JP2011198887A - Method of manufacturing multilayered printed wiring board - Google Patents

Method of manufacturing multilayered printed wiring board Download PDF

Info

Publication number
JP2011198887A
JP2011198887A JP2010062046A JP2010062046A JP2011198887A JP 2011198887 A JP2011198887 A JP 2011198887A JP 2010062046 A JP2010062046 A JP 2010062046A JP 2010062046 A JP2010062046 A JP 2010062046A JP 2011198887 A JP2011198887 A JP 2011198887A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
printed wiring
wiring board
multilayer printed
insulating layer
layer
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2010062046A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Naomi Shiga
直実 志賀
Takatoshi Matsuo
孝敏 松尾
Nobuhiro Sato
信寛 佐藤
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Zeon Corp
Original Assignee
Nippon Zeon Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Nippon Zeon Co Ltd filed Critical Nippon Zeon Co Ltd
Priority to JP2010062046A priority Critical patent/JP2011198887A/en
Publication of JP2011198887A publication Critical patent/JP2011198887A/en
Pending legal-status Critical Current

Links

Images

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a method of manufacturing a multilayered printed wiring board, which can efficiently manufacture the multilayered printed wiring board excellent in insulation reliability and having a small transmission loss in an industrial scale.SOLUTION: In the method of manufacturing the multilayered printed wiring board in which a conductor circuit and a resin insulating layer are alternately laminated on a core substrate and the conductor circuit is connected via a via hole and/or a through-hole, after providing a layer consisting of a thermosetting resin composition containing a cyclic olefin polymer and an inorganic filler having 7 or lower Mohs hardness and 1 W/mk or higher thermal conductivity on the core substrate provided with the conductor circuit on the surface and forming the resin insulating layer by curing the layer, a step of forming an opening for the via hole and/or an opening for the through-hole in the resin insulating layer and then forming the conductor circuit including the via hole and/or the through-hole on the resin insulating layer is performed at least one time.

Description

本発明は、多層プリント配線板の製造方法に関する。また、本発明は、多層プリント配線板、及び多層プリント回路板に関する。   The present invention relates to a method for manufacturing a multilayer printed wiring board. The present invention also relates to a multilayer printed wiring board and a multilayer printed circuit board.

近年、高度情報化時代を迎え、情報伝送は高速化・高周波化に動き出し、マイクロ波通信やミリ波通信が現実になってきている。かかる高周波化時代のプリント回路板に用いられる絶縁体材料としては、高周波における伝送ロスを極限まで軽減する観点から、誘電正接が小さいものが求められている。そのような誘電正接が小さい絶縁体材料として、環状オレフィンモノマーを重合してなる環状オレフィン系重合体が注目されている。一方、環状オレフィン系重合体は、一般に機械強度が低く、線膨張係数が大きいという欠点を有する。これに対しては、環状オレフィン系重合体を絶縁体材料として使用するに当り、充填剤や強化繊維などを配合して機械強度を向上させたり、線膨張係数を低下させるといった技術が知られている。   In recent years, with the advent of advanced information technology, information transmission has begun to increase in speed and frequency, and microwave communication and millimeter wave communication have become a reality. Insulator materials used for printed circuit boards in such high frequency era are required to have a low dielectric loss tangent from the viewpoint of reducing transmission loss at high frequencies to the limit. As an insulator material having such a small dielectric loss tangent, a cyclic olefin polymer obtained by polymerizing a cyclic olefin monomer has attracted attention. On the other hand, cyclic olefin polymers generally have the disadvantages of low mechanical strength and large linear expansion coefficient. On the other hand, when using a cyclic olefin polymer as an insulator material, a technique is known in which a filler, a reinforcing fiber, or the like is blended to improve mechanical strength or reduce a linear expansion coefficient. Yes.

プリント配線板の絶縁体材料として環状オレフィン系重合体を、無機充填剤を配合して用いた例として、特許文献1には、環状オレフィン系樹脂(A)、800nm以下の平均粒径を有する無機フィラー(B)、及び該環状オレフィン系樹脂(A)が可溶な溶媒(C)を含んでなる樹脂組成物であって、予め、前記無機フィラー(B)を、前記樹脂組成物に用いる環状オレフィン系樹脂(A)が可溶な溶媒(C)を含む溶媒中で分散させて得られる樹脂組成物より構成される絶縁層を含む多層配線板が開示されている。また、特許文献2には、(A)環状エーテル基、反応性二重結合を有する有機基、及びアルコキシシリル基からなる群から選択される少なくとも1種類の架橋可能な基を有する環状オレフィン系樹脂、(B)平均粒径2μm以下の球状シリカを必須成分とし、ガラス転移温度以下の熱膨張率が30ppm以下である環状オレフィン系樹脂組成物を用いて絶縁層を形成してなる配線板が開示されている。特許文献1及び2には、これらのプリント配線板は電気特性や機械特性に優れたものであることが記載されている。   As an example of using a cyclic olefin polymer as an insulating material for a printed wiring board and blending an inorganic filler, Patent Document 1 discloses a cyclic olefin resin (A), an inorganic material having an average particle size of 800 nm or less. A resin composition comprising a filler (B) and a solvent (C) in which the cyclic olefin-based resin (A) is soluble, wherein the inorganic filler (B) is previously used in the resin composition. A multilayer wiring board including an insulating layer composed of a resin composition obtained by dispersing an olefin resin (A) in a solvent containing a soluble solvent (C) is disclosed. Patent Document 2 discloses (A) a cyclic olefin resin having at least one crosslinkable group selected from the group consisting of a cyclic ether group, an organic group having a reactive double bond, and an alkoxysilyl group. (B) Disclosed is a wiring board formed by forming an insulating layer using a cyclic olefin-based resin composition having a spherical silica having an average particle diameter of 2 μm or less as an essential component and a thermal expansion coefficient of 30 ppm or less at a glass transition temperature or less. Has been. Patent Documents 1 and 2 describe that these printed wiring boards are excellent in electrical characteristics and mechanical characteristics.

ところで、多層プリント配線板においては通常、基板に、ビアホールやスルーホールとなる穴をあけ、穴の内壁にめっきを行って、立体的な導体回路の接続が行われる。穴の内壁は次のめっきの下地となるため、その品質がめっき品質に影響し、多層プリント配線板の性能に直接関係する。
多層プリント配線板の絶縁層を充填剤や強化繊維などを配合した樹脂材料により形成する場合、絶縁層への穴あけ時の問題として、例えば、充填剤の露出や強化繊維のほつれにより内壁に凹凸が発生し、めっき処理液が浸透、残留しやすく、多層プリント配線板の絶縁信頼性が低下することが知られている(例えば、非特許文献1)。また、かかる穴の内壁を下地としてめっきを行うと、粗度の大きい導体層が形成され、多層プリント配線板の伝送ロスが増大しうる。高密度配線の多層プリント配線板では配線量が多く、導体回路を接続する穴の数も飛躍的に増加するため、絶縁層の穴の内壁の品質を良好に保つことは、多層プリント配線板の絶縁信頼性を良好に保ち、また、伝送ロスの増大を抑える上で非常に重要であると考えられる。しかしながら、多層プリント配線板の絶縁層を構成する樹脂材料と、絶縁層の穴の内壁の品質との関係については、未だ充分な検討はなされていない。
By the way, in a multilayer printed wiring board, a hole to be a via hole or a through hole is formed in a substrate, and the inner wall of the hole is plated to connect a three-dimensional conductor circuit. Since the inner wall of the hole is the base for the next plating, its quality affects the plating quality and is directly related to the performance of the multilayer printed wiring board.
When the insulating layer of a multilayer printed wiring board is formed of a resin material containing a filler or reinforcing fiber, as a problem when drilling into the insulating layer, for example, the inner wall is uneven due to the exposure of the filler or fraying of the reinforcing fiber. It is known that the plating solution tends to penetrate and remain, and the insulation reliability of the multilayer printed wiring board is lowered (for example, Non-Patent Document 1). Further, when plating is performed using the inner wall of the hole as a base, a conductor layer having a large roughness is formed, and transmission loss of the multilayer printed wiring board can be increased. In multilayer printed wiring boards with high density wiring, the amount of wiring is large and the number of holes connecting conductor circuits increases dramatically. Therefore, maintaining the quality of the inner wall of the holes in the insulating layer is good for multilayer printed wiring boards. It is considered to be very important for maintaining good insulation reliability and suppressing an increase in transmission loss. However, sufficient studies have not yet been made on the relationship between the resin material constituting the insulating layer of the multilayer printed wiring board and the quality of the inner wall of the hole in the insulating layer.

特開2006−86233号公報JP 2006-86233 A 特開2007−88172号公報JP 2007-88172 A

高木清著,「ビルドアップ多層プリント配線板技術」,日刊工業新聞社,2001年6月15日初版2刷発行,p.190−192Takagi Kiyoshi, “Build-up multilayer printed circuit board technology”, Nikkan Kogyo Shimbun, June 15, 2001, first edition, 2nd edition, p. 190-192

本発明者らは、特許文献1及び2の実施例に従ってプリント配線板を製造し、その製品特性について検討した。当該プリント配線板では、絶縁層を形成する樹脂材料として、環状オレフィン系樹脂にシリカフィラー(モース硬度:7、熱伝導率:1W/mK)を配合したものが用いられている。その結果、特に、絶縁層に、ビアホール用開口及び/又はスルーホール用開口を、ドリル又はレーザーにより連続して実用上充分な程度に多数形成したプリント配線板では、絶縁信頼性が低下し、また、伝送ロスが増大することが明らかになった。
本発明の目的は、絶縁信頼性に優れ、伝送ロスの小さい多層プリント配線板を工業規模で効率的に製造することができる多層プリント配線板の製造方法、当該製造方法により得られる多層プリント配線板、並びに当該多層プリント配線板を用いてなる、小型で省電力型の多層プリント回路板を提供することにある。
The inventors of the present invention manufactured printed wiring boards according to the examples of Patent Documents 1 and 2 and examined their product characteristics. In the printed wiring board, as the resin material for forming the insulating layer, a cyclic olefin resin blended with a silica filler (Mohs hardness: 7, thermal conductivity: 1 W / mK) is used. As a result, in particular, in a printed wiring board in which a large number of openings for via holes and / or through holes are continuously formed by drills or lasers in the insulating layer to a practically sufficient level, the insulation reliability is reduced. It became clear that transmission loss increased.
An object of the present invention is to provide a method for producing a multilayer printed wiring board that is excellent in insulation reliability and has a small transmission loss and can be produced efficiently on an industrial scale, and a multilayer printed wiring board obtained by the production method. Another object of the present invention is to provide a small and power-saving multilayer printed circuit board using the multilayer printed wiring board.

本発明者らは前記課題を解決すべく、多層プリント配線板の絶縁層を構成する樹脂材料と、絶縁層の穴の内壁の品質との関係に着目して鋭意検討した結果、絶縁層を、環状オレフィン系重合体と、所定の硬度と熱伝導率を有する無機充填剤とを含む硬化性樹脂組成物の硬化物により形成すると、絶縁層に形成するビアホール用開口及び/又はスルーホール用開口の形成方法及び数にかかわらず、所望の多層プリント配線板が効率的に得られることを見出した。本発明者らは、かかる知見に基づき、本発明を完成させるに至った。   In order to solve the above-mentioned problems, the present inventors have intensively examined the relationship between the resin material constituting the insulating layer of the multilayer printed wiring board and the quality of the inner wall of the hole of the insulating layer, and as a result, When formed with a cured product of a curable resin composition containing a cyclic olefin polymer and an inorganic filler having a predetermined hardness and thermal conductivity, via holes and / or through holes are formed in the insulating layer. It has been found that a desired multilayer printed wiring board can be efficiently obtained regardless of the forming method and the number. Based on this finding, the present inventors have completed the present invention.

すなわち、本発明によれば、
〔1〕コア基板上に導体回路と樹脂絶縁層とが交互に積層され、前記導体回路がビアホール及び/又はスルーホールを介して接続されてなる多層プリント配線板の製造方法であって、
表面に導体回路が設けられたコア基板上、環状オレフィン系重合体と、モース硬度が7以下かつ熱伝導率が1W/mKを超える無機充填剤とを含む硬化性樹脂組成物からなる層を設け、該層を硬化して樹脂絶縁層を形成した後、該樹脂絶縁層にビアホール用開口及び/又はスルーホール用開口を形成し、次いで、該樹脂絶縁層上にビアホール及び/又はスルーホールを含む導体回路を形成する工程を少なくとも1回行う、多層プリント配線板の製造方法、
〔2〕コア基板上に導体回路と樹脂絶縁層とが交互に積層され、前記導体回路がビアホール及びスルーホールを介して接続されてなる多層プリント配線板の製造方法であって、
表面に導体回路が設けられたコア基板上、環状オレフィン系重合体と、モース硬度が7以下かつ熱伝導率が1W/mKを超える無機充填剤とを含む硬化性樹脂組成物からなる層を設け、該層を硬化して樹脂絶縁層を形成した後、該樹脂絶縁層にビアホール用開口を形成し、次いで、該樹脂絶縁層上にビアホールを含む導体回路を形成する工程を少なくとも1回行い、
前記工程を少なくとも1回行うことにより得られた、コア基板上に導体回路と樹脂絶縁層とが交互に積層されてなる積層体の表面にある導体回路上に、前記工程と同様にして樹脂絶縁層R1を形成した後、樹脂絶縁層R1が形成された積層体に該樹脂絶縁層R1から該積層体を厚さ方向に貫通するようにスルーホール用開口を形成し、次いで、該樹脂絶縁層R1上にスルーホールを含む導体回路C1を形成する工程を行う、多層プリント配線板の製造方法、
〔3〕少なくとも1層の樹脂絶縁層に対し、ビアホール用開口及び/又はスルーホール用開口を、ドリル又はレーザーにより連続して少なくとも500個形成する前記〔1〕又は〔2〕記載の多層プリント配線板の製造方法、
〔4〕ビアホール用開口及び/又はスルーホール用開口を、隣り合う、いずれの2つの開口の間隔も200μm以下となるように形成する前記〔3〕記載の多層プリント配線板の製造方法、
〔5〕コア基板上に導体回路と樹脂絶縁層とが交互に積層され、前記導体回路がスルーホールを介して接続されてなる多層プリント配線板の製造方法であって、
表面に導体回路が設けられたコア基板上、環状オレフィン系重合体と、モース硬度が7以下かつ熱伝導率が1W/mKを超える無機充填剤とを含む硬化性樹脂組成物からなる層を設け、該層を硬化して樹脂絶縁層を形成した後、該樹脂絶縁層上に導体回路を形成する工程を少なくとも1回行い、
前記工程を少なくとも1回行うことにより得られた、コア基板上に導体回路と樹脂絶縁層とが交互に積層されてなる積層体の表面にある導体回路上に、前記工程と同様にして樹脂絶縁層R2を形成した後、樹脂絶縁層R2が形成された積層体に該樹脂絶縁層R2から該積層体を厚さ方向に貫通するようにスルーホール用開口を形成し、次いで、該樹脂絶縁層R2上にスルーホールを含む導体回路C2を形成する工程を行う、多層プリント配線板の製造方法、
〔6〕スルーホール用開口を、ドリル又はレーザーにより連続して少なくとも500個形成する前記〔5〕記載の多層プリント配線板の製造方法、
〔7〕スルーホール用開口を、隣り合う、いずれの2つの開口の間隔も200μm以下となるように形成する前記〔6〕記載の多層プリント配線板の製造方法、
〔8〕硬化性樹脂組成物中の無機充填剤の含有量が10〜60体積%である前記〔1〕〜〔7〕いずれか記載の多層プリント配線板の製造方法、
〔9〕無機充填剤が、以下の(A)〜(C):
(A)チタン酸バリウム、チタン酸ストロンチウム、及びチタン酸カルシウム
(B)希土類金属を含むチタン酸リチウム化合物
(C)無機窒化物
からなる群から選択される少なくとも1種である前記〔1〕〜〔8〕いずれか記載の多層プリント配線板の製造方法、
〔10〕前記〔1〕〜〔9〕いずれかに記載の多層プリント配線板の製造方法により得られうる、コア基板上に導体回路と樹脂絶縁層とが交互に積層され、前記導体回路がビアホール及び/又はスルーホールを介して接続されてなる多層プリント配線板、
〔11〕ビアホール用開口及び/又はスルーホール用開口の表面粗度(Rz1)が5μm以下である前記〔10〕記載の多層プリント配線板、
〔12〕無機充填剤の平均粒径が、導体回路を構成する導体層の表面粗度(Rz2)以上、かつビアホール用開口及び/又はスルーホール用開口の表面粗度(Rz1)以下である前記〔10〕又は〔11〕記載の多層プリント配線板、
〔13〕前記〔10〕〜〔12〕いずれかに記載の多層プリント配線板に、電子部品を搭載し、及び/又は内蔵し、該電子部品を該多層プリント配線板の導体回路に接続してなる多層プリント回路板、並びに
〔14〕前記〔13〕に記載の多層プリント回路板を備えてなる電子機器、
を提供することができる。
That is, according to the present invention,
[1] A method for producing a multilayer printed wiring board in which conductor circuits and resin insulating layers are alternately laminated on a core substrate, and the conductor circuits are connected via via holes and / or through holes,
A layer made of a curable resin composition containing a cyclic olefin polymer and an inorganic filler having a Mohs hardness of 7 or less and a thermal conductivity of more than 1 W / mK is provided on a core substrate provided with a conductor circuit on the surface. After the layer is cured to form a resin insulating layer, a via hole opening and / or a through hole opening is formed in the resin insulating layer, and then a via hole and / or a through hole is formed on the resin insulating layer. A method for producing a multilayer printed wiring board, wherein the step of forming a conductor circuit is performed at least once;
[2] A method for producing a multilayer printed wiring board in which conductor circuits and resin insulating layers are alternately laminated on a core substrate, and the conductor circuits are connected via via holes and through holes,
A layer made of a curable resin composition containing a cyclic olefin polymer and an inorganic filler having a Mohs hardness of 7 or less and a thermal conductivity of more than 1 W / mK is provided on a core substrate provided with a conductor circuit on the surface. Then, after the layer is cured to form a resin insulating layer, a step of forming a via hole opening in the resin insulating layer, and then forming a conductor circuit including a via hole on the resin insulating layer is performed at least once,
Resin insulation is performed on the conductor circuit on the surface of the laminate obtained by performing the above process at least once, and the conductor circuit and the resin insulation layer are alternately laminated on the core substrate in the same manner as in the above process. After forming the layer R1, an opening for a through hole is formed in the laminated body on which the resin insulating layer R1 is formed so as to penetrate the laminated body from the resin insulating layer R1 in the thickness direction, and then the resin insulating layer A method for producing a multilayer printed wiring board, comprising performing a step of forming a conductor circuit C1 including a through hole on R1;
[3] The multilayer printed wiring according to the above [1] or [2], wherein at least 500 openings for via holes and / or through holes are continuously formed with respect to at least one resin insulating layer by a drill or a laser. Board manufacturing method,
[4] The method for producing a multilayer printed wiring board according to [3], wherein the via hole opening and / or the through hole opening are formed so that the interval between any two openings is 200 μm or less,
[5] A method for producing a multilayer printed wiring board in which conductor circuits and resin insulating layers are alternately laminated on a core substrate, and the conductor circuits are connected through through holes,
A layer made of a curable resin composition containing a cyclic olefin polymer and an inorganic filler having a Mohs hardness of 7 or less and a thermal conductivity of more than 1 W / mK is provided on a core substrate provided with a conductor circuit on the surface. Then, after the layer is cured to form a resin insulating layer, a step of forming a conductor circuit on the resin insulating layer is performed at least once,
Resin insulation is performed on the conductor circuit on the surface of the laminate obtained by performing the above process at least once, and the conductor circuit and the resin insulation layer are alternately laminated on the core substrate in the same manner as in the above process. After forming the layer R2, an opening for a through hole is formed in the laminate on which the resin insulating layer R2 is formed so as to penetrate the laminate from the resin insulating layer R2 in the thickness direction, and then the resin insulating layer A method of manufacturing a multilayer printed wiring board, wherein a step of forming a conductor circuit C2 including a through hole on R2 is performed;
[6] The method for producing a multilayer printed wiring board according to [5], wherein at least 500 through-hole openings are continuously formed by a drill or a laser.
[7] The method for producing a multilayer printed wiring board according to [6], wherein the through-hole opening is formed so that an interval between any two openings is 200 μm or less,
[8] The method for producing a multilayer printed wiring board according to any one of [1] to [7], wherein the content of the inorganic filler in the curable resin composition is 10 to 60% by volume,
[9] The inorganic filler is the following (A) to (C):
[A]-[A] which is at least one selected from the group consisting of (A) barium titanate, strontium titanate, and calcium titanate (B) a lithium titanate compound containing a rare earth metal (C) inorganic nitride. 8] A method for producing a multilayer printed wiring board according to any one of
[10] Conductor circuits and resin insulating layers are alternately laminated on a core substrate, which can be obtained by the method for manufacturing a multilayer printed wiring board according to any one of [1] to [9], and the conductor circuits are formed as via holes. And / or multilayer printed wiring boards connected through through holes,
[11] The multilayer printed wiring board according to [10], wherein the surface roughness (Rz1) of the opening for via hole and / or the opening for through hole is 5 μm or less,
[12] The average particle size of the inorganic filler is not less than the surface roughness (Rz2) of the conductor layer constituting the conductor circuit and not more than the surface roughness (Rz1) of the via hole opening and / or the through hole opening. [10] or the multilayer printed wiring board according to [11],
[13] An electronic component is mounted on and / or built in the multilayer printed wiring board according to any one of [10] to [12], and the electronic component is connected to a conductor circuit of the multilayer printed wiring board. And [14] an electronic device comprising the multilayer printed circuit board according to [13],
Can be provided.

本発明によれば、絶縁信頼性に優れ、伝送ロスの小さい多層プリント配線板を工業規模で効率的に製造することができる。また、小型で省電力型の多層プリント回路板を提供することができる。   According to the present invention, a multilayer printed wiring board having excellent insulation reliability and low transmission loss can be efficiently manufactured on an industrial scale. In addition, a small and power-saving multilayer printed circuit board can be provided.

