JP2012054796A - Mesa type at-cut crystal oscillating piece and crystal device - Google Patents

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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a mesa type AT-cut crystal oscillating piece in which the occurrence of unwanted oscillation is suppressed, degradation of characteristics is prevented and the rate of occurrence of defective products is reduced by setting the thickness of an oscillating part and the thickness of the peripheral part of oscillation to appropriate values.SOLUTION: A mesa type AT-cut crystal oscillating piece (30) has a rectangular excitation part (31), and a peripheral part of excitation (32) formed on the outer periphery of the excitation part and thinner than the excitation part. In the mesa type AT-cut crystal oscillating piece oscillating at 38.4 MHz, the formula (Tm-Ts)/Tm is 0.048 or more to less than 0.2, where Tm is the thickness of the excitation part and Ts is the thickness of the peripheral part of excitation.

Description

本発明は、メサ型のATカット水晶振動片及びこのメサ型のATカット水晶振動片を備える水晶デバイスに関する。   The present invention relates to a mesa-type AT-cut quartz crystal resonator element and a crystal device including the mesa-type AT-cut crystal oscillator piece.

厚み滑り振動片の代表的なものの一つとしてATカット水晶振動片が知られている。このATカット水晶振動片をパッケージ内に収納した水晶デバイスは、各種の電子機器に周波数の基準源として広く採用されている。これらの水晶デバイスは小型化が進んでおり、より効率的に振動エネルギーの閉じ込め効果を得るためにATカット水晶振動片の主面の外周に傾斜領域を設けるベベル加工やコンベックス加工等の曲面加工が施されている。   An AT-cut quartz crystal vibrating piece is known as one of typical thickness-sliding vibrating pieces. A crystal device in which this AT-cut quartz crystal resonator element is housed in a package is widely used as a frequency reference source in various electronic devices. These quartz devices are becoming smaller in size, and in order to obtain a vibration energy confinement effect more efficiently, curved surface processing such as bevel processing or convex processing in which an inclined region is provided on the outer periphery of the main surface of the AT-cut crystal vibrating piece is performed. It has been subjected.

ベベル加工やコンベックス加工等の曲面加工は、特許文献1に開示されるように、一般にバレル研磨法と呼ばれる方法で水晶振動片の外周に傾斜領域を形成している。しかし、最近はウエハ工法によるATカット水晶振動片の作製が進み、曲率加工を行うことが困難になった。そのため、メサ形状(段差形状)加工をATカット水晶振動片に施し、曲率加工の代用としている。   In curved surface processing such as bevel processing or convex processing, as disclosed in Patent Document 1, an inclined region is formed on the outer periphery of a quartz crystal vibrating piece by a method generally called barrel polishing. However, recently, the production of AT-cut quartz crystal vibrating pieces by the wafer method has advanced, and it has become difficult to perform curvature processing. Therefore, mesa-shaped (step-shaped) processing is performed on the AT-cut quartz crystal vibrating piece to substitute for curvature processing.

特開2002−18698号公報Japanese Patent Laid-Open No. 2002-18698

しかしメサ形状のATカット水晶振動片は、振動部で発生する主振動の振動エネルギーと、振動部周囲に形成される振動外周部で発生する不要振動の振動エネルギー等とが混在した状態となり、ATカット水晶振動片の特性を劣化させるという問題があった。   However, the mesa-shaped AT-cut quartz crystal resonator piece is in a state where the vibration energy of the main vibration generated in the vibration part and the vibration energy of unnecessary vibration generated around the vibration outer part formed around the vibration part are mixed. There was a problem of deteriorating the characteristics of the cut quartz crystal vibrating piece.

本発明は、振動部の厚さ及び振動外周部の厚さを適切な値にすることで不要振動の発生が抑えられ、特性の劣化が防がれ、不良品発生率が低減されたメサ型のATカット水晶振動片を提供することを目的とする。   The present invention is a mesa type in which the occurrence of unnecessary vibration is suppressed by suppressing the thickness of the vibration part and the thickness of the vibration outer peripheral part, the deterioration of characteristics is prevented, and the occurrence rate of defective products is reduced. It is an object of the present invention to provide an AT-cut quartz crystal resonator element.

第1観点のメサ型のATカット水晶振動片は、矩形の励振部と、励振部の外周に形成され励振部よりも厚さが薄い励振外周部とを有し、38.4MHzで振動するメサ型のATカット水晶振動片において、振動部の厚さをTm(μm)、励振外周部の厚さをTs(μm)とするとき、式(Tm−Ts)/Tmが0.048以上であり0.2より小さい。   The mesa-type AT-cut quartz crystal resonator element according to the first aspect has a rectangular excitation part and an excitation outer peripheral part formed on the outer periphery of the excitation part and having a thickness smaller than that of the excitation part, and vibrates at 38.4 MHz. Type AT-cut quartz crystal resonator element, when the thickness of the vibration part is Tm (μm) and the thickness of the excitation outer peripheral part is Ts (μm), the formula (Tm−Ts) / Tm is 0.048 or more. Less than 0.2.

第2観点のメサ型のATカット水晶振動片は、第1観点において、励振外周部の周囲を囲み且つ励振外周部を支持する外枠を有する。   In the first aspect, the mesa-type AT-cut quartz crystal resonator element according to the second aspect has an outer frame that surrounds and supports the excitation outer peripheral part.

第3観点の水晶デバイスは、第1観点に記載のメサ型のATカット水晶振動片と、凹部が形成され凹部にメサ型のATカット水晶振動片を収容するベースと、凹部を密閉するリッドと、を備える。   A quartz device according to a third aspect includes a mesa-type AT-cut quartz crystal resonator element according to the first aspect, a base in which a concave portion is formed and a mesa-type AT-cut quartz crystal vibrator piece is accommodated in the concave portion, and a lid that seals the concave portion. .

