JP2011175685A - Method and apparatus for manufacturing multilayer information recording medium - Google Patents

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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a method for manufacturing a multilayer information recording medium in which a signal can be transferred to a UV curing resin a plurality of times on the same signal transfer substrate having enough light resistance to UV light irradiation and flexibility at which physical damage is not hardly generated when the substrate is separated from the UV curing resin by using a the signal transfer substrate, and to provide an apparatus for manufacturing the multilayer recording medium. <P>SOLUTION: The method at least includes: a step of laminating the UV curing resin that is applied on a base with an information signal surface of the transfer substrate so that the UV curing resin and the surface face; and a step of curing the UV curing resin by irradiating the UV curing resin with a UV ray from a UV ray transmission table on which the signal transfer substrate is installed; and a step of separating an interface of the UV curing resin from an interface of the signal transfer substrate where the signal transfer substrate is composed of organic and inorganic hybrid materials. <P>COPYRIGHT: (C)2011,JPO&INPIT

Description

本発明は、再生又は記録再生を目的とした情報記録媒体、特に複数の情報記録層を備えた多層情報記録媒体の製造方法と、その製造装置に関するものである。   The present invention relates to a method for manufacturing an information recording medium for reproduction or recording / reproduction, particularly a multilayer information recording medium having a plurality of information recording layers, and a manufacturing apparatus therefor.

近年、情報機器・映像音響機器などに必要とされる情報量の拡大化に伴い、データアクセスの容易さ、大容量データの蓄積、機器の小型化に優れている光ディスクなどの情報記録媒体が注目され、記録情報の高密度化がなされている。例えば光ディスクの高密度化の手段として、レーザ光の波長を約400nmとし、レーザ光を絞り込むための集光レンズの開口数(NA)を0.85とした光ヘッドを用いて、単層で25GB程度、2層で50GB程度の容量を実現した光記録媒体が提案されている(例えば、特許文献1参照)。   In recent years, with the expansion of the amount of information required for information equipment, audiovisual equipment, etc., attention has been focused on information recording media such as optical disks, which are excellent in data access, storage of large volumes of data, and downsizing of equipment. Therefore, the recording information has been densified. For example, as a means for increasing the density of an optical disk, a single layer is 25 GB using an optical head in which the wavelength of the laser light is about 400 nm and the numerical aperture (NA) of the condenser lens for narrowing the laser light is 0.85. An optical recording medium having a capacity of about 50 GB with two layers has been proposed (see, for example, Patent Document 1).

以下に、特許文献1に記載された従来の多層情報記録媒体の構造及び製造方法について、図5及び図6を用いて説明する。   The structure and manufacturing method of the conventional multilayer information recording medium described in Patent Document 1 will be described below with reference to FIGS.

図5は、従来の多層情報記録媒体の断面図を示している。この多層情報記録媒体は、片面に凹凸形状からなるピットや案内溝の信号部が転写形成された第1信号基板601と、第1信号基板601の凹凸形状が設けられた面上に配置された第1薄膜層602と、第1薄膜層602との接合面と反対の面に凹凸形状からなるピットや案内溝の信号部が転写形成された第2信号基板603と、第2信号基板603の凹凸形状が設けられた面上に配置された第2薄膜層604と、第2薄膜層604を覆うように形成された透明層605と、により構成されている。   FIG. 5 shows a cross-sectional view of a conventional multilayer information recording medium. This multilayer information recording medium is arranged on the first signal substrate 601 on which pits and guide groove signal portions having a concavo-convex shape are transferred and formed on one side, and on the surface provided with the concavo-convex shape of the first signal substrate 601. A second signal substrate 603 in which a signal portion of a pit or guide groove having a concavo-convex shape is transferred and formed on a surface opposite to a bonding surface between the first thin film layer 602 and the first thin film layer 602; It is comprised by the 2nd thin film layer 604 arrange | positioned on the surface in which the uneven | corrugated shape was provided, and the transparent layer 605 formed so that the 2nd thin film layer 604 might be covered.

第1信号基板601は、ポリカーボネイトやポリオレフィンなどの樹脂材料を用い、射出圧縮成形などにより、片面にピットや案内溝が凹凸形状として転写形成されることによって作製されている。第1信号基板601の厚みは1.1mm程度である。第1薄膜層602及び第2薄膜層604は、それぞれ記録膜や反射膜を含んでおり、第1信号基板601や第2信号基板603において信号部が形成された面(信号面)側に、スパッタリングや蒸着などの方法によって作製されている。反射膜の材料の例としては、銀合金やアルミニウムなどの金属材料が主に挙げられ、波長約400nmのレーザ光に対して効率の良い反射率が得られる材料が採用される。また、記録膜の材料には、書き換え型及び追記型の2種類の記録材料がある。書き換え型には複数回のデータの記録及び消去が可能な材料が用いられ、GeSbTeやAgInSbTeなどの記録材料が用いられている。追記型には、1度の記録のみ可能な、不可逆的に変化する材料が用いられる。TeOPdがその代表的な材料である。   The first signal substrate 601 is manufactured by using a resin material such as polycarbonate or polyolefin and transferring and forming pits and guide grooves in a concavo-convex shape on one side by injection compression molding or the like. The thickness of the first signal board 601 is about 1.1 mm. Each of the first thin film layer 602 and the second thin film layer 604 includes a recording film and a reflective film, and on the surface (signal surface) side of the first signal substrate 601 and the second signal substrate 603 where the signal portion is formed, It is produced by a method such as sputtering or vapor deposition. Examples of the material of the reflective film mainly include metal materials such as silver alloy and aluminum, and a material capable of obtaining an efficient reflectivity with respect to laser light having a wavelength of about 400 nm is employed. There are two types of recording film materials, a rewritable type and a write-once type. For the rewritable type, a material capable of recording and erasing data a plurality of times is used, and a recording material such as GeSbTe or AgInSbTe is used. The write-once type uses a material that can be recorded only once and changes irreversibly. TeOPd is a typical material.

第2信号基板603は、紫外線硬化樹脂を用いてスピンコート法によって形成され、信号転写基板によってピットや案内溝の凹凸形状(信号部)が転写形成される。ここで用いられる信号転写基板は、第1信号基板601のように片面にピットや案内溝の凹凸形状が形成されている基板である。具体的に、信号転写基板は、第2信号基板603に形成される信号部に対応する凹凸形状が形成された信号面を転写面として備えた基板である。第2信号基板603は、このような信号転写基板をその信号面が第1信号基板601と対向するように紫外線硬化樹脂を介して貼り合わせ、紫外線硬化樹脂の硬化後に信号転写基板を紫外線硬化樹脂との界面から剥離することによって形成されている。透明層605は、記録再生光に対して透明な(高い透過性を有する)材料からなり、厚みが0.1mm程度である。材料としては、光硬化型樹脂や感圧接着剤などの接着剤が使用でき、例えば紫外線硬化樹脂をスピンコート法によって第2薄膜層604上に塗布することによって形成できる。このように作製された多層情報記録媒体の記録再生は、透明層605側から記録再生レーザ光を入射させることによって行われる。   The second signal substrate 603 is formed by a spin coating method using an ultraviolet curable resin, and the concavo-convex shape (signal portion) of pits and guide grooves is transferred and formed by the signal transfer substrate. The signal transfer substrate used here is a substrate in which concave and convex shapes such as pits and guide grooves are formed on one side like the first signal substrate 601. Specifically, the signal transfer substrate is a substrate provided with a signal surface having a concavo-convex shape corresponding to a signal portion formed on the second signal substrate 603 as a transfer surface. The second signal substrate 603 is bonded to such a signal transfer substrate through an ultraviolet curable resin so that its signal surface faces the first signal substrate 601. After the ultraviolet curable resin is cured, the signal transfer substrate is bonded to the ultraviolet curable resin. It is formed by peeling from the interface. The transparent layer 605 is made of a material that is transparent (highly transmissive) to recording / reproducing light, and has a thickness of about 0.1 mm. As the material, an adhesive such as a photo-curing resin or a pressure-sensitive adhesive can be used. For example, an ultraviolet curable resin can be formed on the second thin film layer 604 by spin coating. Recording and reproduction of the multilayer information recording medium thus manufactured is performed by making a recording / reproducing laser beam enter from the transparent layer 605 side.

図6(A)〜図6(G)に、従来の多層情報記録媒体の製造方法における各工程を示す断面図を示し、これらを用いて従来の多層情報記録媒体の製造方法について説明する。   6 (A) to 6 (G) are cross-sectional views showing respective steps in a conventional multilayer information recording medium manufacturing method, and the conventional multilayer information recording medium manufacturing method will be described using these.

まず、第1信号基板701のピットや案内溝が形成された信号面上に、スパッタリングや蒸着などの方法により記録膜や反射膜を含んだ第1薄膜層702が形成される。第1信号基板701は、第1薄膜層702が形成された面とは反対側の面で、バキュームなどの手段によって回転テーブル703上に固定されている(図6(A)参照)。   First, a first thin film layer 702 including a recording film and a reflective film is formed on the signal surface of the first signal substrate 701 on which pits and guide grooves are formed by a method such as sputtering or vapor deposition. The first signal substrate 701 is a surface opposite to the surface on which the first thin film layer 702 is formed, and is fixed on the rotary table 703 by means such as vacuum (see FIG. 6A).

回転テーブル703に固定された第1信号基板701上に形成された第1薄膜層702上には、樹脂層である第2信号基板を形成するために、ディスペンサーによって紫外線硬化樹脂704が所望の半径上に同心円状に塗布される(図6(B)参照)。   On the first thin film layer 702 formed on the first signal substrate 701 fixed to the turntable 703, an ultraviolet curable resin 704 is formed with a desired radius by a dispenser to form a second signal substrate which is a resin layer. It is applied concentrically on the top (see FIG. 6B).

次に、回転テーブル703をスピン回転させることにより、紫外線硬化樹脂704の延伸を行う(図6(C)参照)。延伸の際に紫外線硬化樹脂704に働く遠心力によって、紫外線硬化樹脂704から余分な樹脂と気泡とを除去できる。このとき、延伸される紫外線硬化樹脂704の厚みは、紫外線硬化樹脂704の粘度やスピン回転の回転数、時間、スピン回転をさせている周りの雰囲気(温度や湿度など)を任意に設定することにより、所望の厚みに制御することができる。   Next, the ultraviolet curable resin 704 is stretched by spinning the rotary table 703 (see FIG. 6C). Excess resin and bubbles can be removed from the ultraviolet curable resin 704 by centrifugal force acting on the ultraviolet curable resin 704 during the stretching. At this time, the thickness of the UV curable resin 704 to be stretched is arbitrarily set to the viscosity of the UV curable resin 704, the spin rotation speed, the time, and the surrounding atmosphere (temperature, humidity, etc.) in which the spin rotation is performed. Thus, the desired thickness can be controlled.

延伸された紫外線硬化樹脂704の上に、第1信号基板701のように片面(信号面)にピットや案内溝が凹凸形状として形成された、ポリカーボネイトやポリオレフィンなどの材料で作製された信号転写基板705が、第1信号基板701及び信号転写基板705の双方の信号面が対向するように重ね合わされる(図6(D)参照)。このとき、信号転写基板705と紫外線硬化樹脂704との間に気泡が混入されることを防ぐために、この重ね合わせ工程は真空雰囲気中で行われることが好ましい。   On the stretched ultraviolet curable resin 704, a signal transfer substrate made of a material such as polycarbonate or polyolefin in which pits and guide grooves are formed in an uneven shape on one surface (signal surface) like the first signal substrate 701. 705 is overlaid so that the signal surfaces of both the first signal substrate 701 and the signal transfer substrate 705 are opposed to each other (see FIG. 6D). At this time, in order to prevent air bubbles from being mixed between the signal transfer substrate 705 and the ultraviolet curable resin 704, it is preferable that this superposition process is performed in a vacuum atmosphere.

