JP2012023135A - Semiconductor module, and method of manufacturing semiconductor module - Google Patents

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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a semiconductor module and a method of manufacturing the semiconductor module capable of suppressing increase of manufacturing processes and increase in a material cost.SOLUTION: A method of manufacturing a semiconductor module includes: a step of preparing a metal plate having first and second electrode planes 110 and 120 arranged on both sides of a slit on the same plane level, and in which the first electrode plane 110 and the second electrode plane 120 are coupled partially by a coupling region bridged above a slit; a step of electrically connecting a first main electrode 21 to the first electrode plane 110 and connecting a second main electrode 22 to the second electrode plane 120 by a solder reflow in order to mount a semiconductor device 20 having the first and second main electrodes 21 and 22 on the metal plate; and a step of cutting the coupling region to separate the first electrode plane 110 and the second electrode plane 120 from each other.

Description

本発明は、半導体装置を搭載した半導体モジュール及び半導体モジュールの製造方法に関する。   The present invention relates to a semiconductor module on which a semiconductor device is mounted and a method for manufacturing the semiconductor module.

TO−263などのマウントタイプの半導体装置、例えばダイオードを実装するために、プリント基板が使用されている。プリント基板に配置された配線パターンによって半導体装置が相互に接続され、或いは半導体装置に電源が供給される。また、導体部と絶縁樹脂ブロックと弾性体(ばね)とを組み合わせた3つの部品からなる実装構造によって電気的な導通と半導体装置の放熱の機能を兼ねたヒートシンクを実現する半導体モジュールが提案されている(例えば、特許文献1参照。)。   A printed circuit board is used to mount a mount type semiconductor device such as TO-263, for example, a diode. The semiconductor devices are connected to each other by a wiring pattern arranged on the printed circuit board, or power is supplied to the semiconductor device. In addition, a semiconductor module has been proposed that realizes a heat sink that combines the functions of electrical conduction and heat dissipation of a semiconductor device by a mounting structure composed of three parts combining a conductor portion, an insulating resin block, and an elastic body (spring). (For example, refer to Patent Document 1).

特許第3482198号公報Japanese Patent No. 3482198

しかしながら、半導体装置に大電流を流す場合には、プリント基板の配線パターンに使用される銅箔のインピーダンスによる発熱に対応するために、銅箔の面積を大きくする必要がある。このため、プリント基板の面積が大きくなる。   However, when a large current is passed through the semiconductor device, it is necessary to increase the area of the copper foil in order to cope with heat generation due to the impedance of the copper foil used for the wiring pattern of the printed circuit board. For this reason, the area of a printed circuit board becomes large.

また、3つの部品からなる上記の実装構造を実現するためには、それら3つの部品を組み合わせて固定する必要があり、複雑な形状の絶縁樹脂ブロックと弾性体を用意しなければならない。このため、材料費が高価である。更に、実装構造の外形が大きくなってしまう。また、半導体装置のリードをプリント基板に半田付けしなければならず、更に、他回路との接続のために半田後付けなどの追加工程を要する。このため、製造工程が増大するという問題があった。   In order to realize the above-described mounting structure composed of three parts, it is necessary to fix these three parts in combination, and an insulating resin block and an elastic body having a complicated shape must be prepared. For this reason, material cost is expensive. Furthermore, the outer shape of the mounting structure becomes large. In addition, the lead of the semiconductor device must be soldered to the printed circuit board, and an additional process such as post soldering is required for connection with other circuits. For this reason, there existed a problem that a manufacturing process increased.

上記問題点に鑑み、本発明は、製造工程の増大が抑制され、且つ材料費の増大が抑制された半導体モジュール及び半導体モジュールの製造方法を提供することを目的とする。   In view of the above problems, an object of the present invention is to provide a semiconductor module in which an increase in manufacturing process is suppressed and an increase in material cost is suppressed, and a method for manufacturing the semiconductor module.

本発明の一態様によれば、スリットを挟んで同一平面レベルに配置された第1及び第2の電極面を有し、第1の電極面と第2の電極面とがスリットに架橋された連結領域によって部分的に連結された金属板を準備するステップと、第1の主電極を第1の電極面に、第2の主電極を第2の電極面に、半田リフローによってそれぞれ電気的に接続して、第1及び第2の主電極を有する半導体装置を金属板に実装するステップと、連結領域を切断して第1の電極面と第2の電極面とを分離するステップとを含む半導体モジュールの製造方法が提供される。   According to one aspect of the present invention, the first and second electrode surfaces are disposed on the same plane level with the slit interposed therebetween, and the first electrode surface and the second electrode surface are bridged by the slit. Preparing a metal plate partially connected by a connection region; electrically connecting the first main electrode to the first electrode surface and the second main electrode to the second electrode surface by solder reflow; Connecting and mounting the semiconductor device having the first and second main electrodes on the metal plate, and cutting the connection region to separate the first electrode surface and the second electrode surface. A method for manufacturing a semiconductor module is provided.

本発明の他の態様によれば、第1の電極面を有する第1の金属電極板と、第1の電極面と同一平面レベルに配置された第2の電極面を有する第2の金属電極板と、第1の電極面に接続された第1の主電極、及び第2の電極面に接続された第2の主電極を有する半導体装置とを備え、第1の金属電極板が第2の金属電極板に対向する領域から第2の金属電極板に向かう第1の突起を有し、第2の金属電極板が第1の金属電極板に対向する領域から第1の金属電極板に向かう第2の突起を有する半導体モジュールが提供される。   According to another aspect of the present invention, a first metal electrode plate having a first electrode surface and a second metal electrode having a second electrode surface disposed on the same plane level as the first electrode surface. A semiconductor device having a plate, a first main electrode connected to the first electrode surface, and a second main electrode connected to the second electrode surface, the first metal electrode plate being the second The first metal electrode plate has a first protrusion from the region facing the metal electrode plate toward the second metal electrode plate, and the second metal electrode plate is opposed to the first metal electrode plate. A semiconductor module is provided having a second projection directed toward it.

本発明によれば、製造工程の増大が抑制され、且つ材料費の増大が抑制された半導体モジュール及び半導体モジュールの製造方法を提供できる。   ADVANTAGE OF THE INVENTION According to this invention, the increase in a manufacturing process is suppressed and the manufacturing method of a semiconductor module and the increase in material cost can be provided.

