JP2011214627A - Valve structure and method for manufacturing the same - Google Patents
Valve structure and method for manufacturing the same Download PDFInfo
- Publication number
- JP2011214627A JP2011214627A JP2010082006A JP2010082006A JP2011214627A JP 2011214627 A JP2011214627 A JP 2011214627A JP 2010082006 A JP2010082006 A JP 2010082006A JP 2010082006 A JP2010082006 A JP 2010082006A JP 2011214627 A JP2011214627 A JP 2011214627A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- valve
- valve chamber
- valve body
- plate
- lower wall
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Images
Landscapes
- Electrically Driven Valve-Operating Means (AREA)
Abstract
Description
この発明は、逆止弁や圧電弁などの弁構造、および弁構造の製造方法に関する。 The present invention relates to a valve structure such as a check valve and a piezoelectric valve, and a method for manufacturing the valve structure.
ノートパソコンのような小型の電子機器において、流体制御を必要とする燃料電池や水冷装置などを設けることがある。このような装置で、流路の一部に弁構造が設けられる(例えば、特許文献1参照)。 In a small electronic device such as a notebook personal computer, a fuel cell or a water cooling device that requires fluid control may be provided. With such an apparatus, a valve structure is provided in a part of the flow path (see, for example, Patent Document 1).
図1は、従来の弁構造の構成例を説明する図である。圧電弁構造101は、弁体102と弁室103と弁座104とを備える。弁体102は、圧電体を用いて屈曲変形可能に構成している。弁室103は、導入流路105および吐出流路106が形成されている。弁座104は、導入流路105に連通する開口が形成されている。弁体102は平坦な状態で、弁座104に当接して導入流路105を閉鎖し、駆動電圧が印加されて変形した状態で、弁座104から離間して導入流路105を開放する。このように、弁体に駆動電圧を印加していない状態で流路を遮断する構造はノーマリークローズとも呼ばれる。
FIG. 1 is a diagram illustrating a configuration example of a conventional valve structure. The
また上記構造において、圧電弁構造101は逆止弁としても機能する。導入流路104から吐出流路105への順方向の流体圧がある程度以上かかれば、弁体102が撓んで導入流路104が開放される。一方、導入流路104から吐出流路105への順方向の流体圧がある程度未満でかかったり逆方向の流体圧がかかったりすれば、弁体102は導入流路104を閉鎖する。
In the above structure, the
上述のようなノーマリークローズの圧電弁構造を備える装置において、弁構造を小型化しようとすれば、構成部材の経時変形によって弁機能が損なわれることがある。例えば、弁体に微小な反りが生じ、ノーマリークローズの状態でも弁構造にわずかな隙間ができてしまう問題が発生する。 In an apparatus having a normally closed piezoelectric valve structure as described above, if the valve structure is to be miniaturized, the valve function may be impaired due to temporal deformation of the constituent members. For example, there is a problem that a slight warp occurs in the valve body and a slight gap is formed in the valve structure even in a normally closed state.
そこで本発明は、弁体の微小な反りによって弁機能が損なわれることを防止した弁構造、および、弁構造の製造方法の提供を目的とする。 Then, an object of this invention is to provide the valve structure which prevented the valve function being impaired by the micro curvature of a valve body, and the manufacturing method of a valve structure.
