JP2011187817A - Liquid ejecting head, liquid ejecting apparatus, and piezoelectric element - Google Patents

Liquid ejecting head, liquid ejecting apparatus, and piezoelectric element Download PDF

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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an actuator and a liquid ejecting head that include a piezoelectric body made of a bismuth-based compound oxide, a lead content smaller than that of PZT, and a large amount of displacement. <P>SOLUTION: The liquid ejecting head 600 includes a piezoelectric actuator 102 including a platinum electrode 10 preferentially oriented in <111> and a piezoelectric body 30 formed while abutting on the platinum electrode 10. The piezoelectric body 30 includes a solid solution of bismuth lanthanum titanate zincate and lead titanate and the piezoelectric body is preferentially oriented in <100>. <P>COPYRIGHT: (C)2011,JPO&INPIT

Description

本発明は、液体噴射ヘッド、液体噴射装置および圧電素子に関する。   The present invention relates to a liquid ejecting head, a liquid ejecting apparatus, and a piezoelectric element.

液体噴射ヘッドは、液体噴射装置の構成として、例えば、インクジェットプリンター等に用いられる。この場合、液体噴射ヘッドは、インクの小滴を吐出して飛翔させるために用いられ、これによりインクジェットプリンターは、当該インクを紙等の媒体に付着させて印刷を行うことができる。   The liquid ejecting head is used in, for example, an ink jet printer as a configuration of the liquid ejecting apparatus. In this case, the liquid ejecting head is used to eject and eject a small droplet of ink, whereby the ink jet printer can perform printing by attaching the ink to a medium such as paper.

液体噴射ヘッドは、一般に、ノズルから液体を吐出するために液体に圧力を加えるアクチュエーターを有している。このようなアクチュエーターは、例えば、圧電素子を備えたものがある。アクチュエーターが備える圧電素子としては、電気機械変換機能を呈する圧電材料、例えば、結晶化した圧電性セラミックス等からなる圧電体を、2つの電極で挟んで構成されたものがある。このような圧電素子は、2つの電極によって電圧が印加されることによって変形することができ、この変形を利用して、アクチュエーターを、例えば、撓み振動モードで動作させることができる。   The liquid ejecting head generally includes an actuator that applies pressure to the liquid in order to eject the liquid from the nozzle. Such an actuator includes, for example, a piezoelectric element. As a piezoelectric element provided in the actuator, there is a piezoelectric element having an electromechanical conversion function, for example, a piezoelectric body made of crystallized piezoelectric ceramic or the like sandwiched between two electrodes. Such a piezoelectric element can be deformed when a voltage is applied by two electrodes, and the actuator can be operated in, for example, a flexural vibration mode using the deformation.

このような用途に用いられる圧電材料としては、電気機械変換効率などの圧電特性が高いことが望ましく、該特性が他の材料に比較して優れていることから、チタン酸ジルコン酸鉛(PZT)系の材料の研究開発が行われてきた。しかし、近年、圧電材料の圧電特性をさらに向上する要求が強まるとともに、環境負荷のより小さい材料を用いることが求められるようになり、PZT系の材料では、これらの要求に応えることが困難となってきており、例えば、鉛の含有量の少ないペロブスカイト型酸化物の圧電材料の開発が進められるようになった。   The piezoelectric material used for such applications preferably has high piezoelectric properties such as electromechanical conversion efficiency, and the properties are superior to other materials. Therefore, lead zirconate titanate (PZT) Research and development of materials of the system has been carried out. However, in recent years, demands for further improving the piezoelectric characteristics of piezoelectric materials have increased, and it has become necessary to use materials with a smaller environmental load. With PZT materials, it is difficult to meet these demands. For example, a perovskite oxide piezoelectric material with a low lead content has been developed.

例えば、鉛を含有せず、理論上圧電特性が高いと考えられているセラミックス材料の中には、例えば、Bi系酸化物があり、現状では、BiFeOのみが、バルク状態において常圧にて焼成することで、ペロブスカイト型の結晶構造を形成することが知られている。他のBi系酸化物の多くは、焼成時の雰囲気が常圧ではペロブスカイト型の結晶構造を形成せず、数GPaを超える高圧でペロブスカイト型の結晶構造を形成する。例えば、Bi(Zn0.5,Ti0.5)O(BZT)は、高圧(6ギガパスカル程度)で焼成しなければ、ペロブスカイト型の結晶構造を形成できないことが知られている。 For example, among ceramic materials that do not contain lead and are theoretically considered to have high piezoelectric properties, there are, for example, Bi-based oxides. Currently, only BiFeO 3 is present in the bulk state at normal pressure. It is known to form a perovskite crystal structure by firing. Many other Bi-based oxides do not form a perovskite-type crystal structure at an atmospheric pressure during firing, but form a perovskite-type crystal structure at a high pressure exceeding several GPa. For example, it is known that Bi (Zn 0.5 , Ti 0.5 ) O 3 (BZT) cannot form a perovskite crystal structure unless it is fired at a high pressure (about 6 gigapascal).

特許文献1には、アルカリ金属および鉛を含まない複合酸化物が開示されている。同文献には、特定の組成を有する酸化物についてキューリー温度等が評価され、圧電特性に優れた高いキューリー温度を有する圧電材料を提供できる等の記載がある。   Patent Document 1 discloses a composite oxide containing no alkali metal and lead. The document describes that a Curie temperature or the like is evaluated for an oxide having a specific composition, and a piezoelectric material having a high Curie temperature excellent in piezoelectric characteristics can be provided.

特開2009−256186号公報JP 2009-256186 A

一方、ペロブスカイト型の結晶構造をとりうる酸化物を圧電素子の圧電体として用いる場合には、電界の印加される方向および結晶軸の方向が特定の関係にあるときに、優れた圧電特性を示すことが分かっている。したがって、圧電素子の圧電特性を高めるためには、圧電体の結晶の配向を制御することが重要である。また、圧電体の結晶の配向は、少なくとも、圧電体の材質および圧電体が結晶化する際に接する物体の材質の影響を受けることが分かっている。   On the other hand, when an oxide having a perovskite crystal structure is used as a piezoelectric body of a piezoelectric element, excellent piezoelectric characteristics are exhibited when the direction in which the electric field is applied and the direction of the crystal axis are in a specific relationship. I know that. Therefore, in order to improve the piezoelectric characteristics of the piezoelectric element, it is important to control the crystal orientation of the piezoelectric body. Further, it has been found that the crystal orientation of the piezoelectric body is affected at least by the material of the piezoelectric body and the material of the object that comes into contact when the piezoelectric body crystallizes.

しかしながら、圧電体の結晶の配向は、圧電体の材質および圧電体が結晶化する際に接する物体の材質のそれぞれの組成のわずかな変化によって大きく影響されるため、両者のそれぞれの材質ごとに最適化されることになる。そのため、例えばビスマス系の複合酸化物において、例えばPZTの結晶の配向制御の手法をそのまま適用しても、所望の結晶の配向を得ることは難しい。   However, the crystal orientation of the piezoelectric body is greatly affected by slight changes in the composition of the piezoelectric material and the material of the object that comes into contact when the piezoelectric body crystallizes, so it is optimal for each material. Will be converted. Therefore, for example, in a bismuth-based complex oxide, it is difficult to obtain a desired crystal orientation even if a method for controlling the orientation of a PZT crystal is applied as it is.

本発明のいくつかの態様にかかる目的の一つは、PZTよりも小さい鉛含有量で、変位量の大きいアクチュエーターおよび液体噴射ヘッドを提供することにある。また、本発明のいくつかの態様にかかる目的の一つは、PZTよりも小さい鉛含有量で、変位量の大きい圧電体を含む圧電素子を提供することにある。   An object of some embodiments of the present invention is to provide an actuator and a liquid ejecting head having a lead content smaller than that of PZT and a large amount of displacement. Another object of some embodiments of the present invention is to provide a piezoelectric element including a piezoelectric body having a lead content smaller than PZT and a large displacement.

本発明は上述の課題の少なくとも一部を解決するためになされたものであり、以下の態様または適用例として実現することができる。   SUMMARY An advantage of some aspects of the invention is to solve at least a part of the problems described above, and the invention can be implemented as the following aspects or application examples.

[適用例1]
<111>に優先配向した白金電極および前記白金電極に接して形成された圧電体を有する圧電アクチュエーターを備えた液体噴射ヘッドであって、
前記圧電体は、チタン酸亜鉛酸ビスマスランタンおよびチタン酸鉛の固溶体を含み、
前記圧電体は、<100>に優先配向している、液体噴射ヘッド。
[Application Example 1]
A liquid ejecting head comprising a platinum electrode preferentially oriented to <111> and a piezoelectric actuator having a piezoelectric body formed in contact with the platinum electrode,
The piezoelectric body includes a solid solution of bismuth lanthanum zinc titanate and lead titanate,
The piezoelectric body is a liquid ejecting head in which <100> is preferentially oriented.

本適用例の液体噴射ヘッドは、結晶の配向性が良好な圧電体を含む。そのため、圧電アクチュエーターの変位量が大きく、例えば、液体を噴射する能力が高い。   The liquid jet head according to this application example includes a piezoelectric body having good crystal orientation. Therefore, the displacement amount of the piezoelectric actuator is large, for example, the ability to eject liquid is high.

[適用例2]
適用例1において、
前記白金電極は、前記圧電体と反対側の面で酸化イリジウムに接していることができる。
[Application Example 2]
In application example 1,
The platinum electrode may be in contact with iridium oxide on the surface opposite to the piezoelectric body.

本適用例の液体噴射ヘッドによれば、圧電体の結晶の配向性がさらに良好となり、圧電アクチュエーターの変位量が大きく、例えば、液体を噴射する能力がさらに高い。   According to the liquid ejecting head of this application example, the orientation of the crystal of the piezoelectric body is further improved, the displacement amount of the piezoelectric actuator is large, and, for example, the ability to eject liquid is further enhanced.

[適用例3]
適用例1または適用例2において、
前記圧電体の<100>優先配向度は、50%以上であることができる。
[Application Example 3]
In application example 1 or application example 2,
The <100> preferred orientation degree of the piezoelectric body may be 50% or more.

本適用例の液体噴射ヘッドは、圧電体の結晶の配向性が良好であり、圧電アクチュエーターの変位量が大きく、例えば、液体を噴射する能力が高い。   The liquid jet head of this application example has good orientation of the crystal of the piezoelectric body, the displacement amount of the piezoelectric actuator is large, for example, the ability to eject liquid is high.

[適用例4]
適用例1ないし適用例3のいずれか一項において、
前記白金電極のX線回折パターンの(111)ピークのロッキングカーブの半値幅は、10度以下であることができる。
[Application Example 4]
In any one of the application examples 1 to 3,
The half width of the rocking curve of the (111) peak of the X-ray diffraction pattern of the platinum electrode may be 10 degrees or less.

本適用例の液体噴射ヘッドは、結晶の配向性が良好な圧電体を含む。そのため、圧電アクチュエーターの変位量が大きく、例えば、液体を噴射する能力が高い。   The liquid jet head according to this application example includes a piezoelectric body having good crystal orientation. Therefore, the displacement amount of the piezoelectric actuator is large, for example, the ability to eject liquid is high.

[適用例5]
本発明にかかる液体噴射装置の一態様は、
適用例1ないし適用例4のいずれか一例に記載された液体噴射ヘッドを備える。
[Application Example 5]
One aspect of the liquid ejecting apparatus according to the invention is as follows.
The liquid ejecting head described in any one of Application Examples 1 to 4 is provided.

本適用例の液体噴射装置は、PZTに比較して、鉛含有量の小さいビスマス系の複合酸化物からなる圧電体を含み変位量の大きい液体噴射ヘッドを有している。これにより、環境負荷を低減することができるとともに、例えば、インクジェット印刷におけるインクの吐出性能が高い。   The liquid ejecting apparatus according to this application example includes a liquid ejecting head including a piezoelectric body made of a bismuth-based composite oxide having a small lead content, as compared with PZT. Thereby, the environmental load can be reduced and, for example, the ink ejection performance in ink jet printing is high.

