JP2011255618A - Method for manufacturing molding die of microlens sheet, molding die of microlens sheet and microlens sheet - Google Patents

Method for manufacturing molding die of microlens sheet, molding die of microlens sheet and microlens sheet Download PDF

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Motoyuki Uehara
基志 上原
Yoichi Ogawa
容一 小川
Nobuyasu Ishihara
信康 石原
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a method for manufacturing a molding die which is used for manufacturing a microlens sheet having a lens of an unsymmetrical shape.SOLUTION: A resist is applied onto a matrix 51 to form a mask 65 (a step S2). A shape setting process for setting a shape of an opening 66 formed in the mask 65 is carried out (a step S3). The mask 65 is irradiated with laser beams based on the set shape to form two or more openings 66 in the mask 65 (a step S4 and a step S5). The opening 66 set in the step S3 has a first region 66R and a second region 66L which are partitioned by a virtual partitioning line 66y. The virtual partitioning line 66y perpendicularly crosses a virtual bisector 66x which partitions the opening 66 in line symmetry. An area of the first region 66R is smaller than the area of the second region 66L. Since etching speed in the first region 66R becomes smaller than etching speed in the second region 66L, a recessed part 62 of left-right asymmetry is formed in a copper plated layer 64.

Description

本発明は、マイクロレンズシートの製造に用いられる成形型の製造方法に関する。更に詳しくは、本発明は、マイクロレンズシートをエンボス加工により製造するために用いる成形型の製造方法に関する。   The present invention relates to a method for manufacturing a mold used for manufacturing a microlens sheet. More specifically, the present invention relates to a method for manufacturing a mold used for manufacturing a microlens sheet by embossing.

液晶ディスプレイに代表される表示装置は、高い正面輝度を求められる。そのため、表示装置を構成するバックライト装置には、正面輝度を向上するためのマイクロレンズシートが敷設される。   A display device represented by a liquid crystal display is required to have high front luminance. Therefore, a microlens sheet for improving the front luminance is laid on the backlight device constituting the display device.

マイクロレンズシートの一方の表面(以下、主面という)には、半球状の形状をした複数の凸レンズ(マイクロレンズ)がマトリクス状に配列される。マイクロレンズシートの他方の表面には、光源からの拡散光が入射される。マイクロレンズは、他方の表面から入射した拡散光を、主面に対して垂直な方向に集光して出射する。   A plurality of hemispherical convex lenses (microlenses) are arranged in a matrix on one surface (hereinafter referred to as a main surface) of the microlens sheet. Diffused light from the light source is incident on the other surface of the microlens sheet. The microlens collects and emits diffused light incident from the other surface in a direction perpendicular to the main surface.

マイクロレンズシートの製造方法が、下記の特許文献1,2に開示されている。特許文献1,2に開示されているマイクロレンズシートの製造方法は、ロール状の金型を用いたエンボス加工により、マイクロレンズシートを製造する。しかし、下記特許文献1,2には、非対称な形状を有するマイクロレンズを有する光学シートの製造に用いる金型の製造方法が開示されていない。   The manufacturing method of a microlens sheet is disclosed in the following Patent Documents 1 and 2. The microlens sheet manufacturing method disclosed in Patent Documents 1 and 2 manufactures a microlens sheet by embossing using a roll-shaped mold. However, Patent Documents 1 and 2 below do not disclose a method of manufacturing a mold used for manufacturing an optical sheet having a microlens having an asymmetric shape.

特開2008−58494号公報JP 2008-58494 A 特開2010−44229号公報JP 2010-44229 A

本発明の目的は、非対称の形状を有するレンズが配置されたマイクロレンズシートの製造に用いられる成形型を製造する方法を提供することである。   An object of the present invention is to provide a method of manufacturing a mold used for manufacturing a microlens sheet in which lenses having an asymmetric shape are arranged.

課題を解決するための手段及び発明の効果Means for Solving the Problems and Effects of the Invention

本発明によるマイクロレンズシートの成形型の製造方法は、塗布工程と、開口形成工程と、エッチング工程と、形状設定工程とを備える。塗布工程は、成形型の母材の表面にレジストを塗布して、レジスト層からなるマスクを形成する。開口形成工程は、マスクにレーザを照射して、複数の開口をマスクに形成する。エッチング工程は、複数の開口を有するマスクが形成された母材に対してウェットエッチングを行い、複数の開口に対応した複数の凹部を母材表面に形成する。形状設定工程は、複数の開口を前記マスクに形成する前に、複数の開口の形状を設定する。形状設定工程により設定される開口は、第1及び第2領域を含む。第1及び第2領域は、開口を線対称に分割する仮想二等分線の中心を通り、仮想二等分線と直交する仮想分割線により分けられる。第1領域の面積は、第2領域の面積よりも小さい。   The method for manufacturing a mold for forming a microlens sheet according to the present invention includes an application process, an opening forming process, an etching process, and a shape setting process. In the applying step, a resist is applied to the surface of the mold base material to form a mask made of a resist layer. In the opening forming step, the mask is irradiated with laser to form a plurality of openings in the mask. In the etching step, wet etching is performed on a base material on which a mask having a plurality of openings is formed, and a plurality of recesses corresponding to the plurality of openings are formed on the surface of the base material. In the shape setting step, the shape of the plurality of openings is set before forming the plurality of openings in the mask. The opening set by the shape setting step includes first and second regions. The first and second regions are separated by a virtual dividing line that passes through the center of a virtual bisector that divides the opening in line symmetry and is orthogonal to the virtual bisector. The area of the first region is smaller than the area of the second region.

第1領域の面積が第2領域の面積よりも小さいため、第1領域に対応する母材表面のエッチング速度は、第2領域に対応する母材表面のエッチング速度よりも小さくなる。これにより、成形型に形成される凹部の形状を非対称とすることができるため、非対称な形状を有するマイクロレンズが配置された光学シートを製造することが可能となる。   Since the area of the first region is smaller than the area of the second region, the etching rate of the base material surface corresponding to the first region is smaller than the etching rate of the base material surface corresponding to the second region. Thereby, since the shape of the recessed part formed in a shaping | molding die can be made asymmetrical, it becomes possible to manufacture the optical sheet by which the micro lens which has an asymmetrical shape is arrange | positioned.

好ましくは、開口形成工程では、複数の開口のそれぞれに対応する仮想二等分線が互いに並行する。   Preferably, in the opening forming step, virtual bisectors corresponding to the plurality of openings are parallel to each other.

この場合、各開口における第2領域から見た第1領域の方向が、仮想二等分線の方向に揃えられる。マイクロレンズの向きを制御することができるため、マイクロレンズシートの光学特性を制御することができる。   In this case, the direction of the first region viewed from the second region in each opening is aligned with the direction of the virtual bisector. Since the orientation of the microlens can be controlled, the optical characteristics of the microlens sheet can be controlled.

好ましくは、仮想二等分線の指す方向の一方を第1方向とした場合、第1領域は、前記仮想分割線から見て第1方向側に配置される。   Preferably, when one of the directions indicated by the virtual bisector is defined as the first direction, the first region is arranged on the first direction side as viewed from the virtual dividing line.

この場合、各開口における第2領域から見た第1領域の方向を第1方向に揃えられるため、マイクロレンズシートの光学特性を制御することができる。   In this case, since the direction of the first region viewed from the second region in each opening can be aligned with the first direction, the optical characteristics of the microlens sheet can be controlled.