第4観点の水晶デバイスは、一主面と他主面とを有する第2観点に記載のメサ型のATカット水晶振動片と、外枠の一主面に接合される第1面を有するリッドと、外枠の他主面に接合される第2面を有するベースと、を備える。   A crystal device according to a fourth aspect includes a mesa-type AT-cut quartz crystal resonator element according to the second aspect having one main surface and another main surface, and a lid having a first surface bonded to one main surface of the outer frame. And a base having a second surface joined to the other main surface of the outer frame.

本発明は、振動部の大きさを適切な値にすることで不要振動の発生を抑え、不良品発生率が低減されたメサ型のATカット水晶振動片を提供できる。   The present invention can provide a mesa-type AT-cut crystal vibrating piece in which generation of unnecessary vibration is suppressed by setting the size of the vibration part to an appropriate value, and the defective product generation rate is reduced.

(a)は、水晶デバイス100の斜視図である。 (b)は、水晶デバイス100の断面図である。 (c)は、図1(b)のB−B断面図である。FIG. 3A is a perspective view of the quartz crystal device 100. FIG. FIG. 2B is a cross-sectional view of the crystal device 100. FIG. (C) is BB sectional drawing of FIG.1 (b). (a)は、ATカット水晶振動片30の平面図である。 (b)は、図2(a)のD−D断面図である。FIG. 4A is a plan view of an AT-cut quartz crystal vibrating piece 30. FIG. (B) is DD sectional drawing of Fig.2 (a). (a)は、(Tm−Ts)が2μmである場合のCI値と励振部31のx軸方向の長さMxとの相関を示したグラフである。 (b)は、(Tm−Ts)が4μmである場合のCI値と励振部31のx軸方向の長さMxとの相関を示したグラフである。(A) is a graph showing the correlation between the CI value and the length Mx of the excitation unit 31 in the x-axis direction when (Tm−Ts) is 2 μm. (B) is a graph showing the correlation between the CI value and the length Mx of the excitation unit 31 in the x-axis direction when (Tm−Ts) is 4 μm. (c)は、(Tm−Ts)が6μmである場合のCI値と励振部31のx軸方向の長さMxとの相関を示したグラフである。 (d)は、(Tm−Ts)が8μmである場合のCI値と励振部31のx軸方向の長さMxとの相関を示したグラフである。 (e)は、(Tm−Ts)が10μmである場合のCI値と励振部31のx軸方向の長さMxとの相関を示したグラフである。(C) is a graph showing the correlation between the CI value and the length Mx of the excitation unit 31 in the x-axis direction when (Tm−Ts) is 6 μm. (D) is a graph showing the correlation between the CI value and the length Mx of the excitation unit 31 in the x-axis direction when (Tm−Ts) is 8 μm. (E) is a graph showing the correlation between the CI value and the length Mx of the excitation unit 31 in the x-axis direction when (Tm−Ts) is 10 μm. (a)は、水晶デバイス200の斜視図である。 (b)は、図4(a)のE−E断面図である。(A) is a perspective view of the quartz crystal device 200. FIG. (B) is EE sectional drawing of Fig.4 (a). (a)は、リッド210の平面図である。 (b)は、ATカット水晶振動片230の平面図である。 (c)は、ベース220の平面図である。(A) is a top view of the lid 210. FIG. (B) is a plan view of the AT-cut quartz crystal vibrating piece 230. (C) is a plan view of the base 220.

以下、本発明の実施の形態を図面に基づいて詳細に説明する。なお、本発明の範囲は以下の説明において特に本発明を限定する旨の記載がない限り、これらの形態に限られるものではない。   Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the drawings. It should be noted that the scope of the present invention is not limited to these forms unless otherwise specified in the following description.

(第1実施形態)
<水晶デバイス100の構成>
図1(a)は、水晶デバイス100の斜視図である。水晶デバイス100は、リッド10、ベース20、及びベース20内に載置されているATカット水晶振動片30(図1(b)参照)により構成されている。ATカットの水晶振動片は、主面が人工水晶の結晶軸(XYZ)のY軸に対して、X軸を中心としてZ軸からY軸方向に35度15分傾斜している。このため、水晶デバイス100の長辺方向をx軸方向、水晶デバイス100の短辺方向をz’軸方向、水晶デバイス100の上下方向をy’軸方向として説明する。また本明細書の説明としてy’軸方向の高低を、+方向を高く−方向を低いと表現する。
(First embodiment)
<Configuration of Crystal Device 100>
FIG. 1A is a perspective view of the quartz crystal device 100. The crystal device 100 includes a lid 10, a base 20, and an AT-cut crystal vibrating piece 30 (see FIG. 1B) placed in the base 20. The AT-cut quartz-crystal vibrating piece is inclined at 35 degrees 15 minutes from the Z-axis to the Y-axis around the X-axis with respect to the Y-axis of the crystal axis (XYZ) of the artificial quartz. For this reason, the long side direction of the crystal device 100 will be described as the x-axis direction, the short side direction of the crystal device 100 will be described as the z′-axis direction, and the vertical direction of the crystal device 100 will be described as the y′-axis direction. In the description of the present specification, the height in the y′-axis direction is expressed as the + direction being high and the − direction being low.

