JP2012002907A - Sunlight reflection mirror, film mirror and its manufacturing method - Google Patents

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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a film mirror with good light resistance and good weather resistance which has a high regular reflectance of a silver reflective layer, can prevent the decrease of the regular reflectance in the course of time, is light-weight and flexible and with which the manufacturing costs can be reduced and the large area and large-scale production can be performed and to provide its manufacturing method and a sunlight reflection mirror using the film mirror.SOLUTION: In a film mirror having at least one silver reflective layer on a resin substrate, a silver complex compound from which ligands can be evaporated and detached after heating and sintering is used to form a application film on the resin substrate. Through local heating of the application film the silver reflective layer can be formed.

Description

本発明は、耐光性及び耐候性に優れ、太陽光に対して良好な反射率を有するフィルムミラー、その製造方法、及びそれを用いた太陽光反射用ミラーに関するものである。   The present invention relates to a film mirror having excellent light resistance and weather resistance and having a good reflectance with respect to sunlight, a method for producing the same, and a mirror for sunlight reflection using the film mirror.

近年、石油、天然ガス等の化石燃料エネルギーに代わる代替エネルギーとしては現在、石炭エネルギー、バイオマスエネルギー、核エネルギー、並びに風力エネルギー及び太陽エネルギー等の自然エネルギーが検討されているが、化石燃料の代替エネルギーとして最も安定しており、且つ量の多い自然エネルギーは、太陽エネルギーであると考えられる。   In recent years, coal energy, biomass energy, nuclear energy, and natural energy such as wind energy and solar energy have been studied as alternative energy to replace fossil fuel energy such as oil and natural gas. The most stable and large amount of natural energy is considered to be solar energy.

しかしながら、太陽エネルギーは非常に有力な代替エネルギーであるものの、これを活用する観点からは、太陽エネルギーのエネルギー密度が低いこと、並びに太陽エネルギーの貯蔵及び移送が困難であることが、問題となると考えられる。   However, although solar energy is a very powerful alternative energy, from the viewpoint of utilizing it, the low energy density of solar energy and the difficulty in storing and transferring solar energy are problematic. It is done.

これに対して、太陽エネルギーのエネルギー密度が低いという問題は、巨大な反射装置で太陽エネルギーを集めることによって解決することが提案されている。   On the other hand, it has been proposed to solve the problem that the energy density of solar energy is low by collecting solar energy with a huge reflector.

反射装置は、太陽光による紫外線や熱、風雨、砂嵐などに晒されるため、従来、ガラス製ミラーが用いられてきた。ガラス製ミラーは環境に対する耐久性が高い反面、輸送時に破損したり、質量が重いために、ミラーを設置する架台の強度を持たせるために、プラントの建設費がかさむといった問題があった。   Since the reflecting device is exposed to sunlight, ultraviolet rays, heat, wind and rain, sandstorms, etc., a glass mirror has been conventionally used. Glass mirrors are highly durable to the environment, but they are damaged during transportation, and because of their heavy mass, there is a problem that the construction cost of the plant is increased due to the strength of the mount on which the mirrors are installed.

上記問題を解決するために、ガラス製ミラーを樹脂製反射シートに置き換えることが考えられてきたが(例えば特許文献1参照)、反射層に銀などの金属を用いる場合、樹脂基材は一般的に耐熱温度が低いために、蒸着法のような、生産性の低い真空プロセスの他には、実用上適用できるプロセスがこれまで無かった。   In order to solve the above problem, it has been considered to replace a glass mirror with a resin reflection sheet (see, for example, Patent Document 1), but when a metal such as silver is used for the reflection layer, a resin base material is generally used. Since the heat-resistant temperature is low, there has been no practically applicable process other than a vacuum process with low productivity such as vapor deposition.

生産性が高いウェットプロセスが適用可能な銀成膜プロセスとして、銀ナノ粒子をインクジェット法などを用いて塗布する方法が提案されている(例えば特許文献2参照)。しかしながら、銀ナノ粒子を塗布する方法では、成膜時に少なくとも150℃以上、時には250℃程度の焼成温度が必要になること、成膜後にも銀ナノ粒子周辺に有機成分が残存するため、長期間紫外線に晒されることで、銀反射層が黄色に変化してしまうなどの問題が生じていた。   As a silver film forming process to which a wet process with high productivity can be applied, a method of applying silver nanoparticles using an inkjet method or the like has been proposed (for example, see Patent Document 2). However, in the method of applying silver nanoparticles, a baking temperature of at least 150 ° C. or more, sometimes about 250 ° C. is necessary at the time of film formation, and organic components remain around the silver nanoparticles even after film formation. Exposure to ultraviolet rays has caused problems such as the silver reflective layer turning yellow.

この問題に対して、銀インクを有機溶媒に可溶性の銀錯体インクが提案されている(特許文献3参照)。この方法においては、銀錯体インクを基材に成膜した後、加熱することで有機分が分解・揮発し、銀膜中に有機分が残存しないことから、紫外線照射などによる黄色変化といった問題が生じにくいといった長所が挙げられる。しかしながら、加熱温度は130℃以上が必要であり、汎用性の高い樹脂基材への適用は困難であった。   To solve this problem, a silver complex ink in which the silver ink is soluble in an organic solvent has been proposed (see Patent Document 3). In this method, the organic component is decomposed and volatilized by heating after the silver complex ink is formed on the substrate, and the organic component does not remain in the silver film. The advantage is that it does not easily occur. However, the heating temperature is required to be 130 ° C. or higher, and application to a highly versatile resin base material has been difficult.

特開2005−59382号公報JP 2005-59382 A 特開2004−273205号公報JP 2004-273205 A 特表2009−535661号公報Special table 2009-535661 gazette

本発明は、上記課題に鑑みなされたものであり、その目的は、銀反射層の正反射率が高く、また経時による正反射率の低下を防止するとともに、軽量で柔軟性があり、製造コストを抑え大面積化・大量生産することのできる耐光性及び耐候性に優れたフィルムミラー、その製造方法、及びそれを用いた太陽光反射用ミラーを提供することである。   The present invention has been made in view of the above problems, and its purpose is that the regular reflectance of the silver reflection layer is high, and the regular reflectance is prevented from decreasing over time, and it is lightweight and flexible, and has a manufacturing cost. It is providing the film mirror excellent in the light resistance and the weather resistance which can suppress large area and can be mass-produced, its manufacturing method, and the mirror for sunlight reflection using the same.

本発明の上記目的は、以下の構成により達成される。   The above object of the present invention is achieved by the following configurations.

1.樹脂基材に少なくとも一層の銀反射層を有するフィルムミラーにおいて、加熱焼成後に配位子が気化・脱離しうる銀錯体化合物を用いて該樹脂基材上に塗布膜を形成し、該塗布膜の局所的加熱により該銀反射層が形成されるものであることを特徴とするフィルムミラー。   1. In a film mirror having at least one silver reflective layer on a resin substrate, a coating film is formed on the resin substrate using a silver complex compound in which a ligand can be vaporized and desorbed after heating and baking. A film mirror, wherein the silver reflective layer is formed by local heating.

2.前記フィルムミラーにおいて、前記銀錯体化合物が、アンモニウムカルバメート系またはアンモニウムカーボネート系化合物を銀化合物と反応することにより得られた銀錯体化合物であることを特徴とする前記1に記載のフィルムミラー。   2. 2. The film mirror according to 1 above, wherein the silver complex compound is a silver complex compound obtained by reacting an ammonium carbamate compound or an ammonium carbonate compound with a silver compound.

3.前記フィルムミラーにおいて、前記局所的加熱が、前記銀錯体化合物の塗布膜に断続的に繰り返す加熱であることにより銀反射層が形成されることを特徴とする、前記1または2に記載のフィルムミラーの製造方法。   3. 3. The film mirror as described in 1 or 2 above, wherein the silver mirror is formed by the local heating being intermittently repeated heating on the coating film of the silver complex compound. Manufacturing method.

4.前記フィルムミラーの製造方法において、前記局所的加熱が、前記銀錯体化合物の塗布膜に電磁波又は超音波を照射することにより加熱する方法であることを特徴とする、前記3に記載のフィルムミラーの製造方法。   4). 4. The method of manufacturing a film mirror according to 3, wherein the local heating is a method of heating the coating film of the silver complex compound by irradiating an electromagnetic wave or an ultrasonic wave. Production method.

5.前記フィルムミラーの製造方法において、前記電磁波が赤外線であることを特徴とする、前記4に記載のフィルムミラーの製造方法。   5. 5. The method for producing a film mirror as described in 4 above, wherein the electromagnetic wave is infrared rays.

6.前記1または2に記載のフィルムミラーを用いることを特徴とする太陽光反射用ミラー。   6). The film mirror described in 1 or 2 above is used.

本発明により、銀反射層の正反射率が高く、また経時による正反射率の低下を防止するとともに、軽量で柔軟性があり、製造コストを抑え大面積化・大量生産することのできる耐光性及び耐候性に優れたフィルムミラー、その製造方法、及びそれを用いた太陽光反射用ミラーを提供することができた。   According to the present invention, the silver reflective layer has a high regular reflectance, prevents a decrease in regular reflectance over time, is lightweight and flexible, and has a light resistance that can reduce the manufacturing cost and increase the area and mass production. And the film mirror excellent in weather resistance, its manufacturing method, and the mirror for sunlight reflection using the same were able to be provided.

以下、本発明を実施するための形態について詳細に説明する。   Hereinafter, embodiments for carrying out the present invention will be described in detail.

本発明者らは、上記問題・状況を鑑みて、鋭意検討した結果、銀反射層が加熱焼成後に配位子が気化・脱離しうる銀錯体化合物を用いて樹脂基材上に塗布膜を形成し、更に塗布膜を局所的加熱が可能な加熱手段によって銀反射層を形成することにより、正反射率が高く、長期間外部環境に晒された後にも正反射率を高く維持できることを見出し、本発明に至った次第である。   As a result of intensive studies in view of the above problems and circumstances, the present inventors have formed a coating film on a resin substrate using a silver complex compound in which a ligand can be vaporized and desorbed after the silver reflective layer is heated and fired. Further, by forming the silver reflective layer by a heating means capable of locally heating the coating film, it is found that the regular reflectance is high and the regular reflectance can be maintained high even after being exposed to the external environment for a long period of time. It is up to the present invention.

上記方法により形成されたフィルムミラーは、蒸着法のような真空プロセスを用いる方法に比べ、真空プロセスを必要とせず、連続生産適性があることから、製造コストも安価に抑えることができる。   The film mirror formed by the above method does not require a vacuum process and has suitability for continuous production as compared with a method using a vacuum process such as a vapor deposition method, so that the manufacturing cost can be reduced.

〔フィルムミラーの構成〕
本発明のフィルムミラーは、樹脂基材とその上に少なくとも一層の銀反射層を有し、加熱焼成後に配位子が気化・脱離しうる銀錯体化合物を用いて樹脂基材上に塗布膜を形成し、該塗布膜の局所的加熱において該銀反射層が形成されることを特徴とする。構成層として、樹脂基材、銀反射層の他に、接着層、上部隣接層、等の特別な機能層を設けることも好ましい態様である。
[Configuration of film mirror]
The film mirror of the present invention has a resin base material and at least one silver reflection layer thereon, and a coating film is formed on the resin base material using a silver complex compound in which a ligand can be vaporized and desorbed after heating and baking. The silver reflective layer is formed by local heating of the coating film. In addition to the resin base material and the silver reflective layer, it is also a preferable aspect to provide a special functional layer such as an adhesive layer and an upper adjacent layer as the constituent layer.

(加熱焼成後に配位子が気化・脱離しうる銀錯体化合物)
加熱焼成後に配位子が気化・脱離しうる銀錯体化合物とは、溶液中では銀が安定に溶解するための配位子を有するが、溶媒を除去し、加熱焼成することによって、配位子が熱分解し、COや低分子量のアミン化合物となり、気化・脱離し、金属銀のみが残存することのできる銀錯体化合物のことをいう。
(Silver complex compound in which the ligand can be vaporized and desorbed after baking)
A silver complex compound in which a ligand can be vaporized and desorbed after heating and firing has a ligand for stably dissolving silver in the solution, but the ligand is removed by removing the solvent and heating and firing. Is a silver complex compound that can be thermally decomposed into CO 2 or a low molecular weight amine compound, vaporized / desorbed, and only metallic silver remains.

