JP2012073281A - Electrophotographic photoreceptor, process cartridge and image forming apparatus - Google Patents

Electrophotographic photoreceptor, process cartridge and image forming apparatus Download PDF

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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an electrophotographic photoreceptor having excellent fast responsiveness and suppressing increase in a residual potential with lapse of time.SOLUTION: The electrophotographic photoreceptor includes a charge generating layer containing at least a charge generating material, a charge transporting layer containing a first charge transporting material, and a surface protective layer containing a second charge transporting material, in this order on a substrate, and satisfies the following expressions (1) to (3). They are (1):|Ip(CTL)-Ip(CGL)|≤0.1 (eV), (2):|Ip(OCL)-Ip(CTL)|≤0.3 (eV); and (3):μ(CTL)≥1.8×10[cm/Vs]. In expressions (1) to (3), Ip(CGL) represents an ionization potential of the charge generating material, Ip(CTL) represents an ionization potential of the first charge transporting material, Ip(OCL) represents an ionization potential of the second charge transporting material, and μ(CTL) represents a hole mobility of the charge transporting layer in an electric field intensity of 30 V/μm.

Description

本発明は、電子写真感光体、プロセスカートリッジおよび画像形成装置に関する。   The present invention relates to an electrophotographic photosensitive member, a process cartridge, and an image forming apparatus.

近年、帯電手段、露光手段、現像手段、転写手段、定着手段を有する、いわゆるゼログラフィー方式の画像形成装置は、各部材、システムの技術進展により一層の高速化、高画質化、長寿命化が図られている。   In recent years, so-called xerographic image forming apparatuses having charging means, exposure means, developing means, transfer means, and fixing means have further increased speed, improved image quality, and extended service life due to technological progress of each member and system. It is illustrated.

電子写真感光体では、機械強度の高い樹脂が使用されており、さらに表面保護層に含フッ素樹脂粒子を含有させる方法が提案されている(例えば、特許文献1参照)。   In the electrophotographic photosensitive member, a resin having high mechanical strength is used, and a method of adding fluorine-containing resin particles to the surface protective layer has been proposed (for example, see Patent Document 1).

また、小粒径なトナーに対応した感光体が求められており、感光体の表面保護層に含フッ素樹脂粒子を含有させ、表面を低表面エネルギー化する方法が提案されている(例えば、特許文献2参照)。   In addition, there is a demand for a photoreceptor corresponding to a toner having a small particle diameter, and a method has been proposed in which the surface protective layer of the photoreceptor contains fluorine-containing resin particles to reduce the surface energy (for example, patents). Reference 2).

特開平04−324451号公報Japanese Patent Laid-Open No. 04-324451 特開2008−46197号公報JP 2008-46197 A

本発明の課題は、式(1)乃至式(3)の少なくとも1つを満たさない場合に比べ、高速応答性に優れ且つ経時における残留電位の上昇を抑制した電子写真感光体を提供することにある。   An object of the present invention is to provide an electrophotographic photoreceptor excellent in high-speed response and suppressing an increase in residual potential over time as compared with a case where at least one of formulas (1) to (3) is not satisfied. is there.

上記課題は、以下の手段により解決される。即ち、
請求項1に係る発明は、
基体上に、少なくとも電荷発生材料を含有する電荷発生層と、第1の電荷輸送材料を含有する電荷輸送層と、第2の電荷輸送材料を含有する表面保護層と、をこの順に有し、且つ下記式(1)乃至式(3)を満たす電子写真感光体である。
式(1) |Ip(CTL)−Ip(CGL)|≦0.1(eV)
式(2) |Ip(OCL)−Ip(CTL)|≦0.3(eV)
式(3) μ(CTL)≧1.8×10−5[cm/Vs]
(式(1)乃至式(3)において、Ip(CGL)は前記電荷発生材料のイオン化ポテンシャルを、Ip(CTL)は前記第1の電荷輸送材料のイオン化ポテンシャルを、Ip(OCL)は前記第2の電荷輸送材料のイオン化ポテンシャルを、μ(CTL)は電界強度30V/μmにおける電荷輸送層のホール移動度を表す。)
The above problem is solved by the following means. That is,
The invention according to claim 1
On the substrate, a charge generation layer containing at least a charge generation material, a charge transport layer containing a first charge transport material, and a surface protective layer containing a second charge transport material in this order, The electrophotographic photosensitive member satisfies the following formulas (1) to (3).
Formula (1) | Ip (CTL) −Ip (CGL) | ≦ 0.1 (eV)
Formula (2) | Ip (OCL) −Ip (CTL) | ≦ 0.3 (eV)
Formula (3) μ (CTL) ≧ 1.8 × 10 −5 [cm 2 / Vs]
(In Formulas (1) to (3), Ip (CGL) is the ionization potential of the charge generation material, Ip (CTL) is the ionization potential of the first charge transport material, and Ip (OCL) is the first potential. (2) The ionization potential of the charge transport material 2 and μ (CTL) represents the hole mobility of the charge transport layer at an electric field strength of 30 V / μm.

請求項2に係る発明は、
前記式(2)が下記式(2’)を満たし、前記式(3)が下記式(3’)を満たし、更に下記式(4)を満たす請求項1に記載の電子写真感光体である。
式(2’) |Ip(OCL)−Ip(CTL)|≦0.2(eV)
式(3’) μ(CTL)≧2.5×10−5[cm/Vs]
式(4) 0.5≦μ(CTL)/μ(OCL)≦5
(式(2’)、式(3’)および式(4)において、Ip(CTL)は前記第1の電荷輸送材料のイオン化ポテンシャルを、Ip(OCL)は前記第2の電荷輸送材料のイオン化ポテンシャルを、μ(CTL)は電界強度30V/μmにおける電荷輸送層のホール移動度を、μ(OCL)は電界強度30V/μmにおける表面保護層のホール移動度を表す。)
The invention according to claim 2
The electrophotographic photoreceptor according to claim 1, wherein the formula (2) satisfies the following formula (2 ′), the formula (3) satisfies the following formula (3 ′), and further satisfies the following formula (4). .
Formula (2 ′) | Ip (OCL) −Ip (CTL) | ≦ 0.2 (eV)
Formula (3 ′) μ (CTL) ≧ 2.5 × 10 −5 [cm 2 / Vs]
Formula (4) 0.5 ≦ μ (CTL) / μ (OCL) ≦ 5
(In Formula (2 ′), Formula (3 ′) and Formula (4), Ip (CTL) is the ionization potential of the first charge transport material, and Ip (OCL) is the ionization potential of the second charge transport material. The potential, μ (CTL) represents the hole mobility of the charge transport layer at an electric field strength of 30 V / μm, and μ (OCL) represents the hole mobility of the surface protective layer at an electric field strength of 30 V / μm.)

請求項3に係る発明は、
前記第1の電荷輸送材料が以下に示す(一般式1)または(一般式2)である請求項1または請求項2に記載の電子写真感光体である。
The invention according to claim 3
The electrophotographic photosensitive member according to claim 1, wherein the first charge transport material is represented by the following (general formula 1) or (general formula 2).


(上記(一般式1)中、R31,R32,R33,R34,R35,R36はそれぞれ同一であっても異なっていてもよく、水素原子、アルキル基、アルコキシ基、フェノキシ基、ハロゲン原子または置換基を有していてもよいアリール基を示す。mおよびnは0または1を示す。) (In the above (general formula 1), R 31 , R 32 , R 33 , R 34 , R 35 , R 36 may be the same or different and each represents a hydrogen atom, an alkyl group, an alkoxy group, a phenoxy group. Represents a halogen atom or an aryl group which may have a substituent, and m and n represent 0 or 1.)


(上記(一般式2)中、R37,R38,R39,R40,R41,R42,R43はそれぞれ同一であっても異なっていてもよく、水素原子、アルキル基、アルコキシ基、フェノキシ基、ハロゲン原子または置換基を有していてもよいアリール基を示す。mおよびnは0または1を示す。) (In the above (general formula 2), R 37 , R 38 , R 39 , R 40 , R 41 , R 42 , R 43 may be the same or different, and each represents a hydrogen atom, an alkyl group, or an alkoxy group. , A phenoxy group, a halogen atom, or an aryl group which may have a substituent, m and n each represents 0 or 1)

請求項4に係る発明は、
前記表面保護層が、フッ素系樹脂粒子を含む組成物の架橋物を含有する請求項1乃至請求項3に記載の電子写真感光体である。
The invention according to claim 4
The electrophotographic photosensitive member according to claim 1, wherein the surface protective layer contains a crosslinked product of a composition containing fluorine-based resin particles.

請求項5に係る発明は、
基体上に、少なくとも電荷発生材料を含有する電荷発生層と、第1の電荷輸送材料を含有する電荷輸送層と、第2の電荷輸送材料を含有する表面保護層と、をこの順に有し、且つ下記式(1)乃至式(3)を満たす電子写真感光体を備え、
且つ前記電子写真感光体を帯電する帯電装置、帯電した前記電子写真感光体の表面に静電潜像を形成する潜像形成装置、前記電子写真感光体の表面に形成された静電潜像をトナーにより現像してトナー像を形成する現像装置、前記電子写真感光体の表面に形成されたトナー像を記録媒体に転写する転写装置、および前記電子写真感光体の表面を清掃する清掃装置から選択される少なくとも1つを備えたプロセスカートリッジである。
式(1) |Ip(CTL)−Ip(CGL)|≦0.1(eV)
式(2) |Ip(OCL)−Ip(CTL)|≦0.3(eV)
式(3) μ(CTL)≧1.8×10−5[cm/Vs]
(式(1)乃至式(3)において、Ip(CGL)は前記電荷発生材料のイオン化ポテンシャルを、Ip(CTL)は前記第1の電荷輸送材料のイオン化ポテンシャルを、Ip(OCL)は前記第2の電荷輸送材料のイオン化ポテンシャルを、μ(CTL)は電界強度30V/μmにおける電荷輸送層のホール移動度を表す。)
である。
The invention according to claim 5
On the substrate, a charge generation layer containing at least a charge generation material, a charge transport layer containing a first charge transport material, and a surface protective layer containing a second charge transport material in this order, And an electrophotographic photoreceptor satisfying the following formulas (1) to (3):
And a charging device for charging the electrophotographic photosensitive member, a latent image forming device for forming an electrostatic latent image on the surface of the charged electrophotographic photosensitive member, and an electrostatic latent image formed on the surface of the electrophotographic photosensitive member. Select from a developing device that forms a toner image by developing with toner, a transfer device that transfers a toner image formed on the surface of the electrophotographic photosensitive member to a recording medium, and a cleaning device that cleans the surface of the electrophotographic photosensitive member A process cartridge having at least one of the above.
Formula (1) | Ip (CTL) −Ip (CGL) | ≦ 0.1 (eV)
Formula (2) | Ip (OCL) −Ip (CTL) | ≦ 0.3 (eV)
Formula (3) μ (CTL) ≧ 1.8 × 10 −5 [cm 2 / Vs]
(In Formulas (1) to (3), Ip (CGL) is the ionization potential of the charge generation material, Ip (CTL) is the ionization potential of the first charge transport material, and Ip (OCL) is the first potential. (2) The ionization potential of the charge transport material 2 and μ (CTL) represents the hole mobility of the charge transport layer at an electric field strength of 30 V / μm.
It is.

請求項6に係る発明は、
基体上に、少なくとも電荷発生材料を含有する電荷発生層と、第1の電荷輸送材料を含有する電荷輸送層と、第2の電荷輸送材料を含有する表面保護層と、をこの順に有し、且つ下記式(1)乃至式(3)を満たす電子写真感光体、
前記電子写真感光体を帯電する帯電装置、
帯電した前記電子写真感光体の表面に静電潜像を形成する潜像形成装置、
前記電子写真感光体の表面に形成された静電潜像をトナーにより現像してトナー像を形成する現像装置、
および前記電子写真感光体の表面に形成されたトナー像を記録媒体に転写する転写装置、
を備えた画像形成装置である。
式(1) |Ip(CTL)−Ip(CGL)|≦0.1(eV)
式(2) |Ip(OCL)−Ip(CTL)|≦0.3(eV)
式(3) μ(CTL)≧1.8×10−5[cm/Vs]
(式(1)乃至式(3)において、Ip(CGL)は前記電荷発生材料のイオン化ポテンシャルを、Ip(CTL)は前記第1の電荷輸送材料のイオン化ポテンシャルを、Ip(OCL)は前記第2の電荷輸送材料のイオン化ポテンシャルを、μ(CTL)は電界強度30V/μmにおける電荷輸送層のホール移動度を表す。)
The invention according to claim 6
On the substrate, a charge generation layer containing at least a charge generation material, a charge transport layer containing a first charge transport material, and a surface protective layer containing a second charge transport material in this order, And an electrophotographic photosensitive member satisfying the following formulas (1) to (3):
A charging device for charging the electrophotographic photosensitive member,
A latent image forming apparatus for forming an electrostatic latent image on the surface of the charged electrophotographic photosensitive member;
A developing device for developing the electrostatic latent image formed on the surface of the electrophotographic photosensitive member with toner to form a toner image;
And a transfer device for transferring a toner image formed on the surface of the electrophotographic photosensitive member to a recording medium,
An image forming apparatus.
Formula (1) | Ip (CTL) −Ip (CGL) | ≦ 0.1 (eV)
Formula (2) | Ip (OCL) −Ip (CTL) | ≦ 0.3 (eV)
Formula (3) μ (CTL) ≧ 1.8 × 10 −5 [cm 2 / Vs]
(In Formulas (1) to (3), Ip (CGL) is the ionization potential of the charge generation material, Ip (CTL) is the ionization potential of the first charge transport material, and Ip (OCL) is the first potential. (2) The ionization potential of the charge transport material 2 and μ (CTL) represents the hole mobility of the charge transport layer at an electric field strength of 30 V / μm.

請求項7に係る発明は、
前記電子写真感光体の外周表面の移動速度が500mm/s以上である請求項6に記載の画像形成装置である。
The invention according to claim 7 provides:
The image forming apparatus according to claim 6, wherein the moving speed of the outer peripheral surface of the electrophotographic photosensitive member is 500 mm / s or more.

請求項1に係る発明によれば、式(1)乃至式(3)の少なくとも1つを満たさない場合に比べ、高速応答性に優れ且つ経時における残留電位の上昇を抑制した電子写真感光体が提供される。   According to the first aspect of the present invention, there is provided an electrophotographic photoreceptor excellent in high-speed response and suppressing an increase in residual potential over time as compared with a case where at least one of formulas (1) to (3) is not satisfied. Provided.

請求項2に係る発明によれば、式(2’)、式(3’)および式(4)の少なくとも1つを満たさない場合に比べ、高速応答性に優れ且つ経時における残留電位の上昇を抑制した電子写真感光体が提供される。   According to the invention of claim 2, compared with the case where at least one of the expressions (2 ′), (3 ′), and (4) is not satisfied, the high-speed response is excellent and the residual potential increases with time. A suppressed electrophotographic photoreceptor is provided.

請求項3に係る発明によれば、電荷輸送材料が上記(一般式1)または(一般式2)を満たさない場合に比べ、高速応答性に優れ且つ経時における残留電位の上昇を抑制した電子写真感光体が提供される。   According to the invention of claim 3, compared to the case where the charge transporting material does not satisfy the above (general formula 1) or (general formula 2), the electrophotography is excellent in high-speed response and suppresses the increase in residual potential over time. A photoreceptor is provided.

請求項4に係る発明によれば、フッ素系樹脂粒子を含有する場合であっても、式(1)乃至式(3)の少なくとも1つを満たさない場合に比べ、高速応答性に優れ且つ経時における残留電位の上昇を抑制した電子写真感光体が提供される。   According to the invention of claim 4, even when fluorine-containing resin particles are contained, the high-speed response is excellent and the time-lapse is superior to the case where at least one of the formulas (1) to (3) is not satisfied. An electrophotographic photosensitive member in which an increase in residual potential is suppressed is provided.

請求項5に係る発明によれば、式(1)乃至式(3)の少なくとも1つを満たさない場合に比べ、高速応答性に優れ且つ長期にわたって画質に優れた画像を形成し得るプロセスカートリッジが提供される。   According to the fifth aspect of the present invention, there is provided a process cartridge capable of forming an image excellent in high-speed response and excellent in image quality over a long period of time as compared with a case where at least one of the expressions (1) to (3) is not satisfied. Provided.

請求項6に係る発明によれば、式(1)乃至式(3)の少なくとも1つを満たさない場合に比べ、高速応答性に優れ且つ長期にわたって画質に優れた画像を形成し得る電子写真感光体が提供される。   According to the invention of claim 6, compared to a case where at least one of the formulas (1) to (3) is not satisfied, the electrophotographic photosensitive member capable of forming an image excellent in high-speed response and excellent in image quality over a long period of time. The body is provided.

請求項7に係る発明によれば、外周表面の移動速度が500mm/s以上と高速であっても、式(1)乃至式(3)の少なくとも1つを満たさない場合に比べ、高速応答性に優れ且つ長期にわたって画質に優れた画像を形成し得る電子写真感光体が提供される。   According to the invention of claim 7, even when the movement speed of the outer peripheral surface is as high as 500 mm / s or higher, compared with a case where at least one of formulas (1) to (3) is not satisfied, high-speed response is achieved. An electrophotographic photosensitive member capable of forming an image having excellent image quality over a long period of time is provided.

本実施形態に係る電子写真感光体の概略を示す断面図である。1 is a cross-sectional view illustrating an outline of an electrophotographic photoreceptor according to an exemplary embodiment. 本実施形態に係る画像形成装置を示す概略構成図である。1 is a schematic configuration diagram illustrating an image forming apparatus according to an exemplary embodiment. 本実施形態に係る他の画像形成装置を示す概略構成図である。It is a schematic block diagram which shows the other image forming apparatus which concerns on this embodiment. 本実施形態に係る他の画像形成装置を示す概略構成図である。It is a schematic block diagram which shows the other image forming apparatus which concerns on this embodiment. ゴーストの評価パターンと評価基準を示す図である。It is a figure which shows the evaluation pattern and evaluation criteria of a ghost.

以下、本発明の実施形態について、詳細に説明する。   Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail.

<電子写真感光体>
本実施形態に係る電子写真感光体(以下単に「感光体」と称すことがある)は、基体上に、少なくとも電荷発生材料を含有する電荷発生層と、第1の電荷輸送材料を含有する電荷輸送層と、第2の電荷輸送材料を含有する表面保護層と、をこの順に有し、且つ下記式(1)乃至式(3)を満たすことを特徴とする。
式(1) |Ip(CTL)−Ip(CGL)|≦0.1(eV)
式(2) |Ip(OCL)−Ip(CTL)|≦0.3(eV)
式(3) μ(CTL)>≧1.8×10−5[cm/Vs]
(式(1)乃至式(3)において、Ip(CGL)は前記電荷発生材料のイオン化ポテンシャルを、Ip(CTL)は前記第1の電荷輸送材料のイオン化ポテンシャルを、Ip(OCL)は前記第2の電荷輸送材料のイオン化ポテンシャルを、μ(CTL)は電界強度30V/μmにおける電荷輸送層のホール移動度を表す。)
<Electrophotographic photoreceptor>
The electrophotographic photoreceptor according to the exemplary embodiment (hereinafter sometimes simply referred to as “photoreceptor”) has a charge generation layer containing at least a charge generation material and a charge containing a first charge transport material on a substrate. It has a transport layer and a surface protective layer containing a second charge transport material in this order, and satisfies the following formulas (1) to (3).
Formula (1) | Ip (CTL) −Ip (CGL) | ≦ 0.1 (eV)
Formula (2) | Ip (OCL) −Ip (CTL) | ≦ 0.3 (eV)
Formula (3) μ (CTL)> ≧ 1.8 × 10 −5 [cm 2 / Vs]
(In Formulas (1) to (3), Ip (CGL) is the ionization potential of the charge generation material, Ip (CTL) is the ionization potential of the first charge transport material, and Ip (OCL) is the first potential. (2) The ionization potential of the charge transport material 2 and μ (CTL) represents the hole mobility of the charge transport layer at an electric field strength of 30 V / μm.

まず、画像形成装置において電子写真感光体が静電潜像を形成する過程を説明する。まず帯電装置により帯電された感光体は露光装置(潜像形成装置)により書き込み光を照射されると、光を吸収した電荷発生物質は電荷キャリアを発生し、この電荷キャリアが電荷輸送層に注入される。さらに帯電によって生じた電界により前記電荷キャリアは電荷輸送層内を移動し、さらに該電荷キャリアが表面保護層にも注入され、電界に従って表面保護層内を移送し、感光体の表面まで到達することで、電荷キャリアと帯電電荷とが中和して静電潜像が形成される。
この際、各層間(電荷発生層と電荷輸送層および電荷輸送層と表面保護層)の電荷の注入のしやすさに影響を及ぼすのがイオン化ポテンシャルであり、電荷発生材料と第1の電荷輸送材料とのイオン化ポテンシャルの差、および第1の電荷輸送材料と第2の電荷輸送材料とのイオン化ポテンシャルの差がそれぞれ適度な範囲に収まっていない、即ち前記式(1)および式(2)を満たさない場合、長期にわたって画像形成を繰り返すことにより各層の界面に電荷キャリアが蓄積されてゆくことがあり、その結果経時において残留電位の上昇が発生する。
また、電荷輸送層内を移動する電荷キャリアの移動速度が遅い、即ち式(3)を満たさない場合、電荷輸送層内でのキャリアの移動が遅くなり、高速応答性が劣る。
First, a process in which the electrophotographic photosensitive member forms an electrostatic latent image in the image forming apparatus will be described. First, when the photosensitive member charged by the charging device is irradiated with writing light by the exposure device (latent image forming device), the charge generating material that has absorbed the light generates charge carriers, and the charge carriers are injected into the charge transport layer. Is done. Further, the charge carriers move in the charge transport layer due to the electric field generated by charging, and further, the charge carriers are also injected into the surface protective layer, transport in the surface protective layer according to the electric field, and reach the surface of the photoreceptor. Thus, the charge carrier and the charged charge are neutralized to form an electrostatic latent image.
At this time, the ionization potential affects the ease of charge injection between the respective layers (the charge generation layer and the charge transport layer, and the charge transport layer and the surface protective layer). The charge generation material and the first charge transport The difference in ionization potential with the material and the difference in ionization potential between the first charge transport material and the second charge transport material are not within appropriate ranges, that is, the above formulas (1) and (2) If not satisfied, charge carriers may be accumulated at the interface of each layer by repeating image formation over a long period of time, resulting in an increase in residual potential over time.
In addition, when the movement speed of the charge carriers moving in the charge transport layer is slow, that is, when the expression (3) is not satisfied, the movement of carriers in the charge transport layer is slow, and the high-speed response is inferior.

また、本実施形態においては、更に下記式(4)を満たすことが好ましい。
式(4) 0.5≦μ(CTL)/μ(OCL)≦5
(式(4)において、μ(CTL)は電界強度30V/μmにおける電荷輸送層のホール移動度を、μ(OCL)は電界強度30V/μmにおける表面保護層のホール移動度を表す。)
Moreover, in this embodiment, it is preferable to satisfy | fill following formula (4) further.
Formula (4) 0.5 ≦ μ (CTL) / μ (OCL) ≦ 5
(In formula (4), μ (CTL) represents the hole mobility of the charge transport layer at an electric field strength of 30 V / μm, and μ (OCL) represents the hole mobility of the surface protective layer at an electric field strength of 30 V / μm.)

電荷輸送層と表面保護層との電荷移動度の差が小さい、即ち式(4)を満たすことにより、長期にわたって画像形成を繰り返した場合であってもその界面における電荷キャリアの蓄積が抑制され、その結果経時における残留電位の上昇が抑制される。また、電荷輸送層および表面保護層内を移動する電荷キャリアの移動の比が小さい、即ち式(4)を満すことにより、層内での電荷キャリアの移動が速くなり、優れた高速応答性が得られる。   The difference in charge mobility between the charge transport layer and the surface protective layer is small, that is, by satisfying the formula (4), the accumulation of charge carriers at the interface is suppressed even when image formation is repeated over a long period of time. As a result, the increase in residual potential over time is suppressed. In addition, the ratio of charge carriers moving in the charge transport layer and the surface protective layer is small, that is, satisfying the formula (4), the charge carriers move quickly in the layer, and excellent high-speed response. Is obtained.

尚、前記式(2)および式(3)は、それぞれ更に下記式(2’)および式(3’)を満たすことがより好ましい。
式(2’) |Ip(OCL)−Ip(CTL)|≦0.2(eV)
式(3’) μ(CTL)≧2.5×10−5[cm/Vs]
(式(2’)および式(3’)において、Ip(CTL)は前記第1の電荷輸送材料のイオン化ポテンシャルを、Ip(OCL)は前記第2の電荷輸送材料のイオン化ポテンシャルを、μ(CTL)は電界強度30V/μmにおける電荷輸送層のホール移動度を表す。)
In addition, it is more preferable that said Formula (2) and Formula (3) satisfy | fill further following formula (2 ') and Formula (3'), respectively.
Formula (2 ′) | Ip (OCL) −Ip (CTL) | ≦ 0.2 (eV)
Formula (3 ′) μ (CTL) ≧ 2.5 × 10 −5 [cm 2 / Vs]
(In Formula (2 ′) and Formula (3 ′), Ip (CTL) is the ionization potential of the first charge transport material, Ip (OCL) is the ionization potential of the second charge transport material, μ ( (CTL) represents the hole mobility of the charge transport layer at an electric field strength of 30 V / μm.)

−イオン化ポテンシャルの測定−
イオン化ポテンシャルとは、材料の基底状態から電子一個を取り出すのに必要なエネルギー量を意味する。イオン化ポテンシャルの測定は、大気雰囲気中でサンプルにモノクロメーターで分光した紫外光を、エネルギーを変化させながら照射し、光電効果により光電子が放出され始めるエネルギーを求めることで行なわれる。尚、上記電荷発生材料、第1の電荷輸送材料および第2の電荷輸送材料のイオン化ポテンシャルの測定は、理研計器社製の大気中光電子分光装置AC−2を用いて測定した。
-Measurement of ionization potential-
The ionization potential means the amount of energy required to extract one electron from the material ground state. The ionization potential is measured by irradiating the sample with ultraviolet light that has been dispersed with a monochromator while changing the energy in an air atmosphere, and obtaining the energy at which photoelectrons start to be emitted by the photoelectric effect. The ionization potentials of the charge generation material, the first charge transport material, and the second charge transport material were measured using an atmospheric photoelectron spectrometer AC-2 manufactured by Riken Keiki Co., Ltd.

−ホール移動度の測定−
ホール移動度は、電荷キャリアの移動量について過渡光電流波形を測定し、その時の印加電圧と測定サンプルの厚さとから求められる。これはいわゆるTime of Flight法(TOF法)として普通に知られている電荷キャリア移動度の測定方法である。上記電荷輸送層および表面保護層のホール移動度の測定は、上記TOF法により行なわれ、且つ本明細書に記載の数値は電界強度が30V/μmの際の値を採用した。
-Measurement of hole mobility-
The hole mobility is obtained from the applied voltage at that time and the thickness of the measurement sample by measuring the transient photocurrent waveform with respect to the amount of charge carrier movement. This is a charge carrier mobility measurement method commonly known as the so-called Time of Flight method (TOF method). The hole mobility of the charge transport layer and the surface protective layer was measured by the TOF method, and the numerical values described in this specification were values when the electric field strength was 30 V / μm.

−制御方法−
電荷発生材料と第1の電荷輸送材料とのイオン化ポテンシャルの差、および第1の電荷輸送材料と第2の電荷輸送材料とのイオン化ポテンシャルの差をそれぞれ適度な範囲に収まるよう制御する、即ち前記式(1)および式(2)(さらには式(2’))を満たすよう制御するには、電荷発生層に用いる電荷発生材料,電荷輸送層に用いる第1の電荷輸送材料および表面保護層に用いる第2の電荷輸送材料の種類をそれぞれ選択する方法が挙げられる。
また、電荷輸送層内を移動する電荷キャリアの移動速度を速く制御する、即ち前記式(3)(さらには式(3’))を満たすよう制御する方法、および電荷輸送層と表面保護層との電荷移動度の差を小さく制御する、即ち式(4)を満たすよう制御する方法としては、電荷発生層に用いる電荷発生材料,電荷輸送層に用いる第1の電荷輸送材料および表面保護層に用いる第2の電荷輸送材料の種類をそれぞれ選択する方法、並びにそれらの量を調整する方法が挙げられる。
尚、電荷発生材料,第1の電荷輸送材料および第2の電荷輸送材料の好ましい組み合わせについては後述する。
-Control method-
Controlling the difference in ionization potential between the charge generating material and the first charge transporting material and the difference in ionization potential between the first charge transporting material and the second charge transporting material within an appropriate range, i.e., In order to control to satisfy the expressions (1) and (2) (and also the expression (2 ′)), the charge generation material used for the charge generation layer, the first charge transport material used for the charge transport layer, and the surface protective layer And a method of selecting the type of the second charge transporting material used for each.
Further, a method for controlling the moving speed of the charge carriers moving in the charge transporting layer to be high, that is, a method for controlling so as to satisfy the above formula (3) (or the formula (3 ′)), and the charge transporting layer, the surface protective layer, As a method for controlling the difference in charge mobility between the charge generation layer, the charge generation material used for the charge generation layer, the first charge transport material used for the charge transport layer, and the surface protective layer, Examples thereof include a method for selecting the type of the second charge transport material to be used and a method for adjusting the amount thereof.
A preferred combination of the charge generation material, the first charge transport material, and the second charge transport material will be described later.

次いで、本実施形態に係る感光体の構成について説明する。   Next, the configuration of the photoconductor according to the present embodiment will be described.

以下、本実施形態に係る感光体の構成について、図1を参照して説明するが、本実施形態は図1によって限定されることはない。
図1は、本実施形態に係る感光体の層構成の一例を示す模式断面図であり、図1中、1は基体、2は感光層、2Aは電荷発生層、2Bは電荷輸送層、4は下引層、5は表面保護層を表す。図1に示す感光体は、基体1上に、下引層4、電荷発生層2A、電荷輸送層2B、表面保護層5がこの順に積層された層構成を有する。
Hereinafter, the configuration of the photoreceptor according to the present embodiment will be described with reference to FIG. 1, but the present embodiment is not limited to FIG. 1.
FIG. 1 is a schematic cross-sectional view showing an example of the layer structure of the photoreceptor according to this embodiment. In FIG. 1, 1 is a substrate, 2 is a photosensitive layer, 2A is a charge generation layer, 2B is a charge transport layer, 4 Represents an undercoat layer, and 5 represents a surface protective layer. The photoreceptor shown in FIG. 1 has a layer structure in which an undercoat layer 4, a charge generation layer 2A, a charge transport layer 2B, and a surface protective layer 5 are laminated in this order on a substrate 1.

・基体
基体1としては、導電性を有する基体が用いられ、例えば、アルミニウム、銅、亜鉛、ステンレス、クロム、ニッケル、モリブデン、バナジウム、インジウム、金、白金等の金属または合金を用いて構成される金属板、金属ドラム、および金属ベルト、または、導電性ポリマー、酸化インジウム等の導電性化合物やアルミニウム、パラジウム、金等の金属または合金を塗布、蒸着またはラミネートした紙、プラスチックフィルム、ベルト等が挙げられる。ここで、「導電性」とは体積抵抗率が1013Ωcm未満であることをいう。
-Substrate As the substrate 1, a conductive substrate is used, for example, a metal or an alloy such as aluminum, copper, zinc, stainless steel, chromium, nickel, molybdenum, vanadium, indium, gold, or platinum is used. Examples include metal plates, metal drums, and metal belts, or paper, plastic films, belts, etc. coated, vapor-deposited, or laminated with conductive polymers, conductive compounds such as indium oxide, and metals or alloys such as aluminum, palladium, and gold. It is done. Here, “conductive” means that the volume resistivity is less than 10 13 Ωcm.