[適用例6]
本発明にかかる圧電素子の一態様は、
<111>に優先配向した白金電極と、
前記白金電極に接して配置された圧電体と、
を含み、
前記圧電体は、チタン酸亜鉛酸ビスマスランタンおよびチタン酸鉛の固溶体を含み、
前記圧電体は、<100>に優先配向している。
[Application Example 6]
One aspect of the piezoelectric element according to the present invention is:
A platinum electrode preferentially oriented to <111>;
A piezoelectric body disposed in contact with the platinum electrode;
Including
The piezoelectric body includes a solid solution of bismuth lanthanum zinc titanate and lead titanate,
The piezoelectric body is preferentially oriented in <100>.

本適用例の圧電素子は、結晶の配向性が良好な圧電体を含む。これにより、圧電特性が良好である。   The piezoelectric element of this application example includes a piezoelectric body having good crystal orientation. Thereby, the piezoelectric characteristics are good.

[適用例7]
本発明にかかる液体噴射ヘッドの一態様は、
<111>に優先配向した白金電極、前記白金電極に接して形成されたニッケル酸ランタン層および前記ニッケル酸ランタン層に接し前記白金電極とは反対側に形成された圧電体を有する圧電アクチュエーターを備えた液体噴射ヘッドであって、
前記圧電体は、チタン酸亜鉛酸ビスマスランタンおよびチタン酸鉛の固溶体であり、
前記固溶体は、<100>に優先配向している。
[Application Example 7]
One aspect of the liquid jet head according to the present invention is as follows.
A platinum electrode having a preferential orientation of <111>, a lanthanum nickelate layer formed in contact with the platinum electrode, and a piezoelectric actuator in contact with the lanthanum nickelate layer and formed on the opposite side of the platinum electrode A liquid jet head,
The piezoelectric body is a solid solution of bismuth lanthanum zinc titanate and lead titanate,
The solid solution is preferentially oriented to <100>.

本適用例の液体噴射ヘッドは、結晶の配向性が良好な圧電体を含む。そのため、圧電アクチュエーターの変位量が大きく、例えば、液体を噴射する能力が高い。   The liquid jet head according to this application example includes a piezoelectric body having good crystal orientation. Therefore, the displacement amount of the piezoelectric actuator is large, for example, the ability to eject liquid is high.

[適用例8]
本発明にかかる圧電素子の一態様は、
<111>に優先配向した白金電極と、
前記白金電極に接して配置されたニッケル酸ランタン層と、
前記ニッケル酸ランタン層に接し、前記白金電極とは反対側に配置された圧電体と、
を含み、
前記圧電体は、チタン酸亜鉛酸ビスマスランタンおよびチタン酸鉛の固溶体であり、
前記固溶体は、<100>に優先配向している、圧電素子。
[Application Example 8]
One aspect of the piezoelectric element according to the present invention is:
A platinum electrode preferentially oriented to <111>;
A lanthanum nickelate layer disposed in contact with the platinum electrode;
A piezoelectric body in contact with the lanthanum nickelate layer and disposed on the opposite side of the platinum electrode;
Including
The piezoelectric body is a solid solution of bismuth lanthanum zinc titanate and lead titanate,
The piezoelectric element, wherein the solid solution is preferentially oriented to <100>.

本適用例の圧電素子は、結晶の配向性が良好な圧電体を含む。これにより、圧電特性が良好である。   The piezoelectric element of this application example includes a piezoelectric body having good crystal orientation. Thereby, the piezoelectric characteristics are good.

実施形態の圧電素子100、圧電アクチュエーター102の断面の模式図。The schematic diagram of the cross section of the piezoelectric element 100 of embodiment and the piezoelectric actuator 102. FIG. 実施形態の液体噴射ヘッド600の断面の模式図。FIG. 3 is a schematic cross-sectional view of a liquid jet head according to an embodiment. 実施形態の液体噴射ヘッド600を模式的に示す分解斜視図。FIG. 3 is an exploded perspective view schematically illustrating a liquid ejecting head 600 according to the embodiment. 実施形態の液体噴射装置700を模式的に示す斜視図。FIG. 6 is a perspective view schematically illustrating a liquid ejecting apparatus according to an embodiment. 各実験例、参考例および比較例の圧電素子のXRDパターン。The XRD pattern of the piezoelectric element of each experimental example, reference example, and comparative example. 実験例1のXRDパターンにおける白金(111)ピークのロッキングカーブ。The rocking curve of the platinum (111) peak in the XRD pattern of Experimental Example 1. 実験例2のXRDパターンにおける白金(111)ピークのロッキングカーブ。The rocking curve of the platinum (111) peak in the XRD pattern of Experimental Example 2. 実験例1の圧電素子のヒステリシス曲線。The hysteresis curve of the piezoelectric element of Experimental example 1. 実験例2の圧電素子のヒステリシス曲線。The hysteresis curve of the piezoelectric element of Experimental example 2. 参考例の圧電素子のヒステリシス曲線。The hysteresis curve of the piezoelectric element of a reference example. 比較例の圧電素子のヒステリシス曲線。The hysteresis curve of the piezoelectric element of a comparative example.

以下に本発明の好適な実施形態について、図面を参照しながら説明する。なお以下の実施形態は、本発明の一例を説明するものである。そのため、本発明は以下の実施形態に限定されるものではなく、要旨を変更しない範囲で実施される各種の変形例も含む。なお、下記の実施形態で説明される構成の全てが本発明の必須構成要件であるとは限らない。   Preferred embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings. In addition, the following embodiment demonstrates an example of this invention. Therefore, this invention is not limited to the following embodiment, The various modifications implemented in the range which does not change a summary are also included. Note that not all the configurations described in the following embodiments are essential constituent requirements of the present invention.

1.圧電素子および圧電アクチュエーター
図1は、本実施形態にかかる圧電素子100の断面の模式図である。
1. Piezoelectric Element and Piezoelectric Actuator FIG. 1 is a schematic cross-sectional view of a piezoelectric element 100 according to this embodiment.

本実施形態にかかる圧電素子100は、白金電極10と、導電層20と、圧電体30と、を含む。   The piezoelectric element 100 according to the present embodiment includes a platinum electrode 10, a conductive layer 20, and a piezoelectric body 30.

1.1.白金電極
白金電極10は、例えば、基板1の上方に形成される。基板1は、例えば、導電体、半導体、絶縁体で形成された平板とすることができる。基板1は、単層であっても、複数の層が積層された構造であってもよい。また、基板1は、上面が平面的な形状であれば内部の構造は限定されず、例えば、内部に空間等が形成された構造であってもよい。また、例えば、後述する液体噴射ヘッドのように、基板1の下方に圧力室等が形成されているような場合においては、基板1より下方に形成される複数の構成をまとめて一つの基板1とみなしてもよい。また、白金電極10と基板1との間には、例えば、両者の密着性を付与する層や、強度や導電性を付与する層が形成されてもよい。このような層の例としては、例えば、チタン、ニッケル、イリジウムなどの各種の金属、それらの酸化物の層を例示することができる。
1.1. Platinum electrode The platinum electrode 10 is formed above the substrate 1, for example. The substrate 1 can be, for example, a flat plate formed of a conductor, a semiconductor, or an insulator. The substrate 1 may be a single layer or a structure in which a plurality of layers are stacked. Further, the inner structure of the substrate 1 is not limited as long as the upper surface is planar. For example, the substrate 1 may have a structure in which a space or the like is formed. Further, for example, in the case where a pressure chamber or the like is formed below the substrate 1 as in a liquid jet head described later, a plurality of configurations formed below the substrate 1 are combined into one substrate 1. May be considered. Moreover, between the platinum electrode 10 and the board | substrate 1, the layer which provides both adhesiveness, and the layer which provides intensity | strength and electroconductivity may be formed, for example. Examples of such layers include various metals such as titanium, nickel, iridium, and oxide layers thereof.

白金電極10は、少なくとも後述の圧電体30に接する面が、白金を主成分とする材質で形成される。白金電極10は、単層構造でもよいし、他の複数の材料を積層した構造としてもよい。白金電極10が単層構造である場合には、白金電極10の全体が白金を主成分とする材質で形成される。本実施形態の白金電極10は、<111>に優先配向している。白金電極10の配向性については「1.4.結晶の配向」の項で詳述する。   The platinum electrode 10 has at least a surface in contact with a piezoelectric body 30 to be described later formed of a material whose main component is platinum. The platinum electrode 10 may have a single layer structure or a structure in which a plurality of other materials are stacked. When the platinum electrode 10 has a single layer structure, the entire platinum electrode 10 is formed of a material whose main component is platinum. The platinum electrode 10 of this embodiment is preferentially oriented to <111>. The orientation of the platinum electrode 10 will be described in detail in the section “1.4. Crystal orientation”.

白金電極10の形状は、導電層20と対向できるかぎり限定されないが、本実施形態では、圧電体30が、薄膜状に形成されるため、層状あるいは薄膜状の形状が好ましい。白金電極10の厚みは、例えば、50nm以上300nm以下とすることができる。また、白金電極10の平面的な形状についても、導電層20が対向して配置されたときに両者の間に圧電体30を配置できる形状であれば、特に限定されず、例えば、矩形、円形等とすることができる。   The shape of the platinum electrode 10 is not limited as long as it can be opposed to the conductive layer 20. However, in the present embodiment, since the piezoelectric body 30 is formed in a thin film shape, a layered or thin film shape is preferable. The thickness of the platinum electrode 10 can be, for example, 50 nm or more and 300 nm or less. Further, the planar shape of the platinum electrode 10 is not particularly limited as long as the piezoelectric body 30 can be disposed between the conductive layers 20 when the conductive layer 20 is disposed to face the platinum electrode 10. Etc.

白金電極10の機能の一つとしては、導電層20と一対になって、圧電体30に電圧を印加するための一方の電極(例えば、圧電体30の下方に形成された下部電極)となることが挙げられる。   One of the functions of the platinum electrode 10 is to be paired with the conductive layer 20 to be one electrode for applying a voltage to the piezoelectric body 30 (for example, a lower electrode formed below the piezoelectric body 30). Can be mentioned.

白金電極10は、スパッタ法(DCスパッタ、イオンスパッタ、マグネトロンスパッタを含む)、蒸着法、MOCVD(Metal−Organic Chemical Vapor Deposition)法などにより形成される。   The platinum electrode 10 is formed by sputtering (including DC sputtering, ion sputtering, magnetron sputtering), vapor deposition, or MOCVD (Metal-Organic Chemical Vapor Deposition).

基板1は、可撓性を有し、圧電体30の動作によって変形(屈曲)することのできる振動板であってもよい。この場合、圧電素子100は、振動板と、白金電極10と、圧電体30と、導電層20と、を含む圧電アクチュエーター102となる。ここで、基板1が可撓性を有するとは、基板1がたわむことができることを指す。基板1を振動板とした場合、基板1のたわみは、圧電アクチュエーター102を液体噴射ヘッドに使用する場合、吐出させる液体の体積と同程度に圧力室の容積を変化させうる程度であれば十分である。   The substrate 1 may be a diaphragm that has flexibility and can be deformed (bent) by the operation of the piezoelectric body 30. In this case, the piezoelectric element 100 is a piezoelectric actuator 102 including a vibration plate, a platinum electrode 10, a piezoelectric body 30, and a conductive layer 20. Here, that the substrate 1 has flexibility indicates that the substrate 1 can bend. When the substrate 1 is a vibration plate, the deflection of the substrate 1 is sufficient if the volume of the pressure chamber can be changed to the same level as the volume of liquid to be ejected when the piezoelectric actuator 102 is used in a liquid jet head. is there.