ベース20は、内側にキャビティ24(図1(b)参照)が形成されており、キャビティ24にはATカット水晶振動片30が載置されている。また、ベース20の底面には外部電極21が形成されている。リッド10は、キャビティ24を密封するようにベース20の+y’軸側に配置されている。リッド10は、セラミックス、ガラス、水晶又は金属等の材料により形成される。また、ベース20は、セラミックス、ガラス又は水晶等により形成される。   The base 20 has a cavity 24 (see FIG. 1B) formed inside, and an AT-cut quartz crystal vibrating piece 30 is placed in the cavity 24. An external electrode 21 is formed on the bottom surface of the base 20. The lid 10 is disposed on the + y ′ axis side of the base 20 so as to seal the cavity 24. The lid 10 is formed of a material such as ceramic, glass, crystal, or metal. The base 20 is made of ceramics, glass, crystal, or the like.

図1(b)は、水晶デバイス100の断面図である。図1(b)は、図1(a)のA−A又は後述する図1(c)のC−Cの断面図になっている。ベース20には凹部が形成されることによりキャビティ24が形成される。キャビティ24の下部には接続電極22が形成されており、接続電極22は、導通部(不図示)を通じて外部電極21と電気的に接続されている。ATカット水晶振動片30には、励振部31と励振部31の外周に形成されている励振外周部32とが形成されている。励振外周部32は励振部31よりも厚さが薄く形成されている。励振部31の上下の主面には励振電極33が形成されている。また励振外周部32には引出電極34が形成されており、この引出電極34は励振電極33と電気的に接続される。励振電極33及び引出電極34は、水晶の表面にクロム(Cr)層が形成され、クロム層の表面に金(Au)層を形成することにより作られている。また、引出電極34は導電性接着剤41を通して接続電極22と電気的に接続される。そのため、励振電極33は外部電極21と電気的に接続されることになる。   FIG. 1B is a cross-sectional view of the quartz crystal device 100. FIG. 1B is a cross-sectional view taken along line AA in FIG. 1A or CC in FIG. 1C described later. A cavity 24 is formed in the base 20 by forming a recess. A connection electrode 22 is formed below the cavity 24, and the connection electrode 22 is electrically connected to the external electrode 21 through a conduction portion (not shown). The AT cut quartz crystal vibrating piece 30 is formed with an excitation part 31 and an excitation outer peripheral part 32 formed on the outer periphery of the excitation part 31. The excitation outer peripheral portion 32 is formed thinner than the excitation portion 31. Excitation electrodes 33 are formed on the upper and lower main surfaces of the excitation unit 31. An extraction electrode 34 is formed on the excitation outer peripheral portion 32, and the extraction electrode 34 is electrically connected to the excitation electrode 33. The excitation electrode 33 and the extraction electrode 34 are made by forming a chromium (Cr) layer on the surface of quartz and forming a gold (Au) layer on the surface of the chromium layer. The extraction electrode 34 is electrically connected to the connection electrode 22 through the conductive adhesive 41. For this reason, the excitation electrode 33 is electrically connected to the external electrode 21.

図1(c)は、図1(b)のB−B断面図である。ベース20にはキャビティ24に2つの接続電極22が形成されている。一方の接続電極22はATカット水晶振動片30の励振部31の上面に形成されている励振電極33と電気的に接続されており、他方の接続電極22は励振部31の下面に形成されている励振電極33と電気的に接続されている。   FIG.1 (c) is BB sectional drawing of FIG.1 (b). In the base 20, two connection electrodes 22 are formed in the cavity 24. One connection electrode 22 is electrically connected to the excitation electrode 33 formed on the upper surface of the excitation unit 31 of the AT-cut quartz crystal vibrating piece 30, and the other connection electrode 22 is formed on the lower surface of the excitation unit 31. The excitation electrode 33 is electrically connected.

図2(a)はATカット水晶振動片30の平面図である。ATカット水晶振動片30のx軸方向は、水晶の結晶軸のX軸方向に一致している。また、ATカット水晶振動片30のz’軸方向は、水晶の結晶軸のX軸方向を中心としてZ軸からY軸方向に35度15分傾斜した方向と一致している。ATカット水晶振動片30の外形のx軸方向の長さGxは例えば990μmであり、ATカット水晶振動片30の外形のz’軸方向の長さGzは例えば668μmである。また、励振部31のx軸方向の長さをMx、z’軸方向の長さをMzとする。   FIG. 2A is a plan view of the AT-cut quartz crystal vibrating piece 30. The x-axis direction of the AT-cut quartz crystal vibrating piece 30 coincides with the X-axis direction of the crystal axis of the quartz crystal. Further, the z′-axis direction of the AT-cut quartz crystal vibrating piece 30 coincides with a direction inclined by 35 degrees and 15 minutes from the Z-axis to the Y-axis direction with the X-axis direction of the crystal axis of the crystal as the center. The length Gx in the x-axis direction of the outer shape of the AT-cut crystal vibrating piece 30 is, for example, 990 μm, and the length Gz in the z′-axis direction of the outer shape of the AT-cut crystal vibrating piece 30 is, for example, 668 μm. The length of the excitation unit 31 in the x-axis direction is Mx, and the length in the z′-axis direction is Mz.

図2(b)は、図2(a)のD−D断面図である。ATカット水晶振動片30の励振外周部32の厚さをTs、励振部31の厚さをTm、励振部31と励振外周部32との段差の高さをhとする。励振部31と励振外周部32との段差はATカット水晶振動片30の+y’軸側の面と−y’軸側の面とに形成されており、どちらの段差の高さも同じ高さに形成されている。また、段差の高さhは正であり、励振部31の厚さTmは励振外周部32の厚さTsよりも大きい。励振部31の厚さTmは、例えば41.8μmである。   FIG. 2B is a DD cross-sectional view of FIG. The thickness of the excitation outer peripheral portion 32 of the AT-cut crystal vibrating piece 30 is Ts, the thickness of the excitation portion 31 is Tm, and the height of the step between the excitation portion 31 and the excitation outer peripheral portion 32 is h. The step between the excitation portion 31 and the excitation outer peripheral portion 32 is formed on the surface on the + y′-axis side and the surface on the −y′-axis side of the AT-cut quartz crystal vibrating piece 30, and the heights of both steps are the same. Is formed. Further, the height h of the step is positive, and the thickness Tm of the excitation part 31 is larger than the thickness Ts of the excitation outer peripheral part 32. A thickness Tm of the excitation unit 31 is, for example, 41.8 μm.