このような錯体の例は、公知である特表2009−535661号、特表2010−500475号等に記載されており、下記一般式(1)で表される銀化合物と、一般式(2)〜(4)で表されるアンモニウムカルバメート系またはアンモニウムカーボネート系化合物とを反応して得られる銀錯体化合物であることが好ましい。   Examples of such a complex are described in publicly known special table 2009-535661, special table 2010-500475 and the like, and a silver compound represented by the following general formula (1) and the general formula (2) It is preferable that it is a silver complex compound obtained by reacting the ammonium carbamate type or ammonium carbonate type compound represented by (4).

また、本発明の銀錯体化合物は銀コーティング液組成物に含まれ、これを塗布することにより樹脂基板上に本発明に係る錯体を含む塗布膜が形成される。   Moreover, the silver complex compound of this invention is contained in a silver coating liquid composition, and the coating film containing the complex based on this invention is formed on a resin substrate by apply | coating this.

一般式(1)
Ag
General formula (1)
Ag n X

Figure 2012002907
Figure 2012002907

(一般式(1)〜(4)において、Xは、酸素、硫黄、ハロゲン、シアノ、シアネート、カーボネート、ニトレート、ニトライト、サルフェート、ホスフェート、チオシアネート、クロレート、パークロレート、テトラフルオロボレート、アセチルアセトネート、カルボキシレート、及びこれらの誘導体から選択される置換基であり、nは、1〜4の整数であって、R〜Rは、互いに独立して、水素、C1〜C30の脂肪族や脂環族アルキル基、アリール基またはアラルキル(aralkyl)基、官能基が置換されたアルキル及びアリール基、ヘテロ環化合物基と高分子化合物及びその誘導体から選択される置換基である。)
一般式(1)の具体例としては例えば、酸化銀、チオシアネート化銀、硫化銀、塩化銀、シアン化銀、シアネート化銀、炭酸銀、硝酸銀、亜硝酸銀、硫酸銀、燐酸銀、過塩素酸銀、四フッ素ボレート化銀、アセチルアセトネート化銀、酢酸銀、乳酸銀、シュウ酸銀及びその誘導体などが挙げられるが、これに限定されるものではない。
(In the general formulas (1) to (4), X is oxygen, sulfur, halogen, cyano, cyanate, carbonate, nitrate, nitrite, sulfate, phosphate, thiocyanate, chlorate, perchlorate, tetrafluoroborate, acetylacetonate, It is a substituent selected from carboxylate and derivatives thereof, n is an integer of 1 to 4, and R 1 to R 6 are independently of each other hydrogen, C1 to C30 aliphatic or fatty acid. These are substituents selected from cyclic alkyl groups, aryl groups or aralkyl groups, alkyl and aryl groups substituted with functional groups, heterocyclic compound groups, polymer compounds and derivatives thereof.
Specific examples of general formula (1) include, for example, silver oxide, silver thiocyanate, silver sulfide, silver chloride, silver cyanide, silver cyanate, silver carbonate, silver nitrate, silver nitrite, silver sulfate, silver phosphate, perchloric acid. Examples thereof include, but are not limited to, silver, silver tetrafluoride borate, silver acetylacetonate, silver acetate, silver lactate, silver oxalate and derivatives thereof.

また、一般式(2)〜(4)において、R〜Rは、具体的に例えば、水素、メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル、イソブチル、アミル、ヘキシル、エチルヘキシル、ヘプチル、オクチル、イソオクチル、ノニル、デシル、ドデシル、ヘキサデシル、オクタデシル、ドコデシル、シクロプロピル、シクロペンチル、シクロヘキシル、アリール、ヒドロキシ、メトキシ、ヒドロキシエチル、メトキシエチル、2−ヒドロキシプロピル、メトキシプロピル、シアノエチル、エトキシ、ブトキシ、ヘキシルオキシ、メトキシエトキシエチル、メトキシエトキシエトキシエチル、ヘキサメチレンイミン、モルホリン、ピペリジン、ピペラジン、エチレンジアミン、プロピレンジアミン、ヘキサメチレンジアミン、トリエチレンジアミン、ピロール、イミダゾール、ピリジン、カルボキシメチル、トリメトキシシリルプロピル、トリエトキシシリルプロピル、フェニル、メトキシフェニル、シアノフェニル、フェノキシ、トリル、ベンジル及びその誘導体、そしてポリアリールアミンやポリエチレンアミンのような高分子化合物及びこれらの誘導体などが挙げられるが、これに限定されるものではない。 In the general formulas (2) to (4), R 1 to R 6 are specifically, for example, hydrogen, methyl, ethyl, propyl, isopropyl, butyl, isobutyl, amyl, hexyl, ethylhexyl, heptyl, octyl, isooctyl , Nonyl, decyl, dodecyl, hexadecyl, octadecyl, docodecyl, cyclopropyl, cyclopentyl, cyclohexyl, aryl, hydroxy, methoxy, hydroxyethyl, methoxyethyl, 2-hydroxypropyl, methoxypropyl, cyanoethyl, ethoxy, butoxy, hexyloxy, methoxy Ethoxyethyl, methoxyethoxyethoxyethyl, hexamethyleneimine, morpholine, piperidine, piperazine, ethylenediamine, propylenediamine, hexamethylenediamine, triethylenedia , Pyrrole, imidazole, pyridine, carboxymethyl, trimethoxysilylpropyl, triethoxysilylpropyl, phenyl, methoxyphenyl, cyanophenyl, phenoxy, tolyl, benzyl and their derivatives, and polymers such as polyarylamine and polyethyleneamine Examples of the compound and derivatives thereof are not limited thereto.

一般式(2)〜(4)の化合物例として、具体的に例えば、アンモニウムカルバメート(ammonium carbamate)、アンモニウムカーボネート(ammoniumcarbonate)、アンモニウムバイカーボネート(ammonium bicarbonate)、エチルアンモニウム エチルカルバメート、イソプロピルアンモニウムイソプロピルカルバメート、n−ブチルアンモニウム n−ブチルカルバメート、イソブチルアンモニウム イソブチルカルバメート、t−ブチルアンモニウム t−ブチルカルバメート、2−エチルヘキシルアンモニウム 2−エチルヘキシルカルバメート、オクタデシルアンモニウム オクタデシルカルバメート、2−メトキシエチルアンモニウム 2−メトキシエチルカルバメート、2−シアノエチルアンモニウム 2−シアノエチルカルバメート、ジブチルアンモニウム ジブチルカルバメート、ジオクタデシルアンモニウムジオクタデシルカルバメート、メチルデシルアンモニウム メチルデシルカルバメート、ヘキサメチレンイミンアンモニウム ヘキサメチレンイミンカルバメート、モルホリニウム モルホリンカルバメート、ピリジウムエチルヘキシルカルバメート、トリエチレンジアミニウム イソプロピルバイカルバメート、ベンジルアンモニウム ベンジルカルバメート、トリエトキシシリルプロピルアンモニウム トリエトキシシリルプロピルカルバメート、エチルアンモニウム エチルカーボネート、イソプロピルアンモニウム イソプロピルカーボネート、イソプロピルアンモニウム バイカーボネート、n−ブチルアンモニウム n−ブチルカーボネート、イソブチルアンモニウム イソブチルカーボネート、t−ブチルアンモニウム t−ブチルカーボネート、t−ブチルアンモニウム バイカーボネート、2−エチルヘキシルアンモニウム 2−エチルヘキシルカーボネート、2−エチルヘキシルアンモニウム バイカーボネート、2−メトキシエチルアンモニウム 2−メトキシエチルカーボネート、2−メトキシエチルアンモニウム バイカーボネート、2−シアノエチルアンモニウム 2−シアノエチルカーボネート、2−シアノエチルアンモニウム バイカーボネート、オクタデシルアンモニウム オクタデシルカーボネート、ジブチルアンモニウム ジブチルカーボネート、ジオクタデシルアンモニウム ジオクタデシルカーボネート、ジオクタデシルアンモニウム バイカーボネート、メチルデシルアンモニウム メチルデシルカーボネート、ヘキサメチレンイミンアンモニウム ヘキサメチレンイミンカーボネート、モルホリンアンモニウム モルホリンカーボネート、ベンジルアンモニウム ベンジルカーボネート、トリエトキシシリルプロピルアンモニウム トリエトキシシリルプロピルカーボネート、ピリジウム バイカーボネート、トリエチレンジアミニウム イソプロピルカーボネート、トリエチレンジアミニウム バイカーボネート、及びその誘導体から選択される1種または2種以上の混合物などが挙げられるが、これに限定されるものではない。   Specific examples of the compounds represented by the general formulas (2) to (4) include, for example, ammonium carbamate, ammonium carbonate, ammonium bicarbonate, ethylammonium ethylcarbamate, isopropylammonium isopropylcarbamate, n-butylammonium n-butylcarbamate, isobutylammonium isobutylcarbamate, t-butylammonium t-butylcarbamate, 2-ethylhexylammonium 2-ethylhexylcarbamate, octadecylammonium octadecylcarbamate, 2-methoxyethylammonium 2-methoxyethylcarbamate, -Cyanoethylammonium 2-cyanoethylcarbamate, dibutylammonium dibutylcarbamate, dioctadecylammonium dioctadecylcarbamate, methyldecylammonium methyldecylcarbamate, hexamethyleneimineammonium hexamethyleneiminecarbamate, morpholinium morpholinecarbamate, pyridiumethylhexylcarbamate, triethylenediaminiumisopropyl Bicarbamate, benzylammonium benzylcarbamate, triethoxysilylpropylammonium triethoxysilylpropylcarbamate, ethylammonium ethylcarbonate, isopropylammonium isopropylcarbonate, isopropylammonium bicarbonate, n Butyl ammonium n-butyl carbonate, isobutyl ammonium isobutyl carbonate, t-butyl ammonium t-butyl carbonate, t-butyl ammonium bicarbonate, 2-ethylhexyl ammonium 2-ethylhexyl carbonate, 2-ethylhexyl ammonium bicarbonate, 2-methoxyethyl ammonium 2 -Methoxyethyl carbonate, 2-methoxyethylammonium bicarbonate, 2-cyanoethylammonium 2-cyanoethyl carbonate, 2-cyanoethylammonium bicarbonate, octadecylammonium octadecylcarbonate, dibutylammonium dibutylcarbonate, dioctadecylammonium dioctadecylcarbonate, geo Kutadecyl ammonium bicarbonate, methyl decyl ammonium methyl decyl carbonate, hexamethylene imine ammonium hexamethylene imine carbonate, morpholine ammonium morpholine carbonate, benzyl ammonium benzyl carbonate, triethoxysilylpropyl ammonium triethoxysilylpropyl carbonate, pyridium bicarbonate, triethylenedia Examples thereof include, but are not limited to, one or a mixture of two or more selected from minium isopropyl carbonate, triethylenediaminium bicarbonate, and derivatives thereof.

