JP2012041582A - Whole roll, manufacturing method of whole roll and processing method of base material - Google Patents

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和宏 柳
Junji Nakada
純司 中田
Makoto Kashiwatani
誠 柏谷
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a whole roll, a manufacturing method of a whole roll and a processing method of a base material using the whole roll, which prevents a surface of the base material and a face processing applied thereto from being damaged and improves productivity.SOLUTION: A surface to be processed of a long sheet-like base material is abutted to be laminated. The whole roll is conveyed and separated in the longitudinal direction using the whole roll formed by winding and processing is applied to each base material. Consequently, the problem is solved.

Description

本発明は、長尺な基材を巻回してなる原反ロール、および、この原反ロールの製造方法、ならびに、この原反ロールを用いる基材の処理方法に関する。   The present invention relates to an original roll obtained by winding a long base material, a method for producing the original roll, and a method for treating a base using the original roll.

光学素子、液晶ディスプレイや有機ELディスプレイなどの表示装置、半導体装置、薄膜太陽電池等の各種の装置における防湿性を要求される部位や部品、食品、衣料品、電子部品等の包装に用いられる包装材料などに、基材に、ガスバリア膜(水蒸気バリア膜)を成膜してなる、ガスバリアフィルムが利用されている。
ガスバリア膜としては、窒化ケイ素、酸化ケイ素、酸窒化ケイ素、酸化アルミニウム等の各種の無機化合物からなる膜が知られている。また、これらのガスバリア膜は、プラズマCVD、スパッタリング、真空蒸着等の真空成膜法で成膜される。
Packaging used for packaging parts, parts, food, clothing, electronic parts, etc. that require moisture resistance in various devices such as optical devices, display devices such as liquid crystal displays and organic EL displays, semiconductor devices, thin film solar cells, etc. As a material, a gas barrier film formed by forming a gas barrier film (water vapor barrier film) on a base material is used.
As gas barrier films, films made of various inorganic compounds such as silicon nitride, silicon oxide, silicon oxynitride, and aluminum oxide are known. Further, these gas barrier films are formed by a vacuum film forming method such as plasma CVD, sputtering, or vacuum deposition.

このようなガスバリアフィルムの製造に限らず、基材の表面に、光反射、光反射防止、表面保護など、目的とする機能を発現する膜(以下、便宜的に『機能層』とする)を成膜してなる機能性フィルムが、各種の用途に利用されている。
また、このような機能性フィルムの製造において、高い生産性や生産効率での製造を可能とする方法として、長尺な基材(基板)を、ロール状に巻回してなる基材ロールから送り出し、長手方向に搬送しつつガスバリア膜等の成膜を行って、成膜済みの基材をロール状に巻き取る、いわゆるロール・ツー・ロール(Roll to Roll 以下、RtoRともいう)による成膜を行なう装置が知られている。
このRtoRの装置は、基材への成膜のみならず、基板表面の活性化などの処理や、プラズマ等による粗面化処理などの、基板の表面処理にも、利用可能である。
Not only the production of such a gas barrier film, but also a film (hereinafter referred to as “functional layer” for convenience) that expresses a desired function such as light reflection, light reflection prevention, and surface protection on the surface of the substrate. Functional films formed by film formation are used for various applications.
Moreover, in the production of such a functional film, as a method that enables production with high productivity and production efficiency, a long base material (substrate) is fed out from a base material roll that is wound into a roll shape. The film is formed by so-called roll-to-roll (hereinafter also referred to as RtoR), in which a gas barrier film or the like is formed while being conveyed in the longitudinal direction, and the film-formed substrate is wound into a roll. Devices for performing are known.
This RtoR apparatus can be used not only for film formation on a base material, but also for substrate surface treatment such as treatment of substrate surface activation and surface roughening treatment using plasma or the like.

ところで、このような機能性フィルムの製造等において、高品質な製品を製造するためには、機能層を成膜する基材の表面(被処理面)に損傷等が無いことが重要である。
また、同様に、高品質な製品を製造するためには、成膜した膜の表面(処理面の表面)にも損傷等が無いことが重要である。
By the way, in manufacturing such a functional film, in order to manufacture a high-quality product, it is important that the surface (surface to be processed) of the base material on which the functional layer is formed is not damaged.
Similarly, in order to manufacture a high-quality product, it is important that the surface of the formed film (surface of the processing surface) is not damaged.

ところが、RtoRの装置では、成膜(処理)前の基材や、成膜済みの基材を所定の搬送経路で搬送するためのパスローラ(ガイドローラ)が必要であるために、このパスローラとの接触によって、基材の表面(被成膜面)や、成膜した膜の表面が損傷してしまうという問題が有る。
また、成膜した基材を巻き取ると、成膜した膜と、裏面(基材の非成膜面)とが接触し、この接触によって、成膜した膜の表面が損傷してしまうという問題も有る。
However, the RtoR apparatus requires a pass roller (guide roller) for transporting the base material before film formation (processing) and the base material on which the film has been formed through a predetermined transport path. There is a problem that the surface of the base material (deposition surface) and the surface of the film formed are damaged by the contact.
Further, when the formed substrate is wound up, the formed film and the back surface (non-deposited surface of the substrate) come into contact with each other, and this contact damages the surface of the formed film. There is also.

このような問題を解決するために、RtoRによる成膜装置では、保護フィルムで基材の表面を保護することが行われている。
例えば、特許文献1には、RtoRによるハードコート層付きのポリカーボネートフィルムの製造において、基材の表面に保護フィルムを積層して、ロール状に巻回してなる基材ロールを用い、基材を長手方向に搬送しつつ、ハードコート層を塗布する前に保護フィルムを剥離して表面を露出して、次いで、ハードコート層を塗布し、乾燥および紫外線照射してハードコート層を硬化した後、ロール状に巻回することが記載されている。
In order to solve such a problem, in the film forming apparatus using RtoR, the surface of the base material is protected with a protective film.
For example, in Patent Document 1, in the production of a polycarbonate film with a hard coat layer by RtoR, a substrate roll formed by laminating a protective film on the surface of a substrate and winding it into a roll is used, and the substrate is elongated. Before applying the hard coat layer, the protective film is peeled off to expose the surface, and then the hard coat layer is applied, dried and irradiated with ultraviolet rays, and then the hard coat layer is cured. It is described that it is wound into a shape.

また、特許文献2には、RtoRによる連続成膜装置において、同様に、基材の表面に保護フィルム(保護材)を積層して、ロール状に巻回した基材ロールを用い、基板を長手方向に搬送しつつ、成膜前に保護フィルムを剥離して、基材の表面を露出して成膜を行い、その後、成膜した膜に当接して別の保護フィルムを積層し、成膜済みの基材と保護フィルムとの積層体を、再度、ロール状に巻回することが記載されている。   Further, in Patent Document 2, in a continuous film forming apparatus using RtoR, similarly, a protective film (protective material) is laminated on the surface of a base material and a base material roll wound in a roll shape is used, and the substrate is elongated. The film is transported in the direction and the protective film is peeled off before film formation, and the surface of the base material is exposed to form a film. Then, another film is laminated in contact with the formed film. It is described that the laminated body of a used base material and a protective film is again wound into a roll shape.

特開2002−121306号公報JP 2002-121306 A 特開2008−189957号公報JP 2008-189957 A

特許文献1や特許文献2に記載される方法や装置によれば、成膜前の基材の表面を損傷することなく、適正な状態の基材表面に成膜を行うことができる。
特に、特許文献2に記載される連続成膜装置によれば、基材の表面のみならず、成膜後の基材の表面(成膜した膜の表面)に保護フィルムを積層した後、巻取りを行うので、成膜した膜とパスローラとの接触による膜の損傷や、巻取りによる成膜した膜と裏面との接触による膜の損傷も、好適に防止することができ、高品質な製品を、安定して製造することが可能である。
According to the method and apparatus described in Patent Document 1 and Patent Document 2, film formation can be performed on a substrate surface in an appropriate state without damaging the surface of the substrate before film formation.
In particular, according to the continuous film forming apparatus described in Patent Document 2, a protective film is laminated not only on the surface of the base material but also on the surface of the base material after film formation (the surface of the formed film). Therefore, film damage caused by contact between the deposited film and the pass roller and film damage caused by contact between the deposited film and the back surface due to winding can be suitably prevented. Can be manufactured stably.

しかしながら、このような保護フィルムを用いる装置では、保護フィルムは、使い捨てであるために、製造コストの向上を避けることが出来ないという問題がある。
特に、特許文献2のように、成膜後も保護フィルムを積層するために、2枚の保護フィルムが必要になってしまい、その分、製造コストも割高になってしまう。
However, in an apparatus using such a protective film, since the protective film is disposable, there is a problem that an increase in manufacturing cost cannot be avoided.
In particular, as in Patent Document 2, in order to laminate the protective film even after film formation, two protective films are required, and the manufacturing cost is increased accordingly.

