JP2011253852A - Electromagnetic wave shield material, complex filter and image display device using the same - Google Patents

Electromagnetic wave shield material, complex filter and image display device using the same Download PDF

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JP2011253852A JP2010125012A JP2010125012A JP2011253852A JP 2011253852 A JP2011253852 A JP 2011253852A JP 2010125012 A JP2010125012 A JP 2010125012A JP 2010125012 A JP2010125012 A JP 2010125012A JP 2011253852 A JP2011253852 A JP 2011253852A
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Hirotoshi Suetsugu
博俊 末次
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an electromagnetic wave shield material which has a large conductivity in spite of having a conductive pattern layer formed from a conductive ink, and which is reduced in reflection of external light from the side of a transparent base, and has an untinted adhesive layer made of acrylic resin on the side of the conductive pattern layer.SOLUTION: An electromagnetic wave shield material includes: a transparent base; a primer layer formed on the transparent base; a conductive pattern layer formed on the primer layer and having a given pattern; and an adhesive layer made of a carboxyl group-containing acrylic resin and stacked on the side where the conductive pattern layer is formed. The conductive pattern layer contains metal particles and a binder resin. The distribution of the metal particles in the conductive pattern layer is relatively rough near the primer layer and dense near the top of the conductive pattern layer. The adhesive layer made of carboxyl group-containing acrylic resin contains 1H-benzotriazol.

Description

本発明は、画像表示装置(ディスプレイ)の前面に配置する電磁波シールド材、複合化フィルタ及びこれを用いた画像表示装置に関する。   The present invention relates to an electromagnetic wave shielding material, a composite filter, and an image display device using the same, which are disposed on the front surface of an image display device (display).

テレビジョンやパーソナルコンピュータのモニタ等の画像表示装置(ディスプレイ装置ともいう)として、例えば、陰極線管(CRT)ディスプレイ装置、液晶ディスプレイ装置(LCD)、プラズマディスプレイ装置(PDP)、電場発光(EL)ディスプレイ装置等が知られている。これらのディスプレイ装置のうち、大画面ディスプレイ装置の分野で注目されているプラズマディスプレイ装置は、発光にプラズマ放電を利用するため、30MHz〜1GHz帯域の不要な電磁波が外部に漏洩して他の機器(例えば、遠隔制御機器、情報処理装置等)に影響を与えるおそれがある。そのため、プラズマディスプレイ装置に用いられるプラズマディスプレイパネルの前面側(観察者側)に、可視光線は透過し且つ漏洩する電磁波はシールドするためのフィルム状の電磁波シールド材を設けるのが一般的である。
なお、本願明細書中において、「電磁波」とは広義の電磁波の中で、周波数30MHz〜1GHz帯域を中心とするkHz〜GHz帯域のもの(所謂電波)を意味する。より高周波数の赤外線、可視光線、紫外線等は、各々、赤外線、可視光線、紫外線等と呼称する。
As an image display device (also referred to as a display device) such as a monitor of a television or a personal computer, for example, a cathode ray tube (CRT) display device, a liquid crystal display device (LCD), a plasma display device (PDP), an electroluminescent (EL) display Devices and the like are known. Among these display devices, plasma display devices that are attracting attention in the field of large-screen display devices use plasma discharge for light emission. Therefore, unnecessary electromagnetic waves in the 30 MHz to 1 GHz band leak to the outside and other devices ( For example, remote control devices, information processing apparatuses, etc.) may be affected. Therefore, it is common to provide a film-like electromagnetic shielding material for shielding electromagnetic waves that transmit and leak visible light on the front side (observer side) of the plasma display panel used in the plasma display device.
In the specification of the present application, “electromagnetic wave” means an electromagnetic wave having a frequency in the kHz to GHz band (so-called radio wave) centered on a frequency band of 30 MHz to 1 GHz. Higher frequency infrared rays, visible rays, ultraviolet rays, etc. are referred to as infrared rays, visible rays, ultraviolet rays, etc., respectively.

従来、プラズマディスプレイの前面フィルタとしては、例えば、特許文献1に記載されているような、透明基材上に、金属のスパッタリング、電解メッキ及びパターンエッチングによってメッシュ状金属薄膜を形成し、その上にアクリル樹脂系の粘着剤層を積層してなる電磁波遮蔽フィルタと、さらにその上に反射防止フィルタなどの光学フィルタを積層した複合化フィルタが使用されてきた。
しかしながら、この電磁波遮蔽フィルタ(電磁波シールド材)は、エッチングしてメッシュ形状を作成するため、捨てる材料が多く低コスト化が難しかった。
Conventionally, as a front filter of a plasma display, for example, a mesh-like metal thin film is formed on a transparent substrate by sputtering, electrolytic plating, and pattern etching on a transparent substrate, as described in Patent Document 1, for example. A composite filter in which an electromagnetic wave shielding filter obtained by laminating an acrylic resin-based pressure-sensitive adhesive layer and an optical filter such as an antireflection filter are further laminated thereon has been used.
However, since this electromagnetic wave shielding filter (electromagnetic wave shielding material) creates a mesh shape by etching, many materials are thrown away and it is difficult to reduce the cost.

これに対し、特許文献2には、特定の印刷方法によって透明基材上に導電性インキをメッシュパターンに印刷することで、低コスト化、生産性の向上がはかられた電磁波シールド材を、そのメッシュパターン側でアクリル樹脂系の粘着剤層を介して光学フィルタと貼り合せた複合化フィルタが記載されている。
この特定の印刷方法とは、凹版の凹部内に充填された導電性インキ組成物を、紫外線硬化性樹脂から成り硬化するまで流動性を保持できるプライマー層が形成された透明基材と圧着することによって、プライマー層と凹部内の導電性インキとを空隙なく密着する圧着工程を経て、プライマー層を硬化し、透明基材を版面から剥がすことで、凹部内の導電性インキ組成物のほとんどを硬化したプライマー層上に転写するものであり、導電性インキ組成物の転写不良に基づくパターンの断線、形状不良、転移率不足や低密着性等の不具合が生じない電磁波シールド材が得られる。
On the other hand, Patent Document 2 discloses an electromagnetic wave shielding material with reduced cost and improved productivity by printing a conductive ink on a transparent substrate on a transparent substrate by a specific printing method. A composite filter is described that is bonded to an optical filter via an acrylic resin adhesive layer on the mesh pattern side.
This specific printing method is to press the conductive ink composition filled in the recesses of the intaglio plate with a transparent substrate made of an ultraviolet curable resin and having a primer layer that can maintain fluidity until cured. Through the pressure-bonding process that adheres the primer layer and the conductive ink in the recess without gaps, the primer layer is cured, and the transparent substrate is peeled off from the plate surface to cure most of the conductive ink composition in the recess. Thus, an electromagnetic wave shielding material that is transferred onto the primer layer and that does not cause defects such as pattern disconnection, shape failure, insufficient transfer rate, and low adhesion due to poor transfer of the conductive ink composition can be obtained.

特開2007−36107号公報JP 2007-36107 A WO2008/149969号パンフレットWO2008 / 149969 pamphlet

しかしながら、特許文献2の方法による電磁波シールド材、及びこれを用いた複合化フィルタにおいても、なお、以下のような課題がある。
(i)金属薄膜のメッシュを形成した電磁波シールド材に比べて導電性(電磁波遮蔽性)が低い。
(ii)電磁波シールド材の表裏いずれの側もメッシュパターンの金属光沢があり、外光を反射して画像の明暗コントラストが低下し、或いは画像光を反射して画像コントラストを低下させる。特に基材側は黒化めっき等の処理もできないため問題である。
(iii)粘着剤層のアクリル樹脂は、金属を含む層との接着性向上のために含有されるカルボキシル基が、導電性パターン層表面の金属粒子と反応して、金属が錆びて変色したり、それに伴って粘着剤が変色し、粘着剤層が着色するという問題がある。
本発明はこれらの課題を解決した電磁波シールド材、及びこれを用いた複合化フィルタを提供することを目的とする。
However, the electromagnetic wave shielding material by the method of Patent Document 2 and the composite filter using the same also have the following problems.
(I) The conductivity (electromagnetic wave shielding property) is lower than that of an electromagnetic wave shielding material in which a metal thin film mesh is formed.
(Ii) Either the front or back side of the electromagnetic wave shielding material has a metallic luster of the mesh pattern, and reflects external light to reduce the contrast of the image, or reflects image light to reduce the image contrast. This is particularly a problem because the substrate side cannot be treated with blackening plating or the like.
(Iii) In the acrylic resin of the pressure-sensitive adhesive layer, the carboxyl group contained for improving the adhesion with the metal-containing layer reacts with the metal particles on the surface of the conductive pattern layer, and the metal rusts and changes color. Along with this, there is a problem that the pressure-sensitive adhesive changes color and the pressure-sensitive adhesive layer is colored.
An object of this invention is to provide the electromagnetic wave shielding material which solved these subjects, and the composite filter using the same.

上記課題を解決するため鋭意検討した結果、透明基材上に形成された、好ましくは紫外線硬化樹脂からなる、プライマー層と、該プライマー層上に所定のパターンで形成された導電性パターン層を有する電磁波シールド材において、その導電性パターン層中の金属粒子の分布が、相対的に、プライマー層近傍において分布が疎に、又導電性パターンの頂部近傍において密であるよう構成するか、或いは隣接する該金属粒子同士の間隔が、相対的に、該プライマー層近傍において大であり、又該導電性パターン層の頂部近傍において小であるように構成し、かつ、アクリル樹脂粘着剤層中に特定の酸化防止剤を含有させることで解決し得ることを見出した。本発明はかかる知見に基づき完成したものである。
すなわち、本発明は、
(1)透明基材と、該透明基材上に形成されたプライマー層と、該プライマー層上に所定のパターンで形成された導電性パターン層を有し、該導電性パターン層形成側にカルボキシル基含有アクリル樹脂からなる粘着剤層を積層してなる電磁波シールド材であって、該導電性パターン層は金属粒子とバインダー樹脂を含んで成り、該導電性パターン層中の該金属粒子の分布が、相対的に、該プライマー層近傍において分布が疎であり、又該導電性パターン層の頂部近傍において密であり、かつ、カルボキシル基含有アクリル樹脂からなる粘着剤層は1H−ベンゾトリアゾールを含有することを特徴とする電磁波シールド材、
(2)透明基材と、該透明基材上に形成されたプライマー層と、該プライマー層上に所定のパターンで形成された導電性パターン層を有し、該導電性パターン層形成側にカルボキシル基含有アクリル樹脂からなる粘着剤層を積層してなる電磁波シールド材であって、該導電性パターン層は金属粒子とバインダー樹脂を含んで成り、該導電性パターン層中の隣接する該金属粒子同士の間隔が、相対的に、該プライマー層近傍において大であり、又該導電性パターン層の頂部近傍において小であり、かつ、カルボキシル基含有アクリル樹脂からなる粘着剤層は1H−ベンゾトリアゾールを含有することを特徴とする電磁波シールド材、
(3)(1)又は(2)の電磁波シールド材の一面又は両面に光学機能層を積層して成る複合化フィルタ、及び
(4)(3)の複合化フィルタを、ディスプレイパネルの前面側に設置した画像表示装置、
を提供するものである。
As a result of diligent studies to solve the above problems, it has a primer layer formed on a transparent substrate, preferably made of an ultraviolet curable resin, and a conductive pattern layer formed in a predetermined pattern on the primer layer. In the electromagnetic wave shielding material, the distribution of the metal particles in the conductive pattern layer is configured so that the distribution is relatively sparse in the vicinity of the primer layer and is close in the vicinity of the top of the conductive pattern, or adjacent thereto. The interval between the metal particles is relatively large in the vicinity of the primer layer and small in the vicinity of the top of the conductive pattern layer, and a specific distance is set in the acrylic resin pressure-sensitive adhesive layer. It has been found that it can be solved by containing an antioxidant. The present invention has been completed based on such findings.
That is, the present invention
(1) It has a transparent substrate, a primer layer formed on the transparent substrate, and a conductive pattern layer formed in a predetermined pattern on the primer layer, and carboxyl is formed on the conductive pattern layer forming side. An electromagnetic wave shielding material formed by laminating a pressure-sensitive adhesive layer made of a group-containing acrylic resin, wherein the conductive pattern layer comprises metal particles and a binder resin, and the distribution of the metal particles in the conductive pattern layer is The pressure-sensitive adhesive layer is relatively sparse in the vicinity of the primer layer, dense in the vicinity of the top of the conductive pattern layer, and made of a carboxyl group-containing acrylic resin, and contains 1H-benzotriazole. An electromagnetic shielding material characterized by
(2) It has a transparent substrate, a primer layer formed on the transparent substrate, and a conductive pattern layer formed in a predetermined pattern on the primer layer, and carboxyl is formed on the conductive pattern layer forming side. An electromagnetic wave shielding material formed by laminating a pressure-sensitive adhesive layer comprising a group-containing acrylic resin, wherein the conductive pattern layer comprises metal particles and a binder resin, and the adjacent metal particles in the conductive pattern layer are adjacent to each other. Is relatively large in the vicinity of the primer layer and small in the vicinity of the top of the conductive pattern layer, and the pressure-sensitive adhesive layer made of a carboxyl group-containing acrylic resin contains 1H-benzotriazole. Electromagnetic shielding material, characterized by
(3) The composite filter formed by laminating an optical functional layer on one or both sides of the electromagnetic shielding material of (1) or (2), and (4) the composite filter of (3) is provided on the front side of the display panel. Installed image display device,
Is to provide.