この発明の弁構造は、弁室天面部と弁室底面部と弁室上壁部と弁室下壁部と弁座と弁体とを備える。弁室天面部は、弁室の天面を構成し、少なくともひとつの流路口が形成される。弁室底面部は弁室の底面を構成する。弁室上壁部は、弁室の壁面を構成し、弁室天面部に接合される。弁室下壁部は、弁室の壁面を構成し、弁室底面部に接合される。弁体は、弁室上壁部と弁室下壁部とに支持される弁体両端部と、弁体両端部間の弁体央部とを備える。弁座は、流路口と弁体央部との間に位置する。弁体は、変形力の非作用時に弁座を介して流路口を閉鎖し、変形力の作用時に流路口を開放する。このような弁構造において、弁室下壁部に加圧構造を設けたことを特徴とする。加圧構造は、弁室の天面側に弁体央部が撓む方向の力を弁体両端部に加える構造である。
このように弁体下壁部から弁体両端部に力をかけることで、流体や圧電体から弁体に作用する変形力や、弁座から弁体に作用する力が無負荷である状態において、弁体央部が弁体両端部よりも弁室の天面側に位置して撓む。すると、このような力をかけずに弁体壁部が弁体を支持する場合に比べて、弁体央部と弁室天面部との間を加圧できる。これにより、経時変化により弁体と弁座との間に隙間が生じることを防ぐことができる。
The valve structure of the present invention includes a valve chamber top surface portion, a valve chamber bottom surface portion, a valve chamber upper wall portion, a valve chamber lower wall portion, a valve seat, and a valve body. The valve chamber top surface portion constitutes the top surface of the valve chamber, and at least one flow path opening is formed. The valve chamber bottom portion constitutes the bottom surface of the valve chamber. The upper wall portion of the valve chamber constitutes the wall surface of the valve chamber and is joined to the top surface portion of the valve chamber. The valve chamber lower wall portion constitutes the wall surface of the valve chamber and is joined to the valve chamber bottom surface portion. A valve body is provided with the valve body both ends supported by the valve chamber upper wall part and the valve chamber lower wall part, and the valve body center part between valve body both ends. The valve seat is located between the flow path port and the central part of the valve body. The valve body closes the flow path port via the valve seat when the deformation force is not applied, and opens the flow path port when the deformation force is applied. Such a valve structure is characterized in that a pressure structure is provided on the lower wall portion of the valve chamber. The pressurizing structure is a structure in which a force in a direction in which the central part of the valve body bends to the top surface side of the valve chamber is applied to both end parts of the valve body.
By applying a force from the valve body lower wall portion to both ends of the valve body in this way, in a state where the deformation force acting on the valve body from the fluid or piezoelectric body and the force acting on the valve body from the valve seat are unloaded The central part of the valve body is bent at a position closer to the top surface of the valve chamber than both end parts of the valve body. Then, compared with the case where a valve body wall part supports a valve body, without applying such a force, between a valve body center part and a valve chamber top surface part can be pressurized. Thereby, it can prevent that a clearance gap produces between a valve body and a valve seat by a time-dependent change.
この発明の弁室下壁部は、弁体との接合面において、弁室近傍の内側領域が外側領域よりも弁室の天面側に位置する。このように構成することで、弁体央部が弁体両端部よりも弁室の天面側に撓むような力を弁室壁部から弁体に作用させられる。なお、弁室下壁部は、弁室上壁部よりも弁室内に突出して弁体に接合する壁面拡張部位を備えてもよい。また、弁体との接合面が弁室の天面に対して傾斜してもよい。 In the valve chamber lower wall portion of the present invention, the inner region in the vicinity of the valve chamber is located closer to the top surface side of the valve chamber than the outer region on the joint surface with the valve body. By comprising in this way, the force which a valve body center part bends to the top | upper surface side of a valve chamber rather than a valve body both ends can be made to act on a valve body from a valve chamber wall part. The valve chamber lower wall portion may include a wall surface expansion portion that protrudes into the valve chamber from the valve chamber upper wall portion and joins the valve body. Further, the joint surface with the valve body may be inclined with respect to the top surface of the valve chamber.
この発明の弁構造の製造方法は、弁体に弁室天面部と弁室上壁部とを積層し接合する上壁接合工程、および、弁体に弁室下壁部と弁室底面部とを積層し接合する下壁接合工程を実施し、下壁接合工程で弁体と弁室下壁部との接合面における弁室上壁部に重なる領域を加圧しながら加熱接合すると好適である。このような方法により、従来の製造方法から特別な工程の追加を招かずに、上述の構成とすることができる。 The valve structure manufacturing method of the present invention includes an upper wall joining step of laminating and joining a valve chamber top surface portion and a valve chamber upper wall portion to the valve body, and a valve chamber lower wall portion and a valve chamber bottom surface portion on the valve body. It is preferable to perform a lower wall joining step of laminating and joining, and in the lower wall joining step, heat joining while pressurizing a region overlapping the valve chamber upper wall portion in the joint surface between the valve body and the valve chamber lower wall portion. According to such a method, the above-described configuration can be obtained without adding a special process from the conventional manufacturing method.
