JP2011202173A - Anisotropic conductive film and process for producing the same - Google Patents

Anisotropic conductive film and process for producing the same Download PDF

Info

Publication number
JP2011202173A
JP2011202173A JP2011109687A JP2011109687A JP2011202173A JP 2011202173 A JP2011202173 A JP 2011202173A JP 2011109687 A JP2011109687 A JP 2011109687A JP 2011109687 A JP2011109687 A JP 2011109687A JP 2011202173 A JP2011202173 A JP 2011202173A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
anisotropic conductive
conductive film
organic peroxide
electronic component
temperature
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2011109687A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Senei Takabayashi
浅栄 高林
Tsuyoshi Tamaki
剛志 田巻
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Dexerials Corp
Original Assignee
Sony Chemical and Information Device Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Sony Chemical and Information Device Corp filed Critical Sony Chemical and Information Device Corp
Priority to JP2011109687A priority Critical patent/JP2011202173A/en
Publication of JP2011202173A publication Critical patent/JP2011202173A/en
Pending legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Non-Insulated Conductors (AREA)
  • Adhesive Tapes (AREA)
  • Adhesives Or Adhesive Processes (AREA)
  • Manufacturing Of Electrical Connectors (AREA)
  • Conductive Materials (AREA)

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an anisotropic conductive film having excellent storage stability, and to provide a process for producing the same.SOLUTION: The anisotropic conductive film includes a film forming resin, a polymerizable acrylic compound, an organic peroxide, and a conductive particle, wherein the organic peroxide is contained in a solid state at ambient temperature. The process for producing the anisotropic conductive film includes an application step wherein a composition containing a film forming resin, a polymerizable acrylic compound, an organic peroxide, and a conductive particle are applied on a stripping base material, and a solidification step wherein the composition on the stripping base material is cooled to convert the organic peroxide into a solid state at ambient temperature.

Description

本発明は、導電性粒子が分散された異方性導電フィルム及びその製造方法に関する。   The present invention relates to an anisotropic conductive film in which conductive particles are dispersed and a method for producing the same.

液晶パネルとテープキャリアパッケージ(TCP)基板又はチップオンフィルム(COF)基板とを接続する際や、プリント配線板(PWB)とTCP基板又はCOF基板とを接続する際には、一般に、熱硬化性エポキシ樹脂、重合開始剤及び導電性粒子を含む熱硬化性樹脂組成物をフィルム状に成形した異方性導電フィルム(ACF)が広く用いられる。この場合、通常、圧着温度が180〜250℃程度で、圧着時間が5〜10秒程度である。   When connecting a liquid crystal panel and a tape carrier package (TCP) substrate or a chip-on-film (COF) substrate, or connecting a printed wiring board (PWB) and a TCP substrate or a COF substrate, it is generally thermosetting. An anisotropic conductive film (ACF) obtained by forming a thermosetting resin composition containing an epoxy resin, a polymerization initiator and conductive particles into a film is widely used. In this case, the pressure bonding temperature is usually about 180 to 250 ° C. and the pressure bonding time is about 5 to 10 seconds.

近年、PWBの電極部や液晶パネルのITO(Indium Tin Oxide)電極への熱的ストレスを低減するために、異方性導電フィルムを用いて熱圧着する際の圧着温度を下げることが求められ、さらに、熱的ストレスの低減のみならず生産効率の向上のために、圧着時間の短縮が求められている。このため、異方性導電フィルムの材料として、熱硬化性エポキシ樹脂に代えて、それよりも低温・短時間での硬化が可能な重合性アクリル系化合物をフィルム形成樹脂とともに使用することが試みられ、重合開始剤として、自己分解に伴ってガスを発生しない有機過酸化物の使用が提案されている(例えば、特許文献1参照)。   In recent years, in order to reduce the thermal stress on the electrode part of PWB and the ITO (Indium Tin Oxide) electrode of the liquid crystal panel, it is required to lower the pressure temperature when thermocompression bonding using an anisotropic conductive film, Furthermore, in order to improve not only thermal stress but also production efficiency, shortening of the crimping time is required. For this reason, as an anisotropic conductive film material, instead of a thermosetting epoxy resin, it is attempted to use a polymerizable acrylic compound that can be cured at a lower temperature and in a shorter time together with a film-forming resin. As a polymerization initiator, use of an organic peroxide that does not generate gas with self-decomposition has been proposed (for example, see Patent Document 1).

特開2011−32491号公報JP 2011-32491 A

しかしながら、重合開始剤として、有機過酸化物を使用した場合、低温短時間での圧着が可能となる代わりに、常温以下でも徐々に重合開始剤の分解反応が進むため、保存安定性が悪くなる。   However, when an organic peroxide is used as a polymerization initiator, instead of enabling pressure bonding at a low temperature in a short time, the decomposition reaction of the polymerization initiator gradually proceeds even at room temperature or lower, resulting in poor storage stability. .

本発明は、このような従来の実情に鑑みて提案されたものであり、優れた保存安定性を有する異方性導電フィルム及びその製造方法を提供する。   This invention is proposed in view of such a conventional situation, and provides the anisotropic conductive film which has the outstanding storage stability, and its manufacturing method.

上述した課題を解決するために、本発明に係る異方性導電フィルムは、膜形成樹脂と、重合性アクリル系化合物と、有機過酸化物と、導電性粒子とを含有し、前記有機過酸化物が常温で固体の状態で含まれることを特徴とする。   In order to solve the above-described problems, an anisotropic conductive film according to the present invention includes a film-forming resin, a polymerizable acrylic compound, an organic peroxide, and conductive particles, and the organic peroxide. It is characterized in that the object is contained in a solid state at room temperature.

また、本発明に係る異方性導電フィルムの製造方法は、剥離基材上に、膜形成樹脂と、重合性アクリル系化合物と、有機過酸化物と、導電性粒子とを含有する組成物を塗布する塗布工程と、前記剥離基材上の組成物を冷却し、前記有機過酸化物を常温で固体の状態にする固体化工程とを有することを特徴とする。   Moreover, the method for producing an anisotropic conductive film according to the present invention comprises a composition containing a film-forming resin, a polymerizable acrylic compound, an organic peroxide, and conductive particles on a release substrate. It has the application | coating process to apply | coat and the solidification process which cools the composition on the said peeling base material, and makes the said organic peroxide a solid state at normal temperature.

また、本発明に係る実装体の接続方法は、膜形成樹脂と、重合性アクリル系化合物と、有機過酸化物と、導電性粒子とを含有し、前記有機過酸化物が常温で固体の状態で含まれる異方性導電フィルムを、第1の電子部品の電極と第2の電子部品の電極との間に挟み、前記第1の電子部品と前記第2の電子部品とを加熱加圧し、第1の電子部品の電極と、第2の電子部品の電極とを電気的に接続することを特徴とする。   Further, the connection method of the mounting body according to the present invention includes a film-forming resin, a polymerizable acrylic compound, an organic peroxide, and conductive particles, and the organic peroxide is in a solid state at room temperature. Sandwiching the anisotropic conductive film contained in between the electrode of the first electronic component and the electrode of the second electronic component, heating and pressurizing the first electronic component and the second electronic component, The electrode of the first electronic component and the electrode of the second electronic component are electrically connected.