好ましくは、開口は、三角形状である。好ましくは、開口形成工程では、第1領域内に前記マスクの一部が残存するように、前記開口を設定する。本発明によるマイクロレンズシートの成形型は、上述の製造方法によって製造される。   Preferably, the opening has a triangular shape. Preferably, in the opening forming step, the opening is set so that a part of the mask remains in the first region. The mold for forming a microlens sheet according to the present invention is manufactured by the above-described manufacturing method.

本発明によるマイクロレンズシートは、基材部と、複数の光学素子とを備える。基材部は、主面と、主面と反対側の裏面とを有する。複数の光学素子は、主面側に形成される。複数の光学素子は、主面からの高さが最大となる頂点を通り、かつ、主面に垂直な仮想面に対して左右非対称な形状をそれぞれ有する。   The microlens sheet according to the present invention includes a base material portion and a plurality of optical elements. The base material portion has a main surface and a back surface opposite to the main surface. The plurality of optical elements are formed on the main surface side. Each of the plurality of optical elements has an asymmetric shape with respect to an imaginary plane that passes through a vertex having the maximum height from the main surface and is perpendicular to the main surface.

本発明による第1の実施の形態に係る光学シートの平面図である。It is a top view of the optical sheet which concerns on 1st Embodiment by this invention. 図1に示す光学シートのK−K断面図である。It is KK sectional drawing of the optical sheet shown in FIG. 図1に示すレンズの拡大図である。It is an enlarged view of the lens shown in FIG. 図3に示すレンズの側面図である。FIG. 4 is a side view of the lens shown in FIG. 3. 光学シートを利用したバックライト装置の構成を示す模式図である。It is a schematic diagram which shows the structure of the backlight apparatus using an optical sheet. バックライト装置の輝度特性を示すグラフである。It is a graph which shows the luminance characteristic of a backlight apparatus. 光学シートの製造に用いられる金型ロールの斜視図である。It is a perspective view of the metal mold | die roll used for manufacture of an optical sheet. 金型ロールのロール表面の展開図である。It is an expanded view of the roll surface of a mold roll. 図8に示すロール表面のM−M断面図である。It is MM sectional drawing of the roll surface shown in FIG. 図8に示すロール表面の拡大図である。It is an enlarged view of the roll surface shown in FIG. 成形型の製造手順を示すフローチャートである。It is a flowchart which shows the manufacturing procedure of a shaping | molding die. 成形型の母材の断面図である。It is sectional drawing of the preform | base_material of a shaping | molding die. マスクに形成される開口を示す図である。It is a figure which shows the opening formed in a mask. 図13に示す開口の拡大図である。It is an enlarged view of the opening shown in FIG. 光学シートの製造装置の構成を示す模式図である。It is a schematic diagram which shows the structure of the manufacturing apparatus of an optical sheet. 本発明による第2の実施の形態において、マスクに形成される開口を示す図である。It is a figure which shows the opening formed in a mask in 2nd Embodiment by this invention. 図16に示す開口の拡大図である。It is an enlarged view of the opening shown in FIG.

以下、図面を参照し、本発明の実施の形態を詳しく説明する。図中同一又は相当部分には同一符号を付してその説明は繰り返さない。   Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the drawings. In the drawings, the same or corresponding parts are denoted by the same reference numerals and description thereof will not be repeated.

{第1の実施の形態}
[光学シート1の構造]
図1は、本発明の第1の実施の形態に係る光学シート1の平面図である。図2は、図1に示すK−K断面図である。図1及び図2を参照して、光学シート1は、基材部11と、複数のレンズ12とを備えたマイクロレンズシートである。図1及び図2において、一部のレンズ12に対する符号の表示を省略している。
{First embodiment}
[Structure of optical sheet 1]
FIG. 1 is a plan view of an optical sheet 1 according to the first embodiment of the present invention. 2 is a cross-sectional view taken along the line KK shown in FIG. With reference to FIGS. 1 and 2, the optical sheet 1 is a microlens sheet including a base material portion 11 and a plurality of lenses 12. In FIG. 1 and FIG. 2, the display of reference numerals for some lenses 12 is omitted.

以下、図1に示す矢印Xが指す方向を横方向と呼び、矢印Yが指す方向を縦方向と呼ぶ。図2に示す矢印Zが指す方向を上方向と呼ぶ。   Hereinafter, the direction indicated by the arrow X shown in FIG. 1 is referred to as a horizontal direction, and the direction indicated by the arrow Y is referred to as a vertical direction. The direction indicated by the arrow Z shown in FIG.

基材部11は、シート状またはフィルム状であり、可視光に対して透明である。基材部11は、主面13と、裏面14とを有する。主面13には、複数のレンズ12が形成される。裏面14は、主面13と反対側に配置される。基材部11は、樹脂からなる。樹脂は、たとえば、ポリエチレンテレフタレートや、ポリブチレンテレフタレート、ポリカーボネート、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリスチレン、トリアセチルセルロース、アクリル、ポリ塩化ビニルなどである。   The base material part 11 is a sheet form or a film form, and is transparent with respect to visible light. The base material part 11 has a main surface 13 and a back surface 14. A plurality of lenses 12 are formed on the main surface 13. The back surface 14 is disposed on the side opposite to the main surface 13. The base material part 11 consists of resin. Examples of the resin include polyethylene terephthalate, polybutylene terephthalate, polycarbonate, polyethylene, polypropylene, polystyrene, triacetyl cellulose, acrylic, polyvinyl chloride, and the like.

レンズ12は、主面13上のランダムな位置に形成される。レンズ12は、非対称の形状を有する。本実施の形態では、レンズ12は、たまごを半分に割った形状(以下、半たまご形という)である。レンズ12は、たとえば、活性エネルギ線硬化樹脂からなる。活性エネルギ線硬化樹脂は、紫外線や電子線、可視光に代表される活性エネルギ線で硬化する。活性エネルギ線硬化樹脂は、たとえば、ポリエステル系アクリレート樹脂、ウレタン系アクリレート樹脂、ポリエーテル系アクリレート樹脂、エポキシ系アクリレート樹脂、ポリエステル系メタクリレート樹脂、ウレタン系メタクリレート樹脂、ポリエーテル系メタクリレート樹脂である。   The lens 12 is formed at a random position on the main surface 13. The lens 12 has an asymmetric shape. In the present embodiment, the lens 12 has a shape in which an egg is divided in half (hereinafter referred to as a half egg shape). The lens 12 is made of, for example, active energy ray curable resin. The active energy ray-curable resin is cured with active energy rays typified by ultraviolet rays, electron beams, and visible light. The active energy ray curable resin is, for example, a polyester acrylate resin, a urethane acrylate resin, a polyether acrylate resin, an epoxy acrylate resin, a polyester methacrylate resin, a urethane methacrylate resin, or a polyether methacrylate resin.

図3は、図1に示す領域AR1の拡大図である。図4は、図3に示すレンズ12の側面図である。図3及び図4を参照して、レンズ12において、主面13からの高さが最大となる点を頂点12aとする。ここで、レンズ12の横軸12x、縦軸12y、及び高さ軸12zを定義する。高さ軸12zは、頂点12aを通り、主面13に対して垂直な直線である。横軸12xは、矢印Xに平行な主面13上の直線であり、高さ軸12zと交差する。レンズ12の平面視において、横軸12xは、レンズ12を線対称に分割する仮想二等分線である。縦軸12yは、矢印Yに平行な主面13上の直線であり、高さ軸12zと交差する。   FIG. 3 is an enlarged view of the area AR1 shown in FIG. FIG. 4 is a side view of the lens 12 shown in FIG. With reference to FIGS. 3 and 4, in the lens 12, a point having the maximum height from the main surface 13 is defined as a vertex 12a. Here, a horizontal axis 12x, a vertical axis 12y, and a height axis 12z of the lens 12 are defined. The height axis 12z is a straight line that passes through the vertex 12a and is perpendicular to the main surface 13. The horizontal axis 12x is a straight line on the main surface 13 parallel to the arrow X and intersects the height axis 12z. In the plan view of the lens 12, the horizontal axis 12 x is a virtual bisector that divides the lens 12 in line symmetry. The vertical axis 12y is a straight line on the main surface 13 parallel to the arrow Y, and intersects the height axis 12z.