<励振部31の厚さTm及び励振外周部32の厚さTsに関して>
ATカット水晶振動片30の実際の製造工程では、励振部31の長さMxを精度よく形成することは難しく、励振部31の長さMxの製造誤差許容範囲が狭い場合には製品の不良率が上がる。そのため、励振部31の長さMxは製造誤差許容範囲を広く取ることができる設計とされることが望ましい。この製造許容範囲は、CI(クリスタルインピーダンス)値が低くなる範囲が選択されることによりATカット水晶振動片30に発生する不要振動が抑えられるように決められる。以下、図3A(a)から図3B(e)を参照して励振部31の長さMxの製造誤差許容範囲を広く取ることができる励振外周部32の厚さTs及び励振部31の厚さTmの関係について説明する。
<Regarding the thickness Tm of the excitation portion 31 and the thickness Ts of the excitation outer peripheral portion 32>
In the actual manufacturing process of the AT-cut quartz crystal vibrating piece 30, it is difficult to accurately form the length Mx of the excitation unit 31, and if the manufacturing error allowable range of the length Mx of the excitation unit 31 is narrow, the product defect rate Goes up. For this reason, it is desirable that the length Mx of the excitation unit 31 is designed so as to allow a wide manufacturing error allowable range. This allowable manufacturing range is determined so that unnecessary vibration generated in the AT-cut quartz crystal vibrating piece 30 can be suppressed by selecting a range in which the CI (crystal impedance) value is low. Hereinafter, with reference to FIG. 3A (a) to FIG. 3B (e), the thickness Ts of the excitation outer peripheral portion 32 and the thickness of the excitation portion 31 that can take a wide manufacturing error allowable range of the length Mx of the excitation portion 31. The relationship of Tm will be described.

図3A(a)は、(Tm−Ts)が2μmである場合のCI値と励振部31のx軸方向の長さMxとの相関を示したグラフである。(Tm−Ts)が2μmである場合は段差の高さhが1μmである場合に相当する。また、励振部31の厚さTmが41.8μmである時に、励振外周部32の厚さTsは39.8μmとなる。図3A(a)の横軸は励振部31のx軸方向の長さMx(μm)を示し、縦軸はCI値を示している。   FIG. 3A (a) is a graph showing the correlation between the CI value and the length Mx of the excitation unit 31 in the x-axis direction when (Tm−Ts) is 2 μm. The case where (Tm−Ts) is 2 μm corresponds to the case where the height h of the step is 1 μm. Further, when the thickness Tm of the excitation part 31 is 41.8 μm, the thickness Ts of the excitation outer peripheral part 32 is 39.8 μm. The horizontal axis of FIG. 3A (a) shows the length Mx (micrometer) of the excitation part 31 in the x-axis direction, and the vertical axis | shaft has shown CI value.

図3A(a)中の黒い菱形は、振動周波数が38.4MHz、(Tm−Ts)が2μmの条件における実験値を示している。実験は1つの長さMxの値に対して複数のATカット水晶振動片30が作製され、それぞれのATカット水晶振動片30に対してCI値が求められている。図中の一点鎖線は、各長さMxの値におけるCI値の最高値と最低値との中間値を線分で結んでいる。以下、長さMxの製造誤差許容範囲を考慮するための目安として、CI値の最高値と最低値との中間値が80Ω以下となる長さMxの範囲をグラフより推測する。図3A(a)では、長さMxが約723μmより小さい時に中間値が80Ωより低くなっている。グラフからはCI値の中間値が80Ω以下になる長さMxの幅A1を求めることはできない。また、この時の(Tm−Ts)とTmとの比(Tm−Ts)/Tmは0.048となる。   The black rhombus in FIG. 3A (a) has shown the experimental value in the conditions whose vibration frequency is 38.4 MHz and (Tm-Ts) is 2 micrometers. In the experiment, a plurality of AT cut quartz crystal vibrating pieces 30 are produced for one length Mx value, and a CI value is obtained for each AT cut quartz crystal vibrating piece 30. An alternate long and short dash line in the figure connects an intermediate value between the maximum value and the minimum value of the CI values at each length Mx with a line segment. Hereinafter, as a guide for considering the manufacturing error allowable range of the length Mx, a range of the length Mx in which an intermediate value between the maximum value and the minimum value of the CI value is 80Ω or less is estimated from the graph. In FIG. 3A (a), the intermediate value is lower than 80Ω when the length Mx is smaller than about 723 μm. From the graph, the width A1 of the length Mx where the intermediate value of the CI values is 80Ω or less cannot be obtained. At this time, the ratio (Tm−Ts) / Tm of (Tm−Ts) to Tm is 0.048.