基板1が振動板である場合は、基板1の材質としては、例えば、酸化ジルコニウム(ZrO)、窒化シリコン、酸化シリコンなどの無機酸化物、ステンレス鋼などの合金を例示することができる。これらのうち、基板1(振動板)の材質としては、化学的安定性および剛性の点で、酸化ジルコニウムが特に好適である。この場合においても基板1は、例示した物質の2種以上の積層構造であってもよい。 When the substrate 1 is a diaphragm, examples of the material of the substrate 1 include inorganic oxides such as zirconium oxide (ZrO 2 ), silicon nitride, and silicon oxide, and alloys such as stainless steel. Of these, zirconium oxide is particularly suitable as the material of the substrate 1 (vibrating plate) in terms of chemical stability and rigidity. Also in this case, the substrate 1 may have a laminated structure of two or more kinds of the exemplified substances.

本実施形態では、以下、基板1が振動板であって、酸化ジルコニウムによって形成されている場合を例示する。したがって、圧電素子100は、可撓性を有し、圧電体30の動作によって変形(屈曲)することができる振動板を備えた圧電アクチュエーター102と実質的に同一である。以下の説明においては、圧電素子100および圧電アクチュエーター102は、相互に読み替えることができる。   In the present embodiment, the case where the substrate 1 is a diaphragm and is formed of zirconium oxide will be exemplified below. Therefore, the piezoelectric element 100 is substantially the same as the piezoelectric actuator 102 having a vibration plate that has flexibility and can be deformed (bent) by the operation of the piezoelectric body 30. In the following description, the piezoelectric element 100 and the piezoelectric actuator 102 can be read each other.

1.2.導電層
導電層20は、白金電極10に対向して配置される。導電層20は、全体が白金電極10と対向していてもよいし、一部が白金電極10に対向していてもよい。導電層20の形状は、白金電極10と対向できるかぎり限定されないが、本実施形態では、圧電体30が、薄膜状に形成されるため、層状あるいは薄膜状の形状が好ましい。導電層20の厚みは、例えば、50nm以上300nm以下とすることができる。また、導電層20の平面的な形状についても、白金電極10に対向して配置されたときに両者の間に圧電体30を配置できる形状であれば、特に限定されず、例えば、矩形、円形等とすることができる。
1.2. Conductive Layer The conductive layer 20 is disposed to face the platinum electrode 10. The entire conductive layer 20 may face the platinum electrode 10, or a part thereof may face the platinum electrode 10. The shape of the conductive layer 20 is not limited as long as it can face the platinum electrode 10, but in the present embodiment, since the piezoelectric body 30 is formed in a thin film shape, a layer shape or a thin film shape is preferable. The thickness of the conductive layer 20 can be, for example, 50 nm or more and 300 nm or less. Further, the planar shape of the conductive layer 20 is not particularly limited as long as the piezoelectric body 30 can be disposed between the two when the conductive layer 20 is opposed to the platinum electrode 10. Etc.

導電層20の機能の一つとしては、圧電体30に電圧を印加するための一方の電極(例えば、圧電体30の上に形成された上部電極)となることが挙げられる。導電層20の材質は、例えば、ニッケル、イリジウム、白金などの各種の金属、それらの導電性酸化物(例えば酸化イリジウムなど)、ストロンチウムとルテニウムの複合酸化物(SrRuOx:SRO)、ランタンとニッケルの複合酸化物(LaNiOx:LNO)などを例示することができる。第1導電層10は、例示した材料の単層構造でもよいし、複数の材料を積層した構造であってもよい。   One of the functions of the conductive layer 20 is to serve as one electrode (for example, an upper electrode formed on the piezoelectric body 30) for applying a voltage to the piezoelectric body 30. Examples of the material of the conductive layer 20 include various metals such as nickel, iridium, and platinum, conductive oxides thereof (for example, iridium oxide), strontium and ruthenium composite oxide (SrRuOx: SRO), lanthanum and nickel. A composite oxide (LaNiOx: LNO) can be exemplified. The first conductive layer 10 may have a single layer structure of the exemplified materials, or may have a structure in which a plurality of materials are stacked.

図1は、白金電極10が導電層20よりも平面的に大きく形成された例を示しているが、導電層20のほうが白金電極10よりも平面的に大きく形成されてもよい。この場合は、導電層20は、圧電体30の側面に形成されてもよく、導電層20に、水分や水素等から圧電体30を保護する機能を兼ねさせることができる。   Although FIG. 1 shows an example in which the platinum electrode 10 is formed larger than the conductive layer 20 in a plan view, the conductive layer 20 may be formed larger than the platinum electrode 10 in a plan view. In this case, the conductive layer 20 may be formed on the side surface of the piezoelectric body 30, and the conductive layer 20 can also have a function of protecting the piezoelectric body 30 from moisture, hydrogen, and the like.

1.3.圧電体
本実施形態では、圧電体30は、少なくとも白金電極10に接し、白金電極10および導電層20の間に配置される。圧電体30は、導電層20に接していてもよい。図1の例では、圧電体30は、導電層20にも接して設けられている。
1.3. Piezoelectric Body In the present embodiment, the piezoelectric body 30 is in contact with at least the platinum electrode 10 and is disposed between the platinum electrode 10 and the conductive layer 20. The piezoelectric body 30 may be in contact with the conductive layer 20. In the example of FIG. 1, the piezoelectric body 30 is provided in contact with the conductive layer 20.

圧電体30は、薄膜法により形成される。ここで、薄膜法とは、スパッタ法(DCスパッタ、イオンスパッタ、マグネトロンスパッタを含む)、蒸着法、MOCVD法、MOD(Metal−Organic Decomposition)法、PLD(Pulsed Laser Deposition)(レーザーアブレーション)法、ミスト成膜法、およびゾルゲル法の少なくとも一種の方法を指す。すなわち、本実施形態の圧電体30は、バルク状態で形成されたものではなく、例えば、バルク状態で形成されたあとに、研磨等により薄膜化されたものではない。   The piezoelectric body 30 is formed by a thin film method. Here, the thin film method is a sputtering method (including DC sputtering, ion sputtering, magnetron sputtering), vapor deposition method, MOCVD method, MOD (Metal-Organic Decomposition) method, PLD (Pulsed Laser Deposition) (laser ablation) method, It refers to at least one of a mist film forming method and a sol-gel method. That is, the piezoelectric body 30 of the present embodiment is not formed in a bulk state, and is not formed into a thin film by polishing or the like after being formed in a bulk state, for example.

圧電体30の厚さは、薄膜法によって形成される限り限定されず、例えば、100nm以上3000nm以下とすることができる。薄膜法によって、厚みの大きい圧電体30を形成する場合には、例えば、スパッタ法、蒸着法、MOCVD法などの物質を堆積させる種の方法では堆積時間を長くすることにより形成することができ、また例えば、MOD法やゾルゲル法などのコーティング−焼成を行う種の方法では、該方法を繰り返して積層することにより形成することができる。さらに、積層する場合には、各層毎に異なる薄膜法を用いて積層してもよい。   The thickness of the piezoelectric body 30 is not limited as long as it is formed by a thin film method, and can be, for example, 100 nm or more and 3000 nm or less. In the case where the piezoelectric body 30 having a large thickness is formed by the thin film method, for example, in a method of depositing a material such as a sputtering method, a vapor deposition method, or an MOCVD method, the piezoelectric material 30 can be formed by increasing the deposition time. Further, for example, in a method of performing coating-firing such as the MOD method and the sol-gel method, it can be formed by repeatedly stacking the method. Furthermore, when laminating, each layer may be laminated using a different thin film method.

本実施形態の圧電体30は、チタン酸亜鉛酸ビスマスランタンおよびチタン酸鉛の固溶体である。   The piezoelectric body 30 of the present embodiment is a solid solution of bismuth lanthanum zinc titanate and lead titanate.

より具体的には、圧電体30は、チタン酸亜鉛酸ビスマスランタン(Bi,La)(Zn,Ti)O)(以下これを「BLZT」と略記することがある)、およびチタン酸鉛PbTiO(以下これを「PT」と略記することがある)の固溶体(以下これを「PT−BLZT」と略記することがある)であり、例えば、
(1−u)Pb(1+v)TiO−u(Bi(1−w)La)(Zn(1−x)Ti)O・・・(式I)
として表記することができる。
More specifically, the piezoelectric body 30 is made of bismuth lanthanum titanate (Bi, La) (Zn, Ti) O 3 ) (hereinafter sometimes abbreviated as “BLZT”), and lead titanate PbTiO. 3 (hereinafter, this may be abbreviated as “PT”) (hereinafter, this may be abbreviated as “PT-BLZT”), for example,
(1-u) Pb (1 + v) TiO 3 -u (Bi (1-w) La w) (Zn (1-x) Ti x) O 3 ··· ( Formula I)
Can be expressed as:

このPT−BLZTは、一般式としては、ABOで示される複合酸化物であり、いわゆるペロブスカイト型酸化物に分類され、結晶化により、ペロブスカイト型の結晶構造をとることができる。PT−BLZTは、結晶化されて、ペロブスカイト型の結晶構造をとることにより、圧電性を呈することができる。これにより、圧電体30は、白金電極10および導電層20によって電界が印加されることで変形することができる(電気機械変換)。この変形によって、例えば基板1をたわませたり振動させたりすることができ、圧電アクチュエーター102を構成することができる。 This PT-BLZT is a complex oxide represented by ABO 3 as a general formula, and is classified into a so-called perovskite oxide, and can have a perovskite crystal structure by crystallization. PT-BLZT can exhibit piezoelectricity by being crystallized and taking a perovskite crystal structure. Accordingly, the piezoelectric body 30 can be deformed by applying an electric field by the platinum electrode 10 and the conductive layer 20 (electromechanical conversion). By this deformation, for example, the substrate 1 can be bent or vibrated, and the piezoelectric actuator 102 can be configured.

本実施形態の圧電体30の固溶体を、上記(式I)の型式で表記した場合、u、v、wおよびxは、いずれも0以上1以下の値をとりうる。これらの値は、圧電体30を形成するときの原料の仕込量が表現されていてもよく、また、形成後の圧電体30の組成が表現されていてもよい。例えば、式中「v」は、PbTiOの化学量論比よりも過剰に仕込まれた鉛原料の量を表現しているものとすることができる。したがって、当該化学式の電荷の中性が、見かけ上満足されない表記となる場合があり、その場合は仕込の値、または、結晶の欠陥の程度が示されていると解するものとする。 When the solid solution of the piezoelectric body 30 of the present embodiment is represented by the type of the above (formula I), u, v, w, and x can take values of 0 or more and 1 or less. These values may represent the amount of raw material charged when the piezoelectric body 30 is formed, or may represent the composition of the piezoelectric body 30 after formation. For example, “v” in the formula can represent the amount of lead raw material charged in excess of the stoichiometric ratio of PbTiO 3 . Therefore, the neutrality of the charge of the chemical formula may appear to be unsatisfactory, and in that case, it is understood that the value of the charge or the degree of crystal defects is indicated.

本実施形態の圧電体30は、<100>に優先配向している。圧電体30の配向性については「1.4.結晶の配向」の項で詳述する。   The piezoelectric body 30 of this embodiment is preferentially oriented to <100>. The orientation of the piezoelectric body 30 will be described in detail in the section “1.4. Crystal orientation”.

本実施形態の圧電体30は、チタン酸亜鉛酸ビスマスランタンおよびチタン酸鉛の固溶体であり、当該固溶体における、チタン酸亜鉛酸ビスマスランタンのチタン酸鉛に対するモル比(BLZT/PT)は、例えば、0.38以上38/0.61以下とすることができる。すなわち、本実施形態の圧電体30の固溶体を、上記(式I)の型式で表記した場合、0.28≦u≦0.38となるようにすることができる。   The piezoelectric body 30 of this embodiment is a solid solution of bismuth lanthanum titanate and lead titanate, and the molar ratio (BLZT / PT) of bismuth lanthanum titanate to lead titanate in the solid solution is, for example, It can be 0.38 or more and 38 / 0.61 or less. That is, when the solid solution of the piezoelectric body 30 of the present embodiment is represented by the type of the above (formula I), 0.28 ≦ u ≦ 0.38 can be satisfied.

