JP2011251526A - Soft lithography device and method - Google Patents

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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a device and a method capable of easily and efficiently controlling the application pressure of a stamp or a macro-stamp for soft lithography on a surface of a substrate, and progressing automation.SOLUTION: The device for soft lithography by transfer includes a flexible stamp capable of achieving a deposit of a micro-structure or a nano-structure on a substrate. In the device, the flexible stamp 1 is constituted of: a layer 3 formed of an elastomer and including a structure surface 31 capable of achieving the deposit by transfer on its one surface; and a second layer 2 which is formed of an elastomer in a state of being closely connected to a surface of the first layer 3 facing the structure surface, and formed of an elastomer with particles each formed of a soft ferromagnetic material dispersed therein.

Description

本発明は、可撓性スタンプを使用して、顕微鏡観察用ガラス板等の基板上に分子を構造的に被着させる、ソフトスタンピングリソグラフィ装置および方法に関する。   The present invention relates to a soft stamping lithography apparatus and method for structurally depositing molecules on a substrate such as a microscope observation glass plate using a flexible stamp.

ソフトスタンピングリソグラフィ法については、可撓性のエラストマ製スタンプを使用して、「インキング(inking)」および「スタンピング(stamping)」によって、分子を構造的に被着可能にして、基板上にスタンプ面のパターンを複製する先行技術から知られている。こうした方法は例えば、同出願人の文献である特許文献1/特許文献2に記載されている。   For soft stamping lithography, a flexible elastomeric stamp is used to make the molecules structurally adherence by “inking” and “stamping” and stamp on the substrate. Known from the prior art to replicate surface patterns. Such a method is described in, for example, Patent Document 1 / Patent Document 2, which is a document of the same applicant.

この種の方法を用いた、接触による分子転写の質は、スタンピング動作中の基板へのスタンプの圧力の均一性や、基板面と合わせるスタンピング動作の性能に、強く影響される。マイクロ構造分子パターンまたはナノ構造分子パターンの被着に関しては、均一な加圧が、巨視的スケールと微視的スケールの両方で望ましく、印刷品質は、表面の凹凸に影響を受け易く、凹凸の程度は、表面の粗度パラメタまたは波形パラメタの範囲内か、より正確にはISO25178規格に準拠するS−L表面で示される凹凸の範囲内としている。スタンプの可撓性が高いと、基板面の形状と合わせる性能に関して有利だが、上記表面に対して均等に押圧する目的の力をスタンプに加えること、特に機械的手段を介してこのような力をスタンプと接触させて伝達することに関しては、不利である。そのために、従来技術の解決方法では、ガス圧または真空を用いる押圧装置を採用している。かかる押圧装置では、スタンプと上記押圧装置との間で気密性を実現させる必要がある。このような装置は複雑なため、スタンプを自動的に変更させたり、その結果この技術によって複雑な被着を完全に自動化し生産的に実現させたりするのは、困難である。   The quality of molecular transfer by contact using this type of method is strongly influenced by the uniformity of the stamp pressure on the substrate during the stamping operation and the performance of the stamping operation to match the substrate surface. For deposition of microstructured or nanostructured molecular patterns, uniform pressure is desirable on both the macroscopic and microscopic scales, and the print quality is sensitive to surface irregularities, and the degree of irregularities Is within the range of the roughness parameter or waveform parameter of the surface, or more precisely, within the range of irregularities shown on the SL surface conforming to the ISO25178 standard. The high flexibility of the stamp is advantageous in terms of the ability to match the shape of the substrate surface, but it is possible to apply such a force to the stamp, in particular via mechanical means, to press it evenly against the surface. There is a disadvantage with regard to transmitting in contact with the stamp. For this purpose, the conventional solution employs a pressing device using gas pressure or vacuum. In such a pressing device, it is necessary to realize airtightness between the stamp and the pressing device. Due to the complexity of such devices, it is difficult to change stamps automatically, and as a result, complex deposition to be fully automated and productive by this technique.

したがって、本発明は、スタンプを自動的に変更させる性能を有する一方で、スタンピング動作中にスタンプを基板に押圧するための均一で制御した圧力を印加することで、高質な転写を提供するソフトリソグラフィ装置を目的とする。   Accordingly, the present invention has the ability to automatically change the stamp, while applying a uniform and controlled pressure to press the stamp against the substrate during the stamping operation, thereby providing high quality transfer software. Aimed at a lithographic apparatus.

本発明の分野以外の、文字または図面をスタンピングするのに使用するスタンプに関する分野では、特許文献3が、印刷面と呼ばれる構造面をその片面に備え、エラストマ層で該印刷面に対向する面を被覆し、該層に強磁性ワイヤを備えるスタンプについて、記載している。これらの強磁性ワイヤにより、上記スタンプを磁気効果で、把持取付部と呼ばれる取付部に連結可能にして、スタンプを押印し、印刷を実行する。したがって、単一の把持取付部を、この構造を有するスタンプセット全体に使用できる。この文献がマイクロ構造またはナノ構造の被着を実現するスタンプに関するものではないという点に限らず、このスタンプに用いる技術は、本発明でカバーする技術的課題を解決するには全く有効ではない。実際、ワイヤを強磁性にすることで、スタンプを把持取付部に結合可能にし、その後基板への圧力を機械的に印加するが、これでは均一な圧力を所望のスケールでは得られない。   In the field related to stamps used for stamping characters or drawings other than the field of the present invention, Patent Document 3 includes a structure surface called a printing surface on one side, and an elastomer layer having a surface facing the printing surface. A stamp is described which is coated and comprises a ferromagnetic wire in the layer. With these ferromagnetic wires, the stamp can be connected to a mounting portion called a grip mounting portion by a magnetic effect, and the stamp is stamped and printing is performed. Thus, a single gripping attachment can be used for the entire stamp set having this structure. This document is not limited to the stamp that realizes the deposition of the microstructure or the nanostructure, and the technique used for this stamp is not effective at all for solving the technical problem covered by the present invention. In fact, making the wire ferromagnetic makes it possible to couple the stamp to the gripping attachment and then mechanically apply pressure to the substrate, but this does not provide a uniform pressure at the desired scale.

特許文献4では、光ディスクを押圧するための金型または「スタンパ」を刻印し、それ自体が金属製の上記金型を、上記刻印動作中に適切な位置に磁気的に維持させる方法について、記載している。   Patent Document 4 describes a method of impressing a mold or “stamper” for pressing an optical disc and magnetically maintaining the metal mold itself in an appropriate position during the engraving operation. is doing.

欧州特許公開第2036604号明細書European Patent Publication No. 2036604 Specification 米国特許公開第2009/087019号明細書US Patent Publication No. 2009/0807019 米国特許第6920825号明細書US Pat. No. 6,920,825 特開2001−338445号公報JP 2001-338445 A

従来技術の欠点を改善するために、本発明では、基板にマイクロ構造またはナノ構造の被着を実現できる可撓性スタンプを備える、転写によるソフトリソグラフィ用装置であって、該可撓性スタンプが、
−転写によって被着を実現できる構造面を、その片面に備えるエラストマ製層と、
−該第1層の構造面に対向する面に密接した状態のエラストマ製第2層であって、軟強磁性材料から成る粒子を分散させたエラストマから成る第2層と
から成る装置を提案する。
In order to remedy the disadvantages of the prior art, the present invention provides an apparatus for soft lithography by transfer, comprising a flexible stamp capable of realizing the deposition of microstructures or nanostructures on a substrate, the flexible stamp comprising: ,
An elastomeric layer provided on one side with a structural surface capable of being deposited by transfer;
Proposing a device comprising an elastomer second layer in close contact with the surface of the first layer facing the structural surface, the second layer comprising an elastomer in which particles of soft ferromagnetic material are dispersed. .

軟強磁性粒子を存在させることで、適切な磁場を印加して、均一な圧力をスタンプに印加できる。これらの粒子の作用を、強磁性粒子を充填した層の容積全体に行渡らせる。この圧力を、いかなる接触も、機械式アクチュエータも、流体もなく、スタンプに印加する。そのため、スタンプは、最も良好に基板面の形状を取れるように可撓性を留めることができる。柔軟性のある強磁性粒子は、該粒子が受ける磁場が作用しなくなると、磁化し続けない。可撓性スタンプの層に軟強磁性粒子を含むことで、該層を磁化および消磁させるこのような性能により、スタンプを電磁石で厳格な制約なしに容易に扱うことができ、そのため極めて可撓性がありおよび/または複雑な形状のスタンプを含む、スタンプを容易に変更できる。   Due to the presence of soft ferromagnetic particles, an appropriate magnetic field can be applied and a uniform pressure can be applied to the stamp. The action of these particles is spread throughout the volume of the layer filled with ferromagnetic particles. This pressure is applied to the stamp without any contact, mechanical actuators or fluid. Therefore, the stamp can be kept flexible so that the shape of the substrate surface can be best taken. Flexible ferromagnetic particles do not continue to be magnetized when the magnetic field received by the particles stops working. By including soft ferromagnetic particles in the layer of flexible stamp, this ability to magnetize and demagnetize the layer allows the stamp to be easily handled with electromagnets without strict restrictions, and therefore extremely flexible Stamps can be easily modified, including stamps with and / or complex shapes.

本発明を、以下で説明するように、複数の有利な実施形態で実行してもよく、これらの実施形態は夫々個別の実施形態と見なせると共に、該実施形態の効果的な技術的組合せの一部とも見なすことができる。   The invention may be implemented in a number of advantageous embodiments, as will be described below, each of which can be considered as a separate embodiment and an effective technical combination of the embodiments. It can be regarded as a part.

有利には、軟強磁性粒子の大きさを10μm〜200μmとする。粒子を微細にすることで、目標とするスケールで基板に確実にスタンプを均一に加圧することが可能になる。本文献中では、1μmは10−6メーターに相当する。 Advantageously, the size of the soft ferromagnetic particles is 10 μm to 200 μm. By making the particles finer, it becomes possible to pressurize the stamp uniformly on the substrate with a target scale. In this document, 1 μm corresponds to 10 −6 meters.

第2層中の粒子の割合を、有利には、50質量%〜95質量%とする。該粒子を微細にすることで、スタンプの可撓性を損なわずに、このような高レベルに達することができる。   The proportion of particles in the second layer is advantageously between 50% and 95% by weight. By making the particles fine, such high levels can be reached without compromising the flexibility of the stamp.

スタンプの2層を形成するエラストマを、ポリジメチルシロキサン(PDMS)とする。同材料にすることで、スタンプの成分としての使用に適した機械特性を確保しながら、軟強磁性粒子を高質量濃度にできる。スタンプは連続する2成形で作製し、該成形は、粒子を注入せずに被着の構造化パターンを備える第1層を、成形し部分的に架橋する第1ステップと、次に第1層の上に、予め混合した強磁性粒子を備える第2層を成形するステップから成る。粒子を微細にした結果、粒子がスタンプの重合に支障を来たさず、該重合中、該粒子は懸濁したまま、第2層に均等に分布した状態となる。   The elastomer that forms the two layers of the stamp is polydimethylsiloxane (PDMS). By using the same material, the soft ferromagnetic particles can have a high mass concentration while ensuring mechanical properties suitable for use as a stamp component. The stamp is made by two successive moldings, the molding comprising a first step of shaping and partially cross-linking the first layer with the deposited structured pattern without injecting particles, and then the first layer. And forming a second layer comprising premixed ferromagnetic particles. As a result of making the particles fine, the particles do not interfere with the polymerization of the stamp, and the particles remain suspended and uniformly distributed in the second layer during the polymerization.