本発明により得られる電磁波シールド材において、導電性パターン層の金属粒子の分布が、相対的に、プライマー層近傍において分布が疎であり、又導電性パターン層頂部近傍において密であるよう構成するか、或いは隣接する該金属粒子同士の間隔が、相対的に、該プライマー層近傍において大であり、又該導電性パターン層の頂部近傍において小であるように構成したため、導電性パターン層頂部近傍で集中的に各金属粒子同士の電気的接触が確保されるので、限られた金属粒子の添加量であるにもかかわらず、高い電磁波シールド性を示すという効果を奏する。
また、プライマー層近傍において金属粒子の分布が疎ないしは隣接する金属粒子同士の間隔が大であるので、透明基材側を外側(観察者側)に向けたときも、導電性パターン層の光反射は低減され、画像コントラストは良好である。
さらに、粘着剤層は1H−ベンゾトリアゾールを含有するので、導電性パターン層の着色も防止される。
In the electromagnetic wave shielding material obtained by the present invention, the distribution of the metal particles in the conductive pattern layer is relatively sparse in the vicinity of the primer layer and dense in the vicinity of the top of the conductive pattern layer. Alternatively, since the interval between the adjacent metal particles is relatively large in the vicinity of the primer layer and small in the vicinity of the top of the conductive pattern layer, the distance between the top of the conductive pattern layer is increased. Since the electrical contact between the metal particles is intensively ensured, there is an effect of exhibiting high electromagnetic shielding properties despite the limited amount of metal particles added.
In addition, the distribution of the metal particles in the vicinity of the primer layer is large or the distance between adjacent metal particles is large. Therefore, even when the transparent substrate side is directed outward (observer side), the light reflection of the conductive pattern layer Is reduced and the image contrast is good.
Furthermore, since the pressure-sensitive adhesive layer contains 1H-benzotriazole, coloring of the conductive pattern layer is also prevented.

本発明による電磁波シールド材の1形態を示す模式的な断面図である。It is typical sectional drawing which shows 1 form of the electromagnetic wave shielding material by this invention. 本発明による電磁波シールド材の表面又は裏面、或いは表裏両面に光学機能層を有する複合化フィルタを示す模式的な断面図である。It is typical sectional drawing which shows the composite filter which has an optical function layer on the surface or back surface of the electromagnetic wave shielding material by this invention, or both front and back.

以下に、本発明の実施の形態を詳細に説明する。   Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail.

〔電磁波シールド材〕
図1は、本発明の電磁波シールド材の一例を示す模式的な断面図である。なお、図1は説明の便宜上、縦横の縮尺の比率は、適宜、実物よりも増減してある。また、導電性パターン層10内の金属粒子も実物よりも誇張して図示している。
本発明の電磁波シールド材100は、透明基材40と、透明基材40上に形成されたプライマー層30と、プライマー層30上に所定のパターンで形成された、金属粒子1とバインダー樹脂2を含む導電性パターン層10とを有する。そして、導電性パターン層の金属粒子の分布が、相対的に、プライマー層近傍において分布が疎であり、又導電性パターン層頂部近傍において密であるよう構成するか、或いは隣接する該金属粒子同士の間隔が、相対的に、該プライマー層近傍において大であり、又該導電性パターン層の頂部近傍において小であるように構成し、かつ、導電性パターン層形成側に積層した粘着剤層20は1H−ベンゾトリアゾール4を含有させたカルボキシル基含有アクリル樹脂粘着剤3からなる。
以下、本発明の電磁波シールド材100の構成を詳しく説明する。
[Electromagnetic wave shielding material]
FIG. 1 is a schematic cross-sectional view showing an example of the electromagnetic wave shielding material of the present invention. In FIG. 1, for convenience of explanation, the ratio of the vertical and horizontal scales is appropriately increased or decreased from the actual one. Further, the metal particles in the conductive pattern layer 10 are also shown exaggerated from the actual ones.
The electromagnetic wave shielding material 100 of the present invention comprises a transparent substrate 40, a primer layer 30 formed on the transparent substrate 40, and metal particles 1 and a binder resin 2 formed in a predetermined pattern on the primer layer 30. And a conductive pattern layer 10 to be included. The distribution of the metal particles in the conductive pattern layer is relatively sparse in the vicinity of the primer layer and dense in the vicinity of the top of the conductive pattern layer, or adjacent metal particles Is relatively large in the vicinity of the primer layer, and is small in the vicinity of the top of the conductive pattern layer, and is laminated on the conductive pattern layer forming side. Consists of a carboxyl group-containing acrylic resin adhesive 3 containing 1H-benzotriazole 4.
Hereinafter, the configuration of the electromagnetic wave shielding material 100 of the present invention will be described in detail.

(透明基材)
透明基材40は、可視光線領域での透明性(光透過性)、耐熱性、機械的強度等の要求物性を考慮して、公知の材料及び厚みを適宜選択すればよく、特に制限はないが、生産性に優れるロール・トゥ・ロールでの連続加工適性を考慮すると、フレキシブルな樹脂フィルム(乃至シート)が好ましい。なお、ロール・トゥ・ロールとは、巻取(ロール)から巻き出して供給し、適宜加工を施し、その後、巻取に巻き取って搬送ないしは保管する加工方式をいう。
(Transparent substrate)
The transparent substrate 40 may be appropriately selected from known materials and thicknesses in consideration of required physical properties such as transparency in the visible light region (light transmittance), heat resistance, and mechanical strength, and is not particularly limited. However, in consideration of suitability for continuous processing with a roll-to-roll having excellent productivity, a flexible resin film (or sheet) is preferable. The roll-to-roll refers to a processing method in which the material is unwound from a take-up (roll), supplied, processed appropriately, and then taken up and conveyed or stored.

樹脂フィルム乃至シートの樹脂としては、例えば、ポリエチレンテレフタレート(PET)、ポリエチレンナフタレート(PEN)、エチレングリコール−1,4シクロヘキサンジメタノール−テレフタール酸共重合体、エチレングリコール−テレフタール酸−イソフタール酸共重合体、ポリエステル系熱可塑性エラストマーなどのポリエステル系樹脂、ポリメチルメタクリレートなどのアクリル系樹脂、ポリプロピレン、シクロオレフィン重合体などのポリオレフィン系樹脂、トリアセチルセルロースなどのセルロース系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、ポリアミド(ナイロン)系樹脂等である。なかでも、ポリエチレンテレフタレートはその2軸延伸フィルムが耐熱性、機械的強度、光透過性、コスト等の点で好ましい透明基材である。
なお、電磁波シールド材及びディスプレイ用フィルタに可撓性を要求しない場合は、透明基材1として、硝子、石英等の透明な無機材料の板を使用することもできる。
Examples of the resin for the resin film or sheet include polyethylene terephthalate (PET), polyethylene naphthalate (PEN), ethylene glycol-1,4 cyclohexanedimethanol-terephthalic acid copolymer, ethylene glycol-terephthalic acid-isophthalic acid copolymer. Polyester resins such as polyester, thermoplastic elastomers, acrylic resins such as polymethyl methacrylate, polyolefin resins such as polypropylene and cycloolefin polymers, cellulose resins such as triacetyl cellulose, polycarbonate resins, polyamides (nylon) ) Series resin. Among them, polyethylene terephthalate is a transparent base material whose biaxially stretched film is preferable in terms of heat resistance, mechanical strength, light transmittance, cost, and the like.
If the electromagnetic shielding material and the display filter do not require flexibility, a transparent inorganic material plate such as glass or quartz can be used as the transparent substrate 1.

透明基材の厚みは基本的には特に制限はなく用途等に応じ適宜選択し、フレキシブルな樹脂フィルムを利用する場合、例えば12〜500μm、好ましくは25〜200μm程度である。
また、以下に述べるプライマー層2との密着性を確保するために、透明基材表面に別途密着性改善のための表面処理や、易接着層、下地層などが設けられていてもよい。
The thickness of the transparent substrate is basically not particularly limited and is appropriately selected depending on the application. When a flexible resin film is used, it is, for example, about 12 to 500 μm, preferably about 25 to 200 μm.
Moreover, in order to ensure adhesiveness with the primer layer 2 described below, a surface treatment for improving adhesiveness, an easy-adhesion layer, a base layer, and the like may be separately provided on the surface of the transparent substrate.

(プライマー層)
プライマー層30は、導電性組成物と被印刷物との密着性を向上させるための層である。すなわち、透明基材及び導電性パターン層の双方に密着性が良く、また開口部(導電性パターン層非形成部)の光透過性確保のために透明な層でもある。
更に、電磁波シールド材製造方法においては、このプライマー層30は、その主目的が導電性パターン層10の印刷形成時に、版から被印刷物(透明基材)へのインキ(導電性組成物)転移性を向上させ、転移後の導電性組成物と被印刷物との密着性を向上させるための層であり、流動性を保持できる状態で透明基材40上に設けられ、凹版印刷時の凹版に接触している間に液状から固化させる層である。
(Primer layer)
The primer layer 30 is a layer for improving the adhesion between the conductive composition and the printing material. That is, both the transparent substrate and the conductive pattern layer have good adhesion, and are also a transparent layer for ensuring the light transmittance of the opening (conductive pattern layer non-formed part).
Furthermore, in the electromagnetic wave shielding material manufacturing method, the primer layer 30 has a main purpose of transferring ink (conductive composition) from a plate to a printing material (transparent substrate) when the conductive pattern layer 10 is printed. Is a layer for improving the adhesion between the conductive composition after transfer and the printed material, and is provided on the transparent substrate 40 in a state where fluidity can be maintained, and is in contact with the intaglio during intaglio printing It is a layer that solidifies from a liquid state during the process.

