JP2011212682A - Photocatalyst dispersion - Google Patents
Photocatalyst dispersion Download PDFInfo
- Publication number
- JP2011212682A JP2011212682A JP2011153038A JP2011153038A JP2011212682A JP 2011212682 A JP2011212682 A JP 2011212682A JP 2011153038 A JP2011153038 A JP 2011153038A JP 2011153038 A JP2011153038 A JP 2011153038A JP 2011212682 A JP2011212682 A JP 2011212682A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- photocatalyst
- solvent
- photocatalyst dispersion
- ion
- additive
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 239000011941 photocatalyst Substances 0.000 title claims abstract description 165
- 239000006185 dispersion Substances 0.000 title claims abstract description 82
- 239000002904 solvent Substances 0.000 claims abstract description 57
- 239000000654 additive Substances 0.000 claims abstract description 56
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 claims abstract description 42
- QGLKJKCYBOYXKC-UHFFFAOYSA-N nonaoxidotritungsten Chemical compound O=[W]1(=O)O[W](=O)(=O)O[W](=O)(=O)O1 QGLKJKCYBOYXKC-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 24
- 229910001930 tungsten oxide Inorganic materials 0.000 claims abstract description 24
- 230000003197 catalytic effect Effects 0.000 claims abstract description 20
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 claims abstract description 14
- 150000001768 cations Chemical class 0.000 claims abstract description 6
- QEMXHQIAXOOASZ-UHFFFAOYSA-N tetramethylammonium Chemical compound C[N+](C)(C)C QEMXHQIAXOOASZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 5
- 230000000996 additive effect Effects 0.000 claims description 51
- GPRLSGONYQIRFK-UHFFFAOYSA-N hydron Chemical compound [H+] GPRLSGONYQIRFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 47
- 230000007423 decrease Effects 0.000 claims description 11
- 238000002156 mixing Methods 0.000 claims description 4
- 229910001413 alkali metal ion Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 229910001420 alkaline earth metal ion Inorganic materials 0.000 claims description 3
- -1 ammonium ions Chemical class 0.000 claims description 3
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 abstract 1
- HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M Sodium hydroxide Chemical compound [OH-].[Na+] HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 72
- 239000000463 material Substances 0.000 description 52
- IKHGUXGNUITLKF-UHFFFAOYSA-N Acetaldehyde Chemical compound CC=O IKHGUXGNUITLKF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 50
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 37
- WGTYBPLFGIVFAS-UHFFFAOYSA-M tetramethylammonium hydroxide Chemical compound [OH-].C[N+](C)(C)C WGTYBPLFGIVFAS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 28
- 239000012530 fluid Substances 0.000 description 25
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 24
- 238000000354 decomposition reaction Methods 0.000 description 22
- 230000001699 photocatalysis Effects 0.000 description 22
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 22
- 239000011230 binding agent Substances 0.000 description 18
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 18
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 description 17
- 239000003513 alkali Substances 0.000 description 15
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 15
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 description 12
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 10
- ZNOKGRXACCSDPY-UHFFFAOYSA-N tungsten trioxide Chemical group O=[W](=O)=O ZNOKGRXACCSDPY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- VHUUQVKOLVNVRT-UHFFFAOYSA-N Ammonium hydroxide Chemical compound [NH4+].[OH-] VHUUQVKOLVNVRT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- CDBYLPFSWZWCQE-UHFFFAOYSA-L Sodium Carbonate Chemical compound [Na+].[Na+].[O-]C([O-])=O CDBYLPFSWZWCQE-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 8
- 239000000908 ammonium hydroxide Substances 0.000 description 8
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 8
- QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N Acetic acid Chemical compound CC(O)=O QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N Titan oxide Chemical compound O=[Ti]=O GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 6
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 6
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 6
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 230000009471 action Effects 0.000 description 5
- 239000006172 buffering agent Substances 0.000 description 5
- 239000002270 dispersing agent Substances 0.000 description 5
- WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N tungsten Chemical compound [W] WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 239000010937 tungsten Substances 0.000 description 5
- 229910052721 tungsten Inorganic materials 0.000 description 5
- 238000005033 Fourier transform infrared spectroscopy Methods 0.000 description 4
- KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M Potassium hydroxide Chemical compound [OH-].[K+] KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 4
- 230000002776 aggregation Effects 0.000 description 4
- 238000004220 aggregation Methods 0.000 description 4
- 239000006071 cream Substances 0.000 description 4
- 229910044991 metal oxide Inorganic materials 0.000 description 4
- 150000004706 metal oxides Chemical class 0.000 description 4
- 239000011734 sodium Substances 0.000 description 4
- 229910000029 sodium carbonate Inorganic materials 0.000 description 4
- WSFSSNUMVMOOMR-UHFFFAOYSA-N Formaldehyde Chemical compound O=C WSFSSNUMVMOOMR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000004566 building material Substances 0.000 description 3
- 230000015556 catabolic process Effects 0.000 description 3
- KRKNYBCHXYNGOX-UHFFFAOYSA-N citric acid Chemical compound OC(=O)CC(O)(C(O)=O)CC(O)=O KRKNYBCHXYNGOX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 3
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 3
- 238000006731 degradation reaction Methods 0.000 description 3
- 230000007935 neutral effect Effects 0.000 description 3
- 239000011368 organic material Substances 0.000 description 3
- 239000004408 titanium dioxide Substances 0.000 description 3
- QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-O Ammonium Chemical compound [NH4+] QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-O 0.000 description 2
- NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N Phosphoric acid Chemical compound OP(O)(O)=O NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N aluminium oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000002585 base Substances 0.000 description 2
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 2
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 description 2
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 2
- 238000000034 method Methods 0.000 description 2
- 239000002861 polymer material Substances 0.000 description 2
- 229920002050 silicone resin Polymers 0.000 description 2
- WUPHOULIZUERAE-UHFFFAOYSA-N 3-(oxolan-2-yl)propanoic acid Chemical compound OC(=O)CCC1CCCO1 WUPHOULIZUERAE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VMHLLURERBWHNL-UHFFFAOYSA-M Sodium acetate Chemical compound [Na+].CC([O-])=O VMHLLURERBWHNL-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 229920002522 Wood fibre Polymers 0.000 description 1
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 1
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 1
- 229910000147 aluminium phosphate Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000000844 anti-bacterial effect Effects 0.000 description 1
- 230000003373 anti-fouling effect Effects 0.000 description 1
- 239000012298 atmosphere Substances 0.000 description 1
- 230000008901 benefit Effects 0.000 description 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- 239000000872 buffer Substances 0.000 description 1
- 229910052980 cadmium sulfide Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000004568 cement Substances 0.000 description 1
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 description 1
- 239000007979 citrate buffer Substances 0.000 description 1
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 1
- 239000008119 colloidal silica Substances 0.000 description 1
- 239000002131 composite material Substances 0.000 description 1
- 239000004567 concrete Substances 0.000 description 1
- 239000002772 conduction electron Substances 0.000 description 1
- 230000008878 coupling Effects 0.000 description 1
- 238000010168 coupling process Methods 0.000 description 1
- 238000005859 coupling reaction Methods 0.000 description 1
- 230000003247 decreasing effect Effects 0.000 description 1
- 230000001877 deodorizing effect Effects 0.000 description 1
- 230000000249 desinfective effect Effects 0.000 description 1
- 238000007607 die coating method Methods 0.000 description 1
- 238000003618 dip coating Methods 0.000 description 1
- 230000005284 excitation Effects 0.000 description 1
- 239000005357 flat glass Substances 0.000 description 1
- 238000009408 flooring Methods 0.000 description 1
- 235000013305 food Nutrition 0.000 description 1
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 1
- 238000007756 gravure coating Methods 0.000 description 1
- 239000010440 gypsum Substances 0.000 description 1
- 229910052602 gypsum Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 1
- 239000012770 industrial material Substances 0.000 description 1
- 229910010272 inorganic material Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011147 inorganic material Substances 0.000 description 1
- 239000007769 metal material Substances 0.000 description 1
- 230000001590 oxidative effect Effects 0.000 description 1
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 1
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000005022 packaging material Substances 0.000 description 1
- 238000004806 packaging method and process Methods 0.000 description 1
- 239000008363 phosphate buffer Substances 0.000 description 1
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 1
- 208000008842 sick building syndrome Diseases 0.000 description 1
- 229910052814 silicon oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000001632 sodium acetate Substances 0.000 description 1
- 235000017281 sodium acetate Nutrition 0.000 description 1
- 239000001509 sodium citrate Substances 0.000 description 1
- NLJMYIDDQXHKNR-UHFFFAOYSA-K sodium citrate Chemical compound O.O.[Na+].[Na+].[Na+].[O-]C(=O)CC(O)(CC([O-])=O)C([O-])=O NLJMYIDDQXHKNR-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- 239000001488 sodium phosphate Substances 0.000 description 1
- 229910000162 sodium phosphate Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 1
- 238000004528 spin coating Methods 0.000 description 1
- 238000005507 spraying Methods 0.000 description 1
- 229910001220 stainless steel Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010935 stainless steel Substances 0.000 description 1
- 238000010345 tape casting Methods 0.000 description 1
- RYFMWSXOAZQYPI-UHFFFAOYSA-K trisodium phosphate Chemical compound [Na+].[Na+].[Na+].[O-]P([O-])([O-])=O RYFMWSXOAZQYPI-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- 239000002025 wood fiber Substances 0.000 description 1
Landscapes
- Catalysts (AREA)
- Pigments, Carbon Blacks, Or Wood Stains (AREA)
Abstract
Description
本発明は、光触媒分散体および光触媒分散体の製造方法に関する。 The present invention relates to a photocatalyst dispersion and a method for producing the photocatalyst dispersion.
