JP2012037609A - Manufacturing method and device of pellicle - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は、リソグラフィ用のペリクルの製造方法および装置に関するものであり、さらに詳細には、ペリクルフレームの内壁面に、薄い粘着剤層をコーティングすることによって、フォトマスクやレチクルなど(本明細書においては、これらを総称して、「フォトマスク」と称する。)にゴミなどの異物が付着することを効果的に防止することができ、ペリクルの歩留まりを向上させることができるリソグラフィ用のペリクルの製造方法および装置に関するものである。 The present invention relates to a method and apparatus for manufacturing a pellicle for lithography, and more specifically, by coating a thin adhesive layer on the inner wall surface of a pellicle frame, a photomask, a reticle, etc. Are collectively referred to as a “photomask”), and it is possible to effectively prevent foreign substances such as dust from adhering to the lithographic pellicle, which can effectively improve the yield of the pellicle. It relates to a method and a device.
LSI、超LSIなどの半導体デバイスあるいは液晶ディスプレー(本明細書においては、総称して、「半導体デバイス」という。)を製造するにあたっては、半導体ウエハーあるいは液晶用原板に塗布されたフォトレジスト膜に、露光用原版であるフォトマスクを介して、露光用の光が照射されて、フォトマスクのパターンが転写され、半導体デバイスのパターンが形成される。 In manufacturing a semiconductor device such as LSI or VLSI or a liquid crystal display (collectively referred to as “semiconductor device” in this specification), a photoresist film applied to a semiconductor wafer or a liquid crystal original plate is applied to a photoresist film. Light for exposure is irradiated through a photomask that is an exposure master, the pattern of the photomask is transferred, and the pattern of the semiconductor device is formed.
したがって、この場合に、フォトマスクにゴミなどの異物が付着していると、フォトマスクの表面に付着したゴミなどの異物によって、露光用の光が反射され、あるいは、吸収されるため、半導体ウエハーあるいは液晶用原板に転写されたパターンが変形したり、パターンのエッジ部分が不鮮明になるだけでなく、下地が黒く汚れて、寸法、品質、外観などを損ない、半導体ウエハーあるいは液晶用原板に、所望のように、フォトマスクのパターンを転写することができず、半導体デバイスあるいは液晶ディスプレーの性能が低下し、歩留まりが悪化するという問題があった。 Therefore, in this case, if foreign matter such as dust adheres to the photomask, the exposure light is reflected or absorbed by foreign matter such as dust attached to the surface of the photomask. Alternatively, the pattern transferred to the liquid crystal master plate may be deformed or the edge of the pattern may be unclear, and the substrate may be black and dirty, losing dimensions, quality, appearance, etc. As described above, there is a problem that the pattern of the photomask cannot be transferred, the performance of the semiconductor device or the liquid crystal display is lowered, and the yield is deteriorated.
かかる問題を防止するために、半導体ウエハーあるいは液晶用原板の露光は、クリーンルーム内で行われるが、それでも、フォトマスクの表面に異物が付着することを完全に防止することは困難であるため、通常は、フォトマスクの表面に、露光用の光に対し高い透過率を有するペリクルと呼ばれる防塵カバーを取り付けて、半導体ウエハーあるいは液晶用原板を露光するように構成されている。 In order to prevent such a problem, the exposure of the semiconductor wafer or the liquid crystal master plate is performed in a clean room, but it is still difficult to completely prevent foreign matter from adhering to the surface of the photomask. Is configured such that a dust-proof cover called a pellicle having a high transmittance with respect to light for exposure is attached to the surface of a photomask to expose a semiconductor wafer or a liquid crystal master.
一般に、ペリクルは、露光用の光に対し高い透過率を有するニトロセルロース、酢酸セルロースなどのセルロース系樹脂やフッ化樹脂などによって作製されたペリクル膜を、アルミニウム、ステンレス、ポリエチレンなどによって形成されたペリクルフレームの一方の面に、ペリクル膜材料の良溶媒を塗布し、ペリクル膜を風乾して、接着するか、アクリル樹脂、エポキシ樹脂やフッ素樹脂などの接着剤を用いて接着し、ペリクルフレームの他方の面に、ポリブテン樹脂、ポリ酢酸ビニル樹脂、アクリル樹脂、シリコーン樹脂などからなり、フォトマスクに付着させるための粘着層を形成し、さらに、粘着層上に、粘着層保護用の離型層ないしセパレータを設けることによって、作製されている(特許文献1、2、3および4)。
In general, a pellicle is made of a pellicle film made of a cellulose resin such as nitrocellulose or cellulose acetate or a fluororesin having a high transmittance with respect to light for exposure. Apply a good solvent for the pellicle film material to one side of the frame, and air-dry the pellicle film for adhesion, or adhere using an adhesive such as acrylic resin, epoxy resin, or fluororesin. The adhesive layer is made of polybutene resin, polyvinyl acetate resin, acrylic resin, silicone resin, etc. on the surface, and an adhesive layer for adhering to the photomask is formed. Further, on the adhesive layer, a release layer for protecting the adhesive layer or It is produced by providing a separator (
このように構成されたペリクルをフォトマスクの表面に取り付けて、半導体ウエハーあるいは液晶用原板を露光する場合には、ゴミなどの異物は、ペリクルの表面に付着し、フォトマスクの表面には直接付着しないため、フォトマスクに形成されたパターン上に、焦点が位置するように、露光用の光を照射すれば、ゴミなどの異物の影響を除去することが可能になる。 When a pellicle configured in this way is attached to the surface of a photomask and a semiconductor wafer or liquid crystal master is exposed, foreign substances such as dust adhere to the surface of the pellicle and directly adhere to the surface of the photomask. Therefore, if the exposure light is irradiated so that the focal point is positioned on the pattern formed on the photomask, the influence of foreign matters such as dust can be removed.
