JP2011198417A - Semiconductor memory device - Google Patents

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Hidekazu Makino
野 英 一 牧
Makoto Iwai
井 信 岩
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a memory which can suppress increase of a data reading period and increase of a power consumption when the data reading operation are separately executed for one bit line and another bit line of adjacent bit lines.SOLUTION: The device includes: a memory cell array consisting of memory cells which are arrayed at gate intervals of ≤30 nm; a sense amplifier for detecting data stored in the memory cells by detecting a current which flows through the bit lines into the memory cells connected to selection word lines; and a word line driver for applying a voltage to the word line when the data are written into the memory cells. The sense amplifier detects the data of respective memory cells connected to the adjacent first bit line and second bit line respectively in different periods. The word line driver maintains a potential of at least one word line in a period between the data detecting operation of the memory cell connected to the first bit line and the data detecting operation of the memory cell connected to the second bit line.

Description

本発明は、半導体記憶装置に関する。   The present invention relates to a semiconductor memory device.

不揮発性半導体記憶装置の一つとして、NAND型フラッシュメモリが知られている。従来からNAND型フラッシュメモリにおいて、ABL(All Bit Line)方式を用いた読出し方式がよく用いられる。ABL方式は、ビット線のプリチャージ後、全てのビット線に対して読み出し動作を行う方式である。また、近年、NAND型フラッシュメモリは、各メモリセルが2ビット以上のデータを格納することができるように、多値化されている。   A NAND flash memory is known as one of nonvolatile semiconductor memory devices. Conventionally, in a NAND flash memory, a read method using an ABL (All Bit Line) method is often used. The ABL method is a method in which a read operation is performed on all the bit lines after the bit lines are precharged. In recent years, NAND flash memories have been multi-valued so that each memory cell can store data of 2 bits or more.

多値メモリでは、データ読出しシーケンスにおいて、選択ワード線の電圧(ゲート電圧)を変更させながら、ビット線を駆動してセンスを繰り返す。読出しが完了したメモリセルに接続されたビット線は、その後の基準電位(例えば、接地電位)に固定される。読出しが完了していないメモリセルに接続されたビット線は、引き続き、センスおよびベリファイのために駆動される。1回の読出しシーケンスにおいて、全カラムのメモリセルのデータが読み出されるまで、複数のセンス動作が繰り返し実行される。   In the multi-level memory, in the data read sequence, the bit line is driven and the sensing is repeated while changing the voltage (gate voltage) of the selected word line. The bit line connected to the memory cell that has been read is fixed to a subsequent reference potential (for example, ground potential). Bit lines connected to memory cells that have not been read are subsequently driven for sensing and verifying. In one read sequence, a plurality of sense operations are repeatedly executed until data of memory cells in all columns is read.

ABL方式は、ビット線から流れる電流量に基づいてデータを検出する電流センス方式を用いる。従って、プリチャージ時において全てのビット線に印加されている電圧は等しく、隣接効果が無い。また、ゲート長が40nm前後の世代では、隣接するビット線の間隔が比較的広い。このため、センス動作後、或るビット線が基準電位に固定されても、次のセンス動作時に、それに隣接する他のビット線の電位に与える影響(近接効果)は小さかった。従って、ゲート長が40nm前後の世代では、メモリは、全ビット線に対して同時に読出しシーケンスを実行することができた。   The ABL method uses a current sensing method that detects data based on the amount of current flowing from a bit line. Therefore, the voltages applied to all the bit lines at the time of precharging are equal and there is no adjacent effect. In the generation with a gate length of around 40 nm, the interval between adjacent bit lines is relatively wide. For this reason, even if a certain bit line is fixed at the reference potential after the sensing operation, the influence (proximity effect) on the potentials of other bit lines adjacent thereto is small during the next sensing operation. Therefore, in the generation where the gate length is around 40 nm, the memory can simultaneously execute the read sequence for all the bit lines.

しかし、ゲート長が30nm以下の世代では、隣接するビット線間隔が狭くなり、近接効果が無視できない。従って、センス動作によって或るビット線が基準電位に固定されると、その後のセンス動作において、その基準電位に固定されたビット線に隣接する他のビット線の電位に影響を与えてしまうおそれがある。このような近接効果に対処するために、メモリは、読出しシーケンスを、偶数アドレスカラム(偶数アドレス)のビット線と奇数アドレスカラム(奇数アドレス)のビット線とに分割して実行する必要がある。このような分割読出し方式は、全カラムのビット線からデータを一括で読み出す従来のABL方式に比べて、読出し回数が増加する分だけ、読出し時間を増大させ、消費電力を増大させてしまう。   However, in the generation with a gate length of 30 nm or less, the interval between adjacent bit lines becomes narrow, and the proximity effect cannot be ignored. Therefore, when a certain bit line is fixed to the reference potential by the sensing operation, there is a possibility that the potential of other bit lines adjacent to the bit line fixed to the reference potential is affected in the subsequent sensing operation. is there. In order to cope with such a proximity effect, the memory needs to execute a read sequence by dividing the read sequence into bit lines of even address columns (even addresses) and bit lines of odd address columns (odd addresses). Such a divided read method increases the read time and power consumption by the amount of increase in the number of reads, compared with the conventional ABL method of reading data from the bit lines of all columns at once.

特開2009−116993号公報JP 2009-116993 A

隣接ビット線の一方のビット線と他方のビット線とにおいてデータの読出しを別個に実行する際に、データ読出し時間の増大および消費電力の増大を抑制することができる半導体記憶装置を提供する。   Provided is a semiconductor memory device capable of suppressing an increase in data read time and an increase in power consumption when data reading is separately performed on one bit line and the other bit line of adjacent bit lines.

本発明に係る実施形態に従った半導体記憶装置は、30nm以下のゲート間隔で配列された複数のメモリセルからなるメモリセルアレイと、前記複数のメモリセルに接続された複数のワード線と、前記複数のメモリセルに接続され、前記複数のワード線に対して交差する複数のビット線と、前記複数のワード線のうち選択されたワード線に接続された前記メモリセルに、前記ビット線を介して流れる電流量を検知して、前記メモリセルに格納されたデータを検出するセンスアンプと、前記メモリセルへデータを書き込む際に前記複数のワード線に電圧を印加するワード線ドライバとを備え、
前記センスアンプは、互いに隣接する第1のビット線および第2のビット線に接続された各前記メモリセルのデータをそれぞれ異なる時期に検出し、
前記ワード線ドライバは、前記第1のビット線に接続された前記メモリセルのデータ検出動作と前記第2のビット線に接続された前記メモリセルのデータ検出動作との間の期間において、少なくとも1本の前記ワード線の電位を維持することを特徴とする。
A semiconductor memory device according to an embodiment of the present invention includes a memory cell array composed of a plurality of memory cells arranged with a gate interval of 30 nm or less, a plurality of word lines connected to the plurality of memory cells, and the plurality of memory cells. A plurality of bit lines crossing the plurality of word lines and the memory cells connected to a selected word line among the plurality of word lines via the bit lines. A sense amplifier that detects the amount of current flowing and detects data stored in the memory cell; and a word line driver that applies a voltage to the plurality of word lines when writing data to the memory cell;
The sense amplifier detects data of the memory cells connected to the first bit line and the second bit line adjacent to each other at different times,
The word line driver has at least 1 in a period between a data detection operation of the memory cell connected to the first bit line and a data detection operation of the memory cell connected to the second bit line. The potential of the word line of the book is maintained.

