JP2012000574A - Gas washing water treatment device - Google Patents

Gas washing water treatment device Download PDF

Info

Publication number
JP2012000574A
JP2012000574A JP2010138795A JP2010138795A JP2012000574A JP 2012000574 A JP2012000574 A JP 2012000574A JP 2010138795 A JP2010138795 A JP 2010138795A JP 2010138795 A JP2010138795 A JP 2010138795A JP 2012000574 A JP2012000574 A JP 2012000574A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
cleaning water
gas cleaning
gas
tank
water
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2010138795A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Koji Isemura
浩司 伊勢村
Tasuke Jinno
太助 神野
Yasuki Nikai
靖樹 二階
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Yanmar Co Ltd
Original Assignee
Yanmar Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Yanmar Co Ltd filed Critical Yanmar Co Ltd
Priority to JP2010138795A priority Critical patent/JP2012000574A/en
Publication of JP2012000574A publication Critical patent/JP2012000574A/en
Pending legal-status Critical Current

Links

Images

Classifications

    • Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
    • Y02W—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES RELATED TO WASTEWATER TREATMENT OR WASTE MANAGEMENT
    • Y02W10/00—Technologies for wastewater treatment
    • Y02W10/10—Biological treatment of water, waste water, or sewage

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a gas washing water treatment device capable of removing a wide variety of foreign substances.SOLUTION: The gas washing water treatment device includes: a water storage tank 41 for retaining gas washing water; an acidity adjusting tank 42 provided with a first PH adjustment apparatus 52 for adjusting the gas washing water to be acidic, a first bubble injection apparatus 53 for injecting microbubbles, and a first removing device 54 for removing a solid floating on a water surface with the microbubbles; and an alkalinity adjusting tank 43 provided with a second PH adjustment apparatus 82 for adjusting the gas washing water to be alkaline, a second bubble injection apparatus 83 for injecting microbubbles, and a second removing device 84 for removing a solid floating on the water surface with the microbubbles.

Description

本発明は、ガスに混入した異物を洗い流した後のガス洗浄水から異物を除去するためのガス洗浄水処理装置の技術に関する。   The present invention relates to a technology of a gas cleaning water treatment apparatus for removing foreign substances from gas cleaning water after washing out foreign substances mixed in gas.

従来、石炭、石油などの化石燃料、廃棄物、バイオマス等の可燃性物質を用いたガス化装置は公知となっている。ガス化装置によって生成されたガスには、量の多少はあるものの、多様な種類の異物が混入している。ガスに混入した異物は、様々な方法で除去されており、異物を除去する方法の一つとして、ガス洗浄水によるガス洗浄が公知となっている。この方法では、気体に対してガス洗浄水を噴出することにより、気体に含まれる異物をガス洗浄水で洗い流す。   Conventionally, gasifiers using combustible substances such as fossil fuels such as coal and petroleum, wastes, and biomass are known. The gas produced by the gasifier is mixed with various kinds of foreign substances, although there are some amounts. Foreign substances mixed in the gas are removed by various methods, and gas cleaning with gas cleaning water is known as one of the methods for removing the foreign substances. In this method, the gas cleaning water is ejected to the gas to wash away foreign substances contained in the gas with the gas cleaning water.

気体の洗浄に用いられたガス洗浄水には、気体に含まれていた異物が混入している。このガス洗浄水を再び使用するため、若しくは排出するために、ガス洗浄水から異物を除去するための処理を行う必要があった。
そこで、従来は、ガス洗浄水を貯水槽に貯溜し、重力による固体と液体との分離をおこなうことでガス洗浄水から異物を除去する処理を行っていた。これにより、異物のうち不溶性の固形成分、特に重量の大きい固体成分は貯水槽の底部に沈殿することとなり、この沈殿した固形成分を除去することができていた。また、重量の小さい固体成分は貯水槽に貯留されたガス洗浄水の表面に浮遊することとなり、この浮遊した固形成分を除去することができていた。 Foreign substances contained in the gas are mixed in the gas cleaning water used for the gas cleaning. In order to use or discharge the gas cleaning water again, it is necessary to perform a process for removing foreign substances from the gas cleaning water.
Therefore, conventionally, the gas cleaning water is stored in a water storage tank, and the foreign substance is removed from the gas cleaning water by separating the solid and the liquid by gravity. As a result, insoluble solid components, particularly heavy solid components among foreign substances, were precipitated at the bottom of the water storage tank, and the precipitated solid components could be removed. Further, the solid component having a small weight floats on the surface of the gas cleaning water stored in the water storage tank, and the floating solid component can be removed.

特開２００６−７７１３０号公報JP 2006-77130 A

しかし、ガス洗浄水に混入した異物には、不溶性の固体成分の他にも、可溶性の固体成分であってガス洗浄水に溶解しているもの、及び液体成分であってガス洗浄水に溶解しているものがあり、これらを除去することは困難であった。   However, in addition to insoluble solid components, foreign substances mixed in gas cleaning water are soluble solid components that are dissolved in gas cleaning water, and liquid components that are dissolved in gas cleaning water. It was difficult to remove these.

そこで、本発明は係る課題に鑑み、様々な種類の異物を除去することができるガス洗浄水処理装置を提供する。   Then, in view of the subject which concerns, this invention provides the gas washing water processing apparatus which can remove various kinds of foreign materials.

本発明の解決しようとする課題は以上の如くであり、次にこの課題を解決するための手段を説明する。   The problem to be solved by the present invention is as described above. Next, means for solving the problem will be described.

即ち、請求項１においては、ガス洗浄水を貯溜する貯水槽と、ガス洗浄水を酸性に調整する装置と、微細気泡を注入する装置と、微細気泡とともに水面に浮上した固形物を除去する装置と、が設けられた酸性調整槽と、ガス洗浄水をアルカリ性に調整する装置と、微細気泡を注入する装置と、微細気泡とともに水面に浮上した固形物を除去する装置と、が設けられたアルカリ性調整槽と、を具備するものである。   That is, in claim 1, a water storage tank for storing the gas cleaning water, an apparatus for adjusting the gas cleaning water to an acid, an apparatus for injecting fine bubbles, and an apparatus for removing solid matter floating on the water surface together with the fine bubbles And an acid adjusting tank provided with, an apparatus for adjusting the gas cleaning water to be alkaline, an apparatus for injecting fine bubbles, and an apparatus for removing solid matter floating on the water surface together with the fine bubbles. And an adjustment tank.

請求項２においては、前記ガス洗浄水処理装置は、ガス洗浄水を中性に調整する装置と、微生物を付着させるための担体と、上方からガス洗浄水を散水するための装置と、が設けられた生物処理槽を具備するものである。   According to a second aspect of the present invention, the gas cleaning water treatment device includes a device for adjusting the gas cleaning water to neutral, a carrier for attaching microorganisms, and a device for spraying the gas cleaning water from above. A biological treatment tank.

請求項３においては、前記酸性調整槽の底部に邪魔板を設け、前記アルカリ性調整槽の底部に邪魔板を設けるものである。   In Claim 3, a baffle plate is provided in the bottom part of the said acidic adjustment tank, and a baffle plate is provided in the bottom part of the said alkaline adjustment tank.

本発明の効果として、以下に示すような効果を奏する。   As effects of the present invention, the following effects can be obtained.

請求項１においては、貯水槽において、比重が大きい固体成分を除去し、酸性調整槽及びアルカリ性調整槽において、比重の小さい固体成分、可溶性の固体成分であってガス洗浄水に溶解しているもの、及び液体成分であってガス洗浄水に溶解しているものを除去することができる。したがって、様々な種類の異物を除去することができる。   In claim 1, in a water storage tank, a solid component having a large specific gravity is removed, and in an acid adjustment tank and an alkaline adjustment tank, a solid component having a low specific gravity and a soluble solid component that are dissolved in gas washing water. And liquid components dissolved in the gas cleaning water can be removed. Therefore, various kinds of foreign matters can be removed.

請求項２においては、生物処理槽において異物のうち水溶性の固体成分及び液体成分を効率よく処理することができる。また、酸性調整槽及びアルカリ性調整槽と併用することにより、生物処理槽における処理効率が向上する。したがって、様々な種類の異物を除去することができる。   In Claim 2, a water-soluble solid component and liquid component can be efficiently processed among foreign substances in a biological treatment tank. Moreover, the treatment efficiency in a biological treatment tank improves by using together with an acidic adjustment tank and an alkaline adjustment tank. Therefore, various kinds of foreign matters can be removed.

請求項３においては、酸性調整槽及びアルカリ性調整槽内におけるガス洗浄水の流れを上方へ向けることができ、対流を起こすことにより析出した異物を効率よく水面に浮上させることができる。   According to the third aspect, the flow of the gas cleaning water in the acidic adjustment tank and the alkaline adjustment tank can be directed upward, and the foreign matters deposited by causing convection can be efficiently levitated on the water surface.

本発明の一実施形態に係るガス化発電システムの全体的な構成を示した図。The figure which showed the whole structure of the gasification electric power generation system which concerns on one Embodiment of this invention. 本発明の一実施形態にかかるガス洗浄水処理装置の構成を示した図。The figure which showed the structure of the gas washing water processing apparatus concerning one Embodiment of this invention. 制御装置の構成を示したブロック図。The block diagram which showed the structure of the control apparatus. ガス洗浄水の処理方法を示すフローチャート図。The flowchart figure which shows the processing method of gas washing water. 本発明の別実施形態にかかるガス洗浄水処理装置の構成を示した図。The figure which showed the structure of the gas washing water processing apparatus concerning another embodiment of this invention.

先ず、本発明の一実施形態に係るガス洗浄水処理装置８を具備するガス化発電システム１の全体構成について、図１を用いて説明する。   First, the whole structure of the gasification electric power generation system 1 which comprises the gas washing water processing apparatus 8 which concerns on one Embodiment of this invention is demonstrated using FIG.

ガス化発電システム１は、投入ホッパ２、投入コンベア３、ガス化炉４、サイクロン５、熱交換器６、冷却塔７、ガス洗浄水処理装置８、スクラバ９、フィルター１０、誘引ブロワ１１、前処理ユニット１２、エンジン発電装置１３、余剰ガス燃焼装置１５等で構成される。ガス化発電システム１では、可燃性ガスとしてのバイオガスがガス化炉４で生成され、該バイオガスが、サイクロン５、熱交換器６、スクラバ９、フィルター１０、誘引ブロワ１１の順に流れ、誘引ブロワ１１の下流側でエンジン発電装置１３側と余剰ガス燃焼装置１５側とに分岐して流れる。   The gasification power generation system 1 includes an input hopper 2, an input conveyor 3, a gasification furnace 4, a cyclone 5, a heat exchanger 6, a cooling tower 7, a gas washing water treatment device 8, a scrubber 9, a filter 10, an induction blower 11, and a front The processing unit 12, the engine power generation device 13, the surplus gas combustion device 15 and the like are configured. In the gasification power generation system 1, biogas as combustible gas is generated in the gasification furnace 4, and the biogas flows in the order of the cyclone 5, the heat exchanger 6, the scrubber 9, the filter 10, and the induction blower 11. The gas flows in a branched manner on the downstream side of the blower 11 to the engine power generator 13 side and the surplus gas combustion device 15 side.