有利には、本装置は、スタンプを自動的に変更可能にするために、柔軟なスタンプを把持し被着できる磁気操作手段を備える。   Advantageously, the device comprises magnetic operating means that can grip and apply a flexible stamp in order to be able to change the stamp automatically.

本装置は、有利には、基板の下に配置した磁場発生装置と、基板へのスタンプの押圧力を開始し調整するために該発生装置を制御する手段を備える。磁場発生装置を基板の下に配置することで、特許文献1あるいは特許文献2に記載したように、マクロスタンプを使用し、該マクロスタンプが軟強磁性粒子を含む層を備える場合でも、スタンプの基板面への最適な押圧効果を得られる。   The apparatus advantageously comprises a magnetic field generator disposed below the substrate and means for controlling the generator to initiate and adjust the pressing force of the stamp on the substrate. By disposing the magnetic field generator under the substrate, as described in Patent Document 1 or Patent Document 2, even when the macro stamp is provided with a layer containing soft ferromagnetic particles, An optimum pressing effect on the substrate surface can be obtained.

基板の下に配置する磁場発生装置の種類およびその制御モードは、基板の性質、厚さ、表面や、使用するスタンプの性質に応じて選択する。   The type of magnetic field generating device arranged under the substrate and its control mode are selected according to the properties, thickness, surface of the substrate, and the properties of the stamp used.

特定の一実施形態によると、磁場発生装置を磁石とし、制御手段により、該磁石とスタンプとの間の距離を制御する。該磁石を、永久磁石、電磁石またはソレノイドで構成してもよく、電磁石またはソレノイドについては固定した電圧およびアンペア数の電流で通電する。   According to one particular embodiment, the magnetic field generator is a magnet and the distance between the magnet and the stamp is controlled by the control means. The magnet may be a permanent magnet, an electromagnet, or a solenoid, and the electromagnet or solenoid is energized with a fixed voltage and an amperage current.

別の実施形態によると、磁場発生装置はソレノイドを備え、制御手段により、上記ソレノイドの電源のアンペア数または電圧を制御する。   According to another embodiment, the magnetic field generator comprises a solenoid, and the control means controls the amperage or voltage of the solenoid power supply.

特に有利な実施形態によると、本装置は、磁場発生装置と基板との間に配置した電極と、該電極とスタンプの第2層との間の静電容量の変化を測定できる手段とを備える。この特徴により、スタンプの基板への押圧力をリアルタイムで測定でき、磁場発生装置をそれに従い制御できる。この制御の容易さは、スタンプに強磁性粒子を存在させることでもたらされ、これによりスタンプの導電率が高まり、その結果、この種の測定が、基本的に非導電性高分子で構成したスタンプを用いても可能になる。   According to a particularly advantageous embodiment, the device comprises an electrode arranged between the magnetic field generator and the substrate and means capable of measuring the change in capacitance between the electrode and the second layer of the stamp. . With this feature, the pressing force of the stamp on the substrate can be measured in real time, and the magnetic field generator can be controlled accordingly. This ease of control is brought about by the presence of ferromagnetic particles in the stamp, which increases the conductivity of the stamp, so that this type of measurement is essentially a stamp made up of a non-conductive polymer. It is also possible to use.

したがって、本発明による装置を完全に自動化でき、磁気把持および被着手段を、該手段を3直交軸に従って移動できるクロススライドのキャリッジによって支持する。インキングタンクと基板取付部を本装置に加えることで、クロススライドのキャリッジにより、磁気把持手段をインキングタンクと基板取付部との間で移動できる。   Thus, the device according to the invention can be fully automated and the magnetic gripping and deposition means are supported by a cross-slide carriage which can be moved according to three orthogonal axes. By adding the inking tank and the substrate mounting portion to the apparatus, the magnetic gripping means can be moved between the inking tank and the substrate mounting portion by the carriage of the cross slide.

有利には、本装置は、基板に被着する異なる製品を収容する複数のインキングタンクを備えることができる。スタンプを変更する性能により、スタンプ洗浄動作を介入せずに、異なる製品を被着するための異なるスタンプを有することができ、その結果、ソフトリソグラフィ動作の生産性を大いに高めることができる。   Advantageously, the apparatus can comprise a plurality of inking tanks containing different products to be deposited on the substrate. The ability to change stamps can have different stamps for depositing different products without intervening stamp cleaning operations, and can thus greatly increase the productivity of soft lithography operations.

これに関連して、また、本発明は、本発明による装置を用いて実施する有利に最適化したソフトリソグラフィ法にも関し、該方法は、
−スタンプを磁気把持手段で取るステップと、
−スタンプをインキングタンク上に移動させて、スタンプの構造面をタンクの内容物と接触させるステップと、
−スタンプをタンクから取出すステップと、
−スタンプを基板上に搬送するステップと、
−スタンプを磁気把持手段から解放するステップと、
−基板の下に配置した磁場発生装置を作動させて、スタンプを基板に均一に押印するステップと
を備える。
In this connection, the invention also relates to an advantageously optimized soft lithography method carried out using the apparatus according to the invention, which method comprises:
-Taking the stamp with a magnetic gripping means;
-Moving the stamp onto the inking tank and bringing the structural surface of the stamp into contact with the contents of the tank;
-Removing the stamp from the tank;
-Transporting the stamp onto the substrate;
-Releasing the stamp from the magnetic gripping means;
-Actuating a magnetic field generating device located under the substrate to uniformly stamp the stamp on the substrate.

次に、本発明について、図1〜図7で示した好適な非限定的実施形態と関連させて、更に詳細に説明する。   The present invention will now be described in further detail in connection with the preferred non-limiting embodiment shown in FIGS.