樹脂絶縁層に形成された、隣り合う2つの開口の位置関係を示す模式図である。It is a schematic diagram which shows the positional relationship of two adjacent openings formed in the resin insulating layer. 樹脂絶縁層と導体層の二層が水平になるように設置したときの断面の模式図である。It is a schematic diagram of a cross section when installing so that two layers of a resin insulating layer and a conductor layer may become horizontal. 積層モジュールの一例として無線通信機器の送信部Txモジュールを示すブロック図である。It is a block diagram which shows the transmission part Tx module of a radio | wireless communication apparatus as an example of a lamination | stacking module. 図3の送信部Txモジュールに含まれるパワーアンプ部PAの回路図の一例である。It is an example of the circuit diagram of power amplifier part PA contained in the transmission part Tx module of FIG. パワーアンプ部PAをバンドパスフィルタBPFと積層モジュール化してなる、比較例1で作製されたPA積層モジュールの分解斜視図である。It is a disassembled perspective view of the PA laminated module produced in the comparative example 1 formed by making power amplifier part PA into a laminated module with the band pass filter BPF. 図5のPA積層モジュールの完成状態における斜視図である。FIG. 6 is a perspective view of the PA laminated module in FIG. 5 in a completed state. 図5のPA積層モジュールの完成状態における内部の接続構造を示す断面概略図である。FIG. 6 is a schematic cross-sectional view showing an internal connection structure in a completed state of the PA laminated module of FIG. 5. 図6のPA積層モジュールにおいて積層基板の表面に実装されていたバンドパスフィルタBPFを該基板の内層にパターン化することで内蔵してなる、実施例2で作製されたPA積層モジュールの斜視図である。FIG. 7 is a perspective view of the PA laminated module manufactured in Example 2 in which the bandpass filter BPF mounted on the surface of the laminated substrate in the PA laminated module of FIG. 6 is built into the inner layer of the substrate by patterning. is there. バンドパスフィルタの回路の一例である。It is an example of the circuit of a band pass filter. インダクタ素子(L)及びコンデンサ素子(C)を積層基板に内蔵してなるバンドパスフィルタ部分の一例の斜視図である。It is a perspective view of an example of the band pass filter part which incorporates an inductor element (L) and a capacitor element (C) in a multilayer substrate. 各種材料で作製したインダクタ素子のQ値の測定結果である。It is a measurement result of Q value of the inductor element produced with various materials. λ/4共振器によるバンドパスフィルタの一構成例である。It is a structural example of the band pass filter by a λ / 4 resonator. λ/2共振器によるバンドパスフィルタの一構成例である。It is an example of 1 structure of the band pass filter by a lambda / 2 resonator. 各種材料で作製したマイクロストリップラインの伝送ロスの測定結果である。It is the measurement result of the transmission loss of the microstrip line produced with various materials. 各種材料で作製した2.5GHz帯バンドパスフィルタの通過帯域における伝送ロスの測定結果である。It is a measurement result of the transmission loss in the pass band of the 2.5 GHz band band pass filter produced with various materials. 比較例1で作製されたPA積層モジュールの断面概略図である。3 is a schematic cross-sectional view of a PA laminated module manufactured in Comparative Example 1. FIG. 実施例2で作製されたPA積層モジュールの断面概略図である。6 is a schematic cross-sectional view of a PA laminated module manufactured in Example 2. FIG.

1.多層プリント配線板の製造方法
本発明の多層プリント配線板の製造方法は、コア基板上に導体回路と樹脂絶縁層とが交互に積層され、前記導体回路がビアホール及び/又はスルーホールを介して接続されてなる多層プリント配線板の製造方法であって、樹脂絶縁層の形成を、環状オレフィン系重合体と、モース硬度が7以下かつ熱伝導率が1W/mKを超える無機充填剤(以下、無機充填剤Xという。)とを含む硬化性樹脂組成物からなる層を設け、該層を硬化して行うことを1つの大きな特徴とする。
1. Manufacturing method of multilayer printed wiring board In the manufacturing method of a multilayer printed wiring board of the present invention, a conductor circuit and a resin insulating layer are alternately laminated on a core substrate, and the conductor circuit is connected via a via hole and / or a through hole. A method for producing a multilayer printed wiring board comprising: forming a resin insulating layer by using a cyclic olefin polymer and an inorganic filler (hereinafter referred to as inorganic) having a Mohs hardness of 7 or less and a thermal conductivity of more than 1 W / mK. One major characteristic is that a layer made of a curable resin composition containing a filler X is provided and the layer is cured.

多層プリント配線板の絶縁層を充填剤や強化繊維などを配合した樹脂材料により形成する場合、絶縁層への穴あけ時には、非特許文献1に記載されるような問題があることが知られている。かかる問題に対し、現状では、方法・装置の選択や工程の監視など、穴あけ工程を適宜調整することで対処されているが、特に高密度配線の多層プリント配線板では導体回路を接続する穴の数が飛躍的に増加するため、連続加工時間が長くなり、穴加工の際に発生する熱も影響し、絶縁層の穴の内壁の品質を良好に保って多層プリント配線板を工業規模で効率的に製造することは困難である。これに対し、本発明によれば、上記問題を考慮する必要はなく、所望の多層プリント配線板を工業規模で効率的に製造することができる。そのメカニズムは必ずしも明らかではないが、本発明により得られる多層プリント配線板では、樹脂絶縁層の基材樹脂である環状オレフィン系重合体の樹脂特性と、無機充填剤Xが有する硬度や熱伝導性とが相俟って相乗的に作用し、穴あけ工程での樹脂絶縁層の穴の内壁に対する種々の物理的作用による影響が緩和され、樹脂絶縁層の穴の内壁の品質が良好に保たれ、また、当該内壁の上に形成される導体回路の接続用めっきの品質が優れたものになると推定される。従って、本発明によれば、絶縁信頼性に優れ、伝送ロスの小さい多層プリント配線板を工業規模で効率的に製造することができる。また、当該配線板によれば、小型で省電力型の多層プリント回路板を効率的に製造することができる。   When the insulating layer of the multilayer printed wiring board is formed of a resin material blended with fillers or reinforcing fibers, it is known that there are problems as described in Non-Patent Document 1 when drilling into the insulating layer. . Currently, such problems are dealt with by appropriately adjusting the drilling process, such as method / equipment selection and process monitoring. Especially in the case of multi-layer printed wiring boards with high-density wiring, As the number increases dramatically, the continuous processing time becomes longer, and the heat generated during drilling is also affected, maintaining the quality of the inner wall of the hole in the insulating layer and making the multilayer printed wiring board efficient on an industrial scale. It is difficult to manufacture automatically. On the other hand, according to the present invention, it is not necessary to consider the above problem, and a desired multilayer printed wiring board can be efficiently manufactured on an industrial scale. Although the mechanism is not necessarily clear, in the multilayer printed wiring board obtained by the present invention, the resin characteristics of the cyclic olefin polymer that is the base resin of the resin insulating layer, and the hardness and thermal conductivity of the inorganic filler X In combination, the effect of various physical effects on the inner wall of the hole in the resin insulation layer in the drilling process is alleviated, and the quality of the inner wall of the hole in the resin insulation layer is kept good, Moreover, it is estimated that the quality of the plating for connection of the conductor circuit formed on the inner wall is excellent. Therefore, according to the present invention, a multilayer printed wiring board having excellent insulation reliability and low transmission loss can be efficiently manufactured on an industrial scale. In addition, according to the wiring board, a small and power-saving multilayer printed circuit board can be efficiently manufactured.

本明細書において、樹脂絶縁層における「穴」とは、ビアホール用開口及び/又はスルーホール用開口をいう。「多層プリント配線板」とは、電子部品を搭載し、及び/又は内蔵し、導体回路に接続して電子回路機能を形成するための土台となる、多層の板をいう。「多層プリント回路板」とは、多層プリント配線板に電子部品を搭載し、及び/又は内蔵し、導体回路に接続して電子回路機能を形成したものをいう。   In this specification, the “hole” in the resin insulating layer refers to an opening for a via hole and / or an opening for a through hole. The “multilayer printed wiring board” refers to a multilayer board on which electronic components are mounted and / or built and used as a base for forming an electronic circuit function by being connected to a conductor circuit. “Multilayer printed circuit board” refers to an electronic component mounted and / or built in a multilayer printed wiring board and connected to a conductor circuit to form an electronic circuit function.

〔硬化性樹脂組成物〕
本発明の多層プリント配線板の製造方法において樹脂絶縁層の形成に用いられる硬化性樹脂組成物は、環状オレフィン系重合体と無機充填剤Xとを含有してなる。
[Curable resin composition]
The curable resin composition used for forming the resin insulation layer in the method for producing a multilayer printed wiring board of the present invention contains a cyclic olefin polymer and an inorganic filler X.

(環状オレフィン系重合体)
本発明に用いる環状オレフィン系重合体とは、重合体の繰返し単位中に、環状オレフィン系単量体単位を含有してなる重合体である。得られる多層プリント配線板の機械強度及び耐熱性等を向上させる観点から、環状オレフィン系重合体は、重合体の全繰返し単位中に環状オレフィン系単量体単位を、通常、50モル%以上、好ましくは70モル%以上、より好ましくは80モル%以上含有するのが望ましい。環状オレフィン系重合体中の環状オレフィン系単量体単位の含有量は、例えば、NMRにより測定可能である。
(Cyclic olefin polymer)
The cyclic olefin polymer used in the present invention is a polymer comprising a cyclic olefin monomer unit in a repeating unit of the polymer. From the viewpoint of improving the mechanical strength, heat resistance and the like of the resulting multilayer printed wiring board, the cyclic olefin polymer is a cyclic olefin monomer unit in all repeating units of the polymer, usually 50 mol% or more, The content is preferably 70 mol% or more, more preferably 80 mol% or more. The content of the cyclic olefin monomer unit in the cyclic olefin polymer can be measured by, for example, NMR.

環状オレフィン系単量体とは、分子内に脂環式構造を有するオレフィンである。脂環式構造を構成する炭素数に特に制限はないが、通常、4〜30個、好ましくは5〜20個、より好ましくは5〜15個の範囲である。脂環式構造は多環であっても、単環であってもよいが、多環が好適である。また、炭素−炭素二重結合は脂環式構造内にあるのが好ましい。本発明に用いる環状オレフィン系単量体としては、脂環式構造内に炭素−炭素二重結合を有し、かつ多環のものが特に好ましい。   The cyclic olefin monomer is an olefin having an alicyclic structure in the molecule. Although there is no restriction | limiting in particular in carbon number which comprises an alicyclic structure, Usually, 4-30 pieces, Preferably it is 5-20 pieces, More preferably, it is the range of 5-15 pieces. The alicyclic structure may be polycyclic or monocyclic, but polycyclic is preferred. The carbon-carbon double bond is preferably in the alicyclic structure. The cyclic olefin monomer used in the present invention is particularly preferably a polycyclic monomer having a carbon-carbon double bond in the alicyclic structure.

環状オレフィン系重合体としては、特に限定されるものではないが、例えば、ノルボルネン系重合体、単環の環状オレフィン重合体、環状共役ジエン重合体、及びビニル脂環式炭化水素重合体などが挙げられる。これらの重合体は、それぞれ単独で、又は2種以上を組み合わせて用いられる。中でも、得られる多層プリント配線板の機械強度及び耐熱性等を向上させる観点から、ノルボルネン系重合体、及び環状共役ジエン重合体が好ましく、ノルボルネン系重合体がより好ましい。これらの重合体は水素添加されたものであってもよい。   The cyclic olefin polymer is not particularly limited, and examples thereof include a norbornene polymer, a monocyclic olefin polymer, a cyclic conjugated diene polymer, and a vinyl alicyclic hydrocarbon polymer. It is done. These polymers are used alone or in combination of two or more. Among these, from the viewpoint of improving the mechanical strength and heat resistance of the resulting multilayer printed wiring board, norbornene-based polymers and cyclic conjugated diene polymers are preferable, and norbornene-based polymers are more preferable. These polymers may be hydrogenated.

ノルボルネン系重合体としては、ノルボルネン系単量体の開環重合体、ノルボルネン系単量体とこれと開環共重合可能なその他の単量体との開環重合体、ノルボルネン系単量体の付加重合体、及びノルボルネン系単量体とこれと付加共重合可能なその他の単量体との付加重合体などが挙げられる。中でも、得られる多層プリント配線板の機械強度及び耐熱性等を向上させる観点から、ノルボルネン系単量体の開環重合体が好ましい。   Norbornene-based polymers include ring-opening polymers of norbornene-based monomers, ring-opening polymers of norbornene-based monomers and other monomers capable of ring-opening copolymerization, and norbornene-based monomers. Examples include addition polymers and addition polymers of norbornene monomers and other monomers that can be addition copolymerized therewith. Among these, a ring-opening polymer of a norbornene monomer is preferable from the viewpoint of improving the mechanical strength and heat resistance of the obtained multilayer printed wiring board.

本発明に用いるノルボルネン系単量体とは、脂環式構造としてノルボルネン環構造を分子内に有する環状オレフィン系単量体である。例えば、ノルボルネン類、ジシクロペンタジエン類、及びテトラシクロドデセン類などが挙げられる。
ノルボルネン系単量体としては、例えば、ビシクロ[2.2.1]ヘプト−2−エン(慣用名:ノルボルネン)及びその誘導体(環に置換基を有するもの。以下、同じ。)、トリシクロ[4.3.0.12,5]デカ−3,7−ジエン(慣用名:ジシクロペンタジエン)及びその誘導体、テトラシクロ[7.4.0.02,7.110,13]トリデカ−2,4,6,11−テトラエン(慣用名:メタノテトラヒドロフルオレン)及びその誘導体、テトラシクロ[4.4.0.12,5.17,10]ドデカ−3−エン(慣用名:テトラシクロドデセン)及びその誘導体などが挙げられる。ノルボルネン系単量体の置換基としては、例えば、アルキル基、アルケニル基、アルキリデン基、及びアリール基などの、炭素数1〜30の炭化水素基や、カルボキシル基及び酸無水物基などの極性基などが挙げられる。ノルボルネン系単量体は置換基として極性基を有していてもよいが、得られる多層プリント配線板を低誘電正接とする観点からは、極性基を持たない、すなわち、炭素原子と水素原子のみで構成されるものが好ましい。これらのノルボルネン系単量体は、それぞれ単独で、又は2種以上を組み合わせて用いられる。
The norbornene monomer used in the present invention is a cyclic olefin monomer having a norbornene ring structure in the molecule as an alicyclic structure. Examples include norbornenes, dicyclopentadiene, and tetracyclododecene.
Examples of the norbornene-based monomer include bicyclo [2.2.1] hept-2-ene (common name: norbornene) and derivatives thereof (those having a substituent on the ring; the same shall apply hereinafter), tricyclo [4. .3.0.1 2,5 ] deca-3,7-diene (common name: dicyclopentadiene) and its derivatives, tetracyclo [7.4.0.0 2,7 . 1 10,13] trideca -2,4,6,11- tetraene (common name: methanolate tetrahydrofluorene) and derivatives thereof, tetracyclo [4.4.0.1 2, 5. 17, 10 ] dodec-3-ene (common name: tetracyclododecene) and its derivatives. Examples of the substituent of the norbornene-based monomer include a hydrocarbon group having 1 to 30 carbon atoms such as an alkyl group, an alkenyl group, an alkylidene group, and an aryl group, and a polar group such as a carboxyl group and an acid anhydride group. Etc. The norbornene-based monomer may have a polar group as a substituent, but from the viewpoint of making the obtained multilayer printed wiring board a low dielectric loss tangent, it has no polar group, that is, only carbon atoms and hydrogen atoms. What is comprised is preferable. These norbornene monomers are used singly or in combination of two or more.

ノルボルネン系単量体と開環共重合可能なその他の単量体としては、例えば、シクロヘキセン、シクロヘプテン、及びシクロオクテンなどの単環の環状オレフィンなどが挙げられる。ノルボルネン系単量体と開環共重合可能なその他の単量体は、それぞれ単独で、又は2種以上を組み合わせて用いられる。   Examples of the other monomer capable of ring-opening copolymerization with a norbornene-based monomer include monocyclic olefins such as cyclohexene, cycloheptene, and cyclooctene. The other monomers capable of ring-opening copolymerization with the norbornene-based monomer are used alone or in combination of two or more.

ノルボルネン系単量体の開環重合体、又はノルボルネン系単量体とこれと開環共重合可能なその他の単量体との開環重合体は、単量体成分を、公知の開環重合触媒の存在下で重合して得ることができる。開環重合触媒としてはメタセシス重合触媒が挙げられ、ルテニウムを中心原子とする錯体、中でもヘテロ環構造を有するカルベン化合物と、その他の中性電子供与体とがルテニウムに配位してなるルテニウムカルベン錯体を用いるのが好適である。ここで、中性電子供与体とは、中心金属原子から引き離されたときに中性の電荷を持つ配位子をいう。重合反応形態は、特に限定されるものではなく、塊状重合であっても溶液重合であってもよい。   A ring-opening polymer of a norbornene-based monomer, or a ring-opening polymer of a norbornene-based monomer and another monomer capable of ring-opening copolymerization with a monomer component is a known ring-opening polymerization. It can be obtained by polymerization in the presence of a catalyst. Examples of the ring-opening polymerization catalyst include a metathesis polymerization catalyst, and a ruthenium carbene complex in which a complex having ruthenium as a central atom, particularly a carbene compound having a heterocyclic structure and other neutral electron donors are coordinated to ruthenium. Is preferably used. Here, the neutral electron donor means a ligand having a neutral charge when it is separated from the central metal atom. The polymerization reaction form is not particularly limited, and may be bulk polymerization or solution polymerization.

ノルボルネン系単量体の付加重合体、又はノルボルネン系単量体とこれと付加共重合可能なその他の単量体との付加重合体は、これらの単量体を、公知の付加重合触媒、例えば、チタン、ジルコニウム又はバナジウム化合物と有機アルミニウム化合物とからなる触媒を用いて重合反応を行うことにより得ることができる。ノルボルネン系単量体と付加共重合可能なその他の単量体としては、例えば、エチレン、プロピレン、1−ブテン、及び1−ペンテンなどの、炭素数2〜20のα−オレフィン;シクロブテン、シクロペンテン、シクロヘキセン、及びシクロオクテンなどの単環の環状オレフィン;1,4−ヘキサジエン及び1,7−オクタジエンなどの非共役ジエン;などが挙げられる。ノルボルネン系単量体と付加共重合可能なその他の単量体は、それぞれ単独で、又は2種以上を組み合わせて用いられる。   An addition polymer of a norbornene monomer, or an addition polymer of a norbornene monomer and another monomer that can be addition copolymerized therewith, these monomers can be added to known addition polymerization catalysts, for example, It can be obtained by conducting a polymerization reaction using a catalyst comprising a titanium, zirconium or vanadium compound and an organoaluminum compound. Examples of other monomers that can be addition copolymerized with a norbornene monomer include α-olefins having 2 to 20 carbon atoms such as ethylene, propylene, 1-butene, and 1-pentene; cyclobutene, cyclopentene, And monocyclic olefins such as cyclohexene and cyclooctene; non-conjugated dienes such as 1,4-hexadiene and 1,7-octadiene; Other monomers capable of addition copolymerization with norbornene-based monomers are used alone or in combination of two or more.

なお、本発明に用いる硬化性樹脂組成物には、本発明の所望の効果の発現を阻害しない範囲であれば、環状オレフィン系重合体以外の公知の重合体が含まれていてもよい。かかる重合体としては、例えば、PPE(ポリフェニレンエーテル)、BTレジン(ビスマレイミドトリアジン)、エポキシ樹脂、ポリイミド樹脂、フッ素樹脂、フェノール樹脂、及びポリアミドビスマレイミドなどが挙げられる。これらの重合体の配合量としては、硬化性樹脂組成物に配合される全重合体中、通常、20重量%以下である。   The curable resin composition used in the present invention may contain a known polymer other than the cyclic olefin-based polymer as long as the desired effect of the present invention is not inhibited. Examples of such polymers include PPE (polyphenylene ether), BT resin (bismaleimide triazine), epoxy resin, polyimide resin, fluororesin, phenol resin, and polyamide bismaleimide. The blending amount of these polymers is usually 20% by weight or less in the total polymer blended in the curable resin composition.

(無機充填剤X)
本発明に用いられる無機充填剤Xは、モース硬度が7以下かつ熱伝導率が1W/mKを超える無機充填剤である。無機充填剤Xのモース硬度が7を超えると、通常用いられる手段では樹脂絶縁層に穴を形成し難くなり、また、熱伝導率が1W/mK以下であると、樹脂絶縁層への穴加工の際に発生する熱による穴の内壁に対する影響を緩和し難くなり、樹脂絶縁層に所望の穴を形成するのが困難になることから、本発明の所望の効果が得られない。
モース硬度は7以下であれば特に限定されないが、その下限としては、通常、2程度である。モース硬度は、モース硬度計により測定することができる。一方、穴加工性を高める観点から、熱伝導率としては、好ましくは5W/mK以上である。なお、熱伝導率の上限としては、通常、320W/mK程度である。熱伝導率は、レーザーフラッシュ法により測定することができる。
(Inorganic filler X)
The inorganic filler X used in the present invention is an inorganic filler having a Mohs hardness of 7 or less and a thermal conductivity of more than 1 W / mK. If the Mohs hardness of the inorganic filler X exceeds 7, it will be difficult to form holes in the resin insulation layer by means that are normally used, and if the thermal conductivity is 1 W / mK or less, the holes in the resin insulation layer will be processed. In this case, it is difficult to mitigate the influence of the heat generated at the time on the inner wall of the hole, and it becomes difficult to form a desired hole in the resin insulating layer, so that the desired effect of the present invention cannot be obtained.
The Mohs hardness is not particularly limited as long as it is 7 or less, but the lower limit is usually about 2. The Mohs hardness can be measured with a Mohs hardness meter. On the other hand, from the viewpoint of improving hole workability, the thermal conductivity is preferably 5 W / mK or more. In addition, as an upper limit of heat conductivity, it is about 320 W / mK normally. The thermal conductivity can be measured by a laser flash method.

無機充填剤Xは、通常、粉末の形態で用いられる。その形状は特に限定されるものではなく、球状、粒状、不定形状、樹枝状、針状、棒状、及び扁平状等のいかなる形状であってもよい。無機充填剤Xの平均粒径としては、通常、0.5〜30μm、好ましくは1〜25μm、より好ましくは2〜20μmである。平均粒径がかかる範囲にあれば、分散性や線膨張係数の低減効果などの特性がバランスよく発揮され、好適である。平均粒径は、レーザー回折・散乱法により測定することができる。   The inorganic filler X is usually used in the form of a powder. The shape is not particularly limited, and may be any shape such as a spherical shape, a granular shape, an indefinite shape, a dendritic shape, a needle shape, a rod shape, and a flat shape. As an average particle diameter of the inorganic filler X, it is 0.5-30 micrometers normally, Preferably it is 1-25 micrometers, More preferably, it is 2-20 micrometers. If the average particle diameter is within such a range, the properties such as the dispersibility and the effect of reducing the linear expansion coefficient are exhibited in a well-balanced manner. The average particle diameter can be measured by a laser diffraction / scattering method.