本発明の目的は、前記従来技術の問題点を解決することにあり、保護フィルムを用いなくても、基材の被処理面および処理を施した面の保護を図ることができ、低コストで、しかも、効率よく成膜や粗面化処理等の基材の処理を行うことを可能にする原反ロール、この原反ロールの製造方法、および、この原反ロールを用いる基材処理方法を提供することにある。   An object of the present invention is to solve the problems of the prior art, and it is possible to protect the treated surface of the substrate and the treated surface without using a protective film, and at low cost. In addition, an original roll that enables efficient base film processing such as film formation and roughening treatment, a method for producing the original roll, and a substrate processing method using the original roll It is to provide.

前記目的を達成するために、本発明の原反ロールは、長尺な2枚のシート状の基材を、被処理面を当接した状態で重ね合わせ、ロール状に巻回してなることを特徴とする合わせ原反ロールを提供する。   In order to achieve the above object, the raw roll of the present invention is formed by superposing two long sheet-like base materials in contact with the surface to be processed and winding the roll into a roll shape. Providing a featured laminated fabric roll.

このような本発明の原反ロールにおいて、前記2枚の基材の少なくとも一方が、支持体の表面に成膜を施されたものであり、かつ、この膜の表面が被処理面であるのが好ましく、また、前記2枚の基材の少なくとも一方が、被処理面に表面処理を施されたものであるのが好ましく、さらに、前記2枚の基材の少なくとも一方が、被処理面と、被処理面の逆面とで、表面粗さおよび表面の固さの少なくとも一方が異なるのが好ましい。   In such a raw roll according to the present invention, at least one of the two substrates is formed by forming a film on the surface of the support, and the surface of the film is a surface to be processed. Preferably, at least one of the two substrates is a surface to be treated, and at least one of the two substrates is a surface to be treated. It is preferable that at least one of the surface roughness and the surface hardness is different between the opposite surface of the surface to be processed.

また、本発明の原反ロールの製造方法は、長尺なシート状の基材をロール状に巻回してなる2本の基材ロールから、前記基材を引き出し、2枚の基材を搬送しつつ、互いの被処理面を当接した状態で2枚の基材を重ね合わせ、2枚の基材を重ね合わせたまま、ロール状に巻回することを特徴とする原反ロールの製造方法を提供する。   Moreover, the manufacturing method of the original fabric roll of this invention draws out the said base material from two base material rolls formed by winding a long sheet-like base material in roll shape, and conveys two base materials. However, the production of an original fabric roll characterized in that two substrates are overlapped in a state where the surfaces to be treated are in contact with each other, and the two substrates are overlapped and wound into a roll shape Provide a method.

このような本発明の原反ロールの製造方法において、基材ロールから基材を引き出して、2枚の基材を重ね合わせるまでの間に、少なくとも一方の基材の一面に成膜を行い、成膜した膜の表面を被処理面とするのが好ましく、また、基材ロールから基材を引き出して、2枚の基材を重ね合わせるまでの間に、少なくとも一方の基材の被処理面に、表面処理を行うのが好ましく、さらに、基材ロールから基材を引き出して、2枚の基材を重ね合わせるまでの間に、少なくとも一方の基材の被処理面に、重ね合わせ用の前処理を施すのが好ましい。   In such a method for manufacturing a raw fabric roll of the present invention, during the period from when the base material is pulled out from the base material roll and the two base materials are overlapped, a film is formed on one surface of at least one base material, It is preferable that the surface of the formed film is a surface to be treated, and the surface to be treated of at least one of the substrates is drawn from the substrate roll until the two substrates are overlapped. In addition, it is preferable to perform a surface treatment. Further, during the period from when the base material is pulled out from the base material roll and the two base materials are superposed, at least one surface of the base material is superposed. Pretreatment is preferably performed.

さらに、本発明の基板処理方法は、前記本発明の原反ロールから、2枚の基材の積層体を引き出して、長手方向に搬送しつつ、個々の基材に分離し、各基材の被処理面に処理を施すことを特徴とする基材処理方法を提供する。   Furthermore, in the substrate processing method of the present invention, a laminate of two base materials is pulled out from the raw roll of the present invention and conveyed in the longitudinal direction, and separated into individual base materials. Provided is a substrate processing method characterized by processing a surface to be processed.

このような本発明の基板処理方法において、各基材の被処理面に前記処理を施した後に、処理を施した面を当接して前記2枚の基材を重ね合わせて、再度、ロール状に巻回するのが好ましく、この際において、前記2枚の基材を重ね合わせた際に、各基材の搬送方向の相対位置が、前記原反ロールの状態と一致しているのが好ましく、もしくは、前記2枚の基材を重ね合わせた際に、各基材の搬送方向の相対位置が、前記原反ロールの状態と異なるのが好ましく、また、前記基材の被処理面に処理を施した後で、かつ、処理した面を当接して前記2枚の基材を重ね合わせる前に、少なくとも一方の基材の前記処理を施した面に、重ね合わせ用の前処理を施すのが好ましく、この際において、前記基材の被処理面に処理を施す位置から、重ね合わせる位置までの搬送距離が、2枚の基材で互いに異なり、少なくとも搬送距離が長い方の基材には、前記重ね合わせ用の前処理を施すのが好ましい。
もしくは、各基材の被処理面に前記処理を施した後に、各基材を別々にロール状に巻回するのが好ましい。
さらに、前記基材の被処理面に施す処理が、成膜および表面処理の少なくとも一方であるのが好ましい。
In such a substrate processing method of the present invention, after the processing is performed on the surface to be processed of each base material, the processed surfaces are brought into contact with each other, the two base materials are overlapped, and the roll shape is again formed. In this case, when the two substrates are overlapped, it is preferable that the relative position in the transport direction of each substrate coincides with the state of the original roll. Alternatively, when the two base materials are superposed, the relative position in the transport direction of each base material is preferably different from the state of the original roll, and the surface to be processed of the base material is processed. And before the two substrates are overlaid by contacting the treated surfaces, a pretreatment for superposition is performed on the treated surface of at least one of the substrates. In this case, from the position where the processing surface of the base material is processed, the overlapping is performed. Carrying distance to the position at which is different from each other in two substrates, at least the conveying distance is longer substrate is preferably subjected to a pretreatment for the overlay.
Or after performing the said process to the to-be-processed surface of each base material, it is preferable to wind each base material separately in roll shape.
Furthermore, it is preferable that the treatment applied to the surface of the substrate is at least one of film formation and surface treatment.

本発明は、被処理面を当接して2枚の長尺な基材を積層した積層体を、ロール状に巻回してなる原反ロールを用い、この原反ロールから基材の積層体を送り出して、基材を長手方向に搬送しつつ、2枚の基材に分離し、成膜等の処理を施し、好ましくは、処理済みの2枚の基材を、処理を施した面の表面を当接して積層し、再度、ロール状に巻回する。   The present invention uses a raw roll obtained by winding a laminate in which two long base materials are laminated in contact with a surface to be processed into a roll shape, and the base laminate is formed from the raw roll. Sending out and separating the base material into two base materials while conveying the base material in the longitudinal direction, and performing processing such as film formation, preferably, the surface of the treated surface of the two base materials Are brought into contact with each other and laminated, and again wound into a roll.

そのため、本発明によれば、基材の被処理面と、パスローラとが接触することが無いので、保護フィルムを用いなくても、損傷等の無い適正な被接触面に処理を行って、高品質な製品を製造できる。また、被処理面や処理を施した面と、パスローラや、ロール状に巻回した際の裏面(基材の非処理面)との接触も避けることができるので、成膜した膜等の損傷も防止できる。
さらに、本発明によれば、2枚の基材を同時に処理することができるので、生産性も向上することができる。
従って、本発明によれば、基材や成膜した膜等の損傷が無い高品質な製品を、低コストで、かつ、高い生産性で製造することが可能となる。
Therefore, according to the present invention, the surface to be processed of the substrate and the pass roller do not come into contact with each other. Can produce quality products. In addition, it is possible to avoid contact between the surface to be treated and the treated surface and the back roller (non-treated surface of the base material) when wound in a roll shape. Can also be prevented.
Furthermore, according to the present invention, since two substrates can be processed at the same time, productivity can also be improved.
Therefore, according to the present invention, it is possible to manufacture a high-quality product free from damage to the base material, the formed film, etc. at low cost and with high productivity.

