JP2011248310A - Optical compensation film and manufacturing method of the same - Google Patents

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岳博 中村
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an optical compensation film which can improve optical compensation performance through control of optical axis.SOLUTION: An optical compensation film 1 comprises a base film 2, and an optical anisotropic layer 3 layered on at least one of surfaces of the base film 2. On a surface 2a of the base film 2 on which the optical anisotropic layer 3 is layered, multiple grooves, whose width and depth are 5 μm or less, are provided. The optical anisotropic layer 3 is formed by coating of resin solution with viscosity of 500 mPa s or less.

Description

本発明は、光学補償性能を有する光学補償フィルムであって、例えば、液晶表示装置等に用いられ、液晶表示装置の表示画像を高品位にすることが可能な光学補償フィルム、並びに該光学補償フィルムの製造方法に関する。   The present invention is an optical compensation film having optical compensation performance, which is used in, for example, a liquid crystal display device and the like, and can display images on the liquid crystal display device with high quality, and the optical compensation film It relates to the manufacturing method.

液晶表示装置(Liquid Crystal Display:LCD)は、液晶分子が封入されており、かつ電極が組み込まれている液晶セルに、光学フィルム及び偏光板が貼り合わされて構成される。液晶表示装置の動作方式として、TN(Twisted Nematic)モード、STN(Super Twisted Nematic)モード、VA(Vertical Alignment)モード、IPS(In−Plane Switching)モード、OCB(Optically Compensated Bend)モード等があり、液晶分子の配向形態によって主に定義される様々な方式が提案されている。これらはいずれも、液晶分子の電気光学特性を利用して、画像を表示させる。   A liquid crystal display (LCD) is configured by adhering an optical film and a polarizing plate to a liquid crystal cell in which liquid crystal molecules are enclosed and electrodes are incorporated. As an operation method of the liquid crystal display device, there are a TN (Twisted Nematic) mode, an STN (Super Twisted Nematic) mode, a VA (Vertical Alignment) mode, an IPS (In-Plane Switching) mode, an OCB (Optically Compensated Bend, etc.). Various schemes mainly defined by the alignment form of liquid crystal molecules have been proposed. Each of these displays an image using the electro-optical characteristics of liquid crystal molecules.

上記液晶表示装置では、偏光板を介して見るディスプレイの画像品位を高める目的で、多様な機能を有する光学フィルムが用いられる。光学フィルムは、透明性及び光学補償性をはじめとして、用途に応じて種々の光学特性を有する必要がある。中でも、液晶が本来有する複屈折性に起因する光学的な歪み、及び視覚方向により表示が着色するなどの視野角依存性を解消するために、上記光学フィルムとして、光学異方性を応用した光学補償フィルムが広く用いられている。   In the liquid crystal display device, optical films having various functions are used for the purpose of improving the image quality of the display viewed through the polarizing plate. The optical film needs to have various optical characteristics depending on applications, including transparency and optical compensation. In particular, optical anisotropy is applied as the above optical film in order to eliminate the optical distortion caused by the birefringence inherent in liquid crystals and the viewing angle dependency such as the coloration of the display depending on the visual direction. Compensation films are widely used.

様々な液晶表示装置において、上記光学補償フィルムは、例えば、波長変換素子又は視野角改善素子として用いられている。通常、位相差板は偏光板と積層された状態で用いられている。   In various liquid crystal display devices, the optical compensation film is used as, for example, a wavelength conversion element or a viewing angle improvement element. Usually, the phase difference plate is used in a state of being laminated with a polarizing plate.

上記光学補償フィルムに光学異方性等を発現させるために、加熱延伸法により、フィルムを延伸して、樹脂分子の配向を制御する方法が知られている。しかしながら、加熱延伸法では、フィルムの全幅にわたって均一に、フィルムを延伸することができない。また、加熱延伸法では、近年需要が多い大型の液晶表示装置に用いられる大型の光学補償フィルムを製造することは困難である。   In order to develop optical anisotropy and the like in the optical compensation film, a method of stretching the film by a heat stretching method and controlling the orientation of resin molecules is known. However, the heat stretching method cannot stretch the film uniformly over the entire width of the film. In addition, it is difficult to produce a large optical compensation film for use in a large liquid crystal display device, which is in great demand in recent years, by the heat stretching method.

また、上記加熱延伸法により製造される光学補償フィルムの光軸は、一般に、フィルムの長手方向となるか、又は長手方向と直交する方向となる。ところが、偏光板と位相差板とを貼り合わせる場合には、多くの場合、偏光板の光軸と位相差板の光軸とが直交ではなく、平行でもない所定の角度をなすように貼り合わされている。従って、予め製品のサイズよりも少し大きいサイズの偏光板と位相差板とを裁断して用意し、偏光板と位相差板との光軸同士が所定の角度で交差するように、偏光板と位相差板とを貼り合わせた後、所定の寸法になるように偏光板と位相差板との端部が切断されている。この方法では、少し大きい偏光板を得るための裁断工程、少し大きい位相差板を得るための裁断工程、及び偏光板と位相差板とを貼り合わせる工程を個別に行う必要がある。このため、作業工程が煩雑であり、生産性が低く、また裁断により除去されて廃棄される部分も存在するので、コストが高くなる。   In addition, the optical axis of the optical compensation film produced by the above heat stretching method is generally in the longitudinal direction of the film or in a direction orthogonal to the longitudinal direction. However, in many cases, when the polarizing plate and the retardation plate are bonded, the optical axis of the polarizing plate and the optical axis of the retardation plate are bonded so as to form a predetermined angle that is neither orthogonal nor parallel. ing. Accordingly, a polarizing plate slightly larger than the size of the product and a retardation plate are prepared by cutting in advance, and the polarizing plate and the retardation plate are arranged so that the optical axes of the polarizing plate and the retardation plate intersect at a predetermined angle. After bonding the phase difference plate, the ends of the polarizing plate and the phase difference plate are cut so as to have a predetermined size. In this method, it is necessary to individually perform a cutting step for obtaining a slightly larger polarizing plate, a cutting step for obtaining a slightly larger retardation plate, and a step of bonding the polarizing plate and the retardation plate. For this reason, the work process is complicated, the productivity is low, and there is a portion that is removed by cutting and discarded, so that the cost increases.

このような問題を解決するために、フィルムの長手方向ではなく、長手方向に直交する方向でもない方向に、樹脂分子を配向させる方法が種々提案されている。例えば、下記の特許文献1には、フィルムを斜め方向に延伸することにより、樹脂分子を斜め方向に配向させた光学補償フィルムが開示されている。   In order to solve such a problem, various methods for orienting resin molecules in a direction that is not in the longitudinal direction of the film but in a direction that is not perpendicular to the longitudinal direction have been proposed. For example, Patent Document 1 below discloses an optical compensation film in which resin molecules are oriented in an oblique direction by stretching the film in an oblique direction.

加熱延伸方法とは異なる方法として、屈折率異方性を有し、特定の光学補償性能を発現する樹脂又は化合物を有機溶媒に溶解させた塗液を用いて、樹脂フィルム又はガラス基板上に光学異方層を形成する方法も提案されている。例えば、下記の特許文献2には、基板上に、ホメオトロピック配向性側鎖型液晶ポリマーを塗工し、次いで上記ポリマーを液晶状態においてホメオトロピック配向させ、その配向状態を維持した状態で固定化させることにより得られた光学補償フィルムが開示されている。また、下記の特許文献3には、液晶性化合物を有機溶媒に溶解させた液晶材料を用いて形成されたフィルム層が、プラスチックフィルムなどの支持体上に形成されている光学補償フィルムが開示されている。   As a method different from the heat stretching method, a resin or compound having a refractive index anisotropy and expressing a specific optical compensation performance is optically applied on a resin film or a glass substrate using a coating solution in which an organic solvent is dissolved. A method for forming an anisotropic layer has also been proposed. For example, in Patent Document 2 below, a homeotropic alignment side chain type liquid crystal polymer is coated on a substrate, and then the polymer is homeotropically aligned in a liquid crystal state and fixed in a state where the alignment state is maintained. The optical compensation film obtained by making it be disclosed is disclosed. Patent Document 3 below discloses an optical compensation film in which a film layer formed using a liquid crystal material in which a liquid crystal compound is dissolved in an organic solvent is formed on a support such as a plastic film. ing.

このような、塗工による樹脂積層型の光学補償フィルムに関しても、延伸フィルムと同様に、偏光板と位相差板とを貼り合わせる工程を考慮すると、光軸を制御することは重要である。下記の特許文献4には、液晶分子の配向状態を制御するために、液晶状態ではネマチック相を有し、かつガラス転移以下の温度ではガラス状態となる液晶分子を含む溶液と、配向規制力がある基板とを用いて、基板の配向規制力によって第1の方向に液晶分子を配向させ、かつ磁場を印加することにより第1の方向に対して45〜90°の角度をなす第2の方向に液晶分子を配向させた光学補償フィルムが開示されている。   For such a resin-laminated optical compensation film by coating, it is important to control the optical axis in consideration of the step of laminating the polarizing plate and the phase difference plate as in the stretched film. In Patent Document 4 below, in order to control the alignment state of liquid crystal molecules, a solution containing a liquid crystal molecule having a nematic phase in the liquid crystal state and in a glass state at a temperature below the glass transition, A second direction which forms an angle of 45 to 90 ° with respect to the first direction by aligning liquid crystal molecules in the first direction by the alignment regulating force of the substrate using a certain substrate and applying a magnetic field. Discloses an optical compensation film in which liquid crystal molecules are aligned.

特開2001−281452号公報JP 2001-281442 A 特開2003−149441号公報JP 2003-149441 A 特開2007−152173号公報JP 2007-152173 A 特開2007−55193号公報JP 2007-55193 A

特許文献1に記載のような加熱延伸方法により得られた光学補償フィルムでは、分子配向軸すなわち光軸を、フィルムの長手方向に対して斜め方向に傾斜させることは可能であったとしても、光学品質が均一なフィルムを得ることは困難である。また、フィルム面内の所望の傾斜角度方向だけでなくフィルムの幅方向及び厚み方向などの他方向にも、フィルムに変形応力が作用するため、光学異方性を高精度に制御できず、所望の光学性能を有する光学補償フィルムを得ることは困難である。   In the optical compensation film obtained by the heating and stretching method as described in Patent Document 1, even if it is possible to incline the molecular orientation axis, that is, the optical axis, in an oblique direction with respect to the longitudinal direction of the film, It is difficult to obtain a film with uniform quality. Further, since the deformation stress acts on the film not only in the desired tilt angle direction in the film plane but also in other directions such as the width direction and the thickness direction of the film, the optical anisotropy cannot be controlled with high accuracy and desired. It is difficult to obtain an optical compensation film having the following optical performance.

特許文献2〜3のような塗工方法を利用した手法では、一般に、長手方向又は長手方向に直交する方向に樹脂分子の配向が制御され、分子配向が任意の方向に制御された光学補償フィルムを得ることは困難である。また、特許文献4に記載の光学補償フィルムでも、樹脂分子を任意の方向に配向制御するには、再現性が不十分であり、光学補償フィルムの光学補償性能が必ずしも安定しない。   In a technique using a coating method such as Patent Documents 2 and 3, generally, an optical compensation film in which the orientation of resin molecules is controlled in a longitudinal direction or a direction orthogonal to the longitudinal direction, and the molecular orientation is controlled in an arbitrary direction. It is difficult to get. Further, even the optical compensation film described in Patent Document 4 has insufficient reproducibility to control the orientation of resin molecules in an arbitrary direction, and the optical compensation performance of the optical compensation film is not always stable.

本発明の目的は、フィルム面内の任意の方向に光軸を制御して、光学補償性能を高くすることができる光学補償フィルム、並びに該光学補償フィルムの製造方法を提供することである。   An object of the present invention is to provide an optical compensation film capable of increasing the optical compensation performance by controlling the optical axis in an arbitrary direction within the film plane, and a method for producing the optical compensation film.