多くの場合、フォトマスクに対向するペリクルのペリクルフレームの内壁面には、薄い粘着剤層がコーティングされる。 In many cases, a thin adhesive layer is coated on the inner wall surface of the pellicle frame of the pellicle facing the photomask.
これは、ペリクルとフォトマスクとの間の密閉された空間に、ゴミなどの異物が存在している場合に、ペリクルフレームの内壁面に形成された薄い粘着剤層によって、ゴミなどの異物を捕捉し、フォトマスクのパターン面へのゴミなどの異物の付着を防止するためである(特許文献5)。 This is because foreign substances such as dust are captured by the thin adhesive layer formed on the inner wall surface of the pellicle frame when foreign objects such as dust are present in the sealed space between the pellicle and the photomask. In order to prevent foreign matters such as dust from adhering to the pattern surface of the photomask (Patent Document 5).
また、ペリクルフレームの内壁面に薄い粘着剤層がコーティングするもう一つの目的としては、アルミニウム、ステンレス、ポリエチレンなどによって形成されたペリクルフレーム自体からゴミなどの異物が発生することを防止することが挙げられる。ペリクルフレームはペリクルの製造前に精密洗浄され、清浄なものが使用されるが、一般的に用いられているアルミニウム合金製のペリクルフレームは表面に形成されるアルマイト皮膜につや消し処理のための凹凸(ショットブラスト跡)や微細なクラックなどが存在し、これらの凹凸や微細なクラック中に保持されたゴミなどの異物がフォトマスクの表面に付着することがあるため、ペリクルフレームの内壁面に薄い粘着剤層を形成して、ペリクルフレームの凹凸や微細なクラック中に保持されたゴミなどの異物がフォトマスクの表面に付着することが防止されている。 Another object of coating the inner wall surface of the pellicle frame with a thin adhesive layer is to prevent foreign matter such as dust from being generated from the pellicle frame itself formed of aluminum, stainless steel, polyethylene or the like. It is done. The pellicle frame is precision-cleaned before the manufacture of the pellicle, and a clean pellicle frame is used. However, a commonly used aluminum pellicle frame has an anodized coating on the surface with an uneven surface for matting ( Shot blast marks) and fine cracks, etc., and foreign matters such as dust held in these irregularities and fine cracks may adhere to the surface of the photomask. An agent layer is formed to prevent foreign matters such as dust held in the unevenness and fine cracks of the pellicle frame from adhering to the surface of the photomask.
ペリクルフレームの内壁面に粘着剤を塗布して、薄い粘着剤層を形成する方法としては、ディップコーティング法、バーコーティング法、ローラーコーティング法、刷毛塗りコーティング法、スプレーコーティング法などが、従来から用いられている。 As a method of forming a thin adhesive layer by applying an adhesive to the inner wall surface of the pellicle frame, the dip coating method, bar coating method, roller coating method, brush coating method, spray coating method, etc. have been used conventionally. It has been.
これらのコーティング法のうち、スプレーコーティング法は、均一なコーティング層を形成することが容易であるだけでなく、被コーティング面に、コーティング装置の一部が接触することなく、コーティング液でコーティングすることができ、被コーティング面に、コーティング装置の一部が接触することに起因して、ゴミなどの異物がペリクルフレーム内壁面上のコーティング層に付着することがないという利点があるため、ペリクルフレームの内壁面のコーティング方法として広く用いられている。 Among these coating methods, the spray coating method is not only easy to form a uniform coating layer, but also coats the surface to be coated with a coating solution without contacting a part of the coating apparatus. Since there is an advantage that foreign matter such as dust does not adhere to the coating layer on the inner wall surface of the pellicle frame due to a part of the coating apparatus coming into contact with the surface to be coated. Widely used as a coating method for inner wall surfaces.
近年、半導体デバイスはますます高集積化、微細化して来ており、それにともなって、フォトマスクのパターンサイズも微細化し、フォトマスク上に貼り付けるペリクルについても非常に高い防塵能力が要求されるようになっている。 In recent years, semiconductor devices have been increasingly integrated and miniaturized, and accordingly, the photomask pattern size has also been miniaturized, and the pellicle to be attached on the photomask is required to have a very high dustproof capability. It has become.
ペリクルはフォトマスク表面へのゴミなどの異物の付着を防止するためのものであるから、ゴミなどの異物が付着しないように、慎重に製造されるが、ペリクルの製造工程中に、ペリクル表面、とくに、ペリクルフレームの表面に、微小なゴミなどの異物が付着することを完全に防止することはきわめて困難であり、したがって、ペリクルフレームの内壁面に粘着剤層を形成して、微小なゴミなどの異物を捕捉し、フォトマスク上に落下するのを防止することは、ペリクルを製造する際の歩留まりを向上させる上で、重要な役割を担っている。 Since the pellicle is intended to prevent foreign matter such as dust from adhering to the photomask surface, it is carefully manufactured so that foreign matter such as dust does not adhere, but during the manufacturing process of the pellicle, In particular, it is extremely difficult to completely prevent foreign matter such as fine dust from adhering to the surface of the pellicle frame. Therefore, an adhesive layer is formed on the inner wall surface of the pellicle frame, so In order to improve the yield when manufacturing the pellicle, it is important to capture the foreign matter and prevent it from falling on the photomask.
上述のように、ペリクルフレームの内壁面に粘着剤層を形成する方法としては、スプレーコーティング法が最も優れているが、スプレーコーティング法は、ペリクルフレームの内壁面に、コーティング装置の一部が接触することなく、コーティング液でコーティングすることができるという利点を有している一方で、ノズルから噴射された粘着剤溶液中の溶媒が、ノズルとペリクルフレームと間で揮発し、粘着剤濃度が高くなった状態で、粘着剤溶液がペリクルフレームの内壁面にコーティングされるため、粘着剤溶液中の固形分が半乾燥状態で、ペリクルフレームの内壁面に付着したり、図1に示されるように、ペリクルフレームの内壁面1に、ブラスト処理によって凹凸パターンが形成されている場合には、ペリクルフレームの内壁面1の凹部に形成された粘着剤層2中に、気泡3が巻き込まれることがあった。
As described above, the spray coating method is the best method for forming the adhesive layer on the inner wall surface of the pellicle frame. However, in the spray coating method, a part of the coating device contacts the inner wall surface of the pellicle frame. The solvent in the adhesive solution sprayed from the nozzle volatilizes between the nozzle and the pellicle frame, and the adhesive concentration is high. In this state, since the adhesive solution is coated on the inner wall surface of the pellicle frame, the solid content in the adhesive solution is semi-dried and adheres to the inner wall surface of the pellicle frame, as shown in FIG. When an uneven pattern is formed on the
このように、粘着剤層2中に、気泡3が巻き込まれると、一般にペリクルフレーム内壁面の検査は暗室内で集光ランプを用いて行われることが多いため、比較的大きな異物がペリクルフレームの内壁面1に付着したように見えることがしばしばあり、ゴミなどの異物との判別が困難なため、製造したペリクルが不良と判断され、ペリクルの歩留まりを低下させる要因になって、コストを低減させる上での障害になっていた。
As described above, when the
したがって、本発明は、ペリクルフレームの内壁面に、薄い粘着剤層をコーティングすることによって、フォトマスクにゴミなどの異物が付着することを効果的に防止することができ、リソグラフィ用ペリクルの歩留まりを向上させることができるリソグラフィ用のペリクルの製造方法を提供することにある。 Therefore, the present invention can effectively prevent foreign substances such as dust from adhering to the photomask by coating a thin adhesive layer on the inner wall surface of the pellicle frame, and the yield of the pellicle for lithography can be reduced. It is an object of the present invention to provide a method for manufacturing a pellicle for lithography that can be improved.
本発明の別の目的は、本発明は、ペリクルフレームの内壁面に、薄い粘着剤層をコーティングすることによって、フォトマスクにゴミなどの異物が付着することを効果的に防止することができ、リソグラフィ用ペリクルの歩留まりを向上させることができるリソグラフィ用のペリクルの製造装置を提供することにある。 Another object of the present invention is to effectively prevent foreign matter such as dust from adhering to the photomask by coating a thin adhesive layer on the inner wall surface of the pellicle frame. An object of the present invention is to provide a lithography pellicle manufacturing apparatus capable of improving the yield of the lithography pellicle.
本発明のかかる目的は、粘着剤溶液を噴射する第一のスプレーノズルと、前記粘着剤溶液の溶媒または前記粘着剤を溶解する溶媒を噴射する第二のスプレーノズルとを備えたスプレーノズルセットを少なくとも1セット用いて、ペリクルフレームの内壁面に向けて、前記粘着剤溶液と前記溶媒を噴射して、前記ペリクルフレームの前記内壁面に粘着剤層を形成することを特徴とするリソグラフィ用ペリクルの製造方法によって達成される。 An object of the present invention is to provide a spray nozzle set including a first spray nozzle for injecting an adhesive solution and a second spray nozzle for injecting a solvent for the adhesive solution or a solvent for dissolving the adhesive. A lithography pellicle characterized in that at least one set is used to spray the adhesive solution and the solvent toward the inner wall surface of the pellicle frame to form an adhesive layer on the inner wall surface of the pellicle frame. This is achieved by the manufacturing method.
本発明によれば、第一のスプレーノズルから噴射された粘着剤溶液の溶媒が、ペリクルフレームの内壁面にコーティングされるまでに揮発し、粘着剤溶液中の粘着剤濃度が高くなって、気泡が巻き込まれた場合でも、第二のスプレーノズルから、粘着剤溶液の溶媒または粘着剤を溶解する溶媒が噴射されるから、ペリクルフレームの内壁面に形成された粘着剤層中の粘着剤濃度が高くなることを効果的に防止することが可能になるとともに、粘着剤層中に巻き込まれた気泡を溶解することができ、リソグラフィ用ペリクルの歩留まりを向上させることが可能になる。 According to the present invention, the solvent of the adhesive solution sprayed from the first spray nozzle volatilizes until the inner wall surface of the pellicle frame is coated, and the concentration of the adhesive in the adhesive solution increases, Since the solvent of the pressure-sensitive adhesive solution or the solvent that dissolves the pressure-sensitive adhesive is sprayed from the second spray nozzle, the pressure-sensitive adhesive concentration in the pressure-sensitive adhesive layer formed on the inner wall surface of the pellicle frame can be reduced. It is possible to effectively prevent the increase in height, and it is possible to dissolve bubbles entrained in the pressure-sensitive adhesive layer, thereby improving the yield of the lithography pellicle.
本発明において、粘着剤はとくに限定されるものではなく、スプレーコーティング装置によって、噴霧できる濃度に希釈することができる粘着剤であればよく、たとえば、シリコーン系粘着剤、アクリル系粘着剤などを用いることができる。 In the present invention, the pressure-sensitive adhesive is not particularly limited, and may be any pressure-sensitive adhesive that can be diluted to a sprayable concentration by a spray coating apparatus. For example, a silicone pressure-sensitive adhesive or an acrylic pressure-sensitive adhesive is used. be able to.
本発明の好ましい実施態様においては、前記少なくとも1セットのスプレーノズルセットに含まれる前記第一のスプレーノズルと前記第二のスプレーノズルとが、前記粘着剤層の形成方向に沿って、所定の間隔で配置されている。 In a preferred embodiment of the present invention, the first spray nozzle and the second spray nozzle included in the at least one set of spray nozzles are spaced apart along a direction in which the adhesive layer is formed. Is arranged in.
本発明のさらに好ましい実施態様においては、前記第一のスプレーノズルから、前記ペリクルフレームの前記内壁面に向けて、前記粘着剤溶液を噴射してから、所定の時間内に、前記第二のスプレーノズルから、前記粘着剤溶液の溶媒または前記粘着剤を溶解する溶媒を、前記ペリクルフレームの前記内壁面に向けて噴射するように構成されている。 In a further preferred aspect of the present invention, the second spray is applied within a predetermined time after the adhesive solution is sprayed from the first spray nozzle toward the inner wall surface of the pellicle frame. A solvent for the adhesive solution or a solvent for dissolving the adhesive is jetted from the nozzle toward the inner wall surface of the pellicle frame.
本発明のさらに好ましい実施態様においては、前記少なくとも1セットのスプレーノズルセットに含まれる前記第一のスプレーノズルと前記第二のスプレーノズルとが、前記粘着剤層の形成方向に沿って、往復動されるように構成されている。 In a further preferred embodiment of the present invention, the first spray nozzle and the second spray nozzle included in the at least one set of spray nozzles reciprocate along the direction of formation of the adhesive layer. It is configured to be.
本発明のさらに好ましい実施態様においては、前記第一のスプレーノズルからの前記粘着剤溶液の噴射と、前記第二のスプレーノズルからの前記溶媒の噴射とが交互に実行されるように構成されている。 In a further preferred embodiment of the present invention, the adhesive solution spray from the first spray nozzle and the solvent spray from the second spray nozzle are alternately executed. Yes.
本発明の前記目的はまた、ペリクルフレームの内壁面に向けて粘着剤溶液を噴射する第一のスプレーノズルと、ペリクルフレームの内壁面に向けて前記粘着剤溶液の溶媒または前記粘着剤を溶解する溶媒を噴射する第二のスプレーノズルとを備えたスプレーノズルセットを少なくとも1セット備え、前記少なくとも1セットのスプレーノズルセットに含まれる前記第一のスプレーノズルと前記第二のスプレーノズルとを往復動させる手段を備えたことを特徴とするリソグラフィ用ペリクルの製造装置によって達成される。 The object of the present invention is also to dissolve the solvent of the adhesive solution or the adhesive toward the inner wall surface of the pellicle frame, and a first spray nozzle that sprays the adhesive solution toward the inner wall surface of the pellicle frame. At least one spray nozzle set including a second spray nozzle for injecting a solvent is provided, and the first spray nozzle and the second spray nozzle included in the at least one spray nozzle set are reciprocated. This is achieved by an apparatus for manufacturing a pellicle for lithography, characterized in that it comprises means for causing the above.
本発明によれば、ペリクルフレームの内壁面に、薄い粘着剤層をコーティングすることによって、フォトマスクにゴミなどの異物が付着することを効果的に防止することができ、リソグラフィ用ペリクルの歩留まりを向上させることができるリソグラフィ用のペリクルの製造方法を提供することが可能になる。 According to the present invention, by coating the inner wall surface of the pellicle frame with a thin adhesive layer, it is possible to effectively prevent foreign substances such as dust from adhering to the photomask, and to improve the yield of the pellicle for lithography. It is possible to provide a method for manufacturing a pellicle for lithography that can be improved.
さらに、本発明によれば、ペリクルフレームの内壁面に、薄い粘着剤層をコーティングすることによって、フォトマスクにゴミなどの異物が付着することを効果的に防止することができ、リソグラフィ用ペリクルの歩留まりを向上させることができるリソグラフィ用のペリクルの製造装置を提供することが可能になる。 Furthermore, according to the present invention, by coating a thin pressure-sensitive adhesive layer on the inner wall surface of the pellicle frame, it is possible to effectively prevent foreign substances such as dust from adhering to the photomask. A pellicle manufacturing apparatus for lithography that can improve the yield can be provided.
図2は、本発明の好ましい実施態様にかかるペリクルの製造方法に用いられるスプレーコーティング装置の略平面図である。 FIG. 2 is a schematic plan view of a spray coating apparatus used in a method for manufacturing a pellicle according to a preferred embodiment of the present invention.
図2に示されるように、本実施態様にかかるペリクルの製造方法に用いられるスプレーコーティング装置は、第一のスプレーノズル11および第二のスプレーノズル12からなるスプレーノズルセット10を備えている。
As shown in FIG. 2, the spray coating apparatus used in the method for manufacturing a pellicle according to this embodiment includes a spray nozzle set 10 including a
スプレーノズルセット10の第一のスプレーノズル11は、ペリクルフレーム20の内壁面1にコーティングすべき粘着剤溶液を、ペリクルフレーム20の内壁面1に向けて、噴射するように構成され、スプレーノズルセット10の第二のスプレーノズル12は、ペリクルフレーム20の内壁面1にコーティングすべき粘着剤溶液の溶媒を、ペリクルフレーム20の内壁面1に向けて、噴射するように構成されている。
The
スプレーノズルセット10の第一のスプレーノズル11から噴射される粘着剤溶液は、ペリクルフレーム20の内壁面1にコーティングされたときに、ペリクルフレーム20の内壁面1から垂れ落ちない程度の濃度である必要があり、これに対して、スプレーノズルセット10の第二のスプレーノズル12から噴射される溶媒量は、ペリクルフレーム20の内壁面1にコーティングされた粘着剤溶液の濃度が所定の濃度になるように選択される。
The pressure-sensitive adhesive solution sprayed from the
第一のスプレーノズル11および第二のスプレーノズル12からなるスプレーノズルセット10は、図2において矢印Aまたは矢印Bで示されるの方向に、所定の速度V(mm/sec)で往復動可能なリニアステージ15に、所定の間隔D(mm)を隔てて、取付けられている。ここに、所定の間隔Dおよび所定の速度Vは、第一のスプレーノズル11から、ペリクルフレーム20の内壁面1に向けて粘着剤溶液が噴射され、ペリクルフレーム20の内壁面1に形成された粘着剤層中の粘着剤濃度が、溶媒の揮発によって、所定濃度以上になる前に、第二のスプレーノズル12から、粘着剤溶液の溶媒がペリクルフレーム20の内壁面1に噴射されるように設定されており、第一のスプレーノズル11から、ペリクルフレーム20の内壁面1に向けて、粘着剤溶液が噴射されてから、数秒以内に、第二のスプレーノズル12から、ペリクルフレーム20の内壁面1にコーティングされた粘着剤層に向けて、粘着剤溶液の溶媒が噴射されるように、所定の間隔Dおよび所定の速度Vが設定されることが好ましい。
The spray nozzle set 10 including the
図3は、本実施態様にかかるスプレーコーティング装置の略側面図である。 FIG. 3 is a schematic side view of the spray coating apparatus according to this embodiment.