次に、図示しないが、信号転写基板705に軽く圧力を加えることで、信号転写基板の凹凸を樹脂に確実に転写する。ここで、この加圧によって、紫外線硬化樹脂に厚みばらつきが出来るのを防止するため、この加圧には、信号転写基板705上に配置された平坦な板状部材を加圧することにより行われる。   Next, although not shown in the drawings, the unevenness of the signal transfer substrate is reliably transferred to the resin by lightly applying pressure to the signal transfer substrate 705. Here, in order to prevent the thickness of the ultraviolet curable resin from being varied due to the pressurization, the pressurization is performed by pressurizing a flat plate member disposed on the signal transfer substrate 705.

紫外線の照射を妨げる板状部材を、信号転写基板上から取り除いた後、第1信号基板701、第1薄膜層702、紫外線硬化樹脂704及び信号転写基板705が一体化された多層構造体706に、信号転写基板705側から紫外線照射機707によって紫外線が照射され、2つの信号面に挟まれた紫外線硬化樹脂704を硬化させる(図6(E)参照)。信号転写基板705側から紫外線を照射するのは、信号転写基板705に用いられているポリカーボネイトやポリオレフィンなどの材料が、ある程度の紫外線照射であれば紫外線を透過させて、紫外線硬化樹脂704まで紫外線を到達させることができるからである。   After removing the plate-like member that prevents the irradiation of ultraviolet rays from the signal transfer substrate, the first signal substrate 701, the first thin film layer 702, the ultraviolet curable resin 704, and the signal transfer substrate 705 are integrated into a multilayer structure 706. Then, ultraviolet rays are irradiated from the signal transfer substrate 705 side by the ultraviolet irradiator 707 to cure the ultraviolet curable resin 704 sandwiched between the two signal surfaces (see FIG. 6E). The ultraviolet rays are irradiated from the signal transfer substrate 705 side because the materials such as polycarbonate and polyolefin used for the signal transfer substrate 705 transmit ultraviolet rays to the ultraviolet curable resin 704 by transmitting ultraviolet rays to some extent. This is because it can be reached.

紫外線硬化樹脂704を硬化させた後、信号転写基板705が紫外線硬化樹脂704との界面で剥離されることによって、信号面が転写形成された第2信号基板710が形成される(図6(F)参照)。   After the ultraviolet curable resin 704 is cured, the signal transfer substrate 705 is peeled off at the interface with the ultraviolet curable resin 704, thereby forming the second signal substrate 710 on which the signal surface is transferred (FIG. 6F). )reference).

第2信号基板710の信号面上に、スパッタリングや蒸着などの方法によって、記録膜や反射膜を含んだ第2薄膜層708が形成される。最後に、記録再生光に対してほぼ透明な(高い透過率を有する)透明層709が、例えば紫外線硬化樹脂のスピン塗布、延伸、紫外線照射による硬化を経て形成される(図6(G)参照)。   A second thin film layer 708 including a recording film and a reflective film is formed on the signal surface of the second signal substrate 710 by a method such as sputtering or vapor deposition. Finally, a transparent layer 709 that is almost transparent to recording / reproducing light (having a high transmittance) is formed by, for example, spin coating of an ultraviolet curable resin, stretching, and curing by ultraviolet irradiation (see FIG. 6G). ).

以上のように、従来の多層情報記録媒体の製造方法では、信号部が転写形成された第2信号基板を作製する際、信号転写基板を介して紫外線硬化樹脂に紫外線を照射して当該紫外線硬化樹脂を硬化させるため、充分に高い紫外線透過性を有する材料(例えばポリカーボネイトやポリオレフィン)からなる信号転写基板を用いることが重要であった。   As described above, in the conventional method of manufacturing a multilayer information recording medium, when producing the second signal substrate on which the signal portion is transferred and formed, the ultraviolet curable resin is irradiated with ultraviolet rays through the signal transfer substrate, and the ultraviolet curing is performed. In order to cure the resin, it was important to use a signal transfer substrate made of a material having a sufficiently high ultraviolet transmittance (for example, polycarbonate or polyolefin).

また、信号転写基板として金属材料を用いる場合もある。例えば、信号転写基板にニッケルを用い、第1信号基板、第1薄膜層、紫外線硬化樹脂が一体になった多層構造体を、ニッケルの信号転写基板に紫外線硬化樹脂とニッケルに形成された信号面とが対向するように重ね合わせられる。貼り合わせられた構造体の紫外線硬化樹脂には第1信号基板、第1薄膜層を通して紫外線が照射され、硬化される。しかしながら、第1信号基板、第1薄膜層は紫外線を透過しなければならないため、第1薄膜層の設計自由度が小さくなるということが懸念される。
特許第3763763号公報 特開2003−85839号公報 特開平9−265674号公報
Further, a metal material may be used as the signal transfer substrate. For example, a signal transfer substrate formed of nickel on a signal transfer substrate, a multilayer structure in which a first signal substrate, a first thin film layer, and an ultraviolet curable resin are integrated, is formed on a nickel signal transfer substrate on an ultraviolet curable resin and nickel. Are superimposed so that they face each other. The ultraviolet curable resin of the bonded structure is irradiated with ultraviolet rays through the first signal substrate and the first thin film layer to be cured. However, since the first signal substrate and the first thin film layer must transmit ultraviolet rays, there is a concern that the degree of freedom in designing the first thin film layer is reduced.
Japanese Patent No. 3763763 JP 2003-85839 A JP-A-9-265684

情報記録媒体の製造に用いられる上記のような信号転写基板は、製造コストや生産性を鑑みて、繰り返し使用することが望まれる。しかしながら、信号転写基板に用いられているポリカーボネイトやポリオレフィンなどの材料は紫外線を吸収して変質してしまうため、繰り返しの使用によって信号転写基板の紫外線透過率が低下し、信号転写基板を繰り返して何度も使用することが不可能であった。   The signal transfer substrate as described above used for manufacturing an information recording medium is desired to be repeatedly used in view of manufacturing cost and productivity. However, since materials such as polycarbonate and polyolefin used for the signal transfer substrate absorb ultraviolet rays and deteriorate, the ultraviolet transmittance of the signal transfer substrate is reduced by repeated use. Once again it was impossible to use.

また、紫外線照射による信号転写基板の紫外線透過率の低下を防止すべく、代替材料として紫外線に対して耐光性を有する石英ガラスを用いた場合、紫外線硬化樹脂から信号転写基板を剥離するときに、石英ガラスの割れや欠けを生じるという問題を有していた。これにより、多層情報記録媒体の製造コストが高くなるという問題も生じていた。   In addition, when quartz glass having light resistance to ultraviolet rays is used as an alternative material to prevent a decrease in the ultraviolet transmittance of the signal transfer substrate due to ultraviolet irradiation, when peeling the signal transfer substrate from the ultraviolet curable resin, There was a problem that the quartz glass was cracked or chipped. This also raises a problem that the manufacturing cost of the multilayer information recording medium increases.

更に、信号転写基板にNiなどの金属材料を用いた場合には、信号転写基板が紫外線を透過しないため、信号転写基板とは反対面の信号基板側から紫外線を照射する必要があった。具体的には、テーブル上に金属性の転写基板を配置し、その上に紫外線硬化性樹脂及び信号基板を配置し、信号基板側から紫外線照射を行う必要がある。しかし、この工程を採用するにあたっては、信号基板が紫外線の透光性を有することが必要であるが、信号基板に既に薄膜層が形成されている場合には、紫外線硬化性樹脂に到達する紫外線量が減少し、中間層の硬化を阻害するといった問題点を有していた。また、この金属性の転写基板に代えて、ポリカーボネイトやポリオレフィンなどの材料からなる樹脂性の信号転写基板をテーブル上に配置すると、繰り返し利用が不可能であるこれらの信号転写基板の交換に時間がかかり、タクトタイムの増加を引き起こしてしまうといったデメリットがあった。   Further, when a metal material such as Ni is used for the signal transfer substrate, the signal transfer substrate does not transmit ultraviolet rays, and therefore it is necessary to irradiate ultraviolet rays from the signal substrate side opposite to the signal transfer substrate. Specifically, it is necessary to dispose a metallic transfer substrate on a table, dispose an ultraviolet curable resin and a signal substrate thereon, and perform ultraviolet irradiation from the signal substrate side. However, in adopting this process, it is necessary for the signal substrate to have ultraviolet translucency. However, if a thin film layer is already formed on the signal substrate, the ultraviolet rays that reach the ultraviolet curable resin are used. The amount was reduced, and there was a problem that the curing of the intermediate layer was hindered. If a resinous signal transfer substrate made of a material such as polycarbonate or polyolefin is placed on the table instead of the metallic transfer substrate, it takes time to replace these signal transfer substrates that cannot be used repeatedly. This has the disadvantage of causing an increase in tact time.

そこで本発明は、信号転写基板を複数回利用可能とし、更に信号転写基板を物理的な破損を生じさせない多層情報記録媒体の中間層の形成方法と、その装置を提供することを目的とする。   SUMMARY OF THE INVENTION An object of the present invention is to provide a method and apparatus for forming an intermediate layer of a multilayer information recording medium that makes it possible to use a signal transfer substrate a plurality of times and that does not cause physical damage to the signal transfer substrate.

上記目的を達成するために、本発明の多層情報記録媒体の製造方法は、少なくとも、基体上に塗布された紫外線硬化樹脂と、転写基板の情報信号面を対向するように貼り合わせる工程と、前記紫外線硬化樹脂に対して、信号転写基板が設置された紫外線透過テーブル側から紫外線を照射し、硬化させる工程と、前記紫外線硬化樹脂と前記信号転写基板の界面から剥離する工程と、が含まれており、前記信号転写基板が、有機無機ハイブリッド材料によって形成されている。なお、本明細書において、有機無機ハイブリッド材料とは、有機成分と無機成分とを含む有機・無機複合材料であって、有機部分と無機部分とが分子レベルでほぼ均一に分散した構造を有する材料のことをいう。また、本発明の製造方法において製造される多層情報記録媒体は、情報記録層として第1の情報記録層及び第2の情報記録層の2層を少なくとも備えている情報記録媒体であればよいため、3層以上の情報記録層を備えた情報記録媒体も含むものである。   In order to achieve the above object, a method for producing a multilayer information recording medium of the present invention includes at least a step of bonding an ultraviolet curable resin applied on a substrate and an information signal surface of a transfer substrate so as to face each other, It includes a step of irradiating the ultraviolet curable resin with ultraviolet rays from the side of the ultraviolet transmissive table on which the signal transfer substrate is installed and curing, and a step of peeling from the interface between the ultraviolet curable resin and the signal transfer substrate. The signal transfer substrate is formed of an organic-inorganic hybrid material. In this specification, the organic / inorganic hybrid material is an organic / inorganic composite material containing an organic component and an inorganic component, and has a structure in which the organic portion and the inorganic portion are dispersed almost uniformly at the molecular level. I mean. In addition, the multilayer information recording medium manufactured by the manufacturing method of the present invention may be an information recording medium provided with at least two layers of the first information recording layer and the second information recording layer as information recording layers. An information recording medium including three or more information recording layers is also included.

また、本発明の多層情報記録媒体の製造装置は、少なくとも、紫外線を透過する信号転写基板と、転写基板を設置するための紫外線透過テーブルと、紫外線透過テーブルの信号転写基板面とは反対側に設置された紫外線照射手段と、前記基体の内周を紫外線透過テーブル側から加圧する、もしくは前記基体の内周を紫外線透過テーブルとは反対側へ引き上げる手段と、を含んでいる。   The multilayer information recording medium manufacturing apparatus of the present invention includes at least a signal transfer substrate that transmits ultraviolet light, an ultraviolet transmission table for installing the transfer substrate, and a signal transfer substrate surface of the ultraviolet transmission table opposite to the signal transfer substrate surface. And a means for pressurizing the inner periphery of the substrate from the ultraviolet transmitting table side or pulling up the inner periphery of the substrate to the side opposite to the ultraviolet transmitting table.