(A)は、本発明の原反ロールとなる積層体の一例を、(B)は、本発明の原反ロールの一例を、(C)は、本発明の原反ロールとなる積層体の別の例を、それぞれ、概念的に示す図である。(A) is an example of a laminate that is a raw roll of the present invention, (B) is an example of a raw roll of the present invention, and (C) is a laminate that is a raw roll of the present invention. It is a figure which shows another example each conceptually. 本発明の原反ロールの製造方法を実施する製造装置の一例を概念的に示す図である。It is a figure which shows notionally an example of the manufacturing apparatus which enforces the manufacturing method of the original fabric roll of this invention. 本発明の基材処理方法を実施する処理装置の一例を概念的に示す図である。It is a figure which shows notionally an example of the processing apparatus which enforces the base-material processing method of this invention. 本発明の基材処理方法を実施する処理装置の別の例を概念的に示す図である。It is a figure which shows notionally another example of the processing apparatus which enforces the base-material processing method of this invention. 本発明の基材処理方法を実施する処理装置の別の例を概念的に示す図である。It is a figure which shows notionally another example of the processing apparatus which enforces the base-material processing method of this invention.

以下、本発明の原反ロール、原反ロールの製造方法、および、基材処理方法について、添付の図面に示される好適実施例を基に、詳細に説明する。 Hereinafter, the raw fabric roll, the production method of the raw fabric roll, and the substrate processing method of the present invention will be described in detail based on preferred embodiments shown in the accompanying drawings.

図1に、本発明の原反ロールの一例を概念的に示す。
本発明の原反ロールは、2枚の長尺な基材(基板)S1およびS2を、成膜や表面処理に供される被処理面(以下、表面とする)を合わせた状態で積層し、この積層体をロール状に巻回してなるものである。
具体的には、図1(A)に示すように、2枚の長尺な基材S1と基材S2とを、基材S1の表面S1−fと基材S2の表面S2−fとを当接した状態で積層し、図1(B)に示すように、この積層体10(構成を明瞭にするために、当接面は点線で示す)を、ロール状に巻回してなるものである。
言い換えれば、本発明の原反ロールは、2枚の長尺な基材(原反)の表面を合わせた合わせ原反を作成し、この合わせ原反をロール状に巻回してなるものである。
In FIG. 1, an example of the original fabric roll of this invention is shown notionally.
The raw fabric roll of the present invention is formed by laminating two long base materials (substrates) S1 and S2 in a state in which the surfaces to be processed (hereinafter referred to as surfaces) used for film formation and surface treatment are combined. The laminate is wound into a roll.
Specifically, as shown in FIG. 1 (A), two long substrates S1 and S2, and a surface S1-f of the substrate S1 and a surface S2-f of the substrate S2 As shown in FIG. 1 (B), the laminated body 10 (in order to clarify the configuration, the contact surface is indicated by a dotted line) is wound into a roll shape. is there.
In other words, the original fabric roll of the present invention is formed by creating a combined original fabric in which the surfaces of two long base materials (original fabrics) are combined, and winding the combined original fabric into a roll shape. .

本発明の原反ロールにおいて、基材S1およびS2には、特に限定はなく、各種の長尺なシート状物(ウエブ状物)が、好適に利用可能である。
具体的には、ポリエチレンテレフタレート(PET)、ポリエチレンナフタレート、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリスチレン、ポリアミド、ポリ塩化ビニル、ポリカーボネート、ポリアクリロニトリル、ポリイミド、ポリアクリレート、ポリメタクリレートなどの有機物からなるプラスチック(樹脂)フィルムや、アルミニウム、ステンレスなどの金属ウエブ状物等が、基板Zとして、好適に利用可能である。
In the raw fabric roll of the present invention, the base materials S1 and S2 are not particularly limited, and various long sheet-like materials (web-like materials) can be suitably used.
Specifically, plastic (resin) films made of organic substances such as polyethylene terephthalate (PET), polyethylene naphthalate, polyethylene, polypropylene, polystyrene, polyamide, polyvinyl chloride, polycarbonate, polyacrylonitrile, polyimide, polyacrylate, polymethacrylate, Metal webs such as aluminum and stainless steel can be suitably used as the substrate Z.

また、本発明においては、プラスチックフィルム等の長尺なシート状物を支持体14として、その上に、図1(C)に示すように、保護層、接着層、密着層、光反射層、遮光層、表面平坦化層、緩衝層、応力緩和層、ガスバリア膜、反射防止膜、透明導電層等の、各種の機能を得るための機能層(機能層)16が成膜されている長尺なシート状物を、基材(S3およびS4)として用いてもよい。
すなわち、本発明の原反ロールにおいて、基材は、各種の機能層16を形成された機能性フィルム(機能性シート)であってもよい。
In the present invention, a long sheet-like material such as a plastic film is used as the support 14, and a protective layer, an adhesive layer, an adhesion layer, a light reflecting layer, as shown in FIG. A long layer on which a functional layer (functional layer) 16 for obtaining various functions such as a light shielding layer, a surface flattening layer, a buffer layer, a stress relaxation layer, a gas barrier film, an antireflection film, and a transparent conductive layer is formed. A sheet-like material may be used as the base material (S3 and S4).
That is, in the raw fabric roll of the present invention, the base material may be a functional film (functional sheet) on which various functional layers 16 are formed.

これらの機能層16は、いずれも、ガスバリアフィルム、反射防止フィルム、保護フィルム、各種ディスプレイの基板フィルム等、公知の各種の機能性フィルムで、機能層(目的とする機能を得るために成膜された膜)として用いられている、公知の材料からなる膜で構成すればよい。
また、機能層16は、1層からなるものでも複数層からなるものでもよく、また、基材S3および/または基材S4は、複数の機能層16を有するものであってもよい。
These functional layers 16 are all known functional films such as a gas barrier film, an antireflection film, a protective film, and a substrate film for various displays, and are formed into functional layers (to obtain a desired function). The film may be made of a known material used as a film.
Further, the functional layer 16 may be composed of one layer or a plurality of layers, and the base material S3 and / or the base material S4 may have a plurality of functional layers 16.

このような支持体14に機能層16を形成してなる基材S3およびS4を用いる場合には、通常、機能層16の表面が被処理面となるので、図3(C)に示すように、基材S3の表面S3−fと基材S4の表面S4−fとを当接して積層した積層体12を作製し、この積層体12をロール状に巻回して、本発明の原反ロールとする。   When the base materials S3 and S4 formed by forming the functional layer 16 on the support 14 are used, the surface of the functional layer 16 is usually the surface to be processed, and as shown in FIG. Then, a laminated body 12 in which the surface S3-f of the base material S3 and the surface S4-f of the base material S4 are brought into contact with each other and laminated is produced, and the laminated body 12 is wound into a roll shape. And

本発明の原反ロールにおいて、2枚の長尺な基材S1およびS2(S3およびS4)は、同じものであってもよく、また、異なるものであってもよい。
従って、本発明の原反ロールは、図1(A)および図1(C)に示されるものに限定はされず、いずれか一方の基材が基材S1のように機能層16を有さず、他方が基材S3のように機能層16を有するものであってもよい。
In the raw roll of the present invention, the two long substrates S1 and S2 (S3 and S4) may be the same or different.
Therefore, the raw fabric roll of the present invention is not limited to those shown in FIGS. 1 (A) and 1 (C), and any one of the substrates has the functional layer 16 as in the substrate S1. Alternatively, the other may have the functional layer 16 like the base material S3.

さらに、2枚の長尺な基材S1およびS2(S3およびS4)の少なくとも一方は、表面に、表面処理を施されたものであるのが好ましい。
後に詳述するが、本発明は、2枚の基材の表面を当接した状態で積層し、この積層体をロール状に巻回することにより、保護フィルム(保護膜/保護シート)等を用いることなく、基材の表面を保護するものである。基材の少なくとも一方が表面処理を施されたものである場合には、パスローラとの当接等に起因する表面劣化が起き易く、すなわち、このような基材を用いることにより、本発明の効果を、より好適に発現できる等の点で好ましい。
Furthermore, it is preferable that at least one of the two long substrates S1 and S2 (S3 and S4) has a surface treated.
As will be described in detail later, the present invention is laminated with the surfaces of the two substrates in contact with each other, and the laminate is wound into a roll to obtain a protective film (protective film / protective sheet) or the like. The surface of the base material is protected without being used. When at least one of the base materials is subjected to a surface treatment, surface deterioration due to contact with a pass roller or the like is likely to occur. That is, by using such a base material, the effect of the present invention is achieved. Is preferable in that it can be expressed more suitably.

本発明において、基材の表面に施す表面処理には、特に限定はなく、活性化処理、粗面化処理、密着性向上処理、エッチング等が例示される。
これらの基材の表面処理は、例えば、粗面化処理やエッチングであればプラズマ照射等が利用され、活性化処理であればイオン照射やプラズマ照射など、いずれも、基材の種類等に応じて、シート状物の表面処理で行われている公知の各種の方法で行えばよい。
In the present invention, the surface treatment applied to the surface of the substrate is not particularly limited, and examples thereof include activation treatment, roughening treatment, adhesion improving treatment, etching, and the like.
For the surface treatment of these substrates, for example, plasma irradiation is used for roughening treatment or etching, and ion irradiation or plasma irradiation is used for activation treatment, depending on the type of substrate. Then, it may be performed by various known methods that are performed in the surface treatment of the sheet-like material.

基材S1およびS2は、表面と裏面(被処理面と逆面(非処理面))とで、表面粗さおよび硬さの少なくとも一方が異なるのが好ましい。具体的には、表面の方が裏面よりも表面粗さが低く、および/または、裏面の方が表面よりも硬いのが好ましい。   It is preferable that at least one of the surface roughness and the hardness of the base materials S1 and S2 is different between the front surface and the back surface (surface to be processed and reverse surface (non-processed surface)). Specifically, it is preferable that the surface has a lower surface roughness than the back surface and / or the back surface is harder than the surface.

基材をロール状に巻回してなる通常の基材ロールでは、基材の表面と裏面とが当接した状態で巻き取られている。そのため、裏面との接触によって表面が損傷してしまうことが、往々にして生じる。特に、表面よりも裏面の方が表面粗さが大きい場合や、表面よりも裏面の方が硬い場合には、裏面との接触によって表面が受けるダメージは大きい。
前述のように、本発明は、2枚の基材の表面を当接した積層体をロール状に巻回することにより、保護フィルムを用いることなく基材の表面を保護するものであり、従って、表面と裏面とで表面粗さや硬さが異なる基材を用いた場合には、本発明の効果を、より好適に発現できる等の点で好ましい。
In a normal base material roll formed by winding a base material in a roll shape, the base material is wound in a state where the front surface and the back surface of the base material are in contact with each other. Therefore, it often happens that the surface is damaged by contact with the back surface. In particular, when the back surface has a larger surface roughness than the front surface, or when the back surface is harder than the front surface, the surface is greatly damaged by contact with the back surface.
As described above, the present invention protects the surface of the base material without using a protective film by winding the laminate in contact with the surfaces of the two base materials in a roll shape. In the case where base materials having different surface roughness and hardness are used on the front surface and the back surface, the effects of the present invention are preferable in that the effect can be expressed more suitably.

ここで、本発明の原反ロールは、あくまで原反、すなわち何らかの機能性フィルムの原料となる長尺な2枚の基材を、表面を当接した状態で積層して、ロール状に巻回してなるものである。
従って、本発明の原反ロールは、必ず、少なくとも一度は基材S1と基材S2とが、もしくは、基材S3と基材S4とが剥離されて、積層相手の基材と当接していた表面(被処理面)に、成膜や表面処理等の何らかの処理が施され、剥離された状態で次工程に供給され、あるいは、剥離された状態で製品として供給され、あるいは、再度、表面を当接して巻回され、本発明の原反ロールとされる。
Here, the raw roll of the present invention is a raw roll, that is, two long base materials that are raw materials for some functional film are laminated with their surfaces in contact with each other, and wound into a roll shape. It will be.
Therefore, the base roll of the present invention is always in contact with the base material of the stacking partner by peeling the base material S1 and the base material S2 at least once or the base material S3 and the base material S4. The surface (surface to be treated) is subjected to some kind of treatment such as film formation or surface treatment, and is supplied to the next process in a peeled state, or supplied as a product in a peeled state, or the surface again The material roll is abutted and wound to form the original roll of the present invention.

また、本発明の原反ロールを構成する基材は、あくまで原反であるので、基材S1と基材S2とが積層された状態で、また、基材S3と基材S4が積層された状態で、最終的な製品(機能性フィルム)として使用されることは無い。
すなわち、本発明の原反ロールでは、最終的には、基材S1と基材S2とは剥離され、また、基材S3と基材S4とは剥離されて、それぞれ、個々に、ガスバリアフィルム、反射防止フィルム、保護フィルム、各種ディスプレイの基板フィルム等、公知の各種の機能性フィルムとして使用される。
Moreover, since the base material which comprises the original fabric roll of this invention is an original fabric to the last, in the state which base material S1 and base material S2 were laminated | stacked, base material S3 and base material S4 were laminated | stacked In the state, it is not used as a final product (functional film).
That is, in the raw fabric roll of the present invention, finally, the base material S1 and the base material S2 are peeled, and the base material S3 and the base material S4 are peeled off. It is used as various known functional films such as antireflection films, protective films, and substrate films for various displays.

図2に、本発明の製造方法によって、前記本発明の原反ロールを製造する製造装置の一例の概念図を示す。
図2に示す製造装置20は、一例として、図1(C)に示す、支持体14の表面に機能層16を成膜してなる基材S3およびS4を作製し、作製した基材S3およびS4を表面を当接して積層して、ロール状に巻回してなる原反ロールを製造する装置である。図示例において、製造装置20は、供給部24と、処理部26と、積層ローラ28と、巻取り軸30とを有して構成される。
In FIG. 2, the conceptual diagram of an example of the manufacturing apparatus which manufactures the said original fabric roll of this invention with the manufacturing method of this invention is shown.
As an example, the manufacturing apparatus 20 shown in FIG. 2 produces the base materials S3 and S4 formed by forming the functional layer 16 on the surface of the support 14 shown in FIG. It is an apparatus for manufacturing a raw roll obtained by laminating S4 in contact with the surface and winding it into a roll. In the illustrated example, the manufacturing apparatus 20 includes a supply unit 24, a processing unit 26, a stacking roller 28, and a winding shaft 30.

製造装置20において、長尺なシート状物である支持体14は、ロール状に巻回された供給ロール32として供給部24の回転軸34に装填(軸支)される。
供給ロール32が回転軸34に装填されると、両供給ロール32から支持体14が引き出され、パスローラpに案内されて、処理部26に搬送される。なお、パスローラpは、長尺なシート状物を所定の搬送経路で搬送するための公知のパスローラ(ガイドローラ)である。
In the manufacturing apparatus 20, the support 14 that is a long sheet is loaded (supported) on the rotation shaft 34 of the supply unit 24 as a supply roll 32 wound in a roll.
When the supply roll 32 is loaded on the rotary shaft 34, the support 14 is pulled out from both supply rolls 32, guided by the pass roller p, and conveyed to the processing unit 26. The pass roller p is a known pass roller (guide roller) for transporting a long sheet-like material along a predetermined transport path.

処理部26は、支持体14の表面に機能層16を成膜する部位であって、各支持体14に対応する2つのドラム38aおよび38bと、処理手段40とを有する。
ドラム38aおよび38bは、支持体14を周面に巻き掛けて搬送する円筒状のものである。支持体14の一方はドラム38aの、他方はドラム38bの、周面の所定領域に巻き掛けられて、所定の処理位置に保持されつつ長手方向に搬送され、処理手段40によって、機能層16を成膜される。
The processing unit 26 is a part where the functional layer 16 is formed on the surface of the support 14, and includes two drums 38 a and 38 b corresponding to each support 14 and a processing unit 40.
The drums 38a and 38b have a cylindrical shape that conveys the support 14 wound around the circumferential surface. One of the supports 14 is wound around a predetermined region of the peripheral surface of the drum 38a and the other is the drum 38b, and is conveyed in the longitudinal direction while being held at a predetermined processing position. A film is formed.

処理手段40は、支持体14の表面に機能層16を成膜する、公知の成膜手段である。
例えば、処理手段40が、ICP−CVD(誘導結合型プラズマCVD)によって機能層16を成膜するものであれば、処理手段40は、誘導磁場を形成するための誘導コイルや、成膜領域に原料ガスを供給するためのガス供給手段等を有して構成される。
処理手段40が、CCP−CVD(容量結合型プラズマCVD)によって機能層16を成膜するものであれば、処理手段40は、中空状で多数の小孔を有し電極および原料ガス供給部として作用するシャワー電極、プラズマ励起電力を供給する高周波電源、原料ガスの供給手段等を有して構成される。
処理手段40が、スパッタリングによって機能層16を成膜するものであれば、処理手段40は、ターゲットの保持手段や高周波電極、スパッタガスの供給手段等を有して構成される。処理手段40が、反応性スパッタリングによって成膜を行うものであれば、さらに、反応ガスの供給手段を有して構成される。
処理手段40が、成膜室が真空蒸着によって機能層16を成膜するものであれば、処理手段40は、蒸発源(ルツボ)、電子銃や抵抗加熱電源などの成膜材料の加熱手段等を有して構成される。
処理手段40が、塗布によって機能層16を成膜するものであれば、処理手段40は、ロールコートやグラビアコートなどの機能層16となる塗料の塗布手段、乾燥手段、紫外線源や電子線源等の硬化手段等を有して構成される。
さらに、処理手段40がフラッシュ蒸着によって機能層16を成膜するものであれば、減圧下で、有機化合物モノマー(オリゴマー)などの成膜材料を含む液体を噴霧する噴霧手段、噴霧手段が噴霧した微細液体を加熱蒸発させて、支持体14に付着させる加熱手段、乾燥手段、紫外線源や電子線源などの硬化手段等を有して構成される。
The processing means 40 is a known film forming means for forming the functional layer 16 on the surface of the support 14.
For example, if the processing means 40 forms the functional layer 16 by ICP-CVD (inductively coupled plasma CVD), the processing means 40 may be used for an induction coil for forming an induction magnetic field or a film formation region. It has gas supply means for supplying the source gas.
If the processing means 40 forms the functional layer 16 by CCP-CVD (capacitive coupling type plasma CVD), the processing means 40 is hollow and has a large number of small holes as an electrode and a source gas supply section. It has a shower electrode that operates, a high-frequency power source that supplies plasma excitation power, a source gas supply means, and the like.
If the processing unit 40 forms the functional layer 16 by sputtering, the processing unit 40 includes a target holding unit, a high-frequency electrode, a sputtering gas supply unit, and the like. If the processing means 40 forms a film by reactive sputtering, the processing means 40 further includes a reaction gas supply means.
If the processing means 40 is for depositing the functional layer 16 in the film forming chamber by vacuum deposition, the processing means 40 is a heating means for film forming materials such as an evaporation source (crucible), an electron gun, and a resistance heating power source. It is comprised.
If the processing unit 40 forms the functional layer 16 by coating, the processing unit 40 may be a coating unit, a drying unit, an ultraviolet ray source, an electron beam source, or the like, which is a functional layer 16 such as a roll coat or a gravure coat. It has a curing means such as.
Further, if the processing means 40 forms the functional layer 16 by flash vapor deposition, the spraying means for spraying a liquid containing a film forming material such as an organic compound monomer (oligomer) or the spraying means sprayed under reduced pressure. A heating means for heating and evaporating the fine liquid to adhere to the support 14, a drying means, a curing means such as an ultraviolet ray source and an electron beam source, and the like are included.

図示例において、2つの供給ロール32は、互いの表面が対面するように、支持体14を送り出す。また、ドラム38aおよび38bは、共に支持体14の裏面に当接して、支持体14を搬送するものであり、かつ、支持体14の搬送方向と直交する方向に、処理手段40を挟むように配置される。
従って、処理手段40は、両支持体14の表面に対面して配置され、ドラム38aおよび38bに搬送される両支持体14の表面に機能層16の成膜を行うことができる。なお、処理手段40は、支持体14に異なる膜を成膜してもよく、あるいは、一方のみに成膜を行ってもよい。
In the example of illustration, the two supply rolls 32 send out the support body 14 so that the surface of each other may face. The drums 38 a and 38 b are both in contact with the back surface of the support 14 to transport the support 14 and sandwich the processing means 40 in a direction perpendicular to the transport direction of the support 14. Be placed.
Therefore, the processing means 40 is arranged to face the surfaces of both supports 14 and can form the functional layer 16 on the surfaces of both supports 14 conveyed to the drums 38a and 38b. The processing means 40 may form a different film on the support 14 or may form a film on only one side.

ドラム38aおよび38bによって搬送されつつ、処理手段40によって機能層16を成膜された2枚の支持体、すなわち、基材S3および基材S4は、パスローラpによって所定の搬送経路を搬送されて、積層ローラ28に搬送される。
積層ローラ28は、2枚の長尺なシート状物を搬送しつつ積層する、公知のローラである。図2に示されるように、基材S3および基材S4は互いの機能層16を対面しているので、積層ローラ28は、搬送された両支持体14を重ねることで、基材S3および基材S4の機能層16を当接して、すなわち図1(C)に示されるように、表面(被処理面)S3−fと表面S4−fとを当接して積層され、積層体12とする。
The two supports on which the functional layer 16 is formed by the processing means 40 while being transported by the drums 38a and 38b, that is, the base material S3 and the base material S4 are transported along a predetermined transport path by the pass roller p, It is conveyed to the lamination roller 28.
The laminating roller 28 is a known roller that stacks two long sheets while conveying them. As shown in FIG. 2, since the base material S3 and the base material S4 face each other's functional layer 16, the laminating roller 28 superimposes both the base material S3 and the base material 14 by superimposing the two supports 14 conveyed. The functional layer 16 of the material S4 is brought into contact, that is, as shown in FIG. 1C, the surface (surface to be processed) S3-f and the surface S4-f are brought into contact with each other to be laminated to form the laminated body 12. .

積層ローラ28によって積層された積層体12は、パスローラpによって巻取り軸42に搬送され、巻取り軸42によってロール状に巻回されて、原反ロール46とされる。   The laminated body 12 laminated by the laminating roller 28 is conveyed to the take-up shaft 42 by the pass roller p, wound in a roll shape by the take-up shaft 42, and used as an original fabric roll 46.

なお、処理手段40は、成膜を行うのではなく、支持体14(少なくとも一方)の表面の表面処理を行うものであってもよい。あるいは、表面処理と成膜との、選択された方を行うものであってもよい。
支持体14に表面処理のみを行う場合には、表面処理を行われた支持体14が、基材S1および基材S2となって、表面(表面処理を行われた面)を当接して積層体10とされ、この積層体10が巻取り軸30によってロール状に巻回されて、原反ロールとされる。
Note that the processing means 40 may perform surface treatment of the surface of the support 14 (at least one) instead of performing film formation. Alternatively, the selected one of surface treatment and film formation may be performed.
In the case where only the surface treatment is performed on the support 14, the support 14 subjected to the surface treatment becomes the base material S <b> 1 and the base material S <b> 2, and the surfaces (surfaces subjected to the surface treatment) are brought into contact with each other and laminated The laminated body 10 is wound into a roll shape by the take-up shaft 30 to be a raw roll.

支持体14の表面処理手段には、特に限定はなく、実施する処理に応じた公知の手段が、各種、利用可能である。
例えば、処理手段40が、プラズマによる支持体14の表面の活性化処理、粗面化処理、エッチング等を行うものであれば、処理手段は、前記CCP−CVDによる成膜手段と同様に、シャワー電極、高周波電源およびガスの供給手段等を有して構成される。
The surface treatment means of the support 14 is not particularly limited, and various known means according to the treatment to be performed can be used.
For example, if the processing means 40 performs an activation process, a roughening process, an etching process or the like on the surface of the support 14 by plasma, the processing means is a shower as in the CCP-CVD film forming means. It has an electrode, a high frequency power source, a gas supply means, and the like.

また、本発明の原反ロールの製造方法においては、支持体14に、このような成膜や表面処理を行うのに限定はされず、支持体14を、そのまま、図1(A)に示す基材S1および基材S2として、表面S1−fと表面S2−fを当接して両基材を積層し、この積層体10を巻回して原反ロールとしてもよい。
また、成膜や表面処理等を行わないで原反ロールを製造する装置は、処理部26を有さなくてもよい。
あるいは、処理部26を複数設けて、1枚の支持体14に対して、成膜と表面処理との両方を行ってもよく、複数層の機能層16の成膜を行ってもよい。
Moreover, in the manufacturing method of the raw fabric roll of this invention, it is not limited to performing such a film-forming and surface treatment to the support body 14, The support body 14 is shown in FIG. 1 (A) as it is. As base material S1 and base material S2, surface S1-f and surface S2-f are contacted, both base materials are laminated, and this laminated body 10 is wound, and it is good also as an original fabric roll.
Further, an apparatus for manufacturing a raw fabric roll without performing film formation or surface treatment may not have the processing unit 26.
Alternatively, a plurality of processing units 26 may be provided, and both film formation and surface treatment may be performed on a single support 14, or a plurality of functional layers 16 may be formed.

以上の説明より明らかなように、本発明の原反ロール46は、基材S3と基材S4とを(基材S1と基材S2とを)、表面(被処理面)を当接して積層して、積層体12(積層体10)とし、この積層体12をロール状に巻回してなるものである。そのため、ロール状に巻回した状態では、表面と裏面とが当接することがなく、裏面によって表面が損傷されるのを防止できる。
また、積層体12とした後は、基材S3と基材S4の表面がパスローラpと当接することが無いので、パスローラpによる基材表面の損傷も、大幅に低減できる。
しかも、本発明は、保護フィルム(保護膜/保護シート)を用いることなく、基材表面の保護を図るので、製品コストも、大幅に低減できる。
As is clear from the above description, the raw fabric roll 46 of the present invention is formed by laminating the base material S3 and the base material S4 (base material S1 and base material S2) and contacting the surface (surface to be processed). And it is set as the laminated body 12 (laminated body 10), and this laminated body 12 is wound in roll shape. Therefore, in a state wound in a roll shape, the front surface and the back surface do not come into contact with each other, and the surface can be prevented from being damaged by the back surface.
In addition, since the surfaces of the base material S3 and the base material S4 do not come into contact with the pass roller p after forming the laminated body 12, damage to the base material surface by the pass roller p can be greatly reduced.
In addition, since the present invention protects the surface of the substrate without using a protective film (protective film / protective sheet), the product cost can be greatly reduced.