また、本発明に係る実装体は、膜形成樹脂と、重合性アクリル系化合物と、有機過酸化物と、導電性粒子とを含有し、前記有機過酸化物が常温で固体の状態で含まれる異方性導電フィルムによって、第1の電子部品の電極と、第2の電子部品の電極とが電気的に接続された接続体されていることを特徴とする。   In addition, the mounting body according to the present invention includes a film-forming resin, a polymerizable acrylic compound, an organic peroxide, and conductive particles, and the organic peroxide is included in a solid state at room temperature. The anisotropic conductive film is a connection body in which the electrode of the first electronic component and the electrode of the second electronic component are electrically connected.

本発明によれば、異方性導電フィルム中の有機過酸化物が常温で固体の状態で存在するため、重合開始剤の分解反応が抑制され、優れた保存安定性を得ることができる。   According to the present invention, since the organic peroxide in the anisotropic conductive film exists in a solid state at normal temperature, the decomposition reaction of the polymerization initiator is suppressed, and excellent storage stability can be obtained.

以下、本発明の実施の形態について、下記順序にて詳細に説明する。
1.異方性導電フィルム
2.異方性導電フィルムの製造方法
3.異方性導電フィルムを用いた接続方法
4.実施例
Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail in the following order.
1. 1. Anisotropic conductive film 2. Manufacturing method of anisotropic conductive film 3. Connection method using anisotropic conductive film Example

<1.異方性導電フィルム>
本実施の形態における異方性導電フィルムは、膜形成樹脂と、重合性アクリル系化合物と、有機過酸化物と、導電性粒子とを含有する。
<1. Anisotropic Conductive Film>
The anisotropic conductive film in the present embodiment contains a film-forming resin, a polymerizable acrylic compound, an organic peroxide, and conductive particles.

膜形成樹脂の具体例としては、エポキシ樹脂、ポリエステル樹脂、ポリウレタン樹脂、フェノキシ樹脂、ポリアミド、EVA等の熱可塑性エラストマー等を使用することができる。中でも、耐熱性、接着性のために、ポリエステル樹脂、ポリウレタン樹脂、フェノキシ樹脂、特にフェノキシ樹脂、例えばビスA型エポキシ樹脂、フルオレン骨格を有するフェノキシ樹脂を挙げることができる。   Specific examples of the film-forming resin include epoxy elastomers, polyester resins, polyurethane resins, phenoxy resins, polyamides, thermoplastic elastomers such as EVA, and the like. Among them, for heat resistance and adhesiveness, polyester resins, polyurethane resins, phenoxy resins, particularly phenoxy resins such as bis A type epoxy resins and phenoxy resins having a fluorene skeleton can be mentioned.

膜形成樹脂の使用量は、少なすぎるとフィルムを形成せず、多すぎると電気接続を得るための樹脂の排除性が低くなる傾向があるので、樹脂固形分(重合性アクリル系化合物と膜形成樹脂との合計)の80〜30質量%、より好ましくは70〜40質量%である。   If the amount of the film-forming resin used is too small, a film will not be formed, and if it is too large, the resin exclusion for obtaining electrical connection tends to be low, so resin solids (polymerization acrylic compound and film formation) 80 to 30% by mass, more preferably 70 to 40% by mass.

重合性アクリル系化合物の具体例としては、ポリエチレングリコールジアクリレート、リン酸エステル型アクリレート、2−ヒドロキシエチルアクリレート、2−ヒドロキシプロピルアクリレート、4−ヒドロキシブチルアクリレート、イソブチルアクリレート、t−ブチルアクリレート、イソオクチルアクリレート、ビスフェノキシエタノールフルオレンジアクリレート、2−アクリロイロキシエチルコハク酸、ラウリルアクリレート、ステアリルアクリレート、イソボルニルアクリレート、トリシクロデカンジメタノールジメタクリレート、シクロヘキシルアクリレート、トリス(2−ヒドロキシエチル)イソシアヌレートトリアクリレート、テトラヒドロフルフリルアクリレート、o−フタル酸ジグリシジルエーテルアクリレート、エトキシ化ビスフェノールAジメタクリレート、ビスフェノールA型エポキシアクリレート、ウレタンアクリレート、エポキシアクリレート等、及びこれらに相当する(メタ)アクリレートを挙げることができる。   Specific examples of the polymerizable acrylic compound include polyethylene glycol diacrylate, phosphate ester acrylate, 2-hydroxyethyl acrylate, 2-hydroxypropyl acrylate, 4-hydroxybutyl acrylate, isobutyl acrylate, t-butyl acrylate, isooctyl. Acrylate, bisphenoxyethanol full orange acrylate, 2-acryloyloxyethyl succinic acid, lauryl acrylate, stearyl acrylate, isobornyl acrylate, tricyclodecane dimethanol dimethacrylate, cyclohexyl acrylate, tris (2-hydroxyethyl) isocyanurate triacrylate Tetrahydrofurfuryl acrylate, o-phthalic acid diglycidyl ether acrylate, Carboxymethyl bisphenol A dimethacrylate, bisphenol A type epoxy acrylate, urethane acrylate, epoxy acrylate, and can be given the corresponding (meth) acrylate thereto.

重合性アクリル系化合物は、高い接着強度と導通信頼性とを得る点から、2官能アクリレート5〜40質量部と、ウレタンアクリレート10〜40質量部と、リン酸エステル型アクリレート0.5〜5質量部とを併用することが好ましい。ここで、2官能アクリレートは硬化物の凝集力を向上させ、導通信頼性を向上させるために配合され、ウレタンアクリレートはポリイミドに対する接着性向上のために配合され、そしてリン酸エステル型アクリレートは金属に対する接着性向上のために配合される。   The polymerizable acrylic compound has 5 to 40 parts by weight of a bifunctional acrylate, 10 to 40 parts by weight of a urethane acrylate, and 0.5 to 5 parts by weight of a phosphoric ester acrylate in terms of obtaining high adhesive strength and conduction reliability. It is preferable to use the part together. Here, the bifunctional acrylate is blended to improve the cohesive strength of the cured product and improve the conduction reliability, the urethane acrylate is blended to improve the adhesion to the polyimide, and the phosphate ester acrylate is blended to the metal. Formulated to improve adhesion.

重合性アクリル系化合物の使用量は、少なすぎると導通信頼性が低くなり、多すぎると接着強度が低くなる傾向があるので、好ましくは樹脂固形分(重合性アクリル系化合物とフィルム形成樹脂との合計)の20〜70質量%、より好ましくは30〜60質量%である。   When the amount of the polymerizable acrylic compound used is too small, the conduction reliability tends to be low, and when it is too large, the adhesive strength tends to be low. Therefore, the resin solid content (the polymerizable acrylic compound and the film forming resin are preferably used. 20) to 70% by mass, and more preferably 30 to 60% by mass.

有機過酸化物の具体例としては、ジ(4−メチルベンゾイル)パーオキサイド(一分間半減期温度128.2℃)、ジ(3−メチルベンゾイル)パーオキサイド(一分間半減期温度131.1℃)、ジベンゾイル パーオキサイド(一分間半減期温度 130.0℃)、t−ヘキシル パーオキシベンゾエート(一分間半減期温度 160.3℃)、t−ブチル パーオキシベンゾエート(一分間半減期温度 166.8℃)、ジイソブチリル パーオキサイド(一分間半減期温度 85.1℃)、1,1,3,3−テトラメチルブチル パーオキシ−2−エチルヘキサノエート(一分間半減期温度 124.3℃)、ジラウロイル パーオキサイド(一分間半減期温度 116.4℃)、ジ(3,5,5−トリメチルヘキサノイル)パーオキサイド(一分間半減期温度 112.6℃)、t−ブチル パーオキシピバレート(一分間半減期温度 110.3℃)、t−ヘキシル パーオキシピバレート(一分間半減期温度 109.1℃)、t−ブチル パーオキシネオヘプタノエート(一分間半減期温度 104.6℃)、t−ブチル パーオキシネオデカノエート(一分間半減期温度 103.5℃)、t−ヘキシル パーオキシネオデカノエート(一分間半減期温度 100.9℃)、ジ(2−エチルヘキシル)パーオキシジカーボネート(一分間半減期温度 90.6℃)、ジ(4−t−ブチルシクロヘキシル)パーオキシジカーボネート(一分間半減期温度 92.1℃)、1,1,3,3−テトラメチルブチル パーオキシネオデカノエート(一分間半減期温度 92.1℃)、ジ−sec−ブチル パーオキシジカーボネート(一分間半減期温度 85.1℃)、ジ−n−プロピル パーオキシジカーボネート(一分間半減期温度 85.1℃)、クミル パーオキシネオデカノエート(一分間半減期温度 85.1℃)等を挙げることができる。これらは、2種以上を併用することができる。   Specific examples of the organic peroxide include di (4-methylbenzoyl) peroxide (one minute half-life temperature 128.2 ° C.), di (3-methylbenzoyl) peroxide (one minute half-life temperature 131.1 ° C. ), Dibenzoyl peroxide (one minute half-life temperature 130.0 ° C.), t-hexyl peroxybenzoate (one minute half-life temperature 160.3 ° C.), t-butyl peroxybenzoate (one minute half-life temperature 166.8) ° C), diisobutyryl peroxide (one minute half-life temperature 85.1 ° C), 1,1,3,3-tetramethylbutyl peroxy-2-ethylhexanoate (one-minute half-life temperature 124.3 ° C), dilauroyl Peroxide (1 minute half-life temperature 116.4 ° C), Di (3,5,5-trimethylhexanoyl) peroxide (1 minute Depreciation temperature 112.6 ° C), t-butyl peroxypivalate (half-minute temperature of 1 minute 110.3 ° C), t-hexyl peroxypivalate (half-life temperature of 10 minutes 10 minutes), t-butyl Peroxyneoheptanoate (one minute half-life temperature 104.6 ° C), t-butyl peroxyneodecanoate (one minute half-life temperature 103.5 ° C), t-hexyl peroxyneodecanoate (one Minute half-life temperature 100.9 ° C), di (2-ethylhexyl) peroxydicarbonate (half-life temperature 1 minute 90.6 ° C), di (4-t-butylcyclohexyl) peroxydicarbonate (half-life one minute Temperature 92.1 ° C.), 1,1,3,3-tetramethylbutyl peroxyneodecanoate (one minute half-life temperature 92.1 ° C.), di-sec-butyl pero Sidicarbonate (one minute half-life temperature 85.1 ° C), di-n-propyl peroxydicarbonate (one-minute half-life temperature 85.1 ° C), cumyl peroxyneodecanoate (one-minute half-life temperature 85. 1 ° C). Two or more of these can be used in combination.

このような有機過酸化物の中でも、例えば、左右対称の構造、フェニル基を有する構造など、より結晶化し易い構造を有することが好ましい。また、有機過酸化物は、室温で固体であれば使用可能であるが、その融点は、30℃以上250℃以下であることが好ましい。   Among such organic peroxides, it is preferable to have a structure that is easier to crystallize, such as a symmetrical structure and a structure having a phenyl group. The organic peroxide can be used as long as it is solid at room temperature, but its melting point is preferably 30 ° C. or higher and 250 ° C. or lower.

また、有機過酸化物の使用量は、少なすぎると反応性が無くなり、多すぎると異方性導電フィルムの凝集力が低下する傾向があるため、重合性アクリル系化合物100質量部に対し、好ましくは1〜10質量部、より好ましくは3〜7質量部である。   Further, the amount of the organic peroxide used is preferably less than 100 parts by weight of the polymerizable acrylic compound because the reactivity is lost when the amount is too small, and the cohesive force of the anisotropic conductive film tends to decrease when the amount is too large. Is 1-10 parts by mass, more preferably 3-7 parts by mass.

本実施の形態では、異方性導電フィルム中の有機過酸化物が、常温で固体の状態である。これにより、有機過酸化物の分解反応が抑制され、優れた保存安定性を得ることができる。ここで、常温とは、20℃±15℃(5〜35℃)の範囲(JIS Z 8703)を云い、また、固体の状態とは、単結晶構造、多結晶構造及び非晶質構造のいずれかのものを云う。   In the present embodiment, the organic peroxide in the anisotropic conductive film is in a solid state at room temperature. Thereby, the decomposition reaction of the organic peroxide is suppressed, and excellent storage stability can be obtained. Here, normal temperature refers to a range of 20 ° C. ± 15 ° C. (5-35 ° C.) (JIS Z 8703), and a solid state refers to any of a single crystal structure, a polycrystalline structure, and an amorphous structure I say something.

固体の粒径は、導電性粒子の粒径より小さい0.01μm以上5μm以下であることが好ましく、より好ましくは0.01μm以上3μm以下である。有機過酸化物の固体の粒径が、0.01μm以上5μm以下であることにより、固体から液体に変わるときに大きな熱エネルギーが必要となるため、有機過酸化物の分解反応が抑制され、優れた保存安定性を得ることができる。ここで、固体の粒径は、電子顕微鏡等により計測した粒子の最大径(長辺)を云い、有機過酸化物の形状は、針状、キューブ状などであっても構わない。   The particle size of the solid is preferably 0.01 μm or more and 5 μm or less, and more preferably 0.01 μm or more and 3 μm or less, which is smaller than the particle size of the conductive particles. Since the particle size of the organic peroxide solid is 0.01 μm or more and 5 μm or less, a large amount of heat energy is required when changing from solid to liquid, so that the decomposition reaction of the organic peroxide is suppressed and excellent Storage stability can be obtained. Here, the particle size of the solid refers to the maximum particle diameter (long side) measured by an electron microscope or the like, and the shape of the organic peroxide may be a needle shape, a cube shape, or the like.

また、有機過酸化物は、一分間半減期温度が80℃以上130℃以下であることが好ましい。このような一分間半減期温度が比較的低い有機過酸化物は、常温以下でも分解反応が徐々に進むが、本実施の形態では、有機過酸化物が固体の状態で存在するため、分解反応が抑制され、優れた保存安定性を得ることができる。   The organic peroxide preferably has a one-minute half-life temperature of 80 ° C. or higher and 130 ° C. or lower. Such an organic peroxide having a relatively low half-life temperature of 1 minute undergoes a decomposition reaction gradually even at room temperature or lower, but in this embodiment, since the organic peroxide exists in a solid state, the decomposition reaction Is suppressed, and excellent storage stability can be obtained.

さらに、前述のような一分間半減期温度が比較的低い有機過酸化物は、短時間で急激に硬化反応が進むため、圧着時の温度マージンが狭くなるが、本実施の形態のように有機過酸化物が固体の状態で存在することにより、急激な硬化反応が緩和され、電子的な接続が行われるよりも早く硬化するのを防止することができる。   Furthermore, the organic peroxide having a relatively low half-life temperature of one minute as described above undergoes a rapid curing reaction in a short time, so that the temperature margin at the time of pressure bonding becomes narrow. The presence of the peroxide in a solid state alleviates the rapid curing reaction and can be prevented from curing faster than the electronic connection is made.

導電性粒子としては、従来の異方性導電フィルムで用いられているような導電性粒子を使用することができ、例えば、金粒子、銀粒子、ニッケル粒子等の金属粒子、ベンゾグアナミン樹脂やスチレン樹脂等の樹脂粒子の表面を金、ニッケル、亜鉛等の金属で被覆した金属被覆樹脂粒子等を使用することができる。このような導電性粒子の平均粒径としては、通常1〜10μm、より好ましくは2〜6μmである。   As the conductive particles, conductive particles such as those used in conventional anisotropic conductive films can be used. For example, metal particles such as gold particles, silver particles, nickel particles, benzoguanamine resins, and styrene resins. It is possible to use metal-coated resin particles whose surfaces are coated with a metal such as gold, nickel or zinc. The average particle size of such conductive particles is usually 1 to 10 μm, more preferably 2 to 6 μm.

導電性粒子の使用量は、少なすぎると導通不良が生ずる可能性が高まり、多すぎると短絡が生ずる可能性が高まるので、樹脂固形分100質量部に対し、好ましくは0.1〜20質量部、より好ましくは0.2〜10質量部である。   If the amount of the conductive particles used is too small, the possibility of poor conduction increases, and if it is too large, the possibility of short-circuiting increases. Therefore, the amount is preferably 0.1 to 20 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the resin solid content. More preferably, it is 0.2-10 mass parts.

また、本実施の形態における異方性導電フィルムを構成する他の添加組成物として、必要に応じて、各種アクリルモノマー等の希釈用モノマー、充填剤、軟化剤、着色剤、難燃化剤、チキソトロピック剤、カップリング剤等を含有することができる。   In addition, as other additive composition constituting the anisotropic conductive film in the present embodiment, as necessary, monomers for dilution such as various acrylic monomers, fillers, softeners, colorants, flame retardants, A thixotropic agent, a coupling agent and the like can be contained.

このような構成からなる異方性導電フィルムは、有機過酸化物が固体の状態で存在するため、有機過酸化物の分解反応が抑制され、優れた保存安定性を得ることができる。また、熱圧着時の有機過酸化物の急激な硬化反応が緩和され、熱圧着時の温度マージンを広くすることができる。   In the anisotropic conductive film having such a structure, since the organic peroxide is present in a solid state, the decomposition reaction of the organic peroxide is suppressed, and excellent storage stability can be obtained. In addition, the rapid curing reaction of the organic peroxide during thermocompression is alleviated, and the temperature margin during thermocompression can be widened.

<2.異方性導電フィルムの製造方法>
次に、前述した異方性導電フィルムの製造方法について説明する。本実施の形態における異方性導電フィルムの製造方法は、剥離基材上に、膜形成樹脂と、重合性アクリル系化合物と、有機過酸化物と、導電性粒子とを含有する組成物を塗布する塗布工程と、剥離基材上の組成物を冷却し、有機過酸化物を常温で固体の状態にする固体化工程とを有する。
<2. Method for producing anisotropic conductive film>
Next, the manufacturing method of the anisotropic conductive film mentioned above is demonstrated. In the manufacturing method of the anisotropic conductive film in the present embodiment, a composition containing a film-forming resin, a polymerizable acrylic compound, an organic peroxide, and conductive particles is applied onto a release substrate. And a solidifying step of cooling the composition on the release substrate and bringing the organic peroxide into a solid state at room temperature.

塗布工程では、剥離基材上に前述の組成物を調整後、バーコーター、塗布装置等を用いて塗布する。剥離基材は、例えば、シリコーンなどの剥離剤をPET(Poly Ethylene Terephthalate)、OPP(Oriented Polypropylene)、PMP(Poly-4-methlpentene−1)、PTFE(Polytetrafluoroethylene)などに塗布した積層構造からなり、組成物の乾燥を防ぐとともに、組成物の形状を維持する。また、組成物は、前述の組成物を有機溶剤に溶解させて得られ、有機溶剤としては、トルエン、酢酸エチル、又はこれらの混合溶剤、その他各種有機溶剤を用いることができる。   In the coating step, the above-described composition is prepared on a release substrate, and then coated using a bar coater, a coating apparatus, or the like. The release substrate has, for example, a laminated structure in which a release agent such as silicone is applied to PET (Poly Ethylene Terephthalate), OPP (Oriented Polypropylene), PMP (Poly-4-methlpentene-1), PTFE (Polytetrafluoroethylene), etc. Prevents the composition from drying and maintains the shape of the composition. The composition is obtained by dissolving the above-described composition in an organic solvent. As the organic solvent, toluene, ethyl acetate, a mixed solvent thereof, or other various organic solvents can be used.

次の固体化工程では、上述した組成物を熱オーブン、加熱乾燥装置などにより乾燥させた後、有機過酸化物を常温で固体の状態にする。有機過酸化物を常温で固体の状態にする方法として、組成物を冷却する、有機過酸化物の溶解度を減少させるような新たな溶媒を加える、化学反応を起こす、pHを変化させる、溶媒をゆっくりと蒸発させるなどの処理を用いることができるが、本実施の形態では、異方性導電フィルム内での不必要な化学反応を生じさせないために、冷却することが好ましい。また、冷却時の温度は、有機過酸化物に応じて設定され、その温度は−50℃以上0℃以下であることが好ましく、より好ましくは−50℃以上−20℃以下である。また、冷却時間は、有機過酸化物の結晶粒径に応じて設定され、好ましくは6時間〜24時間である。   In the next solidification step, the above-described composition is dried by a heat oven, a heat drying apparatus or the like, and then the organic peroxide is brought into a solid state at room temperature. As a method of bringing the organic peroxide into a solid state at room temperature, cooling the composition, adding a new solvent that reduces the solubility of the organic peroxide, causing a chemical reaction, changing the pH, Although treatment such as slow evaporation can be used, in this embodiment, cooling is preferably performed in order not to cause unnecessary chemical reaction in the anisotropic conductive film. Moreover, the temperature at the time of cooling is set according to the organic peroxide, and the temperature is preferably −50 ° C. or higher and 0 ° C. or lower, more preferably −50 ° C. or higher and −20 ° C. or lower. The cooling time is set according to the crystal grain size of the organic peroxide, and is preferably 6 hours to 24 hours.

このように異方性導電フィルムの組成物を冷却することにより、有機過酸化物を分散性良く結晶化することができ、優れた保存安定性を得ることができる。   By cooling the composition of the anisotropic conductive film in this manner, the organic peroxide can be crystallized with good dispersibility, and excellent storage stability can be obtained.

<3.異方性導電フィルムを用いた接続方法>
次に、上述した異方性導電フィルムを用いた電子部品の実装方法について説明する。具体例として示す電子部品の接続方法は、膜形成樹脂と、重合性アクリル系化合物と、有機過酸化物と、導電性粒子とを含有し、有機過酸化物が常温で固体の状態で含まれる異方性導電フィルムを、第1の電子部品の電極と第2の電子部品の電極との間に挟み、第1の電子部品と第2の電子部品とを加熱加圧し、第1の電子部品の電極と、第2の電子部品の電極とを電気的に接続する。
<3. Connection Method Using Anisotropic Conductive Film>
Next, a method for mounting an electronic component using the above-described anisotropic conductive film will be described. A method for connecting an electronic component as a specific example includes a film-forming resin, a polymerizable acrylic compound, an organic peroxide, and conductive particles, and the organic peroxide is included in a solid state at room temperature. An anisotropic conductive film is sandwiched between the electrode of the first electronic component and the electrode of the second electronic component, the first electronic component and the second electronic component are heated and pressurized, and the first electronic component Are electrically connected to the electrode of the second electronic component.

本実施の形態における異方性導電フィルムは、様々な場面で使用することができるが、第1の電気部品が、液晶パネル、プリント配線板(PWB)など、また、第2の電気部品が、フレキシブル印刷回路基板、テープキャリアパッケージ(TCP)基板、チップオンフィルム(COF)基板などである場合に好ましく適用できる。   The anisotropic conductive film in this embodiment can be used in various situations, but the first electrical component is a liquid crystal panel, a printed wiring board (PWB), etc., and the second electrical component is The present invention can be preferably applied to a flexible printed circuit board, a tape carrier package (TCP) board, a chip on film (COF) board, and the like.

また、本実施の形態における接続方法では、有機過酸化物が固体の状態で存在する異方性導電フィルムを用いるため、急激な硬化反応を緩和することができ、圧着時の温度マージンを広くすることができる。   In the connection method in this embodiment, since an anisotropic conductive film in which organic peroxide is present in a solid state is used, a rapid curing reaction can be mitigated, and a temperature margin at the time of pressure bonding is widened. be able to.

また、本実施の形態における接続体は、有機過酸化物が固体の状態で存在する保存安定性の高い異方性導電フィルムを用いるため、高い接続信頼性を得ることができる。   Moreover, since the connection body in this Embodiment uses the anisotropic conductive film with high storage stability in which an organic peroxide exists in a solid state, high connection reliability can be obtained.

<4.実施例>
以下、本発明の実施例について説明するが、本発明はこれらの実施例に限定されるものではない。
<4. Example>
Examples of the present invention will be described below, but the present invention is not limited to these examples.

[実施例1]
[異方性導電フィルムの作製]
異方性導電フィルムを次のように作製した。ビスA型エポキシタイプフェノキシ樹脂(YP50、東都化成社製)50質量部、2官能アクリルモノマー(A−200、新中村化学社製)、ウレタンアクリレート(U−2PPA、新中村化学社製)、リン酸エステル型アクリレート(PM−2、日本化薬社製)、平均粒径3μmのNi粒子(Type287、インコ社製)2質量部、ジラウロイルパーオキサイド(パーロイルL、日油社製)5質量部にトルエンを加え、異方性導電組成物を作成した。
[Example 1]
[Preparation of anisotropic conductive film]
An anisotropic conductive film was produced as follows. 50 parts by mass of bis A type epoxy type phenoxy resin (YP50, manufactured by Toto Kasei Co., Ltd.), bifunctional acrylic monomer (A-200, manufactured by Shin Nakamura Chemical Co., Ltd.), urethane acrylate (U-2PPA, manufactured by Shin Nakamura Chemical Co., Ltd.), phosphorus Acid ester acrylate (PM-2, manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.), Ni particles (Type 287, manufactured by Inco) having an average particle diameter of 3 μm, 2 parts by mass of dilauroyl peroxide (Perroyl L, manufactured by NOF Corporation) Toluene was added to to prepare an anisotropic conductive composition.

これらの組成物を剥離処理されたポリエステルフィルムに塗布し、オーブンにて70℃の熱風を5分間吹き掛けて乾燥することにより異方性導電フィルムを作製した。   These compositions were applied to a release-treated polyester film, and dried by blowing hot air at 70 ° C. for 5 minutes in an oven to produce an anisotropic conductive film.

そして、この異方性導電フィルムを、−40℃の冷凍庫に6時間入れ、重合開始剤(ジラウロイルパーオキサイド)の結晶化を行った。   And this anisotropic conductive film was put into a -40 degreeC freezer for 6 hours, and the polymerization initiator (dilauroyl peroxide) was crystallized.

[結晶径の計測]
異方性導電フィルムを、SEM(Scanning Electron Microscope)にて結晶物の粒径を測定(3000倍)した。結晶物の長辺を計測し、任意の5箇所測定した平均値を結晶径とした。
[Measurement of crystal diameter]
For the anisotropic conductive film, the particle size of the crystal was measured (3000 times) with a SEM (Scanning Electron Microscope). The long side of the crystal was measured, and the average value measured at any five locations was taken as the crystal diameter.

実施例1の異方性導電フィルム内の重合開始剤の結晶径を計測したところ、0・01μmであった。   When the crystal diameter of the polymerization initiator in the anisotropic conductive film of Example 1 was measured, it was 0.01 μm.

[接続信頼性評価用構造体の作製・評価]
接続信頼性評価用構造体を次のように作製した。ガラスエポキシ基板表面に35μm厚の銅箔からなる200μmピッチの配線が形成されたプリント配線板(PWB)に実施例1の異方性導電フィルムを80℃、1MPa、2秒という条件で加熱圧着し、剥離PETフィルムを引き剥がし、PWB表面に異方性導電フィルムを仮接着した。この異方性導電フィルムに対し、COF基板(厚さ38μmのポリイミドフィルムに、12μm厚のエポキシ系接着剤層と、このエポキシ系接着剤層上に200μmピッチの厚さ18μmの銅配線とを形成した配線基板)の銅配線部分を載せ、130℃、3MPa、5秒(低温接続)又は190℃、3MPa、5秒(高温接続)という条件で圧着して評価用接続構造体を得た。
[Fabrication and evaluation of connection reliability evaluation structure]
A connection reliability evaluation structure was produced as follows. The anisotropic conductive film of Example 1 was thermocompression bonded under conditions of 80 ° C., 1 MPa and 2 seconds on a printed wiring board (PWB) having a 200 μm pitch wiring formed of a 35 μm thick copper foil on the surface of a glass epoxy substrate. The peeled PET film was peeled off, and an anisotropic conductive film was temporarily bonded to the PWB surface. To this anisotropic conductive film, a COF substrate (a polyimide film with a thickness of 38 μm, an epoxy adhesive layer with a thickness of 12 μm, and a copper wiring with a thickness of 18 μm with a pitch of 200 μm is formed on the epoxy adhesive layer) The copper wiring portion of the wiring board) was placed and pressure-bonded under the conditions of 130 ° C., 3 MPa, 5 seconds (low temperature connection) or 190 ° C., 3 MPa, 5 seconds (high temperature connection) to obtain a connection structure for evaluation.

各条件下で圧着された評価用接続構造体について、4端子法にて導通抵抗を測定した。評価用接続構造体の導通抵抗が0.2Ω以下のものを○、0.2Ωより高いものを×と評価した。   About the connection structure for evaluation crimped | bonded on each condition, the conduction resistance was measured by the 4-terminal method. The evaluation connection structure having a conduction resistance of 0.2Ω or less was evaluated as “◯”, and the connection resistance higher than 0.2Ω was evaluated as “X”.

実施例1の異方性導電フィルムを用いた評価用接続構造体の導通抵抗の評価は、高温接続及び低温接続で○であった。   The evaluation of the conduction resistance of the connection structure for evaluation using the anisotropic conductive film of Example 1 was “good” for the high-temperature connection and the low-temperature connection.

[圧着外観]
評価用接続構造体の外観を30倍実体顕微鏡にて観察し、浮き、気泡などが無いかを目視で確認した。評価用接続構造体の圧着外観について、浮き、気泡などが無いものを○、浮き、気泡などが有るものを×と評価した。
[Crimping appearance]
The external appearance of the connection structure for evaluation was observed with a 30-fold stereo microscope, and it was visually confirmed whether there was any floating or bubbles. Regarding the crimped appearance of the connection structure for evaluation, the case where there was no float or bubble was evaluated as ○, and the case where there was a float or bubble was evaluated as x.

実施例1の異方性導電フィルムを用いた評価用接続構造体の圧着外観の評価は、○であった。   Evaluation of the crimp appearance of the connection structure for evaluation using the anisotropic conductive film of Example 1 was “good”.

[保存安定性]
異方性導電フィルムを40℃、3日のエージングを行い、DSC(示差走査熱量測定)測定を行った。評価用接続構造体の保存安定性について、発熱量が初期値の95%以上のものを◎、初期値の95%未満80%以上のものを○、初期値の80%未満のものを×と評価した。
[Storage stability]
The anisotropic conductive film was aged at 40 ° C. for 3 days, and DSC (differential scanning calorimetry) measurement was performed. Regarding the storage stability of the connection structure for evaluation, the heat generation amount of 95% or more of the initial value is ◎, the initial value of less than 95% is 80% or more, and the initial value is less than 80% of ×. evaluated.

実施例1の異方性導電フィルムを用いた評価用接続構造体の保存安定性の評価は、○であった。   Evaluation of the storage stability of the connection structure for evaluation using the anisotropic conductive film of Example 1 was good.

[実施例2]
−40℃の冷凍庫に24時間入れて重合開始剤(ジラウロイルパーオキサイド)の結晶化を行った以外は、実施例1と同様にして実施例2の異方性導電フィルムを得た。
[Example 2]
An anisotropic conductive film of Example 2 was obtained in the same manner as Example 1 except that the polymerization initiator (dilauroyl peroxide) was crystallized in a freezer at −40 ° C. for 24 hours.

実施例2の異方性導電フィルム内の重合開始剤の結晶径を計測したところ、0.1μmであった。   When the crystal diameter of the polymerization initiator in the anisotropic conductive film of Example 2 was measured, it was 0.1 μm.

また、実施例2の異方性導電フィルムを用いた評価用接続構造体の導通抵抗の評価は、高温接続及び低温接続で○であった。   Moreover, evaluation of the conduction resistance of the connection structure for evaluation using the anisotropic conductive film of Example 2 was “good” in the high-temperature connection and the low-temperature connection.

また、実施例2の異方性導電フィルムを用いた評価用接続構造体の圧着外観の評価は、○であった。   Moreover, evaluation of the crimping | compression-bonding external appearance of the connection structure for evaluation using the anisotropic conductive film of Example 2 was (circle).

実施例2の異方性導電フィルムを用いた評価用接続構造体の保存安定性の評価は、◎であった。   The evaluation of the storage stability of the evaluation connection structure using the anisotropic conductive film of Example 2 was ◎.

[実施例3]
2官能アクリルモノマーを10質量部、ウレタンアクリレートを30質量部配合し、−40℃の冷凍庫に24時間入れて重合開始剤(ジラウロイルパーオキサイド)の結晶化を行った以外は、実施例1と同様にして実施例3の異方性導電フィルムを得た。
[Example 3]
Example 1 except that 10 parts by mass of a bifunctional acrylic monomer and 30 parts by mass of urethane acrylate were blended and placed in a −40 ° C. freezer for 24 hours to crystallize the polymerization initiator (dilauroyl peroxide). Similarly, the anisotropic conductive film of Example 3 was obtained.

実施例3の異方性導電フィルム内の重合開始剤の結晶径を計測したところ、1μmであった。   When the crystal diameter of the polymerization initiator in the anisotropic conductive film of Example 3 was measured, it was 1 μm.

また、実施例3の異方性導電フィルムを用いた評価用接続構造体の導通抵抗の評価は、高温接続及び低温接続で○であった。   Moreover, the evaluation of the conduction resistance of the connection structure for evaluation using the anisotropic conductive film of Example 3 was “good” in the high-temperature connection and the low-temperature connection.

また、実施例3の異方性導電フィルムを用いた評価用接続構造体の圧着外観の評価は、○であった。   Moreover, evaluation of the crimping | compression-bonding external appearance of the connection structure for evaluation using the anisotropic conductive film of Example 3 was (circle).

実施例3の異方性導電フィルムを用いた評価用接続構造体の保存安定性の評価は、◎であった。   The evaluation of the storage stability of the connection structure for evaluation using the anisotropic conductive film of Example 3 was “◎”.

[実施例4]
−40℃の冷凍庫に72時間入れて重合開始剤(ジラウロイルパーオキサイド)の結晶化を行った以外は、実施例1と同様にして実施例2の異方性導電フィルムを得た。
[Example 4]
An anisotropic conductive film of Example 2 was obtained in the same manner as in Example 1 except that the polymerization initiator (dilauroyl peroxide) was crystallized in a freezer at −40 ° C. for 72 hours.

実施例4の異方性導電フィルム内の重合開始剤の結晶径を計測したところ、3μmであった。   When the crystal diameter of the polymerization initiator in the anisotropic conductive film of Example 4 was measured, it was 3 μm.

また、実施例4の異方性導電フィルムを用いた評価用接続構造体の導通抵抗の評価は、高温接続及び低温接続で○であった。   Moreover, the evaluation of the conduction resistance of the connection structure for evaluation using the anisotropic conductive film of Example 4 was “good” in the high-temperature connection and the low-temperature connection.

また、実施例4の異方性導電フィルムを用いた評価用接続構造体の圧着外観の評価は、○であった。   Moreover, evaluation of the crimping | compression-bonding external appearance of the connection structure for evaluation using the anisotropic conductive film of Example 4 was (circle).

実施例4の異方性導電フィルムを用いた評価用接続構造体の保存安定性の評価は、◎であった。   The evaluation of the storage stability of the evaluation connection structure using the anisotropic conductive film of Example 4 was “◎”.

[実施例5]
−40℃の冷凍庫に150時間入れて重合開始剤(ジラウロイルパーオキサイド)の結晶化を行った以外は、実施例1と同様にして実施例2の異方性導電フィルムを得た。
[Example 5]
An anisotropic conductive film of Example 2 was obtained in the same manner as in Example 1 except that the polymerization initiator (dilauroyl peroxide) was crystallized in a freezer at −40 ° C. for 150 hours.

実施例5の異方性導電フィルム内の重合開始剤の結晶径を計測したところ、5μmであった。   When the crystal diameter of the polymerization initiator in the anisotropic conductive film of Example 5 was measured, it was 5 μm.

また、実施例5の異方性導電フィルムを用いた評価用接続構造体の導通抵抗の評価は、高温接続及び低温接続で○であった。   Moreover, the evaluation of the conduction resistance of the connection structure for evaluation using the anisotropic conductive film of Example 5 was good for the high-temperature connection and the low-temperature connection.

また、実施例5の異方性導電フィルムを用いた評価用接続構造体の圧着外観の評価は、○であった。   Moreover, evaluation of the crimping | compression-bonding external appearance of the connection structure for evaluation using the anisotropic conductive film of Example 5 was (circle).

実施例5の異方性導電フィルムを用いた評価用接続構造体の保存安定性の評価は、◎であった。   The evaluation of the storage stability of the evaluation connection structure using the anisotropic conductive film of Example 5 was “◎”.

[比較例1]
冷凍庫に入れずに、重合開始剤を結晶化しなかった以外は、実施例1と同様にして比較例1の異方性導電フィルムを得た。
[Comparative Example 1]
An anisotropic conductive film of Comparative Example 1 was obtained in the same manner as in Example 1 except that the polymerization initiator was not crystallized without being put in the freezer.

比較例1の異方性導電フィルム内の重合開始剤は、完全溶解していた。   The polymerization initiator in the anisotropic conductive film of Comparative Example 1 was completely dissolved.

また、比較例1の異方性導電フィルムを用いた評価用接続構造体の導通抵抗の評価は、低温接続で×、高温接続で○であった。   Moreover, the evaluation of the conduction resistance of the connection structure for evaluation using the anisotropic conductive film of Comparative Example 1 was x for the low temperature connection and ◯ for the high temperature connection.

また、比較例1の異方性導電フィルムを用いた評価用接続構造体の圧着外観の評価は、○であった。   Moreover, evaluation of the crimping | compression-bonding external appearance of the connection structure for evaluation using the anisotropic conductive film of the comparative example 1 was (circle).

比較例1の異方性導電フィルムを用いた評価用接続構造体の保存安定性の評価は、×であった。   The evaluation of the storage stability of the evaluation connection structure using the anisotropic conductive film of Comparative Example 1 was x.

表1に、実施例1〜5、及び比較例1の異方性導電フィルム及びその評価を示す。   In Table 1, the anisotropic conductive film of Examples 1-5 and the comparative example 1 and its evaluation are shown.

Figure 2011202173
Figure 2011202173

表1から分かるように、有機過酸化物であるジラウロイルパーオキサイドが常温で固体の状態で含まれる実施例1〜5の異方性導電フィルムによれば、有機過酸化物の分解反応が抑制され、優れた保存安定性を得ることができる。   As can be seen from Table 1, according to the anisotropic conductive films of Examples 1 to 5 in which dilauroyl peroxide, which is an organic peroxide, is contained in a solid state at room temperature, the decomposition reaction of the organic peroxide is suppressed. And excellent storage stability can be obtained.

また、実施例1〜5に示すように、有機過酸化物の固体の粒径が、0.01μm以上5μm以下、特に、実施例2〜5に示すように、0.1μm以上5μm以下である場合、優れた保存安定性を示すことが分かった。   Moreover, as shown in Examples 1-5, the particle size of the organic peroxide solid is 0.01 μm or more and 5 μm or less, and particularly, as shown in Examples 2-5, it is 0.1 μm or more and 5 μm or less. In this case, it was found that excellent storage stability was exhibited.

また、実施例1〜5に示すように、有機過酸化物が常温で固体の状態で含まれることにより、低温接続条件(130℃、3MPa、5秒)及び高温接続条件(190℃、3MPa、5秒)のいずれも導通抵抗が低く、温度マージンが大きいことが分かった。   Moreover, as shown in Examples 1-5, by including an organic peroxide in a solid state at room temperature, a low temperature connection condition (130 ° C., 3 MPa, 5 seconds) and a high temperature connection condition (190 ° C., 3 MPa, 5 seconds), the conduction resistance was low and the temperature margin was large.

また、実施例1〜5に示すように、異方性導電フィルム中に有機過酸化物が常温で固体の状態で含まれていても、浮き、気泡などが発生しないことが分かった。   Moreover, as shown in Examples 1-5, even if the organic peroxide was contained in the anisotropic conductive film in a solid state at room temperature, it was found that no floating or bubbles were generated.