一方、上記のアンモニウムカルバメートまたはアンモニウムカーボネート系化合物の種類及び製造方法は、特に制限する必要はない。例えば、米国特許第4,542,214号では、第1アミン、第2アミン、第3アミン、または少なくとも1つ以上のこれらの混合物と二酸化炭素からアンモニウムカルバメート系化合物が製造できると記述しており、前記アミン1モル当り水0.5モルをさらに添加すると、アンモニウムカーボネート系化合物が得られて、水1モル以上を添加する場合は、アンモニウムバイカーボネート系化合物を得ることができる。この際、常圧または加圧状態で特別な溶媒を使用せずに直接製造するか、溶媒を使用する場合、水、メタノール、エタノール、イソプロパノール、ブタノールのようなアルコール類、エチレングリコール、グリセリンのようなグリコール類、エチルアセテート、ブチルアセテート、カルビトールアセテートのようなアセテート類、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサンのようなエーテル類、メチルエチルケトン、アセトンのようなケトン類、ヘキサン、ヘプタンのような炭化水素系、ベンゼン、トルエンのような芳香族、そしてクロロホルムやメチレンクロライド、カーボンテトラクロライドのようなハロゲン置換溶媒またはこれらの混合溶媒などが挙げられて、二酸化炭素は、気相状態でバブリング(bubbling)するか、固体相ドライアイスを使用することができて、超臨界(supercritical)状態でも反応することができる。本発明で使用されるアンモニウムカルバメートまたはアンモニウムカーボネート誘導体の製造には、上記の方法の他にも、最終物質の構造が同一であれば、公知のいかなる方法を使用してもよい。即ち、製造のための溶媒、反応温度、濃度または触媒などを特に限定する必要はなく、製造収率にも影響しない。   On the other hand, the kind and production method of the ammonium carbamate or ammonium carbonate compound are not particularly limited. For example, U.S. Pat. No. 4,542,214 describes that ammonium carbamate compounds can be prepared from carbon dioxide and primary amines, secondary amines, tertiary amines, or at least one mixture thereof. When 0.5 mol of water is further added per 1 mol of the amine, an ammonium carbonate compound is obtained. When 1 mol or more of water is added, an ammonium bicarbonate compound can be obtained. At this time, it is produced directly without using a special solvent at normal pressure or under pressure, or when a solvent is used, alcohols such as water, methanol, ethanol, isopropanol, butanol, ethylene glycol, glycerin, etc. Glycols, ethyl acetate, butyl acetate, acetates such as carbitol acetate, ethers such as diethyl ether, tetrahydrofuran, dioxane, ketones such as methyl ethyl ketone, acetone, hydrocarbons such as hexane, heptane, Examples include aromatics such as benzene and toluene, and halogen-substituted solvents such as chloroform, methylene chloride, and carbon tetrachloride, or mixed solvents thereof. Carbon dioxide is bubbled in the gas phase. Or, it can be used a solid phase dry ice, it can be reacted in supercritical (supercritical) state. For the production of the ammonium carbamate or ammonium carbonate derivative used in the present invention, any known method may be used in addition to the above method as long as the structure of the final substance is the same. That is, it is not necessary to specifically limit the solvent, reaction temperature, concentration or catalyst for production, and the production yield is not affected.

このように製造されたアンモニウムカルバメートまたはアンモニウムカーボネート系化合物と銀化合物とを反応して、有機銀錯体化合物を製造することができる。例えば、一般式(1)に示したような少なくとも一つ以上の銀化合物と、一般式(2)〜(4)に示したような少なくとも一つ以上のアンモニウムカルバメートまたはアンモニウムカーボネート誘導体及びこれらの混合物を、窒素雰囲気の常圧または加圧状態で、溶媒を使用せずに直接反応するか、溶媒を使用する場合、水、メタノール、エタノール、イソプロパノール、ブタノールのようなアルコール類、エチレングリコール、グリセリンのようなグリコール類、エチルアセテート、ブチルアセテート、カルビトールアセテートのようなアセテート類、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサンのようなエーテル類、メチルエチルケトン、アセトンのようなケトン類、ヘキサン、ヘプタンのような炭化水素系、ベンゼン、トルエンのような芳香族、そしてクロロホルムやメチレンクロライド、カーボンテトラクロライドのようなハロゲン置換溶媒またはこれらの混合溶媒などを使用することができる。   An organic silver complex compound can be produced by reacting the thus produced ammonium carbamate or ammonium carbonate compound with a silver compound. For example, at least one silver compound represented by the general formula (1), at least one ammonium carbamate or ammonium carbonate derivative represented by the general formulas (2) to (4), and a mixture thereof. In a nitrogen atmosphere at normal pressure or under pressure without using a solvent, or when using a solvent, alcohols such as water, methanol, ethanol, isopropanol, butanol, ethylene glycol, glycerin Glycols such as ethyl acetate, butyl acetate, acetates such as carbitol acetate, ethers such as diethyl ether, tetrahydrofuran and dioxane, ketones such as methyl ethyl ketone and acetone, hydrocarbons such as hexane and heptane , Benzene, true It can be aromatic such as, and chloroform and methylene chloride, and the like halogenated solvent or a mixed solvent such as carbon tetrachloride used.

本発明で使用される銀錯体化合物の製造には、上記の方法の他に、一般式(1)の銀化合物と一つ以上のアミン化合物とが混合された溶液を製造した後、二酸化炭素を反応して、銀錯体化合物を製造することもできる。上記のように、窒素雰囲気の常圧または加圧状態で、溶媒を使用せずに直接反応するか、溶媒を使用して反応することができる。しかしながら、最終物質の構造が同一であれば、公知の如何なる方法を使用してもよい。即ち、製造のための溶媒、反応温度、濃度または触媒の使用有無などを特に限定する必要はなく、製造収率にも影響しない。   For the production of the silver complex compound used in the present invention, in addition to the above method, after preparing a solution in which the silver compound of the general formula (1) and one or more amine compounds are mixed, carbon dioxide is used. A silver complex compound can also be produced by reaction. As described above, the reaction can be performed directly without using a solvent in a normal pressure or pressurized state of a nitrogen atmosphere, or can be performed using a solvent. However, any known method may be used as long as the structure of the final material is the same. That is, it is not necessary to specifically limit the solvent for the production, the reaction temperature, the concentration or the presence or absence of the catalyst, and the production yield is not affected.

本発明で使用される銀錯体化合物は、特表2008−530001号公報にその製造方法が記載されており、下記一般式(5)の構造で認識される。   The production method of the silver complex compound used in the present invention is described in JP-T-2008-530001, and is recognized by the structure of the following general formula (5).

一般式(5)
Ag[A]m
(一般式(5)において、Aは、一般式(2)〜(4)の化合物であり、mは、0.5〜1.5である。)
本発明の高反射、高光沢の反射面の形成のために使用される銀コーティング液組成物は、前記の銀錯体化合物を含み、必要に応じて、溶媒、安定剤、レベリング剤(Leveling agent)、薄膜補助剤、還元剤、熱分解反応促進剤の添加剤を、本発明の銀コーティング組成物に含むことができる。
General formula (5)
Ag [A] m
(In General formula (5), A is a compound of General formula (2)-(4), and m is 0.5-1.5.)
The silver coating liquid composition used for forming the highly reflective and highly glossy reflecting surface of the present invention contains the above-mentioned silver complex compound, and if necessary, a solvent, a stabilizer, and a leveling agent (Leveling agent). In addition, the silver coating composition of the present invention may contain additives such as a thin film auxiliary, a reducing agent, and a thermal decomposition reaction accelerator.

補助剤、還元剤、熱分解反応促進剤の添加剤を、本発明の銀コーティング組成物に含むことができる。   Additives, reducing agents, and thermal decomposition reaction accelerator additives can be included in the silver coating composition of the present invention.

一方、前記安定剤としては例えば、第1アミン、第2アミンまたは第3アミンのようなアミン化合物や、前記アンモニウムカルバメート、アンモニウムカーボネート、アンモニウムバイカーボネート系化合物、またはホスフィン(phosphine)、ホスファイ(phosphite)、ホスフェート(phosphate)のようなリン化合物、チオール(thiol)やスルフィド(sulfide)のような硫黄化合物と、少なくとも一つ以上のこれらの混合物が挙げられ、アミン化合物としては、具体的に例えば、メチルアミン、エチルアミン、n−プロピルアミン、イソプロピルアミン、n−ブチルアミン、イソブチルアミン、イソアミルアミン、n−ヘキシルアミン、2−エチルヘキシルアミン、n−ヘプチルアミン、n−オクチルアミン、イソオクチルアミン、ノニルアミン、デシルアミン、ドデシルアミン、ヘキサデシルアミン、オクタデシルアミン、ドコデシルアミン、シクロプロピルアミン、シクロペンチルアミン、シクロヘキシルアミン、アリールアミン、ヒドロキシアミン、アンモニウムヒドロキシド、メトキシアミン、2−エタノールアミン、メトキシエチルアミン、2−ヒドロキシプロピルアミン、2−ヒドロキシ−2−メチルプロピルアミン、メトキシプロピルアミン、シアノエチルアミン、エトキシアミン、n−ブトキシアミン、2−ヘキシルオキシアミン、メトキシエトキシエチルアミン、メトキシエトキシエトキシエチルアミン、ジメチルアミン、ジプロピルアミン、ジエタノールアミン、ヘキサメチレンイミン、モルホリン、ピペリジン、ピペラジン、エチレンジアミン、プロピレンジアミン、ヘキサメチレンジアミン、トリエチレンジアミン、2,2−(エチレンジオキシ)ビスエチルアミン、トリエチルアミン、トリエタノールアミン、ピロール、イミダゾール、ピリジン、アミノアセトアルデヒドジメチルアセタル、3−アミノプロピルトリメトキシシラン、3−アミノプロピルトリエトキシシラン、アニリン、アニシジン、アミノベンゾニトリル、ベンジルアミン及びその誘導体、そしてポリアリールアミンやポリエチレンイミンのような高分子化合物及びその誘導体などのようなアミン化合物が挙げられる。   On the other hand, examples of the stabilizer include amine compounds such as primary amine, secondary amine, and tertiary amine, ammonium carbamate, ammonium carbonate, ammonium bicarbonate compound, phosphine, and phosphite. And a phosphorus compound such as phosphate, a sulfur compound such as thiol and sulfide, and at least one mixture thereof. Specific examples of amine compounds include, for example, methyl Amine, ethylamine, n-propylamine, isopropylamine, n-butylamine, isobutylamine, isoamylamine, n-hexylamine, 2-ethylhexylamine, n-heptylamine, n- Cutylamine, isooctylamine, nonylamine, decylamine, dodecylamine, hexadecylamine, octadecylamine, docodecylamine, cyclopropylamine, cyclopentylamine, cyclohexylamine, arylamine, hydroxyamine, ammonium hydroxide, methoxyamine, 2-ethanol Amine, methoxyethylamine, 2-hydroxypropylamine, 2-hydroxy-2-methylpropylamine, methoxypropylamine, cyanoethylamine, ethoxyamine, n-butoxyamine, 2-hexyloxyamine, methoxyethoxyethylamine, methoxyethoxyethoxyethylamine , Dimethylamine, dipropylamine, diethanolamine, hexamethyleneimine, morpholine, piperidy Piperazine, ethylenediamine, propylenediamine, hexamethylenediamine, triethylenediamine, 2,2- (ethylenedioxy) bisethylamine, triethylamine, triethanolamine, pyrrole, imidazole, pyridine, aminoacetaldehyde dimethyl acetal, 3-aminopropyltri And amine compounds such as methoxysilane, 3-aminopropyltriethoxysilane, aniline, anisidine, aminobenzonitrile, benzylamine and derivatives thereof, and high molecular compounds such as polyarylamine and polyethyleneimine and derivatives thereof. .

