JP2012074206A - Production method and production apparatus of conductive film, and conductive film - Google Patents

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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a production method of a conductive film capable of producing a conductive film having excellent conductivity and optical transparency easily and inexpensively on a substrate even if a general purpose polymer substrate such as a PET film is used, and to provide a conductive film.SOLUTION: The method of producing a conductive film having a pattern by coating a substrate with an organic solvent dispersion body containing conductive fine particles includes a step for forming a film having a pattern, after coating the substrate with an organic solvent dispersion body, by evaporating the organic solvent while condensing the organic solvent dispersion body on the coating film surface, and a step for making a solvent solution containing the organic solvent act on the film having that pattern.

Description

本発明は、導電性膜の製造方法、製造装置、及び、導電性膜に関する。より詳しくは、液晶ディスプレイ、プラズマディスプレイ、電子ペーパー(デジタルペーパー)等の薄型ディスプレイ、タッチパネルに好適に用いることができる導電性膜の製造方法、製造装置、及び、導電性膜に関する。 The present invention relates to a method for manufacturing a conductive film, a manufacturing apparatus, and a conductive film. More specifically, the present invention relates to a manufacturing method, a manufacturing apparatus, and a conductive film of a conductive film that can be suitably used for a thin display such as a liquid crystal display, a plasma display, and electronic paper (digital paper), and a touch panel.

導電性膜は、種々の電気機器へ適用されており、特に近年、液晶ディスプレイ、プラズマディスプレイ、電子ペーパー(デジタルペーパー)等の薄型ディスプレイの需要が拡大しており、このような用途に適用される導電性膜としては、特に光透過性、導電性に優れるものが求められており活発に研究開発が行われている。
光透過性を有する導電性膜としては、現在では、酸化インジウム錫(ITO)が用いられることが一般的である。酸化インジウム錫により作成された導電性膜は、光透過性、導電性のバランスに優れており、通常の液晶ディスプレイ等だけではなく、例えば、タッチパネル用途等にも使用されている。しかしながら、インジウムのような希金属は高価であり、また、資源枯渇のおそれがあるため、より安価で、資源枯渇のおそれが少ない材料を用いた光透過性を有する導電性膜が求められているところであった。また、ITOの成膜には通常、スパッタリング法等が用いられているため、生産性が低い点でも改善の余地があった。
Conductive films have been applied to various electrical devices, and in particular, in recent years, demand for thin displays such as liquid crystal displays, plasma displays, and electronic paper (digital paper) has increased, and they are applied to such applications. As the conductive film, a film excellent in light transmittance and conductivity is particularly demanded, and research and development are being actively conducted.
Currently, indium tin oxide (ITO) is generally used as a light-transmitting conductive film. A conductive film made of indium tin oxide has an excellent balance between light transmittance and conductivity, and is used not only for a normal liquid crystal display or the like but also for a touch panel, for example. However, since rare metals such as indium are expensive and there is a risk of resource depletion, there is a need for a conductive film having light transmittance using a material that is less expensive and less likely to be depleted of resources. By the way. Further, since a sputtering method or the like is usually used for forming an ITO film, there is room for improvement in terms of low productivity.

光透過性を有する導電性膜の形態としては、酸化インジウム錫のように、光透過性と導電性を有する材料を用いた導電性膜の形態や、メッシュ状の導電性膜の形態、網目状の導電
性膜の形態等が挙げられる。網目状の導電性膜、及び、その製造方法としては、例えば、
導電性微粒子を含む有機溶媒分散体を基板に塗布して、塗布された有機溶媒分散体を、塗膜表面で結露させながら有機溶媒を蒸発させて網目状の導電性膜を製造する方法や(例えば、特許文献1参照。)、金属微粒子層を有機溶媒で処理する工程、次いで酸で処理する工程を行い、基板の少なくとも片面に、網目状に金属微粒子層が積層させた導電性基板を製造する方法が開示されている(例えば、特許文献2参照。)。
また、導電性膜の製造方法として、基板上の、被覆された金属ナノ粒子と分散溶媒とを含む金属ナノ粒子ペーストに、極性溶媒または溶解補助剤を含む極性溶媒溶液を作用させる工程、及び、その基板を乾燥させる工程により金属ナノ粒子を焼結させて導電性膜を形成することができることが開示されている(例えば、特許文献3参照。)。
As the form of the light-transmitting conductive film, a conductive film using a light-transmitting and conductive material such as indium tin oxide, a mesh-like conductive film, or a mesh The form of the conductive film is mentioned. As a mesh-like conductive film and its manufacturing method, for example,
A method for producing a network-like conductive film by applying an organic solvent dispersion containing conductive fine particles to a substrate and evaporating the organic solvent while the applied organic solvent dispersion is condensed on the surface of the coating film. For example, refer to Patent Document 1.) Conducting a process of treating a metal fine particle layer with an organic solvent and then a process of treating with an acid to produce a conductive substrate in which a metal fine particle layer is laminated on at least one side of the substrate in a mesh shape. Is disclosed (for example, see Patent Document 2).
Further, as a method for producing a conductive film, a step of allowing a polar solvent solution containing a polar solvent or a solubilizing agent to act on a metal nanoparticle paste containing a coated metal nanoparticle and a dispersion solvent on a substrate, and It has been disclosed that a conductive film can be formed by sintering metal nanoparticles by a step of drying the substrate (see, for example, Patent Document 3).

特開2010−34039号公報(第1、2頁)JP 2010-34039 A (pages 1 and 2) 再公表特許WO2007/114076号公報(第23頁)Republished patent WO2007 / 114076 (page 23) 特開2008−72052号公報(第1、2頁)JP 2008-72052 A (pages 1 and 2)

上述したように、安価に光透過性を有する導電性膜を製造する方法について様々な方法が検討されている。光透過性を有する導電性膜においては、メッシュや網目の微細なパターンを有する導電性膜とすることで、光透過性と導電性とを高いレベルで両立することが可能となるが、特許文献2、3に記載の方法は、微細なパターンを得るには充分ではなく、微細なパターンを有する導電性膜とするための工夫の余地があった。
また、特許文献1に記載の導電性膜の製造方法によると、微細な網目状のパターンを有する導電性膜を製造することが可能である。しかしながら、特許文献1の方法では、高温での焼成工程を行う必要があるため、基板としてPETフィルム等の汎用高分子フィルムを用いた導電性膜の製造に適用することが難しいものである。このため、PETフィルム等の汎用性の高い高分子フィルム基板上にも低コストで簡易に光透過性を有する導電性膜を形成する方法とするための更なる工夫の余地があった。
これらのことから、より簡易かつ安価に、高温での処理を必要とせず、光透過性と導電性とを高いレベルで両立することのできる導電性膜を形成するための方法が求められていた。このような課題を解決することができれば、基板の材質を選ばず、PETフィルム等の汎用性の高い高分子フィルム基板上にも低コストで簡易に光透過性と導電性とに優れた導電性膜を形成することが可能となるため、その技術的意義は大きいものである。
As described above, various methods have been studied for producing a light-transmitting conductive film at a low cost. In a light-transmitting conductive film, a light-transmitting and conductive property can be achieved at a high level by using a conductive film having a fine pattern of mesh or mesh. The methods described in 2 and 3 are not sufficient for obtaining a fine pattern, and there is room for improvement to obtain a conductive film having a fine pattern.
Moreover, according to the method for producing a conductive film described in Patent Document 1, it is possible to produce a conductive film having a fine mesh pattern. However, in the method of Patent Document 1, since it is necessary to perform a baking step at a high temperature, it is difficult to apply to the production of a conductive film using a general-purpose polymer film such as a PET film as a substrate. For this reason, there has been room for further contrivance for providing a method for forming a conductive film having light permeability easily at low cost on a highly versatile polymer film substrate such as a PET film.
For these reasons, there has been a demand for a method for forming a conductive film that can achieve both high light transmission and high conductivity without requiring high-temperature treatment and more easily and inexpensively. . If such a problem can be solved, the material of the substrate can be selected, and a highly versatile polymer film substrate such as a PET film can be easily and inexpensively and has excellent light transmission and conductivity. Since a film can be formed, its technical significance is great.

本発明は、上記現状に鑑みてなされたものであり、PETフィルム等の汎用高分子基板を用いた場合でも、基板上に優れた導電性と光透過性とを有する導電性膜を、簡易かつ安価に製造することができる、導電性膜の製造方法、及び、導電性膜を提供することを目的とするものである。 The present invention has been made in view of the above situation, and even when a general-purpose polymer substrate such as a PET film is used, a conductive film having excellent conductivity and light transmittance on a substrate can be simply and easily formed. An object of the present invention is to provide a conductive film manufacturing method and a conductive film that can be manufactured at low cost.

本発明者は、汎用高分子基板を用いることができ、優れた導電性と光透過性とを有する導電性膜を製造する方法について種々検討したところ、有機溶媒分散体を基板に塗工した後に、塗工された有機溶媒分散体を塗膜表面で結露させながら有機溶媒を蒸発させてパターンを有する膜を形成する工程、及び、上記パターンを有する膜に有機溶媒を含む溶媒溶液を作用させる工程を行うと、線幅が狭く、網目の細かい導電性物質の網目状線部と、空孔部とを有するために、導電性と光透過性とを高いレベルで両立した導電性膜を形成することができることを見出した。この方法によると、高温での焼成を行うことなく、導電性膜を形成することができるために、PETフィルム等の耐熱性の高くない汎用高分子基板上にも優れた導電性と光透過性とを有する導電性膜を簡易かつ安価に形成することができることになることから、上記課題を見事に解決できることに想到し、本発明に到達したものである。 The present inventor has been able to use a general-purpose polymer substrate, and variously studied methods for producing a conductive film having excellent conductivity and light transmittance. After the organic solvent dispersion was applied to the substrate, A step of forming a film having a pattern by evaporating the organic solvent while the coated organic solvent dispersion is condensed on the surface of the coating film, and a step of allowing a solvent solution containing the organic solvent to act on the film having the pattern Is performed to form a conductive film that has both a high level of conductivity and light transmission because it has a mesh-like line portion of a conductive material with a narrow line width and fine mesh and a void portion. I found that I can do it. According to this method, a conductive film can be formed without firing at a high temperature. Therefore, it has excellent conductivity and light transmittance even on a general-purpose polymer substrate that is not high in heat resistance such as PET film. Thus, the present inventors have arrived at the present invention by conceiving that the above-mentioned problems can be solved brilliantly.

すなわち本発明は、導電性微粒子を含む有機溶媒分散体を基板に塗工してパターンを有する導電性膜を製造する方法であって、上記製造方法は、有機溶媒分散体を基板に塗工した後、塗工された有機溶媒分散体を塗膜表面で結露させながら有機溶媒を蒸発させてパターンを有する膜を形成する工程、及び、上記パターンを有する膜に有機溶媒を含む溶媒溶液を作用させる工程を含む導電性膜の製造方法である。
以下に本発明を詳述する。
That is, the present invention is a method of manufacturing a conductive film having a pattern by applying an organic solvent dispersion containing conductive fine particles to a substrate, and the above manufacturing method applies the organic solvent dispersion to a substrate. Thereafter, a step of forming a film having a pattern by evaporating the organic solvent while condensing the applied organic solvent dispersion on the surface of the coating film, and a solvent solution containing the organic solvent acting on the film having the pattern It is a manufacturing method of an electroconductive film including a process.
The present invention is described in detail below.

本発明の導電性膜の製造方法は、導電性微粒子を含む有機溶媒分散体を基板に塗工してパターンを有する導電性膜を製造する方法である。このような方法では、例えば、スパッタリング法や、メッキを行う方法等と比較して、簡易、かつ低コストで製膜を行うことができ、製造コストの削減、生産性の向上等を図ることができる。以下、基板上に塗工された有機溶媒分散体の膜を「塗膜」ともいう。 The method for producing a conductive film of the present invention is a method for producing a conductive film having a pattern by coating an organic solvent dispersion containing conductive fine particles on a substrate. In such a method, for example, film formation can be performed easily and at a lower cost as compared with a sputtering method, a plating method, and the like, and manufacturing costs can be reduced and productivity can be improved. it can. Hereinafter, the film of the organic solvent dispersion coated on the substrate is also referred to as “coating film”.

本発明の導電性膜の製造方法は、塗工された有機溶媒分散体を塗膜表面で結露させながら有機溶媒を蒸発させてパターンを有する膜を形成する工程(自己組織化工程)を含むものである。このような工程を含むことにより、線幅が狭く、網目の細かい網目状のパターンを有する導電性膜を形成することが可能となり、製造される導電性膜を導電性だけでなく、光透過性にも優れたものとすることが可能となる。
なお、上記自己組織化工程の詳細については、後述する。
The method for producing a conductive film according to the present invention includes a step of forming a film having a pattern by evaporating the organic solvent while condensing the coated organic solvent dispersion on the surface of the coating film (self-organizing step). . By including such a process, it becomes possible to form a conductive film having a fine mesh pattern with a narrow line width, and the manufactured conductive film is not only conductive but also light transmissive. It becomes possible to make it excellent.
The details of the self-assembly process will be described later.

本発明の導電性膜の製造方法は、上記自己組織化工程によって形成されるパターンを有する膜に、有機溶媒を含む溶媒溶液を作用させる工程を含むものである。
後述するように、有機溶媒分散体中での導電性微粒子等の微粒子の分散性を向上させるために、必要に応じて、有機溶媒分散体に微粒子分散剤を含有させることとなる。その場合には、導電性微粒子は微粒子分散剤に被覆されて存在することとなるが、上記パターンを有する膜に有機溶媒を含む溶媒溶液を作用させることによって、微粒子分散剤と導電性微粒子との間に有機溶媒を含む溶媒溶液が入り、微粒子分散剤が洗い流され、導電性微粒子が露出するため、その結果、導電性微粒子間の融着が生じ導電性を発現する層が形成されることとなるものと推察される。このようにして導電性を発現する層が形成されることとなるものと思われるが、その際に、有機溶媒を含む溶媒溶液は、微粒子分散剤だけでなく、融着せずに孤立した余分な導電性微粒子も同時に洗い流すことができる。これによって、製造される導電性膜のヘイズが抑えられ、透過率が向上することとなる。
なお、上記自己組織化工程によって形成されるパターンは非常に微細であるために、空孔部1つ1つが非常に小さく、導電性に関与しない微粒子分散剤や余分な導電性微粒子を洗い流さないと、空孔部が埋まってしまいやすい。そのため、導電性に関与しない微粒子分散剤や余分な導電性微粒子を洗い流すことによって、大きなヘイズ抑制効果及び透過率向上効果が発揮されることとなる。
The manufacturing method of the electroconductive film of this invention includes the process of making the solvent solution containing an organic solvent act on the film | membrane which has the pattern formed by the said self-organization process.
As will be described later, in order to improve the dispersibility of the fine particles such as the conductive fine particles in the organic solvent dispersion, the organic solvent dispersion contains a fine particle dispersant as necessary. In that case, the conductive fine particles are coated with the fine particle dispersant. However, by causing a solvent solution containing an organic solvent to act on the film having the above pattern, the fine particle dispersant and the conductive fine particles are mixed. A solvent solution containing an organic solvent is interposed between the particles, the fine particle dispersant is washed away, and the conductive fine particles are exposed. As a result, fusion between the conductive fine particles is generated, and a layer expressing conductivity is formed. It is assumed that In this way, it is considered that a layer exhibiting electrical conductivity is formed. At that time, the solvent solution containing the organic solvent is not only a fine particle dispersant, but also an isolated extra without being fused. Conductive fine particles can be washed away at the same time. As a result, haze of the manufactured conductive film is suppressed, and the transmittance is improved.
In addition, since the pattern formed by the self-assembly process is very fine, each of the pores is very small, and it is necessary to wash away the fine particle dispersant that does not participate in conductivity or excess conductive fine particles. , The hole is likely to fill up. Therefore, a great haze suppression effect and a transmittance improvement effect are exhibited by washing away the fine particle dispersant and the extra conductive fine particles that are not involved in the conductivity.

また、上記自己組織化工程においては、後述するように、塗膜に取り込む水滴の形状を好適な形態で保持するため、有機溶媒分散体に両親媒性化合物を含有させることが好ましい。しかしながら、両親媒性化合物を多量に含有させてしまうと、導電性に悪影響が出るおそれがある。この点について、本発明の製造方法によれば、自己組織化工程によってパターンを形成した後に有機溶媒を含む溶媒溶液を作用させる工程を行うために、自己組織化工程において用いられた両親媒性化合物も有機溶媒により洗い流されることとなる。これにより、本発明の製造方法の場合には、自己組織化工程において両親媒性化合物を多量に用いても導電性膜に両親媒性化合物の残存を少なくすることができることから、導電性膜の導電性を良好なものに保ちながら、塗膜に取り込む水滴の形状を充分に安定化させ、導電性膜の網目をより容易に作成することが可能となり、空孔部の孔径が大きいものから小さいものまでより様々なパターンを有する導電性膜を製造することができることとなる。更には、自己組織化工程において用いられた両親媒性化合物が有機溶媒によって洗い流されることにより、形成されるパターンを有する膜の線幅をより狭いものとすることが可能となる。線幅のより狭いパターンを有する膜が形成されることによって、得られる導電性膜の透過率がより向上し、光の散乱もより抑えられるため、ヘイズもより低いものとなる。
その他、上記自己組織化工程においては、結露により生じた水滴を塗膜中に取り込み、その後有機溶媒を蒸発させ、更に取り込まれた水滴を乾燥させることで、取り込まれた水滴に対応する空孔部を形成するものであるが、取り込まれた水滴を乾燥させる必要があるために、自己組織化工程を行うと、導電性膜の製造には時間がかかってしまうものであった。この点について、本発明の製造方法によれば、有機溶媒を含む溶媒溶液を作用させる工程を行うため、メタノール等の沸点の低い有機溶媒を用いた場合に、乾燥のための時間を短くすることが可能となる。更には、水滴を充分乾燥させる前に有機溶媒を作用させる工程を行うことも可能であるため、水滴及び有機溶媒を乾燥させるための合計の時間をも短くすることが可能となる。これらのことから、導電性膜の生産性が向上することとなる。
上述した理由から、上記自己組織化工程によってパターンを形成し、パターンの非常に微細なものを用いる場合には、有機溶媒を含む溶媒溶液を作用させる方法が特に好ましい方法であるといえる。
なお、上記自己組織化工程によって形成されるパターンを有する膜に、有機溶媒を含む溶媒溶液を作用させることに顕著な効果が得られることは、本発明において初めて見いだされ、実証されたものである。
また、本発明の導電性膜の製造方法においては、焼成する工程を行うことなく、導電性膜を製造することが可能であるために、ガラスと比較して耐熱性の低いPETフィルム等の汎用の高分子フィルムを基板として用いることができることになる。
Moreover, in the said self-organization process, in order to hold | maintain the shape of the water droplet taken in to a coating film with a suitable form so that it may mention later, it is preferable to make an organic solvent dispersion contain an amphiphilic compound. However, if an amphiphilic compound is contained in a large amount, there is a possibility that the conductivity is adversely affected. In this regard, according to the production method of the present invention, the amphiphilic compound used in the self-assembly step is used to perform the step of causing the solvent solution containing the organic solvent to act after the pattern is formed by the self-assembly step. Will also be washed away by the organic solvent. Thereby, in the case of the production method of the present invention, even if a large amount of the amphiphilic compound is used in the self-assembly process, the remaining amphiphilic compound in the conductive film can be reduced. While maintaining good conductivity, the shape of the water droplets taken into the coating is sufficiently stabilized, making it possible to more easily create the mesh of the conductive film, and the pore size of the pores from large to small Thus, it is possible to manufacture conductive films having various patterns. Further, the amphiphilic compound used in the self-assembly process is washed away with an organic solvent, whereby the line width of the film having the pattern to be formed can be made narrower. By forming a film having a pattern with a narrower line width, the transmittance of the obtained conductive film is further improved and light scattering is further suppressed, so that the haze is also lower.
In addition, in the above self-organization process, water droplets generated by condensation are taken into the coating film, and then the organic solvent is evaporated, and further, the water droplets taken in are dried, so that pores corresponding to the water droplets taken in are obtained. However, since it is necessary to dry the water droplets taken in, if the self-assembly process is performed, it takes time to manufacture the conductive film. In this regard, according to the production method of the present invention, the step of causing the solvent solution containing the organic solvent to act is performed, and therefore, when an organic solvent having a low boiling point such as methanol is used, the time for drying is shortened. Is possible. Furthermore, since it is possible to perform the step of allowing the organic solvent to act before sufficiently drying the water droplets, the total time for drying the water droplets and the organic solvent can be shortened. For these reasons, the productivity of the conductive film is improved.
For the reasons described above, when a pattern is formed by the self-assembly process and a very fine pattern is used, a method in which a solvent solution containing an organic solvent is used is a particularly preferable method.
In addition, for the first time in the present invention, it has been found and demonstrated that a remarkable effect is obtained by allowing a solvent solution containing an organic solvent to act on a film having a pattern formed by the self-assembly process. .
Moreover, in the manufacturing method of the electroconductive film of this invention, since it is possible to manufacture an electroconductive film without performing the baking process, it is general-purpose, such as PET film with low heat resistance compared with glass. This polymer film can be used as a substrate.

上述したように、本発明の導電性膜の製造方法は、塗工された有機溶媒分散体を塗膜表面で結露させながら有機溶媒を蒸発させてパターンを有する膜を形成する工程、及び、上記パターンを有する膜に、有機溶媒を含む溶媒溶液を作用させる工程を含むものであるが、これらの工程は、一部同時並行して行われる形態であってもよいし、塗工された有機溶媒分散体を塗膜表面で結露させながら有機溶媒を蒸発させてパターンを有する膜を形成する工程を行った後に、上記パターンを有する膜に、有機溶媒を含む溶媒溶液を作用させる工程を行ってもよい。中でも、塗工された有機溶媒分散体を塗膜表面で結露させながら有機溶媒を蒸発させてパターンを有する膜を形成する工程を行った後に、上記パターンを有する膜に、有機溶媒を含む溶媒溶液を作用させる工程を行うことが、本発明の好適な実施形態の1つである。
なお、本発明の導電性膜の製造方法は、有機溶媒分散体を基板に塗工した後に、塗工された有機溶媒分散体を塗膜表面で結露させながら有機溶媒を蒸発させてパターンを有する膜を形成する工程、及び、上記パターンを有する膜に、有機溶媒を含む溶媒溶液を作用させる工程を含むものである限り、その他の工程を含んでいてもよい。
As described above, the method for producing a conductive film of the present invention includes a step of forming a film having a pattern by evaporating the organic solvent while the coated organic solvent dispersion is condensed on the surface of the coating film, and the above The method includes a step of allowing a solvent solution containing an organic solvent to act on a film having a pattern. However, these steps may be carried out partially in parallel, or a coated organic solvent dispersion. After the step of forming a film having a pattern by evaporating the organic solvent while condensing on the coating film surface, a step of allowing a solvent solution containing the organic solvent to act on the film having the pattern may be performed. Among them, after performing a step of forming a film having a pattern by evaporating the organic solvent while the coated organic solvent dispersion is condensed on the surface of the coating film, the solvent solution containing the organic solvent in the film having the pattern It is one of the preferred embodiments of the present invention to perform the step of acting.
The method for producing a conductive film of the present invention has a pattern in which an organic solvent dispersion is applied to a substrate and then the organic solvent is evaporated while the applied organic solvent dispersion is condensed on the surface of the coating film. Other steps may be included as long as it includes a step of forming a film and a step of allowing a solvent solution containing an organic solvent to act on the film having the pattern.

上記パターンを有する膜に、有機溶媒を含む溶媒溶液を作用させる工程において、作用させるとは、パターンを有する膜に、有機溶媒を含む溶媒溶液が作用することとなる限り、その方法は特に制限されないが、例えば、有機溶媒を含む溶媒溶液中に、パターンを有する膜を一部又は全部漬ける方法、パターンを有する膜に、有機溶媒を含む溶媒溶液を塗布する方法、パターンを有する膜に、有機溶媒を含む溶媒溶液を吹き付ける方法等が挙げられる。これらの中でも、有機溶媒を含む溶媒溶液中に、パターンを有する膜を一部又は全部漬ける方法により作用させることとすると、本発明の効果を充分に発揮することが可能となり好ましい。 In the step of causing the solvent solution containing the organic solvent to act on the film having the pattern, the term “acting” is not particularly limited as long as the solvent solution containing the organic solvent acts on the film having the pattern. However, for example, a method of immersing part or all of a film having a pattern in a solvent solution containing an organic solvent, a method of applying a solvent solution containing an organic solvent to a film having a pattern, an organic solvent being applied to a film having a pattern And a method of spraying a solvent solution containing. Among these, it is preferable that the effect of the present invention can be sufficiently exerted when the film having a pattern is partly or wholly immersed in a solvent solution containing an organic solvent.

上記パターンを有する膜に、有機溶媒を含む溶媒溶液を作用させる工程は、低温、室温、高温のいずれで行われてもよいが、例えば−20℃〜150℃の範囲の温度で行われることが好ましく、0℃〜100℃の範囲の温度がより好ましい。更に好ましくは10℃〜50℃の範囲の温度で行われることである。
また、上記パターンを有する膜に、有機溶媒を含む溶媒溶液を作用させる工程は、超音波を作用させながら行ってもよい。
The step of allowing the solvent solution containing the organic solvent to act on the film having the pattern may be performed at any of low temperature, room temperature, and high temperature. For example, it may be performed at a temperature in the range of −20 ° C. to 150 ° C. A temperature in the range of 0 ° C to 100 ° C is more preferable. More preferably, it is performed at a temperature in the range of 10 ° C to 50 ° C.
Further, the step of causing the solvent solution containing the organic solvent to act on the film having the pattern may be performed while applying ultrasonic waves.

上記パターンを有する膜に、有機溶媒を含む溶媒溶液を作用させる工程は、有機溶媒を含む溶媒溶液が、融着せずに孤立した余分な導電性微粒子や、必要に応じて用いられる微粒子分散剤を除去するのに必要な時間行えばよいが、例えば、0.1秒〜1日行うことが好ましく、10秒〜2時間行うことがより好ましい。更に好ましくは1分〜30分行うことである。特に好ましくは、3分〜20分である。 The step of allowing the solvent solution containing the organic solvent to act on the film having the above pattern includes the removal of the extra conductive fine particles isolated without melting the solvent solution containing the organic solvent and the fine particle dispersant used as necessary. Although it may be performed for the time required for removal, for example, it is preferably performed for 0.1 second to 1 day, and more preferably for 10 seconds to 2 hours. More preferably, it is performed for 1 to 30 minutes. Particularly preferably, it is 3 minutes to 20 minutes.