本発明の多層情報記録媒体の製造方法によれば、信号転写基板による紫外線硬化樹脂への凹凸形状(信号部)の転写と、樹脂からの信号転写基板の剥離とを良好に実施でき、且つ信号転写基板を繰り返して複数回使用することが可能となる。これにより、従来のように信号転写基板を使い捨てる必要がなくなるので、信号面を1つ作製する際に必要となる材料費を低減することができる。また、信号転写基板を信号面毎に複数作製することを必要としないため、多層情報記録媒体の製造装置を簡略化且つ低コストで実現することが可能である。更に、信号転写基板毎に発生する信号面の作製ばらつきを抑制することが可能となる。   According to the method for producing a multilayer information recording medium of the present invention, it is possible to satisfactorily carry out the transfer of the concavo-convex shape (signal part) to the ultraviolet curable resin by the signal transfer substrate and the separation of the signal transfer substrate from the resin. The transfer substrate can be used a plurality of times repeatedly. This eliminates the need to dispose of the signal transfer substrate as in the prior art, thereby reducing the material cost required for producing one signal surface. In addition, since it is not necessary to produce a plurality of signal transfer substrates for each signal surface, it is possible to realize a multilayer information recording medium manufacturing apparatus at a low cost. Furthermore, it is possible to suppress the production variation of the signal surface that occurs for each signal transfer substrate.

本発明の多層情報記録媒体の製造装置によれば、樹脂への信号部の転写と樹脂からの剥離とを良好に実施でき、且つ、繰り返して複数回使用することが可能な製造装置を実現できる。これにより、1つの信号面を形成する際に必要なコストが低減できる。   According to the multilayer information recording medium manufacturing apparatus of the present invention, it is possible to realize a manufacturing apparatus that can satisfactorily perform the transfer of the signal portion to the resin and the separation from the resin and that can be used repeatedly multiple times. . Thereby, the cost required when forming one signal surface can be reduced.

以下、本発明の実施の形態について、図面を参照しながら説明する。なお、以下の説明は本発明の一例であり、本発明はこれらによって限定されるものではない。   Hereinafter, embodiments of the present invention will be described with reference to the drawings. In addition, the following description is an example of this invention and this invention is not limited by these.

(実施の形態1)
本発明の多層情報記録媒体の製造方法は、少なくとも、第1の情報記録層と、第2の情報記録層と、前記第1の情報記録層と前記第2の情報記録層との間に設けられた樹脂層とを含む多層情報記録媒体の製造方法である。樹脂層を形成する工程には、
(I)前記第1の情報記録層上に液体の樹脂を塗布する工程と、
(II)前記第1の情報記録層上に塗布された前記樹脂に、凹凸形状からなる信号部が形成された信号面を有する信号転写基板を、前記信号面が前記樹脂に対向するように貼り合わせる工程と、
(III)前記樹脂に前記信号転写基板を貼り合わせた状態で、前記樹脂を硬化させる工程と、
(IV)前記信号転写基板を前記樹脂から剥離する工程と、
が含まれている。この信号転写基板は、有機無機ハイブリッド材料によって形成されている。
(Embodiment 1)
The method for producing a multilayer information recording medium of the present invention is provided at least between the first information recording layer, the second information recording layer, and the first information recording layer and the second information recording layer. A multilayer information recording medium including the formed resin layer. In the process of forming the resin layer,
(I) applying a liquid resin on the first information recording layer;
(II) A signal transfer substrate having a signal surface on which a signal portion having a concavo-convex shape is formed is bonded to the resin applied on the first information recording layer so that the signal surface faces the resin. Combining the steps,
(III) curing the resin in a state where the signal transfer substrate is bonded to the resin;
(IV) peeling the signal transfer substrate from the resin;
It is included. This signal transfer substrate is made of an organic-inorganic hybrid material.

初めに、本発明において信号転写基板として用いられる有機無機ハイブリット材料について詳述する。   First, the organic-inorganic hybrid material used as the signal transfer substrate in the present invention will be described in detail.

信号転写基板に用いられる有機無機ハイブリッド材料として、例えば、−Si−O−結合で構成された多面体構造を有する分子サイズの無機部と、複数の無機部を互いに架橋している有機セグメントとを含む材料が挙げられる。なお、本明細書において、分子サイズとは、多面体構造の一辺が0.1〜20nmの範囲内であるサイズのことであり、例えば0.5〜1.0nmの範囲内である。−Si−O−結合で構成された多面体構造を有する分子サイズの無機部としては、例えばオクタシルセスキオキサンやドデカシルセスキオキサン化合物などが挙げられる。このような有機無機ハイブリッド材料によって形成された信号転写基板は、紫外線照射による透過率の劣化が生じにくいため、繰り返しの使用が可能である。このため、多層情報記録媒体の製造コストを削減できる。また、このような有機無機ハイブリッド材料は適度な柔軟性を有しているので、硬化後の樹脂から信号転写基板を剥離する際に、信号転写基板の物理的な破損も生じにくい。   Examples of the organic-inorganic hybrid material used for the signal transfer substrate include a molecular-size inorganic part having a polyhedral structure composed of —Si—O— bonds and an organic segment in which a plurality of inorganic parts are cross-linked with each other. Materials. In the present specification, the molecular size is a size in which one side of the polyhedral structure is in the range of 0.1 to 20 nm, for example, in the range of 0.5 to 1.0 nm. Examples of the molecular size inorganic part having a polyhedral structure composed of —Si—O— bonds include octasilsesquioxane and dodecasilsesquioxane compounds. A signal transfer substrate formed of such an organic-inorganic hybrid material can be used repeatedly because the transmittance is not easily deteriorated by ultraviolet irradiation. For this reason, the manufacturing cost of a multilayer information recording medium can be reduced. In addition, since such an organic-inorganic hybrid material has appropriate flexibility, when the signal transfer substrate is peeled from the cured resin, the signal transfer substrate is hardly damaged.

有機無機ハイブリッド材料として、ヒドロシリル化反応によって得られる硬化物であって、多層情報記録媒体の樹脂層の作製に用いられる樹脂に含まれる官能基と相互作用する極性基を含まない材料を用いることもできる。例えば樹脂層に用いられる紫外線硬化樹脂としてアクリル樹脂を考えた場合、ヒドロシリル化反応によって得られる硬化物は、アクリル樹脂に含まれるカルボニルなどの極性基と相互作用する−OH、カルボニル、エーテルなどの極性基を系内に含まない。このため、信号転写基板と樹脂層とのインターラクションによって両者が強固に密着することを抑制できるので、信号転写基板を物理的に破損させることなく樹脂層(硬化後の樹脂)から剥離できる。   As the organic-inorganic hybrid material, it is also possible to use a cured product obtained by a hydrosilylation reaction, which does not contain a polar group that interacts with a functional group contained in a resin used for producing a resin layer of a multilayer information recording medium. it can. For example, when an acrylic resin is considered as an ultraviolet curable resin used for the resin layer, the cured product obtained by the hydrosilylation reaction is polar such as —OH, carbonyl, ether, etc. that interacts with a polar group such as carbonyl contained in the acrylic resin. The group is not included in the system. For this reason, since it can suppress that both adhere firmly by the interaction of a signal transfer board | substrate and a resin layer, it can peel from a resin layer (resin after hardening), without damaging a signal transfer board | substrate.

有機無機ハイブリッド材料は、例えば、シルセスキオキサン化合物を含有するケイ素樹脂組成物を硬化させることによって得られるケイ素樹脂硬化物であってもよい。シルセスキオキサン化合物を含有するケイ素樹脂組成物は、重合によって容易に硬化させることができるので、有機無機ハイブリッド材料の信号転写基板を容易に作製できる。   The organic-inorganic hybrid material may be, for example, a cured silicon resin obtained by curing a silicon resin composition containing a silsesquioxane compound. Since the silicon resin composition containing a silsesquioxane compound can be easily cured by polymerization, a signal transfer substrate of an organic-inorganic hybrid material can be easily produced.

樹脂層を作製するために用いられる樹脂には、例えば紫外線硬化樹脂が使用できる。この場合、工程(III)における樹脂の硬化は、信号転写基板を介して樹脂に紫外線を照射することによって行われる。このように、紫外線硬化樹脂を用いて樹脂層を作製する場合、短時間で樹脂の硬化及び凹凸形状の転写形成が可能であるので、プロセスのサイクルタイムを少なくでき、高効率化が図れる。特定の波長域で硬化する紫外線硬化樹脂を用いることにより、積極的に樹脂を硬化させることができるため、製造装置の設計が容易になる。樹脂層の作製に紫外線硬化樹脂が用いられることを考慮して、波長250nm〜280nmの範囲の光に対する信号転写基板の透過率を10%以上とすることが好ましく、20%以上とすることがより好ましい。信号転写基板の上記波長範囲における光透過率をこのような範囲とすることによって、紫外線硬化樹脂の硬化を短時間で促進させることができる。   As the resin used for producing the resin layer, for example, an ultraviolet curable resin can be used. In this case, the curing of the resin in the step (III) is performed by irradiating the resin with ultraviolet rays through the signal transfer substrate. As described above, when the resin layer is formed using the ultraviolet curable resin, the resin can be cured and the concavo-convex shape can be transferred in a short time, so that the cycle time of the process can be reduced and the efficiency can be improved. By using an ultraviolet curable resin that cures in a specific wavelength range, the resin can be positively cured, which facilitates the design of the manufacturing apparatus. Considering that an ultraviolet curable resin is used for the production of the resin layer, the transmittance of the signal transfer substrate with respect to light in the wavelength range of 250 nm to 280 nm is preferably 10% or more, more preferably 20% or more. preferable. By setting the light transmittance of the signal transfer substrate in the above wavelength range to such a range, curing of the ultraviolet curable resin can be promoted in a short time.

<信号転写基板とその製造方法>
次に本発明の信号転写基板の構成と、その製造方法について述べる。
<Signal transfer substrate and manufacturing method thereof>
Next, the configuration of the signal transfer substrate of the present invention and the manufacturing method thereof will be described.

本発明の信号転写基板は、凹凸形状からなる信号部を転写するための信号転写基板であって、前記信号部が形成された信号面を備えており、有機無機ハイブリッド材料によって形成されている。有機無機ハイブリッド材料としては、上記の多層情報記録媒体の製造方法において用いられる信号転写基板と同様の材料を用いることができる。例えば、有機無機ハイブリッド材料が、シルセスキオキサン化合物を含有するケイ素樹脂組成物を硬化させることによって得られるケイ素樹脂硬化物である場合の具体例について、以下に説明する。   The signal transfer substrate of the present invention is a signal transfer substrate for transferring a signal portion having a concavo-convex shape, includes a signal surface on which the signal portion is formed, and is formed of an organic-inorganic hybrid material. As the organic-inorganic hybrid material, the same material as the signal transfer substrate used in the above-described method for producing a multilayer information recording medium can be used. For example, a specific example in which the organic-inorganic hybrid material is a silicon resin cured product obtained by curing a silicon resin composition containing a silsesquioxane compound will be described below.

シルセスキオキサン化合物としては、例えば下記式(1)〜(3)で表される、かご型シルセスキオキサン化合物及びその部分重合物からなる群から選ばれる少なくとも1種を含有するものが使用できる。   As the silsesquioxane compound, for example, one containing at least one selected from the group consisting of a cage silsesquioxane compound and a partial polymer thereof represented by the following formulas (1) to (3) is used. it can.