かかるプライマー層を構成する材料としては、本発明では、未硬化状態において液状(流動性)の電離放射線硬化性化合物を含む電離放射線硬化性樹脂組成物を塗工、電離放射線照射により硬化(固体化)してなる層が用いられる。なお、電離放射線照射により、架橋反応乃至重合反応により硬化する性能を有する樹脂の未硬化物を電離放射線硬化性樹脂、該電離放射線硬化性樹脂を硬化してなるもの(硬化物)を電離放射線硬化樹脂と呼称する。電離放射線としては、紫外線、可視光線、X線、γ線等の電磁波、或いは電子線、α線等の荷電粒子線が用いられる。これらの中でも、特に、紫外線が取扱いにも便利な為、好ましい。特に、電離放射線として紫外線を採用する場合、上記電離放射線硬化樹脂等は紫外線硬化樹脂等と呼称する。
該電離放射線硬化性化合物としては、電離放射線で重合、架橋等の反応により硬化するモノマー及び/又はプレポリマーが用いられる。
かかるモノマーとしては、ラジカル重合性モノマーとして、例えば、メチル(メタ)アクリレート、ブチル(メタ)アクリレート、2−エチルヘキシル(メタ)アクリレート、ラウリル(メタ)アクリレート、イソボルニル(メタ)アクリレート、ジシクロペンテニル(メタ)アクリレートなどの単官能(メタ)アクリレート類、ジプロピレングリコールジ(メタ)アクリレート、1,6−ヘキサンジオールジ(メタ)アクリレート、ネオペンチルグリコールジ(メタ)アクリレート、トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレートなどの多官能(メタ)アクリレート類等の各種(メタ)アクリレートが挙げられる。なお、ここで(メタ)アクリレートとの表記は、アクリレート又はメタクリレートを意味する。カチオン重合性モノマーとして、例えば、3,4−エポキシシクロヘキセニルメチル−3’,4’−エポキシシクロヘキセンカルボキシレートなどの脂環式エポキシド類、ビスフェノールAジグリシジルエーテルなどグリシジルエーテル類、4−ヒドロキシブチルビニルエーテルなどビニルエーテル類、3−エチル−3−ヒドロキシメチルオキセタンなどオキセタン類等が挙げられる。
また、かかるプレポリマー(乃至オリゴマー)としては、ラジカル重合性プレポリマーとして、例えば、ウレタン(メタ)アクリレート、エポキシ(メタ)アクリレート、ポリエステル(メタ)アクリレート、トリアジン(メタ)アクリレート、シリコン(メタ)アクリレート等の各種(メタ)アクリレートプレポリマー、トリメチロールプロパントリチオグリコレート、ペンタエリスリトールテトラチオグリコレート等のポリチオール系プレポリマー、不飽和ポリエステルプレポリマー等が挙げられる。その他、カチオン重合性プレポリマーとして、例えば、ノボラック系型エポキシ樹脂プレポリマー、芳香族ビニルエーテル系樹脂プレポリマー等が挙げられる。
これらモノマー、或いはプレポリマーは、要求される性能、塗布適性等に応じて、1種類単独で用いる他、モノマーを2種類以上混合したり、プレポリマーを2種類以上混合したり、或いはモノマー1種類以上とプレポリマー1種類以上とを混合して用いたりすることができる。
As a material constituting such a primer layer, in the present invention, an ionizing radiation curable resin composition containing a liquid (fluid) ionizing radiation curable compound in an uncured state is applied and cured (solidified) by irradiation with ionizing radiation. ) Is used. In addition, an ionized radiation curable resin is cured from an uncured resin having the ability to be cured by a crosslinking reaction or a polymerization reaction by ionizing radiation irradiation, and a cured product obtained by curing the ionizing radiation curable resin (cured material) is cured by ionizing radiation. Called resin. As the ionizing radiation, electromagnetic waves such as ultraviolet rays, visible rays, X rays and γ rays, or charged particle beams such as electron rays and α rays are used. Among these, ultraviolet rays are particularly preferable because they are convenient for handling. In particular, when ultraviolet rays are employed as the ionizing radiation, the ionizing radiation curable resin or the like is referred to as an ultraviolet curable resin or the like.
As the ionizing radiation curable compound, a monomer and / or a prepolymer which is cured by a reaction such as polymerization or crosslinking with ionizing radiation is used.
Examples of such monomers include radically polymerizable monomers such as methyl (meth) acrylate, butyl (meth) acrylate, 2-ethylhexyl (meth) acrylate, lauryl (meth) acrylate, isobornyl (meth) acrylate, and dicyclopentenyl (meth) ) Monofunctional (meth) acrylates such as acrylate, dipropylene glycol di (meth) acrylate, 1,6-hexanediol di (meth) acrylate, neopentyl glycol di (meth) acrylate, trimethylolpropane tri (meth) acrylate , Pentaerythritol tri (meth) acrylate, pentaerythritol tetra (meth) acrylate, dipentaerythritol penta (meth) acrylate, dipentaerythritol hexa (meth) a Polyfunctional (meth) acrylates of various (meth) acrylates such relations and the like. Here, the expression (meth) acrylate means acrylate or methacrylate. Examples of the cationic polymerizable monomer include alicyclic epoxides such as 3,4-epoxycyclohexenylmethyl-3 ′, 4′-epoxycyclohexene carboxylate, glycidyl ethers such as bisphenol A diglycidyl ether, 4-hydroxybutyl vinyl ether And vinyl ethers, and oxetanes such as 3-ethyl-3-hydroxymethyloxetane.
Such prepolymers (or oligomers) include, for example, urethane (meth) acrylate, epoxy (meth) acrylate, polyester (meth) acrylate, triazine (meth) acrylate, and silicon (meth) acrylate as radical polymerizable prepolymers. And various (meth) acrylate prepolymers such as polythiol prepolymers such as trimethylolpropane trithioglycolate and pentaerythritol tetrathioglycolate, and unsaturated polyester prepolymers. Other examples of the cationic polymerizable prepolymer include novolac type epoxy resin prepolymer and aromatic vinyl ether type resin prepolymer.
These monomers or prepolymers may be used alone or in combination of two or more types of monomers, two or more types of prepolymers, or one type of monomer, depending on the required performance, coating suitability, etc. A mixture of the above and one or more prepolymers can be used.

紫外線或いは可視光線での硬化のためには、光重合開始剤を添加する。光重合開始剤としては、ラジカル重合性のモノマー又はプレポリマーの場合には、ベンゾフェノン系、チオキサントン系、ベンゾイン系、アセトフェノン系等の化合物が、またカチオン重合系のモノマー又はプレポリマーの場合には、メタロセン系、芳香族スルホニウム系、芳香族ヨードニウム系等の化合物が用いられる。具体的には、反応波長帯域が光重合開始剤の通常の吸収波長である400nm未満の波長帯域にあるものとして、1−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニル−ケトン[チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製、商品名「イルガキュア184」]、2−ヒドロキシ−2−メチル−1−フェニル−プロパン−1−オン[チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製、商品名「ダロキュア1173」]などが挙げられ、反応波長帯域が通常よりも長波長にあり、400nm以上にも分光感度を有する光重合開始剤としては2−メチル−1[4−(メチルチオ)フェニル]−2−モルフォリノプロパン−1−オン[チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製、商品名「イルガキュア907」]などが挙げられる。   For curing with ultraviolet light or visible light, a photopolymerization initiator is added. As a photopolymerization initiator, in the case of a radically polymerizable monomer or prepolymer, a benzophenone-based, thioxanthone-based, benzoin-based, acetophenone-based compound, or in the case of a cationic polymerization-based monomer or prepolymer, Metallocene, aromatic sulfonium and aromatic iodonium compounds are used. Specifically, it is assumed that the reaction wavelength band is in a wavelength band of less than 400 nm, which is a normal absorption wavelength of the photopolymerization initiator, and 1-hydroxy-cyclohexyl-phenyl-ketone [Ciba Specialty Chemicals, trade name “Irgacure 184”], 2-hydroxy-2-methyl-1-phenyl-propan-1-one [manufactured by Ciba Specialty Chemicals, trade name “Darocur 1173”] and the like, and the reaction wavelength band is more than usual. As a photopolymerization initiator having a long wavelength and having spectral sensitivity of 400 nm or more, 2-methyl-1 [4- (methylthio) phenyl] -2-morpholinopropan-1-one [Ciba Specialty Chemicals Co., Ltd.] Product name “Irgacure 907”] and the like.

当該電離放射線硬化性組成物は、溶剤を含んでもよいが、その場合塗布後に乾燥工程が必要となるため、コストを考えれば溶剤を含まないタイプ(ノンソルベントタイプ乃至無溶剤型)であることが好ましい。外観改善や塗工適性改善などのために溶剤を添加する場合には乾燥が必要となるが、溶剤の添加量が数%程度の量であるならば、硬化後に乾燥させてもよい。残留溶剤量はなるべく少ない方が好ましいが、物性、耐久性に影響がなければ完全にゼロでなくてもよい。   The ionizing radiation curable composition may contain a solvent, but in that case, since a drying step is required after coating, it is a type that does not contain a solvent (non-solvent type or solvent-free type) in consideration of cost. preferable. When a solvent is added for the purpose of improving the appearance or coating applicability, drying is necessary. However, if the amount of the solvent is about several percent, it may be dried after curing. The amount of residual solvent is preferably as small as possible, but may not be completely zero as long as physical properties and durability are not affected.

プライマー層30の厚さ(導電性パターン層10の非形成部の中央部近傍における厚みで評価)は特に限定されないが、通常は硬化後の厚さで1μm〜100μm程度となるように形成される。また、プライマー層30の厚さは、通常は、導電性パターン層10とプライマー層30との合計値(総厚。導電性パターン層10の頂部と透明基材40の表面との高度差)の1〜50%程度である。   The thickness of the primer layer 30 (evaluated by the thickness in the vicinity of the central portion of the non-formed portion of the conductive pattern layer 10) is not particularly limited, but is usually formed to be about 1 μm to 100 μm after curing. . In addition, the thickness of the primer layer 30 is usually the sum of the conductive pattern layer 10 and the primer layer 30 (total thickness. Altitude difference between the top of the conductive pattern layer 10 and the surface of the transparent substrate 40). It is about 1 to 50%.

(導電性パターン層)
本発明における電磁波シールド材100は、透明基材40上に形成されたプライマー層30上に導電性パターン層10が所定のパターンで設けられたもの(以下、「導電部材」ともいう。)を主要部材とする。
該パターン形状としてはメッシュ(網目乃至格子)形状が代表的なものであるが、その他、ストライプ(平行線群乃至縞模様)形状、螺旋形状等も用いられる。メッシュ形状の場合、単位格子形状は、正3角形、不等辺3角形等の3角形、正方形、長方形、台形、菱形等の4角形、6角形、8角形等の多角形、円、楕円等が用いられる。また、モアレを軽減する目的で、ランダム網目状、又は擬似ランダム網目状のパターンなども使用可能である。その線幅と線間ピッチも通常採用されている寸法であればよい。例えば、線幅は5〜50μmとすることができ、線間ピッチは100〜500μmとすることができる。開口率(電磁波シールドパターンの全面積中における開口部の合計面積の占める比率)は、通常、50〜95%程度である。またメッシュの電磁波シールドパターンとは別に、その周辺部の全周又はその一部にそれと導通を保ちつつ隣接した全ベタ等の接地パターンが設けられる場合もある。
なお、線幅は、より高透明のものを得る為により一層微細化することが求められている。この観点から、30μm以下、特に20μm以下とすることが好ましい。
(Conductive pattern layer)
The electromagnetic wave shielding material 100 in the present invention is mainly a material in which the conductive pattern layer 10 is provided in a predetermined pattern on the primer layer 30 formed on the transparent substrate 40 (hereinafter also referred to as “conductive member”). A member.
The pattern shape is typically a mesh (mesh or lattice) shape, but other shapes such as a stripe (parallel line group or stripe pattern) shape, a spiral shape, and the like are also used. In the case of a mesh shape, the unit cell shape may be a triangle such as a regular triangle or an unequal side triangle, a square such as a square, rectangle, trapezoid or rhombus, a polygon such as a hexagon or octagon, a circle or an ellipse. Used. In addition, a random mesh pattern or a pseudo-random mesh pattern can be used for the purpose of reducing moire. The line width and the inter-line pitch may be dimensions that are usually employed. For example, the line width can be 5 to 50 μm, and the line-to-line pitch can be 100 to 500 μm. The aperture ratio (ratio of the total area of the openings in the total area of the electromagnetic wave shield pattern) is usually about 50 to 95%. In addition to the mesh electromagnetic shield pattern, there may be a case where a grounding pattern such as all adjacent solids is provided on the entire periphery or a part of the periphery of the mesh while maintaining electrical continuity therewith.
Note that the line width is required to be further refined in order to obtain a more highly transparent line. From this viewpoint, it is preferably 30 μm or less, particularly 20 μm or less.

また、導電性パターン層10の厚さは、その導電性パターン層の抵抗値によっても異なるが、電磁波シールド性能と該導電性パターン層上への他部材の接着適性との兼ね合いから、その中央部(突起パターンの頂部)での測定において、通常、2μm以上50μm以下であり、好ましくは、5μm以上20μm以下である。
この導電性パターン層10は、金属粒子1とバインダー樹脂2を含む導電性組成物(導電性インキ或いは導電性ペースト)を、後述する印刷法により基材上又は透明プライマー層上に形成することで得ることができる。
Further, although the thickness of the conductive pattern layer 10 varies depending on the resistance value of the conductive pattern layer, the central portion of the conductive pattern layer 10 has a balance between the electromagnetic shielding performance and the suitability for adhesion of other members onto the conductive pattern layer. In the measurement at (the top of the projection pattern), it is usually 2 μm or more and 50 μm or less, preferably 5 μm or more and 20 μm or less.
The conductive pattern layer 10 is formed by forming a conductive composition (conductive ink or conductive paste) containing the metal particles 1 and the binder resin 2 on a substrate or a transparent primer layer by a printing method described later. Obtainable.