圧電体30の固溶体の、チタン酸亜鉛酸ビスマスランタンのチタン酸鉛に対するモル比(BLZT/PT)が、この範囲にあれば、圧電素子100の耐電圧を非常に良好にすることができる。これにより、圧電素子100に印加する電圧を高めることができ、例えば、圧電アクチュエーター102の変位を大きくすることができる。そして、このような圧電体30は、例えば、インクジェット印刷におけるインクの吐出性能を高めることができる。なおBLZT/PT比は、より好ましくは、0.39以上0.49以下である。   If the molar ratio (BLZT / PT) of the solid solution of the piezoelectric body 30 to bismuth lanthanum titanate to lead titanate is within this range, the withstand voltage of the piezoelectric element 100 can be made very good. Thereby, the voltage applied to the piezoelectric element 100 can be increased, and for example, the displacement of the piezoelectric actuator 102 can be increased. And such a piezoelectric body 30 can improve the discharge performance of the ink in inkjet printing, for example. The BLZT / PT ratio is more preferably 0.39 or more and 0.49 or less.

本実施形態の圧電体30の固溶体において、チタン酸亜鉛酸ビスマスランタンにおけるビスマスのランタンに対するモル比(Bi/La)は、1.00以上2.33以下としてもよい。すなわち、本実施形態の圧電体30の固溶体を、上記(式I)の型式で表記した場合、0.3≦w≦0.5とすることができる。このようにすれば、圧電素子100のヒステリシスループの形状をさらに良好にすることができる。すなわち、Bi/La比が、1.00以上2.33以下であると、ヒステリシスループをより開いた形状にすることができる。また、Bi/La比は、より好ましくは1.5以上2.33以下である。   In the solid solution of the piezoelectric body 30 of the present embodiment, the molar ratio (Bi / La) of bismuth to lanthanum in bismuth lanthanum titanate may be 1.00 or more and 2.33 or less. That is, when the solid solution of the piezoelectric body 30 of the present embodiment is represented by the above-described (formula I) type, 0.3 ≦ w ≦ 0.5 can be satisfied. In this way, the shape of the hysteresis loop of the piezoelectric element 100 can be further improved. That is, when the Bi / La ratio is not less than 1.00 and not more than 2.33, the hysteresis loop can be further opened. The Bi / La ratio is more preferably 1.5 or more and 2.33 or less.

本実施形態の圧電体30の固溶体において、チタン酸鉛における、鉛のチタンに対するモル比(鉛/チタン)は、1.0より大きく1.1以下とすることができる。また、圧電体30において、固溶体となっているチタン酸鉛の鉛は、化学量論組成のチタン酸鉛の鉛量よりも10%以下過剰であるようにしてもよい。すなわち、本実施形態の圧電体30の固溶体を、上記(式I)の型式で表記した場合、0≦v≦0.1とすることができる。このようにすれば、固溶体の結晶における異相の量を減少させることができる。例えば、圧電体30が結晶化された際に、立方晶、正方晶、菱面体晶などの結晶構造の相が現れる場合があるが、チタン酸鉛における鉛のチタンに対するモル比(鉛/チタン)は、1.0より大きく1.1以下とすることにより、例えば、圧電体30において、正方晶の割合を高め、他の結晶構造の相(異相)の存在量を減少させることができる。このようにすれば、圧電素子100の圧電特性をさらに良好にすることができる。   In the solid solution of the piezoelectric body 30 of this embodiment, the molar ratio of lead to titanium (lead / titanium) in lead titanate can be greater than 1.0 and 1.1 or less. Moreover, in the piezoelectric body 30, the lead titanate lead in solid solution may be 10% or less in excess of the lead amount of lead titanate having a stoichiometric composition. That is, when the solid solution of the piezoelectric body 30 of the present embodiment is represented by the above-described (formula I) type, 0 ≦ v ≦ 0.1 can be satisfied. In this way, the amount of heterogeneous phase in the solid solution crystal can be reduced. For example, when the piezoelectric body 30 is crystallized, a phase of a crystal structure such as cubic, tetragonal or rhombohedral may appear, but the molar ratio of lead to titanium in lead titanate (lead / titanium). In the piezoelectric body 30, for example, the ratio of tetragonal crystals can be increased and the amount of other crystal structure phases (heterophases) can be reduced. In this way, the piezoelectric characteristics of the piezoelectric element 100 can be further improved.

本実施形態の圧電体30の固溶体において、チタン酸亜鉛酸ビスマスランタンにおける亜鉛のチタンに対するモル比(Zn/Ti)は、0.92以上1.08以下としてもよい。すなわち、本実施形態の圧電体30の固溶体を、上記(式I)の型式で表記した場合、0.48≦x≦0.5とすることができる。このようにすれば、圧電素子100の耐電圧をさらに良好とすることができる。これにより、圧電素子100に印加する電圧をさらに高めることができ、例えば、圧電アクチュエーター102の変位をさらに大きくすることができる。そして、このような圧電体30は、例えば、インクジェット印刷におけるインクの吐出性能をさらに高めることができる。なおZn/Ti比は、より好ましくは、0.96以上1.04以下であり、ビスマス、亜鉛およびチタンの価数のバランスの点で、特に好ましくは0.5である。   In the solid solution of the piezoelectric body 30 of this embodiment, the molar ratio (Zn / Ti) of zinc to titanium in the bismuth lanthanum titanate may be 0.92 or more and 1.08 or less. That is, when the solid solution of the piezoelectric body 30 of the present embodiment is represented by the above-described (formula I) type, 0.48 ≦ x ≦ 0.5 can be satisfied. In this way, the withstand voltage of the piezoelectric element 100 can be further improved. Thereby, the voltage applied to the piezoelectric element 100 can be further increased, and for example, the displacement of the piezoelectric actuator 102 can be further increased. Such a piezoelectric body 30 can further enhance the ink ejection performance in, for example, inkjet printing. The Zn / Ti ratio is more preferably 0.96 or more and 1.04 or less, and particularly preferably 0.5 in terms of the balance of valences of bismuth, zinc and titanium.

1.4.結晶の配向および結晶性
1.4.1.白金電極
一般に白金属の元素は、スパッタ法(DCスパッタ、イオンスパッタを含む)、蒸着法、MOCVD法などによって基板等の上に成膜されるとき、結晶の特定の軸が自発的に特定の方向に配向する性質を有している(本明細書では、このような性質を自己配向性ということがある。)。特に白金は、自己配向性が強い。すなわち、白金は、白金電極10として成膜される過程において、結晶構造を採る場合に、形成される膜面の法線方向に、結晶の<111>方向が自発的に配向しやすい。本明細書では、このような配向状態のことを「<111>優先配向」という場合がある。したがって、上述の白金電極10は、スパッタ法等により基板1等の表面に成膜される際に、<111>に優先配向することができる。
1.4. Crystal orientation and crystallinity 1.4.1. Platinum electrode Generally, when a metal element is formed on a substrate or the like by sputtering (including DC sputtering, ion sputtering), vapor deposition, MOCVD, etc., a specific axis of the crystal is spontaneously specified. It has the property of being oriented in the direction (in this specification, this property is sometimes referred to as self-orientation). Platinum in particular has a strong self-orientation property. That is, in the process in which platinum is formed as the platinum electrode 10, when the crystal structure is adopted, the <111> direction of the crystal tends to be spontaneously oriented in the normal direction of the film surface to be formed. In this specification, such an alignment state may be referred to as “<111> preferential alignment”. Therefore, the platinum electrode 10 described above can be preferentially oriented to <111> when it is formed on the surface of the substrate 1 or the like by sputtering or the like.

白金電極10の優先配向の程度は、例えば、X線回折の(111)面のピークのロッキングカーブによって評価されることができる。このようなロッキングカーブを用いると、白金電極10の優先配向の程度は、当該ピークの半値幅によって評価されることができる。本実施形態に白金電極10は、X線回折の(111)面のピークのロッキングカーブの半値幅が、20°以下となっている。また、白金電極10のX線回折の(111)面のピークのロッキングカーブの半値幅は、10°以下であることがより好ましい。   The degree of preferential orientation of the platinum electrode 10 can be evaluated by, for example, a rocking curve of a peak on the (111) plane of X-ray diffraction. When such a rocking curve is used, the degree of preferential orientation of the platinum electrode 10 can be evaluated by the half width of the peak. In the present embodiment, the platinum electrode 10 has a full width at half maximum of a rocking curve of a peak on the (111) plane of X-ray diffraction of 20 ° or less. Further, the half width of the rocking curve of the peak of the (111) plane of the X-ray diffraction of the platinum electrode 10 is more preferably 10 ° or less.

本実施形態の圧電素子100は、白金電極10の圧電体30と反対側の面に酸化イリジウムまたは酸化チタンの層を有することができる。このような層を有することにより、白金電極10の<111>優先配向をより良好とすることができるとともに、白金電極10と基板1等の下地との密着性を高めることができる。   The piezoelectric element 100 of the present embodiment can have an iridium oxide or titanium oxide layer on the surface of the platinum electrode 10 opposite to the piezoelectric body 30. By having such a layer, the <111> preferred orientation of the platinum electrode 10 can be made better, and the adhesion between the platinum electrode 10 and the substrate 1 or the like can be enhanced.

1.4.2.圧電体
一方、圧電性を呈するセラミックスは、一般に、薄膜法によって形成されるとき、結晶化させてペロブスカイト型の結晶構造をとらせるが、このときのセラミックスの結晶の配向性や結晶性は、結晶化の際に当該セラミックスが接している物体の表面の影響を強く受ける。例えば、PZT(チタン酸ジルコン酸鉛)を圧電素子の圧電体として用いる場合には、圧電素子の電極の表面の性質や材質が、PZTの結晶の配向に影響することになる。
1.4.2. Piezoelectric body On the other hand, ceramics exhibiting piezoelectricity are generally crystallized to form a perovskite-type crystal structure when formed by a thin film method. During the conversion, the surface of the object in contact with the ceramic is strongly affected. For example, when PZT (lead zirconate titanate) is used as the piezoelectric body of the piezoelectric element, the properties and materials of the electrodes of the piezoelectric element affect the orientation of the PZT crystal.

また、セラミックスのペロブスカイト型の結晶の配向が、所定の方向に優先配向している場合に、圧電素子の変位が大きくなることが分かっている。そのため、例えば、圧電体がPZTである場合には、PZTを<100>に優先配向させるために、電極の材質、配向、表面の改質などを行って、PZTが自発的に<100>に優先配向させるようにすることが多い。例えば白金薄膜の上にセラミックスを<100>に優先配向するように形成するときには、白金薄膜が<111>に優先配向しているため、白金薄膜の表面にバッファー層などの結晶配向を制御するような層を形成するなどして、セラミックスを<100>に優先配向させることが行われる。   It has also been found that the displacement of the piezoelectric element increases when the orientation of the ceramic perovskite crystal is preferentially oriented in a predetermined direction. Therefore, for example, when the piezoelectric body is PZT, in order to preferentially orient PZT to <100>, the material, orientation, surface modification, etc. of the electrode are performed, and PZT spontaneously becomes <100>. In many cases, the preferred orientation is used. For example, when the ceramic is formed on the platinum thin film so as to be preferentially oriented to <100>, the platinum thin film is preferentially oriented to <111>, so that the crystal orientation of the buffer layer or the like is controlled on the surface of the platinum thin film. The ceramic is preferentially oriented to <100> by forming a thick layer.