本発明に用いる無機充填剤Xは、比較的に硬度が高く、かつ熱伝導性に優れたものであり、公知の無機充填剤から容易に選択可能である。無機充填剤Xはいずれも市販品として入手可能である。
無機充填剤Xとしては、特に限定されるものではないが、得られる多層プリント配線板において誘電特性と放熱性とをバランス良く発現させる観点から、以下の(A)〜(C):
(A)チタン酸バリウム(モース硬度:4.5、熱伝導率:6W/mK)、チタン酸ストロンチウム(モース硬度:6、熱伝導率:12W/mK)、及びチタン酸カルシウム(モース硬度:5.5、熱伝導率:6W/mK)、
(B)希土類金属を含むチタン酸リチウム化合物、
(C)無機窒化物、
からなる群から選択される少なくとも1種が好ましい。
前記(B)の化合物は、チタン酸リチウムと希土類金属との複合酸化物である。希土類金属としては、通常、ネオジウム(Nd)、サマリウム(Sm)、及びプラセオジム(Pr)が好適である。前記(B)の化合物としては、例えば、Li0.5Nd0.5TiO、Li0.5Sm0.5TiO、及びLi0.5Pr0.5TiOが挙げられる。前記(B)の化合物のモース硬度は、およそ3〜7、熱伝導率は、およそ2〜10W/mKである。
前記(C)の無機窒化物は、窒素と無機物とからなる化合物である。無機物としては、通常、ホウ素(B)、アルミニウム(Al)、及びケイ素(Si)が好適である。前記(C)の無機窒化物としては、例えば、BN、及びSiNが挙げられる。前記(C)の化合物のモース硬度は、およそ2〜6、熱伝導率は、およそ100〜300W/mKである。
無機充填剤Xは、それぞれ単独で、又は2種以上を組合わせて用いることができる。
The inorganic filler X used in the present invention has a relatively high hardness and excellent thermal conductivity, and can be easily selected from known inorganic fillers. Any inorganic filler X is available as a commercial product.
The inorganic filler X is not particularly limited, but the following (A) to (C): from the viewpoint of expressing the dielectric properties and heat dissipation in a balanced manner in the resulting multilayer printed wiring board.
(A) Barium titanate (Mohs hardness: 4.5, thermal conductivity: 6 W / mK), strontium titanate (Mohs hardness: 6, thermal conductivity: 12 W / mK), and calcium titanate (Mohs hardness: 5) .5, thermal conductivity: 6 W / mK),
(B) a lithium titanate compound containing a rare earth metal,
(C) inorganic nitride,
At least one selected from the group consisting of
The compound (B) is a composite oxide of lithium titanate and a rare earth metal. As rare earth metals, neodymium (Nd), samarium (Sm), and praseodymium (Pr) are usually preferred. Examples of the compound (B) include Li 0.5 Nd 0.5 TiO 3 , Li 0.5 Sm 0.5 TiO 3 , and Li 0.5 Pr 0.5 TiO 3 . The compound (B) has a Mohs hardness of about 3 to 7, and a thermal conductivity of about 2 to 10 W / mK.
The inorganic nitride (C) is a compound composed of nitrogen and an inorganic substance. As the inorganic substance, boron (B), aluminum (Al), and silicon (Si) are usually preferable. Examples of the inorganic nitride (C) include BN and SiN. The compound (C) has a Mohs hardness of about 2 to 6, and a thermal conductivity of about 100 to 300 W / mK.
The inorganic fillers X can be used alone or in combination of two or more.

無機充填剤Xは、前記環状オレフィン系重合体との親和性を高める観点から、エポキシシラン、アミノシラン、及びチタネートなどの公知のシランカップリング剤などで表面処理されたものであってもよい。かかる表面処理の方法は公知であり、また、表面処理が施された無機充填剤Xも市販品として入手可能である。   The inorganic filler X may be surface-treated with a known silane coupling agent such as epoxy silane, aminosilane, and titanate from the viewpoint of increasing the affinity with the cyclic olefin polymer. Such surface treatment methods are known, and the inorganic filler X subjected to the surface treatment is also available as a commercial product.

本発明に用いる硬化性樹脂組成物中、無機充填剤Xの含有量は、樹脂絶縁層での穴加工性と、得られる多層プリント配線板の誘電特性とをバランス良く発現させる観点から、通常、10〜60体積%、好ましくは10〜40体積%である。   In the curable resin composition used in the present invention, the content of the inorganic filler X is usually from the viewpoint of well-balanced expression of the hole workability in the resin insulating layer and the dielectric properties of the resulting multilayer printed wiring board. It is 10-60 volume%, Preferably it is 10-40 volume%.

なお、本発明の所望の効果の発現が阻害されない範囲であれば、無機充填剤X以外の公知の充填剤、例えば、酸化アンチモン、水酸化アルミニウム、水酸化マグネシウム、及び燐酸エステルなどの難燃剤や、着色剤などを併用してもよい。無機充填剤X以外の充填剤の含有量としては、硬化性樹脂組成物に配合する全充填剤中、60重量%以下である。   In addition, as long as expression of the desired effect of the present invention is not hindered, known fillers other than the inorganic filler X, for example, flame retardants such as antimony oxide, aluminum hydroxide, magnesium hydroxide, and phosphate esters, Further, a colorant or the like may be used in combination. As content of fillers other than the inorganic filler X, it is 60 weight% or less in all the fillers mix | blended with curable resin composition.

(硬化性樹脂組成物の調製)
本発明に用いる硬化性樹脂組成物の調製方法は、特に限定されるものではないが、該組成物を効率的に調製する観点から、以下の方法(I)又は方法(II)により調製するのが好ましい。
(Preparation of curable resin composition)
Although the preparation method of the curable resin composition used for this invention is not specifically limited, From a viewpoint of preparing this composition efficiently, it prepares with the following method (I) or method (II). Is preferred.

硬化性樹脂組成物を調製するための方法(I)は、環状オレフィン系重合体を適当な溶媒に溶解し、無機充填剤X及び架橋剤を混合して、ワニスを得る方法である。この場合、多層プリント配線板の製造では、任意の導体回路の上にワニスを直接塗布して成形及び乾燥することにより、導体回路上に硬化性樹脂組成物からなる層を設けるか、又は、予め、ワニスを成形及び乾燥してフィルムとし、若しくはワニスを強化繊維に含浸させた後に成形及び乾燥してプリプレグとし、それを導体回路上に重ねることにより硬化性樹脂組成物からなる層を設けることができる。
一方、方法(II)は、塊状開環重合可能な環状オレフィン系単量体、無機充填剤X、架橋剤、及びメタセシス重合触媒を含む重合性組成物を塊状開環重合する方法である。この場合、多層プリント配線板の製造では、任意の導体回路の上に重合性組成物を直接塗布して成形及び塊状開環重合することにより、導体回路上に硬化性樹脂組成物からなる層を設けるか、又は、重合性組成物を予め成形及び塊状開環重合してフィルムとし、若しくは重合性組成物を強化繊維に含浸させた後に成形及び塊状開環重合してプリプレグとし、それを導体回路上に重ねることにより硬化性樹脂組成物からなる層を設けることができる。
なお、前記方法(I)又は方法(II)において、プリプレグを用いて導体回路上に硬化性樹脂組成物からなる層を設ける場合、該層は、硬化性樹脂組成物が強化繊維に含浸した状態で形成されることになる。
Method (I) for preparing the curable resin composition is a method in which a cyclic olefin polymer is dissolved in an appropriate solvent, and the inorganic filler X and a crosslinking agent are mixed to obtain a varnish. In this case, in the production of the multilayer printed wiring board, a layer made of a curable resin composition is provided on the conductor circuit by directly applying varnish on an arbitrary conductor circuit, molding and drying, or in advance The varnish is molded and dried to form a film, or the varnish is impregnated into a reinforcing fiber, and then molded and dried to form a prepreg, and a layer made of a curable resin composition is provided by overlaying it on a conductor circuit. it can.
On the other hand, the method (II) is a method for bulk ring-opening polymerization of a polymerizable composition containing a cyclic olefin monomer capable of bulk ring-opening polymerization, an inorganic filler X, a crosslinking agent, and a metathesis polymerization catalyst. In this case, in the production of a multilayer printed wiring board, a layer made of a curable resin composition is formed on a conductor circuit by directly applying the polymerizable composition on an arbitrary conductor circuit and molding and bulk ring-opening polymerization. Or forming a film by polymerizing the polymerizable composition in advance and bulk ring-opening polymerization, or molding and bulk ring-opening polymerization after impregnating the polymerizable composition into a reinforcing fiber to form a prepreg. The layer which consists of a curable resin composition can be provided by overlapping on top.
In the method (I) or method (II), when a layer made of a curable resin composition is provided on a conductor circuit using a prepreg, the layer is in a state in which a reinforcing fiber is impregnated with a curable resin composition. Will be formed.

一方、上記方法(I)と(II)で得られる硬化性樹脂組成物は架橋剤を含んだものであるが、環状オレフィン系重合体と無機充填剤Xとを含む樹脂組成物が硬化性、すなわち、架橋可能な樹脂組成物として使用可能なものであれば、架橋剤は必ずしも要しない。当該樹脂組成物としては、例えば、ジシクロペンタジエンなどのように、メタセシス重合反応に関与する炭素−炭素二重結合以外に、メタセシス架橋性を示す炭素−炭素二重結合を有する環状オレフィン系単量体を用いてなる環状オレフィン系重合体を含む樹脂組成物などが挙げられる。   On the other hand, the curable resin composition obtained by the above methods (I) and (II) contains a crosslinking agent, but the resin composition containing the cyclic olefin polymer and the inorganic filler X is curable. That is, a crosslinking agent is not necessarily required as long as it can be used as a crosslinkable resin composition. Examples of the resin composition include a cyclic olefin-based monomer having a carbon-carbon double bond exhibiting metathesis crosslinkability in addition to a carbon-carbon double bond involved in a metathesis polymerization reaction, such as dicyclopentadiene. Examples thereof include a resin composition containing a cyclic olefin polymer formed by using a body.

前記方法(I)において、ワニスの調製に用いられる溶媒としては、前記環状オレフィン系重合体を溶解できるものであれば限定されないが、乾燥容易性の観点から、沸点が30〜250℃のものが好ましく、50〜200℃のものがより好ましい。かかる溶媒としては、鎖状脂肪族炭化水素、脂環式炭化水素、及び芳香族炭化水素などの公知の溶媒が挙げられる。溶媒の使用量は、ワニスの固形分濃度が、通常、5〜70重量%、好ましくは10〜65重量%、より好ましくは20〜60重量%になる範囲である。   In the method (I), the solvent used for the preparation of the varnish is not limited as long as it can dissolve the cyclic olefin polymer. From the viewpoint of easiness of drying, those having a boiling point of 30 to 250 ° C. Preferably, the thing of 50-200 degreeC is more preferable. Examples of such solvents include known solvents such as chain aliphatic hydrocarbons, alicyclic hydrocarbons, and aromatic hydrocarbons. The amount of the solvent used is such that the solid content concentration of the varnish is usually 5 to 70% by weight, preferably 10 to 65% by weight, more preferably 20 to 60% by weight.

ワニスの調製は、例えば、前記環状オレフィン系重合体を溶媒に溶解し、無機充填剤X、架橋剤、及び所望によりその他の成分を加え、公知の方法に従って混合することにより行うことができる。架橋剤は、硬化性樹脂組成物を構成する環状オレフィン系重合体において分子内や分子間での架橋反応を誘起できるものであれば、特に限定されるものではないが、通常、ラジカル発生剤が好適に用いられる。ラジカル発生剤としては、例えば、有機過酸化物、ジアゾ化合物、及び非極性ラジカル発生剤などが挙げられる。その他の成分としては、例えば、架橋助剤、架橋遅延剤、改質剤、酸化防止剤、及び光安定剤などが挙げられる。   The varnish can be prepared, for example, by dissolving the cyclic olefin polymer in a solvent, adding an inorganic filler X, a crosslinking agent, and other components as required, and mixing them according to a known method. The crosslinking agent is not particularly limited as long as it can induce a crosslinking reaction in the molecule or between molecules in the cyclic olefin polymer constituting the curable resin composition. Preferably used. Examples of the radical generator include organic peroxides, diazo compounds, and nonpolar radical generators. Examples of other components include a crosslinking aid, a crosslinking retarder, a modifier, an antioxidant, and a light stabilizer.

導体回路の上にワニスを直接塗布して導体回路上に硬化性樹脂組成物からなる層を設ける場合、例えば、その最上層に導体回路を有する、コア基板上に導体回路と樹脂絶縁層とが交互に積層されてなる積層体を、予め成形型内に載置し、次いで該成形型内にワニスを注入し、乾燥することにより行うことができる。成形型としては、従来公知の成形型、例えば、割型構造、すなわち、コア型とキャビティー型を有する成形型を用いることができる。コア型とキャビティー型は、目的とする成形物の形状にあった空隙部を形成するように作製される。一方、ワニスを用いてフィルム又はプリプレグを形成し、それを導体回路上に重ねることにより硬化性樹脂組成物からなる層を設ける場合、ワニスを、例えば、ポリエチレンテレフタレート、ポリプロピレン、ポリエチレン、ポリカーボネート、及びナイロンなどからなる樹脂フィルムや、鉄、ステンレス、銅、アルミニウム、ニッケル、クロム、金、及び銀などからなる金属箔などの支持体上に塗布し、乾燥して溶媒を除去することによりフィルムを得るか、又は、前記支持体上に強化繊維を置き、その上にワニスを注ぎ、所望により、さらに保護フィルムを重ね、上方からローラーなどで押圧してワニスを強化繊維に含浸させ、乾燥して溶媒を除去することによりプリプレグを得、そのようにして得られたフィルム又はプリプレグを導体回路の上に重ねることで容易に行うことができる。前記強化繊維としては、特に限定されないが、例えば、PET(ポリエチレンテレフタレート)繊維やアラミド繊維などの有機繊維;ガラス繊維、炭素繊維、及びアルミナ繊維などの無機繊維;などが挙げられる。強化繊維の形状としては、例えば、マット、クロス、及び不織布などが挙げられる。強化繊維は、それぞれ単独で、又は2種以上を組み合わせて用いることができる。その使用量としては、得られるプリプレグ中、通常、10〜90重量%、好ましくは20〜80重量%、より好ましくは30〜70重量%となる範囲である。この範囲にあれば、得られる樹脂絶縁層の機械強度と電気特性とが高度にバランスされ、好適である。   When the varnish is directly applied on the conductor circuit and a layer made of the curable resin composition is provided on the conductor circuit, for example, the conductor circuit and the resin insulating layer are provided on the core substrate having the conductor circuit on the top layer The laminated body which is laminated | stacked alternately can be performed by mounting in a shaping | molding die previously, inject | pouring a varnish in this shaping | molding die, and then drying. As the mold, a conventionally known mold, for example, a split mold structure, that is, a mold having a core mold and a cavity mold can be used. The core mold and the cavity mold are produced so as to form a void that matches the shape of the target molded product. On the other hand, when a film or prepreg is formed using a varnish and a layer made of a curable resin composition is formed by superimposing it on a conductor circuit, the varnish is made of, for example, polyethylene terephthalate, polypropylene, polyethylene, polycarbonate and nylon Is it possible to obtain a film by coating it on a support such as a resin film made of iron, stainless steel, copper, aluminum, nickel, chromium, gold, silver, etc., and drying to remove the solvent? Alternatively, a reinforcing fiber is placed on the support, and varnish is poured thereon, and if desired, a protective film is further layered thereon, and a varnish is impregnated into the reinforcing fiber by pressing with a roller or the like from above, followed by drying and solvent removal. The prepreg is obtained by removing the film or the prepreg thus obtained as a conductor. It can be easily performed by superimposing on the road. The reinforcing fibers are not particularly limited, and examples thereof include organic fibers such as PET (polyethylene terephthalate) fibers and aramid fibers; inorganic fibers such as glass fibers, carbon fibers, and alumina fibers. Examples of the shape of the reinforcing fiber include a mat, a cloth, and a non-woven fabric. The reinforcing fibers can be used alone or in combination of two or more. The amount used is usually in the range of 10 to 90% by weight, preferably 20 to 80% by weight, more preferably 30 to 70% by weight in the prepreg obtained. If it exists in this range, the mechanical strength and electrical property of the resin insulation layer obtained are highly balanced and suitable.

ワニスの乾燥条件は、溶媒の種類により適宜選択すればよいが、硬化性樹脂組成物を得るためには極力架橋反応を生じさせないのが好ましく、乾燥温度としては、架橋反応が生ずる温度未満とするのがよい。乾燥温度は、通常、20〜300℃の範囲で、用いる架橋剤の特性に応じて適宜決定すればよい。例えば、架橋剤としてラジカル発生剤を用いる場合、通常、ラジカル発生剤の1分間半減期温度以下、好ましくは1分間半減期温度の10℃以下、より好ましくは1分間半減期温度の20℃以下である。なお、1分間半減期温度とは、ラジカル発生剤の半量が1分間で分解する温度である。   The drying conditions of the varnish may be appropriately selected depending on the type of solvent, but in order to obtain a curable resin composition, it is preferable not to cause a crosslinking reaction as much as possible, and the drying temperature is lower than the temperature at which the crosslinking reaction occurs. It is good. What is necessary is just to determine a drying temperature suitably in the range of 20-300 degreeC according to the characteristic of the crosslinking agent to be used. For example, when a radical generator is used as the crosslinking agent, it is usually at most 1 minute half-life temperature of the radical generator, preferably at most 10 minutes of 1-minute half-life temperature, more preferably at most 20 minutes of half-life temperature of 1 minute. is there. The 1-minute half-life temperature is a temperature at which half of the radical generator decomposes in 1 minute.

上記ワニスを用いて形成された硬化性樹脂組成物からなる層を硬化させて樹脂絶縁層を形成するには、硬化性樹脂組成物からなる層を架橋反応が誘起される温度以上に加熱すればよい。例えば、架橋剤としてラジカル発生剤を使用する場合、加熱温度としては、通常、ラジカル発生剤の1分間半減期温度以上、好ましくは1分間半減期温度より5℃以上高い温度、より好ましくは1分間半減期温度より10℃以上高い温度である。典型的には、100〜300℃、好ましくは150〜250℃の範囲である。導体回路の上にワニスを直接塗布して硬化性樹脂組成物からなる層を設ける場合、硬化性樹脂組成物で架橋反応が誘起される温度以上に加熱し、当該層の形成と硬化とを同時並行的に行ってもよい。   In order to cure the layer composed of the curable resin composition formed using the varnish to form the resin insulating layer, the layer composed of the curable resin composition is heated to a temperature at which the crosslinking reaction is induced or higher. Good. For example, when a radical generator is used as the crosslinking agent, the heating temperature is usually at least 1 minute half-life temperature of the radical generator, preferably at a temperature 5 ° C. higher than the 1-minute half-life temperature, more preferably 1 minute. The temperature is 10 ° C. or more higher than the half-life temperature. Typically, it is in the range of 100 to 300 ° C, preferably 150 to 250 ° C. When a layer made of a curable resin composition is provided by directly applying varnish on a conductor circuit, heating is performed at a temperature higher than the temperature at which a crosslinking reaction is induced by the curable resin composition, and the formation and curing of the layer are performed simultaneously. You may do it in parallel.

方法(II)で用いる重合性組成物は、例えば、塊状開環重合可能な環状オレフィン系単量体、メタセシス重合触媒、架橋剤、無機充填剤X、及び所望により、前記その他の成分を公知の方法に従って混合することにより調製することができる。架橋剤は、前記ワニスの調製に用いるものと同様である。その他の成分としては更に連鎖移動剤を用いてもよい。   The polymerizable composition used in the method (II) is, for example, a cyclic olefin-based monomer capable of bulk ring-opening polymerization, a metathesis polymerization catalyst, a crosslinking agent, an inorganic filler X, and, if desired, other components described above. It can be prepared by mixing according to the method. The crosslinking agent is the same as that used for the preparation of the varnish. As other components, a chain transfer agent may be further used.

導体回路の上に重合性組成物を直接塗布して成形及び塊状開環重合することにより、導体回路上に硬化性樹脂組成物からなる層を設ける場合、例えば、その最上層に導体回路を有する、コア基板上に導体回路と樹脂絶縁層とが交互に積層されてなる積層体を、予め成形型内に載置し、次いで該成形型内に重合性組成物を注入し、成形及び塊状開環重合することにより行うことができる。成形型は、例えば、前記割型構造のものを用いればよい。本態様では、まず、実質的に重合性組成物の塊状開環重合のみを進行させて導体回路上に硬化性樹脂組成物からなる層を設け、その後、別途、架橋剤による架橋反応を進行させて硬化性樹脂組成物からなる層を硬化させて樹脂絶縁層を形成させるか、又は、重合性組成物の塊状開環重合と架橋剤による架橋反応とを同時並行的に進行させて、導体回路上に硬化性樹脂組成物からなる層を設けるのと並行して該層を硬化させて樹脂絶縁層を形成させることができる。
一方、重合性組成物を用いてフィルム又はプリプレグを形成し、それを導体回路上に重ねることにより硬化性樹脂組成物からなる層を設ける場合、ワニスの場合に準じて、重合性組成物を支持体上に塗布し、所望により乾燥させ、次いで実質的に塊状開環重合のみを進行させることにより、硬化性樹脂組成物からなるフィルムを得るか、又は、ワニスの場合に準じて、重合性組成物を強化繊維に含浸させ、次いで実質的に塊状開環重合のみを進行させることにより、硬化性樹脂組成物が強化繊維に含浸してなるプリプレグを得、そのようにして得られたフィルム又はプリプレグを導体回路の上に重ねることで容易に行うことができる。重合性組成物は、前記ワニスと比較して粘度が低く、強化繊維に対して速やかに満遍なく含浸し得る。従って、重合性組成物を強化繊維に含浸させることで、強化繊維に対する重合体成分の含浸性と密着性に優れたプリプレグが得られる。
When a layer made of a curable resin composition is provided on a conductor circuit by directly applying the polymerizable composition on the conductor circuit and molding and bulk ring-opening polymerization, for example, the conductor circuit is provided on the uppermost layer. Then, a laminate in which conductor circuits and resin insulating layers are alternately laminated on the core substrate is placed in advance in a mold, and then a polymerizable composition is injected into the mold to form and block-open. It can be carried out by ring polymerization. For example, the mold having the split mold structure may be used. In this embodiment, first, only a bulk ring-opening polymerization of the polymerizable composition is allowed to proceed to provide a layer made of the curable resin composition on the conductor circuit, and then a crosslinking reaction with a crosslinking agent is allowed to proceed separately. The layer made of the curable resin composition is cured to form a resin insulating layer, or the bulk ring-opening polymerization of the polymerizable composition and the crosslinking reaction by the crosslinking agent are simultaneously performed in parallel to form a conductor circuit. In parallel with providing the layer which consists of a curable resin composition on this, this layer can be hardened and a resin insulating layer can be formed.
On the other hand, when a film or prepreg is formed using the polymerizable composition and a layer made of the curable resin composition is provided by overlapping it on the conductor circuit, the polymerizable composition is supported according to the case of the varnish. Apply on the body, dry if desired, and then proceed with substantially only the bulk ring-opening polymerization to obtain a film made of the curable resin composition, or the polymerizable composition according to the case of varnish A prepreg formed by impregnating the reinforcing fiber with the curable resin composition and then proceeding with substantially only ring-opening polymerization to obtain a prepreg obtained by impregnating the reinforcing fiber with the reinforcing fiber, and the film or prepreg thus obtained Can be easily performed by superimposing on the conductor circuit. The polymerizable composition has a lower viscosity than the varnish, and can quickly and uniformly impregnate the reinforcing fibers. Therefore, by impregnating the reinforcing fiber with the polymerizable composition, a prepreg excellent in the impregnation property and adhesion of the polymer component to the reinforcing fiber can be obtained.