本発明による半導体記憶装置は、隣接ビット線の一方のビット線と他方のビット線とにおいてデータの読出しを別個に実行する際に、データ読出し時間の増大および消費電力の増大を抑制することができる。   The semiconductor memory device according to the present invention can suppress an increase in data read time and an increase in power consumption when data reading is separately performed on one bit line and the other bit line of adjacent bit lines. .

本発明に係る第1の実施形態に従ったNAND型フラッシュメモリの構成を示すブロック図。1 is a block diagram showing a configuration of a NAND flash memory according to a first embodiment of the present invention. ビット線プリチャージ時のセンスアンプの様子を示す図。The figure which shows the mode of the sense amplifier at the time of bit line precharge. センス時のセンスアンプの様子を示す図。The figure which shows the mode of the sense amplifier at the time of a sense. 第1の実施形態に従ったNAND型フラッシュメモリの読出しシーケンスを示すタイミング図。4 is a timing chart showing a read sequence of the NAND flash memory according to the first embodiment. FIG. 本発明に係る第2の実施形態に従ったNAND型フラッシュメモリの読出しシーケンスを示すタイミング図。The timing diagram which shows the read-out sequence of the NAND type flash memory according to 2nd Embodiment based on this invention. 本発明に係る第3の実施形態に従ったNAND型フラッシュメモリの書込みシーケンスを示すタイミング図。The timing diagram which shows the write-in sequence of the NAND type flash memory according to 3rd Embodiment based on this invention.

以下、図面を参照して本発明に係る実施形態を説明する。本実施形態は、本発明を限定するものではない。   Embodiments according to the present invention will be described below with reference to the drawings. This embodiment does not limit the present invention.

(第1の実施形態)
図1は、本発明に係る第1の実施形態に従ったNAND型フラッシュメモリの構成を示すブロック図である。メモリセルアレイ11内には、複数のメモリセルがマトリクス状に二次元配置されている。メモリセルのゲートはワード線に接続されており、メモリセルのソースまたはドレインは、ビット線に接続されている。メモリセルのゲート長は、30nm以下である。隣接するメモリセル間の間隔も、30nm以下である。隣接するメモリセル間のゲート間隔とは、隣接する2つのメモリセルのゲート間の間隔である。複数のワード線はロウ方向に、ビット線はカラム方向にそれぞれ互いに交差するように配線されている。メモリセルアレイ11のビット線方向の一端にはセンスアンプ12が配置されている。メモリセルアレイ11のビット線方向の一端に対向する他端にもセンスアンプ12が配置されている。センスアンプ12は、ビット線に接続されており、選択ワード線に接続されたメモリセルに、ビット線を介して流れるセル電流を検知することによって、メモリセルに格納されたデータを検出する。メモリセルアレイ11のワード線方向の両端には、ロウデコーダ13およびワード線ドライバ21がそれぞれ配置されている。ワード線ドライバ21は、ワード線に接続されており、メモリセルへデータを書き込む際にワード線に電圧を印加するように構成されている。
(First embodiment)
FIG. 1 is a block diagram showing a configuration of a NAND flash memory according to the first embodiment of the present invention. In the memory cell array 11, a plurality of memory cells are two-dimensionally arranged in a matrix. The gate of the memory cell is connected to the word line, and the source or drain of the memory cell is connected to the bit line. The gate length of the memory cell is 30 nm or less. An interval between adjacent memory cells is also 30 nm or less. The gate interval between adjacent memory cells is the interval between the gates of two adjacent memory cells. The plurality of word lines are wired so as to cross each other in the row direction and the bit lines cross each other in the column direction. A sense amplifier 12 is disposed at one end of the memory cell array 11 in the bit line direction. A sense amplifier 12 is also arranged at the other end of the memory cell array 11 opposite to one end in the bit line direction. The sense amplifier 12 is connected to the bit line, and detects data stored in the memory cell by detecting a cell current flowing through the bit line in the memory cell connected to the selected word line. At both ends of the memory cell array 11 in the word line direction, a row decoder 13 and a word line driver 21 are arranged. The word line driver 21 is connected to the word line and is configured to apply a voltage to the word line when data is written to the memory cell.

NAND型フラッシュメモリでは、複数のメモリセルが直列に接続されNANDストリングを構成する。NANDストリングの一端は、ビット線BLに接続され、その他端はソースSに接続されている。従って、メモリセルは、該メモリセルとビット線BLとの間に介在する他のメモリセルを介してビット線BLに接続される。   In a NAND flash memory, a plurality of memory cells are connected in series to form a NAND string. One end of the NAND string is connected to the bit line BL, and the other end is connected to the source S. Therefore, the memory cell is connected to the bit line BL via another memory cell interposed between the memory cell and the bit line BL.

センスアンプ12と外部入出力端子I/Oとの間のデータの授受は、データバス14及びI/Oバッファ15を介して行われる。   Data exchange between the sense amplifier 12 and the external input / output terminal I / O is performed via the data bus 14 and the I / O buffer 15.

コントローラ16には、各種の外部制御信号、例えば、チップイネーブル信号/CE、アドレスラッチイネーブル信号ALE、コマンドラッチイネーブル信号CLE、書き込みイネーブル信号/WE、及び読み出しイネーブル信号/REなどが入力される。コントローラ16は、これらの制御信号に基づいて、入出力端子I/Oから供給されるアドレスAddとコマンドComとを識別する。そして、コントローラ16は、アドレスAddを、アドレスレジスタ17を介してロウデコーダ13及びカラムデコーダ18に転送する。また、コントローラ16は、コマンドComをデコードする。センスアンプ12は、カラムデコーダ18によってデコードされたカラムアドレスに従って、ビット線に電圧を印加することができるように構成されている。ワード線ドライバ21は、ロウデコーダ13によってデコードされたロウアドレスに従って、ワード線に電圧を印加することができるように構成されている。   Various external control signals such as a chip enable signal / CE, an address latch enable signal ALE, a command latch enable signal CLE, a write enable signal / WE, and a read enable signal / RE are input to the controller 16. Based on these control signals, the controller 16 identifies the address Add and the command Com supplied from the input / output terminal I / O. Then, the controller 16 transfers the address Add to the row decoder 13 and the column decoder 18 via the address register 17. Further, the controller 16 decodes the command Com. The sense amplifier 12 is configured to apply a voltage to the bit line according to the column address decoded by the column decoder 18. The word line driver 21 is configured to apply a voltage to the word line according to the row address decoded by the row decoder 13.

コントローラ16は、外部制御信号とコマンドに従って、データ読み出し、データ書き込み及び消去の各シーケンス制御を行う。内部電圧発生回路19は、各動作に必要な内部電圧(例えば、電源電圧より昇圧された電圧)を発生するために設けられている。この内部電圧発生回路19も、コントローラ16により制御され、昇圧動作を行い必要な電圧を発生する。   The controller 16 performs sequence control of data reading, data writing, and erasing in accordance with an external control signal and a command. The internal voltage generation circuit 19 is provided to generate an internal voltage (for example, a voltage boosted from the power supply voltage) necessary for each operation. The internal voltage generation circuit 19 is also controlled by the controller 16 and performs a boosting operation to generate a necessary voltage.

次に、NAND型フラッシュメモリのABL方式におけるビット線プリチャージ時の動作と、センス時の動作を説明する。図2及び図3は、ABL方式におけるセンスアンプの回路図である。図2はビット線プリチャージ時のセンスアンプの様子を示し、図3はセンス時のセンスアンプの様子を示す。尚、1回の読出しシーケンスは、或る選択ワード線WLに接続された全カラムの選択メモリセルからデータを読み出す一連の読出し動作である。   Next, an operation at the time of bit line precharging and an operation at the time of sensing in the ABL method of the NAND flash memory will be described. 2 and 3 are circuit diagrams of sense amplifiers in the ABL system. FIG. 2 shows a state of the sense amplifier at the time of bit line precharging, and FIG. 3 shows a state of the sense amplifier at the time of sensing. One read sequence is a series of read operations for reading data from selected memory cells in all columns connected to a selected word line WL.

読出しシーケンスでは、初めにビット線BLおよびセンスノードSENをプリチャージする。例えば、図2に示すように、ビット線BLを0.5V、センスノードSENを2.5Vとし、セル電流Icellを、例えば、1μAとする。P型トランジスタTp1は、セル電流Icellの上限を、或る電流量(例えば、1μA)に制限する。このとき、NANDストリングを介して接地電位(共通ソース線)に放電したまま(電流を流しながら)、ビット線を充電する。その後、充電したままセンスを開始する。尚、Icellは、NANDストリングを介して流れるセル電流である。   In the read sequence, first, the bit line BL and the sense node SEN are precharged. For example, as shown in FIG. 2, the bit line BL is set to 0.5 V, the sense node SEN is set to 2.5 V, and the cell current Icell is set to 1 μA, for example. The P-type transistor Tp1 limits the upper limit of the cell current Icell to a certain current amount (for example, 1 μA). At this time, the bit line is charged while discharging to the ground potential (common source line) via the NAND string (while a current flows). Thereafter, the sensing is started while being charged. Note that Icell is a cell current that flows through the NAND string.

図3に示すセンス時には、選択メモリセルがデータ“0”の場合、選択メモリセルは、1μA(電流供給能力)以上の電流を流す。よって、ビット線BLにプリチャージされた電荷が放電され、ビット線電位が0.5Vから低下し、センスノードSENの電位が2.5Vから低下する。従って、ラッチ回路LAに電圧Vddが保持される。一方、選択メモリセルが“1”データの場合、選択メモリセルにはほとんど電流がながれず、選択メモリセルを流れる電流は、1μA(電流供給能力)未満となる。よって、ビット線の電位およびセンスノードSENの電位は低下せず、変化しない。従って、ラッチ回路LAに接地電位Vssが保持される。   In the sensing shown in FIG. 3, when the selected memory cell is data “0”, the selected memory cell passes a current of 1 μA (current supply capability) or more. Therefore, the charge precharged in the bit line BL is discharged, the bit line potential is lowered from 0.5V, and the potential of the sense node SEN is lowered from 2.5V. Accordingly, the voltage Vdd is held in the latch circuit LA. On the other hand, when the selected memory cell is “1” data, almost no current flows through the selected memory cell, and the current flowing through the selected memory cell is less than 1 μA (current supply capability). Therefore, the potential of the bit line and the potential of the sense node SEN do not decrease and do not change. Therefore, the ground potential Vss is held in the latch circuit LA.

このように、トランジスタTp1がビット線BLを介して電流をメモリセルに供給する。しかし、メモリセルに格納されたデータの論理によって、メモリセルの導通状態が変化するので、ビット線BLの電位がデータの論理によって変わる。センスアンプ12は、このビット線BLの電位によって、メモリセルに格納されたデータの論理を検出する。   Thus, the transistor Tp1 supplies current to the memory cell via the bit line BL. However, since the conduction state of the memory cell changes depending on the logic of the data stored in the memory cell, the potential of the bit line BL changes depending on the logic of the data. The sense amplifier 12 detects the logic of the data stored in the memory cell based on the potential of the bit line BL.

図4は、第1の実施形態に従ったNAND型フラッシュメモリの読出しシーケンスを示すタイミング図である。この比較例では、偶数アドレスカラムのビット線に接続されたメモリセルからデータを読み出した後、奇数アドレスカラムのビット線に接続されたメモリセルからデータを読み出す。また、このメモリは、偶数アドレスカラムのビット線BLおよび奇数アドレスカラムのビット線BLのそれぞれについて、センス信号STBnを2回ずつ駆動させ、2回ずつ読出し動作を実行している。偶数アドレスカラムのビット線BLおよび奇数アドレスカラムのビット線BLのそれぞれについて、1回目の読出し動作(Se1、So1)では、センスアンプ12は、全カラムの選択メモリセルに電流を供給しながらデータを検出する。2回目の読出し動作(Se2、So2)では、ソース電位の上昇を抑制するために、センスアンプ12は、一部のカラムの選択メモリセルにのみ電流を供給しながらデータを検出する。より詳細な説明は後述する。   FIG. 4 is a timing chart showing a read sequence of the NAND flash memory according to the first embodiment. In this comparative example, after data is read from the memory cells connected to the bit lines of the even address columns, the data is read from the memory cells connected to the bit lines of the odd address columns. In addition, this memory drives the sense signal STBn twice for each of the bit line BL of the even address column and the bit line BL of the odd address column, and executes the read operation twice. For each of the bit line BL of the even address column and the bit line BL of the odd address column, in the first read operation (Se1, So1), the sense amplifier 12 supplies data while supplying current to the selected memory cells of all the columns. To detect. In the second read operation (Se2, So2), in order to suppress an increase in the source potential, the sense amplifier 12 detects data while supplying current only to selected memory cells in some columns. A more detailed description will be given later.