本実施形態の圧電体30は、チタン酸亜鉛酸ビスマスランタンおよびチタン酸鉛の固溶体(PT−BLZT)を用いている。そのため、圧電体30のPT−BLZTは、白金電極10上に直接、薄膜法によって形成されることにより、<100>に優先配向することができる。すなわち、本実施形態の圧電体30は、白金電極10の表面を改質したり、白金電極10と圧電体30との間に、結晶の配向を制御するための層を配置することなく、結晶を<100>に優先配向させることができる。本実施形態の圧電体30のこのような自発配向性は、PT−BLZTを結晶化させる際の、PT−BLZTおよび白金電極10の相互作用によって生じているものと考えられる。   The piezoelectric body 30 of this embodiment uses a solid solution (PT-BLZT) of bismuth lanthanum titanate and lead titanate. Therefore, PT-BLZT of the piezoelectric body 30 can be preferentially oriented to <100> by being directly formed on the platinum electrode 10 by a thin film method. That is, the piezoelectric body 30 of the present embodiment can be obtained without modifying the surface of the platinum electrode 10 or disposing a layer for controlling crystal orientation between the platinum electrode 10 and the piezoelectric body 30. Can be preferentially oriented to <100>. Such spontaneous orientation of the piezoelectric body 30 of the present embodiment is considered to be caused by the interaction of PT-BLZT and the platinum electrode 10 when PT-BLZT is crystallized.

これにより、本実施形態の圧電素子100は、圧電体30がPT−BLZTがペロブスカイト型の結晶構造をとり、高い結晶性を有し、かつ、結晶の配向性が、<100>優先配向となるため、例えば、良好なヒステリシス特性を有する等の、良好な強誘電特性を呈し、例えば、印加される電界の強度あたりの変位量を大きくする等の、良好な圧電特性を呈することができる。   Accordingly, in the piezoelectric element 100 of the present embodiment, the piezoelectric body 30 has a crystal structure in which PT-BLZT is a perovskite type, has high crystallinity, and the crystal orientation is <100> preferential orientation. Therefore, for example, it exhibits good ferroelectric characteristics such as having good hysteresis characteristics, and can exhibit good piezoelectric characteristics such as increasing the amount of displacement per intensity of the applied electric field.

圧電体30の<100>優先配向度は、50%以上とすることができる。<100>優先配向度とは、圧電体30のX線回折パターンを測定したときに、(100)面の回折ピークの強度I(100)、(110)面の回折ピークの強度I(110)、および(111)面の回折ピークの強度I(111)を用いて、I(100)/[I(100)+I(110)+I(111)]で表される。なおこの回折ピークの強度は、ピークの面積であってもよい。圧電体30のPT−BLZTの<100>優先配向度が、50%以上であると、圧電特性をさらに向上させることができる。圧電体30の優先配向度は、例えば、PT−BLZTの組成を変化させること、白金電極10の組成を変化させること、PT−BLZTの結晶化の際の温度や環境の条件を変化させること、の少なくとも一種により変化させることができる。 The <100> preferred orientation degree of the piezoelectric body 30 can be 50% or more. <100> The preferential orientation degree, when measured with X-ray diffraction pattern of the piezoelectric body 30, (100) intensity of the diffraction peak I (100) of the plane, (110) intensity I (110) of the diffraction peak of the plane And (111) plane diffraction peak intensity I (111) , I (100) / [I (100) + I (110) + I (111) ] The intensity of the diffraction peak may be a peak area. When the <100> preferential orientation degree of PT-BLZT of the piezoelectric body 30 is 50% or more, the piezoelectric characteristics can be further improved. The preferred orientation degree of the piezoelectric body 30 is, for example, changing the composition of PT-BLZT, changing the composition of the platinum electrode 10, changing the temperature and environmental conditions during crystallization of PT-BLZT, It can be changed by at least one of the above.

1.4.3.結晶性
本実施形態の圧電体30は、上述のように、結晶の良好な配向性を有しているが、本実施形態の圧電体30は、結晶性も良好である。ここでいう結晶性とは、例えば、結晶の質や量のことを指す。このような圧電体30の結晶性は、例えば、XRDパターンのピークの高さやピーク幅に基づいて評価することができる。
1.4.3. Crystallinity As described above, the piezoelectric body 30 of the present embodiment has good crystal orientation, but the piezoelectric body 30 of the present embodiment also has good crystallinity. The crystallinity here refers to, for example, the quality and quantity of crystals. Such crystallinity of the piezoelectric body 30 can be evaluated based on, for example, the peak height and peak width of the XRD pattern.

なお、本実施形態の圧電素子100は、白金電極10および圧電体30が直接接している点に特徴の一つを有するが、白金電極10と圧電体30との間に、結晶の配向性を制御する層を介在させてもよい。このような層としては、例えば、チタン、LNO(ニッケル酸ランタン)からなる層が挙げられる。本実施形態の圧電体30は、このような結晶の配向性を制御する層を介して、白金電極10上に形成される場合でも、<100>に優先配向することができる。   The piezoelectric element 100 of the present embodiment has one of the features that the platinum electrode 10 and the piezoelectric body 30 are in direct contact with each other. However, the crystal orientation between the platinum electrode 10 and the piezoelectric body 30 is improved. A controlling layer may be interposed. Examples of such a layer include a layer made of titanium and LNO (lanthanum nickelate). The piezoelectric body 30 of the present embodiment can be preferentially oriented to <100> even when formed on the platinum electrode 10 through such a layer that controls the crystal orientation.

1.5.作用効果等
本実施形態にかかる圧電素子100(圧電アクチュエーター102)は、上述の圧電体30を含むため、少なくとも、印加される電界あたりの変位量を大きくすることができる。後述の実験例によってさらに説明するが、本実施形態の圧電素子100は、白金電極10が<111>に優先配向するとともに、圧電体30が<100>に優先配向している。
1.5. Operational Effects, etc. Since the piezoelectric element 100 (piezoelectric actuator 102) according to the present embodiment includes the piezoelectric body 30 described above, at least the amount of displacement per applied electric field can be increased. As will be further described by an experimental example described later, in the piezoelectric element 100 of the present embodiment, the platinum electrode 10 is preferentially oriented to <111> and the piezoelectric body 30 is preferentially oriented to <100>.

本実施形態の圧電素子100は、広範な用途に用いることができる。圧電アクチュエーター102の用途としては、例えば、液体噴射ヘッド、インクジェットプリンターなどの液体噴射装置などがあり、圧電素子100の用途としては、ジャイロセンサー、加速度センサーなどの各種のセンサー類、音叉型振動子などのタイミングデバイス類、超音波モーターなどの超音波デバイス類に好適に用いることができる。   The piezoelectric element 100 of this embodiment can be used for a wide range of applications. Applications of the piezoelectric actuator 102 include, for example, a liquid ejecting apparatus such as a liquid ejecting head and an ink jet printer. Applications of the piezoelectric element 100 include various sensors such as a gyro sensor and an acceleration sensor, a tuning fork vibrator, and the like. It can be suitably used for ultrasonic devices such as timing devices and ultrasonic motors.

2.圧電素子の製造方法
本発明の圧電素子100は、例えば、以下のように製造することができる。
2. Piezoelectric Element Manufacturing Method The piezoelectric element 100 of the present invention can be manufactured, for example, as follows.

まず、基板1を準備し、基板1上に白金電極10を形成する。白金電極10は、上述の通り、例えば、スパッタ法、めっき法、真空蒸着法などにより形成されることができる。白金電極10は、必要に応じてパターニングされることができる。   First, the substrate 1 is prepared, and the platinum electrode 10 is formed on the substrate 1. As described above, the platinum electrode 10 can be formed by, for example, a sputtering method, a plating method, a vacuum evaporation method, or the like. The platinum electrode 10 can be patterned as needed.

次に、第1導電層20の上に、圧電体30を形成する。圧電体30は、上述の通り、例えば、スパッタ法、蒸着法、MOCVD法、MOD法、PLD(レーザーアブレーション)法、ミスト成膜法、およびゾルゲル法の少なくとも一種の方法あるいはこれら複数の方法の組合せにより形成されることができる。圧電体30の結晶化は、例えば、500℃以上800℃以下において、酸素雰囲気で行うことができる。これにより、圧電体30を結晶化することができる。なお、結晶化は、圧電体30をパターニングした後に行ってもよい。そして、必要に応じて、上記操作を複数回繰り返して、所望の厚みの圧電体30を得ることができる。   Next, the piezoelectric body 30 is formed on the first conductive layer 20. As described above, the piezoelectric body 30 is formed by, for example, at least one method of a sputtering method, a vapor deposition method, an MOCVD method, a MOD method, a PLD (laser ablation) method, a mist film forming method, and a sol-gel method, or a combination of these methods. Can be formed. Crystallization of the piezoelectric body 30 can be performed in an oxygen atmosphere at, for example, 500 ° C. or more and 800 ° C. or less. Thereby, the piezoelectric body 30 can be crystallized. Crystallization may be performed after the piezoelectric body 30 is patterned. Then, if necessary, the above operation can be repeated a plurality of times to obtain the piezoelectric body 30 having a desired thickness.

次に、圧電体30の上に導電層20を形成する。導電層20は、例えば、スパッタ法、めっき法、真空蒸着法などにより形成されることができる。そして、所望の形状に導電層20および圧電体30をパターニングして、圧電素子を形成する。なお導電層20および圧電体30は、必要に応じて同時にパターニングされることができる。以上例示した工程により、本実施形態の圧電素子100を製造することができる。   Next, the conductive layer 20 is formed on the piezoelectric body 30. The conductive layer 20 can be formed by, for example, a sputtering method, a plating method, a vacuum evaporation method, or the like. Then, the conductive layer 20 and the piezoelectric body 30 are patterned into a desired shape to form a piezoelectric element. The conductive layer 20 and the piezoelectric body 30 can be simultaneously patterned as necessary. The piezoelectric element 100 of this embodiment can be manufactured by the processes exemplified above.

3.液体噴射ヘッド
次に、本実施形態にかかる圧電素子(圧電アクチュエーター)の用途の一例として、これらを有する液体噴射ヘッド600について、図面を参照しながら説明する。図2は、液体噴射ヘッド600の要部を模式的に示す断面図である。図3は、液体噴射ヘッド600の分解斜視図であり、通常使用される状態とは上下を逆に示したものである。
3. Liquid Ejecting Head Next, as an example of the use of the piezoelectric element (piezoelectric actuator) according to the present embodiment, a liquid ejecting head 600 having these will be described with reference to the drawings. FIG. 2 is a cross-sectional view schematically showing the main part of the liquid jet head 600. FIG. 3 is an exploded perspective view of the liquid ejecting head 600, which is shown upside down from a state in which it is normally used.

液体噴射ヘッド600は、上述の圧電素子(圧電アクチュエーター)を有することができる。以下では、基板1(上部に振動板1aを含む構造体)の上に圧電素子100が形成され、圧電素子100と振動板1aとが圧電アクチュエーター102を構成している液体噴射ヘッド600を例示して説明する。   The liquid ejecting head 600 can include the above-described piezoelectric element (piezoelectric actuator). In the following, a liquid ejecting head 600 in which the piezoelectric element 100 is formed on the substrate 1 (the structure including the vibration plate 1 a on the upper portion) and the piezoelectric element 100 and the vibration plate 1 a constitute the piezoelectric actuator 102 will be exemplified. I will explain.

液体噴射ヘッド600は、図2および図3に示すように、ノズル孔612を有するノズル板610と、圧力室622を形成するための圧力室基板620と、圧電素子100と、を含む。さらに、液体噴射ヘッド600は、図3に示すように、筐体630を有することができる。なお、図3では、圧電素子100を簡略化して図示している。   As shown in FIGS. 2 and 3, the liquid ejecting head 600 includes a nozzle plate 610 having nozzle holes 612, a pressure chamber substrate 620 for forming the pressure chamber 622, and the piezoelectric element 100. Furthermore, the liquid ejecting head 600 can include a housing 630 as illustrated in FIG. 3. In FIG. 3, the piezoelectric element 100 is illustrated in a simplified manner.

ノズル板610は、図2および図3に示すように、ノズル孔612を有する。ノズル孔612からは、インクが吐出されることができる。ノズル板610には、例えば、多数のノズル孔612が一列に設けられている。ノズル板620の材質としては、例えば、シリコン、ステンレス鋼(SUS)などを挙げることができる。   As shown in FIGS. 2 and 3, the nozzle plate 610 has nozzle holes 612. Ink can be ejected from the nozzle holes 612. In the nozzle plate 610, for example, a number of nozzle holes 612 are provided in a line. Examples of the material of the nozzle plate 620 include silicon and stainless steel (SUS).