導電性組成物を構成する金属粒子1は、金、銀、白金、銅、ニッケル、錫、アルミニウムなどの低抵抗率金属の粒子である。
金属粒子の形状は、正多面体状、截頭多面体状等の各種の多面体状、球状、回転楕円体状、鱗片状、円盤状、樹枝状、繊維状等から選ぶことができる。特に、多面体状、球状、又は回転楕円体状が好ましい。これらの材料や形状は適宜混合して用いてもよい。
金属粒子の大きさは種類に応じて任意に選択されるので一概に特定できないが、好ましくは、平均粒子径が0.01〜10μm程度のものを用いることができる。得られる導電性パターン層の電気抵抗を低く(好ましくは、表面抵抗率が0.8Ω/□以下)して良好な電磁波シールド性を得る為には、平均粒子径は小さい方が好ましく、この観点からは平均粒子径0.1〜1μmが好ましい。また、粒子径の分布については、得られる導電性パターンの電気抵抗を低くする為には、分布幅が狭く単一粒子径に近いよりも、相対的に大粒子径の粒子と相対的に小粒子径の粒子との混合系からなる方がよい。
導電性組成物中の金属粒子の含有量は、金属粒子の導電性や粒子の形態に応じて任意に選択されるが、好適な電磁波シールド性能の発現、導電性パターン層の機械的強度の維持、及び印刷適性を兼ね備える為には、例えば導電性組成物の固形分100質量部のうち、金属粒子を40〜99質量部の範囲で含有させることができる。なお、本明細書において、平均粒子径というときは、粒度分布計、またはTEM(透過型電子顕微鏡)観察で測定した値を指している。
なお、観察により粒子径を測定する場合、粒子形状が球の場合は、その直径が粒子径である。また、粒子形状が非球形状の場合は、該粒子の外接球の直径をもって粒子径とする。
The metal particles 1 constituting the conductive composition are particles of a low resistivity metal such as gold, silver, platinum, copper, nickel, tin, and aluminum.
The shape of the metal particles can be selected from various polyhedron shapes such as a regular polyhedron shape, a truncated polyhedron shape, a spherical shape, a spheroid shape, a scale shape, a disc shape, a dendritic shape, and a fibrous shape. In particular, a polyhedral shape, a spherical shape, or a spheroid shape is preferable. These materials and shapes may be appropriately mixed and used.
The size of the metal particles is arbitrarily selected depending on the type, and thus cannot be specified unconditionally. However, those having an average particle size of about 0.01 to 10 μm can be preferably used. In order to obtain a good electromagnetic wave shielding property by lowering the electric resistance of the obtained conductive pattern layer (preferably, having a surface resistivity of 0.8Ω / □ or less), it is preferable that the average particle diameter is small. Is preferably an average particle size of 0.1 to 1 μm. In addition, regarding the particle size distribution, in order to reduce the electric resistance of the obtained conductive pattern, the particle size distribution is relatively small compared with particles having a relatively large particle size rather than a narrow distribution width and close to a single particle size. It is better to consist of a mixed system with particles of a particle size.
The content of the metal particles in the conductive composition is arbitrarily selected according to the conductivity of the metal particles and the form of the particles. However, suitable electromagnetic shielding performance is exhibited, and the mechanical strength of the conductive pattern layer is maintained. And in order to combine printability, metal particles can be contained in the range of 40-99 mass parts among 100 mass parts of solid content of an electroconductive composition, for example. In the present specification, the average particle diameter refers to a value measured by a particle size distribution meter or TEM (transmission electron microscope) observation.
When measuring the particle diameter by observation, when the particle shape is a sphere, the diameter is the particle diameter. When the particle shape is non-spherical, the diameter of the circumscribed sphere of the particle is used as the particle diameter.

本発明の電磁波シールド材の導電性パターン層内における金属粒子1の分布は、図1の断面図において概念的に図示するように、該導電性パターン層の頂部近傍(プライマー層から遠ざかる方向)においては、相対的に、隣接する粒子間の間隔が小さく、粒子数密度、即ち単位体積当りの粒子数が高く(密に)なり、一方、該導電性パターン層の底部近傍(プライマー層に近付く方向)においては、相対的に、隣接する粒子間の間隔が大きく、粒子数密度が低く(疎に)なる分布である。
プライマー層との界面に隣接する領域における金属粒子1の数密度を1としたときの導電性パターン層の頂部近傍における金属粒子の数密度の比は、1.5〜10程度の範囲が好ましい。
また、高導電性を発現し良好な電磁波シールド性を示す為には、隣接する金属粒子同士の平均粒子間隔としては、プライマー層との界面に隣接する領域において0.5〜3μm、頂部近傍において0〜0.5μmの範囲が好ましい。
かかる分布であるため、導電性パターン層の頂部近傍では、金属粒子は、緻密に集合し、各粒子間の電気的接触も良好になり、電気抵抗が下がり、電磁波シールド効果も高まる。また、プライマー層近傍において金属粒子の分布が疎であるので、透明基材側を外側に向けたときも、導電性パターン層の光反射は低減され、画像コントラストは良好である。
なお、導電性パターン層10が特に、メッシュ、ストライプ等の線條パターンから成る場合は、導電性パターン層10中における金属粒子1の分布状態は線條パターンの延在方向には依存性を持たない(延在方向には単位体積中の粒子数密度は一定)。その為、かかる線條パターンを含む導電性パターン層10の場合には、単位体積中の金属粒子1の数密度は、該線條パターンの主切断面(延在方向に直交する断面)における単位面積中の金属粒子1の数密度(面密度)で評価できる。即ち図1の如く、主切断面内において、金属粒子1の数の面密度がプライマー層30近傍に比べて頂部近傍の方が大きくなる分布であれば、すなわち、金属粒子1の数の体積密度もプライマー層30近くに比べて頂部近くの方が大きくなる分布であると判断してよい。
金属粒子1の面密度の測定は、導電性パターン層10の主切断面の顕微鏡(拡大)写真を撮り、該写真上において、プライマー層近傍から頂部近傍迄の間の特定の位置(点)を中心とした適当な測定面積内の金属粒子数を計数し、該測定面積で割り算することにより、該特定の位置における金属粒子数の面密度とする。
また、同様に、導電性パターン層10中における隣接する金属粒子1同士の間隔も、線條パターンの延在方向には依存性を持たない。その為、かかる線條パターンを含む導電性パターン層10の場合には、該線條パターンの主切断面における単位面積中の粒子間隔で評価できる。即ち図1の如く、主切断面内において、隣接する金属粒子1同士の間隔がプライマー層30近傍に比べて頂部近傍の方が小になる分布であれば、即ち、延在方向も含めた3次元空間内における隣接する粒子間の距離の分布についても、同様に、プライマー層30近くに比べて頂部近くの方が小になる分布であると判断してよい。
隣接する金属粒子1の間の間隔(距離)の測定は、導電性パターン層10の主切断面の顕微鏡(拡大)写真を撮り、該写真上において、プライマー層近傍から頂部近傍迄の間の特定の点に位置する金属粒子1について、該金属粒子からの距離が近い順に3乃至10個の他の金属粒子との間隔を測定し、これを平均した値をもって、該位置に存在する特定粒子についての、隣接する金属粒子間の間隔とする。
The distribution of the metal particles 1 in the conductive pattern layer of the electromagnetic wave shielding material of the present invention is in the vicinity of the top of the conductive pattern layer (direction away from the primer layer) as conceptually illustrated in the cross-sectional view of FIG. Is relatively small in the interval between adjacent particles, and the particle number density, that is, the number of particles per unit volume is high (dense), while near the bottom of the conductive pattern layer (direction approaching the primer layer) ) Is a distribution in which the interval between adjacent particles is relatively large and the particle number density is low (sparse).
The ratio of the number density of the metal particles in the vicinity of the top of the conductive pattern layer when the number density of the metal particles 1 in the region adjacent to the interface with the primer layer is 1 is preferably in the range of about 1.5 to 10.
Moreover, in order to express high conductivity and exhibit good electromagnetic wave shielding properties, the average particle spacing between adjacent metal particles is 0.5 to 3 μm in the region adjacent to the interface with the primer layer, in the vicinity of the top. A range of 0 to 0.5 μm is preferable.
Because of this distribution, the metal particles gather densely near the top of the conductive pattern layer, the electrical contact between the particles is good, the electrical resistance is lowered, and the electromagnetic wave shielding effect is enhanced. Further, since the distribution of the metal particles is sparse in the vicinity of the primer layer, the light reflection of the conductive pattern layer is reduced and the image contrast is good even when the transparent substrate side is directed outward.
In particular, when the conductive pattern layer 10 is formed of a wire rod pattern such as a mesh or a stripe, the distribution state of the metal particles 1 in the conductive pattern layer 10 does not depend on the extending direction of the wire rod pattern ( The particle number density in the unit volume is constant in the extending direction). Therefore, in the case of the conductive pattern layer 10 including such a wire rod pattern, the number density of the metal particles 1 in the unit volume is in the unit area in the main cutting plane (cross section orthogonal to the extending direction) of the wire rod pattern. The number density (surface density) of the metal particles 1 can be evaluated. That is, as shown in FIG. 1, if the surface density of the number of metal particles 1 is larger in the vicinity of the top portion than the vicinity of the primer layer 30 in the main cutting plane, that is, the volume density of the number of metal particles 1. It may be determined that the distribution near the top is larger than that near the primer layer 30.
The surface density of the metal particles 1 is measured by taking a microscopic (enlarged) photograph of the main cut surface of the conductive pattern layer 10 and showing a specific position (point) between the vicinity of the primer layer and the vicinity of the top on the photograph. The number of metal particles within an appropriate measurement area as a center is counted and divided by the measurement area to obtain the surface density of the number of metal particles at the specific position.
Similarly, the distance between adjacent metal particles 1 in the conductive pattern layer 10 does not depend on the extending direction of the wire pattern. For this reason, in the case of the conductive pattern layer 10 including such a wrinkle pattern, it can be evaluated by the particle spacing in the unit area on the main cut surface of the wrinkle pattern. That is, as shown in FIG. 1, if the distance between adjacent metal particles 1 in the main cut surface is a distribution that is smaller in the vicinity of the top portion than in the vicinity of the primer layer 30, that is, including the extending direction. Similarly, regarding the distribution of the distance between adjacent particles in the dimensional space, it may be determined that the distribution near the top is smaller than that near the primer layer 30.
The distance (distance) between the adjacent metal particles 1 is measured by taking a microscopic (enlarged) photograph of the main cut surface of the conductive pattern layer 10 and specifying the area from the vicinity of the primer layer to the vicinity of the top on the photograph. For the metal particle 1 located at the point, the distance from 3 to 10 other metal particles is measured in order from the shortest distance from the metal particle, and the average value of this is used to determine the specific particle present at the position. The distance between adjacent metal particles.