偶数アドレスカラムおよび奇数アドレスカラムは、カラムアドレスによって区別することができる。例えば、偶数アドレスカラムのビット線(第1のビット線)は、最下位アドレスA0として“0”を有するカラムアドレスで指定されるビット線であり、奇数アドレスカラムのビット線(第2のビット線)は、最下位アドレスA0として“1”を有するカラムアドレスで指定されるビット線でよい。偶数アドレスカラムのビット線と奇数アドレスカラムのビット線とは、ワード線方向に交互に設けられている。即ち、或る偶数アドレスカラムのビット線(または奇数アドレスカラムのビット線)の両側に隣接する2本のビット線は、奇数アドレスカラムのビット線(または偶数アドレスカラムのビット線)となる。   Even address columns and odd address columns can be distinguished by column addresses. For example, a bit line (first bit line) of an even address column is a bit line specified by a column address having “0” as the lowest address A0, and a bit line (second bit line) of an odd address column ) May be a bit line specified by a column address having “1” as the lowest address A0. The bit lines of the even address columns and the bit lines of the odd address columns are alternately provided in the word line direction. That is, two bit lines adjacent to both sides of a bit line of an even address column (or a bit line of an odd address column) become a bit line of an odd address column (or a bit line of an even address column).

選択ワード線SEL_WLは、NANDストリングのうち選択されたワード線であり、非選択ワード線UNSEL_WLは、NANDストリングのうち選択ワード線SEL_WL以外のワード線である。   The selected word line SEL_WL is a selected word line in the NAND string, and the unselected word line UNSEL_WL is a word line other than the selected word line SEL_WL in the NAND string.

まず、最初の読出しシーケンスでは、センスアンプ12は、偶数アドレスカラムのビット線に接続されたメモリセルからデータを読み出す。このとき、奇数アドレスカラムのビット線BLの電位は、近接効果を抑制するために接地電位に固定される。偶数アドレスカラムのビット線BLは、図2を参照して説明したとおり、プリチャージされる。   First, in the first read sequence, the sense amplifier 12 reads data from the memory cells connected to the bit lines of the even address column. At this time, the potential of the bit line BL of the odd address column is fixed to the ground potential in order to suppress the proximity effect. As described with reference to FIG. 2, the bit line BL of the even address column is precharged.

t1において、或る1つの選択ワード線SEL_WLには、電圧Vselが印加される。選択ワード線SEL_WL以外の非選択ワード線UNSEL_WLには、電圧Vreadが印加される。VreadはVselよりも高い電圧である。従って、非選択ワード線UNSEL_WLに接続された非選択メモリセルは導通状態となるので、選択ワード線SEL_WLに接続された選択メモリセルが、ビット線BLとソースSとの間に接続された状態となる。   At t1, the voltage Vsel is applied to a certain selected word line SEL_WL. The voltage Vread is applied to unselected word lines UNSEL_WL other than the selected word line SEL_WL. Vread is a voltage higher than Vsel. Accordingly, since the non-selected memory cell connected to the non-selected word line UNSEL_WL becomes conductive, the selected memory cell connected to the selected word line SEL_WL is connected between the bit line BL and the source S. Become.

選択ワード線SEL_WLに接続された選択メモリセルは、フローティングゲートの電荷量(例えば、電子量)によって導通状態が決まる。よって、ビット線BLの充電状態は、選択メモリセルの導通状態によって変化する。例えば、上述のように、選択メモリセルがデータ“0”を格納する場合(選択メモリセルが導通状態の場合)、電流Icellは、ビット線BLから選択メモリセルを介してソースSへ放電される。一方、選択メモリセルがデータ“1”を格納する場合(選択メモリセルが非導通状態の場合)、選択メモリセルは、ビット線BLからの電流IcellをソースSへ流さない。t1〜t2において、メモリは、リードクロックR_CLKによって動作する。   The selected memory cell connected to the selected word line SEL_WL has its conduction state determined by the charge amount (for example, electron amount) of the floating gate. Therefore, the charged state of the bit line BL changes depending on the conduction state of the selected memory cell. For example, as described above, when the selected memory cell stores data “0” (when the selected memory cell is conductive), the current Icell is discharged from the bit line BL to the source S via the selected memory cell. . On the other hand, when the selected memory cell stores data “1” (when the selected memory cell is non-conductive), the selected memory cell does not flow the current Icell from the bit line BL to the source S. From t1 to t2, the memory operates with the read clock R_CLK.

メモリがリードクロックR_CLKで動作している間に、センス信号STBnが1回ロウに駆動される。センス信号STBnは、図2および図3に示す信号STBn(ストローブ信号)と同じ信号であり、ロウに駆動されることによって、センスノードSENに伝達されたデータ(電位)をラッチ回路LAに格納する。   While the memory is operating with the read clock R_CLK, the sense signal STBn is driven low once. Sense signal STBn is the same signal as signal STBn (strobe signal) shown in FIGS. 2 and 3, and is driven low to store data (potential) transmitted to sense node SEN in latch circuit LA. .

選択メモリセルがデータ“0”を格納する場合(選択メモリセルが導通状態の場合)、センスアンプ12内のセンスノードSENの電圧が低下する。一方、選択メモリセルがデータ“1”を格納する場合(選択メモリセルが非導通状態の場合)、センスノードSENの電圧がプリチャージの状態から低下せず、高電圧を維持する。センス信号の駆動により、センスアンプ12内の図3に示すラッチ回路LAはセンスノードSENの電圧状態をラッチする。その後、データは、センスアンプ12から図1に示すデータバス14を介してI/Oバッファ15に送られる。   When the selected memory cell stores data “0” (when the selected memory cell is in a conductive state), the voltage of the sense node SEN in the sense amplifier 12 decreases. On the other hand, when the selected memory cell stores data “1” (when the selected memory cell is in a non-conducting state), the voltage of the sense node SEN does not drop from the precharged state and maintains a high voltage. By driving the sense signal, the latch circuit LA shown in FIG. 3 in the sense amplifier 12 latches the voltage state of the sense node SEN. Thereafter, the data is sent from the sense amplifier 12 to the I / O buffer 15 via the data bus 14 shown in FIG.