この発明によれば、弁体央部が弁体両端部よりも弁室の天面側で撓むような力を弁体壁部から弁体に作用させるので、弁体央部が平坦となるように弁室壁部で弁体を支持する場合に比べて、弁座を介して弁体央部と弁室天面部との間を大きく加圧できる。これにより、経時変化により、弁体と弁座との間に隙間が生じることを防ぐことができる。 According to the present invention, a force that the central part of the valve body bends on the top surface side of the valve chamber from the both end parts of the valve body is applied to the valve body from the valve body wall part, so that the central part of the valve body becomes flat. Compared to the case where the valve body is supported by the valve chamber wall, the space between the valve body central portion and the valve chamber top surface portion can be greatly pressurized via the valve seat. Thereby, it can prevent that a clearance gap produces between a valve body and a valve seat by a time-dependent change.
《第1の実施形態》
以下、本願発明の第1の実施形態に係る弁構造を、圧電弁構造を例に説明する。なお、ここでは、弁体として圧電体の駆動により屈曲変形するものを用いるが、圧電体を用いずに単なる逆止弁構造としてもよい。また、流体としては、気体や、液体、気液混合流、固液混合流、固気混合流などのいずれを用いてもよい。
<< First Embodiment >>
Hereinafter, the valve structure according to the first embodiment of the present invention will be described using a piezoelectric valve structure as an example. Here, a valve body that is bent and deformed by driving a piezoelectric body is used, but a simple check valve structure may be used without using a piezoelectric body. As the fluid, any of gas, liquid, gas-liquid mixed flow, solid-liquid mixed flow, solid-gas mixed flow, and the like may be used.
図2は、第1の実施形態に係る圧電弁構造1の分解斜視図である。
圧電弁構造1は、図2(A)に分解斜視するように、弁室天板2、弁室上壁板3、弁座4、弁体板5、弁室下壁板6、および弁室底板7を備え、それらを天面側から底面側にかけて順に積層し接合した構成である。
FIG. 2 is an exploded perspective view of the
The
弁体板5は天面視して概略長方外形であり、長尺方向に並行する2本の溝が形成されている。溝の内側は本発明の弁室の一部を構成する側方弁室13である。溝と溝との間に挟まれた部位は本発明の弁体の一部を構成する梁状部11である。梁状部11を囲む枠状の部位は枠状部12であり、枠状部12における梁状部11からの延長上の部位も本発明の弁体の一部を構成する。弁体における弁室上壁板3または弁室下壁板6に接触しない部位が本発明の弁体央部であり、接触する部位が本発明の弁体両端部である。
The
弁室上壁板3は天面視して概略長方外形、長方内形の枠体であり、弁体板5における枠状部12と天面視形状が一致し、本発明の弁室上壁部を構成する。枠体の内側は本発明の弁室の一部を構成する上方弁室14である。
The valve chamber
弁室下壁板6は天面視して概略長方外形、長方内形の枠体であり、本発明の弁室下壁部を構成する。枠体の内側は本発明の弁室の一部を構成する下方弁室15である。この弁室下壁板6は詳細を後述するが本実施形態の特徴的な構成であり、枠状部12および弁室上壁板3と天面視した外形状が一致するが、内形状が相違し、下方弁室15の長尺方向の両端が、上方弁室14における長尺方向の両端よりも内側に位置する。
The valve chamber
