JP2011152654A - Inkjet head - Google Patents

Inkjet head Download PDF

Info

Publication number
JP2011152654A
JP2011152654A JP2010014096A JP2010014096A JP2011152654A JP 2011152654 A JP2011152654 A JP 2011152654A JP 2010014096 A JP2010014096 A JP 2010014096A JP 2010014096 A JP2010014096 A JP 2010014096A JP 2011152654 A JP2011152654 A JP 2011152654A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
flow path
layer
ink
adhesion layer
substrate
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2010014096A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Shuichi Murakami
修一 村上
Kenji Yabe
賢治 矢部
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Canon Inc
Original Assignee
Canon Inc
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Canon Inc filed Critical Canon Inc
Priority to JP2010014096A priority Critical patent/JP2011152654A/en
Publication of JP2011152654A publication Critical patent/JP2011152654A/en
Pending legal-status Critical Current

Links

Images

Landscapes

  • Particle Formation And Scattering Control In Inkjet Printers (AREA)

Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an inkjet head in which the dissolution, due to ink, of an adhesion layer bonding a channel constitution member and a substrate is prevented, thereby maintaining the adhesiveness between the channel constitution member and the substrate, as well as the ink ejection performance. <P>SOLUTION: The inkjet head includes: a heat energy generating element for generating heat energy for ejecting an ink; an insulating protective layer covering the heat energy generating element; a substrate having a Ta layer provided on the insulating protective layer; and the flow channel constitution member connected to the substrate, and provided with a flow channel which runs over the heat energy generation element and communicates with an ejecting port for ejecting the ink. The inkjet head is characterized in that: the Ta layer is configured to extend to the connection part of the substrate and the flow channel constitution member; the connection part has an adhesion layer B made of inorganic material to enhance the adhesion between the Ta layer and an organic material; and the insulating protective layer and the adhesion layer B are not exposed to the flow channel. <P>COPYRIGHT: (C)2011,JPO&INPIT

Description

本発明はインク(液体)を吐出して被記録媒体上に付着させて画像を形成するインクジェットヘッドに関する。特に、インクを吐出するための熱エネルギーを発生する熱エネルギー発生素子が形成された基板と、その基板上に接合された、インクの流路を形成する流路構成部材と、基板と流路構成部材との密着力を向上させる密着層とを有するインクジェットヘッドに関する。   The present invention relates to an inkjet head that forms an image by ejecting ink (liquid) and adhering it to a recording medium. In particular, a substrate on which a thermal energy generating element that generates thermal energy for ejecting ink is formed, a flow path component that forms a flow path of ink bonded on the substrate, and a substrate and a flow path configuration The present invention relates to an ink jet head having an adhesion layer that improves adhesion with a member.

インクジェットヘッドは、吐出口からインクを吐出させて被記録媒体上に文字や画像等を形成する記録方式に使用される記録デバイスである。インクを吐出させるために流路構成部材をSi基板等の上に形成し、インクの流路、インク吐出圧力発生素子及び吐出口を設ける。また流路内にインクを通過させるため、基板と流路構成部材との間を密着させる必要がある。   An ink jet head is a recording device used in a recording method in which ink is ejected from ejection ports to form characters, images, and the like on a recording medium. In order to discharge ink, a flow path component is formed on a Si substrate or the like, and an ink flow path, an ink discharge pressure generating element, and a discharge port are provided. Further, in order to allow ink to pass through the flow path, it is necessary to bring the substrate and the flow path component member into close contact with each other.

しかし、熱エネルギーによりインクを吐出するいわゆるバブルジェット(登録商標)ヘッドの場合、インクによる電蝕やバブル消泡の際のキャビテーションによって熱エネルギー発生素子である発熱抵抗体等にダメージが生じる場合がある。これらの発生を抑制するために、発熱抵抗体上に窒化シリコン(SiNと称す)や酸化シリコン(SiO2:SiOと称す)等からなる絶縁保護層とTaなどからなる耐キャビテーション層を設けることが一般的である。この耐キャビテーション層は、樹脂からなる流路構成部材との密着力が絶縁保護層と比べて低い。このため、流路内におけるインク流速が速い等の厳しい条件においては、流路構成部材が耐キャビテーション層から剥離してしまう場合があった。 However, in the case of a so-called bubble jet (registered trademark) head that ejects ink by thermal energy, damage may occur to a heating resistor or the like, which is a thermal energy generating element, due to electric erosion by the ink or cavitation during bubble defoaming. . In order to suppress these occurrences, an insulating protective layer made of silicon nitride (referred to as SiN) or silicon oxide (referred to as SiO 2 : SiO) and an anti-cavitation layer made of Ta or the like are provided on the heating resistor. It is common. This cavitation-resistant layer has a lower adhesion with a flow path component made of resin than the insulating protective layer. For this reason, under severe conditions such as a high ink flow rate in the flow path, the flow path component member may peel from the anti-cavitation layer.

ここで、耐キャビテーション層部分で流路構成部材からの剥離が生じるのを防ぐために、流路構成部材が設けられる部分には耐キャビテーション層を配置しないことも考えられる。この場合、基板上の熱エネルギー発生素子付近で、樹脂からなる流路構成部材が前記絶縁保護層のみを介して積層されることになる。この絶縁保護層は流路構成部材を構成する樹脂中に含まれるイオンを透過する性質を有している。このため、流路構成部材が設けられる部分に耐キャビテーション層を設けない構成では絶縁保護層を透過したイオンによって熱エネルギー発生素子が腐食してしまう場合があった。したがって、基板上に耐キャビテーション層を介して流路構成部材を接合することは避けられない。一方、流路構成部材が基板から剥離してしまうと流路の形状が変化し、インクの吐出特性が変化して画像形成に影響が生じるなどの問題がある。   Here, in order to prevent the separation from the flow path component in the cavitation layer portion, it may be considered that the cavitation layer is not disposed in the portion where the flow channel component is provided. In this case, in the vicinity of the thermal energy generating element on the substrate, the flow path constituting member made of resin is laminated through only the insulating protective layer. This insulating protective layer has a property of transmitting ions contained in the resin constituting the flow path constituting member. For this reason, in the configuration in which the cavitation-resistant layer is not provided in the portion where the flow path component member is provided, the thermal energy generating element may be corroded by ions that have passed through the insulating protective layer. Therefore, it is inevitable to join the flow path component member on the substrate via the anti-cavitation layer. On the other hand, if the flow path component is peeled from the substrate, the shape of the flow path changes, and there is a problem that the ink ejection characteristics change to affect image formation.

一方、基板と流路構成部材との間にポリエーテルアミド樹脂等の樹脂からなる密着層(以下、密着層Aと示す場合有)を設けることが有効であることが開示されている(特許文献1)。該密着層Aを設けることによって、耐キャビテーション層であるTa層上に流路構成部材を接合する場合においても、長期にわたって優れた密着性を維持することができる。また、吐出口基板の長尺化に対応するためにより密着力を向上させる構成として、密着層Aを流路に大きくはみ出して形成することが開示されている(特許文献2)。更に、Ta層と前記密着層Aとの間に、SiO等の無機材料からなる密着層(以下、密着層Bと示す場合有)を形成する構成が提案されている。   On the other hand, it is disclosed that it is effective to provide an adhesion layer (hereinafter, referred to as adhesion layer A) made of a resin such as polyetheramide resin between the substrate and the flow path component (Patent Document). 1). By providing the adhesion layer A, excellent adhesion can be maintained over a long period of time even when the flow path constituting member is bonded onto the Ta layer which is a cavitation-resistant layer. In addition, as a configuration for improving the adhesion force in order to cope with the increase in the length of the discharge port substrate, it is disclosed that the adhesion layer A is formed so as to largely protrude from the flow path (Patent Document 2). Further, a configuration has been proposed in which an adhesion layer (hereinafter, referred to as adhesion layer B) made of an inorganic material such as SiO is formed between the Ta layer and the adhesion layer A.