ガス化発電システム１において、投入ホッパ２には、固体炭素質材料としてのバイオマス（本実施形態では木質系バイオマス）が貯溜されており、投入ホッパ２内のバイオマスが投入コンベア３でガス化炉４に投入される。固体炭素質材料としては、例えば、家畜排泄物、食品廃棄物、紙、黒液、下水汚泥、木質系廃材・未利用材、農作物非食用部、資源作物等のバイオマスや、石炭等の化石燃料が用いられる。   In the gasification power generation system 1, biomass as a solid carbonaceous material (woody biomass in the present embodiment) is stored in the input hopper 2, and the biomass in the input hopper 2 is converted into a gasification furnace 4 by the input conveyor 3. It is thrown into. Examples of solid carbonaceous materials include livestock excrement, food waste, paper, black liquor, sewage sludge, wood-based waste / unused materials, agricultural non-edible parts, biomass such as resource crops, and fossil fuels such as coal. Is used.

ガス化炉４では、バイオマスが加熱（不完全燃焼）されて、バイオガスが生成される。ガス化炉４で生成されるバイオガスは、一酸化炭素を主成分とする可燃性ガスであり、該バイオガスには、ススやタール、塵等の不純物が含まれる。ガス化炉４で生成されたバイオガスは、ガス管１６でサイクロン５に導入される。   In the gasification furnace 4, the biomass is heated (incomplete combustion) to generate biogas. The biogas produced in the gasification furnace 4 is a combustible gas mainly composed of carbon monoxide, and the biogas contains impurities such as soot, tar, and dust. The biogas generated in the gasification furnace 4 is introduced into the cyclone 5 through the gas pipe 16.

サイクロン５では、バイオガスに含まれる塵（比較的大きな塵）等が除去（遠心分離）される。サイクロン５で塵等が除去されたバイオガスは、ガス管１７で熱交換器６に導入される。   In the cyclone 5, dust (relatively large dust) contained in the biogas is removed (centrifugated). The biogas from which dust and the like have been removed by the cyclone 5 is introduced into the heat exchanger 6 through the gas pipe 17.

熱交換器６内には、バイオガスが流れるガス管（図示省略）が設けられており、該ガス管内のバイオガスが、ガス洗浄水で洗浄、冷却されると共に、該ガス管の周囲を流れる冷却水で冷却される。熱交換器６で洗浄、冷却されたバイオガスは、ガス管１８でスクラバ９に導入される。   A gas pipe (not shown) through which biogas flows is provided in the heat exchanger 6, and the biogas in the gas pipe is cleaned and cooled with gas cleaning water and flows around the gas pipe. Cooled with cooling water. The biogas cleaned and cooled by the heat exchanger 6 is introduced into the scrubber 9 through the gas pipe 18.

ここで、熱交換器６に供給される冷却水は、冷却塔７に貯溜されており、冷却塔７内の冷却水は、配水管１９で熱交換器６に導入される。配水管１９内の冷却水は、ポンプ２０で熱交換器６側に圧送され、熱交換器６でバイオガスを冷却した冷却水は、配水管２１で冷却塔７に導出される。   Here, the cooling water supplied to the heat exchanger 6 is stored in the cooling tower 7, and the cooling water in the cooling tower 7 is introduced into the heat exchanger 6 through the water distribution pipe 19. The cooling water in the water distribution pipe 19 is pumped to the heat exchanger 6 side by the pump 20, and the cooling water that has cooled the biogas by the heat exchanger 6 is led out to the cooling tower 7 through the water distribution pipe 21.

スクラバ９内には、ガス洗浄水が貯溜されており、バイオガスがスクラバ９内のガス洗浄水中を潜ることにより、洗浄、冷却される。スクラバ９で洗浄、冷却されたバイオガスは、ガス管２５でフィルター１０に導入される。   Gas scrubbing water is stored in the scrubber 9, and the biogas is washed and cooled by diving in the gas scrubbing water in the scrubber 9. The biogas washed and cooled by the scrubber 9 is introduced into the filter 10 through the gas pipe 25.

ここで、熱交換器６及びスクラバ９で使用されたガス洗浄水は、ガス洗浄水処理装置８へ流下する。ガス洗浄水処理装置８は、ガス洗浄水から異物を除去するための装置である。ガス洗浄水処理装置８で異物を除去したガス洗浄水は、ポンプ２３によって、再び熱交換器６側及びスクラバ９側に戻される。   Here, the gas cleaning water used in the heat exchanger 6 and the scrubber 9 flows down to the gas cleaning water treatment device 8. The gas cleaning water treatment device 8 is a device for removing foreign substances from the gas cleaning water. The gas cleaning water from which foreign substances have been removed by the gas cleaning water treatment device 8 is returned again to the heat exchanger 6 side and the scrubber 9 side by the pump 23.

フィルター１０では、バイオガスに含まれる塵（比較的小さな塵）等が除去（濾過）される。フィルター１０で塵等が除去されたバイオガスは、ガス管２８で誘引ブロワ１１に導入される。   The filter 10 removes (filters) dust (relatively small dust) contained in the biogas. The biogas from which dust and the like have been removed by the filter 10 is introduced into the attracting blower 11 through the gas pipe 28.

誘引ブロワ１１では、誘引ブロワ１１上流側のバイオガスが吸入されて下流側に吐出される。つまり、ガス化発電システム１において、誘引ブロワ１１の上流側（誘引ブロワ１１の吸入側）は負圧となる一方、誘引ブロワ１１の下流側（誘引ブロワ１１の吐出側）は正圧となるため、誘引ブロワ１１上流側のバイオガスが誘引ブロワ１１で下流側に誘引される。   In the attracting blower 11, the biogas upstream of the attracting blower 11 is sucked and discharged downstream. That is, in the gasification power generation system 1, the upstream side of the induction blower 11 (intake side of the induction blower 11) has a negative pressure, while the downstream side of the induction blower 11 (discharge side of the induction blower 11) has a positive pressure. The biogas upstream of the attracting blower 11 is attracted downstream by the attracting blower 11.

そして、誘引ブロワ１１で誘引されたバイオガスは、ガス管２９でエンジン発電装置１３に導入される。一方、余剰分のバイオガス（ガス化炉４で生成されたバイオガスのうちエンジン発電装置１３に供給されなかった余剰分）は、ガス管２９から分岐するガス管３０で余剰ガス燃焼装置１５に導入される。   The biogas attracted by the attracting blower 11 is introduced into the engine power generator 13 through the gas pipe 29. On the other hand, the surplus biogas (the surplus biogas generated in the gasification furnace 4 that has not been supplied to the engine power generation device 13) is supplied to the surplus gas combustion device 15 through the gas pipe 30 branched from the gas pipe 29. be introduced.

エンジン発電装置１３は、バイオガスを燃料とするガスエンジン２６、ガスエンジン２６で駆動される発電装置２７等で構成される。本実施形態に係るエンジン発電装置１３は、発電装置２７で発電すると共に、ガスエンジン２６の排熱を給湯や空調等に利用するコージェネレーションシステムとされる。エンジン発電装置１３には、前処理ユニット１２で不純物を除去し調圧されたバイオガスが供給される。   The engine power generator 13 includes a gas engine 26 using biogas as fuel, a power generator 27 driven by the gas engine 26, and the like. The engine power generator 13 according to the present embodiment is a cogeneration system that generates power with the power generator 27 and uses the exhaust heat of the gas engine 26 for hot water supply, air conditioning, or the like. The engine power generation apparatus 13 is supplied with biogas that has been adjusted in pressure by removing impurities in the pretreatment unit 12.

［実施形態１］
次に、本発明の一実施形態にかかるガス洗浄水処理装置８について、図２及び図３を用いて説明する。
ガス洗浄水処理装置８は、貯水槽４１と、酸性調整槽４２と、アルカリ性調整槽４３と、生物処理槽４４と、を具備する。ガス洗浄水の流れる方向を下流方向とすると、上流から、貯水槽４１、酸性調整槽４２、アルカリ性調整槽４３、生物処理槽４４の順番に配置されている。なお、酸性調整槽４２とアルカリ性調整槽４３の順番は入れ替わっても構わない。
また、ガス洗浄水処理装置８には、酸性調整槽４２、アルカリ性調整槽４３、及び生物処理槽４４でのＰＨを制御し、微細気泡の注入量を制御し、ガス洗浄水を生物処理槽４４内で散水するか、熱交換器６及びスクラバ９に戻すか、若しくは排出するか、を制御するための制御装置４５が設けられている。 [Embodiment 1]
Next, a gas cleaning water treatment apparatus 8 according to an embodiment of the present invention will be described with reference to FIGS.
The gas cleaning water treatment device 8 includes a water storage tank 41, an acid adjustment tank 42, an alkaline adjustment tank 43, and a biological treatment tank 44. When the flow direction of the gas cleaning water is the downstream direction, the water storage tank 41, the acid adjustment tank 42, the alkaline adjustment tank 43, and the biological treatment tank 44 are arranged in this order from the upstream. In addition, the order of the acidic adjustment tank 42 and the alkaline adjustment tank 43 may be switched.
Further, in the gas cleaning water treatment device 8, the pH in the acid adjustment tank 42, the alkalinity adjustment tank 43, and the biological treatment tank 44 is controlled, the injection amount of fine bubbles is controlled, and the gas washing water is supplied to the biological treatment tank 44. A control device 45 is provided for controlling whether the water is sprinkled inside, returned to the heat exchanger 6 and the scrubber 9, or discharged.

貯水槽４１は、ガス洗浄水を一時的に貯溜する水槽である。熱交換器６及びスクラバ９から流下したガス洗浄水は、貯水槽４１へ流入する。貯水槽４１において、ガス洗浄水を一時的に貯溜することにより、異物のうち体積の大きな固形物が重力で貯水槽４１の底部に移動することで除去することができる。底部には固形物を排出する図示しないドレンが接続される。   The water storage tank 41 is a water tank that temporarily stores gas cleaning water. The gas cleaning water flowing down from the heat exchanger 6 and the scrubber 9 flows into the water storage tank 41. By temporarily storing the gas cleaning water in the water storage tank 41, a solid substance having a large volume among foreign substances can be removed by moving to the bottom of the water storage tank 41 by gravity. A drain (not shown) for discharging the solid matter is connected to the bottom.