近年、二酸化チタンに代表される光触媒材料が注目を集めている。「光触媒材料」とは、半導体的な物性を有し、その伝導電子帯と荷電子帯とのバンドギャップエネルギーより大きなエネルギーを有する光が照射されると励起状態となり、電子・正孔対を生成する物質のことである。 In recent years, photocatalytic materials represented by titanium dioxide have attracted attention. “Photocatalytic material” has semiconducting properties. When irradiated with light having energy larger than the band gap energy between its conduction electron band and valence band, it becomes excited and generates electron-hole pairs. It is a substance to do.
二酸化チタンの場合、３８７ｎｍ以下の波長の光が照射されると光励起され、その内部に電子・正孔対が生成される。すると、その電子・正孔対により光触媒材料の表面及びその近傍に、水酸基ラジカルや、スーパーオキサイドイオンなどの活性酸素種が発生し、これらの活性酸素種の持つ酸化力が分解活性や親水化を引き起こす。そして、これらの作用を利用して自己洗浄作用や、脱臭作用、抗菌作用などを得ることができるので、光触媒材料を設けた各種の部材、製品群が提案されている。 In the case of titanium dioxide, when it is irradiated with light having a wavelength of 387 nm or less, it is photoexcited and an electron / hole pair is generated therein. Then, active electron species such as hydroxyl radicals and superoxide ions are generated on and near the surface of the photocatalyst material by the electron / hole pairs, and the oxidizing power of these active oxygen species causes decomposition activity and hydrophilization. cause. Since these functions can be used to obtain a self-cleaning action, a deodorizing action, an antibacterial action, and the like, various members and product groups provided with a photocatalytic material have been proposed.
ここで、代表的な光触媒材料である二酸化チタンの場合には主な励起光が紫外線であるため、紫外線の少ない室内では充分な性能が得られないという問題がある。そのため、いわゆる可視光応答型の光触媒材料が検討されており、代表的なものとしては酸化タングステンや硫化カドミウムなどがある。 Here, in the case of titanium dioxide which is a typical photocatalyst material, the main excitation light is ultraviolet light, so that there is a problem that sufficient performance cannot be obtained in a room with little ultraviolet light. Therefore, so-called visible light responsive photocatalytic materials have been studied, and typical examples include tungsten oxide and cadmium sulfide.
このような、光触媒材料を各種の部材、製品群などに使用する際には、基体表面に光触媒材料を設ける必要がある。その場合、光触媒材料を含有した液などを予め製造し、基体表面に付着させるようにすれば便利である。
そのため、光触媒材料を含有した液やクリームが提案されている（特許文献１、２を参照）。この様な光触媒材料を含有した液やクリームなどを製造する際には、製造上の都合に合わせて水素イオン指数の調整が行われることがある。
When such a photocatalytic material is used for various members, product groups, etc., it is necessary to provide the photocatalytic material on the surface of the substrate. In that case, it is convenient to prepare a liquid containing a photocatalytic material in advance and attach it to the substrate surface.
Therefore, liquids and creams containing a photocatalytic material have been proposed (see Patent Documents 1 and 2). When manufacturing a liquid or cream containing such a photocatalytic material, the hydrogen ion index may be adjusted in accordance with the manufacturing convenience.
しかしながら、水素イオン指数の調整は製造過程に限られ、製造された液やクリーム自体の水素イオン指数が、光触媒分散体を基体の表面に付着させることで形成された光触媒の触媒活性度に及ぼす影響についての考慮がされていなかった。
また、製造された液やクリームなどに含まれる添加剤の濃度が、光触媒分散体を基体の表面に付着させることで形成された光触媒の触媒活性度に及ぼす影響についての考慮もされていなかった。
また、添加剤の主成分が、光触媒分散体を基体の表面に付着させることで形成された光触媒の触媒活性度に及ぼす影響についての考慮もされていなかった。
そのため、光触媒分散体を基体の表面に付着させることで形成された光触媒の触媒活性度を低下させてしまうおそれがあった。
However, the adjustment of the hydrogen ion index is limited to the production process, and the effect of the hydrogen ion index of the produced liquid or cream itself on the catalytic activity of the photocatalyst formed by attaching the photocatalyst dispersion to the surface of the substrate. Was not considered.
In addition, no consideration has been given to the effect of the concentration of the additive contained in the produced liquid or cream on the catalytic activity of the photocatalyst formed by attaching the photocatalyst dispersion to the surface of the substrate.
Further, the influence of the main component of the additive on the catalytic activity of the photocatalyst formed by attaching the photocatalyst dispersion to the surface of the substrate has not been considered.
For this reason, there is a possibility that the catalytic activity of the photocatalyst formed by attaching the photocatalyst dispersion to the surface of the substrate is lowered.
本発明は、光触媒の触媒活性度の低下を抑制することができる光触媒分散体および光触媒分散体の製造方法を提供する。 The present invention provides a photocatalyst dispersion and a method for producing the photocatalyst dispersion that can suppress a decrease in the catalyst activity of the photocatalyst.
本発明の一態様によれば、酸化タングステンと、溶媒と、イオン添加剤と、を含み、前記イオン添加剤は、前記溶媒中においてテトラメチルアンモニウムイオンよりも小さなイオン半径の陽イオンを生成し、前記イオン添加剤の含有量は、酸化タングステンを２０ｗｔ％以下含む溶媒２０ｇｗに対して１．５×１０−３ｍｏｌ以下であること、を特徴とする光触媒分散体が提供される。 According to one aspect of the present invention, it comprises tungsten oxide, a solvent, and an ionic additive, wherein the ionic additive generates a cation having a smaller ionic radius than tetramethylammonium ion in the solvent, A content of the ion additive is 1.5 × 10 −3 mol or less with respect to 20 gw of a solvent containing 20 wt% or less of tungsten oxide.
また、本発明の他の一態様によれば、イオン添加剤を添加して、溶媒の水素イオン指数が、形成される光触媒の触媒活性度の低下を抑制する範囲となるように調整する工程と、
酸化タングステンを前記溶媒に混合させる工程と、を有し、前記イオン添加剤の含有量は、酸化タングステンを２０ｗｔ％以下含む溶媒２０ｇｗに対して１．５×１０−３ｍｏｌ以下とされることを特徴とする光触媒分散体の製造方法が提供される。
According to another aspect of the present invention, an ion additive is added to adjust the hydrogen ion index of the solvent to a range that suppresses a decrease in the catalyst activity of the photocatalyst formed. ,
Mixing tungsten oxide with the solvent, and the content of the ion additive is 1.5 × 10 −3 mol or less with respect to 20 gw of the solvent containing 20 wt% or less of tungsten oxide. A method for producing a featured photocatalyst dispersion is provided.
本発明によれば、光触媒の触媒活性度の低下を抑制することができる光触媒分散体および光触媒分散体の製造方法が提供される。 ADVANTAGE OF THE INVENTION According to this invention, the manufacturing method of the photocatalyst dispersion which can suppress the fall of the catalyst activity of a photocatalyst and a photocatalyst dispersion is provided.
以下、本発明の実施の形態について例示をする。
なお、本実施の形態において、光触媒分散体は、溶媒としての流動性物質に光触媒材料を分散させたものとしているが、その流動性物質としては、液状の物質のみならずいわゆるゲル状の物質をも含むものとする。
Hereinafter, embodiments of the present invention will be illustrated.
In this embodiment, the photocatalyst dispersion is obtained by dispersing a photocatalyst material in a fluid substance as a solvent. As the fluid substance, not only a liquid substance but also a so-called gel substance is used. Shall also be included.
一般的に、金属酸化物の粒子は、アルカリ水溶液中ではその表面が水酸基（−ＯＨ）に置き換わり、ゼータ電位の絶対値が大きくなって分散性が向上する。そのため、光触媒材料をアルカリ水溶液などに分散させたものを光触媒分散体とすれば、光触媒材料同士の凝集を抑制することができ、また、分散の均一性を改善することができる。 In general, the surface of a metal oxide particle is replaced with a hydroxyl group (—OH) in an alkaline aqueous solution, the absolute value of the zeta potential is increased, and the dispersibility is improved. Therefore, if a photocatalyst dispersion in which a photocatalyst material is dispersed in an alkaline aqueous solution or the like is used, aggregation of the photocatalyst materials can be suppressed, and dispersion uniformity can be improved.