このような密着層A、密着層Bを有する従来のインクジェットヘッドとして、図11にインクジェットヘッドのインクを吐出させるインクジェットヘッド基板の発泡室12近傍の透過平面図を示す。図12は図11のA−A線に沿って切断した断面図、図13はB−B線に沿って切断した断面図を示している。流路構成部材11は櫛歯状に複数形成されており、流路構成部材11によって熱エネルギー発生素子を囲うように形成されている発泡室12内に、インクが供給される。流路構成部材11は発泡室12に通じる流路13をも構成している。図13に示すように、流路構成部材11は基板上に密着層A103と密着層B104を介して接合されている。密着層A103は前記樹脂からなる層であり、密着層B104はSiO等の無機材料からなる層である。密着層B104は、Ta層と密着層A103との密着力を向上させる層であるために、密着層A103よりも大きな領域に形成されていた。   As a conventional inkjet head having such an adhesion layer A and an adhesion layer B, FIG. 11 shows a transmission plan view in the vicinity of the foaming chamber 12 of an inkjet head substrate that ejects ink of the inkjet head. 12 is a cross-sectional view taken along the line AA in FIG. 11, and FIG. 13 is a cross-sectional view taken along the line BB. A plurality of flow path component members 11 are formed in a comb-like shape, and ink is supplied into a foaming chamber 12 formed by the flow path component member 11 so as to surround the thermal energy generating element. The flow path component 11 also constitutes a flow path 13 that communicates with the foaming chamber 12. As shown in FIG. 13, the flow path component 11 is bonded onto the substrate via an adhesion layer A103 and an adhesion layer B104. The adhesion layer A103 is a layer made of the resin, and the adhesion layer B104 is a layer made of an inorganic material such as SiO. Since the adhesion layer B104 is a layer that improves the adhesion between the Ta layer and the adhesion layer A103, the adhesion layer B104 is formed in a larger area than the adhesion layer A103.

特開平11−348290号公報JP 11-348290 A 特開2002−248771号公報JP 2002-248771 A

しかしながら、図11〜13に示す構成のインクジェットヘッドでは、通常、使用されている間は流路内にインクが常時満たされており、密着層A、密着層Bともにインクに触れる構成となっている。特に、顔料インクにおいて、インクの性能向上のために様々な組成の分散体が用いられ、溶剤も用いられていることから、インクによっては密着層が溶解してしまう場合がある。   However, in the ink jet head having the configuration shown in FIGS. 11 to 13, the ink is normally filled in the flow path while being used, and both the adhesion layer A and the adhesion layer B are in contact with the ink. . In particular, in pigment inks, dispersions of various compositions are used to improve ink performance, and solvents are also used. Therefore, depending on the ink, the adhesion layer may be dissolved.

例えば、SiO/SiNからなる密着層Bがインクによって溶解してしまう場合があり、特に、印字による基板の温度上昇により溶解が顕著となる。実際には、所定の枚数まで印字し続ける試験をある期間に亘って行った場合に、SiO/SiNの溶解が進行する。吐出口列のうち、一部の流路構成部材と基板との間に隙間が生じると、その領域の吐出方向がずれ、罫線がずれた印字となり画像上の不良が発生する。   For example, the adhesion layer B made of SiO / SiN may be dissolved by ink, and the dissolution becomes particularly remarkable due to the temperature rise of the substrate due to printing. Actually, dissolution of SiO / SiN proceeds when a test to continue printing up to a predetermined number of sheets is performed for a certain period. If a gap is generated between some of the flow path component members and the substrate in the discharge port array, the discharge direction of the region is shifted, and the ruled lines are shifted, resulting in defective images.

また、発泡室内に露出した密着層Bがインクにより溶解することで、発泡室内において溶解した無機材料の濃度が高くなった状態で、吐出口からのインクの蒸発によりインク中の無機材料が飽和溶解度を超える場合がある。そのために、吐出口部に無機材料が析出し、また吐出口の内壁に無機材料が付着し、ヨレや不吐が発生する場合がある。また、流路構成部材11と基板に隙間が生じるため、吐出時の発泡エネルギーが隙間に逃げ、正常な吐出を行うことができない場合がある。同様に、Ta層下のSiN等からなる絶縁保護層についてもインクにより溶解する場合がある。   Further, the adhesive layer B exposed in the foaming chamber is dissolved by the ink, so that the concentration of the inorganic material dissolved in the foaming chamber is increased, and the inorganic material in the ink is saturated by the evaporation of the ink from the ejection port. May be exceeded. For this reason, an inorganic material may be deposited on the discharge port portion, and the inorganic material may adhere to the inner wall of the discharge port, resulting in twisting or undischarge. Further, since a gap is generated between the flow path component 11 and the substrate, foaming energy at the time of discharge escapes into the gap, and normal discharge may not be performed. Similarly, an insulating protective layer made of SiN or the like under the Ta layer may be dissolved by ink.

そこで、本発明の目的は、流路構成部材と基板とを接着する密着層及び絶縁保護層のインクに対する溶解を防止し、流路構成部材と基板との密着性及びインク吐出性能を維持できるインクジェットヘッドを提供することである。   Therefore, an object of the present invention is to prevent the dissolution of the adhesion layer and the insulating protective layer that adheres the flow path component and the substrate to the ink, and to maintain the adhesion between the flow channel component and the substrate and the ink discharge performance. Is to provide a head.

本発明に係るインクジェットヘッドは、インクを吐出するための熱エネルギーを発生する熱エネルギー発生素子と、該熱エネルギー発生素子を覆う絶縁保護層と、該絶縁保護層上に設けられたTa層とを有する基板と、該基板に接合され、前記熱エネルギー発生素子上を通って前記インクを吐出する吐出口に連通する流路を備えた流路構成部材と、を備えるインクジェットヘッドであって、前記基板と前記流路構成部材との接合部に前記Ta層が延在しており、該接合部に該Ta層と有機材料との密着性を高める無機材料からなる密着層Bを有し、前記絶縁保護層及び該密着層Bが前記流路に露出していないことを特徴とする。   An inkjet head according to the present invention includes a thermal energy generating element that generates thermal energy for discharging ink, an insulating protective layer that covers the thermal energy generating element, and a Ta layer provided on the insulating protective layer. An ink-jet head comprising: a substrate having a flow path component connected to the substrate and connected to a discharge port for discharging the ink through the thermal energy generating element; The Ta layer extends at a joint between the flow path component and the flow path component, and the joint has an adhesion layer B made of an inorganic material that enhances the adhesion between the Ta layer and the organic material. The protective layer and the adhesion layer B are not exposed to the flow path.

本発明によれば、流路構成部材と基板とを接着する密着層B及び絶縁保護層はインクと接触することがないためインクへの溶解を防止することができ、流路構成部材と基板との密着性及びインク吐出性能を維持することができる。   According to the present invention, since the adhesion layer B and the insulating protective layer that bond the flow path component and the substrate do not come into contact with the ink, dissolution into the ink can be prevented. The adhesion and ink discharge performance can be maintained.

本発明の第1の実施形態に係るインクジェットヘッド基板の透過平面図である。It is a permeation | transmission top view of the inkjet head board | substrate which concerns on the 1st Embodiment of this invention. 本発明の第1の実施形態に係るインクジェットヘッド基板の断面図である。1 is a cross-sectional view of an inkjet head substrate according to a first embodiment of the present invention. 本発明に係るインクジェットヘッド基板の斜視図である。1 is a perspective view of an inkjet head substrate according to the present invention. 本発明に係るインクジェットヘッド基板の断面図である。It is sectional drawing of the inkjet head board | substrate which concerns on this invention. 本発明に係るインクジェットヘッド基板の吐出口付近の拡大図である。It is an enlarged view near the discharge port of the inkjet head substrate according to the present invention. 本発明の第2の実施形態に係るインクジェットヘッド基板の透過平面図である。It is a permeation | transmission top view of the inkjet head board | substrate which concerns on the 2nd Embodiment of this invention. 本発明の第2の実施形態に係るインクジェットヘッド基板の断面図である。It is sectional drawing of the inkjet head board | substrate which concerns on the 2nd Embodiment of this invention. 本発明の第3の実施形態に係るインクジェットヘッド基板の透過平面図である。It is a permeation | transmission top view of the inkjet head board | substrate which concerns on the 3rd Embodiment of this invention. 本発明の第3の実施形態に係るインクジェットヘッド基板の断面図である。It is sectional drawing of the inkjet head board | substrate which concerns on the 3rd Embodiment of this invention. 本発明の第3の実施形態に係るインクジェットヘッド基板の断面図である。It is sectional drawing of the inkjet head board | substrate which concerns on the 3rd Embodiment of this invention. 従来のインクジェットヘッド基板の透過平面図である。It is a permeation | transmission top view of the conventional inkjet head board | substrate. 従来のインクジェットヘッド基板の断面図である。It is sectional drawing of the conventional inkjet head board | substrate. 従来のインクジェットヘッド基板の断面図である。It is sectional drawing of the conventional inkjet head board | substrate.

次に、本発明の実施形態について図面を参照して説明する。   Next, embodiments of the present invention will be described with reference to the drawings.