前記方法(II)において、例えば、架橋剤としてラジカル発生剤を用いる場合、実質的に重合性組成物の塊状開環重合のみを進行させ、架橋反応を進行させないようにするためには、塊状開環重合のピーク温度を、通常、ラジカル発生剤の1分間半減期温度以下とする。その際の加熱温度は、通常、30〜250℃、好ましくは50〜200℃、より好ましくは90〜150℃の範囲であって、かつラジカル発生剤の1分間半減期温度以下、好ましくは1分間半減期温度の10℃以下、より好ましくは1分間半減期温度の20℃以下である。また、重合時間は適宜選択すればよいが、通常、1秒間〜20分間、好ましくは10秒間〜5分間である。
一方、重合性組成物の塊状開環重合と架橋剤による架橋反応とを同時並行的に進行させる場合、加熱温度は、通常、架橋剤により架橋反応が誘起される温度以上である。例えば、架橋剤としてラジカル発生剤を使用する場合、加熱温度は、通常、ラジカル発生剤の1分間半減期温度以上、好ましくは1分間半減期温度より5℃以上高い温度、より好ましくは1分間半減期温度より10℃以上高い温度である。典型的には、100〜300℃、好ましくは150〜250℃の範囲である。加熱時間は、0.1〜180分間、好ましくは0.5〜120分間、より好ましくは1〜60分間の範囲である。なお、樹脂絶縁層の形成に、前記重合性組成物を用いて得られたフィルム又はプリプレグを用いる場合も同様に、加熱温度を、通常、ラジカル発生剤の1分間半減期温度以上、好ましくは1分間半減期温度より5℃以上高い温度、より好ましくは1分間半減期温度より10℃以上高い温度とし、上記典型温度範囲で前記フィルム又はプリプレグを加熱及び硬化すれば樹脂絶縁層が形成される。
In the method (II), for example, when a radical generator is used as the crosslinking agent, in order to substantially only advance the bulk ring-opening polymerization of the polymerizable composition and not to cause the crosslinking reaction to proceed, the bulk opening is performed. The peak temperature of the ring polymerization is usually set to the 1 minute half-life temperature or less of the radical generator. The heating temperature at that time is usually in the range of 30 to 250 ° C., preferably 50 to 200 ° C., more preferably 90 to 150 ° C., and not more than the 1 minute half-life temperature of the radical generator, preferably 1 minute. The half-life temperature is 10 ° C. or lower, more preferably, the 1-minute half-life temperature is 20 ° C. or lower. The polymerization time may be appropriately selected, but is usually 1 second to 20 minutes, preferably 10 seconds to 5 minutes.
On the other hand, when the bulk ring-opening polymerization of the polymerizable composition and the crosslinking reaction by the crosslinking agent proceed simultaneously in parallel, the heating temperature is usually equal to or higher than the temperature at which the crosslinking reaction is induced by the crosslinking agent. For example, when a radical generator is used as the crosslinking agent, the heating temperature is usually at least 1 minute half-life temperature of the radical generator, preferably at least 5 ° C higher than the 1-minute half-life temperature, more preferably half-minute for 1 minute. The temperature is 10 ° C. or more higher than the initial temperature. Typically, it is in the range of 100 to 300 ° C, preferably 150 to 250 ° C. The heating time is in the range of 0.1 to 180 minutes, preferably 0.5 to 120 minutes, more preferably 1 to 60 minutes. In addition, also when using the film or prepreg obtained using the said polymeric composition for formation of a resin insulating layer, heating temperature is normally 1 minute half-life temperature or more of a radical generating agent, Preferably it is 1 A resin insulation layer is formed by heating and curing the film or prepreg within the above typical temperature range at a temperature 5 ° C. or more higher than the minute half-life temperature, more preferably 10 ° C. or more higher than the 1-minute half-life temperature.

以上の方法(I)又は(II)において、例えば、支持体として銅箔を用いれば、当該支持体と硬化性樹脂組成物からなる層との積層体として樹脂付き銅箔〔Resin Coated Copper (RCC)〕を得ることができる。また、さらに樹脂を硬化させれば銅張積層板〔Copper Clad Laminates (CCL)〕を得ることができる。これらのRCCやCCLも、本発明の多層プリント配線板の製造において公知の方法に従い適宜使用可能である。なお、硬化性樹脂組成物からなる層は、所望により1又は2以上とすることができる。   In the above method (I) or (II), for example, if a copper foil is used as a support, a resin-coated copper foil [Resin Coated Copper (RCC) is used as a laminate of the support and a layer made of a curable resin composition. )] Can be obtained. If the resin is further cured, a copper clad laminate (Copper Clad Laminates (CCL)) can be obtained. These RCC and CCL can also be appropriately used according to a known method in the production of the multilayer printed wiring board of the present invention. In addition, the layer which consists of curable resin compositions can be made into 1 or 2 or more depending on necessity.

〔多層プリント配線板の製造方法〕
以下、本発明の多層プリント配線板の製造方法について詳細に説明する。本発明の多層プリント配線板の製造方法は、多層プリント配線板へのビアホール及び/又はスルーホールの形成の仕方に応じて、大きく第1〜第3の態様に分けられる。
[Manufacturing method of multilayer printed wiring board]
Hereinafter, the manufacturing method of the multilayer printed wiring board of this invention is demonstrated in detail. The manufacturing method of the multilayer printed wiring board of this invention is divided roughly into the 1st-3rd aspect according to the method of forming the via hole and / or through hole in a multilayer printed wiring board.

(第1の態様)
本態様においては、表面に導体回路が設けられたコア基板上において、前記硬化性樹脂組成物からなる層を設け、該層を硬化して樹脂絶縁層を形成した後、該樹脂絶縁層にビアホール用開口及び/又はスルーホール用開口を形成し、次いで、該樹脂絶縁層上に、該開口に形成されたビアホール及び/又はスルーホールを含む導体回路を形成する工程を少なくとも1回行うことにより、多層プリント配線板を製造する。
(First aspect)
In this embodiment, a layer made of the curable resin composition is provided on a core substrate having a conductor circuit provided on the surface, the layer is cured to form a resin insulating layer, and then a via hole is formed in the resin insulating layer. Forming a conductive circuit including a via hole and / or a through hole formed in the opening on the resin insulating layer, and at least one step of forming a through hole and / or a through hole opening, Manufactures multilayer printed wiring boards.

(第2の態様)
本態様においては、表面に導体回路が設けられたコア基板上において、前記硬化性樹脂組成物からなる層を設け、該層を硬化して樹脂絶縁層を形成した後、該樹脂絶縁層にビアホール用開口を形成し、次いで、該樹脂絶縁層上に、該開口に形成されたビアホールを含む導体回路を形成する工程を少なくとも1回行い、前記工程を少なくとも1回行うことにより得られた、コア基板上に導体回路と樹脂絶縁層とが交互に積層されてなる積層体の表面にある導体回路上に、前記工程と同様にして樹脂絶縁層R1を形成した後、樹脂絶縁層R1が形成された積層体に該樹脂絶縁層R1から該積層体を厚さ方向に貫通するようにスルーホール用開口を形成し、次いで、該樹脂絶縁層R1上に、該開口に形成されたスルーホールを含む導体回路C1を形成する工程を行うことにより、多層プリント配線板を製造する。
(Second aspect)
In this embodiment, a layer made of the curable resin composition is provided on a core substrate having a conductor circuit provided on the surface, the layer is cured to form a resin insulating layer, and then a via hole is formed in the resin insulating layer. A core obtained by forming an opening for use and then forming a conductor circuit including a via hole formed in the opening on the resin insulating layer at least once, and performing the step at least once After the resin insulation layer R1 is formed on the conductor circuit on the surface of the laminate formed by alternately laminating the conductor circuits and the resin insulation layers on the substrate in the same manner as described above, the resin insulation layer R1 is formed. A through-hole opening is formed in the laminated body so as to penetrate the laminated body in the thickness direction from the resin insulating layer R1, and then the through-hole formed in the opening is included on the resin insulating layer R1. Form conductor circuit C1 By performing the step of, producing a multi-layer printed wiring board.

(第3の態様)
本態様においては、表面に導体回路が設けられたコア基板上において、前記硬化性樹脂組成物からなる層を設け、該層を硬化して樹脂絶縁層を形成した後、該樹脂絶縁層上に導体回路を形成する工程を少なくとも1回行い、前記工程を少なくとも1回行うことにより得られた、コア基板上に導体回路と樹脂絶縁層とが交互に積層されてなる積層体の表面にある導体回路上に、前記工程と同様にして樹脂絶縁層R2を形成した後、樹脂絶縁層R2が形成された積層体に該樹脂絶縁層R2から該積層体を厚さ方向に貫通するようにスルーホール用開口を形成し、次いで、該樹脂絶縁層R2上に、該開口に形成されたスルーホールを含む導体回路C2を形成する工程を行うことにより、多層プリント配線板を製造する。
(Third aspect)
In this embodiment, a layer made of the curable resin composition is provided on a core substrate having a conductor circuit provided on the surface, the layer is cured to form a resin insulation layer, and then the resin insulation layer is formed on the resin insulation layer. Conductor on the surface of a laminate obtained by alternately forming conductor circuits and resin insulating layers on a core substrate, obtained by performing the process of forming a conductor circuit at least once and performing the process at least once. After the resin insulating layer R2 is formed on the circuit in the same manner as in the above step, a through-hole is formed so as to penetrate the laminate from the resin insulating layer R2 in the thickness direction into the laminate on which the resin insulating layer R2 is formed. A multilayer printed wiring board is manufactured by forming a conductive opening and then forming a conductor circuit C2 including a through hole formed in the opening on the resin insulating layer R2.

以下、第1〜第3の態様で行われる各工程での操作について説明する。なお、第1の態様で行われる工程での操作は、第2及び第3の各態様でも共通するため、第1の態様を中心に説明し、第2及び第3の各態様における、第1の態様とは異なる操作については補足的に説明する。各操作は公知の方法に従って適宜行うことができる。   Hereinafter, operations in each process performed in the first to third aspects will be described. In addition, since the operation in the process performed in the first aspect is common to both the second and third aspects, the first aspect will be mainly described, and the first and second aspects will be described. Operations different from those of the above will be described supplementarily. Each operation can be appropriately performed according to a known method.

(1)導体回路は、例えば、以下のようにしてコア基板の表面に形成することができる。
コア基板としては、通常、その片面又は両面に銅箔を貼った、繊維強化樹脂からなる樹脂基板(銅張積層板)が用いられる。樹脂基板としては、例えば、ガラス・エポキシ基板、ガラス・ポリイミド基板、ガラス・ビスマレイミド−トリアジン樹脂基板、及びガラス・フッ素樹脂基板等が挙げられる。また、コア基板として、前記硬化性樹脂組成物を用いて得られる銅張積層板を用いてもよい。本発明の多層プリント配線板を用いて、より省電力型の多層プリント回路板の製造を所望する場合、コア基板としては、前記硬化性樹脂組成物を用いて得られる銅張積層板を用いるのが好ましい。多層プリント配線板を薄型化させる観点から、コア基板としての銅張積層板の厚さとしては、通常、0.06〜1.2mmであり、銅箔の厚さとしては、通常、0.1〜100μmである。
(1) The conductor circuit can be formed on the surface of the core substrate as follows, for example.
As the core substrate, a resin substrate (copper-clad laminate) made of a fiber reinforced resin in which a copper foil is pasted on one side or both sides is usually used. Examples of the resin substrate include a glass / epoxy substrate, a glass / polyimide substrate, a glass / bismaleimide-triazine resin substrate, and a glass / fluorine resin substrate. Moreover, you may use the copper clad laminated board obtained using the said curable resin composition as a core board | substrate. When it is desired to produce a more power-saving multilayer printed circuit board using the multilayer printed wiring board of the present invention, a copper-clad laminate obtained using the curable resin composition is used as the core substrate. Is preferred. From the viewpoint of thinning the multilayer printed wiring board, the thickness of the copper clad laminate as the core substrate is usually 0.06 to 1.2 mm, and the thickness of the copper foil is usually 0.1. ˜100 μm.

コア基板にはスルーホールを設けてもよい。スルーホールは、コア基板にドリルで厚さ方向に貫通孔(スルーホール用開口)を設け、該貫通孔の壁面及び銅箔表面に無電解めっきを施して形成する。無電解めっきとしては、通常、銅めっきが用いられる。さらに、銅箔の厚付けのために電気めっきを行ってもよい。電気めっきとしては、通常、銅めっきが用いられる。なお、スルーホール用開口の内壁に公知の方法により粗化処理を施し、該開口を樹脂ペースト等で充填し、充填部分の表面に対し無電解めっき又は電気めっきにて導体層を形成してもよい。   A through hole may be provided in the core substrate. The through hole is formed by providing a through hole (through hole opening) in the thickness direction with a drill in the core substrate and subjecting the wall surface of the through hole and the copper foil surface to electroless plating. As electroless plating, copper plating is usually used. Furthermore, electroplating may be performed for thickening the copper foil. As electroplating, copper plating is usually used. Note that the inner wall of the through-hole opening is roughened by a known method, the opening is filled with a resin paste or the like, and a conductive layer is formed on the surface of the filling portion by electroless plating or electroplating. Good.

導体回路は、コア基板上の銅のベタパターン上にフォトリソグラフィーの手法を用いてエッチングレジストを形成し、続いて、エッチングを行うことにより、任意にスルーホールを含む形で形成することができる。かかる導体回路は、スルーホールを構成する導体層に接続されている。   The conductor circuit can be formed in a form that optionally includes a through hole by forming an etching resist on a copper solid pattern on the core substrate by using a photolithography technique and then performing etching. Such a conductor circuit is connected to a conductor layer constituting a through hole.

(2)次に、形成された導体回路に、所望により粗化処理を施す。また、導体回路に粗化処理を施さず、導体回路が形成されたコア基板を任意の接着樹脂成分を溶解した溶液に浸漬し、導体回路の表面に接着樹脂層を形成し、その上に形成する樹脂絶縁層との密着性を確保してもよい。 (2) Next, a roughening process is performed on the formed conductor circuit as desired. Also, without roughening the conductor circuit, the core substrate on which the conductor circuit is formed is immersed in a solution in which any adhesive resin component is dissolved, and an adhesive resin layer is formed on the surface of the conductor circuit. You may ensure adhesiveness with the resin insulation layer.

(3)表面に導体回路が設けられたコア基板上において、片面又は両面に設けられた導体回路上に前記硬化性樹脂組成物からなる層を設け、該層を硬化して樹脂絶縁層(層間樹脂絶縁層)を形成する。樹脂絶縁層は、硬化性樹脂組成物により、前記のようにして形成することができる。生産効率を高める観点から、硬化性樹脂組成物からなるフィルム又はプリプレグを加熱圧着し、硬化させて樹脂絶縁層を形成する方法が好ましい。その際、フィルム又はプリプレグは、所望により1又は2以上積層可能である。加熱圧着は、フィルム又はプリプレグを、架橋剤により架橋反応が誘起される温度以上の温度に加熱すると共に、通常、0.1〜20Mpaの範囲のプレス圧力でプレスすることにより行うことができる。加熱圧着は、真空下、又は減圧雰囲気下で行ってもよい。このようにして形成される樹脂絶縁層の厚さとしては、通常、0.04〜0.2mmである。
なお、本発明の所望の効果の発現が阻害されない限り、本発明の多層プリント配線板の樹脂絶縁層を、前記硬化性樹脂組成物の硬化物以外の公知材料により形成してもよい。かかる公知材料としては、例えば、PPE(ポリフェニレンエーテル)、BTレジン(ビスマレイミドトリアジン)、エポキシ樹脂、ポリイミド樹脂、フッ素樹脂、フェノール樹脂、及びポリアミドビスマレイミドなどが挙げられる。
(3) On the core substrate having a conductor circuit provided on the surface, a layer made of the curable resin composition is provided on the conductor circuit provided on one side or both sides, and the layer is cured to form a resin insulating layer (interlayer) Resin insulation layer). The resin insulating layer can be formed of a curable resin composition as described above. From the viewpoint of increasing production efficiency, a method of forming a resin insulating layer by heat-pressing and curing a film or prepreg made of a curable resin composition is preferable. At that time, the film or the prepreg can be laminated one or more if desired. Thermocompression bonding can be performed by heating the film or prepreg to a temperature equal to or higher than the temperature at which the crosslinking reaction is induced by the crosslinking agent, and usually pressing at a pressing pressure in the range of 0.1 to 20 Mpa. Thermocompression bonding may be performed under vacuum or in a reduced pressure atmosphere. The thickness of the resin insulating layer thus formed is usually 0.04 to 0.2 mm.
In addition, as long as expression of the desired effect of this invention is not inhibited, you may form the resin insulation layer of the multilayer printed wiring board of this invention by well-known materials other than the hardened | cured material of the said curable resin composition. Examples of such known materials include PPE (polyphenylene ether), BT resin (bismaleimide triazine), epoxy resin, polyimide resin, fluororesin, phenol resin, and polyamide bismaleimide.

(4)次に、樹脂絶縁層にビアホール用開口及び/又はスルーホール用開口を形成する。
ビアホール用開口は、通常、樹脂絶縁層にレーザー光を照射するか、又はドリルを用いて形成する。レーザー光としては、例えば、炭酸ガス(CO2 )レーザー、紫外線レーザー、エキシマレーザー等が挙げられるが、中でも、エキシマレーザーや炭酸ガスレーザーが好ましい。エキシマレーザーは、ビアホール用開口を形成する部分に貫通孔が形成されたマスク等を用いることにより、一度に多数のビアホール用開孔を形成することができる。また、炭酸ガスレーザーは、開口内の樹脂残りが少なく、開口周縁の樹脂に対するダメージが小さいので好適である。ビアホール用開口の孔径としては、通常、10〜200μm程度が望ましい。
(4) Next, via hole openings and / or through hole openings are formed in the resin insulating layer.
The opening for the via hole is usually formed by irradiating the resin insulating layer with laser light or using a drill. Examples of the laser light include a carbon dioxide (CO 2 ) laser, an ultraviolet laser, and an excimer laser. Among these, an excimer laser and a carbon dioxide gas laser are preferable. The excimer laser can form a large number of openings for via holes at a time by using a mask or the like in which through holes are formed in a portion for forming openings for via holes. Further, the carbon dioxide laser is preferable because the resin remaining in the opening is small and the damage to the resin around the opening is small. Generally, the hole diameter of the via hole opening is preferably about 10 to 200 μm.

一方、スルーホール用開口は、例えば、前記(1)に準じ、樹脂絶縁層を厚さ方向に貫通するように形成する。スルーホール用開口の孔径としては、通常、10〜500μm程度が望ましい。   On the other hand, the through-hole opening is formed so as to penetrate the resin insulating layer in the thickness direction, for example, according to (1). As a hole diameter of the opening for through holes, about 10 to 500 μm is usually desirable.

レーザー光にて開口を形成した場合、特に炭酸ガスレーザーを用いた場合には、デスミア処理を行うのが望ましい。上記デスミア処理は、クロム酸や過マンガン酸塩等の水溶液からなる酸化剤を使用して行うことができる。   When the opening is formed by laser light, particularly when a carbon dioxide laser is used, it is desirable to perform desmear treatment. The desmear treatment can be carried out using an oxidizing agent comprising an aqueous solution such as chromic acid or permanganate.

本発明においては、樹脂絶縁層が前記硬化性樹脂組成物の硬化物により形成されることから、従来と異なり、樹脂絶縁層の穴の内壁の品質を実質的に低下させることなく、1回の操作で連続して実用上必要な程度に多数の穴を樹脂絶縁層に形成することができる。なお、樹脂絶縁層に穴をあける際のドリル又はレーザーの使用条件は、所望の穴を形成可能であれば、特に限定されるものではない。
樹脂絶縁層に形成する、ビアホール用開口及び/又はスルーホール用開口の数は、特に限定されるものではなく、所望により選択すればよいが、工業規模で効率的に所望の多層プリント配線板を製造する観点から、ドリル又はレーザーにより連続して少なくとも500個、好ましくは1000個、より好ましくは2000個形成するのが望ましい。ドリルにより連続して開口を形成するとは、ドリル1機により連続して開口を形成するとの意味である。また、このようにしてビアホール用開口及び/又はスルーホール用開口を形成する場合、より高密度な配線形成を可能にする観点から、ビアホール用開口及び/又はスルーホール用開口を、隣り合う、いずれの2つの開口の間隔も、通常、200μm以下、好ましくは150μm以下となるように形成するのが望ましい。なお、開口の間隔の下限としては、50μm程度である。従来、層間絶縁層の材料として用いられている低温焼成セラミック(LTCC)では、200μm以下の間隔で開口形成することは実用的に不可能である。本発明の多層プリント配線板では、200μm以下の間隔にてビアホール用開口及び/又はスルーホール用開口を形成しても絶縁信頼性が保たれており、従って、本発明の多層プリント配線板を用いることにより多層プリント回路板を小型化可能である。本明細書において、開口の間隔とは、図1に示す、隣り合う2つの開口において、開口1の半径a、開口2の半径b、及び開口1と2の円の中心間距離Lにより、L−(a+b)と表される距離Dをいう。ここで「隣り合う2つの開口」とは、最も短い距離を挟んで隣り合う2つの開口をいう。
本発明の多層プリント配線板を製造するにあたっては、少なくとも1層の樹脂絶縁層に対し、ドリルやレーザーを用いて、上記の通りにビアホール用開口及び/又はスルーホール用開口を形成するのが望ましい。そのようにしてビアホール用開口及び/又はスルーホール用開口を形成してなる樹脂絶縁層(以下、樹脂絶縁層Yという場合がある。)により、本発明の多層プリント配線板の全ての樹脂絶縁層が形成されているのが好ましいが、本発明の多層プリント配線板における樹脂絶縁層Yの全樹脂絶縁層中の割合は、所望により適宜選択することができる。
In the present invention, since the resin insulating layer is formed of a cured product of the curable resin composition, unlike the conventional case, the quality of the inner wall of the hole of the resin insulating layer is substantially reduced without being deteriorated once. A large number of holes can be formed in the resin insulating layer continuously to the extent necessary for practical use. In addition, the use conditions of a drill or a laser at the time of making a hole in the resin insulating layer are not particularly limited as long as a desired hole can be formed.
The number of via-hole openings and / or through-hole openings formed in the resin insulation layer is not particularly limited and may be selected as desired. However, a desired multilayer printed wiring board can be efficiently produced on an industrial scale. From the viewpoint of manufacturing, it is desirable to form at least 500, preferably 1000, more preferably 2000 continuously by a drill or a laser. Forming openings continuously with a drill means that openings are continuously formed with one drill. Further, when the via hole opening and / or the through hole opening are formed in this way, the via hole opening and / or the through hole opening are adjacent to each other from the viewpoint of enabling higher-density wiring formation. It is desirable that the distance between the two openings is usually 200 μm or less, preferably 150 μm or less. In addition, the lower limit of the opening interval is about 50 μm. Conventionally, in low-temperature fired ceramics (LTCC) used as a material for an interlayer insulating layer, it is practically impossible to form openings at intervals of 200 μm or less. In the multilayer printed wiring board of the present invention, insulation reliability is maintained even when via hole openings and / or through hole openings are formed at intervals of 200 μm or less. Therefore, the multilayer printed wiring board of the present invention is used. Thus, the multilayer printed circuit board can be miniaturized. In the present specification, the distance between the openings is defined by the radius a of the opening 1, the radius b of the opening 2, and the center distance L between the circles of the openings 1 and 2 in two adjacent openings shown in FIG. A distance D expressed as-(a + b). Here, “two adjacent openings” refers to two adjacent openings across the shortest distance.
In producing the multilayer printed wiring board of the present invention, it is desirable to form a via hole opening and / or a through hole opening as described above with respect to at least one resin insulating layer using a drill or a laser. . All the resin insulation layers of the multilayer printed wiring board of the present invention are formed by the resin insulation layer (hereinafter sometimes referred to as “resin insulation layer Y”) in which openings for via holes and / or through holes are thus formed. However, the ratio of the resin insulation layer Y to the total resin insulation layer in the multilayer printed wiring board of the present invention can be appropriately selected as desired.

