JP2011162346A - Floatation conveyance device - Google Patents

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JP2011162346A JP2010030311A JP2010030311A JP2011162346A JP 2011162346 A JP2011162346 A JP 2011162346A JP 2010030311 A JP2010030311 A JP 2010030311A JP 2010030311 A JP2010030311 A JP 2010030311A JP 2011162346 A JP2011162346 A JP 2011162346A
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Toshihiko Nakagawa
敏彦 中川
Shinsei Yokohama
真誠 横浜
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To surely prevent damaging of a substrate W when the substrate W is transferred from a preceding floating unit 37 side to a subsequent floating unit 37 side by crossing over an insertion gap IG. <P>SOLUTION: An air suction apparatus 43 sucking air from a downward direction is disposed to a position near the upstream of the insertion gap IG. The air suction apparatus 43 locally gives the substrate W a downward force by a suction force of a suction fan 53 so that an upward force is generated on a tip side of the substrate W by using a central part of an air accumulation layer S as a fulcrum point, wherein the air accumulation layer S is generated between the floating unit 37 just upstream of the insertion gap IG and the substrate W. <P>COPYRIGHT: (C)2011,JPO&INPIT

Description

本発明は、ガラス基板等の基板を搬送方向へ浮上搬送する浮上搬送装置に関する。   The present invention relates to a levitation conveyance apparatus that levitates and conveys a substrate such as a glass substrate in a conveyance direction.

近年、クリーン搬送の分野では浮上搬送装置について種々の開発がなされており、浮上搬送装置の先行技術としては特許文献1に示すもの(本願の出願人が既に出願したもの)がある。そして、先行技術に係る浮上搬送装置の構成等は、次のようになる。   In recent years, various developments have been made on levitation conveyance devices in the field of clean conveyance, and the prior art of levitation conveyance devices is disclosed in Patent Document 1 (already filed by the applicant of the present application). And the structure of the levitating conveyance apparatus based on a prior art is as follows.

即ち、先行技術に係る浮上搬送装置は、装置フレームを具備しており、この装置フレームは、搬送方向へ沿って延びている。また、装置フレームには、基板を搬送方向へ搬送する搬送機構が設けられている。   That is, the levitation conveyance apparatus according to the prior art includes an apparatus frame, and the apparatus frame extends in the conveyance direction. The apparatus frame is provided with a transport mechanism for transporting the substrate in the transport direction.

装置フレームには、浮上ガスとしてのエアの圧力を利用して基板を浮上させる複数の浮上ユニットが搬送方向及び搬送方向に直交する搬送幅方向に沿って設けられている。また、各浮上ユニットの内部は、浮上ガスとしてのエアを供給するエア供給源に接続されており、各浮上ユニットの上面には、エアを噴出するノズルが形成されてあって、各浮上ユニットは、基板との間にエア溜まり層(圧力溜まり層)を生成可能である。   The apparatus frame is provided with a plurality of levitation units that levitate the substrate using the pressure of air as the levitation gas along the conveyance direction and the conveyance width direction orthogonal to the conveyance direction. The interior of each levitation unit is connected to an air supply source that supplies air as levitation gas, and a nozzle for ejecting air is formed on the upper surface of each levitation unit. An air reservoir layer (pressure reservoir layer) can be generated between the substrate and the substrate.

なお、特許文献1には開示されていないが、通常、搬送方向に隣接関係にあるいずれかの浮上ユニット間には、複数の浮上ユニットに対して基板の受渡し又は受取りを行う基板受け部材を挿入するための挿入間隙が区画形成(形成)されている。   Although not disclosed in Patent Document 1, normally, a substrate receiving member that transfers or receives substrates to and from a plurality of floating units is inserted between any floating units adjacent to each other in the transport direction. An insertion gap is formed (formed).

従って、エア供給源によって各浮上ユニットの内部にエアを供給して、各浮上ユニットのノズルからエアを噴出させると共に、搬送機構を適宜に動作させる。これにより、基板と複数の浮上ユニットとの間にエア溜まり層を生成しつつ、基板を搬送方向へ浮上搬送(浮上させた状態で搬送)することができる。   Therefore, air is supplied to the inside of each floating unit by the air supply source, and air is ejected from the nozzles of each floating unit, and the transport mechanism is appropriately operated. Accordingly, the substrate can be levitated and conveyed (conveyed in a levitated state) in the conveyance direction while generating an air pool layer between the substrate and the plurality of levitation units.

特開2006−182563号公報JP 2006-182563 A

ところで、ガラス基板等の基板はたわみ易く、基板の浮上搬送中に、基板の先端部が先行(上流寄り)の浮上ユニット側から挿入間隙を越えて後続(下流寄り)の浮上ユニット側へ乗り継ぐ際に、基板の先端部が後続の浮上ユニットに干渉することがある。そのため、基板の先端部と後続の浮上ユニットとの干渉によって、基板に傷等の損傷が発生して、基板の品質低下を招くという問題がある。   By the way, a substrate such as a glass substrate is easy to bend, and when the substrate is transferred to the floating position, the tip of the substrate is transferred from the preceding (upstream) floating unit side over the insertion gap to the subsequent (downstream) floating unit side. In addition, the tip of the substrate may interfere with the subsequent floating unit. Therefore, there is a problem in that the substrate is damaged due to interference between the front end portion of the substrate and the subsequent floating unit, resulting in a decrease in the quality of the substrate.

なお、浮上ユニットによる基板の浮上高さ(浮上量)を大きくしても、現実的な浮上高さ範囲内では、基板の先端部の撓みを相殺できない場合があり、前述の問題の解決策としては十分でない。   Note that even if the flying height (flying height) of the substrate by the flying unit is increased, the deflection of the tip of the substrate may not be offset within the realistic flying height range. Is not enough.

そこで、本発明は、前述の問題を解決することができる、新規な構成の浮上搬送装置を提供することを目的とする。   Therefore, an object of the present invention is to provide a levitating and conveying apparatus having a novel configuration that can solve the above-described problems.

本発明の特徴は、基板を搬送方向へ浮上搬送する浮上搬送装置において、装置フレームに設けられ、基板を前記搬送方向へ搬送する搬送機構(搬送ユニット)と、前記装置フレームに前記搬送方向に沿って設けられ、内部が浮上ガスを供給する浮上ガス供給源に接続され、上面に浮上ガスを噴出するノズルが形成され、基板との間に浮上ガス溜まり層(圧力溜まり層)を生成可能であって、浮上ガスの圧力を利用して基板を浮上させる複数の浮上ユニットと、を具備し、前記搬送方向に隣接関係にあるいずれかの前記浮上ユニット間に、複数の前記浮上ユニットに対して基板の受渡し又は受取りを行う基板受け部材を挿入するための挿入間隙が区画形成(形成)され、前記挿入間隙の上流側の近接した位置(前記挿入間隙の上流側であって前記挿入間隙に近接した位置)に、前記挿入間隙の直上流側の前記浮上ユニットと基板との間に生成された浮上ガス溜まり層の中央部を支点として基板の先端側に上向きの力を発生させるように、基板に対して局所的に下向きの力を付与する下向き力付与手段(下向き力付与機構)が設けられていることを要旨とする。   The present invention is characterized in that, in a levitation transport apparatus that floats and transports a substrate in the transport direction, a transport mechanism (transport unit) that transports the substrate in the transport direction, and a transport mechanism (transport unit) that travels the substrate frame along the transport direction. The inside is connected to a floating gas supply source for supplying a floating gas, and a nozzle for ejecting the floating gas is formed on the upper surface. A floating gas reservoir layer (pressure reservoir layer) can be generated between the substrate and the substrate. A plurality of levitation units that levitate the substrate using the pressure of the levitation gas, and the substrate with respect to the plurality of levitation units between any of the levitation units adjacent to each other in the transport direction. An insertion gap for inserting a substrate receiving member for delivering or receiving is partitioned (formed), and a position adjacent to the upstream side of the insertion gap (on the upstream side of the insertion gap and in front of the insertion gap). An upward force is generated at the front end side of the substrate at a position close to the insertion gap) with the central portion of the floating gas reservoir layer generated between the floating unit and the substrate immediately upstream of the insertion gap as a fulcrum. Thus, the gist is that a downward force applying means (downward force applying mechanism) for locally applying a downward force to the substrate is provided.

なお、本願の特許請求の範囲及び明細書において、「設けられ」とは、直接的に設けられたことの他に、ブラケット等の介在部材を介して間接的に設けられたことを含む意であって、「浮上ガス」とは、エア、アルゴンガス、窒素ガス等の含む意である。また、「上流側」とは、前記搬送方向から見て上流側のことをいう。   In the claims and specification of the present application, “provided” means not only directly provided but also indirectly provided via an interposed member such as a bracket. The “floating gas” is intended to include air, argon gas, nitrogen gas, and the like. The “upstream side” means the upstream side when viewed from the transport direction.

本発明の特徴によると、前記浮上ガス供給源によって各浮上ユニットの内部に浮上ガスを供給して、各浮上ユニットの前記ノズルから浮上ガスを噴出させると共に、前記搬送機構を適宜に動作させる。これにより、基板と複数の前記浮上ユニットとの間に浮上ガス溜まり層を生成しつつ、基板を前記搬送方向へ浮上搬送(浮上させた状態で搬送)することができる。   According to the feature of the present invention, the floating gas is supplied to the inside of each floating unit by the floating gas supply source, the floating gas is ejected from the nozzle of each floating unit, and the transport mechanism is appropriately operated. As a result, the substrate can be floated and transported in the transport direction (conveyed in a floating state) while generating a floating gas pool layer between the substrate and the plurality of the floating units.

そして、基板の先端部が先行(上流寄り)の前記浮上ユニットから前記挿入間隙を越えて後続(下流寄り)の前記浮上ユニットに乗り継ぐ前に、前記下向き付与手段によって基板に対して局所的に下向きの力を付与して、前記挿入間隙の直上流側の前記浮上ユニットと基板との間に生成された浮上ガス溜まり層の中央部を支点として基板の先端部側に上向きの力を発生させる。これにより、先行の前記浮上ユニット側から前記挿入間隙を越えて後続の前記浮上ユニット側へ乗り継ぐ際に、基板の先端部と後続の前記浮上ユニットとの干渉を回避することができる。   Then, before the front end of the substrate is transferred from the preceding (upstream) floating unit to the subsequent (downstream) floating unit beyond the insertion gap, the substrate is locally directed downward by the downward applying means. Thus, an upward force is generated on the front end portion side of the substrate with the central portion of the floating gas pool layer generated between the floating unit and the substrate immediately upstream of the insertion gap as a fulcrum. This makes it possible to avoid interference between the front end of the substrate and the subsequent floating unit when transferring from the preceding floating unit side to the subsequent floating unit side beyond the insertion gap.

なお、本願の明細書において、「先行」とは、前記搬送方向から見て先行することをいい、「後続」とは、前記搬送方向から見て後続することをいう。   In the specification of the present application, “preceding” means preceding when viewed from the transport direction, and “following” refers to following when viewed from the transport direction.

本発明によれば、先行の前記浮上ユニット側から後続の前記浮上ユニット側へ乗り継ぐ際に、基板の先端部と後続の前記浮上ユニットとの干渉を回避できるため、先行の前記浮上ユニット側から前記挿入間隙を越えて後続の前記浮上ユニット側へ乗り継ぐ際における基板の損傷を確実に阻止して、基板の品質を維持することができる。   According to the present invention, when transferring from the preceding levitation unit side to the subsequent levitation unit side, it is possible to avoid interference between the front end portion of the substrate and the subsequent levitation unit. It is possible to reliably prevent the substrate from being damaged when transferring to the subsequent floating unit beyond the insertion gap, and to maintain the quality of the substrate.

図2におけるI-I線に沿った拡大断面図である。It is an expanded sectional view along the II line in FIG. 第1実施形態に係る浮上搬送装置の部分的な平面図である。It is a partial top view of the levitating conveyance apparatus which concerns on 1st Embodiment. 第1実施形態に係る浮上搬送装置の部分的な側面図であって、搬送機構を省略してある。It is a partial side view of the levitating conveyance apparatus which concerns on 1st Embodiment, Comprising: The conveyance mechanism is abbreviate | omitted. 図2におけるIV-IV線に沿った図である。FIG. 4 is a view taken along line IV-IV in FIG. 2. 図2におけるV-V線に沿った拡大断面図である。It is an expanded sectional view along the VV line in FIG. 図7におけるVI-VI線に沿った拡大断面図である。It is an expanded sectional view along the VI-VI line in FIG. エア吸引器の配置態様を変更した第1実施形態に係る浮上搬送装置の部分的な平面図である。It is a partial top view of the levitation conveyance apparatus which concerns on 1st Embodiment which changed the arrangement | positioning aspect of an air suction device. 図9におけるVIII-VIII線に沿った拡大断面図である。FIG. 10 is an enlarged sectional view taken along line VIII-VIII in FIG. 9. エア吸引機の配置態様を変更した第1実施形態に係る浮上搬送装置の部分的な平面図である。It is a partial top view of the levitation conveyance device concerning a 1st embodiment which changed the arrangement mode of an air suction machine. 図11におけるX-X線に沿った拡大断面図である。It is an expanded sectional view along the XX line in FIG. 第2実施形態に係る浮上搬送装置の部分的な平面図である。It is a partial top view of the levitating conveyance apparatus which concerns on 2nd Embodiment. 第3実施形態に係る浮上搬送装置の部分的な拡大断面図であって、図1に相当する図である。It is a partial expanded sectional view of the levitating conveyance apparatus which concerns on 3rd Embodiment, Comprising: It is a figure equivalent to FIG.

(第1実施形態)
第1実施形態について図1から図9を参照して説明する。なお、図面中、「FF」は、前方向を、「FR」は、後方向を、「L」は、左方向を、「R」は、右方向をそれぞれ指してある。
(First embodiment)
A first embodiment will be described with reference to FIGS. In the drawings, “FF” indicates the forward direction, “FR” indicates the backward direction, “L” indicates the left direction, and “R” indicates the right direction.

図2〜図4に示すように、第1実施形態に係る浮上搬送装置1は、例えばガラス基板等の基板Wを搬送方向(後方向)へ浮上搬送する装置であって、前後方向に沿って並んだ複数の装置フレーム3を具備している。また、各装置フレーム3は、支持台5と、この支持台5の下側に一体的に設けられた複数の支柱7と、複数の支柱7に連結するように設けられた複数の補強部材9とを備えている。なお、浮上搬送装置1が前後方向に沿って並んだ複数の装置フレーム3を具備する代わりに、前後方向へ延びた装置フレーム(図示省略)を具備しても構わない。   As shown in FIGS. 2 to 4, the levitating and conveying apparatus 1 according to the first embodiment is an apparatus that levitates and conveys a substrate W such as a glass substrate in the conveying direction (rear direction), for example, along the front-rear direction. A plurality of device frames 3 arranged side by side are provided. Each device frame 3 includes a support base 5, a plurality of support columns 7 provided integrally below the support support 5, and a plurality of reinforcing members 9 provided so as to be connected to the plurality of support columns 7. And. Instead of including the plurality of device frames 3 arranged in the front-rear direction, the levitation transfer device 1 may include a device frame (not shown) extending in the front-rear direction.

複数の装置フレーム3には、基板Wを搬送方向へ搬送する搬送機構(搬送ユニット)11が設けられている。そして、この搬送機構11の具体的な構成は、次のようになる。   The plurality of apparatus frames 3 are provided with a transport mechanism (transport unit) 11 that transports the substrate W in the transport direction. The specific configuration of the transport mechanism 11 is as follows.

即ち、各支持台5の左端部付近には、1つ又は複数(第1実施形態にあっては、1つ又は2つ)の支持アーム13が設けられており、各支持アーム13には、基板Wの一端面(左端面)を支持する第1搬送ローラ15が鉛直な軸心周りに回転可能に設けられている。換言すれば、複数の支持台5の左端部付近には、複数の第1搬送ローラ15が複数の支持アーム13を介して前後方向に沿って間隔を置いて設けられている。ここで、各第1搬送ローラ15は、鉛直な軸心周りに回転自在なフリーローラになっている。   That is, one or a plurality of (one or two in the first embodiment) support arms 13 are provided near the left end of each support base 5. A first transport roller 15 that supports one end surface (left end surface) of the substrate W is provided to be rotatable around a vertical axis. In other words, a plurality of first transport rollers 15 are provided in the vicinity of the left end portions of the plurality of support bases 5 at intervals along the front-rear direction via the plurality of support arms 13. Here, each of the first transport rollers 15 is a free roller that is rotatable around a vertical axis.

各支持台5の右端部付近には、移動用エアシリンダ17が設けられており、各移動用エアシリンダ17は、支持台5に固定されたシリンダ本体19、及びシリンダ本体19に搬送方向に対して直交する搬送幅方向(左右方向)へ移動可能に設けられたピストンロッド21を有している。また、各移動用エアシリンダ17におけるシリンダ本体19には、スライダ23が左右方向へ移動可能に設けられており、各移動用エアシリンダ17におけるピストンロッド21は、対応するスライダ23の適宜位置に連結してある。更に、各スライダ23の左端部には、基板Wの他端面(右端面)を支持する第2搬送ローラ25が鉛直な軸心周りに回転可能に設けられている。換言すれば、複数の支持台5の右端部付近には、複数の第2搬送ローラ25が複数の移動用エアシリンダ17及び複数のスライダ23を介して前後方向に沿って間隔を置いて設けられてあって、各第2搬送ローラ25は、移動用エアシリンダ17の作動によってスライダ23と一体的に左右方向へ移動するようになっている。そして、各スライダ23の右端部には、対応する第2搬送ローラ25を回転させる回転用モータ27が設けられてあって、各回転用モータ27のモータ軸(図示省略)は、対応する第2搬送ローラ25のローラ軸に連動連結してある。   Near the right end of each support base 5, a moving air cylinder 17 is provided. Each moving air cylinder 17 is connected to the cylinder main body 19 fixed to the support base 5 and the cylinder main body 19 in the transport direction. The piston rod 21 is provided so as to be movable in the conveyance width direction (left-right direction) orthogonal to each other. Further, a slider 23 is provided in the cylinder body 19 of each moving air cylinder 17 so as to be movable in the left-right direction, and the piston rod 21 in each moving air cylinder 17 is connected to an appropriate position of the corresponding slider 23. It is. Further, a second transport roller 25 that supports the other end surface (right end surface) of the substrate W is provided at the left end portion of each slider 23 so as to be rotatable around a vertical axis. In other words, a plurality of second transport rollers 25 are provided in the vicinity of the right ends of the plurality of support bases 5 at intervals along the front-rear direction via the plurality of moving air cylinders 17 and the plurality of sliders 23. Accordingly, each second transport roller 25 moves in the left-right direction integrally with the slider 23 by the operation of the moving air cylinder 17. The right end of each slider 23 is provided with a rotation motor 27 that rotates the corresponding second transport roller 25, and the motor shaft (not shown) of each rotation motor 27 corresponds to the corresponding second. The roller shaft of the conveying roller 25 is interlocked and connected.

なお、第1搬送ローラ15をフリーローラとし、第2搬送ローラ25を回転用モータ27等のモータの駆動によって回転する駆動ローラとする代わりに、第1搬送ローラ15を駆動ローラとし、第2搬送ローラ25をフリーローラとしたり、第1搬送ローラ15及び第2搬送ローラ25を駆動ローラとしたりするようにしても構わない。また、複数の第1搬送ローラ15及び複数の第2搬送ローラ25等を備えた搬送機構11の代わりに、基板Wの裏面を支持しかつ搬送幅方向に平行な軸心周りに回転可能な搬送ローラ等を備えた別の搬送機構(図示省略)を用いても構わない。   Instead of using the first transport roller 15 as a free roller and the second transport roller 25 as a driving roller that is rotated by driving a motor such as the rotation motor 27, the first transport roller 15 is used as a drive roller, and the second transport roller is rotated. The roller 25 may be a free roller, or the first transport roller 15 and the second transport roller 25 may be drive rollers. Further, instead of the transport mechanism 11 having a plurality of first transport rollers 15 and a plurality of second transport rollers 25, etc., transport that supports the back surface of the substrate W and is rotatable around an axis parallel to the transport width direction. Another transport mechanism (not shown) including a roller or the like may be used.

図2〜図5に示すように、各支持台5には、浮上ガスとしてのエアを収容する1つ又は複数(第1実施形態にあっては、1つ又は2つ)のチャンバー29が設けられており、各チャンバー29は、左右方向へ延びている。また、各チャンバー29の下面には、複数の下部貫通穴31が設けられており、各チャンバー29の上面には、複数の上部貫通穴33が左右方向及び/又は前後方向に沿って間隔を置いて設けられている。更に、各チャンバー29における各下部貫通穴31の周縁部には、エアをチャンバー29の内部へ供給するエア供給源としての供給ファン(第1実施形態にあっては、ファンフィルタユニット)35が設けられている。   As shown in FIGS. 2 to 5, each support base 5 is provided with one or a plurality of chambers 29 (one or two in the first embodiment) for storing air as a floating gas. Each chamber 29 extends in the left-right direction. A plurality of lower through holes 31 are provided on the lower surface of each chamber 29, and a plurality of upper through holes 33 are spaced on the upper surface of each chamber 29 along the left-right direction and / or the front-rear direction. Is provided. Further, a supply fan (a fan filter unit in the first embodiment) 35 as an air supply source for supplying air to the inside of the chamber 29 is provided at the peripheral portion of each lower through hole 31 in each chamber 29. It has been.

各チャンバー29における各上部貫通穴33の周縁部には、エアの圧力を利用して基板Wを浮上させる中空状の浮上ユニット37が設けられており、換言すれば、複数の装置フレーム3には、複数の浮上ユニット37が複数のチャンバー29等を介して搬送方向及び搬送幅方向に沿って間隔を置いて設けられている。また、各浮上ユニット37の側面視形状(図3参照)及び正面視形状(図4参照)は、それぞれT字形状を呈してあって、各浮上ユニット37の内部は、チャンバー29を介して供給ファン35に接続されている。更に、各浮上ユニット37の上面には、エアを噴出する枠状のノズル39が浮上ユニット37の平面視形状に沿って設けられており、各浮上ユニット37は、基板Wとの間に浮上ガス溜まり層としてのエア溜まり層(圧力溜まり層)S(図4参照)を生成可能である。ここで、各ノズル39は、特開2006−182563号公報に示すように、鉛直方向(浮上ユニット37の上面に垂直な方向)に対して浮上ユニット37の中心側へ傾斜するようになっている。なお、各浮上ユニット37の上面に枠状のノズル39が浮上ユニット37の平面視形状に沿って設けられるの代わりに、スリット状又は小孔状の複数のノズル(図示省略)が浮上ユニット37の平面視形状に沿って設けられるようにしても構わない。   At the peripheral edge of each upper through-hole 33 in each chamber 29, a hollow floating unit 37 that floats the substrate W using the pressure of air is provided. A plurality of floating units 37 are provided at intervals along the transport direction and the transport width direction via the plurality of chambers 29 and the like. Further, the side view shape (see FIG. 3) and the front view shape (see FIG. 4) of each levitation unit 37 are each T-shaped, and the interior of each levitation unit 37 is supplied via a chamber 29. It is connected to the fan 35. Further, a frame-like nozzle 39 for ejecting air is provided on the upper surface of each floating unit 37 along the planar view shape of the floating unit 37, and each floating unit 37 has a floating gas between itself and the substrate W. It is possible to generate an air reservoir layer (pressure reservoir layer) S (see FIG. 4) as a reservoir layer. Here, as shown in JP-A-2006-182563, each nozzle 39 is inclined toward the center side of the levitation unit 37 with respect to the vertical direction (direction perpendicular to the upper surface of the levitation unit 37). . In addition, instead of the frame-shaped nozzles 39 being provided on the upper surface of each floating unit 37 along the planar view shape of the floating unit 37, a plurality of nozzles (not shown) in the shape of slits or small holes (not shown) are provided. You may make it provide along a planar view shape.

図2及び図3に示すように、搬送方向に隣接関係にあるいずれかの浮上ユニット37間には、複数の浮上ユニット37に対して基板Wの受渡し又は受取りを行う基板受け部材41を挿入するための複数(図1、図2、及び図3においては1つのみ図示)の挿入間隙IGが形成されており、各挿入間隙IGは、左右方向へ延びてあって、浮上ユニット37間の通常の設置間隙PGに比べて幅広になっている。ここで、基板受け部材41の例としては、特開平7−311375号公報等に示すような公知の基板受けフォーク、特開2005−159141号公報等に示すような基板カセットにおける基板支持部材(基板カセットの一部分)等が挙げられる。   As shown in FIGS. 2 and 3, a substrate receiving member 41 that transfers or receives a substrate W to / from a plurality of floating units 37 is inserted between any floating units 37 that are adjacent to each other in the transport direction. A plurality of insertion gaps IG (only one is shown in FIGS. 1, 2, and 3) are formed, and each insertion gap IG extends in the left-right direction, and is normally connected between the floating units 37. It is wider than the installation gap PG. Here, examples of the substrate receiving member 41 include a known substrate receiving fork as shown in Japanese Patent Laid-Open No. 7-311375 and a substrate support member (substrate in a substrate cassette as shown in Japanese Patent Laid-Open No. 2005-159141. A part of the cassette).

各挿入間隙IGの上流側の近接した位置(各挿入間隙IGの上流側であって各挿入間隙IGに近接した位置)には、下方向からエアを吸引するエア吸引器43が各挿入間隙IG毎に設けられており、各エア吸引器43は、左右方向へ延びている。そして、各エア吸引器43の具体的な構成は、次のようになる。   At a position close to the upstream side of each insertion gap IG (a position upstream of each insertion gap IG and close to each insertion gap IG), an air suction unit 43 that sucks air from below is provided for each insertion gap IG. Each air suction device 43 extends in the left-right direction. And the concrete structure of each air suction device 43 is as follows.

即ち、図1及び図2に示すように、適宜の支持台5における挿入間隙IGの上流側の近接した位置には、吸引ケース45が設けられており、吸引ケース45は、左右方向へ延びている。また、吸引ケース45は、上側に、開口されたスリット状の吸引口47を有してあって、吸引ケース45の下面には、複数(図1には1つのみ図示)の貫通穴49が形成されている。ここで、吸引ケース45の吸引口47は、挿入間隙IGから1列分の浮上ユニット37の長さ(前後方向の長さ)だけ離隔している。   That is, as shown in FIGS. 1 and 2, a suction case 45 is provided at a position close to the upstream side of the insertion gap IG in an appropriate support base 5, and the suction case 45 extends in the left-right direction. Yes. The suction case 45 has a slit-like suction port 47 opened on the upper side, and a plurality of (only one is shown in FIG. 1) through holes 49 are formed on the lower surface of the suction case 45. Is formed. Here, the suction port 47 of the suction case 45 is separated from the insertion gap IG by the length of the floating unit 37 for one row (length in the front-rear direction).

吸引ケース45内には、基板Wの裏面を支持する複数の支持ローラ51が搬送幅方向に平行な軸心周りに回転可能に設けられており、各支持ローラ51は、搬送幅方向に平行な軸心周りに回転自在なフリーローラになってあって、吸引ケース45の最上部に対して上方向へ突出している。なお、各支持ローラ51をフリーローラとする代わりに駆動ローラにしたり、エア吸引器43から複数の支持ローラ51を省略したりしても構わない。   A plurality of support rollers 51 that support the back surface of the substrate W are provided in the suction case 45 so as to be rotatable about an axis parallel to the transport width direction, and each support roller 51 is parallel to the transport width direction. It is a free roller that can rotate around its axis, and projects upward with respect to the uppermost portion of the suction case 45. Note that each support roller 51 may be a drive roller instead of a free roller, or a plurality of support rollers 51 may be omitted from the air suction unit 43.

吸引ケース45の各貫通穴49の周縁部には、吸引ケース45内からエアを吸引するエア吸引源としての吸引ファン53が設けられている。そして、図1に示すように、エア吸引器43は、挿入間隙IGの直上流側の浮上ユニット37と基板Wとの間に生成されたエア溜まり層Sの中央部を支点として基板Wの先端部側に上向きの力を発生させるように、吸引ファン53の吸引力によって基板Wに対して局所的に下向き力を付与するようになっている。換言すれば、エア吸引器43は、基板Wに対して局所的に下向き力を付与する下向き力付与手段(下向き力付与機構)の1つとして捉えることができる。なお、基板Wからの反射光を監視しつつ基板Wの先端部が挿入間隙IGに近接したことを検出する反射型光電センサ(図示省略)を用い、この反射型光電センサの出力信号に基づいて吸引ファン53の駆動を開始するようにしても構わない。   A suction fan 53 as an air suction source for sucking air from the inside of the suction case 45 is provided at the peripheral edge of each through hole 49 of the suction case 45. As shown in FIG. 1, the air suction unit 43 is configured so that the tip of the substrate W is supported by using the central portion of the air pool layer S generated between the floating unit 37 and the substrate W immediately upstream of the insertion gap IG as a fulcrum. A downward force is locally applied to the substrate W by the suction force of the suction fan 53 so as to generate an upward force on the part side. In other words, the air suction device 43 can be regarded as one of downward force applying means (downward force applying mechanism) that locally applies a downward force to the substrate W. A reflective photoelectric sensor (not shown) that detects that the tip of the substrate W is close to the insertion gap IG while monitoring the reflected light from the substrate W is used, based on the output signal of the reflective photoelectric sensor. You may make it start the drive of the suction fan 53. FIG.

図6及び図7に示すように、挿入間隙IGの直上流側の浮上ユニット37と基板Wとの間に生成されたエア溜まり層Sの中央部を支点として基板Wの先端部側に上向きの力を発生させるように、吸引ファン53の吸引力によって基板Wに対して局所的に下向き力を付与するようになっていれば、吸引ケース45の吸引口47が挿入間隙IGから複数列分(図6及び図7においては2列分)の浮上ユニット37の長さだけ離隔しても構わない。また、図8及び図9に示すように、先行(上流寄り)の挿入間隙IGの上流側の近接した位置に設けられたエア吸引器43における吸引ファン53の吸引力によって、後続(下流寄り)の挿入間隙IGの直上流側の浮上ユニット37と基板Wとの間に生成されたエア溜まり層Sの中央部を支点として基板Wの先端部側に上向きの力を発生させるように、基板Wに対して局所的に下向き力を付与するようになっていれば、各挿入間隙IG毎にエア吸引器43が設けられなくても構わない。   As shown in FIGS. 6 and 7, the center of the air reservoir layer S generated between the floating unit 37 and the substrate W immediately upstream of the insertion gap IG is used as a fulcrum, and is directed upward toward the tip of the substrate W. If a downward force is locally applied to the substrate W by the suction force of the suction fan 53 so as to generate a force, the suction ports 47 of the suction case 45 are provided for a plurality of rows from the insertion gap IG ( 6 and 7 may be separated by the length of the floating unit 37 (for two rows). Further, as shown in FIGS. 8 and 9, the subsequent (downstream side) is caused by the suction force of the suction fan 53 in the air suction unit 43 provided at the upstream position of the preceding (upstream side) insertion gap IG. The substrate W is configured to generate an upward force on the tip side of the substrate W with the central portion of the air reservoir layer S generated between the floating unit 37 and the substrate W immediately upstream of the insertion gap IG as a fulcrum. As long as a downward force is applied locally, the air suction unit 43 may not be provided for each insertion gap IG.

続いて、本発明の実施形態の作用及び効果について説明する。   Then, the effect | action and effect of embodiment of this invention are demonstrated.

各供給ファン35によって、各浮上ユニット37の内部へエアをチャンバー29を介して供給することにより、各浮上ユニット37のノズル39からエアを噴出させる。また、各移動用エアシリンダ17の作動により各第2搬送ローラ25を左方向へ移動させると共に、各回転用モータ27の駆動より各第2搬送ローラ25を回転させる。これにより、基板Wと複数の浮上ユニット37との間に圧力溜まり層Sを生成しつつ、複数の第1搬送ローラ15及び複数の第2搬送ローラ25の協働により基板Wを両側から支持しつつ、搬送方向へ浮上搬送(浮上させた状態で搬送)することができる。   Each supply fan 35 supplies air to the inside of each floating unit 37 through the chamber 29, whereby air is ejected from the nozzle 39 of each floating unit 37. In addition, each second conveyance roller 25 is moved leftward by the operation of each moving air cylinder 17, and each second conveyance roller 25 is rotated by driving each rotation motor 27. Thus, the pressure accumulation layer S is generated between the substrate W and the plurality of floating units 37, and the substrate W is supported from both sides by the cooperation of the plurality of first transport rollers 15 and the plurality of second transport rollers 25. On the other hand, it can be levitated and conveyed in the conveying direction (conveyed in the state of being levitated).

そして、基板Wの先端部が先行(上流寄り)の浮上ユニット37側から挿入間隙IGを越えて後続(下流寄り)の浮上ユニット37側に乗り継ぐ前に、エア吸引器43における吸引ファン53の吸引力によって基板Wに対して局所的に下向き力を付与して、挿入間隙IGの直上流側の浮上ユニット37と基板Wとの間に生成されたエア溜まり層Sの中央部を支点として基板Wの先端部側に上向きの力を発生させる。これにより、先行の浮上ユニット37側から挿入間隙IGを越えて後続の浮上ユニット37側へ乗り継ぐ際に、基板Wの先端部と後続の浮上ユニット37との干渉を回避することができる。   Then, before the leading end of the substrate W is transferred from the preceding (upstream) floating unit 37 side over the insertion gap IG to the subsequent (downstream) floating unit 37 side, suction of the suction fan 53 in the air suction unit 43 is performed. A downward force is locally applied to the substrate W by the force, and the central portion of the air pool layer S generated between the floating unit 37 and the substrate W immediately upstream of the insertion gap IG is used as a fulcrum. An upward force is generated on the tip end side. This makes it possible to avoid interference between the leading end portion of the substrate W and the subsequent floating unit 37 when transferring from the preceding floating unit 37 side to the subsequent floating unit 37 side beyond the insertion gap IG.

従って、第1実施形態によれば、先行の浮上ユニット37側から挿入間隙IGを越えて後続の浮上ユニット37側へ乗り継ぐ際における基板Wの損傷を確実に阻止して、基板Wの品質を維持することができる。   Therefore, according to the first embodiment, the substrate W is reliably prevented from being damaged when transferring from the preceding floating unit 37 side to the subsequent floating unit 37 side beyond the insertion gap IG, and the quality of the substrate W is maintained. can do.

(第2実施形態)
第2実施形態について図10及び図11を参照して説明する。なお、図面中、「FF」は、前方向を、「FR」は、後方向を、「L」は、左方向を、「R」は、右方向をそれぞれ指してある。
(Second Embodiment)
A second embodiment will be described with reference to FIGS. 10 and 11. In the drawings, “FF” indicates the forward direction, “FR” indicates the backward direction, “L” indicates the left direction, and “R” indicates the right direction.

図10及び図11に示すように、第2実施形態に係る浮上搬送装置55は、基板Wを搬送方向(後方向)へ浮上搬送するものであって、第1実施形態に係る浮上搬送装置1と略同じ構成を有している。そして、第2実施形態に係る浮上搬送装置55は、第1実施形態に係る浮上搬送装置1におけるエア吸引器43に代えて、各挿入間隙IGの上流側の近接した位置(各挿入間隙IGの上流側であって各挿入間隙IGに近接した位置)に左右方向に離隔して設けられかつ下方向からエアを吸引する複数のエア吸引器57を具備しており、各エア吸引器43の具体的な構成は、次のようになる。なお、第2実施形態に係る浮上搬送装置55における複数の構成要素のうち、第1実施形態に係る浮上搬送装置1における構成要素と相当するものについては、図中に、同一番号を付している。   As shown in FIGS. 10 and 11, the levitation transport device 55 according to the second embodiment levitates and transports the substrate W in the transport direction (backward direction), and the levitation transport device 1 according to the first embodiment. And substantially the same configuration. Then, the levitation transport device 55 according to the second embodiment replaces the air suction unit 43 in the levitation transport device 1 according to the first embodiment, and is located close to the upstream side of each insertion gap IG (of each insertion gap IG). A plurality of air suction devices 57 that are provided on the upstream side and in the vicinity of each insertion gap IG) are spaced apart in the left-right direction and suck air from below. The typical configuration is as follows. In addition, about the component corresponded in the levitation conveyance apparatus 1 which concerns on 1st Embodiment among several components in the levitation conveyance apparatus 55 which concerns on 2nd Embodiment, the same number is attached | subjected in a figure. Yes.

即ち、適宜の支持台5における挿入間隙IGの上流側の近接した位置には、吸引ケース59が設けられており、吸引ケース59は、前後方向へ延びている。また、吸引ケース59は、上側に、開口された吸引口61を有してあって、吸引ケース59の下面には、貫通穴63が形成されている。更に、吸引ケース59内には、基板Wの裏面を支持する複数の支持ローラ65が搬送幅方向に平行な軸心周りに回転可能に設けられており、各支持ローラ51は、搬送幅方向に平行な軸心周りに回転自在なフリーローラになってあって、吸引ケース59の最上部に対して上方向へ突出している。なお、各支持ローラ51をフリーローラとする代わりに駆動ローラにしたり、エア吸引器57から複数の支持ローラ51を省略したりしても構わない。   That is, a suction case 59 is provided at a position close to the upstream side of the insertion gap IG on an appropriate support base 5, and the suction case 59 extends in the front-rear direction. The suction case 59 has an open suction port 61 on the upper side, and a through hole 63 is formed in the lower surface of the suction case 59. Further, a plurality of support rollers 65 that support the back surface of the substrate W are provided in the suction case 59 so as to be rotatable about an axis parallel to the transport width direction. Each support roller 51 is provided in the transport width direction. It is a free roller that can freely rotate around a parallel axis, and protrudes upward with respect to the uppermost portion of the suction case 59. Note that each support roller 51 may be a driving roller instead of a free roller, or the plurality of support rollers 51 may be omitted from the air suction unit 57.

吸引ケース59の貫通穴63の周縁部には、吸引ケース59内からエアを吸引するエア吸引源としての吸引ファン67が設けられている。そして、図10に示すように、左右方向に離隔した複数のエア吸引器57は、挿入間隙IGの直上流側の浮上ユニット37と基板Wとの間に生成されたエア溜まり層Sの中央部を支点として基板Wの先端部側に上向きの力を発生させるように、吸引ファン67の吸引力によって基板Wに対して局所的に下向き力を付与するようになっている。   A suction fan 67 as an air suction source for sucking air from the inside of the suction case 59 is provided at the peripheral portion of the through hole 63 of the suction case 59. As shown in FIG. 10, the plurality of air suction devices 57 separated in the left-right direction are provided in the central portion of the air pool layer S generated between the floating unit 37 and the substrate W immediately upstream of the insertion gap IG. As a fulcrum, a downward force is locally applied to the substrate W by the suction force of the suction fan 67 so that an upward force is generated on the tip end side of the substrate W.

なお、第2実施形態においても、第1実施形態の作用及び効果と同様の作用及び効果を奏するものである。   In the second embodiment, the same operations and effects as the operations and effects of the first embodiment are achieved.

(第3実施形態)
第3実施形態について図12を参照して説明する。なお、図面中、「FF」は、前方向を、「FR」は、後方向を、「L」は、左方向を、「R」は、右方向をそれぞれ指してある。
(Third embodiment)
A third embodiment will be described with reference to FIG. In the drawings, “FF” indicates the forward direction, “FR” indicates the backward direction, “L” indicates the left direction, and “R” indicates the right direction.

図12に示すように、第3実施形態に係る浮上搬送装置69は、基板Wを搬送方向(後方向)へ浮上搬送するものであって、第1実施形態に係る浮上搬送装置1と略同じ構成を有している。そして、第3実施形態に係る浮上搬送装置69は、第1実施形態に係る浮上搬送装置1におけるエア吸引器43に代えて、各挿入間隙IGの上流側の近接した位置(各挿入間隙IGの上流側であって各挿入間隙IGに近接した位置)に設けられかつ上方向からエアを吹付けるエア吹付器71を具備しており、エア吹付器71の具体的な構成は、次のようになる。なお、第3実施形態に係る浮上搬送装置69における複数の構成要素のうち、第1実施形態に係る浮上搬送装置1における構成要素と相当するものについては、図中に、同一番号を付している。   As shown in FIG. 12, the levitation transport device 69 according to the third embodiment levitates and transports the substrate W in the transport direction (backward direction), and is substantially the same as the levitation transport device 1 according to the first embodiment. It has a configuration. And the levitating conveyance apparatus 69 which concerns on 3rd Embodiment replaces with the air suction device 43 in the levitation conveyance apparatus 1 which concerns on 1st Embodiment, and the position (upstream of each insertion gap IG) of the upstream side of each insertion gap IG. The air sprayer 71 is provided on the upstream side and in the vicinity of each insertion gap IG) and blows air from above, and the specific structure of the air sprayer 71 is as follows. Become. In addition, about the component corresponded in the levitation conveyance apparatus 1 which concerns on 1st Embodiment among several components in the levitation conveyance apparatus 69 which concerns on 3rd Embodiment, the same number is attached | subjected in a figure. Yes.

即ち、適宜の支持台5における挿入間隙IGの上流側の近接した位置には、上方向からエアを吹付可能な複数(図12には1つのみ図示)の吹付ノズル73が支持アーム75を介して左右方向に間隔を置いて設けられている。また、各吹付ノズル73は、エアを供給するエア供給源としてのエアポンプ77にエア配管79を介して接続されている。そして、エア吹付器71は、挿入間隙IGの直上流側の浮上ユニット37と基板Wとの間に生成されたエア溜まり層Sの中央部を支点として基板Wの先端部側に上向きの力を発生させるように、複数の吹付ノズル73の吹付力によって基板Wに対して局所的に下向き力を付与するようになっている。換言すれば、エア吹付器71は、基板Wに対して局所的に下向き力を付与する下向き力付与手段(下向き力付与機構)の1つとして捉えることができる。   That is, a plurality of spray nozzles 73 (only one is shown in FIG. 12) capable of spraying air from above are provided through the support arm 75 at positions close to the upstream side of the insertion gap IG on an appropriate support base 5. Are provided at intervals in the left-right direction. Each spray nozzle 73 is connected to an air pump 77 as an air supply source for supplying air via an air pipe 79. The air sprayer 71 applies an upward force to the tip side of the substrate W with the central portion of the air reservoir layer S generated between the floating unit 37 and the substrate W immediately upstream of the insertion gap IG as a fulcrum. A downward force is locally applied to the substrate W by the spray force of the plurality of spray nozzles 73 so as to be generated. In other words, the air sprayer 71 can be regarded as one of downward force applying means (downward force applying mechanism) that locally applies a downward force to the substrate W.

続いて、第3実施形態の主要な作用及び効果について説明する。   Next, main functions and effects of the third embodiment will be described.

基板Wの先端部が先行の浮上ユニット37側から挿入間隙IGを越えて後続の浮上ユニット37側に乗り継ぐ前に、エア吹付器71における複数の吹付ノズル73の吹付力によって基板Wに対して局所的に下向き力を付与して、挿入間隙IGの直上流側の浮上ユニット37と基板Wとの間に生成されたエア溜まり層Sの中央部を支点として基板Wの先端部側に上向きの力を発生させる。これにより、先行の浮上ユニット37側から挿入間隙IGを越えて後続の浮上ユニット37側へ乗り継ぐ際に、基板Wの先端部と後続の浮上ユニット37との干渉を回避することができる。   Before the tip of the substrate W is transferred from the preceding floating unit 37 side to the subsequent floating unit 37 side beyond the insertion gap IG, it is locally applied to the substrate W by the spraying force of the plurality of spray nozzles 73 in the air sprayer 71. Thus, a downward force is applied, and an upward force is applied to the front end portion side of the substrate W with the central portion of the air pool layer S generated between the floating unit 37 and the substrate W immediately upstream of the insertion gap IG as a fulcrum. Is generated. This makes it possible to avoid interference between the leading end portion of the substrate W and the subsequent floating unit 37 when transferring from the preceding floating unit 37 side to the subsequent floating unit 37 side beyond the insertion gap IG.

従って、第3実施形態によれば、第1実施形態と同様の効果を奏するものである。   Therefore, according to the third embodiment, the same effects as those of the first embodiment can be obtained.

なお、本発明は、前述の実施形態の説明に限られるものではなく、種々の態様で実施可能である。また、本発明に包含される権利範囲は、これらの実施形態に限定されないものである。   In addition, this invention is not restricted to description of the above-mentioned embodiment, It can implement in a various aspect. Further, the scope of rights encompassed by the present invention is not limited to these embodiments.

IG 挿入間隙
S エア溜まり層(圧力溜まり層)
W 基板
1 浮上搬送装置
3 装置フレーム
11 搬送機構
15 第1搬送ローラ
17 移動用エアシリンダ
23 スライダ
25 第2搬送ローラ
27 回転用モータ
29 チャンバー
35 供給ファン
37 浮上ユニット
39 ノズル
41 基板受け部材
43 エア吸引器
45 吸引ケース
47 吸引口
51 支持ローラ
53 吸引ファン
55 浮上搬送装置
57 エア吸引器
59 吸引ケース
61 吸引口
65 支持ローラ
67 吸引ファン
69 浮上搬送装置
71 エア吹付器
73 吹付ノズル
77 エアポンプ
IG insertion gap S Air accumulation layer (pressure accumulation layer)
W substrate 1 levitation transport device 3 device frame 11 transport mechanism 15 first transport roller 17 moving air cylinder 23 slider 25 second transport roller 27 rotating motor 29 chamber 35 supply fan 37 levitation unit 39 nozzle 41 substrate receiving member 43 air suction 45 Suction case 47 Suction port 51 Support roller 53 Suction fan 55 Levitation transport device 57 Air suction device 59 Suction case 61 Suction port 65 Support roller 67 Suction fan 69 Levitation transport device 71 Air sprayer 73 Spray nozzle 77 Air pump

Claims (7)

基板を搬送方向へ浮上搬送する浮上搬送装置において、
装置フレームに設けられ、基板を前記搬送方向へ搬送する搬送機構と、
前記装置フレームに前記搬送方向に沿って設けられ、内部が浮上ガスを供給する浮上ガス供給源に接続され、上面に浮上ガスを噴出するノズルが形成され、基板との間に浮上ガス溜まり層を生成可能であって、浮上ガスの圧力を利用して基板を浮上させる複数の浮上ユニットと、を具備し、
前記搬送方向に隣接関係にあるいずれかの前記浮上ユニット間に、複数の前記浮上ユニットに対して基板の受渡し又は受取りを行う基板受け部材を挿入するための挿入間隙が区画形成され、
前記挿入間隙の上流側の近接した位置に、前記挿入間隙の直上流側の前記浮上ユニットと基板との間に生成された浮上ガス溜まり層の中央部を支点として基板の先端部側に上向きの力を発生させるように、基板に局所的に下向きの力を付与する下向き力付与手段が設けられていることを特徴とする浮上搬送装置。
In a levitation transport device that levitates and transports a substrate in the transport direction,
A transport mechanism provided in the apparatus frame for transporting the substrate in the transport direction;
The apparatus frame is provided along the transport direction, the inside is connected to a floating gas supply source that supplies floating gas, a nozzle that blows floating gas is formed on the upper surface, and a floating gas reservoir layer is formed between the substrate and the substrate. A plurality of levitation units that can be generated and levitate the substrate using the pressure of the levitation gas;
Between any of the floating units that are adjacent to each other in the transport direction, an insertion gap for inserting a substrate receiving member that transfers or receives a substrate to and from the plurality of the floating units is partitioned and formed.
At a position close to the upstream side of the insertion gap, the center of the floating gas reservoir layer generated between the floating unit and the substrate immediately upstream of the insertion gap is used as a fulcrum and is directed upward toward the tip of the substrate. A levitating and conveying apparatus characterized in that a downward force applying means for locally applying a downward force to a substrate is provided so as to generate a force.
複数の前記浮上ユニットが前記装置フレームに前記搬送方向及び前記搬送方向に直交する搬送幅方向に沿って設けられていることを特徴とする請求項1に記載の浮上搬送装置。   2. The levitation conveyance apparatus according to claim 1, wherein a plurality of the levitation units are provided on the apparatus frame along the conveyance direction and a conveyance width direction orthogonal to the conveyance direction. 各浮上ユニットの前記ノズルが鉛直方向に対して各浮上ユニットの中心側へ傾斜するように構成されていることを特徴とする請求項1又は請求項2に記載の浮上搬送装置。   The levitation conveyance apparatus according to claim 1, wherein the nozzle of each levitation unit is configured to be inclined toward the center of each levitation unit with respect to a vertical direction. 前記下向き力付与手段は、下方向からエアを吸引するエア吸引器であることを特徴とする請求項1から請求項3のうちのいずれかの請求項に記載の浮上搬送装置。   The levitation conveyance apparatus according to any one of claims 1 to 3, wherein the downward force applying means is an air suction device that sucks air from below. 前記エア吸引器は、
前記装置フレームに設けられ、上側に開口された吸引口を有した吸引ケースと、
前記吸引ケースの内部に接続され、エアを吸引するエア吸引源と、を備えたことを特徴とする請求項4に記載の浮上搬送装置。
The air aspirator is
A suction case provided on the apparatus frame and having a suction port opened on the upper side;
The levitation conveyance apparatus according to claim 4, further comprising: an air suction source that is connected to the inside of the suction case and sucks air.
前記エア吸引器は、
前記吸引ケース及び前記エア吸引源の他に、更に、前記吸引ケース内に前記搬送方向に直交する搬送幅方向に平行な軸心周りに回転可能に設けられ、前記吸引ケースの最上部に対して上方向へ突出してあって、基板の裏面を支持する支持ローラを備えたことを特徴とする請求項5に記載の浮上搬送装置。
The air aspirator is
In addition to the suction case and the air suction source, the suction case is further provided in the suction case so as to be rotatable around an axis parallel to the transport width direction orthogonal to the transport direction, and with respect to the uppermost portion of the suction case. The levitation conveyance apparatus according to claim 5, further comprising a support roller that protrudes upward and supports the back surface of the substrate.
前記下向き力付与手段は、上方向からエアを吹付けるエア吹付器であることを特徴とする請求項1から請求項3のうちのいずれかの請求項に記載の浮上搬送装置。   The levitation conveyance apparatus according to any one of claims 1 to 3, wherein the downward force applying means is an air sprayer that blows air from above.
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