図3に示されるように、第一のスプレーノズル11および第二のスプレーノズル12からなるスプレーノズルセット10は、ペリクルフレーム20の上方に位置し、水平面に対して、θの角度をなすように位置している。ここに、θは0度ないし90度の範囲内の角度である。
As shown in FIG. 3, the spray nozzle set 10 including the
本実施態様にかかるスプレーコーティング装置においては、リニアステージ15が、図2において矢印Aまたは矢印Bで示される方向に往復動するように構成されており、したがって、ペリクルフレーム20の一辺の内壁面1に向けて、第一のスプレーノズル11から粘着剤溶液が噴射され、第二のスプレーノズル12から粘着剤溶液の溶媒が噴射されつつ、ペリクルフレーム20の一辺に沿って、第一のスプレーノズル11および第二のスプレーノズル12からなるスプレーノズルセット10が往復動するように構成されている。
In the spray coating apparatus according to this embodiment, the
以上のように構成されたスプレーコーティング装置は、以下のようにして、粘着剤溶液および粘着剤溶液の溶媒を、ペリクルフレーム20の内壁面1に向けて噴射して、ペリクルフレーム20の内壁面1上に粘着剤層2を形成する。
The spray coating apparatus configured as described above sprays the pressure-sensitive adhesive solution and the solvent of the pressure-sensitive adhesive solution toward the
図4ないし図6は、ペリクルフレーム20の一辺の内壁面1上に粘着剤層を形成するステップを表わす工程図である。
4 to 6 are process diagrams showing steps of forming an adhesive layer on the
図4には、スプレーノズルセット10が初期位置に位置している状態が示され、まず、図4に示されるように、第一のスプレーノズル11が、粘着剤溶液をコーティングすべきペリクルフレーム20の内壁面1の一方の端部に対向するように、第一のスプレーノズル11および第二のスプレーノズル12からなるスプレーノズルセット10が位置決めされ、次いで、第一のスプレーノズル11からの粘着剤溶液の噴射が開始される。
FIG. 4 shows a state in which the spray nozzle set 10 is located at the initial position. First, as shown in FIG. 4, the
同時に、リニアステージ15の図4ないし図6において矢印Aで示される方向への移動が開始される。この時点では、第二のスプレーノズル12からは、粘着剤溶液の溶媒が噴射されていない。
At the same time, the movement of the
リニアステージ15が、所定の速度V(mm/sec)で、矢印Aで示される方向に移動され、第一のスプレーノズル11からの粘着剤溶液の噴射が開始されてから、所定時間D/V秒が経過すると、すなわち、第二のスプレーノズル12が、ペリクルフレーム20の内壁面1の一方の端部に対向する位置に達すると、第二のスプレーノズル12から粘着剤溶液の溶媒の噴射が開始される。
The
図5は、リニアステージ15が、ペリクルフレーム20の一辺に沿って、矢印Aで示される方向に移動している状態を示すものである。
FIG. 5 shows a state in which the
図5に示されるように、ペリクルフレーム20の一辺の内壁面1には、まず、第一のスプレーノズル11から粘着剤溶液が噴射されて、粘着剤層2が形成され、そのD/V秒後に、第二のスプレーノズル12から粘着剤溶液の溶媒が噴射される。
As shown in FIG. 5, an adhesive solution is first sprayed from the
したがって、第一のスプレーノズル11から噴射された粘着剤溶液によって形成された粘着剤層2に含まれる溶媒が揮発しても、粘着剤層2中の粘着剤濃度が所定濃度になる前に、第二のスプレーノズル12から粘着剤層2に向けて、粘着剤溶液の溶媒が噴射され、粘着剤層2に含まれる粘着剤濃度の上昇が防止されるから、ブラスト処理によって凹凸状のパターンが形成されているペリクルフレーム20の内壁面1に粘着剤層2を形成する場合においても、粘着剤層2中に気泡が巻き込まれることを効果的に防止することができ、粘着剤層2中に気泡が巻き込まれた場合にも、第二のスプレーノズル12から噴射される粘着剤溶液の溶媒によって、気泡が溶解され、したがって、リソグラフィー用のペリクルの歩留まりを向上させることが可能になる。
Therefore, even if the solvent contained in the
図6は、リニアステージ15が、図6において矢印Aで示される方向に移動されて、ペリクルフレーム20の一辺の内壁面1に粘着剤層2が形成され、第二のスプレーノズル12がペリクルフレーム20の内壁面1の他方の端部に対向する位置に達する直前の状態を示す図面である。
In FIG. 6, the
この時点では、第一のスプレーノズル11は、ペリクルフレーム20の内壁面1の他方の端部を通り過ぎ、ペリクルフレーム20の内壁面1に対向しておらず、第一のスプレーノズル11からの粘着剤溶液の噴射は停止され、第二のスプレーノズル12から、粘着剤溶液の溶媒のみがペリクルフレーム20の内壁面1に噴射されている。
At this time, the
こうして、リニアステージ15がさらに矢印Aで示される方向に移動して、第二のスプレーノズル12がペリクルフレーム20の内壁面1の他方の端部に対向する位置に達すると、リニアステージ15が停止されるとともに、第二のスプレーノズル12からの粘着剤溶液の溶媒の噴射が停止される。
Thus, when the
この状態では、ペリクルフレーム20の内壁面1には粘着剤層2が形成されており、形成された粘着剤層2が所望の厚さを有しているときには、第一のスプレーノズル11からの粘着剤溶液の噴射および第二のスプレーノズル12からの粘着剤溶液の溶媒の噴射が完了する。
In this state, the pressure-
これに対して、ペリクルフレーム20の内壁面1に粘着剤層2が形成されたが、その厚さが所望の厚さ未満のときは、リニアステージ15が、図4ないし図6において、矢印Bで示される方向に移動され、スプレーノズルセット10が図4に示される初期位置に復帰する。
On the other hand, the pressure-