レンズ12は、平面視でたまご形の形状である。レンズ12は、横軸12x及び高さ軸12zを含む仮想面に対して左右対称である。レンズ12は、縦軸12y及び高さ軸12zを含む仮想面に対して左右非対称の形状である。つまり、レンズ12は、平面視で、縦軸12yに対して左右非対称な形状を有する。 レンズ12が基材部11に接する縁部のうち、横軸12xと交わる部位を端部12b,12cとする。端部12bは、頂点12aよりも紙面右側(矢印Xの方向)に位置する。端部12cは、頂点12aよりも紙面左側(矢印Xの反対方向)に位置する。端部12cから端部12bを見た方向を、レンズ12の順方向とする。図1を参照して、レンズ12の順方向は、矢印Xの指す方向と一致する方が好ましい。   The lens 12 has an egg shape in plan view. The lens 12 is symmetrical with respect to a virtual plane including the horizontal axis 12x and the height axis 12z. The lens 12 has an asymmetric shape with respect to a virtual plane including the vertical axis 12y and the height axis 12z. That is, the lens 12 has an asymmetric shape with respect to the vertical axis 12y in plan view. Of the edge portion where the lens 12 is in contact with the base material portion 11, the portions that intersect the horizontal axis 12x are referred to as end portions 12b and 12c. The end 12b is located on the right side (the direction of the arrow X) of the paper with respect to the vertex 12a. The end 12c is located on the left side of the paper surface (the direction opposite to the arrow X) from the vertex 12a. A direction in which the end portion 12 b is viewed from the end portion 12 c is a forward direction of the lens 12. Referring to FIG. 1, it is preferable that the forward direction of lens 12 coincides with the direction indicated by arrow X.

図3及び図4を参照して、レンズ12の表面は、縦軸12yを含む仮想面により、表面12Lと表面12Rとに分割される。表面12Lは、端部12c側に配置される。表面12Rは、端部12b側に配置される。表面12Rは、表面12Lよりより緩やかな曲面を有する。そして、表面12Rの表面積は、表面12Lの表面積よりも大きい。したがって、光学シート1の裏面14から入射した光のうち、表面12Rで屈折する光の量は、表面12Lで屈折する光の量よりも多い。   3 and 4, the surface of the lens 12 is divided into a surface 12L and a surface 12R by a virtual surface including the vertical axis 12y. The surface 12L is disposed on the end 12c side. The surface 12R is disposed on the end 12b side. The surface 12R has a gentler curved surface than the surface 12L. And the surface area of the surface 12R is larger than the surface area of the surface 12L. Therefore, the amount of light refracted on the front surface 12R out of the light incident from the back surface 14 of the optical sheet 1 is larger than the amount of light refracted on the front surface 12L.

[光学シート1の光学特性]
図5は、光学シート1を利用したバックライト装置100の構成を示す模式図である。バックライト装置100は、エッジライト型の照明装置である。バックライト装置100は、光源101と、導光板102と、反射シート103と、プリズムシート2と、光学シート1とを備える。矢印Z方向を、バックライト装置100の正面方向とする。
[Optical characteristics of optical sheet 1]
FIG. 5 is a schematic diagram illustrating a configuration of a backlight device 100 using the optical sheet 1. The backlight device 100 is an edge light type lighting device. The backlight device 100 includes a light source 101, a light guide plate 102, a reflection sheet 103, a prism sheet 2, and an optical sheet 1. The arrow Z direction is the front direction of the backlight device 100.

プリズムシート2の構成を簡単に説明する。プリズムシート2は、基材部21と、複数の光学素子22とを有する。基材部21は、透明なフィルム状又はシート状である。基材部21の上に、紙面手前側から奥方向(Y方向)に延びる複数の光学素子22が形成されている。XZ平面における光学素子22の横断形状は、Z軸方向に関して非対称である。光学素子22は、尾根部30,40を有する。尾根部30は、プリズムシート2の紙面左側の端部2a側に配置される。尾根部40は、プリズムシート2の紙面右側の端部2b側に配置され、尾根部30よりも低い。   The configuration of the prism sheet 2 will be briefly described. The prism sheet 2 includes a base material portion 21 and a plurality of optical elements 22. The base material portion 21 is a transparent film or sheet. A plurality of optical elements 22 extending in the back direction (Y direction) from the front side of the paper surface are formed on the base material portion 21. The transverse shape of the optical element 22 in the XZ plane is asymmetric with respect to the Z-axis direction. The optical element 22 has ridge portions 30 and 40. The ridge portion 30 is disposed on the end 2 a side on the left side of the sheet of the prism sheet 2. The ridge portion 40 is disposed on the right end portion 2 b side of the prism sheet 2 and is lower than the ridge portion 30.

尾根部30は、一対の傾斜面31,32を含む。尾根部40は、一対の傾斜面41,42を含む。傾斜面31は、端部2a側に配置され、基材部21まで延びる。傾斜面32は、端部2b側に配置される。傾斜面41は、端部2a側に配置される。傾斜面32の下端と傾斜面41の下端とは、つながっている。傾斜面42は、端部2b側に配置され、基材部21まで延びる。   The ridge portion 30 includes a pair of inclined surfaces 31 and 32. The ridge portion 40 includes a pair of inclined surfaces 41 and 42. The inclined surface 31 is disposed on the end 2 a side and extends to the base material portion 21. The inclined surface 32 is disposed on the end 2b side. The inclined surface 41 is disposed on the end 2a side. The lower end of the inclined surface 32 and the lower end of the inclined surface 41 are connected. The inclined surface 42 is disposed on the end portion 2 b side and extends to the base material portion 21.

光学シート1は、レンズ12の表面12Lが表面12Rよりも光源101に近くなるように、プリズムシート2上に配置される。   The optical sheet 1 is disposed on the prism sheet 2 so that the surface 12L of the lens 12 is closer to the light source 101 than the surface 12R.

バックライト装置100における光の経路について説明する。導光板102は、光源101から出射した光を、プリズムシート2に導く。光源101から出射した光は、導光板102の端面から入射する。端面からの入射光は、導光板102の内部を進行して出射面102aから出射光54として出射する。出射光54は、プリズムシート2の下面に入射する。プリズムシート2は、下面から入射した出射光54を、光学素子22の表面(傾斜面32,41,42)でZ方向に屈折することにより、出射光52として出射する。光学シート1は、裏面14から入射した出射光52を矢印Z方向に屈折させることにより、出射光53として矢印Z方向に出射する。   A light path in the backlight device 100 will be described. The light guide plate 102 guides the light emitted from the light source 101 to the prism sheet 2. The light emitted from the light source 101 enters from the end face of the light guide plate 102. Incident light from the end face travels through the light guide plate 102 and exits from the exit face 102a as outgoing light 54. The outgoing light 54 enters the lower surface of the prism sheet 2. The prism sheet 2 emits outgoing light 54 incident from the lower surface as outgoing light 52 by refracting it in the Z direction on the surface of the optical element 22 (inclined surfaces 32, 41, 42). The optical sheet 1 radiates the outgoing light 52 incident from the back surface 14 in the arrow Z direction by refracting the outgoing light 52 in the arrow Z direction.