導電性パターン層中における金属粒子1の密度分布を制御し、相対的に、該プライマー層近傍において分布が疎であり、導電性パターンの頂部近傍において密であるようにする為には、或いは隣接する金属粒子1同士の間隔が、相対的に、該プライマー層近傍において大であり、又該導電性パターン層の頂部近傍において小であるようにする為には、例えば、後述の凹版印刷法を応用した電磁波シールド材の製造方法において、版面凹部内に充填された導電性組成物上面の凹みに、透明基材上の流動状態のプライマー層を押圧する圧力を高めに設定すると共に、未硬化状態における該導電性組成物の粘度を低めに設定し、更に該導電性組成物を凹版凹部内で固化させずに、版面から離型後固化せしめることが有効である。
その他、これら金属粒子1の密度分布や配向状態は、導電性組成物のバインダー樹脂2の種類、金属粒子の材料と粒子径と粒子形状、バインダー樹脂と金属粒子との配合比、金属粒子と樹脂バインダーとの比重差、及び該導電性組成物の塗工条件や固化条件等に依存する。現実には、これら金属粒子の密度分布や配向状態に影響する各種条件から実験的に、求める金属粒子の密度分布及び配向に合致する条件を決定することになる。金属粒子1とバインダー樹脂2との比重差については、一般には、金属粒子として通常の金属を用い、バインダー樹脂として有機高分子化合物を用いる場合には、「金属粒子の比重>バインダー樹脂の比重」となる為、比重差のみを利用して金属粒子の数密度を前記の如くの分布にする場合は、頂部が重力の向きと同じ向き(下向き)にして導電性パターン層10を流動状態から固化せしめることが有効である。
In order to control the density distribution of the metal particles 1 in the conductive pattern layer so that the distribution is relatively sparse near the primer layer and dense near the top of the conductive pattern, or adjacent In order to make the interval between the metal particles 1 relatively large in the vicinity of the primer layer and small in the vicinity of the top of the conductive pattern layer, for example, an intaglio printing method described later is used. In the applied electromagnetic shielding material manufacturing method, in the recess of the upper surface of the conductive composition filled in the concave portion of the plate surface, the pressure for pressing the primer layer in a fluid state on the transparent substrate is set high, and the uncured state It is effective to set the viscosity of the conductive composition at a low value, and to solidify after releasing from the plate surface without solidifying the conductive composition in the intaglio recess.
In addition, the density distribution and orientation state of these metal particles 1 are the kind of the binder resin 2 of the conductive composition, the material and particle diameter and particle shape of the metal particles, the blending ratio of the binder resin and the metal particles, the metal particles and the resin. It depends on the specific gravity difference with the binder and the coating conditions and solidification conditions of the conductive composition. In practice, conditions that match the desired density distribution and orientation of the metal particles are determined experimentally from various conditions that affect the density distribution and orientation state of these metal particles. Regarding the specific gravity difference between the metal particles 1 and the binder resin 2, in general, when a normal metal is used as the metal particles and an organic polymer compound is used as the binder resin, “the specific gravity of the metal particles> the specific gravity of the binder resin”. Therefore, when the number density of the metal particles is distributed as described above by using only the specific gravity difference, the conductive pattern layer 10 is solidified from the fluid state with the top portion in the same direction as the direction of gravity (downward). It is effective to squeeze.

導電性組成物を構成するバインダー樹脂2としては、熱硬化性樹脂、電離放射線硬化性樹脂、熱可塑性樹脂が使用可能である。なお、後述の電気抵抗低減化処理を施す場合は、酸又は温水にて溶解することのない非水溶性樹脂を用いる。かかるバインダー樹脂を例示すると、熱硬化性樹脂としては、例えば、メラミン樹脂、ポリエステル−メラミン樹脂、エポキシ−メラミン樹脂、フェノール樹脂、ポリイミド樹脂、熱硬化性アクリル樹脂、熱硬化性ポリウレタン樹脂、熱硬化性ポリエステル樹脂等の樹脂を挙げることができ、電離放射線硬化性樹脂としては、プライマーの材料として前記した物を挙げることができ、これらを1種単独で、或いは2種以上混合して用いる。熱可塑性樹脂としては、熱可塑性ポリエステル樹脂、ポリビニルブチラール樹脂、熱可塑性アクリル樹脂、熱可塑性ポリウレタン樹脂、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体等の樹脂を挙げることができ、これらを1種単独で、或いは2種以上混合して用いる。なお、熱硬化性樹脂を使用する場合、必要に応じて硬化触媒を添加してもよい。電離放射線硬化性樹脂を用いる場合は必要に応じて光重合開始剤を添加してもよい。
また、版の凹部への充填に適した流動性を得るために、これら樹脂は通常、溶剤に溶けたワニスとして使用する。導電性ペーストとして用いる溶剤の種類には特に制限はなく、一般的に印刷インキに用いられる溶剤の中から適宜選択して使用できる。溶剤の含有量は通常、10〜70質量%程度であるが、必要な流動性が得られる範囲でなるべく少ない方が好ましい。また、電離放射線硬化性樹脂を用いる場合には、もともと流動性があるため、必ずしも溶剤を必要としない。
As the binder resin 2 constituting the conductive composition, a thermosetting resin, an ionizing radiation curable resin, or a thermoplastic resin can be used. In addition, when performing the below-mentioned electrical resistance reduction process, the water-insoluble resin which does not melt | dissolve with an acid or warm water is used. Examples of such a binder resin include thermosetting resins such as melamine resin, polyester-melamine resin, epoxy-melamine resin, phenol resin, polyimide resin, thermosetting acrylic resin, thermosetting polyurethane resin, thermosetting resin. Resins such as polyester resins can be exemplified, and examples of the ionizing radiation curable resin include those described above as the material of the primer, and these are used singly or in combination of two or more. Examples of the thermoplastic resin include thermoplastic polyester resins, polyvinyl butyral resins, thermoplastic acrylic resins, thermoplastic polyurethane resins, vinyl chloride-vinyl acetate copolymers, and the like. A mixture of two or more types is used. In addition, when using a thermosetting resin, you may add a curing catalyst as needed. When using an ionizing radiation curable resin, a photopolymerization initiator may be added as necessary.
Further, in order to obtain fluidity suitable for filling the concave portion of the plate, these resins are usually used as a varnish dissolved in a solvent. There is no restriction | limiting in particular in the kind of solvent used as an electrically conductive paste, It can select from the solvent generally used for printing ink, and can use it. The content of the solvent is usually about 10 to 70% by mass, but is preferably as small as possible within a range where necessary fluidity can be obtained. In addition, when an ionizing radiation curable resin is used, a solvent is not necessarily required because it is inherently fluid.

(導電性パターン層の形成方法)
所定のパターンの導電性パターン層10を形成するには、導電性組成物を特許文献2に記載の凹版印刷で印刷する。
この印刷法は、凹版の凹部のみにドクターブレードなどを利用して導電性組成物を充填し、これに液状プライマー層を片面に形成済みの透明基材を、該プライマー層が凹版に接する向きで加圧ローラで圧着するなどして該プライマー層を接触させて、接触している状態でプライマー層を液状から固体状に固化させた後、透明基材を凹版から離して離版させることで、透明基材上の固化したプライマー層上に導電性組成物を転移させて、印刷するものである。
(Method for forming conductive pattern layer)
In order to form the conductive pattern layer 10 having a predetermined pattern, the conductive composition is printed by intaglio printing described in Patent Document 2.
This printing method uses a doctor blade or the like to fill only a concave portion of an intaglio plate with a conductive composition, and a transparent base material on which a liquid primer layer has been formed on one side thereof, with the primer layer in contact with the intaglio plate. The primer layer is brought into contact, for example, by pressure bonding with a pressure roller, and after the primer layer is solidified from a liquid state to a solid state in a contact state, the transparent substrate is separated from the intaglio plate to release the plate, The conductive composition is transferred onto a solidified primer layer on a transparent substrate and printed.

印刷後、つまり離版後、まだ液状である導電性パターン層10に対しては、乾燥操作、加熱操作、冷却操作、化学反応操作などを適宜行い、固化せしめて導電性の導電性パターン層10を完成させる。例えば、乾燥操作は、導電性組成物中の溶剤など不要な揮発成分を除去するため、加熱操作は、該乾燥や導電性組成物の熱硬化などの必要な化学反応を促進させるため、冷却操作は、加熱溶融した熱可塑性樹脂の導電性組成物やプライマー層の固化促進のため、化学反応操作は、加熱によらない電離放射線照射などのその他の手段による導電性組成物やプライマー層の化学反応を進行させるために行う。
また、導電性組成物は、版上で半硬化固化させ離版後に完全硬化させてもよい。
After printing, that is, after release, the conductive pattern layer 10 that is still liquid is appropriately subjected to a drying operation, a heating operation, a cooling operation, a chemical reaction operation, and the like, and solidified by being solidified. To complete. For example, a drying operation removes unnecessary volatile components such as a solvent in the conductive composition, and a heating operation promotes a necessary chemical reaction such as drying and thermal curing of the conductive composition, so that a cooling operation is performed. In order to accelerate the solidification of the conductive composition and primer layer of thermoplastic resin that has been heated and melted, the chemical reaction operation may be performed by other means such as ionizing radiation irradiation that does not involve heating. To make progress.
Further, the conductive composition may be semi-cured and solidified on the plate and completely cured after the release.

一般に、凹版印刷では、導電性組成物を版面に供給し、ドクターブレード等で余剰の該組成物を掻き取って版凹部に該組成物を充填する際、充填された該組成物の表面に凹みが発生する。この凹みは、該組成物中の溶剤乾燥による体積收縮、掻き取り時の該組成物のレオロジー的挙動等に起因するものと考えられる。該凹部の為、透明基材との密着不良、透明基材上への該組成物の転移率低下という不具合を生じていた。
一方、特許文献2に記載の凹版印刷では、凹版凹部内に充填された導電性組成物の上部に窪み(凹み)が生じても、液状で流動性のプライマー層を介して印刷するので、印刷中にプライマー層を該窪みに流し込み隙間なく密着させた状態にでき、その後、プライマー層を固化させてから透明基材を凹版から離すので、透明基材上に固化したプライマー層30を介して所定パターンの導電性パターン層10を、細線でも、転移不足による断線や形状不良、インキ密着性不足などの印刷不良の発生なく形成できる。凹版印刷工程において、かくの如く凹版凹部内に充填されたインキの表面に生じる窪みをプライマー層が流入、充填する結果、得られた導電性部材は、プライマー層の厚みが、前記導電性パターン層が形成されている部分の厚みが前記導電性パターン層が形成されていない部分の厚みよりも厚くなる。
In general, in intaglio printing, when a conductive composition is supplied to a plate surface, the excess of the composition is scraped off with a doctor blade or the like to fill the concave portion of the plate with the composition, a dent is formed on the surface of the filled composition. Occurs. This dent is thought to be due to volumetric shrinkage due to solvent drying in the composition, rheological behavior of the composition during scraping, and the like. Due to the concave portions, there were problems such as poor adhesion to the transparent substrate and a decrease in the transfer rate of the composition onto the transparent substrate.
On the other hand, in the intaglio printing described in Patent Document 2, printing is performed through a liquid and fluid primer layer even when a depression (dent) is formed in the upper part of the conductive composition filled in the intaglio depression. The primer layer can be poured into the recess and brought into close contact, and then the primer layer is solidified and then the transparent base material is released from the intaglio. Therefore, the primer layer is predetermined via the primer layer 30 solidified on the transparent base material. The conductive pattern layer 10 of the pattern can be formed even with a thin line without occurrence of printing failure such as disconnection or shape failure due to insufficient transfer or insufficient ink adhesion. In the intaglio printing process, as a result of the primer layer flowing in and filling the depressions formed in the surface of the ink filled in the intaglio depressions as described above, the resulting conductive member has a thickness of the primer layer of the conductive pattern layer. The thickness of the portion where is formed becomes thicker than the thickness of the portion where the conductive pattern layer is not formed.

導電性組成物を凹版凹部内から該プライマー層を介して透明基材上に転写し、固化せしめて導電性パターン層とした後、更に、(i)温水処理として、水分存在下、且つ比較的高温下にて処理する、及び/又は(ii)酸処理として、酸に接触させることによって、該導電性パターンの体積抵抗率、更には表面抵抗率が低下し、導電性能が向上する。
(i)の温水処理は、水温30〜100℃の温水の中に導電部材を浸漬したり、温水を導電部材上に掛け流したり、或いは気温30〜100℃で相対湿度60%以上の雰囲気中に暴露する方法が好ましく、処理時間は、概ね5分〜20秒程度である。
(ii)の酸処理において、酸としては、特に限定されず、種々の無機酸、有機酸から選択できるが、好ましくは塩酸、硫酸、クエン酸およびその水溶液であり、酸による処理時間は数分以下で十分であり、処理温度は、常温で十分である。酸で処理する方法は特に限定されないが、酸の溶液の中へ導電部材を浸漬させる方法が、導電性向上効果に優れるため好ましく、酸の濃度は、好ましくは1mol/L以下、より好ましくは0.1mol/L以上である。酸処理としては、1種類の酸を用い1回接触させる他、2種類以上の酸を用い順次別の酸に接触させても良い。特に、電磁波シールド材を、先ず塩酸に浸漬し、しかる後クエン酸に浸漬すると、塩酸のみ或いはクエン酸のみに1回浸漬するよりも、電気抵抗低減化効果は良好である。
これら電気抵抗低減化処理のうち、電気抵抗低減化効果、作業性の点から、(ii)の酸処理の後、引き続いて(i)の温水処理を行うことが好ましい。
かかる電気抵抗低減化処理によって、導電性パターン全体の表面抵抗率は処理前の80〜30%程度に減少する(見かけの体積抵抗率も同様に処理前の80〜30%程度となる)。
After the conductive composition is transferred from the intaglio depression to the transparent substrate through the primer layer and solidified to form a conductive pattern layer, (i) as hot water treatment, By performing the treatment at a high temperature and / or (ii) contacting with an acid as the acid treatment, the volume resistivity and further the surface resistivity of the conductive pattern are lowered, and the conductive performance is improved.
The hot water treatment (i) is performed by immersing the conductive member in hot water having a water temperature of 30 to 100 ° C., flowing hot water over the conductive member, or in an atmosphere having a relative humidity of 60% or more at an air temperature of 30 to 100 ° C. The method of exposing to is preferable, and the treatment time is about 5 minutes to 20 seconds.
In the acid treatment of (ii), the acid is not particularly limited, and can be selected from various inorganic acids and organic acids, but is preferably hydrochloric acid, sulfuric acid, citric acid or an aqueous solution thereof, and the treatment time with the acid is several minutes. The following is sufficient, and the processing temperature is sufficient at room temperature. The method of treating with an acid is not particularly limited, but the method of immersing a conductive member in an acid solution is preferable because of its excellent conductivity improving effect, and the acid concentration is preferably 1 mol / L or less, more preferably 0. .1 mol / L or more. As the acid treatment, one type of acid may be used for contact once, or two or more types of acids may be used for sequential contact with another acid. In particular, when the electromagnetic wave shielding material is first immersed in hydrochloric acid and then immersed in citric acid, the electrical resistance reducing effect is better than when immersed in hydrochloric acid alone or in citric acid only once.
Among these electrical resistance reduction treatments, it is preferable to perform the hot water treatment (i) subsequently after the acid treatment (ii) from the viewpoint of the electrical resistance reduction effect and workability.
By this electrical resistance reduction treatment, the surface resistivity of the entire conductive pattern is reduced to about 80 to 30% before the treatment (the apparent volume resistivity is also about 80 to 30% before the treatment).