[インクジェットヘッド]
本発明に係るインクジェットヘッド基板について図3を参照して説明する。図3は、吐出口26が形成されているインクジェットヘッド基板の斜視図であり、1つの基板34に2つのインク供給口6が形成されている。図4は図3のA−A’断面図である。熱エネルギー発生素子1を備える基板34上に形成された流路構成部材11によって、流路13や、その上に配置された吐出口26が開口された吐出口プレート8が形成されている。吐出口26は、基板34上に形成された複数の熱エネルギー発生素子1上に、それに対向して開口されている。さらに、図5に図4の吐出口26近傍の拡大図を示す。流路構成部材11は、吐出口26の形成されている吐出口プレート8、流路13を囲うように形成されている。インクは、インク供給口6から流路13を通って発泡室12に至る。その後、インクは熱エネルギー発生素子1により吐出口26より吐出される。共通液室(不図示)は、インク供給口6上に流路を通じて吐出口26と連通して存在し、吐出口26に供給するインクを保持することができる。
[Inkjet head]
An inkjet head substrate according to the present invention will be described with reference to FIG. FIG. 3 is a perspective view of the ink jet head substrate on which the discharge ports 26 are formed. Two ink supply ports 6 are formed on one substrate 34. 4 is a cross-sectional view taken along the line AA ′ of FIG. The flow path constituting member 11 formed on the substrate 34 including the thermal energy generating element 1 forms the flow path 13 and the discharge port plate 8 in which the discharge ports 26 arranged thereon are opened. The discharge ports 26 are opened on the plurality of thermal energy generating elements 1 formed on the substrate 34 so as to face each other. Further, FIG. 5 shows an enlarged view of the vicinity of the discharge port 26 of FIG. The flow path component 11 is formed so as to surround the discharge port plate 8 and the flow path 13 in which the discharge ports 26 are formed. The ink reaches the foaming chamber 12 from the ink supply port 6 through the flow path 13. Thereafter, the ink is ejected from the ejection port 26 by the thermal energy generating element 1. A common liquid chamber (not shown) exists on the ink supply port 6 in communication with the discharge port 26 through a flow path, and can hold ink supplied to the discharge port 26.

[第1の実施形態]
図1に本発明の第1の実施形態であるインクジェットヘッドの発泡室12近傍の透過平面図を示す。点線で示されているのが密着層B104であり、その内側に実線で示されているのが流路構成部材11である。図2は図1のA−A断面を示している。熱エネルギー発生素子に通電するための配線100上に、熱エネルギー発生素子及び配線100等を保護するための絶縁保護層101が形成されている。絶縁保護層101上には耐キャビテーション膜であるTa層102が形成されている。Ta層102と流路構成部材11との接合部に延在する無機材料からなる密着層B104は、Ta層102と流路構成部材11とを接着している。流路構成部材11は有機材料からなり、密着層B104は流路構成部材11に覆われているため流路13に露出しておらず、インクと直接接触しない。これにより、密着層B104はインクに溶解しないため、流路構成部材11と基板との密着力を維持できる。また、絶縁保護層101もTa層102により覆われているため流路13に露出しておらず、インクと直接接触しないためインクに溶解しない。
[First Embodiment]
FIG. 1 is a transmission plan view in the vicinity of the foaming chamber 12 of the ink jet head according to the first embodiment of the present invention. The adhesion layer B104 is indicated by a dotted line, and the flow path component 11 is indicated by a solid line inside thereof. FIG. 2 shows an AA cross section of FIG. An insulating protective layer 101 for protecting the thermal energy generating element, the wiring 100, and the like is formed on the wiring 100 for energizing the thermal energy generating element. On the insulating protective layer 101, a Ta layer 102 which is an anti-cavitation film is formed. An adhesion layer B104 made of an inorganic material extending at the joint between the Ta layer 102 and the flow path component 11 bonds the Ta layer 102 and the flow path component 11. The flow path constituting member 11 is made of an organic material, and the adhesion layer B104 is covered with the flow path constituting member 11, so that it is not exposed to the flow path 13 and is not in direct contact with ink. Thereby, since the adhesion layer B104 is not dissolved in the ink, the adhesion force between the flow path component 11 and the substrate can be maintained. Further, since the insulating protective layer 101 is also covered with the Ta layer 102, it is not exposed to the flow path 13 and does not directly contact the ink, and therefore does not dissolve in the ink.

流路構成部材11に用いる前記有機材料としては特に限定されないが、ポリエーテルアミド樹脂、エポキシ樹脂等が挙げられる。密着層Bの無機材料としては、酸化シリコン、窒化シリコン等の無機材料が挙げられる。これらは1種のみでもよく、2種以上を併用してもよい。   Although it does not specifically limit as said organic material used for the flow-path structural member 11, Polyetheramide resin, an epoxy resin, etc. are mentioned. Examples of the inorganic material for the adhesion layer B include inorganic materials such as silicon oxide and silicon nitride. These may be used alone or in combination of two or more.

[第2の実施形態]
図6に本発明の第2の実施形態であるインクジェットヘッドの発泡室12近傍の透過平面図を示す。太い点線で示されているのが密着層B104であり、その内側に実線で示されているのが流路構成部材11、密着層B104の内側に細い点線で示されているのが密着層A103である。図7は図6のA−A断面を示している。熱エネルギー発生素子に通電するための配線100上に、熱エネルギー発生素子及び配線100等を保護するための絶縁保護層101が形成されている。絶縁保護層101上に耐キャビテーション膜であるTa層102が形成されている。Ta層102上であってTa層102と流路構成部材11との間には密着層B104が形成されている。また、密着層B104を覆い、かつTa層102と流路構成部材11との接合面から流路13にはみ出して密着層A103が形成されている。密着層A103は有機材料からなるためインクに溶解せず、密着層B104は密着層A103に覆われているため流路13に露出しておらずインクと直接接触しない。これにより、密着層B104はインクに溶解しないため、流路構成部材11と基板との密着力を維持できる。また、絶縁保護層101もTa層102により覆われているため流路13に露出しておらず、インクと直接接触しないためインクに溶解しない。
[Second Embodiment]
FIG. 6 shows a transmission plan view in the vicinity of the foaming chamber 12 of the inkjet head according to the second embodiment of the present invention. The adhesion layer B104 is indicated by a thick dotted line, the flow path constituting member 11 is indicated by a solid line inside, and the adhesion layer A103 is indicated by a thin dotted line inside the adhesion layer B104. It is. FIG. 7 shows an AA cross section of FIG. An insulating protective layer 101 for protecting the thermal energy generating element, the wiring 100, and the like is formed on the wiring 100 for energizing the thermal energy generating element. A Ta layer 102 as an anti-cavitation film is formed on the insulating protective layer 101. An adhesion layer B 104 is formed on the Ta layer 102 and between the Ta layer 102 and the flow path component 11. Further, the adhesion layer A103 is formed so as to cover the adhesion layer B104 and protrude from the joint surface between the Ta layer 102 and the flow path constituting member 11 to the flow path 13. Since the adhesion layer A103 is made of an organic material, the adhesion layer A103 is not dissolved in the ink, and the adhesion layer B104 is covered with the adhesion layer A103, so that it is not exposed to the flow path 13 and is not in direct contact with the ink. Thereby, since the adhesion layer B104 is not dissolved in the ink, the adhesion force between the flow path component 11 and the substrate can be maintained. Further, since the insulating protective layer 101 is also covered with the Ta layer 102, it is not exposed to the flow path 13 and does not directly contact the ink, and therefore does not dissolve in the ink.

本実施形態では、図7に示すように密着層A103は断面形状として端部が傾斜して形成されている。これは密着層A103がエッチングにより形成される場合に生じる。この場合、密着層B104が密着層A103に覆われ流路13に露出しないようにするために、密着層B104が密着層A103の端部傾斜部より内側に形成されていることが、密着層B104のインクへの接触を確実に防ぐ観点から好ましい。   In the present embodiment, as shown in FIG. 7, the adhesion layer A103 is formed in a cross-sectional shape with an inclined end. This occurs when the adhesion layer A103 is formed by etching. In this case, in order to prevent the adhesion layer B104 from being exposed to the flow path 13 by being covered with the adhesion layer A103, the adhesion layer B104 is formed inside the end inclined portion of the adhesion layer A103. It is preferable from the viewpoint of reliably preventing contact with the ink.

密着層A103に用いる有機材料としては、第1の実施形態における流路構成部材11に用いる有機材料と同様の材料を用いることができる。   As the organic material used for the adhesion layer A103, the same material as the organic material used for the flow path component 11 in the first embodiment can be used.

[第3の実施形態]
図8に本発明の第3の実施形態であるインクジェットヘッドの発泡室12近傍の透過平面図を示す。太い点線で示されているのが密着層B104であり、その内側に実線で示されているのが流路構成部材11、密着層B104の内側に細い点線で示されているのが密着層A103である。本実施形態では共通液室(不図示)と流路13との連絡流路(図面では流路13の一部として記載)を横断し、かつ熱エネルギー発生素子を覆わずに密着層B104が形成されている。さらにその密着層B104を覆うように密着層A103が形成されている。図9は図8のA−A断面を示しており、断面に関しては第2の実施形態と同様である。また、図10は図8のB−B断面を示している。
[Third Embodiment]
FIG. 8 shows a transmission plan view in the vicinity of the foaming chamber 12 of the ink jet head according to the third embodiment of the present invention. The adhesion layer B104 is indicated by a thick dotted line, the flow path constituting member 11 is indicated by a solid line inside, and the adhesion layer A103 is indicated by a thin dotted line inside the adhesion layer B104. It is. In the present embodiment, the adhesion layer B104 is formed so as to cross the communication channel (not shown) between the common liquid chamber (not shown) and the channel 13 (described as a part of the channel 13 in the drawing) without covering the thermal energy generating element. Has been. Further, an adhesion layer A103 is formed so as to cover the adhesion layer B104. FIG. 9 shows an AA cross section of FIG. 8, and the cross section is the same as that of the second embodiment. FIG. 10 shows a BB cross section of FIG.

ここで、密着層B104を覆う密着層A103とTa層102との間で密着力が低下する領域として二箇所の領域が挙げられる。一つ目は、共通液室側の流路構成部材11の端部である。特許文献2で示すような方法で製造された流路構成部材11の場合には、流路構成部材11を構成する樹脂が硬化する際に、基板に固定されているために応力が発生する。具体的には基板が反る方向に応力が発生するため、共通液室側の流路構成部材11の端部にその応力が最もかかる。二つ目は、流路13付近である。これはインクジェット記録方式特有であるが、吐出方向に圧力が発生した際に流路13にインクの流れが生じる。より具体的には、バブルジェット(登録商標)方式では、ヒータに駆動パルスが印加されインクが発泡された際に、吐出方向だけではなく、流路13方向にも発泡が成長するためにインクの流れが生じる。この結果として、流路13は流れが強い領域となり密着性に影響を与える。一方、発泡室12の周囲の領域では、応力の発生はなく流路構成部材11があるために流れの衝突による密着性への影響は軽微である。   Here, there are two regions as the region where the adhesion force decreases between the adhesion layer A103 and the Ta layer 102 covering the adhesion layer B104. The first is the end of the flow path component 11 on the common liquid chamber side. In the case of the flow path component 11 manufactured by the method shown in Patent Document 2, when the resin constituting the flow path component 11 is cured, stress is generated because the resin is fixed to the substrate. Specifically, since stress is generated in the direction in which the substrate is warped, the stress is most applied to the end of the flow path component 11 on the common liquid chamber side. The second is near the flow path 13. This is peculiar to the ink jet recording method, but ink flows in the flow path 13 when pressure is generated in the ejection direction. More specifically, in the bubble jet (registered trademark) system, when the drive pulse is applied to the heater and the ink is foamed, the foam grows not only in the ejection direction but also in the flow path 13 direction. A flow occurs. As a result, the flow path 13 becomes a region where the flow is strong and affects the adhesion. On the other hand, in the region around the foaming chamber 12, no stress is generated and the flow path component 11 is present, so that the influence on the adhesion due to the collision of the flow is slight.

本実施形態では、応力が最もかかる共通液室側の流路構成部材11の端部20を、共通液室側の密着層Aの端部21から離すことにより、流路構成部材11の端部20に掛かる応力が密着層Aの端部21に影響を与えない構成としている。具体的には、図8において、前記共通液室側の密着層A103の端部から共通液室側の密着層B104の端部までの距離(A1−B1)が、前記共通液室側の流路構成部材11端部から熱エネルギー発生素子側の流路構成部材端部11までの距離(D1)よりも長い。また、発泡時の共通液室側へのインクの流れが強い領域である流路13(連絡流路)においては、密着層B104が流路13(連絡流路)を横断して形成されている。これにより、密着層A103とTa層102との密着力を強くする構成としている。また、流路13(連絡流路)の密着層A103に切れ目を作らずに流路13(連絡流路)を横断して形成することで、構造体として密着性を維持できる構成としている。   In the present embodiment, the end 20 of the flow path component 11 on the common liquid chamber side where the stress is most applied is separated from the end 21 of the adhesion layer A on the common liquid chamber side. The stress applied to 20 does not affect the end portion 21 of the adhesion layer A. Specifically, in FIG. 8, the distance (A1-B1) from the end of the adhesion layer A103 on the common liquid chamber side to the end of the adhesion layer B104 on the common liquid chamber side is the flow on the common liquid chamber side. It is longer than the distance (D1) from the end of the path constituent member 11 to the end of the flow path constituent member 11 on the thermal energy generating element side. Further, in the flow path 13 (communication flow path), which is a region where the ink flow to the common liquid chamber side during foaming is strong, the adhesion layer B104 is formed across the flow path 13 (communication flow path). . Thereby, the adhesive force between the adhesive layer A103 and the Ta layer 102 is increased. Moreover, it is set as the structure which can maintain adhesiveness as a structure by forming across the flow path 13 (connection flow path) without making a cut | interruption in the contact | adherence layer A103 of the flow path 13 (connection flow path).

[実施例1]
本実施例のインクジェットヘッドについて図3を参照して説明する。本実施例のインクジェットヘッドは1つの基板に2つのインク供給口6が形成されており、1つのインク供給口6に対して吐出口26が両側に1列ずつ、1列が128個で配置されている。吐出口26は1つの基板に4列あるため、吐出口26は合計512個形成されている。また、1つのインクジェットヘッドに6つの基板が設けられていて、6種類のインクを吐出できる構成となっている。
[Example 1]
The ink jet head of this embodiment will be described with reference to FIG. In the ink jet head of this embodiment, two ink supply ports 6 are formed on one substrate, and the discharge ports 26 are arranged in one row on both sides with respect to one ink supply port 6 and 128 in one row. ing. Since there are four rows of discharge ports 26 on one substrate, a total of 512 discharge ports 26 are formed. Further, six substrates are provided in one inkjet head, and six types of ink can be ejected.

図1に本実施例のインクジェットヘッドの発泡室12近傍の透過平面図を示す。点線で示されているのが密着層BであるSiO膜104であり、その内側に実線で示されているのがエポキシ樹脂からなる流路構成部材11である。図2は図1のA−A断面を示している。熱エネルギー発生素子であるヒータに通電するためのアルミ配線100上に、アルミ配線100等を保護するための絶縁保護層であるSiN膜101(厚み:300nm)が形成されている。SiN膜101上には耐キャビテーション膜であるTa層102(厚み:200nm)が形成されている。Ta層102と流路構成部材11との間に存在するSiO膜104(厚み:50nm)は、Ta層102と流路構成部材11とを接着している。流路構成部材11はエポキシ樹脂からなり、SiO膜104は流路構成部材11に覆われているため流路13には露出しておらず、インクと直接接触しない。これにより、SiO膜104はインクに溶解せず、流路構成部材11と基板との密着力を維持できる。また、SiN膜101もTa層102により覆われているため流路13には露出しておらず、インクと直接接触しないためインクに溶解しない。   FIG. 1 shows a transmission plan view near the foaming chamber 12 of the ink jet head of this embodiment. The dotted line shows the SiO film 104 which is the adhesion layer B, and the solid line shows the flow path component member 11 made of epoxy resin. FIG. 2 shows an AA cross section of FIG. An SiN film 101 (thickness: 300 nm), which is an insulating protective layer for protecting the aluminum wiring 100 and the like, is formed on the aluminum wiring 100 for energizing a heater that is a thermal energy generating element. On the SiN film 101, a Ta layer 102 (thickness: 200 nm) which is an anti-cavitation film is formed. The SiO film 104 (thickness: 50 nm) existing between the Ta layer 102 and the flow path component 11 bonds the Ta layer 102 and the flow path component 11. The flow path constituting member 11 is made of an epoxy resin, and the SiO film 104 is covered with the flow path constituting member 11, so that it is not exposed to the flow path 13 and is not in direct contact with ink. Thereby, the SiO film 104 is not dissolved in the ink, and the adhesion force between the flow path constituting member 11 and the substrate can be maintained. In addition, since the SiN film 101 is also covered with the Ta layer 102, it is not exposed to the flow path 13, and does not directly contact the ink, so that it does not dissolve in the ink.

具体的には、ヒータは24×24μmであった。流路構成部材11はSiO膜104を覆う構成であり、図1において、A1=27μm、A2=27μm、A3=16μmであった。一方、SiO膜104は、B1=36μm、B2=42μm、B3=25μmであった。そのため、図2に示すようにSiO膜104は上面だけではなく、側面も流路構成部材11に覆われているためインクとSiO膜104とは接触しない。図2における断面において、SiO膜104の端部から流路構成部材11の端部までの水平方向の距離は4.5μmであった。   Specifically, the heater was 24 × 24 μm. The flow path component 11 is configured to cover the SiO film 104. In FIG. 1, A1 = 27 μm, A2 = 27 μm, and A3 = 16 μm. On the other hand, the SiO film 104 had B1 = 36 μm, B2 = 42 μm, and B3 = 25 μm. Therefore, as shown in FIG. 2, since the SiO film 104 is covered not only on the upper surface but also on the side surface by the flow path component 11, the ink and the SiO film 104 do not contact each other. In the cross section in FIG. 2, the distance in the horizontal direction from the end of the SiO film 104 to the end of the flow path component 11 was 4.5 μm.

(密着性試験)
まず、本実施例の密着性試験で使用した4種類のインクのSiO膜に対する溶解特性を以下の試験条件で検討した。インク150mlを300mlの密閉できる容器に入れた。そこに6インチのSi基板(厚み=約625μm)にSiO膜のみを形成したWafを20mm角に切断した試料を1個入れ、温度を制御するために恒温槽の中に入れた状態で放置した。放置期間は一ヶ月間である。前記試験により得られた溶解特性の結果を表1に示す。このような溶解特性を持つインクA〜Dを本実施例の密着性試験では用いた。
(Adhesion test)
First, the dissolution characteristics of the four types of inks used in the adhesion test of this example with respect to the SiO film were examined under the following test conditions. 150 ml of ink was placed in a 300 ml sealable container. One sample obtained by cutting a Waf, in which only a SiO film was formed on a 6-inch Si substrate (thickness = about 625 μm) into 20 mm squares, was placed in a constant temperature bath to control the temperature. . The neglect period is one month. The results of the dissolution characteristics obtained by the test are shown in Table 1. Inks A to D having such dissolution characteristics were used in the adhesion test of this example.

Figure 2011152654
Figure 2011152654

次に、本実施例のインクジェットヘッドについて、インクジェット記録装置によって前記インクを使用して連続して印字を行い、流路構成部材11と基板との密着性試験を行った。インクジェット記録装置はシリアルスキャン方式であり、1スキャン毎に印字をしない時間がありその時に基板温度は下がり、また印字を開始する際に基板温度が上がる試験条件となっている。この試験条件では、シリアススキャンでの印字中の基板温度は50から60℃の間で上下した。また、印字期間は一ヶ月間である。評価基準は以下の通りである。
○:流路構成部材11とTa層102とが密着している。
×:流路構成部材11とTa層102との間に隙間が生じている。
Next, the ink jet head of this example was continuously printed using the ink by an ink jet recording apparatus, and an adhesion test between the flow path component 11 and the substrate was performed. The ink jet recording apparatus is of a serial scan type, and there is a time during which printing is not performed for each scan. At that time, the substrate temperature is lowered, and the substrate temperature is increased when starting printing. Under these test conditions, the substrate temperature during printing in the serious scan increased and decreased between 50 and 60 ° C. The printing period is one month. The evaluation criteria are as follows.
○: The flow path component 11 and the Ta layer 102 are in close contact with each other.
X: A gap is generated between the flow path component 11 and the Ta layer 102.

各インクにおける密着性試験の結果を表2に示す。   Table 2 shows the results of the adhesion test for each ink.

Figure 2011152654
Figure 2011152654

本実施例の構成では、流路構成部材11とTa層102の間の密着力が維持されており、SiO膜104がインクに接触することが無く溶解もしていないために、全てのインクについて流路構成部材11と基板との密着性を維持していた。このように、本実施例ではSiO膜104をエポキシ樹脂からなる流路構成部材11によりインクに触れないように覆うことにより、流路13にSiO膜104が露出しない。これにより溶解特性の高いインクにおいてもSiO膜104のインクによる溶解を防止し、流路構成部材11と基板との密着性を維持できた。また、SiN膜101の溶解も確認されなかった。   In the configuration of this embodiment, the adhesion between the flow path component 11 and the Ta layer 102 is maintained, and the SiO film 104 does not contact the ink and does not dissolve, so that all the ink flows. Adhesion between the path constituent member 11 and the substrate was maintained. As described above, in this embodiment, the SiO film 104 is covered with the flow path constituting member 11 made of epoxy resin so as not to touch the ink, so that the SiO film 104 is not exposed to the flow path 13. As a result, even with ink having high solubility characteristics, dissolution of the SiO film 104 by the ink was prevented, and adhesion between the flow path component 11 and the substrate could be maintained. Further, dissolution of the SiN film 101 was not confirmed.

[実施例2]
本実施例のインクジェットヘッドについて図3を参照して説明する。本実施例のインクジェットヘッドは1つの基板に2つのインク供給口6が形成されており、1つのインク供給口6に対して吐出口26が両側に1列ずつ、1列が652個で配置されている。吐出口26は1つの基板に4列あるため、吐出口26は合計2608個形成されている。実施例1と比較して吐出口26が増えたことにより、実施例1よりも基板が長くなり、流路構成部材11に生じる応力が大きくなっている。該応力に対して密着力をより向上した構造として本実施例では密着層Aを設けている。また、1つのインクジェットヘッドに6つの基板が設けられていて、6種類のインクを吐出できる構成となっている。
[Example 2]
The ink jet head of this embodiment will be described with reference to FIG. In the ink jet head of this embodiment, two ink supply ports 6 are formed on one substrate, and the discharge ports 26 are arranged in one row on both sides with respect to the one ink supply port 6 and 652 in one row. ing. Since there are four rows of discharge ports 26 on one substrate, a total of 2608 discharge ports 26 are formed. Since the discharge ports 26 are increased as compared with the first embodiment, the substrate becomes longer than the first embodiment, and the stress generated in the flow path constituting member 11 is increased. In this embodiment, the adhesion layer A is provided as a structure in which the adhesion force is further improved against the stress. Further, six substrates are provided in one inkjet head, and six types of ink can be ejected.

図6に本実施例のインクジェットヘッドの発泡室12近傍の透過平面図を示す。太い点線で示されているのが密着層BであるSiO膜104であり、その内側に実線で示されているのがエポキシ樹脂からなる流路構成部材11、SiO膜104の内側に細い点線で示されているのがポリエーテルアミド樹脂からなる密着層A103である。図7は図6のA−A断面を示している。熱エネルギー発生素子であるヒータに通電するためのアルミ配線100上に、アルミ配線100等を保護するための絶縁保護層であるSiN膜101(厚み:300nm)が形成されている。SiN膜101上に耐キャビテーション膜であるTa層102(厚み:200nm)が形成されている。Ta層102上であってTa層102と流路構成部材11との間にはSiO膜104(厚み:50nm)が形成されている。また、SiO膜104を覆い、かつTa層102と流路構成部材11との接合面から流路13にはみ出して密着層A103(厚み:2μm)が形成されている。密着層A103はポリエーテルアミド樹脂からなるためインクに溶解せず、SiO膜104は密着層A103に覆われているため流路13には露出しておらずインクと直接接触しない。これにより、SiO膜104はインクに溶解しないため、流路構成部材11と基板との密着力を維持できる。また、SiN膜101もTa層102により覆われているため流路13に露出しておらず、インクと直接接触しないためインクに溶解しない。   FIG. 6 shows a transmission plan view in the vicinity of the foaming chamber 12 of the ink jet head of this embodiment. The thick dotted line shows the SiO film 104 which is the adhesion layer B, and the solid line inside it shows the flow path component 11 made of epoxy resin, and the thin dotted line inside the SiO film 104 shows. Shown is an adhesion layer A103 made of polyetheramide resin. FIG. 7 shows an AA cross section of FIG. An SiN film 101 (thickness: 300 nm), which is an insulating protective layer for protecting the aluminum wiring 100 and the like, is formed on the aluminum wiring 100 for energizing a heater that is a thermal energy generating element. A Ta layer 102 (thickness: 200 nm), which is a cavitation resistant film, is formed on the SiN film 101. An SiO film 104 (thickness: 50 nm) is formed on the Ta layer 102 and between the Ta layer 102 and the flow path component 11. Further, an adhesion layer A103 (thickness: 2 μm) is formed so as to cover the SiO film 104 and protrude from the joint surface between the Ta layer 102 and the flow path component 11 to the flow path 13. Since the adhesion layer A103 is made of polyetheramide resin, it does not dissolve in the ink, and the SiO film 104 is covered with the adhesion layer A103, so that it is not exposed to the flow path 13 and is not in direct contact with the ink. Thereby, since the SiO film 104 is not dissolved in the ink, the adhesion force between the flow path constituting member 11 and the substrate can be maintained. Further, since the SiN film 101 is also covered with the Ta layer 102, it is not exposed to the flow path 13, and does not come into direct contact with the ink and therefore does not dissolve in the ink.

具体的には、ヒータは24×24μmであった。密着層A103はヒータには被らない構成であり、A1=29μm、A2=35μm、A3=11μmであった。一方、SiO膜104は、B1=36μm、B2=42μm、B3=25μmであった。そのため、図7に示すようにSiO膜104は上面だけではなく、側面も密着層A103に覆われており、インクとSiO膜104とは接触しない。図7における断面において、SiO膜104の端部から密着層A103の端部までの水平方向の距離は3.5μmであった。また、本実施例では密着層A103はエッチングにより形成されているが、断面形状として端部が傾斜して形成されており、具体的には図7において傾斜距離Lが0.5μmであった。そのため、SiO膜104が密着層A103の端部傾斜部より0.5μmをこえて内側に形成されるようにするため、SiO膜104の端部と密着層A103の端部との距離を3.0μmとした。   Specifically, the heater was 24 × 24 μm. The adhesion layer A103 is configured not to cover the heater, and A1 = 29 μm, A2 = 35 μm, and A3 = 11 μm. On the other hand, the SiO film 104 had B1 = 36 μm, B2 = 42 μm, and B3 = 25 μm. Therefore, as shown in FIG. 7, not only the upper surface but also the side surface of the SiO film 104 is covered with the adhesion layer A103, and the ink and the SiO film 104 are not in contact with each other. In the cross section in FIG. 7, the horizontal distance from the end of the SiO film 104 to the end of the adhesion layer A103 was 3.5 μm. Further, in this embodiment, the adhesion layer A103 is formed by etching, but the end portion is inclined as a cross-sectional shape, and specifically, the inclination distance L is 0.5 μm in FIG. Therefore, the distance between the end of the SiO film 104 and the end of the adhesion layer A103 is set to 3. in order to form the SiO film 104 on the inner side more than 0.5 μm from the end inclined portion of the adhesion layer A103. It was set to 0 μm.

(密着性試験)
本実施例のインクジェットヘッドについて、実施例1と同様に密着性試験を行った。結果を表3に示す。
(Adhesion test)
The ink jet head of this example was subjected to an adhesion test in the same manner as in Example 1. The results are shown in Table 3.

Figure 2011152654
Figure 2011152654

本実施例の構成では、流路構成部材11とTa層102の間の密着力が維持されており、SiO膜104がインクに接触することが無く溶解もしていないために、全てのインクについて流路構成部材11と基板との密着性を維持していた。このように、本実施例ではSiO膜104をポリエーテルアミド樹脂からなる密着層A103によりインクに触れないように覆うことにより、流路13にSiO膜104が露出しない。これによりSiO膜104のインクによる溶解を防止し、流路構成部材11と基板との密着性を維持できた。また、SiN膜101の溶解も確認されなかった。   In the configuration of this embodiment, the adhesion between the flow path component 11 and the Ta layer 102 is maintained, and the SiO film 104 does not contact the ink and does not dissolve, so that all the ink flows. Adhesion between the path constituent member 11 and the substrate was maintained. Thus, in this embodiment, the SiO film 104 is covered with the adhesion layer A103 made of polyetheramide resin so as not to touch the ink, so that the SiO film 104 is not exposed to the flow path 13. As a result, dissolution of the SiO film 104 with ink was prevented, and adhesion between the flow path component 11 and the substrate could be maintained. Further, dissolution of the SiN film 101 was not confirmed.

[実施例3]
本実施例のインクジェットヘッドについて図3を参照して説明する。本実施例のインクジェットヘッドは1つの基板に2つのインク供給口6が形成されており、1つのインク供給口6に対して吐出口26が両側に1列ずつ、1列が652個で配置されている。吐出口26は1つの基板に4列あるため、吐出口26は合計2608個形成されている。実施例1と比較して吐出口26が増えたことにより、実施例1よりも基板が長くなり、流路構成部材11に生じる応力が大きくなっている。該応力に対して密着力をより向上した構造として本実施例では密着層Aを設けている。また、1つのインクジェットヘッドに6つの基板が設けられていて、6種類のインクを吐出できる構成となっている。
[Example 3]
The ink jet head of this embodiment will be described with reference to FIG. In the ink jet head of this embodiment, two ink supply ports 6 are formed on one substrate, and the discharge ports 26 are arranged in one row on both sides with respect to the one ink supply port 6 and 652 in one row. ing. Since there are four rows of discharge ports 26 on one substrate, a total of 2608 discharge ports 26 are formed. Since the discharge ports 26 are increased as compared with the first embodiment, the substrate becomes longer than the first embodiment, and the stress generated in the flow path constituting member 11 is increased. In this embodiment, the adhesion layer A is provided as a structure in which the adhesion force is further improved against the stress. Further, six substrates are provided in one inkjet head, and six types of ink can be ejected.

図8に本実施例のインクジェットヘッドの発泡室12近傍の透過平面図を示す。太い点線で示されているのが密着層BであるSiO膜104であり、その内側に実線で示されているのがエポキシ樹脂からなる流路構成部材11、SiO膜104の内側に細い点線で示されているのがポリエーテルアミド樹脂からなる密着層A103である。図9は図8のA−A断面を示している。熱エネルギー発生素子であるヒータに通電するためのアルミ配線100上に、アルミ配線100等を保護するための絶縁保護層であるSiN膜101(厚み:300nm)が形成されている。SiN膜101上に耐キャビテーション膜であるTa層102(厚み:200nm)が形成されている。Ta層102上であってTa層102と流路構成部材11との間にはSiO膜104(厚み:50nm)が形成されている。また、SiO膜104を覆い、かつTa層102と流路構成部材11との接合面から流路13にはみ出して密着層A103(厚み:2μm)が形成されている。密着層A103はポリエーテルアミド樹脂からなるためインクに溶解せず、SiO膜104は密着層A103に覆われているため流路13には露出しておらずインクと直接接触しない。これにより、SiO膜104はインクに溶解しないため、流路構成部材11と基板との密着力を維持できる。また、SiN膜101もTa層102により覆われているため流路13に露出しておらず、インクと直接接触しないためインクに溶解しない。   FIG. 8 shows a transmission plan view in the vicinity of the foaming chamber 12 of the ink jet head of this embodiment. The thick dotted line shows the SiO film 104 which is the adhesion layer B, and the solid line inside it shows the flow path component 11 made of epoxy resin, and the thin dotted line inside the SiO film 104 shows. Shown is an adhesion layer A103 made of polyetheramide resin. FIG. 9 shows an AA cross section of FIG. An SiN film 101 (thickness: 300 nm), which is an insulating protective layer for protecting the aluminum wiring 100 and the like, is formed on the aluminum wiring 100 for energizing a heater that is a thermal energy generating element. A Ta layer 102 (thickness: 200 nm), which is a cavitation resistant film, is formed on the SiN film 101. An SiO film 104 (thickness: 50 nm) is formed on the Ta layer 102 and between the Ta layer 102 and the flow path component 11. Further, an adhesion layer A103 (thickness: 2 μm) is formed so as to cover the SiO film 104 and protrude from the joint surface between the Ta layer 102 and the flow path component 11 to the flow path 13. Since the adhesion layer A103 is made of polyetheramide resin, it does not dissolve in the ink, and the SiO film 104 is covered with the adhesion layer A103, so that it is not exposed to the flow path 13 and is not in direct contact with the ink. Thereby, since the SiO film 104 is not dissolved in the ink, the adhesion force between the flow path constituting member 11 and the substrate can be maintained. Further, since the SiN film 101 is also covered with the Ta layer 102, it is not exposed to the flow path 13, and does not come into direct contact with the ink and therefore does not dissolve in the ink.

本実施例では、流路構成部材11に生じる応力が最もかかる、共通液室側の流路構成部材11の端部20を、共通液室側の密着層A103の端部21から離し、流路構成部材11の端部20に掛かる応力が密着層A103の端部21に影響を与えない構成とした。また、発泡時の共通液室側へのインクの流れが強い領域である流路13(連絡流路)においては、SiO膜104を切れ目を作らず流路13(連絡流路)を横断して形成した。これにより、密着層A103とTa層102との密着性を高め、かつ維持できる構成とした。   In this embodiment, the end 20 of the common liquid chamber-side flow path constituting member 11 where the stress generated in the flow path constituting member 11 is the most is separated from the end 21 of the common liquid chamber-side adhesion layer A103, and the flow path The stress applied to the end 20 of the constituent member 11 is configured not to affect the end 21 of the adhesion layer A103. Further, in the flow path 13 (communication flow path), which is a region where the ink flow to the common liquid chamber side during foaming is strong, the SiO film 104 is not cut and the flow path 13 (communication flow path) is traversed. Formed. Thereby, it was set as the structure which can improve and maintain the adhesiveness of adhesion layer A103 and Ta layer 102. FIG.