各カラムにおいてデータ“0”を格納する選択メモリセル(以下、“0”セルという)が多い場合、セル電流IcellによってソースSの電位が上昇する場合がある。ソースSの電位が上昇すると、センスアンプ12は、データ“1”を格納する選択メモリセル(以下、“1”セルという)のデータを検出できなくなるおそれがある。従って、リードクロックR_CLKによる動作期間において、センスアンプ12は、セル電流Icellの大きいデータ“0”を確実に検出し、その後、“0”セルに接続されたビット線BLを接地電位に固定する。これにより、次のセンスクロックS_CLKによる動作期間(t2〜t3)において、ソース電位の上昇を抑制することができる。   When there are many selected memory cells (hereinafter referred to as “0” cells) that store data “0” in each column, the potential of the source S may rise due to the cell current Icell. When the potential of the source S rises, the sense amplifier 12 may not be able to detect data of a selected memory cell storing data “1” (hereinafter referred to as “1” cell). Therefore, during the operation period of the read clock R_CLK, the sense amplifier 12 reliably detects data “0” having a large cell current Icell, and thereafter fixes the bit line BL connected to the “0” cell to the ground potential. As a result, an increase in the source potential can be suppressed in the operation period (t2 to t3) by the next sense clock S_CLK.

センスクロックS_CLKによる動作期間において、センス信号STBnが再度ロウに駆動される。このとき、大きなセル電流Icellを流す“0”セルの個数は、リードクロックR_CLKの動作期間における“0”セルの個数よりも少ない。よって、センス信号STBnにおいてソース電位の上昇が抑制されるので、センスアンプ12は、“1”セルを検出することができる。また、センスアンプ12は、リードクロックR_CLKによる動作期間において検出できなかった“0”セルも検出することができる。   In the operation period based on the sense clock S_CLK, the sense signal STBn is driven low again. At this time, the number of “0” cells through which a large cell current Icell flows is smaller than the number of “0” cells in the operation period of the read clock R_CLK. Accordingly, since the increase in the source potential is suppressed in the sense signal STBn, the sense amplifier 12 can detect the “1” cell. The sense amplifier 12 can also detect “0” cells that could not be detected during the operation period of the read clock R_CLK.

次に、t3〜t4において、メモリは、リカバリクロックRR1_CLKに基づいて動作する。この期間に、ワード線ドライバ21は、非選択ワード線の電位をVreadに一定に維持し、選択ワード線の電位をリセットする。リセットは、選択ワード線の電位を一旦Vselから動作前のワード線電位に戻す動作である。   Next, from t3 to t4, the memory operates based on the recovery clock RR1_CLK. During this period, the word line driver 21 maintains the potential of the unselected word line at Vread, and resets the potential of the selected word line. The reset is an operation of once returning the potential of the selected word line from Vsel to the word line potential before the operation.

t4〜t6において、メモリは、奇数アドレスカラムのビット線BLに接続された選択メモリセルに対して読出し動作を実行する。より詳細な読出し動作は、t1〜t3において上述した読出し動作と同様であるのでその説明を省略する。このとき、偶数アドレスカラムのビット線BLの電位は、近接効果を抑制するために接地電位に固定される。   From t4 to t6, the memory performs a read operation on the selected memory cell connected to the bit line BL of the odd address column. A more detailed read operation is the same as the read operation described above from t1 to t3, and thus the description thereof is omitted. At this time, the potential of the bit line BL of the even address column is fixed to the ground potential in order to suppress the proximity effect.

t6〜t7において、メモリは、リカバリクロックRR2_CLKに基づいて、1回の読出しシーケンスを終了させるために、全ワード線WLをリセットする。即ち、全ワード線WLの電位は、読出しシーケンスの動作前のワード線電位にリセットされる。   From t6 to t7, the memory resets all the word lines WL in order to end one read sequence based on the recovery clock RR2_CLK. That is, the potentials of all the word lines WL are reset to the word line potentials before the read sequence operation.

上述のとおりゲート長が40nm以上の世代のNAND型フラッシュメモリは、読出しシーケンスが複数回の読出し動作(センス動作)を含む場合であっても、チャネルカップリング効果等の近接効果を考慮することなく、ABL方式によるデータ検出を行うことができた。   As described above, the generation of NAND flash memories having a gate length of 40 nm or more does not consider proximity effects such as channel coupling effects even when the read sequence includes a plurality of read operations (sense operations). Data detection by the ABL method could be performed.

しかし、ゲート長が30nm以下の世代では、読出しシーケンスが複数回の読出し動作(センス動作)を含む場合に、上述の通り近接効果が無視できない。このため、ゲート長が30nm以下の世代では、ビット線BLを偶数アドレスカラムと奇数アドレスカラムとに分割してデータを読み出す必要が生じる。この場合、通常、偶数アドレスカラム(または奇数アドレスカラム)のビット線に接続された選択メモリセルからデータを読み出した後、メモリは、ワード線WLのリセット動作を実行し、その後、奇数アドレスカラム(または偶数アドレスカラム)のビット線に接続された選択メモリセルからデータを読み出す。その後、メモリは、ワード線WLのリセット動作を再度実行する。即ち、メモリは、奇数アドレスカラムのデータの読出し終了時と偶数アドレスカラムのデータの読出し終了時とのそれぞれにおいて、リセット動作を実行する。このようにリセット動作を各読出し動作後に実行することは、ワード線ドライバ21の構成の簡略化および動作の簡略化の観点から最も自然であり、実現容易だからである。   However, in the generation with a gate length of 30 nm or less, the proximity effect cannot be ignored as described above when the read sequence includes a plurality of read operations (sense operations). For this reason, in the generation whose gate length is 30 nm or less, it is necessary to read the data by dividing the bit line BL into even address columns and odd address columns. In this case, normally, after reading data from the selected memory cell connected to the bit line of the even address column (or odd address column), the memory executes the reset operation of the word line WL, and then the odd address column ( Alternatively, data is read from the selected memory cell connected to the bit line of the even address column. Thereafter, the memory performs the reset operation of the word line WL again. That is, the memory performs a reset operation at each of the end of reading data in the odd address column and the end of reading data in the even address column. This is because executing the reset operation after each read operation is the most natural and easy to implement from the viewpoint of simplifying the configuration of the word line driver 21 and simplifying the operation.

しかし、偶数アドレスカラムでの読出しと奇数アドレスカラムでの読出しとの間にリセット動作を行った場合、ワード線WLのリセット動作の実行後、奇数アドレスカラム(または偶数アドレスカラム)のビット線に接続された選択メモリセルからデータを読み出す際に、ワード線WLを再度充電する必要がある。近年、メモリ容量を増大させるために、1つのNANDストリング含まれるメモリセルの個数が益々増大している。これに伴い、書込みまたは読出し動作時に充電/放電する非選択ワード線の本数も増大している。従って、リセット動作時に消費される電力が増大している。   However, if a reset operation is performed between the read operation in the even address column and the read operation in the odd address column, the word line WL is reset and then connected to the bit line of the odd address column (or even address column). When data is read from the selected memory cell, it is necessary to recharge the word line WL. In recent years, in order to increase the memory capacity, the number of memory cells included in one NAND string is increasing. As a result, the number of unselected word lines that are charged / discharged during a write or read operation is also increasing. Therefore, the power consumed during the reset operation is increasing.