上記の電気抵抗低減化処理によって表面抵抗率が減少する理由は、導電性パターン層10の横断面の電子顕微鏡写真による観察から、該電気抵抗低減化処理によって、間隔0で隣接する該金属粒子1同士の少なくとも一部が互いに融合(融着)した連なりを有してなる部分を形成しているためと推定される。ここで融合とは、電子顕微鏡観察において、隣接する金属粒子の間隔0で接する部分の境界面(線)が消失し、該接する部分において隣接粒子が一体化している状態を云う。一方、上記の電気抵抗低減化処理を施す前の状態においては、電子顕微鏡観察において、隣接する金属粒子の間隔0で接する部分には境界面(線)が存在し、単に接触している状態に留まっている。
また、上記の電気抵抗低減化処理を施した後も、尚、導電性パターン層10中において金属粒子1同士の間の空隙にはバインダー樹脂2が存在し、金属粒子1同士を、これら金属粒子同士が融合している領域を除いた領域において、互いに結合せしめている。言葉を換えて言えば、導電性パターン層10は、図1の断面図に示すように、バインダー樹脂2中に金属粒子1が複数分散してなると共に、これら金属粒子1同士の少なくとも一部の間において、隣接する金属粒子1同士が融合し、融合した金属粒子1同士が連なって電流を流し得る経路が形成されている。
The reason why the surface resistivity is reduced by the electrical resistance reducing process is that the metal particles 1 adjacent to each other with an interval of 0 are observed by the electrical resistance reducing process from the observation of the cross section of the conductive pattern layer 10 by an electron micrograph. It is presumed that at least a part of each other forms a part having a continuous (fused) connection. Here, the fusion refers to a state in which the boundary surface (line) of the portion in contact with the adjacent metal particles at the interval 0 disappears and the adjacent particles are integrated in the contact portion in the electron microscope observation. On the other hand, in the state before performing the above-described electrical resistance reduction treatment, the boundary surface (line) is present in the portion in contact with the interval 0 of the adjacent metal particles in the electron microscope observation, and is simply in contact. Stays.
In addition, even after the electrical resistance reduction treatment is performed, the binder resin 2 exists in the gap between the metal particles 1 in the conductive pattern layer 10, and the metal particles 1 are separated from each other by the metal particles 1. In the region excluding the region where the two are fused, they are joined together. In other words, as shown in the sectional view of FIG. 1, the conductive pattern layer 10 includes a plurality of metal particles 1 dispersed in the binder resin 2, and at least a part of the metal particles 1. In the middle, adjacent metal particles 1 are fused together, and a path through which the fused metal particles 1 are connected to each other can be formed.

(粘着剤層)
本発明の電磁波シールド材100において、導電部材の導電性パターン層10側には粘着剤層20が設けられる。
該粘着剤層としては、アクリル系粘着剤であって、その上に設けられる光学機能層との良好な接着性のために、カルボキシル基を含有するアクリル系粘着剤を使用する。そして、該粘着剤層は、導電性パターン層10(中の金属粒子1)の着色を防止するために、防錆剤を添加する。
該防錆剤の種類としては、特に制限はなく、例えば、1H−ベンゾトリアゾール、1H−ベンゾトリアゾール・ナトリウム塩、1H−ベンゾトリアゾール・カリウム塩、1H−トリルトリアゾール又は1H−ベンゾトリアゾール・アミン塩等のベンゾトリアゾール系化合物、フェニルテトラゾール系化合物、2−アミノベンゾチアゾール、2−アミノピリジン、2−アミノピリミジン、2−アミノキノリン、2−アミノキナゾリン、4−アミノキナゾリン、2−アミノキノキサリン,8−アミノプリン,2−アミノベンゾイミダゾール,アミノトリアジン又はアミノトリアゾール及びこれらの置換誘導体、等が用いられる。
これらの中でも、ベンゾトリアゾール系化合物が好ましい。中でも特に、その防錆性能、その取り扱い易さ等から、1H−ベンゾトリアゾールがより好ましい。
(Adhesive layer)
In the electromagnetic wave shielding material 100 of the present invention, an adhesive layer 20 is provided on the conductive pattern layer 10 side of the conductive member.
The pressure-sensitive adhesive layer is an acrylic pressure-sensitive adhesive, and an acrylic pressure-sensitive adhesive containing a carboxyl group is used for good adhesion to the optical functional layer provided thereon. The pressure-sensitive adhesive layer is added with a rust preventive agent in order to prevent the conductive pattern layer 10 (the metal particles 1 therein) from being colored.
There is no restriction | limiting in particular as kind of this rust preventive agent, For example, 1H-benzotriazole, 1H-benzotriazole sodium salt, 1H-benzotriazole potassium salt, 1H-tolyltriazole, 1H-benzotriazole amine salt, etc. Benzotriazole compounds, phenyltetrazole compounds, 2-aminobenzothiazole, 2-aminopyridine, 2-aminopyrimidine, 2-aminoquinoline, 2-aminoquinazoline, 4-aminoquinazoline, 2-aminoquinoxaline, 8-amino Purine, 2-aminobenzimidazole, aminotriazine or aminotriazole and substituted derivatives thereof are used.
Among these, benzotriazole compounds are preferable. Among these, 1H-benzotriazole is more preferable because of its rust prevention performance and ease of handling.

カルボキシル基を含有するアクリル系粘着剤としては、モノマーとして少なくとも(メタ)アクリル酸アルキルエステルのモノマーとカルボキシル基を有するモノマーを共重合成分とする共重合体を用いる。なお、本願明細書において(メタ)アクリル酸とは、アクリル酸又はメタクリル酸を意味し、(メタ)アクリレートとはアクリレート又はメタクリレートを意味する。
該共重合体において、(メタ)アクリル酸アルキルエステルのモノマーとしては、(メタ)アクリル酸メチル、(メタ)アクリル酸エチル、(メタ)アクリル酸プロピル、(メタ)アクリル酸ブチル、(メタ)アクリル酸オクチル、(メタ)アクリル酸ラウリル等、炭素原子数1〜18程度のアルキル基を有する(メタ)アクリル酸アルキルエステルモノマーの1種以上が用いられる。
カルボキシル基を有するモノマーとしては、(メタ)アクリル酸、イタコン酸、クロトン酸、マレイン酸、フマール酸等のカルボキシル基を有するビニルモノマーの1種以上が用いられる。
また、該共重合体には、その他モノマーとして、(メタ)アクリル酸2ヒドロキシエチル、(メタ)アクリル酸2ヒドロキシ3フェニルオキシプロピル等の水酸基を有する(メタ)アクリル酸アルキルエステル、スチレン、酢酸ビニル、ハロゲン化ビニル化合物等の1種以上のビニルモノマーが用いられてよい。
As the acrylic pressure-sensitive adhesive containing a carboxyl group, a copolymer having at least a monomer of (meth) acrylic acid alkyl ester and a monomer having a carboxyl group as a copolymerization component is used. In the present specification, (meth) acrylic acid means acrylic acid or methacrylic acid, and (meth) acrylate means acrylate or methacrylate.
In the copolymer, monomers of (meth) acrylic acid alkyl ester include methyl (meth) acrylate, ethyl (meth) acrylate, propyl (meth) acrylate, butyl (meth) acrylate, (meth) acrylic. One or more of (meth) acrylic acid alkyl ester monomers having an alkyl group having about 1 to 18 carbon atoms such as octyl acid and lauryl (meth) acrylate are used.
As the monomer having a carboxyl group, one or more vinyl monomers having a carboxyl group such as (meth) acrylic acid, itaconic acid, crotonic acid, maleic acid, fumaric acid and the like are used.
In addition, the copolymer includes (meth) acrylic acid alkyl ester having a hydroxyl group such as 2-hydroxyethyl (meth) acrylate, 2-hydroxy-3-phenyloxypropyl (meth) acrylate, styrene, vinyl acetate as other monomers. One or more vinyl monomers such as a halogenated vinyl compound may be used.

1H−ベンゾトリアゾールの粘着剤層中の含有量は、0.1〜20質量%であることが好ましく、0.5〜5質量%であることがさらに好ましい。   The content of the 1H-benzotriazole in the pressure-sensitive adhesive layer is preferably 0.1 to 20% by mass, and more preferably 0.5 to 5% by mass.

本発明の1H−ベンゾトリアゾール含有粘着剤層20は、前記粘着剤及び1H−ベンゾトリアゾールを適当な溶剤に溶解させた粘着剤溶液からなる塗工液を導電性パターン層10の上に塗工し、塗膜を形成させた後、乾燥させることにより形成される。
或いは、予め離型シート上に塗工形成し乾燥させておいた粘着剤層20を、導電性パターン層10上に該粘着剤層側が該導電性パターン層側と対峙するようにして積層し、しかる後、該離型シートのみを剥離除去する方法(所謂転写塗工法)によって形成することもできる。
溶剤としては、例えばヘキサン、ヘプタン、シクロヘキサンなどの脂肪族炭化水素;トルエン、キシレンなどの芳香族炭化水素;塩化メチレン、塩化エチレンなどのハロゲン化炭化水素、メタノール、エタノール、プロパノール、ブタノール、1−メトキシ−2−プロパノールなどのアルコール;アセトン、メチルエチルケトン、2−ペンタノン、メチルイソブチルケトン、イソホロンなどのケトン;酢酸エチル、酢酸ブチルなどのエステル;エチルセロソルブなどのセロソルブ系溶剤などが挙げられる。
The 1H-benzotriazole-containing pressure-sensitive adhesive layer 20 of the present invention is formed by applying a coating solution comprising a pressure-sensitive adhesive solution prepared by dissolving the pressure-sensitive adhesive and 1H-benzotriazole in a suitable solvent on the conductive pattern layer 10. It is formed by drying after forming a coating film.
Alternatively, the pressure-sensitive adhesive layer 20 that has been coated and dried in advance on the release sheet is laminated on the conductive pattern layer 10 so that the pressure-sensitive adhesive layer side faces the conductive pattern layer side, Thereafter, it can also be formed by a method of peeling and removing only the release sheet (so-called transfer coating method).
Examples of the solvent include aliphatic hydrocarbons such as hexane, heptane, and cyclohexane; aromatic hydrocarbons such as toluene and xylene; halogenated hydrocarbons such as methylene chloride and ethylene chloride, methanol, ethanol, propanol, butanol, and 1-methoxy. Examples include alcohols such as 2-propanol; ketones such as acetone, methyl ethyl ketone, 2-pentanone, methyl isobutyl ketone, and isophorone; esters such as ethyl acetate and butyl acetate; and cellosolv solvents such as ethyl cellosolve.

