JP2011222923A - 無焼結mimキャパシタ及びその製造方法 - Google Patents
無焼結mimキャパシタ及びその製造方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2011222923A JP2011222923A JP2010107389A JP2010107389A JP2011222923A JP 2011222923 A JP2011222923 A JP 2011222923A JP 2010107389 A JP2010107389 A JP 2010107389A JP 2010107389 A JP2010107389 A JP 2010107389A JP 2011222923 A JP2011222923 A JP 2011222923A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- powder
- ceramic
- mim capacitor
- average particle
- polymer
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 239000003990 capacitor Substances 0.000 title claims abstract description 90
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims abstract description 46
- 239000000843 powder Substances 0.000 claims abstract description 238
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 claims abstract description 135
- 239000002245 particle Substances 0.000 claims abstract description 87
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims abstract description 69
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 claims abstract description 51
- 239000002952 polymeric resin Substances 0.000 claims abstract description 51
- 229920003002 synthetic resin Polymers 0.000 claims abstract description 51
- 239000012212 insulator Substances 0.000 claims abstract description 49
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims abstract description 48
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims abstract description 48
- 238000000034 method Methods 0.000 claims abstract description 40
- 239000002904 solvent Substances 0.000 claims abstract description 18
- 238000005245 sintering Methods 0.000 claims abstract description 14
- 229920006254 polymer film Polymers 0.000 claims description 21
- 229920005989 resin Polymers 0.000 claims description 11
- 239000011347 resin Substances 0.000 claims description 11
- 239000002270 dispersing agent Substances 0.000 claims description 8
- 238000007641 inkjet printing Methods 0.000 claims description 5
- 229920001187 thermosetting polymer Polymers 0.000 claims description 5
- 239000003945 anionic surfactant Substances 0.000 claims description 4
- 239000003093 cationic surfactant Substances 0.000 claims description 4
- 239000002736 nonionic surfactant Substances 0.000 claims description 4
- KBPLFHHGFOOTCA-UHFFFAOYSA-N 1-Octanol Chemical compound CCCCCCCCO KBPLFHHGFOOTCA-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 229920000058 polyacrylate Polymers 0.000 claims description 3
- BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N Silver Chemical compound [Ag] BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 2
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 239000004332 silver Substances 0.000 claims description 2
- 229920005597 polymer membrane Polymers 0.000 abstract 2
- 238000012856 packing Methods 0.000 description 15
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 4
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 4
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 3
- CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N Acetone Chemical compound CC(C)=O CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ZHNUHDYFZUAESO-UHFFFAOYSA-N Formamide Chemical compound NC=O ZHNUHDYFZUAESO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 2
