JP2012018173A - System-in package and socket - Google Patents

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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To realize a system-in package which facilitates a test without increasing a size and costs and to use the system-in package as a test board.SOLUTION: A test facilitating circuit interior SIP1c is configured by bonding a plurality of core substrates, on at least one of which an integrated circuit chip is mounted, via an insulation resin layer and is configured by connecting wiring layers formed on the core substrates via a through-hole. On a test facilitating circuit interior substrate 10c, which is one of the core substrates, a socket 122 with a DUT 121 as a test-target integrated circuit being attached thereto is mounted, and a pogo pin 1220 disposed in the socket 122 comprises passive elements such as an impedance matching chip resistor 1224 and an inductor 1225.

Description

本発明は、テスト容易化回路および/またはインピーダンス整合回路をその基板に内装したシステムインパッケージ(System In Package:以下、SIPと略す)、および、そのシステムインパッケージで用いられるソケットに関する。   The present invention relates to a system in package (hereinafter abbreviated as SIP) including a test facilitating circuit and / or an impedance matching circuit on a substrate, and a socket used in the system in package.

近年、半導体集積回路の集積化技術は著しく進展しており、すでに、複数の回路装置を1つの集積回路チップとして実現した、いわゆる、SOC(System On Chip)と呼ばれる大規模集積回路が実用化されている。このようなSOCは、しばしば、大容量メモリと高速で動作するプロセッサなどの論理回路とを含んで構成される。そのようなSOCを製造するには、メモリセルを小型化するために誘電率が大きい材料の絶縁層を形成し、また、プロセッサなどの論理回路の高速動作を実現するために誘電率が小さい材料の絶縁層を形成する。従って、SOCの製造工程は複雑なものになってしまい、歩留まりが向上せず、そのため、SOCの製造コストは、一定のコストを越えては、低減するのが困難な状況になっている。   In recent years, integration technology of semiconductor integrated circuits has been remarkably advanced, and a so-called SOC (System On Chip) large-scale integrated circuit in which a plurality of circuit devices are realized as one integrated circuit chip has already been put into practical use. ing. Such an SOC is often configured to include a large capacity memory and a logic circuit such as a processor operating at high speed. In order to manufacture such an SOC, an insulating layer made of a material having a high dielectric constant is formed in order to reduce the size of a memory cell, and a material having a low dielectric constant is used to realize high-speed operation of a logic circuit such as a processor. An insulating layer is formed. Therefore, the manufacturing process of the SOC becomes complicated, and the yield is not improved. Therefore, it is difficult to reduce the manufacturing cost of the SOC beyond a certain cost.

そこで、最近では、SOCを構成する複数の回路装置それぞれを1つずつの集積回路チップとして製造し、それらの集積回路チップを1つのパッケージに搭載するようにしたSIPが注目を集めている。   Therefore, recently, a SIP in which a plurality of circuit devices constituting the SOC are manufactured as one integrated circuit chip and these integrated circuit chips are mounted in one package has attracted attention.

SIPのメリットの1つは、すでに生産されている集積回路チップをアセンブルすればSIPを製造できる点にある。この場合、使用する集積回路チップは、すでに生産されている製品であるので、安価に入手することができる。   One of the merits of SIP is that SIP can be manufactured by assembling already produced integrated circuit chips. In this case, since the integrated circuit chip to be used is a product that has already been produced, it can be obtained at low cost.

また、SIPに搭載する集積回路チップを新たに開発し、製造する場合にも、例えば、メモリと論理回路とは別体の集積回路チップとして製造することができる。従って、それぞれの集積回路チップは必要最小限の工程によって製造されるので、それぞれ独立して歩留まりの向上を図ることができる。そのため、SIPは、複数の集積回路チップを1つのパッケージにアセンブルするコストを加えたとしても、それらの集積回路チップを同じシリコンチップに集積したSOCの製造コストよりも安価にすることができる。   Further, when newly developing and manufacturing an integrated circuit chip to be mounted on the SIP, for example, the memory and the logic circuit can be manufactured as separate integrated circuit chips. Therefore, since each integrated circuit chip is manufactured by the minimum necessary steps, it is possible to independently improve the yield. Therefore, even if SIP adds the cost of assembling a plurality of integrated circuit chips into one package, it can be made cheaper than the manufacturing cost of the SOC in which these integrated circuit chips are integrated on the same silicon chip.

ところが、SIPにおいては(SOCでも同様であるが)、そのSIPに搭載された集積回路チップ同士を接続する信号線については、SIPの外部接続端子へ接続されないために、その集積回路チップのテストが困難になるという問題がある。例えば、メモリ集積回路チップのテストは、テスト装置などの外部装置によってそのメモリ集積回路チップの全ての端子信号を制御および観測することができて、初めて可能となる。従って、SIPにおいて、例えば、メモリ集積回路チップの端子信号が内部の他の集積回路チップにだけ接続され、SIPの外部接続端子へ接続されていない場合には、そのメモリ集積回路チップのテストは行うことができなくなる。   However, in SIP (as well as in SOC), the signal lines that connect the integrated circuit chips mounted on the SIP are not connected to the external connection terminals of the SIP. There is a problem that it becomes difficult. For example, a memory integrated circuit chip can be tested only after all terminal signals of the memory integrated circuit chip can be controlled and observed by an external device such as a test device. Therefore, in the SIP, for example, when the terminal signal of the memory integrated circuit chip is connected only to the other integrated circuit chip inside and is not connected to the external connection terminal of the SIP, the memory integrated circuit chip is tested. I can't do that.

そこで、近年では、集積回路チップには、JTAG(Joint Test Action Group)によって標準化されたバウンダリスキャン回路などのテスト容易化回路が入れられている場合がある。その場合には、その集積回路チップについては、少なからずテストが容易化される。しかしながら、特に、メモリ集積回路チップなど、旧来から汎用品として市場に流通しているものについては、そのようなテスト容易化回路は入れられていないことが多い。また、さらに、SIPに搭載する集積回路チップは、テストが充分に行われたとは言い難いベアダイ(本明細書では、ウエーハをダイシングだけの集積回路をベアダイ、そのベアダイをパッケージングしたものを集積回路チップという)で供給されることが多い。従って、SIPを設計および製造するに際しては、このような現実に注意し、テストを容易化する方策を立てる必要がある。   Therefore, in recent years, an integrated circuit chip may include a test facilitating circuit such as a boundary scan circuit standardized by JTAG (Joint Test Action Group). In such a case, the integrated circuit chip can be easily tested. However, in particular, those that have been distributed in the market as general-purpose products, such as memory integrated circuit chips, often do not include such a test facilitating circuit. In addition, the integrated circuit chip mounted on the SIP is a bare die that has not been fully tested (in this specification, an integrated circuit in which a wafer is diced is a bare die, and a package in which the bare die is packaged is an integrated circuit. Often referred to as chips). Therefore, when designing and manufacturing a SIP, it is necessary to pay attention to such a reality and to take measures to facilitate the test.

従来、このようにSIPのテストが困難になるという問題に対して、例えば、特許文献1には、SIPに搭載された第1の集積回路チップ(例えば、メモリ集積回路)のテストを補助する回路を、同じSIPに搭載された第2の集積回路チップに形成して、SIPのテストの容易化を図る技術が開示されている。また、特許文献2には、SIPに搭載する集積回路チップのほかにFPGA(Field Programmable Gate Array)で構成された集積回路チップを搭載し、そのFPGAの集積回路チップでテスト容易化回路を構成し、それによってSIPのテストの容易化を図る技術が開示されている。   Conventionally, with respect to the problem that SIP testing becomes difficult in this way, for example, Patent Document 1 discloses a circuit for assisting testing of a first integrated circuit chip (for example, a memory integrated circuit) mounted on a SIP. Is formed on a second integrated circuit chip mounted on the same SIP to facilitate the SIP test. In addition to the integrated circuit chip mounted on the SIP, the patent document 2 includes an integrated circuit chip configured with an FPGA (Field Programmable Gate Array), and the FPGA integrated circuit chip constitutes a test facilitating circuit. Thus, a technique for facilitating the SIP test is disclosed.