これら1H−ベンゾトリアゾール含有粘着剤層20の厚さとしては、5〜800μmの範囲が好ましく、10〜500μmの範囲がさらに好ましく、20〜300μmの範囲が特に好ましい。なお、当該粘着剤層は、被着体と充分な接着力を確保する、及び導電性パターン層10の凹部内に気泡を残留させないという観点から、導電部材において導電性パターン層10の凹凸を完全に充填し、該粘着剤層の表面が平坦面となるように塗工することが好ましい。   The thickness of the 1H-benzotriazole-containing pressure-sensitive adhesive layer 20 is preferably in the range of 5 to 800 μm, more preferably in the range of 10 to 500 μm, and particularly preferably in the range of 20 to 300 μm. Note that the pressure-sensitive adhesive layer completely prevents the conductive pattern layer 10 from being uneven in the conductive member from the viewpoints of ensuring sufficient adhesion with the adherend and preventing air bubbles from remaining in the concave portions of the conductive pattern layer 10. It is preferable to coat so that the surface of the pressure-sensitive adhesive layer becomes a flat surface.

〔複合化フィルタ〕
こうして得られた電磁波シールド材100の粘着剤層20上(表面)に、又は、電磁波シールド材100の透明基材側(裏面)に、或いは、それら両面に、光学機能層200を設けることにより、複合化フィルタ1000を得る。
粘着剤層20は、その上に光学機能層を設けるときは、接着層或いは平坦化層の役割を担い、透明基材側にのみ光学機能層を設けるときは、複合化フィルタを画像表示装置本体又は画像表示装置基板に接着する役割を担ってもよい。
光学機能層200としては、従来公知のものが用いられ、近赤外線吸収層、ネオン光吸収層、紫外線吸収層、反射防止層、防眩層、薄膜ミクロルーバ層などを挙げることができる。
光学機能層の形成方法としては、反射防止層の場合、予め透明樹脂シートからなる支持体上に形成した反射防止層を貼り合わせて積層する方法、或いは他の光学機能層構成層上に直接反射防止層を塗工する方法のいずれでもよい。また、近赤外線吸収層、ネオン光吸収層など吸収色素を用いる場合は、これら吸収色素を含有させた樹脂フィルムを貼り合わせてもよく、或いはこれら吸収色素を前記粘着剤層20中に含有させて、該粘着剤層にその機能を持たせることもできる。
複合化フィルタ1000は、単品で、或いは更に各種の他の機能層を積層したものをディスプレイ用フィルタとして、反射防止層又は防眩層を含む光学機能層を観察者側に向けてディスプレイパネルの前面に設置され、本発明の複合化フィルタを設置した画像表示装置が得られる。他の機能層としては、耐衝撃層、帯電防止層、ハードコート層、防汚層、抗菌層、防黴層などを挙げることができる。
[Composite filter]
By providing the optical functional layer 200 on the pressure-sensitive adhesive layer 20 (front surface) of the electromagnetic wave shielding material 100 thus obtained, on the transparent substrate side (back surface) of the electromagnetic wave shielding material 100, or on both surfaces thereof, A composite filter 1000 is obtained.
The pressure-sensitive adhesive layer 20 serves as an adhesive layer or a flattening layer when an optical functional layer is provided thereon, and when the optical functional layer is provided only on the transparent substrate side, the composite filter is attached to the image display device main body. Or you may play the role which adhere | attaches on an image display apparatus board | substrate.
As the optical functional layer 200, a conventionally known layer is used, and examples thereof include a near infrared absorption layer, a neon light absorption layer, an ultraviolet absorption layer, an antireflection layer, an antiglare layer, and a thin film microlouver layer.
As an optical functional layer formation method, in the case of an antireflection layer, a method of laminating an antireflection layer formed on a support made of a transparent resin sheet in advance, or directly reflecting on another optical functional layer constituting layer Any method of coating the prevention layer may be used. Moreover, when using absorption pigment | dyes, such as a near-infrared absorption layer and a neon light absorption layer, you may paste together the resin film containing these absorption pigment | dyes, or these absorption pigment | dyes are contained in the said adhesive layer 20. The pressure-sensitive adhesive layer can also have the function.
The composite filter 1000 is a single product or a laminate of various other functional layers as a display filter, and the optical functional layer including an antireflection layer or an antiglare layer is directed to the viewer side with the front surface of the display panel. And an image display device provided with the composite filter of the present invention is obtained. Examples of other functional layers include an impact resistant layer, an antistatic layer, a hard coat layer, an antifouling layer, an antibacterial layer, and an antifungal layer.

〔用途〕
本発明の複合化フィルタは、各種用途に使用可能である。特に、各種の、テレビジョン受像装置、測定機器や計器類、事務用機器、医療機器、遊戯機器、電算機器、電話機、電飾看板(照明広告板)等の表示部等に用いられるPDP、CRT、LCD、ELなどの画像表示装置の前面フィルタ用として好適であり、特にPDP用として好適である。また、その他、住宅、学校、病院、事務所、店舗等の建築物の窓、車輛、航空機、船舶等の乗物の窓、電子レンジ等の各種家電製品の窓等の電磁波遮蔽用途にも使用可能である。
[Use]
The composite filter of the present invention can be used for various applications. In particular, PDPs and CRTs used for various display units such as television receivers, measuring instruments and instruments, office equipment, medical equipment, amusement equipment, computing equipment, telephones, electrical signs (lighting billboards), etc. It is suitable for a front filter of an image display device such as LCD, EL, etc., and particularly suitable for a PDP. In addition, it can also be used for electromagnetic shielding applications such as windows for buildings such as houses, schools, hospitals, offices, stores, etc., windows for vehicles such as vehicles, airplanes and ships, and windows for various home appliances such as microwave ovens. It is.

以下に、実施例と比較例を挙げて本発明をさらに具体的に説明するが、本発明はこれらの例により何ら限定されるものではない。   Hereinafter, the present invention will be described more specifically with reference to examples and comparative examples, but the present invention is not limited to these examples.

実施例1
(1)粘着剤層形成用塗工液の調製
酸価6.8のアクリル系粘着剤(商品名:SK2094、綜研化学(株)製)100質量部に、1H−ベンゾトリアゾールを1質量部添加し、更にMIBKを40質量部添加して撹拌、混合して、粘着剤層形成用の塗工液を調製した。
(2)導電部材の作製
先ず、透明基材40として、片面にメラミン樹脂系の易接着層が形成された幅1000mmで厚さ100μmの長尺ロール巻の無色透明2軸延伸ポリエチレンテレフタレート(PET)フィルムを用意した。供給部にセットしたPETフィルムを繰り出し、易接着層面にプライマー層用の紫外線硬化性樹脂組成物を厚さ5μmとなるように塗布形成した。塗布方式は、通常のグラビアリバースロールコート法を採用し、紫外線硬化性樹脂組成物としては、エポキシアクリレートプレポリマー35質量部、ウレタンアクリレートプレポリマー12質量部、フェノキシエチルアクリレートからなる単官能アクリレートモノマー44質量部、エチレンオキシド変性イソシアヌル酸トリアクリレートからなる3官能アクリレートモノマー9質量部、さらに光開始剤として1−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニル−ケトン(チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製、商品名:イルガキュア184)1質量部添加したものを使用した。
次に、未硬化のプライマー層が形成されたPETフィルムを転写工程を行う凹版ロールに供するが、それに先だって、開口部の線幅が20μmで線ピッチが300μm、版深20μmの正方格子状のメッシュパターンとなる凹部が形成された凹版ロールの版面に、導電性組成物をピックアップロールで塗布し、ドクターブレードで凹部内以外の導電性組成物を掻き取って凹部内のみに導電性組成物を充填させた。凹部に充填された導電性組成物の表面には凹部が生じていた。導電性組成物を凹部内に充填させた状態の凹版ロールと、ニップロールとの間に、未硬化で液状のプライマー層が形成されたPETフィルムを供給し、凹版ロールに対するニップロールの押圧力(付勢力)によって、プライマー層を凹部内に存在する導電性組成物の凹みに流入させ、導電性組成物とプライマー層とを隙間なく密着させると共に、該プライマーの一部を凹部内の該導電性組成物内に浸透せしめた。なお、用いた導電性組成物は、以下の組成の銀ペーストを用いた。
金属粒子1として平均粒子径約2μmの鱗片状銀粉末93質量部、バインダー樹脂2として熱可塑性のポリエステルウレタン樹脂7質量部、溶剤としてブチルカルビトールアセテート25質量部を配合し、十分に攪拌混合した後、3本ロールで混練りして導電性組成物を作製した。
次いで行われる転写工程は以下の通りである。先ず、プライマー層が形成されたPETフィルムを、そのプライマー層が凹版ロールの版面側に対向した状態で、凹版ロールとニップロールとの間に挟む。その凹版ロールとニップロールとの間でPETフィルムのプライマー層は版面に押し付けられる。未硬化のプライマー層は流動性を有しているので、版面に押し付けられた未硬化のプライマー層は、導電性組成物が充填した凹部内にも流入し、凹部内表面に生じた導電性組成物の凹みを充填する。
その後、さらに凹版ロールが回転してフュージョンUVシステムズ・ジャパン社製DバルブからなるUVランプによって紫外線が照射され(照射線量700mJ/cm2)、紫外線硬化性樹脂組成物の硬化物からなる未硬化プライマー層が硬化する。プライマー層の硬化により、凹版ロールの凹部内の導電性組成物はプライマー層に密着し、その後、出口側のニップロールによってフィルムが凹版ロールから剥離され、硬化したプライマー層2上には導電性組成物層が転写形成される。このようにして得られた転写フィルムを、導電性組成物層側を下向きにして、110℃の乾燥ゾーンを通過させることで銀ペーストの溶剤を蒸発させて固化せしめ、プライマー層2上にメッシュパターンからなる導電性パターン層3を形成した。このときの導電性パターン層10が存在するパターン部分の厚さ(導電性パターン層が形成されているメッシュパターン部分とそれ以外の部分との厚さの差)は19μmで、版の深さの95%の厚さで転移しており、版の凹部内の銀ペーストが高い転移率で転移していた。転移後の凹部内を観察したところ、ペーストの版残りは見られず、また、メッシュパターンの断線や形状不良も見られなかった。
導電性パターン層の主切断面を電子顕微鏡で拡大撮影して観察した結果、導電性パターン層中の金属粒子(銀粒子)の分布は、該導電性パターン層の頂部に行くほど密になり、逆にプライマー層側に行くほど疎になる様な疎密で分布していることが認められた。メッシュ線條部に直交する主切断面内において、単位断面積当たりの金属粒子の個数は、プライマー層と隣接する部分では、平均1個/μm2に対し、頂部近傍では平均3個/μm2であった。
また、電子顕微鏡観察により、該導電性パターン層の頂部の隣接金属粒子同士の間隔(距離)、及びプライマー層との界面近傍の隣接金属粒子同士の間隔を測定し、それぞれの平均を求めた結果、頂部の平均金属粒子間隔が0.5μm、プライマー層との界面近傍の平均金属粒子間隔は1.5μmであった。
得られた導電部材の導電性パターン層の表面電気抵抗を測定(室温雰囲気(気温23℃、相対湿度50%)中で実施)したところ、表面抵抗率は1.0Ω/□であった。
次いで、電気抵抗低減化処理を以下の方法で行った。
上記で得た導電部材を1質量%の塩酸を含んだ25℃の塩酸水溶液を満たした酸処理槽に30秒間浸漬することにより酸処理を施し、酸処理槽から取り出して、水温90℃の純水からなる温水槽に30秒間浸漬することにより温水処理を施し、しかる後、水分を飛ばす程度に乾燥させて、電気抵抗低減化処理を施した導電部材を得た。
この電気抵抗低減化処理を施した導電部材の表面抵抗率は、0.5Ω/□であり、表面抵抗率の低下が確認された。
Example 1
(1) Preparation of pressure-sensitive adhesive layer-forming coating solution 1 part by weight of 1H-benzotriazole is added to 100 parts by weight of an acrylic pressure-sensitive adhesive having an acid value of 6.8 (trade name: SK2094, manufactured by Soken Chemical Co., Ltd.). Further, 40 parts by mass of MIBK was added and stirred and mixed to prepare a coating solution for forming an adhesive layer.
(2) Production of Conductive Member First, as the transparent substrate 40, a colorless transparent biaxially stretched polyethylene terephthalate (PET) of a long roll wound with a width of 1000 mm and a thickness of 100 μm having a melamine resin-based easy adhesion layer formed on one side. A film was prepared. The PET film set in the supply part was drawn out, and the UV curable resin composition for the primer layer was applied and formed on the surface of the easy adhesion layer so as to have a thickness of 5 μm. The application method employs a normal gravure reverse roll coating method, and the UV curable resin composition includes a monofunctional acrylate monomer 44 comprising 35 parts by mass of an epoxy acrylate prepolymer, 12 parts by mass of a urethane acrylate prepolymer, and phenoxyethyl acrylate. 9 parts by mass of trifunctional acrylate monomer composed of ethylene oxide-modified isocyanuric acid triacrylate, and 1 mass of 1-hydroxy-cyclohexyl-phenyl-ketone (manufactured by Ciba Specialty Chemicals, trade name: Irgacure 184) as a photoinitiator A part-added product was used.
Next, the PET film on which the uncured primer layer is formed is used for an intaglio roll that performs a transfer process. Prior to that, a square lattice mesh with an opening line width of 20 μm, a line pitch of 300 μm, and a plate depth of 20 μm. The conductive composition is applied to the plate surface of the intaglio roll on which the concave portions to be patterned are formed with a pick-up roll, and the conductive composition other than the concave portions is scraped off with a doctor blade to fill the conductive composition only in the concave portions. I let you. A concave portion was formed on the surface of the conductive composition filled in the concave portion. A PET film on which an uncured and liquid primer layer is formed is supplied between the intaglio roll filled with the conductive composition in the recess and the nip roll, and the pressing force (biasing force) of the nip roll against the intaglio roll ) To allow the primer layer to flow into the recess of the conductive composition existing in the recess, to bring the conductive composition and the primer layer into close contact with each other without any gap, and to partly adhere the primer to the conductive composition in the recess. It penetrated inside. In addition, the used conductive composition used the silver paste of the following compositions.
93 parts by mass of flaky silver powder having an average particle diameter of about 2 μm as metal particles 1, 7 parts by mass of thermoplastic polyester urethane resin as binder resin 2, and 25 parts by mass of butyl carbitol acetate as a solvent were mixed and mixed thoroughly. Then, it knead | mixed with 3 rolls and produced the electrically conductive composition.
Next, the transfer process performed is as follows. First, the PET film on which the primer layer is formed is sandwiched between the intaglio roll and the nip roll in a state where the primer layer faces the plate surface side of the intaglio roll. Between the intaglio roll and the nip roll, the primer layer of the PET film is pressed against the plate surface. Since the uncured primer layer has fluidity, the uncured primer layer pressed against the plate surface also flows into the recess filled with the conductive composition, and the conductive composition generated on the inner surface of the recess. Fill the dent of the object.
Thereafter, the intaglio roll is further rotated and irradiated with ultraviolet rays by a UV lamp comprising a D bulb manufactured by Fusion UV Systems Japan (irradiation dose 700 mJ / cm 2 ), and an uncured primer comprising a cured product of the ultraviolet curable resin composition. The layer is cured. Due to the curing of the primer layer, the conductive composition in the recesses of the intaglio roll is brought into close contact with the primer layer, and then the film is peeled from the intaglio roll by the nip roll on the outlet side, and the conductive composition is formed on the cured primer layer 2. A layer is transferred. The transfer film thus obtained is passed through a drying zone at 110 ° C. with the conductive composition layer side facing down, whereby the solvent of the silver paste is evaporated and solidified, and the mesh pattern is formed on the primer layer 2. A conductive pattern layer 3 was formed. At this time, the thickness of the pattern portion where the conductive pattern layer 10 exists (thickness difference between the mesh pattern portion where the conductive pattern layer is formed and the other portion) is 19 μm, and the depth of the plate The thickness was 95%, and the silver paste in the concave portion of the plate was transferred with a high transfer rate. When the inside of the concave portion after the transfer was observed, no plate residue of the paste was observed, and no disconnection or shape defect of the mesh pattern was observed.
As a result of magnifying and observing the main cut surface of the conductive pattern layer with an electron microscope, the distribution of metal particles (silver particles) in the conductive pattern layer becomes denser toward the top of the conductive pattern layer, On the contrary, it was found that the distribution was so dense that it became sparser toward the primer layer side. The number of metal particles per unit cross-sectional area in the main cutting plane perpendicular to the mesh wire ridge is 1 / μm 2 on average in the portion adjacent to the primer layer, and 3 / μm 2 on average in the vicinity of the top. there were.
In addition, the distance between the adjacent metal particles at the top of the conductive pattern layer (distance) and the distance between adjacent metal particles in the vicinity of the interface with the primer layer were measured by electron microscope observation, and the average was obtained. The average metal particle interval at the top was 0.5 μm, and the average metal particle interval near the interface with the primer layer was 1.5 μm.
When the surface electrical resistance of the conductive pattern layer of the obtained conductive member was measured (performed in a room temperature atmosphere (temperature 23 ° C., relative humidity 50%)), the surface resistivity was 1.0Ω / □.
Subsequently, the electrical resistance reduction process was performed by the following method.
The conductive member obtained above was immersed in an acid treatment tank filled with 25% hydrochloric acid aqueous solution containing 1% by mass of hydrochloric acid for 30 seconds to be acid-treated, taken out from the acid treatment tank, and pure water having a water temperature of 90 ° C. A hot water treatment was performed by immersing in a warm water tank made of water for 30 seconds, and then dried to such an extent that moisture was removed to obtain a conductive member subjected to an electrical resistance reduction treatment.
The surface resistivity of the conductive member subjected to this electrical resistance reduction treatment was 0.5Ω / □, and a decrease in surface resistivity was confirmed.