一方、本実施形態によるNAND型フラッシュメモリは、このリセット動作において、非選択ワード線のリセット動作を実行しない。これにより、ワード線ドライバ21の構成および動作において幾分複雑になるが、消費電力の増大を抑制することができる。   On the other hand, the NAND flash memory according to the present embodiment does not execute the reset operation of the unselected word lines in this reset operation. Thereby, although the configuration and operation of the word line driver 21 are somewhat complicated, an increase in power consumption can be suppressed.

非選択ワード線のリセット動作を実行せず、選択ワード線のリセット動作を実行する理由は次の通りである。選択ワード線は1本だけであり、非選択ワード線は選択ワード線以外の複数のワード線である。従って、非選択ワード線の本数は非常に多い。さらに、非選択ワード線に印加される電圧Vreadは、選択ワード線に印加される電圧Vselより高い。従って、非選択ワード線の電位をリセットせずにVreadに維持することによって、非選択ワード線を再度充電する必要がなくなるので、消費電力の節約となる。また、これにより、非選択ワード線の放電時間および充電時間の節約にも資する。電圧Vreadは電圧Vselより高いので、非選択ワード線の放電時間および充電時間の方が、選択ワード線SEL_WLの放電時間および充電時間よりも長い。従って、非選択ワード線の放電時間および充電時間が短縮されると、データ読出しシーケンス全体の長さも短縮され得る。その結果、ゲート長の縮小によって近接効果を抑制するために、ビット線BLを偶数アドレスカラムと奇数アドレスカラムとに分割して読み出すことが必要となるが、本実施形態によれば、データ読出しシーケンスの期間が長期化することを或る程度緩和することができる。   The reason for executing the reset operation of the selected word line without executing the reset operation of the non-selected word line is as follows. There is only one selected word line, and the non-selected word lines are a plurality of word lines other than the selected word line. Therefore, the number of unselected word lines is very large. Further, the voltage Vread applied to the unselected word line is higher than the voltage Vsel applied to the selected word line. Therefore, maintaining the potential of the unselected word line at Vread without resetting eliminates the need to recharge the unselected word line, thus saving power consumption. This also contributes to saving of discharge time and charge time of unselected word lines. Since the voltage Vread is higher than the voltage Vsel, the discharge time and the charge time of the unselected word line are longer than the discharge time and the charge time of the selected word line SEL_WL. Therefore, when the discharge time and the charge time of the unselected word lines are shortened, the length of the entire data read sequence can be shortened. As a result, in order to suppress the proximity effect by reducing the gate length, it is necessary to divide and read the bit line BL into even address columns and odd address columns. The lengthening of the period can be mitigated to some extent.

本実施形態では、複数のビット線BLを偶数アドレスカラムと奇数アドレスカラムとに2分割して読出しシーケンスを実行したが、複数のビット線BLを3分割にしても構わない。   In this embodiment, the plurality of bit lines BL are divided into two even-numbered address columns and odd-numbered address columns and the read sequence is executed. However, the plurality of bit lines BL may be divided into three.

第1の実施形態では、数アドレスカラムでの読出しと奇数アドレスカラムでの読出しとの間において、非選択ワード線をリセットせず、選択ワード線のみリセットしていた。しかし、逆に、数アドレスカラムでの読出しと奇数アドレスカラムでの読出しとの間において、選択ワード線をリセットせず、非選択ワード線をリセットしてもよい。この場合、非選択ワード線の数(例えば、63本)は、選択ワード線の数(例えば、1本)よりも多いので、本実施形態の効果は小さくなる。しかし、選択ワード線の再度の充電が不要となるので、消費電力を或る程度低減させることができる。   In the first embodiment, only the selected word line is reset without resetting the non-selected word line between the reading in the several address column and the reading in the odd address column. However, on the contrary, the selected word line may be reset without resetting the selected word line between the reading in the several address column and the reading in the odd address column. In this case, since the number of unselected word lines (for example, 63) is larger than the number of selected word lines (for example, one), the effect of this embodiment is reduced. However, since it is not necessary to recharge the selected word line, the power consumption can be reduced to some extent.

(第2の実施形態)
図5は、本発明に係る第2の実施形態に従ったNAND型フラッシュメモリの読出しシーケンスを示すタイミング図である。第2の実施形態では、t3〜t4のリカバリクロックRR1_CLKによる動作時に、ワード線ドライバ21は、非選択ワード線UNSEL_WLだけでなく、選択ワード線SEL_WLの電位もリセットすることなく維持する。即ち、ワード線ドライバ21は、t3〜t4において、総てのワード線WLの電位をリセットすることなく維持する。ワード線ドライバ21は、t3〜t4において、選択ワード線SEL_WLの電位をVselに維持する。第2の実施形態のその他の動作は、第1の実施形態の対応する動作と同様である。また、第2の実施形態の構成は、第1の実施形態の構成と同様でよい。従って、第2の実施形態は、第1の実施形態と同様の効果を得ることができる。また、第2の実施形態は、選択ワード線SEL_WLの電位もリセットしないため、第1の実施形態よりもさらに消費電力の節約となる。さらに、第2の実施形態では、全ワード線WLの放電時間および充電時間を省略できるので、読出しシーケンスの期間が長期化することをさらに抑制することができる。
(Second Embodiment)
FIG. 5 is a timing chart showing a read sequence of the NAND flash memory according to the second embodiment of the present invention. In the second embodiment, during the operation by the recovery clock RR1_CLK from t3 to t4, the word line driver 21 maintains not only the potential of the unselected word line UNSEL_WL but also the potential of the selected word line SEL_WL without resetting. That is, the word line driver 21 maintains the potentials of all the word lines WL without resetting from t3 to t4. The word line driver 21 maintains the potential of the selected word line SEL_WL at Vsel from t3 to t4. Other operations in the second embodiment are the same as the corresponding operations in the first embodiment. The configuration of the second embodiment may be the same as the configuration of the first embodiment. Therefore, the second embodiment can obtain the same effects as those of the first embodiment. In the second embodiment, since the potential of the selected word line SEL_WL is not reset, the power consumption is further reduced as compared with the first embodiment. Furthermore, in the second embodiment, since the discharge time and the charge time of all the word lines WL can be omitted, it is possible to further suppress the reading sequence from becoming longer.

第2の実施形態は、偶数アドレスカラムと奇数アドレスカラムとにおける読出し動作において、選択ワード線SWL_WLの電位レベルVselが等しい場合に有効である。   The second embodiment is effective when the potential level Vsel of the selected word line SWL_WL is equal in the read operation in the even address column and the odd address column.