圧力室基板620は、ノズル板610上(図3の例では下)に設けられている。圧力室基板620の材質としては、例えば、シリコンなどを例示することができる。圧力室基板620がノズル板610と振動板1aとの間の空間を区画することにより、図3に示すように、リザーバー(液体貯留部)624と、リザーバー624と連通する供給口626と、供給口626と連通する圧力室622と、が設けられている。この例では、リザーバー624と、供給口626と、圧力室622とを区別して説明するが、これらはいずれも液体の流路であって、このような流路はどのように設計されても構わない。また例えば、供給口626は、図示の例では流路の一部が狭窄された形状を有しているが、設計にしたがって任意に形成することができ、必ずしも必須の構成ではない。リザーバー624、供給口626および圧力室622は、ノズル板610と圧力室基板620と振動板1aとによって区画されている。リザーバー624は、外部(例えばインクカートリッジ)から、振動板1aに設けられた貫通孔628を通じて供給されるインクを一時貯留することができる。リザーバー624内のインクは、供給口626を介して、圧力室622に供給されることができる。圧力室622は、振動板1aの変形により容積が変化する。圧力室622はノズル孔612と連通しており、圧力室622の容積が変化することによって、ノズル孔612からインク等が吐出される。   The pressure chamber substrate 620 is provided on the nozzle plate 610 (lower in the example of FIG. 3). Examples of the material of the pressure chamber substrate 620 include silicon. As the pressure chamber substrate 620 divides the space between the nozzle plate 610 and the diaphragm 1a, as shown in FIG. 3, a reservoir (liquid reservoir) 624, a supply port 626 communicating with the reservoir 624, and a supply A pressure chamber 622 communicating with the port 626 is provided. In this example, the reservoir 624, the supply port 626, and the pressure chamber 622 will be described separately, but these are all liquid flow paths, and any such flow paths may be designed. Absent. Further, for example, the supply port 626 has a shape in which a part of the flow path is narrowed in the illustrated example, but can be arbitrarily formed according to the design, and is not necessarily an essential configuration. The reservoir 624, the supply port 626, and the pressure chamber 622 are partitioned by the nozzle plate 610, the pressure chamber substrate 620, and the vibration plate 1a. The reservoir 624 can temporarily store ink supplied from the outside (for example, an ink cartridge) through a through hole 628 provided in the vibration plate 1a. The ink in the reservoir 624 can be supplied to the pressure chamber 622 via the supply port 626. The volume of the pressure chamber 622 changes due to the deformation of the diaphragm 1a. The pressure chamber 622 communicates with the nozzle hole 612, and ink or the like is ejected from the nozzle hole 612 when the volume of the pressure chamber 622 changes.

圧電素子100は、圧力室基板620上(図3の例では下)に設けられている。圧電素子100は、圧電素子駆動回路(図示せず)に電気的に接続され、圧電素子駆動回路の信号に基づいて動作(振動、変形)することができる。振動板1aは、圧電体30の動作によって変形し、圧力室622の内部圧力を適宜変化させることができる。   The piezoelectric element 100 is provided on the pressure chamber substrate 620 (lower in the example of FIG. 3). The piezoelectric element 100 is electrically connected to a piezoelectric element driving circuit (not shown), and can operate (vibrate or deform) based on a signal from the piezoelectric element driving circuit. The diaphragm 1 a can be deformed by the operation of the piezoelectric body 30 to change the internal pressure of the pressure chamber 622 as appropriate.

筐体630は、図3に示すように、ノズル板610、圧力室基板620および圧電素子100を収納することができる。筐体630の材質としては、例えば、樹脂、金属などを挙げることができる。   As shown in FIG. 3, the housing 630 can accommodate the nozzle plate 610, the pressure chamber substrate 620, and the piezoelectric element 100. Examples of the material of the housing 630 include resin and metal.

液体噴射ヘッド600は、上述した少なくとも<100>優先配向した圧電素子100を含んでいる。したがって液体噴射ヘッド600は、変位が大きく、液体等の吐出能力が高いものとなっている。   The liquid ejecting head 600 includes the piezoelectric element 100 that is at least <100> preferentially oriented as described above. Therefore, the liquid ejecting head 600 has a large displacement and a high discharge ability of liquid or the like.

なお、ここでは、液体噴射ヘッド600がインクジェット式記録ヘッドである場合について説明した。しかしながら、本実施形態の液体噴射ヘッドは、例えば、液晶ディスプレイ等のカラーフィルターの製造に用いられる色材噴射ヘッド、有機ELディスプレイ、FED(面発光ディスプレイ)等の電極形成に用いられる電極材料噴射ヘッド、バイオチップ製造に用いられる生体有機物噴射ヘッドなどとして用いられることもできる。   Here, the case where the liquid ejecting head 600 is an ink jet recording head has been described. However, the liquid ejecting head of the present embodiment is, for example, an electrode material ejecting head used for electrode formation such as a color material ejecting head, an organic EL display, and an FED (surface emitting display) used for manufacturing a color filter such as a liquid crystal display. It can also be used as a bio-organic matter ejecting head used for biochip manufacturing.

4.液体噴射装置
次に、本実施形態にかかる液体噴射装置について、図面を参照しながら説明する。液体噴射装置は、上述の液体噴射ヘッドを有する。以下では、液体噴射装置が上述の液体噴射ヘッドを有するインクジェットプリンターである場合について説明する。図4は、本実施形態にかかる液体噴射装置700を模式的に示す斜視図である。
4). Next, the liquid ejecting apparatus according to the present embodiment will be described with reference to the drawings. The liquid ejecting apparatus includes the above-described liquid ejecting head. Hereinafter, a case where the liquid ejecting apparatus is an ink jet printer having the above-described liquid ejecting head will be described. FIG. 4 is a perspective view schematically showing the liquid ejecting apparatus 700 according to the present embodiment.

液体噴射装置700は、図4に示すように、ヘッドユニット730と、駆動部710と、制御部760と、を含む。液体噴射装置700は、さらに、液体噴射装置700は、装置本体720と、給紙部750と、記録用紙Pを設置するトレイ721と、記録用紙Pを排出する排出口722と、装置本体720の上面に配置された操作パネル770と、を含むことができる。   As illustrated in FIG. 4, the liquid ejecting apparatus 700 includes a head unit 730, a driving unit 710, and a control unit 760. The liquid ejecting apparatus 700 further includes an apparatus main body 720, a paper feeding unit 750, a tray 721 on which the recording paper P is installed, a discharge port 722 for discharging the recording paper P, and an apparatus main body 720. And an operation panel 770 disposed on the upper surface.

ヘッドユニット730は、上述した液体噴射ヘッド600から構成されるインクジェット式記録ヘッド(以下単に「ヘッド」ともいう)を有する。ヘッドユニット730は、さらに、ヘッドにインクを供給するインクカートリッジ731と、ヘッドおよびインクカートリッジ731を搭載した運搬部(キャリッジ)732と、を備える。   The head unit 730 includes an ink jet recording head (hereinafter, also simply referred to as “head”) configured from the liquid ejecting head 600 described above. The head unit 730 further includes an ink cartridge 731 that supplies ink to the head, and a transport unit (carriage) 732 on which the head and the ink cartridge 731 are mounted.

駆動部710は、ヘッドユニット730を往復動させることができる。駆動部710は、ヘッドユニット730の駆動源となるキャリッジモーター741と、キャリッジモーター741の回転を受けて、ヘッドユニット730を往復動させる往復動機構742と、を有する。   The drive unit 710 can reciprocate the head unit 730. The drive unit 710 includes a carriage motor 741 serving as a drive source for the head unit 730, and a reciprocating mechanism 742 that receives the rotation of the carriage motor 741 and reciprocates the head unit 730.

往復動機構742は、その両端がフレーム(図示せず)に支持されたキャリッジガイド軸744と、キャリッジガイド軸744と平行に延在するタイミングベルト743と、を備える。キャリッジガイド軸744は、キャリッジ732が自在に往復動できるようにしながら、キャリッジ732を支持している。さらに、キャリッジ732は、タイミングベルト743の一部に固定されている。キャリッジモーター741の作動により、タイミングベルト743を走行させると、キャリッジガイド軸744に導かれて、ヘッドユニット730が往復動する。この往復動の際に、ヘッドから適宜インクが吐出され、記録用紙Pへの印刷が行われる。   The reciprocating mechanism 742 includes a carriage guide shaft 744 supported at both ends by a frame (not shown), and a timing belt 743 extending in parallel with the carriage guide shaft 744. The carriage guide shaft 744 supports the carriage 732 while allowing the carriage 732 to freely reciprocate. Further, the carriage 732 is fixed to a part of the timing belt 743. When the timing belt 743 is caused to travel by the operation of the carriage motor 741, it is guided to the carriage guide shaft 744 and the head unit 730 reciprocates. During this reciprocation, ink is appropriately discharged from the head, and printing on the recording paper P is performed.

なお、本実施形態では、液体噴射ヘッド600および記録用紙Pがいずれも移動しながら印刷が行われる液体噴射装置の例を示しているが、本発明の液体噴射装置は、液体噴射ヘッド600および記録用紙Pが互いに相対的に位置を変えて記録用紙Pに印刷される機構であればよい。また、本実施形態では、記録用紙Pに印刷が行われる例を示しているが、本発明の液体噴射装置によって印刷を施すことができる記録媒体としては、紙に限定されず、布、フィルム、金属など、広範な媒体を挙げることができ、適宜構成を変更することができる。   In the present embodiment, an example of a liquid ejecting apparatus that performs printing while both the liquid ejecting head 600 and the recording paper P move is shown, but the liquid ejecting apparatus of the present invention includes the liquid ejecting head 600 and the recording. Any mechanism may be used as long as the paper P is printed on the recording paper P by changing its position relative to each other. Further, in the present embodiment, an example is shown in which printing is performed on the recording paper P. However, the recording medium that can be printed by the liquid ejecting apparatus of the present invention is not limited to paper, and may be cloth, film, A wide range of media such as metal can be used, and the configuration can be changed as appropriate.

制御部760は、ヘッドユニット730、駆動部710および給紙部750を制御することができる。   The control unit 760 can control the head unit 730, the drive unit 710, and the paper feed unit 750.

給紙部750は、記録用紙Pをトレイ721からヘッドユニット730側へ送り込むことができる。給紙部750は、その駆動源となる給紙モーター751と、給紙モーター751の作動により回転する給紙ローラー752と、を備える。給紙ローラー752は、記録用紙Pの送り経路を挟んで上下に対向する従動ローラー752aおよび駆動ローラー752bを備える。駆動ローラー752bは、給紙モーター751に連結されている。制御部760によって供紙部750が駆動されると、記録用紙Pは、ヘッドユニット730の下方を通過するように送られる。   The paper feeding unit 750 can feed the recording paper P from the tray 721 to the head unit 730 side. The paper feed unit 750 includes a paper feed motor 751 serving as a drive source thereof, and a paper feed roller 752 that rotates by the operation of the paper feed motor 751. The paper feed roller 752 includes a driven roller 752a and a drive roller 752b that face each other up and down across the feeding path of the recording paper P. The drive roller 752b is connected to the paper feed motor 751. When the paper supply unit 750 is driven by the control unit 760, the recording paper P is sent so as to pass below the head unit 730.

ヘッドユニット730、駆動部710、制御部760および給紙部750は、装置本体720の内部に設けられている。   The head unit 730, the drive unit 710, the control unit 760, and the paper feed unit 750 are provided inside the apparatus main body 720.

液体噴射装置700は、耐圧の高い液体噴射ヘッド600を有する。したがって液体噴射装置700の液体の吐出能力は高いものとなっている。   The liquid ejecting apparatus 700 includes a liquid ejecting head 600 with a high pressure resistance. Therefore, the liquid ejection capability of the liquid ejecting apparatus 700 is high.

