JP2012064840A - Method of manufacturing semiconductor ceramic, semiconductor ceramic, and positive thermistor - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は、半導体セラミックの製造方法、半導体セラミック、及び正特性サーミスタに関し、より詳しくは正の抵抗温度係数(Positive Temperature Coefficient;「PTC」という。)を有する半導体セラミックの製造方法、該製造方法を使用して製造された半導体セラミック、及び該半導体セラミックを使用したヒータ用途に好適な正特性サーミスタ(以下、「PTCサーミスタ」という。)に関する。 The present invention relates to a method of manufacturing a semiconductor ceramic, a semiconductor ceramic, and a positive temperature coefficient thermistor, and more particularly, a method of manufacturing a semiconductor ceramic having a positive temperature coefficient of resistance (hereinafter referred to as “PTC”), and a method of manufacturing the same. The present invention relates to a semiconductor ceramic produced by using the semiconductor ceramic and a positive temperature coefficient thermistor (hereinafter referred to as “PTC thermistor”) suitable for a heater application using the semiconductor ceramic.
BaTiO3(チタン酸バリウム)系の半導体セラミックは、電圧の印加により発熱し、正方晶から立方晶に相転移するキュリー点Tcを超えると抵抗値が急激に増大するPTC特性を有している。 The BaTiO 3 (barium titanate) -based semiconductor ceramic has PTC characteristics that generate heat when a voltage is applied and the resistance value increases rapidly when the Curie point Tc at which phase transition from tetragonal to cubic is exceeded.
このようにPTC特性を有する半導体セラミックは、電圧印加による発熱でキュリー点Tcを超えると抵抗値が大きくなって電流が流れにくくなり、温度が低下する。そして、温度が低下して抵抗値が小さくなると再び電流が流れ易くなって温度が上昇する。半導体セラミックは、上述の過程を繰り返すことによって一定の温度又は電流に収束することから、ヒータ用サーミスタ又はモータ起動用サーミスタとして広く使用されている。 As described above, the semiconductor ceramic having PTC characteristics has a resistance value that increases when the Curie point Tc is exceeded due to heat generation by voltage application, and current hardly flows, and the temperature decreases. And if temperature falls and resistance value becomes small, an electric current will flow easily again and temperature will rise. Semiconductor ceramics are widely used as a thermistor for a heater or a thermistor for starting a motor because it converges to a constant temperature or current by repeating the above-described process.
ところで、ヒータ用途に用いられるPTCサーミスタは、高温で使用されることから、キュリー点Tcの高いことが要求される。このため、従来では、BaTiO3におけるBaの一部をPbで置換することにより、キュリー点Tcを高くすることが行われていた。 By the way, since the PTC thermistor used for a heater use is used at high temperature, it needs to have a high Curie point Tc. For this reason, conventionally, a part of Ba in BaTiO 3 has been replaced with Pb to raise the Curie point Tc.
しかしながら、Pbは環境負荷物質であることから、環境面を考慮すると実質的にPbを含まない非鉛系の半導体セラミックの実現が求められている。 However, since Pb is an environmentally hazardous substance, it is required to realize a lead-free semiconductor ceramic that does not substantially contain Pb in consideration of the environment.
そして、BaTiO3におけるBaの一部をアルカリ金属及びBiで置換し、これにより良好なPTC特性を得ようとした非鉛系の半導体セラミックが注目されている。 And, a part of Ba in BaTiO 3 is substituted with an alkali metal and Bi, and thereby, lead-free semiconductor ceramics that have attempted to obtain good PTC characteristics have attracted attention.
この種の半導体セラミックは、所要のセラミック素原料を同時に調合して仮焼し、成形加工を経て焼成することにより、製造することができる。 This type of semiconductor ceramic can be manufactured by simultaneously preparing and calcining required ceramic raw materials, followed by forming and firing.
しかしながら、アルカリ金属やBiが揮発性を有することから、BaTiO3系組成物が合成されるような高温で同時に仮焼を行うと、アルカリ金属やBiが揮発してしまい、組成ずれ等が生じてPTC特性の低下を招くおそれがある。 However, since alkali metals and Bi have volatility, if calcining is performed simultaneously at such a high temperature that a BaTiO 3 -based composition is synthesized, the alkali metals and Bi are volatilized, resulting in a composition shift and the like. There is a risk of degrading the PTC characteristics.
そこで、特許文献1及び2では、BaTiO3仮焼粉を用意する工程、(Bi,Na)TiO3仮焼粉を用意する工程、BaTiO3仮焼粉と(Bi,Na)TiO3仮焼粉を混合する工程、混合仮焼粉を、成形、焼結する工程とを含む半導体磁器組成物の製造方法が提案されている。
Therefore, in
この特許文献1及び2では、BaTiO3組成物を高温で仮焼して作製する一方、(Bi,Na)TiO3組成物をNaやBiが揮発しないような低温で仮焼して作製し、両者を混合して成形、焼成することにより、揮発性を有するNaやBiの揮散を抑制し、これによりBi−Naの組成ずれを防止してNaを含有する異相の生成を抑制し、室温抵抗の低下を促進している。
In
しかしながら、特許文献1及び2では、BaTiO3仮焼粉と(Bi,Na)TiO3仮焼粉とを混合させて焼成しているものの、BaTiO3と(Bi,Na)TiO3とは格子定数の差が大きいため、焼成過程でBaTiO3と(Bi,Na)TiO3とを円滑に固溶させることができないという問題があった。すなわち、Baイオンのイオン半径はNaイオンやBiイオンのイオン半径よりも大きく、このためBaTiO3の格子定数も(Bi,Na)TiO3の格子定数よりも大きくなり、焼成過程で両者の円滑な固溶が困難となり、このため高抵抗化を招いたり、信頼性の低下を招くおそれがあった。
However, in
本発明はこのような事情に鑑みなされたものであって、高抵抗化するのを回避し、信頼性に優れた半導体セラミックを得ることができる半導体セラミックの製造方法、この製造方法を使用して製造された半導体セラミック、及びこの半導体セラミックを使用したPTCサーミスタを提供することを目的とする。 The present invention has been made in view of such circumstances, and a semiconductor ceramic manufacturing method capable of avoiding a high resistance and obtaining a highly reliable semiconductor ceramic, and using this manufacturing method An object of the present invention is to provide a manufactured semiconductor ceramic and a PTC thermistor using the semiconductor ceramic.