図1に示す感光体がレーザープリンターに使用される場合であれば、基体1の表面は中心線平均粗さRaで0.04μm以上0.5μm以下に粗面化することが望ましい。但し、非干渉光を光源に用いる場合には粗面化は特に行わなくてもよい。   When the photoreceptor shown in FIG. 1 is used in a laser printer, the surface of the substrate 1 is desirably roughened to a centerline average roughness Ra of 0.04 μm or more and 0.5 μm or less. However, when non-interfering light is used as a light source, roughening is not particularly required.

粗面化の方法としては、研磨剤を水に懸濁させて支持体に吹き付けることによって行う湿式ホーニング、または回転する砥石に支持体を接触させ、連続的に研削加工を行うセンタレス研削、陽極酸化処理等が望ましい。   Surface roughening methods include wet honing by suspending an abrasive in water and spraying it on the support, or centerless grinding and anodization in which the support is brought into contact with a rotating grindstone and continuously ground. Processing is desirable.

また、他の粗面化の方法としては、基体1表面を粗面化することなく、導電性または半導電性粉体を樹脂中に分散させて、支持体表面上に層を形成し、その層中に分散させる粒子により粗面化する方法も望ましく用いられる。   Further, as another roughening method, without roughening the surface of the substrate 1, conductive or semiconductive powder is dispersed in the resin to form a layer on the surface of the support, A method of roughening with particles dispersed in the layer is also desirably used.

ここで、陽極酸化による粗面化処理は、アルミニウムを陽極とし電解質溶液中で陽極酸化することによりアルミニウム表面に酸化膜を形成するものである。電解質溶液としては、硫酸溶液、シュウ酸溶液等が挙げられる。しかし、陽極酸化により形成された多孔質陽極酸化膜は、そのままの状態では化学的に活性であるため、陽極酸化膜の微細孔を加圧水蒸気または沸騰水中(ニッケル等の金属塩を加えてもよい)で水和反応による体積膨張でふさぎ、より安定な水和酸化物に変える封孔処理を行うことが望ましい。陽極酸化膜の膜厚については、0.3μm以上15μm以下が望ましい。   Here, the roughening treatment by anodic oxidation is to form an oxide film on the aluminum surface by anodizing in an electrolyte solution using aluminum as an anode. Examples of the electrolyte solution include a sulfuric acid solution and an oxalic acid solution. However, since the porous anodic oxide film formed by anodic oxidation is chemically active as it is, fine pores of the anodic oxide film may be added to pressurized water vapor or boiling water (metal salt such as nickel may be added). It is desirable to perform a sealing treatment to block the volume expansion due to the hydration reaction, and to change to a more stable hydrated oxide. The thickness of the anodic oxide film is desirably 0.3 μm or more and 15 μm or less.

また、基体1には、酸性水溶液による処理またはベーマイト処理を施してもよい。
リン酸、クロム酸およびフッ酸を含む酸性処理液による処理は以下のようにして実施される。先ず、酸性処理液を調製する。酸性処理液におけるリン酸、クロム酸およびフッ酸の配合割合は、リン酸が10質量%以上11質量%以下の範囲、クロム酸が3質量%以上5質量%以下の範囲、フッ酸が0.5質量%以上2質量%以下の範囲であって、これらの酸全体の濃度は13.5質量%以上18質量%以下の範囲が望ましい。処理温度は42℃以上48℃以下が望ましい。被膜の膜厚は、0.3μm以上15μm以下が望ましい。
Further, the substrate 1 may be subjected to treatment with an acidic aqueous solution or boehmite treatment.
The treatment with an acidic treatment solution containing phosphoric acid, chromic acid and hydrofluoric acid is carried out as follows. First, an acidic treatment liquid is prepared. The mixing ratio of phosphoric acid, chromic acid and hydrofluoric acid in the acidic treatment liquid is such that phosphoric acid is in the range of 10% by mass to 11% by mass, chromic acid is in the range of 3% by mass to 5% by mass, and hydrofluoric acid is 0.00%. The concentration of these acids is preferably in the range of 13.5 mass% to 18 mass%. The treatment temperature is desirably 42 ° C. or higher and 48 ° C. or lower. The film thickness is preferably from 0.3 μm to 15 μm.

ベーマイト処理は、90℃以上100℃以下の純水中に5分間以上60分間以下浸漬すること、または90℃以上120℃以下の加熱水蒸気に5分間以上60分間以下接触させることにより行われる。被膜の膜厚は、0.1μm以上5μm以下が望ましい。これをさらにアジピン酸、硼酸、硼酸塩、燐酸塩、フタル酸塩、マレイン酸塩、安息香酸塩、酒石酸塩、クエン酸塩等の他種に比べ被膜溶解性の低い電解質溶液を用いて陽極酸化処理してもよい。   The boehmite treatment is performed by immersing in pure water of 90 ° C. or more and 100 ° C. or less for 5 minutes or more and 60 minutes or less, or by contacting with heated steam of 90 ° C. or more and 120 ° C. or less for 5 minutes or more and 60 minutes or less. The film thickness is preferably 0.1 μm or more and 5 μm or less. This is further anodized using an electrolyte solution with lower film solubility than other types such as adipic acid, boric acid, borate, phosphate, phthalate, maleate, benzoate, tartrate, citrate, etc. It may be processed.

・下引層
下引層4は、例えば、結着樹脂に無機粒子を含有した層として構成される。
無機粒子としては、粉体抵抗(体積抵抗率)10Ω・cm以上1011Ω・cm以下のものが望ましく用いられる。
-Undercoat layer The undercoat layer 4 is comprised as a layer which contained the inorganic particle in binder resin, for example.
As the inorganic particles, those having a powder resistance (volume resistivity) of 10 2 Ω · cm to 10 11 Ω · cm are desirably used.

中でも上記抵抗値を有する無機粒子としては、酸化錫、酸化チタン、酸化亜鉛、酸化ジルコニウム等の無機粒子(導電性金属酸化物)を用いるのが望ましく、特に酸化亜鉛は望ましく用いられる。   Among these, inorganic particles (conductive metal oxide) such as tin oxide, titanium oxide, zinc oxide and zirconium oxide are preferably used as the inorganic particles having the above resistance value, and zinc oxide is particularly preferably used.

また、無機粒子は表面処理を行ったものでもよく、表面処理の異なるもの、または、粒子径の異なるものなど2種以上混合して用いてもよい。無機粒子の体積平均粒径は50nm以上2000nm以下(望ましくは60以上1000以下)の範囲であることが望ましい。   In addition, the inorganic particles may be subjected to a surface treatment, or may be used as a mixture of two or more types such as those having different surface treatments or particles having different particle diameters. The volume average particle size of the inorganic particles is desirably in the range of 50 nm to 2000 nm (desirably 60 to 1000).

また、無機粒子としては、BET法による比表面積が10m/g以上のものが望ましく用いられる。 As the inorganic particles, those having a specific surface area of 10 m 2 / g or more by the BET method are desirably used.

さらに無機粒子に加えて、アクセプター性化合物を含有させてもよい。アクセプター性化合物としてはいかなるものでも使用し得るが、例えば、クロラニル、ブロモアニル等のキノン系化合物、テトラシアノキノジメタン系化合物、2,4,7−トリニトロフルオレノン、2,4,5,7−テトラニトロ−9−フルオレノン等のフルオレノン化合物、2−(4−ビフェニル)−5−(4−t−ブチルフェニル)−1,3,4−オキサジアゾールや2,5−ビス(4−ナフチル)−1,3,4−オキサジアゾール、2,5−ビス(4−ジエチルアミノフェニル)1,3,4−オキサジアゾール等のオキサジアゾール系化合物、キサントン系化合物、チオフェン化合物、3,3’,5,5’テトラ−t−ブチルジフェノキノン等のジフェノキノン化合物等の電子輸送性物質などが望ましく、特にアントラキノン構造を有する化合物が望ましい。さらに、ヒドロキシアントラキノン系化合物、アミノアントラキノン系化合物、アミノヒドロキシアントラキノン系化合物等、アントラキノン構造を有するアクセプター性化合物が望ましく用いられ、具体的にはアントラキノン、アリザリン、キニザリン、アントラルフィン、プルプリン等が挙げられる。   Further, in addition to the inorganic particles, an acceptor compound may be contained. Any acceptor compound may be used. For example, quinone compounds such as chloranil and bromoanil, tetracyanoquinodimethane compounds, 2,4,7-trinitrofluorenone, 2,4,5,7- Fluorenone compounds such as tetranitro-9-fluorenone, 2- (4-biphenyl) -5- (4-tert-butylphenyl) -1,3,4-oxadiazole and 2,5-bis (4-naphthyl)- Oxadiazole compounds such as 1,3,4-oxadiazole, 2,5-bis (4-diethylaminophenyl) 1,3,4-oxadiazole, xanthone compounds, thiophene compounds, 3,3 ′, Electron transporting substances such as diphenoquinone compounds such as 5,5′tetra-t-butyldiphenoquinone are desirable, and in particular, anthraquinone structure Compounds is desired. Furthermore, acceptor compounds having an anthraquinone structure such as hydroxyanthraquinone compounds, aminoanthraquinone compounds, aminohydroxyanthraquinone compounds, and the like are desirably used, and specific examples include anthraquinone, alizarin, quinizarin, anthralfin, and purpurin.

これらのアクセプター性化合物の含有量は任意に設定してもよいが、望ましくは無機粒子に対して0.01質量%以上20質量%以下含有される。さらに0.05質量%以上10質量%以下が望ましい。   The content of these acceptor compounds may be arbitrarily set, but is desirably 0.01% by mass or more and 20% by mass or less with respect to the inorganic particles. Furthermore, 0.05 mass% or more and 10 mass% or less are desirable.

アクセプター化合物は、下引層4の塗布時に添加するだけでもよいし、無機粒子表面にあらかじめ付着させておいてもよい。無機粒子表面にアクセプター化合物を付与させる方法としては、乾式法、または、湿式法が挙げられる。   The acceptor compound may be added only when the undercoat layer 4 is applied, or may be previously attached to the surface of the inorganic particles. Examples of the method for imparting the acceptor compound to the surface of the inorganic particles include a dry method or a wet method.

乾式法にて表面処理を施す場合には無機粒子をせん断力の大きなミキサ等で攪拌しながら、直接または有機溶媒に溶解させたアクセプター化合物を滴下、乾燥空気や窒素ガスとともに噴霧させることによって処理される。添加または噴霧する際には溶剤の沸点以下の温度で行われることが望ましい。添加または噴霧した後、さらに100℃以上で焼き付けを行ってもよい。焼き付けの温度、時間については任意の範囲で実施される。   When surface treatment is performed by a dry method, the inorganic particles are treated by dropping an acceptor compound dissolved in an organic solvent directly or with dry air or nitrogen gas while stirring with a mixer having a large shearing force. The The addition or spraying is preferably performed at a temperature below the boiling point of the solvent. After addition or spraying, baking may be performed at 100 ° C. or higher. About baking temperature and time, it implements in arbitrary ranges.

湿式法としては、無機粒子を溶剤中で攪拌し、超音波、サンドミルやアトライター、ボールミル等を用いて分散し、アクセプター化合物を添加し攪拌または分散したのち、溶剤除去することで処理される。溶剤除去方法はろ過または蒸留により留去される。溶剤除去後にはさらに100℃以上で焼き付けを行ってもよい。焼き付けの温度、時間については任意の範囲で実施される。湿式法においては表面処理剤を添加する前に無機粒子含有水分を除去してもよく、その例として表面処理に用いる溶剤中で攪拌加熱しながら除去する方法、溶剤と共沸させて除去する方法を用いてもよい。   As the wet method, the inorganic particles are stirred in a solvent, dispersed using ultrasonic waves, a sand mill, an attritor, a ball mill, or the like, and after adding or accepting an acceptor compound, the solvent is removed. The solvent removal method is distilled off by filtration or distillation. After removing the solvent, baking may be performed at 100 ° C. or higher. About baking temperature and time, it implements in arbitrary ranges. In the wet method, the water containing inorganic particles may be removed before adding the surface treatment agent. For example, a method of removing with stirring and heating in a solvent used for the surface treatment, a method of removing by azeotropic distillation with the solvent. May be used.

また、無機粒子はアクセプター化合物を付与する前に表面処理を施してもよい。表面処理剤としては、公知の材料から選択される。例えば、シランカップリング剤、チタネート系カップリング剤、アルミニウム系カップリング剤、界面活性材等が挙げられる。特に、シランカップリング剤が望ましく用いられる。さらにアミノ基を有するシランカップリング剤も望ましく用いられる。   In addition, the inorganic particles may be subjected to a surface treatment before the acceptor compound is provided. The surface treatment agent is selected from known materials. For example, a silane coupling agent, a titanate coupling agent, an aluminum coupling agent, a surfactant, and the like can be given. In particular, a silane coupling agent is desirably used. Furthermore, a silane coupling agent having an amino group is also desirably used.

アミノ基を有するシランカップリング剤としてはいかなる物を用いてもよいが、具体例としてはγ−アミノプロピルトリエトキシシラン、N−β−(アミノエチル)−γ−アミノプロピルトリメトキシシラン、N−β−(アミノエチル)−γ−アミノプロピルメチルメトキシシラン、N,N−ビス(β−ヒドロキシエチル)−γ−アミノプロピルトリエトキシシラン等が挙げられる。但し、これらに限定されるものではない。   Any material may be used as the silane coupling agent having an amino group. Specific examples include γ-aminopropyltriethoxysilane, N-β- (aminoethyl) -γ-aminopropyltrimethoxysilane, N- β- (aminoethyl) -γ-aminopropylmethylmethoxysilane, N, N-bis (β-hydroxyethyl) -γ-aminopropyltriethoxysilane and the like can be mentioned. However, it is not limited to these.

また、シランカップリング剤は2種以上混合して使用してもよい。前記アミノ基を有するシランカップリング剤と併用して用いてもよいシランカップリング剤の例としては、ビニルトリメトキシシラン、γ−メタクリルオキシプロピル−トリス(β−メトキシエトキシ)シラン、β−(3,4−エポキシシクロヘキシル)エチルトリメトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、ビニルトリアセトキシシラン、γ−メルカプトプロピルトリメトキシシラン、γ−アミノプロピルトリエトキシシラン、N−β−(アミノエチル)−γ−アミノプロピルトリメトキシシラン、N−β−(アミノエチル)−γ−アミノプロピルメチルジメトキシシラン、N,N−ビス(β−ヒドロキシエチル)−γ−アミノプロピルトリエトキシシラン、γ−クロルプロピルトリメトキシシラン等が挙げられる。但し、これらに限定されるものではない。   Two or more silane coupling agents may be mixed and used. Examples of silane coupling agents that may be used in combination with the silane coupling agent having an amino group include vinyltrimethoxysilane, γ-methacryloxypropyl-tris (β-methoxyethoxy) silane, β- (3 , 4-epoxycyclohexyl) ethyltrimethoxysilane, γ-glycidoxypropyltrimethoxysilane, vinyltriacetoxysilane, γ-mercaptopropyltrimethoxysilane, γ-aminopropyltriethoxysilane, N-β- (aminoethyl) -Γ-aminopropyltrimethoxysilane, N-β- (aminoethyl) -γ-aminopropylmethyldimethoxysilane, N, N-bis (β-hydroxyethyl) -γ-aminopropyltriethoxysilane, γ-chloropropyl Examples include trimethoxysilane. However, it is not limited to these.

表面処理方法は公知の方法であればいかなる方法でも使用し得るが、乾式法または湿式法を用いることがよい。また、アクセプター付与とカップリング剤等による表面処理とを並行して行ってもよい。   As the surface treatment method, any known method can be used, but a dry method or a wet method is preferably used. Moreover, you may perform acceptor provision and surface treatment by a coupling agent etc. in parallel.

下引層4中の無機粒子に対するシランカップリング剤の量は、任意に設定されるが、無機粒子に対して0.5質量%以上10質量%以下が望ましい。   Although the quantity of the silane coupling agent with respect to the inorganic particle in the undercoat layer 4 is set arbitrarily, 0.5 mass% or more and 10 mass% or less are desirable with respect to an inorganic particle.

下引層4に含有される結着樹脂としては、公知のいかなるものでも使用し得るが、例えばポリビニルブチラール等のアセタール樹脂、ポリビニルアルコール樹脂、カゼイン、ポリアミド樹脂、セルロース樹脂、ゼラチン、ポリウレタン樹脂、ポリエステル樹脂、メタクリル樹脂、アクリル樹脂、ポリ塩化ビニル樹脂、ポリビニルアセテート樹脂、塩化ビニル−酢酸ビニル−無水マレイン酸樹脂、シリコーン樹脂、シリコーン−アルキッド樹脂、フェノール樹脂、フェノール−ホルムアルデヒド樹脂、メラミン樹脂、ウレタン樹脂等の公知の高分子樹脂化合物、また電荷輸送性基を有する電荷輸送性樹脂やポリアニリン等の導電性樹脂等が用いられる。中でも上層の塗布溶剤に不溶な樹脂が望ましく用いられ、特にフェノール樹脂、フェノール−ホルムアルデヒド樹脂、メラミン樹脂、ウレタン樹脂、エポキシ樹脂等が望ましく用いられる。これらを2種以上組み合わせて使用する場合には、その混合割合は、必要に応じて設定される。   As the binder resin contained in the undercoat layer 4, any known resin can be used. For example, acetal resin such as polyvinyl butyral, polyvinyl alcohol resin, casein, polyamide resin, cellulose resin, gelatin, polyurethane resin, polyester Resins, methacrylic resins, acrylic resins, polyvinyl chloride resins, polyvinyl acetate resins, vinyl chloride-vinyl acetate-maleic anhydride resins, silicone resins, silicone-alkyd resins, phenol resins, phenol-formaldehyde resins, melamine resins, urethane resins, etc. These known polymer resin compounds, charge transporting resins having a charge transporting group, conductive resins such as polyaniline, and the like are used. Among these, resins that are insoluble in the upper coating solvent are preferably used, and phenol resins, phenol-formaldehyde resins, melamine resins, urethane resins, epoxy resins, and the like are particularly preferable. When these are used in combination of two or more, the mixing ratio is set as necessary.

尚、下引層形成用塗布液中のアクセプター性を付与した金属酸化物とバインダー樹脂、または無機粒子とバインダー樹脂との比率は、任意に設定される。   In addition, the ratio of the metal oxide and binder resin which provided acceptor property in the coating liquid for undercoat layer formation or an inorganic particle and binder resin is set arbitrarily.

下引層4中には種々の添加剤を用いてもよい。添加剤としては、多環縮合系、アゾ系等の電子輸送性顔料、ジルコニウムキレート化合物、チタニウムキレート化合物、アルミニウムキレート化合物、チタニウムアルコキシド化合物、有機チタニウム化合物、シランカップリング剤等の公知の材料が用いられる。
シランカップリング剤は金属酸化物の表面処理に用いられるが、添加剤としてさらに塗布液に添加して用いてもよい。ここで用いられるシランカップリング剤の具体例としては、ビニルトリメトキシシラン、γ−メタクリルオキシプロピル−トリス(β−メトキシエトキシ)シラン、β−(3,4−エポキシシクロヘキシル)エチルトリメトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、ビニルトリアセトキシシラン、γ−メルカプトプロピルトリメトキシシラン、γ−アミノプロピルトリエトキシシラン、N−β−(アミノエチル)−γ−アミノプロピルトリメトキシシラン、N−β−(アミノエチル)−γ−アミノプロピルメチルジメトキシシラン、N,N−ビス(β−ヒドロキシエチル)−γ−アミノプロピルトリエトキシシラン、γ−クロルプロピルトリメトキシシラン等である。
ジルコニウムキレート化合物の例として、ジルコニウムブトキシド、ジルコニウムアセト酢酸エチル、ジルコニウムトリエタノールアミン、アセチルアセトネートジルコニウムブトキシド、アセト酢酸エチルジルコニウムブトキシド、ジルコニウムアセテート、ジルコニウムオキサレート、ジルコニウムラクテート、ジルコニウムホスホネート、オクタン酸ジルコニウム、ナフテン酸ジルコニウム、ラウリン酸ジルコニウム、ステアリン酸ジルコニウム、イソステアリン酸ジルコニウム、メタクリレートジルコニウムブトキシド、ステアレートジルコニウムブトキシド、イソステアレートジルコニウムブトキシド等が挙げられる。
Various additives may be used in the undercoat layer 4. As additives, known materials such as polycyclic condensation type, azo type electron transporting pigments, zirconium chelate compounds, titanium chelate compounds, aluminum chelate compounds, titanium alkoxide compounds, organic titanium compounds, silane coupling agents and the like are used. It is done.
The silane coupling agent is used for the surface treatment of the metal oxide, but may be further added to the coating solution as an additive. Specific examples of the silane coupling agent used here include vinyltrimethoxysilane, γ-methacryloxypropyl-tris (β-methoxyethoxy) silane, β- (3,4-epoxycyclohexyl) ethyltrimethoxysilane, γ. -Glycidoxypropyltrimethoxysilane, vinyltriacetoxysilane, γ-mercaptopropyltrimethoxysilane, γ-aminopropyltriethoxysilane, N-β- (aminoethyl) -γ-aminopropyltrimethoxysilane, N-β -(Aminoethyl) -γ-aminopropylmethyldimethoxysilane, N, N-bis (β-hydroxyethyl) -γ-aminopropyltriethoxysilane, γ-chloropropyltrimethoxysilane and the like.
Examples of zirconium chelate compounds include zirconium butoxide, zirconium zirconium acetoacetate, zirconium triethanolamine, acetylacetonate zirconium butoxide, ethyl zirconium acetoacetate, zirconium acetate, zirconium oxalate, zirconium lactate, zirconium phosphonate, zirconium octoate, naphthene. Zirconate, zirconium laurate, zirconium stearate, zirconium isostearate, methacrylate zirconium butoxide, stearate zirconium butoxide, isostearate zirconium butoxide and the like.

チタニウムキレート化合物の例としては、テトライソプロピルチタネート、テトラノルマルブチルチタネート、ブチルチタネートダイマー、テトラ(2−エチルヘキシル)チタネート、チタンアセチルアセトネート、ポリチタンアセチルアセトネート、チタンオクチレングリコレート、チタンラクテートアンモニウム塩、チタンラクテート、チタンラクテートエチルエステル、チタントリエタノールアミネート、ポリヒドロキシチタンステアレート等が挙げられる。   Examples of titanium chelate compounds include tetraisopropyl titanate, tetranormal butyl titanate, butyl titanate dimer, tetra (2-ethylhexyl) titanate, titanium acetylacetonate, polytitanium acetylacetonate, titanium octylene glycolate, titanium lactate ammonium salt , Titanium lactate, titanium lactate ethyl ester, titanium triethanolamate, polyhydroxy titanium stearate and the like.

アルミニウムキレート化合物の例としては、アルミニウムイソプロピレート、モノブトキシアルミニウムジイソプロピレート、アルミニウムブチレート、エチルアセトアセテートアルミニウムジイソプロピレート、アルミニウムトリス(エチルアセトアセテート)等が挙げられる。   Examples of the aluminum chelate compound include aluminum isopropylate, monobutoxy aluminum diisopropylate, aluminum butyrate, ethyl acetoacetate aluminum diisopropylate, aluminum tris (ethyl acetoacetate) and the like.

これらの化合物は単独で若しくは複数の化合物の混合物または重縮合物として用いてもよい。   These compounds may be used alone or as a mixture or polycondensate of a plurality of compounds.

下引層形成用塗布液を調製するための溶媒としては公知の有機溶剤、例えばアルコール系、芳香族系、ハロゲン化炭化水素系、ケトン系、ケトンアルコール系、エーテル系、エステル系等から選択される。溶媒としては、例えば、メタノール、エタノール、n−プロパノール、iso−プロパノール、n−ブタノール、ベンジルアルコール、メチルセルソルブ、エチルセルソルブ、アセトン、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸n−ブチル、ジオキサン、テトラヒドロフラン、メチレンクロライド、クロロホルム、クロルベンゼン、トルエン等の通常の有機溶剤が用いられる。   The solvent for preparing the coating solution for forming the undercoat layer is selected from known organic solvents such as alcohols, aromatics, halogenated hydrocarbons, ketones, ketone alcohols, ethers, esters, etc. The Examples of the solvent include methanol, ethanol, n-propanol, iso-propanol, n-butanol, benzyl alcohol, methyl cellosolve, ethyl cellosolve, acetone, methyl ethyl ketone, cyclohexanone, methyl acetate, ethyl acetate, n-butyl acetate, Usual organic solvents such as dioxane, tetrahydrofuran, methylene chloride, chloroform, chlorobenzene and toluene are used.

また、これらの分散に用いる溶剤は単独または2種以上混合して用いてもよい。混合する際、使用される溶剤としては、混合溶剤として結着樹脂を溶かし得る溶剤であれば、いかなるものでも使用される。   Moreover, you may use the solvent used for these dispersion | distribution individually or in mixture of 2 or more types. When mixing, any solvent can be used as long as it can dissolve the binder resin as the mixed solvent.

分散方法としては、ロールミル、ボールミル、振動ボールミル、アトライター、サンドミル、コロイドミル、ペイントシェーカーなどの公知の方法が用いられる。さらにこの下引層4を設けるときに用いる塗布方法としては、ブレード塗布法、ワイヤーバー塗布法、スプレー塗布法、浸漬塗布法、ビード塗布法、エアーナイフ塗布法、カーテン塗布法等の通常の方法が用いられる。   As a dispersion method, known methods such as a roll mill, a ball mill, a vibrating ball mill, an attritor, a sand mill, a colloid mill, and a paint shaker are used. Further, as the coating method used when the undercoat layer 4 is provided, conventional methods such as a blade coating method, a wire bar coating method, a spray coating method, a dip coating method, a bead coating method, an air knife coating method, and a curtain coating method are used. Is used.

このようにして得られた下引層形成用塗布液を用い、基体1上に下引層4が成膜される。
また、下引層4は、ビッカース強度が35以上とされていることが望ましい。
さらに、下引層4はいかなる厚さに設定してもよいが、厚さが15μm以上が望ましく、さらに望ましくは15μm以上50μm以下とされていることが望ましい。
The undercoat layer 4 is formed on the substrate 1 using the coating solution for forming the undercoat layer thus obtained.
The undercoat layer 4 preferably has a Vickers strength of 35 or more.
Furthermore, the undercoat layer 4 may be set to any thickness, but the thickness is preferably 15 μm or more, and more preferably 15 μm or more and 50 μm or less.

また、下引層4の表面粗さ(十点平均粗さ)は、使用される露光用レーザー波長λの1/4n(nは上層の屈折率)から1/2λまでに調整することが望ましい。表面粗さ調整のために下引層中に樹脂などの粒子を添加してもよい。樹脂粒子としてはシリコーン樹脂粒子、架橋型ポリメタクリル酸メチル樹脂粒子等が用いられる。   Further, the surface roughness (ten-point average roughness) of the undercoat layer 4 is preferably adjusted from ¼n (n is the refractive index of the upper layer) to ½λ of the exposure laser wavelength λ used. . In order to adjust the surface roughness, particles such as a resin may be added to the undercoat layer. As the resin particles, silicone resin particles, cross-linked polymethyl methacrylate resin particles and the like are used.

また、表面粗さ調整のために下引層を研磨してもよい。研磨方法としては、バフ研磨、サンドブラスト処理、湿式ホーニング、研削処理等が用いられる。   Further, the undercoat layer may be polished for adjusting the surface roughness. As a polishing method, buffing, sandblasting, wet honing, grinding, or the like is used.

塗布したものを乾燥させて下引層を得るが、通常、乾燥は溶剤を蒸発させ、製膜し得る温度で行われる。   The coated layer is dried to obtain an undercoat layer. Usually, the drying is performed at a temperature at which the solvent can be evaporated to form a film.

・電荷発生層
電荷発生層2Aは、少なくとも電荷発生材料および結着樹脂を含有する層であることが望ましい。
電荷発生材料としては、ビスアゾ、トリスアゾ等のアゾ顔料、ジブロモアントアントロン等の縮環芳香族顔料、ペリレン顔料、ピロロピロール顔料、フタロシアニン顔料、酸化亜鉛、三方晶系セレン等が挙げられる。これらの中でも、近赤外域のレーザー露光に対しては、金属および/または無金属フタロシアニン顔料が望ましく、特に、特開平5−263007号公報、特開平5−279591号公報等に開示されたヒドロキシガリウムフタロシアニン、特開平5−98181号公報等に開示されたクロロガリウムフタロシアニン、特開平5−140472号公報、特開平5−140473号公報等に開示されたジクロロスズフタロシアニン、特開平4−189873号公報、特開平5−43823号公報等に開示されたチタニルフタロシアニンがより望ましい。また、近紫外域のレーザー露光に対してはジブロモアントアントロン等の縮環芳香族顔料、チオインジゴ系顔料、ポルフィラジン化合物、酸化亜鉛、三方晶系セレン等がより望ましい。電荷発生材料としては、380nm以上500nm以下の露光波長の光源を用いる場合には無機顔料が望ましく、700nm以上800nm以下の露光波長の光源を用いる場合には、金属および無金属フタロシアニン顔料が望ましい。
Charge generation layer The charge generation layer 2A is preferably a layer containing at least a charge generation material and a binder resin.
Examples of the charge generation material include azo pigments such as bisazo and trisazo, condensed aromatic pigments such as dibromoanthanthrone, perylene pigments, pyrrolopyrrole pigments, phthalocyanine pigments, zinc oxide, and trigonal selenium. Among these, metal and / or metal-free phthalocyanine pigments are desirable for near-infrared laser exposure. In particular, hydroxygallium disclosed in JP-A-5-263007, JP-A-5-279591, and the like. Phthalocyanine, chlorogallium phthalocyanine disclosed in JP-A-5-98181, dichlorotin phthalocyanine disclosed in JP-A-5-140472, JP-A-5-140473, etc., JP-A-4-189873, More preferred is titanyl phthalocyanine disclosed in JP-A-5-43823. For near-ultraviolet laser exposure, condensed aromatic pigments such as dibromoanthanthrone, thioindigo pigments, porphyrazine compounds, zinc oxide, and trigonal selenium are more desirable. As the charge generation material, an inorganic pigment is desirable when a light source having an exposure wavelength of 380 nm to 500 nm is used, and a metal and metal-free phthalocyanine pigment is desirable when a light source having an exposure wavelength of 700 nm to 800 nm is used.

電荷発生材料としては、600nm以上900nm以下の波長域での分光吸収スペクトルにおいて、810nm以上839nm以下の範囲に最大ピーク波長を有するヒドロキシガリウムフタロシアニン顔料を用いることが望ましい。このヒドロキシガリウムフタロシアニン顔料は、従来のV型ヒドロキシガリウムフタロシアニン顔料とは異なるものであり、分光吸収スペクトルの最大ピーク波長を従来のV型ヒドロキシガリウムフタロシアニン顔料よりも短波長側にシフトさせたものである。   As the charge generation material, it is desirable to use a hydroxygallium phthalocyanine pigment having a maximum peak wavelength in a range of 810 nm to 839 nm in a spectral absorption spectrum in a wavelength range of 600 nm to 900 nm. This hydroxygallium phthalocyanine pigment is different from the conventional V-type hydroxygallium phthalocyanine pigment, and the maximum peak wavelength of the spectral absorption spectrum is shifted to a shorter wavelength side than the conventional V-type hydroxygallium phthalocyanine pigment. .