貯水槽４１の下流側には、酸性調整槽４２が設けられている。酸性調整槽４２の側面の上下中途部の高さ位置には、貯水槽４１と連通するための流路５１が設けられている。また、酸性調整槽４２には、ガス洗浄水を酸性に調整する装置としての第一ＰＨ調整装置５２と、微細気泡を注入する装置としての第一気泡注入装置５３と、微細気泡とともに水面に浮上した固形物を除去する装置としての第一除去装置５４と、が設けられている。   On the downstream side of the water storage tank 41, an acid adjustment tank 42 is provided. A flow path 51 for communicating with the water storage tank 41 is provided at a height position in the middle of the upper and lower sides of the side surface of the acid adjustment tank 42. Further, the acid adjustment tank 42 floats on the water surface together with the first PH adjustment device 52 as a device for adjusting the gas cleaning water to acid, the first bubble injection device 53 as a device for injecting fine bubbles, and the fine bubbles. And a first removing device 54 as a device for removing the solid matter.

流路５１には、第一ＰＨ調整装置５２が設けられている。第一ＰＨ調整装置５２は、ＰＨを酸性に調整するための酸性物質を投入する装置であり、酸性物質を貯溜する調整剤タンク６１と、投入量を調整することができる弁６２とを備えている。ここで、本実施形態においては、酸性物質として、塩酸を投入する。   A first PH adjusting device 52 is provided in the flow path 51. The first PH adjusting device 52 is a device for introducing an acidic substance for adjusting the pH to acidic, and includes a regulator tank 61 for storing the acidic substance, and a valve 62 for adjusting the amount to be charged. Yes. Here, in this embodiment, hydrochloric acid is added as the acidic substance.

また、流路５１には、第一気泡注入装置５３が設けられている。第一気泡注入装置５３は、微細気泡を発生させて、ガス洗浄水内へ注入する装置であり、気泡の成分となる気体を貯蔵する気体タンク６３と、注入量を調整することができる弁６４とを備えている。第一気泡注入装置５３によって注入される気体は、空気、オゾン、若しくは可燃性ガスなどである。   The channel 51 is provided with a first bubble injection device 53. The first bubble injection device 53 is a device that generates fine bubbles and injects them into the gas cleaning water. The first bubble injection device 53 stores a gas tank 63 that stores gas as a component of the bubbles, and a valve 64 that can adjust the injection amount. And. The gas injected by the first bubble injection device 53 is air, ozone, combustible gas, or the like.

また、酸性調整槽４２内には、第一ＰＨ検出センサ５５が設けられている。第一ＰＨ検出センサ５５は、酸性調整槽４２内のＰＨを検出するためのセンサである。   A first PH detection sensor 55 is provided in the acid adjustment tank 42. The first PH detection sensor 55 is a sensor for detecting PH in the acid adjustment tank 42.

また、酸性調整槽４２内には、第一攪拌装置５６が設けられている。第一攪拌装置５６は、酸性調整槽４２内のガス洗浄水を攪拌する装置であり、攪拌羽根６７を有する。攪拌羽根６７の回転軸心は酸性調整槽４２の略中央に鉛直方向に配置され、回転軸の上端にはモータ等の駆動装置６８が連結され制御装置４５と接続される。攪拌羽根６７は、槽内のガス洗浄水を波立たせない程度の速さで緩やかに回転させている。攪拌羽根６７を回転させることにより、ガス洗浄水のＰＨを均一にする。   Further, a first stirring device 56 is provided in the acid adjustment tank 42. The first stirring device 56 is a device that stirs the gas cleaning water in the acid adjustment tank 42 and has a stirring blade 67. The rotating shaft center of the stirring blade 67 is arranged in the vertical direction substantially at the center of the acid adjustment tank 42, and a driving device 68 such as a motor is connected to the upper end of the rotating shaft and connected to the control device 45. The stirring blade 67 is gently rotated at such a speed as not to make the gas cleaning water in the tank wave. By rotating the stirring blade 67, the pH of the gas cleaning water is made uniform.

また、酸性調整槽４２内の底部には、第一邪魔板５７が設けられている。第一邪魔板５７は、板状に構成され、流路５１の中心線の下流側延長上に配置され、酸性調整槽４２の底板から斜め上方へ延設される。つまり、下流側が上方へ傾斜するように斜めに設けられており、上流側から流れてきたガス洗浄水が第一邪魔板５７に当たって下流上方へ流れるように設けられている。詳細には、攪拌羽根６７の下方に第一邪魔板５７の上端が配置され、攪拌羽根６７の回転により第一邪魔板５７の上端付近から上方へ流れる水流が形成される。このように構成することにより、攪拌羽根６７の回転により対流が生じて析出した固形物を効率よく水面に浮上させることができる。また、ガス洗浄水が酸性調整槽４２内に滞留する時間を増やしている。   A first baffle plate 57 is provided at the bottom in the acid adjustment tank 42. The first baffle plate 57 is configured in a plate shape, is disposed on the downstream extension of the center line of the flow path 51, and extends obliquely upward from the bottom plate of the acid adjustment tank 42. That is, it is provided obliquely so that the downstream side is inclined upward, so that the gas cleaning water flowing from the upstream side hits the first baffle plate 57 and flows downward and upward. Specifically, the upper end of the first baffle plate 57 is disposed below the stirring blade 67, and a water flow that flows upward from near the upper end of the first baffle plate 57 is formed by the rotation of the stirring blade 67. By comprising in this way, the solid substance which a convection produced by rotation of the stirring blade 67 and precipitated has floated on the water surface efficiently. Further, the time for the gas cleaning water to stay in the acid adjustment tank 42 is increased.

また、酸性調整槽４２の上方には第一除去装置５４が設けられている。第一除去装置５４は、本実施形態においては、ベルトコンベア式の掻き出し装置で構成されている。第一除去装置５４は、駆動する駆動輪７１と回動可能に支持されている従動輪７２と、駆動輪７１と従動輪７２との間に捲回されたベルト７３と、ベルト７３の外周面に一定間隔を置いて突設された板状の掻き出し部７４と、から構成されている。掻き出し部７４は、その先端が掻き出し装置の下側を移動している際に、酸性調整槽４２内のガス洗浄水の水面と接する程度の長さである。第一除去装置５４のベルト７３は、上流から下流へと異物を掻きだす方向に回転している。酸性調整槽４２の下流側には、第一異物分離槽５８が隣接して設けられている。   A first removal device 54 is provided above the acid adjustment tank 42. In the present embodiment, the first removal device 54 is configured by a belt conveyor type scraping device. The first removing device 54 includes a driving wheel 71 to be driven, a driven wheel 72 rotatably supported, a belt 73 wound between the driving wheel 71 and the driven wheel 72, and an outer peripheral surface of the belt 73. And a plate-shaped scraping portion 74 projecting at regular intervals. The scraping portion 74 has such a length that the tip of the scraping portion 74 is in contact with the water surface of the gas cleaning water in the acid adjustment tank 42 when the tip moves below the scraping device. The belt 73 of the first removal device 54 rotates in a direction to scrape foreign matter from upstream to downstream. A first foreign matter separation tank 58 is provided adjacent to the downstream side of the acid adjustment tank 42.

第一異物分離槽５８は、第一除去装置５４によって下流側に寄せられた異物を貯溜するための槽である。酸性調整槽４２内に貯溜されているガス洗浄水の水面付近に集まっていた異物のうち固形物及び固形物に付着した液体が第一異物分離槽５８に掻き出される。第一異物分離槽５８の底面には、異物のうち固形物を固形物貯留槽７９へと送るための固形物管７６が設けられている。   The first foreign matter separation tank 58 is a tank for storing foreign matters brought to the downstream side by the first removing device 54. Of the foreign matter collected near the surface of the gas cleaning water stored in the acid adjustment tank 42, the solid matter and the liquid adhering to the solid matter are scraped into the first foreign matter separation tank 58. On the bottom surface of the first foreign matter separation tank 58, a solid matter pipe 76 for sending solid matter out of the foreign matter to the solid matter storage tank 79 is provided.

酸性調整槽４２の上部には第一気体室５９が設けられている。第一気体室５９は、側壁と上壁とに囲われており、気体が外へ逃げ出さないように密封されている。第一気体室５９の上壁には、気体を取り出すための第一気体取出口７７が設けられている。第一気体取出口７７は、脱気ポンプ７８と接続されている。脱気ポンプ７８は第一気体取出口７７から気体を吸入して減圧するポンプであり、その吸入側が第一気体取出口７７に接続され、その排出側がガスエンジン２６に接続されている。
固形物貯留槽７９は、異物のうち固形物を貯蔵しておくための槽である。固形物貯留槽７９の底部には、排出管８０の端部が接続されており、排出管８０の他端はガス化炉４へ接続されている。 A first gas chamber 59 is provided in the upper part of the acid adjustment tank 42. The first gas chamber 59 is surrounded by a side wall and an upper wall, and is sealed so that gas does not escape to the outside. A first gas outlet 77 for extracting gas is provided on the upper wall of the first gas chamber 59. The first gas outlet 77 is connected to a deaeration pump 78. The deaeration pump 78 is a pump that sucks gas from the first gas outlet 77 and depressurizes it. The suction side is connected to the first gas outlet 77 and the discharge side is connected to the gas engine 26.
The solid substance storage tank 79 is a tank for storing solid substances among foreign substances. An end of a discharge pipe 80 is connected to the bottom of the solid matter storage tank 79, and the other end of the discharge pipe 80 is connected to the gasification furnace 4.

酸性調整槽４２の下流側には、アルカリ性調整槽４３が設けられている。アルカリ性調整槽４３には、酸性調整槽４２と連通するための流路８１が設けられている。また、アルカリ性調整槽４３には、ガス洗浄水をアルカリ性に調整する装置としての第二ＰＨ調整装置８２と、微細気泡を注入する装置としての第二気泡注入装置８３と、微細気泡とともに水面に浮上した固形物を除去する装置としての第二除去装置８４と、が設けられている。   An alkaline adjustment tank 43 is provided on the downstream side of the acid adjustment tank 42. The alkaline adjustment tank 43 is provided with a flow path 81 for communicating with the acid adjustment tank 42. Further, in the alkaline adjustment tank 43, a second PH adjustment device 82 as a device for adjusting the gas cleaning water to be alkaline, a second bubble injection device 83 as a device for injecting fine bubbles, and the fine bubbles float on the water surface. And a second removal device 84 as a device for removing the solid matter.

流路８１には、第二ＰＨ調整装置８２が設けられている。第二ＰＨ調整装置８２は、ＰＨをアルカリ性に調整するためのアルカリ性物質を投入する装置であり、アルカリ性物質を貯溜する調整剤タンク９１と、投入量を調整することができる弁９２とを備えている。ここで、本実施形態においては、アルカリ性物質として、水酸化ナトリウムを投入する。   The flow path 81 is provided with a second PH adjusting device 82. The second PH adjusting device 82 is a device that inputs an alkaline substance for adjusting PH to alkaline, and includes a regulator tank 91 that stores the alkaline substance, and a valve 92 that can adjust the input amount. Yes. Here, in this embodiment, sodium hydroxide is added as the alkaline substance.