弁座4は円環状であり、上方弁室14に収められる大径部と、流路口16に隙間をもって勘合される小径部を備えている。弁座4の高さは、梁状部11の最大変位時の上方弁室高さよりも高くなるように設計されている。
The valve seat 4 has an annular shape, and includes a large-diameter portion that is accommodated in the
弁室天板2は天面視して概略長方形であり、本発明の弁室天面部を構成する。弁室天板2の四隅それぞれには外部固定用のねじ穴を形成している。また、中央に流体流入用(または流体流出用)の流路口16を形成している。また、前述の側方弁室13に対面し、弁室の隅部分となる位置に流体流出用(または流体流入用)の流路口17を形成している。弁室底板7は、天面視して概略長方形であり、弁室の底面を構成する。
The valve chamber
また弁体板5は、図2(B)に分解斜視するように、上面板5A、圧電体5B、側板5C、下面板5D、およびコネクタ部5Eを備え、上面板5A、側板5C、下面板5Dを天面側から底面側にかけて順に積層した構成である。圧電体5Bは天面視して長方形であり、側板5Cは天面視して切り欠きが設けられたコの字状であり、側板5Cの切り欠き内に圧電体5Bが収められる。また、圧電体5Bの一端は切り欠き内から突出し、そこにコネクタ部5Eが設けられる。圧電体5Bの両面それぞれには電極が設けられ、コネクタ部5Eにそれぞれ電気的に接続される。また、圧電体5Bの表面はコーティング材によりコーティングし、これにより撥水性を付与している。コネクタ部5Eを介して圧電体5Bに駆動電圧を印加することにより、この弁体板5は底面側に凸に屈曲する。
Further, the
また弁室底板7は、図2(C)に分解斜視するように、上面板7A、中間板7B、およびコネクタ固定板7Cを備え、それらを天面側から底面側にかけて順に積層した構成である。コネクタ固定板7Cにはコネクタ部5Eを固定するねじ穴を設けている。
Further, the valve chamber
次に、圧電弁装置1への駆動電圧の印加状態の変化による動作について説明する。図3は、圧電弁構造1における長尺方向に平行な断面の模式図である。なお、ここでは流路口16を流入用、流路口17を流出用として説明する。
駆動電圧の非印加時には、図3(A)に示すように、梁状部11は略平坦であり、弁座4に中央部分が接触し、流路口16を閉鎖する。駆動電圧の印加時には、図3(B)に示すように、梁状部11は弁室の天面と逆側に屈曲し、中央部分が弁座4から離間して流路口16を開放する。したがって、駆動電圧の印加時には、順流、逆流を問わずに、流路口16と流路口17との間で流体が流れることになる。一方、駆動電圧の非印加時には、流路口17から流路口16への逆流、および、流路口16から流路口17への所定の流体圧未満の順流を遮断することになる。なお、流路口16から流路口17への順流が所定の流体圧以上であれば流体圧によって梁状部11は撓み、その際、順流が流れることになる。順流の流体圧の閾値は主に梁状部11の剛性によって定まる。
Next, the operation by changing the application state of the drive voltage to the
When the drive voltage is not applied, the beam-
次に、本実施形態に特徴的な構成である下壁面板6の構造と、下壁面板6から梁状部11に作用する力について説明する。図4は、弁座4を除いた状態の駆動電圧の非印加時、すなわち弁体板5に対して上壁面板3および下壁面板6からのみ力が作用する状態の模式図である。
Next, the structure of the lower
前述したように、下壁面板6は、下方弁室15の長尺方向両端が上方弁室14の長尺方向両端よりも内側に位置する形状である。ここで、下壁面板6における上壁面板3よりも弁室内側に突出する部位を、便宜的に壁面拡張部位8と称する。壁面拡張部位8(内側領域)は梁状部11に接合し、壁面拡張部位8を除く領域(外側領域)は枠状部12に接合する。壁面拡張部位8における弁室天面側の端部9は、枠状部12に接合する外側領域よりも弁室の天面側に突出する。この構成により、壁面拡張部位8に接触する梁状部11の両端部が、端部9から弁室の天面側に加圧されることになる。梁状部11の両端部が枠状部12に固定されているので、端部9からの加圧により梁状部11は天面側に凸に撓み、中央部分が弁室の天面側に位置することになる。
As described above, the
この構成に図3(A)のような弁座4を適用した場合、弁座4は梁状部11と弁室天板2との間で圧縮方向に加圧されることになり、弁座4と弁室天板2との境界部分の距離を小さくすることができる。したがって、弁構造の繰り返しの使用により、構成部材の変形や経時劣化が生じたとしても、弁を閉じる状態を維持することができる。
When the valve seat 4 as shown in FIG. 3 (A) is applied to this configuration, the valve seat 4 is pressurized in the compression direction between the beam-shaped
