JP2011204321A - Releasing jig for substrate of magnetic disk - Google Patents

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文彦 重田
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a releasing jig for a substrate which can release a substrate closely attached to a polishing plate and can suppress flaw on a substrate surface and dirt on the substrate.SOLUTION: The releasing jig 1 for a substrate includes a body part 11 in which a through path to supply compressed air from one end is formed inside, a flat nozzle 19 which is inclined to the body part 11 and attached to another side edge side of the through path and discharges the compressed air, and a substrate receiving part 12 which receives and holds a glass substrate 14 integrated into the body part 11 side containing the flat nozzle 19 and floated from the polishing pad 13 by the compressed air discharged from the flat nozzle 19.

Description

本発明は、研磨板に吸着した基板を剥離する磁気ディスク用基板剥離冶具に関し、特に磁気ディスク用ガラス基板の製造工程において研磨パッドと密着した磁気ディスク用ガラス基板の剥離に好適に用いられる磁気ディスク用基板剥離冶具に関する。   The present invention relates to a magnetic disk substrate peeling jig for peeling a substrate adsorbed on a polishing plate, and more particularly to a magnetic disk suitably used for peeling a glass substrate for a magnetic disk in close contact with a polishing pad in the manufacturing process of the glass substrate for a magnetic disk. The present invention relates to a substrate peeling jig.

現在、ハードディスク装置用の記録媒体としてガラス基板を用いた磁気ディスクが広く用いられている。磁気ディスクは、フロートガラスなどの板状のガラス材を円環状のガラス基板に形成する形状加工工程(コアリング及びチャンファリングなど)、研削加工によってガラス基板の厚さを調製する研削加工工程(ラッピング)、研磨加工によってガラス基板を平滑化する研磨加工工程(端面部及び主表面部)などを経て製造されている。   Currently, magnetic disks using glass substrates are widely used as recording media for hard disk devices. Magnetic disks are shaped processing steps (such as coring and chamfering) that form a plate-like glass material such as float glass on an annular glass substrate, and grinding processing steps (lapping) that adjust the thickness of the glass substrate by grinding. ) And a polishing process (end face part and main surface part) for smoothing the glass substrate by polishing process.

図4は、研磨加工工程で用いられる両面研磨装置の一例を示す図である。この両面研磨装置は、上下一対の研磨定盤41、42を有し、これらの研磨定盤41、42の表面に張り付けられた軟質ポリシャ(スウェード)の研磨パッド43によりガラス基板44を研磨する。この両面研磨装置においては、各研磨定盤41、42間にガラス基板44を保持する円板状のキャリア45を設置し、上下研磨定盤41、42で圧力を付加してキャリア45を挟み込み、上研磨定盤42と下研磨定盤41を逆回転させ、研磨材を供給しながらガラス基板44の両主表面を研磨する。このような遊星歯車機構では、下研磨定盤41の中心部に設けられた太陽歯車46と、この下研磨定盤41の外周に設けられた内歯車47との間にキャリア45が配設される。このとき、キャリア45の外周に設けられた歯部48が、太陽歯車46及び内歯車47と噛合する。したがって、上研磨定盤42と下研磨定盤41を逆回転させることにより、キャリア45が自転しながら公転する。なお、ガラス基板44は、キャリア45の穴部45a内で保持される。   FIG. 4 is a diagram illustrating an example of a double-side polishing apparatus used in the polishing process. This double-side polishing apparatus has a pair of upper and lower polishing surface plates 41 and 42, and polishes the glass substrate 44 with a polishing pad 43 of a soft polisher (suede) attached to the surfaces of these polishing surface plates 41 and 42. In this double-side polishing apparatus, a disk-shaped carrier 45 that holds a glass substrate 44 is installed between the polishing surface plates 41 and 42, and pressure is applied between the upper and lower polishing surface plates 41 and 42 to sandwich the carrier 45, The upper polishing surface plate 42 and the lower polishing surface plate 41 are rotated in the reverse direction, and both main surfaces of the glass substrate 44 are polished while supplying an abrasive. In such a planetary gear mechanism, a carrier 45 is disposed between a sun gear 46 provided at the center of the lower polishing surface plate 41 and an internal gear 47 provided on the outer periphery of the lower polishing surface plate 41. The At this time, the tooth portion 48 provided on the outer periphery of the carrier 45 meshes with the sun gear 46 and the internal gear 47. Therefore, by rotating the upper polishing surface plate 42 and the lower polishing surface plate 41 in the reverse direction, the carrier 45 revolves while rotating. The glass substrate 44 is held in the hole 45 a of the carrier 45.

ところで、両面研磨装置を用いた研磨加工では、研磨後のガラス基板と研磨パッドとが密着する現象が発生する。このため、研磨加工工程では、グローブをした手で直接ガラス基板を掴んで剥離し、又は先端を鋭利に尖らせた冶具若しくは先端が薄く形成された冶具をガラス基板と研磨パッドとの間に差し込むことによって研磨パッドからガラス基板を剥離している。   By the way, in the polishing process using the double-side polishing apparatus, a phenomenon occurs in which the polished glass substrate and the polishing pad are in close contact with each other. For this reason, in the polishing process, the glass substrate is directly grasped and peeled off with a gloved hand, or a jig with a sharp tip or a thin tip is inserted between the glass substrate and the polishing pad. Thus, the glass substrate is peeled from the polishing pad.

また、研磨パッドと密着したガラス基板を剥離する冶具として、ガラス基板を吸着する吸盤を備えた基板保持固定冶具も提案されている(例えば、特許文献1参照)。特許文献1記載の基板保持固定冶具では、吸盤をガラス基板にあてがった状態で、吸盤内を真空にしてガラス基板を吸着し、研磨パッドからガラス基板を剥離する。吸盤に吸着されたガラス基板は、吸盤内に空気を導入することにより吸盤から取り外すことができる。   Further, as a jig for peeling a glass substrate in close contact with a polishing pad, a substrate holding and fixing jig provided with a suction cup for adsorbing the glass substrate has also been proposed (for example, see Patent Document 1). In the substrate holding and fixing jig described in Patent Document 1, with the suction cup applied to the glass substrate, the inside of the suction cup is evacuated to adsorb the glass substrate and peel the glass substrate from the polishing pad. The glass substrate adsorbed by the suction cup can be removed from the suction cup by introducing air into the suction cup.