出射光54の輝度のピーク方向は、Z軸方向から紙面右側(光源101と反対側)に角度A54傾斜する。同様に、出射光52の輝度のピーク方向は、Z軸方向から紙面右側(光源101と反対側)に角度A52傾斜する。出射光53の輝度のピーク方向は、Z軸方向から紙面右側に角度A53傾斜する。出射光54〜53のそれぞれの輝度のピーク方向は、光学シート1側に進むに従って、矢印Zの指す方向に近づく。すなわち、角度A52〜A54の関係は、角度A53<角度A52<角度A54となる。   The luminance peak direction of the emitted light 54 is inclined at an angle A54 from the Z-axis direction to the right side of the drawing (the side opposite to the light source 101). Similarly, the luminance peak direction of the emitted light 52 is inclined by an angle A52 from the Z-axis direction to the right side of the drawing (the side opposite to the light source 101). The luminance peak direction of the emitted light 53 is inclined at an angle A53 from the Z-axis direction to the right side of the drawing. The peak direction of each of the emitted lights 54 to 53 approaches the direction indicated by the arrow Z as it proceeds to the optical sheet 1 side. That is, the relationship between the angles A52 to A54 is angle A53 <angle A52 <angle A54.

図6は、図5に示す構成を有するバックライト装置100の輝度特性を示すグラフである。図6を参照して、実線は、出射光53の輝度分布を示し、バックライト装置100の輝度特性に対応する。破線は、光学シート1に代えて、従来のマイクロレンズシートを用いたバックライト装置の輝度特性である。光学シート1を用いたバックライト装置100の輝度特性のピーク(出射光53の輝度ピーク)が、従来のバックライト装置の輝度特性のピークよりも正面方向(視野角0°)に近い。   FIG. 6 is a graph showing the luminance characteristics of the backlight device 100 having the configuration shown in FIG. Referring to FIG. 6, the solid line indicates the luminance distribution of outgoing light 53 and corresponds to the luminance characteristics of backlight device 100. A broken line is a luminance characteristic of a backlight device using a conventional microlens sheet instead of the optical sheet 1. The luminance characteristic peak of the backlight device 100 using the optical sheet 1 (the luminance peak of the emitted light 53) is closer to the front direction (viewing angle 0 °) than the luminance characteristic peak of the conventional backlight device.

上述のとおり、光学シート1は、レンズ12の表面12Lが表面12Rよりも光源101に近くなるように配置される。そのため、光学シート1は、角度A52だけ傾いた入射した光52を受け、出射光53をZ方向に近づけることができる。   As described above, the optical sheet 1 is disposed such that the surface 12L of the lens 12 is closer to the light source 101 than the surface 12R. Therefore, the optical sheet 1 can receive the incident light 52 inclined by the angle A52 and can make the outgoing light 53 close to the Z direction.

また、光学シート1の複数のレンズ12はランダムに配置される。そのため、視野角をある程度広く維持できる。さらに、モアレの発生が抑制される。   Further, the plurality of lenses 12 of the optical sheet 1 are randomly arranged. For this reason, the viewing angle can be kept wide to some extent. Furthermore, the generation of moire is suppressed.

以上のとおり、本実施の形態の光学シート1をバックライト装置100などの照明装置に用いることにより、上述のとおり輝度特性が改善される。   As described above, by using the optical sheet 1 of the present embodiment for an illumination device such as the backlight device 100, the luminance characteristics are improved as described above.

[光学シート1の成形型の構造]
光学シート1は、成形型を用いたエンボス加工により製造される。以下、光学シート1の製造に用いる成形型の構成を説明する。
[Structure of mold for optical sheet 1]
The optical sheet 1 is manufactured by embossing using a mold. Hereinafter, the structure of the shaping | molding die used for manufacture of the optical sheet 1 is demonstrated.

図7は、光学シート1の製造に用いられる成形型50の斜視図である。図7を参照して、成形型50は、ロール状の金型である。成形型50は、ロール胴部60と、ロール軸部70とを備える。ロール胴部60は、円柱状である。ロール軸部70は、ロール胴部60と同軸に配置される。ロール胴部60は、ロール表面61を有する。矢印Cは、ロール胴部60の円周方向を示す。矢印Aは、ロール胴部60の軸方向を示す。矢印Rは、ロール胴部60の半径方向を示す。   FIG. 7 is a perspective view of a mold 50 used for manufacturing the optical sheet 1. With reference to FIG. 7, the mold 50 is a roll-shaped mold. The mold 50 includes a roll body 60 and a roll shaft 70. The roll body 60 is cylindrical. The roll shaft part 70 is arranged coaxially with the roll body part 60. The roll body 60 has a roll surface 61. An arrow C indicates the circumferential direction of the roll body 60. An arrow A indicates the axial direction of the roll body 60. An arrow R indicates the radial direction of the roll body 60.

図8は、ロール表面61の展開図であり、ロール表面61を矢印R方向から見た図に相当する。矢印C,Aは、それぞれ矢印X,Y(図1参照)にそれぞれ対応する。ロール表面61には、レンズ12の形状に対応した複数の凹部62がランダムな位置に形成される。2〜3個の凹部62が、つながるようにして形成されている。これは、図1に示すように、光学シート1において、2個以上のレンズ12がつながって形成されることがあるためである。   FIG. 8 is a development view of the roll surface 61 and corresponds to a view of the roll surface 61 as viewed from the direction of the arrow R. Arrows C and A correspond to arrows X and Y (see FIG. 1), respectively. A plurality of recesses 62 corresponding to the shape of the lens 12 are formed on the roll surface 61 at random positions. Two to three recesses 62 are formed so as to be connected. This is because, as shown in FIG. 1, in the optical sheet 1, two or more lenses 12 may be connected to each other.

図9は、図8に示すロール表面61のM−M断面図である。図10は、図8に示す領域AR2の拡大図である。図9を参照して、ロール胴部60の表面には、銅めっき層64が形成されている。ロール表面61は、銅めっき層64の露出面に相当する。凹部62は、銅めっき層64に形成される。   FIG. 9 is a cross-sectional view of the roll surface 61 shown in FIG. FIG. 10 is an enlarged view of the area AR2 shown in FIG. Referring to FIG. 9, a copper plating layer 64 is formed on the surface of roll body 60. The roll surface 61 corresponds to the exposed surface of the copper plating layer 64. The recess 62 is formed in the copper plating layer 64.

図9及び図10を参照して、凹部62は、レンズ12の形状に対応した窪みである。凹部62において最も深い点を最深点62aとする。凹部62において、横軸62x及び縦軸62yを定義する。横軸62xは、ロール表面61上に配置される矢印Cに並行な直線であり、最深点62aの真上を通過する。   With reference to FIGS. 9 and 10, the recess 62 is a recess corresponding to the shape of the lens 12. The deepest point in the recess 62 is defined as the deepest point 62a. In the recess 62, a horizontal axis 62x and a vertical axis 62y are defined. The horizontal axis 62x is a straight line parallel to the arrow C arranged on the roll surface 61, and passes right above the deepest point 62a.

縦軸62yは、ロール表面61上に配置される矢印Aに並行な直線であり、最深点62aの真上を通過する。横軸62x及び縦軸62yは、レンズ12の横軸12x及び縦軸12yにそれぞれ対応する。凹部62は、縦軸62yを含み、かつロール表面61に垂直な仮想面に対して非対称な形状である。   The vertical axis 62y is a straight line parallel to the arrow A arranged on the roll surface 61, and passes directly above the deepest point 62a. The horizontal axis 62x and the vertical axis 62y correspond to the horizontal axis 12x and the vertical axis 12y of the lens 12, respectively. The recess 62 has an asymmetrical shape with respect to a virtual plane that includes the longitudinal axis 62 y and is perpendicular to the roll surface 61.

ロール表面61と凹部62との境界に相当する輪郭のうち、横軸62xとの交点を端部62b,62cとする。端部62bは、レンズ12の端部12bに対応し、最深点62aより紙面右側に位置する。端部62cは、レンズ12の端部12cに対応し、最深点62aよりも紙面左側に位置する。端部62cから端部62bを見た方向を、凹部62の順方向とする。凹部62の順方向と、レンズ12の順方向とは、一致する。   Of the contour corresponding to the boundary between the roll surface 61 and the recess 62, the intersections with the horizontal axis 62x are defined as end portions 62b and 62c. The end portion 62b corresponds to the end portion 12b of the lens 12, and is located on the right side of the drawing surface from the deepest point 62a. The end portion 62c corresponds to the end portion 12c of the lens 12, and is located on the left side of the drawing with respect to the deepest point 62a. The direction in which the end 62b is viewed from the end 62c is the forward direction of the recess 62. The forward direction of the recess 62 and the forward direction of the lens 12 coincide.

図9及び図10を参照して、凹部62の表面は、縦軸62yを含む仮想面により、表面62Rと表面62Lとに分割される。表面62Rは、曲面であり、最深点62aから紙面右側に配置される。表面62Lは、曲面であり、最深点62aから紙面左側に配置される。表面62Rは、表面62Lよりより緩やかな曲面を有する。そして、表面62Rの表面積は、表面62Lの表面積よりも大きい。   Referring to FIGS. 9 and 10, the surface of recess 62 is divided into a surface 62R and a surface 62L by a virtual surface including a longitudinal axis 62y. The surface 62R is a curved surface, and is disposed on the right side of the drawing surface from the deepest point 62a. The surface 62L is a curved surface, and is disposed on the left side of the drawing from the deepest point 62a. The surface 62R has a gentler curved surface than the surface 62L. The surface area of the surface 62R is larger than the surface area of the surface 62L.

[成形型50の製造方法]
以下、成形型50の製造方法について説明する。図11は、成形型50の製造手順を示すフローチャートである。図12は、成形型50の素材である母材51の断面図である。図12は、現像工程(ステップS5、図11参照)の後における、母材51の断面を示し、成形型50のロール胴部60のM−M断面に対応する。
[Method for Manufacturing Mold 50]
Hereinafter, a method for manufacturing the mold 50 will be described. FIG. 11 is a flowchart showing the manufacturing procedure of the mold 50. FIG. 12 is a cross-sectional view of a base material 51 that is a material of the mold 50. FIG. 12 shows a cross section of the base material 51 after the development process (step S5, see FIG. 11), and corresponds to the MM cross section of the roll body 60 of the mold 50.

図11及び図12を参照して、最初に、円柱状の母材51を準備する(ステップS1)。母材51は、ロール胴部60と、ロール軸部70とを備える。ロール胴部60の円周面には、既に銅めっき層64が形成されている。   With reference to FIG.11 and FIG.12, the column-shaped base material 51 is prepared first (step S1). The base material 51 includes a roll body 60 and a roll shaft 70. A copper plating layer 64 is already formed on the circumferential surface of the roll body 60.

塗布工程(ステップS2)では、母材51の表面にレジストを塗布して、レジスト層からなるマスク65を形成する。すなわち、マスク65が、銅めっき層64の上に形成される。レジストとして、たとえば、テトラメチルアンモニウムハイドロオキサイドなどを用いることができる。ステップS2の塗布工程が終了した段階では、凹部62及び開口66は、形成されていない。   In the coating process (step S2), a resist is applied to the surface of the base material 51 to form a mask 65 made of a resist layer. That is, the mask 65 is formed on the copper plating layer 64. As the resist, for example, tetramethylammonium hydroxide can be used. At the stage where the coating process in step S2 is completed, the recess 62 and the opening 66 are not formed.

形状設定工程(ステップS3)では、マスク65に形成される開口66の形状が設定される。つまり、マスク65に対してレーザを照射する領域を、レーザ照射装置(図示省略)に対して設定する。   In the shape setting step (step S3), the shape of the opening 66 formed in the mask 65 is set. That is, a region for irradiating the mask 65 with the laser is set for a laser irradiation apparatus (not shown).

露光工程(ステップS4)では、形状設定工程(ステップS3)により設定された開口66の形状に基づいて、マスク65にレーザが照射される。   In the exposure step (step S4), the mask 65 is irradiated with laser based on the shape of the opening 66 set in the shape setting step (step S3).

次に、現像工程(ステップS5)では、マスク65のうちレーザが照射された領域のレジストが除去される。これにより、開口66が形成される(図12参照)。レジストの除去には、レジストに用いられた材料に応じた現像剤が用いられる。つまり、露光工程(ステップS4)及び現像工程(ステップS5)は、マスク65にレーザを照射して、複数の開口66をマスク65に形成する開口形成工程である。   Next, in the developing process (step S5), the resist in the region irradiated with the laser in the mask 65 is removed. Thereby, the opening 66 is formed (see FIG. 12). A developer corresponding to the material used for the resist is used to remove the resist. That is, the exposure process (step S4) and the development process (step S5) are opening forming processes in which the mask 65 is irradiated with laser to form a plurality of openings 66 in the mask 65.

なお、マスク65の露光にレーザアブレーション露光を用いた場合、露光された領域が開口66となる。この場合、現像工程(ステップS5)を省略することができる。   When laser ablation exposure is used for exposure of the mask 65, the exposed area becomes the opening 66. In this case, the developing process (step S5) can be omitted.

図13を参照して、マスク65に形成された開口66を示す。説明の便宜上、凹部62の位置を破線で示す。開口66は、三角形状であり、マスク65上のランダムな位置に配置される。   Referring to FIG. 13, an opening 66 formed in mask 65 is shown. For convenience of explanation, the position of the recess 62 is indicated by a broken line. The openings 66 have a triangular shape and are arranged at random positions on the mask 65.

図14は、開口66の拡大図である。説明の便宜のために、凹部62と、凹部62の各部位を図14に示す。図14を参照して、開口66は、三角形状である。より具体的には、三角形の三辺の一部が階段状となっている。本明細書において、三角形状とは、階段状の辺を有するものも含む。階段状の辺が形成されるのは、図示しないレーザ照射装置の解像度が矩形状に制限されるためである。なお、開口66の各辺は、直線であってもよいし、曲線であってもよい。   FIG. 14 is an enlarged view of the opening 66. For convenience of explanation, FIG. 14 shows the recess 62 and each part of the recess 62. Referring to FIG. 14, the opening 66 has a triangular shape. More specifically, a part of the three sides of the triangle is stepped. In this specification, the triangle shape includes those having stepped sides. The step-shaped side is formed because the resolution of a laser irradiation apparatus (not shown) is limited to a rectangular shape. Each side of the opening 66 may be a straight line or a curved line.

開口66は、第1領域66Rと、第2領域66Lとを含む。第1領域66R及び第2領域66Lは、仮想分割線66yにより分けられる。仮想分割線66yは、仮想二等分線66xの中点66Mを通り、仮想二等分線66xと直交する。仮想二等分線66xは、開口66を線対称に分割する。仮想二等分線66xは、端部62bと端部62cとをつなぐ横軸62xの一部である(図10参照)。   The opening 66 includes a first region 66R and a second region 66L. The first region 66R and the second region 66L are separated by a virtual dividing line 66y. The virtual dividing line 66y passes through the midpoint 66M of the virtual bisector 66x and is orthogonal to the virtual bisector 66x. The virtual bisector 66x divides the opening 66 in line symmetry. The virtual bisector 66x is a part of the horizontal axis 62x that connects the end 62b and the end 62c (see FIG. 10).

第1領域66Rの面積は、第2領域66Lの面積よりも小さい。より具体的には、第1領域66Rの形状は、三角形状であり、第2領域66Rの形状は、台形状である。開口66は、仮想分割線66yにより左右非対称に分割される。   The area of the first region 66R is smaller than the area of the second region 66L. More specifically, the first region 66R has a triangular shape, and the second region 66R has a trapezoidal shape. The opening 66 is divided asymmetrically by a virtual dividing line 66y.

各開口66における仮想二等分線66xは、互いに並行である。矢印Cの指す方向を第1方向とする。第1領域66Rは、開口66の第1方向側に配置される。第2領域66Lは、開口66の第1方向側と反対側に配置される。つまり、頂点66Aが、仮想分割線66yよりも紙面右側に配置される。底辺66Sが、仮想分割線66yよりも紙面左側に配置される。これにより、各凹部62の順方向を揃えることが可能となる。   The virtual bisector 66x in each opening 66 is parallel to each other. The direction indicated by the arrow C is the first direction. The first region 66R is disposed on the first direction side of the opening 66. The second region 66L is disposed on the opposite side of the opening 66 from the first direction side. That is, the vertex 66A is arranged on the right side of the drawing with respect to the virtual dividing line 66y. The bottom side 66S is arranged on the left side of the drawing with respect to the virtual dividing line 66y. Thereby, it becomes possible to align the forward direction of each recessed part 62. FIG.

現像工程(ステップS5)の後に、エッチング工程が行われる(ステップS6)。エッチング工程では、複数の開口66を有するマスク65が形成された母材51に対してウェットエッチングを行い、複数の開口66に対応した複数の凹部62を母材51の表面に形成する。母材51の表面には銅めっき層64が形成されている。そのため、エッチング液として、たとえば、塩化第二銅用液や、塩化第二鉄用液、硫酸/過酸化水素系エッチング液などが用いられる。   After the development process (step S5), an etching process is performed (step S6). In the etching step, wet etching is performed on the base material 51 on which the mask 65 having the plurality of openings 66 is formed, and a plurality of recesses 62 corresponding to the plurality of openings 66 are formed on the surface of the base material 51. A copper plating layer 64 is formed on the surface of the base material 51. Therefore, as the etching solution, for example, a cupric chloride solution, a ferric chloride solution, a sulfuric acid / hydrogen peroxide etching solution, or the like is used.

ウェットエッチングにより、開口66により露出した銅めっき層64だけでなく、開口66の周囲のマスク65の下にある銅めっき層64もエッチングされる。したがって、開口66を三角形状としても、平面視でたまご形の凹部62(図8参照)が形成される。   By wet etching, not only the copper plating layer 64 exposed through the opening 66 but also the copper plating layer 64 under the mask 65 around the opening 66 is etched. Therefore, even if the opening 66 is triangular, an egg-shaped recess 62 (see FIG. 8) is formed in plan view.

図14を参照して、最深点62aと、仮想二等分線66xの中点66Mとは、一致するとは限らない。第1領域66Rの面積が第2領域66Lよりも小さいために、第2領域66Lに対応する銅めっき層64のエッチング速度が、第1領域66Rに対応する銅めっき層64のエッチング速度よりも大きくなるためである。また、第1領域66Rと第2領域66Lとにおけるエッチング速度の違いにより、なだらかな傾斜を有する表面62Rと、急な傾斜を有する表面62Lとを有する左右非対称の凹部62が形成される(図9参照)。   Referring to FIG. 14, the deepest point 62a and the midpoint 66M of the virtual bisector 66x do not necessarily match. Since the area of the first region 66R is smaller than that of the second region 66L, the etching rate of the copper plating layer 64 corresponding to the second region 66L is larger than the etching rate of the copper plating layer 64 corresponding to the first region 66R. It is to become. Further, due to the difference in etching rate between the first region 66R and the second region 66L, a left-right asymmetrical recess 62 having a surface 62R having a gentle slope and a surface 62L having a steep slope is formed (FIG. 9). reference).

最後に、除去工程(ステップS7)として、母材51の表面に形成されたマスク65を除去する。これにより、成形型50の全ての製造工程が終了する。なお、除去工程(ステップS7)の後に、無電解メッキ法により、銅めっき層64上にニッケル層を形成してもよい。ニッケル層は表面保護の役割を有する。   Finally, as a removing process (step S7), the mask 65 formed on the surface of the base material 51 is removed. Thereby, all the manufacturing processes of the shaping | molding die 50 are complete | finished. Note that a nickel layer may be formed on the copper plating layer 64 by an electroless plating method after the removing step (step S7). The nickel layer has a role of surface protection.

以上の工程により、開口66を有するマスク65を用いて、成形型50が容易に製造される。   Through the above steps, the mold 50 is easily manufactured using the mask 65 having the opening 66.

[光学シート1の製造工程]
上述の成形型50を用いて、エンボス加工により光学シート1を製造する。図15を参照して、光学シート1の製造装置320は、基材フィルムロール321と、巻き取りロール302と、ニップロール303と、バックアップロール304と、遮蔽板305と、照射装置306と、形成型50と、塗布装置308とを備える。基材フィルムロール321は円柱状であり、そのロール表面には、基材部11に相当する基材フィルム(以降、基材フィルム11という)が巻かれている。
[Manufacturing process of optical sheet 1]
The optical sheet 1 is manufactured by embossing using the mold 50 described above. Referring to FIG. 15, the optical sheet 1 manufacturing apparatus 320 includes a base film roll 321, a take-up roll 302, a nip roll 303, a backup roll 304, a shielding plate 305, an irradiation device 306, and a forming mold. 50 and a coating device 308. The base film roll 321 has a cylindrical shape, and a base film corresponding to the base part 11 (hereinafter referred to as the base film 11) is wound around the roll surface.

製造装置320を用いた光学シート1の製造方法は以下のとおりである。まず、基材フィルム11が巻かれた基材フィルムロール321を準備し、所定の位置に配置する。そして、液状の活性エネルギ線硬化樹脂を準備する。活性エネルギ線硬化樹脂は、レンズ12の素材である。   The manufacturing method of the optical sheet 1 using the manufacturing apparatus 320 is as follows. First, a base film roll 321 around which the base film 11 is wound is prepared and placed at a predetermined position. And liquid active energy ray hardening resin is prepared. The active energy ray curable resin is a material of the lens 12.

配置された基材フィルムロール321から基材フィルム11を巻き出して、基材フィルム11を成形型50に向かって搬送する。   The substrate film 11 is unwound from the disposed substrate film roll 321, and the substrate film 11 is conveyed toward the mold 50.

塗布装置308は、ダイコータ等である。塗布装置308から、液状の活性エネルギ線硬化樹脂をロール表面61上に塗布する。塗布された活性エネルギ線硬化樹脂は、ロール表面61上に拡がって活性エネルギ線硬化樹脂層200を形成する。活性エネルギ線硬化樹脂層200は未硬化である。   The coating device 308 is a die coater or the like. A liquid active energy ray curable resin is applied onto the roll surface 61 from the coating device 308. The applied active energy ray curable resin spreads on the roll surface 61 to form the active energy ray curable resin layer 200. The active energy ray cured resin layer 200 is uncured.