また、流路８１には、第二気泡注入装置８３が設けられている。第二気泡注入装置８３は、微細気泡を発生させて、ガス洗浄水内へ注入する装置であり、気泡の成分となる気体を貯蔵する気体タンク９３と、注入量を調整することができる弁９４とを備えている。第二気泡注入装置８３によって注入される気体は、空気、オゾン、若しくは可燃性ガスなどである。   The channel 81 is provided with a second bubble injection device 83. The second bubble injection device 83 is a device that generates fine bubbles and injects them into the gas cleaning water. The second bubble injection device 83 stores a gas tank 93 that stores a gas as a component of the bubbles, and a valve 94 that can adjust the injection amount. And. The gas injected by the second bubble injection device 83 is air, ozone, flammable gas, or the like.

また、アルカリ性調整槽４３内には、第二ＰＨ検出センサ８５が設けられている。第二ＰＨ検出センサ８５は、アルカリ性調整槽４３内のＰＨを検出するためのセンサである。   Further, a second PH detection sensor 85 is provided in the alkaline adjustment tank 43. The second PH detection sensor 85 is a sensor for detecting PH in the alkaline adjustment tank 43.

また、アルカリ性調整槽４３内には、第二攪拌装置８６が設けられている。第二攪拌装置８６は、アルカリ性調整槽４３内のガス洗浄水を攪拌する装置であり、攪拌羽根９７を有する。攪拌羽根９７の回転軸心はアルカリ性調整槽４３の略中央に鉛直方向に配置され、回転軸の上端にはモータ等の駆動装置９８が連結され制御装置４５と接続される。攪拌羽根９７は、槽内のガス洗浄水を波立たせない程度の速さで緩やかに回転させている。攪拌羽根９７を回転させることにより、ガス洗浄水のＰＨを均一にする。   Further, a second stirring device 86 is provided in the alkaline adjustment tank 43. The second stirring device 86 is a device that stirs the gas cleaning water in the alkaline adjustment tank 43 and has a stirring blade 97. The rotation axis of the stirring blade 97 is arranged in the vertical direction substantially at the center of the alkaline adjustment tank 43, and a driving device 98 such as a motor is connected to the upper end of the rotation shaft and connected to the control device 45. The stirring blade 97 is gently rotated at such a speed that the gas cleaning water in the tank does not wave. By rotating the stirring blade 97, the pH of the gas cleaning water is made uniform.

また、アルカリ性調整槽４３内の底部には、第二邪魔板８７が設けられている。第二邪魔板８７は、板状に構成され、流路８１の中心線の下流側延長上に配置され、アルカリ性調整槽４３の底板から斜め上方へ延設される。つまり、下流側が上方へ傾斜するように斜めに設けられており、上流側から流れてきたガス洗浄水が第二邪魔板８７に当たって下流上方へ流れるように設けられている。詳細には、攪拌羽根９７の下方に第二邪魔板８７の上端が配置され、攪拌羽根９７の回転により第二邪魔板８７の上端付近から上方へ流れる水流が形成される。このように構成することにより、攪拌羽根９７の回転により対流が生じて析出した固形物を効率よく水面に浮上させることができる。また、ガス洗浄水がアルカリ性調整槽４３内に滞留する時間を増やしている。   A second baffle plate 87 is provided at the bottom of the alkaline adjustment tank 43. The second baffle plate 87 is configured in a plate shape, is disposed on the downstream extension of the center line of the flow path 81, and extends obliquely upward from the bottom plate of the alkaline adjustment tank 43. That is, it is provided obliquely so that the downstream side is inclined upward, so that the gas cleaning water flowing from the upstream side hits the second baffle plate 87 and flows downward and upward. Specifically, the upper end of the second baffle plate 87 is disposed below the stirring blade 97, and a water flow flowing upward from near the upper end of the second baffle plate 87 is formed by the rotation of the stirring blade 97. By comprising in this way, the solid substance which the convection produced by rotation of the stirring blade 97 and precipitated has floated to the water surface efficiently. Further, the time for the gas cleaning water to stay in the alkaline adjustment tank 43 is increased.

また、アルカリ性調整槽４３の上方には第二除去装置８４が設けられている。第二除去装置８４は、本実施形態においては、ベルトコンベア式の掻き出し装置で構成されている。第二除去装置８４は、駆動する駆動輪１０１と回動可能に支持されている従動輪１０２と、駆動輪１０１と従動輪１０２との間に捲回されたベルト１０３と、ベルト１０３の外周面に一定間隔を置いて突設された板状の掻き出し部１０４と、から構成されている。掻き出し部１０４は、その先端が第二除去装置８４の下側を移動している際に、アルカリ性調整槽４３内のガス洗浄水の水面と接する程度の長さである。第二除去装置８４のベルト１０３は、上流から下流へと異物を掻きだす方向に回転している。アルカリ性調整槽４３の下流側には、第二異物分離槽８８が隣接して設けられている。   A second removal device 84 is provided above the alkaline adjustment tank 43. In the present embodiment, the second removal device 84 is constituted by a belt conveyor type scraping device. The second removing device 84 includes a driving wheel 101 to be driven, a driven wheel 102 rotatably supported, a belt 103 wound between the driving wheel 101 and the driven wheel 102, and an outer peripheral surface of the belt 103. And a plate-shaped scraping portion 104 projecting at regular intervals. The scraping portion 104 has such a length that the tip of the scraping portion 104 is in contact with the water surface of the gas cleaning water in the alkaline adjustment tank 43 when the tip moves below the second removal device 84. The belt 103 of the second removal device 84 rotates in the direction of scraping foreign matter from the upstream to the downstream. A second foreign matter separation tank 88 is provided adjacent to the downstream side of the alkaline adjustment tank 43.

第二異物分離槽８８は、第二除去装置８４によって下流側に寄せられた異物を貯溜するための槽である。アルカリ性調整槽４３内に貯溜されているガス洗浄水の水面付近に集まっていた異物のうち固形物及び固形物に付着した液体が第二異物分離槽８８に掻き出される。第二異物分離槽８８の底面には、異物のうち固形物を固形物貯留槽７９へと送るための固形物管１０６が設けられている。   The second foreign matter separation tank 88 is a tank for storing foreign matters brought to the downstream side by the second removing device 84. Of the foreign matter collected near the surface of the gas cleaning water stored in the alkaline adjustment tank 43, the solid matter and the liquid adhering to the solid matter are scraped into the second foreign matter separation tank 88. On the bottom surface of the second foreign matter separation tank 88, a solid matter pipe 106 for sending solid matter out of the foreign matter to the solid matter storage tank 79 is provided.

アルカリ性調整槽４３の上部には第二気体室８９が設けられている。第二気体室８９は、側壁と上壁とに囲われており、気体が外へ逃げ出さないように密封されている。第二気体室８９の上壁には、気体を取り出すための第二気体取出口１０７が設けられている。第二気体取出口１０７は、脱気ポンプ７８と接続されている。   A second gas chamber 89 is provided in the upper part of the alkaline adjustment tank 43. The second gas chamber 89 is surrounded by a side wall and an upper wall, and is sealed so that gas does not escape to the outside. The upper wall of the second gas chamber 89 is provided with a second gas outlet 107 for taking out the gas. The second gas outlet 107 is connected to the deaeration pump 78.

アルカリ性調整槽４３の下流側には、生物処理槽４４が設けられている。生物処理槽４４は、微生物によりガス洗浄水に含まれた異物を除去する装置である。生物処理槽４４には、アルカリ性調整槽４３と連通するための流路１１１が設けられている。また、生物処理槽４４には、ガス洗浄水を中性に調整する装置としての第三ＰＨ調整装置１１２と、微生物を付着させるための担体としての生物担体１１３と、上方からガス洗浄水を散水するための装置としての散水ノズル１１４と、が設けられている。   A biological treatment tank 44 is provided on the downstream side of the alkaline adjustment tank 43. The biological treatment tank 44 is a device that removes foreign substances contained in the gas cleaning water by microorganisms. The biological treatment tank 44 is provided with a flow path 111 for communicating with the alkaline adjustment tank 43. Further, in the biological treatment tank 44, the third PH adjusting device 112 as a device for adjusting the gas washing water to neutral, the biological carrier 113 as a carrier for attaching microorganisms, and the gas washing water from above are sprinkled. A watering nozzle 114 is provided as a device for this purpose.

流路１１１には、第三ＰＨ調整装置１１２が設けられている。第三ＰＨ調整装置１１２は、ＰＨを中性に調整するための酸性物質若しくはアルカリ性物質を投入する装置であり、アルカリ性物質を貯溜する調整剤タンク１２１と、投入量を調整することができる第一弁１２２と、酸性物質を貯溜する調整剤タンク１２３と、投入量を調整することができる第二弁１２４とを備えている。   A third PH adjusting device 112 is provided in the flow path 111. The third PH adjusting device 112 is a device for charging an acidic substance or an alkaline substance for adjusting the pH to neutral, and a first adjusting agent tank 121 for storing the alkaline substance and a first charging amount that can be adjusted. The valve 122, the adjustment agent tank 123 which stores an acidic substance, and the 2nd valve 124 which can adjust an input amount are provided.

生物処理槽４４内には、第三ＰＨ検出センサ１１５が設けられている。第三ＰＨ検出センサ１１５は、生物処理槽４４内のＰＨを検出するためのセンサである。   A third PH detection sensor 115 is provided in the biological treatment tank 44. The third PH detection sensor 115 is a sensor for detecting PH in the biological treatment tank 44.

また、生物処理槽４４内には、第三攪拌装置１１６が設けられている。第三攪拌装置１１６は、生物処理槽４４内のガス洗浄水を攪拌する装置であり、攪拌羽根１２５を有する。攪拌羽根１２５は生物処理槽４４の下部の略中央に配置され、回転軸の上端にはモータ等の駆動装置１２６が連結され制御装置４５と接続される。攪拌羽根１２５は、槽内のガス洗浄水を波立たせない程度の速さで緩やかに回転させている。攪拌羽根１２５を回転させることにより、ガス洗浄水のＰＨを均一にする。   Further, a third stirring device 116 is provided in the biological treatment tank 44. The third stirring device 116 is a device that stirs the gas cleaning water in the biological treatment tank 44 and has a stirring blade 125. The agitating blade 125 is disposed at the approximate center of the lower part of the biological treatment tank 44, and a driving device 126 such as a motor is connected to the upper end of the rotating shaft and connected to the control device 45. The stirring blade 125 is gently rotated at such a speed as not to make the gas cleaning water in the tank wave. By rotating the stirring blade 125, the pH of the gas cleaning water is made uniform.