アンモニウムカルバメート、カーボネート、バイカーボネート系化合物として具体的に例えば、アンモニウムカルバメート(ammonium carbamate)、アンモニウムカーボネート(ammonium carbonate)、アンモニウムバイカーボネート(ammonium bicarbonate)、エチルアンモニウム エチルカルバメート、イソプロピルアンモニウム イソプロピルカルバメート、n−ブチルアンモニウム n−ブチルカルバメート、イソブチルアンモニウム イソブチルカルバメート、t−ブチルアンモニウム t−ブチルカルバメート、2−エチルヘキシルアンモニウム 2−エチルヘキシルカルバメート、オクタデシルアンモニウム オクタデシルカルバメート、2−メトキシエチルアンモニウム 2−メトキシエチルカルバメート、2−シアノエチルアンモニウム 2−シアノエチルカルバメート、ジブチルアンモニウム ジブチルカルバメート、ジオクタデシルアンモニウム ジオクタデシルカルバメート、メチルデシルアンモニウム メチルデシルカルバメート、ヘキサメチレンイミンアンモニウム ヘキサメチレンイミンカルバメート、モルホリニウム モルホリンカルバメート、ピリジウムエチルヘキシルカルバメート、トリエチレンジアミニウム イソプロピルバイカルバメート、ベンジルアンモニウム ベンジルカルバメート、トリエトキシシリルプロピルアンモニウム トリエトキシシリルプロピルカルバメート、エチルアンモニウム エチルカーボネート、イソプロピルアンモニウム イソプロピルカーボネート、イソプロピルアンモニウム バイカーボネート、n−ブチルアンモニウム n−ブチルカーボネート、イソブチルアンモニウム イソブチルカーボネート、t−ブチルアンモニウム t−ブチルカーボネート、t−ブチルアンモニウム バイカーボネート、2−エチルヘキシルアンモニウム 2−エチルヘキシルカーボネート、2−エチルヘキシルアンモニウム バイカーボネート、2−メトキシエチルアンモニウム 2−メトキシエチルカーボネート、2−メトキシエチルアンモニウム バイカーボネート、2−シアノエチルアンモニウム 2−シアノエチルカーボネート、2−シアノエチルアンモニウム バイカーボネート、オクタデシルアンモニウム オクタデシルカーボネート、ジブチルアンモニウム ジブチルカーボネート、ジオクタデシルアンモニウム ジオクタデシルカーボネート、ジオクタデシルアンモニウム バイカーボネート、メチルデシルアンモニウム メチルデシルカーボネート、ヘキサメチレンイミンアンモニウム ヘキサメチレンイミンカーボネート、モルホリンアンモニウム モルホリンカーボネート、ベンジルアンモニウム ベンジルカーボネート、トリエトキシシリルプロピルアンモニウム トリエトキシシリルプロピルカーボネート、ピリジウム バイカーボネート、トリエチレンジアミニウム イソプロピルカーボネート、トリエチレンジアミニウム バイカーボネート、及びその誘導体などが挙げられる。   Specific examples of ammonium carbamate, carbonate, and bicarbonate-based compounds include, for example, ammonium carbamate, ammonium carbonate, ammonium bicarbonate, ethylammonium ethylcarbamate, isopropylammonium isopropylcarbamate, and n-butyl. Ammonium n-butyl carbamate, isobutyl ammonium isobutyl carbamate, t-butyl ammonium t-butyl carbamate, 2-ethylhexyl ammonium 2-ethylhexyl carbamate, octadecyl ammonium octadecyl carbamate, 2-methoxyethyl ammonium 2-methoxyethyl carbamate, 2-cyanoethylammonium 2-cyanoethylcarbamate, dibutylammonium dibutylcarbamate, dioctadecylammonium dioctadecylcarbamate, methyldecylammonium methyldecylcarbamate, hexamethyleneimineammonium hexamethyleneiminecarbamate, morpholinium morpholinecarbamate, pyridiumethylhexyl Carbamate, triethylenediaminium isopropyl bicarbamate, benzylammonium benzylcarbamate, triethoxysilylpropylammonium triethoxysilylpropylcarbamate, ethylammonium ethyl carbonate, isopropylammonium isopropyl carbonate, isopropyl Ruammonium bicarbonate, n-butylammonium n-butylcarbonate, isobutylammonium isobutylcarbonate, t-butylammonium t-butylcarbonate, t-butylammonium bicarbonate, 2-ethylhexylammonium 2-ethylhexylcarbonate, 2-ethylhexylammonium bicarbonate 2-methoxyethylammonium 2-methoxyethyl carbonate, 2-methoxyethylammonium bicarbonate, 2-cyanoethylammonium 2-cyanoethyl carbonate, 2-cyanoethylammonium bicarbonate, octadecylammonium octadecylcarbonate, dibutylammonium dibutylcarbonate, dioctadecylammoni Dioctadecyl carbonate, dioctadecyl ammonium bicarbonate, methyl decyl ammonium methyl decyl carbonate, hexamethylene imine ammonium hexamethylene imine carbonate, morpholine ammonium morpholine carbonate, benzyl ammonium benzyl carbonate, triethoxysilylpropyl ammonium triethoxysilylpropyl carbonate, pyridium bi Examples thereof include carbonate, triethylenediaminium isopropyl carbonate, triethylenediaminium bicarbonate, and derivatives thereof.

また、リン化合物としては、一般式RP、(RO)Pまたは(RO)POで表されるリン化合物で挙げられる。ここでRは、炭素数1〜20のアルキルまたはアリール基を示し、具体的に例えば、トリブチルホスフィン、トリフェニルホスフィン、トリエチルホスファイト、トリフェニルホスファイト、ジベンジルホスフェート、トリエチルホスフェートなどが挙げられる。 As the phosphorus compounds of the general formula R 3 P, include a phosphorus compound represented by (RO) 3 P or (RO) 3 PO. Here, R represents an alkyl or aryl group having 1 to 20 carbon atoms, and specific examples include tributylphosphine, triphenylphosphine, triethyl phosphite, triphenyl phosphite, dibenzyl phosphate, triethyl phosphate and the like.

そして、硫黄化合物として、具体的に例えば、ブタンチオール、n−ヘキサンチオール、ジエチルスルフィド、テトラヒドロチオフェン、アリールジスルフィド、2−メルカプトベンゾアゾール、テトラヒドロチオフェン、オクチルチオグリコレートなどが挙げられる。   Specific examples of the sulfur compound include butanethiol, n-hexanethiol, diethyl sulfide, tetrahydrothiophene, aryl disulfide, 2-mercaptobenzoazole, tetrahydrothiophene, and octylthioglycolate.

このような安定剤の使用量は、本発明のインク特性に符合する限り、特に制限する必要はない。しかしながら、その含量は、銀化合物に対し、モル比で0.1%〜90%が好ましい。   The amount of such a stabilizer used is not particularly limited as long as it matches the ink characteristics of the present invention. However, the content is preferably 0.1% to 90% in terms of molar ratio with respect to the silver compound.

また、薄膜補助剤としては、有機酸及び有機酸誘導体、または少なくとも一つ以上のこれらの混合物が挙げられる。具体的に例えば、酢酸、酪酸(Butyric acid)、吉草酸(Valeric acid)、ピバル酸(Pivalic acid)、ヘキサン酸、オクタン酸、2−エチル−ヘキサン酸、ネオデカン酸(Neodecanoic acid)、ラウリン酸(Lauric acid)、ステアリン酸、ナフタル酸などの有機酸が挙げられ、有機酸誘導体としては、具体的に例えば、酢酸アンモニウム塩、クエン酸アンモニウム塩、ラウリン酸アンモニウム塩、乳酸アンモニウム塩、マレイン酸アンモニウム塩、シュウ酸アンモニウム塩、モリブデン酸アンモニウム塩などの有機酸アンモニウム塩と、Au、Cu、Zn、Ni、Co、Pd、Pt、Ti、V、Mn、Fe、Cr、Zr、Nb、Mo、W、Ru、Cd、Ta、Re、Os、Ir、Al、Ga、Ge、In、Sn、Sb、Pb、Bi、Sm、Eu、Ac、Thなどのような金属を含むシュウ酸マンガン、酢酸金、シュウ酸パラジウム、2−エチルヘキサン酸銀、オクタン酸銀、ネオデカン酸銀、ステアリン酸コバルト、ナフタル酸ニッケル、ナフタル酸コバルトなどの有機酸金属塩が挙げられる。前記薄膜補助剤の使用量は、特に限定されないが、銀錯体化合物に対して、モル比で0.1〜25%が好ましい。   Moreover, as a thin film adjuvant, an organic acid and an organic acid derivative, or at least 1 or more mixture thereof is mentioned. Specifically, for example, acetic acid, butyric acid (valeric acid), pivalic acid (pivalic acid), hexanoic acid, octanoic acid, 2-ethyl-hexanoic acid, neodecanoic acid, lauric acid ( Lauric acid), stearic acid, naphthalic acid, and the like. Specific examples of organic acid derivatives include ammonium acetate, ammonium citrate, ammonium laurate, ammonium lactate, and ammonium maleate. Organic acid ammonium salts such as ammonium oxalate and ammonium molybdate, Au, Cu, Zn, Ni, Co, Pd, Pt, Ti, V, Mn, Fe, Cr, Zr, Nb, Mo, W, Ru, Cd, Ta, Re, Os, Manganese oxalate, gold acetate, palladium oxalate, silver 2-ethylhexanoate containing metals such as Ir, Al, Ga, Ge, In, Sn, Sb, Pb, Bi, Sm, Eu, Ac, Th, Examples thereof include organic acid metal salts such as silver octanoate, silver neodecanoate, cobalt stearate, nickel naphthalate, and cobalt naphthalate. Although the usage-amount of the said thin film adjuvant is not specifically limited, 0.1-25% is preferable by molar ratio with respect to a silver complex compound.

前記還元剤としては、ルイス酸または弱いブレンステッド酸(bronsted acid)が挙げられ、具体的に例えば、ヒドラジン、ヒドラジンモノハイドレート、アセトヒドラジド、 水酸化ホウ素ナトリウムまたは水酸化ホウ素カリウム、ジメチルアミンボラン、ブチルアミンボランのようなアミン化合物、第1塩化鉄、乳酸鉄のような金属塩、水素、ヨウ化水素、一酸化炭素、ホルムアルデヒド、アセトアルデヒド、グリオキサールのようなアルデヒド化合物、ギ酸メチル、ギ酸ブチル、トリエチル−o−ギ酸のようなギ酸化合物、グルコース、アスコルビン酸、ヒドロキノンのような還元性有機化合物を少なくとも一つ以上含むこれらの混合物を挙げることができる。   Examples of the reducing agent include Lewis acid or weak Bronsted acid, and specific examples thereof include hydrazine, hydrazine monohydrate, acetohydrazide, sodium borohydride or potassium hydroxide, dimethylamine borane, Amine compounds such as butylamine borane, metal salts such as ferrous chloride and iron lactate, hydrogen, hydrogen iodide, carbon monoxide, aldehyde compounds such as formaldehyde, acetaldehyde and glyoxal, methyl formate, butyl formate, triethyl Mention may be made of formic acid compounds such as o-formic acid, and mixtures thereof containing at least one reducing organic compound such as glucose, ascorbic acid and hydroquinone.

前記熱分解反応促進剤としては、具体的に例えば、エタノールアミン、メチルジエタノールアミン、トリエタノールアミン、プロパノールアミン、ブタノールアミン、ヘキサノールアミン、ジメチルエタノールアミンのようなヒドロキシアルキルアミン類、ピペリジン、N−メチルピペリジン、ピペラジン、N,N′−ジメチルピペラジン、1−アミノ−4メチルピペラジン、ピロリジン、N−メチルピロリジン、モルホリンのようなアミン化合物、アセトンオキシム、ジメチルグリオキシム、2−ブタノンオキシム、2,3−ブタジオンモノオキシムのようなアルキルオキシム類、エチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコールのようなグリコール類、メトキシエチルアミン、エトキシエチルアミン、メトキシプロピルアミンのようなアルコキシアルキルアミン類、メトキシエタノール、メトキシプロパノール、エトキシエタノールのようなアルコキシアルカノール類、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトンのようなケトン類、アセトール、ジアセトンアルコールのようなケトンアルコール類、多価フェノール化合物、フェノール樹脂、アルキド樹脂、ピロール、エチレンジオキシチオフェン(EDOT)のような酸化重合性樹脂などが挙げられる。   Specific examples of the thermal decomposition reaction accelerator include, for example, ethanolamine, methyldiethanolamine, triethanolamine, propanolamine, butanolamine, hexanolamine, hydroxyalkylamines such as dimethylethanolamine, piperidine, and N-methylpiperidine. , Piperazine, N, N'-dimethylpiperazine, 1-amino-4methylpiperazine, pyrrolidine, N-methylpyrrolidine, amine compounds such as morpholine, acetone oxime, dimethylglyoxime, 2-butanone oxime, 2,3-butane Alkyl oximes such as dione monooxime, glycols such as ethylene glycol, diethylene glycol, and triethylene glycol, methoxyethylamine, ethoxyethylamine, methoxypropyl Alkoxyalkylamines such as ruamine, alkoxyalkanols such as methoxyethanol, methoxypropanol and ethoxyethanol, ketones such as acetone, methyl ethyl ketone and methyl isobutyl ketone, ketone alcohols such as acetol and diacetone alcohol, Examples thereof include hydric phenol compounds, phenol resins, alkyd resins, pyrroles, and oxidatively polymerizable resins such as ethylenedioxythiophene (EDOT).