上記目的を達成するために本発明者らが鋭意研究を行ったところ、(Na,Bi)TiO3系組成物を作製する際に(Na,Bi)の一部を0.025〜0.15の範囲でBaと置換し、結晶格子の格子定数を予め大きくしておくことにより、BaTiO3系組成物との固溶を円滑に行うことができ、これにより半導体セラミックの高抵抗化を回避することができ、かつ信頼性をも向上させることができるという知見を得た。そして、この原理は、Naよりもイオン半径の小さいアルカリ金属、例えばLiに対しても同様であると考えられる。 In order to achieve the above object, the present inventors conducted extensive research. As a result, when a (Na, Bi) TiO 3 -based composition was produced, a part of (Na, Bi) was 0.025 to 0.15. By substituting Ba in this range and increasing the lattice constant of the crystal lattice in advance, solid solution with the BaTiO 3 -based composition can be carried out smoothly, thereby avoiding high resistance of the semiconductor ceramic. It was possible to improve the reliability. This principle is considered to be the same for an alkali metal having an ionic radius smaller than that of Na, for example, Li.
本発明はこのような知見に基づきなされたものであって、本発明に係る半導体セラミックの製造方法は、BaTiO3系化合物を主成分とし、Baの一部をアルカリ金属及びBiで置換した半導体セラミックの製造方法であって、少なくともBa化合物及びTi化合物を混合して熱処理し、BaTiO3系組成物からなる第1の熱処理粉を作製する第1の熱処理粉作製工程と、アルカリ金属Mを含有したアルカリ金属化合物、Bi化合物、Ba化合物、及びTi化合物を混合して熱処理し、一般式(M,Bi)1-xBaxTiO3(ただし、xは0.025≦x≦0.15)で表わされる第2の熱処理粉を作製する第2の熱処理粉作製工程と、前記第1の熱処理粉と前記第2の熱処理粉とを混合して成形加工し、成形体を作製する成形体作製工程と、前記成形体を焼成する焼成工程とを含むことを特徴としている。 The present invention has been made on the basis of such knowledge, and a method for producing a semiconductor ceramic according to the present invention includes a semiconductor ceramic in which a BaTiO 3 compound is a main component and a part of Ba is substituted with an alkali metal and Bi. A first heat-treated powder preparation step of preparing a first heat-treated powder comprising a BaTiO 3 -based composition, and at least a Ba compound and a Ti compound, and an alkali metal M An alkali metal compound, a Bi compound, a Ba compound, and a Ti compound are mixed and heat-treated to obtain a general formula (M, Bi) 1-x Ba x TiO 3 (where x is 0.025 ≦ x ≦ 0.15). A molded body for producing a molded body by mixing and molding a second heat treated powder production step for producing the second heat treated powder represented, and the first heat treated powder and the second heat treated powder. And manufacturing process is characterized by including a firing step of firing the shaped body.
また、本発明の半導体セラミックの製造方法は、前記xが0.025〜0.075であるの好ましい。 In the method for producing a semiconductor ceramic according to the present invention, x is preferably 0.025 to 0.075.
また、本発明の半導体セラミックの製造方法は、前記第1の熱処理粉作製工程で、Ca化合物及びSr化合物のうちの少なくとも一方を添加するのも好ましい。 In the method for producing a semiconductor ceramic of the present invention, it is also preferable to add at least one of a Ca compound and an Sr compound in the first heat treatment powder production step.
また、本発明の半導体セラミックの製造方法は、前記第1の熱処理粉作製工程で、希土類元素を添加するのが好ましい。 In the method for producing a semiconductor ceramic of the present invention, it is preferable to add a rare earth element in the first heat treatment powder production step.
また、本発明の半導体セラミックの製造方法は、Na及びLiのうちの少なくともいずれか一方を含むのが好ましい。 Moreover, it is preferable that the manufacturing method of the semiconductor ceramic of this invention contains at least any one of Na and Li.
また、本発明に係る半導体セラミックは、上述したいずれかの方法で製造されていることを特徴としている。 The semiconductor ceramic according to the present invention is manufactured by any one of the methods described above.
また、本発明に係るPTCサーミスタは、部品素体の両端部に外部電極が形成されたPTCサーミスタであって、前記部品素体が、上記半導体セラミックで形成されていることを特徴としている。 The PTC thermistor according to the present invention is a PTC thermistor in which external electrodes are formed at both ends of a component body, wherein the component body is formed of the semiconductor ceramic.
本発明の半導体セラミックの製造方法によれば、Ba化合物及びTi化合物(更にはCa化合物、Sr化合物、希土類化合物等)を混合して熱処理し、BaTiO3系組成物からなる第1の熱処理粉を作製する第1の熱処理粉作製工程と、アルカリ金属M(例えばNa、Li)を含有したアルカリ金属化合物、Bi化合物、Ba化合物、及びTi化合物を混合して熱処理し、一般式(M,Bi)1-xBaxTiO3(ただし、xは0.025≦x≦0.15)で表わされる第2の熱処理粉を作製する第2の熱処理粉作製工程と、前記第1の熱処理粉と前記第2の熱処理粉とを混合して成形加工し、成形体を作製する成形体作製工程と、前記成形体を焼成する焼成工程とを含むので、第2の熱処理粉の結晶格子の格子定数を予め大きくすることが可能となる。したがって、第1の熱処理粉との結晶格子の格子定数の差を小さくすることができ、焼成工程で第1の熱処理粉と第2の熱処理粉との固溶を円滑に行うことが可能となる。そしてその結果、高抵抗化を回避でき、かつ信頼性の向上した半導体セラミックを製造することができる。 According to the method for producing a semiconductor ceramic of the present invention, a Ba compound and a Ti compound (further, a Ca compound, a Sr compound, a rare earth compound, etc.) are mixed and heat-treated, and the first heat-treated powder composed of a BaTiO 3 -based composition is obtained. A first heat treatment powder production step to be produced and an alkali metal compound containing an alkali metal M (for example, Na, Li), a Bi compound, a Ba compound, and a Ti compound are mixed and heat-treated, and the general formula (M, Bi) A second heat-treated powder preparation step for producing a second heat-treated powder represented by 1-x Ba x TiO 3 (where x is 0.025 ≦ x ≦ 0.15); Since the second heat-treated powder is mixed and molded to form a molded body for producing a molded body and a firing process for firing the molded body, the lattice constant of the crystal lattice of the second heat-treated powder is determined. Increase the size in advance Is possible. Therefore, the difference in the lattice constant of the crystal lattice from the first heat treatment powder can be reduced, and the first heat treatment powder and the second heat treatment powder can be smoothly dissolved in the firing step. . As a result, it is possible to manufacture a semiconductor ceramic that can avoid an increase in resistance and has improved reliability.
また、本発明の半導体セラミックによれば、上述のいずれかの方法で製造されているので、低抵抗で信頼性の良好な半導体セラミックを得ることができる。 Further, according to the semiconductor ceramic of the present invention, since it is manufactured by any of the above-described methods, a semiconductor ceramic having a low resistance and good reliability can be obtained.
さらに、本発明のPTCサーミスタによれば、部品素体が、上記半導体セラミックで形成されているので、低抵抗で良好な信頼性を有する車載ヒータ等のヒータ用途に適したPTCサーミスタを得ることができる。 Furthermore, according to the PTC thermistor of the present invention, since the component body is made of the above-mentioned semiconductor ceramic, it is possible to obtain a PTC thermistor suitable for heater use such as an on-vehicle heater having low resistance and good reliability. it can.
次に、本発明の実施の形態を詳説する。 Next, an embodiment of the present invention will be described in detail.
本発明に係る半導体セラミックの製造方法は、Ba化合物及びTi化合物を混合して熱処理し、BaTiO3系組成物からなる第1の熱処理粉を作製する第1の熱処理粉作製工程と、アルカリ金属Mを含有したアルカリ金属化合物、Bi化合物、Ba化合物、及びTi化合物を混合して熱処理し、一般式(M,Bi)1-xBaxTiO3(ただし、xは0.025≦x≦0.15)で表わされる第2の熱処理粉を作製する第2の熱処理粉作製工程と、前記第1の熱処理粉と前記第2の熱処理粉とを混合して成形加工し、成形体を作製する成形体作製工程と、前記成形体を焼成する焼成工程とを含んでいる。 The method for producing a semiconductor ceramic according to the present invention includes a first heat treatment powder preparation step of mixing a Ba compound and a Ti compound and heat-treating to produce a first heat treatment powder made of a BaTiO 3 -based composition, and an alkali metal M. An alkali metal compound containing Bi, Bi compound, Ba compound, and Ti compound are mixed and heat-treated to obtain a general formula (M, Bi) 1-x Ba x TiO 3 (where x is 0.025 ≦ x ≦ 0. 15) The second heat treatment powder production step for producing the second heat treatment powder represented by 15), the first heat treatment powder and the second heat treatment powder are mixed and molded to form a molded body. A body manufacturing step and a firing step of firing the molded body.
〔背景技術〕の項でも述べたように、従来では、Baの一部をPbで置換することにより、高キュリー点Tcを実現し、これによりヒータ用途等の高温での使用に適したPTCサーミスタを得ていたが、近年では環境面を配慮し、Baの一部をアルカリ金属M及びBiで置換したBay(M,Bi,Ln)1-yTiO3(Lnは希土類元素)系半導体セラミックが開発されてきている。 As described in [Background Art], a PTC thermistor suitable for use at a high temperature such as a heater is realized by replacing a part of Ba with Pb to realize a high Curie point Tc. I had to give, in consideration of environmental in recent years, Ba y obtained by substituting a part of Ba with an alkali metal M and Bi (M, Bi, Ln) 1-y TiO 3 (Ln is a rare earth element) -based semiconductor ceramic Has been developed.
そして、この種の半導体セラミックは、所要のセラミック素原料を同時に調合し、仮焼した後、成形、焼成という一連の工程を経て製造することができる。 And this kind of semiconductor ceramic can be manufactured through a series of processes of forming and firing after preparing and firing the required ceramic raw materials at the same time.
しかしながら、アルカリ金属M及びBiは揮発性を有することから、BaTiO3が合成されるような高温(例えば、1000℃)で同時に仮焼すると、アルカリ金属MやBiが揮散し、組成ずれが生じるおそれがある。 However, since the alkali metals M and Bi are volatile, if they are simultaneously calcined at a high temperature (for example, 1000 ° C.) at which BaTiO 3 is synthesized, the alkali metals M and Bi may be volatilized, resulting in a composition shift. There is.
斯かる事態を回避するためには、特許文献1及び2のように(Ba,Ln)TiO3と(M,Bi)TiO3とを各々に適した仮焼温度でそれぞれ別々に合成し、その後両者を混合させて、成形、焼成する方法が考えられる。
In order to avoid such a situation, as in
しかしながら、(Ba,Ln)TiO3と(M,Bi)TiO3とは格子定数に大きな差異があることから、両者を混合して焼成した場合、円滑に固溶するのが困難となり、高抵抗化や信頼性低下を招くおそれがある。 However, (Ba, Ln) TiO 3 and (M, Bi) TiO 3 have a large difference in lattice constant. Therefore, when both are mixed and fired, it becomes difficult to form a solid solution smoothly, resulting in high resistance. There is a risk of reducing the reliability and reliability.
すなわち、非特許文献1によれば、Ba2+のイオン半径は0.135nmであるのに対し、アルカリ金属イオンM+のイオン半径、例えばNa+は0.102nm、Li+は0.076nmであり、またBi3+のイオン半径は0.103nmである。すなわち、Ba2+のイオン半径は、これらのアルカリ金属イオンM+やBi3+のイオン半径に比べて大きい。したがって(M,Bi)TiO3の格子定数は(Ba,Ln)TiO3の格子定数に比べて小さいため、(M,Bi)TiO3は(Ba,Ln)TiO3に固溶し難くなり、PTCサーミスタの高抵抗化や信頼性低下を招くおそれがある。また、アルカリ金属M中、K+のイオン半径は0.138nmであり、Ba2+のイオン半径に近似するが、上述したようにBi3+のイオン半径はBa2+のイオン半径よりも小さいことから、(M,Bi)TiO3の格子定数も(Ba,Ln)TiO3の格子定数に比べて小さくなり、上述と同様、(M,Bi)TiO3は(Ba,Ln)TiO3に固溶し難くなる。
That is, according to Non-Patent
そこで、本実施の形態では、第2の熱処理粉作製工程で、予め(M,Bi)の一部をイオン半径の大きいBaで置換することにより、第2の熱処理粉の結晶格子の格子定数を大きくしている。そしてこれにより第1の熱処理粉と第2の熱処理粉との結晶格子の格子定数の差が小さくなって両者の固溶を円滑に行うことができ、これによりPTCサーミスタが高抵抗化するのを回避することができる。尚、この効果は、上述した理由により、Ba2+に近似のイオン半径を有するK+の場合にも生じるが、Ba2+に比べてイオン半径の小さいNa+、Li+の場合に特に大きい。 Therefore, in this embodiment, by replacing a part of (M, Bi) in advance with Ba having a large ion radius in the second heat treatment powder production step, the lattice constant of the crystal lattice of the second heat treatment powder is changed. It is getting bigger. As a result, the difference in the lattice constant of the crystal lattice between the first heat-treated powder and the second heat-treated powder can be reduced, and the solid solution of both can be smoothly performed. As a result, the resistance of the PTC thermistor is increased. It can be avoided. This effect also occurs in the case of K + having an ionic radius approximate to Ba 2+ for the reasons described above, but is particularly large in the case of Na + and Li + having a smaller ionic radius than Ba 2+. .