(3)粘着剤層の形成
(2)で作製した電気抵抗低減化処理を施した導電部材の導電性パターン層側に、上記(1)で調製した1H−ベンゾトリアゾール含有粘着剤層形成用の粘着剤形成用塗工液を、乾燥後の厚さが25μmとなるように、マイヤーバーNo.16で塗布した。次いで、90℃で1分間熱乾乾燥して、1H−ベンゾトリアゾールを含有してなる粘着剤層を形成した。
以上により、図1の断面図の如くの構成の、実施例1の電磁波シールド材100を得た。
(3) Formation of pressure-sensitive adhesive layer For forming the 1H-benzotriazole-containing pressure-sensitive adhesive layer prepared in (1) above on the conductive pattern layer side of the conductive member subjected to the electrical resistance reduction treatment prepared in (2). The pressure-sensitive adhesive forming coating solution was subjected to a Meyer bar No. 5 so that the thickness after drying was 25 μm. 16 was applied. Subsequently, it was heat-dried at 90 ° C. for 1 minute to form a pressure-sensitive adhesive layer containing 1H-benzotriazole.
As described above, the electromagnetic wave shielding material 100 of Example 1 having the configuration as shown in the sectional view of FIG. 1 was obtained.

(4)耐湿熱試験
実施例1の電磁波シールド材100の耐湿熱試験[相対湿度90%RH、温度80℃の雰囲気中で72時間放置]を行ったところ、導電性パターン層に目視で識別可能な程度の着色はなかった。
(4) Moisture and heat resistance test When the electromagnetic wave shielding material 100 of Example 1 was subjected to a moisture and heat resistance test [leaving for 72 hours in an atmosphere with a relative humidity of 90% RH and a temperature of 80 ° C.], the conductive pattern layer could be visually identified. There was no appreciable coloration.

比較例1
実施例1において、1H−ベンゾトリアゾールを含有しない粘着剤形成用塗工液を調製し、これを電気抵抗低減化処理を施した導電部材の導電性パターン層側に塗布した以外は実施例1と同様にして、比較例1の電磁波シールド材を得た。
耐湿熱試験を行ったところ、導電性パターン層は緑色に着色した。
Comparative Example 1
In Example 1, a coating liquid for forming an adhesive that does not contain 1H-benzotriazole was prepared, and this was applied to the conductive pattern layer side of the conductive member subjected to the electrical resistance reduction treatment. Similarly, the electromagnetic wave shielding material of Comparative Example 1 was obtained.
When the moisture and heat resistance test was performed, the conductive pattern layer was colored green.

1 金属粒子
2 樹脂バインダー
3 アクリル樹脂粘着剤
4 1H−ベンゾトリアゾール
10 導電性パターン層
20 粘着剤層
30 プライマー層
40 透明基材
100 電磁波シールド材
200 光学機能層
1000 複合化フィルタ
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Metal particle 2 Resin binder 3 Acrylic resin adhesive 4 1H-benzotriazole 10 Conductive pattern layer 20 Adhesive layer 30 Primer layer 40 Transparent base material 100 Electromagnetic wave shielding material 200 Optical function layer 1000 Composite filter

Claims (4)

透明基材と、該透明基材上に形成されたプライマー層と、該プライマー層上に所定のパターンで形成された導電性パターン層を有し、該導電性パターン層形成側にカルボキシル基含有アクリル樹脂からなる粘着剤層を積層してなる電磁波シールド材であって、
該導電性パターン層は金属粒子とバインダー樹脂を含んで成り、該導電性パターン層中の該金属粒子の分布が、相対的に、該プライマー層近傍において分布が疎であり、又該導電性パターン層の頂部近傍において密であり、
かつ、カルボキシル基含有アクリル樹脂からなる粘着剤層は1H−ベンゾトリアゾールを含有する
ことを特徴とする電磁波シールド材。
A transparent substrate, a primer layer formed on the transparent substrate, and a conductive pattern layer formed in a predetermined pattern on the primer layer, and a carboxyl group-containing acrylic on the conductive pattern layer forming side An electromagnetic shielding material formed by laminating an adhesive layer made of resin,
The conductive pattern layer comprises metal particles and a binder resin, the distribution of the metal particles in the conductive pattern layer is relatively sparse in the vicinity of the primer layer, and the conductive pattern Dense near the top of the layer,
And the adhesive layer which consists of a carboxyl group-containing acrylic resin contains 1H-benzotriazole, The electromagnetic wave shielding material characterized by the above-mentioned.
透明基材と、該透明基材上に形成されたプライマー層と、該プライマー層上に所定のパターンで形成された導電性パターン層を有し、該導電性パターン層形成側にカルボキシル基含有アクリル樹脂からなる粘着剤層を積層してなる電磁波シールド材であって、
該導電性パターン層は金属粒子とバインダー樹脂を含んで成り、該導電性パターン層中の隣接する該金属粒子同士の間隔が、相対的に、該プライマー層近傍において大であり、又該導電性パターン層の頂部近傍において小であり、
かつ、カルボキシル基含有アクリル樹脂からなる粘着剤層は1H−ベンゾトリアゾールを含有する
ことを特徴とする電磁波シールド材。
A transparent substrate, a primer layer formed on the transparent substrate, and a conductive pattern layer formed in a predetermined pattern on the primer layer, and a carboxyl group-containing acrylic on the conductive pattern layer forming side An electromagnetic shielding material formed by laminating an adhesive layer made of resin,
The conductive pattern layer comprises metal particles and a binder resin, and the interval between the adjacent metal particles in the conductive pattern layer is relatively large in the vicinity of the primer layer, and the conductive pattern layer Small near the top of the pattern layer,
And the adhesive layer which consists of a carboxyl group-containing acrylic resin contains 1H-benzotriazole, The electromagnetic wave shielding material characterized by the above-mentioned.
請求項1又は請求項2に記載の電磁波シールド材の一面又は両面に光学機能層を積層して成る複合化フィルタ。   The composite filter formed by laminating | stacking an optical function layer on the one or both surfaces of the electromagnetic wave shielding material of Claim 1 or Claim 2. 請求項3に記載の複合化フィルタを、ディスプレイパネルの前面側に設置した画像表示装置。   The image display apparatus which installed the composite filter of Claim 3 in the front side of the display panel.
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Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
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JP2007095971A (en) * 2005-09-28 2007-04-12 Dainippon Printing Co Ltd Electromagnetic wave shielding sheet
JP2010080692A (en) * 2008-09-26 2010-04-08 Dainippon Printing Co Ltd Electromagnetic wave shield filter

Patent Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2007095971A (en) * 2005-09-28 2007-04-12 Dainippon Printing Co Ltd Electromagnetic wave shielding sheet
JP2010080692A (en) * 2008-09-26 2010-04-08 Dainippon Printing Co Ltd Electromagnetic wave shield filter

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