特開2005−8353号公報JP 2005-8353 A

しかしながら、研磨パッドと密着したガラス基板を直接手や冶具を用いて剥離する場合には、ガラス基板及び研磨パッドに傷がつく問題がある。また、ガラス基板を吸着して剥離する場合には、吸盤が接触した箇所に汚れが付着すると共に、吸着時間が長くなると吸着箇所が早期に乾燥して汚れが付着する問題がある。   However, there is a problem that the glass substrate and the polishing pad are damaged when the glass substrate in close contact with the polishing pad is directly peeled off using a hand or a jig. Further, when the glass substrate is adsorbed and peeled off, there is a problem that dirt adheres to the place where the suction cup contacts, and when the adsorbing time becomes longer, the adsorbed place dries early and the dirt adheres.

本発明は、かかる点に鑑みて為されたものであり、研磨板と密着した基板を剥離することができ、基板表面の傷及び基板への汚れの付着を抑制できる基板剥離冶具を提供することを目的とする。   This invention is made in view of this point, and provides the board | substrate peeling jig | tool which can peel the board | substrate which contact | adhered to the grinding | polishing board, and can suppress the damage | wound of a substrate surface, and adhesion of the stain | pollution | contamination to a board | substrate. With the goal.

本発明の基板剥離冶具は、一方端から圧縮空気が供給される貫通路が内部に形成された本体部と、前記本体部に対し前記貫通路の他方端側に傾斜させて取り付けられ圧縮空気を吐出させるノズルと、前記ノズルを含む前記本体部側と一体化され前記ノズルから吐出した圧縮空気によって研磨板から浮き上がらせた基板を受け取って保持する基板受け部と、を具備したことを特徴とする。   The substrate peeling jig according to the present invention has a main body portion in which a through passage to which compressed air is supplied from one end is formed, and is inclined to the other end side of the through passage with respect to the main body portion. A nozzle for discharging, and a substrate receiving portion for receiving and holding a substrate that is integrated with the main body side including the nozzle and is lifted from the polishing plate by compressed air discharged from the nozzle. .

この構成によれば、圧縮空気の吐出により、基板表面に接触することなく研磨板と密着した基板を剥離することができる。また、研磨板から浮き上がらせた基板を基板受け部で受け取って保持するので、研磨板から剥離した基板と研磨板との接触を回避できる。したがって、基板表面への傷及び基板への汚れの付着を抑制することができる。   According to this configuration, the substrate that is in close contact with the polishing plate can be peeled off without contacting the substrate surface by discharging compressed air. Further, since the substrate lifted from the polishing plate is received and held by the substrate receiving portion, the contact between the substrate peeled off from the polishing plate and the polishing plate can be avoided. Therefore, scratches on the substrate surface and adhesion of dirt to the substrate can be suppressed.

また本発明は、上記基材剥離冶具において、前記本体部は、前記貫通路の一部が内部に形成された把持部と、前記貫通路に設けられた開閉手段と、前記把持部に一端部が回動可能に支持されレバー回動操作に応じて前記開閉手段を開閉するレバー部材と、前記把持部と前記ノズルとを連結する連結部材とを備え、前記基板受け部は、研磨板から浮き上がらせた基板の中央部開口に挿入して当該基板を保持するロール部材と、前記ノズルの先端から水平方向に所定距離離れた位置に前記ロール部材の先端部が位置するように前記ロール部材の基端部を支持する支持部材とを備えたことを特徴とする。   In the base material peeling jig according to the present invention, the main body portion may include a grip portion in which a part of the through passage is formed, an opening / closing means provided in the through passage, and one end portion of the grip portion. And a lever member that opens and closes the opening / closing means in response to a lever turning operation, and a connecting member that connects the grip portion and the nozzle, and the substrate receiving portion is lifted from the polishing plate. A roll member that is inserted into the central opening of the substrate and holds the substrate, and a base of the roll member so that the tip of the roll member is positioned at a predetermined distance in the horizontal direction from the tip of the nozzle. And a support member for supporting the end portion.

この構成によれば、レバー部材の回動操作により、圧縮空気の吐出を切替えることができる。また、ロール部材の先端部が基板の中央開口部に挿入して基板を保持するので、研磨板から浮き上がらせた基板を中央開口部の下面側から支持することができる。   According to this configuration, the discharge of the compressed air can be switched by the turning operation of the lever member. Moreover, since the front-end | tip part of a roll member inserts in the center opening part of a board | substrate and hold | maintains a board | substrate, the board | substrate which floated up from the grinding | polishing board can be supported from the lower surface side of a center opening part.

また本発明は、上記基板剥離冶具において、前記ロール部材は、ロールブラシであることが好ましい。この構成により、ロールブラシの毛先で基板中心部を下面側から支持できるので、基板への傷の付着を抑制することができる。   In the substrate peeling jig according to the present invention, it is preferable that the roll member is a roll brush. With this configuration, the center portion of the substrate can be supported from the lower surface side by the bristles of the roll brush, so that the attachment of scratches to the substrate can be suppressed.

また本発明は、上記基板剥離冶具において、前記ロール部材は、樹脂スポンジであることが好ましい。この構成により、樹脂スポンジの外周面で基板中心部を端面から支持できるので、基板への傷の付着を抑制することができる。   In the substrate peeling jig according to the present invention, the roll member is preferably a resin sponge. With this configuration, since the center portion of the substrate can be supported from the end surface by the outer peripheral surface of the resin sponge, it is possible to suppress the attachment of scratches to the substrate.

また本発明は、上記基板剥離冶具において、前記ノズルは、吐出口が前記基板の外径寸法に対応した幅を有する扁平ノズルであることが好ましい。この構成により、基板の幅に対応した圧縮空気を吐出できるので、基板と研磨パッドとを効率よく剥離することができる。   In the substrate peeling jig according to the present invention, it is preferable that the nozzle is a flat nozzle having a width corresponding to an outer diameter of the substrate. With this configuration, compressed air corresponding to the width of the substrate can be discharged, so that the substrate and the polishing pad can be efficiently separated.