しかしながら、本発明者らの得た知見によると、光触媒分散体のアルカリ濃度を余り高くすると（即ち、水素イオン指数を余り高くすると）、光触媒分散体を基体の表面に付着させることで形成された光触媒の触媒活性度が低下してしまうことが判明した。そして、光触媒分散体の水素イオン指数を調整するために添加された添加剤によっては、光触媒の触媒活性度の低下が著しくなることも判明した。 However, according to the knowledge obtained by the present inventors, when the alkali concentration of the photocatalyst dispersion is too high (that is, when the hydrogen ion index is too high), the photocatalyst dispersion is attached to the surface of the substrate. It has been found that the catalytic activity of the photocatalyst decreases. It has also been found that depending on the additive added to adjust the hydrogen ion index of the photocatalyst dispersion, the catalytic activity of the photocatalyst decreases significantly.
そのため、溶媒としての流動性物質に光触媒材料を分散させて光触媒分散体とする場合には、形成される光触媒の触媒活性度の低下を抑制する観点から、光触媒分散体の水素イオン指数の上限値を決めるようにすることができる。この場合、光触媒分散体の水素イオン指数を調整するために添加する添加剤の主成分をも考慮することが好ましい。 Therefore, when a photocatalyst material is dispersed in a fluid substance as a solvent to form a photocatalyst dispersion, the upper limit value of the hydrogen ion exponent of the photocatalyst dispersion is suppressed from the viewpoint of suppressing a decrease in the catalyst activity of the photocatalyst formed. Can be determined. In this case, it is preferable to consider the main component of the additive added to adjust the hydrogen ion index of the photocatalyst dispersion.
ここで、光触媒材料のうちで、アルカリ水溶液に溶けやすいものとしては酸化タングステンを例示することができる。そのため、以下、本実施の形態においては、一例に、光触媒材料として酸化タングステンを用い、それを溶媒としての流動性物質に分散させる場合を説明する。 Here, among the photocatalytic materials, tungsten oxide can be exemplified as a material that is easily dissolved in an alkaline aqueous solution. Therefore, in the present embodiment, a case where tungsten oxide is used as a photocatalytic material and is dispersed in a fluid substance as a solvent will be described as an example.
一般に、酸化タングステンと呼ばれているものは三酸化タングステン（ＷＯ３）であり、空気中では極めて安定した金属酸化物である。また、酸化タングステンはバンドギャップが２．５ｅＶであり４８０ｎｍまでの可視光を利用することができるので、室内用途に使用する光触媒材料として有用である。また、酸化タングステンは工業材料として比較的入手しやすく、有害性の少ない比較的安価な材料でもある。 In general, what is called tungsten oxide is tungsten trioxide (WO 3 ), which is a metal oxide that is extremely stable in air. Tungsten oxide is useful as a photocatalytic material for indoor use because it has a band gap of 2.5 eV and can use visible light up to 480 nm. Tungsten oxide is also relatively easy to obtain as an industrial material and is a relatively inexpensive material with little harmfulness.
図１は、アセトアルデヒドガスの分解特性を例示するためのグラフ図である。
図２は、光触媒分散体の水素イオン指数がｐＨ６の場合におけるアセトアルデヒドガスの分解特性を例示するためのグラフ図である。
なお、図１、図２は、光触媒分散体を基体表面に付着、乾燥させることで光触媒を形成し、これに可視光を照射することでアセトアルデヒドガスを分解させた場合の特性を例示するためのグラフ図である。
この場合、溶媒としての流動性物質を水、光触媒材料を酸化タングステン（ＷＯ３）としている。また、水２０ｇｗに対して酸化タングステン（ＷＯ３）の添加量を１０ｗｔ％としている。そして、イオン添加剤として、水酸化ナトリウム（ＮａＯＨ）、水酸化カリウム（ＫＯＨ）、炭酸ナトリウム（Ｎａ２ＣＯ３）、水酸化アンモニウム（ＮＨ４ＯＨ）、水酸化テトラメチルアンモニウム（ＴＭＡＨ）を用いるものとしている。
また、図１の縦軸はアセトアルデヒドガス分解率（％）を表し、横軸は光触媒分散体（溶媒）の水素イオン指数を表している。図２の縦軸はアセトアルデヒドガス分解率（％）を表し、横軸はイオン添加剤の種類を表している。
FIG. 1 is a graph for illustrating the decomposition characteristics of acetaldehyde gas.
FIG. 2 is a graph for illustrating the decomposition characteristics of acetaldehyde gas when the hydrogen ion exponent of the photocatalyst dispersion is pH 6.
FIGS. 1 and 2 illustrate characteristics when the photocatalyst dispersion is attached to the substrate surface and dried to form a photocatalyst, and the acetaldehyde gas is decomposed by irradiating it with visible light. FIG.
In this case, the fluid substance as a solvent is water, and the photocatalytic material is tungsten oxide (WO 3 ). Moreover, the addition amount of tungsten oxide (WO 3 ) is 10 wt% with respect to 20 gw of water. Then, as the ionic additive, sodium hydroxide (NaOH), potassium hydroxide (KOH), sodium carbonate (Na 2 CO 3), ammonium hydroxide (NH 4 OH), those using tetramethylammonium hydroxide (TMAH) It is said.
1 represents the acetaldehyde gas decomposition rate (%), and the horizontal axis represents the hydrogen ion index of the photocatalyst dispersion (solvent). The vertical axis in FIG. 2 represents the acetaldehyde gas decomposition rate (%), and the horizontal axis represents the type of ion additive.
本発明者らの得た知見によれば、光触媒における光触媒材料の金属元素（本実施の形態においてはタングステン（Ｗ））と水酸基（−ＯＨ）とを結合させれば、触媒活性度を高めることができる。そのため、光触媒分散体の水素イオン指数をアルカリ性側に調整するイオン添加剤を添加することは有用である。しかしながら、イオン半径の大きなイオンが生成される有機アルカリ（例えば、水酸化テトラメチルアンモニウム（ＴＭＡＨ）など）を主成分とするイオン添加剤を用いれば、光触媒材料の金属元素と水酸基（−ＯＨ）との結合数が減少してしまうことが判明した。 According to the knowledge obtained by the present inventors, if the metal element (tungsten (W) in this embodiment) and the hydroxyl group (—OH) of the photocatalyst material in the photocatalyst are combined, the catalyst activity is increased. Can do. Therefore, it is useful to add an ion additive that adjusts the hydrogen ion index of the photocatalyst dispersion to the alkaline side. However, if an ion additive mainly composed of an organic alkali (for example, tetramethylammonium hydroxide (TMAH)) that generates ions having a large ion radius is used, the metal element of the photocatalytic material and the hydroxyl group (—OH) It was found that the number of bonds in decreased.
図３は、イオン添加剤の主成分が金属元素と水酸基（−ＯＨ）との結合に及ぼす影響を例示するためのグラフ図である。
なお、図３は、光触媒分散体を基体表面に付着、乾燥させることで光触媒を形成し、形成された光触媒におけるタングステン（Ｗ）と水酸基（−ＯＨ）との結合をフーリエ変換型赤外分光(ＦＴ−ＩＲ)測定により求めたものである。この場合、光触媒分散体の水素イオン指数をｐＨ６とした。また、イオン添加剤を水酸化ナトリウム（ＮａＯＨ）、水酸化アンモニウム（ＮＨ４ＯＨ）、水酸化テトラメチルアンモニウム（ＴＭＡＨ）とした。
FIG. 3 is a graph for illustrating the influence of the main component of the ion additive on the bond between the metal element and the hydroxyl group (—OH).
In FIG. 3, the photocatalyst dispersion is attached to the substrate surface and dried to form a photocatalyst, and the bond between tungsten (W) and hydroxyl group (—OH) in the formed photocatalyst is subjected to Fourier transform infrared spectroscopy ( It is obtained by FT-IR) measurement. In this case, the hydrogen ion index of the photocatalyst dispersion was set to pH 6. The ion additive was sodium hydroxide (NaOH), ammonium hydroxide (NH 4 OH), and tetramethylammonium hydroxide (TMAH).
図３に示すように、イオン添加剤として水酸化ナトリウム（ＮａＯＨ）、水酸化アンモニウム（ＮＨ４ＯＨ）を用いた場合には、タングステン（Ｗ）と水酸基（−ＯＨ）との結合（Ｗ−ＯＨ）を明確に確認することができる。しかしながら、イオン添加剤として水酸化テトラメチルアンモニウム（ＴＭＡＨ）を用いた場合には、タングステン（Ｗ）と水酸基（−ＯＨ）との結合（Ｗ−ＯＨ）を明確には確認することができない。
そのため、イオン半径の大きなイオンが生成される有機アルカリなどをイオン添加剤として用いると、形成される光触媒の触媒活性度の低下が生ずるおそれがある。
As shown in FIG. 3, when sodium hydroxide (NaOH) or ammonium hydroxide (NH 4 OH) is used as an ion additive, the bond (W—OH) between tungsten (W) and hydroxyl group (—OH) is used. ) Can be clearly confirmed. However, when tetramethylammonium hydroxide (TMAH) is used as the ion additive, the bond (W—OH) between tungsten (W) and hydroxyl group (—OH) cannot be clearly confirmed.
Therefore, when an organic alkali or the like that generates ions having a large ion radius is used as an ion additive, the catalytic activity of the formed photocatalyst may be lowered.