さらに、これらのSIPにおいては、集積回路チップ端子における信号の反射対策を考慮しておく必要がある。近年の集積回路チップは、クロックの周波数がGHz帯域で動作するものも多くなってきている。そのような高速動作の集積回路チップをSIPに搭載するとき、信号の反射対策を実施しない場合には、インピーダンス不整合による信号反射のため、高速の信号伝送を正しく行うのが困難になるからである。   Further, in these SIPs, it is necessary to consider signal reflection countermeasures at integrated circuit chip terminals. Many integrated circuit chips in recent years operate with a clock frequency in the GHz band. When such a high-speed integrated circuit chip is mounted on a SIP, if signal reflection countermeasures are not implemented, it is difficult to correctly perform high-speed signal transmission due to signal reflection due to impedance mismatch. is there.

特開2004−158098号公報(段落0009〜段落0021、図1〜図3)JP 2004-158098 A (paragraphs 0009 to 0021, FIGS. 1 to 3) 特開2005−283205号公報(段落0015〜段落0021、図1、図2)Japanese Patent Laying-Open No. 2005-283205 (paragraphs 0015 to 0021, FIGS. 1 and 2)

特許文献1に開示された技術においては、ある集積回路チップのテストを行うために他の集積回路チップにそのテストの補助回路が入れられることになるので、少なくとも当該他の集積回路チップについては、既存の集積回路チップを使用することができなくなる。その場合には、当該SIPに専用に使用される集積回路チップを製造しなければならなくなり、SIPのコストメリットが損なわれることになる。また、特許文献2に開示された技術においては、SIPに余分なFPGAの集積回路チップを追加して搭載するので、SIPのサイズが大きくなり、また、その分のコスト負担も大きくなる。   In the technique disclosed in Patent Document 1, an auxiliary circuit for the test is inserted in another integrated circuit chip in order to test a certain integrated circuit chip. Therefore, at least for the other integrated circuit chip, Existing integrated circuit chips cannot be used. In that case, an integrated circuit chip used exclusively for the SIP must be manufactured, and the cost merit of the SIP is impaired. In the technique disclosed in Patent Document 2, since an extra FPGA integrated circuit chip is additionally mounted on the SIP, the size of the SIP is increased, and the cost burden is increased accordingly.

また、集積回路チップ端子における信号の反射対策については、集積回路チップの端子の近傍にインピーダンス整合のための抵抗およびインダクタンス素子を付加することにより、その信号の反射を防止することができる。しかしながら、SIPにおいて、それと同様の技術を実施すると、抵抗およびインダクタンス素子を実装するスペースが必要となり、SIPのサイズが大きくなるデメリットがある。   Further, as a countermeasure for signal reflection at the integrated circuit chip terminal, reflection of the signal can be prevented by adding a resistor and an inductance element for impedance matching in the vicinity of the terminal of the integrated circuit chip. However, if the same technology is implemented in SIP, a space for mounting resistors and inductance elements is required, and there is a demerit that the size of the SIP is increased.

以上の従来技術の問題点に鑑み、本発明の目的は、テスト容易化回路を含まない集積回路チップを搭載しても、そのサイズが大きくなることもなく、製造コストの大幅な増加を招くこともなく、そのテストを容易にすることができるSIPを提供するとともに、さらには、そのSIPを別の集積回路チップのテストのためのテストボードとして活用することを可能にするSIPを提供することにある。   In view of the above problems of the prior art, the object of the present invention is to increase the manufacturing cost without increasing the size even if an integrated circuit chip not including a testability circuit is mounted. In addition to providing a SIP that can facilitate the test, and further to provide a SIP that allows the SIP to be utilized as a test board for testing another integrated circuit chip. is there.

前記目的を達成するために、請求項1に記載の発明は、少なくとも1つの集積回路チップとその集積回路チップを搭載する基板とを含んで構成されたSIPにおいて、前記集積回路チップの少なくとも1つの集積回路チップのテストを容易化するため、テスト容易化回路を前記基板に内装した。なお、テスト容易化回路を基板に内装するとは、基板を製造する工程の中で、テスト容易化回路を基板と一体になるように埋め込んで製造することをいう。   In order to achieve the object, the invention according to claim 1 is characterized in that at least one of the integrated circuit chips in a SIP including at least one integrated circuit chip and a substrate on which the integrated circuit chip is mounted. In order to facilitate the testing of the integrated circuit chip, a test facilitating circuit is built in the substrate. It should be noted that the installation of the test facilitating circuit on the substrate means that the test facilitating circuit is embedded and integrated with the substrate in the process of manufacturing the substrate.

すなわち、請求項1に記載の発明に係るSIPは、少なくともその1つに集積回路チップが搭載された複数の基板を、絶縁樹脂層を介して貼り合わせて構成するとともに、前記基板のそれぞれに形成された配線層を、前記基板の少なくとも1つの基板および前記樹脂層を貫通するスルーホールを介して接続して構成したシステムインパッケージであって、前記複数の基板のうち少なくとも1つの基板には、前記集積回路チップのうち少なくとも1つの集積回路チップのテストを容易化するためのテスト容易化回路と、前記複数の基板のいずれかに固定して搭載された集積回路チップ以外の集積回路チップを着脱可能に装着するソケットと、が搭載されていることを特徴とする。   That is, the SIP according to the first aspect of the present invention is formed by bonding a plurality of substrates each having an integrated circuit chip mounted thereon at least one of them via an insulating resin layer, and forming each of the substrates. A system-in-package formed by connecting the wiring layer formed through at least one substrate of the substrate and a through hole penetrating the resin layer, and at least one of the plurality of substrates includes: A test facilitating circuit for facilitating testing of at least one integrated circuit chip among the integrated circuit chips, and an integrated circuit chip other than the integrated circuit chip fixedly mounted on any of the plurality of substrates And a socket to be mounted as possible.

請求項1に記載の発明によれば、SIPを構成する集積回路チップがテスト容易化回路を含んでいない場合には、前記基板の少なくとも1つの基板に、その集積回路チップのテスト容易化回路を内装することによって、SIP自体のサイズをほとんど大きくすることなく、その集積回路チップ、ひいては、その集積回路チップを含むSIP全体のテストを容易化することができる。   According to the first aspect of the present invention, when the integrated circuit chip constituting the SIP does not include the test facilitating circuit, the test facilitating circuit of the integrated circuit chip is provided on at least one of the substrates. The interior can facilitate testing of the integrated circuit chip, and thus the entire SIP including the integrated circuit chip, without increasing the size of the SIP itself.

また、請求項1に記載の発明によれば、テスト対象の集積回路チップをそのソケットに装着するようにすれば、そのテスト対象の集積回路チップをテストするためのテスト用SIPを実現することができる。   According to the first aspect of the present invention, when the test target integrated circuit chip is mounted in the socket, a test SIP for testing the test target integrated circuit chip can be realized. it can.

請求項2に記載の発明は、請求項1に記載のSIPにおいて、前記ソケットに装着される集積回路チップの端子と前記システムインパッケージ基板の配線層とを接続する前記ソケットのポゴピンに、前記ソケットに装着される集積回路チップの端子のインピーダンスを整合する受動素子を内装したことを特徴とする。   According to a second aspect of the present invention, in the SIP according to the first aspect, the socket is connected to a pogo pin of the socket that connects a terminal of an integrated circuit chip mounted on the socket and a wiring layer of the system-in-package substrate. A passive element that matches the impedance of the terminal of the integrated circuit chip to be mounted on is incorporated.

請求項2に記載の発明によれば、SIPの基板に搭載するソケットに装着する集積回路チップの端子のインピーダンスを整合する受動素子を、そのソケットのポゴピンに内装するので、SIPのサイズを大きくすることなく、そのソケットに装着する集積回路チップの端子における信号反射を防止することができるようになる。   According to the second aspect of the present invention, since the passive element that matches the impedance of the terminal of the integrated circuit chip to be mounted on the socket mounted on the SIP board is built in the pogo pin of the socket, the size of the SIP is increased. Thus, signal reflection at the terminals of the integrated circuit chip to be mounted in the socket can be prevented.