図5は、圧電弁構造1の製造方法を説明する図である。
FIG. 5 is a diagram for explaining a method of manufacturing the
圧電弁構造1の製造フローでは、予め、積層構造の弁体板5と弁室底板7とがそれぞれ形成される。そして、配置ステージ52上に弁体板5、上壁面板3、弁室天板2の順に重ねた状態で、抑えガラス51で弁室天板2を抑えこむ。上壁面板3の上下面には、レーザ光を吸収する材料でコーディング膜を形成しておき、抑えガラス51を介してレーザ光53を上壁面板3に照射する。これにより、コーディング材を発熱させて弁体板5と上壁面板3と弁室天板2とを溶着して接合体を構成する(S11)。この工程が本発明の上壁接合工程である。
In the manufacturing flow of the
次に、抑えガラス51を外して、弁体板5、上壁面板3、弁室天板2の順番が逆になるように接合体を裏返し、弁体板5の上に下壁面板6、弁室底板7の順に重ねた状態とする(S12)。
Next, the holding
次に、抑えガラス51で今度は弁室底板7を押さえ込む。下壁面板6の上下面には、レーザ光を吸収する材料でコーディング膜を形成しておき、抑えガラス51を介してレーザ光53を下壁面板6に照射することにより、局所加熱、局所加圧した状態でコーディング材を発熱させて弁体板5と下壁面板6と弁室底板7とを溶着して接合体を構成する(S13)。この工程が本発明の下壁接合工程である。
Next, the valve chamber
この製造方法によれば、上壁面板3の平面面積が下壁面板6の平面面積よりも小さいので、下壁面板6の加熱溶着時に部分的に下壁面板6を支える部材が存在せず、このため、熱により下壁面板6が弁体板5側に変形する。これにより、前述の図4に示したように、壁面拡張部位8における弁室の天面側の端部9が、下壁面板6における他の領域よりも弁室の天面側に突出する形状となる。
このような製造方法によって、本実施形態の圧電弁構造1の構成を、特別な工程の追加をせずに、製造することができる。
According to this manufacturing method, since the planar area of the upper
With such a manufacturing method, the configuration of the
図6は、圧電弁構造1の他の製造方法の一例を説明する図である。
FIG. 6 is a diagram for explaining an example of another manufacturing method of the
圧電弁構造1の製造フローでは、予め、積層構造の弁体板5と弁室底板7とがそれぞれ形成される。そして、上壁面板3の枠状部と天面視形状が一致する加圧部55Aを備える配置ステージ55上に弁体板5、下壁面板6、弁室底板7の順に重ねた状態で、抑えガラス51で弁室底板7を抑えこむ。下壁面板6の上下面には、レーザ光を吸収する材料でコーディング膜を形成しておき、抑えガラス51を介してレーザ光53を下壁面板6に照射する。これにより、局所加熱、局所加圧した状態でコーディング材を発熱させて弁体板5と下壁面板6と弁室底板7とを溶着して接合体を構成する(S21)。この工程が本発明の下壁接合工程である。
In the manufacturing flow of the
この工程によれば、配置ステージ55の加圧部55Aの平面面積が下壁面板6の平面面積よりも小さいので、下壁面板6の加熱溶着時に部分的に下壁面板6を支える部材が存在せず、このため、熱により下壁面部6が弁体板5側に変形する。これにより、壁面拡張部位8における弁室の天面側の端部9が、下壁面板6における他の領域よりも弁室の天面側に突出する形状となる。
According to this process, since the planar area of the pressurizing
次に、抑えガラス51を外して、弁体板5、下壁面板6、弁室底板7の順番が逆になるように接合体を裏返し、弁体板5の上に上壁面板3、弁室天板2の順に重ねた状態とする(S22)。
Next, the holding
次に、抑えガラス51で今度は弁室天板2を押さえ込む。上壁面板3の上下面には、レーザ光を吸収する材料でコーディング膜を形成しておき、抑えガラス51を介してレーザ光53を上壁面板3に照射することにより、局所加熱、局所加圧した状態でコーディング材を発熱させて弁体板5と上壁面板3と弁室天板2とを溶着して接合体を構成する(S23)。この工程が本発明の上壁接合工程である。
このような製造方法によって、本実施形態の圧電弁構造1の構成を、加圧部55Aを設けたステージ55を用意するのみで、特別な工程の追加をせずに、製造することができる。
Next, the valve chamber