図1(a)は本発明の実施形態に係る半導体モジュールの構造を示す模式な斜視図であり、図1(b)は絶縁ブッシュの構造を示す模式図である。FIG. 1A is a schematic perspective view showing a structure of a semiconductor module according to an embodiment of the present invention, and FIG. 1B is a schematic view showing a structure of an insulating bush. 図1(a)に示した半導体モジュールの平面図である。It is a top view of the semiconductor module shown to Fig.1 (a). 図3(a)は図2に示した半導体モジュールの正面図であり、図3(b)は側面図である。3A is a front view of the semiconductor module shown in FIG. 2, and FIG. 3B is a side view. 図4(a)は本発明の実施形態に係る半導体モジュールの電気回路の例であり、図4(b)は電気回路の他の例である。FIG. 4A is an example of an electric circuit of the semiconductor module according to the embodiment of the present invention, and FIG. 4B is another example of the electric circuit. 本発明の実施形態に係る半導体モジュールの電気回路の他の例である。It is another example of the electric circuit of the semiconductor module which concerns on embodiment of this invention. 本発明の実施形態に係る半導体モジュールの製造方法を説明するための工程図であり、図6(a)は平面図、図6(b)は正面図である(その1)。It is process drawing for demonstrating the manufacturing method of the semiconductor module which concerns on embodiment of this invention, Fig.6 (a) is a top view, FIG.6 (b) is a front view (the 1). 本発明の実施形態に係る半導体モジュールの製造方法を説明するための工程図であり、図7(a)は平面図、図7(b)は正面図である(その2)。FIGS. 7A and 7B are process diagrams for explaining a method of manufacturing a semiconductor module according to an embodiment of the present invention, FIG. 7A is a plan view, and FIG. 7B is a front view (No. 2). 本発明の実施形態に係る半導体モジュールの製造方法を説明するための工程図であり、図8(a)は平面図、図8(b)は正面図である(その3)。It is process drawing for demonstrating the manufacturing method of the semiconductor module which concerns on embodiment of this invention, Fig.8 (a) is a top view, FIG.8 (b) is a front view (the 3). 本発明の実施形態に係る半導体モジュールの他の構造を示す模式的な斜視図である。It is a typical perspective view which shows the other structure of the semiconductor module which concerns on embodiment of this invention. 発明の実施形態に係る半導体モジュールに使用される金属板の連結領域の他の例を示す模式的な平面図である。It is a typical top view which shows the other example of the connection area | region of the metal plate used for the semiconductor module which concerns on embodiment of invention. 本発明の実施形態に係る半導体モジュールの凸部の形成方法を説明するための模式的な断面図である。It is typical sectional drawing for demonstrating the formation method of the convex part of the semiconductor module which concerns on embodiment of this invention. 本発明の実施形態の変形例に係る半導体モジュールの構造を示す平面図である。It is a top view which shows the structure of the semiconductor module which concerns on the modification of embodiment of this invention. 図13(a)は図12に示した半導体モジュールの正面図であり、図13(b)は側面図である。FIG. 13A is a front view of the semiconductor module shown in FIG. 12, and FIG. 13B is a side view. 図14(a)は本発明の他の実施形態に係る半導体モジュールの構造を示す平面図であり、図14(b)は正面図である。FIG. 14A is a plan view showing the structure of a semiconductor module according to another embodiment of the present invention, and FIG. 14B is a front view. 本発明の他の実施形態に係る半導体モジュールの電気回路の例である。It is an example of the electric circuit of the semiconductor module which concerns on other embodiment of this invention.

次に、図面を参照して、本発明の実施形態を説明する。以下の図面の記載において、同一又は類似の部分には同一又は類似の符号を付している。ただし、図面は模式的なものであり、厚みと平面寸法との関係、各層の厚みの比率等は現実のものとは異なることに留意すべきである。したがって、具体的な厚みや寸法は以下の説明を参酌して判断すべきものである。又、図面相互間においても互いの寸法の関係や比率が異なる部分が含まれていることはもちろんである。   Next, an embodiment of the present invention will be described with reference to the drawings. In the following description of the drawings, the same or similar parts are denoted by the same or similar reference numerals. However, it should be noted that the drawings are schematic, and the relationship between the thickness and the planar dimensions, the ratio of the thickness of each layer, and the like are different from the actual ones. Therefore, specific thicknesses and dimensions should be determined in consideration of the following description. Moreover, it is a matter of course that portions having different dimensional relationships and ratios are included between the drawings.

又、以下に示す実施形態は、この発明の技術的思想を具体化するための装置や方法を例示するものであって、この発明の技術的思想は、構成部品の材質、形状、構造、配置等を下記のものに特定するものでない。この発明の実施形態は、特許請求の範囲において、種々の変更を加えることができる。   The following embodiments exemplify apparatuses and methods for embodying the technical idea of the present invention, and the technical idea of the present invention is the material, shape, structure, and arrangement of components. Etc. are not specified below. The embodiment of the present invention can be variously modified within the scope of the claims.

本発明の実施形態に係る半導体モジュール1を図1(a)、図1(b)、図2、図3(a)及び図3(b)に示す。以下において、図2に示したx方向からみた図を半導体モジュール1の正面図、y方向からみた図を半導体モジュール1の側面図とする。   A semiconductor module 1 according to an embodiment of the present invention is shown in FIGS. 1 (a), 1 (b), 2, 3 (a) and 3 (b). 2 is a front view of the semiconductor module 1 as viewed from the x direction, and a side view of the semiconductor module 1 as viewed from the y direction.

半導体モジュール1は、第1の電極面110を有する第1の金属電極板11と、第1の電極面110と同一平面レベルに配置された第2の電極面120を有する第2の金属電極板12と、第1の電極面110に接続された第1の主電極21、及び第2の電極面120に接続された第2の主電極22を有する半導体装置20とを備える。更に、第1の金属電極板11が、第2の金属電極板12に対向する領域から第2の金属電極板12に向かう第1の突起111を有する。そして、第2の金属電極板12が、第1の金属電極板11に対向する領域から第1の金属電極板11に向かう第2の突起121を有する。   The semiconductor module 1 includes a first metal electrode plate 11 having a first electrode surface 110 and a second metal electrode plate having a second electrode surface 120 arranged on the same plane level as the first electrode surface 110. 12 and a semiconductor device 20 having a first main electrode 21 connected to the first electrode surface 110 and a second main electrode 22 connected to the second electrode surface 120. Further, the first metal electrode plate 11 has a first protrusion 111 directed from the region facing the second metal electrode plate 12 toward the second metal electrode plate 12. Then, the second metal electrode plate 12 has a second protrusion 121 directed from the region facing the first metal electrode plate 11 toward the first metal electrode plate 11.

図1(a)、図1(b)、図2、図3(a)及び図3(b)に示した半導体モジュール1は、一つの第2の金属電極板12の両側に第1の金属電極板11が配置された構造である。第2の金属電極板12と第1の金属電極板11との間に、それぞれ3個の半導体装置20が互いに並列に接続されている。ただし、第1の金属電極板11と第2の金属電極板12の個数は上記に限られない。更に、並列に接続される半導体装置20の個数は3に限られない。   The semiconductor module 1 shown in FIGS. 1 (a), 1 (b), 2, 3 (a) and 3 (b) has a first metal on both sides of one second metal electrode plate 12. In this structure, the electrode plate 11 is arranged. Three semiconductor devices 20 are connected in parallel to each other between the second metal electrode plate 12 and the first metal electrode plate 11. However, the number of the first metal electrode plates 11 and the second metal electrode plates 12 is not limited to the above. Further, the number of semiconductor devices 20 connected in parallel is not limited to three.