- 238000005470 impregnation Methods 0.000 description 2
- 238000003475 lamination Methods 0.000 description 2
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 2
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KXGFMDJXCMQABM-UHFFFAOYSA-N 2-methoxy-6-methylphenol Chemical compound [CH]OC1=CC=CC([CH])=C1O KXGFMDJXCMQABM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004925 Acrylic resin Substances 0.000 description 1
- 239000011230 binding agent Substances 0.000 description 1
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 1
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 1
- 239000002131 composite material Substances 0.000 description 1
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 1
- 239000003822 epoxy resin Substances 0.000 description 1
- 230000001747 exhibiting effect Effects 0.000 description 1
- 238000011049 filling Methods 0.000 description 1
- 230000001771 impaired effect Effects 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 229920001568 phenolic resin Polymers 0.000 description 1
- 239000005011 phenolic resin Substances 0.000 description 1
- 229920006122 polyamide resin Polymers 0.000 description 1
- 229920000647 polyepoxide Polymers 0.000 description 1
- 229920001721 polyimide Polymers 0.000 description 1
- 239000009719 polyimide resin Substances 0.000 description 1
- 238000003860 storage Methods 0.000 description 1
- 229920006337 unsaturated polyester resin Polymers 0.000 description 1
- 239000011800 void material Substances 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C04—CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
- C04B—LIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
- C04B35/00—Shaped ceramic products characterised by their composition; Ceramics compositions; Processing powders of inorganic compounds preparatory to the manufacturing of ceramic products
- C04B35/622—Forming processes; Processing powders of inorganic compounds preparatory to the manufacturing of ceramic products
- C04B35/626—Preparing or treating the powders individually or as batches ; preparing or treating macroscopic reinforcing agents for ceramic products, e.g. fibres; mechanical aspects section B
- C04B35/62605—Treating the starting powders individually or as mixtures
- C04B35/6269—Curing of mixtures
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B82—NANOTECHNOLOGY
- B82Y—SPECIFIC USES OR APPLICATIONS OF NANOSTRUCTURES; MEASUREMENT OR ANALYSIS OF NANOSTRUCTURES; MANUFACTURE OR TREATMENT OF NANOSTRUCTURES
- B82Y30/00—Nanotechnology for materials or surface science, e.g. nanocomposites
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C04—CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
- C04B—LIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
- C04B35/00—Shaped ceramic products characterised by their composition; Ceramics compositions; Processing powders of inorganic compounds preparatory to the manufacturing of ceramic products
- C04B35/01—Shaped ceramic products characterised by their composition; Ceramics compositions; Processing powders of inorganic compounds preparatory to the manufacturing of ceramic products based on oxide ceramics
- C04B35/46—Shaped ceramic products characterised by their composition; Ceramics compositions; Processing powders of inorganic compounds preparatory to the manufacturing of ceramic products based on oxide ceramics based on titanium oxides or titanates
- C04B35/462—Shaped ceramic products characterised by their composition; Ceramics compositions; Processing powders of inorganic compounds preparatory to the manufacturing of ceramic products based on oxide ceramics based on titanium oxides or titanates based on titanates
- C04B35/465—Shaped ceramic products characterised by their composition; Ceramics compositions; Processing powders of inorganic compounds preparatory to the manufacturing of ceramic products based on oxide ceramics based on titanium oxides or titanates based on titanates based on alkaline earth metal titanates
- C04B35/468—Shaped ceramic products characterised by their composition; Ceramics compositions; Processing powders of inorganic compounds preparatory to the manufacturing of ceramic products based on oxide ceramics based on titanium oxides or titanates based on titanates based on alkaline earth metal titanates based on barium titanates
- C04B35/4682—Shaped ceramic products characterised by their composition; Ceramics compositions; Processing powders of inorganic compounds preparatory to the manufacturing of ceramic products based on oxide ceramics based on titanium oxides or titanates based on titanates based on alkaline earth metal titanates based on barium titanates based on BaTiO3 perovskite phase
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C04—CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
- C04B—LIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
- C04B35/00—Shaped ceramic products characterised by their composition; Ceramics compositions; Processing powders of inorganic compounds preparatory to the manufacturing of ceramic products
- C04B35/622—Forming processes; Processing powders of inorganic compounds preparatory to the manufacturing of ceramic products
- C04B35/62222—Forming processes; Processing powders of inorganic compounds preparatory to the manufacturing of ceramic products obtaining ceramic coatings
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C04—CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
- C04B—LIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
- C04B2235/00—Aspects relating to ceramic starting mixtures or sintered ceramic products
- C04B2235/02—Composition of constituents of the starting material or of secondary phases of the final product
- C04B2235/30—Constituents and secondary phases not being of a fibrous nature
- C04B2235/32—Metal oxides, mixed metal oxides, or oxide-forming salts thereof, e.g. carbonates, nitrates, (oxy)hydroxides, chlorides
- C04B2235/3231—Refractory metal oxides, their mixed metal oxides, or oxide-forming salts thereof
- C04B2235/3232—Titanium oxides or titanates, e.g. rutile or anatase
- C04B2235/3234—Titanates, not containing zirconia
- C04B2235/3236—Alkaline earth titanates
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C04—CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
- C04B—LIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
- C04B2235/00—Aspects relating to ceramic starting mixtures or sintered ceramic products
- C04B2235/02—Composition of constituents of the starting material or of secondary phases of the final product
- C04B2235/50—Constituents or additives of the starting mixture chosen for their shape or used because of their shape or their physical appearance
- C04B2235/54—Particle size related information
- C04B2235/5418—Particle size related information expressed by the size of the particles or aggregates thereof
- C04B2235/5445—Particle size related information expressed by the size of the particles or aggregates thereof submicron sized, i.e. from 0,1 to 1 micron
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C04—CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
- C04B—LIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
- C04B2235/00—Aspects relating to ceramic starting mixtures or sintered ceramic products
- C04B2235/02—Composition of constituents of the starting material or of secondary phases of the final product
- C04B2235/50—Constituents or additives of the starting mixture chosen for their shape or used because of their shape or their physical appearance
- C04B2235/54—Particle size related information
- C04B2235/5418—Particle size related information expressed by the size of the particles or aggregates thereof
- C04B2235/5454—Particle size related information expressed by the size of the particles or aggregates thereof nanometer sized, i.e. below 100 nm
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C04—CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
- C04B—LIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
- C04B2235/00—Aspects relating to ceramic starting mixtures or sintered ceramic products
- C04B2235/02—Composition of constituents of the starting material or of secondary phases of the final product
- C04B2235/50—Constituents or additives of the starting mixture chosen for their shape or used because of their shape or their physical appearance
- C04B2235/54—Particle size related information
- C04B2235/5463—Particle size distributions
- C04B2235/5472—Bimodal, multi-modal or multi-fraction
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L28/00—Passive two-terminal components without a potential-jump or surface barrier for integrated circuits; Details thereof; Multistep manufacturing processes therefor
- H01L28/40—Capacitors
Abstract
【解決手段】本発明に係るMIMキャパシタ製造方法は、下部金属―絶縁体―上部金属を製造し、前記絶縁体は、スモールパウダーと、前記スモールパウダーより大きい平均粒径を有するラージパウダーとを含む高誘電性セラミックパウダー、高分子樹脂及び溶媒を含むセラミック―高分子組成物を用意し、前記セラミック―高分子組成物を前記下部金属上に塗布してセラミック―高分子膜を形成し、前記形成されたセラミック―高分子膜内の高分子樹脂を硬化させることを含んで無焼結方式で形成されることを特徴とする。
【選択図】図1
Description
MIMキャパシタの性能が優秀であるためには、金属と絶縁体との界面で電荷の貯蔵能力が優秀でなければならず、このためには、絶縁体の誘電率が高くなければならない。
MIMキャパシタにおける従来の絶縁体形成方法では、高誘電性セラミック粉末及び有機無機バインダーを含むペーストを用いて金属上に又は各金属間に膜を形成し、焼結過程を経る(例えば、特許文献1を参照)。
しかしながら、従来の方法は、焼結が必須であるので、MIMキャパシタの製造時、焼結工程のために基本的に高価な製造費用がかかり、体積収縮の問題及びセラミック固有の脆性問題を有する。
以下、添付の図面を参照して本発明に係る無焼結MIMキャパシタ及びその製造方法について詳細に説明する。
高分子樹脂は、高誘電性セラミックパウダー間の空間に含浸される。このような高分子樹脂は、高誘電性セラミックの応力を減少させ、セラミック固有の脆性を減少させる。前記高分子樹脂は、ポリアクリル系樹脂、エポキシ系樹脂、フェノール系樹脂、ポリアミド系樹脂、ポリイミド系樹脂、不飽和ポリエステル系樹脂などの多様な樹脂である。この他にも、熱硬化型樹脂又は光硬化型樹脂が制限なしに用いられる。
Claims (26)
- 下部金属―絶縁体―上部金属構造を含むMIMキャパシタ(Metal―Insulator―Metal Capacitor)の製造方法において、
前記絶縁体は、
スモールパウダーと、前記スモールパウダーより大きい平均粒径を有するラージパウダーとを含む高誘電性セラミックパウダー、高分子樹脂及び溶媒を含むセラミック―高分子組成物を用意し、
前記セラミック―高分子組成物を前記下部金属上に塗布してセラミック―高分子膜を形成し、
前記形成されたセラミック―高分子膜内の高分子樹脂を硬化させることを含んで無焼結方式で形成されることを特徴とする無焼結MIMキャパシタ製造方法。 - 下部金属―絶縁体―上部金属構造を含むMIMキャパシタの製造方法において、
前記絶縁体は、
スモールパウダーと、前記スモールパウダーより大きい平均粒径を有するラージパウダーとを含む高誘電性セラミックパウダー及び溶媒を含むセラミック組成物を用意し、
高分子樹脂及び溶媒を含む高分子組成物を用意し、
前記セラミック組成物を下部金属上に塗布してセラミック膜を形成し、
前記形成されたセラミック膜上に前記高分子組成物を塗布し、前記高分子組成物を前記セラミック内に浸透させてセラミック―高分子膜を形成し、
前記セラミック―高分子膜内の高分子樹脂を硬化させることを含んで無焼結方式で形成されることを特徴とする無焼結MIMキャパシタ製造方法。 - 下部金属―絶縁体―上部金属構造を含むMIMキャパシタの製造方法において、
前記絶縁体は、
平均粒径が400nm〜800nmである高誘電性セラミックパウダー、高分子樹脂及び溶媒を含むセラミック―高分子組成物を用意し、
前記セラミック―高分子組成物を前記下部金属上に塗布してセラミック―高分子膜を形成し、
前記形成されたセラミック―高分子膜内の高分子樹脂を硬化させることを含んで無焼結方式で形成されることを特徴とする無焼結MIMキャパシタ製造方法。 -
下部金属―絶縁体―上部金属構造を含むMIMキャパシタの製造方法において、
前記絶縁体は、
平均粒径が400〜800nmである高誘電性セラミックパウダー及び溶媒を含むセラミック組成物を用意し、
高分子樹脂及び溶媒を含む高分子組成物を用意し、
前記セラミック組成物を下部金属上に塗布してセラミック膜を形成し、
前記形成されたセラミック膜上に前記高分子組成物を塗布し、前記高分子組成物を前記セラミック内に浸透させてセラミック―高分子膜を形成し、
前記セラミック―高分子膜内の高分子樹脂を硬化させることを含んで無焼結方式で形成されることを特徴とする無焼結MIMキャパシタ製造方法。 - 前記セラミック―高分子組成物は、インクジェット印刷法で塗布されることを特徴とする、請求項1又は3に記載の無焼結MIMキャパシタ製造方法。
- 前記セラミック組成物又は前記高分子組成物は、インクジェット印刷法で塗布されることを特徴とする、請求項2又は4に記載の無焼結MIMキャパシタ製造方法。
- 前記ラージパウダーの平均粒径は、前記スモールパウダーの平均粒径の6.5倍以上であることを特徴とする、請求項1又は2に記載の無焼結MIMキャパシタ製造方法。
- 前記高誘電性セラミックパウダーは、前記スモールパウダー20〜30vol.%及び前記ラージパウダー70〜80vol.%を含むことを特徴とする、請求項1又は2に記載の無焼結MIMキャパシタ製造方法。
- 前記高誘電性セラミックパウダーは、前記スモールパウダー20〜30vol.%及び前記ラージパウダー70〜80vol.%を含み、
前記ラージパウダーの平均粒径は、前記スモールパウダーの平均粒径の6.5倍以上であることを特徴とする、請求項1又は2に記載の無焼結MIMキャパシタ製造方法。 - 前記ラージパウダーの平均粒径は490〜510nmで、前記スモールパウダーの平均粒径は25〜35nmであることを特徴とする、請求項9に記載の無焼結MIMキャパシタ製造方法。
- 前記高誘電性セラミックパウダーはBaTiO3であることを特徴とする、請求項1から4のうち何れか1項に記載の無焼結MIMキャパシタ製造方法。
- 前記高分子樹脂の含量は、前記高誘電性セラミックパウダー100重量部に対して10〜150重量部であることを特徴とする、請求項1から4のうち何れか1項に記載の無焼結MIMキャパシタ製造方法。
- 前記高分子樹脂は、熱硬化型樹脂又は光硬化型樹脂であることを特徴とする、請求項1から4のうち何れか1項に記載の無焼結MIMキャパシタ製造方法。
- 前記セラミック―高分子組成物は、非イオン界面活性剤、陽イオン界面活性剤、陰イオン界面活性剤、オクチルアルコール及びアクリル系高分子のうち一つ以上を含む分散剤をさらに含むことを特徴とする、請求項1又は3に記載の無焼結MIMキャパシタ製造方法。
- 前記分散剤は、前記セラミック―高分子組成物100重量部に対して5重量部以下の含量比で添加されることを特徴とする、請求項14に記載の無焼結MIMキャパシタ製造方法。
- 前記セラミック組成物又は高分子組成物は、非イオン界面活性剤、陽イオン界面活性剤、陰イオン界面活性剤、オクチルアルコール及びアクリル系高分子のうち一つ以上を含む分散剤をさらに含むことを特徴とする、請求項2又は4に記載の無焼結MIMキャパシタ製造方法。
- 下部金属―絶縁体―上部金属構造を含むMIMキャパシタにおいて、
前記絶縁体は、高分子樹脂が含浸された高誘電性セラミックパウダーで形成され、
前記高誘電性セラミックパウダーは、スモールパウダーと、前記スモールパウダーより大きい平均粒径を有するラージパウダーとを含むことを特徴とする無焼結MIMキャパシタ。 - 下部金属―絶縁体―上部金属構造を含むMIMキャパシタにおいて、
前記絶縁体は、高分子樹脂が含浸された高誘電性セラミックパウダーで形成され、
前記高誘電性セラミックパウダーの平均粒径は400nm〜800nmであることを特徴とする無焼結MIMキャパシタ。 - 前記高誘電性セラミックパウダーはBaTiO3であることを特徴とする、請求項17又は18に記載の無焼結MIMキャパシタ。
- 前記ラージパウダーの平均粒径は、前記スモールパウダーの平均粒径の6.5倍以上であることを特徴とする、請求項17に記載の無焼結MIMキャパシタ。
- 前記高誘電性セラミックパウダーは、前記スモールパウダー20〜30vol.%及び前記ラージパウダー70〜80vol.%を含むことを特徴とする、請求項17に記載の無焼結MIMキャパシタ。
- 前記高誘電性セラミックパウダーは、前記スモールパウダー20〜30vol.%及び前記ラージパウダー70〜80vol.%を含み、
前記ラージパウダーの平均粒径は、前記スモールパウダーの平均粒径の6.5倍以上であることを特徴とする、請求項17に記載の無焼結MIMキャパシタ。 - 前記ラージパウダーの平均粒径は490〜510nmで、前記スモールパウダーの平均粒径は25〜35nmであることを特徴とする、請求項22に記載の無焼結MIMキャパシタ。
- 前記高分子樹脂は、前記高誘電性セラミックパウダー100重量部に対して10〜150重量部の含量比で含まれることを特徴とする、請求項17又は18に記載の無焼結MIMキャパシタ。
- 前記高分子樹脂は、熱硬化型樹脂又は光硬化型樹脂であることを特徴とする、請求項17又は18に記載の無焼結MIMキャパシタ。
- 前記下部金属及び上部金属は銀(Ag)で形成されることを特徴とする、請求項17又は18に記載の無焼結MIMキャパシタ。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR1020100031580A KR101101347B1 (ko) | 2010-04-06 | 2010-04-06 | 무소결 mim 커패시터 및 그 제조 방법 |
KR10-2010-0031580 | 2010-04-06 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2011222923A true JP2011222923A (ja) | 2011-11-04 |
JP5357827B2 JP5357827B2 (ja) | 2013-12-04 |
Family
ID=44710317
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2010107389A Expired - Fee Related JP5357827B2 (ja) | 2010-04-06 | 2010-05-07 | 無焼結mimキャパシタ及びその製造方法 |
Country Status (4)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US20110245064A1 (ja) |
JP (1) | JP5357827B2 (ja) |
KR (1) | KR101101347B1 (ja) |
WO (1) | WO2011126169A1 (ja) |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN106024388A (zh) * | 2016-07-28 | 2016-10-12 | 南京理工大学 | 一种聚合物薄膜电容制备方法 |
Citations (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH07335488A (ja) * | 1994-06-07 | 1995-12-22 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 厚膜形容量素子の製造方法 |
JP2001233669A (ja) * | 2000-02-24 | 2001-08-28 | Ngk Spark Plug Co Ltd | 高誘電率複合材料及びそれを用いたプリント配線板並びに多層プリント配線板 |
JP2004031748A (ja) * | 2002-06-27 | 2004-01-29 | Nec Tokin Corp | 誘電体シート |
WO2004102589A1 (ja) * | 2003-05-19 | 2004-11-25 | Hitachi Chemical Co., Ltd. | 絶縁材料、フィルム、回路基板及びこれらの製造方法 |
JP2005145761A (ja) * | 2003-11-17 | 2005-06-09 | Tdk Corp | 電子部品、誘電体磁器組成物およびその製造方法 |
JP2005154255A (ja) * | 2003-08-18 | 2005-06-16 | Korea Advanced Inst Of Sci Technol | 内蔵型キャパシター用ポリマー/セラミック複合ペースト及びこれを利用したキャパシターの製造方法{Polymer/ceramiccompositepasteforembeddedcapacitorandmethodforfabricatingcapacitorusingthesame} |
JP2007005531A (ja) * | 2005-06-23 | 2007-01-11 | Murata Mfg Co Ltd | 複合成形体、その製造方法及びフィルムコンデンサ |
JP2008277734A (ja) * | 2007-04-25 | 2008-11-13 | Ind Technol Res Inst | コンデンサ装置 |
JP2009532521A (ja) * | 2006-03-31 | 2009-09-10 | イー・アイ・デュポン・ドウ・ヌムール・アンド・カンパニー | 高周波数回路用途において有用なポリイミド系組成物を調製する方法 |
Family Cites Families (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5849396A (en) * | 1995-09-13 | 1998-12-15 | Hughes Electronics Corporation | Multilayer electronic structure and its preparation |
US6819540B2 (en) * | 2001-11-26 | 2004-11-16 | Shipley Company, L.L.C. | Dielectric structure |
JP2004285105A (ja) * | 2003-03-19 | 2004-10-14 | Fujikura Ltd | 高誘電率樹脂混合物 |
JP3680854B2 (ja) * | 2003-04-04 | 2005-08-10 | 東レ株式会社 | ペースト組成物およびこれを用いた誘電体組成物 |
US7270765B2 (en) * | 2004-06-14 | 2007-09-18 | Asahi Glass Company, Limited | Composition for forming dielectric layer, MIM capacitor and process for its production |
JP2006005296A (ja) * | 2004-06-21 | 2006-01-05 | Asahi Glass Co Ltd | Mimキャパシタ及びその製造方法 |
US7824602B2 (en) * | 2006-03-31 | 2010-11-02 | Massachusetts Institute Of Technology | Ceramic processing and shaped ceramic bodies |
US8192508B2 (en) * | 2009-12-02 | 2012-06-05 | Korea Institute Of Science And Technology | High dielectric constant ceramic-polymer composites, embedded capacitors using the same, and fabrication method thereof |
-
2010
- 2010-04-06 KR KR1020100031580A patent/KR101101347B1/ko not_active IP Right Cessation
- 2010-04-13 WO PCT/KR2010/002275 patent/WO2011126169A1/ko active Application Filing
- 2010-05-07 JP JP2010107389A patent/JP5357827B2/ja not_active Expired - Fee Related
- 2010-05-10 US US12/776,854 patent/US20110245064A1/en not_active Abandoned
Patent Citations (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH07335488A (ja) * | 1994-06-07 | 1995-12-22 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 厚膜形容量素子の製造方法 |
JP2001233669A (ja) * | 2000-02-24 | 2001-08-28 | Ngk Spark Plug Co Ltd | 高誘電率複合材料及びそれを用いたプリント配線板並びに多層プリント配線板 |
