JP2011524986A5 - - Google Patents
Download PDFInfo
- Publication number
- JP2011524986A5 JP2011524986A5 JP2011514669A JP2011514669A JP2011524986A5 JP 2011524986 A5 JP2011524986 A5 JP 2011524986A5 JP 2011514669 A JP2011514669 A JP 2011514669A JP 2011514669 A JP2011514669 A JP 2011514669A JP 2011524986 A5 JP2011524986 A5 JP 2011524986A5
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- ions
- sample
- period
- detected
- image
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 claims 26
- 239000002245 particle Substances 0.000 claims 5
- 238000001514 detection method Methods 0.000 claims 3
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 claims 2
- 239000010703 silicon Substances 0.000 claims 2
- 239000007787 solid Substances 0.000 claims 2
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 claims 1
Claims (20)
- 試料から生成される電子を検出するステップと、
前記検出された電子に基づいて第1画像を生成するステップと、
前記第1画像に基づく前記試料の一領域から散乱された第1の複数のイオンの存在量を検出するステップと、
前記試料から散乱される第2の複数のイオンを、該第2の複数のイオンのエネルギーに基づいて検出するステップと、
を含む方法。 - 前記第1の複数のイオンの検出された存在量に基づいて、前記試料の第2画像を生成するステップをさらに含むことを特徴とする、請求項1に記載の方法。
- 前記第2の複数のイオンを検出する前記試料の領域は、前記第2画像に基づくことを特徴とする、請求項2に記載の方法。
- 前記第2の複数のイオンが検出される前記試料の前記領域は、前記第1画像にも基づくことを特徴とする、請求項2に記載の方法。
- 前記第2の複数のイオンは前記第1の複数のイオンの後に検出されることを特徴とする、請求項1に記載の方法。
- 前記電子は第1期間に検出され、前記第1の複数のイオンは、第1期間とは異なる第2期間に検出され、前記第2の複数のイオンは第3期間に検出され、
前記第2期間は前記第1期間よりも長く、前記第3期間は前記第2期間よりも長いことを特徴とする、請求項1に記載の方法。 - 前記試料から散乱する前記第2の複数のイオンは、前記第2の複数のイオンの角度に基づいて検出されることを特徴とする、請求項1に記載の方法。
- 試料を収容するように構成されたハウジングと、
前記ハウジング内の荷電粒子源と、
前記試料にて生成された電子を検出するように構成された、前記ハウジング内のエバーハート−ソーンリー検出器と、
前記試料から散乱されたイオンの存在量を検出するように構成された、前記ハウジング内のマイクロチャンネルプレート検出器と、
前記イオンのエネルギーに基づいて前記試料から散乱されたイオンを検出するように構成された、前記ハウジング内のソリッドステート検出器と、
を備えるシステム。 - 電子源をさらに備えることを特徴とする、請求項8に記載のシステム。
- 前記ソリッドステート検出器は、
導電性層と、
不活性領域と、
検出領域と、
を有し、
前記不活性領域は、前記導電性層と前記検出領域との間に存在し、
前記導電性層の厚さは最大25nmであるか、又は、
前記導電性層はメッシュ又はグリッドとして構成される
ことを特徴とする、請求項8に記載のシステム。 - 前記導電性層の厚さは、少なくとも1nmであることを特徴とする、請求項10に記載のシステム。
- 前記不活性領域はドープされた半導体を含むことを特徴とする、請求項10に記載のシステム。
- 前記不活性領域はドープされたシリコンを含み、前記検出領域はシリコンを含むことを特徴とする、請求項10に記載のシステム。
- 前記不活性領域の厚さは最大25nmであることを特徴とする、請求項10に記載のシステム。
- 荷電粒子および試料を相互作用させて電子を生成させるステップと、
第1期間に、前記電子を検出するステップと、
前記検出された電子に基づいて第1画像を生成するステップと、
前記電子を検出した後に、第2期間に、前記試料から散乱される第1の複数のイオンの存在量を検出するステップと、
前記散乱された第1の複数のイオンに基づいて第2画像を生成するステップと、
前記散乱された第1の複数のイオンを検出した後に、第3期間に、前記試料から散乱された第2の複数のイオンを、該第2の複数のイオンのエネルギーに基づいて検出するステップと、を含み、
前記第2期間は前記第1期間よりも長く、前記第3期間は前記第2期間よりも長いことを特徴とする、方法。 - 前記荷電粒子はイオンを含むことを特徴とする、請求項15に記載の方法。
- 前記荷電粒子はガス電界電離イオン源によって生成されたイオンを含むことを特徴とする、請求項15に記載の方法。
- 前記荷電粒子は電子を含むことを特徴とする、請求項15に記載の方法。
- 前記第1の複数のイオンが検出される前記試料の一領域は、前記第1画像に基づき、前記第2の複数のイオンが検出される前記試料の一領域は、前記第2画像に基づくことを特徴とする、請求項15に記載の方法。
- 前記第2の複数のイオンが検出される前記試料の前記領域は、前記第1画像にも基づくことを特徴とする、請求項19に記載の方法。
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US7438708P | 2008-06-20 | 2008-06-20 | |
US61/074,387 | 2008-06-20 | ||
PCT/US2009/045131 WO2009154953A2 (en) | 2008-06-20 | 2009-05-26 | Sample inspection methods, systems and components |
Publications (3)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2011524986A JP2011524986A (ja) | 2011-09-08 |
JP2011524986A5 true JP2011524986A5 (ja) | 2012-07-12 |
JP5586593B2 JP5586593B2 (ja) | 2014-09-10 |
Family
ID=41066714
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2011514669A Expired - Fee Related JP5586593B2 (ja) | 2008-06-20 | 2009-05-26 | 試料検査方法、システム及び構成要素 |
Country Status (4)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US8669525B2 (ja) |
EP (1) | EP2288904A2 (ja) |
JP (1) | JP5586593B2 (ja) |
WO (1) | WO2009154953A2 (ja) |