また、(M,Bi)TiO3系材料では、結晶粒子に固溶されなかったアルカリ金属Mが結晶粒界や結晶三重点等に偏析し、信頼性低下を招くおそれがあるが、(M,Bi)の一部を予めBaで置換し固溶を促進することにより、アルカリ金属Mが安定して結晶格子に入ることが可能となり、これにより信頼性向上を図ることができる。 In addition, in the (M, Bi) TiO 3 -based material, the alkali metal M that is not dissolved in the crystal particles may segregate at crystal grain boundaries, crystal triple points, and the like, leading to a decrease in reliability. By replacing a part of Bi) with Ba in advance to promote solid solution, the alkali metal M can stably enter the crystal lattice, thereby improving the reliability.
そして、第2の熱処理粉におけるBaの置換モル比xは、0.025〜0.15とされている。 The substitution molar ratio x of Ba in the second heat-treated powder is 0.025 to 0.15.
すなわち、Baの置換モル比xが0.025モル未満の場合は、Baの含有量が少ないため、第2の熱処理粉の結晶格子の格子定数を十分に大きくすることができず、第1の熱処理粉と第2の熱処理粉との固溶を円滑に行うことができない。一方、Baの置換モル比xが0.15を超えると、Baの含有量が過剰となって第2の熱処理粉の合成が不十分となる。すなわち、第2の熱処理粉は、アルカリ金属M及びBiの揮散を防止する観点から第1の熱処理粉に比べて低温で仮焼される。したがって、Baの含有量を過度に増加させると焼結していない未反応のBaが増加し、このため却って高抵抗化を招いたり、信頼性低下を招くおそれがある。 That is, when the substitution molar ratio x of Ba is less than 0.025 mol, since the Ba content is small, the lattice constant of the crystal lattice of the second heat-treated powder cannot be sufficiently increased, and the first The solid solution of the heat treated powder and the second heat treated powder cannot be smoothly performed. On the other hand, when the substitution molar ratio x of Ba exceeds 0.15, the content of Ba becomes excessive and synthesis of the second heat-treated powder becomes insufficient. That is, the second heat-treated powder is calcined at a lower temperature than the first heat-treated powder from the viewpoint of preventing the volatilization of the alkali metals M and Bi. Therefore, if the content of Ba is excessively increased, unreacted Ba that has not been sintered increases, which may lead to an increase in resistance or a decrease in reliability.
そこで、本実施の形態では、Baの置換モル比xを0.025〜0.15、好ましくは0.025〜0.075に設定している。 Therefore, in this embodiment, the substitution molar ratio x of Ba is set to 0.025 to 0.15, preferably 0.025 to 0.075.
尚、仮焼温度を上げるとアルカリ金属M、Biの揮散が増加することから、PTC特性の低下を招き、好ましくない。 In addition, since the volatilization of alkali metals M and Bi increases when the calcination temperature is raised, the PTC characteristics are lowered, which is not preferable.
以下、上記半導体セラミックの製造方法を更に詳しく説明する。 Hereinafter, the method for producing the semiconductor ceramic will be described in more detail.
まず、セラミック素原料としてBa化合物、Ti化合物、及び希土類元素Lnを含有したLn化合物を用意する。そして、半導体セラミックの成分組成が所定比率となるように、これらセラミック素原料を秤量し、調合して混合粉末を得る。ここで、希土類元素Lnは、半導体化剤としての作用を奏するものであれば特に限定されるものではなく、例えばY、Sm、Nd、Dy、及びGdの群から選択された1種以上を使用することができる。 First, an Ln compound containing a Ba compound, a Ti compound, and a rare earth element Ln is prepared as a ceramic raw material. Then, these ceramic raw materials are weighed and mixed to obtain a mixed powder so that the component composition of the semiconductor ceramic becomes a predetermined ratio. Here, the rare earth element Ln is not particularly limited as long as it acts as a semiconducting agent, and for example, one or more selected from the group of Y, Sm, Nd, Dy, and Gd are used. can do.
次に、この混合粉末に水または有機溶剤及び高分子系分散剤を加え、PSZ(部分安定化ジルコニア)ボール等の粉砕媒体と共に、ボールミル内で湿式で十分に混合粉砕する。そして、有機溶剤を乾燥させ、その後、所定の目開きのメッシュを使用して整粒する。続いて、800〜1000℃で2時間熱処理し、BaTiO3系組成物からなるペロブスカイト型構造の第1の熱処理粉を作製する。 Next, water or an organic solvent and a polymer dispersant are added to the mixed powder, and the mixture is sufficiently mixed and pulverized in a ball mill together with a pulverizing medium such as PSZ (partially stabilized zirconia) balls. Then, the organic solvent is dried, and then sized using a mesh with a predetermined mesh. Subsequently, heat treatment for 2 hours at 800 to 1000 ° C., to produce a first heat treatment flour perovskite structure composed of BaTiO 3 based composition.
次に、セラミック素原料としてアルカリ金属Mを含有したM化合物、Bi化合物、Ba化合物、及びTi化合物を用意する。そして、Baの置換モル比xが0.025〜0.15となるようにこれらのセラミック素原料を秤量し、調合して混合粉末を得る。 Next, an M compound, a Bi compound, a Ba compound, and a Ti compound containing an alkali metal M are prepared as ceramic raw materials. Then, these ceramic raw materials are weighed and mixed to obtain a mixed powder so that the substitution molar ratio x of Ba becomes 0.025 to 0.15.