本発明の広い局面によれば、基材フィルムと、上記基材フィルムの少なくとも一方の表面に積層された光学異方層とを備え、上記基材フィルムの上記光学異方層が積層された表面に、幅が5μm以下かつ深さが5μm以下である複数の溝が設けられており、上記光学異方層が、粘度が500mPa・s以下である樹脂溶液を塗工することにより形成されている、光学補償フィルムが提供される。   According to a wide aspect of the present invention, the surface includes a base film and an optical anisotropic layer laminated on at least one surface of the base film, and the surface on which the optical anisotropic layer of the base film is laminated. In addition, a plurality of grooves having a width of 5 μm or less and a depth of 5 μm or less are provided, and the optically anisotropic layer is formed by applying a resin solution having a viscosity of 500 mPa · s or less. An optical compensation film is provided.

本発明に係る光学補償フィルムのある特定の局面では、光学補償フィルムは長手方向と短手方向とを有し、光軸は、長手方向に対して傾斜している。   In a specific aspect of the optical compensation film according to the present invention, the optical compensation film has a longitudinal direction and a lateral direction, and the optical axis is inclined with respect to the longitudinal direction.

本発明に係る光学補償フィルムの他の特定の局面では、上記樹脂溶液は、リオトロピック液晶性を有する樹脂を含む。   In another specific aspect of the optical compensation film according to the present invention, the resin solution includes a resin having lyotropic liquid crystallinity.

本発明に係る光学補償フィルムの別の特定の局面では、上記溝は、粒子である研磨材で基材フィルムの表面を研磨することにより形成されており、上記粒子である研磨材は、金属粒子、金属の酸化物粒子、金属の炭化物粒子及び炭素粒子からなる群から選択された少なくとも1種である。   In another specific aspect of the optical compensation film according to the present invention, the groove is formed by polishing the surface of the base film with an abrasive that is a particle, and the abrasive that is the particle is a metal particle. , At least one selected from the group consisting of metal oxide particles, metal carbide particles, and carbon particles.

本発明に係る光学補償フィルムの製造方法は、上記基材フィルムの光学フィルムが積層される少なくとも一方の表面に幅が5μm以下かつ深さが5μm以下である溝を形成する工程と、上記基材フィルムの上記溝が形成された表面に、粘度が500mPa・s以下である樹脂溶液を塗工して、光学異方層を形成する工程とを備える。   The method for producing an optical compensation film according to the present invention includes a step of forming a groove having a width of 5 μm or less and a depth of 5 μm or less on at least one surface on which the optical film of the substrate film is laminated; Applying a resin solution having a viscosity of 500 mPa · s or less to the surface of the film on which the groove is formed to form an optically anisotropic layer.

本発明に係る光学補償フィルムの製造方法のある特定の局面は、粒子である研磨材で基材フィルムの表面を研磨することにより上記溝を形成し、上記粒子である研磨材として、金属粒子、金属の酸化物粒子、金属の炭化物粒子及び炭素粒子からなる群から選択された少なくとも1種が用いられる。   A specific aspect of the method for producing an optical compensation film according to the present invention is that the groove is formed by polishing the surface of the base film with an abrasive that is particles, and the abrasive that is the particles includes metal particles, At least one selected from the group consisting of metal oxide particles, metal carbide particles, and carbon particles is used.

本発明に係る光学補償フィルムは、基材フィルムの上記光学異方層が積層された表面に、幅が5μm以下かつ深さが5μm以下である複数の溝が設けられており、上記光学異方層が、粘度が500mPa・s以下である樹脂溶液を塗工することにより形成されているので、溝ののびる方向を制御することにより、微細な該溝に沿ってフィルム面内の任意の方向に光軸を制御でき、光学補償性能を高くすることができる。   In the optical compensation film according to the present invention, a plurality of grooves having a width of 5 μm or less and a depth of 5 μm or less are provided on the surface of the base film on which the optical anisotropic layer is laminated. Since the layer is formed by applying a resin solution having a viscosity of 500 mPa · s or less, by controlling the direction in which the groove extends, it can be adjusted in any direction in the film plane along the fine groove. The optical axis can be controlled and the optical compensation performance can be enhanced.

本発明に係る光学補償フィルムの製造方法では、上記基材フィルムの光学異方層が積層される少なくとも一方の表面に幅が5μm以下かつ深さが5μm以下である溝を形成した後、上記基材フィルムの上記溝が形成された表面に、粘度が500mPa・s以下である樹脂溶液を塗工して、光学異方層を形成するので、溝ののびる方向を制御することにより、微細な該溝に沿ってフィルム面内の任意の方向に光軸を制御でき、光学補償性能が高い光学補償フィルムを得ることができる。   In the method for producing an optical compensation film according to the present invention, after forming a groove having a width of 5 μm or less and a depth of 5 μm or less on at least one surface on which the optical anisotropic layer of the base film is laminated, A resin solution having a viscosity of 500 mPa · s or less is applied to the surface of the material film on which the grooves are formed to form an optically anisotropic layer. Therefore, by controlling the direction in which the grooves extend, The optical axis can be controlled in any direction in the film plane along the groove, and an optical compensation film having high optical compensation performance can be obtained.

図1は、本発明の一実施形態に係る光学補償フィルムを示す断面図である。FIG. 1 is a cross-sectional view showing an optical compensation film according to an embodiment of the present invention.

以下、図面を参照しつつ、本発明の具体的な実施形態及び実施例を説明することにより本発明を明らかにする。   Hereinafter, the present invention will be clarified by describing specific embodiments and examples of the present invention with reference to the drawings.

図1に、本発明の一実施形態に係る光学補償フィルムを断面図で示す。   In FIG. 1, the optical compensation film which concerns on one Embodiment of this invention is shown with sectional drawing.

図1に示す光学補償フィルム1は、基材フィルム2と、基材フィルム2の第1の表面2aに積層された光学異方層3とを備える。基材フィルム2の第1の表面2aとは反対側の第2の表面2bには、光学異方層3は積層されていない。基材フィルム2の少なくとも片面に光学異方層が積層されていればよく、第2の表面2bにも光学異方層3が積層されていてもよい。光学補償フィルム1は、基材フィルム2と光学異方層3とが積層された光学補償積層フィルムである。   The optical compensation film 1 shown in FIG. 1 includes a base film 2 and an optical anisotropic layer 3 laminated on the first surface 2 a of the base film 2. The optical anisotropic layer 3 is not laminated on the second surface 2 b opposite to the first surface 2 a of the base film 2. The optical anisotropic layer should just be laminated | stacked on the at least single side | surface of the base film 2, and the optical anisotropic layer 3 may be laminated | stacked also on the 2nd surface 2b. The optical compensation film 1 is an optical compensation laminated film in which a base film 2 and an optical anisotropic layer 3 are laminated.

本実施形態では、基材フィルム2の光学異方層3が積層された第1の表面2aに、幅が5μm以下かつ深さが5μm以下である複数の溝が設けられている。溝が微細であるため、図1では、溝の図示は省略されている。光学異方層3は、基材フィルム2の第1の表面2aに、樹脂溶液を塗工することにより形成されている。具体的には、例えば、基材フィルム2の第1の表面2aに、樹脂溶液を塗工した後、溶媒を除去するために乾燥して、光学異方層3が形成されている。   In the present embodiment, a plurality of grooves having a width of 5 μm or less and a depth of 5 μm or less are provided on the first surface 2 a on which the optical anisotropic layer 3 of the base film 2 is laminated. Since the groove is fine, the illustration of the groove is omitted in FIG. The optically anisotropic layer 3 is formed by applying a resin solution to the first surface 2 a of the base film 2. Specifically, for example, after applying a resin solution to the first surface 2 a of the base film 2, the optical anisotropic layer 3 is formed by drying to remove the solvent.

本発明の主な特徴は、基材フィルムの光学異方層が積層された表面に、幅が5μm以下かつ深さが5μm以下である複数の微細な溝が設けられており、基材フィルムの該溝が設けられた表面上に、上記光学異方層が、粘度が500mPa・s以下である樹脂溶液を塗工することにより形成されていることである。これによって、微細な溝に沿ってフィルム面内の任意の方向に光軸を制御して、光学補償性能を高くすることができる。本発明に係る光学補償フィルムの使用により、液晶表示装置の表示画像を高品位にすることができる。   The main feature of the present invention is that a plurality of fine grooves having a width of 5 μm or less and a depth of 5 μm or less are provided on the surface of the base film on which the optical anisotropic layer is laminated. The optically anisotropic layer is formed by applying a resin solution having a viscosity of 500 mPa · s or less on the surface provided with the groove. Thereby, the optical compensation performance can be enhanced by controlling the optical axis in any direction in the film plane along the fine groove. By using the optical compensation film according to the present invention, the display image of the liquid crystal display device can be improved.

さらに、本発明者は、上記基材フィルムの表面に設けられた溝が、粒子である研磨材、特に金属粒子、金属の酸化物粒子、金属の炭化物粒子及び炭素粒子からなる群から選択された少なくとも1種の研磨材で研磨することにより形成されている場合には、樹脂分子の配向を任意の方向により一層緻密に制御して、光軸をより一層均一にすることができることを見出した。   Further, the inventor has selected the groove provided on the surface of the base film from the group consisting of abrasive particles, particularly metal particles, metal oxide particles, metal carbide particles, and carbon particles. It has been found that when formed by polishing with at least one type of abrasive, the orientation of the resin molecules can be controlled more precisely in any direction to make the optical axis more uniform.

(樹脂溶液)
上記樹脂溶液は、リオトロピック液晶性を有する樹脂を含む溶液であることが好ましい。上記樹脂溶液として、リオトロピック液晶性を有する樹脂を、溶媒に溶解して得られる樹脂溶液が好適に用いられる。上記樹脂溶液に含まれる樹脂は、主鎖にリオトロピック液晶性を示す構造を有する高分子(主鎖型高分子液晶化合物)、又は側鎖に液晶性を示す構造を有する高分子(側鎖型高分子液晶化合物)であることが好ましい。上記樹脂及び樹脂溶液はそれぞれ、1種のみが用いられてもよく、2種以上が併用されてもよい。リオトロピック液晶性を有する樹脂の使用により、基材フィルムの表面に設けられた微細な溝の配向規制力に対して、リオトロピック液晶分子は効果的に応答し、基材フィルムの表面に任意の方向に設けられた溝に沿って、分子を配向させることができる。
(Resin solution)
The resin solution is preferably a solution containing a resin having lyotropic liquid crystallinity. As the resin solution, a resin solution obtained by dissolving a resin having lyotropic liquid crystallinity in a solvent is preferably used. The resin contained in the resin solution is a polymer having a structure exhibiting lyotropic liquid crystallinity in the main chain (main chain type polymer liquid crystal compound) or a polymer having a structure exhibiting liquid crystallinity in the side chain (side chain type high molecular weight). Molecular liquid crystal compound). As for the said resin and resin solution, respectively, only 1 type may be used and 2 or more types may be used together. By using a resin having lyotropic liquid crystallinity, the lyotropic liquid crystal molecules effectively respond to the orientation regulating force of the fine grooves provided on the surface of the base film, and in any direction on the surface of the base film. The molecules can be oriented along the provided grooves.

上記主鎖型高分子液晶化合物としては、例えば、ポリアミド系、ポリエステル系、ポリカーボネート系、ポリイミド系、ポリウレタン系、ポリベンズイミダゾール系、ポリベンズオキサゾール系、ポリベンズチアゾール系、ポリアゾメチン系、ポリエステルアミド系、ポリエステルカーボネート系及びポリエステルイミド系等の高分子液晶化合物、並びにこれらの混合物等が挙げられる。   Examples of the main chain type polymer liquid crystal compound include polyamide, polyester, polycarbonate, polyimide, polyurethane, polybenzimidazole, polybenzoxazole, polybenzthiazole, polyazomethine, and polyesteramide. , Polymer liquid crystal compounds such as polyester carbonate type and polyester imide type, and mixtures thereof.