上記有機溶媒を含む溶媒溶液の有機溶媒としては、無極性溶媒、極性溶媒、溶解補助剤等が挙げられるが、これらの中でも、有機溶媒を含む溶媒溶液は、極性溶媒及び/又は溶解補助剤を含む極性溶媒溶液であることが好ましい。上記有機溶媒としては、1種を用いてもよく、2種以上を併用して混合溶媒としてもよい。
上記無極性溶媒としては、具体的には、酢酸エチル、酢酸ブチル等のエステル類;ヘキサン、ヘプタン、デカン、シクロヘキサン等のアルカン類;エチレングリコールブチルエーテル、エチレングリコールエチルエーテル、エチレングリコールメチルエーテル等のエーテル類;トルエン、クロロホルム、キシレン等が挙げられる。これらの中でも、酢酸エチル、酢酸ブチル等のエステル類が好ましい。
Examples of the organic solvent in the solvent solution containing the organic solvent include nonpolar solvents, polar solvents, and solubilizing agents. Among these, the solvent solution containing the organic solvent includes a polar solvent and / or a solubilizing agent. The polar solvent solution is preferably included. As said organic solvent, 1 type may be used and it is good also considering 2 types or more together as a mixed solvent.
Specific examples of the nonpolar solvent include esters such as ethyl acetate and butyl acetate; alkanes such as hexane, heptane, decane, and cyclohexane; ethers such as ethylene glycol butyl ether, ethylene glycol ethyl ether, and ethylene glycol methyl ether. And the like; toluene, chloroform, xylene and the like. Among these, esters such as ethyl acetate and butyl acetate are preferable.

上記極性溶媒としては、双極性非プロトン溶媒;複素環;アルキル置換された複素環;水;−COOH、−SH、−SOH、−SOH、―SOH、―NH及び―OHからなる群より選択される少なくとも一つの基により置換されたアルカン、アルケン、アルキン、芳香族炭化水素、アルキル置換された芳香族炭化水素、複素環、アルキル置換された複素環;下記一般式(1); Examples of the polar solvent include dipolar aprotic solvents; heterocycles; alkyl-substituted heterocycles; water; —COOH, —SH, —SOH, —SO 2 H, —SO 3 H, —NH 2 and —OH. An alkane, alkene, alkyne, aromatic hydrocarbon, alkyl-substituted aromatic hydrocarbon, heterocycle, or alkyl-substituted heterocycle substituted with at least one group selected from the group consisting of: ;

Figure 2012074206
Figure 2012074206

(式中、R及びRは、同一若しくは異なって、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、アルキル置換されたアリール基、ヘテロアリール基、又は、アルキル置換されたヘテロアリール基を表す。Yは、−CONH−、−C(=O)−又は−SO−で表される基を表す。)で表される化合物;等が挙げられる。
上記双極性非プロトン溶媒としては、例えば、N−メチルピロリドン、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、ジメチルスルホオキシド等が挙げられる。
(In the formula, R 1 and R 2 are the same or different and each represents an alkyl group, an alkenyl group, an alkynyl group, an aryl group, an alkyl-substituted aryl group, a heteroaryl group, or an alkyl-substituted heteroaryl group. Y represents a group represented by —CONH—, —C (═O) —, or —SO—).
Examples of the dipolar aprotic solvent include N-methylpyrrolidone, dimethylformamide, dimethylacetamide, dimethyl sulfoxide and the like.

上記複素環としては、例えば、酸素、硫黄、窒素等を有する複素環が挙げられ、具体的には、チオフェン、フラン、ピラン、キサンテン、ピロール、イミダゾール、ピラゾール、チアゾール、イソオキサゾール、ピリジン、ピラジン、ピリミジン等が挙げられる。
上記アルキル置換された複素環とは、上記複素環の1以上の水素原子がアルキル基で置換されたものを意味している。
上記アルキル基としては、例えば、炭素数1〜100のものが挙げられる。それらの中でも、好ましくは炭素数1〜20のアルキル基であり、より好ましくは炭素数1〜10のアルキル基であり、更に好ましくは炭素数1〜6のアルキル基である。特に好ましくはメチル基である。
そのようなアルキル置換された複素環としては、例えば、炭素数1〜10のアルキル基で置換された複素環が挙げられる。具体的には、メチルチオフェン、ヘキシルフラン、メチルピラン、ブチルキサンテン、メチルピロール、ペンチルイミダゾール、オクチルピラゾール、ヘキシルチアゾール、ペンチルイソオキサゾール、ブチルピリジン、メチルピラジン、メチルピリミジン等が挙げられる。
Examples of the heterocycle include heterocycles having oxygen, sulfur, nitrogen, etc., specifically, thiophene, furan, pyran, xanthene, pyrrole, imidazole, pyrazole, thiazole, isoxazole, pyridine, pyrazine, A pyrimidine etc. are mentioned.
The alkyl-substituted heterocycle means one in which one or more hydrogen atoms of the heterocycle are substituted with an alkyl group.
As said alkyl group, a C1-C100 thing is mentioned, for example. Among these, Preferably it is a C1-C20 alkyl group, More preferably, it is a C1-C10 alkyl group, More preferably, it is a C1-C6 alkyl group. Particularly preferred is a methyl group.
Examples of such an alkyl-substituted heterocycle include a heterocycle substituted with an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms. Specific examples include methylthiophene, hexylfuran, methylpyran, butylxanthene, methylpyrrole, pentylimidazole, octylpyrazole, hexylthiazole, pentylisoxazole, butylpyridine, methylpyrazine, and methylpyrimidine.

上記−COOH、−SH、−SOH、−SOH、―SOH、―NH及び―OHからなる群より選択される少なくとも一つの基により置換されたアルカンとは、アルカンの1以上の水素原子が前記置換基で1以上置換されたものを意味している。
上記アルカンとしては、例えば、炭素数1〜100のものが挙げられ、鎖状であってもよいし、分岐状であってもよい。それらの中でも、好ましくは炭素数1〜20のアルカンであり、より好ましくは炭素数5〜15のアルカンであり、更に好ましくは炭素数8〜15のアルカンである。特に好ましくは2,2,2,4−トリメチルペンタン、テトラデカンである。
そのような−COOH、−SH、−SOH、−SOH、―SOH、―NH及び―OHからなる群より選択される少なくとも一つの基により置換されたアルカンとしては、例えば、ギ酸、酢酸、プロピオン酸、酪酸、イソ酪酸、吉草酸、イソ吉草酸、ピバル酸等、ヘキサン酸、ヘプタン酸、オクタン酸、ノナン酸、デカン酸、ラウリン酸、ミリスチン酸、パルミチン酸、ステアリン酸、メタンスルホン酸、メタノール、エタノール、イソプロパノール、2−メチル−2−プロパノール、ブタノール、ペンタノール、ヘキサノール、ヘプタノール、オクタノール、ノナオール、デカノール、ウンデカノール、ドデカノール、トリデカノール、ペンタデカノール、ヘキサデカノール、ヘプタデカノール、オクタデカノール、ノナデカノール、イコサノール、メチルアミン、エチルアミン、プロピルアミン、ブチルアミン、ペンチルアミン、ヘキシルアミン、ヘプチルアミン、オクチルアミン、ノニルアミン、デシルアミン、ウンデシルアミン、ドデシルアミン、テトラデシルアミン、ペンタデシルアミン、ヘキサデシルアミン、ヘプタデシルアミン、オクタデシルアミン、ノナデシルアミン、イコサニルアミン、メタンチオール、エタンチオール、プロパンチオール、ブタンチオール、ペンタンチオール、ヘキサンチオール、ヘプタンチオール、オクタンチオール、ノナンチオール、デカンチオール、ウンデカンチオール、ドデカンチオール、トリデカンチオール、テトラデカンチオール、ペンタデカンチオール、ヘキサデカンチオール、ヘプタデカンチオール、オクタデカンチオール、ノナデカンチオール、イコサンチオール等が挙げられる。これらの中でも、ラウリン酸、ミリスチン酸、パルミチン酸、ステアリン酸、ドデシルアミン、ドデカンチオール等が好ましい。
The -COOH, -SH, -SOH, -SO 2 H, -SO 3 H, and at least one alkane substituted with a group selected from the group consisting of -NH 2 and -OH, 1 or more of the alkanes This means that one or more hydrogen atoms are substituted with the above substituents.
Examples of the alkane include those having 1 to 100 carbon atoms, which may be chain-like or branched. Among these, Preferably it is a C1-C20 alkane, More preferably, it is a C5-C15 alkane, More preferably, it is a C8-C15 alkane. Particularly preferred are 2,2,2,4-trimethylpentane and tetradecane.
Examples of the alkane substituted with at least one group selected from the group consisting of —COOH, —SH, —SOH, —SO 2 H, —SO 3 H, —NH 2 and —OH include, for example, formic acid , Acetic acid, propionic acid, butyric acid, isobutyric acid, valeric acid, isovaleric acid, pivalic acid, etc., hexanoic acid, heptanoic acid, octanoic acid, nonanoic acid, decanoic acid, lauric acid, myristic acid, palmitic acid, stearic acid, methane Sulfonic acid, methanol, ethanol, isopropanol, 2-methyl-2-propanol, butanol, pentanol, hexanol, heptanol, octanol, nonaol, decanol, undecanol, dodecanol, tridecanol, pentadecanol, hexadecanol, heptadecanol, Octadecanol, Nonadecano , Icosanol, methylamine, ethylamine, propylamine, butylamine, pentylamine, hexylamine, heptylamine, octylamine, nonylamine, decylamine, undecylamine, dodecylamine, tetradecylamine, pentadecylamine, hexadecylamine, heptadecyl Amine, octadecylamine, nonadecylamine, icosanylamine, methanethiol, ethanethiol, propanethiol, butanethiol, pentanethiol, hexanethiol, heptanethiol, octanethiol, nonanethiol, decanethiol, undecanethiol, dodecanethiol, tridecanethiol, tetradecane Thiol, pentadecanethiol, hexadecanethiol, heptadecanethiol, octadecane All, nonadecanethiol, icosanethiol and the like can be mentioned. Among these, lauric acid, myristic acid, palmitic acid, stearic acid, dodecylamine, dodecanethiol and the like are preferable.

上記−COOH、−SH、−SOH、−SOH、―SOH、―NH及び―OHからなる群より選択される少なくとも一つの基により置換されたアルカンのうち、特に、−COOHで置換されたアルカンとしては、例えば、炭素数1〜50のアルカンの1〜10の水素原子が−COOHで1〜10置換されたものが挙げられる。それらの中でも、好ましくは−COOHで置換された炭素数1〜20のアルカンであり、例えば、ギ酸、酢酸、プロピオン酸、酪酸、イソ酪酸、吉草酸、イソ吉草酸、ピバル酸等、ヘキサン酸、ヘプタン酸、オクタン酸、ノナン酸、デカン酸、ラウリン酸、ミリスチン酸、パルミチン酸、ステアリン酸が挙げられる。より好ましくは−COOHで置換された炭素数10〜20のアルカンであり、更に好ましくは−COOHで置換された炭素数12〜18のアルカンである。 The -COOH, -SH, -SOH, -SO 2 H, -SO 3 H, among the alkanes which are substituted by at least one group selected from the group consisting of -NH 2 and -OH, in particular, with -COOH Examples of the substituted alkane include those in which 1 to 10 hydrogen atoms of an alkane having 1 to 50 carbon atoms are substituted with —COOH. Among them, preferably an alkane having 1 to 20 carbon atoms substituted with -COOH, for example, formic acid, acetic acid, propionic acid, butyric acid, isobutyric acid, valeric acid, isovaleric acid, pivalic acid, etc., hexanoic acid, Examples include heptanoic acid, octanoic acid, nonanoic acid, decanoic acid, lauric acid, myristic acid, palmitic acid, and stearic acid. More preferred is an alkane having 10 to 20 carbon atoms substituted with —COOH, and further preferred is an alkane having 12 to 18 carbon atoms substituted with —COOH.

上記−COOH、−SH、−SOH、−SOH、―SOH、―NH及び―OHからなる群より選択される少なくとも一つの基により置換されたアルカンのうち、特に、−SHで置換されたアルカンとしては、例えば、炭素数1〜50のアルカンの1〜10の水素原子が−SHで1〜10置換されたものが挙げられる。それらの中でも、好ましくは−SHで置換された炭素数1〜20のアルカンであり、例えば、メタンチオール、エタンチオール、プロパンチオール、ブタンチオール、ペンタンチオール、ヘキサンチオール、ヘプタンチオール、オクタンチオール、ノナンチオール、デカンチオール、ウンデカンチオール、ドデカンチオール、トリデカンチオール、テトラデカンチオール、ペンタデカンチオール、ヘキサデカンチオール、ヘプタデカンチオール、オクタデカンチオール、ノナデカンチオール、イコサンチオールが挙げられる。より好ましくは−SHで置換された炭素数3〜17のアルカンであり、更に好ましくは−SHで置換された炭素数5〜15のアルカンである。特に好ましくはドデカンチオールである。 The -COOH, -SH, -SOH, -SO 2 H, -SO 3 H, among the alkanes which are substituted by at least one group selected from the group consisting of -NH 2 and -OH, in particular, -SH, Examples of the substituted alkane include those in which 1 to 10 hydrogen atoms of an alkane having 1 to 50 carbon atoms are substituted with 1 to 10 by -SH. Among these, Preferably it is C1-C20 alkane substituted by -SH, for example, methanethiol, ethanethiol, propanethiol, butanethiol, pentanethiol, hexanethiol, heptanethiol, octanethiol, nonanethiol , Decanethiol, undecanethiol, dodecanethiol, tridecanethiol, tetradecanethiol, pentadecanethiol, hexadecanethiol, heptadecanethiol, octadecanethiol, nonadecanethiol, icosanethiol. More preferred is an alkane having 3 to 17 carbon atoms substituted with —SH, and further preferred is an alkane having 5 to 15 carbon atoms substituted with —SH. Particularly preferred is dodecanethiol.

上記−COOH、−SH、−SOH、−SOH、―SOH、―NH及び―OHからなる群より選択される少なくとも一つの基により置換されたアルカンのうち、特に、−NHで置換されたアルカンとしては、例えば、炭素数1〜50のアルカンの1〜10の水素原子が−NHで1〜10置換されたものが挙げられる。それらの中でも、好ましくは−NHで置換された炭素数1〜20のアルカンであり、例えば、メチルアミン、エチルアミン、プロピルアミン、ブチルアミン、ペンチルアミン、ヘキシルアミン、ヘプチルアミン、オクチルアミン、ノニルアミン、デシルアミン、ウンデシルアミン、ドデシルアミン、テトラデシルアミン、ペンタデシルアミン、ヘキサデシルアミン、ヘプタデシルアミン、オクタデシルアミン、ノナデシルアミン、イコサニルアミンが挙げられる。より好ましくは−NHで置換された炭素数3〜17のアルカンであり、更に好ましくは−NHで置換された炭素数5〜15のアルカンである。特に好ましくはドデシルアミンである。 The -COOH, -SH, -SOH, -SO 2 H, -SO 3 H, among the alkanes which are substituted by at least one group selected from the group consisting of -NH 2 and -OH, in particular, -NH 2 Examples of the alkane substituted with 1 include those in which 1 to 10 hydrogen atoms of an alkane having 1 to 50 carbon atoms are substituted with —NH 2 . Among them, preferably an alkane having from 1 to 20 carbon atoms which is substituted with -NH 2, for example, methylamine, ethylamine, propylamine, butylamine, pentylamine, hexylamine, octylamine, nonylamine, decylamine , Undecylamine, dodecylamine, tetradecylamine, pentadecylamine, hexadecylamine, heptadecylamine, octadecylamine, nonadecylamine, icosanylamine. More preferred is an alkane having 3 to 17 carbon atoms substituted with —NH 2 , and further preferred is an alkane having 5 to 15 carbon atoms substituted with —NH 2 . Particularly preferred is dodecylamine.

上記−COOH、−SH、−SOH、−SOH、―SOH、―NH及び―OHからなる群より選択される少なくとも一つの基により置換されたアルカンのうち、特に、−OHで置換されたアルカンとしては、例えば、炭素数1〜50のアルカンの1〜10の水素原子が−OHで1〜10置換されたものが挙げられる。それらの中でも、好ましくは−OHで置換された炭素数1〜20のアルカンであり、例えば、メタノール、エタノール、イソプロパノール、2−メチル−2−プロパノール、ブタノール、ペンタノール、ヘキサノール、ヘプタノール、オクタノール、ノナオール、デカノール、ウンデカノール、ドデカノール、トリデカノール、ペンタデカノール、ヘキサデカノール、ヘプタデカノール、オクタデカノール、ノナデカノール、イコサノール、3−メトキシ−3−メチル−1−ブタノール、1,3−ブタンジオール、3−メチル−1,3−ブタンジオールが挙げられる。より好ましくは−OHで置換された炭素数1〜10のアルカンである。 The -COOH, -SH, -SOH, -SO 2 H, -SO 3 H, among the alkanes which are substituted by at least one group selected from the group consisting of -NH 2 and -OH, in particular, at -OH Examples of the substituted alkane include those in which 1 to 10 hydrogen atoms of an alkane having 1 to 50 carbon atoms are substituted with —OH. Among these, Preferably it is C1-C20 alkane substituted by -OH, for example, methanol, ethanol, isopropanol, 2-methyl-2-propanol, butanol, pentanol, hexanol, heptanol, octanol, nonaol , Decanol, undecanol, dodecanol, tridecanol, pentadecanol, hexadecanol, heptadecanol, octadecanol, nonadecanol, icosanol, 3-methoxy-3-methyl-1-butanol, 1,3-butanediol, 3- And methyl-1,3-butanediol. More preferably, it is an alkane having 1 to 10 carbon atoms substituted with —OH.

上記−COOH、−SH、−SOH、−SOH、―SOH、―NH及び―OHからなる群より選択される少なくとも一つの基により置換されたアルケンとは、アルケンの1以上の水素原子が前記置換基で1以上置換されたものを意味している。
上記アルケンとしては、例えば、炭素数2〜100のものが挙げられ、鎖状であってもよく、分岐状であってもよい。それらの中でも、好ましくは炭素数2〜20のアルケンであり、より好ましくは炭素数3〜10のアルケンであり、更に好ましくは炭素数3〜5のアルケンである。
そのような−COOH、−SH、−SOH、−SOH、―SOH、―NH及び―OHからなる群より選択される少なくとも一つの基により置換されたアルケンとしては、例えば、アリルアルコール、ビニルアミン、プロペニルアミン、ブテニルアミン、ペンテニルアミン、ヘキセニルアミン、ヘプテニルアミン、オクテニルアミン、ノネニルアミン、デセニルアミン、ウンデセニルアミン、ドデセニルアミン、トリデセニルアミン、テトラデセニルアミン、ペンタデセニルアミン、ヘキサデセニルアミン、ヘプタデセニルアミン、オクタデセニルアミン、ノナデセニルアミン、オレイルアミン、イコセニルアミン、ノナコセニルアミン、エテンチオール、プロペンチオール(アリルメルカプタン)、ブテンチオール、ペンテンチオール、ヘキセンチオール、ヘプテンチオール、オクテンチオール、ノネンチオール、デセンチオール、ウンデセンチオール、ドデセンチオール、トリデセンチオール、テトラデセンチオール、ペンタデセンチオール、ヘキサデセンチオール、ヘプタデセンチオール、オクタデセンチオール、ノナデセンチオール、イコセンチオール、ノナコセンチオール、アクリル酸(プロペン酸)、メタクリル酸(2−メチルプロペン酸)、クロトン酸(trans−ブタ−2−エン酸)、イソクロトン酸(cis−ブタ−2−エン酸)、ヘキセン酸、ヘプテン酸、オクテン酸、ノネン酸、デセン酸、ウンデセン酸、ドデセン酸、トリデセン酸、テトラデセン酸、ペンタデセン酸、ヘキサデセン酸、ヘプタデセン酸、オレイン酸(cis−オクタデカ−9−エン酸)、エライジン酸(trans−オクタデカ−9−エン酸)、マレイン酸(cis−ブテン二酸)、フマル酸(trans−ブテン二酸)等が挙げられる。これらの中でも、オレイルアミン、アリルメルカプタン、オレイン酸等が好ましい。
The alkene substituted with at least one group selected from the group consisting of —COOH, —SH, —SOH, —SO 2 H, —SO 3 H, —NH 2 and —OH is one or more of the alkene. This means that one or more hydrogen atoms are substituted with the above substituents.
Examples of the alkene include those having 2 to 100 carbon atoms, which may be chain-like or branched. Among these, Preferably it is a C2-C20 alkene, More preferably, it is a C3-C10 alkene, More preferably, it is a C3-C5 alkene.
Examples of the alkene substituted with at least one group selected from the group consisting of —COOH, —SH, —SOH, —SO 2 H, —SO 3 H, —NH 2 and —OH include allyl. Alcohol, vinylamine, propenylamine, butenylamine, pentenylamine, hexenylamine, heptenylamine, octenylamine, nonenylamine, decenylamine, undecenylamine, dodecenylamine, tridecenylamine, tetradecenylamine, pentadecenylamine, hexadecenylamine, heptade Cenylamine, octadecenylamine, nonadecenylamine, oleylamine, icocenylamine, nonacosenylamine, ethenethiol, propenethiol (allyl mercaptan), butenethiol, pentenethio Hexene thiol, heptene thiol, octene thiol, nonene thiol, decene thiol, undecene thiol, dodecene thiol, tridecene thiol, tetradecene thiol, pentadecene thiol, hexadecene thiol, heptacene thiol, octadecenti All, nonadecenethiol, icosenethiol, nonacosethiol, acrylic acid (propenoic acid), methacrylic acid (2-methylpropenoic acid), crotonic acid (trans-but-2-enoic acid), isocrotonic acid (cis- (But-2-enoic acid), hexenoic acid, heptenoic acid, octenoic acid, nonenoic acid, decenoic acid, undecenoic acid, dodecenoic acid, tridecenoic acid, tetradecenoic acid, pentadecenoic acid, hexadecenoic acid, heptadecenic acid, oleic acid (cis-octadeca) -9-D Acid), elaidic acid (trans-octadeca-9-enoic acid), maleic acid (cis-butenedioic acid), fumaric acid (trans-butenedioic acid), and the like. Among these, oleylamine, allyl mercaptan, oleic acid and the like are preferable.

上記−COOH、−SH、−SOH、−SOH、―SOH、―NH及び―OHからなる群より選択される少なくとも一つの基により置換されたアルケンのうち、特に、−COOHで置換されたアルケンとしては、例えば、炭素数1〜50のアルケンの1〜10の水素原子が−COOHで置換されたものが挙げられる。それらの中でも、好ましくは−COOHで置換された炭素数2〜30のアルケンであり、例えば、アクリル酸(プロペン酸)、メタクリル酸(2−メチルプロペン酸)、クロトン酸(trans−ブタ−2−エン酸)、イソクロトン酸(cis−ブタ−2−エン酸)、ヘキセン酸、ヘプテン酸、オクテン酸、ノネン酸、デセン酸、ウンデセン酸、ドデセン酸、トリデセン酸、テトラデセン酸、ペンタデセン酸、ヘキサデセン酸、ヘプタデセン酸、オレイン酸(cis−オクタデカ−9−エン酸)、エライジン酸(trans−オクタデカ−9−エン酸)、マレイン酸(cis−ブテン二酸)、フマル酸(trans−ブテン二酸)が挙げられる。より好ましくは−COOHで置換された炭素数10〜20のアルケンであり、更に好ましくは−COOHで置換された炭素数15〜20のアルケンである。特に好ましくはオレイン酸である。 The -COOH, -SH, -SOH, -SO 2 H, -SO 3 H, among the alkene which is substituted by at least one group selected from the group consisting of -NH 2 and -OH, in particular, with -COOH Examples of the substituted alkene include those in which 1 to 10 hydrogen atoms of an alkene having 1 to 50 carbon atoms are substituted with —COOH. Among these, Preferably it is C2-C30 alkene substituted by -COOH, for example, acrylic acid (propenoic acid), methacrylic acid (2-methylpropenoic acid), crotonic acid (trans-but-2-ene). Enoic acid), isocrotonic acid (cis-but-2-enoic acid), hexenoic acid, heptenoic acid, octenoic acid, nonenic acid, decenoic acid, undecenoic acid, dodecenoic acid, tridecenoic acid, tetradecenoic acid, pentadecenoic acid, hexadecenoic acid, Heptadecenoic acid, oleic acid (cis-octadeca-9-enoic acid), elaidic acid (trans-octadeca-9-enoic acid), maleic acid (cis-butenedioic acid), fumaric acid (trans-butenedioic acid) It is done. More preferred is an alkene having 10 to 20 carbon atoms substituted with —COOH, and further preferred is an alkene having 15 to 20 carbon atoms substituted with —COOH. Particularly preferred is oleic acid.

上記−COOH、−SH、−SOH、−SOH、―SOH、―NH及び―OHからなる群より選択される少なくとも一つの基により置換されたアルケンのうち、特に、−SHで置換されたアルケンとしては、例えば、炭素数1〜50のアルケンの1〜10の水素原子が−SHで置換されたものが挙げられる。それらの中でも、好ましくは−SHで置換された炭素数2〜30のアルケンであり、例えば、エテンチオール、プロペンチオール(アリルメルカプタン)、ブテンチオール、ペンテンチオール、ヘキセンチオール、ヘプテンチオール、オクテンチオール、ノネンチオール、デセンチオール、ウンデセンチオール、ドデセンチオール、トリデセンチオール、テトラデセンチオール、ペンタデセンチオール、ヘキサデセンチオール、ヘプタデセンチオール、オクタデセンチオール、ノナデセンチオール、イコセンチオール、ノナコセンチオールが挙げられる。より好ましくは−SHで置換された炭素数2〜20のアルケンであり、更に好ましくは−SHで置換された炭素数3〜15のアルケンである。特に好ましくはアリルメルカプタンである。 Of the alkenes substituted with at least one group selected from the group consisting of —COOH, —SH, —SOH, —SO 2 H, —SO 3 H, —NH 2 and —OH, in particular, —SH Examples of the substituted alkene include those in which 1 to 10 hydrogen atoms of an alkene having 1 to 50 carbon atoms are substituted with —SH. Among these, Preferably it is C2-C30 alkene substituted by -SH, for example, ethene thiol, propene thiol (allyl mercaptan), butene thiol, pentene thiol, hexene thiol, heptene thiol, octene thiol, nonene thiol, Decene thiol, undecene thiol, dodecene thiol, tridecene thiol, tetradecene thiol, pentadecene thiol, hexadecene thiol, heptacene thiol, octadecene thiol, nonadecene thiol, icosene thiol, nonaco Senthiol is mentioned. More preferred is an alkene having 2 to 20 carbon atoms substituted with —SH, and further preferred is an alkene having 3 to 15 carbon atoms substituted with —SH. Particularly preferred is allyl mercaptan.

