JP2011225765A - METHOD FOR PRODUCING POLYBENZAMIDE-b-POLYSTYRENE BLOCK COPOLYMER - Google Patents

METHOD FOR PRODUCING POLYBENZAMIDE-b-POLYSTYRENE BLOCK COPOLYMER Download PDF

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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a method for producing a polybenzamide-b-polystyrene block copolymer by which an object can be obtained by a short step with simple operation while being hardly influenced by steric hindrance.SOLUTION: Chain polycondensation of a compound (2) (wherein Rdenotes an 8-12C alkyl group or a benzyl group which may have a substituent and Rdenotes 1-10C alkyl group) is carried out in the presence of a base by using a compound (1) (wherein R denotes a 1-10C alkyl group and R' denotes a protective group of a hydroxyl group) as an initiator to obtain a polybenzamide derivative (A). Successively a product obtained by deprotection of the protective group is brought into reaction with an acid halide to obtain a polybenzamide derivative (B). Atom transfer radical polymerization of styrene is carried out in the presence of a metal catalyst by using the polybenzamide derivative (B) as a microinitiator to produce the polybenzamide-b-polystyrene block copolymer.

Description

本発明は、ポリベンズアミド−b−ポリスチレンブロック共重合体の製造方法に関し、さらに詳述すると、連鎖重縮合と原子移動ラジカル重合とを組み合わせた、ポリベンズアミド−b−ポリスチレンブロック共重合体の製造方法に関する。   The present invention relates to a method for producing a polybenzamide-b-polystyrene block copolymer, and more specifically, a method for producing a polybenzamide-b-polystyrene block copolymer, which combines chain polycondensation and atom transfer radical polymerization. About.

一つの成分が剛直鎖からなるロッド−コイルブロック共重合体は、溶液状態や固体状態において、興味深い自己組織化挙動を示すことから、近年、多大な注目を集めている高分子化合物である。   A rod-coil block copolymer in which one component is a rigid straight chain is a high molecular compound that has attracted much attention in recent years because it exhibits an interesting self-organization behavior in a solution state or a solid state.

本発明者は、特定の連鎖重縮合反応を用いることで、狭い分子量分布を有する、ロッド状のポリベンズアミドが得られることを既に報告している(例えば、特許文献1、非特許文献1参照)。
このポリベンズアミドは、そのテレキーリック構造を利用した、他のポリマーとのカップリング反応や、さらなる重合反応等によってロッド−コイルブロック共重合体へと導くことができる。
The present inventor has already reported that rod-shaped polybenzamide having a narrow molecular weight distribution can be obtained by using a specific chain polycondensation reaction (see, for example, Patent Document 1 and Non-Patent Document 1). .
This polybenzamide can be led to a rod-coil block copolymer by a coupling reaction with another polymer utilizing the telechelic structure, a further polymerization reaction, or the like.

例えば、本発明者は、上述の連鎖重縮合反応と、可逆的付加開裂連鎖移動(RAFT)重合とを組み合わせることで、ロッド−コイル状のポリスチレン−b−ポリベンズアミドが得られることを報告している(例えば、非特許文献2参照)。
また、本発明者は、リビングアニオン重合によって得られたポリスチレンマクロイニシエータの存在下で、上述の連鎖重縮合反応を行うことで、ロッド−コイル状のポリスチレン−b−ポリベンズアミドが得られることを報告している(例えば、非特許文献3参照)。
For example, the present inventor has reported that rod-coiled polystyrene-b-polybenzamide can be obtained by combining the above-described chain polycondensation reaction with reversible addition-fragmentation chain transfer (RAFT) polymerization. (For example, refer nonpatent literature 2).
In addition, the present inventor reports that rod-coiled polystyrene-b-polybenzamide can be obtained by performing the above-mentioned chain polycondensation reaction in the presence of a polystyrene macroinitiator obtained by living anion polymerization. (See, for example, Non-Patent Document 3).

しかしながら、非特許文献3の方法では、高分子量のポリスチレンマクロイニシエータが立体障害となって連鎖重縮合反応を阻害し、その結果、自己縮合を起こし易いという問題がある。
一方、非特許文献2の方法では、最初に連鎖重縮合反応を行うため立体障害の問題は回避できるものの、合成経路が非常に長く、また、複雑な操作が必要であるという問題がある。
However, the method of Non-Patent Document 3 has a problem that a high molecular weight polystyrene macroinitiator becomes a steric hindrance and inhibits the chain polycondensation reaction, and as a result, self-condensation tends to occur.
On the other hand, in the method of Non-Patent Document 2, although the problem of steric hindrance can be avoided because the chain polycondensation reaction is first performed, there is a problem that the synthesis route is very long and complicated operation is required.

特開2005−314478号公報JP 2005-314478 A

J. Am. Chem. Soc., 127 (29) 10172−10173 (2005)J. et al. Am. Chem. Soc. , 127 (29) 10172-10173 (2005) Macromol. Rapid Commun., 30 (16) 1413−1418 (2009)Macromol. Rapid Commun. , 30 (16) 1413-1418 (2009) J. Polym. Sci., Part A: Polym. Chem., 45 (14) 3129−3133 (2007)J. et al. Polym. Sci. Part A: Polym. Chem. , 45 (14) 3129-3133 (2007)

本発明は、このような事情に鑑みてなされたものであり、立体障害の影響を受けにくく、短工程かつ簡便な操作で目的物が得られるポリベンズアミド−b−ポリスチレンブロック共重合体の製造方法を提供することを目的とする。   The present invention has been made in view of such circumstances, and is a method for producing a polybenzamide-b-polystyrene block copolymer that is less susceptible to steric hindrance and that provides a target product in a short process and simple operation. The purpose is to provide.

本発明者は、上記目的を達成するために鋭意検討を重ねた結果、連鎖重縮合反応によって得られたポリベンズアミドをマクロイニシエータとし、これに原子移動ラジカル重合反応によってスチレンを重合させることで、高分子量かつ分子量分布の狭いポリベンズアミド−b−ポリスチレンブロック共重合体が効率的に得られることを見出し、本発明を完成した。   As a result of intensive studies to achieve the above object, the present inventor made polybenzamide obtained by a chain polycondensation reaction as a macroinitiator, and polymerized styrene by an atom transfer radical polymerization reaction. The inventors have found that a polybenzamide-b-polystyrene block copolymer having a narrow molecular weight and a narrow molecular weight distribution can be efficiently obtained, thereby completing the present invention.

すなわち、本発明は、
1. 式(1)

Figure 2011225765
(式中、Rは、炭素数1〜10のアルキル基を、R′は、水酸基の保護基を示す。)
で示される化合物をイニシエータとし、塩基の存在下、式(2)
Figure 2011225765
(式中、R1は、炭素数8〜12のアルキル基または置換基を有していてもよいベンジル基を、R2は、炭素数1〜10のアルキル基を示す。)
で示される化合物を連鎖重縮合させて式(3)
Figure 2011225765
(式中、R′、R1およびR2は前記と同じ。nは2以上の整数を示す。)
で示されるポリベンズアミド誘導体(A)を得、続いて、前記保護基R′を脱保護して得られた生成物を、式(4)
Figure 2011225765
(式中、X1およびX2は、互いに独立して、ハロゲン原子を表す。)
で示される酸ハロゲン化物と反応させて、式(5)
Figure 2011225765
(式中、R1、R2、X1およびnは前記と同じ。)
で示されるポリベンズアミド誘導体(B)を得、このポリベンズアミド誘導体(B)をマクロイニシエータとし、金属触媒の存在下、スチレンを原子移動ラジカル重合させることを特徴とする、式(6)
Figure 2011225765
(式中、R1、R2、およびnは前記と同じ。mは、2以上の整数を示す。)
で示されるポリベンズアミド−b−ポリスチレンブロック共重合体の製造方法、
2. 式(5)
Figure 2011225765
(式中、R1、R2、X1およびnは前記と同じ。)
で示されるポリベンズアミド誘導体(B)をマクロイニシエータとし、金属触媒の存在下、スチレンを原子移動ラジカル重合させることを特徴とする、式(6)
Figure 2011225765
(式中、R1、R2、およびnは前記と同じ。mは、2以上の整数を示す。)
で示されるポリベンズアミド−b−ポリスチレンブロック共重合体の製造方法、
3. 前記R2が、メチル基またはエチル基である1または2のポリベンズアミド−b−ポリスチレンブロック共重合体の製造方法、
4. 前記X1が、臭素原子である1〜3のいずれかのポリベンズアミド−b−ポリスチレンブロック共重合体の製造方法、
5. 前記金属触媒が、銅触媒である1〜4のいずれかのポリベンズアミド−b−ポリスチレンブロック共重合体の製造方法、
6. 前記式(2)で示される化合物が、式(2a)または(2b)で示される1のポリベンズアミド−b−ポリスチレンブロック共重合体の製造方法、
Figure 2011225765
(式中、R1およびR2は前記と同じ。)
7. 前記R′が、トリアルキルシリル基である1のポリベンズアミド−b−ポリスチレンブロック共重合体の製造方法
を提供する。 That is, the present invention
1. Formula (1)
Figure 2011225765
(In the formula, R represents an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, and R ′ represents a hydroxyl-protecting group.)
And a compound represented by formula (2) in the presence of a base.
Figure 2011225765
(In the formula, R 1 represents an alkyl group having 8 to 12 carbon atoms or a benzyl group optionally having a substituent, and R 2 represents an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms.)
A compound represented by formula (3) is subjected to chain polycondensation.
Figure 2011225765
(In the formula, R ′, R 1 and R 2 are the same as described above. N represents an integer of 2 or more.)
A polybenzamide derivative (A) represented by formula (4) is obtained, and then the product obtained by deprotecting the protecting group R ′ is represented by the formula (4)
Figure 2011225765
(In the formula, X 1 and X 2 each independently represent a halogen atom.)
Is reacted with an acid halide represented by the formula (5)
Figure 2011225765
(Wherein R 1 , R 2 , X 1 and n are the same as above)
A polybenzamide derivative (B) represented by formula (6) is obtained, and the polybenzamide derivative (B) is used as a macroinitiator, and styrene is atom-transferred radically polymerized in the presence of a metal catalyst.
Figure 2011225765
(In the formula, R 1 , R 2 and n are the same as described above. M represents an integer of 2 or more.)
A process for producing a polybenzamide-b-polystyrene block copolymer represented by:
2. Formula (5)
Figure 2011225765
(Wherein R 1 , R 2 , X 1 and n are the same as above)
A polybenzamide derivative (B) represented by the formula (6) is used as a macroinitiator, and styrene is atom transfer radical polymerized in the presence of a metal catalyst.
Figure 2011225765
(In the formula, R 1 , R 2 and n are the same as described above. M represents an integer of 2 or more.)
A process for producing a polybenzamide-b-polystyrene block copolymer represented by:
3. A process for producing a 1 or 2 polybenzamide-b-polystyrene block copolymer, wherein R 2 is a methyl group or an ethyl group;
4). The method for producing a polybenzamide-b-polystyrene block copolymer according to any one of 1 to 3, wherein X 1 is a bromine atom,
5). The method for producing a polybenzamide-b-polystyrene block copolymer according to any one of 1 to 4, wherein the metal catalyst is a copper catalyst,
6). The method for producing a polybenzamide-b-polystyrene block copolymer of 1 represented by the formula (2a) or (2b), wherein the compound represented by the formula (2) is:
Figure 2011225765
(In the formula, R 1 and R 2 are the same as above.)
7). Provided is a method for producing a polybenzamide-b-polystyrene block copolymer, wherein R ′ is a trialkylsilyl group.

