした。なお、この先端部に関し、先端形状は集束イオンビームで加工される。そしてこの先端半径Rを10nm以上30nm以下とすることで、集束イオンビームで加工でき、かつ電子顕微鏡で先端を確認できる範囲となる。
This peel strength was measured by the following method.
FIG. 5 is a view showing a cantilever used in a process of measuring peel strength by the method according to the present invention. 6 is an enlarged perspective view showing only the tip portion of the cantilever shown in FIG. Referring to FIGS. 5 and 6, cantilever 200 includes a main body part 210, an arm part 220 connected to main body part 210, and a needle part 230 attached to arm part 220. In the cantilever 200, the tip radius R is 10 nm or more and 30 nm or less. The tip shape of the tip is processed with a focused ion beam. By setting the tip radius R to 10 nm or more and 30 nm or less, the tip can be processed with a focused ion beam and the tip can be confirmed with an electron microscope.

また、針の高さDは5μm以上10μm以下であることが好ましい。これは、カンチレバーにおいて、ポリイミド表面の凹凸を調べる場合に、ポリイミド表面には、大きな凹凸がある場合があり、この大きな凹凸に対応するために最低の高さを5μmとした。また高さDが高すぎると機械的強度が低下するため上限を10μmとした。   The needle height D is preferably 5 μm or more and 10 μm or less. In the cantilever, when the unevenness of the polyimide surface is examined, the polyimide surface may have large unevenness, and the minimum height is set to 5 μm in order to cope with the large unevenness. If the height D is too high, the mechanical strength decreases, so the upper limit is set to 10 μm.

また、レバーの幅Wは20μm以上50μm以下、レバー長さLは100μm以上250μm以下であることが好ましい。   The lever width W is preferably 20 μm or more and 50 μm or less, and the lever length L is preferably 100 μm or more and 250 μm or less.

ピール強度の測定に関しては、有機物層を構成する銅エッチングされたポリイミドフィルム上にACFを貼り、5mm×10mmのサイズに切り出して、有機物層40と異方性導電層50との接合界面を含む試料とした。その試料をガラスに圧着し、カンチレバー200を用いて短辺の端からポリイミドの有機物層40を剥離し、その応力を測定した。圧着時間は10秒、圧力は10MPa、圧着温度は常温から180℃とした。引き剥がし角度は90°、引き剥がし速度は50mm/minで行なった。   For the measurement of peel strength, a sample including an interface between the organic layer 40 and the anisotropic conductive layer 50 is obtained by pasting ACF on a copper-etched polyimide film constituting the organic layer and cutting out to a size of 5 mm × 10 mm. It was. The sample was pressure-bonded to glass, and the cantilever 200 was used to peel the polyimide organic material layer 40 from the end of the short side, and the stress was measured. The pressure bonding time was 10 seconds, the pressure was 10 MPa, and the pressure bonding temperature was from room temperature to 180 ° C. The peeling angle was 90 ° and the peeling speed was 50 mm / min.

また、有機物層40,80としては、ポリエチレンテレフタレート(PET)および液晶ポリマー(LCP)でもよい。   The organic layers 40 and 80 may be polyethylene terephthalate (PET) and liquid crystal polymer (LCP).

異方性導電層は、上記のソニーケミカルインフォメーションデバイス社製CP−8016Kだけでなく、日立化成製MF−504(商品名)を用いることができる。   As the anisotropic conductive layer, not only CP-8016K manufactured by Sony Chemical Information Device Corporation, but also MF-504 (trade name) manufactured by Hitachi Chemical Co., Ltd. can be used.

今回開示された実施の形態はすべての点で例示であって制限的なものではないと考えられるべきである。本発明の範囲は上記した説明ではなくて特許請求の範囲によって示され、特許請求の範囲と均等の意味および範囲内でのすべての変更が含まれることが意図される。   The embodiment disclosed this time should be considered as illustrative in all points and not restrictive. The scope of the present invention is defined by the terms of the claims, rather than the description above, and is intended to include any modifications within the scope and meaning equivalent to the terms of the claims.

この発明は、異方性導電層を有する基板の分野で用いることができる。   The present invention can be used in the field of substrates having an anisotropic conductive layer.

Claims (3)

回路が形成される有機物層間を異方性導電材により接着するフレキシブルプリント基板であって、
前記有機物層はポリイミドからなり、該ポリイミドの被接着面の表面粗さは8nm以上であるフレキシブルプリント基板。
A flexible printed circuit board that adheres an organic material layer on which a circuit is formed with an anisotropic conductive material,
The said organic substance layer consists of polyimides, The surface roughness of the to-be-adhered surface of this polyimide is a flexible printed circuit board which is 8 nm or more.
前記ポリイミドの被接着面の表面粗さが8nm以上30nm以下である請求項1記載のフレキシブルプリント基板。   The flexible printed circuit board according to claim 1, wherein a surface roughness of the adherend surface of the polyimide is 8 nm or more and 30 nm or less. 前記有機物層に対するピール強度が4N/cm以上である請求項1又は請求項2記載のフレキシブルプリント基板。   The flexible printed circuit board according to claim 1, wherein a peel strength with respect to the organic material layer is 4 N / cm or more.
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