また、上記の810nm以上839nm以下の範囲に最大ピーク波長を有するヒドロキシガリウムフタロシアニン顔料は、平均粒径が特定の範囲であり、且つ、BET比表面積が特定の範囲であることが望ましい。具体的には、平均粒径が0.20μm以下であることが望ましく、0.01μm以上0.15μm以下であることがより望ましく、一方、BET比表面積が45m/g以上であることが望ましく、50m/g以上であることがより望ましく、55m/g以上120m/g以下であることが特に望ましい。平均粒径は、体積平均粒径(d50平均粒径)でレーザ回折散乱式粒度分布測定装置(LA−700、堀場製作所社製)にて測定した値である。また、BET比表面積はBET式比表面積測定器(島津製作所製:フローソープII2300)を用い窒素置換法にて測定した値である。 The hydroxygallium phthalocyanine pigment having the maximum peak wavelength in the range of 810 nm to 839 nm is preferably in a specific range for the average particle size and in a specific range for the BET specific surface area. Specifically, the average particle size is desirably 0.20 μm or less, more desirably 0.01 μm or more and 0.15 μm or less, while the BET specific surface area is desirably 45 m 2 / g or more. 50 m 2 / g or more is more desirable, and 55 m 2 / g or more and 120 m 2 / g or less is particularly desirable. The average particle size is a volume average particle size (d50 average particle size) measured by a laser diffraction / scattering particle size distribution analyzer (LA-700, manufactured by Horiba, Ltd.). Further, the BET specific surface area is a value measured by a nitrogen substitution method using a BET specific surface area measuring instrument (manufactured by Shimadzu Corporation: Flow Soap II2300).

また、上記ヒドロキシガリウムフタロシアニン顔料の最大粒径(一次粒子径の最大値)は、1.2μm以下であることが望ましく、1.0μm以下であることがより望ましく、更に望ましくは0.3μm以下である。   The maximum particle size (maximum primary particle size) of the hydroxygallium phthalocyanine pigment is desirably 1.2 μm or less, more desirably 1.0 μm or less, and further desirably 0.3 μm or less. is there.

更に、上記ヒドロキシガリウムフタロシアニン顔料は、平均粒径が0.2μm以下、最大粒径が1.2μm以下であり、且つ、比表面積値が45m/g以上であることが望ましい。 Further, the hydroxygallium phthalocyanine pigment preferably has an average particle size of 0.2 μm or less, a maximum particle size of 1.2 μm or less, and a specific surface area value of 45 m 2 / g or more.

また、上記のヒドロキシガリウムフタロシアニン顔料は、CuKα特性X線を用いたX線回折スペクトルにおいて、ブラッグ角度(2θ±0.2°)7.5°、9.9°、12.5°、16.3°、18.6°、25.1°および28.3°に回折ピークを有するものであることが望ましい。   In addition, the hydroxygallium phthalocyanine pigment described above has Bragg angles (2θ ± 0.2 °) of 7.5 °, 9.9 °, 12.5 °, and 16.5 in an X-ray diffraction spectrum using CuKα characteristic X-rays. It is desirable to have diffraction peaks at 3 °, 18.6 °, 25.1 ° and 28.3 °.

また、上記のヒドロキシガリウムフタロシアニン顔料は、25℃から400℃まで昇温したときの熱重量減少率が2.0%以上4.0%以下であることが望ましく、2.5%以上3.8%以下であることがより望ましい。尚、熱重量減少率は熱天秤により測定される。   The hydroxygallium phthalocyanine pigment preferably has a thermal weight reduction rate of 2.0% or more and 4.0% or less when heated from 25 ° C. to 400 ° C., and preferably 2.5% or more and 3.8%. % Or less is more desirable. The thermogravimetric reduction rate is measured with a thermobalance.

電荷発生層2Aに使用される結着樹脂としては、広範な絶縁性樹脂から選択され、また、ポリ−N−ビニルカルバゾール、ポリビニルアントラセン、ポリビニルピレン、ポリシラン等の有機光導電性ポリマーから選択してもよい。望ましい結着樹脂としては、ポリビニルブチラール樹脂、ポリアリレート樹脂(ビスフェノール類と芳香族2価カルボン酸の重縮合体等)、ポリカーボネート樹脂、ポリエステル樹脂、フェノキシ樹脂、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体、ポリアミド樹脂、アクリル樹脂、ポリアクリルアミド樹脂、ポリビニルピリジン樹脂、セルロース樹脂、ウレタン樹脂、エポキシ樹脂、カゼイン、ポリビニルアルコール樹脂、ポリビニルピロリドン樹脂等が挙げられる。これらの結着樹脂は1種を単独でまたは2種以上を混合して用いられる。電荷発生材料と結着樹脂の配合比は質量比で10:1から1:10までの範囲内であることが望ましい。ここで、「絶縁性」とは、体積抵抗率が1013Ωcm以上であることをいう。 The binder resin used for the charge generation layer 2A is selected from a wide range of insulating resins, and selected from organic photoconductive polymers such as poly-N-vinylcarbazole, polyvinylanthracene, polyvinylpyrene, and polysilane. Also good. Desirable binder resins include polyvinyl butyral resins, polyarylate resins (polycondensates of bisphenols and aromatic divalent carboxylic acids, etc.), polycarbonate resins, polyester resins, phenoxy resins, vinyl chloride-vinyl acetate copolymers, polyamides. Resins, acrylic resins, polyacrylamide resins, polyvinyl pyridine resins, cellulose resins, urethane resins, epoxy resins, caseins, polyvinyl alcohol resins, polyvinyl pyrrolidone resins, and the like. These binder resins are used alone or in combination of two or more. The blending ratio of the charge generation material and the binder resin is preferably in the range of 10: 1 to 1:10 by mass ratio. Here, “insulating” means that the volume resistivity is 10 13 Ωcm or more.

電荷発生層2Aは、例えば、上記電荷発生材料および結着樹脂を溶剤中に分散した塗布液を用いて形成される。
分散に用いる溶剤としては、メタノール、エタノール、n−プロパノール、n−ブタノール、ベンジルアルコール、メチルセルソルブ、エチルセルソルブ、アセトン、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、酢酸メチル、酢酸n−ブチル、ジオキサン、テトラヒドロフラン、メチレンクロライド、クロロホルム、クロルベンゼン、トルエン等が挙げられ、これらは1種を単独でまたは2種以上を混合して用いられる。
The charge generation layer 2A is formed using, for example, a coating liquid in which the charge generation material and the binder resin are dispersed in a solvent.
Solvents used for dispersion include methanol, ethanol, n-propanol, n-butanol, benzyl alcohol, methyl cellosolve, ethyl cellosolve, acetone, methyl ethyl ketone, cyclohexanone, methyl acetate, n-butyl acetate, dioxane, tetrahydrofuran, and methylene chloride. , Chloroform, chlorobenzene, toluene and the like. These may be used alone or in admixture of two or more.

また、電荷発生材料および結着樹脂を溶剤中に分散させる方法としては、ボールミル分散法、アトライター分散法、サンドミル分散法等の通常の方法が用いられる。さらにこの分散の際、電荷発生材料の平均粒径を0.5μm以下、望ましくは0.3μm以下、さらに望ましくは0.15μm以下にすることが有効である。   Further, as a method for dispersing the charge generating material and the binder resin in the solvent, usual methods such as a ball mill dispersion method, an attritor dispersion method, and a sand mill dispersion method are used. Further, at the time of dispersion, it is effective that the average particle size of the charge generating material is 0.5 μm or less, desirably 0.3 μm or less, and more desirably 0.15 μm or less.

また、電荷発生層2Aを形成する際には、ブレード塗布法、マイヤーバー塗布法、スプレー塗布法、浸漬塗布法、ビード塗布法、エアーナイフ塗布法、カーテン塗布法等の通常の方法が用いられる。   Further, when forming the charge generation layer 2A, a usual method such as a blade coating method, a Mayer bar coating method, a spray coating method, a dip coating method, a bead coating method, an air knife coating method, or a curtain coating method is used. .

このようにして得られる電荷発生層2Aの膜厚は、望ましくは0.1μm以上5.0μm以下、さらに望ましくは0.2μm以上2.0μm以下である。   The film thickness of the charge generation layer 2A thus obtained is desirably 0.1 μm or more and 5.0 μm or less, and more desirably 0.2 μm or more and 2.0 μm or less.

・電荷輸送層
電荷輸送層2Bは、少なくとも第1の電荷輸送材料と結着樹脂とを含有する層であるか、または高分子量の第1の電荷輸送材料を含有する層であることが望ましい。
第1の電荷輸送材料としては、p−ベンゾキノン、クロラニル、ブロマニル、アントラキノン等のキノン系化合物、テトラシアノキノジメタン系化合物、2,4,7−トリニトロフルオレノン等のフルオレノン化合物、キサントン系化合物、ベンゾフェノン系化合物、シアノビニル系化合物、エチレン系化合物等の電子輸送性化合物、トリアリールアミン系化合物、ベンジジン系化合物、アリールアルカン系化合物、アリール置換エチレン系化合物、スチルベン系化合物、アントラセン系化合物、ヒドラゾン系化合物などの正孔輸送性化合物が挙げられる。これらの第1の電荷輸送材料は1種を単独でまたは2種以上を混合して用いられるが、これらに限定されるものではない。
Charge transport layer The charge transport layer 2B is preferably a layer containing at least a first charge transport material and a binder resin, or a layer containing a high molecular weight first charge transport material.
As the first charge transport material, quinone compounds such as p-benzoquinone, chloranil, bromanyl, anthraquinone, tetracyanoquinodimethane compounds, fluorenone compounds such as 2,4,7-trinitrofluorenone, xanthone compounds, Electron transport compounds such as benzophenone compounds, cyanovinyl compounds, ethylene compounds, triarylamine compounds, benzidine compounds, arylalkane compounds, aryl-substituted ethylene compounds, stilbene compounds, anthracene compounds, hydrazone compounds And hole transporting compounds such as These first charge transport materials may be used alone or in combination of two or more, but are not limited thereto.

第1の電荷輸送材料としては、下記構造式(a−1)で示されるトリアリールアミン誘導体、および下記構造式(a−2)で示されるベンジジン誘導体が望ましい。   As the first charge transport material, a triarylamine derivative represented by the following structural formula (a-1) and a benzidine derivative represented by the following structural formula (a-2) are desirable.


(構造式(a−1)中、Rは、水素原子またはメチル基を示す。nは1または2を示す。ArおよびArは各々独立に置換若しくは未置換のアリール基、−C−C(R)=C(R10)(R11)、または−C−CH=CH−CH=C(R12)(R13)を示し、R乃至R13はそれぞれ独立に水素原子、置換若しくは未置換のアルキル基、または置換若しくは未置換のアリール基を表す。置換基としてはハロゲン原子、炭素数1以上5以下のアルキル基、炭素数1以上5以下のアルコキシ基、または炭素数1以上3以下のアルキル基で置換された置換アミノ基を示す。) (In Structural Formula (a-1), R 8 represents a hydrogen atom or a methyl group. N represents 1 or 2. Ar 6 and Ar 7 are each independently a substituted or unsubstituted aryl group, —C 6. H 4 —C (R 9 ) ═C (R 10 ) (R 11 ), or —C 6 H 4 —CH═CH—CH═C (R 12 ) (R 13 ), wherein R 9 to R 13 are Each independently represents a hydrogen atom, a substituted or unsubstituted alkyl group, or a substituted or unsubstituted aryl group, including a halogen atom, an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms, and an alkoxy group having 1 to 5 carbon atoms; A substituted amino group substituted with a group or an alkyl group having 1 to 3 carbon atoms.)

(構造式(a−2)中、R14およびR14’は同一でも異なってもよく、各々独立に水素原子、ハロゲン原子、炭素数1以上5以下のアルキル基、炭素数1以上5以下のアルコキシ基、を示す。R15、R15’、R16、およびR16’は同一でも異なってもよく、各々独立に水素原子、ハロゲン原子、炭素数1以上5以下のアルキル基、炭素数1以上5以下のアルコキシ基、炭素数1以上2以下のアルキル基で置換されたアミノ基、置換若しくは未置換のアリール基、−C(R17)=C(R18)(R19)、または−CH=CH−CH=C(R20)(R21)を示し、R17乃至R21は各々独立に水素原子、置換若しくは未置換のアルキル基、または置換若しくは未置換のアリール基を表す。mおよびnは各々独立に0以上2以下の整数を示す。) (In Structural Formula (a-2), R 14 and R 14 ′ may be the same or different and each independently represents a hydrogen atom, a halogen atom, an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms, or 1 to 5 carbon atoms. R 15 , R 15 ′ , R 16 and R 16 ′ may be the same or different and each independently represents a hydrogen atom, a halogen atom, an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms, or 1 carbon atom. Or more, an alkoxy group having 5 or less, an amino group substituted with an alkyl group having 1 to 2 carbon atoms, a substituted or unsubstituted aryl group, -C (R 17 ) = C (R 18 ) (R 19 ), or- CH = CH—CH═C (R 20 ) (R 21 ), wherein R 17 to R 21 each independently represents a hydrogen atom, a substituted or unsubstituted alkyl group, or a substituted or unsubstituted aryl group. And n are independent of each other 0 or 2 show the following integer.)

ここで、上記構造式(a−1)で示されるトリアリールアミン誘導体、および上記構造式(a−2)で示されるベンジジン誘導体のうち、特に、「−C−CH=CH−CH=C(R12)(R13)」を有するトリアリールアミン誘導体、および「−CH=CH−CH=C(R20)(R21)」を有するベンジジン誘導体が望ましい。 Here, among the triarylamine derivatives represented by the structural formula (a-1) and the benzidine derivatives represented by the structural formula (a-2), in particular, “—C 6 H 4 —CH═CH—CH Triarylamine derivatives having “═C (R 12 ) (R 13 )” and benzidine derivatives having “—CH═CH—CH═C (R 20 ) (R 21 )” are desirable.

また、前記第1の電荷輸送材料としては、以下に示す(一般式1)または(一般式2)であることがより好ましい。   Further, the first charge transport material is more preferably represented by the following (General Formula 1) or (General Formula 2).


(上記(一般式1)中、R31,R32,R33,R34,R35,R36はそれぞれ同一であっても異なっていてもよく、水素原子、アルキル基、アルコキシ基、フェノキシ基、ハロゲン原子または置換基を有していてもよいアリール基を示す。mおよびnは0または1を示す。)
上記(一般式1)においてR31,R32,R33,R34,R35,R36で表されるアルキル基としては、炭素数1以上4以下のアルキル基、例えば、メチル基、エチル基、n−プロピル基、イソプロピル基、n−ブチル基、イソブチル基等が挙げられ、特にメチル基またはエチル基が好ましい。
アルコキシ基としては、炭素数1以上4以下のアルコキシ基、例えば、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、ブトキシ基等が挙げられる。
ハロゲン原子としては、例えば、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子等が挙げられる。
置換基を有していてもよいアリール基としては、フェニル基や、p−トリル基、2,4−ジメチルフェニル基等の低級アルキル基置換のフェニル基、p−メトキシフェニル基等の低級アルコキシ基置換のフェニル基、p−クロロフェニル基等のハロゲン原子置換のフェニル基等が挙げられる。
(In the above (general formula 1), R 31 , R 32 , R 33 , R 34 , R 35 , R 36 may be the same or different and each represents a hydrogen atom, an alkyl group, an alkoxy group, a phenoxy group. Represents a halogen atom or an aryl group which may have a substituent, and m and n represent 0 or 1.)
In the above (General Formula 1), the alkyl group represented by R 31 , R 32 , R 33 , R 34 , R 35 , R 36 is an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, such as a methyl group or an ethyl group. , N-propyl group, isopropyl group, n-butyl group, isobutyl group and the like, and methyl group or ethyl group is particularly preferable.
Examples of the alkoxy group include an alkoxy group having 1 to 4 carbon atoms, such as a methoxy group, an ethoxy group, a propoxy group, and a butoxy group.
As a halogen atom, a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom, an iodine atom etc. are mentioned, for example.
The aryl group which may have a substituent includes a phenyl group, a phenyl group substituted with a lower alkyl group such as a p-tolyl group and a 2,4-dimethylphenyl group, and a lower alkoxy group such as a p-methoxyphenyl group. Examples thereof include a phenyl group substituted with a halogen atom such as a substituted phenyl group and a p-chlorophenyl group.


(上記(一般式2)中、R37,R38,R39,R40,R41,R42,R43はそれぞれ同一であっても異なっていてもよく、水素原子、アルキル基、アルコキシ基、フェノキシ基、ハロゲン原子または置換基を有していてもよいアリール基を示す。mおよびnは0または1を示す。)
上記(一般式2)においてR37,R38,R39,R40,R41,R42,R43で表されるアルキル基としては、炭素数1以上4以下のアルキル基、例えば、メチル基、エチル基、n−プロピル基、イソプロピル基、n−ブチル基、イソブチル基等が挙げられ、特にメチル基またはエチル基が好ましい。
アルコキシ基としては、炭素数1以上4以下のアルコキシ基、例えば、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、ブトキシ基等が挙げられる。
ハロゲン原子としては、例えば、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子等が挙げられる。
置換基を有していてもよいアリール基としては、フェニル基や、p−トリル基、2,4−ジメチルフェニル基等の低級アルキル基置換のフェニル基、p−メトキシフェニル基等の低級アルコキシ基置換のフェニル基、p−クロロフェニル基等のハロゲン原子置換のフェニル基等が挙げられる。
(In the above (general formula 2), R 37 , R 38 , R 39 , R 40 , R 41 , R 42 , R 43 may be the same or different, and each represents a hydrogen atom, an alkyl group, or an alkoxy group. , A phenoxy group, a halogen atom, or an aryl group which may have a substituent, m and n each represents 0 or 1)
In the above (General Formula 2), the alkyl group represented by R 37 , R 38 , R 39 , R 40 , R 41 , R 42 , R 43 is an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, such as a methyl group , An ethyl group, an n-propyl group, an isopropyl group, an n-butyl group, an isobutyl group, and the like, and a methyl group or an ethyl group is particularly preferable.
Examples of the alkoxy group include an alkoxy group having 1 to 4 carbon atoms, such as a methoxy group, an ethoxy group, a propoxy group, and a butoxy group.
As a halogen atom, a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom, an iodine atom etc. are mentioned, for example.
The aryl group which may have a substituent includes a phenyl group, a phenyl group substituted with a lower alkyl group such as a p-tolyl group and a 2,4-dimethylphenyl group, and a lower alkoxy group such as a p-methoxyphenyl group. Examples thereof include a phenyl group substituted with a halogen atom such as a substituted phenyl group and a p-chlorophenyl group.

尚、第1の電荷輸送材料としては、特に以下に示す化合物が好ましい。   As the first charge transport material, the following compounds are particularly preferable.


電荷輸送層2Bに用いる結着樹脂は、ポリカーボネート樹脂、ポリエステル樹脂、ポリアリレート樹脂、メタクリル樹脂、アクリル樹脂、ポリ塩化ビニル樹脂、ポリ塩化ビニリデン樹脂、ポリスチレン樹脂、ポリビニルアセテート樹脂、スチレン−ブタジエン共重合体、塩化ビニリデン−アクリロニトリル共重合体、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体、塩化ビニル−酢酸ビニル−無水マレイン酸共重合体、シリコーン樹脂、シリコーンアルキッド樹脂、フェノール−ホルムアルデヒド樹脂、スチレン−アルキッド樹脂、ポリ−N−ビニルカルバゾール、ポリシラン等が挙げられる。また、上述のように、特開平8−176293号公報、特開平8−208820号公報に開示されているポリエステル系高分子電荷輸送材等の高分子電荷輸送材を用いてもよい。これらの結着樹脂は1種を単独でまたは2種以上を混合して用いられる。第1の電荷輸送材料と結着樹脂との配合比は質量比で10:1から1:5までが望ましい。   The binder resin used for the charge transport layer 2B is polycarbonate resin, polyester resin, polyarylate resin, methacrylic resin, acrylic resin, polyvinyl chloride resin, polyvinylidene chloride resin, polystyrene resin, polyvinyl acetate resin, styrene-butadiene copolymer. , Vinylidene chloride-acrylonitrile copolymer, vinyl chloride-vinyl acetate copolymer, vinyl chloride-vinyl acetate-maleic anhydride copolymer, silicone resin, silicone alkyd resin, phenol-formaldehyde resin, styrene-alkyd resin, poly- N-vinyl carbazole, polysilane, etc. are mentioned. Further, as described above, a polymer charge transport material such as a polyester-based polymer charge transport material disclosed in JP-A-8-176293 and JP-A-8-208820 may be used. These binder resins are used alone or in combination of two or more. The blending ratio of the first charge transport material and the binder resin is desirably 10: 1 to 1: 5 by mass ratio.

結着樹脂としては、特に限定されないが、粘度平均分子量50000以上80000以下のポリカーボネート樹脂、および粘度平均分子量50000以上80000以下のポリアリレート樹脂の少なくとも1種が望ましい。   The binder resin is not particularly limited, but at least one of a polycarbonate resin having a viscosity average molecular weight of 50,000 to 80,000 and a polyarylate resin having a viscosity average molecular weight of 50,000 to 80,000 is desirable.

また、第1の電荷輸送材料として高分子電荷輸送材を用いてもよい。高分子電荷輸送材としては、ポリ−N−ビニルカルバゾール、ポリシランなどの電荷輸送性を有する公知のものが用いられる。特に、特開平8−176293号公報、特開平8−208820号公報等に開示されているポリエステル系高分子電荷輸送材は特に望ましい。高分子電荷輸送材はそれだけでも成膜し得るものであるが、後述する結着樹脂と混合して成膜してもよい。   A polymer charge transport material may be used as the first charge transport material. As the polymer charge transporting material, known materials having charge transporting properties such as poly-N-vinylcarbazole and polysilane are used. In particular, polyester polymer charge transport materials disclosed in JP-A-8-176293 and JP-A-8-208820 are particularly desirable. Although the polymer charge transport material can be formed by itself, it may be formed by mixing with a binder resin described later.

電荷輸送層2Bは、例えば、上記構成材料を含有する電荷輸送層形成用塗布液を用いて形成される。電荷輸送層形成用塗布液に用いる溶剤としては、ベンゼン、トルエン、キシレン、クロルベンゼン等の芳香族炭化水素類、アセトン、2−ブタノン等のケトン類、塩化メチレン、クロロホルム、塩化エチレン等のハロンゲン化脂肪族炭化水素類、テトラヒドロフラン、エチルエーテル等の環状もしくは直鎖状のエーテル類等の通常の有機溶剤を単独または2種以上混合して用いられる。また、上記各構成材料の分散方法としては、公知の方法が使用される。   The charge transport layer 2B is formed using, for example, a charge transport layer forming coating solution containing the above-described constituent materials. Solvents used in the coating solution for forming the charge transport layer include aromatic hydrocarbons such as benzene, toluene, xylene and chlorobenzene, ketones such as acetone and 2-butanone, and halogenation such as methylene chloride, chloroform and ethylene chloride. Ordinary organic solvents such as aliphatic hydrocarbons, cyclic ethers such as tetrahydrofuran and ethyl ether, or straight chain ethers may be used alone or in admixture of two or more. Moreover, a well-known method is used as a dispersion method of each said constituent material.

電荷輸送層形成用塗布液を電荷発生層2Aの上に塗布する際の塗布方法としては、ブレード塗布法、マイヤーバー塗布法、スプレー塗布法、浸漬塗布法、ビード塗布法、エアーナイフ塗布法、カーテン塗布法等の通常の方法が用いられる。   Coating methods for coating the charge transport layer forming coating solution on the charge generation layer 2A include blade coating method, Mayer bar coating method, spray coating method, dip coating method, bead coating method, air knife coating method, A usual method such as a curtain coating method is used.

電荷輸送層2Bの膜厚は、望ましくは5μm以上50μm以下、より望ましくは10μm以上30μm以下である。   The film thickness of the charge transport layer 2B is desirably 5 μm or more and 50 μm or less, and more desirably 10 μm or more and 30 μm or less.

なお、図1に示す感光体において電荷発生層および電荷輸送層には、酸化防止剤、光安定剤、熱安定剤等の添加剤を添加してもよい。例えば、酸化防止剤としては、ヒンダードフェノール、ヒンダードアミン、パラフェニレンジアミン、アリールアルカン、ハイドロキノン、スピロクロマン、スピロインダノンおよびそれらの誘導体、有機硫黄化合物、有機燐化合物等が挙げられる。光安定剤の例としては、ベンゾフェノン、ベンゾトリアゾール、ジチオカルバメート、テトラメチルピペリジン等の誘導体が挙げられる。
また、少なくとも1種の電子受容性物質を含有させてもよい。使用し得る電子受容物質としては、例えば、無水コハク酸、無水マレイン酸、ジブロム無水マレイン酸、無水フタル酸、テトラブロム無水フタル酸、テトラシアノエチレン、テトラシアノキノジメタン、o−ジニトロベンゼン、m−ジニトロベンゼン、クロラニル、ジニトロアントラキノン、トリニトロフルオレノン、ピクリン酸、o−ニトロ安息香酸、p−ニトロ安息香酸、フタル酸等が挙げられる。これらの中でも、フルオレノン系、キノン系やCl−、CN−、NO−等の電子吸引性置換基を有するベンゼン誘導体が特に好ましい。
In the photoreceptor shown in FIG. 1, additives such as an antioxidant, a light stabilizer, and a heat stabilizer may be added to the charge generation layer and the charge transport layer. For example, examples of the antioxidant include hindered phenol, hindered amine, paraphenylenediamine, arylalkane, hydroquinone, spirochroman, spiroidanone and derivatives thereof, organic sulfur compounds, and organic phosphorus compounds. Examples of the light stabilizer include derivatives such as benzophenone, benzotriazole, dithiocarbamate, and tetramethylpiperidine.
Further, at least one kind of electron accepting substance may be contained. Examples of the electron acceptor that can be used include succinic anhydride, maleic anhydride, dibromomaleic anhydride, phthalic anhydride, tetrabromophthalic anhydride, tetracyanoethylene, tetracyanoquinodimethane, o-dinitrobenzene, m- Examples include dinitrobenzene, chloranil, dinitroanthraquinone, trinitrofluorenone, picric acid, o-nitrobenzoic acid, p-nitrobenzoic acid, and phthalic acid. Among these, fluorenone compounds, quinone compounds and Cl-, CN-, NO 2 - benzene derivatives having an electron attractive substituent, and the like are particularly preferable.

・表面保護層
図1に示す感光体において表面保護層5は、既述の通り、第2の電荷輸送材料を含有する。尚、以下の(A)および(B)の成分を含有することがより好ましく、更に以下の(C)の成分を含有してもよい。
(A)グアナミン構造を有する化合物(グアナミン化合物)またはメラミン構造を有する化合物(メラミン化合物)と、−OH,−OCH,−NH,−SHおよび−COOHから選択される置換基の少なくとも1つを有する電荷輸送性材料(以下単に「特定の電荷輸送性材料」と称す)を含有する化合物と、の架橋物
(B)フッ素系樹脂粒子
(C)その他の組成物
Surface protective layer As described above, the surface protective layer 5 in the photoreceptor shown in FIG. 1 contains the second charge transport material. In addition, it is more preferable to contain the following components (A) and (B), and the following component (C) may be further contained.
(A) a compound having a guanamine structure (guanamine compound) or a compound having a melamine structure (melamine compound) and at least one substituent selected from —OH, —OCH 3 , —NH 2 , —SH and —COOH (B) Fluorine resin particles (C) Other compositions of a compound containing a charge transporting material (hereinafter simply referred to as “specific charge transporting material”) having

尚、グアナミン化合物およびメラミン化合物から選択される少なくとも1種の化合物は、該化合物および特定の電荷輸送性材料を含む組成物における固形分濃度が0.1質量%以上15質量%以下であることが望ましい。   The at least one compound selected from the guanamine compound and the melamine compound has a solid content concentration of 0.1% by mass or more and 15% by mass or less in the composition containing the compound and the specific charge transporting material. desirable.

(A)グアナミン構造またはメラミン構造を有する化合物と、−OH、−OCH、−NH、−SHおよび−COOHから選択される置換基の少なくとも1つを持つ前記電荷輸送性材料(特定の電荷輸送性材料)を含有する化合物
図1に示す感光体における表面保護層5は、グアナミン化合物またはメラミン化合物と、特定の電荷輸送性材料と、が架橋された架橋物を含有することが好ましい。尚、表面保護層5における電荷輸送性材料の含有量は80質量%以上99質量%以下であることが好ましい。
(A) the charge transporting material having a compound having a guanamine structure or a melamine structure and at least one substituent selected from —OH, —OCH 3 , —NH 2 , —SH and —COOH (specific charge) Compound containing Transport Material) The surface protective layer 5 in the photoreceptor shown in FIG. 1 preferably contains a crosslinked product in which a guanamine compound or melamine compound and a specific charge transport material are crosslinked. In addition, it is preferable that content of the charge transport material in the surface protective layer 5 is 80 to 99 mass%.

まず、グアナミン構造を有する化合物(グアナミン化合物)について説明する。
グアナミン化合物は、グアナミン骨格(構造)を有する化合物であり、例えば、アセトグアナミン、ベンゾグアナミン、ホルモグアナミン、ステログアナミン、スピログアナミン、シクロヘキシルグアナミンなどが挙げられる。
First, a compound having a guanamine structure (guanamine compound) will be described.
The guanamine compound is a compound having a guanamine skeleton (structure), and examples thereof include acetoguanamine, benzoguanamine, formoguanamine, steroguanamine, spiroguanamine, and cyclohexylguanamine.

グアナミン化合物としては、特に下記一般式(A)で示される化合物およびその多量体の少なくとも1種であることが望ましい。ここで、多量体は、一般式(A)で示される化合物を構造単位として重合されたオリゴマーであり、その重合度は例えば2以上200以下(望ましくは2以上100以下)である。なお、一般式(A)で示される化合物は、一種単独で用いてもよいが、2種以上を併用してもよい。特に、一般式(A)で示される化合物は、2種以上混合して用いたり、それを構造単位とする多量体(オリゴマー)として用いたりすることが好ましい。   The guanamine compound is particularly preferably at least one of a compound represented by the following general formula (A) and a multimer thereof. Here, the multimer is an oligomer polymerized using the compound represented by the general formula (A) as a structural unit, and the degree of polymerization thereof is, for example, 2 or more and 200 or less (preferably 2 or more and 100 or less). In addition, the compound shown by general formula (A) may be used individually by 1 type, but may use 2 or more types together. In particular, the compound represented by the general formula (A) is preferably used as a mixture of two or more kinds or as a multimer (oligomer) having the structural unit as a structural unit.


一般式(A)中、Rは、炭素数1以上10以下の直鎖状若しくは分鎖状のアルキル基、炭素数6以上10以下の置換若しくは未置換のフェニル基、または炭素数4以上10以下の置換若しくは未置換の脂環式炭化水素基を示す。R乃至Rは、それぞれ独立に水素、−CH−OH、または−CH−O−Rを示す。Rは、水素、または炭素数1以上10以下の直鎖状若しくは分鎖状のアルキル基を示す。 In General Formula (A), R 1 is a linear or branched alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, a substituted or unsubstituted phenyl group having 6 to 10 carbon atoms, or 4 to 10 carbon atoms. The following substituted or unsubstituted alicyclic hydrocarbon groups are shown. R 2 to R 5 each independently represent hydrogen, —CH 2 —OH, or —CH 2 —O—R 6 . R 6 represents hydrogen or a linear or branched alkyl group having 1 to 10 carbon atoms.

一般式(A)において、Rを示すアルキル基は、炭素数が1以上10以下であるが、望ましくは炭素数が1以下8以上であり、より望ましくは炭素数が1以上5以下である。また、当該アルキル基は、直鎖状であってもよし、分鎖状であってもよい。 In the general formula (A), the alkyl group representing R 1 has 1 to 10 carbon atoms, preferably 1 to 8 carbon atoms, more preferably 1 to 5 carbon atoms. . The alkyl group may be linear or branched.