本発明によれば、立体障害の影響を受けにくく、かつ、短工程で目的物が得られるポリベンズアミド−b−ポリスチレンブロック共重合体の製造方法を提供できる。   ADVANTAGE OF THE INVENTION According to this invention, the manufacturing method of the polybenzamide-b-polystyrene block copolymer which is hard to receive to the influence of a steric hindrance and can obtain a target object in a short process can be provided.

実施例5〜8の重合反応における、反応時間とln(M0/M)との関係を示すグラフである。In the polymerization reaction of Example 5-8 is a graph showing the relationship between the reaction time and ln (M 0 / M). 実施例5〜8の重合反応における、Mn、Mw/Mnと転化率との関係を示すグラフである。It is a graph which shows the relationship between Mn, Mw / Mn, and the conversion rate in the polymerization reaction of Examples 5-8. 実施例5の反応における、GPCチャートの経時変化を示す図である。FIG. 10 is a graph showing the change over time of the GPC chart in the reaction of Example 5. 実施例9の反応における、GPCチャートの経時変化を示す図である。FIG. 10 is a graph showing the change over time of the GPC chart in the reaction of Example 9. 参考例における、トリフルオロ酢酸の添加前(a)、添加1日後(b)、添加4日後(c)の1H−NMRスペクトルを示す図である。In a reference example, it is a figure which shows the < 1 > H-NMR spectrum before the addition of trifluoroacetic acid (a), 1 day after the addition (b), 4 days after the addition (c). 参考例における、トリフルオロ酢酸の添加前(a)、添加1日後(b)、添加4日後(c)のFT−IRスペクトルを示す図である。In a reference example, it is a figure which shows the FT-IR spectrum before the addition of trifluoroacetic acid (a), 1 day after the addition (b), and 4 days after the addition (c).

以下、本発明についてさらに詳しく説明する。
本発明に係るポリベンズアミド−b−ポリスチレンブロック共重合体の製造方法は下記スキームで示される一連の工程からなる。
Hereinafter, the present invention will be described in more detail.
The method for producing a polybenzamide-b-polystyrene block copolymer according to the present invention comprises a series of steps shown in the following scheme.

Figure 2011225765
Figure 2011225765

まず、上記各式における置換基について説明する。
上記各式において、RおよびR2は、炭素数1〜10のアルキル基を、R′は、水酸基の保護基を、R1は、炭素数8〜12のアルキル基または置換基を有していてもよいベンジル基を、X1およびX2は、互いに独立して、ハロゲン原子を、nおよびmは2以上の整数を表す。
First, the substituents in the above formulas will be described.
In the above formulas, R and R 2 each have an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, R ′ has a protecting group for a hydroxyl group, and R 1 has an alkyl group having 8 to 12 carbon atoms or a substituent. In the benzyl group, X 1 and X 2 each independently represent a halogen atom, and n and m each represents an integer of 2 or more.

炭素数1〜10のアルキル基の具体例としては、メチル基、エチル基、n−プロピル基、イソプロピル基、シクロプロピル基、n−ブチル基、イソブチル基、s−ブチル基、t−ブチル基、n−ペンチル基、1−メチル−n−ブチル基、2−メチル−n−ブチル基、3−メチル−n−ブチル基、1,1−ジメチル−n−プロピル基、1,2−ジメチル−n−プロピル基、2,2−ジメチル−n−プロピル基、1−エチル−n−プロピル基、シクロペンチル基、n−ヘキシル基、1−メチル−n−ペンチル基、2−メチル−n−ペンチル基、3−メチル−n−ペンチル基、4−メチル−n−ペンチル基、1,1−ジメチル−n−ブチル基、1,2−ジメチル−n−ブチル基、1,3−ジメチル−n−ブチル基、2,2−ジメチル−n−ブチル基、2,3−ジメチル−n−ブチル基、3,3−ジメチル−n−ブチル基、1−エチル−n−ブチル基、2−エチル−n−ブチル基、1,1,2−トリメチル−n−プロピル基、1,2,2−トリメチル−n−プロピル基、1−エチル−1−メチル−n−プロピル基、1−エチル−2−メチル−n−プロピル基、シクロヘキシル基、n−ヘプチル基、n−オクチル基、n−ノニル基、n−デシル基等が挙げられる。これらの中でも、RおよびR2としては、メチル基、エチル基が好ましい。 Specific examples of the alkyl group having 1 to 10 carbon atoms include methyl group, ethyl group, n-propyl group, isopropyl group, cyclopropyl group, n-butyl group, isobutyl group, s-butyl group, t-butyl group, n-pentyl group, 1-methyl-n-butyl group, 2-methyl-n-butyl group, 3-methyl-n-butyl group, 1,1-dimethyl-n-propyl group, 1,2-dimethyl-n -Propyl group, 2,2-dimethyl-n-propyl group, 1-ethyl-n-propyl group, cyclopentyl group, n-hexyl group, 1-methyl-n-pentyl group, 2-methyl-n-pentyl group, 3-methyl-n-pentyl group, 4-methyl-n-pentyl group, 1,1-dimethyl-n-butyl group, 1,2-dimethyl-n-butyl group, 1,3-dimethyl-n-butyl group 2,2-dimethyl-n-butyl group 2,3-dimethyl-n-butyl group, 3,3-dimethyl-n-butyl group, 1-ethyl-n-butyl group, 2-ethyl-n-butyl group, 1,1,2-trimethyl-n- Propyl group, 1,2,2-trimethyl-n-propyl group, 1-ethyl-1-methyl-n-propyl group, 1-ethyl-2-methyl-n-propyl group, cyclohexyl group, n-heptyl group, An n-octyl group, an n-nonyl group, an n-decyl group, etc. are mentioned. Among these, as R and R 2 , a methyl group and an ethyl group are preferable.