上記側鎖型高分子液晶化合物としては、例えば、ポリアクリレート系、ポリメタクリレート系、ポリビニル系、ポリシロキサン系、ポリエーテル系、ポリマロネート系及びポリエステル系等の直鎖状又は環状構造の骨格に、側鎖としてメソゲン基が結合した高分子液晶化合物、並びにこれらの混合物等が挙げられる。   Examples of the side-chain polymer liquid crystal compound include a skeleton having a linear or cyclic structure such as polyacrylate, polymethacrylate, polyvinyl, polysiloxane, polyether, polymalonate, and polyester. Examples thereof include a polymer liquid crystal compound having a mesogen group bonded as a chain, and a mixture thereof.

液晶発現温度が80℃未満であると、液晶ディスプレイなどに適用されると、液晶ディスプレイの使用環境によって、液晶性高分子の配向状態を維持することができず、光学補償性能が失われることがある。液晶発現温度が高すぎると、基板フィルムの材質によっては変形又は変質が起こり、光学補償フィルムの価値を著しく低下することがある。従って、上記樹脂溶液に含まれる樹脂は、芳香族ポリアミドであることが特に好ましい。芳香族環基を有するポリアミド樹脂は、高い光学異方性を発揮する樹脂であり、正面レターデーションをはじめとして、優れた光学補償性能を有する。また汎用樹脂と比較して、融点及びガラス転移温度が高く、耐熱性に優れているという大きな特徴を有する。上記芳香族ポリアミド樹脂は、芳香環及びアミド結合を有するので、剛直性、強靭性及び耐薬品性に優れており、かつ高い接着性を発現する。これらの樹脂特性は、光学補償フィルムにおいて特に有利に作用する。上記芳香族ポリアミド樹脂を用いた光学補償フィルムを液晶表示装置に組み込むと、安定した光学補償性能を発揮し、表示画像を高品位に維持できる。特にパネル内でのバックライト光などにより高温下に暴露されても、レターデーション値が変化し難くなる。また、光学異方層が剛直かつ強靭になるために、基材フィルムから光学異方層が剥離し難くなり、かつ光学異方層に欠けが生じ難くなる。このため、光学補償フィルムの価値を高めることができる。   When the liquid crystal expression temperature is lower than 80 ° C., when applied to a liquid crystal display, the alignment state of the liquid crystalline polymer cannot be maintained depending on the use environment of the liquid crystal display, and the optical compensation performance may be lost. is there. If the liquid crystal expression temperature is too high, deformation or alteration may occur depending on the material of the substrate film, which may significantly reduce the value of the optical compensation film. Therefore, the resin contained in the resin solution is particularly preferably an aromatic polyamide. A polyamide resin having an aromatic ring group is a resin exhibiting high optical anisotropy, and has excellent optical compensation performance including front retardation. Moreover, compared with general purpose resin, it has the big characteristics that melting | fusing point and glass transition temperature are high and it is excellent in heat resistance. Since the aromatic polyamide resin has an aromatic ring and an amide bond, it is excellent in rigidity, toughness and chemical resistance, and exhibits high adhesiveness. These resin properties are particularly advantageous in optical compensation films. When an optical compensation film using the aromatic polyamide resin is incorporated into a liquid crystal display device, stable optical compensation performance is exhibited and a display image can be maintained at a high quality. In particular, the retardation value is difficult to change even when exposed to a high temperature by backlight light in the panel. Further, since the optical anisotropic layer is rigid and tough, the optical anisotropic layer is difficult to peel from the base film, and the optical anisotropic layer is not easily chipped. For this reason, the value of an optical compensation film can be raised.

上記樹脂溶液に含まれる溶媒は特に限定されない。溶媒として水を用いた場合には、有機溶剤を用いた場合と比較して、コストが安くなり、労働衛生面及び作業面も良好になる。また樹脂溶液の調合が容易になり、特に衛生面及びメンテナンスの面が特に向上することで、光学補償フィルムの生産性が著しく高くなる。さらに、主溶媒として有機溶剤ではなく水を用いることにより、樹脂溶液を塗工した後に水を揮発させた塗膜において、有機溶剤の残留量を低減でき、得られる光学補償フィルムの商品価値を高くすることができる。ただし、樹脂の溶解性又は分散性を向上させ、また基材フィルムへの濡れ性を良くするために、上記樹脂溶液は、有機溶剤を含んでいてもよい。   The solvent contained in the resin solution is not particularly limited. When water is used as a solvent, the cost is reduced and the occupational health and workability are also improved as compared with the case where an organic solvent is used. Further, the resin solution can be easily prepared, and the hygiene and maintenance are particularly improved, so that the productivity of the optical compensation film is remarkably increased. Furthermore, by using water instead of an organic solvent as the main solvent, the residual amount of the organic solvent can be reduced in the coating film in which water is volatilized after coating the resin solution, and the commercial value of the resulting optical compensation film is increased. can do. However, the resin solution may contain an organic solvent in order to improve the solubility or dispersibility of the resin and improve the wettability to the base film.

上記樹脂溶液の塗工時の粘度(塗工粘度)は、樹脂溶液の流動性を確保するために重要である。また、上記樹脂溶液の塗工粘度は、基材フィルムの表面に任意の方向に設けられた微細な溝による配向規制力に樹脂分子が効果的に応答し、微細な溝に沿って分子配向する上で重要である。従って、樹脂溶液の塗工粘度は、上記光学補償フィルムの光軸の制御に対して非常に重要である。光軸を効果的に制御するために、上記樹脂溶液の塗工粘度は、500mPa・s以下である。また、上記樹脂溶液の20℃での粘度は、500mPa・s以下であることが好ましい。上記樹脂溶液の塗工粘度は、好ましくは2mPa・s以上、好ましくは100mPa・s以下である。また、上記樹脂溶液の20℃での粘度は、好ましくは2mPa・s以上、好ましくは100mPa・s以下である。上記樹脂溶液の塗工時の粘度が2mPa・s以上及び100mPa・s以下であると、基材フィルム上に塗工された後の樹脂溶液の流動性が高くなり、基材フィルムに対する上記樹脂溶液の濡れ性がより一層高くなる。このため、基材フィルムの表面に設けられた微細な溝による樹脂の分子配向の制御が容易となる。上記樹脂溶液の粘度が高すぎると、樹脂分子の流動性が不足する。さらに、上記樹脂溶液の粘度が高すぎると、リオトロピック液晶のような、塗工時の剪断応力に応答して分子配向する樹脂では、基材フィルムの配向規制力よりも、塗工剪断力による配向規制が優位となることで、光軸制御が困難となり、光学補償性能を損なうことになる。   The viscosity at the time of application of the resin solution (coating viscosity) is important for ensuring the fluidity of the resin solution. In addition, the coating viscosity of the resin solution is such that the resin molecules effectively respond to the orientation regulating force by the fine grooves provided in the arbitrary direction on the surface of the base film, and the molecules are oriented along the fine grooves. Is important above. Therefore, the coating viscosity of the resin solution is very important for controlling the optical axis of the optical compensation film. In order to effectively control the optical axis, the coating viscosity of the resin solution is 500 mPa · s or less. Moreover, it is preferable that the viscosity at 20 degreeC of the said resin solution is 500 mPa * s or less. The coating viscosity of the resin solution is preferably 2 mPa · s or more, and preferably 100 mPa · s or less. The viscosity of the resin solution at 20 ° C. is preferably 2 mPa · s or more, and preferably 100 mPa · s or less. When the viscosity at the time of coating of the resin solution is 2 mPa · s or more and 100 mPa · s or less, the fluidity of the resin solution after being coated on the base film is increased, and the resin solution with respect to the base film is increased. The wettability becomes even higher. For this reason, the control of the molecular orientation of the resin by the fine grooves provided on the surface of the base film becomes easy. When the viscosity of the resin solution is too high, the fluidity of the resin molecules is insufficient. Furthermore, if the viscosity of the resin solution is too high, a resin that undergoes molecular orientation in response to shear stress during coating, such as a lyotropic liquid crystal, is oriented by the coating shear force rather than the orientation regulating force of the base film. When the regulation becomes dominant, the optical axis control becomes difficult, and the optical compensation performance is impaired.

上記樹脂溶液の固形分濃度は、樹脂溶液の粘度に影響する。樹脂溶液の固形分濃度が高いと樹脂溶液の粘度が高くなり、樹脂溶液の固形分濃度が低いと樹脂溶液の粘度が低くなる。従って、上記樹脂溶液の固形分濃度は重要である。上記樹脂溶液の固形分濃度は、1〜20重量%であることが好ましい。上記樹脂溶液の固形分濃度は、より好ましくは3重量%以上、より好ましくは10重量%以下である。上記固形分濃度が上記下限以上及び上記上限以下であると、上記樹脂溶液の粘度がより一層適度になり、より一層望ましい光学異方性を有する光学補償フィルムを得ることができる。   The solid content concentration of the resin solution affects the viscosity of the resin solution. When the solid content concentration of the resin solution is high, the viscosity of the resin solution is high, and when the solid content concentration of the resin solution is low, the viscosity of the resin solution is low. Therefore, the solid content concentration of the resin solution is important. The solid concentration of the resin solution is preferably 1 to 20% by weight. The solid content concentration of the resin solution is more preferably 3% by weight or more, and more preferably 10% by weight or less. When the solid content concentration is not less than the above lower limit and not more than the above upper limit, the viscosity of the resin solution becomes more appropriate, and an optical compensation film having more desirable optical anisotropy can be obtained.

上記樹脂溶液の塗工時の温度(塗工温度)は、上記樹脂溶液の粘度に影響を与えることから、上記樹脂溶液の固形分濃度と共に重要である。上記樹脂溶液は、粘度が500mPa・s以下である状態で塗工される。上記樹脂溶液の粘度が500mPa・s以下であるように、上記樹脂溶液の塗工温度は適宜調整される。上記樹脂溶液の温度が高いと、樹脂溶液の粘度は低下し、基材フィルム上に塗工された樹脂溶液の流動性が高くなり、基材フィルムの溝による配向規制力の効果は高くなる。上記樹脂溶液の塗工温度は、樹脂溶液の塗工時の粘度を調整し、かつ基材フィルムへの樹脂溶液の塗工性を損なわない範囲であれば特に限定されない。上記樹脂溶液の塗工温度は、上記樹脂溶液に使用する溶媒の沸点より低く、塗工時の作業環境温度よりも高いことが好ましい。上記樹脂溶液の塗工温度は、15〜95℃であることが好ましい。上記樹脂溶液の塗工温度は、より好ましくは20℃以上、より好ましくは80℃以下である。上記樹脂溶液の溶媒が水である場合には、特に、上記樹脂溶液の塗工温度は上記範囲内であることが好ましい。   The temperature at which the resin solution is applied (coating temperature) affects the viscosity of the resin solution, and thus is important together with the solid content concentration of the resin solution. The resin solution is applied in a state where the viscosity is 500 mPa · s or less. The application temperature of the resin solution is appropriately adjusted so that the viscosity of the resin solution is 500 mPa · s or less. When the temperature of the resin solution is high, the viscosity of the resin solution is lowered, the fluidity of the resin solution coated on the base film is increased, and the effect of the orientation regulating force due to the grooves of the base film is increased. The application temperature of the resin solution is not particularly limited as long as it adjusts the viscosity at the time of application of the resin solution and does not impair the applicability of the resin solution to the base film. The coating temperature of the resin solution is preferably lower than the boiling point of the solvent used for the resin solution and higher than the working environment temperature at the time of coating. The coating temperature of the resin solution is preferably 15 to 95 ° C. The coating temperature of the resin solution is more preferably 20 ° C. or higher, more preferably 80 ° C. or lower. When the solvent of the resin solution is water, it is particularly preferable that the coating temperature of the resin solution is within the above range.