なお、銀コーティング液組成物の粘度調節や円滑な薄膜形成のために溶媒が必要な場合があるが、この際使用できる溶媒としては、水、メタノール、エタノール、イソプロパノール、1−メトキシプロパノール、ブタノール、エチルヘキシルアルコール、テルピネオールのようなアルコール類、エチレングリコール、グリセリンのようなグリコール類、エチルアセテート、ブチルアセテート、メトキシプロピルアセテート、カルビトールアセテート、エチルカルビトールアセテートのようなアセテート類、メチルセロソルブ、ブチルセロソルブ、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサンのようなエーテル類、メチルエチルケトン、アセトン、ジメチルホルムアミド、1−メチル−2−ピロリドンのようなケトン類、ヘキサン、ヘプタン、ドデカン、パラフィンオイル、ミネラルスピリットのような炭化水素系、ベンゼン、トルエン、キシレンのような芳香族、そしてクロロホルムやメチレンクロライド、カーボンテトラクロライドのようなハロゲン置換溶媒、アセトニトリル、ジメチルスルホキシド、またはこれらの混合溶媒などを使用することができる。   In addition, a solvent may be required for adjusting the viscosity of the silver coating solution composition or for smooth thin film formation. Examples of the solvent that can be used in this case include water, methanol, ethanol, isopropanol, 1-methoxypropanol, butanol, Ethylhexyl alcohol, alcohols such as terpineol, glycols such as ethylene glycol and glycerin, ethyl acetate, butyl acetate, methoxypropyl acetate, carbitol acetate, acetates such as ethyl carbitol acetate, methyl cellosolve, butyl cellosolve, diethyl Ethers such as ether, tetrahydrofuran and dioxane, methyl ethyl ketone, acetone, dimethylformamide, ketones such as 1-methyl-2-pyrrolidone, hexane, Hydrocarbons such as tan, dodecane, paraffin oil, mineral spirits, aromatics such as benzene, toluene, xylene, and halogen-substituted solvents such as chloroform, methylene chloride, carbon tetrachloride, acetonitrile, dimethyl sulfoxide, or these Or a mixed solvent thereof can be used.

(局所的加熱)
本発明では、加熱焼成後に配位子が気化・脱離しうる銀錯体化合物を用いて樹脂基材上に塗布膜を形成し、塗布膜の局所的加熱において銀反射層を形成する。本発明における塗布層の「局所的加熱」とは、樹脂基材を実質的に加熱劣化させることなく、実質的に塗布層を(樹脂基材より10℃以上、好ましくは20℃以上高温に)加熱することを意味している。この加熱により、本発明に係る錯体は金属銀に焼成される。このための局所的加熱方法としては、従来公知の種々の方法を採用することができる。例えば、赤外線ヒーターによる加熱、熱風、マイクロ波、超音波加熱、誘導加熱などを、適宜選択することができる。
(Local heating)
In the present invention, a coating film is formed on a resin base material using a silver complex compound in which a ligand can be vaporized / desorbed after heating and baking, and a silver reflective layer is formed by local heating of the coating film. The “local heating” of the coating layer in the present invention means that the coating layer is substantially heated to 10 ° C. or more, preferably 20 ° C. or more higher than the resin substrate without substantially deteriorating the resin substrate by heating. Means to heat. By this heating, the complex according to the present invention is fired into metallic silver. As a local heating method for this purpose, various conventionally known methods can be employed. For example, heating with an infrared heater, hot air, microwave, ultrasonic heating, induction heating, or the like can be selected as appropriate.

局所的に加熱するためには、前記加熱手段を支持体とは反対側から適用することが好ましい。一旦金属銀層が形成されると、この層が加熱手段に対して遮蔽効果をもつために、樹脂基材での加熱劣化を少なくすることができる。また、照射を断続的に繰り返す事により、加熱と放熱を制御できるので、樹脂基材への加熱を避ける事が容易となり、平面性に優れた銀反射層の形成が可能になる。更に、銀反射層の形成時に樹脂基材に局所的に加熱することにより、樹脂基材への加熱によるダメージが極小に抑えられ、結果として銀反射層形成後の耐候性や耐光性に対しても、良好な結果を示すことを見出した。   In order to heat locally, it is preferable to apply the said heating means from the opposite side to a support body. Once the metallic silver layer is formed, this layer has a shielding effect on the heating means, so that heat deterioration in the resin base material can be reduced. Moreover, since heating and heat dissipation can be controlled by intermittently repeating the irradiation, it is easy to avoid heating the resin base material, and it is possible to form a silver reflecting layer having excellent flatness. Furthermore, by locally heating the resin base material during the formation of the silver reflective layer, damage to the resin base material due to heating can be minimized, and as a result, the weather resistance and light resistance after the silver reflective layer is formed Also found good results.

赤外線の断続照射やマイクロ波等の電磁波及び超音波を用いる方法は、この遮蔽効果が大きく、また容易にその強度や、繰り返し照射時間を制御できるので好ましい。   A method using intermittent irradiation of infrared rays or electromagnetic waves such as microwaves and ultrasonic waves is preferable because the shielding effect is large and the intensity and repeated irradiation time can be easily controlled.

赤外線の照射手段としては、赤外線ランプ、赤外線ヒーター等の照射装置を用いることができる。無機酸化物層を形成することができれば、赤外線照射装置による照射は一回で行われてもよいが、塗布層を局所的に加熱するためには赤外線照射を断続的に繰り返す方法が好ましく用いられる。赤外線照射を断続的に繰り返す方法としては、例えば、赤外線照射装置のオンオフを短時間で繰り返す方法、赤外線照射装置と非照射物との間に遮蔽板を設けて、遮蔽板を動かすことで繰り返し照射する方法、非照射物(樹脂フィルム)の搬送方向の複数個所に赤外線照射装置を設け、非照射物を搬送させることで赤外線照射を繰り返し行う方法などが挙げられる。   As the infrared irradiation means, an irradiation device such as an infrared lamp or an infrared heater can be used. If an inorganic oxide layer can be formed, irradiation with an infrared irradiation device may be performed once, but in order to locally heat the coating layer, a method of repeating infrared irradiation intermittently is preferably used. . As a method of repeating infrared irradiation intermittently, for example, a method of repeatedly turning on and off the infrared irradiation device in a short time, a shield plate is provided between the infrared irradiation device and the non-irradiated object, and the irradiation is repeated by moving the shield plate And a method of repeatedly performing infrared irradiation by providing an infrared irradiation device at a plurality of locations in the conveyance direction of the non-irradiated object (resin film) and conveying the non-irradiated object.

マイクロ波は、周波数1GHz〜3THz、波長0.1〜300mm位のUHF〜EHF帯の総称で、2.45GHzの周波数のマイクロ波発生装置が一般的であるが、1〜100GHzの周波数のマイクロ波を用いることができる。例えば、2.45GHzマイクロ波照射機(四国計測工業(株)製 μ−reactor)、2.45GHzのマイクロ波を照射するマイクロ波発生装置(マグネトロン)等を挙げることができる。   A microwave is a general term for a UHF to EHF band having a frequency of 1 GHz to 3 THz and a wavelength of about 0.1 to 300 mm. Generally, a microwave generator having a frequency of 2.45 GHz is used, but a microwave having a frequency of 1 to 100 GHz is used. Can be used. For example, a 2.45 GHz microwave irradiator (μ-reactor manufactured by Shikoku Keiki Kogyo Co., Ltd.), a microwave generator (magnetron) that emits a 2.45 GHz microwave, and the like can be given.

本願において、「超音波」とは、10kHz以上の振動数の弾性振動波(音波)をいう。本発明に係る超音波による加熱方法としては、ホーンの周波数は、50kHz以下の範囲の周波数で、加熱すことが好ましい。   In the present application, “ultrasonic wave” refers to an elastic vibration wave (sound wave) having a frequency of 10 kHz or more. As a heating method using ultrasonic waves according to the present invention, it is preferable to heat the horn at a frequency in the range of 50 kHz or less.

マイクロ波や超音波を用いて塗布層の加熱を行う場合も、赤外線照射と同様に例えば短時間の加熱を断続的に繰り返すことで、樹脂基材の劣化を引き起こすことなく樹脂塗布層のみを局所的に加熱する方法が好ましく用いられる。   Even when the coating layer is heated using microwaves or ultrasonic waves, for example, by repeating heating for a short time intermittently as in the case of infrared irradiation, only the resin coating layer is locally applied without causing deterioration of the resin base material. The heating method is preferably used.

筆者らは鋭意検討の結果、熱源に電磁波を用いる場合は赤外線が好ましく、赤外線ヒーターを用いることにおいて、加熱により生成する銀反射層が熱源からの赤外線を遮ることで、樹脂基材への熱源からの熱ダメージを最大限に防止できることを見出した。   As a result of intensive studies, the authors have determined that infrared rays are preferable when electromagnetic waves are used as the heat source, and that when the infrared heater is used, the silver reflection layer generated by heating blocks infrared rays from the heat source, so that the heat source to the resin substrate It was found that the thermal damage can be prevented to the maximum.

(銀反射層)
本発明に係る銀反射層は前記したように加熱焼成後に配位子が気化・脱離しうる銀錯体化合物を用いて樹脂基材上に塗布膜を形成し、該塗布膜の局所的加熱において該銀反射層が形成される。
(Silver reflection layer)
As described above, the silver reflective layer according to the present invention forms a coating film on a resin base material using a silver complex compound in which a ligand can be vaporized and desorbed after heating and baking, and the coating film is subjected to local heating of the coating film. A silver reflective layer is formed.

塗布膜の形成方法としては、グラビアコート法、リバースコート法、ダイコート法等、従来公知のコーティング方法が使用できる。   As a method for forming the coating film, conventionally known coating methods such as a gravure coating method, a reverse coating method, and a die coating method can be used.

当該銀反射層の厚さは、反射率等の観点から、10〜200nmが好ましく、より好ましくは30〜150nmである。   The thickness of the silver reflective layer is preferably 10 to 200 nm, more preferably 30 to 150 nm, from the viewpoint of reflectivity and the like.

(樹脂基材)
本発明に係る樹脂基材としては、従来公知の種々の樹脂フィルムを用いることができる。例えば、セルロースエステル系フィルム、ポリエステル系フィルム、ポリカーボネート系フィルム、ポリアリレート系フィルム、ポリスルホン(ポリエーテルスルホンも含む)系フィルム、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート等のポリエステルフィルム、ポリエチレンフィルム、ポリプロピレンフィルム、セロファン、セルロースジアセテートフィルム、セルローストリアセテートフィルム、セルロースアセテートプロピオネートフィルム、セルロースアセテートブチレートフィルム、ポリ塩化ビニリデンフィルム、ポリビニルアルコールフィルム、エチレンビニルアルコールフィルム、シンジオタクティックポリスチレン系フィルム、ポリカーボネートフィルム、ノルボルネン系樹脂フィルム、ポリメチルペンテンフィルム、ポリエーテルケトンフィルム、ポリエーテルケトンイミドフィルム、ポリアミドフィルム、フッ素樹脂フィルム、ナイロンフィルム、ポリメチルメタクリレートフィルム、アクリルフィルム等を挙げることができる。中でも、ポリカーボネート系フィルム、ポリエステル系フィルム、ノルボルネン系樹脂フィルム、及びセルロースエステル系フィルムが好ましい。
(Resin base material)
Various conventionally known resin films can be used as the resin base material according to the present invention. For example, cellulose ester film, polyester film, polycarbonate film, polyarylate film, polysulfone (including polyethersulfone) film, polyethylene terephthalate, polyethylene naphthalate polyester film, polyethylene film, polypropylene film, cellophane, Cellulose diacetate film, cellulose triacetate film, cellulose acetate propionate film, cellulose acetate butyrate film, polyvinylidene chloride film, polyvinyl alcohol film, ethylene vinyl alcohol film, syndiotactic polystyrene film, polycarbonate film, norbornene resin film , Polymethylpentenef Can Lum, polyether ketone film, polyether ketone imide film, a polyamide film, a fluororesin film, a nylon film, polymethyl methacrylate film, and acrylic films. Among these, a polycarbonate film, a polyester film, a norbornene resin film, and a cellulose ester film are preferable.

特にポリエステル系フィルム、セルロースエステル系フィルムを用いることが好ましく、溶融流延製膜で製造されたフィルムであっても、溶液流延製膜で製造されたフィルムであってもよい。   In particular, it is preferable to use a polyester film or a cellulose ester film, and it may be a film manufactured by melt casting or a film manufactured by solution casting.

当該樹脂基材の厚さは、樹脂の種類及び目的等に応じて適切な厚さにすることが好ましい。例えば、一般的には、10〜300μmの範囲内である。好ましくは20〜200μm、更に好ましくは30〜100μmである。   The thickness of the resin base material is preferably an appropriate thickness according to the type and purpose of the resin. For example, it is generally in the range of 10 to 300 μm. Preferably it is 20-200 micrometers, More preferably, it is 30-100 micrometers.