炭素数8〜12のアルキル基としては、上記で例示した炭素数8〜10のアルキル基に加え、n−ウンデシル基、n−ドデシル基等が挙げられる。
置換基を有していてもよいベンジル基の具体例としては、ベンジル基;4−メトキシベンジル基、4−エトキシベンジル基、4−n−プロポキシベンジル基、4−i−プロポキシベンジル基、4−n−ブトキシベンジル基、4−t−ブトキシベンジル基、4−n−ペントキシベンジル基、4−n−ヘキソキシベンジル基、4−n−ヘプトキシベンジル基、4−n−オクトキシベンジル基等の4−アルコキシベンジル基等が挙げられる。これらの中でも、R1としては、n−オクチル基、4−アルコキシベンジル基が好適であり、4−アルコキシベンジル基としては、4−オクトキシベンジル基がより好ましい。
ハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子が挙げられるが、X1およびX2としては、好ましくは塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子、より好ましくは臭素原子である。
mおよびnは、2以上の整数であるが、2〜100の整数が好ましい。
Examples of the alkyl group having 8 to 12 carbon atoms include an n-undecyl group and an n-dodecyl group in addition to the alkyl groups having 8 to 10 carbon atoms exemplified above.
Specific examples of the benzyl group which may have a substituent include a benzyl group; 4-methoxybenzyl group, 4-ethoxybenzyl group, 4-n-propoxybenzyl group, 4-i-propoxybenzyl group, 4- n-butoxybenzyl group, 4-t-butoxybenzyl group, 4-n-pentoxybenzyl group, 4-n-hexoxybenzyl group, 4-n-heptoxybenzyl group, 4-n-octoxybenzyl group, etc. 4-alkoxybenzyl group and the like. Among these, as R 1 , an n-octyl group and a 4-alkoxybenzyl group are preferable, and as the 4-alkoxybenzyl group, a 4-octoxybenzyl group is more preferable.
Examples of the halogen atom include a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom, and an iodine atom. X 1 and X 2 are preferably a chlorine atom, a bromine atom, and an iodine atom, and more preferably a bromine atom.
m and n are integers of 2 or more, but an integer of 2 to 100 is preferable.

水酸基の保護基としては、一般的な有機合成反応において水酸基の保護基として用いられるものであれば特に限定されるものではなく、例えば、炭素数1〜7のアシル基(ホルミル、アセチル、フルオロアセチル、ジフルオロアセチル、トリフルオロアセチル、クロロアセチル、ジクロロアセチル、トリクロロアセチル、プロピオニル、ピバロイル、チグロイルなど)、アリールカルボニル基(ベンゾイル、ベンゾイルホルミル、ベンゾイルプロピオニル、フェニルプロピオニルなど)、炭素数1〜4のアルコキシカルボニル基(メトキシカルボニル、エトキシカルボニル、n−プロポキシカルボニル、i−プロポキシカルボニル、n−ブトキシカルボニル、i−ブトキシカルボニル、t−ブトキシカルボニル、t−アミルオキシカルボニル、ビニルオキシカルボニル、アリルオキシカルボニル、2−(トリメチルシリル)エトキシカルボニル、2,2,2−トリクロロエトキシカルボニルなど)、アリールオキシカルボニル基(ベンジルオキシカルボニル、p−ニトロベンジルオキシカルボニル、p−メトキシベンジルオキシカルボニルなど)、炭素数1〜4のアルキルアミノカルボニル基(メチルカルバモイル、エチルカルバモイル、n−プロピルカルバモイルなど)、アリールアミノカルボニル基(フェニルカルバモイルなど)、トリアルキルシリル基(トリメチルシリル、トリエチルシリル、トリイソプロピルシリル、ジエチルイソプロピルシリル、ジメチルイソプロピルシリル、ジ−t−ブチルメチルシリル、イソプロピルジメチルシリル、t−ブチルジメチルシリル、テキシルジメチルシリルなど)、アルキルジアリールシリル基(例えば、ジフェニルメチルシリル、t−ブチルジフェニルシリル、t−ブチルジメトキシフェニルシリルなど)、トリアリールシリル基(トリフェニルシリルなど)等が挙げられる。
これらの中でも、R′としては、トリアルキルシリル基、アルキルジアリールシリル基、トリアリールシリル基が好ましく、トリアルキルシリル基がより好ましく、t−ブチルジメチルシリル基が最適である。
The hydroxyl-protecting group is not particularly limited as long as it is used as a hydroxyl-protecting group in a general organic synthesis reaction. For example, an acyl group having 1 to 7 carbon atoms (formyl, acetyl, fluoroacetyl) , Difluoroacetyl, trifluoroacetyl, chloroacetyl, dichloroacetyl, trichloroacetyl, propionyl, pivaloyl, tigloyl, etc.), arylcarbonyl groups (benzoyl, benzoylformyl, benzoylpropionyl, phenylpropionyl, etc.), C1-C4 alkoxycarbonyl Groups (methoxycarbonyl, ethoxycarbonyl, n-propoxycarbonyl, i-propoxycarbonyl, n-butoxycarbonyl, i-butoxycarbonyl, t-butoxycarbonyl, t-amyloxycarbonyl Vinyloxycarbonyl, allyloxycarbonyl, 2- (trimethylsilyl) ethoxycarbonyl, 2,2,2-trichloroethoxycarbonyl, etc.), aryloxycarbonyl groups (benzyloxycarbonyl, p-nitrobenzyloxycarbonyl, p-methoxybenzyloxycarbonyl) Etc.), C1-C4 alkylaminocarbonyl groups (such as methylcarbamoyl, ethylcarbamoyl, n-propylcarbamoyl), arylaminocarbonyl groups (such as phenylcarbamoyl), trialkylsilyl groups (trimethylsilyl, triethylsilyl, triisopropylsilyl) Diethylisopropylsilyl, dimethylisopropylsilyl, di-t-butylmethylsilyl, isopropyldimethylsilyl, t-butyldimethylsilyl, Such as hexyl dimethyl silyl), alkyldiarylsilyl groups (e.g., diphenylmethyl silyl, t- butyl diphenyl silyl, t- butyl dimethoxyphenylsilyl etc.), etc. triarylsilyl groups (such as triphenylsilyl) are exemplified.
Among these, R ′ is preferably a trialkylsilyl group, an alkyldiarylsilyl group, or a triarylsilyl group, more preferably a trialkylsilyl group, and most preferably a t-butyldimethylsilyl group.

次に、本発明に係るポリベンズアミド−b−ポリスチレンブロック共重合体の製造方法について説明する。
[1]工程1:式(3)で示されるポリベンズアミド誘導体(A)の製造
工程1は、上記式(1)で示される安息香酸誘導体をイニシエータとして、式(2)で示されるアミノ安息香酸誘導体を連鎖重縮合させて、ポリベンズアミド誘導体(A)を製造する工程であり、基本的には、上述した特許文献1および非特許文献1で報告された反応である。
この場合、式(1)で示される化合物(イニシエータ)の使用量は、式(2)で示される化合物1molに対して、0.01〜0.5mol程度が好ましい。
Next, the manufacturing method of the polybenzamide-b-polystyrene block copolymer which concerns on this invention is demonstrated.
[1] Step 1: Production of polybenzamide derivative (A) represented by formula (3) Step 1 comprises aminobenzoic acid represented by formula (2) using a benzoic acid derivative represented by formula (1) as an initiator. This is a step of producing a polybenzamide derivative (A) by chain polycondensation of the derivative, and basically the reaction reported in Patent Document 1 and Non-Patent Document 1 described above.
In this case, the amount of the compound (initiator) represented by the formula (1) is preferably about 0.01 to 0.5 mol with respect to 1 mol of the compound represented by the formula (2).

この反応に用いられる塩基としては、特に限定されるものではないが、求核性の低い強塩基が好ましく、例えば、t−ブトキシカリウム;リチウムジイソプロピルアミド(LDA)、リチウムヘキサメチルジシラジド、カリウムヘキサメチルジシラジド、ナトリウムヘキサメチルジシラジド、リチウム2,2,6,6−テトラメチルピペリジド等の金属アミドが好ましく、リチウムヘキサメチルジシラジドが最適である。
塩基の使用量は、重合基質である式(2)で示される化合物1molに対して、0.1〜3mol程度とすることができる。
The base used in this reaction is not particularly limited, but a strong base with low nucleophilicity is preferable, for example, t-butoxy potassium; lithium diisopropylamide (LDA), lithium hexamethyldisilazide, potassium Metal amides such as hexamethyldisilazide, sodium hexamethyldisilazide, lithium 2,2,6,6-tetramethylpiperidide are preferred, and lithium hexamethyldisilazide is most suitable.
The usage-amount of a base can be about 0.1-3 mol with respect to 1 mol of compounds shown by Formula (2) which is a polymerization substrate.

この反応に用いられる溶媒としては、使用する塩基が溶解し、かつ、重合反応を妨げないものであれば任意であり、例えば、ペンタン、ヘキサン、ヘプタン、オクタン、シクロヘキサン等の脂肪族炭化水素類;ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、ジブチルエーテル、シクロペンチルメチルエーテル、テトラヒドロフラン、1,4−ジオキサン等のエーテル類;ベンゼン、トルエン、キシレン、メシチレン、アニソール等の芳香族炭化水素類;クロロホルム、ジクロロメタン、ジクロロエタン、四塩化炭素等のハロゲン化炭化水素類などが挙げられるが、エーテル類が好ましく、特にテトラヒドロフランが好適である。
重縮合の反応温度は、10℃以下が好ましく、0℃以下がより好ましく、−5℃以下がより一層好ましく、−10℃程度が最適である。
The solvent used in this reaction is arbitrary as long as the base to be used is dissolved and does not interfere with the polymerization reaction. For example, aliphatic hydrocarbons such as pentane, hexane, heptane, octane, and cyclohexane; Ethers such as diethyl ether, diisopropyl ether, dibutyl ether, cyclopentyl methyl ether, tetrahydrofuran, 1,4-dioxane; aromatic hydrocarbons such as benzene, toluene, xylene, mesitylene, anisole; chloroform, dichloromethane, dichloroethane, tetrachloride Examples thereof include halogenated hydrocarbons such as carbon, ethers are preferable, and tetrahydrofuran is particularly preferable.
The polycondensation reaction temperature is preferably 10 ° C. or lower, more preferably 0 ° C. or lower, even more preferably −5 ° C. or lower, and most preferably about −10 ° C.