上記第1および第2の実施形態は、多値メモリの読出しにも適用することができる。多値メモリでは、センスアンプ12は、1回のセンス動作で全ビット線(全カラム)のデータを検出することはできない。従って、プリチャージおよびセンス動作を1回実行した後、メモリは、データが判明したメモリセルに接続されたビット線を接地電位に固定する。データが不明なメモリセルに接続されたビット線は、その後、プリチャージおよびセンス動作のために再度駆動される。メモリは、選択ワード線の電圧を変化させて、データが不明なメモリセルに対して、再度、プリチャージおよびセンス動作を実行する。このように、選択ワード線の電圧を変化させながら、プリチャージおよびセンス動作を繰り返し実行することにより、多値データがメモリセルから読み出される。この場合、通常、当業者であれば、センス動作を実行するごとに、ワード線WLのリセットを行うようにワード線ドライバ21を構成するであろう。   The first and second embodiments can also be applied to multilevel memory reading. In a multi-level memory, the sense amplifier 12 cannot detect data of all bit lines (all columns) by one sensing operation. Therefore, after executing the precharge and sense operations once, the memory fixes the bit line connected to the memory cell whose data is known to the ground potential. The bit line connected to the memory cell with unknown data is then driven again for precharge and sense operations. The memory changes the voltage of the selected word line, and performs precharge and sense operations again on the memory cells with unknown data. As described above, the multi-value data is read from the memory cell by repeatedly performing the precharge and sense operations while changing the voltage of the selected word line. In this case, a person skilled in the art will normally configure the word line driver 21 to reset the word line WL each time a sensing operation is performed.

しかし、このプリチャージおよびセンス動作に第1または第2の実施形態を適用することによって、NAND型フラッシュメモリが多値メモリであっても、上記第1または第2の実施形態の効果を得ることができる。即ち、各センス動作後に実行されていた非選択ワード線(あるいは全ワード線)の充放電を省略することによって、消費電力を抑制し、かつ、読出し動作時間を短縮することができる。   However, by applying the first or second embodiment to this precharge and sense operation, the effects of the first or second embodiment can be obtained even if the NAND flash memory is a multi-level memory. Can do. That is, by omitting charging / discharging of unselected word lines (or all word lines) that have been executed after each sensing operation, power consumption can be suppressed and the read operation time can be shortened.

上述のように、ゲート長が30nm以下の世代では、メモリは、読出し動作を、偶数アドレスカラム(偶数アドレス)のビット線と奇数アドレスカラム(奇数アドレス)のビット線とに分割して実行する。これは、データが判明したカラムのビット線が基準電位に固定された場合に、そのビット線に隣接する他のビット線の電位が近接効果により影響を受けないようにするためである。従って、本実施形態によるメモリは、まず、偶数アドレスカラム(または奇数アドレスカラム)のメモリセルから多値データを読み出し、次に、奇数アドレスカラム(または偶数アドレスカラム)のメモリセルから多値データを読み出す。つまり、或るワード線に接続された全カラムのメモリセルからデータを読み出すためには、上述の一連の読出し動作を2回実行する必要がある。この場合、通常、当業者であれば、センス動作を実行するごとに、ワード線WLのリセットを行うようにワード線ドライバ21を構成するであろう。   As described above, in the generation in which the gate length is 30 nm or less, the memory executes the read operation by dividing the read operation into bit lines of even address columns (even addresses) and odd address columns (odd addresses). This is to prevent the potential of other bit lines adjacent to the bit line from being affected by the proximity effect when the bit line of the column for which data has been found is fixed at the reference potential. Therefore, the memory according to the present embodiment first reads multi-value data from the memory cells in the even-numbered address column (or odd-numbered address column), and then reads multi-value data from the memory cells in the odd-numbered address column (or even-numbered address column). read out. That is, in order to read data from the memory cells of all columns connected to a certain word line, it is necessary to execute the above-described series of read operations twice. In this case, a person skilled in the art will normally configure the word line driver 21 to reset the word line WL each time a sensing operation is performed.

しかし、各読出しシーケンスに第1または第2の実施形態を適用することによって、NAND型フラッシュメモリが多値メモリであり、かつ、そのゲート長が30nm以下の世代であっても、上記第1または第2の実施形態の効果を得ることができる。即ち、奇数アドレスカラムのセンス動作と偶数アドレスカラムのセンス動作との間に実行されていた非選択ワード線(あるいは全ワード線)の充放電を省略することによって、消費電力を抑制し、かつ、読出し動作時間を短縮することができる。なおかつ、奇数アドレスカラムおよび偶数アドレスカラム内の各センス動作後に実行されていた非選択ワード線(あるいは全ワード線)の充放電を省略することによって、消費電力を抑制し、かつ、読出し動作時間を短縮することができる。   However, by applying the first or second embodiment to each read sequence, even if the NAND flash memory is a multi-value memory and the gate length is a generation of 30 nm or less, The effect of the second embodiment can be obtained. That is, by omitting charging / discharging of unselected word lines (or all word lines) that were performed between the sensing operation of the odd address column and the sensing operation of the even address column, the power consumption is suppressed, and The read operation time can be shortened. In addition, by omitting charging / discharging of unselected word lines (or all word lines) that have been executed after each sensing operation in the odd-numbered address column and even-numbered address column, power consumption is reduced and the read operation time is reduced. It can be shortened.

(第3の実施形態)
図6は、本発明に係る第3の実施形態に従ったNAND型フラッシュメモリの書込みシーケンスを示すタイミング図である。NAND型フラッシュメモリは、通常、書込みシーケンスにおいて、選択ワード線SEL_WLの電圧をステップアップさせながら書込み動作(プログラム動作)とベリファイリード動作とを繰り返し実行する。ベリファイリード動作は、プログラム動作後に選択メモリセルに所望の電位レベルのデータが書き込まれているか否かの確認(ベリファイ)を行う読出し動作である。
(Third embodiment)
FIG. 6 is a timing chart showing a write sequence of the NAND flash memory according to the third embodiment of the present invention. The NAND flash memory normally repeatedly performs a write operation (program operation) and a verify read operation while stepping up the voltage of the selected word line SEL_WL in a write sequence. The verify read operation is a read operation for checking (verifying) whether or not data of a desired potential level is written in a selected memory cell after a program operation.

ゲート長が30nm以下の世代では、ベリファイリード動作についても、1回の読出しシーケンスに複数回の読出し動作(センス動作)を含む場合に、近接効果が無視できない。このため、ゲート長が30nm以下の世代では、ビット線BLを偶数アドレスカラムと奇数アドレスカラムとに分割してデータを読み出す必要がある。   In the generation with a gate length of 30 nm or less, the proximity effect cannot be ignored in a verify read operation when a single read sequence includes a plurality of read operations (sense operations). For this reason, in the generation whose gate length is 30 nm or less, it is necessary to read the data by dividing the bit line BL into even address columns and odd address columns.