By such a manufacturing method, the configuration of the
《第2の実施形態》
次に、第2の実施形態に係る圧電弁構造について説明する。図7(A)は、弁座7を設けた状態での、駆動電圧の非印加時の模式断面図である。図7(B)は、弁座4を除いた状態での、駆動電圧の非印加時の模式断面図である。
<< Second Embodiment >>
Next, a piezoelectric valve structure according to the second embodiment will be described. FIG. 7A is a schematic cross-sectional view when the drive voltage is not applied in a state where the
本実施形態の下壁面板26は、天面視形状が上壁面板23および弁体板5の枠状部12と一致する。一方、下壁面板26および上壁面板23の断面形状が前述の第1の実施形態と相違し、両者の弁体板5との接合面が傾斜し、弁体板5との接合面における外側領域に比べて弁室近傍の内側領域が弁室の天面側に位置する構成である。このような構成でも、図7(B)に示す無負荷時の状態では、梁状部11の中央部分が両端部よりも弁室の天面側に位置して天面側に凸に撓むことになる。これにより、図7(A)のような弁座4を適用した場合に、弁座4は梁状部11と弁室天板2との間で圧縮方向に加圧されることになり、弁座4と弁室天板2との境界部分の距離を小さくすることができる。したがって、弁構造の繰り返しの使用により、構成部材の変形や経時劣化が生じたとしても、弁を閉じる状態を維持することができる。
The lower
《第3の実施形態》
次に、第3の実施形態に係る圧電弁構造について説明する。図8(A)は、弁座4を設けた状態での、駆動電圧の非印加時の模式断面図である。図8(B)は、弁座4を除いた状態での、駆動電圧の非印加時の模式断面図である。
<< Third Embodiment >>
Next, a piezoelectric valve structure according to the third embodiment will be described. FIG. 8A is a schematic cross-sectional view when the drive voltage is not applied in a state where the valve seat 4 is provided. FIG. 8B is a schematic cross-sectional view when the drive voltage is not applied, with the valve seat 4 removed.
本実施形態の下壁面板36は、下方弁室15の長尺方向両端が上方弁室14の長尺方向両端よりも内側に位置するように壁面拡張部位8を設けた形状である。また、下壁面板36および上壁面板23の断面形状が前述の第2の実施形態と同様に、弁体板5との接合面が傾斜する構成である。なお、壁面拡張部位8の弁体板5との接合面は、外側領域に比べて急峻に突出する形状である。このような構成でも、上壁面板23および下壁面板36の弁体板5との接合面における外側領域に比べて弁室近傍の内側領域が弁室の天面側に位置し、図8(B)に示す無負荷時の状態では、梁状部11の中央部分が両端部よりも弁室の天面側に位置して天面側に凸に撓むことになる。
The lower
これにより、弁座4を設けた図8(A)の状態では、梁状部11の中央部分は弁座4に接触し、弁座4から作用する力と梁弾性とが釣り合うように梁状部11が変形する。このため、梁状部11は図8(B)に示す無負荷時の状態から平坦化することになる。また、弁座4は梁状部11と弁室天板2との間で圧縮方向に加圧され、弁座4と弁室天板2との境界部分や、弁座4と梁状部11との境界部分に隙間ができ難くなる。
Thus, in the state of FIG. 8A in which the valve seat 4 is provided, the central portion of the beam-shaped
以上の各実施形態に示したように、本発明は、前記弁室の天面側で弁体が撓む方向の力をかけて弁体を支持することにより、ノーマリ−クローズの弁構造に隙間ができることを防ぐことが可能になる。 As shown in each of the above embodiments, the present invention provides a clearance between the normally-closed valve structure by supporting the valve body by applying a force in the direction in which the valve body bends on the top surface side of the valve chamber. Can be prevented.