[2]工程2:式(5)で示されるポリベンズアミド誘導体(B)の製造
工程2は、工程1で得られたポリベンズアミド誘導体(A)を脱保護した脱保護体(の水酸基)と、式(4)で示される酸ハロゲン化物とを反応させ(アシル化)、後の原子移動ラジカル重合反応のイニシエータ(マクロイニシエータ)となるポリベンズアミド誘導体(B)を製造する工程である。
脱保護条件は、使用する保護基に応じて従来公知の手法を適宜採用すればよい。例えば、トリアルキルシリル基等のシリルエーテル系の保護基では、塩酸、酢酸、パラトルエンスルホン酸等の酸や、フッ化水素酸(HF)、フッ化セシウム(CsF)、フッ化テトラ−n−ブチルアンモニウム(TBAF)等のフッ化テトラアルキルアンモニウム塩等のフッ素アニオン(フッ化物イオン)を発生する試薬などを用いることで、容易にそれを除去することができる。これら脱保護試薬の使用量は、ポリベンズアミド誘導体(A)1molに対して、1〜2mol程度である。
反応温度は、−10〜50℃程度であり、反応時間は、0.1〜5時間程度である。
なお、脱保護反応では、反応に影響を与えない溶媒を用いてもよく、そのような溶媒としては上記と同様の溶媒が挙げられる。
[2] Step 2: Production of polybenzamide derivative (B) represented by formula (5) Step 2 includes a deprotection product (hydroxyl thereof) obtained by deprotecting the polybenzamide derivative (A) obtained in Step 1. This is a step of reacting an acid halide represented by formula (4) (acylation) to produce a polybenzamide derivative (B) that becomes an initiator (macroinitiator) of the subsequent atom transfer radical polymerization reaction.
As the deprotection condition, a conventionally known method may be appropriately employed depending on the protecting group to be used. For example, in the case of a silyl ether protecting group such as a trialkylsilyl group, an acid such as hydrochloric acid, acetic acid, paratoluenesulfonic acid, hydrofluoric acid (HF), cesium fluoride (CsF), tetra-n-fluoride By using a reagent that generates a fluorine anion (fluoride ion) such as a fluorinated tetraalkylammonium salt such as butylammonium (TBAF), it can be easily removed. The usage-amount of these deprotection reagents is about 1-2 mol with respect to 1 mol of polybenzamide derivatives (A).
The reaction temperature is about −10 to 50 ° C., and the reaction time is about 0.1 to 5 hours.
In the deprotection reaction, a solvent that does not affect the reaction may be used, and examples of such a solvent include the same solvents as described above.

アシル化反応も、アルコールと酸ハロゲン化物とのカップリング反応に一般的に用いられている公知の条件を採用できる。
例えば、有機溶媒中、塩基の存在下で、脱保護生成物と式(4)で示される酸ハロゲン化物とを反応させる手法などが挙げられる。
この場合、式(4)で示される酸ハロゲン化物の使用量は、脱保護体1molに対して、1〜20mol程度とすることができ、1〜10mol程度が好適である。
有機溶媒としては、上で例示した有機溶媒を用いることができるが、ジクロロメタン等のハロゲン化炭化水素類が好適である。
塩基としては、トリエチルアミン等の3級アミンが好適に用いられる。
反応温度は、−10〜50℃程度である。
For the acylation reaction, known conditions generally used for the coupling reaction between an alcohol and an acid halide can be employed.
For example, a method of reacting a deprotected product with an acid halide represented by the formula (4) in the presence of a base in an organic solvent can be mentioned.
In this case, the usage-amount of the acid halide shown by Formula (4) can be about 1-20 mol with respect to 1 mol of deprotectors, and about 1-10 mol is suitable.
As the organic solvent, the organic solvents exemplified above can be used, but halogenated hydrocarbons such as dichloromethane are preferable.
As the base, a tertiary amine such as triethylamine is preferably used.
The reaction temperature is about -10 to 50 ° C.

[3]工程3:式(6)で示されるポリベンズアミド−b−ポリスチレンブロック共重合体の製造
工程3は、工程2で得られたポリベンズアミド誘導体(B)をマクロイニシエータとして、原子移動ラジカル重合反応によってスチレンを重合させて、目的物であるポリベンズアミド−b−ポリスチレンブロック共重合体を製造する工程である。
具体的には、金属触媒を用い、有機溶媒中で、マクロイニシエータのα−ハロケトン部位のハロゲン原子のラジカル的開裂によって生じた活性種(ポリベンズアミド誘導体(B)ラジカル)を基に、スチレンをラジカル的に重合させる工程である。
この場合、金属触媒としては、銅、鉄、ニッケル、ルテニウム、ロジウム、パラジウム、レニウム等を中心金属とする錯体などを用いることができるが、コスト面を考慮すると、好ましくは銅錯体である。銅錯体としては、CuBr,CuI,CuCl等のハロゲン化銅(I)と、アミン/イミン系の多座配位子とから調製される錯体が好適に用いられる。
[3] Step 3: Production of polybenzamide-b-polystyrene block copolymer represented by formula (6) Step 3 is atom transfer radical polymerization using the polybenzamide derivative (B) obtained in Step 2 as a macroinitiator. In this process, styrene is polymerized by a reaction to produce a target polybenzamide-b-polystyrene block copolymer.
Specifically, using a metal catalyst, styrene is radicalized based on an active species (polybenzamide derivative (B) radical) generated by radical cleavage of the halogen atom at the α-haloketone site of the macroinitiator in an organic solvent. This is a step of polymerization.
In this case, as the metal catalyst, a complex having copper, iron, nickel, ruthenium, rhodium, palladium, rhenium or the like as a central metal can be used, but a copper complex is preferable in consideration of cost. As the copper complex, a complex prepared from a copper (I) halide such as CuBr, CuI, or CuCl and an amine / imine multidentate ligand is preferably used.

アミン/イミン系の多座配位子としては、例えば、トリス(2−ジメチルアミノエチル)アミン(Me6TREN)、トリス[(2−ピリジル)メチル]アミン(TPMA)、N,N,N’,N”,N”−ペンタメチルジエチレントリアミン(PMDETA)、2,2’−ビピリジル(Bpy)等が挙げられるが、重合反応の進行のし易さを考慮すると、Me6TREN、TMPAがより好ましい。
有機溶媒としては、上述したものと同様のものが挙げられるが、トルエン、キシレン、アニソール等の芳香族炭化水素類が好適である。
Examples of amine / imine polydentate ligands include tris (2-dimethylaminoethyl) amine (Me 6 TREN), tris [(2-pyridyl) methyl] amine (TPMA), N, N, N ′. , N ″, N ″ -pentamethyldiethylenetriamine (PMDETA), 2,2′-bipyridyl (Bpy) and the like, but considering the ease of progress of the polymerization reaction, Me 6 TREN and TMPA are more preferable.
Examples of the organic solvent include the same ones as described above, but aromatic hydrocarbons such as toluene, xylene, and anisole are preferable.

この反応において、スチレンの使用量は、ポリスチレン鎖の長さに応じて変わるものであるが、ポリベンズアミド誘導体(B)1molに対して、100〜2000mol程度用いることが好ましい。
また、金属触媒の使用量は、ポリベンズアミド誘導体(B)1molに対して、金属分として0.01〜10mol程度とすることができ、0.1〜2mol程度が好ましい。
反応温度は、0℃から使用する溶媒の沸点までで適宜設定すればよいが、25〜100℃程度が好ましく、40〜100℃程度がより好ましい。
反応時間は、使用する触媒によって変動するものであるが、通常1〜120時間程度である。
In this reaction, the amount of styrene used varies depending on the length of the polystyrene chain, but it is preferably about 100 to 2000 mol with respect to 1 mol of the polybenzamide derivative (B).
Moreover, the usage-amount of a metal catalyst can be about 0.01-10 mol as a metal part with respect to 1 mol of polybenzamide derivatives (B), and about 0.1-2 mol is preferable.
What is necessary is just to set reaction temperature suitably from 0 degreeC to the boiling point of the solvent to be used, About 25-100 degreeC is preferable and about 40-100 degreeC is more preferable.
The reaction time varies depending on the catalyst used, but is usually about 1 to 120 hours.

以上説明した製造方法では、工程1に、高分子量、かつ、分子量分布の狭いポリマーが得られる連鎖重縮合反応を用いるとともに、工程3においても、高分子量、かつ、分子量分布の狭いポリマーが得られる原子移動ラジカル重合反応を用いているため、目的物であるポリベンズアミド−b−ポリスチレンブロック共重合体も、高分子量、かつ、狭い分子量分布を有するものとなる。
例えば、数平均分子量Mn(GPCによるポリスチレン換算値)が7000以上、分布分布(Mw/Mn)が、1.30以下程度の、高度に制御されたポリベンズアミド−b−ポリスチレンブロック共重合体を容易に得ることができる。
In the production method described above, a chain polycondensation reaction that yields a polymer having a high molecular weight and a narrow molecular weight distribution is used in Step 1, and a polymer having a high molecular weight and a narrow molecular weight distribution is also obtained in Step 3. Since the atom transfer radical polymerization reaction is used, the target polybenzamide-b-polystyrene block copolymer also has a high molecular weight and a narrow molecular weight distribution.
For example, a highly controlled polybenzamide-b-polystyrene block copolymer having a number average molecular weight Mn (polystyrene equivalent value by GPC) of 7000 or more and a distribution (Mw / Mn) of about 1.30 or less is easy. Can get to.

以下、合成例および実施例を挙げて、本発明をより具体的に説明するが、本発明は下記の実施例に限定されるものではない。実施例で用いた各測定装置は以下のとおりである。なお、スチレン、トリエチルアミン、各溶媒は、使用前に蒸留して精製した。
[GC]
装置:GC−14B((株)島津製作所製)
カラム:OV−101(ジーエルサイエンス(株)製) 3m
検出器:FID
内標:ナフタレン(工程1)、アニソール(工程3)
重合中の転化率は、ナフタレンとアニソールの検出ピークの面積とモノマーの面積との比から求めた。
1H−NMR]
装置:JEOL ECA600(600MHz)(日本電子(株)製)
測定溶媒:CDCl3,DMF−d7
基準物質:テトラメチルシラン(TMS)(0.00ppm)、DMF(2.74ppm)
13C−NMR]
装置:JEOL ECA600(600MHz)(日本電子(株)製)
測定溶媒:CDCl3,DMSO−d6
基準物質:CDCl3(77.0ppm)、DMSO−d6(39.5ppm)
[FT−IR]
装置:FT/IR−410(日本分光(株)製)
[GPC]
装置:HLC−8200(東ソー(株)製)
カラム:TSK−GEL Multipore HXL−M 2本(東ソー(株)製)
カラム温度:40℃
溶媒:テトラヒドロフラン 1mL/分
検出器:UV(254nm)、RI
検量線:標準ポリスチレン
EXAMPLES Hereinafter, although a synthesis example and an Example are given and this invention is demonstrated more concretely, this invention is not limited to the following Example. Each measuring device used in the examples is as follows. Styrene, triethylamine, and each solvent were purified by distillation before use.
[GC]
Device: GC-14B (manufactured by Shimadzu Corporation)
Column: OV-101 (manufactured by GL Sciences) 3m
Detector: FID
Internal standard: naphthalene (process 1), anisole (process 3)
The conversion during the polymerization was determined from the ratio between the area of the detection peak of naphthalene and anisole and the area of the monomer.
[ 1 H-NMR]
Apparatus: JEOL ECA600 (600 MHz) (manufactured by JEOL Ltd.)
Measurement solvent: CDCl 3 , DMF-d7
Reference materials: tetramethylsilane (TMS) (0.00 ppm), DMF (2.74 ppm)
[ 13 C-NMR]
Apparatus: JEOL ECA600 (600 MHz) (manufactured by JEOL Ltd.)
Measurement solvent: CDCl 3 , DMSO-d6
Reference materials: CDCl 3 (77.0 ppm), DMSO-d6 (39.5 ppm)
[FT-IR]
Apparatus: FT / IR-410 (manufactured by JASCO Corporation)
[GPC]
Apparatus: HLC-8200 (manufactured by Tosoh Corporation)
Column: 2 TSK-GEL Multipore HXL-M (manufactured by Tosoh Corporation)
Column temperature: 40 ° C
Solvent: Tetrahydrofuran 1 mL / min Detector: UV (254 nm), RI
Calibration curve: Standard polystyrene

[合成例1]化合物[1]の合成

Figure 2011225765

(式中、TBSはt−ブチルジメチルシリル基を意味する) [Synthesis Example 1] Synthesis of Compound [1]
Figure 2011225765

(In the formula, TBS means t-butyldimethylsilyl group)

250mLの丸底フラスコ中に、t−ブチルクロロジメチルシラン5.42g(36mmol)、イミダゾール2.45g(36mmol)、および乾燥テトラヒドロフラン(THF)50mLを加えて撹拌した。この混合物中に、室温で、乾燥THF20mLに溶かした4−(ヒドロキシメチル)安息香酸メチル4.99g(30mmol)を、滴下ロートを用いて徐々に滴下し、23℃で22時間撹拌した。
その後、純水50mLを加えて反応を停止させ、混合物を塩化メチレン100mLで抽出した。有機層を飽和炭酸水素ナトリウム水溶液および純水で洗浄し、硫酸マグネシウム20gを加えて一晩放置して乾燥させた後、これをろ過した。エバポレータにて溶媒を留去して得られた粗生成物をシリカゲルカラムクロマトグラフィ(ヘキサン→塩化メチレン)で精製し、無色液体の化合物[1]7.54g(収率75%)を得た。
1H−NMR (600 MHz, CDCl3, δ, ppm): 8.02−7.98 (m, 2H), 7.40−7.36 (m, 2H), 4.78 (s, 2H), 3.89(s, 3H), 0.94 (s, 9H), 0.10 (s, 6H).
13C−NMR (150 MHz, DMSO−d6, δ, ppm): 165.92, 146.64, 128.97, 128.08, 125.72, 63.67, 51.81, 25.60, 17.82, −5.54.
In a 250 mL round bottom flask, 5.42 g (36 mmol) of t-butylchlorodimethylsilane, 2.45 g (36 mmol) of imidazole, and 50 mL of dry tetrahydrofuran (THF) were added and stirred. Into this mixture, 4.99 g (30 mmol) of methyl 4- (hydroxymethyl) benzoate dissolved in 20 mL of dry THF was gradually added dropwise at room temperature using a dropping funnel, and the mixture was stirred at 23 ° C. for 22 hours.
Thereafter, 50 mL of pure water was added to stop the reaction, and the mixture was extracted with 100 mL of methylene chloride. The organic layer was washed with a saturated aqueous sodium hydrogen carbonate solution and pure water, 20 g of magnesium sulfate was added, and the mixture was allowed to stand overnight and dried, and then filtered. The crude product obtained by distilling off the solvent with an evaporator was purified by silica gel column chromatography (hexane → methylene chloride) to obtain 7.54 g (yield 75%) of a colorless liquid compound [1].
1 H-NMR (600 MHz, CDCl 3 , δ, ppm): 8.02-7.98 (m, 2H), 7.40-7.36 (m, 2H), 4.78 (s, 2H) 3.89 (s, 3H), 0.94 (s, 9H), 0.10 (s, 6H).
13 C-NMR (150 MHz, DMSO-d 6 , δ, ppm): 165.92, 146.64, 128.97, 128.08, 125.72, 63.67, 51.81, 25.60, 17.82, -5.54.

[合成例2]化合物[2a]の合成

Figure 2011225765
[Synthesis Example 2] Synthesis of Compound [2a]
Figure 2011225765

4−アミノ安息香酸エチル8.23g(50mmol)、オクタナール7.08mL(45.3mmol)およびTHF100mLを混合した。この混合物中に、酢酸2.9mL(50mmol)をピペットで5分間かけて滴下し、23℃で10分間撹拌した。その後、直ちにナトリウムトリアセトキシボロハイドライド16.3g(77mmol)を加えた。混合物を室温で24時間撹拌した後、反応液中に飽和炭酸水素ナトリウム水溶液を加えて溶液を若干塩基性(pH=8)に調整し、酢酸エチル100mLで抽出した。有機層を飽和食塩水100gで洗浄し、無水硫酸マグネシウム20gを加え一晩放置して乾燥させた後、これをろ過した。減圧下で溶媒を留去し、残渣をメタノールから再結晶して無色結晶の化合物[2a]7.799g(収率62%)を得た。
1H−NMR (600 MHz, CDCl3) δ (ppm) = 7.87−7.84 (m, 2H), 6.54−6.52 (m, 2H), 4.31 (q, J= 7.21 Hz, 2H), 4.05 (s, 1H), 3.15 (t, J= 7.21 Hz, 2H), 1.65−1.60 (p, J= 7.21 and 7.56 Hz, 2H), 1.42−1.26 (m, 13H), 0.88 (t, J= 6.87 Hz, 3H).
13C−NMR (150 MHz, CDCl3) δ (ppm) = 166.88, 152.03, 131.46, 118.35, 111.24, 60.11, 43.38, 31.78, 29.33, 29.21, 27.06, 22.63, 14.45, 14.08.
Ethyl 4-aminobenzoate 8.23 g (50 mmol), octanal 7.08 mL (45.3 mmol) and THF 100 mL were mixed. To this mixture, 2.9 mL (50 mmol) of acetic acid was dropped with a pipette over 5 minutes, and the mixture was stirred at 23 ° C. for 10 minutes. Immediately thereafter, 16.3 g (77 mmol) of sodium triacetoxyborohydride was added. After the mixture was stirred at room temperature for 24 hours, a saturated aqueous sodium hydrogen carbonate solution was added to the reaction solution to adjust the solution slightly basic (pH = 8), and the mixture was extracted with 100 mL of ethyl acetate. The organic layer was washed with 100 g of saturated brine, 20 g of anhydrous magnesium sulfate was added, and the mixture was left to dry overnight, and then filtered. The solvent was distilled off under reduced pressure, and the residue was recrystallized from methanol to obtain 7.799 g (yield 62%) of colorless crystalline compound [2a].
1 H-NMR (600 MHz, CDCl 3 ) δ (ppm) = 7.87-7.84 (m, 2H), 6.54-6.52 (m, 2H), 4.31 (q, J = 7.21 Hz, 2H), 4.05 (s, 1H), 3.15 (t, J = 7.21 Hz, 2H), 1.65-1.60 (p, J = 7.21 and 7) .56 Hz, 2H), 1.42-1.26 (m, 13H), 0.88 (t, J = 6.87 Hz, 3H).
13 C-NMR (150 MHz, CDCl 3 ) δ (ppm) = 166.88, 152.03, 131.46, 118.35, 111.24, 60.11, 43.38, 31.78, 29. 33, 29.21, 27.06, 22.63, 14.45, 14.08.