図6のt1以前に実行されるプログラム動作は、既知のプログラム動作と同様であるので、その詳細な説明を省略する。   Since the program operation executed before t1 in FIG. 6 is the same as the known program operation, detailed description thereof is omitted.

図6に示すt1〜t7のベリファイリード動作は、図4または図5に示すt1〜t7の読出し動作と同じでよい。従って、第3の実施形態における書込みシーケンスにおけるベリファイリード動作においても、上記第1または第2の実施形態の効果を得ることができる。   The verify read operation from t1 to t7 shown in FIG. 6 may be the same as the read operation from t1 to t7 shown in FIG. 4 or FIG. Therefore, the effects of the first or second embodiment can be obtained also in the verify read operation in the write sequence in the third embodiment.

12…センスアンプ、13…ロウデコーダ、14…データバス、15…I/Oバッファ、16…コントローラ、17…アドレスレジスタ、18…カラムデコーダ、19…内部電圧発生回路、I/O…外部入出力端子、/CE…チップイネーブル信号、ALE…アドレ、ラッチイネーブル信号、CLE…コマンドラッチイネーブル信号、/WE…書き込みイネーブル信号、/RE…読み出しイネーブル信号、R_CLK…リードクロック、S_CLK…センスクロック、RR1_CLK、RR2_CLK…リカバリクロック、STBn…センス信号(ストローブ信号) DESCRIPTION OF SYMBOLS 12 ... Sense amplifier, 13 ... Row decoder, 14 ... Data bus, 15 ... I / O buffer, 16 ... Controller, 17 ... Address register, 18 ... Column decoder, 19 ... Internal voltage generation circuit, I / O ... External input / output Terminal, /CE...chip enable signal, ALE ... address, latch enable signal, CLE ... command latch enable signal, /WE...write enable signal, /RE...read enable signal, R_CLK ... read clock, S_CLK ... sense clock, RR1_CLK, RR2_CLK: recovery clock, STBn: sense signal (strobe signal)

Claims (5)

30nm以下のゲート間隔で配列された複数のメモリセルからなるメモリセルアレイと、
前記複数のメモリセルに接続された複数のワード線と、
前記複数のメモリセルに接続され、前記複数のワード線に対して交差する複数のビット線と、
前記複数のワード線のうち選択されたワード線に接続された前記メモリセルに、前記ビット線を介して流れるセル電流量を検知して、前記メモリセルに格納されたデータを検出するセンスアンプと、
前記メモリセルへデータを書き込む際に前記複数のワード線に電圧を印加するワード線ドライバとを備え、
前記センスアンプは、互いに隣接する第1のビット線および第2のビット線に接続された各前記メモリセルのデータをそれぞれ異なる時期に検出し、
前記ワード線ドライバは、前記第1のビット線に接続された前記メモリセルのデータ検出動作と前記第2のビット線に接続された前記メモリセルのデータ検出動作との間の期間において、少なくとも1本の前記ワード線の電位を維持することを特徴とする半導体記憶装置。
A memory cell array composed of a plurality of memory cells arranged with a gate interval of 30 nm or less;
A plurality of word lines connected to the plurality of memory cells;
A plurality of bit lines connected to the plurality of memory cells and intersecting the plurality of word lines;
A sense amplifier for detecting data stored in the memory cell by detecting an amount of cell current flowing through the bit line in the memory cell connected to the selected word line among the plurality of word lines; ,
A word line driver that applies a voltage to the plurality of word lines when writing data to the memory cell;
The sense amplifier detects data of the memory cells connected to the first bit line and the second bit line adjacent to each other at different times,
The word line driver has at least 1 in a period between a data detection operation of the memory cell connected to the first bit line and a data detection operation of the memory cell connected to the second bit line. A semiconductor memory device characterized in that the potential of the word line of the book is maintained.
前記センスアンプは、前記第1のビット線に接続された前記メモリセルのデータを検出するときに、前記第2のビット線の電位を固定し、前記第2のビット線に接続された前記メモリセルのデータを検出するときに、前記第1のビット線の電位を固定することを特徴とする請求項1に記載の半導体記憶装置。   The sense amplifier fixes the potential of the second bit line when detecting data in the memory cell connected to the first bit line, and the memory connected to the second bit line. 2. The semiconductor memory device according to claim 1, wherein the potential of the first bit line is fixed when detecting cell data. 前記ワード線ドライバは、前記第1のビット線に接続された前記メモリセルのデータ検出動作と前記第2のビット線に接続された前記メモリセルのデータ検出動作との間の期間において、データ読出しの対象ではない非選択ワード線の電位を維持し、データ読出しの対象である選択ワード線の電位をリセットすることを特徴とする請求項1または請求項2に記載の半導体記憶装置。   The word line driver reads data in a period between a data detection operation of the memory cell connected to the first bit line and a data detection operation of the memory cell connected to the second bit line. 3. The semiconductor memory device according to claim 1, wherein the potential of the non-selected word line that is not the target of the data is maintained and the potential of the selected word line that is the target of the data read is reset. 前記ワード線ドライバは、前記第1のビット線に接続された前記メモリセルのデータ検出動作と前記第2のビット線に接続された前記メモリセルのデータ検出動作との間の期間において、総ての前記ワード線の電位を維持することを特徴とする請求項1または請求項2に記載の半導体記憶装置。   The word line driver includes all the data detection operations of the memory cells connected to the first bit line and the data detection operations of the memory cells connected to the second bit line. 3. The semiconductor memory device according to claim 1, wherein the potential of the word line is maintained. 前記センスアンプおよび前記ワード線ドライバは、前記メモリセルへデータの書込み動作と該データが前記メモリセルへ書き込まれたことを確認するベリファイリード動作とを、データの書込み対象である選択ワード線の電位をステップアップするごとに実行し、
前記センスアンプは、前記ベリファイリード動作において、前記第1のビット線および前記第2のビット線に接続された各前記メモリセルのデータをそれぞれ異なる時期に検出し、
前記ワード線ドライバは、前記ベリファイリード動作において、前記第1のビット線に接続された前記メモリセルのデータ検出動作と前記第2のビット線に接続された前記メモリセルのデータ検出動作との間の期間において、少なくとも1本の前記ワード線の電位を維持することを特徴とする請求項1から請求項4のいずれか一項に記載の半導体記憶装置。
The sense amplifier and the word line driver perform a data write operation to the memory cell and a verify read operation for confirming that the data has been written to the memory cell. Run every time you step up,
The sense amplifier detects data of the memory cells connected to the first bit line and the second bit line at different times in the verify read operation,
In the verify read operation, the word line driver may perform a data detection operation between the memory cell connected to the first bit line and a data detection operation of the memory cell connected to the second bit line. 5. The semiconductor memory device according to claim 1, wherein a potential of at least one of the word lines is maintained in the period of 5.
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