請求項3に記載の発明は、請求項1に記載のシステムインパッケージに搭載されるソケットであって、前記ソケットのポゴピンに、前記ソケットに装着される集積回路チップの端子のインピーダンスを整合する受動素子を内装したことを特徴とする。   According to a third aspect of the present invention, there is provided a socket mounted on the system-in-package according to the first aspect, wherein the impedance of the terminal of the integrated circuit chip mounted on the socket is matched with the pogo pin of the socket. It is characterized by having an element inside.

請求項3に記載の発明によれば、そのソケットに装着される集積回路チップの端子における信号反射を防止することができるようになる。   According to the third aspect of the present invention, signal reflection at the terminals of the integrated circuit chip attached to the socket can be prevented.

以上、本発明によれば、テスト容易化回路を含まない既存の集積回路チップを搭載しても、そのサイズが大きくなることもなく、製造コストの増加を招くこともなく、そのテストを容易化したSIPを実現することができる。また、そのSIPを別の集積回路チップのテストのためのテストボードとして活用することが可能になり、さらには、ソケットに装着される集積化路チップの端子における信号反射を防止することができる。   As described above, according to the present invention, even if an existing integrated circuit chip that does not include a test facilitating circuit is mounted, the size of the integrated circuit chip is not increased, and the manufacturing cost is not increased. SIP can be realized. Further, the SIP can be used as a test board for testing another integrated circuit chip, and further, signal reflection at the terminals of the integrated path chip mounted on the socket can be prevented.

本発明の第1の実施形態に係るテスト容易化回路内装SIPを構成するテスト容易化回路内装基板の断面構造を模式的に示した図である。It is the figure which showed typically the cross-sectional structure of the test facilitating circuit interior substrate which comprises the test facilitating circuit interior SIP which concerns on the 1st Embodiment of this invention. 本発明の第1の実施形態に係るテスト容易化回路内装SIPの第1の例を示した図で、(a)は、その平面形状および回路図を模式的に示した図、(b)は、その断面形状を模式的に示した図である。BRIEF DESCRIPTION OF THE DRAWINGS It is the figure which showed the 1st example of the testability improvement circuit interior SIP which concerns on the 1st Embodiment of this invention, (a) is the figure which showed the planar shape and circuit diagram typically, (b) is It is the figure which showed the cross-sectional shape typically. 本発明の第1の実施形態に係るテスト容易化回路内装SIPの第2の例を示した図で、(a)は、その平面形状および回路図を模式的に示した図、(b)は、その断面形状を模式的に示した図である。It is the figure which showed the 2nd example of the test facilitating circuit interior SIP concerning the 1st Embodiment of this invention, (a) is the figure which showed the planar shape and circuit diagram typically, (b) is It is the figure which showed the cross-sectional shape typically. 一般的に用いられるBIST回路の構成の例を示した図である。It is the figure which showed the example of the structure of the BIST circuit generally used. 本発明の第2の実施形態に係るテスト容易化回路内装SIPを構成するテスト容易化回路内装基板の断面構造を模式的に示した図である。It is the figure which showed typically the cross-section of the test facilitating circuit interior substrate which comprises the test facilitating circuit interior SIP which concerns on the 2nd Embodiment of this invention. 本発明の第2の実施形態に係るテスト容易化回路内装基板のコア基板に有機化合物半導体が形成された構造の例を示した図である。It is the figure which showed the example of the structure by which the organic compound semiconductor was formed in the core board | substrate of the test facilitation circuit interior board which concerns on the 2nd Embodiment of this invention. ペンタセン分子の化学構造を示した図である。It is the figure which showed the chemical structure of the pentacene molecule. 本発明の第3の実施形態に係るテスト容易化回路内装SIPの構成を模式的に示した図である。It is the figure which showed typically the structure of the test facilitating circuit interior SIP which concerns on the 3rd Embodiment of this invention. 本発明の第3の実施形態に係るテスト容易化回路内装基板において、DUTをテスト装置へ接続する回路のポイントを示した図である。It is the figure which showed the point of the circuit which connects DUT to a test apparatus in the test facilitating circuit internal substrate which concerns on the 3rd Embodiment of this invention.

以下、本発明の実施形態について図面を用いて詳しく説明する。   Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the drawings.

(第1の実施形態)
図1は、本発明の第1の実施形態に係るテスト容易化回路内装SIPを構成するテスト容易化回路内装基板の断面構造を模式的に示した図である。図1に示すように、第1の実施形態に係るテスト容易化回路内装SIP1は、テスト容易化回路内装基板10の上に、通常、複数の集積回路チップ2(図1では、1つだけを図示)が搭載されて構成される。テスト容易化回路内装基板10は、それぞれ金属の配線層31,41,51が形成された複数のコア基板3,4,5を、樹脂などによる絶縁樹脂層7によって貼り合せて構成される。
(First embodiment)
FIG. 1 is a diagram schematically showing a cross-sectional structure of a test facilitating circuit internal substrate constituting the test facilitating circuit internal SIP according to the first embodiment of the present invention. As shown in FIG. 1, the test facilitating circuit interior SIP 1 according to the first embodiment is usually provided with a plurality of integrated circuit chips 2 (only one in FIG. 1) on a test facilitating circuit interior substrate 10. (Illustrated) is mounted. The testability circuit-incorporated substrate 10 is configured by bonding a plurality of core substrates 3, 4, and 5 on which metal wiring layers 31, 41, and 51 are formed, with an insulating resin layer 7 made of resin or the like.

図1において、コア基板3には、いわゆるビルドアップ層32が形成され、その最上層(外側の層)には、金属などによるパッド33が形成されている。パッド33は、集積回路チップ2の信号接続端子として形成されたバンプ21を受ける位置に形成され、バンプ21とパッド33とを介して集積回路チップ2とテスト容易化回路内装基板10とが接続される。また、コア基板3,4,5間の配線層31,41,51の接続は、スルーホール6などによって行われる。なお、コア基板3は、ビルドアップ層32が形成されていないものであっても構わない。   In FIG. 1, a so-called buildup layer 32 is formed on the core substrate 3, and a pad 33 made of metal or the like is formed on the uppermost layer (outer layer). The pad 33 is formed at a position for receiving the bump 21 formed as a signal connection terminal of the integrated circuit chip 2, and the integrated circuit chip 2 and the test facilitating circuit internal substrate 10 are connected via the bump 21 and the pad 33. The Further, the connection of the wiring layers 31, 41, 51 between the core substrates 3, 4, 5 is made by the through holes 6 or the like. The core substrate 3 may be one on which the buildup layer 32 is not formed.

また、コア基板4には、長さが1mm〜2mm程度、幅と厚さがそれぞれ0.5mm程度の大きさのWLCSP集積回路チップ43が実装される。WLCSP集積回路チップ43は、集積回路のベアダイにマイクロバンプ45を付加しただけのパッケージングスタイルの集積回路チップであり、一般に標準ロジックと呼ばれる論理回路素子を数素子含んで構成される。そこで、複数個のWLCSP集積回路チップ43を配線層41の配線で、適宜、接続し、別途、図2および図3に後記するようなテスト容易化回路を構成する。   On the core substrate 4, a WLCSP integrated circuit chip 43 having a length of about 1 mm to 2 mm and a width and thickness of about 0.5 mm is mounted. The WLCSP integrated circuit chip 43 is a packaging style integrated circuit chip in which a microbump 45 is simply added to a bare die of an integrated circuit, and is configured to include several logic circuit elements generally called standard logic. Therefore, a plurality of WLCSP integrated circuit chips 43 are appropriately connected by wiring of the wiring layer 41 to separately configure a test facilitating circuit as described later in FIGS.

さらに、コア基板4には、WLCSP集積回路チップ43と同程度の大きさの抵抗、キャパシタ、インダクタなどの受動素子44が実装される。受動素子44は、必要に応じ、適宜、テスト容易化回路を構成するのに利用されるほか、集積回路チップ2の端子(バンプ21)に対するインピーダンス整合回路を構成するのに用いられる。さらには、受動素子44によって、電源信号の安定化のための、いわゆる、パスコンデンサなどを構成してもよい。   Further, a passive element 44 such as a resistor, a capacitor, and an inductor having the same size as that of the WLCSP integrated circuit chip 43 is mounted on the core substrate 4. The passive element 44 is used not only to configure a test facilitating circuit as necessary, but also to configure an impedance matching circuit for the terminals (bumps 21) of the integrated circuit chip 2. Further, the passive element 44 may constitute a so-called pass capacitor or the like for stabilizing the power signal.