例えば、図１、図２に示すように、イオン添加剤として有機アルカリである水酸化テトラメチルアンモニウム（ＴＭＡＨ）を用いれば、光触媒分散体を中性（ｐＨ７）とした場合であってもアセトアルデヒドガス分解率の低下が著しくなる。これは、形成された光触媒の触媒活性度の低下が著しくなったことを意味する。そのため、アセトアルデヒドガス分解率を５０％以上に保つためには、光触媒分散体の水素イオン指数をｐＨ６以下にしなければならないことになる。その結果、光触媒分散体を中性とすることが難しく、光触媒分散体を付着させる基体の材料などに制限が生じるおそれがある。 For example, as shown in FIG. 1 and FIG. 2, when tetramethylammonium hydroxide (TMAH), which is an organic alkali, is used as an ion additive, acetaldehyde gas is used even when the photocatalyst dispersion is neutral (pH 7). Degradation of the degradation rate becomes significant. This means that the catalytic activity of the formed photocatalyst is significantly reduced. Therefore, in order to keep the acetaldehyde gas decomposition rate at 50% or more, the hydrogen ion index of the photocatalyst dispersion must be pH 6 or less. As a result, it is difficult to make the photocatalyst dispersion neutral, and there is a possibility that the material of the substrate to which the photocatalyst dispersion is attached is limited.
一方、イオン半径の小さなイオンが生成される無機アルカリの場合には、金属元素と水酸基（−ＯＨ）との結合に及ぼす影響を抑制することができる。そのため、無機アルカリを主成分とするイオン添加剤を用いるようにすることが好ましい。そのようなものとしては、例えば、アルカリ金属イオン、アルカリ土類金属イオン、アンモニウムイオンなどを生成可能なものを例示することができる。例えば、前述した水酸化ナトリウム（ＮａＯＨ）、水酸化カリウム（ＫＯＨ）、炭酸ナトリウム（Ｎａ２ＣＯ３）、水酸化アンモニウム（ＮＨ４ＯＨ）などを主成分とするイオン添加剤を例示することができる。ただし、これらに限定されるわけではなく、流動性物質中（溶媒中）において少なくともテトラメチルアンモニウムイオン（ＴＭＡ＋）よりも小さなイオン半径の陽イオンが生成されるものであればよい。 On the other hand, in the case of an inorganic alkali in which ions having a small ion radius are generated, the influence on the bond between the metal element and the hydroxyl group (—OH) can be suppressed. Therefore, it is preferable to use an ionic additive mainly composed of an inorganic alkali. As such a thing, what can produce | generate an alkali metal ion, an alkaline-earth metal ion, an ammonium ion etc. can be illustrated, for example. For example, the above-mentioned ionic additives mainly composed of sodium hydroxide (NaOH), potassium hydroxide (KOH), sodium carbonate (Na 2 CO 3 ), ammonium hydroxide (NH 4 OH) and the like can be exemplified. . However, the present invention is not limited to these, as long as a cation having an ion radius smaller than that of at least tetramethylammonium ion (TMA + ) is generated in the fluid substance (in the solvent).
図１に示すように、水酸化ナトリウム（ＮａＯＨ）などの無機アルカリを主成分とするイオン添加剤を用いるものとすれば、光触媒分散体を中性（ｐＨ７）としても高いアセトアルデヒドガス分解率を得ることができる。そのため、光触媒分散体を付着させる基体の材料などに対する制限を少なくすることができるので、汎用性を格段に向上させることができる。 As shown in FIG. 1, if an ion additive mainly composed of an inorganic alkali such as sodium hydroxide (NaOH) is used, a high acetaldehyde gas decomposition rate can be obtained even if the photocatalyst dispersion is neutral (pH 7). be able to. For this reason, the restriction on the material of the substrate to which the photocatalyst dispersion is attached can be reduced, and the versatility can be greatly improved.
なお、図１に示すように、水酸化ナトリウム（ＮａＯＨ）などの無機アルカリを用いる場合であっても、水素イオン指数を余り高くすると形成される光触媒の触媒活性度がかえって低下してしまう。
そのため、水酸化ナトリウム（ＮａＯＨ）などの無機アルカリを主成分とするイオン添加剤を用いる場合であっても、光触媒分散体（溶媒）の水素イオン指数をｐＨ７．５以下とすることが好ましい。すなわち、イオン添加剤を含むことで、光触媒分散体（溶媒）の水素イオン指数がｐＨ７．５以下とされていることが好ましい。そのようにすれば、アセトアルデヒドガス分解率を５０％程度以上とすることができる。
As shown in FIG. 1, even when an inorganic alkali such as sodium hydroxide (NaOH) is used, if the hydrogen ion index is too high, the catalytic activity of the photocatalyst formed is lowered.
Therefore, even when an ion additive mainly composed of an inorganic alkali such as sodium hydroxide (NaOH) is used, it is preferable that the hydrogen ion index of the photocatalyst dispersion (solvent) is pH 7.5 or less. That is, it is preferable that the hydrogen ion exponent of the photocatalyst dispersion (solvent) is adjusted to pH 7.5 or less by including an ion additive. By doing so, the acetaldehyde gas decomposition rate can be about 50% or more.
ここで、前述したように、金属酸化物の粒子は、アルカリ水溶液中ではその表面が水酸基（−ＯＨ）に置き換わり、ゼータ電位の絶対値が大きくなって分散性が向上する。そのため、分散性の観点からは、光触媒分散体（溶媒）の水素イオン指数を高くすることが好ましい。しかしながら、光触媒分散体（溶媒）の水素イオン指数を余り高くすると前述したように光触媒の触媒活性度が低下してしまうおそれがある。一方、前述したように光触媒分散体（溶媒）の水素イオン指数を低くしても光触媒の触媒活性度が低下することはない。そのため、形成される光触媒の触媒活性度の低下を抑制する観点から水素イオン指数の上限値を決め、分散性の観点から水素イオン指数の下限値を決めるようにすることもできる。そのようにすれば、形成される光触媒の触媒活性度を高くするとともに、光触媒材料同士の凝集を抑制することができ、また、分散の均一性を改善することもできる。 Here, as described above, the surface of the metal oxide particle is replaced with a hydroxyl group (—OH) in an alkaline aqueous solution, the absolute value of the zeta potential is increased, and the dispersibility is improved. Therefore, from the viewpoint of dispersibility, it is preferable to increase the hydrogen ion index of the photocatalyst dispersion (solvent). However, if the hydrogen ion index of the photocatalyst dispersion (solvent) is too high, the catalytic activity of the photocatalyst may decrease as described above. On the other hand, as described above, even if the hydrogen ion index of the photocatalyst dispersion (solvent) is lowered, the catalytic activity of the photocatalyst is not lowered. Therefore, the upper limit value of the hydrogen ion index can be determined from the viewpoint of suppressing the decrease in the catalyst activity of the photocatalyst formed, and the lower limit value of the hydrogen ion index can be determined from the viewpoint of dispersibility. By doing so, the catalytic activity of the photocatalyst formed can be increased, aggregation of the photocatalyst materials can be suppressed, and the uniformity of dispersion can also be improved.
本発明者らの得た知見によれば、例えば、酸化タングステンの添加量が２．５ｗｔ％の場合において、光触媒分散体（溶媒）の水素イオン指数をｐＨ２．１未満とすれば分散性が悪くなることが判明した。この場合、酸化タングステンの粒子同士が凝集していることも確認された。そのため、光触媒分散体（溶媒）の水素イオン指数はｐＨ２．１以上とすることが好ましい。 According to the knowledge obtained by the present inventors, for example, when the addition amount of tungsten oxide is 2.5 wt%, the dispersibility is poor if the hydrogen ion index of the photocatalyst dispersion (solvent) is less than pH 2.1. Turned out to be. In this case, it was also confirmed that the tungsten oxide particles were aggregated. Therefore, the hydrogen ion index of the photocatalyst dispersion (solvent) is preferably pH 2.1 or higher.
また、光触媒分散体（溶媒）の水素イオン指数を維持するために緩衝剤を添加することもできる。緩衝剤としては、弱酸と、その塩を添加した水溶液を例示することができる。例えば、クエン酸緩衝剤としてクエン酸とクエン酸ナトリウムを添加した水溶液、酢酸緩衝剤として酢酸と酢酸ナトリウムを添加した水溶液、リン酸緩衝剤としてリン酸とリン酸ナトリウムを添加した水溶液などを例示することができる。ただし、緩衝剤を添加する場合には、添加後の光触媒分散体（溶媒）の水素イオン指数が前述した範囲にあることが好ましい。 In addition, a buffering agent can be added to maintain the hydrogen ion index of the photocatalyst dispersion (solvent). As a buffering agent, the aqueous solution which added weak acid and its salt can be illustrated. Examples include an aqueous solution in which citric acid and sodium citrate are added as a citrate buffer, an aqueous solution in which acetic acid and sodium acetate are added as an acetic acid buffer, and an aqueous solution in which phosphoric acid and sodium phosphate are added as a phosphate buffer. be able to. However, when a buffering agent is added, it is preferable that the hydrogen ion index of the photocatalyst dispersion (solvent) after the addition is in the above-described range.