図3に、このような原反ロール46を用いる、本発明の基材処理方法を実施する処理装置の一例の概念図を示す。
この処理装置50は、原反ロール46の各基材S3および基材S4の表面に、所定の膜を成膜し(表面処理を行い)、成膜した膜(処理を施した面)を当接して、2枚の基材を積層し、再度、ロール状に巻回するものである。
図示例において、処理装置50は、回転軸52と、分離ローラ54と、処理部56と、積層ローラ58と、巻取り軸60とを有して構成される。
In FIG. 3, the conceptual diagram of an example of the processing apparatus which implements the base-material processing method of this invention using such an original fabric roll 46 is shown.
This processing apparatus 50 forms a predetermined film (performs surface treatment) on the surface of each of the base material S3 and base material S4 of the raw fabric roll 46, and applies the formed film (processed surface). In contact with each other, two substrates are laminated and wound again into a roll.
In the illustrated example, the processing device 50 includes a rotation shaft 52, a separation roller 54, a processing unit 56, a stacking roller 58, and a winding shaft 60.

なお、図3においては、支持体14に機能層16を成膜してなる基材S3および基材S4の積層体12を巻回してなる原反ロール46を例に、本発明の基材処理方法の説明を行うが、その作用等は、基材S1の表面S1−fと基材S2の表面S2−fとを当接した積層体10を巻回してなる原反ロールを用いた場合でも、全く、同様である。
この点に関しては、以下の図4に示す例も図5に示す例も、同様である。
In FIG. 3, the base material treatment of the present invention is exemplified by a raw fabric roll 46 formed by winding the laminate 12 of the base material S3 and the base material S4 formed by forming the functional layer 16 on the support 14. Although the method will be described, the operation and the like are performed even when a raw roll formed by winding the laminate 10 in which the surface S1-f of the substrate S1 and the surface S2-f of the substrate S2 are in contact is used. The same is true.
In this regard, the example shown in FIG. 4 and the example shown in FIG. 5 are the same.

基材S3および基材S4の積層体12(積層体10)を巻回してなる原反ロール46は、回転軸52に装填(軸支)される。
原反ロール46が回転軸52に装填されると、積層体12が引き出されて、パスローラpに案内されて分離ローラ54に搬送される。分離ローラ54は、2枚の長尺なシート状物の積層体を、搬送しつつ分離(剥離)する、公知のローラである。
積層体12は、分離ローラ54によって基材S3と基材S4(基材S1と基材S2)とに分離され、処理部56に搬送される。
An original fabric roll 46 formed by winding the laminated body 12 (laminated body 10) of the base material S3 and the base material S4 is loaded (supported) on the rotary shaft 52.
When the original roll 46 is loaded on the rotating shaft 52, the laminate 12 is pulled out, guided by the pass roller p, and conveyed to the separation roller 54. The separation roller 54 is a known roller that separates (peels) a laminate of two long sheet-like materials while being conveyed.
The laminated body 12 is separated into the base material S3 and the base material S4 (base material S1 and base material S2) by the separation roller 54, and is conveyed to the processing unit 56.

処理部56は、基材S3の表面S3−fおよび基材S4の表面S4−f(基材S1の表面S1−fおよび基材S2の表面S2−f)に、所定の膜を成膜する部位であって、2つのドラム64aおよび64bと、処理手段68とを有する。
ドラム64aおよび64bは、前記ドラム38と同様のものであり、ドラム64aは基材S3を、ドラム64bは基材S4を、共に、周面の所定位置に巻き掛けて、所定の位置に保持しつつ、長手方向に搬送する。また、処理手段68も前記処理手段40と同様のものであり、ドラム64aおよび64bによって搬送される基材の表面に、プラズマCVDやスパッタリング等による成膜を行うものである。
従って、処理手段68が成膜する膜は、一例として、前記各種の機能膜16が例示される。
The processing unit 56 forms predetermined films on the surface S3-f of the base material S3 and the surface S4-f of the base material S4 (the surface S1-f of the base material S1 and the surface S2-f of the base material S2). It is a part and has two drums 64 a and 64 b and a processing means 68.
The drums 64a and 64b are the same as the drum 38, the drum 64a is wound around the base material S3, and the drum 64b is wound around the base surface S4 at a predetermined position and held at the predetermined position. While conveying in the longitudinal direction. Further, the processing means 68 is the same as the processing means 40, and performs film formation by plasma CVD, sputtering or the like on the surface of the substrate conveyed by the drums 64a and 64b.
Accordingly, the film formed by the processing unit 68 is exemplified by the various functional films 16 as an example.

前述のように、原反ローラ46は、基材S3および基材S4を表面を当接して積層され、巻回されたものである。
また、図示例において、ドラム64aは分離ローラ54によって分離された基材S3の裏面に当接して、ドラム64bは分離ローラ54によって分離された基材S4の裏面に当接して、共に基材を搬送するものであり、かつ、ドラム64aおよびドラム64bは、基材の搬送方向と直交する方向に、処理手段68を挟むように配置される。
従って、処理手段68は、基材S3および基材S4の表面に対面して配置され、搬送される基材S3および基材S4の表面に成膜を行うことができる。
As described above, the original fabric roller 46 is formed by laminating and winding the base material S3 and the base material S4 with their surfaces in contact with each other.
In the illustrated example, the drum 64a contacts the back surface of the substrate S3 separated by the separation roller 54, and the drum 64b contacts the back surface of the substrate S4 separated by the separation roller 54, so The drum 64a and the drum 64b are to be transported and are disposed so as to sandwich the processing means 68 in a direction orthogonal to the transport direction of the base material.
Accordingly, the processing means 68 can be deposited on the surfaces of the base material S3 and the base material S4 which are arranged so as to face the surfaces of the base material S3 and the base material S4.

なお、処理装置50において、処理部56は、基材S3および基材S4の両方に成膜を行うのに限定はされず、基材の一方のみに成膜を行って、他方には、何も行わなくてもよい。
また、処理部56は、成膜ではなく、基材の表面処理を行うものであってもよく、成膜と表面処理との選択された処理を行うものであってもよい。この際には、処理部は、基材の一方のみに表面処理を行って、他方には、何も行わなくてもよく、また、基材の一方は表面処理を、他方には成膜を行ってもよい。なお、処理手段68が施す表面処理は、前記支持体14に施す各種の表面処理が例示される。
さらに、処理部56を複数設け、1枚の基材の表面に対して、成膜と表面処理の両方の処理を行ってもよく、複数層の成膜を行ってもよい。
In the processing apparatus 50, the processing unit 56 is not limited to forming a film on both the base material S3 and the base material S4. There is no need to do this.
Further, the processing unit 56 may perform a surface treatment of the base material instead of forming a film, or may perform a selected process of film formation and surface treatment. In this case, the processing unit performs the surface treatment on only one of the base materials, and does not need to perform anything on the other. Also, one of the base materials performs the surface treatment and the other forms a film. You may go. Examples of the surface treatment applied by the processing means 68 include various surface treatments applied to the support 14.
Further, a plurality of processing units 56 may be provided, and both the film formation and the surface treatment may be performed on the surface of a single substrate, or a plurality of layers may be formed.

処理部56で成膜を行われた基材S3および基材S4は、パスローラpに案内されて、積層ローラ58に搬送される。
積層ローラ58は、先の積層ローラ28と同様、2枚の長尺なシート状物を搬送しつつ積層するローラである。図3に示されるように、基材S3および基材S4は、互いに成膜された膜を対面しているので、積層ローラ58は、両基材を重ねることで、成膜された膜(その表面)を当接して、基材S3と基材S4とを積層する。
なお、必要に応じて、積層前に、基材S3および基材S4の少なくとも一方に、接着材や粘着材を塗布してもよい。
The base material S3 and the base material S4 on which film formation has been performed in the processing unit 56 are guided by the pass roller p and conveyed to the lamination roller 58.
The laminating roller 58 is a roller for laminating two long sheet-like materials while conveying the same as the laminating roller 28 described above. As shown in FIG. 3, since the base material S3 and the base material S4 face each other film formed, the laminating roller 58 overlaps the both base materials to form the film formed (that The base material S3 and the base material S4 are laminated.
In addition, you may apply | coat an adhesive material and an adhesive material to at least one of base material S3 and base material S4 before lamination | stacking as needed.

積層ローラ58によって積層された基材S3と基材S4との積層体は、パスローラpに案内されて、巻取り軸60によってロール状に巻回され、次工程等に供給される。
なお、本発明においては、この巻取り軸60で巻回したロールを原反ロールとして、再度、本発明の基板処理方法を実施する処理装置50(後述する処理装置74および処理装置80)によって、成膜等の処理を行ってもよい。
The laminate of the base material S3 and the base material S4 laminated by the lamination roller 58 is guided by the pass roller p, wound in a roll shape by the take-up shaft 60, and supplied to the next process or the like.
In the present invention, the roll wound by the winding shaft 60 is used as an original roll, and again by the processing apparatus 50 (the processing apparatus 74 and the processing apparatus 80 described later) for carrying out the substrate processing method of the present invention. Processing such as film formation may be performed.