基材フィルム11がニップロール303と成形型50との間を通過するとき、ニップロール303により基材フィルム11を成形型50に押しつける。このとき、ロール表面61上の活性エネルギ線硬化樹脂層200に基材フィルム11が接触する。その結果、活性エネルギ線硬化樹脂層200は、基材フィルム11と成形型50のロール表面61との間に挟まれる。このとき、活性エネルギ線硬化樹脂が各凹部62に充填される。   When the base film 11 passes between the nip roll 303 and the mold 50, the base film 11 is pressed against the mold 50 by the nip roll 303. At this time, the base film 11 contacts the active energy ray-curable resin layer 200 on the roll surface 61. As a result, the active energy ray curable resin layer 200 is sandwiched between the base film 11 and the roll surface 61 of the mold 50. At this time, the active energy ray curable resin is filled in each recess 62.

次に、照射装置306により、成形型50の下方から活性エネルギ線を活性エネルギ線硬化樹脂層200に照射する。基材フィルム11とロール表面61との間に挟まれた活性エネルギ線硬化樹脂層200は硬化し、レンズ12が形成される。遮蔽板305は、ロール表面61の凹凸が活性エネルギ線硬化樹脂層200に確実に転写された後で活性エネルギ線が活性エネルギ線硬化樹脂層200に照射されるように、活性エネルギ線の拡散を防止する。   Next, the active energy ray curable resin layer 200 is irradiated from below the mold 50 by the irradiation device 306. The active energy ray-curable resin layer 200 sandwiched between the base film 11 and the roll surface 61 is cured, and the lens 12 is formed. The shielding plate 305 diffuses the active energy rays so that the active energy rays are irradiated onto the active energy ray curable resin layer 200 after the unevenness of the roll surface 61 is reliably transferred to the active energy ray curable resin layer 200. To prevent.

以上の工程により製造された光学シート1を、成形型50から引き剥がし、バックアップロール304を介して巻き取りロール302に向かって搬送する。そして、巻き取りロール302で巻き取る。以上の工程により光学シート1が製造される。   The optical sheet 1 manufactured by the above steps is peeled off from the mold 50 and conveyed toward the take-up roll 302 via the backup roll 304. And it winds with the winding roll 302. FIG. The optical sheet 1 is manufactured through the above steps.

このように、本実施の形態では、露光工程(ステップS4)及び現像工程(ステップS5)により、第1領域66Rと第2領域66Lとを含む開口66が、マスク65に形成される。第1領域66Rの面積は、第2領域66Lの面積よりも小さい。エッチング工程(ステップS6)において、第1領域66Rにおけるエッチング速度が、第2領域66Lにおけるエッチング速度よりも小さくなる。これにより、左右非対称の形状の凹部62を有する成形型50を製造することができる。   As described above, in the present embodiment, the opening 66 including the first region 66R and the second region 66L is formed in the mask 65 by the exposure process (step S4) and the development process (step S5). The area of the first region 66R is smaller than the area of the second region 66L. In the etching step (step S6), the etching rate in the first region 66R is smaller than the etching rate in the second region 66L. Thereby, the shaping | molding die 50 which has the recessed part 62 of an asymmetrical shape can be manufactured.

{第2の実施の形態}
本発明の第2の実施の形態について、図面を参照しながら説明する。本実施の形態では、成形型50の製造工程のうち、形状設定工程(ステップS3、図11参照)により設定される開口の形状が、第1の実施の形態と異なる。以下、上記第1の実施の形態と異なる点を中心に、本実施の形態について詳しく説明する。
{Second Embodiment}
A second embodiment of the present invention will be described with reference to the drawings. In the present embodiment, the shape of the opening set by the shape setting step (see step S3, FIG. 11) in the manufacturing process of the mold 50 is different from that of the first embodiment. Hereinafter, the present embodiment will be described in detail with a focus on differences from the first embodiment.

図16は、本実施の形態において、マスク65に形成される開口67を示す図である。図16を参照して、開口67は、第1の実施の形態と異なり、円形状である。開口67は、マスク65上のランダムな位置に配置される。   FIG. 16 is a diagram showing an opening 67 formed in the mask 65 in the present embodiment. Referring to FIG. 16, the opening 67 has a circular shape unlike the first embodiment. The openings 67 are arranged at random positions on the mask 65.

図17は、開口67の拡大図である。図17を参照して、レーザ装置の解像度の制限を受けるために、開口67の周縁は、階段状である。このように、開口67の形状は、正確な円でなくてもよい。本明細書にいう「円形状」とは、円周が、図17に示すような階段状のものも含む。   FIG. 17 is an enlarged view of the opening 67. Referring to FIG. 17, the periphery of the opening 67 has a stepped shape in order to receive the limitation of the resolution of the laser device. Thus, the shape of the opening 67 may not be an accurate circle. The “circular shape” referred to in this specification includes a step whose circumference is as shown in FIG.

開口67における仮想二等分線67x及び仮想分割線67yを定義する。仮想二等分線67xは、矢印Cに平行な直線であり、開口67を線対称に分割する。仮想二等分線67xは、横軸62xの一部である。仮想分割線67yは、仮想二等分線67xの中点67Mを通り、仮想二等分線67xに直交する直線である。開口67は、第1の実施の形態と同様に、仮想分割線67yにより、第1領域67Rと、第2領域67Lとに分割される。   A virtual bisector 67x and a virtual dividing line 67y at the opening 67 are defined. The virtual bisector 67x is a straight line parallel to the arrow C, and divides the opening 67 line-symmetrically. The virtual bisector 67x is a part of the horizontal axis 62x. The virtual dividing line 67y is a straight line that passes through the midpoint 67M of the virtual bisector 67x and is orthogonal to the virtual bisector 67x. Similar to the first embodiment, the opening 67 is divided into a first region 67R and a second region 67L by a virtual dividing line 67y.

図17において、開口67の内側に残存するマスク65を格子模様で示す。第1領域67Rには、マスク65の一部が残存している。一方、第2領域67Lには、マスク65が残存していない。このため、第1領域67Rの面積は、第2領域67Lの面積よりも小さい。つまり、形状設定工程(ステップS3)では、マスク65の一部が第1領域67Rに残存するように、レーザの照射パターンが設定される。   In FIG. 17, the mask 65 remaining inside the opening 67 is shown in a lattice pattern. A part of the mask 65 remains in the first region 67R. On the other hand, the mask 65 does not remain in the second region 67L. For this reason, the area of the first region 67R is smaller than the area of the second region 67L. That is, in the shape setting step (step S3), the laser irradiation pattern is set so that a part of the mask 65 remains in the first region 67R.

第1の実施の形態と同様に、第1領域67Rの面積が第2領域67Lの面積よりも小さいため、第1領域67Rにおけるエッチング速度が、第2領域67Lにおけるエッチング速度よりも小さくなる。このため、凹部62が開口67に基づいて形成された場合であっても、最深点62aの位置と、中点66Mの位置とが一致するとは限らない。また、第1領域67Rと第2領域67Lとでエッチング速度が異なるため、そのため、開口67を有するマスクを用いた場合でも、母材51には、凹部62が形成される。つまり、開口67により、なだらかな傾斜を有する表面62Rと、急な傾斜を有する表面62Lとを有する凹部62が形成される。   Similar to the first embodiment, since the area of the first region 67R is smaller than the area of the second region 67L, the etching rate in the first region 67R is smaller than the etching rate in the second region 67L. For this reason, even when the concave portion 62 is formed based on the opening 67, the position of the deepest point 62a and the position of the midpoint 66M are not necessarily coincident. In addition, since the etching rate is different between the first region 67R and the second region 67L, the recesses 62 are formed in the base material 51 even when a mask having the opening 67 is used. That is, the opening 67 forms a recess 62 having a surface 62R having a gentle slope and a surface 62L having a steep slope.