Claims (8)

膜形成樹脂と、重合性アクリル系化合物と、有機過酸化物と、導電性粒子とを含有し、
前記有機過酸化物が常温で固体の状態で含まれる異方性導電フィルム。
Contains a film-forming resin, a polymerizable acrylic compound, an organic peroxide, and conductive particles,
An anisotropic conductive film containing the organic peroxide in a solid state at room temperature.
前記有機過酸化物の固体の粒径が、0.01μm以上5μm以下である請求項1記載の異方性導電フィルム。   The anisotropic conductive film according to claim 1, wherein the organic peroxide has a solid particle size of 0.01 μm or more and 5 μm or less. 前記有機過酸化物の一分間半減期温度が、80℃以上130℃以下である請求項1又は2記載の異方性導電フィルム。   The anisotropic conductive film according to claim 1 or 2, wherein the organic peroxide has a one-minute half-life temperature of 80 ° C or higher and 130 ° C or lower. 前記重合性アクリル系化合物は、2官能アクリレートと、ウレタンアクリレートと、リン酸エステル型アクリレートとを含む請求項1乃至3のいずれかに記載の異方性導電フィルム。   The anisotropic conductive film according to any one of claims 1 to 3, wherein the polymerizable acrylic compound includes a bifunctional acrylate, a urethane acrylate, and a phosphate ester acrylate. 剥離基材上に、膜形成樹脂と、重合性アクリル系化合物と、有機過酸化物と、導電性粒子とを含有する組成物を塗布する塗布工程と、
前記剥離基材上の組成物を冷却し、前記有機過酸化物を常温で固体の状態にする固体化工程と
を有する異方性導電フィルムの製造方法。
On the release substrate, a coating step of applying a composition containing a film-forming resin, a polymerizable acrylic compound, an organic peroxide, and conductive particles;
A method for producing an anisotropic conductive film, comprising: cooling the composition on the release substrate to bring the organic peroxide into a solid state at room temperature.
前記固体化工程では、−50℃以上−20℃以下の温度で冷却する請求項5記載の異方性導電フィルムの製造方法。   The method for producing an anisotropic conductive film according to claim 5, wherein in the solidification step, cooling is performed at a temperature of −50 ° C. or more and −20 ° C. or less. 膜形成樹脂と、重合性アクリル系化合物と、有機過酸化物と、導電性粒子とを含有し、前記有機過酸化物が常温で固体の状態で含まれる異方性導電フィルムを、第1の電子部品の電極と第2の電子部品の電極との間に挟み、
前記第1の電子部品と前記第2の電子部品とを加熱加圧し、第1の電子部品の電極と、第2の電子部品の電極とを電気的に接続する接続方法。
An anisotropic conductive film containing a film-forming resin, a polymerizable acrylic compound, an organic peroxide, and conductive particles, wherein the organic peroxide is contained in a solid state at room temperature, Sandwiched between the electrode of the electronic component and the electrode of the second electronic component,
A connection method in which the first electronic component and the second electronic component are heated and pressurized to electrically connect the electrode of the first electronic component and the electrode of the second electronic component.
膜形成樹脂と、重合性アクリル系化合物と、有機過酸化物と、導電性粒子とを含有し、前記有機過酸化物が常温で固体の状態で含まれる異方性導電フィルムによって、第1の電子部品の電極と、第2の電子部品の電極とが電気的に接続された接続体。   By an anisotropic conductive film containing a film-forming resin, a polymerizable acrylic compound, an organic peroxide, and conductive particles, wherein the organic peroxide is contained in a solid state at room temperature, the first A connection body in which the electrode of the electronic component and the electrode of the second electronic component are electrically connected.
JP2011109687A 2011-05-16 2011-05-16 Anisotropic conductive film and process for producing the same Pending JP2011202173A (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2011109687A JP2011202173A (en) 2011-05-16 2011-05-16 Anisotropic conductive film and process for producing the same

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2011109687A JP2011202173A (en) 2011-05-16 2011-05-16 Anisotropic conductive film and process for producing the same

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JP2011202173A true JP2011202173A (en) 2011-10-13

Family

ID=44879130

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2011109687A Pending JP2011202173A (en) 2011-05-16 2011-05-16 Anisotropic conductive film and process for producing the same

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP2011202173A (en)

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR101355857B1 (en) 2011-12-16 2014-01-27 제일모직주식회사 Anisotropic conductive film composition, the anisotropic conductive film thereof and semiconductor device
JP2015140409A (en) * 2014-01-29 2015-08-03 日立化成株式会社 Adhesive composition, electronic member using the adhesive composition and manufacturing method of semiconductor device
KR20220058611A (en) 2019-12-03 2022-05-09 데쿠세리아루즈 가부시키가이샤 Manufacturing method of film recommended body and connection body

Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2002201440A (en) * 2000-12-28 2002-07-19 Hitachi Chem Co Ltd Anisotropic conductive resin-film-forming composition, connection method of circuit boards using the same, and connection structure
JP2003064322A (en) * 2001-08-30 2003-03-05 Hitachi Chem Co Ltd Adhesive film for circuit connection and method for producing circuit board by using the same
JP2005166438A (en) * 2003-12-02 2005-06-23 Hitachi Chem Co Ltd Circuit connecting material, and connection structure of circuit member using it
JP2006257200A (en) * 2005-03-16 2006-09-28 Hitachi Chem Co Ltd Adhesive composition, adhesive composition for circuit connection and circuit connection structure and semiconductor device using it
JP2009277682A (en) * 2008-05-12 2009-11-26 Hitachi Chem Co Ltd Circuit connecting material and connection structure of circuit member using the same

Patent Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2002201440A (en) * 2000-12-28 2002-07-19 Hitachi Chem Co Ltd Anisotropic conductive resin-film-forming composition, connection method of circuit boards using the same, and connection structure
JP2003064322A (en) * 2001-08-30 2003-03-05 Hitachi Chem Co Ltd Adhesive film for circuit connection and method for producing circuit board by using the same
JP2005166438A (en) * 2003-12-02 2005-06-23 Hitachi Chem Co Ltd Circuit connecting material, and connection structure of circuit member using it
JP2006257200A (en) * 2005-03-16 2006-09-28 Hitachi Chem Co Ltd Adhesive composition, adhesive composition for circuit connection and circuit connection structure and semiconductor device using it
JP2009277682A (en) * 2008-05-12 2009-11-26 Hitachi Chem Co Ltd Circuit connecting material and connection structure of circuit member using the same

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR101355857B1 (en) 2011-12-16 2014-01-27 제일모직주식회사 Anisotropic conductive film composition, the anisotropic conductive film thereof and semiconductor device
JP2015140409A (en) * 2014-01-29 2015-08-03 日立化成株式会社 Adhesive composition, electronic member using the adhesive composition and manufacturing method of semiconductor device
KR20220058611A (en) 2019-12-03 2022-05-09 데쿠세리아루즈 가부시키가이샤 Manufacturing method of film recommended body and connection body

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP5549103B2 (en) Anisotropic conductive film
JP5013067B2 (en) Anisotropic conductive film
JP5565277B2 (en) Anisotropic conductive film
JP6231257B2 (en) Conductive adhesive and electronic component connecting method
JP2005194393A (en) Adhesive film for circuit connection, and circuit connection structure
JP2011202173A (en) Anisotropic conductive film and process for producing the same
WO2015068811A1 (en) Adhesive composition and film roll
JP7006029B2 (en) Adhesive compositions and structures for circuit connections
WO2014119547A1 (en) Adhesive film and method for manufacturing electronic component
JP2012057161A (en) Adhesive film for circuit connections, and circuit connection structure
JP6231256B2 (en) Anisotropic conductive adhesive and method for connecting electronic parts
JP6307294B2 (en) Circuit connection material and method of manufacturing electronic component
JP6307308B2 (en) Manufacturing method of connection structure and circuit connection material
JP2015185490A (en) Method for manufacturing connection structure and connection structure

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20140307

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20141031

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20141104

A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20141219

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20150715

A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20150903

A02 Decision of refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02

Effective date: 20160119