上記樹脂溶液の粘度は、添加剤の使用により調整することも可能である。具体的には、分子構造内に親水性官能基と疎水性官能基とを共に有する界面活性剤を添加剤として用いることにより、上記樹脂溶液の粘度を低くすることができる。また界面活性剤の使用により、上記樹脂溶液の濡れ性を高めることもできる。上記界面活性剤として、アニオン性、カチオン性、両イオン性及び非イオン性など各種の界面活性剤を使用できる。発泡による塗工不良発生などの問題が比較的生じ難いことから、非イオン性界面活性剤が好ましい。樹脂溶液中の界面活性剤の含有量は、本発明の効果を低下させない範囲で適宣調整される。上記樹脂溶液100重量%中、界面活性剤の含有量は0.01〜0.1重量%であることが好ましい。   The viscosity of the resin solution can be adjusted by using an additive. Specifically, the viscosity of the resin solution can be lowered by using, as an additive, a surfactant having both a hydrophilic functional group and a hydrophobic functional group in the molecular structure. Moreover, the wettability of the said resin solution can also be improved by use of surfactant. As the surfactant, various surfactants such as anionic, cationic, amphoteric and nonionic can be used. Nonionic surfactants are preferred because problems such as poor coating due to foaming are relatively unlikely to occur. The content of the surfactant in the resin solution is appropriately adjusted within a range not deteriorating the effect of the present invention. In 100% by weight of the resin solution, the content of the surfactant is preferably 0.01 to 0.1% by weight.

上記樹脂溶液には、本発明の効果を低下させない範囲で、帯電防止剤、酸化防止剤、無機滑剤、有機滑剤、乳化剤、pH調整剤、紫外線吸収剤、消泡剤、顔染料及び結晶核剤などの各種の添加剤が配合されていてもよい。   In the resin solution, an antistatic agent, an antioxidant, an inorganic lubricant, an organic lubricant, an emulsifier, a pH adjuster, an ultraviolet absorber, an antifoaming agent, a facial dye, and a crystal nucleating agent are provided as long as the effects of the present invention are not reduced. Various additives such as these may be blended.

(基材フィルム)
上記基材フィルムは、光学的に透明であり、残留位相差が少ないことが好ましい。上記基材フィルムの材質としては、例えば、アクリル、ポリエステル、ポリプロピレン、トリアセチルセルロース、シクロオレフィン、ポリカーボネート、ポリサルホン、ポリアリレート及びガラス等が挙げられる。
(Base film)
The base film is preferably optically transparent and has little residual retardation. Examples of the material for the base film include acrylic, polyester, polypropylene, triacetyl cellulose, cycloolefin, polycarbonate, polysulfone, polyarylate, and glass.

上記基材フィルムの平均厚みは特に限定されない。所定の光学補償性能が損なわれないように、かつ一定の機械的強度を有するように、更に液晶表示装置へ積層される際に重視される部材の軽量化等を考慮して、上記基材フィルムの厚みは適宜設定される。上記基材フィルムの平均厚みは、20〜200μmであることが好ましい。上記基材フィルムの平均厚みは、より好ましくは40μm以上、より好ましくは100μm以下である。   The average thickness of the base film is not particularly limited. In consideration of the weight reduction of a member that is important when laminated on a liquid crystal display device so that the predetermined optical compensation performance is not impaired and has a certain mechanical strength, the above base film The thickness of is appropriately set. The average thickness of the substrate film is preferably 20 to 200 μm. The average thickness of the substrate film is more preferably 40 μm or more, and more preferably 100 μm or less.

上記基材フィルムの表面には、微細な溝が設けられている。基材フィルムの上記溝が設けられた表面上に配置された樹脂分子に対して、上記溝は配向規制力を発揮し、分子配向起点となる。従って、微細な溝を任意の方向に賦形することで、上記光学異方層の分子配向を、任意の方向に制御できる。上記溝ののびる方向を制御することにより、フィルムの長手方向又は長手方向と直交する方向に限定されることなく、長手方向から傾斜した方向を含めて、上記光学異方層の分子配向を制御できる。このため、上記光学補償フィルムに多様な光軸を付与することができる。   Fine grooves are provided on the surface of the base film. For the resin molecules arranged on the surface of the base film provided with the groove, the groove exerts an alignment regulating force and becomes a molecular alignment starting point. Therefore, the molecular orientation of the optically anisotropic layer can be controlled in any direction by shaping the fine grooves in any direction. By controlling the direction in which the groove extends, the molecular orientation of the optical anisotropic layer can be controlled including the direction inclined from the longitudinal direction, without being limited to the longitudinal direction of the film or the direction orthogonal to the longitudinal direction. . For this reason, various optical axes can be provided to the optical compensation film.

上記溝が一定の配向規制効果を発揮するためには、上記溝の幅及び深さは重要である。また、上記溝の幅及び深さによっては、上記光学補償フィルムの透明性が、主に基材フィルムと光学異方層との界面の光散乱により損なわれる。このため、本発明の目的を阻害しない範囲で、溝の幅及び深さは小さい方が好ましい。上記溝の幅及び深さは、5.0μm以下であり、1.0μm以下であることがより好ましい。   In order for the groove to exhibit a certain alignment regulating effect, the width and depth of the groove are important. Further, depending on the width and depth of the groove, the transparency of the optical compensation film is impaired mainly by light scattering at the interface between the base film and the optical anisotropic layer. For this reason, it is preferable that the width and depth of the groove are small as long as the object of the present invention is not impaired. The width and depth of the groove are 5.0 μm or less, and more preferably 1.0 μm or less.

上記基材フィルムの表面に設けられた溝は、粒子である研磨材で研磨することにより形成されていることが好ましい。基材フィルムの表面を粒子である研磨材で研磨することにより、上記基材フィルムの表面に溝を形成することが好ましい。上記粒子である研磨材は、金属粒子、金属の酸化物粒子、金属の炭化物粒子及び炭素粒子からなる群から選択された少なくとも1種であることが好ましい。上記研磨材としては、具体的には、酸化アルミニウム粒子、酸化クロム粒子、炭化ケイ素粒子及びダイヤモンド粒子等が挙げられる。   It is preferable that the groove | channel provided in the surface of the said base film is formed by grind | polishing with the abrasive | polishing material which is particle | grains. It is preferable to form grooves on the surface of the base film by polishing the surface of the base film with an abrasive that is particles. The abrasive that is the particles is preferably at least one selected from the group consisting of metal particles, metal oxide particles, metal carbide particles, and carbon particles. Specific examples of the abrasive include aluminum oxide particles, chromium oxide particles, silicon carbide particles, and diamond particles.

上記研磨には、研磨材を表面に有するテープ(以下、研磨テープともいう)を用いることが好ましい。例えば、基材上に上記研磨材をバインダー樹脂に分散させたスラリーを塗布することにより、基材上に研磨層が担持された研磨テープが得られる。上記研磨テープの製造方法は、例えば特開平07−100769号公報に具体的に記載されている。なお、上記研磨テープは、利用形態に応じて、スリット加工等により寸法を調整して使用してもよい。   For the polishing, it is preferable to use a tape having an abrasive on the surface (hereinafter also referred to as an abrasive tape). For example, by applying a slurry in which the abrasive is dispersed in a binder resin on a substrate, a polishing tape having a polishing layer supported on the substrate can be obtained. The method for producing the polishing tape is specifically described in, for example, JP-A-07-1000076. In addition, you may use the said polishing tape, adjusting a dimension by slit process etc. according to a utilization form.

上記研磨テープに用いられる上記基材の材質としては、ポリエステル、ナイロン、ポリオレフィン及びアクリル等が挙げられる。上記基材として、発泡成形体、織布、不織布及びこれらの複合体を用いてもよい。   Examples of the material of the base material used for the polishing tape include polyester, nylon, polyolefin, and acrylic. As the base material, a foam molded body, a woven fabric, a nonwoven fabric, and a composite thereof may be used.

上記粒子である研磨材の平均粒子径は、0.2〜3μmであることが好ましい。上記研磨材の平均粒子径は、より好ましくは0.5μm以上、より好ましくは2μm以下である。上記粒子径は、研磨材が真球状である場合には直径を示し、真球状以外の形状である場合には最大径を示す。上記研磨材の平均粒子径が上記下限以上であると、基材フィルムの表面を研磨する際、接触摩擦が大きくなりすぎず、研磨時に基材フィルムの搬送に支障が生じ難い。上記研磨材の平均粒子径が上記上限以下であると、溝の幅及び深さが大きくなりすぎず、光学補償フィルムの透明性をより一層高めることができる。   The average particle diameter of the abrasive that is the particles is preferably 0.2 to 3 μm. The average particle diameter of the abrasive is more preferably 0.5 μm or more, and more preferably 2 μm or less. The particle diameter indicates a diameter when the abrasive is a true sphere, and indicates a maximum diameter when the abrasive is a shape other than a true sphere. When the average particle size of the abrasive is equal to or more than the lower limit, contact friction does not become excessive when the surface of the base film is polished, and it is difficult for the base film to be conveyed during polishing. When the average particle diameter of the abrasive is not more than the above upper limit, the width and depth of the groove do not become too large, and the transparency of the optical compensation film can be further enhanced.

一般に、基材フィルム上に液晶材料を塗工し、液晶分子を配向させるためには、通常、配向膜を有する基材フィルムが用いられる。この配向膜を有する基材フィルムを用いて、配向膜によって液晶分子を特定の方向に配列させることで、配向方向によって決定される光軸が制御されている。しかし、この場合には、配向膜を形成する必要があり、経済的ではない。   In general, in order to apply a liquid crystal material on a substrate film and align liquid crystal molecules, a substrate film having an alignment film is usually used. The optical axis determined by the alignment direction is controlled by aligning liquid crystal molecules in a specific direction by the alignment film using the substrate film having the alignment film. However, in this case, it is necessary to form an alignment film, which is not economical.

さらに、配向膜を形成する際には、ポリイミド又はポリビニルアルコールよりなる下塗り層を基材フィルムの表面に形成し、その下塗り層に繊維束を放射状に取り付けたバフ処理ロールを基材の表面に接触させて研磨する方法が行われている。この研磨する方法は、バフ処理とも呼ばれている。これによって、基材フィルムの長手方向、即ち搬送方向に沿って微細な溝を賦形する。この溝は、液晶分子の配向起点になる。なお、基材フィルムの表面を直接バフ処理することもある。しかしながら、このようなバフ処理を施すと、処理後の基材フィルムの表面に、バフ処理繊維束の欠損に由来する繊維砕片が残存することが多い。繊維砕片は光学補償フィルムにおいて異物となり、得られる光学補償フィルムに光学的欠点が生じる原因となる。このため、バフ処理を施すと、光学補償フィルムの製品価値が低下する。また、上記光学的欠点を無くすために、水洗などの基材フィルムの表面を洗浄する工程を別途設ける必要があり、生産性が低下する。さらに、上記繊維束はロール形状であることから、基材フィルムの搬送方向に実質的に平行方向にのみ溝が賦形され、基材フィルムの長手方向に対して傾斜した方向、又は長手方向及び短手方向から傾斜した方向に溝が延びるように、連続的に溝を形成することは不可能である。従って、基材フィルムは、上記繊維束を取り付けたバフ処理ロールにより、研磨処理されないことが好ましい。   Further, when forming the alignment film, an undercoat layer made of polyimide or polyvinyl alcohol is formed on the surface of the base film, and a buffing roll in which fiber bundles are radially attached to the undercoat layer is brought into contact with the surface of the base material. A method of polishing is performed. This polishing method is also called buffing. Thus, fine grooves are formed along the longitudinal direction of the base film, that is, the conveying direction. This groove serves as an alignment starting point for liquid crystal molecules. The surface of the base film may be directly buffed. However, when such buffing is performed, fiber fragments derived from defects in the buffed fiber bundle often remain on the surface of the base film after the processing. The fiber fragments become foreign matters in the optical compensation film, and cause optical defects in the obtained optical compensation film. For this reason, when a buff process is performed, the product value of an optical compensation film will fall. Moreover, in order to eliminate the said optical fault, it is necessary to provide the process of wash | cleaning the surface of base films, such as water washing, and productivity falls. Furthermore, since the fiber bundle has a roll shape, grooves are formed only in a direction substantially parallel to the transport direction of the base film, and the direction inclined with respect to the longitudinal direction of the base film, or the longitudinal direction, and It is impossible to continuously form grooves so that the grooves extend in a direction inclined from the short direction. Therefore, it is preferable that the base film is not polished by the buffing roll to which the fiber bundle is attached.

これに対して、上記研磨テープで基材フィルムの表面を研磨する場合、基材フィルムの表面に接触する研磨テープ部分は実質的に球面であり、かつ均一である。このため、上記研磨テープを用いて研磨を行うと、非常に均一で微細な溝を形成できる。従って、配向膜を有さない基材フィルムを用いても、更にラビング処理されていない基材フィルムを用いても、得られる光学補償フィルムの光学補償性能を高めることができる。さらに、樹脂フィルムと発泡成形体、樹脂フィルムと織布、又は樹脂フィルムと不織布とを組み合わせた複合担持基材を使用することで、発泡構造又は微細な繊維束構造がポケットとなって、上記基材フィルムの表面を研磨した際に発生する樹脂片等の研磨屑が取り込まれる。このため、上記ラビング処理では得られない光学欠点の発生防止性能が充分に得られ、光学補償フィルムとしての商品価値を更に高めることができる。   On the other hand, when the surface of the substrate film is polished with the polishing tape, the portion of the polishing tape that contacts the surface of the substrate film is substantially spherical and uniform. For this reason, if it grind | polishes using the said polishing tape, a very uniform and fine groove | channel can be formed. Therefore, the optical compensation performance of the obtained optical compensation film can be enhanced even when a base film having no alignment film is used or a base film that is not rubbed is used. Furthermore, by using a composite carrier substrate in which a resin film and a foam molded body, a resin film and a woven fabric, or a resin film and a nonwoven fabric are combined, a foam structure or a fine fiber bundle structure becomes a pocket, and Polishing debris such as resin pieces generated when the surface of the material film is polished is taken in. For this reason, the generation | occurrence | production prevention performance of the optical defect which cannot be obtained by the said rubbing process is fully acquired, and the commercial value as an optical compensation film can further be raised.

上記基材フィルムの表面に設けられた複数の溝は、一定方向に配列されていることが好ましく、一定方向に平行に配列されていることが好ましい。複数の溝は互いに略平行に配置されていることが好ましい。光学補償フィルムは長手方向(長さ方向)と短手方向(幅方向)とを有し、上記複数の溝は、フィルムの長手方向に対して平行であるか又は傾斜していることが好ましく、長手方向に対して傾斜していることが好ましく、長手方向と短手方向とに対して傾斜していることが好ましい。複数の各溝がのびる方向(溝の長手方向)は、フィルムの長手方向に対して平行であるか又は傾斜していることが好ましく、長手方向に対して傾斜していることが好ましく、長手方向と短手方向とに対して傾斜していることが好ましい。配向起点となる溝がフィルムの長手方向に対して傾斜していると、すなわちフィルムの長手方向に対して斜め方向に溝が賦形されていると、基材フィルムの表面上に塗工により形成される光学異方層の光軸を、フィルム長手方向に対して、傾斜させることができる。従って、本発明に係る光学補償フィルムを、例えば、位相差板の原反フィルムとして用いた場合、光学フィルムを偏光板の原反フィルムにフィルムの長手方向を一致させて積層した場合であっても、両者の光軸が交差するように配置された積層構造を容易に得ることができる。従って、例えば液晶表示装置の波長変換素子又は視野角改善素子を得る際に、工程数及びコストを低減でき、かつ波長変換素子又は視野角改善素子の光学特性を向上させることができる。   The plurality of grooves provided on the surface of the base film are preferably arranged in a certain direction, and preferably arranged in parallel in the certain direction. The plurality of grooves are preferably arranged substantially parallel to each other. The optical compensation film has a longitudinal direction (length direction) and a lateral direction (width direction), and the plurality of grooves are preferably parallel or inclined with respect to the longitudinal direction of the film, It is preferable to be inclined with respect to the longitudinal direction, and it is preferable to be inclined with respect to the longitudinal direction and the lateral direction. The direction in which each of the plurality of grooves extends (longitudinal direction of the groove) is preferably parallel to or inclined with respect to the longitudinal direction of the film, and is preferably inclined with respect to the longitudinal direction. It is preferable to incline with respect to the short direction. If the groove that is the starting point of orientation is tilted with respect to the longitudinal direction of the film, that is, if the groove is shaped obliquely with respect to the longitudinal direction of the film, it is formed on the surface of the base film by coating. The optical axis of the optically anisotropic layer can be inclined with respect to the film longitudinal direction. Therefore, when the optical compensation film according to the present invention is used as, for example, an original film of a retardation plate, the optical film may be laminated on the original film of a polarizing plate so that the longitudinal direction of the film coincides. A laminated structure arranged so that both optical axes intersect can be easily obtained. Therefore, for example, when obtaining a wavelength conversion element or a viewing angle improvement element of a liquid crystal display device, the number of steps and cost can be reduced, and the optical characteristics of the wavelength conversion element or the viewing angle improvement element can be improved.

上記基材フィルムの表面に、上記研磨材により複数の溝を形成する手法は特に限定されない。特に、基材フィルムの長手方向又は短手方向に対して傾斜した方向に、平行かつ一様に微細な溝を形成することは重要である。溝を形成する具体的な手法として、例えば、搬送される基材フィルムの搬送方向と直交する方向に上記研磨テープを、基材フィルム表面に一定の圧力を掛けながら線接触させることにより、上記基材フィルム表面に、フィルム搬送方向即ち長手方向に対して傾斜した溝を形成する方法が挙げられる。その際、基材フィルムと研磨テープとの接触部分において、基材フィルムは、ゴムなど一定の弾性を有する素材により形成された支持ロールで保持することが好ましい。上記研磨材テープで研磨する際に、接触摩擦によって基材フィルムの搬送状態が不安定になることを抑制するために、フィルム搬送に支障をきたすことのない程度に高い張力で、かつ出来るだけ大きなラップ角度で、基材フィルムをロールで保持することが好ましい。   The method of forming a plurality of grooves on the surface of the base film with the abrasive is not particularly limited. In particular, it is important to form fine grooves in parallel and uniformly in a direction inclined with respect to the longitudinal direction or the short direction of the base film. As a specific method for forming the groove, for example, the above-mentioned base is obtained by bringing the polishing tape into line contact while applying a certain pressure to the surface of the base film in a direction perpendicular to the transport direction of the base film to be transported. The method of forming the groove | channel inclined in the film conveyance direction, ie, a longitudinal direction, on the material film surface is mentioned. In that case, it is preferable to hold | maintain a base film with the support roll formed with the raw material which has fixed elasticity, such as rubber | gum, in the contact part of a base film and an abrasive tape. When polishing with the above-mentioned abrasive tape, in order to prevent the conveyance state of the base film from becoming unstable due to contact friction, the tension is as high as possible without causing any trouble in film conveyance. It is preferable to hold a base film with a roll at a wrap angle.

上記研磨テープは、例えば、上記基材フィルムの搬送方向に対し、直交方向に走行させながら、基材フィルムに接触される。これにより、基材フィルムの表面が研磨される。その際、研磨テープの搬送方法及び基材フィルムへの接触方法は重要である。研磨テープの搬送方法としては、例えばゴムなど一定の弾性を有する素材により形成されたエンドレスベルトを具備した、コンベアユニットのベルト表面で、上記研磨テープを支持搬送させる方法、並びに小径の支持ロールを平滑に複数配置したロールコンベアユニットで、上記研磨テープを支持搬送させる方法等が挙げられる。また、上記基材フィルムの表面に上記研磨テープを接触させる方法として、上記コンベア装置及びロールユニット全体に一定の圧力を掛けながら、研磨テープを搬送しながら、研磨テープの表面を基材フィルム表面へ接触させる方法、並びに研磨テープを上記搬送接触装置により支持することなく、基材フィルムの接触面に対して研磨テープ背面から、高圧空気で負荷することで、研磨テープを基材フィルムの表面に加圧接触させる方法などを例示できる。   For example, the polishing tape is brought into contact with the base film while running in a direction orthogonal to the transport direction of the base film. Thereby, the surface of a base film is grind | polished. In that case, the conveyance method of a polishing tape and the contact method to a base film are important. As a method for conveying the polishing tape, for example, a method for supporting and conveying the polishing tape on the belt surface of the conveyor unit including an endless belt formed of a material having a certain elasticity such as rubber, and a smooth support roll having a small diameter are provided. And a method of supporting and transporting the polishing tape with a plurality of roll conveyor units. Further, as a method of bringing the polishing tape into contact with the surface of the base film, the surface of the polishing tape is brought to the surface of the base film while conveying the polishing tape while applying a certain pressure to the entire conveyor device and the roll unit. Without contacting the polishing tape with the transport contact device, the polishing tape is applied to the surface of the base film by applying high-pressure air from the back of the polishing tape to the contact surface of the base film. The method of making a pressure contact etc. can be illustrated.

上記溝の形成方向は、上記基材フィルムの搬送速度と上記研磨テープの搬送速度の比によって決定される。即ち、基材フィルム搬送速度が研磨テープ搬送速度より速いと、研磨方向即ち溝の形成方向は、基材フィルム搬送方向に対して0〜45°の角度範囲に制御される。一方、研磨テープ搬送速度が基材フィルム搬送速度よりも速いと、溝の形成方向は、基材フィルム搬送方向に対して45〜90°の範囲に制御される。基材フィルムと研磨テープとの搬送速度が同一であれば、溝の形成方向は、基材フィルム搬送方向に対して45°となる。研磨による溝の形成方向は特に限定されず、補償対象となる偏光板及び液晶表示装置の光学特性に応じて、適宣選択できる。上記偏光板の貼り合わせ工程における作業効率及び製品収率に鑑みて、基材フィルムの長手方向又は短手方向に対して、溝の形成方向すなわち溝の長手方向は、40〜50°傾斜しているのが好ましい。従って、基材フィルムと研磨テープとの搬送速度比は、0.84〜1.20の範囲内であることが好ましい。   The direction in which the groove is formed is determined by the ratio of the transport speed of the base film and the transport speed of the polishing tape. That is, when the base film transport speed is faster than the polishing tape transport speed, the polishing direction, that is, the groove forming direction, is controlled within an angle range of 0 to 45 ° with respect to the base film transport direction. On the other hand, when the polishing tape transport speed is faster than the base film transport speed, the groove forming direction is controlled in the range of 45 to 90 ° with respect to the base film transport direction. If the conveyance speeds of the base film and the polishing tape are the same, the groove forming direction is 45 ° with respect to the base film transport direction. The direction of groove formation by polishing is not particularly limited, and can be appropriately selected according to the optical characteristics of the polarizing plate and the liquid crystal display device to be compensated. In view of the working efficiency and product yield in the bonding process of the polarizing plate, the groove forming direction, that is, the longitudinal direction of the groove is inclined by 40 to 50 ° with respect to the longitudinal direction or the short direction of the base film. It is preferable. Therefore, the conveyance speed ratio between the base film and the polishing tape is preferably in the range of 0.84 to 1.20.

上記基材フィルム及び研磨テープの搬送速度は、上記溝を形成する際の研磨テープとの接触負荷に影響を与えることから重要である。特に搬送速度が速すぎると、基材フィルムと研磨テープとの接触負荷が大きくなることで、基材フィルムの搬送に支障が生じることがある。従って、上記基材フィルム及び研磨テープの搬送速度はそれぞれ、50m/分以下であることが好ましい。   The conveyance speed of the base film and the polishing tape is important because it affects the contact load with the polishing tape when the groove is formed. In particular, if the transport speed is too high, the contact load between the base film and the polishing tape becomes large, which may hinder the transport of the base film. Therefore, it is preferable that the conveyance speeds of the base film and the polishing tape are 50 m / min or less, respectively.

上記研磨テープの基材フィルムへの接触負荷は、溝の形成密度、及び基材フィルムの搬送状態に影響を与えることから重要である。基材フィルムに対する研磨テープの接触は、上述の方法などで実施される。その際、研磨テープの接触圧力を調整することが好ましく、接触圧力は0.2〜0.8MPaであることが好ましい。接触圧力が0.2MPa以上であると、基材フィルムに対する研磨テープの接触が緩くなりすぎず、溝をより一層均一に形成できる。接触圧力が0.8MPa以下であると、基材フィルムと研磨テープとの間の動摩擦が大きくなりすぎず、基材フィルムの搬送に支障が生じ難い。   The contact load of the polishing tape on the base film is important because it affects the groove formation density and the transport state of the base film. The contact of the polishing tape with the base film is performed by the method described above. At that time, the contact pressure of the polishing tape is preferably adjusted, and the contact pressure is preferably 0.2 to 0.8 MPa. When the contact pressure is 0.2 MPa or more, the contact of the polishing tape with the substrate film does not become too loose, and the grooves can be formed more uniformly. When the contact pressure is 0.8 MPa or less, the dynamic friction between the base film and the polishing tape does not become too large, and it is difficult for the base film to be transported.

上記光学補償フィルムの光学補償性能を更に強化する目的で、上記基材フィルムが表面に配向膜を有し、更に基材フィルムの配向膜の表面に溝を形成してもよい。上記配向膜は、配向膜となる樹脂を基材フィルムの表面に下塗りすることにより形成される。配向膜となる樹脂としては、ポリイミド及びポリビニルアルコール等が挙げられる。   In order to further enhance the optical compensation performance of the optical compensation film, the base film may have an orientation film on the surface, and grooves may be formed on the surface of the orientation film of the base film. The alignment film is formed by undercoating a resin to be an alignment film on the surface of the base film. Examples of the resin that becomes the alignment film include polyimide and polyvinyl alcohol.

研磨処理前後において、上記基材フィルムは、コロナ処理、プラズマ処理、紫外線照射又は各種薬品処理等の表面活性処理が施されていてもよい。また塗工加工又は蒸着による各種の機能コーティング又はラミネート等を行うことにより、基材フィルムに諸性能を付加し、基材フィルムの利用価値を更に向上させることもできる。   Before and after the polishing treatment, the substrate film may be subjected to surface activation treatment such as corona treatment, plasma treatment, ultraviolet irradiation or various chemical treatments. Further, by performing various functional coatings or laminations by coating or vapor deposition, various performances can be added to the base film, and the utility value of the base film can be further improved.

上記基材フィルムは、本発明の目的を阻害しない範囲で、必要に応じて、酸化防止剤、紫外線吸収剤、滑剤、帯電防止剤、難燃助剤及び可塑剤等の従来公知の添加剤を含んでいてもよい。   The above-mentioned base film may contain conventionally known additives such as an antioxidant, an ultraviolet absorber, a lubricant, an antistatic agent, a flame retardant aid, and a plasticizer, as long as the object of the present invention is not impaired. May be included.

(光学異方層及び光学異方層の形成方法)
基材フィルム上に、上記樹脂溶液を塗工する方法は、特に限定されない。塗工方法として、光学的に透明で均質な膜を形成し得る各種の塗工方法が適宜用いられる。上記塗工方法としては、例えば、ダイコート法、バーコート法、ロールコート法、ナイフコート法、グラビアコート法、マイクログラビアコート法、オフセットグラビアコート法、リップコート法、浸漬法、スプレーコート法及びスピンコート法等が挙げられる。これらの塗工方法のうち1つの方法を用いてもよく、2つ以上の方法を用いてもよい。
(Optical anisotropic layer and optical anisotropic layer forming method)
The method for applying the resin solution on the base film is not particularly limited. As the coating method, various coating methods capable of forming an optically transparent and homogeneous film are appropriately used. Examples of the coating method include die coating method, bar coating method, roll coating method, knife coating method, gravure coating method, micro gravure coating method, offset gravure coating method, lip coating method, dipping method, spray coating method and spin coating method. Examples thereof include a coating method. One of these coating methods may be used, or two or more methods may be used.

上記基材フィルム上に、上記樹脂溶液を塗工した後、塗膜中の水を乾燥して除去することにより、光学異方層を形成できる。乾燥温度は、上記基材フィルムのガラス転移温度以下であることが好ましい。乾燥温度は、樹脂溶液中の溶媒の沸点以下であることが好ましい。樹脂溶液中の溶媒が水である場合には、乾燥温度は、水の沸点以下であることが好ましい。塗工後の液晶樹脂分子の配向を崩さないように乾燥することが好ましい。乾燥温度は、10〜100℃であることが好ましい。乾燥温度は、より好ましくは20℃以上、より好ましくは60℃以下である。   After coating the resin solution on the base film, the optical anisotropic layer can be formed by drying and removing water in the coating film. It is preferable that a drying temperature is below the glass transition temperature of the said base film. The drying temperature is preferably not higher than the boiling point of the solvent in the resin solution. When the solvent in the resin solution is water, the drying temperature is preferably not higher than the boiling point of water. It is preferable to dry so as not to break the orientation of the liquid crystal resin molecules after coating. The drying temperature is preferably 10 to 100 ° C. The drying temperature is more preferably 20 ° C or higher, more preferably 60 ° C or lower.

塗膜に熱風などの風をあてて乾燥する場合には、風圧は、未乾燥状態の塗膜が力学的負荷により乱されることがなく、かつ上記基材フィルム及び塗膜における熱的負荷が大きくなりすぎないように、適宜設定される。風圧は、0.1〜1.0MPaであることが好ましい。風圧は、好ましくは0.3MPa以上、好ましくは0.8MPa以下である。   In the case of drying by applying hot air or the like to the coating film, the wind pressure is not disturbed by the mechanical load on the undried coating film, and the thermal load on the base film and coating film is not disturbed. It is set appropriately so as not to become too large. The wind pressure is preferably 0.1 to 1.0 MPa. The wind pressure is preferably 0.3 MPa or more, and preferably 0.8 MPa or less.

上記乾燥時間は5秒〜1時間であることが好ましい。上記乾燥温度は、より好ましくは10秒以上、更に好ましくは20秒以上、より好ましくは30分以下、更に好ましくは10分以下である。乾燥時間が短すぎると、溶媒の揮発が不十分となるので、塗膜は脆弱になる。乾燥時間が長すぎると、光学異方層を構成する液晶樹脂分子の配向が緩和され、光学補償性能が低下する傾向がある。   The drying time is preferably 5 seconds to 1 hour. The drying temperature is more preferably 10 seconds or more, further preferably 20 seconds or more, more preferably 30 minutes or less, and even more preferably 10 minutes or less. If the drying time is too short, the solvent becomes insufficiently volatilized and the coating film becomes brittle. If the drying time is too long, the orientation of the liquid crystal resin molecules constituting the optical anisotropic layer is relaxed, and the optical compensation performance tends to be lowered.

上記光学異方層の厚みは特に限定されない。光学補償フィルムに対して要求される光学補償性能及び厚さに応じて決定される。上記光学異方層の平均厚みは、0.2〜10μmであることが好ましい。上記光学異方層の平均厚みは、より好ましくは0.5μm以上、より好ましくは5μm以下である。   The thickness of the optical anisotropic layer is not particularly limited. It is determined according to the optical compensation performance and thickness required for the optical compensation film. The optical anisotropic layer preferably has an average thickness of 0.2 to 10 μm. The average thickness of the optically anisotropic layer is more preferably 0.5 μm or more, and more preferably 5 μm or less.

基材フィルム上に、上記樹脂溶液を塗工する方法は、特に限定されない。塗工方法として、光学的に透明で均質な膜を形成し得る各種の塗工方法が適宜用いられる。上記塗工方法としては、例えば、ダイコート法、バーコート法、ロールコート法、ナイフコート法、グラビアコート法、マイクログラビアコート法、オフセットグラビアコート法、リップコート法、浸漬法、スプレーコート法及びスピンコート法等が挙げられる。これらの塗工方法のうち1つの方法を用いてもよく、2つ以上の方法を用いてもよい。   The method for applying the resin solution on the base film is not particularly limited. As the coating method, various coating methods capable of forming an optically transparent and homogeneous film are appropriately used. Examples of the coating method include die coating method, bar coating method, roll coating method, knife coating method, gravure coating method, micro gravure coating method, offset gravure coating method, lip coating method, dipping method, spray coating method and spin coating method. Examples thereof include a coating method. One of these coating methods may be used, or two or more methods may be used.

上記基材フィルムの表面上に、上記樹脂溶液を塗工する際の塗工速度は、1〜1000m/分であることが好ましい。上記塗工速度は、より好ましくは5m/分以上、より好ましくは30m/分以下である。リオトロピック液晶性を有する樹脂は、塗工剪断力によって分子配向することから、塗工速度が速すぎると、樹脂分子が塗工方向に優先して配向ようになり、基材フィルムの表面に設けられた溝による配向制御が困難となる。   The coating speed when the resin solution is applied on the surface of the base film is preferably 1-1000 m / min. The coating speed is more preferably 5 m / min or more, and more preferably 30 m / min or less. Resin having lyotropic liquid crystallinity is molecularly oriented by the coating shear force, so if the coating speed is too fast, the resin molecules will be oriented in preference to the coating direction and are provided on the surface of the base film. It becomes difficult to control the orientation by the groove.

(光学補償フィルム)
本発明に係る光学補償フィルムは長手方向と短手方向とを有し、光軸は、長手方向に対して平行であるか又は傾斜していることが好ましく、長手方向に対して傾斜していることが好ましく、長手方向と短手方向とに対して傾斜していることが好ましい。上記光学補償フィルムの光軸は、補償対象となる偏光板および液晶表示装置の光学特性に応じて、適宣選択できる。上記偏光板貼り合わせ工程における作業効率及び製品収率に鑑みて、上記光学補償フィルムの光軸は、フィルム長手方向又は短手方向に対して40〜50°傾斜していることが好ましい。本発明に係る光学補償フィルムを、例えば、位相差板の原反フィルムとして用いた場合、光学フィルムを偏光板の原反フィルムにフィルムの長手方向を一致させて積層した場合であっても、両者の光軸が交差するように配置された積層構造を容易に得ることができる。従って、例えば液晶表示装置の波長変換素子又は視野角改善素子を得る際に、工程数及びコストを低減でき、かつ波長変換素子又は視野角改善素子の光学特性を向上させることができる。
(Optical compensation film)
The optical compensation film according to the present invention has a longitudinal direction and a transverse direction, and the optical axis is preferably parallel or inclined with respect to the longitudinal direction, and is inclined with respect to the longitudinal direction. It is preferable to incline with respect to the longitudinal direction and the lateral direction. The optical axis of the optical compensation film can be appropriately selected according to the optical characteristics of the polarizing plate to be compensated and the liquid crystal display device. In view of work efficiency and product yield in the polarizing plate laminating step, the optical axis of the optical compensation film is preferably inclined by 40 to 50 ° with respect to the longitudinal or lateral direction of the film. For example, when the optical compensation film according to the present invention is used as an original film of a retardation plate, both optical films are laminated on the original film of a polarizing plate so that the longitudinal directions of the films coincide with each other. It is possible to easily obtain a laminated structure arranged so that the optical axes of the two intersect. Therefore, for example, when obtaining a wavelength conversion element or a viewing angle improvement element of a liquid crystal display device, the number of steps and cost can be reduced, and the optical characteristics of the wavelength conversion element or the viewing angle improvement element can be improved.

