JP2011173295A - Relief printing plate original plate for laser engraving and method for manufacturing the same, and relief printing plate and method for manufacturing the same - Google Patents

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<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a method of manufacturing a relief printing plate original plate for laser engraving capable of obtaining the relief printing plate original plate for laser engraving excellent in adhesiveness and the plane property of a plate surface, a method of manufacturing a relief printing plate with the usage of the relief printing plate original plate for laser engraving manufactured by the manufacturing method, and the relief printing plate manufactured by the method. <P>SOLUTION: The method of manufacturing the relief printing plate original plate for laser engraving includes a layer forming process for forming a recording layer on a base material, a pasting process for pasting a supporting body on a surface confronting a base material side surface in the layer forming process of the recording layer by applying a photo-curable adhesive, and a bonding process for bonding the recording layer and the supporting body by curing the photo-curable adhesive by light. The photo-curable adhesive contains a (meth)acrylate compound having a hydroxyl group, a (meth)acrylate compound having no hydroxyl group, and a photopolymerization initiator. <P>COPYRIGHT: (C)2011,JPO&INPIT

Description

本発明は、レーザー彫刻用レリーフ印刷版原版及びその製造方法、並びに、レリーフ印刷版及びその製版方法に関する。   The present invention relates to a relief printing plate precursor for laser engraving and a production method thereof, and a relief printing plate and a plate making method thereof.

支持体表面に積層された感光性樹脂層に凹凸を形成して印刷版を形成する方法としては、感光性組成物を用いて形成した記録層を、原画フィルムを介して紫外光により露光し、画像部分を選択的に硬化させて、未硬化部を現像液により除去する方法、いわゆる「アナログ製版」がよく知られている。
レリーフ印刷版は、凹凸を有するレリーフ層を有する凸版印刷版であり、このような凹凸を有するレリーフ層は、主成分として、例えば、合成ゴムのようなエラストマー性ポリマー、熱可塑性樹脂などの樹脂、あるいは、樹脂と可塑剤との混合物を含有する感光性組成物を含有する記録層をパターニングし、凹凸を形成することにより得られる。このようなレリーフ印刷版うち、軟質なレリーフ層を有するものをフレキソ版と称することがある。
レリーフ印刷版をアナログ製版により作製する場合、一般に銀塩材料を用いた原画フィルムを必要とするため、原画フィルムの製造時間及びコストを要する。さらに、原画フィルムの現像に化学的な処理が必要で、かつ現像廃液の処理をも必要とすることから、さらに簡易な版の作製方法、例えば、原画フィルムを用いない方法、現像処理を必要としない方法などが検討されている。
As a method of forming a printing plate by forming irregularities on the photosensitive resin layer laminated on the support surface, the recording layer formed using the photosensitive composition is exposed with ultraviolet light through the original film, A method of selectively curing an image portion and removing an uncured portion with a developer, so-called “analog plate making” is well known.
The relief printing plate is a relief printing plate having a relief layer having irregularities, and the relief layer having such irregularities includes, for example, an elastomeric polymer such as synthetic rubber, a resin such as a thermoplastic resin, Alternatively, it is obtained by patterning a recording layer containing a photosensitive composition containing a mixture of a resin and a plasticizer to form irregularities. Of such relief printing plates, those having a soft relief layer are sometimes referred to as flexographic plates.
When producing a relief printing plate by analog plate making, since an original image film using a silver salt material is generally required, the production time and cost of the original image film are required. Furthermore, since chemical processing is required for development of the original image film and processing of the development waste liquid is also required, a simpler plate preparation method, for example, a method that does not use the original image film, and development processing are required. The method of not doing is examined.

近年は、原画フィルムを必要とせず、走査露光により記録層の製版を行う方法が検討されている。
原画フィルムを必要としない手法として、記録層上に画像マスクを形成可能なレーザー感応式のマスク層要素を設けたレリーフ印刷版原版が提案されている(例えば、特許文献1、2参照。)。これらの原版の製版方法によれば、画像データに基づいたレーザー照射によりマスク層要素から原画フィルムと同様の機能を有する画像マスクが形成されるため、「マスクCTP方式」と称されており、原画フィルムは必要ではないが、その後の製版処理は、画像マスクを介して紫外光で露光し、未硬化部を現像除去する工程であり、現像処理を必要とする点でなお改良の余地がある。
In recent years, a method of making a recording layer by scanning exposure without using an original film has been studied.
As a technique that does not require an original film, a relief printing plate precursor having a laser-sensitive mask layer element capable of forming an image mask on a recording layer has been proposed (see, for example, Patent Documents 1 and 2). According to these plate making methods, since an image mask having the same function as the original film is formed from the mask layer element by laser irradiation based on the image data, it is referred to as “mask CTP method”. A film is not necessary, but the subsequent plate making process is a process of exposing with ultraviolet light through an image mask to develop and remove an uncured portion, and there is still room for improvement in that a development process is required.

現像工程を必要としない製版方法として、記録層をレーザーにより直接彫刻し製版する、いわゆる「直彫りCTP方式」が多く提案されている。直彫りCTP方式は、文字通りレーザーで彫刻することにより、レリーフとなる凹凸を形成する方法で、原画フィルムを用いたレリーフ形成と異なり、自由にレリーフ形状を制御することができるという利点がある。このため、抜き文字の如き画像を形成する場合、その領域を他の領域よりも深く彫刻する、又は、微細網点画像では、印圧に対する抵抗を考慮し、ショルダーをつけた彫刻をする、なども可能である。
これまで直彫りCTP方式で用いられた版材に関して、版材の特性を決定するバインダーとして、疎水性のエラストマー(ゴム)を用いたもの(例えば、特許文献1〜6参照。)や、親水性のポリビニルアルコール誘導体を用いたもの(例えば、特許文献7参照。)などが多数提案されている。
Many so-called “direct engraving CTP methods” have been proposed as plate making methods that do not require a development step, in which a recording layer is directly engraved by laser to make a plate. The direct engraving CTP method literally engraves with a laser to form reliefs, and has the advantage that the relief shape can be freely controlled, unlike the relief formation using the original film. For this reason, when an image such as a letter is formed, the area is engraved deeper than other areas, or the fine halftone dot image is engraved with a shoulder in consideration of resistance to printing pressure, etc. Is also possible.
Regarding the plate material that has been used in the direct engraving CTP method so far, a hydrophobic elastomer (rubber) is used as a binder that determines the properties of the plate material (for example, see Patent Documents 1 to 6), and hydrophilicity. Many products using the polyvinyl alcohol derivative (see, for example, Patent Document 7) have been proposed.

米国特許第5798202号明細書US Pat. No. 5,798,202 米国特許出願公開第2008/0061036号明細書US Patent Application Publication No. 2008/0061036 特開2002−3665号公報Japanese Patent Laid-Open No. 2002-3665 特許第3438404号公報Japanese Patent No. 3438404 特開2004−262135号公報JP 2004-262135 A 特開2001−121833号公報JP 2001-121833 A 特開2006−2061号公報JP 2006-2061 A

本発明の目的は、密着性、及び、版面の平面性に優れるレーザー彫刻用レリーフ印刷版原版を得ることができるレーザー彫刻用レリーフ印刷版原版の製造方法、前記製造方法により得られたレーザー彫刻用レリーフ印刷版原版を用いたレリーフ印刷版の製版方法、及び、それにより得られたレリーフ印刷版を提供することである。   An object of the present invention is to provide a method for producing a relief printing plate precursor for laser engraving capable of obtaining a relief printing plate precursor for laser engraving having excellent adhesion and flatness of the plate surface, and for laser engraving obtained by the production method. It is to provide a plate making method of a relief printing plate using a relief printing plate precursor and a relief printing plate obtained thereby.

本発明の上記課題は以下の<1>、<10>、<11>及び<13>に記載の手段により解決された。好ましい実施態様である<2>〜<9>及び<12>と共に以下に記載する。
<1>基材上に記録層を形成する層形成工程、前記記録層の前記層形成工程における基材側の面と対向する面に光硬化性接着剤を付与し支持体と貼り合わせる貼合工程、及び、前記光硬化性接着剤を光により硬化して前記記録層と前記支持体とを接着する接着工程、を含み、前記光硬化性接着剤が、水酸基を有する(メタ)アクリレート化合物、水酸基を有しない(メタ)アクリレート化合物、及び、光重合開始剤を含有することを特徴とするレーザー彫刻用レリーフ印刷版原版の製造方法、
<2>前記記録層の膜厚が、0.5〜10mmである、上記<1>に記載のレーザー彫刻用レリーフ印刷版原版の製造方法、
<3>前記光硬化性接着剤が、水酸基を有する(メタ)アクリレート化合物、水酸基を有しない(メタ)アクリレート化合物、及び、光重合開始剤のみからなる、上記<1>又は<2>に記載のレーザー彫刻用レリーフ印刷版原版の製造方法、
<4>前記記録層の前記層形成工程における基材側の面に剥離可能な保護層を形成する保護工程を含む、上記<1>〜<3>のいずれか1つに記載のレーザー彫刻用レリーフ印刷版原版の製造方法、
<5>前記記録層が、バインダーポリマー、及び、光熱変換剤を含有する、上記<1>〜<4>のいずれか1つに記載のレーザー彫刻用レリーフ印刷版原版の製造方法、
<6>前記光熱変換剤が、カーボンブラックを含む、上記<5>に記載のレーザー彫刻用レリーフ印刷版原版の製造方法、
<7>前記記録層が、シロキサン結合を有する、上記<1>〜<6>のいずれか1つに記載のレーザー彫刻用レリーフ印刷版原版の製造方法、
<8>前記層形成工程が、バインダーポリマーと、光熱変換剤と、反応性シラン化合物と、を含む樹脂組成物からなる記録層を基材上に形成する工程である、上記<1>〜<7>のいずれか1つに記載のレーザー彫刻用レリーフ印刷版原版の製造方法、
<9>前記層形成工程と前記貼合工程との間に、前記記録層を熱架橋する架橋工程を含む、上記<8>に記載のレーザー彫刻用レリーフ印刷版原版の製造方法、
<10>上記<1>〜<9>のいずれか1つに記載の製造方法により得られたことを特徴とするレーザー彫刻用レリーフ印刷版原版、
<11>上記<1>〜<9>のいずれか1つに記載の製造方法により得られたレーザー彫刻用レリーフ印刷版原版の前記記録層をレーザー彫刻しレリーフ層を形成する彫刻工程、を含むことを特徴とするレリーフ印刷版の製版方法、
<12>前記彫刻工程において、波長700〜1,300nmのファイバー付き半導体レーザーにより彫刻する、上記<11>に記載のレリーフ印刷版の製版方法、
<13>上記<11>又は<12>に記載のレリーフ印刷版の製版方法により製造されたレリーフ層を有することを特徴とするレリーフ印刷版。
The above-described problems of the present invention have been solved by the means described in <1>, <10>, <11> and <13> below. It is described below together with <2> to <9> and <12> which are preferred embodiments.
<1> A layer forming step for forming a recording layer on a base material, and a bonding method in which a photocurable adhesive is applied to the surface of the recording layer facing the base material side in the layer forming step and bonded to a support. A step, and an adhesive step of curing the photocurable adhesive with light to adhere the recording layer and the support, wherein the photocurable adhesive has a hydroxyl group (meth) acrylate compound, A method for producing a relief printing plate precursor for laser engraving, comprising a (meth) acrylate compound having no hydroxyl group, and a photopolymerization initiator,
<2> The method for producing a relief printing plate precursor for laser engraving according to <1>, wherein the recording layer has a thickness of 0.5 to 10 mm,
<3> The above-mentioned <1> or <2>, wherein the photocurable adhesive is composed only of a hydroxyl group-containing (meth) acrylate compound, a hydroxyl group-free (meth) acrylate compound, and a photopolymerization initiator. Manufacturing method of relief printing plate precursor for laser engraving
<4> For laser engraving according to any one of the above items <1> to <3>, including a protective step of forming a peelable protective layer on the substrate side surface in the layer forming step of the recording layer. Manufacturing method of relief printing plate precursor,
<5> The method for producing a relief printing plate precursor for laser engraving according to any one of the above <1> to <4>, wherein the recording layer contains a binder polymer and a photothermal conversion agent,
<6> The method for producing a relief printing plate precursor for laser engraving according to <5>, wherein the photothermal conversion agent contains carbon black,
<7> The method for producing a relief printing plate precursor for laser engraving according to any one of the above <1> to <6>, wherein the recording layer has a siloxane bond,
<8> The above <1> to <1>, wherein the layer forming step is a step of forming a recording layer comprising a resin composition containing a binder polymer, a photothermal conversion agent, and a reactive silane compound on a substrate. 7> The method for producing a relief printing plate precursor for laser engraving according to any one of 7>,
<9> The method for producing a relief printing plate precursor for laser engraving according to the above <8>, comprising a crosslinking step of thermally crosslinking the recording layer between the layer forming step and the bonding step,
<10> A relief printing plate precursor for laser engraving, obtained by the production method according to any one of <1> to <9> above,
<11> A engraving step of forming a relief layer by laser engraving the recording layer of the relief printing plate precursor for laser engraving obtained by the production method according to any one of <1> to <9> above A method for making a relief printing plate,
<12> In the engraving step, engraving with a fiber-coupled semiconductor laser having a wavelength of 700 to 1,300 nm, the method for making a relief printing plate according to <11> above,
<13> A relief printing plate having a relief layer produced by the plate making method of a relief printing plate according to <11> or <12>.

本発明によれば、密着性、及び、版面の平面性に優れるレーザー彫刻用レリーフ印刷版原版を得ることができるレーザー彫刻用レリーフ印刷版原版の製造方法、前記製造方法により得られたレーザー彫刻用レリーフ印刷版原版を用いたレリーフ印刷版の製版方法、及び、それにより得られたレリーフ印刷版を提供することができた。   ADVANTAGE OF THE INVENTION According to this invention, the manufacturing method of the relief printing plate precursor for laser engraving which can obtain the relief printing plate precursor for laser engraving which is excellent in adhesiveness and the flatness of a plate surface, for laser engraving obtained by the said manufacturing method A method for making a relief printing plate using the relief printing plate precursor, and a relief printing plate obtained thereby were provided.

本発明のレリーフ印刷版原版の製造方法に用いられる製造装置の一例を示す概略図である。It is the schematic which shows an example of the manufacturing apparatus used for the manufacturing method of the relief printing plate precursor of this invention. カール評価の評価方法を示す模式概略図である。It is a schematic diagram which shows the evaluation method of curl evaluation.

以下、本発明について詳細に説明する。   Hereinafter, the present invention will be described in detail.

(レーザー彫刻用レリーフ印刷版原版の製造方法)
本発明のレーザー彫刻用レリーフ印刷版原版(以下、単に「レリーフ印刷版原版」ともいう。)の製造方法は、基材上に記録層を形成する層形成工程、前記記録層の前記層形成工程における基材側の面と対向する面に光硬化性接着剤を付与し支持体と貼り合わせる貼合工程、及び、前記光硬化性接着剤を光により硬化して前記記録層と前記支持体とを接着する接着工程、を含み、前記光硬化性接着剤が、水酸基を有する(メタ)アクリレート化合物、水酸基を有しない(メタ)アクリレート化合物、及び、光重合開始剤を含有することを特徴とする。
すなわち、本発明のレーザー彫刻用レリーフ印刷版原版の製造方法は、基材上に記録層を形成し、前記記録層の前記基材側の面と対向する面、いわゆる空気面に、特定の光硬化性接着剤を付与し支持体と貼り合わせ、前記光硬化性接着剤を光により硬化して接着することを少なくとも含む方法である。
本発明のレリーフ印刷版原版の製造方法により得られるレリーフ印刷版原版は、前記記録層の前記層形成工程における基材側の面がレーザー彫刻を行う描画面となる。
また、本発明のレーザー彫刻用レリーフ印刷版原版は、本発明のレーザー彫刻用レリーフ印刷版原版の製造方法により得られるレーザー彫刻用レリーフ印刷版原版である。
(Manufacturing method of relief printing plate precursor for laser engraving)
The method for producing a relief printing plate precursor for laser engraving of the present invention (hereinafter also simply referred to as “relief printing plate precursor”) includes a layer forming step of forming a recording layer on a substrate, and the layer forming step of the recording layer. A bonding step in which a photocurable adhesive is applied to a surface opposite to the substrate side surface of the substrate and bonded to a support; and the recording layer and the support are cured by curing the photocurable adhesive with light. The photocurable adhesive contains a (meth) acrylate compound having a hydroxyl group, a (meth) acrylate compound not having a hydroxyl group, and a photopolymerization initiator. .
That is, according to the method for producing a relief printing plate precursor for laser engraving of the present invention, a recording layer is formed on a substrate, and a specific light is applied to a surface facing the substrate side surface of the recording layer, a so-called air surface. It is a method including at least a step of applying a curable adhesive and bonding it to a support, and curing and bonding the photocurable adhesive with light.
In the relief printing plate precursor obtained by the method for producing a relief printing plate precursor of the present invention, the surface of the recording layer on the substrate side in the layer forming step becomes a drawing surface on which laser engraving is performed.
The relief printing plate precursor for laser engraving of the present invention is a relief printing plate precursor for laser engraving obtained by the method for producing a relief printing plate precursor for laser engraving of the present invention.

<層形成工程>
本発明のレリーフ印刷版原版の製造方法は、基材上に記録層を形成する層形成工程を含む。
前記層形成工程における基材は、特に制限はなく、公知の基材を用いることができる。
基材の形状としては、シート状であっても、ベルト状であっても、板状であってもよく、特に制限はないが、ベルト状であることが好ましい。また、基材の材質も、特に制限はなく、樹脂、ゴム、金属等、公知の材質であればよい。
前記層形成工程において、基材と記録層とは、直接接していても、直接接していなくとも、例えば、基材と記録層との間に保護層等の他の層を有していてもよいが、直接接していることが好ましい。基材と記録層と直接接していることにより、記録層の描画面を、必要に応じて、基材の表面形状に対応する所望の表面形状にすることができる。
また、前記基材が記録層に直接接する場合、前記基材の記録層と接する側の表面は、平坦であることが好ましい。
<Layer formation process>
The method for producing a relief printing plate precursor according to the invention includes a layer forming step of forming a recording layer on a substrate.
There is no restriction | limiting in particular in the base material in the said layer formation process, A well-known base material can be used.
The shape of the base material may be a sheet shape, a belt shape, or a plate shape, and is not particularly limited, but is preferably a belt shape. The material of the base material is not particularly limited, and may be a known material such as resin, rubber, metal or the like.
In the layer forming step, the base material and the recording layer may be in direct contact with each other or may not have direct contact with each other, for example, there may be another layer such as a protective layer between the base material and the recording layer. Good, but preferably in direct contact. By directly contacting the base material and the recording layer, the drawing surface of the recording layer can be changed to a desired surface shape corresponding to the surface shape of the base material, if necessary.
In addition, when the substrate is in direct contact with the recording layer, the surface of the substrate in contact with the recording layer is preferably flat.

本発明における記録層は、特に制限はなく、公知のものを用いることができるが、後述するレーザー彫刻用樹脂組成物からなる層、又は、後述するレーザー彫刻用樹脂組成物を硬化した層であることが好ましい。また、前記記録層は、架橋構造を有することが好ましく、また、熱及び/又は光により架橋させた層であることが好ましい。
前記層形成工程において、基材上に記録層を形成する方法としては、特に制限はないが、レーザー彫刻用樹脂組成物を調製し、必要に応じて、このレリーフ彫刻用樹脂組成物から溶剤を除去した後に、基材上に溶融押し出しする方法や、基材上に樹脂組成物を流延し前記樹脂組成物中の溶剤の少なくとも一部を除去し記録層を形成する方法が好ましく例示でき、基材上に樹脂組成物を流延し前記樹脂組成物中の溶剤の少なくとも一部を除去し記録層を形成する方法がより好ましく例示できる。
レーザー彫刻用樹脂組成物は、例えば、架橋剤、バインダーポリマー、及び、任意成分として、光熱変換剤、香料、可塑剤を適当な溶媒に溶解させることによって製造できる。溶媒成分のほとんどは、レリーフ印刷版原版を製造する段階で除去する必要があるので、溶媒としては、揮発しやすい低分子アルコール(例えば、メタノール、エタノール、n−プロパノール、イソプロパノール、プロピレングリコールモノメチルエーテル)等を用い、かつ温度を調整するなどして溶媒の全添加量をできるだけ少なく抑えることが好ましい。
前記レーザー彫刻用樹脂組成物は、後述するものを好ましく用いることができる。
レーザー彫刻用レリーフ印刷版原版における記録層の厚さは、架橋の前後において、0.05mm以上20mm以下が好ましく、0.5mm以上10mm以下がより好ましく、0.5mm以上7mm以下が更に好ましく、0.5mm以上3mm以下が特に好ましい。
The recording layer in the present invention is not particularly limited, and a known layer can be used, and is a layer made of a resin composition for laser engraving described later or a layer obtained by curing a resin composition for laser engraving described later. It is preferable. The recording layer preferably has a crosslinked structure, and is preferably a layer crosslinked by heat and / or light.
In the layer forming step, the method for forming the recording layer on the substrate is not particularly limited, but a resin composition for laser engraving is prepared, and if necessary, a solvent is removed from the resin composition for relief engraving. Preferably, after removal, a method of melt extrusion on a substrate and a method of casting a resin composition on a substrate and removing at least a part of the solvent in the resin composition to form a recording layer can be exemplified, More preferred examples include a method of casting a resin composition on a substrate and removing at least a part of the solvent in the resin composition to form a recording layer.
The resin composition for laser engraving can be produced, for example, by dissolving a crosslinking agent, a binder polymer, and optional components such as a photothermal conversion agent, a fragrance, and a plasticizer in a suitable solvent. Since most of the solvent components need to be removed at the stage of producing the relief printing plate precursor, the solvent is a low-molecular alcohol that easily volatilizes (eg, methanol, ethanol, n-propanol, isopropanol, propylene glycol monomethyl ether). It is preferable to keep the total amount of solvent added as small as possible by adjusting the temperature.
As the resin composition for laser engraving, those described later can be preferably used.
The thickness of the recording layer in the relief printing plate precursor for laser engraving is preferably from 0.05 mm to 20 mm, more preferably from 0.5 mm to 10 mm, still more preferably from 0.5 mm to 7 mm, before and after crosslinking. Particularly preferred is 5 mm or more and 3 mm or less.

本発明のレリーフ印刷版原版における記録層は、レーザー彫刻性の観点から、架橋構造を有していることが好ましく、更に取り扱いの容易性等の観点から、前記貼合工程の前の段階で、架橋構造を有していることがより好ましい。
本発明のレリーフ印刷版原版の製造方法は、前記記録層を光及び/又は熱により架橋する架橋工程を含むことが好ましく、取り扱いの容易性等の観点から、前記貼合工程の前の段階で、前記架橋工程を含むことがより好ましい。
本発明のレリーフ印刷版原版の製造方法は、レーザー彫刻用樹脂組成物を基材上に流延して記録層を形成する層形成工程、及び、前記層形成工程と前記貼合工程との間に、前記記録層を熱架橋する架橋工程を含むことが好ましい。記録層を架橋することで、第1にレーザー彫刻後形成されるレリーフがシャープになり、第2にレーザー彫刻の際に発生する彫刻カスの粘着性が抑制されるという利点がある。
また、前記架橋は、光及び/又は熱により行うことが好ましい。
光としては、可視光、紫外光又は電子線が挙げられるが、紫外光が最も好ましい。また、光の照射は、記録層全面に行うことが好ましい。光による架橋において、記録層の支持体側を裏面とすれば、表面に光を照射するだけでもよいが、支持体が光を透過する透明なフィルムならば、更に裏面からも光を照射することが好ましい。表面からの照射は、保護フィルムが存在する場合、これを設けたまま行ってもよいし、保護フィルムを剥離した後に行ってもよい。酸素の存在下において架橋反応が阻害される恐れがある場合は、記録層に塩化ビニルシートを被せて真空引きした上で、光の照射を行ってもよい。また、光の照射は、公知の光源を用いることができる。
熱により架橋を行うための加熱手段としては、印刷版原版を熱風オーブンや遠赤外オーブン内で所定時間加熱する方法や、加熱したロールに所定時間接する方法が挙げられる。
前記架橋工程における記録層の架橋方法としては、記録層を表面から内部まで均一に硬化(架橋)可能という観点で、熱による架橋の方が好ましい。
The recording layer in the relief printing plate precursor of the present invention preferably has a cross-linked structure from the viewpoint of laser engraving properties, and from the viewpoint of ease of handling and the like, in the stage before the pasting step, More preferably, it has a crosslinked structure.
The method for producing a relief printing plate precursor according to the invention preferably includes a crosslinking step of crosslinking the recording layer with light and / or heat, and from the viewpoint of ease of handling, etc., at the stage before the bonding step. More preferably, the crosslinking step is included.
The method for producing a relief printing plate precursor according to the present invention includes a layer forming step of casting a resin composition for laser engraving on a substrate to form a recording layer, and between the layer forming step and the laminating step. In addition, it is preferable to include a crosslinking step of thermally crosslinking the recording layer. By crosslinking the recording layer, there is an advantage that the relief formed first after laser engraving becomes sharp, and secondly, the adhesiveness of engraving residue generated during laser engraving is suppressed.
The cross-linking is preferably performed by light and / or heat.
Examples of light include visible light, ultraviolet light, and electron beam, but ultraviolet light is most preferable. Further, it is preferable that the light irradiation is performed on the entire surface of the recording layer. In the cross-linking by light, if the support side of the recording layer is the back side, it is only necessary to irradiate the surface. However, if the support is a transparent film that transmits light, the back side can also be irradiated from the back side. preferable. When the protective film exists, the irradiation from the surface may be performed while the protective film is provided, or may be performed after the protective film is peeled off. If there is a possibility that the crosslinking reaction may be inhibited in the presence of oxygen, the recording layer may be covered with a vinyl chloride sheet and evacuated and then irradiated with light. A known light source can be used for light irradiation.
Examples of the heating means for crosslinking by heat include a method of heating the printing plate precursor in a hot air oven or a far infrared oven for a predetermined time, and a method of contacting a heated roll for a predetermined time.
As a method for cross-linking the recording layer in the cross-linking step, thermal cross-linking is preferable from the viewpoint that the recording layer can be uniformly cured (cross-linked) from the surface to the inside.

<貼合工程>
本発明のレーザー彫刻用レリーフ印刷版原版の製造方法は、前記記録層の前記層形成工程における基材側の面と対向する面に光硬化性接着剤を付与し支持体と貼り合わせる貼合工程を含む。
また、前記光硬化性接着剤は、水酸基を有する(メタ)アクリレート化合物、水酸基を有しない(メタ)アクリレート化合物、及び、光重合開始剤を含有する。
前記光硬化性接着剤は、上記以外の公知の添加剤を含有していてもよいが、有機溶剤などのエチレン性不飽和基を有しない揮発性有機化合物(VOC)を含有しないことが好ましく、水酸基を有する(メタ)アクリレート化合物、水酸基を有しない(メタ)アクリレート化合物、及び、光重合開始剤のみからなることがより好ましい。
前記貼合工程においては、前記記録層の前記層形成工程における基材側の面と対向する面、いわゆる空気面に特定の光硬化性接着剤を付与することが重要である。上記態様をとることにより、接着性及び膜厚均一性に優れたレリーフ印刷版原版が得られる。
前記貼合工程における前記記録層に光硬化性接着剤を付与する方法としては、特に制限はなく、公知の方法により行うことができる。
また、前記貼合工程における記録層と支持体とを貼り合わせる方法としては、特に制限はなく、公知の方法により行うことができる。
<Bonding process>
The method for producing a relief printing plate precursor for laser engraving of the present invention is a bonding step in which a photocurable adhesive is applied to the surface of the recording layer facing the substrate side in the layer forming step, and is bonded to a support. including.
Moreover, the said photocurable adhesive agent contains the (meth) acrylate compound which has a hydroxyl group, the (meth) acrylate compound which does not have a hydroxyl group, and a photoinitiator.
The photocurable adhesive may contain a known additive other than the above, but preferably does not contain a volatile organic compound (VOC) having no ethylenically unsaturated group such as an organic solvent, More preferably, it consists only of a (meth) acrylate compound having a hydroxyl group, a (meth) acrylate compound not having a hydroxyl group, and a photopolymerization initiator.
In the bonding step, it is important to apply a specific photocurable adhesive to the surface of the recording layer facing the substrate side in the layer forming step, so-called air surface. By taking the said aspect, the relief printing plate precursor excellent in adhesiveness and film thickness uniformity is obtained.
There is no restriction | limiting in particular as a method to provide a photocurable adhesive agent to the said recording layer in the said bonding process, It can carry out by a well-known method.
Moreover, there is no restriction | limiting in particular as a method of bonding the recording layer and support body in the said bonding process, It can carry out by a well-known method.

〔支持体〕
レーザー彫刻用レリーフ印刷版原版の支持体に使用する素材は特に限定されないが、寸法安定性の高いものが好ましく使用され、例えば、スチール、ステンレス、アルミニウムなどの金属、ポリエステル(例えばPET(ポリエチレンテレフタレート)、PBT(ポリブチレンテレフタレート)、PAN(ポリアクリロニトリル))やポリ塩化ビニルなどのプラスチック樹脂、スチレン−ブタジエンゴムなどの合成ゴム、ガラスファイバーで補強されたプラスチック樹脂(エポキシ樹脂やフェノール樹脂など)が挙げられる。支持体としては、PETフィルムやスチール基板が好ましく用いられる。これらの中でも、透明支持体であることが好ましく、PETフィルムであることがより好ましい。
[Support]
The material used for the support of the relief printing plate precursor for laser engraving is not particularly limited, but materials having high dimensional stability are preferably used. For example, metals such as steel, stainless steel and aluminum, polyester (for example, PET (polyethylene terephthalate)) , Plastic resins such as PBT (polybutylene terephthalate), PAN (polyacrylonitrile)) and polyvinyl chloride, synthetic rubbers such as styrene-butadiene rubber, and plastic resins reinforced with glass fibers (such as epoxy resins and phenol resins) It is done. As the support, a PET film or a steel substrate is preferably used. Among these, a transparent support is preferable, and a PET film is more preferable.

〔水酸基を有する(メタ)アクリレート化合物〕
前記光硬化性接着剤は、水酸基を有する(メタ)アクリレート化合物を含有する。
水酸基を有する(メタ)アクリレート化合物としては、水酸基(ヒドロキシ基)と(メタ)アクリロイル基を少なくとも有するものであれば、特に制限はないが、1つの水酸基を有する単官能(メタ)アクリレート化合物であることが好ましく、下記式(A)で表される化合物であることがより好ましい。なお、本発明において、「(メタ)アクリル」とは、「アクリル」及び「メタクリル」のいずれか一方、又は、その両方を含む語であり、また、「(メタ)アクリレート」、「(メタ)アクリロイル」についても同様である。
[(Meth) acrylate compound having a hydroxyl group]
The photocurable adhesive contains a (meth) acrylate compound having a hydroxyl group.
The (meth) acrylate compound having a hydroxyl group is not particularly limited as long as it has at least a hydroxyl group (hydroxy group) and a (meth) acryloyl group, but is a monofunctional (meth) acrylate compound having one hydroxyl group. The compound represented by the following formula (A) is more preferable. In the present invention, “(meth) acryl” is a term including one or both of “acryl” and “methacryl”, and also includes “(meth) acrylate”, “(meth)”. The same applies to “acryloyl”.

Figure 2011173295
Figure 2011173295

また、式(A)中、R1はアルキレン基を表し、炭素数2〜20のアルキレン基であることが好ましく、炭素数2〜10のアルキレン基であることがより好ましい。
また、R1におけるアルキレン基は、直鎖状であっても、分岐を有していても、環構造を有していてもよい。また、R1におけるアルキレン基は、置換基を有していてもよい。置換基としては、ハロゲン原子、ヒドロキシ基、アルコキシ基、アリール基、及び、アリールオキシ基が好ましく例示できる。
また、式(A)中、R2は水素原子又はメチル基を表す。
水酸基を有する(メタ)アクリレート化合物の具体例としては、2−ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート、ヒドロキシブチル(メタ)アクリレート、ヒドロキシヘキシル(メタ)アクリレート、ヒドロキシオクチル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシ−3−フェノキシプロピル(メタ)アクリレート及び2−ヒドロキシ−3−クロロプロピル(メタ)アクリレート、ジグリセロールジ(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシ−3−フェノキシプロピル(メタ)アクリレート、シクロヘキサノキシ−β−ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート、テトラヒドロフルフロキシ−β−ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート、ノニルオキシ−β−ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレートなどが例示できる。
水酸基を有する(メタ)アクリレート化合物は、1種単独で使用しても、2種以上を併用してもよい。
前記光硬化性接着剤中の水酸基を有する(メタ)アクリレート化合物の含有量は、光硬化性接着剤100重量部に対し、10〜80重量部であることが好ましく、20〜65重量部であることがより好ましい。
In formula (A), R 1 represents an alkylene group, preferably an alkylene group having 2 to 20 carbon atoms, and more preferably an alkylene group having 2 to 10 carbon atoms.
Further, the alkylene group in R 1 may be linear, branched or a ring structure. Moreover, the alkylene group in R 1 may have a substituent. Preferred examples of the substituent include a halogen atom, a hydroxy group, an alkoxy group, an aryl group, and an aryloxy group.
In formula (A), R 2 represents a hydrogen atom or a methyl group.
Specific examples of the (meth) acrylate compound having a hydroxyl group include 2-hydroxyethyl (meth) acrylate, 2-hydroxypropyl (meth) acrylate, hydroxybutyl (meth) acrylate, hydroxyhexyl (meth) acrylate, hydroxyoctyl (meta ) Acrylate, 2-hydroxy-3-phenoxypropyl (meth) acrylate and 2-hydroxy-3-chloropropyl (meth) acrylate, diglycerol di (meth) acrylate, 2-hydroxy-3-phenoxypropyl (meth) acrylate, Cyclohexanoxy-β-hydroxypropyl (meth) acrylate, tetrahydrofurfuroxy-β-hydroxypropyl (meth) acrylate, nonyloxy-β-hydroxypropyl (meth) acrylate Etc. can be exemplified.
The (meth) acrylate compound having a hydroxyl group may be used alone or in combination of two or more.
The content of the (meth) acrylate compound having a hydroxyl group in the photocurable adhesive is preferably 10 to 80 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the photocurable adhesive, and 20 to 65 parts by weight. It is more preferable.

〔水酸基を有しない(メタ)アクリレート化合物〕
前記光硬化性接着剤は、前記水酸基を有する(メタ)アクリレート化合物以外に、水酸基を有しない(メタ)アクリレート化合物を含有する。
水酸基を有しない(メタ)アクリレート化合物としては、水酸基を有していなければ特に制限はないが、光硬化性接着剤として、水酸基を有しない多官能(メタ)アクリレート化合物を少なくとも含むことが好ましい。
水酸基を有しない(メタ)アクリレート化合物としては、以下の式(B−1)〜式(B−7)で表される化合物が好ましく例示できる。
[(Meth) acrylate compound having no hydroxyl group]
The said photocurable adhesive agent contains the (meth) acrylate compound which does not have a hydroxyl group other than the (meth) acrylate compound which has the said hydroxyl group.
The (meth) acrylate compound having no hydroxyl group is not particularly limited as long as it does not have a hydroxyl group, but it is preferable that the photocurable adhesive contains at least a polyfunctional (meth) acrylate compound having no hydroxyl group.
Preferred examples of the (meth) acrylate compound having no hydroxyl group include compounds represented by the following formulas (B-1) to (B-7).

Figure 2011173295
Figure 2011173295

式(B−1)中、R3は水素原子又は−CH3を表し、R4はそれぞれ独立に、水素原子、−CH3、−C25又は式(B’)で表される基を表し、R5はそれぞれ独立に、水素原子、塩素原子、−CH3又は−C25を表し、R6はそれぞれ独立に、水素原子又は式(B’)で表される基を表し、mはそれぞれ独立に、1〜8の整数を表し、nは1〜20の整数を表し、pはそれぞれ独立に、0又は1を表す。
式(B−1)で表される化合物として具体的には、ジエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、トリエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、テトラエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、1,2−プロピレングリコールジ(メタ)アクリレート、ジプロピレングリコールジ(メタ)アクリレート、ポリエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、グリセリントリ(メタ)アクリレート、トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、ジグリセロールテトラ(メタ)アクリレート等が挙げられる。
In formula (B-1), R 3 represents a hydrogen atom or —CH 3 , and R 4 each independently represents a hydrogen atom, —CH 3 , —C 2 H 5 or a group represented by formula (B ′). R 5 represents each independently a hydrogen atom, a chlorine atom, —CH 3 or —C 2 H 5 , and R 6 each independently represents a hydrogen atom or a group represented by the formula (B ′). , M each independently represents an integer of 1-8, n represents an integer of 1-20, and p independently represents 0 or 1.
Specific examples of the compound represented by the formula (B-1) include diethylene glycol di (meth) acrylate, triethylene glycol di (meth) acrylate, tetraethylene glycol di (meth) acrylate, 1,2-propylene glycol di ( Examples include meth) acrylate, dipropylene glycol di (meth) acrylate, polyethylene glycol di (meth) acrylate, glycerin tri (meth) acrylate, trimethylolpropane tri (meth) acrylate, and diglycerol tetra (meth) acrylate.

Figure 2011173295
Figure 2011173295

式(B−2)中、R7はそれぞれ独立に、水素原子又は−CH3を表し、R8はそれぞれ独立に、水素原子又は炭素数1〜4の直鎖若しくは分岐アルキル基を表し、R9はそれぞれ独立に、炭素数2〜4の直鎖又は分岐アルキレン基を示し、mはそれぞれ独立に、1〜10の整数を表す。
式(B−2)で表される化合物としては具体的には、2,2−ビス(4−メタクリロキシジエトキシフェニル)プロパン、2,2−ビス(4−メタクリロキシトリエトキシフェニル)プロパン、2,2−ビス(4−アクリロキシペンタエトキシフェニル)プロパン、2,2−ビス(4−メタクリロキシヘキサエトキシフェニル)プロパン、2,2−ビス(4−アクリロキシヘプタエトキシフェニル)プロパン、2,2−ビス(4−メタクリロキシオクタエトキシフェニル)プロパン、2,2−ビス(4−アクリロキシジプロポキシフェニル)プロパン、2,2−ビス(4−メタクリロキシトリプロポキシフェニル)プロパン、2,2−ビス(4−アクリロキシジプトキシフェニル)プロパン、2,2−ビス(4−メタクリロキシオクタブトジキシフェニル)プロパン、2−(4−メタクリロキシジエトキシフェニル)−2−(4−メタクリロキシトリエトキシフェニル)プロパン、2−(4−アクリロキシジプロポキシフェニル)−2−(4−アクリロキシトリエトキシフェニル)プロパン等が例示できる。
In formula (B-2), each R 7 independently represents a hydrogen atom or —CH 3 , each R 8 independently represents a hydrogen atom or a linear or branched alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, R Each 9 independently represents a linear or branched alkylene group having 2 to 4 carbon atoms, and each m independently represents an integer of 1 to 10.
Specific examples of the compound represented by the formula (B-2) include 2,2-bis (4-methacryloxydiethoxyphenyl) propane, 2,2-bis (4-methacryloxytriethoxyphenyl) propane, 2,2-bis (4-acryloxypentaethoxyphenyl) propane, 2,2-bis (4-methacryloxyhexaethoxyphenyl) propane, 2,2-bis (4-acryloxyheptaethoxyphenyl) propane, 2, 2-bis (4-methacryloxyoctaethoxyphenyl) propane, 2,2-bis (4-acryloxydipropoxyphenyl) propane, 2,2-bis (4-methacryloxytripropoxyphenyl) propane, 2,2- Bis (4-acryloxydiptooxyphenyl) propane, 2,2-bis (4-methacryloxyoctabutodi Cyphenyl) propane, 2- (4-methacryloxydiethoxyphenyl) -2- (4-methacryloxytriethoxyphenyl) propane, 2- (4-acryloxydipropoxyphenyl) -2- (4-acryloxytriethoxy) And phenyl) propane.

Figure 2011173295
Figure 2011173295

式(B−3)中、R10は水素原子又は−CH3を表し、R11はそれぞれ独立に、水素原子又は炭素数1〜4の直鎖若しくは分岐アルキル基を表し、nは0〜10の整数を表す。
式(B−3)で表される化合物としては具体的には、ジシクロペンテニル(メタ)アクリレート、ジシクロペンテニルオキシエチル(メタ)アクリレート、ジシクロペンテニルオキシプロピル(メタ)アクリレート等が例示できる。
In formula (B-3), R 10 represents a hydrogen atom or —CH 3 , R 11 independently represents a hydrogen atom or a linear or branched alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, and n represents 0 to 10 Represents an integer.
Specific examples of the compound represented by the formula (B-3) include dicyclopentenyl (meth) acrylate, dicyclopentenyloxyethyl (meth) acrylate, and dicyclopentenyloxypropyl (meth) acrylate.

Figure 2011173295
Figure 2011173295

式(B−4)中、R12は水素原子又は−CH3を表し、R13は水素原子、炭素数1〜18の直鎖若しくは分岐アルキル基、炭素数5〜20の環状アルキル基、フェニル基、テトラヒドロフルフリル基、又は、これらの基を有する炭素数5〜20の直鎖若しくは分枝アルキル基を示す。
式(B−4)で表される化合物としては具体的には、メタクリル酸、アクリル酸、メチル(メタ)アクリレート、シクロヘキシル(メタ)アクリレート、テトラヒドロフルフリル(メタ)アクリレート、2−エチルヘキシル(メタ)アクリレート、フェニル(メタ)アクリレート、ベンジル(メタ)アクリレート等が例示できる。
In the formula (B-4), R 12 represents a hydrogen atom or —CH 3 , R 13 represents a hydrogen atom, a linear or branched alkyl group having 1 to 18 carbon atoms, a cyclic alkyl group having 5 to 20 carbon atoms, phenyl A group, a tetrahydrofurfuryl group, or a linear or branched alkyl group having 5 to 20 carbon atoms having these groups.
Specific examples of the compound represented by the formula (B-4) include methacrylic acid, acrylic acid, methyl (meth) acrylate, cyclohexyl (meth) acrylate, tetrahydrofurfuryl (meth) acrylate, and 2-ethylhexyl (meth). Examples thereof include acrylate, phenyl (meth) acrylate, and benzyl (meth) acrylate.

Figure 2011173295
Figure 2011173295

式(B−5)中、R14は水素原子又は−CH3を表し、R15は炭素数1〜20の直鎖若しくは分岐アルキル基、アルケニル基、アリール基、アラルキル基又は直鎖若しくは分岐アルコキシアルキル基を表す。
式(B−5)で表される化合物としては具体的には、メトキシカルボニルメチル(メタ)アクリレート、エトキシカルボニルメチル(メタ)アクリレート、ヘプトキシカルボニルメチル(メタ)アクリレート、イソプロポキシカルボニルメチル(メタ)アクリレート等が挙げられる。
In the formula (B-5), R 14 represents a hydrogen atom or —CH 3 , and R 15 represents a linear or branched alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, an alkenyl group, an aryl group, an aralkyl group, or a linear or branched alkoxy group. Represents an alkyl group.
Specific examples of the compound represented by the formula (B-5) include methoxycarbonylmethyl (meth) acrylate, ethoxycarbonylmethyl (meth) acrylate, heptoxycarbonylmethyl (meth) acrylate, and isopropoxycarbonylmethyl (meth). An acrylate etc. are mentioned.

Figure 2011173295
Figure 2011173295

式(B−6)中、R16はそれぞれ独立に、水素原子又は−CH3を表し、R17はそれぞれ独立に、炭素数2〜4の直鎖又は分枝アルキレン基を表し、mはそれぞれ独立に、1〜10の整数を表し、nは1又は2を表す。 In formula (B-6), each R 16 independently represents a hydrogen atom or —CH 3 , each R 17 independently represents a linear or branched alkylene group having 2 to 4 carbon atoms, and m represents each Independently, it represents an integer of 1 to 10, and n represents 1 or 2.

Figure 2011173295
Figure 2011173295

式(B−7)中、R18はそれぞれ独立に、水素原子又は−CH3を表し、mはそれぞれ独立に、1〜10の整数を表し、nは1又は2を表す。
式(B−6)又は式(B−7)で表される化合物としては具体的には、(メタ)アクリロキシエチルリン酸、1−クロロ−3−(メタ)アクリロキシプロピル−2−リン酸、(メタ)アクリロキシプロピルリン酸等が例示できる。
In formula (B-7), each R 18 independently represents a hydrogen atom or —CH 3 , each m independently represents an integer of 1 to 10, and n represents 1 or 2.
Specific examples of the compound represented by formula (B-6) or formula (B-7) include (meth) acryloxyethyl phosphate, 1-chloro-3- (meth) acryloxypropyl-2-phosphorus Examples thereof include acid and (meth) acryloxypropyl phosphoric acid.

また、水酸基を有しない(メタ)アクリレート化合物としては、ウレタン結合を有する(メタ)アクリレート化合物を用いることができる。
ウレタン結合を有する(メタ)アクリレート化合物としては、例えば、水酸基を有する(メタ)アクリレート化合物と有機ポリイソシアネート化合物との反応生成物や、水酸基を有する(メタ)アクリレート化合物と有機ポリイソシアネート化合物と三価以上のポリオール化合物及び/又はジオール化合物との反応生成物が挙げられる。
具体例としては、ビス(グリセリルウレタン)イソホロンテトラメタクリレート(下記化合物)が好ましく例示できる。
Moreover, as the (meth) acrylate compound having no hydroxyl group, a (meth) acrylate compound having a urethane bond can be used.
Examples of the (meth) acrylate compound having a urethane bond include a reaction product of a (meth) acrylate compound having a hydroxyl group and an organic polyisocyanate compound, a (meth) acrylate compound having a hydroxyl group, an organic polyisocyanate compound, and a trivalent compound. The reaction product with the above polyol compound and / or diol compound is mentioned.
As a specific example, bis (glyceryl urethane) isophorone tetramethacrylate (the following compound) can be preferably exemplified.

Figure 2011173295
Figure 2011173295

これらの中でも、水酸基を有しない(メタ)アクリレート化合物としては、式(B−1)で表される化合物、又は、ウレタン結合を有する(メタ)アクリレート化合物を含むことが好ましく、式(B−1)で表される化合物を含むことがより好ましく、トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレートを含むことが更に好ましい。
水酸基を有しない(メタ)アクリレート化合物は、1種単独で使用しても、2種以上を併用してもよい。
前記光硬化性接着剤中の水酸基を有しないメタアクリレート化合物の含有量は、光硬化性接着剤100重量部に対し、20〜90重量部であることが好ましく、35〜80重量部であることがより好ましい。
Among these, the (meth) acrylate compound having no hydroxyl group preferably includes a compound represented by the formula (B-1) or a (meth) acrylate compound having a urethane bond. It is more preferable that the compound represented by this is included, and it is still more preferable that trimethylol propane tri (meth) acrylate is included.
The (meth) acrylate compound having no hydroxyl group may be used alone or in combination of two or more.
The content of the methacrylate compound having no hydroxyl group in the photocurable adhesive is preferably 20 to 90 parts by weight, and preferably 35 to 80 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the photocurable adhesive. Is more preferable.

〔光重合開始剤〕
前記光硬化性接着剤は、光重合開始剤を含有する。
光重合開始剤としては、特に制限はなく、公知の開始剤を用いることができる。
前記光重合開始剤としては、(a)芳香族ケトン類、(b)オニウム塩化合物、(d)チオ化合物、(e)ヘキサアリールビイミダゾール化合物、(f)ケトオキシムエステル化合物、(g)ボレート化合物、(h)アジニウム化合物、(i)メタロセン化合物、(j)活性エステル化合物、及び、(k)炭素ハロゲン結合を有する化合物が挙げられる。また、これらのラジカル重合開始剤は、特開2008−19408号公報に記載されたものが挙げられる。
また、光重合開始剤の具体例は、例えば、Bruce M. Monroeら著、Chemical Reviews, 93, 435 (1993)や、R. S. Davidson著、Journal of Photochemistry and Biology A: Chemistry, 73, 81 (1993)や、J. P. Faussier "Photoinitiated Polymerization - Theory and Applications": Rapra Review, vol.9, Report, Rapra Technology (1998)や、M. Tsunooka et al., Prog. Polym. Sci., 21, 1 (1996)に多く記載されている。また、有機エレクトロニクス材料研究会編、「イメージング用有機材料」、ぶんしん出版(1993年)、187〜192ページ参照、に化学増幅型フォトレジストに利用される化合物が光重合開始剤として多く記載されている。更には、F. D. Saeva, Topics in Current Chemistry, 156, 59 (1990)、G. G. Maslak, Topics in Current Chemistry, 168, 1 (1993)、H. B. Shuster et al, J. Am. Chem. Soc., 112, 6329 (1990)、I. D. F. Eaton et al, J. Am. Chem. Soc., 102, 3298 (1980)等に記載されているような、増感剤の電子励起状態との相互作用を経て、酸化的又は還元的に結合解裂を生じる化合物群も、光重合開始剤として知られている。
(Photopolymerization initiator)
The photocurable adhesive contains a photopolymerization initiator.
There is no restriction | limiting in particular as a photoinitiator, A well-known initiator can be used.
Examples of the photopolymerization initiator include (a) aromatic ketones, (b) onium salt compounds, (d) thio compounds, (e) hexaarylbiimidazole compounds, (f) ketoxime ester compounds, (g) borates. Compounds, (h) azinium compounds, (i) metallocene compounds, (j) active ester compounds, and (k) compounds having a carbon halogen bond. Examples of these radical polymerization initiators include those described in JP-A-2008-19408.
Specific examples of the photopolymerization initiator include, for example, Bruce M. Monroe et al., Chemical Reviews, 93, 435 (1993) and RS Davidson, Journal of Photochemistry and Biology A: Chemistry, 73, 81 (1993). JP Faussier "Photoinitiated Polymerization-Theory and Applications": Rapra Review, vol.9, Report, Rapra Technology (1998) and M. Tsunooka et al., Prog. Polym. Sci., 21, 1 (1996) Many are described. In addition, many compounds used as chemically amplified photoresists are described as photopolymerization initiators in Organic Electronics Materials Research Group, “Organic Materials for Imaging”, Bunshin Publishing (1993), pages 187-192. ing. Furthermore, FD Saeva, Topics in Current Chemistry, 156, 59 (1990), GG Maslak, Topics in Current Chemistry, 168, 1 (1993), HB Shuster et al, J. Am. Chem. Soc., 112, 6329 (1990), IDF Eaton et al, J. Am. Chem. Soc., 102, 3298 (1980), etc., through the interaction with the electronically excited state of the sensitizer, oxidative or A group of compounds that undergo reductive bond cleavage is also known as a photopolymerization initiator.

また、光重合開始剤として具体的には、ベンジル、ベンゾフェノン、ミヒラーズケトン、2−クロロチオキシサントン、2,4−ジエチルチオキサントン、ベンゾイン、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインイソブチルエーテル、ベンゾインオクチルエーテル、ジエトキシアセトフェノン、ベンジルメチルケタール、1−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、ジアセチル、メチルアントラキノン、アセトフェノン、2−ヒドロキシ−2−メチルプロピオフェノン、アントラキノン、及び、3,3’,4,4’−テトラ(ターシャリーブチルパーオキシカルボニル)ベンゾフェノン等が例示できる。
前記光重合開始剤は、1種単独で使用しても、2種以上を併用してもよい。
前記光硬化性接着剤中の光重合開始剤の含有量は、光硬化性接着剤100重量部に対し、0.1〜20重量部であることが好ましく、0.1〜10重量部であることがより好ましい。
Specific examples of the photopolymerization initiator include benzyl, benzophenone, Michler's ketone, 2-chlorothioxysantone, 2,4-diethylthioxanthone, benzoin, benzoin ethyl ether, benzoin isobutyl ether, benzoin octyl ether, diethoxyacetophenone, Benzyl methyl ketal, 1-hydroxycyclohexyl phenyl ketone, diacetyl, methyl anthraquinone, acetophenone, 2-hydroxy-2-methylpropiophenone, anthraquinone, and 3,3 ′, 4,4′-tetra (tertiary butyl peroxy And carbonyl) benzophenone.
The photopolymerization initiators may be used alone or in combination of two or more.
The content of the photopolymerization initiator in the photocurable adhesive is preferably 0.1 to 20 parts by weight, and 0.1 to 10 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the photocurable adhesive. It is more preferable.

〔その他の成分〕
前記光硬化性接着剤には、前記の成分以外に、必要に応じ、公知の添加剤を含有していてもよいが、前記の成分以外のその他の成分を含まない方が好ましい。
添加剤としては、重合促進剤、安定化剤、着色剤、粘度調整剤等が例示できる。
重合促進剤としては例えば、1,2,3,4−テトラハイドロキノリン、サッカリン、トリエチルアミン、及び、N,N−ジメチルアニリン等が挙げられる。
安定化剤としては、シュウ酸、ジニトロソレゾルシノール、及び、キノン類等が例示できる。
粘度調整剤としては、樹脂等の高分子化合物や有機溶剤などが例示できる。
[Other ingredients]
In addition to the above components, the photocurable adhesive may contain a known additive as required, but it is preferable not to include other components other than the above components.
Examples of the additive include a polymerization accelerator, a stabilizer, a colorant, and a viscosity modifier.
Examples of the polymerization accelerator include 1,2,3,4-tetrahydroquinoline, saccharin, triethylamine, N, N-dimethylaniline, and the like.
Examples of the stabilizer include oxalic acid, dinitrosolesorcinol, and quinones.
Examples of the viscosity modifier include polymer compounds such as resins, organic solvents, and the like.

<接着工程>
本発明のレーザー彫刻用レリーフ印刷版原版の製造方法は、前記光硬化性接着剤を光により硬化して前記記録層と前記支持体とを接着する接着工程を含む。
前記接着工程において使用する光としては、その照射により光硬化性接着剤を硬化することができる活性光線であり、かつ、レリーフ印刷版原版を彫刻可能なレーザー光以外であれば特に制限はなく、広くα線、γ線、X線、紫外線(UV)、可視光線、電子線などを包含するものである。中でも、紫外線を前記光として使用することが特に好ましい。
なお、レーザー光とは、コヒーレンスの高い光であり、指向性や収束性に優れ、例えば、後述する赤外線レーザーなどが例示できる。
前記接着工程に用いることができる光源としては、特に制限はないが、水銀ランプ、メタルハライドランプ等が好ましく例示できる。
また、前記接着工程における光の露光量は、光硬化性接着剤が硬化する量であればよいが、10〜4,000mJ/cm2であることが好ましく、20〜2,500mJ/cm2であることがより好ましい。
また、光による硬化の容易性の点から、前記支持体及び前記記録層の少なくとも1方は、透明であることが好ましく、前記支持体が透明支持体であることがより好ましい。
レリーフ印刷版原版において、前記記録層と前記支持体との間の剥離力が、2N/cm以上であることが好ましく、3N/cm以上であることがより好ましく、4N/cm以上であることが更に好ましい。また、20N/cm以下であることが好ましい。
<Adhesion process>
The method for producing a relief printing plate precursor for laser engraving of the present invention includes an adhesion step of curing the photocurable adhesive with light to adhere the recording layer and the support.
The light used in the bonding step is an actinic ray that can cure the photocurable adhesive by irradiation, and is not particularly limited as long as it is other than laser light that can engrave the relief printing plate precursor, Widely includes α rays, γ rays, X rays, ultraviolet rays (UV), visible rays, electron beams, and the like. Among these, it is particularly preferable to use ultraviolet rays as the light.
Laser light is light with high coherence and is excellent in directivity and convergence, and examples thereof include an infrared laser described later.
Although there is no restriction | limiting in particular as a light source which can be used for the said adhesion process, A mercury lamp, a metal halide lamp, etc. can illustrate preferably.
The exposure amount of light in the bonding step may be an amount which light curable adhesive is cured, but is preferably 10~4,000mJ / cm 2, at 20~2,500mJ / cm 2 More preferably.
In view of the ease of curing by light, at least one of the support and the recording layer is preferably transparent, and the support is more preferably a transparent support.
In the relief printing plate precursor, the peeling force between the recording layer and the support is preferably 2 N / cm or more, more preferably 3 N / cm or more, and more preferably 4 N / cm or more. Further preferred. Moreover, it is preferable that it is 20 N / cm or less.

また、本発明のレリーフ印刷版原版の製造方法は、必要に応じて、前記記録層の前記層形成工程における基材側の面に剥離可能な保護層を形成する保護工程を有していてもよい。保護層を設ける方法としては、例えば、加熱したカレンダーロールなどで保護フィルムと記録層を圧着する方法や、表面に少量の溶媒を含浸させた記録層に保護フィルムを密着させることよって行う方法が挙げられる。
保護フィルムを用いる場合には、前記層形成工程において、まず基材上に保護フィルムを設け、その保護フィルム上に記録層を積層する方法を採ってもよい。
また、保護フィルムが剥離不可能な場合や、逆に記録層に接着しにくい場合には、両層間にスリップコート層を設けてもよい。スリップコート層に使用される材料は、ポリビニルアルコール、ポリ酢酸ビニル、部分鹸化ポリビニルアルコール、ヒドロシキアルキルセルロース、アルキルセルロース、ポリアミド樹脂など、水に溶解又は分散可能で、粘着性の少ない樹脂を主成分とすることが好ましい。
Moreover, the manufacturing method of the relief printing plate precursor of the present invention may have a protective step of forming a peelable protective layer on the surface of the recording layer on the substrate side in the layer forming step of the recording layer, if necessary. Good. Examples of the method for providing the protective layer include a method in which the protective film and the recording layer are pressure-bonded with a heated calendar roll or the like, and a method in which the protective film is adhered to the recording layer impregnated with a small amount of solvent on the surface. It is done.
In the case of using a protective film, in the layer forming step, a method of first providing a protective film on a substrate and laminating a recording layer on the protective film may be employed.
In addition, when the protective film cannot be peeled off or is difficult to adhere to the recording layer, a slip coat layer may be provided between both layers. The material used for the slip coat layer is a resin that is soluble or dispersible in water, such as polyvinyl alcohol, polyvinyl acetate, partially saponified polyvinyl alcohol, hydroxyalkyl cellulose, alkyl cellulose, polyamide resin, etc. It is preferable that

本発明のレリーフ印刷版原版の製造方法に好適に用いられる製造装置としては、特に制限はないが、例えば、図1に示す装置が挙げられる。
図1は、本発明のレリーフ印刷版原版の製造方法に用いられる製造装置の一例を示す概略図である。
基板上において形成した記録層12を記録層ローラ14に巻き取り(不図示)、レリーフ印刷版原版の製造装置10において、記録層ローラ14から記録層12を、搬送手段16等を使用し搬送する。その搬送の際、記録層12の上面を前記層形成工程における基材側の面と対向する面(空気面)12aとし、記録層12の下面を前記層形成工程における基材側の面12bとする。
搬送された記録層12は、空気面12aに接着剤付与手段18により接着剤を付与し、接着剤層20が形成される。
更に、接着剤層20が形成された記録層12に支持体ローラ22より搬送された支持体24がニップローラ26,28により貼り合わされる。
支持体24が貼り合わされた記録層12に対し、紫外線照射手段30により支持体24側から紫外線を照射し、接着剤層20が硬化し接着され、レリーフ印刷版原版32が得られる。
Although there is no restriction | limiting in particular as a manufacturing apparatus used suitably for the manufacturing method of the relief printing plate precursor of this invention, For example, the apparatus shown in FIG. 1 is mentioned.
FIG. 1 is a schematic view showing an example of a production apparatus used in the method for producing a relief printing plate precursor according to the present invention.
The recording layer 12 formed on the substrate is wound around a recording layer roller 14 (not shown), and the recording layer 12 is conveyed from the recording layer roller 14 using the conveying means 16 or the like in the relief printing plate precursor manufacturing apparatus 10. . During the conveyance, the upper surface of the recording layer 12 is a surface (air surface) 12a facing the substrate-side surface in the layer forming step, and the lower surface of the recording layer 12 is the substrate-side surface 12b in the layer forming step. To do.
The transported recording layer 12 applies an adhesive to the air surface 12a by the adhesive applying means 18, and an adhesive layer 20 is formed.
Further, the support 24 conveyed from the support roller 22 is bonded to the recording layer 12 on which the adhesive layer 20 is formed by the nip rollers 26 and 28.
The recording layer 12 to which the support 24 is bonded is irradiated with ultraviolet rays from the support 24 side by the ultraviolet irradiation means 30, and the adhesive layer 20 is cured and bonded to obtain a relief printing plate precursor 32.

(レリーフ印刷版及びその製版方法)
本発明のレリーフ印刷版の製版方法は、本発明のレーザー彫刻用レリーフ印刷版原版の製造方法により得られたレーザー彫刻用レリーフ印刷版原版の前記記録層をレーザー彫刻しレリーフ層を形成する彫刻工程、を含む。
本発明のレリーフ印刷版は、本発明のレーザー彫刻用レリーフ印刷版原版の製造方法により得られたレーザー彫刻用レリーフ印刷版原版の記録層をレーザー彫刻して得られたレリーフ層を有するレリーフ印刷版である。
本発明のレリーフ印刷版は、水性インキを印刷時に好適に使用することができる。
(Relief printing plate and plate making method)
The plate-making method of the relief printing plate of the present invention is an engraving step of forming a relief layer by laser engraving the recording layer of the relief printing plate precursor for laser engraving obtained by the method for producing a relief printing plate precursor for laser engraving of the present invention. ,including.
The relief printing plate of the present invention is a relief printing plate having a relief layer obtained by laser engraving a recording layer of a relief printing plate precursor for laser engraving obtained by the method for producing a relief printing plate precursor for laser engraving of the present invention. It is.
In the relief printing plate of the present invention, a water-based ink can be suitably used during printing.

<彫刻工程>
本発明のレリーフ印刷版の製版方法は、本発明のレーザー彫刻用レリーフ印刷版原版の製造方法により得られたレーザー彫刻用レリーフ印刷版原版の前記記録層をレーザー彫刻しレリーフ層を形成する彫刻工程を含む。
彫刻工程は、前記記録層をレーザー彫刻してレリーフ層を形成する工程である。具体的には、記録層に対して、所望の画像に対応したレーザー光を照射して彫刻を行うことによりレリーフ層を形成することが好ましい。また、所望の画像のデジタルデータを元にコンピューターでレーザーヘッドを制御し、記録層に対して走査照射する工程が好ましく挙げられる。
この彫刻工程には、赤外線レーザーが好ましく用いられる。赤外線レーザーが照射されると、記録層中の分子が分子振動し、熱が発生する。赤外線レーザーとして炭酸ガスレーザーやYAGレーザーのような高出力のレーザーを用いると、レーザー照射部分に大量の熱が発生し、記録層中の分子は分子切断又はイオン化されて選択的な除去、すなわち、彫刻がなされる。レーザー彫刻の利点は、彫刻深さを任意に設定できるため、構造を3次元的に制御することができる点である。例えば、微細な網点を印刷する部分は、浅く又はショルダーをつけて彫刻することで、印圧でレリーフが転倒しないようにすることができ、細かい抜き文字を印刷する溝の部分は深く彫刻することで、溝にインキが埋まりにくくなり、抜き文字つぶれを抑制することが可能となる。
中でも、光熱変換剤の吸収波長に対応した赤外線レーザーで彫刻する場合には、より高感度で記録層の選択的な除去が可能となり、シャープな画像を有するレリーフ層が得られる。
<Engraving process>
The plate-making method of the relief printing plate of the present invention is an engraving step of forming a relief layer by laser engraving the recording layer of the relief printing plate precursor for laser engraving obtained by the method for producing a relief printing plate precursor for laser engraving of the present invention. including.
The engraving step is a step of forming a relief layer by laser engraving the recording layer. Specifically, it is preferable to form the relief layer by engraving the recording layer by irradiating a laser beam corresponding to a desired image. Further, a step of controlling the laser head with a computer based on digital data of a desired image and irradiating the recording layer with scanning is preferable.
In this engraving process, an infrared laser is preferably used. When irradiated with an infrared laser, the molecules in the recording layer undergo molecular vibration and heat is generated. When a high-power laser such as a carbon dioxide laser or YAG laser is used as an infrared laser, a large amount of heat is generated in the laser irradiation portion, and molecules in the recording layer are selectively cut by molecular cutting or ionization, that is, Sculpture is made. The advantage of laser engraving is that the engraving depth can be set arbitrarily, so that the structure can be controlled three-dimensionally. For example, a portion that prints fine halftone dots can be engraved shallowly or with a shoulder so that the relief does not fall down due to printing pressure, and a portion of a groove that prints fine punched characters is engraved deeply As a result, the ink is less likely to be buried in the groove, and it is possible to suppress the crushing of the extracted characters.
In particular, when engraving with an infrared laser corresponding to the absorption wavelength of the photothermal conversion agent, the recording layer can be selectively removed with higher sensitivity, and a relief layer having a sharp image can be obtained.

彫刻工程に用いられる赤外線レーザーとしては、生産性、コスト等の面から、炭酸ガスレーザー(CO2レーザー)又は半導体レーザーが好ましく、ファイバー付き半導体赤外線レーザー(FC−LD)が特に好ましい。一般に、半導体レーザーは、CO2レーザーに比べレーザー発振が高効率且つ安価で小型化が可能である。また、小型であるためアレイ化が容易である。更に、ファイバーの処理によりビーム形状を制御できる。
半導体レーザーとしては、波長が700〜1,300nmのものが好ましく、800〜1,200nmのものがより好ましく、860〜1,200nmのものが更に好ましく、900〜1,100nmのものが特に好ましい。
また、ファイバー付き半導体レーザーは、更に光ファイバーを取り付けることで効率よくレーザー光を出力できるため、本発明における彫刻工程には有効である。更に、ファイバーの処理によりビーム形状を制御できる。例えば、ビームプロファイルはトップハット形状とすることができ、安定に版面にエネルギーを与えることができる。半導体レーザーの詳細は、「レーザーハンドブック第2版」レーザー学会編、実用レーザー技術 電子通信学会 等に記載されている。
また、本発明のレリーフ印刷版原版を用いたレリーフ印刷版の製版方法に好適に使用し得るファイバー付き半導体レーザーを備えた製版装置は、特開2009−172658号公報及び特開2009−214334号公報に詳細に記載され、これを本発明に係るレリーフ印刷版の製版に使用することができる。
The infrared laser used in the engraving process is preferably a carbon dioxide laser (CO 2 laser) or a semiconductor laser from the viewpoint of productivity, cost, etc., and a semiconductor infrared laser with a fiber (FC-LD) is particularly preferable. In general, a semiconductor laser can be downsized with high efficiency and low cost in laser oscillation compared to a CO 2 laser. Moreover, since it is small, it is easy to form an array. Furthermore, the beam shape can be controlled by processing the fiber.
The semiconductor laser preferably has a wavelength of 700 to 1,300 nm, more preferably 800 to 1,200 nm, still more preferably 860 to 1,200 nm, and particularly preferably 900 to 1,100 nm.
Moreover, since the semiconductor laser with a fiber can output a laser beam efficiently by attaching an optical fiber, it is effective for the engraving process in the present invention. Furthermore, the beam shape can be controlled by processing the fiber. For example, the beam profile can have a top hat shape, and energy can be stably given to the plate surface. Details of semiconductor lasers are described in “Laser Handbook 2nd Edition” edited by Laser Society, Practical Laser Technology and Electronic Communication Society.
Also, a plate making apparatus equipped with a fiber-coupled semiconductor laser that can be suitably used in a method for making a relief printing plate using the relief printing plate precursor of the present invention is disclosed in JP 2009-172658 A and JP 2009-214334 A. And can be used for making a relief printing plate according to the present invention.

本発明のレリーフ印刷版の製版方法では、彫刻工程に次いで、更に、必要に応じて下記リンス工程、乾燥工程、及び/又は、後架橋工程を含んでもよい。
リンス工程:彫刻後のレリーフ層表面を、水又は水を主成分とする液体で彫刻表面をリンスする工程。
乾燥工程:彫刻されたレリーフ層を乾燥する工程。
後架橋工程:彫刻後のレリーフ層にエネルギーを付与し、レリーフ層を更に架橋する工程。
前記工程を経た後、彫刻表面に彫刻カスが付着しているため、水又は水を主成分とする液体で彫刻表面をリンスして、彫刻カスを洗い流すリンス工程を追加してもよい。リンスの手段として、水道水で水洗する方法、高圧水をスプレー噴射する方法、感光性樹脂凸版の現像機として公知のバッチ式又は搬送式のブラシ式洗い出し機で、彫刻表面を主に水の存在下でブラシ擦りする方法などが挙げられ、彫刻カスのヌメリがとれない場合は、石鹸や界面活性剤を添加したリンス液を用いてもよい。
彫刻表面をリンスするリンス工程を行った場合、彫刻された記録層を乾燥してリンス液を揮発させる乾燥工程を追加することが好ましい。
更に、必要に応じて記録層を更に架橋させる後架橋工程を追加してもよい。追加の架橋工程である後架橋工程を行うことにより、彫刻によって形成されたレリーフをより強固にすることができる。
In the method for making a relief printing plate of the present invention, following the engraving step, the following rinsing step, drying step, and / or post-crosslinking step may be included as necessary.
Rinsing step: a step of rinsing the engraved surface of the relief layer surface after engraving with water or a liquid containing water as a main component.
Drying step: a step of drying the engraved relief layer.
Post-crosslinking step: a step of imparting energy to the relief layer after engraving and further crosslinking the relief layer.
Since the engraving residue adheres to the engraving surface after the above process, a rinsing step of rinsing the engraving residue by rinsing the engraving surface with water or a liquid containing water as a main component may be added. As a means of rinsing, there is a method of washing with tap water, a method of spraying high-pressure water, and a known batch type or conveying type brush type washing machine as a photosensitive resin relief printing machine. For example, when the engraving residue cannot be removed, a rinsing liquid to which soap or a surfactant is added may be used.
When the rinsing process for rinsing the engraved surface is performed, it is preferable to add a drying process for drying the engraved recording layer and volatilizing the rinsing liquid.
Furthermore, a post-crosslinking step for further cross-linking the recording layer may be added as necessary. By performing the post-crosslinking step, which is an additional cross-linking step, the relief formed by engraving can be further strengthened.

本発明に用いることができるリンス液のpHは9以上であることが好ましく、10以上であることがより好ましく、11以上であることが更に好ましい。また、リンス液のpHは14以下であることが好ましく、13以下であることがより好ましく、12.5以下であることが更に好ましい。上記範囲であると、取り扱いが容易である。
リンス液を上記のpH範囲とするために、適宜、酸及び/又は塩基を用いてpHを調整すればよく、使用する酸及び塩基は特に限定されない。
本発明に用いることができるリンス液は、主成分として水を含有することが好ましい。
また、リンス液は、水以外の溶媒として、アルコール類、アセトン、テトラヒドロフラン等などの水混和性溶媒を含有していてもよい。
The pH of the rinsing solution that can be used in the present invention is preferably 9 or more, more preferably 10 or more, and still more preferably 11 or more. Moreover, it is preferable that the pH of a rinse liquid is 14 or less, It is more preferable that it is 13 or less, It is still more preferable that it is 12.5 or less. Handling is easy in the said range.
What is necessary is just to adjust pH using an acid and / or a base suitably in order to make a rinse liquid into said pH range, and the acid and base to be used are not specifically limited.
The rinsing liquid that can be used in the present invention preferably contains water as a main component.
Moreover, the rinse liquid may contain water miscible solvents, such as alcohol, acetone, tetrahydrofuran, etc. as solvents other than water.

リンス液は、界面活性剤を含有することが好ましい。
本発明に用いることができる界面活性剤としては、彫刻カスの除去性、及び、レリーフ印刷版への影響を少なくする観点から、カルボキシベタイン化合物、スルホベタイン化合物、ホスホベタイン化合物、アミンオキシド化合物、又は、ホスフィンオキシド化合物等のベタイン化合物(両性界面活性剤)が好ましく挙げられる。なお、本発明において、アミンオキシド化合物のN=O、及び、ホスフィンオキシド化合物のP=Oの構造はそれぞれ、N+−O-、P+−O-と見なすものとする。
また、界面活性剤としては、公知のアニオン界面活性剤、カチオン界面活性剤、両性界面活性剤、ノニオン界面活性剤等も挙げられる。さらに、フッ素系、シリコーン系のノニオン界面活性剤も同様に使用することができる。
界面活性剤は、1種単独で使用しても、2種以上を併用してもよい。
界面活性剤の使用量は、特に限定する必要はないが、リンス液の全重量に対し、0.01〜20重量%であることが好ましく、0.05〜10重量%であることがより好ましい。
It is preferable that the rinse liquid contains a surfactant.
As the surfactant that can be used in the present invention, a carboxybetaine compound, a sulfobetaine compound, a phosphobetaine compound, an amine oxide compound, or from the viewpoint of reducing engraving residue removal and influence on the relief printing plate, Preferred are betaine compounds (amphoteric surfactants) such as phosphine oxide compounds. In the present invention, N = O amine oxide compound, and, each structure of the P = O phosphine oxide compounds, N + -O -, P + -O - shall be regarded as.
Examples of the surfactant include known anionic surfactants, cationic surfactants, amphoteric surfactants, and nonionic surfactants. Further, fluorine-based and silicone-based nonionic surfactants can be used in the same manner.
Surfactant may be used individually by 1 type, or may use 2 or more types together.
The amount of the surfactant used is not particularly limited, but is preferably 0.01 to 20% by weight, more preferably 0.05 to 10% by weight, based on the total weight of the rinse liquid. .

以上のようにして、レリーフ層を有するレリーフ印刷版が得られる。
レリーフ印刷版が有するレリーフ層の厚さは、耐磨耗性やインキ転移性のような種々の印刷適性を満たす観点からは、0.05mm以上10mm以下が好ましく、より好ましくは0.05mm以上7mm以下、特に好ましくは0.05mm以上3mm以下である。
As described above, a relief printing plate having a relief layer is obtained.
The thickness of the relief layer of the relief printing plate is preferably 0.05 mm or more and 10 mm or less, more preferably 0.05 mm or more and 7 mm, from the viewpoint of satisfying various printability such as wear resistance and ink transferability. Hereinafter, it is particularly preferably 0.05 mm or more and 3 mm or less.

また、レリーフ印刷版が有するレリーフ層のショアA硬度は、50°以上90°以下であることが好ましい。レリーフ層のショアA硬度が50°以上であると、彫刻により形成された微細な網点が凸版印刷機の強い印圧を受けても倒れてつぶれることがなく、正常な印刷ができる。また、レリーフ層のショアA硬度が90°以下であると、印圧がキスタッチのフレキソ印刷でもベタ部での印刷かすれを防止することができる。
なお、本明細書におけるショアA硬度は、測定対象の表面に圧子(押針又はインデンタと呼ばれる)を押し込み変形させ、その変形量(押込み深さ)を測定して、数値化するデュロメータ(スプリング式ゴム硬度計)により測定した値である。
本発明のレリーフ印刷版は、フレキソ印刷機による水性インキでの印刷に特に好適であるが、凸版用印刷機による水性インキ、油性インキ及びUVインキ、いずれのインキを用いた場合でも、印刷が可能であり、また、フレキソ印刷機によるUVインキでの印刷も可能である。
The Shore A hardness of the relief layer of the relief printing plate is preferably 50 ° or more and 90 ° or less. When the Shore A hardness of the relief layer is 50 ° or more, even if the fine halftone dots formed by engraving are subjected to the strong printing pressure of the relief printing press, they do not collapse and can be printed normally. In addition, when the Shore A hardness of the relief layer is 90 ° or less, it is possible to prevent faint printing in a solid portion even in flexographic printing with a kiss touch.
The Shore A hardness in the present specification is a durometer (spring type) in which an indenter (called a push needle or indenter) is pushed and deformed on the surface of the object to be measured, and the amount of deformation (pushing depth) is measured and digitized. It is a value measured by a rubber hardness meter.
The relief printing plate of the present invention is particularly suitable for printing with water-based ink by a flexographic printing machine, but printing is possible with any of water-based ink, oil-based ink and UV ink by a relief printing press. In addition, printing with UV ink by a flexographic printing machine is also possible.

<レーザー彫刻用樹脂組成物>
本発明のレーザー彫刻用レリーフ印刷版原版の製造方法における前記記録層は、レーザー彫刻用樹脂組成物により形成されることが好ましい。
本発明に用いることができるレーザー彫刻用樹脂組成物(以下、単に「樹脂組成物」ともいう。)は、バインダーポリマーを含有することが好ましく、バインダーポリマーと、光熱変換剤とを含有することがより好ましく、バインダーポリマーと、光熱変換剤と、架橋剤とを含有することが更に好ましく、バインダーポリマーと、光熱変換剤と、反応性シラン化合物とを含有することが特に好ましい。
前記樹脂組成物の適用態様として、具体的には、レーザー彫刻により画像形成を行う画像形成材料の画像形成層、凸状のレリーフ形成をレーザー彫刻により行う印刷版原版の記録層、凹版、孔版、スタンプ等が挙げられるが、これらに限定されるものではない。以下、レーザー彫刻用樹脂組成物の構成要素について説明する。
<Resin engraving resin composition>
The recording layer in the method for producing a relief printing plate precursor for laser engraving of the present invention is preferably formed of a resin composition for laser engraving.
The resin composition for laser engraving (hereinafter also simply referred to as “resin composition”) that can be used in the present invention preferably contains a binder polymer, and preferably contains a binder polymer and a photothermal conversion agent. More preferably, the binder polymer, the photothermal conversion agent, and the crosslinking agent are further preferably contained, and the binder polymer, the photothermal conversion agent, and the reactive silane compound are particularly preferably contained.
As an application mode of the resin composition, specifically, an image forming layer of an image forming material for forming an image by laser engraving, a recording layer of a printing plate precursor for forming a convex relief by laser engraving, an intaglio, a stencil, Examples include, but are not limited to, stamps. Hereinafter, the components of the resin composition for laser engraving will be described.

〔架橋剤〕
前記レーザー彫刻用樹脂組成物は、記録層中に架橋構造を形成する観点から、これを形成するために、架橋剤を含有することが好ましい。
また、前記記録層は、架橋構造を有していることが好ましい。
本発明に用いることができる架橋剤は、光や熱に起因した化学反応により高分子化して記録層を硬化可能であるものであれば特に限定されず用いることができる。特に、エチレン性不飽和基を有する重合性化合物(以下、「重合性化合物」ともいう。)、アルコキシシリル基やハロゲン化シリル基等の反応性シリル基を有する反応性シラン化合物、反応性チタン化合物、反応性アルミニウム化合物等が好ましく用いられ、反応性シラン化合物がより好ましく用いられる。これらの化合物は、前記バインダーと反応することにより記録層中に架橋構造を形成してもよく、又は、これらの化合物同士で反応することにより架橋構造を形成してもよく、これら両方の反応により架橋構造を形成してもよい。
ここで用いることができる重合性化合物としては、エチレン性不飽和基を少なくとも1個、好ましくは2個以上、より好ましくは2〜6個有する化合物の中から任意に選択することができる。
[Crosslinking agent]
From the viewpoint of forming a crosslinked structure in the recording layer, the resin composition for laser engraving preferably contains a crosslinking agent in order to form the crosslinked structure.
The recording layer preferably has a crosslinked structure.
The crosslinking agent that can be used in the present invention is not particularly limited as long as it can be polymerized by a chemical reaction caused by light or heat to cure the recording layer. In particular, a polymerizable compound having an ethylenically unsaturated group (hereinafter also referred to as “polymerizable compound”), a reactive silane compound having a reactive silyl group such as an alkoxysilyl group or a halogenated silyl group, and a reactive titanium compound. A reactive aluminum compound is preferably used, and a reactive silane compound is more preferably used. These compounds may form a cross-linked structure in the recording layer by reacting with the binder, or may form a cross-linked structure by reacting with these compounds. A crosslinked structure may be formed.
The polymerizable compound that can be used here can be arbitrarily selected from compounds having at least 1, preferably 2 or more, more preferably 2 to 6 ethylenically unsaturated groups.

前記レーザー彫刻用樹脂組成物は、下記式(I)で表される基を有する化合物(以下、「化合物(I)」ともいう。)を含有することが好ましい。
−M(R1)(R2n (I)
(式(I)中、R1はOR3又はハロゲン原子を表し、MはSi、Ti又はAlを表し、MがSiであるときnは2であり、MがTiであるときnは2であり、MがAlであるときnは1であり、n個あるR2はそれぞれ独立に炭化水素基、OR3又はハロゲン原子を表し、R3は水素原子又は炭化水素基を表す。)
The resin composition for laser engraving preferably contains a compound having a group represented by the following formula (I) (hereinafter also referred to as “compound (I)”).
-M (R 1 ) (R 2 ) n (I)
(In the formula (I), R 1 represents OR 3 or a halogen atom, M represents Si, Ti, or Al. When M is Si, n is 2, and when M is Ti, n is 2. And when M is Al, n is 1, each of R 2 independently represents a hydrocarbon group, OR 3 or a halogen atom, and R 3 represents a hydrogen atom or a hydrocarbon group.)

式(I)中、MはSi、Ti又はAlを表す。これらの中でもMはSi又はTiであることが好ましく、Siであることが更に好ましい。
式(I)中、R1はOR3又はハロゲン原子を表し、R3は水素原子又は炭化水素基を表し、該炭化水素基としては、炭素数1〜30のアルキル基、炭素数6〜30のアリール基、炭素数2〜30のアルケニル基、炭素数7〜37のアラルキル等が例示される。これらの中でもR3としては、水素原子、炭素数1〜12のアルキル基、炭素数6〜20のアリール基であることが好ましく、水素原子、炭素数1〜5のアルキル基、炭素数6〜10のアリール基であることが更に好ましく、メチル基又はエチル基であることが特に好ましい。すなわち、R1はメトキシ基又はエトキシ基であることが特に好ましい。
1はアルカリ性のリンス液で処理した時に−M(R2n-にイオン化するものであることが好ましい。
In formula (I), M represents Si, Ti, or Al. Among these, M is preferably Si or Ti, and more preferably Si.
In the formula (I), R 1 represents OR 3 or a halogen atom, R 3 represents a hydrogen atom or a hydrocarbon group, and the hydrocarbon group includes an alkyl group having 1 to 30 carbon atoms and 6 to 30 carbon atoms. Aryl groups having 2 to 30 carbon atoms, aralkyl having 7 to 37 carbon atoms, and the like. Among these, R 3 is preferably a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, or an aryl group having 6 to 20 carbon atoms, a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms, or 6 to 6 carbon atoms. 10 aryl groups are more preferable, and a methyl group or ethyl group is particularly preferable. That is, R 1 is particularly preferably a methoxy group or an ethoxy group.
R 1 is -M (R 2) n O when treated with an alkaline rinse solution - is preferably one that ionized.

式(I)中、R2は炭化水素基、OR3又はハロゲン原子を表す。R3は上述した通りであり、好ましい範囲も同様である。
2としては、OR3又はハロゲン原子であることが好ましく、OR3であることがより好ましい。
In the formula (I), R 2 represents a hydrocarbon group, OR 3 or a halogen atom. R 3 is as described above, and the preferred range is also the same.
R 2 is preferably OR 3 or a halogen atom, and more preferably OR 3 .

MがSiであるとき、nは2である。MがSiであるとき、複数存在するR2は、それぞれ同一でも異なっていてもよく、特に限定されない。
また、MがTiであるとき、nは2である。MがTiであるとき、複数存在するR2は、それぞれ同一でも異なっていてもよく、特に限定されない。
MがAlであるとき、nは1を表す。
N is 2 when M is Si. When M is Si, a plurality of R 2 may be the same or different, and is not particularly limited.
N is 2 when M is Ti. When M is Ti, a plurality of R 2 may be the same or different, and is not particularly limited.
When M is Al, n represents 1.

なお、前記化合物(I)は、ポリマーとの反応により上記式(I)で表される基をポリマーに導入するものでもよく、反応前から上記式(I)で表される基を有し、ポリマーに上記式(I)で表される基を導入するものでもよい。   In addition, the compound (I) may be one in which a group represented by the above formula (I) is introduced into the polymer by reaction with a polymer, and has a group represented by the above formula (I) before the reaction, A group represented by the above formula (I) may be introduced into the polymer.

前記化合物(I)としては、特にMがSiである態様が好ましい。
また、前記記録層は、シロキサン結合を有していることが好ましい。
MがSiであるとき、式(I)で表される基を有する化合物(化合物(I))として、シランカップリング剤を使用することも可能である。なお、シランカップリング剤とは、アルコキシシリル基などの無機成分と反応可能な基と、メタクリロイル基などの有機成分と反応可能な基を有し、無機成分と有機成分とを結合可能な化合物である。なお、チタンカップリング剤、アルミネート系カップリング剤も同様である。
化合物(I)がビニル基、エポキシ基、メタクリロイルオキシ基、アクリロイルオキシ基、メルカプト基、アミノ基等の反応性基を有し、該反応性基でポリマーと反応し、これによりポリマーに式(I)で表される基が導入されることも好ましい。
As the compound (I), an embodiment in which M is Si is particularly preferable.
The recording layer preferably has a siloxane bond.
When M is Si, a silane coupling agent can also be used as the compound having the group represented by the formula (I) (compound (I)). The silane coupling agent is a compound having a group capable of reacting with an inorganic component such as an alkoxysilyl group and a group capable of reacting with an organic component such as a methacryloyl group, and capable of binding the inorganic component and the organic component. is there. The same applies to titanium coupling agents and aluminate coupling agents.
Compound (I) has a reactive group such as a vinyl group, an epoxy group, a methacryloyloxy group, an acryloyloxy group, a mercapto group, and an amino group, and reacts with the polymer with the reactive group, whereby the polymer has the formula (I It is also preferred that a group represented by

上記シランカップリング剤としては、例えば、ビニルトリクロロシラン、ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、β−(3,4−エポキシシクロヘキシル)エチルトリメトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルメチルジエトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリエトキシシラン、γ−メタクリロキシプロピルメチルジメトキシシラン、γ−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、γ−メタクリロキシプロピルメチルジエトキシシラン、γ−メタクリロキシプロピルトリエトキシシラン、γ−アクリロキシプロピルトリメトキシシラン、N−(β−アミノエチル)−γ−アミノプロピルメチルジメトキシシラン、N−(β−アミノエチル)−γ−アミノプロピルトリメトキシシラン、N−(β−アミノエチル)−γ−アミノプロピルトリエトキシシラン、γ−アミノプロピルトリメトキシシラン、γ−アミノプロピルトリエトキシシラン、N−フェニル−γ−アミノプロピルトリメトキシシラン、γ−メルカプトプロピルトリメトキシシラン、γ−クロロプロピルトリメトキシシラン、γ−ウレイドプロピルトリエトキシシラン等を挙げることができる。
前記化合物(I)としては、式(I)で表される基を複数有する化合物も好ましく用いられる。このような場合、式(I)で表される基の一部とポリマーとが反応することで、ポリマーに式(I)で表される基を導入することができる。例えば、化合物(I)のR1基、及び、場合によりR2基が、ポリマー中の該化合物と反応し得る原子及び/又は基(例えば、水酸基(−OH))と反応(例えば、アルコール交換反応)する。また、式(I)で表される基の複数がポリマーと結合することにより、化合物(I)は架橋剤としても機能し、架橋構造を形成することができる。
このような化合物(I)としては、式(I)で表される基を複数有する化合物であることが好ましく、2〜6個の式(I)で表される基を有する化合物であることがより好ましく、2〜3個の式(I)で表される基を有する化合物であることが特に好ましい。
以下に示す化合物が好ましいものとして挙げられるが、本発明はこれらの化合物に制限されるものではない。
Examples of the silane coupling agent include vinyltrichlorosilane, vinyltrimethoxysilane, vinyltriethoxysilane, β- (3,4-epoxycyclohexyl) ethyltrimethoxysilane, γ-glycidoxypropyltrimethoxysilane, γ -Glycidoxypropylmethyldiethoxysilane, γ-glycidoxypropyltriethoxysilane, γ-methacryloxypropylmethyldimethoxysilane, γ-methacryloxypropyltrimethoxysilane, γ-methacryloxypropylmethyldiethoxysilane, γ- Methacryloxypropyltriethoxysilane, γ-acryloxypropyltrimethoxysilane, N- (β-aminoethyl) -γ-aminopropylmethyldimethoxysilane, N- (β-aminoethyl) -γ-aminopropyltrimeth Sisilane, N- (β-aminoethyl) -γ-aminopropyltriethoxysilane, γ-aminopropyltrimethoxysilane, γ-aminopropyltriethoxysilane, N-phenyl-γ-aminopropyltrimethoxysilane, γ-mercapto Examples thereof include propyltrimethoxysilane, γ-chloropropyltrimethoxysilane, and γ-ureidopropyltriethoxysilane.
As the compound (I), a compound having a plurality of groups represented by the formula (I) is also preferably used. In such a case, the group represented by the formula (I) can be introduced into the polymer by reacting a part of the group represented by the formula (I) with the polymer. For example, the R 1 group and optionally the R 2 group of compound (I) react with an atom and / or group (eg, hydroxyl group (—OH)) that can react with the compound in the polymer (eg, alcohol exchange). react. In addition, when a plurality of groups represented by the formula (I) are bonded to the polymer, the compound (I) also functions as a crosslinking agent, and can form a crosslinked structure.
Such a compound (I) is preferably a compound having a plurality of groups represented by the formula (I), and preferably a compound having 2 to 6 groups represented by the formula (I). More preferred is a compound having 2 to 3 groups represented by the formula (I).
Although the compounds shown below are preferred, the present invention is not limited to these compounds.

Figure 2011173295
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前記各式中、Rは以下の構造から選択される部分構造を表す。分子内に複数のR及びR1が存在する場合、これらは互いに同じでも異なっていてもよく、合成適性上は、同一であることが好ましい。 In the above formulas, R represents a partial structure selected from the following structures. When a plurality of R and R 1 are present in the molecule, these may be the same or different from each other, and are preferably the same in terms of synthesis suitability.

Figure 2011173295
Figure 2011173295

Figure 2011173295
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前記各式中、Rは以下に示す部分構造を表す。R1は前記したものと同義である。分子内に複数のR及びR1が存在する場合、これらは互いに同じでも異なっていてもよく、合成適性上は、同一であることが好ましい。 In the above formulas, R represents a partial structure shown below. R 1 has the same meaning as described above. When a plurality of R and R 1 are present in the molecule, these may be the same or different from each other, and are preferably the same in terms of synthesis suitability.

Figure 2011173295
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また、本発明において、上記の化合物(I)として、シリカ粒子、酸化チタン粒子、酸化アルミニウム粒子等を使用することもできる。これらの粒子は、後述するポリマーと反応して、ポリマーに、上記式(I)で表される基を導入することができる。例えば、シリカ粒子と、後述するポリマーとが反応することにより、−SiOHが導入される。
その他、チタンカップリング剤としては、味の素ファインテクノ(株)製プレンアクト、マツモトファインケミカル(株)製チタンテトライソプロポキシド、日本曹達(株)製チタニウム−i−プロポキシビス(アセチルアセトナト)チタンが例示され、アルミネート系カップリング剤としては、アセトアルコキシアルミニウムジイソプロピレートが例示される。
In the present invention, silica particles, titanium oxide particles, aluminum oxide particles, and the like can also be used as the compound (I). These particles can react with a polymer described later to introduce a group represented by the above formula (I) into the polymer. For example, -SiOH is introduced by the reaction between silica particles and a polymer described later.
Other examples of titanium coupling agents include Ajinomoto Fine Techno Co., Ltd. Preneact, Matsumoto Fine Chemical Co., Ltd. Titanium Tetraisopropoxide, Nippon Soda Co., Ltd. Titanium-i-propoxybis (acetylacetonato) titanium. An example of the aluminate coupling agent is acetoalkoxyaluminum diisopropylate.

本発明において、上記の化合物(I)は1種単独で使用してもよく、2種以上を併用してもよい。
本発明において、レーザー彫刻用樹脂組成物に含まれる化合物(I)の含有量は、固形分換算で0.1〜80重量%であることが好ましく、1〜40重量%であることがより好ましく、5〜30重量%であることが更に好ましい。
In this invention, said compound (I) may be used individually by 1 type, and may use 2 or more types together.
In the present invention, the content of the compound (I) contained in the resin composition for laser engraving is preferably 0.1 to 80% by weight, more preferably 1 to 40% by weight in terms of solid content. 5 to 30% by weight is more preferable.

本発明においては、記録層中に架橋構造を形成する観点から、これを形成するために、レーザー彫刻用樹脂組成物には、重合性化合物を含有することが好ましい。
ここで用い得る重合性化合物は、エチレン性不飽和基を少なくとも1個、好ましくは2個以上、より好ましくは2〜6個有する化合物の中から任意に選択することができる。
また、本発明においては、架橋構造を形成する目的以外に、柔軟性や脆性等の膜物性の観点などから、エチレン性不飽和基を1つのみ有する化合物(単官能重合性化合物、単官能モノマー)を用いてもよい。
In the present invention, from the viewpoint of forming a crosslinked structure in the recording layer, the resin composition for laser engraving preferably contains a polymerizable compound in order to form the crosslinked structure.
The polymerizable compound that can be used here can be arbitrarily selected from compounds having at least one ethylenically unsaturated group, preferably two or more, and more preferably 2 to 6.
Further, in the present invention, in addition to the purpose of forming a crosslinked structure, from the viewpoint of film properties such as flexibility and brittleness, etc., compounds having only one ethylenically unsaturated group (monofunctional polymerizable compound, monofunctional monomer) ) May be used.

以下、重合性化合物として用いられる、エチレン性不飽和基を分子内に1つ有する化合物(単官能モノマー)、及び、エチレン性不飽和基を分子内に2個以上有する化合物(多官能モノマー)について説明する。
記録層は、膜中に架橋構造を有することが必要であることから、多官能モノマーが好ましく使用される。これらの多官能モノマーの分子量は、200〜2,000であることが好ましい。
単官能モノマー及び多官能モノマーとしては、不飽和カルボン酸(例えば、アクリル酸、メタクリル酸、イタコン酸、クロトン酸、イソクロトン酸、マレイン酸等)と多価アルコール化合物とのエステル、不飽和カルボン酸と多価アミン化合物とのアミド等が挙げられる。
Hereinafter, a compound (monofunctional monomer) having one ethylenically unsaturated group in the molecule and a compound (polyfunctional monomer) having two or more ethylenically unsaturated groups in the molecule used as a polymerizable compound explain.
Since the recording layer needs to have a crosslinked structure in the film, a polyfunctional monomer is preferably used. The molecular weight of these polyfunctional monomers is preferably 200 to 2,000.
Examples of monofunctional monomers and polyfunctional monomers include unsaturated carboxylic acids (for example, acrylic acid, methacrylic acid, itaconic acid, crotonic acid, isocrotonic acid, maleic acid, etc.) and esters of polyhydric alcohol compounds, unsaturated carboxylic acids, Examples include amides with polyvalent amine compounds.

本発明においては、重合性化合物として、彫刻感度向上の観点から、分子内に硫黄原子を有する化合物を用いることが好ましい。
このように分子内に硫黄原子を有する重合性化合物としては、彫刻感度向上の観点から、特に、2つ以上のエチレン性不飽和結合を有し、そのうち2つのエチレン性不飽和結合間を連結する部位に炭素−硫黄結合を有する重合性化合物(以下、適宜、「含硫黄多官能モノマー」ともいう。)を用いることが好ましい。
In the present invention, from the viewpoint of improving engraving sensitivity, a compound having a sulfur atom in the molecule is preferably used as the polymerizable compound.
Thus, as a polymeric compound which has a sulfur atom in a molecule | numerator, from a viewpoint of an engraving sensitivity improvement, it has two or more ethylenically unsaturated bonds especially, and connects between two ethylenically unsaturated bonds among them. It is preferable to use a polymerizable compound having a carbon-sulfur bond at the site (hereinafter also referred to as “sulfur-containing polyfunctional monomer” as appropriate).

本発明における含硫黄多官能モノマー中の炭素−硫黄結合を含んだ官能基としては、スルフィド、ジスルフィド、スルホキシド、スルホニル、スルホンアミド、チオカルボニル、チオカルボン酸、ジチオカルボン酸、スルファミン酸、チオアミド、チオカルバメート、ジチオカルバメート、又はチオ尿素を含む官能基が挙げられる。
また、含硫黄多官能モノマーにおける2つのエチレン性不飽和結合間を連結する炭素−硫黄結合を含有する連結基としては、−C−S−、−C−S−S−、−NH(C=S)O−、−NH(C=O)S−、−NH(C=S)S−、及び、−C−SO2−よりなる群から選択される少なくとも1つのユニットであることが好ましい。
The functional group containing a carbon-sulfur bond in the sulfur-containing polyfunctional monomer in the present invention includes sulfide, disulfide, sulfoxide, sulfonyl, sulfonamide, thiocarbonyl, thiocarboxylic acid, dithiocarboxylic acid, sulfamic acid, thioamide, and thiocarbamate. , Functional groups containing dithiocarbamate or thiourea.
In addition, as a linking group containing a carbon-sulfur bond that connects two ethylenically unsaturated bonds in a sulfur-containing polyfunctional monomer, -C-S-, -CSS-, -NH (C = It is preferably at least one unit selected from the group consisting of S) O—, —NH (C═O) S—, —NH (C═S) S—, and —C—SO 2 —.

また、含硫黄多官能モノマーの分子内に含まれる硫黄原子の数は1つ以上であれば特に制限はなく、目的に応じて、適宜選択することができるが、彫刻感度と塗布溶剤に対する溶解性のバランスの観点から、1個〜10個が好ましく、1個〜5個がより好ましく、1個〜2個が更に好ましい。
一方、分子内に含まれるエチレン性不飽和基の数は2つ以上であれば特に制限はなく、目的に応じて、適宜選択することができるが、架橋膜の柔軟性の観点で、2個〜10個が好ましく、2個〜6個がより好ましく、2個〜4個が更に好ましい。
Further, the number of sulfur atoms contained in the molecule of the sulfur-containing polyfunctional monomer is not particularly limited as long as it is 1 or more, and can be appropriately selected according to the purpose, but the engraving sensitivity and the solubility in a coating solvent. From the viewpoint of balance, 1 to 10 is preferable, 1 to 5 is more preferable, and 1 to 2 is still more preferable.
On the other hand, the number of ethylenically unsaturated groups contained in the molecule is not particularly limited as long as it is 2 or more, and can be appropriately selected according to the purpose. -10 are preferable, 2-6 are more preferable, and 2-4 are still more preferable.

本発明における含硫黄多官能モノマーの分子量としては、形成される膜の柔軟性の観点から、120〜3,000であることが好ましく、120〜1,500であることがより好ましい。
また、本発明における含硫黄多官能モノマーは単独で用いてもよいが、分子内に硫黄原子を持たない多官能重合性化合物や単官能重合性化合物との混合物として用いてもよい。
彫刻感度の観点からは、含硫黄多官能モノマー単独で用いる、又は、含硫黄多官能モノマーと単官能モノマーとの混合物として用いる態様が好ましく、含硫黄多官能モノマーと単官能モノマーとの混合物として用いる態様がより好ましい。
The molecular weight of the sulfur-containing polyfunctional monomer in the present invention is preferably 120 to 3,000, more preferably 120 to 1,500, from the viewpoint of the flexibility of the formed film.
Moreover, although the sulfur-containing polyfunctional monomer in this invention may be used independently, you may use it as a mixture with the polyfunctional polymerizable compound and monofunctional polymerizable compound which do not have a sulfur atom in a molecule | numerator.
From the viewpoint of engraving sensitivity, it is preferable to use the sulfur-containing polyfunctional monomer alone or as a mixture of the sulfur-containing polyfunctional monomer and the monofunctional monomer, and use it as a mixture of the sulfur-containing polyfunctional monomer and the monofunctional monomer. Embodiments are more preferred.

記録層においては、含硫黄多官能モノマーをはじめとする重合性化合物を用いることにより、膜物性、例えば、脆性、柔軟性などを調整することもできる。
また、樹脂組成物中の含硫黄多官能モノマーをはじめとする重合性化合物の総含有量は、架橋膜の柔軟性や脆性の観点から、不揮発性成分に対して、10〜60重量%が好ましく、15〜45重量%の範囲がより好ましい。
なお、含硫黄多官能モノマーと他の重合性化合物とを併用する場合、全重合性化合物中の含硫黄多官能モノマーの量は、5重量%以上が好ましく、10重量%以上がより好ましい。
In the recording layer, film properties such as brittleness and flexibility can be adjusted by using a polymerizable compound such as a sulfur-containing polyfunctional monomer.
In addition, the total content of the polymerizable compound including the sulfur-containing polyfunctional monomer in the resin composition is preferably 10 to 60% by weight with respect to the nonvolatile component from the viewpoint of the flexibility and brittleness of the crosslinked film. The range of 15 to 45% by weight is more preferable.
In addition, when using together a sulfur-containing polyfunctional monomer and another polymeric compound, 5 weight% or more is preferable and, as for the quantity of the sulfur-containing polyfunctional monomer in all the polymeric compounds, 10 weight% or more is more preferable.

〔バインダーポリマー〕
前記レーザー彫刻用樹脂組成物は、バインダーポリマー(以下、「バインダー」ともいう。)を含有することが好ましい。
バインダーは、レーザー彫刻用樹脂組成物に含有される高分子成分であり、一般的な高分子化合物を適宜選択し、1種又は2種以上を併用して用いることができる。特に、レーザー彫刻用樹脂組成物を印刷版原版に用いる際は、レーザー彫刻性、インキ受与性、彫刻カス分散性などの種々の性能を考慮して選択することが必要である。
バインダーとしては、ポリスチレン樹脂、ポリエステル樹脂、ポリアミド樹脂、ポリウレア樹脂、ポリアミドイミド樹脂、ポリウレタン樹脂、ポリスルホン樹脂、ポリエーテルスルホン樹脂、ポリイミド樹脂、ポリカーボネート樹脂、ヒドロキシエチレン単位を含む親水性ポリマー、アクリル樹脂、アセタール樹脂、エポキシ樹脂、ポリカーボネート樹脂、ゴム、熱可塑性エラストマーなどから選択して用いることができる。
[Binder polymer]
The resin composition for laser engraving preferably contains a binder polymer (hereinafter also referred to as “binder”).
The binder is a polymer component contained in the resin composition for laser engraving, and a general polymer compound can be appropriately selected and used alone or in combination of two or more. In particular, when a resin composition for laser engraving is used for a printing plate precursor, it is necessary to select it in consideration of various performances such as laser engraving property, ink acceptability, and engraving residue dispersibility.
The binder includes polystyrene resin, polyester resin, polyamide resin, polyurea resin, polyamideimide resin, polyurethane resin, polysulfone resin, polyethersulfone resin, polyimide resin, polycarbonate resin, hydrophilic polymer containing hydroxyethylene units, acrylic resin, acetal. A resin, an epoxy resin, a polycarbonate resin, rubber, a thermoplastic elastomer, or the like can be selected and used.

例えば、レーザー彫刻感度の観点からは、露光又は加熱により熱分解する部分構造を含むポリマーが好ましい。このようなポリマーは、特開2008−163081号公報の段落0038に記載されているものが好ましく挙げられる。また、例えば、柔軟で可撓性を有する膜形成が目的とされる場合には、軟質樹脂や熱可塑性エラストマーが選択される。特開2008−163081号公報の段落0039〜0040に詳述されている。さらに、レーザー彫刻用樹脂組成物を、レーザー彫刻用レリーフ印刷版原版における記録層に適用する場合であれば、レーザー彫刻用樹脂組成物の調製の容易性、得られたレリーフ印刷版における油性インクに対する耐性向上の観点から、親水性又は親アルコール性ポリマーを使用することが好ましい。親水性ポリマーとしては、特開2008−163081号公報の段落0041に詳述されているものを使用することができる。   For example, from the viewpoint of laser engraving sensitivity, a polymer containing a partial structure that is thermally decomposed by exposure or heating is preferable. Preferred examples of such a polymer include those described in paragraph 0038 of JP2008-163081A. For example, when the purpose is to form a soft and flexible film, a soft resin or a thermoplastic elastomer is selected. This is described in detail in paragraphs 0039 to 0040 of JP 2008-163081 A. Furthermore, if the resin composition for laser engraving is applied to the recording layer in the relief printing plate precursor for laser engraving, the ease of preparation of the resin composition for laser engraving and the oil-based ink in the resulting relief printing plate From the viewpoint of improving resistance, it is preferable to use a hydrophilic or alcoholic polymer. As the hydrophilic polymer, those described in detail in paragraph 0041 of JP-A-2008-163081 can be used.

加えて、加熱や露光により硬化させ、強度を向上させる目的に使用する場合には、分子内に炭素−炭素不飽和結合をもつポリマーが好ましく用いられる。
このようなバインダーとして、主鎖に炭素−炭素不飽和結合を含むポリマーとしては、例えば、SB(ポリスチレン−ポリブタジエン)、SBS(ポリスチレン−ポリブタジエン−ポリスチレン)、SIS(ポリスチレン−ポリイソプレン−ポリスチレン)、SEBS(ポリスチレン−ポリエチレン/ポリブチレン−ポリスチレン)等が挙げられる。
側鎖に炭素−炭素不飽和結合をもつポリマーとしては、前記ポリマーの骨格に、アリル基、アクリロイル基、メタクリロイル基、スチリル基、ビニルエーテル基のような炭素−炭素不飽和結合を側鎖に導入することで得られる。ポリマー側鎖に炭素−炭素不飽和結合を導入する方法は、(1)重合性基に保護基を結合させてなる重合性基前駆体を有する構造単位をポリマーに共重合させ、保護基を脱離させて重合性基とする方法、(2)水酸基、アミノ基、エポキシ基、カルボキシル基などの反応性基を複数有する高分子化合物を作製し、これらの反応性基と反応する基及び炭素−炭素不飽和結合を有する化合物を高分子反応させて導入する方法など、公知方法をとることができる。これらの方法によれば、高分子化合物中への不飽和結合、重合性基の導入量を制御することができる。
In addition, when used for the purpose of curing by heating or exposure and improving the strength, a polymer having a carbon-carbon unsaturated bond in the molecule is preferably used.
As such a binder, examples of the polymer containing a carbon-carbon unsaturated bond in the main chain include SB (polystyrene-polybutadiene), SBS (polystyrene-polybutadiene-polystyrene), SIS (polystyrene-polyisoprene-polystyrene), SEBS. (Polystyrene-polyethylene / polybutylene-polystyrene) and the like.
As a polymer having a carbon-carbon unsaturated bond in the side chain, a carbon-carbon unsaturated bond such as an allyl group, an acryloyl group, a methacryloyl group, a styryl group, or a vinyl ether group is introduced into the side chain of the polymer. Can be obtained. The method for introducing a carbon-carbon unsaturated bond into the polymer side chain is as follows. (1) A structural unit having a polymerizable group precursor formed by bonding a protective group to a polymerizable group is copolymerized with the polymer to remove the protective group. (2) A polymer compound having a plurality of reactive groups such as a hydroxyl group, an amino group, an epoxy group, and a carboxyl group, and a group that reacts with these reactive groups and carbon- A known method such as a method of introducing a compound having a carbon unsaturated bond by polymer reaction can be employed. According to these methods, the amount of unsaturated bond and polymerizable group introduced into the polymer compound can be controlled.

バインダーとしては、水酸基(−OH)を有するポリマー(以下、「特定ポリマー」ともいう。)を用いることが特に好ましい。特定ポリマーの骨格としては、特に限定されないが、アクリル樹脂、エポキシ樹脂、ヒドロキシエチレン単位を含む親水性ポリマー、ポリビニルアセタール樹脂、ポリエステル樹脂、ポリウレタン樹脂が好ましい。
水酸基を有するアクリル樹脂の合成に用いられるアクリル単量体としては、例えば(メタ)アクリル酸エステル類、クロトン酸エステル類(メタ)アクリルアミド類であって分子内にヒドロキシル基を有するものが好ましい。この様な単量体の具体例としては例えば、2−ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート、4−ヒドロキシブチル(メタ)アクリレート等が挙げられる。これらと公知の(メタ)アクリル系モノマーやビニル系モノマーとを重合させた共重合体が好ましく用いることができる。
特定ポリマーとして、ヒドロキシ基を側鎖に有するエポキシ樹脂を用いることも可能である。好ましい具体例としては、ビスフェノールAとエピクロヒドリンとの付加物を原料モノマーとして重合して得られるエポキシ樹脂が好ましい。
ポリエステル樹脂としては、ポリ乳酸などのヒドロキシルカルボン酸ユニットからなるポリエステル樹脂を好ましく用いることができる。このようなポリエステル樹脂としては、具体的には、ポリヒドロキシアルカノエート(PHA)、乳酸系ポリマー、ポリグリコール酸(PGA)、ポリカプロラクトン(PCL)、ポリ(ブチレンコハク酸)、これらの誘導体又は混合物よりなる群から選択されるものが好ましい。
As the binder, it is particularly preferable to use a polymer having a hydroxyl group (—OH) (hereinafter also referred to as “specific polymer”). The skeleton of the specific polymer is not particularly limited, but an acrylic resin, an epoxy resin, a hydrophilic polymer containing a hydroxyethylene unit, a polyvinyl acetal resin, a polyester resin, and a polyurethane resin are preferable.
As an acrylic monomer used for the synthesis of an acrylic resin having a hydroxyl group, for example, (meth) acrylic acid esters and crotonic acid esters (meth) acrylamides having a hydroxyl group in the molecule are preferable. Specific examples of such a monomer include 2-hydroxyethyl (meth) acrylate, 2-hydroxypropyl (meth) acrylate, 4-hydroxybutyl (meth) acrylate, and the like. A copolymer obtained by polymerizing these and a known (meth) acrylic monomer or vinyl monomer can be preferably used.
It is also possible to use an epoxy resin having a hydroxy group in the side chain as the specific polymer. As a preferred specific example, an epoxy resin obtained by polymerizing an adduct of bisphenol A and epichlorohydrin as a raw material monomer is preferable.
As the polyester resin, a polyester resin composed of hydroxyl carboxylic acid units such as polylactic acid can be preferably used. Specific examples of the polyester resin include polyhydroxyalkanoate (PHA), lactic acid-based polymer, polyglycolic acid (PGA), polycaprolactone (PCL), poly (butylene succinic acid), and derivatives or mixtures thereof. Those selected from the group consisting of are preferred.

特定ポリマーとしては、前記化合物(I)と反応し得る原子及び/又は基を有するポリマーであることが好ましく、前記化合物(I)と反応し得る原子及び/又は基を有するポリマーであり、水不溶、かつ、炭素数1〜4のアルコールに可溶のバインダーポリマーであることがより好ましい。
前記化合物(I)と反応し得る原子及び/又は基としては特に限定されないが、エチレン性不飽和結合、エポキシ基、アミノ基、(メタ)アクリロイル基、メルカプト基、ヒドロキシ基が例示され、これらの中でも、ヒドロキシ基が好ましく例示される。
本発明における特定ポリマーとして、水性インキ適性とUVインキ適性を両立しつつ、かつ彫刻感度が高く皮膜性も良好であるという観点で、ポリビニルブチラール(PVB)、側鎖にヒドロキシル基を有するアクリル樹脂及び側鎖にヒドロキシル基を有するエポキシ樹脂等が好ましく例示される。
The specific polymer is preferably a polymer having an atom and / or group capable of reacting with the compound (I), and is a polymer having an atom and / or group capable of reacting with the compound (I) and is insoluble in water. And it is more preferable that it is a binder polymer soluble in a C1-C4 alcohol.
Although it does not specifically limit as an atom and / or group which can react with the said compound (I), An ethylenically unsaturated bond, an epoxy group, an amino group, a (meth) acryloyl group, a mercapto group, a hydroxy group is illustrated, These Of these, a hydroxy group is preferred.
As a specific polymer in the present invention, polyvinyl butyral (PVB), an acrylic resin having a hydroxyl group in a side chain, and a film having good engraving sensitivity and good film property while achieving both water-based ink suitability and UV ink suitability Preferred examples include an epoxy resin having a hydroxyl group in the side chain.

本発明に用いることができる特定ポリマーは、本発明において記録層を構成するレーザー彫刻用樹脂組成物の好ましい併用成分である、後述する700〜1,300nmの波長の光を吸収可能な光熱変換剤と組み合わせた場合に、ガラス転移温度(Tg)が20℃以上のものとすることで、彫刻感度が向上するため、特に好ましい。このようなガラス転移温度を有するポリマーを、以下、非エラストマーと称する。すなわち、エラストマーとは、一般的に、ガラス転移温度が常温以下のポリマーであるとして学術的に定義されている(科学大辞典 第2版、編者 国際科学振興財団、発行 丸善株式会社、P154参照)。従って、非エラストマーとはガラス転移温度が常温を超える温度であるポリマーを指す。特定ポリマーのガラス転移温度の上限には制限はないが、200℃以下であることが取り扱い性の観点から好ましく、25℃以上120℃以下であることがより好ましい。   The specific polymer that can be used in the present invention is a photothermal conversion agent capable of absorbing light having a wavelength of 700 to 1,300 nm, which will be described later, which is a preferred combined component of the resin composition for laser engraving constituting the recording layer in the present invention. When combined with the above, it is particularly preferable that the glass transition temperature (Tg) is 20 ° C. or higher because engraving sensitivity is improved. Hereinafter, a polymer having such a glass transition temperature is referred to as a non-elastomer. That is, an elastomer is generally defined academically as a polymer having a glass transition temperature of room temperature or lower (see Science Dictionary 2nd edition, Editor International Science Promotion Foundation, published by Maruzen Co., Ltd., P154). . Therefore, a non-elastomer refers to a polymer having a glass transition temperature exceeding normal temperature. Although there is no restriction | limiting in the upper limit of the glass transition temperature of a specific polymer, it is preferable from a viewpoint of handleability that it is 200 degrees C or less, and it is more preferable that it is 25 degreeC or more and 120 degrees C or less.

ガラス転移温度が室温(20℃)以上のポリマーを用いる場合、特定ポリマーは常温ではガラス状態をとるが、このためゴム状態をとる場合に比較して、熱的な分子運動はかなり抑制された状態にある。レーザー彫刻においては、レーザー照射時に、赤外線レーザーが付与する熱に加え、所望により併用される光熱変換剤の機能により発生した熱が、周囲に存在する特定ポリマーに伝達され、これが熱分解、消散して、結果的に彫刻されて凹部が形成される。
特定ポリマーを用いた場合、特定ポリマーの熱的な分子運動が抑制された状態の中に光熱変換剤が存在すると特定ポリマーへの熱伝達と熱分解が効果的に起こるものと考えられ、このような効果によって彫刻感度がさらに増大したものと推定される。
When a polymer having a glass transition temperature of room temperature (20 ° C) or higher is used, the specific polymer takes a glass state at room temperature. It is in. In laser engraving, in addition to the heat imparted by the infrared laser during laser irradiation, the heat generated by the function of the photothermal conversion agent used in combination with the desired heat is transferred to a specific polymer around it, which decomposes and dissipates. As a result, engraving is performed to form a recess.
When a specific polymer is used, if a photothermal conversion agent is present in a state where thermal molecular motion of the specific polymer is suppressed, heat transfer to the specific polymer and thermal decomposition are considered to occur effectively. It is presumed that the engraving sensitivity is further increased by the effect.

本発明において好ましく用いられるバインダーの具体例を、以下に例示する。   Specific examples of the binder preferably used in the present invention are illustrated below.

(1)ポリビニルアセタール及びその誘導体
ポリビニルアセタールは、ポリビニルアルコール(ポリ酢酸ビニルを鹸化して得られる。)を環状アセタール化することにより得られる化合物である。また、ポリビニルアセタール誘導体は、前記ポリビニルアセタールを変性させたり、他の共重合成分を加えたものである。
ポリビニルアセタール中のアセタール含量(原料の酢酸ビニルモノマーの総モル数を100%とし、アセタール化されるビニルアルコール単位のモル%)は、30〜90%が好ましく、50〜85%がより好ましく、55〜78%が特に好ましい。
ポリビニルアセタール中のビニルアルコール単位としては、原料の酢酸ビニルモノマーの総モル数に対して、10〜70モル%が好ましく、15〜50モル%がより好ましく、22〜45モル%が特に好ましい。
また、ポリビニルアセタールは、その他の成分として、酢酸ビニル単位を有していてもよく、その含量としては0.01〜20モル%が好ましく、0.1〜10モル%が更に好ましい。ポリビニルアセタール誘導体は、さらに、その他の共重合単位を有していてもよい。
ポリビニルアセタールとしては、ポリビニルブチラール、ポリビニルプロピラール、ポリビニルエチラール、ポリビニルメチラールなどが挙げられる。中でも、ポリビニルブチラール(PVB)が好ましい。
ポリビニルブチラールは、通常、ポリビニルアルコールをブチラール化して得られるポリマーである。また、ポリビニルブチラール誘導体を用いてもよい。
ポリビニルブチラール誘導体の例として、水酸基の少なくとも一部をカルボキシル基等の酸基に変性した酸変性PVB、水酸基の一部を(メタ)アクリロイル基に変性した変性PVB、水酸基の少なくとも一部をアミノ基に変性した変性PVB、水酸基の少なくとも一部にエチレングリコールやプロピレングリコール及びこれらの複量体を導入した変性PVB等が挙げられる。
ポリビニルアセタールの分子量としては、彫刻感度と皮膜性のバランスを保つ観点で、重量平均分子量として5,000〜800,000であることが好ましく、より好ましくは8,000〜500,000である。さらに、彫刻カスのリンス性向上の観点からは、50,000〜300,000であることが特に好ましい。
(1) Polyvinyl acetal and derivatives thereof Polyvinyl acetal is a compound obtained by cyclic acetalization of polyvinyl alcohol (obtained by saponifying polyvinyl acetate). Further, the polyvinyl acetal derivative is obtained by modifying the polyvinyl acetal or adding another copolymer component.
30 to 90% is preferable, and 50 to 85% is more preferable, and the acetal content in the polyvinyl acetal (the total number of moles of the vinyl acetate monomer as a raw material is 100%, and the mol% of vinyl alcohol units to be acetalized) is 55. -78% is particularly preferred.
The vinyl alcohol unit in the polyvinyl acetal is preferably 10 to 70 mol%, more preferably 15 to 50 mol%, and particularly preferably 22 to 45 mol%, based on the total number of moles of the starting vinyl acetate monomer.
Moreover, the polyvinyl acetal may have a vinyl acetate unit as another component, and as its content, 0.01-20 mol% is preferable and 0.1-10 mol% is still more preferable. The polyvinyl acetal derivative may further have other copolymer units.
Examples of the polyvinyl acetal include polyvinyl butyral, polyvinyl propylal, polyvinyl ethylal, and polyvinyl methylal. Among these, polyvinyl butyral (PVB) is preferable.
Polyvinyl butyral is usually a polymer obtained by converting polyvinyl alcohol into butyral. A polyvinyl butyral derivative may also be used.
Examples of polyvinyl butyral derivatives include acid-modified PVB in which at least part of the hydroxyl group is modified to an acid group such as a carboxyl group, modified PVB in which part of the hydroxyl group is modified to a (meth) acryloyl group, and at least part of the hydroxyl group is an amino group Modified PVB, modified PVB in which ethylene glycol, propylene glycol, or a multimer thereof is introduced into at least a part of the hydroxyl group.
The molecular weight of the polyvinyl acetal is preferably 5,000 to 800,000, more preferably 8,000 to 500,000 as a weight average molecular weight from the viewpoint of maintaining a balance between engraving sensitivity and film property. Furthermore, from the viewpoint of improving the rinse performance of engraving residue, it is particularly preferably 50,000 to 300,000.

以下、ポリビニルアセタールの特に好ましい例として、ポリビニルブチラール(PVB)及びその誘導体を挙げて説明するが、これに限定されない。
PVBとしては、市販品としても入手可能であり、その好ましい具体例としては、アルコール溶解性(特にエタノール溶解性)の観点で、積水化学工業(株)製の「エスレックB」シリーズ、「エスレックK(KS)」シリーズ、電気化学工業(株)製の「デンカブチラール」が好ましい。更に好ましくは、アルコール溶解性(特にエタノール)の観点で積水化学工業(株)製の「エスレックB」シリーズと電気化学工業(株)製の「デンカブチラール」であり、特に好ましくは積水化学工業(株)製の「エスレックB」シリーズでは、「BL−1」、「BL−1H」、「BL−2」、「BL−5」、「BL−S」、「BX−L」、「BM−S」、「BH−S」、電気化学工業(株)製の「デンカブチラール」では「#3000−1」、「#3000−2」、「#3000−4」、「#4000−2」、「#6000−C」、「#6000−EP」、「#6000−CS」、「#6000−AS」である。
PVBを特定ポリマーとして用いて記録層を製膜する際には、溶媒に溶かした溶液をキャストし乾燥させる方法が、膜の表面の平滑性の観点で好ましい。
Hereinafter, although polyvinyl butyral (PVB) and its derivative (s) are mentioned and demonstrated as a particularly preferable example of polyvinyl acetal, it is not limited to this.
As PVB, it can also be obtained as a commercial product, and preferred specific examples thereof include “ESREC B” series and “ESREC K” manufactured by Sekisui Chemical Co., Ltd. from the viewpoint of alcohol solubility (particularly ethanol solubility). (KS) "series," Denkabutyral "manufactured by Denki Kagaku Kogyo Co., Ltd. are preferred. More preferably, from the viewpoint of alcohol solubility (especially ethanol), “S-Lec B” series manufactured by Sekisui Chemical Co., Ltd. and “Denka Butyral” manufactured by Denki Kagaku Kogyo Co., Ltd. are particularly preferable. In the “ES REC B” series manufactured by Co., Ltd., “BL-1”, “BL-1H”, “BL-2”, “BL-5”, “BL-S”, “BX-L”, “BM-” "# 3000-1", "# 3000-2", "# 3000-4", "# 4000-2", "S", "BH-S", and Denka Butyral manufactured by Denki Kagaku Kogyo Co., Ltd. “# 6000-C”, “# 6000-EP”, “# 6000-CS”, “# 6000-AS”.
When a recording layer is formed using PVB as a specific polymer, a method in which a solution dissolved in a solvent is cast and dried is preferable from the viewpoint of the smoothness of the film surface.

上記ポリビニルアセタール及びその誘導体のほか、特定ポリマーとしては、公知のアクリル単量体を用いて得るアクリル樹脂であって、分子内にヒドロキシル基を有するものを用いることもできる。また、特定ポリマーとして、フェノール類とアルデヒド類を酸性条件下で縮合させた樹脂であるノボラック樹脂を用いることもできる。また、特定ポリマーとして、ヒドロキシル基を側鎖に有するエポキシ樹脂を用いることも可能である。   In addition to the polyvinyl acetal and derivatives thereof, the specific polymer may be an acrylic resin obtained using a known acrylic monomer and having a hydroxyl group in the molecule. In addition, a novolak resin that is a resin obtained by condensing phenols and aldehydes under acidic conditions can also be used as the specific polymer. Moreover, it is also possible to use the epoxy resin which has a hydroxyl group in a side chain as a specific polymer.

特定ポリマーの中でも、記録層としたときのリンス性及び耐刷性の観点でポリビニルブチラール及びその誘導体が特に好ましい。
本発明における特定ポリマーに含まれるヒドロキシル基の含有量は、前記いずれの態様のポリマーにおいても、0.1〜15mmol/gであることが好ましく、0.5〜7mmol/gであることがより好ましい。
樹脂組成物にはバインダーを1種のみ用いてもよく、2種以上を併用してもよい。
本発明に用いることができるバインダーの重量平均分子量(GPC測定によるポリスチレン換算)は5,000〜1,000,000であることが好ましく、8,000〜750,000であることが更に好ましく、10,000〜500,000であることが最も好ましい。
本発明に用いることができる樹脂組成物における特定ポリマーの好ましい含有量は、塗膜の形態保持性と耐水性と彫刻感度をバランスよく満足する観点で、全固形分中、2〜95重量%であることが好ましく、より好ましくは5〜80重量%、特に好ましくは10〜60重量%である。
バインダーポリマーの含有量は、レーザー彫刻用樹脂組成物の固形分全重量に対し、5〜95重量%が好ましく、15〜80重量%がより好ましく、20〜65重量%が更に好ましい。
例えば、レーザー彫刻用樹脂組成物をレリーフ印刷版原版の記録層に適用した場合、バインダーポリマーの含有量を5重量%以上とすることで、得られたレリーフ印刷版を印刷版として使用するに足る耐刷性が得られ、また、95重量%以下とすることで、他成分が不足することがなく、レリーフ印刷版をフレキソ印刷版とした際においても印刷版として使用するに足る柔軟性を得ることができる。
Among the specific polymers, polyvinyl butyral and derivatives thereof are particularly preferable from the viewpoint of rinsing properties and printing durability when used as a recording layer.
The content of the hydroxyl group contained in the specific polymer in the present invention is preferably 0.1 to 15 mmol / g, more preferably 0.5 to 7 mmol / g in any of the above-described polymers. .
Only 1 type of binder may be used for a resin composition, and 2 or more types may be used together.
The weight average molecular weight (polystyrene conversion by GPC measurement) of the binder that can be used in the present invention is preferably 5,000 to 1,000,000, more preferably 8,000 to 750,000. Most preferably, it is from 1,000,000 to 500,000.
The preferred content of the specific polymer in the resin composition that can be used in the present invention is 2 to 95% by weight in the total solid content, from the viewpoint of satisfying a good balance of form retention, water resistance and engraving sensitivity of the coating film. It is preferable that it is preferably 5 to 80% by weight, particularly preferably 10 to 60% by weight.
The content of the binder polymer is preferably 5 to 95% by weight, more preferably 15 to 80% by weight, and still more preferably 20 to 65% by weight based on the total solid content of the resin composition for laser engraving.
For example, when the resin composition for laser engraving is applied to the recording layer of the relief printing plate precursor, it is sufficient to use the obtained relief printing plate as a printing plate by setting the binder polymer content to 5% by weight or more. Printing durability is obtained, and by making it 95% by weight or less, other components are not deficient, and flexibility sufficient for use as a printing plate is obtained even when a relief printing plate is used as a flexographic printing plate. be able to.

〔溶剤〕
本発明において、樹脂組成物を調製する際に用いる溶媒は、化合物(I)と特定ポリマーとの反応を速やかに進行させる観点で、主として非プロトン性の有機溶媒を用いることが好ましい。より具体的には、非プロトン性の有機溶媒/プロトン性有機溶媒=100/0〜50/50(重量比)で用いることが好ましい。より好ましくは100/0〜70/30、特に好ましくは100/0〜90/10である。
非プロトン性の有機溶媒の好ましい具体例は、アセトニトリル、テトラヒドロフラン、ジオキサン、トルエン、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、メチルエチルケトン、アセトン、メチルイソブチルケトン、酢酸エチル、酢酸ブチル、乳酸エチル、N,N−ジメチルアセトアミド、N−メチルピロリドン、ジメチルスルホキシドである。
プロトン性有機溶媒の好ましい具体例は、メタノール、エタノール、1−プロパノール、2−プロパノール、1−ブタノール、1−メトキシ−2−プロパノール、エチレングリコール、ジエチレングリコール、1,3−プロパンジオールである。
〔solvent〕
In the present invention, the solvent used for preparing the resin composition is preferably mainly an aprotic organic solvent from the viewpoint of promptly proceeding the reaction between the compound (I) and the specific polymer. More specifically, it is preferable to use aprotic organic solvent / protic organic solvent = 100/0 to 50/50 (weight ratio). More preferably, it is 100 / 0-70 / 30, Most preferably, it is 100 / 0-90 / 10.
Preferred specific examples of the aprotic organic solvent include acetonitrile, tetrahydrofuran, dioxane, toluene, propylene glycol monomethyl ether acetate, methyl ethyl ketone, acetone, methyl isobutyl ketone, ethyl acetate, butyl acetate, ethyl lactate, N, N-dimethylacetamide, N-methylpyrrolidone and dimethyl sulfoxide.
Preferred specific examples of the protic organic solvent are methanol, ethanol, 1-propanol, 2-propanol, 1-butanol, 1-methoxy-2-propanol, ethylene glycol, diethylene glycol, and 1,3-propanediol.

〔アルコール交換反応触媒〕
樹脂組成物に化合物(I)を使用する場合、化合物(I)と特定バインダーポリマーとの反応を促進するため、アルコール交換反応触媒を含有することが好ましい。
アルコール交換反応触媒は、一般に用いられる反応触媒であれば、限定なく適用できる。
以下、代表的なアルコール交換反応触媒である酸あるいは塩基性触媒、及び、金属錯体触媒について順次説明する。
[Alcohol exchange reaction catalyst]
When using the compound (I) in the resin composition, it is preferable to contain an alcohol exchange reaction catalyst in order to promote the reaction between the compound (I) and the specific binder polymer.
The alcohol exchange reaction catalyst can be applied without limitation as long as it is a commonly used reaction catalyst.
Hereinafter, an acid or basic catalyst, which is a typical alcohol exchange reaction catalyst, and a metal complex catalyst will be sequentially described.

−酸性触媒又は塩基性触媒−
触媒としては、酸性触媒又は塩基性触媒をそのまま用いるか、あるいは水又は有機溶剤などの溶媒に溶解させた状態のものを用いる。溶媒に溶解させる際の濃度については特に限定はなく、用いる酸、あるいは塩基性化合物の特性、触媒の所望の含有量などに応じて適宜選択すればよい。
酸性触媒又は塩基性触媒の種類は特に限定されないが、具体的には、酸性触媒としては、塩酸などのハロゲン化水素、硝酸、硫酸、亜硫酸、硫化水素、過塩素酸、過酸化水素、炭酸、蟻酸や酢酸などのカルボン酸、そのRCOOHで表される構造式のRを他元素又は置換基によって置換した置換カルボン酸、ベンゼンスルホン酸などのスルホン酸、リン酸などが挙げられ、塩基性触媒としては、アンモニア水などのアンモニア性塩基、エチルアミンやアニリンなどのアミン類などが挙げられる。層中でのアルコール交換反応を速やかに進行させる観点で、メタンスルホン酸、p−トルエンスルホン酸、ピリジニウム p−トルエンスルホネート、リン酸、ホスホン酸、酢酸が好ましく、メタンスルホン酸、p−トルエンスルホン酸、リン酸が特に好ましい。
-Acidic catalyst or basic catalyst-
As the catalyst, an acidic catalyst or a basic catalyst is used as it is, or a catalyst dissolved in water or an organic solvent is used. The concentration at the time of dissolving in the solvent is not particularly limited, and may be appropriately selected according to the characteristics of the acid or basic compound used, the desired content of the catalyst, and the like.
The type of acidic catalyst or basic catalyst is not particularly limited. Specifically, examples of the acidic catalyst include hydrogen halides such as hydrochloric acid, nitric acid, sulfuric acid, sulfurous acid, hydrogen sulfide, perchloric acid, hydrogen peroxide, carbonic acid, Examples of the basic catalyst include carboxylic acids such as formic acid and acetic acid, substituted carboxylic acids obtained by substituting R of the structural formula represented by RCOOH with other elements or substituents, sulfonic acids such as benzenesulfonic acid, and phosphoric acid. Include ammoniacal bases such as aqueous ammonia and amines such as ethylamine and aniline. From the viewpoint of promptly proceeding the alcohol exchange reaction in the layer, methanesulfonic acid, p-toluenesulfonic acid, pyridinium p-toluenesulfonate, phosphoric acid, phosphonic acid, and acetic acid are preferable, and methanesulfonic acid, p-toluenesulfonic acid. Phosphoric acid is particularly preferred.

−金属錯体触媒−
本発明においてアルコール交換反応触媒として用いられる金属錯体触媒は、好ましくは、周期律表の2、4、5及び13族よりなる群から選ばれた金属元素とβ−ジケトン(アセチルアセトンなどが好ましい。)、ケトエステル、ヒドロキシカルボン酸又はそのエステル、アミノアルコール、及び、エノール性活性水素化合物よりなる群から選ばれるオキソ又はヒドロキシ酸素化合物とから構成されるものである。
さらに、構成金属元素の中では、Mg,Ca,St及びBaなどの2族元素、Ti及びZrなどの4族元素、並びに、V,Nb及びTaなどの5族元素、Al及びGaなどの13族元素が好ましく挙げられ、それぞれ触媒効果の優れた錯体を形成する。その中でも、得られる錯体が優れている点から、Zr、Al又はTiの金属錯体触媒が好ましく、オルトチタン酸エチルなどが特に好ましい。
これらは水系塗布液での安定性、及び、加熱乾燥時のゾルゲル反応でのゲル化促進効果に優れているが、中でも、エチルアセトアセテートアルミニウムジイソプロピレート、アルミニウムトリス(エチルアセトアセテート)、ジ(アセチルアセトナト)チタニウム錯塩、ジルコニウムトリス(エチルアセトアセテート)が特に好ましい。
樹脂組成物には、アルコール交換反応触媒を1種のみ用いてもよく、2種以上併用してもよい。樹脂組成物におけるアルコール交換反応触媒の含有量は、水酸基を有するポリマーに対して、0.01〜20重量%であることが好ましく、0.1〜10重量%であることがより好ましい。
-Metal complex catalyst-
In the present invention, the metal complex catalyst used as the alcohol exchange reaction catalyst is preferably a metal element selected from the group consisting of groups 2, 4, 5 and 13 of the periodic table and a β-diketone (acetylacetone is preferred). , A ketoester, a hydroxycarboxylic acid or ester thereof, an amino alcohol, and an oxo or hydroxy oxygen compound selected from the group consisting of enolic active hydrogen compounds.
Further, among the constituent metal elements, group 2 elements such as Mg, Ca, St and Ba, group 4 elements such as Ti and Zr, group 5 elements such as V, Nb and Ta, and 13 such as Al and Ga. Group elements are preferred, and each form a complex having an excellent catalytic effect. Among them, a metal complex catalyst of Zr, Al, or Ti is preferable, and ethyl orthotitanate is particularly preferable because the obtained complex is excellent.
These are excellent in stability in aqueous coating solutions and in gelation promoting effect in sol-gel reaction during heat drying. Among them, ethyl acetoacetate aluminum diisopropylate, aluminum tris (ethyl acetoacetate), di ( Particularly preferred are acetylacetonato) titanium complex and zirconium tris (ethylacetoacetate).
In the resin composition, only one type of alcohol exchange reaction catalyst may be used, or two or more types may be used in combination. The content of the alcohol exchange reaction catalyst in the resin composition is preferably 0.01 to 20% by weight and more preferably 0.1 to 10% by weight with respect to the polymer having a hydroxyl group.

〔重合開始剤〕
レーザー彫刻用樹脂組成物は、重合開始剤を含有することが好ましく、エチレン性不飽和基を有する化合物と重合開始剤とを併用することがより好ましい。
重合開始剤は、公知のものを制限なく使用することができる。以下、好ましい重合開始剤であるラジカル重合開始剤について詳述するが、本発明はこれらの記述により制限を受けるものではない。
重合開始剤としては、光重合開始剤と熱重合開始剤とに大別することができる。
光重合開始剤としては、前述したものを好適に用いることができる。
(Polymerization initiator)
The resin composition for laser engraving preferably contains a polymerization initiator, and more preferably uses a compound having an ethylenically unsaturated group and a polymerization initiator in combination.
A well-known thing can be used for a polymerization initiator without a restriction | limiting. Hereinafter, although the radical polymerization initiator which is a preferable polymerization initiator is explained in full detail, this invention is not restrict | limited by these description.
The polymerization initiator can be roughly classified into a photopolymerization initiator and a thermal polymerization initiator.
As the photopolymerization initiator, those described above can be suitably used.

本発明では、架橋度を向上させる観点から、熱重合開始剤が好ましく用いられる。熱重合開始剤としては、(c)有機過酸化物及び(l)アゾ系化合物が好ましく用いられ、(c)有機過酸化物がより好ましく用いられる。特に、以下に示す化合物が好ましい。   In the present invention, a thermal polymerization initiator is preferably used from the viewpoint of improving the degree of crosslinking. As the thermal polymerization initiator, (c) an organic peroxide and (l) an azo compound are preferably used, and (c) an organic peroxide is more preferably used. In particular, the following compounds are preferred.

(c)有機過酸化物
本発明に用いることができるラジカル重合開始剤として、好ましい(c)有機過酸化物としては、3,3’4,4’−テトラ(t−ブチルパーオキシカルボニル)ベンゾフェノン、3,3’4,4’−テトラ(t−アミルパーオキシカルボニル)ベンゾフェノン、3,3’4,4’−テトラ(t−ヘキシルパーオキシカルボニル)ベンゾフェノン、3,3’4,4’−テトラ(t−オクチルパーオキシカルボニル)ベンゾフェノン、3,3’4,4’−テトラ(クミルパーオキシカルボニル)ベンゾフェノン、3,3’4,4’−テトラ(p−イソプロピルクミルパーオキシカルボニル)ベンゾフェノン、ジ−t−ブチルジパーオキシイソフタレートなどの過酸化エステル系が好ましい。
(C) Organic peroxide As a radical polymerization initiator that can be used in the present invention, preferred (c) organic peroxide is 3,3′4,4′-tetra (t-butylperoxycarbonyl) benzophenone. 3,3′4,4′-tetra (t-amylperoxycarbonyl) benzophenone, 3,3′4,4′-tetra (t-hexylperoxycarbonyl) benzophenone, 3,3′4,4′- Tetra (t-octylperoxycarbonyl) benzophenone, 3,3′4,4′-tetra (cumylperoxycarbonyl) benzophenone, 3,3′4,4′-tetra (p-isopropylcumylperoxycarbonyl) benzophenone, Peroxide esters such as di-t-butyldiperoxyisophthalate are preferred.

(l)アゾ系化合物
本発明に用いることができるラジカル重合開始剤として、好ましい(l)アゾ系化合物としては、2,2’−アゾビスイソブチロニトリル、2,2’−アゾビスプロピオニトリル、1,1’−アゾビス(シクロヘキサン−1−カルボニトリル)、2,2’−アゾビス(2−メチルブチロニトリル)、2,2’−アゾビス(2,4−ジメチルバレロニトリル)、2,2’−アゾビス(4−メトキシ−2,4−ジメチルバレロニトリル)、4,4’−アゾビス(4−シアノ吉草酸)、2,2’−アゾビスイソ酪酸ジメチル、2,2’−アゾビス(2−メチルプロピオンアミドオキシム)、2,2’−アゾビス[2−(2−イミダゾリン−2−イル)プロパン]、2,2’−アゾビス{2−メチル−N−[1,1−ビス(ヒドロキシメチル)−2−ヒドロキシエチル]プロピオンアミド}、2,2’−アゾビス[2−メチル−N−(2−ヒドロキシエチル)プロピオンアミド]、2,2’−アゾビス(N−ブチル−2−メチルプロピオンアミド)、2,2’−アゾビス(N−シクロヘキシル−2−メチルプロピオンアミド)、2,2’−アゾビス[N−(2−プロペニル)−2−メチルプロピオンアミド]、2,2’−アゾビス(2,4,4−トリメチルペンタン)等を挙げることができる。
(L) Azo compound As a radical polymerization initiator that can be used in the present invention, preferred (l) azo compounds include 2,2′-azobisisobutyronitrile and 2,2′-azobispropio. Nitrile, 1,1′-azobis (cyclohexane-1-carbonitrile), 2,2′-azobis (2-methylbutyronitrile), 2,2′-azobis (2,4-dimethylvaleronitrile), 2, 2′-azobis (4-methoxy-2,4-dimethylvaleronitrile), 4,4′-azobis (4-cyanovaleric acid), dimethyl 2,2′-azobisisobutyrate, 2,2′-azobis (2- Methylpropionamidooxime), 2,2′-azobis [2- (2-imidazolin-2-yl) propane], 2,2′-azobis {2-methyl-N- [1,1-bis (hydroxymethyl)] − -Hydroxyethyl] propionamide}, 2,2′-azobis [2-methyl-N- (2-hydroxyethyl) propionamide], 2,2′-azobis (N-butyl-2-methylpropionamide), 2 , 2′-azobis (N-cyclohexyl-2-methylpropionamide), 2,2′-azobis [N- (2-propenyl) -2-methylpropionamide], 2,2′-azobis (2,4,4) 4-trimethylpentane) and the like.

本発明における重合開始剤は、1種を単独で用いてもよいし、2種以上を併用することも可能である。
重合開始剤は、レーザー彫刻用樹脂組成物の全固形分に対し、好ましくは0.01〜10重量%、より好ましくは0.1〜3重量%の割合で添加することができる。
The polymerization initiator in the present invention may be used alone or in combination of two or more.
The polymerization initiator can be added at a ratio of preferably 0.01 to 10% by weight, more preferably 0.1 to 3% by weight, based on the total solid content of the resin composition for laser engraving.

〔光熱変換剤〕
前記記録層は、光熱変換剤を含有することが好ましい。
また、前記レーザー彫刻用樹脂組成物は、光熱変換剤を含有することが好ましい。
光熱変換剤は、レーザーの光を吸収し発熱することで、レーザー彫刻用樹脂組成物の硬化物の熱分解を促進すると考えられる。ゆえに、彫刻に用いるレーザー波長の光を吸収する光熱変換剤を選択することが好ましい。
[Photothermal conversion agent]
The recording layer preferably contains a photothermal conversion agent.
The resin composition for laser engraving preferably contains a photothermal conversion agent.
It is considered that the photothermal conversion agent promotes thermal decomposition of the cured product of the resin composition for laser engraving by absorbing laser light and generating heat. Therefore, it is preferable to select a photothermal conversion agent that absorbs light having a laser wavelength used for engraving.

波長700nm〜1,300nmの赤外線を発するレーザー(YAGレーザー、半導体レーザー、ファイバーレーザー、面発光レーザー等)を光源としてレーザー彫刻に用いる場合には、本発明における記録層は、700nm〜1,300nmの波長の光を吸収可能な光熱変換剤を含有することが好ましい。
本発明における光熱変換剤としては、種々の染料及び/又は顔料が用いられる。
前記光熱変換剤は、800nm〜1,200nmに吸収を有する顔料及び染料から選択される1種以上の光熱変換剤であることがより好ましい。
また、前記光熱変換剤は、顔料であることが好ましい。
When a laser (YAG laser, semiconductor laser, fiber laser, surface emitting laser, etc.) emitting an infrared ray having a wavelength of 700 nm to 1,300 nm is used as a light source for laser engraving, the recording layer in the present invention has a recording layer of 700 nm to 1,300 nm. It is preferable to contain a photothermal conversion agent that can absorb light of a wavelength.
Various dyes and / or pigments are used as the photothermal conversion agent in the present invention.
More preferably, the photothermal conversion agent is at least one photothermal conversion agent selected from pigments and dyes having absorption at 800 nm to 1,200 nm.
The photothermal conversion agent is preferably a pigment.

光熱変換剤のうち、染料としては、市販の染料及び例えば「染料便覧」(有機合成化学協会編集、昭和45年刊)等の文献に記載されている公知のものが利用できる。具体的には、700nm〜1,300nmに極大吸収波長を有するものが挙げられ、アゾ染料、金属錯塩アゾ染料、ピラゾロンアゾ染料、ナフトキノン染料、アントラキノン染料、フタロシアニン染料、カルボニウム染料、ジインモニウム化合物、キノンイミン染料、メチン染料、シアニン染料、スクワリリウム色素、ピリリウム塩、金属チオレート錯体等の染料が挙げられる。特に、ヘプタメチンシアニン色素等のシアニン系色素、ペンタメチンオキソノール色素等のオキソノール系色素、フタロシアニン系色素が好ましく用いられる。例えば、特開2008−63554号公報の段落0124〜0137に記載の染料を挙げることができる。   Among the photothermal conversion agents, as the dye, commercially available dyes and known ones described in documents such as “Dye Handbook” (edited by the Society for Synthetic Organic Chemistry, published in 1970) can be used. Specific examples include those having a maximum absorption wavelength at 700 nm to 1,300 nm. Azo dyes, metal complex salt azo dyes, pyrazolone azo dyes, naphthoquinone dyes, anthraquinone dyes, phthalocyanine dyes, carbonium dyes, diimmonium compounds, quinone imine dyes , Methine dyes, cyanine dyes, squarylium dyes, pyrylium salts, and metal thiolate complexes. In particular, cyanine dyes such as heptamethine cyanine dye, oxonol dyes such as pentamethine oxonol dye, and phthalocyanine dyes are preferably used. Examples thereof include the dyes described in paragraphs 0124 to 0137 of JP-A-2008-63554.

本発明において使用される光熱変換剤のうち、顔料としては、市販の顔料及びカラーインデックス(C.I.)便覧、「最新顔料便覧」(日本顔料技術協会編、1977年刊)、「最新顔料応用技術」(CMC出版、1986年刊)、「印刷インキ技術」CMC出版、1984年刊)に記載されている顔料が利用できる。   Among the photothermal conversion agents used in the present invention, commercially available pigments and color index (CI) manuals, “latest pigment manuals” (edited by the Japan Pigment Technical Association, published in 1977), “latest pigment application” The pigments described in “Technology” (CMC Publishing, 1986) and “Printing Ink Technology” CMC Publishing, 1984) can be used.

顔料の種類としては、黒色顔料、黄色顔料、オレンジ色顔料、褐色顔料、赤色顔料、紫色顔料、青色顔料、緑色顔料、蛍光顔料、金属粉顔料、その他、ポリマー結合色素が挙げられる。具体的には、不溶性アゾ顔料、アゾレーキ顔料、縮合アゾ顔料、キレートアゾ顔料、フタロシアニン系顔料、アントラキノン系顔料、ペリレン及びペリノン系顔料、チオインジゴ系顔料、キナクリドン系顔料、ジオキサジン系顔料、イソインドリノン系顔料、キノフタロン系顔料、染付けレーキ顔料、アジン顔料、ニトロソ顔料、ニトロ顔料、天然顔料、蛍光顔料、無機顔料、カーボンブラック等が使用できる。これらの顔料のうち、好ましいものはカーボンブラックである。   Examples of the pigment include black pigments, yellow pigments, orange pigments, brown pigments, red pigments, purple pigments, blue pigments, green pigments, fluorescent pigments, metal powder pigments, and other polymer-bonded dyes. Specifically, insoluble azo pigments, azo lake pigments, condensed azo pigments, chelate azo pigments, phthalocyanine pigments, anthraquinone pigments, perylene and perinone pigments, thioindigo pigments, quinacridone pigments, dioxazine pigments, isoindolinone pigments In addition, quinophthalone pigments, dyed lake pigments, azine pigments, nitroso pigments, nitro pigments, natural pigments, fluorescent pigments, inorganic pigments, carbon black, and the like can be used. Of these pigments, carbon black is preferred.

カーボンブラックは、組成物中における分散性などが安定である限り、ASTMによる分類のほか、用途(例えば、カラー用、ゴム用、乾電池用など)の如何に拘らずいずれも使用可能である。カーボンブラックには、例えば、ファーネスブラック、サーマルブラック、チャンネルブラック、ランプブラック、アセチレンブラックなどが含まれる。なお、カーボンブラックなどの黒色着色剤は、分散を容易にするため、必要に応じて分散剤を用い、予めニトロセルロースやなどに分散させたカラーチップやカラーペーストとして使用することができ、このようなチップやペーストは市販品として容易に入手できる。
本発明においては、比較的低い比表面積及び比較的低いDBP吸収を有するカーボンブラックや比表面積の大きい微細化されたカーボンブラックまでを使用することも可能である。好適なカーボンブラックの例は、Printex(登録商標)U、Printex(登録商標)A、又はSpezialschwarz(登録商標)4(Degussaより)を含む。
本発明に用いることができるカーボンブラックとしては、ジブチルフタレート(DBP)吸油量が、150ml/100g未満であることが好ましい。
また、カーボンブラックとしては、光熱変換により発生した熱を周囲のポリマー等に効率よく伝えることで彫刻感度が向上するという観点で、比表面積が少なくとも150m2/gである、伝導性カーボンブラックが好ましい。
As long as the dispersibility in the composition is stable, carbon black can be used regardless of the classification according to ASTM or the use (for example, for color, for rubber, for dry battery, etc.). Carbon black includes, for example, furnace black, thermal black, channel black, lamp black, acetylene black and the like. In addition, black colorants such as carbon black can be used as color chips or color pastes previously dispersed in nitrocellulose or the like by using a dispersant as required in order to facilitate dispersion. Chips and pastes are easily available as commercial products.
In the present invention, it is also possible to use carbon black having a relatively low specific surface area and relatively low DBP absorption and even finer carbon black having a large specific surface area. Examples of suitable carbon blacks include Printex® U, Printex® A, or Specialschwarz® 4 (from Degussa).
The carbon black that can be used in the present invention preferably has a dibutyl phthalate (DBP) oil absorption of less than 150 ml / 100 g.
Further, as the carbon black, conductive carbon black having a specific surface area of at least 150 m 2 / g is preferable from the viewpoint of improving engraving sensitivity by efficiently transferring heat generated by photothermal conversion to surrounding polymers. .

前記記録層、又は、前記レーザー彫刻用樹脂組成物中おける光熱変換剤の含有量は、その分子固有の分子吸光係数の大きさにより大きく異なるが、樹脂組成物又は記録層の固形分全重量の0.01〜20重量%の範囲が好ましく、0.05〜10重量%の範囲がより好ましく、0.1〜5重量%の範囲が特に好ましい。   The content of the photothermal conversion agent in the recording layer or the resin composition for laser engraving varies greatly depending on the molecular extinction coefficient specific to the molecule, but the total solid weight of the resin composition or the recording layer. A range of 0.01 to 20% by weight is preferable, a range of 0.05 to 10% by weight is more preferable, and a range of 0.1 to 5% by weight is particularly preferable.

<その他の添加剤>
前記レーザー彫刻用樹脂組成物、及び、前記レリーフ印刷版原版の記録層は、前述したもの以外に、公知の添加剤を含有していてもよい。
レーザー彫刻用樹脂組成物は、可塑剤を含有することが好ましい。
可塑剤は、レーザー彫刻用樹脂組成物により形成された膜を柔軟化する作用を有するものであり、ポリマーに対して相溶性のよいものである必要がある。
可塑剤としては、例えば、ジオクチルフタレート、ジドデシルフタレート、クエン酸トリブチル等や、ポリエチレングリコール類、ポリプロピレングリコール(モノオール型やジオール型)、ポリプロピレングリコール(モノオール型やジオール型)などが好ましく用いられる。
レーザー彫刻用樹脂組成物は、彫刻感度向上のための添加剤として、ニトロセルロースや高熱伝導性物質、を加えることがより好ましい。ニトロセルロースは自己反応性化合物であるため、レーザー彫刻時、自身が発熱し、共存する親水性ポリマー等のポリマーの熱分解をアシストする。その結果、彫刻感度が向上すると推定される。高熱伝導性物質は、熱伝達を補助する目的で添加され、熱伝導性物質としては、金属粒子等の無機化合物、導電性ポリマー等の有機化合物が挙げられる。金属粒子としては、粒径がマイクロメートルオーダーから数ナノメートルオーダーの、金微粒子、銀微粒子、銅微粒子が好ましい。導電性ポリマーとしては、特に共役ポリマーが好ましく、具体的には、ポリアニリン、ポリチオフェンが挙げられる。
また、共増感剤を用いることで、レーザー彫刻用樹脂組成物を光硬化させる際の感度を更に向上させることができる。
さらに、組成物の製造中あるいは保存中において重合性化合物の不要な熱重合を阻止するために少量の熱重合禁止剤を添加することが好ましい。
レーザー彫刻用樹脂組成物の着色を目的として染料若しくは顔料等の着色剤を添加してもよい。これにより、画像部の視認性や、画像濃度測定機適性といった性質を向上させることができる。
さらに、レーザー彫刻用樹脂組成物の硬化皮膜の物性を改良するために充填剤等の公知の添加剤を加えてもよい。
<Other additives>
The resin composition for laser engraving and the recording layer of the relief printing plate precursor may contain known additives in addition to those described above.
The resin composition for laser engraving preferably contains a plasticizer.
The plasticizer has a function of softening a film formed of the resin composition for laser engraving and needs to be compatible with the polymer.
As the plasticizer, for example, dioctyl phthalate, didodecyl phthalate, tributyl citrate, polyethylene glycols, polypropylene glycol (monool type or diol type), polypropylene glycol (monool type or diol type), etc. are preferably used. .
The resin composition for laser engraving is more preferably added with nitrocellulose or a highly thermally conductive substance as an additive for improving engraving sensitivity. Since nitrocellulose is a self-reactive compound, it generates heat during laser engraving and assists in the thermal decomposition of coexisting polymers such as hydrophilic polymers. As a result, it is estimated that the engraving sensitivity is improved. The highly heat conductive material is added for the purpose of assisting heat transfer, and examples of the heat conductive material include inorganic compounds such as metal particles and organic compounds such as a conductive polymer. As the metal particles, gold fine particles, silver fine particles, and copper fine particles having a particle size of micrometer order to several nanometer order are preferable. As the conductive polymer, a conjugated polymer is particularly preferable, and specific examples include polyaniline and polythiophene.
Moreover, the sensitivity at the time of photocuring the resin composition for laser engraving can be further improved by using a co-sensitizer.
Furthermore, it is preferable to add a small amount of a thermal polymerization inhibitor in order to prevent unnecessary thermal polymerization of the polymerizable compound during the production or storage of the composition.
Colorants such as dyes or pigments may be added for the purpose of coloring the resin composition for laser engraving. Thereby, properties such as the visibility of the image portion and the suitability of the image density measuring device can be improved.
Furthermore, in order to improve the physical properties of the cured film of the resin composition for laser engraving, a known additive such as a filler may be added.

以下、実施例により本発明を更に詳細に説明するが、本発明はこれら実施例に限定されるものではない。   EXAMPLES Hereinafter, although an Example demonstrates this invention further in detail, this invention is not limited to these Examples.

<光硬化性接着剤に使用した各成分>
・2−ヒドロキシプロピルアクリレート(大阪有機化学工業(株)製)
・2−ヒドロキシ−3−フェノキシプロピルアクリレート(新中村化学工業(株)製)
・メチルメタクリレート(新中村化学工業(株)製)
・トリメチロールプロパントリアクリレート(新中村化学工業(株)製)
・ビス(グリセリルウレタン)イソホロンテトラメタクリレート
・1−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン(チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製)
・2,4−ジエチルチオキサントン(チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製)
・エタノール(和光純薬工業(株)製)
<Each component used for photocurable adhesive>
・ 2-hydroxypropyl acrylate (manufactured by Osaka Organic Chemical Industry Co., Ltd.)
・ 2-Hydroxy-3-phenoxypropyl acrylate (manufactured by Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd.)
・ Methyl methacrylate (manufactured by Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd.)
・ Trimethylolpropane triacrylate (manufactured by Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd.)
・ Bis (glyceryl urethane) isophorone tetramethacrylate ・ 1-hydroxycyclohexyl phenyl ketone (Ciba Specialty Chemicals)
・ 2,4-Diethylthioxanthone (Ciba Specialty Chemicals)
・ Ethanol (Wako Pure Chemical Industries, Ltd.)

<光硬化性接着剤の作製>
表1に記載の各成分を以下の使用量で混合し、各光硬化性接着剤を作製した。
・水酸基を有する(メタ)アクリレート化合物 52重量部
・水酸基を有しない(メタ)アクリレート化合物 40重量部
・光重合開始剤 表1に記載の量
<Preparation of photocurable adhesive>
Each component shown in Table 1 was mixed with the following usage-amount, and each photocurable adhesive was produced.
-(Meth) acrylate compound having a hydroxyl group 52 parts by weight-(Meth) acrylate compound having no hydroxyl group 40 parts by weight-Photopolymerization initiator Amount shown in Table 1

なお、実施例13では水酸基を有する(メタ)アクリレート化合物の使用量を30重量部、及び、水酸基を有しない(メタ)アクリレート化合物の使用量を62重量%とし、実施例14では水酸基を有する(メタ)アクリレート化合物の使用量を70重量部、及び、水酸基を有しない(メタ)アクリレート化合物の使用量を22重量%とした。また、実施例15で使用した光硬化性接着剤は、エタノールを添加し固形分を95%に調整した。   In Example 13, the amount of the (meth) acrylate compound having a hydroxyl group is 30 parts by weight, and the amount of the (meth) acrylate compound having no hydroxyl group is 62% by weight. In Example 14, the hydroxyl group has a hydroxyl group ( The amount of the (meth) acrylate compound used was 70 parts by weight, and the amount of the (meth) acrylate compound having no hydroxyl group was 22% by weight. Moreover, the photocurable adhesive used in Example 15 was adjusted to a solid content of 95% by adding ethanol.

<レーザー彫刻用樹脂組成物1の作製>
撹拌羽及び冷却管をつけた3つ口フラスコ中に、特定ポリマーとしてゴーセナールT−215(日本合成化学工業(株)製、水溶性PVA)50重量部、溶媒としてプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート47重量部を入れ、撹拌しながら70℃で120分間加熱しポリマーを溶解させた。その後、溶液を40℃にし、さらに可塑剤としてクエン酸トリブチルを15重量部、重合性化合物(単官能体)としてブレンマーLMA(日油(株)製)8重量部、重合開始剤としてパーブチルZ(日油(株)製)を1.6重量部、光熱変換剤としてカーボンブラック(ショウブラック N110、キャボットジャパン(株)製、DBP吸油量115ml/100g)を1重量部、を添加して30分間撹拌した。その後、化合物(I)(SC−1)〔以下に、構造を示す。商品名、KBE−846として信越化学工業(株)より入手可能。〕を15重量部、及び、触媒としてリン酸0.4重量部を添加し、40℃で10分間撹拌した。この操作により、流動性のあるレリーフ形成層用塗布液(レーザー彫刻用樹脂組成物)を得た。
<Preparation of Resin Composition 1 for Laser Engraving>
In a three-necked flask equipped with a stirring blade and a condenser tube, Gosenal T-215 (manufactured by Nippon Synthetic Chemical Industry Co., Ltd., water-soluble PVA) as a specific polymer, 50 parts by weight, and propylene glycol monomethyl ether acetate as a solvent, 47 parts by weight And heated at 70 ° C. for 120 minutes with stirring to dissolve the polymer. Thereafter, the solution was brought to 40 ° C., 15 parts by weight of tributyl citrate as a plasticizer, 8 parts by weight of Bremer LMA (manufactured by NOF Corporation) as a polymerizable compound (monofunctional), and perbutyl Z (as a polymerization initiator) 1.6 parts by weight of NOF Co., Ltd.) and 1 part by weight of carbon black (Show Black N110, Cabot Japan Co., Ltd., DBP oil absorption 115 ml / 100 g) as a photothermal conversion agent were added for 30 minutes. Stir. Then, compound (I) (SC-1) [The structure is shown below. Available under the trade name KBE-846 from Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. 15 parts by weight and 0.4 part by weight of phosphoric acid as a catalyst were added and stirred at 40 ° C. for 10 minutes. By this operation, a fluid coating solution for a relief forming layer (laser engraving resin composition) was obtained.

Figure 2011173295
なお、Etはエチル基を表す。
Figure 2011173295
Et represents an ethyl group.

<レーザー彫刻用樹脂組成物2の作製>
ゴーセナールT−215をデンカブチラール#3000−2(電気化学工業(株)製、ポリビニルブチラール、Mw=9万)に代えた以外は、レーザー彫刻用樹脂組成物1の作製と同様の方法により、レリーフ形成層用塗布液を作製した。
<Preparation of resin composition 2 for laser engraving>
A relief is obtained in the same manner as in the production of the resin composition 1 for laser engraving except that GOHSENAL T-215 is replaced with Denkabutyral # 3000-2 (manufactured by Denki Kagaku Kogyo Co., Ltd., polyvinyl butyral, Mw = 90,000). A coating liquid for forming layer was prepared.

<レーザー彫刻用樹脂組成物3の作製>
SC−1及びリン酸を使用しなかった以外は、レーザー彫刻用樹脂組成物2の作製と同様の方法により、レリーフ形成層用塗布液を作製した。
<Preparation of resin composition 3 for laser engraving>
A relief forming layer coating solution was prepared in the same manner as in the preparation of the resin composition 2 for laser engraving except that SC-1 and phosphoric acid were not used.

<レーザー彫刻用樹脂組成物4の作製>
撹拌羽及び冷却管をつけた3つ口フラスコ中に、ELASTOSIL(登録商標:タイプR300/30S、Wacker社製シリコーンゴム)50重量部、溶媒としてテトラヒドロフラン47重量部を入れ、撹拌し、ポリマーを溶解させた。その後、光熱変換剤としてカーボンブラック(ショウブラックN110、キャボットジャパン(株)製、DBP吸油量115ml/100g)0.8重量部を添加して30分間撹拌した。この操作により、流動性のあるレリーフ形成層用塗布液(レーザー彫刻用樹脂組成物)を得た。
上記レリーフ形成層用塗布液を使用した以外は、レーザー彫刻用樹脂組成物1の作製と同様の方法により、レーザー彫刻用樹脂組成物4を作製した。
<Preparation of Resin Composition 4 for Laser Engraving>
In a three-necked flask equipped with a stirring blade and a cooling tube, 50 parts by weight of ELASTOSIL (registered trademark: Type R300 / 30S, Wacker silicone rubber) and 47 parts by weight of tetrahydrofuran as a solvent are stirred and dissolved to dissolve the polymer. I let you. Thereafter, 0.8 part by weight of carbon black (Show Black N110, manufactured by Cabot Japan Co., Ltd., DBP oil absorption 115 ml / 100 g) was added as a photothermal conversion agent and stirred for 30 minutes. By this operation, a fluid coating solution for a relief forming layer (laser engraving resin composition) was obtained.
A resin composition 4 for laser engraving was produced in the same manner as the production of the resin composition 1 for laser engraving, except that the coating liquid for relief forming layer was used.

<レーザー彫刻用樹脂組成物5の作製>
タフプレンA(旭化成(株)製、スチレン−ブタジエンブロックコポリマー)60重量部、B−2000(日本石油化学(株)製、液状ポリブタジエン)30重量部、1,9−ノナンジオールジアクリレート7重量部、2,2−ジメトキシ−2−フェニルアセトフェノン2重量部、及び、2,6−ジ−t−ブチル−p−クレゾール1重量部を、ニーダーにて混練し、レーザー彫刻用樹脂組成物5を作製した。
<Preparation of Resin Composition 5 for Laser Engraving>
Toughprene A (Asahi Kasei Co., Ltd., styrene-butadiene block copolymer) 60 parts by weight, B-2000 (Nippon Petrochemical Co., Ltd., liquid polybutadiene) 30 parts by weight, 1,9-nonanediol diacrylate 7 parts by weight, 2 parts by weight of 2,2-dimethoxy-2-phenylacetophenone and 1 part by weight of 2,6-di-t-butyl-p-cresol were kneaded with a kneader to prepare a resin composition 5 for laser engraving. .

<レリーフ印刷版原版の製造方法>
表1に記載の処方に従い、以下の操作により、各レリーフ印刷版原版を作製した。
PET基板上に所定厚のスペーサー(枠)を設置し、上記より得られたレリーフ形成層用塗布液をスペーサー(枠)から流出しない程度に静かに流延し、90℃のオーブン中で3時間乾燥させて、厚さが約1mmの記録層を設け、レリーフシートを作製した。
得られたレリーフシートの記録層を80℃で3時間、更に100℃で3時間加熱して記録層を熱架橋した。
熱架橋して得られたレリーフシートに対して表1に記載した条件で接着剤組成物を塗設した後、2.5mm厚のPET支持体をニップローラにて張り合わせ、20秒後にPET支持体側からUV露光機(アイグラフィック社製UV露光機ECS−151U メタルハライドランプ 1,500mJ/cm2 14sec露光)にて表1に記載の露光量で接着剤を硬化させ、レリーフ印刷版原版をそれぞれ作製した。作製した各レリーフ印刷版原版の剥離力、面内平面性をそれぞれ以下のように測定した。評価結果をまとめて表1に示す。
<Method for producing relief printing plate precursor>
According to the prescription described in Table 1, each relief printing plate precursor was prepared by the following operation.
A spacer (frame) with a predetermined thickness is placed on the PET substrate, and the coating solution for the relief forming layer obtained above is gently cast so as not to flow out of the spacer (frame), and is kept in an oven at 90 ° C. for 3 hours. After drying, a recording layer having a thickness of about 1 mm was provided to produce a relief sheet.
The recording layer of the obtained relief sheet was heated at 80 ° C. for 3 hours and further at 100 ° C. for 3 hours to thermally crosslink the recording layer.
After the adhesive composition was applied to the relief sheet obtained by thermal crosslinking under the conditions described in Table 1, a 2.5 mm thick PET support was laminated with a nip roller, and 20 seconds later from the PET support side. The adhesive was cured with the exposure amount shown in Table 1 with a UV exposure machine (UV exposure machine ECS-151U metal halide lamp manufactured by Igraphic Co., Ltd., 1,500 mJ / cm 2 14 sec exposure) to prepare relief printing plate precursors. The peel force and in-plane flatness of each produced relief printing plate precursor were measured as follows. The evaluation results are summarized in Table 1.

<版面の平面性評価>
1.膜厚平面性評価
得られたレリーフ印刷版原版の膜厚を2cm刻みで全面測定し、膜厚の最大値(MAX値)から膜厚の最小値(MIN値)を差し引いた値を算出した。当該値が小さいほど、平面性に優れる。
2.カール評価
得られたレリーフ印刷版原版を10cm×10cmの正方形状にカットし、図2に示すように、カットしたレリーフ印刷版原版100を平滑面102に置いた際の浮き上がり高さHを測定した。なお、平滑面102にレリーフ印刷版原版100を置く向きは、Hが測定可能な向きであればよい。Hの値が小さいほど、平面性に優れる。
<Evaluation of flatness of printing plate>
1. Film thickness flatness evaluation The film thickness of the obtained relief printing plate precursor was measured in 2 cm increments, and a value obtained by subtracting the film thickness minimum value (MAX value) from the film thickness maximum value (MAX value) was calculated. The smaller the value, the better the flatness.
2. Curl Evaluation The obtained relief printing plate precursor was cut into a 10 cm × 10 cm square shape, and as shown in FIG. 2, the raised height H when the cut relief printing plate precursor 100 was placed on the smooth surface 102 was measured. . The direction in which the relief printing plate precursor 100 is placed on the smooth surface 102 may be any direction in which H can be measured. The smaller the value of H, the better the flatness.

<接着性評価>
得られたレリーフ印刷版原版を3cm幅にカットした後、PET支持体と記録層との間を一部剥がした後、テンシロン測定器にて50mm/minの剥離速度で、支持体に対し180°の方向に剥離し、剥離力を測定した。剥離力が大きいほど、接着性に優れる。
<Adhesion evaluation>
The obtained relief printing plate precursor was cut to a width of 3 cm, and then a part of the PET support and the recording layer was peeled off, and then 180 ° with respect to the support at a peeling rate of 50 mm / min with a Tensilon measuring instrument. The peel strength was measured. The greater the peel force, the better the adhesion.

Figure 2011173295
Figure 2011173295

10:レリーフ印刷版原版の製造装置
12:記録層
12a:記録層12の層形成工程における基材側の面と対向する面(空気面)
12b:記録層12の層形成工程における基材側の面
14:記録層ローラ
16:搬送手段
18:接着剤付与手段
20:接着剤層
22:支持体ローラ
24:支持体
26,28:ニップローラ
30:紫外線照射手段
32:レリーフ印刷版原版
100:レリーフ印刷版原版
102:平滑面
H:平滑面102からの浮き上がり高さ
10: Manufacturing apparatus for relief printing plate precursor 12: Recording layer 12a: Surface (air surface) facing the surface on the substrate side in the layer forming step of recording layer 12
12b: Surface of substrate side in recording layer 12 forming step 14: Recording layer roller 16: Conveying means 18: Adhesive applying means 20: Adhesive layer 22: Support roller 24: Support 26, 28: Nip roller 30 : UV irradiation means 32: Relief printing plate precursor 100: Relief printing plate precursor 102: Smooth surface H: Lifting height from smooth surface 102

Claims (13)

基材上に記録層を形成する層形成工程、
前記記録層の前記層形成工程における基材側の面と対向する面に光硬化性接着剤を付与し支持体と貼り合わせる貼合工程、及び、
前記光硬化性接着剤を光により硬化して前記記録層と前記支持体とを接着する接着工程、を含み、
前記光硬化性接着剤が、水酸基を有する(メタ)アクリレート化合物、水酸基を有しない(メタ)アクリレート化合物、及び、光重合開始剤を含有することを特徴とする
レーザー彫刻用レリーフ印刷版原版の製造方法。
A layer forming step of forming a recording layer on the substrate;
A bonding step in which a photocurable adhesive is applied to the surface of the recording layer facing the substrate side in the layer forming step and bonded to a support; and
An adhesive step of curing the photocurable adhesive with light to bond the recording layer and the support,
The photocurable adhesive contains a (meth) acrylate compound having a hydroxyl group, a (meth) acrylate compound not having a hydroxyl group, and a photopolymerization initiator, and manufacturing a relief printing plate precursor for laser engraving Method.
前記記録層の膜厚が、0.5〜10mmである、請求項1に記載のレーザー彫刻用レリーフ印刷版原版の製造方法。   The method for producing a relief printing plate precursor for laser engraving according to claim 1, wherein the recording layer has a thickness of 0.5 to 10 mm. 前記光硬化性接着剤が、水酸基を有する(メタ)アクリレート化合物、水酸基を有しない(メタ)アクリレート化合物、及び、光重合開始剤のみからなる、請求項1又は2に記載のレーザー彫刻用レリーフ印刷版原版の製造方法。   The relief printing for laser engraving according to claim 1 or 2, wherein the photo-curable adhesive comprises only a (meth) acrylate compound having a hydroxyl group, a (meth) acrylate compound not having a hydroxyl group, and a photopolymerization initiator. A method for producing an original plate. 前記記録層の前記層形成工程における基材側の面に剥離可能な保護層を形成する保護工程を含む、請求項1〜3のいずれか1項に記載のレーザー彫刻用レリーフ印刷版原版の製造方法。   The production of the relief printing plate precursor for laser engraving according to any one of claims 1 to 3, further comprising a protective step of forming a peelable protective layer on the substrate side surface in the layer forming step of the recording layer. Method. 前記記録層が、バインダーポリマー、及び、光熱変換剤を含有する、請求項1〜4のいずれか1項に記載のレーザー彫刻用レリーフ印刷版原版の製造方法。   The method for producing a relief printing plate precursor for laser engraving according to claim 1, wherein the recording layer contains a binder polymer and a photothermal conversion agent. 前記光熱変換剤が、カーボンブラックを含む、請求項5に記載のレーザー彫刻用レリーフ印刷版原版の製造方法。   The method for producing a relief printing plate precursor for laser engraving according to claim 5, wherein the photothermal conversion agent contains carbon black. 前記記録層が、シロキサン結合を有する、請求項1〜6のいずれか1項に記載のレーザー彫刻用レリーフ印刷版原版の製造方法。   The method for producing a relief printing plate precursor for laser engraving according to claim 1, wherein the recording layer has a siloxane bond. 前記層形成工程が、バインダーポリマーと、光熱変換剤と、反応性シラン化合物と、を含む樹脂組成物からなる記録層を基材上に形成する工程である、請求項1〜7のいずれか1項に記載のレーザー彫刻用レリーフ印刷版原版の製造方法。   The said layer formation process is a process of forming the recording layer which consists of a resin composition containing a binder polymer, a photothermal conversion agent, and a reactive silane compound on a base material. A method for producing a relief printing plate precursor for laser engraving as described in the paragraph. 前記層形成工程と前記貼合工程との間に、前記記録層を熱架橋する架橋工程を含む、請求項8に記載のレーザー彫刻用レリーフ印刷版原版の製造方法。   The method for producing a relief printing plate precursor for laser engraving according to claim 8, comprising a crosslinking step in which the recording layer is thermally crosslinked between the layer forming step and the bonding step. 請求項1〜9のいずれか1項に記載の製造方法により得られたことを特徴とする
レーザー彫刻用レリーフ印刷版原版。
A relief printing plate precursor for laser engraving, which is obtained by the production method according to claim 1.
請求項1〜9のいずれか1項に記載の製造方法により得られたレーザー彫刻用レリーフ印刷版原版の前記記録層をレーザー彫刻しレリーフ層を形成する彫刻工程、を含むことを特徴とする
レリーフ印刷版の製版方法。
A relief process comprising: engraving a laser beam on the recording layer of the relief printing plate precursor for laser engraving obtained by the production method according to claim 1 to form a relief layer. How to make a printing plate.
前記彫刻工程において、波長700〜1,300nmのファイバー付き半導体レーザーにより彫刻する、請求項11に記載のレリーフ印刷版の製版方法。   The plate-making method of the relief printing plate of Claim 11 which engraves with the semiconductor laser with a fiber of wavelength 700-1300nm in the said engraving process. 請求項11又は12に記載のレリーフ印刷版の製版方法により製造されたレリーフ層を有することを特徴とする
レリーフ印刷版。
A relief printing plate having a relief layer produced by the plate making method of a relief printing plate according to claim 11 or 12.
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