次いで、上述したのと同様にして、ペリクルフレーム20の内壁面1に粘着剤層2が形成される。
Next, the
このようにして、ペリクルフレーム20の内壁面1に所定の厚さの粘着剤層2が形成されるまで、リニアステージ15が往復動されて、ペリクルフレーム20の一辺の内壁面1上に粘着剤層2が形成される。
In this way, the
ペリクルフレーム20の他の三辺の内壁面1上にも、全く同様にして、粘着剤層2が形成される。
The pressure-
本実施態様によれば、ペリクルフレーム20の内壁面1に、第一のスプレーノズル11から噴射された粘着剤溶液によって、粘着剤層2が形成された後、粘着剤層2中の溶媒が揮発することによって、粘着剤層2中の粘着剤濃度は上昇するが、粘着剤層2中の粘着剤濃度が所定濃度になる前に、第二のスプレーノズル12から粘着剤溶液の溶媒が、粘着剤層2に向けて、噴射され、粘着剤層2中の粘着剤濃度が低下されるから、ブラスト処理によって凹凸状のパターンが形成されているペリクルフレーム20の内壁面1に粘着剤層2を形成する場合においても、粘着剤層2中に気泡が巻き込まれることを効果的に防止することができ、粘着剤層2中に気泡が巻き込まれた場合にも、第二のスプレーノズル12から噴射される粘着剤溶液の溶媒によって、気泡が溶解されるから、所望のように、ペリクルフレーム20の内壁面1に、粘着剤層2を形成することができ、フォトマスクにゴミなどの異物が付着することを効果的に防止することが可能になり、リソグラフィ用ペリクルの歩留まりを向上させることが可能になる。
According to this embodiment, after the
ここに、半導体デバイス用のペリクルの場合には、ペリクルサイズが150mm前後であるから、無駄に粘着剤溶液を噴射することを防止し、コストアップを防止するとともに、粘着剤溶液がペリクルフレームの周辺部分に飛散して、製品自体を汚染したり、製品に欠陥を作ったりすることを防止するために、第一のスプレーノズル11と第二のスプレーノズル12との間の間隔Dは数cm以内に設定することが好ましい。
Here, in the case of a pellicle for a semiconductor device, since the pellicle size is around 150 mm, the pressure-sensitive adhesive solution is prevented from being sprayed unnecessarily, and the cost is prevented. The distance D between the
以下、本発明の効果を明らかにするため、実施例および比較例を掲げる。 Hereinafter, in order to clarify the effects of the present invention, examples and comparative examples will be given.
実施例1
150mm×124mmのアルミニウム合金A7075製の枠に、黒色アルマイト処理を加えて、ペリクルフレームを作製した。
Example 1
A black alumite treatment was added to a 150 mm × 124 mm aluminum alloy A7075 frame to produce a pellicle frame.
こうして得られたペリクルフレームを超純水中にて洗浄し、乾燥した後に、ペリクルフレームの外側面を保持するサブホルダーにセットした。 The pellicle frame thus obtained was washed in ultrapure water, dried, and then set on a sub-holder that holds the outer surface of the pellicle frame.
次いで、2つの精密コーティング用のスプレーノズルを、50mmの間隔をあけて、単軸ロボットに取り付け、0.1μmのエアフィルターおよびクリーンレギュレーターを介して、元圧0.3MPaのエア源に接続した。スプレーノズルとしては、アネスト岩田株式会社製のエアブラシ「HP−BC1P」(商品名)を用いた。 Next, two spray nozzles for precision coating were attached to a single-axis robot with an interval of 50 mm, and connected to an air source with an original pressure of 0.3 MPa via a 0.1 μm air filter and a clean regulator. An air brush “HP-BC1P” (trade name) manufactured by Anest Iwata Co., Ltd. was used as the spray nozzle.
粘着剤コーティング溶液として、濃度が0.1%のシリコーン粘着剤のトルエン溶液を用意した。また、溶媒として、粘着剤コーティング溶液の溶媒と同じトルエンを用意した。シリコーン粘着剤としては、信越化学工業株製「KR3700」(商品名)を用いた。 As the adhesive coating solution, a toluene solution of a silicone adhesive having a concentration of 0.1% was prepared. Moreover, the same toluene as the solvent of the adhesive coating solution was prepared as a solvent. As the silicone adhesive, “KR3700” (trade name) manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. was used.
シリコーン粘着剤のトルエン溶液を溶液カートリッジに充填するとともに、トルエンを溶媒カートリッジに充填し、それぞれ、第一のスプレーノズルおよび第二のスプレーノズルにセットした。 The toluene solution of the silicone adhesive was filled into the solution cartridge, and toluene was filled into the solvent cartridge, and set in the first spray nozzle and the second spray nozzle, respectively.