また、生物処理槽４４内の底部には、第三邪魔板１１７が設けられている。第三邪魔板１１７は、板状に構成され、流路１１１の中心線の下流側延長上に配置され、生物処理槽４４の底板から斜め上方へ延設される。つまり、下流側が上方へ傾斜するように斜めに設けられており、上流側から流れてきたガス洗浄水が第三邪魔板１１７に当たって下流上方へ流れるように設けられている。詳細には、攪拌羽根１２５の下方に第三邪魔板１１７の上端が配置され、攪拌羽根１２５の回転により第三邪魔板１１７の上端付近から上方へ流れる水流が形成される。このように構成することにより、ガス洗浄水が生物処理槽４４内に滞留する時間を増やしている。   A third baffle plate 117 is provided at the bottom of the biological treatment tank 44. The third baffle plate 117 is formed in a plate shape, is disposed on the downstream extension of the center line of the flow path 111, and extends obliquely upward from the bottom plate of the biological treatment tank 44. That is, it is provided obliquely so that the downstream side is inclined upward, so that the gas cleaning water flowing from the upstream side hits the third baffle plate 117 and flows downward and upward. Specifically, the upper end of the third baffle plate 117 is disposed below the stirring blade 125, and a water flow that flows upward from near the upper end of the third baffle plate 117 is formed by the rotation of the stirring blade 125. By configuring in this way, the time for the gas cleaning water to stay in the biological treatment tank 44 is increased.

散水ノズル１１４は、生物処理槽４４の上部であって、生物担体１１３よりも上方に設けられている。生物処理槽４４の下部には、アルカリ性調整槽４３から流入したガス洗浄水が貯溜されている。生物処理槽４４の下部には、取水管１３１が設けられており、取水管１３１の他端はポンプ２３と接続している。
ポンプ２３は、ガス洗浄水を汲み上げるためのポンプであり、その排出側には、戻し管１３２が接続され、戻し管１３２から分岐して散水管１３３が接続されている。戻し管１３２は、ガス洗浄水を熱交換器６及びスクラバ９へ戻すための管であり、その中途部には戻し弁１３４が設けられている。散水管１３３は、戻し管１３２の途中から分岐しており、その下流端は、散水ノズル１１４に接続されている。散水管１３３の中途部には散水弁１３５が設けられている。また、戻し管１３２の中途部であって、散水ノズル１１４への分岐より上流側には、排出管１３６が設けられており、排出管１３６の開閉を調整するための排水弁１３７が設けられている。排水弁１３７は、ガス処理水を循環させずに排出する場合に開状態とする。 The watering nozzle 114 is provided in the upper part of the biological treatment tank 44 and above the biological carrier 113. In the lower part of the biological treatment tank 44, gas cleaning water flowing from the alkaline adjustment tank 43 is stored. A water intake pipe 131 is provided below the biological treatment tank 44, and the other end of the water intake pipe 131 is connected to the pump 23.
The pump 23 is a pump for pumping up the gas cleaning water, and a return pipe 132 is connected to the discharge side of the pump 23, and a water spray pipe 133 is connected to branch from the return pipe 132. The return pipe 132 is a pipe for returning the gas cleaning water to the heat exchanger 6 and the scrubber 9, and a return valve 134 is provided in the middle thereof. The watering pipe 133 branches off from the middle of the return pipe 132, and the downstream end thereof is connected to the watering nozzle 114. A water spray valve 135 is provided in the middle of the water spray pipe 133. A discharge pipe 136 is provided in the middle of the return pipe 132 and upstream from the branch to the watering nozzle 114, and a drain valve 137 for adjusting the opening and closing of the discharge pipe 136 is provided. Yes. The drain valve 137 is opened when the gas treated water is discharged without being circulated.

次に、制御装置４５について説明する。制御装置４５は、酸性調整槽４２、アルカリ性調整槽４３、及び生物処理槽４４でのＰＨを制御し、微細気泡の注入量を制御し、ガス洗浄水を生物処理槽４４内で散水するか、熱交換器６及びスクラバ９に戻すか、若しくは排出するか、を制御するための装置である。制御装置４５は、図３に示すように、入力側に、第一ＰＨ検出センサ５５、第二ＰＨ検出センサ８５、及び、第三ＰＨ検出センサ１１５が接続されており、出力側に、第一ＰＨ調整装置５２の弁６２、第一気泡注入装置５３の弁６４、第二ＰＨ調整装置８２の弁９２、第二気泡注入装置８３の弁９４、第三ＰＨ調整装置１１２の第一弁１２２及び第二弁１２４、戻し弁１３４、散水弁１３５、排水弁１３７、第一攪拌装置５６の駆動装置６８、第二攪拌装置８６の駆動装置９８、及び第三攪拌装置１１６の駆動装置１２６、が接続されている。なお、弁６２、弁６４、弁９２、弁９４、第一弁１２２、第二弁１２４、戻し弁１３４、散水弁１３５、及び排水弁１３７は電磁弁で構成されている。   Next, the control device 45 will be described. The control device 45 controls the pH in the acid adjustment tank 42, the alkalinity adjustment tank 43, and the biological treatment tank 44, controls the injection amount of fine bubbles, and sprays the gas cleaning water in the biological treatment tank 44, It is an apparatus for controlling whether the heat exchanger 6 and the scrubber 9 are returned to or discharged from. As shown in FIG. 3, the control device 45 has a first PH detection sensor 55, a second PH detection sensor 85, and a third PH detection sensor 115 connected to the input side, and the first PH detection sensor 115 connected to the output side. A valve 62 of the PH adjustment device 52, a valve 64 of the first bubble injection device 53, a valve 92 of the second PH adjustment device 82, a valve 94 of the second bubble injection device 83, a first valve 122 of the third PH adjustment device 112, and The second valve 124, the return valve 134, the water spray valve 135, the drain valve 137, the driving device 68 of the first stirring device 56, the driving device 98 of the second stirring device 86, and the driving device 126 of the third stirring device 116 are connected. Has been. In addition, the valve 62, the valve 64, the valve 92, the valve 94, the first valve 122, the second valve 124, the return valve 134, the water spray valve 135, and the drain valve 137 are constituted by electromagnetic valves.

［ガス洗浄水の処理方法］
次に、バイオガスの洗浄に使用したガス洗浄水から異物を取り除くガス洗浄水の処理方法について、図４を用いて説明する。 [Gas cleaning water treatment method]
Next, a method for treating gas cleaning water for removing foreign substances from the gas cleaning water used for biogas cleaning will be described with reference to FIG.

まず、ガス洗浄水を貯水槽４１に一時的に貯溜する（ステップＳ１０）。貯水槽４１内で一時的に貯溜することにより、ガス洗浄水に含まれる異物のうち体積の大きな固形物が重力で貯水槽４１の底部に移動する。   First, the gas cleaning water is temporarily stored in the water storage tank 41 (step S10). By temporarily storing in the water storage tank 41, a large-volume solid substance among the foreign matters contained in the gas cleaning water moves to the bottom of the water storage tank 41 by gravity.

次に、貯水槽４１と酸性調整槽４２との間に設けられた流路５１において、酸性物質である塩酸をガス洗浄水に投入し、ガス洗浄水を酸性に調整する（ステップＳ２０）。制御装置４５は、第一ＰＨ検出センサ５５によって検出されたＰＨに基づいて、第一ＰＨ調整装置５２の弁６２の開度を調整することにより、設定したＰＨとなるように酸性物質の投入量を調整する。これにより、任意の（設定した）ＰＨの酸性にすることができる。   Next, in a flow path 51 provided between the water storage tank 41 and the acid adjustment tank 42, hydrochloric acid, which is an acidic substance, is introduced into the gas cleaning water, and the gas cleaning water is adjusted to be acidic (step S20). The control device 45 adjusts the opening degree of the valve 62 of the first PH adjustment device 52 based on the PH detected by the first PH detection sensor 55, so that the input amount of the acidic substance is set to the set PH. Adjust. Thereby, the acidity of arbitrary (set) PH can be obtained.

次に、貯水槽４１と酸性調整槽４２との間に設けられた流路５１において、微細気泡をガス洗浄水に注入する（ステップＳ３０）。微細気泡は、第一気泡注入装置５３によって発生させ、ガス洗浄水内へ注入される。第一気泡注入装置５３によって注入される気体は、空気、オゾン、若しくは可燃性ガスである。微細気泡は直径が数〜数十マイクロメートルの気泡であり、微細気泡が水面へ上昇する際に、ガス洗浄水に含まれる異物のうち細かい固形分を浮上させる。制御装置４５は、第一気泡注入装置５３の弁６４の開度を調整することにより、微細気泡を注入する量を調整する。   Next, in the flow path 51 provided between the water storage tank 41 and the acid adjustment tank 42, fine bubbles are injected into the gas cleaning water (step S30). The fine bubbles are generated by the first bubble injection device 53 and injected into the gas cleaning water. The gas injected by the first bubble injection device 53 is air, ozone, or combustible gas. The fine bubbles are bubbles having a diameter of several to several tens of micrometers, and when the fine bubbles rise to the water surface, fine solids of the foreign matters contained in the gas cleaning water are levitated. The control device 45 adjusts the amount of fine bubbles to be injected by adjusting the opening degree of the valve 64 of the first bubble injection device 53.

次に、酸性調整槽４２内に流入したガス洗浄水を攪拌する（ステップＳ４０）。第一攪拌装置５６は、酸性調整槽４２内のガス洗浄水を波立たせないように攪拌し、酸性調整槽４２内のガス洗浄水のＰＨを均一にする。
また、第一邪魔板５７を設けたことにより、上流から流入したガス洗浄水が上方へ流れ、対流が生まれる。これにより、ガス洗浄水が酸性調整槽４２内に対流する時間を増やすことで、ＰＨを均一にする。
ガス洗浄水が酸性に調整された場合、有機酸、有機酸塩、及びフェノール類などからなる固形物が析出する。 Next, the gas washing water that has flowed into the acid adjustment tank 42 is stirred (step S40). The first stirrer 56 stirs the gas cleaning water in the acid adjustment tank 42 so as not to ripple, and makes the pH of the gas cleaning water in the acid adjustment tank 42 uniform.
In addition, by providing the first baffle plate 57, the gas cleaning water flowing in from the upstream flows upward and convection is generated. Thereby, PH is made uniform by increasing the time for the gas cleaning water to convect in the acid adjustment tank 42.
When the gas cleaning water is adjusted to be acidic, a solid substance composed of an organic acid, an organic acid salt, and phenols is deposited.

次に、水面に浮上した異物のうち固形物を除去する（ステップＳ５０）。ステップＳ４０において析出した有機酸、有機酸塩、及びフェノール類などからなる固形物は、ステップＳ３０において注入された微細気泡の上昇に伴ってガス洗浄水の水面に浮上する。
第一邪魔板５７を設けたことにより、上流から流入したガス洗浄水が上方へ流れ、対流が生まれる。これにより、析出した有機酸、有機酸塩、及びフェノール類などからなる固形物を効率よく水面に浮上させることができる。
ガス洗浄水の水面に浮上した異物のうち固形物は第一除去装置５４によって第一異物分離槽５８へと掻き出される。これにより、ガス洗浄水内の異物が除去される。 Next, the solid matter is removed from the foreign matter floating on the water surface (step S50). The solid matter composed of the organic acid, organic acid salt, phenols and the like deposited in step S40 floats on the surface of the gas cleaning water as the fine bubbles injected in step S30 rise.
By providing the first baffle plate 57, the gas cleaning water flowing in from the upstream flows upward and convection is generated. Thereby, the solid substance which consists of the precipitated organic acid, organic acid salt, phenols, etc. can be floated on the water surface efficiently.
Of the foreign matter floating on the water surface of the gas cleaning water, the solid matter is scraped out to the first foreign matter separation tank 58 by the first removing device 54. Thereby, the foreign substance in gas cleaning water is removed.