正面から見たソフトリソグラフィ用スタンプの断面図である。It is sectional drawing of the stamp for soft lithography seen from the front. 正面から見たソフトリソグラフィ用マクロスタンプの断面図である。It is sectional drawing of the macro stamp for soft lithography seen from the front. スタンプと基板の組立体、およびスタンプを移送し印刷するために基板に押印可能にする要素の正面断面図である。FIG. 5 is a front cross-sectional view of a stamp and substrate assembly and elements that enable stamping on the substrate for transport and printing of the stamp. 自動ソフトリソグラフィ装置の上面斜視図である。1 is a top perspective view of an automatic soft lithography apparatus. マクロスタンプとその把持手段を備える、上述した装置の細部を、右側斜視図で示す。The details of the above-mentioned device comprising a macro stamp and its gripping means are shown in a right perspective view. スタンプを基板に押印する一つのステップを示す正面断面図である。It is front sectional drawing which shows one step which stamps a stamp to a board | substrate. スタンプを基板に押印する他のステップの正面断面図である。It is front sectional drawing of the other step which stamps a stamp to a board | substrate. スタンプを基板に押印するもうひとつのステップの正面断面図であり、該スタンプへの押圧力が高過ぎるステップである。It is front sectional drawing of another step which stamps a stamp to a board | substrate, and is a step where the pressing force to this stamp is too high. スタンプの第2層と基板下に配置した電極との間に挟んだコンデンサの容量における変化を示すグラフである。It is a graph which shows the change in the capacity | capacitance of the capacitor | condenser pinched | interposed between the 2nd layer of a stamp and the electrode arrange | positioned under a board | substrate.

図1:ソフトリソグラフィ・スタンプ1の実施形態によると、該スタンプ1は、ポリジメチルシロキサン(PDMS)製で、その厚さに応じて、第1層3を備え、該第1層3は、印刷面31と呼ばれる、基板上に転写することにより被着を実現できるマイクロ構造面またはナノ構造面と、第1と実質上平行で対向する第2面32とを備える。また、第2面32に沿って第1層3に密接する第2層2もPDMS製とし、PDMSに、フェライト粒子、即ち、酸化鉄(III)(Fe)、マンガン、亜鉛を主成分とするセラミック等の軟強磁性粒子を充填する。或いは、酸化を防止する可能性のある純鉄粒子、SuperMalloy(登録商標)等の鉄−ニッケル−モリブデン合金製または鉄−シリコン製の粒子、および一般的に任意の軟強磁性材料、即ち磁場の作用下で磁化され、当該磁場を受けなくなると、残留磁気が存在しなくなる軟強磁性材料を使用できる。また軟強磁性材料は低透磁性を示す。したがって軟強磁性材料は、
−磁場に対する反応、および特にスタンプから基板への磁気吸着力を発生させる可能性、
−同様の磁気吸着装置を様々なスタンプに対して、同程度に均一な圧力性能で使用するのに十分な低透磁性、
−磁気刺激および同刺激の停止に対する迅速な反応、その結果高インク転写率を可能にすること、
−格納中にスタンプが金属粉塵等の汚染物質を吸着しないように、使用後に残留磁気が存在しない状態にすること、
に対して良好に折衷させたものを提供する。
FIG. 1: According to an embodiment of a soft lithography stamp 1, the stamp 1 is made of polydimethylsiloxane (PDMS) and comprises a first layer 3 according to its thickness, the first layer 3 being printed It comprises a microstructured or nanostructured surface called surface 31 that can be deposited by transfer onto a substrate, and a second surface 32 that is substantially parallel and opposite the first. The second layer 2 that is in close contact with the first layer 3 along the second surface 32 is also made of PDMS, and the ferrite particles, that is, iron (III) oxide (Fe 2 O 3 ), manganese, and zinc are mainly used for the PDMS. Filled with soft ferromagnetic particles such as ceramic as a component. Alternatively, pure iron particles that may prevent oxidation, particles made of an iron-nickel-molybdenum alloy or iron-silicon, such as SuperMalloy®, and generally any soft ferromagnetic material, ie magnetic field A soft ferromagnetic material that is magnetized under action and no longer has a remanence when it is no longer subjected to the magnetic field can be used. Soft ferromagnetic materials exhibit low magnetic permeability. Therefore, soft ferromagnetic materials
The possibility of generating a reaction to the magnetic field and in particular the magnetic attraction from the stamp to the substrate,
-Low magnetic permeability sufficient to use the same magnetic adsorption device for various stamps with equally uniform pressure performance,
-Enabling rapid response to magnetic stimulation and cessation of the stimulation, resulting in high ink transfer rates;
-Make sure there is no residual magnetism after use so that the stamp does not adsorb contaminants such as metal dust during storage,
Provide a good compromise between

これらの粒子を、直径10μm〜200μmの実質上球体とする。   These particles are substantially spherical with a diameter of 10 μm to 200 μm.

図2:マクロスタンプ10の実施形態によると、該マクロスタンプは、複数のスタンプ13を備え、マクロスタンプ本体12と密接した状態の、其々印刷面131と対向する面132を備える。好適には、スタンプ13をPDMS製とする。本体12を、軟強磁性粒子を50重量%〜95重量%充填したPDMS製とする。軟強磁性粒子の透磁性と、これらの強磁性粒子を備える層に残留磁気を無くすことにより、異なるスタンプ間で磁気が相互作用する問題が生じることなく、マクロスタンプにおいて各スタンプの結合が可能になる。   FIG. 2: According to the embodiment of the macro stamp 10, the macro stamp includes a plurality of stamps 13 and a surface 132 that faces the printing surface 131 in close contact with the macro stamp body 12. Preferably, the stamp 13 is made of PDMS. The main body 12 is made of PDMS filled with 50 to 95% by weight of soft ferromagnetic particles. The magnetic permeability of soft ferromagnetic particles and the elimination of residual magnetism in the layer comprising these ferromagnetic particles enables the coupling of stamps in a macro stamp without the problem of magnetic interaction between different stamps. Become.

これらの実施形態によるスタンプまたはマクロスタンプを製造する原理は実質上同じである。マイクロまたはナノ構造パターンを備え、強磁性粒子を含まない層3、13を成形する第1ステップを、実行する。この成形ステップに続いて、例えば上記層を15分間60°Cで予備硬化させて、部分的に架橋させる。その後、強磁性粒子を含む層2、12を第1層上に被覆成形する。次にこれら2層を共硬化させる。第1の部分的架橋により、強磁性粒子で充填した層を被覆成形中に2層が混合するのを防止する一方で、その後の共硬化ステップ中に1つの層が別の層に接着する性能を維持する。   The principle of manufacturing stamps or macro stamps according to these embodiments is substantially the same. A first step of shaping the layers 3, 13 with a micro or nanostructure pattern and without ferromagnetic particles is carried out. Following this molding step, for example, the layer is precured for 15 minutes at 60 ° C. and partially crosslinked. Thereafter, the layers 2 and 12 containing the ferromagnetic particles are coated on the first layer. These two layers are then co-cured. The ability to adhere one layer to another during a subsequent co-curing step while the first partial cross-linking prevents the two layers from mixing during the coating of a layer filled with ferromagnetic particles To maintain.

強磁性粒子を存在させることで、該粒子を含む層2、12が磁場に対して敏感に反応可能になり、この特性がスタンプの操作に使用可能になる。   The presence of ferromagnetic particles makes the layers 2, 12 containing the particles sensitive to magnetic fields and this property can be used for stamping operations.

また、これらの粒子の存在により、層の導電率が変化し、電気抵抗が数万オームにまで減少する。   Also, the presence of these particles changes the conductivity of the layer and reduces the electrical resistance to tens of thousands of ohms.

これらの特性の変化を利用して、ソフトリソグラフィ法を自動化する。   The soft lithography method is automated using the change in these characteristics.

図3:実施例によると、強磁性層2、12の存在により、磁場を生成できるコイルまたはソレノイド20を備える装置でスタンプ1またはマクロスタンプ10を把持できる。上記コイルを電流で通電すると、磁場が生成され、該磁場によりスタンプ1またはマクロスタンプ10が吸着可能になり、スタンプがコイル20に付いた時点で移動可能になる。スタンプ1を基板30、例えばガラススライドに押印するには、コイルへの電力を切断する。基板30の下に配置した、磁場を発生させる装置40は、スタンプまたはマクロスタンプを吸着して、上記基板に押圧する傾向があり、その結果強制的にスタンプを上記基板面に合わせる。スタンプ1を基板30に押印する力を、磁場発生装置40の性質に応じて異なるモードで制御できる。非限定的な例としては、
−磁場発生装置40が永久磁石を備えることができることにより、押圧力の調整を、磁石を移動させるか、スタンプを移動させるかして、スタンプ1と磁石との間の距離によって実現する。
−上記装置40が、コイルまたはソレノイドでも具現化できることにより、押圧力の調整をコイルの電源の強度または電圧を変化させて実現する。
−上記装置40が、電磁石、即ち磁石を囲むソレノイドでも具現化できることにより、押圧力の調整を、ソレノイドの電源の電流強度、および/またはスタンプと電磁石との間の距離を調整して実現する。
FIG. 3: According to an embodiment, the presence of the ferromagnetic layers 2, 12 makes it possible to grip the stamp 1 or the macro stamp 10 with a device comprising a coil or solenoid 20 that can generate a magnetic field. When the coil is energized with a current, a magnetic field is generated, and the stamp 1 or the macro stamp 10 can be adsorbed by the magnetic field, and can be moved when the stamp is attached to the coil 20. In order to stamp the stamp 1 onto the substrate 30, for example, a glass slide, the power to the coil is cut off. A device 40 for generating a magnetic field disposed under the substrate 30 tends to adsorb the stamp or macro stamp and press it against the substrate, thereby forcibly aligning the stamp with the substrate surface. The force for impressing the stamp 1 onto the substrate 30 can be controlled in different modes depending on the nature of the magnetic field generator 40. Non-limiting examples include
-The magnetic field generator 40 can be provided with a permanent magnet, so that the adjustment of the pressing force is realized by the distance between the stamp 1 and the magnet, either by moving the magnet or by moving the stamp.
-The device 40 can also be embodied as a coil or solenoid, so that the pressing force is adjusted by changing the strength or voltage of the coil power supply.
-The device 40 can also be implemented with an electromagnet, i.e. a solenoid surrounding the magnet, so that the pressing force is adjusted by adjusting the current intensity of the power supply of the solenoid and / or the distance between the stamp and the electromagnet.

当該力の調整を、スタンプ1と基板との間の有効接触領域で制御できる。この接触領域を予測するために、有利には、電極50を磁場発生装置40と基板30との間に配置する。強磁性粒子で充填した層2、12の導電率を活用して、スタンプ1と基板30との間に存在する絶縁部である空気の量を表す静電容量の変動を測定でき、その量は、スタンプと基板との間の有効接触領域に比例する。この測定では、磁場が影響を及ぼしていないことを利点にできる。   The adjustment of the force can be controlled in the effective contact area between the stamp 1 and the substrate. In order to predict this contact area, the electrode 50 is advantageously arranged between the magnetic field generator 40 and the substrate 30. By utilizing the conductivity of the layers 2 and 12 filled with ferromagnetic particles, the variation in capacitance representing the amount of air that is an insulating portion existing between the stamp 1 and the substrate 30 can be measured. , Proportional to the effective contact area between the stamp and the substrate. An advantage of this measurement is that the magnetic field has no effect.

図6:磁場発生装置と基板30との間に配置した電極50は、強磁性粒子で充填したスタンプの第2層2、12と、これら2つを分離する誘電空間とで、コンデンサを形成する。空間の厚さによって影響を受ける、このコンデンサの静電容量における変動またはこのコンデンサを含む電気回路の静電容量における変動測定することで、スタンプ1、10の基板30への押圧力の信号特性が得られる。   FIG. 6: The electrode 50 disposed between the magnetic field generator and the substrate 30 forms a capacitor with the second layers 2 and 12 of stamps filled with ferromagnetic particles and the dielectric space separating the two. . By measuring the variation in the capacitance of the capacitor or the variation in the capacitance of the electric circuit including the capacitor, which is affected by the thickness of the space, the signal characteristics of the pressing force of the stamps 1 and 10 on the substrate 30 can be obtained. can get.