1,21,31…圧電弁構造
2…弁室天板
3,23…弁室上壁板
4…弁座
5…弁体板
5A…上面板
5B…圧電体
5C…側板
5D…下面板
5E…コネクタ部
6,26,36…弁室下壁板
7…弁室底板
7A…上面板
7B…中間板
7C…コネクタ固定板
11…梁状部
12…枠状部
13…側方弁室
14…上方弁室
15…下方弁室
16,17…流路口
DESCRIPTION OF
Claims (6)
前記弁室の底面を構成する弁室底面部と、
前記弁室の壁面を構成し、前記弁室天面部に接合される弁室上壁部と、
前記弁室の壁面を構成し、前記弁体底面部に接合される弁室下壁部と、
前記弁室上壁部と前記弁室下壁部とに支持される弁体両端部、および、前記弁体両端部間の弁体央部を備える弁体と、
前記流路口と前記弁体央部との間に位置する弁座と、を備え、
前記弁体への変形力の非作用時に前記弁座を介して前記弁体が流路口を閉鎖し、前記弁体への変形力の作用時に前記弁体が前記流路口を開放する、弁構造であって、
前記弁室の天面側に前記弁体央部が撓む方向の力を前記弁体両端部に加える加圧構造を、前記弁室下壁部に設けたことを特徴とする、弁構造。 Constituting the top surface of the valve chamber, and at least one flow passage port is formed;
A valve chamber bottom surface portion constituting the bottom surface of the valve chamber;
Constituting the wall surface of the valve chamber, and an upper wall portion of the valve chamber joined to the top surface of the valve chamber;
Constituting the wall surface of the valve chamber, and a valve chamber lower wall portion joined to the bottom surface portion of the valve body;
A valve body having both ends of the valve body supported by the valve chamber upper wall part and the valve chamber lower wall part, and a valve body central part between the valve body both ends,
A valve seat located between the flow passage opening and the central part of the valve body,
A valve structure in which the valve body closes the flow path port via the valve seat when the deformation force does not act on the valve body, and the valve body opens the flow path port when the deformation force acts on the valve body Because
The valve structure according to claim 1, wherein a pressure structure for applying a force in a direction in which the central part of the valve body is deflected to both ends of the valve body is provided on the top surface side of the valve chamber.
前記弁室天面部と前記弁室上壁部と前記弁体とを順次積層し、接合する上壁接合工程、および、
前記上壁接合工程で得られた接合体の前記弁体に前記弁室下壁部と前記弁室底面部とを順次積層し、接合する下壁接合工程、を順に実施し、
前記下壁接合工程では、前記弁体と前記弁室下壁部との接合面を加圧しながら加熱接合する、弁構造の製造方法。 It is a manufacturing method of the valve structure according to claim 3,
An upper wall joining step of sequentially laminating and joining the valve chamber top surface portion, the valve chamber upper wall portion, and the valve body, and
The valve chamber lower wall portion and the valve chamber bottom surface portion are sequentially laminated on the valve body of the joined body obtained in the upper wall joining step, and the lower wall joining step of joining is sequentially performed.
In the lower wall joining step, a method for manufacturing a valve structure, in which the joint surface between the valve body and the valve chamber lower wall portion is heated and joined while being pressurized.
前記弁室底面部と前記弁室下壁部と前記弁体とを順次積層し、接合する下壁接合工程、および、
前記上壁接合工程で得られた接合体の前記弁体に前記弁室上壁部と前記弁室天面部とを順次積層し、接合する上壁接合工程、を順に実施し、
前記下壁接合工程では、前記弁体と前記弁室下壁部との接合面における前記弁室上壁部に重なる領域を、局所的に加圧する加圧治具を用いて加熱接合する、弁構造の製造方法。 It is a manufacturing method of the valve structure according to claim 3,
A lower wall joining step of sequentially laminating and joining the valve chamber bottom surface portion, the valve chamber lower wall portion, and the valve body, and
The valve chamber upper wall portion and the valve chamber top surface portion are sequentially laminated on the valve body of the joined body obtained in the upper wall joining step, and the upper wall joining step for joining is sequentially performed.