(上部隣接層)
本発明のフィルムミラーに用いられる上部隣接層は、銀反射層の樹脂基材から遠い側に隣接し、銀の腐食劣化を防ぐとともに、銀反射層の傷防止及び、上部隣接層の外側に形成されるバリア層や傷防止層との接着力向上に寄与するものである。
(Upper adjacent layer)
The upper adjacent layer used in the film mirror of the present invention is adjacent to the side of the silver reflective layer that is far from the resin base material, and prevents corrosion deterioration of the silver and prevents damage to the silver reflective layer and is formed outside the upper adjacent layer. This contributes to the improvement of the adhesive strength with the barrier layer and the scratch prevention layer.

当該上部隣接層に使用するバインダーとしての樹脂は、ポリエステル系樹脂、アクリル系樹脂、メラミン系樹脂、エポキシ系樹脂等の単独またはこれらの混合樹脂が使用でき、耐候性の点からポリエステル系樹脂、アクリル系樹脂が好ましく、さらにイソシアネート等の硬化剤を混合した熱硬化型樹脂とすればより好ましい。   The resin used as the binder for the upper adjacent layer may be a polyester resin, an acrylic resin, a melamine resin, an epoxy resin, or a mixture of these resins. From the viewpoint of weather resistance, a polyester resin or an acrylic resin may be used. The resin is preferably a thermosetting resin mixed with a curing agent such as isocyanate.

イソシアネートは、TDI(トリレンジイソシアネート)系、XDI(キシレンジイソシアネート)系、MDI(メチレンジイソシアネート)系、HMDI(ヘキサメチレンジイソシアネート)系等の従来から使用されてきた各種イソシアネートが使用可能であるが、耐候性の点から、XDI系、MDI系、HMDI系のイソシアネートを使用するのが好ましい。   As the isocyanate, various conventionally used isocyanates such as TDI (tolylene diisocyanate), XDI (xylene diisocyanate), MDI (methylene diisocyanate), and HMDI (hexamethylene diisocyanate) can be used. From the viewpoint of properties, XDI, MDI, and HMDI isocyanates are preferably used.

上部隣接層の厚さは、密着性、耐候性等の観点から、0.01〜3μmが好ましく、より好ましくは0.1〜1μmである。   The thickness of the upper adjacent layer is preferably 0.01 to 3 μm, more preferably 0.1 to 1 μm, from the viewpoints of adhesion, weather resistance, and the like.

上部隣接層の形成方法は、グラビアコート法、リバースコート法、ダイコート法等、従来公知のコーティング方法が使用できる。   As a method for forming the upper adjacent layer, conventionally known coating methods such as a gravure coating method, a reverse coating method, and a die coating method can be used.

また、上記隣接層には、目的に応じて、後述のような腐食防止剤や紫外線吸収剤を含有させることが好ましい。   The adjacent layer preferably contains a corrosion inhibitor or an ultraviolet absorber as described later depending on the purpose.

(接着層)
接着層は樹脂基材(樹脂フィルム)上に設けて樹脂基材と反射層との接着性を高める機能を有する。該接着層は樹脂からなることが好ましい。従って、当該接着層は、樹脂基材(樹脂フィルム)と金属反射層とを密着する密着性、金属反射層を真空蒸着法等で形成する時の熱にも耐え得る耐熱性、及び金属反射層が本来有する高い反射性能を引き出すための平滑性が必要である。
(Adhesive layer)
The adhesive layer has a function of being provided on the resin base material (resin film) to enhance the adhesion between the resin base material and the reflective layer. The adhesive layer is preferably made of a resin. Therefore, the adhesive layer has adhesiveness for closely adhering the resin base material (resin film) and the metal reflective layer, heat resistance that can withstand heat when the metal reflective layer is formed by a vacuum deposition method, and the metal reflective layer. Smoothness is required to bring out the high reflection performance inherent in

該接着層に使用するバインダーとしての樹脂は、上記の密着性、耐熱性、及び平滑性の条件を満足するものであれば特に制限はなく、ポリエステル系樹脂、アクリル系樹脂、メラミン系樹脂、エポキシ系樹脂、ポリアミド系樹脂、塩化ビニル系樹脂、塩化ビニル酢酸ビニル共重合体系樹脂等の単独またはこれらの混合樹脂が使用でき、耐候性の点からポリエステル系樹脂とメラミン系樹脂の混合樹脂が好ましく、さらにイソシアネート等の硬化剤を混合した熱硬化型樹脂とすればより好ましい。   The resin used as the binder for the adhesive layer is not particularly limited as long as it satisfies the above conditions of adhesion, heat resistance, and smoothness, and polyester resin, acrylic resin, melamine resin, epoxy Resin, polyamide resin, vinyl chloride resin, vinyl chloride vinyl acetate copolymer resin or the like can be used alone or a mixed resin thereof. From the viewpoint of weather resistance, a polyester resin and a melamine resin mixed resin are preferable. Furthermore, it is more preferable to use a thermosetting resin mixed with a curing agent such as isocyanate.

該接着層の厚さは、密着性、平滑性、反射材の反射率等の観点から、0.01〜3μmが好ましく、より好ましくは0.1〜1μmである。   The thickness of the adhesive layer is preferably 0.01 to 3 μm, more preferably 0.1 to 1 μm, from the viewpoints of adhesion, smoothness, reflectance of the reflecting material, and the like.

該接着層の形成方法は、グラビアコート法、リバースコート法、ダイコート法等、従来公知のコーティング方法が使用できる。   As the method for forming the adhesive layer, conventionally known coating methods such as a gravure coating method, a reverse coating method, and a die coating method can be used.

また、該接着層には、その目的に応じて、腐食防止剤や紫外線吸収剤を含有させることが好ましい。   The adhesive layer preferably contains a corrosion inhibitor or an ultraviolet absorber depending on the purpose.

(フィルムミラー全体の厚さ)
本発明に係るフィルムミラー全体の厚さは、ミラーがたわみ防止、正反射率、取り扱い性等の観点から、75〜250μmが好ましく、更に好ましくは90〜230μm、更に好ましくは100〜220μmである。
(Thickness of the entire film mirror)
The total thickness of the film mirror according to the present invention is preferably 75 to 250 μm, more preferably 90 to 230 μm, and still more preferably 100 to 220 μm, from the viewpoints of prevention of deflection of the mirror, regular reflectance, handling properties, and the like.

(太陽光反射用ミラー)
本発明のフィルムミラーは、太陽光を集光する目的において、好ましく使用できる。フィルムミラー単体で太陽光反射用ミラーとして用いることもできるが、より好ましくは、樹脂基材を挟んで銀反射層を有する側と反対側の樹脂基材面に塗設された粘着層を介して、他基材上に、特に金属基材上に、当該フィルムミラーを貼り付けて太陽光反射用ミラーとして用いることである。
(Sunlight reflection mirror)
The film mirror of the present invention can be preferably used for the purpose of collecting sunlight. Although it can also be used as a solar reflective mirror by itself as a film mirror, more preferably, through a pressure-sensitive adhesive layer coated on the side of the resin base opposite to the side having the silver reflective layer across the resin base The film mirror is stuck on another base material, particularly on a metal base material, and used as a solar reflective mirror.

太陽光反射用ミラーとして用いる場合、反射鏡の形状を樋状(半円筒状)として、半円の中心部分に内部に流体を有する筒状部材を設け、筒状部材に太陽光を集光させることで内部の流体を加熱し、その熱エネルギーを変換して発電する形態が一形態として挙げられる。また、平板状の反射鏡を複数個所に設置し、それぞれの反射鏡で反射された太陽光を一枚の反射鏡(中央反射鏡)に集光させて、反射鏡により反射して得られた熱エネルギーを発電部で変換することで発電する形態も一形態として挙げられる。特に後者の形態においては、用いられる反射鏡に高い正反射率が求められる為、本発明のフィルムミラーが特に好適に用いられる。   When used as a mirror for reflecting sunlight, the shape of the reflecting mirror is made into a bowl shape (semi-cylindrical shape), a cylindrical member having a fluid inside is provided at the center of the semicircle, and sunlight is condensed on the cylindrical member. The form which heats an internal fluid by this, converts the heat energy, and generates electric power is mentioned as one form. In addition, flat reflectors were installed at multiple locations, and the sunlight reflected by each reflector was collected on one reflector (central reflector) and reflected by the reflector. The form which generate | occur | produces electricity by converting a thermal energy in a power generation part is also mentioned as one form. Particularly in the latter form, the film mirror of the present invention is particularly preferably used because a high regular reflectance is required for the reflector used.

〈粘着層〉
粘着層としては、特に制限されず、例えばドライラミネート剤、ウエットラミネート剤、粘着剤、ヒートシール剤、ホットメルト剤などのいずれもが用いられる。
<Adhesive layer>
The adhesive layer is not particularly limited, and for example, any of a dry laminating agent, a wet laminating agent, an adhesive, a heat seal agent, a hot melt agent, and the like is used.

例えばポリエステル系樹脂、ウレタン系樹脂、ポリ酢酸ビニル系樹脂、アクリル系樹脂、ニトリルゴムなどが用いられる。   For example, polyester resin, urethane resin, polyvinyl acetate resin, acrylic resin, nitrile rubber, etc. are used.

ラミネート方法は特に制限されず、例えばロール式で連続的に行うのが経済性及び生産性の点から好ましい。   The laminating method is not particularly limited, and for example, it is preferable to carry out continuously by a roll method from the viewpoint of economy and productivity.

粘着層の厚さは、粘着効果、乾燥速度等の観点から、通常1〜50μm程度の範囲であることが好ましい。   The thickness of the pressure-sensitive adhesive layer is usually preferably in the range of about 1 to 50 μm from the viewpoints of the pressure-sensitive adhesive effect, the drying speed, and the like.

本発明に適宜採用される本発明のフィルムミラーと貼り合せられる他基材としては、銀反射層層の保護性を付与できるものであればよく、例えば、アクリルフィルム又はシート、ポリカーボネートフィルム又はシート、ポリアリレートフィルム又はシート、ポリエチレンナフタレートフィルム又はシート、ポリエチレンテレフタレートフィルム又はシート、フッ素フィルムなどのプラスチックフィルム又はシート、又は酸化チタン、シリカ、アルミニウム粉、銅粉などを練り込んだ樹脂フィルム又はシート、これらを練り込んだ樹脂をコーティングしたり金属蒸着などの表面加工を施した樹脂フィルム又はシートが用いられる。   The other substrate to be bonded to the film mirror of the present invention that is appropriately employed in the present invention may be any material that can impart the protective property of the silver reflective layer, for example, an acrylic film or sheet, a polycarbonate film or sheet, Polyarylate film or sheet, polyethylene naphthalate film or sheet, polyethylene terephthalate film or sheet, plastic film or sheet such as fluorine film, or resin film or sheet kneaded with titanium oxide, silica, aluminum powder, copper powder, etc. A resin film or sheet coated with a resin kneaded with a resin or subjected to surface processing such as metal deposition is used.

貼り合わせフィルム又はシートの厚さは、特に制限はないが通常12〜250μmの範囲であることが好ましい。   Although there is no restriction | limiting in particular in the thickness of a bonding film or sheet, Usually, it is preferable that it is the range of 12-250 micrometers.

また、これらの他基材は本発明のフィルムミラーと貼り合わせる前に凹部や凸部を設けてから貼り合せてもよく、貼り合せた後で凹部や凸部を有するように成形してもよく、貼り合わせと凹部や凸部を有するように成形することを同時にしてもよいものである。   In addition, these other base materials may be bonded after providing a concave portion or a convex portion before being bonded to the film mirror of the present invention, or may be formed to have a concave portion or a convex portion after being bonded. In addition, the bonding and the molding so as to have a concave portion or a convex portion may be performed at the same time.

〈金属基材〉
本発明に係る太陽光反射用ミラーの金属基材としては、鋼板、銅板、アルミニウム板、アルミニウムめっき鋼板、アルミニウム系合金めっき鋼板、銅めっき鋼板、錫めっき鋼板、クロムめっき鋼板、ステンレス鋼板など熱伝導率の高い金属材料を用いることができる。 本発明においては、特に耐食性の良好なめっき鋼板、ステンレス鋼板、アルミニウム板などにすることが好ましい。
<Metal base material>
The metal substrate of the solar reflective mirror according to the present invention includes a steel plate, a copper plate, an aluminum plate, an aluminum plated steel plate, an aluminum alloy plated steel plate, a copper plated steel plate, a tin plated steel plate, a chrome plated steel plate, a stainless steel plate, etc. A metal material having a high rate can be used. In the present invention, it is particularly preferable to use a plated steel plate, a stainless steel plate, an aluminum plate, or the like having good corrosion resistance.

以下、実施例を挙げて本発明を具体的に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。なお、実施例において「部」あるいは「%」の表示を用いるが、特に断りがない限り「質量部」あるいは「質量%」を表す。   EXAMPLES Hereinafter, the present invention will be specifically described with reference to examples, but the present invention is not limited thereto. In addition, although the display of "part" or "%" is used in an Example, unless otherwise indicated, "part by mass" or "mass%" is represented.

[比較例1]
基材として、2軸延伸ポリエステルフィルム(ポリエチレンテレフタレートフィルム、厚さ100μm)を用いた。上記ポリエチレンテレフタレートフィルムの片面に、ポリエステル樹脂(ポリエスター SP−181 日本合成化学製)、メラミン樹脂(スーパーベッカミンJ−820 DIC製)、TDI系イソシアネート(2,4−トリレンジイソシアネート)、HDMI系イソシアネート(1,6−ヘキサメチレンジイソシアネート)を樹脂固形分比率で20:1:1:2に、固形分濃度10%となるようにトルエン中に混合した樹脂を、グラビアコート法によりコーティングして、厚さ0.1μmの接着層を形成し、接着層上に、銀反射層として、真空蒸着法により厚さ80nmの銀反射層を形成し、銀反射層上に、ポリエステル系樹脂とTDI(トリレンジイソシアネート)系イソシアネートを樹脂固形分比率で10:2に混合した樹脂を、グラビアコート法によりコーティングして、厚さ3.0μmの上部隣接層を形成した。
[Comparative Example 1]
A biaxially stretched polyester film (polyethylene terephthalate film, thickness 100 μm) was used as the substrate. On one side of the polyethylene terephthalate film, a polyester resin (Polyester SP-181, manufactured by Nippon Synthetic Chemical), a melamine resin (manufactured by Super Becamine J-820 DIC), a TDI-based isocyanate (2,4-tolylene diisocyanate), and an HDMI system A resin mixed with isocyanate (1,6-hexamethylene diisocyanate) in toluene at a resin solid content ratio of 20: 1: 1: 2 and a solid content concentration of 10% was coated by a gravure coating method, An adhesive layer having a thickness of 0.1 μm is formed, and a silver reflective layer having a thickness of 80 nm is formed as a silver reflective layer on the adhesive layer by a vacuum deposition method. A polyester resin and TDI (trid) are formed on the silver reflective layer. (Range isocyanate) is a resin mixed with isocyanate in a resin solid content ratio of 10: 2. Coated by coating method to form an upper adjacent layer having a thickness of 3.0 [mu] m.

次に、上部隣接層の上からドライラミネーションプロセスにより、透明アクリルフィルム(三菱レイヨン製アクリプレンHBS010P 厚さ75μm)を貼合した。更に上記ポリエステル樹脂の下部に、重量平均分子量50万の付加反応型シリコーン系粘着剤100部に白金系触媒1部を加えて35質量%トルエン溶液とし、これを厚さ25μmのポリエステルフィルムの片面に塗布し、130℃で5分間加熱して厚さ35μmのシリコーン系粘着層(Si系)を形成し比較例1のフィルムミラーを得た。   Next, a transparent acrylic film (Mitsubishi Rayon Acryprene HBS010P thickness 75 μm) was bonded from above the upper adjacent layer by a dry lamination process. Further, 1 part of a platinum catalyst is added to 100 parts of an addition reaction type silicone pressure-sensitive adhesive having a weight average molecular weight of 500,000 at the bottom of the polyester resin to form a 35 mass% toluene solution, and this is applied to one side of a 25 μm thick polyester film. The film was coated and heated at 130 ° C. for 5 minutes to form a 35 μm-thick silicone adhesive layer (Si-based) to obtain a film mirror of Comparative Example 1.

(太陽光反射用ミラーの作製)
厚さ0.1mmで、たて4cm×よこ5cmのアルミ板と上記比較例1の反射フィルムのポリエチレンテレフタレートフィルム面側とを、粘着層を介して貼り合せて、太陽光反射用ミラー(A)を得た。同様にして、下記比較例2、3及び実施例のフィルムミラーを用いて、太陽光反射用ミラーをそれぞれ作製した。
(Production of solar reflective mirror)
A solar reflective mirror (A) having a thickness of 0.1 mm, and a 4 cm × 5 cm wide aluminum plate and the polyethylene terephthalate film side of the reflective film of Comparative Example 1 bonded together via an adhesive layer Got. Similarly, using the film mirrors of Comparative Examples 2 and 3 and Examples below, solar reflective mirrors were produced.

[比較例2]
比較例1で得られたサンプルに対して、銀反射層として蒸着の替わりに、市販されている銀の超微粒子分散液(商品名:独立分散超微粒子Ag1T 真空冶金製)、具体的には、銀超微粒子35質量部、アルキルアミンとして、ドデシルアミン(分子量185.36、沸点248℃)7質量部、有機溶剤として、トルエン58質量部を含む、平均粒子径3nmの銀超微粒子の分散液を、加熱乾燥後の銀の膜厚が80nmとなるように塗布した後、ドライオーブンにて両面から均一に加熱150℃、10分間加熱乾燥し、銀反射層を形成したこと以外は、比較例1と同様の方法により、比較例2のサンプルを得た。
[Comparative Example 2]
For the sample obtained in Comparative Example 1, instead of vapor deposition as a silver reflective layer, a commercially available silver ultrafine particle dispersion (trade name: independent dispersed ultrafine particle Ag1T manufactured by vacuum metallurgy), specifically, A dispersion of silver ultrafine particles having an average particle diameter of 3 nm, containing 35 parts by mass of silver ultrafine particles, 7 parts by mass of dodecylamine (molecular weight 185.36, boiling point 248 ° C.) as alkylamine, and 58 parts by mass of toluene as an organic solvent. Comparative Example 1 except that the silver film after heating and drying was applied so that the film thickness would be 80 nm, and then uniformly heated from both sides in a dry oven at 150 ° C. for 10 minutes to form a silver reflective layer. A sample of Comparative Example 2 was obtained by the same method as described above.

また、比較例2のフィルムミラーを用いて、太陽光反射用ミラー(B)を得た。   Moreover, the mirror for sunlight reflection (B) was obtained using the film mirror of the comparative example 2.

[比較例3]
(銀コーティング液組成物A)の調製
攪拌器付き500mlのシュレンク(Schlenk)フラスコに、2−エチルヘキシルアンモニウム2−エチルカルバメート65.0g(215ミリモル)を150.0gのイソプロパノールに溶解させた後、酸化銀20.0g(86.2ミリモル)を添加して、常温で反応した。前記反応溶液は、最初は黒色懸濁液(Slurry)で反応が進行され、錯化合物が生成されるにつれて段々色が薄くなり、透明に変わることが観察されて、2時間反応した結果、無色透明な溶液が得られた。この溶液に、安定剤として2−ヒドロキシ−2−メチルプロピルアミン2.5gに、溶媒としてn−ブタノール85.0gとアミルアルコール50.0gを添加して攪拌した後、0.45ミクロンのメンブレンフィルタ(membrane filter)を使用してフィルタし、熱分析(TGA)した結果、銀含量4.87質量%の銀コーティング液組成物Aを製造した。
[Comparative Example 3]
Preparation of (Silver Coating Solution Composition A) In a 500 ml Schlenk flask equipped with a stirrer, 65.0 g (215 mmol) of 2-ethylhexylammonium 2-ethylcarbamate was dissolved in 150.0 g of isopropanol and then oxidized. 20.0 g (86.2 mmol) of silver was added and reacted at room temperature. The reaction solution was initially reacted with a black suspension (Slurry), and as the complex compound was formed, it was observed that the color gradually faded and changed to transparent. Solution was obtained. To this solution was added 2.5 g of 2-hydroxy-2-methylpropylamine as a stabilizer, 85.0 g of n-butanol and 50.0 g of amyl alcohol as a solvent and stirred, and then a 0.45 micron membrane filter. As a result of filtering and thermal analysis (TGA) using a (membrane) filter, a silver coating solution composition A having a silver content of 4.87% by mass was produced.

比較例2で得られたサンプルに対して、銀の超微粒子分散液を用いて作製した銀反射層の替わりに、前記銀コーティング液組成物Aを、加熱乾燥後の銀の膜厚が80nmとなるように塗布した後、ドライオーブンにて両面から均一に130℃、3分間加熱乾燥し、銀反射層を形成したこと以外は、比較例2と同様の方法により、比較例3のサンプルを得た。   For the sample obtained in Comparative Example 2, instead of the silver reflective layer prepared using a silver ultrafine particle dispersion, the silver coating liquid composition A was obtained by heating and drying with a silver film thickness of 80 nm. Then, the sample of Comparative Example 3 was obtained by the same method as Comparative Example 2 except that a silver reflective layer was formed by heating and drying uniformly at 130 ° C. for 3 minutes from both sides in a dry oven. It was.

また、比較例3のフィルムミラーを用いて、太陽光反射用ミラー(C)を得た。   Moreover, the mirror for sunlight reflection (C) was obtained using the film mirror of the comparative example 3.

[実施例1]
比較例2で得られたサンプルに対して、銀の超微粒子分散液を用いて作製した銀反射層の替わりに、前記銀コーティング液組成物Aを、加熱乾燥後の銀の膜厚が80nmとなるように塗布した後、ドライオーブンにて80℃、30分加熱乾燥し、更に近赤外線乾燥機(日本電熱(株)製ペイントドライヤーPDH1000)を用いて、1kWの出力にて、塗布面から50cmの距離において、0.5秒間の赤外線照射を10回繰り返し、実施例1のサンプルを作製した。
[Example 1]
For the sample obtained in Comparative Example 2, instead of the silver reflective layer prepared using a silver ultrafine particle dispersion, the silver coating liquid composition A was obtained by heating and drying with a silver film thickness of 80 nm. After being coated as such, it was dried by heating at 80 ° C. for 30 minutes in a dry oven, and further using a near-infrared dryer (Nippon Electric Heat Co., Ltd. paint dryer PDH1000) at an output of 1 kW, 50 cm from the coated surface. The sample of Example 1 was manufactured by repeating infrared irradiation for 0.5 seconds 10 times at a distance of.

また、実施例1のフィルムミラーを用いて、太陽光反射用ミラー(D)を得た。   Moreover, the mirror for sunlight reflection (D) was obtained using the film mirror of Example 1.

[実施例2]
銀コーティング液組成物Aを、実施例1と同様に銀の膜厚が80nmとなるように塗布した後、ドライオーブンにて80℃、30分加熱乾燥し、更にバッチ式マイクロ波加熱装置(山本ビニター(株)製)を使用し、2450MHzの周波数で30秒間加熱し、実施例2のサンプルを作製した。
[Example 2]
After coating the silver coating liquid composition A so that the film thickness of silver was 80 nm as in Example 1, it was heated and dried in a dry oven at 80 ° C. for 30 minutes, and further a batch type microwave heating apparatus (Yamamoto The sample of Example 2 was produced by heating for 30 seconds at a frequency of 2450 MHz.

また、実施例2のフィルムミラーを用いて、太陽光反射用ミラー(E)を得た。   Moreover, the mirror for sunlight reflection (E) was obtained using the film mirror of Example 2.

[実施例3]
銀コーティング液組成物Aを、実施例1と同様に銀の膜厚が80nmとなるように塗布した後、ドライオーブンにて80℃、30分加熱乾燥し、更に市販の超音波発生装置により、1.05MHzの周波数帯で1分間、超音波振動を与えることにより、実施例3のサンプルを作製した。
[Example 3]
After coating the silver coating solution composition A so that the film thickness of silver was 80 nm as in Example 1, it was dried by heating in a dry oven at 80 ° C. for 30 minutes, and further by a commercially available ultrasonic generator, The sample of Example 3 was produced by applying ultrasonic vibration for 1 minute in the 1.05 MHz frequency band.

また、実施例3のフィルムミラーを用いて、太陽光反射用ミラー(F)を得た。   Moreover, the mirror for sunlight reflection (F) was obtained using the film mirror of Example 3.

[実施例4]
(銀コーティング液組成物B)の調製
攪拌器付き500mlのシュレンク(Schlenk)フラスコに、イソブチルアンモニウムイソブチルカーボネート60.8g(292ミリモル)を150.0gのイソプロパノールに溶解させた後、酸化銀20.0g(86.2ミリモル)を添加して、常温で反応した。前記反応溶液は、最初は黒色懸濁液(Slurry)で反応が進行され、錯化合物が生成されるにつれて段々色が薄くなり、透明に変わることが観察されて、2時間反応した結果、無色透明な溶液が得られた。この溶液に、安定剤として2−ヒドロキシ−2−メチルプロピルアミン2.5gに、溶媒としてn−ブタノール85.0gとアミルアルコール50.0gを添加して攪拌した後、0.45ミクロンのメンブレンフィルタ(membrane filter)を使用してフィルタし、熱分析(TGA)した結果、銀含量4.87質量%の銀コーティング液組成物Bを製造した。
[Example 4]
Preparation of (Silver Coating Solution Composition B) In a 500 ml Schlenk flask equipped with a stirrer, 60.8 g (292 mmol) of isobutylammonium isobutyl carbonate was dissolved in 150.0 g of isopropanol, and then 20.0 g of silver oxide. (86.2 mmol) was added and reacted at room temperature. The reaction solution was initially reacted with a black suspension (Slurry), and as the complex compound was formed, it was observed that the color gradually faded and changed to transparent. Solution was obtained. To this solution was added 2.5 g of 2-hydroxy-2-methylpropylamine as a stabilizer, 85.0 g of n-butanol and 50.0 g of amyl alcohol as a solvent and stirred, and then a 0.45 micron membrane filter. As a result of filtering and thermal analysis (TGA) using a (membrane) filter, a silver coating solution composition B having a silver content of 4.87% by mass was produced.

実施例1の銀コーティング液組成物Aの替わりに、銀コーティング液組成物Bを用いる以外は、実施例1と同様の方法により、実施例4のサンプルを作製した。   A sample of Example 4 was produced in the same manner as in Example 1 except that the silver coating liquid composition B was used in place of the silver coating liquid composition A of Example 1.

また、実施例4のフィルムミラーを用いて、太陽光反射用ミラー(G)を得た。   Moreover, the mirror for sunlight reflection (G) was obtained using the film mirror of Example 4.

[実施例5]
(銀コーティング液組成物C)の調製
攪拌器付き500mlのシュレンク(Schlenk)フラスコに、2−エチルヘキシルアンモニウム2−エチルカルバメート33.8g(111.7ミリモル)とイソブチルアンモニウムイソブチルカーボネート30.4g(146ミリモル)を、16.0gのイソプロパノールに溶解させた後、酸化銀20.0g(86.2ミリモル)を添加して、常温で反応した。前記反応溶液は、最初は黒色懸濁液(Slurry)で反応が進行され、錯化合物が生成されるにつれて段々色が薄くなり、透明に変わることが観察されて、2時間反応した結果、無色透明な溶液が得られた。この溶液に、安定剤として2−ヒドロキシ−2−メチルプロピルアミン2.5gを添加して攪拌した後、0.45ミクロンのメンブレンフィルタ(membrane filter)を使用してフィルタし、熱分析(TGA)した結果、銀含量20.56質量%の銀コーティング液組成物Cを製造した。
[Example 5]
Preparation of (Silver Coating Solution Composition C) In a 500 ml Schlenk flask equipped with a stirrer, 33.8 g (111.7 mmol) of 2-ethylhexylammonium 2-ethylcarbamate and 30.4 g (146 mmol) of isobutylammonium isobutyl carbonate. ) Was dissolved in 16.0 g of isopropanol, 20.0 g (86.2 mmol) of silver oxide was added, and the mixture was reacted at room temperature. The reaction solution was initially reacted with a black suspension (Slurry), and as the complex compound was formed, it was observed that the color gradually faded and changed to transparent. Solution was obtained. To this solution, 2.5 g of 2-hydroxy-2-methylpropylamine as a stabilizer was added and stirred, then filtered using a 0.45 micron membrane filter, and thermal analysis (TGA). As a result, a silver coating solution composition C having a silver content of 20.56% by mass was produced.

実施例1の銀コーティング液組成物Aの替わりに、銀コーティング液組成物Cを用いる以外は、実施例1と同様の方法により、実施例5のサンプルを作製した。   A sample of Example 5 was produced in the same manner as in Example 1 except that the silver coating liquid composition C was used instead of the silver coating liquid composition A of Example 1.

また、実施例5のフィルムミラーを用いて、太陽光反射用ミラー(H)を得た。   Moreover, the mirror for sunlight reflection (H) was obtained using the film mirror of Example 5.

[評価]
上記で得た太陽光反射用ミラーについて、下記の方法により正反射率及び耐候性、耐光性の測定をそれぞれ行った。
[Evaluation]
About the solar reflective mirror obtained above, regular reflectance, weather resistance, and light resistance were measured by the following methods.

<正反射率の測定>
島津製作所社製の分光光度計「UV265」に、積分球反射付属装置を取り付けたものを改造し、反射面の法線に対して、入射光の入射角を5°となるように調整し、反射角5°の正反射率を測定した。評価は、350nmから700nmまでの平均反射率として測定した。
<Measurement of regular reflectance>
A spectrophotometer “UV265” manufactured by Shimadzu Corporation was modified with an integrating sphere reflection accessory, and the incident angle of incident light was adjusted to 5 ° with respect to the normal of the reflecting surface. The regular reflectance at a reflection angle of 5 ° was measured. Evaluation was measured as an average reflectance from 350 nm to 700 nm.

<耐候性試験>
温度85℃、湿度85%RHの条件で30日間放置後のフィルムミラーの正反射率を、上記光線反射率測定と同様の方法により測定し、強制劣化前のフィルムミラーの正反射率と強制劣化後のフィルムミラーの正反射率から、キセノンランプ照射前後における正反射率の低下率を算出し、耐候性を評価した。以下に耐候性試験の評価基準を記す。
5:正反射率の低下率が5%未満
4:正反射率の低下率が5%以上10%未満
3:正反射率の低下率が10%以上15%未満
2:正反射率の低下率が15%以上20%未満
1:正反射率の低下率が20%以上
<耐光性試験>
得られたサンプルを岩崎電気製アイスーパーUVテスターを用いて、65℃の環境下で7日間紫外線照射を行ったのち、上記方法により正反射率を測定し、紫外線照射前後における正反射率の低下率を算出し、耐光性を評価した。以下に耐光性試験の評価基準を記す。
5:正反射率の低下率が5%未満
4:正反射率の低下率が5%以上10%未満
3:正反射率の低下率が10%以上15%未満
2:正反射率の低下率が15%以上20%未満
1:正反射率の低下率が20%以上
得られた各種フィルムミラーの内容を下記表1に、評価した結果を下記表2に示す。
<Weather resistance test>
The regular reflectance of the film mirror after being left for 30 days under the conditions of a temperature of 85 ° C. and a humidity of 85% RH is measured by the same method as the above-mentioned light reflectance measurement, and the regular reflectance and forced degradation of the film mirror before forced degradation. From the regular reflectance of the subsequent film mirror, the decrease rate of regular reflectance before and after the xenon lamp irradiation was calculated, and the weather resistance was evaluated. The evaluation criteria for the weather resistance test are described below.
5: The rate of decrease in regular reflectance is less than 5% 4: The rate of decrease in regular reflectance is 5% or more and less than 10% 3: The rate of decrease in regular reflectance is 10% or more but less than 15% 2: The rate of decrease in regular reflectance 15% or more and less than 20% 1: Decrease rate of regular reflectance is 20% or more <Light resistance test>
The obtained sample was irradiated with ultraviolet rays for 7 days in an environment of 65 ° C. using an I-Super UV tester manufactured by Iwasaki Electric Co., Ltd., and then the regular reflectance was measured by the above method to decrease the regular reflectance before and after ultraviolet irradiation. The rate was calculated and the light resistance was evaluated. The evaluation criteria for the light resistance test are described below.
5: The rate of decrease in regular reflectance is less than 5% 4: The rate of decrease in regular reflectance is 5% or more and less than 10% 3: The rate of decrease in regular reflectance is 10% or more but less than 15% 2: The rate of decrease in regular reflectance 15% or more and less than 20% 1: The reduction rate of the regular reflectance is 20% or more. The contents of various film mirrors obtained are shown in Table 1 below, and the evaluation results are shown in Table 2 below.

なお表1中、銀反射層の欄には銀反射層の形成手段を示した。銀ナノ粒子とは、超微粒子分散液の加熱焼成処理で作成したことを表し、銀錯体インクA〜Cは銀コーティング組成物A〜Cを表1中の加熱手段によって加熱焼成処理を施して銀反射層を形成したことを表す。   In Table 1, the silver reflective layer column shows the means for forming the silver reflective layer. Silver nanoparticles represent that they were prepared by heat-firing treatment of an ultrafine particle dispersion, and silver complex inks A to C were obtained by subjecting silver coating compositions A to C to heat-firing treatment by the heating means in Table 1 and silver. Indicates that a reflective layer has been formed.

Figure 2012002907
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Figure 2012002907
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表2に示した評価結果から明らかなように本発明に係る実施例の各種特性は、比較例に対して優れていることが分かる。すなわち、本発明の上記手段により、銀反射層の劣化による正反射率の低下を防止するとともに、軽量で柔軟性があり、製造コストを抑え大面積化・大量生産することのできる耐光性、耐候性及び耐傷性に優れ、太陽光に対して良好な正反射率を有するフィルムミラーであり、かつ基材に対して貼合、剥離が容易に行えるために、交換容易なフィルムミラー、その製造方法、及びそれを用いた太陽熱発電用反射装置を提供することができることが分かる。   As is apparent from the evaluation results shown in Table 2, it can be seen that the various characteristics of the examples according to the present invention are superior to the comparative examples. That is, by the above-mentioned means of the present invention, while preventing a decrease in regular reflectance due to the deterioration of the silver reflective layer, it is lightweight and flexible, light resistance and weather resistance that can be reduced in production cost and can be increased in area and mass-produced. Film mirror having excellent specularity and scratch resistance and good regular reflectance to sunlight, and can be easily bonded and peeled off from a base material. It can be seen that a reflector for solar power generation using the same can be provided.

Claims (6)

樹脂基材に少なくとも一層の銀反射層を有するフィルムミラーにおいて、加熱焼成後に配位子が気化・脱離しうる銀錯体化合物を用いて該樹脂基材上に塗布膜を形成し、該塗布膜の局所的加熱により該銀反射層が形成されるものであることを特徴とするフィルムミラー。   In a film mirror having at least one silver reflective layer on a resin substrate, a coating film is formed on the resin substrate using a silver complex compound in which a ligand can be vaporized and desorbed after heating and baking. A film mirror, wherein the silver reflective layer is formed by local heating. 前記フィルムミラーにおいて、前記銀錯体化合物が、アンモニウムカルバメート系またはアンモニウムカーボネート系化合物を銀化合物と反応することにより得られた銀錯体化合物であることを特徴とする請求項1に記載のフィルムミラー。   2. The film mirror according to claim 1, wherein the silver complex compound is a silver complex compound obtained by reacting an ammonium carbamate compound or an ammonium carbonate compound with a silver compound. 前記フィルムミラーにおいて、前記局所的加熱が、前記銀錯体化合物の塗布膜に断続的に繰り返す加熱であることにより銀反射層が形成されることを特徴とする、請求項1または2に記載のフィルムミラーの製造方法。   3. The film according to claim 1, wherein in the film mirror, a silver reflection layer is formed by the local heating being heating repeatedly intermittently on the coating film of the silver complex compound. 4. Mirror manufacturing method. 前記フィルムミラーの製造方法において、前記局所的加熱が、前記銀錯体化合物の塗布膜に電磁波又は超音波を照射することにより加熱する方法であることを特徴とする、請求項3に記載のフィルムミラーの製造方法。   4. The film mirror according to claim 3, wherein in the method of manufacturing the film mirror, the local heating is a method of heating the coating film of the silver complex compound by irradiating an electromagnetic wave or an ultrasonic wave. 5. Manufacturing method. 前記フィルムミラーの製造方法において、前記電磁波が赤外線であることを特徴とする、請求項4に記載のフィルムミラーの製造方法。   The method for manufacturing a film mirror according to claim 4, wherein the electromagnetic wave is infrared rays. 請求項1または2に記載のフィルムミラーを用いることを特徴とする太陽光反射用ミラー。   A mirror for solar light reflection, wherein the film mirror according to claim 1 or 2 is used.
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