半導体装置20は、例えばダイオードである。半導体装置20がダイオードである場合、例えば第1の主電極21はアノード電極、第2の主電極22はカソード電極である。この場合、カソード電極が第2の金属電極板12に接し、且つ電気的に接続されて、ダイオードが第2の金属電極板12上に配置され、且つダイオードのアノード電極である第1の主電極21によって第1の金属電極板11に電気的に接続されている。したがって、図1(a)に示した半導体モジュール1は、ダイオードがそれぞれ3個並列に配置された2の装置列が、カソード電極共通に接続された構成である。ただし、半導体モジュール1が、第1の主電極21がカソード電極、第2の主電極22がアノード電極である複数のダイオードをアノード電極を共通に接続した構成であってもよい。図3(a)の符号23は、半導体装置20の放熱フィンである金属部分を示す。   The semiconductor device 20 is, for example, a diode. When the semiconductor device 20 is a diode, for example, the first main electrode 21 is an anode electrode, and the second main electrode 22 is a cathode electrode. In this case, the cathode electrode is in contact with and electrically connected to the second metal electrode plate 12, the diode is disposed on the second metal electrode plate 12, and the first main electrode which is the anode electrode of the diode 21 is electrically connected to the first metal electrode plate 11. Therefore, the semiconductor module 1 shown in FIG. 1A has a configuration in which two device rows each having three diodes arranged in parallel are connected in common to the cathode electrode. However, the semiconductor module 1 may have a configuration in which a plurality of diodes in which the first main electrode 21 is a cathode electrode and the second main electrode 22 is an anode electrode are connected in common to the anode electrode. Reference numeral 23 in FIG. 3A denotes a metal portion that is a heat radiation fin of the semiconductor device 20.

半導体モジュール1は、半導体装置20に対向する位置に配置されるように、第1の金属電極板11及び第2の金属電極板12に接続された冷却装置30を更に備える。冷却装置30は、半導体装置20で発生する熱を放熱する。具体的には、第1の金属電極板11及び第2の金属電極板12と冷却装置30とを電気的に絶縁する絶縁シート31を介して、冷却装置30が第1の金属電極板11及び第2の金属電極板12に固定されている。なお、図1(a)は絶縁シート31及び冷却装置30が装着されていない状態を示す。   The semiconductor module 1 further includes a cooling device 30 connected to the first metal electrode plate 11 and the second metal electrode plate 12 so as to be disposed at a position facing the semiconductor device 20. The cooling device 30 radiates heat generated in the semiconductor device 20. Specifically, the cooling device 30 is connected to the first metal electrode plate 11 and the second metal electrode plate 12 via the insulating sheet 31 that electrically insulates the cooling device 30 from the first metal electrode plate 11 and the second metal electrode plate 12. It is fixed to the second metal electrode plate 12. FIG. 1A shows a state where the insulating sheet 31 and the cooling device 30 are not mounted.

絶縁シート31及び冷却装置30は、固定用ネジ41及び絶縁ブッシュ43によって第1の金属電極板11に固定され、固定用ネジ42及び絶縁ブッシュ43によって第2の金属電極板12に固定されている。絶縁ブッシュ43は、固定用ネジ41と第1の金属電極板11とが直接に接触しないように固定用ネジ41と第1の金属電極板11間に配置される。同様に、固定用ネジ42と第2の金属電極板12間に絶縁ブッシュ43が配置される。例えば図1(b)に示すように、チューブ状の絶縁ブッシュ43が固定用ネジ41、42の頭部の下面と軸を覆うことにより、固定用ネジ41と第1の金属電極板11とが電気的に絶縁され、固定用ネジ42と第2の金属電極板12とが電気的に絶縁される。   The insulating sheet 31 and the cooling device 30 are fixed to the first metal electrode plate 11 by fixing screws 41 and an insulating bush 43, and are fixed to the second metal electrode plate 12 by fixing screws 42 and the insulating bush 43. . The insulating bush 43 is disposed between the fixing screw 41 and the first metal electrode plate 11 so that the fixing screw 41 and the first metal electrode plate 11 do not directly contact each other. Similarly, an insulating bush 43 is disposed between the fixing screw 42 and the second metal electrode plate 12. For example, as shown in FIG. 1B, the tube-shaped insulating bush 43 covers the lower surface of the head of the fixing screws 41 and 42 and the shaft so that the fixing screw 41 and the first metal electrode plate 11 are connected. The fixing screw 42 and the second metal electrode plate 12 are electrically insulated from each other.

半導体装置20がダイオードである場合の、図1(a)に示した半導体モジュール1の電気回路の例を図4(a)、図4(b)に示す。ここで、第1の主電極21がアノード電極、第2の主電極22がカソード電極であるとする。ただし、既に述べたように、半導体モジュール1が、ダイオードをアノード電極を共通に接続した構成であってもよい。その場合の電気回路の例を図5に示す。   Examples of the electric circuit of the semiconductor module 1 shown in FIG. 1A when the semiconductor device 20 is a diode are shown in FIGS. 4A and 4B. Here, it is assumed that the first main electrode 21 is an anode electrode and the second main electrode 22 is a cathode electrode. However, as already described, the semiconductor module 1 may have a configuration in which a diode and an anode electrode are connected in common. An example of the electric circuit in that case is shown in FIG.

図4(a)、図4(b)、図5において破線で囲まれた部分が半導体モジュール1である。図4(a)、図4(b)、図5に示した例は、半導体モジュール1が、1次側コイル51及び2次側コイル52を有するトランス50の2次側コイル52の出力を整流する回路である。   A portion surrounded by a broken line in FIGS. 4A, 4 </ b> B, and 5 is the semiconductor module 1. In the example shown in FIGS. 4A, 4B, and 5, the semiconductor module 1 rectifies the output of the secondary side coil 52 of the transformer 50 having the primary side coil 51 and the secondary side coil 52. Circuit.

第1の金属電極板11及び第2の金属電極板12には、一般的なプリント基板よりも熱伝導性の高い材料、例えば銅(Cu)板やアルミニウム(Al)板などを採用可能である。これにより、半導体装置20で発生する熱を効率よく放熱できる。   For the first metal electrode plate 11 and the second metal electrode plate 12, a material having higher thermal conductivity than a general printed circuit board, for example, a copper (Cu) plate or an aluminum (Al) plate can be adopted. . Thereby, the heat generated in the semiconductor device 20 can be radiated efficiently.

第1の金属電極板11の第1の電極面110の表面において、第1の主電極21との接続部分の周囲に凸部100が配置されている。同様に、第2の金属電極板の第2の電極面120の表面において、半導体装置20の第2の主電極22との接続部分の周囲に凸部100が配置されている。つまり、半導体装置20の周囲に凸部100が形成されている。凸部100についての詳細は後述する。   On the surface of the first electrode surface 110 of the first metal electrode plate 11, the convex portion 100 is disposed around the connection portion with the first main electrode 21. Similarly, the convex part 100 is arrange | positioned around the connection part with the 2nd main electrode 22 of the semiconductor device 20 in the surface of the 2nd electrode surface 120 of a 2nd metal electrode plate. That is, the convex portion 100 is formed around the semiconductor device 20. Details of the protrusion 100 will be described later.

図6(a)、図6(b)〜図8(a)、図8(b)を参照して、本発明の実施形態に係る半導体モジュール1の製造方法を説明する。なお、以下に述べる半導体モジュール1の製造方法は一例であり、この変形例を含めて、これ以外の種々の製造方法により実現可能であることは勿論である。   A manufacturing method of the semiconductor module 1 according to the embodiment of the present invention will be described with reference to FIGS. 6A, 6B to 8A, and 8B. In addition, the manufacturing method of the semiconductor module 1 described below is an example, and it is needless to say that it can be realized by various other manufacturing methods including this modification.

図6(a)、図6(b)に示すように、スリット130を挟んで同一平面レベルに配置された第1の電極面110及び第2の電極面120を有する金属板10を準備する。図6に示すように、第1の電極面110と第2の電極面120とはスリット130に架橋された連結領域140によって部分的に連結されている。連結領域140はスリット130の両端部に配置されている。ネジ通し穴410、420は、固定用ネジ41、42がそれぞれ取り付けられるネジ通し穴である。ネジ通し穴410、420は、固定用ネジ41、42を覆う絶縁ブッシュ43が入る大きさである。   As shown in FIGS. 6A and 6B, a metal plate 10 having a first electrode surface 110 and a second electrode surface 120 arranged on the same plane level with a slit 130 interposed therebetween is prepared. As shown in FIG. 6, the first electrode surface 110 and the second electrode surface 120 are partially connected by a connection region 140 that is bridged by the slit 130. The connection region 140 is disposed at both ends of the slit 130. The screw through holes 410 and 420 are screw through holes to which the fixing screws 41 and 42 are respectively attached. The screw through holes 410 and 420 are large enough to receive the insulating bush 43 that covers the fixing screws 41 and 42.

図7(a)、図7(b)に示すように、第1の主電極21及び第2の主電極22を有する半導体装置20を金属板10に実装する。具体的には、半導体装置20の一方の端部に配置された第1の主電極21から延伸するリードの端部を第1の電極面110に、半導体装置20の他方の端部の底面に配置された第2の主電極22を第2の電極面120に、それぞれ半田リフローによって接続する。なお、半導体装置20の形状に依存して、第1の主電極21と第1の電極面110との接続箇所の形態、及び第2の主電極22と第2の電極面120との接続箇所の形態は異なる。   As shown in FIGS. 7A and 7B, the semiconductor device 20 having the first main electrode 21 and the second main electrode 22 is mounted on the metal plate 10. Specifically, the end of the lead extending from the first main electrode 21 disposed at one end of the semiconductor device 20 is on the first electrode surface 110 and the bottom of the other end of the semiconductor device 20 is on the bottom. The arranged second main electrode 22 is connected to the second electrode surface 120 by solder reflow. Depending on the shape of the semiconductor device 20, the form of the connection location between the first main electrode 21 and the first electrode surface 110 and the connection location between the second main electrode 22 and the second electrode surface 120. The form of is different.

次いで、図8(a)、図8(b)に示すように、冷却装置30を金属板10に装着する。具体的には、金属板10と冷却装置30とを電気的に絶縁する絶縁シート31を、金属板10と冷却装置30との間に配置する。そして、絶縁ブッシュ43を介して金属板10を第1の電極面110で貫通する固定用ネジ41、及び絶縁ブッシュ43を介して金属板10を第2の電極面120で貫通する固定用ネジ42によって、絶縁シート31及び冷却装置30を金属板10に固定する。冷却装置30は半導体装置を冷却する機能を有する、例えば冷却フィンや水冷装置である。   Next, as shown in FIGS. 8A and 8B, the cooling device 30 is attached to the metal plate 10. Specifically, an insulating sheet 31 that electrically insulates the metal plate 10 and the cooling device 30 is disposed between the metal plate 10 and the cooling device 30. Then, a fixing screw 41 that penetrates the metal plate 10 through the first electrode surface 110 through the insulating bush 43 and a fixing screw 42 that penetrates the metal plate 10 through the second electrode surface 120 through the insulating bush 43. Thus, the insulating sheet 31 and the cooling device 30 are fixed to the metal plate 10. The cooling device 30 has a function of cooling the semiconductor device, for example, a cooling fin or a water cooling device.

その後、連結領域140を切断して第1の電極面110と第2の電極面120とを分離する。連結領域140を切断することにより、金属板10は、第1の電極面110を有する第1の金属電極板11と、第2の電極面120を有する第2の金属電極板12とに分離される。これにより、図1(a)に示した半導体モジュール1が完成する。   Thereafter, the connection region 140 is cut to separate the first electrode surface 110 and the second electrode surface 120. By cutting the connection region 140, the metal plate 10 is separated into the first metal electrode plate 11 having the first electrode surface 110 and the second metal electrode plate 12 having the second electrode surface 120. The Thereby, the semiconductor module 1 shown in FIG. 1A is completed.

なお、連結領域140を切断した際に、連結領域140の第1の電極面110に接続していた部分が、先端が第2の金属電極板12に向かう第1の突起111として、第1の金属電極板11の第2の金属電極板12に対向する領域に残る。同様に、連結領域140の第2の電極面120に接続していた部分が、先端が第1の金属電極板11に向かう第2の突起121として、第2の金属電極板12の第1の金属電極板11に対向する領域に残る。   Note that when the connection region 140 is cut, the portion connected to the first electrode surface 110 of the connection region 140 is the first protrusion 111 whose tip is directed to the second metal electrode plate 12, The metal electrode plate 11 remains in a region facing the second metal electrode plate 12. Similarly, the portion connected to the second electrode surface 120 of the coupling region 140 is the second protrusion 121 whose tip is directed to the first metal electrode plate 11, and the first metal electrode plate 12 has the first projection. It remains in a region facing the metal electrode plate 11.

上記の例では連結領域140の形状はU字形であり、U字の開口部に相当する底面に近い接続箇所において、第1の電極面110及び第2の電極面120と連結領域140が接続している。このため、外部から力を加えて接続箇所を支点として連結領域140を屈曲させることにより、金属板10から連結領域140を容易に除去できる。   In the above example, the shape of the connection region 140 is U-shaped, and the connection region 140 is connected to the first electrode surface 110 and the second electrode surface 120 at a connection point close to the bottom surface corresponding to the U-shaped opening. ing. For this reason, the connection area | region 140 can be easily removed from the metal plate 10 by applying force from the outside and bending the connection area | region 140 by using a connection location as a fulcrum.

