JP2011232359A - パターン測定方法、及びパターン測定装置 - Google Patents
パターン測定方法、及びパターン測定装置 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2011232359A JP2011232359A JP2011181115A JP2011181115A JP2011232359A JP 2011232359 A JP2011232359 A JP 2011232359A JP 2011181115 A JP2011181115 A JP 2011181115A JP 2011181115 A JP2011181115 A JP 2011181115A JP 2011232359 A JP2011232359 A JP 2011232359A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- pattern
- image
- design data
- measurement target
- target pattern
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Landscapes
- Length-Measuring Devices Using Wave Or Particle Radiation (AREA)
Abstract
【解決手段】上述のような問題を解決するため、測定個所から離間した位置に形成され、走査電子顕微鏡等によって得られる画像上の基準パターンの位置情報と、設計データに基づいて検出される基準パターンと測定個所の位置関係の情報に基づいて、走査電子顕微鏡等による測定個所の基準位置を設定する。
【選択図】 図12
Description
従来、測長SEMにおいて測長点は観測者が手動で指定していた。そのためウェハ上においてその測長点の場所を探し出す必要があったが、ウェハ上において指定された箇所を探し出すのは非常に困難である。測長点が指定された後、観測者はその測長点毎にアドレッシング点,オート・フォーカス点などの測長SEMのレシピ作成に必要な条件を個別に設定する必要があり、観測者の習熟度に依存せざるを得なかった。
Claims (6)
- 試料のパターン画像を取得し、当該画像上の測定対象パターンと、当該パターンの設計データとの間のずれを測定する方法であって、
前記試料上の測定対象パターンに対し、離間した位置に配置された基準パターンを含む領域の画像を取得し、
当該測定対象パターンから離間した基準パターンを含む設計データの領域をテンプレートとして、前記取得画像との間でテンプレートマッチングを実行し、
予め定められた部分領域に含まれる前記測定対象パターンについて、当該テンプレートマッチングの実行によって位置合わせが行われた設計データの線分と、前記測定対象パターンのエッジとの間のずれを測定することを特徴とするパターン測定方法。 - 請求項1において、
前記基準パターンと前記測定対象パターンが、同じ画像上に配置されるように画像を取得することを特徴とするパターン測定方法。 - 請求項2において、
前記基準パターンと前記測定対象パターンの中間点に、前記画像の中心を位置づけることを特徴とするパターン測定方法。 - 請求項1において、
前記画像は、走査電子顕微鏡によって取得された画像であることを特徴とするパターン測定方法。 - 試料のパターン画像上の測定対象パターンと、当該パターンの設計データとの間のずれを測定するための処理装置を備えたパターン測定装置であって、
前記処理装置は、前記試料上の測定対象パターンに対し、離間した位置に配置された基準パターンを含む画像を取得し、
当該測定対象パターンから離間した基準パターンを含む設計データの領域をテンプレートとして、前記取得画像との間でテンプレートマッチングを実行し、
予め定められた部分領域に含まれる前記測定対象パターンについて、当該テンプレートマッチングの実行によって位置合わせが行われた設計データの線分と、前記測定対象パターンのエッジとの間のずれを測定することを特徴とするパターン測定装置。 - 取得された試料のパターン画像から、当該画像上の測定対象パターンと、当該パターンの設計データとの間のずれをコンピュータに測定させるコンピュータプログラムであって、
当該プログラムは、前記コンピュータに、前記試料上の測定対象パターンに対し、離間した位置に配置された基準パターンを含む画像を取得させ、
当該測定対象パターンから離間した基準パターンを含む設計データの領域をテンプレートとして、前記取得画像との間でテンプレートマッチングを実行させ、
予め定められた部分領域に含まれる前記測定対象パターンについて、当該テンプレートマッチングの実行によって位置合わせが行われた設計データの線分と、前記測定対象パターンのエッジとの間のずれを測定させることを特徴とするコンピュータプログラム。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2011181115A JP5463334B2 (ja) | 2011-08-23 | 2011-08-23 | パターン測定方法、及びパターン測定装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2011181115A JP5463334B2 (ja) | 2011-08-23 | 2011-08-23 | パターン測定方法、及びパターン測定装置 |
Related Parent Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2005049923A Division JP2006234588A (ja) | 2005-02-25 | 2005-02-25 | パターン測定方法、及びパターン測定装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2011232359A true JP2011232359A (ja) | 2011-11-17 |
JP5463334B2 JP5463334B2 (ja) | 2014-04-09 |
Family
ID=45321762
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2011181115A Active JP5463334B2 (ja) | 2011-08-23 | 2011-08-23 | パターン測定方法、及びパターン測定装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP5463334B2 (ja) |
Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH08194736A (ja) * | 1995-01-17 | 1996-07-30 | Dainippon Printing Co Ltd | 現物照合機能を備えたcadシステム |
JP2000058410A (ja) * | 1998-08-03 | 2000-02-25 | Hitachi Ltd | 走査型荷電粒子線応用装置ならびにそれを用いた顕微方法および半導体装置製造方法 |
JP2000236007A (ja) * | 1999-02-17 | 2000-08-29 | Fujitsu Ltd | 走査電子顕微鏡の自動検出シーケンスファイル作成方法及び走査電子顕微鏡の自動測長シーケンス方法 |
JP2002031525A (ja) * | 2000-07-14 | 2002-01-31 | Seiko Instruments Inc | 半導体ウエハのパターン形状評価方法及び装置 |
JP2004077423A (ja) * | 2002-08-22 | 2004-03-11 | Topcon Corp | 試料像測長方法及び試料像測長装置 |
-
2011
- 2011-08-23 JP JP2011181115A patent/JP5463334B2/ja active Active
Patent Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH08194736A (ja) * | 1995-01-17 | 1996-07-30 | Dainippon Printing Co Ltd | 現物照合機能を備えたcadシステム |
JP2000058410A (ja) * | 1998-08-03 | 2000-02-25 | Hitachi Ltd | 走査型荷電粒子線応用装置ならびにそれを用いた顕微方法および半導体装置製造方法 |
JP2000236007A (ja) * | 1999-02-17 | 2000-08-29 | Fujitsu Ltd | 走査電子顕微鏡の自動検出シーケンスファイル作成方法及び走査電子顕微鏡の自動測長シーケンス方法 |
JP2002031525A (ja) * | 2000-07-14 | 2002-01-31 | Seiko Instruments Inc | 半導体ウエハのパターン形状評価方法及び装置 |
JP2004077423A (ja) * | 2002-08-22 | 2004-03-11 | Topcon Corp | 試料像測長方法及び試料像測長装置 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP5463334B2 (ja) | 2014-04-09 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP2006234588A (ja) | パターン測定方法、及びパターン測定装置 | |
KR101730917B1 (ko) | 오버레이 오차 측정 장치 및 컴퓨터 프로그램 | |
JP4988274B2 (ja) | パターンのずれ測定方法、及びパターン測定装置 | |
US8671366B2 (en) | Estimating shape based on comparison between actual waveform and library in lithography process | |
US10127653B2 (en) | Determining coordinates for an area of interest on a specimen | |
JP6423011B2 (ja) | パターン測定装置及び欠陥検査装置 | |
WO2010098017A1 (ja) | パターン測定装置 | |
US20180181009A1 (en) | Image Processor, Method for Generating Pattern Using Self-Organizing Lithographic Techniques and Computer Program | |
JP2009036572A (ja) | パターン測定方法及びパターン測定装置 | |
CN112561873A (zh) | 一种基于机器学习的cdsem图像虚拟测量方法 | |
TWI796056B (zh) | 基於機器學習的顯影後或蝕刻後影像之影像產生 | |
JP2016021008A (ja) | マルチパターニング用マスクのパターン評価方法およびパターン評価装置 | |
JP5463334B2 (ja) | パターン測定方法、及びパターン測定装置 | |
WO2019188296A1 (ja) | 画像生成方法 | |
JP6001945B2 (ja) | パターン計測装置及び方法 | |
TW202105552A (zh) | 畫像產生方法 | |
JP2020204497A (ja) | 検査装置 | |
JP5221750B2 (ja) | パターン測定方法及びパターン測定装置 | |
JP2007334727A (ja) | 画像照合方法および画像照合プログラム |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20110823 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20110824 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20120117 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20130226 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20130426 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20131224 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20140120 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 5463334 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
S531 | Written request for registration of change of domicile |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313531 |
|
S533 | Written request for registration of change of name |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313533 |
|
R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |