JP2011216468A - Electrode, and organic electroluminescent element - Google Patents

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Satomi Kawabe
里美 川邉
Kazuaki Nakamura
和明 中村
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an electrode having little variation in transmittance even after an environment testing under a high temperature-high humidity environment and excellent in a plane stability, and to provide an organic electroluminescent element excellent in a temporal stability in which the electrode is used.SOLUTION: In the electrode having a conductive metal layer containing a metal fiber on a substrate and a conductive polymer layer, the conductive metal layer contains an antioxidant and moreover the conductive polymer layer contains as a binder resin a polymer (A) containing at least either of a polymer having a structural unit represented by general formula (I) or a co-polymer having a structural unit represented by general formula (I) and general formula (II). The organic electroluminescent element includes this electrode.

Description

本発明は、酸化防止剤を電極に含有させた場合、高温高湿環境下における環境試験後でも高い平面性を有し、透明性に優れた電極、および該電極を用いた経時安定性に優れた有機エレクトロルミネッセンス素子に関するものである。   The present invention, when an antioxidant is contained in an electrode, has high planarity even after an environmental test under a high temperature and high humidity environment, an electrode having excellent transparency, and excellent temporal stability using the electrode. The present invention relates to an organic electroluminescence element.

近年、薄型TV需要の高まりに伴い、液晶・プラズマ・有機エレクトロルミネッセンス・フィールドエミッション等、各種方式のディスプレイ技術が開発されている。これら表示方式の異なる何れのディスプレイにおいても、透明電極は必須の構成技術となっている。また、テレビ以外でも、タッチパネルや携帯電話、電子ペーパー、各種太陽電池、各種エレクトロルミネッセンス調光素子においても、透明電極は欠くことのできない技術要素となっている。   In recent years, various types of display technologies such as liquid crystal, plasma, organic electroluminescence, and field emission have been developed in response to the increasing demand for thin TVs. In any of these displays with different display methods, the transparent electrode is an essential constituent technology. In addition to televisions, transparent electrodes are an indispensable technical element in touch panels, mobile phones, electronic paper, various solar cells, and various electroluminescence light control elements.

従来透明電極は、ガラスや透明なプラスチックフィルム等の透明基板上に、インジウム−スズの複合酸化物(ITO)膜を真空蒸着法やスパッタリング法で製膜したITO透明電極が主に使用されてきた。しかし、ITOに用いられているインジウムはレアメタルであり、且つ価格の高騰により、脱インジウムが望まれている。また、ディスプレイの大画面化、生産性向上に伴い、フレキシブル基板を用いたロールtoロールが所望されている。   Conventionally, an ITO transparent electrode in which an indium-tin composite oxide (ITO) film is formed on a transparent substrate such as glass or a transparent plastic film by a vacuum deposition method or a sputtering method has been mainly used. . However, indium used in ITO is a rare metal and removal of indium is desired due to the rising price. In addition, roll-to-roll using a flexible substrate has been desired along with an increase in display screen and productivity.

さらにエレクトロルミネッセンス素子用や有機薄膜太陽電池用の電極には、表面が平滑な電極が必要とされている。例えば、有機エレクトロルミネッセンス素子用の電極の場合、その上に有機化合物の超薄膜を形成するため、透明電極には優れた表面平滑性が要求される。有機エレクトロルミネッセンス素子では、陽極の表面高低差(表面凹凸)が大きいと、その凸部(突起)に電界が集中してEL素子が破壊されたり、陽極の上に形成する有機化合物の超薄膜層の膜厚ムラが発生し、発光が不均一になる課題がある。   Furthermore, electrodes having a smooth surface are required for electrodes for electroluminescence elements and organic thin film solar cells. For example, in the case of an electrode for an organic electroluminescence element, an ultra-thin film of an organic compound is formed on the electrode, so that an excellent surface smoothness is required for the transparent electrode. In organic electroluminescence elements, if the surface height difference (surface irregularities) of the anode is large, the electric field concentrates on the protrusions (protrusions) and the EL element is destroyed, or the organic compound ultra-thin layer formed on the anode There is a problem that non-uniform light emission occurs.

このように、フレキシブル性をもつ電極の要望に対して、例えば、銀ナノワイヤをフレキシブルな透明基板上に塗布した透明電極が開示されている(例えば、特許文献1参照)。   Thus, for the demand for an electrode having flexibility, for example, a transparent electrode in which silver nanowires are coated on a flexible transparent substrate has been disclosed (for example, see Patent Document 1).

銀は本来高い導電率を持つため、銀ナノワイヤや銀塩乳剤を使用した場合、良好な導電性と透明性を両立することができる。   Since silver inherently has high conductivity, when silver nanowires or silver salt emulsions are used, both good conductivity and transparency can be achieved.

しかしながら、銀は、大気中の酸素、水分、硫化ガスなどにより、導電性、透明性の低下をきたすという課題や、高温高湿下で保存した場合、銀表面が腐食されるため平面性が劣化するという課題を有している。このような課題に対して、芳香族トリアゾールや、ジチオジアゾールを樹脂に混ぜて被覆するなどの方法が提案されている(例えば、特許文献1参照)。しかしながら、この方法は、硫化ガスを起因とする導電性、透明性の低下に対しては効果があるものの、高温高湿下で保存時の透明性低下、平面性劣化、素子化した時の発光均一性の課題に対しては十分とはいえない。   However, silver suffers from problems such as reduced conductivity and transparency due to oxygen, moisture, sulfide gas, etc. in the atmosphere, and when stored under high temperature and high humidity, the silver surface is corroded and the flatness deteriorates. Have the problem of doing. In order to deal with such problems, a method has been proposed in which aromatic triazole or dithiodiazole is mixed with a resin and coated (for example, see Patent Document 1). However, this method is effective for lowering the conductivity and transparency caused by sulfide gas, but the transparency during storage at high temperature and high humidity, deterioration in flatness, and light emission when it is made into a device. It is not enough for the problem of uniformity.

一方、銀塩乳剤を含む乳剤層を現像処理、めっき処理を施すことで導電性膜を形成する製造方法が開示されており、乳剤層に還元電位を規定した酸化防止剤を添加する方法が提案されている。(例えば、特許文献2参照)。また、銀を含む銅合金粉末に、酸化防止剤を添加する方法が開示されている。(例えば、特許文献3参照)。しかしながら、導電性金属繊維層については検討されておらず、銀塩乳剤を含む乳剤層に酸化防止剤を添加する構成、銀を含む銅合金粉末に酸化防止剤を添加する構成では、高温高湿下で保存時の透明性低下、平面性劣化の課題、素子化した時の発光均一性の課題に対しては十分とはいえない。   On the other hand, a manufacturing method for forming a conductive film by developing and plating an emulsion layer containing a silver salt emulsion has been disclosed, and a method of adding an antioxidant that defines a reduction potential to the emulsion layer is proposed. Has been. (For example, refer to Patent Document 2). Moreover, the method of adding antioxidant to the copper alloy powder containing silver is disclosed. (For example, refer to Patent Document 3). However, the conductive metal fiber layer has not been studied, and the structure in which an antioxidant is added to an emulsion layer containing a silver salt emulsion or the structure in which an antioxidant is added to a copper alloy powder containing silver has a high temperature and high humidity. It cannot be said that it is sufficient for the problems of transparency decrease during storage, deterioration of flatness, and the problem of light emission uniformity when a device is formed.

特表2009−505358号公報Special table 2009-505358 特開2006−228469号公報JP 2006-228469 A 特開平10−162647号公報JP-A-10-162647

本発明は、上記課題に鑑みなされたものであり、本発明の目的は、高温高湿環境下における環境試験後でも透過率の変動が少なく、更に平面安定性に優れた電極を提供することにある。また、該電極を用いた経時安定性に優れた有機エレクトロルミネッセンス素子を提供することにある。   The present invention has been made in view of the above problems, and an object of the present invention is to provide an electrode that has little variation in transmittance even after an environmental test in a high-temperature and high-humidity environment, and that has excellent planar stability. is there. Another object of the present invention is to provide an organic electroluminescence device having excellent temporal stability using the electrode.

本発明の上記目的は、下記の構成により達成される。   The above object of the present invention can be achieved by the following constitution.

1.基板上に金属繊維を含有する導電性金属層と、導電性ポリマー層とを有する電極において、該導電性金属層は酸化防止剤を含有し、かつ、該導電性ポリマー層は、バインダー樹脂として、下記一般式(I)で表される構造単位を有するポリマー、及び、下記一般式(I)及び下記一般式(II)で表される構造単位を有するコポリマーの少なくとも何れかを有するポリマー(A)を含有することを特徴とする電極。   1. In an electrode having a conductive metal layer containing metal fibers on a substrate and a conductive polymer layer, the conductive metal layer contains an antioxidant, and the conductive polymer layer is used as a binder resin. Polymer (A) having at least one of a polymer having a structural unit represented by the following general formula (I) and a copolymer having a structural unit represented by the following general formula (I) and the following general formula (II) An electrode comprising:

Figure 2011216468
Figure 2011216468

〔式中、Rは水素原子、メチル基を表し、Qは−C(=O)O−、−C(=O)NRa−を表す。Raは水素原子、アルキル基を表し、Aは置換或いは無置換アルキレン基、−(CHCHRbO)−(CHCHRb)−を表し、Rbは水素原子、アルキル基を表す。xは平均繰り返しユニット数で1〜100の数である。yは0、1を表す。Zはアルキル基、−C(=O)−Rc、−SO−Rd、−SiReを表す。Rc、Rd、Reはアルキル基、パーフルオロアルキル基、又は、アリール基を表す。〕
2.前記導電性ポリマー層が、前記導電性金属層の上に設置されていることを特徴とする前記1に記載の電極。
[Wherein, R represents a hydrogen atom or a methyl group, and Q represents —C (═O) O— or —C (═O) NRa—. Ra represents a hydrogen atom or an alkyl group, A represents a substituted or unsubstituted alkylene group, — (CH 2 CHRbO) x — (CH 2 CHRb) —, and Rb represents a hydrogen atom or an alkyl group. x is an average number of repeating units of 1 to 100. y represents 0 or 1; Z represents an alkyl group, —C (═O) —Rc, —SO 2 —Rd, —SiRe 3 . Rc, Rd, and Re represent an alkyl group, a perfluoroalkyl group, or an aryl group. ]
2. 2. The electrode according to 1 above, wherein the conductive polymer layer is disposed on the conductive metal layer.

3.前記金属繊維が、銀ナノワイヤであることを特徴とする前記1又は2に記載の電極。   3. 3. The electrode according to 1 or 2, wherein the metal fiber is a silver nanowire.

4.前記酸化防止剤が、水溶性化合物であることを特徴とする前記1〜3のいずれか1項に記載の電極。   4). 4. The electrode according to any one of 1 to 3, wherein the antioxidant is a water-soluble compound.

5.前記酸化防止剤が、フェノール系化合物であることを特徴とする前記1〜4のいずれか1項に記載の電極。   5. 5. The electrode according to any one of 1 to 4, wherein the antioxidant is a phenol compound.

6.前記酸化防止剤の添加量が、1×10−4g/m〜1g/mであることを特徴とする前記1〜5のいずれか1項に記載の電極。 6). The additive amount of the antioxidant is, 1 × 10 -4 g / m 2 ~1g / electrode according to any one of the 1 to 5, wherein the m is 2.

7.前記1〜6のいずれか1項に記載の電極を有することを特徴とする有機エレクトロルミネッセンス素子。   7). It has an electrode of any one of said 1-6, The organic electroluminescent element characterized by the above-mentioned.

本発明によれば、高温高湿環境下における環境試験後でも透過率の変動が少なく、更に平面安定性に優れた電極を提供することができる。また、該電極を用いた経時安定性に優れた有機エレクトロルミネッセンス素子を提供すること、ができる。   According to the present invention, it is possible to provide an electrode with little variation in transmittance even after an environmental test in a high-temperature and high-humidity environment, and further having excellent planar stability. Moreover, the organic electroluminescent element excellent in temporal stability using this electrode can be provided.

本発明の代表的な電極の一例を示す構造模式図である。It is a structural schematic diagram which shows an example of the typical electrode of this invention. 本発明の代表的な電極の別の一例を示す構造模式図である。It is a structural schematic diagram which shows another example of the typical electrode of this invention. 本発明の代表的な電極のさらに別の一例を示す構造模式図である。It is a structure schematic diagram which shows another example of the typical electrode of this invention. 本発明の代表的な電極のさらにまた別の一例を示す構造模式図である。It is a structural schematic diagram which shows another example of the typical electrode of this invention.

以下、本発明を実施するための形態について説明するが、本発明はこれらに限定されない。   Hereinafter, although the form for implementing this invention is demonstrated, this invention is not limited to these.

本発明は、基板上に金属繊維を含有する導電性金属層と導電性ポリマー層とを有してなる電極であって、該導電性金属層に酸化防止剤と導電性ポリマー層にバインダー樹脂として前記ポリマーAを含有することを特徴とする。   The present invention is an electrode having a conductive metal layer containing a metal fiber and a conductive polymer layer on a substrate, wherein the conductive metal layer is an antioxidant and the conductive polymer layer is a binder resin. The polymer A is contained.

本発明においては、特に該導電性金属層に酸化防止剤を含有させることで、高温高湿環境下における環境試験後でも透過率の変動が少なく、更に平面安定性に優れた電極が得られる。そして、バインダー樹脂としてポリマーAを含有することにより、上記効果が更に向上した。また、該電極を用いた経時安定性に優れた有機エレクトロルミネッセンス素子が得られる。   In the present invention, by including an antioxidant in the conductive metal layer in particular, an electrode excellent in planar stability can be obtained with little variation in transmittance even after an environmental test under a high temperature and high humidity environment. And the said effect was further improved by containing the polymer A as binder resin. Moreover, the organic electroluminescent element excellent in temporal stability using this electrode is obtained.

以下、本発明とその構成要素、及び本発明を実施するための最良の形態・態様等について詳細な説明をする。   Hereinafter, the present invention, its components, and the best mode and mode for carrying out the present invention will be described in detail.

<<酸化防止剤>>
本発明の電極は、保存時および製造工程時の熱、酸素、水分による電極形成材料の劣化を防止するために、安定化剤として酸化防止剤を含有することを特徴とする。
<< Antioxidant >>
The electrode of the present invention is characterized by containing an antioxidant as a stabilizer in order to prevent deterioration of the electrode-forming material due to heat, oxygen, and moisture during storage and manufacturing processes.

本発明の酸化防止剤としては、好ましくは、フェノール系化合物、ヒンダードアミン系化合物、リン系化合物、イオウ系化合物、アクリレート系化合物、ベンゾフラノン系化合物、酸素スカベンジャー、などが挙げられる。また、水溶性化合物が挙げられる。   Preferred examples of the antioxidant of the present invention include phenol compounds, hindered amine compounds, phosphorus compounds, sulfur compounds, acrylate compounds, benzofuranone compounds, oxygen scavengers, and the like. Moreover, a water-soluble compound is mentioned.

これらの中でも、特にフェノール系化合物、水溶性化合物が好ましい。これらの化合物を配合することにより、熱、酸素、水分による透明性の低下や導電性層の平面性低下がない電極が得られ、この電極を使用した有機エレクトロルミネッセンス素子の経時安定性を改良することが出来る。   Among these, phenolic compounds and water-soluble compounds are particularly preferable. By blending these compounds, it is possible to obtain an electrode that does not have a decrease in transparency due to heat, oxygen, or moisture, or a decrease in planarity of the conductive layer, and improves the temporal stability of an organic electroluminescence device using this electrode. I can do it.

これらの酸化防止剤は、それぞれ単独で、或いは2種以上を組み合わせて用いることができる。   These antioxidants can be used alone or in combination of two or more.

本発明の酸化防止剤の具体例として下記の化合物が挙げられるが、これらに限定されるものではない。   Specific examples of the antioxidant of the present invention include the following compounds, but are not limited thereto.

(フェノール系化合物)
本発明において有用な酸化防止剤の一つとして、下記一般式(A−1)で表されるフェノール系化合物が好ましい。
(Phenolic compounds)
As one of the antioxidants useful in the present invention, a phenol compound represented by the following general formula (A-1) is preferable.

Figure 2011216468
Figure 2011216468

一般式(A−1)中、R11、R12は置換基を表す。n1は、1〜3の整数を表す。m1は、1〜5の整数を表す。m1が2以上の場合、互いに連結して環を形成してもよい。 In general formula (A-1), R <11> , R < 12 > represents a substituent. n1 represents an integer of 1 to 3. m1 represents an integer of 1 to 5. When m1 is 2 or more, they may be connected to each other to form a ring.

該置換基としては、水素原子、ハロゲン原子(例えばフッ素原子、塩素原子等)、アルキル基(例えばメチル基、エチル基、イソプロピル基、ヒドロキシエチル基、メトキシメチル基、トリフルオロメチル基、t−ブチル基等)、シクロアルキル基(例えばシクロペンチル基、シクロヘキシル基等)、アラルキル基(例えばベンジル基、2−フェネチル基等)、アリール基(例えばフェニル基、ナフチル基、p−トリル基、p−クロロフェニル基等)、アルコキシ基(例えばメトキシ基、エトキシ基、イソプロポキシ基、ブトキシ基等)、アリールオキシ基(例えばフェノキシ基等)、シアノ基、アシルアミノ基(例えばアセチルアミノ基、プロピオニルアミノ基等)、アルキルチオ基(例えばメチルチオ基、エチルチオ基、ブチルチオ基等)、アリールチオ基(例えばフェニルチオ基等)、スルホニルアミノ基(例えばメタンスルホニルアミノ基、ベンゼンスルホニルアミノ基等)、ウレイド基(例えば3−メチルウレイド基、3,3−ジメチルウレイド基、1,3−ジメチルウレイド基等)、スルファモイルアミノ基(ジメチルスルファモイルアミノ基等)、カルバモイル基(例えばメチルカルバモイル基、エチルカルバモイル基、ジメチルカルバモイル基等)、スルファモイル基(例えばエチルスルファモイル基、ジメチルスルファモイル基等)、アルコキシカルボニル基(例えばメトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基等)、アリールオキシカルボニル基(例えばフェノキシカルボニル基等)、スルホニル基(例えばメタンスルホニル基、ブタンスルホニル基、フェニルスルホニル基等)、アシル基(例えばアセチル基、プロパノイル基、ブチロイル基等)、アミノ基(メチルアミノ基、エチルアミノ基、ジメチルアミノ基等)、シアノ基、ヒドロキシ基、ニトロ基、ニトロソ基、アミンオキシド基(例えばピリジン−オキシド基)、イミド基(例えばフタルイミド基等)、ジスルフィド基(例えばベンゼンジスルフィド基、ベンゾチアゾリル−2−ジスルフィド基等)、カルボキシル基、スルホ基、ヘテロ環基(例えば、ピロール基、ピロリジル基、ピラゾリル基、イミダゾリル基、ピリジル基、ベンズイミダゾリル基、ベンズチアゾリル基、ベンズオキサゾリル基等)等が挙げられる。これらの置換基は更に置換されてもよい。   Examples of the substituent include a hydrogen atom, a halogen atom (eg, fluorine atom, chlorine atom, etc.), an alkyl group (eg, methyl group, ethyl group, isopropyl group, hydroxyethyl group, methoxymethyl group, trifluoromethyl group, t-butyl). Group), cycloalkyl group (eg cyclopentyl group, cyclohexyl group etc.), aralkyl group (eg benzyl group, 2-phenethyl group etc.), aryl group (eg phenyl group, naphthyl group, p-tolyl group, p-chlorophenyl group). Etc.), alkoxy groups (eg methoxy group, ethoxy group, isopropoxy group, butoxy group etc.), aryloxy groups (eg phenoxy group etc.), cyano groups, acylamino groups (eg acetylamino group, propionylamino group etc.), alkylthio Groups (eg methylthio, ethylthio, butylthio, etc.) An arylthio group (for example, phenylthio group), a sulfonylamino group (for example, methanesulfonylamino group, benzenesulfonylamino group, etc.), a ureido group (for example, 3-methylureido group, 3,3-dimethylureido group, 1,3-dimethyl) Ureido group etc.), sulfamoylamino group (dimethylsulfamoylamino group etc.), carbamoyl group (eg methylcarbamoyl group, ethylcarbamoyl group, dimethylcarbamoyl group etc.), sulfamoyl group (eg ethylsulfamoyl group, dimethylsulfamoyl group) Famoyl group etc.), alkoxycarbonyl group (eg methoxycarbonyl group, ethoxycarbonyl group etc.), aryloxycarbonyl group (eg phenoxycarbonyl group etc.), sulfonyl group (eg methanesulfonyl group, butanesulfonyl group, phenoxy group) Sulfonyl group, etc.), acyl group (eg acetyl group, propanoyl group, butyroyl group etc.), amino group (methylamino group, ethylamino group, dimethylamino group etc.), cyano group, hydroxy group, nitro group, nitroso group, Amine oxide groups (for example, pyridine-oxide groups), imide groups (for example, phthalimide groups), disulfide groups (for example, benzene disulfide groups, benzothiazolyl-2-disulfide groups), carboxyl groups, sulfo groups, heterocyclic groups (for example, pyrrole) Group, pyrrolidyl group, pyrazolyl group, imidazolyl group, pyridyl group, benzimidazolyl group, benzthiazolyl group, benzoxazolyl group, etc.). These substituents may be further substituted.

フェノール系化合物は既知の化合物であり、例えば、米国特許第4,839,405号明細書の第12〜14欄に記載されており、2,6−ジアルキルフェノール誘導体化合物が含まれる。このような化合物のうち好ましい化合物として、下記一般式(A−2)で表される化合物が挙げられる。   Phenol compounds are known compounds and are described, for example, in columns 12 to 14 of US Pat. No. 4,839,405, and include 2,6-dialkylphenol derivative compounds. Among these compounds, preferred compounds include compounds represented by the following general formula (A-2).

Figure 2011216468
Figure 2011216468

一般式(A−2)中、R101〜R106は置換基を表す。該置換基としては、前記一般式(A−1)のR11、R12で表される置換基と同義である。 In formula (A-2), R 101 ~R 106 represents a substituent. As this substituent, it is synonymous with the substituent represented by R <11> , R < 12 > of the said general formula (A-1).

また、R101は水素原子、R102およびR106が、アルキル基であるフェノール系化合物が好ましい。 R 101 is preferably a hydrogen atom, and a phenol compound in which R 102 and R 106 are alkyl groups is preferred.

フェノール系化合物の具体例としては、n−オクタデシル3−(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)−プロピオネート、n−オクタデシル3−(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)−アセテート、n−オクタデシル3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシベンゾエート、n−ヘキシル3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニルベンゾエート、n−ドデシル3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニルベンゾエート、ネオ−ドデシル3−(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオネート、ドデシルβ(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオネート、エチルα−(4−ヒドロキシ−3,5−ジ−t−ブチルフェニル)イソブチレート、オクタデシルα−(4−ヒドロキシ−3,5−ジ−t−ブチルフェニル)イソブチレート、オクタデシルα−(4−ヒドロキシ−3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオネート、2−(n−オクチルチオ)エチル3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシ−ベンゾエート、2−(n−オクチルチオ)エチル3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシ−フェニルアセテート、2−(n−オクタデシルチオ)エチル3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニルアセテート、2−(n−オクタデシルチオ)エチル3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシ−ベンゾエート、2−(2−ヒドロキシエチルチオ)エチル3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシベンゾエート、ジエチルグリコールビス−(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシ−フェニル)プロピオネート、2−(n−オクタデシルチオ)エチル3−(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオネート、ステアルアミドN,N−ビス−[エチレン3−(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオネート]、n−ブチルイミノN,N−ビス−[エチレン3−(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオネート]、2−(2−ステアロイルオキシエチルチオ)エチル3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシベンゾエート、2−(2−ステアロイルオキシエチルチオ)エチル7−(3−メチル−5−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)ヘプタノエート、1,2−プロピレングリコールビス−[3−(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオネート]、エチレングリコールビス−[3−(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオネート]、ネオペンチルグリコールビス−[3−(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオネート]、エチレングリコールビス−(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニルアセテート)、グリセ(リン−l−n−オクタデカノエート−2,3−ビス−(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニルアセテート)、ペンタエリスリトール−テトラキス−[3−(3′,5′−ジ−t−ブチル−4′−ヒドロキシフェニル)プロピオネート]、1,1,1−トリメチロールエタン−トリス−[3−(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオネート]、ソルビトールヘキサ−[3−(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオネート]、2−ヒドロキシエチル7−(3−メチル−5−tブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオネート、2−ステアロイルオキシエチル7−(3−メチル−5−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)ヘプタノエート、1,6−n−ヘキサンジオール−ビス[(3′,5′−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオネート]、ペンタエリトリトール−テトラキス(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシヒドロシンナメート)が含まれる。上記タイプのフェノール化合物は、例えば、BASFジャパン株式会社から、“Irganox1076”及び“Irganox1010”という商品名で市販されている。   Specific examples of the phenol compound include n-octadecyl 3- (3,5-di-t-butyl-4-hydroxyphenyl) -propionate, n-octadecyl 3- (3,5-di-t-butyl-4 -Hydroxyphenyl) -acetate, n-octadecyl 3,5-di-t-butyl-4-hydroxybenzoate, n-hexyl 3,5-di-t-butyl-4-hydroxyphenylbenzoate, n-dodecyl 3,5 -Di-t-butyl-4-hydroxyphenylbenzoate, neo-dodecyl 3- (3,5-di-t-butyl-4-hydroxyphenyl) propionate, dodecyl beta (3,5-di-t-butyl-4 -Hydroxyphenyl) propionate, ethyl α- (4-hydroxy-3,5-di-t-butylphenyl) isobutyrate, octadecyl α- (4-hydroxy-3,5-di-t-butylphenyl) isobutyrate, octadecyl α- (4-hydroxy-3,5-di-t-butyl-4-hydroxyphenyl) propionate, 2- (n- Octylthio) ethyl 3,5-di-t-butyl-4-hydroxy-benzoate, 2- (n-octylthio) ethyl 3,5-di-t-butyl-4-hydroxy-phenylacetate, 2- (n-octadecyl) Thio) ethyl 3,5-di-t-butyl-4-hydroxyphenyl acetate, 2- (n-octadecylthio) ethyl 3,5-di-t-butyl-4-hydroxy-benzoate, 2- (2-hydroxy Ethylthio) ethyl 3,5-di-t-butyl-4-hydroxybenzoate, diethyl glycol bis- (3,5-di-t-butyl-4- Droxy-phenyl) propionate, 2- (n-octadecylthio) ethyl 3- (3,5-di-t-butyl-4-hydroxyphenyl) propionate, stearamide N, N-bis- [ethylene 3- (3,5 -Di-t-butyl-4-hydroxyphenyl) propionate], n-butylimino N, N-bis- [ethylene 3- (3,5-di-t-butyl-4-hydroxyphenyl) propionate], 2- ( 2-stearoyloxyethylthio) ethyl 3,5-di-tert-butyl-4-hydroxybenzoate, 2- (2-stearoyloxyethylthio) ethyl 7- (3-methyl-5-tert-butyl-4-hydroxy) Phenyl) heptanoate, 1,2-propylene glycol bis- [3- (3,5-di-t-butyl-4-hydroxypheny ) Propionate], ethylene glycol bis- [3- (3,5-di-t-butyl-4-hydroxyphenyl) propionate], neopentyl glycol bis- [3- (3,5-di-t-butyl-4) -Hydroxyphenyl) propionate], ethylene glycol bis- (3,5-di-t-butyl-4-hydroxyphenylacetate), glyce (phosphorus-l-n-octadecanoate-2,3-bis- (3 , 5-di-t-butyl-4-hydroxyphenyl acetate), pentaerythritol-tetrakis- [3- (3 ', 5'-di-t-butyl-4'-hydroxyphenyl) propionate], 1,1, 1-trimethylolethane-tris- [3- (3,5-di-tert-butyl-4-hydroxyphenyl) propionate], sorbito Hexa- [3- (3,5-di-t-butyl-4-hydroxyphenyl) propionate], 2-hydroxyethyl 7- (3-methyl-5-tbutyl-4-hydroxyphenyl) propionate, 2-stearoyl Oxyethyl 7- (3-methyl-5-t-butyl-4-hydroxyphenyl) heptanoate, 1,6-n-hexanediol-bis [(3 ′, 5′-di-t-butyl-4-hydroxyphenyl) ) Propionate], pentaerythritol-tetrakis (3,5-di-t-butyl-4-hydroxyhydrocinnamate). The phenol compound of the above type is commercially available, for example, from BASF Japan Ltd. under the trade names “Irganox 1076” and “Irganox 1010”.

さらに、以下の構造式で表されるフェノール系化合物およびその誘導体が挙げられる。   Further, phenolic compounds represented by the following structural formulas and derivatives thereof can be mentioned.

Figure 2011216468
Figure 2011216468

Figure 2011216468
Figure 2011216468

Figure 2011216468
Figure 2011216468

Figure 2011216468
Figure 2011216468

(ヒンダードアミン系化合物)
本発明において有用な酸化防止剤の一つとして、下記一般式(B)で表されるヒンダードアミン系化合物が好ましい。
(Hindered amine compounds)
As one of the antioxidants useful in the present invention, a hindered amine compound represented by the following general formula (B) is preferable.

Figure 2011216468
Figure 2011216468

式中、R21〜R27は置換基を表す。置換基としては前記一般式(A−1)のR11、R12で表される置換基と同義である。R24は水素原子、メチル基、R27は水素原子、R22、R23、R25、R26はメチル基であることが好ましい。 Wherein, R 21 to R 27 represents a substituent. As a substituent, it is synonymous with the substituent represented by R <11> , R < 12 > of the said general formula (A-1). R 24 is preferably a hydrogen atom and a methyl group, R 27 is preferably a hydrogen atom, and R 22 , R 23 , R 25 and R 26 are preferably a methyl group.

ヒンダードアミン系化合物の具体例としては、ビス(2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジル)セバケート、ビス(2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジル)スクシネート、ビス(1,2,2,6,6−ペンタメチル−4−ピペリジル)セバケート、ビス(N−オクトキシ−2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジル)セバケート、ビス(N−ベンジルオキシ−2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジル)セバケート、ビス(N−シクロヘキシルオキシ−2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジル)セバケート、ビス(1,2,2,6,6−ペンタメチル−4−ピペリジル)2−(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシベンジル)−2−ブチルマロネート、ビス(1−アクロイル−2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジル)2,2−ビス(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシベンジル)−2−ブチルマロネート、ビス(1,2,2,6,6−ペンタメチル−4−ピペリジル)デカンジオエート、2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジルメタクリレート、4−[3−(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオニルオキシ]−1−[2−(3−(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオニルオキシ)エチル]−2,2,6,6−テトラメチルピペリジン、2−メチル−2−(2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジル)アミノ−N−(2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジル)プロピオンアミド、テトラキス(2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジル)1,2,3,4−ブタンテトラカルボキシレート、テトラキス(1,2,2,6,6−ペンタメチル−4−ピペリジル)1,2,3,4−ブタンテトラカルボキシレート等が挙げられる。   Specific examples of hindered amine compounds include bis (2,2,6,6-tetramethyl-4-piperidyl) sebacate, bis (2,2,6,6-tetramethyl-4-piperidyl) succinate, bis (1 , 2,2,6,6-pentamethyl-4-piperidyl) sebacate, bis (N-octoxy-2,2,6,6-tetramethyl-4-piperidyl) sebacate, bis (N-benzyloxy-2,2) , 6,6-tetramethyl-4-piperidyl) sebacate, bis (N-cyclohexyloxy-2,2,6,6-tetramethyl-4-piperidyl) sebacate, bis (1,2,2,6,6- Pentamethyl-4-piperidyl) 2- (3,5-di-t-butyl-4-hydroxybenzyl) -2-butylmalonate, bis (1-acryloyl-2,2,6,6- Tramethyl-4-piperidyl) 2,2-bis (3,5-di-tert-butyl-4-hydroxybenzyl) -2-butylmalonate, bis (1,2,2,6,6-pentamethyl-4- Piperidyl) decanedioate, 2,2,6,6-tetramethyl-4-piperidyl methacrylate, 4- [3- (3,5-di-tert-butyl-4-hydroxyphenyl) propionyloxy] -1- [ 2- (3- (3,5-di-tert-butyl-4-hydroxyphenyl) propionyloxy) ethyl] -2,2,6,6-tetramethylpiperidine, 2-methyl-2- (2,2, 6,6-tetramethyl-4-piperidyl) amino-N- (2,2,6,6-tetramethyl-4-piperidyl) propionamide, tetrakis (2,2,6,6-tetramethyl-4-piperidyl) 1,2,3,4-butane tetracarboxylate, tetrakis (1,2,2,6,6-pentamethyl-4-piperidyl) 1,2,3,4-butane tetracarboxylate, and the like.

また、高分子タイプの化合物でもよく、具体例としては、N,N′,N″,N″′−テトラキス−[4,6−ビス−〔ブチル−(N−メチル−2,2,6,6−テトラメチルピペリジン−4−イル)アミノ〕−トリアジン−2−イル]−4,7−ジアザデカン−1,10−ジアミン、ジブチルアミンと1,3,5−トリアジン−N,N′−ビス(2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジル)−1,6−ヘキサメチレンジアミンとN−(2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジル)ブチルアミンとの重縮合物、ジブチルアミンと1,3,5−トリアジンとN,N′−ビス(2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジル)ブチルアミンとの重縮合物、ポリ〔{(1,1,3,3−テトラメチルブチル)アミノ−1,3,5−トリアジン−2,4−ジイル}{(2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジル)イミノ}ヘキサメチレン{(2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジル)イミノ}〕、1,6−ヘキサンジアミン−N,N′−ビス(2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジル)とモルフォリン−2,4,6−トリクロロ−1,3,5−トリアジンとの重縮合物、ポリ[(6−モルフォリノ−s−トリアジン−2,4−ジイル)〔(2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジル)イミノ〕−ヘキサメチレン〔(2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジル)イミノ〕]等の、ピペリジン環がトリアジン骨格を介して複数結合した高分子量HALS;コハク酸ジメチルと4−ヒドロキシ−2,2,6,6−テトラメチル−1−ピペリジンエタノールとの重合物、1,2,3,4−ブタンテトラカルボン酸と1,2,2,6,6−ペンタメチル−4−ピペリジノールと3,9−ビス(2−ヒドロキシ−1,1−ジメチルエチル)−2,4,8,10−テトラオキサスピロ[5,5]ウンデカンとの混合エステル化物等の、ピペリジン環がエステル結合を介して結合した化合物等が挙げられるが、これらに限定されるものではない。   Further, it may be a polymer type compound. As specific examples, N, N ′, N ″, N ″ ′-tetrakis- [4,6-bis- [butyl- (N-methyl-2,2,6, 6-tetramethylpiperidin-4-yl) amino] -triazin-2-yl] -4,7-diazadecane-1,10-diamine, dibutylamine and 1,3,5-triazine-N, N′-bis ( 2,2,6,6-tetramethyl-4-piperidyl) -1,6-hexamethylenediamine and N- (2,2,6,6-tetramethyl-4-piperidyl) butylamine polycondensate, di Polycondensate of butylamine, 1,3,5-triazine and N, N′-bis (2,2,6,6-tetramethyl-4-piperidyl) butylamine, poly [{(1,1,3,3 -Tetramethylbutyl) amino-1,3,5-tri Gin-2,4-diyl} {(2,2,6,6-tetramethyl-4-piperidyl) imino} hexamethylene {(2,2,6,6-tetramethyl-4-piperidyl) imino}], Between 1,6-hexanediamine-N, N'-bis (2,2,6,6-tetramethyl-4-piperidyl) and morpholine-2,4,6-trichloro-1,3,5-triazine Polycondensate, poly [(6-morpholino-s-triazine-2,4-diyl) [(2,2,6,6-tetramethyl-4-piperidyl) imino] -hexamethylene [(2,2,6 , 6-tetramethyl-4-piperidyl) imino]], etc., high molecular weight HALS in which a plurality of piperidine rings are bonded via a triazine skeleton; dimethyl succinate and 4-hydroxy-2,2,6,6-tetramethyl- 1-piperidine ester Polymer with diol, 1,2,3,4-butanetetracarboxylic acid, 1,2,2,6,6-pentamethyl-4-piperidinol and 3,9-bis (2-hydroxy-1,1-dimethyl) (Ethyl) -2,4,8,10-tetraoxaspiro [5,5] undecane and the like, and the like are exemplified by compounds in which a piperidine ring is bonded through an ester bond, but the present invention is not limited thereto. It is not a thing.

これらの中でも、ジブチルアミンと1,3,5−トリアジンとN,N′−ビス(2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジル)ブチルアミンとの重縮合物、ポリ〔{(1,1,3,3−テトラメチルブチル)アミノ−1,3,5−トリアジン−2,4−ジイル}{(2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジル)イミノ}ヘキサメチレン{(2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジル)イミノ}〕、コハク酸ジメチルと4−ヒドロキシ−2,2,6,6−テトラメチル−1−ピペリジンエタノールとの重合物等で、数平均分子量(Mn)が2,000〜5,000のものが好ましい。   Among these, polycondensates of dibutylamine, 1,3,5-triazine and N, N′-bis (2,2,6,6-tetramethyl-4-piperidyl) butylamine, poly [{(1, 1,3,3-tetramethylbutyl) amino-1,3,5-triazine-2,4-diyl} {(2,2,6,6-tetramethyl-4-piperidyl) imino} hexamethylene {(2 , 2,6,6-tetramethyl-4-piperidyl) imino}], a polymer of dimethyl succinate and 4-hydroxy-2,2,6,6-tetramethyl-1-piperidineethanol, etc. Those having a molecular weight (Mn) of 2,000 to 5,000 are preferred.

上記タイプのヒンダードアミン化合物は、例えば、BASFジャパン株式会社から、“Tinuvin144”及び“Tinuvin770”、株式会社ADEKAから“ADK STAB LA−52”という商品名で市販されている。   The hindered amine compound of the above type is commercially available from BASF Japan, for example, under the product names “Tinuvin 144” and “Tinuvin 770” and from ADEKA, Inc., “ADK STAB LA-52”.

(リン系化合物)
本発明において有用な酸化防止剤の一つとして、下記一般式(C−1)、(C−2)、(C−3)、(C−4)、(C−5)で表される部分構造を分子内に有する化合物が好ましい。
(Phosphorus compounds)
As one of the antioxidants useful in the present invention, a moiety represented by the following general formulas (C-1), (C-2), (C-3), (C-4), (C-5) A compound having a structure in the molecule is preferred.

Figure 2011216468
Figure 2011216468

式中、Ph及びPh′は置換基を表す。置換基としては前記一般式(A−1)のR11、R12で表される置換基と同義である。より好ましくは、Ph及びPh′はフェニレン基を表し、該フェニレン基の水素原子はフェニル基、炭素数1〜8のアルキル基、炭素数5〜8のシクロアルキル基、炭素数6〜12のアルキルシクロアルキル基または炭素数7〜12のアラルキル基で置換されていてもよい。Ph及びPh′は互いに同一でもよく、異なってもよい。Xは単結合、硫黄原子または−CHR−基を表す。Rは水素原子、炭素数1〜8のアルキル基または炭素数5〜8のシクロアルキル基を表す。また、これらは前記一般式(A−1)のR11、R12で表される置換基と同義の置換基により置換されてもよい。 In the formula, Ph 1 and Ph ′ 1 represent a substituent. As a substituent, it is synonymous with the substituent represented by R <11> , R < 12 > of the said general formula (A-1). More preferably, Ph 1 and Ph ′ 1 represent a phenylene group, and the hydrogen atom of the phenylene group is a phenyl group, an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms, a cycloalkyl group having 5 to 8 carbon atoms, or 6 to 12 carbon atoms. Or an alkyl cycloalkyl group or an aralkyl group having 7 to 12 carbon atoms. Ph 1 and Ph ′ 1 may be the same as or different from each other. X represents a single bond, a sulfur atom or a —CHR 6 — group. R 6 represents a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms, or a cycloalkyl group having 5 to 8 carbon atoms. Moreover, these may be substituted by a substituent having the same meaning as the substituents represented by R 11 and R 12 in the general formula (A-1).

Figure 2011216468
Figure 2011216468

式中、Ph及びPh′は置換基を表す。置換基としては前記一般式(A−1)のR11、R12で表される置換基と同義である。より好ましくは、Ph及びPh′はフェニル基またはビフェニル基を表し、該フェニル基またはビフェニル基の水素原子は炭素数1〜8のアルキル基、炭素数5〜8のシクロアルキル基、炭素数6〜12のアルキルシクロアルキル基または炭素数7〜12のアラルキル基で置換されていてもよい。Ph及びPh′は互いに同一でもよく、異なってもよい。また、これらは前記一般式(A−1)のR11、R12で表される置換基と同義の置換基により置換されてもよい。 Wherein, Ph 2 and Ph '2 each represent a substituent. As a substituent, it is synonymous with the substituent represented by R <11> , R < 12 > of the said general formula (A-1). More preferably, Ph 2 and Ph ′ 2 represent a phenyl group or a biphenyl group, and the hydrogen atom of the phenyl group or biphenyl group is an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms, a cycloalkyl group having 5 to 8 carbon atoms, or a carbon number. It may be substituted with a 6-12 alkylcycloalkyl group or an aralkyl group having 7-12 carbon atoms. Ph 2 and Ph ′ 2 may be the same as or different from each other. Moreover, these may be substituted by a substituent having the same meaning as the substituents represented by R 11 and R 12 in the general formula (A-1).

Figure 2011216468
Figure 2011216468

式中、Phは置換基を表す。置換基としては前記一般式(A−1)のR11、R12で表される置換基と同義である。より好ましくは、Phはフェニル基またはビフェニル基を表し、該フェニル基またはビフェニル基の水素原子は炭素数1〜8のアルキル基、炭素数5〜8のシクロアルキル基、炭素数6〜12のアルキルシクロアルキル基または炭素数7〜12のアラルキル基で置換されていてもよい。また、これらは前記一般式(A−1)のR11、R12で表される置換基と同義の置換基により置換されてもよい。 In the formula, Ph 3 represents a substituent. As a substituent, it is synonymous with the substituent represented by R <11> , R < 12 > of the said general formula (A-1). More preferably, Ph 3 represents a phenyl group or a biphenyl group, and the hydrogen atom of the phenyl group or biphenyl group is an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms, a cycloalkyl group having 5 to 8 carbon atoms, or a 6 to 12 carbon atom. It may be substituted with an alkylcycloalkyl group or an aralkyl group having 7 to 12 carbon atoms. Moreover, these may be substituted by a substituent having the same meaning as the substituents represented by R 11 and R 12 in the general formula (A-1).

Figure 2011216468
Figure 2011216468

式中、Phは置換基を表す。置換基としては前記一般式(A−1)のR11、R12で表される置換基と同義である。より好ましくは、Phは炭素数1〜20のアルキル基またはフェニル基を表し、該アルキル基またはフェニル基は前記一般式(A−1)のR11、R12で表される置換基と同義の置換基により置換されてもよい。 In the formula, Ph 4 represents a substituent. As a substituent, it is synonymous with the substituent represented by R <11> , R < 12 > of the said general formula (A-1). More preferably, Ph 4 represents an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms or a phenyl group, and the alkyl group or phenyl group has the same meaning as the substituents represented by R 11 and R 12 in the general formula (A-1). It may be substituted with a substituent.

Figure 2011216468
Figure 2011216468

式中、Ph、Ph′及びPh″は置換基を表す。置換基としては前記一般式(A−1)のR11、R12で表される置換基と同義である。より好ましくは、Ph、Ph′及びPh″は炭素数1〜20のアルキル基またはフェニル基を表し、該アルキル基またはフェニル基は前記一般式(A−1)のR11、R12で表される置換基と同義の置換基により置換されてもよい。 In the formula, Ph 5 , Ph ′ 5 and Ph ″ 5 represent substituents. The substituents have the same meanings as the substituents represented by R 11 and R 12 in formula (A-1). , Ph 5 , Ph ′ 5 and Ph ″ 5 represent an alkyl group or phenyl group having 1 to 20 carbon atoms, and the alkyl group or phenyl group is represented by R 11 and R 12 in the general formula (A-1). It may be substituted with a substituent having the same meaning as the substituent.

リン系化合物の具体例としては、トリフェニルホスファイト、ジフェニルイソデシルホスファイト、フェニルジイソデシルホスファイト、トリス(ノニルフェニル)ホスファイト、トリス(ジノニルフェニル)ホスファイト、トリス(2,4−ジ−t−ブチルフェニル)ホスファイト、10−(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシベンジル)−9,10−ジヒドロ−9−オキサ−10−ホスファフェナントレン−10−オキサイド、6−[3−(3−t−ブチル−4−ヒドロキシ−5−メチルフェニル)プロポキシ]−2,4,8,10−テトラ−t−ブチルジベンズ[d,f][1.3.2]ジオキサホスフェピン、トリデシルホスファイト等のモノホスファイト系化合物;4,4′−ブチリデン−ビス(3−メチル−6−t−ブチルフェニル−ジ−トリデシルホスファイト)、4,4′−イソプロピリデン−ビス(フェニル−ジ−アルキル(C12〜C15)ホスファイト)等のジホスファイト系化合物;トリフェニルホスホナイト、テトラキス(2,4−ジ−tert−ブチルフェニル)[1,1−ビフェニル]−4,4′−ジイルビスホスホナイト、テトラキス(2,4−ジ−tert−ブチル−5−メチルフェニル)[1,1−ビフェニル]−4,4′−ジイルビスホスホナイト等のホスホナイト系化合物;トリフェニルホスフィナイト、2,6−ジメチルフェニルジフェニルホスフィナイト等のホスフィナイト系化合物;トリフェニルホスフィン、トリス(2,6−ジメトキシフェニル)ホスフィン等のホスフィン系化合物;等が挙げられる。   Specific examples of phosphorus compounds include triphenyl phosphite, diphenylisodecyl phosphite, phenyl diisodecyl phosphite, tris (nonylphenyl) phosphite, tris (dinonylphenyl) phosphite, tris (2,4-di-). t-butylphenyl) phosphite, 10- (3,5-di-t-butyl-4-hydroxybenzyl) -9,10-dihydro-9-oxa-10-phosphaphenanthrene-10-oxide, 6- [ 3- (3-tert-butyl-4-hydroxy-5-methylphenyl) propoxy] -2,4,8,10-tetra-tert-butyldibenz [d, f] [1.3.2] dioxaphosphine Monophosphite compounds such as pin and tridecyl phosphite; 4,4'-butylidene-bis (3-methyl-6-t-butyl) Diphosphite compounds such as phenyl-di-tridecyl phosphite), 4,4'-isopropylidene-bis (phenyl-di-alkyl (C12-C15) phosphite); triphenylphosphonite, tetrakis (2,4- Di-tert-butylphenyl) [1,1-biphenyl] -4,4'-diylbisphosphonite, tetrakis (2,4-di-tert-butyl-5-methylphenyl) [1,1-biphenyl]- Phosphonite compounds such as 4,4'-diylbisphosphonite; phosphinite compounds such as triphenylphosphinite and 2,6-dimethylphenyldiphenylphosphinite; triphenylphosphine and tris (2,6-dimethoxyphenyl) Phosphine compounds such as phosphine; and the like.

上記タイプのリン系化合物は、例えば、住友化学株式会社から、“SumilizerGP”、株式会社ADEKAから“ADK STAB PEP−24G”、“ADK STAB PEP−36”及び“ADK STAB 3010”、BASFジャパン株式会社から“IRGAFOS P−EPQ”、堺化学工業株式会社から“GSY−P101”という商品名で市販されている。   The phosphorous compounds of the above-mentioned types are, for example, from Sumitomo Chemical Co., Ltd., “Sumilizer GP”, from ADEKA Co., Ltd., “ADK STAB PEP-24G”, “ADK STAB PEP-36” and “ADK STAB 3010”, BASF Japan Co., Ltd. "IRGAFOS P-EPQ" and "GSY-P101" from Sakai Chemical Industry Co., Ltd.

(アクリレート系化合物)
アクリレート系化合物は既知の化合物であり、例えば、特開昭63−179953号公報や特開平1−168643号公報に記載されており、2−t−ブチル−6−(3−t−ブチル−2−ヒドロキシ−5−メチルベンジル)−4−メチルフェニルアクリレート、2,4−ジ−t−アミル−6−(1−(3,5−ジ−t−アミル−2−ヒドロキシフェニル)エチル)フェニルアクリレート等が挙げられる。
(Acrylate compounds)
The acrylate compound is a known compound, and is described in, for example, JP-A 63-179953 and JP-A 1-168643, and 2-t-butyl-6- (3-t-butyl-2 -Hydroxy-5-methylbenzyl) -4-methylphenyl acrylate, 2,4-di-t-amyl-6- (1- (3,5-di-t-amyl-2-hydroxyphenyl) ethyl) phenyl acrylate Etc.

上記タイプのアクリレート系化合物は、例えば、住友化学株式会社から、“SumilizerGS”及び“SumilizerGM”という商品名で市販されている。   Acrylate compounds of the above type are commercially available from Sumitomo Chemical Co., Ltd. under the trade names “Sumilizer GS” and “Sumilizer GM”, for example.

(ベンゾフラノン系化合物)
ベンゾフラノン系化合物は既知の化合物であり、例えば、特公昭63−26771号公報、特開平7−233160号公報や特開2003−176417号公報に記載されており、5,7−ジ−t−ブチル−3−(3,4−ジメチルフェニル)−3H−ベンゾフラン−2−オン、5,7−ジ−t−ブチル−3−フェニル−3H−ベンゾフラン−2−オン、5,7−ジ−t−ブチル−3−(4−メトキシフェニル)−3H−ベンゾフラン−2−オン等が挙げられる。
(Benzofuranone compounds)
A benzofuranone compound is a known compound, and is described in, for example, Japanese Patent Publication No. 63-26771, Japanese Patent Application Laid-Open No. 7-233160 and Japanese Patent Application Laid-Open No. 2003-176417, and 5,7-di-t-butyl. -3- (3,4-dimethylphenyl) -3H-benzofuran-2-one, 5,7-di-t-butyl-3-phenyl-3H-benzofuran-2-one, 5,7-di-t- And butyl-3- (4-methoxyphenyl) -3H-benzofuran-2-one.

上記タイプのベンゾフラノン系化合物は、例えば、BASFジャパン株式会社から、“HP−136”という商品名で市販されている。   The above type of benzofuranone-based compound is commercially available, for example, from BASF Japan Ltd. under the trade name “HP-136”.

(イオウ系化合物)
本発明において有用な酸化防止剤の一つとして、下記一般式(D)で表されるイオウ系化合物が好ましい。
(Sulfur compounds)
As one of the antioxidants useful in the present invention, a sulfur compound represented by the following general formula (D) is preferable.

Figure 2011216468
Figure 2011216468

式中、R31及びR32は置換基を表す。置換基としては前記一般式(A−1)のR11、R12で表される置換基と同義である。 In the formula, R 31 and R 32 represent a substituent. As a substituent, it is synonymous with the substituent represented by R <11> , R < 12 > of the said general formula (A-1).

イオウ系化合物の具体例としては、ジラウリル3,3−チオジプロピオネート、ジミリスチル3,3′−チオジプロピオネート、ジステアリル3,3−チオジプロピオネート、ラウリルステアリル3,3−チオジプロピオネート、ペンタエリスリトール−テトラキス(β−ラウリル−チオ−プロピオネート)、3,9−ビス(2−ドデシルチオエチル)−2,4,8,10−テトラオキサスピロ[5,5]ウンデカン等が挙げられる。   Specific examples of the sulfur compound include dilauryl 3,3-thiodipropionate, dimyristyl 3,3'-thiodipropionate, distearyl 3,3-thiodipropionate, lauryl stearyl 3,3-thiodipropioate. And pentaerythritol-tetrakis (β-lauryl-thio-propionate), 3,9-bis (2-dodecylthioethyl) -2,4,8,10-tetraoxaspiro [5,5] undecane and the like. .

上記タイプのイオウ系化合物は、例えば、住友化学株式会社から、“Sumilizer TPL−R”及び“Sumilizer TP−D”という商品名で市販されている。   The above-mentioned type of sulfur-based compound is commercially available from Sumitomo Chemical Co., Ltd. under the trade names “Sumilizer TPL-R” and “Sumilizer TP-D”, for example.

(水溶性化合物)
本発明において有用な酸化防止剤の一つとして、水溶性の酸化防止剤があげられる。
(Water-soluble compounds)
One antioxidant useful in the present invention is a water-soluble antioxidant.

アスコルビン類(例えば、L−アスコルビン酸等)、エリソルビン酸類、亜硫酸塩類(例えば、亜硫酸ナトリウム、重亜硫酸ナトリウム等)、トコフェロール、カテキン類などが挙げられる。   Ascorbins (for example, L-ascorbic acid and the like), erythorbic acids, sulfites (for example, sodium sulfite and sodium bisulfite), tocopherols, catechins and the like can be mentioned.

本発明においては、これらの酸化防止剤の添加量は、1×10−4g/m〜1g/mであることが好ましく、1×10−3mg/m〜500mg/mであることがより好ましいが、添加量は、酸化防止剤の種類等によって適宜選択すればよい。これらは2種以上を併用してもよい。 In the present invention, the addition amount of these antioxidants is preferably 1 × 10 -4 g / m 2 ~1g / m 2, at 1 × 10 -3 mg / m 2 ~500mg / m 2 Although it is more preferable, the addition amount may be appropriately selected depending on the kind of the antioxidant and the like. Two or more of these may be used in combination.

酸化防止剤の添加量は、上記範囲の下限以上であることが安定化作用を奏する観点から好ましく、また上記範囲の下限以下であることが透明性の観点から好ましい。   The addition amount of the antioxidant is preferably not less than the lower limit of the above range from the viewpoint of stabilizing action, and is preferably not more than the lower limit of the above range from the viewpoint of transparency.

酸化防止剤は、水、アルコール、エーテル、エステル、ケトン、炭化水素、ハロゲン化炭化水素、あるいはアミド等、又はこれらの混合溶媒に溶解したのち導電性金属層に添加してもよい。あるいは、その他の有機溶剤に溶解したのち添加してもよい。また高沸点溶剤等に溶解後分散添加してもよい。具体的には、メチルエチルケトン、メタノール、水、DMSOなどを用いることが出来る。   The antioxidant may be added to the conductive metal layer after being dissolved in water, alcohol, ether, ester, ketone, hydrocarbon, halogenated hydrocarbon, amide, or a mixed solvent thereof. Or you may add, after melt | dissolving in another organic solvent. Further, it may be added after being dissolved in a high boiling point solvent or the like. Specifically, methyl ethyl ketone, methanol, water, DMSO and the like can be used.

<<金属繊維>>
(導電性金属層)
本発明の導電性金属層は、金属繊維を含有することを特徴とする。
<< Metal fiber >>
(Conductive metal layer)
The conductive metal layer of the present invention is characterized by containing metal fibers.

本発明の金属繊維において、繊維径の短径がnmサイズであれば、ロッド状やワイヤ状であってもよいが、導電性及び透明性の観点からワイヤ状の金属ナノワイヤであることが好ましい。   In the metal fiber of the present invention, if the minor axis of the fiber diameter is nm, it may be rod-shaped or wire-shaped, but is preferably a wire-shaped metal nanowire from the viewpoint of conductivity and transparency.

一般に、金属ナノワイヤとは、金属元素を主要な構成要素とする、原子スケールからnmサイズの直径を有する線状構造体のことをいう。   In general, a metal nanowire refers to a linear structure having a diameter from the atomic scale to the nm size, which contains a metal element as a main component.

本発明に用いられる金属ナノワイヤとしては、1つの金属ナノワイヤで長い導電パスを形成するために、平均長さが3μm以上であることが好ましく、さらには3〜500μmが好ましく、特に3〜300μmであることが好ましい。併せて、長さの相対標準偏差は40%以下であることが好ましい。また、平均短径には特に制限はないが、透明性の観点からは小さいことが好ましく、一方で、導電性の観点からは大きい方が好ましい。本発明においては、金属ナノワイヤの平均短径として10〜300nmが好ましく、30〜200nmであることがより好ましい。併せて、短径の相対標準偏差は20%以下であることが好ましい。導電性金属層の金属ナノワイヤは相互に接触していることが好ましく、さらにメッシュ状に接触していることが好ましい。金属ナノワイヤを相互に接触、またはメッシュ状に接触させた導電性金属層は、前記液相成膜法を用いれば容易に得ることができる。   As the metal nanowire used in the present invention, in order to form a long conductive path with one metal nanowire, the average length is preferably 3 μm or more, more preferably 3 to 500 μm, and particularly preferably 3 to 300 μm. It is preferable. In addition, the relative standard deviation of the length is preferably 40% or less. Moreover, although there is no restriction | limiting in particular in an average breadth, it is preferable that it is small from a transparency viewpoint, and the larger one is preferable from a conductive viewpoint. In the present invention, the average minor axis of the metal nanowire is preferably 10 to 300 nm, and more preferably 30 to 200 nm. In addition, the relative standard deviation of the minor axis is preferably 20% or less. The metal nanowires of the conductive metal layer are preferably in contact with each other, and more preferably in mesh form. Conductive metal layers in which metal nanowires are brought into contact with each other or meshed can be easily obtained by using the liquid phase film forming method.

本発明において金属ナノワイヤの製造手段には特に制限はなく、例えば、液相法や気相法等の公知の手段を用いることができる。また、具体的な製造方法にも特に制限はなく、公知の製造方法を用いることができる。例えば、銀ナノワイヤの製造方法としては、Adv.Mater.,2002,14,833〜837;Chem.Mater.,2002,14,4736〜4745等を参考にすることができる。銀ナノワイヤの製造方法は、水溶液中で簡便に銀ナノワイヤを製造することができ、また銀の導電率は金属中で最大であることから、本発明に係る金属ナノワイヤの製造方法として好ましく適用することができる。   In the present invention, the means for producing the metal nanowire is not particularly limited, and for example, known means such as a liquid phase method and a gas phase method can be used. Moreover, there is no restriction | limiting in particular in a specific manufacturing method, A well-known manufacturing method can be used. For example, as a method for producing silver nanowires, Adv. Mater. , 2002, 14, 833-837; Chem. Mater. 2002, 14, 4736-4745, and the like. The method for producing silver nanowires can be easily produced in an aqueous solution, and since the conductivity of silver is the highest in metals, it is preferably applied as a method for producing metal nanowires according to the present invention. Can do.

<<導電性ポリマー>>
(導電性ポリマー層)
本発明における導電性ポリマー層は、バインダー樹脂として、ポリマー(A)を含有することを特徴とするが、π共役系導電性高分子とポリアニオンとを含んで成る導電性ポリマーを含有することが好ましい。
<< Conductive polymer >>
(Conductive polymer layer)
The conductive polymer layer in the present invention is characterized by containing the polymer (A) as a binder resin, but preferably contains a conductive polymer comprising a π-conjugated conductive polymer and a polyanion. .

本発明に係る導電性ポリマーは、後述するπ共役系導電性高分子を形成する前駆体モノマーを、適切な酸化剤と酸化触媒と後述のポリアニオンの存在下で化学酸化重合することによって容易に製造できる。   The conductive polymer according to the present invention is easily produced by chemical oxidative polymerization of a precursor monomer that forms a π-conjugated conductive polymer described later in the presence of an appropriate oxidizing agent, an oxidation catalyst, and a polyanion described later. it can.

(π共役系導電性高分子)
本発明に用いるπ共役系導電性高分子としては、特に限定されず、ポリチオフェン(基本のポリチオフェンを含む、以下同様)類、ポリピロール類、ポリインドール類、ポリカルバゾール類、ポリアニリン類、ポリアセチレン類、ポリフラン類、ポリパラフェニレンビニレン類、ポリアズレン類、ポリパラフェニレン類、ポリパラフェニレンサルファイド類、ポリイソチアナフテン類、ポリチアジル類の鎖状導電性ポリマーを利用することができる。中でも、導電性、透明性、安定性等の観点からポリチオフェン類やポリアニリン類が好ましい。ポリエチレンジオキシチオフェンであることが最も好ましい。
(Π-conjugated conductive polymer)
The π-conjugated conductive polymer used in the present invention is not particularly limited, and includes polythiophenes (including basic polythiophenes, the same applies hereinafter), polypyrroles, polyindoles, polycarbazoles, polyanilines, polyacetylenes, polyfurans. , Polyparaphenylene vinylenes, polyazulenes, polyparaphenylenes, polyparaphenylene sulfides, polyisothianaphthenes, polythiazyl chain conductive polymers can be used. Of these, polythiophenes and polyanilines are preferable from the viewpoints of conductivity, transparency, stability, and the like. Most preferred is polyethylene dioxythiophene.

(π共役系導電性高分子前駆体モノマー)
前駆体モノマーは、分子内にπ共役系を有し、適切な酸化剤の作用によって高分子化した際にもその主鎖にπ共役系が形成されるものである。例えば、ピロール類及びその誘導体、チオフェン類及びその誘導体、アニリン類及びその誘導体等が挙げられる。
(Π-conjugated conductive polymer precursor monomer)
The precursor monomer has a π-conjugated system in the molecule, and a π-conjugated system is formed in the main chain even when polymerized by the action of an appropriate oxidizing agent. Examples thereof include pyrroles and derivatives thereof, thiophenes and derivatives thereof, anilines and derivatives thereof, and the like.

前駆体モノマーの具体例としては、ピロール、3−メチルピロール、3−エチルピロール、3−n−プロピルピロール、3−ブチルピロール、3−オクチルピロール、3−デシルピロール、3−ドデシルピロール、3,4−ジメチルピロール、3,4−ジブチルピロール、3−カルボキシルピロール、3−メチル−4−カルボキシルピロール、3−メチル−4−カルボキシエチルピロール、3−メチル−4−カルボキシブチルピロール、3−ヒドロキシピロール、3−メトキシピロール、3−エトキシピロール、3−ブトキシピロール、3−ヘキシルオキシピロール、3−メチル−4−ヘキシルオキシピロール、チオフェン、3−メチルチオフェン、3−エチルチオフェン、3−プロピルチオフェン、3−ブチルチオフェン、3−ヘキシルチオフェン、3−ヘプチルチオフェン、3−オクチルチオフェン、3−デシルチオフェン、3−ドデシルチオフェン、3−オクタデシルチオフェン、3−ブロモチオフェン、3−クロロチオフェン、3−ヨードチオフェン、3−シアノチオフェン、3−フェニルチオフェン、3,4−ジメチルチオフェン、3,4−ジブチルチオフェン、3−ヒドロキシチオフェン、3−メトキシチオフェン、3−エトキシチオフェン、3−ブトキシチオフェン、3−ヘキシルオキシチオフェン、3−ヘプチルオキシチオフェン、3−オクチルオキシチオフェン、3−デシルオキシチオフェン、3−ドデシルオキシチオフェン、3−オクタデシルオキシチオフェン、3,4−ジヒドロキシチオフェン、3,4−ジメトキシチオフェン、3,4−ジエトキシチオフェン、3,4−ジプロポキシチオフェン、3,4−ジブトキシチオフェン、3,4−ジヘキシルオキシチオフェン、3,4−ジヘプチルオキシチオフェン、3,4−ジオクチルオキシチオフェン、3,4−ジデシルオキシチオフェン、3,4−ジドデシルオキシチオフェン、3,4−エチレンジオキシチオフェン、3,4−プロピレンジオキシチオフェン、3,4−ブテンジオキシチオフェン、3−メチル−4−メトキシチオフェン、3−メチル−4−エトキシチオフェン、3−カルボキシチオフェン、3−メチル−4−カルボキシチオフェン、3−メチル−4−カルボキシエチルチオフェン、3−メチル−4−カルボキシブチルチオフェン、アニリン、2−メチルアニリン、3−イソブチルアニリン、2−アニリンスルホン酸、3−アニリンスルホン酸等が挙げられる。   Specific examples of the precursor monomer include pyrrole, 3-methylpyrrole, 3-ethylpyrrole, 3-n-propylpyrrole, 3-butylpyrrole, 3-octylpyrrole, 3-decylpyrrole, 3-dodecylpyrrole, 3, 4-dimethylpyrrole, 3,4-dibutylpyrrole, 3-carboxylpyrrole, 3-methyl-4-carboxylpyrrole, 3-methyl-4-carboxyethylpyrrole, 3-methyl-4-carboxybutylpyrrole, 3-hydroxypyrrole 3-methoxypyrrole, 3-ethoxypyrrole, 3-butoxypyrrole, 3-hexyloxypyrrole, 3-methyl-4-hexyloxypyrrole, thiophene, 3-methylthiophene, 3-ethylthiophene, 3-propylthiophene, 3 -Butylthiophene, 3-hexylchi Phen, 3-heptylthiophene, 3-octylthiophene, 3-decylthiophene, 3-dodecylthiophene, 3-octadecylthiophene, 3-bromothiophene, 3-chlorothiophene, 3-iodothiophene, 3-cyanothiophene, 3-phenyl Thiophene, 3,4-dimethylthiophene, 3,4-dibutylthiophene, 3-hydroxythiophene, 3-methoxythiophene, 3-ethoxythiophene, 3-butoxythiophene, 3-hexyloxythiophene, 3-heptyloxythiophene, 3- Octyloxythiophene, 3-decyloxythiophene, 3-dodecyloxythiophene, 3-octadecyloxythiophene, 3,4-dihydroxythiophene, 3,4-dimethoxythiophene, 3,4-diethoxythiol 3,4-dipropoxythiophene, 3,4-dibutoxythiophene, 3,4-dihexyloxythiophene, 3,4-diheptyloxythiophene, 3,4-dioctyloxythiophene, 3,4-didecyloxy Thiophene, 3,4-didodecyloxythiophene, 3,4-ethylenedioxythiophene, 3,4-propylenedioxythiophene, 3,4-butenedioxythiophene, 3-methyl-4-methoxythiophene, 3-methyl -4-ethoxythiophene, 3-carboxythiophene, 3-methyl-4-carboxythiophene, 3-methyl-4-carboxyethylthiophene, 3-methyl-4-carboxybutylthiophene, aniline, 2-methylaniline, 3-isobutyl Aniline, 2-aniline sulfonic acid, 3-aniline A sulfonic acid etc. are mentioned.

(ポリアニオン)
ポリアニオンは、置換若しくは未置換のポリアルキレン、置換若しくは未置換のポリアルケニレン、置換若しくは未置換のポリイミド、置換若しくは未置換のポリアミド、置換若しくは未置換のポリエステル及びこれらの共重合体であって、アニオン性基を有する構成単位とアニオン性基を有さない構成単位とからなるものである。
(Polyanion)
The polyanion is a substituted or unsubstituted polyalkylene, a substituted or unsubstituted polyalkenylene, a substituted or unsubstituted polyimide, a substituted or unsubstituted polyamide, a substituted or unsubstituted polyester, and a copolymer thereof. It consists of a structural unit having a functional group and a structural unit having no anionic group.

このポリアニオンは、π共役系導電性高分子を溶媒に可溶化させる可溶化高分子である。また、ポリアニオンのアニオン性基は、π共役系導電性高分子に対するドーパントとして機能して、π共役系導電性高分子の導電性と耐熱性を向上させる。   This polyanion is a solubilized polymer that solubilizes the π-conjugated conductive polymer in a solvent. The anionic group of the polyanion functions as a dopant for the π-conjugated conductive polymer, and improves the conductivity and heat resistance of the π-conjugated conductive polymer.

ポリアニオンのアニオン性基としては、π共役系導電性高分子への化学酸化ドープが起こりうる官能基であればよいが、中でも、製造の容易さ及び安定性の観点からは、一置換硫酸エステル基、一置換リン酸エステル基、リン酸基、カルボキシ基、スルホ基等が好ましい。さらに、官能基のπ共役系導電性高分子へのドープ効果の観点より、スルホ基、一置換硫酸エステル基、カルボキシ基がより好ましい。   The anionic group of the polyanion may be any functional group that can undergo chemical oxidation doping to the π-conjugated conductive polymer. Among them, from the viewpoint of ease of production and stability, a monosubstituted sulfate group A monosubstituted phosphate group, a phosphate group, a carboxy group, a sulfo group and the like are preferable. Furthermore, from the viewpoint of the doping effect of the functional group on the π-conjugated conductive polymer, a sulfo group, a monosubstituted sulfate group, and a carboxy group are more preferable.

ポリアニオンの具体例としては、ポリビニルスルホン酸、ポリスチレンスルホン酸、ポリアリルスルホン酸、ポリアクリル酸エチルスルホン酸、ポリアクリル酸ブチルスルホン酸、ポリ−2−アクリルアミド−2−メチルプロパンスルホン酸、ポリイソプレンスルホン酸、ポリビニルカルボン酸、ポリスチレンカルボン酸、ポリアリルカルボン酸、ポリアクリルカルボン酸、ポリメタクリルカルボン酸、ポリ−2−アクリルアミド−2−メチルプロパンカルボン酸、ポリイソプレンカルボン酸、ポリアクリル酸等が挙げられる。これらの単独重合体であってもよいし、2種以上の共重合体であってもよい。   Specific examples of polyanions include polyvinyl sulfonic acid, polystyrene sulfonic acid, polyallyl sulfonic acid, polyacrylic acid ethyl sulfonic acid, polyacrylic acid butyl sulfonic acid, poly-2-acrylamido-2-methylpropane sulfonic acid, polyisoprene sulfone. Examples include acid, polyvinyl carboxylic acid, polystyrene carboxylic acid, polyallyl carboxylic acid, polyacryl carboxylic acid, polymethacryl carboxylic acid, poly-2-acrylamido-2-methylpropane carboxylic acid, polyisoprene carboxylic acid, polyacrylic acid and the like. . These homopolymers may be sufficient and 2 or more types of copolymers may be sufficient.

また、化合物内にフッ素(F)を有するポリアニオンであっても良い。具体的には、パーフルオロスルホ基を含有するナフィオン(Dupont社製)、カルボン酸基を含有するパーフルオロ型ビニルエーテルからなるフレミオン(旭硝子社製)などをあげることができる。   Moreover, the polyanion which has a fluorine (F) in a compound may be sufficient. Specifically, Nafion (manufactured by Dupont) containing a perfluorosulfo group, Flemion (manufactured by Asahi Glass Co., Ltd.) made of perfluoro vinyl ether containing a carboxylic acid group, and the like can be mentioned.

これらのうち、スルホ基を有する化合物であると、導電性ポリマー含有層を塗布、乾燥することによって形成した後に、100℃以上200℃以下の温度で5分以上の加熱処理を施した場合、この塗布膜の洗浄耐性や溶媒耐性が著しく向上することから、より好ましい。   Among these, when the compound having a sulfo group is formed by applying and drying the conductive polymer-containing layer, the heat treatment is performed at a temperature of 100 ° C. or more and 200 ° C. or less for 5 minutes or more. It is more preferable because the cleaning resistance and solvent resistance of the coating film are remarkably improved.

さらに、これらの中でも、ポリスチレンスルホン酸、ポリイソプレンスルホン酸、ポリアクリル酸エチルスルホン酸、ポリアクリル酸ブチルスルホン酸が好ましい。これらのポリアニオンは、バインダー樹脂との相溶性が高く、また、得られる導電性ポリマーの導電性をより高くできる。   Furthermore, among these, polystyrene sulfonic acid, polyisoprene sulfonic acid, polyacrylic acid ethylsulfonic acid, and polyacrylic acid butylsulfonic acid are preferable. These polyanions have high compatibility with the binder resin, and can further increase the conductivity of the obtained conductive polymer.

ポリアニオンの重合度は、モノマー単位が10〜100000個の範囲であることが好ましく、溶媒溶解性及び導電性の点からは、50〜10000個の範囲がより好ましい。   The degree of polymerization of the polyanion is preferably in the range of 10 to 100,000 monomer units, and more preferably in the range of 50 to 10,000 from the viewpoint of solvent solubility and conductivity.

ポリアニオンの製造方法としては、例えば、酸を用いてアニオン性基を有さないポリマーにアニオン性基を直接導入する方法、アニオン性基を有さないポリマーをスルホ化剤によりスルホン酸化する方法、アニオン性基含有重合性モノマーの重合により製造する方法が挙げられる。   Examples of the method for producing a polyanion include a method of directly introducing an anionic group into a polymer having no anionic group using an acid, a method of sulfonating a polymer having no anionic group with a sulfonating agent, an anion And a method of producing the polymerizable group-containing polymerizable monomer by polymerization.

アニオン性基含有重合性モノマーの重合により製造する方法は、溶媒中、アニオン性基含有重合性モノマーを、酸化剤及び/又は重合触媒の存在下で、酸化重合又はラジカル重合によって製造する方法が挙げられる。具体的には、所定量のアニオン性基含有重合性モノマーを溶媒に溶解させ、これを一定温度に保ち、それに予め溶媒に所定量の酸化剤及び/又は重合触媒を溶解した溶液を添加し、所定時間で反応させる。その反応により得られたポリマーは溶媒によって一定の濃度に調整される。この製造方法において、アニオン性基含有重合性モノマーにアニオン性基を有さない重合性モノマーを共重合させてもよい。アニオン性基含有重合性モノマーの重合に際して使用する酸化剤及び酸化触媒、溶媒は、π共役系導電性高分子を形成する前駆体モノマーを重合する際に使用するものと同様である。   Examples of the method for producing an anionic group-containing polymerizable monomer by polymerization include a method for producing an anionic group-containing polymerizable monomer in a solvent by oxidative polymerization or radical polymerization in the presence of an oxidizing agent and / or a polymerization catalyst. It is done. Specifically, a predetermined amount of the anionic group-containing polymerizable monomer is dissolved in a solvent, this is maintained at a constant temperature, and a solution in which a predetermined amount of an oxidizing agent and / or a polymerization catalyst is dissolved in the solvent is added to the solvent. The reaction is performed for a predetermined time. The polymer obtained by the reaction is adjusted to a certain concentration by the solvent. In this production method, a polymerizable monomer having no anionic group may be copolymerized with the anionic group-containing polymerizable monomer. The oxidizing agent, oxidation catalyst, and solvent used in the polymerization of the anionic group-containing polymerizable monomer are the same as those used in the polymerization of the precursor monomer that forms the π-conjugated conductive polymer.

得られたポリマーがポリアニオン塩である場合には、ポリアニオン酸に変質させることが好ましい。アニオン酸に変質させる方法としては、イオン交換樹脂を用いたイオン交換法、透析法、限外ろ過法等が挙げられ、これらの中でも、作業が容易な点から限外ろ過法が好ましい。   When the obtained polymer is a polyanionic salt, it is preferably transformed into a polyanionic acid. Examples of the method for converting to an anionic acid include an ion exchange method using an ion exchange resin, a dialysis method, an ultrafiltration method, and the like. Among these, the ultrafiltration method is preferable from the viewpoint of easy work.

こうした導電性ポリマーは市販の材料も好ましく利用できる。例えば、ポリ(3,4−エチレンジオキシチオフェン)とポリスチレンスルホン酸からなる導電性ポリマー(PEDOT−PSSと略す)が、H.C.Starck社からCleviosシリーズとして、Aldrich社からPEDOT−PSSの483095、560596として、Nagase Chemtex社からDenatronシリーズとして市販されている。また、ポリアニリンが、日産化学社からORMECONシリーズとして市販されている。本発明において、こうした剤も好ましく用いることができる。   A commercially available material can be preferably used for such a conductive polymer. For example, a conductive polymer (abbreviated as PEDOT-PSS) composed of poly (3,4-ethylenedioxythiophene) and polystyrenesulfonic acid is described in H.C. C. It is commercially available from Starck as the Clevios series, from Aldrich as PEDOT-PSS 483095, 560596, and from Nagase Chemtex as the Denatron series. Polyaniline is also commercially available from Nissan Chemical as the ORMECON series. In the present invention, such an agent can also be preferably used.

2nd.ドーパントとして水溶性有機化合物を含有してもよい。本発明で用いることができる水溶性有機化合物には特に制限はなく、公知のものの中から適宜選択することができ、例えば、酸素含有化合物が好適に挙げられる。前記酸素含有化合物としては、酸素を含有する限り特に制限はなく、例えば、ヒドロキシル基(水酸基)含有化合物、カルボニル基含有化合物、エーテル基含有化合物、スルホキシド基含有化合物などが挙げられる。前記ヒドロキシル基(水酸基)含有化合物としては、例えば、エチレングリコール、ジエチレングリコール、プロピレングリコール、トリメチレングリコール、1,4−ブタンジオール、グリセリンなどが挙げられ、これらの中でも、エチレングリコール、ジエチレングリコールが好ましい。前記カルボニル基含有化合物としては、例えば、イソホロン、プロピレンカーボネート、シクロヘキサノン、γ−ブチロラクトンなどが挙げられる。前記エーテル基含有化合物としては、例えば、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、などが挙げられる。前記スルホキシド基含有化合物としては、例えば、ジメチルスルホキシドなどが挙げられる。これらは、1種単独で使用してもよいし、2種以上を併用してもよいが、ジメチルスルホキシド、エチレングリコール、ジエチレングリコールから選ばれる少なくとも1種を用いることが好ましい。   2nd. A water-soluble organic compound may be contained as a dopant. There is no restriction | limiting in particular in the water-soluble organic compound which can be used by this invention, It can select suitably from well-known things, For example, an oxygen containing compound is mentioned suitably. The oxygen-containing compound is not particularly limited as long as it contains oxygen, and examples thereof include a hydroxyl group (hydroxyl group) -containing compound, a carbonyl group-containing compound, an ether group-containing compound, and a sulfoxide group-containing compound. Examples of the hydroxyl group (hydroxyl group) -containing compound include ethylene glycol, diethylene glycol, propylene glycol, trimethylene glycol, 1,4-butanediol, and glycerin. Among these, ethylene glycol and diethylene glycol are preferable. Examples of the carbonyl group-containing compound include isophorone, propylene carbonate, cyclohexanone, and γ-butyrolactone. Examples of the ether group-containing compound include diethylene glycol monoethyl ether. Examples of the sulfoxide group-containing compound include dimethyl sulfoxide. These may be used alone or in combination of two or more, but at least one selected from dimethyl sulfoxide, ethylene glycol, and diethylene glycol is preferably used.

(ポリマー(A))
本発明の導電性ポリマー層は、バインダー樹脂として、前記一般式(I)で表される構造単位を有するポリマー、及び、前記一般式(I)及び前記一般式(II)で表される構造単位を有するコポリマーの少なくとも何れかを有するポリマー(A)を含有することを特徴とする。
(Polymer (A))
The conductive polymer layer of the present invention includes, as a binder resin, a polymer having a structural unit represented by the general formula (I), and a structural unit represented by the general formula (I) and the general formula (II). It contains the polymer (A) which has at least any one of the copolymer which has these.

前記一般式(I)及び前記一般式(II)で表される構造単位について説明する。   The structural units represented by the general formula (I) and the general formula (II) will be described.

一般式(I)で表される構造単位において、Rは水素原子、メチル基を表す。また、Qは−C(=O)O−、−C(=O)NRa−を表し、Raは水素原子、アルキル基を表す。アルキル基は、例えば炭素原子数1〜5の直鎖、或いは分岐アルキル基が好ましく、より好ましくはメチル基である。また、これらのアルキル基は置換基で置換されていても良い。これら置換基の例としては、アルキル基、シクロアルキル基、アリール基、ヘテロシクロアルキル基、ヘテロアリール基、ヒドロキシ基、ハロゲン原子、アルコキシ基、アルキルチオ基、アリールチオ基、シクロアルコキシ基、アリールオキシ基、アシル基、アルキルカルボンアミド基、アリールカルボンアミド基、アルキルスルホンアミド基、アリールスルホンアミド基、ウレイド基、アラルキル基、ニトロ基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、アラルキルオキシカルボニル基、アルキルカルバモイル基、アリールカルバモイル基、アルキルスルファモイル基、アリールスルファモイル基、アシルオキシ基、アルケニル基、アルキニル基、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基、アルキルオキシスルホニル基、アリールオキシスルホニル基、アルキルスルホニルオキシ基、アリールスルホニルオキシ基等で置換されても良い。これらのうち好ましくは、ヒドロキシ基、アルキルオキシ基である。   In the structural unit represented by the general formula (I), R represents a hydrogen atom or a methyl group. Q represents —C (═O) O— or —C (═O) NRa—, and Ra represents a hydrogen atom or an alkyl group. The alkyl group is preferably a linear or branched alkyl group having 1 to 5 carbon atoms, and more preferably a methyl group. These alkyl groups may be substituted with a substituent. Examples of these substituents include alkyl groups, cycloalkyl groups, aryl groups, heterocycloalkyl groups, heteroaryl groups, hydroxy groups, halogen atoms, alkoxy groups, alkylthio groups, arylthio groups, cycloalkoxy groups, aryloxy groups, Acyl group, alkylcarbonamide group, arylcarbonamide group, alkylsulfonamide group, arylsulfonamide group, ureido group, aralkyl group, nitro group, alkoxycarbonyl group, aryloxycarbonyl group, aralkyloxycarbonyl group, alkylcarbamoyl group, Arylcarbamoyl group, alkylsulfamoyl group, arylsulfamoyl group, acyloxy group, alkenyl group, alkynyl group, alkylsulfonyl group, arylsulfonyl group, alkyloxysulfonyl , Aryloxy sulfonyl group, alkylsulfonyloxy group, may be substituted with an aryl sulfonyloxy group. Of these, a hydroxy group and an alkyloxy group are preferable.

上記アルキル基は分岐を有していてもよく、炭素原子数は、1〜20であることが好ましく、1〜12であることがより好ましく、1〜8であることが更に好ましい。アルキル基の例には、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、t−ブチル基、ヘキシル基、オクチル基等が含まれる。   The alkyl group may have a branch, and the number of carbon atoms is preferably 1 to 20, more preferably 1 to 12, and still more preferably 1 to 8. Examples of the alkyl group include methyl group, ethyl group, propyl group, isopropyl group, butyl group, t-butyl group, hexyl group, octyl group and the like.

上記シクロアルキル基の炭素原子数は、3〜20であることが好ましく、3〜12であることがより好ましく、3〜8であることが更に好ましい。シクロアルキル基の例には、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基及びシクロヘキシル基が含まれる。上記アルコキシ基は、分岐を有していてもよく、炭素原子数は1〜20であることが好ましく、1〜12であることがより好ましく、1〜6であることが更に好ましく、1〜4であることが最も好ましい。アルコキシ基の例としては、メトキシ基、エトキシ基、2−メトキシエトキシ基、2−メトキシ−2−エトキシエトキシ基、ブチルオキシ基、ヘキシルオキシ基及びオクチルオキシ基が含まれ、好ましくはエトキシ基である。上記アルキルチオ基の炭素数は、分岐を有していてもよく、炭素原子数は1〜20であることが好ましく、1〜12であることがより好ましく、1〜6であることが更に好ましく、1〜4であることが最も好ましい。アルキルチオ基の例としては、メチルチオ基、エチルチオ基等が含まれる。上記アリールチオ基の炭素数は、6〜20であることが好ましく、6〜12であることが更に好ましい。アリールチオ基の例にはフェニルチオ基及びナフチルチオ基等が含まれる。上記シクロアルコキシ基の炭素原子数は、3〜12であることが好ましく、より好ましくは3〜8である。シクロアルコキシ基の例には、シクロプロポキシ基、シクロブチロキシ基、シクロペンチロキシ基及びシクロヘキシロキシ基が含まれる。上記アリール基の炭素原子数は6〜20であることが好ましく、6〜12であることが更に好ましい。アリール基の例にはフェニル基及びナフチル基が含まれる。上記アリールオキシ基の炭素原子数は6〜20であることが好ましく、6〜12であることが更に好ましい。アリールオキシ基の例にはフェノキシ基及びナフトキシ基が含まれる。上記ヘテロシクロアルキル基の炭素原子数は、2〜10であることが好ましく、3〜5であることが更に好ましい。ヘテロシクロアルキル基の例にはピペリジノ基、ジオキサニル基及び2−モルホリニル基が含まれる。上記ヘテロアリール基の炭素原子数は、3〜20であることが好ましく、3〜10であることが更に好ましい。ヘテロアリール基の例にはチエニル基、ピリジル基が含まれる。上記アシル基の炭素原子数は1〜20であることが好ましく、1〜12であることが更に好ましい。アシル基の例にはホルミル基、アセチル基及びベンゾイル基が含まれる。上記アルキルカルボンアミド基の炭素原子数は1〜20であることが好ましく、1〜12であることが更に好ましい。アルキルカルボンアミド基の例にはアセトアミド基等が含まれる。上記アリールカルボンアミド基の炭素原子数は1〜20であることが好ましく、1〜12であることが更に好ましい。アリールカルボンアミド基の例にはベンズアミド基等が含まれる。上記アルキルスルホンアミド基の炭素原子数は1〜20であることが好ましく、1〜12であることが更に好ましい。スルホンアミド基の例にはメタンスルホンアミド基等が含まれる上記アリールスルホンアミド基の炭素原子数は1〜20であることが好ましく、1〜12であることが更に好ましい。アリールスルホンアミド基の例には、ベンゼンスルホンアミド基及びp−トルエンスルホンアミドが基含まれる。上記アラルキル基の炭素原子数は7〜20であることが好ましく、7〜12であることが更に好ましい。アラルキル基の例にはベンジル基、フェネチル基及びナフチルメチル基が含まれる。上記アルコキシカルボニル基の炭素原子数は1〜20であることが好ましく、2〜12であることが更に好ましい。アルコキシカルボニル基の例にはメトキシカルボニル基が含まれる。上記アリールオキシカルボニル基の炭素原子数は7〜20であることが好ましく、7〜12であることが更に好ましい。アリールオキシカルボニル基の例にはフェノキシカルボニル基が含まれる。上記アラルキルオキシカルボニル基の炭素原子数は8〜20であることが好ましく、8〜12であることが更に好ましい。アラルキルオキシカルボニル基の例にはベンジルオキシカルボニル基が含まれる。上記アシルオキシ基の炭素原子数は1〜20であることが好ましく、2〜12であることが更に好ましい。アシルオキシ基の例にはアセトキシ基及びベンゾイルオキシ基が含まれる。上記アルケニル基の炭素原子数は2〜20であることが好ましく、2〜12であることが更に好ましい。アルケニル基の例に、ビニル基、アリル基及びイソプロペニル基が含まれる。上記アルキニル基の炭素原子数は2〜20であることが好ましく、2〜12であることが更に好ましい。アルキニル基の例にはエチニル基が含まれる。上記アルキルスルホニル基の炭素原子数は1〜20であることが好ましく、1〜12であることが更に好ましい。アルキルスルホニル基の例に、メチルスルホニル基、エチルスルホニル基が含まれる。上記アリールスルホニル基の炭素原子数は6〜20であることが好ましく、6〜12であることが更に好ましい。アリールスルホニル基の例に、フェニルスルホニル基、ナフチルスルホニル基が含まれる。上記アルキルオキシスルホニル基の炭素原子数は1〜20あることが好ましく、1〜12であることが更に好ましい。アルキルオキシスルホニル基の例に、メトキシスルホニル基、エトキシスルホニル基が含まれる。上記アリールオキシスルホニル基の炭素原子数は6〜20であることが好ましく、6〜12であることが更に好ましい。アリールオキシスルホニル基の例に、フェノキシスルホニル基、ナフトキシスルホニル基が含まれる。上記アルキルスルホニルオキシ基の炭素原子数は1〜20であることが好ましく、1〜12であることが更に好ましい。アルキルスルホニルオキシ基の例に、メチルスルホニルオキシ基、エチルスルホニルオキシ基が含まれる。   The number of carbon atoms of the cycloalkyl group is preferably 3-20, more preferably 3-12, and still more preferably 3-8. Examples of the cycloalkyl group include a cyclopropyl group, a cyclobutyl group, a cyclopentyl group, and a cyclohexyl group. The alkoxy group may have a branch, and the number of carbon atoms is preferably 1 to 20, more preferably 1 to 12, still more preferably 1 to 6, and further preferably 1 to 4. Most preferably. Examples of the alkoxy group include a methoxy group, an ethoxy group, a 2-methoxyethoxy group, a 2-methoxy-2-ethoxyethoxy group, a butyloxy group, a hexyloxy group and an octyloxy group, and preferably an ethoxy group. The number of carbon atoms of the alkylthio group may be branched, and the number of carbon atoms is preferably 1 to 20, more preferably 1 to 12, still more preferably 1 to 6, Most preferably, it is 1-4. Examples of the alkylthio group include a methylthio group and an ethylthio group. The arylthio group preferably has 6 to 20 carbon atoms, and more preferably 6 to 12 carbon atoms. Examples of the arylthio group include a phenylthio group and a naphthylthio group. The number of carbon atoms of the cycloalkoxy group is preferably 3-12, more preferably 3-8. Examples of the cycloalkoxy group include a cyclopropoxy group, a cyclobutoxy group, a cyclopentyloxy group, and a cyclohexyloxy group. The aryl group preferably has 6 to 20 carbon atoms, and more preferably 6 to 12 carbon atoms. Examples of the aryl group include a phenyl group and a naphthyl group. The aryloxy group preferably has 6 to 20 carbon atoms, and more preferably 6 to 12 carbon atoms. Examples of the aryloxy group include a phenoxy group and a naphthoxy group. The heterocycloalkyl group preferably has 2 to 10 carbon atoms, and more preferably 3 to 5 carbon atoms. Examples of the heterocycloalkyl group include a piperidino group, a dioxanyl group, and a 2-morpholinyl group. The heteroaryl group preferably has 3 to 20 carbon atoms, and more preferably 3 to 10 carbon atoms. Examples of the heteroaryl group include a thienyl group and a pyridyl group. The acyl group preferably has 1 to 20 carbon atoms, and more preferably 1 to 12 carbon atoms. Examples of the acyl group include a formyl group, an acetyl group, and a benzoyl group. The alkylcarbonamide group preferably has 1 to 20 carbon atoms, and more preferably 1 to 12 carbon atoms. Examples of the alkylcarbonamide group include an acetamide group. The arylcarbonamide group preferably has 1 to 20 carbon atoms, and more preferably 1 to 12 carbon atoms. Examples of the arylcarbonamide group include a benzamide group and the like. The alkylsulfonamide group preferably has 1 to 20 carbon atoms, and more preferably 1 to 12 carbon atoms. Examples of the sulfonamido group include a methanesulfonamido group and the like, and the arylsulfonamido group preferably has 1 to 20 carbon atoms, and more preferably 1 to 12 carbon atoms. Examples of the arylsulfonamide group include a benzenesulfonamide group and p-toluenesulfonamide group. The number of carbon atoms in the aralkyl group is preferably 7-20, and more preferably 7-12. Examples of the aralkyl group include a benzyl group, a phenethyl group, and a naphthylmethyl group. The alkoxycarbonyl group preferably has 1 to 20 carbon atoms, more preferably 2 to 12 carbon atoms. Examples of the alkoxycarbonyl group include a methoxycarbonyl group. The aryloxycarbonyl group preferably has 7 to 20 carbon atoms, and more preferably 7 to 12 carbon atoms. Examples of the aryloxycarbonyl group include a phenoxycarbonyl group. The aralkyloxycarbonyl group preferably has 8 to 20 carbon atoms, and more preferably 8 to 12 carbon atoms. Examples of the aralkyloxycarbonyl group include a benzyloxycarbonyl group. The acyloxy group preferably has 1 to 20 carbon atoms, and more preferably 2 to 12 carbon atoms. Examples of the acyloxy group include an acetoxy group and a benzoyloxy group. The alkenyl group has preferably 2 to 20 carbon atoms, and more preferably 2 to 12 carbon atoms. Examples of the alkenyl group include vinyl group, allyl group and isopropenyl group. The alkynyl group preferably has 2 to 20 carbon atoms, and more preferably 2 to 12 carbon atoms. Examples of the alkynyl group include an ethynyl group. The alkylsulfonyl group preferably has 1 to 20 carbon atoms, and more preferably 1 to 12 carbon atoms. Examples of the alkylsulfonyl group include a methylsulfonyl group and an ethylsulfonyl group. The arylsulfonyl group preferably has 6 to 20 carbon atoms, and more preferably 6 to 12 carbon atoms. Examples of the arylsulfonyl group include a phenylsulfonyl group and a naphthylsulfonyl group. The alkyloxysulfonyl group preferably has 1 to 20 carbon atoms, and more preferably 1 to 12 carbon atoms. Examples of the alkyloxysulfonyl group include a methoxysulfonyl group and an ethoxysulfonyl group. The aryloxysulfonyl group preferably has 6 to 20 carbon atoms, and more preferably 6 to 12 carbon atoms. Examples of the aryloxysulfonyl group include a phenoxysulfonyl group and a naphthoxysulfonyl group. The alkylsulfonyloxy group preferably has 1 to 20 carbon atoms, and more preferably 1 to 12 carbon atoms. Examples of the alkylsulfonyloxy group include a methylsulfonyloxy group and an ethylsulfonyloxy group.

上記アリールスルホニルオキシ基の炭素原子数は6〜20であることが好ましく、6〜12であることが更に好ましい。アリールスルホニルオキシ基の例に、フェニルスルホニルオキシ基、ナフチルスルホニルオキシ基が含まれる。置換基は同一でも異なっていても良く、これら置換基が更に置換されても良い。   The number of carbon atoms of the arylsulfonyloxy group is preferably 6-20, and more preferably 6-12. Examples of the arylsulfonyloxy group include a phenylsulfonyloxy group and a naphthylsulfonyloxy group. The substituents may be the same or different, and these substituents may be further substituted.

本発明一般式(I)で表される構造単位において、Aは置換或いは無置換アルキレン基、−(CHCHRbO)−(CHCHRb)−を表す。アルキレン基は、例えば炭素原子数1〜5が好ましく、より好ましくはエチレン基、プロピレン基である。これらのアルキレン基は前述した置換基で置換されていても良い。また、Rbは水素原子、アルキル基を表す。アルキル基は、例えば炭素原子数1〜5の直鎖、或いは分岐アルキル基が好ましく、より好ましくはメチル基である。また、これらのアルキル基は前述の置換基で置換されていても良い。更に、xは平均繰り返しユニット数を表し、1〜100が好ましく、より好ましくは1〜10である。繰り返しユニット数は分布を有しており、表記は平均値を示し、小数点以下1桁で表記しても良い。 In the structural unit represented by the general formula (I) of the present invention, A represents a substituted or unsubstituted alkylene group, — (CH 2 CHRbO) x — (CH 2 CHRb) —. The alkylene group preferably has, for example, 1 to 5 carbon atoms, more preferably an ethylene group or a propylene group. These alkylene groups may be substituted with the above-described substituents. Rb represents a hydrogen atom or an alkyl group. The alkyl group is preferably a linear or branched alkyl group having 1 to 5 carbon atoms, and more preferably a methyl group. Further, these alkyl groups may be substituted with the above-described substituents. Furthermore, x represents the average number of repeating units, preferably 1 to 100, more preferably 1 to 10. The number of repeating units has a distribution, the notation indicates an average value, and may be expressed by one digit after the decimal point.

本発明一般式(II)で表される構造単位において、R、Q、Ra、A、Rb、xは一般式(I)で定義した内容と同義である。   In the structural unit represented by the general formula (II) of the present invention, R, Q, Ra, A, Rb, and x have the same meaning as defined in the general formula (I).

一般式(II)で表される構造単位において、yは0、1を表す。また、Zはアルキル基、−O−C(=O)−Rc、−O−SO−Rd、−O−SiReを表し、アルキル基は、例えば炭素原子数1〜12が好ましく、より好ましくはメチル基、エチル基で、更に好ましくはメチル基である。これらのアルキル基は前述した置換基で置換されても良い。Rc、Rd、Reはアルキル基、パーフルオロアルキル基、アリール基を表し、アルキル基は、例えば炭素原子数1〜12が好ましく、より好ましくはメチル基、エチル基で、更に好ましくはメチル基である。これらのアルキル基は前述した置換基で置換されても良い。パーフルオロアルキル基は、例えば炭素原子数1〜8が好ましく、より好ましくはトリフルオロメチル基、ペンタフルオロエチル基で、更に好ましくはトリフルオロメチル基である。アリール基は、例えばフェニル基、トルイル基が好ましく、より好ましくはトルイル基である。更に、これらのアルキル基、パーフルオロアルキル基、アリール基は前述した置換基で置換されても良い。 In the structural unit represented by the general formula (II), y represents 0 or 1. Z represents an alkyl group, —O—C (═O) —Rc, —O—SO 2 —Rd, —O—SiRe 3 , and the alkyl group preferably has, for example, 1 to 12 carbon atoms, and more preferably Is a methyl group or an ethyl group, more preferably a methyl group. These alkyl groups may be substituted with the substituent described above. Rc, Rd, and Re represent an alkyl group, a perfluoroalkyl group, and an aryl group. The alkyl group preferably has, for example, 1 to 12 carbon atoms, more preferably a methyl group or an ethyl group, and still more preferably a methyl group. . These alkyl groups may be substituted with the substituent described above. The perfluoroalkyl group preferably has, for example, 1 to 8 carbon atoms, more preferably a trifluoromethyl group or a pentafluoroethyl group, still more preferably a trifluoromethyl group. The aryl group is preferably, for example, a phenyl group or a toluyl group, and more preferably a toluyl group. Furthermore, these alkyl groups, perfluoroalkyl groups, and aryl groups may be substituted with the above-described substituents.

以下に一般式(I)、一般式(II)で表される構造単位の代表的具体例を示すが、本発明はこれらによって限定されるものではない。   Typical examples of the structural units represented by general formula (I) and general formula (II) are shown below, but the present invention is not limited thereto.

Figure 2011216468
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Figure 2011216468
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Figure 2011216468
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本発明に係るバインダー樹脂において、一般式(I)で表される構造単位のモル比は全体の3%から100%が好ましく、より好ましくは5%から50%である。   In the binder resin according to the present invention, the molar ratio of the structural unit represented by the general formula (I) is preferably 3% to 100%, more preferably 5% to 50%.

本発明のバインダー樹脂は一般式(I)で表される構造単位と一般式(II)で表される構造単位以外に第3の構造単位を併用することが出来る。その場合は、第3の構造単位は50%以下が好ましい。   In the binder resin of the present invention, a third structural unit can be used in addition to the structural unit represented by the general formula (I) and the structural unit represented by the general formula (II). In that case, the third structural unit is preferably 50% or less.

第3の構造単位としては、一般式(I)、(II)で表される構造単位と共重合可能な重合性モノマーが好ましく、例えば、スチレン誘導体(例えば、スチレン、α−メチルスチレン、o−メチルスチレン、m−メチルスチレン、p−メチルスチレン、ビニルナフタレンなど)、アクリロニトリル、メタクリロニトリル、塩化ビニル、酢酸ビニルなどが挙げられる。   The third structural unit is preferably a polymerizable monomer copolymerizable with the structural units represented by the general formulas (I) and (II). For example, styrene derivatives (for example, styrene, α-methylstyrene, o- Methyl styrene, m-methyl styrene, p-methyl styrene, vinyl naphthalene, etc.), acrylonitrile, methacrylonitrile, vinyl chloride, vinyl acetate and the like.

本発明に係るバインダー樹脂において、一般式(I)で表される構造単位のモル比は全体の3%から100%が好ましく、より好ましくは5%から50%である。   In the binder resin according to the present invention, the molar ratio of the structural unit represented by the general formula (I) is preferably 3% to 100%, more preferably 5% to 50%.

本発明のバインダー樹脂は汎用的な重合触媒を用いたラジカル重合により得ることができる。重合様式としては、塊状重合、溶液重合、懸濁重合、乳化重合等が挙げられ、好ましくは溶液重合である。重合温度は、使用する開始剤によって異なるが、一般に−10〜250℃、好ましくは0〜200℃、より好ましくは10〜100℃で実施される。   The binder resin of the present invention can be obtained by radical polymerization using a general-purpose polymerization catalyst. Examples of the polymerization mode include bulk polymerization, solution polymerization, suspension polymerization, emulsion polymerization and the like, preferably solution polymerization. The polymerization temperature varies depending on the initiator used, but is generally -10 to 250 ° C, preferably 0 to 200 ° C, more preferably 10 to 100 ° C.

本発明のバインダー樹脂の分子量は3,000〜2,000,000の範囲が好ましく、より好ましくは4,000〜500,000、更に好ましくは5000〜100000の範囲内である。   The molecular weight of the binder resin of the present invention is preferably in the range of 3,000 to 2,000,000, more preferably 4,000 to 500,000, and still more preferably 5,000 to 100,000.

本発明のバインダー樹脂の数平均分子量、分子量分布の測定は、一般的に知られているゲルパーミエーションクロマトグラフィー(GPC)により行うことができる。使用する溶媒は、バインダー樹脂が溶解すれば特に限りはなく、THF(テトラヒドロフラン)、DMF(ジメチルホルムアミド)、CHClが好ましく、より好ましくはTHF、DMFであり、更に好ましくはDMFである。また、測定温度も特に制限はないが40℃が好ましい。 The number average molecular weight and molecular weight distribution of the binder resin of the present invention can be measured by generally known gel permeation chromatography (GPC). The solvent to be used is not particularly limited as long as the binder resin dissolves, and THF (tetrahydrofuran), DMF (dimethylformamide), and CH 2 Cl 2 are preferable, more preferably THF and DMF, and still more preferably DMF. The measurement temperature is not particularly limited, but 40 ° C. is preferable.

導電性ポリマーと一ポリマー(A)との比率は、導電性ポリマーを100質量部とした時、ポリマー(A)が30〜900質量部であることが好ましく、100質量部以上であることがより好ましい。   The ratio of the conductive polymer to one polymer (A) is preferably 30 to 900 parts by mass, more preferably 100 parts by mass or more, when the conductive polymer is 100 parts by mass. preferable.

これにより、透過率を低下させることなく、ポリマー(A)の導電性ポリマーに対する導電性アシスト効果が発現され、高い透明性と導電性が両立できる。   Thereby, the conductive assist effect with respect to the conductive polymer of the polymer (A) is expressed without reducing the transmittance, and both high transparency and conductivity can be achieved.

導電性ポリマー層を塗布した後、適宜乾燥処理を施す。乾燥処理の条件として特に制限はないが、基材や導電性ポリマー含有層が損傷しない範囲の温度で乾燥処理することが好ましい。特に、ポリアニオンがスルホン酸を有するポリアニオンである場合、塗布乾燥により、膜を形成した後に、100〜200℃の範囲内の温度で3分以上の追加の加熱処理を施すことが好ましい。これにより、導電性ポリマー含有層の洗浄耐性、溶媒耐性が著しく向上する。また、保存性も向上する。処理温度としては110〜160℃であることがより好ましく、処理時間としては5分以上であることがより好ましい。処理時間の上限は特にないが、生産性を考えると120分以下であることが好ましい。   After apply | coating a conductive polymer layer, a drying process is performed suitably. Although there is no restriction | limiting in particular as conditions of a drying process, It is preferable to dry-process at the temperature of the range which does not damage a base material and a conductive polymer content layer. In particular, when the polyanion is a polyanion having a sulfonic acid, it is preferable to perform an additional heat treatment for 3 minutes or more at a temperature in the range of 100 to 200 ° C. after forming a film by coating and drying. Thereby, the washing | cleaning tolerance of a conductive polymer content layer and solvent tolerance improve remarkably. In addition, storage stability is improved. The treatment temperature is more preferably 110 to 160 ° C., and the treatment time is more preferably 5 minutes or more. There is no particular upper limit for the treatment time, but it is preferably 120 minutes or less in view of productivity.

導電性ポリマーとポリマー(A)含有層の塗布乾燥膜厚は30〜2000nmであることが好ましい。100nmを切る領域では導電性の低下が大きくなることから100nm以上であることがより好ましく、リーク防止効果をより高める視点からは200nm以上であることがさらに好ましい。また、高い透過率を維持する視点から1000nm以下であることがより好ましい。   It is preferable that the coating dry film thickness of a conductive polymer and a polymer (A) content layer is 30-2000 nm. In the region of less than 100 nm, the decrease in conductivity is large, so that it is more preferably 100 nm or more, and from the viewpoint of further improving the leak prevention effect, it is more preferably 200 nm or more. Further, it is more preferably 1000 nm or less from the viewpoint of maintaining high transmittance.

(バインダー)
本発明のバインダーとしては、可視領域で透明であれば(すなわち、十分な透過率を有すれば)特に限定されない。バインダーとしては、硬化型樹脂が好ましく用いられる。硬化型樹脂としては、熱硬化型樹脂、紫外線硬化型樹脂、電子線硬化型樹脂等が挙げられる。紫外線硬化型樹脂とは紫外線照射により架橋反応等を経て硬化する樹脂で、エチレン性不飽和二重結合を有するモノマーを含む成分が好ましく用いられる。例えば、アクリルウレタン系樹脂、ポリエステルアクリレート系樹脂、エポキシアクリレート系樹脂、ポリオールアクリレート系樹脂等が挙げられる。本発明では、バインダーとしてアクリル系、アクリルウレタン系の紫外線硬化型樹脂を主成分とすることが好ましい。
(binder)
The binder of the present invention is not particularly limited as long as it is transparent in the visible region (that is, has sufficient transmittance). A curable resin is preferably used as the binder. Examples of the curable resin include a thermosetting resin, an ultraviolet curable resin, and an electron beam curable resin. The ultraviolet curable resin is a resin that is cured through a crosslinking reaction or the like by ultraviolet irradiation, and a component containing a monomer having an ethylenically unsaturated double bond is preferably used. For example, acrylic urethane type resin, polyester acrylate type resin, epoxy acrylate type resin, polyol acrylate type resin and the like can be mentioned. In the present invention, it is preferable that an acrylic or acrylic urethane-based ultraviolet curable resin is a main component as a binder.

アクリルウレタン系樹脂は、一般にポリエステルポリオールにイソシアネートモノマー、またはプレポリマーを反応させて得られた生成物にさらに2−ヒドロキシエチルアクリレート、2−ヒドロキシエチルメタクリレート(以下アクリレートにはメタクリレートを包含するものとしてアクリレートのみを表示する)、2−ヒドロキシプロピルアクリレート等の水酸基を有するアクリレート系のモノマーを反応させることによって容易に得ることができる。例えば、特開昭59−151110号に記載のものを用いることができる。例えば、ユニディック17−806(DIC(株)製)100部とコロネートL(日本ポリウレタン(株)製)1部との混合物等が好ましく用いられる。   Acrylic urethane-based resins generally include 2-hydroxyethyl acrylate and 2-hydroxyethyl methacrylate (hereinafter referred to as acrylates including methacrylates) to products obtained by reacting polyester polyols with isocyanate monomers or prepolymers. Can be easily obtained by reacting an acrylate monomer having a hydroxyl group such as 2-hydroxypropyl acrylate. For example, those described in JP-A-59-151110 can be used. For example, a mixture of 100 parts of Unidic 17-806 (manufactured by DIC Corporation) and 1 part of Coronate L (manufactured by Nippon Polyurethane Corporation) is preferably used.

紫外線硬化型ポリエステルアクリレート系樹脂としては、一般にポリエステルポリオールに2−ヒドロキシエチルアクリレート、2−ヒドロキシアクリレート系のモノマーを反応させると容易に形成されるものを挙げることができ、特開昭59−151112号に記載のものを用いることができる。   Examples of UV curable polyester acrylate resins include those which are easily formed when 2-hydroxyethyl acrylate and 2-hydroxy acrylate monomers are generally reacted with polyester polyols. JP-A-59-151112 Can be used.

紫外線硬化型エポキシアクリレート系樹脂の具体例としては、エポキシアクリレートをオリゴマーとし、これに反応性希釈剤、光反応開始剤を添加し、反応させて生成するものを挙げることができ、特開平1−105738号に記載のものを用いることができる。   Specific examples of the ultraviolet curable epoxy acrylate resin include an epoxy acrylate as an oligomer, a reactive diluent and a photoreaction initiator added to the oligomer, and a reaction. Those described in US Pat. No. 105738 can be used.

紫外線硬化型ポリオールアクリレート系樹脂の具体例としては、トリメチロールプロパントリアクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラアクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、アルキル変性ジペンタエリスリトールペンタアクリレート等を挙げることができる。   Specific examples of UV curable polyol acrylate resins include trimethylolpropane triacrylate, ditrimethylolpropane tetraacrylate, pentaerythritol triacrylate, pentaerythritol tetraacrylate, dipentaerythritol hexaacrylate, alkyl-modified dipentaerythritol pentaacrylate, etc. Can be mentioned.

樹脂モノマーとしては、例えば、不飽和二重結合が一つのモノマーとして、メチルアクリレート、エチルアクリレート、ブチルアクリレート、ベンジルアクリレート、シクロヘキシルアクリレート、酢酸ビニル、スチレン等の一般的なモノマーを挙げることができる。また不飽和二重結合を二つ以上持つモノマーとして、エチレングリコールジアクリレート、プロピレングリコールジアクリレート、ジビニルベンゼン、1,4−シクロヘキサンジアクリレート、1,4−シクロヘキシルジメチルアジアクリレート、前出のトリメチロールプロパントリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリルエステル等を挙げることができる。   Examples of the resin monomer may include general monomers such as methyl acrylate, ethyl acrylate, butyl acrylate, benzyl acrylate, cyclohexyl acrylate, vinyl acetate, and styrene as monomers having one unsaturated double bond. In addition, monomers having two or more unsaturated double bonds include ethylene glycol diacrylate, propylene glycol diacrylate, divinylbenzene, 1,4-cyclohexane diacrylate, 1,4-cyclohexyldimethyl adiacrylate, and the above trimethylolpropane. Examples thereof include triacrylate and pentaerythritol tetraacryl ester.

これらの中で、バインダーの主成分として、1,4−シクロヘキサンジアクリレート、ペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、トリメチロールプロパン(メタ)アクリレート、トリメチロールエタン(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレート、1,2,3−シクロヘキサンテトラメタクリレート、ポリウレタンポリアクリレート、ポリエステルポリアクリレートから選択されるアクリル系の活性線硬化樹脂が好ましい。   Among these, 1,4-cyclohexanediacrylate, pentaerythritol tetra (meth) acrylate, pentaerythritol tri (meth) acrylate, trimethylolpropane (meth) acrylate, trimethylolethane (meth) acrylate as the main component of the binder , An acrylic selected from dipentaerythritol tetra (meth) acrylate, dipentaerythritol penta (meth) acrylate, dipentaerythritol hexa (meth) acrylate, 1,2,3-cyclohexanetetramethacrylate, polyurethane polyacrylate, polyester polyacrylate A system active ray curable resin is preferred.

これら紫外線硬化型樹脂の光反応開始剤としては、具体的には、ベンゾイン及びその誘導体、アセトフェノン、ベンゾフェノン、ヒドロキシベンゾフェノン、ミヒラーズケトン、α−アミロキシムエステル、チオキサントン等及びこれらの誘導体を挙げることができる。光増感剤と共に使用してもよい。上記光反応開始剤も光増感剤として使用できる。また、エポキシアクリレート系の光反応開始剤の使用の際、n−ブチルアミン、トリエチルアミン、トリ−n−ブチルホスフィン等の増感剤を用いることができる。紫外線硬化型樹脂組成物に用いられる光反応開始剤また光増感剤は該組成物100質量部に対して0.1〜15質量部であり、好ましくは1〜10質量部である。   Specific examples of the photoreaction initiator of these ultraviolet curable resins include benzoin and its derivatives, acetophenone, benzophenone, hydroxybenzophenone, Michler's ketone, α-amyloxime ester, thioxanthone, and derivatives thereof. You may use with a photosensitizer. The photoinitiator can also be used as a photosensitizer. In addition, when using an epoxy acrylate photoinitiator, a sensitizer such as n-butylamine, triethylamine, or tri-n-butylphosphine can be used. The photoreaction initiator or photosensitizer used in the ultraviolet curable resin composition is 0.1 to 15 parts by weight, preferably 1 to 10 parts by weight, based on 100 parts by weight of the composition.

本発明のバインダーとしては、水溶性バインダー樹脂も好ましく用いられる。水溶性バインダー樹脂とは、水溶性のバインダー樹脂であり、水溶性バインダー樹脂が、25℃の水100gに0.001g以上溶解するバインダー樹脂を意味する。前記溶解は、ヘイズメーター、濁度計で測定することができる。   A water-soluble binder resin is also preferably used as the binder of the present invention. The water-soluble binder resin is a water-soluble binder resin, and means a binder resin in which 0.001 g or more is dissolved in 100 g of water at 25 ° C. The dissolution can be measured with a haze meter or a turbidimeter.

水溶性バインダー樹脂としては透明であることが好ましい。水溶性バインダー樹脂としては、天然ポリマー、合成樹脂やポリマーおよびコポリマー、その他フィルムを形成する媒体であれば、特に限定はない。水溶性バインダーとしては、例えば:ゼラチン、カゼイン、デンプン、アラビアゴム、ポリ(ビニルアルコール)、ポリ(ビニルピロリドン)、カルボキシメチルエーテルセルロース、ヒドロキシエチルセルロース、メチルヒドロキシエチルエーテルセルロース等のセルロース類、キトサン、デキストラン、グアーガム、ポリ(アクリルアミド)、ポリ(アクリルアミド−アクリル酸)、ポリ(アクリル酸)、ポリ(メタクリル酸)、ポリ(アリルアミン)、ポリ(ブタジエン−無水マレイン酸)、ポリ(n−ブチルアクリレート−2−メタクリロイルトリメチルアンモニウムブロミド)、ポリ(3−クロロ−2−ヒドロキシプロピル−2−メタクリロキシトリメチルアンモニウムブロミド)、ポリ(2−ジメチルアミノエチルメタクリレート)、ポリ(エチレングリコール)、ポリ(エチレングリコール)−ビスフェノールA−ジグリシジルエーテル付加体、ポリ(エチレングリコール)ビス2−アミノエチル、ポリ(エチレングリコール)ジメチルエーテル、ポリ(エチレングリコール)モノカルボキシメチルエーテルモノメチルエーテル、ポリ(エチレングリコール)モノメチルエーテル、ポリ(エチレンオキシド)、ポリ(エチレンオキシド−b−プロピレンオキシド)、ポリエチレンイミン、ポリ(2−エチル−2−オキサゾリン)、ポリ(1−グリセロールメタクリレート)、ポリ(2−ヒドロキシエチルアクリレート)、ポリ(2−エチルメタクリレート)、ポリ(2−ヒドロキシエチルメタクリレート−メタクリル酸)、ポリ(マレイン酸)、ポリ(メタクリルアミド)、ポリ(2−メタクリロキシエチルトリメチルアンモニウムブロミド)、ポリ(N−イソ−プロピルアクリルアミド)、ポリ(スチレンスルホン酸)、ポリ(N−ビニルアセトアミド)、ポリ(N−メチル−N−ビニルアセトアミド)、ポリ(ビニルアミン)、ポリ(2−ビニル−1−メチルピリジニウムブロミド)、ポリ(リン酸)、ポリ(2−ビニルピリジン)、ポリ(4−ビニルピリジン)、ポリ(2−ビニルピリジン−N−オキシド)、ポリ(ビニルスルホン酸)等が挙げられる。上記バインダーにおいて、カルボン酸、スルホン酸、リン酸等を有するポリマーは、リチウム、ナトリウム、カリウム等の塩を有していてもよく、窒素原子を有するポリマーは塩酸塩等の構造を有していても良い。上記バインダー樹脂は1種でも複数種でも使用することができる。   The water-soluble binder resin is preferably transparent. The water-soluble binder resin is not particularly limited as long as it is a medium for forming a natural polymer, a synthetic resin, a polymer and a copolymer, and other films. Examples of water-soluble binders include: gelatin, casein, starch, gum arabic, poly (vinyl alcohol), poly (vinyl pyrrolidone), carboxymethyl ether cellulose, hydroxyethyl cellulose, cellulose such as methyl hydroxyethyl ether cellulose, chitosan, dextran , Guar gum, poly (acrylamide), poly (acrylamide-acrylic acid), poly (acrylic acid), poly (methacrylic acid), poly (allylamine), poly (butadiene-maleic anhydride), poly (n-butyl acrylate-2) -Methacryloyltrimethylammonium bromide), poly (3-chloro-2-hydroxypropyl-2-methacryloxytrimethylammonium bromide), poly (2-dimethylaminoethyl methacrylate) ), Poly (ethylene glycol), poly (ethylene glycol) -bisphenol A-diglycidyl ether adduct, poly (ethylene glycol) bis 2-aminoethyl, poly (ethylene glycol) dimethyl ether, poly (ethylene glycol) monocarboxymethyl ether Monomethyl ether, poly (ethylene glycol) monomethyl ether, poly (ethylene oxide), poly (ethylene oxide-b-propylene oxide), polyethyleneimine, poly (2-ethyl-2-oxazoline), poly (1-glycerol methacrylate), poly ( 2-hydroxyethyl acrylate), poly (2-ethyl methacrylate), poly (2-hydroxyethyl methacrylate-methacrylic acid), poly (maleic acid), poly (methacrylic acid) ), Poly (2-methacryloxyethyltrimethylammonium bromide), poly (N-iso-propylacrylamide), poly (styrenesulfonic acid), poly (N-vinylacetamide), poly (N-methyl-N-vinylacetamide) ), Poly (vinylamine), poly (2-vinyl-1-methylpyridinium bromide), poly (phosphoric acid), poly (2-vinylpyridine), poly (4-vinylpyridine), poly (2-vinylpyridine-N -Oxide), poly (vinylsulfonic acid) and the like. In the above binder, the polymer having carboxylic acid, sulfonic acid, phosphoric acid or the like may have a salt such as lithium, sodium or potassium, and the polymer having a nitrogen atom has a structure such as hydrochloride. Also good. The binder resin can be used alone or in combination.

水溶性バインダー樹脂としては、ゼラチン、ポリ(ビニルアルコール)、ポリ(ビニルピロリドン)、セルロース類、ポリ(アクリル酸)、ポリ(エチレングリコール)、ポリ(2−ヒドロキシエチルアクリレート)、ポリ(2−ヒドロキシエチルメタクリレート)、ポリ(2−ヒドロキシエチルメタクリレート)、ポリ(ビニルスルホン酸)が好ましい。市販品としてポリ(ビニルピロリドン)、ポリ(ビニルアルコール)(ポリサイエンス社製)、PVA203、PVA−224、エクセバールRS−4104(クラレ社製)、メトローズ90SH−100、メトローズ60SH−50、メトローズ60SH−06(信越化学工業社製)等を用いることができる。   Water-soluble binder resins include gelatin, poly (vinyl alcohol), poly (vinyl pyrrolidone), celluloses, poly (acrylic acid), poly (ethylene glycol), poly (2-hydroxyethyl acrylate), poly (2-hydroxy Ethyl methacrylate), poly (2-hydroxyethyl methacrylate), and poly (vinyl sulfonic acid) are preferable. As commercially available products, poly (vinyl pyrrolidone), poly (vinyl alcohol) (manufactured by Polysciences), PVA203, PVA-224, EXEVAL RS-4104 (manufactured by Kuraray), Metroise 90SH-100, Metroise 60SH-50, Metroise 60SH- 06 (manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.) or the like can be used.

水溶性バインダー樹脂において、より好ましくは、繰り返し単位中に水酸基を有する構造の水溶性バインダー樹脂が挙げられ、具体的には、ポリ(ビニルピロリドン)、ポリ(ビニルアルコール)、セルロース類、ポリ(2−ヒドロキシエチルアクリレート)、ポリ(3−ヒドロキシプロピルアクリレート)、ポリ(4−ヒドロキシブチルアクリレート)、ポリ(2−ヒドロキシエチルメタクリレート)、ポリ(3−ヒドロキシプロピルメタクリレート)等が挙げられる。   In the water-soluble binder resin, more preferably, a water-soluble binder resin having a structure having a hydroxyl group in the repeating unit may be mentioned. Specifically, poly (vinyl pyrrolidone), poly (vinyl alcohol), celluloses, poly (2 -Hydroxyethyl acrylate), poly (3-hydroxypropyl acrylate), poly (4-hydroxybutyl acrylate), poly (2-hydroxyethyl methacrylate), poly (3-hydroxypropyl methacrylate) and the like.

水溶性バインダー樹脂は、架橋して硬化されているのが好ましく、スルホン酸、カルボン酸等の酸性条件下での脱水縮合反応により架橋されてもよい。また、アルデヒド系、エポキシ系、メラミン系、イソシアネート系等の架橋剤を用いてもよい。架橋剤は、pH調整剤として酸、アルカリ、塩を含有してもよく、加熱により容易に除去できることからアンモニア、アンモニウム塩が好ましい。架橋反応を促進するため、100〜150℃で加熱することが好ましい。   The water-soluble binder resin is preferably crosslinked and cured, and may be crosslinked by a dehydration condensation reaction under acidic conditions such as sulfonic acid and carboxylic acid. Moreover, you may use crosslinking agents, such as an aldehyde type, an epoxy type, a melamine type, and an isocyanate type. The cross-linking agent may contain an acid, an alkali, or a salt as a pH adjuster, and is preferably ammonia or an ammonium salt because it can be easily removed by heating. In order to accelerate the crosslinking reaction, it is preferable to heat at 100 to 150 ° C.

[基板]
本発明の電極に用いられる基板としては、特に制限はない。例えば、基板としての硬度に優れ、またその表面への導電層の形成のし易さ等の点で、ガラス基板、樹脂基板、樹脂フィルムなどが好適に挙げられるが、軽量性と柔軟性の観点から樹脂フィルムを用いることが好ましい。
[substrate]
There is no restriction | limiting in particular as a board | substrate used for the electrode of this invention. For example, a glass substrate, a resin substrate, a resin film, and the like are preferable in terms of excellent hardness as a substrate and easy formation of a conductive layer on the surface. It is preferable to use a resin film.

本発明において、透明な基板が好ましく、高い光透過性を有する基板がより好ましい。「透明」とは、JIS K 7361−1(ISO 13468−1に対応)の「プラスチック−透明材料の全光線透過率の試験方法」に準拠した方法で測定した可視光波長領域における全光線透過率が60%以上であることをいう。   In the present invention, a transparent substrate is preferable, and a substrate having high light transmittance is more preferable. “Transparent” means the total light transmittance in a visible light wavelength region measured by a method in accordance with “Testing method of total light transmittance of plastic-transparent material” of JIS K 7361-1 (corresponding to ISO 13468-1). Is 60% or more.

本発明で基板として好ましく用いることができる樹脂フィルムには特に制限はなく、その材料、形状、構造、厚み等については公知のものの中から適宜選択することができる。例えば、ポリエチレンテレフタレート(PET)、ポリエチレンナフタレート、変性ポリエステル等のポリエステル系樹脂フィルム、ポリエチレン(PE)樹脂フィルム、ポリプロピレン(PP)樹脂フィルム、ポリスチレン樹脂フィルム、環状オレフィン系樹脂等のポリオレフィン類樹脂フィルム、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン等のビニル系樹脂フィルム、ポリエーテルエーテルケトン(PEEK)樹脂フィルム、ポリサルホン(PSF)樹脂フィルム、ポリエーテルサルホン(PES)樹脂フィルム、ポリカーボネート(PC)樹脂フィルム、ポリアミド樹脂フィルム、ポリイミド樹脂フィルム、アクリル樹脂フィルム、トリアセチルセルロース(TAC)樹脂フィルム等を挙げることができるが、可視域の波長(380〜780nm)における透過率が80%以上である樹脂フィルムであれば、本発明に係る樹脂フィルムに好ましく適用することができる。中でも透明性、耐熱性、取り扱いやすさ、強度及びコストの点から、二軸延伸ポリエチレンテレフタレートフィルム、二軸延伸ポリエチレンナフタレートフィルム、ポリエーテルサルホンフィルム、ポリカーボネートフィルムであることが好ましく、二軸延伸ポリエチレンテレフタレートフィルム、二軸延伸ポリエチレンナフタレートフィルムであることがより好ましい。   There is no restriction | limiting in particular in the resin film which can be preferably used as a board | substrate in this invention, About the material, a shape, a structure, thickness, etc., it can select suitably from well-known things. For example, polyester resin films such as polyethylene terephthalate (PET), polyethylene naphthalate, modified polyester, polyethylene (PE) resin films, polypropylene (PP) resin films, polystyrene resin films, polyolefin resin films such as cyclic olefin resins, Vinyl resin films such as polyvinyl chloride and polyvinylidene chloride, polyether ether ketone (PEEK) resin film, polysulfone (PSF) resin film, polyether sulfone (PES) resin film, polycarbonate (PC) resin film, polyamide resin A film, a polyimide resin film, an acrylic resin film, a triacetyl cellulose (TAC) resin film, and the like can be given. If the resin film transmittance of 80% or more in nm), can be preferably applied to the resin film of the present invention. Among these, from the viewpoint of transparency, heat resistance, ease of handling, strength and cost, it is preferably a biaxially stretched polyethylene terephthalate film, a biaxially stretched polyethylene naphthalate film, a polyethersulfone film, or a polycarbonate film, and biaxially stretched. More preferred are polyethylene terephthalate films and biaxially stretched polyethylene naphthalate films.

本発明に用いられる基板には、塗布液の濡れ性や接着性を確保するために、表面処理を施すことや易接着層を設けることができる。表面処理や易接着層については従来公知の技術を使用できる。例えば、表面処理としては、コロナ放電処理、火炎処理、紫外線処理、高周波処理、グロー放電処理、活性プラズマ処理、レーザー処理等の表面活性化処理を挙げることができる。また、易接着層としては、ポリエステル、ポリアミド、ポリウレタン、ビニル系共重合体、ブタジエン系共重合体、アクリル系共重合体、ビニリデン系共重合体、エポキシ系共重合体等を挙げることができる。樹脂フィルムが二軸延伸ポリエチレンテレフタレートフィルムである場合は、フィルムに隣接する易接着層の屈折率を1.57〜1.63とすることで、フィルム基板と易接着層との界面反射を低減して透過率を向上させることができるのでより好ましい。屈折率を調整する方法としては、酸化スズゾルや酸化セリウムゾル等の比較的屈折率の高い酸化物ゾルとバインダー樹脂との比率を適宜調整して塗設することで実施できる。易接着層は単層でもよいが、接着性を向上させるためには2層以上の構成にしてもよい。また、基板にはバリアコート層が予め形成されていてもよい。   The substrate used in the present invention can be subjected to a surface treatment or an easy-adhesion layer in order to ensure the wettability and adhesion of the coating solution. A conventionally well-known technique can be used about a surface treatment or an easily bonding layer. For example, the surface treatment includes surface activation treatment such as corona discharge treatment, flame treatment, ultraviolet treatment, high frequency treatment, glow discharge treatment, active plasma treatment, and laser treatment. Examples of the easy adhesion layer include polyester, polyamide, polyurethane, vinyl copolymer, butadiene copolymer, acrylic copolymer, vinylidene copolymer, and epoxy copolymer. When the resin film is a biaxially stretched polyethylene terephthalate film, the interface reflection between the film substrate and the easy adhesion layer is reduced by setting the refractive index of the easy adhesion layer adjacent to the film to 1.57 to 1.63. Therefore, the transmittance can be improved. The method for adjusting the refractive index can be carried out by appropriately adjusting the ratio of the oxide sol having a relatively high refractive index such as tin oxide sol or cerium oxide sol and the binder resin. The easy adhesion layer may be a single layer, but may be composed of two or more layers in order to improve adhesion. In addition, a barrier coat layer may be previously formed on the substrate.

〔電極〕
本発明の電極の好ましい構造模式図を示す。
〔electrode〕
The preferable structural schematic diagram of the electrode of this invention is shown.

図1は、本発明の代表的な電極の一例を示す構造模式図である。電極は、基板41上に、第一の導電性金属層31を有し、導電性金属層31は金属繊維11を含有する。   FIG. 1 is a structural schematic diagram showing an example of a representative electrode of the present invention. The electrode has a first conductive metal layer 31 on a substrate 41, and the conductive metal layer 31 contains metal fibers 11.

図2は、本発明の代表的な電極の一例を示す構造模式図である。電極は、基板41上に、導電性金属層31を有し、導電性金属層31は金属繊維11、および導電性ポリマー21を含有する。   FIG. 2 is a structural schematic diagram showing an example of a representative electrode of the present invention. The electrode has a conductive metal layer 31 on a substrate 41, and the conductive metal layer 31 contains the metal fiber 11 and the conductive polymer 21.

図3は、本発明の代表的な電極の別の一例を示す構造模式図であって、基材41上に金属繊維11を含む第一の導電性金属層31を有し、該第一の導電性金属層31の上に、導電性ポリマー21を含有する第二の導電層を形成する。   FIG. 3 is a structural schematic view showing another example of a representative electrode of the present invention, which has a first conductive metal layer 31 containing metal fibers 11 on a base material 41, and the first electrode A second conductive layer containing the conductive polymer 21 is formed on the conductive metal layer 31.

図4は、本発明の代表的な電極のさらに別の一例を示す構造模式図であって、基材41上に金属繊維11を含む第一の導電性金属層31を有し、該第一の導電性金属層31の上に、導電性ポリマー21を含有する第二の導電層32を形成するが、第二の導電層32の一部は、金属繊維11を含む。即ち、金属繊維11が第一の導電層31と第二の導電層32の両層に共有されている状態を指す。   FIG. 4 is a structural schematic diagram showing still another example of a representative electrode of the present invention, which has a first conductive metal layer 31 including a metal fiber 11 on a substrate 41, and the first electrode A second conductive layer 32 containing the conductive polymer 21 is formed on the conductive metal layer 31, and a part of the second conductive layer 32 includes the metal fiber 11. That is, the metal fiber 11 is shared by both the first conductive layer 31 and the second conductive layer 32.

本発明において、導電性ポリマー21に一般式(A)で表されるポリマーを含有することが、好ましい形態である。   In the present invention, the conductive polymer 21 preferably contains a polymer represented by the general formula (A).

本発明において、導電性金属層には本発明の酸化防止剤を含有する。   In the present invention, the conductive metal layer contains the antioxidant of the present invention.

〔電極の製造方法〕
本発明の電極は、下記(イ)〜(ハ)の方法で作製することができる。
[Method for producing electrode]
The electrode of the present invention can be produced by the following methods (a) to (c).

層を形成する工程に用いられる方法としては特に制限はないが、生産性の改善、平滑性や均一性などの電極品質の向上、環境負荷軽減の観点から、塗布法や印刷法などの液相成膜法を用いることが好ましい。   There are no particular restrictions on the method used in the step of forming the layer, but from the viewpoint of improving productivity, improving electrode quality such as smoothness and uniformity, and reducing environmental impact, the liquid phase such as coating and printing methods. It is preferable to use a film forming method.

塗布法としては、ロールコート法、バーコート法、ディップコーティング法、スピンコーティング法、キャスティング法、ダイコート法、ブレードコート法、バーコート法、グラビアコート法、カーテンコート法、スプレーコート法、ドクターコート法などを用いることができる。印刷法としては、凸版(活版)印刷法、孔版(スクリーン)印刷法、平版(オフセット)印刷法、凹版(グラビア)印刷法、スプレー印刷法、インクジェット印刷法などを用いることができる。   As coating methods, roll coating method, bar coating method, dip coating method, spin coating method, casting method, die coating method, blade coating method, bar coating method, gravure coating method, curtain coating method, spray coating method, doctor coating method Etc. can be used. As the printing method, a letterpress (letter) printing method, a stencil (screen) printing method, a lithographic (offset) printing method, an intaglio (gravure) printing method, a spray printing method, an ink jet printing method, and the like can be used.

本発明の透明電極を製造する製造方法としては、特に下記の手段が好ましく用いられる。   As a production method for producing the transparent electrode of the present invention, the following means are particularly preferably used.

イ)基板上に直接、導電性金属層、導電性金属および導電性ポリマーを含有する層、および導電性ポリマー層を形成する製造方法。(直接法)
ロ)離型性基板の離型面上に、導電性金属層、導電性金属および導電性ポリマーを含有する層、導電性金属層上に導電性ポリマーを含有する導電性層を形成したあと、これらの層を被転写用の基板上に転写することにより導電層を形成する製造方法。(転写法)
ハ)離型性基板の離型面上に、導電性金属層を形成したあと被転写用の基板上に転写し、導電性ポリマーを形成する製造方法。(転写法+直接法)
上記組成物が水系分散物であることが好ましい態様である。
B) A production method for forming a conductive metal layer, a layer containing a conductive metal and a conductive polymer, and a conductive polymer layer directly on the substrate. (Direct method)
B) After forming a conductive metal layer, a layer containing a conductive metal and a conductive polymer on the release surface of the release substrate, and a conductive layer containing a conductive polymer on the conductive metal layer, A manufacturing method in which a conductive layer is formed by transferring these layers onto a substrate for transfer. (Transfer method)
C) A manufacturing method in which a conductive metal layer is formed on a release surface of a release substrate and then transferred onto a transfer substrate to form a conductive polymer. (Transfer method + Direct method)
A preferred embodiment is that the composition is an aqueous dispersion.

本発明において、導電性金属層には酸化防止剤を含有する。   In the present invention, the conductive metal layer contains an antioxidant.

金属繊維、導電性ポリマー、および一般式(A)で表されるポリマーの添加量に特に制限はないが、金属繊維は導電性と透過率の関係から0.50g/mが好ましく、より好ましくは0.10g/m以下である。 There is no particular limitation on the amount of the metal fiber, the conductive polymer, and the polymer represented by the general formula (A), but the metal fiber is preferably 0.50 g / m 2 from the relationship between conductivity and transmittance, more preferably. Is 0.10 g / m 2 or less.

また導電性ポリマーは固形分として、金属繊維質量の50倍以下が好ましく、より好ましくは10倍以下であり、さらに好ましくは5倍以下である。   The conductive polymer has a solid content of preferably 50 times or less, more preferably 10 times or less, and further preferably 5 times or less of the metal fiber mass.

前述の透明電極の製造方法ハ)において、用いられる離型性基板としては、樹脂基板や樹脂フィルムなどが好適に挙げられる。該樹脂には特に制限はなく、公知のものの中から適宜選択することができ、例えば、ポリエチレンテレフタレート樹脂、塩化ビニル系樹脂、アクリル系樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリイミド樹脂、ポリエチレン樹脂、ポリプロピレン樹脂などの合成樹脂の単層あるいは複数層からなる基板やフィルムが好適に用いられる。さらにガラス基板や金属基板を用いることもできる。また、離型性基板の表面(離型面)には、必要に応じてシリコン樹脂やフッ素樹脂、ワックスなどの離型剤を塗布して表面処理を施してもよい。   In the above-described transparent electrode manufacturing method c), examples of the releasable substrate that can be used include a resin substrate and a resin film. There is no restriction | limiting in particular in this resin, It can select suitably from well-known things, For example, synthesis | combination, such as a polyethylene terephthalate resin, a vinyl chloride resin, an acrylic resin, a polycarbonate resin, a polyimide resin, a polyethylene resin, a polypropylene resin A substrate or film composed of a single layer or multiple layers of resin is preferably used. Furthermore, a glass substrate or a metal substrate can also be used. Further, a surface treatment may be applied to the surface (release surface) of the releasable substrate by applying a release agent such as silicon resin, fluororesin, or wax as necessary.

離型性基板表面は、導電層を転写した後の表面の平滑性に影響を与えるため、高平滑であることが望ましく、具体的にはRy≦50nmであることが好ましく、Ry≦40nmであることがより好ましく、Ry≦30nmであることがさらに好ましい。また、Ra≦10nmであることが好ましく、Ra≦5nmであることがより好ましく、Ra≦1nmであることがさらに好ましい。   Since the surface of the releasable substrate affects the smoothness of the surface after the conductive layer is transferred, it is desirable that the surface of the releasable substrate be highly smooth. Specifically, Ry ≦ 50 nm is preferable, and Ry ≦ 40 nm. It is more preferable that Ry ≦ 30 nm. Further, Ra ≦ 10 nm is preferable, Ra ≦ 5 nm is more preferable, and Ra ≦ 1 nm is further more preferable.

上記の工程において、金属繊維を塗布した後、カレンダー処理や熱処理を施し金属繊維間の密着性を高めることや、プラズマ処理を施し金属繊維間の接触抵抗を低減することは、金属繊維のネットワーク構造の導電性を向上させる方法として有効である。また、上記工程において、離型性基板の離型面は、予めコロナ放電(プラズマ)などにより親水化処理していてもよい。   In the above process, after applying the metal fiber, it is possible to increase the adhesion between the metal fibers by performing a calendar process or a heat treatment, or to reduce the contact resistance between the metal fibers by performing a plasma process. It is effective as a method for improving the electrical conductivity of. In the above step, the release surface of the releasable substrate may be previously hydrophilized by corona discharge (plasma) or the like.

上記転写する工程を有する方法において、転写は接着層を介して行ってもよい。転写層は離型性基板側に設けても良いし、基板側に設けても良い。接着層に用いられる接着剤としては、可視領域で転写能を有する材料であれば特に限定されない。硬化型樹脂でも良いし、熱可塑性樹脂でも良い。硬化型樹脂としては、上記バインダーの記載で挙げた化合物を用いることが好ましい。   In the method including the step of transferring, the transfer may be performed via an adhesive layer. The transfer layer may be provided on the releasable substrate side or may be provided on the substrate side. The adhesive used for the adhesive layer is not particularly limited as long as it is a material having transfer ability in the visible region. A curable resin or a thermoplastic resin may be used. As the curable resin, it is preferable to use the compounds mentioned in the description of the binder.

導電層を形成した離型性基板と被転写用の基板とを接着(貼合)し、紫外線等を照射して接着剤を硬化した後に離型性基板を剥離することにより、導電層を被転写用の基板側に転写することができる。ここで、接着方法は特に限定されることなく、シートプレス、ロールプレス等により行うことができるが、ロールプレス機を用いて行うことが好ましい。ロールプレスは、ロールとロールの間に接着すべきフィルムを挟んで圧着し、ロールを回転させる方法である。ロールプレスは均一に圧力がかけられ、シートプレスよりも生産性が良く好適に用いることができる。   The release layer substrate on which the conductive layer is formed and the substrate to be transferred are bonded (bonded), and the release layer is peeled off after the adhesive is cured by irradiating ultraviolet rays or the like. Transfer to the substrate side for transfer is possible. Here, the bonding method is not particularly limited and can be performed by a sheet press, a roll press or the like, but is preferably performed using a roll press machine. The roll press is a method in which a film to be bonded is sandwiched between the rolls, and the rolls are rotated. The roll press is uniformly applied with pressure, and has a higher productivity than the sheet press and can be used preferably.

[パターニング方法]
本発明に係る導電層は、パターニングすることができる。パターニングの方法やプロセスには特に制限はなく、公知の手法を適宜適用することができる。例えば、離型面上にパターニングされた導電層を形成した後、基板上に転写することによってパターニングされた電極を形成する方法を用いることができ、具体的には、以下のような方法を好ましく用いることができる。
[Patterning method]
The conductive layer according to the present invention can be patterned. There is no particular limitation on the patterning method or process, and a known method can be applied as appropriate. For example, a method of forming a patterned electrode by forming a patterned conductive layer on a release surface and then transferring it onto a substrate can be used. Specifically, the following method is preferable. Can be used.

i)離型性基板上に印刷法を用いて導電層をパターン様に直接形成する方法
ii)離型性基板上に導電層を一様に形成した後、一般的なフォトリソプロセスを用いてパターニングする方法
iii)例えば紫外線硬化型樹脂を含む導電性材料を使用して導電層を一様に形成した後、フォトリソプロセス様にパターニングする方法
iv)離型性基板上に予めフォトレジストで形成したネガパターン上に導電層を一様に形成し、リフトオフ法を用いてパターニングする方法
[表面の平滑性]
本発明において、導電層の表面の平滑性を表すRaは、算術平均粗さを意味し、JIS B601(1994)に規定される表面粗さに準ずる値である。本発明の電極は、導電層の表面の平滑性はRa≦10nmであることが好ましい。本発明においてRaの測定には、市販の原子間力顕微鏡(Atomic Force Microscopy:AFM)を用いることができ、例えば、以下の方法で測定できる。
i) A method of directly forming a conductive layer in a pattern using a printing method on a releasable substrate
ii) A method in which a conductive layer is uniformly formed on a releasable substrate and then patterned using a general photolithography process.
iii) A method of patterning like a photolithography process after uniformly forming a conductive layer using a conductive material containing, for example, an ultraviolet curable resin
iv) A method in which a conductive layer is uniformly formed on a negative pattern previously formed of a photoresist on a releasable substrate and is patterned using a lift-off method [Surface smoothness]
In the present invention, Ra representing the smoothness of the surface of the conductive layer means an arithmetic average roughness and is a value according to the surface roughness defined in JIS B601 (1994). In the electrode of the present invention, the smoothness of the surface of the conductive layer is preferably Ra ≦ 10 nm. In the present invention, for the measurement of Ra, a commercially available atomic force microscope (AFM) can be used. For example, it can be measured by the following method.

AFMとして、セイコーインスツル社製SPI3800Nプローブステーション及びSPA400多機能型ユニットを使用し、約1cm角の大きさに切り取った試料を、ピエゾスキャナー上の水平な試料台上にセットし、カンチレバーを試料表面にアプローチし、原子間力が働く領域に達したところで、XY方向にスキャンし、その際の試料の凹凸をZ方向のピエゾの変位で捉える。ピエゾスキャナーは、XY20μm、Z2μmが走査可能なものを使用する。カンチレバーは、セイコーインスツル社製シリコンカンチレバーSI−DF20で、共振周波数120〜150kHz、バネ定数12〜20N/mのものを用い、DFMモード(Dynamic Force Mode)で測定する。測定領域80×80μmを、走査周波数1Hzで測定する。   Using an SPI 3800N probe station and SPA400 multifunctional unit manufactured by Seiko Instruments Inc. as the AFM, set the sample cut to a size of about 1 cm square on a horizontal sample stage on the piezo scanner, and place the cantilever on the sample surface. When the region where the atomic force works is reached, scanning is performed in the XY direction, and the unevenness of the sample at that time is captured by the displacement of the piezo in the Z direction. A piezo scanner that can scan XY 20 μm and Z 2 μm is used. The cantilever is a silicon cantilever SI-DF20 manufactured by Seiko Instruments Inc., which has a resonance frequency of 120 to 150 kHz and a spring constant of 12 to 20 N / m, and is measured in a DFM mode (Dynamic Force Mode). A measurement area of 80 × 80 μm is measured at a scanning frequency of 1 Hz.

本発明において、Raの値は10nm以下であることが好ましく、5nm以下であることがより好ましい。   In the present invention, the value of Ra is preferably 10 nm or less, and more preferably 5 nm or less.

[補助電極]
大面積化に対応するためには、導電性ポリマー含有層を有する電極が、さらに、光不透過の導電部と透光性窓部とからなる補助電極を有することが好ましい。
[Auxiliary electrode]
In order to cope with an increase in area, it is preferable that the electrode having the conductive polymer-containing layer further has an auxiliary electrode including a light-impermeable conductive portion and a light-transmissive window portion.

補助電極の光不透過の導電部は導電性が良い点で金属であることが好ましく、金属材料としては、例えば、金、銀、銅、鉄、ニッケル、クロム等が挙げられる。また導電部の金属は合金でも良く、金属層は単層でも多層でも良い。   The light-impermeable conductive portion of the auxiliary electrode is preferably a metal from the viewpoint of good conductivity, and examples of the metal material include gold, silver, copper, iron, nickel, and chromium. The metal of the conductive part may be an alloy, and the metal layer may be a single layer or a multilayer.

補助電極の形状は特に制限はないが、例えば、導電部がストライプ状、あるいはメッシュ状、あるいは、ランダムな網目状である。   The shape of the auxiliary electrode is not particularly limited. For example, the conductive portion has a stripe shape, a mesh shape, or a random mesh shape.

導電部がストライプ状、あるいはメッシュ状の補助電極を形成する方法としては、特に、制限はなく、従来公知な方法が利用できる。例えば、基材全面に金属層を形成し、公知のフォトリソ法によって形成できる。具体的には、基材上に全面に、蒸着、スパッタ、めっき等の1或いは2以上の物理的或いは化学的形成手法を用いて導電体層を形成する、あるいは、金属箔を接着剤で基材に積層した後、公知のフォトリソ法を用いて、エッチングすることにより、所望のストライプ状、あるいはメッシュ状に加工できる。   There are no particular limitations on the method of forming the stripe-shaped or mesh-shaped auxiliary electrode with the conductive portion, and a conventionally known method can be used. For example, a metal layer can be formed on the entire surface of the substrate and formed by a known photolithography method. Specifically, a conductor layer is formed on the entire surface of the substrate using one or more physical or chemical forming methods such as vapor deposition, sputtering, and plating, or a metal foil is formed with an adhesive. After being laminated on the material, it can be processed into a desired stripe shape or mesh shape by etching using a known photolithography method.

別な方法としては、金属微粒子を含有するインクをスクリーン印刷により所望の形状に印刷する方法や、メッキ可能な触媒インクをグラビア印刷、あるいは、インクジェット方式で所望の形状に塗布した後、メッキ処理する方法、さらに別な方法としては、銀塩写真技術を応用した方法も利用できる。銀塩写真技術を応用した方法については、例えば、特開2009−140750号公報の0076−0112、および実施例を参考にして実施できる。触媒インクをグラビア印刷してメッキ処理する方法については、例えば、特開2007−281290号公報を参考にして実施できる。   As another method, a method of printing an ink containing metal fine particles in a desired shape by screen printing, or applying a plating catalyst ink to a desired shape by gravure printing or an ink jet method, followed by plating treatment As another method, a method using silver salt photographic technology can also be used. About the method to which silver salt photography technology is applied, it can carry out with reference to 0076-0112 of Unexamined-Japanese-Patent No. 2009-140750 and an Example, for example. About the method of carrying out the gravure printing of catalyst ink and plating, it can carry out with reference to Unexamined-Japanese-Patent No. 2007-281290, for example.

ランダムな網目構造としては、例えば、特表2005−530005号公報に記載のような、金属微粒子を含有する液を塗布乾燥することにより、自発的に導電性微粒子の無秩序な網目構造を形成する方法を利用できる。   As a random network structure, for example, a method for spontaneously forming a disordered network structure of conductive fine particles by applying and drying a liquid containing metal fine particles as described in JP-T-2005-530005 Can be used.

別な方法としては、例えば、特表2009−505358号公報に記載のような、金属ナノワイヤを含有する塗布液を塗布乾燥することで、金属ナノワイヤのランダムな網目構造を形成させる方法を利用できる。   As another method, for example, a method of forming a random network structure of metal nanowires by applying and drying a coating solution containing metal nanowires as described in JP-T-2009-505358 can be used.

〔好ましい用途〕
本発明の電極は高い導電性と透明性を併せ持ち、液晶表示素子、有機発光素子、無機電界発光素子、電子ペーパー、有機太陽電池、無機太陽電池等の各種オプトエレクトロニクスデバイスや、電磁波シールド、タッチパネル等の分野において好適に用いることができる。その中でも、電極表面の平滑性が厳しく求められる有機エレクトロルミネッセンス素子の電極として特に好ましく用いることができる。
[Preferred use]
The electrode of the present invention has both high conductivity and transparency, and various optoelectronic devices such as liquid crystal display elements, organic light emitting elements, inorganic electroluminescent elements, electronic paper, organic solar cells, inorganic solar cells, electromagnetic wave shields, touch panels, etc. It can be suitably used in the field. Among these, it can be particularly preferably used as an electrode of an organic electroluminescence element in which the smoothness of the electrode surface is strictly required.

以下、実施例を挙げて本発明を具体的に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。なお、実施例において「部」あるいは「%」の表示を用いるが、特に断りがない限り「質量部」あるいは「質量%」を表す。   EXAMPLES Hereinafter, the present invention will be specifically described with reference to examples, but the present invention is not limited thereto. In addition, although the display of "part" or "%" is used in an Example, unless otherwise indicated, "part by mass" or "mass%" is represented.

実施例1
《ポリマー(A)の合成》
合成例1(A1の合成:本発明内)
200ml三ツ口フラスコにTHF100mlを加え10分間加熱還流させた後、窒素下で室温に冷却した。
Example 1
<< Synthesis of Polymer (A) >>
Synthesis Example 1 (Synthesis of A1: within the present invention)
After adding 100 ml of THF to a 200 ml three-necked flask and heating to reflux for 10 minutes, the mixture was cooled to room temperature under nitrogen.

I−1:2−ヒドロキシエチルアクリレート(10.0g、86mmol、分子量:116.05)、AIBN(1.41g、8.5mmol、分子量:164.11)を加え、5時間加熱還流した。室温に冷却した後、3000mlのMEK中に反応溶液を滴下し、1時間攪拌した。MEK(メチルエチルケトン)をデカンテーション後、100mlのMEKで3回洗浄後、THF(テトラヒドロフラン)でポリマーを溶解し、100mlフラスコへ移した。THFをロータリーエバポレーターにより減圧留去後、50℃で3時間減圧乾燥した。その結果、数平均分子量370000、分子量分布2.7、の本発明ポリマーA1を8.9g(収率89%)得た。得られたポリマーを純水に溶解し、固形分50%のポリマーA1の水溶液を調製した。   I-1: 2-hydroxyethyl acrylate (10.0 g, 86 mmol, molecular weight: 116.05) and AIBN (1.41 g, 8.5 mmol, molecular weight: 164.11) were added, and the mixture was heated to reflux for 5 hours. After cooling to room temperature, the reaction solution was dropped into 3000 ml of MEK and stirred for 1 hour. After decantation of MEK (methyl ethyl ketone), the polymer was dissolved three times with 100 ml of MEK, and then the polymer was dissolved in THF (tetrahydrofuran) and transferred to a 100 ml flask. THF was distilled off under reduced pressure using a rotary evaporator and then dried under reduced pressure at 50 ° C. for 3 hours. As a result, 8.9 g (yield 89%) of the present polymer A1 having a number average molecular weight of 370000 and a molecular weight distribution of 2.7 was obtained. The obtained polymer was dissolved in pure water to prepare an aqueous solution of polymer A1 having a solid content of 50%.

尚、数平均分子量はGPC(Waters2695、Waters社製)で測定した。   The number average molecular weight was measured by GPC (Waters 2695, manufactured by Waters).

〈GPC測定条件〉
装置:Wagers2695(Separations Module)
検出器:Waters 2414(Refractive Index Detector)
カラム:Shodex Asahipak GF−7M HQ
溶離液:ジメチルホルムアミド(20mM LiBr)
流速:1.0ml/min
温度:40℃
合成例2(A2の合成:本発明内)
モノマーとしてI−13:ブレンマーGLM(0.22g、1.5mmol、分子量:146.06)、II−12:ブレンマーAE−400(23.4g、48.5mmol、分子量:482.27)を用いた以外は合成例1と同様な方法により、数平均分子量27600、分子量分布3.1、の本発明ポリマーA2を21.0g(収率89%)得た。
<GPC measurement conditions>
Apparatus: Wagers 2695 (Separations Module)
Detector: Waters 2414 (Refractive Index Detector)
Column: Shodex Asahipak GF-7M HQ
Eluent: Dimethylformamide (20 mM LiBr)
Flow rate: 1.0 ml / min
Temperature: 40 ° C
Synthesis Example 2 (Synthesis of A2: within the present invention)
I-13: Blemmer GLM (0.22 g, 1.5 mmol, molecular weight: 146.06), II-12: Blemmer AE-400 (23.4 g, 48.5 mmol, molecular weight: 482.27) were used as monomers. Except for the above, 21.0 g (yield 89%) of the polymer A2 of the present invention having a number average molecular weight of 27600 and a molecular weight distribution of 3.1 was obtained in the same manner as in Synthesis Example 1.

合成例3(A3の合成:本発明内)
モノマーとしてI−13:ブレンマーGLM(0.37g、2.5mmol、分子量:146.06)、II−12:ブレンマーAE−400(22.9g、47.5mmol、分子量:482.27)を用いた以外は合成例1と同様な方法により、数平均分子量31100、分子量分布2.9、の本発明ポリマーA3を19.8g(収率85%)得た。
Synthesis Example 3 (Synthesis of A3: within the present invention)
I-13: Blemmer GLM (0.37 g, 2.5 mmol, molecular weight: 146.06), II-12: Blemmer AE-400 (22.9 g, 47.5 mmol, molecular weight: 482.27) were used as monomers. 19.8 g (yield 85%) of the polymer A3 of the present invention having a number average molecular weight of 31100 and a molecular weight distribution of 2.9 was obtained in the same manner as in Synthesis Example 1 except for the above.

合成例4(A4の合成:本発明内)
モノマーとしてI−13:ブレンマーGLM(3.56g、25mmol、分子量:146.06)、II−12:ブレンマーAE−400(12.1g、25mmol、分子量:482.27)を用いた以外は合成例1と同様な方法により、数平均分子量23100、分子量分布2.7、の本発明ポリマーA4を14.3g(収率91%)得た。
Synthesis Example 4 (Synthesis of A4: within the present invention)
Synthesis example except that I-13: Blemmer GLM (3.56 g, 25 mmol, molecular weight: 146.06), II-12: Blemmer AE-400 (12.1 g, 25 mmol, molecular weight: 482.27) were used as monomers. In the same manner as in Example 1, 14.3 g (yield 91%) of the polymer A4 of the present invention having a number average molecular weight of 23100 and a molecular weight distribution of 2.7 was obtained.

合成例5(A5の合成:本発明内)
モノマーとしてI−13:ブレンマーGLM(5.84g、40mmol、分子量:146.06)、II−12:ブレンマーAE−400(4.82g、10mmol、分子量:482.27)を用いた以外は合成例1と同様な方法により、数平均分子量25400、分子量分布2.6、の本発明ポリマーA5を9.38g(収率88%)得た。
Synthesis Example 5 (Synthesis of A5: within the present invention)
Synthesis Example except that I-13: Blemmer GLM (5.84 g, 40 mmol, molecular weight: 146.06), II-12: Blemmer AE-400 (4.82 g, 10 mmol, molecular weight: 482.27) were used as monomers. In the same manner as in Example 1, 9.38 g (yield 88%) of the polymer A5 of the present invention having a number average molecular weight of 25400 and a molecular weight distribution of 2.6 was obtained.

合成例6(A6の合成:本発明内)
モノマーとしてI−1:2−ヒドロキシエチルアクリレート(1.74g、15mmol、分子量:116.05)、II−6:ブレンマーPME−200(9.7g、35mmol、分子量:276.16)を用いた以外は合成例1と同様な方法により数平均分子量33700、分子量分布2.4の本発明ポリマーA6を10.3g(収率90%)得た。
Synthesis Example 6 (Synthesis of A6: within the present invention)
Except that I-1: 2-hydroxyethyl acrylate (1.74 g, 15 mmol, molecular weight: 116.05), II-6: Blemmer PME-200 (9.7 g, 35 mmol, molecular weight: 276.16) was used as the monomer. In the same manner as in Synthesis Example 1, 10.3 g (yield 90%) of the polymer A6 of the present invention having a number average molecular weight of 33700 and a molecular weight distribution of 2.4 was obtained.

本発明のポリマーA2〜A6を純水に溶解し、固形分50%のポリマーA2〜A6の水溶液をそれぞれ調製した。   Polymers A2 to A6 of the present invention were dissolved in pure water to prepare aqueous solutions of polymers A2 to A6 having a solid content of 50%.

《導電性ポリマー液P−1〜P−7の調製》
次いで、上記で調製したポリマーA1〜A6(固形分50%の水溶液)を用いて、下記のようにして導電性ポリマー液P−1〜P−7を調製した。
<< Preparation of conductive polymer liquids P-1 to P-7 >>
Next, using the polymers A1 to A6 prepared above (aqueous solution having a solid content of 50%), conductive polymer liquids P-1 to P-7 were prepared as follows.

(導電性ポリマー液P−1)
ポリマーA1(固形分50%水溶液) 0.14g
PEDOT−PSS CLEVIOS PH510(固形分1.89%)(H.C.Starck社製) 1.59g
(導電性ポリマー液P−2)
ポリマーA2(固形分50%水溶液):0.14g
PEDOT−PSS CLEVIOS PH510(固形分1.89%)(H.C.Starck社製) 1.59g
(導電性ポリマー液P−3)
ポリマーA3(固形分50%水溶液) 0.14g
PEDOT−PSS CLEVIOS PH510(固形分1.89%)(H.C.Starck社製) 1.59g
(導電性ポリマー液P−4)
ポリマーA4(固形分50%水溶液) 0.14g
PEDOT−PSS CLEVIOS PH510(固形分1.89%)(H.C.Starck社製) 1.59g
(導電性ポリマー液P−5)
ポリマーA5(固形分50%水溶液) 0.14g
PEDOT−PSS CLEVIOS PH510(固形分1.89%)(H.C.Starck社製) 1.59g
(導電性ポリマー液P−6)
ポリマーA6(固形分50%水溶液) 0.14g
PEDOT−PSS CLEVIOS PH510(固形分1.89%)(H.C.Starck社製) 1.59g
(導電性ポリマー液P−7)
PEDOT−PSS CLEVIOS PH510(固形分1.89%)(H.C.Starck社製) 1.59g
《銀ナノワイヤ分散液1および2、銀粒子分散液3の作製》
導電性を有する金属繊維として、Adv.Mater.,2002,14,833〜837に記載の方法を参考に、ポリビニルピロリドンK30(分子量5万;ISP社製)を利用して、平均短径75nm、平均長さ35μmの銀ナノワイヤを作製し、限外濾過膜を用いて銀ナノワイヤを濾別、水洗処理した後、ヒドロキシプロピルメチルセルロース60SH−50(信越化学工業社製)を銀に対し25質量%加えた水溶液に再分散し、本発明の銀ナノワイヤ分散液1を作製した。
(Conductive polymer liquid P-1)
Polymer A1 (50% solid content aqueous solution) 0.14 g
PEDOT-PSS CLEVIOS PH510 (solid content 1.89%) (manufactured by HC Starck) 1.59 g
(Conductive polymer liquid P-2)
Polymer A2 (50% solid content aqueous solution): 0.14 g
PEDOT-PSS CLEVIOS PH510 (solid content 1.89%) (manufactured by HC Starck) 1.59 g
(Conductive polymer liquid P-3)
Polymer A3 (50% solid content aqueous solution) 0.14 g
PEDOT-PSS CLEVIOS PH510 (solid content 1.89%) (manufactured by HC Starck) 1.59 g
(Conductive polymer liquid P-4)
Polymer A4 (50% solid content aqueous solution) 0.14 g
PEDOT-PSS CLEVIOS PH510 (solid content 1.89%) (manufactured by HC Starck) 1.59 g
(Conductive polymer liquid P-5)
Polymer A5 (50% solid content aqueous solution) 0.14 g
PEDOT-PSS CLEVIOS PH510 (solid content 1.89%) (manufactured by HC Starck) 1.59 g
(Conductive polymer liquid P-6)
Polymer A6 (50% solid content aqueous solution) 0.14 g
PEDOT-PSS CLEVIOS PH510 (solid content 1.89%) (manufactured by HC Starck) 1.59 g
(Conductive polymer liquid P-7)
PEDOT-PSS CLEVIOS PH510 (solid content 1.89%) (manufactured by HC Starck) 1.59 g
<< Preparation of Silver Nanowire Dispersions 1 and 2, Silver Particle Dispersion 3 >>
Examples of conductive metal fibers include Adv. Mater. , 2002, 14, 833 to 837, a silver nanowire having an average minor axis of 75 nm and an average length of 35 μm is produced using polyvinylpyrrolidone K30 (molecular weight: 50,000; manufactured by ISP). After silver nanowires are filtered and washed with an outer filtration membrane, hydroxypropylmethylcellulose 60SH-50 (manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.) is redispersed in an aqueous solution containing 25% by mass of silver, and the silver nanowires of the present invention Dispersion 1 was prepared.

また、ポリビニルピロリドンの量と硝酸銀濃度、添加量等を調整し、平均短径94nm、平均長さ8.1μmになるように調整した以外は同様な方法で、本発明の銀ナノワイヤ分散液2および、平均粒径80nmの銀粒子分散液3を作製した。   Further, the silver nanowire dispersion liquid 2 of the invention and A silver particle dispersion 3 having an average particle size of 80 nm was prepared.

《電極No.1〜No.35の作製》
(電極No.1の作製;本発明)
上記で作製した銀ナノワイヤ分散液1を、両面にガスバリア層を設けた厚さ100μmのポリエチレンテレフタレートフィルム支持体上に、銀ナノワイヤの目付け量が60mg/mとなるように、銀ナノワイヤ分散液を、スピンコーターを用いて塗布し、乾燥させた。続いて、銀ナノワイヤの塗布層にカレンダー処理を施し、上記の方法で調製した導電性ポリマー液P−1を、銀ナノワイヤ塗布層の上に乾燥膜厚が300nmとなるようにスピンコーターを用いて塗布し、ホットプレートで120℃20分間加熱処理を施して電極No.1を作製した。
<< Electrode No. 1-No. Production of 35 >>
(Preparation of electrode No. 1; the present invention)
The silver nanowire dispersion 1 prepared above was placed on a 100 μm thick polyethylene terephthalate film support having a gas barrier layer on both sides so that the amount of silver nanowires was 60 mg / m 2. It was applied using a spin coater and dried. Subsequently, the silver nanowire coating layer is calendered, and the conductive polymer liquid P-1 prepared by the above method is applied onto the silver nanowire coating layer using a spin coater so that the dry film thickness is 300 nm. It was applied and heated at 120 ° C. for 20 minutes on a hot plate, and electrode No. 1 was produced.

銀ナノワイヤ分散液1には、付き量が0.5mg/mになるように、本発明の酸化防止剤PH−18をメチルエチルケトンに溶解して添加した。 To the silver nanowire dispersion 1, the antioxidant PH-18 of the present invention was dissolved in methyl ethyl ketone and added so that the applied amount was 0.5 mg / m 2 .

(電極No.2〜27(本発明)、電極No.28〜35(比較)の作製)
電極No.1において、導電性金属層に含有される金属繊維、酸化防止剤等の種類、添加量、導電性ポリマー種を下記表1、表2のように変更する以外は、全く同様にして、本発明の電極No.2〜27、比較の電極No.28〜35を作製した。
(Production of electrode Nos. 2 to 27 (present invention) and electrode Nos. 28 to 35 (comparative))
Electrode No. 1 except that the types of metal fibers and antioxidants contained in the conductive metal layer, the antioxidant, the addition amount, and the conductive polymer type are changed as shown in Tables 1 and 2 below. Electrode No. 2 to 27, comparative electrode Nos. 28-35 were produced.

《評価》
[保存前後の透過率の差]
透過率は、東京電色社製AUTOMATIC HAZEMETER(MODEL TC−HIIIDP)を用いて、導電部パターン部の全光線透過率を測定した。
<Evaluation>
[Difference in transmittance before and after storage]
The transmittance was determined by measuring the total light transmittance of the conductive portion pattern portion using AUTOMATIC HAZEMETER (MODEL TC-HIIIDP) manufactured by Tokyo Denshoku.

上記のように作製した本発明の電極No.1〜27、比較の電極No.28〜35について、85℃90%RH条件下7日間保存前後の全光線透過率の測定を行い、保存前後の差を求め、下記の基準に基づいて高温高湿環境下の保存前後の透過率の差を評価した。   The electrode No. 1 of the present invention produced as described above. 1-27, comparative electrode No. For 28 to 35, the total light transmittance was measured before and after storage for 7 days under 85 ° C. and 90% RH, the difference before and after storage was determined, and the transmittance before and after storage in a high temperature and high humidity environment based on the following criteria: The difference was evaluated.

◎:全光線透過率の差が1%未満
○:全光線透過率の差が1%以上3%未満
△:全光線透過率の差が3%以上5%未満
×:全光線透過率の差が5%以上
(平滑性)
平滑性の評価として、原子間力顕微鏡(Atomic Force Microscopy:AFM)SPI3800Nプローブステーション及びSPA400多機能型ユニット(セイコーインスツル社製)を用い、表面粗さRaを測定した(表面粗さRaは、JIS B601(1994)に規定される表面粗さに準ずる値である)。カンチレバーは、SI−DF20(セイコーインスツル社製)を用い、共振周波数120〜150kHz、バネ定数12〜20N/m、DFMモード(Dynamic Force Mode)にて、測定領域10μm角を、走査周波数1Hzで測定し、JIS B601(1994)に準じて求めた算術平均粗さRaを求めた。
◎: Difference in total light transmittance is less than 1% ○: Difference in total light transmittance is 1% or more and less than 3% △: Difference in total light transmittance is 3% or more and less than 5% ×: Difference in total light transmittance Is 5% or more (smoothness)
As an evaluation of smoothness, using an atomic force microscope (AFM) SPI3800N probe station and SPA400 multifunctional unit (manufactured by Seiko Instruments Inc.), the surface roughness Ra was measured (surface roughness Ra is (It is a value according to the surface roughness specified in JIS B601 (1994)). The cantilever uses SI-DF20 (manufactured by Seiko Instruments Inc.), a resonance frequency of 120 to 150 kHz, a spring constant of 12 to 20 N / m, a DFM mode (Dynamic Force Mode), a measurement area of 10 μm square, and a scanning frequency of 1 Hz. The arithmetic average roughness Ra was measured and determined according to JIS B601 (1994).

上記のように作製した本発明の電極No.1〜27、比較の電極No.28〜35について、85℃90%RH条件下7日間保存前後の算術平均粗さRaの測定を行い、下記の式1に従って保存による変化比率を求め、下記の基準に基づいて評価を行った。   The electrode No. 1 of the present invention produced as described above. 1-27, comparative electrode No. For 28 to 35, arithmetic average roughness Ra was measured before and after storage for 7 days under the condition of 85 ° C. and 90% RH, the change ratio due to storage was determined according to the following formula 1, and evaluation was performed based on the following criteria.

保存による変化比率(%)=((保存後の算術平均粗さRa−保存前の算術平均粗さRa)/保存前の算術平均粗さRa)×100・・・・式1
◎:保存による変化比率が1%未満
○:保存による変化比率が1%以上、3%未満
△:保存による変化比率が3%以上、8%未満
×:保存による変化比率が8%以上
上記評価結果を表1、表2に示す。
Change ratio (%) by storage = ((arithmetic average roughness Ra after storage−arithmetic average roughness Ra before storage) / arithmetic average roughness Ra before storage) × 100
◎: Change ratio by storage is less than 1% ○: Change ratio by storage is 1% or more and less than 3% △: Change ratio by storage is 3% or more and less than 8% ×: Change ratio by storage is 8% or more The results are shown in Tables 1 and 2.

表1、表2中、
Irganox1010:フェノール化合物、BASFジャパン株式会社製
Irganox1076:フェノール化合物、BASFジャパン株式会社製
GSY−P101:リン系化合物、堺化学工業株式会社製
Sumilizer−GP:リン系化合物、住友化学株式会社製
Tinuvin−144:ヒンダードアミン化合物、BASFジャパン株式会社製
LA−52:ADK STAB LA−52、ヒンダードアミン化合物、株式会社ADEKA製
Sumilizer−GS:アクリレート系化合物、住友化学株式会社製
HP−136:ベンゾフラノン系化合物、BASFジャパン株式会社製
比較化合物(1):ベンゾイミダゾール
下記に上記化合物の構造を示す。
In Table 1 and Table 2,
Irganox 1010: Phenol compound, manufactured by BASF Japan Ltd. Irganox 1076: Phenol compound, manufactured by BASF Japan Ltd. GSY-P101: Phosphorus compound, manufactured by Sakai Chemical Industry Co., Ltd. Sumilizer-GP: Phosphorus compound, Tinvin-144 manufactured by Sumitomo Chemical Co. : Hindered amine compound, BASF Japan Ltd. LA-52: ADK STAB LA-52, hindered amine compound, ADEKA Corporation Sumilizer-GS: Acrylate compound, Sumitomo Chemical Co., Ltd. HP-136: Benzofuranone compound, BASF Japan stock Company comparison compound (1): benzimidazole The structure of the above compound is shown below.

Figure 2011216468
Figure 2011216468

Figure 2011216468
Figure 2011216468

Figure 2011216468
Figure 2011216468

Figure 2011216468
Figure 2011216468

表1、表2に示した様に、比較例であるNo.28〜35に対して、金属繊維を有する導電性金属層に本発明の酸化防止剤を有し、導電性ポリマー層に本発明のポリマー(A)を有する本発明の電極は、高温高湿条件下での保存による透明性の低下、平滑性の劣化が少ないことがわかる。   As shown in Tables 1 and 2, No. 28 to 35, the electrode of the present invention having the antioxidant of the present invention in the conductive metal layer having metal fibers and the polymer (A) of the present invention in the conductive polymer layer is a high temperature and high humidity condition. It can be seen that there is little decrease in transparency and deterioration in smoothness due to storage under.

実施例2
[有機エレクトロルミネッセンス素子(有機EL素子)の作製]
実施例1で作製した電極No.1〜35各々をアノード電極として、以下の手順で有機EL素子1〜35を作製した。
Example 2
[Production of organic electroluminescence element (organic EL element)]
The electrode No. 1 prepared in Example 1 was used. Organic EL elements 1 to 35 were produced by the following procedure using each of 1 to 35 as an anode electrode.

〈正孔輸送層の形成〉
アノード電極上に、1.2−ジクロロエタン中に1質量%となるように正孔輸送材料の4,4′−ビス〔N−(1−ナフチル)−N−フェニルアミノ〕ビフェニル(NPD)を溶解させた正孔輸送層形成用塗布液をスピンコート装置で塗布した後、80℃、60分間乾燥して、厚さ40nmの正孔輸送層を形成した。
<Formation of hole transport layer>
Dissolve 4,4'-bis [N- (1-naphthyl) -N-phenylamino] biphenyl (NPD) as a hole transport material on the anode electrode so as to be 1% by mass in 1.2-dichloroethane. The applied hole transport layer forming coating solution was applied by a spin coater and then dried at 80 ° C. for 60 minutes to form a hole transport layer having a thickness of 40 nm.

〈発光層の形成〉
正孔輸送層が形成された各フィルム上に、ホスト材のポリビニルカルバゾール(PVK)に対して、赤ドーパント材BtpIr(acac)が1質量%、緑ドーパント材Ir(ppy)が2質量%、青ドーパント材FIr(pic)が3質量%にそれぞれなるように混合し、PVKと3種ドーパントの全固形分濃度が1質量%となるように1.2−ジクロロエタン中に溶解させた発光層形成用塗布液をスピンコート装置で塗布した後、100℃、10分間乾燥して、厚さ60nmの発光層を形成した。
<Formation of light emitting layer>
On each film in which the hole transport layer is formed, the red dopant material Btp 2 Ir (acac) is 1% by mass and the green dopant material Ir (ppy) 3 is 2% with respect to polyvinylcarbazole (PVK) as the host material. %, Blue dopant material FIr (pic) is mixed so as to be 3% by mass, and the light emission is dissolved in 1.2-dichloroethane so that the total solid concentration of PVK and the three dopants is 1% by mass. The coating liquid for layer formation was applied with a spin coater and then dried at 100 ° C. for 10 minutes to form a light emitting layer having a thickness of 60 nm.

Figure 2011216468
Figure 2011216468

〈電子輸送層の形成〉
形成した発光層上に、電子輸送層形成用材料としてLiFを5×10−4Paの真空下にて蒸着し、厚さ0.5nmの電子輸送層を形成した。
<Formation of electron transport layer>
On the formed light emitting layer, LiF was evaporated as a material for forming an electron transport layer under a vacuum of 5 × 10 −4 Pa to form an electron transport layer having a thickness of 0.5 nm.

〈カソード電極の形成〉
形成した電子輸送層の上に、Alを5×10−4Paの真空下にて蒸着し、厚さ100nmのカソード電極を形成した。
<Formation of cathode electrode>
On the formed electron transport layer, Al was vapor-deposited under a vacuum of 5 × 10 −4 Pa to form a cathode electrode having a thickness of 100 nm.

〈封止膜の形成〉
形成した電子輸送層の上に、ポリエチレンテレフタレートを基板とし、Alを厚さ300nmで蒸着した可撓性封止部材を使用した。アノード電極及びカソード電極の外部取り出し端子が形成出来る様に端部を除きカソード電極の周囲に接着剤を塗り、前記可撓性封止部材を貼合した後、熱処理で接着剤を硬化させ封止膜を形成して封止した。
<Formation of sealing film>
On the formed electron transport layer, a polyethylene terephthalate and the substrate, using a flexible sealing member which is deposited to a thickness 300nm of Al 2 O 3. Adhesive is applied to the periphery of the cathode electrode except for the ends so that external terminals of the anode electrode and the cathode electrode can be formed, and after the flexible sealing member is bonded, the adhesive is cured by heat treatment and sealed. A film was formed and sealed.

《評価》
<発光輝度ムラ>
KEITHLEY製ソースメジャーユニット2400型を用いて、直流電圧を有機EL素子に印加し発光させた。200cd/mで発光させた有機EL素子1〜35について、50倍の顕微鏡で各々の発光均一性を観察した。さらに、有機EL素子1〜35を200cd/mで1000時間発光させた後の発光均一性を観察した。
<Evaluation>
<Light emission brightness unevenness>
Using a KEITHLEY source measure unit type 2400, a direct current voltage was applied to the organic EL element to emit light. With respect to the organic EL elements 1 to 35 that emitted light at 200 cd / m 2 , each light emission uniformity was observed with a 50 × microscope. Furthermore, the light emission uniformity after emitting the organic EL elements 1 to 35 at 200 cd / m 2 for 1000 hours was observed.

(発光均一性の評価基準)
◎:EL素子全体が均一に発光している
○:EL素子全体がほぼ均一に発光している
△:EL素子の発光にややムラが認められる
×:EL素子の発光に明らかなムラが認められる
上記の評価結果を表3に示す。
(Evaluation criteria for light emission uniformity)
A: The entire EL element emits light uniformly. O: The entire EL element emits light substantially uniformly. Δ: Some unevenness is observed in the light emission of the EL element. X: Clear unevenness is observed in the light emission of the EL element. The evaluation results are shown in Table 3.

Figure 2011216468
Figure 2011216468

表3に示した様に、有機EL素子28〜35(比較例)に対して、金属繊維を有する導電性金属層に本発明の酸化防止剤を有し、導電性ポリマー層に本発明のポリマー(A)を有する本発明の電極を用いた有機EL素子は、高温高湿条件下での保存による透明性の低下、平滑性の劣化が少ないことがわかる。   As shown in Table 3, the organic EL elements 28 to 35 (comparative examples) have the antioxidant of the present invention in the conductive metal layer having metal fibers, and the polymer of the present invention in the conductive polymer layer. It can be seen that the organic EL device using the electrode of the present invention having (A) has little decrease in transparency and smoothness due to storage under high temperature and high humidity conditions.

11 金属繊維
21 導電性ポリマー
31 第一の導電性金属層
32 第二の導電層
41 基板
11 Metal Fiber 21 Conductive Polymer 31 First Conductive Metal Layer 32 Second Conductive Layer 41 Substrate

Claims (7)

基板上に金属繊維を含有する導電性金属層と、導電性ポリマー層とを有する電極において、該導電性金属層は酸化防止剤を含有し、かつ、該導電性ポリマー層は、バインダー樹脂として、下記一般式(I)で表される構造単位を有するポリマー、及び、下記一般式(I)及び下記一般式(II)で表される構造単位を有するコポリマーの少なくとも何れかを有するポリマー(A)を含有することを特徴とする電極。
Figure 2011216468
〔式中、Rは水素原子、メチル基を表し、Qは−C(=O)O−、−C(=O)NRa−を表す。Raは水素原子、アルキル基を表し、Aは置換或いは無置換アルキレン基、−(CHCHRbO)−(CHCHRb)−を表し、Rbは水素原子、アルキル基を表す。xは平均繰り返しユニット数で1〜100の数である。yは0、1を表す。Zはアルキル基、−C(=O)−Rc、−SO−Rd、−SiReを表す。Rc、Rd、Reはアルキル基、パーフルオロアルキル基、又は、アリール基を表す。〕
In an electrode having a conductive metal layer containing metal fibers on a substrate and a conductive polymer layer, the conductive metal layer contains an antioxidant, and the conductive polymer layer is used as a binder resin. Polymer (A) having at least one of a polymer having a structural unit represented by the following general formula (I) and a copolymer having a structural unit represented by the following general formula (I) and the following general formula (II) An electrode comprising:
Figure 2011216468
[Wherein, R represents a hydrogen atom or a methyl group, and Q represents —C (═O) O— or —C (═O) NRa—. Ra represents a hydrogen atom or an alkyl group, A represents a substituted or unsubstituted alkylene group, — (CH 2 CHRbO) x — (CH 2 CHRb) —, and Rb represents a hydrogen atom or an alkyl group. x is an average number of repeating units of 1 to 100. y represents 0 or 1; Z represents an alkyl group, —C (═O) —Rc, —SO 2 —Rd, —SiRe 3 . Rc, Rd, and Re represent an alkyl group, a perfluoroalkyl group, or an aryl group. ]
前記導電性ポリマー層が、前記導電性金属層の上に設置されていることを特徴とする請求項1に記載の電極。   The electrode according to claim 1, wherein the conductive polymer layer is disposed on the conductive metal layer. 前記金属繊維が、銀ナノワイヤであることを特徴とする請求項1又は2に記載の電極。   The electrode according to claim 1, wherein the metal fiber is a silver nanowire. 前記酸化防止剤が、水溶性化合物であることを特徴とする請求項1〜3のいずれか1項に記載の電極。   The electrode according to any one of claims 1 to 3, wherein the antioxidant is a water-soluble compound. 前記酸化防止剤が、フェノール系化合物であることを特徴とする請求項1〜4のいずれか1項に記載の電極。   The electrode according to any one of claims 1 to 4, wherein the antioxidant is a phenol compound. 前記酸化防止剤の添加量が、1×10−4g/m〜1g/mであることを特徴とする請求項1〜5のいずれか1項に記載の電極。 The additive amount of the antioxidant is, 1 × 10 -4 g / m 2 ~1g / electrode according to any one of claims 1 to 5, characterized in that m is 2. 請求項1〜6のいずれか1項に記載の電極を有することを特徴とする有機エレクトロルミネッセンス素子。   An organic electroluminescence device comprising the electrode according to claim 1.
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Cited By (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2012069381A (en) * 2010-09-24 2012-04-05 Konica Minolta Holdings Inc Transparent conductive film and organic electroluminescent element
WO2013047699A1 (en) * 2011-09-28 2013-04-04 富士フイルム株式会社 Conductive composition, conductive member and production method therefor, touch panel, and solar cell
WO2013129116A1 (en) * 2012-02-29 2013-09-06 コニカミノルタ株式会社 Method for manufacturing transparent electrode, transparent electrode, and organic electronic device
WO2013141278A1 (en) * 2012-03-23 2013-09-26 富士フイルム株式会社 Conductive composition, conductive member, conductive member manufacturing method, touch panel, and solar cell
JP2013225498A (en) * 2012-03-23 2013-10-31 Fujifilm Corp Conductive composition, conductive member, method for producing conductive member, touch panel, and solar cell
KR20160004532A (en) 2014-07-03 2016-01-13 동우 화인켐 주식회사 Positive type composition and method for pattern formation of transparent conductors using the same
JP2016128909A (en) * 2015-01-09 2016-07-14 三星ディスプレイ株式會社Samsung Display Co.,Ltd. Photosensitive resin composition, color conversion panel using the same, and display device
JP2017520894A (en) * 2014-07-15 2017-07-27 サントレ ナティオナル ド ラ ルシェルシェ シアンティフィク Method for producing transparent conductive self-supporting silver nanowire film and use thereof
JP2021004300A (en) * 2019-06-26 2021-01-14 信越ポリマー株式会社 Conductive polymer-containing liquid, conductive film, and method of producing the same
JP2021509527A (en) * 2017-12-29 2021-03-25 アイテッド インコーポレイテッド Manufacturing method of transparent electrode

Cited By (16)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2012069381A (en) * 2010-09-24 2012-04-05 Konica Minolta Holdings Inc Transparent conductive film and organic electroluminescent element
US9343594B2 (en) 2011-09-28 2016-05-17 Fujifilm Corporation Conductive composition, conductive member and production method thereof, touch panel, and solar cell
WO2013047699A1 (en) * 2011-09-28 2013-04-04 富士フイルム株式会社 Conductive composition, conductive member and production method therefor, touch panel, and solar cell
JP2013084543A (en) * 2011-09-28 2013-05-09 Fujifilm Corp Conductive composition, conductive member and method for manufacturing the same, touch panel, and solar cell
WO2013129116A1 (en) * 2012-02-29 2013-09-06 コニカミノルタ株式会社 Method for manufacturing transparent electrode, transparent electrode, and organic electronic device
WO2013141278A1 (en) * 2012-03-23 2013-09-26 富士フイルム株式会社 Conductive composition, conductive member, conductive member manufacturing method, touch panel, and solar cell
US9224518B2 (en) 2012-03-23 2015-12-29 Fujifilm Corporation Conductive composition, conductive member, conductive member production method, touch panel, and solar cell
JP2013225498A (en) * 2012-03-23 2013-10-31 Fujifilm Corp Conductive composition, conductive member, method for producing conductive member, touch panel, and solar cell
US9633755B2 (en) 2012-03-23 2017-04-25 Fujifilm Corporation Conductive composition, conductive member, conductive member production method, touch panel, and solar cell
KR20160004532A (en) 2014-07-03 2016-01-13 동우 화인켐 주식회사 Positive type composition and method for pattern formation of transparent conductors using the same
JP2017520894A (en) * 2014-07-15 2017-07-27 サントレ ナティオナル ド ラ ルシェルシェ シアンティフィク Method for producing transparent conductive self-supporting silver nanowire film and use thereof
JP2016128909A (en) * 2015-01-09 2016-07-14 三星ディスプレイ株式會社Samsung Display Co.,Ltd. Photosensitive resin composition, color conversion panel using the same, and display device
JP2021509527A (en) * 2017-12-29 2021-03-25 アイテッド インコーポレイテッド Manufacturing method of transparent electrode
JP7047102B2 (en) 2017-12-29 2022-04-04 アイテッド インコーポレイテッド Manufacturing method of transparent electrode
JP2021004300A (en) * 2019-06-26 2021-01-14 信越ポリマー株式会社 Conductive polymer-containing liquid, conductive film, and method of producing the same
JP7291555B2 (en) 2019-06-26 2023-06-15 信越ポリマー株式会社 Conductive polymer-containing liquid, conductive film, and method for producing the same

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