(ARSiOSiO1.5(RHSiOSiO1.5(BRSiOSiO1.5(HOSiO1.5m−n−p−q …(1)
(ARSiOSiO1.5(BSiOSiO1.5(HOSiO1.5t−r−s …(2)
(RHSiOSiO1.5(BSiOSiO1.5(HOSiO1.5t−r−s …(3)
但し、式(1)〜(3)中、Aは炭素−炭素不飽和結合を有する基を表しており、Bは置換又は非置換の飽和アルキル基又は水酸基を表しており、Bは置換又は非置換の飽和アルキル基、水酸基又は水素原子を表しており、R〜Rは各々独立に低級アルキル基、フェニル基及び低級アリールアルキル基から選ばれる1種の官能基を表している。また、式(1)〜(3)中、m及びtは6、8、10、12から選ばれる数、nは1〜m−1の整数、pは1〜m−nの整数、qは0〜m−n−pの整数、rは2〜tの整数、sは0〜t−rの整数をそれぞれ表している。このような材料で作製された信号転写基板は、光照射による光透過率低下が生じにくく、また、硬化後の樹脂(特に、紫外線硬化樹脂)との剥離性が良好となる。更に、このような材料を用いることによって、上記のような特性を備えた信号転写基板を容易に実現できる。
(AR 1 R 2 SiOSiO 1.5 ) n (R 3 R 4 HSiOSiO 1.5 ) p (BR 5 R 6 SiOSiO 1.5 ) q (HOSiO 1.5 ) m- npq (1)
(AR 1 R 2 SiOSiO 1.5 ) r (B 1 R 5 R 6 SiOSiO 1.5 ) s (HOSiO 1.5 ) tr -s (2)
(R 3 R 4 HSiOSiO 1.5 ) r (B 1 R 5 R 6 SiOSiO 1.5 ) s (HOSiO 1.5 ) tr -s (3)
However, in the formulas (1) to (3), A represents a group having a carbon-carbon unsaturated bond, B represents a substituted or unsubstituted saturated alkyl group or hydroxyl group, and B 1 represents substituted or unsubstituted. It represents an unsubstituted saturated alkyl group, a hydroxyl group or a hydrogen atom, and R 1 to R 6 each independently represents one type of functional group selected from a lower alkyl group, a phenyl group and a lower arylalkyl group. In the formulas (1) to (3), m and t are numbers selected from 6, 8, 10, and 12, n is an integer of 1 to m-1, p is an integer of 1 to mn, and q is An integer of 0 to mnp, r represents an integer of 2 to t, and s represents an integer of 0 to tr. A signal transfer substrate made of such a material is less likely to cause a decrease in light transmittance due to light irradiation, and has good releasability from a cured resin (particularly, an ultraviolet curable resin). Furthermore, by using such a material, a signal transfer substrate having the above characteristics can be easily realized.

上記のシルセスキオキサン化合物において、式(2)で表される、かご型シルセスキオキサン化合物及びその部分重合物からなる群から選択される少なくとも1種と、式(3)で表される、かご型シルセスキオキサン化合物及びその部分重合物からなる群から選択される少なくとも1種とを含有するシルセスキオキサン化合物が好適に用いられる。より良好な特性を備えた信号転写基板を得ることができるからである。   In the silsesquioxane compound, at least one selected from the group consisting of a cage silsesquioxane compound and a partial polymer thereof represented by the formula (2), and the formula (3) A silsesquioxane compound containing at least one selected from the group consisting of a cage silsesquioxane compound and a partial polymer thereof is preferably used. This is because a signal transfer substrate having better characteristics can be obtained.

ケイ素樹脂組成物は、下記式(4)及び下記式(5)から選択される少なくとも1種の化合物をさらに含有していてもよい。   The silicon resin composition may further contain at least one compound selected from the following formula (4) and the following formula (5).

HRSi−X−SiHR10 …(4)
C=CH−Y−CH=CH …(5)
但し、式(4)中、Xは2価の官能基又は酸素原子を表し、R〜R10は各々独立に炭素数1〜3のアルキル基又は水素原子を表す。また、式(5)中、Yは2価の有機基を表す。このようなケイ素樹脂組成物においては、式(4)及び(5)で表された化合物が架橋剤として機能するため、ケイ素樹脂組成物において3次元架橋構造が効果的に形成されて硬化体中に未反応で残る残基量を低減でき、結果、UV照射耐性が更に向上する。より良好な硬化反応を実現するために、式(2)で表されるかご型シルセスキオキサン化合物及びその部分重合物からなる群から選択される少なくとも1種と、式(4)で表される化合物とを含有するケイ素樹脂組成物、あるいは、式(3)で表されるかご型シルセスキオキサン化合物及びその部分重合物からなる群から選択される少なくとも1種と、式(5)で表される化合物とを含有するケイ素樹脂組成物を用いることが好ましい。
HR 7 R 8 Si-X- SiHR 9 R 10 ... (4)
H 2 C = CH-Y- CH = CH 2 ... (5)
However, in Formula (4), X represents a bivalent functional group or an oxygen atom, and R 7 to R 10 each independently represents an alkyl group having 1 to 3 carbon atoms or a hydrogen atom. In formula (5), Y represents a divalent organic group. In such a silicon resin composition, since the compounds represented by the formulas (4) and (5) function as a crosslinking agent, a three-dimensional crosslinked structure is effectively formed in the silicon resin composition, and the cured product is The amount of residues remaining unreacted can be reduced, and as a result, the UV irradiation resistance is further improved. In order to realize a better curing reaction, at least one selected from the group consisting of a cage silsesquioxane compound represented by formula (2) and a partial polymer thereof, and represented by formula (4) Or at least one selected from the group consisting of a cage silsesquioxane compound represented by the formula (3) and a partial polymer thereof, and a formula (5) It is preferable to use a silicon resin composition containing the represented compound.

式(1)及び/又は(2)中のAで示される炭素−炭素不飽和結合を有する基が、末端に炭素−炭素不飽和結合を有する鎖状炭化水素基である場合、反応性に優れたケイ素樹脂組成物とできるので、より良好な硬化反応を実現できる。   When the group having a carbon-carbon unsaturated bond represented by A in Formula (1) and / or (2) is a chain hydrocarbon group having a carbon-carbon unsaturated bond at the terminal, excellent reactivity Therefore, a better curing reaction can be realized.

本実施の形態のシルセスキオキサン化合物は、例えば、上記した式(1)〜(3)で表されるかご型シルセスキオキサン化合物及びこれらの化合物が部分付加反応して形成されるかご型シルセスキオキサン化合物の部分重合物からなる群から選ばれる少なくとも1種(以下、式(1)〜(3)のかご型シルセスキオキサン化合物など、と記載する。)を含有している。なお、本実施の形態のシルセスキオキサン化合物は、式(1)〜(3)のかご型シルセスキオキサン化合物などのみから構成されていてもよい。   The silsesquioxane compound of the present embodiment is, for example, a cage type silsesquioxane compound represented by the above formulas (1) to (3) and a cage type formed by partial addition reaction of these compounds. It contains at least one selected from the group consisting of partially polymerized silsesquioxane compounds (hereinafter referred to as cage-type silsesquioxane compounds of formulas (1) to (3), etc.). In addition, the silsesquioxane compound of this Embodiment may be comprised only from the cage-type silsesquioxane compound of Formula (1)-(3).

Figure 2011175685
Figure 2011175685

式(1)で示されるシルセスキオキサン化合物の具体例としては、例えば、構造式(1)に示されるテトラキス(シクロヘキセニルエチルジメチルシロキシ)−テトラキス(ジメチルシロキシ)シルセスキオキサン(TCHS:Tetrakis(cyclohexenylethyldimethylsiloxy)-tetrakis(dimethyl-iloxy)silsesquioxane)が挙げられる。この化合物は、式(1)において、m=8、n=4、p=4、q=0、R、R、R及びRがメチル基、Aがシクロヘキセン基である化合物である。なお、構造式(1)には2つのシルセスキオキサン化合物が示されており、また、便宜上、ARSi−及びRHSiO−が単にRと略記されている部分がある。 Specific examples of the silsesquioxane compound represented by the formula (1) include, for example, tetrakis (cyclohexenylethyldimethylsiloxy) -tetrakis (dimethylsiloxy) silsesquioxane (TCHS: Tetrakis) represented by the structural formula (1). (cyclohexenylethyldimethylsiloxy) -tetrakis (dimethyl-iloxy) silsesquioxane). This compound is a compound in which m = 8, n = 4, p = 4, q = 0, R 1 , R 2 , R 3 and R 4 are methyl groups and A is a cyclohexene group in the formula (1). . Note that structural formula (1) shows two silsesquioxane compounds, and for the sake of convenience, AR 1 R 2 Si— and R 3 R 4 HSiO— are simply abbreviated as R. .

また、式(2)で示されるシルセスキオキサン化合物の具体例としては、例えば、テトラアリルジメチルシロキシ−テトラトリメチルシロキシシルセスキオキサン、オクタビニルジメチルシロキシシルセスキオキサン、ヘキサアリルジメチルシロキシ−ジヒドロキシシルセスキオキサンなどが挙げられる。   Specific examples of the silsesquioxane compound represented by the formula (2) include, for example, tetraallyldimethylsiloxy-tetratrimethylsiloxysilsesquioxane, octavinyldimethylsiloxysilsesquioxane, hexaallyldimethylsiloxy-dihydroxy. Examples include silsesquioxane.

また、式(3)で示されるシルセスキオキサン化合物の具体例としては、例えば、オクタハイドリドシルセスキオキサン、テトラトリメチル−テトラキスジメチルシロキシシルセスキオキサンなどが挙げられる。   Specific examples of the silsesquioxane compound represented by the formula (3) include octahydridosilsesquioxane, tetratrimethyl-tetrakisdimethylsiloxysilsesquioxane, and the like.

また、本実施の形態におけるケイ素樹脂組成物中には、架橋剤として、上記した式(4)及び/又は式(5)で表される化合物がさらに含まれていてもよい。   Moreover, in the silicon resin composition in this Embodiment, the compound represented by above-described Formula (4) and / or Formula (5) may further be contained as a crosslinking agent.

式(4)で示される化合物の具体例としては、例えば、テトラメチルジシロキサンなどが挙げられる。式(5)で示される化合物の具体例としては、例えば、ジビニルテトラメチルジシロキサン、ジアリルテトラメチルジシロキサン、ジビニルジフェニルジメチルジシロキサンなどが挙げられる。   Specific examples of the compound represented by the formula (4) include, for example, tetramethyldisiloxane. Specific examples of the compound represented by the formula (5) include divinyltetramethyldisiloxane, diallyltetramethyldisiloxane, divinyldiphenyldimethyldisiloxane, and the like.

図2(A)及び図2(B)に、TCHSのようなかご型シルセスキオキサン化合物が互いに付加重合して形成されるケイ素樹脂硬化物の3次元架橋構造の模式図が示されている。図2(A)は、複数のかご型シルセスキオキサン化合物が架橋されて形成されるケイ素樹脂硬化物の3次元架橋構造を示す模式図である。図2(B)は、かご型シルセスキオキサン化合物の構造の一例を示す模式図である。図2(A)中、201はシリコン原子と酸素原子で形成された略6面体構造、すなわち−Si−O結合で構成された多面体構造である分子サイズの無機部を示している。また、図2(A)中、202は略6面体構造201を架橋結合している有機セグメントを示している。本実施の形態のケイ素樹脂組成物は、例えば、図2(A)に示したような架橋構造を形成することによって、ケイ素樹脂硬化物となっている。   2A and 2B are schematic views of a three-dimensional crosslinked structure of a cured silicon resin formed by addition polymerization of cage-type silsesquioxane compounds such as TCHS. . FIG. 2A is a schematic view showing a three-dimensional crosslinked structure of a cured silicon resin formed by crosslinking a plurality of cage silsesquioxane compounds. FIG. 2B is a schematic diagram illustrating an example of the structure of a cage silsesquioxane compound. In FIG. 2A, reference numeral 201 denotes a molecular size inorganic part which is a substantially hexahedral structure formed of silicon atoms and oxygen atoms, that is, a polyhedral structure formed of —Si—O bonds. In FIG. 2A, reference numeral 202 denotes an organic segment in which a substantially hexahedral structure 201 is cross-linked. The silicon resin composition of the present embodiment is, for example, a silicon resin cured product by forming a cross-linked structure as shown in FIG.

図2(B)に示すように、シルセスキオキサン化合物は、シリコン原子と酸素原子とで形成された多面体(略6面体)構造を有し、その一辺がナノレベル(例えば、0.5nm)である。このことから、上記のようなシルセスキオキサン化合物から構成されるケイ素樹脂はナノ樹脂とも呼ばれる。   As shown in FIG. 2B, the silsesquioxane compound has a polyhedral (substantially hexahedral) structure formed of silicon atoms and oxygen atoms, and one side thereof is nano-level (for example, 0.5 nm). It is. From this, the silicon resin comprised from the above silsesquioxane compounds is also called nano resin.