なお、前記(3)及び(4)の操作に換え、以下のようにして、ビアホール用開口及び/又はスルーホール用開口が設けられた樹脂絶縁層を形成することもできる。例えば、前記フィルム又はプリプレグを硬化させて、それらの硬化物を得る。当該硬化物に対し、前記(4)に記載するようにして、ビアホール用開口及び/又はスルーホール用開口となる穴を開ける。そのようにして得られた、所望の穴を有する硬化物を、表面に導体回路が設けられたコア基板上において、片面又は両面に設けられた導体回路上に、任意の接着樹脂成分を用いて張り合わせ、樹脂絶縁層を形成する。   Instead of the operations (3) and (4), a resin insulating layer provided with a via hole opening and / or a through hole opening can be formed as follows. For example, the film or prepreg is cured to obtain a cured product thereof. In the cured product, as described in (4) above, a hole to be a via hole opening and / or a through hole opening is formed. The cured product having a desired hole thus obtained is used on the core substrate provided with the conductor circuit on the surface, on the conductor circuit provided on one side or both sides, using an arbitrary adhesive resin component. Bonding and forming a resin insulating layer.

(5)樹脂絶縁層の表面を、所望により、粗化処理する。次いで、樹脂絶縁層に無電解めっきを行う。無電解めっきとしては、通常、銅めっきが用いられる。得られた無電解めっき膜上にめっきレジストを形成する。めっきレジストは、感光性ドライフィルムを無電解めっき膜上に重ね、露光、及び現像処理を行うことにより形成される。なお、無電解めっきを省略することも可能である。 (5) The surface of the resin insulating layer is roughened as desired. Next, electroless plating is performed on the resin insulating layer. As electroless plating, copper plating is usually used. A plating resist is formed on the obtained electroless plating film. The plating resist is formed by stacking a photosensitive dry film on an electroless plating film, and performing exposure and development processing. Note that electroless plating may be omitted.

(6)次に、樹脂絶縁層上に形成された無電解めっき膜をめっきリードとして電気めっきを行い、導体回路を厚付けする。樹脂絶縁層に行う、無電解めっきと電気めっきとにより、ビアホール用開口及び/又はスルーホール用開口の内壁上に導体層が形成され、得られたビアホール及び/又はスルーホールを介して基板中の導体回路が接続される。ビアホールは、開口を電気めっきにより、又は導電性ペースト(例えば、Agなど)により充填し、フィルドビアとすることができる。ビアホールには、穴があいた状態のコンフォーマルビアと、穴が充填されたフィルドビアとがあるが、ビアとビアを重ねたスタックビアや、電子部品接合部をビア直上に搭載するジョイントオンビアなどを利用して高密度設計が可能になることから、フィルドビアとするのが好ましい。また、例えば、ビアオンビア構造とすることにより、ビアホール及び/又はスルーホールを放熱路とすることもできる。 (6) Next, electroplating is performed using the electroless plating film formed on the resin insulating layer as a plating lead to thicken the conductor circuit. A conductive layer is formed on the inner wall of the via hole opening and / or the through hole opening by electroless plating and electroplating performed on the resin insulating layer, and the resulting in the substrate via the via hole and / or through hole. A conductor circuit is connected. Via holes can be filled vias by filling the openings with electroplating or with a conductive paste (eg, Ag). There are two types of via holes: conformal vias with holes and filled vias filled with holes. Stack vias with vias stacked on top of each other, and joint-on vias with electronic component joints mounted directly above the vias. It is preferable to use a filled via because high density design is possible by using. Further, for example, by using a via-on-via structure, a via hole and / or a through hole can be used as a heat dissipation path.

(7)電気めっき膜を形成した後、めっきレジストを剥離し、めっきレジストの下に存在していた無電解めっき膜をエッチングにより除去し、独立した導体回路とする。エッチング液としては、例えば、硫酸−過酸化水素水溶液、過硫酸アンモニウム、過硫酸ナトリウム、過硫酸カリウム等の過硫酸塩水溶液、塩化第二鉄、塩化第二銅の水溶液、塩酸、硝酸、熱希硫酸等が挙げられる。以上により、前記(4)でビアホール用開口及び/又はスルーホール用開口を形成した樹脂絶縁層上に、それらの開口に形成されたビアホール及び/又はスルーホールを含む導体回路が形成される。かかる導体回路は、ビアホール及び/又はスルーホールを構成する導体層に接続されている。なお、導体回路を構成する導体層の厚さとしては、通常、10〜40μmである。 (7) After the electroplating film is formed, the plating resist is peeled off, and the electroless plating film existing under the plating resist is removed by etching to form an independent conductor circuit. Examples of the etchant include sulfuric acid-hydrogen peroxide aqueous solution, ammonium persulfate aqueous solution, persulfate aqueous solution such as sodium persulfate, potassium persulfate, ferric chloride, cupric chloride aqueous solution, hydrochloric acid, nitric acid, hot dilute sulfuric acid. Etc. As described above, the conductor circuit including the via hole and / or the through hole formed in the opening is formed on the resin insulating layer in which the via hole opening and / or the through hole opening is formed in (4). Such a conductor circuit is connected to a conductor layer constituting a via hole and / or a through hole. In addition, as thickness of the conductor layer which comprises a conductor circuit, it is 10-40 micrometers normally.

(8)以上の操作で、表面に導体回路が設けられたコア基板上の片面又は両面に一層の樹脂絶縁層と一層の導体回路がこの順で形成された積層体が得られる。樹脂絶縁層と導体回路の形成は、この段階で終了してもよいし、又は、所望により、該積層体の表面にある導体回路上において、以上の(2)〜(7)の操作を、さらに1回以上繰り返してもよい。 (8) By the above operation, a laminate in which one resin insulating layer and one conductor circuit are formed in this order on one side or both sides on the core substrate on which the conductor circuit is provided on the surface is obtained. The formation of the resin insulating layer and the conductor circuit may be terminated at this stage, or, if desired, the above operations (2) to (7) are performed on the conductor circuit on the surface of the laminate. Further, it may be repeated once or more.

(9)前記(8)までの操作により、コア基板上に導体回路と樹脂絶縁層とが交互に積層されてなる積層体が得られるが、通常、当該積層体の表面にある導体回路上に、さらにソルダーレジスト層を設け、該ソルダーレジスト層を開口してハンダバンプを設け、多層プリント配線板が得られる。 (9) By the operations up to (8), a laminated body in which conductor circuits and resin insulating layers are alternately laminated on the core substrate is obtained. Usually, on the conductor circuit on the surface of the laminated body. Further, a solder resist layer is provided, and the solder resist layer is opened to provide solder bumps, whereby a multilayer printed wiring board is obtained.

前記第2の態様では、前記(2)〜(8)の操作においてビアホールのみを形成する。次いで、前記(2)〜(7)の操作を少なくとも1回行って得られる、コア基板上に導体回路と樹脂絶縁層とが交互に積層されてなる積層体の表面にある導体回路上に、前記(2)と(3)に準じて樹脂絶縁層R1を形成した後、前記(4)に準じて樹脂絶縁層R1が形成された積層体に該樹脂絶縁層R1から該積層体を厚さ方向に貫通するようにスルーホール用開口を形成し、次いで、該樹脂絶縁層R1上に、前記(5)〜(7)に準じてスルーホールを含む導体回路C1を形成する工程を行う。樹脂絶縁層R1からスルーホール用開口を形成する際、前記(4)に準じて樹脂絶縁層R1にビアホール用開口を形成しておき、導体回路C1がさらにビアホールを含むものとしてもよい。導体回路の接続に不要なスルーホール用開口がある場合、例えば、前記重合性組成物又は前記硬化性樹脂組成物を充填して樹脂硬化物とし、当該硬化物により当該開口を埋め、次いで、導体回路C1を形成してもよい。前記(9)に準じ、通常、得られた積層体の表面にある導体回路C1上に、さらにソルダーレジスト層を設け、該ソルダーレジスト層を開口してハンダバンプを設け、多層プリント配線板が得られる。   In the second aspect, only the via hole is formed in the operations (2) to (8). Next, on the conductor circuit on the surface of the laminate obtained by alternately laminating the conductor circuit and the resin insulating layer on the core substrate, which is obtained by performing the operations (2) to (7) at least once, After forming the resin insulation layer R1 according to the above (2) and (3), the thickness of the laminate from the resin insulation layer R1 to the laminate having the resin insulation layer R1 formed according to the above (4) is increased. A through-hole opening is formed so as to penetrate in the direction, and then a step of forming a conductor circuit C1 including a through-hole according to the above (5) to (7) is performed on the resin insulating layer R1. When the through-hole opening is formed from the resin insulating layer R1, a via-hole opening may be formed in the resin insulating layer R1 according to the above (4), and the conductor circuit C1 may further include a via hole. When there is an opening for a through hole that is unnecessary for the connection of the conductor circuit, for example, the resin composition is filled with the polymerizable composition or the curable resin composition, the opening is filled with the cured product, and then the conductor The circuit C1 may be formed. According to the above (9), usually, a solder resist layer is further provided on the conductor circuit C1 on the surface of the obtained laminate, and a solder bump is provided by opening the solder resist layer to obtain a multilayer printed wiring board. .

前記第3の態様では、前記(2)〜(8)の操作においてビアホール及びスルーホールのいずれも形成しないことを除いて、前記第2の態様で行われるのと同様の操作を行って樹脂絶縁層R2及び導体回路C2を形成することにより、多層プリント配線板が得られる。なお、第1及び第2の態様と同様の観点から、スルーホール用開口は、ドリル又はレーザーにより連続して少なくとも500個、好ましくは1000個、より好ましくは2000個形成するのが望ましく、かかる開口は、隣り合う、いずれの2つの開口の間隔も、通常、200μm以下、好ましくは150μm以下となるように形成するのが望ましい。なお、開口の間隔の下限としては、50μm程度である。   In the third aspect, resin insulation is performed by performing the same operation as that of the second aspect except that neither the via hole nor the through hole is formed in the operations of (2) to (8). A multilayer printed wiring board is obtained by forming the layer R2 and the conductor circuit C2. From the same viewpoint as the first and second embodiments, it is desirable to form at least 500, preferably 1000, more preferably 2000 through-hole openings continuously by a drill or a laser. The gap between any two adjacent openings is usually 200 μm or less, preferably 150 μm or less. In addition, the lower limit of the opening interval is about 50 μm.

以上の方法によれば、所望の多層プリント配線板を工業規模で効率的に製造可能である。   According to the above method, a desired multilayer printed wiring board can be efficiently manufactured on an industrial scale.

2.多層プリント配線板
本発明の多層プリント配線板は、前記製造方法により得られうる、コア基板上に導体回路と樹脂絶縁層とが交互に積層され、前記導体回路がビアホール及び/又はスルーホールを介して接続されてなる多層プリント配線板である。当該多層プリント配線板の樹脂絶縁層は、環状オレフィン系重合体と無機充填剤Xとを含む硬化性樹脂組成物の硬化物からなり、ビアホール用開口及び/又はスルーホール用開口の形成方法や数の多少にかかわらず、それらの内壁の品質が良好に保たれており、その上に形成される導体回路の接続用めっきの品質が高い。かかる本発明の多層プリント配線板は優れた絶縁信頼性を有し、伝送ロスが小さい。本発明の多層プリント配線板のかかる特性は、特に、前記樹脂絶縁層Yを含む多層プリント配線板について、絶縁層が本発明に係る硬化性樹脂組成物の硬化物以外の樹脂材料からなること以外は同様にして得られた多層プリント配線板と比較した場合、一層明確である。前記第3の態様により得られる、所定のスルーホール用開口を有する多層プリント配線板についても同様である。
なお、樹脂絶縁層Yは、ビアホール用開口及び/又はスルーホール用開口を、隣り合う、いずれの2つの開口の間隔も前記所定範囲となるように形成してなるものが好ましい。
また、無機充填剤Xは熱伝導性に優れたものであるため、本発明の多層プリント配線板は放熱性にも優れる。
2. Multilayer Printed Wiring Board The multilayer printed wiring board of the present invention can be obtained by the above manufacturing method, wherein a conductor circuit and a resin insulating layer are alternately laminated on a core substrate, and the conductor circuit passes through a via hole and / or a through hole. It is the multilayer printed wiring board formed by connecting. The resin insulation layer of the multilayer printed wiring board is made of a cured product of a curable resin composition containing a cyclic olefin polymer and an inorganic filler X, and the number and method of forming openings for via holes and / or openings for through holes. However, the quality of the inner walls of the conductor circuit is kept good, and the quality of the plating for connecting the conductor circuit formed thereon is high. Such a multilayer printed wiring board of the present invention has excellent insulation reliability and a small transmission loss. This characteristic of the multilayer printed wiring board of the present invention is that the insulating layer is made of a resin material other than the cured product of the curable resin composition according to the present invention, particularly for the multilayer printed wiring board including the resin insulating layer Y. Is clearer when compared with a multilayer printed wiring board obtained in the same manner. The same applies to the multilayer printed wiring board obtained by the third aspect and having a predetermined through-hole opening.
The resin insulating layer Y is preferably formed by forming via hole openings and / or through hole openings so that the distance between any two adjacent openings is within the predetermined range.
Moreover, since the inorganic filler X is excellent in thermal conductivity, the multilayer printed wiring board of the present invention is also excellent in heat dissipation.

本発明の多層プリント配線板の樹脂絶縁層の穴の内壁の品質は良好である。具体的に、樹脂絶縁層におけるビアホール用開口及び/又はスルーホール用開口の表面粗度(Rz1)としては、通常、5μm以下である。なお、開口の表面粗度とは、開口の内壁の表面粗度である。伝送ロスを抑える観点から、Rz1としては、好ましくは3μm以下である。一方、Rz1の下限は、通常、100nm程度である。   The quality of the inner wall of the hole in the resin insulating layer of the multilayer printed wiring board of the present invention is good. Specifically, the surface roughness (Rz1) of the via hole opening and / or the through hole opening in the resin insulating layer is usually 5 μm or less. The surface roughness of the opening is the surface roughness of the inner wall of the opening. From the viewpoint of suppressing transmission loss, Rz1 is preferably 3 μm or less. On the other hand, the lower limit of Rz1 is usually about 100 nm.

また、樹脂絶縁層の穴の内壁の品質と同様に、伝送ロスを抑える観点から、本発明の多層プリント配線板の導体回路を構成する導体層の表面粗度(Rz2)としては、通常、3μm以下、好ましくは2μm以下、より好ましくは1μm以下である。一方、Rz2の下限は、通常、10nm程度である。   Further, from the viewpoint of suppressing transmission loss as well as the quality of the inner wall of the hole in the resin insulation layer, the surface roughness (Rz2) of the conductor layer constituting the conductor circuit of the multilayer printed wiring board of the present invention is usually 3 μm. Hereinafter, it is preferably 2 μm or less, more preferably 1 μm or less. On the other hand, the lower limit of Rz2 is usually about 10 nm.

なお、本明細書において表面粗度とは、図2に示すように、水平に置かれた特定の二層(I側が上層、II側が下層)の断面において、上層と下層との境界線の、上下方向における最上点を通って水平に補助線1を引き、また、上層と下層との境界線の、上下方向における最下点を通って水平に補助線2を引いたときの、補助線1と補助線2との最短距離Lをいう。本発明においては、1つの多層プリント配線板から得られた、研磨してなる任意の3つの断面の光学顕微鏡画像(倍率:10000倍)をそれぞれ用い、上記のようにして求めた3つの表面粗度の値の平均値を表面粗度の値として用いる。Rz1を求める場合、上記二層は、ビアホール用開口又はスルーホール用開口の内壁を境界線として接する樹脂絶縁層と導体層であり、Rz2を求める場合、上記二層は、樹脂絶縁層と導体回路を構成する導体層である。なお、Rz1に係る導体層は、樹脂絶縁層上に形成される導体回路の接続用の導体層であり、Rz2に係る、導体回路を構成する導体層とは区別される。   In addition, in this specification, as shown in FIG. 2, the surface roughness means a boundary line between an upper layer and a lower layer in a cross section of a specific two layers placed horizontally (I side is an upper layer, II side is a lower layer), The auxiliary line 1 is drawn horizontally through the uppermost point in the vertical direction, and the auxiliary line 1 is drawn horizontally through the lowest point in the vertical direction of the boundary line between the upper layer and the lower layer. And the shortest distance L between the auxiliary line 2. In the present invention, three surface roughnesses obtained as described above were obtained using optical microscope images (magnification: 10000 times) of arbitrary three cross sections obtained from one multilayer printed wiring board. The average value of the degree values is used as the surface roughness value. When Rz1 is obtained, the two layers are a resin insulating layer and a conductor layer that are in contact with the inner wall of the via hole opening or the through hole opening as a boundary line. When Rz2 is obtained, the two layers are a resin insulating layer and a conductor circuit. It is a conductor layer which comprises. The conductor layer according to Rz1 is a conductor layer for connecting a conductor circuit formed on the resin insulating layer, and is distinguished from the conductor layer constituting the conductor circuit according to Rz2.

さらに、本発明の多層プリント配線板において層間密着性を高め、伝送ロスを抑える観点から、本発明の多層プリント配線板の樹脂絶縁層に含まれる無機充填剤Xの平均粒径は、Rz2以上かつRz1以下であるのが好ましい。無機充填剤Xとして前記の通りの平均粒径を有する所定の無機充填剤を用いれば、通常、かかる条件が満たされる。   Furthermore, from the viewpoint of enhancing interlayer adhesion and suppressing transmission loss in the multilayer printed wiring board of the present invention, the average particle size of the inorganic filler X contained in the resin insulating layer of the multilayer printed wiring board of the present invention is Rz2 or more and Rz1 or less is preferable. If a predetermined inorganic filler having an average particle diameter as described above is used as the inorganic filler X, such a condition is usually satisfied.

本発明の多層プリント配線板の樹脂絶縁層には、前記の通り、本発明の所望の効果の発現が阻害されない限り、前記硬化性樹脂組成物の硬化物からなる樹脂絶縁層以外に、該硬化物以外の公知材料からなる樹脂絶縁層が含まれていてもよい。多層プリント配線板の全樹脂絶縁層中のその割合としては、(公知材料からなる樹脂絶縁層の数)を(全樹脂絶縁層の数)で除し、得られた値に100を乗じて計算して、通常、50%未満である。   As described above, the resin insulating layer of the multilayer printed wiring board according to the present invention is cured in addition to the resin insulating layer made of a cured product of the curable resin composition, unless the desired effect of the present invention is inhibited. The resin insulation layer which consists of well-known materials other than a thing may be contained. The ratio in the total resin insulation layer of the multilayer printed wiring board is calculated by dividing (number of resin insulation layers made of known materials) by (number of total resin insulation layers) and multiplying the obtained value by 100. Usually, it is less than 50%.

3.多層プリント回路板
本発明の多層プリント回路板は、本発明の多層プリント配線板に、電子部品を搭載し、及び/又は内蔵し、該電子部品を該多層プリント配線板の導体回路に接続してなるものである。なお、本明細書において「実装」という場合、電子部品を多層プリント配線板の導体回路に接続することをいう。また、多層プリント配線板の表面とは、多層プリント配線板の上面、すなわち、種々のチップ部品が搭載される主面を言う。
3. Multilayer Printed Circuit Board The multilayer printed circuit board of the present invention has electronic components mounted on and / or built in the multilayer printed wiring board of the present invention, and the electronic components are connected to the conductor circuit of the multilayer printed wiring board. It will be. In the present specification, “mounting” refers to connecting an electronic component to a conductor circuit of a multilayer printed wiring board. Moreover, the surface of a multilayer printed wiring board means the upper surface of a multilayer printed wiring board, ie, the main surface in which various chip components are mounted.

電子部品としては、特に限定はないが、例えば、大規模集積回路(LSI)、送信増幅器(Power Amp)、低雑音増幅器(Low Noise AMP)、電圧制御発振器(VCO)、又はそれらが多段に集積化されたICなどの能動素子、バンドパスフィルタを始めとする各種高周波フィルタ(バンドエミッションフィルタ、ハイパスフィルタ、ローパスフィルタ、ダイプレクサ、及びデュプレクサ等)、及びバランやカプラなどの受動素子、その他、各種各様の電子部品が挙げられる。   The electronic component is not particularly limited, but for example, a large-scale integrated circuit (LSI), a transmission amplifier (Power Amp), a low noise amplifier (Low Noise AMP), a voltage controlled oscillator (VCO), or those integrated in multiple stages Active devices such as integrated ICs, various high-frequency filters such as bandpass filters (band emission filters, high-pass filters, low-pass filters, diplexers, duplexers, etc.), passive devices such as baluns and couplers, and other various types Such electronic parts are listed.

電子部品を多層プリント配線板の表面に搭載して実装する場合、実装領域が小さくて済み、高密度実装を可能にできることから、電子部品をチップ状態のまま基板上に実装するベアチップ実装によるのが好ましい。ベアチップ実装の方法としては、リード線を設けたフィルムを用いて基板側の電極とチップ側の電極とを接続するTAB(Tape Automated Bonding)実装、基板側の電極とチップ側の電極とをワイヤによって接続するワイヤボンディング実装、及びチップの電極部分にバンプ(突起電極)を形成して基板側の電極とチップ側の電極とを直接接続するフリップチップ実装等が挙げられる。中でも、フリップチップ実装によるのが好ましい。   When mounting electronic components on the surface of a multilayer printed wiring board, mounting area is small and high-density mounting is possible. preferable. As a bare chip mounting method, TAB (Tape Automated Bonding) mounting, in which a substrate-side electrode and a chip-side electrode are connected using a film provided with a lead wire, the substrate-side electrode and the chip-side electrode are connected by a wire. Examples include wire bonding mounting for connection, and flip chip mounting in which bumps (projection electrodes) are formed on the electrode portions of the chip to directly connect the substrate-side electrode and the chip-side electrode. Of these, flip-chip mounting is preferred.