なお、コア基板4には、WLCSP集積回路チップ43や受動素子44が実装されるため、その表面に凹凸を生じる。その凹凸を減少させ、また、他のコア基板との接着性を向上させるために、接着層42が形成されることがある。   In addition, since the WLCSP integrated circuit chip 43 and the passive element 44 are mounted on the core substrate 4, unevenness is generated on the surface thereof. An adhesive layer 42 may be formed in order to reduce the unevenness and improve the adhesion to other core substrates.

以上の図1の説明においては、テスト容易化回路内装基板10は、3枚のコア基板3,4,5によって構成されるとしているが、コア基板は1枚以上であれば、何枚であってもよい。ただし、コア基板が1枚の場合には、通常は、基板面積を小さくするために、片面に集積回路チップ2などが搭載され、その裏面にWLCSP集積回路チップ43が搭載される。また、複数の集積回路チップ2がテスト容易化回路内装基板10に搭載されるとき、その集積回路チップ2がテスト容易化回路内装基板10の表と裏の両面に搭載され、テスト容易化回路内装基板10に含まれるコア基板にWLCSP集積回路チップ43などが搭載される形態であっても構わない。   In the description of FIG. 1, the test facilitating circuit interior board 10 is composed of three core boards 3, 4, and 5. However, the number of core boards is not limited as long as it is one or more. May be. However, when the number of core substrates is one, the integrated circuit chip 2 or the like is usually mounted on one surface and the WLCSP integrated circuit chip 43 is mounted on the back surface in order to reduce the substrate area. Further, when a plurality of integrated circuit chips 2 are mounted on the test facilitating circuit interior substrate 10, the integrated circuit chips 2 are mounted on both the front and back surfaces of the test facilitating circuit interior substrate 10. The core substrate included in the substrate 10 may have a form in which the WLCSP integrated circuit chip 43 and the like are mounted.

図2は、本発明の第1の実施形態に係るテスト容易化回路内装SIPの第1の例を示した図で、(a)は、その平面形状および回路図を模式的に示した図、(b)は、その断面形状を模式的に示した図である。   FIG. 2 is a diagram showing a first example of the testability-enhanced circuit interior SIP according to the first embodiment of the present invention. FIG. 2A is a diagram schematically showing its planar shape and circuit diagram. (B) is the figure which showed the cross-sectional shape typically.

図2において、テスト容易化回路内装SIP1は、メモリチップ101とデジタルASIC(Application Specific Integrated Circuits)チップ102とがテスト容易化回路内装基板10に搭載されて構成される。ここで、メモリチップ101は、例えば、SDRAM(Synchronous Dynamic Random Access Memory)1010を含んで構成され、そのメモリチップ101にはテスト容易化回路が入れられていない。一方、デジタルASICチップ102には、ASICコア1020のテストを容易化するテスト容易化回路として、例えば、JTAGで標準化されたIEEE1149.1規格のバウンダリスキャン回路が入れられている。   In FIG. 2, the test facilitating circuit internal SIP 1 is configured by mounting a memory chip 101 and a digital ASIC (Application Specific Integrated Circuits) chip 102 on a test facilitating circuit internal substrate 10. Here, the memory chip 101 includes, for example, an SDRAM (Synchronous Dynamic Random Access Memory) 1010, and the memory chip 101 does not include a test facilitating circuit. On the other hand, the digital ASIC chip 102 includes, for example, an IEEE 1149.1 boundary scan circuit standardized by JTAG as a test facilitating circuit for facilitating the test of the ASIC core 1020.

そこで、本実施形態では、テスト容易化回路内装基板10にメモリチップ101のテスト容易化を図るためIEEE1149.1規格のバウンダリスキャン回路を内装する。図2に示すように、バウンダリスキャン回路は、メモリチップ101を取り囲んでその端子に接続して設けられたBSシフトレジスタ105と、テスト用端子からの入力情報を取り込んでテスト動作を制御するTAP(Test Access Port)コントローラ104などを含んで構成される。   Therefore, in the present embodiment, a boundary scan circuit conforming to the IEEE 1149.1 standard is provided in the test-easy circuit internal substrate 10 in order to facilitate the test of the memory chip 101. As shown in FIG. 2, the boundary scan circuit surrounds the memory chip 101 and has a BS shift register 105 provided connected to the terminal, and a TAP (T) that takes in input information from a test terminal and controls a test operation. Test Access Port) The controller 104 is configured.

ここで、テスト用端子とは、バウンダリスキャン回路を用いたテストの実行を制御するための信号端子である。JTAGのIEEE1149.1規格では、テスト用端子としてテストデータを入力するTDI(Test Data Input)、テストデータを出力するTDO(Test Data Output)、テストモードでの動作を選択するTMS(Test Mode Select input)、BSシフトレジスタ105のシフト動作を含め、テスト動作を実行するTCK(Test Clock input)、TAPコントローラ104の内部状態を初期化するTRSI(Test Reset input)などが定められている。   Here, the test terminal is a signal terminal for controlling the execution of the test using the boundary scan circuit. In JTAG IEEE1149.1 standard, TDI (Test Data Input) that inputs test data as a test terminal, TDO (Test Data Output) that outputs test data, and TMS (Test Mode Select input) that selects operation in test mode ), TCK (Test Clock input) for executing a test operation including the shift operation of the BS shift register 105, TRSI (Test Reset input) for initializing the internal state of the TAP controller 104, and the like are defined.

TAPコントローラ104は、バウンダリスキャン回路の動作およびテスト動作を制御する制御回路である。ここでは、その動作の詳細な説明を割愛するが、TAPコントローラ104の制御のもとに、テスト用端子TDIおよびBSシフトレジスタ105を介して、テストデータがメモリチップ101へ入力され、他方では、メモリチップ101の動作結果のテストデータがBSシフトレジスタ105およびテスト用端子TDOを介して外部へ出力される。このようにして、メモリチップ101の端子がテスト容易化回路内装SIP1の外部接続端子に直接に接続されていなくても、メモリチップ101のテストを行うことができるようになる、つまり、テストが容易化される。   The TAP controller 104 is a control circuit that controls the operation and test operation of the boundary scan circuit. Here, a detailed description of the operation is omitted, but test data is input to the memory chip 101 via the test terminal TDI and the BS shift register 105 under the control of the TAP controller 104. Test data as a result of the operation of the memory chip 101 is output to the outside through the BS shift register 105 and the test terminal TDO. In this way, the memory chip 101 can be tested even if the terminals of the memory chip 101 are not directly connected to the external connection terminals of the test-facility circuit-internal circuit SIP1, that is, the test is easy. It becomes.

なお、デジタルASICチップ102には、BSシフトレジスタ1022とTAPコントローラ1021とがすでに入れてあるので、ここでは、デジタルASICチップ102に設けられているテスト用端子を、テスト容易化回路内装基板10に設けられているテスト用端子に単に接続するだけでよい。   Since the BS shift register 1022 and the TAP controller 1021 are already placed in the digital ASIC chip 102, the test terminals provided in the digital ASIC chip 102 are connected to the test facilitating circuit internal substrate 10 here. Simply connect to the provided test terminals.

本実施形態においては、以上に示したバウンダリスキャン回路、つまり、テスト容易化回路を、テスト容易化回路内装基板10(図1参照)に内装された複数のWLCSP集積回路チップ43を、適宜、配線層31,41,51の配線によって接続して構成する。前記したように、WLCSP集積回路チップ43の大きさは小さいので、このようなテスト容易化回路を内装してもテスト容易化回路内装SIP1の大きさは、ほとんど大きくならないですむ。   In the present embodiment, the above-described boundary scan circuit, that is, the test facilitating circuit, is appropriately wired with a plurality of WLCSP integrated circuit chips 43 housed in the test facilitating circuit internal substrate 10 (see FIG. 1). The layers 31, 41 and 51 are connected by wiring. As described above, since the size of the WLCSP integrated circuit chip 43 is small, the size of the test facilitating circuit built-in SIP 1 can be hardly increased even if such a test facilitating circuit is housed.