なお、連結領域140の形状はU字形に限られるものではなく、どのような形状であってもよい。例えば図9に示すように、連結領域140の形状が矩形であってもよい。ただし、接続箇所を支点として連結領域140を屈曲させて接続箇所を切断するためには、第1の電極面110及び第2の電極面120と連結領域140との接続箇所が、連結領域140の第2の電極面120に近い端部に配置されていることが好ましい。   In addition, the shape of the connection area | region 140 is not restricted to a U-shape, What kind of shape may be sufficient. For example, as shown in FIG. 9, the shape of the connection region 140 may be rectangular. However, in order to bend the connection region 140 by using the connection portion as a fulcrum and to cut the connection portion, the connection portion between the first electrode surface 110 and the second electrode surface 120 and the connection region 140 is connected to the connection region 140. It is preferable that the second electrode surface 120 is disposed at an end portion close to the second electrode surface 120.

なお、外力により連結領域140を屈曲させて金属板10から連結領域140を除去するのではない場合、例えばニッパなどの切断器具によって連結領域140を切断する場合には、図10に示すように、外力を加える領域のない細い連結領域140を形成してもよい。   In addition, when the connection region 140 is not removed from the metal plate 10 by bending the connection region 140 by an external force, for example, when the connection region 140 is cut by a cutting tool such as a nipper, as shown in FIG. You may form the thin connection area | region 140 without the area | region which applies external force.

上記のように、半導体モジュール1の製造方法において、第1の電極面110と第2の電極面120とを連結する連結領域140を容易に除去できる。そして、連結領域140を金属板10から除去することにより、半導体装置20の第1の主電極21と第2の主電極22とが電気的に分離される。これにより、半導体装置20の機能が有効になる。   As described above, in the method for manufacturing the semiconductor module 1, the connecting region 140 that connects the first electrode surface 110 and the second electrode surface 120 can be easily removed. Then, by removing the connection region 140 from the metal plate 10, the first main electrode 21 and the second main electrode 22 of the semiconductor device 20 are electrically separated. Thereby, the function of the semiconductor device 20 becomes effective.

また、例えば図9に示すように、連結領域140の上面が第1の電極面110及び第2の電極面120と同一平面レベルであってもよい。しかし、連結領域140の上面が第1の電極面110及び第2の電極面120と異なる平面レベルにあることが好ましい。例えば図6(b)〜図8(b)に示すように、連結領域140の上面が第1の電極面110及び第2の電極面120よりも上方になるように、金属板10を形成する。具体的には、連結領域140と第1の電極面110及び第2の電極面120との接続箇所を折り曲げて、連結領域140の上面を第1の電極面110及び第2の電極面120より高く位置させる。その結果、外力を加えて連結領域140を切断することが容易になる。また、連結領域140にニッパなどの切断器具を差し入れやすくなり、切断器具が冷却装置30に接触して傷をつけるおそれがなくなる。   For example, as shown in FIG. 9, the upper surface of the connection region 140 may be at the same plane level as the first electrode surface 110 and the second electrode surface 120. However, it is preferable that the upper surface of the connection region 140 is at a different plane level from the first electrode surface 110 and the second electrode surface 120. For example, as illustrated in FIGS. 6B to 8B, the metal plate 10 is formed so that the upper surface of the connection region 140 is above the first electrode surface 110 and the second electrode surface 120. . Specifically, the connection portion between the connection region 140 and the first electrode surface 110 and the second electrode surface 120 is bent, and the upper surface of the connection region 140 is more than the first electrode surface 110 and the second electrode surface 120. Position it high. As a result, it becomes easy to apply an external force to cut the connection region 140. Further, it becomes easy to insert a cutting tool such as a nipper into the connection region 140, and there is no possibility that the cutting tool contacts the cooling device 30 and is damaged.

なお、連結領域140の上面を第1の電極面110及び第2の電極面120よりも下方にしてもよい。この場合には、金属板10から連結領域140を除去する際に、金属板10の下方に配置された冷却装置30に傷がつかないように注意する必要がある。   Note that the upper surface of the connection region 140 may be lower than the first electrode surface 110 and the second electrode surface 120. In this case, when removing the connection region 140 from the metal plate 10, care must be taken not to damage the cooling device 30 disposed below the metal plate 10.

上記のように連結領域140の第1の電極面110及び第2の電極面120との接続箇所を折り曲げることにより、連結領域140の除去時に折り曲げ部分が緩衝となり、半導体装置20や半田固定箇所へのストレスを緩和できる。   As described above, by bending the connection portion of the connection region 140 with the first electrode surface 110 and the second electrode surface 120, the bent portion becomes a buffer when the connection region 140 is removed, and the connection portion 140 is moved to the semiconductor device 20 or the solder fixing portion. Can relieve stress.

なお、連結領域140の上面を第1の電極面110及び第2の電極面120と異なる平面レベルにした場合、第1の突起111及び第2の突起121の先端は、第1の電極面110及び第2の電極面120と異なる平面に位置する。例えば連結領域140の上面を第1の電極面110及び第2の電極面120よりも上方にした場合、第1の突起111及び第2の突起121の先端は、第1の電極面110及び第2の電極面120よりも上方に位置する。   Note that when the upper surface of the connection region 140 is set to a level different from that of the first electrode surface 110 and the second electrode surface 120, the tips of the first protrusion 111 and the second protrusion 121 correspond to the first electrode surface 110. The second electrode surface 120 is located on a different plane. For example, when the upper surface of the connection region 140 is set higher than the first electrode surface 110 and the second electrode surface 120, the tips of the first protrusion 111 and the second protrusion 121 are connected to the first electrode surface 110 and the second electrode surface 120. It is located above the second electrode surface 120.

また、図2に示すように、金属板10の第1の電極面110の表面において、第1の主電極21から延伸するリードとの接続部分の周囲に凸部100が形成されている。同様に、金属板10の第2の電極面120の表面において第2の主電極22との接続部分の周囲に凸部100が形成されている。この凸部100は、半導体装置20を金属板10に固定するための半田リフロー工程において、半導体装置20が金属板10上の所定の位置からずれてしまうのを以下のように防止する。   Further, as shown in FIG. 2, on the surface of the first electrode surface 110 of the metal plate 10, a convex portion 100 is formed around a connection portion with a lead extending from the first main electrode 21. Similarly, a convex portion 100 is formed around the connection portion with the second main electrode 22 on the surface of the second electrode surface 120 of the metal plate 10. The protrusion 100 prevents the semiconductor device 20 from being displaced from a predetermined position on the metal plate 10 in the solder reflow process for fixing the semiconductor device 20 to the metal plate 10 as follows.