図6A:したがって、スタンプ1が基板に接触していない状態では、基板の下に配置した電極50と第2層2によって形成したコンデンサの静電容量は低くなる。図6B:2電極間の距離が縮まると、静電容量は増加し、プラトーに達する。   FIG. 6A: Therefore, when the stamp 1 is not in contact with the substrate, the capacitance of the capacitor formed by the electrode 50 and the second layer 2 disposed under the substrate is low. FIG. 6B: As the distance between the two electrodes decreases, the capacitance increases and reaches a plateau.

図7では、基板へのスタンプの押圧力400による上記コンデンサの静電容量500における変化600を示している。静電容量が第1プラトー610に達すると、当該静電容量は実験的にスタンプ1またはマクロスタンプ10の基板30への最適押圧力に相当する。   FIG. 7 shows a change 600 in the capacitance 500 of the capacitor due to the pressing force 400 of the stamp on the substrate. When the electrostatic capacity reaches the first plateau 610, the electrostatic capacity experimentally corresponds to the optimum pressing force of the stamp 1 or the macro stamp 10 on the substrate 30.

図6C:押圧力が過大になった場合は、スタンプが圧潰状態となり、コンデンサの静電容量が大幅に増加しスタンプ1が基板に完全に圧潰した状態に相当するプラトーまで増大する。   FIG. 6C: When the pressing force becomes excessive, the stamp is in a crushed state, the capacitance of the capacitor is significantly increased, and the plateau is increased to a plateau corresponding to the state in which the stamp 1 is completely crushed on the substrate.

図7:静電容量の変化における第2プラトー620は、スタンプの圧潰状態に相当する。   FIG. 7: The second plateau 620 in the change in capacitance corresponds to the crushing state of the stamp.

したがって、電極50と第2層とで形成したコンデンサの静電容量変化を追跡することで、この静電容量の変化で測定した第1プラトー610に相当する最適な押圧力を得るように、磁場発生装置を制御できる。   Accordingly, by tracking the capacitance change of the capacitor formed by the electrode 50 and the second layer, the magnetic field is obtained so as to obtain the optimum pressing force corresponding to the first plateau 610 measured by this capacitance change. The generator can be controlled.

図4:自動ソフトリソグラフィ装置100の実施形態によると、該装置はテーブル120を備え、該テーブル上には、ガントリ200を支持するガイド125、126を固定する。上記ガントリを、動力化手段300によって、上記ガイド125、126から分かるように長手方向軸に沿ってテーブル120に対して並進移動可能とする。ガントリは、スタンプまたはマクロスタンプ10用の磁気把持装置220を支持し、これにより該装置をガントリ200と共にテーブル120に対して長手方向に移動できる。テーブルの長手方向軸に沿って、テーブルは、スタンピングによる被着に必要な様々な動作に対応する5つのステーションを支持する。   FIG. 4: According to an embodiment of the automatic soft lithography apparatus 100, the apparatus comprises a table 120 on which guides 125, 126 supporting the gantry 200 are fixed. The gantry can be translated relative to the table 120 along the longitudinal axis as can be seen from the guides 125, 126 by the powering means 300. The gantry supports a magnetic gripping device 220 for the stamp or macrostamp 10 so that it can move longitudinally with respect to the table 120 along with the gantry 200. Along the longitudinal axis of the table, the table supports five stations corresponding to the various operations required for deposition by stamping.

第1ステーション110は、スタンプまたはマクロスタンプの格納領域に相当する。磁気把持装置220によって、異なるスタンプを使用でき、且つこれらのスタンプを自動的に変更できる。   The first station 110 corresponds to a stamp or macro stamp storage area. The magnetic gripping device 220 can use different stamps and can automatically change these stamps.

第2ステーション140は、例えば、スライド等の基板を受容可能な被着領域とする。このステーションは、有利には、上記スライドの下に配置した電磁石を備えて、スタンピング中に、確実にスタンプまたはマクロスタンプが基板面へ均一に加圧できるようにする。   The second station 140 is, for example, a deposition area that can receive a substrate such as a slide. This station advantageously comprises an electromagnet located under the slide to ensure that the stamp or macrostamp can be uniformly pressed against the substrate surface during stamping.

第3ステーション160は、送風によりスタンプまたはマクロスタンプを乾燥する領域とする。   The third station 160 is an area where the stamp or the macro stamp is dried by blowing air.

第4ステーション150を、「インキングステーション」として知られるステーションとする。該ステーションは、基板に被着する溶液または分子を収容する複数のタンクを備える。タンクの1つには、スタンプまたはマクロスタンプを洗浄する溶液を収容してもよい。   The fourth station 150 is a station known as an “inking station”. The station includes a plurality of tanks that contain solutions or molecules to be deposited on the substrate. One of the tanks may contain a solution for cleaning the stamp or macro stamp.

第5ステーション141、142、143、144は、構造化した被着を受けるための他の基板を備える。この実施例では、このステーションは最大4枚のスライドを収容できる。別の実施形態によると、このステーションと関連する磁場発生装置を、永久磁石で構成する。   The fifth stations 141, 142, 143, 144 comprise other substrates for receiving structured deposition. In this embodiment, this station can accommodate up to four slides. According to another embodiment, the magnetic field generator associated with this station comprises a permanent magnet.

図5:ガントリ200は、ガイド125、126上に載置するクロスメンバ203を含む。ガントリは、案内要素204と動力化要素205とを支持し、該要素によりクロススライドと呼ばれるキャリッジ202を、上記クロスメンバ203に平行に、即ちテーブル120の長手方向と垂直に、横断線として知られる方向に、移動可能にする。   FIG. 5: Gantry 200 includes a cross member 203 that rests on guides 125, 126. The gantry supports the guide element 204 and the motorizing element 205, by which the carriage 202, called a cross slide, is known as a transverse line parallel to the cross member 203, ie perpendicular to the longitudinal direction of the table 120. Make it movable in the direction.