次に、この混合粉末に、水または有機溶剤、及び高分子系分散剤を加え、PSZ(部分安定化ジルコニア)ボール等の粉砕媒体と共に、ボールミル内で湿式で十分に混合粉砕する。そして、有機溶剤を乾燥させ、その後、所定の目開きのメッシュを使用して整粒する。続いて、アルカリ金属MやBiが揮発しないような温度、例えば700〜900℃で2時間熱処理し、一般式(M,Bi)1-xBaxTiO3(ただし、0.025≦x≦0.15)からなるペロブスカイト型構造の第2の熱処理粉を作製する。 Next, water or an organic solvent and a polymer dispersant are added to the mixed powder, and the mixture is sufficiently mixed and pulverized in a ball mill with a pulverization medium such as PSZ (partially stabilized zirconia) balls. Then, the organic solvent is dried, and then sized using a mesh with a predetermined mesh. Subsequently, heat treatment is performed at a temperature at which the alkali metals M and Bi do not volatilize, for example, 700 to 900 ° C. for 2 hours, and the general formula (M, Bi) 1-x Ba x TiO 3 (where 0.025 ≦ x ≦ 0 .15) is produced as a second heat-treated powder having a perovskite structure.
次に、これらの第1の熱処理粉及び第2の熱処理粉を所定量秤量し、酢酸ビニル、ポリビニル系の有機バインダ、分散剤、及び純水を加え、再び粉砕媒体と共に湿式で十分に混合粉砕し、得られたスラリーを乾燥させ、所定の目開きを有するメッシュを使用して整粒する。そしてその後、プレス成形し、これにより成形体を得る。 Next, a predetermined amount of these first heat-treated powder and second heat-treated powder are weighed, vinyl acetate, polyvinyl organic binder, dispersant, and pure water are added, and mixed and pulverized sufficiently with a pulverizing medium again in a wet manner. Then, the obtained slurry is dried and sized using a mesh having a predetermined opening. Then, press molding is performed, thereby obtaining a molded body.
尚、PTC特性を向上させる観点からは、第1及び第2の熱処理粉の総計1モル部に対し、焼成後に0.0001〜0.0020モル部となるようにMnを添加するのも好ましい。すなわち、Mnは、アクセプタとしての作用を有することから、結晶粒界でアクセプタ準位を形成し、これにより抵抗温度係数の増大に寄与し、PTC特性をより一層向上させることが可能となる。したがって、所定量のMnを添加するのが好ましい。 From the viewpoint of improving the PTC characteristics, it is also preferable to add Mn so that it becomes 0.0001 to 0.0020 mol part after firing with respect to the total of 1 mol part of the first and second heat treated powders. That is, since Mn has an action as an acceptor, it forms an acceptor level at the grain boundary, thereby contributing to an increase in the temperature coefficient of resistance and further improving the PTC characteristics. Therefore, it is preferable to add a predetermined amount of Mn.
Mnの添加形態としては、特に限定されるものではなく、酸化マンガンのゾルや粉末、或いは硝酸マンガン水溶液等、任意のマンガン化合物を使用することができる。 The addition form of Mn is not particularly limited, and any manganese compound such as manganese oxide sol or powder or manganese nitrate aqueous solution can be used.
次いで、前記成形体を所定の雰囲気中(例えば、大気雰囲気中、窒素雰囲気中、又は混合気流中)にて、500〜600℃で加熱して脱バインダ処理を行い、その後、所定の雰囲気中(例えば、窒素雰囲気中、又は還元雰囲気の混合気流中)にて、半導体化する温度、例えば、最高焼成温度1250〜1450℃で所定時間焼成し、焼結体である部品素体1を得る。
Next, the molded body is heated at 500 to 600 ° C. in a predetermined atmosphere (for example, in an air atmosphere, a nitrogen atmosphere, or a mixed gas stream) to perform a binder removal treatment, and then in a predetermined atmosphere ( For example, in a nitrogen atmosphere or in a mixed gas stream of a reducing atmosphere), firing is performed for a predetermined time at a temperature at which the semiconductor is formed, for example, a maximum firing temperature of 1250 to 1450 ° C., to obtain a
そして、めっき法、スパッタリング法、塗布焼付法等により、部品素体1の両端部に外部電極2a、2bを形成し、これによりPTCサーミスタが作製される。
Then, the
このように本実施の形態では、Ba化合物及びTi化合物(更にはCa化合物、Sr化合物、希土類化合物等)を混合して熱処理し、BaTiO3系組成物からなる第1の熱処理粉を作製する第1の熱処理粉作製工程と、アルカリ金属M1(Na、Li)を含有したアルカリ金属化合物、Bi化合物、Ba化合物、及びTi化合物及びBa化合物を混合して熱処理し、一般式(M1,Bi)1-xBaxTiO3(ただし、xは0.025≦x≦0.15)で表わされる第2の熱処理粉を作製する第2の熱処理粉作製工程と、前記第1の熱処理粉と第2の熱処理粉とを混合して成形加工し、成形体を作製する成形体作製工程と、前記成形体を焼成する焼成工程とを含むので、第2の熱処理粉の結晶格子の格子定数を予め大きくすることが可能となる。すなわち、第1の熱処理粉との結晶格子の格子定数の差を小さくすることができ、焼成工程で第1の熱処理粉と第2の熱処理粉との固溶を円滑に行うことが可能となる。そしてその結果、高抵抗化を回避でき、信頼性の向上した半導体セラミックを製造することができる。 As described above, in this embodiment, the Ba compound and the Ti compound (further, the Ca compound, the Sr compound, the rare earth compound, etc.) are mixed and heat-treated to produce the first heat-treated powder made of the BaTiO 3 -based composition. 1 heat treatment powder preparation step and an alkali metal compound containing an alkali metal M1 (Na, Li), Bi compound, Ba compound, Ti compound and Ba compound are mixed and heat-treated, and the general formula (M1, Bi) 1 -x Ba x TiO 3 (where x is 0.025 ≦ x ≦ 0.15), a second heat-treated powder production step for producing the second heat-treated powder, the first heat-treated powder and the second The heat treatment powder is then mixed and molded to form a molded body, and a firing step of firing the molded body. Therefore, the lattice constant of the crystal lattice of the second heat treated powder is increased in advance. Possible to It becomes. That is, the difference in the lattice constant of the crystal lattice from the first heat-treated powder can be reduced, and the first heat-treated powder and the second heat-treated powder can be smoothly dissolved in the firing step. . As a result, high resistance can be avoided and a semiconductor ceramic with improved reliability can be manufactured.