以上は、光触媒分散体（溶媒）の水素イオン指数が、光触媒分散体を基体の表面に付着させることで形成された光触媒の触媒活性度に及ぼす影響である。
次に、光触媒分散体に含まれるイオン添加剤の成分濃度が、光触媒分散体を基体の表面に付着させることで形成された光触媒の触媒活性度に及ぼす影響について例示をする。
The above is the effect of the hydrogen ion index of the photocatalyst dispersion (solvent) on the catalytic activity of the photocatalyst formed by attaching the photocatalyst dispersion to the surface of the substrate.
Next, the effect of the component concentration of the ionic additive contained in the photocatalyst dispersion on the catalytic activity of the photocatalyst formed by attaching the photocatalyst dispersion to the surface of the substrate will be exemplified.
図４は、アセトアルデヒドガスの分解特性を例示するためのグラフ図である。
図５は、イオン添加剤を１ｍｏｌ添加した場合のアセトアルデヒドガスの分解特性を例示するためのグラフ図である。
なお、図４、図５は、光触媒分散体を基体表面に付着、乾燥させることで光触媒を形成し、これに可視光を照射することでアセトアルデヒドガスを分解させた場合の特性を例示するためのグラフ図である。
この場合、溶媒としての流動性物質を水、光触媒材料を酸化タングステン（ＷＯ３）としている。また、酸化タングステン（ＷＯ３）の添加量を１０ｗｔ％としている。なお、添加ｍｏｌ量は、酸化タングステン（ＷＯ３）が１０ｗｔ％分散した水溶液２０ｇｗに対する量である。すなわち、略２０ｍｌの水溶液中の添加ｍｏｌ量である。
そして、イオン添加剤として、水酸化ナトリウム（ＮａＯＨ）、水酸化カリウム（ＫＯＨ）、炭酸ナトリウム（Ｎａ２ＣＯ３）、水酸化アンモニウム（ＮＨ４ＯＨ）、水酸化テトラメチルアンモニウム（ＴＭＡＨ）を用いるものとしている。
また、図４の縦軸はアセトアルデヒドガス分解率（％）を表し、横軸はイオン添加剤の添加量を表している。図５の縦軸はアセトアルデヒドガス分解率（％）を表し、横軸はイオン添加剤の種類を表している。
FIG. 4 is a graph for illustrating the decomposition characteristics of acetaldehyde gas.
FIG. 5 is a graph for illustrating the decomposition characteristics of acetaldehyde gas when 1 mol of an ion additive is added.
4 and 5 are for illustrating characteristics when the photocatalyst dispersion is attached to the substrate surface and dried to form a photocatalyst, and the acetaldehyde gas is decomposed by irradiating it with visible light. FIG.
In this case, the fluid substance as a solvent is water, and the photocatalytic material is tungsten oxide (WO 3 ). The addition amount of tungsten oxide (WO 3 ) is 10 wt%. The added mol amount is an amount with respect to 20 gw of an aqueous solution in which tungsten oxide (WO 3 ) is dispersed by 10 wt%. That is, the amount of added mol in an approximately 20 ml aqueous solution.
Then, as the ionic additive, sodium hydroxide (NaOH), potassium hydroxide (KOH), sodium carbonate (Na 2 CO 3), ammonium hydroxide (NH 4 OH), those using tetramethylammonium hydroxide (TMAH) It is said.
Moreover, the vertical axis | shaft of FIG. 4 represents the acetaldehyde gas decomposition rate (%), and the horizontal axis represents the addition amount of the ion additive. The vertical axis in FIG. 5 represents the acetaldehyde gas decomposition rate (%), and the horizontal axis represents the type of ion additive.
図４、図５に示すように、イオン添加剤として有機アルカリである水酸化テトラメチルアンモニウム（ＴＭＡＨ）を用いれば、僅かな添加量の違いであってもアセトアルデヒドガス分解率の低下が著しくなる。すなわち、光触媒分散体に含まれるイオン添加剤の成分濃度の変動がアセトアルデヒドガス分解率に大きな影響を及ぼす。そのため、形成される光触媒の触媒活性度が不安定になるおそれがある。
一方、水酸化ナトリウム（ＮａＯＨ）などの無機アルカリの場合には、添加量の変動、すなわち、光触媒分散体（溶媒）に含まれるイオン添加剤の成分濃度の変動がアセトアルデヒドガス分解率に及ぼす影響を軽減させることができる。そのため、形成される光触媒の触媒活性度を安定させることができる。特に、イオン添加剤として水酸化アンモニウム（ＮＨ４ＯＨ）を用いた場合には、添加量の変動（成分濃度の変動）がアセトアルデヒドガス分解率に及ぼす影響を格段に小さくすることができる。
As shown in FIGS. 4 and 5, when tetramethylammonium hydroxide (TMAH), which is an organic alkali, is used as an ionic additive, the degradation rate of acetaldehyde gas decomposition becomes significant even with a slight difference in addition amount. That is, the fluctuation of the component concentration of the ionic additive contained in the photocatalyst dispersion has a great influence on the acetaldehyde gas decomposition rate. Therefore, the catalyst activity of the photocatalyst formed may become unstable.
On the other hand, in the case of an inorganic alkali such as sodium hydroxide (NaOH), the effect of fluctuations in the amount added, that is, fluctuations in the component concentration of the ionic additive contained in the photocatalyst dispersion (solvent) affects the acetaldehyde gas decomposition rate. It can be reduced. Therefore, the catalytic activity of the formed photocatalyst can be stabilized. In particular, when ammonium hydroxide (NH 4 OH) is used as an ionic additive, the effect of variation in the amount added (variation in component concentration) on the acetaldehyde gas decomposition rate can be significantly reduced.
なお、図４に示すように、水酸化ナトリウム（ＮａＯＨ）などの無機アルカリを用いる場合であっても、添加量を余り多くすると形成される光触媒の触媒活性度が低下してしまう。
そのため、水酸化ナトリウム（ＮａＯＨ）などの無機アルカリを主成分とするイオン添加剤を用いる場合であっても、イオン添加剤の含有量が１．５×１０−３ｍｏｌ以下となるようにすることが好ましい。そのようにすれば、アセトアルデヒドガス分解率を５０％程度以上とすることができる。ただし、水酸化アンモニウム（ＮＨ４ＯＨ）を主成分とするイオン添加剤を用いる場合には、添加量を２×１０−３ｍｏｌ程度としても高いアセトアルデヒドガス分解率を維持することができる。
As shown in FIG. 4, even when an inorganic alkali such as sodium hydroxide (NaOH) is used, if the amount added is too large, the catalytic activity of the photocatalyst formed is lowered.
Therefore, even when an ion additive mainly composed of an inorganic alkali such as sodium hydroxide (NaOH) is used, the content of the ion additive should be 1.5 × 10 −3 mol or less. Is preferred. By doing so, the acetaldehyde gas decomposition rate can be about 50% or more. However, when an ion additive mainly composed of ammonium hydroxide (NH 4 OH) is used, a high acetaldehyde gas decomposition rate can be maintained even if the addition amount is about 2 × 10 −3 mol.
次に、光触媒分散体に関して本発明者らが得た他の知見について例示をする。
本発明者らの得た知見によれば、光触媒分散体（溶媒）に含まれる光触媒材料の量が２０ｗｔ％を超えるものとすれば、光触媒材料の分散性が悪化するおそれがある。そのため、光触媒材料の含有量が２０ｗｔ％以下となるようにすることが好ましい。
また、光触媒材料の分散性を向上させるために分散剤を添加することもできる。この場合、分散剤として有機物を用いるものとすれば、光触媒の作用で分解、劣化するおそれがあるため無機物とすることが好ましい。なお、分散剤を添加する場合には、添加後の光触媒分散体（溶媒）の水素イオン指数が前述した範囲にあることが好ましい。
Next, other findings obtained by the present inventors regarding the photocatalyst dispersion will be exemplified.
According to the knowledge obtained by the present inventors, if the amount of the photocatalyst material contained in the photocatalyst dispersion (solvent) exceeds 20 wt%, the dispersibility of the photocatalyst material may be deteriorated. Therefore, it is preferable that the content of the photocatalytic material is 20 wt% or less.
In addition, a dispersant can be added to improve the dispersibility of the photocatalytic material. In this case, if an organic substance is used as the dispersant, it is preferable to use an inorganic substance because it may be decomposed and deteriorated by the action of the photocatalyst. In addition, when adding a dispersing agent, it is preferable that the hydrogen ion index | exponent of the photocatalyst dispersion (solvent) after addition exists in the range mentioned above.
また、光触媒分散体を基体の表面などに付着させる場合には、乾燥後に形成される光触媒の硬度がある程度高くなるようにすることが好ましい。ここで、酸化タングステンの表面に水酸基（−ＯＨ）が多く存在すれば、乾燥時に酸素基（−Ｏ−）を介して酸化タングステン粒子同士を強固に結合させることができる。しかしながら、水酸基（−ＯＨ）を多くするために水素イオン指数を高くしすぎると、前述したように触媒活性度が低下するおそれがある。 When the photocatalyst dispersion is adhered to the surface of the substrate, it is preferable that the hardness of the photocatalyst formed after drying is increased to some extent. Here, if there are many hydroxyl groups (—OH) on the surface of tungsten oxide, the tungsten oxide particles can be firmly bonded to each other through oxygen groups (—O—) during drying. However, if the hydrogen ion index is increased too much in order to increase the number of hydroxyl groups (—OH), the catalyst activity may decrease as described above.