このようなかご型シルセスキオキサン化合物が有する、シリコン原子にシロキサン結合を介して結合したヒドロシラン基や、シリコン原子にシロキサン結合を介して結合した炭素−炭素不飽和結合を有する基により、一方のかご型シルセスキオキサン化合物の前記ヒドロシラン基と他のかご型シルセスキオキサン化合物の前記炭素−炭素不飽和結合を有する基とがヒドロシリル化反応して付加重合することにより架橋して、ケイ素樹脂の硬化物が得られる。このとき、シルセスキオキサン化合物が有するナノサイズのかご型構造(無機部)を有機セグメントでつなぎ合わせたような3次元架橋構造が形成される。このように形成されたケイ素樹脂硬化物は、ガラスライクな機能を発現し、青・近紫外域の光が照射された状態で使用されても劣化し難いという特性を有する。このような材料によって作製された信号転写基板105は、青・近紫外域の光の照射による透過率の劣化が抑制され、且つ、このような波長域の光に対して透明である(高い透過率(例えば50%以上)を有する)。   Such a cage silsesquioxane compound has a hydrosilane group bonded to a silicon atom via a siloxane bond or a group having a carbon-carbon unsaturated bond bonded to a silicon atom via a siloxane bond. The hydrosilane group of the cage-type silsesquioxane compound and the group having the carbon-carbon unsaturated bond of the other cage-type silsesquioxane compound are cross-linked by addition polymerization through a hydrosilylation reaction to form a silicon resin Can be obtained. At this time, a three-dimensional crosslinked structure in which the nano-sized cage structure (inorganic part) of the silsesquioxane compound is connected by the organic segment is formed. The silicon resin cured product formed in this manner has a glass-like function and has a characteristic that it is hardly deteriorated even when used in a state of being irradiated with light in a blue / near ultraviolet region. The signal transfer substrate 105 made of such a material suppresses deterioration in transmittance due to light irradiation in the blue / near ultraviolet region, and is transparent to light in such a wavelength region (high transmittance). Rate (for example, 50% or more).

このように、本実施の形態の信号転写基板は、シルセスキオキサン化合物が有するナノサイズのかご型構造を有機セグメントでつなぎ合わせたような3次元架橋構造を有する有機無機ハイブリッド材料によって形成されているので、硬化した紫外線硬化樹脂から剥離される際に生じる基板自身の反りに対しても柔軟性を有し、石英などで形成された転写基板と比較して物理的な破損(割れや欠け)を生じ難い。   As described above, the signal transfer substrate according to the present embodiment is formed of an organic-inorganic hybrid material having a three-dimensional cross-linked structure in which the nano-sized cage structure of the silsesquioxane compound is connected by the organic segment. Therefore, it is flexible against the warpage of the substrate itself that occurs when it is peeled off from the cured UV curable resin, and is physically damaged (cracked or chipped) compared to a transfer substrate made of quartz or the like. It is hard to produce.

以上に説明した有機無機ハイブリッド材料であるケイ素樹脂硬化物によって作製された信号転写基板を用いることによって、容易に良好な案内溝や信号ピットなどの凹凸形状を樹脂層に転写形成することができる。   By using a signal transfer substrate made of a cured silicon resin that is an organic-inorganic hybrid material as described above, it is possible to easily transfer and form good irregularities such as guide grooves and signal pits on the resin layer.

次に、材料の違いによる信号転写基板の光透過率の違いについて説明する。図3(A)及び図3(B)に、異なる材料によって作製された各信号転写基板について、波長を変化させた際の光透過率が示されている。   Next, the difference in light transmittance of the signal transfer substrate due to the difference in material will be described. FIG. 3A and FIG. 3B show the light transmittance when the wavelength is changed for each signal transfer substrate made of different materials.

本実施の形態で用いたシルセスキオキサン化合物を含有するケイ素樹脂組成物を硬化させて得られるケイ素樹脂硬化物(以下、本実施の形態におけるケイ素樹脂硬化物と記載することがある。)からなる信号転写基板の光透過特性の優位性を明確にするため、一般的に用いられている材料であるポリカーボネイト及びポリオレフィンで作製した信号転写基板に光照射したときの光透過率変化を比較対照として図3(A)に示した。本実施の形態におけるケイ素樹脂硬化物からなる信号転写基板の光透過率変化は、図3(B)のグラフに示している。なお、この光透過率測定に用いた信号転写基板の厚みは(0.6mm)であり、ポリカーボネイトには(帝人化成製AD5503)、ポリオレフィンには(日本ゼオン製ゼオノア1430R1)、本実施の形態におけるケイ素樹脂硬化物には(テトラキス(シクロヘキセニルエチルジメチルシロキシ)−テトラキス(ジメチルシロキシ)シルセスキオキサン(TCHS:Tetrakis(cyclohexenylethyldimethylsiloxy)-tetrakis(dimethyl-siloxy)silsesquioxane)を下記のよう架橋して得られる硬化体で形成される基板)を用いた。   From a cured silicon resin obtained by curing the silicon resin composition containing the silsesquioxane compound used in the present embodiment (hereinafter, sometimes referred to as a cured silicon resin in the present embodiment). In order to clarify the superiority of the light transmission characteristics of the signal transfer substrate, the change in light transmittance when the signal transfer substrate made of polycarbonate and polyolefin, which are commonly used materials, is irradiated with light is used as a comparative control. This is shown in FIG. The change in light transmittance of the signal transfer substrate made of the cured silicon resin in the present embodiment is shown in the graph of FIG. The thickness of the signal transfer substrate used for the light transmittance measurement is (0.6 mm). Polycarbonate (AD5503 manufactured by Teijin Chemicals) and polyolefin (ZEONOR 1430R1 manufactured by Nippon Zeon) are used in this embodiment. The cured silicone resin is obtained by crosslinking (tetrakis (cyclohexenylethyldimethylsiloxy) -tetrakis (dimethylsiloxy) silsesquioxane (TCHS) as shown below. A substrate formed of a cured body was used.

Figure 2011175685
Figure 2011175685

また、光透過率測定に用いた光照射装置としては、信号転写基板の熱的な変質や変形を極力抑制するため、所定のエネルギーを出力するフラッシュタイプを用いた。光強度としては、ポリカーボネイトの信号転写基板を介して厚さ25nmの紫外線硬化樹脂に紫外線フラッシュを5回照射することによって、この紫外線硬化樹脂を硬化させることができる強度に設定した。また、各々の信号転写基板材料について紫外線の積算照射量に対する透過率変化を確認するため、紫外線未照射の場合と、500回の紫外線フラッシュを照射した場合とのグラフの2種類を示している。グラフに示す各信号転写基板材料の光透過率特性の測定には、島津製作所製の自記分光光度計(MPC−3100)を用いている。   In addition, as the light irradiation device used for the light transmittance measurement, a flash type that outputs predetermined energy was used in order to suppress thermal alteration and deformation of the signal transfer substrate as much as possible. The light intensity was set to such an intensity that the ultraviolet curable resin could be cured by irradiating the ultraviolet curable resin having a thickness of 25 nm five times with an ultraviolet flash through a polycarbonate signal transfer substrate. In addition, in order to confirm the change in transmittance with respect to the integrated irradiation amount of ultraviolet rays for each signal transfer substrate material, two types of graphs are shown, that is, the case where no ultraviolet rays are irradiated and the case where 500 times of ultraviolet flashing is performed. A self-recording spectrophotometer (MPC-3100) manufactured by Shimadzu Corporation was used for measuring the light transmittance characteristics of each signal transfer substrate material shown in the graph.

図3(A)及び図3(B)から明らかなように、ポリカーボネイトやポリオレフィンからなる信号転写基板と比べ、本実施の形態におけるケイ素樹脂硬化物からなる信号転写基板は、波長250〜280nmの波長範囲で透過率が大きい。この特性は、紫外線の透過効率が高いことを示している。したがって、本実施の形態におけるケイ素樹脂硬化物からなる信号転写基板を用いると、少ない紫外線照射エネルギーで紫外線硬化樹脂を硬化させることが可能となり、紫外線照射効率やプロセスのサイクル時間短縮に大きく貢献できることがわかる。また、500回の紫外線フラッシュ後において、ポリカーボネイトやポリオレフィンからなる信号転写基板と比較して、本実施の形態におけるケイ素樹脂硬化物からなる信号転写基板は紫外線領域での透過率低下が抑制されており、良好な透過率が得られている。この特性から、本実施の形態におけるケイ素樹脂硬化物からなる信号転写基板は、紫外線未照射時の初期の状態とほぼ変わらない紫外線透過率を維持できることがわかり、紫外線照射プロセスにおいて紫外線硬化樹脂を硬化させるために照射する紫外線照射量を初期から変化させる必要がないことがわかる。また、信号転写基板として、ポリカーボネイトやポリオレフィンを用いた場合、紫外線硬化樹脂の硬化には紫外線フラッシュを5回必要とするのに対し、本実施の形態におけるケイ素樹脂硬化物からなる信号転写基板を用いた場合、波長250〜280nmの範囲の光透過率が10%以上であるため、紫外線フラッシュ3回以下で紫外線硬化樹脂を硬化させることができる。   As apparent from FIGS. 3A and 3B, the signal transfer substrate made of the cured silicon resin in the present embodiment has a wavelength of 250 to 280 nm as compared with the signal transfer substrate made of polycarbonate or polyolefin. The transmittance is large in the range. This characteristic indicates that the ultraviolet light transmission efficiency is high. Therefore, when the signal transfer substrate made of the cured silicon resin in the present embodiment is used, it is possible to cure the ultraviolet curable resin with less ultraviolet irradiation energy, which can greatly contribute to the ultraviolet irradiation efficiency and the shortening of the process cycle time. Recognize. In addition, after 500 times of ultraviolet flashing, the signal transfer substrate made of the cured silicon resin in the present embodiment has a reduced transmittance in the ultraviolet region compared to the signal transfer substrate made of polycarbonate or polyolefin. Good transmittance is obtained. From this characteristic, it can be seen that the signal transfer substrate made of the cured silicon resin in the present embodiment can maintain the ultraviolet transmittance substantially unchanged from the initial state when the ultraviolet rays are not irradiated, and the ultraviolet curable resin is cured in the ultraviolet irradiation process. It can be seen that it is not necessary to change the irradiation amount of the ultraviolet rays for irradiation. Further, when polycarbonate or polyolefin is used as the signal transfer substrate, the ultraviolet ray flash is required 5 times for curing the ultraviolet curable resin, whereas the signal transfer substrate made of the cured silicon resin in the present embodiment is used. In this case, since the light transmittance in the wavelength range of 250 to 280 nm is 10% or more, the ultraviolet curable resin can be cured in three or less ultraviolet flashes.

なお、上記の光透過率測定は、信号転写基板のみに紫外線を照射して紫外線の透過率を測定したものであるが、実際に信号転写基板の材料にポリカーボネイトを用い、紫外線硬化樹脂への信号面の転写を実施した場合、良好に信号面を転写形成できる回数はせいぜい20回である。剥離が困難になる理由としては、紫外線照射による紫外線透過率の低下に加え、ポリカーボネイトでは、図4に示すように分子内に−C−O−(エーテル結合)や、C=O(カルボニル結合)など、極性が高い基を有しており、この基が紫外線硬化樹脂(例えばアクリル樹脂)のエーテルなどの極性が高い基と相互作用し、紫外線硬化樹脂との密着力が高くなることが想定されるからである。また、信号転写基板の材料にガラス(SiO)を用いた場合も、紫外線硬化樹脂との密着性が高く、安定した信号面の転写形成限界は20回までであった。その理由は、ガラス材料にはシラノール(−SiOH)などの極性の高い基が含まれており、これらの極性基が紫外線硬化樹脂(例えばアクリル樹脂)のカルボニルなどの極性基と水素結合し、密着力が高くなることが想定されるからである。なお、信号転写基板の材料にガラス材料を用いた場合、ガラス材料の硬質且つ脆い特性と、紫外線硬化樹脂との密着性が高い理由により、信号転写を繰り返すことで信号転写基板の割れや欠けなどが発生し易い。 In the above light transmittance measurement, only the signal transfer substrate is irradiated with ultraviolet rays and the ultraviolet transmittance is measured. Actually, polycarbonate is used as the material of the signal transfer substrate, and the signal to the ultraviolet curable resin is measured. When the surface is transferred, the number of times that the signal surface can be satisfactorily transferred and formed is 20 at most. As the reason why peeling becomes difficult, in addition to the decrease in ultraviolet transmittance due to ultraviolet irradiation, in polycarbonate, as shown in FIG. 4, —C—O— (ether bond) or C═O (carbonyl bond) is present in the molecule. It is assumed that this group has a highly polar group, and this group interacts with a highly polar group such as an ether of an ultraviolet curable resin (for example, an acrylic resin) to increase the adhesion to the ultraviolet curable resin. This is because that. Further, when glass (SiO 2 ) was used as the material for the signal transfer substrate, the adhesiveness to the ultraviolet curable resin was high, and the transfer limit of the stable signal surface was up to 20 times. The reason for this is that the glass material contains highly polar groups such as silanol (—SiOH), and these polar groups are hydrogen bonded to polar groups such as carbonyl of an ultraviolet curable resin (for example, acrylic resin). This is because it is assumed that the power will increase. In addition, when a glass material is used for the material of the signal transfer substrate, the signal transfer substrate is cracked or chipped by repeating the signal transfer due to the hard and brittle characteristics of the glass material and the high adhesion to the ultraviolet curable resin. Is likely to occur.

これに対し、本実施の形態におけるケイ素樹脂硬化物からなる信号転写基板を用いた場合、紫外線硬化樹脂との剥離性が良好であり、100回以上の繰り返し転写を実施しても、問題がないことが確認できた。本実施の形態の信号転写基板に用いられるケイ素樹脂硬化物は、シルセスキオキサン化合物をヒドロシリル化反応させることによって得られる硬化物である。したがって、このケイ素樹脂硬化物は、−OH、カルボニル、エーテルなどの極性の高い基(極性基)を系内に含んでおらず、紫外線硬化樹脂(例えばアクリル脂)とのインターラクションが生じない。これにより、紫外線硬化樹脂との良好な剥離性を実現できる。   On the other hand, when the signal transfer substrate made of the cured silicon resin in the present embodiment is used, the peelability from the ultraviolet curable resin is good, and there is no problem even if the transfer is repeated 100 times or more. I was able to confirm. The silicon resin cured product used for the signal transfer substrate of the present embodiment is a cured product obtained by subjecting a silsesquioxane compound to a hydrosilylation reaction. Therefore, this silicon resin cured product does not contain a highly polar group (polar group) such as —OH, carbonyl, or ether in the system, and does not cause interaction with the ultraviolet curable resin (for example, acrylic resin). Thereby, favorable peelability from the ultraviolet curable resin can be realized.

<多層情報記録媒体の製造方法>
以下に説明する実施の形態では、光ディスク形状の多層情報記録媒体を例に挙げて説明するが、光ディスクの形状に限定されるものではなく、例えば光メモリカードなどの一般的な多層情報記録媒体にも適用できる。
<Method for producing multilayer information recording medium>
In the embodiments described below, a multi-layer information recording medium having an optical disk shape will be described as an example. However, the present invention is not limited to the shape of an optical disk, and may be a general multi-layer information recording medium such as an optical memory card. Applicable.

図1(A)〜図1(G)は、本発明の実施の形態1における多層情報記録媒体の製造方法の各工程を示す断面図である。これらの図面を参照しながら、本実施の形態における多層情報記録媒体の製造方法について説明する。   1 (A) to 1 (G) are cross-sectional views showing the steps of the method for manufacturing a multilayer information recording medium in Embodiment 1 of the present invention. The manufacturing method of the multilayer information recording medium in the present embodiment will be described with reference to these drawings.

本実施の形態の多層情報記録媒体の製造方法において用いられる、ベースとなる第1信号基板101は、ディスクの反りや剛性を良くするために、さらにはCD(Compact Disk)やDVD(Digital Versatile Disk)などの光ディスクと厚み互換を有するように、厚さ略1.1mm、中心に直径15mmの穴を有する円盤からなる。第1信号基板101は、ピットや案内溝の凹凸形状からなる信号部が形成された面(信号面)を有している。第1信号基板101の信号面上に、スパッタリングや蒸着などの方法により記録膜や反射膜を含む第1薄膜層(第1の情報記録層)102が形成されている。第1信号基板101は、回転テーブル103上で回転テーブル103の回転軸に対する偏芯量が小さくなるように回転テーブル103のほぼ中央に設けられたディスクのセンタリング冶具(図示せず)と、回転テーブル103の上面に複数個設けられた小さなバキューム孔(図示せず)とによって、回転テーブル103に吸着固定されている(図1(A)参照)。   In order to improve the warp and rigidity of the disk, the first signal board 101 used as the base used in the method for manufacturing the multilayer information recording medium of the present embodiment is further adapted to a CD (Compact Disk) or DVD (Digital Versatile Disk). In order to have thickness compatibility with an optical disc such as), a disk having a hole having a thickness of approximately 1.1 mm and a diameter of 15 mm in the center is formed. The first signal substrate 101 has a surface (signal surface) on which a signal portion having a concavo-convex shape of pits and guide grooves is formed. A first thin film layer (first information recording layer) 102 including a recording film and a reflective film is formed on the signal surface of the first signal substrate 101 by a method such as sputtering or vapor deposition. The first signal board 101 includes a disc centering jig (not shown) provided in the approximate center of the rotary table 103 so that the amount of eccentricity with respect to the rotary axis of the rotary table 103 is small on the rotary table 103, and the rotary table. A plurality of small vacuum holes (not shown) provided on the upper surface of 103 are attracted and fixed to the rotary table 103 (see FIG. 1A).

吸着固定された第1信号基板101上の第1薄膜層102上に、ディスペンサーによって紫外線硬化樹脂104が所望の半径上に略同心円状に塗布される(図1(B)参照)。   On the first thin film layer 102 on the first signal substrate 101 fixed by suction, an ultraviolet curable resin 104 is applied in a substantially concentric manner on a desired radius by a dispenser (see FIG. 1B).

次に、回転テーブル103をスピン回転させることにより、紫外線硬化樹脂104の延伸を行う(図1(C)参照)。延伸時に紫外線硬化樹脂104に働く遠心力によって、余分な樹脂と気泡とを紫外線硬化樹脂104から除去することができる。このとき、延伸される紫外線硬化樹脂104の厚みは、紫外線硬化樹脂104の粘度やスピン回転の回転数、時間、スピン回転をさせている周りの雰囲気(温度や湿度など)を任意に設定することにより、所望の厚みに制御することができる。   Next, the ultraviolet curable resin 104 is stretched by spinning the rotary table 103 (see FIG. 1C). Excess resin and bubbles can be removed from the ultraviolet curable resin 104 by centrifugal force acting on the ultraviolet curable resin 104 during stretching. At this time, the thickness of the UV curable resin 104 to be stretched can arbitrarily set the viscosity of the UV curable resin 104, the rotation speed of the spin rotation, the time, and the surrounding atmosphere (temperature, humidity, etc.) in which the spin rotation is performed. Thus, the desired thickness can be controlled.

延伸された紫外線硬化樹脂104には、第1信号基板101のように片面にピットや案内溝が凹凸形状(信号部)として形成された信号面を有する信号転写基板105が、第1信号基板101と信号転写基板105の双方の信号面が対向するように重ね合わされる(図1(D)参照)。このとき、信号転写基板105と紫外線硬化樹脂104との間に気泡を混入することを防ぐために、この重ね合わせを実施する雰囲気は真空雰囲気であることが好ましい。また、図示しないが、未硬化の紫外線硬化樹脂104を反転させて信号転写基板105と対向させるため、紫外線硬化性樹脂はある程度の粘度を有することが好ましい。もしくは図1(C)に示す工程の後に、一定の時間紫外線を紫外線硬化性樹脂に照射し、樹脂を仮硬化させた後に信号転写基板と対向させることにより、未硬化の樹脂が信号基板上から漏れ出すのを防ぐことができる。   The stretched ultraviolet curable resin 104 has a signal transfer substrate 105 having a signal surface in which pits and guide grooves are formed in an uneven shape (signal part) on one side like the first signal substrate 101. And the signal transfer substrate 105 are overlapped so that the signal surfaces face each other (see FIG. 1D). At this time, in order to prevent air bubbles from being mixed between the signal transfer substrate 105 and the ultraviolet curable resin 104, it is preferable that the atmosphere in which the superposition is performed is a vacuum atmosphere. Although not shown, it is preferable that the ultraviolet curable resin has a certain degree of viscosity in order to invert the uncured ultraviolet curable resin 104 to face the signal transfer substrate 105. Alternatively, after the step shown in FIG. 1 (C), the ultraviolet curable resin is irradiated with ultraviolet rays for a certain period of time, and the resin is temporarily cured and then opposed to the signal transfer substrate. Leakage can be prevented.

ここで用いられる信号転写基板105は、前述する有機無機ハイブリッド材料によって形成されている。テーブル上に信号転写基板を配置し、上部から信号基板を対向させる構成は、従来タクトタイムが増加してしまうため難しかったが、従来の樹脂製の信号転写基板と異なり、有機無機ハイブリット材料は、紫外線照射による透過率低下が少ないといった特性を有している。そのため、信号転写基板を毎回交換する必要がなく、本構成を採用することが可能になった。   The signal transfer substrate 105 used here is formed of the organic-inorganic hybrid material described above. The configuration in which the signal transfer substrate is arranged on the table and the signal substrate is opposed from the top is difficult because the tact time is conventionally increased, but unlike the conventional resin signal transfer substrate, the organic-inorganic hybrid material is It has the characteristic that there is little decrease in transmittance due to ultraviolet irradiation. Therefore, it is not necessary to replace the signal transfer substrate every time, and this configuration can be adopted.

次に、第1信号基板101、第1薄膜層102、紫外線硬化樹脂104及び信号転写基板10が一体化された多層構造体106に、信号転写基板105側から紫外線照射機107によって紫外線が照射され、2つの信号面に挟まれた紫外線硬化樹脂104を硬化させる(図1(E)参照)。このとき、信号転写基板105は紫外線透過テーブル105A上に設置されている。信号転写基板105を容易に交換可能とするためには、設置するときの平坦性や偏芯を容易に補正することが可能であるからである。また、紫外線透過テーブルを用いず有機無機ハイブリッド材料のみで構成した場合、上述したように有機無機ハイブリッド材料は柔軟性を有しているので、第1信号基板101と信号転写基板105の双方の信号面が対向するように重ね合わせたときに信号転写基板105に反りを生じるため適切ではない。   Next, the multilayer structure 106 in which the first signal substrate 101, the first thin film layer 102, the ultraviolet curable resin 104, and the signal transfer substrate 10 are integrated is irradiated with ultraviolet rays from the signal transfer substrate 105 side by an ultraviolet irradiator 107. The ultraviolet curable resin 104 sandwiched between the two signal surfaces is cured (see FIG. 1E). At this time, the signal transfer substrate 105 is set on the ultraviolet transmission table 105A. This is because it is possible to easily correct the flatness and eccentricity when the signal transfer substrate 105 is installed in order to easily replace the signal transfer substrate 105. Further, when the organic / inorganic hybrid material is composed of only the organic / inorganic hybrid material without using the ultraviolet transmission table, the signal of both the first signal substrate 101 and the signal transfer substrate 105 is obtained because the organic / inorganic hybrid material has flexibility as described above. This is not appropriate because the signal transfer substrate 105 is warped when the surfaces are overlapped so as to face each other.