図1は本発明に係るPTCサーミスタの一実施の形態を模式的に示した斜視図である。 FIG. 1 is a perspective view schematically showing an embodiment of a PTC thermistor according to the present invention.
すなわち、このPTCサーミスタは、部品素体1と、該部品素体1の両主面(両端部)に形成された一対の外部電極2a、2bとを備え、上記部品素体1が本発明の半導体セラミックで形成されている。外部電極2a、2bは、Cu、Ni、Al、Cr、Ag、Ni−Cr合金、Ni−Cu等の導電性材料からなる一層構造又は多層構造で形成されている。
That is, this PTC thermistor includes a
このように上記PTCサーミスタは、本発明の製造方法で製造された半導体セラミックで形成されているので、高抵抗化することもなく良好な信頼性を有するPTCサーミスタを得ることができる。 Thus, since the PTC thermistor is formed of the semiconductor ceramic manufactured by the manufacturing method of the present invention, a PTC thermistor having good reliability can be obtained without increasing the resistance.
尚、本発明は上記実施の形態に限定されるものではない。例えば、上記半導体セラミックでは、BaTiO3を主成分とし、Baの一部が少なくともアルカリ金属及びBiで置換されていればよく、要求されるPTC特性に応じBaの一部をCaやSrと置換するのも好ましい。また、半導体セラミック中に不可避不純物が混入しても特性に影響を与えるものではない。例えば、湿式での混合粉砕時に粉砕媒体に使用するPSZボールが、全体で0.2〜0.3重量%程度混入するおそれがあるが、特性に影響を与えるものではない。同様にセラミック素原料中に10重量ppm程度の微量のFe、Si、Cuが混入するおそれがあるが、特性に影響を与えるものではない。また、本発明の半導体セラミックは、非鉛系であるが、〔課題を解決するための手段〕の項でも述べたように、Pbを実質的に含まなければよく、特性に影響を与えない範囲で不可避的に10重量ppm以下の範囲で混入する程度のPbまでも排除するものではない。 The present invention is not limited to the above embodiment. For example, in the above-described semiconductor ceramic, it is only necessary that BaTiO 3 is a main component and a part of Ba is replaced with at least an alkali metal and Bi, and a part of Ba is replaced with Ca or Sr according to required PTC characteristics. It is also preferable. Further, even if inevitable impurities are mixed in the semiconductor ceramic, the characteristics are not affected. For example, there is a possibility that PSZ balls used as a grinding medium at the time of wet mixing and grinding may be mixed by about 0.2 to 0.3% by weight, but this does not affect the characteristics. Similarly, trace amounts of Fe, Si, and Cu of about 10 ppm by weight may be mixed in the ceramic raw material, but this does not affect the characteristics. Further, the semiconductor ceramic of the present invention is lead-free, but as described in the section of [Means for Solving the Problems], it should be substantially free of Pb and does not affect the characteristics. However, it does not exclude even Pb that is inevitably mixed in the range of 10 ppm by weight or less.
また、PTCサーミスタの外観形状も限定されるものではなく、任意の形状を使用することが可能である。 Further, the external shape of the PTC thermistor is not limited, and any shape can be used.
次に、本発明の実施例を具体的に説明する。 Next, examples of the present invention will be specifically described.
セラミック素原料としてBaCO3、CaCO3、SrCO3、TiO2、及びY2O3を用意し、これらセラミック素原料を所定量秤量し、調合して混合粉末を得た。 BaCO 3 , CaCO 3 , SrCO 3 , TiO 2 , and Y 2 O 3 were prepared as ceramic raw materials, and a predetermined amount of these ceramic raw materials were weighed and mixed to obtain a mixed powder.
次に、有機溶剤としてのエタノールと、高分子型の分散剤(無水マレイン酸とエチレンオキサイド・プロピレンオキサイドの誘導体)を混合粉末に加え、PSZボールと共に、ボールミル内で24時間湿式で混合粉砕し、その後エタノールを乾燥させ、目開き300μmのメッシュで整粒した。続いて800〜1000℃の温度範囲で2時間熱処理し、第1の熱処理粉を作製した。 Next, ethanol as an organic solvent and a polymer-type dispersant (maleic anhydride and ethylene oxide / propylene oxide derivative) are added to the mixed powder, and mixed and pulverized in a ball mill for 24 hours together with PSZ balls, Thereafter, ethanol was dried, and sized with a mesh having an opening of 300 μm. Then, it heat-processed for 2 hours in the temperature range of 800-1000 degreeC, and produced the 1st heat processing powder.
次に、セラミック素原料としてBaCO3、Na2CO3、Bi2O3、及びTiO2を用意し、熱処理後の組成が表1となるように、これらを秤量し、調合して混合粉末を得た。 Next, BaCO 3 , Na 2 CO 3 , Bi 2 O 3 , and TiO 2 are prepared as ceramic raw materials, and these are weighed and mixed so that the composition after heat treatment is as shown in Table 1, and mixed powder is prepared. Obtained.
次に、有機溶剤としてのエタノールと、高分子型の分散剤(無水マレイン酸とエチレンオキサイド・プロピレンオキサイドの誘導体)を混合粉末に加え、PSZボールと共に、ボールミル内で24時間湿式で混合粉砕し、その後エタノールを乾燥させ、目開き300μmのメッシュで整粒した。続いて700〜900℃の温度範囲で2時間熱処理し、(Na,Bi)1-xBaxTiO3からなる第2の熱処理粉を作製した。 Next, ethanol as an organic solvent and a polymer-type dispersant (maleic anhydride and ethylene oxide / propylene oxide derivative) are added to the mixed powder, and mixed and pulverized in a ball mill for 24 hours together with PSZ balls, Thereafter, ethanol was dried, and sized with a mesh having an opening of 300 μm. Followed by heat treatment for 2 hours at a temperature range of 700 to 900 ° C., to produce a second heat treatment powder composed of (Na, Bi) 1-x Ba x TiO 3.