図3は、本発明の第1の実施形態に係るテスト容易化回路内装SIPの第2の例を示した図で、(a)は、その平面形状および回路図を模式的に示した図、(b)は、その断面形状を模式的に示した図である。   FIG. 3 is a diagram showing a second example of the testability-enhanced circuit interior SIP according to the first embodiment of the present invention, and (a) is a diagram schematically showing its planar shape and circuit diagram; (B) is the figure which showed the cross-sectional shape typically.

図3の例では、テスト容易化回路内装SIP1は、図2の例のテスト容易化回路内装SIP1でメモリチップ101であったものを、アナログ集積回路チップ111で置き換えたものとなっている。ここで、アナログ集積回路チップ111には、例えば、変復調回路1110が形成されている。変復調回路1110の一方の入力端子および出力端子は、信号混合・分離回路113を介して、外部のアンテナからの信号に接続されている。また、他方の入力端子および出力端子は、D/A(Digital to Analog)変換器1111やA/D(Analog to Digital)変換器1112などを介してアナログ集積回路チップ111の外部の信号と接続される。   In the example of FIG. 3, the test facilitating circuit interior SIP <b> 1 is obtained by replacing the memory chip 101 in the test facilitating circuit interior SIP <b> 1 of the example of FIG. 2 with an analog integrated circuit chip 111. Here, for example, a modem circuit 1110 is formed in the analog integrated circuit chip 111. One input terminal and output terminal of the modem circuit 1110 are connected to a signal from an external antenna via a signal mixing / separation circuit 113. The other input terminal and output terminal are connected to a signal external to the analog integrated circuit chip 111 via a D / A (Digital to Analog) converter 1111 or an A / D (Analog to Digital) converter 1112. The

このようにテスト容易化回路内装SIP1がアナログ集積回路チップ111を含む場合には、そのアナログ集積回路チップ111のテストを容易化するために、JTAGで標準化されたIEEE1149.4規格のアナログ考慮バウンダリスキャン回路を、テスト容易化回路内装基板10に内装する。   In this way, in the case where the test facilitating circuit built-in SIP 1 includes the analog integrated circuit chip 111, in order to facilitate the test of the analog integrated circuit chip 111, the analog consideration boundary scan of the IEEE 1149.4 standard standardized by JTAG is adopted. The circuit is mounted on the circuit board 10 that facilitates testing.

アナログ考慮バウンダリスキャン回路は、通常のTAPコントローラ104、BSシフトレジスタ105(図3には図示なし)に加えて、TBIC(Test Bus Interface Circuit)106と、ABM(Analog Boundary Module)107を含んで構成される。ここでは、TBIC106およびABM107の詳細については説明を割愛するが、ABM107は、アナログ集積回路チップ111のアナログ入力端子またはアナログ出力端子に接続され、そのアナログ入力端子またはアナログ出力端子の信号を、TBIC106の制御のもとに、テスト容易化回路内装基板10のアナログテスト端子AT1,AT2に接続するように動作する。   The analog consideration boundary scan circuit includes a normal TAP controller 104, a BS shift register 105 (not shown in FIG. 3), a TBIC (Test Bus Interface Circuit) 106, and an ABM (Analog Boundary Module) 107. Is done. Here, the details of the TBIC 106 and the ABM 107 are omitted, but the ABM 107 is connected to the analog input terminal or the analog output terminal of the analog integrated circuit chip 111, and the signal of the analog input terminal or the analog output terminal is connected to the TBIC 106. Under control, the circuit operates to connect to the analog test terminals AT1 and AT2 of the circuit board 10 for easy testing.

すなわち、アナログテスト端子AT1,AT2を介して、アナログ集積回路チップ111へアナログテスト信号を供給することができ、また、アナログ集積回路チップ111が出力するアナログ信号を観測できるようになるので、アナログ集積回路チップ111、つまり、テスト容易化回路内装SIP1のテストが容易化される。そして、以上のようなアナログ考慮バウンダリスキャン回路は、テスト容易化回路内装基板10(図1参照)に内装された複数のWLCSP集積回路チップ43および受動素子44を、適宜、配線層31,41,51の配線によって接続することによって構成される。   That is, an analog test signal can be supplied to the analog integrated circuit chip 111 via the analog test terminals AT1 and AT2, and an analog signal output from the analog integrated circuit chip 111 can be observed. The test of the circuit chip 111, that is, the test facilitating circuit interior SIP1, is facilitated. The analog-considerable boundary scan circuit as described above includes a plurality of WLCSP integrated circuit chips 43 and passive elements 44 housed in the test facilitating circuit interior substrate 10 (see FIG. 1) as appropriate in the wiring layers 31, 41, It is configured by connecting with 51 wires.

以上、本発明の第1の実施形態においては、テスト容易化回路をJTAG標準のバウンダリスキャン回路(IEEE1149.1)またはアナログ考慮バウンダリスキャン回路(IEEE 1149.4)で構成した例を示したが、他の方法に基づくテスト容易化回路であっても構わない。例えば、バウンダリスキャン回路に代えて、BIST(Built In Self Test)回路を用いてもよい。   As described above, in the first embodiment of the present invention, the example in which the test facilitating circuit is configured by the JTAG standard boundary scan circuit (IEEE 1149.1) or the analog consideration boundary scan circuit (IEEE 1149.4) is shown. A test facilitating circuit based on the method may be used. For example, instead of the boundary scan circuit, a BIST (Built In Self Test) circuit may be used.

図4は、一般的に用いられるBIST回路の構成の例を示した図である。図4に示すように、BIST回路20は、LFSR(Linear Feedback Shift Register)202とMISR(Multi Input Signature Register)203とにより構成される。BIST回路20によるテストにおいては、LFSR202によって発生される擬似乱数系列をCUT(Circuit Under Test)201へ入力し、その入力に応じてCUT201から出力される信号系列をMISR203によって情報圧縮する。そして、その圧縮した情報(Signatureという)が予期したものと同じであるか否かによってCUT201が正しく動作したか否かを判定する。   FIG. 4 is a diagram showing an example of the configuration of a BIST circuit that is generally used. As shown in FIG. 4, the BIST circuit 20 includes an LFSR (Linear Feedback Shift Register) 202 and a MISR (Multi Input Signature Register) 203. In the test by the BIST circuit 20, a pseudo random number sequence generated by the LFSR 202 is input to a CUT (Circuit Under Test) 201, and a signal sequence output from the CUT 201 is compressed by the MISR 203 in response to the input. Then, it is determined whether or not the CUT 201 operates correctly depending on whether or not the compressed information (called Signature) is the same as expected.

このようなBIST回路20を図2のテスト容易化回路内装SIP1に適用したときには、メモリチップ101がCUT201に対応するものとして、BSシフトレジスタ105をLFSR202およびMISR203で置き換えればよい。そして、テスト容易化回路内装基板10に内装された複数のWLCSP集積回路チップ43を、適宜、配線層31,41,51の配線で接続することによって、そのLFSR202およびMISR203を構成すればよい。   When such a BIST circuit 20 is applied to the test facilitating circuit interior SIP 1 of FIG. 2, assuming that the memory chip 101 corresponds to the CUT 201, the BS shift register 105 may be replaced with the LFSR 202 and the MISR 203. Then, the LFSR 202 and the MISR 203 may be configured by appropriately connecting a plurality of WLCSP integrated circuit chips 43 housed in the test facilitating circuit interior substrate 10 with wirings of the wiring layers 31, 41, 51.