次に、水面に浮上した異物のうち気体成分をガスエンジン２６で燃焼させる（ステップＳ６０）。脱気ポンプ７８により気体を吸入することで、酸性調整槽４２内が減圧され、ガス洗浄水に溶けていた異物のうち気体成分が気化し易くなる。また、微細気泡も水面まで上昇した後破裂して気化する。また、第一異物分離槽５８内の固形物に含まれていた気体成分も気化する。気化したこれらの気体は、第一気体室５９から第一気体取出口７７を介して、脱気ポンプ７８側へ吸入され、さらにガスエンジン２６へ排出される。そして、ガスエンジン２６内でこれらの気体を燃焼させる。   Next, the gas component of the foreign matter floating on the water surface is burned by the gas engine 26 (step S60). By sucking gas with the deaeration pump 78, the inside of the acid adjustment tank 42 is depressurized, and the gas component among the foreign matters dissolved in the gas cleaning water is easily vaporized. The fine bubbles also rise to the water surface and then burst and vaporize. Further, gas components contained in the solid matter in the first foreign matter separation tank 58 are also vaporized. These vaporized gases are sucked from the first gas chamber 59 through the first gas outlet 77 to the degassing pump 78 side and further discharged to the gas engine 26. Then, these gases are burned in the gas engine 26.

次に、ステップＳ５０においてガス洗浄水から除去した固形物をガス化炉４で燃焼させる（ステップＳ７０）。ガス洗浄水から除去した異物のうち固形物は、第一異物分離槽５８に一旦貯溜される。第一異物分離槽５８に貯留された固形物に付着した液体成分や気体成分は上方へ移動し、固形物が下方へ移動する。固形物は、固形物管７６を通って固形物貯留槽７９へと送られる。
固形物貯留槽７９に固形物が一定量溜まった場合、固形物は排出管８０を通ってガス化炉４へ送られ燃焼させる。 Next, the solid matter removed from the gas cleaning water in step S50 is burned in the gasification furnace 4 (step S70). Of the foreign matter removed from the gas cleaning water, the solid matter is temporarily stored in the first foreign matter separation tank 58. The liquid component and gas component adhering to the solid matter stored in the first foreign matter separation tank 58 move upward, and the solid matter moves downward. The solid material is sent to the solid material storage tank 79 through the solid material tube 76.
When a certain amount of solid matter is accumulated in the solid matter storage tank 79, the solid matter is sent to the gasification furnace 4 through the discharge pipe 80 and burned.

次に、酸性調整槽４２とアルカリ性調整槽４３との間に設けられた流路８１において、アルカリ性物質である水酸化ナトリウムをガス洗浄水に投入し、ガス洗浄水をアルカリ性に調整する（ステップＳ８０）。第二ＰＨ検出センサ８５によって検出されたＰＨに基づいて、第二ＰＨ調整装置８２の弁９２の開度を調整することにより、設定したＰＨとなるようにアルカリ性物質の投入量を調整する。これにより、ＰＨを任意の（設定した）ＰＨのアルカリ性にすることができる。   Next, in the flow path 81 provided between the acidic adjustment tank 42 and the alkaline adjustment tank 43, sodium hydroxide, which is an alkaline substance, is introduced into the gas cleaning water, and the gas cleaning water is adjusted to be alkaline (step S80). ). By adjusting the opening degree of the valve 92 of the second PH adjusting device 82 based on the PH detected by the second PH detecting sensor 85, the input amount of the alkaline substance is adjusted so that the set PH is obtained. Thereby, PH can be made alkaline (arranged) to any (set) PH.

次に、酸性調整槽４２とアルカリ性調整槽４３との間に設けられた流路８１において、微細気泡をガス洗浄水に注入する（ステップＳ９０）。微細気泡は、第二気泡注入装置８３によって発生させ、ガス洗浄水内へ注入される。第二気泡注入装置８３によって注入される気体は、空気、オゾン、若しくは可燃性ガスである。微細気泡は直径が数〜数十マイクロメートルの気泡であり、微細気泡が水面へ上昇する際に、ガス洗浄水に含まれる異物のうち細かい固形分を浮上させる。制御装置４５は、第二気泡注入装置８３の弁９４の開度を調整することにより、微細気泡を注入する量を調整する。
また、第二気泡注入装置８３によって注入される気体がオゾンである場合には、オゾンの酸化作用によって異物のうち有機酸を分解することができる。 Next, in the flow path 81 provided between the acidic adjustment tank 42 and the alkaline adjustment tank 43, fine bubbles are injected into the gas cleaning water (step S90). The fine bubbles are generated by the second bubble injection device 83 and injected into the gas cleaning water. The gas injected by the second bubble injection device 83 is air, ozone, or combustible gas. The fine bubbles are bubbles having a diameter of several to several tens of micrometers, and when the fine bubbles rise to the water surface, fine solids of the foreign matters contained in the gas cleaning water are levitated. The control device 45 adjusts the amount of fine bubbles injected by adjusting the opening of the valve 94 of the second bubble injection device 83.
Moreover, when the gas inject | poured by the 2nd bubble injection apparatus 83 is ozone, an organic acid can be decomposed | disassembled among foreign materials by the oxidizing action of ozone.

次に、アルカリ性調整槽４３内に流入したガス洗浄水を攪拌する（ステップＳ１００）。第二攪拌装置８６は、アルカリ性調整槽４３内のガス洗浄水を波立たせないように攪拌し、アルカリ性調整槽４３内のガス洗浄水のＰＨを均一にする。
また、第二邪魔板８７を設けたことにより、上流から流入したガス洗浄水が上方へ流れ、対流が生まれる。これにより、ガス洗浄水がアルカリ性調整槽４３内に対流する時間を増やすことで、ＰＨを均一にする。
ガス洗浄水がアルカリ性に調整された場合、アンモニウム塩などからなる固形物が析出する。 Next, the gas cleaning water that has flowed into the alkaline adjustment tank 43 is stirred (step S100). The second stirrer 86 agitates the gas cleaning water in the alkaline adjustment tank 43 so as not to ripple, and makes the pH of the gas cleaning water in the alkaline adjustment tank 43 uniform.
Further, by providing the second baffle plate 87, the gas cleaning water flowing in from the upstream flows upward, and convection is generated. Thereby, PH is made uniform by increasing the time for which the gas cleaning water convects in the alkaline adjustment tank 43.
When the gas cleaning water is adjusted to be alkaline, a solid material such as an ammonium salt is deposited.

次に、水面に浮上した異物のうち固形物を除去する（ステップＳ１１０）。ステップＳ１００において析出したアンモニウム塩などからなる固形物は、ステップＳ９０において注入された微細気泡の上昇に伴ってガス洗浄水の水面に浮上する。
第二邪魔板８７を設けたことにより、上流から流入したガス洗浄水が上方へ流れ、対流が生まれる。これにより、析出したアンモニウム塩などからなる固形物を効率よく水面に浮上させることができる。
ガス洗浄水の水面に浮上した異物のうち固形物は第二除去装置８４によって第二異物分離槽８８へと掻き出される。これにより、ガス洗浄水内の異物が除去される。 Next, the solid matter is removed from the foreign matter floating on the water surface (step S110). The solid matter made of ammonium salt or the like deposited in step S100 rises to the surface of the gas cleaning water as the fine bubbles injected in step S90 rise.
By providing the second baffle plate 87, the gas cleaning water flowing in from the upstream flows upward and convection is generated. Thereby, the solid substance which consists of the precipitated ammonium salt etc. can be floated on the water surface efficiently.
Of the foreign matter floating on the water surface of the gas cleaning water, the solid matter is scraped out to the second foreign matter separation tank 88 by the second removing device 84. Thereby, the foreign substance in gas cleaning water is removed.

次に、水面に浮上した異物のうち気体成分を燃焼させる（ステップＳ１２０）。脱気ポンプにより気体を吸入することで、アルカリ性調整槽４３内が減圧され、ガス洗浄水に溶けていた異物のうち気体成分が気化する。ここで、アルカリ性調整槽４３内の異物のうち気体成分とは、主にアンモニアである。また、微細気泡も水面まで上昇した後破裂して気化する。また、第二異物分離槽８８内の固形物に含まれていた気体成分も気化する。気化したこれらの気体は、第二気体室８９から第二気体取出口１０７を介して、脱気ポンプ１０８側へ吸入され、さらにガスエンジン２６へ排出される。そして、ガスエンジン２６内でこれらの気体を燃焼させる。   Next, the gas component is burned out of the foreign matter that has floated on the water surface (step S120). By sucking gas with the deaeration pump, the inside of the alkaline adjustment tank 43 is depressurized, and gas components of the foreign matters dissolved in the gas cleaning water are vaporized. Here, the gas component of the foreign matter in the alkaline adjustment tank 43 is mainly ammonia. The fine bubbles also rise to the water surface and then burst and vaporize. Further, the gas component contained in the solid matter in the second foreign matter separation tank 88 is also vaporized. These vaporized gases are sucked from the second gas chamber 89 through the second gas outlet 107 to the deaeration pump 108 side and further discharged to the gas engine 26. Then, these gases are burned in the gas engine 26.

次に、ステップＳ１１０においてガス洗浄水から除去した固形物を燃焼させる（ステップＳ１３０）。ガス洗浄水から除去した異物のうち固形物は、第二異物分離槽８８に一旦貯溜される。第二異物分離槽８８に貯溜された固形物に付着した液体成分や気体成分は上方へ移動し、固形物が下方へ移動する。固形物は、固形物管１０６を通って固形物貯留槽７９へと送られる。
固形物貯留槽７９に固形物が一定量溜まった場合、固形物は排出管８０を通ってガス化炉４へ送られ燃焼させる。 Next, the solid material removed from the gas cleaning water in step S110 is burned (step S130). Of the foreign matter removed from the gas cleaning water, the solid matter is temporarily stored in the second foreign matter separation tank 88. The liquid component and the gas component adhering to the solid matter stored in the second foreign matter separation tank 88 move upward, and the solid matter moves downward. The solid matter is sent to the solid matter storage tank 79 through the solid matter pipe 106.
When a certain amount of solid matter is accumulated in the solid matter storage tank 79, the solid matter is sent to the gasification furnace 4 through the discharge pipe 80 and burned.