図3A(b)は、(Tm−Ts)が4μmである場合のCI値と励振部31のx軸方向の長さMxとの相関を示したグラフである。図3A(b)中の黒い菱形は、振動周波数が38.4MHz、(Tm−Ts)が4μmの条件における実験値を示している。(Tm−Ts)が4μmである場合は段差の高さhが2μmである場合に相当する。また、励振外周部32の厚さTsは37.8μmとなる。段差の高さh以外は図3A(a)と同様であるのでその説明を省略する。図3A(b)では、長さMxが約714μmから約731μmの間でATカット水晶振動片30のCI値の最高値と最低値との中間値が80Ω以下になると思われる。そのため、このCI値の中間値が80Ω以下になる長さMxの幅A2は約17μmと推測される。また、この時の(Tm−Ts)とTmとの比(Tm−Ts)/Tmは0.096となる。   FIG. 3A (b) is a graph showing the correlation between the CI value and the length Mx of the excitation unit 31 in the x-axis direction when (Tm−Ts) is 4 μm. Black rhombuses in FIG. 3A (b) indicate experimental values under conditions where the vibration frequency is 38.4 MHz and (Tm−Ts) is 4 μm. The case where (Tm−Ts) is 4 μm corresponds to the case where the height h of the step is 2 μm. Further, the thickness Ts of the excitation outer peripheral portion 32 is 37.8 μm. Except for the height h of the step, it is the same as FIG. In FIG. 3A (b), it is considered that the intermediate value between the maximum value and the minimum value of the CI value of the AT-cut quartz-crystal vibrating piece 30 is 80Ω or less when the length Mx is between about 714 μm and about 731 μm. Therefore, the width A2 of the length Mx at which the intermediate value of the CI value is 80Ω or less is estimated to be about 17 μm. At this time, the ratio (Tm−Ts) / Tm of (Tm−Ts) to Tm is 0.096.

図3B(c)は、(Tm−Ts)が6μmである場合のCI値と励振部31のx軸方向の長さMxとの相関を示したグラフである。図3B(c)中の黒い菱形は、振動周波数が38.4MHz、(Tm−Ts)が6μmの条件における実験値を示している。(Tm−Ts)が6μmである場合は段差の高さhが3μmである場合に相当する。また、励振外周部32の厚さTsは35.8μmとなる。段差の高さh以外は図3A(a)と同様であるのでその説明を省略する。図3B(c)では、長さMxが約723μmから約736μmの間でATカット水晶振動片30のCI値の最高値と最低値との中間値が80Ω以下になると思われる。そのため、このCI値の中間値が80Ω以下になるMxの幅A3は約13μmと推測される。また、この時の(Tm−Ts)とTmとの比(Tm−Ts)/Tmは0.14となる。   FIG. 3B (c) is a graph showing the correlation between the CI value and the length Mx of the excitation unit 31 in the x-axis direction when (Tm−Ts) is 6 μm. Black diamonds in FIG. 3B (c) indicate experimental values under conditions where the vibration frequency is 38.4 MHz and (Tm−Ts) is 6 μm. The case where (Tm−Ts) is 6 μm corresponds to the case where the height h of the step is 3 μm. Further, the thickness Ts of the excitation outer peripheral portion 32 is 35.8 μm. Except for the height h of the step, the description is omitted because it is the same as FIG. 3A (a). In FIG. 3B (c), it is considered that the intermediate value between the maximum value and the minimum value of the CI value of the AT-cut quartz-crystal vibrating piece 30 is 80Ω or less when the length Mx is between about 723 μm and about 736 μm. Therefore, the width A3 of Mx at which the intermediate value of the CI value is 80Ω or less is estimated to be about 13 μm. At this time, the ratio (Tm−Ts) / Tm of (Tm−Ts) to Tm is 0.14.

図3B(d)は、(Tm−Ts)が8μmである場合のCI値と励振部31のx軸方向の長さMxとの相関を示したグラフである。図3B(d)中の黒い菱形は、振動周波数が38.4MHz、(Tm−Ts)が8μmの条件における実験値を示している。(Tm−Ts)が8μmである場合は段差の高さhが4μmである場合に相当する。また、励振外周部32の厚さTsは33.8μmとなる。段差の高さh以外は図3A(a)と同様であるのでその説明を省略する。図3B(d)では、長さMxが約724μmから約735μmの間でATカット水晶振動片30のCI値の最高値と最低値との中間値が80Ω以下になると思われる。そのため、このCI値の中間値が723Ω以下になるMxの幅A4は約11μmと推測される。また、この時の(Tm−Ts)とTmとの比(Tm−Ts)/Tmは0.19となる。   FIG. 3B (d) is a graph showing the correlation between the CI value and the length Mx of the excitation unit 31 in the x-axis direction when (Tm−Ts) is 8 μm. Black diamonds in FIG. 3B (d) indicate experimental values under conditions where the vibration frequency is 38.4 MHz and (Tm−Ts) is 8 μm. The case where (Tm−Ts) is 8 μm corresponds to the case where the height h of the step is 4 μm. Further, the thickness Ts of the excitation outer peripheral portion 32 is 33.8 μm. Except for the height h of the step, it is the same as FIG. In FIG. 3B (d), when the length Mx is between about 724 μm and about 735 μm, the intermediate value between the maximum value and the minimum value of the CI value of the AT-cut quartz crystal vibrating piece 30 seems to be 80Ω or less. For this reason, the width A4 of Mx at which the intermediate value of the CI value is 723Ω or less is estimated to be about 11 μm. At this time, the ratio (Tm−Ts) / Tm of (Tm−Ts) to Tm is 0.19.