以上の説明より明らかなように、本発明の原反ロールを用い、本発明の基材処理方法を実施する処理装置50によれば、基材S3および基材S4(基材S1および基材S2)は、被処理面を当接した積層された状態で供給されるので、分離ローラ54で分離されるまでは、パスローラpと基材の被処理面とが接触することがなく、パスローラpによる被処理面の損傷を、大幅に低減できる。
また、基材S3と基材S4とを(基材S1と基材S2とを)、成膜した膜(処理を施した面)を当接して積層し、この積層体をロール状に巻回するので、成膜した膜が基材の裏面と当接することがなく、裏面によって膜が損傷されるのを防止できる。さらに、積層した後は、成膜した膜がパスローラpと当接することが無いので、パスローラpによる膜表面の損傷も、大幅に低減できる。
しかも、本発明は、保護フィルムを用いることなく、基材表面および膜の保護を図ることができるので、製品コストも、大幅に低減できる。
As is clear from the above description, according to the processing apparatus 50 for performing the base material processing method of the present invention using the raw fabric roll of the present invention, the base material S3 and the base material S4 (base material S1 and base material S2). ) Is supplied in a stacked state in which the surface to be processed is in contact with each other, so that the pass roller p and the surface to be processed of the base material do not come into contact with each other until the separation roller 54 separates them. Damage to the surface to be processed can be greatly reduced.
Further, the base material S3 and the base material S4 (the base material S1 and the base material S2) are laminated by contacting the formed film (treated surface), and the laminate is wound in a roll shape. Therefore, the formed film does not come into contact with the back surface of the substrate, and the film can be prevented from being damaged by the back surface. Furthermore, since the deposited film does not come into contact with the pass roller p after lamination, damage to the film surface by the pass roller p can be greatly reduced.
Moreover, since the present invention can protect the substrate surface and the film without using a protective film, the product cost can be greatly reduced.

加えて、本発明によれば、RtoRによる一回の処理、すなわち原反ロールからの基材の送り出しから、処理済み基材の巻取りを1回行うことで、2枚の基材に同時に成膜を行うことができるので、生産性も向上できる。   In addition, according to the present invention, the processed substrate is wound once from one processing by RtoR, that is, the feeding of the substrate from the raw roll, so that two substrates are simultaneously formed. Since the film can be formed, productivity can be improved.

すなわち、発明によれば、基材や成膜した膜等の損傷が無い高品質な製品を、低コストで、かつ、高い生産性で製造することが可能となる。   That is, according to the invention, it is possible to manufacture a high-quality product that is free from damage to the base material, the formed film, and the like at low cost and with high productivity.

本発明の基材処理方法においては、基材に成膜等の処理を行った後で、かつ、積層ローラ58によって2枚の基材を積層する前に、少なくとも一方の基材に対して、成膜した膜の表面(処理を施された面の表面)に、積層を良好かつ確実に行うための、重ね合わせ用の前処理を行ってもよい。
なお、この重ね合わせ用の前処理は、前記原反ロール46を製造する製造装置20で、基材を積層する前においても、好適に利用可能である。
In the base material treatment method of the present invention, after performing processing such as film formation on the base material and before laminating the two base materials by the laminating roller 58, at least one base material, A pretreatment for overlaying may be performed on the surface of the formed film (the surface of the surface subjected to the treatment) for good and reliable lamination.
This pretreatment for superimposing can be suitably used even before the base material is laminated in the manufacturing apparatus 20 for producing the raw fabric roll 46.

重ね合わせ用の前処理は、一例として、2枚の基材の表面の密着性向上等を図る処理であって、基材に悪影響を与えない、各種の処理が利用可能である。一例として、プラズマ照射による表面の活性化、イオン照射による表面の活性化、基材表面の帯電処理等が例示される。また、後処理を不要にするために、重ね合わせ用の前処理は、乾式の処理であるのが好ましい。   The pretreatment for superimposing is, for example, a process for improving the adhesion between the surfaces of two substrates, and various processes that do not adversely affect the substrates can be used. As an example, surface activation by plasma irradiation, surface activation by ion irradiation, charging treatment of the substrate surface, and the like are exemplified. Further, in order to eliminate the need for post-processing, the pre-processing for superposition is preferably a dry process.

ここで、本発明の基材処理方法においては、分離ローラ54で分離した2枚の基材S3と基材S4に成膜等の処理を施した後に、再度、この2枚の基材を積層した際に、両基材
の搬送方向の相対位置が、原反ロール46の状態と一致していてもよく、また、異なっていてもよい。
すなわち、分離ローラ54での分離位置から、積層ローラ58での積層位置までの基材の搬送距離が、基材S3と基材S4とで、同じでもよく、あるいは、異なってもよい。
Here, in the base material processing method of the present invention, the two base materials S3 and S4 separated by the separation roller 54 are subjected to processing such as film formation, and then the two base materials are laminated again. In this case, the relative positions in the transport direction of both base materials may coincide with the state of the original fabric roll 46 or may be different.
That is, the conveyance distance of the base material from the separation position at the separation roller 54 to the lamination position at the lamination roller 58 may be the same or different between the base material S3 and the base material S4.

このように、分離位置から積層位置までの基材の搬送距離が、2枚の基材で異なる場合には、少なくとも搬送距離の長い基材に、重ね合わせ用の前処理を行うのが好ましい。
その一例の概念図を、図4に示す。なお、図4の処理装置74は、前述の図3に示す処理装置50と、ほぼ同じ部材で構成されるので、以下の説明は、異なる点を主に行う。
As described above, when the transport distance of the base material from the separation position to the stacking position differs between the two base materials, it is preferable to perform a pretreatment for superimposing at least the base material having a long transport distance.
The conceptual diagram of the example is shown in FIG. 4 is composed of substantially the same members as the processing apparatus 50 shown in FIG. 3 described above, the following description will mainly focus on differences.

先の処理装置50と同様、原反ロール46が回転軸52に装填されると、積層体12が引き出されて分離ローラ54に搬送され、基材S3と基材S4とに分離される。
分離された基材S3は、図中下方に搬送され、ドラム64aに巻き掛けられて搬送されつつ、基材S3に対応する処理手段68aによって成膜等の処理を施され、積層ローラ58に搬送される。
As with the previous processing apparatus 50, when the original fabric roll 46 is loaded on the rotating shaft 52, the laminate 12 is pulled out and conveyed to the separation roller 54 and separated into the base material S 3 and the base material S 4.
The separated base material S3 is transported downward in the figure, wound around the drum 64a, transported, and subjected to processing such as film formation by the processing means 68a corresponding to the base material S3, and transported to the laminating roller 58. Is done.

他方、分離された基材S4は、図中上方に搬送され、ドラム64bに巻き掛けられて搬送されつつ、基材S4に対応する処理手段68bによって成膜等の処理を施される。処理を施された基材S4は、原反ロール46を内包して1周回るように設けられた、基材S3よりも長い搬送経路を経て、積層ローラ58に搬送される。
ここで、ドラム64から積層ローラ58までの基材S4の搬送経路には、前述の重ね合わせ用の前処理を行うための前処理手段76が配置されている。基材S4は、長手方向に搬送されつつ、この前処理手段76によって、プラズマ照射による表面の活性化等の重ね合わせ用の前処理を施された後に、積層ローラ58に搬送される。
On the other hand, the separated base material S4 is transported upward in the drawing and is subjected to processing such as film formation by the processing means 68b corresponding to the base material S4 while being wound around the drum 64b and transported. The processed base material S4 is transported to the lamination roller 58 via a transport path longer than the base material S3, which is provided to enclose the raw fabric roll 46 and make one turn.
Here, in the conveyance path of the base material S4 from the drum 64 to the stacking roller 58, the pre-processing means 76 for performing the above-described pre-processing for superposition is arranged. The substrate S4 is conveyed in the longitudinal direction, and is subjected to a pretreatment for superposition such as surface activation by plasma irradiation by the pretreatment means 76 and then conveyed to the lamination roller 58.

積層ローラ58に搬送された基材S3および基材S4は、成膜された膜等の処理された面を当接して積層されて積層体とされ、次いで、この積層体が、巻取りローラ60によってロール状に巻回される。
ここで、図示例の処理装置74においては、基材S4が、前処理手段76によって重ね合わせ用の前処理を施されているので、より確実かつ好適に、2枚の基材の積層を行うことができる。
The base material S3 and the base material S4 conveyed to the laminating roller 58 are laminated by abutting the treated surfaces of the formed film and the like to form a laminated body, and this laminated body is then taken up by the take-up roller 60. Is wound into a roll.
Here, in the processing apparatus 74 of the illustrated example, the base material S4 is pre-processed for superposition by the pre-processing means 76, so that the two base materials are laminated more reliably and suitably. be able to.

以上の例は、成膜等の処理を施した基材を、処理を施した面を当接して積層して、この積層体をロール状に巻回しているが、本発明は、これに限定はされず、処理済みの基材を、別々にロール状に巻回してもよい。
例えば、図5に概念的に示す処理装置80のように、原反ロール46から引き出し、分離して、処理部56において処理した基材S3および基材S4を積層せず、基材S3は巻取り軸82で巻取り、基材S4は、別の巻取り軸84で巻き取ってもよい。
In the above example, the base material that has been subjected to processing such as film formation is laminated by contacting the surface that has been subjected to the processing, and this laminated body is wound in a roll shape, but the present invention is not limited thereto. The treated substrate may be separately wound into a roll.
For example, like the processing apparatus 80 conceptually shown in FIG. 5, the base material S3 and the base material S4 that are pulled out from the raw fabric roll 46, separated, and processed in the processing unit 56 are not stacked. The take-up shaft 82 may be wound, and the substrate S4 may be taken up by another take-up shaft 84.

以上、本発明の原反ロール、原反ロールの製造方法、および、基材処理方法について、詳細に説明したが、本発明は上述の例に限定はされず、本発明の要旨を逸脱しない範囲において、各種の改良や変更を行ってもよいのは、もちろんである。   As mentioned above, although the raw fabric roll of this invention, the manufacturing method of the raw fabric roll, and the base-material processing method were demonstrated in detail, this invention is not limited to the above-mentioned example, The range which does not deviate from the summary of this invention Of course, various improvements and changes may be made.

ガスバリアフィルム、各種の光学フィルム、各種ディスプレイ用の基板フィルム等の製造に、好適に利用可能である。   It can be suitably used for the production of gas barrier films, various optical films, substrate films for various displays, and the like.

10,12 積層体
14 支持体
16 機能層
20 製造装置
24 供給部
26,56 処理部
28,58 積層ローラ
30,60,82,84 巻取り軸
32 支持体ロール
34,52 回転軸
38a,38b,64a,64b ドラム
40,68(68a,68b) 処理手段
46 原反ロール
50,74,80 処理装置
54 分離ローラ
76 前処理手段
DESCRIPTION OF SYMBOLS 10,12 Laminated body 14 Support body 16 Functional layer 20 Manufacturing apparatus 24 Supply part 26,56 Processing part 28,58 Laminated roller 30,60,82,84 Winding shaft 32 Support body roll 34,52 Rotating shaft 38a, 38b, 64a, 64b Drum 40, 68 (68a, 68b) Processing means 46 Original fabric roll 50, 74, 80 Processing device 54 Separating roller 76 Preprocessing means

Claims (16)

長尺な2枚のシート状の基材を、被処理面を当接した状態で重ね合わせ、ロール状に巻回してなることを特徴とする合わせ原反ロール。   A laminated original fabric roll comprising two long sheet-like base materials which are overlapped with a surface to be processed in contact with each other and wound into a roll shape. 前記2枚の基材の少なくとも一方が、支持体の表面に成膜を施されたものであり、かつ、この膜の表面が被処理面である請求項1に記載の原反ロール。   The raw fabric roll according to claim 1, wherein at least one of the two substrates is formed by forming a film on the surface of a support, and the surface of the film is a surface to be treated. 前記2枚の基材の少なくとも一方が、被処理面に表面処理を施されたものである請求項1または2に記載の原反ロール。   The raw roll according to claim 1 or 2, wherein at least one of the two substrates is a surface to be treated. 前記2枚の基材の少なくとも一方が、被処理面と、被処理面の逆面とで、表面粗さおよび表面の固さの少なくとも一方が異なる請求項1〜3のいずれかに記載の原反ロール。   The raw material according to any one of claims 1 to 3, wherein at least one of the two substrates is a surface to be processed and a surface opposite to the surface to be processed, and at least one of surface roughness and surface hardness is different. Anti-roll. 長尺なシート状の基材をロール状に巻回してなる2本の基材ロールから、前記基材を引き出し、2枚の基材を搬送しつつ、互いの被処理面を当接した状態で2枚の基材を重ね合わせ、2枚の基材を重ね合わせたまま、ロール状に巻回することを特徴とする原反ロールの製造方法。   A state in which the substrate is pulled out from two substrate rolls formed by winding a long sheet-like substrate into a roll shape, and the surfaces to be processed are in contact with each other while the two substrates are being conveyed. A method for producing a raw roll, characterized in that the two substrates are overlapped and wound into a roll shape while the two substrates are overlapped. 基材ロールから基材を引き出して、2枚の基材を重ね合わせるまでの間に、少なくとも一方の基材の一面に成膜を行い、成膜した膜の表面を被処理面とする請求項5に記載の原反ロールの製造方法。   A method of forming a film on one surface of at least one of the substrates until the substrate is pulled out from the substrate roll and overlapping the two substrates, and the surface of the formed film is a surface to be processed. The manufacturing method of the raw fabric roll of 5. 基材ロールから基材を引き出して、2枚の基材を重ね合わせるまでの間に、少なくとも一方の基材の被処理面に、表面処理を行う請求項5または6に記載の原反ロールの製造方法。   The raw fabric roll according to claim 5 or 6, wherein a surface treatment is performed on at least one of the surfaces to be treated until the substrate is pulled out from the substrate roll and the two substrates are overlapped. Production method. 基材ロールから基材を引き出して、2枚の基材を重ね合わせるまでの間に、少なくとも一方の基材の被処理面に、重ね合わせ用の前処理を施す請求項5〜7のいずれかに記載の原反ロールの製造方法。   Any one of claims 5 to 7, wherein a pretreatment for superimposing is performed on a surface to be treated of at least one base material until the base material is pulled out from the base material roll and the two base materials are superposed. The manufacturing method of the fabric roll as described in 2. 請求項1〜4のいずれかに記載の原反ロールから、2枚の基材の積層体を引き出して、長手方向に搬送しつつ、個々の基材に分離し、各基材の被処理面に処理を施すことを特徴とする基材処理方法。   A laminate of two base materials is pulled out from the raw roll according to any one of claims 1 to 4, and separated into individual base materials while being conveyed in the longitudinal direction, and the surface to be processed of each base material The base-material processing method characterized by performing processing to. 各基材の被処理面に前記処理を施した後に、処理を施した面を当接して前記2枚の基材を重ね合わせて、再度、ロール状に巻回する請求項9に記載の基材処理方法。   The base according to claim 9, wherein the surface to be processed of each base material is subjected to the processing, and then the processed surfaces are brought into contact with each other so that the two base materials are superposed and wound into a roll shape again. Material processing method. 前記2枚の基材を重ね合わせた際に、各基材の搬送方向の相対位置が、前記原反ロールの状態と一致している請求項10に記載の基材処理方法。   The base material processing method according to claim 10, wherein when the two base materials are superposed, a relative position in a transport direction of each base material coincides with a state of the raw roll. 前記2枚の基材を重ね合わせた際に、各基材の搬送方向の相対位置が、前記原反ロールの状態と異なる請求項10に記載の基材処理方法。   The base material processing method according to claim 10, wherein when the two base materials are overlapped, a relative position in a transport direction of each base material is different from a state of the raw roll. 前記基材の被処理面に処理を施した後で、かつ、処理した面を当接して前記2枚の基材を重ね合わせる前に、少なくとも一方の基材の前記処理を施した面に、重ね合わせ用の前処理を施す請求項9〜12のいずれかに記載の基材処理方法。   After the treatment of the surface to be treated of the base material, and before the two surfaces of the two base materials are brought into contact with each other, the surface of the at least one base material subjected to the treatment, The substrate processing method according to any one of claims 9 to 12, wherein a pretreatment for superposition is performed. 前記基材の被処理面に処理を施す位置から、重ね合わせる位置までの搬送距離が、2枚の基材で互いに異なり、少なくとも搬送距離が長い方の基材には、前記重ね合わせ用の前処理を施す請求項13に記載の基材処理方法。   The transport distance from the position where the surface to be treated of the base material is processed to the superposition position is different between the two base materials, and at least the base material with the longer transport distance is The substrate processing method of Claim 13 which performs a process. 各基材の被処理面に前記処理を施した後に、各基材を別々にロール状に巻回する請求項9に記載の基材処理方法。   The base material processing method according to claim 9, wherein the base material is separately wound into a roll after the surface is subjected to the treatment. 前記基材の被処理面に施す処理が、成膜および表面処理の少なくとも一方である請求項9〜15のいずれかに記載の基材処理方法。   The substrate processing method according to claim 9, wherein the treatment applied to the surface of the substrate is at least one of film formation and surface treatment.
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