次に、アルカリ性調整槽４３と生物処理槽４４との間に設けられた流路において、酸性物質である塩酸若しくはアルカリ性物質である水酸化ナトリウムをガス洗浄水に投入し、ガス洗浄水を中性に調整する（ステップＳ１４０）。制御装置４５は、第三ＰＨ検出センサ１１５によって検出されたＰＨに基づいて、第三ＰＨ調整装置１１２の第一弁１２２及び第二弁１２４の開度を調整することにより、酸性物質及びアルカリ性物質の投入量を調整する。これにより、ＰＨを中性にすることができる。   Next, in a flow path provided between the alkaline adjustment tank 43 and the biological treatment tank 44, hydrochloric acid which is an acidic substance or sodium hydroxide which is an alkaline substance is put into the gas washing water, and the gas washing water is neutralized. (Step S140). The control device 45 adjusts the opening degree of the first valve 122 and the second valve 124 of the third PH adjustment device 112 based on the PH detected by the third PH detection sensor 115, so that the acidic substance and the alkaline substance Adjust the input amount. Thereby, PH can be made neutral.

次に、生物処理槽４４内に流入したガス洗浄水を攪拌する（ステップＳ１５０）。第三攪拌装置１１６は、生物処理槽４４内のガス洗浄水を波立たせないように攪拌し、生物処理槽４４内のガス洗浄水のＰＨを均一にする。なお、水流でガス洗浄水のＰＨが均一に保てる場合には、ステップＳ１５０は省略することもできる。
また、第三邪魔板１１７を設けたことにより、上流から流入したガス洗浄水が上方へ流れ、対流が生まれる。これにより、ガス洗浄水が生物処理槽４４内に対流する時間を増やすことで、ＰＨを均一にする。 Next, the gas cleaning water that has flowed into the biological treatment tank 44 is agitated (step S150). The third stirring device 116 stirs the gas cleaning water in the biological treatment tank 44 so as not to ripple and makes the pH of the gas cleaning water in the biological treatment tank 44 uniform. It should be noted that step S150 can be omitted when the pH of the gas cleaning water can be kept uniform by the water flow.
Further, by providing the third baffle plate 117, the gas cleaning water flowing in from the upstream flows upward, and convection is generated. Thereby, PH is equalized by increasing the time for the gas cleaning water to convect in the biological treatment tank 44.

次に、ガス洗浄水を散水ノズルから散水する（ステップＳ１６０）。生物処理槽４４の下部に溜まっているガス洗浄水はポンプによって汲み上げられる。制御装置４５は、戻し管１３２に設けられた戻し弁１３４を閉とし、散水管１３３に設けられた散水弁１３５を開とする。これにより、ポンプによって汲み上げられたガス洗浄水は、散水管１３３へ流入し、散水管１３３の端部に設けられた散水ノズル１１４から下方へ散水される。散水は間欠的若しくは定常的に行われる。
散水されたガス洗浄水は生物担体１１３と接触し、生物担体１１３に付着している微生物によってタール成分等が分解される。微生物は、有機酸、有機酸塩、及びフェノール類などの成分や、アンモニウム塩などの成分が含まれたガス洗浄水中よりも、前記物質が除去されたガス洗浄水中において活動が活発になる。そのため、酸性調整槽４２及びアルカリ性調整槽４３と併用することにより、生物処理槽４４における処理効率が向上する。 Next, gas cleaning water is sprinkled from the watering nozzle (step S160). The gas cleaning water accumulated in the lower part of the biological treatment tank 44 is pumped up by a pump. The control device 45 closes the return valve 134 provided in the return pipe 132 and opens the water spray valve 135 provided in the water spray pipe 133. As a result, the gas cleaning water pumped up by the pump flows into the sprinkling pipe 133 and is sprinkled downward from the sprinkling nozzle 114 provided at the end of the sprinkling pipe 133. Watering is performed intermittently or regularly.
The sprinkled gas cleaning water comes into contact with the biological carrier 113, and tar components and the like are decomposed by microorganisms attached to the biological carrier 113. Microorganisms are more active in the gas wash water from which the substances are removed than in the gas wash water containing components such as organic acids, organic acid salts and phenols, and components such as ammonium salts. Therefore, the treatment efficiency in the biological treatment tank 44 is improved by using the acid adjustment tank 42 and the alkaline adjustment tank 43 together.

次に、ガス洗浄水を戻し管１３２から、熱交換器６もしくはスクラバ９へ戻す（ステップＳ１７０）。ステップＳ１６０までの処理によって異物を除去したガス洗浄水をポンプ２３で汲み上げて戻し管１３２に戻すものである。ステップＳ１７０では、制御装置４５は、戻し弁１３４を開にし、散水弁１３５を閉にする。   Next, the gas cleaning water is returned from the return pipe 132 to the heat exchanger 6 or the scrubber 9 (step S170). Gas cleaning water from which foreign substances have been removed by the processing up to step S160 is pumped up by the pump 23 and returned to the return pipe 132. In step S170, the control device 45 opens the return valve 134 and closes the water spray valve 135.

以上のように、本実施形態に係るガス洗浄水処理装置８は、ガス洗浄水を貯溜する貯水槽４１と、ガス洗浄水を酸性に調整する第一ＰＨ調整装置５２と、微細気泡を注入する第一気泡注入装置５３と、微細気泡とともに水面に浮上した固形物を除去する第一除去装置５４と、が設けられた酸性調整槽４２と、ガス洗浄水をアルカリ性に調整する第二ＰＨ調整装置８２と、微細気泡を注入する第二気泡注入装置８３と、微細気泡とともに水面に浮上した固形物を除去する第二除去装置８４と、が設けられたアルカリ性調整槽４３と、を具備するものである。   As described above, the gas cleaning water treatment device 8 according to the present embodiment injects fine bubbles into the water storage tank 41 that stores the gas cleaning water, the first PH adjustment device 52 that adjusts the gas cleaning water to be acidic. An acid adjustment tank 42 provided with a first bubble injection device 53, a first removal device 54 for removing solid matter floating on the water surface together with fine bubbles, and a second PH adjustment device for adjusting the gas cleaning water to be alkaline. 82, a second bubble injection device 83 for injecting fine bubbles, and a second removal device 84 for removing solid matter floating on the water surface together with the fine bubbles, and an alkaline adjustment tank 43 provided with the alkaline adjustment tank 43. is there.

このように構成することにより、貯水槽４１内で一時的に貯溜することにより、ガス洗浄水に含まれる異物のうち体積の大きな固形物が重力で貯水槽４１の底部に移動するため、比重が大きい固体成分を除去することができる。
また、酸性調整槽４２において、第一ＰＨ調整装置５２によってＰＨを酸性にすることで、有機酸、有機酸塩、及びフェノール類などからなる固形物を析出させる。また、第一気泡注入装置５３によって微細気泡を注入することで、前記固形物を水面に浮上させる。また、第一除去装置５４で前記固形物を第一異物分離槽５８へ掻き出し、異物を除去する。
また、アルカリ性調整槽４３において、第二ＰＨ調整装置８２によってＰＨをアルカリ性にすることで、アンモニウム塩などからなる固形物を析出させる。また、第二気泡注入装置８３によって微細気泡を注入することで、前記固形物を水面に浮上させる。また、第二除去装置８４で前記固形物を第二異物分離槽８８へ掻き出し、異物を除去する。
これにより、比重の小さい固体成分、可溶性の固体成分であってガス洗浄水に溶解しているもの、及び液体成分であってガス洗浄水に溶解しているものを除去することができる。したがって、様々な種類の異物を除去することができる。 By comprising in this way, by storing temporarily in the water storage tank 41, since the solid substance with a large volume among the foreign materials contained in gas washing water moves to the bottom part of the water storage tank 41 by gravity, specific gravity is Large solid components can be removed.
Moreover, in the acid adjustment tank 42, the PH is acidified by the first PH adjustment device 52, thereby depositing a solid material composed of an organic acid, an organic acid salt, and phenols. Moreover, the said solid substance is floated on the water surface by inject | pouring a fine bubble with the 1st bubble injection apparatus 53. FIG. Further, the solid matter is scraped out to the first foreign matter separation tank 58 by the first removing device 54 to remove the foreign matter.
Further, in the alkaline adjustment tank 43, the PH is made alkaline by the second PH adjustment device 82, thereby depositing a solid material such as an ammonium salt. Moreover, the said solid substance floats on the water surface by inject | pouring microbubbles with the 2nd bubble injection apparatus 83. FIG. Further, the solid matter is scraped out to the second foreign matter separation tank 88 by the second removing device 84 to remove the foreign matter.
Thereby, it is possible to remove a solid component having a small specific gravity, a soluble solid component dissolved in the gas cleaning water, and a liquid component dissolved in the gas cleaning water. Therefore, various kinds of foreign matters can be removed.

また、ガス洗浄水処理装置８は、ガス洗浄水を中性に調整する第三ＰＨ調整装置１１２と、微生物を付着させるための生物担体１１３と、上方からガス洗浄水を散水するための散水ノズル１１４と、が設けられた生物処理槽４４を具備するものである。
このように構成することにより、生物処理槽４４において、散水ノズル１１４から散水されたガス洗浄水は生物担体１１３と接触し、生物担体１１３に付着している微生物によってタール成分等が分解される。したがって、異物のうち水溶性の固体成分及び液体成分を効率よく処理することができる。
また、微生物は、有機酸、有機酸塩、及びフェノール類などの成分や、アンモニウム塩などの成分が含まれたガス洗浄水中よりも、前記物質が除去されたガス洗浄水中において活動が活発になる。したがって、酸性調整槽４２及びアルカリ性調整槽４３と併用することにより、生物処理槽４４における処理効率が向上する。したがって、様々な種類の異物を除去することができる。 The gas cleaning water treatment device 8 includes a third PH adjusting device 112 that adjusts the gas cleaning water to neutral, a biological carrier 113 for attaching microorganisms, and a watering nozzle for sprinkling the gas cleaning water from above. 114, and the biological treatment tank 44 provided with.
With this configuration, in the biological treatment tank 44, the gas cleaning water sprayed from the water spray nozzle 114 comes into contact with the biological carrier 113, and tar components and the like are decomposed by microorganisms attached to the biological carrier 113. Therefore, the water-soluble solid component and liquid component among the foreign substances can be efficiently processed.
Microorganisms are more active in gas wash water from which the substances are removed than in gas wash water containing components such as organic acids, organic acid salts, and phenols, and components such as ammonium salts. . Therefore, the treatment efficiency in the biological treatment tank 44 is improved by using the acid adjustment tank 42 and the alkaline adjustment tank 43 together. Therefore, various kinds of foreign matters can be removed.

また、酸性調整槽４２の底部に第一邪魔板５７を設け、アルカリ性調整槽４３の底部に第二邪魔板８７を設けるものである。
このように構成することにより、酸性調整槽４２及びアルカリ性調整槽４３内におけるガス洗浄水の流れを上方へ向けることができ、対流を起こすことにより析出した異物を効率よく水面に浮上させることができる。 Further, the first baffle plate 57 is provided at the bottom of the acid adjustment tank 42, and the second baffle plate 87 is provided at the bottom of the alkaline adjustment tank 43.
By comprising in this way, the flow of the gas washing water in the acidic adjustment tank 42 and the alkaline adjustment tank 43 can be directed upward, and the foreign matter deposited by causing convection can be efficiently floated on the water surface. .