この場合、表面に水酸基（−ＯＨ）を多く有する結合剤をいわゆるバインダーなどとしてさらに添加するようにすれば、溶媒として用いる流動性物質の乾燥時に、その結合剤を介して酸化タングステン粒子同士を結合させることができる。そのため、表面に水酸基（−ＯＨ）を多く有する結合剤を添加するようにすれば、形成される光触媒の硬度を高めることができる。この様な結合剤としては、光触媒の作用で分解、劣化しないものが好ましい。そのようなものとしては、無機物の粒子を溶液中に分散させたものなどを例示することができる。例えば、コロイダルシリカやコロイダルアルミナなどを例示することができる。 In this case, if a binder having many hydroxyl groups (—OH) on the surface is further added as a so-called binder, the tungsten oxide particles are bonded to each other through the binder when the fluid material used as the solvent is dried. Can be made. Therefore, the hardness of the photocatalyst to be formed can be increased by adding a binder having many hydroxyl groups (—OH) on the surface. As such a binder, a binder that does not decompose or deteriorate by the action of a photocatalyst is preferable. As such a thing, what disperse | distributed the particle | grains of the inorganic substance in the solution can be illustrated. For example, colloidal silica and colloidal alumina can be exemplified.
また、結合剤に含まれる酸化シリコンやアルミナなどの無機物の粒子径が光触媒材料の粒子径より大きいと、形成される光触媒の硬度が低下する。そのため、結合剤の粒子径が、光触媒材料の粒子径と同等か、それよりも小さいことが好ましい。すなわち、結合剤として用いられるバインダーの粒子径の大きさは、光触媒材料（例えば、酸化タングステン（ＷＯ３）など）の粒子径と同等以下であることが好ましい。
また、無機物の粒子径を小さくするほど形成される光触媒の透明性を高めることができる。そして、透明性を高めることができれば、光触媒の表面に設けられた光触媒材料だけでなく、光触媒の内部に設けられた光触媒材料にも光を照射することができるので、触媒効率を高めることができる。
Moreover, when the particle diameter of inorganic substances such as silicon oxide and alumina contained in the binder is larger than the particle diameter of the photocatalytic material, the hardness of the formed photocatalyst is lowered. Therefore, it is preferable that the particle diameter of the binder is equal to or smaller than the particle diameter of the photocatalytic material. That is, the particle size of the binder used as the binder is preferably equal to or less than the particle size of the photocatalytic material (for example, tungsten oxide (WO 3 )).
Moreover, the transparency of the photocatalyst formed can be improved, so that the particle diameter of an inorganic substance is made small. If the transparency can be increased, not only the photocatalyst material provided on the surface of the photocatalyst but also the photocatalyst material provided inside the photocatalyst can be irradiated with light, so that the catalyst efficiency can be increased. .
また、光触媒分散体（溶媒）に含まれる結合剤の重量は、光触媒材料の重量の１０分の１以上であることが好ましい。
また、結合剤の量や、結合剤に含まれる無機物などの粒子径の大きさを変えることで、光触媒分散体の粘度を調整することができる。そのため、後述するように、光触媒体の態様などに合わせて、光触媒分散体の粘度を適宜決定することもできる。
なお、結合剤を添加する場合には、添加後の光触媒分散体（溶媒）の水素イオン指数が前述した範囲にあることが好ましい。
The weight of the binder contained in the photocatalyst dispersion (solvent) is preferably 1/10 or more of the weight of the photocatalyst material.
Further, the viscosity of the photocatalyst dispersion can be adjusted by changing the amount of the binder and the size of the particle diameter of the inorganic substance contained in the binder. Therefore, as will be described later, the viscosity of the photocatalyst dispersion can be appropriately determined according to the mode of the photocatalyst.
In addition, when adding a binder, it is preferable that the hydrogen ion index | exponent of the photocatalyst dispersion (solvent) after addition exists in the range mentioned above.
また、溶媒としての流動性物質を室温において蒸発するもの（例えば、水など）とすることもできる。そのようにすれば、後述するように光触媒分散体を用いて基体の表面に光触媒を形成させる際の作業性を向上させることができる。 Further, the fluid substance as a solvent can be evaporated at room temperature (for example, water). By doing so, it is possible to improve workability when forming the photocatalyst on the surface of the substrate using the photocatalyst dispersion as described later.
次に、本実施の形態に係る光触媒分散体の製造方法について例示をする。
光触媒分散体を製造する場合には、溶媒としての流動性物質の水素イオン指数が、光触媒の触媒活性度の低下を抑制することができる範囲となるように調整する。この際、流動性物質の水素イオン指数が、流動性物質中（溶媒中）の光触媒材料の凝集を抑制することができる範囲となるように調整することが好ましい。
また、水素イオン指数を調整する際に用いるイオン添加剤は、少なくともテトラメチルアンモニウムイオン（ＴＭＡ＋）よりも小さなイオン半径の陽イオンを生成するものを主成分として含むものとすることが好ましい。この場合、例えば、無機アルカリを主成分とするイオン添加剤を例示することができる。また、無機アルカリとしては、アルカリ金属イオン、アルカリ土類金属イオン、アンモニウムイオンなどを生成可能なものとすることができる。例えば、前述した水酸化ナトリウム（ＮａＯＨ）、水酸化カリウム（ＫＯＨ）、炭酸ナトリウム（Ｎａ２ＣＯ３）、水酸化アンモニウム（ＮＨ４ＯＨ）などを主成分とするイオン添加剤とすることができる。
Next, the method for producing the photocatalyst dispersion according to the present embodiment is illustrated.
When manufacturing a photocatalyst dispersion, it adjusts so that the hydrogen ion index | exponent of the fluid substance as a solvent may become the range which can suppress the fall of the catalyst activity of a photocatalyst. At this time, it is preferable to adjust the hydrogen ion index of the fluid substance so as to be within a range in which aggregation of the photocatalytic material in the fluid substance (in the solvent) can be suppressed.
Moreover, it is preferable that the ion additive used when adjusting the hydrogen ion index contains, as a main component, at least one that generates a cation having an ion radius smaller than that of tetramethylammonium ion (TMA + ). In this case, for example, an ionic additive mainly composed of inorganic alkali can be exemplified. In addition, as the inorganic alkali, an alkali metal ion, an alkaline earth metal ion, an ammonium ion, or the like can be generated. For example, an ionic additive mainly composed of the aforementioned sodium hydroxide (NaOH), potassium hydroxide (KOH), sodium carbonate (Na 2 CO 3 ), ammonium hydroxide (NH 4 OH), or the like can be used.
また、イオン添加剤を用いる場合には、イオン添加剤の成分濃度が、形成される光触媒の触媒活性度の低下を抑制することができる範囲となるようにすることが好ましい。
また、水素イオン指数の調整がされた流動性物質（溶媒）の水素イオン指数を維持するために緩衝剤を添加することもできる。また、光触媒材料の分散性を向上させるために分散剤を添加することもできる。また、表面に水酸基（−ＯＨ）を多く有する結合剤を添加することもできる。また、結合剤の量や、結合剤に含まれる無機物などの粒子径の大きさを変えることで、光触媒分散体の粘度を調整することができる。
緩衝剤、分散剤、結合剤などを添加する場合には、添加後の流動性物質（溶媒）の水素イオン指数が前述した範囲にあることが好ましい。
Moreover, when using an ion additive, it is preferable to make it the range which can suppress the fall of the catalyst activity of the photocatalyst to which the component concentration of an ion additive is formed.
In addition, a buffering agent can be added to maintain the hydrogen ion index of the fluid substance (solvent) whose hydrogen ion index is adjusted. In addition, a dispersant can be added to improve the dispersibility of the photocatalytic material. In addition, a binder having many hydroxyl groups (—OH) on the surface can be added. Further, the viscosity of the photocatalyst dispersion can be adjusted by changing the amount of the binder and the size of the particle diameter of the inorganic substance contained in the binder.
When adding a buffering agent, a dispersing agent, a binder, etc., it is preferable that the hydrogen ion index of the fluid substance (solvent) after the addition is in the above-described range.
なお、形成される光触媒の触媒活性度の低下を抑制することができる水素イオン指数の範囲、流動性物質中（溶媒中）の光触媒材料の凝集を抑制することができる水素イオン指数の範囲、形成される光触媒の触媒活性度の低下を抑制することができるイオン添加剤の成分濃度の範囲などに関しては、前述したものと同様のためそれらの説明は省略する。
また、溶媒としての流動性物質は、室温において蒸発するものとすることが好ましい。例えば、流動性物質を水とすることができる。
In addition, the range of the hydrogen ion index which can suppress the fall of the catalyst activity of the photocatalyst formed, the range of the hydrogen ion index which can suppress the aggregation of the photocatalyst material in the fluid substance (in the solvent), and formation Since the component concentration range of the ionic additive that can suppress the decrease in the catalytic activity of the photocatalyst is the same as that described above, the description thereof is omitted.