本発明の圧力制御機構は、圧縮空気供給源から上記磁気ディスク用基板剥離冶具への圧縮空気供給経路に設けられ、圧縮空気の1次圧を所定の2次圧に変換する圧力制御手段と、前記圧縮空気供給経路の前記圧力制御手段の上流側に設けられ、バルブ開度の調整により圧縮空気の供給量を制限する開閉バルブと、を備えたことを特徴とする。   The pressure control mechanism of the present invention is provided in a compressed air supply path from a compressed air supply source to the magnetic disk substrate peeling jig, and converts pressure primary means of compressed air into a predetermined secondary pressure. An opening / closing valve provided on the upstream side of the pressure control means in the compressed air supply path and restricting the amount of compressed air supplied by adjusting a valve opening degree.

この構成によれば、例えば、圧縮空気供給源から供給される圧縮空気の1次圧を、圧力制御手段で所定の2次圧に調製し、且つ開閉バルブのバルブ開度を、磁気ディスク用基板剥離冶具に供給される圧縮空気の単位時間当たりの流量が、磁気ディスク用基板剥離冶具の単位時間当たりの圧縮空気吐出量より小さくなるように制御することにより、磁気ディスク用基板剥離冶具から吐出される圧縮空気量を基板の剥離に必要な必要最小量にすることができる。また、レバー部材を離すのが遅れた際にも基板への過剰の圧縮空気の吐出を抑制することができるので、基板の乾燥を抑制でき、基板表面への汚れの付着を防止できる。   According to this configuration, for example, the primary pressure of the compressed air supplied from the compressed air supply source is adjusted to a predetermined secondary pressure by the pressure control means, and the opening degree of the open / close valve is set to the magnetic disk substrate. By controlling the flow rate of compressed air supplied to the peeling jig per unit time to be smaller than the discharge amount of compressed air per unit time of the magnetic disk substrate peeling jig, it is discharged from the magnetic disk substrate peeling jig. The amount of compressed air to be reduced can be made the minimum amount necessary for peeling the substrate. Further, even when the release of the lever member is delayed, the discharge of excessive compressed air to the substrate can be suppressed, so that the drying of the substrate can be suppressed and the adhesion of dirt to the substrate surface can be prevented.

本発明によれば、研磨板と密着した基板を剥離することができ、基板表面の傷及び基板への汚れの付着を抑制できる基板剥離冶具を提供することができる。   ADVANTAGE OF THE INVENTION According to this invention, the board | substrate peeling jig | tool which can peel the board | substrate closely_contact | adhered with the grinding | polishing board and can suppress the adhesion | attachment of the damage | wound of a substrate surface and a board | substrate can be provided.

(a)は、本発明の実施の形態に係る基板剥離冶具の平面図であり、(b)は、(a)の側面図である。(A) is a top view of the board | substrate peeling jig | tool which concerns on embodiment of this invention, (b) is a side view of (a). 本発明の実施の形態に係る基板剥離冶具の圧縮空気供給経路を示す図である。It is a figure which shows the compressed air supply path | route of the board | substrate peeling jig which concerns on embodiment of this invention. (a)、(b)は、本発明の実施の形態に係る基板剥離冶具の基板受け部の拡大断面図である。(A), (b) is an expanded sectional view of the board | substrate receiving part of the board | substrate peeling jig which concerns on embodiment of this invention. 研磨加工装置の一例を示す図である。It is a figure which shows an example of a grinding | polishing processing apparatus.

以下、本発明の実施の形態について添付図面を参照して詳細に説明する。
図1(a)は、本発明の実施の形態に係る基板剥離冶具の平面図であり、図1(b)は、図1(a)の側面図である。図1(a)、(b)に示すように、基板剥離冶具1は、内部に圧縮空気を供給する貫通路が形成され貫通路の一方の端部に圧縮空気が供給される本体部11と、本体部11と一体化された基板受け部12とを備える。基板剥離冶具1は、研磨パッド13とガラス基板14との境界に圧縮空気を吐出して研磨パッド13からガラス基板14を浮き上がらせ、そのガラス基板14を基板受け部12で保持する。なお、図1(b)において、基板受け部12は、A−A線矢視断面について示している。
Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.
Fig.1 (a) is a top view of the board | substrate peeling jig | tool which concerns on embodiment of this invention, FIG.1 (b) is a side view of Fig.1 (a). As shown in FIGS. 1 (a) and 1 (b), a substrate peeling jig 1 includes a main body 11 in which a through passage for supplying compressed air is formed and compressed air is supplied to one end of the through passage. And a substrate receiving part 12 integrated with the main body part 11. The substrate peeling jig 1 discharges compressed air to the boundary between the polishing pad 13 and the glass substrate 14 to lift the glass substrate 14 from the polishing pad 13 and holds the glass substrate 14 with the substrate receiving portion 12. In addition, in FIG.1 (b), the board | substrate receiving part 12 has shown about the AA arrow cross section.

本体部11の内部に形成された貫通路の一方の端部には、圧縮空気供給系統を介して圧縮空気供給源に接続される接続部15が設けられている。貫通路の途中である接続部15と開放端部16との間には、流路を開閉させる開閉バルブ(不図示)が設けられている。   A connecting portion 15 connected to a compressed air supply source via a compressed air supply system is provided at one end of the through passage formed inside the main body portion 11. An open / close valve (not shown) for opening and closing the flow path is provided between the connection portion 15 and the open end portion 16 in the middle of the through passage.

本体部11は、貫通路の一部が内部に形成される把持部17を有する。把持部17には一端が回動自在に支持された操作レバー18が取り付けられている。操作レバー18は自由端側が把持部17から離れる方向にバネ(不図示)で付勢される。操作レバー18を回動操作することにより、貫通路内の開閉バルブを開閉できるように構成されている。   The main body 11 has a gripping part 17 in which a part of the through passage is formed. An operation lever 18 having one end rotatably supported is attached to the grip 17. The operation lever 18 is biased by a spring (not shown) in a direction in which the free end side is separated from the gripping portion 17. By turning the operation lever 18, the open / close valve in the through passage can be opened and closed.

開放端部16には、貫通孔を有する連結具20を介して扁平ノズル19が接続され、貫通路内と扁平ノズル19の内部とが連通されている。連結具20は、一端が本体部11側に接続され、他端が扁平ノズル19に接続されている。扁平ノズル19は、連結具20側の一端に円筒形状の連結部19aが設けられ、他端に扁平形状の吐出口19bが設けられている。吐出口19bの間口は、ガラス基板14の外径寸法に相当する幅を有している。   A flat nozzle 19 is connected to the open end 16 via a connector 20 having a through hole, and the inside of the through passage and the inside of the flat nozzle 19 are communicated with each other. One end of the connector 20 is connected to the main body 11 side, and the other end is connected to the flat nozzle 19. The flat nozzle 19 is provided with a cylindrical connecting portion 19a at one end on the side of the connecting tool 20, and a flat discharge port 19b at the other end. The opening between the discharge ports 19b has a width corresponding to the outer diameter of the glass substrate 14.

扁平ノズル19は、操作レバー18の回動方向を含む平面F1に対して傾斜して接続されている。扁平ノズル19の傾斜角度としては、圧縮空気の吐出によりガラス基板14を研磨パッド13から剥離できる範囲であれば特に限定されないが、平面F1から35〜45度程度であることが好ましい。なお、扁平ノズル19は、連結具20を介して接続してもよく、本体部11の開放端部16に直接接続する構成としてもよい。   The flat nozzle 19 is connected to be inclined with respect to the plane F <b> 1 including the rotation direction of the operation lever 18. The inclination angle of the flat nozzle 19 is not particularly limited as long as the glass substrate 14 can be peeled from the polishing pad 13 by discharging compressed air, but is preferably about 35 to 45 degrees from the plane F1. In addition, the flat nozzle 19 may be connected via the coupler 20, and it is good also as a structure directly connected to the open end part 16 of the main-body part 11. FIG.

扁平ノズル19には、ノズルアダプタ21を介して基板受け部12が固定されている。ノズルアダプタ21は、テーパー面21aを有しており、このテーパー面21aを扁平ノズル19上面に当接させて締結部材22a、22bで締結固定している。また、ノズルアダプタ21は、吐出口19bに対する反対側の端部21bが、後述する基板受け部12の天板に締結部材23a、23bで固定されている。   A substrate receiving portion 12 is fixed to the flat nozzle 19 via a nozzle adapter 21. The nozzle adapter 21 has a tapered surface 21a. The tapered surface 21a is brought into contact with the upper surface of the flat nozzle 19 and is fastened and fixed by fastening members 22a and 22b. Further, the nozzle adapter 21 has an end portion 21b opposite to the discharge port 19b fixed to a top plate of the substrate receiving portion 12 described later by fastening members 23a and 23b.

基板受け部12は、扁平ノズル19の先端から前方に取り付けられるケース24と、研磨パッド13から剥離したガラス基板14を保持するロールブラシ25と、研磨パッド13からのガラス基板14の剥離時に基板受け部12を支持する冶具スタンド26a、26bとを備える。   The substrate receiving portion 12 includes a case 24 attached forward from the tip of the flat nozzle 19, a roll brush 25 that holds the glass substrate 14 peeled from the polishing pad 13, and a substrate receiving portion when the glass substrate 14 is peeled from the polishing pad 13. And jig stands 26 a and 26 b for supporting the portion 12.

ケース24は、一面が開放された箱型形状をなしており、天板24aと、天板24aの外周縁部から垂直に立ち上がる側壁24bとからなる。ケース24の取付け側(扁平ノズル19側)の側壁24cは、ノズルアダプタ21が形成している。ケース24は、ガラス基板14を覆うように設けられている。   The case 24 has a box shape with one surface open, and includes a top plate 24a and side walls 24b that rise vertically from the outer peripheral edge of the top plate 24a. A nozzle adapter 21 is formed on the side wall 24c on the attachment side of the case 24 (on the flat nozzle 19 side). The case 24 is provided so as to cover the glass substrate 14.

天板24aの下面側中央部には、ロールブラシ25の基端部が取り付けられている。ロールブラシ25は、芯材としての取付け軸25aと、取付け軸25aの外周面に放射状に設けられた毛材とを有する。取付け軸25aの上部にはネジ部25bが設けられており、このネジ部25bが、天板24aの中央部に設けられた貫通孔24dより天板24aから上方に貫通して締結部材27により締結されている。また、ロールブラシ25は、取付け軸25aの下端が扁平ノズルの先端から水平方向に所定距離離れて位置するように取り付けられている。また、ロールブラシ25の取付け軸25aの下端は、側壁24bの下端からガラス基板14の厚さより僅かに突出するように設けられている。   The base end portion of the roll brush 25 is attached to the center portion on the lower surface side of the top plate 24a. The roll brush 25 includes an attachment shaft 25a as a core material, and bristle material provided radially on the outer peripheral surface of the attachment shaft 25a. A screw portion 25b is provided on the upper portion of the mounting shaft 25a. The screw portion 25b penetrates upward from the top plate 24a through a through hole 24d provided in the central portion of the top plate 24a and is fastened by a fastening member 27. Has been. The roll brush 25 is mounted such that the lower end of the mounting shaft 25a is positioned at a predetermined distance in the horizontal direction from the tip of the flat nozzle. The lower end of the mounting shaft 25a of the roll brush 25 is provided so as to slightly protrude from the lower end of the side wall 24b than the thickness of the glass substrate 14.

ロールブラシ25は、直径がガラス基板14の中心部開口である円孔より大きくなるように毛材の毛の長さ及び取付け軸25aの大きさが調整されている。また、ロールブラシ25は、研磨パッド13から剥離したガラス基板14中心部の円孔に挿入され、ロールブラシ25の毛先によりガラス基板14中心部の円孔を下面から支持するように構成されている。   The length of the hair of the bristle material and the size of the mounting shaft 25 a are adjusted so that the diameter of the roll brush 25 is larger than the circular hole that is the central opening of the glass substrate 14. The roll brush 25 is inserted into a circular hole at the center of the glass substrate 14 peeled from the polishing pad 13, and is configured to support the circular hole at the center of the glass substrate 14 from the lower surface by the bristles of the roll brush 25. Yes.

天板24aの下面側外縁部には、円柱形状の冶具スタンド26a、26bが取り付けられている。冶具スタンド26a、26bは、天板24aから垂直に下方に伸びて、下端が側壁24bの下端からガラス基板14の厚さより僅かに突出するように設けられている。また、冶具スタンド26a、26bは、下端を研磨パッド13に当接させた際、ロールブラシ25の下端が好ましくはガラス基板14中央部の円孔に入らない程度の高さになるように、又はより好ましくはガラス基板14中央部の円孔と同じ高さになるように位置、大きさに調整されている。冶具スタンド26a、26bの上端部は、締結部材28a、28bにより締結固定されている。   Cylindrical jig stands 26a and 26b are attached to the outer edge on the lower surface side of the top plate 24a. The jig stands 26a and 26b extend vertically downward from the top plate 24a, and are provided so that the lower ends protrude slightly from the thickness of the glass substrate 14 from the lower ends of the side walls 24b. Further, the jig stands 26a and 26b are arranged such that when the lower ends thereof are brought into contact with the polishing pad 13, the lower end of the roll brush 25 is preferably high enough not to enter the circular hole in the center of the glass substrate 14, or More preferably, the position and size are adjusted so as to be the same height as the circular hole in the center of the glass substrate 14. The upper ends of the jig stands 26a and 26b are fastened and fixed by fastening members 28a and 28b.

次に、図2を参照して、基板剥離冶具1への圧縮空気供給系統について説明する。図2に示すように、基板剥離冶具1には、工場などの計装空気や、エアーコンプレッサーなどの圧縮空気供給源28から圧縮空気が供給される。基板剥離冶具1への圧縮空気供給系統には、圧縮空気供給源28側から順に、圧縮空気中の粉塵などを除去するエアーフィルタ29と、圧縮空気の流量を制御する開閉バルブ30と、圧縮空気供給源28から供給される圧縮空気の1次圧を所定の2次圧まで減圧するレギュレータ31とが配置される。なお、必要に応じてエアーフィルタ29に加えて空気中の油分や水分を除去するオイルミストコレクタなどを圧縮空気供給系統内に配置してもよい。また、圧縮空気としては、空気以外にも比重の異なる各種ガスを用いてもよい。   Next, a compressed air supply system to the substrate peeling jig 1 will be described with reference to FIG. As shown in FIG. 2, the substrate peeling jig 1 is supplied with compressed air from instrument air in a factory or the like, or a compressed air supply source 28 such as an air compressor. The compressed air supply system to the substrate peeling jig 1 includes, in order from the compressed air supply source 28 side, an air filter 29 that removes dust and the like in the compressed air, an open / close valve 30 that controls the flow rate of the compressed air, and compressed air. A regulator 31 for reducing the primary pressure of the compressed air supplied from the supply source 28 to a predetermined secondary pressure is disposed. In addition to the air filter 29, an oil mist collector or the like that removes oil or moisture in the air may be disposed in the compressed air supply system as necessary. Moreover, as compressed air, you may use various gas from which specific gravity differs in addition to air.

次に、図2、図3(a)、(b)を参照して基板剥離冶具1を用いたガラス基板14の剥離動作について説明する。図2に示すように、まず、開閉バルブ30を開いた状態で圧縮空気の供給を開始する。圧縮空気供給源28から供給された圧縮空気は、エアーフィルタ29で粉塵が除去され、レギュレータ31で所定の設定圧力である2次圧まで減圧されて基板剥離冶具1に供給される。なお、レギュレータ31の設定圧力は、例えば、0.3MPaに設定する。   Next, the peeling operation | movement of the glass substrate 14 using the board | substrate peeling jig 1 is demonstrated with reference to FIG.2, FIG.3 (a), (b). As shown in FIG. 2, first, the supply of compressed air is started with the open / close valve 30 open. The compressed air supplied from the compressed air supply source 28 is dust-removed by the air filter 29, reduced to a secondary pressure that is a predetermined set pressure by the regulator 31, and supplied to the substrate peeling jig 1. The set pressure of the regulator 31 is set to 0.3 MPa, for example.

図3(a)に示すように、基板剥離冶具1は、ロールブラシ25がガラス基板14中心部の円孔に対応する位置に配置され、扁平ノズル19の吐出口19bがガラス基板14の外周縁近傍に配置されるようにしてロールブラシ25の取付け軸25aの下端及び冶具スタンド26a、26bの下端を研磨パッド13に当接する。基板受け部12は、ロールブラシ25の取付け軸25aの下端及び冶具スタンド26a、26bの下端がケース24の側壁24bの下端より突出するように設けられているため、側壁24b下端と研磨パッド13との間に所定の間隔L1が設けられる。また、基板受け部12は、側壁24bとガラス基板14との間に所定の間隔L2が設けられるように構成されている。   As shown in FIG. 3A, in the substrate peeling jig 1, the roll brush 25 is disposed at a position corresponding to the circular hole at the center of the glass substrate 14, and the discharge port 19b of the flat nozzle 19 is the outer peripheral edge of the glass substrate 14. The lower end of the mounting shaft 25a of the roll brush 25 and the lower ends of the jig stands 26a and 26b are brought into contact with the polishing pad 13 so as to be arranged in the vicinity. Since the substrate receiving portion 12 is provided so that the lower end of the mounting shaft 25a of the roll brush 25 and the lower ends of the jig stands 26a and 26b protrude from the lower end of the side wall 24b of the case 24, the lower end of the side wall 24b, the polishing pad 13, and the like. Is provided with a predetermined interval L1. Moreover, the board | substrate receiving part 12 is comprised so that the predetermined space | interval L2 may be provided between the side wall 24b and the glass substrate 14. FIG.

次いで、基板剥離冶具1の操作レバー18を握ることにより、扁平ノズル19から研磨パッド13とガラス基板14との間(研磨パッド13とガラス基板14の外周面取り部との間の空間)に向けてレギュレータ31で設定された2次圧の圧縮空気が吐出される。圧縮空気が吐出されたガラス基板14には上方に向けて応力が作用し、研磨パッド13から剥離される。ここで、ロールブラシ25の取付け軸25aの下端がガラス基板14中央部の円孔の近傍に配置されているので、図3(b)に示すように、研磨パッド13から剥離したガラス基板14は、ロールブラシ25によってガイドされながら浮き上がり、ロールブラシ25がガラス基板14中央部の円孔内に挿入される。また、ロールブラシ25は、直径がガラス基板14の内径より大きくなるように調整されているので、ガラス基板14中央部の円孔の内壁がロールブラシ25の毛先と接触しながら浮き上がり、浮き上がった状態で毛先によって下面側からガラス基板14を支持する。このため、基板受け部12では、研磨パッド13から剥離したガラス基板14の落下を防ぐことができ、ガラス基板14への傷の付着を抑制することができる。なお、ケース24内に吐出された圧縮空気は、側壁24b下端と研磨パッド13との間の間隔L1よりケース24外に排出される。   Next, by gripping the operation lever 18 of the substrate peeling jig 1, the flat nozzle 19 is directed toward the space between the polishing pad 13 and the glass substrate 14 (the space between the polishing pad 13 and the outer peripheral chamfered portion of the glass substrate 14). The compressed air having the secondary pressure set by the regulator 31 is discharged. Stress is applied to the glass substrate 14 from which the compressed air has been discharged, and the glass substrate 14 is peeled off from the polishing pad 13. Here, since the lower end of the mounting shaft 25a of the roll brush 25 is disposed in the vicinity of the circular hole in the central portion of the glass substrate 14, the glass substrate 14 peeled off from the polishing pad 13 as shown in FIG. Then, it floats while being guided by the roll brush 25, and the roll brush 25 is inserted into the circular hole at the center of the glass substrate 14. Further, since the roll brush 25 is adjusted so that the diameter is larger than the inner diameter of the glass substrate 14, the inner wall of the circular hole in the central portion of the glass substrate 14 is lifted while coming into contact with the hair tips of the roll brush 25. In this state, the glass substrate 14 is supported from the lower surface side by the hair tips. For this reason, in the board | substrate receiving part 12, the fall of the glass substrate 14 peeled from the polishing pad 13 can be prevented, and adhesion of the damage | wound to the glass substrate 14 can be suppressed. The compressed air discharged into the case 24 is discharged out of the case 24 through an interval L1 between the lower end of the side wall 24b and the polishing pad 13.

最後に、基板受け部12に保持されたガラス基板14を手で取出すことにより、傷及び汚れを付けることなく研磨パッド13からガラス基板14を剥離することができる。この時、ガラス基板14と側壁24bとの間に間隔L2が設けられているので、ガラス基板14の取出しが容易となる。なお、本実施の形態では、圧縮空気の吐出時間は、例えば、一秒以下で研磨パッド13からガラス基板14を剥離することができる。   Finally, the glass substrate 14 held on the substrate receiving portion 12 can be removed by hand, and the glass substrate 14 can be peeled off from the polishing pad 13 without being scratched or soiled. At this time, since the gap L2 is provided between the glass substrate 14 and the side wall 24b, the glass substrate 14 can be easily taken out. In the present embodiment, the glass substrate 14 can be peeled from the polishing pad 13 in a compressed air discharge time of, for example, one second or less.

本実施の形態では、ガラス基板14の乾燥を抑制する観点から、ガラス基板14の剥離時における開閉バルブ30のバルブ開度が微開であることが好ましく、操作レバー18を握り、圧縮空気を吐出し続けた状態でレギュレータ31の表示圧力値が計測範囲以下になるバルブ開度、具体的には0.05MPa以下とすることがより好ましい。このようにバルブ開度を調整することにより、基板剥離冶具1から吐出される圧縮空気量をガラス基板14の剥離に必要な必要最小量にすることができる。また、操作レバー18を離すのが遅れ、圧縮空気の吐出の停止が遅れた際にも、ガラス基板14への過剰の圧縮空気の吐出を抑制することができ、ガラス基板14の乾燥に伴う汚れの付着等を抑制できる。なお、上述した開閉バルブ30のバルブ開度としては、例えば、レギュレータ31を介して基板剥離冶具1に供給される圧縮空気の単位時間当たりの流量が、基板剥離冶具1から吐出される単位時間当たりの圧縮空気の流量より小さくなるバルブ開度などが挙げられる。   In the present embodiment, from the viewpoint of suppressing the drying of the glass substrate 14, it is preferable that the opening degree of the opening / closing valve 30 is slightly open when the glass substrate 14 is peeled off, and the operation lever 18 is gripped to discharge compressed air. More preferably, the valve opening is such that the display pressure value of the regulator 31 is not more than the measurement range in a state where the pressure is kept, specifically 0.05 MPa or less. By adjusting the valve opening in this way, the amount of compressed air discharged from the substrate peeling jig 1 can be made the minimum necessary amount necessary for peeling the glass substrate 14. Further, even when the release of the operation lever 18 is delayed and the stop of the discharge of the compressed air is delayed, the excessive discharge of the compressed air to the glass substrate 14 can be suppressed, and the dirt accompanying the drying of the glass substrate 14 Can be prevented. In addition, as the valve opening degree of the opening / closing valve 30 described above, for example, the flow rate per unit time of the compressed air supplied to the substrate peeling jig 1 via the regulator 31 is per unit time discharged from the substrate peeling jig 1. For example, the valve opening is smaller than the flow rate of the compressed air.

なお、上述した実施の形態においては、開閉バルブ30をレギュレータ31の上流側に設ける例について説明したが、開閉バルブ30の配置は、基板剥離冶具に供給される圧縮空気の単位時間当たりの流量を調整できる範囲であればレギュレータ31の下流側に設けてもよく、上流側及び下流側の双方に設けてもよい。また、このような圧縮空気の流量を測定するため、必要に応じれレギュレータ31と基板剥離冶具1との間に流量計などを設けてもよい。   In the above-described embodiment, the example in which the opening / closing valve 30 is provided on the upstream side of the regulator 31 has been described. However, the arrangement of the opening / closing valve 30 determines the flow rate per unit time of compressed air supplied to the substrate peeling jig. If it can be adjusted, it may be provided on the downstream side of the regulator 31, or may be provided on both the upstream side and the downstream side. Further, in order to measure the flow rate of such compressed air, a flow meter or the like may be provided between the regulator 31 and the substrate peeling jig 1 as necessary.

また、本実施の形態では、圧縮空気の吐出によって研磨パッド13からガラス基板14を剥離するので、ガラス基板14が乾燥しやすくなることが懸念されるが、上述したように圧縮空気の圧力を制御することにより、ガラス基板14の乾燥を抑制することができ、ガラス基板14の汚れ及び異物の付着を防止することができる。   Moreover, in this Embodiment, since the glass substrate 14 is peeled from the polishing pad 13 by discharge of compressed air, there is a concern that the glass substrate 14 may be easily dried, but the pressure of the compressed air is controlled as described above. By doing so, drying of the glass substrate 14 can be suppressed, and contamination of the glass substrate 14 and adhesion of foreign matter can be prevented.

なお、ロールブラシ25の直径の大きさは、研磨パッド13から剥離したガラス基板14を保持できる大きさであれば特に限定されない。また、ロールブラシ25は、取付け軸25aの直径、ブラシの毛の長さ及びブラシの材質を組み合わせることにより、異なる大きさ及び重量のガラス基板14を用いた場合にも適切に保持することができる。   In addition, the magnitude | size of the diameter of the roll brush 25 will not be specifically limited if it is a magnitude | size which can hold | maintain the glass substrate 14 peeled from the polishing pad 13. FIG. Further, the roll brush 25 can be appropriately held even when glass substrates 14 having different sizes and weights are used by combining the diameter of the mounting shaft 25a, the length of the brush hair, and the material of the brush. .

また、ロールブラシ25の毛材としては、直径0.2mm程度の樹脂毛を用いることにより、毛先を柔軟にすることができ、ガラス基板14への傷の付着を抑制することができる。また、毛材の材質としては、例えばナイロンなどを用いることができる。なお、ガラス基板14への傷の付着をより軽減する観点から、ロールブラシ25は回転可能に構成してもよい。また、ロールブラシ25としては、ガラス基板14中央部の円孔に挿入され、円孔の下面側からガラス基板14を支持できるロール部材であれば特に限定されず、少ない力で形状変換する樹脂性のスポンジなどを用いてもよい。例えば、スポンジを用いた場合には、ガラス基板の円孔の端面を支持することができる。   Moreover, as a bristle material of the roll brush 25, by using the resin hair about 0.2 mm in diameter, a hair tip can be made flexible and the adhesion of the damage | wound to the glass substrate 14 can be suppressed. Further, as a material of the hair material, for example, nylon or the like can be used. Note that the roll brush 25 may be configured to be rotatable from the viewpoint of further reducing the adhesion of scratches to the glass substrate 14. The roll brush 25 is not particularly limited as long as it is a roll member that is inserted into a circular hole in the center of the glass substrate 14 and can support the glass substrate 14 from the lower surface side of the circular hole. A sponge or the like may be used. For example, when a sponge is used, the end face of the circular hole of the glass substrate can be supported.

本実施の形態では、扁平ノズル19の吐出口19bの幅をガラス基板14の直径相当にすることにより、ガラス基板14と研磨パッド13との間の境界部に広範囲に圧縮空気が吐出されるので、ガラス基板14に効果的に応力を発生させることができる。また、扁平ノズル19は、操作レバー18の回動方向を含む平面F1に対して、傾斜して接続されているので、図4に示した研磨装置においても、例えば、把持部17と下研磨定盤41との間の干渉を防ぐことができ、操作性を向上させることができる。   In the present embodiment, by making the width of the discharge port 19 b of the flat nozzle 19 equivalent to the diameter of the glass substrate 14, compressed air is discharged over a wide range at the boundary between the glass substrate 14 and the polishing pad 13. In addition, stress can be effectively generated in the glass substrate 14. Further, since the flat nozzle 19 is connected to be inclined with respect to the plane F1 including the rotation direction of the operation lever 18, even in the polishing apparatus shown in FIG. Interference with the panel 41 can be prevented, and operability can be improved.

また、本実施の形態では、ガラス基板14を覆うようにケース24が設けられているので、圧縮空気を吹き付けた際の研磨液の飛散などを防ぐことができる。また、冶具スタンド26a、26bは、研磨パッド13に当接させた際に、ケース24下面と研磨パッド13との間に所定の間隔L1ができるように配置されているので、ガラス基板14に圧縮空気に突出された過剰の圧縮空気をケース24外に放出することができる。さらに、ガラス基板14とケース24の側壁24bとの間に所定の間隔L2ができるようにケース24を設けることにより、基板受け部12内からのガラス基板14の取出しを容易にすることができる。なお、ケース24は、過剰の圧縮空気を排出できる形状であればケース24の下端と研磨パッド13とが当接するようにするように構成してもよい。   Moreover, in this Embodiment, since the case 24 is provided so that the glass substrate 14 may be covered, scattering of the polishing liquid at the time of spraying compressed air can be prevented. The jig stands 26a and 26b are arranged so that a predetermined distance L1 is formed between the lower surface of the case 24 and the polishing pad 13 when the jig stands 26a and 26b are brought into contact with the polishing pad 13. Therefore, the jig stands 26a and 26b are compressed on the glass substrate 14. Excess compressed air protruding into the air can be discharged out of the case 24. Furthermore, by providing the case 24 so that a predetermined distance L2 is formed between the glass substrate 14 and the side wall 24b of the case 24, the glass substrate 14 can be easily taken out from the substrate receiving portion 12. Note that the case 24 may be configured such that the lower end of the case 24 and the polishing pad 13 come into contact with each other as long as excessive compressed air can be discharged.

以上説明したように、本実施の形態によれば、研磨パッド13とガラス基板14との間に圧縮空気を吐出することにより、ガラス基板14の表面に接触することなく研磨パッド13と密着したガラス基板14を取り外すことができるので、ガラス基板14への傷の付着及び汚れの付着を抑制することができる。   As described above, according to the present embodiment, the glass adhering to the polishing pad 13 without contacting the surface of the glass substrate 14 by discharging compressed air between the polishing pad 13 and the glass substrate 14. Since the substrate 14 can be removed, the adhesion of scratches and dirt to the glass substrate 14 can be suppressed.

なお、本発明は上記実施の形態に限定されず、適宜変更して実施することができる。上記実施の形態における数値、材質、サイズ、処理手順などは一例であり、本発明の効果を発揮する範囲内において種々変更して実施することが可能である。その他、本発明の目的の範囲を逸脱しない限りにおいて適宜変更して実施することが可能である。   In addition, this invention is not limited to the said embodiment, It can implement by changing suitably. The numerical values, materials, sizes, processing procedures, and the like in the above-described embodiment are merely examples, and various modifications can be made within the scope of the effects of the present invention. In addition, various modifications can be made without departing from the scope of the object of the present invention.

本発明は、ハードディスク用の磁気ディスク用ガラス基板の製造工程や、各種半導ウェーハの製造工程などに適用可能である。   The present invention can be applied to a manufacturing process of a glass substrate for a magnetic disk for a hard disk, a manufacturing process of various semiconductor wafers, and the like.

1 基板剥離冶具
11 本体部
12 基板受け部
13 研磨パッド
14 ガラス基板
15 接続部
16 開放端部
17 把持部
18 操作レバー
19 扁平ノズル
19a 連結部
19b 吐出口
20 連結具
21 ノズルアダプタ
21a テーパー面
21b 端部
22a、22b、23a、23b、27、28a、28b 締結部材
24 ケース
24a 天板
24b、24c 側壁
24d 貫通孔
25 ロールブラシ
25b ネジ部
26a、26b 冶具スタンド
28 圧縮空気供給源
29 エアーフィルタ
30 開閉バルブ
31 レギュレータ
41、42 研磨定盤
43 研磨パッド
44 ガラス基板
45 キャリア
46 太陽歯車
47 内歯車
48 歯部
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Substrate peeling jig 11 Main body part 12 Substrate receiving part 13 Polishing pad 14 Glass substrate 15 Connection part 16 Open end part 17 Grasping part 18 Operation lever 19 Flat nozzle 19a Connection part 19b Discharge port 20 Connection tool 21 Nozzle adapter 21a Tapered surface 21b End Part 22a, 22b, 23a, 23b, 27, 28a, 28b Fastening member 24 Case 24a Top plate 24b, 24c Side wall 24d Through hole 25 Roll brush 25b Screw part 26a, 26b Jig stand 28 Compressed air supply source 29 Air filter 30 Open / close valve 31 Regulator 41, 42 Polishing surface plate 43 Polishing pad 44 Glass substrate 45 Carrier 46 Sun gear 47 Internal gear 48 Tooth part

Claims (6)

一方端から圧縮空気が供給される貫通路が内部に形成された本体部と、前記本体部に対し前記貫通路の他方端側に傾斜させて取り付けられ圧縮空気を吐出させるノズルと、前記ノズルを含む前記本体部側と一体化され前記ノズルから吐出した圧縮空気によって研磨板から浮き上がらせた基板を受け取って保持する基板受け部と、を具備したことを特徴とする磁気ディスク用基板剥離冶具。   A main body portion having a through-passage through which compressed air is supplied from one end; a nozzle that is attached to the main body portion so as to be inclined toward the other end of the through-passage and that discharges compressed air; and And a substrate receiving portion for receiving and holding the substrate lifted from the polishing plate by the compressed air discharged from the nozzle and integrated with the main body portion side. 前記本体部は、前記貫通路の一部が内部に形成された把持部と、前記貫通路に設けられた開閉手段と、前記把持部に一端部が回動可能に支持されレバー回動操作に応じて前記開閉手段を開閉するレバー部材と、前記把持部と前記ノズルとを連結する連結部材とを備え、
前記基板受け部は、研磨板から浮き上がらせた基板の中央部開口に挿入して当該基板を保持するロール部材と、前記ノズルの先端から水平方向に所定距離離れた位置に前記ロール部材の先端部が位置するように前記ロール部材の基端部を支持する支持部材とを備えたことを特徴とする請求項1記載の磁気ディスク用基板剥離冶具。
The main body includes a grip part in which a part of the through-passage is formed, an opening / closing means provided in the through-passage, and one end part rotatably supported by the grip part for lever rotation operation. And a lever member that opens and closes the opening and closing means, and a connecting member that connects the grip portion and the nozzle,
The substrate receiving portion is inserted into the central opening of the substrate that is lifted from the polishing plate and holds the substrate, and the tip of the roll member at a position that is a predetermined distance in the horizontal direction from the tip of the nozzle 2. The substrate peeling jig for a magnetic disk according to claim 1, further comprising a support member that supports a base end portion of the roll member so that the position of the roll member is positioned.
前記ロール部材は、ロールブラシであることを特徴とする請求項2記載の磁気ディスク用基板剥離冶具。   3. The magnetic disk substrate peeling jig according to claim 2, wherein the roll member is a roll brush. 前記ロール部材は、樹脂スポンジであることを特徴とする請求項2記載の磁気ディスク用基板剥離冶具。   3. The magnetic disk substrate peeling jig according to claim 2, wherein the roll member is a resin sponge. 前記ノズルは、吐出口が前記基板の外径寸法に対応した幅を有する扁平ノズルであることを特徴とする請求項1から請求項4のいずれかに記載の磁気ディスク用基板剥離冶具。   5. The substrate peeling jig for a magnetic disk according to claim 1, wherein the nozzle is a flat nozzle whose discharge port has a width corresponding to the outer diameter of the substrate. 圧縮空気供給源から請求項1から請求項5のいずれかに記載の磁気ディスク用基板剥離冶具への圧縮空気供給経路に設けられ、圧縮空気の1次圧を所定の2次圧に変換する圧力制御手段と、前記圧縮空気供給経路の前記圧力制御手段の上流側に設けられ、バルブ開度の調整により圧縮空気の供給量を制限する開閉バルブと、を備えたことを特徴とする圧力制御機構。   A pressure that is provided in a compressed air supply path from the compressed air supply source to the magnetic disk substrate peeling jig according to any one of claims 1 to 5, and converts the primary pressure of the compressed air into a predetermined secondary pressure. A pressure control mechanism comprising: a control unit; and an open / close valve provided on an upstream side of the pressure control unit in the compressed air supply path and configured to limit a supply amount of the compressed air by adjusting a valve opening degree. .
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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WO2014002702A1 (en) * 2012-06-28 2014-01-03 コニカミノルタ株式会社 Manufacturing method for information recording medium, and board stripping jig

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