単軸ロボットと平行に、ペリクルフレームが取り付けられたサブホルダーを配置し、ペリクルフレームの内寸と同じサイズのマスキングカバーを用いて、第一のスプレーノズルから噴射されるシリコーン粘着剤のトルエン溶液および第二のスプレーノズルから噴射されるトルエンがペリクルフレームの内壁面以外の部分に飛散しないようにカバーした後、第一のスプレーノズルからシリコーン粘着剤のトルエン溶液を噴射し、第二のスプレーノズからトルエンを噴射しつつ、単軸ロボットを、ペリクルフレームの一辺に沿って、10cm/秒の速度で、5回にわたって往復動させて、ペリクルフレームの一辺の内壁面に、シリコーン粘着剤層を形成した。 In parallel with the single-axis robot, a sub-holder to which the pellicle frame is attached is arranged, and using a masking cover having the same size as the inner dimension of the pellicle frame, a toluene solution of silicone adhesive sprayed from the first spray nozzle and After covering the toluene sprayed from the second spray nozzle so that it does not scatter to the part other than the inner wall surface of the pellicle frame, the toluene solution of the silicone adhesive is sprayed from the first spray nozzle, and the toluene is sprayed from the second spray nozzle. The single-axis robot was reciprocated five times along one side of the pellicle frame at a speed of 10 cm / second to form a silicone adhesive layer on the inner wall surface of one side of the pellicle frame.
さらに、ペリクルフレームの他の三辺の内壁面に、全く同様にして、シリコーン粘着剤層を形成した。 Further, a silicone pressure-sensitive adhesive layer was formed on the inner wall surfaces of the other three sides of the pellicle frame in the same manner.
こうして、シリコーン粘着剤層が形成されたペリクルフレームの内壁面を、集光ランプを用いて、暗室内で検査したところ、シリコーン粘着剤層に異物と思われるものは認められず、平滑なシリコーン粘着剤層をコーティングすることができた。 Thus, when the inner wall surface of the pellicle frame on which the silicone adhesive layer was formed was inspected in a dark room using a condensing lamp, no silicone adhesive layer was found to be a foreign substance. The agent layer could be coated.
同じ試験を50のサンプルについて行ったが、シリコーン粘着剤層に異物と思われるものは認められなかった。 The same test was performed on 50 samples, but no silicone adhesive layer was considered to be a foreign substance.
比較例
150mm×124mmのアルミニウム合金A7075製の枠に、黒色アルマイト処理を加えて、ペリクルフレームを作製した。
Comparative Example A black alumite treatment was added to a frame made of aluminum alloy A7075 of 150 mm × 124 mm to produce a pellicle frame.
こうして得られたペリクルフレームを超純水中にて洗浄し、乾燥した後に、ペリクルフレームの外側面を保持するサブホルダーにセットした。 The pellicle frame thus obtained was washed in ultrapure water, dried, and then set on a sub-holder that holds the outer surface of the pellicle frame.
次いで、精密コーティング用のスプレーノズルを、50mmの間隔をあけて、単軸ロボットに取り付け、0.1μmのエアフィルターおよびリーンレギュレーターを介して、元圧0.3MPaのエア源に接続した。スプレーノズルとしては、アネスト岩田株式会社製のエアブラシ「HP−BC1P」(商品名)を用いた。 Next, a spray nozzle for precision coating was attached to a single-axis robot with an interval of 50 mm, and connected to an air source with an original pressure of 0.3 MPa via a 0.1 μm air filter and a lean regulator. An air brush “HP-BC1P” (trade name) manufactured by Anest Iwata Co., Ltd. was used as the spray nozzle.
粘着剤コーティング溶液として、濃度が0.1%のシリコーン粘着剤のトルエン溶液を用意した。シリコーン粘着剤としては、信越化学工業株製「KR3700」(商品名)を用いた。 As the adhesive coating solution, a toluene solution of a silicone adhesive having a concentration of 0.1% was prepared. As the silicone adhesive, “KR3700” (trade name) manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. was used.
シリコーン粘着剤のトルエン溶液をカートリッジに充填し、スプレーノズルにセットした。 The cartridge was filled with a toluene solution of silicone adhesive and set in a spray nozzle.
単軸ロボットと平行に、ペリクルフレームが取り付けられたサブホルダーを配置し、ペリクルフレームの内寸と同じサイズのマスキングカバーを用いて、スプレーノズルから噴射されるシリコーン粘着剤のトルエン溶液がペリクルフレームの内壁面以外の部分に飛散しないようにカバーした後、スプレーノズルからシリコーン粘着剤のトルエン溶液を噴射しつつ、単軸ロボットを、ペリクルフレームの一辺に沿って、10cm/秒の速度で、5回にわたって往復動させて、ペリクルフレームの一辺の内壁面に、シリコーン粘着剤層を形成した。 A sub-holder with a pellicle frame attached is placed in parallel with the single-axis robot, and using a masking cover of the same size as the inner size of the pellicle frame, the toluene solution of silicone adhesive sprayed from the spray nozzle is attached to the pellicle frame. After covering so as not to scatter on the part other than the inner wall surface, the single-axis robot is moved along the side of the pellicle frame 5 times at a speed of 10 cm / second while spraying the toluene solution of the silicone adhesive from the spray nozzle. The silicone pressure-sensitive adhesive layer was formed on the inner wall surface of one side of the pellicle frame.
さらに、ペリクルフレームの他の三辺の内壁面に、全く同様にして、シリコーン粘着剤層を形成した。 Further, a silicone pressure-sensitive adhesive layer was formed on the inner wall surfaces of the other three sides of the pellicle frame in the same manner.
こうして、シリコーン粘着剤層が形成されたペリクルフレームの内壁面を、集光ランプを用いて、暗室内で検査したところ、シリコーン粘着剤層に異物と思われるものが1つあることが認められた。 Thus, when the inner wall surface of the pellicle frame on which the silicone pressure-sensitive adhesive layer was formed was inspected in a dark room using a condensing lamp, it was found that the silicone pressure-sensitive adhesive layer had one that appeared to be a foreign object. .
さらに、異物と思われるものを、光学顕微鏡によって観察したところ、ペリクルフレームの内壁面の凹凸部に微小な気泡が付着していることが判明した。 Furthermore, when what was considered to be a foreign substance was observed with an optical microscope, it was found that minute bubbles were attached to the uneven portions of the inner wall surface of the pellicle frame.