本発明に係る光学補償フィルムは、フィルムの光軸主方向に対する光軸ばらつき精度が0.5°以内であることが好ましい。本発明に係る光学補償フィルムを、例えば、位相差板の原反フィルムとして用いた場合、光学フィルムを偏光板の原反フィルムにフィルムの長手方向を一致させて積層した場合であっても、両者の光軸が交差するように配置された積層構造を容易に得ることができる。従って、例えば液晶表示装置の波長変換素子又は視野角改善素子を得る際に、光学特性を向上させることができる。なお、光軸のばらつき精度が0.5°を超えると、偏光板と貼り合わせて液晶表示装置に組み込んだ場合に、それぞれの光軸が所望の角度からずれることにより表示むらが生じるなどして、表示画質が低下し、光学補償フィルムとしての商品価値が低下する。   In the optical compensation film according to the present invention, the optical axis variation accuracy with respect to the main optical axis direction of the film is preferably within 0.5 °. For example, when the optical compensation film according to the present invention is used as an original film of a retardation plate, both optical films are laminated on the original film of a polarizing plate so that the longitudinal directions of the films coincide with each other. It is possible to easily obtain a laminated structure arranged so that the optical axes of the two intersect. Therefore, for example, when obtaining a wavelength conversion element or a viewing angle improvement element of a liquid crystal display device, the optical characteristics can be improved. If the variation accuracy of the optical axis exceeds 0.5 °, display unevenness may occur when each optical axis deviates from a desired angle when it is bonded to a polarizing plate and incorporated in a liquid crystal display device. The display image quality is lowered, and the commercial value as an optical compensation film is lowered.

本発明に係る光学補償フィルムは、下記式(1)で定義される正面レターデーションR0(nm)が、50〜500nmであることが好ましい。   The optical compensation film according to the present invention preferably has a front retardation R0 (nm) defined by the following formula (1) of 50 to 500 nm.

R0(nm)=|nx−ny|×d・・・式(1)
上記式(1)中、nxは光学補償フィルム面内の最大屈折率を表し、nyは光学補償フィルム面内のnx方向と直交する方向の屈折率を表し、dは光学補償フィルムの平均厚み(nm)を表す。
R0 (nm) = | nx−ny | × d (1)
In the above formula (1), nx represents the maximum refractive index in the optical compensation film plane, ny represents the refractive index in the direction orthogonal to the nx direction in the optical compensation film plane, and d represents the average thickness ( nm).

正面レターデーションR0が50〜500nmであると、光学補償フィルムを液晶表示装置に組み込むと、表示画像を高品位にすることができる。正面レターデーションR0が50〜500nmの範囲を逸脱すると、液晶を通過する際の複屈折を補償しきれず、光学補償フィルムとしての商品価値が低下する。   When the front retardation R0 is 50 to 500 nm, when the optical compensation film is incorporated into a liquid crystal display device, the display image can be made high quality. When the front retardation R0 is out of the range of 50 to 500 nm, birefringence when passing through the liquid crystal cannot be compensated, and the commercial value as an optical compensation film is lowered.

本発明に係る光学補償フィルムは、下記式(2)で定義されるNz係数が、0.0〜5.0であることが好ましい。   In the optical compensation film according to the present invention, the Nz coefficient defined by the following formula (2) is preferably 0.0 to 5.0.

Nz係数=(nx−nz)/(nx−ny) ・・・式(2)
上記式(2)中、nxは光学補償フィルム面内の最大屈折率を表し、nyは光学補償フィルム面内のnx方向と直交する方向の屈折率を表し、nzはnx方向及びny方向と直交する方向の屈折率を表す。
Nz coefficient = (nx−nz) / (nx−ny) (2)
In the above formula (2), nx represents the maximum refractive index in the optical compensation film surface, ny represents the refractive index in the direction orthogonal to the nx direction in the optical compensation film surface, and nz is orthogonal to the nx direction and the ny direction. Refractive index in the direction of

Nz係数が0.0〜5.0であると、光学補償フィルムを液晶表示装置に組み込むと、液晶表示装置の視野角を広くし、コントラストを高めることができる。従って、液晶表示装置の表示画像を高品位にすることができる。   When the Nz coefficient is 0.0 to 5.0, when the optical compensation film is incorporated in the liquid crystal display device, the viewing angle of the liquid crystal display device can be widened and the contrast can be increased. Therefore, the display image of the liquid crystal display device can be improved.

上記光学補償フィルムのヘイズ値は、5%以下であることが好ましく、3%以下であることがより好ましく、2%以下であることが特に好ましい。ヘイズ値が低いほど、光学補償フィルムが偏光板保護フィルム等に用いられた場合に、光洩れ等が生じ難くなる。   The haze value of the optical compensation film is preferably 5% or less, more preferably 3% or less, and particularly preferably 2% or less. As the haze value is lower, light leakage or the like is less likely to occur when the optical compensation film is used for a polarizing plate protective film or the like.

上記光学補償フィルムを各種処理液に浸漬して化学処理し、光学異方層の膜強度又は外観を、更に高めることも可能である。上記光学補償フィルムの表面は、コロナ処理、プラズマ処理、紫外線照射及び各種薬品処理等による表面活性処理が施されてもよい。光学補償フィルムの表面に、塗工加工又は蒸着による各種の機能コーティング又はラミネート等を行うことにより、光学補償フィルムに諸性能を付加し、光学補償フィルムの利用価値を更に向上させることもできる。   It is also possible to further enhance the film strength or appearance of the optically anisotropic layer by immersing the optical compensation film in various treatment liquids and performing chemical treatment. The surface of the optical compensation film may be subjected to surface activation treatment such as corona treatment, plasma treatment, ultraviolet irradiation and various chemical treatments. By performing various functional coatings or laminations by coating or vapor deposition on the surface of the optical compensation film, various performances can be added to the optical compensation film, and the utility value of the optical compensation film can be further improved.

以下に実施例を挙げて、本発明を更に詳しく説明する。本発明はこれら実施例に限定されない。   Hereinafter, the present invention will be described in more detail with reference to examples. The present invention is not limited to these examples.

(基材フィルムの作製例1)
ポリエチレンテレフタレート樹脂(融点:259℃、ガラス転移温度:69℃、ユニチカ社製、以下PETと記載することがある)を用意した。このポリエチレンテレフタレート樹脂を、280℃で一軸溶融押出成形装置に供給して、溶融混練し、押出装置先端に取付けたTダイからフィルム状に溶融押出しした。溶融押出しされたフィルムを、ピニングワイヤー方式により表面温度20℃及び速度20m/分の回転ドラムに密着させて急冷した。得られた樹脂シートを、JIS K6253に準拠して測定されたデュロメータ硬度が90Aである直径180mmのウレタンゴムロールに対して、ラップ角度180度で支持した。一方、酸化アルミニウム粒子である研磨材を担持した100mm幅の研磨テープ(研磨材の平均粒子径:1μm、日本ミクロコーティング社製)の巻物を連続して繰り出し、上記樹脂シートの走行方向に対して直交方向に搬送し、巻取用コアにロール状に巻取るようにテープ搬送ラインを配置した。更に、研磨テープ搬送ラインの途中で、硬度90Aのウレタンゴム製ベルトの搬送機構、及び高圧シリンダー機構を具備したコンベア装置のベルト表面に上記研磨テープを支持し、搬送速度20m/分で研磨テープを搬送しながら、ゴムロールに支持搬送された樹脂シート表面に、上記シリンダーによりコンベア装置ユニットを移動することで、研磨テープ表面を0.2MPaの負荷で加圧接触させ、樹脂シートの表面を研磨した。研磨終了後の樹脂シートの表面に、ブロッキング防止の挟合紙として、厚み25μmの二軸延伸PETフィルム(三菱化学ポリエステルフィルム社製)を貼合わせながらロール状に巻取り、幅650mm及び平均厚み100μmの基材フィルム(A)(無配向PETフィルム)を作製した。
(Preparation example 1 of base film)
A polyethylene terephthalate resin (melting point: 259 ° C., glass transition temperature: 69 ° C., manufactured by Unitika Ltd., hereinafter sometimes referred to as PET) was prepared. This polyethylene terephthalate resin was supplied to a uniaxial melt extrusion molding apparatus at 280 ° C., melt-kneaded, and melt-extruded into a film form from a T die attached to the tip of the extrusion apparatus. The melt-extruded film was brought into close contact with a rotating drum at a surface temperature of 20 ° C. and a speed of 20 m / min by a pinning wire method and quenched. The obtained resin sheet was supported at a wrap angle of 180 degrees with respect to a 180 mm diameter urethane rubber roll having a durometer hardness of 90 A measured in accordance with JIS K6253. On the other hand, a roll of 100 mm wide abrasive tape (abrasive material average particle diameter: 1 μm, manufactured by Nihon Micro Coating Co., Ltd.) carrying an abrasive that is aluminum oxide particles is continuously fed out, and the resin sheet is moved in the running direction. The tape conveyance line was arrange | positioned so that it might convey in the orthogonal direction and might be wound up by the winding core at roll shape. Furthermore, the polishing tape is supported on the belt surface of a conveyor device equipped with a urethane rubber belt conveyance mechanism having a hardness of 90A and a high-pressure cylinder mechanism in the middle of the polishing tape conveyance line, and the polishing tape is applied at a conveyance speed of 20 m / min. While transporting, the conveyor device unit was moved by the cylinder to the surface of the resin sheet supported and transported by the rubber roll, whereby the surface of the polishing tape was brought into pressure contact with a load of 0.2 MPa to polish the surface of the resin sheet. On the surface of the resin sheet after polishing, a 25 μm-thick biaxially stretched PET film (manufactured by Mitsubishi Chemical Polyester Film Co., Ltd.) is laminated as a sandwich paper for preventing blocking, and rolled up into a roll shape. The width is 650 mm and the average thickness is 100 μm. A base film (A) (non-oriented PET film) was prepared.

(基材フィルムの作製例2)
ポリエチレンテレフタレート樹脂を、ノルボルネン系樹脂(商品名「ゼオノア1600」、ガラス転移温度:168℃、日本ゼオン社製、以下COPと記載することがある)に変更したこと、押出成形温度を280℃から300℃に変更したこと以外は、作製例1と同様にして幅650mm及び平均厚み80μmの基材フィルム(B)(無配向COPフィルム)を作製した。
(Production Example 2 of base film)
The polyethylene terephthalate resin was changed to a norbornene-based resin (trade name “ZEONOR 1600”, glass transition temperature: 168 ° C., manufactured by Nippon Zeon Co., Ltd., hereinafter sometimes referred to as COP), and the extrusion temperature was changed from 280 ° C. to 300 ° C. A substrate film (B) (non-oriented COP film) having a width of 650 mm and an average thickness of 80 μm was produced in the same manner as in Production Example 1 except that the temperature was changed to ° C.

(基材フィルムの作製例3)
研磨処理をしなかったこと以外は、作製例1と同様にして幅650mm及び平均厚み100μmの基材フィルム(C)(無配向PETフィルム)を作製した。
(Production Example 3 of Base Film)
A substrate film (C) (non-oriented PET film) having a width of 650 mm and an average thickness of 100 μm was produced in the same manner as in Production Example 1 except that the polishing treatment was not performed.

(基材フィルムの作製例4)
作製例3で得られた基材フィルム(C)の表面を、ナイロン6製フェルトを用いてバフ処理した後、処理面をシャワー噴流水で洗浄し、表面の残存水分を圧搾空気で除去して、基材フィルム(D)(無配向PETフィルム)を作製した。
(Production Example 4 of Base Film)
After buffing the surface of the base film (C) obtained in Production Example 3 using a nylon 6 felt, the treated surface was washed with shower water, and residual moisture on the surface was removed with compressed air. A base film (D) (non-oriented PET film) was produced.

(実施例1)
リオトロピック液晶性を有する芳香族ポリアミド樹脂(テレフタレート成分50モル%と、ジスルホニルベンジジン成分50モル%との重縮合物)をイオン交換水に加え、固形分濃度が5重量%である樹脂溶液を得た。
Example 1
An aromatic polyamide resin having a lyotropic liquid crystallinity (polycondensate of 50 mol% of a terephthalate component and 50 mol% of a disulfonylbenzidine component) is added to ion-exchanged water to obtain a resin solution having a solid content concentration of 5 wt%. It was.

基材フィルム(A)を、連続的に20m/分の一定速度でロール搬送により巻出しながら、2kW/mの出力でコロナ処理した。その後、吐出量150g/分に流量調整したスロットダイコーターを用いて、基材フィルムの表面上に、上記樹脂溶液を20℃で塗工し、塗膜を形成した。その後、塗膜が形成された基材フィルムを直ちに、加熱炉へ導入して、温度50℃及び風圧0.5Mpaの圧搾熱風で20秒間、塗膜の表面を乾燥処理した。室温まで冷却した後、巻取張力100N/mで巻取用コアにロール状に巻取り、光学補償フィルムを得た。 The substrate film (A) was corona-treated at an output of 2 kW / m 2 while being continuously unwound by roll conveyance at a constant speed of 20 m / min. Thereafter, using the slot die coater whose flow rate was adjusted to 150 g / min, the resin solution was applied at 20 ° C. on the surface of the base film to form a coating film. Thereafter, the base film on which the coating film was formed was immediately introduced into a heating furnace, and the surface of the coating film was subjected to a drying treatment for 20 seconds with hot air compressed at a temperature of 50 ° C. and a wind pressure of 0.5 Mpa. After cooling to room temperature, the film was wound into a roll around a winding core at a winding tension of 100 N / m to obtain an optical compensation film.

(実施例2〜8)
基材フィルムの種類、粒子である研磨材の平均粒子径、研磨テープの搬送速度、樹脂溶液の固形分濃度及び樹脂溶液の粘度を、下記の表1に示すように変更したこと以外は、実施例1と同様にして光学補償フィルムを得た。
(Examples 2 to 8)
Except for changing the type of base film, the average particle diameter of abrasive particles, the conveying speed of the polishing tape, the solid content concentration of the resin solution, and the viscosity of the resin solution as shown in Table 1 below. An optical compensation film was obtained in the same manner as in Example 1.

(比較例1)
樹脂溶液の固形分濃度を下記の表1に示すように変更し、更に樹脂溶液の吐出量を60g/分に変更したこと以外は、実施例1と同様にして光学補償フィルムを得た。
(Comparative Example 1)
An optical compensation film was obtained in the same manner as in Example 1 except that the solid content concentration of the resin solution was changed as shown in Table 1 below, and the discharge amount of the resin solution was changed to 60 g / min.

(比較例2)
基材フィルム(A)を基材フィルム(C)に変更したこと以外は、実施例1と同様にして光学補償フィルムを得た。
(Comparative Example 2)
An optical compensation film was obtained in the same manner as in Example 1 except that the base film (A) was changed to the base film (C).

(比較例3)
基材フィルム(A)を基材フィルム(D)に変更したこと以外は、実施例1と同様にして光学補償フィルムを得た。
(Comparative Example 3)
An optical compensation film was obtained in the same manner as in Example 1 except that the base film (A) was changed to the base film (D).

(評価)
(1)溶液粘度
樹脂溶液の温度を、樹脂溶液の塗工温度である20℃に保温し、JIS K7117に準拠して、B型粘度計(東機産業社製、型番「BLII」)を用いて樹脂溶液の粘度を測定した。
(Evaluation)
(1) Solution viscosity The temperature of the resin solution is kept at 20 ° C., which is the application temperature of the resin solution, and a B-type viscometer (manufactured by Toki Sangyo Co., Ltd., model number “BLII”) is used according to JIS K7117. The viscosity of the resin solution was measured.

(2)基材フィルムの表面に形成された溝の幅及び深さ
基材フィルムの表面を、原子間力顕微鏡(キーエンス社製、型番「VN−8000」)を用いて観察した。得られた三次元拡大画像のフィルム断面から、基材フィルムに形成されている溝10点の幅を計測し、得られた数値を平均して、溝の幅とした。また中心線平均表面粗さRaを計測し、溝の深さとした。
(2) Width and depth of grooves formed on the surface of the base film The surface of the base film was observed using an atomic force microscope (manufactured by Keyence Corporation, model number “VN-8000”). From the film cross section of the obtained three-dimensional enlarged image, the width of 10 grooves formed on the base film was measured, and the obtained numerical values were averaged to obtain the groove width. Further, the center line average surface roughness Ra was measured and set as the groove depth.

(3)光学補償フィルムの光軸
フィルム幅に対して、長手方向50mm、幅方向は全幅で帯状フィルム片を採取した。自動複屈折測定装置(大塚電子社製、型番「RETS」)を用いて、フィルム片を幅方向に25mm間隔に測定し、各位置の配向角度測定値の絶対値の平均値を光軸とした。なお、フィルム幅方向の光軸は、長手方向を基準とした。
(3) Optical axis of optical compensation film With respect to the film width, a strip-shaped film piece was sampled with a longitudinal direction of 50 mm and a full width in the width direction. Using an automatic birefringence measuring apparatus (manufactured by Otsuka Electronics Co., Ltd., model number “RETS”), the film pieces were measured at intervals of 25 mm in the width direction, and the average value of the absolute values of the orientation angle measured values at each position was taken as the optical axis. . The optical axis in the film width direction was based on the longitudinal direction.

(4)光学補償フィルムの正面レターデーション値R0
自動複屈折測定装置(王子計測機器社製、型番「KOBRA−WR」)を用いて、測定光の波長を550nmとして、光学補償フィルムの長手方向に直交する軸を基準軸とし、光学補償フィルムを幅方向に50mm間隔で測定して、平均値を算出し、光学補償フィルムの正面レターデーション値R0とした。
(4) Front retardation value R0 of optical compensation film
Using an automatic birefringence measuring device (manufactured by Oji Scientific Instruments, model number “KOBRA-WR”), the wavelength of the measuring light is set to 550 nm, the axis orthogonal to the longitudinal direction of the optical compensation film is used as a reference axis, and the optical compensation film is Measurement was made at intervals of 50 mm in the width direction, and the average value was calculated as the front retardation value R0 of the optical compensation film.

(5)光学補償フィルムの曇度
曇度計(東京電色社製、型番「TC−H3DPK」を用いて、光学補償フィルムを幅方向に50mm間隔で測定して、平均値を算出し、光学補償フィルムの曇度とした。
(5) Haze of optical compensation film Haze meter (manufactured by Tokyo Denshoku Co., Ltd., model number “TC-H3DPK”) was used to measure the optical compensation film at intervals of 50 mm in the width direction, and calculate the average value. It was set as the haze of the compensation film.

(6)光学補償フィルムの外観
得られた光学補償フィルムをクロスニコルに配設した偏光板間に挟んで、目視により観察し、下記の基準により光学補償フィルムの外観を評価した。
(6) Appearance of optical compensation film The obtained optical compensation film was sandwiched between polarizing plates arranged in crossed Nicols and observed visually, and the appearance of the optical compensation film was evaluated according to the following criteria.

[光学補償フィルムの外観]
○:点状、線状及び面状のいずれの形状の色むら及び光抜けも認められず、均質な外観であった
×:点状、線状又は面状の色むら及び光抜け内の少なくとも一つが確認され、部分的に不均質な外観であった。
[Appearance of optical compensation film]
○: Color unevenness and light leakage of any shape of dot shape, line shape, and planar shape were not recognized, and the appearance was homogeneous. ×: At least within point shape, line shape or surface color unevenness and light leakage. One was confirmed and had a partially heterogeneous appearance.

結果を下記の表1に示す。   The results are shown in Table 1 below.

Figure 2011248310
Figure 2011248310

1…光学補償フィルム
2…基材フィルム
2a…第1の表面
2b…第2の表面
3…光学異方層
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Optical compensation film 2 ... Base film 2a ... 1st surface 2b ... 2nd surface 3 ... Optical anisotropic layer

Claims (6)

基材フィルムと、
前記基材フィルムの少なくとも一方の表面に積層された光学異方層とを備え、
前記基材フィルムの前記光学異方層が積層された表面に、幅が5μm以下かつ深さが5μm以下である複数の溝が設けられており、
前記光学異方層が、粘度が500mPa・s以下である樹脂溶液を塗工することにより形成されている、光学補償フィルム。
A base film;
An optical anisotropic layer laminated on at least one surface of the base film,
A plurality of grooves having a width of 5 μm or less and a depth of 5 μm or less are provided on the surface of the base film on which the optical anisotropic layer is laminated,
An optical compensation film, wherein the optically anisotropic layer is formed by applying a resin solution having a viscosity of 500 mPa · s or less.
長手方向と短手方向とを有し、
光軸が、長手方向に対して傾斜している、請求項1に記載の光学補償フィルム。
Having a longitudinal direction and a transverse direction,
The optical compensation film according to claim 1, wherein the optical axis is inclined with respect to the longitudinal direction.
前記樹脂溶液が、リオトロピック液晶性を有する樹脂を含む、請求項1又は2に記載の光学補償フィルム。   The optical compensation film according to claim 1, wherein the resin solution contains a resin having lyotropic liquid crystallinity. 前記溝が、粒子である研磨材で基材フィルムの表面を研磨することにより形成されており、
前記粒子である研磨材が、金属粒子、金属の酸化物粒子、金属の炭化物粒子及び炭素粒子からなる群から選択された少なくとも1種である、請求項1〜3のいずれか1項に記載の光学補償フィルム。
The groove is formed by polishing the surface of the base film with an abrasive that is a particle,
The abrasive | polishing material which is the said particle | grain is at least 1 sort (s) selected from the group which consists of a metal particle, a metal oxide particle, a metal carbide particle, and a carbon particle. Optical compensation film.
前記基材フィルムの少なくとも一方の表面に幅が5μm以下かつ深さが5μm以下である溝を形成する工程と、
前記基材フィルムの前記溝が形成された表面に、粘度が500mPa・s以下である樹脂溶液を塗工して、光学異方層を形成する工程とを備える、光学補償フィルムの製造方法。
Forming a groove having a width of 5 μm or less and a depth of 5 μm or less on at least one surface of the base film;
Applying a resin solution having a viscosity of 500 mPa · s or less to the surface of the base film on which the grooves are formed to form an optically anisotropic layer.
粒子である研磨材で基材フィルムの表面を研磨することにより前記溝を形成し、
前記粒子である研磨材として、金属粒子、金属の酸化物粒子、金属の炭化物粒子及び炭素粒子からなる群から選択された少なくとも1種を用いる、請求項5に記載の光学補償フィルムの製造方法。
Forming the groove by polishing the surface of the base film with an abrasive that is particles,
The method for producing an optical compensation film according to claim 5, wherein at least one selected from the group consisting of metal particles, metal oxide particles, metal carbide particles, and carbon particles is used as the abrasive that is the particles.
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