図3B(e)は、(Tm−Ts)が10μmである場合のCI値と励振部31のx軸方向の長さMxとの相関を示したグラフである。図3B(e)中の黒い菱形は、振動周波数が38.4MHz、(Tm−Ts)が10μmの条件における実験値を示している。(Tm−Ts)が10μmである場合は段差の高さhが5μmである場合に相当する。また、励振外周部32の厚さTsは31.8μmとなる。段差の高さh以外は図3A(a)と同様であるのでその説明を省略する。図3B(e)では、長さMxが約729μmから約735μmの間でATカット水晶振動片30のCI値の最高値と最低値との中間値が80Ω以下になると思われる。そのため、このCI値の中間値が80Ω以下になる長さMxの幅A5は約6μmと推測される。また、この時の(Tm−Ts)とTmとの比(Tm−Ts)/Tmは0.24となる。   FIG. 3B (e) is a graph showing the correlation between the CI value and the length Mx of the excitation unit 31 in the x-axis direction when (Tm−Ts) is 10 μm. Black rhombuses in FIG. 3B (e) indicate experimental values under conditions where the vibration frequency is 38.4 MHz and (Tm−Ts) is 10 μm. The case where (Tm−Ts) is 10 μm corresponds to the case where the height h of the step is 5 μm. Further, the thickness Ts of the excitation outer peripheral portion 32 is 31.8 μm. Except for the height h of the step, the description is omitted because it is the same as FIG. 3A (a). In FIG. 3B (e), it is considered that the intermediate value between the maximum value and the minimum value of the CI value of the AT-cut quartz-crystal vibrating piece 30 is 80Ω or less when the length Mx is between about 729 μm and about 735 μm. Therefore, the width A5 of the length Mx at which the intermediate value of the CI value is 80Ω or less is estimated to be about 6 μm. At this time, the ratio (Tm−Ts) / Tm of (Tm−Ts) to Tm is 0.24.

製品の不良発生率を下げるためには長さMxの製造許容範囲は10μm以上であることが好ましく、ATカット水晶振動片30が搭載された水晶発振器の諸特性に影響を及ぼさない状態にするには、CI値を80Ω以下とすることが好ましい。図3A(a)から図3B(e)における幅A1から幅A5の中で10μm以上となるのは(Tm−Ts)が4μmから8μmの場合である。この時、(Tm−Ts)とTmとの比(Tm−Ts)/Tmは、0.096から0.19である。また、図3A(a)は、幅A1は不明であるものの、幅A2から幅A5では(Tm−Ts)が小さくなるに従ってその値は大きくなっており、幅A1も10μm以上であると推測される。従って、(Tm−Ts)/Tmは、0.048以上であれば良いと考えられる。   In order to reduce the defect occurrence rate of the product, it is preferable that the manufacturing tolerance range of the length Mx is 10 μm or more, so that the characteristics of the crystal oscillator on which the AT-cut crystal resonator element 30 is mounted are not affected. Preferably has a CI value of 80Ω or less. 3A (a) to 3B (e), the width A1 to the width A5 is 10 μm or more when (Tm−Ts) is 4 μm to 8 μm. At this time, the ratio (Tm−Ts) / Tm of (Tm−Ts) to Tm is 0.096 to 0.19. In FIG. 3A (a), although the width A1 is unknown, the value increases as (Tm−Ts) decreases from the width A2 to the width A5, and the width A1 is estimated to be 10 μm or more. The Therefore, it is considered that (Tm−Ts) / Tm may be 0.048 or more.

また、(Tm−Ts)/Tmの最大値は誤差を考えると概ね0.2よりも小さい値であれば良いと考えられる。すなわち、(Tm−Ts)/Tmは、0.048以上であり0.2より小さい値であることが望ましい。つまり、振動周波数が38.4MHzのATカット水晶振動片30においては、(Tm−Ts)/Tmは、0.048以上であり0.2より小さい値である時に、長さMxの製造誤差許容範囲を広く取ることができ、製品の不良率を下げることができると考えられる。またこの時にATカット水晶振動片30のCI値が下がり、振動部の不要振動の発生が抑えられ、特性の劣化が防止することができる。   Further, it is considered that the maximum value of (Tm−Ts) / Tm may be a value that is generally smaller than 0.2 in view of an error. That is, (Tm−Ts) / Tm is preferably 0.048 or more and smaller than 0.2. That is, in the AT-cut quartz crystal vibrating piece 30 with a vibration frequency of 38.4 MHz, when (Tm−Ts) / Tm is 0.048 or more and a value smaller than 0.2, a manufacturing error of length Mx is allowed. It is considered that the range can be widened and the defect rate of the product can be lowered. At this time, the CI value of the AT-cut crystal vibrating piece 30 is lowered, the occurrence of unnecessary vibration in the vibrating portion is suppressed, and the deterioration of characteristics can be prevented.

(第2実施形態)
ATカット水晶振動片30には外枠が形成されていても良い。以下に、外枠が形成されているATカット水晶振動片を備える水晶デバイス200について説明する。
(Second Embodiment)
An outer frame may be formed on the AT cut quartz crystal vibrating piece 30. Hereinafter, a quartz crystal device 200 including an AT cut quartz crystal vibrating piece in which an outer frame is formed will be described.

<水晶デバイス200の構成>
図4(a)は、水晶デバイス200の斜視図である。水晶デバイス200は、リッド210と、ATカット水晶振動片230と、ベース220とにより構成されている。水晶デバイス200は、上部にリッド210が配置され、下部にベース220が配置され、ATカット水晶振動片230はリッド210とベース220とに挟まれた位置に配置されている。また、ベース220の下面には外部電極221が形成されている。リッド210及びベース220は、ガラス又は水晶等の材料で形成されている。
<Configuration of crystal device 200>
FIG. 4A is a perspective view of the quartz crystal device 200. The quartz crystal device 200 includes a lid 210, an AT cut quartz crystal vibrating piece 230, and a base 220. In the crystal device 200, the lid 210 is disposed at the upper portion, the base 220 is disposed at the lower portion, and the AT-cut quartz crystal vibrating piece 230 is disposed at a position sandwiched between the lid 210 and the base 220. An external electrode 221 is formed on the lower surface of the base 220. The lid 210 and the base 220 are made of a material such as glass or quartz.

図4(b)は、図4(a)のE−E断面図である。ATカット水晶振動片230は、励振部231と励振部231の外周に形成されている励振外周部232とが形成されており、また励振外周部232の周囲を囲むように外枠235が形成されている。励振部231の一主面と他主面とにはそれぞれ励振電極233が形成され、引出電極234は励振電極233から励振外周部232を通り外枠235に形成されている。ATカット振動片230は、一対の励振電極233により電圧が印加されることにより所定の振動数で振動する。リッド210は外枠235の一主面とリッド210の−y’軸側の面に形成されている第1面211において接合され、ベース220は外枠235の他主面とベース220の+y’軸側の面に形成されている第2面223において接合される。また、ベース220の+y’軸側の面には接続電極222が形成されており、接続電極222はATカット水晶振動片230と接合される時に引出電極234と接続される。また、接続電極222は導通部(不図示)を通して外部電極221と電気的に接続されている。   FIG. 4B is an EE cross-sectional view of FIG. The AT cut quartz crystal vibrating piece 230 is formed with an excitation part 231 and an excitation outer peripheral part 232 formed on the outer periphery of the excitation part 231, and an outer frame 235 is formed so as to surround the periphery of the excitation outer peripheral part 232. ing. Excitation electrodes 233 are respectively formed on one main surface and the other main surface of the excitation portion 231, and the extraction electrode 234 is formed on the outer frame 235 from the excitation electrode 233 through the excitation outer peripheral portion 232. The AT cut vibrating piece 230 vibrates at a predetermined frequency when a voltage is applied by the pair of excitation electrodes 233. The lid 210 is joined to one main surface of the outer frame 235 and a first surface 211 formed on the surface of the lid 210 on the −y ′ axis side, and the base 220 is joined to the other main surface of the outer frame 235 and + y ′ of the base 220. It joins in the 2nd surface 223 currently formed in the surface by the side of a shaft. Further, a connection electrode 222 is formed on the surface of the base 220 on the + y′-axis side, and the connection electrode 222 is connected to the extraction electrode 234 when bonded to the AT-cut quartz crystal vibrating piece 230. The connection electrode 222 is electrically connected to the external electrode 221 through a conduction portion (not shown).

ATカット水晶振動片230は、励振部231の厚さがt、励振外周部232の厚さがGyになるように形成されている。励振部231と励振外周部232との段差は+y’軸側の面と−y’軸側の面とに形成されており、その高さはhである。また、ATカット水晶振動片30と同じくATカット水晶振動片230は人工水晶で形成されており、ATカット水晶振動片230の軸方向は、ATカット水晶振動片30の軸方向と同じである。   The AT cut quartz crystal vibrating piece 230 is formed so that the thickness of the excitation part 231 is t and the thickness of the excitation outer peripheral part 232 is Gy. The step between the excitation portion 231 and the excitation outer peripheral portion 232 is formed on the surface on the + y′-axis side and the surface on the −y′-axis side, and the height is h. Similarly to the AT-cut quartz crystal vibrating piece 30, the AT-cut quartz crystal vibrating piece 230 is formed of an artificial crystal, and the axial direction of the AT-cut quartz crystal vibrating piece 230 is the same as the axial direction of the AT-cut quartz crystal vibrating piece 30.

図5(a)は、リッド210の平面図である。リッド210は、x軸方向に長軸、z’軸方向に短軸がある長方形の主面を有している。また、−y’軸側の面の外周部にはATカット水晶振動片230の外枠235に接続されている第1面211が形成されており、中央部には第1面211に囲まれるように凹部212が形成されている。   FIG. 5A is a plan view of the lid 210. The lid 210 has a rectangular main surface with a major axis in the x-axis direction and a minor axis in the z′-axis direction. Further, a first surface 211 connected to the outer frame 235 of the AT-cut quartz crystal vibrating piece 230 is formed on the outer peripheral portion of the surface on the −y ′ axis side, and the first portion 211 is surrounded by the central portion. A recess 212 is formed as described above.

図5(b)は、ATカット水晶振動片230の平面図である。ATカット振動片230と外枠235とは接続腕236により接続されている。外枠235は励振外周部232を接続腕236で支持している。励振部231に形成されている励振電極233から引き出されている引出電極234は、励振外周部232及び接続腕236を通り、外枠235の角まで形成されている。引出電極234は、外枠235の角の接続点237においてベース220に形成されている接続電極222と接続される。接続点237は、図5(b)で点線の楕円で示している外枠235の角の−y’軸側の面に形成されている。ATカット水晶振動片230の励振外周部234のx軸方向の長さGxは例えば990μmであり、ATカット水晶振動片230の励振外周部234のz’軸方向の長さGzは例えば700μmである。また、励振部231のx軸方向の長さをMx、z’軸方向の長さをMzとする。   FIG. 5B is a plan view of the AT-cut quartz crystal vibrating piece 230. The AT cut vibrating piece 230 and the outer frame 235 are connected by a connecting arm 236. The outer frame 235 supports the excitation outer peripheral portion 232 with a connection arm 236. The extraction electrode 234 extracted from the excitation electrode 233 formed in the excitation portion 231 passes through the excitation outer peripheral portion 232 and the connection arm 236 and is formed to the corner of the outer frame 235. The extraction electrode 234 is connected to a connection electrode 222 formed on the base 220 at a corner connection point 237 of the outer frame 235. The connection point 237 is formed on the surface on the −y′-axis side of the corner of the outer frame 235 indicated by a dotted ellipse in FIG. The length Gx in the x-axis direction of the excitation outer peripheral portion 234 of the AT-cut crystal vibrating piece 230 is, for example, 990 μm, and the length Gz in the z′-axis direction of the excitation outer peripheral portion 234 of the AT-cut crystal vibrating piece 230 is, for example, 700 μm. . The length of the excitation unit 231 in the x-axis direction is Mx, and the length in the z′-axis direction is Mz.

図5(c)はベース220の平面図である。ベース220の+y’軸側の面の外周部には、ATカット水晶振動片230の外枠235と接合する面である第2面223が形成されており、第2面223の内側には凹部225が形成されている。ベース220の+y’軸側の面の第2面223の一部にはATカット水晶振動片230の引出電極234の接続点237に電気的に接続する接続電極222が形成されている。   FIG. 5C is a plan view of the base 220. A second surface 223 that is a surface to be joined to the outer frame 235 of the AT-cut crystal vibrating piece 230 is formed on the outer peripheral portion of the surface on the + y′-axis side of the base 220, and a concave portion is formed on the inner side of the second surface 223. 225 is formed. A connection electrode 222 that is electrically connected to the connection point 237 of the extraction electrode 234 of the AT-cut quartz crystal vibrating piece 230 is formed on a part of the second surface 223 on the + y′-axis side surface of the base 220.

ATカット水晶振動片に外枠が形成されていても、励振外周部と外枠とは接続腕で接続されているのみであり、励振外周部で発生する不要振動の振動エネルギーを大きく変化させない。そのため、(Tm−Ts)/Tmは、0.048以上であり0.2より小さい値であることはATカット水晶振動片230にも適用することができる。   Even if the outer frame is formed on the AT-cut crystal vibrating piece, the excitation outer peripheral portion and the outer frame are only connected by the connecting arm, and the vibration energy of unnecessary vibration generated in the excitation outer peripheral portion is not greatly changed. Therefore, the fact that (Tm−Ts) / Tm is 0.048 or more and smaller than 0.2 can also be applied to the AT-cut quartz crystal vibrating piece 230.

以上、本発明の最適な実施形態について詳細に説明したが、当業者に明らかなように、本発明はその技術的範囲内において実施形態に様々な変更・変形を加えて実施することができる。   As described above, the optimal embodiment of the present invention has been described in detail. However, as will be apparent to those skilled in the art, the present invention can be implemented with various modifications and variations within the technical scope thereof.

10、210 … リッド
20、220 … ベース
21、221 … 外部電極
22、222 … 接続電極
24、224 … キャビティ
30、230 … ATカット水晶振動片
31、231 … 励振部
32、232 … 励振外周部
33、233 … 励振電極
34、234 … 引出電極
40 … 封止材
41 … 導電性接着剤
100、200 … 水晶デバイス
211 … 第1面
212、225 … 凹部
223 … 第2面
235 … 外枠
236 … 接続腕
237 … 接続点
10, 210 ... Lid 20, 220 ... Base 21, 221 ... External electrode 22, 222 ... Connection electrode 24, 224 ... Cavity 30, 230 ... AT cut crystal vibrating piece 31, 231 ... Excitation part 32, 232 ... Excitation outer peripheral part 33 233 ... Excitation electrode 34, 234 ... Lead electrode 40 ... Sealing material 41 ... Conductive adhesive 100, 200 ... Quartz device 211 ... First surface 212, 225 ... Recess 223 ... Second surface 235 ... Outer frame 236 ... Connection Arm 237… Connection point

Claims (4)

矩形の励振部と、前記励振部の外周に形成され前記励振部よりも厚さが薄い励振外周部とを有し、38.4MHzで振動するメサ型のATカット水晶振動片において、
前記振動部の厚さをTm(μm)、前記励振外周部の厚さをTs(μm)とするとき、式
(Tm−Ts)/Tm が0.048以上であり0.2より小さいメサ型のATカット水晶振動片。
In a mesa-type AT-cut quartz crystal vibrating piece having a rectangular excitation part and an excitation outer peripheral part formed on the outer periphery of the excitation part and having a thickness smaller than the excitation part, and vibrating at 38.4 MHz,
When the thickness of the vibrating part is Tm (μm) and the thickness of the excitation outer peripheral part is Ts (μm), the formula (Tm−Ts) / Tm is 0.048 or more and is a mesa type smaller than 0.2 AT-cut crystal vibrating piece.
前記励振外周部の周囲を囲み且つ前記励振外周部を支持する外枠を有する請求項1に記載のメサ型のATカット水晶振動片。   The mesa-type AT-cut quartz-crystal vibrating piece according to claim 1, further comprising an outer frame that surrounds the periphery of the excitation outer peripheral portion and supports the excitation outer peripheral portion. 請求項1に記載のメサ型のATカット水晶振動片と、
凹部が形成され前記凹部に前記メサ型のATカット水晶振動片を収容するベースと、
前記凹部を密閉するリッドと、
を備える水晶デバイス。
The mesa-type AT-cut quartz crystal resonator element according to claim 1,
A base in which a concave portion is formed and the mesa-type AT-cut quartz crystal vibrating piece is accommodated in the concave portion;
A lid for sealing the recess;
Quartz device with.
一主面と他主面とを有する請求項2に記載のメサ型のATカット水晶振動片と、
前記外枠の一主面に接合される第1面を有するリッドと、
前記外枠の他主面に接合される第2面を有するベースと、
を備える水晶デバイス。
The mesa-type AT-cut quartz crystal resonator element according to claim 2, having one main surface and another main surface;
A lid having a first surface joined to one main surface of the outer frame;
A base having a second surface joined to the other main surface of the outer frame;
Quartz device with.
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