具体的には、ヒータは24×24μmであった。密着層A103はヒータには被らない構成であり、開口寸法は35×29μmあった。一方、SiO膜104は42×36μmの開口寸法であった。そのため、図9に示すようにSiO膜104は上面だけではなく、側面も密着層A103に覆われており、流路13に露出していないためインクとSiO膜104とは接触しない。図9における断面において、SiO膜104の端部から密着層A103の端部までの水平方向の距離は3.5μmであった。また、図9において傾斜距離Lが0.5μmであった。SiO膜104が密着層A103の端部傾斜部より0.5μmをこえて内側に形成されるようにするため、SiO膜104の端部と密着層A103の端部との距離を3.0μmとした。さらに、ヒータ中心から共通液室側の密着層A103の端部までの距離A1が54μm、ヒータ中心から共通液室側の密着層B104までの距離B1が31μm、ヒータ中心から共通液室側の流路構成部材11端部までの距離C1が35μmであった。流路構成部材11が密着力を失うときに支点となる発泡室12端部から共通液室側の流路構成部材11までの距離D1が20.5μmであった。D1の距離よりも(A1−B1)の距離を長くすることにより、より共通液室側の流路構成部材11端部への応力が共通液室側の密着層A103の端部に与える影響は軽減された。   Specifically, the heater was 24 × 24 μm. The adhesion layer A103 is configured not to cover the heater, and the opening size is 35 × 29 μm. On the other hand, the SiO film 104 had an opening size of 42 × 36 μm. Therefore, as shown in FIG. 9, not only the upper surface but also the side surface of the SiO film 104 is covered with the adhesion layer A103, and the ink and the SiO film 104 do not contact with each other because they are not exposed to the flow path 13. In the cross section in FIG. 9, the horizontal distance from the end of the SiO film 104 to the end of the adhesion layer A103 was 3.5 μm. In FIG. 9, the inclination distance L was 0.5 μm. The distance between the end of the SiO film 104 and the end of the adhesion layer A103 is set to 3.0 μm so that the SiO film 104 is formed inside 0.5 μm beyond the end inclined portion of the adhesion layer A103. did. Further, the distance A1 from the heater center to the end of the adhesion layer A103 on the common liquid chamber side is 54 μm, the distance B1 from the heater center to the adhesion layer B104 on the common liquid chamber side is 31 μm, and the flow from the heater center to the common liquid chamber side The distance C1 to the end of the path constituent member 11 was 35 μm. The distance D1 from the end of the foaming chamber 12 serving as a fulcrum when the flow path component 11 loses adhesion to the flow path component 11 on the common liquid chamber side was 20.5 μm. By making the distance of (A1-B1) longer than the distance of D1, the influence of the stress on the end of the flow path component 11 on the common liquid chamber side on the end of the adhesion layer A103 on the common liquid chamber side is Reduced.

(密着性試験)
本実施例のインクジェットヘッドについて、実施例1と同様に密着性試験を行った。結果を表4に示す。
(Adhesion test)
The ink jet head of this example was subjected to an adhesion test in the same manner as in Example 1. The results are shown in Table 4.

Figure 2011152654
Figure 2011152654

本実施例の構成では、流路構成部材11とTa膜102の間の密着力が維持されており、密着層B104がインクに接触することが無く溶解もしていないために、全てのインクについて流路構成部材11と基板との密着性を維持していた。また、SiN膜101の溶解も確認されなかった。   In the configuration of the present embodiment, the adhesion force between the flow path component 11 and the Ta film 102 is maintained, and the adhesion layer B104 does not come into contact with the ink and is not dissolved. Adhesion between the path constituent member 11 and the substrate was maintained. Further, dissolution of the SiN film 101 was not confirmed.

さらに厳しい密着性試験として、流路内のインクの流速が速い条件で試験を行った。昇温により発泡時の共通液室側へのインクの流速が速くなり、流路内のインクの流速を速くすることができるため、シリアススキャンでの印字中の基板温度が60から70℃の間で上下する条件で行った。それ以外は前記密着性試験と同様に試験を行った。結果を表5に示す。   As a stricter adhesion test, the test was conducted under a condition where the flow rate of ink in the flow path was high. As the temperature rises, the flow rate of ink to the common liquid chamber during foaming increases, and the flow rate of ink in the flow path can be increased. Therefore, the substrate temperature during printing in the serious scan is between 60 and 70 ° C. It went on the condition which goes up and down. Otherwise, the test was performed in the same manner as the adhesion test. The results are shown in Table 5.

Figure 2011152654
Figure 2011152654

この試験方法においても、前記4種類のいずれのインクにおいても流路構成部材11と基板との間に隙間は発生せず、密着力に関して良好な結果であった。   Also in this test method, no gap was generated between the flow path component member 11 and the substrate in any of the four types of inks, and the adhesion was satisfactory.

[比較例1]
本比較例のインクジェットヘッドについて図3を参照して説明する。本比較例のインクジェットヘッドは1つの基板に2つのインク供給口6が形成されており、1つのインク供給口6に対して吐出口26が両側に1列ずつ、1列が652個で配置されている。吐出口26は1つの基板に4列あるため、吐出口26は合計2608個形成されている。実施例1と比較して吐出口26が増えたことにより、実施例1よりも基板が長くなり、流路構成部材11に生じる応力が大きくなっている。該応力に対して密着力をより向上した構造として本実施例では密着層Aを設けている。また、1つのインクジェットヘッドに6つの基板が設けられていて、6種類のインクを吐出できる構成となっている。
[Comparative Example 1]
The inkjet head of this comparative example will be described with reference to FIG. In the inkjet head of this comparative example, two ink supply ports 6 are formed on one substrate, and the discharge ports 26 are arranged in one row on both sides with respect to one ink supply port 6, and one row is arranged in 652 rows. ing. Since there are four rows of discharge ports 26 on one substrate, a total of 2608 discharge ports 26 are formed. Since the discharge ports 26 are increased as compared with the first embodiment, the substrate becomes longer than the first embodiment, and the stress generated in the flow path constituting member 11 is increased. In this embodiment, the adhesion layer A is provided as a structure in which the adhesion force is further improved against the stress. Further, six substrates are provided in one inkjet head, and six types of ink can be ejected.

図11に本比較例のインクジェットヘッドの発泡室12近傍の透過平面図を示す。太い点線で示されているのが密着層BであるSiO膜104であり、実線で示されているのがエポキシ樹脂からなる流路構成部材11、細い点線で示されているのがポリエーテルアミド樹脂からなる密着層A103である。図12は図11のA−A断面を示している。熱エネルギー発生素子であるヒータに通電するためのアルミ配線100上に、アルミ配線100等を保護するための絶縁保護層であるSiN膜101(厚み:300nm)が形成されている。SiN膜101上に耐キャビテーション膜であるTa層102(厚み:200nm)が形成されている。Ta層102上であってTa層102と流路構成部材11との間にはSiO膜104(厚み:50nm)が形成されている。SiO膜104は流路13及び発泡室12内に露出している。また、Ta層102と流路構成部材11との間であってSiO膜104上に密着層A103(厚み:2μm)が形成されている。密着層A103はSiO膜104を部分的に覆っている。また、流路13(連絡流路)において、SiO膜104を切れ目を作らず流路13(連絡流路)を横断して形成した。この流路13(連絡流路)におけるSiO膜104も一部密着層A103に覆われておらず露出している。ヒータは24×24μmであった。密着層A103はヒータには被らない構成であり、A1=35μm、A2=40μm、A3=11μmであった。一方、SiO膜104は、B1=29μm、B2=29μmであった。   FIG. 11 is a transmission plan view in the vicinity of the foaming chamber 12 of the inkjet head of this comparative example. The thick dotted line shows the SiO film 104 as the adhesion layer B, the solid line shows the flow path component 11 made of epoxy resin, and the thin dotted line shows the polyetheramide. This is an adhesion layer A103 made of resin. FIG. 12 shows an AA cross section of FIG. An SiN film 101 (thickness: 300 nm), which is an insulating protective layer for protecting the aluminum wiring 100 and the like, is formed on the aluminum wiring 100 for energizing a heater that is a thermal energy generating element. A Ta layer 102 (thickness: 200 nm), which is a cavitation resistant film, is formed on the SiN film 101. An SiO film 104 (thickness: 50 nm) is formed on the Ta layer 102 and between the Ta layer 102 and the flow path component 11. The SiO film 104 is exposed in the flow path 13 and the foaming chamber 12. Further, an adhesion layer A103 (thickness: 2 μm) is formed on the SiO film 104 between the Ta layer 102 and the flow path component 11. The adhesion layer A103 partially covers the SiO film 104. Further, in the flow path 13 (communication flow path), the SiO film 104 was formed across the flow path 13 (connection flow path) without making a cut. The SiO film 104 in the flow path 13 (communication flow path) is also not partially covered with the adhesion layer A103 and exposed. The heater was 24 × 24 μm. The adhesion layer A103 is configured not to cover the heater, and A1 = 35 μm, A2 = 40 μm, and A3 = 11 μm. On the other hand, the SiO film 104 had B1 = 29 μm and B2 = 29 μm.

(密着性試験)
本比較例のインクジェットヘッドについて、実施例1と同様に密着性試験を行った。結果を表6に示す。
(Adhesion test)
The ink jet head of this comparative example was subjected to an adhesion test in the same manner as in Example 1. The results are shown in Table 6.

Figure 2011152654
Figure 2011152654

本比較例のインクジェットヘッドでは、各ヒータ毎に4.0×108パルス時点まで印字が進んだ時点で流路構成部材11と基板との間に隙間が生じた。隙間は断面観察より、SiO膜104の溶解により流路構成部材11とTa層102の間で生じていた。SiO膜104の厚みは50nmであり、60℃一ヶ月でほぼSiO膜104が溶解しきるようなインクであるインクA〜Cでは密着力を失った。このように、本比較例のインクジェットヘッドではSiO膜104はインクに触れる構成となっていたため、SiO膜104がインクに溶解し密着力を維持できなかった。 In the ink jet head of this comparative example, a gap was generated between the flow path component 11 and the substrate when printing progressed to 4.0 × 10 8 pulses for each heater. The gap was generated between the flow path component 11 and the Ta layer 102 due to dissolution of the SiO film 104 from cross-sectional observation. The thickness of the SiO film 104 was 50 nm, and the inks A to C, which are inks in which the SiO film 104 can be completely dissolved in one month at 60 ° C., lost the adhesion. As described above, in the inkjet head of this comparative example, the SiO film 104 was in contact with the ink, so the SiO film 104 was dissolved in the ink and the adhesion force could not be maintained.

1:熱エネルギー発生素子
6:インク供給口
8:吐出口プレート
11:流路構成部材
12:発泡室
13:流路(連絡流路)
26:吐出口
34:基板
100:配線(アルミ配線)
101:絶縁保護層(SiN膜)
102:Ta層
103:密着層A
104:密着層B(SiO膜)
1: Thermal energy generating element 6: Ink supply port 8: Discharge port plate 11: Flow path component 12: Foaming chamber 13: Flow path (communication flow path)
26: Discharge port 34: Substrate 100: Wiring (aluminum wiring)
101: Insulating protective layer (SiN film)
102: Ta layer 103: Adhesion layer A
104: Adhesion layer B (SiO film)

Claims (8)

インクを吐出するための熱エネルギーを発生する熱エネルギー発生素子と、該熱エネルギー発生素子を覆う絶縁保護層と、該絶縁保護層の上に設けられたTa層とを有する基板と、
該基板に接合され、前記熱エネルギー発生素子の上を通って前記インクを吐出する吐出口に連通する流路を備えた流路構成部材と、を備えるインクジェットヘッドであって、
前記基板と前記流路構成部材との接合部に前記Ta層が延在しており、該接合部に該Ta層と有機材料との密着性を高める無機材料からなる密着層Bを有し、前記絶縁保護層及び該密着層Bが前記流路に露出していないことを特徴とするインクジェットヘッド。
A thermal energy generating element that generates thermal energy for ejecting ink; an insulating protective layer that covers the thermal energy generating element; and a Ta layer provided on the insulating protective layer;
A flow path constituent member that is bonded to the substrate and includes a flow path that communicates with a discharge port that discharges the ink through the thermal energy generation element,
The Ta layer extends at the joint between the substrate and the flow path component, and the joint has an adhesion layer B made of an inorganic material that enhances the adhesion between the Ta layer and the organic material, An ink jet head, wherein the insulating protective layer and the adhesion layer B are not exposed to the flow path.
前記流路構成部材が前記有機材料からなり、前記密着層Bが該流路構成部材に覆われていることを特徴とする請求項1に記載のインクジェットヘッド。   The inkjet head according to claim 1, wherein the flow path component is made of the organic material, and the adhesion layer B is covered with the flow path component. 前記有機材料からなる密着層Aが、前記密着層Bの上であって前記流路構成部材と前記基板との接合面から前記流路にはみ出して形成されていることを特徴とする請求項1に記載のインクジェットヘッド。   The adhesion layer A made of the organic material is formed on the adhesion layer B so as to protrude from the joint surface between the flow path component and the substrate into the flow path. The inkjet head described in 1. 前記密着層Aの端部が傾斜しており、前記密着層Bが該密着層Aの端部傾斜部より内側に形成されていることを特徴とする請求項3に記載のインクジェットヘッド。   4. The inkjet head according to claim 3, wherein an end portion of the adhesion layer A is inclined, and the adhesion layer B is formed on an inner side than an end inclination portion of the adhesion layer A. 5. 前記吐出口に供給するインクを保持し、前記流路に連通する共通液室が前記流路構成部材により形成され、前記密着層Bが該共通液室と前記流路との連絡流路を横断し、かつ前記熱エネルギー発生素子を覆わずに形成されていることを特徴とする請求項3又は4に記載のインクジェットヘッド。   A common liquid chamber that holds ink to be supplied to the ejection port and communicates with the flow path is formed by the flow path constituting member, and the adhesion layer B crosses the communication flow path between the common liquid chamber and the flow path. The inkjet head according to claim 3, wherein the inkjet head is formed without covering the thermal energy generating element. 前記共通液室側の前記密着層Aの端部から該共通液室側の前記密着層Bの端部までの距離が、該共通液室側の流路構成部材端部から前記熱エネルギー発生素子側の前記流路構成部材端部までの距離よりも長いことを特徴とする請求項5に記載のインクジェットヘッド。   The distance from the end portion of the adhesion layer A on the common liquid chamber side to the end portion of the adhesion layer B on the common liquid chamber side is the distance from the end of the flow path component on the common liquid chamber side to the thermal energy generating element. The inkjet head according to claim 5, wherein the inkjet head is longer than a distance to the end of the flow path component member on the side. 前記無機材料が酸化シリコン又は窒化シリコンであることを特徴とする請求項1から6のいずれか1項に記載のインクジェットヘッド。   The inkjet head according to any one of claims 1 to 6, wherein the inorganic material is silicon oxide or silicon nitride. 前記有機材料がポリエーテルアミド樹脂又はエポキシ樹脂であることを特徴とする請求項1から7のいずれか1項に記載のインクジェットヘッド。   The inkjet head according to any one of claims 1 to 7, wherein the organic material is a polyetheramide resin or an epoxy resin.
JP2010014096A 2010-01-26 2010-01-26 Inkjet head Pending JP2011152654A (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2010014096A JP2011152654A (en) 2010-01-26 2010-01-26 Inkjet head

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2010014096A JP2011152654A (en) 2010-01-26 2010-01-26 Inkjet head

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JP2011152654A true JP2011152654A (en) 2011-08-11

Family

ID=44538960

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2010014096A Pending JP2011152654A (en) 2010-01-26 2010-01-26 Inkjet head

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP2011152654A (en)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US8960857B1 (en) 2013-12-06 2015-02-24 Samsung Display Co., Ltd. Inkjet print head and method of manufacturing the same

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US8960857B1 (en) 2013-12-06 2015-02-24 Samsung Display Co., Ltd. Inkjet print head and method of manufacturing the same

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US6390606B1 (en) Ink-jet head, ink-jet head substrate, and a method for making the head
US20100079551A1 (en) Substrate for liquid discharge head, method of manufacturing the same, and liquid discharge head using such substrate
JP2008049531A (en) Inkjet recording head
JP5006663B2 (en) Liquid discharge head
JP2005212483A (en) Ink-jet printhead and method for manufacturing the same
US10040285B2 (en) Liquid ejection head and liquid ejection device, and aging treatment method and initial setup method for a liquid ejection device
JP6083986B2 (en) Liquid discharge head
CN100421946C (en) Inkjet printhead having bubble chamber and heater offset from nozzle
JP6230290B2 (en) Liquid discharge head substrate, liquid discharge head, and method for manufacturing liquid discharge head substrate
JP2011152654A (en) Inkjet head
KR20090114787A (en) Ink jet print head and manufacturing method thereof
JPH05131624A (en) Ink-jet recording head and ink-jet recording device
JP5294657B2 (en) Inkjet recording head
KR100553912B1 (en) Inkjet printhead and method for manufacturing the same
JP2004055845A (en) Circuit board and its manufacturing method
KR100818282B1 (en) Inkjet printhead
KR101421844B1 (en) Liquid jet recording head
JP2015054499A (en) Substrate for recording head, recording head, and recording unit
US8382255B2 (en) Thermal inkjet printhead with heating element in recessed substrate cavity
JP5171377B2 (en) Circuit board and liquid ejection device
JP2011131466A (en) Substrate for inkjet recording head, recording head and recording apparatus
JP2008120003A (en) Inkjet recording head and manufacturing method for substrate for the head
JP4258141B2 (en) Thermal ink jet print head
JP2004203049A (en) Ink-jet print head and method of manufacturing the same
JP2007283549A (en) Inkjet recording head and method for manufacturing the same