本発明の多層プリント配線板の表面に、例えば、LSIチップなどの半導体部品を搭載し実装することにより半導体パッケージを製造することができる。本発明の多層プリント配線板の少なくとも片面上に、半導体部品を前記実装方法により実装し、半導体部品電極と多層プリント配線板との接続部分をエポキシ樹脂等の封止材料で封止する。なお、封止材料として、本発明に係る、前記重合性組成物や硬化性樹脂組成物を用いることもできる。次に、上記半導体部品が実装された基板には、片面に金属配線によって複数の電極がエリア上に配置され、例えば、ハンダボール等の接続部材が設置される。このような半導体パッケージとしては、例えば、2個以上の複数の半導体部品を実装してなるマルチ・チップ・モジュール(MCM)などが挙げられる。MCMは、例えば、コンピューターや通信機器に使用したり、接続部材を介して、さらにマザーボード(通常のプリント配線板)に接続したり、そのままマザーボードとして使用することができる。   A semiconductor package can be manufactured by mounting and mounting a semiconductor component such as an LSI chip on the surface of the multilayer printed wiring board of the present invention. A semiconductor component is mounted on at least one surface of the multilayer printed wiring board of the present invention by the mounting method, and a connection portion between the semiconductor component electrode and the multilayer printed wiring board is sealed with a sealing material such as epoxy resin. In addition, the said polymeric composition and curable resin composition based on this invention can also be used as a sealing material. Next, on the substrate on which the semiconductor component is mounted, a plurality of electrodes are arranged on an area by metal wiring on one side, and for example, a connection member such as a solder ball is installed. An example of such a semiconductor package is a multi-chip module (MCM) in which two or more semiconductor components are mounted. For example, the MCM can be used for a computer or a communication device, or can be further connected to a mother board (ordinary printed wiring board) via a connecting member, or can be used as it is as a mother board.

電子部品を多層プリント配線板に内蔵して実装する場合、電子部品としては、受動素子が好適に用いられる。
受動素子を多層プリント配線板に内蔵して実装する場合、本発明の多層プリント配線板において、受動素子は、少なくとも上下2層の樹脂絶縁層に挟まれた導体回路に形成された導体パターンとして実装される。導体パターンは、受動素子として機能し得るものである限り、特に限定されるものではない。受動素子を構成する導体パターンは公知である。本発明の多層プリント配線板において受動素子は1以上内蔵することができる。受動素子を2以上内蔵する場合、各受動素子は、多層プリント配線板中、同一の導体回路に形成されていても、別々の導体回路に形成されていてもよい。また、受動素子としては、多層プリント配線板に内蔵されて実装されているものに加え、多層プリント配線板の表面に搭載され実装されているものがあってもよい。
受動素子の多層プリント配線板への内蔵及び実装は、前記(5)〜(7)の操作により、多層プリント配線板の形成過程において一体的に行うことができる。例えば、下層の樹脂絶縁層の上に無電解めっきを行った後、受動素子を構成する導体パターンを含む導体回路が形成されるようにパターンニングされためっきレジストを形成し、次いで電気めっきを行い導体回路を厚付けする。その後、めっきレジストを剥離し、エッチングを行い、独立した導体回路を得る。次いで、前記(2)〜(7)の操作を少なくとも1回行えば、受動素子が導体パターンの形で内蔵され実装された多層プリント回路板が得られる。
When an electronic component is built in and mounted on a multilayer printed wiring board, a passive element is preferably used as the electronic component.
When mounting a passive element in a multilayer printed wiring board, the passive element is mounted as a conductor pattern formed in a conductor circuit sandwiched between at least two upper and lower resin insulation layers in the multilayer printed wiring board of the present invention. Is done. The conductor pattern is not particularly limited as long as it can function as a passive element. The conductor pattern which comprises a passive element is well-known. In the multilayer printed wiring board of the present invention, one or more passive elements can be incorporated. When two or more passive elements are built in, each passive element may be formed in the same conductor circuit or in separate conductor circuits in the multilayer printed wiring board. Moreover, as a passive element, in addition to what is mounted and mounted in the multilayer printed wiring board, there may be one that is mounted and mounted on the surface of the multilayer printed wiring board.
Incorporation and mounting of the passive element on the multilayer printed wiring board can be performed integrally in the process of forming the multilayer printed wiring board by the operations (5) to (7). For example, after electroless plating is performed on the lower resin insulation layer, a plating resist patterned so as to form a conductor circuit including a conductor pattern constituting a passive element is formed, and then electroplating is performed. Thicken the conductor circuit. Thereafter, the plating resist is peeled off and etching is performed to obtain an independent conductor circuit. Next, when the operations (2) to (7) are performed at least once, a multilayer printed circuit board in which passive elements are incorporated and mounted in the form of conductor patterns can be obtained.

なお、能動素子も多層プリント配線板に内蔵して実装可能である。例えば、以下の3つの形態で、すなわち、多層プリント配線板の表面に搭載されるか;又は多層プリント配線板の表面に一部が搭載され、かつ残部が多層プリント配線板に内蔵されるか;又は多層プリント配線板に内蔵されて、実装される。ここで、多層プリント配線板の表面に一部が搭載され、かつ残部が多層プリント配線板に内蔵される、とは、能動素子の一部が多層プリント配線板の表面に位置し、該素子の残りの部分が多層プリント配線板の内部に埋設される形で位置するようにして、能動素子が多層プリント配線板に実装されていることをいう。能動素子は、実装部品として、公知の方法に従って所望の形態で多層プリント配線板に実装することができる。本発明の多層プリント回路板において、同一又は相異なる能動素子を1以上実装させることができる。能動素子を2以上実装させる場合、各能動素子は、同一の形態で実装されていても、相異なる形態で実装されていてもよい。   The active element can also be mounted in the multilayer printed wiring board. For example, it is mounted in the following three forms, that is, mounted on the surface of the multilayer printed wiring board; or a part is mounted on the surface of the multilayer printed wiring board and the remaining part is embedded in the multilayer printed wiring board; Alternatively, it is mounted in a multilayer printed wiring board. Here, a part is mounted on the surface of the multilayer printed wiring board, and the remaining part is built in the multilayer printed wiring board. A part of the active element is located on the surface of the multilayer printed wiring board. It means that the active element is mounted on the multilayer printed wiring board so that the remaining portion is positioned so as to be embedded in the multilayer printed wiring board. The active element can be mounted as a mounting component on the multilayer printed wiring board in a desired form according to a known method. In the multilayer printed circuit board of the present invention, one or more active elements which are the same or different can be mounted. When two or more active elements are mounted, each active element may be mounted in the same form or in different forms.

本発明の多層プリント配線板に所定の能動素子及び受動素子を実装することで、本発明の多層プリント回路板として、例えば、各種モジュールを製造可能である。当該モジュールは、例えば、多層プリント配線板と、当該多層プリント配線板に内蔵され実装されている受動素子と、前記多層プリント配線板の表面に搭載され実装されている能動素子とを含んでなる。また、当該モジュールは、通常、外部接続端子と、接地用電極とをさらに含む。   For example, various modules can be manufactured as the multilayer printed circuit board of the present invention by mounting predetermined active elements and passive elements on the multilayer printed wiring board of the present invention. The module includes, for example, a multilayer printed wiring board, a passive element built in and mounted on the multilayer printed wiring board, and an active element mounted and mounted on the surface of the multilayer printed wiring board. The module usually further includes an external connection terminal and a grounding electrode.

前記外部接続端子としては、例えば、電源端子及び信号端子などが挙げられる。かかる外部接続端子と共に、接地用電極が、多層プリント配線板の表面に設けられる。外部接続端子と接地用電極とは、多層プリント配線板の同一表面に共に設けらていても、接地用電極のみ多層プリント配線板の表面と反対側の面に設けられていてもよい。   Examples of the external connection terminal include a power supply terminal and a signal terminal. Together with the external connection terminals, grounding electrodes are provided on the surface of the multilayer printed wiring board. The external connection terminal and the grounding electrode may be provided together on the same surface of the multilayer printed wiring board, or only the grounding electrode may be provided on the surface opposite to the surface of the multilayer printed wiring board.

従来の有機樹脂材料、例えば、エポキシ樹脂等の汎用樹脂材料を用いてなる多層プリント配線板を用いてなるモジュールでは、インダクタ、コンデンサ、及びバンドパスフィルタ等の受動素子を該多層プリント配線板に内蔵して実装した場合、所望の絶縁信頼性や熱伝導性が得られず、受動素子の内蔵は実質的に不可能であり、多層プリント配線板の表面に搭載して実装せざるを得なかった。これに対し、本発明の多層プリント配線板を用いてなるモジュール(多層プリント回路板)では、かかる問題なく、受動素子を多層プリント配線板に内蔵でき、従って、従来のものよりも小型化可能であり、高周波領域(100MHz以上、特に100MHz以上100GHz以下の領域)での使用において非常に電気的損失が少なく、放熱性に優れており、消費電力を低く抑えることができる。   In a module using a multilayer printed wiring board made of a conventional organic resin material, for example, a general-purpose resin material such as an epoxy resin, passive elements such as an inductor, a capacitor, and a band pass filter are incorporated in the multilayer printed wiring board. When mounted, the desired insulation reliability and thermal conductivity could not be obtained, and it was virtually impossible to incorporate passive elements, and it had to be mounted on the surface of the multilayer printed wiring board. . On the other hand, in a module (multilayer printed circuit board) using the multilayer printed wiring board of the present invention, a passive element can be built in the multilayer printed wiring board without such a problem, and therefore can be made smaller than the conventional one. In addition, when used in a high frequency region (100 MHz or higher, particularly 100 MHz or higher and 100 GHz or lower), there is very little electrical loss, excellent heat dissipation, and low power consumption.

本発明の多層プリント回路板は、本発明の多層プリント配線板を用い、その目的とする機能に応じて、公知の方法に従って適宜製造可能である。かかる多層プリント回路板としては、例えば、パワーアンプモジュールなどが挙げられる。多層プリント回路板は、例えば、無線通信機器の送信部に好適に用いられる。   The multilayer printed circuit board of the present invention can be appropriately manufactured according to a known method using the multilayer printed wiring board of the present invention and depending on the intended function. Examples of such multilayer printed circuit boards include power amplifier modules. The multilayer printed circuit board is suitably used, for example, for a transmission unit of a wireless communication device.

4.電子機器
本発明によれば、さらに、本発明の多層プリント回路板を備えてなる電子機器を提供することができる。本発明の電子機器は、小型で省電力型であることに加え、広範囲な使用環境に対しても性能が安定している。当該電子機器としては、例えば、携帯電話端末、携帯無線情報端末、及び無線LAN装置などが挙げられる。これらの電子機器は、本発明の多層プリント回路板を用い、公知の方法に従って適宜製造することができる。
4). Electronic Device According to the present invention, an electronic device comprising the multilayer printed circuit board of the present invention can be further provided. In addition to being small and power-saving, the electronic device of the present invention is stable in performance over a wide range of usage environments. Examples of the electronic device include a mobile phone terminal, a portable wireless information terminal, and a wireless LAN device. These electronic devices can be appropriately manufactured according to a known method using the multilayer printed circuit board of the present invention.

以下、実施例により本発明をさらに具体的に説明するが、本発明はかかる実施例のみに限定されるものではない。なお、以下における部及び%は、特に断りのない限り重量基準である。   Hereinafter, the present invention will be described more specifically with reference to examples. However, the present invention is not limited to the examples. In the following, parts and% are based on weight unless otherwise specified.

実施例1
後述のプリプレグを12枚重ね、それを18μmF0銅箔(シランカップリング剤処理電解銅箔、古河サーキットホイル社製)で挟み、220℃で2時間、3MPaにて加熱プレスして得た、厚さ0.5mmの両面銅張積層板をコア基板として用いる。コア基板にドリル1機により連続して2000個のスルーホール用開口(孔径150μm)を形成し、無電解めっきを行って上下銅箔間の導通を図り、両面の銅箔をエッチングすることにより導体回路1を両面に形成する。なお、スルーホール用開口の内壁の表面粗度(Rz1)は5μmである。
Example 1
Thickness obtained by stacking 12 prepregs described later, sandwiched between 18 μm F0 copper foil (silane coupling agent-treated electrolytic copper foil, manufactured by Furukawa Circuit Foil Co., Ltd.), and heated and pressed at 3 MPa for 2 hours at 220 ° C. A 0.5 mm double-sided copper clad laminate is used as the core substrate. 2000 core through-hole openings (hole diameter 150 μm) are continuously formed on the core substrate with a single drill, electroless plating is performed to connect the upper and lower copper foils, and the copper foils on both sides are etched to form a conductor. Circuit 1 is formed on both sides. The surface roughness (Rz1) of the inner wall of the through-hole opening is 5 μm.

次に、導体回路1に過酸化水素水と硫酸とを主成分とする薬液をスプレー吹きつけして粗化処理を行い、コア基板の両面の導体回路1上に後述のプリプレグを載せ、220℃で2時間、3MPaにて加熱プレスして樹脂絶縁層1を設ける。なお、導体回路1を構成する導体層の表面粗度(Rz2)は1.5μmである。また、樹脂絶縁層1の厚さは70μmである。   Next, the conductor circuit 1 is sprayed with a chemical solution mainly composed of hydrogen peroxide and sulfuric acid to perform roughening treatment, and a prepreg (described later) is placed on the conductor circuit 1 on both surfaces of the core substrate. Then, the resin insulating layer 1 is provided by heating and pressing at 3 MPa for 2 hours. In addition, the surface roughness (Rz2) of the conductor layer which comprises the conductor circuit 1 is 1.5 micrometers. The thickness of the resin insulating layer 1 is 70 μm.

前記プリプレグは、以下のようにして調製する。ベンジリデン(1,3−ジメシチル−4−イミダゾリジン−2−イリデン)(トリシクロヘキシルホスフィン)ルテニウムジクロリド 0.05部と、トリフェニルホスフィン 0.01部とを、インデン 1.51部に溶解させて触媒液を調製する。これとは別に、ノルボルネン系単量体である、テトラシクロドデセン(TCD)70部及び1,4−メタノ−1.4.4a.9aテトラヒドロフルオレン(MTF)30部に対し、無機充填剤Xとしてチタン酸カルシウム(モース硬度:5.5、熱伝導率:6W/mK、平均粒径:1.5μm、シランカップリング剤処理品;富士チタン工業社製、製品名:CT)250部、架橋剤としてジ−t−ブチルパーオキサイド〔1分間半減期温度:186℃;化薬アクゾ社製、製品名:カヤブチルD(登録商標)〕1.14部、難燃剤として水酸化アルミニウム 100部、及び連鎖移動剤としてジビニルベンゼン(東京化成社製)1.8部を加えた後、上記触媒液をノルボルネン系単量体100gあたり0.12mLの割合で加えて撹拌し、重合性組成物を調製する。次いで、得られた重合性組成物をガラスクロス(Eガラス)に含浸後、140℃、1分間で塊状重合反応させ、厚さ70μmのプリプレグ(ガラスクロス含有量:40%)を得る。なお、得られたプリプレグにおいて、ガラスクロスに含浸する硬化性樹脂組成物中のチタン酸カルシウムの含有量は30体積%である。   The prepreg is prepared as follows. Benzylidene (1,3-dimesityl-4-imidazolidin-2-ylidene) (tricyclohexylphosphine) ruthenium dichloride 0.05 part and triphenylphosphine 0.01 part are dissolved in indene 1.51 part to form a catalyst. Prepare the solution. Separately, 70 parts of tetracyclododecene (TCD) and 1,4-methano-1.4.4a. 9a Tetrahydrofluorene (MTF) 30 parts, calcium titanate as inorganic filler X (Mohs hardness: 5.5, thermal conductivity: 6 W / mK, average particle size: 1.5 μm, silane coupling agent treated product; 250 parts by Fuji Titanium Industry Co., Ltd., product name: CT), di-t-butyl peroxide (1 minute half-life temperature: 186 ° C .; product by Kayaku Akzo, product name: Kayabutyl D (registered trademark)) as a crosslinking agent After adding 1.14 parts, 100 parts of aluminum hydroxide as a flame retardant, and 1.8 parts of divinylbenzene (manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.) as a chain transfer agent, 0.12 mL of the above catalyst solution is added per 100 g of norbornene monomer. Is added and stirred to prepare a polymerizable composition. Next, after impregnating the obtained polymerizable composition into glass cloth (E glass), a bulk polymerization reaction is performed at 140 ° C. for 1 minute to obtain a prepreg having a thickness of 70 μm (glass cloth content: 40%). In the obtained prepreg, the content of calcium titanate in the curable resin composition impregnated in the glass cloth is 30% by volume.

次に、樹脂絶縁層1に、ドリル1機により連続して2000個のビアホール用開口(孔径150μm)を形成し、80℃の過マンガン酸カリウム溶液に15分間浸漬してデスミア処理を行った後、無電解銅めっきを行い、厚さ0.5μmの銅薄膜を形成する。かかる銅薄膜表面に、感光性ドライフィルムを積層した後、露光・現像を行って、所定のパターンを有する、厚さ50μmのめっきレジストを形成する。なお、ビアホール用開口は、隣り合う、いずれの2つの開口の間隔も200μm以下となるように形成する。また、ビアホール用開口の内壁の表面粗度(Rz1)は5μmである。   Next, 2000 via-hole openings (hole diameter 150 μm) were continuously formed in the resin insulating layer 1 with a single drill, and after desmearing was performed by dipping in an 80 ° C. potassium permanganate solution for 15 minutes. Then, electroless copper plating is performed to form a copper thin film having a thickness of 0.5 μm. After laminating a photosensitive dry film on the surface of the copper thin film, exposure and development are performed to form a plating resist having a predetermined pattern and a thickness of 50 μm. The via hole openings are formed so that the distance between any two adjacent openings is 200 μm or less. The surface roughness (Rz1) of the inner wall of the via hole opening is 5 μm.

続いて、銅薄膜をめっきリードとして電解銅めっきを行って導体層を厚付けする。前記めっきレジストを剥離し、めっきレジストの下に存在していた銅薄膜をエッチング除去して、配線間の絶縁が確保された、厚さ20μmの導体層からなる導体回路2を得る。なお、導体回路2を構成する導体層の表面粗度(Rz2)は1μmである。   Subsequently, electrolytic copper plating is performed using the copper thin film as a plating lead to thicken the conductor layer. The plating resist is peeled off, and the copper thin film existing under the plating resist is removed by etching to obtain a conductor circuit 2 made of a conductor layer having a thickness of 20 μm and ensuring insulation between wirings. In addition, the surface roughness (Rz2) of the conductor layer which comprises the conductor circuit 2 is 1 micrometer.

さらに、前記樹脂絶縁層1及び前記導体回路2と同様にして、導体回路2上に樹脂絶縁層2を、樹脂絶縁層2上に導体回路3を形成する。導体回路3上に、ドライフィルムタイプのソルダーレジストを真空圧着ラミネートし、ソルダーレジスト層を設ける。常法に従ってソルダーレジスト層を開口して半田バンプを設け、多層プリント配線板を得る。   Further, in the same manner as the resin insulation layer 1 and the conductor circuit 2, the resin insulation layer 2 is formed on the conductor circuit 2, and the conductor circuit 3 is formed on the resin insulation layer 2. On the conductor circuit 3, a dry film type solder resist is vacuum-bonded and laminated to provide a solder resist layer. According to a conventional method, the solder resist layer is opened and solder bumps are provided to obtain a multilayer printed wiring board.

続いて、所定の取り付け装置を用い、フラックス洗浄後、ターゲットマークを基準として、前記多層プリント配線板の半田バンプとICチップに設けられたバンプとの位置合わせを行い、半田をリフローさせることにより半田バンプとICチップのバンプとを接合させる。フラックス洗浄を行い、該ICチップと多層プリント配線板との間にアンダーフィルを充填し、多層プリント配線板にICチップが実装された多層プリント回路板(半導体装置)を得る。   Subsequently, after flux cleaning using a predetermined mounting device, the solder bumps of the multilayer printed wiring board are aligned with the bumps provided on the IC chip with the target mark as a reference, and the solder is reflowed to reflow the solder. The bump and the bump of the IC chip are joined. Flux cleaning is performed, an underfill is filled between the IC chip and the multilayer printed wiring board, and a multilayer printed circuit board (semiconductor device) in which the IC chip is mounted on the multilayer printed wiring board is obtained.

参考例1〜3及び参考比較例1〜3
実施例1の多層プリント配線板を構成する樹脂絶縁層及び導体回路の形成方法に準じ、以下に示す各特性評価方法に応じてサンプル基板を調製し、当該基板の特性評価を行った(参考例1〜3)。実施例1の多層プリント配線板は、それらのサンプル基板の集合体と言えるため、サンプル基板の評価結果は、実質的に多層プリント配線板の特性をあらわすと考えられる。
なお、比較として、プリプレグの調製に、環状オレフィン系重合体以外の重合体、又は無機充填剤X以外の無機充填剤を用いて同様にサンプル基板を調製し、当該基板の特性評価を行った(参考比較例1〜3)。
Reference Examples 1-3 and Reference Comparative Examples 1-3
In accordance with the resin insulation layer and the method for forming the conductor circuit constituting the multilayer printed wiring board of Example 1, sample substrates were prepared according to the following characteristic evaluation methods, and the characteristics of the substrates were evaluated (reference examples) 1-3). Since the multilayer printed wiring board of Example 1 can be said to be an aggregate of those sample boards, the evaluation results of the sample boards are considered to substantially represent the characteristics of the multilayer printed wiring board.
For comparison, a sample substrate was similarly prepared using a polymer other than the cyclic olefin polymer or an inorganic filler other than the inorganic filler X for the preparation of the prepreg, and the characteristics of the substrate were evaluated ( Reference Comparative Examples 1 to 3).

各サンプル基板の特性評価は、以下の方法に従って行った。参考例1〜3及び参考比較例1〜3におけるサンプル基板の作製に用いた硬化性樹脂組成物に含まれた樹脂及び無機充填剤、並びに該組成物中の無機充填剤の含有量を、各サンプル基板の評価結果と共に表1に示す。   The characteristic evaluation of each sample substrate was performed according to the following method. Resin and inorganic filler contained in the curable resin composition used for the preparation of the sample substrate in Reference Examples 1 to 3 and Reference Comparative Examples 1 to 3, and the content of the inorganic filler in the composition, It shows in Table 1 with the evaluation result of a sample board | substrate.