In the lower wall joining step, a valve that is joined by heating using a pressurizing jig that locally pressurizes a region of the joint surface between the valve body and the valve chamber lower wall portion that overlaps the valve chamber upper wall portion. Structure manufacturing method.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2010082006A JP2011214627A (en) | 2010-03-31 | 2010-03-31 | Valve structure and method for manufacturing the same |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2010082006A JP2011214627A (en) | 2010-03-31 | 2010-03-31 | Valve structure and method for manufacturing the same |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2011214627A true JP2011214627A (en) | 2011-10-27 |
Family
ID=44944580
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2010082006A Pending JP2011214627A (en) | 2010-03-31 | 2010-03-31 | Valve structure and method for manufacturing the same |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2011214627A (en) |
Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2014134227A (en) * | 2013-01-08 | 2014-07-24 | Tokai Rubber Ind Ltd | Valve |
CN107076137A (en) * | 2014-10-23 | 2017-08-18 | 株式会社村田制作所 | valve and fluid control device |
CN108061024A (en) * | 2016-11-09 | 2018-05-22 | 英业达(重庆)有限公司 | Air flow-producing device and airflow generating method |
CN108061025A (en) * | 2016-11-09 | 2018-05-22 | 英业达(重庆)有限公司 | Air flow-producing device and airflow generating method |
JP7146204B1 (en) * | 2022-03-31 | 2022-10-04 | コフロック株式会社 | flow control valve |
-
2010
- 2010-03-31 JP JP2010082006A patent/JP2011214627A/en active Pending
Cited By (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2014134227A (en) * | 2013-01-08 | 2014-07-24 | Tokai Rubber Ind Ltd | Valve |
CN107076137A (en) * | 2014-10-23 | 2017-08-18 | 株式会社村田制作所 | valve and fluid control device |
CN108061024A (en) * | 2016-11-09 | 2018-05-22 | 英业达(重庆)有限公司 | Air flow-producing device and airflow generating method |
CN108061025A (en) * | 2016-11-09 | 2018-05-22 | 英业达(重庆)有限公司 | Air flow-producing device and airflow generating method |
JP7146204B1 (en) * | 2022-03-31 | 2022-10-04 | コフロック株式会社 | flow control valve |
CN116097027A (en) * | 2022-03-31 | 2023-05-09 | 科赋乐株式会社 | Flow control valve |
WO2023188394A1 (en) * | 2022-03-31 | 2023-10-05 | コフロック株式会社 | Flow rate control valve |
CN116097027B (en) * | 2022-03-31 | 2024-02-27 | 科赋乐株式会社 | Flow control valve |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP2011214627A (en) | Valve structure and method for manufacturing the same | |
JPWO2012140967A1 (en) | Pump device | |
JP6460219B2 (en) | Valve, fluid control device, and blood pressure measurement device | |
JP5062327B2 (en) | Micro valve and valve seat member | |
JP5904554B2 (en) | Single valve | |
CN101573548B (en) | Piezoelectric valve | |
JPWO2013157304A1 (en) | Valve, fluid control device | |
WO2020026908A1 (en) | Vapor chamber | |
CN109638313B (en) | Method for manufacturing single cell of fuel cell | |
JPWO2007111049A1 (en) | Micro pump | |
JP5593907B2 (en) | Piezoelectric pump and manufacturing method thereof | |
US20210229214A1 (en) | Refrigerator and apparatus for fabricating the same | |
JP2021099928A (en) | Manufacturing method of separator | |
JP2015191802A (en) | fuel cell stack | |
JP6150040B2 (en) | Fuel cell and fuel cell stack | |
JP2002106470A (en) | Diaphragm pump | |
JP6574464B2 (en) | Small fluid control device | |
JP5402673B2 (en) | Conjugate and fluid equipment | |
JP6229874B2 (en) | Membrane electrode assembly with frame, single fuel cell and fuel cell stack | |
JP7300117B2 (en) | Piezoelectric valve and manufacturing method of the piezoelectric valve | |
JP2008180179A (en) | Diaphragm pump | |
JP2004340097A (en) | Small pump | |
JP5506511B2 (en) | Film laminating device | |
JP2004046254A (en) | Method for manufacturing liquid crystal display | |
TW201440292A (en) | Fuel cell stack assembly and method of assembly |