[1]連鎖重縮合反応によるポリベンズアミド誘導体の合成
[実施例1]ポリベンズアミド誘導体[3a]の合成

Figure 2011225765
[1] Synthesis of polybenzamide derivative by chain polycondensation reaction [Example 1] Synthesis of polybenzamide derivative [3a]
Figure 2011225765

乾燥させてアルゴンを充填した、三方コック付10mLフラスコに、アルゴン雰囲気下で乾燥THF0.5mLを加えて−10℃で10分間撹拌した後、リチウムヘキサメチルジシラジド(LiHMDS)の1.0MTHF溶液0.5mL(0.5mmol)を加え、−10℃に冷却して10分間撹拌した。その中に、合成例1で得られた化合物[1](イニシエータ:I)14mg(0.05mmol)、合成例2で得られた化合物[2a](モノマー:M)0.132g(0.5mmol)([M]0/[I]0=10)、およびナフタレン(内標)64mg(0.50mmol)を1mLの乾燥THFに溶解させた溶液を、−10℃に冷却して一気に加えた。反応の転化率を確認するために、一定時間毎に反応液の一部を抜き出してGCにて重合反応を追跡した。反応が完結したことを確認後、飽和塩化アンモニウム水溶液を加えて反応を停止させた。塩化メチレン10mLで希釈した後、有機層を純水で洗浄し、無水硫酸マグネシウム1gを添加して一晩放置して乾燥させた後、これをろ過した。減圧下で濃縮し、黄色油状物として粗生成物を得た。この粗生成物を塩化メチレン1mLに溶かし、メタノール/水(9/1,v/v)の混合溶媒10mL中で2回沈殿させ、黄色の粘稠物としてポリベンズアミド誘導体[3a](以下、PpBzAm−OTBS1という場合もある)を得た(Mn=3010、Mw/Mn=1.07,収率71.5%)。 To a 10 mL flask with a three-way cock that was dried and filled with argon, 0.5 mL of dry THF was added in an argon atmosphere and stirred at −10 ° C. for 10 minutes, and then a 1.0 M THF solution of lithium hexamethyldisilazide (LiHMDS) 0.5 mL (0.5 mmol) was added, cooled to −10 ° C., and stirred for 10 minutes. Among them, compound [1] obtained in Synthesis Example 1 (Initiator: I) 14 mg (0.05 mmol), compound [2a] obtained in Synthesis Example 2 (monomer: M) 0.132 g (0.5 mmol) ) ([M] 0 / [I] 0 = 10) and 64 mg (0.50 mmol) of naphthalene (internal standard) dissolved in 1 mL of dry THF were cooled to −10 ° C. and added all at once. In order to confirm the conversion rate of the reaction, a part of the reaction solution was taken out at regular intervals and the polymerization reaction was followed by GC. After confirming that the reaction was complete, a saturated aqueous ammonium chloride solution was added to stop the reaction. After diluting with 10 mL of methylene chloride, the organic layer was washed with pure water, added with 1 g of anhydrous magnesium sulfate and allowed to stand overnight to dry, and then filtered. Concentration under reduced pressure gave the crude product as a yellow oil. This crude product was dissolved in 1 mL of methylene chloride, precipitated twice in 10 mL of a mixed solvent of methanol / water (9/1, v / v), and polybenzamide derivative [3a] (hereinafter referred to as PpBzAm) as a yellow viscous product. -OTBS1 in some cases) was obtained (Mn = 3010, Mw / Mn = 1.07, yield 71.5%).

[実施例2]ポリベンズアミド誘導体[3b]の合成

Figure 2011225765
[Example 2] Synthesis of polybenzamide derivative [3b]
Figure 2011225765

化合物[2a]を化合物[2b]に変更し、LiHMDSのTHF溶液とともに、塩化リチウム0.105g(2.5mmol)を加えて反応を行った以外は、実施例1と同様にして、ポリベンズアミド誘導体[3b](以下、PmOOBBzAm−OTBSという場合もある)を得た(Mn=4520,Mw/Mn=1.09)。
なお、化合物[2b]は、J. Polym. Sci., Part A: Polym. Chem. 2006, 44, 4990−5003に従って合成した。
上記実施例1〜2のまとめを表1に示す。
The compound [2a] was changed to the compound [2b], and a polybenzamide derivative was obtained in the same manner as in Example 1 except that the reaction was performed by adding 0.105 g (2.5 mmol) of lithium chloride together with a THF solution of LiHMDS. [3b] (hereinafter also referred to as PmOOBBzAm-OTBS) was obtained (Mn = 4520, Mw / Mn = 1.09).
In addition, compound [2b] Polym. Sci. Part A: Polym. Chem. 2006, 44, 4990-5003.
A summary of Examples 1-2 above is shown in Table 1.

Figure 2011225765
Figure 2011225765

[2]マクロイニシエータの合成
[実施例3]ポリベンズアミド誘導体[4a]の合成

Figure 2011225765
[2] Synthesis of Macroinitiator [Example 3] Synthesis of polybenzamide derivative [4a]
Figure 2011225765

(1)脱保護
実施例1で得られたポリベンズアミド誘導体[3a](PpBzAm−OTBS1)0.51g(0.17mmol)を乾燥THF3mLに溶かし、テトラブチルアンモニウムフルオライド(TBAF)の1.0MTHF溶液0.20mL(0.20mmol)をアルゴン雰囲気下、室温で加えた。得られた混合物を23℃で2時間撹拌した。1H−NMR分析によって反応が定量的に進行したことを確認した後、純水5mLを加えて反応を停止させ、塩化メチレン10mLで抽出した。有機層を純水で洗浄し、無水硫酸マグネシウム1gを加えて一晩放置して乾燥させた後、これをろ過した。減圧下で濃縮し、黄色の粘稠物として脱保護体(PpBzAm−OH1)0.48g(収率94%)を得た。
(1) Deprotection 0.51 g (0.17 mmol) of the polybenzamide derivative [3a] (PpBzAm-OTBS1) obtained in Example 1 was dissolved in 3 mL of dry THF, and a 1.0 M THF solution of tetrabutylammonium fluoride (TBAF). 0.20 mL (0.20 mmol) was added at room temperature under an argon atmosphere. The resulting mixture was stirred at 23 ° C. for 2 hours. After confirming that the reaction proceeded quantitatively by 1 H-NMR analysis, 5 mL of pure water was added to stop the reaction, and the mixture was extracted with 10 mL of methylene chloride. The organic layer was washed with pure water, 1 g of anhydrous magnesium sulfate was added, and the mixture was left to dry overnight, and then filtered. Concentration under reduced pressure gave 0.48 g (yield 94%) of the deprotected product (PpBzAm-OH1) as a yellow viscous product.

(2)アシル化
乾燥させて窒素を充填した50mLの一口丸底フラスコ中で、上記で得られた脱保護体(PpBzAm−OH)0.48g(0.16mmol)およびトリエチルアミン0.22mL(1.6mmol)を塩化メチレン10mLと混合し、23℃で15分間撹拌した後、0℃まで冷却した。その後、2−ブロモイソブチリルブロミド0.20mL(1.6mmol)を乾燥塩化メチレン5mLに溶かした溶液を滴下し、窒素雰囲気下、23℃で23時間撹拌を続けた。1H−NMR分析によって反応が定量的に進行したことを確認した後、純水5mLを加えて反応を停止させ、塩化メチレン10mLで抽出した。有機層を飽和炭酸水素ナトリウム水溶液および純水で洗浄し、有機層を分離した。有機層に硫酸マグネシウム1gを添加して一晩放置して乾燥させた後、これをろ過した。溶媒を減圧下で留去した粗生成物を塩化メチレン2mLに溶かし、メタノール/水(9/1,v/v)の混合溶媒20mL中で2回析出させ、黄色の粘稠オイルとしてポリベンズアミド誘導体[4a](PpBzAm−Br1)0.40g(収率83%)を得た。
(2) Acylation In a 50 mL one-necked round bottom flask dried and filled with nitrogen, 0.48 g (0.16 mmol) of the deprotected product (PpBzAm-OH) obtained above and 0.22 mL (1. 6 mmol) was mixed with 10 mL of methylene chloride, stirred at 23 ° C. for 15 minutes, and then cooled to 0 ° C. Thereafter, a solution of 0.20 mL (1.6 mmol) of 2-bromoisobutyryl bromide in 5 mL of dry methylene chloride was added dropwise, and stirring was continued at 23 ° C. for 23 hours under a nitrogen atmosphere. After confirming that the reaction proceeded quantitatively by 1 H-NMR analysis, 5 mL of pure water was added to stop the reaction, and the mixture was extracted with 10 mL of methylene chloride. The organic layer was washed with a saturated aqueous sodium hydrogen carbonate solution and pure water, and the organic layer was separated. After adding 1 g of magnesium sulfate to the organic layer and leaving it to stand overnight, it was filtered. The crude product obtained by distilling off the solvent under reduced pressure was dissolved in 2 mL of methylene chloride, and precipitated twice in 20 mL of a mixed solvent of methanol / water (9/1, v / v) to give a polybenzamide derivative as a yellow viscous oil. [0a] 0.40 g (yield 83%) of (PpBzAm-Br1) was obtained.

[実施例4]ポリベンズアミド誘導体[4b]の合成

Figure 2011225765
[Example 4] Synthesis of polybenzamide derivative [4b]
Figure 2011225765

ポリベンズアミド誘導体[3a]に換えて、ポリベンズアミド誘導体[3b](PmOOBBzAm−OTBS)を用いた以外は、実施例3と同様にして、ポリベンズアミド誘導体[4b](PmOOBBzAm−Br)を得た(収率81%)。   A polybenzamide derivative [4b] (PmOOBBzAm-Br) was obtained in the same manner as in Example 3, except that the polybenzamide derivative [3b] (PmOOBBzAm-OTBS) was used instead of the polybenzamide derivative [3a] ( Yield 81%).

[3]原子移動ラジカル重合によるポリベンズアミド−b−ポリスチレンブロック共重合体の合成
以下において、分子量および分子量分布はGPCにて、転化率はGCにて測定した。
[実施例5]ポリベンズアミド−b−ポリスチレンブロック共重合体[5a]の合成

Figure 2011225765
[3] Synthesis of polybenzamide-b-polystyrene block copolymer by atom transfer radical polymerization In the following, molecular weight and molecular weight distribution were measured by GPC, and conversion was measured by GC.
[Example 5] Synthesis of polybenzamide-b-polystyrene block copolymer [5a]
Figure 2011225765

25mLのシュレンクフラスコ中に、スチレン、Me6TREN、ポリベンズアミド誘導体[4a](PpBzAm−Br1)、およびアニソールを装填した。この混合物を−78℃まで冷却して固化させて凍結脱気(freeze−pump−thaw)を3回繰り返して脱酸素し、窒素ガスを充填した。続いて、CuBrを凍結溶液に加えた。フラスコを封印し、真空脱気し、さらに凍結脱気を2回繰り返した。シリンジで初期サンプルを取り出したのち、予め70℃に加熱したオイルバス中にフラスコを投入し、重合を開始した。反応の転化率を確認するために、一定時間毎に反応液の一部を抜き出してGC(内標:アニソール)にて重合反応を追跡した。反応が完結したことを確認後、フラスコをアイスバスに投入するとともに、空気に曝して重合反応を停止させた。得られた混合物をTHFで希釈し、中性の酸化アルミニウム(アルミナ)充填カラムを通して銅触媒を除去した後、メタノール中で析出させ、ろ過、真空乾燥し、目的物であるポリベンズアミド−b−ポリスチレンブロック共重合体[5a]を得た(Mn=23400g/mol,Mw/Mn=1.24,転化率=40%)。
なお上記反応は、各試薬の使用比率を、スチレン/ポリベンズアミド誘導体[4](PpBzAm−Br)/CuBr/Me6TREN=600/1/1/1(モル比)とし、13体積%のアニソール溶液(対スチレン:7.56M)で行った。
A 25 mL Schlenk flask was charged with styrene, Me 6 TREN, polybenzamide derivative [4a] (PpBzAm-Br1), and anisole. The mixture was cooled to −78 ° C. to solidify, deoxidized by repeating freeze-pump-thaw three times, and filled with nitrogen gas. Subsequently, CuBr was added to the frozen solution. The flask was sealed, vacuum degassed, and freeze degassing was repeated twice. After taking out an initial sample with a syringe, the flask was put into an oil bath preheated to 70 ° C. to initiate polymerization. In order to confirm the conversion rate of the reaction, a part of the reaction solution was taken out at regular intervals and the polymerization reaction was followed by GC (internal standard: anisole). After confirming that the reaction was completed, the flask was put into an ice bath and exposed to air to stop the polymerization reaction. The obtained mixture was diluted with THF, the copper catalyst was removed through a column packed with neutral aluminum oxide (alumina), precipitated in methanol, filtered and dried in vacuo, and the target product, polybenzamide-b-polystyrene. A block copolymer [5a] was obtained (Mn = 23400 g / mol, Mw / Mn = 1.24, conversion = 40%).
In the above reaction, the use ratio of each reagent is styrene / polybenzamide derivative [4] (PpBzAm-Br) / CuBr / Me 6 TREN = 600/1/1/1 (molar ratio), and 13 volume% anisole. It was carried out in solution (vs. styrene: 7.56M).

[実施例6〜8]ポリベンズアミド−b−ポリスチレンブロック共重合体[5a]の合成
CuのリガンドであるMe6TRENを、TPMA、PMDETA、Bpyにそれぞれ変更した以外は、実施例5と同様にしてポリベンズアミド−b−ポリスチレンブロック共重合体[5a]を合成した。ただし、Bpyについては、その使用量を2molとした。
[Examples 6 to 8] Synthesis of polybenzamide-b-polystyrene block copolymer [5a] Same as Example 5 except that Me 6 TREN, which is a ligand for Cu, was changed to TPMA, PMDETA, and Bpy, respectively. Thus, a polybenzamide-b-polystyrene block copolymer [5a] was synthesized. However, the amount of Bpy used was 2 mol.

[実施例9]ポリベンズアミド−b−ポリスチレンブロック共重合体[5b]の合成

Figure 2011225765
[Example 9] Synthesis of polybenzamide-b-polystyrene block copolymer [5b]
Figure 2011225765

ポリベンズアミド誘導体[4a]に換えて、ポリベンズアミド誘導体[4b](PmOOBBzAm−Br)を用いた以外は、実施例5と同様にして、ポリベンズアミド−b−ポリスチレンブロック共重合体[5b]を合成した(Mn=20000g/mol,Mw/Mn=1.37,転化率=27%)。
実施例5〜9の結果を表2にまとめて示す。
A polybenzamide-b-polystyrene block copolymer [5b] was synthesized in the same manner as in Example 5 except that the polybenzamide derivative [4b] (PmOOBBzAm-Br) was used instead of the polybenzamide derivative [4a]. (Mn = 20000 g / mol, Mw / Mn = 1.37, conversion = 27%).
The results of Examples 5 to 9 are summarized in Table 2.

Figure 2011225765
Figure 2011225765

上記実施例5〜9の重合反応について、反応時間とln(M0/M)との関係を図1に、Mn、Mw/Mnと転化率との関係を図2にそれぞれ示す。なお、図1および2中、Me6TRENは実施例5に、TPMAは実施例6に、PMDETAは実施例7に、Bpyは実施例8に、それぞれ対応する。
また、実施例5の反応におけるGPC追跡結果を図3に、実施例9の反応におけるGPC追跡結果を図4に、それぞれ示す。
図1には、それぞれのモノマー消費速度が示されているが、これは、表2のスチレンモノマーの転化率と一致していることがわかる。
また、図2に示されるように、いずれの系でも原則モノマー転化率と理論分子量とがほぼ一致していることから、理想通り、ポリベンズアミドのBrからスチレンが重合していると推察される。
さらに、図3,4には、分子量の経時変化が示されている。一般のポリマーは分子量が上昇するに従って分子量分布が広くなるため、山の裾野が広くなるが、この系ではそれが見られないことがわかる。
Regarding the polymerization reactions of Examples 5 to 9, the relationship between reaction time and ln (M 0 / M) is shown in FIG. 1, and the relationship between Mn, Mw / Mn and conversion is shown in FIG. 1 and 2, Me 6 TREN corresponds to Example 5, TPMA corresponds to Example 6, PMDETA corresponds to Example 7, and Bpy corresponds to Example 8.
Moreover, the GPC tracking result in the reaction of Example 5 is shown in FIG. 3, and the GPC tracking result in the reaction of Example 9 is shown in FIG. 4, respectively.
FIG. 1 shows the respective monomer consumption rates, which are found to be consistent with the conversion of styrene monomer in Table 2.
Further, as shown in FIG. 2, in principle, the monomer conversion rate and the theoretical molecular weight are almost the same in any system, so that it is assumed that styrene is polymerized from Br of polybenzamide as ideal.
Further, FIGS. 3 and 4 show changes in molecular weight with time. Since the molecular weight distribution of a general polymer increases as the molecular weight increases, the base of the mountain is widened, but it is understood that this is not seen in this system.

[参考例]ポリベンズアミド−b−ポリスチレンブロック共重合体[5b]の脱保護

Figure 2011225765
[Reference Example] Deprotection of polybenzamide-b-polystyrene block copolymer [5b]
Figure 2011225765

三方コックを取り付けた10mLフラスコを乾燥し、アルゴンを充填した後、実施例9で得られたポリベンズアミド−b−ポリスチレンブロック共重合体[5b]32mgおよび乾燥塩化メチレン1.5mLを投入した。これに、トリフルオロ酢酸1mLを加えた後、オクチルオキシベンジル基を除去するため、アルゴン雰囲気下、室温で1日撹拌した。溶媒を減圧下で留去し、得られた粗生成物を塩化メチレン1mLに溶かし、ヘキサン10mL中で2回析出させ、白色粉末のポリ(N−H−メタベンズアミド)−b−ポリスチレンブロック共重合体を得た(22mg,収率78%)。
トリフルオロ酢酸の添加前(a)、添加1日後(b)、添加4日後(c)の1H−NMRスペクトルを図5に示す。
図5に示されるように、添加1日後には、4.25〜4.85ppmおよび3.35〜3.45ppmに位置するオクチルオキシベンジル基由来のピークが消失していることがわかる。なお、図6のFT−IRスペクトルに示されるように、ポリマー主鎖中のエステルおよびアミドは残存していることが確認された。
この結果より、選択的な加水分解が可能であること、および主鎖中のエステル結合が安定性に優れていることが示された。
A 10 mL flask equipped with a three-way cock was dried and filled with argon, and then charged with 32 mg of the polybenzamide-b-polystyrene block copolymer [5b] obtained in Example 9 and 1.5 mL of dry methylene chloride. After adding 1 mL of trifluoroacetic acid thereto, the mixture was stirred at room temperature for 1 day under an argon atmosphere in order to remove the octyloxybenzyl group. The solvent was distilled off under reduced pressure, and the resulting crude product was dissolved in 1 mL of methylene chloride, precipitated twice in 10 mL of hexane, and poly (N-H-metabenzamide) -b-polystyrene block copolymer of white powder. A coalescence was obtained (22 mg, 78% yield).
FIG. 5 shows 1 H-NMR spectra before (a), 1 day after the addition of trifluoroacetic acid (b), and 4 days after the addition (c).
As shown in FIG. 5, it can be seen that one day after the addition, peaks derived from octyloxybenzyl groups located at 4.25 to 4.85 ppm and 3.35 to 3.45 ppm disappeared. As shown in the FT-IR spectrum of FIG. 6, it was confirmed that the ester and amide in the polymer main chain remained.
From this result, it was shown that selective hydrolysis was possible and that the ester bond in the main chain was excellent in stability.

Claims (7)

式(1)
Figure 2011225765
(式中、Rは、炭素数1〜10のアルキル基を、R′は、水酸基の保護基を示す。)
で示される化合物をイニシエータとし、塩基の存在下、式(2)
Figure 2011225765
(式中、R1は、炭素数8〜12のアルキル基または置換基を有していてもよいベンジル基を、R2は、炭素数1〜10のアルキル基を示す。)
で示される化合物を連鎖重縮合させて式(3)
Figure 2011225765
(式中、R′、R1およびR2は前記と同じ。nは2以上の整数を示す。)
で示されるポリベンズアミド誘導体(A)を得、続いて、前記保護基R′を脱保護して得られた生成物を、式(4)
Figure 2011225765
(式中、X1およびX2は、互いに独立して、ハロゲン原子を表す。)
で示される酸ハロゲン化物と反応させて、式(5)
Figure 2011225765
(式中、R1、R2、X1およびnは前記と同じ。)
で示されるポリベンズアミド誘導体(B)を得、このポリベンズアミド誘導体(B)をマクロイニシエータとし、金属触媒の存在下、スチレンを原子移動ラジカル重合させることを特徴とする、式(6)
Figure 2011225765
(式中、R1、R2、およびnは前記と同じ。mは、2以上の整数を示す。)
で示されるポリベンズアミド−b−ポリスチレンブロック共重合体の製造方法。
Formula (1)
Figure 2011225765
(In the formula, R represents an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, and R ′ represents a hydroxyl-protecting group.)
And a compound represented by formula (2) in the presence of a base.
Figure 2011225765
(In the formula, R 1 represents an alkyl group having 8 to 12 carbon atoms or a benzyl group optionally having a substituent, and R 2 represents an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms.)
A compound represented by formula (3) is subjected to chain polycondensation.
Figure 2011225765
(In the formula, R ′, R 1 and R 2 are the same as described above. N represents an integer of 2 or more.)
A polybenzamide derivative (A) represented by formula (4) is obtained, and then the product obtained by deprotecting the protecting group R ′ is represented by the formula (4)
Figure 2011225765
(In the formula, X 1 and X 2 each independently represent a halogen atom.)
Is reacted with an acid halide represented by the formula (5)
Figure 2011225765
(Wherein R 1 , R 2 , X 1 and n are the same as above)
A polybenzamide derivative (B) represented by formula (6) is obtained, and the polybenzamide derivative (B) is used as a macroinitiator, and styrene is atom-transferred radically polymerized in the presence of a metal catalyst.
Figure 2011225765
(In the formula, R 1 , R 2 and n are the same as described above. M represents an integer of 2 or more.)
The manufacturing method of the polybenzamide-b-polystyrene block copolymer shown by these.
式(5)
Figure 2011225765
(式中、R1、R2、X1およびnは前記と同じ。)
で示されるポリベンズアミド誘導体(B)をマクロイニシエータとし、金属触媒の存在下、スチレンを原子移動ラジカル重合させることを特徴とする、式(6)
Figure 2011225765
(式中、R1、R2、およびnは前記と同じ。mは、2以上の整数を示す。)
で示されるポリベンズアミド−b−ポリスチレンブロック共重合体の製造方法。
Formula (5)
Figure 2011225765
(Wherein R 1 , R 2 , X 1 and n are the same as above)
A polybenzamide derivative (B) represented by the formula (6) is used as a macroinitiator, and styrene is atom transfer radical polymerized in the presence of a metal catalyst.
Figure 2011225765
(In the formula, R 1 , R 2 and n are the same as described above. M represents an integer of 2 or more.)
The manufacturing method of the polybenzamide-b-polystyrene block copolymer shown by these.
前記R2が、メチル基またはエチル基である請求項1または2記載のポリベンズアミド−b−ポリスチレンブロック共重合体の製造方法。 The method for producing a polybenzamide-b-polystyrene block copolymer according to claim 1 or 2, wherein R 2 is a methyl group or an ethyl group. 前記X1が、臭素原子である請求項1〜3のいずれか1項記載のポリベンズアミド−b−ポリスチレンブロック共重合体の製造方法。 Wherein X 1 is, the production method of the poly benzamide -b- polystyrene block copolymer according to any one of claims 1 to 3 is a bromine atom. 前記金属触媒が、銅触媒である請求項1〜4のいずれか1項記載のポリベンズアミド−b−ポリスチレンブロック共重合体の製造方法。   The method for producing a polybenzamide-b-polystyrene block copolymer according to any one of claims 1 to 4, wherein the metal catalyst is a copper catalyst. 前記式(2)で示される化合物が、式(2a)または(2b)で示される請求項1記載のポリベンズアミド−b−ポリスチレンブロック共重合体の製造方法。
Figure 2011225765
(式中、R1およびR2は前記と同じ。)
The method for producing a polybenzamide-b-polystyrene block copolymer according to claim 1, wherein the compound represented by the formula (2) is represented by the formula (2a) or (2b).
Figure 2011225765
(In the formula, R 1 and R 2 are the same as above.)
前記R′が、トリアルキルシリル基である請求項1記載のポリベンズアミド−b−ポリスチレンブロック共重合体の製造方法。   The method for producing a polybenzamide-b-polystyrene block copolymer according to claim 1, wherein R 'is a trialkylsilyl group.
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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN109337045A (en) * 2018-09-19 2019-02-15 长春永固科技有限公司 A kind of resting form light-sensitive microcapsule epoxy hardener and preparation method thereof
JP7425570B2 (en) 2018-09-24 2024-01-31 インフィニューム インターナショナル リミテッド How to produce polymers

Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2004300411A (en) * 2003-03-14 2004-10-28 Mitsui Chemicals Inc Polyolefin chain-containing block polymer
JP2005314478A (en) * 2004-04-27 2005-11-10 Univ Kanagawa Method for producing aromatic polyamide
JP2009161724A (en) * 2007-12-10 2009-07-23 Takashi Sawaguchi Oligoolefin halogenated at both ends and triblock copolymer produced from the same

Patent Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2004300411A (en) * 2003-03-14 2004-10-28 Mitsui Chemicals Inc Polyolefin chain-containing block polymer
JP2005314478A (en) * 2004-04-27 2005-11-10 Univ Kanagawa Method for producing aromatic polyamide
JP2009161724A (en) * 2007-12-10 2009-07-23 Takashi Sawaguchi Oligoolefin halogenated at both ends and triblock copolymer produced from the same

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN109337045A (en) * 2018-09-19 2019-02-15 长春永固科技有限公司 A kind of resting form light-sensitive microcapsule epoxy hardener and preparation method thereof
JP7425570B2 (en) 2018-09-24 2024-01-31 インフィニューム インターナショナル リミテッド How to produce polymers

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