なお、図4において、LFSR202およびMISR203は、それぞれシフトレジスタ(SR:Shift Register)204と排他的論理和回路205とによって構成される。ここで、LFSR202は、いわゆる巡回符号を生成する回路であるが、その巡回符号の生成多項式は、LFSR202の最上位ビットの信号をどの位置のシフトレジスタ204にフィードバックするか、すなわち、どの位置にフィードバック用の排他的論理和回路205を設けるかによって決まる。例えば、図4のLFSR202では、フィードバック用の排他的論理和回路205は、第1ビットのシフトレジスタ204と第2ビットのシフトレジスタ204と間に配置されている。この場合、生成多項式はG(x)=1+x+xとなる。また、MISR203は、CUT201から出力される信号系列を圧縮する回路として機能するが、MISR203にもLFSR202と同様の生成多項式が定められる。図4のMISR203の場合、その生成多項式はG(x)=1+x+xとなる。 In FIG. 4, the LFSR 202 and the MISR 203 are each composed of a shift register (SR) 204 and an exclusive OR circuit 205. Here, the LFSR 202 is a circuit that generates a so-called cyclic code, and the generation polynomial of the cyclic code is that the most significant bit signal of the LFSR 202 is fed back to the shift register 204, that is, the position is fed back to. The exclusive OR circuit 205 is provided. For example, in the LFSR 202 of FIG. 4, the exclusive OR circuit 205 for feedback is arranged between the first bit shift register 204 and the second bit shift register 204. In this case, the generator polynomial is a G (x) = 1 + x + x 4. The MISR 203 functions as a circuit that compresses the signal sequence output from the CUT 201, but a generator polynomial similar to the LFSR 202 is defined in the MISR 203. In the case of MISR 203 in FIG. 4, the generator polynomial is G (x) = 1 + x 3 + x 4 .

(第2の実施形態)
図5は、本発明の第2の実施形態に係るテスト容易化回路内装SIPを構成するテスト容易化回路内装基板の断面構造を模式的に示した図である。なお、図5において図1と同じ構成要素については同じ符号を付し、その説明を省略する。
(Second Embodiment)
FIG. 5 is a diagram schematically showing a cross-sectional structure of the test facilitating circuit internal substrate constituting the test facilitating circuit internal SIP according to the second embodiment of the present invention. 5, the same components as those in FIG. 1 are denoted by the same reference numerals, and the description thereof is omitted.

第2の実施形態に係るテスト容易化回路内装SIP1bのテスト容易化回路内装基板10bは、第1の実施形態に係るテスト容易化回路内装基板10と同様に、3つのコア基板3,4b,5が張り合わせて構成される。このとき、コア基板3,5の構成は、第1の実施形態の場合と同じであるが、本実施形態では、コア基板4bは、その基体部をシリコン半導体で形成する。そして、その基体のシリコン半導体上に、MOS(Metal Oxide Semiconductor)などのトランジスタ素子を形成し、さらに、その上部に絶縁層を介して複数の配線層を形成する。そのコア基板4bの詳細な断面構造は、通常のシリコン半導体集積回路の断面構造と同じであるので、ここではその図示を省略する。   The test facilitating circuit internal substrate 10b of the test facilitating circuit internal SIP 1b according to the second embodiment has three core substrates 3, 4b, 5 similar to the test facilitating circuit internal substrate 10 according to the first embodiment. Are configured by bonding. At this time, the configurations of the core substrates 3 and 5 are the same as those in the first embodiment, but in the present embodiment, the core substrate 4b is formed with a base portion made of a silicon semiconductor. Then, a transistor element such as a MOS (Metal Oxide Semiconductor) is formed on the silicon semiconductor of the base, and a plurality of wiring layers are formed thereon via an insulating layer. Since the detailed cross-sectional structure of the core substrate 4b is the same as that of a normal silicon semiconductor integrated circuit, the illustration thereof is omitted here.

以上のようにシリコン半導体を基体として形成されたトランジスタ素子を、さらにその上部に形成された配線層の配線で、適宜、接続することにより、図2〜図4で説明したバウンダリスキャン回路、BIST回路などテスト容易化回路を構成する。そして、そのシリコン半導体を基体とするコア基板4b上に、適宜、マイクロバンプ45を形成し、そのマイクロバンプ45を介してコア基板3と接続し、テスト容易化回路を集積回路チップ2に接続する。このようにして、集積回路チップ2のテストを容易化したテスト容易化回路内装SIP1bが構成される。   The boundary scan circuit and the BIST circuit described with reference to FIGS. 2 to 4 are obtained by appropriately connecting the transistor elements formed using the silicon semiconductor as a base as described above with the wiring of the wiring layer formed thereon. Configure a test facilitating circuit. Then, micro bumps 45 are appropriately formed on the core substrate 4b based on the silicon semiconductor, and connected to the core substrate 3 through the micro bumps 45, and the test facilitating circuit is connected to the integrated circuit chip 2. . In this way, the test facilitating circuit internal SIP 1b that facilitates the test of the integrated circuit chip 2 is configured.

なお、図5において、テスト容易化回路内装基板10bは、コア基板3および5の両方またはその片方がない構成であっても構わない。また、他の余分なコア基板が付加された構成であっても構わない。また、コア基板3には、ビルドアップ層32が形成されていない構成であっても構わない。ただし、コア基板3がない場合には、コア基板4b上に集積回路チップ2が搭載されるので、コア基板4b上には、マイクロバンプ45に代えて、集積回路チップ2のバンプ21を接続するためのパッドを形成する。   In FIG. 5, the test facilitating circuit interior substrate 10b may have a configuration without both or one of the core substrates 3 and 5. Moreover, you may be the structure to which the other extra core board | substrate was added. Further, the core substrate 3 may have a configuration in which the buildup layer 32 is not formed. However, when the core substrate 3 is not provided, the integrated circuit chip 2 is mounted on the core substrate 4b. Therefore, the bumps 21 of the integrated circuit chip 2 are connected to the core substrate 4b instead of the micro bumps 45. A pad for forming is formed.

また、以上のコア基板4bは、通常のシリコン半導体製造工程を用いて製造するので、MOSなどのトランジスタ素子だけでなく、抵抗、キャパシタ、インダクタなどの受動素子を埋め込むことができる。また、不揮発性メモリ製造と同様の工程を付加すれば、いわゆるPLD(Programmable Logic Device)などのプログラマブルな回路素子を造り込むこともできる   Moreover, since the above core substrate 4b is manufactured using a normal silicon semiconductor manufacturing process, not only transistor elements such as MOS but also passive elements such as resistors, capacitors and inductors can be embedded. Moreover, if a process similar to that for manufacturing a nonvolatile memory is added, a programmable circuit element such as a so-called PLD (Programmable Logic Device) can be built.

そこで、PLDをBIST回路20(図4参照)に適用し、BIST回路20を、例えば、LFSR202やMISR203の生成多項式が可変になるように構成してもよい。なお、生成多項式を可変に構成するには、シフトレジスタ24も含めBIST回路全体をPLDで構成してもよく、または、シフトレジスタ24を通常のトランジスタ素子で構成し、シフトレジスタ24の接続部および排他的論理和回路205をPLDで構成してもよい。   Therefore, PLD may be applied to the BIST circuit 20 (see FIG. 4), and the BIST circuit 20 may be configured so that, for example, the generator polynomials of the LFSR 202 and the MISR 203 are variable. In order to variably configure the generator polynomial, the entire BIST circuit including the shift register 24 may be configured by PLD, or the shift register 24 may be configured by a normal transistor element, and the connection portion of the shift register 24 and The exclusive OR circuit 205 may be configured by a PLD.

このようにLFSR202やMISR203を、その生成多項式が可変になるように構成すると、そのテスト対象となる集積回路チップ2の論理構造や入力端子、出力端子の数などに応じて、LFSR202やMISR203のビット長や、LFSR202が生成する信号の系列長などを調節することができる。すなわち、BIST回路20の全部または一部をPLDで構成することにより、そのBIST回路20をテスト対象の集積回路チップ2に応じて最適なものにすることができる。   When the LFSR 202 and MISR 203 are configured so that their generator polynomials are variable in this way, the bits of the LFSR 202 and MISR 203 depend on the logical structure of the integrated circuit chip 2 to be tested, the number of input terminals, the number of output terminals, and the like. The length, the sequence length of the signal generated by the LFSR 202, and the like can be adjusted. That is, by configuring all or part of the BIST circuit 20 with a PLD, the BIST circuit 20 can be optimized according to the integrated circuit chip 2 to be tested.