上記−COOH、−SH、−SOH、−SOH、―SOH、―NH及び―OHからなる群より選択される少なくとも一つの基により置換されたアルケンのうち、特に、−NHで置換されたアルケンとしては、例えば、炭素数1〜50のアルケンの1〜10の水素原子が−NHで置換されたものが挙げられる。それらの中でも、好ましくは−NHで置換された炭素数2〜30のアルケンであり、例えば、ビニルアミン、プロペニルアミン、ブテニルアミン、ペンテニルアミン、ヘキセニルアミン、ヘプテニルアミン、オクテニルアミン、ノネニルアミン、デセニルアミン、ウンデセニルアミン、ドデセニルアミン、トリデセニルアミン、テトラデセニルアミン、ペンタデセニルアミン、ヘキサデセニルアミン、ヘプタデセニルアミン、オクタデセニルアミン、ノナデセニルアミン、オレイルアミン、イコセニルアミン、ノナコセニルアミンが挙げられる。より好ましくは−NHで置換された炭素数5〜25のアルケンであり、更に好ましくは−NHで置換された炭素数10〜20のアルケンである。特に好ましくはオレイルアミンである。 The -COOH, -SH, -SOH, -SO 2 H, -SO 3 H, among the alkene which is substituted by at least one group selected from the group consisting of -NH 2 and -OH, in particular, -NH 2 Examples of the alkene substituted with are those in which 1 to 10 hydrogen atoms of an alkene having 1 to 50 carbon atoms are substituted with —NH 2 . Among them, preferably alkenes been C2-30 substituted with -NH 2, for example, vinyl amine, propenyl amine, butenylamine, pentenyl amine, hexenyl amine, Heputeniruamin, Okuteniruamin, Noneniruamin, Deseniruamin, undecenyl amine, Examples include dodecenylamine, tridecenylamine, tetradecenylamine, pentadecenylamine, hexadecenylamine, heptadecenylamine, octadecenylamine, nonadecenylamine, oleylamine, icosenylamine, and nonacenylamine. More preferred is an alkene having 5 to 25 carbon atoms substituted with —NH 2 , and still more preferred is an alkene having 10 to 20 carbon atoms substituted with —NH 2 . Particularly preferred is oleylamine.

上記−COOH、−SH、−SOH、−SOH、―SOH、―NH及び―OHからなる群より選択される少なくとも一つの基により置換されたアルキンとは、アルキンの1以上の水素原子が前記置換基で1以上置換されたものを意味している。
上記アルキンとしては、例えば、炭素数2〜100のものが挙げられ、鎖状であってもよく、分岐状であってもよい。それらの中でも、好ましくは炭素数2〜20のアルキンであり、より好ましくは炭素数3〜10のアルキンであり、更に好ましくは炭素数3〜5のアルキンである。
そのような−COOH、−SH、−SOH、−SOH、―SOH、―NH及び―OHからなる群より選択される少なくとも一つの基により置換されたアルキンとしては、例えば、エチンチオール、プロピンイルアミン等が挙げられる。
The alkyne substituted with at least one group selected from the group consisting of —COOH, —SH, —SOH, —SO 2 H, —SO 3 H, —NH 2 and —OH is one or more of alkyne. This means that one or more hydrogen atoms are substituted with the above substituents.
Examples of the alkyne include those having 2 to 100 carbon atoms, which may be chain-like or branched. Among these, Preferably it is a C2-C20 alkyne, More preferably, it is a C3-C10 alkyne, More preferably, it is a C3-C5 alkyne.
Examples of the alkyne substituted with at least one group selected from the group consisting of —COOH, —SH, —SOH, —SO 2 H, —SO 3 H, —NH 2 and —OH include, for example, ethynethiol. And propyneylamine.

上記−COOH、−SH、−SOH、−SOH、―SOH、―NH及び―OHからなる群より選択される少なくとも一つの基により置換された芳香族炭化水素とは、芳香族炭化水素の1以上の水素原子が前記置換基で1以上置換されたものを意味している。
上記芳香族炭化水素としては、例えば、炭素数6〜30のものが挙げられる。それらの中でも、ベンゼン、ペンタレン、ナフタレン、フェナレン、フェナントレン等が好ましい。
そのような−COOH、−SH、−SOH、−SOH、―SOH、―NH及び―OHからなる群より選択される少なくとも一つの基により置換された芳香族炭化水素としては、例えば、安息香酸、ベンゼンチオール、アニリン等が挙げられる。
The aromatic hydrocarbon substituted with at least one group selected from the group consisting of —COOH, —SH, —SOH, —SO 2 H, —SO 3 H, —NH 2 and —OH is aromatic. This means that one or more hydrogen atoms of a hydrocarbon are substituted with one or more of the above substituents.
Examples of the aromatic hydrocarbon include those having 6 to 30 carbon atoms. Among these, benzene, pentalene, naphthalene, phenalene, phenanthrene and the like are preferable.
As the aromatic hydrocarbon substituted with at least one group selected from the group consisting of —COOH, —SH, —SOH, —SO 2 H, —SO 3 H, —NH 2 and —OH, For example, benzoic acid, benzenethiol, aniline and the like can be mentioned.

上記−COOH、−SH、−SOH、−SOH、―SOH、―NH及び―OHからなる群より選択される少なくとも一つの基により置換されたアルキル置換された芳香族炭化水素とは、アルキル置換された芳香族炭化水素の1以上の水素原子が前記置換基で1以上置換されたものを意味している。
上記アルキル置換された芳香族炭化水素とは、上記芳香族炭化水素の1以上の水素原子がアルキル基で置換されたものを意味しており、該アルキル基は、上記アルキル基と同様のものとすることができる。
そのようなアルキル置換された芳香族炭化水素としては、例えば、炭素数1〜10のアルキル基で置換された炭素数6〜30の芳香族炭化水素が挙げられる。具体的には、メチルベンゼン(トルエン)、プロピルペンタレン、ヘキシルナフタレン、メチルフェナレン、エチルフェナントレン等が挙げられる。これらの中でも、好ましくは炭素数1〜6のアルキル基で置換された芳香族炭化水素であり、より好ましくは炭素数1〜3のアルキル基で置換された芳香族炭化水素である。更に好ましくはトルエンである。
上記−COOH、−SH、−SOH、−SOH、―SOH、―NH及び―OHからなる群より選択される少なくとも一つの基により置換されたアルキル置換された芳香族炭化水素としては、例えば、ベンジルアルコール、フェニル酢酸、ジベンジルケトン、アニリン等が挙げられる。
An alkyl-substituted aromatic hydrocarbon substituted with at least one group selected from the group consisting of -COOH, -SH, -SOH, -SO 2 H, -SO 3 H, -NH 2 and -OH; Means that one or more hydrogen atoms of an alkyl-substituted aromatic hydrocarbon are substituted with one or more of the above substituents.
The alkyl-substituted aromatic hydrocarbon means that one or more hydrogen atoms of the aromatic hydrocarbon are substituted with an alkyl group, and the alkyl group is the same as the alkyl group described above. can do.
Examples of such an alkyl-substituted aromatic hydrocarbon include an aromatic hydrocarbon having 6 to 30 carbon atoms substituted with an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms. Specific examples include methylbenzene (toluene), propylpentalene, hexylnaphthalene, methylphenalene, ethylphenanthrene and the like. Among these, Preferably it is the aromatic hydrocarbon substituted by the C1-C6 alkyl group, More preferably, it is the aromatic hydrocarbon substituted by the C1-C3 alkyl group. More preferably, it is toluene.
As an alkyl-substituted aromatic hydrocarbon substituted with at least one group selected from the group consisting of -COOH, -SH, -SOH, -SO 2 H, -SO 3 H, -NH 2 and -OH Examples include benzyl alcohol, phenylacetic acid, dibenzyl ketone, and aniline.

上記−COOH、−SH、−SOH、−SOH、―SOH、―NH及び―OHからなる群より選択される少なくとも一つの基により置換された複素環とは、上記複素環の1以上の水素原子が前記置換基で1以上置換されたものを意味し、例えば、カルボキシルピリジン、ヒドロキシピラゾール等が挙げられる。 The heterocyclic ring substituted with at least one group selected from the group consisting of —COOH, —SH, —SOH, —SO 2 H, —SO 3 H, —NH 2 and —OH is the above-mentioned heterocyclic ring. This means one or more hydrogen atoms substituted with one or more of the above substituents, and examples thereof include carboxyl pyridine and hydroxypyrazole.

上記−COOH、−SH、−SOH、−SOH、―SOH、―NH及び―OHからなる群より選択される少なくとも一つの基により置換されたアルキル置換された複素環とは、上記アルキル置換された複素環の1以上の水素原子が前記置換基で1以上置換されたものを意味し、カルボキシルピリジン、ヒドロキシピラゾール等が挙げられる。 The alkyl-substituted heterocycle substituted with at least one group selected from the group consisting of -COOH, -SH, -SOH, -SO 2 H, -SO 3 H, -NH 2 and -OH is as follows: The alkyl substituted heterocyclic ring means one or more hydrogen atoms substituted with one or more of the above substituents, and examples thereof include carboxyl pyridine and hydroxypyrazole.

上記極性溶媒は、下記一般式(1); The polar solvent has the following general formula (1);

Figure 2012074206
Figure 2012074206

(式中、RおよびRは、同一若しくは異なって、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、アルキル置換されたアリール基、ヘテロアリール基、又は、アルキル置換されたヘテロアリール基を表す。また、RおよびRが直接結合し、環構造を形成してもよい。Yは、−CONH−、−C(=O)−又は−SO−で表される基を表す。)で表される化合物であることも好ましい。 (In the formula, R 1 and R 2 are the same or different and each represents an alkyl group, an alkenyl group, an alkynyl group, an aryl group, an alkyl-substituted aryl group, a heteroaryl group, or an alkyl-substituted heteroaryl group. R 1 and R 2 may be directly bonded to form a ring structure.Y represents a group represented by —CONH—, —C (═O) —, or —SO—). It is also preferable that the compound is represented.

上記アルキル基としては、上述したアルキル基と同様のものとすることができる。
上記アルケニル基としては、例えば、炭素数2〜100のものが挙げられる。それらの中でも、好ましくは炭素数2〜10のアルケニル基であり、より好ましくは炭素数3〜7のアルケニル基であり、更に好ましくは炭素数4〜6のアルケニル基である。
上記アルキニル基としては、例えば、炭素数2〜100のものが挙げられる。それらの中でも、好ましくは炭素数2〜20のアルキニル基であり、より好ましくは炭素数2〜10のアルキニル基であり、更に好ましくは炭素数2〜5のアルキニル基である。
The alkyl group can be the same as the alkyl group described above.
As said alkenyl group, a C2-C100 thing is mentioned, for example. Among these, Preferably it is a C2-C10 alkenyl group, More preferably, it is a C3-C7 alkenyl group, More preferably, it is a C4-C6 alkenyl group.
Examples of the alkynyl group include those having 2 to 100 carbon atoms. Among these, Preferably it is a C2-C20 alkynyl group, More preferably, it is a C2-C10 alkynyl group, More preferably, it is a C2-C5 alkynyl group.

上記アリール基としては、例えば、炭素数6〜30のものが挙げられる。それらの中でも、フェニル基、ペンタレニル基、ナフタレニル基、フェナレニル基、フェナントレニル基等が好ましい。
上記アルキル置換されたアリール基とは、上記アリール基の1以上の水素原子がアルキル基で置換されたものを意味しており、該アルキル基は、上記アルキル基と同様のものとすることができる。そのようなアルキル置換されたアリール基としては、例えば、炭素数1〜10のアルキル基で置換された炭素数6〜30のアリール基が挙げられる。具体的には、メチルフェニル基、プロピルペンタニル基、ヘキシルナフタレニル基、メチルフェナレニル基、エチルフェナントレニル基等が好ましい。
As said aryl group, a C6-C30 thing is mentioned, for example. Among these, a phenyl group, a pentarenyl group, a naphthalenyl group, a phenalenyl group, a phenanthrenyl group, and the like are preferable.
The alkyl-substituted aryl group means a group in which one or more hydrogen atoms of the aryl group are substituted with an alkyl group, and the alkyl group can be the same as the alkyl group. . Examples of such an alkyl-substituted aryl group include an aryl group having 6 to 30 carbon atoms substituted with an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms. Specifically, a methylphenyl group, a propylpentanyl group, a hexylnaphthalenyl group, a methylphenalenyl group, an ethylphenanthrenyl group, and the like are preferable.

上記ヘテロアリール基としては、例えば、酸素、硫黄、窒素等を含むヘテロアリール基が挙げられ、それらの中でも、チオフェニル基、フラニル基、ピラニル基、キサンテニル基、ピロリニル基、イミダゾリニル基、ピラゾリニル基、チアゾリニル基、イソオキサゾリニル基、ピリジニル基、ピラジニル基、ピリミジニル基等が好ましい。
上記アルキル置換されたヘテロアリール基とは、上記ヘテロアリール基の1以上の水素原子がアルキル基で置換されたものを意味しており、該アルキル基は、上記アルキル基と同様のものとすることができる。そのようなアルキル置換されたヘテロアリール基としては、例えば、炭素数1〜10のアルキル基で置換された酸素、硫黄、窒素等を含むヘテロアリール基が挙げられる。それらの中でも、メチルチオフニル基、ヘキシルフラニル基、メチルピラニル基、ブチルキサンテニル基、メチルピロリニル基、ペンチルイミダゾリニル基、オクチルピラゾリニル基、ヘキシルチアゾリニル基、ペンチルイソオキサゾリニル基、ブチルピリジニル基、メチルピラジニル基、メチルピリミジニル基等が好ましい。
Examples of the heteroaryl group include heteroaryl groups containing oxygen, sulfur, nitrogen, etc. Among them, thiophenyl group, furanyl group, pyranyl group, xanthenyl group, pyrrolinyl group, imidazolinyl group, pyrazolinyl group, thiazolinyl Group, isoxazolinyl group, pyridinyl group, pyrazinyl group, pyrimidinyl group and the like are preferable.
The alkyl-substituted heteroaryl group means a group in which one or more hydrogen atoms of the heteroaryl group are substituted with an alkyl group, and the alkyl group is the same as the alkyl group. Can do. Examples of such an alkyl-substituted heteroaryl group include heteroaryl groups containing oxygen, sulfur, nitrogen and the like substituted with an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms. Among them, methylthiophonyl group, hexylfuranyl group, methylpyranyl group, butylxanthenyl group, methylpyrrolinyl group, pentylimidazolinyl group, octylpyrazolinyl group, hexylthiazolinyl group, pentylisoxazolinyl Group, butylpyridinyl group, methylpyrazinyl group, methylpyrimidinyl group and the like are preferable.

また、上記一般式(1)における、RおよびRが直接結合し、環構造が形成されている形態としては、例えば、シクロヘキサノン、シクロペンタノン等が挙げられる。 In addition, examples of the form in which R 1 and R 2 in the general formula (1) are directly bonded to form a ring structure include cyclohexanone and cyclopentanone.

上記極性溶媒としては、上述したものの中でも、−OHで置換されたアルカン、下記一般式(2); As the polar solvent, among those described above, alkane substituted with -OH, the following general formula (2);

Figure 2012074206
Figure 2012074206

(式中、R1´及びR2´は、同一又は異なって、アルキル基を表す。)で表されるケトン、―COOHで1以上置換されたアルカンおよび水からなる群より選択される少なくとも一つであることが好ましい。より好ましくは、−OHで置換された炭素数1〜6のアルカン、上記一般式(2)で表されるもののうち、式中のR1´及びR2´が、同一又は異なって、炭素数1〜6のアルキル基を表すケトン、―COOHで1以上置換された炭素数1〜6のアルカンおよび水からなる群より選択される少なくとも一つであることであり、メタノール、エタノール、イソプロパノール、2−メチル−2−プロパノール、アセトン、酢酸、酢酸と水との混合物が更に好ましい。特に好ましくは、メタノール、エタノール、イソプロパノール、2−メチル−2−プロパノールであり、最も好ましくは、メタノール、エタノールである。 (Wherein R1 ′ and R2 ′ are the same or different and each represents an alkyl group), and at least one selected from the group consisting of a ketone represented by one or more, —alkane substituted with —COOH, and water. Preferably there is. More preferably, among the alkanes having 1 to 6 carbon atoms substituted with —OH and those represented by the general formula (2), R1 ′ and R2 ′ in the formula are the same or different, and A ketone representing an alkyl group of 6; at least one selected from the group consisting of an alkane having 1 to 6 carbon atoms substituted with one or more —COOH and water, methanol, ethanol, isopropanol, 2-methyl Even more preferred are 2-propanol, acetone, acetic acid, and a mixture of acetic acid and water. Particularly preferred are methanol, ethanol, isopropanol, and 2-methyl-2-propanol, and most preferred are methanol and ethanol.

上記溶解補助剤としては、上記極性溶媒の極性を強める働きや、上記微粒子分散剤の溶解を補助する働きのあるもの等であれば特に制限されないが、例えば、ポリビニルピロリドン、ポリビニルアルコール、アンモニア等が挙げられ、ポリビニルピロリドン、ポリビニルアルコール、アンモニアが好ましい。 The solubilizing agent is not particularly limited as long as it has a function of enhancing the polarity of the polar solvent and a function of assisting the dissolution of the fine particle dispersant, and examples thereof include polyvinylpyrrolidone, polyvinyl alcohol, and ammonia. And polyvinylpyrrolidone, polyvinyl alcohol, and ammonia are preferable.

本発明において用いられる有機溶媒を含む溶媒溶液が、極性溶媒及び溶解補助剤を含む極性溶媒溶液である場合の形態としては、例えば、ポリビニルピロリドンの水溶液、ポリビニルアルコールの水溶液、ポリビニルピロリドンのメタノール溶液、ポリビニルピロリドンのエタノール溶液、ポリビニルピロリドンのイソプロパノール溶液、ポリビニルピロリドンの2−メチル−2−プロパノール溶液、ポリビニルピロリドンのアセトン溶液、アンモニア水等が挙げられる。これらの中でも、ポリビニルピロリドンの水溶液、ポリビニルアルコールの水溶液、ポリビニルピロリドンのメタノール溶液、ポリビニルピロリドンのエタノール溶液、アンモニア水が好ましい形態である。 Examples of the case where the solvent solution containing the organic solvent used in the present invention is a polar solvent solution containing a polar solvent and a solubilizing agent include, for example, an aqueous solution of polyvinyl pyrrolidone, an aqueous solution of polyvinyl alcohol, a methanol solution of polyvinyl pyrrolidone, Examples thereof include an ethanol solution of polyvinyl pyrrolidone, an isopropanol solution of polyvinyl pyrrolidone, a 2-methyl-2-propanol solution of polyvinyl pyrrolidone, an acetone solution of polyvinyl pyrrolidone, and aqueous ammonia. Among these, preferred are an aqueous solution of polyvinyl pyrrolidone, an aqueous solution of polyvinyl alcohol, a methanol solution of polyvinyl pyrrolidone, an ethanol solution of polyvinyl pyrrolidone, and aqueous ammonia.

本発明の導電性膜の製造方法においては、上記パターンを有する膜に、有機溶媒を含む溶媒溶液を作用させる工程を行った後、次いでパターンを有する膜に酸を作用させる工程を行ってもよい。このように、有機溶媒を含む溶媒溶液を作用させる工程を行った後に、続いて酸を作用させることにより、酸を作用させなかった場合と比べて、製造される導電性膜の導電性はやや低下するが、よりヘイズが抑制され、透過率の向上した導電性膜を得ることができる。 In the method for producing a conductive film of the present invention, after the step of allowing a solvent solution containing an organic solvent to act on the film having the pattern, the step of allowing an acid to act on the film having the pattern may be performed. . Thus, after performing the process of making the solvent solution containing an organic solvent act, by making an acid act subsequently, compared with the case where an acid is not made to act, the electroconductivity of the electroconductive film manufactured is a little. Although reduced, haze is further suppressed and a conductive film with improved transmittance can be obtained.

上記パターンを有する膜に、酸を作用させる工程において、作用させるとは、パターンを有する膜に、酸が作用することとなる限り、その方法は特に制限されないが、例えば、酸の溶液中に、パターンを有する膜を一部又は全部漬ける方法、パターンを有する膜に、酸の溶液を塗布する方法、パターンを有する膜に、酸の溶液を吹き付ける方法等が挙げられる。これらの中でも、酸の溶液中に、パターンを有する膜を一部又は全部漬ける方法により作用させることとすると、酸を作用させる工程による効果が充分に得られることとなるため好ましい。 In the step of allowing the acid to act on the film having the pattern, the method is not particularly limited as long as the acid acts on the film having the pattern, but for example, in the acid solution, Examples include a method of immersing a part or all of the film having a pattern, a method of applying an acid solution to the film having a pattern, a method of spraying an acid solution to the film having a pattern, and the like. Among these, it is preferable to act by a method of immersing a part or all of the film having a pattern in an acid solution because the effect of the step of acting an acid can be sufficiently obtained.

上記パターンを有する膜に、酸を作用させる工程は、低温、室温、高温のいずれで行われてもよいが、高すぎる温度条件下で行うと、酸の蒸気が発生して周辺にある金属装置等の劣化に繋がったり、基板として熱可塑性の樹脂フィルム等を用いた場合には、基板を白化させ、透明性が損なわれたりするおそれがあるため、高すぎる温度条件下で行うことは好ましくない。好ましい処理温度は40℃以下であり、より好ましくは30℃以下であり、更に好ましくは25℃以下である。 The step of allowing the acid to act on the film having the above pattern may be performed at any of low temperature, room temperature, and high temperature. If a thermoplastic resin film or the like is used as a substrate, the substrate may be whitened and the transparency may be impaired. . A preferable treatment temperature is 40 ° C. or lower, more preferably 30 ° C. or lower, and further preferably 25 ° C. or lower.

上記パターンを有する膜に、酸を作用させる工程は、酸を作用させる工程による効果が充分に得られる程度の時間行えばよいが、処理時間が長すぎても更なる効果の向上が見込まれない場合や逆に効果が得られにくくなる場合がある。酸を作用させる処理時間としては、例えば、15秒〜60分であることが好ましく、より好ましくは15秒〜30分であり、更に好ましくは15秒〜2分である。特に好ましくは、15秒〜1分である。 The step of causing the acid to act on the film having the above pattern may be performed for a time sufficient to obtain the effect of the step of acting the acid, but further improvement in the effect is not expected even if the treatment time is too long. In other cases, it may be difficult to obtain the effect. The treatment time for allowing the acid to act is, for example, preferably 15 seconds to 60 minutes, more preferably 15 seconds to 30 minutes, and even more preferably 15 seconds to 2 minutes. Particularly preferably, it is 15 seconds to 1 minute.

上記パターンを有する膜に、酸を作用させる工程において用いられる酸としては、特に制限されず、種々の有機酸、無機酸から適宜選択することができ、強酸であってもよいし、弱酸であってもよい。上記有機酸としては、酢酸、シュウ酸、プロピオン酸、乳酸、ベンゼンスルホン酸等が挙げられる。上記無機酸としては、塩酸、硫酸、硝酸、リン酸等が挙げられる。これらの中でも上記酸としては、酢酸、塩酸、硫酸、又は、それらの水溶液が好ましく、塩酸、硫酸、又は、それらの水溶液がより好ましい。 The acid used in the step of allowing the acid to act on the film having the above pattern is not particularly limited, and can be appropriately selected from various organic acids and inorganic acids, and may be a strong acid or a weak acid. May be. Examples of the organic acid include acetic acid, oxalic acid, propionic acid, lactic acid, and benzenesulfonic acid. Examples of the inorganic acid include hydrochloric acid, sulfuric acid, nitric acid, phosphoric acid and the like. Among these, the acid is preferably acetic acid, hydrochloric acid, sulfuric acid, or an aqueous solution thereof, more preferably hydrochloric acid, sulfuric acid, or an aqueous solution thereof.

上記パターンを有する膜に、酸を作用させる工程において用いられる酸として酸の水溶液を用いる場合には、酸の濃度は、高すぎると、作業性が低下し生産性を悪化させたり、基板として熱可塑性の樹脂フィルム等を用いた場合には、基板を白化させ、透明性が損なわれたりするおそれがある。一方、低すぎると、酸を作用させる効果が得られないおそれがある。よって、0.05〜10mol/Lであることが好ましく、0.05〜5mol/Lであることがより好ましい。更に好ましくは、0.1〜1mol/Lである。 When an acid aqueous solution is used as the acid used in the step of allowing the acid to act on the film having the above pattern, if the acid concentration is too high, the workability is lowered and the productivity is deteriorated or the substrate is heated. When a plastic resin film or the like is used, the substrate may be whitened and transparency may be impaired. On the other hand, if it is too low, the effect of acting an acid may not be obtained. Therefore, it is preferably 0.05 to 10 mol / L, and more preferably 0.05 to 5 mol / L. More preferably, it is 0.1-1 mol / L.

本発明において用いられる導電性微粒子は、一般的に平均粒子径が100μm以下の導電性粒子を意味するものであり、導電性微粒子の粒子径は特に限定されるものではないが、平均粒子径が1μm以下であることが好ましい。1μm以下の平均粒子径とすることで、導電性を有する網目状線部の線幅を狭くすることができ、導電性膜の透過部を広くすることができ、開口率が向上することとなる。これにより、導電性膜の透過率が向上する。導電性微粒子の平均粒子径としてより好ましくは、500nm以下であり、更に好ましくは、100nm以下であり、特に好ましくは、50nm以下であり、最も好ましくは、10nm以下である。特に、10nm以下の平均粒子径とすることにより、形成された導電性を有する網目状線部の導電率を高めることができる。また、粒子径分布としては、変動係数が30%以内であることが好ましく、より好ましくは、20%以内であり、更に好ましくは、15%以内である。 The conductive fine particles used in the present invention generally mean conductive particles having an average particle diameter of 100 μm or less, and the particle diameter of the conductive fine particles is not particularly limited. It is preferable that it is 1 micrometer or less. By setting the average particle diameter to 1 μm or less, the line width of the mesh-like line portion having conductivity can be narrowed, the transmission portion of the conductive film can be widened, and the aperture ratio is improved. . Thereby, the transmittance | permeability of an electroconductive film improves. The average particle diameter of the conductive fine particles is more preferably 500 nm or less, still more preferably 100 nm or less, particularly preferably 50 nm or less, and most preferably 10 nm or less. In particular, by setting the average particle diameter to 10 nm or less, the conductivity of the formed mesh-like line portion having conductivity can be increased. Further, as the particle size distribution, the coefficient of variation is preferably within 30%, more preferably within 20%, and even more preferably within 15%.

上記導電性微粒子の平均粒子径は、TEM像(透過型電子顕微鏡観察像)、又は、SEM像(走査型電子顕微鏡観察像)により得られる数平均粒子径;粉末X線回折測定法により得られる結晶子径;X線小角散乱法等により得られる慣性半径とその散乱強度から求められる平均粒子径等を用いることができる。中でも、SEM像(走査型電子顕微鏡観察像)により得られる数平均粒子径であることが好ましい。
上記導電性微粒子の形状は、球状に限られず、例えば、楕円球状、立方体状、直方体状、ピラミッド状、針状、柱状、棒状、筒状、りん片状、板状(例えば、六角板状)等の薄片状、紐状等の形状でも好適に用いることができる。
The average particle diameter of the conductive fine particles is obtained by a number average particle diameter obtained from a TEM image (transmission electron microscope observation image) or SEM image (scanning electron microscope observation image); a powder X-ray diffraction measurement method. Crystallite diameter: The average radius obtained from the radius of inertia obtained by the X-ray small angle scattering method or the like and the scattering intensity can be used. Especially, it is preferable that it is the number average particle diameter obtained by a SEM image (scanning electron microscope observation image).
The shape of the conductive fine particles is not limited to a spherical shape, and is, for example, an elliptical spherical shape, a cubic shape, a rectangular parallelepiped shape, a pyramid shape, a needle shape, a column shape, a rod shape, a cylindrical shape, a flake shape, a plate shape (for example, a hexagonal plate shape). It can also be suitably used in the shape of a thin piece such as a string or the like.

上記導電性微粒子は、導電性を有する物質を含有する微粒子であれば特に限定されないが、例えば、金属、導電性を有する無機酸化物、炭素系材料、炭化物系材料等の微粒子が挙げられる。金属としては、種々の金属を用いることができ、単体金属、合金、固溶体等のいずれの形態であってもよい。金属元素としては特に限定されず、例えば、白金、金、銀、銅、アルミ、クロム、コバルト、タングステン等の種々の金属元素を用いることができるが、導電性が高い金属であることが好ましい。導電性が高い金属としては、白金、金、銀及び銅からなる群より選ばれる少なくとも一つを含有するものであることが好ましい。また、金属としては、化学的安定性が高い金属であることが好ましい。例えば、上述した導電性膜の製造方法を用いる場合、有機溶媒に導電性微粒子を分散させて有機溶媒を乾燥させる等の工程を経ることとなる。このような工程に対して、酸化、腐食等が生じないことが好ましい。化学的安定性が高い観点からは、上記金属は、白金、金及び銀からなる群より選ばれる少なくとも一つを含有してなることが好ましい。この中でも、低コスト化の観点からは、銀を含有することが好ましい形態である。導電性を有する無機酸化物としては、酸化インジウム錫等のインジウム系酸化物、酸化亜鉛系酸化物等の透明導電性物質、導電性を有する非透明性の無機酸化物等が挙げられる。炭素系材料としては、カーボンブラック等が挙げられる。炭化物系材料としては、シリコンカーバイド、クロムカーバイド、チタンカーバイド等が挙げられる。また、用いることが可能な導電性微粒子としては、非導電性微粒子を上記導電性微粒子を形成する導電性物質(金属、導電性を有する無機酸化物、炭素系材料、炭化物系材料等)で取り囲んだ微粒子(例えば、コア「非導電性物質」、シェル「導電性物質」のコア−シェル構造を持つ微粒子)も好ましい。非導電性微粒子としては、特に限定されるものではなく、種々の物質で形成された非導電性微粒子を用いることができる。上記導電性微粒子としては、これらを単独で用いてもよく、2種以上を用いてもよい。
更に、用いることができる導電性微粒子としては、酸化銀、酸化銅等の酸化物微粒子を有機溶媒に分散させて塗工した後、塗膜を還元雰囲気に置くことで、銀、銅等の金属に還元して用いることも可能である。すなわち、上記導電性膜の製造方法は、酸化物微粒子を有機溶媒に分散させて塗工した後、還元雰囲気に置くことで、酸化物微粒子を還元する工程を含むことも好ましい形態の一つである。
The conductive fine particles are not particularly limited as long as the conductive fine particles contain a conductive material, and examples thereof include fine particles of metals, conductive inorganic oxides, carbon-based materials, carbide-based materials, and the like. Various metals can be used as the metal, and any form such as a single metal, an alloy, and a solid solution may be used. The metal element is not particularly limited. For example, various metal elements such as platinum, gold, silver, copper, aluminum, chromium, cobalt, and tungsten can be used, but a metal having high conductivity is preferable. The metal having high conductivity preferably contains at least one selected from the group consisting of platinum, gold, silver and copper. Further, the metal is preferably a metal having high chemical stability. For example, when the above-described method for producing a conductive film is used, steps such as dispersing conductive fine particles in an organic solvent and drying the organic solvent are performed. It is preferable that oxidation, corrosion, and the like do not occur for such a process. From the viewpoint of high chemical stability, the metal preferably contains at least one selected from the group consisting of platinum, gold and silver. Among these, it is a preferable form to contain silver from the viewpoint of cost reduction. Examples of the inorganic oxide having conductivity include indium oxides such as indium tin oxide, transparent conductive materials such as zinc oxide oxides, and non-transparent inorganic oxides having conductivity. Examples of the carbon-based material include carbon black. Examples of the carbide-based material include silicon carbide, chrome carbide, and titanium carbide. In addition, as conductive fine particles that can be used, non-conductive fine particles are surrounded by a conductive substance (metal, conductive inorganic oxide, carbon-based material, carbide-based material, etc.) that forms the conductive fine particles. Fine particles (for example, fine particles having a core-shell structure of a core “non-conductive substance” and a shell “conductive substance”) are also preferable. The non-conductive fine particles are not particularly limited, and non-conductive fine particles formed of various substances can be used. As said electroconductive fine particles, these may be used independently and 2 or more types may be used.
Furthermore, as conductive fine particles that can be used, oxide fine particles such as silver oxide and copper oxide are dispersed in an organic solvent and then applied, and then the coating film is placed in a reducing atmosphere to thereby form a metal such as silver and copper. It can also be used after being reduced. That is, the method for producing the conductive film is one of preferred embodiments including a step of reducing the oxide fine particles by coating the oxide fine particles dispersed in an organic solvent and then placing the oxide fine particles in a reducing atmosphere. is there.

上記導電性微粒子の含有量は、有機溶媒分散体100質量%に対して、0.05〜10質量%であることが好ましい。このような範囲とすることによって、充分な導電性を有する導電性膜を得ることができる。導電性微粒子の含有量としてより好ましくは、0.1〜10質量%であり、更に好ましくは、0.2〜10質量%である。 The content of the conductive fine particles is preferably 0.05 to 10% by mass with respect to 100% by mass of the organic solvent dispersion. By setting it as such a range, the electroconductive film which has sufficient electroconductivity can be obtained. More preferably, it is 0.1-10 mass% as content of electroconductive fine particles, More preferably, it is 0.2-10 mass%.

本発明において用いられる有機溶媒分散体は、有機溶媒に導電性微粒子が分散された分散体であり、有機溶媒、及び、導電性微粒子以外の物質を含んでいてもよい。有機溶媒としては、特に限定されるものではなく、種々の有機溶媒を用いることができる。
上記有機溶媒としては、例えば、ベンゼン、トルエン、o−キシレン、m−キシレン、p−キシレン、混合キシレン、エチルベンゼン、ヘキシルベンゼン、ドデシルベンゼン、フェニルキシリルエタン等のベンゼン系炭化水素等の芳香族炭化水素類;n−ヘキサン、n−デカン等のパラフィン系炭化水素、アイソパー(Isopar、エクソン化学社製)等のイソパラフィン系炭化水素、1−オクテン、1−デセン等のオレフィン系炭化水素、シクロヘキサン、デカリン等のナフテン系炭化水素等の脂肪族炭化水素類;ケロシン、石油エーテル、石油ベンジン、リグロイン、工業ガソリン、コールタールナフサ、石油ナフサ、ソルベントナフサ等の石油や石炭由来の炭化水素混合物;ジクロロメタン、クロロホルム、四塩化炭素、1,2−ジクロロエタン、1,1,1−トリクロロエタン、1,1,2,2−テトラクロロエタン、トリクロロフルオロエタン、テトラブロモエタン、ジブロモテトラフルオロエタン、テトラフルオロジヨードエタン、1,2−ジクロロエチレン、トリクロロエチレン、テトラクロロエチレン、トリクロロフルオロエチレン、クロロブタン、クロロシクロヘキサン、クロロベンゼン、o−ジクロロベンゼン、ブロモベンゼン、ヨードメタン、ジヨードメタン、ヨードホルム等のハロゲン化炭化水素類;酢酸エチル、酢酸ブチル等のエステル類;アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン等のケトン類;メタノール、エタノール、イソプロパノール、オクタノール、メチルセロソルブ等のアルコール類;ジメチルシリコーンオイル、メチルフェニルシリコーンオイル等のシリコーンオイル類;ハイドロフルオロエーテル等のフッ素系溶剤;二硫化炭素等が好ましい。これらの有機溶媒は、単独で用いてもよく、2種以上を用いてもよい。
The organic solvent dispersion used in the present invention is a dispersion in which conductive fine particles are dispersed in an organic solvent, and may contain substances other than the organic solvent and the conductive fine particles. The organic solvent is not particularly limited, and various organic solvents can be used.
Examples of the organic solvent include aromatic carbon such as benzene hydrocarbon such as benzene, toluene, o-xylene, m-xylene, p-xylene, mixed xylene, ethylbenzene, hexylbenzene, dodecylbenzene, and phenylxylylethane. Hydrogens: paraffinic hydrocarbons such as n-hexane and n-decane, isoparaffinic hydrocarbons such as Isopar (Isopar, manufactured by Exxon Chemical), olefinic hydrocarbons such as 1-octene and 1-decene, cyclohexane, decalin Aliphatic hydrocarbons such as naphthenic hydrocarbons such as: kerosene, petroleum ether, petroleum benzine, ligroin, industrial gasoline, coal tar naphtha, petroleum naphtha, solvent naphtha and other petroleum and coal derived hydrocarbon mixtures; dichloromethane, chloroform , Carbon tetrachloride, 1,2-di Loroethane, 1,1,1-trichloroethane, 1,1,2,2-tetrachloroethane, trichlorofluoroethane, tetrabromoethane, dibromotetrafluoroethane, tetrafluorodiiodoethane, 1,2-dichloroethylene, trichloroethylene, tetrachloroethylene, Halogenated hydrocarbons such as trichlorofluoroethylene, chlorobutane, chlorocyclohexane, chlorobenzene, o-dichlorobenzene, bromobenzene, iodomethane, diiodomethane, iodoform; esters such as ethyl acetate and butyl acetate; acetone, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, etc. Ketones; alcohols such as methanol, ethanol, isopropanol, octanol, methyl cellosolve; dimethyl silicone oil, methyl Silicone oils such as E alkenyl silicone oil; fluorine-based solvents hydrofluoroether like; carbon disulfide and the like are preferable. These organic solvents may be used alone or in combination of two or more.

上記有機溶媒としては、疎水性の有機溶媒が好ましい。疎水性の有機溶媒を用いることによって、後述する自己組織化工程において加湿雰囲気下に置いた場合に、より安定した形態で有機溶媒分散体中に水滴を取り込むことができる。また、有機溶媒としては、非極性の有機溶媒であることが好ましい。非極性であることにより、極性分子である水に溶けにくいものとなるため、塗膜に取り込まれた水滴の形態をより好適に保持することができる。非極性の有機溶媒としては、ベンゼン、トルエン、キシレン、ヘキサン、シクロヘキサン等の炭素数6〜10程度の芳香族炭化水素系溶媒;クロロホルム、ジクロロメタン等のハロゲン化炭化水素系溶媒;脂肪族炭化水素系溶媒等を好ましく用いることができる。有機溶媒の蒸発速度、水の溶解度の点から、すなわち、比較的蒸発速度が速く、水滴が結露しやすく、かつ水と混じりにくい点からは、ベンゼン、トルエン、ヘキサン、シクロヘキサン等がより好ましい。上記有機溶媒としては、極性溶媒と非極性溶媒との混合溶媒であってもよい。例えば、芳香族炭化水素溶媒とケトン系溶媒との混合溶媒、芳香族炭化水素とアミド系溶媒との混合溶媒等であってもよい。 As the organic solvent, a hydrophobic organic solvent is preferable. By using a hydrophobic organic solvent, water droplets can be taken into the organic solvent dispersion in a more stable form when placed in a humidified atmosphere in the self-assembly step described later. The organic solvent is preferably a nonpolar organic solvent. By being nonpolar, it becomes difficult to dissolve in water, which is a polar molecule, so that the form of water droplets taken into the coating film can be more suitably maintained. Nonpolar organic solvents include aromatic hydrocarbon solvents having about 6 to 10 carbon atoms such as benzene, toluene, xylene, hexane and cyclohexane; halogenated hydrocarbon solvents such as chloroform and dichloromethane; aliphatic hydrocarbon solvents A solvent etc. can be used preferably. Benzene, toluene, hexane, cyclohexane and the like are more preferable from the viewpoint of the evaporation rate of the organic solvent and the solubility of water, that is, from the viewpoint that the evaporation rate is relatively fast, water droplets are easily condensed, and are not easily mixed with water. The organic solvent may be a mixed solvent of a polar solvent and a nonpolar solvent. For example, a mixed solvent of an aromatic hydrocarbon solvent and a ketone solvent, a mixed solvent of an aromatic hydrocarbon and an amide solvent, or the like may be used.

上記有機溶媒の比重は、水の比重以下であることが好ましい。有機溶媒の比重が水の比重よりも大きい場合、後述する自己組織化工程を行う際に、塗膜表面で結露した水滴が有機溶媒分散体中に取り込まれないおそれがある。有機溶媒の比重として具体的には、室温(20℃)での比重が1.00以下であることが好ましく、0.95以下であることがより好ましく、0.90以下であることが更に好ましい。 The specific gravity of the organic solvent is preferably not more than the specific gravity of water. When the specific gravity of the organic solvent is larger than the specific gravity of water, water droplets condensed on the surface of the coating film may not be taken into the organic solvent dispersion when performing the self-assembly process described later. Specifically, the specific gravity of the organic solvent is preferably 1.00 or less, more preferably 0.95 or less, and still more preferably 0.90 or less at room temperature (20 ° C.). .

上記有機溶媒の粘度としては、室温(20℃)において2mPa・s以下であることが好ましい。塗工された有機溶媒分散体中に水を取り込む場合、有機溶媒の粘度が高すぎると、充分に水滴を取り込むことができないおそれがある。 The viscosity of the organic solvent is preferably 2 mPa · s or less at room temperature (20 ° C.). When taking water into the coated organic solvent dispersion, if the viscosity of the organic solvent is too high, water droplets may not be taken in sufficiently.

上記有機溶媒分散体は、導電性微粒子等の微粒子が有機溶媒中に分散するのを促進する微粒子分散剤を含有することが好ましい。微粒子分散剤を含有することによって、微粒子が有機溶媒中で凝集してしまうことを防止することができ、有機溶媒分散体をより均一なものとすることが可能となる。
上記微粒子分散剤としては、導電性微粒子等の微粒子を有機溶媒中に分散させることができれば、特に制限されるものではないが、例えば、オクチルアミン、ヘキシルアミン、オレイルアミン等のアミン化合物;ドデカンチオール等の硫黄化合物;オレイン酸等のカルボン酸化合物;等が挙げられる。これらの中でも、アミン化合物であると、上述したパターンを有する膜に、有機溶媒を含む溶媒溶液を作用させる工程において洗い流され易くなり、該工程による効果がより顕著に発揮されることが期待されるために好ましい。
上記微粒子分散剤としては、これらを単独で用いてもよく、2種以上を用いてもよい。
The organic solvent dispersion preferably contains a fine particle dispersant that promotes dispersion of fine particles such as conductive fine particles in the organic solvent. By containing the fine particle dispersant, the fine particles can be prevented from aggregating in the organic solvent, and the organic solvent dispersion can be made more uniform.
The fine particle dispersant is not particularly limited as long as fine particles such as conductive fine particles can be dispersed in an organic solvent. For example, amine compounds such as octylamine, hexylamine and oleylamine; dodecanethiol and the like Sulfur compounds; carboxylic acid compounds such as oleic acid; and the like. Among these, if it is an amine compound, it becomes easy to be washed away in the step of allowing a solvent solution containing an organic solvent to act on the film having the above-described pattern, and it is expected that the effect of this step will be exhibited more remarkably. Therefore, it is preferable.
As said fine particle dispersing agent, these may be used independently and 2 or more types may be used.

上記微粒子分散剤の含有量は、有機溶媒分散体100質量%に対して、0.001〜5質量%であることが好ましい。このような範囲よりも少ないと、有機溶媒分散体中の微粒子の凝集を充分に防止することができないおそれがある一方、多いと、形成される導電性膜の導電性が発現しなくなるおそれがある。微粒子分散剤の含有量としてより好ましくは、0.01〜3質量%である。 The content of the fine particle dispersant is preferably 0.001 to 5% by mass with respect to 100% by mass of the organic solvent dispersion. If the amount is less than the above range, the aggregation of the fine particles in the organic solvent dispersion may not be sufficiently prevented. On the other hand, if the amount is larger, the conductivity of the formed conductive film may not be expressed. . More preferably, it is 0.01-3 mass% as content of a fine particle dispersing agent.

上記有機溶媒分散体は、水及び有機溶媒に対する両親媒性化合物を含有することが好ましい。両親媒性化合物を含有することによって、後述する自己組織化工程を行う際に、その界面活性機能によって、塗膜中に取り込む水滴の形状を好適な形態で保持することが容易となるため、例えば、水滴同士の凝集を制御することができ、導電性膜の網目を形成することが容易となる。両親媒性化合物としては、両親媒性低分子化合物でもよいし、両親媒性高分子化合物でもよく、特に限定されるものではない。界面活性機能をより発揮できる形態としては、両親媒性高分子化合物であることが好ましい。また、有機溶媒分散体中で塗膜中に取り込んだ水滴の形態を好適に保持するには、界面活性機能を有する化合物を用いることが好ましい。すなわち、上記有機溶媒分散体が、界面活性機能を有する化合物を含有することも本発明の好ましい形態の一つである。 The organic solvent dispersion preferably contains an amphiphilic compound for water and the organic solvent. By containing the amphiphilic compound, when performing the self-assembly process described later, it becomes easy to maintain the shape of the water droplets to be incorporated into the coating film by a surface active function, for example, In addition, aggregation of water droplets can be controlled, and it becomes easy to form a mesh of a conductive film. The amphiphilic compound may be an amphiphilic low molecular compound or an amphiphilic polymer compound, and is not particularly limited. As a form that can further exhibit the surface active function, an amphiphilic polymer compound is preferable. In order to suitably maintain the form of water droplets taken into the coating film in the organic solvent dispersion, it is preferable to use a compound having a surface active function. That is, it is one of the preferable embodiments of the present invention that the organic solvent dispersion contains a compound having a surface active function.

上記両親媒性化合物の含有量としては、有機溶媒分散体100質量%に対して、両親媒性化合物の含有量が0.001〜25質量%であることが好ましい。このような範囲の含有量とすることによって、パターンを有する膜を形成する際に行われる自己組織化工程において、塗工された有機溶媒分散体中に取り込まれる水滴の形態をより安定して保持することが可能となる。0.001質量%未満である場合には、塗膜表面における水滴の成長や輸送が困難になり、開口率が低くなるおそれがある。25質量%を超えると、塗膜表面で水滴が凝集し、空孔部が充分に形成されないおそれがある。また、導電性が発現しにくくなるおそれがある。両親媒性化合物の含有量としてより好ましくは、0.001〜15質量%であり、更に好ましくは、0.001〜5質量%であり、特に好ましくは、0.01〜1質量%である。 The content of the amphiphilic compound is preferably 0.001 to 25% by mass with respect to 100% by mass of the organic solvent dispersion. By setting the content in such a range, the form of water droplets taken into the coated organic solvent dispersion can be more stably maintained in the self-assembly process performed when forming a film having a pattern. It becomes possible to do. When the amount is less than 0.001% by mass, it is difficult to grow and transport water droplets on the surface of the coating film, and the aperture ratio may be lowered. If it exceeds 25% by mass, water droplets aggregate on the surface of the coating film, and there is a possibility that pores are not sufficiently formed. Moreover, there exists a possibility that electroconductivity may become difficult to express. More preferably, it is 0.001-15 mass% as content of an amphiphilic compound, More preferably, it is 0.001-5 mass%, Most preferably, it is 0.01-1 mass%.

上記両親媒性化合物としては、親水性基と疎水性基との両方を有する化合物であることが好ましい。両親媒性化合物には、後述する自己組織化工程において、基板上に塗工された有機溶媒分散体に付着した水滴が互いに融合することを防止する効果が期待される。両親媒性化合物としては、水及び有機溶媒の両方に対して親和する部分を有する化合物であれば特に限定されるものではないが、疎水性基としては、例えば、炭素数5〜20の炭化水素基、フェニル基、フェニレン基等の非極性基が挙げられる。また、親水性基としては、ヒドロキシル基、カルボキシル基、アミノ基、カルボニル基、スルホ基、エステル基、アミド基、エーテル基、ピリジン基等が挙げられる。 The amphiphilic compound is preferably a compound having both a hydrophilic group and a hydrophobic group. The amphiphilic compound is expected to have an effect of preventing water droplets attached to the organic solvent dispersion coated on the substrate from fusing each other in the self-assembly process described later. The amphiphilic compound is not particularly limited as long as it is a compound having an affinity for both water and an organic solvent. Examples of the hydrophobic group include hydrocarbons having 5 to 20 carbon atoms. And nonpolar groups such as a group, a phenyl group, and a phenylene group. Examples of the hydrophilic group include a hydroxyl group, a carboxyl group, an amino group, a carbonyl group, a sulfo group, an ester group, an amide group, an ether group, and a pyridine group.

上記両親媒性化合物としては、アルキル硫酸ナトリウム等のアニオン系界面活性剤、アルキルアンモニウムクロライド等のカチオン系界面活性剤、ポリオキシエチレンアルキルエーテル、ソルビタン脂肪酸エステル、ショ糖脂肪酸エステル、グリセリン脂肪酸エステル、ポリグリセリン脂肪酸エステル等のノニオン系界面活性剤、オクチルアミン、ドデシルアミン等のアルキルアミン、両親媒性高分子等が挙げられる。有機溶媒及び水への溶解性の観点からノニオン系界面活性剤、両親媒性高分子が好ましい。これらの両親媒性化合物は、単独で用いてもよいし、2種以上を併用してもよい。 Examples of the amphiphilic compound include anionic surfactants such as sodium alkyl sulfate, cationic surfactants such as alkyl ammonium chloride, polyoxyethylene alkyl ether, sorbitan fatty acid ester, sucrose fatty acid ester, glycerin fatty acid ester, poly Nonionic surfactants such as glycerin fatty acid esters, alkylamines such as octylamine and dodecylamine, amphiphilic polymers and the like can be mentioned. From the viewpoint of solubility in organic solvents and water, nonionic surfactants and amphiphilic polymers are preferred. These amphiphilic compounds may be used alone or in combination of two or more.

上記両親媒性高分子としては、ポリアクリルアミドを主鎖骨格として、側鎖に親水性基と疎水性基とを持つ高分子、疎水性(メタ)アクリレートと親水性(メタ)アクリレートとの共重合体、スチレンと親水性(メタ)アクリレートとの共重合体、スチレンと2−ビニルピリジンとの共重合体、オクタデシルイソシアネート変性ポリエチレンイミン(エポミンRP−20、日本触媒社製)のように主鎖に親水性基を持ち、側鎖に疎水性基を持つ高分子、疎水性基と親水性基とを有するポリエチレングリコールとポリプロピレングリコールとのブロック共重合体、又は、ジクロルジフェニルスルホンとビスフェノールAのナトリウム塩との重縮合により得られ、主鎖骨格中に疎水性基であるジフェニレンジメチルメチレン基と親水性基であるジフェニレンスルホン基とを有するポリスルホン等が挙げられる。 As the amphiphilic polymer, a polymer having polyacrylamide as a main chain skeleton, a hydrophilic group and a hydrophobic group in the side chain, and co-polymerization of hydrophobic (meth) acrylate and hydrophilic (meth) acrylate Polymer, copolymer of styrene and hydrophilic (meth) acrylate, copolymer of styrene and 2-vinylpyridine, octadecyl isocyanate modified polyethyleneimine (Epomin RP-20, manufactured by Nippon Shokubai Co., Ltd.) A polymer having a hydrophilic group and having a hydrophobic group in the side chain, a block copolymer of polyethylene glycol and polypropylene glycol having a hydrophobic group and a hydrophilic group, or sodium of dichlorodiphenylsulfone and bisphenol A It is obtained by polycondensation with a salt, and a diphenylenedimethylmethylene group which is a hydrophobic group and a divalent group which is a hydrophilic group in the main chain skeleton. Polysulfone or the like having a Enirensuruhon group.

上記両親媒性高分子としては、重量平均分子量5000以上500,000以下のものが好ましい。重量平均分子量5000以上500,000以下の両親媒性高分子であると、後述する自己組織化工程によりパターンを有する膜を形成する際に、溶媒蒸発時にパターン構造が崩れにくくなる。より好ましくは、重量平均分子量10,000以上300,000以下のものであり、更に好ましくは、50,000以上200,000以下であり、特に好ましくは、90,000以上100,000以下である。
また、上記両親媒性高分子の数平均分子量は3000以上500,000以下であることが好ましい。数平均分子量が3000以上500,000以下の両親媒性高分子であると、後述する自己組織化工程によりパターンを有する膜を形成する際に、溶媒蒸発時にパターン構造が崩れにくくなる。両親媒性高分子の数平均分子量としては、5000以上300,000以下であることがより好ましく、10,000以上200,000以下であることが更に好ましく、20,000以上100,000以下であることが特に好ましい。
重量平均分子量(Mw)及び数平均分子量(Mn)は、例えば、測定装置として、ゲル浸透クロマトグラフィ(GPC)HLC−8120(東ソー社製)を使用し、カラムにTSK−GEL GMHXL−L(東ソー社製)を用いて、ポリスチレン換算の分子量として測定することができる。
The amphiphilic polymer preferably has a weight average molecular weight of 5,000 to 500,000. When an amphiphilic polymer having a weight average molecular weight of 5,000 or more and 500,000 or less is used, a pattern structure is less likely to be collapsed during solvent evaporation when a film having a pattern is formed by a self-assembly process described later. More preferably, the weight average molecular weight is 10,000 or more and 300,000 or less, still more preferably 50,000 or more and 200,000 or less, and particularly preferably 90,000 or more and 100,000 or less.
The number average molecular weight of the amphiphilic polymer is preferably 3000 or more and 500,000 or less. When the number average molecular weight is 3000 or more and 500,000 or less, the pattern structure is less likely to collapse during solvent evaporation when a film having a pattern is formed by a self-assembly process described later. The number average molecular weight of the amphiphilic polymer is more preferably 5000 or more and 300,000 or less, further preferably 10,000 or more and 200,000 or less, and 20,000 or more and 100,000 or less. It is particularly preferred.
The weight average molecular weight (Mw) and the number average molecular weight (Mn) are, for example, gel permeation chromatography (GPC) HLC-8120 (manufactured by Tosoh Corporation) as a measuring device, and TSK-GEL GMHXL-L (Tosoh Corporation) as a column. Can be measured as a molecular weight in terms of polystyrene.

上記ポリアクリルアミドを主鎖骨格として、側鎖に親水性基と疎水性基とを持つ高分子としては、例えば、下記一般式(3): Examples of the polymer having polyacrylamide as the main chain skeleton and hydrophilic groups and hydrophobic groups in the side chains include, for example, the following general formula (3):

Figure 2012074206
Figure 2012074206

(式中、n及びmは、同一又は異なって、構成単位の繰り返し数を表す。)で表される(ドデシルアクリルアミド)−(ω−カルボキシヘキシルアクリルアミド)−ランダム共重合体(以下、「CAP」ともいう。)が好ましい。
式中、mに対するnの比率(n/m)としては、1〜15が好ましく、より好ましくは、2〜12であり、更に好ましくは、3〜10である。
(Wherein n and m are the same or different and represent the number of repeating structural units) (dodecylacrylamide) n- (ω-carboxyhexylacrylamide) m -random copolymer (hereinafter, “ Also referred to as “CAP”).
In the formula, the ratio of n to m (n / m) is preferably 1 to 15, more preferably 2 to 12, and still more preferably 3 to 10.

上記疎水性(メタ)アクリレートとしては、ノルマルヘキシル(メタ)アクリレート、シクロヘキシル(メタ)アクリレート、フェニル(メタ)アクリレート、ヘプチル(メタ)アクリレート、ベンジル(メタ)アクリレート、オクチル(メタ)アクリレート、2−エチルヘキシル(メタ)アクリレート、ノニル(メタ)アクリレート、デシル(メタ)アクリレート、ラウリル(メタ)アクリレート、ミリスチル(メタ)アクリレート、パルミチル(メタ)アクリレート、ステアリル(メタ)アクリレート等が挙げられる。 Examples of the hydrophobic (meth) acrylate include normal hexyl (meth) acrylate, cyclohexyl (meth) acrylate, phenyl (meth) acrylate, heptyl (meth) acrylate, benzyl (meth) acrylate, octyl (meth) acrylate, and 2-ethylhexyl. (Meth) acrylate, nonyl (meth) acrylate, decyl (meth) acrylate, lauryl (meth) acrylate, myristyl (meth) acrylate, palmityl (meth) acrylate, stearyl (meth) acrylate, and the like.

上記親水性(メタ)アクリレートとしては、(メタ)アクリル酸、2−ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート、4−ヒドロキシブチル(メタ)アクリレート、ジメチルアミノエチル(メタ)アクリレート、ジエチルアミノエチル(メタ)アクリレート、2−(メタ)アクリロイロキシエチルコハク酸、2−(メタ)アクリロイロキシエチル2−ヒドロキシプロピルフタレート、グリシジル(メタ)アクリレート、2−(メタ)アクリロイロキシエチルアシッドホスフェート、カプロラクトン変性(メタ)アクリレート等が挙げられる。 Examples of the hydrophilic (meth) acrylate include (meth) acrylic acid, 2-hydroxyethyl (meth) acrylate, 2-hydroxypropyl (meth) acrylate, 4-hydroxybutyl (meth) acrylate, and dimethylaminoethyl (meth) acrylate. , Diethylaminoethyl (meth) acrylate, 2- (meth) acryloyloxyethyl succinic acid, 2- (meth) acryloyloxyethyl 2-hydroxypropyl phthalate, glycidyl (meth) acrylate, 2- (meth) acryloyloxyethyl Acid phosphate, caprolactone-modified (meth) acrylate and the like.

また、上記疎水性(メタ)アクリレートの代わりに、疎水性(メタ)アクリルアミド、スチレン等の疎水性ラジカル重合性モノマーを、上記親水性(メタ)アクリレートの代わりに、親水性(メタ)アクリルアミド、N−ビニルピロリドン等の親水性ラジカル重合性モノマーを用いてもよい。
疎水性(メタ)アクリレート及び親水性(メタ)アクリレートはそれぞれ単独で用いてもよいし、2種以上を併用してもよい。また、異なる成分を含んでいてもよい。
Further, a hydrophobic radical polymerizable monomer such as hydrophobic (meth) acrylamide or styrene is used instead of the hydrophobic (meth) acrylate, and hydrophilic (meth) acrylamide, N is used instead of the hydrophilic (meth) acrylate. -Hydrophilic radically polymerizable monomers such as vinylpyrrolidone may be used.
Each of the hydrophobic (meth) acrylate and the hydrophilic (meth) acrylate may be used alone or in combination of two or more. Moreover, a different component may be included.

上記有機溶媒分散体は、バインダーを含むものであることが好ましい。バインダーを含むものであると、基板との密着性が向上することになる。バインダーとしては、有機溶媒に溶解する高分子であれば特に制限されないが、例えば、ウレタン樹脂、アクリル樹脂、ポリエステル樹脂、ポリアクリルアミド、ポリアルキレングリコール系ポリマー、ポリスチレン等が挙げられる。
これらのバインダーは、単独で用いてもよいし、2種以上を併用してもよい。
The organic solvent dispersion preferably contains a binder. Adhesiveness with a board | substrate improves that it contains a binder. The binder is not particularly limited as long as it is a polymer that dissolves in an organic solvent, and examples thereof include urethane resins, acrylic resins, polyester resins, polyacrylamides, polyalkylene glycol polymers, and polystyrene.
These binders may be used independently and may use 2 or more types together.

上記バインダーとしては、重量平均分子量5000以上500,000以下のものが好ましい。バインダーの重量平均分子量がこのような範囲であると、塗工された有機溶媒分散体と基板との密着性を充分なものとすることができる。より好ましくは、重量平均分子量10,000以上300,000以下のものであり、更に好ましくは、50,000以上200,000以下であり、特に好ましくは、90,000以上100,000以下である。
なお、バインダーの重量平均分子量は、例えば、上述した両親媒性高分子の重量平均分子量と同様にして測定することができる。
The binder preferably has a weight average molecular weight of 5000 or more and 500,000 or less. When the weight average molecular weight of the binder is within such a range, the adhesion between the coated organic solvent dispersion and the substrate can be made sufficient. More preferably, the weight average molecular weight is 10,000 or more and 300,000 or less, still more preferably 50,000 or more and 200,000 or less, and particularly preferably 90,000 or more and 100,000 or less.
In addition, the weight average molecular weight of a binder can be measured similarly to the weight average molecular weight of the amphiphilic polymer mentioned above, for example.

上記バインダーの含有量としては、有機溶媒分散体100質量%に対して、0.001〜50質量%であることが好ましい。このような範囲の含有量とすることによって、塗工された有機溶媒分散体と基板との密着性を充分なものとすることができる。また、上述したように、バインダーとして両親媒性高分子を用いる場合には、このような範囲の含有量とすることによって、自己組織化工程を行う際に、塗工された有機溶媒分散体中に取り込まれる水滴の形態をより安定して保持することができる。0.001質量%未満である場合には、後述する自己組織化工程を行う際に、塗膜表面における水滴の成長や輸送が困難になり、開口率が低くなるおそれがある。50質量%を超えると、塗工性が悪くなったり、水滴の成長が充分生じずに開口率が低くなったりするおそれがある。
バインダーの含有量としてより好ましくは、0.001〜25質量%であり、更に好ましくは、0.005〜25質量%である。
The content of the binder is preferably 0.001 to 50% by mass with respect to 100% by mass of the organic solvent dispersion. By setting it as content of such a range, the adhesiveness of the coated organic solvent dispersion and a board | substrate can be made sufficient. Further, as described above, when an amphiphilic polymer is used as a binder, the content in such a range allows the coated organic solvent dispersion in the coated organic solvent dispersion. It is possible to more stably maintain the form of water droplets taken into the water. When the content is less than 0.001% by mass, it is difficult to grow and transport water droplets on the surface of the coating film when the self-assembly process described later is performed, and the aperture ratio may be lowered. If it exceeds 50% by mass, the coatability may be deteriorated, and the aperture ratio may be lowered without sufficient growth of water droplets.
More preferably, it is 0.001-25 mass% as content of a binder, More preferably, it is 0.005-25 mass%.

上記有機溶媒分散体は、塗工前の水分含有量が10質量%以下であることが好ましい。塗工前の有機溶媒分散体中に水分が多く含有されている場合、有機溶媒分散体中の水分が表面張力により大きな水滴となり、後述する自己組織化工程によりパターンを有する膜を形成する際に、網目を細かくすることができないおそれがある。塗工前の水分含有量としてより好ましくは、5質量%以下である。 The organic solvent dispersion preferably has a water content of 10% by mass or less before coating. When a large amount of water is contained in the organic solvent dispersion before coating, the water in the organic solvent dispersion becomes large water droplets due to surface tension, and when a film having a pattern is formed by a self-assembly process described later. There is a possibility that the mesh cannot be made fine. More preferably, the water content before coating is 5% by mass or less.

上記有機溶媒分散体は、基板に塗工されるものである。上記基板は、特に限定されるものではなく、有機溶媒分散体を表面に塗工することができるものであればよい。上記基板としては、例えば、ガラス基板、プラスチック基板、単結晶基板、半導体基板、金属基板等の種々の基板を用いることができる。電子ペーパー(デジタルペーパー)等のディスプレイに用いる場合には、ガラス基板、透明性を有するプラスチック基板等の透明基板を基板として用いることが好適である。透明基板とは、可視光の透過率が高い基板のことであり、例えば、波長400〜700nmの可視光の透過率が50%以上であることが好ましい。より好ましくは、上記透過率が70%以上であり、更に好ましくは、80%以上である。また、ガラス基板、プラスチック基板を用いることは、低コスト化の観点からも好適である。また、電子ペーパー等の表示装置として用いる場合には、可とう性を有する基板を用いることも好ましい形態である。プラスチック基板としては、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート等のエステル系;アクリル系;シクロオレフィン系;オレフィン系;ポリアミド、ポリフェニレンスルフィド、ポリカーボネート等の樹脂系のフィルムが挙げられる。 The organic solvent dispersion is applied to a substrate. The said board | substrate is not specifically limited, What is necessary is just to be able to apply the organic solvent dispersion on the surface. As the substrate, for example, various substrates such as a glass substrate, a plastic substrate, a single crystal substrate, a semiconductor substrate, and a metal substrate can be used. When used for a display such as electronic paper (digital paper), a transparent substrate such as a glass substrate or a transparent plastic substrate is preferably used as the substrate. The transparent substrate is a substrate having a high visible light transmittance. For example, the visible light transmittance of a wavelength of 400 to 700 nm is preferably 50% or more. More preferably, the transmittance is 70% or more, and more preferably 80% or more. Use of a glass substrate or a plastic substrate is also preferable from the viewpoint of cost reduction. In the case of using as a display device such as electronic paper, it is also a preferable form to use a flexible substrate. Examples of the plastic substrate include ester films such as polyethylene terephthalate and polyethylene naphthalate; acrylic films; cycloolefin films; olefin films; resin films such as polyamide, polyphenylene sulfide, and polycarbonate.

上記有機溶媒分散体を塗工する基板は、表面が親水性である基板を用いることが好ましい。上記基板の表面が親水性であることによって、水滴と基板とを接触しやすくし、空孔の貫通率を高め、空孔底面に余分な高分子・粒子膜の形成を防ぐことができるため、後述する自己組織化工程によりパターンを有する膜を形成する際に、空孔部の形状を開口率が高い導電性膜の形態とすることができる。表面が親水性である基板としては、水に対する接触角が90°以下であることが好ましい。90°以下であることによって、有機溶媒分散体中に取り込まれた水滴の形状を調整し、空孔部の形状を開口率が高い形態にすることができる。水に対する接触角の上限としてより好ましくは、60°以下であり、更に好ましくは、30°以下である。 The substrate on which the organic solvent dispersion is applied is preferably a substrate having a hydrophilic surface. Since the surface of the substrate is hydrophilic, water droplets can be easily brought into contact with the substrate, the penetration rate of the pores can be increased, and formation of an extra polymer / particle film on the bottom surface of the pores can be prevented. When a film having a pattern is formed by a self-assembly process described later, the shape of the pores can be made into a conductive film having a high aperture ratio. The substrate having a hydrophilic surface preferably has a water contact angle of 90 ° or less. By being 90 ° or less, the shape of the water droplets taken into the organic solvent dispersion can be adjusted, and the shape of the pores can be made to have a high aperture ratio. More preferably, it is 60 degrees or less as an upper limit of the contact angle with respect to water, More preferably, it is 30 degrees or less.

上記有機溶媒分散体を塗工する基板は、基板表面に親水化処理を行われたものであることが好ましい。これによれば、有機溶媒分散体中に取り込まれた水滴を好適な形状で保持することができる。また、基板表面の親水性を制御することによって、導電性膜の形状を更に制御することができる。親水化処理の方法としては、特に限定されるものではないが、例えば、アルカリ性溶液に浸漬させる方法が好ましい。アルカリ性溶液としては、特に限定されるものではないが、水酸化カリウム溶液、水酸化ナトリウム溶液等を好ましく用いることができる。具体的には、飽和水酸化カリウムエタノール溶液等を好ましく用いることができる。また、親水化処理の方法としては、コロナ放電処理、プラズマ処理、UV−オゾン処理を行う方法等が挙げられる。このような方法は、基板の種類、有機溶媒分散体の種類等によって適宜好ましい方法を選択することが好ましい。また、親水化による基板の接触角は、上述した好ましい接触角の値を用いることができる。 It is preferable that the substrate on which the organic solvent dispersion is applied has been subjected to a hydrophilic treatment on the substrate surface. According to this, water droplets taken into the organic solvent dispersion can be held in a suitable shape. Further, the shape of the conductive film can be further controlled by controlling the hydrophilicity of the substrate surface. The hydrophilic treatment method is not particularly limited, but for example, a method of immersing in an alkaline solution is preferable. Although it does not specifically limit as an alkaline solution, A potassium hydroxide solution, a sodium hydroxide solution, etc. can be used preferably. Specifically, a saturated potassium hydroxide ethanol solution or the like can be preferably used. Examples of the hydrophilic treatment method include corona discharge treatment, plasma treatment, and UV-ozone treatment. It is preferable to select a preferable method as appropriate depending on the type of the substrate, the type of the organic solvent dispersion, and the like. Moreover, the value of the preferable contact angle mentioned above can be used for the contact angle of the board | substrate by hydrophilization.

本発明の導電性膜の製造方法において行われる、塗工された有機溶媒分散体を塗膜表面で結露させながら有機溶媒を蒸発させてパターンを有する膜を形成する工程(自己組織化工程)について説明する。
上記自己組織化工程によれば、有機溶媒を蒸発させながら、結露により生じた水滴を塗膜中に取り込むことができる。そして、有機溶媒が蒸発し、更に取り込まれた水滴を乾燥させることにより、取り込まれた水滴に対応する空孔部を形成することができる。これにより、導電性微粒子から形成された網目状線部と、空孔部とが形成される。このように、自己組織化工程により網目状のパターンを有する導電性膜を製造することができ、簡易かつ低コストに、導電性と光透過性とに優れた網目状の導電性膜を製造することが可能となる。すなわち、本発明の導電性膜の製造方法により形成された導電性膜は、網目状線部と空孔部とによって形成された網目状の導電性膜であることが好ましい。
About the process (self-assembling process) of forming a film having a pattern by evaporating the organic solvent while the coated organic solvent dispersion is condensed on the surface of the coating film, which is performed in the method for producing a conductive film of the present invention explain.
According to the self-organizing step, water droplets generated by condensation can be taken into the coating film while the organic solvent is evaporated. Then, the organic solvent evaporates and the taken water droplets are dried, so that a hole corresponding to the taken water droplets can be formed. Thereby, the mesh-like line part formed from electroconductive fine particles and the void | hole part are formed. Thus, a conductive film having a network pattern can be manufactured by a self-assembly process, and a network conductive film excellent in conductivity and light transmission can be manufactured easily and at low cost. It becomes possible. That is, the conductive film formed by the method for producing a conductive film of the present invention is preferably a mesh-like conductive film formed by a mesh-like line portion and a hole portion.

上記塗工された有機溶媒分散体を、塗膜表面で結露させながら有機溶媒を蒸発させる工程において、塗膜表面で結露させることは、塗膜表面付近の湿度や、塗膜表面付近の雰囲気と塗膜表面との温度差を調整することによって行うことができる。すなわち、塗膜表面で結露する条件とすればよい。本発明においては、自己組織化工程により塗膜表面に網目状の導電性部と空孔部とが形成されることになることから、これは、図1−1に示したような機構によって、塗膜表面で結露させながら有機溶媒を蒸発させることによって生じたものであることが技術的に見て明らかである。
上記のことから、上記自己組織化法は、塗工された有機溶媒を、塗膜表面で結露が生じる条件で蒸発させる工程ということもできる。塗膜表面で結露が生じる条件とは、例えば、有機溶媒を蒸発させる雰囲気の露点を、塗膜表面の温度よりも高いものとする条件である。結露を生じさせる方法としては特に限定されるものではないが、例えば、塗膜表面の温度を、有機溶媒を蒸発させる雰囲気の露点以下に冷却する方法、上記有機溶媒を蒸発させる雰囲気を加湿雰囲気として、該雰囲気の露点を塗膜表面の温度より高くする方法等が好適である。これらの方法は、一つの方法で用いてもよいし、複数の方法を組み合わせて用いてもよい。複数の方法を組み合わせて行うことによって、有機溶媒を蒸発させる条件をより精密に制御することができ、導電性膜の網目状パターンの形態を調整することができる。
In the step of evaporating the organic solvent while condensing the coated organic solvent dispersion on the surface of the coating film, the dew condensation on the surface of the coating film is caused by the humidity near the coating film surface and the atmosphere near the coating film surface. This can be done by adjusting the temperature difference from the surface of the coating film. That is, the conditions for condensation on the coating film surface may be used. In the present invention, a network-like conductive part and a hole part are formed on the surface of the coating film by the self-assembly process, and this is because of a mechanism as shown in FIG. It is clear from a technical viewpoint that the organic solvent is evaporated while condensation is formed on the surface of the coating film.
From the above, it can be said that the self-organization method is a step of evaporating the applied organic solvent under the condition that condensation occurs on the surface of the coating film. The conditions under which condensation occurs on the surface of the coating film are, for example, conditions in which the dew point of the atmosphere for evaporating the organic solvent is higher than the temperature of the coating film surface. The method for causing dew condensation is not particularly limited. For example, the method for cooling the surface of the coating film to a dew point below the atmosphere for evaporating the organic solvent, or the atmosphere for evaporating the organic solvent as a humidified atmosphere. A method of making the dew point of the atmosphere higher than the temperature of the coating film surface is suitable. These methods may be used in one method or a combination of a plurality of methods. By combining a plurality of methods, the conditions for evaporating the organic solvent can be controlled more precisely, and the form of the mesh pattern of the conductive film can be adjusted.

上記塗膜表面の温度を、有機溶媒を蒸発させる雰囲気の露点以下に冷却する方法としては特に限定されるものではないが、冷却素子等を用いて塗膜を強制的に冷却する方法、有機溶媒の蒸発潜熱により塗膜表面温度を低くする方法等が挙げられる。また、冷却素子等を用いて塗膜を強制的に冷却する方法としては、有機溶媒分散体を塗工した基板を冷却することで、塗膜表面の温度を冷却することも好ましい。このような方法で冷却することにより、塗膜表面の温度と、有機溶媒を蒸発させる雰囲気の温度との差が大きくなるため、より簡易に結露を生じさせることができる。すなわち、塗膜表面の温度を有機溶媒を蒸発させる雰囲気の温度よりも低くすることが好ましい。例えば、ペルチェ素子等の冷却機器を用いることによって、有機溶媒分散体を塗工した基板を冷却する方法が好ましい方法の一つとして挙げられる。この方法であると、塗膜表面の温度制御と、有機溶媒を蒸発させる塗膜周囲の雰囲気の制御とを独立して行うことができるため、より精密な条件設定を行うことができる。条件をより調整することにより、製造される導電性膜の形状、透過率、導電率等を制御することができるため、種々の用途に応じて好適な形態の導電性膜を形成することが可能となる。 The method for cooling the temperature of the coating film surface below the dew point of the atmosphere for evaporating the organic solvent is not particularly limited, but a method for forcibly cooling the coating film using a cooling element or the like, an organic solvent And a method of lowering the surface temperature of the coating film by latent heat of evaporation. Moreover, as a method of forcibly cooling the coating film using a cooling element or the like, it is also preferable to cool the temperature of the coating film surface by cooling the substrate coated with the organic solvent dispersion. By cooling by such a method, the difference between the temperature of the coating film surface and the temperature of the atmosphere in which the organic solvent is evaporated increases, so that condensation can be more easily generated. That is, it is preferable to make the temperature of the coating film surface lower than the temperature of the atmosphere in which the organic solvent is evaporated. For example, a method of cooling the substrate coated with the organic solvent dispersion by using a cooling device such as a Peltier device is one of preferable methods. With this method, temperature control of the coating film surface and control of the atmosphere around the coating film for evaporating the organic solvent can be performed independently, so that more precise condition setting can be performed. By adjusting the conditions more, the shape, transmittance, conductivity, etc. of the manufactured conductive film can be controlled, so it is possible to form a conductive film in a suitable form according to various applications. It becomes.

上記有機溶媒を蒸発させるときに塗膜表面で結露が生じるようにするためには、加湿雰囲気とすることが好ましい。すなわち、上記有機溶媒の蒸発を行う工程は、加湿雰囲気下で有機溶媒を蒸発させる工程であることが好ましい。加湿雰囲気とすることによって、有機溶媒分散体の表面で結露が生じやすくなる。上記有機溶媒を蒸発させる際の雰囲気を加湿雰囲気として、該露点を塗膜表面の温度より高くする方法としては、有機溶媒の蒸発を行う周囲全体を加湿する方法、加湿気体を塗膜表面に吹きつける方法等が好適である。加湿雰囲気とすることによって、塗膜表面で結露が生じやすくなる。加湿気体を塗膜表面に吹きつける際には、吹きつける速度等によって、塗膜の中に取り込まれる水滴の形状、量等が変化するため、吹きつける速度を調整することによって、有機溶媒を蒸発させる条件を調整することができる。これにより、導電性膜の形状を制御することができ、その特性(光透過率、導電性等)を向上させることができる。なお、上記加湿雰囲気は、加湿されるのと同様な条件、すなわち有機溶媒分散体の塗膜表面で結露が生じるのに充分な湿度となる雰囲気であればよく、加湿されていてもよいし、湿度の高い環境下で、有機溶媒を蒸発させる工程を行ってもよい。 In order to cause condensation on the coating film surface when the organic solvent is evaporated, a humidified atmosphere is preferable. That is, the step of evaporating the organic solvent is preferably a step of evaporating the organic solvent in a humidified atmosphere. By setting the humidified atmosphere, dew condensation is likely to occur on the surface of the organic solvent dispersion. As a method of setting the atmosphere at the time of evaporating the organic solvent as a humidified atmosphere and making the dew point higher than the temperature of the coating film surface, a method of humidifying the entire surroundings where the organic solvent is evaporated, a humidified gas is blown on the coating film surface. The attaching method is suitable. By using a humidified atmosphere, condensation tends to occur on the surface of the coating film. When the humidified gas is sprayed onto the surface of the coating film, the shape and amount of water droplets taken into the coating film changes depending on the spraying speed, etc., so the organic solvent is evaporated by adjusting the spraying speed. The conditions to be adjusted can be adjusted. Thereby, the shape of the conductive film can be controlled, and its characteristics (light transmittance, conductivity, etc.) can be improved. The humidified atmosphere may be any atmosphere as long as the humidity is sufficient to cause condensation on the surface of the coating film of the organic solvent dispersion, that is, the same conditions as the humidification, The step of evaporating the organic solvent may be performed under a high humidity environment.

上記加湿雰囲気は、相対湿度が50%以上であることが好ましい。相対湿度が50%以上と高いことによって、上記塗膜表面で結露が生じやすくなり、効率的に導電性膜の製造を行うことができる。相対湿度としては、55%以上であることがより好ましく、60%以上であることが更に好ましい。 The humidified atmosphere preferably has a relative humidity of 50% or more. When the relative humidity is as high as 50% or more, condensation tends to occur on the surface of the coating film, and the conductive film can be efficiently produced. The relative humidity is more preferably 55% or more, and still more preferably 60% or more.

上記加湿気体を吹きつける風速の上限としては、流速として5m/s(300m/min)以下であることが好ましい。5m/sを超える流速で加湿気体を吹きつける場合、塗工された有機溶媒分散体の形状が、加湿気体を吹きつけることにより変化し、有機溶媒を乾燥させた後の膜形状を目的の形状に保持することができないおそれがある。加湿気体を吹きつける風速の上限としてより好ましい流速としては、3m/s(180m/min)以下であり、更に好ましくは、1m/s(60m/min)以下である。また、上記風速の下限としては、0.02m/min以上であることが好ましい。風速が0.02m/min以下である場合には、塗工された有機溶媒分散体中に、水滴が充分に取り込まれないおそれがある。風速の下限としてより好ましい流速としては、0.1m/minであり、更に好ましくは、0.2m/min以上であり、特に好ましくは、0.4m/min以上である。加湿気体を吹きつける時間の上限としては、生産性の観点からは、1時間以内であることが好ましい。より好ましくは、40分以内であり、更に好ましくは、30分以内である。加湿気体を吹きつける時間の下限としては、1分以上であることが好ましい。1分未満であると、有機溶媒の蒸発が充分に行うことができないおそれがあり、また、有機溶媒分散体中へ水滴が充分に取り込まれないおそれがある。より好ましくは、5分以上であり、更に好ましくは、10分以上である。例えば、20分程度(15〜25分)が好適な時間である。吹きつける加湿気体の相対湿度についても、上述と同様に、相対湿度が50%以上であることが好ましく、更に好ましくは、55%以上であり、特に好ましくは、60%以上である。 The upper limit of the wind speed for blowing the humidified gas is preferably 5 m / s (300 m / min) or less as the flow velocity. When the humidified gas is blown at a flow rate exceeding 5 m / s, the shape of the coated organic solvent dispersion is changed by blowing the humidified gas, and the film shape after drying the organic solvent is changed to the desired shape. May not be able to be retained. The flow rate that is more preferable as the upper limit of the wind speed for blowing the humidified gas is 3 m / s (180 m / min) or less, and more preferably 1 m / s (60 m / min) or less. Moreover, as a minimum of the said wind speed, it is preferable that it is 0.02 m / min or more. When the wind speed is 0.02 m / min or less, water droplets may not be sufficiently taken into the coated organic solvent dispersion. The flow rate more preferable as the lower limit of the wind speed is 0.1 m / min, more preferably 0.2 m / min or more, and particularly preferably 0.4 m / min or more. The upper limit of the time for blowing the humidified gas is preferably within one hour from the viewpoint of productivity. More preferably, it is within 40 minutes, and more preferably within 30 minutes. The lower limit of the time for blowing the humidified gas is preferably 1 minute or longer. If it is less than 1 minute, the organic solvent may not be sufficiently evaporated, and water droplets may not be sufficiently taken into the organic solvent dispersion. More preferably, it is 5 minutes or more, More preferably, it is 10 minutes or more. For example, a suitable time is about 20 minutes (15 to 25 minutes). The relative humidity of the humidified gas to be blown is also preferably 50% or more, more preferably 55% or more, and particularly preferably 60% or more, as described above.

ここで、上記自己組織化工程により網目状のパターンを有する膜を製造する方法について図1−2を用いて説明する。図1−2は、塗工された有機溶媒分散体を、塗膜表面で結露させながら有機溶媒を蒸発させる工程を示すフロー図である。図1−2(a)で示すように、基板11に塗工された有機溶媒分散体(以下、「塗膜」ともいう。)は、塗膜12を形成した基板11を冷却する方法や加湿気体を吹きつける方法により塗膜表面で結露が生じる条件とすることで、図1−2(b)に示すように、塗膜の表面で結露が生じることとなる。結露により生じた水滴13は、図1−2(c)及び図1−2(d)に示すように塗膜12中に取り込まれる。また、塗工された有機溶媒分散体は、時間が経過するとともに、有機溶媒が蒸発し、薄くなっていく。そして、有機溶媒と、加湿雰囲気によって取り込まれた水滴とが蒸発することによって、図1−2(e)に示すように、有機溶媒が蒸発した膜は空孔部14及び網目状線部15が形成されたものとなる。このようにして、網目状のパターンが形成されることとなる。また、図2は、有機溶媒が蒸発した後の膜の形態を示す平面模式図であるが、形成された空孔部14の周りに金属を含んでなる網目状線部15が形成されたものとなり、網目状パターンを有する膜が形成される。
また、図3に示すように、ペルチェ素子20を用いて、基板21及び塗膜22の冷却を行い、更に加湿気体を塗工された有機溶媒分散体に吹きつけることにより有機溶媒を蒸発させる方法は、本発明の導電性膜の製造方法の好適な形態の一つである。すなわち、上記製造方法は、基板及び塗膜の冷却を行い、かつ加湿気体を塗膜に吹きつけ、該塗膜表面で結露させながら有機溶媒を蒸発させる工程を含む製造方法であることが好ましい。
Here, a method of manufacturing a film having a mesh pattern by the self-assembly process will be described with reference to FIGS. FIG. 1-2 is a flowchart showing a process of evaporating the organic solvent while the coated organic solvent dispersion is condensed on the coating film surface. As shown in FIG. 1-2 (a), the organic solvent dispersion (hereinafter also referred to as “coating film”) applied to the substrate 11 is a method for cooling the substrate 11 on which the coating film 12 is formed, or humidification. By setting it as the conditions which cause dew condensation on the coating film surface by the method of blowing gas, dew condensation occurs on the surface of the coating film as shown in FIG. The water droplet 13 generated by the condensation is taken into the coating film 12 as shown in FIGS. 1-2 (c) and 1-2 (d). In addition, the coated organic solvent dispersion evaporates with time and becomes thinner. Then, the organic solvent and the water droplets taken in by the humidified atmosphere evaporate, and as shown in FIG. It will be formed. In this way, a mesh pattern is formed. FIG. 2 is a schematic plan view showing the form of the film after the organic solvent evaporates, in which a mesh-like line portion 15 including a metal is formed around the formed hole portion 14. Thus, a film having a mesh pattern is formed.
Also, as shown in FIG. 3, a method of evaporating an organic solvent by cooling a substrate 21 and a coating film 22 using a Peltier element 20 and spraying a humidified gas on a coated organic solvent dispersion. Is one of the preferred embodiments of the method for producing a conductive film of the present invention. That is, the manufacturing method is preferably a manufacturing method including a step of cooling the substrate and the coating film, blowing a humidified gas onto the coating film, and evaporating the organic solvent while causing condensation on the coating film surface.

上記導電性膜の製造方法は、塗工された有機溶媒分散体を、塗膜表面で結露させながら有機溶媒を蒸発させる工程の後に、更に、無電解めっきを行う工程を含むことが好ましい。このように、無電解めっきを行うことによって、得られる導電性膜の導電性を更に向上させることができる。 The method for producing the conductive film preferably further includes a step of performing electroless plating after the step of evaporating the organic solvent while the coated organic solvent dispersion is condensed on the surface of the coating film. Thus, by performing electroless plating, the conductivity of the obtained conductive film can be further improved.

本発明はまた、上記製造方法により製造される導電性膜でもある。上記製造方法により製造されたものであることにより、上記導電性膜は、導電性物質の網目状線部と空孔部とによって形成された網目状の導電性膜となり、導電性と光透過性とに優れた透明導電性膜とすることができる。
なお、網目状のパターンを有する導電性膜における網目状線部と空孔部との配置形態としては、ランダム状であってもよいし、規則的に並んでいる状態であってもよい。また、大きめの網目や小さめの網目が混在し、いくつか網目が切れているところがあってもよいが、全体的に見れば、ミクロな技術分野において網目状の構造が認められると評価されるものであることが望ましい。すなわち、マイクロスコープで観察して、網目状の構造が確認できればよい。網目状の構造は、導電性膜全面に形成されていることが好ましいが、導電性膜が用いられる用途に応じて適宜設定されればよく、導電性膜としての機能が発揮され得る限り部分的であってもよい。その他の網目状の好ましい形態については後述する。ここで、ランダム状とは、網目状線部と空孔部とが一定の規則に基づいて配置されていない状態であることをいう。
以降においては、本発明の導電性膜の中でも、特に優れた導電性と光透過性とを有することになる、網目状のパターンを有する導電性膜の形態について説明する。なお、上記製造方法により製造される導電性膜のより好ましい形態としては、以下に説明する網目状の導電性膜の好ましい形態と同様である。
The present invention is also a conductive film manufactured by the above manufacturing method. By being manufactured by the above-described manufacturing method, the conductive film becomes a network-like conductive film formed by a mesh-like line portion and a void portion of a conductive substance, and is thus conductive and light-transmissive. It can be set as the transparent conductive film excellent in.
Note that the arrangement form of the mesh-like line portions and the hole portions in the conductive film having a mesh-like pattern may be random or regularly arranged. In addition, there may be some meshes where large and small meshes are mixed, but some meshes may be cut off, but overall, it is evaluated that a mesh-like structure is recognized in a micro technical field. It is desirable that That is, it is only necessary to confirm a network structure by observing with a microscope. The network structure is preferably formed on the entire surface of the conductive film, but may be appropriately set according to the use for which the conductive film is used, and may be partially as long as the function as the conductive film can be exhibited. It may be. Other preferred mesh-like forms will be described later. Here, the term “random” means that the mesh-like line portions and the hole portions are not arranged based on a certain rule.
Hereinafter, among the conductive films of the present invention, the form of a conductive film having a mesh pattern that has particularly excellent conductivity and light transmittance will be described. In addition, as a more preferable form of the electroconductive film manufactured by the said manufacturing method, it is the same as that of the preferable form of the mesh-shaped electroconductive film demonstrated below.

上記網目状の導電性膜の形態としては、空孔部の平均面積が400μm以下であり、網目状線部の線幅が5μm以下であることが好ましい。空孔部の平均面積が小さく、網目状線部の線幅が狭いことによって、光の透過性が高く、均一性の高い網目状の導電性膜を形成することができる。空孔部の平均面積としてより好ましくは、300μm以下であり、更に好ましくは、200μm以下であり、特に好ましくは、100μm以下である。また、上記空孔部は、平均最大フェレ径が20μm以下であることが好ましく、10μm以下であることがより好ましい。空孔部による開口率としては、60%以上であることが好ましく、これにより光透過率を高めた導電性膜とすることができる。空孔部による開口率は65%以上であることがより好ましく、更に好ましくは、70%以上であり、特に好ましくは、80%以上であり、最も好ましくは、90%以上である。上記網目状線部の線幅としてより好ましくは、2μm以下であり、更に好ましくは、1μm以下である。なお、最大フェレ径とは、各空孔部の輪郭に接するように引いた2本の平行線間の最大のものを最大フェレ径といい、平均最大フェレ径とは、計測した各空孔部の最大フェレ径の平均をとったものを平均最大フェレ径という。 As the form of the mesh-like conductive film, the average area of the pores is preferably 400 μm 2 or less, and the line width of the mesh-like line part is preferably 5 μm or less. Since the average area of the pores is small and the line width of the mesh-like line portion is narrow, it is possible to form a mesh-like conductive film having high light transmittance and high uniformity. The average area of the pores is more preferably 300 μm 2 or less, still more preferably 200 μm 2 or less, and particularly preferably 100 μm 2 or less. In addition, the hole portion preferably has an average maximum ferret diameter of 20 μm or less, and more preferably 10 μm or less. The aperture ratio due to the pores is preferably 60% or more, whereby a conductive film with improved light transmittance can be obtained. The aperture ratio due to the voids is more preferably 65% or more, further preferably 70% or more, particularly preferably 80% or more, and most preferably 90% or more. The line width of the mesh-like line portion is more preferably 2 μm or less, and further preferably 1 μm or less. The maximum ferret diameter is the maximum between two parallel lines drawn so as to be in contact with the outline of each hole, and is called the maximum ferret diameter. The average maximum ferret diameter is measured for each hole. The average of the maximum ferret diameter is called the average maximum ferret diameter.

本発明は更に、導電性物質の網目状線部と空孔部とによって形成された網目状の導電性膜であって、該導電性膜は、空孔部の平均面積が400μm以下であり、網目状線部の線幅が5μm以下である導電性膜でもある。空孔部の平均面積が小さく、網目状線部の線幅が狭いことによって、光の透過性が高く、かつ均一性の高い網目状の透明導電性膜を形成することができる。例えば、電子ペーパー等に用いる場合には、表示を行うマイクロカプセルに対して均一に電圧を印加することができる。網目が広い(空孔部の面積が大きい)場合、導電性膜により電圧を印加してマイクロカプセルの色を変化させるような電子ペーパー等のディスプレイに用いる場合、網目が細かいものでないとその空孔部の中にマイクロカプセルの全体が納まることとなり、そのようなカプセルには電圧が印加されないこととなる。また、網目が細かいことによって、導電性がより均一となる。これによれば、例えば、タッチパネルに用いられた場合、位置の認識の精度が高くなる。このような網目状の導電性膜は、上記導電性膜の製造方法を用いて形成することが可能である。上記導電性膜における網目状線部と空孔部との配置形態としては、ランダム状であってもよいし、規則的に並んでいる状態であってもよい。例えば、網目状の導電性膜を形成する際に、より網目の細かいものとするためには、ランダム状であった方が製造がより容易になるため、ランダム状であることも好ましい形態の一つである。 The present invention further relates to a network-like conductive film formed by a mesh-like line portion and a hole portion of a conductive substance, and the conductive film has an average area of the hole portion of 400 μm 2 or less. Also, the conductive film having a line width of the mesh-like line portion of 5 μm or less. Since the average area of the pores is small and the line width of the mesh line portion is narrow, it is possible to form a mesh-like transparent conductive film having high light transmission and high uniformity. For example, when used for electronic paper or the like, a voltage can be uniformly applied to microcapsules for display. When the mesh is wide (the area of the pores is large), when the voltage is applied by a conductive film to change the color of the microcapsules, the pores must be fine if the mesh is not fine. The entire microcapsule is contained in the part, and no voltage is applied to such a capsule. Further, the finer mesh makes the conductivity more uniform. According to this, for example, when used for a touch panel, the accuracy of position recognition increases. Such a network-like conductive film can be formed using the above-described method for manufacturing a conductive film. The arrangement form of the mesh-like line portions and the hole portions in the conductive film may be random or regularly arranged. For example, when forming a mesh-like conductive film, in order to make the mesh finer, it is easier to manufacture if it is random. One.

上記導電性膜は、空孔部の平均面積が400μm以下であり、網目状線部の線幅が5μm以下であることによって、導電性膜の網目が細かいということができる。網目が細かいことによって、導電性膜の面内で均一な導電性を有するものとすることができる。空孔部の平均面積が400μmを超える場合、導電性膜の面内の均一性が充分とならず、例えば、光の透過性、導電性にばらつきが生じるおそれがある。また、上述したように、電子ペーパー等のディスプレイに対して用いる場合、電圧が印加されない部分が生じることにより、導電性膜としての機能が充分でなくなるおそれがある。空孔部の平均面積として、より好ましくは、300μm以下であり、更に好ましくは、200μm以下であり、特に好ましくは、100μm以下である。また、上記空孔部は、平均最大フェレ径が20μm以下であることが好ましく、10μm以下であることがより好ましい。上記網目状線部の線幅は、5μm以下であり、線幅が狭いことによって、例えば、ディスプレイ等において生じるおそれのあるモアレを抑制することができる。網目状線部の線幅が5μmを越える場合、開口率が小さくなり、光透過性が充分でなくなるおそれがある。網目状線部の線幅として、より好ましくは、2μm以下であり、更に好ましくは、1μm以下である。上記のように、空孔部の平均面積、網目状線部の線幅を制御することによって、導電性膜の導電性と光透過性とをより好ましい値へと制御することができる。 In the conductive film, the average area of the pores is 400 μm 2 or less, and the line width of the mesh-like line part is 5 μm or less, which means that the mesh of the conductive film is fine. By having a fine mesh, it is possible to have a uniform conductivity within the surface of the conductive film. When the average area of the pores exceeds 400 μm 2 , the in-plane uniformity of the conductive film is not sufficient, and for example, there is a possibility that variations in light transmission and conductivity occur. In addition, as described above, when used for a display such as electronic paper, there is a possibility that the function as a conductive film may be insufficient due to the occurrence of a portion where no voltage is applied. The average area of the pores is more preferably 300 μm 2 or less, still more preferably 200 μm 2 or less, and particularly preferably 100 μm 2 or less. In addition, the hole portion preferably has an average maximum ferret diameter of 20 μm or less, and more preferably 10 μm or less. The line width of the mesh-like line portion is 5 μm or less, and the narrow line width can suppress, for example, moire that may occur in a display or the like. When the line width of the mesh-like line portion exceeds 5 μm, the aperture ratio becomes small and the light transmittance may not be sufficient. The line width of the mesh-like line portion is more preferably 2 μm or less, and further preferably 1 μm or less. As described above, by controlling the average area of the hole portions and the line width of the mesh-like line portions, the conductivity and light transmittance of the conductive film can be controlled to more preferable values.

上記導電性膜は、空孔部による開口率が60%以上であることが好ましい。開口率を高めることによって、光の透過性を向上させることができるため、電子ペーパー等のディスプレイに用いる場合に好適に用いることができる。60%未満であると、充分な光透過率を得ることができず、透過性を有する導電性膜として充分な特性を発揮することができないおそれがある。空孔部による開口率は、65%以上であることがより好ましく、更に好ましくは、70%以上であり、特に好ましくは、80%以上であり、最も好ましくは、90%以上である。
開口率、線幅、空孔部の平均面積及び平均最大フェレ径については、以下の方法により求めることができる。
The conductive film preferably has an aperture ratio of 60% or more due to the pores. Since the light transmittance can be improved by increasing the aperture ratio, it can be suitably used for a display such as electronic paper. If it is less than 60%, sufficient light transmittance cannot be obtained, and there is a possibility that sufficient characteristics as a conductive film having transparency cannot be exhibited. The opening ratio due to the pores is more preferably 65% or more, further preferably 70% or more, particularly preferably 80% or more, and most preferably 90% or more.
The aperture ratio, line width, average area of pores, and average maximum ferret diameter can be determined by the following methods.

<開口率、線幅、空孔部の平均面積、平均最大フェレ径の求め方>
導電性膜の表面を超高分解能電界放出形走査電子顕微鏡(日立ハイテクノロジーズ社製、S−4800)にて倍率1000倍で観察し、観察した画像を画像処理ソフト(Image−Pro Plus ver.4.0、米国Media Cybernetics社製)を用いて、以下の方法で処理し、導電膜の開口率、線幅、空孔部の平均面積、フェレ径を求める。
<How to find the aperture ratio, line width, average area of pores, average maximum ferret diameter>
The surface of the conductive film was observed with an ultrahigh resolution field emission scanning electron microscope (S-4800, manufactured by Hitachi High-Technologies Corporation) at a magnification of 1000 times, and the observed image was image processing software (Image-Pro Plus ver. 4). 0.0, manufactured by Media Cybernetics, USA), the following methods are used to determine the aperture ratio, line width, average area of pores, and ferret diameter of the conductive film.

顕微鏡観察した画像(これを「原画像」とする。)を、上述の画像処理ソフトを用いて導電部が黒、その他の部分(網目の開口部)が白となるように白黒に二値化する。この時、二値化の閾値は、色調のヒストグラムより白と黒のピーク値を求め、その中間値とする。次に、二値化画像の白黒反転処理を行う(この画像を「二値化画像」とする。)。この時の、全体の面積に対する黒部の面積比を求め、開口率とする。 The image observed with a microscope (this is called the “original image”) is binarized into black and white using the above-mentioned image processing software so that the conductive part is black and the other part (mesh opening) is white. To do. At this time, as the binarization threshold value, the peak values of white and black are obtained from the tone histogram, and set to the intermediate value. Next, black and white inversion processing of the binarized image is performed (this image is referred to as “binarized image”). At this time, the area ratio of the black portion with respect to the entire area is obtained and set as the aperture ratio.

また、二値化画像の白部の面積を求め、これを導電部の面積(S)とする。次に、二値化画像の細線化処理を行う(この画像を「細線化処理画像」とする。)。細線化処理画像の白部の面積を求め、これを導電部の長さ(L)とする。上記で求めたSとLの値を用い、下記式(1)により導電部の線幅を求める。
導電部の線幅=S/L (1)
Moreover, the area of the white part of a binarized image is calculated | required and let this be the area (S) of an electroconductive part. Next, thinning processing of the binarized image is performed (this image is referred to as “thinning processing image”). The area of the white part of the thinned image is obtained, and this is defined as the length (L) of the conductive part. Using the values of S and L obtained above, the line width of the conductive portion is obtained by the following formula (1).
Line width of conductive part = S / L (1)

続いて、二値化画像の黒部を抽出する(この画像を「抽出画像」とする。)。抽出の際、境界上の空孔部については除外する。また、1μm以下の面積の空孔部についても除外する。このときの、各要素の面積、及び、最大フェレ径を計測し、平均化したものを、それぞれ、空孔部の平均面積、空孔部の平均最大フェレ径とする。 Subsequently, the black portion of the binarized image is extracted (this image is referred to as “extracted image”). During extraction, voids on the boundary are excluded. In addition, pores having an area of 1 μm 2 or less are also excluded. At this time, the area of each element and the maximum ferret diameter are measured and averaged to obtain the average area of the hole portion and the average maximum ferret diameter of the hole portion, respectively.

上記網目状線部の厚みは、200nm以上であることが好ましい。200nm以上であることによって、線幅が狭くなったとしても充分な導電率を得ることができる。導電性膜の膜厚が200nm未満である場合には、導電性が低くなり、導電性膜としての特性を充分に発揮することができないおそれがある。網目状線部の厚みとしてより好ましくは、1μm以上である。なお、網目状線部の厚みは、最大膜厚を測定することによって求められ、例えば、レーザー顕微鏡を用いることによって測定することができる。測定方法としては、レーザー顕微鏡(VK−9700、キーエンス社製)で倍率50倍で塗膜を観測し、観察した画像から塗膜の最大の段差を10箇所で計測し、平均した値を導電性膜の最大膜厚とする。 The thickness of the mesh line portion is preferably 200 nm or more. When the thickness is 200 nm or more, sufficient conductivity can be obtained even if the line width is narrowed. When the film thickness of the conductive film is less than 200 nm, the conductivity is low, and the characteristics as the conductive film may not be sufficiently exhibited. More preferably, the thickness of the mesh line portion is 1 μm or more. In addition, the thickness of a mesh line part is calculated | required by measuring the maximum film thickness, for example, can be measured by using a laser microscope. As a measurement method, the coating film was observed at a magnification of 50 times with a laser microscope (VK-9700, manufactured by Keyence Corporation), the maximum step of the coating film was measured at 10 locations from the observed image, and the averaged value was measured as conductivity. The maximum film thickness.

本発明の導電性膜は、可視光(波長が400〜700nm)の光透過率が20%以上であることが好ましい。光透過率を高くすることで、例えば、電子ペーパー等の表示装置に対して好適に用いることができる。光透過率としてより好ましくは、40%以上であり、更に好ましくは、60%以上であり、特に好ましくは、80%以上である。上記光透過率は、分光光度計(商品名「V−530」、日本分光社製)を用いて、300〜800nmの波長の光について測定することができる。 The conductive film of the present invention preferably has a light transmittance of 20% or more for visible light (wavelength: 400 to 700 nm). By increasing the light transmittance, for example, it can be suitably used for a display device such as electronic paper. The light transmittance is more preferably 40% or more, still more preferably 60% or more, and particularly preferably 80% or more. The light transmittance can be measured for light having a wavelength of 300 to 800 nm using a spectrophotometer (trade name “V-530”, manufactured by JASCO Corporation).

本発明の導電性膜はまた、全光線透過率が20%以上であることが好ましい。全光線透過率が20%以上である場合、例えば、電子ペーパー等の表示装置に対して好適に用いることができる。全光線透過率としてより好ましくは、40%以上であり、更に好ましくは、50%以上であり、特に好ましくは、60%以上である。最も好ましくは、75%以上である。
なお、上記全光線透過率は、ヘイズメーター NDH5000(日本電色工業社製)を用いて、JIS K7361−1に準拠して測定することができる。
The conductive film of the present invention preferably has a total light transmittance of 20% or more. When the total light transmittance is 20% or more, for example, it can be suitably used for a display device such as electronic paper. More preferably, the total light transmittance is 40% or more, still more preferably 50% or more, and particularly preferably 60% or more. Most preferably, it is 75% or more.
In addition, the said total light transmittance can be measured based on JISK7361-1 using haze meter NDH5000 (made by Nippon Denshoku Industries Co., Ltd.).

本発明の導電性膜は、表面抵抗率が1012Ω/□以下であることが好ましい。このような表面抵抗率であると、充分な導電性を有しているため、例えば、電子ペーパー等の表示装置に対して好適に用いることができる。より好ましくは、10Ω/□以下であり、更に好ましくは、10Ω/□以下であり、特に好ましくは、10Ω/□以下である。最も好ましくは、10Ω/□以下である。
また、上記網目状のパターンを有する導電性膜においては、特に、空孔部による開口率が高い場合、網目状線部の面積が小さくなると、開口率が低い同じ膜厚の導電性膜と比較すると、導電性膜の抵抗率が増加することとなる。そのため、網目状線部の面積は、充分な導電性を確保することができる面積であることが好ましい。好ましい網目状線部の面積は、導電性膜の膜厚、面積、導電性膜を構成する金属材料等によって異なるが、例えば、導電性膜の面内の表面抵抗率が1012Ω/□以下であるように網目状線部の面積を設定することが好ましい。これによれば、導電性膜の表面抵抗率としてより好ましくは、10Ω/□以下であり、更に好ましくは、10Ω/□以下であり、特に好ましくは、10Ω/□以下である。最も好ましくは、10Ω/□以下である。
なお、上記表面抵抗率は、抵抗率計 ロレスター−GP(三菱化学アナリテック社製、プローブ:ASPプローブ)を用いて、四端子四探針法により測定することができる。
The conductive film of the present invention preferably has a surface resistivity of 10 12 Ω / □ or less. Since it has sufficient electroconductivity as it is such surface resistivity, it can be used suitably, for example with respect to display apparatuses, such as electronic paper. More preferably, it is 10 8 Ω / □ or less, more preferably 10 7 Ω / □ or less, and particularly preferably 10 6 Ω / □ or less. Most preferably, it is 10 5 Ω / □ or less.
In addition, in the conductive film having the above-described mesh pattern, particularly when the aperture ratio due to the holes is high, the area of the mesh line portion is small and compared with the conductive film having the same film thickness with a low aperture ratio. As a result, the resistivity of the conductive film increases. Therefore, the area of the mesh line portion is preferably an area that can ensure sufficient conductivity. The preferred area of the mesh line portion varies depending on the film thickness and area of the conductive film, the metal material constituting the conductive film, and the like. For example, the surface resistivity in the plane of the conductive film is 10 12 Ω / □ or less. It is preferable to set the area of the mesh line portion so that According to this, the surface resistivity of the conductive film is more preferably 10 8 Ω / □ or less, further preferably 10 7 Ω / □ or less, and particularly preferably 10 6 Ω / □ or less. is there. Most preferably, it is 10 5 Ω / □ or less.
The surface resistivity can be measured by a four-terminal four-probe method using a resistivity meter Lorester-GP (manufactured by Mitsubishi Chemical Analytech, probe: ASP probe).

本発明の導電性膜は、ヘイズが40%以下であることが好ましい。ヘイズを低く抑えることで、例えば、電子ペーパー等の表示装置に対して用いた場合、画像鮮明性を向上させることができる。ヘイズとしてより好ましくは、30%以下であり、更に好ましくは、25%以下であり、特に好ましくは、20%以下である。
なお、上記ヘイズは、ヘイズメーター NDH5000(日本電色工業社製)を用いて、JIS K7361−1に準拠して測定することができる。
The conductive film of the present invention preferably has a haze of 40% or less. By suppressing the haze to a low level, for example, when used for a display device such as electronic paper, the image clarity can be improved. The haze is more preferably 30% or less, still more preferably 25% or less, and particularly preferably 20% or less.
In addition, the said haze can be measured based on JISK7361-1 using haze meter NDH5000 (made by Nippon Denshoku Industries Co., Ltd.).

上記導電性膜の用途としては、特に限定されるものではなく、導電性を必要とする用途であればどのような用途にも用いることができる。例えば、プラズマディスプレイ等に用いられる電磁波遮蔽フィルム(EMIシールドフィルム)等として用いることができるし、電子ペーパー(デジタルペーパー)、液晶表示装置の表示装置に用いられる電極として用いることもできる。また、タッチパネル等にも用いることができる。
このように、本発明はまた、デジタルペーパーに用いられる導電性膜でもある。
The use of the conductive film is not particularly limited, and can be used for any application that requires conductivity. For example, it can be used as an electromagnetic wave shielding film (EMI shield film) used for a plasma display or the like, and can also be used as an electrode used for a display device of electronic paper (digital paper) or a liquid crystal display device. It can also be used for touch panels and the like.
Thus, the present invention is also a conductive film used for digital paper.

本発明はまた、上記製造方法により導電性膜を製造するための導電性膜の製造装置でもある。すなわち、導電性微粒子を含む有機溶媒分散体を基板に塗工してパターンを有する導電性膜を製造する装置であって、上記製造装置は、有機溶媒分散体を基板に塗工した後、塗工された有機溶媒分散体を塗膜表面で結露させながら有機溶媒を蒸発させてパターンを有する膜を形成する手段と、上記パターンを有する膜に有機溶媒を含む溶媒溶液を作用させる手段とを有する導電性膜の製造装置もまた、本発明の1つである。 The present invention is also a conductive film manufacturing apparatus for manufacturing a conductive film by the above manufacturing method. That is, an apparatus for manufacturing a conductive film having a pattern by applying an organic solvent dispersion containing conductive fine particles to a substrate, wherein the manufacturing apparatus applies the organic solvent dispersion after applying the organic solvent dispersion to the substrate. A means for forming a film having a pattern by evaporating the organic solvent while the processed organic solvent dispersion is condensed on the surface of the coating film; and a means for allowing a solvent solution containing the organic solvent to act on the film having the pattern. An apparatus for producing a conductive film is also one aspect of the present invention.

本発明の製造装置は、有機溶媒分散体を基板に塗工する工程を行う部分、塗工された有機溶媒分散体を塗膜表面で結露させながら有機溶媒を蒸発させてパターンを有する膜を形成する工程を行う部分、及び、パターンを有する膜に有機溶媒を含む溶媒溶液を作用させる工程を行う部分を含むものであるが、これらの工程を行う部分を含む限り、その他の工程を行う部分を含んでいてもよい。特に、有機溶媒分散体が塗工される前にろ過されるよう、ろ過装置を設けて有機溶媒分散体溶液に含まれる不純物、ゲル状異物、凝集異物を取り除くことが高品質の導電性膜を製造するために好ましい。 The manufacturing apparatus of the present invention forms a film having a pattern by evaporating the organic solvent while condensing the coated organic solvent dispersion on the surface of the coating film, a part for performing the step of applying the organic solvent dispersion to the substrate Including a part for performing a process and a part for performing a process for allowing a solvent solution containing an organic solvent to act on a film having a pattern, as long as a part for performing these processes is included, including a part for performing other processes. May be. In particular, a high-quality conductive film can be obtained by removing impurities, gel-like foreign matters and aggregated foreign matters contained in the organic solvent dispersion solution by providing a filtration device so that the organic solvent dispersion is filtered before being applied. Preferred for manufacturing.

上記有機溶媒分散体を基板に塗工する工程を行う部分において、有機溶媒分散体を基板に塗工する方法としては、スライド法、エクストリュージョン法、バー法、グラビア法のいずれかの方法が好ましい。また、長さの長い導電性膜を製造するために、基板としては長さの長いものが好ましく、連続製造のためには、ウェブ状の基板を用いることが好ましい。また、ウェブ状の基板はロール状の形態のものが運搬・取扱い上より好ましく、導電性膜が形成されたウェブ状基板も、巻き取りローラーなどでロール状の形態にすることで、運搬・取扱いが容易になり好ましい。 In the part of performing the step of applying the organic solvent dispersion to the substrate, as a method of applying the organic solvent dispersion to the substrate, any of the slide method, the extrusion method, the bar method, and the gravure method may be used. preferable. In order to produce a long conductive film, a long substrate is preferable, and for continuous production, a web-like substrate is preferably used. In addition, a web-like substrate is preferably in roll form for transportation and handling, and a web-like substrate on which a conductive film is formed can also be carried and handled by making it into a roll form with a take-up roller or the like. Is preferable.

上記塗工された有機溶媒分散体を塗膜表面で結露させながら有機溶媒を蒸発させてパターンを有する膜を形成する工程を行う部分は、基板上に有機溶媒分散体を塗工して形成された膜の表面温度よりも膜近傍の気体の露点が高くなるように調整された雰囲気下で、有機溶媒分散体の塗膜の表面に気体の風を送り、有機溶媒を蒸発させるとともに該気体を結露させて塗膜表面に液滴を形成する工程(結露工程)を行う部分と、表面に液滴を有する膜を該膜の表面温度よりも塗膜近傍の気体の露点が低くなるように調整された雰囲気下におくことで該液滴を蒸発させる工程(液滴蒸発工程)を行う部分とを含むことが好ましい。また、該塗膜に吹きつける気体としては空気が好ましい。 The part of performing the step of forming a film having a pattern by evaporating the organic solvent while condensing the coated organic solvent dispersion on the coating film surface is formed by applying the organic solvent dispersion on the substrate. In an atmosphere adjusted so that the dew point of the gas in the vicinity of the film is higher than the surface temperature of the film, a gas wind is sent to the surface of the coating film of the organic solvent dispersion to evaporate the organic solvent and Adjust the part that performs the process of forming droplets on the coating surface by condensation (condensation process) and the film that has droplets on the surface so that the dew point of the gas near the coating film is lower than the surface temperature of the film It is preferable to include a portion for performing a step of evaporating the droplets (droplet evaporation step) by being placed in the atmosphere. Moreover, air is preferable as the gas sprayed onto the coating film.

上記結露工程においては、塗膜表面に液滴を形成することができる限り、塗膜の表面温度と塗膜近傍の気体の露点との差は、特に制限されないが、90℃以下であることが好ましい。より好ましくは80℃以下であり、更に好ましくは70℃以下である。結露工程直前の塗膜の表面温度、及び、結露工程の露点のばらつきは、±5%以下が好ましい。より好ましくは、±3%以下であり、更に好ましくは、±2%以下である。
移動するウェブ状の基板を用いて製造する場合、ウェブ状の基板の移動速度は、0.1m/min〜100m/minが好ましい。より好ましくは、0.1m/min〜80m/minであり、更に好ましくは、0.1m/min〜60m/minである。また、ウェブ状の基板の移動速度に対する送風される気体の相対速度は、0.05m/s以上が好ましく、0.lm/s以上がより好ましい。また、30m/s以下が好ましく、より好ましくは、20m/s以下である。また、相対速度のばらつきは、±30%以下が好ましい。より好ましくは、±20%以下であり、更に好ましくは、±10%以下である。これにより、有機溶媒を充分に蒸発させるとともに塗膜表面に液滴を充分に形成するとともに、品質の安定した膜を形成することができる。
また、上記結露工程において送風口から送られる風は、塗膜に対して、ばらつきが±20°以内となるような角度で一方向から供給されることが好ましく、更にウェブ状の基板の移動方向に向けて吹く平行な風であることがより好ましい。風を塗膜に対して向かい風として送風すると、風と塗膜との相対速度が低い条件で製造する場合に、風の速度制御が難しく、塗膜表面が乱れて塗膜の平滑性が失われるおそれがある。
In the dew condensation step, the difference between the surface temperature of the coating film and the dew point of the gas in the vicinity of the coating film is not particularly limited as long as droplets can be formed on the coating film surface. preferable. More preferably, it is 80 degrees C or less, More preferably, it is 70 degrees C or less. The variation of the surface temperature of the coating film immediately before the dew condensation process and the dew point of the dew condensation process is preferably ± 5% or less. More preferably, it is ± 3% or less, and still more preferably ± 2% or less.
When manufacturing using the moving web-like substrate, the moving speed of the web-like substrate is preferably 0.1 m / min to 100 m / min. More preferably, it is 0.1 m / min-80 m / min, More preferably, it is 0.1 m / min-60 m / min. The relative speed of the blown gas with respect to the moving speed of the web-like substrate is preferably 0.05 m / s or more. 1 m / s or more is more preferable. Moreover, 30 m / s or less is preferable, More preferably, it is 20 m / s or less. The relative speed variation is preferably ± 30% or less. More preferably, it is ± 20% or less, and still more preferably ± 10% or less. Thereby, the organic solvent can be sufficiently evaporated, droplets can be sufficiently formed on the surface of the coating film, and a film with stable quality can be formed.
Moreover, it is preferable that the air sent from the air blowing port in the dew condensation step is supplied from one direction at an angle such that the variation is within ± 20 ° with respect to the coating film, and further the moving direction of the web-like substrate More preferably, it is a parallel wind blowing toward When the wind is blown against the paint film as a head wind, it is difficult to control the speed of the wind when the relative speed between the wind and the paint film is low. There is a fear.

上記液滴蒸発工程においては、塗膜表面の液滴を蒸発させることができる限り、塗膜の表面温度と塗膜近傍の気体の露点との差は、特に制限されないが、0.5℃以上が好ましい。より好ましくは、1℃以上であり、更に好ましくは、2℃以上である。また、90℃以下であることが好ましい。より好ましくは80℃以下であり、更に好ましくは70℃以下である。また、液滴蒸発工程直前の塗膜の表面温度、及び、液滴蒸発工程の露点のばらつきは、±5%以下が好ましい。より好ましくは、±3%以下であり、更に好ましくは、±2%以下である。
液滴蒸発工程においては、塗膜に乾燥風を送ることで液滴の蒸発を促すことが好ましい。その場合、乾燥風は、塗膜に対して、±20°以内となるような角度で一方向から供給されることが好ましく、更に塗膜の移動方向に向けて平行に吹く風であることがより好ましい。
なお、上記結露工程、液滴蒸発工程において、膜の表面温度を制御する方法としては、移動するウェブ状の基板を用いる場合、当該ウェブ状基板に接する回転式のローラーに温度調節機を設け、基板の温度を制御することで膜の表面温度を制御する方法を用いることができる。その場合、例えば、伝熱媒体が流れる液流路をローラーの内部に設け、温度調節された伝熱媒体を送液する方法等を用いることができる。
In the droplet evaporation step, the difference between the surface temperature of the coating film and the dew point of the gas in the vicinity of the coating film is not particularly limited as long as the droplets on the coating film surface can be evaporated. Is preferred. More preferably, it is 1 degreeC or more, More preferably, it is 2 degreeC or more. Moreover, it is preferable that it is 90 degrees C or less. More preferably, it is 80 degrees C or less, More preferably, it is 70 degrees C or less. Further, the variation of the surface temperature of the coating film immediately before the droplet evaporation step and the dew point of the droplet evaporation step are preferably ± 5% or less. More preferably, it is ± 3% or less, and still more preferably ± 2% or less.
In the droplet evaporation step, it is preferable to promote evaporation of the droplets by sending dry air to the coating film. In that case, it is preferable that the drying air is supplied from one direction at an angle that is within ± 20 ° with respect to the coating film, and is a wind that blows in parallel toward the moving direction of the coating film. More preferred.
As a method for controlling the surface temperature of the film in the dew condensation step and the droplet evaporation step, when a moving web-like substrate is used, a temperature controller is provided on a rotary roller in contact with the web-like substrate, A method of controlling the surface temperature of the film by controlling the temperature of the substrate can be used. In that case, for example, a liquid flow path through which the heat transfer medium flows can be provided inside the roller, and a method of feeding the temperature-controlled heat transfer medium can be used.

上記パターンを有する膜に有機溶媒を含む溶媒溶液を作用させる工程を行う部分は、有機溶媒を含む溶媒溶液が入った容器内に、上記液滴蒸発工程を経てパターンが形成された膜を通過させる構造となった部分であることが好ましい。パターンを有する膜を有機溶媒を含む溶媒溶液が入った容器内に通過させる方法は特に制限されない。 The part that performs the step of causing the solvent solution containing the organic solvent to act on the film having the pattern passes the film on which the pattern has been formed through the droplet evaporation step into the container containing the solvent solution containing the organic solvent. It is preferable that the portion has a structure. The method for allowing the film having a pattern to pass through a container containing a solvent solution containing an organic solvent is not particularly limited.

本発明の製造装置の一例の概略図を図7に示す。
図7の導電性膜製造設備100においては、導電性微粒子を含む有機溶媒分散体101が入ったタンク102が設置されている。タンク102には撹拌翼を有する撹拌機103が設置されており、撹拌翼が回転することで有機溶媒分散体101中の導電性微粒子の分散状態を保っている。有機溶媒分散体101は、ポンプ104により有機溶媒分散体を基板上に塗工する流延ダイ105に送られる。流延ダイ105は、ウェブ状の基板106の上方に備えられており、ウェブ状基板106は、送出ローラー108から出され、回転ローラー109〜111を経て、巻き取りローラー112によって巻き取られる。送出ローラー108及び回転ローラー109は、温度調節機107により温度を調整されており、これによって、送出ローラー108と回転ローラー109との間のウェブ状基板106の温度が制御される。流延ダイ105から有機溶媒分散体が塗工されたウェブ状基板は、上記結露工程を行う領域121、上記液滴蒸発工程を行う領域131、及び、パターンを有する膜に有機溶媒を含む溶媒溶液を作用させるための有機溶媒を含む溶媒溶液が入った槽141を通過した後、ウェブ状基板上に形成された導電性膜152と共に巻き取りローラー112に巻き取られる。
A schematic diagram of an example of the production apparatus of the present invention is shown in FIG.
In the conductive film manufacturing facility 100 of FIG. 7, a tank 102 containing an organic solvent dispersion 101 containing conductive fine particles is installed. The tank 102 is provided with a stirrer 103 having a stirring blade, and the conductive fine particles in the organic solvent dispersion 101 are kept in a dispersed state by rotating the stirring blade. The organic solvent dispersion 101 is sent by a pump 104 to a casting die 105 that coats the organic solvent dispersion on a substrate. The casting die 105 is provided above the web-like substrate 106, and the web-like substrate 106 is taken out from the delivery roller 108 and taken up by the take-up roller 112 through the rotation rollers 109 to 111. The temperature of the sending roller 108 and the rotating roller 109 is adjusted by a temperature controller 107, and thereby the temperature of the web-like substrate 106 between the sending roller 108 and the rotating roller 109 is controlled. The web-like substrate coated with the organic solvent dispersion from the casting die 105 includes a region 121 for performing the condensation process, a region 131 for performing the droplet evaporation process, and a solvent solution containing an organic solvent in a film having a pattern. After passing through a tank 141 containing a solvent solution containing an organic solvent to act, the film is wound around the winding roller 112 together with the conductive film 152 formed on the web-like substrate.

上記送出ローラー108と回転ローラー109との間のウェブ状の基板106の傾きは、水平方向に対して±10°以内であることが好ましい。流延ダイ105によって有機溶媒分散体101が基板106上に塗工されてから、結露工程に至るまでの間は、塗工された有機溶媒分散体が流動する状態にあるため、基板106の傾きが大きいと、有機溶媒分散体が傾斜の低いほうに寄ってしまい、均一な厚みの塗膜が形成されないおそれがある。有機溶媒分散体が基板上に塗工されてから、結露工程に至るまでの間の傾斜を±10°以内とすることで塗膜の厚みのばらつきを抑制することができる。より好ましくは、結露工程が終わるまでの間、傾斜を±10°以内とすることである。
送出ローラー108と回転ローラー109との間のウェブ状の基板106の傾きを水平方向に対して±10°以内とすることで、有機溶媒分散体が基板上に塗工されてから、結露工程が終わるまで間、基板106の傾きを水平方向に対して±10°以内とすることができる。
The inclination of the web-like substrate 106 between the delivery roller 108 and the rotating roller 109 is preferably within ± 10 ° with respect to the horizontal direction. Since the coated organic solvent dispersion is in a state of flowing from the time when the organic solvent dispersion 101 is coated on the substrate 106 by the casting die 105 until the dew condensation process, the inclination of the substrate 106 is increased. If the value is large, the organic solvent dispersion tends to have a lower inclination, and a coating film having a uniform thickness may not be formed. Variation in the thickness of the coating film can be suppressed by setting the inclination from the time when the organic solvent dispersion is applied on the substrate to the dew condensation process within ± 10 °. More preferably, the inclination is within ± 10 ° until the condensation process is completed.
By setting the inclination of the web-like substrate 106 between the delivery roller 108 and the rotating roller 109 to be within ± 10 ° with respect to the horizontal direction, the dew condensation process is performed after the organic solvent dispersion is applied on the substrate. In the meantime, the inclination of the substrate 106 can be within ± 10 ° with respect to the horizontal direction.

有機溶媒分散体を基板に塗工する工程においては、送出ローラー108から出されたウェブ状の基板106上へ流延ダイ105から導電性微粒子を含む有機溶媒分散体101が塗工され塗膜が形成される。
結露工程を行う領域121においては、基板上の塗膜151に風を送るための送風機122から、温度が制御された塗膜に風が当てられ、塗膜上に液滴が形成される。送風機122は、送風口とともに、送風した風を吸引する吸引口を有するものであることが好ましく、送風口、吸引口を複数有するものであってもよい。送風機122は、独立に風の温度、湿度、風量及び吸引力を制御することができる複数の送風機から構成されるものであることが好ましい。これにより、結露によって発生する水滴の形状や量等に応じて送風や吸引を行う条件を制御することが可能となる。複数の送風機は、基板の移動方向に平行に複数設置されていてもよく、基板の移動方向に垂直に複数設置されていてもよい。基板の移動方向に垂直に複数設置すると、基板の移動方向に垂直な塗膜の幅方向についても結露条件を制御することができる。更に、風に塵や埃が混じって風の清浄度が低下するのを防ぐために、送風口、吸引口はフィルタを備えていることが好ましい。
In the step of applying the organic solvent dispersion to the substrate, the organic solvent dispersion 101 containing conductive fine particles is applied from the casting die 105 onto the web-like substrate 106 taken out from the delivery roller 108 to form a coating film. It is formed.
In the region 121 where the dew condensation process is performed, wind is applied to the coating film whose temperature is controlled from the blower 122 for sending wind to the coating film 151 on the substrate, and droplets are formed on the coating film. The blower 122 preferably has a suction port that sucks the blown air together with the blower port, and may have a plurality of blower ports and suction ports. It is preferable that the air blower 122 is composed of a plurality of air blowers capable of independently controlling the temperature, humidity, air volume, and suction force of the wind. This makes it possible to control the conditions for blowing and suctioning according to the shape and amount of water droplets generated by condensation. A plurality of blowers may be installed in parallel to the moving direction of the substrate, or a plurality of fans may be installed perpendicular to the moving direction of the substrate. If a plurality of substrates are installed perpendicular to the moving direction of the substrate, the dew condensation condition can be controlled in the width direction of the coating film perpendicular to the moving direction of the substrate. Furthermore, in order to prevent the wind and dust from being mixed with the wind and reducing the cleanliness of the wind, the air blowing port and the suction port are preferably provided with a filter.

上記液滴蒸発工程を行う領域131には、乾燥機132が設置されており、この乾燥機132は、塗膜151に乾燥風を送ることで、塗膜上に形成された液滴を乾燥させ、パターンを形成する。乾燥機132は、塗膜151に乾燥風を送るとともに、送風機122から送られた風を吸引する吸引口を有することが好ましい。乾燥機132も送風機122と同様に風の温度と露点とを制御することで、塗膜151の乾燥条件を容易に調整することが可能となる。乾燥機132も送風機122と同様に、独立に風の温度、湿度、風量及び吸引力を制御することができる複数の乾燥機から構成されるものであることが好ましく、その場合、複数の乾燥機は、基板の移動方向に平行に複数設置されていてもよく、基板の移動方向に垂直に複数設置されていてもよい。基板の移動方向に垂直に複数設置されている場合、基板の移動方向に垂直な塗膜の幅方向についても乾燥条件を制御することができる。また、風に塵や埃が混じって風の清浄度が低下するのを防ぐために、乾燥機の送風口、吸引口はフィルタを備えていることが好ましい。
なお、図7においては、結露工程を行う領域121、液滴蒸発工程を行う領域131は、離れているが、これら2つの領域が接触していてもよい。すなわち、送風機122と乾燥機132とが一体となった形態の送風、乾燥機を用いてもよい。
A dryer 132 is installed in the region 131 where the droplet evaporation step is performed. The dryer 132 sends drying air to the coating film 151 to dry the droplets formed on the coating film. To form a pattern. The dryer 132 preferably has a suction port for sending the drying air to the coating film 151 and sucking the air sent from the blower 122. Similarly to the blower 122, the dryer 132 can easily adjust the drying conditions of the coating film 151 by controlling the temperature and dew point of the wind. Similarly to the blower 122, the dryer 132 is preferably composed of a plurality of dryers capable of independently controlling the temperature, humidity, air volume, and suction force of the wind. May be provided in parallel with the moving direction of the substrate, or may be provided perpendicular to the moving direction of the substrate. In the case where a plurality of substrates are installed perpendicular to the moving direction of the substrate, the drying conditions can be controlled also in the width direction of the coating film perpendicular to the moving direction of the substrate. Further, in order to prevent the cleanliness of the wind from being deteriorated due to dust and dust mixed with the wind, it is preferable that the air blowing port and the suction port of the dryer include a filter.
In FIG. 7, the region 121 where the dew condensation process is performed and the region 131 where the droplet evaporation process is performed are separated, but these two regions may be in contact with each other. That is, you may use the air blower and dryer of the form with which the air blower 122 and the dryer 132 were united.

上記液滴蒸発工程を行う領域131を経て、パターンを有する膜を形成した後、有機溶媒を含む溶媒溶液142が入った槽141を通過する。これにより、パターンを有する膜に有機溶媒を含む溶媒溶液142を作用させることができる。図7の装置においては、槽141中で溶媒溶液142の中にある回転ローラーは110の1つだけであるが、図13に示すように、有機溶媒を含む溶媒溶液742の中に回転ローラー702、703の2つを有する槽を用いてもよく、このような槽を用いた場合、溶媒溶液742の中に存在する2つの回転ローラーの間隔を調整することで、パターンを有する膜に有機溶媒を含む溶媒溶液を作用させる時間の長さを調整することができる。また、槽の中の溶媒溶液の液量を調整することによっても、パターンを有する膜に有機溶媒を含む溶媒溶液を作用させる時間の長さを調整することができる。なお、図7の回転ローラー109、図13の回転ローラー701とパターンを有する膜を挟んで対向する位置に弾性ローラーを設置してもよい。その場合、回転ローラー109、701と弾性ローラーの回転軸が水平になる位置に弾性ローラーを設置することが好ましい。 After a film having a pattern is formed through the region 131 where the droplet evaporation process is performed, the film 141 passes through a tank 141 containing a solvent solution 142 containing an organic solvent. Thereby, the solvent solution 142 containing the organic solvent can be allowed to act on the film having a pattern. In the apparatus of FIG. 7, there is only one rotating roller 110 in the solvent solution 142 in the tank 141, but as shown in FIG. 13, the rotating roller 702 is included in the solvent solution 742 containing the organic solvent. , 703 may be used, and when such a tank is used, an organic solvent is applied to the film having a pattern by adjusting the interval between two rotating rollers present in the solvent solution 742. It is possible to adjust the length of time for which the solvent solution containing is allowed to act. Moreover, the length of time for which the solvent solution containing the organic solvent is allowed to act on the film having the pattern can also be adjusted by adjusting the amount of the solvent solution in the tank. In addition, you may install an elastic roller in the position which opposes the rotation roller 109 of FIG. 7, and the rotation roller 701 of FIG. 13 across the film | membrane which has a pattern. In that case, it is preferable to install the elastic roller at a position where the rotation axes of the rotation rollers 109 and 701 and the elastic roller are horizontal.

上記流延ダイ105によって有機溶媒分散体101が基板106上に塗工されてから、液滴蒸発工程までの工程を行う部分としては、上記導電性膜製造設備100に示されたものの他、図8に示すように、2つの回転ローラー207、208によってウェブ状基板206が移動し、当該ウェブ状基板の上下に分けて結露工程を行う領域221、液滴蒸発工程を行う領域231を設けた形態のものとしてもよい。なお、図8において、201〜205は、それぞれ101〜105と同じであり、222、232も122、132と同様、それぞれ送風機、乾燥機である。
更に別の形態として、図9のように移動するベルト301上に設置された複数の基板302上に有機溶媒分散体を塗工し、基板上の塗膜311に対して結露工程、液滴蒸発工程を行う形態のものとしてもよい。図9において、305は流延ダイ、321は結露工程を行う領域、331は液滴蒸発工程を行う領域、322、332はそれぞれ送風機、乾燥機である。
なお、図8、9においては、導電性膜製造装置全体のうち、塗工されてから、液滴蒸発工程までの部分を示している。
As a part for performing the process from the coating of the organic solvent dispersion 101 on the substrate 106 by the casting die 105 to the droplet evaporation process, in addition to those shown in the conductive film manufacturing facility 100, FIG. As shown in FIG. 8, the web-like substrate 206 is moved by two rotating rollers 207 and 208, and a region 221 for performing a dew condensation process and a region 231 for performing a droplet evaporation process are provided separately above and below the web-like substrate. It is good also as a thing. In FIG. 8, 201 to 205 are the same as 101 to 105, respectively, and 222 and 232 are a blower and a dryer, respectively, similar to 122 and 132.
As yet another form, an organic solvent dispersion is applied on a plurality of substrates 302 installed on a moving belt 301 as shown in FIG. 9, and a dew condensation process or droplet evaporation is applied to a coating film 311 on the substrate. It is good also as a form of performing a process. In FIG. 9, 305 is a casting die, 321 is a region where a dew condensation process is performed, 331 is a region where a droplet evaporation process is performed, and 322 and 332 are a blower and a dryer, respectively.
8 and 9 show a portion from the coating to the droplet evaporation step in the entire conductive film manufacturing apparatus.

更に、有機溶媒分散体を基板に塗工する方法として、流延ダイによる方法に代えて、図10に示すように、スライドコーター402を用いることができる。図10に示す形態では、バックアップローラー404に対向してスライドコーター402が設置されており、また、スライドコーター402には減圧チャンバー403が設置されている。スライドコーターは、基板の移動方向における均一塗工性、生産性に優れ、また、基板405に接触することなく塗工することができるので、基板405の表面を傷つけることなく、均一な塗膜を形成することができる。更には、基板がバックアップローラー404に巻き掛けられている際に平滑化されるので、均一な塗膜を形成することができる。
また、上記図10におけるスライドコーター402に代えて、多層式スライドコーターやエクストリュージョンコーターを用いることもできる。
なお、図10においては、導電性膜製造装置全体のうち、有機溶媒分散体を基板に塗工する工程の部分を示している。
Furthermore, as a method of applying the organic solvent dispersion to the substrate, a slide coater 402 can be used as shown in FIG. 10 instead of the method using a casting die. In the form shown in FIG. 10, a slide coater 402 is installed facing the backup roller 404, and a decompression chamber 403 is installed in the slide coater 402. The slide coater is excellent in uniform coating property and productivity in the moving direction of the substrate, and can be applied without contacting the substrate 405, so that a uniform coating film can be formed without damaging the surface of the substrate 405. Can be formed. Furthermore, since the substrate is smoothed when it is wound around the backup roller 404, a uniform coating film can be formed.
Further, in place of the slide coater 402 in FIG. 10, a multilayer slide coater or an extrusion coater can be used.
In addition, in FIG. 10, the part of the process of apply | coating an organic-solvent dispersion body to a board | substrate among the whole electroconductive film manufacturing apparatuses is shown.

その他の方法として、図11に示すように、ワイヤーバー塗工機501を用いて、有機溶媒分散体502を基板504に塗工する方法を用いることもできる。この方法では、ワイヤーバー503の回転によって引き上げられた有機溶媒分散体502が基板504に接触して塗膜が形成される。
更に図12に示すように、表面に凹部を有する版胴603と圧胴602とが対向して設置され、版胴603が回転することで版胴603の凹部604に入った有機溶媒分散体605が圧胴602上を移動している基板601上に塗工される形態の塗工方法を用いることもできる。図12において、606は過剰な有機溶媒分散体605を掻き落とすドクターブレードである。
なお、図11、12においても、導電性膜製造装置全体のうち、有機溶媒分散体を基板に塗工する工程の部分を示している。
図7〜13に示した装置、及び、装置の部分は、いずれも本発明の導電性膜の製造装置の好ましい形態であり、これらを種々組み合わせてできる製造装置もまた、本発明の導電性膜の製造装置の好ましい形態である。
As another method, as shown in FIG. 11, a method of coating the organic solvent dispersion 502 on the substrate 504 using a wire bar coating machine 501 can also be used. In this method, the organic solvent dispersion 502 pulled up by the rotation of the wire bar 503 comes into contact with the substrate 504 to form a coating film.
Further, as shown in FIG. 12, a plate cylinder 603 having a recess on the surface and an impression cylinder 602 are installed facing each other, and the organic solvent dispersion 605 entering the recess 604 of the plate cylinder 603 by rotating the plate cylinder 603. It is also possible to use a coating method in which the coating is applied on the substrate 601 moving on the impression cylinder 602. In FIG. 12, reference numeral 606 denotes a doctor blade that scrapes off excess organic solvent dispersion 605.
11 and 12 also show a part of the step of applying the organic solvent dispersion to the substrate in the entire conductive film manufacturing apparatus.
The apparatus shown in FIGS. 7 to 13 and the part of the apparatus are all preferable embodiments of the conductive film manufacturing apparatus of the present invention, and the manufacturing apparatus capable of combining them in various ways is also the conductive film of the present invention. This is a preferred form of the manufacturing apparatus.

本発明の導電性膜の製造方法によって、優れた導電性と光透過性とを有する導電性膜を、簡易かつ安価に製造することができる。また、製造工程において焼成するような高温での処理工程を必要としないために、基板としてPETフィルム等の汎用高分子基板を用いることができる方法である。そして、このようにして得られる導電性膜は、優れた導電性と光透過性とを有しているため、電子ペーパー等のディスプレイ等に好適に用いることができる。 By the method for producing a conductive film of the present invention, a conductive film having excellent conductivity and light transmittance can be produced simply and inexpensively. In addition, since a high-temperature treatment process such as baking in the manufacturing process is not required, a general-purpose polymer substrate such as a PET film can be used as the substrate. And since the conductive film obtained in this way has the outstanding electroconductivity and light transmittance, it can be used suitably for displays, such as electronic paper.

図1−1は、塗工された有機溶媒分散体を、塗膜表面で結露させながら有機溶媒を蒸発させる工程の一例を示す、時間の経過による塗膜断面の概念図である。FIG. 1-1 is a conceptual diagram of a cross-section of a coating film over time, showing an example of a process of evaporating an organic solvent while condensing a coated organic solvent dispersion on the coating film surface. 図1−2(a)〜(e)は、塗工された有機溶媒分散体を、塗膜表面で結露させながら有機溶媒を蒸発させる工程を示す概念図である。FIGS. 1-2 (a) to (e) are conceptual diagrams illustrating a process of evaporating the organic solvent while the coated organic solvent dispersion is condensed on the surface of the coating film. 図2は、空孔部と網目状線部が形成された網目状の導電性膜の平面模式図である。FIG. 2 is a schematic plan view of a mesh-like conductive film in which pores and mesh-like line portions are formed. 図3は、ペルチェ素子を用いて、基板及び塗膜を冷却し、更に加湿気体を塗膜に吹きつけながら蒸発させる方法を示す断面模式図である。FIG. 3 is a schematic cross-sectional view showing a method of using a Peltier device to cool a substrate and a coating film and to evaporate while blowing a humidified gas onto the coating film. 図4は、実施例1〜13について、有機溶媒を含む溶媒溶液を作用させる時間と、表面抵抗率との関係を示したグラフである。FIG. 4 is a graph showing the relationship between the time during which a solvent solution containing an organic solvent acts and the surface resistivity in Examples 1 to 13. 図5は、実施例1〜13について、有機溶媒を含む溶媒溶液を作用させる時間と、全光線透過率との関係を示したグラフである。FIG. 5 is a graph showing the relationship between the time during which a solvent solution containing an organic solvent acts and the total light transmittance for Examples 1 to 13. 図6は、実施例1〜13について、有機溶媒を含む溶媒溶液を作用させる時間と、ヘイズとの関係を示したグラフである。FIG. 6 is a graph showing the relationship between the time during which a solvent solution containing an organic solvent acts and haze for Examples 1 to 13. 図7は、本発明の導電性膜の製造装置の一例である導電性膜製造設備100の概略図である。FIG. 7 is a schematic view of a conductive film manufacturing facility 100 as an example of the conductive film manufacturing apparatus of the present invention. 図8は、本発明の導電性膜の製造装置の一例として、導電性膜の製造装置全体のうち、有機溶媒分散体が基板上に塗工されてから、液滴蒸発工程までの部分を示した概略図である。FIG. 8 shows, as an example of the conductive film manufacturing apparatus of the present invention, a portion from the coating of the organic solvent dispersion to the droplet evaporation step in the entire conductive film manufacturing apparatus. FIG. 図9は、本発明の導電性膜の製造装置の一例として、導電性膜の製造装置全体のうち、有機溶媒分散体が基板上に塗工されてから、液滴蒸発工程までの部分を示した概略図である。FIG. 9 shows, as an example of the conductive film manufacturing apparatus of the present invention, a part from the coating of the organic solvent dispersion to the droplet evaporation process in the entire conductive film manufacturing apparatus. FIG. 図10は、本発明の導電性膜の製造装置の一例として、導電性膜の製造装置全体のうち、有機溶媒分散体を基板上に塗工する工程の部分を示した概略図である。FIG. 10 is a schematic view showing a part of a process for coating an organic solvent dispersion on a substrate in the entire conductive film manufacturing apparatus as an example of the conductive film manufacturing apparatus of the present invention. 図11は、本発明の導電性膜の製造装置の一例として、導電性膜の製造装置全体のうち、有機溶媒分散体を基板上に塗工する工程の部分を示した概略図である。FIG. 11 is a schematic view showing a part of a process for applying an organic solvent dispersion on a substrate in the entire conductive film manufacturing apparatus as an example of the conductive film manufacturing apparatus of the present invention. 図12は、本発明の導電性膜の製造装置の一例として、導電性膜の製造装置全体のうち、有機溶媒分散体を基板上に塗工する工程の部分を示した概略図である。FIG. 12 is a schematic view showing a part of a process of coating an organic solvent dispersion on a substrate in the entire conductive film manufacturing apparatus as an example of the conductive film manufacturing apparatus of the present invention. 図13は、本発明の導電性膜の製造装置の一例として、導電性膜の製造装置全体のうち、パターンを有する膜に有機溶媒を含む溶媒溶液を作用させる工程の部分を示した概略図である。FIG. 13 is a schematic diagram showing a part of a process of allowing a solvent solution containing an organic solvent to act on a film having a pattern in the entire conductive film manufacturing apparatus as an example of the conductive film manufacturing apparatus of the present invention. is there.

以下に実施例を掲げて本発明を更に詳細に説明するが、本発明はこれらの実施例のみに限定されるものではない。なお、特に断りのない限り、「部」は「重量部」を、「%」は「質量%」を意味するものとする。 The present invention will be described in more detail with reference to the following examples. However, the present invention is not limited to these examples. Unless otherwise specified, “part” means “part by weight” and “%” means “mass%”.

下記実施例及び比較例においては、次のようにして導電性膜の物性を測定した。
<表面抵抗率>
導電性膜の表面抵抗率は、抵抗率計 ロレスター−GP(三菱化学アナリテック社製、プローブ:ASPプローブ)を用いて、四端子四探針法により測定した。
<全光線透過率、ヘイズ>
導電性膜の全光線透過率、ヘイズは、ヘイズメーター NDH5000(日本電色工業社製)を用いて、JIS K7361−1に準拠して測定した。
In the following examples and comparative examples, the physical properties of the conductive film were measured as follows.
<Surface resistivity>
The surface resistivity of the conductive film was measured by a four-terminal four-probe method using a resistivity meter Lorester-GP (manufactured by Mitsubishi Chemical Analytech, probe: ASP probe).
<Total light transmittance, haze>
The total light transmittance and haze of the conductive film were measured according to JIS K7361-1 using a haze meter NDH5000 (manufactured by Nippon Denshoku Industries Co., Ltd.).

<導電性微粒子分散溶液の調整方法>
オクチルアミン(和光純薬工業株式会社製)148.1gをいれた1Lビーカーを40℃の恒温槽に入れる。次に酢酸銀(和光純薬工業株式会社製)18.6gを添加し20分間充分に攪拌混合し、均一な混合溶液を調整する。続いて、20wt%水素化ホウ素ナトリウム水溶液20gを徐々に添加することにより還元処理を実施した。
還元処理後、アセトンを200g添加し、しばらく放置後、ろ過により銀及び有機物からなる沈殿物を分離回収する。回収物にトルエンを添加し、再溶解後、10℃以下まで冷却させた後、再度ろ過し、不純物を低減させたトルエン分散溶液を調整した。次に、エバボレーターによりトルエンを留去し、銀微粒子を20wt%含有する導電性微粒子分散溶液を調整した。この溶液は、銀微粒子の他にオクチルアミン9wt%、トルエン71wt%を含有する溶液であった。この溶液をFE−SEMで観察したところ、平均粒子径4nm、変動係数が14%の粒子径分布をもつナノ粒子分散体であることが確認された。
<Method for preparing conductive fine particle dispersion>
A 1 L beaker containing 148.1 g of octylamine (manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd.) is placed in a constant temperature bath at 40 ° C. Next, 18.6 g of silver acetate (manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd.) is added and thoroughly stirred and mixed for 20 minutes to prepare a uniform mixed solution. Subsequently, a reduction treatment was performed by gradually adding 20 g of a 20 wt% sodium borohydride aqueous solution.
After the reduction treatment, 200 g of acetone is added, and after standing for a while, a precipitate composed of silver and organic matter is separated and recovered by filtration. Toluene was added to the recovered material, redissolved, cooled to 10 ° C. or lower, and then filtered again to prepare a toluene dispersion with reduced impurities. Next, toluene was distilled off by an evaporator to prepare a conductive fine particle dispersion containing 20 wt% of silver fine particles. This solution was a solution containing 9 wt% octylamine and 71 wt% toluene in addition to the silver fine particles. When this solution was observed with FE-SEM, it was confirmed to be a nanoparticle dispersion having a particle size distribution with an average particle size of 4 nm and a coefficient of variation of 14%.

(参考例1)
<多孔質膜作製条件>
導電性微粒子分散溶液を用いて、銀の重量濃度として0.93mg/ml(シクロヘキサン溶液100質量%に対して、0.120質量%に相当。)、NIKKOL Decaglyn 7−OV(ヘプタオレイン酸ポリグリセリル−10、日光ケミカルズ社製)0.028mg/ml(シクロヘキサン溶液100質量%に対して、0.0036質量%に相当。)のシクロヘキサン溶液を調整した。23℃、相対湿度70%の雰囲気下で、1.6mlの上記溶液を5cm角のPETフィルム(ルミラーU34、両面易接着処理PET、東レ社製)基板上に塗布し、加湿空気(相対湿度70%)を1.6m/minの流速で、10分間吹きつけて有機溶媒を蒸発させて、乾燥製膜した。
<乾燥条件>
室温、常圧下で乾燥(風乾)した。
<焼成条件>
乾燥を行った後の膜を、電気炉で常圧、空気雰囲気下で10℃/分で昇温し、150℃で30分焼成を行った。焼成後、自然放冷し、室温まで冷却した。
このときの導電性膜の表面抵抗率は、1.7×10Ω/□、全光線透過率は、43.7%、ヘイズは、34.5%であった。また、導電性膜の最大膜厚、開口率、線幅、空孔部の平均面積、空孔部の平均最大フェレ径を求めた結果、表1の通りであった。
(Reference Example 1)
<Porous membrane preparation conditions>
Using the conductive fine particle dispersion solution, the weight concentration of silver was 0.93 mg / ml (corresponding to 0.120% by mass with respect to 100% by mass of the cyclohexane solution), NIKKOL Decaglyn 7-OV (polyglyceryl heptaoleate- (10, manufactured by Nikko Chemicals) 0.028 mg / ml (corresponding to 0.0036% by mass with respect to 100% by mass of the cyclohexane solution) was prepared. In an atmosphere of 23 ° C. and a relative humidity of 70%, 1.6 ml of the above solution was applied onto a 5 cm square PET film (Lumirror U34, double-sided easy-adhesion treated PET, manufactured by Toray Industries, Inc.) substrate, and humidified air (relative humidity of 70 %) Was sprayed at a flow rate of 1.6 m / min for 10 minutes to evaporate the organic solvent, and a dry film was formed.
<Drying conditions>
It was dried (air-dried) at room temperature and normal pressure.
<Baking conditions>
After drying, the film was heated at 10 ° C./min in an electric furnace at normal pressure and air atmosphere, and baked at 150 ° C. for 30 minutes. After firing, it was allowed to cool naturally and cooled to room temperature.
At this time, the surface resistivity of the conductive film was 1.7 × 10 2 Ω / □, the total light transmittance was 43.7%, and the haze was 34.5%. Further, the maximum film thickness, the aperture ratio, the line width, the average area of the hole portion, and the average maximum ferret diameter of the hole portion of the conductive film were obtained, and as shown in Table 1.

(実施例1)
焼成工程の代わりに、乾燥を行った後の膜を有機溶媒を含む溶媒溶液であるメタノールに3分間浸漬させた後、室温、常圧下で乾燥(風乾)した以外は、参考例1と同様にして、導電性膜を得た。
このとき得られた導電性膜の表面抵抗率は、1.3×10Ω/□、全光線透過率は、44.8%、ヘイズは、34.0%であった。また、導電性膜の最大膜厚、開口率、線幅、空孔部の平均面積、空孔部の平均最大フェレ径を求めた結果、表1の通りであった。
Example 1
Instead of the firing step, the membrane after drying was immersed in methanol, which is a solvent solution containing an organic solvent, for 3 minutes, and then dried at room temperature and normal pressure (air-dried). Thus, a conductive film was obtained.
The conductive film obtained at this time had a surface resistivity of 1.3 × 10 6 Ω / □, a total light transmittance of 44.8%, and a haze of 34.0%. Further, the maximum film thickness, the aperture ratio, the line width, the average area of the hole portion, and the average maximum ferret diameter of the hole portion of the conductive film were obtained, and as shown in Table 1.

(実施例2〜11)
有機溶媒を含む溶媒溶液の種類、及び、浸漬時間を表1に記載した通りに変更した以外は、実施例1と同様にして導電性膜を得た。それらの物性を評価した結果、表1の通りであった。
(Examples 2 to 11)
A conductive film was obtained in the same manner as in Example 1 except that the type of the solvent solution containing the organic solvent and the immersion time were changed as described in Table 1. As a result of evaluating the physical properties, they were as shown in Table 1.

(実施例12)
焼成工程の代わりに、乾燥を行った後の膜を有機溶媒を含む溶媒溶液であるメタノールに10分間浸漬させた後、室温、常圧下で乾燥(風乾)し、更に、その膜を1mol/L塩酸に1分間浸漬させた後、水洗し、室温、常圧下で乾燥(風乾)した以外は、参考例1と同様にして、導電性膜を得た。得られた導電性膜の物性を評価した結果、表1の通りであった。
(Example 12)
Instead of the firing step, the membrane after drying was immersed in methanol, which is a solvent solution containing an organic solvent, for 10 minutes, and then dried at room temperature and normal pressure (air-dried). A conductive film was obtained in the same manner as in Reference Example 1 except that it was immersed in hydrochloric acid for 1 minute, washed with water, and dried (air-dried) at room temperature and normal pressure. As a result of evaluating the physical properties of the obtained conductive film, it was as shown in Table 1.

(実施例13)
有機溶媒を含む溶媒溶液としてアセトンを用いた以外は、実施例12と同様にして導電性膜を得た。得られた導電性膜の物性を評価した結果、表1の通りであった。
(Example 13)
A conductive film was obtained in the same manner as in Example 12 except that acetone was used as a solvent solution containing an organic solvent. As a result of evaluating the physical properties of the obtained conductive film, it was as shown in Table 1.

Figure 2012074206
Figure 2012074206

実施例及び比較例の結果から、以下のことが分かった。
有機溶媒分散体を基板に塗工した後、塗工された有機溶媒分散体を塗膜表面で結露させながら有機溶媒を蒸発させてパターンを有する膜を形成する工程、及び、該パターンを有する膜に有機溶媒を含む溶媒溶液を作用させる工程を行って導電性膜を製造することによって、導電性と光透過性とを高いレベルで両立した導電性膜を形成することが可能であることが分かった(実施例1〜13)。
更に、150℃という高温での焼成工程を行わなくとも、パターンを有する膜に有機溶媒を含む溶媒溶液を作用させる工程を行うことによって、同程度の導電性を有する導電性膜が得られた。更にその得られた導電性膜は、焼成工程を行って得られた導電性膜に比べて、全光線透過率がより高く、かつ、ヘイズがより抑制されていた。すなわち、導電性膜の光透過性の観点からは、焼成工程よりも本発明において行われるパターンを有する膜に有機溶媒を含む溶媒溶液を作用させる工程の方がアドバンテージを有していることが分かった(例えば、参考例1と実施例5)。
また、実施例1〜13の結果について、有機溶媒を含む溶媒溶液を作用させる時間と、表面抵抗率、全光線透過率又はヘイズとの関係を示したグラフがそれぞれ図4〜図6である。図4〜図6から、有機溶媒を含む溶媒溶液の種類によらず、有機溶媒を含む溶媒溶液を作用させる時間を延ばすことにより、得られる効果が高くなっていくことが分かる。
これらの結果から、本発明の導電性膜の製造方法により、高温での焼成を行うことなく、導電性膜を形成することができるために、PETフィルム等の耐熱性の高くない汎用高分子基板上にも優れた導電性と光透過性とを有する導電性膜を簡易かつ安価に形成することができることが実証された。
なお、上記実施例においては、導電性物質として銀が、微粒子分散剤としてオクチルアミンが、界面活性剤として特定のノニオン性界面活性剤が、有機溶媒を含む溶媒溶液として特定のものが用いられているが、有機溶媒を含む溶媒溶液を作用させることによって、微粒子分散剤、界面活性剤及び融着せずに孤立した余分な導電性微粒子が洗い流される、という機構は、導電性微粒子を用い、有機溶媒を含む溶媒溶液を作用させる工程を行った場合には、全て同様である。従って、上記実施例の結果から、本発明の技術的範囲全般において、また、本明細書において開示した種々の形態において本発明が適用でき、有利な作用効果を発揮することができるといえる。
From the results of Examples and Comparative Examples, the following was found.
A step of forming a film having a pattern by coating the organic solvent dispersion on the substrate, and then evaporating the organic solvent while the coated organic solvent dispersion is condensed on the surface of the coating film; and a film having the pattern It is found that it is possible to form a conductive film that achieves a high level of both conductivity and light transmittance by producing a conductive film by applying a solvent solution containing an organic solvent to the substrate. (Examples 1 to 13).
Furthermore, a conductive film having the same degree of conductivity was obtained by performing a process in which a solvent solution containing an organic solvent was allowed to act on a film having a pattern without performing a baking process at a high temperature of 150 ° C. Furthermore, the obtained electroconductive film had a higher total light transmittance and a higher haze than the electroconductive film obtained by performing the firing step. In other words, from the viewpoint of light transmittance of the conductive film, it is found that the process of applying a solvent solution containing an organic solvent to the film having a pattern performed in the present invention has an advantage over the baking process. (For example, Reference Example 1 and Example 5).
Moreover, about the result of Examples 1-13, the graph which showed the relationship between the time for which the solvent solution containing an organic solvent is made to act, and surface resistivity, a total light transmittance, or a haze is each FIGS. 4-6. 4 to 6, it can be seen that the effect obtained is increased by extending the time for which the solvent solution containing the organic solvent is applied, regardless of the type of the solvent solution containing the organic solvent.
From these results, since the conductive film can be formed by the method for producing a conductive film of the present invention without firing at a high temperature, a general-purpose polymer substrate having a low heat resistance such as a PET film. It has also been demonstrated that a conductive film having excellent conductivity and light transmittance can be easily and inexpensively formed.
In the above examples, silver is used as the conductive material, octylamine is used as the fine particle dispersant, a specific nonionic surfactant is used as the surfactant, and a specific solvent solution containing an organic solvent is used. However, when a solvent solution containing an organic solvent is allowed to act, the fine particle dispersant, the surfactant, and the extra conductive fine particles isolated without being fused are washed away. The same applies to the case where the step of causing the solvent solution to contain is performed. Therefore, it can be said from the results of the above-described embodiments that the present invention can be applied in the entire technical scope of the present invention and in various forms disclosed in this specification, and can exhibit advantageous effects.

11、21:基板
12、22:塗膜(塗工された有機溶媒分散体)
13:水滴
14:空孔部
15:網目状線部
20:ペルチェ素子
101、201、401、502、605:導電性微粒子を含む有機溶媒分散体
102、202:タンク
103、203:攪拌機
104、204:ポンプ
105、205、305:流延ダイ
106、206、302、405、504、601:基板
107:温度調節機
108、406:送出ローラー
109〜111、207、208、701〜704:回転ローラー
112:巻き取りローラー
121、221、321:結露工程を行う領域
122、222、322:送風機
131、231、331:液滴蒸発工程を行う領域
132、232、332:乾燥機
141:有機溶媒を含む溶媒溶液が入った槽
142、742:有機溶媒を含む溶媒溶液
151、311:塗膜
152:導電性膜
301:ベルト
402:スライドコーター
403:減圧チャンバー
404:バックアップローラー
501:ワイヤーバー塗工機
503:ワイヤーバー
602:圧胴
603:版胴
604:版胴603の凹部
606:ドクターブレード
11, 21: substrate 12, 22: coating film (coated organic solvent dispersion)
13: Water droplet 14: Hole portion 15: Mesh-like line portion 20: Peltier element 101, 201, 401, 502, 605: Organic solvent dispersion 102 containing conductive fine particles, 202: Tank 103, 203: Stirrer 104, 204 : Pump 105, 205, 305: casting die 106, 206, 302, 405, 504, 601: substrate 107: temperature controller 108, 406: delivery rollers 109-111, 207, 208, 701-704: rotating roller 112 : Winding rollers 121, 221, 321: areas 122, 222, 322 for performing a dew condensation process: blowers 131, 231, 331: areas for performing a droplet evaporation process 132, 232, 332: dryer 141: a solvent containing an organic solvent Tanks 142 and 742 containing solutions: Solvent solutions 151 and 311 containing organic solvent: Coating film 152: Conductivity Film 301: Belt 402: slide coater 403: vacuum chamber 404: backup roller 501: a wire bar coater 503: wire bar 602: impression cylinder 603: plate cylinder 604: recess 606 of the plate cylinder 603: a doctor blade

Claims (5)

導電性微粒子を含む有機溶媒分散体を基板に塗工してパターンを有する導電性膜を製造する方法であって、
該製造方法は、有機溶媒分散体を基板に塗工した後、塗工された有機溶媒分散体を塗膜表面で結露させながら有機溶媒を蒸発させてパターンを有する膜を形成する工程、及び、該パターンを有する膜に有機溶媒を含む溶媒溶液を作用させる工程を含むことを特徴とする導電性膜の製造方法。
A method for producing a conductive film having a pattern by applying an organic solvent dispersion containing conductive fine particles to a substrate,
The manufacturing method comprises a step of forming a film having a pattern by applying an organic solvent dispersion to a substrate and then evaporating the organic solvent while allowing the applied organic solvent dispersion to condense on the coating film surface; and A method for producing a conductive film, comprising a step of allowing a solvent solution containing an organic solvent to act on the film having the pattern.
前記有機溶媒を含む溶媒溶液は、極性溶媒及び/又は溶解補助剤を含む極性溶媒溶液であることを特徴とする請求項1に記載の導電性膜の製造方法。 The method for producing a conductive film according to claim 1, wherein the solvent solution containing the organic solvent is a polar solvent solution containing a polar solvent and / or a solubilizing agent. 請求項1又は2に記載の方法により製造されることを特徴とする導電性膜。 A conductive film produced by the method according to claim 1. デジタルペーパーに用いられることを特徴とする請求項3に記載の導電性膜。 The conductive film according to claim 3, wherein the conductive film is used for digital paper. 導電性微粒子を含む有機溶媒分散体を基板に塗工してパターンを有する導電性膜を製造する装置であって、
該製造装置は、有機溶媒分散体を基板に塗工した後、塗工された有機溶媒分散体を塗膜表面で結露させながら有機溶媒を蒸発させてパターンを有する膜を形成する手段と、該パターンを有する膜に有機溶媒を含む溶媒溶液を作用させる手段とを有することを特徴とする導電性膜の製造装置。
An apparatus for producing a conductive film having a pattern by coating an organic solvent dispersion containing conductive fine particles on a substrate,
The manufacturing apparatus comprises: a means for forming a film having a pattern by coating an organic solvent dispersion on a substrate and then evaporating the organic solvent while the coated organic solvent dispersion is condensed on the surface of the coating film; And a means for causing a solvent solution containing an organic solvent to act on the film having a pattern.
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