一般式(A)中、Rを示すフェニル基は、炭素数6以上10以下であるが、より望ましくは6以上8以下である。当該フェニル基に置換される置換基としては、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基などが挙げられる。 In general formula (A), the phenyl group represented by R 1 has 6 to 10 carbon atoms, and more preferably 6 to 8 carbon atoms. Examples of the substituent substituted with the phenyl group include a methyl group, an ethyl group, and a propyl group.

一般式(A)中、Rを示す脂環式炭化水素基は、炭素数4以上10以下であるが、より望ましくは5以上8以下である。当該脂環式炭化水素基に置換される置換基としては、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基などが挙げられる。 In general formula (A), the alicyclic hydrocarbon group representing R 1 has 4 to 10 carbon atoms, and more preferably 5 to 8 carbon atoms. Examples of the substituent substituted with the alicyclic hydrocarbon group include a methyl group, an ethyl group, and a propyl group.

一般式(A)中、R乃至Rを示す「−CH−O−R」において、Rを示すアルキル基は、炭素数が1以上10以下であるが、望ましくは炭素数が1以下8以上であり、より望ましくは炭素数が1以上6以下である。また、当該アルキル基は、直鎖状であってもよし、分鎖状であってもよい。望ましくは、メチル基、エチル基、ブチル基などが挙げられる。 In the general formula (A), in “—CH 2 —O—R 6 ” representing R 2 to R 5 , the alkyl group representing R 6 has 1 to 10 carbon atoms, and desirably has carbon atoms. 1 or less and 8 or more, and more preferably 1 or more and 6 or less. The alkyl group may be linear or branched. Desirably, a methyl group, an ethyl group, a butyl group, etc. are mentioned.

一般式(A)で示される化合物としては、特に望ましくは、Rが炭素数6以上10以下の置換若しくは未置換のフェニル基を示し、R乃至Rがそれぞれ独立に−CH−O−Rを示される化合物である。また、Rは、メチル基またはn−ブチル基から選ばれることが望ましい。 As the compound represented by the general formula (A), it is particularly desirable that R 1 represents a substituted or unsubstituted phenyl group having 6 to 10 carbon atoms, and R 2 to R 5 are each independently —CH 2 —O. It is a compound represented by —R 6 . R 6 is preferably selected from a methyl group and an n-butyl group.

一般式(A)で示される化合物は、例えば、グアナミンとホルムアルデヒドとを用いて公知の方法(例えば、実験化学講座第4版、28巻、430ページ参照)で合成される。   The compound represented by the general formula (A) is synthesized by a known method using, for example, guanamine and formaldehyde (for example, see Experimental Chemistry Course 4th edition, Vol. 28, page 430).

以下、一般式(A)で示される化合物の具体例を示すが、これらに限られるわけではない。また、以下の具体例は、単量体のものを示すが、これらを構造単位とする多量体(オリゴマー)であってもよい。   Specific examples of the compound represented by the general formula (A) are shown below, but are not limited thereto. Moreover, although the following specific examples show the thing of a monomer, the multimer (oligomer) which uses these as a structural unit may be sufficient.





一般式(A)で示される化合物の市販品としては、例えば、”スーパーベッカミン(R)L−148−55、スーパーベッカミン(R)13−535、スーパーベッカミン(R)L−145−60、スーパーベッカミン(R)TD−126”以上DIC社製、”ニカラックBL−60、ニカラックBX−4000”以上日本カーバイド社製、などが挙げられる。   Commercially available products of the compound represented by the general formula (A) include, for example, “Superbecamine (R) L-148-55, Superbecamine (R) 13-535, Superbecamine (R) L-145- 60, Super Becamine (R) TD-126 "or more manufactured by DIC Corporation," Nicarac BL-60, Nicalac BX-4000 "or more manufactured by Nippon Carbide Corporation, and the like.

また、一般式(A)で示される化合物(多量体を含む)は、合成後または市販品の購入後、残留触媒の影響を取り除くために、トルエン、キシレン、酢酸エチル、などの適当な溶剤に溶解し、蒸留水、イオン交換水などで洗浄してもよいし、イオン交換樹脂で処理して除去してもよい。   In addition, the compound represented by the general formula (A) (including multimers) can be used in a suitable solvent such as toluene, xylene, ethyl acetate, etc., in order to remove the influence of residual catalyst after synthesis or after purchasing a commercial product. It may be dissolved and washed with distilled water, ion exchange water or the like, or may be removed by treatment with an ion exchange resin.

次に、メラミン構造を有する化合物(メラミン化合物)について説明する。
メラミン化合物としては、メラミン骨格(構造)であり、特に下記一般式(B)で示される化合物およびその多量体の少なくとも1種であることが望ましい。ここで、多量体は、一般式(A)のごとく、一般式(B)で示される化合物を構造単位として重合されたオリゴマーであり、その重合度は例えば2以上200以下(望ましくは2以上100以下)である。なお、一般式(B)で示される化合物またはその多量体は、1種単独で用いてもよいが、2種以上を併用してもよい。また、前記一般式(A)で示される化合物またはその多量体と併用してもよい。特に、一般式(B)で示される化合物は、2種以上混合して用いたり、それを構造単位とする多量体(オリゴマー)として用いたりすることが好ましい。
Next, a compound having a melamine structure (melamine compound) will be described.
The melamine compound is a melamine skeleton (structure), and is preferably at least one of a compound represented by the following general formula (B) and a multimer thereof. Here, the multimer is an oligomer obtained by polymerizing the compound represented by the general formula (B) as a structural unit as in the general formula (A), and the degree of polymerization thereof is, for example, 2 or more and 200 or less (preferably 2 or more and 100). The following). In addition, the compound shown by General formula (B) or its multimer may be used individually by 1 type, but may use 2 or more types together. Moreover, you may use together with the compound shown by the said general formula (A), or its multimer. In particular, the compound represented by the general formula (B) is preferably used as a mixture of two or more kinds or as a multimer (oligomer) having the same as a structural unit.


一般式(B)中、R乃至R12はそれぞれ独立に、水素原子、−CH−OH、−CH−O−R13を示し、R13は炭素数1以上5以下の分岐してもよいアルキル基を示す。R13としてはメチル基、エチル基、ブチル基などが挙げられる。 In general formula (B), R 7 to R 12 each independently represent a hydrogen atom, —CH 2 —OH, —CH 2 —O—R 13 , and R 13 is branched from 1 to 5 carbon atoms. Or a good alkyl group. Examples of R 13 include a methyl group, an ethyl group, and a butyl group.

一般式(B)で示される化合物は、例えば、メラミンとホルムアルデヒドとを用いて公知の方法(例えば、実験化学講座第4版、28巻、430ページのメラミン樹脂のごとく合成される)で合成される。   The compound represented by the general formula (B) is synthesized by, for example, a known method using melamine and formaldehyde (for example, synthesized as in the melamine resin of Experimental Chemistry Course 4th edition, Volume 28, page 430). The

以下、一般式(B)で示される化合物の具体例を示すが、これらに限られるわけではない。また、以下の具体例は、単量体のものを示すが、これらを構造単位とする多量体(オリゴマー)であってもよい。   Specific examples of the compound represented by the general formula (B) are shown below, but are not limited thereto. Moreover, although the following specific examples show the thing of a monomer, the multimer (oligomer) which uses these as a structural unit may be sufficient.


一般式(B)で示される化合物の市販品としては、例えば、スーパーメラミNo.90(日油社製)、スーパーベッカミン(R)TD−139−60(DIC社製)、ユーバン2020(三井化学)、スミテックスレジンM−3(住友化学工業)、ニカラックMW−30(日本カーバイド社製)、などが挙げられる。   As a commercial item of the compound represented by the general formula (B), for example, Super Melami No. 90 (manufactured by NOF Corporation), Super Becamine (R) TD-139-60 (manufactured by DIC), Uban 2020 (Mitsui Chemicals), Sumitex Resin M-3 (Sumitomo Chemical Industries), Nicarak MW-30 (Japan) Carbide).

また、一般式(B)で示される化合物(多量体を含む)は、合成後または市販品の購入後、残留触媒の影響を取り除くために、トルエン、キシレン、酢酸エチルなどの適当な溶剤に溶解し、蒸留水、イオン交換水などで洗浄してもよいし、イオン交換樹脂で処理して除去してもよい。   In addition, the compound represented by the general formula (B) (including multimers) is dissolved in an appropriate solvent such as toluene, xylene or ethyl acetate after synthesis or after purchase of a commercial product in order to remove the influence of residual catalyst. It may be washed with distilled water, ion exchange water or the like, or may be removed by treatment with ion exchange resin.

次いで、特定の電荷輸送性材料について説明する。
特定の電荷輸送性材料としては、例えば、−OH、−OCH、−NH、−SH、および−COOHから選択される置換基(以下単に「特定の反応性官能基」と称す場合がある)の少なくとも1つを持つものが好適に挙げられる。特に、特定の電荷輸送性材料としては、上記特定の反応性官能基を少なくとも2つ持つものが好適に挙げられ、さらには3つ持つものが好適に挙げられる。
Next, a specific charge transport material will be described.
Examples of the specific charge transporting material include a substituent selected from —OH, —OCH 3 , —NH 2 , —SH, and —COOH (hereinafter, simply referred to as “specific reactive functional group”). Those having at least one of ()) are preferred. In particular, as the specific charge transporting material, those having at least two of the specific reactive functional groups are preferably exemplified, and those having three are preferably mentioned.

特定の電荷輸送性材料としては、下記一般式(I)で示される化合物であることが望ましい。
F−((−R−X)n1(Rn3−Y)n2 (I)
一般式(I)中、Fは正孔輸送能を有する化合物から誘導される有機基を示し、RおよびRはそれぞれ独立に炭素数1以上5以下の直鎖状若しくは分鎖状のアルキレン基を示し、n1は0または1を示し、n2は1以上4以下の整数を示し、n3は0または1を示す。Xは酸素、NH、または硫黄原子を示し、Yは−OH、−OCH、−NH、−SH、または−COOH(即ち上記特定の反応性官能基)を示す。
The specific charge transporting material is preferably a compound represented by the following general formula (I).
F - ((- R 7 -X ) n1 (R 8) n3 -Y) n2 (I)
In general formula (I), F represents an organic group derived from a compound having a hole transporting ability, and R 7 and R 8 are each independently a linear or branched alkylene having 1 to 5 carbon atoms. N1 represents 0 or 1, n2 represents an integer of 1 or more and 4 or less, and n3 represents 0 or 1. X represents an oxygen, NH, or sulfur atom, and Y represents —OH, —OCH 3 , —NH 2 , —SH, or —COOH (ie, the specific reactive functional group described above).

一般式(I)中、Fで示される正孔輸送能を有する化合物から誘導される有機基における正孔輸送能を有する化合物としては、アリールアミン誘導体が好適に挙げられる。アリールアミン誘導体としては、トリフェニルアミン誘導体、テトラフェニルベンジジン誘導体が好適に挙げられる。   In general formula (I), as the compound having a hole transport ability in an organic group derived from a compound having a hole transport ability represented by F, an arylamine derivative is preferably exemplified. Preferred examples of the arylamine derivative include a triphenylamine derivative and a tetraphenylbenzidine derivative.

そして、一般式(I)で示される化合物は、下記一般式(II)で示される化合物であることが望ましい。   The compound represented by the general formula (I) is preferably a compound represented by the following general formula (II).


一般式(II)中、Ar乃至Arは、同一でも異なっていてもよく、それぞれ独立に置換若しくは未置換のアリール基を示し、Arは置換若しくは未置換のアリール基または置換若しくは未置換のアリーレン基を示し、Dは−(−R−X)n1(Rn3−Yを示し、cはそれぞれ独立に0または1を示し、kは0または1を示し、Dの総数は1以上4以下である。また、RおよびRはそれぞれ独立に炭素数1以上5以下の直鎖状若しくは分鎖状のアルキレン基を示し、n1は0または1を示し、n3は0または1を示し、Xは酸素、NH、または硫黄原子を示し、Yは−OH、−OCH、−NH、−SH、または−COOHを示す。 In general formula (II), Ar 1 to Ar 4 may be the same or different and each independently represents a substituted or unsubstituted aryl group, and Ar 5 represents a substituted or unsubstituted aryl group or a substituted or unsubstituted group. D represents — (— R 7 —X) n1 (R 8 ) n3 —Y, c represents 0 or 1 independently, k represents 0 or 1, and the total number of D is 1 or more and 4 or less. R 7 and R 8 each independently represents a linear or branched alkylene group having 1 to 5 carbon atoms, n1 represents 0 or 1, n3 represents 0 or 1, and X represents oxygen , NH, or a sulfur atom, and Y represents —OH, —OCH 3 , —NH 2 , —SH, or —COOH.

一般式(II)中、Dを示す「−(−R−X)n1(Rn3−Y」は、一般式(I)と同じであり、RおよびRはそれぞれ独立に炭素数1以上5以下の直鎖状若しくは分鎖状のアルキレン基である。また、n1として望ましくは、1である。また、Xとして望ましくは、酸素である。また、Yとして望ましくは水酸基である。 In the general formula (II), “— (— R 7 —X) n1 (R 8 ) n3 —Y” representing D is the same as in the general formula (I), and R 7 and R 8 are each independently carbon. A linear or branched alkylene group having a number of 1 or more and 5 or less. N1 is preferably 1. X is preferably oxygen. Y is preferably a hydroxyl group.

なお、一般式(II)におけるDの総数は、一般式(I)におけるn2に相当し、望ましくは、2以上4以下であり、さらに望ましくは3以上4以下である。つまり、一般式(I)や一般式(II)において、望ましくは一分子中に2以上4以下、さらに望ましくは3以上4以下の、上記特定の反応性官能基を有することが望ましい。   The total number of D in the general formula (II) corresponds to n2 in the general formula (I), preferably 2 or more and 4 or less, and more preferably 3 or more and 4 or less. That is, in the general formula (I) or the general formula (II), it is desirable to have the above-mentioned specific reactive functional group, desirably 2 to 4 and more desirably 3 to 4 in one molecule.

一般式(II)中、Ar乃至Arとしては、下記式(1)乃至(7)のうちのいずれかであることが望ましい。なお、下記式(1)乃至(7)は、各Ar乃至Arに連結され得る「−(D)」と共に示す。 In general formula (II), Ar 1 to Ar 4 are preferably any of the following formulas (1) to (7). The following formulas (1) to (7) are shown together with “-(D) c ” that can be linked to each of Ar 1 to Ar 4 .


[式(1)乃至(7)中、Rは水素原子、炭素数1以上4以下のアルキル基、炭素数1以上4以下のアルキル基もしくは炭素数1以上4以下のアルコキシ基で置換されたフェニル基、未置換のフェニル基、炭素数7以上10以下のアラルキル基からなる群より選ばれる1種を表し、R10乃至R12はそれぞれ水素原子、炭素数1以上4以下のアルキル基、炭素数1以上4以下のアルコキシ基、炭素数1以上4以下のアルコキシ基で置換されたフェニル基、未置換のフェニル基、炭素数7以上10以下のアラルキル基、ハロゲン原子からなる群より選ばれる1種を表し、Arは置換または未置換のアリーレン基を表し、Dおよびcは一般式(II)における「D」、「c」と同じであり、sはそれぞれ0または1を表し、tは1以上3以下の整数を表す。] [In the formulas (1) to (7), R 9 is substituted with a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, or an alkoxy group having 1 to 4 carbon atoms. Represents one selected from the group consisting of a phenyl group, an unsubstituted phenyl group, and an aralkyl group having 7 to 10 carbon atoms, wherein R 10 to R 12 are a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, carbon 1 selected from the group consisting of an alkoxy group having 1 to 4 carbon atoms, a phenyl group substituted with an alkoxy group having 1 to 4 carbon atoms, an unsubstituted phenyl group, an aralkyl group having 7 to 10 carbon atoms, and a halogen atom. Represents a seed, Ar represents a substituted or unsubstituted arylene group, D and c are the same as “D” and “c” in formula (II), s represents 0 or 1, and t represents 1 3 or more It represents an integer. ]

ここで、式(7)中のArとしては、下記式(8)または(9)で表されるものが望ましい。   Here, as Ar in Formula (7), what is represented by following formula (8) or (9) is desirable.


[式(8)、(9)中、R13およびR14はそれぞれ水素原子、炭素数1以上4以下のアルキル基、炭素数1以上4以下のアルコキシ基、炭素数1以上4以下のアルコキシ基で置換されたフェニル基、未置換のフェニル基、炭素数7以上10以下のアラルキル基、ハロゲン原子からなる群より選ばれる1種を表し、tは1以上3以下の整数を表す。] [In formulas (8) and (9), R 13 and R 14 are each a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 4 carbon atoms, or an alkoxy group having 1 to 4 carbon atoms. 1 represents one selected from the group consisting of a phenyl group substituted with, an unsubstituted phenyl group, an aralkyl group having 7 to 10 carbon atoms and a halogen atom, and t represents an integer of 1 to 3. ]

また、式(7)中のZ’としては、下記式(10)乃至(17)のうちのいずれかで表されるものが望ましい。   Further, Z ′ in the formula (7) is preferably represented by any one of the following formulas (10) to (17).


[式(10)乃至(17)中、R15およびR16はそれぞれ水素原子、炭素数1以上4以下のアルキル基、炭素数1以上4以下のアルコキシ基もしくは炭素数1以上4以下のアルコキシ基で置換されたフェニル基、未置換のフェニル基、炭素数7以上10以下のアラルキル基、ハロゲン原子からなる群より選ばれる1種を表し、Wは2価の基を表し、qおよびrはそれぞれ1以上10以下の整数を表し、tはそれぞれ1以上3以下の整数を表す。] [In the formulas (10) to (17), R 15 and R 16 are each a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 4 carbon atoms, or an alkoxy group having 1 to 4 carbon atoms. 1 represents one selected from the group consisting of a phenyl group substituted with, an unsubstituted phenyl group, an aralkyl group having 7 to 10 carbon atoms, and a halogen atom, W represents a divalent group, q and r each represent Represents an integer of 1 to 10, and t represents an integer of 1 to 3. ]

上記式(16)乃至(17)中のWとしては、下記(18)乃至(26)で表される2価の基のうちのいずれかであることが望ましい。但し、式(25)中、uは0以上3以下の整数を表す。   W in the formulas (16) to (17) is preferably any one of divalent groups represented by the following (18) to (26). However, in formula (25), u represents an integer of 0 or more and 3 or less.


また、一般式(II)中、Arは、kが0のときはAr乃至Arの説明で例示された上記(1)乃至(7)のアリール基であり、kが1のときはかかる上記(1)乃至(7)のアリール基から1つの水素原子を除いたアリーレン基であることが望ましい。 In general formula (II), Ar 5 is the aryl group of the above (1) to (7) exemplified in the description of Ar 1 to Ar 4 when k is 0, and when k is 1, An arylene group obtained by removing one hydrogen atom from the above aryl groups (1) to (7) is desirable.

一般式(I)で示される化合物の具体例としては、以下に示す化合物(I−1)乃至(I−34)が挙げられる。なお、上記一般式(I)で示される化合物は、これらにより何ら限定されるものではない。   Specific examples of the compound represented by the general formula (I) include the following compounds (I-1) to (I-34). In addition, the compound shown by the said general formula (I) is not limited at all by these.








上記特定の電荷輸送性材料の前記組成物における固形分濃度は、80質量%以上であることが望ましく、より望ましくは90質量%以上である。なお、この固形分濃度の上限は、グアナミン化合物およびメラミン化合物から選択される少なくとも1種や、他の添加剤が有効に機能する限り限定されるものではい。   The solid content concentration of the specific charge transporting material in the composition is desirably 80% by mass or more, and more desirably 90% by mass or more. The upper limit of the solid content concentration is not limited as long as at least one selected from guanamine compounds and melamine compounds and other additives function effectively.

また、グアナミン化合物およびメラミン化合物から選択される少なくとも1種の塗布液における固形分濃度は、0.1質量%以上15質量%以下であることが望ましく、より望ましくは1質量%以上10質量%以下である。   The solid content concentration in at least one coating liquid selected from a guanamine compound and a melamine compound is preferably 0.1% by mass or more and 15% by mass or less, and more preferably 1% by mass or more and 10% by mass or less. It is.

表面保護層5中における特定の電荷輸送性材料の含有量は、前記組成物中における特定の電荷輸送性材料を調整することによって制御される。該固形分濃度は、0.1質量%以上15質量%以下であることが望ましく、より望ましくは1質量%以上10質量%以下である。
なお、表面保護層5中における、特定の電荷輸送性材料、または上記グアナミン化合物およびメラミン化合物から選択される少なくとも1種の含有量は、前記組成物中におけるこれらの化合物の固形分濃度を調整することによって制御される。
The content of the specific charge transport material in the surface protective layer 5 is controlled by adjusting the specific charge transport material in the composition. The solid content concentration is desirably 0.1% by mass or more and 15% by mass or less, and more desirably 1% by mass or more and 10% by mass or less.
The content of at least one selected from the specific charge transporting material or the guanamine compound and the melamine compound in the surface protective layer 5 adjusts the solid content concentration of these compounds in the composition. Is controlled by

(B)フッ素系樹脂粒子
表面保護層5は、フッ素系樹脂粒子を含有してもよい。該フッ素系樹脂粒子としては、特に限定されるものではないが、4フッ化エチレン樹脂(PTFE)、3フッ化塩化エチレン樹脂、6フッ化プロピレン樹脂、フッ化ビニル樹脂、フッ化ビニリデン樹脂、2フッ化2塩化エチレン樹脂およびそれらの共重合体の中から1種あるいは2種以上を選択するのが望ましいが、さらに望ましくは4フッ化エチレン樹脂、フッ化ビニリデン樹脂であり、特に望ましくは4フッ化エチレン樹脂である。
(B) Fluorine resin particles The surface protective layer 5 may contain fluorine resin particles. The fluororesin particles are not particularly limited, but include tetrafluoroethylene resin (PTFE), trifluoroethylene chloride resin, hexafluoropropylene resin, vinyl fluoride resin, vinylidene fluoride resin, 2 It is desirable to select one or two or more kinds of fluorinated ethylene chloride resins and copolymers thereof, more preferably tetrafluoroethylene resin and vinylidene fluoride resin, particularly preferably 4 fluorocarbon resins. It is a hydrogenated ethylene resin.

フッ素系樹脂粒子の平均一次粒径は0.05μm以上1μm以下が望ましく、更には0.1μm以上0.5μm以下が望ましい。
尚、上記フッ素系樹脂粒子の平均一次粒径は、レーザー回折式粒度分布測定装置LA−920(堀場製作所製)を用いて、フッ素系樹脂粒子が分散された分散液と同じ溶剤に希釈した測定液を屈折率1.35で測定した値をいう。
The average primary particle size of the fluororesin particles is preferably 0.05 μm or more and 1 μm or less, and more preferably 0.1 μm or more and 0.5 μm or less.
The average primary particle size of the fluororesin particles was measured by diluting with the same solvent as the dispersion in which the fluororesin particles were dispersed, using a laser diffraction particle size distribution analyzer LA-920 (manufactured by Horiba). A value obtained by measuring the liquid at a refractive index of 1.35.

最外表面層である保護層5の固形分全量に対するフッ素系樹脂粒子の含有量は1質量%以上30質量%以下が望ましく、2質量%以上20質量%以下がさらに望ましい。   The content of the fluorine-based resin particles with respect to the total solid content of the protective layer 5 which is the outermost surface layer is preferably 1% by mass or more and 30% by mass or less, and more preferably 2% by mass or more and 20% by mass or less.

また、表面保護層5には、さらにフッ化アルキル基含有共重合体を含有してもよい。
該フッ化アルキル基含有共重合体としては、特に限定されるものではないが、下記構造式(1)および構造式(2)で表される繰り返し単位を含むフッ素系グラフトポリマーであることが望ましく、アクリル酸エステル化合物、メタクリル酸エステル化合物、等からなるマクロモノマーおよびパーフルオロアルキルエチル(メタ)アクリレート、パーフルオロアルキル(メタ)アクリレートを用いて例えばグラフト重合により合成される樹脂であることがより望ましい。ここで、(メタ)アクリレートはアクリレートまたはメタクリレートを示す。
Further, the surface protective layer 5 may further contain a fluorinated alkyl group-containing copolymer.
The fluorinated alkyl group-containing copolymer is not particularly limited, but is preferably a fluorine-based graft polymer containing repeating units represented by the following structural formulas (1) and (2). More preferred is a resin synthesized by, for example, graft polymerization using a macromonomer composed of acrylate compound, methacrylic ester compound, etc., and perfluoroalkylethyl (meth) acrylate and perfluoroalkyl (meth) acrylate. . Here, (meth) acrylate represents acrylate or methacrylate.


〔構造式(1)および構造式(2)において、l、mおよびnは1以上の正数を、p、q、rおよびsは0または1以上の正数を、tは1以上7以下の正数を、R、R、RおよびRは水素原子またはアルキル基を、Xはアルキレン鎖、ハロゲン置換アルキレン鎖、−S−、−O−、−NH−または単結合を、Yはアルキレン鎖、ハロゲン置換アルキレン鎖、−(C2z−1(OH))−または単結合を、zは1以上の正数を、Qは−O−または−NH−を表す。〕 [In structural formula (1) and structural formula (2), l, m and n are 1 or more positive numbers, p, q, r and s are 0 or 1 or more positive numbers, and t is 1 or more and 7 or less. Wherein R 1 , R 2 , R 3 and R 4 are a hydrogen atom or an alkyl group, X is an alkylene chain, a halogen-substituted alkylene chain, —S—, —O—, —NH— or a single bond, Y is an alkylene chain, a halogen-substituted alkylene chain, - (C z H 2z- 1 (OH)) - or a single bond, z is 1 or more positive, Q is represents -O- or -NH-. ]

フッ化アルキル基含有共重合体の重量平均分子量は、10000以上100000以下が望ましく、さらに望ましくは30000以上100000以下である。   The weight average molecular weight of the fluorinated alkyl group-containing copolymer is preferably from 10,000 to 100,000, and more preferably from 30,000 to 100,000.

フッ化アルキル基含有共重合体において、構造式(1)と構造式(2)との含有比即ちl:mは、1:9乃至9:1が望ましく、3:7乃至7:3がさらに望ましい。   In the fluorinated alkyl group-containing copolymer, the content ratio of the structural formula (1) to the structural formula (2), that is, l: m is preferably 1: 9 to 9: 1, and more preferably 3: 7 to 7: 3. desirable.

構造式(1)および構造式(2)において、R、R、RおよびRで表されるアルキル基としては、メチル基、エチル基、プロピル基等が挙げられる。R、R、RおよびRとしては、水素原子、メチル基が望ましく、これらの中でもメチル基がさらに望ましい。 In Structural Formula (1) and Structural Formula (2), examples of the alkyl group represented by R 1 , R 2 , R 3, and R 4 include a methyl group, an ethyl group, and a propyl group. R 1 , R 2 , R 3 and R 4 are preferably a hydrogen atom or a methyl group, and more preferably a methyl group.

フッ化アルキル基含有共重合体は、構造式(3)で表される繰り返し単位をさらに含んでもよい。構造式(3)の含有量は、構造式(1)および構造式(2)の含有量の合計即ちl+mとの比で、l+m:zとして10:0乃至7:3が望ましく、9:1乃至7:3がさらに望ましい。   The fluorinated alkyl group-containing copolymer may further contain a repeating unit represented by the structural formula (3). The content of the structural formula (3) is preferably 10: 0 to 7: 3 as l + m: z in the ratio of the total content of the structural formula (1) and the structural formula (2), that is, l + m, and 9: 1 7 to 3 is more desirable.

構造式(3)

Structural formula (3)

〔構造式(3)において、RおよびRは水素原子またはアルキル基を、zは1以上の正数を表す。〕 [In Structural Formula (3), R 5 and R 6 represent a hydrogen atom or an alkyl group, and z represents a positive number of 1 or more. ]

尚、R、Rとしては、水素原子、メチル基、エチル基が望ましく、これらの中でもメチル基がさらに望ましい。 R 5 and R 6 are preferably a hydrogen atom, a methyl group, or an ethyl group, and more preferably a methyl group.

最外表面層である保護層5におけるフッ化アルキル基含有共重合体の含有量は、フッ素系樹脂粒子の質量に対して1質量%以上10質量%以下であることが望ましい。   The content of the fluorinated alkyl group-containing copolymer in the protective layer 5 which is the outermost surface layer is desirably 1% by mass or more and 10% by mass or less with respect to the mass of the fluorine-based resin particles.

(C)その他の組成物
表面保護層5には、前述のグアナミン化合物およびメラミン化合物から選択される少なくとも1種と、特定の電荷輸送性材料と、が架橋された架橋物と共に、フェノール樹脂、メラミン樹脂、尿素樹脂、アルキッド樹脂、ベンゾグアナミン樹脂などの他の熱硬化性樹脂を混合して用いてもよい。また、スピロアセタール系グアナミン樹脂(例えば「CTU−グアナミン」(味の素ファインテクノ(株)))など、一分子中の官能基のより多い化合物を当該架橋物中の材料に共重合させてもよい。
(C) Other composition The surface protective layer 5 includes a phenol resin, a melamine, and a cross-linked product obtained by cross-linking at least one selected from the above-described guanamine compounds and melamine compounds and a specific charge transporting material. You may mix and use other thermosetting resins, such as resin, urea resin, alkyd resin, and benzoguanamine resin. In addition, a compound having a larger number of functional groups in one molecule such as a spiroacetal guanamine resin (for example, “CTU-guanamine” (Ajinomoto Fine Techno Co., Ltd.)) may be copolymerized with the material in the crosslinked product.

また、表面保護層5には界面活性剤を添加してもよい。用いる界面活性剤としては、フッ素原子、アルキレンオキサイド構造、シリコーン構造のうち少なくとも一種類以上の構造を含む界面活性剤が好適に挙げられる。   Further, a surfactant may be added to the surface protective layer 5. As the surfactant to be used, a surfactant containing at least one kind of structure among a fluorine atom, an alkylene oxide structure, and a silicone structure is preferably exemplified.

フッ素原子を有する界面活性剤としては、様々なものが挙げられる。フッ素原子およびアクリル構造を有する界面活性剤として具体的は、ポリフローKL600(共栄社化学社製)、エフトップEF−351、EF−352、EF−801、EF−802、EF−601(以上、JEMCO社製)などが挙げられる。アクリル構造を有する界面活性剤とは、アクリルもしくはメタクリル化合物などのモノマーを重合もしくは共重合したものが主に挙げられる。   Various things are mentioned as surfactant which has a fluorine atom. Specific examples of the surfactant having a fluorine atom and an acrylic structure include Polyflow KL600 (manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd.), F-top EF-351, EF-352, EF-801, EF-802, EF-601 (above, JEMCO Manufactured). The surfactant having an acrylic structure mainly includes those obtained by polymerizing or copolymerizing monomers such as acrylic or methacrylic compounds.

また、フッ素原子を有する界面活性剤としては、例えば、パーフルオロアルキル基を持つ界面活性剤が挙げられ、さらに具体的には、パーフルオロアルキルスルホン酸類(例えば、パーフルオロブタンスルホン酸、パーフルオロオクタンスルホン酸など)、パーフルオロアルキルカルボン酸類(例えば、パーフルオロブタンカルボン酸、パーフルオロオクタンカルボン酸など)、パーフルオロアルキル基含有リン酸エステルが好適に挙げられる。パーフルオロアルキルスルホン酸類、およびパーフルオロアルキルカルボン酸類は、その塩およびそのアミド変性体であってもよい。   Examples of the surfactant having a fluorine atom include surfactants having a perfluoroalkyl group, and more specifically, perfluoroalkylsulfonic acids (for example, perfluorobutanesulfonic acid, perfluorooctane). Suitable examples include sulfonic acids and the like, perfluoroalkyl carboxylic acids (for example, perfluorobutane carboxylic acid and perfluorooctane carboxylic acid), and perfluoroalkyl group-containing phosphate esters. Perfluoroalkylsulfonic acids and perfluoroalkylcarboxylic acids may be salts thereof and amide-modified products thereof.