以上、本発明の第2の実施形態においては、テスト容易化回路内装基板10bのコア基板4bは、その基体がシリコン半導体で形成されているとしたが、基体がガラスやプラスチックなどの絶縁体でされ、その絶縁体上にシリコン半導体層が形成された構成であってもよい。この場合、MOSなどのトランジスタ素子は、その絶縁体上に形成されたシリコン半導体層を用いて形成される。なお、このように形成されたトランジスタ素子は、しばしば、TFT(Thin Film Transistor)と呼ばれる。   As described above, in the second embodiment of the present invention, the core substrate 4b of the circuit board 10b for easy testability is formed of a silicon semiconductor, but the substrate is an insulator such as glass or plastic. The silicon semiconductor layer may be formed on the insulator. In this case, a transistor element such as a MOS is formed using a silicon semiconductor layer formed on the insulator. The transistor element formed in this way is often called a TFT (Thin Film Transistor).

さらに、絶縁体などの基体上にシリコン半導体層を形成してTFTを形成する場合、その半導体層は、シリコン半導体層に代えて有機化合物半導体層であってもよい。図6は、本発明の第2の実施形態に係るテスト容易化回路内装基板のコア基板に有機化合物半導体が形成された構造の例を示した図である。図6に示した有機化合物半導体は、ペンタセン半導体によるMOSトランジスタの例である。   Further, when a TFT is formed by forming a silicon semiconductor layer on a substrate such as an insulator, the semiconductor layer may be an organic compound semiconductor layer instead of the silicon semiconductor layer. FIG. 6 is a diagram showing an example of a structure in which an organic compound semiconductor is formed on the core substrate of the testability-enhancing circuit interior substrate according to the second embodiment of the present invention. The organic compound semiconductor shown in FIG. 6 is an example of a MOS transistor using a pentacene semiconductor.

図6に示すように、ペンタセン半導体によるMOSトランジスタを形成するには、コア基板4bの基体として用いられるシリコン基板501上に、まず、熱酸化などによってシリコン酸化膜502を形成する。そして、そのシリコン酸化膜502の上にポリシリコンなどによって所定の形状をしたゲート電極503を形成する。そのゲート電極503は、窒化シリコンなどの絶縁膜504で覆われ、さらにその上に、ゲート電極503に対するソース電極505およびドレイン電極506が、所定の形状に金などの金属層によって形成される。そして、その上部にペンタセン半導体層507がスピンコートなどによって塗布、形成される。   As shown in FIG. 6, in order to form a MOS transistor using a pentacene semiconductor, first, a silicon oxide film 502 is formed on a silicon substrate 501 used as a base of the core substrate 4b by thermal oxidation or the like. Then, a gate electrode 503 having a predetermined shape is formed on the silicon oxide film 502 by using polysilicon or the like. The gate electrode 503 is covered with an insulating film 504 such as silicon nitride, and further, a source electrode 505 and a drain electrode 506 for the gate electrode 503 are formed on a metal layer such as gold in a predetermined shape. Then, a pentacene semiconductor layer 507 is applied and formed thereon by spin coating or the like.

なお、ペンタセン半導体層507より上部の構造については、図示を省略したが、その上部には、絶縁層などを介して配線層などが形成される。また、ここでは、コア基板4bの基体は、シリコン(シリコン基板501)であるとしたが、シリコンに代えて、ガラスやプラスチックであっても構わない。   Note that although the illustration of the structure above the pentacene semiconductor layer 507 is omitted, a wiring layer or the like is formed on the upper portion through an insulating layer or the like. In this example, the base of the core substrate 4b is silicon (silicon substrate 501). However, glass or plastic may be used instead of silicon.

図7は、ペンタセン分子の化学構造を示した図である。図7に示すように、ペンタセン分子は、いわゆるベンゼン環が5個結合した構造をしている。   FIG. 7 shows the chemical structure of the pentacene molecule. As shown in FIG. 7, the pentacene molecule has a structure in which five so-called benzene rings are bonded.

以上のような有機化合物半導体は、現在のところ、経時変化に対する信頼性が乏しい、つまり、寿命が長くないとされている。テスト容易化回路は、一般に、SIP製造工程においてそのSIPが出荷するまでのテストで使用されるため、テスト容易化回路を有機化合物半導体で構成した場合には、そのテスト容易化回路の寿命は、SIPを製造してから出荷の最終テストが終了するまでの期間以上であればよい。その期間が長くても数週間であるので、現状の有機化合物半導体でも使用に耐え得る。   The organic compound semiconductors as described above are currently considered to have low reliability with respect to changes over time, that is, they do not have a long lifetime. Since the test facilitating circuit is generally used in the test until the SIP is shipped in the SIP manufacturing process, when the test facilitating circuit is composed of an organic compound semiconductor, the life of the test facilitating circuit is: It may be longer than the period from the manufacture of SIP until the final test of shipping is completed. Since the period is several weeks at the longest, the current organic compound semiconductor can withstand use.

(第3の実施形態)
図8は、本発明の第3の実施形態に係るテスト容易化回路内装SIPの構成を模式的に示した図である。図8に示したテスト容易化回路内装SIP1cは、SIPを製造された集積回路チップをテストするためのテストボードに適用した場合の例である。このようなテストボードとしてのテスト容易化回路内装SIP1cにおいては、そのテスト容易化回路内装基板10c上にテストを制御または補助するためのアナログ集積回路チップ111、デジタルASICチップ102などが搭載され、さらに、テストの対象となる集積回路チップであるDUT(Device Under Test)121を装着するためのソケット122が搭載される。
(Third embodiment)
FIG. 8 is a diagram schematically showing a configuration of the testability-enhanced circuit interior SIP according to the third embodiment of the present invention. 8 is an example in which the SIP is applied to a test board for testing an integrated circuit chip on which the SIP is manufactured. In the test facilitating circuit interior SIP 1c as such a test board, an analog integrated circuit chip 111, a digital ASIC chip 102 and the like for controlling or assisting the test are mounted on the test facilitating circuit interior substrate 10c. A socket 122 for mounting a DUT (Device Under Test) 121, which is an integrated circuit chip to be tested, is mounted.

このようなテスト容易化回路内装SIP1cにおいても、そのテスト容易化回路内装基板10cに搭載されるアナログ集積回路チップ111、デジタルASICチップ102などの集積回路チップ2のテストを容易化するテスト容易化回路は、第1および第2の実施形態の場合と同様に、テスト容易化回路内装基板10c自身に内装される。   Also in the test facilitating circuit internal SIP 1c, the test facilitating circuit for facilitating the testing of the integrated circuit chip 2 such as the analog integrated circuit chip 111 and the digital ASIC chip 102 mounted on the test facilitating circuit internal substrate 10c. As in the case of the first and second embodiments, the test facilitating circuit interior substrate 10c itself is embedded.

また、テスト容易化回路内装SIP1cは、テストボードとして用いられるため、ソケット122に装着されたDUT121の信号端子は、テスト容易化回路内装SIP1cの外部に配置されるテスト装置(図示せず)に接続される。   Further, since the test facilitating circuit interior SIP1c is used as a test board, the signal terminal of the DUT 121 attached to the socket 122 is connected to a test device (not shown) disposed outside the test facilitating circuit interior SIP1c. Is done.

図9は、本発明の第3の実施形態に係るテスト容易化回路内装基板において、DUTをテスト装置へ接続する回路のポイントを示した図である。図9に示すように、DUT121の信号端子にはインピーダンス整合回路123が付加され、DUT121はそのインピーダンス整合回路123を介してテスト装置に接続される。DUT121とテスト装置とを接続する場合、インピーダンス整合回路123のインピーダンスは、例えば、50Ωになるように調整される。なお、インピーダンス整合回路123は、通常、抵抗とインダクタとによって構成される。   FIG. 9 is a diagram showing points of a circuit for connecting the DUT to the test apparatus in the test facilitating circuit internal substrate according to the third embodiment of the present invention. As shown in FIG. 9, an impedance matching circuit 123 is added to the signal terminal of the DUT 121, and the DUT 121 is connected to the test apparatus via the impedance matching circuit 123. When the DUT 121 and the test apparatus are connected, the impedance of the impedance matching circuit 123 is adjusted to be 50Ω, for example. Note that the impedance matching circuit 123 is usually configured by a resistor and an inductor.