半田リフロー工程を開始する前に、半導体装置20の第1の主電極21及び第2の主電極22は、金属板10上の半田ペーストを予め塗布した領域に配置されている。しかし、半田リフロー装置内で金属板10を移動させることによる振動などによって、第1の主電極21及び第2の主電極22の位置がずれてしまうおそれがある。しかし、凸部100がストッパとなって半導体装置20の移動が防止される。このため、第1の主電極21及び第2の主電極22が金属板10上の半田ペーストが塗布された位置からずれるのを防止できる。   Before starting the solder reflow process, the first main electrode 21 and the second main electrode 22 of the semiconductor device 20 are arranged in a region where the solder paste on the metal plate 10 is applied in advance. However, there is a possibility that the positions of the first main electrode 21 and the second main electrode 22 may be shifted due to vibration caused by moving the metal plate 10 in the solder reflow apparatus. However, the protrusion 100 serves as a stopper to prevent the semiconductor device 20 from moving. For this reason, it can prevent that the 1st main electrode 21 and the 2nd main electrode 22 shift | deviate from the position where the solder paste on the metal plate 10 was apply | coated.

凸部100は、金属板10に「ハーフ抜きプレス」という加工を行うことで形成される。具体的には、第1の電極面110及び第2の電極面120の裏面から第1の電極面110及び第2の電極面120に向けて所定の位置に外力Fを加えるプレス加工を行う。これにより、図11に例示するように、金属板10の厚さdの半分程度の高さの凸部100が形成される。なお、凸部100の形状は、矩形、山型、円形など、種々の形状を採用可能である。   The convex portion 100 is formed by performing a process called “half punch press” on the metal plate 10. Specifically, pressing is performed to apply an external force F to a predetermined position from the back surface of the first electrode surface 110 and the second electrode surface 120 toward the first electrode surface 110 and the second electrode surface 120. Thereby, as illustrated in FIG. 11, the convex portion 100 having a height of about half the thickness d of the metal plate 10 is formed. In addition, the shape of the convex part 100 can employ | adopt various shapes, such as a rectangle, a mountain shape, and a circle.

また、第1の電極面110及び第2の電極面120に凸部100が形成されるため、上記のハーフ抜きプレスを行うことによって、金属板10の折り曲げに対する強度が増大する。   Moreover, since the convex part 100 is formed in the 1st electrode surface 110 and the 2nd electrode surface 120, the intensity | strength with respect to bending of the metal plate 10 increases by performing said half punching press.

以上に説明したように、本発明の実施形態に係る半導体モジュール1の製造方法によれば、半導体装置20の各電極を金属板10に接続する半田付けを半田リフローにより行うことができる。このため、製造工程の増大を抑制できる。また、複雑な形状の絶縁樹脂モールドや弾性体などを必要としないため、材料費の増大を抑制できる。更に、ハーフ抜きプレスによって凸部100を第1の電極面110及び第2の電極面120に形成することによって、半田リフロー工程における半導体装置20の位置ずれが防止される。   As described above, according to the method for manufacturing the semiconductor module 1 according to the embodiment of the present invention, soldering for connecting each electrode of the semiconductor device 20 to the metal plate 10 can be performed by solder reflow. For this reason, the increase in a manufacturing process can be suppressed. Further, since an insulating resin mold having a complicated shape or an elastic body is not required, an increase in material cost can be suppressed. Further, by forming the convex portion 100 on the first electrode surface 110 and the second electrode surface 120 by half punching press, the misalignment of the semiconductor device 20 in the solder reflow process is prevented.

半導体装置20を金属板10に固定するための半田リフロー工程の後は、半導体モジュール1は1枚の金属板10上に半導体装置20が半田付けされた状態であり、半導体モジュール1を一つの部品として扱うことができる。金属板10と半導体装置20が一体化した状態で半導体モジュール1を搬送したり、他の部品や回路を取り付ける作業を行ったりできるため、容易且つ正確に半導体モジュール1を取り扱うことができる。このため、半導体モジュール1の信頼性も向上する。   After the solder reflow process for fixing the semiconductor device 20 to the metal plate 10, the semiconductor module 1 is in a state in which the semiconductor device 20 is soldered on one metal plate 10, and the semiconductor module 1 is combined into one component. Can be treated as Since the semiconductor module 1 can be transported in a state where the metal plate 10 and the semiconductor device 20 are integrated, or other parts and circuits can be attached, the semiconductor module 1 can be handled easily and accurately. For this reason, the reliability of the semiconductor module 1 is also improved.

例えば、絶縁シート31を金属板10との間に挟むだけで、放熱フィンや水冷装置などの冷却装置30に金属板10を簡単に、且つ、半導体装置20搭載部分の位置(間隔)を歪ませることなく、安定して固定することができる。   For example, by simply sandwiching the insulating sheet 31 between the metal plate 10, the metal plate 10 can be easily distorted in the cooling device 30 such as a heat radiating fin or a water cooling device, and the position (interval) of the mounting portion of the semiconductor device 20 is distorted. And can be stably fixed.

また、金属板10にプリント基板よりも熱伝導性の高い材料を採用することにより、半導体装置20に大電流を流す場合にも、半導体装置20で発生する熱を効率よく放熱できる。したがって、半導体モジュール1を大型化することなく、省スペースで大電流の流れる半導体装置20を動作させられる。   In addition, by adopting a material having higher thermal conductivity than the printed board for the metal plate 10, even when a large current flows through the semiconductor device 20, heat generated in the semiconductor device 20 can be efficiently radiated. Therefore, the semiconductor device 20 in which a large current flows can be operated in a small space without increasing the size of the semiconductor module 1.

<変形例>
図12及び図13(a)、図13(b)に、本発明の実施形態の変形例に係る半導体モジュール1の変形例を示す。図12に示した半導体モジュール1は、半導体装置20と電気的に接続する装置(図示略)が実装されたプリント基板60を更に備える例である。なお、図12では、プリント基板60を透過して、プリント基板60の下方に配置された第1及び第2の金属電極板11、12、半導体装置20、絶縁シート31及び冷却装置30などが表示されている。プリント基板60を透過して表示された部分は破線で示している。
<Modification>
FIG. 12, FIG. 13 (a), and FIG. 13 (b) show a modification of the semiconductor module 1 according to a modification of the embodiment of the present invention. The semiconductor module 1 illustrated in FIG. 12 is an example further including a printed circuit board 60 on which a device (not shown) that is electrically connected to the semiconductor device 20 is mounted. In FIG. 12, the first and second metal electrode plates 11 and 12, the semiconductor device 20, the insulating sheet 31, the cooling device 30, and the like that are transmitted through the printed board 60 and disposed below the printed board 60 are displayed. Has been. The portion displayed through the printed circuit board 60 is indicated by a broken line.

例えば、冷却装置30に第1の金属電極板11を接続する固定用ネジ41、及び冷却装置30に第2の金属電極板12を接続する固定用ネジ42に、半導体装置20と電気的に接続する装置が実装されたプリント基板やバスバーを共締めすることができる。   For example, the fixing screw 41 for connecting the first metal electrode plate 11 to the cooling device 30 and the fixing screw 42 for connecting the second metal electrode plate 12 to the cooling device 30 are electrically connected to the semiconductor device 20. The printed circuit board and the bus bar on which the device to be mounted is mounted can be fastened together.

図12及び図13(a)、図13(b)に示した例では、プリント基板60が、冷却装置30と対向して半導体装置20の上方に配置されている。つまり、プリント基板60と半導体モジュール1とは積層構造をなしている。そして、固定用ネジ41により第1の電極面110に接して固定された導電体のジョイント81が、半導体装置20の第1の主電極21とプリント基板60上の配線パターンなどに接続する固定用ネジ71とを、電気的に接続している。更に、固定用ネジ42により第2の電極面120に接して固定された導電体のジョイント82が、半導体装置20の第2の主電極22とプリント基板60上の配線パターンなどに接続する固定用ネジ72とを、電気的に接続している。   In the example shown in FIGS. 12, 13 (a), and 13 (b), the printed circuit board 60 is disposed above the semiconductor device 20 so as to face the cooling device 30. That is, the printed circuit board 60 and the semiconductor module 1 have a laminated structure. The conductive joint 81 fixed in contact with the first electrode surface 110 by the fixing screw 41 is connected to the first main electrode 21 of the semiconductor device 20 and the wiring pattern on the printed circuit board 60. The screw 71 is electrically connected. Further, the conductive joint 82 fixed in contact with the second electrode surface 120 by the fixing screw 42 is connected to the second main electrode 22 of the semiconductor device 20 and the wiring pattern on the printed circuit board 60. The screw 72 is electrically connected.

その結果、ジョイント81、82、及び固定用ネジ71、72を介して、半導体装置20とプリント基板60に実装された装置とが電気的に接続される。これにより、半導体装置20とプリント基板60に実装された装置とにより、所望の電気回路を構成できる。   As a result, the semiconductor device 20 and the device mounted on the printed circuit board 60 are electrically connected via the joints 81 and 82 and the fixing screws 71 and 72. Thus, a desired electric circuit can be configured by the semiconductor device 20 and the device mounted on the printed circuit board 60.

図12に示した半導体モジュール1を製造するためには、先ず、図6〜図7を参照して説明した方法と同様にして、金属板10に半導体装置20を実装する。   In order to manufacture the semiconductor module 1 shown in FIG. 12, first, the semiconductor device 20 is mounted on the metal plate 10 in the same manner as described with reference to FIGS.

次いで、冷却装置30に絶縁シート31を介して半導体モジュール1を装着するが、この時、プリント基板60に実装された装置と半導体装置20とを、所望の回路を構成するように電気的接続できるように、ジョイント81、82を絶縁ブッシュ43を介して固定用ネジ41、42により装着する。次に、固定用ネジ71、72によりプリント基板60を、半導体モジュール1と積層構造をなすように装着する。なお、半導体モジュール1を冷却装置30に装着した後、連結領域140を切断して第1の電極面110と第2の電極面120とを分離する。また、連結領域140は、半導体モジュール1にプリント基板60を装着後に分離してもよい。   Next, the semiconductor module 1 is mounted on the cooling device 30 via the insulating sheet 31. At this time, the device mounted on the printed circuit board 60 and the semiconductor device 20 can be electrically connected to form a desired circuit. As described above, the joints 81 and 82 are attached by the fixing screws 41 and 42 through the insulating bush 43. Next, the printed circuit board 60 is mounted with the fixing screws 71 and 72 so as to form a laminated structure with the semiconductor module 1. Note that after the semiconductor module 1 is mounted on the cooling device 30, the connection region 140 is cut to separate the first electrode surface 110 and the second electrode surface 120. Further, the connection region 140 may be separated after the printed circuit board 60 is mounted on the semiconductor module 1.

本発明の実施形態の変形例に係る半導体モジュール1によれば、電気的な接続が強固であり、且つ低いコストで、半導体装置20と他の回路を一体化した半導体モジュール1を実現できる。また、半導体モジュール1は金属板10に半導体装置20を実装した構成であるため、半導体モジュール1を薄くできる。このため、半導体装置20が実装された第1及び第2の金属電極板11、12をプリント基板60の下などに配置することが可能で、省スペース化を実現できる。   According to the semiconductor module 1 according to the modification of the embodiment of the present invention, the semiconductor module 1 in which the semiconductor device 20 and other circuits are integrated can be realized at a low cost with strong electrical connection. Further, since the semiconductor module 1 has a configuration in which the semiconductor device 20 is mounted on the metal plate 10, the semiconductor module 1 can be thinned. For this reason, the first and second metal electrode plates 11 and 12 on which the semiconductor device 20 is mounted can be disposed under the printed circuit board 60, and space saving can be realized.

(その他の実施形態)
上記のように、本発明は実施形態によって記載したが、この開示の一部をなす論述及び図面はこの発明を限定するものであると理解すべきではない。この開示から当業者には様々な代替実施形態、実施例及び運用技術が明らかとなろう。
(Other embodiments)
As mentioned above, although this invention was described by embodiment, it should not be understood that the description and drawing which form a part of this indication limit this invention. From this disclosure, various alternative embodiments, examples and operational techniques will be apparent to those skilled in the art.

既に述べた実施形態の説明においては、半導体モジュール1が2の第1の金属電極板11と1の第2の金属電極板12とを有する例を示したが、図14(a)、図14(b)に示すように、半導体モジュール1が第1の金属電極板11と第2の金属電極板12を1ずつ有する構成であってもよい。図14(a)、図14(b)は、連結領域140を切り離す前の状態を示している。図15に、半導体装置20がダイオードである場合の図14(a)、図14(b)に示した半導体モジュール1の電気回路の例を示す。   In the description of the embodiment already described, an example in which the semiconductor module 1 includes two first metal electrode plates 11 and one second metal electrode plate 12 has been described. FIG. 14A and FIG. As shown in (b), the semiconductor module 1 may be configured to have one first metal electrode plate 11 and one second metal electrode plate 12. FIG. 14A and FIG. 14B show a state before the connection region 140 is cut off. FIG. 15 shows an example of an electric circuit of the semiconductor module 1 shown in FIGS. 14A and 14B when the semiconductor device 20 is a diode.

このように、本発明はここでは記載していない様々な実施形態等を含むことは勿論である。したがって、本発明の技術的範囲は上記の説明から妥当な特許請求の範囲に係る発明特定事項によってのみ定められるものである。   As described above, the present invention naturally includes various embodiments not described herein. Therefore, the technical scope of the present invention is defined only by the invention specifying matters according to the scope of claims reasonable from the above description.

1…半導体モジュール
10…金属板
11…第1の金属電極板
12…第2の金属電極板
20…半導体装置
21…第1の主電極
22…第2の主電極
30…冷却装置
31…絶縁シート
41、42…固定用ネジ
43…絶縁ブッシュ
60…プリント基板
71、72…固定用ネジ
81、82…ジョイント
100…凸部
110…第1の電極面
111…第1の突起
120…第2の電極面
121…第2の突起
130…スリット
140…連結領域
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Semiconductor module 10 ... Metal plate 11 ... 1st metal electrode plate 12 ... 2nd metal electrode plate 20 ... Semiconductor device 21 ... 1st main electrode 22 ... 2nd main electrode 30 ... Cooling device 31 ... Insulating sheet DESCRIPTION OF SYMBOLS 41, 42 ... Fixing screw 43 ... Insulating bush 60 ... Printed circuit board 71, 72 ... Fixing screw 81, 82 ... Joint 100 ... Convex part 110 ... 1st electrode surface 111 ... 1st protrusion 120 ... 2nd electrode Surface 121 ... second protrusion 130 ... slit 140 ... connection region

Claims (10)

スリットを挟んで同一平面レベルに配置された第1及び第2の電極面を有し、前記第1の電極面と前記第2の電極面とが前記スリットに架橋された連結領域によって部分的に連結された金属板を準備するステップと、
第1の主電極を前記第1の電極面に、第2の主電極を前記第2の電極面に、半田リフローによってそれぞれ電気的に接続して、前記第1及び第2の主電極を有する半導体装置を前記金属板に実装するステップと、
前記連結領域を切断して前記第1の電極面と前記第2の電極面とを分離するステップと
を含むことを特徴とする半導体モジュールの製造方法。
The first electrode surface and the second electrode surface are disposed on the same plane level across the slit, and the first electrode surface and the second electrode surface are partially bridged by the connection region bridged by the slit. Preparing the joined metal plates;
The first main electrode is electrically connected to the first electrode surface, the second main electrode is electrically connected to the second electrode surface by solder reflow, and the first and second main electrodes are provided. Mounting a semiconductor device on the metal plate;
Cutting the connection region to separate the first electrode surface and the second electrode surface. A method of manufacturing a semiconductor module, comprising:
前記連結領域を切断するステップの前に、前記半導体装置を冷却する冷却装置を前記金属板に装着するステップを更に含むことを特徴とする請求項1に記載の半導体モジュールの製造方法。   The method of manufacturing a semiconductor module according to claim 1, further comprising a step of attaching a cooling device for cooling the semiconductor device to the metal plate before the step of cutting the connection region. 前記連結領域の上面が、前記第1及び第2の電極面と異なる平面レベルにあることを特徴とする請求項1又は2に記載の半導体モジュールの製造方法。   3. The method of manufacturing a semiconductor module according to claim 1, wherein an upper surface of the connection region is at a level different from that of the first and second electrode surfaces. 前記第1の電極面において前記第1の主電極との接続部分の周囲、及び前記第2の電極面において前記第2の主電極との接続部分の周囲に、それぞれ凸部を形成することを特徴とする請求項1乃至3のいずれか1項に記載の半導体モジュールの製造方法。   Protrusions are formed on the first electrode surface around the connection portion with the first main electrode and on the second electrode surface around the connection portion with the second main electrode, respectively. 4. The method of manufacturing a semiconductor module according to claim 1, wherein 前記連結領域を切断するステップの前に、前記半導体装置と電気的に接続される他の装置を実装した基板を、前記金属板と積層構造をなすように前記金属板に装着するステップを更に含むことを特徴とする請求項1乃至4のいずれか1項に記載の半導体モジュールの製造方法。   Before the step of cutting the connection region, the method further includes a step of mounting a substrate on which another device electrically connected to the semiconductor device is mounted on the metal plate so as to form a laminated structure with the metal plate. The method for manufacturing a semiconductor module according to claim 1, wherein: 第1の電極面を有する第1の金属電極板と、
前記第1の電極面と同一平面レベルに配置された第2の電極面を有する第2の金属電極板と、
前記第1の電極面に接続された第1の主電極、及び前記第2の電極面に接続された第2の主電極を有する半導体装置と
を備え、前記第1の金属電極板が前記第2の金属電極板に対向する領域から前記第2の金属電極板に向かう第1の突起を有し、前記第2の金属電極板が前記第1の金属電極板に対向する領域から前記第1の金属電極板に向かう第2の突起を有することを特徴とする半導体モジュール。
A first metal electrode plate having a first electrode surface;
A second metal electrode plate having a second electrode surface disposed on the same plane level as the first electrode surface;
A semiconductor device having a first main electrode connected to the first electrode surface and a second main electrode connected to the second electrode surface, wherein the first metal electrode plate is the first metal electrode plate. A first protrusion directed from the region facing the second metal electrode plate toward the second metal electrode plate, and the second metal electrode plate from the region facing the first metal electrode plate A semiconductor module comprising a second protrusion directed toward the metal electrode plate.
前記第1の金属電極板及び前記第2の金属電極板に接続された冷却装置を更に備えることを特徴とする請求項6に記載の半導体モジュール。   The semiconductor module according to claim 6, further comprising a cooling device connected to the first metal electrode plate and the second metal electrode plate. 前記第1の電極面の表面において前記第1の主電極との接続部分の周囲に凸部が配置され、前記第2の電極面の表面において前記第2の主電極との接続部分の周囲に凸部が配置されていることを特徴とする請求項6又は7に記載の半導体モジュール。   Convex portions are arranged around the connection portion with the first main electrode on the surface of the first electrode surface, and around the connection portion with the second main electrode on the surface of the second electrode surface. The semiconductor module according to claim 6, wherein a convex portion is arranged. 前記第1及び第2の突起の先端が、前記第1及び第2の電極面と異なる平面に位置することを特徴とする請求項6乃至8のいずれか1項に記載の半導体モジュール。   9. The semiconductor module according to claim 6, wherein tips of the first and second protrusions are located on a different plane from the first and second electrode surfaces. 10. 前記半導体装置を前記第1及び第2の金属電極板に固定する固定用ネジを介して前記半導体装置と電気的に接続する他の装置を実装した基板を更に備え、前記第1及び第2の金属電極板と積層構造をなすように、前記基板が前記第1及び第2の金属電極板に装着されていることを特徴とする請求項6乃至9のいずれか1項に記載の半導体モジュール。   And further comprising a substrate on which another device electrically connected to the semiconductor device via a fixing screw for fixing the semiconductor device to the first and second metal electrode plates is mounted. 10. The semiconductor module according to claim 6, wherein the substrate is mounted on the first and second metal electrode plates so as to form a laminated structure with the metal electrode plates.
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