Moreover, it is preferable that the fluid substance as a solvent evaporates at room temperature. For example, the fluid substance can be water.
この様にして、水素イオン指数などの調整がされた流動性物質（溶媒）に光触媒材料を混合することで光触媒分散体が製造される。
なお、流動性物質（溶媒）の水素イオン指数などを調整した後に光触媒材料を混合する場合を例示したが、水素イオン指数などを調整する前の流動性物質（溶媒）に光触媒材料を混合し、光触媒材料が混合された流動性物質（溶媒）の水素イオン指数などを調整してもよい。すなわち、流動性物質（溶媒）の水素イオン指数が、形成される光触媒の触媒活性度の低下を抑制する範囲となるように調整する工程と、光触媒材料を流動性物質（溶媒）に混合させる工程と、を有していればよい。
Thus, a photocatalyst dispersion is manufactured by mixing a photocatalyst material with a fluid substance (solvent) whose hydrogen ion index or the like is adjusted.
In addition, although the case where the photocatalyst material was mixed after adjusting the hydrogen ion index of the fluid substance (solvent) was illustrated, the photocatalyst material was mixed with the fluid substance (solvent) before adjusting the hydrogen ion index, You may adjust the hydrogen ion index | exponent etc. of the fluid substance (solvent) with which the photocatalyst material was mixed. That is, a step of adjusting the hydrogen ion index of the fluid substance (solvent) to be in a range that suppresses a decrease in the catalytic activity of the photocatalyst formed, and a step of mixing the photocatalyst material with the fluid substance (solvent) As long as it has.
次に、本実施の形態に係る光触媒体、光触媒体の製造方法について例示をする。
図６は、本実施の形態にかかる光触媒体の断面構造を例示するための模式図である。
図６に示すように、光触媒体１は、基体１００の表面に膜状に形成された光触媒１０を有している。基体１００の材料としては、特に限定されることがなく、例えば、ガラスやセラミクスなどの無機材料、ステンレスなどの金属材料、あるいは高分子材料などの有機材料など、各種の材料を用いることができる。また、その形状やサイズも適宜決定することができる。なお、基体１００として高分子材料などの有機材料を用いる場合には、光触媒の作用により基体１００が分解、劣化するおそれがある。そのため、有機材料からなる基体１００を用いる場合には、光触媒１０と基体１００との間に図示しない中間層を設けるようにすることが好ましい。中間層としては、例えば、シリコーン樹脂層、アクリル変性シリコーン樹脂層、有機−無機複合傾斜層などを例示することができる。
Next, the photocatalyst body and the method for producing the photocatalyst body according to the present embodiment will be illustrated.
FIG. 6 is a schematic diagram for illustrating the cross-sectional structure of the photocatalyst according to the present embodiment.
As shown in FIG. 6, the photocatalyst body 1 has a photocatalyst 10 formed in a film shape on the surface of the substrate 100. The material of the substrate 100 is not particularly limited, and various materials such as inorganic materials such as glass and ceramics, metal materials such as stainless steel, and organic materials such as polymer materials can be used. Moreover, the shape and size can also be determined as appropriate. When an organic material such as a polymer material is used as the substrate 100, the substrate 100 may be decomposed and deteriorated by the action of the photocatalyst. Therefore, when using the base 100 made of an organic material, it is preferable to provide an intermediate layer (not shown) between the photocatalyst 10 and the base 100. Examples of the intermediate layer include a silicone resin layer, an acryl-modified silicone resin layer, and an organic-inorganic composite gradient layer.
光触媒１０は、前述した光触媒分散体を基体１００の表面に付着させ、これを乾燥させることで形成することができる。そして、前述した光触媒分散体を用いることで、光触媒１０は、金属酸化物を含み、金属元素と水酸基との結合を有するものとすることができる。また、光触媒１０は、酸化タングステン（ＷＯ３）を含む場合に、タングステン（Ｗ）と水酸基（−ＯＨ）との結合を有するものとすることができる。すなわち、光触媒１０は、酸化タングステンを含む場合に、フーリエ変換型赤外分光(ＦＴ−ＩＲ)測定において、３５００ｃｍ−１〜３８００ｃｍ−１の範囲に吸収ピークを有するものとすることができる。 The photocatalyst 10 can be formed by attaching the above-described photocatalyst dispersion to the surface of the substrate 100 and drying it. And by using the photocatalyst dispersion mentioned above, the photocatalyst 10 can include a metal oxide and have a bond between a metal element and a hydroxyl group. Further, when the photocatalyst 10 includes tungsten oxide (WO 3 ), the photocatalyst 10 can have a bond between tungsten (W) and a hydroxyl group (—OH). That is, the photocatalyst 10, when containing tungsten oxide, in the Fourier transform infrared spectroscopy (FT-IR) measurement, can be assumed to have an absorption peak in the range of 3500cm -1 ~3800cm -1.
付着方法は特に限定されるわけではなく、例えば、ディップコート法、スピンコート法、スプレーコート法、バーコート法、ナイフコート法、ロールコート法、ブレードコート法、ダイコート法、グラビアコート法などを例示することができる。また、前述したように、光触媒分散体の粘度を適宜選択することで付着作業の作業性を向上させることができる。例えば、風などの外乱の影響を受けやすい場所や垂直な面などに対しては粘度の高い光触媒分散体とすることが好ましい。そのようにすれば、液だれなどを抑制することができるので作業性を向上させることができる。一方、粘度の低い光触媒分散体を用いるものとすれば、光触媒１０の厚みの均一性を向上させることができる。 The attachment method is not particularly limited, and examples include dip coating, spin coating, spray coating, bar coating, knife coating, roll coating, blade coating, die coating, and gravure coating. can do. As described above, the workability of the adhesion work can be improved by appropriately selecting the viscosity of the photocatalyst dispersion. For example, it is preferable to use a photocatalyst dispersion having a high viscosity for a place or a vertical surface that is easily affected by disturbance such as wind. By doing so, dripping and the like can be suppressed, and workability can be improved. On the other hand, if a photocatalyst dispersion having a low viscosity is used, the thickness uniformity of the photocatalyst 10 can be improved.
また、付着させた光触媒分散体の乾燥方法に関しても特に限定されるわけではなく、例えば、自然乾燥（室温乾燥）、加熱による乾燥などとすることができる。乾燥温度に関しては、溶媒としての流動性物質を適宜選択したり、添加剤を添加することで調整することができる。この場合、溶媒としての流動性物質が室温において蒸発するもの（例えば、水など）であれば、作業性を向上させることができる。 Further, the method for drying the attached photocatalyst dispersion is not particularly limited, and for example, natural drying (room temperature drying), heating drying, and the like can be used. The drying temperature can be adjusted by appropriately selecting a fluid substance as a solvent or adding an additive. In this case, workability can be improved if the fluid substance as a solvent evaporates at room temperature (for example, water).
光触媒体１の用途に関しては特に限定されるわけではなく、各種の部材、製品などに広く用いることができる。
例えば、室内外の建材などの表面に光触媒分散体を付着、乾燥させることによりその表面に光触媒１０を形成させるようなものを例示することができる。室内外の建材などの表面に光触媒１０を形成させることができれば、太陽光や室内光を利用することで、大気中の有害物質や臭気物質を分解除去したり、防汚、除菌、防黴などの優れた機能を発揮させることができる。
The use of the photocatalyst 1 is not particularly limited, and can be widely used for various members and products.
For example, a photocatalyst dispersion is attached to the surface of indoor or outdoor building materials and dried to form the photocatalyst 10 on the surface. If the photocatalyst 10 can be formed on the surface of indoor and outdoor building materials, etc., sunlight and indoor light can be used to decompose and remove harmful substances and odorous substances in the atmosphere, as well as antifouling, disinfecting, and fouling. And so on.
この場合、光触媒材料として酸化タングステンを用いるものとすれば、紫外線の少ない室内などにおいても、光触媒材料の作用を発揮させることができる。そのため、室内などであってもアセトアルデヒドやホルムアルデヒドなどの有害物質を室内光を利用して分解除去することができるので、シックハウス症候群への対応としても有益である。 In this case, if tungsten oxide is used as the photocatalyst material, the action of the photocatalyst material can be exhibited even in a room with little ultraviolet light. For this reason, harmful substances such as acetaldehyde and formaldehyde can be decomposed and removed using indoor light even indoors, which is useful as a countermeasure to sick house syndrome.
光触媒体１の適用例としては、例えば、壁紙、カーテン、カーペット、天井材、床材、窓ガラス、鏡、タイル、衛生用品、家具、照明器具、空調機器や脱臭器のフィルター部品、家電製品、包装材料、情報記録媒体などを例示することができる。
また、建築物の外面を構成する部材に適用させることもできる。例えば、建築物の壁面を構成する建材（例えば、石膏ボード、セメント硬化板、コンクリート板、木質繊維板など）にも適用させることができる。
また、自動車、電車、航空機、船舶などの輸送機器の内外壁面や内外装品、食品などの包装容器などにも適用させることができる。
Examples of application of the photocatalyst body 1 include, for example, wallpaper, curtains, carpets, ceiling materials, flooring materials, window glass, mirrors, tiles, sanitary products, furniture, lighting equipment, air conditioners and filter parts for deodorizers, home appliances, Examples thereof include packaging materials and information recording media.