パーフルオロアルキルスルホン酸類の市販品としては、例えばメガファックF−114(大日本インキ化学工業株式会社製)、エフトップEF−101、EF102、EF−103、EF−104、EF−105、EF−112、EF−121、EF−122A、EF−122B、EF−122C、EF−123A(以上、JEMCO社製)、A−K、501(以上、ネオス社製)などが挙げられる。   Examples of commercially available perfluoroalkyl sulfonic acids include MegaFuck F-114 (manufactured by Dainippon Ink & Chemicals, Inc.), F-top EF-101, EF102, EF-103, EF-104, EF-105, and EF-. 112, EF-121, EF-122A, EF-122B, EF-122C, EF-123A (manufactured by JEMCO), AK, 501 (manufactured by Neos) and the like.

パーフルオロアルキルカルボン酸類の市販品としては、例えばメガファックF−410(大日本インキ化学工業株式会社製)、エフトップEF−201、EF−204(以上、JEMCO社製)などが挙げられる。   Examples of commercially available perfluoroalkyl carboxylic acids include Megafac F-410 (Dainippon Ink Chemical Co., Ltd.), F-Top EF-201, EF-204 (above, JEMCO).

パーフルオロアルキル基含有リン酸エステルの市販品としては、メガファックF−493、F−494(以上、大日本インキ化学工業株式会社製)エフトップEF−123A、EF−123B、EF−125M、EF−132、(以上、JEMCO社製)などが挙げられる。   As commercial products of perfluoroalkyl group-containing phosphates, MegaFac F-493, F-494 (above, manufactured by Dainippon Ink & Chemicals, Inc.) F-top EF-123A, EF-123B, EF-125M, EF -132 (above, manufactured by JEMCO).

アルキレンオキサイド構造を持つ界面活性剤としてはポリエチレングリコール、ポリエーテル消泡剤、ポリエーテル変性シリコーンオイルなどが挙げられる。ポリエチレングリコールとしては数平均分子量が2000以下のものが好ましく、数平均分子量が2000以下のポリエチレングリコールとしては、ポリエチレングリコール2000(数平均分子量2000)、ポリエチレングリコール600(数平均分子量600)、ポリエチレングリコール400(数平均分子量400)、ポリエチレングリコール200(数平均分子量200)等が挙げられる。   Examples of the surfactant having an alkylene oxide structure include polyethylene glycol, polyether antifoaming agent, and polyether-modified silicone oil. The polyethylene glycol preferably has a number average molecular weight of 2000 or less, and the polyethylene glycol having a number average molecular weight of 2000 or less includes polyethylene glycol 2000 (number average molecular weight 2000), polyethylene glycol 600 (number average molecular weight 600), polyethylene glycol 400. (Number average molecular weight 400), polyethylene glycol 200 (number average molecular weight 200) and the like.

また、ポリエーテル消泡剤としては、PE−M、PE−L(以上、和光純薬工業社製)、消泡剤No.1、消泡剤No.5(以上、花王社製)等が挙げられる。   Moreover, as a polyether antifoamer, PE-M, PE-L (above, Wako Pure Chemical Industries Ltd. make), antifoam No. 1. Antifoaming agent No. 1 5 (above, manufactured by Kao Corporation).

シリコーン構造を有する界面活性剤としては、ジメチルシリコーン、メチルフェニルシリコーン、ジフェニルシリコーンやそれらの誘導体のごとき一般的なシリコーンオイルが挙げられる。   Examples of the surfactant having a silicone structure include general silicone oils such as dimethyl silicone, methylphenyl silicone, diphenyl silicone, and derivatives thereof.

さらに、フッ素原子、アルキレンオキサイド構造の両方を有する界面活性剤としてはアルキレンオキサイド構造、もしくはポリアルキレン構造を側鎖に有するものや、アルキレンオキサイドもしくはポリアルキレンオキサイド構造の末端がフッ素を含む置換基で置換されたものなどが挙げられる。アルキレンオキサイド構造を有する界面活性剤として、具体的には、例えば、メガファックF−443、F−444、F−445、F−446(以上、大日本インキ化学工業株式会社製)、POLY FOX PF636、PF6320、PF6520、PF656(以上、北村化学社製)などが挙げられる。   Furthermore, surfactants having both a fluorine atom and an alkylene oxide structure include those having an alkylene oxide structure or a polyalkylene structure in the side chain, and the end of the alkylene oxide or polyalkylene oxide structure substituted with a substituent containing fluorine. And the like. Specific examples of the surfactant having an alkylene oxide structure include, for example, Megafac F-443, F-444, F-445, and F-446 (above, Dainippon Ink & Chemicals, Inc.), POLY FOX PF636. , PF6320, PF6520, PF656 (above, manufactured by Kitamura Chemical Co., Ltd.).

また、アルキレンオキサイド構造、シリコーン構造の両方を有する界面活性剤としてはKF351(A)、KF352(A)、KF353(A)、KF354(A)、KF355(A)、KF615(A)、KF618、KF945(A)、KF6004(以上、信越化学工業社製)、TSF4440、TSF4445、TSF4450、TSF4446、TSF4452、TSF4453、TSF4460(以上、GE東芝シリコン社製)、BYK−300、302、306、307、310、315、320、322、323、325、330、331、333、337、341、344、345、346、347、348、370、375、377,378、UV3500、UV3510、UV3570等(以上、ビックケミー・ジャパン株式会社社製)が挙げられる。   As surfactants having both an alkylene oxide structure and a silicone structure, KF351 (A), KF352 (A), KF353 (A), KF354 (A), KF355 (A), KF615 (A), KF618, KF945 (A), KF6004 (above, manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.), TSF4440, TSF4445, TSF4450, TSF4446, TSF4452, TSF4453, TSF4460 (above, manufactured by GE Toshiba Silicon), BYK-300, 302, 306, 307, 310, 315, 320, 322, 323, 325, 330, 331, 333, 337, 341, 344, 345, 346, 347, 348, 370, 375, 377, 378, UV3500, UV3510, UV3570, etc. (above, Big Chemie Ja Emissions Co., Ltd.) and the like.

界面活性剤の含有量は、表面保護層5の固形分量に対して、望ましくは0.01質量%以上1質量%以下、より望ましくは0.02質量%以上0.5質量%以下である。   The content of the surfactant is desirably 0.01% by mass or more and 1% by mass or less, and more desirably 0.02% by mass or more and 0.5% by mass or less with respect to the solid content of the surface protective layer 5.

また、表面保護層5には、さらに他のカップリング剤、フッ素化合物と混合して用いてよい。この化合物として、各種シランカップリング剤、および市販のシリコーン系ハードコート剤が用いられる。   Further, the surface protective layer 5 may be further mixed with another coupling agent or a fluorine compound. As this compound, various silane coupling agents and commercially available silicone hard coat agents are used.

シランカップリング剤としては、ビニルトリクロロシラン、ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルメチルジエトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、γ−アミノプロピルトリエトキシシラン、γ−アミノプロピルトリメトキシシラン、γ−アミノプロピルメチルジメトキシシラン、N−β(アミノエチル)γ−アミノプロピルトリエトキシシラン、テトラメトキシシラン、メチルトリメトキシシラン、ジメチルジメトキシシラン、等が用いられる。市販のハードコート剤としては、KP−85、X−40−9740、X−8239(以上、信越シリコーン社製)、AY42−440、AY42−441、AY49−208(以上、東レダウコーニング社製)等が用いられる。   As the silane coupling agent, vinyltrichlorosilane, vinyltrimethoxysilane, vinyltriethoxysilane, γ-glycidoxypropylmethyldiethoxysilane, γ-glycidoxypropyltrimethoxysilane, γ-aminopropyltriethoxysilane, γ-aminopropyltrimethoxysilane, γ-aminopropylmethyldimethoxysilane, N-β (aminoethyl) γ-aminopropyltriethoxysilane, tetramethoxysilane, methyltrimethoxysilane, dimethyldimethoxysilane, and the like are used. As a commercially available hard coat agent, KP-85, X-40-9740, X-8239 (manufactured by Shin-Etsu Silicone), AY42-440, AY42-441, AY49-208 (manufactured by Toray Dow Corning) Etc. are used.

また、撥水性等の付与のために、(トリデカフルオロ−1,1,2,2−テトラヒドロオクチル)トリエトキシシラン、(3,3,3−トリフルオロプロピル)トリメトキシシラン、3−(ヘプタフルオロイソプロポキシ)プロピルトリエトキシシラン、1H,1H,2H,2H−パーフルオロアルキルトリエトキシシラン、1H,1H,2H,2H−パーフルオロデシルトリエトキシシラン、1H,1H,2H,2H−パーフルオロオクチルトリエトシキシラン、等の含フッ素化合物を加えてもよい。シランカップリング剤は任意の量で使用されるが、含フッ素化合物の量は、フッ素を含まない化合物に対して質量で0.25倍以下とすることが望ましい。   In order to impart water repellency and the like, (tridecafluoro-1,1,2,2-tetrahydrooctyl) triethoxysilane, (3,3,3-trifluoropropyl) trimethoxysilane, 3- (hepta) Fluoroisopropoxy) propyltriethoxysilane, 1H, 1H, 2H, 2H-perfluoroalkyltriethoxysilane, 1H, 1H, 2H, 2H-perfluorodecyltriethoxysilane, 1H, 1H, 2H, 2H-perfluorooctyl Fluorine-containing compounds such as triethoxysilane may be added. Although the silane coupling agent is used in an arbitrary amount, the amount of the fluorine-containing compound is desirably 0.25 times or less by mass with respect to the compound not containing fluorine.

また、表面保護層5にはアルコールに溶解する樹脂を加えてもよい。
ここで、アルコールに可溶な樹脂とは、炭素数5以下のアルコールに1質量%以上溶解する樹脂を意味する。アルコール系溶剤に可溶な樹脂としては、ポリビニルブチラール樹脂、ポリビニルホルマール樹脂、ブチラールの一部がホルマールやアセトアセタール等で変性された部分アセタール化ポリビニルアセタール樹脂などのポリビニルアセタール樹脂(たとえば積水化学社製エスレックB、K等)、ポリアミド樹脂、セルロ−ス樹脂、ポリビニルフェノール樹脂などが挙げられる。特に、ポリビニルアセタール樹脂、ポリビニルフェノール樹脂が望ましい。当該樹脂の重量平均分子量は2,000以上100,000以下が望ましく、5,000以上50,000以下がより望ましい。また、当該樹脂の添加量は1質量%以上40質量%以下が望ましく、1質量%以上30質量%以下がより望ましく、5質量%以上20質量%以下がさらに望ましい。
Further, a resin that dissolves in alcohol may be added to the surface protective layer 5.
Here, the alcohol-soluble resin means a resin that dissolves 1% by mass or more in an alcohol having 5 or less carbon atoms. Examples of resins that are soluble in alcohol solvents include polyvinyl acetal resins such as polyvinyl butyral resin, polyvinyl formal resin, and partially acetalized polyvinyl acetal resin in which a part of butyral is modified with formal or acetoacetal (for example, manufactured by Sekisui Chemical Co., Ltd.) ESREC B, K, etc.), polyamide resin, cellulose resin, polyvinylphenol resin and the like. In particular, polyvinyl acetal resin and polyvinyl phenol resin are desirable. The resin preferably has a weight average molecular weight of 2,000 to 100,000, and more preferably 5,000 to 50,000. The amount of the resin added is preferably 1% by mass or more and 40% by mass or less, more preferably 1% by mass or more and 30% by mass or less, and further preferably 5% by mass or more and 20% by mass or less.

表面保護層5には、酸化防止剤を添加してもよい。酸化防止剤としては、ヒンダードフェノール系またはヒンダードアミン系が望ましく、有機イオウ系酸化防止剤、フォスファイト系酸化防止剤、ジチオカルバミン酸塩系酸化防止剤、チオウレア系酸化防止剤、ベンズイミダゾール系酸化防止剤、などの公知の酸化防止剤を用いてもよい。酸化防止剤の添加量としては20質量%以下が望ましく、10質量%以下がより望ましい。   An antioxidant may be added to the surface protective layer 5. Antioxidants are preferably hindered phenols or hindered amines, organic sulfur antioxidants, phosphite antioxidants, dithiocarbamate antioxidants, thiourea antioxidants, benzimidazole antioxidants. , Etc., may be used. The addition amount of the antioxidant is preferably 20% by mass or less, and more preferably 10% by mass or less.

ヒンダードフェノール系酸化防止剤としては、2,6−ジ−t−ブチル−4−メチルフェノール、2,5−ジ−t−ブチルヒドロキノン、N,N’−ヘキサメチレンビス(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシヒドロシンナマイド、3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシ−ベンジルフォスフォネート−ジエチルエステル、2,4−ビス[(オクチルチオ)メチル]−o−クレゾール、2,6−ジ−t−ブチル−4−エチルフェノール、2,2’−メチレンビス(4−メチル−6−t−ブチルフェノール)、2,2’−メチレンビス(4−エチル−6−t−ブチルフェノール)、4,4’−ブチリデンビス(3−メチル−6−t−ブチルフェノール)、2,5−ジ−t−アミルヒドロキノン、2−t−ブチル−6−(3−ブチル−2−ヒドロキシ−5−メチルベンジル)−4−メチルフェニルアクリレート、4,4’−ブチリデンビス(3−メチル−6−t−ブチルフェノール)等が挙げられる。   Examples of the hindered phenol antioxidant include 2,6-di-t-butyl-4-methylphenol, 2,5-di-t-butylhydroquinone, N, N′-hexamethylene bis (3,5-di). -T-butyl-4-hydroxyhydrocinnamide, 3,5-di-t-butyl-4-hydroxy-benzylphosphonate-diethyl ester, 2,4-bis [(octylthio) methyl] -o-cresol, 2,6-di-t-butyl-4-ethylphenol, 2,2'-methylenebis (4-methyl-6-t-butylphenol), 2,2'-methylenebis (4-ethyl-6-t-butylphenol) 4,4'-butylidenebis (3-methyl-6-t-butylphenol), 2,5-di-t-amylhydroquinone, 2-t-butyl-6- (3-butyl-2- Dorokishi-5-methylbenzyl) -4-methylphenyl acrylate, 4,4'-butylidene bis (3-methyl -6-t-butylphenol) and the like.

また、ヒンダードフェノール系酸化防止剤の市販品としては、「イルガノックス1076」、「イルガノックス1010」、「イルガノックス1098」、「イルガノックス245」、「イルガノックス1330」、「イルガノックス3114」、「イルガノックス1076」、「3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシビフェニル」等が挙げられる。   Commercially available hindered phenolic antioxidants include “Irganox 1076”, “Irganox 1010”, “Irganox 1098”, “Irganox 245”, “Irganox 1330”, “Irganox 3114”. , “Irganox 1076”, “3,5-di-t-butyl-4-hydroxybiphenyl” and the like.

ヒンダードアミン系酸化防止剤としては、「サノールLS2626」、「サノールLS765」、「サノールLS770」、「サノールLS744」、「チヌビン144」、「チヌビン622LD」、「マークLA57」、「マークLA67」、「マークLA62」、「マークLA68」、「マークLA63」が挙げられ、チオエーテル系として「スミライザ−TPS」、「スミライザーTP−D」が挙げられ、ホスファイト系として「マーク2112」、「マークPEP−8」、「マークPEP−24G」、「マークPEP−36」、「マーク329K」、「マークHP−10」等が挙げられる。   As the hindered amine antioxidants, “Sanol LS2626”, “Sanol LS765”, “Sanol LS770”, “Sanol LS744”, “Tinuvin 144”, “Tinuvin 622LD”, “Mark LA57”, “Mark LA67”, “Mark” LA62 "," Mark LA68 ", and" Mark LA63 "are listed," Sumizer-TPS "and" Smilizer TP-D "are listed as thioethers, and" Mark 2112 "and" Mark PEP-8 "are listed as phosphites. , “Mark PEP-24G”, “Mark PEP-36”, “Mark 329K”, “Mark HP-10”, and the like.

更に、表面保護層5には、各種粒子を添加してもよい。粒子の一例として、ケイ素含有粒子が挙げられる。ケイ素含有粒子とは、構成元素にケイ素を含む粒子であり、具体的には、コロイダルシリカおよびシリコーン粒子等が挙げられる。ケイ素含有粒子として用いられるコロイダルシリカは、平均粒径1nm以上100nm以下、望ましくは10nm以上30nm以下のシリカを、酸性もしくはアルカリ性の水分散液、アルコール、ケトン、またはエステル等の有機溶媒中に分散させたものから選ばれ、一般に市販されているものを使用してもよい。保護層5中のコロイダルシリカの固形分含有量は、特に限定されるものではないが、保護層5の固形分量を基準として、0.1質量%以上50質量%以下、望ましくは0.1質量%以上30質量%以下の範囲で用いられる。   Furthermore, various particles may be added to the surface protective layer 5. An example of the particles is silicon-containing particles. Silicon-containing particles are particles containing silicon as a constituent element, and specific examples include colloidal silica and silicone particles. The colloidal silica used as the silicon-containing particles is obtained by dispersing silica having an average particle diameter of 1 nm or more and 100 nm or less, preferably 10 nm or more and 30 nm or less in an organic solvent such as an acidic or alkaline aqueous dispersion, alcohol, ketone, or ester. A commercially available product may be used. The solid content of colloidal silica in the protective layer 5 is not particularly limited, but is 0.1% by mass or more and 50% by mass or less, preferably 0.1% by mass based on the solid content of the protective layer 5. % Or more and 30% by mass or less.

ケイ素含有粒子として用いられるシリコーン粒子は、シリコーン樹脂粒子、シリコーンゴム粒子、シリコーン表面処理シリカ粒子から選ばれ、一般に市販されているものが使用される。これらのシリコーン粒子は球状で、その平均粒径は望ましくは1nm以上500nm以下、より望ましくは10nm以上100nm以下である。保護層5中のシリコーン粒子の含有量は、保護層5の固形分量を基準として、望ましくは0.1質量%以上30質量%以下、より望ましくは0.5質量%以上10質量%以下である。   The silicone particles used as the silicon-containing particles are selected from silicone resin particles, silicone rubber particles, and silicone surface-treated silica particles, and those commercially available are generally used. These silicone particles are spherical, and the average particle size is desirably 1 nm or more and 500 nm or less, and more desirably 10 nm or more and 100 nm or less. The content of the silicone particles in the protective layer 5 is preferably 0.1% by mass or more and 30% by mass or less, more preferably 0.5% by mass or more and 10% by mass or less, based on the solid content of the protective layer 5. .

また、その他の粒子としては、四フッ化エチレン、三フッ化エチレン、六フッ化プロピレン、フッ化ビニル、フッ化ビニリデン等のフッ素系粒子や“第8回ポリマー材料フォーラム講演予稿集 p89”に示される如く、フッ素樹脂と水酸基を有するモノマーを共重合させた樹脂からなる粒子、ZnO−Al、SnO−Sb、In−SnO、ZnO−TiO、ZnO−TiO、MgO−Al、FeO−TiO、TiO、SnO、In、ZnO、MgO等の半導電性金属酸化物が挙げられる。また、同じ目的でシリコーンオイル等のオイルを添加してもよい。シリコーンオイルとしては、ジメチルポリシロキサン、ジフェニルポリシロキサン、フェニルメチルシロキサン等のシリコーンオイル;アミノ変性ポリシロキサン、エポキシ変性ポリシロキサン、カルボキシル変性ポリシロキサン、カルビノール変性ポリシロキサン、メタクリル変性ポリシロキサン、メルカプト変性ポリシロキサン、フェノール変性ポリシロキサン等の反応性シリコーンオイル;ヘキサメチルシクロトリシロキサン、オクタメチルシクロテトラシロキサン、デカメチルシクロペンタシロキサン、ドデカメチルシクロヘキサシロキサン等の環状ジメチルシクロシロキサン類;1,3,5−トリメチル−1,3,5−トリフェニルシクロトリシロキサン、1,3,5,7−テトラメチル−1,3,5,7−テトラフェニルシクロテトラシロキサン、1,3,5,7,9−ペンタメチル−1,3,5,7,9−ペンタフェニルシクロペンタシロキサン等の環状メチルフェニルシクロシロキサン類;ヘキサフェニルシクロトリシロキサン等の環状フェニルシクロシロキサン類;(3,3,3−トリフルオロプロピル)メチルシクロトリシロキサン等のフッ素含有シクロシロキサン類;メチルヒドロシロキサン混合物、ペンタメチルシクロペンタシロキサン、フェニルヒドロシクロシロキサン等のヒドロシリル基含有シクロシロキサン類;ペンタビニルペンタメチルシクロペンタシロキサン等のビニル基含有シクロシロキサン類等が挙げられる。 Other particles include fluorine-based particles such as ethylene tetrafluoride, ethylene trifluoride, propylene hexafluoride, vinyl fluoride, vinylidene fluoride, and “8th Polymer Material Forum Lecture Proceedings p89”. As shown, particles made of a resin obtained by copolymerizing a fluororesin and a monomer having a hydroxyl group, ZnO—Al 2 O 3 , SnO 2 —Sb 2 O 3 , In 2 O 3 —SnO 2 , ZnO 2 —TiO 2 , ZnO Examples thereof include semiconductive metal oxides such as —TiO 2 , MgO—Al 2 O 3 , FeO—TiO 2 , TiO 2 , SnO 2 , In 2 O 3 , ZnO, and MgO. For the same purpose, an oil such as silicone oil may be added. Silicone oils include silicone oils such as dimethylpolysiloxane, diphenylpolysiloxane, and phenylmethylsiloxane; amino-modified polysiloxane, epoxy-modified polysiloxane, carboxyl-modified polysiloxane, carbinol-modified polysiloxane, methacryl-modified polysiloxane, mercapto-modified poly Reactive silicone oils such as siloxane and phenol-modified polysiloxane; cyclic dimethylcyclosiloxanes such as hexamethylcyclotrisiloxane, octamethylcyclotetrasiloxane, decamethylcyclopentasiloxane and dodecamethylcyclohexasiloxane; 1,3,5- Trimethyl-1,3,5-triphenylcyclotrisiloxane, 1,3,5,7-tetramethyl-1,3,5,7-tetraphenylcyclo Cyclic methylphenylcyclosiloxanes such as trasiloxane, 1,3,5,7,9-pentamethyl-1,3,5,7,9-pentaphenylcyclopentasiloxane; cyclic phenylcyclosiloxanes such as hexaphenylcyclotrisiloxane Fluorine-containing cyclosiloxanes such as (3,3,3-trifluoropropyl) methylcyclotrisiloxane; hydrosilyl group-containing cyclosiloxanes such as methylhydrosiloxane mixtures, pentamethylcyclopentasiloxane, and phenylhydrocyclosiloxane; penta And vinyl group-containing cyclosiloxanes such as vinylpentamethylcyclopentasiloxane.

また、表面保護層5には、金属、金属酸化物およびカーボンブラック等を添加してもよい。金属としては、アルミニウム、亜鉛、銅、クロム、ニッケル、銀およびステンレス等、またはこれらの金属をプラスチックの粒子の表面に蒸着したもの等が挙げられる。金属酸化物としては、酸化亜鉛、酸化チタン、酸化スズ、酸化アンチモン、酸化インジウム、酸化ビスマス、スズをドープした酸化インジウム、アンチモンやタンタルをドープした酸化スズおよびアンチモンをドープした酸化ジルコニウム等が挙げられる。これらは単独で用いることも、2種以上を組み合わせて用いてもよい。2種以上を組み合わせて用いる場合は、単に混合しても、固溶体や融着の形にしてもよい。導電性粒子の平均粒径は保護層の透明性の点で0.3μm以下、特に0.1μm以下が望ましい。   Further, metal, metal oxide, carbon black, or the like may be added to the surface protective layer 5. Examples of the metal include aluminum, zinc, copper, chromium, nickel, silver and stainless steel, or those obtained by depositing these metals on the surface of plastic particles. Examples of the metal oxide include zinc oxide, titanium oxide, tin oxide, antimony oxide, indium oxide, bismuth oxide, indium oxide doped with tin, tin oxide doped with antimony and tantalum, and zirconium oxide doped with antimony. . These may be used alone or in combination of two or more. When two or more types are used in combination, they may be simply mixed, or may be in the form of a solid solution or fusion. The average particle diameter of the conductive particles is preferably 0.3 μm or less, particularly preferably 0.1 μm or less, from the viewpoint of transparency of the protective layer.

表面保護層5には、グアナミン化合物およびメラミン化合物や前記特定の電荷輸送材料の硬化を促進するための硬化触媒を含有させてもよい。硬化触媒として酸系の触媒が望ましく用いられる。酸系の触媒としては、酢酸、クロロ酢酸、トリクロロ酢酸、トリフルオロ酢酸、シュウ酸、マレイン酸、マロン酸、乳酸などの脂肪族カルボン酸、安息香酸、フタル酸、テレフタル酸、トリメリット酸などの芳香族カルボン酸、メタンスルホン酸、ドデシルスルホン酸、ベンゼンスルホン酸、ドデシルベンゼンスルホン酸、ナフタレンスルホン酸、などの脂肪族、および芳香族スルホン酸類などが用いられるが、含硫黄系材料を用いることが望ましい。   The surface protective layer 5 may contain a curing catalyst for accelerating the curing of the guanamine compound and the melamine compound or the specific charge transport material. An acid catalyst is preferably used as the curing catalyst. Acid-based catalysts include acetic acid, chloroacetic acid, trichloroacetic acid, trifluoroacetic acid, oxalic acid, maleic acid, malonic acid, lactic acid and other aliphatic carboxylic acids, benzoic acid, phthalic acid, terephthalic acid, trimellitic acid, etc. Aromatic carboxylic acids, methane sulfonic acids, dodecyl sulfonic acids, benzene sulfonic acids, aliphatics such as dodecyl benzene sulfonic acids, naphthalene sulfonic acids, and aromatic sulfonic acids are used, but sulfur-containing materials should be used. desirable.

硬化触媒としての含硫黄系材料は、常温(例えば25℃)、または加熱後に酸性を示すものが望ましく、有機スルホン酸およびその誘導体の少なくとも1種が最も望ましい。表面保護層5中にこれら触媒の存在は、エネルギー分散型X線分析(EDS)、X線光電子分光法(XPS)等により容易に確認される。   The sulfur-containing material as the curing catalyst is desirably one that exhibits acidity at room temperature (for example, 25 ° C.) or after heating, and is most desirably at least one of organic sulfonic acids and derivatives thereof. The presence of these catalysts in the surface protective layer 5 is easily confirmed by energy dispersive X-ray analysis (EDS), X-ray photoelectron spectroscopy (XPS) or the like.

有機スルホン酸および/またはその誘導体としては、例えば、パラトルエンスルホン酸、ジノニルナフタレンスルホン酸(DNNSA)、ジノニルナフタレンジスルホン酸(DNNDSA)、ドデシルベンゼンスルホン酸、フェノールスルホン酸等が挙げられる。これらの中でも、パラトルエンスルホン酸、ドデシルベンゼンスルホン酸が望ましい。また、硬化性樹脂組成物中で、解離し得るものであれば、有機スルホン酸塩を用いてもよい。   Examples of the organic sulfonic acid and / or a derivative thereof include p-toluenesulfonic acid, dinonylnaphthalenesulfonic acid (DNNSA), dinonylnaphthalenedisulfonic acid (DNNDSA), dodecylbenzenesulfonic acid, and phenolsulfonic acid. Among these, p-toluenesulfonic acid and dodecylbenzenesulfonic acid are desirable. Moreover, as long as it can dissociate in a curable resin composition, you may use an organic sulfonate.

また、熱をかけた際に触媒能力が高くなる、所謂熱潜在性触媒を用いてもよい。
熱潜在性触媒として、たとえば有機スルホン化合物等をポリマーで粒子状に包んだマイクロカプセル、ゼオライトの如く空孔化合物に酸等を吸着させたもの、プロトン酸および/またはプロトン酸誘導体を塩基でブロックした熱潜在性プロトン酸触媒や、プロトン酸および/またはプロトン酸誘導体を一級もしくは二級のアルコールでエステル化したもの、プロトン酸および/またはプロトン酸誘導体をビニルエーテル類および/またはビニルチオエーテル類でブロックしたもの、三フッ化ホウ素のモノエチルアミン錯体、三フッ化ホウ素のピリジン錯体などが挙げられる。
Further, a so-called thermal latent catalyst, which has a high catalytic ability when heated, may be used.
As a heat latent catalyst, for example, a microcapsule in which an organic sulfone compound or the like is encapsulated in a polymer form, an adsorbed acid or the like on a pore compound such as zeolite, and a proton acid and / or proton acid derivative is blocked with a base Thermal latent proton acid catalyst, proton acid and / or proton acid derivative esterified with primary or secondary alcohol, proton acid and / or proton acid derivative blocked with vinyl ethers and / or vinyl thioethers , Boron trifluoride monoethylamine complex, boron trifluoride pyridine complex, and the like.

中でも、プロトン酸および/またはプロトン酸誘導体を塩基でブロックしたものが望ましい。
熱潜在性プロトン酸触媒のプロトン酸として、硫酸、塩酸、酢酸、ギ酸、硝酸、リン酸、スルホン酸、モノカルボン酸、ポリカルボン酸類、プロピオン酸、シュウ酸、安息香酸、アクリル酸、メタクリル酸、イタコン酸、フタル酸、マレイン酸、ベンゼンスルホン酸、o、m、p−トルエンスルホン酸、スチレンスルホン酸、ジノニルナフタレンスルホン酸、ジノニルナフタレンジスルホン酸、デシルベンゼンスルホン酸、ウンデシルベンゼンスルホン酸、トリデシルベンゼンスルホン酸、テトラデシルベンゼンスルホン酸、ドデシルベンゼンスルホン酸等が挙げられる。また、プロトン酸誘導体として、スルホン酸、リン酸等のプロトン酸のアルカリ金属塩またはアルカリ土類金属円などの中和物、プロトン酸骨格が高分子鎖中に導入された高分子化合物(ポリビニルスルホン酸等)等が挙げられる。プロトン酸をブロックする塩基として、アミン類が挙げられる。
Of these, a protonic acid and / or a protonic acid derivative blocked with a base is desirable.
As the protonic acid of the heat latent protonic acid catalyst, sulfuric acid, hydrochloric acid, acetic acid, formic acid, nitric acid, phosphoric acid, sulfonic acid, monocarboxylic acid, polycarboxylic acids, propionic acid, oxalic acid, benzoic acid, acrylic acid, methacrylic acid, Itaconic acid, phthalic acid, maleic acid, benzenesulfonic acid, o, m, p-toluenesulfonic acid, styrenesulfonic acid, dinonylnaphthalenesulfonic acid, dinonylnaphthalenedisulfonic acid, decylbenzenesulfonic acid, undecylbenzenesulfonic acid, Examples include tridecylbenzenesulfonic acid, tetradecylbenzenesulfonic acid, dodecylbenzenesulfonic acid and the like. In addition, as protonic acid derivatives, neutralized products such as alkali metal salts of alkaline acids or alkaline earth metal circles such as sulfonic acid and phosphoric acid, and polymer compounds in which a protonic acid skeleton is introduced into the polymer chain (polyvinylsulfone) Acid, etc.). Examples of the base that blocks the protonic acid include amines.

アミン類は、1級、2級または3級アミンに分類される。特に制限はなく、いずれも使用してもよい。   Amines are classified as primary, secondary or tertiary amines. There is no restriction in particular and any of them may be used.