［実施形態２］
次に、本発明の別の実施形態にかかるガス洗浄水処理装置２０８について、図５を用いて説明する。
本実施形態にかかるガス洗浄水処理装置２０８は、第一除去装置２５４及び第二除去装置２８４の構成が実施形態１にかかるガス洗浄水処理装置と異なる。本実施形態に係るガス洗浄水処理装置の構成のうち、実施形態１にかかるガス洗浄水処理装置と同一の構成については、同じ番号を付して説明を省略する。 [Embodiment 2]
Next, a gas cleaning water treatment apparatus 208 according to another embodiment of the present invention will be described with reference to FIG.
The gas cleaning water treatment device 208 according to the present embodiment is different from the gas cleaning water treatment device according to the first embodiment in the configuration of the first removal device 254 and the second removal device 284. Among the configurations of the gas cleaning water treatment apparatus according to the present embodiment, the same configurations as those of the gas cleaning water treatment apparatus according to the first embodiment are denoted by the same reference numerals and description thereof is omitted.

酸性調整槽４２の上方には第一除去装置２５４が設けられている。第一除去装置２５４は、本実施形態においては、浮遊する固形物を吸い寄せて除去するスカムスキマーで構成されている。第一除去装置２５４は、漏斗状に構成された吸い寄せ口２６１と、吸い寄せ口２６１の下方に設けられた上下方向伸縮自在の吸い込み管２６２と、吸い込み管２６２と連通しており、その他端が第一異物分離槽５８と連通している送り管２６３と、から構成される。吸い寄せ口２６１は、浮力によりその上端が水面付近に位置するように構成されており、ガス洗浄水の水量の増減により上下する水面の高さにあわせて上下に移動する。吸い寄せ口２６１付近のガス洗浄水は、吸い寄せ口２６１よりも水面が高くなると吸い寄せ口２６１内に流入し、吸い込み管２６２、送り管２６３を通って、第一異物分離槽５８へと送られる。この際、表面に浮遊している固形物も一緒に第一異物分離槽５８へと送られる。吸い寄せ口２６１は水面とほぼ同じ高さにあるため、ガス洗浄水が大量に流れ込むことはない。   A first removal device 254 is provided above the acid adjustment tank 42. In the present embodiment, the first removal device 254 is configured by a scum skimmer that sucks and removes floating solid matter. The first removal device 254 communicates with a suction port 261 configured in a funnel shape, a vertically expandable / contractible suction tube 262 provided below the suction port 261, and the other end of the first removal device 254. A feed pipe 263 communicating with the one foreign substance separation tank 58. The suction port 261 is configured such that its upper end is positioned near the water surface due to buoyancy, and moves up and down in accordance with the height of the water surface that rises and falls as the amount of gas cleaning water increases and decreases. Gas cleaning water near the suction port 261 flows into the suction port 261 when the water surface becomes higher than the suction port 261, and is sent to the first foreign matter separation tank 58 through the suction pipe 262 and the feed pipe 263. At this time, the solid matter floating on the surface is also sent to the first foreign matter separation tank 58 together. Since the suction port 261 is substantially at the same height as the water surface, the gas cleaning water does not flow in a large amount.

アルカリ性調整槽４３の上方には第二除去装置２８４が設けられている。第二除去装置２８４は、本実施形態においては、浮遊する固形物を吸い寄せて除去するスカムスキマーで構成されている。第二除去装置２８４は、漏斗状に構成された吸い寄せ口２９１と、吸い寄せ口２９１の下方に設けられた上下方向伸縮自在の吸い込み管２９２と、吸い込み管２９２と連通しており、その他端が第二異物分離槽８８と連通している送り管２９３と、から構成される。吸い寄せ口２９１は、浮力によりその上端が水面付近に位置するように構成されており、ガス洗浄水の水量の増減により上下する水面の高さにあわせて上下に移動する。吸い寄せ口２９１付近のガス洗浄水は、吸い寄せ口２９１よりも水面が高くなると吸い寄せ口２９１内に流入し、吸い込み管２９２、送り管２９３を通って、第二異物分離槽８８へと送られる。この際、表面に浮遊している固形物も一緒に第二異物分離槽８８へと送られる。吸い寄せ口２９１は水面とほぼ同じ高さにあるため、ガス洗浄水が大量に流れ込むことはない。   A second removal device 284 is provided above the alkaline adjustment tank 43. In the present embodiment, the second removal device 284 is configured by a scum skimmer that sucks and removes floating solid matter. The second removal device 284 communicates with a suction port 291 configured in a funnel shape, a suction tube 292 that is vertically expandable and contractible provided below the suction port 291, and a suction tube 292, and the other end is the first. A feed pipe 293 communicating with the two foreign matter separation tank 88. The suction port 291 is configured such that its upper end is positioned near the water surface due to buoyancy, and moves up and down in accordance with the height of the water surface that rises and falls as the amount of gas cleaning water increases and decreases. The gas cleaning water near the suction port 291 flows into the suction port 291 when the water surface becomes higher than the suction port 291, and is sent to the second foreign matter separation tank 88 through the suction pipe 292 and the feed pipe 293. At this time, the solid matter floating on the surface is also sent to the second foreign matter separation tank 88 together. Since the suction port 291 is substantially at the same height as the water surface, the gas cleaning water does not flow in a large amount.

１ ガス化発電システム
８ ガス洗浄水処理装置
４１ 貯水槽
４２ 酸性調整槽
４３ アルカリ性調整槽
４４ 生物処理槽
５２ 第一ＰＨ調整装置
５３ 第一気泡注入装置
５４ 第一除去装置
５７ 第一邪魔板
８２ 第二ＰＨ調整装置
８３ 第二気泡注入装置
８４ 第二除去装置
８７ 第二邪魔板
１１２ 第三ＰＨ調整装置
１１３ 生物担体
１１４ 散水ノズル
１１７ 第三邪魔板 DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Gasification power generation system 8 Gas washing water processing apparatus 41 Water storage tank 42 Acid adjustment tank 43 Alkaline adjustment tank 44 Biological treatment tank 52 First PH adjustment apparatus 53 First bubble injection apparatus 54 First removal apparatus 57 First baffle plate 82 First Second PH adjustment device 83 Second bubble injection device 84 Second removal device 87 Second baffle plate 112 Third PH adjustment device 113 Biological carrier 114 Sprinkling nozzle 117 Third baffle plate

Claims (3)

ガス洗浄水を貯溜する貯水槽と、
ガス洗浄水を酸性に調整する装置と、微細気泡を注入する装置と、微細気泡とともに水面に浮上した固形物を除去する装置と、が設けられた酸性調整槽と、
ガス洗浄水をアルカリ性に調整する装置と、微細気泡を注入する装置と、微細気泡とともに水面に浮上した固形物を除去する装置と、が設けられたアルカリ性調整槽と、
を具備するガス洗浄水処理装置。 A water storage tank for storing gas cleaning water;
An acid adjusting tank provided with an apparatus for adjusting the gas cleaning water to an acid; an apparatus for injecting fine bubbles; and an apparatus for removing solid matter floating on the water surface together with the fine bubbles;
An alkaline adjusting tank provided with an apparatus for adjusting the gas cleaning water to be alkaline, an apparatus for injecting fine bubbles, and an apparatus for removing solid matter floating on the water surface together with the fine bubbles,
A gas cleaning water treatment apparatus comprising: 前記ガス洗浄水処理装置は、
ガス洗浄水を中性に調整する装置と、微生物を付着させるための担体と、上方からガス洗浄水を散水するための装置と、が設けられた生物処理槽
を具備する請求項１に記載のガス洗浄水処理装置。 The gas cleaning water treatment device is:
The biological treatment tank provided with the apparatus which adjusts gas washing water to neutrality, the support | carrier for making microorganisms adhere, and the apparatus for sprinkling gas washing water from the upper direction of Claim 1 Gas cleaning water treatment equipment. 前記酸性調整槽の底部に第一の邪魔板を設け、前記アルカリ性調整槽の底部に第二の邪魔板を設ける請求項１又は請求項２に記載のガス洗浄水処理装置。   The gas cleaning water treatment apparatus according to claim 1 or 2, wherein a first baffle plate is provided at a bottom portion of the acidic adjustment tank, and a second baffle plate is provided at a bottom portion of the alkaline adjustment tank.
JP2010138795A 2010-06-17 2010-06-17 Gas washing water treatment device Pending JP2012000574A (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2010138795A JP2012000574A (en) 2010-06-17 2010-06-17 Gas washing water treatment device

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2010138795A JP2012000574A (en) 2010-06-17 2010-06-17 Gas washing water treatment device

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JP2012000574A true JP2012000574A (en) 2012-01-05

Family

ID=45533202

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2010138795A Pending JP2012000574A (en) 2010-06-17 2010-06-17 Gas washing water treatment device

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP2012000574A (en)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2015092972A1 (en) * 2013-12-18 2015-06-25 川崎重工業株式会社 Scrubber water purification system

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2015092972A1 (en) * 2013-12-18 2015-06-25 川崎重工業株式会社 Scrubber water purification system
JP2015116529A (en) * 2013-12-18 2015-06-25 川崎重工業株式会社 Scrubber water purification system

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CN104307863B (en) Serious pollution soil restoring device
KR101375912B1 (en) Food waste receiving canister having a discharge apparatus of sludge
KR101113975B1 (en) alga remove ship
KR101720901B1 (en) Bubble generation device for the cistern on ground
CN204816188U (en) Stainless steel water bath dust removal desulfurizing tower
KR20090051685A (en) Farm system of marine products using micro bubbles
CN216537592U (en) Sludge drying incineration and harmless flue gas dust removal device
CN105148716A (en) Flue gas desulfurization tower for coal-fried boilers
KR101564335B1 (en) Apparatus and method for organic waste materials
JP2012000574A (en) Gas washing water treatment device
JP2012001645A (en) Gasification power generation system and gas cleaning water treatment method
CN210751418U (en) Sludge discharge system for small sedimentation tank
CN208747717U (en) A kind of waste water physicochemical pre-processing device
CN109173323B (en) Crystallization system
KR101822782B1 (en) Bubble generation device for the cistern on ground
CN101774718B (en) Lake water pollution prevention and control method and device
CN211497325U (en) Pollution-free sewage treatment system
CN209221754U (en) A kind of emission-control equipment of high-temperature forming machine
JP5872521B2 (en) Methane fermentation tank and method for removing deposits in methane fermentation tank
CN112011440B (en) Biogas fermentation tank
CN112358094A (en) Waste water treatment equipment for raising chickens
CN216837219U (en) Air supporting device for treating oily food processing wastewater
CN212999528U (en) Diesel locomotive coolant liquid preparation system
CN213569837U (en) Novel protein separator
JP2003225689A (en) Sewage purification treatment system employing microbial carrier chip