Moreover, it can also be applied to the member which comprises the outer surface of a building. For example, it can be applied to building materials (for example, gypsum board, cement hardened board, concrete board, wood fiber board, etc.) constituting the wall surface of a building.
Further, the present invention can also be applied to inner and outer wall surfaces and interior / exterior products of transportation equipment such as automobiles, trains, airplanes, and ships, and packaging containers for foods.
以上、本発明の実施の形態について例示をした。しかし、本発明はこれらの記述に限定されるものではない。
前述の実施の形態に関して、当業者が適宜設計変更を加えたものも、本発明の特徴を備えている限り、本発明の範囲に包含される。
The embodiment of the present invention has been illustrated above. However, the present invention is not limited to these descriptions.
As long as the features of the present invention are provided, those skilled in the art appropriately modified the design of the above-described embodiments are also included in the scope of the present invention.
また、前述した各実施の形態が備える各要素は、可能な限りにおいて組み合わせることができ、これらを組み合わせたものも本発明の特徴を含む限り本発明の範囲に包含される。 Moreover, each element with which each embodiment mentioned above is combined can be combined as much as possible, and what combined these is also included in the scope of the present invention as long as the characteristics of the present invention are included.
１ 光触媒体、１０ 光触媒、１００ 基体 1 photocatalyst, 10 photocatalyst, 100 substrate
Claims (8)
溶媒と、
イオン添加剤と、を含み、
前記イオン添加剤は、前記溶媒中においてテトラメチルアンモニウムイオンよりも小さなイオン半径の陽イオンを生成し、
前記イオン添加剤の含有量は、酸化タングステンを２０ｗｔ％以下含む溶媒２０ｇｗに対して１．５×１０−３ｍｏｌ以下であること、を特徴とする光触媒分散体。 Tungsten oxide,
A solvent,
An ionic additive,
The ion additive generates a cation having a smaller ionic radius than the tetramethylammonium ion in the solvent,
Content of the said ion additive is 1.5 * 10 < -3 > mol or less with respect to 20gw of solvent containing 20 wt% or less of tungsten oxide, The photocatalyst dispersion characterized by the above-mentioned.
酸化タングステンを前記溶媒に混合させる工程と、
を有し、
前記イオン添加剤の含有量は、酸化タングステンを２０ｗｔ％以下含む溶媒２０ｇｗに対して１．５×１０−３ｍｏｌ以下とされることを特徴とする光触媒分散体の製造方法。 Adding an ion additive and adjusting the hydrogen ion index of the solvent to be in a range that suppresses a decrease in the catalytic activity of the photocatalyst formed;
Mixing tungsten oxide with the solvent;
Have
Content of the said ion additive shall be 1.5 * 10 < -3 > mol or less with respect to 20gw of solvent containing 20 wt% or less of tungsten oxide, The manufacturing method of the photocatalyst dispersion characterized by the above-mentioned.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2011153038A JP4861527B2 (en) | 2011-07-11 | 2011-07-11 | Photocatalyst dispersion |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2011153038A JP4861527B2 (en) | 2011-07-11 | 2011-07-11 | Photocatalyst dispersion |
Related Parent Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2009086799A Division JP4829321B2 (en) | 2009-03-31 | 2009-03-31 | Photocatalyst |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2011212682A true JP2011212682A (en) | 2011-10-27 |
| JP4861527B2 JP4861527B2 (en) | 2012-01-25 |
Family
ID=44942986
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2011153038A Active JP4861527B2 (en) | 2011-07-11 | 2011-07-11 | Photocatalyst dispersion |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP4861527B2 (en) |
Citations (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH10147771A (en) * | 1996-11-20 | 1998-06-02 | Toto Ltd | Photocatalytic hydrophilic member and its production |
| JPH111620A (en) * | 1997-06-13 | 1999-01-06 | Jsr Corp | Aqueous dispersion |
| JP2002212464A (en) * | 2001-01-19 | 2002-07-31 | Kawasaki Heavy Ind Ltd | Photocatalyst cream and coating method |
| JP2007260480A (en) * | 2006-03-27 | 2007-10-11 | Sumitomo Chemical Co Ltd | Photocatalyst-dispersed material and its preparing method |
| JP2007268523A (en) * | 2006-03-10 | 2007-10-18 | Sumitomo Chemical Co Ltd | Photocatalyst dispersion |
| JP2008230878A (en) * | 2007-03-19 | 2008-10-02 | Mitsubishi Materials Corp | Method for producing zinc oxide functional film and zinc oxide functional film obtained by using the method |
| JP2008307877A (en) * | 2007-06-14 | 2008-12-25 | Hokkaido | Manufacturing method of functional building material having photocatalytic function |
| JP2009056348A (en) * | 2007-08-30 | 2009-03-19 | Sumitomo Chemical Co Ltd | Photocatalyst dispersion |
-
2011
- 2011-07-11 JP JP2011153038A patent/JP4861527B2/en active Active
Patent Citations (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH10147771A (en) * | 1996-11-20 | 1998-06-02 | Toto Ltd | Photocatalytic hydrophilic member and its production |
| JPH111620A (en) * | 1997-06-13 | 1999-01-06 | Jsr Corp | Aqueous dispersion |
| JP2002212464A (en) * | 2001-01-19 | 2002-07-31 | Kawasaki Heavy Ind Ltd | Photocatalyst cream and coating method |
| JP2007268523A (en) * | 2006-03-10 | 2007-10-18 | Sumitomo Chemical Co Ltd | Photocatalyst dispersion |
| JP2007260480A (en) * | 2006-03-27 | 2007-10-11 | Sumitomo Chemical Co Ltd | Photocatalyst-dispersed material and its preparing method |
| JP2008230878A (en) * | 2007-03-19 | 2008-10-02 | Mitsubishi Materials Corp | Method for producing zinc oxide functional film and zinc oxide functional film obtained by using the method |
| JP2008307877A (en) * | 2007-06-14 | 2008-12-25 | Hokkaido | Manufacturing method of functional building material having photocatalytic function |
| JP2009056348A (en) * | 2007-08-30 | 2009-03-19 | Sumitomo Chemical Co Ltd | Photocatalyst dispersion |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP4861527B2 (en) | 2012-01-25 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| CN103131313B (en) | Compound type photocatalyst air purification aqueous inner wall paint and preparation method thereof | |
| KR101265781B1 (en) | Titanium dioxide photocatalyst having crystalline titanium dioxide core-amorphous titanium dioxide shell structure, preparation method thereof and hydrophilic coating material comprising said titanium dioxide photocatalyst | |
| TW201442780A (en) | Titanium oxide liquid dispersion, titanium oxide liquid coating, and photocatalyst coating film | |
| JPWO2006064799A1 (en) | Composite metal oxide photocatalyst with visible light response | |
| US10220372B2 (en) | Photocatalyst functional film and method for producing the same | |
| JP4829321B2 (en) | Photocatalyst | |
| TWI752053B (en) | Interior material having surface layer with visible light responsive photocatalytic activity and manufacturing method thereof | |
| US10232350B2 (en) | Photocatalyst functional film and method for producing the same | |
| JP2018095797A (en) | Photocatalyst material and photocatalyst coating composition | |
| JP4987781B2 (en) | Photocatalyst | |
| KR101153554B1 (en) | Photocatalyst dispersing element, method for manufacturing photocatalyst dispersing element, photocatalyst element, method for manufacturing photocatalyst element | |
| JP4861527B2 (en) | Photocatalyst dispersion | |
| JP5209009B2 (en) | Photocatalyst and photocatalyst dispersion | |
| CN103131271B (en) | Zinc vanadate nanorod composite paint | |
| CN104209145B (en) | Nanometer spherical porous weak light photocatalyst for degrading formaldehyde, and preparation method and application thereof | |
| JP2016150329A (en) | Organic substrate having photocatalyst layer | |
| JP5608763B2 (en) | Method for producing photocatalyst body | |
| CN110711573A (en) | Method for preparing multifunctional nano composite material dustproof antifouling mildew inhibitor | |
| CN109925893A (en) | Visible light catalytic composite ceramic nanofiltration membrane and preparation method and application thereof | |
| KR20060013181A (en) | Preparation of visible light responding photocatalytic coating solution | |
| CN104209146B (en) | Nanometer spherical porous weak light photocatalyst for degrading nitrogen oxide, and preparation method and application thereof | |
| CN106000374A (en) | Method for preparing solid titanium dioxide photocatalyst | |
| TWM472058U (en) | Tungsten oxide-titania anticorrosion photocatalyst film structure | |
| TWM483279U (en) | Vanadium oxide-titania anticorrosion photocatalyst film structure | |
| JP2005137977A (en) | Composition for forming transparent photocatalyst layer |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20110801 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20110901 |
|
| A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20110913 |
|
| TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20111006 |
|
| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
| A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20111104 |
|
| R151 | Written notification of patent or utility model registration |
Ref document number: 4861527 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R151 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20141111 Year of fee payment: 3 |