なお、上記例示した液体噴射装置700は、1つの液体噴射ヘッド600を有し、この液体噴射ヘッド600によって、記録媒体に印刷を行うことができるものであるが、複数の液体噴射ヘッドを有してもよい。液体噴射装置が複数の液体噴射ヘッドを有する場合には、複数の液体噴射ヘッドは、それぞれ独立して上述のように動作されてもよいし、複数の液体噴射ヘッドが互いに連結されて、1つの集合したヘッドとなっていてもよい。このような集合となったヘッドとしては、例えば、複数のヘッドのそれぞれのノズル孔が全体として均一な間隔を有するような、ライン型のヘッドを挙げることができる。   Note that the liquid ejecting apparatus 700 exemplified above includes one liquid ejecting head 600, and the liquid ejecting head 600 can perform printing on a recording medium. However, the liquid ejecting apparatus 700 includes a plurality of liquid ejecting heads. May be. When the liquid ejecting apparatus includes a plurality of liquid ejecting heads, the plurality of liquid ejecting heads may be independently operated as described above, or the plurality of liquid ejecting heads may be connected to each other to It may be a gathered head. An example of such a set of heads is a line-type head in which nozzle holes of a plurality of heads have a uniform interval as a whole.

以上、本発明にかかる液体噴射装置の一例として、インクジェットプリンターとしての液体噴射装置700を説明したが、本発明にかかる液体噴射装置は、工業的にも利用することができる。この場合に吐出される液体(液状材料)としては、各種の機能性材料を溶媒や分散媒によって適当な粘度に調整したものなどを用いることができる。本発明の液体噴射装置は、例示したプリンター等の画像記録装置以外にも、液晶ディスプレイ等のカラーフィルターの製造に用いられる色材噴射装置、有機ELディスプレイ、FED(面発光ディスプレイ)、電気泳動ディスプレイ等の電極やカラーフィルターの形成に用いられる液体材料噴射装置、バイオチップ製造に用いられる生体有機材料噴射装置としても好適に用いられることができる。   As described above, the liquid ejecting apparatus 700 as an ink jet printer has been described as an example of the liquid ejecting apparatus according to the present invention. However, the liquid ejecting apparatus according to the present invention can be used industrially. As the liquid (liquid material) discharged in this case, various functional materials adjusted to an appropriate viscosity with a solvent or a dispersion medium can be used. In addition to the exemplified image recording apparatus such as a printer, the liquid ejecting apparatus of the present invention includes a color material ejecting apparatus, an organic EL display, an FED (surface emitting display), and an electrophoretic display used for manufacturing a color filter such as a liquid crystal display. The present invention can also be suitably used as a liquid material ejecting apparatus used for forming electrodes such as electrodes and color filters, and a bioorganic material ejecting apparatus used for biochip manufacturing.

5.実験例、参考例および比較例
以下に実験例、参考例および比較例を示し、本発明をより具体的に説明する。なお、本発明は、以下の実験例等によってなんら限定されるものではない。
5. Experimental Examples, Reference Examples, and Comparative Examples Experimental examples, reference examples, and comparative examples are shown below to describe the present invention more specifically. In addition, this invention is not limited at all by the following experiment examples.

5.1.圧電素子の作製
実験例1、実験例2、参考例および比較例の圧電素子は、以下のように作製した。これらの例は、PT−BLZTからなる圧電体が接する電極の材質がそれぞれ異なっている。
5.1. Production of Piezoelectric Element The piezoelectric elements of Experimental Example 1, Experimental Example 2, Reference Example, and Comparative Example were produced as follows. In these examples, the materials of the electrodes in contact with the piezoelectric body made of PT-BLZT are different.

まず、いずれの例においても、共通の基板を準備した。各例の基板は、単結晶シリコン基板であり、単結晶シリコン基板上に絶縁膜として二酸化シリコンを熱酸化にて作製したものを用いた。   First, a common substrate was prepared in each example. The substrate in each example was a single crystal silicon substrate, and a silicon dioxide produced by thermal oxidation as an insulating film on the single crystal silicon substrate was used.

実験例1では、上記基板の二酸化シリコン上に酸化ジルコニウム等からなる絶縁体膜を、反応性スパッタ法や熱酸化等で形成する。次に、チタンをDCスパッタ法によりやイオンスパッタ法等で成膜し、その上に白金をDCスパッタ法等によって成膜したものとした。したがって、実験例1では、PT−BLZTは、白金電極に直接接して成膜されることになる。   In Experimental Example 1, an insulator film made of zirconium oxide or the like is formed on the silicon dioxide of the substrate by a reactive sputtering method, thermal oxidation, or the like. Next, titanium was formed by a DC sputtering method or an ion sputtering method, and platinum was formed thereon by a DC sputtering method or the like. Therefore, in Experimental Example 1, PT-BLZT is formed in direct contact with the platinum electrode.

実験例2では、膜厚が50nmの窒化チタンアルミ膜(TiAlN)と、膜厚が100nmのイリジウム(Ir)と、膜厚が30nmの酸化イリジウム(IrOx)膜と、膜厚が150nmの白金(Pt)膜をRFマグネトロンスパッタ法等にて順次積層した。したがって、実験例2では、PT−BLZTは、白金電極に直接接して成膜されることになる。   In Experimental Example 2, a titanium aluminum nitride film (TiAlN) with a thickness of 50 nm, iridium (Ir) with a thickness of 100 nm, an iridium oxide (IrOx) film with a thickness of 30 nm, and platinum ( Pt) films were sequentially laminated by RF magnetron sputtering or the like. Therefore, in Experimental Example 2, PT-BLZT is formed in direct contact with the platinum electrode.

参考例では、実験例1の基板を作製した後に、さらに、白金膜上に、ニッケル酸ランタン(LNO)をDCスパッタ法等で40nmの厚みに成膜したものとした。したがって、参考例では、PT−BLZTは、白金電極の上に形成されたLNOの薄膜に接して成膜されることになる。   In the reference example, after the substrate of Experimental Example 1 was fabricated, lanthanum nickelate (LNO) was further formed on the platinum film to a thickness of 40 nm by a DC sputtering method or the like. Therefore, in the reference example, PT-BLZT is formed in contact with the LNO thin film formed on the platinum electrode.

比較例では、実験例1の基板を作製した後に、さらに、白金膜上に、イリジウムをDCスパッタ法等で10nmの厚みに成膜したものとした。したがって、比較例では、PT−BLZTは、白金電極の上に形成されたイリジウムの薄膜に接して成膜されることになる。   In the comparative example, after the substrate of Experimental Example 1 was fabricated, iridium was further formed on the platinum film to a thickness of 10 nm by a DC sputtering method or the like. Therefore, in the comparative example, PT-BLZT is formed in contact with the iridium thin film formed on the platinum electrode.

各実験例、参考例および比較例の圧電体は、いずれも化学溶液法によって作製した。上記の薄膜が形成された基板上に、スピンコート法によって、PT−BLZTの前駆体溶液を塗布した。この前駆体溶液は、各例において同じものを用いた。具体的には、元素のモル分率が、それぞれ、Pb=35.6mol%、Ti=40.4mol%、Bi=11.2mol%、La=4.8mol%、Zn=8.0mol%となるように、各元素の金属アルコキシドもしくは有機酸金属塩を、溶媒(n−ブタノール)に混合したものを用いた。これを、上記式(1)すなわち、(1−u)Pb(1+v)TiO−u(Bi(1−w)La)(Zn(1−x)Ti)Oの型式で表記すると、u=0.33、v=0.1、x=0.5、w=0.3である。スピンコートにおける回転速度および時間は、最初は500rpm・5sec、次に3000rpm・30secとした。 The piezoelectric bodies of each experimental example, reference example and comparative example were all produced by the chemical solution method. A PT-BLZT precursor solution was applied onto the substrate on which the thin film was formed by spin coating. The same precursor solution was used in each example. Specifically, the molar fractions of the elements are Pb = 35.6 mol%, Ti = 40.4 mol%, Bi = 11.2 mol%, La = 4.8 mol%, and Zn = 8.0 mol%, respectively. Thus, what mixed the metal alkoxide or organic acid metal salt of each element with the solvent (n-butanol) was used. This is expressed by the above formula (1), that is, (1-u) Pb (1 + v) TiO 3 -u (Bi (1-w) La w ) (Zn (1-x) Ti x ) O 3. , U = 0.33, v = 0.1, x = 0.5, w = 0.3. The rotation speed and time in the spin coating were initially 500 rpm · 5 sec, and then 3000 rpm · 30 sec.

次に、塗布された前駆体膜を大気中、150℃で2分間乾燥させ、溶媒を除去した。次いで、大気中、400℃で4分間熱処理して、前駆体膜中の有機成分を除去した(脱脂)。各実験例、参考例および比較例につき、いずれも、前駆体溶液の塗布、乾燥、脱脂の組を3回繰り返して行った。次いで、焼成炉(Rapid Thermal Annealing(RTA))に導入し、0.5L/minの酸素フローを行いながら、700℃で、2分間焼成した。   Next, the applied precursor film was dried in air at 150 ° C. for 2 minutes to remove the solvent. Subsequently, it heat-processed for 4 minutes at 400 degreeC in air | atmosphere, and removed the organic component in a precursor film | membrane (degreasing | defatting). For each experimental example, reference example, and comparative example, the combination of the precursor solution, drying, and degreasing was repeated three times. Subsequently, it introduce | transduced into the baking furnace (Rapid Thermal Annealing (RTA)), and baked at 700 degreeC for 2 minutes, performing oxygen flow of 0.5 L / min.

さらに各実験例、参考例および比較例につき、いずれも、原料溶液の塗布、乾燥、脱脂の組を3回、焼成を2回繰り返し、その後、0.5L/minの酸素フローを行いながら、700℃で、5分間焼成した。ここで、いずれの試料も、PT−BLZT層の一層あたりの厚みは、100nmとしたため、結果として600nmの厚みの圧電体が得られた。   Furthermore, for each experimental example, reference example, and comparative example, each of the group consisting of application of the raw material solution, drying, and degreasing was repeated 3 times, and firing was repeated twice, and thereafter, while oxygen flow of 0.5 L / min was performed, 700 Baked at 5 ° C. for 5 minutes. Here, in any sample, the thickness per layer of the PT-BLZT layer was 100 nm, and as a result, a piezoelectric body having a thickness of 600 nm was obtained.

さらにその上に導電層20としてDCスパッタ法にて膜厚100nmのPT膜を作製した。その後、RTA炉に導入し、炉内を0.5L/分の流量の酸素でフローして、650℃で5分間、導電層20の焼付けを行い、各実験例、参考例および比較例の圧電素子をそれぞれ作製した。   Furthermore, a PT film having a film thickness of 100 nm was formed thereon as a conductive layer 20 by DC sputtering. After that, it was introduced into the RTA furnace, the inside of the furnace was flowed with oxygen at a flow rate of 0.5 L / min, and the conductive layer 20 was baked at 650 ° C. for 5 minutes, and the piezoelectric of each experimental example, reference example and comparative example Each element was produced.

5.2.圧電素子の評価
5.2.1.X線回折(XRD)
X線回折(XRD)パターンは、各実験例、参考例および比較例ともに、各試料の圧電素子をパターニングすることなく、Bruker AXS社製の型番D8 Discoverに導入し、X線源としてCu−Kα線を使用して、室温で測定した。また、ロッキングカーブについても同装置を用いて測定した。
5.2. Evaluation of piezoelectric element 5.2.1. X-ray diffraction (XRD)
The X-ray diffraction (XRD) pattern was introduced into the model number D8 Discover manufactured by Bruker AXS without patterning the piezoelectric element of each sample in each experimental example, reference example, and comparative example, and Cu-Kα was used as the X-ray source. Measurements were made at room temperature using a wire. The rocking curve was also measured using the same device.