次に、第1の熱処理粉及び第2の熱処理粉を混合し、酢酸ビニル系の有機バインダー、Mn3O4ゾル、上記分散剤、及び純水を加え、再び、PSZボールと共にボールミルで16時間湿式で混合粉砕し、粉砕後のスラリーを乾燥させ、目開き300μmのメッシュを用いて整粒し、原料粉末を作製した。尚、Mn3O4ゾルは、主成分1モル部に対しMn換算で0.00025モル部となるように仮焼粉に秤量して添加した。 Next, the first heat-treated powder and the second heat-treated powder are mixed, a vinyl acetate organic binder, Mn 3 O 4 sol, the above dispersant, and pure water are added, and again with a PSZ ball for 16 hours in a ball mill. The mixture was pulverized in a wet manner, and the pulverized slurry was dried and sized using a mesh having an opening of 300 μm to prepare a raw material powder. The Mn 3 O 4 sol was weighed and added to the calcined powder so as to be 0.00025 mol part in terms of Mn with respect to 1 mol part of the main component.
そして、この原料粉末を一軸プレスで98MPaの圧力を負荷して成形し、成形体を得た。 And this raw material powder was shape | molded by applying the pressure of 98 Mpa by uniaxial press, and the molded object was obtained.
次いで、この成形体を大気中、600℃の温度で2時間脱バインダ処理し、酸素濃度10000体積ppmの窒素雰囲気中、最高焼成温度1400℃で2時間焼成し、主成分組成が一般式[Ba1-u-v-w-z{(Na,Bi)uCavSrwYz}TiO3]で表わされる試料番号1〜9の部品素体を得た。 Next, the molded body was treated to remove the binder for 2 hours at a temperature of 600 ° C. in the atmosphere, and then fired for 2 hours at a maximum firing temperature of 1400 ° C. in a nitrogen atmosphere having an oxygen concentration of 10,000 ppm by volume. 1-uvwz {(Na, Bi ) u Ca v Sr w Y z} to obtain a component element of sample No. 1-9 represented by TiO 3].
次いで、この部品素体をラップ研磨し、次いで、乾式めっきを施し、NiCr/NiCu/Agの三層構造の外部電極を形成し、これにより直径12mm、厚み2.0mmの試料番号1〜9の試料を作製した。
Next, this component body is lapped and then dry-plated to form an external electrode having a three-layer structure of NiCr / NiCu / Ag, whereby
次いで、試料番号1〜9の各試料について、直流四端子法を使用し、温度25℃で0.1Vの電圧を印加し、比抵抗ρ0を測定した。
Next, for each sample of
また、通電試験を行い、信頼性を評価した。すなわち、各試料について13Vの直流電圧を印加し、1000時間放置した。そして試験前の抵抗変化率ρ0と試験後の抵抗変化率ρ1とを温度25℃で測定し、その差Δρ(=ρ1−ρ0)を求め、抵抗変化率△ρ/ρ0を算出した。このようにして通電試験を各試料10個ずつ行い、抵抗変化率△ρ/ρ0の平均値を算出し、信頼性を評価した。 In addition, an energization test was performed to evaluate reliability. That is, a DC voltage of 13 V was applied to each sample and left for 1000 hours. Then, the resistance change rate ρ 0 before the test and the resistance change rate ρ 1 after the test are measured at a temperature of 25 ° C., the difference Δρ (= ρ 1 −ρ 0 ) is obtained, and the resistance change rate Δρ / ρ 0 is obtained. Calculated. In this way, ten current samples were conducted for each sample, the average value of the resistance change rate Δρ / ρ 0 was calculated, and the reliability was evaluated.
表1は、試料番号1〜9の各試料の第2の熱処理粉の組成、最終組成の主成分組成、25℃(室温)での比抵抗ρ0、及び抵抗変化率Δρ/ρ0を示している。
Table 1 shows the composition of the second heat-treated powder, the main component composition of the final composition, the specific resistance ρ 0 at 25 ° C. (room temperature), and the resistance change rate Δρ / ρ 0 for each sample of
尚、主成分組成は、誘導結合プラズマ発光分光分析法(ICP−AES)で組成分析した。また、比抵抗ρ0は15Ω・cm未満、抵抗変化率△ρ/ρ0は10%未満を良品と判断した。 The main component composition was analyzed by inductively coupled plasma emission spectroscopy (ICP-AES). The specific resistance ρ 0 was determined to be less than 15 Ω · cm, and the resistance change rate Δρ / ρ 0 was determined to be less than 10%.
試料番号1は、比抵抗ρ0が22.1Ω・cmと高抵抗化し、抵抗変化率ρ/ρ0も38.2%と信頼性に劣ることが分かった。これは第2の熱処理粉中にBaが含有されていないため、第1の熱処理粉末との間で固溶が円滑に進まず、高抵抗化し、信頼性を損なうことになったものと思われる。 Sample No. 1 was found to have a high specific resistance ρ 0 of 22.1 Ω · cm and a resistance change rate ρ / ρ 0 of 38.2%, which is inferior in reliability. This is because Ba is not contained in the second heat-treated powder, so solid solution does not proceed smoothly with the first heat-treated powder, and it seems that the resistance is increased and the reliability is impaired. .
試料番号2は、(Na,Bi)の一部をBaで置換しているものの、Baの置換モル比xが0.01と少ないため、比抵抗ρ0が17.3Ω・cmと高抵抗化し、抵抗変化率ρ/ρ0も14.3%と信頼性に劣ることが分かった。 Sample No. 2 has a part of (Na, Bi) substituted with Ba, but since the substitution molar ratio x of Ba is as small as 0.01, the resistivity ρ 0 is increased to 17.3 Ω · cm. The resistance change rate ρ / ρ 0 was found to be inferior in reliability at 14.3%.
一方、試料番号8、9は、Baの置換モル比xがそれぞれ0.20、0.40と大き過ぎるため、未反応のBaが増量し、比抵抗ρ0は15.0Ω・cmを超えて高抵抗化し、また抵抗変化率Δρ/ρ0も10%を超えて信頼性を損なうことが分かった。 On the other hand, in Sample Nos. 8 and 9, since the substitution molar ratio x of Ba was too large, 0.20 and 0.40, respectively, the amount of unreacted Ba increased and the specific resistance ρ 0 exceeded 15.0 Ω · cm. It was found that the resistance was increased, and the resistance change rate Δρ / ρ 0 exceeded 10% and the reliability was impaired.
これに対し試料番号3〜7は、Baの置換モル比xがそれぞれ0.025〜0.15と本発明範囲内であるので、比抵抗ρ0は15Ω・cm未満となって高抵抗化を回避でき、また抵抗変化率△ρ/ρ0も10%未満となって信頼性が向上することが分かった。 On the other hand, in the sample numbers 3 to 7, since the substitution molar ratio x of Ba is 0.025 to 0.15, which is within the range of the present invention, the specific resistance ρ 0 is less than 15 Ω · cm and the resistance is increased. It can be avoided, and the resistance change rate Δρ / ρ 0 is also less than 10%, and the reliability is improved.