JP2004031748A (ja) * | 2002-06-27 | 2004-01-29 | Nec Tokin Corp | 誘電体シート |
WO2004102589A1 (ja) * | 2003-05-19 | 2004-11-25 | Hitachi Chemical Co., Ltd. | 絶縁材料、フィルム、回路基板及びこれらの製造方法 |
JP2005154255A (ja) * | 2003-08-18 | 2005-06-16 | Korea Advanced Inst Of Sci Technol | 内蔵型キャパシター用ポリマー/セラミック複合ペースト及びこれを利用したキャパシターの製造方法{Polymer/ceramiccompositepasteforembeddedcapacitorandmethodforfabricatingcapacitorusingthesame} |
JP2005145761A (ja) * | 2003-11-17 | 2005-06-09 | Tdk Corp | 電子部品、誘電体磁器組成物およびその製造方法 |
JP2007005531A (ja) * | 2005-06-23 | 2007-01-11 | Murata Mfg Co Ltd | 複合成形体、その製造方法及びフィルムコンデンサ |
JP2009532521A (ja) * | 2006-03-31 | 2009-09-10 | イー・アイ・デュポン・ドウ・ヌムール・アンド・カンパニー | 高周波数回路用途において有用なポリイミド系組成物を調製する方法 |
JP2008277734A (ja) * | 2007-04-25 | 2008-11-13 | Ind Technol Res Inst | コンデンサ装置 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP5357827B2 (ja) | 2013-12-04 |
WO2011126169A1 (ko) | 2011-10-13 |
KR20110112141A (ko) | 2011-10-12 |
US20110245064A1 (en) | 2011-10-06 |
KR101101347B1 (ko) | 2012-01-02 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
CN101189686B (zh) | 电绝缘材料,电力设备和生产电绝缘材料的方法 | |
JP2015084010A5 (ja) | ||
US20120140375A1 (en) | Conductive paste for inner electrode and multilayer ceramic electronic component having the same | |
CN103358631B (zh) | 一种埋容材料用介质层、埋容材料、制备方法及其用途 | |
US11891338B2 (en) | Ceramic composite material | |
JP7304543B2 (ja) | 電解コンデンサおよびその製造方法 | |
US20190382627A1 (en) | Electrically conductive particle and manufacturing method thereof, and electrically conductive adhesive and manufacturing method thereof | |
KR101891141B1 (ko) | 그래핀 외부전극 구조의 적층형 세라믹 콘덴서 | |
CN104292764A (zh) | 一种用于高储能电容器的复合介电材料及其制备方法 | |
JP5357827B2 (ja) | 無焼結mimキャパシタ及びその製造方法 | |
CN110076946A (zh) | 三层结构树脂基复合材料用前驱体及其制备方法 | |
TWI431650B (zh) | 固態電解電容器的製作方法及其固態電解電容器 | |
CN103618396A (zh) | 低压高效电机高导热绝缘结构及其制作方法 | |
CN105228344B (zh) | 一种埋入式电容的制备方法 | |
JP2010260990A (ja) | プリプレグ及びその製造方法とこれを用いたプリント配線板 | |
KR102277768B1 (ko) | 복합재의 제조 방법 및 복합재 | |
WO2012128139A1 (ja) | 銅配線の形成方法、配線基板の製造方法及び配線基板 | |
CN107538661B (zh) | 四层结构树脂基复合材料及其制备方法 | |
WO2020137330A1 (ja) | 銀ペースト | |
JP2009289839A (ja) | 静電気対策材料及びその製造方法,静電気対策部品 | |
CN113787795A (zh) | 一种三明治结构聚吡咯/聚偏氟乙烯复合薄膜及其制备方法 | |
JP4281489B2 (ja) | 積層セラミック電子部品の製造方法 | |
JP2003297146A (ja) | 導電性ペースト、およびそれを用いた積層セラミック電子部品 | |
JP2007005531A (ja) | 複合成形体、その製造方法及びフィルムコンデンサ | |
WO2023120309A1 (ja) | 電解コンデンサの製造方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20120628 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20120724 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20121024 |
|
A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20130108 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20130508 |
|
A711 | Notification of change in applicant |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A711 Effective date: 20130620 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A821 Effective date: 20130620 |
|
A911 | Transfer to examiner for re-examination before appeal (zenchi) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A911 Effective date: 20130711 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20130813 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20130830 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |