JP2011171848A - Surface acoustic wave device - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は、弾性波デバイスに関し、例えば弾性波デバイスチップを金属を用い封止した弾性波デバイスに関する。 The present invention relates to an acoustic wave device, for example, an acoustic wave device in which an acoustic wave device chip is sealed using a metal.
弾性波デバイスは、移動体通信端末のフィルタやデュープレクサとして用いられる。例えば、小型化のため、パッケージ基板に弾性波デバイスチップを実装し、弾性波デバイスチップを半田で封止した弾性波デバイスが知られている(例えば、特許文献1)。 The acoustic wave device is used as a filter or a duplexer of a mobile communication terminal. For example, an acoustic wave device is known in which an acoustic wave device chip is mounted on a package substrate and the acoustic wave device chip is sealed with solder for miniaturization (for example, Patent Document 1).
複数の弾性波デバイスチップを半田等の金属で封止した場合、弾性波デバイスチップに設けられた弾性波デバイス間のアイソレーション特性が悪化する場合がある。 When a plurality of acoustic wave device chips are sealed with a metal such as solder, the isolation characteristics between the acoustic wave devices provided on the acoustic wave device chip may deteriorate.
本弾性波デバイスは、弾性波デバイスチップ間のアイソレーション特性を向上させることを目的とする。 An object of the present acoustic wave device is to improve isolation characteristics between acoustic wave device chips.
例えば、基板と、前記基板上にフリップチップ実装された複数の弾性波デバイスチップと、前記複数の弾性波デバイスチップの一部の側面から前記基板までを金属を用い封止する封止部と、を具備し、前記複数の弾性波デバイスチップの内少なくとも1つにおいて、前記封止部に接する少なくとも1つの側面から弾性波の励振に直接寄与するパターンまでの最も近い距離が、前記封止部に接しない側面から弾性波の励振に直接寄与するパターンまでの最も近い距離より長いことを特徴とする弾性波デバイスを用いる。 For example, a substrate, a plurality of acoustic wave device chips flip-chip mounted on the substrate, and a sealing portion that seals from the side surface of a part of the plurality of acoustic wave device chips to the substrate using a metal, In at least one of the plurality of acoustic wave device chips, the closest distance from at least one side surface in contact with the sealing portion to a pattern that directly contributes to excitation of the elastic wave is in the sealing portion. An elastic wave device is used that is longer than the nearest distance from the side surface that does not contact to the pattern that directly contributes to the excitation of the elastic wave.
本弾性波デバイスによれば、弾性波デバイスチップ間のアイソレーション特性を向上させることができる。 According to this elastic wave device, the isolation characteristic between elastic wave device chips can be improved.
以下、図面を参照に本発明に係る実施例について説明する。 Embodiments according to the present invention will be described below with reference to the drawings.
図1(a)および図1(b)は、実施例1に係る弾性波デバイス100の平面図および断面図である。図1(a)においては、上面の封止部を透視して図示している。図1(b)は、図1(a)のA−A断面図である。図1(a)および図1(b)のように、絶縁性基板10に弾性波デバイスチップ20および22並びに整合回路チップ24がフリップチップ実装されている。弾性波デバイスチップ20および22並びに整合回路チップ24のパッドと基板10上に形成された配線14とがバンプを用い電気的に接続されている。弾性波デバイスチップ20および22並びに整合回路チップ24の各チップの少なくとも1つの側面に接するように封止部18が形成されている。封止部18は、金属(例えば半田)を用い弾性波デバイスチップ20および22並びに整合回路チップ24を弾性波デバイスチップの表面に空間17が生じるように封止している。基板10上にはパターン12が形成されており、封止部18はパターン12上に形成されている。
FIG. 1A and FIG. 1B are a plan view and a cross-sectional view of an
絶縁性基板10は、例えば樹脂またはセラミック基板であり、複数の層を備え、その層間に配線を備える。弾性波デバイスチップは、例えばLiNbO3またはLiTaO3等の圧電基板であり、弾性表面波素子が形成されている。整合回路チップ24は、例えばSi基板またはガラス基板にインダクタやキャパシタ等の受動素子が形成された集積化受動素子である。バンプ16には例えばAuや半田を用いることができる。封止部18にはAgSn等の半田を用いることができる。封止部18に半田を用いることにより、特許文献1に記載のように、簡単に封止部18を形成することができる。なお、弾性波デバイスチップ20および22並びに整合回路チップ24の上面は半田でなく金属板または絶縁性板で覆われていてもよい。配線14およびパターン12は金属であり、例えば、Cu、Al、Au、WまたはNi等を用いることができる。
The
この構造においては、弾性波デバイスチップ20および22の表面に空間17が設けられているため、弾性波デバイスの機能領域(例えば、弾性波表面素子の櫛型電極等)が空間に面し、機能領域の振動が規制されることが抑制できる。また、封止部18が金属を用い弾性波デバイスチップ20および22並びに整合回路チップ24を封止するため、弾性波デバイスチップ20および22並びに整合回路チップ24がシールドされる。さらに、樹脂等を用い封止するのに比べ、気密性が高くなる。
In this structure, since the
図2は、実施例1に係る弾性波デバイス100の回路図である。弾性波デバイス100は、送信フィルタ30、受信フィルタ32および整合回路34を備えたデュープレクサである。送信フィルタ30はアンテナ端子Antと送信端子Txとの間に接続されている。受信フィルタ32はアンテナ端子Antと受信端子Rx1およびRx2との間に接続されている。整合回路34がアンテナ端子Antと受信フィルタ32との間に接続されている。送信フィルタ30は、送信端子Txから入力した送信帯域の送信信号を通過させ、送信帯域以外の周波数の信号(例えば受信帯域の信号)を減衰させる。整合回路34は、送信信号を通過させず、受信信号を通過させるようにインピーダンス整合されている。整合回路34は、アンテナ端子Antからの不平衡信号を平衡信号に変換するバランとしての機能を備えている。受信フィルタ32は、整合回路34から入力した受信帯域の受信信号を受信端子Rx1およびRx2に通過させ、受信帯域以外の周波数の信号(例えば送信帯域の信号)を減衰させる。
FIG. 2 is a circuit diagram of the
図2のような回路構成により、送信端子Txから入力した信号はアンテナ端子Antから出力される。一方、アンテナ端子Antから入力した受信信号は受信端子Rx1およびRx2から平衡信号として出力される。実施例1では、送信フィルタ30、受信フィルタ32および整合回路34は、それぞれ弾性波デバイスチップ20および22並びに整合回路チップ24に形成されている。
With the circuit configuration as shown in FIG. 2, a signal input from the transmission terminal Tx is output from the antenna terminal Ant. On the other hand, the reception signal input from the antenna terminal Ant is output as a balanced signal from the reception terminals Rx1 and Rx2. In the first embodiment, the
図3は、弾性波デバイスチップの例を示す平面図である。図1(b)の基板10側から弾性波デバイスチップ20を視た図である。圧電基板表面に、Al等の金属パターンが形成されている。金属パターンとしては、例えばIDT(Interdigital Transducer)、反射器R0、パッド37および配線39等がある。IDTと、IDTの両側に設けられた反射器R0とから共振器が形成される。パッド37にはフリップチップ実装用のバンプ16が設けられている。配線39は、共振器間または共振器とバンプとを電気的に接続している。入出力用パッドIn/Out1と入出力用パッドIn/Out2との間に直列共振器S1〜S3が直列に接続されている。直列共振器S1とS2との間の配線とグランドパッドGndとの間に並列共振器P1とP2が並列に接続されている。入出力パッドIn/Out2とグランドパッドGndとの間に並列共振器P3が接続されている。このように、弾性波デバイスチップ20には、ラダー型フィルタが形成されている。
FIG. 3 is a plan view showing an example of an acoustic wave device chip. It is the figure which looked at the elastic
弾性波デバイスチップ20のうち封止部18に接する側面から金属パターンまでの最も近い距離L2は、封止部18に接しない側面から金属パターンまでの最も近い距離L1より長い。なお、距離L1は、例えば弾性波デバイスチップを分離する際のダンシングの切りしろであり、例えば20μm程度である。
The closest distance L2 from the side surface in contact with the sealing
封止部18により封止された弾性波デバイスチップ20および22に形成された送信フィルタ30および受信フィルタ32間のアイソレーション特性の劣化は、封止部18が完全に接地されていれば生じない。図1(b)において、封止部18の接地(または、定電位への接続)は、基板10に設けられたビア配線等により行なう。弾性波デバイスの小型化のためには、封止部18を薄くすることになり、封止部18を接地するためのビア配線は小さく、かつビア配線の数は少なくなる。このため、封止部18の接地は不十分となる。発明者等の解析の結果、例えば封止部18の接地が不十分な場合、封止部18を介し送信フィルタ30と受信フィルタ32間が電気的に結合し、アイソレーション特性が劣化することがわかった。
The deterioration of the isolation characteristics between the
実施例1によれば、弾性波デバイスチップ20および22のうち少なくとも1つにおいて、封止部18に接する少なくとも1つの側面から弾性波の励振に直接寄与するパターンまでの最も短い距離L2が、封止部18に接しない側面から弾性波の励振に直接寄与するパターンまでの最も短い距離L1より長い。これにより、弾性波デバイスチップ20および22に形成されたフィルタ間のアイソレーション特性を向上させることができる。弾性波の励振に直接寄与するパターンは、例えば、IDT、反射器R0等の共振器、共振器間を接続する配線39、配線に接続された入力パッドInまたは出力パッドOut等である。例えば、製造時に圧電効果による弾性波素子の破壊を抑制するため、隣のチップ等と電気的に接続しておくショートバーまたはチップ識別番号等のパターンは、弾性波の励振に直接寄与するパターンには含まれない。
According to Example 1, in at least one of the acoustic wave device chips 20 and 22, the shortest distance L2 from at least one side surface in contact with the sealing
また、弾性波デバイスチップ20および22のうち少なくとも1つにおいて、封止部18に接する全ての側面から弾性波の励振に直接寄与するパターンまでの最も短い距離L2が、封止部18に接しない全ての側面から弾性波の励振に直接寄与するパターンまでの最も短い距離L1より長いことが好ましい。これにより、アイソレーション特性をより抑制することができる。
Further, in at least one of the acoustic wave device chips 20 and 22, the shortest distance L2 from all the side surfaces in contact with the sealing
弾性波デバイスチップ20および22のうち少なくとも1つにおいて、距離L2が距離L1より長ければよいが、弾性波デバイスチップ20および22の両方において、距離L2が距離L1より長い方がより好ましい。つまり、複数の弾性波デバイスチップの全てにおいて、距離L2が距離L1より長いことが好ましい。これにより、アイソレーション特性をより改善させることができる。 In at least one of the acoustic wave device chips 20 and 22, the distance L2 may be longer than the distance L1, but in both the acoustic wave device chips 20 and 22, it is more preferable that the distance L2 is longer than the distance L1. That is, it is preferable that the distance L2 is longer than the distance L1 in all of the plurality of acoustic wave device chips. Thereby, the isolation characteristic can be further improved.
実施例1では、送信フィルタ30が形成された弾性波デバイスチップ20および受信フィルタ32が形成された弾性波デバイスチップ22を例に説明したが、弾性波デバイスチップは3以上でもよい。3以上の場合も、距離L2を距離L1より長くすることにより、それぞれの弾性波デバイスチップに形成されたフィルタ等の弾性波素子間のアイソレーション特性を改善することができる。
In the first embodiment, the acoustic
複数の弾性波デバイスチップは、それぞれ通過帯域の異なるフィルタが設けられている場合、アイドレーション特性が問題となることが多い。そこで、この場合に、距離L2を距離L1より長くすることが好ましい。 When a plurality of acoustic wave device chips are provided with filters having different pass bands, the idling characteristics often become a problem. Therefore, in this case, it is preferable that the distance L2 is longer than the distance L1.
また、実施例1のように、デュープレクサの送信フィルタ30と受信フィルタ32間のアイソレーション特性は特に問題になる。そこで、ディプレクサにおいて、距離L2を距離L1より長くすることが好ましい。なお、実施例1のデュープレクサは、図2のように、受信フィルタ32は平衡入出力型であるが、不平衡入出力型でもよい。また、整合回路34は、設けられていなくてもよい。
Further, as in the first embodiment, the isolation characteristics between the
実施例2は、シミュレーションを行なった結果を示す例である。図4は、実施例1に係る弾性波デバイスの平面図である。弾性波デバイスチップ22の封止部18に接する2つの側面から弾性波の励振に直接寄与するパターンまでの領域40の最も短い距離L2を他の側面から弾性波の励振に直接寄与するパターンまでの最も短い距離L1(ダイシングの切りしろに相当する20μm)より長くした。弾性波デバイスチップ20においては、全ての側面から弾性波の励振に直接寄与するパターンまでの最も短い距離をダイシングの切りしろに相当する20μmとした。比較例1では、弾性波デバイスチップ22の全ての側面から弾性波の励振に直接寄与するパターンまでの最も短い距離をダイシングの切りしろに相当する20μmとした。
Example 2 is an example showing a result of simulation. FIG. 4 is a plan view of the acoustic wave device according to the first embodiment. The shortest distance L2 of the
シミュレーションに用いた条件は以下である。回路は図2のようなデュープレクサである。弾性波デバイスチップ20および22として用いた圧電基板は、LiNbO3であり、厚さは250μmである。送信フィルタ30は、直列共振器がと並列共振器がとの組み合わせ段数が4段の弾性表面波ラダー型フィルタであり通過帯域は1710〜1785MHzである。受信フィルタ32は、段数が7段の弾性表面波ラダー型フィルタであり、通過帯域は1805〜1880MHzである。基板10は、アルミナセラミックスである。バンプは直径が約90μmであり、高さが15μmである。封止部18はSnAg系半田であり、幅が約130μmである。封止部18は、例えばパターン12と基板10に形成されたビア配線とを介して接地されているとした。
The conditions used for the simulation are as follows. The circuit is a duplexer as shown in FIG. The piezoelectric substrate used as the acoustic wave device chips 20 and 22 is LiNbO 3 and has a thickness of 250 μm. The
図5(a)から図5(c)は、比較例1および実施例2のシミュレーション結果を示す図である。図5(a)から図5(c)のシミュレーションでは、距離L2を100μmとした。図5(a)は、周波数に対する送信端子Txから受信端子Rxへのアイソレーションを示す図である。実施例2(実線)では比較例1(点線)よりアイソレーション特性が向上している。図5(b)は図5(a)の送信帯域付近(図5(a)の四角部分)の拡大図である。実施例2では比較例1より送信帯域のアイソレーション特性が約2dB改善している。図5(c)は、周波数に対する通過特性を示した図である。Txは送信フィルタ30の通過特性、Rxは受信フィルタの通過特性を示している。送信フィルタ30において、実施例2は比較例1に比べ挿入損失が若干大きいものの、実施例2と比較例1とで通過特性はほぼ同程度である。以上のように、実施例2によれば、通過特性の大きな劣化なく、アイソレーション特性を向上させることができる。
FIG. 5A to FIG. 5C are diagrams showing simulation results of Comparative Example 1 and Example 2. FIG. In the simulations from FIG. 5A to FIG. 5C, the distance L2 is set to 100 μm. FIG. 5A is a diagram illustrating isolation from the transmission terminal Tx to the reception terminal Rx with respect to the frequency. In Example 2 (solid line), the isolation characteristics are improved compared to Comparative Example 1 (dotted line). FIG. 5B is an enlarged view of the vicinity of the transmission band in FIG. 5A (the square portion in FIG. 5A). In the second embodiment, the isolation characteristic of the transmission band is improved by about 2 dB compared to the first comparative example. FIG. 5C is a diagram showing pass characteristics with respect to frequency. Tx indicates the pass characteristic of the
図6は、距離L2に対する送信帯域内でのアイソレーションの最悪値を示した図である。図6の黒丸はシミュレーションした結果、実線は近似線である。図6のように、L2が50μmより小さいとアイソレーションは劣化するが、L2が50μm以上ではアイソレーションの劣化はほとんどない。よって、複数の弾性波デバイスチップ20および22のうち少なくとも1つにおいて、封止部18に接する少なくとも1つの側面から弾性波の励振に直接寄与するパターンまでの最も近い距離L2は、50μm以上であることが好ましい。
FIG. 6 is a diagram illustrating the worst value of isolation within the transmission band with respect to the distance L2. As a result of the simulation, the solid circle in FIG. 6 is an approximate line. As shown in FIG. 6, the isolation deteriorates when L2 is smaller than 50 μm, but the isolation is hardly deteriorated when L2 is 50 μm or more. Therefore, in at least one of the plurality of acoustic wave device chips 20 and 22, the nearest distance L2 from at least one side surface in contact with the sealing
また、複数の弾性波デバイスチップ20および22のうち少なくとも1つにおいて、封止部18に接する全ての側面から弾性波の励振に直接寄与するパターンまでの最も近い距離L2は、50μm以上であることが好ましい。これにより、よりアイソレーションを改善することができる。
Further, in at least one of the plurality of acoustic wave device chips 20 and 22, the closest distance L2 from all the side surfaces in contact with the sealing
さらに、複数の弾性波デバイスチップ20および22の全てにおいて、封止部18に接する全ての側面から弾性波の励振に直接寄与するパターンまでの最も近い距離L2は、50μm以上であることが好ましい。これにより、よりアイソレーションを改善することができる。
Further, in all of the plurality of acoustic wave device chips 20 and 22, the nearest distance L2 from all the side surfaces in contact with the sealing
なお、距離L2は、製造マージン等を考慮すると、60μm以上が好ましく、80μm以上がより好ましい。さらに、100μm以上でもよい。 The distance L2 is preferably 60 μm or more and more preferably 80 μm or more in consideration of a manufacturing margin or the like. Further, it may be 100 μm or more.
実施例3は、弾性波デバイスチップの弾性波が励振される面から削られた例である。図7は、実施例3に係る弾性波デバイスの断面図である。図7のように、実施例1の図1(b)に対し、封止部18から弾性波の励振に直接寄与するパターンまでの弾性波デバイスチップ20が、弾性波が励振される面から削られている。つまり、弾性波素子が形成された領域に比べ、封止部18から弾性波の励振に直接寄与するパターンまでの領域で、弾性波デバイスチップ20が切り込み深さD分薄くなっている。
Example 3 is an example in which the surface of the acoustic wave device chip is cut from the surface where the acoustic wave is excited. FIG. 7 is a cross-sectional view of the acoustic wave device according to the third embodiment. As shown in FIG. 7, the elastic
例えば、弾性波デバイスチップ20および22が圧電基板の場合、誘電率が大きい。例えば、LiNbO3およびLiTaO3では、比誘電率は約40である。このため、送信フィルタ30と受信フィルタ32との結合には、圧電基板の影響が強い。よって、封止部18と弾性波の励振に直接寄与するパターンの間の圧電基板の一部を除去することにより、アイソレーション特性を改善することができる。
For example, when the acoustic wave device chips 20 and 22 are piezoelectric substrates, the dielectric constant is large. For example, for LiNbO 3 and LiTaO 3 , the dielectric constant is about 40. For this reason, the coupling of the
図8(a)から図8(c)は、比較例1、実施例2および実施例3のシミュレーション結果を示す図である。実施例3は、図4の領域40において距離L2を100μmとし、かつ深さDの切り込みを設けている。図8(a)は、周波数に対する送信端子Txから受信端子Rxへのアイソレーションを示す図である。実施例3(破線)では実施例2(実線)よりさらに送信帯域においてアイソレーション特性が向上している。図8(b)は図8(a)の送信帯域付近(図8(a)の四角部分)の拡大図である。実施例3では実施例2よりアイソレーション特性が若干改善している。図8(c)は、周波数に対する通過特性を示した図である。Txは送信フィルタ30の通過特性、Rxは受信フィルタの通過特性を示している。送信フィルタ30および受信フィルタ32において、実施例3は実施例2に比べ挿入損失がやや小さい。以上のように、実施例3によれば、通過特性は良好であり、かつアイソレーション特性を向上させることができる。
FIG. 8A to FIG. 8C are diagrams illustrating simulation results of Comparative Example 1, Example 2, and Example 3. FIG. In Example 3, the distance L2 is set to 100 μm in the
実施例4は、弾性波デバイスチップ22に加え弾性波デバイスチップ20にも切り込みを入れた例である。実施例4では、図4の弾性波デバイスチップ22の領域40に加え、弾性波デバイスチップ20の領域42においても封止部18に接する側面から弾性波の励振に直接寄与するパターンまでの最も近い距離L2を100μmとし、深さDの切り込みを入れた。
The fourth embodiment is an example in which the elastic
図9(a)から図9(c)は、比較例1と実施例4において深さDを変化させた場合のシミュレーション結果を示す図である。実施例3において深さDを100μm(実線)、150μm(破線)および200μm(一点鎖線)としている。図9(a)は、周波数に対する送信端子Txから受信端子Rxへのアイソレーションを示す図である。図9(b)は図9(a)の送信帯域付近(図9(a)の四角部分)の拡大図である。図9(a)および図9(b)のように、深さDが大きくなるほどアイソレーション特性が向上している。図9(c)は、周波数に対する通過特性を示した図である。Txは送信フィルタ30の通過特性、Rxは受信フィルタの通過特性を示している。送信フィルタ30および受信フィルタ32において、実施例4は比較例1より挿入損失が小さくなっている。また、図8(c)と比較すると、実施例4は実施例3に比べ、送信フィルタ30の挿入損失が小さくなっている。このように、送信フィルタ30と受信フィルタ32の両方に切り込みを入れた実施例4の方が挿入損失が少なく通過特性がよくなっている。これは、送信端子Txから受信端子Rxへの信号の漏れが少ないためと考えられる。以上のように、深さDを大きくすると、アイソレーション特性を向上させることができる。さらに、弾性波デバイスチップ20および22の両方において、距離L2を距離L1より長くし、かつ切り込みを入れることが好ましい。さらに、切り込みの深さDは100μm以上が好ましい。
FIG. 9A to FIG. 9C are diagrams showing simulation results when the depth D is changed in Comparative Example 1 and Example 4. FIG. In Example 3, the depth D is 100 μm (solid line), 150 μm (dashed line), and 200 μm (dashed line). FIG. 9A is a diagram illustrating isolation from the transmission terminal Tx to the reception terminal Rx with respect to the frequency. FIG. 9B is an enlarged view of the vicinity of the transmission band in FIG. 9A (the square portion in FIG. 9A). As shown in FIGS. 9A and 9B, the isolation characteristic is improved as the depth D increases. FIG. 9C is a diagram showing pass characteristics with respect to frequency. Tx indicates the pass characteristic of the
実施例3および実施例4によれば、封止部18に接する少なくとも1つの側面から弾性波の励振に直接寄与するパターンまでの弾性波デバイスチップ20または22は、弾性波が励振される面から削られている。これにより、アイソレーション特性を改善することができる。
According to Example 3 and Example 4, the elastic
さらに、封止部18に接する全ての側面から弾性波の励振に直接寄与するパターンまでの弾性波デバイスチップ20または22は、弾性波が励振される面から削られていることが好ましい。これにより、アイソレーション特性をより改善することができる。
Furthermore, it is preferable that the elastic
なお、アイソレーション特性を向上させるためには、弾性波デバイスチップ20または22が削られるのは、領域40または42の全ての領域であることが好ましい。また、例えば、封止部18と弾性波の励振に直接寄与するパターンとの間に連続的に溝が設けられている(つまり、弾性波素子から封止部へは溝を通過しないとたどり着かないように溝が設けられている)ことが好ましい。さらに、領域40または42の一部の領域の弾性波デバイスチップ20または22が削られていてもよい。
In order to improve the isolation characteristic, it is preferable that the elastic
さらに、複数の弾性波デバイスチップの全てにおいて、封止部18に接する全ての側面から弾性波の励振に直接寄与するパターンまでの弾性波デバイスチップ20または22は、弾性波が励振される面から削られていることが好ましい。
Furthermore, in all of the plurality of elastic wave device chips, the elastic wave device chips 20 or 22 from all the side surfaces in contact with the sealing
以上、実施例1〜実施例4は、弾性波デバイスとして弾性波表面デバイスを例に説明したが、弾性波デバイスは、FBAR(Film Bulk Acoustic Wave Resonator)等の圧電薄膜共振子でもよい。封止部18を介した弾性波素子との結合を抑制すという観点では、弾性波デバイスチップが圧電基板の場合、特に、距離L2を距離L1より長くする効果および弾性波デバイスチップに切り込みを入れる効果が大きい。また、携帯電話端末等に用いるためには、フィルタの通過帯域は、例えば1GHz〜3GHzの任意の帯域とすることができる。
As described above, in the first to fourth embodiments, the acoustic wave surface device is described as an example of the acoustic wave device. However, the acoustic wave device may be a piezoelectric thin film resonator such as an FBAR (Film Bulk Acoustic Wave Resonator). From the viewpoint of suppressing the coupling with the acoustic wave element through the sealing
以上、本発明の実施例について詳述したが、本発明は係る特定の実施例に限定されるものではなく、特許請求の範囲に記載された本発明の要旨の範囲内において、種々の変形・変更が可能である。 Although the embodiments of the present invention have been described in detail above, the present invention is not limited to such specific embodiments, and various modifications and changes can be made within the scope of the gist of the present invention described in the claims. It can be changed.
10 基板
16 バンプ
17 空間
18 封止部
20、22 弾性波デバイスチップ
30 送信フィルタ
32 受信フィルタ
DESCRIPTION OF
Claims (8)
前記基板上にフリップチップ実装された複数の弾性波デバイスチップと、
前記複数の弾性波デバイスチップの一部の側面から前記基板までを金属を用い封止する封止部と、を具備し、
前記複数の弾性波デバイスチップの内少なくとも1つにおいて、前記封止部に接する少なくとも1つの側面から弾性波の励振に直接寄与するパターンまでの最も近い距離が、前記封止部に接しない側面から弾性波の励振に直接寄与するパターンまでの最も近い距離より長いことを特徴とする弾性波デバイス。 A substrate,
A plurality of acoustic wave device chips flip-chip mounted on the substrate;
A sealing part that seals from the side surface of a part of the plurality of acoustic wave device chips to the substrate using a metal,
In at least one of the plurality of acoustic wave device chips, the closest distance from the at least one side surface in contact with the sealing portion to the pattern that directly contributes to the excitation of the elastic wave is from the side surface not in contact with the sealing portion. An elastic wave device characterized by being longer than the nearest distance to the pattern that directly contributes to the excitation of the elastic wave.
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2010
- 2010-02-16 JP JP2010031712A patent/JP2011171848A/en not_active Withdrawn
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CN103312286A (en) * | 2012-03-07 | 2013-09-18 | 太阳诱电株式会社 | Resonator, method of manufacturing the same, frequency filter, duplexer and electronic device |
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