そこで、本実施形態においては、インピーダンス整合回路123をソケット122のポゴピン1220に内装する。図8に示すように、ソケット122のポゴピン1220は、リード1222と固定ピン1226とがソケット122に固定するように設けられ、さらに、DUT121の信号端子に接触するコンタクタ1221が、リード1222に収容されるように設けられる。このとき、コンタクタ1221の下面はスプリング1223によって支持され、コンタクタ1221とDUT121の信号端子とが接触するとき、コンタクタ1221をDUT121の信号端子側へ押圧する。   Therefore, in this embodiment, the impedance matching circuit 123 is built in the pogo pin 1220 of the socket 122. As shown in FIG. 8, the pogo pin 1220 of the socket 122 is provided so that the lead 1222 and the fixing pin 1226 are fixed to the socket 122, and the contactor 1221 that contacts the signal terminal of the DUT 121 is accommodated in the lead 1222. Provided. At this time, the lower surface of the contactor 1221 is supported by the spring 1223, and when the contactor 1221 comes into contact with the signal terminal of the DUT 121, the contactor 1221 is pressed toward the signal terminal side of the DUT 121.

また、リード1222と固定ピン1226とは、チップ抵抗1224とインダクタ1225とを介してお互いに接続されて構成される。これらのチップ抵抗1224とインダクタ1225とは、DUT121の端子信号に対するインピーダンス整合回路123を構成する。このとき、インダクタ1225としては、チップ抵抗1224にコイルを巻いてインダクタとしてもよく、または、チップ抵抗1224と同様の形状をしたチップインダクタを用いてもよい。なお、チップ抵抗1224やチップインダクタは、前記したWLCSP集積回路チップ43(図1参照)と同程度の大きさのものが市販されている。   Further, the lead 1222 and the fixed pin 1226 are configured to be connected to each other via a chip resistor 1224 and an inductor 1225. These chip resistor 1224 and inductor 1225 constitute an impedance matching circuit 123 for the terminal signal of the DUT 121. At this time, as the inductor 1225, a coil may be wound around the chip resistor 1224 to form an inductor, or a chip inductor having the same shape as the chip resistor 1224 may be used. As the chip resistor 1224 and the chip inductor, those having the same size as the WLCSP integrated circuit chip 43 (see FIG. 1) are commercially available.

以上のように、本実施形態においては、DUT121の信号端子に対するインピーダンス整合回路123をソケット122のポゴピン1220に内装するので、テスト容易化回路内装SIP1cのサイズを大きくすることなく、DUT121の信号端子における信号反射を防止することができる。   As described above, in this embodiment, since the impedance matching circuit 123 for the signal terminal of the DUT 121 is built in the pogo pin 1220 of the socket 122, the size of the testability circuit built-in SIP 1c is not increased, and the signal terminal of the DUT 121 Signal reflection can be prevented.

なお、DUT121の信号端子に対するインピーダンス整合回路123をソケット122のポゴピン1220に内装せず、第1および第2の実施形態と同様に、テスト容易化回路内装基板10cに内装するようにしてもよい。また、テスト容易化回路内装基板10cに搭載されるアナログ集積回路チップ111およびデジタルASICチップ102の信号端子に対しても同様のインピーダンス整合回路123を設けてもよい。そして、そのインピーダンス整合回路123を設ける場合には、そのインピーダンス整合回路123をテスト容易化回路内装基板10c自身に内装する。   Note that the impedance matching circuit 123 for the signal terminal of the DUT 121 may not be built in the pogo pin 1220 of the socket 122, but may be built in the testability-enhanced circuit board 10c as in the first and second embodiments. Further, the same impedance matching circuit 123 may be provided for the signal terminals of the analog integrated circuit chip 111 and the digital ASIC chip 102 mounted on the test facilitating circuit internal substrate 10c. When the impedance matching circuit 123 is provided, the impedance matching circuit 123 is provided on the test facilitating circuit internal substrate 10c itself.

1,1b,1c テスト容易化回路内装SIP
2 集積回路チップ
3,4,4b,5 コア基板
6 スルーホール
7 絶縁層
10,10b,10c テスト容易化回路内装基板
20 BIST回路
21 バンプ
24 シフトレジスタ
31,41,51 配線層
32 ビルドアップ層
33 パッド
42 接着層
43 WLCSP集積回路チップ
44 受動素子
101 メモリチップ
102 デジタルASICチップ
104,1021 TAPコントローラ
105,1022 BSシフトレジスタ
106 TBIC
107 ABM
111 アナログ集積回路チップ
113 信号混合・分離回路
121 DUT
122 ソケット
123 インピーダンス整合回路
201 CUT
202 LFSR
203 MISR
204 シフトレジスタ
205 排他的論理和回路
501 シリコン基板
502 シリコン酸化膜
503 ゲート電極
504 絶縁膜
505 ソース電極
506 ドレイン電極
507 ペンタセン半導体層
1020 ASICコア
1110 変復調回路
1111 D/A変換器
1112 A/D変換器
1220 ポゴピン
1221 コンタクタ
1222 リード
1223 スプリング
1224 チップ抵抗
1225 インダクタ
1226 固定ピン
1,1b, 1c SIP circuit for easy testability
2 Integrated circuit chips 3, 4, 4 b, 5 Core substrate 6 Through hole 7 Insulating layer 10, 10 b, 10 c Test ease circuit internal substrate 20 BIST circuit 21 Bump 24 Shift register 31, 41, 51 Wiring layer 32 Buildup layer 33 Pad 42 Adhesive layer 43 WLCSP integrated circuit chip 44 Passive element 101 Memory chip 102 Digital ASIC chip 104,1021 TAP controller 105,1022 BS shift register 106 TBIC
107 ABM
111 Analog Integrated Circuit Chip 113 Signal Mixing / Separating Circuit 121 DUT
122 socket 123 impedance matching circuit 201 CUT
202 LFSR
203 MISR
204 shift register 205 exclusive OR circuit 501 silicon substrate 502 silicon oxide film 503 gate electrode 504 insulating film 505 source electrode 506 drain electrode 507 pentacene semiconductor layer 1020 ASIC core 1110 modulation / demodulation circuit 1111 D / A converter 1112 A / D converter 1220 Pogo pin 1221 Contactor 1222 Lead 1223 Spring 1224 Chip resistor 1225 Inductor 1226 Fixed pin

Claims (3)

少なくともその1つに集積回路チップが搭載された複数の基板を、絶縁樹脂層を介して貼り合わせて構成するとともに、前記基板のそれぞれに形成された配線層を、前記基板の少なくとも1つの基板および前記樹脂層を貫通するスルーホールを介して接続して構成したシステムインパッケージであって、
前記複数の基板のうち少なくとも1つの基板には、前記集積回路チップのうち少なくとも1つの集積回路チップのテストを容易化するためのテスト容易化回路と、前記複数の基板のいずれかに固定して搭載された集積回路チップ以外の集積回路チップを着脱可能に装着するソケットと、が搭載されていること
を特徴とするシステムインパッケージ。
A plurality of substrates each having an integrated circuit chip mounted on at least one of them are bonded to each other through an insulating resin layer, and a wiring layer formed on each of the substrates includes at least one of the substrates and It is a system in package configured by connecting through a through hole penetrating the resin layer,
A test facilitating circuit for facilitating a test of at least one integrated circuit chip among the integrated circuit chips and at least one of the plurality of substrates is fixed to one of the plurality of substrates. A system-in-package comprising a socket for detachably mounting an integrated circuit chip other than the mounted integrated circuit chip.
前記ソケットに装着される集積回路チップの端子と前記システムインパッケージ基板の配線層とを接続する前記ソケットのポゴピンに、前記ソケットに装着される集積回路チップの端子のインピーダンスを整合する受動素子を内装したこと
を特徴とする請求項1に記載のシステムインパッケージ。
A passive element that matches the impedance of the terminal of the integrated circuit chip mounted in the socket is incorporated in the pogo pin of the socket that connects the terminal of the integrated circuit chip mounted in the socket and the wiring layer of the system-in-package substrate. The system-in-package according to claim 1, wherein:
請求項1に記載のシステムインパッケージに搭載されるソケットであって、
前記ソケットのポゴピンに、前記ソケットに装着される集積回路チップの端子のインピーダンスを整合する受動素子を内装したことを
を特徴とするソケット。
A socket mounted on the system-in-package according to claim 1,
A socket characterized in that a passive element that matches the impedance of a terminal of an integrated circuit chip attached to the socket is built in the pogo pin of the socket.
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