クロススライド202は、長手方向および横断方向に直交する、鉛直方向として知られる一方向に延在する案内要素207と、磁気把持装置220を支持する、鉛直方向として知られるキャリッジ201の移動を可能にする動力化要素206を支持する。   The cross slide 202 allows movement of a guide element 207 extending in one direction, known as the vertical direction, orthogonal to the longitudinal and transverse directions, and a carriage 201, known as the vertical direction, that supports the magnetic gripping device 220. A motorizing element 206 is supported.

磁気把持装置を、3つのソレノイド221で構成し、該ソレノイドを電流で通電すると、次のステーションまでマクロスタンプ10またはスタンプを担持できる。   When the magnetic gripping device is composed of three solenoids 221 and the solenoids are energized with current, the macro stamp 10 or the stamp can be carried to the next station.

或いは、該把持装置を、電流で通電しなくてもスタンプを担持できる磁場を発生させる3個の電磁石で構成してもよい。この実施例では、電磁石のソレノイドに給電することで、スタンプを解放できる。この実施形態は、有利には、極めて可撓性で軽量なスタンプに対して使用する。より重いスタンプまたはマクロスタンプに関しては、ソレノイドを反転給電することで、吸着力を増大できる。   Alternatively, the gripping device may be composed of three electromagnets that generate a magnetic field capable of carrying a stamp without being energized with an electric current. In this embodiment, the stamp can be released by supplying power to the solenoid of the electromagnet. This embodiment is advantageously used for extremely flexible and lightweight stamps. For heavier stamps or macro stamps, the suction force can be increased by reversely feeding the solenoid.

したがって、スタンプ1またはマクロスタンプ10を取った後に、本装置はまず、タンクの1つに浸漬するインキングステーション150にスタンプまたはマクロスタンプを搬送する。インキングを、タンクの1つにスタンプを浸漬して行う。有利には、磁気把持装置により、ソレノイドの電源を浸漬中に変調させて、インキングの均一性を強化するために、スタンプを溶液槽内で揺動可能にする。   Thus, after taking the stamp 1 or macro stamp 10, the apparatus first transports the stamp or macro stamp to an inking station 150 that is immersed in one of the tanks. Inking is performed by immersing the stamp in one of the tanks. Advantageously, the magnetic gripping device modulates the power supply of the solenoid during immersion so that the stamp can be swung in the solution bath to enhance inking uniformity.

磁気把持手段220に取着したスタンプを、次に乾燥領域130の上まで搬送する。その後、スタンプをスライドの1枚等に押印する。或いは、スタンプをスタンピング動作毎に変更できる。   The stamp attached to the magnetic gripping means 220 is then conveyed onto the drying area 130. After that, a stamp is stamped on one of the slides. Alternatively, the stamp can be changed for each stamping operation.

以上の説明で、本発明の様々な特徴や効果を通して、本発明が目指す目的に到達することを明確に示している。特に、本発明により、基板表面へのソフトリソグラフィ・スタンプまたはマクロスタンプの印加圧力を、簡単に効率的に制御でき、自動的スタンプ変更を組み込むことで、ソフトリソグラフィ法の自動化を促進する。本発明は、特にバイオチップの製造に適している。   The above description clearly shows that the object of the present invention is achieved through various features and effects of the present invention. In particular, according to the present invention, the application pressure of the soft lithography stamp or macro stamp to the substrate surface can be easily and efficiently controlled, and the automation of the soft lithography method is facilitated by incorporating an automatic stamp change. The present invention is particularly suitable for the production of biochips.

1 (ソフトリソグラフィ・)スタンプ
2 エラストマ製第2層
3 エラストマ製第1層
10 (マクロ)スタンプ
12 マクロスタンプ本体/エラストマ製層
13 エラストマ製第1層/スタンプ
20 コイルまたはソレノイド(磁気手段)
30 基板
31、131 構造面(印刷面)
32 マイクロ又はナノ構造面(第2面)
40 磁場発生装置
50 電極
100 (自動)ソフトリソグラフィ装置
110 第1ステーション(格納領域)
120 テーブル
125、126 ガイド
130 乾燥領域
132 面
140 第2ステーション(基板取付部)
141、142、143、144 第5ステーション(基板取付部)
150 第4ステーション(インキングタンク)
160 第3ステーション
200 ガントリ
201、202 (クロススライドの)キャリッジ
203 クロスメンバ(キャリッジ)
204、207 案内要素
205、206 動力化要素
220 磁気把持装置(磁気把持手段)
221 ソレノイド(磁気手段)
300 動力化手段
400 押圧力
500 静電容量
600 変化
610 第1プラトー
620 第2プラトー
1 (Soft Lithography) Stamp 2 Elastomer Second Layer 3 Elastomer First Layer 10 (Macro) Stamp 12 Macro Stamp Body / Elastomer Layer 13 Elastomer First Layer / Stamp 20 Coil or Solenoid (Magnetic Means)
30 Substrate 31, 131 Structure surface (printing surface)
32 Micro or nanostructure surface (second surface)
40 magnetic field generator 50 electrode 100 (automatic) soft lithography apparatus 110 first station (storage area)
120 Table 125, 126 Guide 130 Drying area 132 Surface 140 Second station (board mounting part)
141, 142, 143, 144 5th station (board mounting part)
150 4th Station (Inking Tank)
160 Third station 200 Gantry 201, 202 (cross slide) carriage 203 Cross member (carriage)
204, 207 Guide elements 205, 206 Motorizing element 220 Magnetic gripping device (magnetic gripping means)
221 Solenoid (magnetic means)
300 Motorizing means 400 Pressing force 500 Capacitance 600 Change 610 First plateau 620 Second plateau

Claims (11)

基板(30)にマイクロ構造またはナノ構造の被着物を転写するソフトリソグラフィ用装置(100)であって、前記装置は、
−転写によって前記被着を実現できる構造面(31、131)を、その片面に備えるエラストマ製層(3、13)と、
−前記第1層(3、13)の前記構造面(31、131)に対向する面(32、132)に密接した状態の、エラストマ製第2層(2、12)であって、軟強磁性材料から成る粒子を分散させたエラストマ製の前記第2層(2、12)とから成る可撓性スタンプ(1、10)を備えることを特徴とする装置。
An apparatus for soft lithography (100) for transferring a microstructured or nanostructured deposit to a substrate (30), said apparatus comprising:
An elastomeric layer (3, 13) provided on one side with a structural surface (31, 131) capable of realizing said deposition by transfer;
-An elastomer second layer (2, 12), in close contact with the surface (32, 132) facing the structural surface (31, 131) of the first layer (3, 13), A device comprising a flexible stamp (1, 10) comprising said second layer (2, 12) made of elastomer in which particles of magnetic material are dispersed.
前記第2層(2、12)中に分散した軟強磁性粒子の大きさを、10μm〜200μmとすることを特徴とする、請求項1に記載の装置。   Device according to claim 1, characterized in that the size of the soft ferromagnetic particles dispersed in the second layer (2, 12) is between 10m and 200m. 前記スタンプ(1、10)の第2層(2、12)における軟強磁性粒子の割合を、50質量%〜95質量%とすることを特徴とする、請求項2に記載の装置。   The device according to claim 2, characterized in that the proportion of soft ferromagnetic particles in the second layer (2, 12) of the stamp (1, 10) is between 50% and 95% by weight. 前記スタンプの前記2層を形成する前記エラストマを、ポリジメチルシロキサン(PDMS)とすることを特徴とする、請求項1に記載の装置。   The apparatus according to claim 1, wherein the elastomer forming the two layers of the stamp is polydimethylsiloxane (PDMS). 前記柔軟なスタンプ(1、10)を把持し、被着できる磁気手段(20、221)を備えることを特徴とする、請求項1に記載の装置。   2. Device according to claim 1, characterized in that it comprises magnetic means (20, 221) capable of gripping and applying the flexible stamp (1, 10). 前記基板(30)の下に配置する磁場発生装置(40)と、前記スタンプの前記基板への押圧力を開始し、調整するために前記発生装置を制御する手段とを備えることを特徴とする、請求項1に記載の装置。   A magnetic field generator (40) disposed under the substrate (30); and means for controlling the generator to initiate and adjust the pressing force of the stamp on the substrate. The apparatus of claim 1. 前記磁場発生装置(40)と前記基板(30)との間に配置した電極(50)と、前記電極(50)と前記スタンプ(1、10)の前記第2層(2、12)との間での静電容量の変化を測定できる手段とを備えることを特徴とする、請求項6に記載の装置。   An electrode (50) disposed between the magnetic field generator (40) and the substrate (30), and the electrode (50) and the second layer (2, 12) of the stamp (1, 10). The apparatus according to claim 6, further comprising means capable of measuring a change in capacitance between the two. 前記磁場発生装置(40)を磁石とし、前記制御手段により、前記磁石と前記スタンプとの間の距離を制御することを特徴とする、請求項6に記載の装置。   The apparatus according to claim 6, wherein the magnetic field generation device is a magnet, and the distance between the magnet and the stamp is controlled by the control means. 前記磁場発生装置がソレノイドを備え、前記制御手段により、前記ソレノイドの電源の電流または電圧を制御することを特徴とする、請求項6に記載の装置。   The apparatus according to claim 6, wherein the magnetic field generation device includes a solenoid, and the control unit controls a current or a voltage of a power source of the solenoid. 前記磁気把持および被着手段を、3方向の直交軸に従い前記手段を移動できるクロススライドのキャリッジ(201、202、203)によって支持し、インキングタンク(150)と基板取付部(140、141、142、143、144)を備えた際に、前記クロススライドのキャリッジにより、前記磁気把持手段(220)を前記インキングタンクと前記基板取付部との間で移動可能にすることを特徴とする、請求項5および6に記載の装置。   The magnetic gripping and attaching means are supported by a cross slide carriage (201, 202, 203) that can move the means according to three orthogonal axes, and an inking tank (150) and a substrate mounting part (140, 141, 142, 143, 144), the magnetic gripping means (220) can be moved between the inking tank and the substrate mounting portion by the carriage of the cross slide. Apparatus according to claims 5 and 6. 請求項10に記載の前記装置を用いて実施するソフトリソグラフィ法であって、前記方法は、
−前記スタンプ(1、10)を磁気把持手段(220)で取るステップと、
−前記スタンプをインキングタンク(150)上に移動させて、前記スタンプのマイクロまたはナノ構造面(32、132)を、前記タンクの内容物と接触させるステップと、
−前記スタンプを前記タンクから取出すステップと、
−前記スタンプを基板(30)上に搬送するステップと、
−前記スタンプを、前記磁気把持手段から解放するステップと、
−前記基板(30)の下に配置した磁場発生装置(40)を作動させて、前記スタンプ(1、10)を前記基板(30)に均一に押印するステップと
を備えることを特徴とする方法。
A soft lithography method performed using the apparatus of claim 10, wherein the method comprises:
Taking the stamp (1, 10) with magnetic gripping means (220);
-Moving the stamp onto the inking tank (150) to bring the micro- or nanostructured surface (32, 132) of the stamp into contact with the contents of the tank;
-Removing the stamp from the tank;
Conveying the stamp onto the substrate (30);
-Releasing the stamp from the magnetic gripping means;
Activating a magnetic field generator (40) disposed under the substrate (30) to uniformly stamp the stamp (1, 10) onto the substrate (30). .
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