このように、本実施の形態では、内部にマスク65の一部が残存する第1領域67Rと、内部にマスク65が残存しない第2領域67Lとが形成される。これにより、第1領域67R及び第2領域67Lのそれぞれに対応する銅めっき層64のエッチング速度を制御することができるため、左右非対称な凹部62を有する成形型50を作成することが可能となる。   As described above, in the present embodiment, the first region 67R in which part of the mask 65 remains and the second region 67L in which the mask 65 does not remain are formed. Thereby, since the etching rate of the copper plating layer 64 corresponding to each of the first region 67R and the second region 67L can be controlled, it is possible to create the mold 50 having the left and right asymmetric recesses 62. .

なお、本実施の形態において、開口67の形状を円形状としたが、これに限られない。開口67の形状は、レンズ12の形状に応じて適宜変更することが可能である。また、上記実施の形態では、光学シート1の製造にロール状の成形型50を用いる例を説明した。しかし、ロール状の成形型50に代えて、平板状の成形型50を用いて光学シート1を製造してもよい。   In the present embodiment, the shape of the opening 67 is circular, but is not limited thereto. The shape of the opening 67 can be appropriately changed according to the shape of the lens 12. In the above-described embodiment, the example in which the roll-shaped mold 50 is used for manufacturing the optical sheet 1 has been described. However, the optical sheet 1 may be manufactured using a flat plate-shaped mold 50 instead of the roll-shaped mold 50.

以上、本発明の実施の形態を説明したが、上述した実施の形態は本発明を実施するための例示に過ぎない。よって、本発明は上述した実施の形態に限定されることなく、その趣旨を逸脱しない範囲内で上述した実施の形態を適宜変形して実施することが可能である。   While the embodiments of the present invention have been described above, the above-described embodiments are merely examples for carrying out the present invention. Therefore, the present invention is not limited to the above-described embodiment, and can be implemented by appropriately modifying the above-described embodiment without departing from the spirit thereof.

1 光学シート
11 基材部
12 レンズ
12a 頂点
13 主面
14 裏面
50 成形型
51 母材
60 ロール胴部
61 ロール表面
62 凹部
62a 最深点
65 マスク
66,67 開口
66R,67R 第1領域
66L,66R 第2領域
66x,67x 仮想二等分線
66y,67y 仮想分割線
70 ロール軸部
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Optical sheet 11 Base material part 12 Lens 12a Vertex 13 Main surface 14 Back surface 50 Mold 51 Base material 60 Roll body part 61 Roll surface 62 Recessed part 62a Deepest point 65 Mask 66, 67 Opening 66R, 67R 1st area | region 66L, 66R 1st area | region 2-region 66x, 67x Virtual bisector 66y, 67y Virtual dividing line 70 Roll shaft part

Claims (7)

マイクロレンズシートの成形型の製造方法であって、
前記成形型の母材の表面にレジストを塗布して、レジスト層からなるマスクを形成する塗布工程と、
前記マスクにレーザを照射して、複数の開口を前記マスクに形成する開口形成工程と、
前記複数の開口を有する前記マスクが形成された前記母材に対してウェットエッチングを行い、前記複数の開口に対応した複数の凹部を前記母材表面に形成するエッチング工程と、
前記複数の開口を前記マスクに形成する前に、前記複数の開口の形状を設定する形状設定工程とを備え、
前記形状設定工程により設定される開口は、
前記開口を線対称に分割する仮想二等分線の中心を通り、前記仮想二等分線と直交する仮想分割線により分けられる第1及び第2領域を含み、
前記第1領域の面積は、前記第2領域よりも小さいマイクロレンズシートの成形型の製造方法。
A method of manufacturing a mold for forming a microlens sheet,
An application step of applying a resist to the surface of the base material of the mold and forming a mask made of a resist layer;
An opening forming step of irradiating the mask with a laser to form a plurality of openings in the mask;
Etching to perform wet etching on the base material on which the mask having the plurality of openings is formed, and to form a plurality of recesses corresponding to the plurality of openings on the surface of the base material,
A shape setting step of setting the shapes of the plurality of openings before forming the plurality of openings in the mask;
The opening set by the shape setting step is
Including first and second regions separated by a virtual dividing line that passes through the center of a virtual bisector that divides the opening in line symmetry and is orthogonal to the virtual bisector,
The manufacturing method of the shaping | molding die of the micro lens sheet whose area of the said 1st area | region is smaller than the said 2nd area | region.
請求項1に記載のマイクロレンズシートの成形型の製造方法であって、
前記開口形成工程では、前記複数の開口のそれぞれに対応する複数の前記仮想二等分線が互いに並行する、マイクロレンズシートの成形型の製造方法。
A method for producing a mold for a microlens sheet according to claim 1,
In the opening forming step, the plurality of virtual bisectors corresponding to each of the plurality of openings are parallel to each other, and the method of manufacturing a microlens sheet mold.
請求項2に記載のマイクロレンズシートの成形型の製造方法であって、
前記仮想二等分線の指す方向の一方を第1方向とした場合、前記第1領域は、前記仮想分割線から見て第1方向側に配置される、マイクロレンズシートの成形の製造方法。
A method for producing a mold for a microlens sheet according to claim 2,
When one of the directions indicated by the virtual bisector is defined as a first direction, the first region is disposed on the first direction side when viewed from the virtual dividing line.
請求項3に記載のマイクロレンズシートの成形型の製造方法であって、
前記開口は、三角形状である、マイクロレンズシートの成形型の製造方法。
A method for producing a mold for a microlens sheet according to claim 3,
The method for manufacturing a mold for forming a microlens sheet, wherein the opening has a triangular shape.
請求項3に記載のマイクロレンズシートの成形型の製造方法であって、
前記開口形成工程では、前記第1領域内に前記マスクの一部が残存するように、前記開口を設定する、マイクロレンズシートの成形型の製造方法。
A method for producing a mold for a microlens sheet according to claim 3,
In the opening forming step, the opening is set so that a part of the mask remains in the first region.
請求項1ないし請求項5のいずれか1項に記載の製造方法により製造された、マイクロレンズシートの製造に用いられる成形型。   A mold used for manufacturing a microlens sheet manufactured by the manufacturing method according to any one of claims 1 to 5. 請求項6に記載の成形型を用いて製造されたマイクロレンズシートであって、
主面と、前記主面と反対側の裏面とを有する基材部と、
前記主面側に形成された複数の前記光学素子とを備え、
前記複数の光学素子は、
前記主面からの高さが最大となる頂点を通り、かつ、前記主面に垂直な仮想面に対して左右非対称な形状をそれぞれ有するマイクロレンズシート。
A microlens sheet manufactured using the mold according to claim 6,
A base material portion having a main surface and a back surface opposite to the main surface;
A plurality of the optical elements formed on the main surface side,
The plurality of optical elements are:
A microlens sheet that has an asymmetric shape with respect to a virtual plane that passes through a vertex having a maximum height from the main surface and is perpendicular to the main surface.
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