5.2.2.ヒステリシスの評価
ヒステリシスの評価は、東陽テクニカ社製、FCE−1Aを用い、ヒステリシスループを測定し、その形状を評価して行った。ヒステリシスは、各試料の圧電素子を500μmφの円形のパターンにパターニングし、2つの電極をそれぞれ装置に接続して採取した。
5.2.2. Evaluation of hysteresis Hysteresis was evaluated by measuring a hysteresis loop using Toyo Technica FCE-1A and evaluating its shape. Hysteresis was collected by patterning the piezoelectric elements of each sample into a circular pattern of 500 μmφ and connecting the two electrodes to the apparatus.

5.3.評価結果
図5は、各実験例、参考例および比較例のXRDパターンを示している。図5をみると、各実験例および参考例のパターンは、PT−BLZTの(100)面に帰属される回折ピークに比較して、(110)面に帰属される回折ピークが小さくなっている。これらの試料につき、<100>優先配向度を算出した結果、いずれも、およそ60%であった。これに対して、比較例の圧電素子では、PT−BLZTの(100)面に帰属される回折ピークに比較して、(110)面に帰属される回折ピークが大きくなっていた。
5.3. Evaluation Results FIG. 5 shows XRD patterns of each experimental example, reference example, and comparative example. Referring to FIG. 5, in the patterns of each experimental example and reference example, the diffraction peak attributed to the (110) plane is smaller than the diffraction peak attributed to the (100) plane of PT-BLZT. . As a result of calculating the degree of <100> preferential orientation for these samples, all were about 60%. In contrast, in the piezoelectric element of the comparative example, the diffraction peak attributed to the (110) plane was larger than the diffraction peak attributed to the (100) plane of PT-BLZT.

また、参考例の圧電素子では、<100>優先配向はしているものの、ピーク強度は実験例に比較してやや小さかった。そのため、実験例に比較して、参考例では、結晶性がやや低くなっていることが判明した。   Further, in the piezoelectric element of the reference example, although <100> preferential orientation was performed, the peak intensity was slightly smaller than that of the experimental example. Therefore, it was found that the crystallinity was slightly lower in the reference example than in the experimental example.

図6および図7には、実験例1および実験例2の圧電素子のXRDパターンにおける白金(111)面に帰属されるピークについてロッキングカーブを測定した結果を示す。実験例1の圧電素子では、白金(111)面のピークの半値幅は14.285°と比較的ブロードであるのに対し、実験例2では5.786°と比較的尖鋭であり、実験例2の圧電素子における白金電極の方が<111>優先配向度がより優れていることが判明した。   6 and 7 show the results of measuring rocking curves for the peaks attributed to the platinum (111) plane in the XRD patterns of the piezoelectric elements of Experimental Examples 1 and 2. FIG. In the piezoelectric element of Experimental Example 1, the half-value width of the peak of the platinum (111) surface is 14.285 °, which is relatively broad, whereas in Experimental Example 2, the peak is 5.786 °, which is relatively sharp. It was found that the platinum electrode in the piezoelectric element 2 was superior in the <111> preferred orientation degree.

図8ないし図11は、それぞれ、実施例1、実施例2、参考例、および比較例の圧電素子のヒステリシスループを示している。図8ないし図10をみると、実施例1、実施例2および参考例の圧電素子は、いずれもヒステリシスループが、所謂、開いた形状となっており、良好な圧電特性を呈することが判明した。図11に示した比較例の圧電素子のヒステリシスループは、丸みを帯びており、比較例の圧電素子がリークを起こしているものと考えられる。   8 to 11 show hysteresis loops of the piezoelectric elements of Example 1, Example 2, Reference Example, and Comparative Example, respectively. 8 to 10, it was found that the piezoelectric elements of Example 1, Example 2 and Reference Example all have a so-called open shape of hysteresis loops and exhibit good piezoelectric characteristics. . The hysteresis loop of the piezoelectric element of the comparative example shown in FIG. 11 is rounded, and it is considered that the piezoelectric element of the comparative example is leaking.

以上のことから、実験例1、実験例2の圧電素子は、<111>に優先配向している白金電極に接して形成されたPT−BLZTの圧電体が、<100>に優先配向していることが判明した。また、実験例1、実験例2の圧電素子は、良好なヒステリシス特性を呈することが判明した。そのため、実験例1および実験例2の圧電素子は、電界が印加されたときに変位量が大きいものと考えられる。また、参考例の圧電素子は、<111>に優先配向している白金電極上のLNOに接して形成されたPT−BLZTの圧電体が、<100>に優先配向していることが判明した。また、参考例の圧電素子は、良好なヒステリシス特性を呈することが判明した。そのため、参考例の圧電素子についても、電界が印加されたときに変位量が大きいものと考えられる。これに対して、比較例の圧電素子は、<111>に優先配向している白金電極上のイリジウムに接して形成されたPT−BLZTの圧電体が<100>に優先配向していないことが判明した。また、参考例の圧電素子は、リーキーなヒステリシス特性を呈することが判明した。そのため、参考例の圧電素子は、電界が印加されたときに十分な信頼性が得られないものと考えられる。   From the above, in the piezoelectric elements of Experimental Example 1 and Experimental Example 2, the PT-BLZT piezoelectric material formed in contact with the platinum electrode preferentially oriented in <111> is preferentially oriented in <100>. Turned out to be. Further, it was found that the piezoelectric elements of Experimental Example 1 and Experimental Example 2 exhibited good hysteresis characteristics. Therefore, the piezoelectric elements of Experimental Example 1 and Experimental Example 2 are considered to have a large displacement when an electric field is applied. In addition, it was found that the piezoelectric element of the reference example had a PT-BLZT piezoelectric body formed in contact with LNO on the platinum electrode preferentially oriented in <111> and preferentially oriented in <100>. . Further, it was found that the piezoelectric element of the reference example exhibits good hysteresis characteristics. Therefore, it is considered that the displacement amount of the piezoelectric element of the reference example is large when an electric field is applied. In contrast, in the piezoelectric element of the comparative example, the PT-BLZT piezoelectric body formed in contact with iridium on the platinum electrode preferentially oriented to <111> is not preferentially oriented to <100>. found. Further, it has been found that the piezoelectric element of the reference example exhibits a leaky hysteresis characteristic. Therefore, it is considered that the piezoelectric element of the reference example cannot obtain sufficient reliability when an electric field is applied.

以上に述べた実施形態および変形実施形態は、任意の複数の形態を適宜組み合わせることが可能である。これにより、組み合わされた実施形態は、それぞれの実施形態が有する効果または相乗的な効果を奏することができる。   The embodiments and modified embodiments described above can be arbitrarily combined with a plurality of forms. Thereby, combined embodiment can have an effect which each embodiment has, or a synergistic effect.

本発明は、上述した実施形態に限定されるものではなく、さらに種々の変形が可能である。例えば、本発明は、実施形態で説明した構成と実質的に同一の構成(例えば、機能、方法および結果が同一の構成、あるいは目的および効果が同一の構成)を含む。また、本発明は、実施形態で説明した構成の本質的でない部分を置き換えた構成を含む。また、本発明は、実施形態で説明した構成と同一の作用効果を奏する構成または同一の目的を達成することができる構成を含む。また、本発明は、実施形態で説明した構成に公知技術を付加した構成を含む。   The present invention is not limited to the above-described embodiments, and various modifications can be made. For example, the present invention includes substantially the same configuration (for example, a configuration having the same function, method, and result, or a configuration having the same purpose and effect) as the configuration described in the embodiment. In addition, the invention includes a configuration in which a non-essential part of the configuration described in the embodiment is replaced. In addition, the present invention includes a configuration that achieves the same effect as the configuration described in the embodiment or a configuration that can achieve the same object. In addition, the invention includes a configuration in which a known technique is added to the configuration described in the embodiment.

1…基板、1a…振動板、10…白金電極、20…導電層、30…圧電体、100…圧電素子、102…圧電アクチュエーター、600…液体噴射ヘッド、610…ノズル板、612…ノズル孔、620…圧力室基板、622…圧力室、624…リザーバー、626…供給口、628…貫通孔、630…筐体、700…液体噴射装置、710…駆動部、720…装置本体、721…トレイ、722…排出口、730…ヘッドユニット、731…インクカートリッジ、732…キャリッジ、741…キャリッジモーター、742…往復動機構、743…タイミングベルト、744…キャリッジガイド軸、750…給紙部、751…給紙モーター、752…給紙ローラー、752a…従動ローラー、752b…駆動ローラー、760…制御部、770…操作パネル DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Substrate, 1a ... Diaphragm, 10 ... Platinum electrode, 20 ... Conductive layer, 30 ... Piezoelectric element, 100 ... Piezoelectric element, 102 ... Piezoelectric actuator, 600 ... Liquid ejecting head, 610 ... Nozzle plate, 612 ... Nozzle hole, 620 ... Pressure chamber substrate, 622 ... Pressure chamber, 624 ... Reservoir, 626 ... Supply port, 628 ... Through hole, 630 ... Housing, 700 ... Liquid ejecting device, 710 ... Drive unit, 720 ... Device body, 721 ... Tray, 722 ... Discharge port, 730 ... Head unit, 731 ... Ink cartridge, 732 ... Carriage, 741 ... Carriage motor, 742 ... Reciprocating mechanism, 743 ... Timing belt, 744 ... Carriage guide shaft, 750 ... Paper feed unit, 751 ... Feed Paper motor, 752 ... feed roller, 752a ... driven roller, 752b ... drive roller, 760 ... control unit, 7 0 ... operation panel

Claims (6)

<111>に優先配向した白金電極および前記白金電極に接して形成された圧電体を有する圧電アクチュエーターを備えた液体噴射ヘッドであって、
前記圧電体は、チタン酸亜鉛酸ビスマスランタンおよびチタン酸鉛の固溶体を含み、
前記圧電体は、<100>に優先配向している、液体噴射ヘッド。
A liquid ejecting head comprising a platinum electrode preferentially oriented to <111> and a piezoelectric actuator having a piezoelectric body formed in contact with the platinum electrode,
The piezoelectric body includes a solid solution of bismuth lanthanum zinc titanate and lead titanate,
The piezoelectric body is a liquid ejecting head in which <100> is preferentially oriented.
請求項1において、
前記白金電極は、前記圧電体と反対側の面で酸化イリジウムに接している、液体噴射ヘッド。
In claim 1,
The platinum electrode is a liquid ejecting head in contact with iridium oxide on a surface opposite to the piezoelectric body.
請求項1または請求項2において、
前記圧電体の<100>優先配向度は、50%以上である、液体噴射ヘッド。
In claim 1 or claim 2,
The liquid ejecting head, wherein a <100> preferential orientation degree of the piezoelectric body is 50% or more.
請求項1ないし請求項3のいずれか一項において、
前記白金電極のX線回折パターンの(111)ピークのロッキングカーブの半値幅は、10度以下である、液体噴射ヘッド。
In any one of Claims 1 to 3,
The liquid jet head, wherein a half width of a rocking curve of a (111) peak of the X-ray diffraction pattern of the platinum electrode is 10 degrees or less.
請求項1ないし請求項4のいずれか一項に記載された液体噴射ヘッドを備えた液体噴射装置。   A liquid ejecting apparatus comprising the liquid ejecting head according to claim 1. <111>に優先配向した白金電極と、
前記白金電極に接して配置された圧電体と、
を含み、
前記圧電体は、チタン酸亜鉛酸ビスマスランタンおよびチタン酸鉛の固溶体を含み、
前記圧電体は、<100>に優先配向している、圧電素子。
A platinum electrode preferentially oriented to <111>;
A piezoelectric body disposed in contact with the platinum electrode;
Including
The piezoelectric body includes a solid solution of bismuth lanthanum zinc titanate and lead titanate,
The piezoelectric element is a piezoelectric element preferentially oriented to <100>.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2015012125A (en) * 2013-06-28 2015-01-19 株式会社リコー Electromechanical conversion film, electromechanical conversion element, droplet discharge head, and ink jet recording device

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