同じ試験を50のサンプルについて行ったところ、6個のサンプルで、シリコーン粘着剤層に気泡の付着が認められた。 When the same test was performed on 50 samples, adhesion of bubbles to the silicone pressure-sensitive adhesive layer was observed in 6 samples.
さらに、スプレーノズルの間隔および単軸ロボットの往復動速度を変えて、それぞれ、50のサンプルにつき、同じ試験をした。 Furthermore, the same test was performed on 50 samples, respectively, with different spray nozzle spacings and reciprocating speeds of the single axis robot.
試験結果は表1に示されている。 The test results are shown in Table 1.
本発明は、以上の実施態様に限定されることなく、特許請求の範囲に記載された発明の範囲内で種々の変更が可能であり、それらも本発明の範囲内に包含されるものであることはいうまでもない。 The present invention is not limited to the above-described embodiments, and various modifications are possible within the scope of the invention described in the claims, and these are also included in the scope of the present invention. Needless to say.
たとえば、図1ないし図7に示された実施態様においては、第二のスプレーノズル12から粘着剤溶液の溶媒を噴射するように構成されているが、第二のスプレーノズル12から粘着剤溶液の溶媒を噴射することは必ずしも必要でなく粘着剤溶液の溶媒に代えて、第二のスプレーノズル12から粘着剤を溶解する溶媒を噴射するように構成することもできる。
For example, in the embodiment shown in FIGS. 1 to 7, the adhesive solution solvent is ejected from the
さらに、前記実施態様および実施例においては、スプレーコーティング装置は、第一のスプレーノズル11および第二のスプレーノズル12からなる1セットのスプレーノズルセット10を備えているが、それぞれが第一のスプレーノズル11および第二のスプレーノズル12からなる2セット以上のスプレーノズルセット10を備えていてもよい。
Furthermore, in the said embodiment and Example, although the spray coating apparatus is provided with one set of the spray nozzle set 10 which consists of the
また、前記実施態様においては、第一のスプレーノズル11および第二のスプレーノズル12からなる1セットのスプレーノズルセット10がリニアステージ15に取付けられて、リニアステージ15によって往復動され、前記実施例においては、単軸ロボットに取付けられて、単軸ロボットによって往復動されるように構成されているが、リニアステージ15や単軸ロボットを用いて、第一のスプレーノズル11および第二のスプレーノズル12からなる1セットのスプレーノズルセット10を往復動させることは必ずしも必要でなく、他の機械的手段によって、第一のスプレーノズル11および第二のスプレーノズル12を往復動させてもよく、さらには、手動で往復動させるようにしてもよい。
Moreover, in the said embodiment, one set of the spray nozzle set 10 which consists of the
さらに、前記実施例においては、第一のスプレーノズル11および第二のスプレーノズル12を往復動させているが、第一のスプレーノズル11および第二のスプレーノズル12を一方向に移動させつつ、ペリクルフレーム20の内壁面1に向けて、粘着剤溶液を噴射した結果、所望の厚さを有する粘着剤層2が形成される場合には、第一のスプレーノズル11および第二のスプレーノズル12を往復動させることは必要でない。
Furthermore, in the said Example, although the
1 ペリクルフレームの内壁面
2 粘着剤層
3 気泡
10 スプレーノズルセット
11 第一のスプレーノズル
12 第二のスプレーノズル
15 リニアステージ
20 ペリクルフレーム
DESCRIPTION OF
Claims (6)
A first spray nozzle for injecting an adhesive solution toward the inner wall surface of the pellicle frame; and a second spray for injecting a solvent for the adhesive solution or a solvent for dissolving the adhesive toward the inner wall surface of the pellicle frame. At least one set of spray nozzles including nozzles, and means for reciprocating the first spray nozzle and the second spray nozzle included in the at least one set of spray nozzles. An apparatus for manufacturing a pellicle for lithography.
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---|---|---|---|---|
JP2013015710A (en) * | 2011-07-05 | 2013-01-24 | Shin Etsu Chem Co Ltd | Pellicle and manufacturing method thereof |
Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0876362A (en) * | 1994-09-05 | 1996-03-22 | Mitsui Petrochem Ind Ltd | Coating method of protective film on pellicle frame of mask protecting device |
JPH095983A (en) * | 1995-06-16 | 1997-01-10 | Mitsui Petrochem Ind Ltd | Pellicle frame of mask protective device and its production |
JPH10228100A (en) * | 1997-02-10 | 1998-08-25 | Micro Lithography Inc | Fitting system for optical pellicle |
JP2008175874A (en) * | 2007-01-16 | 2008-07-31 | Shin Etsu Chem Co Ltd | Application method of pressure-sensitive adhesive on pellicle frame inner face |
JP2008176102A (en) * | 2007-01-19 | 2008-07-31 | Shin Etsu Chem Co Ltd | Method for applying film adhesive on pellicle frame |
-
2010
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Patent Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0876362A (en) * | 1994-09-05 | 1996-03-22 | Mitsui Petrochem Ind Ltd | Coating method of protective film on pellicle frame of mask protecting device |
JPH095983A (en) * | 1995-06-16 | 1997-01-10 | Mitsui Petrochem Ind Ltd | Pellicle frame of mask protective device and its production |
JPH10228100A (en) * | 1997-02-10 | 1998-08-25 | Micro Lithography Inc | Fitting system for optical pellicle |
JP2008175874A (en) * | 2007-01-16 | 2008-07-31 | Shin Etsu Chem Co Ltd | Application method of pressure-sensitive adhesive on pellicle frame inner face |
JP2008176102A (en) * | 2007-01-19 | 2008-07-31 | Shin Etsu Chem Co Ltd | Method for applying film adhesive on pellicle frame |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2013015710A (en) * | 2011-07-05 | 2013-01-24 | Shin Etsu Chem Co Ltd | Pellicle and manufacturing method thereof |
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