ここで、信号転写基板105の紫外線透過テーブル105Aへの固定は、信号転写基板105と紫外線透過テーブル105Aの間に接着剤を塗布して固定するのではなく、信号転写基板105の内周部もしくは内外周部の縁部が紫外線透過テーブル105Aに密着するように固定されている。これは、接着剤を塗布することによって、信号転写基板105と紫外線透過テーブル105Aを固定すると、紫外線を照射することによって、接着剤が劣化し、紫外線の透過を妨げるからである。この固定部材105B、105Cの材質は、信号転写基板から硬化された紫外線硬化樹脂を剥離する際にかかる力に耐えうるものであればよく、特定の物質に限定されるものではない。   Here, the fixing of the signal transfer substrate 105 to the ultraviolet transmission table 105A is not performed by applying an adhesive between the signal transfer substrate 105 and the ultraviolet transmission table 105A. The edges of the inner and outer peripheral parts are fixed so as to be in close contact with the ultraviolet transmitting table 105A. This is because when the signal transfer substrate 105 and the ultraviolet light transmitting table 105A are fixed by applying an adhesive, the adhesive deteriorates and the ultraviolet light is prevented from being transmitted by irradiating the ultraviolet light. The material of the fixing members 105B and 105C may be any material as long as it can withstand the force applied when the cured UV curable resin is peeled from the signal transfer substrate, and is not limited to a specific substance.

また、図6(A)において第1信号基板701を回転テーブル703に固定したように、バキュームによって信号転写基板を固定する方法も考えられるが、信号転写基板側から紫外線を照射する本実施例においては、バキュームのための吸引孔などが紫外線透過の妨げとなる。また、真空雰囲気で紫外線を照射する場合、信号転写基板を吸着固定することが困難となる。対して、信号転写基板105と紫外線透過テーブルを両者の側面にて固定することによって、後述する紫外線照射機107と紫外線硬化樹脂の間に照射の妨げとなる機構や接着剤が介在せず、効率よく樹脂を硬化させることが可能となる。   In addition, a method of fixing the signal transfer substrate by vacuum as in the case where the first signal substrate 701 is fixed to the rotary table 703 in FIG. 6A is also conceivable, but in this embodiment in which ultraviolet rays are irradiated from the signal transfer substrate side. In this case, a vacuum suction hole or the like hinders ultraviolet light transmission. Further, when irradiating ultraviolet rays in a vacuum atmosphere, it is difficult to attract and fix the signal transfer substrate. On the other hand, by fixing the signal transfer substrate 105 and the ultraviolet transmissive table on both sides, there is no mechanism or adhesive interfering between the ultraviolet irradiator 107 and the ultraviolet curable resin, which will be described later, and the efficiency. It is possible to cure the resin well.

また、縁部に貼り合わされる固定部材は基板上に塗布された紫外線硬化樹脂104が重ならないようにしている。後の工程で紫外線透過テーブル105Aと信号転写基板105を介して、紫外線硬化樹脂104に紫外線を照射するときの妨げにならないためである。(図示せず)具体的には、固定部材105Bの外周端は、紫外線硬化樹脂の内周部である直径20mm以下に位置することが好ましい。また、固定部材の内周端は、少なくともディスクの中心穴より外周側に位置し、かつ、後述するように突き上げ部材によって信号転写基板105から第1信号基板101を剥離する場合には、突き上げ部材よりも外周側に位置する必要がある。   Further, the fixing member bonded to the edge portion prevents the ultraviolet curable resin 104 applied on the substrate from overlapping. This is because it does not interfere with the irradiation of the ultraviolet curable resin 104 with ultraviolet rays through the ultraviolet transmissive table 105A and the signal transfer substrate 105 in a later step. Specifically, the outer peripheral end of the fixing member 105B is preferably located at a diameter of 20 mm or less, which is the inner peripheral portion of the ultraviolet curable resin. Further, the inner peripheral end of the fixing member is positioned at least on the outer peripheral side from the center hole of the disk, and when the first signal substrate 101 is peeled off from the signal transfer substrate 105 by the push-up member as will be described later, the push-up member It is necessary to be located on the outer peripheral side.

なお、本実施の形態では、テーブルの材料として石英を使用している。石英を用いることにより、透光性と、基台としての良好な平坦性を確保することが可能になる。   In this embodiment, quartz is used as the table material. By using quartz, it is possible to ensure translucency and good flatness as a base.

紫外線照射機107はこの紫外線透過テーブル105Aと信号転写基板105を介して、紫外線硬化樹脂104に均一に紫外線を照射するように設置されている。また、本実施の形態における信号転写基板105は、前述の有機無機ハイブリッド材料を用いているので、紫外線を透過させて、充分な紫外線を紫外線硬化樹脂104まで到達させることができる。これにより、信号転写基板105の信号面に設けられたピットや案内溝の凹凸形状を効率よく紫外線硬化樹脂104に転写形成できる。信号転写基板105の信号面に形成された凹凸形状を紫外線硬化樹脂104に効率よく転写するために、本実施の形態では、例えば紫外線硬化樹脂104の粘度を50〜4000mPa・sとし、信号転写基板105を例えば直径120mm、厚み0.6mm、中心に直径17mmの中心穴を有する円盤としている。   The ultraviolet irradiator 107 is installed so as to uniformly irradiate the ultraviolet curable resin 104 with ultraviolet rays through the ultraviolet transmission table 105A and the signal transfer substrate 105. In addition, since the signal transfer substrate 105 in this embodiment uses the above-described organic-inorganic hybrid material, it can transmit ultraviolet rays and allow sufficient ultraviolet rays to reach the ultraviolet curable resin 104. Thereby, the concave and convex shapes of pits and guide grooves provided on the signal surface of the signal transfer substrate 105 can be efficiently transferred and formed on the ultraviolet curable resin 104. In this embodiment, in order to efficiently transfer the uneven shape formed on the signal surface of the signal transfer substrate 105 to the ultraviolet curable resin 104, the viscosity of the ultraviolet curable resin 104 is set to 50 to 4000 mPa · s, for example. For example, 105 is a disk having a diameter of 120 mm, a thickness of 0.6 mm, and a center hole having a diameter of 17 mm in the center.

紫外線硬化樹脂104を硬化させた後、信号転写基板105が紫外線硬化樹脂104との界面で剥離されることによって、信号面を備えた第2信号基板(樹脂層)110が形成される(図1(F)参照)。信号転写基板105は、有機無機ハイブリッド材料によって形成されているので、硬化した紫外線硬化樹脂104との剥離性が良好であり、信号転写基板105と紫外線硬化樹脂104との界面で容易に剥離することが可能である。   After the ultraviolet curable resin 104 is cured, the signal transfer substrate 105 is peeled off at the interface with the ultraviolet curable resin 104, whereby a second signal substrate (resin layer) 110 having a signal surface is formed (FIG. 1). (See (F)). Since the signal transfer substrate 105 is formed of an organic-inorganic hybrid material, it has good peelability from the cured UV curable resin 104 and can be easily peeled off at the interface between the signal transfer substrate 105 and the UV curable resin 104. Is possible.

例えば、貼りあわされた多層構造体106に対し、信号転写基板105側から第1信号基板101を加圧し、突き上げるための直径が15mm<d<17mmの加圧手段、例えば突き上げる先端が円錐状の形状を有する、ステンレスやアルミなどの金属で形成されている。加圧手段は第1信号基板101の内周部のみを加圧することによって、第1信号基板101の内側を反らし、第1信号基板101上に形成された紫外線硬化樹脂104と信号転写基板105の界面から剥離することができる。上記では第1信号基板101を加圧し、突き上げる方法について説明したが、第1信号基板101の内周部を剥離する方向に吸引もしくは機械的に持ち上げる構成を用いることによっても同様の硬化を得ることができる。   For example, the first signal substrate 101 is pressed from the side of the signal transfer substrate 105 to the laminated multilayer structure 106, and a pressing means with a diameter of 15 mm <d <17 mm, for example, the tip to be raised is conical. It has a shape and is made of a metal such as stainless steel or aluminum. The pressurizing unit pressurizes only the inner peripheral portion of the first signal substrate 101 to warp the inside of the first signal substrate 101, and the ultraviolet curable resin 104 formed on the first signal substrate 101 and the signal transfer substrate 105. It can be peeled from the interface. In the above, the method of pressurizing and pushing up the first signal board 101 has been described, but the same curing can be obtained by using a configuration in which the inner periphery of the first signal board 101 is sucked or mechanically lifted in the peeling direction. Can do.

第2信号基板110の信号面上に、スパッタリングや蒸着などの方法により、例えば相変化型の記録膜や、反射膜を含んだ第2薄膜層108が形成される。第2薄膜層108は、例えば、Ag合金などの反射膜、AlNなどの誘電体膜及びTeOPdなどの記録膜のうち少なくとも1層以上を含む構成とできる。最後に、透明層109が形成される。透明層109は、第2薄膜層108の上に紫外線硬化樹脂を塗布し、この紫外線硬化樹脂をスピン回転させることによって延伸し、次いで紫外線を照射して硬化させることによって形成できる。透明層109は、記録再生光に対してほぼ透明で(記録再生光に対して高い透過率を有し)、厚みが約0.1mmである。   On the signal surface of the second signal substrate 110, for example, a second thin film layer 108 including a phase change recording film and a reflective film is formed by a method such as sputtering or vapor deposition. The second thin film layer 108 can include, for example, at least one of a reflective film such as an Ag alloy, a dielectric film such as AlN, and a recording film such as TeOPd. Finally, the transparent layer 109 is formed. The transparent layer 109 can be formed by applying an ultraviolet curable resin on the second thin film layer 108, stretching the ultraviolet curable resin by spin rotation, and then irradiating and curing the ultraviolet ray. The transparent layer 109 is almost transparent to recording / reproducing light (having a high transmittance for recording / reproducing light) and has a thickness of about 0.1 mm.

本実施の形態によれば、複数回の紫外線照射に対して充分な耐光性を有し、且つ紫外線硬化樹脂から信号転写基板を剥離するときに物理的な破損を生じない程度の柔軟性を併せ持つ信号転写基板が実現できるので、信号転写基板の再利用が可能な多層情報記録媒体の製造方法を実現できる。このため、信号面を転写形成する毎に必要とされていた信号転写基板の作製を回避することができ、信号面を転写形成する際のコストを低減することができる。また、多層情報記録媒体の製造装置の簡略化及び低コスト化を実現し、信号転写基板毎に発生する凹凸形状からなる信号部の作製ばらつきを抑制することができる。   According to the present embodiment, it has sufficient light resistance to a plurality of times of ultraviolet irradiation, and also has a flexibility that does not cause physical damage when the signal transfer substrate is peeled from the ultraviolet curable resin. Since the signal transfer substrate can be realized, it is possible to realize a method for manufacturing a multilayer information recording medium in which the signal transfer substrate can be reused. For this reason, it is possible to avoid the production of the signal transfer substrate that is required every time the signal surface is transferred and formed, and it is possible to reduce the cost when the signal surface is transferred and formed. In addition, the multilayer information recording medium manufacturing apparatus can be simplified and the cost can be reduced, and the production variation of the signal portion having the uneven shape generated for each signal transfer substrate can be suppressed.

また、本願の多層情報記録媒体の作製方法により、信号転写基板の押圧と紫外線照射とを同一の場所で行うことが出来る。従来例に記載のように、ポリカーボネイト等からなる樹脂製の信号転写基板を紫外線硬化樹脂の上部に配置し、信号転写基板上を軽く押圧する方法では、紫外線照射ランプと押圧機構を、どちらも信号転写基板の上方側に配置する必要があった。そのため、信号転写基板を押圧するステップと紫外線を照射するステップを同じ場所で行うことが出来ず、信号転写基板を押圧した後に、信号転写基板と信号基板を一体化した状態で紫外線照射ランプの下まで移送し、硬化させる必要があった。しかし、本願の記録媒体の作成方法では、紫外線照射ランプを信号転写基板と信号基板の下部に配置し、信号転写基板を押圧する機構は、転写基板と紫外線透過テーブルを挟んで対向する側に配置する構成であるため、信号転写基板の押圧後に、信号基板を他の場所に移送することなく硬化させることが可能になる。   Further, the method for producing a multilayer information recording medium of the present application enables the signal transfer substrate to be pressed and irradiated with ultraviolet rays at the same place. As described in the conventional example, a resin signal transfer substrate made of polycarbonate or the like is placed on the upper part of the ultraviolet curable resin and lightly pressed on the signal transfer substrate, both the ultraviolet irradiation lamp and the pressing mechanism are signaled. It was necessary to arrange the transfer substrate above the transfer substrate. For this reason, the step of pressing the signal transfer substrate and the step of irradiating ultraviolet rays cannot be performed at the same place. After pressing the signal transfer substrate, the signal transfer substrate and the signal substrate are integrated with each other under the ultraviolet irradiation lamp. It was necessary to transfer it to a temperature and cure it. However, in the recording medium production method of the present application, the ultraviolet irradiation lamp is disposed on the lower side of the signal transfer substrate and the signal substrate, and the mechanism for pressing the signal transfer substrate is disposed on the opposite side of the transfer substrate and the ultraviolet transmission table. Therefore, after the signal transfer substrate is pressed, the signal substrate can be cured without being transferred to another location.

なお、本実施の形態では、シルセスキオキサン化合物を含有するケイ素樹脂組成物を硬化させることによって得られるケイ素樹脂硬化物からなる信号転写基板を用いた例について説明したが、他の有機無機ハイブリッド材料であっても、同様の特性を有する信号転写基板を実現できる。   In the present embodiment, an example using a signal transfer substrate made of a cured silicon resin obtained by curing a silicon resin composition containing a silsesquioxane compound has been described. Even if it is a material, the signal transfer board | substrate which has the same characteristic is realizable.

本発明にかかる多層情報記録媒体の製造方法と、信号転写基板及びその製造方法とは、情報を蓄えるあらゆる情報システム装置、例えば、コンピュータ、光ディスクプレーヤ、光ディスクレコーダ、カーナビゲーションシステム、編集システム、データサーバー、AVコンポーネント、メモリカード、磁気記録媒体などの媒体の作製に利用することができる。   A multilayer information recording medium manufacturing method, a signal transfer substrate, and a manufacturing method thereof according to the present invention include all information system devices that store information, such as a computer, an optical disk player, an optical disk recorder, a car navigation system, an editing system, and a data server. It can be used to manufacture media such as AV components, memory cards, and magnetic recording media.

本発明の実施の形態1における多層情報記録媒体の製造方法における各工程を示す断面図Sectional drawing which shows each process in the manufacturing method of the multilayer information recording medium in Embodiment 1 of this invention (A)本発明の実施の形態1において用いられるケイ素樹脂硬化物の3次元架橋構造を示す模式図(B)本発明の実施の形態1において用いられるケイ素樹脂硬化物を構成するかご型シルセスキオキサン化合物の構造の一例を示す模式図(A) Schematic diagram showing a three-dimensional cross-linked structure of a cured silicon resin used in Embodiment 1 of the present invention (B) A cage silsesquif constituting the cured silicone resin used in Embodiment 1 of the present invention Schematic diagram showing an example of the structure of an oxan compound 本発明の実施の形態1における紫外線照射による信号転写基板の光透過率変化のグラフGraph of change in light transmittance of signal transfer substrate by ultraviolet irradiation in Embodiment 1 of the present invention ポリカーボネイトの分子構造図Molecular structure of polycarbonate 従来の多層情報記録媒体の断面図Sectional view of a conventional multilayer information recording medium 従来の多層情報記録媒体の製造方法における各工程を示す断面図Sectional drawing which shows each process in the manufacturing method of the conventional multilayer information recording medium

符号の説明Explanation of symbols

101,701 第1信号基板
102,702 第1薄膜層(第1の情報記録層)
103,703 回転テーブル
104,704 紫外線硬化樹脂
105,705 信号転写基板
105A 紫外線透過テーブル
106,706 多層構造体
107,707 紫外線照射機
108,708 第2薄膜層(第2の情報記録層)
109,709 透明層
110,710 第2信号基板(樹脂層)
201 略6面体構造(無機部)
202 有機セグメント
601 第1信号基板
602 第1薄膜層
603 第2信号基板
604 第2薄膜層
605 透明層
101,701 First signal substrate 102,702 First thin film layer (first information recording layer)
103, 703 Rotary table 104, 704 UV curable resin 105, 705 Signal transfer substrate 105A UV transmission table 106, 706 Multilayer structure 107, 707 UV irradiator 108, 708 Second thin film layer (second information recording layer)
109,709 Transparent layer 110,710 Second signal board (resin layer)
201 Substantially hexahedral structure (inorganic part)
202 Organic segment 601 First signal substrate 602 First thin film layer 603 Second signal substrate 604 Second thin film layer 605 Transparent layer

Claims (12)

紫外線硬化樹脂で記録媒体の中間層を形成する方法であって、少なくとも、
基体上に紫外線硬化樹脂を塗布する工程と、
前記基体上に塗布された前記紫外線硬化樹脂と、信号転写基板の情報信号面を対向するように貼り合わせる工程と、
前記紫外線硬化樹脂に対して、信号転写基板が設置された紫外線透過テーブル側から紫外線を照射し、硬化させる工程と、
前記紫外線硬化樹脂と前記信号転写基板の界面から剥離する工程と、からなり、
前記信号転写基板が有機無機ハイブリッド材料によって形成されていることを特徴とする多層情報記録媒体の製造方法。
A method of forming an intermediate layer of a recording medium with an ultraviolet curable resin, at least,
Applying an ultraviolet curable resin on the substrate;
Bonding the ultraviolet curable resin applied on the substrate and the information signal surface of the signal transfer substrate so as to face each other;
Irradiating the ultraviolet curable resin with ultraviolet rays from the ultraviolet transmitting table side on which the signal transfer substrate is installed, and curing the ultraviolet curable resin;
Peeling from the interface between the ultraviolet curable resin and the signal transfer substrate,
A method for producing a multilayer information recording medium, wherein the signal transfer substrate is formed of an organic-inorganic hybrid material.
前記有機無機ハイブリッド材料は、−Si−O−結合で構成された多面体構造を有する分子サイズの無機部と、複数の前記無機部を互いに架橋している有機セグメントとを含んでいる、請求項1に記載の多層情報記録媒体の製造方法。 The organic-inorganic hybrid material includes a molecular-size inorganic part having a polyhedral structure composed of —Si—O— bonds, and an organic segment that crosslinks the plurality of inorganic parts. A method for producing a multilayer information recording medium as described in 1. above. 前記紫外線透過テーブルが石英であることを特徴とする請求項1又は2に記載の多層情報記録媒体の製造方法。 3. The method for producing a multilayer information recording medium according to claim 1, wherein the ultraviolet transmitting table is made of quartz. 前記紫外線硬化樹脂と前記信号転写基板の界面から剥離する工程は、
前記紫外線透過テーブルに前記信号転写基板を真空吸着で固定する工程と、
前記基体の内周を、前記紫外線硬化樹脂が形成してある面とは反対面に反らせて剥離する工程と、
からなることを特徴とする請求項1に記載の多層情報記録媒体の製造方法。
The step of peeling from the interface between the ultraviolet curable resin and the signal transfer substrate includes:
Fixing the signal transfer substrate to the ultraviolet transmitting table by vacuum suction;
A step of peeling the inner periphery of the substrate while curving the surface opposite to the surface on which the ultraviolet curable resin is formed;
The method for producing a multilayer information recording medium according to claim 1, comprising:
前記信号転写基板と前記紫外線透過テーブルは固定部材によって固定され、
前記固定部材は、前記信号転写基板の内周側と外周側の少なくとも一方に配置されていることを特徴とする請求項1に記載の多層情報記録媒体の製造方法。
The signal transfer substrate and the ultraviolet transmission table are fixed by a fixing member,
The method for manufacturing a multilayer information recording medium according to claim 1, wherein the fixing member is disposed on at least one of an inner peripheral side and an outer peripheral side of the signal transfer substrate.
前記基体上に紫外線硬化樹脂を塗布する工程の後に、
前記紫外線硬化性樹脂を仮硬化させる工程をさらに有することを特徴とする請求項1に記載の多層情報記録媒体の製造方法。
After the step of applying an ultraviolet curable resin on the substrate,
The method for producing a multilayer information recording medium according to claim 1, further comprising a step of temporarily curing the ultraviolet curable resin.
前記紫外線硬化樹脂と、信号転写基板の情報信号面を対向するように貼り合わせる工程の後に、
前記信号転写基板を前記紫外線硬化樹脂側に押圧する工程をさらに有することを特徴とする請求項1に記載の多層情報記録媒体の製造方法。
After the step of bonding the ultraviolet curable resin and the information signal surface of the signal transfer substrate to face each other,
The method for producing a multilayer information recording medium according to claim 1, further comprising a step of pressing the signal transfer substrate toward the ultraviolet curable resin side.
紫外線硬化樹脂で記録媒体の中間層を形成する装置であって、少なくとも、
紫外線を透過する信号転写基板と、
信号転写基板を設置するための紫外線透過テーブルと、
紫外線透過テーブルの信号転写基板面とは反対側に設置された紫外線照射手段と、
基体の内周を紫外線透過テーブル側から加圧する、もしくは前記基体の内周を紫外線透過テーブルとは反対側へ引き上げる手段と、
からなることを特徴とする多層情報記録媒体の製造装置。
An apparatus for forming an intermediate layer of a recording medium with an ultraviolet curable resin, at least,
A signal transfer substrate that transmits ultraviolet light;
An ultraviolet transmission table for installing a signal transfer substrate;
UV irradiation means installed on the opposite side of the signal transfer substrate surface of the UV transmitting table;
Means for pressurizing the inner periphery of the substrate from the ultraviolet transmitting table side, or pulling up the inner periphery of the substrate to the opposite side of the ultraviolet transmitting table;
An apparatus for producing a multilayer information recording medium, comprising:
有機無機ハイブリッド材料は、−Si−O−結合で構成された多面体構造を有する分子サイズの無機部と、複数の前記無機部を互いに架橋している有機セグメントとを含んでいる、請求項8に記載の多層情報記録媒体の製造装置。 The organic-inorganic hybrid material includes a molecular-size inorganic part having a polyhedral structure composed of -Si-O- bonds, and an organic segment that crosslinks the plurality of inorganic parts to each other. The manufacturing apparatus of the multilayer information recording medium as described. 前記紫外線透過テーブルが石英であることを特徴とする請求項8又は9に記載の多層情報記録媒体の製造装置。 10. The apparatus for manufacturing a multilayer information recording medium according to claim 8, wherein the ultraviolet transmitting table is made of quartz. 前記信号転写基板の前記紫外線透過テーブルへの固定は、前記信号転写基板の内周部もしくは内外周の両方の縁部であって、前記縁部は前記信号転写基板上に貼り合わされる基板上の紫外線硬化樹脂の塗布領域を含まないことを特徴とする請求項8に記載の多層情報記録媒体の製造装置。 The signal transfer substrate is fixed to the ultraviolet transmission table at both edges of the inner periphery or inner periphery of the signal transfer substrate, and the edges are on the substrate to be bonded to the signal transfer substrate. The apparatus for producing a multilayer information recording medium according to claim 8, wherein an application region of the ultraviolet curable resin is not included. 前記信号転写基板を下方に向かって押圧する加圧手段をさらに有し、
前記加圧手段は、前記紫外線照射手段と、前記紫外線透過テーブルを挟んで前記信号転写基板と対向する側に配置されていることを特徴とする請求項8に記載の多層情報記録媒体の製造装置。
A pressurizing means for pressing the signal transfer substrate downward;
9. The apparatus for producing a multilayer information recording medium according to claim 8, wherein the pressurizing unit is disposed on the side facing the signal transfer substrate with the ultraviolet irradiation unit and the ultraviolet transmission table interposed therebetween. .
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