図2はBaの置換モル比xと比抵抗ρ0及び抵抗変化率ρ/ρ0の関係を示す図であり、横軸がBaの置換モル比x、左縦軸が比抵抗ρ0(Ω・cm)、右縦軸が抵抗変化率ρ/ρ0(%)である。図中、(a)が置換モル比−比抵抗、(b)が置換モル比−抵抗変化率の関係を示している。 FIG. 2 is a graph showing the relationship between the substitution molar ratio x of Ba, the specific resistance ρ 0, and the resistance change rate ρ / ρ 0. The horizontal axis represents the substitution molar ratio x of Ba, and the left vertical axis represents the specific resistance ρ 0 (Ω Cm) and the vertical axis on the right is the resistance change rate ρ / ρ 0 (%). In the figure, (a) shows the relationship of substitution molar ratio-specific resistance, and (b) shows the relation of substitution molar ratio-resistance change rate.
この図2から明らかなように、置換モル比xに対し、比抵抗ρ0及び抵抗変化率ρ/ρ0は同様の変動傾向を有している。そして、比抵抗ρ0及び抵抗変化率ρ/ρ0は、置換モル比xが0.025〜0.075の範囲で特に低く、好ましいことが分かった。 As is apparent from FIG. 2, the specific resistance ρ 0 and the resistance change rate ρ / ρ 0 have the same variation tendency with respect to the substitution molar ratio x. And it turned out that specific resistance (rho) 0 and resistance change rate (rho) / (rho) 0 are especially preferable in the range whose substitution molar ratio x is 0.025-0.075.
主成分中のCa、Srの含有モル量v、wを異ならせた以外は、〔実施例1〕と同様の方法・手順で、試料番号11〜16の試料を作製した。 Samples Nos. 11 to 16 were prepared by the same method and procedure as in [Example 1] except that the molar amounts v and w of Ca and Sr in the main component were changed.
次いで、試料番号11〜16の各試料について、〔実施例1〕と同様の方法・手順で、温度25℃(室温)での比抵抗ρ0、及び抵抗変化率Δρ/ρ0を求めた。 Next, for each of the samples Nos. 11 to 16, the specific resistance ρ 0 and the resistance change rate Δρ / ρ 0 at a temperature of 25 ° C. (room temperature) were obtained by the same method and procedure as in [Example 1].
表2は、試料番号11〜16の各試料の第2の熱処理粉の組成、主成分組成、25℃(室温)での比抵抗ρ0、及び抵抗変化率Δρ/ρ0を示している。 Table 2 shows the composition of the second heat-treated powder, the main component composition, the specific resistance ρ 0 at 25 ° C. (room temperature), and the resistance change rate Δρ / ρ 0 for each sample of sample numbers 11-16.
尚、〔実施例1〕と同様、主成分組成は、誘導結合プラズマ発光分光分析法(ICP−AES)で組成分析し、比抵抗ρ0は15Ω・cm未満、抵抗変化率△ρ/ρ0は10%未満を良品と判断した。 As in [Example 1], the main component composition was analyzed by inductively coupled plasma emission spectroscopy (ICP-AES), the specific resistance ρ 0 was less than 15 Ω · cm, and the resistance change rate Δρ / ρ 0 Judged less than 10% to be good.
この表2から明らかなようにCaの置換モル比vが0.05〜0.20、Srの置換モル比wが0.02〜0.10の範囲で比抵抗ρ0、及び抵抗変化率Δρ/ρ0は良好な結果を得ており、Baの一部をCa及び/又はSrで置換した場合も同様の作用効果が得られることが確認された。 As is apparent from Table 2, the specific resistance ρ 0 and the resistance change rate Δρ are within the range where the Ca substitution molar ratio v is 0.05 to 0.20 and the Sr substitution molar ratio w is 0.02 to 0.10. / Ρ 0 has obtained good results, and it has been confirmed that the same effect can be obtained when a part of Ba is substituted with Ca and / or Sr.
Ba(Na,Bi)TiO3系のPTCサーミスタにおいて、高抵抗化を招くことなく信頼性を向上させることができる。特に車載向けヒータ等の高温用途に有用である。 In the Ba (Na, Bi) TiO 3 PTC thermistor, the reliability can be improved without causing an increase in resistance. It is particularly useful for high temperature applications such as in-vehicle heaters.
1 部品素体
2a、2b 外部電極
1
Claims (7)
少なくともBa化合物及びTi化合物を混合して熱処理し、BaTiO3系組成物からなる第1の熱処理粉を作製する第1の熱処理粉作製工程と、
アルカリ金属Mを含有したアルカリ金属化合物、Bi化合物、Ba化合物、及びTi化合物を混合して熱処理し、一般式(M,Bi)1-xBaxTiO3(ただし、xは0.025≦x≦0.15)で表わされる第2の熱処理粉を作製する第2の熱処理粉作製工程と、
前記第1の熱処理粉と前記第2の熱処理粉とを混合して成形加工し、成形体を作製する成形体作製工程と、
前記成形体を焼成する焼成工程とを含むことを特徴とする半導体セラミックの製造方法。 A method for producing a semiconductor ceramic comprising a BaTiO 3 -based compound as a main component and a part of Ba substituted with an alkali metal and Bi,
A first heat treatment powder preparation step of mixing at least a Ba compound and a Ti compound and heat-treating to produce a first heat treatment powder made of a BaTiO 3 -based composition;
An alkali metal compound containing an alkali metal M, a Bi compound, a Ba compound, and a Ti compound are mixed and heat-treated to obtain a general formula (M, Bi) 1-x Ba x TiO 3 (where x is 0.025 ≦ x ≦ 0.15) a second heat treatment powder production step for producing a second heat treatment powder represented by:
A molded body preparation step of mixing and molding the first heat treated powder and the second heat treated powder to produce a molded body,
And a firing step of firing the molded body.
前記部品素体が、請求項6記載の半導体セラミックで形成されていることを特徴とする正特性サーミスタ。 A positive temperature coefficient thermistor in which external electrodes are formed on both ends of a component body,
A positive temperature coefficient thermistor, wherein the component body is formed of the semiconductor ceramic according to claim 6.
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