1)めっき染込み耐性
実施例1に従ってプリプレグを得、それを220℃で2時間、3MPaで加熱プレスして硬化させ、得られた硬化物をサンプル基板として用いた。
直径0.3mmのアンダーカットタイプのドリル(ユニオンツール社製、品番:UV L095D 0.3×5)を用い、回転数100,000rpm、送り速度8mm/secの条件でサンプル基板に開口を形成した際の3,000穴目の穴の内壁の断面を光学顕微鏡観察(倍率1000倍)し、該内壁の表面に露出したガラスクロスに沿って、該内壁の表面からサンプル基板の内部に向って染込んだめっき長さを直線距離で測定し、以下の評価基準に従って開口のめっき染込み耐性を評価した。
〔評価基準〕
◎ ・・・ 5μm未満
○ ・・・ 5μm以上8μm未満
△ ・・・ 8μm以上10μm未満
× ・・・ 10μm以上
1) Resistance to plating soaking A prepreg was obtained according to Example 1 and cured by heating and pressing at 3 MPa at 220 ° C. for 2 hours, and the obtained cured product was used as a sample substrate.
Using an undercut type drill with a diameter of 0.3 mm (manufactured by Union Tool Co., Ltd., product number: UV L095D 0.3 × 5), an opening was formed in the sample substrate under conditions of a rotational speed of 100,000 rpm and a feed rate of 8 mm / sec. The cross section of the inner wall of the 3,000th hole was observed with an optical microscope (magnification 1000 times), and dyed from the inner wall surface toward the inside of the sample substrate along the glass cloth exposed on the inner wall surface. The plated plating length was measured by a linear distance, and the plating penetration resistance of the opening was evaluated according to the following evaluation criteria.
〔Evaluation criteria〕
◎ ... Less than 5 μm ○ ・ ・ ・ 5 μm or more and less than 8 μm Δ ・ ・ ・ 8 μm or more and less than 10 μm

2)ドリル磨耗性
1)でサンプル基板に開口を形成するのに用いたドリルの刃先の磨耗状態を、1)を行うと共に別途評価した。未使用ドリルの刃先の直径(mm)から使用後ドリルの刃先の直径(mm)を差引いて得た値を未使用ドリルの刃先の直径(mm)で除し、得られた値に100を乗じてドリル磨耗の程度(%)を求め、以下の評価基準に従って開口のドリル磨耗性を評価した。ドリルの刃先の磨耗が大きいということは、開口内壁の抵抗が大きいということであり、従って、ドリル磨耗性が大きい程、開口の内壁の荒れが大きいと判断できる。なお、ドリルの刃先の直径とは、ドリルの先端を長手方向正面から見た時の直径をいう。
〔評価基準〕
◎ ・・・ 5%未満
○ ・・・ 5%以上10%未満
△ ・・・ 10%以上
× ・・・ 磨耗が酷く、使用後ドリルの刃先の直径測定不能
2) Wear resistance of the drill The wear state of the cutting edge of the drill used to form the opening in the sample substrate in 1) was evaluated separately as well as 1). The value obtained by subtracting the diameter (mm) of the drill tip after use from the diameter (mm) of the unused drill tip is divided by the diameter (mm) of the tip of the unused drill and multiplied by 100. The degree of drill wear (%) was obtained, and the drill wear resistance of the opening was evaluated according to the following evaluation criteria. The fact that the wear of the cutting edge of the drill is large means that the resistance of the inner wall of the opening is large. Therefore, it can be determined that the rougher the inner wall of the opening is, the greater the wear resistance of the drill is. In addition, the diameter of the cutting edge of a drill means the diameter when the front-end | tip of a drill is seen from a longitudinal direction front.
〔Evaluation criteria〕
◎ ... Less than 5% ○ ・ ・ ・ 5% or more and less than 10% △ ... 10% or more × ... Severe wear, unable to measure the diameter of the drill tip after use

3)伝送ロス
実施例1に従ってプリプレグを得、それを用いてビアホールで接続した3層のストリップラインを作製し、サンプル基板として用いた。
参考比較例3のストリップラインの伝送ロスの値から、その他の各参考例及び参考比較例のストリップラインの伝送ロスの値を差引いて得た値を、参考比較例3のストリップラインの伝送ロスの値で除し、得られた値に100を乗じて、参考比較例3のストリップラインの伝送ロスを基準として、各参考例及び参考比較例のストリップラインの伝送ロスの差分の割合(%)を求め、以下の評価基準に従って伝送ロスを評価した。なお、伝送ロスは、ベクトルネットワークアナライザにより測定した。
〔評価基準〕
◎ ・・・ 15%低ロス
○ ・・・ 10%低ロス
△ ・・・ 5%低ロス
× ・・・ 参考比較例3のストリップラインの伝送ロスを超える伝送ロス
3) Transmission loss A prepreg was obtained according to Example 1, and a three-layer strip line connected by via holes was produced using the prepreg and used as a sample substrate.
The value obtained by subtracting the transmission loss value of each of the other reference examples and the reference comparative example from the value of the transmission loss of the reference line of the reference comparative example 3 is the value of the transmission loss of the strip line of the reference comparative example 3. Dividing by the value, multiplying the obtained value by 100, and using the transmission loss of the strip line of the reference comparative example 3 as a reference, the ratio (%) of the difference of the transmission loss of each reference example and the reference comparative example The transmission loss was evaluated according to the following evaluation criteria. The transmission loss was measured with a vector network analyzer.
〔Evaluation criteria〕
◎ ・ ・ ・ 15% low loss ○ ・ ・ ・ 10% low loss △ ・ ・ ・ 5% low loss × ・ ・ ・ Transmission loss exceeding the transmission loss of the reference line 3

4)絶縁信頼性
実施例1に従って両面銅張積層板を得、その片面に、100μmの間隔をあけて一直線上に10個並んだ、互いに電気的に接続されたビアホールの列を、100μmの間隔をあけて平行に2列作製したものを、サンプル基板として用いた。
130℃で85%RHの環境下、互いに絶縁が確保されている、一方のビアホールの列と他方のビアホールの列との間に100Vの電圧を所定時間印加し、導通が確認されるまでの時間を測定し、以下の評価基準に従って絶縁信頼性を評価した。
〔評価基準〕
◎ ・・・ 500時間以上
○ ・・・ 200時間以上500時間未満
△ ・・・ 100時間以上200時間未満
× ・・・ 100時間未満
4) Insulation reliability A double-sided copper-clad laminate was obtained according to Example 1, and 10 electrically aligned via hole rows arranged in a straight line with a spacing of 100 μm on one side were spaced 100 μm apart. A sample substrate having two rows formed in parallel was used as a sample substrate.
Time until a conduction is confirmed by applying a voltage of 100 V for a predetermined time between one via hole row and the other via hole row, which are insulated from each other in an environment of 85% RH at 130 ° C. The insulation reliability was evaluated according to the following evaluation criteria.
〔Evaluation criteria〕
◎ ... 500 hours or more ○ ... 200 hours or more and less than 500 hours Δ ... 100 hours or more and less than 200 hours × ... Less than 100 hours

Figure 2011198887
Figure 2011198887

表1より、参考例1〜3の多層プリント配線板では、めっき染込み耐性に優れ、ドリル磨耗性が小さい開口が形成されており、開口の内壁の品質が良好に保たれていることが分かる。また、かかる配線板は、伝送ロスが低く、絶縁信頼性に優れることが分かる。一方、参考比較例1〜3の多層プリント配線板では、めっき染込み耐性に劣り、ドリル磨耗性の大きい開口が形成されており、開口の内壁の品質が低劣であり、伝送ロスが高く、絶縁信頼性に劣ることが分かる。   From Table 1, it can be seen that in the multilayer printed wiring boards of Reference Examples 1 to 3, an opening having excellent plating penetration resistance and small drill wearability is formed, and the quality of the inner wall of the opening is kept good. . It can also be seen that such a wiring board has low transmission loss and excellent insulation reliability. On the other hand, in the multilayer printed wiring boards of Reference Comparative Examples 1 to 3, an opening having poor plating penetration resistance and a large drill wear property is formed, the quality of the inner wall of the opening is poor, the transmission loss is high, and the insulation is high. It turns out that it is inferior in reliability.

実施例2及び比較例1
実施例1に準じて形成した多層プリント配線板に電子部品を実装し(一部の受動素子は内層にパターン化することにより内蔵)、多層プリント回路板の一例として、無線通信機器の送信部Txモジュールに組み込まれるパワーアンプモジュール(PA積層モジュール)を作製し、その特性を評価した(実施例2)。また、比較として、樹脂絶縁層を汎用樹脂材料〔FR−4(エポキシ樹脂)〕のみで形成し、電子部品の全てを多層プリント配線板の表面に実装すること以外は実施例2と同様にしてPA積層モジュールを作製し、その特性を評価した(比較例1)。
Example 2 and Comparative Example 1
An electronic component is mounted on a multilayer printed wiring board formed according to the first embodiment (some passive elements are built in by patterning on an inner layer), and a transmission unit Tx of a wireless communication device is used as an example of the multilayer printed circuit board. A power amplifier module (PA laminated module) to be incorporated into the module was produced and its characteristics were evaluated (Example 2). For comparison, the resin insulating layer is formed only of a general-purpose resin material [FR-4 (epoxy resin)], and all the electronic components are mounted on the surface of the multilayer printed wiring board in the same manner as in Example 2. A PA laminated module was produced and its characteristics were evaluated (Comparative Example 1).

図3に積層モジュールの一例として、無線通信機器の送信部Txモジュールのブロック図を示す。
Txモジュールは、電圧制御発振器VCO、ミキサMIX、パワーアンプ部PA、及びバンドパスフィルタBPFを備える。VCOで高周波搬送波を発生させ、信号入力端子BB INよりベースバンド信号を入力し、MIXで高周波搬送波とベースバンド信号を混合した高周波信号を作り出す。次にPAで高周波信号を増幅し、BPFを通して、必要な高周波信号だけが選択され、信号出力端子TX OUTを介してアンテナ部へと接続される。
図3に示すTxモジュールにおいてはPAとBPFとが積層モジュール化されている。以下、当該積層モジュール(PA積層モジュール)を具体的に説明する。
FIG. 3 shows a block diagram of a transmission unit Tx module of a wireless communication device as an example of a laminated module.
The Tx module includes a voltage controlled oscillator VCO, a mixer MIX, a power amplifier unit PA, and a band pass filter BPF. A high frequency carrier wave is generated by the VCO, a baseband signal is input from the signal input terminal BB IN, and a high frequency signal in which the high frequency carrier wave and the baseband signal are mixed is created by MIX. Next, the high frequency signal is amplified by the PA, and only the necessary high frequency signal is selected through the BPF and connected to the antenna unit via the signal output terminal TX OUT.
In the Tx module shown in FIG. 3, PA and BPF are formed into a stacked module. Hereinafter, the laminated module (PA laminated module) will be specifically described.

(PA積層モジュール)
図4に、図3のTxモジュールに含まれるPAの回路図の一例を示す。PAは、半導体素子の2段構成からなるIC1と、入力整合回路部IM1と、出力整合回路部OM1と、ビアス回路部BC1とを含んでいる。
IC1は、信号入力端子Pin1から入力された信号を増幅する役割を担い、IM1は、Pin1でのインピーダンス(50Ω)をIC1の入力インピーダンスに整合させ、Pin1から入力された信号をインピーダンス不整合による損失なくIC1の入力へ伝送する役割を担う。OM1は、IC1の出力インピーダンスをBPF入力端子で見たインピーダンス(50Ω)に整合させ、IC1から出力された信号をインピーダンス不整合による損失を生じることなく、BPF入力端子へ伝送させる役割を担い、BC1は、直流電力を供給し、IC1に含まれる半導体を増幅素子として動作させる役割を担う。IM1は、インダクタL1とコンデンサC1とがL型に接続された回路で構成される。更に、IM1にはコンデンサC2が備えられている。OM1は、インダクタL2とコンデンサC3とのL型回路で構成される。更に、OM1の出力端にはコンデンサC4が接続されている。また、BC1のインダクタL3とL4は、IC1で増幅された信号を電源端子Vcc1へ漏洩させないよう、高インピーダンスを持つインダクタ素子により構成される。また、インダクタ素子の代わりにλ/4の長さの配線パターンを用いる場合もある。インダクタL3とL4のそれぞれには、接地コンデンサC5とC6が接続されている。
(PA laminated module)
FIG. 4 shows an example of a circuit diagram of the PA included in the Tx module of FIG. The PA includes an IC1 having a two-stage configuration of semiconductor elements, an input matching circuit unit IM1, an output matching circuit unit OM1, and a bias circuit unit BC1.
IC1 plays the role of amplifying the signal input from the signal input terminal Pin1, and IM1 matches the impedance (50Ω) at Pin1 with the input impedance of IC1, and the signal input from Pin1 is lost due to impedance mismatch. It plays the role of transmitting to the input of IC1. OM1 matches the output impedance of IC1 to the impedance (50Ω) seen at the BPF input terminal, and plays a role of transmitting the signal output from IC1 to the BPF input terminal without causing loss due to impedance mismatch. Plays a role of supplying DC power and operating a semiconductor included in the IC 1 as an amplifying element. IM1 includes a circuit in which an inductor L1 and a capacitor C1 are connected in an L shape. Further, IM1 is provided with a capacitor C2. OM1 is configured by an L-type circuit including an inductor L2 and a capacitor C3. Further, a capacitor C4 is connected to the output terminal of OM1. Further, the inductors L3 and L4 of BC1 are constituted by inductor elements having high impedance so as not to leak the signal amplified by IC1 to the power supply terminal Vcc1. In some cases, a wiring pattern having a length of λ / 4 is used instead of the inductor element. Grounded capacitors C5 and C6 are connected to the inductors L3 and L4, respectively.

図5は、PAとBPFを積層基板(多層プリント配線板)の表面に実装し、PAをBPFと積層モジュール化してなる、比較例1で作製されたPA積層モジュールの分解斜視図であり、図6は、図5のPA積層モジュールの完成状態における斜視図であり、図7は、図6のPA積層モジュールの完成状態における内部の接続構造を概略的に示す断面図である。積層基板100におけるパターンの配置については、特に限定はない。   FIG. 5 is an exploded perspective view of the PA laminated module manufactured in Comparative Example 1 in which PA and BPF are mounted on the surface of a laminated substrate (multilayer printed wiring board) and PA is made into a BPF and laminated module. 6 is a perspective view of the PA laminated module in FIG. 5 in a completed state, and FIG. 7 is a cross-sectional view schematically showing an internal connection structure in the completed state of the PA laminated module in FIG. There is no particular limitation on the arrangement of patterns in the laminated substrate 100.

PA積層モジュールは、積層基板100と、能動素子であるIC1と、BPF1と、インダクタ素子やコイル素子等の受動素子60及び70と、Vcc1、Pin1、BPF入力端子、BPF出力端子、Tx Outと、接地用パターンGNDと、貫通ビアホール40と、ブラインドビアホール30と、インナービアホール20、導体パターン50とを備える。受動素子60は、図4のBC1を構成する受動素子であり、受動素子70は、図4のIM1及びOM1をそれぞれ構成する受動素子である(図4参照)。   The PA multilayer module includes a multilayer substrate 100, an active element IC1, a BPF1, passive elements 60 and 70 such as an inductor element and a coil element, Vcc1, Pin1, BPF input terminal, BPF output terminal, Tx Out, A grounding pattern GND, a through via hole 40, a blind via hole 30, an inner via hole 20, and a conductor pattern 50 are provided. The passive element 60 is a passive element that configures BC1 of FIG. 4, and the passive element 70 is a passive element that configures IM1 and OM1 of FIG. 4 (see FIG. 4).

積層基板100は、図5に示すように、5枚の絶縁層101〜105を含む。絶縁層101〜105は順次に積層されている。能動素子であるIC1は、積層基板100の表面側に位置する構成層101の上に実装されている。IC1の電極は、ワイヤーボンディング又は半田付け等により、構成層101上に形成された導体パターンに接続されている。   As shown in FIG. 5, the multilayer substrate 100 includes five insulating layers 101 to 105. The insulating layers 101 to 105 are sequentially stacked. The active element IC1 is mounted on the constituent layer 101 located on the surface side of the multilayer substrate 100. The electrodes of the IC 1 are connected to a conductor pattern formed on the constituent layer 101 by wire bonding or soldering.

図7において、貫通ビアホール40は、積層基板100を厚さ方向に貫通し、接地導体層GNDに導通している。ブラインドビアホール30は、積層基板100の表面に設けられた導体層50と、次層の導体層50との間を接続する。インナービアホール20は、積層基板100の内部に形成された導体層50を接続する。ブラインドビアホール30は、一端が積層基板100の内部で終端されており、インナービアホール20は両端が積層基板100の内部で終端されている。   In FIG. 7, the through via hole 40 penetrates the laminated substrate 100 in the thickness direction and is electrically connected to the ground conductor layer GND. The blind via hole 30 connects between the conductor layer 50 provided on the surface of the multilayer substrate 100 and the next conductor layer 50. The inner via hole 20 connects the conductor layer 50 formed inside the multilayer substrate 100. One end of the blind via hole 30 is terminated inside the multilayer substrate 100, and both ends of the inner via hole 20 are terminated inside the multilayer substrate 100.

図8は、図6のPA積層モジュールで表面に実装されたBPFを、積層基板100’の内層にパターン化することで内蔵してなる、実施例2で作製されたPA積層モジュールの斜視図である。BPFを積層基板に内蔵することで、表面の実装面積が減少している。   FIG. 8 is a perspective view of the PA laminated module manufactured in Example 2 in which the BPF mounted on the surface of the PA laminated module of FIG. 6 is built into the inner layer of the laminated substrate 100 ′ by patterning. is there. By incorporating BPF in the laminated substrate, the surface mounting area is reduced.

図6と図8とから分かるように、受動素子を積層基板の内層にパターン化することにより、積層基板表面の実装面積が減少し、集積化、小型化に有利となる。更に、部品点数の削減、半田付け数の低減により、生産性及び信頼性の向上に大きく寄与する。   As can be seen from FIGS. 6 and 8, by patterning passive elements on the inner layer of the multilayer substrate, the mounting area on the surface of the multilayer substrate is reduced, which is advantageous for integration and miniaturization. Furthermore, the reduction of the number of parts and the number of soldering greatly contribute to the improvement of productivity and reliability.

図8に示したPA積層モジュールの積層基板100’に内蔵されたBPFは、インダクタ素子又はコンデンサ素子をパターン化して、積層基板の内層を構成する導体層の少なくとも1層を用いて形成されているが、インナービアホールを用いて複数の導体層を使用する場合もある。
なお、図8のPA積層モジュールは、図5〜7のPA積層モジュールとは、受動素子の一部が所定の形態で積層基板に内蔵され、絶縁層が、本発明に係る硬化性樹脂組成物の硬化物からなる樹脂絶縁層であること以外、基本的な構成は同様である。図8のPA積層モジュールにおいて、積層基板100’は、実施例1の硬化性樹脂組成物の硬化物からなる樹脂絶縁層101’〜105’と、表面粗度(Rz2)が1μm以下の、銅箔から構成される導体層50’とが交互に積層されてなる。
The BPF built in the multilayer substrate 100 ′ of the PA multilayer module shown in FIG. 8 is formed by patterning an inductor element or a capacitor element and using at least one of the conductor layers constituting the inner layer of the multilayer substrate. However, a plurality of conductor layers may be used using inner via holes.
In addition, the PA laminated module of FIG. 8 is different from the PA laminated module of FIGS. 5 to 7 in that part of the passive element is built in the laminated substrate in a predetermined form, and the insulating layer is the curable resin composition according to the present invention. The basic configuration is the same except that it is a resin insulating layer made of a cured product. In the PA laminated module of FIG. 8, the laminated substrate 100 ′ is made of a resin insulating layer 101 ′ to 105 ′ made of a cured product of the curable resin composition of Example 1, and a copper having a surface roughness (Rz2) of 1 μm or less. Conductive layers 50 ′ made of foil are alternately laminated.

図9にバンドパスフィルタの回路の一例を、図10にインダクタ素子及びコンデンサ素子をパターン化して作製したバンドパスフィルタ部分の一例の斜視図を示す。積層基板内に形成したバンドパスフィルタは、フィルタ内の電力漏れを防ぎ、なおかつ外部からのノイズを防止するために、上下を接地電極で覆われ、なおかつ周囲を、通過周波数のλ/2以下の間隔に配置され、接地電極に導通している、インナービアホール又はスルーホールによって囲まれている。   FIG. 9 shows an example of a band-pass filter circuit, and FIG. 10 shows a perspective view of an example of a band-pass filter portion manufactured by patterning an inductor element and a capacitor element. The band-pass filter formed in the multilayer substrate is covered with ground electrodes on the top and bottom to prevent power leakage in the filter and noise from the outside, and the surroundings have a pass frequency of λ / 2 or less. Surrounded by inner via holes or through holes which are arranged at intervals and are connected to the ground electrode.

バンドパスフィルタにおいて、通過周波数帯域における電力損失の程度は最も重要な特性の一つであるが、インダクタ素子及びコンデンサ素子をパターン化してなるバンドパスフィルタにおいては、インダクタ素子の電力損失がバンドパスフィルタ全体の損失の大部分を占める。図11に各種材料で作製したインダクタ素子のQ値の10GHzまでの測定結果を示す(インダクタ条件:ライン幅とライン間の間隔いずれも80μm)。1GHz以上において、高機能樹脂材料(BTレジン)、及び低温焼成セラミック(LTCC)のQ値はいずれも20〜37であるのに対し、実施例1の硬化性樹脂組成物を用いて作製したインダクタ素子(絶縁層は硬化性樹脂組成物の硬化物からなる)のQ値は40〜48と優れており、損失の小さなバンドパスフィルタを作製するのに有利であることが分かる。なお、Q値は、ベクトルネットワークアナイザで測定したデータをもとに、下記式:
Q=2πfL/R (f:周波数、L:インダクタンス、R:抵抗値)
から算出した。
In a bandpass filter, the degree of power loss in the pass frequency band is one of the most important characteristics. However, in a bandpass filter formed by patterning an inductor element and a capacitor element, the power loss of the inductor element is the bandpass filter. It accounts for the majority of the total loss. FIG. 11 shows measurement results of inductor elements made of various materials up to a Q value of 10 GHz (inductor conditions: both line width and line spacing are 80 μm). Inductors manufactured using the curable resin composition of Example 1 while the Q value of the high-functional resin material (BT resin) and the low-temperature fired ceramic (LTCC) is 20 to 37 at 1 GHz or higher. It can be seen that the element (insulating layer is made of a cured product of a curable resin composition) has an excellent Q value of 40 to 48, which is advantageous for producing a band-pass filter with a small loss. In addition, Q value is based on the data measured by the vector network analyzer, and the following formula:
Q = 2πfL / R (f: frequency, L: inductance, R: resistance value)
Calculated from

バンドパスフィルタ回路は、上述のようにインダクタ素子やコンデンサ素子などの集中定数の組み合わせに限らず、分布定数を用いて形成することも可能であり、例えば、図12に示すようなλ/4共振器によるバンドパスフィルタ、図13に示すようなλ/2共振器によるバンドパスフィルタ等を積層基板内に形成することが可能である。このような分布定数による回路においても、実施例1の硬化性樹脂組成物を用いてなる共振器はQ値が優れており、低損失なバンドパスフイルタを作製するのに有利である。なお、共振器のQ値はトリプレート共振器法にて測定することができる。   The band-pass filter circuit is not limited to a combination of lumped constants such as an inductor element and a capacitor element as described above, and can be formed using distributed constants. For example, a λ / 4 resonance as shown in FIG. A band-pass filter using a resonator, a band-pass filter using a λ / 2 resonator as shown in FIG. 13, and the like can be formed in the laminated substrate. Even in a circuit with such a distributed constant, the resonator using the curable resin composition of Example 1 has an excellent Q value, which is advantageous for producing a low-loss bandpass filter. The Q value of the resonator can be measured by a triplate resonator method.