Families Citing this family (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE112011102731T5 (de) * | 2010-08-18 | 2013-08-22 | Hitachi High-Technologies Corporation | Elektronenstrahlvorrichtung |
WO2015118605A1 (ja) * | 2014-02-04 | 2015-08-13 | 富士通株式会社 | 材料評価装置及び方法 |
Family Cites Families (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP3066944B2 (ja) * | 1993-12-27 | 2000-07-17 | キヤノン株式会社 | 光電変換装置、その駆動方法及びそれを有するシステム |
JPH09298226A (ja) | 1996-05-07 | 1997-11-18 | Mitsubishi Electric Corp | 半導体用検査装置 |
US6940084B2 (en) * | 2001-07-04 | 2005-09-06 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Solid state radiation detector |
JP4004842B2 (ja) * | 2001-08-14 | 2007-11-07 | 富士フイルム株式会社 | 放射線固体検出器 |
US7511279B2 (en) * | 2003-10-16 | 2009-03-31 | Alis Corporation | Ion sources, systems and methods |
US7601953B2 (en) * | 2006-03-20 | 2009-10-13 | Alis Corporation | Systems and methods for a gas field ion microscope |
WO2007067296A2 (en) * | 2005-12-02 | 2007-06-14 | Alis Corporation | Ion sources, systems and methods |
US8304750B2 (en) * | 2007-12-17 | 2012-11-06 | Carl Zeiss Nts Gmbh | Scanning charged particle beams |
-
2009
- 2009-05-26 US US12/997,686 patent/US8669525B2/en active Active
- 2009-05-26 EP EP09767265A patent/EP2288904A2/en not_active Withdrawn
- 2009-05-26 WO PCT/US2009/045131 patent/WO2009154953A2/en active Application Filing
- 2009-05-26 JP JP2011514669A patent/JP5586593B2/ja not_active Expired - Fee Related
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
WO2009144727A3 (en) | Charged particle detection system and method | |
WO2011048061A3 (en) | Detection apparatus for detecting charged particles, methods for detecting charged particles and mass spectrometer | |
EP2518756A3 (en) | In-column detector for particle-optical column | |
WO2011048060A3 (en) | Detection apparatus for detecting charged particles, methods for detecting charged particles and mass spectrometer | |
JP2011507202A5 (ja) | ||
EP2346095A3 (en) | Method of manufacturing a radiation detector | |
JP5082096B2 (ja) | ピクセル型電極構造のガス放射線検出器 | |
EP2814050A3 (en) | Electron beam-induced etching | |
JP2008153085A5 (ja) | ||
WO2012047627A3 (en) | System and method of extending the linear dynamic range of event counting | |
JP2011513709A5 (ja) | ||
Takahashi et al. | Absolute detection efficiencies for keV energy atoms incident on a microchannel plate detector | |
JP2009245939A5 (ja) | ||
JP2011524986A5 (ja) | ||
Abraham et al. | Fabrication and characterization of a co-planar detector in diamond for low energy single ion implantation | |
WO2012168057A3 (de) | Strahlungsdetektor und bildgebendes system | |
EP2492712A3 (en) | Particle radiation monitoring apparatus, recording medium to retain particle radiation monitoring program, and particle radiation monitoring method | |
WO2009154953A4 (en) | Sample inspection methods, systems and components | |
US20090309021A1 (en) | Ion detection method and apparatus with scanning electron beam | |
Lupberger et al. | InGrid: Pixelated Micromegas detectors for a pixel-TPC | |
Joseph et al. | Measurement of L X-Ray production cross-sections of Au, Ho, Bi and KX-Ray cross sections of Nb, Sn, Sb by using protons of energy 4 Mev | |
Popa et al. | NEW TRENDS IN DETECTION OF BACK-CORONA DISCHARGES IN PLATE-TYPE ELECTROSTATIC PRECIPITATORTS | |
JP2011525237A5 (ja) | ||
EP2824690A3 (en) | Method of operating a particle beam microscope and a particle beam microscope | |
JP2009206057A (ja) | ガス電子増幅器及びこれを使用した放射線検出器 |