1級アミンとして、メチルアミン、エチルアミン、プロピルアミン、イソプロピルアミン、n−ブチルアミン、イソブチルアミン、t−ブチルアミン、ヘキシルアミン、2−エチルヘキシルアミン、セカンダリーブチルアミン、アリルアミン、メチルヘキシルアミン等が挙げられる。   Examples of the primary amine include methylamine, ethylamine, propylamine, isopropylamine, n-butylamine, isobutylamine, t-butylamine, hexylamine, 2-ethylhexylamine, secondary butylamine, allylamine, and methylhexylamine.

2級アミンとして、ジメチルアミン、ジエチルアミン、ジn−プロピルアミン、ジイソプロピルアミン、ジn−ブチルアミン、ジイソブチルアミン、ジt−ブチルアミン、ジヘキシルアミン、ジ(2−エチルヘキシル)アミン、N−イソプロピルN−イソブチルアミン、ジ(2−エチルヘキシル)アミン、ジセカンダリーブチルアミン、ジアリルアミン、N−メチルヘキシルアミン、3−ピペコリン、4−ピペコリン、2,4−ルペチジン、2,6−ルペチジン、3,5−ルペチジン、モルホリン、N−メチルベンジルアミン等が挙げられる。   As secondary amines, dimethylamine, diethylamine, di-n-propylamine, diisopropylamine, di-n-butylamine, diisobutylamine, di-t-butylamine, dihexylamine, di (2-ethylhexyl) amine, N-isopropyl N-isobutylamine , Di (2-ethylhexyl) amine, disecondary butylamine, diallylamine, N-methylhexylamine, 3-pipecoline, 4-pipecoline, 2,4-lupetidine, 2,6-lupetidine, 3,5-lupetidine, morpholine, N -Methylbenzylamine and the like.

3級アミンとして、トリメチルアミン、トリエチルアミン、トリn−プロピルアミン、トリイソプロピルアミン、トリn−ブチルアミン、トリイソブチルアミン、トリt−ブチルアミン、トリヘキシルアミン、トリ(2−エチルヘキシル)アミン、N−メチルモルホリン、N,N−ジメチルアリルアミン、N−メチルジアリルアミン、トリアリルアミン、N,N−ジメチルアリルアミン、N,N,N’,N’ーテトラメチルー1,2ージアミノエタン、N,N,N’,N’ーテトラメチルー1,3ージアミノプロパン、N,N,N’,N’ーテトラアリルー1,4ージアミノブタン、Nーメチルピペリジン、ピリジン、4ーエチルピリジン、Nープロピルジアリルアミン、3−ジメチルアミノプロパノ−ル、2−エチルピラジン、2,3−ジメチルピラジン、2,5−ジメチルピラジン、2,4−ルチジン、2,5−ルチジン、3,4−ルチジン、3,5−ルチジン、2,4,6−コリジン、2−メチル−4−エチルピリジン、2−メチル−5−エチルピリジン、N,N,N’,N’ −テトラメチルヘキサメチレンジアミン、N−エチル−3−ヒドロキシピペリジン、3−メチル−4−エチルピリジン、3−エチル−4−メチルピリジン、4−(5−ノニル)ピリジン、イミダゾ−ル、N−メチルピペラジン等が挙げられる。   As tertiary amines, trimethylamine, triethylamine, tri-n-propylamine, triisopropylamine, tri-n-butylamine, triisobutylamine, tri-t-butylamine, trihexylamine, tri (2-ethylhexyl) amine, N-methylmorpholine, N, N-dimethylallylamine, N-methyldiallylamine, triallylamine, N, N-dimethylallylamine, N, N, N ′, N′-tetramethyl-1,2-diaminoethane, N, N, N ′, N′-tetramethyl-1,3 -Diaminopropane, N, N, N ', N'-tetraallyl-1,4-diaminobutane, N-methylpiperidine, pyridine, 4-ethylpyridine, N-propyldiallylamine, 3-dimethylaminopropanol, 2-ethylpyrazine, 2, 3-di Tilpyrazine, 2,5-dimethylpyrazine, 2,4-lutidine, 2,5-lutidine, 3,4-lutidine, 3,5-lutidine, 2,4,6-collidine, 2-methyl-4-ethylpyridine, 2-methyl-5-ethylpyridine, N, N, N ′, N′-tetramethylhexamethylenediamine, N-ethyl-3-hydroxypiperidine, 3-methyl-4-ethylpyridine, 3-ethyl-4-methyl Pyridine, 4- (5-nonyl) pyridine, imidazole, N-methylpiperazine and the like can be mentioned.

市販品としては、キングインダストリーズ社製の「NACURE2501」(トルエンスルホン酸解離、メタノール/イソプロパノール溶媒、pH6.0以上pH7.2以下、解離温度80℃)、「NACURE2107」(p−トルエンスルホン酸解離、イソプロパノール溶媒、pH8.0以上pH9.0以下、解離温度90℃)、「NACURE2500」(p−トルエンスルホン酸解離、イソプロパノール溶媒、pH6.0以上pH7.0以下、解離温度65℃)、「NACURE2530」(p−トルエンスルホン酸解離、メタノール/イソプロパノール溶媒、pH5.7以上pH6.5以下、解離温度65℃)、「NACURE2547」(p−トルエンスルホン酸解離、水溶液、pH8.0以上pH9.0以下、解離温度107℃)、「NACURE2558」(p−トルエンスルホン酸解離、エチレングリコール溶媒、pH3.5以上pH4.5以下、解離温度80℃)、「NACUREXP−357」(p−トルエンスルホン酸解離、メタノール溶媒、pH2.0以上pH4.0以下、解離温度65℃)、「NACUREXP−386」(p−トルエンスルホン酸解離、水溶液、pH6.1以上pH6.4以下、解離温度80℃)、「NACUREXC−2211」(p−トルエンスルホン酸解離、pH7.2以上pH8.5以下、解離温度80℃)、「NACURE5225」(ドデシルベンゼンスルホン酸解離、イソプロパノール溶媒、pH6.0以上pH7.0以下、解離温度120℃)、「NACURE5414」(ドデシルベンゼンスルホン酸解離、キシレン溶媒、解離温度120℃)、「NACURE5528」(ドデシルベンゼンスルホン酸解離、イソプロパノール溶媒、pH7.0以上pH8.0以下、解離温度120℃)、「NACURE5925」(ドデシルベンゼンスルホン酸解離、pH7.0以上pH7.5以下、解離温度130℃)、「NACURE1323」(ジノニルナフタレンスルホン酸解離、キシレン溶媒、pH6.8以上pH7.5以下、解離温度150℃)、「NACURE1419」(ジノニルナフタレンスルホン酸解離、キシレン/メチルイソブチルケトン溶媒、解離温度150℃)、「NACURE1557」(ジノニルナフタレンスルホン酸解離、ブタノール/2−ブトキシエタノール溶媒、pH6.5以上pH7.5以下、解離温度150℃)、「NACUREX49−110」(ジノニルナフタレンジスルホン酸解離、イソブタノール/イソプロパノール溶媒、pH6.5以上pH7.5以下、解離温度90℃)、「NACURE3525」(ジノニルナフタレンジスルホン酸解離、イソブタノール/イソプロパノール溶媒、pH7.0以上pH8.5以下、解離温度120℃)、「NACUREXP−383」(ジノニルナフタレンジスルホン酸解離、キシレン溶媒、解離温度120℃)、「NACURE3327」(ジノニルナフタレンジスルホン酸解離、イソブタノール/イソプロパノール溶媒、pH6.5以上pH7.5以下、解離温度150℃)、「NACURE4167」(リン酸解離、イソプロパノール/イソブタノール溶媒、pH6.8以上pH7.3以下、解離温度80℃)、「NACUREXP−297」(リン酸解離、水/イソプロパノール溶媒、pH6.5以上pH7.5以下、解離温度90℃、「NACURE4575」(リン酸解離、pH7.0以上pH8.0以下、解離温度110℃)等が挙げられる。
これらの熱潜在性触媒は単独または二種類以上組み合わせても使用される。
Commercially available products include “NACURE2501” (toluenesulfonic acid dissociation, methanol / isopropanol solvent, pH 6.0 to pH 7.2, dissociation temperature 80 ° C.), “NACURE2107” (p-toluenesulfonic acid dissociation, manufactured by King Industries, Inc. Isopropanol solvent, pH 8.0 to pH 9.0, dissociation temperature 90 ° C.) “NACURE 2500” (p-toluenesulfonic acid dissociation, isopropanol solvent, pH 6.0 to pH 7.0, dissociation temperature 65 ° C.), “NACURE 2530” (P-toluenesulfonic acid dissociation, methanol / isopropanol solvent, pH 5.7 to pH 6.5, dissociation temperature 65 ° C.), “NACURE2547” (p-toluenesulfonic acid dissociation, aqueous solution, pH 8.0 to pH 9.0, Dissociation temperature 107 ), “NACURE2558” (p-toluenesulfonic acid dissociation, ethylene glycol solvent, pH 3.5 to pH4.5, dissociation temperature 80 ° C.), “NACUREXP-357” (p-toluenesulfonic acid dissociation, methanol solvent, pH 2. 0 to pH 4.0, dissociation temperature 65 ° C.) “NACUREXP-386” (p-toluenesulfonic acid dissociation, aqueous solution, pH 6.1 to pH 6.4, dissociation temperature 80 ° C.), “NACUREX C-2211” (p -Toluenesulfonic acid dissociation, pH 7.2 to pH 8.5, dissociation temperature 80 ° C.), “NACURE 5225” (dodecylbenzenesulfonic acid dissociation, isopropanol solvent, pH 6.0 to pH 7.0, dissociation temperature 120 ° C.), “ NACURE 5414 "(dodecylbenzenesulfonic acid dissociation, key Ren solvent, dissociation temperature 120 ° C.), “NACURE 5528” (dodecylbenzenesulfonic acid dissociation, isopropanol solvent, pH 7.0 to pH 8.0, dissociation temperature 120 ° C.), “NACURE 5925” (dodecylbenzenesulfonic acid dissociation, pH 7.0) PH 7.5 or less, dissociation temperature 130 ° C., “NACURE 1323” (disinyl naphthalene sulfonic acid dissociation, xylene solvent, pH 6.8 to pH 7.5, dissociation temperature 150 ° C.), “NACURE 1419” (dinonyl naphthalene sulfonic acid Dissociation, xylene / methyl isobutyl ketone solvent, dissociation temperature 150 ° C.), “NACURE1557” (dinonylnaphthalenesulfonic acid dissociation, butanol / 2-butoxyethanol solvent, pH 6.5 to pH 7.5, dissociation temperature 150 ° C.), “ NA CUREX 49-110 ”(dinonyl naphthalene disulfonic acid dissociation, isobutanol / isopropanol solvent, pH 6.5 to pH 7.5, dissociation temperature 90 ° C.),“ NACURE 3525 ”(dinonyl naphthalene disulfonic acid dissociation, isobutanol / isopropanol solvent, pH 7.0 to pH 8.5, dissociation temperature 120 ° C., “NACUREXP-383” (dinonyl naphthalene disulfonic acid dissociation, xylene solvent, dissociation temperature 120 ° C.), “NACURE 3327” (dinonyl naphthalene disulfonic acid dissociation, isobutanol / Isopropanol solvent, pH 6.5 to pH 7.5, dissociation temperature 150 ° C.), “NACURE4167” (phosphoric acid dissociation, isopropanol / isobutanol solvent, pH 6.8 to pH 7.3, dissociation temperature 80 ), “NACUREXP-297” (phosphoric acid dissociation, water / isopropanol solvent, pH 6.5 to pH 7.5, dissociation temperature 90 ° C., “NACURE 4575” (phosphoric acid dissociation, pH 7.0 to pH 8.0, dissociation temperature) 110 ° C.).
These thermal latent catalysts may be used alone or in combination of two or more.

ここで、触媒の配合量は、上記グアナミン化合物およびメラミン化合物から選択される少なくとも1種の量(塗布液における固形分濃度)に対し、0.1質量%以上50質量%以下の範囲であることが望ましく、特に10質量%以上30質量%以下が望ましい。   Here, the compounding amount of the catalyst is in the range of 0.1% by mass or more and 50% by mass or less with respect to at least one amount selected from the guanamine compound and the melamine compound (solid content concentration in the coating solution). Is desirable, and 10 mass% or more and 30 mass% or less are especially desirable.

(表面保護層の形成方法)
以上の構成の表面保護層5は、グアナミン化合物およびメラミン化合物から選択される少なくとも1種と特定の電荷輸送性材料とを少なくとも含む表面保護層用塗布液を用いて形成される。この表面保護層用塗布液は、必要に応じて、表面保護層5の任意の構成成分が添加される。
(Method for forming surface protective layer)
The surface protective layer 5 having the above-described configuration is formed using a surface protective layer coating solution containing at least one selected from a guanamine compound and a melamine compound and a specific charge transporting material. In this coating solution for the surface protective layer, optional components of the surface protective layer 5 are added as necessary.

表面保護層5の形成は、無溶媒で行うか、必要に応じてメタノール、エタノール、プロパノール、ブタノール等のアルコール類;アセトン、メチルエチルケトン等のケトン類;テトラヒドロフラン、ジエチルエーテル、ジオキサン等のエーテル類等の溶剤を用いて行ってもよい。かかる溶剤は1種を単独で又は2種以上を混合して使用されるが、望ましくは沸点が100℃以下のものである。溶剤としては、特に、少なくとも1種以上の水酸基を持つ溶剤(例えば、アルコール類等)を用いることがよい。   The surface protective layer 5 is formed in the absence of a solvent or, if necessary, alcohols such as methanol, ethanol, propanol and butanol; ketones such as acetone and methyl ethyl ketone; ethers such as tetrahydrofuran, diethyl ether and dioxane; You may carry out using a solvent. Such solvents are used singly or in combination of two or more, and preferably have a boiling point of 100 ° C. or lower. As the solvent, it is particularly preferable to use a solvent having at least one hydroxyl group (for example, alcohol).

溶媒量は任意に設定されるが、グアナミン化合物およびメラミン化合物から選択される少なくとも1種の1質量部に対し、0.5質量部以上30質量部以下、望ましくは1質量部以上20質量部以下で使用される。   The amount of the solvent is arbitrarily set, but 0.5 parts by mass or more and 30 parts by mass or less, and preferably 1 part by mass or more and 20 parts by mass or less with respect to 1 part by mass of at least one kind selected from a guanamine compound and a melamine compound. Used in.

また、上記成分を反応させて塗布液を得るときには、単純に混合、溶解させるだけでもよいが、室温(例えば25℃)以上100℃以下、望ましくは30℃以上80℃以下で10分以上100時間以下、望ましくは1時間以上50時間以下加温してもよい。また、この際に超音波を照射することも望ましい。   In addition, when the coating liquid is obtained by reacting the above components, it may be simply mixed and dissolved, but it is room temperature (for example, 25 ° C.) to 100 ° C., preferably 30 ° C. to 80 ° C. for 10 minutes to 100 hours. Hereinafter, it may be heated for 1 hour to 50 hours. It is also desirable to irradiate ultrasonic waves at this time.

そして、表面保護層用塗布液を電荷輸送層2Bの上に、ブレード塗布法、マイヤーバー塗布法、スプレー塗布法、浸漬塗布法、ビード塗布法、エアーナイフ塗布法、カーテン塗布法等の通常の方法により塗布し、必要に応じて例えば温度100℃以上170℃以下で加熱することで、硬化させることで、表面保護層5が得られる。   Then, the coating solution for the surface protective layer is applied on the charge transport layer 2B by a usual method such as blade coating method, Mayer bar coating method, spray coating method, dip coating method, bead coating method, air knife coating method, curtain coating method, etc. The surface protective layer 5 can be obtained by applying the resin by a method and curing it by heating, for example, at a temperature of 100 ° C. or higher and 170 ° C. or lower as necessary.

表面保護層5の膜厚は、望ましくは1μm以上15μm以下、より望ましくは3μm以上10μm以下である。   The film thickness of the surface protective layer 5 is desirably 1 μm or more and 15 μm or less, and more desirably 3 μm or more and 10 μm or less.

<プロセスカートリッジおよび画像形成装置>
次に、本実施形態の電子写真感光体を用いたプロセスカートリッジおよび画像形成装置について説明する。
本実施形態のプロセスカートリッジは、本実施形態の電子写真感光体を用いたものであれば特に限定されないが、具体的には、潜像保持体の表面の静電潜像を現像して得られたトナー像を記録媒体に転写して、該記録媒体上に画像を形成する画像形成装置に対して着脱自在であり、前記潜像保持体としての前述の本実施形態に係る電子写真感光体と、帯電装置、現像装置およびクリーニング装置から選択された少なくとも1つと、を備えた構成であることが望ましい。
<Process cartridge and image forming apparatus>
Next, a process cartridge and an image forming apparatus using the electrophotographic photosensitive member of this embodiment will be described.
The process cartridge of this embodiment is not particularly limited as long as it uses the electrophotographic photosensitive member of this embodiment. Specifically, the process cartridge is obtained by developing an electrostatic latent image on the surface of the latent image holding member. The electrophotographic photosensitive member according to the present embodiment as the latent image holding member is detachable from an image forming apparatus that transfers the toner image to a recording medium and forms an image on the recording medium. And at least one selected from a charging device, a developing device, and a cleaning device.

また、本実施形態の画像形成装置は、本実施形態の電子写真感光体を用いたものであれば特に限定されないが、具体的には、本実施形態に係る電子写真感光体と、前記電子写真感光体を帯電する帯電装置と、帯電した前記電子写真感光体の表面に静電潜像を形成する潜像形成装置と、前記電子写真感光体の表面に形成された静電潜像をトナーにより現像してトナー像を形成する現像装置と、前記電子写真感光体の表面に形成されたトナー像を記録媒体に転写する転写装置と、を備えた構成であることが望ましい。なお、本実施形態の画像形成装置は、各色のトナーに対応した感光体を複数有するいわゆるタンデム機であってもよく、この場合、全ての感光体が本実施形態の電子写真感光体であることが望ましい。また、トナー像の転写は、中間転写体を利用した中間転写方式であってもよい。   Further, the image forming apparatus of the present embodiment is not particularly limited as long as it uses the electrophotographic photosensitive member of the present embodiment. Specifically, the electrophotographic photosensitive member according to the present embodiment and the electrophotographic photosensitive member are described. A charging device for charging the photosensitive member, a latent image forming device for forming an electrostatic latent image on the surface of the charged electrophotographic photosensitive member, and an electrostatic latent image formed on the surface of the electrophotographic photosensitive member with toner. It is desirable to have a developing device that develops a toner image and a transfer device that transfers the toner image formed on the surface of the electrophotographic photosensitive member to a recording medium. The image forming apparatus of the present embodiment may be a so-called tandem machine having a plurality of photoreceptors corresponding to the toners of the respective colors. In this case, all the photoreceptors are the electrophotographic photoreceptors of the embodiment. Is desirable. The toner image may be transferred by an intermediate transfer system using an intermediate transfer member.

図2は、本実施形態に係る画像形成装置を示す概略構成図である。画像形成装置100は、図2に示すように。電子写真感光体7を備えるプロセスカートリッジ300と、露光装置9と、転写装置40と、中間転写体50とを備える。なお、画像形成装置100において、露光装置9はプロセスカートリッジ300の開口部から電子写真感光体7に露光し得る位置に配置されており、転写装置40は中間転写体50を介して電子写真感光体7に対向する位置に配置されており、中間転写体50はその一部が電子写真感光体7に接触して配置されている。   FIG. 2 is a schematic configuration diagram illustrating the image forming apparatus according to the present embodiment. The image forming apparatus 100 is as shown in FIG. A process cartridge 300 including the electrophotographic photosensitive member 7, an exposure device 9, a transfer device 40, and an intermediate transfer member 50 are provided. In the image forming apparatus 100, the exposure device 9 is disposed at a position where the electrophotographic photosensitive member 7 can be exposed from the opening of the process cartridge 300, and the transfer device 40 is interposed between the electrophotographic photosensitive member via the intermediate transfer member 50. 7, and a part of the intermediate transfer member 50 is disposed in contact with the electrophotographic photosensitive member 7.

図2におけるプロセスカートリッジ300は、ハウジング内に、電子写真感光体7、帯電装置8、現像装置11およびクリーニング装置13を一体に支持している。クリーニング装置13は、クリーニングブレード(クリーニング部材)を有しており、クリーニングブレード131は、電子写真感光体7の表面に接触するように配置されている。   A process cartridge 300 in FIG. 2 integrally supports an electrophotographic photosensitive member 7, a charging device 8, a developing device 11, and a cleaning device 13 in a housing. The cleaning device 13 has a cleaning blade (cleaning member), and the cleaning blade 131 is disposed so as to contact the surface of the electrophotographic photosensitive member 7.

また、潤滑材14を感光体7の表面に供給する繊維状部材132(ロール状)、クリーニングをアシストする繊維状部材133(平ブラシ状)を用いた例を示してあるが、これらは使用しても、使用しなくてもよい。   In addition, an example is shown in which a fibrous member 132 (roll shape) that supplies the lubricant 14 to the surface of the photoreceptor 7 and a fibrous member 133 (flat brush shape) that assists in cleaning are used. However, it may not be used.

帯電装置8としては、例えば、導電性または半導電性の帯電ローラ、帯電ブラシ、帯電フィルム、帯電ゴムブレード、帯電チューブ等を用いた接触型帯電器が使用される。また、接触型の帯電器には限られず、図3に示す画像形成装置110のごとく、コロナ放電を利用した非接触型帯電器18(スコロトロン帯電器やコロトロン帯電器等)や、非接触方式のローラ帯電器等のそれ自体公知の帯電器等も使用される。   As the charging device 8, for example, a contact type charger using a conductive or semiconductive charging roller, a charging brush, a charging film, a charging rubber blade, a charging tube or the like is used. Further, the contact charger is not limited, and as in the image forming apparatus 110 shown in FIG. 3, a non-contact charger 18 (such as a scorotron charger or a corotron charger) using corona discharge, or a non-contact type charger. Known chargers such as roller chargers are also used.

なお、図示しないが、電子写真感光体7の周囲には、電子写真感光体7の温度を上昇させ、相対温度を低減させるための感光体加熱部材を設けてもよい。   Although not shown, a photosensitive member heating member for raising the temperature of the electrophotographic photosensitive member 7 and reducing the relative temperature may be provided around the electrophotographic photosensitive member 7.

露光装置9としては、例えば、感光体7表面に、半導体レーザ光、LED光、液晶シャッタ光等の光を、定められた像様に露光する光学系機器等が挙げられる。光源の波長は感光体の分光感度領域にあるものが使用される。半導体レーザーの波長としては、780nm付近に発振波長を有する近赤外が主流である。しかし、この波長に限定されず、600nm台の発振波長レーザーや青色レーザーとして400nm以上450nm以下近傍に発振波長を有するレーザーも利用してもよい。また、カラー画像形成のためにはマルチビームを出力し得るタイプの面発光型のレーザー光源も有効である。   Examples of the exposure device 9 include optical system devices that expose the surface of the photoreceptor 7 with light such as semiconductor laser light, LED light, and liquid crystal shutter light in a predetermined image-like manner. The wavelength of the light source is in the spectral sensitivity region of the photoreceptor. As the wavelength of the semiconductor laser, near infrared having an oscillation wavelength near 780 nm is the mainstream. However, the present invention is not limited to this wavelength, and an oscillation wavelength laser in the 600 nm range or a laser having an oscillation wavelength in the vicinity of 400 nm to 450 nm as a blue laser may be used. A surface-emitting laser light source that can output a multi-beam is also effective for color image formation.

現像装置11としては、例えば、磁性若しくは非磁性の一成分系現像剤または二成分系現像剤等を接触または非接触させて現像する一般的な現像装置を用いて行ってもよい。その現像装置としては、上述の機能を有している限り特に制限はなく、目的に応じて選択される。例えば、上記一成分系現像剤または二成分系現像剤をブラシ、ローラ等を用いて感光体7に付着させる機能を有する公知の現像器等が挙げられる。中でも現像剤を表面に保持した現像ローラを用いるものが望ましい。   As the developing device 11, for example, a general developing device that performs development by bringing a magnetic or non-magnetic one-component developer or two-component developer into contact or non-contact with each other may be used. The developing device is not particularly limited as long as it has the functions described above, and is selected according to the purpose. For example, a known developing device having a function of adhering the one-component developer or the two-component developer to the photoreceptor 7 using a brush, a roller, or the like can be used. Among these, those using a developing roller holding the developer on the surface are desirable.

以下、現像装置11に使用されるトナーについて説明する。
本実施形態の画像形成装置に用いられるトナーは、平均形状係数((ML/A)×(π/4)×100、ここでMLは粒子の最大長を表し、Aは粒子の投影面積を表す)が100以上150以下であることが望ましく、105以上145以下であることがより望ましく、110以上140以下であることがさらに望ましい。さらに、トナーとしては、体積平均粒子径が3μm以上12μm以下であることが望ましく、3.5μm以上9μm以下であることがさらに望ましい。
Hereinafter, the toner used in the developing device 11 will be described.
The toner used in the image forming apparatus of this embodiment has an average shape factor ((ML 2 / A) × (π / 4) × 100, where ML represents the maximum length of the particles, and A represents the projected area of the particles. Is preferably from 100 to 150, more preferably from 105 to 145, and even more preferably from 110 to 140. Further, the toner preferably has a volume average particle size of 3 μm to 12 μm, and more preferably 3.5 μm to 9 μm.

トナーは、特に製造方法により限定されるものではないが、例えば、結着樹脂、着色剤および離型剤、やその他更に帯電制御剤等を加えて混練、粉砕、分級する混練粉砕法;混練粉砕法にて得られた粒子を機械的衝撃力または熱エネルギーにて形状を変化させる方法;結着樹脂の重合性単量体を乳化重合させ、形成された分散液と、着色剤および離型剤、その他更に帯電制御剤等の分散液とを混合し、凝集、加熱融着させ、トナー粒子を得る乳化重合凝集法;結着樹脂を得るための重合性単量体と、着色剤および離型剤、その他更に帯電制御剤等の溶液を水系溶媒に懸濁させて重合する懸濁重合法;結着樹脂と、着色剤および離型剤、その他更に帯電制御剤等の溶液とを水系溶媒に懸濁させて造粒する溶解懸濁法等により製造されるトナーが使用される。   The toner is not particularly limited by the production method. For example, a kneading and pulverizing method in which a binder resin, a colorant and a release agent, and a charge control agent are further added, kneaded, pulverized, and classified; A method of changing the shape of particles obtained by the method by mechanical impact force or thermal energy; a dispersion monomer formed by emulsion polymerization of a polymerizable monomer of a binder resin, a colorant and a release agent In addition, an emulsion polymerization aggregation method for obtaining toner particles by mixing a dispersion liquid such as a charge control agent and aggregating and heat-fusing to obtain toner particles; a polymerizable monomer for obtaining a binder resin, a colorant and a release agent Suspension polymerization method in which a solution of an agent, a charge control agent, etc. is suspended in an aqueous solvent for polymerization; a binder resin, a coloring agent, a release agent, and a solution of a charge control agent, etc., in an aqueous solvent Toner produced by the suspension method, etc. It is use.

また上記方法で得られたトナーをコアにして、さらに凝集粒子を付着、加熱融合してコアシェル構造をもたせる製造方法等、公知の方法が使用される。なお、トナーの製造方法としては、形状制御、粒度分布制御の観点から水系溶媒にて製造する懸濁重合法、乳化重合凝集法、溶解懸濁法が望ましく、乳化重合凝集法が特に望ましい。   Further, a known method such as a production method in which the toner obtained by the above method is used as a core, and agglomerated particles are further adhered and heated and fused to give a core-shell structure is used. The toner production method is preferably a suspension polymerization method, an emulsion polymerization aggregation method, or a dissolution suspension method in which an aqueous solvent is used from the viewpoint of shape control and particle size distribution control, and an emulsion polymerization aggregation method is particularly desirable.

トナー母粒子は、結着樹脂、着色剤および離型剤を含有することが望ましく、更にシリカや帯電制御剤を含有してもよい。   The toner base particles desirably contain a binder resin, a colorant, and a release agent, and may further contain silica or a charge control agent.

トナー母粒子に使用される結着樹脂としては、スチレン、クロロスチレン等のスチレン類、エチレン、プロピレン、ブチレン、イソプレン等のモノオレフィン類、酢酸ビニル、プロピオン酸ビニル、安息香酸ビニル、酪酸ビニル等のビニルエステル類、アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、アクリル酸ブチル、アクリル酸ドデシル、アクリル酸オクチル、アクリル酸フェニル、メタクリル酸メチル、メタクリル酸エチル、メタクリル酸ブチル、メタクリル酸ドデシル等のα−メチレン脂肪族モノカルボン酸エステル類、ビニルメチルエーテル、ビニルエチルエーテル、ビニルブチルエーテル等のビニルエーテル類、ビニルメチルケトン、ビニルヘキシルケトン、ビニルイソプロペニルケトン等のビニルケトン類等の単独重合体および共重合体、ジカルボン酸類とジオール類との共重合によるポリエステル樹脂等が挙げられる。   Binder resins used for toner base particles include styrenes such as styrene and chlorostyrene, monoolefins such as ethylene, propylene, butylene and isoprene, vinyl acetate, vinyl propionate, vinyl benzoate, vinyl butyrate, etc. Α-methylene aliphatics such as vinyl esters, methyl acrylate, ethyl acrylate, butyl acrylate, dodecyl acrylate, octyl acrylate, phenyl acrylate, methyl methacrylate, ethyl methacrylate, butyl methacrylate, dodecyl methacrylate Homopolymers and copolymers of monocarboxylic acid esters, vinyl ethers such as vinyl methyl ether, vinyl ethyl ether and vinyl butyl ether, vinyl ketones such as vinyl methyl ketone, vinyl hexyl ketone and vinyl isopropenyl ketone , Polyester resins by copolymerization of dicarboxylic acids and diols.

特に代表的な結着樹脂としては、ポリスチレン、スチレン−アクリル酸アルキル共重合体、スチレン−メタクリル酸アルキル共重合体、スチレン−アクリロニトリル共重合体、スチレン−ブタジエン共重合体、スチレン−無水マレイン酸共重合体、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリエステル樹脂等が挙げられる。さらに、ポリウレタン、エポキシ樹脂、シリコーン樹脂、ポリアミド、変性ロジン、パラフィンワックス等が挙げられる。   Particularly representative binder resins include polystyrene, styrene-alkyl acrylate copolymer, styrene-alkyl methacrylate copolymer, styrene-acrylonitrile copolymer, styrene-butadiene copolymer, styrene-maleic anhydride copolymer. A polymer, polyethylene, a polypropylene, a polyester resin etc. are mentioned. Further, polyurethane, epoxy resin, silicone resin, polyamide, modified rosin, paraffin wax and the like can be mentioned.

また、着色剤としては、マグネタイト、フェライト等の磁性粉、カーボンブラック、アニリンブルー、カルイルブルー、クロムイエロー、ウルトラマリンブルー、デュポンオイルレッド、キノリンイエロー、メチレンブルークロリド、フタロシアニンブルー、マラカイトグリーンオキサレート、ランプブラック、ローズベンガル、C.I.ピグメント・レッド48:1、C.I.ピグメント・レッド122、C.I.ピグメント・レッド57:1、C.I.ピグメント・イエロー97、C.I.ピグメント・イエロー17、C.I.ピグメント・ブルー15:1、C.I.ピグメント・ブルー15:3等を代表的なものとして例示される。   In addition, as colorants, magnetic powders such as magnetite and ferrite, carbon black, aniline blue, caryl blue, chrome yellow, ultramarine blue, Dupont oil red, quinoline yellow, methylene blue chloride, phthalocyanine blue, malachite green oxalate, Lamp Black, Rose Bengal, C.I. I. Pigment red 48: 1, C.I. I. Pigment red 122, C.I. I. Pigment red 57: 1, C.I. I. Pigment yellow 97, C.I. I. Pigment yellow 17, C.I. I. Pigment blue 15: 1, C.I. I. Pigment Blue 15: 3 is exemplified as a representative example.

離型剤としては、低分子ポリエチレン、低分子ポリプロピレン、フィッシャートロピィシュワックス、モンタンワックス、カルナバワックス、ライスワックス、キャンデリラワックス等を代表的なものとして例示される。   Typical examples of the release agent include low molecular weight polyethylene, low molecular weight polypropylene, Fischer tropical wax, montan wax, carnauba wax, rice wax, and candelilla wax.

また、帯電制御剤としては、公知のものが使用されるが、アゾ系金属錯化合物、サリチル酸の金属錯化合物、極性基を含有するレジンタイプの帯電制御剤が用いられる。湿式製法でトナーを製造する場合、水に溶解しにくい素材を使用することが望ましい。また、トナーとしては、磁性材料を内包する磁性トナーおよび磁性材料を含有しない非磁性トナーのいずれであってもよい。   As the charge control agent, known ones are used, and azo metal complex compounds, metal complex compounds of salicylic acid, and resin type charge control agents containing polar groups are used. When toner is manufactured by a wet manufacturing method, it is desirable to use a material that is difficult to dissolve in water. The toner may be either a magnetic toner containing a magnetic material or a non-magnetic toner containing no magnetic material.

現像装置11に用いるトナーとしては、上記トナー母粒子および上記外添剤をヘンシェルミキサーまたはVブレンダー等で混合することによって製造される。また、トナー母粒子を湿式にて製造する場合は、湿式にて外添してもよい。   The toner used in the developing device 11 is manufactured by mixing the toner base particles and the external additive with a Henschel mixer or a V blender. Further, when the toner base particles are produced by a wet method, they may be externally added by a wet method.

現像装置11に用いるトナーには滑性粒子を添加してもよい。滑性粒子としては、グラファイト、二硫化モリブデン、滑石、脂肪酸、脂肪酸金属塩等の固体潤滑剤や、ポリプロピレン、ポリエチレン、ポリブテン等の低分子量ポリオレフィン類、加熱により軟化点を有するシリコーン類、オレイン酸アミド、エルカ酸アミド、リシノール酸アミド、ステアリン酸アミド等の脂肪族アミド類やカルナバワックス、ライスワックス、キャンデリラワックス、木ロウ、ホホバ油等の植物系ワックス、ミツロウの動物系ワックス、モンタンワックス、オゾケライト、セレシン、パラフィンワックス、マイクロクリスタリンワックス、フィッシャートロプシュワックス等の鉱物、石油系ワックス、およびそれらの変性物が使用される。これらは、1種を単独で、または2種以上を併用して使用される。但し、平均粒径としては0.1μm以上10μm以下の範囲が望ましく、上記化学構造のものを粉砕して、粒径をそろえてもよい。トナーへの添加量は望ましくは0.05質量%以上2.0質量%以下、より望ましくは0.1質量%以上1.5質量%以下の範囲である。   Lubricating particles may be added to the toner used in the developing device 11. Lubricating particles include solid lubricants such as graphite, molybdenum disulfide, talc, fatty acids and fatty acid metal salts, low molecular weight polyolefins such as polypropylene, polyethylene and polybutene, silicones having a softening point upon heating, oleic amides , Erucic acid amide, ricinoleic acid amide, stearic acid amide and other aliphatic amides, carnauba wax, rice wax, candelilla wax, tree wax, jojoba oil and other plant waxes, beeswax animal wax, montan wax, ozokerite , Ceresin, paraffin wax, microcrystalline wax, minerals such as Fischer-Tropsch wax, petroleum wax, and modified products thereof. These are used individually by 1 type or in combination of 2 or more types. However, the average particle size is preferably in the range of 0.1 μm or more and 10 μm or less, and those having the above chemical structure may be pulverized to make the particle sizes uniform. The amount added to the toner is desirably in the range of 0.05% by mass to 2.0% by mass, and more desirably in the range of 0.1% by mass to 1.5% by mass.

現像装置11に用いるトナーには、無機粒子、有機粒子、該有機粒子に無機粒子を付着させた複合粒子等を加えてもよい。   To the toner used in the developing device 11, inorganic particles, organic particles, composite particles obtained by attaching inorganic particles to the organic particles, or the like may be added.

無機粒子としては、シリカ、アルミナ、チタニア、ジルコニア、チタン酸バリウム、チタン酸アルミニウム、チタン酸ストロンチウム、チタン酸マグネシウム、酸化亜鉛、酸化クロム、酸化セリウム、酸化アンチモン、酸化タングステン、酸化スズ、酸化テルル、酸化マンガン、酸化ホウ素、炭化ケイ素、炭化ホウ素、炭化チタン、窒化ケイ素、窒化チタン、窒化ホウ素等の各種無機酸化物、窒化物、ホウ化物等が好適に使用される。   Inorganic particles include silica, alumina, titania, zirconia, barium titanate, aluminum titanate, strontium titanate, magnesium titanate, zinc oxide, chromium oxide, cerium oxide, antimony oxide, tungsten oxide, tin oxide, tellurium oxide, Various inorganic oxides such as manganese oxide, boron oxide, silicon carbide, boron carbide, titanium carbide, silicon nitride, titanium nitride, and boron nitride, nitrides, borides, and the like are preferably used.

また、上記無機粒子を、テトラブチルチタネート、テトラオクチルチタネート、イソプロピルトリイソステアロイルチタネート、イソプロピルトリデシルベンゼンスルフォニルチタネート、ビス(ジオクチルパイロフォスフェート)オキシアセテートチタネート等のチタンカップリング剤、γ−(2−アミノエチル)アミノプロピルトリメトキシシラン、γ−(2−アミノエチル)アミノプロピルメチルジメトキシシラン、γ−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、N−β−(N−ビニルベンジルアミノエチル)γ−アミノプロピルトリメトキシシラン塩酸塩、ヘキサメチルジシラザン、メチルトリメトキシシラン、ブチルトリメトキシシラン、イソブチルトリメトキシシラン、ヘキシルトエリメトキシシラン、オクチルトリメトキシシラン、デシルトリメトキシシラン、ドデシルトリメトキシシラン、フェニルトリメトキシシラン、o−メチルフェニルトリメトキシシラン、p−メチルフェニルトリメトキシシラン等のシランカップリング剤等で処理を行ってもよい。また、シリコーンオイル、ステアリン酸アルミニウム、ステアリン酸亜鉛、ステアリン酸カルシウム等の高級脂肪酸金属塩によって疎水化処理したものも望ましく使用される。   In addition, the inorganic particles may be mixed with titanium coupling agents such as tetrabutyl titanate, tetraoctyl titanate, isopropyl triisostearoyl titanate, isopropyl tridecylbenzenesulfonyl titanate, bis (dioctylpyrophosphate) oxyacetate titanate, γ- (2- Aminoethyl) aminopropyltrimethoxysilane, γ- (2-aminoethyl) aminopropylmethyldimethoxysilane, γ-methacryloxypropyltrimethoxysilane, N-β- (N-vinylbenzylaminoethyl) γ-aminopropyltrimethoxy Silane hydrochloride, hexamethyldisilazane, methyltrimethoxysilane, butyltrimethoxysilane, isobutyltrimethoxysilane, hexyltrimethoxysilane, octyltrimethoxysilane The treatment may be performed with a silane coupling agent such as run, decyltrimethoxysilane, dodecyltrimethoxysilane, phenyltrimethoxysilane, o-methylphenyltrimethoxysilane, and p-methylphenyltrimethoxysilane. In addition, those hydrophobized with higher fatty acid metal salts such as silicone oil, aluminum stearate, zinc stearate, calcium stearate and the like are also desirably used.

有機粒子としては、スチレン樹脂粒子、スチレンアクリル樹脂粒子、ポリエステル樹脂粒子、ウレタン樹脂粒子等が挙げられる。   Examples of the organic particles include styrene resin particles, styrene acrylic resin particles, polyester resin particles, and urethane resin particles.

粒子径としては、個数平均粒子径で望ましくは5nm以上1000nm以下、より望ましくは5nm以上800nm以下、さらに望ましくは5nm以上700nm以下でのものが使用される。また、上述した粒子と滑性粒子との添加量の和が0.6質量%以上であることが望ましい。   The particle diameter is preferably 5 nm to 1000 nm, more preferably 5 nm to 800 nm, and even more preferably 5 nm to 700 nm in terms of number average particle diameter. Moreover, it is desirable that the sum of the addition amounts of the above-described particles and the lubricating particles is 0.6% by mass or more.

トナーに添加されるその他の無機酸化物としては、1次粒径が40nm以下の小径無機酸化物を用い、更にそれより大径の無機酸化物を添加することが望ましい。これらの無機酸化物粒子は公知のものが使用されるが、シリカと酸化チタンを併用することが望ましい。   As the other inorganic oxide added to the toner, it is desirable to use a small-diameter inorganic oxide having a primary particle size of 40 nm or less, and further add an inorganic oxide having a larger diameter. Known inorganic oxide particles are used, but it is desirable to use silica and titanium oxide in combination.

また、小径無機粒子については表面処理してもよい。さらに、炭酸カルシウム、炭酸マグネシウム等の炭酸塩や、ハイドロタルサイト等の無機鉱物を添加することも望ましい。   Moreover, you may surface-treat about a small diameter inorganic particle. Furthermore, it is also desirable to add carbonates such as calcium carbonate and magnesium carbonate and inorganic minerals such as hydrotalcite.

また、電子写真用カラートナーはキャリアと混合して使用されるが、キャリアとしては、鉄粉、ガラスビーズ、フェライト粉、ニッケル粉またはそれ等の表面に樹脂を被覆したものが使用される。また、キャリアとの混合割合は、必要に応じて設定される。   In addition, the color toner for electrophotography is used by mixing with a carrier. As the carrier, iron powder, glass beads, ferrite powder, nickel powder, or those coated with a resin are used. The mixing ratio with the carrier is set as necessary.

転写装置40としては、例えば、ベルト、ローラ、フィルム、ゴムブレード等を用いた接触型転写帯電器、コロナ放電を利用したスコロトロン転写帯電器やコロトロン転写帯電器等のそれ自体公知の転写帯電器が挙げられる。   As the transfer device 40, for example, a contact transfer charger using a belt, a roller, a film, a rubber blade, etc., or a known transfer charger such as a scorotron transfer charger using a corona discharge or a corotron transfer charger. Can be mentioned.

中間転写体50としては、半導電性を付与したポリイミド、ポリアミドイミド、ポリカーボネート、ポリアリレート、ポリエステル、ゴム等のベルト状のもの(中間転写ベルト)が使用される。また、中間転写体50の形態としては、ベルト状以外にドラム状のものが用いられる。   As the intermediate transfer member 50, a belt-like member (intermediate transfer belt) made of polyimide, polyamideimide, polycarbonate, polyarylate, polyester, rubber or the like having semiconductivity is used. Further, as the form of the intermediate transfer member 50, a drum-like one is used in addition to the belt shape.

画像形成装置100は、上述した各装置の他に、例えば、感光体7に対して光除電を行う光除電装置を備えていてもよい。   In addition to the above-described devices, the image forming apparatus 100 may include, for example, a light neutralizing device that performs light neutralization on the photoconductor 7.

図4は、他の実施形態に係る画像形成装置を示す概略断面図である。画像形成装置120は、図4に示すように、プロセスカートリッジ300を4つ搭載したタンデム方式の多色画像形成装置である。画像形成装置120では、中間転写体50上に4つのプロセスカートリッジ300がそれぞれ並列に配置されており、1色に付き1つの電子写真感光体が使用される構成となっている。なお、画像形成装置120は、タンデム方式であること以外は、画像形成装置100と同様の構成を有している。   FIG. 4 is a schematic cross-sectional view showing an image forming apparatus according to another embodiment. As shown in FIG. 4, the image forming apparatus 120 is a tandem multicolor image forming apparatus equipped with four process cartridges 300. In the image forming apparatus 120, four process cartridges 300 are arranged in parallel on the intermediate transfer member 50, and one electrophotographic photosensitive member is used for one color. The image forming apparatus 120 has the same configuration as that of the image forming apparatus 100 except that it is a tandem system.

また、本実施形態に係る画像形成装置(プロセスカートリッジ)において、現像装置は、電子写真感光体の移動方向(回転方向)に対して逆方向に移動(回転)する現像剤保持体である現像ローラを有してもよい。ここで、現像ローラは表面に現像剤を保持する円筒状の現像スリーブを有しており、また、現像装置はこの現像スリーブに供給する現像剤の量を規制する規制部材を有する構成のものが挙げられる。現像装置の現像ローラを電子写真感光体の回転方向に対して逆方向に移動(回転)させることで、現像ローラと電子写真感光体との間に留まるトナーで電子写真感光体表面が摺擦される。   In the image forming apparatus (process cartridge) according to the present embodiment, the developing device is a developing roller that is a developer holder that moves (rotates) in the opposite direction to the moving direction (rotating direction) of the electrophotographic photosensitive member. You may have. Here, the developing roller has a cylindrical developing sleeve that holds developer on the surface, and the developing device has a configuration that includes a regulating member that regulates the amount of developer supplied to the developing sleeve. Can be mentioned. By moving (rotating) the developing roller of the developing device in a direction opposite to the rotation direction of the electrophotographic photosensitive member, the surface of the electrophotographic photosensitive member is rubbed with toner remaining between the developing roller and the electrophotographic photosensitive member. The

また、本実施形態の画像形成装置においては、現像スリーブと感光体との間隔を200μm以上600μm以下とすることが望ましく、300μm以上500μm以下とすることがより望ましい。また、現像スリーブと上述の現像剤量を規制する規制部材である規制ブレードとの間隔を300μm以上1000μm以下とすることが望ましく、400μm以上750μm以下とすることがより望ましい。   In the image forming apparatus according to the present exemplary embodiment, the distance between the developing sleeve and the photosensitive member is desirably 200 μm or more and 600 μm or less, and more desirably 300 μm or more and 500 μm or less. In addition, the distance between the developing sleeve and the regulating blade, which is a regulating member that regulates the developer amount, is desirably 300 μm or more and 1000 μm or less, and more desirably 400 μm or more and 750 μm or less.

更に、現像ロール表面の移動速度の絶対値を、感光体表面の移動速度の絶対値(プロセススピード)の1.5倍以上2.5倍以下とすることが望ましく、1.7倍以上2.0倍以下とすることがより望ましい。   Further, it is desirable that the absolute value of the moving speed of the developing roll surface is 1.5 times or more and 2.5 times or less of the absolute value (process speed) of the moving speed of the photosensitive member surface. It is more desirable to make it 0 times or less.

また、本実施形態に係る画像形成装置(プロセスカートリッジ)において、現像装置(現像手段)は、磁性体を有する現像剤保持体を備え、磁性キャリアおよびトナーを含む2成分系現像剤で静電潜像を現像するものであることが望ましい。   Further, in the image forming apparatus (process cartridge) according to the present embodiment, the developing device (developing unit) includes a developer holding body having a magnetic material, and is a two-component developer containing a magnetic carrier and toner. It is desirable to develop an image.

尚、本実施形態に係る画像形成装置においては、そのプロセススピード、即ち電子写真感光体の外周表面の移動速度が500mm/s以上の高速度であることが好ましい。   In the image forming apparatus according to this embodiment, the process speed, that is, the moving speed of the outer peripheral surface of the electrophotographic photosensitive member is preferably a high speed of 500 mm / s or more.

以下、実施例および比較例に基づき本発明をさらに具体的に説明するが、本発明は以下の実施例に何ら限定されるものではない。尚、以下において「部」は、特に断りのない限り質量基準である。   EXAMPLES Hereinafter, although this invention is demonstrated further more concretely based on an Example and a comparative example, this invention is not limited to a following example at all. In the following, “part” is based on mass unless otherwise specified.

<下地感光体の作製>
[下地感光体A]
・下引層
酸化亜鉛(平均粒子径70nm:テイカ社製:比表面積値15m/g)100部をトルエン500部と攪拌混合し、シランカップリング剤(KBM603:信越化学社製)1.25部を添加し、2時間攪拌した。その後トルエンを減圧蒸留にて留去し、120℃で3時間焼き付けを行い、シランカップリング剤にて酸化亜鉛に表面処理を施した。
前記表面処理を施した酸化亜鉛100部を500部のテトラヒドロフランと攪拌混合し、アリザリン1部を50部のテトラヒドロフランに溶解させた溶液を添加し、50℃にて5時間攪拌した。その後、減圧ろ過にてアリザリンを付与させた酸化亜鉛をろ別し、さらに60℃で減圧乾燥を行いアリザリン付与酸化亜鉛顔料を得た。
このアリザリン付与酸化亜鉛顔料60部と硬化剤ブロック化イソシアネート(スミジュール3175、住友バイエルンウレタン社製)13.5部とブチラール樹脂(エスレックBM−1、積水化学社製)15部をメチルエチルケトン85部に溶解した溶液38部と、メチルエチルケトン25部と、を混合し、直径1mmのガラスビーズを用いてサンドミルにて2時間の分散を行い、分散液を得た。
得られた分散液に触媒としてジオクチルスズジラウレート0.005部、シリコーン樹脂粒子(トスパール145、GE東芝シリコーン社製)40部を添加し、170℃、40分の乾燥硬化を行い下引層用塗布液を得た。この下引層用塗布液を浸漬塗布法にて直径84mm、長さ347mm、肉厚1mmのアルミニウム基材上に浸漬塗布し、厚さ21μmの下引層を得た。
<Preparation of base photoconductor>
[Underlying Photoconductor A]
-Undercoat layer 100 parts of zinc oxide (average particle diameter 70 nm: manufactured by Teika: specific surface area value 15 m 2 / g) is stirred and mixed with 500 parts of toluene, and a silane coupling agent (KBM603: manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.) 1.25 Part was added and stirred for 2 hours. Thereafter, toluene was distilled off under reduced pressure, baking was performed at 120 ° C. for 3 hours, and surface treatment was performed on zinc oxide with a silane coupling agent.
100 parts of the surface-treated zinc oxide was stirred and mixed with 500 parts of tetrahydrofuran, a solution prepared by dissolving 1 part of alizarin in 50 parts of tetrahydrofuran was added, and the mixture was stirred at 50 ° C. for 5 hours. Thereafter, zinc oxide to which alizarin was imparted by filtration under reduced pressure was filtered off, and further dried at 60 ° C. under reduced pressure to obtain an alizarin-given zinc oxide pigment.
60 parts of this alizarin-provided zinc oxide pigment, 13.5 parts of hardener-blocked isocyanate (Sumijoule 3175, manufactured by Sumitomo Bayern Urethane Co., Ltd.) and 15 parts of butyral resin (ESLEC BM-1, manufactured by Sekisui Chemical Co., Ltd.) in 85 parts of methyl ethyl ketone 38 parts of the dissolved solution and 25 parts of methyl ethyl ketone were mixed and dispersed in a sand mill for 2 hours using glass beads having a diameter of 1 mm to obtain a dispersion.
As a catalyst, 0.005 part of dioctyltin dilaurate and 40 parts of silicone resin particles (Tospearl 145, manufactured by GE Toshiba Silicone) are added to the resulting dispersion, followed by drying and curing at 170 ° C. for 40 minutes. A liquid was obtained. This undercoat layer coating solution was dip-coated on an aluminum substrate having a diameter of 84 mm, a length of 347 mm, and a thickness of 1 mm by a dip coating method to obtain an undercoat layer having a thickness of 21 μm.

・電荷発生層
次いで、電荷発生物質としてX線回折スペクトルにおけるブラッグ角(2θ±0.2°)が、7.4°、16.6°、25.5°、28.3°に強い回折ピークを持つクロロガリウムフタロシアニン結晶1部を、ポリビニルブチラール樹脂(商品名:エスレックBM−S、積水化学社製)1部とともに酢酸ブチル100部に加え、ガラスビーズとともにペイントシェーカーで1時間処理して分散させて、電荷発生層用塗布液を得た。この電荷発生層用塗布液を前記下引層表面に浸漬塗布し、100℃にて10分間加熱乾燥して、膜厚0.2μmの電荷発生層を形成した。
-Charge generation layer Next, as a charge generation substance, a diffraction peak having a Bragg angle (2θ ± 0.2 °) of 7.4 °, 16.6 °, 25.5 °, 28.3 ° in an X-ray diffraction spectrum is strong. 1 part of a chlorogallium phthalocyanine crystal having a styrene content is added to 100 parts of butyl acetate together with 1 part of polyvinyl butyral resin (trade name: ESREC BM-S, manufactured by Sekisui Chemical Co., Ltd.). Thus, a charge generation layer coating solution was obtained. This charge generation layer coating solution was dip coated on the surface of the undercoat layer and dried by heating at 100 ° C. for 10 minutes to form a charge generation layer having a thickness of 0.2 μm.

・電荷輸送層
下記式で示される電荷輸送材料1(第1の電荷輸送材料)2部、下記構造式1で示される高分子化合物(粘度平均分子量:39,000)3部を、テトラヒドロフラン10部およびトルエン5部に溶解して電荷輸送層用塗布液を得た。この電荷輸送層用塗布液を前記電荷発生層表面に浸漬塗布し、135℃にて35分加熱乾燥して、膜厚22μmの電荷輸送層を形成し、この感光体を下地感光体Aとした。
Charge transport layer 2 parts of charge transport material 1 (first charge transport material) represented by the following formula, 3 parts of a polymer compound (viscosity average molecular weight: 39,000) represented by the following structural formula 1 and 10 parts of tetrahydrofuran And it melt | dissolved in 5 parts of toluene, and obtained the coating liquid for charge transport layers. This charge transport layer coating solution is dip coated on the surface of the charge generation layer and dried by heating at 135 ° C. for 35 minutes to form a charge transport layer having a thickness of 22 μm. .


[下地感光体B]
下地感光体Aの電荷輸送層の形成において、電荷輸送材料A1(第1の電荷輸送材料)2部の代わりに、下記に示される電荷輸送材料A2(第1の電荷輸送材料)2部および電荷輸送材料B1:2部を使用した以外は、下地感光体Aに記載の方法により感光体を得、この感光体を下地感光体Bとした。
[Underlying Photoconductor B]
In the formation of the charge transport layer of the underlying photoreceptor A, instead of 2 parts of the charge transport material A1 (first charge transport material), 2 parts of the charge transport material A2 (first charge transport material) shown below and the charge Except for using 2 parts of the transport material B1: a photoconductor was obtained by the method described for the base photoconductor A, and this photoconductor was used as the base photoconductor B.


[下地感光体C]
下地感光体Aの電荷輸送層の形成において、電荷輸送材料A1(第1の電荷輸送材料)2部の代わりに、前述の電荷輸送材料A2(第1の電荷輸送材料)1部および電荷輸送材料B1:3部を使用した以外は、下地感光体Aに記載の方法により感光体を得、この感光体を下地感光体Cとした。
[Underlying Photoconductor C]
In the formation of the charge transport layer of the underlying photoreceptor A, instead of 2 parts of the charge transport material A1 (first charge transport material), 1 part of the charge transport material A2 (first charge transport material) described above and the charge transport material B1: A photoconductor was obtained by the method described in Background Photoconductor A except that 3 parts were used, and this photoconductor was designated as Base Photoconductor C.

[下地感光体D]
下地感光体Aの電荷輸送層の形成において、電荷輸送材料A1(第1の電荷輸送材料)の代わりに、下記に示される電荷輸送材料B2(第1の電荷輸送材料)を使用した以外は、下地感光体Aに記載の方法により感光体を得、この感光体を下地感光体Dとした。
[Underlying photoreceptor D]
Except for using the charge transport material B2 (first charge transport material) shown below instead of the charge transport material A1 (first charge transport material) in the formation of the charge transport layer of the underlying photoreceptor A, A photoconductor was obtained by the method described in Base Photoconductor A, and this photoconductor was designated as Base Photoconductor D.


[下地感光体E]
下地感光体Aの電荷輸送層の形成において、電荷輸送材料A1(第1の電荷輸送材料)の代わりに、前述の電荷輸送材料B1(第1の電荷輸送材料)を使用した以外は、下地感光体Aに記載の方法により感光体を得、この感光体を下地感光体Eとした。
[Underlying photoreceptor E]
In the formation of the charge transport layer of the underlying photoconductor A, the underlying photosensitivity is except that the above-described charge transport material B1 (first charge transport material) is used instead of the charge transport material A1 (first charge transport material). A photoconductor was obtained by the method described in the photoconductor A, and this photoconductor was used as a base photoconductor E.

[下地感光体F]
下地感光体Aの電荷輸送層の形成において、電荷輸送材料A1(第1の電荷輸送材料)の代わりに、下記に示される電荷輸送材料B3(第1の電荷輸送材料)を使用した以外は、下地感光体Aに記載の方法により感光体を得、この感光体を下地感光体Fとした。
[Underlying photoreceptor F]
In the formation of the charge transport layer of the underlying photoreceptor A, a charge transport material B3 (first charge transport material) shown below was used instead of the charge transport material A1 (first charge transport material), A photoconductor was obtained by the method described in Base Photoconductor A, and this photoconductor was designated as Base Photoconductor F.


〔実施例1〕
[感光体1]
下記式で示される電荷輸送材料C1(第2の電荷輸送材料):94部、およびベンゾグアナミン樹脂(ニカラックBL−60、三和ケミカル社製)5部をシクロペンタノン240部に加えて、十分に溶解混合した後、ジメチルポリシロキサン(グラノール450、共栄社化学社製)を0.9部、NACURE5225(キングインダストリー社製)を0.1部加え、表面保護層形成用塗布液を調製した。この表面保護層用塗布液を浸漬塗布法で、前述の下地感光体Aの上に塗布し155℃で40分乾燥し、膜厚6μmの表面保護層を形成し、この感光体を感光体1とした。
[Example 1]
[Photoreceptor 1]
Charge transport material C1 (second charge transport material) represented by the following formula: 94 parts, and 5 parts of benzoguanamine resin (Nicarac BL-60, manufactured by Sanwa Chemical Co., Ltd.) are added to 240 parts of cyclopentanone. After dissolution and mixing, 0.9 part of dimethylpolysiloxane (Granol 450, manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd.) and 0.1 part of NACURE 5225 (manufactured by King Industry Co., Ltd.) were added to prepare a coating solution for forming a surface protective layer. This surface protective layer coating solution is applied onto the above-mentioned underlying photoreceptor A by dip coating and dried at 155 ° C. for 40 minutes to form a surface protective layer having a thickness of 6 μm. It was.

〔実施例2〕
[感光体2]
4フッ化エチレン樹脂粒子としてルブロンL−2(ダイキン工業社製)4部、および下記構造式2で表される繰り返し単位を含むフッ化アルキル基含有共重合体(重量平均分子量50,000、l:m=1:1、s=1、n=60)0.2部を、シクロペンタノン16部に十分に攪拌混合して、4フッ化エチレン樹脂粒子懸濁液を作製した。
[Example 2]
[Photoreceptor 2]
4 parts of Lubron L-2 (manufactured by Daikin Industries, Ltd.) as tetrafluoroethylene resin particles and a fluorinated alkyl group-containing copolymer containing a repeating unit represented by the following structural formula 2 (weight average molecular weight 50,000, l : M = 1: 1, s = 1, n = 60) 0.2 part of was sufficiently stirred and mixed with 16 parts of cyclopentanone to prepare a tetrafluoroethylene resin particle suspension.

次に、前述の電荷輸送材料C1(第2の電荷輸送材料):94部、ベンゾグアナミン樹脂1部をシクロペンタノン220部に加えて、十分に溶解混合した後、前記4フッ化エチレン樹脂粒子懸濁液を加えて攪拌混合し、微細な流路をもつ貫通式チャンバーを装着した高圧ホモジナイザー(吉田機械興業製、YSNM−1500AR)を用いて700kgf/cmまで昇圧しての分散処理を30回繰返した。その後、ジメチルポリシロキサン(グラノール450、共栄社化学社製)を0.9部、NACURE5225(キングインダストリー社製)を0.1部加え、表面保護層形成用塗布液を調製した。この表面保護層用塗布液を浸漬塗布法で、前述の下地感光体Aの上に塗布し155℃で40分乾燥し、膜厚6μmの表面保護層を形成し、この感光体を感光体2とした。 Next, after adding 94 parts of the above-described charge transport material C1 (second charge transport material) and 1 part of benzoguanamine resin to 220 parts of cyclopentanone and sufficiently dissolving and mixing them, the tetrafluoroethylene resin particle suspension is added. Dispersion treatment by adding pressure to 700 kgf / cm 2 using a high-pressure homogenizer (YSNM-1500AR, manufactured by Yoshida Kikai Kogyo Co., Ltd.) equipped with a penetrating chamber with fine flow paths after adding turbid liquid and stirring 30 times Repeated. Thereafter, 0.9 part of dimethylpolysiloxane (Granol 450, manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd.) and 0.1 part of NACURE 5225 (manufactured by King Industry Co., Ltd.) were added to prepare a coating solution for forming a surface protective layer. This surface protective layer coating solution is applied onto the above-mentioned base photoreceptor A by a dip coating method and dried at 155 ° C. for 40 minutes to form a surface protective layer having a thickness of 6 μm. It was.

〔実施例3〕
[感光体3]
前述の電荷輸送材料C1(第2の電荷輸送材料):92部、およびメチル化メラミン樹脂(B−2:ニカラックMW−30HM、三和ケミカル社製)7部をシクロペンタノン240部に加えて、十分に溶解混合した後、ジメチルポリシロキサン(グラノール450、共栄社化学社製)を0.9部、NACURE5225(キングインダストリー社製)を0.1部加え、表面保護層形成用塗布液を調製した。この表面保護層用塗布液を浸漬塗布法で、前述の下地感光体Bの上に塗布し155℃で40分乾燥し、膜厚6μmの表面保護層を形成し、この感光体を感光体3とした。
Example 3
[Photoreceptor 3]
92 parts of the aforementioned charge transport material C1 (second charge transport material) and 7 parts of methylated melamine resin (B-2: Nicalac MW-30HM, manufactured by Sanwa Chemical Co., Ltd.) are added to 240 parts of cyclopentanone. After sufficiently dissolving and mixing, 0.9 part of dimethylpolysiloxane (Granol 450, manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd.) and 0.1 part of NACURE 5225 (manufactured by King Industry Co., Ltd.) were added to prepare a coating solution for forming a surface protective layer. . This surface protective layer coating solution is applied onto the above-mentioned underlying photoreceptor B by dip coating and dried at 155 ° C. for 40 minutes to form a surface protective layer having a thickness of 6 μm. It was.

〔実施例4〕
[感光体4]
前記感光体1の表面保護層の形成において、電荷輸送材料C1(第2の電荷輸送材料)の量を75部に、ベンゾグアナミン樹脂(ニカラックBL−60、三和ケミカル社製)の量を24部に、変更した以外は感光体1に記載の方法により感光体を得、これを感光体4とした。
Example 4
[Photosensitive member 4]
In the formation of the surface protective layer of the photoreceptor 1, the amount of the charge transport material C1 (second charge transport material) is 75 parts, and the amount of the benzoguanamine resin (Nicarac BL-60, manufactured by Sanwa Chemical Co., Ltd.) is 24 parts. A photoconductor was obtained by the method described in Photoconductor 1 except that the photoconductor 4 was used.

〔実施例5〕
[感光体5]
前述の電荷輸送材料C1(第2の電荷輸送材料):97部、およびベンゾグアナミン樹脂(ニカラックBL−60、三和ケミカル社製)2部をシクロペンタノン240部に加えて、十分に溶解混合した後、ジメチルポリシロキサン(グラノール450、共栄社化学社製)を0.9部、NACURE5225(キングインダストリー社製)を0.1部加え、表面保護層形成用塗布液を調製した。この表面保護層用塗布液を浸漬塗布法で、前述の下地感光体Bの上に塗布し155℃で40分乾燥し、膜厚6μmの表面保護層を形成し、この感光体を感光体5とした。
Example 5
[Photoreceptor 5]
The aforementioned charge transport material C1 (second charge transport material): 97 parts, and 2 parts of benzoguanamine resin (Nicalac BL-60, manufactured by Sanwa Chemical Co., Ltd.) were added to 240 parts of cyclopentanone and mixed sufficiently. Thereafter, 0.9 part of dimethylpolysiloxane (Granol 450, manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd.) and 0.1 part of NACURE 5225 (manufactured by King Industry Co., Ltd.) were added to prepare a coating solution for forming a surface protective layer. This surface protective layer coating solution is applied onto the above-mentioned underlying photoreceptor B by dip coating and dried at 155 ° C. for 40 minutes to form a surface protective layer having a thickness of 6 μm. It was.

〔実施例6〕
[感光体6]
前述の電荷輸送材料C1(第2の電荷輸送材料):85部、およびメチル化メラミン樹脂(B−2:ニカラックMW−30HM)14部をシクロペンタノン240部に加えて、十分に溶解混合した後、ジメチルポリシロキサン(グラノール450、共栄社化学社製)を0.9部、NACURE5225(キングインダストリー社製)を0.1部加え、表面保護層形成用塗布液を調製した。この表面保護層用塗布液を浸漬塗布法で、前述の下地感光体Bの上に塗布し155℃で40分乾燥し、膜厚6μmの表面保護層を形成し、この感光体を感光体6とした。
Example 6
[Photoreceptor 6]
The aforementioned charge transport material C1 (second charge transport material): 85 parts and methylated melamine resin (B-2: Nicalac MW-30HM) 14 parts were added to 240 parts of cyclopentanone and mixed sufficiently. Thereafter, 0.9 part of dimethylpolysiloxane (Granol 450, manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd.) and 0.1 part of NACURE 5225 (manufactured by King Industry Co., Ltd.) were added to prepare a coating solution for forming a surface protective layer. This surface protective layer coating solution is applied onto the above-mentioned underlying photoreceptor B by dip coating and dried at 155 ° C. for 40 minutes to form a surface protective layer having a thickness of 6 μm. It was.

〔実施例7〕
[感光体7]
下記に示される電荷輸送材料C2(第2の電荷輸送材料):94部、ベンゾグアナミン樹脂(ニカラックBL−60、三和ケミカル社製)5部をシクロペンタノン240部に加えて、十分に溶解混合した後、ジメチルポリシロキサン(グラノール450、共栄社化学社製)を0.9部、NACURE5225(キングインダストリー社製)を0.1部加え、表面保護層形成用塗布液を調製した。この表面保護層用塗布液を浸漬塗布法で、前述の下地感光体Bの上に塗布し155℃で40分乾燥し、膜厚6μmの表面保護層を形成し、この感光体を感光体7とした。
Example 7
[Photoreceptor 7]
Charge transport material C2 (second charge transport material) shown below: 94 parts, 5 parts of benzoguanamine resin (Nicarac BL-60, Sanwa Chemical Co., Ltd.) are added to 240 parts of cyclopentanone and mixed sufficiently. Thereafter, 0.9 part of dimethylpolysiloxane (Granol 450, manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd.) and 0.1 part of NACURE 5225 (manufactured by King Industry Co., Ltd.) were added to prepare a coating solution for forming a surface protective layer. This surface protective layer coating solution is applied onto the above-mentioned underlying photoreceptor B by dip coating and dried at 155 ° C. for 40 minutes to form a surface protective layer having a thickness of 6 μm. It was.

〔実施例8〕
[感光体8]
前述の電荷輸送材料C2(第2の電荷輸送材料):98部、ベンゾグアナミン樹脂(ニカラックBL−60、三和ケミカル社製)1部をシクロペンタノン240部に加えて、十分に溶解混合した後、ジメチルポリシロキサン(グラノール450、共栄社化学社製)を0.9部、NACURE5225(キングインダストリー社製)を0.1部加え、表面保護層形成用塗布液を調製した。この表面保護層用塗布液を浸漬塗布法で、前述の下地感光体Cの上に塗布し155℃で40分乾燥し、膜厚6μmの表面保護層を形成し、この感光体を感光体8とした。
Example 8
[Photoreceptor 8]
The charge transport material C2 (second charge transport material) described above: 98 parts, 1 part of a benzoguanamine resin (Nicarac BL-60, manufactured by Sanwa Chemical Co., Ltd.) is added to 240 parts of cyclopentanone and sufficiently mixed. Then, 0.9 part of dimethylpolysiloxane (Granol 450, manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd.) and 0.1 part of NACURE 5225 (manufactured by King Industry Co., Ltd.) were added to prepare a coating solution for forming a surface protective layer. This surface protective layer coating solution is applied onto the above-mentioned base photoreceptor C by dip coating, and dried at 155 ° C. for 40 minutes to form a surface protective layer having a film thickness of 6 μm. It was.

〔実施例9〕
[感光体9]
前記感光体2の表面保護層用塗布液の調製において、ベンゾグアナミン樹脂の代わりにメチル化メラミン樹脂を用いた。この表面保護層用塗布液を浸漬塗布法で、前述の下地感光体Bの上に塗布し155℃で40分乾燥し、膜厚6μmの表面保護層を形成し、この感光体を感光体9とした。
Example 9
[Photoreceptor 9]
In preparing the coating solution for the surface protective layer of the photoreceptor 2, a methylated melamine resin was used instead of the benzoguanamine resin. This surface protective layer coating solution is applied onto the above-mentioned underlying photoreceptor B by dip coating and dried at 155 ° C. for 40 minutes to form a surface protective layer having a thickness of 6 μm. It was.

〔比較例1〕
[感光体10]
前記感光体1において、下地感光体Aの代わりに下地感光体Dを用いたこと以外は、感光体1に記載の方法により感光体を得、これを感光体10とした。
[Comparative Example 1]
[Photosensitive member 10]
In the photoconductor 1, a photoconductor was obtained by the method described in the photoconductor 1 except that the base photoconductor D was used instead of the base photoconductor A, and this was designated as photoconductor 10.

〔比較例2〕
[感光体11]
前記感光体1において、下地感光体Aの代わりに下地感光体Eを用いたこと以外は、感光体1に記載の方法により感光体を得、これを感光体11とした。
[Comparative Example 2]
[Photoreceptor 11]
In the photoconductor 1, except that the base photoconductor E was used instead of the base photoconductor A, a photoconductor was obtained by the method described in the photoconductor 1, and this was used as the photoconductor 11.

〔比較例3〕
[感光体12]
前記感光体1において、下地感光体Aの代わりに下地感光体Fを用いたこと以外は、感光体1に記載の方法により感光体を得、これを感光体12とした。
[Comparative Example 3]
[Photoreceptor 12]
In the photoconductor 1, except that the base photoconductor F was used instead of the base photoconductor A, a photoconductor was obtained by the method described in the photoconductor 1, and this was used as the photoconductor 12.

〔比較例4〕
[感光体13]
前記感光体7において、下地感光体Bの代わりに下地感光体Fを用いたこと以外は、感光体7に記載の方法により感光体を得、これを感光体13とした。
[Comparative Example 4]
[Photoreceptor 13]
In the photoconductor 7, except that the base photoconductor F was used instead of the base photoconductor B, a photoconductor was obtained by the method described in the photoconductor 7 and this was used as the photoconductor 13.

〔比較例5〕
[感光体14]
4フッ化エチレン樹脂粒子としてルブロンL−2(ダイキン工業製)4部、および前述の構造式2で表される繰り返し単位を含むフッ化アルキル基含有共重合体(重量平均分子量50,000、l:m=1:1、s=1、n=60)0.2部を、シクロペンタノン16部に十分に攪拌混合して、4フッ化エチレン樹脂粒子懸濁液を作製した。
次に、前述の電荷輸送材料C1(第2の電荷輸送材料):70部、ベンゾグアナミン樹脂25部をシクロペンタノン220部に加えて、十分に溶解混合した後、前記4フッ化エチレン樹脂粒子懸濁液を加えて攪拌混合し、微細な流路をもつ貫通式チャンバーを装着した高圧ホモジナイザー(吉田機械興業製、YSNM−1500AR)を用いて700kgf/cmまで昇圧しての分散処理を30回繰返した。その後、ジメチルポリシロキサン(グラノール450、共栄社化学社製)を0.9部、NACURE5225(キングインダストリー社製)を0.1部加え、表面保護層形成用塗布液を調製した。この表面保護層用塗布液を浸漬塗布法で、前述の下地感光体Aの上に塗布し155℃で40分乾燥し、膜厚6μmの表面保護層を形成し、この感光体を感光体14とした。
[Comparative Example 5]
[Photoreceptor 14]
4 parts of Lubron L-2 (manufactured by Daikin Industries) as tetrafluoroethylene resin particles and a fluorinated alkyl group-containing copolymer containing a repeating unit represented by the above structural formula 2 (weight average molecular weight 50,000, l : M = 1: 1, s = 1, n = 60) 0.2 part of was sufficiently stirred and mixed with 16 parts of cyclopentanone to prepare a tetrafluoroethylene resin particle suspension.
Next, 70 parts of the aforementioned charge transport material C1 (second charge transport material): 25 parts of benzoguanamine resin are added to 220 parts of cyclopentanone, and after sufficiently dissolving and mixing, the tetrafluoroethylene resin particle suspension is added. Dispersion treatment by adding pressure to 700 kgf / cm 2 using a high-pressure homogenizer (YSNM-1500AR, manufactured by Yoshida Kikai Kogyo Co., Ltd.) equipped with a penetrating chamber with fine flow paths after adding turbid liquid and stirring 30 times Repeated. Thereafter, 0.9 part of dimethylpolysiloxane (Granol 450, manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd.) and 0.1 part of NACURE 5225 (manufactured by King Industry Co., Ltd.) were added to prepare a coating solution for forming a surface protective layer. This surface protective layer coating solution is applied by dip coating onto the above-mentioned underlying photoreceptor A and dried at 155 ° C. for 40 minutes to form a surface protective layer having a thickness of 6 μm. It was.

〔比較例6〕
[下地感光体G]
電荷発生層までは前述の下地感光体Aに記載の方法により作製した。
次に下記に示される電荷輸送材料B4(第1の電荷輸送材料)7部、ポリカーボネート樹脂(パンライトTS−2050、帝人化成社製)10部を、テトラヒドロフラン79部および1%シリコーンオイル(KF50−100CS、信越化学工業社製)テトラヒドロフラン溶液1部に溶解して電荷輸送層用塗布液を得た。この電荷輸送層用塗布液を前記電荷発生層表面に浸漬塗布し、120℃にて30分加熱乾燥して、膜厚22μmの電荷輸送層を形成し、この感光体を下地感光体Gとした。
[Comparative Example 6]
[Underlying photoreceptor G]
Up to the charge generation layer was prepared by the method described in the above-mentioned underlying photoconductor A.
Next, 7 parts of charge transport material B4 (first charge transport material) shown below, 10 parts of polycarbonate resin (Panlite TS-2050, manufactured by Teijin Chemicals Ltd.), 79 parts of tetrahydrofuran and 1% silicone oil (KF50- 100CS, manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.) was dissolved in 1 part of a tetrahydrofuran solution to obtain a coating solution for a charge transport layer. This charge transport layer coating solution is dip coated on the surface of the charge generation layer and dried by heating at 120 ° C. for 30 minutes to form a charge transport layer having a thickness of 22 μm. .

[感光体15]
次に下記で示される電荷輸送材料C3(第2の電荷輸送材料):3部、およびメラミン樹脂(スーパーベッカミン L−145−60、大日本インキ化学工業社製)12部、熱硬化性界面活性剤(疎水性樹脂ZX−007C、富士化成工業社製)2部をテトラヒドロフラン190部、シクロヘキサノン53部に加えて、十分に溶解混合し、表面保護層形成用塗布液を調製した。この表面保護層用塗布液をスプレー塗布法で、前述の下地感光体Gの上に塗布し170℃で30分乾燥し、膜厚3μmの表面保護層を形成し、この感光体を感光体15とした。
[Photoreceptor 15]
Next, charge transport material C3 (second charge transport material) shown below: 3 parts, and 12 parts of melamine resin (Super Becamine L-145-60, manufactured by Dainippon Ink & Chemicals, Inc.), thermosetting interface 2 parts of an activator (hydrophobic resin ZX-007C, manufactured by Fuji Kasei Kogyo Co., Ltd.) was added to 190 parts of tetrahydrofuran and 53 parts of cyclohexanone and sufficiently dissolved and mixed to prepare a coating solution for forming a surface protective layer. This surface protective layer coating solution is applied onto the above-mentioned underlying photoconductor G by spray coating and dried at 170 ° C. for 30 minutes to form a surface protective layer having a thickness of 3 μm. It was.

<物性値の測定>
電荷発生材料のイオン化ポテンシャル(Ip(CGL))、第1の電荷輸送材料のイオン化ポテンシャル(Ip(CTL))、第2の電荷輸送材料のイオン化ポテンシャル(Ip(OCL))、電荷輸送層のホール移動度(電界強度30V/μm)(μ(CTL))、表面保護層のホール移動度(電界強度30V/μm)(μ(OCL))を前述の方法により測定し、|Ip(CTL)−Ip(CGL)|、|Ip(OCL)−Ip(CTL)|、μ(CTL)/μ(OCL)の値を算出した。結果を表1に示す。
<Measurement of physical properties>
Charge generation material ionization potential (Ip (CGL)), first charge transport material ionization potential (Ip (CTL)), second charge transport material ionization potential (Ip (OCL)), hole in charge transport layer The mobility (electric field strength 30 V / μm) (μ (CTL)) and the hole mobility (electric field strength 30 V / μm) (μ (OCL)) of the surface protective layer were measured by the above-described method, and | Ip (CTL) − The values of Ip (CGL) |, | Ip (OCL) −Ip (CTL) |, μ (CTL) / μ (OCL) were calculated. The results are shown in Table 1.

<評価試験>
−画像形成テスト−
前記感光体1乃至11を用いて画像形成テストを行った。実験機は富士ゼロックス社製DocuColore 8000AP Digital Pressをプリントスピード80枚/分(電子写真感光体の外周表面の移動速度が440mm/s)および120枚/分(電子写真感光体の外周表面の移動速度が660mm/s)で出力し得るように改造したものを用いた。
テストは、まず多色カラーにて22℃,55%RH環境下で初期の画質(下記[1]および[2]に示すゴースト評価/ハーフトーン)の評価を行った。その後、画像密度5%のA4用紙サイズの画像を10万枚形成(ランニング)し、更にランニングした後(ラン後)の画質(下記[1]および[2]に示すゴースト評価/ハーフトーン)の評価、下記[3]感光体残留電位の評価、及び下記[4]1000回転あたりの摩耗量(nm)の評価を実施した。
尚、ランニングはプリントスピード80枚/分で実施し、初期画質の評価およびランニング後画質の評価の際には、通常速度(80枚/分)と高速度(120枚/分)との両方で評価を実施した。
<Evaluation test>
-Image formation test-
An image formation test was performed using the photoreceptors 1 to 11. The experimental machines were DocuCollar 8000AP Digital Press manufactured by Fuji Xerox Co., Ltd., with a printing speed of 80 sheets / minute (the movement speed of the outer surface of the electrophotographic photosensitive member is 440 mm / s) and 120 sheets / minute (the movement speed of the outer surface of the electrophotographic photosensitive member). Is modified so that it can output at 660 mm / s).
In the test, first, the initial image quality (ghost evaluation / halftone shown in [1] and [2] below) was evaluated in a multi-color color under an environment of 22 ° C. and 55% RH. Thereafter, 100,000 images of A4 paper size with an image density of 5% were formed (running), and after running (after the run), the image quality (ghost evaluation / halftone shown in [1] and [2] below) Evaluation, [3] Evaluation of the photoreceptor residual potential, and [4] Evaluation of wear amount per 1000 revolutions (nm) were performed.
Running is performed at a print speed of 80 sheets / minute. When evaluating the initial image quality and the post-running image quality, both normal speed (80 sheets / minute) and high speed (120 sheets / minute) are used. Evaluation was performed.

[1]ゴースト評価(通常速度:80枚/分)
ゴースト評価は、図5(A)に示すごとく、「G」の文字と「黒ベタ領域」とを有するパターンのチャートをプリントし、黒ベタ領域における「G」の文字(ゴースト)の現れ具合を目視にて観察し、以下の基準で評価した
○:図5(A)のごとく、黒ベタ領域には「G」の文字が確認されない。
△:図5(B)のごとく、黒ベタ領域には「G」の文字が若干確認される。
×:図5(C)のごとく、黒ベタ領域には「G」の文字がはっきり確認される。
[1] Ghost evaluation (normal speed: 80 sheets / min)
As shown in FIG. 5 (A), the ghost evaluation prints a chart of a pattern having a letter “G” and a “black solid area”, and determines the appearance of the letter “G” (ghost) in the black solid area. Observed visually and evaluated according to the following criteria: As shown in FIG. 5A, the letter “G” is not confirmed in the black solid region.
Δ: As shown in FIG. 5B, the letter “G” is slightly confirmed in the black solid region.
X: As shown in FIG. 5C, the letter “G” is clearly confirmed in the black solid region.

[2]ゴースト評価(高速度:120枚/分)
前記[1]ゴースト評価と同様の評価を、プリントスピード120枚/分で出力した画像について実施した。
○:図5(A)のごとく、黒ベタ領域には「G」の文字が確認されない。
△:図5(B)のごとく、黒ベタ領域には「G」の文字が若干確認される。
×:図5(C)のごとく、黒ベタ領域には「G」の文字がはっきり確認される。
[2] Ghost evaluation (high speed: 120 sheets / min)
Evaluation similar to the above [1] ghost evaluation was performed on an image output at a printing speed of 120 sheets / min.
A: As shown in FIG. 5A, the letter “G” is not confirmed in the black solid region.
Δ: As shown in FIG. 5B, the letter “G” is slightly confirmed in the black solid region.
X: As shown in FIG. 5C, the letter “G” is clearly confirmed in the black solid region.

[3]感光体残留電位
感光体残留電位の測定は、前記実験機の中に電位プローブを取り付け、初期とランニング後との残留電位(画像形成終了後の感光体電位)を測定し、その差を算出した。
○:上記差が38V未満
△:上記差が38V以上60V未満
×:上記差が60V以上
[3] Photoresist Residual Potential The photoconductor residual potential is measured by attaching a potential probe to the experimental machine and measuring the residual potential (photoconductor potential after completion of image formation) between the initial stage and after running. Was calculated.
○: The difference is less than 38V Δ: The difference is 38V or more and less than 60V ×: The difference is 60V or more

[4]摩耗量
摩耗量の測定は、上記画像形成テストの際に、画像形成前の膜厚をあらかじめ測定し、ランニング後の膜厚との差分を測定して、感光体1000回転あたりの摩耗量(nm)を算出した。
○:3nm/kcyc以下
△:3nm/kcycを超え5nm/kcyc未満
×:5nm/kcyc以上
[4] Wear amount The wear amount is measured by measuring the film thickness before image formation in advance and measuring the difference from the film thickness after running to determine the wear amount per 1000 rotations of the photoreceptor. The amount (nm) was calculated.
○: 3 nm / kcyc or less Δ: Over 3 nm / kcyc and less than 5 nm / kcyc ×: 5 nm / kcyc or more

[5]総合判定の評価基準
ゴースト評価(通常速度)、ゴースト評価(高速度)、感光体残留電位、摩耗量の各評価の結果に基づき、以下の基準で総合判定をした。
○:良好(△が2つまで)
△:若干劣るが問題なし(△が3つまで)
×:使用不可(△が4つ以上もしくは×が1つ以上)
[5] Evaluation Criteria for Comprehensive Judgment Based on the evaluation results of ghost evaluation (normal speed), ghost evaluation (high speed), photoconductor residual potential, and wear amount, comprehensive evaluation was performed according to the following criteria.
○: Good (up to 2 △)
△: Slightly inferior, but no problem (up to 3 △)
×: Unusable (more than 4 △ or more than 1)

表2に示すように、本実施例では比較例に比べ、良好な耐摩耗性を維持しながら高速応答性に優れ、かつ長期に渡って安定した電気特性と高画質を維持することが判る。   As shown in Table 2, it can be seen that, in this example, compared with the comparative example, excellent electrical resistance and high image quality are maintained over a long period of time while maintaining excellent wear resistance and excellent high-speed response.

1 基体、2 感光層、2A 電荷発生層、2B 電荷輸送層、4 下引層、5 表面保護層、7 感光体、8 帯電装置、9 露光装置、11 現像装置、13 クリーニング装置、14 潤滑材、18 非接触型帯電器、40 転写装置、50 中間転写体、100,110,120 画像形成装置、131 クリーニングブレード、132 繊維状部材、133 繊維状部材、300 プロセスカートリッジ DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Substrate, 2 Photosensitive layer, 2A Charge generation layer, 2B Charge transport layer, 4 Undercoat layer, 5 Surface protective layer, 7 Photoconductor, 8 Charging device, 9 Exposure device, 11 Developing device, 13 Cleaning device, 14 Lubricant , 18 Non-contact type charger, 40 transfer device, 50 intermediate transfer member, 100, 110, 120 image forming device, 131 cleaning blade, 132 fibrous member, 133 fibrous member, 300 process cartridge

Claims (7)

基体上に、少なくとも電荷発生材料を含有する電荷発生層と、第1の電荷輸送材料を含有する電荷輸送層と、第2の電荷輸送材料を含有する表面保護層と、をこの順に有し、且つ下記式(1)乃至式(3)を満たす電子写真感光体。
式(1) |Ip(CTL)−Ip(CGL)|≦0.1(eV)
式(2) |Ip(OCL)−Ip(CTL)|≦0.3(eV)
式(3) μ(CTL)≧1.8×10−5[cm/Vs]
(式(1)乃至式(3)において、Ip(CGL)は前記電荷発生材料のイオン化ポテンシャルを、Ip(CTL)は前記第1の電荷輸送材料のイオン化ポテンシャルを、Ip(OCL)は前記第2の電荷輸送材料のイオン化ポテンシャルを、μ(CTL)は電界強度30V/μmにおける電荷輸送層のホール移動度を表す。)
On the substrate, a charge generation layer containing at least a charge generation material, a charge transport layer containing a first charge transport material, and a surface protective layer containing a second charge transport material in this order, An electrophotographic photosensitive member satisfying the following formulas (1) to (3).
Formula (1) | Ip (CTL) −Ip (CGL) | ≦ 0.1 (eV)
Formula (2) | Ip (OCL) −Ip (CTL) | ≦ 0.3 (eV)
Formula (3) μ (CTL) ≧ 1.8 × 10 −5 [cm 2 / Vs]
(In Formulas (1) to (3), Ip (CGL) is the ionization potential of the charge generation material, Ip (CTL) is the ionization potential of the first charge transport material, and Ip (OCL) is the first potential. (2) The ionization potential of the charge transport material 2 and μ (CTL) represents the hole mobility of the charge transport layer at an electric field strength of 30 V / μm.
前記式(2)が下記式(2’)を満たし、前記式(3)が下記式(3’)を満たし、更に下記式(4)を満たす請求項1に記載の電子写真感光体。
式(2’) |Ip(OCL)−Ip(CTL)|≦0.2(eV)
式(3’) μ(CTL)≧2.5×10−5[cm/Vs]
式(4) 0.5≦μ(CTL)/μ(OCL)≦5
(式(2’)、式(3’)および式(4)において、Ip(CTL)は前記第1の電荷輸送材料のイオン化ポテンシャルを、Ip(OCL)は前記第2の電荷輸送材料のイオン化ポテンシャルを、μ(CTL)は電界強度30V/μmにおける電荷輸送層のホール移動度を、μ(OCL)は電界強度30V/μmにおける表面保護層のホール移動度を表す。)
The electrophotographic photosensitive member according to claim 1, wherein the formula (2) satisfies the following formula (2 ′), the formula (3) satisfies the following formula (3 ′), and further satisfies the following formula (4).
Formula (2 ′) | Ip (OCL) −Ip (CTL) | ≦ 0.2 (eV)
Formula (3 ′) μ (CTL) ≧ 2.5 × 10 −5 [cm 2 / Vs]
Formula (4) 0.5 ≦ μ (CTL) / μ (OCL) ≦ 5
(In Formula (2 ′), Formula (3 ′) and Formula (4), Ip (CTL) is the ionization potential of the first charge transport material, and Ip (OCL) is the ionization potential of the second charge transport material. The potential, μ (CTL) represents the hole mobility of the charge transport layer at an electric field strength of 30 V / μm, and μ (OCL) represents the hole mobility of the surface protective layer at an electric field strength of 30 V / μm.)
前記第1の電荷輸送材料が以下に示す(一般式1)または(一般式2)である請求項1または請求項2に記載の電子写真感光体。

(上記(一般式1)中、R31,R32,R33,R34,R35,R36はそれぞれ同一であっても異なっていてもよく、水素原子、アルキル基、アルコキシ基、フェノキシ基、ハロゲン原子または置換基を有していてもよいアリール基を示す。mおよびnは0または1を示す。)


(上記(一般式2)中、R37,R38,R39,R40,R41,R42,R43はそれぞれ同一であっても異なっていてもよく、水素原子、アルキル基、アルコキシ基、フェノキシ基、ハロゲン原子または置換基を有していてもよいアリール基を示す。mおよびnは0または1を示す。)
The electrophotographic photosensitive member according to claim 1, wherein the first charge transport material is represented by the following (general formula 1) or (general formula 2).

(In the above (general formula 1), R 31 , R 32 , R 33 , R 34 , R 35 , R 36 may be the same or different and each represents a hydrogen atom, an alkyl group, an alkoxy group, a phenoxy group. Represents a halogen atom or an aryl group which may have a substituent, and m and n represent 0 or 1.)


(In the above (general formula 2), R 37 , R 38 , R 39 , R 40 , R 41 , R 42 , R 43 may be the same or different, and each represents a hydrogen atom, an alkyl group, or an alkoxy group. , A phenoxy group, a halogen atom, or an aryl group which may have a substituent, m and n each represents 0 or 1)
前記表面保護層が、フッ素系樹脂粒子を含む組成物の架橋物を含有する請求項1乃至請求項3に記載の電子写真感光体。   The electrophotographic photosensitive member according to claim 1, wherein the surface protective layer contains a crosslinked product of a composition containing fluorine-based resin particles. 基体上に、少なくとも電荷発生材料を含有する電荷発生層と、第1の電荷輸送材料を含有する電荷輸送層と、第2の電荷輸送材料を含有する表面保護層と、をこの順に有し、且つ下記式(1)乃至式(3)を満たす電子写真感光体を備え、
且つ前記電子写真感光体を帯電する帯電装置、帯電した前記電子写真感光体の表面に静電潜像を形成する潜像形成装置、前記電子写真感光体の表面に形成された静電潜像をトナーにより現像してトナー像を形成する現像装置、前記電子写真感光体の表面に形成されたトナー像を記録媒体に転写する転写装置、および前記電子写真感光体の表面を清掃する清掃装置から選択される少なくとも1つを備えたプロセスカートリッジ。
式(1) |Ip(CTL)−Ip(CGL)|≦0.1(eV)
式(2) |Ip(OCL)−Ip(CTL)|≦0.3(eV)
式(3) μ(CTL)≧1.8×10−5[cm/Vs]
(式(1)乃至式(3)において、Ip(CGL)は前記電荷発生材料のイオン化ポテンシャルを、Ip(CTL)は前記第1の電荷輸送材料のイオン化ポテンシャルを、Ip(OCL)は前記第2の電荷輸送材料のイオン化ポテンシャルを、μ(CTL)は電界強度30V/μmにおける電荷輸送層のホール移動度を表す。)
On the substrate, a charge generation layer containing at least a charge generation material, a charge transport layer containing a first charge transport material, and a surface protective layer containing a second charge transport material in this order, And an electrophotographic photoreceptor satisfying the following formulas (1) to (3):
And a charging device for charging the electrophotographic photosensitive member, a latent image forming device for forming an electrostatic latent image on the surface of the charged electrophotographic photosensitive member, and an electrostatic latent image formed on the surface of the electrophotographic photosensitive member. Select from a developing device that forms a toner image by developing with toner, a transfer device that transfers a toner image formed on the surface of the electrophotographic photosensitive member to a recording medium, and a cleaning device that cleans the surface of the electrophotographic photosensitive member A process cartridge comprising at least one of the following.
Formula (1) | Ip (CTL) −Ip (CGL) | ≦ 0.1 (eV)
Formula (2) | Ip (OCL) −Ip (CTL) | ≦ 0.3 (eV)
Formula (3) μ (CTL) ≧ 1.8 × 10 −5 [cm 2 / Vs]
(In Formulas (1) to (3), Ip (CGL) is the ionization potential of the charge generation material, Ip (CTL) is the ionization potential of the first charge transport material, and Ip (OCL) is the first potential. (2) The ionization potential of the charge transport material 2 and μ (CTL) represents the hole mobility of the charge transport layer at an electric field strength of 30 V / μm.
基体上に、少なくとも電荷発生材料を含有する電荷発生層と、第1の電荷輸送材料を含有する電荷輸送層と、第2の電荷輸送材料を含有する表面保護層と、をこの順に有し、且つ下記式(1)乃至式(3)を満たす電子写真感光体、
前記電子写真感光体を帯電する帯電装置、
帯電した前記電子写真感光体の表面に静電潜像を形成する潜像形成装置、
前記電子写真感光体の表面に形成された静電潜像をトナーにより現像してトナー像を形成する現像装置、
および前記電子写真感光体の表面に形成されたトナー像を記録媒体に転写する転写装置、
を備えた画像形成装置。
式(1) |Ip(CTL)−Ip(CGL)|≦0.1(eV)
式(2) |Ip(OCL)−Ip(CTL)|≦0.3(eV)
式(3) μ(CTL)≧1.8×10−5[cm/Vs]
(式(1)乃至式(3)において、Ip(CGL)は前記電荷発生材料のイオン化ポテンシャルを、Ip(CTL)は前記第1の電荷輸送材料のイオン化ポテンシャルを、Ip(OCL)は前記第2の電荷輸送材料のイオン化ポテンシャルを、μ(CTL)は電界強度30V/μmにおける電荷輸送層のホール移動度を表す。)
On the substrate, a charge generation layer containing at least a charge generation material, a charge transport layer containing a first charge transport material, and a surface protective layer containing a second charge transport material in this order, And an electrophotographic photosensitive member satisfying the following formulas (1) to (3):
A charging device for charging the electrophotographic photosensitive member,
A latent image forming apparatus for forming an electrostatic latent image on the surface of the charged electrophotographic photosensitive member;
A developing device for developing the electrostatic latent image formed on the surface of the electrophotographic photosensitive member with toner to form a toner image;
And a transfer device for transferring a toner image formed on the surface of the electrophotographic photosensitive member to a recording medium,
An image forming apparatus.
Formula (1) | Ip (CTL) −Ip (CGL) | ≦ 0.1 (eV)
Formula (2) | Ip (OCL) −Ip (CTL) | ≦ 0.3 (eV)
Formula (3) μ (CTL) ≧ 1.8 × 10 −5 [cm 2 / Vs]
(In Formulas (1) to (3), Ip (CGL) is the ionization potential of the charge generation material, Ip (CTL) is the ionization potential of the first charge transport material, and Ip (OCL) is the first potential. (2) The ionization potential of the charge transport material 2 and μ (CTL) represents the hole mobility of the charge transport layer at an electric field strength of 30 V / μm.
前記電子写真感光体の外周表面の移動速度が500mm/s以上である請求項6に記載の画像形成装置。   The image forming apparatus according to claim 6, wherein a moving speed of the outer peripheral surface of the electrophotographic photosensitive member is 500 mm / s or more.
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