図14に、各種材料で作製したマイクロストリップラインの伝送ロスの測定結果を示す。伝送ロスは、ベクトルネットワークアナライザにより測定した。
汎用樹脂材料(FR−4)、高機能樹脂材料(BTレジン)、及び低温焼成セラミック(LTCC)と比較して、実施例1の硬化性樹脂組成物を用いてなるもの(絶縁層は硬化性樹脂組成物の硬化物からなる)では伝送ロスが小さく、周波数が高くなるほど優位性が顕著になることが分かる。
従って、モジュール基板上の配線において、ICのような能動素子同士を、ICとBPFのように、能動素子と受動素子とを、又はBPF出力端子からアンテナ入力端子のように、受動素子同士を、ストリップライン又はマイクロストリップラインの伝送ライン(通常、50Ωライン)で接続する場合、従来の汎用樹脂材料(FR−4)や、低温焼成セラミック(LTCC)等を用いた基板と比較して、本発明に係る硬化性樹脂組成物を用いた基板では伝送ロスが小さく、優れた省電力型のモジュールを作製することが可能である。
図15には、実施例1の硬化性樹脂組成物と従来のバンドパスフィルタの材料であるLTCCをそれぞれ用いて作製した2.5GHz帯バンドパスフィルタの通過帯域における伝送ロスの測定結果を示す。該測定結果によれば、実施例1の硬化性樹脂組成物を用いてなるもの(絶縁層は硬化性樹脂組成物の硬化物からなる)では、LTCCを用いてなるものより伝送ロスが小さく、省電力化に有効であることが分かる。
FIG. 14 shows measurement results of transmission loss of microstrip lines made of various materials. Transmission loss was measured with a vector network analyzer.
Compared to general-purpose resin material (FR-4), high-functional resin material (BT resin), and low-temperature fired ceramic (LTCC), the one using the curable resin composition of Example 1 (the insulating layer is curable) It can be seen that the transmission loss is small in the case of (made of a cured product of the resin composition), and the superiority becomes more remarkable as the frequency becomes higher.
Therefore, in the wiring on the module substrate, active elements such as IC, active elements and passive elements such as IC and BPF, or passive elements such as antenna input terminal from BPF output terminal, When connecting with a transmission line (usually 50Ω line) of a strip line or a microstrip line, the present invention is compared with a substrate using a conventional general-purpose resin material (FR-4), low-temperature fired ceramic (LTCC) or the like. The substrate using the curable resin composition according to the present invention has a small transmission loss and can produce an excellent power-saving module.
In FIG. 15, the measurement result of the transmission loss in the pass band of the 2.5 GHz band band pass filter produced using the curable resin composition of Example 1 and LTCC which is the material of the conventional band pass filter, respectively is shown. According to the measurement result, the transmission loss of the one using the curable resin composition of Example 1 (the insulating layer is made of a cured product of the curable resin composition) is smaller than that using the LTCC, It turns out that it is effective for power saving.

図16には、比較例1で作製されたPA積層モジュールの断面概略図を示す。図6に示すように、受動素子のコンデンサ、インダクタ、BPF1及び能動素子PAは積層基板の表面に実装されている(コンデンサ及びインダクタは図16中省略)。BPF1の材料はLTCCであり、積層基板上のマイクロストリップラインMSLと半田付けにより接続されている。
また、BPF1の出力側のMSLは、図16に示すように、ブラインドビアホールによって、又はブラインドビアホールとインナービアホールによって、内層にあるストリップラインSLに接続される。SLは上下層を樹脂絶縁層を介して設置電極に覆われており、外部への電力の漏洩又は外部からの雑音の侵入に対して強いために用いられる。更にSLは、ブラインドビアホールによって、又はブラインドビアホールとインナービアホールによって、表層のアンテナ端子につながるMSLに接続される。
In FIG. 16, the cross-sectional schematic of the PA laminated module produced by the comparative example 1 is shown. As shown in FIG. 6, the capacitor, inductor, BPF1 and active element PA of the passive element are mounted on the surface of the multilayer substrate (the capacitor and the inductor are omitted in FIG. 16). The material of BPF1 is LTCC and is connected to the microstrip line MSL on the laminated substrate by soldering.
As shown in FIG. 16, the MSF on the output side of the BPF 1 is connected to the strip line SL in the inner layer by a blind via hole or by a blind via hole and an inner via hole. SL is used because the upper and lower layers are covered with the installation electrodes through the resin insulating layer, and are strong against leakage of electric power to the outside or noise from the outside. Furthermore, SL is connected to the MSL connected to the antenna terminal on the surface layer by a blind via hole or by a blind via hole and an inner via hole.

図17には、実施例2で作製されたPA積層モジュールの断面概略図を示す。図8に示すように、受動素子のコンデンサ、インダクタ及び能動素子PAは積層基板の表面に実装され、BPF1’は内層にパターン化して内蔵されている(コンデンサ及びインダクタは図17中省略)。従って、図16のようにBPFと積層基板上のMSLの接続のための半田付けは存在しない。
PAの出力側のMSLは、図17に示すように、ブラインドビアホールによって、又はブラインドビアホールとインナービアホールによって、内層にパターン化して内蔵されているBPF1’の入力部と直結されたSLに接続される。BPF1’の出力部も内層のSLに直結され、SLは上下層を樹脂絶縁層を介して設置電極に覆われている。更にSLは、ブラインドビアホールによって、又はブラインドビアホールとインナービアホールによって、表層のアンテナ端子につながるMSLに接続される。
In FIG. 17, the cross-sectional schematic of the PA laminated module produced in Example 2 is shown. As shown in FIG. 8, the capacitor of the passive element, the inductor, and the active element PA are mounted on the surface of the multilayer substrate, and the BPF 1 ′ is built in a pattern on the inner layer (the capacitor and the inductor are omitted in FIG. 17). Therefore, there is no soldering for connecting the BPF and the MSL on the multilayer substrate as shown in FIG.
As shown in FIG. 17, the MSL on the output side of the PA is connected to the SL directly connected to the input portion of the BPF 1 ′ patterned and embedded in the inner layer by the blind via hole or by the blind via hole and the inner via hole. . The output portion of the BPF 1 ′ is also directly connected to the inner SL, and the upper and lower layers of the SL are covered with the installation electrodes via the resin insulating layer. Furthermore, SL is connected to the MSL connected to the antenna terminal on the surface layer by a blind via hole or by a blind via hole and an inner via hole.

図17のPA積層モジュールは、BPFが積層基板に内蔵されることによって、該基板表面の実装面積が図16のPA積層モジュールより減少し、モジュールとして小型化されている。また、電気的特性から見ると、図17のPA積層モジュールでは、BPFがLTCCのバンドパスフィルタより伝送ロスが小さいこと、マイクロストリップライン等の伝送ラインの伝送ロスがFR−4(エポキシ樹脂)より小さいこと、BPFの入出力の半田付けがないために、半田付けによるインピーダンスの不整合による伝送ロスが生じないこと、更に、基板表面のMSLと内層のSLとを接続するブラインドビアホールを形成する、樹脂絶縁層の開口の表面粗度(Rz1)がFR−4のものより優れており、該開口の内壁を下地として形成された導体層(前記MSLとSLとを立体的に接続する)での伝送ロスが小さいことが総合されて、図16のPA積層モジュールより、大幅な省電力効果が得られる。   In the PA laminated module of FIG. 17, since the BPF is built in the laminated substrate, the mounting area on the surface of the substrate is smaller than that of the PA laminated module of FIG. Also, in terms of electrical characteristics, in the PA laminated module of FIG. 17, the transmission loss of the BPF is smaller than that of the band-pass filter of LTCC, and the transmission loss of the transmission line such as the microstrip line is higher than that of FR-4 (epoxy resin). Small, no BPF input / output soldering, no transmission loss due to impedance mismatch due to soldering, and formation of blind via holes that connect the MSL of the substrate surface and the SL of the inner layer, The surface roughness (Rz1) of the opening of the resin insulating layer is superior to that of FR-4, and the conductor layer formed by using the inner wall of the opening as a base (the MSL and SL are three-dimensionally connected) In combination with the small transmission loss, a significant power saving effect can be obtained from the PA laminated module of FIG.

図17のPA積層モジュールでの、以上の電気的特性に基づく伝送ロス差の積算によれば、2.5GHz以上の周波数帯で約30%の省電力効果が見込まれる。また、電磁遮蔽用のビアホール間隔を従来の回路基板よりも狭くすることが可能なため、外部への電力の漏洩又は外部からの雑音の侵入に対して強くなり、PA積層モジュールとしての信頼性が増す。また、貫通ビアホールをPA直下に設けて放熱ビアとして用いた場合、従来の回路基板よりも間隔を狭くしてビアの密度を高めることが可能なため、放熱効果が増し、PA-ICの動作温度を下げることで省電力効果を高め、更にPA-ICの長期信頼性も高めることができる。図16と図17には、PA直下に放熱ビアを設けた様子を示すが、図17のPA積層モジュールでは、図16のPA積層モジュールに比べ、ビア間隔を狭くしてビア密度を高めることが可能なため、より多くの放熱ビアが設けられている。
加えて、ビア間隔を狭くしてもビア間の絶縁信頼性が保たれるため、電位の異なるビアどうしや、接地電位と信号ラインのように確実に絶縁されるべきビアどおし、例えば、図17の放熱ビアとMSL-SL間を接続するビア等の間隔も従来より狭くすることができ、モジュールの小型化に有利である。
According to the integration of the transmission loss difference based on the above electrical characteristics in the PA laminated module of FIG. 17, a power saving effect of about 30% is expected in a frequency band of 2.5 GHz or more. In addition, since the interval between via holes for electromagnetic shielding can be made narrower than that of a conventional circuit board, it is strong against leakage of power to the outside or noise from outside, and the reliability as a PA multilayer module is improved. Increase. In addition, when a through-via hole is provided directly under the PA and used as a heat dissipation via, it is possible to increase the density of the via by narrowing the interval compared to the conventional circuit board, so the heat dissipation effect is increased and the operating temperature of the PA-IC is increased. By reducing the power consumption, the power saving effect can be enhanced, and the long-term reliability of the PA-IC can also be enhanced. FIGS. 16 and 17 show a state in which a heat radiating via is provided directly under the PA. In the PA laminated module of FIG. 17, the via interval is narrowed and the via density is increased as compared with the PA laminated module of FIG. Because it is possible, more heat dissipation vias are provided.
In addition, since the insulation reliability between the vias is maintained even if the via interval is narrowed, vias having different potentials or vias that should be reliably insulated like the ground potential and the signal line, for example, The interval between the heat dissipation vias and the MSL-SL in FIG. 17 can be made narrower than before, which is advantageous for downsizing of the module.

20 インナービアホール
30 ブラインドビアホール
40 貫通ビアホール
60 受動素子
70 受動素子
100 積層基板
101〜105 絶縁層
20 Inner via hole 30 Blind via hole 40 Through-via hole 60 Passive element 70 Passive element 100 Multilayer substrate 101-105 Insulating layer

Claims (14)

コア基板上に導体回路と樹脂絶縁層とが交互に積層され、前記導体回路がビアホール及び/又はスルーホールを介して接続されてなる多層プリント配線板の製造方法であって、
表面に導体回路が設けられたコア基板上、環状オレフィン系重合体と、モース硬度が7以下かつ熱伝導率が1W/mKを超える無機充填剤とを含む硬化性樹脂組成物からなる層を設け、該層を硬化して樹脂絶縁層を形成した後、該樹脂絶縁層にビアホール用開口及び/又はスルーホール用開口を形成し、次いで、該樹脂絶縁層上にビアホール及び/又はスルーホールを含む導体回路を形成する工程を少なくとも1回行う、多層プリント配線板の製造方法。
A method for producing a multilayer printed wiring board in which conductor circuits and resin insulating layers are alternately laminated on a core substrate, and the conductor circuits are connected via via holes and / or through holes,
A layer made of a curable resin composition containing a cyclic olefin polymer and an inorganic filler having a Mohs hardness of 7 or less and a thermal conductivity of more than 1 W / mK is provided on a core substrate provided with a conductor circuit on the surface. After the layer is cured to form a resin insulating layer, a via hole opening and / or a through hole opening is formed in the resin insulating layer, and then a via hole and / or a through hole is formed on the resin insulating layer. A method for producing a multilayer printed wiring board, wherein the step of forming a conductor circuit is performed at least once.
コア基板上に導体回路と樹脂絶縁層とが交互に積層され、前記導体回路がビアホール及びスルーホールを介して接続されてなる多層プリント配線板の製造方法であって、
表面に導体回路が設けられたコア基板上、環状オレフィン系重合体と、モース硬度が7以下かつ熱伝導率が1W/mKを超える無機充填剤とを含む硬化性樹脂組成物からなる層を設け、該層を硬化して樹脂絶縁層を形成した後、該樹脂絶縁層にビアホール用開口を形成し、次いで、該樹脂絶縁層上にビアホールを含む導体回路を形成する工程を少なくとも1回行い、
前記工程を少なくとも1回行うことにより得られた、コア基板上に導体回路と樹脂絶縁層とが交互に積層されてなる積層体の表面にある導体回路上に、前記工程と同様にして樹脂絶縁層R1を形成した後、樹脂絶縁層R1が形成された積層体に該樹脂絶縁層R1から該積層体を厚さ方向に貫通するようにスルーホール用開口を形成し、次いで、該樹脂絶縁層R1上にスルーホールを含む導体回路C1を形成する工程を行う、多層プリント配線板の製造方法。
A method for producing a multilayer printed wiring board in which conductor circuits and resin insulating layers are alternately laminated on a core substrate, and the conductor circuits are connected via via holes and through holes,
A layer made of a curable resin composition containing a cyclic olefin polymer and an inorganic filler having a Mohs hardness of 7 or less and a thermal conductivity of more than 1 W / mK is provided on a core substrate provided with a conductor circuit on the surface. Then, after the layer is cured to form a resin insulating layer, a step of forming a via hole opening in the resin insulating layer, and then forming a conductor circuit including a via hole on the resin insulating layer is performed at least once,
Resin insulation is performed on the conductor circuit on the surface of the laminate obtained by performing the above process at least once, and the conductor circuit and the resin insulation layer are alternately laminated on the core substrate in the same manner as in the above process. After forming the layer R1, an opening for a through hole is formed in the laminated body on which the resin insulating layer R1 is formed so as to penetrate the laminated body from the resin insulating layer R1 in the thickness direction, and then the resin insulating layer A method for producing a multilayer printed wiring board, comprising performing a step of forming a conductor circuit C1 including a through hole on R1.
少なくとも1層の樹脂絶縁層に対し、ビアホール用開口及び/又はスルーホール用開口を、ドリル又はレーザーにより連続して少なくとも500個形成する請求項1又は2記載の多層プリント配線板の製造方法。   3. The method for producing a multilayer printed wiring board according to claim 1, wherein at least 500 via-hole openings and / or through-hole openings are continuously formed with at least one resin insulating layer by a drill or a laser. ビアホール用開口及び/又はスルーホール用開口を、隣り合う、いずれの2つの開口の間隔も200μm以下となるように形成する請求項3記載の多層プリント配線板の製造方法。   4. The method for producing a multilayer printed wiring board according to claim 3, wherein the via-hole opening and / or the through-hole opening are formed so that the distance between any two adjacent openings is 200 [mu] m or less. コア基板上に導体回路と樹脂絶縁層とが交互に積層され、前記導体回路がスルーホールを介して接続されてなる多層プリント配線板の製造方法であって、
表面に導体回路が設けられたコア基板上、環状オレフィン系重合体と、モース硬度が7以下かつ熱伝導率が1W/mKを超える無機充填剤とを含む硬化性樹脂組成物からなる層を設け、該層を硬化して樹脂絶縁層を形成した後、該樹脂絶縁層上に導体回路を形成する工程を少なくとも1回行い、
前記工程を少なくとも1回行うことにより得られた、コア基板上に導体回路と樹脂絶縁層とが交互に積層されてなる積層体の表面にある導体回路上に、前記工程と同様にして樹脂絶縁層R2を形成した後、樹脂絶縁層R2が形成された積層体に該樹脂絶縁層R2から該積層体を厚さ方向に貫通するようにスルーホール用開口を形成し、次いで、該樹脂絶縁層R2上にスルーホールを含む導体回路C2を形成する工程を行う、多層プリント配線板の製造方法。
A method for producing a multilayer printed wiring board in which conductor circuits and resin insulating layers are alternately laminated on a core substrate, and the conductor circuits are connected via through holes,
A layer made of a curable resin composition containing a cyclic olefin polymer and an inorganic filler having a Mohs hardness of 7 or less and a thermal conductivity of more than 1 W / mK is provided on a core substrate provided with a conductor circuit on the surface. Then, after the layer is cured to form a resin insulating layer, a step of forming a conductor circuit on the resin insulating layer is performed at least once,
Resin insulation is performed on the conductor circuit on the surface of the laminate obtained by performing the above process at least once, and the conductor circuit and the resin insulation layer are alternately laminated on the core substrate in the same manner as in the above process. After forming the layer R2, an opening for a through hole is formed in the laminate on which the resin insulating layer R2 is formed so as to penetrate the laminate from the resin insulating layer R2 in the thickness direction, and then the resin insulating layer A method for producing a multilayer printed wiring board, comprising performing a step of forming a conductor circuit C2 including a through hole on R2.
スルーホール用開口を、ドリル又はレーザーにより連続して少なくとも500個形成する請求項5記載の多層プリント配線板の製造方法。   The method for producing a multilayer printed wiring board according to claim 5, wherein at least 500 through-hole openings are continuously formed by a drill or a laser. スルーホール用開口を、隣り合う、いずれの2つの開口の間隔も200μm以下となるように形成する請求項6記載の多層プリント配線板の製造方法。   The method for producing a multilayer printed wiring board according to claim 6, wherein the through-hole openings are formed so that the interval between any two adjacent openings is 200 μm or less. 硬化性樹脂組成物中の無機充填剤の含有量が10〜60体積%である請求項1〜7いずれか記載の多層プリント配線板の製造方法。   Content of the inorganic filler in curable resin composition is 10-60 volume%, The manufacturing method of the multilayer printed wiring board in any one of Claims 1-7. 無機充填剤が、以下の(A)〜(C):
(A)チタン酸バリウム、チタン酸ストロンチウム、及びチタン酸カルシウム
(B)希土類金属を含むチタン酸リチウム化合物
(C)無機窒化物
からなる群から選択される少なくとも1種である請求項1〜8いずれか記載の多層プリント配線板の製造方法。
The inorganic filler is the following (A) to (C):
(A) At least one selected from the group consisting of barium titanate, strontium titanate, and calcium titanate (B) a lithium titanate compound containing a rare earth metal (C) inorganic nitride. A method for producing a multilayer printed wiring board as described above.
請求項1〜9いずれかに記載の多層プリント配線板の製造方法により得られうる、コア基板上に導体回路と樹脂絶縁層とが交互に積層され、前記導体回路がビアホール及び/又はスルーホールを介して接続されてなる多層プリント配線板。   A conductor circuit and a resin insulating layer, which can be obtained by the method for producing a multilayer printed wiring board according to any one of claims 1 to 9, are alternately laminated on a core substrate, and the conductor circuit has via holes and / or through holes. Multi-layer printed wiring board connected via. ビアホール用開口及び/又はスルーホール用開口の表面粗度(Rz1)が5μm以下である請求項10記載の多層プリント配線板。   The multilayer printed wiring board according to claim 10, wherein the surface roughness (Rz1) of the via hole opening and / or the through hole opening is 5 µm or less. 無機充填剤の平均粒径が、導体回路を構成する導体層の表面粗度(Rz2)以上、かつビアホール用開口及び/又はスルーホール用開口の表面粗度(Rz1)以下である請求項10又は11記載の多層プリント配線板。   The average particle diameter of the inorganic filler is not less than the surface roughness (Rz2) of the conductor layer constituting the conductor circuit and not more than the surface roughness (Rz1) of the via hole opening and / or the through hole opening. 11. The multilayer printed wiring board according to 11. 請求項10〜12いずれかに記載の多層プリント配線板に、電子部品を搭載し、及び/又は内蔵し、該電子部品を該多層プリント配線板の導体回路に接続してなる多層プリント回路板。   The multilayer printed circuit board which mounts an electronic component in the multilayer printed wiring board in any one of Claims 10-12, and / or incorporates it, and connects this electronic component to the conductor circuit of this multilayer printed wiring board. 請求項13に記載の多層プリント回路板を備えてなる電子機器。   An electronic device comprising the multilayer printed circuit board according to claim 13.
JP2010062046A 2010-03-18 2010-03-18 Method of manufacturing multilayered printed wiring board Pending JP2011198887A (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2010062046A JP2011198887A (en) 2010-03-18 2010-03-18 Method of manufacturing multilayered printed wiring board

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2010062046A JP2011198887A (en) 2010-03-18 2010-03-18 Method of manufacturing multilayered printed wiring board

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JP2011198887A true JP2011198887A (en) 2011-10-06

Family

ID=44876754

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2010062046A Pending JP2011198887A (en) 2010-03-18 2010-03-18 Method of manufacturing multilayered printed wiring board

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP2011198887A (en)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2015122398A1 (en) * 2014-02-14 2015-08-20 日本ゼオン株式会社 Laminate and method for producing build-up substrate
JPWO2022014067A1 (en) * 2020-07-14 2022-01-20

Cited By (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2015122398A1 (en) * 2014-02-14 2015-08-20 日本ゼオン株式会社 Laminate and method for producing build-up substrate
JPWO2015122398A1 (en) * 2014-02-14 2017-03-30 日本ゼオン株式会社 LAMINATE AND BUILD-UP BOARD MANUFACTURING METHOD
JPWO2022014067A1 (en) * 2020-07-14 2022-01-20
WO2022014067A1 (en) * 2020-07-14 2022-01-20 株式会社フジクラ Wireless communication module
JP7098822B2 (en) 2020-07-14 2022-07-11 株式会社フジクラ Wireless communication module
US11509345B2 (en) 2020-07-14 2022-11-22 Fujikura Ltd. Wireless communication module

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR100896548B1 (en) An Interconnect Module and A Method for Forming an Interconnect Module
US8687380B2 (en) Wiring board and method for manufacturing the same
US9538642B2 (en) Wiring board and method for manufacturing the same
KR101137749B1 (en) Multilayer printed wiring board
JP4119205B2 (en) Multilayer wiring board
US20080248596A1 (en) Method of making a circuitized substrate having at least one capacitor therein
JP5388071B2 (en) Multilayer wiring board
US7449381B2 (en) Method of making a capacitive substrate for use as part of a larger circuitized substrate, method of making said circuitized substrate and method of making an information handling system including said circuitized substrate
US9226409B2 (en) Method for manufacturing a wiring board
US20070177331A1 (en) Non-flaking capacitor material, capacitive substrate having an internal capacitor therein including said non-flaking capacitor material, and method of making a capacitor member for use in a capacitive substrate
US20080053688A1 (en) Printed circuit board and method of manufacturing the same
US20120314389A1 (en) Wiring board and method for manufacturing same
US20130192879A1 (en) Multilayer printed wiring board
JP2013161939A (en) Sheet material, manufacturing method of sheet material, inductor component, wiring board, and magnetic material
US9578756B2 (en) Printed wiring board and method for manufacturing printed wiring board
US8607445B1 (en) Substrate having internal capacitor and method of making same
US20130146345A1 (en) Printed wiring board and method for manufacturing the same
KR100861616B1 (en) Printed circuit board and manufacturing method thereof
JP2011198887A (en) Method of manufacturing multilayered printed wiring board
US20090071603A1 (en) Method of manufacturing printed circuit board and electromagnetic bandgap structure
JP4521223B2 (en) Printed wiring board
CN112216673A (en) Component carrier, method of manufacturing a component carrier and method of use
CN111818720A (en) Component carrier with high passive intermodulation performance and methods of making and using the same
JP2002164663A (en) Build-up core board, build-up wiring board, and manufacturing method thereof
JP2011023381A (en) Laminated module